WO2010038625A1 - 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 - Google Patents

着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 Download PDF

Info

Publication number
WO2010038625A1
WO2010038625A1 PCT/JP2009/066252 JP2009066252W WO2010038625A1 WO 2010038625 A1 WO2010038625 A1 WO 2010038625A1 JP 2009066252 W JP2009066252 W JP 2009066252W WO 2010038625 A1 WO2010038625 A1 WO 2010038625A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
curable composition
colored
colored curable
pigment
Prior art date
Application number
PCT/JP2009/066252
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
泰史 田口
Original Assignee
富士フイルム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士フイルム株式会社 filed Critical 富士フイルム株式会社
Priority to EP09817662.1A priority Critical patent/EP2333608A4/en
Priority to KR1020107028815A priority patent/KR101301160B1/ko
Priority to US12/999,018 priority patent/US8440374B2/en
Publication of WO2010038625A1 publication Critical patent/WO2010038625A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/006—Preparation of organic pigments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/006—Preparation of organic pigments
    • C09B67/0061—Preparation of organic pigments by grinding a dyed resin
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0042—Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Definitions

  • the color filter is an essential component for liquid crystal displays and solid-state image sensors.
  • Such a color filter is composed of colored patterns of a plurality of hues, and usually has at least red, green, and blue colored regions (hereinafter also referred to as “colored patterns” or “colored pixels”).
  • colors patterns or “colored pixels”.
  • first color a first hue
  • second color a curable composition having a colorant of red, green, or blue
  • third color the same coating, exposure, development, and heat treatment processes as necessary are repeated.
  • the above forming method is called a photolithographic method or a pigment dispersion method.
  • a photosensitive composition used in these forming methods a negative photosensitive composition in which a photopolymerizable monomer and a photopolymerization initiator are added to an alkali-soluble resin has been proposed (for example, JP-A-2-181704). JP-A-2-199403, JP-A-5-273411, JP-A-7-140654).
  • additives such as various surfactants are added to the colored curable composition.
  • the uniformity of the coating film is not sufficient to form a pattern with a small area such that one side is 1.7 ⁇ m or less with a high resolution with only this method. There is.
  • a curable composition having excellent uniformity and good developability and suitable for forming an image of a fine area is eagerly desired.
  • the present invention has been made in view of the above, and the object of the present invention will be described below. That is, according to one embodiment of the present invention, even when there are irregularities on the support (substrate), the coating film has excellent uniformity and surface flatness, and also has high developability.
  • a colored curable composition capable of forming a colored pattern in particular, a colored curable composition useful for forming a colored filter color pattern is provided.
  • a color filter having a high-resolution colored pattern, a method for manufacturing the same, and a solid-state imaging device including a color filter having excellent color characteristics are provided.
  • the present inventors have found that the above object can be achieved by using a polymer having a specific side chain structure and a dispersant having a specific structure in combination, and have completed the present invention. That is, the specific means of the present invention are as follows.
  • ⁇ 3> The colored curable composition according to ⁇ 2>, wherein R in the general formula (I) is a hydrogen atom or a methyl group.
  • R in the general formula (I) is a hydrogen atom or a methyl group.
  • n is an integer of 1 to 100 in the general formula (I).
  • ⁇ 5> In a polymer in which the structural unit represented by the general formula (I) includes a structural unit having a carboxyl group bonded to the main chain via the linking group including the ester group (A), The colored curable composition according to any one of ⁇ 2> to ⁇ 4>, which is contained by mass%.
  • the polymer containing a structural unit having a carboxyl group bonded to the main chain via a linking group containing an ester group contains other structural units in addition to the structural unit represented by the formula (I).
  • ⁇ 7> (A) The content of the polymer containing a structural unit having a carboxyl group bonded to the main chain through a linking group containing an ester group is 2 to 50% by mass in the solid content of the colored curable composition
  • a colored layer is formed by applying the colored curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13> on a support; Exposing the colored layer; Developing the colored layer after exposure; The manufacturing method of the color filter containing this.
  • a high-resolution colored pattern that has excellent coating film uniformity and surface flatness and excellent developability. It is possible to provide a colored curable composition capable of forming a color curable composition, particularly a colored curable composition useful for forming a colored pattern of a color filter. Further, according to another aspect of the present invention, it is possible to provide a color filter having a high-resolution colored pattern, a manufacturing method thereof, and a solid-state imaging device including a color filter having excellent color characteristics.
  • the colored curable composition of the present invention includes (A) a polymer containing a structural unit having a carboxyl group bonded to the main chain via a linking group containing an ester group, (B) a photopolymerization initiator, (C) A polymerizable compound, (D) a pigment, and (E) a dispersant containing a phosphate group.
  • a component used for the colored curable composition of this invention is demonstrated one by one.
  • the colored curable composition of the present invention comprises (A) a main chain via a linking group containing an ester group.
  • At least one polymer containing a structural unit having a carboxyl group bonded to (hereinafter also referred to as “(A) specific polymer”).
  • a structural unit represented by the following general formula (I) is preferable.
  • R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group, and most preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • n represents an integer of 1 to 200.
  • the number of n can control the properties such as the acid value, crystallinity, and film property of the polymer. From such a viewpoint, n is preferably an integer of 1 to 100 and an integer of 2 to 20. It is more preferable. When n is 200 or less, the developability becomes better.
  • the specific polymer (A) in the present invention preferably contains 5 to 100% by mass, more preferably 20 to 70% by mass, of the structural unit represented by the general formula (I) in the polymer.
  • the specific polymer it is preferable for the specific polymer to have other structural units in addition to the above structural units because various physical properties can be imparted to the polymer. That is, it is possible to control the molecular weight, hydrophilicity / hydrophobicity, polarity, etc. of a specific polymer by controlling the type and amount of other copolymerization components to be present.
  • the other copolymerization component which (A) specific polymer which concerns on this invention can contain The following can be mentioned as a preferable structural unit which can be copolymerized.
  • Styrenes such as styrene, ⁇ -methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene.
  • Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
  • Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene.
  • a copolymerization component of the polymer having the structural unit represented by the general formula (I) a structural unit derived from an acid group-containing monomer having the following structures (12) to (17) can also be used.
  • the content of the acid group-containing structural unit is preferably 30 mol% or less in the specific polymer (A) from the viewpoint of effects.
  • Examples of the monomer (12) having a phenol group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenol group.
  • Examples of the monomer having a sulfonamide group include compounds having at least one sulfonamide group having the above structure and a polymerizable unsaturated group in the molecule.
  • a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a sulfonamide group in the molecule is preferable.
  • Examples thereof include compounds represented by the following general formulas (i) to (v).
  • X 1 and X 2 each independently represent —O— or —NR 7 —.
  • R 1 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 .
  • R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 are each independently an alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group having 1 to 12 carbon atoms, which may have a substituent.
  • R 3 , R 7 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group which may have a substituent.
  • R 6 and R 17 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, which may have a substituent.
  • R 8 , R 10 and R 14 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 .
  • R 11 and R 15 each independently represents a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a single bond or a substituent.
  • Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or —CO—.
  • m-aminosulfonylphenyl methacrylate N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide
  • Examples of the monomer having the (14) active imide group include compounds having at least one active imide group represented by the structural formula and one polymerizable unsaturated group in the molecule. Among these, compounds having at least one active imide group represented by the following structural formula and one polymerizable unsaturated group in the molecule are preferable.
  • an acid group-containing structural unit derived from N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide or the like can be preferably used.
  • Examples of the monomer (15) having a carboxylic acid group include compounds each having one or more carboxylic acid groups and polymerizable unsaturated groups in the molecule.
  • Examples of the monomer (16) having a sulfonic acid group include compounds having one or more sulfonic acid groups and polymerizable unsaturated groups in the molecule.
  • Examples of the monomer (17) having a phosphate group include compounds each having one or more phosphate groups and polymerizable unsaturated groups in the molecule.
  • the polymer having the specific structure of the present invention when the polymer having the specific structure of the present invention is reacted with isocyanate, the polymer having the specific structure of the present application shares a structural unit derived from a monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl methacrylate or 2-hydroxyethyl acrylate. It is preferably contained as a polymerization component.
  • the specific polymer (A) in the present invention preferably has an acid value of 5 to 250 mgKOH / g, more preferably 10 to 150 mgKOH / g, and still more preferably 25 to 120 mgKOH / g.
  • the acid value can be calculated, for example, from the average content of acid groups in the resin molecule.
  • the acid value of (A) specific polymer can be adjusted by changing the kind and content of the said acid group containing structural unit.
  • the (A) specific polymer in the present invention preferably has a structural unit having an aromatic ring from the viewpoint of the dispersion stability of the pigment and the stability of the colored curable composition.
  • aromatic rings include aromatic hydrocarbon groups such as phenyl, naphthyl and anthranyl groups, indole groups, imidazole groups, triazole groups, oxydiazole groups, benzimidazole groups, benzoxazole groups, benzthiazole groups, pyridinyl Group, a thiophene group, a pyrrole group, a hetero atom-containing aromatic group such as a furanyl group, and the like.
  • aromatic rings are preferably bonded to a side chain of a specific polymer directly or via a predetermined linking group.
  • the structural unit having an aromatic ring is preferably contained in an amount of 5 to 80% by mass, and more preferably 10 to 60% by mass, based on the specific polymer (A).
  • the colored curable composition of this invention contains (A) specific polymer which has a structure as shown by general formula (I) in a side chain, the softness
  • the colored curable composition of the present invention is particularly effective when a high-resolution image, that is, a small image pattern is sequentially formed a plurality of times, and an image having a line width of 30 ⁇ m or less, more preferably 3 ⁇ m or less. It is effective when forming. Further, since the curability is excellent even when there are few polymerization components, the colored curable composition of the present invention has a pigment solid content of 40% by mass or more, more preferably 45% by mass or more. Things are particularly effective. Although the specific structure of (A) specific polymer is shown below, this invention is not limited to the following. In the present specification, “wt%” in the structural formula represents “mass%”.
  • the colored curable composition of the present invention further contains (B) a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator (B) in the present invention is preferably a photopolymerization initiator that decomposes by light and initiates and accelerates the polymerization of the specific polymerizable compound, and has absorption in the wavelength region of 300 to 500 nm. Preferably there is.
  • a photoinitiator can be used individually or in combination of 2 or more types.
  • Examples of the photopolymerization initiator include organic halogenated compounds, oxydiazole compounds, carbonyl compounds, ketal compounds, benzoin compounds, acridine compounds, organic peroxide compounds, azo compounds, coumarin compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaaryls.
  • Examples include rubiimidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, and acylphosphine (oxide) compounds.
  • s-triazine compound examples include s-triazine derivatives in which at least one mono-, di-, or tri-halogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring.
  • Specific examples include 2,4,6-tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s.
  • Examples of oxydiazole compounds include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (cyanostyryl) -1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (naphth-1-yl) -1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-styryl) styryl-1,3,4-oxodiazole, etc. Can be mentioned.
  • carbonyl compounds examples include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, benzophenone derivatives such as 2-carboxybenzophenone, 2,2-dimethoxy -2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, ⁇ -hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1 -Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 '-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenol) E) ketones, acetophenone derivatives such as 2-benzyl-2-dimethylamin
  • ketal compound examples include benzyl methyl ketal and benzyl- ⁇ -methoxyethyl ethyl acetal.
  • benzoin compound examples include m-benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin methyl ether, methyl o-benzoylbenzoate and the like.
  • acridine compound examples include 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane and the like.
  • organic peroxide compound examples include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxide).
  • Examples of the azo compound include azo compounds described in JP-A-8-108621.
  • Examples of coumarin compounds include 3-methyl-5-amino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, 3-chloro-5-diethylamino-((s-triazin-2-yl). ) Amino) -3-phenylcoumarin, 3-butyl-5-dimethylamino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, and the like.
  • azide compound examples include organic azide compounds described in US Pat. No. 2,848,328, US Pat. No. 2,852,379 and US Pat. No. 2,940,853, 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4 -Ethylcyclohexanone (BAC-E) and the like.
  • Examples of the metallocene compound include JP 59-152396, JP 61-151197, JP 63-41484, JP 2-249, JP 2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pen Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-
  • hexaarylbiimidazole compounds include, for example, each specification such as JP-B-6-29285, US Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. And various compounds described in the above.
  • organic borate compound examples include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188865, JP-A-9-188686, and JP-A-9-188710. JP, 2000-131837, JP 2002-107916, JP 2764769, JP 2002-116539, etc., and Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19- 22, 1998, Chicago ”, etc., organoboron sulfonium complexes or organoboron oxos described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561.
  • JP-A-6-17555 Organoboron iodonium complexes described in JP-A-6-175553, organoboron phosphonium complexes described in JP-A-9-188710, JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes and the like disclosed in Kaihei 7-140589, JP-A-7-306527, and JP-A-7-292014.
  • Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2002-328465.
  • oxime ester compounds examples include: C. S. Perkin II (1979) 1653-1660), J.M. C. S. Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-66385, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-80068, Special Publication No. 2004-534797 Compounds and the like.
  • onium salt compounds examples include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts, US Pat. No. 4,069,055, ammonium salts described in JP-A-4-365049, US Pat. No. 4,069, The phosphonium salts described in the specifications of Nos. 055 and 4,069,056, the specifications of European Patent No. 104,143, and the specifications of JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514 Examples include iodonium salts.
  • the iodonium salt that can be suitably used in the present invention is a diaryl iodonium salt, and is preferably substituted with two or more electron donating groups such as an alkyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group from the viewpoint of stability. .
  • Examples of the sulfonium salt that can be suitably used in the present invention include European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, 297,442, and U.S. Pat. 933,377, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patents 2,904,626, 3,604,580, Examples include sulfonium salts described in each specification of 3,604,581, and from the viewpoint of stability and sensitivity, it is preferably substituted with an electron-withdrawing group.
  • the electron withdrawing group preferably has a Hammett value greater than zero. Examples of preferred electron withdrawing groups include halogen atoms and carboxylic acids.
  • sulfonium salts include sulfonium salts in which one substituent of the triarylsulfonium salt has a coumarin structure or an anthraquinone structure and absorbs at 300 nm or more.
  • a sulfonium salt in which the triarylsulfonium salt has an allyloxy group or an arylthio group as a substituent and has absorption at 300 nm or more can be mentioned.
  • the photopolymerization initiator (B) used in the present invention includes a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethyl ketal compound, an ⁇ -hydroxyketone compound, an ⁇ -aminoketone compound, an acylphosphine compound, and a phosphine oxide compound from the viewpoint of exposure sensitivity.
  • the pigment concentration is high, a large amount of photopolymerization initiator that generates radicals cannot be added, and the pigment concentration is high, so initiation by electron transfer and energy transfer using a sensitizer Even in the mechanism, sufficient curability cannot be obtained due to factors such as low concentrations of the sensitizer and the photopolymerization initiator.
  • a photopolymerization initiator that generates halogen by exposure to triazine or the like is used to prevent contamination of the light source. I can't.
  • the oxime compound that can be used in the present invention can be used without limitation as long as it is a compound having a —C ⁇ N—O— bond, and is preferably represented by the following general formula (1) or general formula (2). It is a compound (hereinafter, also referred to as “specific oxime compound”).
  • R 1 is a monovalent organic group, preferably a carbonyl group or a sulfo group, and from the viewpoint of sensitivity and stability, R 1 is A group represented by the general formula (3) or a group represented by the general formula (4) is preferable.
  • R 4 may be a monovalent organic group, and examples thereof include a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the organic group include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group, a cycloalkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and an alkoxy group. These include a halogen atom, a hydroxyl group, and an alkyl group.
  • the compound represented by R 4 in the general formula (3) is preferably an alkyl group or an aryl group.
  • R 3 in the general formulas (1) and (2) is preferably an aryl group or a heterocyclic group, and when it is an aryl group, it is a substituent having a nitrogen atom or a sulfur atom. It is preferably substituted, and when it is a heterocycle, it preferably contains a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom.
  • OS-1 to OS-113 of the compounds represented by the general formula (1) or the general formula (2) (specific oxime compounds) are shown below, but the present invention is not limited thereto. is not.
  • the specific oxime compound preferably has a heterocyclic structure and / or a sulfide structure from the viewpoint of sensitivity and stability, and more preferably has a structure represented by the general formula (2).
  • the heterocyclic ring is a carbazole derivative and has a structure represented by the general formula (2).
  • the content of the photopolymerization initiator (B) contained in the curable composition of the present invention is preferably 0.1% by mass to 50% by mass with respect to the total solid content contained in the curable composition. More preferably, the content is 0.5% by mass to 30% by mass, and particularly preferably 1% by mass to 20% by mass. Within this range, better sensitivity and a hardened part can be formed.
  • the colored curable composition of the present invention further contains (C) a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound (C) in the present invention include general radical polymerizable compounds, and compounds widely known as compounds having an ethylenically unsaturated double bond in the industrial field can be used without any particular limitation. . These can be in chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof.
  • Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof.
  • unsaturated carboxylic acids for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.
  • esters and amides thereof examples include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof.
  • an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used.
  • an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy and A dehydration condensation reaction product of the unsaturated carboxylic acid ester or unsaturated carboxylic acid amide with a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.
  • ester monomer of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol.
  • Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxyp Epoxy) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (me
  • Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate Sorbitol tetritaconate and the like.
  • crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
  • isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
  • maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
  • esters examples include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241, and JP-A-2-226149. Esters having an aromatic skeleton, and esters containing amino groups described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.
  • amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
  • amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.
  • a urethane addition polymerizable compound produced by using an addition reaction of an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. Contains two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (E) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups Vinyl urethane compounds to be used.
  • R 4 and R 5 each independently represent H or CH 3 .
  • urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.
  • Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.
  • by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, JP-A-1-105238 In addition, a curable composition excellent in photosensitive speed can be obtained.
  • polyester acrylates examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-B-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.
  • the polymerizable compound preferably contains two or more ethylenically unsaturated bonds, and more preferably contains three or more. Especially, it is preferable to contain 2 or more (meth) acrylic acid ester structures, it is more preferable to contain 3 or more, and it is most preferable to contain 4 or more. Furthermore, it is preferable to contain an EO modified body from the viewpoint of curing sensitivity and developability of the unexposed area. Moreover, it is preferable to contain a urethane bond from a viewpoint of hardening sensitivity and exposure part intensity
  • the polymerizable compounds include bisphenol A diacrylate, bisphenol A diacrylate EO modified product, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, tetraethylene glycol.
  • Diacrylate pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexa Acrylate, G (Acryloyloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetraacrylate EO-modified product, dipentaerythritol hexaacrylate EO-modified product are preferred examples.
  • Examples of commercially available products include urethane oligomers UAS-10, UAB-140 (all trade names, manufactured by Sanyo Kokusaku Pulp Co., Ltd.), DPHA-40H (trade names, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA- 306T, UA-306I, AH-600, T-600, and AI-600 (all trade names, manufactured by Kyoeisha) are preferable.
  • bisphenol A diacrylate EO modified product pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetraacrylate EO modified product, Dipentaerythritol hexaacrylate EO modified products such as DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600 (Manufactured by Kyoeisha) is more preferred.
  • DPHA-40H manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • UA-306H, UA-306T, UA-306I AH-600, T-600, AI-600 (Manufacture
  • ethylenically unsaturated compounds having an acid group are also suitable.
  • examples of commercially available products include TO-756, which is a carboxyl group-containing trifunctional acrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd., and a carboxyl group-containing pentafunctional acrylate.
  • TO-1382 all trade names.
  • the content of the polymerizable compound (C) in the colored curable composition of the present invention is preferably in the range of 4 to 80% by mass, more preferably in the range of 7 to 50% by mass in terms of solid content. preferable.
  • the addition amount is preferably 7 to 40% by mass based on the total solid content, and particularly effective in the range of 6 to 25% by mass.
  • the colored curable composition of the present invention further contains a pigment as a colorant.
  • a colored cured body cured film
  • it can be applied to the formation of a colored pattern of an image forming material or a color filter.
  • the colorant contained in the curable composition of the present invention conventionally known various pigments can be used alone or in combination.
  • the effect of a red or yellow pigment is exhibited from the viewpoint of the pigment structure.
  • the pigment that can be used in the curable composition of the present invention various conventionally known inorganic pigments or organic pigments can be used. Further, considering that it is preferable to have a high transmittance, whether it is an inorganic pigment or an organic pigment, it is preferable to use a pigment having a particle size as small as possible, and considering the handling properties, the average particle size of the pigment is 0.01 ⁇ m to 0.1 ⁇ m is preferable, and 0.01 ⁇ m to 0.05 ⁇ m is more preferable.
  • the inorganic pigment include metal compounds represented by metal oxides, metal complex salts, and the like. Specifically, iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc And metal oxides such as antimony, and composite oxides of the above metals.
  • organic pigment for example, C. I. Pigment Yellow 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199; C. I. Pigment orange 36, 38, 43, 71; C. I. Pigment Red 81, 105, 122, 149, 150, 155, 166, 171, 175, 176, 177, 209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270; C. I. Pigment violet 19, 23, 32, 39; C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66; C. I. Pigment green 7, 36, 37, 58; C. I. Pigment brown 25, 28; C. I. Pigment black 1, 7; Examples thereof include carbon black.
  • those having a basic nitrogen atom in the structural formula of the pigment can be preferably used.
  • a pigment having a basic nitrogen atom exhibits good dispersibility in the composition of the present invention.
  • other polymerization components contained in the colored curable composition and (A) a specific polymer having a structural unit containing an aromatic ring or a nitrogen atom, such as It is presumed that the good affinity with the pigment has an effect.
  • an anthraquinone pigment C.I. I. Pigment red 177
  • perylene pigments include C.I. I. Pigment red 155, or C.I. I. Pigment red 224
  • diketopyrrolopyrrole pigments include C.I. I.
  • the mass ratio of red pigment to yellow pigment is preferably 100/5 to 100/50. When the mass ratio is within this range, the light transmittance in the wavelength region of 400 nm to 500 nm is sufficiently suppressed. In addition, when the mass ratio is within this range, the color purity cannot be increased, or the main wavelength becomes too short, and the deviation from the NTSC (National Television System Committee) target hue becomes large. There is no problem.
  • the mass ratio is optimally in the range of 100: 10 to 100: 30. In the case of a combination of red pigments, the mass ratio can be adjusted according to the chromaticity.
  • a halogenated phthalocyanine pigment can be used alone or in combination with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment or an isoindoline yellow pigment.
  • a disazo yellow pigment e.g., C.I. I. Pigment Green 7, 36, 37, or 58
  • I. Pigment yellow 83 e.g., C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 180 or C.I. I. Mixing with Pigment Yellow 185 is preferred.
  • the mass ratio of green pigment to yellow pigment is preferably from 100/5 to 100/150, particularly preferably from 100/30 to 100/120.
  • the blue pigment a phthalocyanine pigment alone or a mixture of this with a dioxazine purple pigment can be used.
  • C.I. I. Pigment blue 15: 6 and C.I. I. Mixing with pigment violet 23 is preferred.
  • the mass ratio of the blue pigment to the purple pigment (blue pigment / purple pigment) is preferably 100/0 to 100/30, more preferably 100/10 or less.
  • carbon black, titanium black, iron oxide, titanium oxide alone or a mixture thereof is used, and a combination of carbon black and titanium black is preferable.
  • the mass ratio of carbon black to titanium black is preferably in the range of 100/0 to 100/60.
  • the primary particle diameter of the pigment is preferably 10 to 100 nm, more preferably 10 to 70 nm, and more preferably 10 to 50 nm from the viewpoint of color unevenness and contrast. More preferred is 10 to 40 nm.
  • the colored curable composition of the present invention when used for a color filter, it is also preferable to use a dye that dissolves uniformly in the composition from the viewpoint of uneven color and contrast.
  • the colored curable composition of the present invention further contains (E) a dispersant containing a phosphate group (hereinafter also referred to as “(E) specific dispersant”). To do. It is also a preferred embodiment that the specific polymer (A) is added to a pigment dispersion containing a pigment dispersed with a dispersant containing a phosphate group.
  • a dispersing agent containing a phosphate group the compound represented by the following general formula (II) is preferable.
  • R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
  • m and l each independently represents an integer of 1 to 200.
  • R 1 and R 2 are each independently preferably a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms. Groups are more preferred.
  • m and l are each independently preferably an integer of 2 to 20, and more preferably an integer of 6 to 20.
  • the content of the specific dispersant (E) in the pigment dispersion is preferably 0 to 100 parts by mass, more preferably 3 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (D) pigment. .
  • Pigment derivative The colored curable composition of this invention may contain the pigment derivative as needed.
  • the pigment derivative can be used as the adsorption point of the dispersant by adsorbing the pigment derivative with the affinity to the dispersant, or by introducing the polar group into the pigment surface. It can be dispersed in the composition and re-aggregation can be prevented, and it is effective for constituting a color filter having excellent dispersion stability.
  • the pigment derivative a known derivative having an organic pigment as a base skeleton can be appropriately used.
  • the organic pigment include quinacridone pigments, phthalocyanine pigments, azo pigments, quinophthalone pigments, isoindoline pigments, isoindolinone pigments, quinoline pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, and benzimidazolone pigments.
  • light yellow aromatic polycyclic compounds such as naphthalene series, anthraquinone series, triazine series and quinoline series which are not called pigments are also included.
  • the content of the pigment derivative in the pigment dispersion according to the present invention is preferably 0 to 30 parts by mass and more preferably 3 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
  • the dispersion can be favorably performed while the viscosity is kept low, and the dispersion stability after dispersion can be improved.
  • the above-mentioned (A) specific polymer, (B) photopolymerization initiator, (C) polymerizable compound, And the coloring curable composition of this invention can be obtained by mix
  • (A) specific polymer can also be used for preparation of a pigment dispersion liquid.
