JPH07306527A - 画像形成材料及び画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 保存性が良好で、高感度かつ高解像度の画像
形成が可能な画像形成材料、及び該画像形成材料を用い
た優れた画像形成方法を提供する。 【構成】 基材３上の少なくとも片面に、１級アミン、
もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを放出可能な
前駆体を含有する層１と、アンモニア及び／又は１級ア
ミンにより消色又は発色する化合物を含有する層２を有
する画像形成材料において、前記２層の間に、重合性化
合物と重合開始剤を含有する層、解重合性化合物を含有
する層及びバリアー層から選ばれる層４を設けたことを
特徴とする画像形成材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は高感度かつ高解像度の画
像形成が可能な画像形成材料に関し、更には該画像形成
材料を用いた優れた画像形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、アンモニア及び／又はアミン
類と反応すると色が変化する化合物が数多く知られてお
り、この反応を利用した画像形成方法が提案されてい
る。このような画像形成方法としては、例えばジアゾ-
カプラー系を含む色素前駆体を発色剤として用いてアミ
ンと反応させることにより色素を形成させる方法、フタ
ルアルデヒドやニンヒドリンと、アミン又はアンモニア
と反応させることにより色素を形成させる方法、ある種
のシアニン色素、スチリル色素、ローダミン色素、アゾ
色素、ピリリウム色素と、アミン又はアンモニアと反応
させることにより元の色素の分光吸収を変化させる方法
などが提案されている。

【０００３】しかしながら、これらの色素形成又は色素
の分光吸収を変化せる画像形成方法においては、アンモ
ニア及び／又はアミン類とそれらと反応する化合物と
を、通常の状態で分離して置く必要があり、層を機能分
離させる試みがなされているが、未だ十分な機能分離が
為されていない。

【０００４】この問題点を解決するために、特公昭54-2
091号、同54-10856号、同54-10857号等では、アンモニ
アを配位子として有するコバルト（III）錯体を用いる
画像形成材料が提案されている。

【０００５】この方法は、配位子が放出されない限りに
おいては、アンモニアと反応して色が変化する化合物と
の分離に関して問題はないが、モル吸光係数が低いため
に低エネルギーで画像を形成することが困難であった
り、コバルト（III）錯体自体の保存安定性や併用され
る光還元剤の安定性が未だ十分でないために、画像の保
存性が十分確保できない場合があった。

【０００６】そこで、これらの問題点を解決するため
に、特公平1-53453号等では、コバルト（III）錯体を含
有する層を備えた材料と、とアンモニアと反応して色が
変化する化合物を含有する層を備えた材料とを、潜像形
成後に対面させ加熱することにより画像形成を行わせる
ことが提案されている。

【０００７】しかしながら、この方法では、前記の方法
と同様に、高感度で画像形成を行うことが難しく、又、
対面させた材料間に空気層が存在するために、アンモニ
アが空気層に沿って拡散してしまうので十分な解像度を
得ることが困難であった。更に、画像形成された画像形
成材料以外に廃材が出るという欠点を有していた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の事情に
基づいて為されたものである。即ち、本発明の目的は、
保存性が良好で、高感度かつ高解像度の画像形成が可能
な画像形成材料を提供し、更には、該画像形成材料を用
いた優れた画像形成方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、１級アミン、もしくはアンモニア及び／又は１級
アミンを放出可能な前駆体を含有する層と、アンモニア
及び／又は１級アミンにより消色又は発色する化合物を
含有する層を有する画像形成材料において、前記２層の
間に、重合性化合物と重合開始剤を含有する層、解重合
性化合物を含有する層あるいはバリアー層を設けた画像
形成材料により前記課題を解決できることを見い出し
た。又、該画像形成材料に好適な画像形成方法も併せて
検討した結果、以下に示す本発明の構成に到達した。即
ち、 (１)基材上の少なくとも片面に、１級アミン、もしくは
アンモニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を
含有する層と、アンモニア及び／又は１級アミンにより
消色又は発色する化合物を含有する層を有する画像形成
材料において、前記２層の間に、重合性化合物と重合開
始剤を含有する層を設けた画像形成材料。

【００１０】(２)前記重合開始剤が、光重合開始剤であ
る(１)記載の画像形成材料。

【００１１】(３)基材上の少なくとも片面に、１級アミ
ン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを放出可
能な前駆体を含有する層と、アンモニア及び／又は１級
アミンにより消色又は発色する化合物を含有する層を有
する画像形成材料において、前記２層の間に、解重合性
化合物を含有する層を設けた画像形成材料。

【００１２】(４)前記解重合性化合物を含有する層に、
更に光解重合開始剤を含有する(３)記載の画像形成材
料。

【００１３】(５)基材上の少なくとも片面に、１級アミ
ン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを放出可
能な前駆体を含有する層と、アンモニア及び／又は１級
アミンにより消色又は発色する化合物を含有する層を有
する画像形成材料において、前記２層の間に、バリアー
層を設けた画像形成材料。

【００１４】(６)前記バリアー層が、蒸着層である(５)
記載の画像形成材料。

【００１５】(７)前記蒸着層を設けた画像形成材料に、
蒸着層に接する形で更に光熱変換化合物を含有する層を
設けた(６)記載の画像形成材料。

【００１６】(８)前記光熱変換化合物が、600〜1100nm
に吸収極大波長を有する色素又は染料である(７)記載の
画像形成材料。

【００１７】(９)前記バリアー層が、樹脂と600〜1100n
mに吸収極大波長を有する色素又は染料を含有する層で
ある(５)記載の画像形成材料。

【００１８】(10)前記アンモニア及び／又は１級アミン
により発色する化合物が、下記一般式（１）で表される
化合物である(１)〜(９)記載の画像形成材料。

【００１９】

【化３】

【００２０】式中、Ｑは芳香族環又は５員もしくは６員
の複素環を構成するに必要な原子団を表し、該芳香族環
又は複素環は置換基を有してもよい。

【００２１】(11)前記アンモニア及び／又は１級アミン
により消色する化合物が、ピリリウム色素である(１)〜
(９)記載の画像形成材料。

【００２２】(12)前記アンモニア及び／又は１級アミン
を放出可能な前駆体が、下記一般式（２）で表される化
合物である(１)〜(９)記載の画像形成材料。

【００２３】

【化４】

【００２４】式中、Ｌ₁はコバルトカチオンと錯体を形
成するアンモニア及び／又は１級アミン配位子を表し、
Ｌ₂はコバルトカチオンと錯体を形成するアンモニア及
び／又は１級アミン以外の配位化合物を表す。ｋは１〜
３の整数、ｍは１〜６の整数、ｎは０〜５の整数を表
し、ｍ、ｎが２以上の時、複数のＬ₁、Ｌ₂は、それぞれ
同じでも異なっていてもよい。又、Ｘ^-は対アニオンを
表す。

【００２５】(13)基材上の少なくとも片面に、アンモニ
ア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する
層と、アンモニア又は１級アミンにより消色又は発色す
る化合物を含有する層を有し、前記２層の間に、重合性
化合物と重合開始剤を含有する層、解重合性化合物を含
有する層、又はバリアー層を備えた画像形成材料を用い
て、画像信号に応じてエネルギーを与え、次いで加熱す
ることにより画像を形成する画像形成方法。

【００２６】(14)前記画像信号に応じて与えられるエネ
ルギーが、光エネルギーである(13)記載の画像形成方
法。

【００２７】(15)基材上の少なくとも片面に、アンモニ
ア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する
層と、アンモニア又は１級アミンにより消色又は発色す
る化合物を含有する層を有し、前記２層の間に、重合性
化合物と重合開始剤を含有する層、解重合性化合物を含
有する層、又はバリアー層を備えた画像形成材料を用い
て、画像信号に応じて第１エネルギーを与え、次いで前
駆体からアンモニア及び／又は１級アミンを放出させる
第２のエネルギーを加えた後、加熱することにより画像
を形成する画像形成方法。

【００２８】(16)前記画像信号に応じて与えられる第１
エネルギーが光エネルギーで、前駆体からアンモニア及
び／又は１級アミンを放出させる第２のエネルギーが第
１エネルギーとは異なる波長の光エネルギーであること
を特徴とする請求項15記載の画像形成方法。

【００２９】以下、本発明の画像形成材料及び画像形成
方法について、順次詳細に説明する。

【００３０】《画像形成材料》本発明の画像形成材料
は、基材上の少なくとも片面に１級アミン、もしくはア
ンモニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含
有する層と、アンモニア及び／又は１級アミンにより消
色又は発色する化合物を含有する層とを備え、これら２
層の間に或る特定の層を更に設けることを特徴とする
（以後、これらの層を全て含む形で画像形成組成物層と
称する場合もある）。なお、ここで言う前駆体とは、或
るエネルギーを与えることにより直接アンモニア及び／
又は１級アミンを放出する化合物、又は或るエネルギー
を与えることにより生成した活性種の作用によりアンモ
ニア及び／又は１級アミンを放出する化合物を指す。

【００３１】上記基材としては、紙、合成紙（例えばポ
リプロピレンを主成分とする合成紙、片面あるいは両面
に多孔質構造の顔料塗工層を設けた合成紙など）；アク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル等のアクリル樹
脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリアリレート等のポリエステル系樹脂；ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニリデン、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオ
レフィン系樹脂；ナイロン、芳香族ポリアミド等のポリ
アミド系樹脂；ポリエーテルエーテルケトン、ポリスル
ホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテ
ルイミド、ポリパラバン酸、フェノキシ樹脂、エポキシ
樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、
フェノール樹脂、弗素樹脂、シリコーン樹脂などの各種
樹脂のフィルム又いはシート；更には前記樹脂を２層以
上積層してなるプラスチックフィルム又はシート；各種
高分子材料、金属、セラミック；もしくは木材パルプや
セルロースパルプ、サルファイトパルプ等で抄造された
紙等に前記樹脂層を積層したフィルム又はシート等を挙
げることができる。

【００３２】本発明において、樹脂からなる基材は、シ
ート又はフィルム状に延伸しヒートセットしたものが寸
法安定性の面から好ましく、内部にミクロボイドがない
ものでも、あるいはミクロボイドのあるものでも、用途
に応じて適宜に選択することができる。なお、基材は、
ＯＨＰやマスク材料などの透過原稿、ガラスなどに貼り
付けるシール用途のように透明性を要求される場合にお
いては、必要とする透明度を損なわないものが好まし
く、又、反射画像の場合においては、形成される画像の
鮮明性を高めるために、白色顔料例えばチタンホワイ
ト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリ
カ、タルク、クレー、炭酸カルシウム等が添加されてい
るのが好ましい。

【００３３】基材の厚みは通常10〜1000μm、好ましく
は25〜800μmであり、このような範囲の中から適宜に選
定される。

【００３４】１級アミン、もしくはアンモニア及び／又
は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する層は、必須
成分の他にバインダー樹脂と各種添加剤により構成され
る。

【００３５】１級アミンとしては、下記一般式（３）で
表され、沸点が100℃以上のものが保存性の面から好ま
しく、それらの中でも150℃以上のものがより好まし
い。

【００３６】一般式（３） R−NH₂ ここで、Ｒはそれぞれ、置換もしくは非置換のアルキル
基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基又は複素環基を表す。代表的化合物例を以下に示
す。

【００３７】

【化５】

【００３８】

【化６】

【００３９】

【化７】

【００４０】

【化８】

【００４１】

【化９】

【００４２】アンモニア及び／又は１級アミンを放出可
能な前駆体としては、熱エネルギーあるいは光エネルギ
ーにより放出されるものに分けられる。

【００４３】熱によりアンモニア及び／又は１級アミン
を放出する化合物としては、例えばアゾジカルボンアミ
ド、アミノグアニジン又はその塩酸塩、N-エチル-N′-
フェニル尿素、カルバミド酸アンモニウム、ビウレッ
ト、ヒドラゾベンゼン、アニリン誘導体とハロゲン化ア
ルキルとの塩、米国特許3,224,878号等に記載されてい
る金属錯体などが挙げられる。

【００４４】又、光によりアンモニア及び／又は１級ア
ミンを放出する化合物としては、例えばカルバニル酸エ
チル等のカルバミン酸誘導体、前記一般式（２）で表さ
れるアンモニア及び／又は１級アミンを配位子として有
するコバルト（III）錯体などが挙げられる。

【００４５】これらの中で、熱に対して画像形成材料の
寸度安定性が必要な場合には、光によりアンモニア及び
／又は１級アミンを放出する化合物が好ましく、その中
でも、一般式（２）で表されるコバルト（III）錯体
が、アンモニア及び／又は１級アミンを複数放出できる
ことからより好ましい。

