WO2009123050A1 - 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 - Google Patents

硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 Download PDF

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泰史 田口
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Definitions

  • the present invention relates to a curable composition, a color filter and a method of manufacturing the same, and a solid-state imaging device.
  • the color filter is an integral component of a liquid crystal display (LCD) or a solid-state imaging device (CCD, CMOS, etc.).
  • LCD liquid crystal display
  • CCD solid-state imaging device
  • the liquid crystal display is more compact than the CRT as the display device and is equal in performance or more, and therefore, the conventional CRT is being replaced as a display unit of a television screen, a personal computer screen or another display device. Further, in recent years, the technological trend of liquid crystal displays is moving from conventional monitor applications in which the screen has a relatively small area to TV applications in which the screen is large and high image quality is required.
  • the substrate size has been expanded for large TVs, and coloring of red (R), green (G), blue (B), etc. has been made to improve productivity when using large substrates.
  • a curable composition used for formation of a pixel namely, color filter
  • cured by low energy is desired.
  • liquid crystal displays for TVs are required to have higher image quality than those for conventional monitors. That is, the improvement of contrast and color purity. Therefore, from the point of contrast improvement, it is required that the particle size of the coloring agent (organic pigment etc.) to be used is finer for the curable composition used for forming the colored pixel (color filter) (for example, refer to Patent Document 1). Along with this, the amount of dispersant added for pigment dispersion tends to increase. Moreover, from the point of color purity improvement, the thing in which the content rate of the coloring agent (organic pigment etc.) which occupies in solid content of a curable composition is higher is calculated
  • the content of the photopolymerization initiator and the photopolymerizable monomer, which are components necessary for curing the curable composition is limited.
  • the pigment concentration is also high, the adhesion to the inorganic base material as the substrate is insufficient, and the desired pattern formation becomes extremely difficult.
  • the coloring pattern of the color filter tends to be thinner, and the size of the coloring pattern tends to be finer.
  • these tendencies are remarkable.
  • the increase in lamp light source illuminance accompanying the increase in throughput of the exposure apparatus it is necessary to increase the resolution by increasing the discreet than ever before. Under such circumstances, it has become difficult to suppress development residues and to form a fine pattern while maintaining adhesion to the substrate.
  • an object of the present invention is to provide a curable composition capable of improving adhesion and reducing development residues in unexposed non-cured portions when forming a fine pattern.
  • Another object of the present invention is to provide a color filter having a fine pattern with excellent adhesion and little development residue.
  • Still another object of the present invention is to provide a solid-state imaging device with less noise and excellent color reproducibility.
  • the specific means for solving the said subject are as follows. ⁇ 1> (A) Polymerizable compound having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms, (B) Polymerizable compound having no alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms, (C) i-line absorber, (D) light A polymerization initiator, (E) an alkali-soluble resin, and (F) a pigment, and a mass ratio [the above (A) / (the above (A) + the above (B))] is 0.5 or more and 0.9 or less When it is set as a coating film with a film thickness of 0.7 micrometer, it is a curable composition whose i-line transmittance
  • ⁇ 2> Furthermore, it contains (G) an alkoxysilane compound, and content of this (G) alkoxysilane compound is 0.1 mass% or more and 10.0 mass% or less with respect to a total solid content as described in ⁇ 1>.
  • the curable composition of ⁇ 3> The curable composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the (C) i-line absorber has a diethylamine structure.
  • ⁇ 4> The curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the (E) alkali-soluble resin contains an ethylenically unsaturated double bond.
  • ⁇ 5> The curable composition according to any one of ⁇ 2> to ⁇ 4>, wherein the (G) alkoxysilane compound comprises an amino group-containing alkoxysilane compound.
  • ⁇ 6> A color filter comprising the curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>.
  • the color filter according to ⁇ 6> which is directly formed on the inorganic substrate. It is a color filter as described in ⁇ 6> or ⁇ 7> including the coloring pattern of ⁇ 8> Bayer arrangement.
  • ⁇ 9> A solid-state imaging device comprising the color filter according to any one of ⁇ 6> to ⁇ 8>.
  • the present invention it is possible to provide a curable composition capable of improving adhesion and reducing development residues in unexposed non-cured portions when forming a fine pattern. Further, according to the present invention, it is possible to provide a color filter having a fine pattern with excellent adhesion and less development residues, and a method of manufacturing the same. Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a solid-state imaging device which is low in noise and excellent in color reproducibility.
  • the curable composition of the present invention comprises (A) a polymerizable compound having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms, (B) a polymerizable compound having no alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms, and (C) i-ray absorption Agent, (D) photopolymerization initiator, (E) alkali-soluble resin, and (F) pigment, and the mass ratio [(A) / ((A) + (B))] is 0.5 or more It is 0.9 or less, and when it is set as a coating film with a film thickness of 0.7 ⁇ m, the i-ray transmittance is 10% or less.
  • the curable composition of the present invention is configured as described above, when forming a fine pattern, the adhesion can be improved and the development residue in the unexposed unexposed area can be reduced. Furthermore, the resolution is also improved.
  • a fine pattern with a line width of 2.0 ⁇ m or less is preferable, and a fine pattern with a line width of 1.7 ⁇ m or less is more preferable.
  • line width means the length in the width direction in the case of a rectangular pattern, the side length in the case of a square pattern, the diameter in the case of a circular pattern, and the minor diameter in the case of an elliptical pattern.
  • the curable composition of the present invention can form a colored pattern excellent in adhesion to a substrate (support), for example, a colored pattern can be directly formed on an inorganic substrate without passing through an undercoating organic film. It is particularly suitable for forming applications.
  • the curable composition of the present invention is excellent in adhesion and can form a colored pattern with a small amount of development residues, even when exposure is performed using a high illuminance exposure apparatus, exposure is performed using a low illuminance exposure apparatus.
  • 600 mW / cm 2 or more are particularly suitable for high intensity exposure device of the lamp light source illuminance.
  • the curable composition of the present invention has an i-ray transmittance of 10% or less when it is a coated film having a thickness of 0.7 ⁇ m.
  • the said coating film points out the coating film before exposure.
  • i-ray transmittance refers to a value measured by the following method. That is, the curable composition of the present invention is coated on base glass and prebaked to form a coated film having a thickness of 0.7 ⁇ m, and MCPD-3000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) is used for the coated film.
  • the i-ray transmittance was measured.
  • the i-ray transmittance exceeds 10%, the resolution decreases.
  • the i-ray transmittance is preferably 8% or less, more preferably 6% or less.
  • the mass ratio [(A) / ((A) + (B))] needs to be 0.5 or more and 0.9 or less.
  • the mass ratio is preferably 0.6 or more and 0.8 or less.
  • the curable composition of the present invention contains (A) at least one polymerizable compound having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms (hereinafter, also referred to as “component (A)”).
  • component (A) polymerizable compound having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms
  • the “polymerizable compound having an alkyleneoxy group having a carbon number of 2 or more” in the present invention is not particularly limited, but, for example, at least one selected from the group of compounds represented by the following general formula (i) or (ii) One type is also preferable.
  • E each independently represents-((CH 2 ) y CH 2 O)-or-((CH 2 ) y CH (CH 3 ) O)-
  • Each y independently represents an integer of 1 to 10.
  • each X independently represents an acryloyl group, a methacryloyl group, a hydrogen atom or a carboxyl group.
  • the total of acryloyl group and methacryloyl group is three or four, m each independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of each m is an integer of 1 to 40.
  • the total of acryloyl group and methacryloyl group is 5 or 6
  • m is preferably an integer of 0 to 6, and more preferably an integer of 0 to 4.
  • the total of m is preferably an integer of 2 to 40, more preferably an integer of 2 to 16, and particularly preferably an integer of 4 to 8.
  • n is preferably an integer of 0 to 6, and more preferably an integer of 0 to 4.
  • the total of each n is preferably an integer of 3 to 60, more preferably an integer of 3 to 24, and particularly preferably an integer of 6 to 12.
  • the oxygen atom side ends Preferred is a form in which
  • the compounds represented by the general formula (i) or (ii) have a ring-opened skeleton by ring-opening addition reaction of ethylene oxide or propylene oxide to pentaerythritol or dipentaerythritol which is a conventionally known step.
  • the compound can be synthesized from the step of bonding and the step of introducing a (meth) acryloyl group by, for example, reacting (meth) acryloyl chloride with the terminal hydroxyl group of the ring-opened skeleton.
  • Each step is a well-known step, and those skilled in the art can easily synthesize a compound represented by general formula (i) or (ii).
  • pentaerythritol derivatives and / or dipentaerythritol derivatives are more preferable.
  • compounds represented by the following formulas (a) to (f) (hereinafter, also referred to as “exemplified compounds (a) to (f)”) can be mentioned, and among them, exemplified compounds (a) and (b) , (E) and (f) are preferred.
  • Examples of commercially available products of the compound represented by the general formula (i) or the general formula (ii) include SR-494 manufactured by Sartmar, DPCA-60, TPA-330 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and the like.
  • the curable composition of the present invention contains (B) at least one polymerizable compound not having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms (hereinafter, also referred to as “component (B)”).
  • component (B) a polymerizable compound not having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms
  • the polymerizable compound preferably has a polymerizable group (that is, is a "polymerizable compound having a polymerizable group and not having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms").
  • the number of the polymerizable groups is more preferably 2 or more, and particularly preferably 3 or more.
  • the above-mentioned "polymerizable compound having a polymerizable group and not having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms" is not particularly limited, but, for example, monofunctional acrylate or methacrylate (for example, polyethylene glycol mono (meth) acrylate) , Polypropylene glycol mono (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, etc., polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexaned
  • a polymerizable compound having a polymerizable group and not having an alkyleneoxy group having 2 or more carbon atoms a compound represented by the following general formula (iii) or the general formula (iv) may be suitably used. it can.
  • each Z independently represents an acryloyl group, a methacryloyl group, a hydrogen atom or a carboxyl group.
  • the total of acryloyl group and methacryloyl group is three or four. Further, in the general formula (iv), the total of acryloyl group and methacryloyl group is 5 or 6.
  • the component (A) and the component (B) in the present invention may be used in combination with a known polymerizable compound.
  • the known polymerizable compound include the following. That is, monofunctional acrylates or methacrylates (eg, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, etc.), polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono ( Monofunctional acrylates and methacrylates such as meta) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylol ethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate and pentaerythritol triol (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythr
  • the polymerizable compound ((A) ingredient and (B) ingredient) in the present invention was explained, from the viewpoint of acquiring the effect by the present invention more effectively, the polymerizability including (A) ingredient and (B) ingredient
  • the total content of the compounds is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 1 to 40% by mass, and particularly preferably 1 to 30% by mass, with respect to the total solid content of the curable composition.
  • the curable composition of the present invention contains (C) an i-line absorber at least one kind.
  • the (C) i-line absorber is not particularly limited as long as it is a compound that absorbs the i-line (wavelength 365 nm) of a mercury lamp, but a compound containing a diethylamine structure is preferable.
  • Preferred examples of the (C) i-line absorber include a compound represented by the following general formula (1) and a compound represented by the following general formula (2). Hereinafter, these compounds will be described.
  • a compound represented by the following general formula (1) is preferable.
  • the compound represented by the following general formula (1) is a conjugated diene compound, and by using this conjugated diene compound, fluctuation in development performance is particularly suppressed after exposure to a low illuminance, so that the pattern is formed. It is possible to suppress exposure illuminance dependency related to pattern formability such as line width, film thickness, spectral spectrum and the like.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 1 and R 2 May be the same as or different from each other, but do not simultaneously represent a hydrogen atom.
  • the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 and R 2 is, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-decyl group Group, n-dodecyl group, n-octadecyl group, eicosyl group, methoxyethyl group, ethoxypropyl group, 2-ethylhexyl group, hydroxyethyl group, chloropropyl group, N, N-diethylaminopropyl group, cyanoethyl group, phenethyl group Group, benzyl group, p-t-butylphenethyl group, p-t-octylphenoxyethyl group, 3- (2,4-di-t-amylphenoxy) propyl group, ethoxycarbonylmethyl group
  • the aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 1 and R 2 may be a single ring or a condensed ring, and may be a substituted aryl group having a substituent or an unsubstituted aryl group. It may be.
  • a substituted or unsubstituted phenyl group, 1-naphthyl group and 2-naphthyl group are preferable.
  • R 1 and R 2 may form a cyclic amino group together with the nitrogen atom.
  • the cyclic amino group include piperidino group, morpholino group, pyrrolidino group, hexahydroazepino group, piperazino group and the like.
  • R 1 and R 2 are lower alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, tert-pentyl, hexyl, octyl 2-ethylhexyl, tert-octyl, etc., or substituted or unsubstituted phenyl groups (eg, tolyl, phenyl, anisyl, mesityl, chlorophenyl, 2,4-di-t-amylphenyl etc.) preferable.
  • phenyl groups eg, methyl, ethyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, tert-pentyl, hexyl, octyl 2-ethylhexyl, tert-o
  • R 1 and R 2 be combined to form a ring (eg, a piperidine ring, a pyrrolidine ring, a morpholine ring, etc.) containing a nitrogen atom represented by N in the formula.
  • a ring eg, a piperidine ring, a pyrrolidine ring, a morpholine ring, etc.
  • R 3 and R 4 represents an electron withdrawing group.
  • the electron withdrawing group is an electron withdrawing group having a Hammett's substituent constant ⁇ p value (hereinafter simply referred to as “ ⁇ p value”) of 0.20 or more and 1.0 or less. Preferably, it is an electron withdrawing group having a ⁇ p value of 0.30 or more and 0.8 or less.
  • ⁇ p value a Hammett's substituent constant ⁇ p value
  • ⁇ p value a Hammett's substituent constant ⁇ p value
  • the electron withdrawing group having a ⁇ p value of 0.20 or more and 1.0 or less include an acyl group, an acyloxy group, a carbamoyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, a nitro group, Dialkylphosphono group, diarylphosphono group, diarylphosphinyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfonyloxy group, acylthio group, sulfamoyl group, thiocyanate group, thiocarbonyl group, at least An alkyl group substituted by two or more halogen atoms, an alkoxy group substituted by at least two or more halogen atoms, an aryloxy group substituted by at least two or more halogen atoms, and
  • R 3 is preferably a group selected from cyano group, -COOR 5 , -CONHR 5 , -COR 5 , -SO 2 R 5 , and R 4 is cyano group, -COOR 6, -CONHR 6, -COR 6, a group selected from -SO 2 R 6 is preferred.
  • R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms.
  • the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the aryl group having 6 to 20 carbon atoms which are represented by R 5 and R 6 have the same meanings as in the case of R 1 and R 2 , and preferred embodiments are also the same.
  • R 3 and R 4 are preferably an acyl group, carbamoyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, nitro group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfonyloxy group, sulfamoyl group
  • an acyl group, a carbamoyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyano group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfonyloxy group and a sulfamoyl group are preferable.
  • At least one of the above R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be in the form of a polymer derived from a monomer bonded to a vinyl group via a linking group.
  • n means normal.
  • the content of the compound (conjugated diene compound) represented by the above general formula (1) in the photocurable coloring composition of the present invention is 0.01% by mass to the total solid content of the composition 10% by mass is preferable, 0.01% by mass to 7.5% by mass is more preferable, and 0.01% by mass to 5% by mass is particularly preferable.
  • the content of the conjugated diene compound (ultraviolet absorber) is 0.01% by mass or more, the light shielding ability at the time of exposure is good and the fatness of the pattern line width due to the progress of the polymerization is prevented to prevent thickening. It is easy to obtain line widths of Further, when the content is 10% by mass or less, the light shielding ability at the time of exposure is not too strong, and the polymerization proceeds more favorably.
  • the change in pattern line width as described above becomes noticeable in a magenta or red photocurable coloring composition which absorbs less light to ultraviolet light such as g-line, h-line and i-line as an exposure light source. Therefore, the compound (conjugated diene type compound) represented by the said General formula (1) is especially effective, when comprising the photocurable coloring composition of magenta color or red.
  • X represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an unsubstituted cyclic group or substituted cyclic group bonded to the 3-position, a carboxyl group or a carboxylic acid ester residue.
  • Y represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cyclic group bonded to the 6-position, a substituted or unsubstituted cyclic group bonded to the 8-position, the 6-position and It represents an unsubstituted or substituted cyclic group bonded to the 8-position, and may be the same or different.
  • the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by X is preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and most preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, n-butyl, tert-butyl, iso-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl and the like, among which methyl, ethyl and propyl are particularly preferable.
  • the cyclic ring group in the substituted cyclic ring group or the substituted cyclic ring group and the unsubstituted or substituted cyclic ring group bonded to the 6- and 8-positions represented by Y is preferably 3 to 12 ring members, and 4 to 9 Is more preferable, and 5 to 7 is particularly preferable.
  • examples of the cyclo ring group include cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane and the like, and cyclopentane and cyclohexane are particularly preferable.
  • the substituent is preferably an alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 10, more preferably a carbon number of 1 to 5, particularly preferably a carbon number of 1 to 3, for example, methyl, ethyl, propyl, n-butyl, tert -Butyl, iso-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl and the like, with preference given to methyl, ethyl and propyl.
  • carboxylic acid ester residue which said X represents a dimethyl ester group, an ethyl methyl ester group, a methylphenyl ester group etc. are mentioned, Especially, a dimethyl ester group and an ethyl methyl ester group are preferable.
  • the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by Y is preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and most preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • methyl, ethyl, propyl, n-butyl, tert-butyl, iso-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl and the like can be mentioned, with preference given to methyl, ethyl and propyl.
  • the unsubstituted or substituted cyclic group bonded to the 6- and 8-positions represented by Y may be the same or different, but are preferably the same.
  • R 1 , R 2 and R 3 each independently represent hydrogen and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • Each of l, m and n independently represents an integer of 1 to 2.
  • the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 to R 3 is the same as the alkyl group represented by X, and the preferred range is also the same. Furthermore, in the specific example, it is the same and a preferable example is also the same.
  • Each of l, m and n independently represents an integer of 1 to 2.
  • each of R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different.
  • the content of the (C) i-line absorber described above is preferably 1 to 20% by mass, and more preferably 1 to 10% by mass, with respect to the total solid content of the curable composition of the present invention.
  • the curable composition of the present invention contains (D) at least one photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is preferably a compound which is decomposed by light to initiate or accelerate the polymerization of the polymerizable compound, and preferably has absorption in a wavelength range of 300 to 500 nm.
  • a photoinitiator can be used individually or in combination of 2 or more types.
  • photopolymerization initiator for example, organic halogenated compounds, oxydiazole compounds, carbonyl compounds, ketal compounds, benzoin compounds, acridine compounds, organic peroxide compounds, azo compounds, coumarin compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaaryl compounds
  • organic halogenated compounds for example, organic halogenated compounds, oxydiazole compounds, carbonyl compounds, ketal compounds, benzoin compounds, acridine compounds, organic peroxide compounds, azo compounds, coumarin compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaaryl compounds
  • examples thereof include ruby imidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, and acyl phosphine (oxide) compounds.