  • the amount of the (D) pigment contained in the colored curable composition of the present invention is preferably in the range of 5 to 90% by mass, and more preferably in the range of 25 to 85% by mass.
  • Binder polymer In the colored curable composition of the present invention, in addition to the specific polymer (A), another binder polymer is further used as necessary for the purpose of improving film properties and adjusting developability. be able to.
  • the other binder polymer as an optional component in the present invention is a polymer not containing the structural unit represented by the general formula (I).
  • As the binder it is preferable to use a linear organic polymer that does not contain the structural unit represented by the general formula (I).
  • a linear organic polymer a known one can be arbitrarily used.
  • a linear organic polymer that is soluble or swellable in water or weak alkaline water is selected to enable water development or weak alkaline water development.
  • the linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent but also according to the use as water, weak alkaline water or an organic solvent developer.
  • a water-soluble organic polymer is used, water development is possible.
  • the linear organic polymer include radical polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, JP-B-54-25957, Polymers described in JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, JP-A-59-71048, that is, resins or acid anhydrides obtained by homopolymerizing or copolymerizing monomers having a carboxyl group.
  • Resin obtained by hydrolyzing, half-esterifying or half-amidating an acid anhydride unit, or epoxy acrylate modified with unsaturated monocarboxylic acid and acid anhydride, etc. Is mentioned.
  • monomers having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, 4-carboxylstyrene, and examples of monomers having an acid anhydride include maleic anhydride.
  • An acid etc. are mentioned.
  • the acidic cellulose derivative which has a carboxylic acid group in a side chain is mentioned.
  • a polymer obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group is useful.
  • a monomer other than the above-mentioned monomers can be used as the compound to be copolymerized.
  • examples of other monomers include the following compounds (a) to (l).
  • (G) Styrenes such as styrene, ⁇ -methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene and p-acetoxystyrene.
  • J N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
  • K Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
  • L A methacrylic acid monomer having a hetero atom bonded to the ⁇ -position.
  • JP-A No. 2002-309057, JP-A No. 2002-311569 and the like can be mentioned.
  • a (meth) acrylic resin having an allyl group, a vinyl ester group, and a carboxyl group in the side chain, and a side chain described in JP-A Nos. 2000-187322 and 2002-62698 are doubled.
  • An alkali-soluble resin having a bond or an alkali-soluble resin having an amide group in the side chain described in JP-A-2001-242612 is preferable because it has an excellent balance of film forming property, sensitivity, and developability.
  • Japanese Patent Publication No. 7-2004 Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-287944, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-287947, Japanese Patent Application Laid-Open No. Since the urethane binder polymer containing an acid group described in No. 271741 and the like, and the urethane binder polymer having an acid group and a double bond in a side chain described in JP-A No. 2002-107918 are very excellent in strength, This is advantageous in terms of printing durability and suitability for low exposure.
  • the acetal-modified polyvinyl alcohol binder polymer having an acid group described in European Patent 993966, European Patent 1204000, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-318463, and the like is preferable because of its excellent balance of film strength and developability.
  • polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer.
  • alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful.
  • the weight average molecular weight of the binder polymer that can be used in the present invention is preferably 3,000 or more, more preferably in the range of 5,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 1,000 or more, More preferably, it is in the range of 2,000 to 250,000.
  • the polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of the binder polymer is preferably 1 or more, more preferably 1.1 to 10.
  • These binder polymers may be in any form such as a random polymer, a block polymer, and a graft polymer.
  • the binder polymer that can be used in the present invention can be synthesized by a conventionally known method.
  • the solvent used in the synthesis include tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy.
  • Examples include -2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the radical polymerization initiator used in synthesizing the binder polymer that can be used in the present invention include known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator.
  • the colored curable composition of the present invention is used for image formation having an alkali development step for forming a colored pattern in a color filter for liquid crystal or a solid-state image sensor, an acid group and It is preferable to use a binder polymer having a hydrophilic group.
  • a preferable acid group that the binder polymer used for such a purpose has include a carboxyl group, a sulfonamide group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, and a phenol group, which are preferable from the viewpoint of developability and sensitivity.
  • the acid value is 0.1 mmol / g to 10 mmol / g, more preferably 0.2 mmol / g to 5 mmol / g, and most preferably 0.3 mmol / g to 3 mmol / g.
  • the binder polymer can be added together with the raw material of the pigment dispersion at the time of dispersing the pigment, and can also be added when preparing a colored curable composition using the dispersed pigment dispersion.
  • the addition amount of the binder polymer is preferably 0% by mass to 50% by mass, more preferably 2% by mass to 30% by mass in the total solid content of the colored curable composition.
  • the colored curable composition of the present invention may contain a sensitizer for the purpose of improving the radical generation efficiency of the radical initiator and increasing the photosensitive wavelength.
  • a sensitizer for the purpose of improving the radical generation efficiency of the radical initiator and increasing the photosensitive wavelength.
  • the sensitizer that can be used in the present invention those that sensitize the above-mentioned photopolymerization initiator by an electron transfer mechanism or an energy transfer mechanism are preferable.
  • Examples of the sensitizer that can be used in the present invention include those belonging to the compounds listed below and having an absorption wavelength in a wavelength region of 300 nm to 450 nm.
  • Examples of preferred sensitizers include those belonging to the following compounds and having an absorption wavelength in the range of 330 nm to 450 nm.
  • polynuclear aromatics for example, phenanthrene, anthracene, pyrene, perylene, triphenylene, 9,10-dialkoxyanthracene
  • xanthenes for example, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal
  • thioxanthones Isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, chlorothioxanthone
  • cyanines eg thiacarbocyanine, oxacarbocyanine
  • merocyanines eg merocyanine, carbomerocyanine
  • phthalocyanines thiazines (eg thionine, methylene blue, toluidine blue)
  • Acridines eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine
  • anthraquinones eg, anthraquinone
  • a sensitizer may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
  • the content of the sensitizer in the colored curable composition of the present invention is 0.1 to 20% by mass in terms of solid content from the viewpoint of light absorption efficiency to the deep part of the coating film and decomposition efficiency of the polymerization initiator. It is preferably 0.5 to 15% by mass.
  • the colored curable composition of the present invention preferably contains a co-sensitizer.
  • the co-sensitizer has functions such as further improving the sensitivity of the sensitizing dye and the initiator to actinic radiation or suppressing inhibition of polymerization of the polymerizable compound by oxygen.
  • cosensitizers include amines such as M.I. R. Sander et al., “Journal of Polymer Society”, Vol. 10, 3173 (1972), Japanese Patent Publication No. 44-20189, Japanese Patent Publication No. 51-82102, Japanese Patent Publication No. 52-134692, Japanese Patent Publication No. 59-138205. No.
  • co-sensitizers include thiols and sulfides, for example, thiol compounds described in JP-A-53-702, JP-B-55-500806, JP-A-5-142277, Examples thereof include disulfide compounds described in JP-A-56-75643, such as 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline, ⁇ - And mercaptonaphthalene.
  • co-sensitizers include amino acid compounds (eg, N-phenylglycine), organometallic compounds described in JP-B-48-42965 (eg, tributyltin acetate), JP-B 55- And a hydrogen donor described in JP 34414 and a sulfur compound (eg, trithiane) described in JP-A-6-308727.
  • amino acid compounds eg, N-phenylglycine
  • organometallic compounds described in JP-B-48-42965 eg, tributyltin acetate
  • a hydrogen donor described in JP 34414
  • a sulfur compound eg, trithiane
  • the content of these co-sensitizers is in the range of 0.1 to 30% by mass with respect to the mass of the total solid content of the colored curable composition from the viewpoint of improving the curing rate by balancing the polymerization growth rate and chain transfer.
  • the range of 1 to 25% by mass is more preferable, and the range of 0.5 to 20% by mass is still more preferable.
  • thermal polymerization inhibitor In the present invention, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is used to prevent unnecessary thermal polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated double bond that can be polymerized during the production or storage of a colored curable composition. It is desirable to add.
  • thermal polymerization inhibitors that can be used in the present invention include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl). -6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like.
  • the addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the whole composition. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and it may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in the course of drying after coating. .
  • the amount of the higher fatty acid derivative added is preferably from about 0.5% to about 10% by weight of the total composition.
  • Thermal Polymerization Component It is also effective to include a thermal polymerization component in the pigment dispersion composition of the present invention.
  • an epoxy compound can be added to increase the strength of the coating film.
  • epoxy compounds include compounds having two or more epoxy rings in the molecule, such as bisphenol A type compounds, cresol novolac type compounds, biphenyl type compounds, and alicyclic epoxy compounds.
  • bisphenol A type compounds include Epototo YD-115, YD-118T, YD-127, YD-128, YD-134, YD-8125, YD-7011R, ZX-1059, YDF-8170, YDF-170 and the like ( Product name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., Denacol EX-1101, EX-1102, EX-1103 and the like (product name, manufactured by Nagase Kasei), Plaxel GL-61, GL-62, G101, G102 (product described above) Name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), and similar bisphenol F-type compounds and bisphenol S-type compounds.
  • Epoxy acrylates such as Ebecryl 3700, 3701, and 600 (trade name, manufactured by Daicel UC) can also be used.
  • cresol novolac type compounds include Epototo YDPN-638, YDPN-701, YDPN-702, YDPN-703, YDPN-704, etc. (above, trade name, manufactured by Tohto Kasei), Denacol EM-125, etc.
  • Examples of biphenyl type compounds include 3,5,3 ′, 5′-tetramethyl-4,4′diglycidylbiphenyl, and examples of alicyclic epoxy compounds.
  • Celoxide 2021, 2081, 2083, 2085, Eporide GT-301, GT-302, GT-401, GT-403, EHPE-3150 (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries), Santo Tote ST-3000, ST-4000. , ST-5080, ST-5100, etc. (above, trade name, manufactured by Tohto Kasei) It is possible.
  • 1,1,2,2-tetrakis (p-glycidyloxyphenyl) ethane, tris (p-glycidyloxyphenyl) methane, triglycidyltris (hydroxyethyl) isocyanurate, o-phthalic acid diglycidyl ester, terephthalic acid diester
  • glycidyl ester, Epototo YH-434 and YH-434L which are amine type epoxy resins, glycidyl ester in which dimer acid is modified in the skeleton of bisphenol A type epoxy resin, and the like can also be used.
  • the pigment dispersion composition of the present invention is preferably composed of various surfactants from the viewpoint of improving coatability, and examples of usable surfactants include fluorine-based surfactants, In addition, nonionic surfactants, cationic surfactants, and anionic surfactants can be used. Of these, fluorine-based surfactants and nonionic surfactants are preferred.
  • nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, and monoglyceride alkyl esters are particularly preferable.
  • polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene polystyrylated ether, polyoxyethylene triethyl ether
  • Polyoxyethylene aryl ethers such as benzyl phenyl ether, polyoxyethylene-propylene polystyryl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether; polyoxyethylene dialkyl esters such as polyoxyethylene dilaurate and polyoxyethylene distearate, sorbitan fatty acid esters , Polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, ethylenediamine polyoxyethylene-polyoxypropylene
  • Nonionic surfactants such as thione condensates, which are commercially available from Kao Corporation, Nippon Oil & Fats Co., Ltd., Takemoto Oil & Fat Co., Ltd., ADEKA Co.
  • Adhesion improver can be added to the colored curable composition in order to improve the adhesion between a hard surface such as a support and the formed cured film.
  • the adhesion improver include a silane coupling agent and a titanium coupling agent.
  • silane coupling agents include ⁇ - (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, ⁇ - (2-aminoethyl) aminopropyldimethoxysilane, ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane.
  • ⁇ -methacryloxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropyltriethoxysilane, ⁇ -acryloxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -acryloxypropyltriethoxysilane, ⁇ -mercaptopropyltrimethoxysilane, ⁇ -amino Propyltriethoxysilane and phenyltrimethoxysilane are preferred, and ⁇ -methacryloxypropyltrimethoxysilane is most preferred.
  • the addition amount of the adhesion improver is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass in the total solid content of the colored curable composition.
  • Fillers such as glass and alumina; itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, acidic cellulose derivatives, and acid anhydrides added to hydroxyl group-containing polymers And alcohol-soluble nylon, alkali-soluble resins such as phenoxy resin formed from bisphenol A and epichlorohydrin, and the like.
  • an organic carboxylic acid preferably a molecular weight, is preferably used in the preparation of the pigment dispersion containing the (D) pigment. You may add 1000 or less low molecular weight organic carboxylic acid.
  • aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, citraconic acid; Aliphatic tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, and camphoric acid; aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid, and mesitylene acid; phthalic acid
  • a known additive such as an inorganic filler, a plasticizer, or a sensitizer capable of improving the ink inking property on the surface of the photosensitive layer may be added to improve the physical properties of the cured film.
  • the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin and the like.
  • the amount of the plasticizer is 10% by mass or less based on the total mass of the compound having an ethylenically unsaturated double bond and the binder.
  • the colored curable composition of the present invention is cured with high sensitivity and has good storage stability. Moreover, the high adhesiveness to hard material surfaces, such as a support body (board
  • the colored curable composition of the present invention comprises the aforementioned (A) specific polymer, (B) photopolymerization initiator, (C) polymerizable compound, (D) pigment, (E) A dispersant containing a phosphoric acid group and an alkali-soluble resin (bander polymer) used together as required are preferably contained together with a solvent, and an additive such as a surfactant is mixed therewith as necessary, It can prepare by passing through the mixing and dispersion
  • the mixing and dispersing step preferably includes kneading and dispersing followed by fine dispersion treatment, but kneading and dispersing can be omitted.
  • the color filter of the present invention is formed using the colored curable composition of the present invention.
  • it is configured to have a coloring pattern of one or more colors (preferably three colors or four colors) using the above-described colored curable composition of the present invention on a support described later. Since the color filter of the present invention is produced using a colored curable composition capable of forming a high-resolution colored pattern, which is excellent in coating uniformity and surface flatness and also in developability, the color filter is high. Resolution can be obtained.
  • the color filter of the present invention may be a color filter for a liquid crystal display device or a color filter for a solid-state image sensor, but is preferably a color filter for a solid-state image sensor from the viewpoint of high resolution.
  • the size (line width) of the colored pattern (colored pixel) constituting the color filter of the present invention is preferably 2.0 ⁇ m or less, and particularly preferably 1.7 ⁇ m or less.
  • the thickness of the colored pattern is preferably from 0.1 to 2.0 ⁇ m, more preferably from 0.2 to 1.0 ⁇ m, from the viewpoint of high resolution.
  • the color filter of the present invention preferably includes a Bayer array coloring pattern (hereinafter also referred to as “Bayer pattern”) from the viewpoint of high resolution.
  • the Bayer array refers to an array in which a plurality of squares are arranged in a checkered pattern (for example, an array shown in black in FIG. 1).
  • the Bayer array is applied to, for example, an array of green pixels in a color filter for a solid-state image sensor.
  • the method for producing the color filter of the present invention is not particularly limited.
  • the color filter can be suitably produced using the method for producing the color filter of the present invention described later.
  • the method for producing the color filter of the present invention described above is not particularly limited, but the following method for producing a color filter of the present invention is suitable. That is, the method for producing a color filter of the present invention comprises forming a colored layer by applying the above-mentioned colored curable composition of the present invention on a support (colored layer forming step), and exposing the colored layer. (Exposure process) and developing the colored layer after exposure (development process). Hereafter, each process in the manufacturing method of this invention is demonstrated.
  • Colored layer forming step the above-described colored curable composition of the present invention is applied on a support directly or via another layer, for example, by slit coating, and is applied as necessary. In this step, the obtained coating film is dried to form a colored layer.
  • Examples of the support include non-alkali glass, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass, and those obtained by attaching a transparent conductive film to these, and solid-state imaging devices.
  • Examples of the photoelectric conversion element substrate used include a silicon substrate and a plastic substrate. On these supports, usually, a black matrix for isolating each pixel is formed, or a transparent resin layer is provided for promoting adhesion.
  • the plastic substrate preferably has a gas barrier layer and / or a solvent resistant layer on its surface.
  • the colored curable composition of the present invention is also applied to a driving substrate (hereinafter referred to as “TFT type liquid crystal driving substrate”) on which a thin film transistor (TFT) of a thin film transistor (TFT) type color liquid crystal display device is disposed.
  • a color filter can be produced by forming a patterned film made of a material.
  • the photomask used at that time is provided with a pattern for forming a through hole or a U-shaped depression in addition to a pattern for forming a pixel.
  • the material of the substrate in the TFT type liquid crystal driving substrate include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, and polyimide.
  • These substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, gas phase reaction method, vacuum deposition, etc., if desired.
  • a substrate in which a passivation film such as a silicon nitride film is formed on the surface of a TFT liquid crystal driving substrate or a surface of the driving substrate can be used.
  • the colored curable composition of this invention is excellent in the uniformity and smoothness of a coating film, even when apply
  • a substrate having an uneven surface as a support in the present invention.
  • the substrate include the glass substrate, silicon substrate, and plastic substrate described above.
  • the unevenness include various patterns such as a thin film transistor, a photoelectric conversion element, and a passivation film.
  • the unevenness is a color pattern (for example, an nth color pattern described later) already provided on the substrate prior to the color pattern to be formed in the color filter manufacturing method of the present invention. May be.
  • the method for applying the colored curable composition of the present invention to the support is not particularly limited, and known coating methods such as spin coating, slit coating, cast coating, roll coating, and bar coating can be used. Of these, slit coating is preferred.
  • the slit coating is a method using a slit nozzle (hereinafter also referred to as slit nozzle coating method), and examples thereof include a slit-and-spin method and a spinless coating method.
  • the slit-and-spin coating method and the spinless coating method have different conditions depending on the size of the coated substrate.
  • the discharge amount of the colored curable composition from the slit nozzle is usually 500 to 2000 microliters / second, preferably 800 to 1500.
  • the coating speed is usually 50 to 300 mm / second, preferably 100 to 200 mm / second.
  • the solid content of the colored curable composition is usually 10 to 20%, preferably 13 to 18%.
  • the thickness of the coating film is generally 0.3 to 5.0 ⁇ m, preferably 0.5 to 4 0.0 ⁇ m, most desirably 0.8 to 3.0 ⁇ m.
  • the film thickness is most preferably in the range of 0.4 to 2.0 ⁇ m.
  • the colored curable composition of the present invention is particularly effective in forming a thin colored film such as 0.4 to 1.0 ⁇ m and 0.45 to 0.8 ⁇ m.
  • a pre-bake treatment is performed after coating.
  • vacuum treatment can be performed before pre-baking.
  • the vacuum drying condition is that the degree of vacuum is usually about 0.1 to 1.0 torr, preferably about 0.2 to 0.5 torr.
  • the pre-baking treatment is performed in a temperature range of 50 to 140 ° C., preferably about 70 to 110 ° C., using a hot plate, an oven or the like, and can be performed under conditions of 10 to 300 seconds.
  • High frequency treatment or the like may be used in combination. High frequency processing can be used alone.
  • the colored layer formed in the colored layer forming step is exposed (preferably pattern exposed).
  • the pattern exposure may be a method of exposing through a mask having a predetermined mask pattern, or may be scanning exposure with a laser or the like.
  • pattern exposure of the coating film is performed through a predetermined mask pattern, and only the coating film portion irradiated with light is cured. Then, it develops with a developing solution and an uncured part is removed and a colored pattern is formed (development process).
  • These operations can be performed by repeating each color (3 colors or 4 colors) to form a patterned film composed of pixels of each color.
  • Irradiation dose is preferably 5 ⁇ 1500mJ / cm 2, more preferably 10 ⁇ 1000mJ / cm 2, and most preferably 10 ⁇ 500mJ / cm 2.
  • the color filter of the present invention for a liquid crystal display device is preferably 5 ⁇ 200mJ / cm 2 within the above range, more preferably 10 ⁇ 150mJ / cm 2, and most preferably 10 ⁇ 100mJ / cm 2 . Also, when using the color filter of the present invention for the solid-state imaging device is preferably 30 ⁇ 1500mJ / cm 2 within the above range, more preferably 50 ⁇ 1000mJ / cm 2, most 80 ⁇ 500mJ / cm 2 preferable. When producing a color filter for a solid-state imaging device, it is preferable to mainly use i-line in a stepper exposure machine because high-definition pattern formation is required.
  • the development step in the present invention is a step of developing (developing) the exposed colored layer.
  • the uncured part after exposure is eluted in the developer, and only the cured part remains.
  • the development temperature is usually preferably 20 to 30 ° C., and the development time is preferably 20 to 90 seconds. Any developer can be used as long as it dissolves the coating film of the photocurable composition in the uncured portion while not dissolving the cured portion. Specifically, a combination of various organic solvents or an alkaline aqueous solution can be used.
  • the above-mentioned solvent which can be used when preparing the pigment dispersion composition or colored curable composition of this invention is mentioned.
  • the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, An alkaline compound such as tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene is used at a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to An alkaline aqueous solution dissolved so as to be 1% by mass can be mentioned.
  • a rinsing step for washing and removing excess developer drying is performed, and then heat treatment (post-baking) is performed to complete the curing.
  • the rinsing process is usually performed with pure water. However, to save liquid, pure water is used in the final cleaning. At the beginning of cleaning, used pure water is used, the substrate is tilted and cleaned, and ultrasonic irradiation is performed. Can be used together.
  • the colored curable composition of the present invention is excellent in coating uniformity and coating film flexibility even when there are irregularities on the substrate, is cured with high sensitivity, and has excellent developability. Even in the case of sequentially forming fine patterns, the color pattern formed later is excellent in film thickness uniformity and pattern formability, and a plurality of colored patterns can be formed sequentially with high resolution. It is useful for forming a color pattern (color pixel) of a color filter, and its application range is wide.
  • the following embodiment is particularly preferable as the method for producing the color filter of the present invention. That is, in the colored layer forming step, at least the nth color (n is an integer of 1 or more; the same shall apply hereinafter) on the colored pattern forming surface side of the support on which the colored pattern is formed, Represents an integer greater than or equal to 1. The same applies hereinafter.)
  • the colored layer applied so as to overlap the already formed colored pattern is exposed and developed to form a colored pattern for the (n + 1) th color and thereafter.
  • the color pattern for the (n + 1) th color pattern is used. It is excellent in application uniformity of the colored curable composition and excellent in developability. For this reason, it is possible to produce a higher-resolution color filter.
  • the following forms (1) and (2) are particularly preferable.
  • the colored curable composition for forming a colored pattern of the second color is already formed on the colored pattern forming surface side of the support on which the colored pattern of the first color is formed.
  • a colored layer is formed by coating so as to overlap the colored pattern of the color, exposed, and developed to form a colored pattern of the second color.
  • the colored curable composition for forming the third color pattern is already formed on the colored pattern forming surface side of the support on which the first color and second color patterns are formed.
  • a colored layer is formed by coating so as to overlap the colored pattern of the first color and the second color, and exposed and developed to form a colored pattern of the third color.
  • Pigment Yellow 139 50 parts acrylic resin solution (benzyl methacrylate / methacrylic acid (60/40% by mass) 20 parts by mass of propylene glycol methyl ether acetate solution) 200 parts, Solsperse 32000GR (trade name, manufactured by Nippon Lubrizol Corp .; polyester dispersant) 20 parts, solvent: 520 parts of propylene glycol methyl ether acetate, modified copper phthalocyanine sulfonate 5 Part Cu-pc- (SO 3 H) 4 (Cu-pc: copper phthalocyanine) Subsequently, the following components were added to the mixed solution (G) obtained above, and fine dispersion treatment was performed for a whole day and night with a sand mill to obtain a pigment dispersion (G) as a first pigment dispersion for colored pattern. ⁇ Solvent (PGMEA) 350 parts by mass
  • the green colored curable composition solution (G) obtained as described above was applied onto an 8-inch silicon substrate having the undercoat layer, and the colored layer (G) (coated film) Formed. And it heat-processed (prebaked) for 120 second using a 100 degreeC hotplate so that the dry film thickness of this colored layer (G) might be 0.8 micrometer.
  • a Bayer pattern mask having a pattern of 1.4 ⁇ m square with a wavelength of 365 nm using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (trade name, manufactured by Canon Inc.) for the pre-baked colored layer (G) Pattern exposure.
  • the pattern exposure was performed so as to form a collection of 1.4 ⁇ m square images as shown in black in FIG.
  • the silicon wafer substrate having the pattern-exposed colored layer (G) is placed on a horizontal rotary table of a spin shower developing machine (DW-30 type, trade name, manufactured by Chemtronics Co., Ltd.), and CD- Using 2000 (trade name, manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.), paddle development was performed at 23 ° C. for 60 seconds to form a colored pattern on the silicon wafer substrate.
  • DW-30 type trade name, manufactured by Chemtronics Co., Ltd.
  • CD- Using 2000 trade name, manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.
  • the silicon wafer substrate on which the colored pattern is formed is fixed to the horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and the silicon wafer substrate is rotated at a rotation speed of 50 r. p. m. While being rotated, pure water was supplied from the upper part of the rotation center in a shower-like manner to perform a rinse treatment, and then spray-dried.
  • the mixed solution (R) obtained above was further subjected to a dispersion treatment for 6 hours with a bead disperser disperse mat (made by GETZMANN) using 0.3 mm ⁇ zirconia beads, and then further subjected to high pressure with a pressure reducing mechanism.
  • a disperser NANO-3000-10 (trade name, manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.)
  • dispersion treatment was performed at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm 3 . This dispersion treatment was repeated 10 times, and a red pigment dispersion (R) was obtained as a second colored pattern pigment dispersion.
  • the colored curable composition (R) prepared above was applied to the surface of the substrate (8-inch silicon substrate) on which the colored pattern G was previously formed as described above to form a colored layer (R). And it heat-processed (prebaked) for 120 second using a 100 degreeC hotplate so that the dry film thickness of this colored layer (R) might be set to 0.8 micrometer.
  • the cross section of the colored layer (R) after coating and drying was measured using SEM “S-4800” (trade name, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). A waved surface was observed on the region where the colored pattern G was formed and on the region where the colored pattern G was not formed.
  • the film thickness was measured in all regions of the colored (R) layer formed on the substrate, and the difference in film thickness between the thickest part and the thinnest part was measured.
  • the results are shown in Table 1 below.
  • Example 2 in the preparation of the colored curable composition (R) for the second colored pattern, the colored curable composition was the same as Example 1 except that the composition was changed as shown in Table 1 below. Were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1 below.
  • Example 1 in the preparation of the colored curable composition (R) for the second colored pattern, the colored curable composition was the same as Example 1 except that the composition was changed as shown in Table 1 below. Were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1 below.
  • Table 1 “BH-1” is a comparative polymer, benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (mass ratio 75/25, weight average molecular weight 19000).
  • PD-2”, “PD-3”, “PD-4”, “PD-5”, and “PD-A” are comparative dispersants having a structure described later.
  • the colored curable compositions of Examples 1 to 10 can form a coating film with a uniform film thickness even on an uneven substrate on which a colored pattern has already been formed.
  • the property was also good. It turns out that the comparative example using the polymer which does not have a specific side chain structure, and the dispersing agent which does not have a specific phosphoric acid structure is inferior in the uniformity of a film thickness.
  • the colored layer was formed by applying the colored curable composition of this example on the substrate on which the first colored pattern (green colored pattern) had already been formed.
  • the colored layer formed here is exposed and developed, whereby a second color pattern (red color pattern) can be formed.
  • a third color pattern may be formed on the substrate on which the first color and second color patterns are formed using the colored curable composition of this example.
  • the color filter is formed on the silicon wafer.
  • a solid-state image sensor substrate on which a light receiving element such as a photodiode is formed a solid color having excellent color characteristics can be obtained.
  • An imaging element can be manufactured.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

