JPH11124392A - Ｃ−グリコシル化されたアリールスズ化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】アリール Ｃ−グリコシル化合物を合成するた
めの中間体を提供する。 【解決手段】 下記一般式［Ｉ］で表わされる化合物、 【化１】 ［Ａｒ：アリール環、ヘテロアリール環；Ｒ¹ ：Ｈ、ハ
ロ、水酸基、ＣＮ、アミノ、カルボキシル、カルボキシ
メチル、アルキル、アルコキシ；Ｒ² ：アルキル、フェ
ニル；Ｒ³ ：糖残基；ｍ：１〜４；ｎ：１〜３］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アリール Ｃ−グ
リコシル化合物の合成のための中間体に関する。これら
の中間体から、例えば、下記のようにアリール Ｃ−グ
リコシル化合物を製造することができる。

【０００２】

【化４】

【０００３】［式中、「Ａｃ」はアセチル基を意味し、
「Ｂｕ」はｎ−ブチル基を意味し、「Ｍｅ」はメチル基
を意味する。］

【０００４】

【従来技術】ＷＯ９７３０９８４には、アリール Ｃ−
グリコシル化合物が開示されているが、それらは、芳香
性の化合物をグリコシル化することにより製造されてお
り、アリール Ｃ−グリコシル化合物自体を更に化学的
に修飾する手法は採用されていない。

【０００５】アリール Ｃ−グリコシル化合物を化学的
に修飾して別の誘導体を製造する方法としては、松本ら
[J.Am.Chem.Soc., 113巻, 6982-6992 頁(1991 年)]の報
告があり、下記構造式Ａ（式中、「Ｍｅ」はメチル基を
示し、「ＴＢＤＭＳ」は、tert−ブチルジメチルシリル
基を示す。）で表される化合物が中間体として用いられ
ている。しかしながら、この中間体から導かれる最終生
成物（下記構造式Ｂ）は抗生物質であり、その最終生成
物の効果は、本発明者らが製造を意図する化合物の効果
（即ち、細胞表層の糖鎖複合分子やオリゴ糖鎖に対する
作用）とはまったく異なるものである。

【０００６】

【化５】

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、アリー
ル Ｃ−グリコシドの合成法について鋭意検討を重ねた
結果、これらアリール Ｃ−グリコシドに効率的にスズ
原子を導入できることを見出し、更に このようにスズ
原子が導入されたアリール Ｃ−グリコシル化合物は、
パラジウム触媒下、各種有機ハロゲン化物並びにその等
価体と温和な条件下反応し、アリール部分の置換基を異
にする、様々なアリール Ｃ−グリコシド誘導体へと導
くことができることを見出して本発明を完成させた。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、（１） 下記
一般式［Ｉ］で表わされる化合物、その塩またはそのエ
ステル：

【０００９】

【化６】

【００１０】［式中、Ａｒ は、アリール環またはヘテ
ロアリール環を表わし、Ｒ¹ は、水素原子、ハロゲン原
子、水酸基、保護された水酸基、シアノ基、アミノ基、
保護されたアミノ基、カルボキシル基、カルボキシメチ
ル基、Ｃ₁ −Ｃ₁₀アルキル基または低級アルコキシ基を
表し、Ｒ² は、低級アルキル基またはフェニル基を表
し、Ｒ³ は、下記一般式（ＩＩ−ａ）または（ＩＩ−
ｂ）を有する糖残基：

【００１１】

【化７】

【００１２】（式中、ｐは、１乃至４の整数を表し、ｑ
は、０または１を表し、Ｒ⁴ は、水素原子または水酸基
の保護基を表わし、Ｒ⁵ は、水素原子またはアシル基を
表わし、Ｒ⁶ は、水素原子、メチル基、ヒドロキシメチ
ル基、保護されたヒドロキシメチル基またはカルボキシ
ル基を表し、この糖残基は、１位の炭素原子でＡｒと直
接結合し、その結合形態は、αまたはβ結合である。）
を表し、ｍは、１ないし４の整数を表し、ｎは、１ない
し３の整数を表し、ｍが２ないし４の整数であるとき、
複数の基Ｒ¹ は同一の基でもそれぞれ相違する基であっ
てもよく、ｎが２または３であるとき、複数の基Ｒ³ は
同一の基でもそれぞれ相違する基であってもよく、ｐが
２ないし４の整数であるとき、複数の基−ＯＲ⁴ は同一
の基でもそれぞれ相違する基であってもよい。

【００１３】但し、下記構造式Ａ（式中、「Ｍｅ」はメ
チル基を示し、「ＴＢＤＭＳ」は、tert−ブチルジメチ
ルシリル基を示す。）で表される化合物を除く。

【００１４】

【化８】

【００１５】］に関する。

【００１６】本発明において、Ａｒの定義における「ア
リール環」とは、６ないし１８個の炭素原子を含有する
モノアリール、ビアリールもしくはトリアリールを示
す。そのような環の例としては、ベンゼン、ナフタレ
ン、アントラセン、フェナンスレン、インデンのような
単環もしくは縮合環芳香族炭化水素；フルオレン、イン
ダン、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン、９，
１０−ジヒドロアントラセン、９，１０−ジヒドロフェ
ナンスレン、芳香族ステロイド（例えば、エストラジオ
ール等）のような多環芳香族炭化水素が部分的に飽和し
た環；ビフェニル、ジフェニルメタン、ジフェニルエタ
ン、スチルベン、ジフェニルエーテルのようなビアリー
ル；またはトリアリールをあげることができる。好適に
は、６ないし１０個の炭素原子を含有する単環もしくは
縮合芳香族炭化水素またはビアリールである。

【００１７】Ａｒの定義における「ヘテロアリール環」
とは、硫黄原子、酸素原子および窒素原子から選択され
る１乃至３個のヘテロ原子を含有する、単環もしくは多
環の５乃至１４員複素芳香環；または６乃至１８個（好
適には６乃至１２個）の炭素原子を含有するbi- ヘテロ
アリールもしくはtri-ヘテロアリールを示す。そのよう
な環の例としては、キサンテン、フラン、ベンゾフラ
ン、ジベンゾフラン、クロマノン、フラボン、チオフェ
ン、チアナフテン、ピロール、ピラゾール、イミダゾー
ル、オキサゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、
チアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、トリアゾ
ール、テトラゾール、チアジアゾール、ピリジン、ピリ
ダジン、ピリミジン、プラジン、インドール、インダゾ
ール、プリン、キノリン、イソキノリン、フタラジン、
ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリ
ン、プテリジン、カルボゾール、カルボリン、フェナン
スリジンおよびアクリジンをあげることができる。これ
らのうち、好適には、単環もしくは多環の、５乃至１０
員複素芳香環であり、更に好適には、１乃至２個の硫黄
原子および／または酸素原子を含有する環であり、特に
好適にはフラン、ベンゾフラン、ジベンゾフラン、クロ
マノン、フラボン、フラバノン、チアナフテンまたはチ
オフェンである。

【００１８】Ｒ¹ の定義における「Ｃ₁ −Ｃ₁₀アルキル
基」とは、炭素数１乃至１０個の直鎖もしくは分枝鎖ア
ルキル基を示し、そのような基としては、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、２−
ペンチル、３−ペンチル、２−メチルブチル、３−メチ
ルブチル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチ
ルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、ヘキシル、２
−ヘキシル、３−ヘキシル、２−メチルペンチル、３−
メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチ
ルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチル
ブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブ
チル、３，３−ジメチルブチル、１，１，２−トリメチ
ルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、ヘプチ
ル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、４−ヘプチル、３，
３−ジメチルペンチル、オクチル、２−メチルヘプチ
ル、２−エチルヘキシル、１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル、ノニル、２−ノニル、３−ノニル、４−ノニ
ル、５−ノニル、２−メチルオクチル、３−メチルオク
チル、４−メチルオクチル、５−メチルオクチル、６−
メチルオクチル、７−メチルオクチル、８−メチルオク
チル、６，６−ジメチルヘプチル、デシル、２−デシ
ル、３−デシル、４−デシル、５−デシル、２−メチル
ノニル、３−メチルノニル、４−メチルノニル、６，６
−ジメチルオクチルなどをあげることができる。好適に
は、炭素数が１乃至６個である「低級アルキル基」であ
り、更に好適には、炭素数１乃至４個のアルキル基であ
り、より更に好適には、メチル、エチルである。

【００１９】Ｒ¹ の定義における「低級アルコキシ基」
とは、上記「低級アルキル」が酸素原子に結合した基を
示し、そのような基としては、例えば、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブ
トキシ、ｓ−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキ
シ、２−ペンチルオキシ、３−ペンチルオキシ、２−メ
チルブトキシ、３−メチルブトキシ、１，１−ジメチル
プロポキシ、１，２−ジメチルプロポキシ、２，２−ジ
メチルプロポキシ、ヘキシルオキシ、２−ヘキシルオキ
シ、３−ヘキシルオキシ、２−メチルペンチルオキシ、
３−メチルペンチルオキシ、４−メチルペンチルオキ
シ、１，１−ジメチルブトキシ、１，２−ジメチルブト
キシ、１，３−ジメチルブトキシ、２，２−ジメチルブ
トキシ、２，３−ジメチルブトキシ、３，３−ジメチル
ブトキシ、１，１，２−トリメチルプロポキシ、１，
２，２−トリメチルプロポキシなどをあげることができ
る。好適には、炭素数１乃至４個のアルコキシ基であ
り、更に好適には、メトキシ、エトキシである。