【００４６】次に、前記一般式（２）で表されるコバル
ト（III）錯体について詳述する。

【００４７】Ｌ₁はコバルトカチオンと錯体を形成する
アンモニア及び／又は１級アミンを表すが、それらＬ₁
の具体例としては以下の化合物が挙げられる。

【００４８】 L1−１：NH₃ L1−２：H₂NCH₂CH₂NH₂ L1−３：H₂NCH₂CH(CH₃)NH₂ L1−４：H₂NCH₂CH₂NHCH₃ L1−５：H₂CH₂CH₂N(CH₃)₂ L1−６：H₂NCH₂CH(NH₂)CH₂NH₂ L1−７：N(CH₂CH₂NH₂)₃ L1−８：H₂N(CH₂)₃NH₂ L1−９：H₂NCH₂CH(NH₂)CH₂NH₂ L1−10：H₂NCH₂CH₂NHCH₂CH₂NH₂ L1−11：H₂NCH₂CH₂NHCH₂CH₂NHCH₂CH₂NH₂ L1−12：H₂NCH₂CH₂NHCH₂CH₂NHCH₂CH₂NHCH₂CH₂NH₂ L1−13：(H₂NH₂CH₂)₂NCH₂CH₂N(CH₂CH₂NH₂)₂ L1−14：H₂NCH₂CONH₂ L1−15：C₃H₇NHCH₂CONH₂ L1−16：H₂NCH₂CONHC₃H₇ L1−17：H₂NCSNH₂ L1−18：2,2′-ジアミノジフェニル L1−19：2-カルバモイルピリジン L1−20：6-アミノ-2,2′-ビ(ピリジン) L1−21：H₂NCH₂COO^- Ｌ₂はコバルトカチオンと錯体を形成するアンモニア及
び／又は１級アミン以外の配位化合物を表すが、それら
Ｌ₂の具体例としては以下の化合物が挙げられる。

【００４９】

【化１０】

【００５０】

【化１１】

【００５１】 L2−22：H₂O L2−23：CO L2−24：CH₂＝CH₂ L2−25：CH≡CH L2−26：F^- L2−27：Cl^- L2−28：Br^- L2−29：I^- L2−30：OH^- L2−31：H^- L2−32：NO₂ ^- L2−33：SCN^- L2−34：N₃ ^- L2−35：CN^- L2−36：CH₃COO^- L2−37：CO₃ ^2- 又、前記一般式（２）で表されるコバルト（III）錯体
の対アニオンＸ^-としては、以下のようなものが挙げら
れる。

【００５２】F^-，Cl^-，Br^-，I^-，ClI₂ ^-，ClBr₂ ^-，B
r₃ ^-，IBr₂ ^-，BrI₂ ^-，I₃ ^-，FSO₃ ^-，N₃ ^-，CN^-，NCO^-，NCS
^-，NCSe^-，ClO₄ ^-，BF₄ ^-，PF₆ ^-，SbF₆ ^-，AsF₆ ^-，CO₃ ^2-，
NO₃ ^-，SO₄ ^2-，PO₄ ^3-

【００５３】

【化１２】

【００５４】Ｒ¹〜Ｒ⁶は各々、同じでも異なってもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、そ
れぞれ置換又は非置換のアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基又は複素環基を
表す。又、Ｒ¹〜Ｒ⁶の２個以上が互いに結合して環を形
成してもよい。

【００５５】Ｒは、それぞれ置換又は非置換のアルキル
基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基又は複素環基を表す。

【００５６】Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸は各々、それぞれ置換又
は非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基又は複素環基を表す。

【００５７】更に、下記一般色（４）で表される硼素ア
ニオンを対アニオンとするコバルト（III）錯体も、有
機溶剤への溶解性に優れることから好適に用いることが
できる。

【００５８】

【化１３】

【００５９】なお、前述の硼素アニオンのうち或る種の
ものは、後述する光還元剤を用いることなしに、それ自
身、光還元剤として作用しアンモニア及び／又は１級ア
ミンを放出可能とすることができる。

【００６０】このような光還元剤として作用する硼素ア
ニオンとしては、一般式式（４）において、Ｒ₁、Ｒ₂、
Ｒ₃及びＲ₄が各々、置換又は非置換のアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
複素環基又はシアノ基を表すものである。このＲ₁〜Ｒ₄
は、各々同じでも異なってもよく、又、２個以上が互い
に結合して環を形成してもよい。なお、ｒは１〜３の整
数を表す。

【００６１】アルキル基としては直鎖、分岐アルキルが
含まれ、メチル、エチル、ブチル、i-ブチル、ヘキシ
ル、オクチル、ステアリル等が挙げられる。アルケニル
基としては炭素数２〜20のものが好ましい。アルキニル
基としても炭素数２〜20のものが好ましい。シクロアル
キル基としては５〜７員環のものが好ましい。アラルキ
ル基としてはベンジル基が好ましい。複素環基としては
芳香族性を有する複素環基が好ましく、例えばチオフェ
ン基が挙げられる。アリール基としてはフェニル基、ナ
フチル基が好ましい。

【００６２】これらの基は更に置換されていてもよく、
置換基としてはハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ア
ルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基（ア
ルキル置換アミノ基を含む）、アルコキシ基、カルバモ
イル基、−COOR′、OCOR′（Ｒ′はアルキル基、アリー
ル基等の有機基）が挙げられる。

【００６３】これら硼素アニオンの具体例としては、以
下のようなものが挙げられる。

【００６４】

【化１４】

【００６５】

【化１５】

【００６６】

【化１６】

【００６７】

【化１７】

【００６８】上述の１級アミン、もしくはアンモニア及
び／又は１級アミンを放出可能な前駆体の含有量は、層
を形成する全組成物量の通常２〜70重量％、より好まし
くは５〜50重量％である。

【００６９】１級アミン、もしくはアンモニア及び／又
は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する層におい
て、層の膜付きや該層の均一性を良好にする目的で、バ
インダー樹脂を含有させるのが好ましく、バインダー樹
脂としては、セルロース付加化合物、セルロースエステ
ル、セルロースエーテル等のセルロース系樹脂；ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルア
セトアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニル
アセタール系樹脂；ポリスチレンやスチレンーアクリロ
ニトリル共重合体等のスチレン系樹脂；ポリ(メタ)アク
リル酸エステル、(メタ)アクリル酸共重合体等のアクリ
ル系樹脂；ポリビニルピロリドン、ポリ酢酸ビニル、ポ
リアクリルアミド、ゴム系樹脂、アイオノマー樹脂、オ
レフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ゼラチン、カゼ
インなどが挙げられる。

【００７０】これら各種のバインダー樹脂は、その１種
を単独で使用することもできるし、又、２種以上を併用
することもできる。バインダー樹脂の使用量は、層形成
組成物全量の通常30〜98重量％、より好ましくは50〜95
重量％である。

【００７１】一般式（４）で表されるコバルト（III）
錯体は、それ自身が光還元されるが、感光波長域を変化
させたり、高感度化を狙って光還元剤を添加してもよ
い。

【００７２】ここにおいて「光還元剤」とは、化合物が
光分解又は転移を起こして、コバルト（III）錯体をコ
バルト（II）錯体に還元し、アンモニア及び／又は１級
アミンを放出し易い状態にし得るような還元剤、又はこ
のような還元剤に転換しうる還元剤前駆体を生成し得る
物質を指し、この光還元剤としては、例えばキノン類、
ジスルフィド類、ジアゾアントロン類、ジアゾフェナン
トロン類、カルバジド類、ジアゾスルホネート類、ジア
ゾニウム塩、芳香族アジド類、ベンズイミダゾール類及
びアジリジン類等が挙げられ、具体的な化合物として
は、1974年10月のリサーチ・ディスクロージャの12617
項、13〜14頁と14〜17頁の第１表に記載されるものなど
を用いることができる。

【００７３】更に、下記一般式（５）で表される、カチ
オン染料とボレートアニオンからなる錯体なども、カチ
オン染料を選択することにより分解を起こさせる波長を
コントロールできることから本発明では好適に用いるこ
とができる。

【００７４】

【化１８】

【００７５】式中、Dye⁺はカチオン性色素を表し、
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は各々同じであっても異なっても
よく、前記一般式（４）で説明したものと同義の基を表
す。ただし、Ｒ₁〜Ｒ₄の少なくとも一つはアルキル基で
ある。Ｒ₁〜Ｒ₄の２個以上が互いに結合して環を形成し
てもよい。

【００７６】Dye⁺で表されるカチオン性色素としてはシ
アニン色素やポリメチン色素が好ましい。カチオン性色
素の具体例としては、特開昭62-143044号、同63-208036
号、同64-84245号、同64-88444号、特開平1-152108号、
同3-202609号等に記載のものを用いることができる。

【００７７】光還元剤を添加する場合は、層形成組成物
全量の0.01〜20重量％が好ましく、より好ましくは0.1
〜10重量％である。

【００７８】光エネルギーでアンモニア及び／又は１級
アミンを放出させる場合には、画像形成効率をアップさ
せるために、組成物層に増感剤や配位子交換剤を添加し
てもよい。

【００７９】増感剤としては、特開昭64-13140号に記載
のトリアジン系化合物、特開昭64-13141号に記載の芳香
族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、特開昭64-13143号
に記載の有機過酸化物、特公昭45-37377号や米国特許第
3,652,275号に記載のビスイミダゾール化合物などが挙
げられる。又、下記一般式（６）で表される硼酸塩も増
感剤として好適に用いることができる。

【００８０】

【化１９】

【００８１】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は、それぞれ
一般式（４）で定義されたものと同義であり、Ｙ⁺はカ
ウンターカチオン（例えばアルカリ金属、アンモニウ
ム、ホスホニウムなどの５Ａ族オニウム化合物、スルホ
ニウム、テルロニウムなどの６Ａ族オニウム化合物な
ど）を表す。該化合物の具体例は、特開昭64-13142号、
特開平2-4804号、米国特許3,754,921号、同3,716,366
号、同4,297,441号、同4,307182号等に記載されてい
る。

【００８２】増感剤は、画像形成組成物層の全量当たり
0.01〜20重量％が好ましく、より好ましくは0.1〜10重
量％である。

【００８３】配位子交換剤としては、特開昭59-95529号
10頁に記載された化合物やイミド化合物を添加すること
ができる。イミド化合物として、下記一般式（７）で表
される化合物が挙げられる。

【００８４】

【化２０】

【００８５】式中、Ｒ₅及びＲ₆は各々独立に、アルキル
基（例えばメチル、エチル、プロピル）を表すが、Ｒ₅
とＲ₆が互いに結合して飽和もしくは不飽和の炭素環又
は複素環を形成してもよい。これらの環には更に置換基
（例えばアルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲ
ン原子等）を有してもよい。Ｒ₇は水素原子又は加熱に
より離脱可能な基（例えば−Si(R₅)₃、−CONHR₅、−COR
₅）を表す。Ｗは単結合又は２価の連結基を表すが、−C
O−又は−CS−が好ましい。Ｚは酸素原子又は硫黄原子
を表す。

【００８６】具体的にはスクシンイミド、フタルイミ
ド、2-メチルスクシンイミド、ジチオウラシル、5-メチ
ル-5-ペンチルヒダントイン、フタルイミド、ニトロフ
タルイミド、2,3,4,5-テトラクロロフタルイミド、5,
5′-ジメチルオキサゾロン、ジフェニルヒダントイン、
メレンイミド、グルタルイミド、ピロメリットイミド、
N-(トリメチルシリル)フタルイミド、ヒダントイン、3-
メチルフタルイミド、4-オクチルフタルイミド等の化合
物が挙げられる。

【００８７】配位子交換剤やイミド化合物の添加量は画
像形成材料の構成及び目的により異なるが、例えば本発
明のコバルト錯体の添加量に対して0.１〜40モル％の割
合が好ましい。

【００８８】上述の１級アミン、もしくはアンモニア及
び／又は１級アミンを放出可能な前駆体、バインダー樹
脂、光還元剤、増感剤及び配位子交換剤の他に、本発明
の効果を阻害しない範囲で、フィラー（無機微粒子、有
機樹脂粒子）、顔料、帯電防止剤、可塑剤、熱溶剤、酸
素クエンチャーなど他の添加剤を添加してもよい。

【００８９】フィラーとしては無機微粒子や有機樹脂粒
子を挙げることができる。無機微粒子としては、シリカ
ゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸性白土、活性白
土、アルミナ等を挙げることができ、有機微粒子として
は弗素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒
子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子などを挙げることが
できる。

【００９０】顔料としては、チタンホワイト、炭酸カル
シウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、ク
レー、カオリン、活性白土、酸性白土などを挙げること
ができる。

【００９１】帯電防止剤としては、カチオン系界面活性
剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、高
分子帯電防止剤、導電性微粒子などの他、「11290の化
学商品」化学工業日報社、875〜876頁などに記載の化合
物なども好適に用いることができる。

【００９２】可塑剤としてはフタル酸エステル、トリメ
リット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その他飽
和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、枸櫞酸エステ
ル類、エポキシ化大豆油やエポキシステアリン酸等のエ
ポキシ類、正燐酸エステル類、亜燐酸エステル類、グリ
コールエステル類などの他に、「11290の化学商品」化
学工業日報社，843〜857頁などに記載の化合物なども好
適に用いることができる。

【００９３】又、熱溶剤としては、常温で固体であり、
加熱時に可逆的に液体となる化合物が用いられる。具体
的には、テルピネオール、メントール等のアルコール
類；アセトアミド、ベンズアミド等のアミド類；クマリ
ン、桂皮酸ベンジル等のエステル類；ジフェニルエーテ
ル、クラウンエーテル等のエーテル類；カンファー、p-
メチルアセトフェノン等のケトン類；バニリン、ジメト
キシベンズアルデヒド等のアルデヒド類；p-ベンジルビ
フェビル、スチルベン等の炭化水素類；エイコサノール
等の高級アルコール；パルミチン酸セチル等の高級脂肪
酸エステル；ステアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミ
ド；ベヘニルアミン等の高級アミンなどに代表される単
分子化合物；蜜蝋、キャンデリラワックス、パラフィン
ワックス、エステルワックス、モンタン蝋、カルナバワ
ックス、アミドワックス、ポリエチレンワックス、マイ
クロクリスタリンワックスなどのワックス類；エステル
ガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂等
のロジン誘導体；フェノール樹脂、ケトン樹脂、ジアリ
ルフタレート樹脂、テルペン系炭化水素樹脂、シクロペ
ンタジエン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカプロラ
クトン系樹脂；ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコールなどのポリエーテル等に代表される高分子
化合物などを挙げることができる。

【００９４】本発明においては、上記熱溶剤の融点又は
軟化点が10〜150℃のものが好ましい。

【００９５】酸素クエンチャーとしてはN,N-ジアルキル
アニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許4,772,541
号の第11カラム58行目〜第12カラム35行目に記載の化合
物が挙げられる。

【００９６】本発明では、添加剤全体の添加量は、通
常、層形成組成物全量の0.1〜30重量％の範囲に選定す
るのが好ましい。

【００９７】１級アミン、もしくはアンモニア及び／又
は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する層は、前記
組成物を溶媒に分散あるいは溶解して塗工液を調製し、
基材などの積層させる面に塗布・乾燥して層を形成する
塗工法や、剥離可能なシート上に前記の層を形成した
後、該層を積層させる面と対面させ、加熱及び／又は加
圧処理して転写させる転写法等により形成することがで
きる。

【００９８】上記塗工液に用いられる溶媒としては、
水、アルコール類（例えばエタノール、プロパノー
ル）；セロソルブ類（例えばメチルセロソルブ、エチル
セロソルブ）；芳香族類（例えばトルエン、キシレン、
クロルベンゼン）；ケトン類（例えばアセトン、メチル
エチルケトン）；エステル系溶剤（例えば酢酸エチル、
酢酸ブチルなど）；エーテル類（例えばテトラヒドロフ
ラン、ジオキサン）；塩素系溶剤（例えばクロロホル
ム、トリクロルエチレン）；アミド系溶剤（例えばジメ
チルホルムアミド、N-メチルピロリドン）；ジメチルス
ルホキシド等が挙げられる。塗工には、従来から公知の
グラビアロール塗布法、押出し塗布法、ワイヤーバー塗
布法、ロール塗布法等を採用することができる。

【００９９】なお、１級アミン、もしくはアンモニア及
び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する層は
単層としてもよく、又、必要に応じて、組成等が同一
の、あるいは相違する２層以上の多層構造として設けて
もよい。

【０１００】１級アミン、もしくはアンモニア及び／又
は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する層の厚み
は、通常0.5〜50μm、好ましくは2〜30μmであり、この
ような範囲の中から目的に応じて適宜に選定される。

【０１０１】本発明では、上述の１級アミン、もしくは
アンモニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を
含有する層の他に、アンモニア又は１級アミンで消色又
は発色する化合物を含有する層が基材上に積層される。

【０１０２】アンモニア又は１級アミンで発色する化合
物としては、o-フタルアルデヒドやニンヒドリンなどが
挙げられ、一方、アンモニア又は１級アミンで消色する
化合物としては、或る種のシアニン色素、スチリル色
素、ローダミン色素、アゾ色素、ピリリウム色素などが
挙げられる。

【０１０３】これらの中でも、発色時にポリマー色素が
形成され画像安定性が良好となることから、前記一般式
（１）で表される化合物が特に好ましい。

【０１０４】一般式（１）における５員又は６員の複素
環としては、イミダゾール、フラン、チオフェン、ピラ
ゾール、トリアゾール、ピリジン、ピリミジン、ベンゾ
チアゾール、インドール、キノリン等の複素環が挙げら
れる。

【０１０５】一般式（１）の具体例としては以下の化合
物が挙げられる。

【０１０６】

【化２１】

【０１０７】

【化２２】

【０１０８】

【化２３】

【０１０９】

【化２４】

【０１１０】

【化２５】

【０１１１】これらの化合物は、Chem.Ber.（ヘミッシ
ェ・ベリヒテ）88,1276(1955)、同89,1574(1956)、同9
0,2646(1957)、同99,634(1966)、J.Org.Chem.（ジャー
ナル・オブ・オーガニック・ケミストリィ）24,372(195
9)、同29,3048(1964)、Z.Chem.（ツァイトシュリフト・
ヒュール・ヘミー）11,175(1971)、同11,17(1971)及び
特開平2-184678号等に記載の方法を参考にして合成され
る。

【０１１２】一般式（１）で表される化合物の添加量
は、通常、層形成組成物の全量当たり２〜100重量％、
より好ましくは5〜80重量％である。

【０１１３】又、アンモニア又は１級アミンで消色する
化合物としては、消色させた際に可視部に吸収を持たな
い、又は極力吸収が少ないことが好ましく、このような
化合物としてピリリウム色素が特に好ましい。これらの
化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられる。

【０１１４】7−1：2,6-ジフェニル-4-(3-メトキシフェ
ニル)ピリリウムパークロレート 7−2：4-フェニル-2,6-ジエチルピリリウムパークロレ
ート 7−3：4-(4-モルホリノフェニル)-2,6-ジフェニルピリ
リウムパークロレート 7−4：2,6-ビス(p-メトキシフェニル)-4-フェニルピリ
リウムテトラフルオロボレート 7−5：2,4-ジフェニル-6-(β-メチル-3,4-ジエトキシチ
リル)ピリリウムテトラフルオロボレート 7−6：4-(4-ジメチルアミノビニル)-2,6-ジフェニルピ
リリウムパークロレート 7−7：2-(2-ナフチル)-4,6-ジフェニルピリリウムパー
クロレート 7−8：2,6-ジフェニル-4-[2-(10-メチルフェノチアジ
ル)]ピリリウムパークロレート 7−9：2-ブチル-3-[β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)ビニ
ル]-ナフト[2,1-b]ピリリウムパークロレート 7−10：4-(2-ヒドロキシベンジリデン)-1,2,3,4-テトラ
ヒドロキシキサンチリウムパークロレート 7−11：4-(4-メチルメルカプトフェニル)-2,6-ジフェニ
ルピリリウムパークロレート 7−12：9-フェニルジベンゾ[a・j]キサンチリウムパーク
ロレート 7−13：2,6-ジフェニル-4-(4-メトキシカルボニルフェ
ニル)ピリリウムパークロレート 7−14：5,6-ジヒドロ-2,4-ジフェニルナフト[1,2-b]ピ
リリウムテトラフルオロボレート 7−15：8-(ベンゾ[b]-3H-1,2-ジチオール-3-イリジン)-
9,10,11,12-テトラヒドロ-8H-シクロヘプタ[e]ナフト
[2,1-b]ピリリウムパークロレート ピリリウム色素の添加量は、通常、層形成組成物全量の
１〜70重量％、より好ましくは3〜50重量％である。

【０１１５】アンモニア又は１級アミンで消色又は発色
する化合物を含有する層は、膜付きや該層の均一性を良
好にする目的で、上述の消色又は発色する化合物以外に
バインダー樹脂を含有させるのが好ましい。

【０１１６】バインダー樹脂としては、前述の１級アミ
ン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを放出可
能な前駆体を含有する層に用いられる樹脂を適時選択し
て用いることができる。各種のバインダー樹脂は、その
１種を単独で使用することもできるし、又、２種以上を
併用することもできる。

【０１１７】バインダー樹脂は、層形成組成物の全量当
たり、通常0〜99重量％、より好ましくは20〜97重量％
用いられる。

【０１１８】上述の消色又は発色する化合物、バインダ
ー樹脂の他に、本発明の効果を阻害しない範囲で、フィ
ラー（無機微粒子、有機樹脂粒子）、顔料、帯電防止
剤、可塑剤、熱溶剤、酸素クエンチャーなど他の添加剤
を添加してもよく、これらの具体的なものとしては、前
述の１級アミン、もしくはアンモニア及び／又は１級ア
ミンを放出可能な前駆体を含有する層に用いられる各種
添加剤を適時選択して用いることができる。

【０１１９】これら添加剤の全添加量は、通常、層形成
組成物全量に対し0.1〜30重量％の範囲に選定するのが
好ましい。

【０１２０】なお、消色又は発色する化合物を含有する
層は単層としてもよく、又、必要に応じて、組成等が同
一の又は相違する２層以上の多層構造として設けてもよ
い。

【０１２１】本発明において、消色又は発色する化合物
を含有する層の厚みは、通常0.5〜100μm、好ましくは
２〜50μmであり、目的に応じて適宜選定される。

【０１２２】又、消色又は発色する化合物を含有する層
は、１級アミン、もしくはアンモニア及び／又は１級ア
ミンを放出可能な前駆体を含有する層と同様の方法で形
成することができる。

【０１２３】本発明では、上述の１級アミン、もしくは
アンモニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を
含有する層と、アンモニア及び／又は１級アミンにより
消色又は発色する化合物を含有する層との間に或る特定
の層を更に設けることを特徴とする。

【０１２４】ここで特定の層とは、後述する画像形成方
法において、加熱した際に１級アミン、もしくはアンモ
ニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体と、１級
アミン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンによ
り消色又は発色する化合物とが、画像に応じて混じり合
うように熱物性が変化、又は画像形成を行うエネルギー
により層がなくなるような層を指す。このような層とし
ては、重合性化合物と重合開始剤を含有する層、解重合
性化合物を含有する層、バリアー層が挙げられる。以
下、それぞれの層について詳述する。

【０１２５】重合性化合物と重合開始剤を含有する層
は、後述する画像形成方法により像様に該層を重合さ
せ、この層の重合しない部分では、熱を掛けた際にアン
モニア又は１級アミンが、消色又は発色する化合物と混
じり合い消色又は発色し、反対に重合した部分では混じ
り合わないため、画像形成材料上に画像が形成される。

【０１２６】重合性化合物としては、エチレン性不飽和
結合を有する化合物やエポキシ基を有する化合物などが
挙げられるが、本発明においてはエチレン性不飽和結合
を有する化合物が好ましい。

【０１２７】重合開始剤としては、開始剤が活性種と作
用するエネルギー（例えば光エネルギー、熱エネルギ
ー、電気エネルギー等）であれば特に制限はないが、高
解像度を得るためにはエネルギー印加面積が絞り込める
光エネルギーが好ましく、この光エネルギーで活性種を
発生することのできる光重合開始剤が好ましい。

【０１２８】エチレン性不飽和結合を有する重合性化合
物としては、付加重合もしくは架橋重合可能な公知のモ
ノマーが特に制限なく使用することができる。具体的モ
ノマーとしては、例えば2-エチルヘキシルアクリレー
ト、2-ヒドロキシエチルアクルレート、2-ヒドロキシプ
ロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル及び
その誘導体、あるいはこれらのアクリレートをメタクリ
レート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に
代えた化合物；ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノ
ールＡジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペン
チルグリコールのε-カプロラクトン付加物のジアクリ
レート等の２官能アクリル酸エステル及びその誘導体、
あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタ
コネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合
物；あるいはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロガロ
ールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル及
びその誘導体、あるいはこれらのアクリレートをメタク
リレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等
に代えた化合物；更には、適当な分子量のオリゴマーに
アクリル酸又はメタクリル酸を導入し、光重合性を付与
した、所謂プレポリマーと呼ばれるものも好適に使用で
きる。この他に、特開昭58-212994号、同61-6649号、同
62-46688号、同62-48589号、同62-173295号、同62-1870
92号、同63-67189号、特開平1-244891号等に記載の化合
物を挙げることができ、更に「11290の化学商品」化学
工業日報社，286〜294頁に記載の化合物、「ＵＶ・ＥＢ
硬化ハンドブック（原料編）」高分子刊行会，11〜65頁
に記載の化合物なども好適に用いることができる。

【０１２９】これらの中でも、分子内に２個以上のアク
リル又はメタクリル基を有する化合物が好ましく、更に
分子量が10,000以下、より好ましくは5,000以下のもの
が好ましい。又、本発明においては、これらのモノマー
あるいはプレポリマーのうち１種又は２種以上を混合し
て用いることができる。

【０１３０】エチレン性不飽和結合を有する重合性化合
物に対して有効な光重合開始剤としては、ベンゾインや
ベンゾインメチルエーテル等のベンゾイン系化合物；ベ
ンゾフェノンやミヘラーズケトン等のカルボニル化合
物；アゾビスイソブチロニトリルやアゾジベンゾイル等
のアゾ化合物；ジベンゾチアゾリルスルフィドやテトラ
エチルチウラムスルフィド等の硫黄化合物；四臭化炭素
やトリブロムフェニルスルホン等のハロゲン化物；ジ-t
-ブチルパーオキシドやベンゾイルパーオキシド等の過
酸化物；金属カルボニルや欧州特許0,126,712号、同0,1
52,377号等に記載される鉄アレーン錯体等の各種金属錯
体などが挙げられ、更に、アンモニア及び／又は１級ア
ミンを放出可能な前駆体を光還元させる際に用いられ
る、前記一般式（５）のカチオン染料とボレートアニオ
ンからなる錯体なども好適に用いられる。

【０１３１】このような光重合開始剤は、該開始剤を活
性化し得る光の波長により種々選択して用いることがで
きるが、何れにせよ、色濁りや着色の問題から、始めか
ら無色のもの又は露光後消色するもの、言い換えれば可
視部（400〜800nm）の吸収が著しく低いか、あるいは無
くなるものが好ましい。

【０１３２】上記重合性化合物は、層形成組成物全量の
通常10〜90重量％、好ましくは20〜80重量％であり、
又、重合開始剤は、重合性化合物100重量部に対して通
常0.1〜100重量部、より好ましくは0.5〜50重量部の範
囲で添加・混合して使用するのが好ましい。

【０１３３】重合性化合物と重合開始剤を含有する層に
は、層分離を確実にし、かつ保存性を良好にするために
バインダー樹脂を添加するのが好ましく、バインダー樹
脂としてはポリビニルアセタール系樹脂、セルロース系
樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、(メタ)ア
クリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポ
リスルホン、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニ
トリル樹脂、尿素樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等
が挙げられる。又、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂
（例えばジアリルフタレート樹脂及びその誘導体、塩素
化ポリプロピレンなど）は、前述の重合性化合物と重合
させることが可能なため用途に応じて好適に用いること
ができる。

【０１３４】バインダー樹脂としては、前述の樹脂の中
から１種又は２種以上のものを組み合わせて用いること
ができる。バインダー樹脂は、層形成組成物全量の10〜
90％重量部、より好ましくは20〜80％重量部の範囲で添
加・混合して使用するのが好ましい。

【０１３５】又、上述の重合性化合物、重合開始剤、バ
インダー樹脂の他に、本発明の効果を阻害しない範囲
で、フィラー（無機微粒子、有機樹脂粒子）、顔料、帯
電防止剤、可塑剤、熱溶剤、酸素クエンチャーなど他の
添加剤を添加してもよく、これらの具体例としては、前
述の１級アミン、もしくはアンモニア及び／又は１級ア
ミンを放出可能な前駆体を含有する層に用いられる各種
添加剤を適時選択して用いることができる。添加剤の全
添加量は、通常、層形成組成物全量に対し0.1〜30重量
％の範囲に選定するのが好ましい。

【０１３６】本発明において、重合性化合物と重合開始
剤を含有する層の厚みは通常0.05〜20μm、好ましくは
0.5〜10μmであり、目的に応じて適宜選定される。

【０１３７】重合性化合物と重合開始剤を含有する層
は、１級アミン、もしくはアンモニア及び／又は１級ア
ミンを放出可能な前駆体を含有する層と同様の方法で形
成することができる。

【０１３８】解重合性化合物を含有する層は、後述する
画像形成方法により像様に該層を解重合させ、この層の
解重合した部分では、熱を掛けた際にアンモニア又は１
級アミンが、消色又は発色する化合物と混じり合い消色
又は発色し、反対に解重合しない部分では混じり合わな
いため、画像形成材料上に画像が形成される。なお、こ
こで言う解重合性化合物とは、それ自身が或る種のエネ
ルギー（例えば電磁波、熱エネルギー、電気エネルギ
等）を与えることにより、主鎖又は側鎖が解重合を起こ
す化合物、もしくは解重合開始剤の作用により主鎖又は
側鎖が解重合を起こす化合物を指す。

【０１３９】解重合性化合物を含有する層は、解重合性
化合物の解重合を促進させる意味で、解重合開始剤を更
に添加するのが好ましい。このような解重合開始剤は、
該開始剤が活性種となり得るエネルギーであれば特に制
限はないが、高解像度を得るためにはエネルギー印加面
積が絞り込める電磁波が好ましく、この電磁波の中で10
0〜1000nmの波長の光エネルギーで活性種を発生するこ
とのできる光解重合開始剤が好ましい。

【０１４０】それ自身が解重合を起こす化合物として
は、例えばポリメチルメタクリレート、ポリヘキサフル
オロブチルメタクリレート、ポリジメチルテトラフルオ
ロプロピルメタクリレート、ポリ(トリフルオロエチル-
α-クロロアクリレート)、ポリメチルビニルケトン、ポ
リ(メチルイソプロペニルケトン)、ポリ(メチルイソプ
ロペニル-ｔ-ブチルケトン)、メチルメタクリレート・
フェニルイソプロペニルケトン共重合体、メチルメタク
リレート・3-メタクリロキシイミノ-2-ブタノン共重合
体、メチルメタクリレート・インダノン共重合体、ポリ
グルタルイミド（例えばグルタルイミド変性アクリル酸
又はメタクリル酸など）、ポリ(オレフィンスルホン)
（例えば１-ブテンと二酸化硫黄との交互共重合体、2-
メチル-1-ペンテンと二酸化硫黄との交互共重合体、5-
ヘキセン-2-オンと二酸化硫黄との交互共重合体、アセ
チレンと二酸化硫黄との交互共重合体など）、ポリアセ
チレン、ニトロセルロース、ポリメタクリロニトリル、
或る種の活性カルボニルオキシ化合物とビスフェノール
Ａから合成されたポリカーボネート等が挙げられる。

【０１４１】又、解重合開始剤の作用により解重合を起
こす化合物としては、前記のそれ自身が解重合を起こす
化合物や、更に、ポリ(p-ホルミルオキシスチレン)、ポ
リ(p-ピバロイルオキシスチレン)、ポリ(p-t-ブトキシ
カルボニルスチレン)、ポリフタルアルデヒドなどが挙
げられる。なお、ポリフタルアルデヒドは解重合するこ
とによりフタルアルデヒドになるため、これ自身アンモ
ニア及び／又は１級アミンと反応して発色する化合物と
して使用することができる。

【０１４２】上述の解重合性化合物は、市販品をそのま
ま用いることもできるし、ポリ(オレフィンスルホン)
は、J.Electrochem.Soc.（ジャーナル・オブ・エレクト
ロケミカル・ソサエティ）128,1304(1981)等に記載の方
法により、活性カルボニルオキシ化合物とビスフェノー
ルＡから合成されるポリカーボネートはJ.Chem.Soc.,Ch
em.Commun.（ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエテ
ィ，ケミカル・コミュニケーション）1514(1985)、J.Im
aging Sci.（ジャーナル・オブ・イメージング・サイエ
ンス）30(2),59(1986)、Polym.J.（ポリマー・ジャーナ
ル）19(1),31(1987)、ACS Symp.Ser.（ＡＣＳ・シンポ
ジウム・シリーズ）346,162(1987)等に記載の方法によ
り、ポリ(p-ホルミルオキシスチレン)はMacromoleculer
（マクロモレキュラー）18,317(1985)、ACS Symp.Ser.
（前出）266,269(1985)等に記載の方法により、又、ポ
リフタルアルデヒドはJ.Polym.Sci.(ジャーナル・オブ
・ポリマー・サイエンス）A-1(7),497(1969)、Polym.En
g.Sci.（ポリマー・エンジニァリング・サイエンス）2
3,1012(1983)等に記載の方法を参考に合成することもで
きる。

【０１４３】光解重合開始剤としては、ピリジン-N-オ
キシドや光を受けて層内でプロトン酸を発生する化合物
が挙げられ、層内でプロトン酸を発生する化合物として
はオニウム塩が好ましく、それらの中では特に第VIa族
元素のオニウム塩がより好ましい。

【０１４４】そのようなオニウム塩としては、例えばジ
ブチルフェナシルスルホニウムテトラフルオロボレー
ト、ジブチル(4-ヒドロキシフェニル)スルホニウムテト
ラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフ
ルオロアセテート、トリフェニルスルホニウムテトラフ
ルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフル
オロホスフェート、トリス(4-チオメトキシフェニル)ス
ルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェ
ニルセレノニウムテトラフルオロボレート、トリフェニ
ルテルロニウムテトラフルオロボレート等が挙げられ、
更に米国特許4,258,128号、J.Polym.Sci.Polym.Chem.E
d.（ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマ
ー・ケミストリィ・エディション）17,977(1979)、同1
8,2677(1980)、同18,2697(1980)、Adv.Polym.Sci.（ア
ドバンシズ・イン・ポリマー・サイエンス）62,1(1984)
等に記載された化合物も好適に用いることができる。

【０１４５】なお、前述したオニウム塩は350nm以下に
しか吸収を持たないため、解重合性化合物含有層に十分
に光が到達しない場合には光増感剤を用いて波長増感す
ることが好ましく、このような増感剤としては、フェノ
チアジン、アントラセン、ペリレン、チオキサントン、
フルオレノン、ナフトキノン、アントラキノン、フェナ
ントレンキノン等が挙げられ、更にProg.Org.Coatings.
（プログレス・イン・オーガニック・コーティング）1
3,35(1985)等に記載された化合物も好適に用いることが
できる。

【０１４６】このような解重合性化合物は、層形成組成
物全量の通常50〜99.9重量％、好ましくは70〜99重量％
であり、又、光解重合開始剤及び光増感剤は、解重合性
化合物100重量部に対して、通常0.1〜100重量部、より
好ましくは0.5〜40重量部の範囲で添加・混合して使用
するのが好ましい。

【０１４７】又、本発明においては、上述の解重合性化
合物、解重合開始剤の他に、本発明の効果を阻害しない
範囲で、バインダー樹脂や添加剤を添加してもよく、こ
れらの具体例としては、前述の１級アミン、もしくはア
ンモニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含
有する層に用いられるバインダー樹脂及び各種添加剤を
適時選択して用いることができる。なお、バインダー樹
脂や各種添加剤の添加量は、通常、層形成組成物全量の
0〜30重量％の範囲に選定するのが好ましい。

【０１４８】重合性化合物と重合開始剤を含有する層の
厚みは、通常0.05〜20μm、好ましくは0.5〜10μmであ
り、目的に応じて適宜選定される。

【０１４９】解重合性化合物と解重合開始剤を含有する
層は、１級アミン、もしくはアンモニア及び／又は１級
アミンを放出可能な前駆体を含有する層と同様の方法で
形成することができる。

【０１５０】バリアー層は、後述する画像形成方法によ
り像様にエネルギー（例えば電磁波、熱エネルギー、電
気エネルギー等）を与え、該層を穿孔又は亀裂を入れさ
せ、この層の穿孔又は亀裂を入れた部分では、熱を掛け
た際にアンモニア又は１級アミンが、消色又は発色する
化合物と混じり合って消色又は発色し、反対に変化のな
いバリアー層部分では混じり合わないため、画像形成材
料上に画像が形成される。

【０１５１】バリアー層は、通常の状態で、アンモニア
又は１級アミンが消色又は発色する化合物と混じり合わ
ず、エネルギー印加時に該層を穿孔又は亀裂が入れば、
何のような組成で構成しても構わないが、バリアー性を
充分に確保するためには蒸着層で形成するのが好まし
い。

【０１５２】又、高解像度を得るためにはエネルギー印
加面積が絞り込める光エネルギーを用いるのが好まし
く、そのようなバリアー層としては、樹脂と600〜1100n
mに吸収極大波長を有する色素又は染料を含有する層で
形成するのが好ましい。

【０１５３】バリアー層を蒸着層として形成する場合
は、例えばアルミニウム、亜鉛、アンチモン、インジウ
ム、セレン、錫、タンタル、クロム、鉛、金、銀、白
金、ニッケル、ニオブ、ゲルマニウム、珪素、モリブデ
ン、マンガン、タングステン、パラジウム等の金属、又
はそれらの金属酸化物などにより形成することができ
る。これらの蒸着層は、上記の金属又は金属酸化物を１
種あるいは２種以上併用することにより形成でき、蒸着
方法としては、真空蒸着法、イオンプレーティング法、
スパッタリング法など公知の方法によって、金属蒸着薄
膜として、金属又は金属酸化物の単結晶又は多結晶とし
て設けることができる。

【０１５４】この蒸着層は通常0.0005〜0.5μm、好まし
くは0.001〜0.1μmである。

【０１５５】なお、上述した重合性化合物と重合開始剤
を含有する層と同様に、高解像度を得るためにはエネル
ギー印加面積が絞り込める光エネルギーが好ましく、こ
の光エネルギーの中で600〜1100nmの波長の光エネルギ
ーが、より効率的に熱エネルギーに変換できる点で好ま
しい。

【０１５６】この光エネルギーを用いた場合には、蒸着
層を効率的に穿孔又は亀裂を生じさせるために、蒸着層
に接する形で更に光熱変換化合物を含有する層を設ける
ことが好ましい。

【０１５７】光熱変換化合物としては、使用される600
〜1100nmの範囲に吸収極大波長を有する色素又は染料が
特に好ましく、このような色素又は染料として、例えば
シアニン色素、ローダシアニン色素、オキソノール色
素、カルボシアニン色素、ジカルボシアニン色素、トリ
カルボシアニン色素、テトラカルボシアニン色素、ペン
タカルボシアニン色素、スチリル色素、ピリリウム染
料、フタロシアニン染料、含金染料等が挙げられ、具体
的にはChem.Rev.（ケミカル・レビューズ）92,1197(199
2)等に記載の化合物を用いることができる。

【０１５８】これら光熱変換化合物は、層形成組成物10
0重量部に対し10〜90重量部、より好ましくは20〜80重
量部の範囲で添加・混合して使用するのが好ましい。

【０１５９】なお、光熱変換化合物を含有する層は、光
熱変換化合物の他に、該化合物を保持するためのバイン
ダー樹脂を添加するのが好ましく、このようなバインダ
ー樹脂としては、前述の１級アミン、もしくはアンモニ
ア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する
層を形成する際に用いられる樹脂を適時選択して用いる
ことができ、層形成組成物全量の10〜90重量％、より好
ましくは20〜80重量％の範囲で添加・混合して使用する
のが好ましい。

【０１６０】又、本発明の効果を阻害しない範囲で、光
熱変換物質、バインダー樹脂の他に各種添加剤を添加し
てもよく、これらの具体例としては、１級アミン、もし
くはアンモニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆
体を含有する層に用いられる各種添加剤を適時選択して
用いることができる。

【０１６１】添加剤全体の添加量は、通常、層形成組成
物全量の０〜30重量％の範囲に選定するのが好ましい。

【０１６２】光熱変換層の厚みは通常0.05〜３μm、好
ましくは0.1〜１μmである。光熱変換層は、１級アミ
ン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを放出可
能な前駆体を含有する層と同様の方法で形成することが
できる。

【０１６３】又、前記バリアー層を樹脂と600〜1100nm
に吸収極大波長を有する色素又は染料を含有する層で形
成する場合には、前述の光熱変換化合物を含有する層と
同様の組成で形成できるが、層の厚みは光熱変換化合物
を含有する層よりも厚目にするのが好ましく、通常0.1
〜10μm、好ましくは0.5〜５μmである。

【０１６４】本発明では、基材上の少なくとも片面に１
級アミン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを
放出可能な前駆体を含有する層と、アンモニア及び／又
は１級アミンにより消色又は発色する化合物を含有する
層、及び前記２層の間に重合性化合物と重合開始剤を含
有する層、解重合性化合物を含有する層又はバリアー層
を設けた画像形成材料であり、この範囲内で種々の画像
形成材料の形態を取ることができる。

【０１６５】代表的な画像形成材料を図１に示すが、本
発明は特にこれらの構成に限定されるものではなく、画
像形成材料の用途によって、図２及び３に示すように、
画像形成材料の耐久性を確保するために樹脂からなる保
護層、画像の定着を向上させるためにアンモニア又は１
級アミンを不活性にする化合物を含有させた定着層、更
には、均一に加熱させるためにクッション性のある樹脂
で形成された中間層などを設けてもよい。なお、従来の
２層分離型の画像形成材料を図４に示す。

【０１６６】保護層は、画像形成材料の基材に用いられ
る樹脂フィルムをそのまま用い、接着剤層を介して貼合
させるなど公知の方法により作成してもよいし、前記樹
脂フィルムに成型される樹脂を１級アミン、もしくはア
ンモニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含
有する層と同様の方法により形成することもできる。な
お、保護層には紫外線吸収剤及び／又は光安定剤などの
画像耐久性を改善する化合物を添加してもよい。

【０１６７】上記紫外線吸収剤及び／又は光安定剤とし
ては、特開昭59-158287号、同63-74686号、同63-145089
号、同59-196292号、同62-229594号、同63-122596号、
同61-283595号、特開平1-204788号、同5-92670号、「11
290の化学商品」化学工業日報社，869〜875頁等に記載
の化合物などが挙げられ、更にその他の画像記録材料に
おける画像耐久性を改善するものとして公知の化合物が
挙げられる。

【０１６８】保護層を設ける場合は、通常0.5〜100μ
m、好ましくは２〜50μmである。

【０１６９】定着層は、アンモニア又は１級アミンを不
活性化し画像定着が向上できれば特に制限はなく、具体
的には、例えばアンモニア又は１級アミンと反応するよ
うな化合物により不活性化できる。そのような化合物と
しては、例えば枸櫞酸、ポリアクリル酸などのBraenste
d酸；スチレンオキサイドや脂肪族ポリグリシジルエー
テルなどのエポキシ基含有化合物；シンナモイルクロラ
イドなどのハロゲン化アシル；無水フタル酸などの芳香
族酸無水物；ステアリルブロマイドなどのハロゲン化ア
ルキル；フェナシルスルホニルクロライドなどの塩化ス
ルホニル；あるいはこれらの化合物を放出可能な前駆
体、例えばテトラブチルアンモニウムハイドロジェンサ
ルファイトなどが挙げられ、これらの化合物は、定着層
形成組成物の全量に対し５〜50重量％の範囲で選定する
のが好ましい。

【０１７０】なお、定着層は１級アミン、もしくはアン
モニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含有
する層と同様なバインダー樹脂と各種添加剤とから構成
できるが、画像形成後に定着させることから、画像形成
時の加熱温度よりも高い温度でアンモニア又は１級アミ
ンと反応するような化合物が移動できるように定着層の
組成を決めるのが好ましい。

【０１７１】定着層を設ける場合は、通常１〜100μm、
好ましくは５〜50μmである。

【０１７２】中間層に用いられるクッション性のある樹
脂は、加熱及び／又は加圧時に変形し得る樹脂であれば
特に制限はなく、例えばポリエステル系樹脂、スチレン
系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、オレフィ
ン系樹脂、ゴム系樹脂などを挙げることができ、更に内
部を多孔質化した樹脂層も好適に用いられる。

【０１７３】中間層を設ける場合は、通常2〜50μm、好
ましくは５〜30μmである。

【０１７４】なお、本発明において、基材と消色又は発
色する化合物を含有する層、あるいは基材と１級アミ
ン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを放出可
能な前駆体を含有する層などの基材と積層する層間の接
着強度が不十分な場合（例えば積層する樹脂同士の、濡
れ角度（接触角）の差が大きい場合、特に５deg以上あ
る場合）は、積層する層を設ける前に、積層される表面
に処理を施しておくことが好ましく、この表面処理の方
法としては、コロナ放電処理、火炎処理、オゾン処理、
紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、化学薬品処理、
プラズマ処理、低温プラズマ処理、プライマー処理、グ
ラフト化処理など公知の樹脂表面改質技術をそのまま適
用できる。具体的には「高分子表面の基礎と応用
（下）」化学同人，２章、「高分子新素材便覧」丸善，
８章等に記載の方法を参照でき、それらの１種又は２種
以上を併用することもできる。

【０１７５】《画像形成方法》 −画像形成方法１− 本発明では、画像信号に応じてイメージワイズにエネル
ギーを画像形成材料に与え、次いで加熱及び加圧するこ
とにより画像が形成される。この場合のアンモニア及び
／又は１級アミンを放出可能な前駆体は、イメージワイ
ズに与えられたエネルギー及び／又は加熱することによ
り、前駆隊からアンモニア及び／又は１級アミンが放出
される。

【０１７６】以下、重合性化合物と重合開始剤を含有す
る層、解重合性化合物を含有する層又はバリアー層を備
えた画像形成材料について詳述する。

【０１７７】重合性化合物と重合開始剤を含有する層を
備えた画像形成材料では、イメージワイズに加えられた
エネルギーにより該層が重合し、重合した部分は１級ア
ミン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを放出
可能な前駆体を含有する層と、アンモニア及び／又は１
級アミンにより消色又は発色する化合物を含有する層と
の間に強固な樹脂層が形成される。なお、前駆体が加え
られたエネルギーによりアンモニア及び／又は１級アミ
ンを放出可能であれば、エネルギーが加えられた時点で
前駆体からアンモニア及び／又は１級アミンが生成され
る。又、前駆体が加えられたエネルギーではアンモニア
及び／又は１級アミンを放出せず、加熱することにより
放出可能となる前駆体では、次工程の加熱処理によりア
ンモニア及び／又は１級アミンが生成される。更に、加
えられたエネルギーでも、次工程の加熱処理のどちらで
もアンモニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体
の場合は、前述の前駆体に比べ、効率よくアンモニア及
び／又は１級アミンが生成される。

【０１７８】次いで、画像形成材料を加熱することによ
り、重合性化合物と重合開始剤を含有する層の未重合部
を介して、１級アミン、もしくは前駆体から放出された
アンモニア及び／又は１級アミンと、アンモニア及び／
又は１級アミンにより消色又は発色する化合物が混ざり
合い、消色又は発色され画像形成材料に画像信号に応じ
てイメージワイズに画像が形成される。

【０１７９】この場合の、混ざり合いとは、アンモニア
又は１級アミンが消色又は発色する化合物を含有する層
に移動、消色又は発色する化合物が１級アミン、もしく
はアンモニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体
を含有する層に移動、アンモニア又は１級アミンと消色
又は発色する化合物とが自由に移動し合うことを指し、
これらは各層の組成、加熱処理方法、画像形成材料によ
り異なる。

【０１８０】又、解重合性化合物を含有する層を備えた
画像形成材料では、イメージワイズに加えられたエネル
ギーにより該層が解重合する。解重合した部分では、解
重合性化合物が分解することにより層自体の熱特性が低
下、又は分解して生成したガスにより解重合性化合物を
含有する層に空隙ができる。次いで加熱処理することに
より、解重合した部分を介して１級アミン、もしくは前
駆体から放出されたアンモニア及び／又は１級アミン
と、消色又は発色する化合物が混ざり合い、消色又は発
色され画像形成材料に画像信号に応じてイメージワイズ
に画像が形成される。

【０１８１】一方、バリアー層を備えた画像形成材料で
は、イメージワイズに加えられたエネルギーにより該層
が穿孔又は亀裂が入り、次いで加熱処理することによ
り、解重合した部分を介して１級アミン、もしくは前駆
体から放出されたアンモニア及び／又は１級アミンと、
消色又は発色する化合物が混ざり合い、消色又は発色さ
れ画像形成材料に画像信号に応じてイメージワイズに画
像が形成される。なお、ここで言う穿孔とは、バリアー
層形成物質が飛散して飛び散って無くなって終うのでは
なく、該物質が隣接する層にエネルギーを掛けた面積の
中心近傍を基準として或る面積において切れ目なく全て
飛散して入り込む、又はエネルギーを掛けた面積の中心
近傍を基準として或る面積において切れ目なく溶融によ
り溶けて周りに広がることを指し、又、亀裂とは、エネ
ルギーを掛けた面積の中で、前述した飛散又は溶融が部
分的に幾つかの部位で生じることを指す。

【０１８２】画像形成材料に加えられる画像信号に応じ
たイメージワイズのエネルギーは、重合開始剤又は解重
合性化合物を活性化、バリアー層を穿孔又は亀裂を与え
るのに十分なエネルギーであれば特に制限なく用いるこ
とができる。

【０１８３】このようなエネルギーとしては、電磁波、
熱、電気、超音波などを挙げることができるが、高解像
度を得るためには、エネルギー印加面積が絞り込める電
磁波、特に波長が１nm〜１mmの紫外線、可視光線、赤外
線が好ましく、このような光エネルギーを印加し得る光
源としては、例えばレーザー、発光ダイオード、キセノ
ンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク
燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、石英
水銀ランプ、高圧水銀ランプ等を挙げることができる。
この際加えられるエネルギーは、画像形成材料の種類に
より、露光距離、時間、強度を調整することにより適時
選択して用いることができる。

【０１８４】上記エネルギーを一括露光する場合には、
所望露光画像のネガパターンを遮光性材料で形成したマ
スク材料を重ね合わせ、露光すればよい。発光ダイオー
ドアレイ等のアレイ型光源を使用する場合や、ハロゲン
ランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ等
の光源を、液晶、PLZT等の光学的シャッター材料で露光
制御する場合には、画像信号に応じたデジタル露光をす
ることが可能である。この場合にはマスク材料を使用せ
ず、直接書込みを行うことができる。

【０１８５】レーザーの場合には、使用する画像形成材
料の波長域に合わせて適宜選択することも可能であり、
又、光をビーム状に絞り、画像データに応じた走査露光
が可能であるため、マスク材料を使用せず、直接書込み
を行うのに適している。レーザーを光源として用いる
と、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高
解像度の画像形成が可能となる。

【０１８６】本発明で用いられるレーザー光源として
は、一般によく知られている、ルビーレーザー、YAGレ
ーザー、ガラスレーザーなどの固体レーザー；He-Neレ
ーザー、Arイオンレーザー、Krイオンレーザー、CO₂レ
ーザー、COレーザー、He-Cdレーザー、N₂レーザー、エ
キシマーレーザーなどの気体レーザー；InGaPレーザ
ー、AlGaAsレーザー、GaAsPレーザー、InGaAsレーザ
ー、InAsPレーザー、CdSnP₂レーザー、GaSbレーザーな
どの半導体レーザー；化学レーザー、色素レーザー等を
挙げることができる。。

【０１８７】なお、光エネルギーの露光方向は、基材が
白色顔料を含み光を殆ど透過しない場合（例えば白色Ｐ
ＥＴフィルム）には、画像形成組成物層側から光エネル
ギーを与える。又、基材が透明な場合には、十分なエネ
ルギーであれば基材側からでも、又、その反対方向から
でもよいが、エネルギー効率を考えて、表面から重合性
化合物と重合開始剤を含有する層、解重合性化合物を含
有する層又はバリアー層までの与える光エネルギーの波
長に対して吸収の少ない方向から露光するのが好まし
い。

【０１８８】本発明の画像形成方法では、エネルギー印
加後に画像形成材料を加熱することにより画像形成を行
う。この場合の加熱処理は、均一に十分に熱が掛かるも
のであれば特に制限はなく用いることができる。

【０１８９】加熱処理手段としては、オーブン、サーマ
ルヘッド、ヒートロール、ホットスタンプ、熱ペンなど
熱のみを掛けるものでも、熱を掛けると同時に圧力を掛
けるものでも適時選択して用いることができるが、アン
モニア及び／又は１級アミンと、消色又は発色する化合
物との混ざり合いを効率良く行わせるために、加熱と同
時に圧力を掛けることがより好ましい。

【０１９０】オーブンを用いる場合の加熱温度は、通常
60〜200℃、好ましくは80〜180℃の範囲であり、加熱時
間は通常0.1〜300秒、好ましくは0.5〜100秒であり、サ
ーマルヘッドは、通常の溶融転写、昇華転写などに用い
られる条件でそのまま使用することができる。又、ヒー
トロールを用いる場合の加熱温度は、通常60〜200℃、
好ましくは80〜180℃の範囲であり、圧力は、通常0.1〜
20kg／cm、好ましくは0.5〜10kg／cmであり、又、搬送
速度は、通常0.1〜100mm／秒、好ましくは0.5〜50mm／
秒である。更に、ホットスタンプを用いる場合の加熱温
度は、通常60〜200℃、好ましくは80〜150℃の範囲、圧
力としては、通常0.05〜10kg／cm²、好ましくは0.5〜５
kg／cm²、又、加熱時間は、通常0.1〜300秒、好ましく
は0.5〜100秒である。

【０１９１】なお、オーブンなどの加熱処理のみに更に
圧力を掛けたい場合は、例えばオーブン中で圧力ロール
で処理することにより加熱加圧処理することができる。

【０１９２】バリアー層を備えた画像形成材料におい
て、光熱変換層を蒸着層に隣接する形で設けられている
場合は、光熱変換層で光エネルギーが熱エネルギーに変
換され、この熱エネルギーが蒸着層を穿孔又は亀裂を生
じさせる。又、樹脂と光熱変換化合物を含有する層によ
りバリアー層が形成されている場合も同様で、光熱変換
化合物により光エネルギーが熱エネルギーに変換され、
この熱エネルギーが該層を穿孔又は亀裂を生じさせる。

【０１９３】なお、定着層が更に設けられている場合
は、上述の加熱処理時よりも高い条件で処理することに
より、定着層中のアンモニア又は１級アミンを不活性化
可能な化合物を１級アミン、アンモニア又は１級アミン
を含有する層へ熱拡散又は熱移動させることにより不活
性化させ定着させることができる。

【０１９４】なお、重合性化合物と重合開始剤を含有す
る層を備えた画像形成材料では、画像形成後に未重合部
を完全に重合させることにより定着層と同様の効果を発
揮させることもできる。

【０１９５】−画像形成方法２− 本発明では、画像信号に応じてイメージワイズに第１エ
ネルギーを画像形成材料に与え、次いで第２エネルギー
を加えて前駆体からアンモニア及び／又は１級アミンを
放出させ、後に加熱することにより画像が形成される。

【０１９６】上記の第１エネルギーとは、前述の画像形
成方法１で記載した重合開始剤又は解重合性化合物を活
性化、バリアー層を穿孔又は亀裂を与えるエネルギーと
同じものであり、第２エネルギーとは、前駆体からアン
モニア及び／又は１級アミンを放出させるのに十分な第
１エネルギーとは異なるエネルギーを指す。

【０１９７】本発明では、第１エネルギーを画像形成材
料に与えることにより、重合性化合物と重合開始剤を含
有する層が重合、解重合性化合物が解重合、バリアー層
が穿孔又は亀裂が入る。しかしながら、アンモニア及び
／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する層で
は、前駆体は全く変化がないか極く僅かしかアンモニア
及び／又は１級アミンが放出されない。そのために、前
駆体からアンモニア及び／又は１級アミンを放出させる
に十分な第１エネルギーとは異なる第２エネルギーを加
え、前駆体をアンモニア及び／又は１級アミンに変換さ
せる。次いで加熱及び加圧することにより、アンモニア
及び／又は１級アミンと、アンモニア及び／又は１級ア
ミンにより消色又は発色する化合物が混ざり合い、画像
形成材料に画像信号に応じて消色又は発色された画像が
形成される。

【０１９８】第１エネルギーとしては、高解像度を得る
ためにはエネルギー印加面積が絞り込める点で光エネル
ギーが好ましく、第２エネルギーとしては、後述の加熱
処理に対して影響を与えない、第１エネルギーとして加
えられる光エネルギーとは異なる波長の光エネルギーが
特に好ましい。

【０１９９】このような第１エネルギー／第２エネルギ
ーの組合せとしては、例えば近赤外線／紫外線、可視光
／紫外線、紫外線／可視光などが挙げられ、画像形成材
料の重合開始剤、解重合性化合物、バリアー層、アンモ
ニア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体の種類に
より適時選択して用いることができる。

【０２００】画像形成方法２で用いられる、第１エネル
ギー印加手段、第２エネルギー印加手段及び加熱処理手
段の具体例としては、画像形成方法１で記載したものと
同様の手段が挙げられる。

【０２０１】

【実施例】実施例により本発明を更に具体的に説明する
が、本発明は、これらの実施例に限定されるものではな
い。なお、以下の実施例において「部」は、特に断りが
ない限り「有効成分としての重量部」を表す。

【０２０２】（画像形成材料の作成）以下のようにし
て、基材及び表面処理、中間層、バリアー層、定着層、
保護層の他に、各機能層を組み合わせて本発明及び比較
用の画像形成材料を作成した。層構成及び層組成は表１
及び表２に纏めて示す。

【０２０３】基材 (ａ)100μm延伸透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム（ダイアホイルヘキスト社製：T100） (ｂ)100μm延伸白色ＰＥＴフィルム（ダイアホイルヘキ
スト社製：W410）。

【０２０４】表面処理 (ａ)表面をコロナ放電処理 (ｂ)ポリエステル系樹脂（ユニチカ社製：エリーテルUE
3600）を５重量部溶解させたメチルエチルケトン／トル
エン（１／１）溶液を、ワイヤーバーコーティングによ
り基材上に塗布・乾燥し、厚さ0.05μmのプライマー層
を形成。

【０２０５】中間層 (ａ)エチレン-酢酸ビニル共重合体（酢酸ビニル含有量1
0％、メルトインデックス20ｇ／10min）を十分に溶融混
錬して押し出し、厚さ20μmの中間層を基材上に形成。

【０２０６】(ｂ)エチレン-酢酸ビニル共重合体（三井
デュポンポリケミカル社製：エバフレックスEV-40Y）を
30重量部溶解させたトルエン溶液を、ワイヤーバーコー
ティングにより基材上に塗布・乾燥し、厚さ10μmの中
間層を形成。

【０２０７】１級アミン、アンモニア及び／又は１級ア
ミンを放出可能な前駆体含有層 (ａ)下記組成の１級アミン含有層形成塗工液を、ワイヤ
ーバーコーティングにより塗布・乾燥し、厚さ5.0μmの
１級アミン含有層を形成。

【０２０８】 ドデシルブロマイド 4.0部 ポリビニルアセトアセタール 16.0部 （積水化学工業社製：エスレックKS-1） メチルエチルケトン 60部 (ｂ)ドデシルブロマイドをテトラメチレンジアミンに変
えた以外は、(ａ)と同様な方法で１級アミン含有層を形
成。

【０２０９】(ｃ)ドデシルブロマイドをグリシンに変え
た以外は、(ａ)と同様な方法で１級アミン含有層を形
成。

【０２１０】(ｄ)下記組成のアンモニア放出可能な前駆
体含有層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングによ
り塗布・乾燥し厚さ10μmのアンモニア放出可能な前駆
体含有層を形成。

【０２１１】 [Co³⁺(NH₃)₆](CＦ₃COO^-)₃ 3.6部 2-i-プロポキシ-1,4-ナフトキノン 0.6部 スクシンイミド 1.0部 ポリビニルホルマール 13.4部 （電気化学工業社製：デンカホルマール＃20） p-ベンジルビフェニル 1.5部 アセトン 20部 メチルエチルケトン 60部 (ｅ)2-i-プロポキシ-1,4-ナフトキノン0.6部を（化合物
−１）0.8部に代えた以外は、(ｄ)と同様にしてアンモ
ニア放出可能な前駆体含有層を形成。

【０２１２】(ｆ)2-i-プロポキシ-1,4-ナフトキノン0.6
部を（化合物−２）1.0部に代えた以外は、(ｄ)と同様
にしてアンモニア放出可能な前駆体含有層を形成。

【０２１３】(ｇ)下記組成の１級アミン放出可能な前駆
体含有層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングによ
り塗布・乾燥し、厚さ15μmの１級アミン放出可能な前
駆体含有層を形成。

【０２１４】 [Co³⁺(H₂NCH₂CH₂NH₂)₃](B^-Ph₄)₃ 4.6部 フタルイミド 1.5部 エチルセルロース（ハーキュレス社製：T-10） 14.4部 アセトン 20部 メチルエチルケトン 60部 (ｈ)下記組成のアンモニア及び１級アミン放出可能な前
駆体含有層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングに
より塗布・乾燥し、厚さ15μmのアンモニア及び１級ア
ミン放出可能な前駆体含有層を形成。

【０２１５】 [Co³⁺(NH₃)₆](B^-Ph₄)₃ 2.3部 [Co³⁺(H₂NCOCH₂NH₂)₃](B^-Ph₄)₃ 2.3部 ジフェニルヒダントイン 1.5部 ポリビニルブチラール 14.4部 （積水化学工業社製、エスレックBL-1） アセトン 20部 メチルエチルケトン 60部 (ｉ)(ｈ)のアンモニア及び１級アミン放出可能な前駆体
含有層形成塗工液に、更に（化合物−１）を0.8部加え
た以外は、(ｈ)と同様にしてアンモニア及び１級アミン
放出可能な前駆体含有層を形成。

【０２１６】(ｊ)(ｈ)のアンモニア及び１級アミン放出
可能な前駆体含有層形成塗工液に、更に（化合物−２）
を1.0部加えた以外は、(ｈ)と同様にしてアンモニア及
び１級アミン放出可能な前駆体含有層を形成。

【０２１７】

【化２６】

【０２１８】重合性化合物及び重合開始剤含有層 (ａ)下記組成の重合性化合物及び重合開始剤含有層形成
塗工液を、ワイヤーバーコーティングにより塗布・乾燥
し、厚さ1.0μmの重合性化合物及び重合開始剤含有層を
形成。

【０２１９】 ポリメチルメタクリレート 10.0部 （三菱レイヨン社製：ダイアナールBR-83） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 37.0部 （日本化薬社製：KAYARAD DPHA） ビス(2-o-クロロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール) 2.25部 2-メルカプトベンゾチアゾール 0.75部 メチルエチルケトン 50部 (ｂ)ビス(2-o-クロロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾ
ール)を2,2′-ジヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン
に代えた以外は、(ａ)と同様な方法で重合性化合物及び
重合開始剤含有層を形成。

【０２２０】(ｃ)下記組成の重合性化合物及び重合開始
剤含有層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングによ
り塗布・乾燥し、厚さ1.0μmの重合性化合物及び重合開
始剤含有層を形成。

【０２２１】 スチレン-エチレンプロピレンゴム-アクリロニトリル共重合体 10.0部 （日本合成ゴム社製：JSR AES117） トリメチロールプロパントリアクリレート 18.0部 （東亜合成化学工業社製：ARONIX M-309） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 20.0部 （KAYARAD DPHA：前出） 3,3′-カルボニルビス(7-ジエチルアミノクマリン) 2.5部 ジフェニル・フェナシルスルホニウムテトラフルオロボレート 2.5部 トルエン 200部 メチルエチルケトン 200部 (ｄ)3,3′-カルボニルビス(7-ジエチルアミノクマリ
ン)、ジフェニル・フェナシルスルホニウムテトラフル
オロボレートを、それぞれトリス(2,2′-ジピリジル)ル
テニウムビス(ヘキサフルオロホスフェート)、ジフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートに代えた以
外は、(ｃ)と同様な方法で重合性化合物及び重合開始剤
含有層を形成。

【０２２２】(ｅ)下記組成の重合性化合物及び重合開始
剤含有層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングによ
り塗布・乾燥し、厚さ1.0μmの重合性化合物及び重合開
始剤含有層を形成。

【０２２３】 ポリメチルメタクリレート（ダイアナールBR-83：前出） 10.0部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 25.0部 （KAYARAD DPHA：前出） EO変性テトラブロモビスフェノールＡジメタクリレート 10.0部 （第一工業製薬社製：ニューフロンティアBR-42M） 化合物−３（光重合開始剤） 0.80部 テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート 2.60部 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 0.80部 N,N,2,4,6-ペンタメチルアニリン 0.80部 メチルエチルケトン 50部 (ｆ)化合物−３、テトラブチルアンモニウムテトラフェ
ニルボレートを、それぞれ化合物−４（光重合開始
剤）、リチウムテトラフェニルボレートに代えた変えた
以外は、(ｅ)と同様な方法で重合性化合物及び重合開始
剤含有層を形成。

【０２２４】

【化２７】

【０２２５】解重合性化合物含有層 (ａ)下記組成の解重合性化合物含有層形成塗工液を、ワ
イヤーバーコーティングにより塗布・乾燥し、厚さ1.5
μmの解重合性化合物含有層を形成。

【０２２６】 ポリ(p-ホルミルオキシスチレン) 10部 ジブチル・フェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート 1.0部 2-i-プロポキシ-1,4-アントラキノン 0.5部 メチルエチルケトン 85.5部 (ｂ)下記組成の解重合性化合物含有層形成塗工液を、ワ
イヤーバーコーティングにより塗布・乾燥し、厚さ2.5
μmの解重合性化合物含有層を形成。

【０２２７】 ポリ(1-ブテンスルホン)（チッソ社製：PBS） 9.0部 ピリジン-N-オキシド 1.0部 酢酸メチルセロソルブ 80部 シクロヘキサノン 10部 (ｃ)下記組成の解重合性化合物含有層形成塗工液を、ワ
イヤーバーコーティングにより塗布・乾燥し、厚さ2.0
μmの解重合性化合物含有層を形成。

【０２２８】 ポリフタルアルデヒド 10部 トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート 1.0部 ペリレン 0.5部 ジメチルホルムアミド 88.5部 (ｄ)下記組成の解重合性化合物含有層形成塗工液を、ワ
イヤーバーコーティングにより塗布・乾燥し、厚さ1.5
μmの解重合性化合物含有層を形成。

【０２２９】 化合物−５（解重合化合物） 9.0部 トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート 1.0部 アントラセン 0.5部 テトラヒドロフラン 90部バリアー層 (ａ)下記組成のバリアー層形成塗工液を、ワイヤーバー
コーティングにより塗布・乾燥し、厚さ1.0μmのバリア
ー層を形成。

【０２３０】 化合物−６（光熱変換化合物，λmax 740nm／MeOH） 1.0部 ゼラチン 9.0部 蒸留水 90部 (ｂ)下記組成のバリアー層形成塗工液を、ワイヤーバー
コーティングにより塗布・乾燥し、厚さ1.5μｍのバリ
アー層を形成。

【０２３１】 化合物−７（光熱変換化合物，λmax 787nm／CH₂Cl₂） 1.0部 ニトロセルロース 9.0部 メチルエチルケトン 90部 (ｃ)厚み100Åのアルミニウムの金属薄膜を真空蒸着法
にて形成。

【０２３２】(ｄ)厚み50Åの錫の金属薄膜をスパッタリ
ング法にて形成し、その上に下記組成の光熱変換化合物
含有層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングにより
塗布・乾燥し、厚さ0.5μmの光熱変換層を形成。

【０２３３】 化合物−８（光熱変換化合物，λmax 814nm／MeOH） 0.5部 ポリエチレンワックス（ミクロフラットCE-150） 4.5部 トルエン 60部 酢酸エチル 15部 アセトン 20部

【０２３４】

【化２８】

【０２３５】アンモニア又は１級アミンで消色又は発色
する化合物含有層 (ａ)下記のアンモニア又は１級アミンで発色する化合物
含有層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングにより
塗布・乾燥し、厚さ15μmの発色層を形成。

【０２３６】 アルデヒド（１−31） 4.0部 ポリビニルブチラール（エスレックBL-1：前出） 16部 メチルエチルケトン 80部 (ｂ)アルデヒド（１−31）を（１−32）に代えた以外
は、(ａ)と同様にして発色層を形成。

【０２３７】(ｃ)アルデヒドを（１−９）に代えた以外
は、(ａ)と同様にして発色層を形成。

【０２３８】(ｄ)アルデヒドを（１−１）に代えた以外
は、ａ）と同様に発色層を形成。

【０２３９】(ｅ)下記のアンモニア又は１級アミンで消
色する化合物含有層形成塗工液を、ワイヤーバーコーテ
ィングにより塗布・乾燥し、厚さ20μmの消色層を形
成。

【０２４０】 8-(ベンゾ（b）-3H-1,2-ジチオール-3-イリジン)-9,10,11,12- 2.0部 テトラヒドロ-8H-シクロヘプタ（e）ナフト（2,1-b）ピリリウム パークロレート スチレン系樹脂（新日鐵化学社製：KレジンKR01） 17部 p-ベンジルビフェニル 1.0部 アセトン 20部 メチルエチルケトン 60部 (ｆ)(ｅ)で用いたピリリウム色素を2,4-ジフェニル-6-
(β-メチル-3,4-ジエトキシスチリル)ピリリウムフルオ
ロボレートに代えた以外は、(ｅ)と同様にして画像形成
組成物層を形成。

【０２４１】(ｇ)(ｅ)で用いたピリリウム色素を2,6-ジ
フェニル-4-(4-メトキシカルボニルフェニル)ピリリウ
ムパークロレートに代えた以外は、(ｅ)と同様にして画
像形成組成物層を形成。

【０２４２】(ｈ)(ｅ)で用いたピリリウム色素の代わり
に、8-(ベンゾ（b）-3H-1,2-ジチオール-3-イリジン)-
9,10,11,12-テトラヒドロ-8H-シクロヘプタ（e）ナフト
（2,1-b）ピリリウムパークロレート0.7部、2,4-ジフェ
ニル-6-(β-メチル-3,4-ジエトキシスチリル)ピリリウ
ムフルオロボレート0.65部及び2,6-ジフェニル-4-(4-メ
トキシカルボニルフェニル)ピリリウムパークロレート
0.65部を用いた以外は、(ｅ)と同様にして画像形成組成
物層を形成。

【０２４３】定着層 (ａ)下記組成の定着層形成塗工液を、ワイヤーバーコー
ティングにより塗布・乾燥し、厚さ5.0μmの定着層を形
成。

【０２４４】 エポキシ樹脂（東都化成社製：エポトートYH-300） 4.0部 ポリカーボネート（三菱瓦斯化学社製：ユーピロンZ-200） 20部 トルエン 60部 メチルエチルケトン 16部 ｂ）下記組成の定着層形成塗工液を、ワイヤーバーコー
ティングにより塗布・乾燥し、厚さ5.0μmの定着層を形
成。

【０２４５】 フェナシルスルホニルクロライド 3.0部 ポリアリレート（ユニチカ社製：UポリマーU-100） 20部 テトラヒドロフラン 67部保護層 (ａ)下記組成の保護層形成塗工液を、ワイヤーバーコー
ティングにより塗布・乾燥し、厚さ3.0μmの保護層を形
成。

【０２４６】 ポリメチルメタクリレート（ダイアナールBR-88：前出） 5.0部 酸化チタン（出光興産社製：出光チタニアIT-UD） 3.0部 メチルエチルケトン 92部 (ｂ)25μmの透明延伸ＰＥＴフィルム（ダイアホイルヘ
キスト社製：Ｓ）の片面をコロナ放電処理し、処理した
面に下記の組成の接着層形成塗工液を、ワイヤーバーコ
ーティングにより塗布・乾燥し、厚さ1.0μmの接着層付
きフィルム作成し、次いで圧力ロールで貼り合わせるこ
とにより保護層を形成。

【０２４７】 ポリエステル系樹脂（東洋紡績社製：バイロン300） 10部 メチルエチルケトン 90部

【０２４８】

【表１】

【０２４９】

【表２】

【０２５０】（画像の形成）表１及び表２に示す64種の
画像形成材料を用いて、以下のような方法（ａ〜ｌ）に
より画像形成を行った。

【０２５１】(ａ)400nm以上の光をカットするフィルタ
ーを掛け、画像形成材料（15×15cm）の画像形成組成物
層側にウェッジパターンを密着し、明室感材用プリンタ
ー（大日本スクリーン製：P-627-HA）で一括露光（露光
エネルギー500mJ／cm²）して潜像を形成させ、次いで画
像形成材料をヒートロールで加熱・加圧処理することに
より画像を形成させた。

【０２５２】画像形成材料の感度、再現されている解像
度及び画像カブリを下記の基準で評価した。評価結果及
び処理条件（温度、圧力、時間）を表３及び表４に示
す。

【０２５３】《感度》透過濃度0.1〜3.0で隣接するステ
ップ間の濃度差が0.10であるようなウェッジ階調を持つ
マスクを掛けて露光、加熱処理して画像を形成し、形成
された画像濃度を遮光部＋0.10（ピリリウム色素の場合
は−0.10）の濃度を与える露光エネルギー（Ｅ：単位mJ
／cm²）を４段階評価した。

【０２５４】◎…Ｅ≦20 ○…20＜Ｅ≦50 △…50＜Ｅ≦100 ×…100＜Ｅ 《解像度》プレートコントロールウエッジ（UGRA社製）
を用い、150線／インチの網点２〜98％の再現性を顕微
鏡で観察し再現されている網点領域（Ｚ：単位％）を観
察した。

【０２５５】◎…２≦Ｚ≦98 ○…５≦Ｚ≦95 △…10≦Ｚ≦90 ×…15≦Ｚ≦85 《画像カブリ》画像形成前の画像形成材料の濃度と、熱
処理して画像形成を行った後の消色又は発色していない
部分の濃度との差（Ｄ）を測定した。

【０２５６】◎…Ｄ≦0.10 ○…0.10≦Ｄ＜0.25 △…0.25≦Ｄ＜0.50 ×…0.50＜Ｄ (ｂ)(ａ)で加熱・加圧処理した後、更に温度を20℃上げ
て同じ条件で加熱・加圧処理して画像定着処理を行っ
た。

【０２５７】感度、解像度及び画像カブリを(ａ)と同じ
基準で評価した。評価結果を表３及び表４に示す。

【０２５８】(ｃ)明室感材用プリンターの代わりに、キ
セノンフラッシュランプ（理想科学社製ゼノファクスFX
180を使用、露光時間は１ｍ秒、露光エネルギーは100mJ
／cm²、露光回数５回）を用いた以外は、(ａ)と同様に
画像を形成して評価した。

【０２５９】感度及び解像度を(ａ)と同じ基準で評価し
た。結果及び処理条件を表３及び表４に示す。

【０２６０】(ｄ)(ｃ)で加熱・加圧処理した後、更に温
度を20℃上げて同じ条件で加熱・加圧処理して画像定着
処理を行った。

【０２６１】感度、解像度及び画像カブリを(ａ)と同じ
基準で評価した。結果を表３及び表４に示す。

【０２６２】(ｅ)アルゴンイオンレーザー（アメリカン
レーザー社製60C、出力30mW、波長514.5nm、ビーム径0.
65mm）を用い、径を20μmに絞り焦点を合わせた後、走
査露光（走査ピッチ20μm）して潜像を形成し、画像形
成材料（15×15cm）をヒートロールで加熱・加圧処理す
ることにより画像を形成させた。

【０２６３】画像形成材料の感度（画像形成に必要最低
の平均露光量）、画像カブリを下記の基準で評価した。
結果及び処理条件（温度、圧力、時間）を表５に示す。

【０２６４】《感度》画像形成材料表面の平均露光量
（Ｅ）（必要最低の平均露光量、単位mJ／cm²）で示
す。

【０２６５】◎…Ｅ≦50 ○…50＜Ｅ≦100 △…100＜Ｅ≦250 ×…250＜Ｅ 《画像カブリ》画像形成前の画像形成材料の濃度と、熱
処理して画像形成を行った後の消色又は発色していない
部分の濃度との差（Ｄ）を測定した。

【０２６６】◎…Ｄ≦0.10 ○…0.10≦Ｄ＜0.25 △…0.25≦Ｄ＜0.50 ×…0.50＜Ｄ (ｆ)(ｅ)で加熱・加圧処理した後、更に温度を20℃上げ
て同じ条件で加熱・加圧処理して画像定着処理を行っ
た。感度及び画像カブリを(ｅ)と同じ基準で評価した。
結果を表５に示す。

【０２６７】(ｇ)アルゴンイオンレーザー（アメリカン
レーザー社製：前出）を用いて、径を20μmに絞り焦点
を合わせて走査露光（走査ピッチ20μm）し、次いで400
nm以上の光をカットするフィルターを掛け、明室感材用
プリンター（P-627-HA：前出）で全面露光（露光エネル
ギー200mJ／cm²）した後、画像形成材料（15×15cm）を
ヒートロールで加熱処理して画像を形成させた。

【０２６８】感度、解像度、画像カブリを(ｅ)と同じ基
準で評価した。結果及び処理条件（温度、圧力、時間）
を表５に示す。

【０２６９】(ｈ)(ｇ)で加熱・加圧処理した後、更に温
度を20℃上げて同じ条件で加熱・加圧処理して画像定着
処理を行った。

【０２７０】感度及び画像カブリを(ｅ)と同じ基準で評
価した。結果を表３に示す。

【０２７１】(ｉ)半導体レーザー（シャープ社製LT090M
D、出力100mW、主波長830nm）を用い、焦点を合わせた
後、走査露光（ビーム径８μm、走査ピッチ５μm）して
潜像を形成し、画像形成材料（５×５cm）をホットスタ
ンプで加熱処理して画像を形成させた。

【０２７２】画像形成材料の感度（画像形成に必要最低
の平均露光量）、再現されている解像度、画像カブリを
下記の基準で評価した。結果及び処理条件（温度、圧
力、時間）を表６に示す。

【０２７３】《感度》画像形成材料表面の平均露光量
（Ｅ）（必要最低の平均露光量、単位mJ／cm²）で示
す。

【０２７４】◎…Ｅ≦50 ○…50＜Ｅ≦100 △…100＜Ｅ≦500 ×…500＜Ｅ 《解像度》必要最低の平均露光量で画像を形成した際の
１mm当たりの解像可能な線の本数（Ｎ）で評価した。

【０２７５】◎…120≦Ｎ ○…80≦Ｎ＜120 △…40≦Ｎ＜80 ×…Ｎ＜40 《画像カブリ》画像形成前の画像形成材料の濃度と、熱
処理して画像形成を行った後の消色又は発色していない
部分の濃度との差（Ｄ）を測定した。

【０２７６】◎…Ｄ≦0.10 ○…0.10≦Ｄ＜0.25 △…0.25≦Ｄ＜0.50 ×…0.50＜Ｄ (ｊ)(ｉ)で加熱・加圧処理した後、更に温度を20℃上げ
て同じ条件で加熱・加圧処理して画像定着処理を行っ
た。

【０２７７】感度、解像度及び画像カブリを(ｉ)と同じ
基準で評価した。結果を表６に示す。

【０２７８】(ｋ)半導体レーザー（LT090MD：前出）を
用い、焦点を合わせて走査露光（ビーム径８μm、走査
ピッチ５μm）し、次いで400nm以上の光をカットするフ
ィルターを掛け、明室感材用プリンター（P-627-HA：前
出）で全面露光（露光エネルギー200mJ／cm²）した後、
画像形成材料（15×15cm）をヒートロールで加熱処理し
て画像を形成させた。

【０２７９】感度、解像度及び画像カブリを(ｅ)と同じ
基準で評価した。結果及び処理条件（温度、圧力、時
間）を表６に示す。

【０２８０】(ｌ)(ｋ)で加熱・加圧処理した後、更に温
度を20℃上げて同じ条件で加熱・加圧処理して画像定着
処理を行った。

【０２８１】感度、解像度及び画像カブリを(ｋ)と同じ
基準で評価した。結果を表６に示す。

【０２８２】別に、本発明及び比較例の画像形成材料の
未使用試料を暗所にて下記の条件下で保存し、保存前の
消色又は発色していない濃度から0.10以上増加（消色す
るピリリウム色素の場合は0.10以上減少）する迄の日数
（Ｔ）で画像形成材料の暗所保存性を評価した。結果は
表７及び表８に示す。

【０２８３】《耐熱保存性（DT保存性）；55℃・湿度20
％》、《耐熱・耐湿保存性（HDT保存性）；50℃・湿度8
0％》共、次のように４段階評価した。

【０２８４】◎…７≦Ｔ ○…４≦Ｔ＜７ △…２≦Ｔ＜４ ×…Ｔ＜２ 《室温保存性（RT保存性）；25℃》、《低温保存性（LT
保存性）；−５℃）は、下記の４段階評価である。

【０２８５】◎…30≦Ｔ ○…20≦Ｔ＜30 △…10≦Ｔ＜20 ×…Ｔ＜10 更に、前記画像形成を行った各画像形成材料を、40℃で
キセノンウェーザーメータで曝射し、曝射前の消色又は
発色していない部分の濃度から0.10以上増加（消色する
ピリリウム色素の場合は0.10以上減少）する迄の日数
（Ｔ）で画像耐光保存性を評価した。結果を表７及び表
８に示す。

【０２８６】《画像耐光保存性》 ◎…７≦Ｔ ○…４≦Ｔ＜７ △…２≦Ｔ＜４ ×…Ｔ＜２

【０２８７】

【表３】

【０２８８】

【表４】

【０２８９】

【表５】

【０２９０】

【表６】

【０２９１】

【表７】

【０２９２】

【表８】

【０２９３】

【発明の効果】表３〜表８の結果からも明らかな如く、
本発明の画像形成材料は、感度、解像度、カブリの低
減、保存性が何れも良好であり、形成された画像の耐光
性にも優れている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の画像形成材料の一構成例を示す断面図
（ａ，ｂ）。

【図２】本発明の画像形成材料の他の構成例を示す断面
図（ｃ〜ｈ）。

【図３】本発明の画像形成材料の他の構成例を示す断面
図（ｉ〜ｎ）。

【図４】従来の画像形成材料の構成例を示す断面図（ｏ
〜ｓ）。

【符号の説明】

１ １級アミン、もしくはアンモニア及び／又は１級ア
ミンを放出可能な前駆体を含有する層 ２ アンモニア及び／又は１級アミンにより消色又は発
色する化合物を含有する層 ３ 基材 ４ 重合性化合物と重合開始剤を含有する層、解重合性
化合物を含有する層、バリアー層 ５ 保護層 ６ 定着層 ７ 中間層

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｇ０３Ｃ 1/67 5/08 ３５１ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ 7/028 7/11 7/26 ５２１

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材上の少なくとも片面に、１級アミ
   ン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを放出可
   能な前駆体を含有する層と、アンモニア及び／又は１級
   アミンにより消色又は発色する化合物を含有する層を有
   する画像形成材料において、前記２層の間に、重合性化
   合物と重合開始剤を含有する層を設けたことを特徴とす
   る画像形成材料。
2. 【請求項２】 前記重合開始剤が、光重合開始剤である
   ことを特徴とする請求項１記載の画像形成材料。
3. 【請求項３】 基材上の少なくとも片面に、１級アミ
   ン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを放出可
   能な前駆体を含有する層と、アンモニア及び／又は１級
   アミンにより消色又は発色する化合物を含有する層を有
   する画像形成材料において、前記２層の間に、解重合性
   化合物を含有する層を設けたことを特徴とする画像形成
   材料。
4. 【請求項４】 前記解重合性化合物を含有する層に、更
   に光解重合開始剤を含有することを特徴とする請求項３
   記載の画像形成材料。
5. 【請求項５】 基材上の少なくとも片面に、１級アミ
   ン、もしくはアンモニア及び／又は１級アミンを放出可
   能な前駆体を含有する層と、アンモニア及び／又は１級
   アミンにより消色又は発色する化合物を含有する層を有
   する画像形成材料において、前記２層の間に、バリアー
   層を設けたことを特徴とする画像形成材料。
6. 【請求項６】 前記バリアー層が、蒸着層であることを
   特徴とする請求項５記載の画像形成材料。
7. 【請求項７】 前記蒸着層を設けた画像形成材料に、蒸
   着層に接する形で更に光熱変換化合物を含有する層を設
   けたことを特徴とする請求項６記載の画像形成材料。
8. 【請求項８】 前記光熱変換化合物が、600〜1100nmに
   吸収極大波長を有する色素又は染料であることを特徴と
   する請求項７記載の画像形成材料。
9. 【請求項９】 前記バリアー層が、樹脂と600〜1100nm
   に吸収極大波長を有する色素又は染料を含有する層であ
   ることを特徴とする請求項５記載の画像形成材料。
10. 【請求項１０】 前記アンモニア及び／又は１級アミン
    により発色する化合物が、下記一般式（１）で表される
    化合物であることを特徴とする請求項１〜９記載の画像
    形成材料。 【化１】 〔式中、Ｑは芳香族環又は５員もしくは６員の複素環を
    構成するに必要な原子団を表し、該芳香族環又は複素環
    は置換基を有してもよい。〕
11. 【請求項１１】 前記アンモニア及び／又は１級アミン
    により消色する化合物が、ピリリウム色素であることを
    特徴とする請求項１〜９記載の画像形成材料。
12. 【請求項１２】 前記アンモニア及び／又は１級アミン
    を放出可能な前駆体が、下記一般式（２）で表される化
    合物であることを特徴とする請求項１〜９記載の画像形
    成材料。 【化２】 〔式中、Ｌ₁はコバルトカチオンと錯体を形成するアン
    モニア及び／又は１級アミン配位子を表し、Ｌ₂はコバ
    ルトカチオンと錯体を形成するアンモニア及び／又は１
    級アミン以外の配位化合物を表す。ｋは１〜３の整数、
    ｍは１〜６の整数、ｎは０〜５の整数を表し、ｍ、ｎが
    ２以上の時、複数のＬ₁、Ｌ₂は、それぞれ同じでも異な
    っていてもよい。又、Ｘ^-は対アニオンを表す。〕
13. 【請求項１３】 基材上の少なくとも片面に、アンモニ
    ア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する
    層と、アンモニア又は１級アミンにより消色又は発色す
    る化合物を含有する層を有し、前記２層の間に、重合性
    化合物と重合開始剤を含有する層、解重合性化合物を含
    有する層、又はバリアー層を備えた画像形成材料を用い
    て、画像信号に応じてエネルギーを与え、次いで加熱す
    ることにより画像を形成することを特徴とする画像形成
    方法。
14. 【請求項１４】 前記画像信号に応じて与えられるエネ
    ルギーが、光エネルギーであることを特徴とする請求項
    13記載の画像形成方法。
15. 【請求項１５】 基材上の少なくとも片面に、アンモニ
    ア及び／又は１級アミンを放出可能な前駆体を含有する
    層と、アンモニア又は１級アミンにより消色又は発色す
    る化合物を含有する層を有し、前記２層の間に、重合性
    化合物と重合開始剤を含有する層、解重合性化合物を含
    有する層、又はバリアー層を備えた画像形成材料を用い
    て、画像信号に応じて第１エネルギーを与え、次いで前
    駆体からアンモニア及び／又は１級アミンを放出させる
    第２のエネルギーを加えた後、加熱することにより画像
    を形成することを特徴とする画像形成方法。
16. 【請求項１６】 前記画像信号に応じて与えられる第１
    エネルギーが光エネルギーで、前駆体からアンモニア及
    び／又は１級アミンを放出させる第２のエネルギーが第
    １エネルギーとは異なる波長の光エネルギーであること
    を特徴とする請求項15記載の画像形成方法。