　基板上に凹凸がある場合であっても、塗膜の均一性、表面平坦性に優れ、且つ、現像性にも優れる、高解像度の着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を提供する。該着色硬化性組成物は、（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）顔料、及び（Ｅ）リン酸基を含む分散剤を含有する。

Description

着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
　本発明は、着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子に関する。
　カラーフィルタは液晶ディスプレイや固体撮像素子に不可欠な構成部品である。
　このようなカラーフィルタは複数の色相の着色パターンから構成され、通常は、少なくとも、赤色、緑色、及び、青色の着色領域（以下、「着色パターン」又は「着色画素」ともいう）を有する。この着色領域の形成方法としては、まず、第１の色相（以下、「１色目」ともいう）として、赤色、緑色、青色の何れかの着色剤を有する硬化性組成物を塗布し、露光及び現像を行い、必要に応じて加熱処理を行って当該色相の着色パターンを形成した後、第２の色相（以下、「２色目」ともいう）、第３の色相（以下、「３色目」ともいう）において同様の塗布、露光、現像、必要に応じた加熱処理のプロセスを繰り返す。
　上記のような形成方法は、フォトリソ法又は顔料分散法などと呼ばれている。これらの形成方法に用いる感光性組成物として、アルカリ可溶性樹脂に光重合性モノマーと光重合開始剤とを添加したネガ型感光性組成物が提案されている（例えば、特開平２－１８１７０４号公報、特開平２－１９９４０３号公報、特開平５－２７３４１１号公報、特開平７－１４０６５４号公報を参照）。
　最近では、液晶ディスプレイや固体撮像素子のいずれにおいても、解像度向上を目的として微細な着色パターン（例えば、一辺が１．７μｍ以下の着色パターン）を再現性よく形成することが求められている。また同時に、着色パターンの膜厚も薄くすること（例えば、膜厚を１μｍ以下とすること）が求められている。
　上記のような微細画像をまず第１の色相で形成した後、第２の色相以降で、同様の画像形成を行う場合、着色パターンが形成された段差のある基板に対して、着色硬化性組成物を塗布することになる。この場合、基板上の凹凸上に塗布することになるため、基板上の凹凸に起因して着色硬化性組成物層表面の均一性が低下し、凹凸状の塗布ムラが発生する。このように厚みムラがある状態で露光、現像を行うと、画像の表面の平面性が低下し、また、現像ムラも生じるために、所望の高解像度画像形成が困難となる。
　微細な着色パターンが形成された基板表面へ、２色目以降の着色硬化性組成物層を形成する場合の均一性を向上させるために、着色硬化性組成物に各種界面活性剤等の添加剤を添加する方法があるが、この方法のみでは、例えば、一辺が１．７μｍ以下であるような微少面積のパターンを複数色、高解像度で形成するには、塗膜の均一性が十分ではないことがある。
　このように、着色硬化性組成物においては、カラーフィルタ、特に固体撮像素子用のカラーフィルタにおける着色パターンの形成に有用な、基板表面の凹凸がある場合であっても、塗膜の平滑性、均一性に優れ、且つ、現像性が良好で、微細な面積の画像を形成するのに好適な硬化性組成物が熱望されている。
　本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下に本発明の目的を記載する。
　即ち、本発明の一態様によれば、支持体（基板）上に凹凸がある場合であっても、塗膜の均一性および表面平坦性に優れ、且つ、現像性にも優れる、高解像度の着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物、特には、カラーフィルタの着色パターン形成に有用な着色硬化性組成物が提供される。
　本発明の別の態様によれば、高解像度の着色パターンを有するカラーフィルタ、その製造方法、及び、色特性に優れたカラーフィルタを備える固体撮像素子が提供される。
　本発明者は鋭意検討の結果、特定の側鎖構造を有するポリマーと特定構造を持つ分散剤とを併用することで上記目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成した。
　即ち、本発明の具体的手段は以下の通りである。
＜１＞　（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）顔料、及び（Ｅ）リン酸基を含む分散剤を含有する着色硬化性組成物。
＜２＞　前記（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマーが、下記式（Ｉ）で表される構造単位を含むポリマーである＜１＞に記載の着色硬化性組成物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　一般式（Ｉ）中、Ｒは、水素原子、又は炭素原子数１～４の炭化水素基を表し、ｎは、１～２００の整数を表す。
＜３＞　前記一般式（Ｉ）中、Ｒが水素原子又はメチル基である＜２＞に記載の着色硬化性組成物。
＜４＞　前記一般式（Ｉ）中、ｎが１～１００の整数である＜２＞又は＜３＞に記載の着色硬化性組成物。
＜５＞　前記一般式（Ｉ）で表される構造単位が、前記（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマー中に、５～１００質量％含まれる＜２＞～＜４＞のいずれか１つに記載の着色硬化性組成物。
＜６＞　前記（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマーが、前記式（Ｉ）で表される構造単位以外に他の構造単位を有する＜２＞～＜５＞のいずれか１つに記載の着色硬化性組成物。
＜７＞　前記（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマーの含有量が、着色硬化性組成物の固形分中、２～５０質量％である＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の着色硬化性組成物。
＜８＞　前記（Ｅ）リン酸基を含む分散剤が、下記式（II）で表される化合物である＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の着色硬化性組成物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　一般式（II）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素原子数１～２０の炭化水素基を表し、ｍ及びｌは、それぞれ独立に、１～２００の整数を表す。
＜９＞　前記一般式（II）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、炭素原子数６～２０の炭化水素基である＜８＞に記載の着色硬化性組成物。
＜１０＞　前記一般式（II）中、ｍ及びｌは、それぞれ独立に、２～２０の整数である＜８＞又は＜９＞に記載の着色硬化性組成物。
＜１１＞　前記（Ｃ）重合性化合物が、ラジカル重合性化合物である＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の着色硬化性組成物。
＜１２＞　前記（Ｄ）顔料及び前記（Ｅ）リン酸基を含む分散剤が顔料分散液として調製されており、前記顔料分散液中における前記（Ｅ）リン酸基を含む分散剤の量が、前記（Ｄ）顔料１００質量部に対して、０～１００質量部である＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の着色硬化性組成物。
＜１３＞　着色硬化性組成物に含まれる前記（Ｄ）顔料の量が、５～９０質量％である＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の着色硬化性組成物。
＜１４＞　＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の着色硬化性組成物を用いて形成されたカラーフィルタ。
＜１５＞　支持体上に、＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の着色硬化性組成物を塗布して着色層を形成することと、
　前記着色層を露光することと、
　露光後の前記着色層を現像することと、
を含むカラーフィルタの製造方法。
＜１６＞　前記着色層の形成においては、少なくとも第ｎ色目（ｎは１以上の整数を表す）の着色パターンが形成されている支持体の着色パターン形成面側に、第ｎ＋１色目（ｎは１以上の整数を表す）以降の着色パターンを形成するための前記着色硬化性組成物を、形成されている着色パターン上に重なるように塗布して着色層を形成する、＜１５＞に記載のカラーフィルタの製造方法。
＜１７＞　＜１４＞に記載のカラーフィルタを備えた固体撮像素子。
　本発明の一態様によれば、支持体（基板）上に凹凸がある場合であっても、塗膜の均一性および表面平坦性に優れ、且つ、現像性にも優れる、高解像度の着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物、特には、カラーフィルタの着色パターン形成に有用な着色硬化性組成物を提供することができる。
　また、本発明の別の態様によれば、高解像度の着色パターンを有するカラーフィルタ、その製造方法、及び、色特性に優れたカラーフィルタを備える固体撮像素子を提供することができる。
実施例において基板上に形成された第１の着色パターンの形状を示す平面図である。
着色硬化性組成物
　本発明の着色硬化性組成物は、（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）顔料、及び（Ｅ）リン酸基を含む分散剤を含有する。
　以下、本発明の着色硬化性組成物に用いられる各構成成分について順次説明する。
（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマー
　本発明の着色硬化性組成物は、（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマー（以下、「（Ａ）特定ポリマー」ともいう）を少なくとも１種含有する。
　エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位としては、下記一般式（I）で表される構造単位が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　一般式（Ｉ）中、Ｒは水素原子、又は、炭素原子数１～４の炭化水素基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基であり、水素原子又はメチル基であることが最も好ましい。
　ｎは１～２００の整数を表す。ｎの数でポリマーの酸価、結晶性、被膜性といった特性を制御することができ、そのような観点からは、ｎは好ましくは、１～１００の整数であり、２～２０の整数であることがより好ましい。ｎが２００以下であると、現像性がより良好となる。
　本発明における（Ａ）特定ポリマーは、前記一般式（Ｉ）で表される構造単位を、ポリマー中に５～１００質量％含有することが好ましく、２０～７０質量％含有することがより好ましい。
　（Ａ）特定ポリマーは、上記構造単位以外に他の構造単位を有することが、ポリマーに種々の物性を与えることができるため好ましい。即ち、共存させる他の共重合成分の種類や量を制御することで、特定ポリマーの分子量、親疎水性、極性などを制御することが可能となる。
　本発明に係る（Ａ）特定ポリマーが含みうる他の共重合成分には特に制限はないが、好ましい共重合できうる構造単位としては、以下のものを挙げることができる。
　（１）２－ヒドロキシエチルアクリレート又は２－ヒドロキシエチルメタクリレート等の、脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類。
　（２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸アミル、アクリル酸デシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸２－エチルヘキシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸－２－クロロエチル、グリシジルアクリレート、Ｎ－ジメチルアミノエチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、アクリル酸２－フェニルエチル等のアクリレート類。
　（３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸２－エチルヘキシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸テトラデシル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸－２－クロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ－ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、メタクリル酸２－フェニルエチル等のメタクリレート類。
　（４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ－メチロールアクリルアミド、Ｎ－エチルアクリルアミド、Ｎ－ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ－シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ－フェニルアクリルアミド、Ｎ－ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルアクリルアミド、アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸等のアクリルアミド又はメタクリルアミド。
　（５）エチルビニルエーテル、２－クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
　（６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
　（７）スチレン、α－メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
　（８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
　（９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
　（１０）Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカルバゾール、４－ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
　（１１）マレイミド、Ｎ－アクリロイルアクリルアミド、Ｎ－アセチルメタクリルアミド、Ｎ－プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ－（ｐ－クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
　また、一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するポリマーの共重合成分として、更に以下（１２）～（１７）の構造を有する酸基含有モノマーに由来する構造単位を用いることもできる。この酸基含有構造単位の含有量は（Ａ）特定ポリマーにおいて３０モル％以下であることが効果の観点から好ましい。
　（１２）フェノール基（－Ａｒ－ＯＨ）
　（１３）スルホンアミド基（－ＳＯ2ＮＨ－Ｒ）
　（１４）活性イミド基
　　　（－ＳＯ2ＮＨＣＯＲ、－ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、－ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ）
　（１５）カルボン酸基
　（１６）スルホン酸基（－ＳＯ3Ｈ）
　（１７）リン酸基（－ＯＰＯ3Ｈ2）
　上記（１２）～（１７）中、Ａｒは置換基を有していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
　上記（１２）のフェノール基を有するモノマーの例としては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
　上記（１３）スルホンアミド基を有するモノマーの例としては、上記構造のスルホンアミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、スルホンアミド基とを分子内に有する低分子化合物が好ましい。例えば、下記一般式（ｉ）～（ｖ）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　上記一般式（ｉ）～（ｖ）中、Ｘ1及びＸ2は、各々独立に、－Ｏ－又は－ＮＲ7－を表す。
　Ｒ1及びＲ4は、各々独立に、水素原子又は－ＣＨ3を表す。Ｒ2、Ｒ5、Ｒ9、Ｒ12、及び、Ｒ16は、各々独立に、置換基を有していてもよい、炭素数１～１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｒ3、Ｒ7、及び、Ｒ13は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数１～１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、Ｒ6及びＲ17は、各々独立に、置換基を有していてもよい、炭素数１～１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ8、Ｒ10及びＲ14は、各々独立に、水素原子又は－ＣＨ3を表す。Ｒ11及びＲ15は、各々独立に、単結合又は置換基を有していてもよい、炭素数１～１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｙ1及びＹ2は、それぞれ独立に単結合、又は－ＣＯ－を表す。
　一般式（ｉ）～（ｖ）で表される化合物のうち、本発明の着色硬化性組成物では、特に、ｍ－アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ－（ｐ－アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ－（ｐ－アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等に由来する酸基含有構造単位を有する化合物を好適に使用することができる。
　上記（１４）活性イミド基を有するモノマーの例としては、前記構造式で表される活性イミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。中でも、下記構造式で表される活性イミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　具体的には、Ｎ－（ｐ－トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ－（ｐ－トルエンスルホニル）アクリルアミド等に由来する酸基含有構造単位を好適に使用することができる。
　上記（１５）カルボン酸基を有するモノマーとしては、例えば、カルボン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。上記（１６）スルホン酸基を有するモノマーとしては、例えば、スルホン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。上記（１７）リン酸基を有するモノマーとしては、例えば、リン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。
また、本発明に係る（Ａ）特定ポリマーは、必要に応じて、側鎖に重合性基を含むことができる。例えば、本発明の特定構造を有するポリマーにグリシジルメタクリレートなどの重合性基と環状エーテル構造とを有するモノマーを反応させることで側鎖に重合性基を有するポリマーを得ることができる。本発明の特定構造を有するポリマーと、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、２―アクリロイルオキシエチルイソシアネートなどと反応させることでも側鎖に重合性基を導入することが可能である。
　特に本発明の特定構造を有するポリマーとイソアネートと反応させる場合には、本願の特定構造を有するポリマーは２－ヒドロキシエチルメタクリレートや２－ヒドロキシエチルアクリレートなどの水酸基を有するモノマーに由来する構造単位を共重合成分として含んでいることが好ましい。
　本発明における（Ａ）特定ポリマーは、酸価が５～２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、より好ましくは１０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、更に好ましくは２５～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であることが好ましい。酸価が上記範囲であると、現像時におけるパターン剥離の発生が抑制され、良好なアルカリ現像性が達成される。
　本発明において、酸価は、例えば、樹脂分子中における酸基の平均含有量から算出することができる。
　なお、（Ａ）特定ポリマーの酸価は、前記酸基含有構造単位の種類や含有量を変化させることで調整することができる。
　本発明における（Ａ）特定ポリマーは、着色剤として顔料を用いる場合には、芳香環を有する構造単位を有することが、顔料の分散安定性、及び、着色硬化性組成物安定性の観点から好ましい。
　芳香環の例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などの芳香族炭化水素基、インドール基、イミダゾール基、トリアゾール基、オキシジアゾール基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンズチアゾール基、ピリジニル基、チオフェン基、ピロール基、フラニル基等の複素原子含有芳香族基、などが挙げられる。これらの芳香環が直接、或いは、所定の連結基を介して、特定ポリマーの側鎖に結合することが好ましい。
　また、芳香環を有する構造単位は、（Ａ）特定ポリマーに対して、５～８０質量％含まれることが好ましく、１０～６０質量％含まれることがより好ましい。
　本発明における（Ａ）特定ポリマーは、重量平均分子量が３，０００以上、数平均分子量が１，０００以上のものが好ましく用いられる。重量平均分子量は、５，０００ ～５０００００がさらに好ましく、１０，０００～１０００００が更に好ましく、１２，０００～５００００が特に好ましい。このようなポリマーは、１種類を用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。なお、重量平均分子量、数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）法にてポリスチレン換算で求めた値を用いている。
　本発明の着色硬化性組成物は、側鎖に一般式（Ｉ）で示される如き構造を有する（Ａ）特定ポリマーを含有するため、塗膜の柔軟性、形状追随性が向上する。そのため、該着色硬化性組成物を塗布する支持体（基板）上に凹凸がある場合でも、均一な塗膜を形成することができ、多色の着色パターンを順次形成する場合においても、あとから形成する着色パターンの膜厚を均一とすることができると考えられる。また、本発明の好ましい態様においては、（Ａ）特定ポリマーに酸基を導入することにより、硬化性組成物自体の現像性が向上し、微細なパターンを形成する場合においても、現像残渣の発生が抑制され、膜厚が均一で解像度に優れたパターンを形成しうるという利点をも有することになる。
　このため、高解像度画像、即ち、小さい画像パターンを順次、複数回にわたり形成させる場合に本発明の着色硬化性組成物は特に有効であり、線幅が３０μｍ以下、更に好ましくは３μｍ以下の画像を形成させる場合に有効である。また、重合成分が少なくても硬化性に優れるため、本発明の着色硬化性組成物は、顔料固形分が４０質量％以上、更に好ましくは４５質量％以上の場合に本発明の着色硬化性組成物が特に有効である。
　以下に（Ａ）特定ポリマーの具体的な構造を示すが、本発明は以下に限られるものではない。
　なお、本明細書中では、構造式中の「ｗｔ％」は「質量％」を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　これらのなかでも、本発明の特定ポリマーは、一般式（Ｉ）の構造を３０～７０質量％含むことが、塗膜の均一性の観点から好ましい。また、酸価が８０ｍｇＫＯＨ/ｇ～１５０ｍｇＫＯＨ/ｇであることが現像性の観点から好ましい。また、分子量は現像性、塗膜均一性の観点から重量平均分子量が７０００～３００００であることが好ましい。
　本発明の着色硬化性組成物中における（Ａ）特定ポリマーの含有量は、固形分中、２質量％～５０質量％であることが好ましく、３質量％～４０質量％であることがより好ましく、最も好ましくは５質量％～３０質量％である。
（Ｂ）光重合開始剤
　本発明の着色硬化性組成物は、（Ｂ）光重合開始剤をさらに含有する。
　本発明における（Ｂ）光重合開始剤は、光により分解し、特定重合性化合物の重合を開始、促進する光重合開始剤であることが好ましく、波長３００～５００ｎｍの領域に吸収を有するものであることが好ましい。また、光重合開始剤は、単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。
　光重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン（オキシド）化合物が挙げられる。
　有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ　Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ　Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６－４６０５号公報、特開昭４８－３６２８１号公報、特開昭５５－３２０７０号公報、特開昭６０－２３９７３６号公報、特開昭６１－１６９８３５号公報、特開昭６１－１６９８３７号公報、特開昭６２－５８２４１号公報、特開昭６２－２１２４０１号公報、特開昭６３－７０２４３号公報、特開昭６３－２９８３３９号公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１（Ｎｏ３），（１９７０）」筆に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、ｓ－トリアジン化合物が挙げられる。
　ｓ－トリアジン化合物の例として、より好適には、すくなくとも一つのモノ－、ジ－、又はトリ－ハロゲン置換メチル基がｓ－トリアジン環に結合したｓ－トリアジン誘導体が挙げられる。具体例としては、２，４，６－トリス（モノクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４，６－トリス（ジクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４，６－トリス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－メチル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２―ｎ－プロピル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（α，α，β－トリクロロエチル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（３，４－エポキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－クロロフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－〔１－（ｐ－メトキシフェニル）－２，４－ブタジエニル〕－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－スチリル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－ｉ－プロピルオキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシナフチル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－フェニルチオ－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ベンジルチオ－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４，６－トリス（ジブロモメチル）－ｓ－トリアジン、２，４，６－トリス（トリブロモメチル）－ｓ－トリアジン、２－メチル－４，６－ビス（トリブロモメチル）－ｓ－トリアジン、２－メトキシ－４，６－ビス（トリブロモメチル）－ｓ－トリアジン等が挙げられる。
　オキシジアゾール化合物の例としては、２－トリクロロメチル－５－スチリル－１，３，４－オキソジアゾール、２－トリクロロメチル－５－（シアノスチリル）－１，３，４－オキソジアゾール、２－トリクロロメチル－５－（ナフト－１－イル）－１，３，４－オキソジアゾール、２－トリクロロメチル－５－（４－スチリル）スチリル－１，３，４－オキソジアゾールなどが挙げられる。
　カルボニル化合物の例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２－メチルベンゾフェノン、３－メチルベンゾフェノン、４－メチルベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、４－ブロモベンゾフェノン、２－カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α－ヒドロキシ－２－メチルフェニルプロパノン、１－ヒドロキシ－１－メチルエチル－（ｐ－イソプロピルフェニル）ケトン、１－ヒドロキシ－１－（ｐ－ドデシルフェニル）ケトン、２－メチルー（４’－（メチルチオ）フェニル）－２－モルホリノ－１－プロパノン、１，１，１－トリクロロメチル－（ｐ－ブチルフェニル）ケトン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－４－モルホリノブチロフェノン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２－エチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ－ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。
　ケタール化合物の例としては、ベンジルメチルケタール、ベンジル－β－メトキシエチルエチルアセタールなどを挙げることができる。
　ベンゾイン化合物の例としては、ｍ－ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルｏ－ベンゾイルベンゾエートなどを挙げることができる。
　アクリジン化合物の例としては、９－フェニルアクリジン、１，７－ビス（９－アクリジニル）ヘプタンなどを挙げることができる。