【００２０】Ｒ¹ の定義における「ハロゲン原子」と
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子または沃素原子を
示す。

【００２１】Ｒ⁴ の定義における「水酸基の保護基」、
並びに、Ｒ¹ の定義における「保護された水酸基」およ
びＲ⁶ の定義における「保護されたヒドロキシメチル
基」の水酸基の保護基とは、加水素分解、加水分解、電
気分解、光分解のような化学的方法により除去され得る
保護基をいう。そのような基としては、好適には、ホル
ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリ
ル、オクタノイル、ノニルカルボニル、デシルカルボニ
ル、３−メチルノニルカルボニル、８−メチルノニルカ
ルボニル、３−エチルオクチルカルボニル、３，７−ジ
メチルオクチルカルボニル、ウンデシルカルボニル、ド
デシルカルボニル、トリデシルカルボニル、テトラデシ
ルカルボニル、ペンタデシルカルボニル、ヘキサデシル
カルボニル、１−メチルペンタデシルカルボニル、１４
−メチルペンタデシルカルボニル、１３，１３−ジメチ
ルテトラデシルカルボニル、ヘプタデシルカルボニル、
１５−メチルヘキサデシルカルボニル、オクタデシルカ
ルボニル、１−メチルヘプタデシルカルボニル、ノナデ
シルカルボニル、アイコシルカルボニル、ヘナイコシル
カルボニルのようなアルキルカルボニル基、クロロアセ
チル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフ
ルオロアセチルのようなハロゲン化アルキルカルボニル
基、メトキシアセチルのような低級アルコキシアルキル
カルボニル基、アクリルカルボニル、プロピオニルカル
ボニル、メタクリルカルボニル、クロトニルカルボニ
ル、イソクロトニルカルボニル、（Ｅ）−２−メチル−
２−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基等
の「脂肪族アシル基」；ベンゾイル、α−ナフトイル、
β−ナフトイルのようなアリ−ルカルボニル基、２−ブ
ロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲ
ン化アリ−ルカルボニル基、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリ
−ルカルボニル基、４−アニソイルのような低級アルコ
キシ化アリ−ルカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、
２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリ−ルカルボ
ニル基、２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのよう
な低級アルコキシカルボニル化アリ−ルカルボニル基、
４−フェニルベンゾイルのようなアリ−ル化アリ−ルカ
ルボニル基等の「芳香族アシル基」；メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、ｓ−ブトキシカルボニル、tert−ブト
キシカルボニル、イソブトキシカルボニルのような低級
アルコキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエト
キシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボ
ニルのようなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で
置換された低級アルコキシカルボニル基等の「アルコキ
シカルボニル基」；テトラヒドロピラン−２−イル、３
−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル、４−メトキシ
テトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラ
ン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−
４−イルのような「テトラヒドロピラニル又はテトラヒ
ドロチオピラニル基」；テトラヒドロフラン−２−イ
ル、テトラヒドロチオフラン−２−イルのような「テト
ラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル基」；
トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジ
メチルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、メチルジ
イソプロピルシリル、メチルジ−tert−ブチルシリル、
トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリ
ル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリ
ル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプ
ロピルシリルのような１乃至２個のアリ−ル基で置換さ
れたトリ低級アルキルシリル基等の「シリル基」；メト
キシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、
エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメ
チル、ブトキシメチル、tert−ブトキシメチルのような
低級アルコキシメチル基、２−メトキシエトキシメチル
のような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、
２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−ク
ロロエトキシ）メチルのようなハロゲノ低級アルコキシ
メチル等の「アルコキシメチル基」；１−エトキシエチ
ル、１−（イソプロポキシ）エチルのような低級アルコ
キシ化エチル基、２，２，２−トリクロロエチルのよう
なハロゲン化エチル基等の「置換エチル基」；ベンジ
ル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェ
ニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェ
ニルメチル、９−アンスリルメチルのような１乃至３個
のアリ−ル基で置換された低級アルキル基、４−メチル
ベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，
５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−
メトキシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジ
ル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブ
ロモベンジル、４−シアノベンジルのような低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ基でア
リ−ル環が置換された１乃至３個のアリ−ル基で置換さ
れた低級アルキル基等の「アラルキル基」；ビニルオキ
シカルボニル、アリルオキシカルボニルのような「アル
ケニルオキシカルボニル基」；ベンジルオキシカルボニ
ル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−
ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカル
ボニルのような、１乃至２個の低級アルコキシ又はニト
ロ基でアリ−ル環が置換されていてもよい「アラルキル
オキシカルボニル基」をあげることができる。好適に
は、前記「アルキルカルボニル基」、前記「シリル基」
または前記「アラルキル基」であり、更に好適には、ア
セチル基、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチル
シリル基またはベンジル基である。

【００２２】Ｒ¹ の定義における「保護されたアミノ
基」のアミノ基の保護基とは、加水素分解、加水分解、
電気分解、光分解のような化学的方法により除去され得
る保護基をいう。そのような基としては、前記「脂肪族
アシル基」；前記「芳香族アシル基」；前記「アルコキ
シカルボニル基」：前記「アルケニルオキシカルボニル
基」；前記「アラルキルオキシカルボニル基」；前記
「シリル基」；前記「アラルキル基」をあげることがで
きる。

【００２３】Ｒ² の定義における「低級アルキル基」と
は、Ｒ¹ が示す「Ｃ₁ −Ｃ₁₀アルキル基」として例示し
た基のうち、炭素数１乃至６個の基を示す。好適には、
メチル基またはｎ−ブチル基である。

【００２４】Ｒ⁵ の定義における「アシル基」として
は、例えば、前記「脂肪族アシル基」；前記「芳香族ア
シル基」；前記「アルコキシカルボニル基」；ビニルカ
ルボニル、アリルカルボニルのような「アルケニルカル
ボニル基」；ベンジルカルボニル、フェナシル、４−メ
トキシベンジルカルボニル、３，４−ジメトキシベンジ
ルカルボニル、２−ニトロベンジルカルボニル、４−ニ
トロベンジルカルボニルのような、１乃至２個の低級ア
ルコキシ又はニトロ基でアリ−ル環が置換されていても
よい「アラルキルカルボニル基」；メタンスルホニル、
エタンスルホニル、１−プロパンスルホニルのような
「低級アルカンスルホニル基」；トリフルオロメタンス
ルホニル、ペンタフルオロエタンスルホニルのようなフ
ッ素化された「低級アルカンスルホニル基」またはベン
ゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルのような「ア
リ−ルスルホニル基」をあげることができる。好適に
は、前記「脂肪族アシル基」、前記「芳香族アシル基」
または前記「低級アルカンスルホニル基」であり、更に
好適には、前記「アルキルカルボニル基」または前記
「芳香族アシル」基である。また、「アルキルカルボニ
ル基」のうち、好適には、上記「低級アルキル」がカル
ボニル基に結合している低級アルキルカルボニル基であ
る。

【００２５】Ｒ³ が示す、一般式（ＩＩ−ａ）または
（ＩＩ−ｂ）を有する糖残基としては、好適には、フコ
−ス、ガラクト−ス、グルコ−ス、マンノ−ス、グルコ
サミン、ガラクトサミン、シアル酸、グルクロン酸、ガ
ラクツロン酸、ラムノ−ス、キシロ−ス、リボ−スのよ
うなＤ系列もしくはＬ系列よりなる天然型単糖由来の残
基；ピラノ−ス型あるいはフラノ−ス型の非天然糖由来
の残基；並びにそれらが有する水酸基および／またはア
ミノ基が、保護もしくはアシル化された糖残基をあげる
ことができる。

【００２６】上記一般式（Ｉ）を有する化合物の「塩」
とは、その化合物が分子内に、フェノール性水酸基、カ
ルボキシル基および／またはアミノ基を有する場合、塩
にすることができるのでその塩を示す。アミノ基に基づ
く塩としては、好適には、弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化
水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩、
硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩；メ
タンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、
エタンスルホン酸塩のような低級アルカンスルホン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩
のようなアリ−ルスルホン酸塩、酢酸、りんご酸、フマ
−ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸
塩、マレイン酸塩等の有機酸塩；及び、グリシン塩、リ
ジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸
塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩をあげること
ができる。一方、フェノール性水酸基またはカルボキシ
基に基づく塩としては、好適には、ナトリウム塩、カリ
ウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウ
ム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、ア
ルミニウム塩、鉄塩等の金属塩；アンモニウム塩のよう
な無機塩、ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン
塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシン
アルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチル
グルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリ
エチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’
−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン
塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジ
ルフェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルア
ンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタ
ン塩のような有機塩等のアミン塩；及び、グリシン塩、
リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸
塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩をあげること
ができる。

【００２７】「そのエステル」とは、本発明の化合物
（Ｉ）は、エステルにすることができるので、そのエス
テルをいい、そのようなエステルとしては、「カルボキ
シ基のエステル」をあげることができ、エステル残基が
「一般的保護基」であるエステルをいう。

【００２８】「一般的保護基」とは、加水素分解、加水
分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂
し得る保護基をいう。

