JP5567809B2 - 表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、酸化物半導体を用いる表示装置及びその製造方法に関する。

液晶表示装置に代表されるように、ガラス基板等の平板に形成される薄膜トランジスタは、アモルファスシリコン、多結晶シリコンによって作製されている。アモルファスシリコンを用いた薄膜トランジスタは、電界効果移動度が低いもののガラス基板の大面積化に対応することができ、一方、結晶シリコンを用いた薄膜トランジスタは電界効果移動度が高いものの、レーザアニール等の結晶化工程が必要であり、ガラス基板の大面積化には必ずしも適応しないといった特性を有している。

これに対し、酸化物半導体を用いて薄膜トランジスタを作製し、電子デバイスや光デバイスに応用する技術が注目されている。例えば、酸化物半導体膜として酸化亜鉛、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系酸化物半導体を用いて薄膜トランジスタを作製し、画像表示装置のスイッチング素子などに用いる技術が特許文献１及び特許文献２で開示されている。

特開２００７−１２３８６１号公報 特開２００７−９６０５５号公報

酸化物半導体にチャネル形成領域を設ける薄膜トランジスタは、アモルファスシリコンを用いた薄膜トランジスタよりも高い電界効果移動度が得られている。酸化物半導体膜はスパッタリング法などによって３００℃以下の温度で膜形成が可能であり、多結晶シリコンを用いた薄膜トランジスタよりも製造工程が簡単である。

このような酸化物半導体を用いてガラス基板、プラスチック基板等に薄膜トランジスタを形成し、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ又は電子ペーパ等への応用が期待されている。

しかし、動作特性に優れ、しかも低温で製造可能である酸化物半導体を用いる薄膜トランジスタの特性を活かすには、素子の構造や製造条件を最適化するのみでなく、信号の入出力に必要な配線構造及び接続構造を考慮する必要がある。酸化物半導体膜が低温で成膜可能であっても、配線や電極を形成する金属等の薄膜、層間絶縁膜等の絶縁膜の剥離があっては、製品不良となってしまう。また、表示パネルの素子基板側に設けられる共通接続部の電極の接続抵抗が高いと、表示画面に斑が出来てしまい輝度が低下するといった問題が発生する。

本発明の一形態は、表示パネルに設けられる共通接続部として適した構造を提供することを目的の一とする。

本発明の一形態は、酸化物半導体の他、絶縁膜及び導電膜を積層して作製される各種用途の表示装置において、薄膜の剥がれに起因する不良を防止することを目的の一とする。

本発明の一形態は、走査線と信号線が交差し、マトリクス状に配列する画素電極層と、該画素電極層に対応して設けられた画素部を有し、該画素部に酸素の含有量が異なる少なくとも二種類の酸化物半導体層とを組み合わせて構成されるチャネル保護層を含む逆スタガ型薄膜トランジスタが設けられた表示装置である。この表示装置において画素部の外側領域には、走査線、信号線を構成する同じ材質の導電層によって、画素電極層と対向する共通電極層と電気的に接続するパッド部が設けられている。

本発明の例示的な一態様は、画素電極に接続される薄膜トランジスタを含む画素部と、画素電極と対向する共通電極と電気的に接続するパッド部とを有する表示装置であり、以下の構成を含む。

画素部は、走査線と信号線が交差し、画素電極層がマトリクス状に配列している。画素電極層に対応して設けられた薄膜トランジスタは、走査線と接続するゲート電極層と、ゲート電極層を被覆するゲート絶縁層と、チャネル形成領域となる第１の酸化物半導体層と、ゲート電極層と重なる第１の酸化物半導体層上を覆うチャネル保護層と、第１の酸化物半導体層及びチャネル保護層上にソース領域及びドレイン領域となる第２の酸化物半導体層と、第１の酸化物半導体層、チャネル保護層及び第２の酸化物半導体層上にソース電極層及びドレイン電極層とを含む。

画素部の外側領域に設けられるパッド部は、ゲート絶縁層と同じ層で形成された絶縁層上に、ソース電極層及びドレイン電極層と同じ層で形成された導電層が形成され、導電層上に設けられた層間絶縁層の開口部によって画素電極層と対向する共通電極層と電気的電気的な接続を可能としている。

本発明の例示的な一態様は、画素部の外側領域に設けられるパッド部の他の構成として、ゲート電極層と同じ層で形成された第１の導電層と、ゲート絶縁層と同じ層で形成された絶縁層上に、ソース電極層及びドレイン電極層と同じ層で形成された第２の導電層が形成され、第２の導電層上に設けられた層間絶縁層の開口部によって画素電極層と対向する共通電極層と電気的な接続を可能とするものを含む。

上記構成において、パッド部として、ゲート絶縁層と同じ層で形成された絶縁層と導電層（又は第２の導電層）との間に第２の酸化物半導体層と同じ層で形成された酸化物半導体層とを有する構成としてもよい。

半導体層のチャネル形成領域として用いる酸化物半導体層（第１の酸化物半導体層）は、ソース領域及びドレイン領域として用いる酸化物半導体層（第２の酸化物半導体層）より酸素濃度が高い。第１の酸化物半導体層は酸素過剰酸化物半導体層であり、第２の酸化物半導体層は酸素欠乏酸化物半導体層と言える。

第２の酸化物半導体層はｎ型の導電型を示し、第１の酸化物半導体層より電気伝導度が高い。よって第２の酸化物半導体層を用いるソース領域及びドレイン領域は、第１の酸化物半導体層を用いる半導体層より抵抗が低くなる。

また第１の酸化物半導体層は非晶質構造を有し、第２の酸化物半導体層は非晶質構造の中に結晶粒（ナノクリスタル）を含む場合がある。この第２の酸化物半導体層中の結晶粒（ナノクリスタル）は直径１ｎｍ〜１０ｎｍ、代表的には２ｎｍ〜４ｎｍ程度である。

なお、第１、第２として付される序数詞は便宜上用いるものであり、工程順又は積層順を示すものではない。また、本明細書において発明を特定するための事項として固有の名称を示すものではない。

チャネル形成領域となる第１の酸化物半導体層及び、またはソース領域及びドレイン領域となる第２の酸化物半導体層としてＩｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む酸化物半導体膜を用いることができる。また、Ｉｎ、Ｇａ、及びＺｎのいずれか一をタングステン、モリブデン、チタン、ニッケル、又はアルミニウムと置換してもよい。

本明細書において、Ｉｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む酸化物半導体膜を用いて形成された半導体層を「ＩＧＺＯ半導体層」とも記す。ＩＧＺＯ半導体層は、非単結晶半導体層であり、少なくともアモルファス成分を含んでいるものとする。

画素電極層および該画素電極層と電気的に接続する薄膜トランジスタを表面上に有する基板は、シール材と呼ばれる接着材で対向基板と固定される。

液晶表示装置において、液晶材料は、シール材と２枚の基板で封止される。

シール材には、導電性粒子（プラスチック粒子表面に金メッキ処理した粒子等）を複数混入させて、対向基板に設けられた対向電極（共通電極とも呼ぶ）と、もう一方の基板に設けられた共通電極または共通電位線との導通を行う。

共通電位線は薄膜トランジスタの工程と同じ工程で同一基板上に作製することができる。

また、共通電位線とシール材の導電性粒子とが重なる部分が共通接続部と呼ぶこともあり、共通電位線において導電性粒子と重なる部分を共通電極とも言える。

薄膜トランジスタと同一基板上に形成する共通電位線は、液晶を交流駆動させる際に基準となる基準電圧（共通電位）を与える線とも言える。

また、対向電極と接続する共通電位線の他にも、保持容量の一方の電極と接続する容量配線も共通電位線の一種とも呼べ、同様に同一基板上に設けることができる。

また、電気泳動表示素子を用いた電子ペーパーとも称される表示装置においては、一対の基板の間に、異なる極性に帯電した白色粒子と黒色粒子およびそれらを分散する分散媒（気体または液体）を収容する構造となっており、一対の基板の一方の基板に設けられた電極は共通電極（コモン電極）である。この共通電極に対向して画素電極がもう一方の基板に設けられ、その基板には画素電極と電気的に接続する薄膜トランジスタが複数配置される。例えば、この電気泳動表示素子を用いた表示装置の駆動方法は、白表示から黒表示へ変化させたい画素電極に対して、共通電極に印加されている共通電位に対して正の電圧を印加し、黒表示から白表示へ変化させたい画素電極に対して、共通電極に印加されている共通電位に対して負の電圧を印加し、変化させない画素電極は共通電極と同電位とする。

薄膜トランジスタと同一基板上に形成する共通電位線は、電気泳動表示素子を駆動させる際に基準となる基準電圧を与える線とも言える。

なお、電気泳動表示素子を用いた表示装置は、一対の基板及びその間に設けられる隔壁によって一定の大きさで形成された独立空間が複数設けられ、一つの独立空間が単位画素となり、表示を形成する。一つの独立空間は、異なる極性に帯電した複数の白色粒子と複数の黒色粒子およびそれらを分散する分散媒（気体または液体）を収容する空間である。

電気泳動表示素子を用いた表示装置においても、異なる極性に帯電した複数の有色粒子およびそれらを分散する分散媒は、シール材と２枚の基板で封止される。また、電気泳動表示素子を用いた表示装置においても、一方の基板に設けられた共通電極と、もう一方の基板に形成する共通電位線とは共通接続部で導電性粒子により接続を行う。

また、液晶表示装置または電気泳動表示素子を用いた表示装置において、プロセス温度にもよるが、用いる一対の基板の材料としてプラスチックフィルムを用いることもできる。

ゲート絶縁層、チャネル形成領域となる第１の酸化物半導体層、ソース領域及びドレイン領域となる第２の酸化物半導体層、ソース電極層及びドレイン電極層はスパッタ法（スパッタリング法）で形成すればよい。

スパッタ法にはスパッタ用電源に高周波電源を用いるＲＦスパッタ法と、ＤＣスパッタ法があり、さらにパルス的にバイアスを与えるパルスＤＣスパッタ法もある。ＲＦスパッタ法は主に絶縁膜を成膜する場合に用いられ、ＤＣスパッタ法は主に金属膜を成膜する場合に用いられる。

また、材料の異なるターゲットを複数設置できる多元スパッタ装置もある。多元スパッタ装置は、同一チャンバーで異なる材料膜を積層成膜することも、同一チャンバーで複数種類の材料を同時に放電させて成膜することもできる。

また、チャンバー内部に磁石機構を備えたマグネトロンスパッタ法を用いるスパッタ装置や、グロー放電を使わずマイクロ波を用いて発生させたプラズマを用いるＥＣＲスパッタ法を用いるスパッタ装置がある。

また、スパッタ法を用いる成膜方法として、成膜中にターゲット物質とスパッタガス成分とを化学反応させてそれらの化合物薄膜を形成するリアクティブスパッタ法や、成膜中に基板にも電圧をかけるバイアススパッタ法もある。

これら各種のスパッタ法を用いてゲート絶縁層、半導体層、ソース領域及びドレイン領域、ソース電極層及びドレイン電極層を形成する。

また、第１の酸化物半導体層（酸素過剰酸化物半導体層）及び第２の酸化物半導体層（酸素欠乏酸化物半導体層）にＩＧＺＯ半導体層を用いる場合、第１の酸化物半導体層及び第２の酸化物半導体層の成膜条件とは異なる成膜条件で形成される。ソース領域及びドレイン領域となる第２の酸化物半導体層の成膜条件は、成膜直後においてサイズが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の結晶粒を含む条件が含まれる。例えば、Ｉｎ_２Ｏ_３：Ｇａ_２Ｏ_３：ＺｎＯ＝１：１：１としたターゲットを用い、ＤＣスパッタ法でアルゴンガス流量：酸素流量を２：１の割合でチャンバーに導入する成膜条件、或いはアルゴンガスのみを導入する成膜条件とした場合、成膜直後においてサイズが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の結晶粒を含む膜を得ることがある。なお、Ｉｎ_２Ｏ_３：Ｇａ_２Ｏ_３：ＺｎＯ＝１：１：１としたターゲットはアモルファス状の酸化物半導体膜を得るために、この比率として意図的に設計したものであるため、ソース領域及びドレイン領域をより結晶性の高い膜を得るためにターゲットの組成比を変更してもよい。プロセスの簡略化、または低コストを実現するためには、同じターゲットを用いて導入ガスを変更するだけでチャネル形成領域となる第１の酸化物半導体層と、ソース領域及びドレイン領域となる第２の酸化物半導体層とを作り分ける方が好ましい。

また、ソース電極層及びドレイン電極層にチタン膜を用いることが好ましい。

また、スパッタ法はターゲットに対して強いエネルギーをＡｒイオンで与えるため、本体、成膜された酸化物半導体層（代表的には、ＩＧＺＯ半導体層）中には強い歪エネルギーが内在すると考えられる。この歪エネルギーを解放するため２００℃〜６００℃、代表的には３００℃〜５００℃の熱処理を行うことが好ましい。この熱処理により原子レベルの再配列が行われる。この熱処理によりキャリアの移動を阻害する歪が解放されるため、成膜と熱処理（光アニールも含む）は重要である。

なお、本明細書中において半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置全般を指し、電気光学装置、半導体回路および電子機器は全て半導体装置である。

本発明の一形態により、表示パネルに設けられるパッド部として適した構造を提供することができる。

本発明の一態様によれば、画素部の外側領域に設けられるパッド部において、酸化物半導体層と導電層とを積層した構成とすることにより、薄膜の剥がれに起因する不良を防止することができる。また、酸化物半導体層と導電層とを積層した構成とすることによりパッド部が厚膜化され、低抵抗化が図られ、丈夫な構造とすることができる。

また、本発明の一形態によって、光電流が少なく、寄生容量が小さく、オンオフ比の高い薄膜トランジスタを得ることができ、良好な動特性を有する薄膜トランジスタを作製できる。

従って、本発明の一形態により、電気特性が高く信頼性のよい表示装置を提供することができる。

半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置の作製方法を説明する図。 半導体装置の作製方法を説明する図。 半導体装置の作製方法を説明する図。 半導体装置の作製方法を説明する図。 半導体装置の作製方法を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置のブロック図を説明する図。 信号線駆動回路の構成を説明する図。 信号線駆動回路の動作を説明するタイミングチャート。 信号線駆動回路の動作を説明するタイミングチャート。 シフトレジスタの構成を説明する図。 図１７に示すフリップフロップの接続構成を説明する図。 半導体装置の画素等価回路を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。 電子ペーパーの使用形態の例を説明する図。 電子書籍の一例を示す外観図。 テレビジョン装置およびデジタルフォトフレームの例を示す外観図。 遊技機の例を示す外観図。 携帯電話機の一例を示す外観図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。 半導体装置を説明する図。

本発明の実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する本発明の構成において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。

（実施の形態１）
ここでは、第１の基板と第２の基板の間に液晶層を封入する液晶表示装置において、第２の基板に設けられた対向電極と電気的に接続するための共通接続部（パッド部）を第１の基板上に形成する例を示す。なお、第１の基板にはスイッチング素子として薄膜トランジスタが形成されており、共通接続部の作製工程を画素部のスイッチング素子の作製工程と共通化させることで工程を複雑にすることなく形成する。

共通接続部は、第１の基板と第２の基板とを接着するためのシール材と重なる位置に配置され、シール材に含まれる導電性粒子を介して対向電極と電気的な接続が行われる。或いは、シール材と重ならない箇所（ただし画素部を除く）に共通接続部を設け、共通接続部に重なるように導電性粒子を含むペーストをシール材とは別途設けて、対向電極と電気的な接続が行われる。