　有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、２，５－ジメチルヘキサン－２，５－ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３－テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５－オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４－ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ－２－エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ－２－エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３－メチル－３－メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシラウレート、３，３’，４，４’－テトラ－（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ－（ｔ－ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ－（ｐ－イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ－ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ－ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が挙げられる。
　アゾ化合物としては、例えば、特開平８－１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を挙げることができる。
　クマリン化合物としては、例えば、３－メチル－５－アミノ－（（ｓ－トリアジン－２－イル）アミノ）－３－フェニルクマリン、３－クロロ－５－ジエチルアミノ－（（ｓ－トリアジン－２－イル）アミノ）－３－フェニルクマリン、３－ブチル－５－ジメチルアミノ－（（ｓ－トリアジン－２－イル）アミノ）－３－フェニルクマリン等を挙げることができる。
　アジド化合物の例としては、米国特許第２８４８３２８号明細書、米国特許第２８５２３７９号明細書ならびに米国特許第２９４０８５３号明細書に記載の有機アジド化合物、２，６－ビス（４－アジドベンジリデン）－４－エチルシクロヘキサノン（ＢＡＣ－Ｅ）等が挙げられる。
　メタロセン化合物の例としては、特開昭５９－１５２３９６号公報、特開昭６１－１５１１９７号公報、特開昭６３－４１４８４号公報、特開平２－２４９号公報、特開平２－４７０５号公報、特開平５－８３５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ－シクロペンタジエニル－Ｔｉ－ビス－フェニル、ジ－シクロペンタジエニル－Ｔｉ－ビス－２，６－ジフルオロフェニ－１－イル、ジ－シクロペンタジエニル－Ｔｉ－ビス－２，４－ジ－フルオロフェニ－１－イル、ジ－シクロペンタジエニル－Ｔｉ－ビス－２，４，６－トリフルオロフェニ－１－イル、ジ－シクロペンタジエニル－Ｔｉ－ビス－２，３，５，６－テトラフルオロフェニ－１－イル、ジ－シクロペンタジエニル－Ｔｉ－ビス－２，３，４，５，６－ペンタフルオロフェニ－１－イル、ジ－メチルシクロペンタジエニル－Ｔｉ－ビス－２，６－ジフルオロフェニ－１－イル、ジ－メチルシクロペンタジエニル－Ｔｉ－ビス－２，４，６－トリフルオロフェニ－１－イル、ジ－メチルシクロペンタジエニル－Ｔｉ－ビス－２，３，５，６－テトラフルオロフェニ－１－イル、ジ－メチルシクロペンタジエニル－Ｔｉ－ビス－２，３，４，５，６－ペンタフルオロフェニ－１－イル、並びに、特開平１－３０４４５３号公報、特開平１－１５２１０９号公報記載の鉄－アレーン錯体等が挙げられる。
　ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６－２９２８５号公報、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号等の各明細書に記載の種々の化合物が挙げられる。具体例としては、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－ブロモフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ，ｐ－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ｍ－メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２’－ビス（ｏ，ｏ’－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－ニトロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－メチルフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
　有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭６２－１４３０４４号公報、特開昭６２－１５０２４２号公報、特開平９－１８８６８５号公報、特開平９－１８８６８６号公報、特開平９－１８８７１０号公報、特開２０００－１３１８３７公報、特開２００２－１０７９１６号公報、特許第２７６４７６９号公報、特開２００２－１１６５３９号公報等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ　Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ　Ａｐｒｉｌ　１９－２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平６－１５７６２３号公報、特開平６－１７５５６４号公報、特開平６－１７５５６１号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平６－１７５５５４号公報、特開平６－１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平９－１８８７１０号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６－３４８０１１号公報、特開平７－１２８７８５号公報、特開平７－１４０５８９号公報、特開平７－３０６５２７号公報、特開平７－２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
　ジスルホン化合物の例としては、特開昭６１－１６６５４４号公報、特開２００２－３２８４６５号明細書等記載される化合物等が挙げられる。
　オキシムエステル化合物の例としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ．　Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ　（１９７９　）１６５３－１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．　Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ　（１９７９）１５６－１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５）２０２－２３２、特開２０００－６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報、特表２００４－５３４７９７号公報記載の化合物等が挙げられる。
　オニウム塩化合物としては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ　ｅｔ　ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、特開平４－３６５０４９号等に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第１０４，１４３号の明細書、特開平２－１５０８４８号、特開平２－２９６５１４号の各公報に記載のヨードニウム塩などが挙げられる。
　本発明に好適に用いることのできるヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウム塩であり、安定性の観点から、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基等の電子供与性基で２つ以上置換されていることが好ましい。
　本発明に好適に用いることのできるスルホニウム塩としては、欧州特許第３７０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホニウム塩が挙げられ、安定性及び感度の観点から好ましくは電子吸引性基で置換されていることが好ましい。電子吸引性基としては、ハメット値が０より大きいことが好ましい。好ましい電子吸引性基の例としては、ハロゲン原子、カルボン酸などが挙げられる。
　また、その他の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩の１つの置換基がクマリン構造またはアントアキノン構造を有し、３００ｎｍ以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。別の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩が、アリロキシ基、アリールチオ基を置換基に有する３００ｎｍ以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。
　また、オニウム塩化合物の例としては、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ　ｅｔ　ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ　ｅｔ　ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ　ＡＳＩＡ，ｐ４７８　Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
　アシルホスフィン（オキシド）化合物としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア（商品名、以下同様）８１９、ダロキュア（商品名、以下同様）４２６５、ダロキュアＴＰＯなどが挙げられる。
　本発明に用いられる（Ｂ）光重合開始剤としては、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物およびその誘導体、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体およびその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３－アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。
　さらに好ましくは、トリハロメチルトリアジン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物であり、トリハロメチルトリアジン化合物、α－アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が最も好ましい。
　本発明を特に固体撮像素子に使用する場合、ｉ線ステッパーを使用して露光する際に塩酸ガス等の発生は好ましくないため、このような条件で使用する場合には、露光による塩素ガスの発生がなく、且つ、感度に優れたオキシム化合物が好ましい。
　通常、薄膜を形成した場合には、顔料濃度が高く、ラジカルを発生させる光重合開始剤を多く添加できないこと、顔料濃度が高いために、増感剤を用いての電子移動及びエネルギー移動による開始機構においても、増感剤及び光重合開始剤の濃度が低くなること、等の要因で、硬化性が十分得られない。なかでも、固体撮像素子を作製するために本発明の硬化性組成物を使用する場合には、光源の汚染防止の為に、トリアジン等の露光によりハロゲンを発生する光重合開始剤を使用することができない。このような条件を考慮すれば、３００ｎｍ以上の光源に幅広く対応可能であり、且つ、光により直接分解するオキシム系化合物が好ましいといえる。特に、顔料が、硬化性組成物の全固形分質量中３０質量％以上、更に４０質量％以上含まれ、重合成分の比率が低い硬化性組成物において、本発明における（Ａ）特定ポリマーと（Ｂ）光重合開始剤としてのオキシム化合物の組合せはより効果的である。
　本発明に用いることのできるオキシム化合物は　－Ｃ＝Ｎ－Ｏ－　結合を有する化合物であれば際限なく使用することができるが、好ましくは、下記一般式（１）、又は一般式（２）で表される化合物（以下、「特定オキシム化合物」とも称する）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　前記一般式（１）及び一般式（２）中、Ｒ１は、１価の有機基であり、好ましくはカルボニル基又はスルホ基を有することが好ましく、感度、安定性の観点から、Ｒ１は一般式（３）で表される基、又は一般式（４）で表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　前記一般式（３）及び一般式（４）中、Ｒ４は１価の有機基であればよいが、例えば、炭素数１～２０の１価の有機基が挙げられる。有機基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基が挙げられ、これらは、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、チオアルコキシ基、チオアリーロキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、スルホンアミド基、ウレア基、チオウレア基、アミノ基、アミド基、カルボニル基、ニトロ基或いはこれらの基を有する置換で置換されていてもよい。
　経時安定性、感度、生産性の面から最も好ましくは一般式（３）において、Ｒ４がアルキル基、又はアリール基で表される化合物が好ましい。
　前記一般式（１）及び一般式（２）におけるＲ２は、水素原子、或いは１価の有機基であればよいが、例えば、炭素数１～２０の１価の有機基が挙げられる。有機基の例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基が挙げられ、これらは、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、シアノ基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリーロキシ基、チオアルコキシ基、チオアリーロキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、スルホンアミド基、ウレア基、チオウレア基、アミノ基、アミド基、カルボニル基、ニトロ基或いはこれらの基を有する置換で置換されていてもよい。
　前記一般式（１）及び一般式（２）におけるＲ３は、１価の有機基であればよいが、例えば、炭素数１～２０の１価の有機基が挙げられる。有機基の例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基が挙げられ、これらは、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリール基、シアノ基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリーロキシ基、チオアルコキシ基、チオアリーロキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、スルホンアミド基、ウレア基、チオウレア基、アミノ基、アミド基、カルボニル基、ニトロ基或いはこれらの基を有する置換で置換されていてもよい。
　感度の観点から、前記一般式（１）及び一般式（２）におけるＲ３はアリール基又はヘテロ環基であることが好ましく、アリール基である場合は、窒素原子又は硫黄原子を有する置換基で置換されていることが好ましく、ヘテロ環である場合は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を含むことが好ましい。
　前記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物（特定オキシム化合物）の具体例（ＯＳ－１～ＯＳ－１１３）を次に示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　特定オキシム化合物としては、上記具体例の中でも、感度と安定性の観点からヘテロ環構造及び／或いはスルフィド構造を有することが好ましく、更に前記一般式（２）で表される構造を有することがより好ましい。最も好ましくは、ヘテロ環がカルバゾール誘導体であり、且つ、一般式（２）で表される構造を有する化合物である。
　前記特定オキシム化合物は、合成によっても、市販品を購入することによっても入手することができる。合成方法としては、例えば、特開２００９－０４２７５１号明細書に記載の方法が挙げられる。また、例えば、前記具体例ＯＳ－１で示される化合物は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社から入手可能である。
　本発明の硬化性組成物に含有される（Ｂ）光重合開始剤の含有量は、硬化性組成物に含有される全固形分に対し０．１質量％～５０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５質量％～３０質量％、特に好ましくは１質量％～２０質量％である。この範囲で、より良好な感度と強固な硬化部を形成することができる。
（Ｃ）重合性化合物
　本発明の着色硬化性組成物は、（Ｃ）重合性化合物をさらに含有する。
　本発明における（Ｃ）重合性化合物としては、一般的なラジカル重合性化合物が挙げられ、当該産業分野においてエチレン性不飽和二重結合を有する化合物として広く知られる化合物を特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態であり得る。
　モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び上記不飽和カルボン酸エステル類或いは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更に、ハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えて得られた化合物群を使用することも可能である。
　脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４－シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等、並びに、これらの化合物のＥＯ変性体またはＰＯ変性体が挙げられる。
　メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３－ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ－（３－メタクリルオキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス－〔ｐ－（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等、ならびにこれらのＥＯ変性体又はＰＯ変性体が挙げられる。
　イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３－ブタンジオールジイタコネート、１，４－ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等が挙げられる。
　クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等が挙げられる。
　イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等が挙げられる。
　マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等が挙げられる。
　その他のエステルの例として、例えば、特公昭５１－４７３３４、特開昭５７－１９６２３１記載の脂肪族アルコールエステル類や、特開昭５９－５２４０、特開昭５９－５２４１、特開平２－２２６１４９記載の芳香族骨格を有するエステル類、特開平１－１６５６１３記載のアミノ基を含有するエステル類等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
　また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス－アクリルアミド、メチレンビス－メタクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビス－アクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビス－メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。その他の好ましいアミドモノマーの例としては、特公昭５４－２１７２６記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
　また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８－４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（Ｅ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させて得られた、１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
　ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ４）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｒ５）ＯＨ　…　（Ｅ）
　式（Ｅ）中、Ｒ４及びＲ５は各々独立して、Ｈ又はＣＨ３を示す。
　また、特開昭５１－３７１９３号、特公平２－３２２９３号、特公平２－１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号、特公昭５６－１７６５４号、特公昭６２－３９４１７号、特公昭６２－３９４１８号記載のエチレンオキサイド骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３－２７７６５３号、特開昭６３－２６０９０９号、特開平１－１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、非常に感光スピードに優れた硬化性組成物を得ることができる。
　その他の例としては、特開昭４８－６４１８３号、特公昭４９－４３１９１号、特公昭５２－３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６－４３９４６号、特公平１－４０３３７号、特公平１－４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、特開平２－２５４９３号記載のビニルホスホン酸化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１－２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００～３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
　本発明においては、硬化感度の観点から、重合性化合物は、２個以上のエチレン性不飽和結合を含有することが好ましく、３個以上の含有することが更に好ましい。中でも（メタ）アクリル酸エステル構造を２個以上含有することが好ましく、３個以上含有することがより好ましく、４個以上含有することが最も好ましい。更に、硬化感度、および、未露光部の現像性の観点では、ＥＯ変性体を含有することが好ましい。また、硬化感度、および、露光部強度の観点ではウレタン結合を含有することが好ましい。
　以上の観点より、重合性化合物としては、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレートＥＯ変性体、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートＥＯ変性体、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＥＯ変性体などが好ましい例として挙げられる。また、市販品の例としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ－１０、ＵＡＢ－１４０（全て商品名、山陽国策パルプ社製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（商品名、日本化薬社製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００（全て商品名、共栄社製）が好ましい。
　なかでも、ビスフェノールＡジアクリレートＥＯ変性体、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートＥＯ変性体、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＥＯ変性体などが、市販品としては、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬社製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００（共栄社製）がより好ましい。
　また、酸基を有するエチレン性不飽和化合物類も好適であり、市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のカルボキシル基含有３官能アクリレートであるＴＯ－７５６、及びカルボキシル基含有５官能アクリレートであるＴＯ－１３８２（全て商品名）などが挙げられる。
　（Ｃ）重合性化合物は１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　本発明の着色硬化性組成物における（Ｃ）重合性化合物の含有量は、固形分換算で、４～８０質量％の範囲であることが好ましく、７～５０質量％の範囲であることがさらに好ましい。
　特に膜厚が０．８μｍ以下の場合には、添加量は、全固形分中７～４０質量％であることが好ましく、特に６～２５質量％の範囲であることが有効である。
（Ｄ）顔料
　本発明の着色硬化性組成物は、さらに着色剤として顔料を含有する。着色硬化性組成物が顔料を含有することにより、有色の硬化体（硬化被膜）を形成することができ、例えば、画像形成材料やカラーフィルタの着色パターン形成に適用することができる。
　本発明の硬化性組成物に含有される着色剤には、従来公知の種々の顔料を１種又は２種以上混合して用いることができる。顔料としては、その顔料構造上の観点から、赤色、若しくは黄色の顔料での効果が発揮される。
　本発明の硬化性組成物に用いることができる顔料としては、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を用いることができる。また、無機顔料であれ有機顔料であれ、高透過率であることが好ましいことを考慮すると、なるべく粒子径が小さい顔料の使用が好ましく、ハンドリング性をも考慮すると、上記顔料の平均粒子径は、０．０１μｍ～０．１μｍが好ましく、０．０１μｍ～０．０５μｍがより好ましい。また、上記無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で示される金属化合物を挙げることができ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、および前記金属の複合酸化物を挙げることができる。
　上記有機顔料としては、例えば、
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　イエロー　１１，　２４，　３１，　５３，　８３，　９３，　９９，　１０８，　１０９，　１１０，　１３８，　１３９，　１４７，　１５０，　１５１，　１５４，　１５５，　１６７，　１８０，　１８５，　１９９；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　オレンジ３６，　３８，　４３，　７１；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　レッド８１，　１０５，　１２２，　１４９，　１５０，　１５５，　１６６，　１７１，　１７５，　１７６，　１７７，２０９，　２２０，　２２４，　２４２，　２５４，　２５５，　２６４，　２７０；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　バイオレット　１９，　２３，　３２，　３９；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　ブルー　１，　２，　１５，　１５：１，　１５：３，　１５：６，　１６，　２２，　６０，　６６；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　グリーン　７，　３６，　３７，　５８；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　ブラウン　２５，　２８；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　ブラック　１，　７；
　カーボンブラック等を挙げることができる。
　本発明では、特に顔料の構造式中に塩基性の窒素原子をもつものを好ましく用いることができる。塩基性の窒素原子をもつ顔料は本発明の組成物中で良好な分散性を示す。その原因については十分解明されていないが、着色硬化性組成物に含まれる他の重合成分や、（Ａ）特定ポリマーのうち、芳香環や窒素原子を含む構造単位を有するものと、このような顔料との親和性の良さが影響しているものと推定される。
　本願発明において好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　イエロー　１１，　２４，　１０８，　１０９，　１１０，　１３８，　１３９，　１５０，　１５１，　１５４，　１６７，　１８０，　１８５；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　オレンジ３６，　７１；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　グリーン　７，　３６，　３７，　５８；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　レッド　１２２，　１５０，　１６６，　１７１，　１７５，　１７７，　２０９，　２２４，　２４２，　２５４，　２５５，　２６４；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　バイオレット　１９，　２３，　３２；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　ブルー　１５：１，　１５：３，　１５：６，　１６，　２２，　６０，　６６；
　Ｃ．Ｉ．ピグメント　ブラック　１
　これら有機顔料は、単独で、もしくは色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。上記組合せの具体例を以下に示す。
　赤の顔料としては、アントラキノン顔料、ペリレン顔料、及びジケトピロロピロール顔料のいずれかを単独で、またはそれらの少なくとも一種と、ジスアゾ黄色顔料、イソインドリン黄色顔料、キノフタロン黄色顔料またはペリレン赤色顔料と、の混合などを用いることができる。例えば、アントラキノン顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７が挙げられ、ペリレン顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１５５、若しくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド２２４が挙げられ、ジケトピロロピロール顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４が挙げられ、色再現性の点で、これらの少なくとも一種と、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９との混合が好ましい。