  • an s-triazine derivative in which at least one mono-, di- or trihalogen-substituted methyl group is bonded to an s-triazine ring specifically, for example, 2,4,6- Tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( ⁇ , ⁇ , ⁇ -trichloroethyl) -4,6-bis (trichloro) Methyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (
  • Examples of oxydiazole compounds include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (cyanostyryl) -1,3,4-oxodiazole Trichloromethyl-5- (naphth-1-yl) -1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-styryl) styryl-1,3,4-oxodiazole and the like .
  • benzophenone derivatives such as benzophenone, Michler's ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and the like, 2, 2-dimethoxy-2 -Phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, ⁇ -hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy -1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 '-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) Ketones, acetophenone derivatives such as 2-benzyl-2-di
  • ketal compounds include benzyl methyl ketal, benzyl- ⁇ -methoxyethylethyl acetal and the like.
  • benzoin compounds include m benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin methyl ether, methyl o-benzoyl benzoate and the like.
  • acridine compound examples include 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane and the like.
  • organic peroxide compound examples include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxy) Oxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoper Oxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2 5-oxanoyl peroxide, succinic acid peroxide, benzoyl peroxide,
  • Examples of the azo compound include azo compounds described in JP-A-8-108621.
  • the coumarin compound for example, 3-methyl-5-amino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, 3-chloro-5-diethylamino-((s-triazin-2-yl) Etc. may be mentioned) amino) -3-phenylcoumarin, 3-butyl-5-dimethylamino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin and the like.
  • organic azide compounds described in U.S. Pat. No. 2,848,328, U.S. Pat. No. 2,852,379 and U.S. Pat. No. 2,940,853, 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-ethyl Examples include cyclohexanone (BAC-E) and the like.
  • metallocene compounds there can be mentioned, for example, JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, JP-A-H02-147.
  • titanocene compounds described in JP-A 5-83588 for example, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluoropheny-l-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny-l-yl, di- Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluoropheny-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafu Orophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluoropheny-1-yl, di-methylcyclopent
  • hexaarylbiimidazole compounds include the respective specifications of Japanese Patent Publication No. 6-29285, U.S. Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. And various compounds described in the above, specifically, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) )) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ′ -Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophen
  • organic borate compounds for example, JP-A-62-143044, JP-A-62-150242, JP-A-9-188685, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710 and JP-A 2000 No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application No. 2000-310808, etc., and Kunz, Martin "Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago", etc.
  • Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A-61-166544, JP-A-2001-132318, and the like.
  • onium salt compounds examples include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.S. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in U.S. Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., U.S. Pat. No. 4,069, The phosphonium salt described in each specification of 055 and 4,069,056, each specification of European Patent No. 104, 143, US Patent Nos. 339, 049 and 410, 201, Japanese Patent Laid-Open No. 2 And iodonium salts described in JP-A-150848 and JP-A-2-296514.
  • the iodonium salts that can be suitably used in the present invention are diaryliodonium salts, and from the viewpoint of stability, it is preferable that two or more of them be substituted with an electron donating group such as an alkyl group, an alkoxy group or an aryloxy group. .
  • one substituent of the triarylsulfonium salt has a coumarin, an iodonium salt having an antoaquinone structure, and having absorption at 300 nm or more.
  • the sulfonium salts described in each specification of Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, and 3,604,581 can be mentioned, and in view of stability sensitivity point, electron-withdrawing groups are preferred. Preferably it is substituted.
  • the electron withdrawing group preferably has a Hammett value greater than 0.
  • a halogen atom, a carboxylic acid and the like can be mentioned.
  • Other preferable sulfonium salts include sulfonium salts in which one substituent of the triarylsulfonium salt has a coumarin or anthraquinone structure and absorbs at 300 nm or more.
  • Another preferable sulfonium salt is a sulfonium salt having absorption at 300 nm or more, in which the triarylsulfonium salt has an aryloxy group or arylthio group as a substituent.
  • onium salt compound J.I. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. Org. V. Crivello et al, J. Mol. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , Selenonium salts described in C., 17, 1047 (1979), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p 478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.
  • acyl phosphine (oxide) compound examples include Irgacure 819, Darocure 4265, Darocure TPO and the like manufactured by Ciba Specialty Chemicals.
  • the (C) photopolymerization initiator used in the present invention includes trihalomethyl triazine compounds, benzyl dimethyl ketal compounds, ⁇ -hydroxy ketone compounds, ⁇ -amino ketone compounds, acyl phosphine compounds, phosphines Oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, biimidazole compounds, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and their derivatives, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and their salts, halomethyloxa Compounds selected from the group consisting of diazole compounds and 3-aryl substituted coumarin compounds are preferred.
  • trihalomethyl triazine compounds, ⁇ -amino ketone compounds, acyl phosphine compounds, phosphine oxide compounds, oxime compounds, biimidazole compounds, onium compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, and trihalo compounds More preferred is at least one compound selected from the group consisting of methyl triazine compounds, ⁇ -amino ketone compounds, oxime compounds, biimidazole compounds and benzophenone compounds.
  • oxime-based compounds such as the above-mentioned oxime ester compounds (that is, oxime-based photopolymerization initiators) are most preferable.
  • oxime-based photopolymerization initiator examples include the above-mentioned oxime ester compounds, but in addition, for example, those described in JP-A-2000-80068, WO-02 / 100903A1, JP-A-2001-233842 and the like Oxime compounds can be used.
  • oxime-based photopolymerization initiator 2- (O-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- (O-acetyloxime) -1 Most preferred is-[9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone.
  • oxime photopolymerization initiators include CGI-124 and CGI-242 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc.).
  • the content of the photopolymerization initiator (D) contained in the curable composition of the present invention is preferably 0.1 to 50% by mass, and more preferably 0 based on the total solid content of the curable composition. 0.5 to 30% by weight, particularly preferably 1 to 20% by weight. Within this range, good sensitivity and pattern formability can be obtained.
  • the curable composition of the present invention contains (E) at least one alkali soluble resin. It is preferable to use a linear organic polymer as the (E) alkali-soluble resin.
  • a linear organic polymer known ones can be optionally used.
  • a linear organic polymer which is soluble or swellable in water or weakly alkaline water is selected to enable water development or weakly alkaline water development.
  • the linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent but also according to the application as a water, a weakly alkaline water or an organic solvent developer. For example, water development is possible with water-soluble organic polymers.
  • radical polymers having a carboxylic acid group in the side chain such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25957 Nos.
  • monomers having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, 4-carboxystyrene and the like, and monomers having an acid anhydride include maleic anhydride and the like.
  • monomers having an acid anhydride include maleic anhydride and the like.
  • acid cellulose derivatives having a carboxylic acid group in the side chain In addition to this, a polymer having a hydroxyl group to which a cyclic acid anhydride is added is useful.
  • Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether and the like.
  • Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
  • Styrenes such as styrene, ⁇ -methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene and p-acetoxystyrene.
  • Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone and the like.
  • Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
  • N-vinylpyrrolidone acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
  • Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloyl acrylamide, N-acetyl methacrylamide, N-propionyl methacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide and the like.
  • a methacrylic acid-based monomer in which a hetero atom is bonded to the ⁇ position For example, compounds described in Japanese Patent Application No. 2001-115595, Japanese Patent Application No. 2001-115598, etc. can be mentioned.
  • (meth) acrylic resins having an allyl group, a vinyl ester group and a carboxyl group in a side chain and double side chains described in JP-A-2000-187322 and JP-A-2002-62698 are excellent in the balance of film strength, sensitivity and developability and is preferable.
  • Japanese Examined Patent Publication No. 7-12004 Japanese Examined Patent Publication No. 7-120041, Japanese Examined Publication No. 7-120042, Japanese Examined Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Laid-Open Publication 63-287944, Japanese Patent Laid-Open Publication 63-287947, Japanese Patent Laid-Open Publication 1- Urethane-based binder polymers containing an acid group as described in JP-A-271741 and Japanese Patent Application No. 10-116232, and urethane-based binder polymers having an acid group and a double bond as described in JP-A-2002-107918 in the side chain Is very excellent in strength, so it is advantageous in terms of printing durability and low exposure suitability.
  • an acetal-modified polyvinyl alcohol-based binder polymer having an acid group described in European Patent 993966, European Patent 1204000, JP-A 2001-318463, etc. is excellent in the balance between film strength and developability and is preferable.
  • polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer.
  • alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful for increasing the strength of the cured film.
  • an alkali-soluble resin containing an ethylenically unsaturated double bond is preferable, and an alkali-soluble resin containing an acryloyl group or a methacryloyl group is more preferable.
  • the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin contained in the curable composition in the present invention is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 1 Or more, more preferably in the range of 2,000 to 250,000.
  • the polydispersity is preferably 1 or more, more preferably in the range of 1.1 to 10. These resins may be any of random polymers, block polymers, graft polymers and the like.
  • the alkali-soluble resin in the present invention can be synthesized by a conventionally known method.
  • the solvent used in the synthesis include tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy -2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like.
  • These solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • combining resin in this invention well-known compounds, such as
  • the content of the alkali-soluble resin (total content in the case of two or more types) in the total solid content of the curable composition of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining the effect of the present invention more effectively Is preferably 1 to 80% by mass, more preferably 1 to 70% by mass, and particularly preferably 1 to 60% by mass.
  • the curable composition of the present invention contains at least one pigment.
  • limiting in particular as said pigment Conventionally well-known various pigments can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.
  • the pigment conventionally known various inorganic pigments or organic pigments can be used. Further, considering that both inorganic pigments and organic pigments preferably have high transmittance, it is preferable to use those which are as fine as possible, and also considering the handling property, the average particle diameter of the pigment is 0.01 to 0. 1 ⁇ m is preferable, and 0.01 to 0.05 ⁇ m is more preferable.
  • the inorganic pigment examples include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts. Specific examples thereof include metal oxides such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, and antimony, and composite oxides of the above metals.
  • Examples of the organic pigment include C. I. Pigment yellow 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199; C. I. Pigment orange 36, 38, 43, 71; C. I. Pigment red 81, 105, 122, 149, 150, 155, 166, 171, 175, 176, 177, 209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270; C. I. Pigment violet 19, 23, 32, 39; C. I. Pigment blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66; C. I. Pigment green 7, 36, 37; C. I. Pigment brown 25, 28; C. I. Pigment black 1, 7;
  • those having a basic N atom in the structure of the pigment can be preferably used.
  • Pigments with basic N atoms exhibit good dispersibility in the composition. Although the cause is not sufficiently clarified, it is presumed that the good affinity of the photosensitive polymerization component and the pigment is affecting.
  • organic pigments can be used alone or in various combinations in order to increase color purity. Specific examples of combinations are shown below.
  • anthraquinone pigments anthraquinone pigments, perylene pigments, diketopyrrolopyrrole pigments alone or at least one of them, disazo yellow pigments, isoindoline yellow pigments, quinophthalone yellow pigments or perylene red pigments And the like can be used.
  • anthraquinone pigments C.I. I. Pigment red 177
  • examples of perylene pigments include C.I. I. Pigment red 155, C.I. I. Pigment red 224
  • examples of the diketopyrrolopyrrole pigment include C.I. I.
  • the mixing with pigment yellow 139 is preferred.
  • the mass ratio of the red pigment to the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 50. When the mass ratio is within the above range, it is possible to suppress the light transmittance of 400 nm to 500 nm, which is effective for increasing the color purity, and suppressing the main wavelength from becoming shorter than the short wavelength. Easy to secure.
  • the mass ratio is particularly preferably in the range of 100: 30 to 100: 50.
  • it can adjust according to a chromaticity.
  • a pigment for green color it is possible to use a halogenated phthalocyanine pigment alone or a mixture thereof with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment or an isoindoline yellow pigment. .
  • a disazo yellow pigment e.g., a quinophthalone yellow pigment
  • an azomethine yellow pigment e.g., an isoindoline yellow pigment.
  • C.I. I. Pigment greens 7, 36, 37 and C.I. I. Pigment yellow 83 e. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 180 or C.I. I.
  • the mixing with pigment yellow 185 is preferred.
  • the mass ratio of the green pigment to the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 150, and particularly preferably in the range of 100: 30 to 100: 120.
  • phthalocyanine pigments may be used alone, or a mixture of this with a dioxazine purple pigment may be used.
  • the mixing with pigment violet 23 is preferred.
  • the mass ratio of the blue pigment to the purple pigment is preferably 100: 0 to 100: 30, and more preferably 100: 10 to 100: 30.
  • the primary particle diameter of the pigment is preferably 10 to 100 nm, more preferably 10 to 70 nm, still more preferably 10 to 50 nm, and most preferably 10 to 40 nm, from the viewpoint of color unevenness and contrast when producing a color filter.
  • the content of the pigment in the curable composition is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, particularly preferably 30 to 70% by mass, based on the total solid content of the curable composition. It is.
  • the content of the pigment is in the above-mentioned range, a colored pattern with high density and good hue is obtained, which is preferable from the viewpoint of obtaining a vivid color filter with high contrast.
  • dispersants examples include polymer dispersants [for example, polyamide amine and its salt, polycarboxylic acid and its salt, high molecular weight unsaturated acid ester, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (Meth) acrylates, (Meth) acrylic copolymers, naphthalenesulfonic acid formalin condensates], and polyoxyethylene alkyl phosphates, polyoxyethylene alkylamines, alkanolamines, pigment derivatives and the like.
  • Polymer dispersants can be further classified into linear polymers, terminal modified polymers, graft polymers, and block polymers according to their structures.
  • the polymeric dispersant adsorbs to the surface of the pigment and acts to prevent reaggregation. Therefore, a terminal modified polymer having an anchor site on the pigment surface, a graft polymer, and a block polymer can be mentioned as a preferable structure.
  • the pigment derivative has the effect of promoting the adsorption of the polymer dispersant by modifying the surface of the pigment.
  • pigment dispersant examples include “Disperbyk-101 (polyamidoamine phosphate), 107 (carboxylic acid ester), 110 (copolymer containing an acid group), 130 (polyamide), 161, 162 manufactured by BYK Chemie.
  • dispersants may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, it is particularly preferable to use a combination of a pigment derivative and a polymer dispersant.
  • the content of the dispersant in the curable composition is preferably 1 to 100% by mass, more preferably 3 to 100% by mass, and still more preferably 5 to 80% by mass, based on the pigment.
  • the amount thereof used is preferably in the range of 5 to 100% by mass, and more preferably in the range of 10 to 80% by mass, with respect to the pigment.
  • the amount thereof is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 20% by mass, and further preferably 5 to 15% by mass with respect to the pigment. Is particularly preferred.
  • the total content of the pigment and the dispersant is 30% by mass or more and 90% by mass with respect to the total solid content of the curable composition from the viewpoint of curing sensitivity and color density. It is preferable that it is the following, It is more preferable that it is 40 to 85 mass%, It is more preferable that it is 50 to 80 mass%.
  • the curable composition of the present invention preferably contains at least one (G) alkoxysilane compound from the viewpoint of further improving the adhesion.
  • the (G) is more preferable from the viewpoint of further improving the adhesion.
  • the alkoxysilane compound in the present invention is not particularly limited, but an amino group-containing alkoxysilane compound having an amino group is preferred from the viewpoint of obtaining the effect of the present invention more effectively.
  • the alkoxysilane compound represented by the following general formula (I) is preferable.
  • the alkoxysilane compound represented by the following general formula (I) for example, high adhesiveness with an inorganic material can be obtained.
  • the curable composition is in the unexposed state, development is good and development residues can be suppressed.
  • L represents a monovalent organic group, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group.
  • n represents an integer of 1 to 3;
  • Examples of the monovalent organic group represented by L include, for example, an alkyl group having 1 or more carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, or a combination thereof. Be Among them, an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable.
  • R 1 and R 2 for example, a linear, branched or cyclic alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, pentyl group, etc.) Group, hexyl group, cyclohexyl group, phenyl group) and the like.
  • R 1 and R 2 are preferably linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, more preferably linear alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, and methyl and ethyl groups are particularly preferable preferable.
  • n is an integer of 1 to 3 and is preferably 2 to 3 from the viewpoint of stability and adhesion.
  • the alkoxysilane compound represented by the general formula (I) is preferably a compound having at least one hydrophilic site in the molecule, and more preferably a compound having a plurality of hydrophilic sites. When multiple hydrophilic sites are present in the molecule, the hydrophilic sites may be the same or different.
  • alkoxysilane compounds represented by the general formula (I) from the point of curability and the removability in the case of removing portions other than the cured part after curing by development etc.
  • alkoxysilane compounds that is, it is an alkoxysilane compound having a monovalent organic group containing a hydrophilic site.
  • L ′ represents a monovalent organic group containing a hydrophilic site.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group, the same meanings as those of R 1 and R 2 in the general formula (I), details and preferred embodiments of the hydrocarbon group represented by R 1, R 2 Is the same as in the general formula (I).
  • n is an integer of 1 to 3 and is preferably 2 to 3 from the viewpoint of stability and adhesion.
  • the “monovalent organic group containing a hydrophilic site” represented by L ′ will be described.
  • the “hydrophilic portion” contained in the monovalent organic group L ′ represents a polar atomic group having high affinity to a highly polar substance represented by water, and examples thereof include oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus and the like. Contains atoms Such hydrophilic sites include sites capable of dipole-dipole interaction, dipole-ion interaction, ionic bond, hydrogen bond and the like with highly polar substances represented by water.
  • hydrophilic sites include polar groups including atoms such as oxygen, nitrogen, and sulfur, dissociative groups, hydrogen bond donors, hydrogen bond acceptors, sites having a plurality of lone electron pairs, which can be collected to provide a hydrophilic field Etc.
  • hydrophilic groups such as a hydroxy group, an amino group, a carbonyl group, a thiocarbonyl group, a mercapto group, a carbamoyl group, a carbamoyloxy group, a carbamoylamino group, a sulfonamide moiety, a urethane moiety, a thiourethane moiety, An amide site, an ester site, a thioether site, a urea site, a thiourea site, an oxycarbonyloxy site, an ammonium group, a secondary amine site, a tertiary amine site, a polyethyleneoxy site represented by-(CH 2 CH 2 O) a- (Wherein a is an integer of 2 or more), an oxycarbonyloxy moiety, and a partial structure (monovalent to trivalent hydrophilic moiety) represented by the following structural formula, and the like.
  • M 1 and M 2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent metal atom (eg, lithium, sodium, potassium, etc.).
  • Michael can be used to the ethylenic double bond of the polymerizable compound (including the component (A) and the component (B)).
  • a structure which does not cause an addition reaction is more preferable.
  • each of R 11 and R 12 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 11 and R 12 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, And isopropyl group, butyl group, isobutyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, phenyl group) and the like.
  • R 11 and R 12 are preferably a methyl group or an ethyl group.
  • R 3 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrocarbon group may be unsubstituted or may have a substituent.
  • the hydrocarbon structure of the hydrocarbon group may have a ring structure and / or an unsaturated bond.