図１（Ａ）は薄膜トランジスタと共通接続部とを同一基板上に作製する半導体装置の断面構造図を示す図である。なお、図１（Ａ）に示す薄膜トランジスタは、チャネル保護層を有する逆スタガ型薄膜トランジスタであり、半導体層１０３のチャネル形成領域上チャネル保護層１３３が設けられ、半導体層１０３及びチャネル保護層１３３上にソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂを介してソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂが設けられている薄膜トランジスタの例である。

本実施の形態では、チャネル形成領域を有する半導体層１０３は、Ｉｎ、Ｇａ、Ｚｎ、及びＯを含む非単結晶半導体層（第１の酸化物半導体層）であり、少なくともアモルファス成分を含んでいるものとする。また、ソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂは、Ｉｎ、Ｇａ、Ｚｎ、及びＯを含む酸化物半導体層（第２の酸化物半導体層）であり、半導体層１０３の成膜条件とは異なる成膜条件で形成され、半導体層１０３よりも含まれる酸素濃度が低く、低抵抗な酸化物半導体層である。ソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂは、ｎ型の導電型を有し、活性化エネルギー（ΔＥ）が０．０１ｅＶ以上０．１ｅＶ以下であり、ｎ^＋領域とも呼べる。なお、ソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂは、Ｉｎ、Ｇａ、Ｚｎ、及びＯを含む非単結晶半導体層であり、少なくともアモルファス成分を含んでいるものとする。よって半導体層１０３に用いる酸化物半導体層は酸素過剰酸化物半導体層であり、ソース領域またはドレイン領域として用いる酸化物半導体層は酸素欠乏半導体層である。

酸素欠乏酸化物半導体層をソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂとして設けることにより、金属層であるソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂと、半導体層１０３（酸素過剰酸化物半導体層）との間を良好な接合としてショットキー接合に比べて熱的にも安定動作を有せしめる。また、チャネルのキャリアを供給する（ソース側）、またはチャネルのキャリアを安定して吸収する（ドレイン側）、または抵抗成分をソース電極層（またはドレイン電極層）との界面に作らないためにも積極的にソース領域またはドレイン領域を設けると効果的である。また低抵抗化により、高いドレイン電圧でも良好な移動度を保持することができる。

半導体層１０３のチャネル形成領域上にチャネル保護層１３３を設ける構造であるため、半導体層１０３のチャネル形成領域に対する工程時におけるダメージ（エッチング時のプラズマやエッチング剤による膜減りや、酸化など）を防ぐことができる。従って薄膜トランジスタ１７０の信頼性を向上させることができる。

また、図１（Ｂ）は共通接続部の上面図の一例を示す図であり、図中の鎖線Ｇ１−Ｇ２が図１（Ａ）の共通接続部の断面に相当する。なお、図１（Ｂ）において図１（Ａ）と同一の部分には同じ符号を用いて説明する。

共通電位線１８５は、ゲート絶縁層１０２上に設けられ、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂと同じ材料及び同じ工程で作製される。

また、共通電位線１８５は、保護絶縁層１０７で覆われ、保護絶縁層１０７は、共通電位線１８５と重なる位置に複数の開口部を有している。この開口部は、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂと画素電極層１１０とを接続するコンタクトホールと同じ工程で作製される。

なお、ここでは面積サイズが大きく異なるため、画素部におけるコンタクトホールと、共通接続部の開口部と使い分けて呼ぶこととする。また、図１（Ａ）では、画素部と共通接続部とで同じ縮尺で図示しておらず、例えば共通接続部の鎖線Ｇ１−Ｇ２の長さが５００μｍ程度であるのに対して、薄膜トランジスタの幅は５０μｍ未満であり、実際には１０倍以上面積サイズが大きいが、分かりやすくするため、図１（Ａ）に画素部と共通接続部の縮尺をそれぞれ変えて図示している。

また、共通電極層１９０は、保護絶縁層１０７上に設けられ、画素部の画素電極層１１０と同じ材料及び同じ工程で作製される。

このように、画素部のスイッチング素子の作製工程と共通させて共通接続部の作製工程を行う。

そして画素部と共通接続部が設けられた第１の基板１００と、対向電極を有する第２の基板とをシール材を用いて固定する。

シール材に導電性粒子を含ませる場合は、シール材と共通接続部が重なるように一対の基板（第１の基板及び第２の基板）の位置合わせが行われる。例えば、小型の液晶パネルにおいては、画素部の対角などに２個の共通接続部がシール材と重ねて配置される。また、大型の液晶パネルにおいては、４個以上の共通接続部がシール材と重ねて配置される。

なお、共通電極層１９０は、シール材に含まれる導電性粒子と接触する電極であり、第２の基板の対向電極と電気的に接続が行われる。

液晶注入法を用いる場合は、シール材で一対の基板を固定した後、液晶を一対の基板間に注入する。また、液晶滴下法を用いる場合は、第２の基板或いは第１の基板上にシール材を描画し、液晶を滴下させた後、減圧下で一対の基板を貼り合わせる。

なお、本実施の形態では、対向電極と電気的に接続する共通接続部の例を示したが、特に限定されず、他の配線と接続する接続部や、外部接続端子などと接続する接続部に用いることができる。

例えば、発光表示装置を作製する場合、液晶表示装置とは異なり、対向電極と接続するための接続部分はないが、発光素子のカソード（陰極）を共通配線に接続する部分を有し、その部分を図１（Ａ）に示す接続構造と同じ構造としてもよい。発光素子のカソードは画素毎に接続させる接続部分を設ければよい、或いは画素部と駆動回路部の間に接続部分を設ければよい。

（実施の形態２）
ここでは、共通電位線として、ゲート配線と同じ材料及び同じ工程で形成される配線を用いて共通接続部（パッド部）を作製する例を図２（Ａ）及び図２（Ｂ）に示す。

図２（Ｂ）は共通接続部の上面図の一例を示す図であり、図中の鎖線Ｅ１−Ｅ２が図２（Ａ）の共通接続部の断面に相当する。

なお、図２（Ａ）に示すように実施の形態１と画素部の薄膜トランジスタの構造は、同一であるため、図１（Ａ）と同じ部分には同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略することとする。

共通電位線１８１は、第１の基板１００上に設けられ、ゲート電極層１０１と同じ材料及び同じ工程で作製される。

また、共通電位線１８１は、ゲート絶縁層１０２及び保護絶縁層１０７で覆われ、ゲート絶縁層１０２及び保護絶縁層１０７は、共通電位線１８１と重なる位置に複数の開口部を有している。この開口部は、実施の形態１とは異なり、２層の絶縁膜の厚さに相当する深い開口部となる。なお、この開口部は、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂと画素電極層１１０とを接続するコンタクトホールと同じ工程でエッチングした後、さらにゲート絶縁層１０２を選択的にエッチングすることで作製される。

また、共通電極層１９０は、保護絶縁層１０７上に設けられ、画素部の画素電極層１１０と同じ材料及び同じ工程で作製される。

このように、画素部のスイッチング素子の作製工程と共通させて共通接続部の作製工程を行う。

そして画素部と共通接続部が設けられた第１の基板１００と、対向電極を有する第２の基板とをシール材を用いて固定する。

シール材に導電性粒子を含ませる場合は、シール材と共通接続部が重なるように一対の基板の位置合わせが行われる。

なお、共通電極層１９０は、シール材に含まれる導電性粒子と接触する電極であり、第２の基板の対向電極と電気的に接続が行われる。

液晶注入法を用いる場合は、シール材で一対の基板を固定した後、液晶を一対の基板間に注入する。また、液晶滴下法を用いる場合は、第２の基板或いは第１の基板上にシール材を描画し、液晶を滴下させた後、減圧下で一対の基板を貼り合わせる。

なお、本実施の形態では、対向電極と電気的に接続する共通接続部の例を示したが、特に限定されず、他の配線と接続する接続部や、外部接続端子などと接続する接続部に用いることができる。

（実施の形態３）
ここでは、共通接続部（パッド部）にゲート配線と同じ材料及び同じ工程で形成される電極を設け、その上に設ける共通電位線として、ソース電極層と同じ材料及び同じ工程で形成される配線を用いて共通接続部を作製する例を図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に示す。

図３（Ｂ）は共通接続部の上面図の一例を示す図であり、図中の鎖線Ｆ１−Ｆ２が図３（Ａ）の共通接続部の断面に相当する。

なお、図３（Ａ）に示すように実施の形態１と画素部の薄膜トランジスタの構造は、同一であるため、図１（Ａ）と同じ部分には同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略することとする。

接続電極層１９１は、第１の基板１００上に設けられ、ゲート電極層１０１と同じ材料及び同じ工程で作製される。

また、接続電極層１９１は、ゲート絶縁層１０２及び保護絶縁層１０７で覆われ、ゲート絶縁層１０２及び保護絶縁層１０７は、共通電極層１９０と重なる位置に開口部を有している。この開口部は、実施の形態１とは異なり、２層の絶縁膜の厚さに相当する深い開口部となる。なお、この開口部は、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ｂと画素電極層１１０とを接続するコンタクトホールと同じ工程でエッチングした後、さらにゲート絶縁層１０２を選択的にエッチングすることで作製される。

また、共通電位線１８５は、ゲート絶縁層１０２上に設けられ、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂと同じ材料及び同じ工程で作製される。

また、共通電位線１８５は、保護絶縁層１０７で覆われ、保護絶縁層１０７は、共通電位線１８５と重なる位置に複数の開口部を有している。この開口部は、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ｂと画素電極層１１０とを接続するコンタクトホールと同じ工程で作製される。

また、共通電極層１９０は、保護絶縁層１０７上に設けられ、画素部の画素電極層１１０と同じ材料及び同じ工程で作製される。

このように、画素部のスイッチング素子の作製工程と共通させて共通接続部の作製工程を行う。

そして画素部と共通接続部が設けられた第１の基板１００と、対向電極を有する第２の基板とをシール材を用いて固定する。

また、本実施の形態においては、複数の導電性粒子をゲート絶縁層１０２の開口部にのみ選択的に配置する。即ち、共通電極層１９０と接続電極層１９１とが接している領域に複数の導電性粒子を配置する。接続電極層１９１及び共通電位線１８５の両方と接触する共通電極層１９０は、導電性粒子と接触する電極であり、第２の基板の対向電極と電気的に接続が行われる。

液晶注入法を用いる場合は、シール材で一対の基板を固定した後、液晶を一対の基板間に注入する。また、液晶滴下法を用いる場合は、第２の基板或いは第１の基板上にシール材を描画し、液晶を滴下させた後、減圧下で一対の基板を貼り合わせる。

なお、本実施の形態では、対向電極と電気的に接続する共通接続部の例を示したが、特に限定されず、他の配線と接続する接続部や、外部接続端子などと接続する接続部に用いることができる。

（実施の形態４）
ここでは、実施の形態１において、ソース電極層又はドレイン電極層とソース領域又はドレイン領域を同じマスクでエッチング加工して形成された表示装置の例を図２９（Ａ）（Ｂ）に示す。

図２９（Ａ）は薄膜トランジスタと共通接続部（パッド部）とを同一基板上に作製する半導体装置の断面構造図を示す図である。図２９（Ａ）に示す薄膜トランジスタ１７２は、チャネル保護層を有する逆スタガ型薄膜トランジスタであり、半導体層１０３のチャネル形成領域上チャネル保護層１３３が設けられ、半導体層１０３及びチャネル保護層１３３上にソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂを介してソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂが設けられている薄膜トランジスタの例である。薄膜トランジスタ１７２は、ソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂを形成する酸化物半導体層のエッチング加工と、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂを形成する導電層のエッチング加工とを、同じマスクを用いて行う。

従って、薄膜トランジスタ１７２においては、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂ及びソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂは同形状であり、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂソース領域下にソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂが存在する。

よって共通接続部においてもゲート絶縁層１０２と共通電位線１８５との間にソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂと同じ材料及び同じ工程で作製される酸化物半導体層１８６が形成される。

なお、図２９（Ｂ）は共通接続部の上面図の一例を示す図であり、図中の鎖線Ｇ１−Ｇ２が図２９（Ａ）の共通接続部の断面に相当する。

なお、図２９（Ｂ）に示すように実施の形態１と共通接続部の上面図の構造は、同一であるため、図１（Ｂ）と同じ部分には同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略することとする。

本実施の形態によれば、画素部の外側領域に設けられる共通接続部（パッド部）において、酸化物半導体層と導電層とを積層した構成とすることにより、薄膜の剥がれに起因する不良を防止することができる。また、酸化物半導体層と導電層とを積層した構成とすることによりパッド部が厚膜化され、低抵抗化が図られ、丈夫な構造とすることができる。

（実施の形態５）
ここでは、実施の形態３において、ソース電極層又はドレイン電極層とソース領域及びドレイン領域を同じマスクでエッチング加工して形成された表示装置の例を図３０（Ａ）（Ｂ）に示す。

図３０（Ａ）は薄膜トランジスタと共通接続部（パッド部）とを同一基板上に作製する半導体装置の断面構造図を示す図である。

なお、図３０（Ａ）に示すように実施の形態４と画素部の薄膜トランジスタの構造は、同一であるため、図２９（Ａ）と同じ部分には同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略することとする。

薄膜トランジスタ１７２は、ソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂを形成する酸化物半導体層のエッチング加工と、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂを形成する導電層のエッチング加工とを、同じマスクを用いて行う。従って、薄膜トランジスタ１７２においては、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂ及びソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂは同形状であり、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂソース領域下にソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂが存在する。

共通接続部においてもゲート絶縁層１０２と共通電位線１８５との間にソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂと同じ材料及び同じ工程で作製される酸化物半導体層１８６が形成される。

なお、図３０（Ｂ）は共通接続部の上面図の一例を示す図であり、図中の鎖線Ｆ１−Ｆ２が図３０（Ａ）の共通接続部の断面に相当する。

なお、図３０（Ｂ）に示すように実施の形態３と共通接続部の上面図の構造は、同一であるため、図３（Ｂ）と同じ部分には同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略することとする。

本実施の形態によれば、画素部の外側領域に設けられる共通接続部（パッド部）において、酸化物半導体層と導電層とを積層した構成とすることにより、薄膜の剥がれに起因する不良を防止することができる。また、酸化物半導体層と導電層とを積層した構成とすることによりパッド部が厚膜化され、低抵抗化が図られ、丈夫な構造とすることができる。

（実施の形態６）
本実施の形態では、本発明の一形態の薄膜トランジスタを含む表示装置の作製工程について、図４乃至図１１を用いて説明する。本発明の表示装置に含まれる薄膜トランジスタは、チャネル保護層を有する逆スタガ型の薄膜トランジスタである。

図４（Ａ）において、透光性を有する第１の基板１００にはバリウムホウケイ酸ガラスやアルミノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板を用いることができる。

次いで、導電層を第１の基板１００全面に形成した後、第１のフォトリソグラフィー工程を行い、レジストマスクを形成し、エッチングにより不要な部分を除去して配線及び電極（ゲート電極層１０１を含むゲート配線、容量配線１０８、及び第１の端子１２１）を形成する。このとき少なくともゲート電極層１０１の端部にテーパー形状が形成されるようにエッチングする。この段階での断面図を図４（Ａ）に示した。なお、この段階での上面図が図６に相当する。

ゲート電極層１０１を含むゲート配線と容量配線１０８、端子部の第１の端子１２１は、アルミニウム（Ａｌ）や銅（Ｃｕ）などの低抵抗導電性材料で形成することが望ましいが、Ａｌ単体では耐熱性が劣り、また腐蝕しやすい等の問題点があるので耐熱性導電性材料と組み合わせて形成する。耐熱性導電性材料としては、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）、Ｎｄ（ネオジム）、スカンジウム（Ｓｃ）から選ばれた元素、または上述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜、または上述した元素を成分とする窒化物で形成する。

次いで、ゲート電極層１０１上にゲート絶縁層１０２を全面に成膜する。ゲート絶縁層１０２はスパッタ法などを用い、膜厚を５０〜２５０ｎｍとする。

例えば、ゲート絶縁層１０２としてスパッタ法により酸化シリコン膜を用い、１００ｎｍの厚さで形成する。勿論、ゲート絶縁層１０２はこのような酸化シリコン膜に限定されるものでなく、酸化窒化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化アルミニウム、酸化タンタル膜などの他の絶縁膜を用い、これらの材料から成る単層または積層構造として形成しても良い。

プラズマ処理によって、チャネル形成領域となる酸化物半導体層（ＩＧＺＯ半導体層）を形成前にゲート絶縁層の表面を洗浄してもよい。ゲート絶縁層の表面に存在する有機物などのゴミを除去するプラズマ処理を行うことは有用である。また、ゲート絶縁層の表面にプラズマ処理を行い、表面を酸素過剰領域とすることは、その後の工程での信頼性向上のための熱処理（２００℃〜６００℃）において、ＩＧＺＯ半導体層界面の改質のための酸素の供給源を作る上で有効である。

さらに、プラズマ処理後に大気に触れることなくスパッタ法で酸化物半導体層を成膜することが好ましい。酸化物半導体層の成膜前に被成膜基板が大気に触れた場合、水分などが付着し、界面状態に悪影響を与え、しきい値のバラツキや、電気特性の劣化、ノーマリーオンのＴＦＴになってしまう症状などを引き起こす恐れがある。プラズマ処理は酸素ガスまたはアルゴンガスを用いる。アルゴンガスに変えて他の希ガスを用いてもよい。

プラズマ処理後に大気に触れることなくスパッタ法でチャネル形成領域となる酸化物半導体層を成膜するために、プラズマ処理と酸化物半導体層の成膜の両方を同じチャンバーで行うことが可能な逆スパッタと呼ばれるプラズマ処理の一種を行うことが好ましい。逆スパッタとは、ターゲット側に電圧を印加せずに、酸素、又は酸素及びアルゴン雰囲気下で基板側に電圧を印加してプラズマを形成して基板上の薄膜表面を改質する方法である。

また、チャンバーに酸素ガスを用いるプラズマ処理を行う場合、ゲート絶縁層表面に酸素ラジカルが照射されることによって、ゲート絶縁層表面を酸素過剰領域に改質し、後に成膜するチャネル形成領域となる酸化物半導体層との界面における酸素濃度を高くする。ゲート絶縁層に酸素ラジカル処理を行って酸化物半導体層を積層し、熱処理を行えば、チャネル形成領域となる酸化物半導体層のゲート絶縁層側の酸素濃度も高濃度とすることができる。従って、ゲート絶縁層とチャネル形成領域となる酸化物半導体層との界面に酸素濃度のピークを有し、かつゲート絶縁層の酸素濃度は濃度勾配を有し、その勾配はゲート絶縁層とチャネル形成領域となる酸化物半導体層との界面に近づくにつれて増加する。酸素過剰領域を有するゲート絶縁層と酸素過剰酸化物半導体層であるチャネル形成領域となる酸化物半導体層は相性がよく、良好な界面特性を得ることができる。

酸素ラジカルは、酸素を含むガスを用いてプラズマ発生装置により供給されてもよいし、又はオゾン発生装置により供給されてもよい。供給された酸素ラジカル又は酸素を薄膜に照射することによって膜表面を改質することができる。

また、酸素ラジカル処理に限定されず、アルゴンと酸素のラジカル処理を行ってもよい。アルゴンと酸素のラジカル処理とは、アルゴンガスと酸素ガスを導入してプラズマを発生させて薄膜表面の改質を行うことである。

電界が印加され放電プラズマが発生している反応空間中のＡｒ原子（Ａｒ）は、放電プラズマ中の電子（ｅ）により励起又は電離され、アルゴンラジカル（Ａｒ^＊）やアルゴンイオン（Ａｒ^＋）や電子（ｅ）となる。アルゴンラジカル（Ａｒ^＊）はエネルギーの高い準安定状態にあり、周辺にある同種又は異種の原子と反応し、それらの原子を励起又は電離させて安定状態に戻ろうとして雪崩れ現象的に反応が発生する。その時に周辺に酸素があると、酸素原子（Ｏ）が励起又は電離され、酸素ラジカル（Ｏ^＊）や酸素イオン（Ｏ^＋）や酸素（Ｏ）となる。その酸素ラジカル（Ｏ^＊）が被処理物である薄膜表面の材料と反応し、表面改質が行われ、表面にある有機物と反応して有機物を除去するプラズマ処理が行われる。なお、アルゴンガスのラジカルは、反応性ガス（酸素ガス）のラジカルと比較して準安定状態が長く維持されるという特徴があり、そのためプラズマを発生させるのにアルゴンガスを用いるのが一般的である。

次に、ゲート絶縁層１０２上に、第１の酸化物半導体膜（本実施の形態では第１のＩＧＺＯ膜）を成膜する。プラズマ処理後、大気に曝すことなく第１のＩＧＺＯ膜を成膜することは、ゲート絶縁層と半導体膜の界面にゴミや水分を付着させない点で有用である。ここでは、直径８インチのＩｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む酸化物半導体ターゲット（Ｉｎ_２Ｏ_３：Ｇａ_２Ｏ_３：ＺｎＯ＝１：１：１）を用いて、基板とターゲットの間との距離を１７０ｍｍ、圧力０．４Ｐａ、直流（ＤＣ）電源０．５ｋＷ、アルゴン又は酸素雰囲気下で成膜する。なお、パルス直流（ＤＣ）電源を用いると、ごみが軽減でき、膜厚分布も均一となるために好ましい。第１のＩＧＺＯ膜の膜厚は、５ｎｍ〜２００ｎｍとする。本実施の形態では第１のＩＧＺＯ膜の膜厚は、１００ｎｍとする。

ゲート絶縁層及び第１のＩＧＺＯ膜は、スパッタ法で、チャンバーに導入するガスまたは設置するターゲットを適宣切り替えることにより大気に触れることなく連続成膜することができる。大気に触れることなく連続成膜すると、不純物の混入を防止することができる。大気に触れることなく連続成膜する場合、マルチチャンバー方式の製造装置を用いることが好ましい。

次に第１のＩＧＺＯ膜のチャネル形成領域と重畳する領域にチャネル保護層１３３を形成する。チャネル保護層１３３もゲート絶縁層１０２、第１のＩＧＺＯ膜と大気に触れさせずに連続成膜することによって形成してもよい。積層する薄膜を大気に曝さずに連続的に成膜すると生産性が向上する。

チャネル保護層１３３としては、無機材料（酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、窒化酸化珪素など）を用いることができる。作製法としては、プラズマＣＶＤ法や熱ＣＶＤ法などの気相成長法やスパッタリング法を用いることができる。チャネル保護層１３３は成膜後にエッチングにより形状を加工してする。ここでは、スパッタ法により酸化シリコン膜を形成し、フォトリソグラフィーによるマスクを用いてエッチング加工することでチャネル保護層１３３を形成する。

次いで、第１のＩＧＺＯ膜及びチャネル保護層１３３上に第２の酸化物半導体膜（本実施の形態では第２のＩＧＺＯ膜）をスパッタ法で成膜する。ここでは、Ｉｎ_２Ｏ_３：Ｇａ_２Ｏ_３：ＺｎＯ＝１：１：１としたターゲットを用い、成膜条件は、圧力を０．４Ｐａとし、電力を５００Ｗとし、成膜温度を室温とし、アルゴンガス流量４０ｓｃｃｍを導入してスパッタ成膜を行う。Ｉｎ_２Ｏ_３：Ｇａ_２Ｏ_３：ＺｎＯ＝１：１：１としたターゲットを意図的に用いているにも関わらず、成膜直後で大きさ１ｎｍ〜１０ｎｍの結晶粒を含むＩＧＺＯ膜が形成されることがある。なお、ターゲットの成分比、成膜圧力（０．１Ｐａ〜２．０Ｐａ）、電力（２５０Ｗ〜３０００Ｗ：８インチφ）、温度（室温〜１００℃）、反応性スパッタの成膜条件などを適宜調節することで結晶粒の有無や、結晶粒の密度や、直径サイズは、１ｎｍ〜１０ｎｍの範囲で調節されうると言える。第２のＩＧＺＯ膜の膜厚は、５ｎｍ〜２０ｎｍとする。勿論、膜中に結晶粒が含まれる場合、含まれる結晶粒のサイズが膜厚を超える大きさとならない。本実施の形態では第２のＩＧＺＯ膜の膜厚は、５ｎｍとする。

第１のＩＧＺＯ膜は、第２のＩＧＺＯ膜の成膜条件と異ならせることで、第２のＩＧＺＯ膜の膜中の酸素濃度より多くの酸素を第１のＩＧＺＯ膜中に含ませる。例えば、第２のＩＧＺＯ膜の成膜条件における酸素ガス流量とアルゴンガス流量において酸素ガス流量の占める比率よりも第１のＩＧＺＯ膜の成膜条件における酸素ガス流量の占める比率が多い条件とする。具体的には、第２のＩＧＺＯ膜の成膜条件は、希ガス（アルゴン、又はヘリウムなど）雰囲気下（または酸素ガス１０％以下、アルゴンガス９０％以上）とし、第１のＩＧＺＯ膜の成膜条件は、酸素雰囲気下（又は酸素ガスの流量がアルゴンガスの流量と等しいかそれ以上）とする。多くの酸素を第１のＩＧＺＯ膜中に含ませることによって、第２のＩＧＺＯ膜よりも導電率を低くすることができる。また、多くの酸素を第１のＩＧＺＯ膜中に含ませることによってオフ電流の低減を図ることができるため、オンオフ比の高い薄膜トランジスタを得ることができる。

第２のＩＧＺＯ膜の成膜は、先に逆スパッタを行ったチャンバーと同一チャンバーを用いてもよいし、大気に曝すことなく成膜できるのであれば、先に逆スパッタを行ったチャンバーと異なるチャンバーで成膜してもよい。

次いで、２００℃〜６００℃、代表的には３００℃〜５００℃の熱処理を行うことが好ましい。ここでは炉に入れ、窒素雰囲気下で３５０℃、１時間の熱処理を行う。この熱処理によりＩＧＺＯ膜の原子レベルの再配列が行われる。この熱処理によりキャリアの移動を阻害する歪が解放されるため、ここでの熱処理（光アニールも含む）は重要である。なお、熱処理を行うタイミングは、第２のＩＧＺＯ膜の成膜後であれば特に限定されず、例えば画素電極形成後に行ってもよい。

次に、第２のフォトリソグラフィー工程を行い、レジストマスクを形成し、第１のＩＧＺＯ膜及び第２のＩＧＺＯ膜をエッチングする。ここではＩＴＯ０７Ｎ（関東化学社製）を用いたウェットエッチングにより、不要な部分を除去して酸素過剰型の第１のＩＧＺＯ膜である半導体層１０３、酸素欠乏型の第２のＩＧＺＯ膜であるＩＧＺＯ膜１１１を形成する。なお、ここでのエッチングは、ウェットエッチングに限定されずドライエッチングを用いてもよい。この段階での断面図を図４（Ｂ）に示した。なお、この段階での上面図が図７に相当する。

次に、半導体層１０３及びＩＧＺＯ膜１１１上に金属材料からなる導電膜１３２をスパッタ法や真空蒸着法で形成する。この段階での上面図を図４（Ｃ）に示した。

導電膜１３２の材料としては、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗから選ばれた元素、または上述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜等が挙げられる。また、２００℃〜６００℃の熱処理を行う場合には、この熱処理に耐える耐熱性を導電膜に持たせることが好ましい。Ａｌ単体では耐熱性が劣り、また腐蝕しやすい等の問題点があるので耐熱性導電性材料と組み合わせて形成する。Ａｌと組み合わせる耐熱性導電性材料としては、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）、Ｎｄ（ネオジム）、Ｓｃ（スカンジウム）から選ばれた元素、または上述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜、または上述した元素を成分とする窒化物で形成する。

ここでは、導電膜１３２としてチタン膜の単層構造とする。また、導電膜１３２は、２層構造としてもよく、アルミニウム膜上にチタン膜を積層してもよい。また、導電膜１３２としてＴｉ膜と、そのＴｉ膜上に重ねてＮｄを含むアルミニウム（Ａｌ−Ｎｄ）膜を積層し、さらにその上にＴｉ膜を成膜する３層構造としてもよい。導電膜１３２は、シリコンを含むアルミニウム膜の単層構造としてもよい。

次に、第３のフォトリソグラフィー工程を行い、レジストマスク１３１を形成し、エッチングにより不要な部分を除去してソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂ、及びソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂを形成する。この際のエッチング方法としてウェットエッチングまたはドライエッチングを用いる。例えば導電膜１３２としてアルミニウム膜、又はアルミニウム合金膜を用いる場合は、燐酸と酢酸と硝酸を混ぜた溶液を用いたウェットエッチングを行うことができる。ここでは、アンモニア過水（過酸化水素：アンモニア：水＝５：２：２）を用いたウェットエッチングにより、Ｔｉ膜の導電膜１３２をエッチングしてソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂを、ＩＧＺＯ膜１１１をエッチングしてソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂを形成する。このエッチング工程において、チャネル保護層１３３は半導体層１０３のエッチングストッパーとして機能するため、半導体層１０３はエッチングされない。図５（Ａ）においては、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂ、ソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂのエッチングをアンモニア過水のエッチング材によって一度に行うため、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂ及びソース領域又はドレイン領域１０４ａ、１０４ｂの端部は一致し、連続的な構造となっている。またウェットエッチングを用いるために、エッチングが等方的に行われ、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂの端部はレジストマスク１３１より後退している。以上の工程でＩＧＺＯ半導体層１０３をチャネル形成領域とし、かつ該チャネル形成領域上にチャネル保護層１３３を有する薄膜トランジスタ１７０が作製できる。この段階での断面図を図５（Ａ）に示した。なお、この段階での上面図が図８に相当する。

半導体層１０３のチャネル形成領域上にチャネル保護層１３３を設ける構造であるため、半導体層１０３のチャネル形成領域に対する工程時におけるダメージ（エッチング時のプラズマやエッチング剤による膜減りや、酸化など）を防ぐことができる。従って薄膜トランジスタ１７０の信頼性を向上させることができる。

また、この第３のフォトリソグラフィー工程において、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂと同じ材料である第２の端子１２２を端子部に残す。なお、第２の端子１２２はソース配線（ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂを含むソース配線）と電気的に接続されている。

また、多階調マスクにより形成した複数（代表的には二種類）の厚さの領域を有するレジストマスクを用いると、レジストマスクの数を減らすことができるため、工程簡略化、低コスト化が計れる。

次いで、レジストマスク１３１を除去し、薄膜トランジスタ１７０を覆う保護絶縁層１０７を形成する。保護絶縁層１０７はスパッタ法などを用いて得られる窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、酸化タンタル膜などを用いることができる。

次に、第４のフォトリソグラフィー工程を行い、レジストマスクを形成し、保護絶縁層１０７のエッチングによりソース電極層又はドレイン電極層１０５ｂに達するコンタクトホール１２５を形成する。また、ここでのエッチングにより第２の端子１２２に達するコンタクトホール１２７も形成する。なお、マスク数を削減するため、同じレジストマスクを用いてさらにゲート絶縁層をエッチングしてゲート電極に達するコンタクトホール１２６も同じレジストマスクで形成することが好ましい。この段階での断面図を図５（Ｂ）に示す。

次いで、レジストマスクを除去した後、透明導電膜を成膜する。透明導電膜の材料としては、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）や酸化インジウム酸化スズ合金（Ｉｎ_２Ｏ_３―ＳｎＯ_２、ＩＴＯと略記する）などをスパッタ法や真空蒸着法などを用いて形成する。このような材料のエッチング処理は塩酸系の溶液により行う。しかし、特にＩＴＯのエッチングは残渣が発生しやすいので、エッチング加工性を改善するために酸化インジウム酸化亜鉛合金（Ｉｎ_２Ｏ_３―ＺｎＯ）を用いても良い。

次に、第５のフォトリソグラフィー工程を行い、レジストマスクを形成し、エッチングにより不要な部分を除去して画素電極層１１０を形成する。

また、この第５のフォトリソグラフィー工程において、容量部におけるゲート絶縁層１０２及び保護絶縁層１０７を誘電体として、容量配線１０８と画素電極層１１０とで保持容量が形成される。

また、この第５のフォトリソグラフィー工程において、第１の端子及び第２の端子をレジストマスクで覆い端子部に形成された透明導電膜１２８、１２９を残す。透明導電膜１２８、１２９はＦＰＣとの接続に用いられる電極または配線となる。第２の端子１２２上に形成された透明導電膜１２９は、ソース配線の入力端子として機能する接続用の端子電極である。

次いで、レジストマスクを除去し、この段階での断面図を図５（Ｃ）に示す。なお、この段階での上面図が図９に相当する。

また、図１０（Ａ１）、図１０（Ａ２）は、この段階でのゲート配線端子部の上面図及び断面図をそれぞれ図示している。図１０（Ａ１）は図１０（Ａ２）中のＣ１−Ｃ２線に沿った断面図に相当する。図１０（Ａ１）において、保護絶縁膜１５４上に形成される透明導電膜１５５は、入力端子として機能する接続用の端子電極である。また、図１０（Ａ１）において、端子部では、ゲート配線と同じ材料で形成される第１の端子１５１と、ソース配線と同じ材料で形成される接続電極層１５３とがゲート絶縁層１５２を介して重なり、透明導電膜１５５で導通させている。なお、図５（Ｃ）に図示した透明導電膜１２８と第１の端子１２１とが接触している部分が、図１０（Ａ１）の透明導電膜１５５と第１の端子１５１が接触している部分に対応している。

また、図１０（Ｂ１）、及び図１０（Ｂ２）は、図５（Ｃ）に示すソース配線端子部とは異なるソース配線端子部の上面図及び断面図をそれぞれ図示している。また、図１０（Ｂ１）は図１０（Ｂ２）中のＤ１−Ｄ２線に沿った断面図に相当する。図１０（Ｂ１）において、保護絶縁膜１５４上に形成される透明導電膜１５５は、入力端子として機能する接続用の端子電極である。また、図１０（Ｂ１）において、端子部では、ゲート配線と同じ材料で形成される電極層１５６が、ソース配線と電気的に接続される第２の端子１５０の下方にゲート絶縁層１５２を介して重なる。電極層１５６は第２の端子１５０とは電気的に接続しておらず、電極層１５６を第２の端子１５０と異なる電位、例えばフローティング、ＧＮＤ、０Ｖなどに設定すれば、ノイズ対策のための容量または静電気対策のための容量を形成することができる。また、第２の端子１５０は、保護絶縁膜１５４を介して透明導電膜１５５と電気的に接続している。

ゲート配線、ソース配線、及び容量配線は画素密度に応じて複数本設けられるものである。また、端子部においては、ゲート配線と同電位の第１の端子、ソース配線と同電位の第２の端子、容量配線と同電位の第３の端子などが複数並べられて配置される。それぞれの端子の数は、それぞれ任意な数で設ければ良いものとし、実施者が適宣決定すれば良い。

こうして５回のフォトリソグラフィー工程により、５枚のフォトマスクを使用して、ボトムゲート型のｎチャネル型薄膜トランジスタである薄膜トランジスタ１７０を有する画素薄膜トランジスタ部、保持容量を完成させることができる。そして、これらを個々の画素に対応してマトリクス状に配置して画素部を構成することによりアクティブマトリクス型の表示装置を作製するための一方の基板とすることができる。本明細書では便宜上このような基板をアクティブマトリクス基板と呼ぶ。

アクティブマトリクス型の液晶表示装置を作製する場合には、アクティブマトリクス基板と、対向電極が設けられた対向基板との間に液晶層を設け、アクティブマトリクス基板と対向基板とを固定する。なお、対向基板に設けられた対向電極と電気的に接続する共通電極をアクティブマトリクス基板上に設け、共通電極と電気的に接続する第４の端子を端子部に設ける。この第４の端子は、共通電極を固定電位、例えばＧＮＤ、０Ｖなどに設定するための端子である。

また、本発明の一形態は、図９の画素構成に限定されず、図９とは異なる上面図の例を図１１に示す。図１１では容量配線を設けず、画素電極層を隣り合う画素のゲート配線と保護絶縁膜及びゲート絶縁層を介して重ねて保持容量を形成する例であり、この場合、容量配線及び容量配線と接続する第３の端子は省略することができる。なお、図１１において、図９と同じ部分には同じ符号を用いて説明する。

アクティブマトリクス型の液晶表示装置においては、マトリクス状に配置された画素電極を駆動することによって、画面上に表示パターンが形成される。詳しくは選択された画素電極と該画素電極に対応する対向電極との間に電圧が印加されることによって、画素電極と対向電極との間に配置された液晶層の光学変調が行われ、この光学変調が表示パターンとして観察者に認識される。

液晶表示装置の動画表示において、液晶分子自体の応答が遅いため、残像が生じる、または動画のぼけが生じるという問題がある。液晶表示装置の動画特性を改善するため、全面黒表示を１フレームおきに行う、所謂、黒挿入と呼ばれる駆動技術がある。

また、通常の垂直周期を１．５倍若しくは２倍以上にすることで動画特性を改善する、所謂、倍速駆動と呼ばれる駆動技術もある。

また、液晶表示装置の動画特性を改善するため、バックライトとして複数のＬＥＤ（発光ダイオード）光源または複数のＥＬ光源などを用いて面光源を構成し、面光源を構成している各光源を独立して１フレーム期間内で間欠点灯駆動する駆動技術もある。面光源として、３種類以上のＬＥＤを用いてもよいし、白色発光のＬＥＤを用いてもよい。独立して複数のＬＥＤを制御できるため、液晶層の光学変調の切り替えタイミングに合わせてＬＥＤの発光タイミングを同期させることもできる。この駆動技術は、ＬＥＤを部分的に消灯することができるため、特に一画面を占める黒い表示領域の割合が多い映像表示の場合には、消費電力の低減効果が図れる。

これらの駆動技術を組み合わせることによって、液晶表示装置の動画特性などの表示特性を従来よりも改善することができる。

本実施の形態で得られるｎチャネル型のトランジスタは、ＩＧＺＯ半導体層をチャネル形成領域に用いており、良好な動特性を有するため、これらの駆動技術を組み合わせることができる。

また、発光表示装置を作製する場合、有機発光素子の一方の電極（カソードとも呼ぶ）は、低電源電位、例えばＧＮＤ、０Ｖなどに設定するため、端子部に、カソードを低電源電位、例えばＧＮＤ、０Ｖなどに設定するための第４の端子が設けられる。また、発光表示装置を作製する場合には、ソース配線、及びゲート配線に加えて電源供給線を設ける。従って、端子部には、電源供給線と電気的に接続する第５の端子を設ける。

ソース領域又はドレイン領域（Ｉｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む酸素欠乏酸化物半導体層）を設けない、ゲート電極層、ゲート絶縁層、半導体層（Ｉｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む酸素過剰酸化物半導体層）、ソース電極層及びドレイン電極層という積層構造であると、ゲート電極層とソース電極層又はドレイン電極層との距離が近くなり、間に生じる寄生容量が増加してしまう。さらに、この寄生容量の増加は、半導体層の薄膜化によってより顕著になる。本実施の形態では、ソース領域又はドレイン領域を設ける、ゲート電極層、ゲート絶縁層、半導体層、ソース領域又はドレイン領域、ソース電極層及びドレイン電極層という積層構造を有する薄膜トランジスタとしているため、半導体層の膜厚が薄膜であっても寄生容量を抑制することができる。

本実施の形態によって、光電流が少なく、寄生容量が小さく、オンオフ比の高い薄膜トランジスタを得ることができ、良好な動特性を有する薄膜トランジスタを作製できる。よって、電気特性が高く信頼性のよい薄膜トランジスタを有する半導体装置を提供することができる。

（実施の形態７）
ここでは、実施の形態３において、ソース電極層又はドレイン電極層と半導体層とが接する構成の薄膜トランジスタを有する表示装置の例を図３１（Ａ）（Ｂ）に示す。

図３１（Ａ）は薄膜トランジスタと共通接続部（パッド部）とを同一基板上に作製する半導体装置の断面構造図を示す図である。図３１（Ａ）に示す薄膜トランジスタ１７１は、チャネル保護層を有する逆スタガ型薄膜トランジスタであり、半導体層１０３のチャネル形成領域上チャネル保護層１３３が設けられ、半導体層１０３及びチャネル保護層１３３上に、半導体層１０３に接してソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂが設けられている例である。

薄膜トランジスタ１７１において、半導体層１０３とソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂとの接触領域はプラズマ処理によって改質されていることが好ましい。本実施の形態では、ソース電極層又はドレイン電極層となる導電膜を形成する前に、酸化物半導体層（本実施の形態ではＩＧＺＯ半導体層）にプラズマ処理を行う。

プラズマ処理は、アルゴンガス、水素ガス、アルゴン及び水素の混合ガス、を用いることができる。また上記ガスに酸素ガスを含ませてもよい。またアルゴンガスに変えて他の希ガスを用いてもよい。

また、図３２に示すように半導体層１０３上に層間絶縁層として絶縁層１３５及び絶縁層１３６を形成してもよい。ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂは、絶縁層１３５及び絶縁層１３６に形成したコンタクトホールを介して、半導体層１０３と接し、電気的に接続する。

なお、図３２において、ゲート絶縁層１０２及びチャネル保護層１３３は酸化シリコン層、半導体層１０３はＩＧＺＯ酸素過剰半導体層、絶縁層１３５は窒化シリコン層を用いてそれぞれスパッタ法で形成する。

図３２においてもソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂの形成前に半導体層１０３にプラズマ処理を行うことが好ましい。プラズマ処理は半導体層１０３上にチャネル保護層１３３を形成後に行ってもよいし、絶縁層１３５及び絶縁層１３６にコンタクトホールを形成した後、コンタクトホール底面に露出する半導体層１０３に対してプラズマ処理を行ってもよい。

プラズマ処理により改質された半導体層１０３に接して導電層を形成し、ソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂを形成することによって、半導体層１０３とソース電極層又はドレイン電極層１０５ａ、１０５ｂとのコンタクト抵抗を低減することができる。

以上の工程により、半導体装置として信頼性の高い表示装置を作製することができる。

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。

（実施の形態８）
本実施の形態では、本発明の半導体装置の一例である表示装置において、同一基板上に少なくとも駆動回路の一部と、画素部に配置する薄膜トランジスタを作製する例について以下に説明する。

画素部に配置する薄膜トランジスタは、実施の形態６又は実施の形態７に従って形成する。また、実施の形態６又は実施の形態７に示す薄膜トランジスタはｎチャネル型ＴＦＴであるため、駆動回路のうち、ｎチャネル型ＴＦＴで構成することができる駆動回路の一部を画素部の薄膜トランジスタと同一基板上に形成する。

本発明の半導体装置の一例であるアクティブマトリクス型液晶表示装置のブロック図の一例を図１３（Ａ）に示す。図１３（Ａ）に示す表示装置は、基板５３００上に表示素子を備えた画素を複数有する画素部５３０１と、各画素を選択する走査線駆動回路５３０２と、選択された画素へのビデオ信号の入力を制御する信号線駆動回路５３０３とを有する。

画素部５３０１は、信号線駆動回路５３０３から列方向に伸張して配置された複数の信号線Ｓ１〜Ｓｍ（図示せず。）により信号線駆動回路５３０３と接続され、走査線駆動回路５３０２から行方向に伸張して配置された複数の走査線Ｇ１〜Ｇｎ（図示せず。）により走査線駆動回路５３０２と接続され、信号線Ｓ１〜Ｓｍ並びに走査線Ｇ１〜Ｇｎに対応してマトリクス状に配置された複数の画素（図示せず。）を有する。そして、各画素は、信号線Ｓｊ（信号線Ｓ１〜Ｓｍのうちいずれか一）、走査線Ｇｉ（走査線Ｇ１〜Ｇｎのうちいずれか一）と接続される。

また、実施の形態６又は実施の形態７に示す薄膜トランジスタは、ｎチャネル型ＴＦＴであり、ｎチャネル型ＴＦＴで構成する信号線駆動回路について図１４を用いて説明する。

図１４に示す信号線駆動回路は、ドライバＩＣ５６０１、スイッチ群５６０２＿１〜５６０２＿Ｍ、第１の配線５６１１、第２の配線５６１２、第３の配線５６１３及び配線５６２１＿１〜５６２１＿Ｍを有する。スイッチ群５６０２＿１〜５６０２＿Ｍそれぞれは、第１の薄膜トランジスタ５６０３ａ、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂ及び第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃを有する。

ドライバＩＣ５６０１は第１の配線５６１１、第２の配線５６１２、第３の配線５６１３及び配線５６２１＿１〜５６２１＿Ｍに接続される。そして、スイッチ群５６０２＿１〜５６０２＿Ｍそれぞれは、第１の配線５６１１、第２の配線５６１２、第３の配線５６１３及びスイッチ群５６０２＿１〜５６０２＿Ｍそれぞれに対応した配線５６２１＿１〜５６２１＿Ｍに接続される。そして、配線５６２１＿１〜５６２１＿Ｍそれぞれは、第１の薄膜トランジスタ５６０３ａ、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂ及び第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃを介して、３つの信号線に接続される。例えば、Ｊ列目の配線５６２１＿Ｊ（配線５６２１＿１〜配線５６２１＿Ｍのうちいずれか一）は、スイッチ群５６０２＿Ｊが有する第１の薄膜トランジスタ５６０３ａ、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂ及び第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃを介して、信号線Ｓｊ−１、信号線Ｓｊ、信号線Ｓｊ＋１に接続される。

なお、第１の配線５６１１、第２の配線５６１２、第３の配線５６１３には、それぞれ信号が入力される。

なお、ドライバＩＣ５６０１は、単結晶基板上に形成されていることが望ましい。さらに、スイッチ群５６０２＿１〜５６０２＿Ｍは、画素部と同一基板上に形成されていることが望ましい。したがって、ドライバＩＣ５６０１とスイッチ群５６０２＿１〜５６０２＿ＭとはＦＰＣなどを介して接続するとよい。

次に、図１４に示した信号線駆動回路の動作について、図１５のタイミングチャートを参照して説明する。なお、図１５のタイミングチャートは、ｉ行目の走査線Ｇｉが選択されている場合のタイミングチャートを示している。さらに、ｉ行目の走査線Ｇｉの選択期間は、第１のサブ選択期間Ｔ１、第２のサブ選択期間Ｔ２及び第３のサブ選択期間Ｔ３に分割されている。さらに、図１４の信号線駆動回路は、他の行の走査線が選択されている場合でも図１５と同様の動作をする。

なお、図１５のタイミングチャートは、Ｊ列目の配線５６２１＿Ｊが第１の薄膜トランジスタ５６０３ａ、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂ及び第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃを介して、信号線Ｓｊ−１、信号線Ｓｊ、信号線Ｓｊ＋１に接続される場合について示している。

なお、図１５のタイミングチャートは、ｉ行目の走査線Ｇｉが選択されるタイミング、第１の薄膜トランジスタ５６０３ａのオン・オフのタイミング５７０３ａ、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂのオン・オフのタイミング５７０３ｂ、第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃのオン・オフのタイミング５７０３ｃ及びＪ列目の配線５６２１＿Ｊに入力される信号５７２１＿Ｊを示している。

なお、配線５６２１＿１〜配線５６２１＿Ｍには第１のサブ選択期間Ｔ１、第２のサブ選択期間Ｔ２及び第３のサブ選択期間Ｔ３において、それぞれ別のビデオ信号が入力される。例えば、第１のサブ選択期間Ｔ１において配線５６２１＿Ｊに入力されるビデオ信号は信号線Ｓｊ−１に入力され、第２のサブ選択期間Ｔ２において配線５６２１＿Ｊに入力されるビデオ信号は信号線Ｓｊに入力され、第３のサブ選択期間Ｔ３において配線５６２１＿Ｊに入力されるビデオ信号は信号線Ｓｊ＋１に入力される。さらに、第１のサブ選択期間Ｔ１、第２のサブ選択期間Ｔ２及び第３のサブ選択期間Ｔ３において、配線５６２１＿Ｊに入力されるビデオ信号をそれぞれＤａｔａ＿ｊ−１、Ｄａｔａ＿ｊ、Ｄａｔａ＿ｊ＋１とする。

図１５に示すように、第１のサブ選択期間Ｔ１において第１の薄膜トランジスタ５６０３ａがオンし、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂ及び第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃがオフする。このとき、配線５６２１＿Ｊに入力されるＤａｔａ＿ｊ−１が、第１の薄膜トランジスタ５６０３ａを介して信号線Ｓｊ−１に入力される。第２のサブ選択期間Ｔ２では、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂがオンし、第１の薄膜トランジスタ５６０３ａ及び第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃがオフする。このとき、配線５６２１＿Ｊに入力されるＤａｔａ＿ｊが、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂを介して信号線Ｓｊに入力される。第３のサブ選択期間Ｔ３では、第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃがオンし、第１の薄膜トランジスタ５６０３ａ及び第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂがオフする。このとき、配線５６２１＿Ｊに入力されるＤａｔａ＿ｊ＋１が、第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃを介して信号線Ｓｊ＋１に入力される。

以上のことから、図１４の信号線駆動回路は、１ゲート選択期間を３つに分割することで、１ゲート選択期間中に１つの配線５６２１から３つの信号線にビデオ信号を入力することができる。したがって、図１４の信号線駆動回路は、ドライバＩＣ５６０１が形成される基板と、画素部が形成されている基板との接続数を信号線の数に比べて約１／３にすることができる。接続数が約１／３になることによって、図１４の信号線駆動回路は、信頼性、歩留まりなどを向上できる。

なお、図１４のように、１ゲート選択期間を複数のサブ選択期間に分割し、複数のサブ選択期間それぞれにおいて、ある１つの配線から複数の信号線それぞれにビデオ信号を入力することができれば、薄膜トランジスタの配置や数、駆動方法などは限定されない。

例えば、３つ以上のサブ選択期間それぞれにおいて１つの配線から３つ以上の信号線それぞれにビデオ信号を入力する場合は、薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタを制御するための配線を追加すればよい。ただし、１ゲート選択期間を４つ以上のサブ選択期間に分割すると、１つのサブ選択期間が短くなる。したがって、１ゲート選択期間は、２つ又は３つのサブ選択期間に分割されることが望ましい。

別の例として、図１６のタイミングチャートに示すように、１つの選択期間をプリチャージ期間Ｔｐ、第１のサブ選択期間Ｔ１、第２のサブ選択期間Ｔ２、第３のサブ選択期間Ｔ３に分割してもよい。さらに、図１６のタイミングチャートは、ｉ行目の走査線Ｇｉが選択されるタイミング、第１の薄膜トランジスタ５６０３ａのオン・オフのタイミング５８０３ａ、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂのオン・オフのタイミング５８０３ｂ、第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃのオン・オフのタイミング５８０３ｃ及びＪ列目の配線５６２１＿Ｊに入力される信号５８２１＿Ｊを示している。図１６に示すように、プリチャージ期間Ｔｐにおいて第１の薄膜トランジスタ５６０３ａ、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂ及び第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃがオンする。このとき、配線５６２１＿Ｊに入力されるプリチャージ電圧Ｖｐが第１の薄膜トランジスタ５６０３ａ、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂ及び第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃを介してそれぞれ信号線Ｓｊ−１、信号線Ｓｊ、信号線Ｓｊ＋１に入力される。第１のサブ選択期間Ｔ１において第１の薄膜トランジスタ５６０３ａがオンし、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂ及び第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃがオフする。このとき、配線５６２１＿Ｊに入力されるＤａｔａ＿ｊ−１が、第１の薄膜トランジスタ５６０３ａを介して信号線Ｓｊ−１に入力される。第２のサブ選択期間Ｔ２では、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂがオンし、第１の薄膜トランジスタ５６０３ａ及び第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃがオフする。このとき、配線５６２１＿Ｊに入力されるＤａｔａ＿ｊが、第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂを介して信号線Ｓｊに入力される。第３のサブ選択期間Ｔ３では、第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃがオンし、第１の薄膜トランジスタ５６０３ａ及び第２の薄膜トランジスタ５６０３ｂがオフする。このとき、配線５６２１＿Ｊに入力されるＤａｔａ＿ｊ＋１が、第３の薄膜トランジスタ５６０３ｃを介して信号線Ｓｊ＋１に入力される。

以上のことから、図１６のタイミングチャートを適用した図１４の信号線駆動回路は、サブ選択期間の前にプリチャージ選択期間を設けることによって、信号線をプリチャージできるため、画素へのビデオ信号の書き込みを高速に行うことができる。なお、図１６において、図１５と同様なものに関しては共通の符号を用いて示し、同一部分又は同様な機能を有する部分の詳細な説明は省略する。

また、走査線駆動回路の構成について説明する。走査線駆動回路は、シフトレジスタ、バッファを有している。また場合によってはレベルシフタを有していても良い。走査線駆動回路において、シフトレジスタにクロック信号（ＣＬＫ）及びスタートパルス信号（ＳＰ）が入力されることによって、選択信号が生成される。生成された選択信号はバッファにおいて緩衝増幅され、対応する走査線に供給される。走査線には、１ライン分の画素のトランジスタのゲート電極が接続されている。そして、１ライン分の画素のトランジスタを一斉にＯＮにしなくてはならないので、バッファは大きな電流を流すことが可能なものが用いられる。

走査線駆動回路の一部に用いるシフトレジスタの一形態について図１７及び図１８を用いて説明する。

図１７にシフトレジスタの回路構成を示す。図１７に示すシフトレジスタは、複数のフリップフロップ（フリップフロップ５７０１＿１〜５７０１＿ｎ）で構成される。また、第１のクロック信号、第２のクロック信号、スタートパルス信号、リセット信号が入力されて動作する。

図１７のシフトレジスタの接続関係について説明する。図１７のシフトレジスタは、ｉ段目のフリップフロップ５７０１＿ｉ（フリップフロップ５７０１＿１〜５７０１＿ｎのうちいずれか一）は、図１８に示した第１の配線５５０１が第７の配線５７１７＿ｉ−１に接続され、図１８に示した第２の配線５５０２が第７の配線５７１７＿ｉ＋１に接続され、図１８に示した第３の配線５５０３が第７の配線５７１７＿ｉに接続され、図１８に示した第６の配線５５０６が第５の配線５７１５に接続される。

また、図１８に示した第４の配線５５０４が奇数段目のフリップフロップでは第２の配線５７１２に接続され、偶数段目のフリップフロップでは第３の配線５７１３に接続され、図１８に示した第５の配線５５０５が第４の配線５７１４に接続される。

ただし、１段目のフリップフロップ５７０１＿１の図１８に示す第１の配線５５０１は第１の配線５７１１に接続され、ｎ段目のフリップフロップ５７０１＿ｎの図１８に示す第２の配線５５０２は第６の配線５７１６に接続される。

なお、第１の配線５７１１、第２の配線５７１２、第３の配線５７１３、第６の配線５７１６を、それぞれ第１の信号線、第２の信号線、第３の信号線、第４の信号線と呼んでもよい。さらに、第４の配線５７１４、第５の配線５７１５を、それぞれ第１の電源線、第２の電源線と呼んでもよい。

次に、図１７に示すフリップフロップの詳細について、図１８に示す。図１８に示すフリップフロップは、第１の薄膜トランジスタ５５７１、第２の薄膜トランジスタ５５７２、第３の薄膜トランジスタ５５７３、第４の薄膜トランジスタ５５７４、第５の薄膜トランジスタ５５７５、第６の薄膜トランジスタ５５７６、第７の薄膜トランジスタ５５７７及び第８の薄膜トランジスタ５５７８を有する。なお、第１の薄膜トランジスタ５５７１、第２の薄膜トランジスタ５５７２、第３の薄膜トランジスタ５５７３、第４の薄膜トランジスタ５５７４、第５の薄膜トランジスタ５５７５、第６の薄膜トランジスタ５５７６、第７の薄膜トランジスタ５５７７及び第８の薄膜トランジスタ５５７８は、ｎチャネル型トランジスタであり、ゲート・ソース間電圧（Ｖｇｓ）がしきい値電圧（Ｖｔｈ）を上回ったとき導通状態になるものとする。

次に、図１８に示すフリップフロップの接続構成について、以下に示す。

第１の薄膜トランジスタ５５７１の第１の電極（ソース電極またはドレイン電極の一方）が第４の配線５５０４に接続され、第１の薄膜トランジスタ５５７１の第２の電極（ソース電極またはドレイン電極の他方）が第３の配線５５０３に接続される。

第２の薄膜トランジスタ５５７２の第１の電極が第６の配線５５０６に接続され、第２の薄膜トランジスタ５５７２第２の電極が第３の配線５５０３に接続される。

第３の薄膜トランジスタ５５７３の第１の電極が第５の配線５５０５に接続され、第３の薄膜トランジスタ５５７３の第２の電極が第２の薄膜トランジスタ５５７２のゲート電極に接続され、第３の薄膜トランジスタ５５７３のゲート電極が第５の配線５５０５に接続される。

第４の薄膜トランジスタ５５７４の第１の電極が第６の配線５５０６に接続され、第４の薄膜トランジスタ５５７４の第２の電極が第２の薄膜トランジスタ５５７２のゲート電極に接続され、第４の薄膜トランジスタ５５７４のゲート電極が第１の薄膜トランジスタ５５７１のゲート電極に接続される。

第５の薄膜トランジスタ５５７５の第１の電極が第５の配線５５０５に接続され、第５の薄膜トランジスタ５５７５の第２の電極が第１の薄膜トランジスタ５５７１のゲート電極に接続され、第５の薄膜トランジスタ５５７５のゲート電極が第１の配線５５０１に接続される。

第６の薄膜トランジスタ５５７６の第１の電極が第６の配線５５０６に接続され、第６の薄膜トランジスタ５５７６の第２の電極が第１の薄膜トランジスタ５５７１のゲート電極に接続され、第６の薄膜トランジスタ５５７６のゲート電極が第２の薄膜トランジスタ５５７２のゲート電極に接続される。

第７の薄膜トランジスタ５５７７の第１の電極が第６の配線５５０６に接続され、第７の薄膜トランジスタ５５７７の第２の電極が第１の薄膜トランジスタ５５７１のゲート電極に接続され、第７の薄膜トランジスタ５５７７のゲート電極が第２の配線５５０２に接続される。第８の薄膜トランジスタ５５７８の第１の電極が第６の配線５５０６に接続され、第８の薄膜トランジスタ５５７８の第２の電極が第２の薄膜トランジスタ５５７２のゲート電極に接続され、第８の薄膜トランジスタ５５７８のゲート電極が第１の配線５５０１に接続される。

なお、第１の薄膜トランジスタ５５７１のゲート電極、第４の薄膜トランジスタ５５７４のゲート電極、第５の薄膜トランジスタ５５７５の第２の電極、第６の薄膜トランジスタ５５７６の第２の電極及び第７の薄膜トランジスタ５５７７の第２の電極の接続箇所をノード５５４３とする。さらに、第２の薄膜トランジスタ５５７２のゲート電極、第３の薄膜トランジスタ５５７３の第２の電極、第４の薄膜トランジスタ５５７４の第２の電極、第６の薄膜トランジスタ５５７６のゲート電極及び第８の薄膜トランジスタ５５７８の第２の電極の接続箇所をノード５５４４とする。

なお、第１の配線５５０１、第２の配線５５０２、第３の配線５５０３及び第４の配線５５０４を、それぞれ第１の信号線、第２の信号線、第３の信号線、第４の信号線と呼んでもよい。さらに、第５の配線５５０５を第１の電源線、第６の配線５５０６を第２の電源線と呼んでもよい。

また、信号線駆動回路及び走査線駆動回路を実施の形態６に示すｎチャネル型ＴＦＴのみで作製することも可能である。実施の形態６に示すｎチャネル型ＴＦＴはトランジスタの移動度が大きいため、駆動回路の駆動周波数を高くすることが可能となる。また、実施の形態６に示すｎチャネル型ＴＦＴはインジウム、ガリウム、及び亜鉛を含む酸素欠乏酸化物半導体層であるソース領域又はドレイン領域により寄生容量が低減されるため、周波数特性（ｆ特性と呼ばれる）が高い。例えば、実施の形態６に示すｎチャネル型ＴＦＴを用いた走査線駆動回路は、高速に動作させることが出来るため、フレーム周波数を高くすること、または、黒画面挿入を実現することなども実現することが出来る。

さらに、走査線駆動回路のトランジスタのチャネル幅を大きくすることや、複数の走査線駆動回路を配置することなどによって、さらに高いフレーム周波数を実現することが出来る。複数の走査線駆動回路を配置する場合は、偶数行の走査線を駆動する為の走査線駆動回路を片側に配置し、奇数行の走査線を駆動するための走査線駆動回路をその反対側に配置することにより、フレーム周波数を高くすることを実現することが出来る。

また、本発明の半導体装置の一例であるアクティブマトリクス型発光表示装置を作製する場合、少なくとも一つの画素に複数の薄膜トランジスタを配置するため、走査線駆動回路を複数配置することが好ましい。アクティブマトリクス型発光表示装置のブロック図の一例を図１３（Ｂ）に示す。

図１３（Ｂ）に示す発光表示装置は、基板５４００上に表示素子を備えた画素を複数有する画素部５４０１と、各画素を選択する第１の走査線駆動回路５４０２及び第２の走査線駆動回路５４０４と、選択された画素へのビデオ信号の入力を制御する信号線駆動回路５４０３とを有する。

図１３（Ｂ）に示す発光表示装置の画素に入力されるビデオ信号をデジタル形式とする場合、画素はトランジスタのオンとオフの切り替えによって、発光もしくは非発光の状態となる。よって、面積階調法または時間階調法を用いて階調の表示を行うことができる。面積階調法は、１画素を複数の副画素に分割し、各副画素を独立にビデオ信号に基づいて駆動させることによって、階調表示を行う駆動法である。また時間階調法は、画素が発光する期間を制御することによって、階調表示を行う駆動法である。

発光素子は、液晶素子などに比べて応答速度が高いので、液晶素子よりも時間階調法に適している。具体的に時間階調法で表示を行なう場合、１フレーム期間を複数のサブフレーム期間に分割する。そしてビデオ信号に従い、各サブフレーム期間において画素の発光素子を発光または非発光の状態にする。複数のサブフレーム期間に分割することによって、１フレーム期間中に画素が実際に発光する期間のトータルの長さを、ビデオ信号により制御することができ、階調を表示することができる。

なお、図１３（Ｂ）に示す発光表示装置では、一つの画素にスイッチング用ＴＦＴと、電流制御用ＴＦＴとの２つを配置する場合、スイッチング用ＴＦＴのゲート配線である第１の走査線に入力される信号を第１の走査線駆動回路５４０２で生成し、電流制御用ＴＦＴのゲート配線である第２の走査線に入力される信号を第２の走査線駆動回路５４０４で生成している例を示しているが、第１の走査線に入力される信号と、第２の走査線に入力される信号とを、共に１つの走査線駆動回路で生成するようにしても良い。また、例えば、スイッチング素子が有する各トランジスタの数によって、スイッチング素子の動作を制御するのに用いられる第１の走査線が、各画素に複数設けられることもあり得る。この場合、複数の第１の走査線に入力される信号を、全て１つの走査線駆動回路で生成しても良いし、複数の各走査線駆動回路で生成しても良い。

また、発光表示装置においても、駆動回路のうち、ｎチャネル型ＴＦＴで構成することができる駆動回路の一部を画素部の薄膜トランジスタと同一基板上に形成することができる。また、信号線駆動回路及び走査線駆動回路を実施の形態６又は実施の形態７に示すｎチャネル型ＴＦＴのみで作製することも可能である。

また、上述した駆動回路は、液晶表示装置や発光表示装置に限らず、スイッチング素子と電気的に接続する素子を利用して電子インクを駆動させる電子ペーパーに用いてもよい。電子ペーパーは、電気泳動表示装置（電気泳動ディスプレイ）も呼ばれており、紙と同じ読みやすさ、他の表示装置に比べ低消費電力、薄くて軽い形状とすることが可能という利点を有している。

電気泳動ディスプレイは、様々な形態が考えられ得るが、プラスの電荷を有する第１の粒子と、マイナスの電荷を有する第２の粒子とを含むマイクロカプセルが溶媒または溶質に複数分散されたものであり、マイクロカプセルに電界を印加することによって、マイクロカプセル中の粒子を互いに反対方向に移動させて一方側に集合した粒子の色のみを表示するものである。なお、第１の粒子または第２の粒子は染料を含み、電界がない場合において移動しないものである。また、第１の粒子の色と第２の粒子の色は異なるもの（無色を含む）とする。

このように、電気泳動ディスプレイは、誘電定数の高い物質が高い電界領域に移動する、いわゆる誘電泳動的効果を利用したディスプレイである。電気泳動ディスプレイは、液晶表示装置には必要な偏光板、対向基板も電気泳動表示装置には必要なく、厚さや重さが半減する。

上記マイクロカプセルを溶媒中に分散させたものが電子インクと呼ばれるものであり、この電子インクはガラス、プラスチック、布、紙などの表面に印刷することができる。また、カラーフィルタや色素を有する粒子を用いることによってカラー表示も可能である。

また、アクティブマトリクス基板上に適宜、二つの電極の間に挟まれるように上記マイクロカプセルを複数配置すればアクティブマトリクス型の表示装置が完成し、マイクロカプセルに電界を印加すれば表示を行うことができる。例えば、実施の形態６又は実施の形態７の薄膜トランジスタによって得られるアクティブマトリクス基板を用いることができる。

なお、マイクロカプセル中の第１の粒子および第２の粒子は、導電体材料、絶縁体材料、半導体材料、磁性材料、液晶材料、強誘電性材料、エレクトロルミネセント材料、エレクトロクロミック材料、磁気泳動材料から選ばれた一種の材料、またはこれらの複合材料を用いればよい。

以上の工程により、半導体装置として信頼性の高い表示装置を作製することができる。

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。

（実施の形態９）
本発明の一形態の薄膜トランジスタを作製し、該薄膜トランジスタを画素部、さらには駆動回路に用いて表示機能を有する半導体装置（表示装置ともいう）を作製することができる。また、本発明の一形態の薄膜トランジスタを駆動回路の一部または全体を、画素部と同じ基板上に一体形成し、システムオンパネルを形成することができる。

表示装置は表示素子を含む。表示素子としては液晶素子（液晶表示素子ともいう）、発光素子（発光表示素子ともいう）を用いることができる。発光素子は、電流または電圧によって輝度が制御される素子をその範疇に含んでおり、具体的には無機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子、有機ＥＬ素子等が含まれる。また、電子インクなど、電気的作用によりコントラストが変化する表示媒体も適用することができる。

また、表示装置は、表示素子が封止された状態にあるパネルと、該パネルにコントローラを含むＩＣ等を実装した状態にあるモジュールとを含む。さらに本発明の一形態は、該表示装置を作製する過程における、表示素子が完成する前の一形態に相当する素子基板に関し、該素子基板は、電流を表示素子に供給するための手段を複数の各画素に備える。素子基板は、具体的には、表示素子の画素電極のみが形成された状態であっても良いし、画素電極となる導電膜を成膜した後であって、エッチングして画素電極を形成する前の状態であっても良いし、あらゆる形態があてはまる。

なお、本明細書中における表示装置とは、画像表示デバイス、表示デバイス、もしくは光源（照明装置含む）を指す。また、コネクター、例えばＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ ｐｒｉｎｔｅｄ ｃｉｒｃｕｉｔ）もしくはＴＡＢ（Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎｇ）テープもしくはＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａｇｅ）が取り付けられたモジュール、ＴＡＢテープやＴＣＰの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または表示素子にＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）方式によりＩＣ（集積回路）が直接実装されたモジュールも全て表示装置に含むものとする。

本実施の形態では、本発明の半導体装置の一形態に相当する液晶表示パネルの外観及び断面について、図２１を用いて説明する。図２１（Ａ１）（Ａ２）は、第１の基板４００１上に形成された薄膜トランジスタ４０１０、４０１１、及び液晶素子４０１３を、第２の基板４００６との間にシール材４００５によって封止した、パネルの上面図であり、図２１（Ｂ）は、図２１（Ａ１）（Ａ２）のＭ−Ｎにおける断面図に相当する。

第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、走査線駆動回路４００４とを囲むようにして、シール材４００５が設けられている。また画素部４００２と、走査線駆動回路４００４の上に第２の基板４００６が設けられている。よって画素部４００２と、走査線駆動回路４００４とは、第１の基板４００１とシール材４００５と第２の基板４００６とによって、液晶層４００８と共に封止されている。また第１の基板４００１上のシール材４００５によって囲まれている領域とは異なる領域に、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜で形成された信号線駆動回路４００３が実装されている。

なお、別途形成した駆動回路の接続方法は、特に限定されるものではなく、ＣＯＧ方法、ワイヤボンディング方法、或いはＴＡＢ方法などを用いることができる。図２１（Ａ１）は、ＣＯＧ方法により信号線駆動回路４００３を実装する例であり、図２１（Ａ２）は、ＴＡＢ方法により信号線駆動回路４００３を実装する例である。

また第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、走査線駆動回路４００４は、薄膜トランジスタを複数有しており、図２１（Ｂ）では、画素部４００２に含まれる薄膜トランジスタ４０１０と、走査線駆動回路４００４に含まれる薄膜トランジスタ４０１１とを例示している。薄膜トランジスタ４０１０、４０１１上には絶縁層４０２０、４０２１が設けられている。

薄膜トランジスタ４０１０、４０１１は、チャネル形成領域として酸素過剰酸化物半導体層、並びにソース領域及びドレイン領域として酸素欠乏酸化物半導体層を含む信頼性の高い実施の形態６に示す薄膜トランジスタを適用することができる。また実施の形態７に示す薄膜トランジスタを適用してもよい。本実施の形態において、薄膜トランジスタ４０１０、４０１１はｎチャネル型薄膜トランジスタである。

また、液晶素子４０１３が有する画素電極層４０３０は、薄膜トランジスタ４０１０と電気的に接続されている。そして液晶素子４０１３の対向電極層４０３１は第２の基板４００６上に形成されている。画素電極層４０３０と対向電極層４０３１と液晶層４００８とが重なっている部分が、液晶素子４０１３に相当する。なお、画素電極層４０３０、対向電極層４０３１はそれぞれ配向膜として機能する絶縁層４０３２、４０３３が設けられ、絶縁層４０３２、４０３３を介して液晶層４００８を挟持している。

なお、第１の基板４００１、第２の基板４００６としては、ガラス、金属（代表的にはステンレス）、セラミックス、プラスチックを用いることができる。プラスチックとしては、ＦＲＰ（Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ−Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）板、ＰＶＦ（ポリビニルフルオライド）フィルム、ポリエステルフィルムまたはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをＰＶＦフィルムやポリエステルフィルムで挟んだ構造のシートを用いることもできる。

また４０３５は絶縁膜を選択的にエッチングすることで得られる柱状のスペーサであり、画素電極層４０３０と対向電極層４０３１との間の距離（セルギャップ）を制御するために設けられている。なお球状のスペーサを用いていても良い。また、対向電極層４０３１は、薄膜トランジスタ４０１０と同一基板上に設けられる共通電位線と電気的に接続される。実施の形態１乃至３に示すいずれか一の共通接続部を用いて、一対の基板間に配置される導電性粒子を介して対向電極層４０３１と共通電位線が電気的に接続される。なお、導電性粒子はシール材４００５に含有させる。

また、配向膜を用いないブルー相を示す液晶を用いてもよい。ブルー相は液晶相の一つであり、コレステリック液晶を昇温していくと、コレステリック相から等方相へ転移する直前に発現する相である。ブルー相は狭い温度範囲でしか発現しないため、温度範囲を改善するために５重量％以上のカイラル剤を混合させた液晶組成物を用いて液晶層４００８に用いる。ブルー相を示す液晶とカイラル剤とを含む液晶組成物は、応答速度が１０μｓ〜１００μｓと短く、光学的等方性であるため配向処理が不要であり、視野角依存性が小さい。

なお本実施の形態は透過型液晶表示装置の例であるが、本発明の一形態は反射型液晶表示装置でも半透過型液晶表示装置でも適用できる。

また、本実施の形態の液晶表示装置では、基板の外側（視認側）に偏光板を設け、内側に着色層、表示素子に用いる電極層という順に設ける例を示すが、偏光板は基板の内側に設けてもよい。また、偏光板と着色層の積層構造も本実施の形態に限定されず、偏光板及び着色層の材料や作製工程条件によって適宜設定すればよい。また、ブラックマトリクスとして機能する遮光膜を設けてもよい。

また、本実施の形態では、薄膜トランジスタの表面凹凸を低減するため、及び薄膜トランジスタの信頼性を向上させるため、実施の形態６で得られた薄膜トランジスタを保護膜や平坦化絶縁膜として機能する絶縁層（絶縁層４０２０、絶縁層４０２１）で覆う構成となっている。なお、保護膜は、大気中に浮遊する有機物や金属物、水蒸気などの汚染不純物の侵入を防ぐためのものであり、緻密な膜が好ましい。保護膜は、スパッタ法を用いて、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸化窒化アルミニウム膜、又は窒化酸化アルミニウム膜の単層、又は積層で形成すればよい。本実施の形態では保護膜をスパッタ法で形成する例を示すが、特に限定されず種々の方法で形成すればよい。

ここでは、保護膜として積層構造の絶縁層４０２０を形成する。ここでは、絶縁層４０２０の一層目として、スパッタ法を用いて酸化珪素膜を形成する。保護膜として酸化珪素膜を用いると、ソース電極層及びドレイン電極層として用いるアルミニウム膜のヒロック防止に効果がある。

また、保護膜の二層目として絶縁層を形成する。ここでは、ここでは、絶縁層４０２０の二層目として、スパッタ法を用いて窒化珪素膜を形成する。保護膜として窒化珪素膜を用いると、ナトリウム等の可動イオンが半導体領域中に侵入して、ＴＦＴの電気特性を変化させることを抑制することができる。

また、保護膜を形成した後に、ＩＧＺＯ半導体層のアニール（３００℃〜４００℃）を行ってもよい。

また、平坦化絶縁膜として絶縁層４０２１を形成する。絶縁層４０２１としては、ポリイミド、アクリル、ポリイミド、ベンゾシクロブテン、ポリアミド、エポキシ等の、耐熱性を有する有機材料を用いることができる。また上記有機材料の他に、低誘電率材料（ｌｏｗ−ｋ材料）、シロキサン系樹脂、ＰＳＧ（リンガラス）、ＢＰＳＧ（リンボロンガラス）等を用いることができる。シロキサン系樹脂は、置換基に水素の他、フッ素、アルキル基、またはアリール基のうち少なくとも１種を有していてもよい。なお、これらの材料で形成される絶縁膜を複数積層させることで、絶縁層４０２１を形成してもよい。

なおシロキサン系樹脂とは、シロキサン系材料を出発材料として形成されたＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む樹脂に相当する。シロキサン系樹脂は、置換基に水素の他、フッ素、アルキル基、または芳香族炭化水素のうち、少なくとも１種を有していてもよい。

絶縁層４０２１の形成法は、特に限定されず、その材料に応じて、スパッタ法、ＳＯＧ法、スピンコート、ディップ、スプレー塗布、液滴吐出法（インクジェット法、スクリーン印刷、オフセット印刷等）、ドクターナイフ、ロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター等を用いることができる。絶縁層４０２１を材料液を用いて形成する場合、ベークする工程で同時に、ＩＧＺＯ半導体層のアニール（３００℃〜４００℃）を行ってもよい。絶縁層４０２１の焼成工程とＩＧＺＯ半導体層のアニールを兼ねることで効率よく半導体装置を作製することが可能となる。

画素電極層４０３０、対向電極層４０３１は、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯと示す。）、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などの透光性を有する導電性材料を用いることができる。

また、画素電極層４０３０、対向電極層４０３１として、導電性高分子（導電性ポリマーともいう）を含む導電性組成物を用いて形成することができる。導電性組成物を用いて形成した画素電極は、シート抵抗が１００００Ω／□以下、波長５５０ｎｍにおける透光率が７０％以上であることが好ましい。また、導電性組成物に含まれる導電性高分子の抵抗率が０．１Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。

導電性高分子としては、いわゆるπ電子共役系導電性高分子が用いることができる。例えば、ポリアニリンまたはその誘導体、ポリピロールまたはその誘導体、ポリチオフェンまたはその誘導体、若しくはこれらの２種以上の共重合体などがあげられる。

また別途形成された信号線駆動回路４００３と、走査線駆動回路４００４または画素部４００２に与えられる各種信号及び電位は、ＦＰＣ４０１８から供給されている。

本実施の形態では、接続端子電極４０１５が、液晶素子４０１３が有する画素電極層４０３０と同じ導電膜から形成され、端子電極４０１６は、薄膜トランジスタ４０１０、４０１１のソース電極層及びドレイン電極層と同じ導電膜で形成されている。

接続端子電極４０１５は、ＦＰＣ４０１８が有する端子と、異方性導電膜４０１９を介して電気的に接続されている。

また図２１においては、信号線駆動回路４００３を別途形成し、第１の基板４００１に実装している例を示しているが、本実施の形態はこの構成に限定されない。走査線駆動回路を別途形成して実装しても良いし、信号線駆動回路の一部または走査線駆動回路の一部のみを別途形成して実装しても良い。

図２２は、本発明を適用して作製されるＴＦＴ基板２６００を用いて半導体装置として液晶表示モジュールを構成する一例を示している。

図２２は液晶表示モジュールの一例であり、ＴＦＴ基板２６００と対向基板２６０１がシール材２６０２により固着され、その間にＴＦＴ等を含む画素部２６０３、液晶層を含む表示素子２６０４、着色層２６０５が設けられ表示領域を形成している。着色層２６０５はカラー表示を行う場合に必要であり、ＲＧＢ方式の場合は、赤、緑、青の各色に対応した着色層が各画素に対応して設けられている。ＴＦＴ基板２６００と対向基板２６０１の外側には偏光板２６０６、偏光板２６０７、拡散板２６１３が配設されている。光源は冷陰極管２６１０と反射板２６１１により構成され、回路基板２６１２は、フレキシブル配線基板２６０９によりＴＦＴ基板２６００の配線回路部２６０８と接続され、コントロール回路や電源回路などの外部回路が組みこまれている。また偏光板と、液晶層との間に位相差板を有した状態で積層してもよい。

液晶表示モジュールには、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏ−ｃｅｌｌ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）モード、ＡＦＬＣ（ＡｎｔｉＦｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）などを用いることができる。

以上の工程により、半導体装置として信頼性の高い液晶表示パネルを作製することができる。

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。

（実施の形態１０）
本実施の形態では、本発明の一形態の半導体装置として電子ペーパーの例を示す。

図１２は、本発明を適用した半導体装置の例としてアクティブマトリクス型の電子ペーパーを示す。半導体装置に用いられる薄膜トランジスタ５８１としては、実施の形態６で示す薄膜トランジスタと同様に作製でき、チャネル形成領域として酸素過剰酸化物半導体層、並びにソース領域及びドレイン領域として酸素欠乏酸化物半導体層を含む信頼性の高い薄膜トランジスタである。また、実施の形態７で示す薄膜トランジスタも本実施の薄膜トランジスタ５８１として適用することもできる。

図１２の電子ペーパーは、ツイストボール表示方式を用いた表示装置の例である。ツイストボール表示方式とは、白と黒に塗り分けられた球形粒子を表示素子に用いる電極層である第１の電極層及び第２の電極層の間に配置し、第１の電極層及び第２の電極層に電位差を生じさせての球形粒子の向きを制御することにより、表示を行う方法である。

基板５８０と基板５９６との間に封止される薄膜トランジスタ５８１はボトムゲート構造の薄膜トランジスタであり、ソース電極層又はドレイン電極層によって第１の電極層５８７と、絶縁層５８５に形成する開口で接しており電気的に接続している。第１の電極層５８７と第２の電極層５８８との間には黒色領域５９０ａ及び白色領域５９０ｂを有し、周りに液体で満たされているキャビティ５９４を含む球形粒子５８９が設けられており、球形粒子５８９の周囲は樹脂等の充填材５９５で充填されている（図１２参照。）。本実施の形態においては、第１の電極層５８７が画素電極に相当し、第２の電極層５８８が共通電極に相当する。第２の電極層５８８は、薄膜トランジスタ５８１と同一基板上に設けられる共通電位線と電気的に接続される。実施の形態１乃至３に示すいずれか一の共通接続部を用いて、一対の基板間に配置される導電性粒子を介して第２の電極層５８８と共通電位線が電気的に接続される。

また、ツイストボールの代わりに、電気泳動素子を用いることも可能である。透明な液体と、正に帯電した白い微粒子と負に帯電した黒い微粒子とを封入した直径１０μｍ〜２００μｍ程度のマイクロカプセルを用いる。第１の電極層と第２の電極層との間に設けられるマイクロカプセルは、第１の電極層と第２の電極層によって、電場が与えられると、白い微粒子と、黒い微粒子が逆の方向に移動し、白または黒を表示することができる。この原理を応用した表示素子が電気泳動表示素子であり、一般的に電子ペーパーとよばれている。電気泳動表示素子は、液晶表示素子に比べて反射率が高いため、補助ライトは不要であり、また消費電力が小さく、薄暗い場所でも表示部を認識することが可能である。また、表示部に電源が供給されない場合であっても、一度表示した像を保持することが可能であるため、電波発信源から表示機能付き半導体装置（単に表示装置、又は表示装置を具備する半導体装置ともいう）を遠ざけた場合であっても、表示された像を保存しておくことが可能となる。

以上の工程により、半導体装置として信頼性の高い電子ペーパーを作製することができる。

本実施の形態は、実施の形態１乃至５のいずれか一に記載した共通接続部に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。

（実施の形態１１）
本実施の形態では、本発明の一形態の半導体装置として発光表示装置の例を示す。表示装置の有する表示素子としては、ここではエレクトロルミネッセンスを利用する発光素子を用いて示す。エレクトロルミネッセンスを利用する発光素子は、発光材料が有機化合物であるか、無機化合物であるかによって区別され、一般的に、前者は有機ＥＬ素子、後者は無機ＥＬ素子と呼ばれている。

有機ＥＬ素子は、発光素子に電圧を印加することにより、一対の電極から電子および正孔がそれぞれ発光性の有機化合物を含む層に注入され、電流が流れる。そして、それらキャリア（電子および正孔）が再結合することにより、発光性の有機化合物が励起状態を形成し、その励起状態が基底状態に戻る際に発光する。このようなメカニズムから、このような発光素子は、電流励起型の発光素子と呼ばれる。

無機ＥＬ素子は、その素子構成により、分散型無機ＥＬ素子と薄膜型無機ＥＬ素子とに分類される。分散型無機ＥＬ素子は、発光材料の粒子をバインダ中に分散させた発光層を有するものであり、発光メカニズムはドナー準位とアクセプター準位を利用するドナー−アクセプター再結合型発光である。薄膜型無機ＥＬ素子は、発光層を誘電体層で挟み込み、さらにそれを電極で挟んだ構造であり、発光メカニズムは金属イオンの内殻電子遷移を利用する局在型発光である。なお、ここでは、発光素子として有機ＥＬ素子を用いて説明する。

図１９は、本発明を適用した半導体装置の例としてデジタル時間階調駆動を適用可能な画素構成の一例を示す図である。

デジタル時間階調駆動を適用可能な画素の構成及び画素の動作について説明する。ここでは酸化物半導体層（ＩＧＺＯ半導体層）をチャネル形成領域に用いるｎチャネル型のトランジスタを１つの画素に２つ用いる例を示す。

画素６４００は、スイッチング用トランジスタ６４０１、駆動用トランジスタ６４０２、発光素子６４０４及び容量素子６４０３を有している。スイッチング用トランジスタ６４０１はゲートが走査線６４０６に接続され、第１電極（ソース電極及びドレイン電極の一方）が信号線６４０５に接続され、第２電極（ソース電極及びドレイン電極の他方）が駆動用トランジスタ６４０２のゲートに接続されている。駆動用トランジスタ６４０２は、ゲートが容量素子６４０３を介して電源線６４０７に接続され、第１電極が電源線６４０７に接続され、第２電極が発光素子６４０４の第１電極（画素電極）に接続されている。発光素子６４０４の第２電極は共通電極６４０８に相当する。共通電極６４０８は、同一基板上に形成される共通電位線と電気的に接続され、その接続部分を共通接続部として、図１（Ａ）、図２（Ａ）、或いは図３（Ａ）に示す構造とすればよい。

なお、発光素子６４０４の第２電極（共通電極６４０８）には低電源電位が設定されている。なお、低電源電位とは、電源線６４０７に設定される高電源電位を基準にして低電源電位＜高電源電位を満たす電位であり、低電源電位としては例えばＧＮＤ、０Ｖなどが設定されていても良い。この高電源電位と低電源電位との電位差を発光素子６４０４に印加して、発光素子６４０４に電流を流して発光素子６４０４を発光させるため、高電源電位と低電源電位との電位差が発光素子６４０４の順方向しきい値電圧以上となるようにそれぞれの電位を設定する。

なお、容量素子６４０３は駆動用トランジスタ６４０２のゲート容量を代用して省略することも可能である。駆動用トランジスタ６４０２のゲート容量については、チャネル領域とゲート電極との間で容量が形成されていてもよい。

ここで、電圧入力電圧駆動方式の場合には、駆動用トランジスタ６４０２のゲートには、駆動用トランジスタ６４０２が十分にオンするか、オフするかの二つの状態となるようなビデオ信号を入力する。つまり、駆動用トランジスタ６４０２は線形領域で動作させる。駆動用トランジスタ６４０２は線形領域で動作させるため、電源線６４０７の電圧よりも高い電圧を駆動用トランジスタ６４０２のゲートにかける。なお、信号線６４０５には、（電源線電圧＋駆動用トランジスタ６４０２のＶｔｈ）以上の電圧をかける。

また、デジタル時間階調駆動に代えて、アナログ階調駆動を行う場合、信号の入力を異ならせることで、図１９と同じ画素構成を用いることができる。

アナログ階調駆動を行う場合、駆動用トランジスタ６４０２のゲートに発光素子６４０４の順方向電圧＋駆動用トランジスタ６４０２のＶｔｈ以上の電圧をかける。発光素子６４０４の順方向電圧とは、所望の輝度とする場合の電圧を指しており、少なくとも順方向しきい値電圧を含む。なお、駆動用トランジスタ６４０２が飽和領域で動作するようなビデオ信号を入力することで、発光素子６４０４に電流を流すことができる。駆動用トランジスタ６４０２を飽和領域で動作させるため、電源線６４０７の電位は、駆動用トランジスタ６４０２のゲート電位よりも高くする。ビデオ信号をアナログとすることで、発光素子６４０４にビデオ信号に応じた電流を流し、アナログ階調駆動を行うことができる。

なお、図１９に示す画素構成は、これに限定されない。例えば、図１９に示す画素に新たにスイッチ、抵抗素子、容量素子、トランジスタ又は論理回路などを追加してもよい。

次に、発光素子の構成について、図２０を用いて説明する。ここでは、駆動用ＴＦＴがｎ型の場合を例に挙げて、画素の断面構造について説明する。図２０（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）の半導体装置に用いられる駆動用ＴＦＴであるＴＦＴ７００１、７０１１、７０２１は、実施の形態６で示す薄膜トランジスタと同様に作製でき、チャネル形成領域として酸素過剰酸化物半導体層、並びにソース領域及びドレイン領域として酸素欠乏酸化物半導体層を含む信頼性の高い薄膜トランジスタである。また、実施の形態７で示す薄膜トランジスタをＴＦＴ７００１、７０１１、７０２１として適用することもできる。

発光素子は発光を取り出すために少なくとも陽極又は陰極の一方が透明であればよい。そして、基板上に薄膜トランジスタ及び発光素子を形成し、基板とは逆側の面から発光を取り出す上面射出や、基板側の面から発光を取り出す下面射出や、基板側及び基板とは反対側の面から発光を取り出す両面射出構造の発光素子があり、本発明の一形態の画素構成はどの射出構造の発光素子にも適用することができる。

上面射出構造の発光素子について図２０（Ａ）を用いて説明する。

図２０（Ａ）に、駆動用ＴＦＴであるＴＦＴ７００１がｎ型で、発光素子７００２から発せられる光が陽極７００５側に抜ける場合の、画素の断面図を示す。図２０（Ａ）では、発光素子７００２の陰極７００３と駆動用ＴＦＴであるＴＦＴ７００１が電気的に接続されており、陰極７００３上に発光層７００４、陽極７００５が順に積層されている。陰極７００３は仕事関数が小さく、なおかつ光を反射する導電膜であれば様々の材料を用いることができる。例えば、Ｃａ、Ａｌ、ＣａＦ、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ等が望ましい。そして発光層７００４は、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。複数の層で構成されている場合、陰極７００３上に電子注入層、電子輸送層、発光層、ホール輸送層、ホール注入層の順に積層する。なおこれらの層を全て設ける必要はない。陽極７００５は光を透過する透光性を有する導電性材料を用いて形成し、例えば酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯと示す。）、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などの透光性を有する導電性導電膜を用いても良い。

陰極７００３及び陽極７００５で発光層７００４を挟んでいる領域が発光素子７００２に相当する。図２０（Ａ）に示した画素の場合、発光素子７００２から発せられる光は、矢印で示すように陽極７００５側に射出する。

次に、下面射出構造の発光素子について図２０（Ｂ）を用いて説明する。駆動用ＴＦＴ７０１１がｎ型で、発光素子７０１２から発せられる光が陰極７０１３側に射出する場合の、画素の断面図を示す。図２０（Ｂ）では、駆動用ＴＦＴ７０１１と電気的に接続された透光性を有する導電膜７０１７上に、発光素子７０１２の陰極７０１３が成膜されており、陰極７０１３上に発光層７０１４、陽極７０１５が順に積層されている。なお、陽極７０１５が透光性を有する場合、陽極上を覆うように、光を反射または遮蔽するための遮蔽膜７０１６が成膜されていてもよい。陰極７０１３は、図２０（Ａ）の場合と同様に、仕事関数が小さい導電性材料であれば様々な材料を用いることができる。ただしその膜厚は、光を透過する程度（好ましくは、５ｎｍ〜３０ｎｍ程度）とする。例えば２０ｎｍの膜厚を有するアルミニウム膜を、陰極７０１３として用いることができる。そして発光層７０１４は、図２０（Ａ）と同様に、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。陽極７０１５は光を透過する必要はないが、図２０（Ａ）と同様に、透光性を有する導電性材料を用いて形成することができる。そして遮蔽膜７０１６は、例えば光を反射する金属等を用いることができるが、金属膜に限定されない。例えば黒の顔料を添加した樹脂等を用いることもできる。

陰極７０１３及び陽極７０１５で、発光層７０１４を挟んでいる領域が発光素子７０１２に相当する。図２０（Ｂ）に示した画素の場合、発光素子７０１２から発せられる光は、矢印で示すように陰極７０１３側に射出する。

次に、両面射出構造の発光素子について、図２０（Ｃ）を用いて説明する。図２０（Ｃ）では、駆動用ＴＦＴ７０２１と電気的に接続された透光性を有する導電膜７０２７上に、発光素子７０２２の陰極７０２３が成膜されており、陰極７０２３上に発光層７０２４、陽極７０２５が順に積層されている。陰極７０２３は、図２０（Ａ）の場合と同様に、仕事関数が小さい導電性材料であれば様々な材料を用いることができる。ただしその膜厚は、光を透過する程度とする。例えば２０ｎｍの膜厚を有するＡｌを、陰極７０２３として用いることができる。そして発光層７０２４は、図２０（Ａ）と同様に、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。陽極７０２５は、図２０（Ａ）と同様に、光を透過する透光性を有する導電性材料を用いて形成することができる。

陰極７０２３と、発光層７０２４と、陽極７０２５とが重なっている部分が発光素子７０２２に相当する。図２０（Ｃ）に示した画素の場合、発光素子７０２２から発せられる光は、矢印で示すように陽極７０２５側と陰極７０２３側の両方に射出する。

なお、ここでは、発光素子として有機ＥＬ素子について述べたが、発光素子として無機ＥＬ素子を設けることも可能である。

なお本実施の形態では、発光素子の駆動を制御する薄膜トランジスタ（駆動用ＴＦＴ）と発光素子が電気的に接続されている例を示したが、駆動用ＴＦＴと発光素子との間に電流制御用ＴＦＴが接続されている構成であってもよい。

なお本実施の形態で示す半導体装置は、図２０に示した構成に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。

次に、本発明の半導体装置の一形態に相当する発光表示パネル（発光パネルともいう）の外観及び断面について、図２３を用いて説明する。図２３は、第１の基板上に形成された薄膜トランジスタ及び発光素子を、第２の基板との間にシール材によって封止した、パネルの上面図であり、図２３（Ｂ）は、図２３（Ａ）のＨ−Ｉにおける断面図に相当する。

第１の基板４５０１上に設けられた画素部４５０２、信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、及び走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂを囲むようにして、シール材４５０５が設けられている。また画素部４５０２、信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、及び走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂの上に第２の基板４５０６が設けられている。よって画素部４５０２、信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、及び走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂは、第１の基板４５０１とシール材４５０５と第２の基板４５０６とによって、充填材４５０７と共に密封されている。このように外気に曝されないように気密性が高く、脱ガスの少ない保護フィルム（貼り合わせフィルム、紫外線硬化樹脂フィルム等）やカバー材でパッケージング（封入）することが好ましい。

また第１の基板４５０１上に設けられた画素部４５０２、信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、及び走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂは、薄膜トランジスタを複数有しており、図２３（Ｂ）では、画素部４５０２に含まれる薄膜トランジスタ４５１０と、信号線駆動回路４５０３ａに含まれる薄膜トランジスタ４５０９とを例示している。

薄膜トランジスタ４５０９、４５１０は、チャネル形成領域として酸素過剰酸化物半導体層、並びにソース領域及びドレイン領域として酸素欠乏酸化物半導体層を含む信頼性の高い実施の形態６に示す薄膜トランジスタを適用することができる。また実施の形態７に示す薄膜トランジスタを適用してもよい。本実施の形態において、薄膜トランジスタ４５０９、４５１０はｎチャネル型薄膜トランジスタである。

また４５１１は発光素子に相当し、発光素子４５１１が有する画素電極である第１の電極層４５１７は、薄膜トランジスタ４５１０のソース電極層またはドレイン電極層と電気的に接続されている。なお発光素子４５１１の構成は、第１の電極層４５１７、電界発光層４５１２、第２の電極層４５１３の積層構造であるが、本実施の形態に示した構成に限定されない。発光素子４５１１から取り出す光の方向などに合わせて、発光素子４５１１の構成は適宜変えることができる。

隔壁４５２０は、有機樹脂膜、無機絶縁膜または有機ポリシロキサンを用いて形成する。特に感光性の材料を用い、第１の電極層４５１７上に開口部を形成し、その開口部の側壁が連続した曲率を持って形成される傾斜面となるように形成することが好ましい。

電界発光層４５１２は、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。

発光素子４５１１に酸素、水素、水分、二酸化炭素等が侵入しないように、第２の電極層４５１３及び隔壁４５２０上に保護膜を形成してもよい。保護膜としては、窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、ＤＬＣ膜等を形成することができる。

また、信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂ、または画素部４５０２に与えられる各種信号及び電位は、ＦＰＣ４５１８ａ、４５１８ｂから供給されている。

本実施の形態では、接続端子電極４５１５が、発光素子４５１１が有する第１の電極層４５１７と同じ導電膜から形成され、端子電極４５１６は、薄膜トランジスタ４５０９、４５１０が有するソース電極層及びドレイン電極層と同じ導電膜から形成されている。

接続端子電極４５１５は、ＦＰＣ４５１８ａが有する端子と、異方性導電膜４５１９を介して電気的に接続されている。

発光素子４５１１からの光の取り出し方向に位置する第２の基板４５０６は透光性でなければならない。その場合には、ガラス板、プラスチック板、ポリエステルフィルムまたはアクリルフィルムのような透光性を有する材料を用いる。

また、充填材４５０７としては窒素やアルゴンなどの不活性な気体の他に、紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂を用いることができ、ＰＶＣ（ポリビニルクロライド）、アクリル、ポリイミド、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ＰＶＢ（ポリビニルブチラル）またはＥＶＡ（エチレンビニルアセテート）を用いることができる。本実施の形態は充填材として窒素を用いた。

また、必要であれば、発光素子の射出面に偏光板、又は円偏光板（楕円偏光板を含む）、位相差板（λ／４板、λ／２板）、カラーフィルタなどの光学フィルムを適宜設けてもよい。また、偏光板又は円偏光板に反射防止膜を設けてもよい。例えば、表面の凹凸により反射光を拡散し、映り込みを低減できるアンチグレア処理を施すことができる。

信号線駆動回路４５０３ａ、４５０３ｂ、及び走査線駆動回路４５０４ａ、４５０４ｂは、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜によって形成された駆動回路で実装されていてもよい。また、信号線駆動回路のみ、或いは一部、又は走査線駆動回路のみ、或いは一部のみを別途形成して実装しても良く、本実施の形態は図２３の構成に限定されない。

以上の工程により、半導体装置として信頼性の高い発光表示装置（表示パネル）を作製することができる。

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。

（実施の形態１２）
本発明の一形態の半導体装置は、電子ペーパーとして適用することができる。電子ペーパーは、情報を表示するものであればあらゆる分野の電子機器に用いることが可能である。例えば、電子ペーパーを用いて、電子書籍（電子ブック）、ポスター、電車などの乗り物の車内広告、クレジットカード等の各種カードにおける表示等に適用することができる。電子機器の一例を図２４、図２５に示す。

図２４（Ａ）は、電子ペーパーで作られたポスター２６３１を示している。広告媒体が紙の印刷物である場合には、広告の交換は人手によって行われるが、本発明を適用した電子ペーパーを用いれば短時間で広告の表示を変えることができる。また、表示も崩れることなく安定した画像が得られる。なお、ポスターは無線で情報を送受信できる構成としてもよい。

また、図２４（Ｂ）は、電車などの乗り物の車内広告２６３２を示している。広告媒体が紙の印刷物である場合には、広告の交換は人手によって行われるが、本発明を適用した電子ペーパーを用いれば人手を多くかけることなく短時間で広告の表示を変えることができる。また表示も崩れることなく安定した画像が得られる。なお、車内広告は無線で情報を送受信できる構成としてもよい。

また、図２５は、電子書籍２７００の一例を示している。例えば、電子書籍２７００は、筐体２７０１および筐体２７０３の２つの筐体で構成されている。筐体２７０１および筐体２７０３は、軸部２７１１により一体とされており、該軸部２７１１を軸として開閉動作を行うことができる。このような構成により、紙の書籍のような動作を行うことが可能となる。

筐体２７０１には表示部２７０５が組み込まれ、筐体２７０３には表示部２７０７が組み込まれている。表示部２７０５および表示部２７０７は、続き画面を表示する構成としてもよいし、異なる画面を表示する構成としてもよい。異なる画面を表示する構成とすることで、例えば右側の表示部（図２５では表示部２７０５）に文章を表示し、左側の表示部（図２５では表示部２７０７）に画像を表示することができる。

また、図２５では、筐体２７０１に操作部などを備えた例を示している。例えば、筐体２７０１において、電源２７２１、操作キー２７２３、スピーカ２７２５などを備えている。操作キー２７２３により、頁を送ることができる。なお、筐体の表示部と同一面にキーボードやポインティングディバイスなどを備える構成としてもよい。また、筐体の裏面や側面に、外部接続用端子（イヤホン端子、ＵＳＢ端子、またはＡＣアダプタおよびＵＳＢケーブルなどの各種ケーブルと接続可能な端子など）、記録媒体挿入部などを備える構成としてもよい。さらに、電子書籍２７００は、電子辞書としての機能を持たせた構成としてもよい。

また、電子書籍２７００は、無線で情報を送受信できる構成としてもよい。無線により、電子書籍サーバから、所望の書籍データなどを購入し、ダウンロードする構成とすることも可能である。

（実施の形態１３）
本発明に係る半導体装置は、さまざまな電子機器（遊技機も含む）に適用することができる。電子機器としては、例えば、テレビジョン装置（テレビ、またはテレビジョン受信機ともいう）、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機（携帯電話、携帯電話装置ともいう）、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。

図２６（Ａ）は、テレビジョン装置９６００の一例を示している。テレビジョン装置９６００は、筐体９６０１に表示部９６０３が組み込まれている。表示部９６０３により、映像を表示することが可能である。また、ここでは、スタンド９６０５により筐体９６０１を支持した構成を示している。

テレビジョン装置９６００の操作は、筐体９６０１が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機９６１０により行うことができる。リモコン操作機９６１０が備える操作キー９６０９により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部９６０３に表示される映像を操作することができる。また、リモコン操作機９６１０に、当該リモコン操作機９６１０から出力する情報を表示する表示部９６０７を設ける構成としてもよい。

なお、テレビジョン装置９６００は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線または無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向（送信者から受信者）または双方向（送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など）の情報通信を行うことも可能である。

図２６（Ｂ）は、デジタルフォトフレーム９７００の一例を示している。例えば、デジタルフォトフレーム９７００は、筐体９７０１に表示部９７０３が組み込まれている。表示部９７０３は、各種画像を表示することが可能であり、例えばデジタルカメラなどで撮影した画像データを表示させることで、通常の写真立てと同様に機能させることができる。

なお、デジタルフォトフレーム９７００は、操作部、外部接続用端子（ＵＳＢ端子、ＵＳＢケーブルなどの各種ケーブルと接続可能な端子など）、記録媒体挿入部などを備える構成とする。これらの構成は、表示部と同一面に組み込まれていてもよいが、側面や裏面に備えるとデザイン性が向上するため好ましい。例えば、デジタルフォトフレームの記録媒体挿入部に、デジタルカメラで撮影した画像データを記憶したメモリを挿入して画像データを取り込み、取り込んだ画像データを表示部９７０３に表示させることができる。

また、デジタルフォトフレーム９７００は、無線で情報を送受信出来る構成としてもよい。無線により、所望の画像データを取り込み、表示させる構成とすることもできる。

図２７（Ａ）は携帯型遊技機であり、筐体９８８１と筐体９８９１の２つの筐体で構成されており、連結部９８９３により、開閉可能に連結されている。筐体９８８１には表示部９８８２が組み込まれ、筐体９８９１には表示部９８８３が組み込まれている。また、図２７（Ａ）に示す携帯型遊技機は、その他、スピーカ部９８８４、記録媒体挿入部９８８６、ＬＥＤランプ９８９０、入力手段（操作キー９８８５、接続端子９８８７、センサ９８８８（力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、におい又は赤外線を測定する機能を含むもの）、マイクロフォン９８８９）等を備えている。もちろん、携帯型遊技機の構成は上述のものに限定されず、少なくとも本発明に係る半導体装置を備えた構成であればよく、その他付属設備が適宜設けられた構成とすることができる。図２７（Ａ）に示す携帯型遊技機は、記録媒体に記録されているプログラム又はデータを読み出して表示部に表示する機能や、他の携帯型遊技機と無線通信を行って情報を共有する機能を有する。なお、図２７（Ａ）に示す携帯型遊技機が有する機能はこれに限定されず、様々な機能を有することができる。

図２７（Ｂ）は大型遊技機であるスロットマシン９９００の一例を示している。スロットマシン９９００は、筐体９９０１に表示部９９０３が組み込まれている。また、スロットマシン９９００は、その他、スタートレバーやストップスイッチなどの操作手段、コイン投入口、スピーカなどを備えている。もちろん、スロットマシン９９００の構成は上述のものに限定されず、少なくとも本発明に係る半導体装置を備えた構成であればよく、その他付属設備が適宜設けられた構成とすることができる。

図２８は、携帯電話機１０００の一例を示している。携帯電話機１０００は、筐体１００１に組み込まれた表示部１００２の他、操作ボタン１００３、外部接続ポート１００４、スピーカ１００５、マイク１００６などを備えている。

図２８に示す携帯電話機１０００は、表示部１００２を指などで触れることで、情報を入力ことができる。また、電話を掛ける、或いはメールを打つなどの操作は、表示部１００２を指などで触れることにより行うことができる。

表示部１００２の画面は主として３つのモードがある。第１は、画像の表示を主とする表示モードであり、第２は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第３は表示モードと入力モードの２つのモードが混合した表示＋入力モードである。

例えば、電話を掛ける、或いはメールを作成する場合は、表示部１００２を文字の入力を主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場合、表示部１００２の画面のほとんどにキーボードまたは番号ボタンを表示させることが好ましい。

また、携帯電話機１０００内部に、ジャイロ、加速度センサ等の傾きを検出するセンサを有する検出装置を設けることで、携帯電話機１０００の向き（縦か横か）を判断して、表示部１００２の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。

また、画面モードの切り替えは、表示部１００２を触れること、又は筐体１００１の操作ボタン１００３の操作により行われる。また、表示部１００２に表示される画像の種類によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。

また、入力モードにおいて、表示部１００２の光センサで検出される信号を検知し、表示部１００２のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モードから表示モードに切り替えるように制御してもよい。

表示部１００２は、イメージセンサとして機能させることもできる。例えば、表示部１００２に掌や指を触れることで、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。また、表示部に近赤外光を発光するバックライトまたは近赤外光を発光するセンシング用光源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。

Claims (4)

1. 画素部及び共通接続部を有する第１の基板と、
   第１の導電層を有する第２の基板と、
   前記第１の基板及び前記第２の基板との間に導電性粒子と、を有し、
   前記画素部は、
   前記第１の基板上のゲート電極と、
   前記ゲート電極上の第１の絶縁層と、
   前記第１の絶縁層上の第１の酸化物半導体層と、
   前記第１の酸化物半導体層の一部の上の第２の絶縁層と、
   前記第１の酸化物半導体層上及び前記第２の絶縁層上の第２の酸化物半導体層及び第３の酸化物半導体層と、
   前記第１の絶縁層上及び前記第２の酸化物半導体層上の第２の導電層と、
   前記第１の絶縁層上及び前記第３の酸化物半導体層上の第３の導電層と、
   前記第２の導電層上、前記第３の導電層上、及び前記第２の絶縁層上の第３の絶縁層と、
   前記第３の絶縁層に形成された第１のコンタクトホールを介して前記第３の導電層と電気的に接続された、前記第３の絶縁層上の第４の導電層と、を有し、
   前記共通接続部は、
   前記第１の基板上の第５の導電層と、
   前記第５の導電層上の第４の絶縁層と、
   前記第４の絶縁層上の第６の導電層と、
   前記第６の導電層上の第５の絶縁層と、
   前記第５の絶縁層に形成された第２のコンタクトホールを介して前記第６の導電層と電気的に接続された、前記第５の絶縁層上の第７の導電層と、を有し、
   前記第７の導電層は、前記導電性粒子を介して前記第１の導電層と電気的に接続され、
   前記第５の導電層は、フローティングであり、
   前記ゲート電極及び前記第５の導電層は同じ材料で形成され、
   前記第４の導電層及び前記第７の導電層は同じ材料で形成され、
   前記第１の絶縁層及び前記第４の絶縁層は同じ材料で形成され、
   前記第３の絶縁層及び前記第５の絶縁層は同じ材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
2. 請求項１において、
   前記第１の酸化物半導体層、前記第２の酸化物半導体層、及び前記第３の酸化物半導体層は、インジウム、ガリウム、及び亜鉛を有することを特徴とする表示装置。
3. 画素部及び共通接続部を有する第１の基板と、
   第１の導電層を有する第２の基板と、
   前記第１の基板と前記第２の基板との間に導電性粒子と、を有し、
   前記画素部は、
   前記第１の基板上のゲート電極と、
   前記ゲート電極上の第１の絶縁層と、
   前記第１の絶縁層上の酸化物半導体層と、
   前記酸化物半導体層の一部の上の第２の絶縁層と、
   前記酸化物半導体層上及び前記第２の絶縁層上の第２の導電層及び第３の導電層と、
   前記第２の導電層上、前記第３の導電層上、及び前記第２の絶縁層上の第３の絶縁層と、
   前記第３の絶縁層に形成された第１のコンタクトホールを介して前記第３の導電層と電気的に接続された、前記第３の絶縁層上の第４の導電層と、を有し、
   前記共通接続部は、
   前記第１の基板上の第５の導電層と、
   前記第５の導電層上の第４の絶縁層と、
   前記第４の絶縁層上の第６の導電層と、
   前記第６の導電層上の第５の絶縁層と、
   前記第５の絶縁層に形成された第２のコンタクトホールを介して前記第６の導電層と電気的に接続された、前記第５の絶縁層上の第７の導電層と、を有し、
   前記第７の導電層は、前記導電性粒子を介して前記第１の導電層と電気的に接続され、
   前記第５の導電層は、フローティングであり、
   前記ゲート電極及び前記第５の導電層は同じ材料で形成され、
   前記第４の導電層及び前記第７の導電層は同じ材料で形成され、
   前記第１の絶縁層及び前記第４の絶縁層は同じ材料で形成され、
   前記第３の絶縁層及び前記第５の絶縁層は同じ材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
4. 請求項３において、
   前記酸化物半導体層は、インジウム、ガリウム、及び亜鉛を有することを特徴とする表示装置。

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