　また、赤色顔料と黄色顔料との質量比（赤色顔料／黄色顔料）は、１００／５～１００／５０が好ましい。上記質量比がこの範囲であると、波長４００ｎｍから５００ｎｍの領域での光透過率が十分に抑制される。また、上記質量比がこの範囲であると、色純度を上げることが出来ない、又は主波長が短波長よりになりすぎて、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ　Ｓｙｓｔｅｍ　Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）目標色相からのずれが大きくなる、といった問題を生じることがない。特に、上記質量比は、１００：１０～１００：３０の範囲が最適である。尚、赤色顔料同士の組み合わせの場合は、色度に併せて質量比を調整することができる。
　緑の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン顔料を単独で、または、これとジスアゾ黄色顔料、キノフタロン黄色顔料、アゾメチン黄色顔料若しくはイソインドリン黄色顔料との混合を用いることができる。例えば、このような例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、３７、又は５８と、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０またはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５との混合が好ましい。緑顔料と黄色顔料との質量比（緑顔料／黄色顔料）は、１００／５～１００／１５０が好ましく、１００／３０～１００／１２０の範囲が特に好ましい。
　青の顔料としては、フタロシアニン顔料を単独で、若しくはこれとジオキサジン紫色顔料との混合を用いることができる。例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６とＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３との混合が好ましい。青色顔料と紫色顔料との質量比（青色顔料／紫色顔料）は、１００／０～１００／３０が好ましく、より好ましくは１００／１０以下である。
　ブラックマトリクス用の顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック、酸化鉄、酸化チタン単独または混合が用いられ、カーボンブラックとチタンブラックとの組合せが好ましい。また、カーボンブラックとチタンブラックとの質量比（カーボンブラック／チタンブラック）は、１００／０～１００／６０の範囲が好ましい。
　本発明の着色硬化性組成物をカラーフィルタ用として用いる場合には、色むらやコントラストの観点からは、顔料の一次粒子径は１０～１００ｎｍが好ましく、１０～７０ｎｍがより好ましく、１０～５０ｎｍが更に好ましく、１０～４０ｎｍが最も好ましい。
　また、本発明の着色硬化性組成物をカラーフィルタ用として用いる場合には、色むらやコントラストの観点からは、組成物中に均一に溶解する染料を用いることも好ましい。
（Ｅ）リン酸基を含む分散剤
　本発明の着色硬化性組成物は、さらに（Ｅ）リン酸基を含む分散剤（以下、「（Ｅ）特定分散剤」ともいう）を少なくとも１種含有する。
　リン酸基を含む分散剤によって分散された顔料を含む顔料分散液に、前記（Ａ）特定ポリマーを添加して使用することも好ましい態様である。
　（Ｅ）リン酸基を含む分散剤としては、下記一般式（II）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　一般式（II）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素原子数１～２０の炭化水素基を表し、ｍ及びｌは、それぞれ独立に、１～２００の整数を表す。
　ここで、塗膜の均一性及び平坦性の観点からは、Ｒ１及びＲ２としては、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の炭化水素基が好ましく、炭素原子数６～２０の炭化水素基がより好ましい。
　また、塗膜の均一性及び平坦性の観点からは、ｍ及びｌは、それぞれ独立に、２～２０の整数であることが好ましく、６～２０の整数であることがより好ましい。
　上記（Ｅ）特定分散剤の顔料分散液中における含有量は、（Ｄ）顔料１００質量部に対して、０～１００質量部であることが好ましく、３～７０質量部であることがより好ましい。
顔料誘導体
　本発明の着色硬化性組成物は、必要に応じて、顔料誘導体を含んでいてもよい。
　顔料誘導体を用いることで、分散剤と親和性のある部分、あるいは極性基を導入した顔料誘導体を顔料表面に吸着させて分散剤の吸着点として用いうるため、顔料を微細な粒子として着色硬化性組成物中に分散させ、その再凝集を防止することができ、分散安定性に優れたカラーフィルタを構成するのに有効である。
　顔料誘導体としては、有機顔料を母体骨格として有する公知のものを適宜用いることができる。該有機顔料としては、具体的には、キナクリドン顔料、フタロシアニン顔料、アゾ顔料、キノフタロン顔料、イソインドリン顔料、イソインドリノン顔料、キノリン顔料、ジケトピロロピロール顔料、ベンゾイミダゾロン顔料等が挙げられる。一般に、色素と呼ばれていないナフタレン系、アントラキノン系、トリアジン系、キノリン系等の淡黄色の芳香族多環化合物も含まれる。また、顔料誘導体としては、特開平１１－４９９７４号公報、特開平１１－１８９７３２号公報、特開平１０－２４５５０１号公報、特開２００６－２６５５２８号公報、特開平８－２９５８１０号公報、特開平１１－１９９７９６号公報、特開２００５－２３４４７８号公報、特開２００３－２４０９３８号公報、特開２００１－３５６２１０号公報等に記載されているものも使用できる。
　本発明おける顔料誘導体の顔料分散液中における含有量は、顔料１００質量部に対して、０～３０質量部が好ましく、３～２０質量部がより好ましい。該含有量が前記範囲内であると、粘度を低く抑えながら、分散を良好に行なえると共に分散後の分散安定性を向上させることができる。
顔料分散液の調製
　顔料を着色硬化性組成物に用いる場合には、予め顔料分散液を調製して、分散液の形態で添加することが顔料の分散性、分散安定性の観点から好ましい。
　顔料分散液は、顔料と分散剤、必要に応じ顔料誘導体を予め混合して、ホモジナイザー等で分散しておいたものを、ジルコニアビーズ等を用いたビーズ分散機（例えばＧＥＴＺＭＡＮＮ社製のディスパーマット（商品名））等を用いて微分散させることによって調製することができる。分散時間としては、３～６時間程度が好適である。特定顔料誘導体の添加は、顔料分散液形成する為のどの工程でも添加可能であるが、微細化工程及び／或いは微分散時に添加することが好ましい。
　このようにして調製された（Ｄ）顔料と（Ｅ）特定分散剤とを含む顔料分散液を用い、前述の（Ａ）特定ポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、及び、その他の成分を配合することで本発明の着色硬化性組成物を得ることができる。また、顔料分散液の調製に（Ａ）特定ポリマーを使用することもできる。
　本発明の着色硬化性組成物に含まれる（Ｄ）顔料の量は、５～９０質量％の範囲であることが好ましく、２５～８５質量％の範囲であることがより好ましい。
　本発明の着色硬化性組成物においては、前記（Ａ）～（Ｄ）成分に加え、本発明の効果を損なわない範囲において、種々の添加剤を目的に応じて使用することができる。
　以下、本発明の着色硬化性組成物に含まれうる任意成分について説明する。
バインダーポリマー
　本発明の着色硬化性組成物においては、皮膜特性向上、現像性の調整などの目的で、必要に応じて、前記（Ａ）特定ポリマーに加えて、さらに、他のバインダーポリマーを使用することができる。本発明における任意成分としての他のバインダーポリマーは、前記一般式（Ｉ）で表される構造単位を含まないポリマーである。
　バインダーとしては線状有機ポリマーであって前記一般式（Ｉ）で表される構造単位を含まないポリマーを用いることが好ましい。このような「線状有機ポリマー」としては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とするために、水あるいは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。上記線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭５９－４４６１５号、特公昭５４－３４３２７号、特公昭５８－１２５７７号、特公昭５４－２５９５７号、特開昭５４－９２７２３号、特開昭５９－５３８３６号、特開昭５９－７１０４８号に記載されているポリマー、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独あるいは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独あるいは共重合させ、酸無水物ユニットを加水分解もしくはハーフエステル化もしくはハーフアミド化させて得られた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸および酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーの例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、４－カルボキシルスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーの例としては、無水マレイン酸等が挙げられる。
　また、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体が挙げられる。この他に、水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
　アルカリ可溶性樹脂として共重合体を用いる場合、共重合させる化合物として、先にあげたモノマー以外の他のモノマーを用いることもできる。他のモノマーの例としては、下記（ａ）～（ｌ）の化合物が挙げられる。
（ａ）２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、３－ヒドロキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、３－ヒドロキシプロピルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（ｂ）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸２－エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸－２－クロロエチル、グリシジルアクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、２－フェニルビニルアクリレート、１－プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、２－アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート。
（ｃ）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸２－エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸－２－クロロエチル、グリシジルメタクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、２－フェニルビニルメタクリレート、１－プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、２－アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
（ｄ）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ－メチロールアクリルアミド、Ｎ－エチルアクリルアミド、Ｎ－ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ－シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ－フェニルアクリルアミド、Ｎ－ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルアクリルアミド、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジアリルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジアリルメタクリルアミド、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
（ｅ）エチルビニルエーテル、２－クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（ｆ）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（ｇ）スチレン、α－メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ｐ－アセトキシスチレン等のスチレン類。
（ｈ）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（ｉ）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（ｊ）Ｎ－ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（ｋ）マレイミド、Ｎ－アクリロイルアクリルアミド、Ｎ－アセチルメタクリルアミド、Ｎ－プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ－（ｐ－クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（ｌ）α位にヘテロ原子が結合したメタクリル酸モノマー。例えば、特開２００２－３０９０５７号明細書、特開２００２－３１１５６９号明細書等に記載されている化合物を挙げる事ができる。
　これらの中で、側鎖にアリル基やビニルエステル基とカルボキシル基を有する（メタ）アクリル樹脂及び特開２０００－１８７３２２号公報、特開２００２－６２６９８号公報に記載されている側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂や、特開２００１－２４２６１２号公報に記載されている側鎖にアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が膜形成性、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。
　また、特公平７－１２００４号、特公平７－１２００４１号、特公平７－１２００４２号、特公平８－１２４２４号、特開昭６３－２８７９４４号、特開昭６３－２８７９４７号、特開平１－２７１７４１号等に記載される酸基を含有するウレタンバインダーポリマーや、特開２００２－１０７９１８に記載される酸基と二重結合を側鎖に有するウレタンバインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
　また、欧州特許９９３９６６、欧州特許１２０４０００、特開２００１－３１８４６３等に記載の酸基を有するアセタール変性ポリビニルアルコールバインダーポリマーは、膜強度、現像性のバランスに優れており、好適である。
　さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや２，２－ビス－（４－ヒドロキシフェニル）－プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
　本発明で使用しうるバインダーポリマーの重量平均分子量は、好ましくは３，０００以上であり、さらに好ましくは５，０００～３０万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは１，０００以上であり、さらに好ましくは２，０００～２５万の範囲である。バインダーポリマーの多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、さらに好ましくは１．１～１０の範囲である。
　これらのバインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれの形態であってもよい。
　本発明で用いうるバインダーポリマーは、従来公知の方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２－メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、１－メトキシ－２－プロパノール、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は２種以上混合して用いられる。
　本発明において用いうるバインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が挙げられる。
　また、本発明の着色硬化性組成物を、液晶用或いは固体撮像素子用カラーフィルタにおける着色パターンの形成などのため、アルカリ現像工程を有する画像形成に用いる場合には、バインダーポリマーとして、酸基及び／又は親水性基を有するバインダーポリマーを使用することが好ましい。
　このような目的で使用されるバインダーポリマーが有する好ましい酸基の例としては、カルボキシル基、スルホンアミド基、スルホン酸基、ホスホン酸基、フェノール基が挙げられ、現像性及び感度の観点から、好ましい酸価は０．１ｍｍｏｌ／ｇ～１０ｍｍｏｌ／ｇであり、より好ましくは０．２ｍｍｏｌ／ｇ～５ｍｍｏｌ／ｇ、最も好ましくは０．３ｍｍｏｌ／ｇ～３ｍｍｏｌ／ｇである。
　バインダーポリマーは、顔料分散時に、顔料分散液の原料と共に添加することも可能であり、また、分散済みの顔料分散液を用いて着色硬化性組成物を調製する際に添加することも可能である。
　バインダーポリマーの添加量は、着色硬化性組成物の全固形分中、好ましくは０質量％～５０質量％、より好ましくは２質量％～３０質量％である。
増感剤
　本発明の着色硬化性組成物は、ラジカル開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。本発明に用いることができる増感剤としては、前記した光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
　本発明に用いることができる増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ３００ｎｍ～４５０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
　好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ３３０ｎｍから４５０ｎｍ域に吸収波長を有するものを挙げることができる。
　例えば、多核芳香族類（例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、９，１０－ジアルコキシアントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、チオキサントン類（イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン）、シアニン類（例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、フタロシアニン類、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリジンオレンジ、クマリン類（例えば、７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリン）、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、Ｎ－アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物等が挙げられ、更に欧州特許第５６８，９９３号明細書、米国特許第４，５０８，８１１号明細書、同５，２２７，２２７号明細書、特開２００１－１２５２５５号公報、特開平１１－２７１９６９号公報等に記載の化合物等などが挙げられる。
　増感剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　本発明の着色硬化性組成物中における増感剤の含有量は、塗膜の深部への光吸収効率と重合開始剤の分解効率の観点から、固形分換算で、０．１～２０質量％であることが好ましく、０．５～１５質量％がより好ましい。
共増感剤
　本発明の着色硬化性組成物は、共増感剤を含有することも好ましい。本発明において共増感剤は、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
　この様な共増感剤の例としては、アミン類、例えばＭ．　Ｒ．　Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－２０１８９号公報、特開昭５１－８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－８４３０５号公報、特開昭６２－１８５３７号公報、特開昭６４－３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　３３８２５号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、ｐ－メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
　共増感剤の別の例としては、チオール類及びスルフィド類、例えば、特開昭５３－７０２号公報、特公昭５５－５００８０６号公報、特開平５－１４２７７２号公報記載のチオール化合物、特開昭５６－７５６４３号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプト－４（３Ｈ）－キナゾリン、β－メルカプトナフタレン等が挙げられる。
　また、共増感剤の別の例としては、アミノ酸化合物（例、Ｎ－フェニルグリシン等）、特公昭４８－４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６－３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例、トリチアン等）等が挙げられる。
　これら共増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、着色硬化性組成物の全固形分の質量に対し、０．１～３０質量％の範囲が好ましく、１～２５質量％の範囲がより好ましく、０．５～２０質量％の範囲が更に好ましい。
重合禁止剤
　本発明においては、着色硬化性組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。
　本発明に用いうる熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
　熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約０．０１質量％～約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５質量％～約１０質量％が好ましい。
熱重合成分
　本発明の顔料分散組成物には、熱重合成分を含有させることも有効である。必要によっては、塗膜の強度を上げるために、エポキシ化合物を添加することができる。エポキシ化合物の例としては、ビスフェノールＡ型化合物、クレゾールノボラック型化合物、ビフェニル型化合物、脂環式エポキシ化合物などのエポキシ環を分子中に２個以上有する化合物が挙げられる。例えばビスフェノールＡ型化合物としては、エポトートＹＤ－１１５、ＹＤ－１１８Ｔ、ＹＤ－１２７、ＹＤ－１２８、ＹＤ－１３４、ＹＤ－８１２５、ＹＤ－７０１１Ｒ、ＺＸ－１０５９、ＹＤＦ－８１７０、ＹＤＦ－１７０など（以上、商品名、東都化成製）、デナコールＥＸ－１１０１、ＥＸ－１１０２、ＥＸ－１１０３など（以上、商品名、ナガセ化成製）、プラクセルＧＬ－６１、ＧＬ－６２、Ｇ１０１、Ｇ１０２（以上、商品名、ダイセル化学製）、並びに、これらの類似のビスフェノールＦ型化合物、ビスフェノールＳ型化合物が挙げられる。またＥｂｅｃｒｙｌ　３７００、３７０１、６００（以上、商品名、ダイセルユーシービー製）などのエポキシアクリレートも使用可能である。クレゾールノボラック型化合物の例としては、エポトートＹＤＰＮ－６３８、ＹＤＰＮ－７０１、ＹＤＰＮ－７０２、ＹＤＰＮ－７０３、ＹＤＰＮ－７０４など（以上、商品名、東都化成製）、デナコールＥＭ－１２５など（以上、商品名、ナガセ化成製）が挙げられ、ビフェニル型化合物の例としては３，５，３’，５’－テトラメチル－４，４’ジグリシジルビフェニルなどが挙げられ、脂環式エポキシ化合物の例としては、セロキサイド２０２１、２０８１、２０８３、２０８５、エポリードＧＴ－３０１、ＧＴ－３０２、ＧＴ－４０１、ＧＴ－４０３、ＥＨＰＥ－３１５０（以上、商品名、ダイセル化学製）、サントートＳＴ－３０００、ＳＴ－４０００、ＳＴ－５０８０、ＳＴ－５１００など（以上、商品名、東都化成製）などを挙げることができる。また１，１，２，２－テトラキス（ｐ－グリシジルオキシフェニル）エタン、トリス（ｐ－グリシジルオキシフェニル）メタン、トリグリシジルトリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ｏ－フタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、他にアミン型エポキシ樹脂であるエポトートＹＨ－４３４、ＹＨ－４３４Ｌ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の骨格中にダイマー酸を変性したグリシジルエステル等も使用できる。
界面活性剤
　本発明の顔料分散組成物は、塗布性を改良する観点から、各種の界面活性剤を用いて構成することが好ましく、使用できる界面活性剤の例としては、フッ素系界面活性剤、並びにノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤を使用できる。中でも、フッ素系界面活性剤及びノニオン界面活性剤が好ましい。
　ノニオン界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類などのノニオン界面活性剤が特に好ましい。具体的には、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリスチリル化エーテル、ポリオキシエチレントリベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン－プロピレンポリスチリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、エチレンジアミンポリオキシエチレン－ポリオキシプロピレン縮合物などのノニオン界面活性剤が挙げられ、これらは花王（株）、日本油脂（株）、竹本油脂（株）、（株）ＡＤＥＫＡ、三洋化成（株）などから市販されているものが適宜使用できる。上記の他に前述の分散剤も界面活性剤として使用可能である。
密着向上剤
　着色硬化性組成物には、支持体などの硬質表面と形成された硬化被膜との密着性を向上させるために、密着向上剤を添加することができる。密着向上剤の例としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。
　シランカップリング剤としては、例えば、γ－（２－アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ－（２－アミノエチル）アミノプロピルジメトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ－イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ビニルベンジルアミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、アミノシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ－クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ－アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β－メトキシエトキシ）シラン、
オクタデシルジメチル［３－（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、γ－クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビスアリルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、フェニルトリメトキシシラン、Ｎ－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロピル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（３－メタクリロキシ－２－ヒドロキシプロピル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、（メタクリロキシメチル）メチルジエトキシシラン、（アクリロキシメチル）メチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
　なかでも、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが最も好ましい。
　密着向上剤の添加量は、着色硬化性組成物の全固形分中０．１～３０質量％が好ましく、０．５～２０質量％がより好ましい。
その他の添加剤
　上記以外に、本発明の着色硬化性組成物には各種の添加物を添加してよい。添加物の具体例としては、２－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－２－ヒドロキシフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤、ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤、ガラス、アルミナ等の充填剤；イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの、アルコール可溶性ナイロン、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとから形成されたフェノキシ樹脂などのアルカリ可溶の樹脂などが挙げられる。
　また、未硬化部のアルカリ溶解性を促進し、顔料分散組成物の現像性の更なる向上を図る目的で、前記（Ｄ）顔料を含む顔料分散液の調製に際して、有機カルボン酸、好ましくは分子量１０００以下の低分子量有機カルボン酸を添加してもよい。具体的には、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸；トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸；安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸；フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他のカルボン酸が挙げられる。
　さらに、本発明においては、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や、可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上させうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