  • part here here refers to what was mentioned as a monovalent
  • X represents a monovalent hydrophilic site.
  • part here here here refers to what was mentioned as a monovalent
  • n is an integer of 1 to 3 and is preferably 2 to 3 from the viewpoint of stability and adhesion.
  • R 11 and R 12 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 11 and R 12 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, And isopropyl group, butyl group, isobutyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, phenyl group) and the like.
  • R 11 and R 12 are preferably a methyl group or an ethyl group.
  • Each of R 4 , R 5 , R 6 and R 7 independently represents a single bond, or a hydrocarbon chain having 1 to 12 carbon atoms (divalent hydrocarbon group) which may be substituted or unsubstituted. Represents However, when R 4 , R 5 , R 6 and R 7 represent a hydrocarbon chain (divalent hydrocarbon group), they may have a ring structure and / or unsaturated bond in the hydrocarbon structure .
  • the hydrocarbon chain (bivalent hydrocarbon group) may have a monovalent hydrophilic moiety as a substituent. Details of the divalent hydrocarbon group represented by R 4 to R 7 will be described later.
  • X ' represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, and the monovalent substituent may contain a hydrophilic site.
  • the hydrophilic site part here here refers to what was mentioned as monovalent hydrophilic site among what was demonstrated in said L ', and its preferable example is also the same.
  • Y and Y ′ each independently represent a bivalent hydrophilic site, Z represents a bivalent or trivalent hydrophilic site depending on the value of q, and q is 1 or 2. That is, when q is 1, Z represents a bivalent hydrophilic site, and when q is 2, Z represents a trivalent hydrophilic site.
  • hydrophilic moieties described in the general formula (I) or the general formula (II) as the divalent or trivalent hydrophilic moiety those similar to those exemplified as the divalent or trivalent hydrophilic moiety. Can be mentioned.
  • p represents an integer of 0 to 20
  • r represents an integer of 0 to 3.
  • n represents an integer of 1 to 3;
  • R 3 in the general formula (III) or R 4 , R 5 , R 6 , R 7 in the general formula (IV) is a divalent hydrocarbon group, it is a linear, branched, or The alkyl group containing a cyclic structure and an aromatic ring group are preferable, and these may have a substituent.
  • an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, aliphatic oxy group, aromatic oxy group is mentioned, for example And a heterocyclic oxy group and a hydrophilic group, and among them, an aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic group, a heterocyclic group, a chlorine atom, a cyano group and a hydrophilic group are preferable.
  • Preferred examples of the aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group and octyl group. Methyl, ethyl and propyl are preferred.
  • the aromatic group include a phenyl group, a naphthyl group and an anthracene group, and a phenyl group is preferable.
  • heterocyclic group examples include morpholino group, tetrahydrofurfuryl group, pyrrolyl group, furyl group, thiophenyl group, benzopyrrolyl group, benzofuryl group, benzothiophenyl group, pyrazolyl group, isoxazolyl group, isothiazolyl group, indazolyl group, benzoiso.
  • hydrophilic group examples include a hydroxy group, an amino group, a carbonyl group, a thiocarbonyl group, a mercapto group, a carbamoyl group, a carbamoyloxy group, a carbamoylamino group and the like, with a hydroxy group, a carbonyl group and an amino group being preferred.
  • R 3 in the general formula (III) or R 4 , R 5 , R 6 , and R 7 in the general formula (IV) may have a divalent hydrocarbon group;
  • the “divalent hydrocarbon group” represented by R 3 in the general formula (III) is preferably a methylene chain having 1 to 5 carbon atoms, or a chain which may have a substituent It is a methylene chain which may contain an oxygen atom (more preferably a methylene chain having 3 carbon atoms).
  • the “divalent hydrocarbon group” represented by R 4 to R 7 in the general formula (IV) is preferably a methylene chain having 1 to 5 carbon atoms, or may have a substituent. Is a methylene chain which may contain an oxygen atom (more preferably a methylene chain having 3 carbon atoms).
  • Preferred examples of the monovalent hydrophilic moiety at X in the general formula (III) or at X ′ in the general formula (IV) include a hydroxy group, an amino group, a mercapto group, an ammonium group, a carbamoyl group and a carbamoyl group. Examples thereof include an oxy group, a carbamoylamino group, and a partial structural moiety (the M 1 and M 2 are as described above) represented by the following structural formula.
  • Y, Y ′ and Z in the general formula (IV) are divalent hydrophilic moieties
  • preferred examples thereof include a carbonyl group, a thiocarbonyl group, a urethane moiety, a thiourethane moiety, an amide moiety and an ester moiety.
  • Z when Z is a trivalent hydrophilic moiety, preferred examples thereof include a tertiary amine moiety, a urea moiety, a thiourea moiety, a partial structure represented by the following structural formula, and the like. .
  • R 11 and R 12 are a methyl group or an ethyl group
  • R 3 has a methylene chain of 1 to 5 carbon atoms or a substituent.
  • a methylene chain (more preferably a methylene chain having 3 carbon atoms) which may contain an oxygen atom in the chain, and X is an amino group, and n is 2 to 3 (more preferably) 2) is more preferable.
  • R 11 and R 12 each represent a methyl group or an ethyl group
  • R 4 and R 5 each represent a methylene chain having 1 to 5 carbon atoms (from Preferably, it is a methylene chain having 2 carbon atoms
  • R 6 and R 7 are methylene chains having 1 to 5 carbon atoms (more preferably, a methylene chain having 3 carbon atoms)
  • X ′ is an amino group
  • Y, Y 'and Z are amino groups
  • p is 0, q is 1 and r is 0 and n is 2 to 3 (more preferably 2) The case is more preferable.
  • alkoxysilane compounds represented by the general formulas (I) to (IV) include ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane, and ⁇ -glycidoxypropyl tri Ethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, ⁇ -chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, ⁇ -chloropropylmethyldimethoxysilane, trimethylchlorosilane, 2- ( 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, bisallyltrimeth
  • 0.1 mass with respect to the total solid of the curable composition of this invention from a viewpoint which makes development residue reduction and adhesiveness improvement more effectively make it compatible.
  • % Or more and 10.0 mass% or less is preferable, 0.1 mass% or more and 8.0 mass% or less is more preferable, and 0.1 mass% or more and 6.0 mass% or less is particularly preferable.
  • the curable composition of the present invention preferably contains at least one solvent.
  • solvents that can be used when preparing the curable composition of the present invention include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate Ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, etc. ;
  • 3-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate (eg, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxy 2-Hydroxypropionic acid alkyl esters such as ethyl propionate, etc., methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate (eg methyl 2-methoxypropionate, 2-methoxy) Ethyl propionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, 2-methoxy -2- methyl propi Methyl phosphate, 2-ethoxy-2-methylpropionic acid ethyl, etc.);
  • Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether ,
  • ethyl lactate, ethyl 3-ethoxypropionate, cyclohexanone, cyclopentanone and propylene glycol monomethyl ether acetate are most preferable.
  • the curable composition of the present invention contains the above-mentioned alkoxysilane compound, as a solvent in the present invention, ketones are preferable from the viewpoint of compatibility with the alkoxysilane compound, and cyclic ketones are more preferable. , Cyclohexanone or cyclopentanone are particularly preferred.
  • the curable composition of the present invention may contain other components other than the above.
  • the curable composition of the present invention may contain a sensitizer.
  • a sensitizer those capable of sensitizing the above-described photopolymerization initiator by an electron transfer mechanism or an energy transfer mechanism are preferable.
  • sensitizer examples include those belonging to the compounds listed below and having an absorption wavelength in the wavelength range of 300 nm to 450 nm. That is, for example, polynuclear aromatics (eg, phenanthrene, anthracene, pyrene, perylene, triphenylene, 9, 10-dialkoxyanthracene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), Thioxanthones (isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, chlorothioxanthone), cyanines (eg, thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg, merocyanine, carbomerocyanine), phthalocyanines, thiazines (eg, thionine, methylene blue, Toluidine blue), acridines (e
  • the content of the sensitizer in the curable composition is 0 in terms of solid content from the viewpoint of light absorption efficiency to the deep part and initiation decomposition efficiency.
  • the content is preferably 1 to 20% by mass, and more preferably 0.5 to 15% by mass.
  • the curable composition of the present invention may contain a co-sensitizer.
  • the co-sensitizer has an effect of further improving the sensitivity of the photopolymerization initiator and the sensitizer to active radiation or suppressing inhibition of polymerization of the photopolymerizable compound by oxygen.
  • co-sensitizers examples include amines such as M.I. R. Sander et al., "Journal of Polymer Society", 10, 3173 (1972), JP-B-44-20189, JP-A-51-82102, JP-A-52-134692, JP-A-59-138205. And the compounds described in JP-A-60-84305, JP-A-62-18537, JP-A-64-33104, and Research Disclosure 33825. Specifically, triethanolamine And p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-formyldimethylaniline, p-methylthiodimethylaniline and the like.
  • co-sensitizers include thiols and sulfides, such as thiol compounds described in JP-A-53-702, JP-B-55-500806, JP-A-5-142772, And the like. Specific examples thereof include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline and ⁇ -mercapto Naphthalene etc. are mentioned.
  • an amino acid compound eg, N-phenylglycine etc.
  • an organic metal compound eg, tributyltin acetate etc.
  • hydrogen donors described in 34414
  • sulfur compounds described in JP-A No. 6-308727 (eg, trithian etc.).
  • the content of the co-sensitizer is all of the curable composition from the viewpoint of improving the curing rate by the balance between the polymerization growth rate and the chain transfer.
  • the range of 0.1 to 30% by mass is preferable, the range of 1 to 25% by mass is more preferable, and the range of 0.5 to 20% by mass is more preferable based on the mass of the solid content.
  • thermal polymerization inhibitor In the curable composition of the present invention, a small amount of a thermal polymerization inhibitor can be added to prevent unnecessary thermal polymerization of the photopolymerizable compound during production or storage of the composition.
  • a thermal polymerization inhibitor which can be used in the present invention, hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butyl catechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6) And -t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine cerous salt and the like.
  • the addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
  • higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide may be added to cause uneven distribution on the surface of the coating film in the process of drying after coating.
  • the amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5 to about 10% by mass of the total composition.
  • adhesion improver In the curable composition of the present invention, the above-mentioned alkoxysilane compound and a known adhesion improver may be used in combination.
  • known adhesion improvers include silane coupling agents and titanium coupling agents.
  • silane coupling agent for example, ⁇ - (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, ⁇ - (2-aminoethyl) aminopropyldimethoxysilane, ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy Silane, ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane, ⁇ -aminopropyltriethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropyltriethoxysilane, ⁇ -acryloxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -acryloxypropyl Triethoxysilane, ⁇ -isocyanatopropyltrimethoxysilane, ⁇ -isocyanatepropyltriethoxysilane, N- ⁇ - (N-vinylbenzylaminoethyl) - ⁇ -a
  • additives such as an inorganic filler, a plasticizer, and a sensitizing agent may be added in order to improve the physical properties of the cured film.
  • the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin and the like, and a binder is used. 10 mass% or less can be added with respect to the total mass of a photopolymerizable compound and resin.
  • the color filter of the present invention is obtained by using the curable composition of the present invention, and, for example, one or more colors formed by using the curable composition of the present invention described above on a support described later Preferably, it is configured to have a coloring pattern of three or four colors.
  • the adhesion between the support and the coloring pattern is excellent, and the development residue is reduced.
  • the color filter of the present invention may be a color filter for liquid crystal display devices or a color filter for solid-state imaging devices, but from the viewpoint of more effectively achieving the effect of improving adhesion and the effect of reducing development residues. It is preferable that it is a color filter for solid-state imaging devices.
  • the size (line width) of the colored pattern (colored pixel) constituting the color filter of the present invention is preferably 2.0 ⁇ m or less from the viewpoint of more effectively achieving the effect of improving adhesion and the effect of reducing development residues. And 1.7 ⁇ m or less is particularly preferable.
  • the thickness of the colored pattern is preferably 0.1 to 2.0 ⁇ m, more preferably 0.2 to 1.0 ⁇ m, from the viewpoint of more effectively achieving the effect of improving adhesion and the effect of reducing development residues. preferable.
  • an organic film (hereinafter, also referred to as "undercoated organic film") as an undercoating layer is formed on an inorganic substrate for the purpose of improving adhesion of a colored pattern, etc. It is practiced to form a colored pattern.
  • undercoated organic film an organic film (hereinafter, also referred to as "undercoated organic film”) as an undercoating layer is formed on an inorganic substrate for the purpose of improving adhesion of a colored pattern, etc. It is practiced to form a colored pattern.
  • a technique for directly forming a colored pattern on an inorganic base without an undercoating organic film is required.
  • the color filter of the present invention having excellent adhesion and less development residue is particularly preferable as a color filter formed directly on an inorganic base without interposing an undercoating organic film.
  • the color filter of the present invention preferably includes a colored pattern of Bayer arrangement (hereinafter also referred to as “Bayer pattern”) from the viewpoint of obtaining the effect of improving adhesion and the effect of reducing development residues more effectively.
  • the Bayer arrangement means an arrangement in which a plurality of squares are arranged in a checkered pattern.
  • the Bayer array is applied to, for example, an array of green pixels in a color filter for a solid-state imaging device.
  • the method for producing the color filter of the present invention is not particularly limited.
  • the method for producing a color filter includes the step of forming a colored pattern.
  • the process can be repeated by repeating the above-mentioned steps for each color to form a pattern of each color.
  • an example of a more specific method of manufacturing a color filter will be described.
  • a coating step of coating the curable composition of the present invention on a support (and, if necessary, a prebaking step of prebaking the applied curable composition), the coated curable composition
  • the curable composition of the present invention is dried on a suitable support by a spinner or the like, and the film thickness when dried is generally 0.1 to 5 ⁇ m, preferably 0. Apply to a thickness of 2 to 2 ⁇ m to obtain a smooth coating.
  • prebaking step After the curable composition is applied, in order to evaporate the solvent and obtain a dry coated film, usually, prebaking is performed (prebaking step).
  • the pre-baking method includes indirect heating and drying with high temperature air and the like, and direct heating and drying (about 80 to 140 ° C., 50 to 200 seconds) using a hot plate and the like. Drying under reduced pressure may be performed before prebaking.
  • post-baking is performed to sufficiently harden the pattern obtained after development to increase mechanical strength and to make a permanent film (post-baking step). For example, in the case of manufacturing three color filters, the first formed pattern is then subjected twice to application, exposure and development of resist solutions of other colors.
  • post-baking is performed so as not to cause a loss of a pattern due to color mixing with the applied resist solution, exposure, and development.
  • this post-baking method is the same as pre-baking, it is carried out at a higher temperature for a long time than the pre-baking conditions. For example, in the case of indirect heating with an oven, about 180 to 250 ° C., about 0.5 to 2 hours, and in the case of direct heating with a hot plate, about 180 to 250 ° C. for about 2 to 10 minutes.
  • the light source for pattern exposure in the exposure step is not particularly limited, but light having a wavelength of 410 nm or less is preferable as a light source that produces a remarkable effect on patternability, and among them, i-line (365 nm) of a mercury lamp is particularly preferable.
  • the developing solution used for developing the curable composition is not particularly limited, and conventionally known developing solutions can be used. Among them, organic alkaline developing solutions of quaternary ammonium salts such as tetramethyl ammonium hydroxide (TMAH) are preferable in achieving the object of the present invention.
  • TMAH tetramethyl ammonium hydroxide
  • an inorganic base material is preferable from the viewpoint of obtaining the adhesion improvement effect more effectively. Details of the inorganic base will be described later.
  • Specific examples of the support include, for example, substrates of electronic components such as glass substrates, plastics substrates, aluminum substrates, silicon wafers for solid-state imaging devices, and further, transparent resin substrates, resin films, CRT display surfaces, imaging feeling And a semiconductor wafer on which a solid-state imaging device (CCD, CMOS, BBD, CID, BASIS, etc.) is formed.
  • a contact-type image sensor using a thin film semiconductor, a liquid crystal display surface, a photoreceptor for color electrophotography, and an electrochromic (EC) display device can also be used.
  • the adhesion treatment in order to improve the adhesion to the color filter (colored pattern), it is preferable to carry out an adhesion treatment on the support.
  • the effect of the adhesion treatment is particularly effective when the support is an inorganic base and the colored pattern (color filter) is directly formed on the inorganic base without interposing the undercoating organic film.
  • the adhesion treatment process in the case of providing an adhesion
  • an adhesion aid is applied onto the inorganic substrate.
  • the adhesion aiding agent can be applied by a method such as application, ink jet application, printing, vapor deposition and the like.
  • various known coating methods such as slit coating, spin coating, cast coating, roll coating, and spray coating can be applied.
  • a method of discharging by an ink jet method using an ink jet head can be applied.
  • an ink jet head for example, a charge control method for discharging ink using electrostatic attraction, a drop-on-demand method (pressure pulse method) using vibration pressure of a piezoelectric element, an electric signal into an acoustic beam
  • a head such as an acoustic inkjet system that ejects ink using irradiation and radiation pressure, a thermal inkjet (bubble jet (registered trademark)) system that heats ink to form bubbles, and uses the generated pressure is preferable. It is.
  • vapor deposition When printing, screen printing can be applied.
  • spraying by spraying, vapor deposition by evaporation, dipping and the like can be mentioned.
  • vapor deposition by evaporation is preferable, and in that case, it is preferable to process for about 30 to 600 seconds under reduced pressure.
  • a solution prepared using a cohesion aid is used.
  • a solution prepared using a cohesion aid for example, a solution prepared by mixing and dissolving a desired adhesion assistant in a solvent such as cyclohexanone can be used.
  • the adhesion aiding agent As described above, after the adhesion aiding agent is applied, it is preferable to dry at 50 to 300 ° C. for about 30 to 600 seconds using a hot plate, an oven or the like.
  • the adhesion aiding agent used in the present invention includes silicon nitride and silicon oxide from the viewpoints of cured portion (image) adhesiveness and uncured portion developability which work with the below-described curable layer (particularly alkoxysilane compound). Etc. can be used.
  • a compound represented by the following general formula (A) is a compound that forms a colored pattern excellent in adhesion with the inorganic substrate surface without deteriorating the development residue of the non-cured portion (non-exposed portion). preferable.
  • the present invention is not limited to this.
  • R 1 to R 6 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and may have a ring structure and / or unsaturated bond in the structure.
  • the hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group. Among them, it is preferable that all of R 1 to R 6 be methyl groups.
  • the contact angle of water on the inorganic base treated with the adhesion aid is preferably 50 ° or more, and more preferably 60 ° or more.
  • the adhesion of the colored pattern constituting the color filter can be effectively improved while suppressing the development residue of the below-described curable layer of the unexposed area which is originally developed and removed.
  • any base an organic base or an inorganic base having an inorganic film formed on the surface may be used.
  • a photoelectric conversion element substrate used for a solid-state imaging device or the like, for example, a silicon substrate (in particular, an inorganic substrate such as a SiN, SiO 2 or SiON substrate) or a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) Etc. These substrates may have black stripes formed to separate each pixel. Among them, the case where the inorganic substrate is treated with the compound represented by the general formula (A) is particularly preferable.
  • the solid-state imaging device of the present invention is configured to include the color filter of the present invention.
  • the solid-state imaging device of the present invention is provided with the color filter of the present invention which is excellent in adhesion and in which the development residue is suppressed, and therefore noise is small and color reproducibility is excellent.
  • the configuration of the solid-state imaging device according to the present invention is a configuration provided with the color filter according to the present invention, and is not particularly limited as long as it functions as a solid-state imaging device. .
  • a support there are provided a plurality of photodiodes constituting a light receiving area of a solid-state imaging device (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) and transfer electrodes made of polysilicon or the like, It has a light shielding film made of tungsten or the like in which only the light receiving portion of the photodiode is opened, and has a device protective film made of silicon nitride or the like formed on the light shielding film to cover the entire light shielding film and the photodiode light receiving portion
  • the color filter of the present invention is provided on the device protective film. Furthermore, a configuration having a condensing means (for example, a micro lens etc. hereinafter the same) on the device protective layer and under the color filter (closer to the support), or a constitution having a condensing means on the color filter Or the like.
  • the present invention will be more specifically described by way of examples. However, the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded.
  • “part” is a mass reference
  • the i-ray transmittance is obtained by applying the curable composition on base glass and performing prebaking to form a coating film having a thickness of 0.7 ⁇ m, and the coating film of MCPD-3000 It measured using Otsuka Electronics Co., Ltd. product).
  • the pigment dispersion (P1) was prepared.
  • the average particle diameter of the pigment dispersed liquid (P1) was measured by a dynamic light scattering method using Microtrack Nanotrac UPA-EX 150 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) and was 200 nm.
  • the viscosity after storage for 3 days at 45 ° C. before storage (initial) and after storage for 1 month at room temperature is E-type viscometer (Toki Sangyo Co., Ltd. It measured using (Co., Ltd. product), and evaluated according to the following determination criteria.
  • the evaluation results are shown in Table 1 below. ⁇ Judgment criteria> A: No increase in viscosity was observed. B: Viscosity fluctuation of less than 5% was observed. C: Viscosity fluctuation of 5% or more and less than 10% was observed. D: Viscosity fluctuation of 10% or more was observed.
  • a curable layer was formed directly on the Si substrate (that is, without via the undercoat organic film) as described below, without providing the undercoat organic film. Specifically, first, a Si substrate is prepared, and on the surface of this Si substrate, the following is applied using a low pressure adhesion processing apparatus LPAH (built in spin coater application device SK-60BW) (manufactured by Dainippon Screen) Under the conditions, HMDS (Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd .; hexamethyldisilazane) was vapor deposited.
  • the contact angle of water on the Si substrate measured by Drop Master 500 was 62 °.
  • a solution of the curable composition P1 is spin-coated on the side of the Si substrate on which HMDS is vapor-deposited using a spin coating coater SK-60BW (manufactured by Dainippon Screen) under the following conditions.
  • a curable layer was formed by prebaking at 120 ° C. for 120 seconds.
  • ⁇ HMDS vapor deposition conditions > ⁇ Substrate temperature ... 110 ° C Deposition time: 45 seconds ⁇ Spin coating condition of the curable composition P1> Drop amount: 2 g Coating speed: 1000 r.p.m. ⁇ Coating thickness (dry thickness) ... 1.0 ⁇ m ⁇ Application temperature ... 23 ° C
  • the curable layer formed above is exposed to light at a high intensity (1000 mW / cm 2 ) using an i-line exposure apparatus FPA-3000i5 (Canon Co., Ltd.), low intensity (500 mW) In the case of / cm 2 ), using i-line exposure system NSR2005i9 (Nikon), a photomask for Bayer pattern test with a line width of 1.2 ⁇ m, a line width of 1.7 ⁇ m, a line width of 2.0 ⁇ m, and a line width of 2.2 ⁇ m After exposure, using a 60% aqueous solution of an organic developing solution (trade name: CD2000, manufactured by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.), the entire surface of the curable layer was covered with a 60% aqueous solution and allowed to stand for 60 seconds.
  • an organic developing solution trade name: CD2000, manufactured by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.
  • the mask pattern of the photomask for testing the Bayer pattern is a mask pattern in which a pattern (Bayer pattern) in which a plurality of square patterns are arranged in a checkered pattern is provided for each of the line widths.
  • Tables 1 to 10 show the results for a Bayer pattern having a line width of 1.7 ⁇ m or less (ie, a line width of 1.2 ⁇ m and a line width of 1.7 ⁇ m).
  • Example 1 in preparation of the curable composition, the mass ratio [(A) / ((A) +) of (A) + (B)] is not changed.
  • a curable composition and a color filter were produced in the same manner as in Example 1 except that (B)) was changed as shown in Table 1, and the same evaluation as in Example 1 was performed. The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 4 Comparative Example 5
  • Example 1 was repeated except that in the preparation of the curable composition, the i-ray transmittance was changed as shown in Table 2 by changing the content of (C) i-ray absorbent.
  • the curable composition and the color filter were prepared, and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
  • Example 5 In Example 1, in the preparation of a curable composition, compound (C-1) [ultraviolet absorber having diethylamine structure] was replaced by the following compound (C-2) [ultraviolet absorber not having diethylamine structure] with the same mass.
  • a curable composition and a color filter were produced in the same manner as in Example 1 except that the above were changed, and the same evaluation as in Example 1 was performed. The evaluation results are shown in Table 2.
  • Example 6 using (E) alkali-soluble resin having no ethylenically unsaturated bond and Example 1 using (E) alkali-soluble resin having an ethylenically unsaturated bond, In the comparison of the above, Example 1 was superior in adhesion.
  • Example 7 to 11 A curable composition and a color filter were produced in the same manner as in Example 1 except that the mass of the (G) alkoxysilane compound was changed in the preparation of the curable composition in Example 1, and the same as in Example 1 I made an evaluation. The evaluation results are shown in Table 4.
  • Example 12 A curable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that (G) the alkoxysilane compound was changed to methyltrimethoxysilane [alkoxysilane compound having no amino group] in the preparation of the curable composition in Example 1. And, a color filter was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 4.
  • the (G) alkoxysilane compound having a diethylamine structure is used among Example 1 and Examples 7 to 12 and the content of the (G) alkoxysilane compound is 0.1% by mass.
  • the content is 10% by mass or less, the adhesion is particularly excellent, and the development residue is also particularly suppressed.
  • Example 13 to 16 The curable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that, in Example 1, the types of (C) i ray absorbent and (G) alkoxysilane compound were changed as shown in Table 5 in the preparation of the curable composition.
  • the color filter and the color filter were produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 5.
  • Example 13 to 16 As shown in Table 5, in Examples 13 to 16 in which the types of compounds were variously changed, the adhesion was good as in Example 1, and the development residue was reduced. Furthermore, the viscosity stability over time and the resolution were also good. In each of Examples 13 to 16, the mass ratio [(A) / ((A) + (B))], the i-ray transmittance, the type of the alkali-soluble resin, the content and the type of the alkoxysilane compound , And evaluated, the same behavior as in Example 1 was exhibited.
  • Example 1 to Example 16 and Comparative Example 1 to Comparative Example 5 are the same as Example 1 to Example 16 and Comparative Example 1 to Comparative Example 5 except that the formation of the curable layer is changed as follows.
  • a color filter was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. That is, in Examples 101 to 116 and Comparative Examples 101 to 105, the curable layer was formed on the Si substrate via the undercoating organic film.
  • a Si substrate is prepared, and a resist for forming an organic film (CT4000L: manufactured by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.) is spin coated on this Si substrate using a coating apparatus SK-60BW (manufactured by Dainippon Screen). After spin coating under the following conditions, a thermosetting treatment was performed at 220 ° C./5 min to form an undercoat organic film on the Si substrate. Thereafter, a solution of the curable composition P1 is spin-coated on the side of the Si substrate on which the undercoating organic film is formed, using a spin-coating coating apparatus SK-60BW (manufactured by Dainippon Screen) under the following conditions The substrate was prebaked at 100 ° C. for 120 seconds to form a curable layer.
  • C4000L manufactured by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.
  • Example 101 to Example 116 and Comparative Example 101 to Comparative Example 105 are shown in Tables 6 to 10 below.
  • the color filter is formed on the Si substrate.
  • the Si substrate by changing the Si substrate to a substrate for a solid-state imaging device on which a light receiving element such as a photodiode is formed, noise is reduced and color reproducibility is improved. An excellent solid-state imaging device can be produced.

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Abstract

(A)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有する重合性化合物、(B)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有しない重合性化合物、(C)i線吸収剤、(D)光重合開始剤、(E)アルカリ可溶性樹脂、及び(F)顔料を含み、質量比率〔前記(A)/(前記(A)+前記(B))〕が0.5以上0.9以下であり、膜厚0.7μmの塗布膜としたときのi線透過率が10%以下である硬化性組成物。本発明の硬化性組成物は、微細パターンを形成する際、密着性を向上し、かつ、未露光の非硬化部における現像残渣を低減できる。また、本発明の硬化性組成物は、カラーフィルタ用途に適している。

Description

硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
 本発明は、硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子に関する。
 カラーフィルタは、液晶ディスプレイ(LCD)や固体撮像素子(CCD、CMOSなど)に不可欠な構成部品である。
 液晶ディスプレイは、表示装置としてCRTと比較すると、コンパクトであり、かつ性能面では同等以上であることから、テレビ画面、パソコン画面、その他の表示装置の表示部として従来のCRTに置き換わりつつある。また、近年では、液晶ディスプレイの技術動向は、画面が比較的小面積であった従来のモニター用途から、画面が大型で高度な画質が求められるTV用途に向かいつつある。
 LCD用カラーフィルタ用途においては、大型TV用として基板サイズが拡大しており、大型基板を用いた場合の生産性向上のため、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)等の着色画素(すなわちカラーフィルタ)の形成に用いられる硬化性組成物としては、低エネルギーで硬化できるものが望まれる。
 また、TV用途の液晶ディスプレイでは、従来のモニター用途のものに比し、より高度な画質が求められている。すなわち、コントラスト及び色純度の向上である。したがって、コントラスト向上の点から、着色画素(カラーフィルタ)の形成に用いられる硬化性組成物については、使用する着色剤(有機顔料等)の粒子サイズがより微小であることが求められている(例えば、特許文献1参照)。これに伴ない、顔料分散のための分散剤添加量が増加する傾向にある。また、色純度向上の点から、硬化性組成物の固形分中に占める着色剤(有機顔料等)の含有率がより高いものが求められている。これに伴ない、硬化性組成物の固形成分中に占める光重合開始剤及び光重合性モノマーの含有率が相対的に減少する傾向にある。
 一方、固体撮像素子用カラーフィルタ用途においては、パターンの薄膜化が進んでおり、これに伴なって硬化性組成物中の顔料濃度が高くなっている。更に、顔料の微細化に伴なって硬化性組成物中の顔料分散剤の割合が増加する傾向にもある。したがって、光重合開始剤及び光重合性モノマーの含有率は相対的に少なくなる。
 以上のように、液晶ディスプレイ用、固体撮像素子用のいずれの用途においても、硬化性組成物を硬化させるために必要な成分である光重合開始剤及び光重合性モノマーの含有率が制限されるうえ、顔料濃度も高くなっているため、基板となる無機基材との間の密着性が不充分になっており、ひいては所望のパターン形成が著しく困難になっている。
 上記に関連して、無機基板への密着性を向上させるため、シランカップリング剤を導入する技術が提案されている(例えば、特許文献3~4参照)。また、本来現像除去されるべき領域(ネガ型では非露光部)における現像残渣を防止する技術として、1級アミンや2級アミン系シランカップリング剤を導入する技術が提案されている(例えば、特許文献5参照)。
特開2006-30541号公報 特開平2-127602号公報 特許第2874091 特開平11-38226号公報 特開2000-35670号公報
 近年、カラーフィルタの着色パターンは薄層化傾向にあり、また、着色パターンのサイズは微細化する傾向にある。特に、固体撮像素子用カラーフィルタではこれらの傾向が顕著である。
 更に、近年では、露光装置の高スループット化に伴うランプ光源照度の上昇に伴い、従来にも増して高ディスクリによる高精細化が必要となっている。
 このような状況下において、下地との密着性を維持しながら現像残渣を抑え微細なパターンを形成することが困難となってきている。
 本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
 即ち、本発明は、微細パターンを形成する際、密着性を向上し、かつ、未露光の非硬化部における現像残渣を低減できる硬化性組成物を提供することを目的とする。
 また、本発明は、密着性に優れ、かつ、現像残渣の少ない微細パターンを有するカラーフィルタを提供することを目的とする。
 更に、本発明は、ノイズが少なく色再現性に優れた固体撮像素子を提供することを目的とする。
 前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
<1> (A)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有する重合性化合物、(B)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有しない重合性化合物、(C)i線吸収剤、(D)光重合開始剤、(E)アルカリ可溶性樹脂、及び(F)顔料を含み、質量比率〔前記(A)/(前記(A)+前記(B))〕が0.5以上0.9以下であり、膜厚0.7μmの塗布膜としたときのi線透過率が10%以下である硬化性組成物である。
<2> 更に、(G)アルコキシシラン化合物を含み、該(G)アルコキシシラン化合物の含有量が全固形分量に対して0.1質量%以上10.0質量%以下である<1>に記載の硬化性組成物である。
<3> 前記(C)i線吸収剤が、ジエチルアミン構造を有する<1>又は<2>に記載の硬化性組成物である。
<4> 前記(E)アルカリ可溶性樹脂が、エチレン性不飽和二重結合を含む<1>~<3>のいずれか1つに記載の硬化性組成物である。
<5> 前記(G)アルコキシシラン化合物が、アミノ基含有アルコキシシラン化合物を含む<2>~<4>のいずれか1つに記載の硬化性組成物である。
<6> <1>~<5>のいずれか1つに記載の硬化性組成物を用いてなるカラーフィルタである。
<7> 無機基材上に直接形成された<6>に記載のカラーフィルタである。
<8> ベイヤー配列の着色パターンを含む<6>又は<7>に記載のカラーフィルタである。
<9> <6>~<8>のいずれか1つに記載のカラーフィルタを備えた固体撮像素子である。
 本発明によれば、微細パターンを形成する際、密着性を向上し、かつ、未露光の非硬化部における現像残渣を低減できる硬化性組成物を提供することができる。
 また、本発明によれば、密着性に優れ、現像残渣の少ない微細パターンを有するカラーフィルタ及びその製造方法を提供することができる。
 更に、本発明によれば、ノイズが少なく色再現性に優れた固体撮像素子を提供することができる。
≪硬化性組成物≫
 本発明の硬化性組成物は、(A)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有する重合性化合物、(B)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有しない重合性化合物、(C)i線吸収剤、(D)光重合開始剤、(E)アルカリ可溶性樹脂、及び(F)顔料を含み、質量比率〔前記(A)/(前記(A)+前記(B))〕が0.5以上0.9以下であり、膜厚0.7μmの塗布膜としたときのi線透過率が10%以下であることを特徴とする。
 本発明の硬化性組成物は上記構成としたことにより、微細パターンを形成する際、密着性を向上し、かつ、未露光の非硬化部における現像残渣を低減できる。更に、解像力も向上する。
 上記本発明の効果をより効果的に得る観点からは、前記微細パターンとしては、線幅2.0μm以下の微細パターンが好ましく、線幅1.7μm以下の微細パターンがより好ましい。
 ここにいう「線幅」とは、長方形パターンの場合には幅方向の長さ、正方形パターンの場合には一辺の長さ、円形パターンの場合には直径、楕円形パターンの場合には短径をいう。
 上述のとおり本発明の硬化性組成物は、基材(支持体)との密着性に優れた着色パターンを形成できるため、例えば、下塗り有機膜を介さずに無機基材上に直接着色パターンを形成する用途に特に好適である。
 また、本発明の硬化性組成物は、密着性に優れ、かつ、現像残渣の少ない着色パターンを形成できるため、高照度露光装置を用いて露光する場合においても、低照度露光装置を用いて露光する場合と同様の解像力を得ることができる。
 このため、600mW/cm以上(より好ましくは800mW/cm以上、更に好ましくは1000mW/cm以上)のランプ光源照度の高照度露光装置に特に好適である。
 本発明の硬化性組成物は、膜厚0.7μmの塗布膜としたときのi線透過率が10%以下である。前記塗布膜は露光前の塗布膜を指す。
 本発明において、i線透過率は以下の方法によって測定された値を指す。
 即ち、本発明の硬化性組成物を素ガラス上に塗布し、プレベークを行って膜厚0.7μmの塗布膜を形成し、該塗布膜についてMCPD-3000(大塚電子(株)製)を用いてi線透過率を測定した。
 ここで、i線透過率が10%を超えると、解像力が低下する。
 本発明による効果をより効果的に得る観点からは、i線透過率は8%以下が好ましく、6%以下がより好ましい。
 また、本発明において、質量比率〔前記(A)/(前記(A)+前記(B))〕は、0.5以上0.9以下であることが必要である。
 前記質量比率が0.5未満であると、現像残渣が悪化し、解像力が低下する。一方、前記質量比率が0.9を超えると密着性が悪化する。
 本発明による効果をより効果的に得る観点からは、前記質量比率は、0.6以上0.8以下が好ましい。
 以下、本発明の硬化性組成物の各成分について説明する。
<(A)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有する重合性化合物>
 本発明の硬化性組成物は、(A)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有する重合性化合物(以下、「(A)成分」ともいう)を少なくとも1種含有する。
 このような重合性化合物を含有しない場合(例えば、多官能重合性化合物のみを含有する場合)、非硬化部の現像性が不足し、現像残渣が悪化し、解像力が低下する。
 本発明における「炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有する重合性化合物」としては特に限定はないが、例えば、下記一般式(i)又は(ii)で表される化合物の群から選択される少なくとも1種であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 一般式(i)及び(ii)中、Eは、各々独立に、-((CHCHO)-、又は-((CHCH(CH)O)-を表し、yは、各々独立に1~10の整数を表す。
 一般式(i)及び(ii)中、Xは、各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、水素原子、又はカルボキシル基を表す。
 一般式(i)中、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は3個又は4個であり、mは、各々独立に0~10の整数を表し、各mの合計は1~40の整数である。
 一般式(ii)中、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は5個又は6個であり、nは、各々独立に0~10の整数を表し、各nの合計は1~60の整数である。
 一般式(i)中、mは、0~6の整数が好ましく、0~4の整数がより好ましい。また、各mの合計は、2~40の整数が好ましく、2~16の整数がより好ましく、4~8の整数が特に好ましい。
 一般式(ii)中、nは、0~6の整数が好ましく、0~4の整数がより好ましい。また、各nの合計は、3~60の整数が好ましく、3~24の整数がより好ましく、6~12の整数が特に好ましい。
 また、一般式(i)又は一般式(ii)中の-((CHCHO)-又は-((CHCH(CH)O)-は、酸素原子側の末端がXに結合する形態が好ましい。
 一般式(i)又は(ii)で表される化合物は、従来公知の工程である、ペンタエリスリト-ル又はジペンタエリスリト-ルにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを開環付加反応により開環骨格を結合する工程と、開環骨格の末端水酸基に、例えば(メタ)アクリロイルクロライドを反応させて(メタ)アクリロイル基を導入する工程と、から合成することができる。各工程は良く知られた工程であり、当業者は容易に一般式(i)又は(ii)で表される化合物を合成することができる。
 式(i)、(ii)で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び/又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。
 具体的には、下記式(a)~(f)で表される化合物(以下、「例示化合物(a)~(f)」ともいう)が挙げられ、中でも、例示化合物(a)、(b)、(e)、(f)が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 一般式(i)又は一般式(ii)で表される化合物の市販品としては、例えばサートマー社製SR-494、日本化薬株式会社製DPCA-60、TPA-330などが挙げられる。
<(B)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有しない重合性化合物>
 本発明の硬化性組成物は、(B)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有しない重合性化合物(以下、「(B)成分」ともいう)を少なくとも1種含有する。
 このような重合性化合物を含有することにより、現像液に対する硬化部の溶解性が高くなる現象や線幅感度が低下する現象をより効果的に抑制できる。
 上記重合性化合物は、重合性基を有すること(即ち、「重合性基を有し炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有しない重合性化合物」であること)が好ましい。該重合性基の数は、2以上がより好ましく、3以上が特に好ましい。
 前記「重合性基を有し炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有しない重合性化合物」としては特に限定はないが、例えば、単官能のアクリレートやメタアクリレート(例えば、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、等)、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、などを用いることができる。
 また、「重合性基を有し炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有しない重合性化合物」としては、下記一般式(iii)又は一般式(iv)で表される化合物も好適に用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 一般式(iii)及び(iv)中、Zは、各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、水素原子、又はカルボキシル基を表す。
 一般式(iii)中、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は3個又は4個である。また、一般式(iv)中、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は5個又は6個である。
 本発明における(A)成分及び(B)成分は、公知の重合性化合物と併用してもよい。 該公知の重合性化合物としては、以下のものが挙げられる。
 即ち、単官能のアクリレートやメタアクリレート(例えば、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、等)、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48-41708号、特公昭50-6034号、特開昭51-37193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートである。更に、日本接着協会誌Vol.20、No.7、300~308頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用できる。
 以上、本発明における重合性化合物((A)成分及び(B)成分)について説明したが、本発明による効果をより効果的に得る観点から、(A)成分及び(B)成分を含む重合性化合物の総含有量としては、硬化性組成物の全固形分に対し、1~50質量%が好ましく、1~40質量%がより好ましく、1~30質量%が特に好ましい。
<(C)i線吸収剤>
 本発明の硬化性組成物は、(C)i線吸収剤を少なくとも1種含有する。
 前記(C)i線吸収剤としては、水銀灯のi線(波長365nm)を吸収する化合物であれば特に限定はないが、ジエチルアミン構造を含む化合物であることが好ましい。
 前記(C)i線吸収剤としては、例えば、下記一般式(1)で表される化合物や下記一般式(2)で表される化合物が好適なものとして挙げられる。
 以下、これらの化合物について説明する。
(一般式(1)で表される化合物)
 本発明における(C)i線吸収剤としては、下記一般式(1)で表される化合物が好適である。
 下記一般式(1)で表される化合物は、共役ジエン系化合物であり、この共役ジエン系化合物を用いることで、特に低照度露光を行なった際のその後の現像性能変動を抑えるので、パターンの線幅、膜厚、分光スペクトル等のパターン形成性に関係する露光照度依存性を抑制することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 前記一般式(1)において、R及びRは、各々独立に、水素原子、炭素原子数1~20のアルキル基、又は炭素原子数6~20のアリール基を表し、RとRとは互いに同一でも異なっていてもよいが、同時に水素原子を表すことはない。
 R、Rで表される炭素原子数1~20のアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n-ブチル基、nーへキシル基、シクロへキシル基、n-デシル基、n-ドデシル基、n-オクタデシル基、エイコシル基、メトキシエチル基、エトキシプロピル基、2-エチルへキシル基、ヒドロキシエチル基、クロロプロピル基、N,N-ジエチルアミノプロピル基、シアノエチル基、フェネチル基、ベンジル基、p-t-ブチルフェネチル基、p-t-オクチルフェノキシエチル基、3-(2,4-ジーt-アミルフェノキシ)プロピル基、エトキシカルボニルメチル基、2-(2-ヒドロキシエトキシ)エチル基、2-フリルエチル基などが挙げられる。
 R、Rで表される炭素原子数6~20のアリール基は、単環であっても縮合環であってもよく、置換基を有する置換アリール基、無置換のアリール基のいずれであってもよい。例えば、置換基を有する置換アリール基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、アシルアミノ基、アシル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換カルバモイル基、置換スルファモイル基、ニトロ基、置換アミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。中でも、置換又は無置換のフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基が好ましい。
 また、R及びRは、窒素原子と共に、環状アミノ基を形成してもよい。環状アミノ基としては、例えば、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ヘキサヒドロアゼピノ基、ピペラジノ基等が挙げられる。
 上記のうち、R、Rとしては、炭素数1~8の低級のアルキル基(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、tert-ペンチル、ヘキシル、オクチル、2-エチルヘキシル、tert-オクチルなど)、又は置換もしくは無置換のフェニル基(例えば、トリル基、フェニル基、アニシル基、メシチル基、クロロフェニル基、2,4-ジーt-アミルフェニル基など)が好ましい。また、RとRとが結合して、式中のNで表される窒素原子を含んで環(例えば、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環など)を形成していることも好ましい。
 前記一般式(1)において、R及びRは、電子吸引基を表す。ここで、電子吸引基は、ハメットの置換基定数σ値(以下、単に「σ値」という。)が、0.20以上1.0以下の電子吸引性基である。好ましくは、σ値が0.30以上0.8以下の電子吸引性基である。
 ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために、1935年にL. P. Hammettにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則により求められた置換基定数には、σ値とσ値とがあり、これらの値は多くの一般的な成書に記載があるが、例えば、J.A. Dean編「Lange’s Handbook of Chemistry」第12版、1979年(Mc Graw-Hill)や「化学の領域増刊」、122号、96~103頁、1979年(南江堂)、Chemical Reviews, 91巻、165頁~195頁、1991年に詳しい。本発明では、これらの成書に記載の文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合にその範囲内に含まれる限り包含されることは勿論である。
 前記σ値が、0.20以上1.0以下の電子吸引性基の具体例としては、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアリールホスフィニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルコキシ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアリールオキシ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルアミノ基、少なくとも2つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルチオ基、σ値0.20以上の他の電子吸引性基で置換されたアリール基、複素環基、塩素原子、臭素原子、アゾ基、又はセレノシアネート基が挙げられる。これらの置換基のうち、更に置換基を有することが可能な基は、先に挙げたような置換基を更に有してもよい。
 上記のうち、本発明においては、Rとしては、シアノ基、-COOR、-CONHR、-COR、-SOより選択される基が好ましく、また、Rとしては、シアノ基、-COOR、-CONHR、-COR、-SOより選択される基が好ましい。R及びRは、各々独立に、炭素原子数1~20のアルキル基、又は炭素原子数6~20のアリール基を表す。R、Rで表される炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数6~20のアリール基は、前記R、Rにおける場合と同義であり、好ましい態様も同様である。
 これらのうち、R、Rとしては、アシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、スルファモイル基が好ましく、特にアシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、スルファモイル基が好ましい。
 また、上記のR、R、R、及びRの少なくとも1つは、連結基を介して、ビニル基と結合したモノマーより導かれるポリマーの形になっていてもよい。
 以下、前記一般式(1)で表される化合物の好ましい具体例〔例示化合物(1)~(14)〕を示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。ここで、nはノルマルを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 前記一般式(1)で表される化合物(共役ジエン系化合物)の本発明の光硬化性着色組成物中における含有量としては、組成物の全固形分に対して、0.01質量%~10質量%が好ましく、0.01質量%~7.5質量%がより好ましく、0.01質量%~5質量%が特に好ましい。この共役ジエン系化合物(紫外線吸収剤)の含有量は、0.01質量%以上であると、露光時の光遮蔽能力が良好で重合の進み過ぎによるパターン線幅の太りを防止して所期の線幅を得やすく、周辺残渣の発生もより抑えられる。また、10質量%以下であると、露光時の光遮蔽能力が強過ぎず重合がより良好に進行する。
 上記のようなパターン線幅の変化は、露光光源であるg線、h線、i線などの紫外線に対しての光吸収が少ないマゼンタ色又は赤色の光硬化性着色組成物で顕著となる。よって、前記一般式(1)で表される化合物(共役ジエン系化合物)は、マゼンタ色又は赤色の光硬化性着色組成物を構成する場合に特に有効である。
(一般式(2)で表される化合物)
 本発明における(C)i線吸収剤としては、下記一般式(2)で表される化合物が好適である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 一般式(2)中、Xは、炭素数1~20のアルキル基、3位と結合した無置換シクロ環基もしくは置換シクロ環基、カルボキシル基、カルボン酸エステル残基を表す。Yは、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、6位と結合した無置換シクロ環基もしくは置換シクロ環基、8位と結合した無置換シクロ環基もしくは置換シクロ環基、6位及び8位と結合した無置換シクロ環基もしくは置換シクロ環基を表し、同一でもまた異なっていても良い。
 前記Xが表す炭素数1~20のアルキル基としては、炭素数1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1~3が特に好ましい。具体的には、該アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、n-ブチル、tert-ブチル、iso-ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシルなどが挙げられ、中でも、メチル、エチル、プロピルが特に好ましい。
 前記Xが表す3位と結合した無置換シクロ環基もしくは置換シクロ環基、前記Yが表す6位と結合した無置換シクロ環基もしくは置換シクロ環基、前記Yが表す8位と結合した無置換シクロ環基もしくは置換シクロ環基、及び前記Yが表す6位と8位に結合した無置換又は置換シクロ環基、における該シクロ環基としては、環員数3~12が好ましく、4~9がより好ましく、5~7が特に好ましい。
 具体的には、該シクロ環基としては、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサンなどが挙げられ、シクロペンタン、シクロヘキサンが特に好ましい。
 また、置換基としては、アルキル基(好ましくは炭素数1~10、より好ましくは炭素数1~5、特に好ましくは炭素数1~3で、例えば、メチル、エチル、プロピル、n-ブチル、tert-ブチル、iso-ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシルなどが挙げられ、中でも、メチル、エチル、プロピルが好ましい。)が挙げられる。
 前記Xが表す前記カルボン酸エステル残基としては、ジメチルエステル基、エチルメチルエステル基、メチルフェニルエステル基等が挙げられ、中でもジメチルエステル基、エチルメチルエステル基が好ましい。
 前記Yが表す炭素数1~20のアルキル基としては、炭素数1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1~3が特に好ましい。具体的には、メチル、エチル、プロピル、n-ブチル、tert-ブチル、iso-ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシルなどが挙げられ、中でも、メチル、エチル、プロピルが特に好ましい。
 前記Yが表す6位と8位に結合した無置換又は置換シクロ環基は、同一であっても異なっていても良いが、同一であることが好ましい。
 一般式(2)で表される化合物のうち、好ましくは式(3)及び下記一般式(4)の少なくとも1つで表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 一般式(4)中、R1、R2、R3はそれぞれ独立に水素、炭素数1~20のアルキル基を表す。l、m及びnは、それぞれ独立に1~2の整数を表す。
 前記R~R3の表す炭素数1~20のアルキル基としては、前記Xが表すアルキル基と同様であり好ましい範囲も同様である。
 更に、具体例において、同様であり、好ましい例も同様である。
 前記l、m及びnは、それぞれ独立に1~2の整数を表す。l、m及びnが2である場合、R1、R2、R3の各々は、同一でもまた相違していても良い。
 一般式(2)で表される化合物のうち、より好ましくは下記式(5)で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 本発明における前記一般式(2)で表される4,7位-置換クマリン系化合物の具体例として、前記式(3)及び(5)で表される化合物以外のものを以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 以上で説明した(C)i線吸収剤の含有量としては、本発明の硬化性組成物の全固形分に対し、1~20質量%が好ましく、1~10質量%がより好ましい。
<(D)光重合開始剤>
 本発明の硬化性組成物は、(D)光重合開始剤を少なくとも1種含有する。
 前記光重合開始剤としては、光により分解し、重合性化合物の重合を開始、促進する化合物であり、波長300~500nmの領域に吸収を有するものであることが好ましい。また、光重合開始剤は、単独で、又は2種以上を併用して用いることができる。
 光重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン(オキシド)化合物が挙げられる。
 有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46-4605号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開昭60-239736号、特開昭61-169835号、特開昭61-169837号、特開昭62-58241号、特開昭62-212401号、特開昭63-70243号、特開昭63-298339号、M.P.Hutt“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1(No3),(1970)」筆に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、s-トリアジン化合物が挙げられる。
 s-トリアジン化合物として、より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がs-トリアジン環に結合したs-トリアジン誘導体、具体的には、例えば、2,4,6-トリス(モノクロロメチル)-s-トリアジン、2,4,6-トリス(ジクロロメチル)-s-トリアジン、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2―n-プロピル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(α,α,β-トリクロロエチル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(3,4-エポキシフェニル)-4、6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-クロロフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-〔1-(p-メトキシフェニル)-2,4-ブタジエニル〕-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-スチリル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-メトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-i-プロピルオキシスチリル)-4、6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-トリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-ナトキシナフチル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-フェニルチオ-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-ベンジルチオ-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4,6-トリス(ジブロモメチル)-s-トリアジン、2,4,6-トリス(トリブロモメチル)-s-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリブロモメチル)-s-トリアジン、2-メトキシ-4,6-ビス(トリブロモメチル)-s-トリアジン等が挙げられる。
 オキシジアゾール化合物としては、2-トリクロロメチル-5-スチリル-1,3,4-オキソジアゾール、2-トリクロロメチル-5-(シアノスチリル)-1,3,4-オキソジアゾール、2-トリクロロメチル-5-(ナフト-1-イル)-1,3,4-オキソジアゾール、2-トリクロロメチル-5-(4-スチリル)スチリル-1,3,4-オキソジアゾールなどが挙げられる。
 カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2-メチルベンゾフェノン、3-メチルベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、4-ブロモベンゾフェノン、2-カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α-ヒドトキシ-2-メチルフェニルプロパノン、1-ヒドロキシ-1-メチルエチル-(p-イソプロピルフェニル)ケトン、1-ヒドロキシ-1-(p-ドデシルフェニル)ケトン、2-メチル-(4’-(メチルチオ)フェニル)-2-モルホリノ-1-プロパノン、1,1,1-トリクロロメチル-(p-ブチルフェニル)ケトン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-4-モルホリノブチロフェノン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2-エチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p-ジメチルアミノ安息香酸エチル、p-ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。
 ケタール化合物としては、ベンジルメチルケタール、ベンジル-β-メトキシエチルエチルアセタールなどを挙げることができる。
 ベンゾイン化合物としてはmベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルo-ベンゾイルベンゾエートなどを挙げることができる。
 アクリジン化合物としては、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス(9-アクリジニル)ヘプタンなどを挙げることができる。
 有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1-ビス(tert-ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビス(tert-ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2-ビス(tert-ブチルパーオキシ)ブタン、tert-ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5-ジメチルヘキサン-2,5-ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3-テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert-ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(tert-ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5-オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4-ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ-2-エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ-2-エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3-メチル-3-メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert-ブチルパーオキシアセテート、tert-ブチルパーオキシピバレート、tert-ブチルパーオキシネオデカノエート、tert-ブチルパーオキシオクタノエート、tert-ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3’,4,4’-テトラ-(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ-(t-ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ-(p-イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t-ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t-ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。
 アゾ化合物としては、例えば、特開平8-108621号公報に記載のアゾ化合物等を挙げることができる。
 クマリン化合物としては、例えば、3-メチル-5-アミノ-((s-トリアジン-2-イル)アミノ)-3-フェニルクマリン、3-クロロ-5-ジエチルアミノ-((s-トリアジン-2-イル)アミノ)-3-フェニルクマリン、3-ブチル-5-ジメチルアミノ-((s-トリアジン-2-イル)アミノ)-3-フェニルクマリン等を挙げることができる。
 アジド化合物としては、米国特許第2848328号明細書、米国特許第2852379号明細書ならびに米国特許第2940853号明細書に記載の有機アジド化合物、2,6-ビス(4-アジドベンジリデン)-4-エチルシクロヘキサノン(BAC-E)等が挙げられる。
 メタロセン化合物としては、特開昭59-152396号公報、特開昭61-151197号公報、特開昭63-41484号公報、特開平2-249号公報、特開平2-4705号公報、特開平5-83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-フェニル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,6-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジ-フルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4,6-トリフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,6-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4,6-トリフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、特開平1-304453号公報、特開平1-152109号公報記載の鉄-アレーン錯体等が挙げられる。
 ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6-29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の各明細書に記載の種々の化合物、具体的には、2,2’-ビス(o-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o-ブロモフェニル))4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o,p-ジクロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラ(m-メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2’-ビス(o,o’-ジクロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o-ニトロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o-メチルフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o-トリフルオロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
 有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭62-143044号、特開昭62-150242号、特開平9-188685号、特開平9-188686号、特開平9-188710号、特開2000-131837、特開2002-107916、特許第2764769号、特願2000-310808号、等の各公報、及び、Kunz,Martin“Rad Tech’98.Proceeding April 19-22,1998,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6-157623号公報、特開平6-175564号公報、特開平6-175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6-175554号公報、特開平6-175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9-188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6-348011号公報、特開平7-128785号公報、特開平7-140589号公報、特開平7-306527号公報、特開平7-292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
 ジスルホン化合物としては、特開昭61-166544号公報、特願2001-132318号明細書等記載される化合物等が挙げられる。
 オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S. Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000-66385号公報記載の化合物、特開2000-80068号公報、特表2004-534797号公報記載の化合物等が挙げられる。
 オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4-365049号等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の各明細書、特開平2-150848号、特開平2-296514号の各公報に記載のヨードニウム塩などが挙げられる。
 本発明に好適に用いることのできるヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウム塩であり、安定性の観点から、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基等の電子供与性基で2つ以上置換されていることが好ましい。また、その他の好ましいスルホニウム塩の形態として、トリアリールスルホニウム塩の1つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、300nm以上に吸収を有するヨードニウム塩などが好ましい。
 本発明に好適に用いることのできるスルホニウム塩としては、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩が挙げられ、安定性の感度点から好ましくは電子吸引性基で置換されていることが好ましい。電子吸引性基としては、ハメット値が0より大きいことが好ましい。好ましい電子吸引性基としては、ハロゲン原子、カルボン酸などが挙げられる。
 また、その他の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩の1つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、300nm以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。別の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩が、アリロキシ基、アリールチオ基を置換基に有する300nm以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。
 また、オニウム塩化合物としては、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。
 アシルホスフィン(オキシド)化合物としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア819、ダロキュア4265、ダロキュアTPOなどが挙げられる。
 本発明に用いられる(C)光重合開始剤としては、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン系化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、メタロセン化合物、オキシム系化合物、ビイミダゾール系化合物、オニウム系化合物、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物およびその誘導体、シクロペンタジエン-ベンゼン-鉄錯体およびその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、3-アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。
 より好ましくは、トリハロメチルトリアジン系化合物、α-アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、オキシム系化合物、ビイミダゾール系化合物、オニウム系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物であり、トリハロメチルトリアジン系化合物、α-アミノケトン化合物、オキシム系化合物、ビイミダゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が更に好ましい。
 また、現像残渣をより抑制する観点より、前述のオキシムエステル化合物等のオキシム系化合物(即ち、オキシム系光重合開始剤)が最も好ましい。
 前記オキシム系光重合開始剤としては、前述のオキシムエステル化合物が挙げられるが、その他にも、例えば、特開2000-80068号公報、WO-02/100903A1、特開2001-233842号公報などに記載のオキシム系化合物を用いることができる。
 具体的な例としては、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-ブタンジオン、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-ペンタンジオン、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-ヘキサンジオン、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-ヘプタンジオン、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(メチルフェニルチオ)フェニル]-1,2-ブタンジオン、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(エチルフェニルチオ)フェニル]-1,2-ブタンジオン、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(ブチルフェニルチオ)フェニル]-1,2-ブタンジオン、1-(O-アセチルオキシム)-1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン、1-(O-アセチルオキシム)-1-[9-メチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン、1-(O-アセチルオキシム)-1-[9-プロプル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン、1-(O-アセチルオキシム)-1-[9-エチル-6-(2-エチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン、1-(O-アセチルオキシム)-1-[9-エチル-6-(2-ブチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノンなどが挙げられる。但し、これらに限定されない。
 上記の中でも、オキシム系光重合開始剤としては、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン、1-(O-アセチルオキシム)-1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン、が最も好ましい。このようなオキシム系光重合性開始剤としては、CGI-124、CGI-242(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)が挙げられる。
 本発明の硬化性組成物に含有される(D)光重合開始剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し0.1~50質量%であることが好ましく、より好ましくは0.5~30質量%、特に好ましくは1~20質量%である。この範囲で、良好な感度とパターン形成性が得られる。
<(E)アルカリ可溶性樹脂>
 本発明の硬化性組成物は、(E)アルカリ可溶性樹脂を少なくとも1種含有する。
 前記(E)アルカリ可溶性樹脂としては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。
 このような「線状有機ポリマー」としては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とするために、水或いは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或いは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特開昭54-92723号、特開昭59-53836号、特開昭59-71048号に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独或いは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独或いは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解若しくはハーフエステル化若しくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、4-カルボキシルスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。
 また、同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
 本発明におけるアルカリ可溶性樹脂として、共重合体を用いる場合、共重合させる化合物としては、先にあげたモノマー以外の他のモノマーを用いることもできる。他のモノマーの例としては、下記(1)~(12)の化合物が挙げられる。
 (1)2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸-2-クロロエチル、グリシジルアクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、2-フェニルビニルアクリレート、1-プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、2-アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート。
 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸-2-クロロエチル、グリシジルメタクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、2-フェニルビニルメタクリレート、1-プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、2-アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
 (4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、N-エチルアクリルアミド、N-ヘキシルメタクリルアミド、N-シクロヘキシルアクリルアミド、N-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-フェニルアクリルアミド、N-ニトロフェニルアクリルアミド、N-エチル-N-フェニルアクリルアミド、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド、N,N-ジアリルアクリルアミド、N,N-ジアリルメタクリルアミド、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
 (5)エチルビニルエーテル、2-クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
 (6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
 (7)スチレン、α-メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン、p-アセトキシスチレン等のスチレン類。
 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
 (10)N-ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
 (11)マレイミド、N-アクリロイルアクリルアミド、N-アセチルメタクリルアミド、N-プロピオニルメタクリルアミド、N-(p-クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
 (12)α位にヘテロ原子が結合したメタクリル酸系モノマー。例えば、特願2001-115595号明細書、特願2001-115598号明細書等に記載されている化合物を挙げる事ができる。
 これらの中で、側鎖にアリル基やビニルエステル基とカルボキシル基を有する(メタ)アクリル樹脂及び特開2000-187322号公報、特開2002-62698号公報に記載されている側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂や、特開2001-242612号公報に記載されている側鎖にアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。
 また、特公平7-12004号、特公平7-120041号、特公平7-120042号、特公平8-12424号、特開昭63-287944号、特開昭63-287947号、特開平1-271741号、特願平10-116232号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーや、特開2002-107918に記載される酸基と二重結合を側鎖に有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
 また、欧州特許993966、欧州特許1204000、特開2001-318463等に記載の酸基を有するアセタール変性ポリビニルアルコール系バインダーポリマーは、膜強度、現像性のバランスに優れており、好適である。
 更にこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
 本発明のアルカリ可溶性樹脂としては、以上で説明した樹脂のうち、エチレン性不飽和二重結合を含むアルカリ可溶性樹脂が好ましく、アクリロイル基又はメタクリロイル基を含むアルカリ可溶性樹脂がより好ましい。
 本発明における硬化性組成物に含まれるアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量としては、好ましくは5、000以上であり、更に好ましくは1万~30万の範囲であり、数平均分子量については好ましくは1、000以上であり、更に好ましくは2、000~25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、更に好ましくは1.1~10の範囲である。
 これらの樹脂は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。
 本発明におけるアルカリ可溶性樹脂は、従来公知の方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2-メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。
 本発明における樹脂を合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が挙げられる。
 本発明の硬化性組成物の全固形分中におけるアルカリ可溶性樹脂の含有量(2種以上の場合は総含有量)としては特に限定はないが、本発明の効果をより効果的に得る観点からは、1~80質量%が好ましく、1~70質量%がより好ましく、1~60質量%が特に好ましい。
<(F)顔料>
 本発明の硬化性組成物は、顔料を少なくとも1種含有する。
 前記顔料としては、特に制限はなく、従来公知の種々の顔料を1種単独であるいは2種以上を混合して用いることができる。
 前記顔料としては、従来公知の種々の無機顔料又は有機顔料を用いることができる。また、無機顔料及び有機顔料のいずれも高透過率であることが好ましいことを考慮すると、なるべく細かいものの使用が好ましく、ハンドリング性をも考慮すると、顔料の平均粒子径としては、0.01~0.1μmが好ましく、0.01~0.05μmがより好ましい。
 前記無機顔料としては、例えば、金属酸化物、金属錯塩等の金属化合物を挙げることができる。具体的な例として、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、及び前記金属の複合酸化物を挙げることができる。
 前記有機顔料としては、例えば、
 C.I.ピグメントイエロー11,24,31,53,83,93,99,108,109,110,138,139,147,150,151,154,155,167,180,185,199;
 C.I.ピグメントオレンジ36,38,43,71;
 C.I.ピグメントレッド81,105,122,149,150,155,166,171,175,176,177,209,220,224,242,254,255,264,270;
 C.I.ピグメントバイオレット19,23,32,39;
 C.I.ピグメントブルー1,2,15,15:1,15:3,15:6,16,22,60,66;
 C.I.ピグメントグリーン7,36,37;
 C.I.ピグメントブラウン25,28;
 C.I.ピグメントブラック1,7;
 本発明では、特に顔料の構造中に塩基性のN原子を持つものを好ましく用いることができる。塩基性のN原子を持つ顔料は、組成物中で良好な分散性を示す。その原因については充分解明されていないが、感光性重合成分と顔料との親和性の良さが影響しているものと推定される。
 好ましい顔料としては、以下のものを挙げることができる。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。
 C.I.ピグメントイエロー11,24,108,109,110,138,139,150,151,154,167,180,185,
 C.I.ピグメントオレンジ36,71,
 C.I.ピグメントレッド122,150,166,171,175,177,209,224,242,254,255,264,
 C.I.ピグメントバイオレット19,23,32,
 C.I.ピグメントブルー15:1,15:3,15:6,16,22,60,66,
 これら有機顔料は、単独で、もしくは色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。組合せの具体例を以下に表す。
 例えば、赤色用の顔料として、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料単独又はそれらの少なくとも一種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料又はペリレン系赤色顔料と、の混合などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、C.I.ピグメントレッド177が挙げられ、ペリレン系顔料としては、C.I.ピグメントレッド155、C.I.ピグメントレッド224が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、C.I.ピグメントレッド254が挙げられ、色再現性の点でC.I.ピグメントイエロー139との混合が好ましい。また、赤色顔料と黄色顔料との質量比は、100:5~100:50が好ましい。質量比が前記範囲内であると、400nmから500nmの光透過率を抑えることが可能で色純度を上げるのに効果的であり、主波長が短波長よりになるのを抑えて、色再現性を確保しやすい。質量比は、特に100:30~100:50の範囲が最適である。なお、赤色顔料同士の組み合わせの場合は、色度に併せて調整することができる。
 また、緑色用の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を単独で、又は、これとジスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料もしくはイソインドリン系黄色顔料との混合を用いることができる。このような例としては、C.I.ピグメントグリーン7、36、37とC.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー180又はC.I.ピグメントイエロー185との混合が好ましい。緑色顔料と黄色顔料との質量比は、100:5~100:150が好ましく、100:30~100:120の範囲が特に好ましい。
 青色用の顔料としては、フタロシアニン系顔料を単独で、又はこれとジオキサジン系紫色顔料との混合を用いることができる。例えば、C.I.ピグメントブルー15:6とC.I.ピグメントバイオレット23との混合が好ましい。青色顔料と紫色顔料との質量比は、100:0~100:30が好ましく、より好ましくは100:10~100:30である。
 カラーフィルタを作製したときの色ムラやコントラストの観点から、顔料の一次粒子径は10~100nmが好ましく、10~70nmがより好ましく、10~50nmが更に好ましく、10~40nmが最も好ましい。
 顔料の硬化性組成物中における含有量としては、硬化性組成物の全固形分に対して、20質量%以上が好ましく、より好ましくは30質量%以上であり、特に好ましくは30~70質量%である。顔料の含有量が前記範囲内であると、高濃度で色相の良好な着色パターンが得られ、コントラストの高い鮮やかなカラーフィルタを得る点で好ましい。
(分散剤)
 本発明における硬化性組成物は、(F)顔料の分散性を向上させる観点から、分散剤の少なくとも一種を添加することが好ましい。
 本発明に用いうる分散剤(顔料分散剤)としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。
 高分子分散剤は、その構造からさらに直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
 高分子分散剤は、顔料の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。一方で、顔料誘導体は顔料表面を改質することで、高分子分散剤の吸着を促進させる効果を有する。
 顔料分散剤の具体例としては、BYK Chemie社製「Disperbyk-101(ポリアミドアミン燐酸塩)、107(カルボン酸エステル)、110(酸基を含む共重合物)、130(ポリアミド)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共重合物)」、「BYK-P104、P105(高分子量不飽和ポリカルボン酸)、EFKA社製「EFKA4047、4050、4010、4165(ポリウレタン系)、EFKA4330、4340(ブロック共重合体)、4400、4402(変性ポリアクリレート)、5010(ポリエステルアミド)、5765(高分子量ポリカルボン酸塩)、6220(脂肪酸ポリエステル)、6745(フタロシアニン誘導体)、6750(アゾ顔料誘導体)」、味の素ファンテクノ社製「アジスパーPB821、PB822」、共栄社化学社製「フローレンTG-710(ウレタンオリゴマー)」、「ポリフローNo.50E、No.300(アクリル系共重合体)」、楠本化成社製「ディスパロンKS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多価カルボン酸)、#7004(ポリエーテルエステル)、DA-703-50、DA-705、DA-725」、花王社製「デモールRN、N(ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物)、MS、C、SN-B(芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物)」、「ホモゲノールL-18(高分子ポリカルボン酸)」、「エマルゲン920、930、935、985(ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル)」、「アセタミン86(ステアリルアミンアセテート)」、ルーブリゾール社製「ソルスパース5000(フタロシアニン誘導体)、22000(アゾ顔料誘導体)、13240(ポリエステルアミン)、3000、17000、27000(末端部に機能部を有する高分子)、24000、28000、32000、38500(グラフト型高分子)」、日光ケミカル者製「ニッコールT106(ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート)、MYS-IEX(ポリオキシエチレンモノステアレート)」等が挙げられる。
 これらの分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明においては、特に、顔料誘導体と高分子分散剤とを組み合わせて使用することが好ましい。
 分散剤の硬化性組成物中における含有量としては、顔料に対して、1~100質量%が好ましく、3~100質量%がより好ましく、5~80質量%が更に好ましい。
 具体的には、高分子分散剤を用いる場合であれば、その使用量としては、顔料に対して、5~100質量%の範囲が好ましく、10~80質量%の範囲がより好ましい。また、顔料誘導体を使用する場合であれば、その使用量としては、顔料に対して1~30質量%の範囲が好ましく、3~20質量%の範囲がより好ましく、5~15質量%の範囲が特に好ましい。
 顔料と分散剤とを用いる場合、硬化感度、色濃度の観点から、顔料及び分散剤の含有量の総和が、硬化性組成物を構成する全固形分に対して、30質量%以上90質量%以下であることが好ましく、40質量%以上85質量%以下であることがより好ましく、50質量%以上80質量%以下であることがさらに好ましい。
<(G)アルコキシシラン化合物>
 本発明の硬化性組成物は、密着性を更に向上させる観点から、(G)アルコキシシラン化合物を少なくとも1種を含有することが好ましい。
 特に、支持体として無機基材を用い、該無機基材上に有機層を介さず直接本発明の硬化性組成物を塗布する場合には、密着性を更に向上させる観点より、該(G)アルコキシシラン化合物を少なくとも1種を含有することが好ましい。
 本発明におけるアルコキシシラン化合物としては特に限定はないが、本発明による効果をより効果的に得る観点からは、アミノ基を有するアミノ基含有アルコキシシラン化合物が好ましい。
 また、本発明におけるアルコキシシラン化合物としては、下記一般式(I)で表されるアルコキシシラン化合物が好ましい。
 下記一般式(I)で表されるアルコキシシラン化合物を含有することで、例えば、無機材料との間で高い密着性が得られる。しかも、硬化性組成物が未露光状態のときには、現像良好であり、現像残渣を抑えることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 前記一般式(I)において、Lは1価の有機基を表し、R及びRは各々独立に炭化水素基を表す。nは1~3の整数を表す。
 Lで表される1価の有機基としては、例えば、炭素数1以上の置換されていてもよいアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、又はこれらの組み合わされた基が挙げられる。中でも、炭素数1~20の置換されていてもよいアルキル基が好ましい。
 R、Rで表される炭化水素基としては、例えば、直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基)などが挙げられる。中でも、R、Rは、炭素数1~12の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基が好ましく、炭素数1~6の直鎖のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基は特に好ましい。
 また、nは1~3の整数を表し、安定性と密着性の観点から、好ましくは2~3である。
 前記一般式(I)で表されるアルコキシシラン化合物は、分子内に親水性部位が少なくとも1つ有する化合物が好ましく、複数の親水性部位を有する化合物がより好ましい。複数の親水性部位が分子内に存在する場合、親水性部位は同一であっても異なっていてもよい。
 前記一般式(I)で表されるアルコキシシラン化合物のうち、硬化性の点及び硬化後の硬化部以外を現像等して除去する場合の除去性の点から、下記一般式(II)で表されるアルコキシシラン化合物が好ましい。すなわち、親水性部位を含む1価の有機基を有するアルコキシシラン化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 前記一般式(II)において、L’は、親水性部位を含む1価の有機基を表す。
 R及びRは各々独立に炭化水素基を表し、一般式(I)のR及びRと同義であり、R、Rで表される炭化水素基の詳細及びその好ましい態様については、一般式(I)における場合と同様である。
 また、nは1~3の整数を表し、安定性と密着性の観点から、好ましくは2~3である。
 以下、L’で表される「親水性部位を含む1価の有機基」について説明する。
 1価の有機基L’に含まれる「親水性部位」とは、水に代表される高極性物質との親和性が高い有極性の原子団を表し、例えば酸素、窒素、硫黄、リンなどの原子を含む。このような親水性部位として、水に代表される高極性物質との双極子-双極子相互作用、双極子-イオン相互作用、イオン結合、水素結合等が可能な部位が挙げられる。
 親水性部位の例としては、酸素、窒素、硫黄などの原子を含む極性基や解離基、水素結合ドナー、水素結合アクセプター、複数の孤立電子対を有しこれらが集まって親水場を提供できる部位等が挙げられる。具体的には、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボニル基、チオカルボニル基、メルカプト基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基などの親水性基、スルホンアミド部位、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、エステル部位、チオエーテル部位、ウレア部位、チオウレア部位、オキシカルボニルオキシ部位、アンモニウム基、2級アミン部位、3級アミン部位、-(CHCHO)-で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、オキシカルボニルオキシ部位、及び下記構造式で表される部分構造(1価ないし3価の親水性部位)などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 前記構造式中、M及びMは、それぞれ独立に水素原子、1価の金属原子(例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムなど)を表す。
 このような親水性部位の中でも、硬化性組成物の経時安定性の観点から、前記重合性化合物(前記(A)成分及び前記(B)成分を含む)のエチレン性二重結合に対してマイケル付加反応を起こさない構造がより好ましい。かかる観点から、ヒドロキシ基、カルボニル基、チオカルボニル基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、エステル部位、チオエーテル部位、ウレア部位、チオウレア部位、オキシカルボニルオキシ部位、アンモニウム基、3級アミン部位、-(CHCHO)-で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、オキシカルボニルオキシ部位、及び前記構造式で表される部分構造(1価ないし3価の親水性部位)が好ましい。
 また、前記一般式(II)の部分構造である-Si(OR 3-nが加水分解反応を受けると、硬化性組成物が経時により増粘する等の要因となることがある。このような加水分解反応を誘発しにくいという観点からは、親水性部位の中でも、ヒドロキシ基、カルボニル基、チオカルボニル基、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、エステル部位、チオエーテル部位、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、ウレア部位、チオウレア部位、3級アミン部位、ポリエチレンオキシ部位が好ましく、ヒドロキシ基、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、スルホンアミド部位、エステル部位、ウレア部位、チオウレア部位、3級アミン部位、ポリエチレンオキシ部位が更に好ましく、ヒドロキシ基、ウレタン部位、チオウレタン部位、ウレア部位、3級アミン部位、-(CHCHO)-で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)が最も好ましい。
 上記のアルコキシシラン化合物のうち、更に好ましくは、下記一般式(III)又は一般式(IV)で表される化合物である。
〈一般式(III)表されるアルコキシシラン化合物〉
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 前記一般式(III)において、R11及びR12は、各々独立に、炭素数1~6の炭化水素基を表す。R11、R12で表される炭素数1~6の炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖、又は環状の炭素数1~6のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基)などが挙げられる。中でも、R11、R12は、好ましくはメチル基、エチル基である。
 Rは、炭素数1~12の2価の炭化水素基を表し、炭化水素基は無置換でも置換基を有していてもよい。また、炭化水素基の炭化水素構造中には、環構造及び/又は不飽和結合を有していてもよい。また、炭化水素構造中に1価の親水性部位を有していてもよい。ここでいう親水性部位は、前記L’において説明したのものうち、1価の親水性部位として挙げたものをさし、好ましい例も同様である。
 Rで表される2価の炭化水素基の詳細については後述する。
 Xは1価の親水性部位を表す。ここでいう親水性部位は、前記L’において説明したのものうち、1価の親水性部位として挙げたものをさし、好ましい例も同様である。
 nは1~3の整数を表し、安定性と密着性の観点から、好ましくは2~3である。
〈一般式(IV)表されるアルコキシシラン化合物〉
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 前記一般式(IV)において、R11及びR12は、各々独立に炭素数1~6の炭化水素基を表す。R11、R12で表される炭素数1~6の炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖、又は環状の炭素数1~6のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基)などが挙げられる。中でも、R11、R12は、好ましくはメチル基、エチル基である。
 R、R、R及びRは、各々独立に、単結合、又は無置換でも置換基を有していてもよい炭素数1~12の炭化水素鎖(2価の炭化水素基)を表す。ただし、R、R、R及びRが炭化水素鎖(2価の炭化水素基)を表す場合、その炭化水素構造中に環構造及び/又は不飽和結合を有していてもよい。また、炭化水素鎖(2価の炭化水素基)は、置換基として1価の親水性部位を有するものであってもよい。
 R~Rで表される2価の炭化水素基の詳細については後述する。
 X’は、水素原子、又は1価の置換基を表し、1価の置換基は親水性部位を含んでもよい。ここでいう親水性部位は、前記L’において説明したのものうち、1価の親水性部位として挙げたものをさし、好ましい例も同様である。
 Y及びY’は、各々独立に2価の親水性部位を表し、Zは、qの値に応じた2価又は3価の親水性部位を表し、qは1又は2である。すなわち、qが1の場合、Zは2価の親水性部位を表し、qが2の場合、Zは3価の親水性部位を表す。2価又は3価の親水性部位としては、前記一般式(I)又は一般式(II)において説明した親水性部位のうち、2価又は3価の親水性部位として例示したものと同様のものを挙げることができる。
 pは0~20の整数を表し、rは0~3の整数を表す。nは1~3の整数を表す。
 前記一般式(III)中のR、又は、前記一般式(IV)中のR、R、R、Rが2価の炭化水素基である場合、直鎖、分岐鎖、又は環状構造を含むアルキル基、芳香環基が好ましく、これらは置換基を有していてもよい。
 また、この2価の炭化水素基に導入可能な置換基としては、例えば、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、親水性基が挙げられ、中でも、炭素数1~12の脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、塩素原子、シアノ基、親水性基が好ましい。
 炭素数1~12の脂肪族基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基などが挙げられ、中でもメチル基、エチル基、プロピル基が好ましい。
 芳香族基の例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基が挙げられ、フェニル基が好ましい。
 ヘテロ環基の例としては、モルホリノ基、テトラヒドロフルフリル基、ピロリル基、フリル基、チオフェニル基、ベンゾピロリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチオフェニル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、インダゾリル基、ベンゾイソキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ピリジル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、シンノリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、アクリジニル基、フェナンスリジニル基、フタラジニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、プリニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基が挙げられ、モルホリノ基、テトラヒドロフルフリル基、ピリジル基が好ましい。
 親水性基の例としては、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボニル基、チオカルボニル基、メルカプト基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基などが挙げられ、ヒドロキシ基、カルボニル基、アミノ基が好ましい。
 前記一般式(III)中のR、又は、前記一般式(IV)中のR、R、R、Rが2価の炭化水素基である場合に有していてもよい「1価の親水性部位」としては、例えば、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、アンモニウム基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、及び下記構造式で表される部分構造部位(M、Mについては既述の通りである)が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 上記のうち、前記一般式(III)中のRで表される「2価の炭化水素基」は、好ましくは炭素数1~5のメチレン鎖、又は置換基を有していてもよく鎖中に酸素原子を含んでもよいメチレン鎖であり(より好ましくは、炭素数3のメチレン鎖)である。
 前記一般式(IV)中のR~Rで表される「2価の炭化水素基」は、好ましくは炭素数1~5のメチレン鎖、又は置換基を有していてもよく鎖中に酸素原子を含んでもよいメチレン鎖であり(より好ましくは、炭素数3のメチレン鎖)である。
 前記一般式(III)中のX、又は前記一般式(IV)中のX’における1価の親水性部位の好ましい例としては、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、アンモニウム基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、及び下記構造式で表される部分構造部位(M、Mについては既述の通りである)が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 前記一般式(IV)中、Y、Y、Zが2価の親水性部位である場合、その好ましい例としては、カルボニル基、チオカルボニル基、ウレタン部位、チオウレタン部位、アミド部位、エステル部位、チオエーテル部位、スルホンアミド部位、ウレア部位、チオウレア部位、2級アミン部位、-(CHCHO)-で表されるポリエチレンオキシ部位(但し、aは2以上の整数)、オキシカルボニルオキシ部位、及び下記構造式で表される部分構造部位(Mについては既述の通りである)等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 前記一般式(IV)中、Zが3価の親水性部位である場合、その好ましい例としては、3級アミン部位、ウレア部位、チオウレア部位及び下記構造式で表される部分構造等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 前記一般式(III)で表される化合物のうち、好ましくは、R11、R12がメチル基又ははエチル基であって、Rが炭素数1~5のメチレン鎖、又は置換基を有していてもよく、鎖中に酸素原子を含んでもよいメチレン鎖(より好ましくは、炭素数3のメチレン鎖)であって、Xがアミノ基であって、nが2~3(より好ましくは2)である場合がより好ましい。
 また、前記一般式(IV)で表される化合物のうち、好ましくは、R11、R12がメチル基又はエチル基であって、R、Rが炭素数1~5のメチレン鎖(より好ましくは、炭素数2のメチレン鎖)であって、R、Rが炭素数1~5のメチレン鎖(より好ましくは、炭素数3のメチレン鎖)であって、X’がアミノ基であって、Y、Y’、Zがアミノ基であって、pが0であって、qが1であって、rが0であって、nが2~3(より好ましくは2)である場合がより好ましい。
 以下、前記一般式(I)ないし(IV)で表されるアルコキシシラン化合物の具体例を示す。但し、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
 前記一般式(I)で表されるアルコキシシラン化合物としては、例えば、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-クロロプロピルメチルジメトキシシラン、トリメチルクロロシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビスアリルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、フェニルトリメトキシシラン等が挙げられる。
 更に好ましい形態である前記一般式(II)、(III)又は(IV)で表されるアルコキシシラン化合物の具体例〔例示化合物(1)~(145)〕を挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 以上で説明したアルコキシシラン化合物の総含有量としては、現像残渣低減と密着性向上とをより効果的に両立させる観点より、本発明の硬化性組成物の全固形分に対し、0.1質量%以上10.0質量%以下が好ましく、0.1質量%以上8.0質量%以下がより好ましく、0.1質量%以上6.0質量%以下が特に好ましい。
<溶剤>
 本発明の硬化性組成物は、溶剤を少なくとも1種含有することが好ましい。
 本発明の硬化性組成物を調製する際に使用可能な溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、等;
3-オキシプロピオン酸メチル、3-オキシプロピオン酸エチル等の3-オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、等)、2-オキシプロピオン酸メチル、2-オキシプロピオン酸エチル、2-オキシプロピオン酸プロピル等の2-オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例えば、2-メトキシプロピオン酸メチル、2-メトキシプロピオン酸エチル、2-メトキシプロピオン酸プロピル、2-エトキシプロピオン酸メチル、2-エトキシプロピオン酸エチル、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-オキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、2-メトキシ-2-メチルプロピオン酸メチル、2-エトキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、等);
ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸メチル、2-オキソブタン酸エチル等;
エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等;ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン等;芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン等が好ましい。
 これらのうち、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、等がより好ましい。中でも、乳酸エチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが最も好ましい。
 また、本発明の硬化性組成物が前述のアルコキシシラン化合物を含む場合には、本発明における溶剤としては、該アルコキシシラン化合物との相溶性の観点より、ケトン類が好ましく、環状ケトンがより好ましく、シクロヘキサノン又はシクロペンタノンが特に好ましい。
<その他の成分>
 本発明の硬化性組成物は、上記以外のその他の成分を含有してもよい。
(増感剤)
 本発明の硬化性組成物は増感剤を含有してもよい。
 前記増感剤としては、前述の光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
 前記増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ、300nm~450nmの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
 即ち、例えば、多核芳香族類(例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、9,10-ジアルコキシアントラセン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、チオキサントン類(イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、フタロシアニン類、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)、アクリジンオレンジ、クマリン類(例えば、7-ジエチルアミノ-4-メチルクマリン)、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、N-アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。
 本発明の硬化性組成物が増感剤を含有する場合、硬化性組成物中における増感剤の含有量は、深部への光吸収効率と開始分解効率の観点から、固形分換算で、0.1~20質量%であることが好ましく、0.5~15質量%がより好ましい。
(共増感剤)
 本発明の硬化性組成物は共増感剤を含有してもよい。
 前記共増感剤は、前記光重合開始剤や前記増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、或いは、酸素による光重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
 このような共増感剤の例としては、アミン類、例えば、M.R.Sanderら著「Journal of Polymer Society」第10巻3173頁(1972)、特公昭44-20189号公報、特開昭51-82102号公報、特開昭52-134692号公報、特開昭59-138205号公報、特開昭60-84305号公報、特開昭62-18537号公報、特開昭64-33104号公報、Research Disclosure 33825号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p-ホルミルジメチルアニリン、p-メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
 共増感剤の別の例としては、チオール及びスルフィド類、例えば、特開昭53-702号公報、特公昭55-500806号公報、特開平5-142772号公報記載のチオール化合物、特開昭56-75643号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプト-4(3H)-キナゾリン、β-メルカプトナフタレン等が挙げられる。
 また、共増感剤の別の例としては、アミノ酸化合物(例、N-フェニルグリシン等)、特公昭48-42965号公報記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテート等)、特公昭55-34414号公報記載の水素供与体、特開平6-308727号公報記載のイオウ化合物(例、トリチアン等)等が挙げられる。
 本発明の硬化性組成物が共増感剤を含有する場合、該共増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、硬化性組成物の全固形分の質量に対し、0.1~30質量%の範囲が好ましく、1~25質量%の範囲がより好ましく、0.5~20質量%の範囲が更に好ましい。
(熱重合防止剤)
 本発明の硬化性組成物においては、組成物の製造中或いは保存中において、光重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することができる。
 本発明に用いうる熱重合防止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、t-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
 本発明の硬化性組成物が熱重合防止剤を含有する場合、熱重合防止剤の添加量は、硬化性組成物の全固形分に対し約0.01~約5質量%が好ましい。
 また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で塗布膜の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5~約10質量%が好ましい。
(密着向上剤)
 本発明の硬化性組成物においては、上述したアルコキシシラン化合物と、公知の密着向上剤とを併用してもよい。
 公知の密着向上剤としては、シラン系カップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。
 シラン系カップリング剤としては、例えば、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルジメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、アミノシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ-アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β-メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3-(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、γ-クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビスアリルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、フェニルトリメトキシシラン、N-(3-アクリロキシ-2-ヒドロキシプロピル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-(3-メタクリロキシ-2-ヒドロキシプロピル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、(メタクリロキシメチル)メチルジエトキシシラン、(アクリロキシメチル)メチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
 中でも、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが最も好ましい。
(その他の添加剤)
 更に、本発明の硬化性組成物に対しては、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や、可塑剤、感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
 可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、光重合性化合物と樹脂との合計質量に対し10質量%以下添加することができる。
≪カラーフィルタ≫
 本発明のカラーフィルタは、前記本発明の硬化性組成物を用いてなるものであり、例えば、後述の支持体上に、既述の本発明の硬化性組成物を用いてなる1色以上(好ましくは、3色または4色)の着色パターンを有して構成される。
 本発明のカラーフィルタでは、支持体と着色パターンとの密着性に優れ、現像残渣が低減される。
 本発明のカラーフィルタは、液晶表示装置用カラーフィルタであっても固体撮像素子用カラーフィルタであってもよいが、密着性向上の効果及び現像残渣低減の効果をより効果的に得る観点からは、固体撮像素子用カラーフィルタであることが好ましい。
 本発明のカラーフィルタを構成する着色パターン(着色画素)のサイズ(線幅)としては、密着性向上の効果及び現像残渣低減の効果をより効果的に得る観点からは、2.0μm以下が好ましく、1.7μm以下が特に好ましい。
 また、前記着色パターンの膜厚としては、密着性向上の効果及び現像残渣低減の効果をより効果的に得る観点から、0.1~2.0μmが好ましく、0.2~1.0μmがより好ましい。
 固体撮像素子用カラーフィルタにおいては、一般的には、着色パターンの密着性改善などを目的として、無機基材上に下塗り層としての有機膜(以下、「下塗り有機膜」ともいう)を介して着色パターンを形成することが行われている。
 しかし、近年では、工程短縮、材料コスト低減、カラーフィルタの薄膜化、等の観点より、下塗り有機膜を介さずに無機基材上に直接着色パターンを形成する技術が求められている。下塗り有機膜を介さずに無機基材上に直接着色パターンを形成する場合、着色パターンの密着性が悪化する。
 以上の観点より、密着性に優れ現像残渣が少ない本発明のカラーフィルタは、下塗り有機膜を介さずに無機基材上に直接形成されるカラーフィルタとして特に好適である。
 また、本発明のカラーフィルタは、密着性向上の効果及び現像残渣低減の効果をより効果的に得る観点からは、ベイヤー配列の着色パターン(以下、「Bayerパターン」ともいう)を含むことが好ましい。
 本発明において、ベイヤー配列とは、複数の正方形が市松模様状に配置された配列をいう。前記ベイヤー配列は、例えば、固体撮像素子用カラーフィルタにおける緑色画素の配列に適用される。
≪カラーフィルタの製造方法≫
 本発明のカラーフィルタを製造する方法としては特に限定はないが、例えば、既述の本発明の硬化性組成物を支持体上に塗布後、塗布形成された塗布膜をマスクを通して露光し、現像して着色パターンを形成する工程を有するカラーフィルタの製造方法が好適である。3色あるいは4色のカラーフィルタとする場合には、前記工程を各色ごとに繰り返して各色のパターンを形成することにより作製できる。
 以下、より具体的なカラーフィルタの製造方法の例について説明する。
 即ち、本発明の硬化性組成物を支持体上に塗布する塗布工程と、(必要に応じて、更に、塗布された硬化性組成物をプリベークするプリベーク工程と)、塗布された硬化性組成物をマスクを通してパターン露光する露光工程と、パターン露光された硬化性組成物をアルカリ現像する現像工程と、(必要に応じて、更に、アルカリ現像された硬化性組成物をポストベークするポストベーク工程と)、を有して構成される製造方法が挙げられる。
 さらに具体的には、例えば、塗布工程において、本発明の硬化性組成物を、スピンナー等により、適当な支持体上に乾燥時の膜厚が一般的に0.1~5μm、好ましくは0.2~2μmになるように塗布し、平滑な塗膜を得る。
 硬化性組成物を塗布した後、溶媒を蒸発させ乾燥塗布膜を得るため通常プリベークを行う(プリベーク工程)。このプリベークの方法としては、高温の空気などによる間接加熱乾燥、ホットプレート等による直接加熱乾燥(約80~140℃、50~200秒)等がある。プリベークの前に、減圧乾燥を行ってもよい。
 また、現像後に得られたパターンを、十分硬化させて機械強度を高め永久膜とするためにポストベークが行われる(ポストベーク工程)。例えば、3色のカラーフィルタの製造に際しては、最初に形成されたパターンは、その後、他色のレジスト液の塗布、露光、現像を2度受ける。この際に、塗布されたレジスト液との混色、露光、現像によるパターンの欠落が生じないようにポストベークを行うものである。このポストベークはプリベーク同様の方法が用いられるが、プリベークの条件よりも、高温、長時間で行われる。例えば、オーブンによる間接加熱の場合、約180~250℃、約0.5~2時間、ホットプレートによる直接加熱の場合、約180~250℃、約2~10分間行われる。
 露光工程におけるパターン露光のための光源は特に限定されないが、パターン形成性に関して顕著な効果がもたらされる光源としては、410nm以下の波長の光が好ましく、中でも水銀灯のi線(365nm)が特に好ましい。
 硬化性組成物の現像に使用する現像液は特に制限はなく、従来公知の現像液を使用することができる。中でも、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド(TMAH)などの4級アンモニウム塩類の有機アルカリ系の現像液が本発明の目的を達成する上で好ましい。
 支持体としては、無機基材、有機基材のいずれも使用できるが、密着性向上効果をより効果的に得る観点からは、無機基材が好ましい。無機基材の詳細については後述する。
 前記支持体の具体例としては、例えば、ガラス基板、プラスチックス基板、アルミ基板、固体撮像素子用シリコンウエハ等の電子部品の基材、さらには透明樹脂基板、樹脂フィルム、ブラウン管表示面、撮像感の受光面、固体撮像素子(CCD、CMOS、BBD、CID、BASIS等)が形成された半導体ウエハが挙げられる。また、薄膜半導体を用いた密着型イメージセンサー、液晶ディスプレー面、カラー電子写真用感光体、エレクトロクロミィー(EC)表示装置を用いることもできる。
 また、カラーフィルタ(着色パターン)との密着性を向上させるために、支持体上に密着処理を施すことが好ましい。この密着処理による効果は、前述のとおり、支持体が無機基材であり、該無機基材上に下塗り有機膜を介さずに直接着色パターン(カラーフィルタ)を形成する場合に特に有効である。
 以下、支持体としての無機基材上に密着助剤を付与する場合の密着処理工程について説明する。
-密着処理工程-
 密着処理工程では、無機基材上に密着助剤を付与する。密着助剤の付与は、塗布、インクジェット付与、印刷、蒸着などの方法により行なうことができる。
 塗布による場合、スリット塗布、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スプレー塗布等の各種公知の塗布方法を適用することができる。
 インクジェット付与による場合、インクジェットヘッドを用いたインクジェット法により吐出する方法を適用できる。インクジェットヘッドとしては、例えば、静電誘引力を利用してインクを吐出させる電荷制御方式、ピエゾ素子の振動圧力を利用するドロップオンデマンド方式(圧力パルス方式)、電気信号を音響ビームに変えインクに照射して放射圧を利用してインクを吐出させる音響インクジェット方式、インクを加熱して気泡を形成し、生じた圧力を利用するサーマルインクジェット(バブルジェット(登録商標))方式、等のヘッドが好適である。
 印刷による場合、スクリーン印刷法を適用することができる。
 蒸着による場合、スプレーによる噴霧、気化による蒸着、ディッピング等が挙げられる。中でも、気化による蒸着が好ましく、その場合、減圧下で30~600秒程度処理されることが好ましい。
 塗布やインクジェット付与による場合、密着助剤を用いて調製した溶液が用いられる。この溶液には、例えば、シクロヘキサノンなどの溶剤に、所望の密着助剤を混合、溶解して調製したものを用いることができる。
 上記のように密着助剤の付与後は、ホットプレート、オーブン等を用いて、50~300℃で30~600秒程度乾燥させることが好ましい。
 本発明に用いる密着助剤としては、後述の硬化性層(特にアルコキシシラン化合物)との間に働く硬化部(画像)密着性と未硬化部現像性の点から、シリコン窒化物、シリコン酸化物などを用いることができる。中でも、非硬化部(非露光部)の現像残渣を悪化することなく、無機の基板面との密着性に優れた着色パターンを形成する点から、下記一般式(A)で表される化合物が好ましい。但し、本発明においてはこれに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 前記一般式(A)中、R~Rは、各々独立に炭素数1~4の炭化水素基を表し、構造中に環構造及び/又は不飽和結合を有していてもよい。炭素数1~4の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。中でも、R~Rの全てがメチル基である場合が好ましい。
 前記一般式(A)で表される化合物の具体例を列挙する。但し、本発明においてはこれらに制限されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 密着助剤の無機基材上における存在量としては、密着助剤が処理された無機基材上の水の接触角が50°以上が好ましく、60°以上が好ましい。前記範囲内であると、本来現像除去される未露光領域の後述の硬化性層の現像残渣を少なく抑えつつ、カラーフィルタを構成する着色パターンの密着性を効果的に向上させることができる。
 本発明にいう無機基材としては、無機基材(基板、シート、フィルム等を含む)自身の他、表面に無機膜が形成された任意の基材(有機基材でも無機基材でもよい)も含まれる。
 無機基材の更に好ましい例として、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板(特にSiN、SiO、SiON基板等の無機基板)等や、相補性金属酸化膜半導体(CMOS)等が挙げられる。これらの基板は、各画素を隔離するブラックストライプが形成されている場合もある。
 中でも特に、無機基板が前記一般式(A)で表される化合物で処理されている場合が好ましい。
≪固体撮像素子≫
 本発明の固体撮像素子は、本発明のカラーフィルタを備えて構成される。
 本発明の固体撮像素子は、密着性に優れ、現像残渣が抑制された本発明のカラーフィルタが備えられているため、ノイズが少なく色再現性に優れる。
 本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明のカラーフィルタが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
 支持体上に、固体撮像素子(CCDイメージセンサー、CMOSイメージセンサー、等)の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、前記フォトダイオード及び前記転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、前記デバイス保護膜上に、本発明のカラーフィルタを有する構成である。
 更に、前記デバイス保護層上であってカラーフィルタの下(支持体に近い側)に集光手段(例えば、マイクロレンズ等。以下同じ)を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。
 以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
 また、以下の実施例において、i線透過率は、硬化性組成物を素ガラス上に塗布し、プレベークを行って膜厚0.7μmの塗布膜を形成し、該塗布膜についてMCPD-3000(大塚電子(株)製)を用いて測定した。
〔実施例1〕
-1.硬化性組成物の調製-
(1-1)顔料分散液の調製
 顔料として、C.I.ピグメントグリーン36とC.Iピグメントグリーン7とC.I.ピグメントイエロー139とを80/20/35(質量比)の割合で混合した混合物15部、分散剤としてBYK2001(Disperbyk:ビックケミー(BYK)社製、固形分濃度45.0%)10部(固形分換算約4.5部)、メチルメタクリレート/メタクリル酸/2-ヒドロキシ-4-アクリロイルオキシメチル-シクロヘキシルメタクリレート共重合物(共重合比(モル比)=60/8/32、重量平均分子量14000;下記樹脂(E-1))[エチレン不飽和二重結合を有する(E)アルカリ可溶性樹脂]5.5部及び溶媒としてシクロヘキサノン69.5部を混合した混合液を、ビーズミルにより15時間混合、分散して、顔料分散液(P1)を調製した。
 顔料分散液(P1)について、顔料の平均粒子径をマイクロトラック ナノトラクUPA-EX150(日機装(株)製)を用いて、動的光散乱法により測定したところ、200nmであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
(1-2)硬化性組成物(塗布液)の調製
 上記の顔料分散液P1を用い、下記組成中の各成分を混合、撹拌して硬化性組成物P1の溶液を調製した。
〈組成〉
・前記顔料分散液(P1)                …  65部
・下記化合物(A-1)〔(A)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有する重合性化合物〕                     … 3.3部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)〔(B)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有しない重合性化合物〕    … 0.8部
・下記化合物(C-1)〔ジエチルアミン構造を有する(C)i線吸収剤〕…0.9部
・CGI-242〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のオキシム系光重合開始剤(構造を以下に示す);(D)光重合開始剤〕           … 0.9部
・下記化合物(G-1)〔アミノ基含有(G)アルコキシシラン化合物〕… 1.3部
・界面活性剤(メガファックF-781-F)       … 0.1部
・重合禁止剤(p-メトキシフェノール)         … 0.1部
・シクロヘキサノン                   … 2.5部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA;溶媒)
                            … 9.0部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 ここで、硬化性組成物P1の溶液の経時粘度安定性について、保存する前(初期)と室温で1ヶ月保存後、45℃で3日保存後の粘度をそれぞれE型粘度計(東機産業(株)製)を用いて測定し、下記判定基準に従って評価した。評価結果は下記表1に示す。
 <判定基準>
 A:粘度上昇は認められなかった。
 B:5%未満の粘度変動が認められた。
 C:5%以上10%未満の粘度変動が認められた。
 D:10%以上の粘度変動が認められた。
-2.カラーフィルタの作製-
(2-1)硬化性層の形成
 以下のようにして、下塗り有機膜を設けることなく、Si基板上に直接(即ち、下塗り有機膜を介さずに)硬化性層を形成した。
 具体的には、まず、Si基板を準備し、このSi基板の表面に、減圧密着処理装置LPAH(スピン塗布用塗布装置SK-60BWに内蔵)(大日本スクリーン(株)製)を用いて下記条件で、HMDS(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製;ヘキサメチルジシラザン)を蒸気蒸着した。このとき、Drop Master 500(協和界面科学(株)製)で測定したSi基板上の水の接触角は、62°であった。
 その後、Si基板のHMDSを蒸着した側に、スピン塗布用塗布装置SK-60BW(大日本スクリーン(株)製)を用いて下記条件で、硬化性組成物P1の溶液をスピン塗布した後、100℃で120秒間のプリベーク(prebake)を施して硬化性層を形成した。
〈HMDS蒸気蒸着条件〉
 ・基板温度…110℃
 ・蒸着時間…45秒
〈硬化性組成物P1のスピン塗布条件〉
 ・滴下量…2g
 ・塗布速度…1000r.p.m.
 ・塗布厚(乾燥厚)…1.0μm
 ・塗布温度…23℃
(2-2)露光、現像
 上記より形成された硬化性層を、高照度(1000mW/cm)露光の場合はi線露光装置FPA-3000i5(Canon(株)製)、低照度露光(500mW/cm)の場合はi線露光装置NSR2005i9(Nikon)を用いて、線幅1.2μm/線幅1.7μm/線幅2.0μm/線幅2.2μmのBayerパターンテスト用フォトマスクを用いて露光し、露光後、硬化性層の全面を有機系現像液(商品名:CD2000、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の60%水溶液で覆い、60秒間静止した。このようにして、Si基板上に着色パターンを形成した。
 上記Bayerパターンテスト用フォトマスクのマスクパターンは、複数の正方形パターンが市松模様状に配列されたパターン(Bayerパターン)が、上記各線幅ごとに設けられたマスクパターンである。
(2-3)リンス処理
 静止後、純水をストレート状に噴射して現像液を洗い流し、露光及び現像処理を施した後の硬化性層(着色パターン)を220℃のホットプレートにて5分間加熱した(ポストベーク)。以上のようにして、Si基板上に緑色単色のカラーフィルタを形成した。
-3.性能評価-
 上記の硬化性層及びカラーフィルタについて、解像力、現像残渣、及び着色パターンの基板密着性を下記のようにして評価した。評価結果は下記表1に示す。
 なお、実施例1の結果については、他の実施例との比較のため、表1に加え、表2~表5にも記載した。
(1)解像力
 露光量を50~1250mJ/cmの種々の露光量に変更して露光を行ない、線幅2.0μmのBayerパターン及び線幅1.7μmのBayerパターンのそれぞれについて、露光量100mJ/cmにて露光したときのポストベーク後の断面形状を断面SEM(S-4800、日立ハイテクノロジーズ(株)製)にて観察し、テーパー角を評価した。
 <評価基準>
 A:85°以上
 B:80°以上~85°未満 
 C:75°以上~80°未満
 D:75°未満
(2)現像残渣(硬化性層の残渣)
 露光量を50~1250mJ/cmの種々の露光量に変更して露光を行ない、Bayerパターンにおける100mJ露光時のポストベーク後にパターン間の残渣を、寸法SEM(S-9260A、日立ハイテクノロジーズ(株)製)にて観察し、下記の評価基準にしたがって評価した。
 <評価基準>
 A:未露光部には、残渣が全く確認されなかった。
 B:未露光部に残渣がわずかに確認されたが、実用上問題のない程度であった。
 C:未露光部に残渣が確認された。
 D:未露光部に残渣が著しく確認された。
(3)基板密着性
 線幅1.2μm/線幅1.7μm/線幅2.0μm/線幅2.2μmのBayerパターンにおいて、パターン欠損が発生しているか否かを顕微鏡により観察し、下記の評価基準にしたがって、ポストベーク後の基板密着性を評価した。
 この基板密着性の評価は、保存する前(初期)の硬化性組成物を用いた場合と、室温で1ヶ月保存後、更に45℃で3日保存した後の硬化性組成物を用いた場合と、の双方について行った。
 なお、表1~表10では、線幅1.7μm以下(即ち、線幅1.2μm及び線幅1.7μm)のBayerパターンについての結果を示す。
 <評価基準>
 A:パターン欠損が全く観察されなかった。
 B:パターン欠損がほとんど観察されなかった。
 C:パターン欠損が部分的に僅かに観察された。
 D:パターン欠損が著しく観察された。
〔実施例2~3、比較例1~4〕
 実施例1中、硬化性組成物の調製において、(A)成分及び(B)成分の総質量〔(A)+(B)〕を変えず、質量比率〔(A)/((A)+(B))〕を表1に示すように変えた以外は実施例1と同様にして硬化性組成物及びカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行った。評価結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
 表1に示すように、質量比率〔(A)/((A)+(B))〕が0.5以上0.9以下である実施例1~実施例3では、密着性が良好であり、現像残渣が低減されていた。更に、経時粘度安定性及び解像力も良好であった。
 これに対し、質量比率〔(A)/((A)+(B))〕が0.5未満である比較例1及び比較例3では、現像残渣及び解像力が悪化した。また、比率〔(A)/((A)+(B))〕が0.9を超える比較例2及び比較例4では、密着性が悪化した。
〔実施例4、比較例5〕
 実施例1中、硬化性組成物の調製において、(C)i線吸収剤の含有量を変更することにより、i線透過率を表2に示すように変更した以外は実施例1と同様にして硬化性組成物及びカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行った。評価結果を表2に示す。
〔実施例5〕
 実施例1中、硬化性組成物の調製において、化合物(C-1)〔ジエチルアミン構造を有する紫外線吸収剤〕を、同質量の下記化合物(C-2)〔ジエチルアミン構造を有しない紫外線吸収剤〕に変更した以外は実施例1と同様にして硬化性組成物及びカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行った。評価結果を表2に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
 表2に示すように、i線透過率が10%以下である実施例1、実施例4及び実施例5では密着性が良好であった。
 これに対し、i線透過率が10%を超える比較例5では、解像力及び現像残渣が悪化した。
〔実施例6〕
 実施例1中、硬化性組成物の調製において、エチレン性不飽和結合を有する(E)アルカリ可溶性樹脂を、同質量の、エチレン性不飽和結合を有しない(E)アルカリ可溶性樹脂(下記樹脂E-2;ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合物(共重合比(モル比)=70/30、重量平均分子量30000))に変更した以外は実施例1と同様にして硬化性組成物及びカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行った。評価結果を表3に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000042
 表3に示すように、エチレン性不飽和結合を有しない(E)アルカリ可溶性樹脂を用いた実施例6と、エチレン性不飽和結合を有する(E)アルカリ可溶性樹脂を用いた実施例1と、の比較では、実施例1の方が密着性に優れていた。
〔実施例7~実施例11〕
 実施例1中、硬化性組成物の調製において、(G)アルコキシシラン化合物の質量を変更した以外は実施例1と同様にして硬化性組成物及びカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行った。評価結果を表4に示す。
〔実施例12〕
 実施例1中、硬化性組成物の調製において、(G)アルコキシシラン化合物をメチルトリメトキシシラン〔アミノ基を有しないアルコキシシラン化合物〕に変更した以外は実施例1と同様にして硬化性組成物及びカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行った。評価結果を表4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000043
 表4に示すように、実施例1、及び実施例7~実施例12のうち、ジエチルアミン構造を有する(G)アルコキシシラン化合物を用い、(G)アルコキシシラン化合物の含有率が0.1質量%以上10質量%以下である実施例1、実施例7、及び実施例8では、密着性が特に優れ、現像残渣も特に抑制されていた。
〔実施例13~実施例16〕
 実施例1中、硬化性組成物の調製において、(C)i線吸収剤及び(G)アルコキシシラン化合物の種類を表5に示すように変更した以外は実施例1と同様にして硬化性組成物及びカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行った。評価結果を表5に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000044
-表5中の記号の説明-
・「A-1」、「C-1」、「E-1」、「G-1」は、それぞれ、前述の化合物(A-1)、化合物(C-1)、化合物(E-1)、化合物(G-1)を示す。
・「C-3」、「G-2」、「G-3」、「G-4」は、それぞれ下記の化合物(C-3)、化合物(G-2)、化合物(G-3)、化合物(G-4)を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 表5に示すように、化合物の種類を種々変更した実施例13~実施例16においても、実施例1と同様に、密着性が良好であり、現像残渣が低減されていた。更に、経時粘度安定性及び解像力も良好であった。
 なお、実施例13~実施例16のそれぞれについて、質量比率〔(A)/((A)+(B))〕、i線透過率、アルカリ可溶性樹脂の種類、アルコキシシラン化合物の含有量・種類、を変更して評価を行ったところ、実施例1の場合と同様の挙動を示した。
〔実施例101~実施例116、比較例101~比較例105〕
 実施例1~実施例16及び比較例1~比較例5において、硬化性層の形成を以下に示すように変更した以外は実施例1~実施例16及び比較例1~比較例5と同様にしてカラーフィルタを作製し、実施例1と同様の評価を行った。
 即ち、実施例101~実施例116及び比較例101~比較例105では、Si基板上に下塗り有機膜を介して硬化性層を形成した。
-硬化性層の形成-
 Si基板を準備し、このSi基板上に有機膜形成用レジスト(CT4000L:富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)をスピン塗布用塗布装置SK-60BW(大日本スクリーン(株)製)を使用して下記条件にてスピン塗布後、220℃/5minの熱硬化処理を実施し、Si基板上に下塗り有機膜を形成した。
 その後、Si基板の下塗り有機膜を形成した側に、スピン塗布用塗布装置SK-60BW(大日本スクリーン(株)製)を用いて下記条件で、硬化性組成物P1の溶液をスピン塗布した後、100℃で120秒間のプリベーク(prebake)を施して硬化性層を形成した。
〈下塗り有機膜スピン塗布条件〉
 ・滴下量…2g
 ・塗布速度…1500r.p.m.
 ・塗布厚(乾燥厚)…0.1μm
 ・塗布温度…23℃
〈硬化性組成物P1のスピン塗布条件〉
 ・滴下量…2g
 ・塗布速度…1000r.p.m.
 ・塗布厚(乾燥厚)…1.0μm
 ・塗布温度…23℃
 実施例101~実施例116、及び比較例101~比較例105の評価結果を下記表6~表10に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
 表6~表10に示すように、下塗り有機膜上にカラーフィルタを形成した実施例101~116では、実施例1~16と同様に、密着性が良好であり、現像残渣が低減されていた。更に、経時粘度安定性及び解像力も良好であった。
 以上、特定の化合物を用いた場合の実施例について説明したが、上記以外の化合物を用いた場合にも、本発明の構成を満たす限り上記と同様の効果を得ることができる。
 また、以上の実施例では緑色単色のカラーフィルタを作製したが、上記同様の操作を色の数だけ繰り返すことにより、複数色のカラーフィルタを作製することができ、この場合にも上記の緑色単色カラーフィルタと同様な効果を得ることができる。また、上記実施例では、Si基板上にカラーフィルタを形成したが、Si基板を、フォトダイオード等の受光素子が形成された固体撮像素子用基板に変更することで、ノイズが少なく色再現性に優れた固体撮像素子を作製することができる。

Claims (9)

  1.  (A)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有する重合性化合物、(B)炭素数2以上のアルキレンオキシ基を有しない重合性化合物、(C)i線吸収剤、(D)光重合開始剤、(E)アルカリ可溶性樹脂、及び(F)顔料を含み、
     質量比率〔前記(A)/(前記(A)+前記(B))〕が0.5以上0.9以下であり、
     膜厚0.7μmの塗布膜としたときのi線透過率が10%以下である硬化性組成物。
  2.  更に、(G)アルコキシシラン化合物を含み、該(G)アルコキシシラン化合物の含有量が全固形分量に対して0.1質量%以上10.0質量%以下である請求項1に記載の硬化性組成物。
  3.  前記(C)i線吸収剤が、ジエチルアミン構造を含む請求項1に記載の硬化性組成物。
  4.  前記(E)アルカリ可溶性樹脂が、エチレン性不飽和二重結合を含む請求項1に記載の硬化性組成物。
  5.  前記(G)アルコキシシラン化合物が、アミノ基含有アルコキシシラン化合物を含む請求項2に記載の硬化性組成物。
  6.  請求項1に記載の硬化性組成物を用いてなるカラーフィルタ。
  7.  無機基材上に直接形成された請求項6に記載のカラーフィルタ。
  8.  ベイヤー配列の着色パターンを含む請求項6に記載のカラーフィルタ。
  9.  請求項6に記載のカラーフィルタを備えた固体撮像素子。
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