【００２９】「カルボキシ基のエステル」に斯かる「一
般的保護基」としては、好適には、前記「低級アルキル
基」；エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１
−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニ
ル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プ
ロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニ
ル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メ
チル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−
エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３
−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−
３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−
メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニ
ル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２
−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチ
ル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル１−
ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘ
キセニル、５−ヘキセニルのような低級アルケニル基；
エチニル、２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニ
ル、２−メチル−２−プロペニル、２−エチル−２−プ
ロペニル、２−ブチニル、１−メチル−２−ブチニル、
２−メチル−２−ブチニル、１−エチル−２−ブチニ
ル、３−ブチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メ
チル−３−ブチニル１−エチル−３−ブチニル、２−ペ
ンチニル、１−メチル−２−ペンチニル、２−メチル−
２−ペンチニル、３−ペンチニル、１−メチル−３−ペ
ンチニル、２−メチル−３−ペンチニル、４−ペンチニ
ル、１−メチル−４−ペンチニル、２−メチル−４−ペ
ンチニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキ
シニル、５−ヘキシニルのような低級アルキニル基；ト
リフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチ
ル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチ
ル、２，２，２−トリクロロエチル、２，２，２−トリ
フルオロエチル、２−ブロモエチル、２−クロロエチ
ル、２−フルオロエチル、２，２−ジブロモエチルのよ
うな「ハロゲノ低級アルキル」；２−ヒドロキシエチ
ル、２，３−ジヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプ
ロピル、３，４−ジヒドロキシブチル、４−ヒドロキシ
ブチルのようなヒドロキシ「低級アルキル基」；アセチ
ルメチルのような「低級脂肪族アシル」−「低級アルキ
ル基」；前記「アラルキル基」および前記「シリル基」
をあげることができる。

【００３０】更に、本発明の化合物（Ｉ）は、大気中に
放置しておくことにより、水分を吸収し、吸着水が付い
たり、水和物となる場合があり、そのような塩も本発明
に包含される。

【００３１】本発明の化合物（Ｉ）は、分子内に不斉炭
素を有し、各々が Ｒ配位、Ｓ配位である立体異性体が
存在するが、その各々、或いはそれらの任意の割合の混
合物のいずれも本発明に包含される。

【００３２】

【発明の実施の形態】本発明のグリコシル化されたアリ
ールスズ化合物は、以下の方法によって製造することが
できる。

【００３３】Ａ法

【００３４】

【化９】

【００３５】上記式において、Ａｒ、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ
³ 、ｍおよびｎは、前記と同意義を示す。

【００３６】Ｙは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子ま
たは沃素原子を示す。

【００３７】Ｘは、通常、求核残基として脱離する基で
あれば特に限定はないが、好適には、水酸基；塩素、臭
素、沃素のようなハロゲン原子；アセトキシ、エチルカ
ルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ブチルカ
ルボニルオキシのようなアルキルカルボニルオキシ基；
ベンゾイル、ベンジルカルボニルオキシ、フェネチルカ
ルボニルオキシのようなアラルキルオキシカルボニル
基；メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオ
キシのような低級アルコキシカルボニルオキシ基；クロ
ロアセトキシ、ジクロロアセトキシ、トリクロロアセト
キシ、トリフルロアセトキシのようなハロゲン化アルキ
ルカルボニルオキシ基；メタンスルホニルオキシ、エタ
ンスルホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオ
キシ基；トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタ
フルオロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級
アルカンスルホニルオキシ基；ベンゼンスルホニルオキ
シ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、ｐ−ニトロベンゼ
ンスルホニルオキシのようなアリ−ルスルホニルオキシ
基；ジフェニルホスファート基、Ｐ，Ｐ−ジフェニル−
Ｎ−トシルホスフィンイミダート基、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラメチルホスホロアミダート基、ホスホロジ
アミドイミドチオアート基、ジエチルホスファイト基の
ような含リン脱離基を挙げることができ、更に好適に
は、アルキルカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニ
ルオキシ基、水酸基、ハロゲン原子、ハロゲノ低級アル
カンスルホニル基またはアリールスルホニルオキシ基で
あり、最も好適には、アルキルカルボニルオキシ基また
はアラルキルカルボニルオキシ基である。

【００３８】Ｓｔｅｐ Ａ１ Ｓｔｅｐ Ａ１は、ルイス酸を含む混合触媒の存在下、
糖誘導体（ＩＩＩ）とアリール化合物（ＩＶ）との縮合
反応により、アリール Ｃ−グリコシル化合物（Ｖ）を
製造する工程である。

【００３９】ルイス酸触媒としては、通常の縮合反応に
用いられるものであれば特に限定はなく、好適には、四
塩化第一スズ、三塩化ガリウム、臭化亜鉛、四塩化チタ
ンのような金属ハロゲン化物；トリフルオロメタンスル
ホン酸またはトリフルオロ酢酸の銀または水銀塩のよう
な強酸の金属塩；過塩素酸トリメチルシリルエステル、
過塩素酸トリフェニルメチルエステルのような過塩素酸
類をあげることができる。

【００４０】反応は、通常、溶媒の存在下に行われる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例え
ば、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；ベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類；ギ酸エチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ｎ−ブチル、炭酸ジエチルエステル
のようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類；アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メ
チルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類をあげることができる。

【００４１】反応温度は、特に限定はなく、反応は、通
常、−８０℃（好適には０℃）乃至１００℃（好適には
３０℃）の範囲で行われる。

【００４２】反応時間は、出発原料、試薬および溶媒の
種類ならびに反応温度によって異なるが、反応は、通
常、３０分間（好適には３時間）乃至７日間（好適には
２日間）で達成される。

【００４３】尚、本反応における、糖誘導体（ＩＩＩ）
とアリール化合物（ＩＶ）の割合は、特に限定はなく、
通常、８：１乃至１：５［化合物（ＩＩＩ）：化合物
（ＩＶ）］で反応を行うことができ、アリール Ｃ−グ
リコシル化合物（Ｖ）に導入される、Ｒ³ で表される糖
残基の数（即ち「ｎ」）は、本反応における２つの出発
原料のモル比に依存して異なる。更に、一度の反応で導
入される糖残基が一つである場合、所望により上記反応
を繰り返すことにより、複数の糖残基を導入することが
できる。

【００４４】更に、本工程はＷＯ９７／１１０６６に開
示されているアリール Ｃ−グリコシル化反応のための
試薬を用いて行うこともできる。

【００４５】Ｓｔｅｐ Ａ２ Ｓｔｅｐ Ａ２は、公知の方法に準じて、アリール Ｃ
−グリコシル化合物（Ｖ）をハロゲン化し、一般式（Ｖ
Ｉ）を有する化合物を製造する工程であり、例えば、溶
媒中、触媒の存在下または非存在下、アリール Ｃ−グ
リコシル化合物（Ｖ）にハロゲン化剤を反応させること
により行われる。

【００４６】使用されるハロゲン化剤としては、通常の
反応においてハロゲン化剤として用いられるものであれ
ば特に限定はなく、例えば、フッ素（Ｆ₂ ）、フルオロ
キシトリフルオロメタン、二フッ化キセノン、フッ化硫
酸セシウム、アセチルハイポフルオライト、Ｎ−フルオ
ロスルホンアミド、ジエチルアミノサルファトリフルオ
リド（ＤＡＳＴ）、Ｎ−フルオロピリジニウム塩（例え
ば、Ｎ−フルオロピリジニウム、Ｎ−フルオロ−２，６
−ジ（メトキシカルボニル）ピリジニウム、Ｎ−フルオ
ロ−３，５−ジクロロピリジニウム、Ｎ−フルオロ−
２，４，６−トリメチルピリジニウム等）のようなフッ
素化剤；塩素（Ｃｌ₂ ）、Ｎ−クロロスクシンイミド、
塩化第二銅、スルフリルクロライド、四塩化チタン、
２，３，４，５，６，６−ヘキサクロロ−２，４−シク
ロヘキサジエノン、２，３，４，４，５，６−ヘキサク
ロロ−２，５−シクロヘキサジエノン、Ｎ−クロロトリ
エチルアンモニウムクロライド、ベンゼンセレネニルク
ロライドのような塩素化剤；臭素（Ｂｒ₂ ）、塩化臭
素、臭化第二銅、硫酸銀−臭素、テトラメチルアンモニ
ウムトリブロマイド、トリフルオロアセチルハイポブロ
マイト、ジブロモイソシアヌル酸（ＤＢＩ）、２，４，
４，６−テトラブロモシクロヘキサ−２，５−ジエンオ
ン、臭化水素−ジメチルスルホキシド、Ｎ−ブロモスク
シンイミド−ジメチルホルムアミド、２，４−ジアミノ
−１，３−チアゾールハイドロトリブロマイドのような
臭素化剤；沃素（Ｉ₂ ）、一塩化沃素（ＩＣｌ）、１，
３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン、沃素−
モルホリン複合体、トリフルオロアセチルハイポヨーダ
イド、沃素−過沃素酸、沃素−酢酸タリウム（Ｉ）、フ
ッ素−沃素、エチレンヨードクロライドのような沃素化
剤をあげることができる。

【００４７】使用される溶媒としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はなく、好適には、ヘキサン、
ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロ
リド、クロロホルム、四塩化炭素、クロロトリフルオロ
メタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエ−テ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエ−テル類；アセトニトリル、
プロピオニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリ
ル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホ
ロトリアミドのようなアミド類；ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸のような低級脂肪酸類；ジメチルスルホキシドのよ
うなスルホキシド類；並びにこれらの混合溶媒をあげる
ことができる。

【００４８】使用される触媒としては、例えば、塩化ア
ルミニウム、臭化第二鉄のような金属ハロゲン化物；酢
酸水銀のような水銀類；鉄のような金属類をあげること
ができる。

【００４９】反応温度は、特に限定はなく、反応は、通
常、−１２０℃（好適には−１０℃）乃至１００℃の範
囲で行われる。

【００５０】反応時間は、出発原料、試薬および溶媒の
種類ならびに反応温度によって異なるが、反応は、通
常、２分間（好適には１時間）乃至２日間で達成され
る。

【００５１】Ｓｔｅｐ Ａ３ Ｓｔｅｐ Ａ３は、公知の方法（例えば下記文献に記載
の方法）に準じて、溶媒中、パラジウム触媒および塩基
の存在下、一般式（ＶＩ）を有する化合物にスズ原子を
導入して、グリコシル化されたアリールスズ化合物
（Ｉ）を製造する工程である。

【００５２】H. Azizian, C.E.Eaborn, A.Pidcock, J.
Organomet. Chem., 215, 49 (1981)、A.N.Kashin, I.G.
Bumagina, N.A.Bumagin, V.N.Bakunin, I.P.Beletskay
a, J. Org. Chem. USSR, 17, 789 (1984)、T. Depauli
s, H.E.Smith, Synthetic Commun., 21, 1091 (1991)。

【００５３】溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質
をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例
えば、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトニトリル、プロピオニトリル、イソブチロニ
トリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノ
ン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
をあげることができる。

【００５４】使用されるパラジウム触媒としては、パラ
ジウムを含有する触媒であれば特に限定はなく、好適に
は、テトラキス（トリフルオロホスフィン）パラジウム
（０）、ビス［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）
エタン］パラジウム（０）、ビス［ｏ−フェニレンビス
（ジエチルホスフィン）］パラジウム（０）、ビス（シ
クロオクタ−１，５−ジエン）パラジウム（０）、パラ
ジウム炭素、パラジウム黒、酢酸パラジウム（ＩＩ）、
アセト酢酸パラジウム（ＩＩ）、塩化パラジウム（Ｉ
Ｉ）、シアン化パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸
パラジウム（ＩＩ）、［１，２−ビス（ジフェニルホス
フィノ）エタン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）、ビス
（アセトニトリル）ジクロロパラジウム（ＩＩ）、ビス
（アセテート）ビス（トリフェニルホスフィン）パラジ
ウム（ＩＩ）、ビス（ベンゾニトリル）ジクロロパラジ
ウム（ＩＩ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）フェロシン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）、（２，
２’−ビピリジン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）、（ビ
シクロ［２，２，１］ヘプタ−２，５−ジエン）ジクロ
ロパラジウム（ＩＩ）、ジクロロ（１，５−シクロオク
タジエン）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（トリフ
ェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）などをあげるこ
とができる。

【００５５】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、ナトリウムメトキシドのような金属ア
ルコキシド類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リ
チウムのようなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム
のようなアルカリ金属水酸化物；またはアンモニア水、
濃アンモニア−メタノールのようなアンモニア類；Ｎ−
メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリプロピルア
ミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジ
ン、ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ
（tert−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−
エン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．
２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような
有機塩基類が用いられる。

【００５６】スズ原子を導入するための試薬としては、
通常の反応においてスズを導入するために用いられる試
薬であれば特に限定はなく、好適には、塩化トリメチル
スズ、臭化トリメチルスズ、塩化トリペンチルスズ、ビ
ス（トリメチルスズ）スルフィド、ビス（トリ−ｎ−ブ
チルスズ）、ビス（トリ−ｎ−ブチルスズ）オキシドの
ようなトリアルキルスズ化合物；塩化トリフェニルス
ズ、ビス（トリフェニルスズ）オキシドのようなトリフ
ェニルスズ化合物をあげることができる。

【００５７】反応温度は０℃乃至２００℃であり、好適
には、５０℃乃至１５０℃である。反応時間は、主に反
応温度、原料化合物、試薬又は使用される溶媒の種類に
よって異なるが、通常、１時間乃至５日間であり、好適
には、５時間乃至１０時間である。

【００５８】Ｂ法 上記、Ｂ法は、一般式（ＶＩ）を有する化合物の別途製
法である。

【００５９】

【化１０】

【００６０】上記式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｘ、Ｙ、ｍ
およびｎは前記と同意義を示す。

【００６１】Ｓｔｅｐ Ｂ１ Ｓｔｅｐ Ｂ１は一般式（ＩＶ）を有する化合物をハロ
ゲン化して、ハロゲン化アリール化合物（ＶＩＩ）製造
する工程であり、Ｓｔｅｐ Ａ２に準じて行われる。

【００６２】Ｓｔｅｐ Ｂ２ Ｓｔｅｐ Ｂ２は、ハロゲン化アリール化合物（ＶＩ
Ｉ）と糖誘導体（ＩＩＩ）の縮合反応により、一般式
（ＶＩ）を有する化合物を製造する工程であり、Ｓｔｅ
ｐ Ａ１に準じて行われる。

【００６３】上記各反応終了後、目的化合物は常法に従
って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物
を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過によ
り除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機
溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を
分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去
することによって得られる。得られた目的化合物は必要
ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シ
リカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフ
ロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラ
フィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社
製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・
ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化成社
製）ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
（好適には、高速液体クロマトグラフィーである。）を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。

【００６４】尚、原料化合物については、市販品を購入
するか又は公知の製造方法に準じて容易に合成すること
ができる。

【００６５】本発明におけるＣ−グリコシル化されたア
リールスズ化合物は、パラジウム触媒下、各種有機ハロ
ゲン化物並びにその等価体と温和な条件下反応し、Ｃ−
グリコシル化された様々な誘導体へと導くことができ
る。

【００６６】有機ハロゲン化物並びにその等価体とは、
酸ハライド、ベンジルハライド、アリルハライド及びア
セテ−ト、ビニルハライド及びトリフレ−ト、アリ−ル
ハライド、α−ハロケトン及びα−ハロエステル等を挙
げることができる。

【００６７】更に一酸化炭素存在下、ベンジルハライ
ド、アリルハライド及びアセテ−ト、ビニルハライド及
びトリフレ−ト、アリ−ルハライド等との反応では一酸
化炭素の挿入反応が起こり、相当する誘導体を与える。

【００６８】スズ化合物のパラジウムカップリング反応
に関しては以下の総説に詳述されている。

【００６９】１． Ｊ． Ｋ． Ｓｔｉｌｌ， Ａｎｇ
ｅｗ． Ｃｈｅｍ． Ｉｎｔ． Ｅｄ． Ｅｎｇｌ．，
２５， ５０８， （１９８６） ２． Ｔ． Ｎ． Ｍｉｔｃｈｅｌｌ， Ｓｙｎｔｈｅ
ｓｉｓ， ８０３ （１９９１）

【００７０】

【実施例】以下に実施例により、本発明を更に詳細に示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００７１】

【実施例１】１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｌ−フコピラノシル）−５−（トリ−ｎ−
ブチルスタニル）ベンゼン

【００７２】

【実施例１（ａ）】５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−
トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｌ−フコピラノシル）ベンゼ
ン テトラ−Ｏ−アセチル−Ｌ−フコース（９．９６ｍｇ，
３０ｍｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸銀（９．９０ｇ，４
５ｍｍｏｌ）、１，４−ジメトキシベンゼン（６．２１
ｍｇ，４５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（１００ｍ
ｌ）に、四塩化錫の塩化メチレン溶液（１Ｍ，９０ｍ
ｌ）を加え、０℃で１日間攪拌した。得られた溶液に飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、反応を止めた。こ
れをセライトに通した後、塩化メチレンにて抽出し、有
機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、溶媒を減圧下留
去した。残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製し、１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−
トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｌ−フコピラノシル）ベンゼ
ン（６．７ｇ、収率５４．５％）を得た。このうち、
４．１ｇ（１０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン溶液（１００
ｍｌ）に溶解した。これに氷冷下、臭素（０．６２ｍ
ｌ、１２ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下後、０℃で２時間撹
袢した。反応終了後、水を加え反応を停止した。塩化メ
チレン１００ｍｌで希釈し、これを飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で
順次洗浄後、硫酸マグネシウムにて乾燥し減圧下に溶媒
を留去した。

【００７３】得られた油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ（酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）で精製
し、目的化合物 ３．３２ｇ（収率６６％）を得た。

【００７４】核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ_３ ）：δｐｐｍ：7.07(1H, s), 7.03(1H, s),
5.48(1H, t, J=10.7Hz), 5.37(1H, d, J=2.9Hz),5.21(1
H, dd, J=3.4, 10.1Hz), 4.87(1H, d, J=9.9Hz),3.97(1
H, q, J=6.6Hz), 3.89(3H, s), 3.80(3H, s),2.24, 1.9
9, 1.81(9H, 3*s), 1.22(3H, d, J=6.6Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ］⁺ : Ｃ₂₀Ｈ
₂₅ＢｒＯ₉ として、 計算値: 488.0682 実測値: 488.0684 旋光度：［α］_D ＝＋１６．４ （ｃ＝１．０, ＣＨ₂
Ｃｌ₂ ）

【００７５】

【実施例１（ｂ）】１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｌ−フコピラノシル）−５−（トリ−ｎ−
ブチルスタニル）ベンゼン 窒素ガス気流下、５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２
−（２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｌ−フコピ
ラノシル）ベンゼン（６．９ｇ、１４．１ｍｍｏｌ）、
テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（８１０
mg、０．７ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（１．９８
ｇ、１５ｍｍｏｌ）をトルエン１５０ｍｌに懸濁した。
これにビストリブチルチン（９．２８ｇ、１６ｍｍｏ
ｌ）を加え、１０時間加熱還流した。反応終了後、反応
溶液を酢酸エチル１５０ｍｌで希釈し、水、フッ化カリ
ウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムにて乾燥し減圧下に
溶媒を留去した。

【００７６】得られた油状物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ（酢酸エチル／ヘキサン＝１／９）で精製
し、目的化合物 ７．６０ｇ（収率７７％）を得た。

【００７７】赤外吸収スペクトル (液膜法) ｃｍ^-1:295
6, 2928, 2872, 2852, 1752, 1483, 1464 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：6.88(1H, s), 6.87(1H, s), 5.56(1H, t, J=
9.9Hz), 5.37(1H, d, J=3.2Hz),5.21(1H, dd, J=3.3,
9.9Hz), 4.90(1H, d, J=10.0Hz),3.98(1H, q, J=6.6H
z), 3.81(3H, s), 3.75(3H, s),2.24, 1.99, 1.78(9H,
3*s), 1.6-0.8(27H, m), 1.22(3H, d, J=6.3Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｎａ］⁺ :
Ｃ₃₂Ｈ₅₂Ｏ₉ ＮａＳｎ¹¹⁶ として、 計算値: 719.2526 実測値: 719.2527 旋光度：［α］_D ＝＋１５．３ （ｃ＝０．９１，ＣＨ
₂ Ｃｌ₂ ）

【００７８】

【実施例２】１，３−ジメトキシ−４−（２，３，４−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｌ−フコピラノシル）−６−（トリ−ｎ−
ブチルスタニル）ベンゼン

【００７９】

【実施例２（ａ）】６−ブロモ−１，３−ジメトキシ−４−（２，３，４−
トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｌ−フコピラノシル）ベンゼ
ン Ｌ−フコ−ステトラアセテ−ト（１６．６ｇ、５０ｍｍ
ｏｌ）及び４−ブロモ−１、３−ジメトキシベンゼン
（１５．２ｇ、７０ｍｍｏｌ）を用いて、実施例１
（ａ）に準じて反応を行い、目的化合物 ８．２ｇ（収
率３３．５％）を得た。

【００８０】融点：１７２−１７３℃ 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.59(1H, s), 6.41(1H, s), 5.41(1H, t, J=
9.9Hz), 5.34(1H, d, J=4.3Hz),5.18(1H, dd, J=3.4, 1
0.0Hz), 4.77(1H, d, J=9.8Hz),3.92(1H, q, J=6.6Hz),
3.89(3H, s), 3.85(3H, s),2.25, 1.99, 1.80(9H, 3*
s), 1.21(3H, d, J=6.6Hz) 旋光度：［α］_D ＝＋２３．３ （ｃ＝０．５６，ＣＨ
₂ Ｃｌ₂ ）

【００８１】

【実施例２（ｂ）】１，３−ジメトキシ−４−（２，３，４−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｌ−フコピラノシル）−６−（トリ−ｎ−
ブチルスタニル）ベンゼン ６−ブロモ−１，３−ジメトキシ−４−（２，３，４−
トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｌ−フコピラノシル）ベンゼ
ン（４．８９ｇ、１０ｍｍｏｌ）を用い、実施例 １
（ｂ）の方法に従い反応を行い、目的化合物４．０２ｇ
（収率５７．５％）を得た。

【００８２】核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，Ｃ
ＤＣｌ₃ ）：δｐｐｍ： 7.30(1H, s), 6.35(1H, s), 5.60(1H, t, J=10.0Hz),
5.34(1H, d, J=2.3Hz),5.18(1H, dd, J=3.3, 10.0Hz),
4.74(1H, d, J=9.9Hz),3.93(1H, q, J=6.6Hz), 3.86(3
H, s), 3.75(3H, s),2.22, 1.99, 1.75(9H, 3*s), 1.7-
0.8(27H, m), 1.20(3H, d, J=6.3Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｎａ］⁺ :
Ｃ₃₂Ｈ₅₂Ｏ₉ ＮａＳｎ¹¹⁶ として、 計算値: 719.2526 実測値: 719.2534 旋光度：［α］_D ＝＋２２．２ （ｃ＝０．８，ＣＨ₂
Ｃｌ₂ ）

【００８３】

【実施例３】１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−５−
（トリ−ｎ−ブチルスタニル）ベンゼン

【００８４】

【実施例３（ａ）】５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４，
６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシ
ル）ベンゼン １，４−ジメトキシ−２−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）ベンゼン
（１０．６ｇ、２２．７ｍｍｏｌ）を用い、実施例１
（ａ）後段に従い反応を行い、目的化合物 ８．７１ｇ
（収率７０．０％）を得た。

【００８５】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1:347
9, 2964, 2943, 1751, 1495, 1370, 1219 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.08(1H, s), 7.01(1H, s), 5.52(1H, d, J=
3.4Hz), 5.48(1H, t, J=9.9Hz),5.21(1H, dd, J=3.4,
9.9Hz), 4.89(1H, d, J=9.9Hz), 4.19-4.05(3H, m),3.8
8(3H, s), 3.80(3H, s), 2.21, 2.04, 1.99, 1.81(12H,
4*s) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｈ］⁺ ：Ｃ
₂₂Ｈ₂₈Ｏ₁₁Ｂｒ⁷⁹として、 計算値: 547.0815 実測値: 547.0810 旋光度：［α］_D ＝＋２２．２ （ｃ＝０．８，ＣＨ₂
Ｃｌ₂ ）

【００８６】

【実施例３（ｂ）】１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−５−ト
リ−n −ブチルスタニル ベンゼン ５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４，
６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシ
ル）ベンゼン（８．７１ｇ、１５．９ｍｍｏｌ）を用
い、実施例１（ｂ）の方法に従い反応を行い、目的化合
物 ７．２５ｇ（収率６０．１％）を得た。

【００８７】赤外吸収スペクトル（liquid film ）ｃｍ
^-1:2956, 2928, 2872, 2851, 1754, 1483, 1464 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：6.88(1H,s), 6.84(1H,s), 5.55(1H, t, J=1
0.0Hz), 5.51(1H, d, J=3.4Hz),5.20(1H, dd, J=3.4, 1
0.0Hz), 4.91(1H, d, J=10.0Hz), 4.22-4.10(3H, m),3.
80(3H, s), 3.73(3H, s), 2.20, 2.02, 1.98, 1.76(12
H, 4*s) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｎａ］⁺ :
Ｃ₃₄Ｈ₅₄Ｏ₁₁ＮａＳｎ¹¹⁶ として、計算値: 777.2581
実測値: 777.2585 旋光度：［α］_D ＝−６．１ （ｃ＝１．０，ＣＨ₂ Ｃ
ｌ₂ ）

【００８８】

【実施例４】１，３−ジメトキシ−４−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−６−
（トリ−ｎ−ブチルスタニル）ベンゼン

【００８９】

【実施例４（ａ）】６−ブロモ−１，３−ジメトキシ−４−（２，３，４，
６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシ
ル）ベンゼン Ｄ−ガラクト−スペンタアセテ−ト（１０．９ｇ、２
７．９ｍｍｏｌ）及び４−ブロモ−１，３−ジメトキシ
ベンゼン（６．０ｍｌ）より、実施例１（ａ）に準じて
反応を行い、目的化合物を得た。

【００９０】このものは精製することなく次の反応に用
いた。

【００９１】

【実施例４（ｂ）】１，３−ジメトキシ−４−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−６−
（トリ−ｎ−ブチルスタニル）ベンゼン 上記６−ブロモ−１，３−ジメトキシ−４−（２，３，
４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラ
ノシル）ベンゼンを用いて、実施例１（ｂ）に従って反
応を行い、目的化合物１．３０ｇ（収率５．８％）を得
た。

【００９２】赤外吸収スペクトル（liquid film ）ｃｍ
^-1:2956, 2929, 2872, 2852, 1754, 1593, 1579 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.31(1H,s), 6.39(1H,s), 5.13(1H,t, J=9.9
Hz), 5.53(1H, d, J=3.2Hz),5.20(1H, dd, J=3.2, 9.9H
z), 4.79(1H, d, J=9.9Hz), 4.23-4.04(3H, m),3.89(3
H, s), 3.79(3H, s), 2.22, 2.05, 2.01, 1.79(12H, 4*
s),1.69-1.41(6H, m), 1.38-1.24(6H, m), 1.01(6H, t,
J=7.8Hz),0.91(9H, t, J=7.2Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｎａ］⁺ :
Ｃ₃₄Ｈ₅₄Ｏ₁₁ＮａＳｎとして、 計算値: 781.2566 実測値: 781.2559 旋光度：［α］_D ＝−１２．０ （ｃ＝０．７７，ＣＨ
₂ Ｃｌ₂ ）

【００９３】

【実施例５】１，３−ジメトキシ−４−［メチル（５−アセトアミド
−３、５−ジデオキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−
アセチル−a −Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌ
ロピラノシロネ−ト］−６−（トリ−ｎ−ブチルスタニ
ル）ベンゼン

【００９４】

【実施例５（ａ）】６−ブロモ−１，３−ジメトキシ−４−［メチル（５−
アセトアミド−３、５−ジデオキシ−４，７，８，９−
テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラク
ト−２−ノヌロピラノシロネ−ト］ベンゼン ５−アセトアミド−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセ
チル−３，５−ジデオキシ−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラク
ト−１−メチル−２−ノヌロソネイト（２１．３２ｇ、
４０ｍｍｏｌ）及び４−ブロモ−１，３−ジメトキシベ
ンゼン（１０．８５ｇ、５０ｍｍｏｌ）より、実施例１
（ａ）に準じて反応を行い、目的化合物１２．２ｇ（収
率４４．２％）を得た。

【００９５】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1:337
7, 2956, 1746, 1372, 1232 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.73(1H, s), 6.42(1H, s), 5.52(1H, dd, J
=5.2, 10.9Hz),5.47-5.41(1H, m), 5.35(1H, dd, J=2.
0, 5.8Hz),5.28(1H, dt, J=3.0, 5.8Hz), 4.41(1H, dd,
J=3.0, 12.4Hz),4.23-4.10(2H, m), 3.93-3.80(1H,
m), 3.90(3H, s), 3.77(3H, s),3.71(3H, s) 2.94(1H,
dd, J=5.2, 13.3Hz),2.18, 2.10, 2.03, 2.01, 1.90(15
H, 5*s), 1.85(1H, t, J=13.3Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｈ］⁺ ：Ｃ
₂₈Ｈ₃₇Ｏ₁₄ＮＢｒ⁷⁹として、 計算値: 690.1398 実測値: 690.1382 旋光度：［α］_D ＝−４．６ （ｃ＝０．７２，ＣＨ₂
Ｃｌ₂ ）

【００９６】

【実施例５（ｂ）】１，３−ジメトキシ−４−［メチル（５−アセトアミド
−３，５−ジデオキシ−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−
アセチル−α−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクト−２−ノヌ
ロピラノシロネ−ト］−６−（トリ−ｎ−ブチルスタニ
ル）ベンゼン ６−ブロモ−１，３−ジメトキシ−４−（５−アセトア
ミド−４，７，８，９−テトラ−Ｏ−アセチル−３，５
−ジデオキシ−Ｄ−グリセロ−β−Ｄ−ガラクト−１−
メチル−２−ノヌロソネイト）ベンゼン（１７３ｍｇ、
０．２５１ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（ｂ）に従い反
応を行い、目的化合物８６．２ｍｇ（収率３８％）を得
た。

【００９７】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1:326
3, 3219, 3075, 3057, 3022, 3012, 2992, 2956, 2927,
1747 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.73(1H, s), 6.33(1H, s), 5.52(1H, dd, J
=5.1, 10.6Hz),5.42-5.37(2H, m), 5.21(1H, dd, J=2.
8, 6.4Hz),4.45(1H, dd, J=3.0, 12.4Hz), 4.24-4.10(2
H, m), 3.81-3.72(1H, m),3.77(3H, s), 3.75(3H, s),
3.71(3H, s) 2.89(1H, dd, J=5.1, 13.3Hz),2.17, 2.0
5, 1.99, 1.98, 1.90(15H, 5*s), 1.85(1H, t, J=13.3H
z),1.73(1H, dd, J=11.3, 13.3Hz), 1.60-1.48(6H, m),
1.40-1.23(6H, m),1.07-1.01(6H, m), 0.90(9H, t, J=
7.2Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｎａ］⁺ :
Ｃ₄₀Ｈ６３Ｏ₁₄ＮａＳｎとして、 計算値: 920.3164 実測値: 920.3160 旋光度：［α］_D ＝−０．５ （ｃ＝０．８２，ＣＨ₂
Ｃｌ₂ ）

【００９８】

【実施例６】１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシル）−５−（ト
リ−ｎ−ブチルスタニル）ベンゼン

【００９９】

【実施例６（ａ）】５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４，
６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシ
ル）ベンゼン １，４−ジメトキシ−２−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン
（２．６０ｇ、５．２２ｍｍｏｌ）を用い、実施例１
（ａ）後段に従い反応を行い、目的化合物 ２．２９ｇ
（収率８０％）を得た。

【０１００】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1:294
7, 1754 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.07(1H, s), 6.95(1H, s), 5.36(1H, t, J=
9.2Hz), 5.30(1H, t, J=9.2Hz),5.23(1H, t, J=9.2Hz),
4.92(1H, d, J=9.2Hz),4.27(1H, dd, J=4.9, 12.4Hz),
4.14(1H, dd, J=2.1, 12.4Hz), 3.87(3H, s),3.87-3.7
7(1H, m), 3.80(3H, s), 2.07, 2.06, 2.01, 1.80(12H,
4*s) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ］⁺ : Ｃ₂₂Ｈ
₂₇ＢｒＯ₁₁として、 計算値: 546.0737 実測値: 546.0739 旋光度: ［α］_D ＝−１８．７ （ｃ＝１．０，ＣＨＣ
ｌ₃ ）

【０１０１】

【実施例６（ｂ）】１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシル）−５−（ト
リ−ｎ−ブチルスタニル）ベンゼン ５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４，
６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシ
ル）ベンゼン（２７２ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ）を用い
て、実施例１（ｂ）に従い反応を行い、目的化合物 ２
５１ｍｇ（収率６７％）を得た。

【０１０２】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1:295
6, 2927, 2872, 2851, 1755 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：6.88(1H, s), 6.79(1H, s), 5.44-5.19(3H,
m), 4.95(1H, d, J=9.7Hz),4.27(1H, dd, J=4.7, 12.3H
z), 4.14(1H, dd, J=2.2, 12.3Hz),3.90-3.80(1H, m),
3.81(3H, s), 3.73(3H, s),2.07, 2.06, 2.01, 1.78(1
2H, 4*s), 1.59-1.42(6H, m), 1.31(6H, m),1.02(6H,
t, J=7.4Hz), 0.87(9H, t, J=7.4Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｎａ］⁺ ：
Ｃ₃₄Ｈ₅₄Ｏ₁₁ＮａＳｎとして、 計算値: 781.2566 実測値: 781.2559 旋光度: ［α］_D ＝−５３．１ （ｃ＝０．８５，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１０３】

【実施例７】１，４−ジメトキシ−２−（３、４、６−トリ−Ｏ−ア
セチル−２−デオキシ−２−Ｎ−フタルイミド−β−Ｄ
−グルコピラノシル）−５−（トリ−ｎ−ブチルスタニ
ル）ベンゼン

【０１０４】

【実施例７（ａ）】５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（３，４，６−
トリ−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−Ｎ−フタルイ
ミド−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン １，４−ジメトキシ−２−（３，４，６−トリ−Ｏ−ア
セチル−２−デオキシ−２−Ｎ−フタルイミド−β−Ｄ
−グルコピラノシル）ベンゼン（１．２５ｇ、２．３ｍ
ｍｏｌ）を用い、実施例１（ａ）後段に従い反応を行
い、目的化合物１．２８ｇ（収率８９％）を得た。

【０１０５】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：29
36, 1751, 1721 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.88-7.65(4H, m), 7.04(1H, s), 6.82(1H,
s), 6.13(1H, t, J=10.0Hz),5.64(1H, d, J=10.0Hz),
5.29(1H, t, J=10.0Hz), 4.59(1H, t, J=10.0Hz),4.35
(1H, dd, J=4.9, 12.3Hz), 4.20(1H, dd, J=2.2, 12.3H
z),4.10-4.00(1H, m), 3.88(3H, s), 3.41(3H, s), 2.1
0, 2.08, 1.87(9H, 3*s) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ］⁺ : Ｃ₂₈Ｈ
₂₈ＢｒＮＯ₁₁として、 計算値: 633.0846 実測値: 633.0845 旋光度: ［α］_D ＝−７５．１ （ｃ＝０．２３，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１０６】

【実施例７（ｂ）】１，４−ジメトキシ−２−（３，４，６−トリ−Ｏ−ア
セチル−２−デオキシ−２−Ｎ−フタルイミド−β−Ｄ
−グルコピラノシル）−５−（トリ−ｎ−ブチルスタニ
ル）ベンゼン ５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（３，４，６−
トリ−Ｏ−アセチル−２−デオキシ−２−Ｎ−フタルイ
ミド−β−Ｄ−グルコピラノシル）ベンゼン（３１９ｍ
ｇ、０．５０ｍｍｏｌ）を用いて、実施例１（ｂ）従い
反応を行い、目的化合物 １９５ｍｇ（収率４６％）を
得た。

【０１０７】赤外吸収スペクトル（liquid film ）ｃｍ
^-1：2956, 2928, 2871, 2852, 1752, 1722 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.87-7.56(4H, m), 6.89(1H, s), 6.62(1H,
s), 6.13(1H, t, J=10.0Hz),5.68(1H, d, J=10.0Hz),
5.30(1H, t, J=10.0Hz), 4.65(1H, t, J=10.0Hz),4.34
(1H, dd, J=4.7, 12.2Hz), 4.21(1H, dd, J=2.1, 12.2H
z),4.10-3.98(1H, m), 3.74(3H, s), 3.45(3H, s), 2.1
0, 2.07, 1.87(9H, 3*s),1.50-1.35(6H, m), 1.35-1.18
(6H, m), 0.95(6H, t, J=7.1Hz),0.83(9H, t, J=7.2Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｋ］⁺ :Ｃ
₄₀Ｈ₅₅Ｏ₁₁ＮＫＳｎとして、 計算値: 880.2453 実測値: 880.2441 旋光度: ［α］_D ＝−５８．４ （ｃ＝０．５５，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１０８】

【実施例８】１，４−ジメトキシ−２−（２、３、４−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−５−（トリ−ｎ
−ブチルスタニル）ベンゼン

【０１０９】

【実施例８（ａ）】５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−
トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）ベン
ゼン １，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）ベンゼン（９６０
ｍｇ、２．３４ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（ａ）後段
に従い反応を行い、目的化合物 １．１０ｇ（収率９６
％）を得た。赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：29
83, 2940, 2851, 1750 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.07(1H, s), 7.00(1H, s), 5.57(1H, dd, J
=1.1, 3.3Hz),5.25(1H, dd, J=3.3, 9.9Hz), 5.14(1H,
t, J=9.9Hz), 4.97(1H, s),3.87(3H, s), 3.79(3H, s),
3.75-3.62(1H, m), 2.08, 1.99, 1.91(9H, 3*s),1.34
(3H, d, J=6.1Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ］⁺ : Ｃ₂₀Ｈ
₂₅ＢｒＯ₉ として、 計算値: 488.0682 実測値: 488.0680 旋光度: ［α］_D ＝＋３３．９ （ｃ＝１．０，ＣＨＣ
ｌ₃ ）

【０１１０】

【実施例８（ｂ）】１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）−５−（トリ−ｎ
−ブチルスタニル）ベンゼン ５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−
トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｌ−ラムノピラノシル）ベン
ゼン（４８５ｍｇ、０．９９１ｍｍｏｌ）を用い、実施
例１（ｂ）の方法に従い反応を行い、目的化合物 ３８
５ｍｇ（収率５６％）を得た。

【０１１１】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：29
53, 2928, 2869, 2854, 1750 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：6.94(1H, s), 6.79(1H, s), 5.56(1H, d, J=
3.3Hz),5.27(1H, dd, J=3.3, 9.9Hz), 5.15(1H, t, J=
9.9Hz), 5.03(1H, s),3.79(3H, s), 3.74(3H, s), 3.75
-3.62(1H, m), 2.08, 1.98, 1.89(9H, 3*s),1.58-1.40
(6H, m), 1.40-1.20(9H, m), 1.00(6H, t, J=8.1Hz),0.
87(9H, t, J=7.2Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｋ］⁺ :Ｃ
₃₂Ｈ₅₂Ｏ₉ ＫＳｎとして、 計算値: 735.2266 実測値: 735.2246 旋光度: ［α］_D ＝＋３２．６ （ｃ＝０．９９，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１１２】

【実施例９】１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｄ−キシロピラノシル）−５−（トリ−ｎ
−ブチルスタニル）ベンゼン

【０１１３】

【実施例（ａ）】５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−
トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−キシロピラノシル）ベン
ゼン １，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｄ−キシロピラノシル）ベンゼン（２００
ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（ａ）後段
に従い反応を行い、目的化合物 ２３２ｍｇ（収率９
１．３％）を得た。赤外吸収スペクトル（thin film ）
ｃｍ^-1：3014, 2947, 2852, 1755 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.27(1H, s), 7.06(1H, s), 5.35(1H, t, J=
9.4Hz), 5.27(1H, t, J=9.4Hz),5.22-4.97(1H, m), 4.8
1(1H, d, J=9.4Hz), 4.21(1H, dd, J=5.5, 11.0Hz),3.8
6(3H, s), 3.79(3H, s), 3.46(1H, t, J=11.0Hz), 2.0
6, 2.03,1.80(9H, 3*s) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ］⁺ : Ｃ₁₉Ｈ
₂₃ＢｒＯ₉ として、 計算値: 474.0526 実測値: 474.0523 旋光度: ［α］_D ＝−２８．６ （ｃ＝０．８６，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１１４】

【実施例９（ｂ）】１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−トリ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｄ−キシロピラノシル）−５−（トリ−ｎ
−ブチルスタニル）ベンゼン ５−ブロモ−１，４−ジメトキシ−２−（２，３，４−
トリ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−キシロピラノシル）ベン
ゼン（２３２ｍｇ、０．４９ｍｍｏｌ）を用い、実施例
１（ｂ）の方法に従い反応を行い、目的化合物 １００
ｍｇ（収率２９．８％）を得た。

【０１１５】赤外吸収スペクトル (liquid film)ｃ
ｍ^-1：2956, 2927, 2871, 2853, 1758 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：6.87(1H, s), 6.78(1H, s), 5.36(1H, t, J=
9.3Hz), 5.31(1H, t, J=9.3Hz),5.23-5.09(1H, m), 4.8
4(1H, d, J=9.3Hz), 4.21(1H, dd, J=5.8, 11.0Hz),3.8
1(3H, s), 3.72(3H, s), 3.48(1H, t, J=11.0Hz),2.06,
2.03, 1.78(9H, 3*s), 1.57-1.42(6H, m), 1.42-1.23
(6H, m),1.02(6H, t, J=8.0Hz), 0.87(9H, t, J=7.3Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｋ］⁺ :Ｃ
₃₁Ｈ₅₀Ｏ₉ ＫＳｎとして、 計算値: 721.2109 実測値: 721.2078 旋光度: ［α］_D ＝−３０．３ （ｃ＝０．７３，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１１６】

【実施例１０】４−メチル−２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセ
チル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−６−（トリ−ｎ
−ブチルスタニル）アニソ−ル

【０１１７】

【実施例１０（ａ）】６−ブロモ−４−メチル−２−（２，３，４，６−テト
ラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）アニ
ソ−ル ４−メチル−２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセ
チル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）アニソ−ル（１．
１０ｇ、２．４３ｍｍｏｌ）を用い、実施例１（ａ）後
段に従い反応を行い、目的化合物 ６０２ｍｇ（収率４
６．６％）を得た。

【０１１８】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：29
38, 1753 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.36(1H, d, J=1.9Hz), 7.21(1H, d, J=1.9H
z), 5.55(1H, t, J=10.0Hz),5.53(1H, d, J=3.3Hz), 5.
20(1H, dd, J=3.3, 10.0Hz),4.79(1H, d, J=10.0Hz),
4.23-4.05(3H, m), 3.86(3H, s), 2.31(3H, s),2.23,
2.02, 2.00, 1.81(12H, 4*s) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｈ］⁺ ：Ｃ
₂₂Ｈ₂₈ＢｒＯ₁₀として、 計算値: 531.0866 実測値: 531.0867 旋光度: ［α］_D ＝−１１．５ （ｃ＝０．１３，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１１９】

【実施例１０（ｂ）】４−メチル−２−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセ
チル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−６−（トリ−ｎ
−ブチルスタニル）アニソ−ル ６−ブロモ−４−メチル−２−（２，３，４，６−テト
ラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）アニ
ソ−ル（６０２ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ）を用い、実施
例１（ｂ）に従い反応を行い、目的化合物 ３４ｍｇ
（収率４．１％）を得た。

【０１２０】赤外吸収スペクトル (liquid film)ｃ
ｍ^-1：2957, 2925, 2872, 2855, 1754 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：7.24(1H, d, J=1.9Hz), 7.13(1H, d, J=1.9H
z), 5.58(1H, t, J=10.1Hz),5.53(1H, d, J=3.5Hz), 5.
20(1H, dd, J=3.5, 10.1Hz),4.80(1H, d, J=10.1Hz),
4.22-4.05(3H, m), 3.71(3H, s),2.32, 2.24, 2.01, 1.
99, 1.75(15H, 5*s), 1.57-1.43(6H, m),1.43-1.24(6H,
m), 1.07(6H, t, J=8.2Hz), 0.88(9H, t, J=7.3Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｋ］⁺ :Ｃ
₃₄Ｈ₅₄Ｏ₁₀ＫＳｎとして、 計算値: 777.2372 実測値: 777.2357 旋光度: ［α］_D ＝＋６．９ （ｃ＝０．２６，ＣＨＣ
ｌ₃ ）

【０１２１】

【実施例１１】２，６−ジメトキシ−１−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−５−
（トリ−ｎ−ブチルスタニル）ナフタレン

【０１２２】

【実施例１１（ａ）】５−ブロモ−２，６−ジメトキシ−１−（２，３，４，
６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシ
ル）ナフタレン ５−ブロモ−２，６−ジメトキシ−１−（２，３，４，
６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシ
ル）ナフタレン（１．１３ｇ、２．１８ｍｍｏｌ）を用
い、実施例１（ａ）後段に従い反応を行い、目的化合物
８８９ｍｇ（収率６８．３％）を得た。

【０１２３】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：29
42, 2844, 1753 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：8.66(1H, d, J=9.5Hz), 8.28(1H, d, J=9.5H
z), 7.29(1H, d, J=9.5Hz),7.27(1H, d, J=9.5Hz), 5.9
1(1H, t, J=9.7Hz), 5.63(1H, d, J=3.2Hz),5.59(1H,
d, J=9.7Hz), 5.29(1H, dd, J=3.2, 9.7Hz), 4.33-4.10
(3H, m),4.02(3H, s), 3.95(3H, s), 2.34, 2.04, 1.9
9, 1.68(12H, 4*s) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ］⁺ ：Ｃ₂₆Ｈ
₂₉ＢｒＯ₁₁として、 計算値: 596.0873 実測値: 596.0869 旋光度: ［α］_D ＝−４４．７ （ｃ＝０．７３，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１２４】

【実施例１１（ｂ）】２，６−ジメトキシ−１−（２，３，４，６−テトラ−
Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）−５−
（トリ−ｎ−ブチルスタニル）ナフタレン ５−ブロモ−２，６−ジメトキシ−１−（２，３，４，
６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシ
ル）ナフタレン（５６５ｍｇ、０．９５ｍｍｏｌ）を用
い、実施例１（ｂ）に従い反応を行い、目的化合物 １
４８ｍｇ（収率１９．３％）を得た。

【０１２５】赤外吸収スペクトル（liquid film ）ｃｍ
^-1：2956, 2928, 2871, 2853, 1754 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：8.64(1H, d, J=9.3Hz), 7.76(1H, d, J=9.3H
z), 7.19(1H, d, J=9.3Hz),7.16(1H, d, J=9.3Hz), 5.9
5(1H, t, J=10.1Hz), 5.62(1H, d, J=3.2Hz),5.59(1H,
d, J=10.1Hz), 5.28(1H, dd, J=3.2, 10.1Hz), 4.32-4.
20(1H, m),4.20-4.08(2H, m), 3.92(3H, s), 3.87(3H,
s), 2.34, 2.04, 1.99,1.68(12H, 4*s), 1.57-1.43(6H,
m), 1.43-1.23(6H, m),1.15(6H, t, J=8.2Hz), 0.87(9
H, t, J=7.2Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｋ］⁺ :Ｃ
₃₈Ｈ₅₆Ｏ₁₁ＫＳｎとして、 計算値: 843.2477 実測値: 843.2469 旋光度: ［α］_D ＝−３５．２ （ｃ＝０．８１，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１２６】

【実施例１２】２−メトキシ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル））−６−（トリ
−ｎ−ブチルスタニル）ナフタレン

【０１２７】

【実施例１２（ａ）】６−ブロモ−２−メトキシ−１−（２，３，４，６−テ
トラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）ナ
フタレン β−Ｄ−ガラクト−スペンタアセテ−ト（２．０ｇ、
５．１２ｍｍｏｌ）及び２−ブロモ−６−メトキシナフ
タレン（２．４２ｇ、１０．２ｍｍｏｌ）より、実施例
１（ａ）に準じて反応を行い、目的化合物 ８８８ｍｇ
（収率３０．６％）を得た。

【０１２８】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：29
42, 1753, 1591 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：８．５５（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝９．３Ｈ
ｚ）， ７．９１（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝２．０Ｈｚ），
７．７２（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．５
４（１Ｈ， ｄｄ， Ｊ＝２．０， ９．３Ｈｚ），
７．２２（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝９．１Ｈｚ），５．８８
（１Ｈ， ｔ， Ｊ＝９．８Ｈｚ）， ５．６２（１
Ｈ， ｄ， Ｊ＝３．２Ｈｚ）， ５．５７（１Ｈ，
ｄ， Ｊ＝９．８Ｈｚ），５．２８（１Ｈ， ｄｄ，
Ｊ＝３．２， ９．８Ｈｚ）， ４．３１−４．１９
（１Ｈ， ｍ）， ４．１９−４．０７（２Ｈ，
ｍ），３．９５（３Ｈ， ｓ）， ２．３３， ２．０
５， １．９９， １．６８（１２Ｈ， ４＊ｓ） 高分解能マススペクトル （ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ］⁺ : Ｃ₂₅
Ｈ₂₇ＢｒＯ₁₀として、 計算値: 566.0788 実測値: 566.0796 旋光度：［α］_D ＝−１３．７ （ｃ＝０．４１，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１２９】

【実施例１２（ｂ）】２−メトキシ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ア
セチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル））−６−（トリ
−ｎ−ブチルスタニル）ナフタレン ６−ブロモ−２−メトキシ−１−（２，３，４，６−テ
トラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル）ナ
フタレン（８３０ｍｇ、１．４６ｍｍｏｌ）を用い、実
施例１（ｂ）に従い反応を行い、目的化合物 ３１５ｍ
ｇ（収率２７．７％）を得た。

【０１３０】赤外吸収スペクトル (thin film)ｃｍ^-1：
2957, 2926, 2872, 2853, 1754 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃ ）：
δｐｐｍ：8.56(1H, d, J=8.5Hz), 7.83(1H, s), 7.77
(1H, d, J=9.1Hz),7.52(1H, d, J=8.5Hz), 7.19(1H, d,
J=9.1Hz), 5.96(1H, t, J=9.9Hz),5.62(1H, d, J=3.2H
z), 5.59(1H, d, J=9.9Hz),5.30(1H, dd, J=3.2, 9.9H
z), 4.35-4.23(1H, m), 4.20-4.07(2H, m),3.94(3H,
s), 2.36, 2.05, 1.99, 1.69(12H, 4*s), 1.66-1.50(6
H, m),1.47-1.23(6H, m), 1.10(6H, t, J=8.1Hz), 0.91
(9H, t, J=7.2Hz) 高分解能マススペクトル (ＦＡＢ⁺ ) ［Ｍ＋Ｈ］⁺ :Ｃ
₃₇Ｈ₅₅Ｏ₁₀Ｓｎとして、 計算値: 775.2813 実測値: 775.2804 旋光度：［α］_D ＝−３９．４ （ｃ＝１．０３，ＣＨ
Ｃｌ₃ ）

【０１３１】

【発明の効果】下記のように、本発明のＣ−グリコシル
化されたアリールスズ化合物から、化合物Ｃを合成する
ことができる。

【０１３２】

【化１１】

【０１３３】［式中、「Ａｃ」はアセチル基を意味し、
「Ｂｕ」はｎ−ブチル基を意味し、「Ｍｅ」はメチル基
を意味する。

【０１３４】また、化合物Ｃは、Ｐ−セレクチンとＨＬ
−６０細胞の接着阻害試験［Ishiwata, N., et al., J.
Biol.Chem., 269, 23708-23715 (1994); Ushiyama, S.,
etal., J.Biol.Chem., 268, 15229-15237 (1993)］に
おいて、細胞接着阻害作用を示す。

【０１３５】即ち、本発明のＣ−グリコシル化されたア
リールスズ化合物は、細胞表層の糖鎖複合分子（糖脂
質、糖タンパク質、プロテオグリカン）やオリゴ糖鎖に
よる細胞−細胞間／細胞−基質間の相互作用や接着、細
菌やウィルス−宿主相互作用における受容体としての機
能を阻害し、それらが関与するもしくは異常をきたした
場合に現れる様々の治療に有効なアリール Ｃ−グリコ
シル化合物の合成中間体として有用である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式［Ｉ］で表わされる化合物、
   その塩またはそのエステル： 【化１】 ［式中、Ａｒ は、アリール環またはヘテロアリール環
   を表わし、 Ｒ¹ は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、保護された
   水酸基、シアノ基、アミノ基、保護されたアミノ基、カ
   ルボキシル基、カルボキシメチル基、Ｃ₁ −Ｃ₁₀アルキ
   ル基または低級アルコキシ基を表し、 Ｒ² は、低級アルキル基またはフェニル基を表し、 Ｒ³ は、下記一般式（ＩＩ−ａ）または（ＩＩ−ｂ）を
   有する糖残基： 【化２】 （式中、 ｐは、１乃至４の整数を表し、 ｑは、０または１を表し、 Ｒ⁴ は、水素原子または水酸基の保護基を表わし、 Ｒ⁵ は、水素原子またはアシル基を表わし、 Ｒ⁶ は、水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、保
   護されたヒドロキシメチル基またはカルボキシル基を表
   し、 この糖残基は、１位の炭素原子でＡｒと直接結合し、そ
   の結合形態は、αまたはβ結合である。）を表し、 ｍは、１ないし４の整数を表し、 ｎは、１ないし３の整数を表し、 ｍが２ないし４の整数であるとき、複数の基Ｒ¹ は同一
   の基でもそれぞれ相違する基であってもよく、 ｎが２または３であるとき、複数の基Ｒ³ は同一の基で
   もそれぞれ相違する基であってもよく、 ｐが２ないし４の整数であるとき、複数の基−ＯＲ⁴ は
   同一の基でもそれぞれ相違する基であってもよい。但
   し、下記構造式Ａ（式中、「Ｍｅ」はメチル基を示し、
   「ＴＢＤＭＳ」は、tert−ブチルジメチルシリル基を示
   す。）で表される化合物を除く。 【化３】 ］。