　可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が挙げられる。結合剤を使用した場合、可塑剤の量は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計質量に対し１０質量％以下である。
　前記本発明の着色硬化性組成物は高感度で硬化し、かつ、保存安定性も良好である。また、着色硬化性組成物を適用する支持体（基板）などの硬質材料表面への高い密着性を示す。従って、本発明の着色硬化性組成物は、３次元光造形やホログラフィー、カラーフィルタといった画像形成材料やインク、塗料、接着剤、コーティング剤等の分野において好ましく使用することができる。
本発明の着色硬化性組成物の調製方法
　本発明の着色硬化性組成物は、既述の（Ａ）特定ポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）顔料、（Ｅ）リン酸基を含む分散剤及び、所望により併用されるアルカリ可溶性樹脂（バンダーポリマー）を、好ましくは溶剤と共に含有させ、これに必要に応じて界面活性剤等の添加剤を混合し、各種の混合機、分散機を使用して混合分散する混合分散工程を経ることによって調製することができる。
　なお、混合分散工程は、混練分散とそれに続けて行なう微分散処理からなるのが好ましいが、混練分散を省略することも可能である。
カラーフィルタ
　本発明のカラーフィルタは、前記本発明の着色硬化性組成物を用いて形成される。
　例えば、後述の支持体上に、既述の本発明の着色硬化性組成物を用いてなる１色以上（好ましくは、３色または４色）の着色パターンを有して構成される。
　本発明のカラーフィルタは、塗膜の均一性、表面平坦性に優れ、且つ、現像性にも優れる、高解像度の着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を用いて作製されるため、高い解像度を得ることができる。
　本発明のカラーフィルタは、液晶表示装置用カラーフィルタであっても固体撮像素子用カラーフィルタであってもよいが、高解像度の観点からは、固体撮像素子用カラーフィルタであることが好ましい。
　本発明のカラーフィルタを構成する着色パターン（着色画素）のサイズ（線幅）は、高解像度の観点からは、２．０μｍ以下が好ましく、１．７μｍ以下が特に好ましい。
　また、前記着色パターンの膜厚は、高解像度の観点から、０．１～２．０μｍが好ましく、０．２～１．０μｍがより好ましい。
　また、本発明のカラーフィルタは、高解像度の観点からは、ベイヤー配列の着色パターン（以下、「Ｂａｙｅｒパターン」ともいう）を含むことが好ましい。
　本発明において、ベイヤー配列とは、複数の正方形が市松模様状に配置された配列（例えば、図１中、黒色で示した配列）をいう。前記ベイヤー配列は、例えば、固体撮像素子用カラーフィルタにおける緑色画素の配列に適用される。
　本発明のカラーフィルタを製造する方法には特に限定はないが、例えば、後述する本発明のカラーフィルタの製造方法を用いて好適に製造できる。
カラーフィルタの製造方法
　前述の本発明のカラーフィルタの製造する方法には特に限定はないが、下記の本発明のカラーフィルタの製造方法が好適である。
　即ち、本発明のカラーフィルタの製造方法は、支持体上に、前述の本発明の着色硬化性組成物を塗布して着色層を形成すること（着色層形成工程）と、前記着色層を露光すること（露光工程）と、露光後の前記着色層を現像すること（現像工程）と、を含む。
　以下、本発明の製造方法における各工程について説明する。
着色層形成工程
　前記着色層形成工程は、支持体上に、直接若しくは他の層を介して、前述の本発明の着色硬化性組成物を、例えばスリット塗布によって塗布し、必要に応じ塗布して得られた塗膜を乾燥させて着色層を形成する工程である。
　前記支持体としては、例えば、液晶表示素子等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス、及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等、並びにプラスチック基板が挙げられる。これらの支持体上には、通常、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されていたり、密着促進等のために透明樹脂層を設けたりしている。
　プラスチック基板には、その表面にガスバリヤー層及び／又は耐溶剤性層を有していることが好ましい。このほかに、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）方式カラー液晶表示装置の薄膜トランジスター（ＴＦＴ）が配置された駆動用基板（以下、「ＴＦＴ方式液晶駆動用基板」という）上にも本発明の着色硬化性組成物からなるパターン状皮膜を形成し、カラーフィルタを作製することができる。その際に使用されるフォトマスクには、画素を形成するためのパターンのほか、スルーホールあるいはＵ字型の窪みを形成するためのパターンも設けられている。ＴＦＴ方式液晶駆動用基板における基板の材料としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。例えば、ＴＦＴ方式液晶駆動用基板の表面上、あるいは該駆動基板の表面に窒化ケイ素膜等のパッシベーション膜を形成した基板等を挙げることができる。
　また、本発明の着色硬化性組成物は、凹凸のある基板上に塗布する場合であっても塗膜の均一性及び平滑性に優れる。このような効果をより効果的に奏する観点より、本発明における支持体として、表面に凹凸のある基板を用いることが好ましい。
　基板としては前述のガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板等が挙げられる。前記凹凸としては、薄膜トランジスタ、光電変換素子、パッシベーション膜等の各種のパターンを挙げることができる。また、前記凹凸としては、本発明のカラーフィルタの製造方法において形成しようとする着色パターンに先立って、既に基板上に設けられている着色パターン（例えば、後述する第ｎ色目の着色パターン）であってもよい。
　本発明の着色硬化性組成物を支持体に塗布する方法としては特に限定はなく、回転塗布、スリット塗布、流延塗布、ロール塗布、バー塗布等の公知の塗布方法を用いることができるが、中でも、スリット塗布が好ましい。
　前記スリット塗布は、スリットノズルを用いる方法（以下、スリットノズル塗布法ともいう）であり、例えば、スリット・アンド・スピン法、スピンレス塗布法を挙げることができる。
　スリットノズル塗布法において、スリット・アンド・スピン塗布法とスピンレス塗布法は、塗布基板の大きさによって条件は異なる。例えばスピンレス塗布法により第五世代のガラス基板（１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ）を塗布する場合、スリットノズルからの着色硬化性組成物の吐出量は、通常、５００～２０００マイクロリットル／秒、好ましくは８００～１５００マイクロリットル／秒であり、また塗工速度は、通常、５０～３００ｍｍ／秒、好ましくは１００～２００ｍｍ／秒である。着色硬化性組成物の固形分は通常、１０～２０％、好ましくは１３～１８％である。基板上に本発明の着色硬化性組成物による塗膜を形成する場合、該塗膜の厚み（プリベーク処理後）としては、一般に０．３～５．０μｍであり、望ましくは０．５～４．０μｍ、最も望ましくは０．８～３．０μｍである。
　なお、本発明の着色硬化性組成物を高解像度の固体撮像素子用カラーフィルタの形成に適用する場合には、膜厚は最も好ましくは０．４～２．０μｍの範囲である。
　本発明の着色硬化性組成物は、特に０．４～１．０μｍ、０．４５～０．８μｍのごとき薄層の着色膜を形成する際に有効である。
　通常は塗布後にプリベーク処理を施す。必要によってプリベーク前に真空処理を施すことができる。真空乾燥の条件は、真空度が、通常、０．１～１．０ｔｏｒｒ、好ましくは０．２～０．５ｔｏｒｒ程度である。
　プリベーク処理は、ホットプレート、オーブン等を用いて５０～１４０℃の温度範囲で、好ましくは７０～１１０℃程度であり、１０～３００秒の条件にて行なうことができる。高周波処理などを併用しても良い。高周波処理は単独でも使用可能である。
露光工程
　露光工程では、前記着色層形成工程において形成された着色層を、露光（好ましくはパターン露光）する。パターン露光は、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光する方法であってもよく、レーザーなどによる走査露光であってもよい。
　本工程における露光では、例えば、塗布膜のパターン露光を、所定のマスクパターンを介して行い、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる。その後、現像液で現像して未硬化部を除去して着色パターンを形成する（現像工程）。これらの操作を各色（３色あるいは４色）繰り返して、各色の画素からなるパターン状皮膜を形成することにより行うことができる。
　露光に際して用いることができる放射線としては、特に、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく用いられる。照射量は５～１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０～１０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、１０～５００ｍＪ／ｃｍ２が最も好ましい。
　本発明のカラーフィルタを液晶表示素子用に使用する場合には、上記範囲の中で５～２００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０～１５０ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、１０～１００ｍＪ／ｃｍ２が最も好ましい。
　また、本発明のカラーフィルタを固体撮像素子用に使用する場合は、上記範囲の中で３０～１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、８０～５００ｍＪ／ｃｍ２が最も好ましい。
　固体撮像素子用のカラーフィルタを作製する場合には、高精細のパターン形成が必要とされるため、ステッパー露光機で主としてｉ線を使用することが好ましい。
現像工程
　本発明における現像工程は、露光された着色層を現像する（現像処理する）工程である。
　前記現像処理では、例えば、露光後の未硬化部を現像液に溶出させ、硬化部分のみを残存させる。現像温度としては、通常２０～３０℃が好ましく、現像時間としては２０～９０秒が好ましい。
　現像液としては、未硬化部における光硬化性の光硬化性組成物の塗膜を溶解する一方、硬化部を溶解しないものであれば、いずれのものも用いることができる。具体的には、種々の有機溶剤の組合せやアルカリ性の水溶液を用いることができる。
　前記有機溶剤としては、本発明の顔料分散組成物又は着色硬化性組成物を調製する際に使用できる既述の溶剤が挙げられる。
　前記アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－［５，４，０］－７－ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が０．００１～１０質量％、好ましくは０．０１～１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。アルカリ性水溶液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。
　現像方式は、デイップ方式、シャワー方式、スプレー方式などいずれでもよく、これにスウィング方式、スピン方式、超音波方式などを組み合わせても良い。現像液に触れる前に、被現像面を予め水等で湿しておいて、現像むらを防ぐこともできる。また基板を傾斜させて現像することもできる。
　固体撮像素子用カラーフィルタを作製する場合にはパドル現像を用いてもよい。
　現像処理後は、余剰の現像液を洗浄除去するリンス工程を経て、乾燥を施した後、硬化を完全なものとするために、加熱処理（ポストベーク）が施される。
　リンス工程は通常は純水で行うが、省液のために、最終洗浄で純水を用い、洗浄はじめは使用済の純水を使用したり、基板を傾斜させて洗浄したり、超音波照射を併用したりできる。
　リンスの後で水切り、乾燥をした後に、通常約２００℃～２５０℃の加熱処理を行なう。この加熱処理（ポストベーク）は、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行なうことができる。
　以上の操作を所望の色相数に合わせて各色毎に順次繰り返し行なうことにより、複数色の着色された硬化膜が形成されてなるカラーフィルタを作製することができる。
　着色硬化性組成物の用途として、主にカラーフィルタへの用途を中心に説明したが、カラーフィルタを構成する各着色画素を隔離するブラックマトリックスの形成にも適用することができる。
　前記ブラックマトリックスは、顔料としてカーボンブラック、チタンブラックなどの黒色顔料を用いた本発明の顔料分散組成物を露光、現像し、その後必要に応じて更にポストベークして膜の硬化を促進させることで形成できる。
　本発明の着色硬化性組成物は、基板上に凹凸がある場合であっても塗布均一性、塗膜の柔軟性に優れ、且つ、高感度で硬化し、現像性に優れることから、複数の微細なパターンを順次形成する場合であっても、後から形成される着色パターンの膜厚均一性、パターン形成性に優れ、複数色の着色パターンを順次、高解像度で形成することができ、特に、カラーフィルタの着色パターン（着色画素）の形成に有用であり、その応用範囲は広い。
　上記観点からは、本発明のカラーフィルタの製造方法としては、以下の形態が特に好ましい。
　即ち、前記着色層形成工程が、少なくとも第ｎ色目（ｎは１以上の整数を表す。以下同じ。）の着色パターンが形成されている支持体の着色パターン形成面側に、第ｎ＋１色目（ｎは１以上の整数を表す。以下同じ。）以降の着色パターンを形成するための前記着色硬化性組成物を、形成されている着色パターン上に重なるように塗布して着色層を形成する形態である。この形態では、既に形成されている着色パターン上に重なるようにして塗布された着色層が、露光、現像されて、第ｎ＋１色目以降の着色パターンとなる。
　この形態によれば、支持体上に第ｎ色目の着色パターンが形成されている場合であっても（即ち、基板上に凹凸がある場合であっても）、第ｎ＋１色目の着色パターン用の着色硬化性組成物の塗布均一性に優れ、且つ、現像性に優れる。このため、より高解像度のカラーフィルタの作製が可能となる。
　上記の形態のうち、特に、下記（１）（２）の形態が好適である。
（１）第１色目の着色パターンが形成されている支持体の着色パターン形成面側に、第２色目の着色パターンを形成するための前記着色硬化性組成物を、既に形成されている第１色目の着色パターン上に重なるように塗布して着色層を形成し、露光し、現像して第２色目の着色パターンを形成する。
（２）第１色目及び第２色目の着色パターンが形成されている支持体の着色パターン形成面側に、第３色目の着色パターンを形成するための前記着色硬化性組成物を、既に形成されている第１色目及び第２色目の着色パターン上に重なるように塗布して着色層を形成し、露光し、現像して第３色目の着色パターンを形成する。
固体撮像素子
　本発明の固体撮像素子は、本発明のカラーフィルタを備える。
　本発明の固体撮像素子は、解像度が高い本発明のカラーフィルタを備えているため、色特性に優れる。
　本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明のカラーフィルタを備えており、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
　支持体上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサー、ＣＭＯＳイメージセンサー、等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、前記フォトダイオード及び前記転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、前記デバイス保護膜上に、本発明のカラーフィルタを有する構成である。
　更に、前記デバイス保護層上であってカラーフィルタの下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。
　以下、本発明を、実施例を用いて更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、以下において「部」、「％」および「分子量」は、「質量部」、「質量％」および「重量平均分子量」を表す。
（Ａ）特定ポリマーの合成
　反応容器に、１－メトキシ－２－プロパノール　４３．４部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら内部温度を８７℃に加熱して、同温度で、Ｍ５３００（商品名、東亜合成社製）　２７．９部、メタクリル酸ベンジル３０．０部、１－メトキシ－２－プロパノール　４３．４部、重合開始剤Ｖ－６０１（商品名、和光純薬製）　１．８部の混合物を２時間かけて滴下して重合反応を行った。
　滴下後さらにＶ－６０１を　０．８部加え、２時間攪拌し、９０℃に昇温し、更に１時間加熱した。重量平均分子量　１９０００、酸価　９０．２ｍｇＫＯＨ／ｇの特定ポリマーＪ－１を得た。
　また、モノマー種を適宜変更し、特定ポリマーＪ－２～Ｊ－１０を合成した。
　特定ポリマーＪ－１～Ｊ－１０の構造については後述する。
下塗り層付シリコン基板の作製
　下記組成（１）の成分を混合して溶解し、下塗り層用のレジスト液を調製した。
組成（１）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶剤：以下、「ＰＧＭＥＡ」と表記することがある）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１９．２０部
・乳酸エチル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３６．６７部
・バインダーポリマー　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０．５１部
　　〔メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸ヒドロキシエチル／メタクリル酸
　　　（モル比＝４０／４０／２０）の４０％ＰＧＭＥＡ溶液〕
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　　　　　　　　　　　　１２．２０部
・重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　　　　　　　　　　　　０．００６５部
・フッ素界面活性剤（Ｆ－４７５、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）０．８０部
・光重合開始剤（Ｉ－１：下記構造）　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５０部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　８ｉｎｃｈシリコンウエハーをオーブン中で２００℃のもと３０分加熱処理した。次いで、このシリコンウエハー上に前記レジスト液（下塗り層用レジスト液）を乾燥膜厚が２μｍになるように塗布し、更に２２０℃のオーブン中で１時間加熱乾燥させて下塗り層を形成し、下塗り層付シリコンウエハー基板を得た。
第１の着色パターン用顔料分散液の調製
　下記組成（２）の成分を混ぜ、ホモジナイザーを用いて回転数３，０００ｒ．ｐ．ｍ．で３時間撹拌して混合し、顔料を含む混合溶液（Ｇ）を調製した。
組成（２）
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０部
・アクリル樹脂溶液（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（６０／４０質量％）
　　　２０質量％プロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液）　２００部
・ソルスパース３２０００ＧＲ（商品名、日本ルーブリゾール社製；ポリエステル分散剤）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０部
・溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート　　　　　　　　５２０部
・下記銅フタロシアニンスルホン酸変性体　　　　　　　　　　　　　　　　　５部
　　Ｃｕ－ｐｃ－（ＳＯ３Ｈ）４　　　（Ｃｕ－ｐｃ：銅フタロシアニン）
　続いて、上記より得られた混合溶液（Ｇ）に下記成分を加え、サンドミルで一昼夜微分散処理を行い、第１の着色パターン用顔料分散液として、顔料分散液（Ｇ）を得た。
・溶剤（ＰＧＭＥＡ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３５０質量部
第１の着色パターン用着色硬化性組成物の調製
　前記分散処理して得た顔料分散液（Ｇ）に、更に下記成分を添加し、撹拌混合して、第１の着色パターン用着色硬化性組成物として、緑色の着色硬化性組成物（Ｇ）を調製した。
・顔料分散液（Ｇ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　　　　　　　　　　　　　３．８部
・重合開始剤〔Ｉ－１：前記構造〕　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸〔ｍｏｌ比、６５／３５、重量平均分子量１７０００、２０％ＰＧＭＥＡ溶液〕　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．５部
・界面活性剤（商品名：テトロニック１５０Ｒ１、ＢＡＳＦ社）　　　　　０．２部
・溶剤：ＰＧＭＥＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００部
第１の着色パターンの形成
　上述のようにして得られた緑色の着色硬化性組成物溶液（Ｇ）を、前記下塗り層を有する８ｉｎｃｈシリコン基板上に塗布し、着色層（Ｇ）（塗布膜）を形成した。そして、この着色層（Ｇ）の乾燥膜厚が０．８μｍになるように、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行なった。
　次いで、プリベーク後の着色層（Ｇ）に対し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（商品名、Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して３６５ｎｍの波長により、パターンが１．４μｍ四方のＢａｙｅｒパターンマスクを通しパターン露光した。パターン露光は、図１中黒色で示すような、１．４μｍ四方の画像の集合となるように行った。
　その後、パターン露光された着色層（Ｇ）を有するシリコンウエハー基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、商品名、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、ＣＤ－２０００（商品名、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行ない、シリコンウエハー基板に着色パターンを形成した。
　着色パターンが形成されたシリコンウエハー基板を真空チャック方式で前記水平回転テーブルに固定し、回転装置によって該シリコンウエハー基板を回転数５０ｒ．ｐ．ｍ．で回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行い、その後スプレー乾燥した。
実施例１
第２の着色パターン用顔料分散液の調製
　下記組成（３）の成分を混ぜ、ホモジナイザーを用いて回転数３，０００ｒ．ｐ．ｍ．で３時間撹拌して混合し、顔料を含む混合溶液（Ｒ）を調製した。
組成（３）
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８０部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０部
・（Ａ）特定ポリマー〔表に記載のポリマー〕　　　　　　　　　　　　　　　２８０部
・１－メトキシ－２－プロピルアセテート　　　　　　　　　　　　　　　　　６３０部
・下記に示す特定顔料誘導体　Ｙ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５部
・（Ｅ）特定分散剤〔表に記載の化合物〕　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０部
　続いて、上記より得られた混合溶液（Ｒ）を、さらに０．３ｍｍφジルコニアビーズを用いたビーズ分散機ディスパーマット（ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて６時間分散処理を行い、その後さらに、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（商品名、日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ｋｇ／ｃｍ３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返し、第２の着色パターン用顔料分散液として、赤色の顔料分散液（Ｒ）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
第２の着色パターン用着色硬化性組成物の調製
　前記分散処理して得た顔料分散液（Ｒ）に、更に下記成分を添加し、撹拌混合して、第２の着色パターン用着色硬化性組成物として、赤色の着色硬化性組成物溶液（Ｒ）を調製した。
・顔料分散液（Ｒ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００部
・（Ｃ）重合性化合物〔表に記載の化合物〕　　　　　　　　　　　　　　４．０部
・（Ｂ）光重合開始剤〔表に記載の化合物〕　　　　　　　　　　　　　　０．５部
・（Ａ）特定ポリマー〔表に記載のポリマー〕　　　　　　　　　　　　　１．０部
・界面活性剤（商品名：テトロニック１５０Ｒ１、ＢＡＳＦ社）　　　　　０．２部
・溶剤：ＰＧＭＥＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００部
着色硬化性組成物の評価
１．塗布均一性の評価
　前述のように着色パターンＧを予め形成した基板（８ｉｎｃｈシリコン基板）表面に、上記で調製した着色硬化性組成物（Ｒ）を塗布し、着色層（Ｒ）を形成した。そして、この着色層（Ｒ）の乾燥膜厚が０．８μｍになるように、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行なった。
　塗布、乾燥後の着色層（Ｒ）断面をＳＥＭ「Ｓ－４８００」（商品名、日立ハイテクノロジーズ（株）製）を用いて、膜厚測定を行った。
　着色パターンＧが形成された領域上と、着色パターンＧ未形成領域上で波打つ表面が観測された。基板上に形成した着色（Ｒ）層の全ての領域において膜厚を測定し、膜厚の最も厚い部分と最も薄い部分の膜厚の差を測定した。この差を表す数値が小さい程、膜均一性に優れており、膜厚の差異０．１０μｍ以下であるものを良好と評価する。
　結果を下記表１に示す。
２．パターン形成性と感度の評価
　前述の下塗り層付き基板（着色パターンＧを形成していない基板）上に、上記で調製した着色硬化性組成物（Ｒ）を塗布し、着色層（Ｒ）を形成した。そして、この着色層（Ｒ）の乾燥膜厚が０．９μｍになるように、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行なった。
　次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して３６５ｎｍの波長で、パターンが１．４μｍ四方のＩｓｌａｎｄパターンマスクを介する露光によって、マスクパターンと同サイズの１．４μｍ四方のＩｓｌａｎｄパターンが得られるように５０～１６００ｍＪ／ｃｍ２の種々の露光量で露光した。
　その後、露光後の塗布膜が形成されているシリコンウエハー基板を、スピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、ＣＤ－２０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行ない、未硬化部を除去してシリコンウエハー基板に赤色の着色パターンＲを形成した。
　着色パターンＲが形成されたシリコンウエハー基板を真空チャック方式で前記水平回転テーブルに固定し、回転装置によって該シリコンウエハー基板を回転数５０ｒ．ｐ．ｍ．で回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行い、その後スプレー乾燥した。
　その後、測長ＳＥＭ「Ｓ－９２６０Ａ」（商品名、日立ハイテクノロジーズ（株）製）を用いて、倍率：２０，０００倍で、形成された１．４μｍ四方の着色パターン及びその周辺部を観察した。露光工程において、光が照射されなかった領域（未露光部）の残渣の有無を観察し、現像性の評価とした。残渣がないものを現像性が良好であると評価する。
　結果を表１に示す。
実施例２～１０
　実施例１中、第２の着色パターン用である着色硬化性組成物（Ｒ）の調製において、組成を下記表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にして着色硬化性組成物を調製し、実施例１と同様の評価を行った。
　評価結果を下記表１に示す。
比較例１～１５
　実施例１中、第２の着色パターン用である着色硬化性組成物（Ｒ）の調製において、組成を下記表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にして着色硬化性組成物を調製し、実施例１と同様の評価を行った。
　評価結果を下記表１に示す。
　表１中、「ＢＨ－１」は比較ポリマーであるメタクリル酸ベンジル／メタクリル酸共重合体（質量比７５／２５、重量平均分子量１９０００）である。
　また、表１中、「ＰＤ－２」、「ＰＤ－３」、「ＰＤ－４」、「ＰＤ－５」及び「ＰＤ－Ａ」は後述する構造の比較分散剤である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
　表１に記載の、化合物（Ｊ－１）～化合物（Ｊ－１０）、化合物（Ｉ－１）、化合物（ＭＡ－１）、化合物（ＰＤ－１）～化合物（ＰＤ－５）、化合物（ＰＤ－Ａ）の構造は、それぞれ以下に示すとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　表１から明らかなように、実施例１～１０の着色硬化性組成物は、すでに着色パターンが形成された凹凸のある基板上においても膜厚の均一な塗膜を形成することができ、現像性も良好であった。特定の側鎖構造を有しないポリマー、特定のリン酸構造を有しない分散剤を用いた比較例は、膜厚の均一性で劣ることがわかる。
　以上、特定の化合物を用いた場合の実施例について説明したが、上記以外の化合物を用いた場合にも、本発明の構成を満たす限り上記実施例１～１０と同様の効果を得ることができる。
　また、以上の実施例では、既に１色目の着色パターン（緑色の着色パターン）が形成されている基板上に、本実施例の着色硬化性組成物を塗布して着色層を形成した。ここで形成された着色層を露光し、現像することで、２色目の着色パターン（赤色の着色パターン）を形成できる。
　同様の方法により、１色目及び２色目の着色パターンが形成されている基板上に、本実施例の着色硬化性組成物を用いて３色目の着色パターンを形成してもよい。
　また、１色目、２色目及び３色目の着色パターンが形成されている基板上に、本実施例の着色硬化性組成物を用いて４色目の着色パターンを形成してもよい。
　また、少なくとも第ｎ色目の着色パターンが形成されている基板上に、本実施例の着色硬化性組成物を用いて第ｎ＋１色目以降の着色パターンを形成してもよい。
　いずれの場合においても上記実施例１～１０と同様の効果を得ることができる。
　また、以上の実施例では、シリコンウエハー上にカラーフィルタを形成したが、シリコンウエハーを、フォトダイオード等の受光素子が形成された固体撮像素子用基板に変更することで、色特性に優れた固体撮像素子を作製することができる。

Claims (17)

  1. 　（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）顔料、及び（Ｅ）リン酸基を含む分散剤を含有する着色硬化性組成物。
  2. 　前記（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマーが、下記式（Ｉ）で表される構造単位を含むポリマーである請求項１に記載の着色硬化性組成物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
      
     
    　一般式（Ｉ）中、Ｒは、水素原子、又は炭素原子数１～４の炭化水素基を表し、ｎは、１～２００の整数を表す。
  3. 　前記一般式（Ｉ）中、Ｒが水素原子又はメチル基である請求項２に記載の着色硬化性組成物。
  4. 　前記一般式（Ｉ）中、ｎが１～１００の整数である請求項２又は３に記載の着色硬化性組成物。
  5. 　前記一般式（Ｉ）で表される構造単位が、前記（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマー中に、５～１００質量％含まれる請求項２～４のいずれか１項に記載の着色硬化性組成物。
  6. 　前記（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマーが、前記式（Ｉ）で表される構造単位以外に他の構造単位を有する請求項２～５のいずれか１項に記載の着色硬化性組成物。
  7. 　前記（Ａ）エステル基を含む連結基を介して主鎖に結合するカルボキシル基を有する構造単位を含むポリマーの含有量が、着色硬化性組成物の固形分中、２～５０質量％である請求項１～６のいずれか１項に記載の着色硬化性組成物。
  8. 　前記（Ｅ）リン酸基を含む分散剤が、下記式（II）で表される化合物である請求項１～７のいずれか１項に記載の着色硬化性組成物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
      
     
    　一般式（II）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素原子数１～２０の炭化水素基を表し、ｍ及びｌは、それぞれ独立に、１～２００の整数を表す。
  9. 　前記一般式（II）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、炭素原子数６～２０の炭化水素基である請求項８に記載の着色硬化性組成物。
  10. 　前記一般式（II）中、ｍ及びｌは、それぞれ独立に、２～２０の整数である請求項８又は９に記載の着色硬化性組成物。
  11. 　前記（Ｃ）重合性化合物が、ラジカル重合性化合物である請求項１～１０のいずれか１項に記載の着色硬化性組成物。
  12. 　前記（Ｄ）顔料及び前記（Ｅ）リン酸基を含む分散剤が顔料分散液として調製されており、前記顔料分散液中における前記（Ｅ）リン酸基を含む分散剤の量が、前記（Ｄ）顔料１００質量部に対して、０～１００質量部である請求項１～１１のいずれか１項に記載の着色硬化性組成物。
  13. 　着色硬化性組成物に含まれる前記（Ｄ）顔料の量が、５～９０質量％である請求項１～１２のいずれか１項に記載の着色硬化性組成物。
  14. 　請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載の着色硬化性組成物を用いて形成されたカラーフィルタ。
  15. 　支持体上に、請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載の着色硬化性組成物を塗布して着色層を形成することと、
    　前記着色層を露光することと、
    　露光後の前記着色層を現像することと、
    を含むカラーフィルタの製造方法。
  16. 　前記着色層の形成においては、少なくとも第ｎ色目（ｎは１以上の整数を表す）の着色パターンが形成されている支持体の着色パターン形成面側に、第ｎ＋１色目（ｎは１以上の整数を表す）以降の着色パターンを形成するための前記着色硬化性組成物を、形成されている着色パターン上に重なるように塗布して着色層を形成する、請求項１５に記載のカラーフィルタの製造方法。
  17. 　請求項１４に記載のカラーフィルタを備えた固体撮像素子。
PCT/JP2009/066252 2008-09-30 2009-09-17 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 WO2010038625A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP09817662.1A EP2333608A4 (en) 2008-09-30 2009-09-17 Colored curable composition, color filter and method for production thereof, and solid imaging element
KR1020107028815A KR101301160B1 (ko) 2008-09-30 2009-09-17 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체 촬상 소자
US12/999,018 US8440374B2 (en) 2008-09-30 2009-09-17 Colored curable composition, color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008-253152 2008-09-30
JP2008253152A JP5127651B2 (ja) 2008-09-30 2008-09-30 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010038625A1 true WO2010038625A1 (ja) 2010-04-08

Family

ID=42073394

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2009/066252 WO2010038625A1 (ja) 2008-09-30 2009-09-17 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8440374B2 (ja)
EP (1) EP2333608A4 (ja)
JP (1) JP5127651B2 (ja)
KR (1) KR101301160B1 (ja)
TW (1) TWI406090B (ja)
WO (1) WO2010038625A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2221348B1 (en) * 2009-02-16 2016-11-30 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, colored curable composition, color filter, liquid crystal display device and solid-state image sensor

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5647910B2 (ja) * 2011-01-31 2015-01-07 富士フイルム株式会社 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子
JP5757925B2 (ja) * 2011-08-31 2015-08-05 富士フイルム株式会社 着色組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP6047417B2 (ja) * 2013-02-18 2016-12-21 富士フイルム株式会社 カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、及び液晶表示装置の製造方法
CN103926735A (zh) * 2013-06-28 2014-07-16 上海天马微电子有限公司 一种彩膜基板及其制作方法、显示面板及装置
JP6248838B2 (ja) * 2013-07-22 2017-12-20 Jsr株式会社 着色組成物、着色硬化膜、並びに表示素子及び固体撮像素子
WO2015153706A1 (en) * 2014-04-04 2015-10-08 Corning Incorporated Treatment of glass surfaces for improved adhesion
KR102410852B1 (ko) 2018-03-22 2022-06-17 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치
JP2019182899A (ja) * 2018-04-02 2019-10-24 Jsr株式会社 硬化性組成物、及び硬化膜の形成方法
KR102512980B1 (ko) 2019-11-06 2023-03-23 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치
CN114830826A (zh) * 2019-12-20 2022-07-29 东丽株式会社 感光性树脂组合物、固化膜、有机el显示器、及显示装置以及固化膜的制造方法

Citations (156)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
US2848328A (en) 1954-06-16 1958-08-19 Eastman Kodak Co Light sensitive diazo compound and binder composition
US2852379A (en) 1955-05-04 1958-09-16 Eastman Kodak Co Azide resin photolithographic composition
US2940853A (en) 1958-08-21 1960-06-14 Eastman Kodak Co Azide sensitized resin photographic resist
US3479185A (en) 1965-06-03 1969-11-18 Du Pont Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
JPS4643946B1 (ja) 1967-11-09 1971-12-27
JPS4836281A (ja) 1971-09-03 1973-05-28
JPS4841708A (ja) 1971-09-25 1973-06-18
JPS4842965A (ja) 1971-10-06 1973-06-21
JPS4864183A (ja) 1971-12-09 1973-09-05
JPS4943191A (ja) 1972-09-02 1974-04-23
US3905815A (en) 1971-12-17 1975-09-16 Minnesota Mining & Mfg Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer
JPS5137193A (ja) 1974-09-25 1976-03-29 Toyo Boseki
JPS5182102A (en) 1974-12-10 1976-07-19 Basf Ag Insatsuinki oyobi hifukuzairyonotameno hikarijugokanonaketsugozai
JPS5147334B1 (ja) 1970-11-02 1976-12-14
JPS5230490A (en) 1975-09-03 1977-03-08 Denki Kagaku Keiki Co Ltd Gas concentration measuring electrode stable in air
JPS52134692A (en) 1976-05-04 1977-11-11 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPS53702A (en) 1975-12-23 1978-01-06 Dynachem Corp Adhesion promoting agent for polymerized film
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
US4069055A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photocurable epoxy compositions containing group Va onium salts
JPS5421726A (en) 1977-07-19 1979-02-19 Canon Inc Electrostatic printing method and device therefor
JPS5425957A (en) 1977-07-29 1979-02-27 Nippon Zeon Co Ltd Curable rubber composition having excellent resistance to rancid gasoline
JPS5434327A (en) 1977-08-12 1979-03-13 Ciba Geigy Ag Bispyridone dyes and use thereof in silver halide materials for photograph
JPS5492723A (en) 1977-12-30 1979-07-23 Somar Mfg Photosensitive material and use
DE2904626A1 (de) 1978-02-08 1979-08-09 Minnesota Mining & Mfg Triarylsulfoniumkomplexsalze, verfahren zu ihrer herstellung und diese salze enthaltende photopolymerisierbare gemische
JPS5532070A (en) 1978-08-29 1980-03-06 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive resin composition
JPS5534414A (en) 1978-09-01 1980-03-11 Sumitomo Bakelite Co Method of manufacturing printed circuit board
JPS55500806A (ja) 1978-10-19 1980-10-16
JPS5617654A (en) 1979-07-25 1981-02-19 Mitsubishi Electric Corp Preventing apparatus for freezing of fountain nozzle
JPS5675643A (en) 1979-11-07 1981-06-22 Hoechst Ag Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material using same
US4311783A (en) 1979-08-14 1982-01-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5,-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
JPS57196231A (en) 1981-05-20 1982-12-02 Hoechst Ag Mixture able to be polymerized by radiation and copying material mainly composed thereof
JPS5812577A (ja) 1981-07-10 1983-01-24 Mitsubishi Electric Corp 変換器の制御装置
JPS5849860A (ja) 1981-09-18 1983-03-24 Sanyo Electric Co Ltd 太陽光エネルギ−変換器
JPS595241A (ja) 1982-06-21 1984-01-12 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 放射線重合可能な混合物
JPS595240A (ja) 1982-06-21 1984-01-12 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 放射線重合可能な混合物
JPS5944615A (ja) 1982-09-07 1984-03-13 Furuno Electric Co Ltd ジヤイロ装置
EP0104143A1 (de) 1982-09-18 1984-03-28 Ciba-Geigy Ag Diaryljodosylsalze enthaltende photopolymerisierbare Zusammensetzungen
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
JPS59138205A (ja) 1983-01-20 1984-08-08 チバ−ガイギ−　アクチエンゲゼルシヤフト 被覆組成物およびその硬化方法
JPS59152396A (ja) 1983-02-11 1984-08-31 チバ−ガイギ−　アクチエンゲゼルシヤフト メタロセン，その製造方法およびメタロセンを含む光重合性組成物
US4508811A (en) 1983-01-17 1985-04-02 U.S. Philips Corporation Recording element having a pyrylium or thiopyrylium-squarylium dye layer and new pyrylium or thiopyrylium-squarylium compounds
JPS6084305A (ja) 1983-08-30 1985-05-13 バスフ　アクチェン　ゲゼルシャフト 光重合可能な混合物
JPS60239736A (ja) 1984-05-14 1985-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6122048A (ja) 1984-06-08 1986-01-30 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 重合可能な化合物、その製法、およびこれを含有する放射線感性複写層
JPS61151197A (ja) 1984-12-20 1986-07-09 チバ‐ガイギー　アーゲー チタノセン類およびこれらのチタノセン類を含有する照射重合開始剤
JPS61166544A (ja) 1985-01-18 1986-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61169835A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61169837A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61192727A (ja) * 1985-02-21 1986-08-27 Dainichi Seika Kogyo Kk 顔料組成物およびその製造法
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
JPS61266472A (ja) * 1985-02-21 1986-11-26 Dainichi Color & Chem Mfg Co Ltd 顔料組成物およびその製造方法
JPS6218537A (ja) 1985-07-16 1987-01-27 ザ・ミ−ド・コ−ポレ−シヨン 共開始剤として第三アミンを含有する感光性マイクロカプセルを用いた造像材料
JPS6239417A (ja) 1985-08-10 1987-02-20 川島　藤夫 折畳海苔束結束装置
JPS6239418A (ja) 1985-08-08 1987-02-20 川島　藤夫 海苔結束用紙テ−プ供給法及びその装置
JPS6258241A (ja) 1985-09-09 1987-03-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS62143044A (ja) 1985-11-20 1987-06-26 サイカラー・インコーポレーテッド 染料−ほう素化合物錯体を含有する光硬化性組成物およびその組成物を使用する感光性材料
JPS62150242A (ja) 1985-11-20 1987-07-04 サイカラー・インコーポレーテッド イオン性染料化合物を開始剤として含む感光性材料
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
JPS62212401A (ja) 1986-03-14 1987-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPS6341484A (ja) 1986-08-01 1988-02-22 チバ−ガイギ−　ア−ゲ− チタノセン、それらの製造法およびそれらを含有する組成物
JPS6370243A (ja) 1986-09-11 1988-03-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
JPS63260909A (ja) 1987-03-28 1988-10-27 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 光重合性混合物及びこの混合物から製造される記録材料
JPS63277653A (ja) 1987-03-28 1988-11-15 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 重合可能な化合物、これを含有する放射線重合可能な混合物及び放射線重合可能な記録材料
JPS63287947A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS63287944A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS63298339A (ja) 1987-05-29 1988-12-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
EP0297442A1 (de) 1987-07-01 1989-01-04 BASF Aktiengesellschaft Sulfoniumsalze mit säurelabilen Gruppierungen
EP0297443A2 (de) 1987-07-01 1989-01-04 BASF Aktiengesellschaft Strahlungsempfindliches Gemisch für lichtempfindliche Beschichtungsmaterialien
JPS6433104A (en) 1987-06-25 1989-02-03 Ciba Geigy Ag Photopolymerizable composition
JPS6440336A (en) 1987-08-05 1989-02-10 Toppan Printing Co Ltd Drying/deodorizing device of printer
JPS6440337A (en) 1987-08-06 1989-02-10 Toyo Machinery & Metal Molding number printing device
JPH01105238A (ja) 1987-03-28 1989-04-21 Hoechst Ag 光重合可能な混合物および光重合可能な記録材料
JPH01152109A (ja) 1987-12-09 1989-06-14 Toray Ind Inc 光重合性組成物
JPH01165613A (ja) 1987-11-16 1989-06-29 Hoechst Ag 重合可能な化合物、その放射線重合性混合物および放射線重合記録材料
JPH01271741A (ja) 1988-04-25 1989-10-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH01304453A (ja) 1988-06-02 1989-12-08 Toyobo Co Ltd 光重合性組成物
JPH02249A (ja) 1987-12-01 1990-01-05 Ciba Geigy Ag チタノセンおよびそれを含有する光重合性組成物
JPH024705A (ja) 1988-03-24 1990-01-09 Dentsply Internatl Inc 光硬化性組成物用チタナート開始剤
JPH0225493A (ja) 1988-05-21 1990-01-26 Hoechst Ag アルケニルホスホン酸エステルおよびアルケニルホスフイン酸エルテル、その製法並びに当該化合物を含有する放射線重合性混合物および記録材料
JPH0232293A (ja) 1988-07-22 1990-02-02 Nippon Atom Ind Group Co Ltd 沸騰水型原子炉
JPH0216765B2 (ja) 1980-09-29 1990-04-18 Hoechst Ag
EP0370693A2 (en) 1988-11-21 1990-05-30 Eastman Kodak Company Novel onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02181704A (ja) 1989-01-06 1990-07-16 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターおよびその製造方法
JPH02199403A (ja) 1989-01-30 1990-08-07 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターおよびその製造方法
JPH02226149A (ja) 1988-12-22 1990-09-07 Hoechst Ag 光重合性化合物、それを含む光重合性混合物及びそれから製造された光重合性複写材料
EP0390214A2 (en) 1989-03-31 1990-10-03 E.F. Johnson Company Method and apparatus for a distributive wide area network for a land mobile transmission trunked communication system
JPH02296514A (ja) 1989-05-12 1990-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 車両用サスペンション制御装置
JPH03112992A (ja) * 1989-09-14 1991-05-14 Byk Chem Gmbh リン酸エステル類、それらの製造法および分散剤としてのそれらの用途
JPH04365049A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH0583588A (ja) 1991-09-24 1993-04-02 Omron Corp 画像処理装置
JPH05142772A (ja) 1991-11-26 1993-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US5227227A (en) 1990-03-05 1993-07-13 Johnson & Johnson Inc. Non-woven fabric with a thermally activated adhesive surface, resulting product and applications thereof
JPH05273411A (ja) 1992-03-27 1993-10-22 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 顔料分散型カラーフィルター用組成物
EP0568993A2 (en) 1992-05-06 1993-11-10 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Chemical amplification resist composition
JPH0629285B2 (ja) 1983-10-14 1994-04-20 三菱化成株式会社 光重合性組成物
JPH06157623A (ja) 1992-08-14 1994-06-07 Toyo Ink Mfg Co Ltd 重合性組成物および重合方法
JPH06175561A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175553A (ja) 1992-12-03 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175554A (ja) 1992-12-03 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd 体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175564A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06308727A (ja) 1993-04-19 1994-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH06348011A (ja) 1993-06-04 1994-12-22 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光重合性組成物
JPH0712004A (ja) 1993-06-21 1995-01-17 Naoki Torii ディーゼルエンジンの燃料油低温流動性評価用装置
JPH07120042A (ja) 1993-10-20 1995-05-12 Fujita Corp 室内における分煙方法
JPH07120041A (ja) 1993-10-28 1995-05-12 Matsushita Seiko Co Ltd 空気調和装置
JPH07128785A (ja) 1993-11-02 1995-05-19 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH07140654A (ja) 1993-09-24 1995-06-02 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感放射線性組成物
JPH07140589A (ja) 1993-11-19 1995-06-02 Konica Corp 画像形成材料および画像形成方法
JPH07292014A (ja) 1994-04-25 1995-11-07 Nippon Paint Co Ltd 近赤外光重合性組成物
JPH07306527A (ja) 1994-05-11 1995-11-21 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH0812424A (ja) 1994-07-01 1996-01-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電磁器組成物とその製造方法
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
JPH08295810A (ja) 1995-04-26 1996-11-12 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用顔料および着色組成物
JPH09188686A (ja) 1995-11-24 1997-07-22 Ciba Geigy Ag 光重合のための酸安定性硼酸塩
JPH09188710A (ja) 1995-11-24 1997-07-22 Ciba Geigy Ag モノボランからのボレート光開始剤
JPH09188685A (ja) 1995-11-24 1997-07-22 Ciba Geigy Ag 光重合のためのボレート補助開始剤
JPH09227635A (ja) * 1995-12-22 1997-09-02 Mitsubishi Chem Corp カラーフィルター用光重合性組成物、カラーフィルターおよび液晶表示素子
JP2764769B2 (ja) 1991-06-24 1998-06-11 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH10245501A (ja) 1997-03-03 1998-09-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd 顔料組成物およびその製造方法
JPH1149974A (ja) 1996-12-20 1999-02-23 Seiko Epson Corp 顔料塊状体及びその製造方法、顔料水系分散液、並びに水系インク組成物
JPH11189732A (ja) 1996-12-16 1999-07-13 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 顔料の分散剤、顔料分散液、カラーフイルター用顔料分散液
JPH11199796A (ja) 1997-11-17 1999-07-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd 顔料分散剤、及びそれを含有する顔料組成物
JPH11258415A (ja) * 1998-03-11 1999-09-24 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物
JPH11271969A (ja) 1998-01-21 1999-10-08 Mitsubishi Chemical Corp 光重合性組成物及び感光性平版印刷版
JP2000066385A (ja) 1998-08-18 2000-03-03 Ciba Specialty Chem Holding Inc 高感度で高レジスト厚さのｉ線ホトレジスト用スルホニルオキシム類
JP2000080068A (ja) 1998-06-26 2000-03-21 Ciba Specialty Chem Holding Inc 新規ｏ―アシルオキシム光開始剤
EP0993966A1 (de) 1998-10-13 2000-04-19 Agfa-Gevaert AG Negativ arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch zur Herstellung eines mit Wärme oder Infrarotlaser bebilderbaren Aufzeichnungsmaterials
JP2000131837A (ja) 1998-08-17 2000-05-12 Mitsubishi Chemicals Corp 光重合性組成物、光重合性平版印刷版及び画像形成方法
JP2000187322A (ja) 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法
JP2001125255A (ja) 1999-10-27 2001-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2001164142A (ja) * 1999-12-07 2001-06-19 Mitsubishi Chemicals Corp 顔料分散体組成物
JP2001242612A (ja) 2000-03-01 2001-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001318463A (ja) 2000-05-11 2001-11-16 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2001356210A (ja) 2000-06-14 2001-12-26 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JP2002062698A (ja) 2000-08-21 2002-02-28 Kyocera Corp 画像形成機
JP2002107916A (ja) 2000-09-27 2002-04-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2002107918A (ja) 2000-10-03 2002-04-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2002116539A (ja) 2000-10-11 2002-04-19 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
EP1204000A1 (en) 2000-11-06 2002-05-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
JP2002309057A (ja) 2001-04-13 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd 酸分解型感光性組成物及び酸分解型平版印刷版
JP2002311569A (ja) 2001-04-13 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びネガ型平版印刷版
JP2002328465A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2003240938A (ja) 2002-02-22 2003-08-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2004534797A (ja) 2001-06-11 2004-11-18 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 組み合わされた構造を有するオキシムエステルの光開始剤
JP2005234478A (ja) 2004-02-23 2005-09-02 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2005316388A (ja) * 2004-03-30 2005-11-10 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示装置
JP2006265528A (ja) 2005-02-22 2006-10-05 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 顔料分散剤およびその使用
JP2007171853A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2009042751A (ja) 2007-07-17 2009-02-26 Fujifilm Corp 感光性組成物、硬化性組成物、カラーフィルタ用硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP4420189B2 (ja) 2003-10-28 2010-02-24 株式会社Ｉｈｉ Ｘ線検査装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4704165A (en) * 1985-05-21 1987-11-03 Dainichiseika Color & Chemicals Mfg. Co., Ltd. Pigment composition
DE69620723T2 (de) * 1995-12-22 2002-12-05 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Fotopolymerisierbare Zusammensetzung für einen Farbfilter, Farbfilter und Flüssigkristallanzeigevorrichtung
JP5194445B2 (ja) * 2006-12-11 2013-05-08 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 インクジェットインク、及びカラーフィルタ基板
KR101030022B1 (ko) * 2007-09-11 2011-04-20 제일모직주식회사 안료 분산액 조성물, 이를 포함하는 컬러필터용 레지스트조성물 및 이로부터 제조된 컬러필터

Patent Citations (158)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2848328A (en) 1954-06-16 1958-08-19 Eastman Kodak Co Light sensitive diazo compound and binder composition
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
US2852379A (en) 1955-05-04 1958-09-16 Eastman Kodak Co Azide resin photolithographic composition
US2940853A (en) 1958-08-21 1960-06-14 Eastman Kodak Co Azide sensitized resin photographic resist
US3479185A (en) 1965-06-03 1969-11-18 Du Pont Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
JPS4643946B1 (ja) 1967-11-09 1971-12-27
JPS5147334B1 (ja) 1970-11-02 1976-12-14
JPS4836281A (ja) 1971-09-03 1973-05-28
JPS4841708A (ja) 1971-09-25 1973-06-18
JPS4842965A (ja) 1971-10-06 1973-06-21
JPS4864183A (ja) 1971-12-09 1973-09-05
US3905815A (en) 1971-12-17 1975-09-16 Minnesota Mining & Mfg Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer
JPS4943191A (ja) 1972-09-02 1974-04-23
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
US4069055A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photocurable epoxy compositions containing group Va onium salts
JPS5137193A (ja) 1974-09-25 1976-03-29 Toyo Boseki
JPS5182102A (en) 1974-12-10 1976-07-19 Basf Ag Insatsuinki oyobi hifukuzairyonotameno hikarijugokanonaketsugozai
JPS5230490A (en) 1975-09-03 1977-03-08 Denki Kagaku Keiki Co Ltd Gas concentration measuring electrode stable in air
JPS53702A (en) 1975-12-23 1978-01-06 Dynachem Corp Adhesion promoting agent for polymerized film
JPS52134692A (en) 1976-05-04 1977-11-11 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPS5421726A (en) 1977-07-19 1979-02-19 Canon Inc Electrostatic printing method and device therefor
JPS5425957A (en) 1977-07-29 1979-02-27 Nippon Zeon Co Ltd Curable rubber composition having excellent resistance to rancid gasoline
JPS5434327A (en) 1977-08-12 1979-03-13 Ciba Geigy Ag Bispyridone dyes and use thereof in silver halide materials for photograph
JPS5492723A (en) 1977-12-30 1979-07-23 Somar Mfg Photosensitive material and use
DE2904626A1 (de) 1978-02-08 1979-08-09 Minnesota Mining & Mfg Triarylsulfoniumkomplexsalze, verfahren zu ihrer herstellung und diese salze enthaltende photopolymerisierbare gemische
JPS5532070A (en) 1978-08-29 1980-03-06 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive resin composition
JPS5534414A (en) 1978-09-01 1980-03-11 Sumitomo Bakelite Co Method of manufacturing printed circuit board
JPS55500806A (ja) 1978-10-19 1980-10-16
JPS5617654A (en) 1979-07-25 1981-02-19 Mitsubishi Electric Corp Preventing apparatus for freezing of fountain nozzle
US4311783A (en) 1979-08-14 1982-01-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5,-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
JPS5675643A (en) 1979-11-07 1981-06-22 Hoechst Ag Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material using same
JPH0216765B2 (ja) 1980-09-29 1990-04-18 Hoechst Ag
JPS57196231A (en) 1981-05-20 1982-12-02 Hoechst Ag Mixture able to be polymerized by radiation and copying material mainly composed thereof
JPS5812577A (ja) 1981-07-10 1983-01-24 Mitsubishi Electric Corp 変換器の制御装置
JPS5849860A (ja) 1981-09-18 1983-03-24 Sanyo Electric Co Ltd 太陽光エネルギ−変換器
JPS595241A (ja) 1982-06-21 1984-01-12 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 放射線重合可能な混合物
JPS595240A (ja) 1982-06-21 1984-01-12 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 放射線重合可能な混合物
JPS5944615A (ja) 1982-09-07 1984-03-13 Furuno Electric Co Ltd ジヤイロ装置
EP0104143A1 (de) 1982-09-18 1984-03-28 Ciba-Geigy Ag Diaryljodosylsalze enthaltende photopolymerisierbare Zusammensetzungen
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
US4508811A (en) 1983-01-17 1985-04-02 U.S. Philips Corporation Recording element having a pyrylium or thiopyrylium-squarylium dye layer and new pyrylium or thiopyrylium-squarylium compounds
JPS59138205A (ja) 1983-01-20 1984-08-08 チバ−ガイギ−　アクチエンゲゼルシヤフト 被覆組成物およびその硬化方法
JPS59152396A (ja) 1983-02-11 1984-08-31 チバ−ガイギ−　アクチエンゲゼルシヤフト メタロセン，その製造方法およびメタロセンを含む光重合性組成物
JPS6084305A (ja) 1983-08-30 1985-05-13 バスフ　アクチェン　ゲゼルシャフト 光重合可能な混合物
JPH0629285B2 (ja) 1983-10-14 1994-04-20 三菱化成株式会社 光重合性組成物
JPS60239736A (ja) 1984-05-14 1985-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6122048A (ja) 1984-06-08 1986-01-30 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 重合可能な化合物、その製法、およびこれを含有する放射線感性複写層
JPS61151197A (ja) 1984-12-20 1986-07-09 チバ‐ガイギー　アーゲー チタノセン類およびこれらのチタノセン類を含有する照射重合開始剤
JPS61166544A (ja) 1985-01-18 1986-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61169835A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61169837A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61192727A (ja) * 1985-02-21 1986-08-27 Dainichi Seika Kogyo Kk 顔料組成物およびその製造法
JPS61266472A (ja) * 1985-02-21 1986-11-26 Dainichi Color & Chem Mfg Co Ltd 顔料組成物およびその製造方法
JPS6218537A (ja) 1985-07-16 1987-01-27 ザ・ミ−ド・コ−ポレ−シヨン 共開始剤として第三アミンを含有する感光性マイクロカプセルを用いた造像材料
JPS6239418A (ja) 1985-08-08 1987-02-20 川島　藤夫 海苔結束用紙テ−プ供給法及びその装置
JPS6239417A (ja) 1985-08-10 1987-02-20 川島　藤夫 折畳海苔束結束装置
JPS6258241A (ja) 1985-09-09 1987-03-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
JPS62143044A (ja) 1985-11-20 1987-06-26 サイカラー・インコーポレーテッド 染料−ほう素化合物錯体を含有する光硬化性組成物およびその組成物を使用する感光性材料
JPS62150242A (ja) 1985-11-20 1987-07-04 サイカラー・インコーポレーテッド イオン性染料化合物を開始剤として含む感光性材料
EP0233567A2 (de) 1986-02-14 1987-08-26 BASF Aktiengesellschaft Härtbare Mischungen, enthaltend N-Sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame Katalysatoren
US4734444A (en) 1986-02-14 1988-03-29 Basf Aktiengesellschaft Curable mixtures containing N-sulfonylaminosulfonium salts as cationically active catalysts
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
JPS62212401A (ja) 1986-03-14 1987-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPS6341484A (ja) 1986-08-01 1988-02-22 チバ−ガイギ−　ア−ゲ− チタノセン、それらの製造法およびそれらを含有する組成物
JPS6370243A (ja) 1986-09-11 1988-03-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
JPH01105238A (ja) 1987-03-28 1989-04-21 Hoechst Ag 光重合可能な混合物および光重合可能な記録材料
JPS63260909A (ja) 1987-03-28 1988-10-27 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 光重合性混合物及びこの混合物から製造される記録材料
JPS63277653A (ja) 1987-03-28 1988-11-15 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 重合可能な化合物、これを含有する放射線重合可能な混合物及び放射線重合可能な記録材料
JPS63287944A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS63287947A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS63298339A (ja) 1987-05-29 1988-12-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6433104A (en) 1987-06-25 1989-02-03 Ciba Geigy Ag Photopolymerizable composition
EP0297443A2 (de) 1987-07-01 1989-01-04 BASF Aktiengesellschaft Strahlungsempfindliches Gemisch für lichtempfindliche Beschichtungsmaterialien
EP0297442A1 (de) 1987-07-01 1989-01-04 BASF Aktiengesellschaft Sulfoniumsalze mit säurelabilen Gruppierungen
JPS6440336A (en) 1987-08-05 1989-02-10 Toppan Printing Co Ltd Drying/deodorizing device of printer
JPS6440337A (en) 1987-08-06 1989-02-10 Toyo Machinery & Metal Molding number printing device
JPH01165613A (ja) 1987-11-16 1989-06-29 Hoechst Ag 重合可能な化合物、その放射線重合性混合物および放射線重合記録材料
JPH02249A (ja) 1987-12-01 1990-01-05 Ciba Geigy Ag チタノセンおよびそれを含有する光重合性組成物
JPH01152109A (ja) 1987-12-09 1989-06-14 Toray Ind Inc 光重合性組成物
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH024705A (ja) 1988-03-24 1990-01-09 Dentsply Internatl Inc 光硬化性組成物用チタナート開始剤
JPH01271741A (ja) 1988-04-25 1989-10-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH0225493A (ja) 1988-05-21 1990-01-26 Hoechst Ag アルケニルホスホン酸エステルおよびアルケニルホスフイン酸エルテル、その製法並びに当該化合物を含有する放射線重合性混合物および記録材料
JPH01304453A (ja) 1988-06-02 1989-12-08 Toyobo Co Ltd 光重合性組成物
JPH0232293A (ja) 1988-07-22 1990-02-02 Nippon Atom Ind Group Co Ltd 沸騰水型原子炉
EP0370693A2 (en) 1988-11-21 1990-05-30 Eastman Kodak Company Novel onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
JPH02226149A (ja) 1988-12-22 1990-09-07 Hoechst Ag 光重合性化合物、それを含む光重合性混合物及びそれから製造された光重合性複写材料
JPH02181704A (ja) 1989-01-06 1990-07-16 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターおよびその製造方法
JPH02199403A (ja) 1989-01-30 1990-08-07 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルターおよびその製造方法
EP0390214A2 (en) 1989-03-31 1990-10-03 E.F. Johnson Company Method and apparatus for a distributive wide area network for a land mobile transmission trunked communication system
JPH02296514A (ja) 1989-05-12 1990-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 車両用サスペンション制御装置
JPH03112992A (ja) * 1989-09-14 1991-05-14 Byk Chem Gmbh リン酸エステル類、それらの製造法および分散剤としてのそれらの用途
US5227227A (en) 1990-03-05 1993-07-13 Johnson & Johnson Inc. Non-woven fabric with a thermally activated adhesive surface, resulting product and applications thereof
JPH04365049A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JP2764769B2 (ja) 1991-06-24 1998-06-11 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH0583588A (ja) 1991-09-24 1993-04-02 Omron Corp 画像処理装置
JPH05142772A (ja) 1991-11-26 1993-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH05273411A (ja) 1992-03-27 1993-10-22 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 顔料分散型カラーフィルター用組成物
EP0568993A2 (en) 1992-05-06 1993-11-10 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Chemical amplification resist composition
JPH06157623A (ja) 1992-08-14 1994-06-07 Toyo Ink Mfg Co Ltd 重合性組成物および重合方法
JPH06175553A (ja) 1992-12-03 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175554A (ja) 1992-12-03 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd 体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175561A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175564A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06308727A (ja) 1993-04-19 1994-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH06348011A (ja) 1993-06-04 1994-12-22 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光重合性組成物
JPH0712004A (ja) 1993-06-21 1995-01-17 Naoki Torii ディーゼルエンジンの燃料油低温流動性評価用装置
JPH07140654A (ja) 1993-09-24 1995-06-02 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感放射線性組成物
JPH07120042A (ja) 1993-10-20 1995-05-12 Fujita Corp 室内における分煙方法
JPH07120041A (ja) 1993-10-28 1995-05-12 Matsushita Seiko Co Ltd 空気調和装置
JPH07128785A (ja) 1993-11-02 1995-05-19 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH07140589A (ja) 1993-11-19 1995-06-02 Konica Corp 画像形成材料および画像形成方法
JPH07292014A (ja) 1994-04-25 1995-11-07 Nippon Paint Co Ltd 近赤外光重合性組成物
JPH07306527A (ja) 1994-05-11 1995-11-21 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH0812424A (ja) 1994-07-01 1996-01-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電磁器組成物とその製造方法
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
JPH08295810A (ja) 1995-04-26 1996-11-12 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用顔料および着色組成物
JPH09188686A (ja) 1995-11-24 1997-07-22 Ciba Geigy Ag 光重合のための酸安定性硼酸塩
JPH09188710A (ja) 1995-11-24 1997-07-22 Ciba Geigy Ag モノボランからのボレート光開始剤
JPH09188685A (ja) 1995-11-24 1997-07-22 Ciba Geigy Ag 光重合のためのボレート補助開始剤
JPH09227635A (ja) * 1995-12-22 1997-09-02 Mitsubishi Chem Corp カラーフィルター用光重合性組成物、カラーフィルターおよび液晶表示素子
JPH11189732A (ja) 1996-12-16 1999-07-13 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 顔料の分散剤、顔料分散液、カラーフイルター用顔料分散液
JPH1149974A (ja) 1996-12-20 1999-02-23 Seiko Epson Corp 顔料塊状体及びその製造方法、顔料水系分散液、並びに水系インク組成物
JPH10245501A (ja) 1997-03-03 1998-09-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd 顔料組成物およびその製造方法
JPH11199796A (ja) 1997-11-17 1999-07-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd 顔料分散剤、及びそれを含有する顔料組成物
JPH11271969A (ja) 1998-01-21 1999-10-08 Mitsubishi Chemical Corp 光重合性組成物及び感光性平版印刷版
JPH11258415A (ja) * 1998-03-11 1999-09-24 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物
JP2000080068A (ja) 1998-06-26 2000-03-21 Ciba Specialty Chem Holding Inc 新規ｏ―アシルオキシム光開始剤
JP2000131837A (ja) 1998-08-17 2000-05-12 Mitsubishi Chemicals Corp 光重合性組成物、光重合性平版印刷版及び画像形成方法
JP2000066385A (ja) 1998-08-18 2000-03-03 Ciba Specialty Chem Holding Inc 高感度で高レジスト厚さのｉ線ホトレジスト用スルホニルオキシム類
EP0993966A1 (de) 1998-10-13 2000-04-19 Agfa-Gevaert AG Negativ arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch zur Herstellung eines mit Wärme oder Infrarotlaser bebilderbaren Aufzeichnungsmaterials
JP2000187322A (ja) 1998-10-15 2000-07-04 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物、画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法
JP2001125255A (ja) 1999-10-27 2001-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2001164142A (ja) * 1999-12-07 2001-06-19 Mitsubishi Chemicals Corp 顔料分散体組成物
JP2001242612A (ja) 2000-03-01 2001-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001318463A (ja) 2000-05-11 2001-11-16 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2001356210A (ja) 2000-06-14 2001-12-26 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JP2002062698A (ja) 2000-08-21 2002-02-28 Kyocera Corp 画像形成機
JP2002107916A (ja) 2000-09-27 2002-04-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2002107918A (ja) 2000-10-03 2002-04-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2002116539A (ja) 2000-10-11 2002-04-19 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
EP1204000A1 (en) 2000-11-06 2002-05-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
JP2002311569A (ja) 2001-04-13 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びネガ型平版印刷版
JP2002309057A (ja) 2001-04-13 2002-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd 酸分解型感光性組成物及び酸分解型平版印刷版
JP2002328465A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2004534797A (ja) 2001-06-11 2004-11-18 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 組み合わされた構造を有するオキシムエステルの光開始剤
JP2003240938A (ja) 2002-02-22 2003-08-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP4420189B2 (ja) 2003-10-28 2010-02-24 株式会社Ｉｈｉ Ｘ線検査装置
JP2005234478A (ja) 2004-02-23 2005-09-02 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2005316388A (ja) * 2004-03-30 2005-11-10 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示装置
JP2006265528A (ja) 2005-02-22 2006-10-05 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 顔料分散剤およびその使用
JP2007171853A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2009042751A (ja) 2007-07-17 2009-02-26 Fujifilm Corp 感光性組成物、硬化性組成物、カラーフィルタ用硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法

Non-Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
C. S. WEN ET AL., TEH, PROC. CONF RAD. CURING ASIA, October 1988 (1988-10-01), pages 478
J. V CRIVELLO ET AL., J. POLYMER SCI., POLYMER CHEM. ED., vol. 17, 1979, pages 1047
J.C.S. PERKIN II, 1979, pages 156 - 162
J.C.S. PERKIN II, 1979, pages 1653 - 1660
JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY, 1995, pages 202 - 232
KUNZ; MARTIN, RAD TECH '98. PROCEEDING, 19 April 1998 (1998-04-19)
M. P. HUTT, JURNAL OF HETEROCYCLIC CHEMISTRY, vol. I, no. 3, 1970
M. R. SANDER ET AL., JOURNAL OF POLYMER SOCIETY, vol. 10, 1972, pages 3173
NIHON SECCHAKU KYOUKAISHI, vol. 20, no. 7, 1984, pages 300 - 308
S. I. SCHLESINGER, PHOTOGR, SCI, ENG., vol. 18, 1974, pages 387
See also references of EP2333608A4
T. S. BAL ET AL., POLYMER, vol. 21, 1980, pages 423
V. CRIVELLO ET AL., MACROMOLECULES, vol. 10, no. 6, 1977, pages 1307
WAKABAYASHI ET AL., BULL CHEM.SOC JAPAN, vol. 42, 1969, pages 2924

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2221348B1 (en) * 2009-02-16 2016-11-30 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, colored curable composition, color filter, liquid crystal display device and solid-state image sensor

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110065424A (ko) 2011-06-15
US8440374B2 (en) 2013-05-14
EP2333608A1 (en) 2011-06-15
US20110102662A1 (en) 2011-05-05
JP5127651B2 (ja) 2013-01-23
KR101301160B1 (ko) 2013-09-03
JP2010085600A (ja) 2010-04-15
EP2333608A4 (en) 2017-12-13
TW201022840A (en) 2010-06-16
TWI406090B (zh) 2013-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5538688B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及び、固体撮像素子
JP5339781B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP5127651B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP4959411B2 (ja) 着色光重合性組成物並びにそれを用いたカラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法
JP5344843B2 (ja) 重合性組成物および固体撮像素子
JP5213375B2 (ja) 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
JP5344790B2 (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5334624B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5441347B2 (ja) 固体撮像素子用着色光硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5448352B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP4969189B2 (ja) 固体撮像素子用途のカラーフィルタ形成用の硬化性組成物、固体撮像素子用途のカラーフィルタ及びその製造方法
JP5178081B2 (ja) カラーフィルタ形成用硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5079653B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP4990085B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP2008032860A (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP5586828B2 (ja) 顔料分散組成物、硬化性組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
JP5523655B2 (ja) 顔料分散組成物、硬化性組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
JP2010113034A (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法及び固体撮像素子
JP4805077B2 (ja) カラーフィルタ用感光性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP2008083089A (ja) 光硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP5105867B2 (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5030638B2 (ja) カラーフィルタ及びその製造方法
JP2008197285A (ja) カラーフィルタ用硬化性組成物
JP2011118060A (ja) 顔料分散液、着色硬化性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
JP2010039121A (ja) 固体撮像素子用透明硬化性組成物、固体撮像素子用硬化膜、及び、固体撮像素子

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 09817662

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12999018

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2009817662

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20107028815

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE