JP2021177248A - Hologram structure - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、優れた偽造防止性および意匠性を有するホログラム構造体に関する。 The present invention relates to a hologram structure having excellent anti-counterfeiting properties and design properties.
近年、ホログラム構造体は、複製が比較的難しく、また外観が美しい等の利点から、偽造防止用途に多く用いられている。このようなホログラム構造体には、原画像を干渉縞として記録する方式や、ホログラムにより光像を表示する原理等に応じて、様々な種類がある。例えば、エンボスホログラム、体積型ホログラム、電子ホログラム、計算機合成ホログラムであるフーリエ変換ホログラム等が挙げられる。 In recent years, hologram structures are often used for anti-counterfeiting applications because of their advantages such as relatively difficult duplication and beautiful appearance. There are various types of such hologram structures depending on a method of recording an original image as interference fringes, a principle of displaying an optical image by a hologram, and the like. For example, an embossed hologram, a volumetric hologram, an electronic hologram, a Fourier transform hologram which is a computer composite hologram, and the like can be mentioned.
このようなホログラム構造体を用いることで、真正性の識別を図り、偽造防止機能やセキュリティ機能を向上させることができる。また、ホログラム構造体により表示される光像を利用して、意匠性を付与する試みもなされている。例えば、特許文献1では、複数の微小光学単位区域を備えた真正性証明用の光学構造体が開示されている。 By using such a hologram structure, it is possible to identify the authenticity and improve the anti-counterfeiting function and the security function. Attempts have also been made to impart designability by using the light image displayed by the hologram structure. For example, Patent Document 1 discloses an optical structure for authenticity proof having a plurality of micro-optical unit areas.
従来、様々なホログラム構造体が提案されているが、偽造防止機能およびセキュリティ機能の更なる向上や、より優れた意匠性の付与が求められている。本発明は、高い偽造防止機能およびセキュリティ機能を有し、また、優れた意匠性を有するホログラム構造体を提供することを主目的とする。 Conventionally, various hologram structures have been proposed, but further improvement of anti-counterfeiting function and security function and addition of superior designability are required. An object of the present invention is to provide a hologram structure having a high anti-counterfeiting function and a security function, and also having an excellent design property.
本発明は、反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域を有するホログラム構造体であって、上記反射型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、表面に凹凸面を有する第1ホログラム層の上記凹凸面で反射した反射光を、第1光像に変換する領域であり、上記透過型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、パターン状に配置された第2ホログラム層を透過した透過光を、第2光像に変換する領域であることを特徴とするホログラム構造体を提供する。 The present invention is a hologram structure having a reflection type Fourier conversion hologram region and a transmission type Fourier conversion hologram region. In the reflection type Fourier conversion hologram region, light incident from a point light source has an uneven surface on the surface. This is a region for converting the reflected light reflected by the uneven surface of the hologram layer into a first light image, and the transmission type Fourier transform hologram region is a second region in which light incident from a point light source is arranged in a pattern. Provided is a hologram structure characterized by being a region for converting transmitted light transmitted through a hologram layer into a second light image.
本発明によれば、ホログラム構造体は、反射型フーリエ変換ホログラム領域を有することにより、点光源からの光を反射させて第1光像を表示することができるとともに、透過型フーリエ変換ホログラム領域を有することにより、点光源からの光を透過させて第2光像を表示することができる。したがって、点光源の照射方向に応じて、所定の光像を表示することが可能な、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体とすることができる。 According to the present invention, since the hologram structure has the reflection type Fourier conversion hologram region, the light from the point light source can be reflected to display the first light image, and the transmission type Fourier conversion hologram region can be displayed. By having the light, the light from the point light source can be transmitted and the second light image can be displayed. Therefore, it is possible to obtain a hologram structure having excellent anti-counterfeiting property and design property, which can display a predetermined light image according to the irradiation direction of the point light source.
本発明においては、上記第2ホログラム層は、上記第1ホログラム層の凹凸面側に配置されていることが好ましい。第1ホログラム層の凹凸面は、点光源からの光を反射させて第1光像を表示させるという機能を有するが、このとき、第1ホログラム層の凹凸面側に第2ホログラム層が配置されていることで、第1ホログラム層および第2ホログラム層の屈折率差により、点光源からの光が反射しやすくなる。したがって、より鮮明な第1光像を表示することが可能となる。 In the present invention, the second hologram layer is preferably arranged on the uneven surface side of the first hologram layer. The uneven surface of the first hologram layer has a function of reflecting light from a point light source to display a first light image. At this time, the second hologram layer is arranged on the uneven surface side of the first hologram layer. As a result, the light from the point light source is easily reflected due to the difference in refractive index between the first hologram layer and the second hologram layer. Therefore, it is possible to display a clearer first light image.
本発明においては、上記反射型フーリエ変換ホログラム領域および上記透過型フーリエ変換ホログラム領域は、平面視上重なる領域を有することが好ましい。反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域が、平面視上重なる領域を有することで、偽造防止性の更なる向上を図ることができる。 In the present invention, the reflective Fourier transform hologram region and the transmissive Fourier transform hologram region preferably have overlapping regions in a plan view. By having the reflective Fourier transform hologram region and the transmissive Fourier transform hologram region overlap in a plan view, the anti-counterfeiting property can be further improved.
本発明においては、回折絵柄を表示する回折格子領域をさらに有し、上記回折格子領域は、上記反射型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重ならない領域に位置することが好ましい。回折絵柄を表示する回折格子領域をさらに有することにより、偽造防止性の更なる向上を図ることが可能となる。また、回折絵柄を表示することができ、優れた意匠性を発揮することが可能となる。 In the present invention, it is preferable that the diffraction grating region further includes a diffraction grating region for displaying the diffraction pattern, and the diffraction grating region is located in a region that does not overlap with the reflection type Fourier transform hologram region in a plan view. By further having a diffraction grating region for displaying the diffraction pattern, it is possible to further improve the anti-counterfeiting property. In addition, a diffracted pattern can be displayed, and excellent design can be exhibited.
本発明においては、上記第1ホログラム層の凹凸面側に接着層を有し、ホログラムシールとして用いられることが好ましい。ホログラムシールを貼り付ける被着体に対し、高い偽造防止機能およびセキュリティ機能や、また、優れた意匠性を付与することが可能となる。 In the present invention, it is preferable that the first hologram layer has an adhesive layer on the uneven surface side and is used as a hologram seal. It is possible to impart a high anti-counterfeiting function, a security function, and an excellent design to the adherend to which the hologram sticker is attached.
本発明においては、上記第1ホログラム層の凹凸面側にヒートシール層を有し、上記第1ホログラム層の凹凸面とは反対側の面に剥離容易層を有し、上記剥離容易層の上記第1ホログラム層とは反対側の面に剥離用基材を有し、ホログラム転写箔として用いられることが好ましい。ホログラム転写箔を貼り付ける被着体に対し、高い偽造防止機能およびセキュリティ機能や、また、優れた意匠性を付与することが可能となる。 In the present invention, the heat-sealing layer is provided on the concavo-convex surface side of the first hologram layer, and the easily peelable layer is provided on the surface opposite to the concavo-convex surface of the first hologram layer. It is preferable to have a peeling base material on the surface opposite to the first hologram layer and use it as a hologram transfer foil. It is possible to impart a high anti-counterfeiting function, a security function, and an excellent design property to the adherend to which the hologram transfer foil is attached.
本発明においては、情報記録媒体として用いられることが好ましい。本発明のホログラム構造体を、高い偽造防止機能およびセキュリティ機能を有し、また、優れた意匠性を有する情報記録媒体とすることができる。 In the present invention, it is preferably used as an information recording medium. The hologram structure of the present invention can be used as an information recording medium having a high anti-counterfeiting function and a security function and also having excellent design.
本発明は、優れた偽造防止性および意匠性を有するホログラム構造体を提供することができるという効果を奏する。 The present invention has the effect of being able to provide a hologram structure having excellent anti-counterfeiting properties and design properties.
以下、本発明のホログラム構造体について説明する。 Hereinafter, the hologram structure of the present invention will be described.
本発明のホログラム構造体は、反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する部材であって、上記反射型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、表面に凹凸面を有する第1ホログラム層の上記凹凸面で反射した反射光を、第1光像に変換する領域であり、上記透過型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、パターン状に配置された第2ホログラム層を透過した透過光を、第2光像に変換する領域であることを特徴とする部材である。 The hologram structure of the present invention is a member having a reflective Fourier transform hologram region and a transmissive Fourier transform hologram region. In the reflective Fourier transform hologram region, light incident from a point light source has an uneven surface on the surface. It is a region for converting the reflected light reflected by the uneven surface of the first hologram layer having the first light image into a first light image, and in the transmission type Fourier conversion hologram region, the light incident from the point light source is arranged in a pattern. It is a member characterized in that it is a region for converting the transmitted light transmitted through the second hologram layer into a second light image.
以下、本発明のホログラム構造体を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の態様の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実施の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 Hereinafter, the hologram structure of the present invention will be described with reference to the drawings and the like. However, the present invention can be implemented in many different embodiments and is not construed as being limited to the description of the embodiments exemplified below. Further, in order to clarify the description, the drawings may schematically represent the width, thickness, shape, etc. of each part as compared with the embodiment, but this is just an example, and the interpretation of the present invention is used. It is not limited. Further, in the present specification and each figure, the same elements as those described above with respect to the above-mentioned figures may be designated by the same reference numerals, and detailed description thereof may be omitted as appropriate.
図1は、本発明のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図1に例示するように、本発明のホログラム構造体100は、表面に凹凸面を有する第1ホログラム層1aと、第1ホログラム層1aの一方の面側に、パターン状に配置された第2ホログラム層1bとを有する。また、図1に示すホログラム構造体100は、第2ホログラム層1bの第1ホログラム層1aの凹凸面とは反対側の面に配置された接着層2と、接着層2の第2ホログラム層1bとは反対側の面に配置されたセパレータ3と、第1ホログラム層1aの凹凸面とは反対側の面に配置された透明基材4とを有する例である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the hologram structure of the present invention. As illustrated in FIG. 1, the
なお、第2ホログラム層1bは、第1ホログラム層1aの凹凸面側にパターン状に配置されている。そのため、第1ホログラム層1aと接着層2との間に第2ホログラム層1bを有しない領域では、通常、第1ホログラム層1aの凹凸面を埋めるように、接着層2が配置される。
The
図2(a)、(b)および図3(a)、(b)は、本発明のホログラム構造体を説明するための説明図である。図2(a)に示すように、所定の絵柄が描画された原画像をフーリエ変換することで、フーリエ変換像10’が記録された反射型フーリエ変換ホログラム領域を有する第1ホログラム層1aを得ることができる。図2(b)に示すように、反射型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光L10を、第1ホログラム層1aの表面に形成された凹凸面に反射させて、図2(a)に示すような第1光像10へ変換することができる。また、図3(a)に示すように、所定の絵柄が描画された原画像をフーリエ変換することで、フーリエ変換像20’が記録された透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する第2ホログラム層1bを得ることができる。図3(b)に示すように、透過型フーリエ変換ホログラム層1bは、点光源から入射した光L20を、第2ホログラム層1bによりパターン状に遮光させて、図3(a)に示すような第2光像20へ変換することができる。なお、図2(a)、(b)および図3(a)、(b)において説明していない符号については、上述した図1(a)、(b)と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
2 (a) and 2 (b) and 3 (a) and 3 (b) are explanatory views for explaining the hologram structure of the present invention. As shown in FIG. 2A, by Fourier transforming the original image on which a predetermined pattern is drawn, a
本発明によれば、ホログラム構造体は、反射型フーリエ変換ホログラム領域を有することにより、点光源からの光を反射させて第1光像を表示することができるとともに、透過型フーリエ変換ホログラム領域を有することにより、点光源からの光を透過させて第2光像を表示することができる。したがって、点光源を観察者が視認する側から照射した場合には、点光源からの光は反射型フーリエ変換ホログラム領域により反射して観察者の目に入る。したがって、観察者は第1光像を視認することが可能となる。一方、点光源を観察者が視認する側とは反対側から照射した場合には、点光源からの光は透過型フーリエ変換ホログラム領域を透過して観察者の目に入る。したがって、観察者は第2光像を視認することが可能となる。このように、本発明のホログラム構造体は、観察者の照射方向に応じて、所定の光像を表示することが可能となる。そのため、例えば、第1光像または第2光像が表示されることを知らない場合には、第1光像または第2光像を視認することは困難であり、こういった理由から、高い偽造防止性を発揮することができ、真贋判定に好適である。また、本発明のホログラム構造体は、第1光像および第2光像を表示することができる。したがって、例えば、第1光像および第2光像が表示する絵柄により一つの意味合いをなす絵柄とする等、第1光像および第2光像が表示する絵柄をそれぞれ対応する絵柄とすることで、より高い偽造防止性を発揮することができ、真贋判定に好適なホログラム構造体とすることができる。 According to the present invention, since the hologram structure has the reflection type Fourier conversion hologram region, the light from the point light source can be reflected to display the first light image, and the transmission type Fourier conversion hologram region can be displayed. By having the light, the light from the point light source can be transmitted and the second light image can be displayed. Therefore, when the point light source is irradiated from the side visually recognized by the observer, the light from the point light source is reflected by the reflective Fourier transform hologram region and enters the observer's eyes. Therefore, the observer can visually recognize the first optical image. On the other hand, when the point light source is irradiated from the side opposite to the side viewed by the observer, the light from the point light source passes through the transmission type Fourier transform hologram region and enters the observer's eyes. Therefore, the observer can visually recognize the second light image. As described above, the hologram structure of the present invention can display a predetermined light image according to the irradiation direction of the observer. Therefore, for example, it is difficult to visually recognize the first light image or the second light image without knowing that the first light image or the second light image is displayed, and for this reason, it is expensive. It can exhibit anti-counterfeiting properties and is suitable for authenticity determination. In addition, the hologram structure of the present invention can display a first light image and a second light image. Therefore, for example, by making the patterns displayed by the first light image and the second light image correspond to each other, for example, the patterns displayed by the first light image and the second light image have one meaning. , It is possible to exhibit higher anti-counterfeiting property, and it is possible to obtain a hologram structure suitable for authenticity determination.
また、本発明によれば、第1ホログラム層による反射型フーリエ変換ホログラム領域、および第2ホログラム層による透過型フーリエ変換ホログラム領域の2種類のホログラム領域を有するため、仮に、一方のホログラム領域が破壊された場合であっても、他方のホログラム領域を用いることで、真贋判定等を行うことができる。 Further, according to the present invention, since there are two types of hologram regions, a reflection type Fourier transform hologram region by the first hologram layer and a transmission type Fourier transform hologram region by the second hologram layer, one of the hologram regions is tentatively destroyed. Even if this is the case, authenticity can be determined by using the other hologram region.
以下、本発明のホログラム構造体について詳細に説明する。 Hereinafter, the hologram structure of the present invention will be described in detail.
1.構成
本発明のホログラム構造体は、反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する。
1. 1. Configuration The hologram structure of the present invention has a reflective Fourier transform hologram region and a transmissive Fourier transform hologram region.
以下、本発明のホログラム構造体における反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域について説明する。 Hereinafter, the reflective Fourier transform hologram region and the transmissive Fourier transform hologram region in the hologram structure of the present invention will be described.
(1)反射型フーリエ変換ホログラム領域
本発明における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、表面に凹凸面を有する第1ホログラム層の凹凸面で反射した反射光を、第1光像に変換する領域である。
(1) Reflective Fourier Converted Hologram Region In the reflective Fourier transformed hologram region of the present invention, the light incident from a point light source reflects the reflected light reflected by the uneven surface of the first hologram layer having an uneven surface on the surface. This is the area to be converted into an optical image.
本発明における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、第1ホログラム層の表面の凹凸構造により、点光源から入射した光を複数の方向に回折し、原画像に基づく所望の第1光像へと変換することができる。すなわち、本発明における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、フーリエ変換レンズとして機能する。なお、上記機能について、フーリエ変換レンズ機能と称して説明する場合がある。 The reflective Fourier transform hologram region in the present invention diffracts the light incident from the point light source in a plurality of directions due to the uneven structure on the surface of the first hologram layer, and converts it into a desired first optical image based on the original image. be able to. That is, the reflective Fourier transform hologram region in the present invention functions as a Fourier transform lens. The above function may be described as a Fourier transform lens function.
反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズは、本発明のホログラム構造体の用途に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。反射型フーリエ変換ホログラム領域の具体的な平面視サイズは、例えば、5mm角以上50mm角以下の範囲内であることが好ましく、中でも5mm角以上30mm角以下の範囲内であることが好ましく、特に5mm角以上15mm角以下の範囲内であることが好ましい。反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズが上記下限であることにより、反射型フーリエ変換ホログラム領域により変換される第1光像が視認しやすくなる。また、反射型フーリエ変換ホログラム領域により偽造防止性を向上させ、優れた意匠性を得ることができる。一方、反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズが上記上限であることにより、本発明のホログラム構造体を低コストで製造することができる。また、反射型フーリエ変換ホログラム領域により変換される第1光像に、所定の画像を組み合わせて表示するための印刷層を容易に形成することができる。 The plan-view size of the reflective Fourier transform hologram region can be appropriately adjusted according to the use of the hologram structure of the present invention, and is not particularly limited. The specific plan-view size of the reflective Fourier transform hologram region is, for example, preferably in the range of 5 mm square or more and 50 mm square or less, particularly preferably in the range of 5 mm square or more and 30 mm square or less, and particularly 5 mm. It is preferably within the range of the angle or more and 15 mm square or less. When the plan view size of the reflective Fourier transform hologram region is the above lower limit, the first optical image converted by the reflective Fourier transform hologram region becomes easy to see. In addition, the anti-counterfeiting property can be improved by the reflective Fourier transform hologram region, and excellent designability can be obtained. On the other hand, when the plan view size of the reflective Fourier transform hologram region is the above upper limit, the hologram structure of the present invention can be manufactured at low cost. In addition, a print layer for displaying a predetermined image in combination with the first optical image converted by the reflective Fourier transform hologram region can be easily formed.
ここで、反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズが5mm角以上であるとは、反射型フーリエ変換ホログラム領域が、5mm角の正方形の範囲を少なくとも含む平面視形状であることをいう。したがって、例えば、反射型フーリエ変換ホログラム領域が長方形である場合には、その短辺の長さが5mm以上であることをいい、一方、反射型フーリエ変換ホログラム領域が正方形である場合には、その1辺の長さが5mm以上であることをいう。 Here, the fact that the plane view size of the reflection type Fourier transform hologram region is 5 mm square or more means that the reflection type Fourier transform hologram region has a plan view shape including at least a square range of 5 mm square. Therefore, for example, when the reflective Fourier transform hologram region is rectangular, it means that the length of its short side is 5 mm or more, while when the reflective Fourier transform hologram region is square, it means that the length is 5 mm or more. It means that the length of one side is 5 mm or more.
本発明における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、例えば、図4(a)に示すように、単一のフーリエ変換ホログラム領域R1により第1光像20が表示される領域であっても良く、図4(b)に示すように、フーリエ変換ホログラム領域R1を複数配列して拡大した大判のフーリエ変換ホログラム領域R2により第1光像20が表示される領域であっても良い。なお、図4(a)、(b)に示す第1光像20は、単一のフーリエ変換ホログラム領域R1または大判のフーリエ変換ホログラム領域R2に対し、点光源からの光を反射させた際に発現される絵柄を示している。本発明においては、反射型フーリエ変換ホログラム領域が、大判のフーリエ変換領域であることが好ましい。反射型フーリエ変換ホログラム領域により変換される第1光像を拡大させることができ、より視認性を向上させることが可能となる。
Reflection Fourier transform hologram area in the present invention include, for example, as shown in FIG. 4 (a), may be an area where the first
本発明における反射型フーリエ変換ホログラム領域が、例えば図4(a)で説明したように、単一のフーリエ変換ホログラム領域R1により第1光像20を表示する領域であるとき、当該単一のフーリエ変換ホログラム領域R1の平面視サイズは、高い精度で形成することができる程度の大きさであることが好ましい。具体的には、例えば、0.25mm角以上5mm角以下の範囲内であることが好ましい。なお、ここでの単一のフーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズは、単一のフーリエ変換ホログラム領域を含む最小の正方形の大きさを指す。したがって、例えば、単一のフーリエ変換ホログラム領域が1辺1mmの正方形である場合の平面視サイズは、1mm角となり、また、単一のフーリエ変換ホログラム領域の平面視形状が直径1mmの円形状である場合の平面視サイズは1mm角となる。
Reflection Fourier transform hologram area in the present invention, for example as described in FIG. 4 (a), when a single Fourier transform hologram area R 1 is an area for displaying the first
本発明において、反射型フーリエ変換ホログラム領域を構成する単一のフーリエ変換ホログラム領域の平面視形状は、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて、任意の形状を適宜選択することができる。単一のフーリエ変換ホログラム領域の具体的な平面視形状としては、例えば、正方形、長方形等の矩形状、台形状、三角形状、五角形状、六角形状等の多角形状、円形状、楕円形状、星型形状、ハート型形状等が挙げられるが、容易に形成することができるといった観点から、矩形状であることが好ましい。 In the present invention, any shape of the single Fourier transform hologram region constituting the reflective Fourier transform hologram region can be appropriately selected depending on the use of the hologram structure of the present invention and the like. Specific plan-view shapes of a single Fourier transform hologram region include, for example, a rectangular shape such as a square or a rectangle, a polygonal shape such as a trapezoidal shape, a triangular shape, a pentagonal shape, or a hexagonal shape, a circular shape, an elliptical shape, or a star. Examples thereof include a mold shape and a heart shape, but from the viewpoint of easy formation, a rectangular shape is preferable.
また、本発明においては、図4(a)に示すように、反射型フーリエ変換ホログラム領域が、単一のフーリエ変換ホログラム領域R1である場合、反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視形状は、上述した単一のフーリエ変換ホログラム領域の平面視形状に相当する。一方、図4(b)に示すように、反射型フーリエ変換ホログラム領域が、単一のフーリエ変換ホログラム領域R1を複数配列した大判のフーリエ変換ホログラム領域R2である場合、反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視形状は、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて、任意の形状を適宜選択することができる。具体的な反射型フーリエ変換ホログラム領域の平面視形状としては、上述した単一のフーリエ変換ホログラム領域の平面視形状と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 In the present invention, as shown in FIG. 4 (a), when the reflection-type Fourier transform hologram area is a single Fourier transform hologram area R 1, the plan view shape of the reflection-type Fourier transform hologram area, It corresponds to the plan view shape of the single Fourier transform hologram region described above. On the other hand, as shown in FIG. 4 (b), when the reflection-type Fourier transform hologram area is a Fourier transform hologram area R 2 large format that arranges a plurality single Fourier transform hologram area R 1, reflection Fourier transform hologram As the plan view shape of the region, any shape can be appropriately selected depending on the use of the hologram structure of the present invention and the like. Since the specific plan view shape of the reflective Fourier transform hologram region can be the same as the plan view shape of the single Fourier transform hologram region described above, the description here is omitted.
本発明における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、後述する透過型フーリエ変換ホログラム領域と、平面視上重なる領域であっても良い。本発明においては、反射型フーリエ変換ホログラム領域の全面が、後述する透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なっていても良く、あるいは、反射型フーリエ変換ホログラム領域の一部が、後述する透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なっていても良い。図5(a)は、第1光像を表示するためのフーリエ変換像10’が記録された反射型フーリエ変換ホログラム領域の一部が、第2光像を表示するためのフーリエ変換像20’が記録された透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なったホログラム構造体100を示す概略平面図である。なお、図5(b)は、図5(a)のA−A線断面図であり、図5(c)は、図5(a)のB−B線断面図であり、図5(d)は、図5(a)のC−C線断面図である。ここで、図5(b)では、第1ホログラム層1aの凹凸面側に接着層2が配置された例を示しているが、例えば、第1ホログラム層1aの凹凸面側の全面を覆うように第2ホログラム層1bが配置されていても良い。この場合、第2ホログラム層1bは、反射型フーリエ変換ホログラム領域における第1ホログラム層1aの凹凸面で、光を好適に反射させるための反射層として機能することができる。なお、図5(b)〜(d)に示す符号については、上述した図1と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
The reflection type Fourier transform hologram region in the present invention may be a region that overlaps with the transmission type Fourier transform hologram region described later in a plan view. In the present invention, the entire surface of the reflective Fourier transform hologram region may overlap with the transmission type Fourier transform hologram region described later in plan view, or a part of the reflection type Fourier transform hologram region may be a transmission type described later. It may overlap with the Fourier transform hologram region in plan view. In FIG. 5A, a part of the reflective Fourier transform hologram region in which the Fourier transform image 10'for displaying the first optical image is recorded is the Fourier transform image 20'for displaying the second optical image. It is a schematic plan view which shows the
本発明においては、例えば、図5(a)に示すように、ホログラム構造体100における反射型フーリエ変換ホログラム領域Aが占める平面視上の割合は、所望の第1光像を表示することができる程度の割合を有していれば良く、ホログラム構造体の用途等に応じて適宜調整することができる。例えば、25%以上であることが好ましく、中でも50%以上であることが好ましい。また、図5(a)に示すように、反射型フーリエ変換ホログラム領域Aの一部が、後述する透過型フーリエ変換ホログラム領域Bと平面視上重なった領域Cを有する場合、全反射型フーリエ変換ホログラム領域Aを100%としたときに、反射型フーリエ変換ホログラム領域Aと透過型フーリエ変換ホログラム領域Bとが平面視上重なる領域Cの割合は、例えば、5%以上であることが好ましく、中でも25%以上であることが好ましく、特に50%以上であることが好ましい。本発明においては、全反射型フーリエ変換ホログラム領域における、反射型フーリエ変換ホログラム領域と透過型フーリエ変換ホログラム領域とが平面視上重なる領域の割合が、上述した所定の範囲内であることにより、ホログラム構造体の偽造防止性の更なる向上を図ることができる。ホログラム構造体において、第1光像を表示するための例えば図2(a)に示すフーリエ変換像10’と、第2光像を表示するための例えば図3(a)に示すフーリエ変換像20’とが平面視上重なることで、次のような効果を奏する。すなわち、例えば、第1光像および第2光像が表示する絵柄により一つの意味合いをなす絵柄とする等、第1光像および第2光像が表示する絵柄をそれぞれ対応する絵柄とすることで、より高い偽造防止性を発揮することができ、真贋判定に好適なホログラム構造体とすることができる。
In the present invention, for example, as shown in FIG. 5A, the ratio of the reflective Fourier transform hologram region A in the
(a)第1ホログラム層
本発明における反射型フーリエ変換ホログラム領域では、点光源から入射した光が、表面に凹凸面を有する第1ホログラム層の凹凸面で反射した光を、第1光像に変換することができる。すなわち、反射型フーリエ変換ホログラム領域は、第1ホログラム層を有する。
(A) First Hologram Layer In the reflective Fourier transformed hologram region of the present invention, the light incident from a point light source reflects the light reflected by the uneven surface of the first hologram layer having an uneven surface on the surface into a first optical image. Can be converted. That is, the reflective Fourier transform hologram region has a first hologram layer.
本発明における第1ホログラム層は、少なくとも反射型フーリエ変換ホログラム領域に形成されていれば良いが、通常は、図5(a)のA−A線断面図である図5(b)、図5(a)のB−B線断面図である図5(c)、および図5(a)のC−C線断面図である図5(d)に示すように、反射型フーリエ変換ホログラム領域だけではなく、後述する透過型フーリエ変換ホログラム領域にも、第1ホログラム層1aが連続して形成される。ここで、「連続して形成」とは、第1ホログラム層が途切れることなく形成されていれば足り、単一の第1ホログラム層が一体として配置されていても良く、複数の第1ホログラム層が並列して配置されていても良い。本発明においては、製造上の観点から前者であることが好ましい。
The first hologram layer in the present invention may be formed at least in the reflective Fourier transform hologram region, but is usually FIG. 5 (b) and FIG. 5 which are cross-sectional views taken along the line AA of FIG. 5 (a). As shown in FIG. 5 (c) which is a cross-sectional view taken along the line BB of (a) and FIG. 5 (d) which is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG. 5 (a), only the reflection type Fourier transform hologram region is used. Instead, the
このように、本発明における第1ホログラム層は、反射型フーリエ変換ホログラム領域にのみ形成される部材ではないが、第1ホログラム層を有する領域において、反射型フーリエ変換ホログラム領域であるか否かは、第1ホログラム層の表面が凹凸面であるかないかにより確認することができる。すなわち、本発明では、第1ホログラム層において凹凸面を有する領域が反射型フーリエ変換ホログラム領域に相当する。 As described above, the first hologram layer in the present invention is not a member formed only in the reflective Fourier transform hologram region, but whether or not it is the reflective Fourier transform hologram region in the region having the first hologram layer is determined. , It can be confirmed by whether or not the surface of the first hologram layer is an uneven surface. That is, in the present invention, the region having the uneven surface in the first hologram layer corresponds to the reflective Fourier transform hologram region.
反射型フーリエ変換ホログラム領域において、第1ホログラム層の表面に形成された凹凸面を構成する凹凸構造は、第1光像として表示される原画像のデータに基づいて多値化されたフーリエ変換像である。このような凹凸構造は、通常、図2(a)に示すように、特定の方向に並列して延びる曲線状または直線状の多数の凸部または凹部から構成される。 In the reflective Fourier transform hologram region, the concave-convex structure forming the concave-convex surface formed on the surface of the first hologram layer is a Fourier transform image that is multi-valued based on the data of the original image displayed as the first optical image. Is. Such a concavo-convex structure is usually composed of a large number of curved or linear convex or concave portions extending in parallel in a specific direction, as shown in FIG. 2 (a).
本発明における第1ホログラム層の表面に凹凸構造を形成して反射型フーリエ変換ホログラム領域を得る方法としては、例えば、次のような方法が挙げられる。すなわち、フーリエ変換像に対応した凹凸構造を有するマスター原版を形成する。次に、ポリエチレンテレフタレート等の基材上に、紫外線硬化樹脂等の樹脂材料を塗布して塗膜を形成し、次いで、上述したマスター原版の凹凸パターンを上記塗膜に凹凸構造を転写する方法が挙げられる。なお、マスター原版の凹凸パターンの転写を1回のみ行った場合には、単一のフーリエ変換ホログラム領域を得ることができる。一方、マスター原版の凹凸パターンの転写を複数回行った場合には、単一のフーリエ変換ホログラム領域が配列された所望の大きさを有する大判のフーリエ変換ホログラム領域を得ることができる。 Examples of the method of forming a concavo-convex structure on the surface of the first hologram layer in the present invention to obtain a reflective Fourier transform hologram region include the following methods. That is, a master original plate having a concavo-convex structure corresponding to the Fourier transform image is formed. Next, a method of applying a resin material such as an ultraviolet curable resin on a base material such as polyethylene terephthalate to form a coating film, and then transferring the unevenness pattern of the master original plate to the coating film. Can be mentioned. When the uneven pattern of the master original plate is transferred only once, a single Fourier transform hologram region can be obtained. On the other hand, when the uneven pattern of the master original plate is transferred a plurality of times, a large-sized Fourier transform hologram region having a desired size in which a single Fourier transform hologram region is arranged can be obtained.
また、上述したマスター原版の形成方法としては、例えば、次のような方法が挙げられる。すなわち、原画像の画像データを基に計算によりフーリエ変換像を形成する。次に、当該フーリエ変換像のデータを二値以上に多値化したデータを電子線描画用データへ変換し、当該電子線描画用データを所望の範囲まで配列させる。具体的には、電子線描画用データを縦および横方向に所定の数の電子線描画用データをそれぞれ配列させる。次いで、配列した電子線描画データを基に、電子線描画装置を用いてマスター原版を作成する方法が挙げられる。 Further, as a method for forming the master original plate described above, for example, the following method can be mentioned. That is, a Fourier transform image is formed by calculation based on the image data of the original image. Next, the data obtained by multiplying the data of the Fourier transform image into two or more values is converted into electron beam drawing data, and the electron beam drawing data is arranged within a desired range. Specifically, a predetermined number of electron beam drawing data are arranged in the vertical and horizontal directions, respectively. Next, a method of creating a master original plate using an electron beam drawing apparatus based on the arranged electron beam drawing data can be mentioned.
本発明においては、例えば、フーリエ変換像のデータを二値化したデータを電子線描画用データへ変換してマスター原版を作成した場合、当該マスター原版を用いて得られる凹凸構造は、図6(a)に示すように2段の凹凸形状となる。一方、フーリエ変換像のデータを四値化したデータを電子線描画用データへ変換してマスター原版を作成した場合、当該マスター原版を用いて得られる凹凸構造は、図6(b)に示すように4段の凹凸形状となる。なお、4値化した場合であっても、部分的に1段や2段の凹凸形状を有する場合がある。本発明においては、フーリエ変換像のデータを多値化する場合、四値化以上とすることが好ましい。換言すると、第1ホログラム層の表面の凹凸構造が、4段以上であることが好ましい。より複雑な絵柄の第1光像を表示することができるからである。なお、図6(a)、(b)において説明していない符号については、上述した図1と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 In the present invention, for example, when a master original plate is created by converting the binarized data of the Fourier transform image data into electron beam drawing data, the uneven structure obtained by using the master original plate is shown in FIG. As shown in a), it has a two-stage uneven shape. On the other hand, when the master original plate is created by converting the quaternized data of the Fourier transform image into the electron beam drawing data, the uneven structure obtained by using the master original plate is as shown in FIG. 6 (b). It has a four-step uneven shape. Even when it is quaternized, it may partially have a one-step or two-step uneven shape. In the present invention, when the data of the Fourier transform image is multivalued, it is preferably quaternized or more. In other words, it is preferable that the uneven structure on the surface of the first hologram layer has four or more steps. This is because it is possible to display a first light image having a more complicated pattern. The reference numerals not described in FIGS. 6A and 6B can be the same as those in FIG. 1 described above, and thus the description thereof will be omitted here.
本発明において、第1ホログラム層の表面の凹凸構造が4段以上である場合、第1ホログラム層の凹凸面で反射した光により観察される第1光像は、1つの画像となる。一方、第1ホログラム層の表面の凹凸構造が2段である場合、第1ホログラム層の凹凸面で反射した光により観察される第1光像は、0次光を中心として鏡像関係にある2つの画像となる。 In the present invention, when the uneven structure on the surface of the first hologram layer is four or more steps, the first optical image observed by the light reflected by the uneven surface of the first hologram layer is one image. On the other hand, when the uneven structure on the surface of the first hologram layer has two stages, the first optical image observed by the light reflected by the uneven surface of the first hologram layer has a mirror image relationship centered on the 0th order light2. It becomes one image.
第1ホログラム層の表面に形成された凹凸構造の格子ピッチは、点光源から入射した光を所望の第1光像へ変換することができる程度であることが好ましい。具体的な凹凸構造の格子ピッチとしては、例えば、1.0μm以上80.0μm以下の範囲内であることが好ましい。なお、凹凸構造の格子ピッチとは、例えば、図6(a)、(b)の符号Pで示す距離をいう。 The lattice pitch of the concavo-convex structure formed on the surface of the first hologram layer is preferably such that the light incident from the point light source can be converted into a desired first light image. The lattice pitch of the specific uneven structure is preferably in the range of 1.0 μm or more and 80.0 μm or less, for example. The grid pitch of the uneven structure means, for example, the distance indicated by the reference numeral P in FIGS. 6 (a) and 6 (b).
ここで、図7に示すように、ホログラム構造体100においてフーリエ変換像10’が記録された反射型フーリエ変換領域に対して、高さT1に配置された点光源から光を照射し、高さT2から観察者が反射型フーリエ変換ホログラム領域を観察する場合、観察者がフーリエ変換ホログラム領域の全領域で第1光像の全体像を観察するためには、格子ピッチは、以下の式(1)に基づいて設計することが好ましい。
P=nλ/(sinθ1+sinθ2) (1)
なお、上記式(1)において、λは回折光の波長、Pは凹凸構造の格子ピッチ、θ1は点光源から反射型フーリエ変換ホログラム領域の端部まで光が到達するときの入射角、θ2は反射型フーリエ変換ホログラム領域の端部から回折光が観察者に到達するための回折角、nは回折の次数である。
Here, as shown in FIG. 7, the reflection type Fourier transform region in which the Fourier transform image 10'is recorded in the
P = nλ / (sinθ1 + sinθ2) (1)
In the above equation (1), λ is the wavelength of the diffracted light, P is the lattice pitch of the concavo-convex structure, θ1 is the incident angle when the light reaches the end of the reflective Fourier transformed hologram region from the point light source, and θ2 is The diffraction angle for the diffracted light to reach the observer from the end of the reflective Fourier transformed hologram region, n is the order of diffraction.
上述した格子ピッチの具体的な計算例について説明する。反射型フーリエ変換ホログラム領域が、1辺が15mmの正方形状であり、T1が50mm、T2が300mmであり、回折光の波長が550nmである場合、sinθ2は0.025、sinθ1は0.148と計算される。そうすると、観察者が反射型フーリエ変換ホログラム領域の全領域で第1光像の全体像を観察するために必要な格子ピッチPは、最短で3179nmと算出することができる。また、反射型フーリエ変換ホログラム領域が、1辺が15mmの正方形状であり、T1が1990mm、T2が2000mmであり、回折光の波長が550nmである場合、sinθ2は0.00374、sinθ1は0.00377と計算される。
そうすると、観察者が反射型フーリエ変換ホログラム領域の全領域で第1光像の全体像を観察するために必要な格子ピッチPは、最短で73236nmと算出することができる。
さらに、反射型フーリエ変換ホログラム領域が、1辺が10mmの正方形状であり、T1が60mm、T2が60mmであり、回折光の波長が550nmである場合、sinθ2は0.083、sinθ1は0.083と計算される。そうすると、観察者が反射型フーリエ変換ホログラム領域の全領域で第1光像の全体像を観察するために必要な格子ピッチPは、最短で3313nmと算出することができる。
A specific calculation example of the above-mentioned lattice pitch will be described. When the reflective Fourier transform hologram region has a square shape with a side of 15 mm, T 1 is 50 mm, T 2 is 300 mm, and the wavelength of the diffracted light is 550 nm, sin θ2 is 0.025 and sin θ1 is 0. It is calculated as 148. Then, the lattice pitch P required for the observer to observe the entire image of the first optical image in the entire region of the reflective Fourier transform hologram region can be calculated to be 3179 nm at the shortest. Further, when the reflective Fourier transform hologram region has a square shape with a side of 15 mm, T 1 is 1990 mm, T 2 is 2000 mm, and the wavelength of the diffracted light is 550 nm, sin θ2 is 0.00374 and sin θ1 is 0.00374. It is calculated as 0.00377.
Then, the lattice pitch P required for the observer to observe the entire image of the first optical image in the entire region of the reflective Fourier transform hologram region can be calculated to be 73236 nm at the shortest.
Further, when the reflective Fourier transform hologram region has a square shape with a side of 10 mm, T1 is 60 mm, T2 is 60 mm, and the wavelength of the diffracted light is 550 nm, sinθ2 is 0.083 and sinθ1 is 0. It is calculated as 083. Then, the lattice pitch P required for the observer to observe the entire image of the first optical image in the entire region of the reflective Fourier transform hologram region can be calculated to be 3313 nm at the shortest.
第1ホログラム層の表面の凹凸構造の高低差は、入射した光を所望の第1光像に変換することができる程度であれば良く、特に限定されない。具体的な凹凸構造の高低差としては、例えば、0.01μm以上1.5μm以下の範囲内とすることができ、中でも0.05μm以上1.0μm以下の範囲内であることが好ましい。凹凸構造の高低差が上記範囲内であることにより、入射した光を安定的に所望の第1光像へと変換することが可能である。なお、ここでの凹凸構造の高低差とは、凹凸構造において最も高い凸部の表面から最も深い凹部の表面までの距離を指し、例えば、図6(a)、(b)の符号Dで示す距離とする。 The height difference of the uneven structure on the surface of the first hologram layer is not particularly limited as long as it can convert the incident light into a desired first light image. The height difference of the specific uneven structure can be, for example, in the range of 0.01 μm or more and 1.5 μm or less, and more preferably in the range of 0.05 μm or more and 1.0 μm or less. When the height difference of the uneven structure is within the above range, it is possible to stably convert the incident light into a desired first light image. The height difference of the concave-convex structure here refers to the distance from the surface of the highest convex portion to the surface of the deepest concave portion in the concave-convex structure, and is indicated by reference numeral D in FIGS. 6 (a) and 6 (b), for example. Let it be a distance.
本発明における第1ホログラム層は、反射型フーリエ変換ホログラム領域として表面に凹凸構造を形成することができ、所望のフーリエ変換レンズ機能を発揮することができる材料から構成されることが好ましい。また、本発明における第1ホログラム層は、所定の屈折率を示す材料から構成されることが好ましい。第1ホログラム層の屈折率は、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて適宜選択することができるため、特に限定されない。また、第1ホログラム層の屈折率の基準となる波長は、例えば400nm以上750nm以下の範囲内から適宜選択することができ、特に限定されない。本発明においては、中でも、波長555nmにおける屈折率が1.3以上2.0以下の範囲内であることが好ましく、特に1.33以上1.8以下の範囲内であることが好ましい。なお、第1ホログラム層の屈折率は、例えば分光エリプソメーターを用いて測定することができる。 The first hologram layer in the present invention is preferably made of a material capable of forming a concavo-convex structure on the surface as a reflective Fourier transform hologram region and exhibiting a desired Fourier transform lens function. Further, the first hologram layer in the present invention is preferably made of a material exhibiting a predetermined refractive index. The refractive index of the first hologram layer is not particularly limited because it can be appropriately selected depending on the use of the hologram structure of the present invention and the like. Further, the wavelength that serves as a reference for the refractive index of the first hologram layer can be appropriately selected from the range of, for example, 400 nm or more and 750 nm or less, and is not particularly limited. In the present invention, the refractive index at a wavelength of 555 nm is preferably in the range of 1.3 or more and 2.0 or less, and particularly preferably in the range of 1.33 or more and 1.8 or less. The refractive index of the first hologram layer can be measured using, for example, a spectroscopic ellipsometer.
本発明における第1ホログラム層の材料としては、例えば、一般的なレリーフ型ホログラムの形成に用いられる樹脂材料が挙げられる。具体的な樹脂材料としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等が挙げられる。 Examples of the material of the first hologram layer in the present invention include a resin material used for forming a general relief type hologram. Specific examples of the resin material include thermosetting resins, thermoplastic resins, ultraviolet curable resins, ionizing and radiation curable resins, and the like.
本発明における第1ホログラム層は、上述した材料以外にも、必要に応じてその他の材料を含んでいても良い。その他の材料としては、例えば、光重合開始剤、重合禁止剤、劣化防止剤、可塑剤、滑剤、染料や顔料等の着色剤、増量やブロッキング防止等の体質顔料や樹脂等の充填剤、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤等の添加剤が挙げられる。 The first hologram layer in the present invention may contain other materials in addition to the above-mentioned materials, if necessary. Other materials include, for example, photopolymerization initiators, polymerization inhibitors, deterioration inhibitors, plasticizers, lubricants, colorants such as dyes and pigments, extender pigments for increasing the amount and preventing blocking, fillers such as resins, and surfactants. Examples thereof include additives such as activators, antifoaming agents, leveling agents, and thixotropic property-imparting agents.
本発明における第1ホログラム層の厚みは、第1ホログラム層が自己支持性を有する程度の厚みであることが好ましい。具体的な厚みとしては、例えば、0.05mm以上5mm以下の範囲内であることが好ましく、中でも0.1mm以上3mm以下の範囲内であることが好ましい。一方、第1ホログラム層が自己支持性を有さず、後述する透明基材上に形成される場合、第1ホログラム層の厚みは、例えば、0.1μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、中でも0.5μm以上20μm以下の範囲内であることが好ましい。ここで、第1ホログラム層の厚みとは、例えば、図5(b)〜(d)に示す符号D1aで示す距離をいう。 The thickness of the first hologram layer in the present invention is preferably such that the first hologram layer has self-supporting property. The specific thickness is, for example, preferably in the range of 0.05 mm or more and 5 mm or less, and particularly preferably in the range of 0.1 mm or more and 3 mm or less. On the other hand, when the first hologram layer does not have self-supporting property and is formed on a transparent substrate described later, the thickness of the first hologram layer may be, for example, in the range of 0.1 μm or more and 50 μm or less. It is preferable, and above all, it is preferably in the range of 0.5 μm or more and 20 μm or less. Here, the thickness of the first hologram layer means, for example, the distance indicated by the reference numerals D 1a shown in FIGS. 5 (b) to 5 (d).
(b)第1光像
本発明における反射型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光を、第1ホログラム層の表面に形成された凹凸面に反射させて、第1光像へ変換する領域である。
(B) First light image The reflective Fourier transform hologram region in the present invention reflects the light incident from a point light source on the uneven surface formed on the surface of the first hologram layer and converts it into a first light image. The area.
本発明における反射型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第1光像の絵柄は、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等とすることができ、ホログラム構造体の用途に応じて適宜選択することができる。本発明において、反射型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第1光像は、後述する透過型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第2光像と、同じ絵柄であっても良く、互いに相違する絵柄であっても良い。 The pattern of the first light image displayed by the reflective Fourier transform hologram region in the present invention can be, for example, a pattern, a line drawing, a character, a figure, a symbol, or the like, and is appropriately selected according to the application of the hologram structure. be able to. In the present invention, the first light image displayed by the reflection type Fourier transform hologram region may have the same pattern as the second light image displayed by the transmission type Fourier transform hologram area described later, and may have different patterns. It may be.
本発明においては、例えば図2(b)に示すように、ホログラム構造体100の透明基材4側から点光源を照射すると、光L10が第1ホログラム層1aの凹凸面に反射する。
これにより、透明基材4側の観察者は、図2(a)の符号10で示す星型の絵柄である第1光像を視認することが可能となる。なお、図示はしないが、例えば図2(b)におけるセパレータ3側から点光源を照射した場合であっても、点光源からの光は、第1ホログラム層1aの凹凸面の、第2ホログラム層1bに覆われていない領域で反射する。したがって、観察者は、第1ホログラム層1aと、第1ホログラム層1aの表面に接触する部材との間の屈折率差にもよるが、セパレータ3側から第1光像をある程度視認することが可能となる。本発明においては、第1光像をより鮮明に表示するという観点から、図2(b)に示すように、透明基材4側から点光源を照射して、透明基材4側から観察者が第1光像10を視認することが好ましい。点光源から照射された光を、反射型フーリエ変換ホログラム領域において第1ホログラム層の表面に形成された凹凸面により、十分に反射させることができる。したがって、点光源から照射された光を、第1光像の表示に十分に寄与させることができる。
In the present invention, for example, as shown in FIG. 2B, when a point light source is irradiated from the
As a result, the observer on the
また、例えば、図8(b)に示すように、後述する第2ホログラム層1bが、第1ホログラム層1aの凹凸面とは反対側の面に配置されている場合には、通常、第1ホログラム層1aおよび接着層2の界面に高屈折率層14が形成される。このようなホログラム構造体の場合、第1光像は、セパレータ3側から点光源を照射して、セパレータ3側から観察者が視認することが好ましい。第1ホログラム層1aと高屈折率層14との間の屈折率差により、点光源からの光を反射させることができるからである。なお、図8(b)に示すような構成の場合であって、透明基材4側から点光源を照射した場合であっても、点光源からの光は、第2ホログラム層1bが形成されていない開口領域から、第1ホログラム層1aの凹凸面へと入射し、反射する。したがって、第2ホログラム層1bが形成されていない開口領域の大きさにもよるが、観察者は透明基材4側からある程度第1光像を視認することが可能である。本発明においては、第1光像をより鮮明に表示するという観点から、上述のようにセパレータ3側から点光源を照射して、セパレータ3側から観察者が視認することが好ましい。透明基材4側から点光源を照射した場合には、第2ホログラム層1bが形成されていない開口領域から、第1ホログラム層1aへと光が入射するため、上記開口領域の大きさに応じて、第1ホログラム層1aへと入射する光量が制限される場合があるからである。なお、図8(b)についての詳細な説明は、後述する「(2)透過型フーリエ変換ホログラム領域」の項で説明するため、ここでの記載は省略する。
Further, for example, as shown in FIG. 8B, when the
(c)その他
本発明において、反射型フーリエ変換ホログラム領域に光を照射する点光源としては、例えば、レーザー光源が挙げられる。点光源の波長は特に限定されず、反射型フーリエ変換ホログラム領域がフーリエ変換レンズ機能を良好に発揮できることが好ましい。本発明においては、点光源の波長が、一波長の単色光であっても良く、多波長を含む光であっても良く、さらには白色光であっても良い。
(C) Others In the present invention, examples of the point light source that irradiates the reflective Fourier transform hologram region with light include a laser light source. The wavelength of the point light source is not particularly limited, and it is preferable that the reflective Fourier transform hologram region can satisfactorily exhibit the Fourier transform lens function. In the present invention, the wavelength of the point light source may be monochromatic light having one wavelength, light including multiple wavelengths, or white light.
(2)透過型フーリエ変換ホログラム領域
本発明における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光を、第1ホログラム層の一方の面側に配置された第2ホログラム層によりパターン状に遮光させて、第2光像へ変換する領域である。
(2) Transmission-type Fourier transform hologram region The transmission-type Fourier transform hologram region in the present invention blocks light incident from a point light source in a pattern by a second hologram layer arranged on one surface side of the first hologram layer. It is a region to be converted into a second optical image.
本発明における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、パターン状に配置された第2ホログラム層を透過した透過光を、第2光像に変換する領域である。すなわち、本発明における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、フーリエ変換レンズとして機能する。なお、上記機能について、フーリエ変換レンズ機能と称して説明する場合がある。 The transmitted Fourier transform hologram region in the present invention is a region in which light incident from a point light source converts transmitted light transmitted through a second hologram layer arranged in a pattern into a second light image. That is, the transmission type Fourier transform hologram region in the present invention functions as a Fourier transform lens. The above function may be described as a Fourier transform lens function.
本発明における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、例えば図3(a)に示すように、第2ホログラム層がパターン状に形成されたフーリエ変換像20’が記録された領域である。本発明における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域と同様に、単一のフーリエ変換ホログラム領域により第2光像が表示される領域であっても良く、単一のフーリエ変換ホログラム領域を複数配列して拡大した大判のフーリエ変換ホログラム領域により第2光像が表示される領域であっても良い。 The transmission type Fourier transform hologram region in the present invention is, for example, as shown in FIG. 3A, a region in which the Fourier transform image 20'in which the second hologram layer is formed in a pattern is recorded. The transmission type Fourier transform hologram region in the present invention may be a region in which the second optical image is displayed by a single Fourier transform hologram region, similarly to the above-mentioned reflection type Fourier transform hologram region, and a single Fourier. It may be a region in which a second optical image is displayed by a large-format Fourier transform hologram region in which a plurality of transform hologram regions are arranged and enlarged.
なお、透過型フーリエ変換ホログラム領域の平面視サイズや平面視形状等の具体的な説明については、上述した「(1)反射型フーリエ変換ホログラム領域」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The specific description of the plane view size, plan view shape, etc. of the transmission type Fourier transform hologram region may be the same as that described in the above-mentioned "(1) Reflection type Fourier transform hologram region". Since it can be done, the description here is omitted.
本発明における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域と、平面視上重なる領域であっても良い。本発明においては、透過型フーリエ変換ホログラム領域の全面が、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なっていても良く、あるいは、透過型フーリエ変換ホログラム領域の一部が、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なっていても良い。図5(a)は、第2光像を表示するためのフーリエ変換像20’が記録された透過型フーリエ変換ホログラム領域の一部が、第1光像を表示するためのフーリエ変換像10’が記録された反射型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なったホログラム構造体100を示す概略平面図である。
The transmission type Fourier transform hologram region in the present invention may be a region that overlaps with the above-mentioned reflection type Fourier transform hologram region in a plan view. In the present invention, the entire surface of the transmissive Fourier transform hologram region may overlap with the above-mentioned reflective Fourier transform hologram region in a plan view, or a part of the transmissive Fourier transform hologram region may overlap with the above-mentioned reflective type Fourier transform hologram region. It may overlap with the Fourier transform hologram region in plan view. In FIG. 5A, a part of the transmission type Fourier transform hologram region in which the Fourier transform image 20'for displaying the second optical image is recorded is the Fourier transform image 10'for displaying the first optical image. It is a schematic plan view which shows the
本発明においては、例えば、図5(a)に示すように、ホログラム構造体100における透過型フーリエ変換ホログラム領域Bが占める平面視上の割合は、所望の第2光像を表示することができる程度の割合を有していれば良く、ホログラム構造体の用途等に応じて適宜調整することができる。例えば、25%以上であることが好ましく、中でも50%以上であることが好ましい。また、図5(a)に示すように、透過型フーリエ変換ホログラム領域Bの一部が、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域Aと平面視上重なった領域Cを有する場合、全透過型フーリエ変換ホログラム領域Bを100%としたとき、透過型フーリエ変換ホログラム領域Bと反射型フーリエ変換ホログラム領域Aとが平面視上重なる領域Cの割合は、所定の範囲内であることが好ましい。なお、上記割合については、上記「(1)反射型フーリエ変換ホログラム領域」の項に記載した、全反射型フーリエ変換ホログラム領域Aを100%としたときの割合と同様とすることができる。したがって、ここでの記載は省略する。本発明においては、全透過型フーリエ変換ホログラム領域における、透過型フーリエ変換ホログラム領域と反射型フーリエ変換ホログラム領域とが平面視上重なる領域の割合が、上述した所定の範囲内であることにより、ホログラム構造体の偽造防止性の更なる向上を図ることができる。これは、ホログラム構造体において、第2光像を表示するための例えば図3(a)に示すフーリエ変換像20’と、第1光像を表示するための例えば図2(a)に示すフーリエ変換像10’とが平面視上重なることで、より複雑な構成とすることができ、模倣を困難とすることができるからである。
In the present invention, for example, as shown in FIG. 5A, the ratio of the transmission type Fourier transform hologram region B in the
(b)第2ホログラム層
本発明における第2ホログラム層は、第1ホログラム層の一方の面側にパターン状に配置される部材である。
(B) Second Hologram Layer The second hologram layer in the present invention is a member arranged in a pattern on one surface side of the first hologram layer.
図8(a)、(b)は、本発明のホログラム構造体の例を示す概略断面図である。本発明においては、図8(a)に示すように、第2ホログラム層1bを、第1ホログラム層1aの凹凸面側に配置しても良く、あるいは、図8(b)に示すように、第2ホログラム層1bを、第1ホログラム層1aの凹凸面とは反対側の面に配置しても良い。本発明においては、中でも、図8(a)に示すように、第1ホログラム層1aの凹凸面側に、第2ホログラム層1bが配置されることが好ましい。本発明のホログラム構造体100を、透明基材4側から観察した際に、反射型フーリエ変換ホログラム領域において、第1ホログラム層の表面に形成された凹凸構造を、第2ホログラム層に遮られることなく十分に観察することができる。さらに透過型フーリエ変換ホログラム領域において、パターン状に配置された第2ホログラム層も十分に観察することができる。したがって、本発明のホログラム構造体を一方の面から観察することで、点光源からの光を反射させた場合には、反射型フーリエ変換ホログラム領域により変換される第1光像を観察でき、点光源からの光を透過させた場合には、透過型フーリエ変換ホログラム領域により変換される第2光像を観察できる。
8 (a) and 8 (b) are schematic cross-sectional views showing an example of the hologram structure of the present invention. In the present invention, the
一方、図8(b)に示すように、第1ホログラム層1aの凹凸面とは反対側の面に第2ホログラム層1bが配置されている場合には、通常、第1ホログラム層1aと第1ホログラム層1aの凹凸面側に接触する部材との間に高屈折率層14が形成される。そうすることで、第1ホログラム層1aと高屈折率層14との間の屈折率差により、第1ホログラム層1aの表面に形成された凹凸構造において、透明基材4側またはセパレータ3側の光源から照射された光を十分に反射させることが可能となる。これにより、反射型フーリエ変換ホログラム領域において、第1光像を良好に観察することが可能となる。また、図8(b)に示すホログラム構造体100において透過型フーリエ変換ホログラム領域により第2光像を観察する場合には、透明基材4側の光源から光を照射してセパレータ3側から観察しても良く、あるいはセパレータ3側の光源から光を照射して透明基材4側から観察しても良い。第2光像を観察するといった観点からは、光源からの光の照射方向および観察する方向は特に限定されない。なお、図8(b)に示すホログラム構造体100を用いて第1光像を観察するときの好ましい態様については、上記「(1)反射型フーリエ変換ホログラム領域」の項に記載したため、ここでの記載は省略する。また、図8(a)、(b)において説明していない符号については、上述した図1と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
On the other hand, as shown in FIG. 8B, when the
透過型フーリエ変換ホログラム領域においては、第1ホログラム層の一方の面側に配置される第2ホログラム層は、第2光像として表示される原画像のデータに基づいて多値化されたフーリエ変換像である。第2ホログラム層は、点光源から入射した光をパターン状に遮光させることができる部材である。換言すると、第2ホログラム層は、遮光性を有し、かつパターン状に配置される部材である。このような第2ホログラム層は、通常、図3(a)に示すように、特定の方向に並列して延びる曲線状または直線状の多数のパターンから構成される。 In the transmission type Fourier transform hologram region, the second hologram layer arranged on one surface side of the first hologram layer is a multi-valued Fourier transform based on the data of the original image displayed as the second optical image. It is a statue. The second hologram layer is a member capable of blocking light incident from a point light source in a pattern. In other words, the second hologram layer is a member having a light-shielding property and arranged in a pattern. Such a second hologram layer is usually composed of a large number of curved or linear patterns extending in parallel in a specific direction, as shown in FIG. 3A.
本発明における第2ホログラム層をパターン状に配置して透過型フーリエ変換ホログラム領域を得る方法としては、第2ホログラム層を第1ホログラム層の一方の面側に、点光源からの光を透過させた際に所望の第2光像を表示することができるように、パターン状に配置する方法であれば良く、第2ホログラム層に用いられる材料等に応じて適宜選択することができる。具体的には、例えば、レーザー描画法、デメタ印刷法、レジスト印刷法およびマスク蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を用いて第2ホログラム層をパターン状に形成する方法が挙げられる。本発明においては、中でもレーザー描画法を用いて第2ホログラム層を形成することが好ましい。可変的なパターン形成を行うことができるため、偽造防止性が高く意匠性に優れたホログラム構造体を形成するのに好適である。 As a method of arranging the second hologram layer in a pattern in the present invention to obtain a transmission type Fourier transform hologram region, the second hologram layer is made to transmit light from a point light source on one surface side of the first hologram layer. Any method may be used as long as it is arranged in a pattern so that a desired second light image can be displayed at the time, and it can be appropriately selected depending on the material used for the second hologram layer and the like. Specifically, for example, a method of forming the second hologram layer in a pattern by using a laser drawing method, a demeta printing method, a resist printing method, a mask vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like can be mentioned. In the present invention, it is particularly preferable to form the second hologram layer by using a laser drawing method. Since variable pattern formation can be performed, it is suitable for forming a hologram structure having high anti-counterfeiting property and excellent design.
本発明においてパターン状に形成された第2ホログラム層のピッチは、点光源から入射した光を所望の第2光像へ変換することができる程度であることが好ましい。具体的な第2ホログラム層のピッチについては、上記「(1)反射型フーリエ変換ホログラム領域 (a)第1ホログラム層」の項に記載した格子ピッチと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。なお、パターン状に形成された第2ホログラム層のピッチとは、例えば、図9の符号Pで示す距離をいう。 In the present invention, the pitch of the second hologram layer formed in a pattern is preferably such that the light incident from the point light source can be converted into a desired second light image. Since the specific pitch of the second hologram layer can be the same as the lattice pitch described in the section of "(1) Reflective Fourier transform hologram region (a) First hologram layer" above, the pitch here is described here. The description is omitted. The pitch of the second hologram layer formed in a pattern means, for example, the distance indicated by the reference numeral P in FIG.
第2ホログラム層は、点光源から入射した光をパターン状に遮光するという機能を有する。したがって、第2ホログラム層の厚みは、点光源から入射した光を十分に遮光することができる程度の厚みであることが好ましく、第2ホログラム層に用いられる材料の種類や製造方法に応じて適宜選択することができる。本発明においては、例えば、第2ホログラム層の厚みが、0.01μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、中でも0.03μm以上20μm以下の範囲内であることが好ましい。なお、第2ホログラム層の厚みとは、例えば、図9の符号Dで示す距離をいう。 The second hologram layer has a function of blocking light incident from a point light source in a pattern. Therefore, the thickness of the second hologram layer is preferably such that it can sufficiently block the light incident from the point light source, and is appropriately suitable depending on the type of material used for the second hologram layer and the manufacturing method. You can choose. In the present invention, for example, the thickness of the second hologram layer is preferably in the range of 0.01 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 0.03 μm or more and 20 μm or less. The thickness of the second hologram layer means, for example, the distance indicated by reference numeral D in FIG.
本発明においては、点光源から入射した光を、第2ホログラム層によりパターン状に遮光させて、第2光像へ変換する。ここで、「遮蔽する」とは、点光源から入射した光を完全に遮蔽する場合だけでなく、第2光像へ変換することができる程度に光を遮蔽する場合も含む。具体的には、第2ホログラム層の可視光線透過率が、90%以下であることが好ましく、中でも70%以下であることが好ましく、特に50%以下であることが好ましい。なお、第2ホログラム層の可視光線透過率は、例えば、JIS K7361−1に準拠したプラスチック−透明基材の全光透過率の試験方法により測定することができる。 In the present invention, the light incident from the point light source is shielded in a pattern by the second hologram layer and converted into a second light image. Here, "shielding" includes not only the case where the light incident from the point light source is completely blocked, but also the case where the light is shielded to the extent that it can be converted into a second light image. Specifically, the visible light transmittance of the second hologram layer is preferably 90% or less, particularly preferably 70% or less, and particularly preferably 50% or less. The visible light transmittance of the second hologram layer can be measured by, for example, a test method for the total light transmittance of a plastic-transparent substrate according to JIS K7361-1.
また、本発明においては、第2ホログラム層が、点光源から入射した光を反射する反射性を有することが好ましい。例えば、図1に示すように、第1ホログラム層1aの凹凸面側に第2ホログラム層1bが配置され、かつ、図2(b)に示すように、透明基材4側から点光源を照射して、透明基材4側から観察者が第1光像を観察する場合に、より鮮明に第1光像を視認することができるからである。これは、点光源から入射した光が、第1ホログラム層1aの凹凸面を覆うように追従する第2ホログラム層1bにより効果的に反射するからと考えられる。第2ホログラム層の具体的な反射性としては、例えば、反射率が5%以上であることが好ましく、中でも10%以上であることが好ましく、特に15%以上であることが好ましい。なお、第2ホログラム層の反射率は、例えば、JIS K 7375に準拠して測定することができる。
Further, in the present invention, it is preferable that the second hologram layer has a reflectivity for reflecting the light incident from the point light source. For example, as shown in FIG. 1, the
本発明における第2ホログラム層の材料としては、点光源から入射した光を、パターン状に遮光させて、所望の第2光像へ変換することが可能な材料であれば良い。中でも、上述のような所定の遮光性を有する材料であることが好ましく、特に、上述のような所定の遮光性および反射性の両方を有する材料であることが好ましい。具体的には、例えば、アルミニウム、銀、金、ニッケル、銅、クロム、チタン、窒化チタン、炭化チタン、ニッケルクロム、ステンレス鋼、黄銅等が挙げられる。本発明においては、反射性および遮光性の観点から、特にアルミニウムを用いることが好ましい。 The material of the second hologram layer in the present invention may be any material that can block the light incident from the point light source in a pattern and convert it into a desired second light image. Among them, a material having a predetermined light-shielding property as described above is preferable, and a material having both a predetermined light-shielding property and a reflective property as described above is particularly preferable. Specific examples thereof include aluminum, silver, gold, nickel, copper, chromium, titanium, titanium nitride, titanium carbide, nickel chromium, stainless steel, brass and the like. In the present invention, it is particularly preferable to use aluminum from the viewpoint of reflectivity and light-shielding property.
(c)第2光像
本発明における透過型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光を、第2ホログラム層によりパターン状に遮光させて、第2光像へ変換する領域である。
(C) Second Light Image The transmissive Fourier transform hologram region in the present invention is a region in which light incident from a point light source is shielded in a pattern by a second hologram layer and converted into a second light image.
本発明における透過型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第2光像の絵柄は、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等とすることができ、ホログラム構造体の用途に応じて適宜選択することができる。本発明において、透過型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第2光像は、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第1光像と、同じ絵柄であっても良く、互いに相違する絵柄であっても良い。 The pattern of the second light image displayed by the transmission type Fourier transform hologram region in the present invention can be, for example, a pattern, a line drawing, a character, a figure, a symbol, or the like, and is appropriately selected according to the use of the hologram structure. be able to. In the present invention, the second light image displayed by the transmission type Fourier transform hologram region may have the same pattern as the first light image displayed by the above-mentioned reflection type Fourier transform hologram area, and may have different patterns. It may be.
本発明においては、例えば、図3(b)に示すように、ホログラム構造体100のセパレータ3側から点光源を照射することで、透明基材4側の観察者は、図3(a)の符号20で示す顔の絵柄である第2光像を視認することが可能となる。なお、図示はしないが、例えば図3(b)における透明基材4側から点光源を照射した場合であっても、点光源からの光は、第2ホログラム層1bによりパターン状に遮光される。したがって、観察者は、セパレータ3側から第2光像を視認することが可能となる。
In the present invention, for example, as shown in FIG. 3 (b), by irradiating a point light source from the
また、例えば、図8(b)に示すように、第2ホログラム層1bが、第1ホログラム層1aの凹凸面とは反対側の面に配置されている場合には、第2光像は、セパレータ3側から点光源を照射して、透明基材4側から観察者が視認しても良く、あるいは、透明基材4側から点光源を照射して、セパレータ3側から観察者が視認しても良い。本発明においては、第1光像をより鮮明に表示するという観点から、透明基材4側から点光源を照射して、セパレータ3側から観察者が視認することが好ましい。なお、この理由については、上記「(1)反射型フーリエ変換ホログラム領域 (b)第1光像」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
Further, for example, as shown in FIG. 8B, when the
(d)その他
本発明において、透過型フーリエ変換ホログラム領域に光を照射する点光源としては、例えば、レーザー光源が挙げられる。点光源の波長は特に限定されず、反射型フーリエ変換ホログラム領域がフーリエ変換レンズ機能を良好に発揮できることが好ましい。本発明においては、点光源の波長が、一波長の単色光であっても良く、多波長を含む光であっても良く、さらには白色光であっても良い。
(D) Others In the present invention, examples of the point light source that irradiates the transmitted Fourier transform hologram region with light include a laser light source. The wavelength of the point light source is not particularly limited, and it is preferable that the reflective Fourier transform hologram region can satisfactorily exhibit the Fourier transform lens function. In the present invention, the wavelength of the point light source may be monochromatic light having one wavelength, light including multiple wavelengths, or white light.
(3)回折格子領域
本発明における回折格子領域は、回折絵柄を表示する領域である。また、回折格子領域は、反射型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重ならない領域に位置する。なお、ここでの回折格子領域は、レリーフ型ホログラム領域を包含する。
(3) Diffraction Grating Area Region The diffraction grating region in the present invention is a region for displaying a diffraction pattern. Further, the diffraction grating region is located in a region that does not overlap with the reflection type Fourier transform hologram region in a plan view. The diffraction grating region here includes the relief type hologram region.
回折格子領域は、回折格子パターンを有する画素が複数集合した領域を指す。図10(a)は、回折格子パターンの一例を示す概略平面図である。図10(a)に示すように、本発明のホログラム構造体100は、少なくとも反射型フーリエ変換ホログラム領域A、透過型フーリエ変換ホログラム領域B、またはそれらが重なった領域Cにより、第1光像または第2光像が表示される領域を有するが、必要に応じて、回折格子絵柄を表示する回折格子パターン30が集合した回折格子領域を有していても良い。偽造防止性をより一層高め、優れた意匠性を有するホログラム構造体とすることができるからである。図10(b)に示すように、回折格子パターン30は、所定の線幅dを有する格子線31が、1つの画素に対応した大きさの閉領域32内に配置されている。格子線31は、所定のピッチpおよび所定角度θで配置される。なお、図示しないが、回折格子領域は、反射型フーリエ変換ホログラム領域と同一平面上に形成することが好ましい。具体的には、本発明における第1ホログラム層と同一平面上に、回折格子パターンが配置されていることが好ましい。また、このとき、第1ホログラム層において、反射型フーリエ変換ホログラム領域を形成するための凹凸面側と、回折格子パターンにおいて回折格子絵柄が記録された面側とが、同一面となるように設計することが好ましい。
The diffraction grating region refers to a region in which a plurality of pixels having a diffraction grating pattern are gathered. FIG. 10A is a schematic plan view showing an example of a diffraction grating pattern. As shown in FIG. 10A, the
回折格子パターンにおける格子線の線幅d、ピッチpおよび角度θは、回折格子領域に照射された光に回折が生じる程度の寸法値に適宜設定することができる。回折格子領域は、格子線の線幅d、ピッチpおよび角度θ等を様々な寸法値とした複数種類の回折格子パターンを集合させることで、所定の回折絵柄を表示することができる。なお、回折格子パターンの各種寸法値や配置等は、回折格子領域により表示しようとする原画像において、当該原画像を構成する多数の画素それぞれに割り付けられた画素値に応じて適宜決定する。なお、回折格子パターンの各種寸法値は、コンピュータに取り込まれた原画像の画像データに基づいて決定される。 The line width d, pitch p, and angle θ of the lattice lines in the diffraction grating pattern can be appropriately set to dimensional values to the extent that the light irradiated to the diffraction grating region is diffracted. In the diffraction grating region, a predetermined diffraction pattern can be displayed by collecting a plurality of types of diffraction grating patterns in which the line width d, pitch p, angle θ, and the like of the lattice lines are set to various dimensional values. In addition, various dimensional values and arrangements of the diffraction grating pattern are appropriately determined according to the pixel values assigned to each of a large number of pixels constituting the original image in the original image to be displayed by the diffraction grating region. The various dimensional values of the diffraction grating pattern are determined based on the image data of the original image captured by the computer.
なお、回折格子領域を構成する回折格子パターンについては、一般的な回折格子パターンと同様とすることができる。具体的には、本発明における回折格子パターンは、特開2008−191540号公報、特開2000−304912号公報、特開2008−077042号公報等に開示された一般的な回折格子パターンと同様とすることができる。したがって、ここでの詳細な説明は省略する。 The diffraction grating pattern constituting the diffraction grating region can be the same as that of a general diffraction grating pattern. Specifically, the diffraction grating pattern in the present invention is the same as the general diffraction grating pattern disclosed in JP-A-2008-191540, JP-A-2000-304912, JP-A-2008-07742, and the like. can do. Therefore, detailed description here will be omitted.
本発明における回折格子領域は、反射型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重ならない領域に位置するが、これは次のようなことに起因する。すなわち、通常、回折格子領域を構成する回折格子パターンは、表面に凹凸構造を有する。そうすると、第1ホログラム層の表面に凹凸構造を有する反射型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なる領域には、表面に凹凸構造を有する回折格子領域を配置することは困難となる。このように、本発明における回折格子領域は、反射型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重ならない領域に位置するが、回折格子領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域は、平面視上重なった領域を有していても良い。 The diffraction grating region in the present invention is located in a region that does not overlap with the reflective Fourier transform hologram region in a plan view, and this is due to the following. That is, usually, the diffraction grating pattern constituting the diffraction grating region has an uneven structure on the surface. Then, it becomes difficult to arrange the diffraction grating region having the uneven structure on the surface in the region overlapping the reflective Fourier transform hologram region having the uneven structure on the surface of the first hologram layer in a plan view. As described above, the diffraction grating region in the present invention is located in a region that does not overlap in the plan view with the reflective Fourier transform hologram region, but the diffraction grating region and the transmission type Fourier transform hologram region have a region that overlaps in the plan view. You may do it.
本発明における回折格子領域により表示される回折格子絵柄としては、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等が挙げられる。また、これらの回折格子絵柄は、反射型フーリエ変換ホログラム領域により変換される第1光像や、透過型フーリエ変換ホログラム領域により変換される第2光像の絵柄と、合わせて一つの絵柄が完成するように設計しても良い。この場合、偽造防止性の更なる向上を図ることができる。 Examples of the diffraction grating pattern displayed by the diffraction grating region in the present invention include patterns, line drawings, characters, figures, symbols, and the like. In addition, these diffraction grating patterns are combined with the pattern of the first light image converted by the reflective Fourier transform hologram region and the pattern of the second light image converted by the transmission type Fourier transform hologram region to complete one pattern. It may be designed to do so. In this case, the anti-counterfeiting property can be further improved.
本発明における回折格子絵柄は、平面的に絵柄を再生可能な平面回折格子絵柄であっても良く、立体的に絵柄を再生可能な立体回折格子絵柄であっても良く、あるいは、平面回折格子絵柄および立体回折格子絵柄の両方を組み合わせたものであっても良い。回折格子絵柄が平面回折格子絵柄または立体回折格子絵柄であることにより、より優れた意匠性を有するホログラム構造体とすることができる。 The diffraction grating pattern in the present invention may be a plane diffraction grating pattern that can reproduce the pattern in a plane, a three-dimensional diffraction grating pattern that can reproduce the pattern three-dimensionally, or a plane diffraction grating pattern. It may be a combination of both the three-dimensional diffraction grating pattern and the three-dimensional diffraction grating pattern. When the diffraction grating pattern is a plane diffraction grating pattern or a three-dimensional diffraction grating pattern, a hologram structure having more excellent design can be obtained.
平面回折格子絵柄の表示方法としては、例えば、次のような方法が挙げられる。すなわち、回折光の振幅が同程度の回折格子パターンにより表示される方法が挙げられる。ここで、回折光の振幅を同程度とする方法としては、例えば、特許第4984938号公報に記載された方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 Examples of the method for displaying the plane diffraction grating pattern include the following methods. That is, there is a method in which the amplitude of the diffracted light is displayed by a diffraction grating pattern having the same degree. Here, as a method for making the amplitude of the diffracted light about the same, for example, the same method as described in Japanese Patent No. 49844938 can be used, and thus the description here is omitted.
平面回折格子絵柄は、格子線の面積が同程度の回折格子パターンを敷き詰めることで表示することができる。また、格子線の面積として、どの程度の面積の格子線を有する回折格子パターンを用いるかについては、平面回折格子絵柄が再生可能であれば良く、再生される平面回折格子絵柄のサイズやカラー表示の有無等に応じて適宜設定することができる。 The plane diffraction grating pattern can be displayed by laying out diffraction grating patterns having the same area of lattice lines. As for the area of the grating line, the diffraction grating pattern having the lattice line has only a reproducible plane diffraction grating pattern, and the size and color display of the reproduced plane diffraction grating pattern. It can be set as appropriate depending on the presence or absence of.
立体回折格子絵柄の形成方法としては、回折格子絵柄の端部側より中央部側に回折光の振幅が大きい回折格子パターンを配置する方法が挙げられる。こうすることで、参照光を照射した際に、回折格子絵柄が立体的に浮かび上がるように再生することができる。ここで、回折光の振幅を、端部側よりも中央部側が大きくなるように回折格子パターンを配置する方法としては、例えば、特許第4984938号公報に記載された方法と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 Examples of the method for forming the three-dimensional diffraction grating pattern include a method of arranging a diffraction grating pattern having a large amplitude of diffracted light on the central portion side of the edge side of the diffraction grating pattern. By doing so, when the reference light is irradiated, the diffraction grating pattern can be reproduced so as to appear three-dimensionally. Here, the method of arranging the diffraction grating pattern so that the amplitude of the diffracted light is larger on the central portion side than on the end portion side can be, for example, the same as the method described in Japanese Patent No. 4984938. Therefore, the description here is omitted.
上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域に対する回折格子領域の平面視上の割合は、回折格子領域により所望の回折格子絵柄を表示することができる程度の割合であることが好ましい。また、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域により表示される第1光像および第2光像、ならびに回折格子領域により表示される回折格子絵柄のそれぞれが、十分に視認することができる程度の割合であることが好ましい。回折格子絵柄が平面回折格子絵柄である場合の、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域に対する回折格子領域の割合は、例えば、1/4以上3/2以下の範囲内であることが好ましく、中でも1/2以上1以下の範囲内であることが好ましく、特に5/8以上7/8以下の範囲内であることが好ましい。一方、回折格子絵柄が立体回折格子絵柄である場合の、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域に対する回折格子領域の割合は、例えば、1/3以上3以下の範囲内であることが好ましく、中でも2/3以上2以下の範囲内であることが好ましく、特に1以上5/3以下の範囲内であることが好ましい。なお、上記割合において、「上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域に対する」とは、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域の合計の領域に対するという意味である。 The ratio of the diffraction grating region to the reflection-type Fourier transform hologram region and the transmission-type Fourier transform hologram region described above in plan view is preferably a ratio such that a desired diffraction grating pattern can be displayed by the diffraction grating region. .. Further, each of the first light image and the second light image displayed by the reflection type Fourier transform hologram region and the transmission type Fourier transform hologram region and the diffraction grating pattern displayed by the diffraction grating region can be sufficiently visually recognized. It is preferable that the ratio is such that it can be achieved. When the diffraction grating pattern is a plane diffraction grating pattern, the ratio of the diffraction grating area to the reflection type Fourier transform hologram region and the transmission type Fourier transform hologram region described above is, for example, within the range of 1/4 or more and 3/4 or less. It is preferably in the range of 1/2 or more and 1 or less, and particularly preferably in the range of 5/8 or more and 7/8 or less. On the other hand, when the diffraction grating pattern is a three-dimensional diffraction grating pattern, the ratio of the diffraction grating area to the above-mentioned reflective Fourier transform hologram region and transmission type Fourier transform hologram region is, for example, within the range of 1/3 or more and 3 or less. It is preferably in the range of 2/3 or more and 2 or less, and particularly preferably in the range of 1 or more and 5/3 or less. In the above ratio, "with respect to the above-mentioned reflective Fourier transform hologram region and transmission type Fourier transform hologram region" means to the total region of the above-mentioned reflection type Fourier transform hologram region and transmission type Fourier transform hologram region. be.
回折格子パターンの平面視サイズは、表示される回折格子絵柄に応じて適宜設定することができ、特に限定されない。例えば、5μm角以上100μm角以下の範囲内とすることができる。回折格子パターンの平面視サイズが上記範囲内であることにより、高精細な回折格子絵柄を表示することが可能となる。また、回折格子絵柄を表示する個々の回折格子パターンの存在を隠ぺいし、偽造防止性を高めることができる。 The plan view size of the diffraction grating pattern can be appropriately set according to the displayed diffraction grating pattern, and is not particularly limited. For example, it can be in the range of 5 μm square or more and 100 μm square or less. When the plane view size of the diffraction grating pattern is within the above range, it is possible to display a high-definition diffraction grating pattern. In addition, the existence of individual diffraction grating patterns that display the diffraction grating pattern can be concealed, and anti-counterfeiting can be enhanced.
回折格子パターンの平面視形状は、再生される回折格子絵柄に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。例えば、上記「(1)反射型フーリエ変換ホログラム領域」の項に記載した単一のフーリエ変換ホログラム領域の平面視形状と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The planar view shape of the diffraction grating pattern can be appropriately selected according to the diffraction grating pattern to be reproduced, and is not particularly limited. For example, since it can be the same as the plan view shape of the single Fourier transform hologram region described in the above section "(1) Reflective Fourier transform hologram region", the description here is omitted.
回折格子パターンを形成する方法については、一般的に公知の方法と同様の方法を採用することができるため、ここでの記載は省略する。 As a method for forming the diffraction grating pattern, a method similar to a generally known method can be adopted, and thus the description thereof is omitted here.
回折格子絵柄の再生に用いられる参照光としては特に限定されず、一般的なホログラムに用いられる参照光と同様のものと用いることができる。具体的には、参照光としては可視光を含む光を用いることができる。例えば、参照光は、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域により変換される第1光像および第2光像の表示に用いられる点光源と同一の光を用いることができる。こうすることで、第1光像または第2光像の表示と同時に、回折格子絵柄を表示することができる。なお、参照光は、点光源に限らず、平行光等であっても良い。 The reference light used for reproducing the diffraction grating pattern is not particularly limited, and can be used in the same light as the reference light used for a general hologram. Specifically, as the reference light, light including visible light can be used. For example, as the reference light, the same light as the point light source used for displaying the first light image and the second light image converted by the reflection type Fourier transform hologram region and the transmission type Fourier transform hologram region described above can be used. .. By doing so, the diffraction grating pattern can be displayed at the same time as the display of the first light image or the second light image. The reference light is not limited to a point light source, and may be parallel light or the like.
(4)その他の構成
本発明のホログラム構造体は、上述した反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域を有する部材であるが、必要に応じてその他の構成を有していても良い。
以下、本発明のホログラム構造体に用いられるその他の構成について説明する。
(4) Other Structures The hologram structure of the present invention is a member having the above-mentioned reflective Fourier transform hologram region and transmission type Fourier transform hologram region, but may have other configurations if necessary. ..
Hereinafter, other configurations used in the hologram structure of the present invention will be described.
(a)透明基材
本発明のホログラム構造体は、第1ホログラム層の凹凸構造が形成された側とは反対側の面に、透明基材を有していても良い。透明基材を有することにより、本発明のホログラム構造体の熱的強度または機械的強度を高めることができる。
(A) Transparent base material The hologram structure of the present invention may have a transparent base material on the surface of the first hologram layer opposite to the side on which the uneven structure is formed. By having a transparent base material, the thermal strength or mechanical strength of the hologram structure of the present invention can be increased.
ここで、「ホログラム層の凹凸構造が形成された側とは反対側の面に、透明基材を有する」とは、ホログラム層の凹凸構造が形成された側とは反対側の面に、直接透明基材が配置されている態様や、ホログラム層の凹凸構造が形成された側とは反対側の面に、他の部材を介して透明基材が配置されている態様を包含する。 Here, "having a transparent base material on the surface of the hologram layer opposite to the side on which the concave-convex structure is formed" means that the hologram layer is directly on the surface on the side opposite to the side on which the concave-convex structure is formed. This includes a mode in which the transparent base material is arranged and a mode in which the transparent base material is arranged via another member on the surface opposite to the side on which the concave-convex structure of the hologram layer is formed.
本発明における透明基材は、可視光透過率が80%以上であることが好ましく、中でも90%以上であることが好ましい。透明基材の可視光透過率が上記範囲内であることにより、ホログラム構造体の透明基材が配置された側から光を照射したときに、透明基材を介して、第1ホログラム層および第2ホログラム層まで、十分に光を透過させることができる。一方、ホログラム構造体の透明基材が配置された側とは反対側から光を照射したときには、透過型フーリエ変換ホログラム領域により変換された第2光像を、透明基材を介して表示することができる。なお、透明基材の可視光透過率については、例えば、JIS K7361−1に準拠したプラスチック−透明基材の全光透過率の試験方法により測定することができる。 The transparent substrate in the present invention preferably has a visible light transmittance of 80% or more, and more preferably 90% or more. When the visible light transmittance of the transparent base material is within the above range, when light is irradiated from the side where the transparent base material of the hologram structure is arranged, the first hologram layer and the first hologram layer and the first hologram layer are radiated through the transparent base material. Light can be sufficiently transmitted up to two hologram layers. On the other hand, when light is irradiated from the side opposite to the side where the transparent base material of the hologram structure is arranged, the second light image converted by the transmission type Fourier transform hologram region is displayed through the transparent base material. Can be done. The visible light transmittance of the transparent substrate can be measured by, for example, a test method for the total light transmittance of a plastic-transparent substrate according to JIS K7361-1.
本発明における透明基材は、ヘイズ値が比較的低いことが好ましい。具体的な透明基材のヘイズ値としては、例えば、0.01%以上5%以下の範囲内であることが好ましく、中でも0.01%以上3%以下の範囲内であることが好ましく、特に、0.01%以上1.5%以下の範囲内であることが好ましい。透明基材のヘイズ値が上記範囲内であることにより、透明基材を介して第1光像や第2光像を、良好に表示することができる。なお、透明基材のヘイズ値については、例えば、JIS K7136に準拠して測定することができる。 The transparent substrate in the present invention preferably has a relatively low haze value. The specific haze value of the transparent substrate is, for example, preferably in the range of 0.01% or more and 5% or less, and particularly preferably in the range of 0.01% or more and 3% or less. , 0.01% or more and 1.5% or less is preferable. When the haze value of the transparent base material is within the above range, the first light image and the second light image can be satisfactorily displayed through the transparent base material. The haze value of the transparent base material can be measured according to, for example, JIS K7136.
本発明における透明基材の材料としては、上述したような所定の可視光透過率およびヘイズ値を有する材料を選択することが好ましい。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリルスチレン樹脂等の樹脂フィルム、石英ガラス、パイレックス(登録商標)、合成石英板等のガラスが挙げられる。本発明においては、軽量かつ破損等の危険性が低いという観点から、樹脂フィルムを用いることが好ましく、複屈折性の面からポリカーボネートを選択することがより好ましい。 As the material of the transparent base material in the present invention, it is preferable to select a material having a predetermined visible light transmittance and haze value as described above. Specific examples thereof include resin films such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic resin, cycloolefin resin, polyester resin, polystyrene resin and acrylic styrene resin, and glass such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) and synthetic quartz plate. In the present invention, it is preferable to use a resin film from the viewpoint of light weight and low risk of breakage, and it is more preferable to select polycarbonate from the viewpoint of birefringence.
本発明における透明基材は、紫外線吸収剤、熱線吸収剤等を含んでいても良い。ホログラム構造体に紫外線および熱線等が当たることにより、ホログラム層が劣化することを抑制することできる。 The transparent substrate in the present invention may contain an ultraviolet absorber, a heat ray absorber, and the like. Deterioration of the hologram layer can be suppressed by exposing the hologram structure to ultraviolet rays, heat rays, or the like.
本発明における透明基材の厚みは、第1ホログラム層および第2ホログラム層を支持することができる程度の剛性および強度を有することができる程度の厚みであることが好ましい。透明基材の厚みは、例えば、0.005mm以上5mm以下の範囲内であることが好ましく、中でも0.01mm以上1mm以下の範囲内であることが好ましい。また、透明基材の形状については、本発明のホログラム構造体の使用形態等に応じて適宜変更することができる。 The thickness of the transparent base material in the present invention is preferably such that it can have sufficient rigidity and strength to support the first hologram layer and the second hologram layer. The thickness of the transparent base material is preferably in the range of 0.005 mm or more and 5 mm or less, and more preferably 0.01 mm or more and 1 mm or less. Further, the shape of the transparent base material can be appropriately changed according to the usage pattern of the hologram structure of the present invention.
本発明における透明基材は、他の部材との密着性を向上させるために、表面処理を施しても良い。透明基材への表面処理としては、例えば、コロナ処理が挙げられる。 The transparent base material in the present invention may be surface-treated in order to improve the adhesion with other members. Examples of the surface treatment on the transparent substrate include corona treatment.
(b)接着層
本発明のホログラム構造体は、例えば、少なくともいずれか一方の面に接着層を有していても良い。本発明においては、ホログラム構造体のいずれか一方の面に接着層を有することにより、本発明のホログラム構造体を、所定の位置に貼り付けることができる。また、ホログラム構造体の両面に接着層を有することにより、ホログラム構造体を、例えば、ポリカーボネート等の樹脂から形成されたカード、パスポートの個人情報のページ等に埋め込むことができる。なお、図1では、接着層2の最外層となる側の面にセパレータ3が配置された例である。
(B) Adhesive layer The hologram structure of the present invention may have an adhesive layer on at least one surface, for example. In the present invention, the hologram structure of the present invention can be attached to a predetermined position by having an adhesive layer on either one surface of the hologram structure. Further, by having adhesive layers on both sides of the hologram structure, the hologram structure can be embedded in, for example, a card made of a resin such as polycarbonate, a personal information page of a passport, or the like. Note that FIG. 1 is an example in which the
ここで、「本発明のホログラム構造体は、いずれか一方の面に接着層を有していても良い」とは、次のような態様を指す。具体的には、ホログラム層において、第1ホログラム層の凹凸構造が形成された側とは反対側の面に、接着層を有していても良い。また、第1ホログラム層の凹凸構造が形成された側の面、すなわち第1ホログラム層の凹凸面側に、接着層を有していても良い。なお、後者である場合には、ホログラム層の凹凸構造を埋めるように接着層を形成しても良いが、このとき、第1ホログラム層と接着層との間には所定の屈折率差があることが好ましい。第1ホログラム層の凹凸構造により、点光源からの光を反射させて、良好に第1光像へ変換することができるからである。 Here, "the hologram structure of the present invention may have an adhesive layer on either surface" refers to the following aspect. Specifically, the hologram layer may have an adhesive layer on a surface opposite to the side on which the uneven structure of the first hologram layer is formed. Further, the adhesive layer may be provided on the surface on which the uneven structure of the first hologram layer is formed, that is, on the uneven surface side of the first hologram layer. In the latter case, the adhesive layer may be formed so as to fill the uneven structure of the hologram layer, but at this time, there is a predetermined difference in refractive index between the first hologram layer and the adhesive layer. Is preferable. This is because the uneven structure of the first hologram layer reflects the light from the point light source and can be satisfactorily converted into the first light image.
また、「第1ホログラム層の凹凸構造が形成された側とは反対側の面に、接着層を有していても良い」とは、図示はしないが、第1ホログラム層の凹凸構造が形成された側とは反対側の面に接着層が形成されていても良いことや、第1ホログラム層の凹凸構造が形成された側とは反対側の面に透明基材を介して接着層が形成されていても良いことを指す。
次に、「第1ホログラム層の凹凸構造が形成された側の面に、接着層を有していても良い」とは、例えば、図1に示すように、第1ホログラム層1aの凹凸構造が形成された側の面に接着層2が形成されていても良いことを指す。
Further, although it is not shown, "the adhesive layer may be provided on the surface opposite to the side on which the uneven structure of the first hologram layer is formed" is formed. An adhesive layer may be formed on the surface opposite to the surface on which the hologram layer is formed, and an adhesive layer may be formed on the surface opposite to the surface on which the uneven structure of the first hologram layer is formed via a transparent base material. Refers to what may be formed.
Next, "the adhesive layer may be provided on the surface of the first hologram layer on the side where the uneven structure is formed" means, for example, as shown in FIG. 1, the uneven structure of the
本発明において、例えば、図1に示すように、第1ホログラム層1aの凹凸構造が形成された側の面に接着層2を有する場合、第1ホログラム層と接着層との間には、所定の屈折率差が必要である。ここで、「所定の屈折率差」とは、例えば、第1ホログラム層の凹凸構造により点光源からの光が散乱し、所望の第1光像を表示することができる程度の屈折率差であることが好ましい。
In the present invention, for example, as shown in FIG. 1, when the
本発明における接着層は、透明性が高いことが好ましい。具体的には、可視光透過率が80%以上であることが好ましく、中でも90%以上であることが好ましい。接着層の可視光透過率が上記範囲内であることにより、接着層による光の遮蔽を抑制することできる。なお、接着層の可視光透過率は、例えば、JIS K7361−1に準拠するプラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法により測定することができる。 The adhesive layer in the present invention preferably has high transparency. Specifically, the visible light transmittance is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. When the visible light transmittance of the adhesive layer is within the above range, it is possible to suppress the shielding of light by the adhesive layer. The visible light transmittance of the adhesive layer can be measured by, for example, a test method for the total light transmittance of a plastic-transparent material according to JIS K7361-1.
本発明における接着層は、ヘイズ値が比較的低いことが好ましい。具体的な接着層のヘイズ値としては、例えば、0.01%以上5%以下の範囲内であることが好ましく、中でも0.01%以上3%以下の範囲内であることが好ましく、特に0.01%以上1.5%以下の範囲内であることが好ましい。接着層のヘイズ値が上記範囲内であることにより、接着層による光の遮蔽を抑制することできる。なお、接着層のヘイズ値は、例えば、JIS K7136に準拠して測定することができる。 The adhesive layer in the present invention preferably has a relatively low haze value. The specific haze value of the adhesive layer is, for example, preferably in the range of 0.01% or more and 5% or less, particularly preferably in the range of 0.01% or more and 3% or less, and particularly 0. It is preferably in the range of 0.01% or more and 1.5% or less. When the haze value of the adhesive layer is within the above range, it is possible to suppress the shielding of light by the adhesive layer. The haze value of the adhesive layer can be measured according to, for example, JIS K7136.
本発明における接着層は、粘着性を有する粘着層であっても良く、密着性および再剥離性の双方の特性を有する再剥離密着層であっても良い。本発明における接着層が粘着層である場合には、本発明のホログラム構造体を構成する各部材同士を強固に貼り合せたり、または、ホログラム構造体を被着体へと強固に貼り合せたりすることができる。一方、本発明における接着層が再剥離密着層である場合には、本発明のホログラム構造体を所望の部材に貼り合せることができる。このような再剥離密着層は、被着体に粘着剤等による痕を残すことなく、容易に密着および剥離を繰り返すことができ、被着体への影響を最小限に抑えることができる。 The adhesive layer in the present invention may be an adhesive layer having adhesiveness, or may be a re-peelable adhesive layer having both adhesiveness and re-peelability characteristics. When the adhesive layer in the present invention is an adhesive layer, the members constituting the hologram structure of the present invention are firmly bonded to each other, or the hologram structure is firmly bonded to the adherend. be able to. On the other hand, when the adhesive layer in the present invention is a re-peelable adhesive layer, the hologram structure of the present invention can be attached to a desired member. Such a re-peelable adhesion layer can easily repeat adhesion and peeling without leaving a mark on the adherend due to an adhesive or the like, and can minimize the influence on the adherend.
本発明における接着層は、必要に応じて紫外線吸収剤や赤外線吸収剤を含んでいても良い。接着層中に紫外線吸収剤や赤外線吸収剤が含まれていることにより、本発明のホログラム構造体が紫外線や赤外線の照射により劣化することを抑制することができる。また、本発明における接着層は、粘着性付与剤や粘着性調整剤等を含んでいても良い。 The adhesive layer in the present invention may contain an ultraviolet absorber or an infrared absorber, if necessary. Since the adhesive layer contains an ultraviolet absorber or an infrared absorber, it is possible to prevent the hologram structure of the present invention from being deteriorated by irradiation with ultraviolet rays or infrared rays. Further, the adhesive layer in the present invention may contain a tackiness-imparting agent, a tackiness adjusting agent, and the like.
本発明における接着層の厚みは、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。接着層の具体的な厚みとしては、例えば、1μm以上500μm以下の範囲内とすることが好ましく、中でも2μm以上50μm以下の範囲内とすることが好ましい。接着層の厚みが上記範囲内であることにより、接着層による光の遮蔽を抑制することできる。 The thickness of the adhesive layer in the present invention can be appropriately adjusted according to the use of the hologram structure of the present invention, and is not particularly limited. The specific thickness of the adhesive layer is, for example, preferably in the range of 1 μm or more and 500 μm or less, and particularly preferably in the range of 2 μm or more and 50 μm or less. When the thickness of the adhesive layer is within the above range, it is possible to suppress the shielding of light by the adhesive layer.
接着層の形成方法としては、所望の位置に接着層を配置することができる方法であれば良く、特に限定されない。例えば、所望の位置に接着層を構成する接着層形成用塗工液を直接塗布して乾燥させることで、接着層を形成する方法が挙げられる。接着層形成用塗工液の塗布方法としては、例えば、メイヤーバー、グラビアコート、グラビアリバースコート、キスリバースコート、3本ロールリバースコート、スリットリバースダイコート、コンマコート、ナイフコート等の各種コーティング法が挙げられる。 The method for forming the adhesive layer is not particularly limited as long as it can arrange the adhesive layer at a desired position. For example, a method of forming an adhesive layer by directly applying a coating liquid for forming an adhesive layer forming an adhesive layer at a desired position and drying it can be mentioned. As a coating method for forming an adhesive layer, for example, various coating methods such as Mayer bar, gravure coat, gravure reverse coat, kiss reverse coat, three roll reverse coat, slit reverse die coat, comma coat, and knife coat are used. Can be mentioned.
(c)セパレータ
本発明においては、ホログラム構造体の最外層に接着層を有する場合、当該接着層の最外層となる側の表面にセパレータを配置することが好ましい。換言すると、ホログラム構造体の最外層が接着性を有さない部材である場合には、特にセパレータを配置する必要はない。セパレータを有することにより、接着層の表面に異物等が付着することを防止することができる。また、ホログラム構造体を長尺状に作成し、これをロール状に巻く場合に、重なったホログラム構造体同士が互いに接着するのを防ぐことができる。
(C) Separator In the present invention, when the outermost layer of the hologram structure has an adhesive layer, it is preferable to arrange the separator on the surface of the outermost layer of the adhesive layer. In other words, when the outermost layer of the hologram structure is a member having no adhesiveness, it is not necessary to arrange a separator in particular. By having the separator, it is possible to prevent foreign matter and the like from adhering to the surface of the adhesive layer. Further, when the hologram structure is created in a long shape and wound in a roll shape, it is possible to prevent the overlapping hologram structures from adhering to each other.
本発明におけるセパレータとしては、例えば、接着層を保護することができ、かつ接着層から容易に剥離することができる部材であれば良く、特に限定されない。このようなセパレータとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンスルフィド等から構成された樹脂層が挙げられる。 The separator in the present invention is not particularly limited as long as it is a member that can protect the adhesive layer and can be easily peeled off from the adhesive layer. Examples of such a separator include a resin layer composed of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, and the like.
本発明におけるセパレータの厚みについては、本発明のホログラム構造体の種類や用途等に応じて適宜調整することができ、特に限定されない。 The thickness of the separator in the present invention can be appropriately adjusted according to the type and use of the hologram structure of the present invention, and is not particularly limited.
本発明におけるセパレータは、接着層と接する側の面に、接着層との剥離操作を容易にするための剥離処理が施されていることが好ましい。剥離処置としては、例えば、シリコーン処理、アルキッド処理等が挙げられる。 In the separator of the present invention, it is preferable that the surface on the side in contact with the adhesive layer is subjected to a peeling treatment for facilitating the peeling operation with the adhesive layer. Examples of the peeling treatment include silicone treatment and alkyd treatment.
(d)高屈折率層
本発明においては、第1ホログラム層の凹凸面側に、必要に応じて高屈折率層を有していても良い。
(D) High Refractive Index Layer In the present invention, a high refractive index layer may be provided on the uneven surface side of the first hologram layer, if necessary.
本発明における高屈折率層は、例えば、酸化ジルコニウム、五酸化二アンチモン、アンチモンドープ酸化スズ等の高屈折率粒子とバインダー樹脂とを含む高屈折率層形成用樹脂組成物により形成することができる。また、高屈折率層は、それ自体が高屈折率であるポリマー単体により形成しても良く、化学蒸着法(CVD)や物理蒸着法(PVD)等の蒸着法により形成した酸化ジルコニウムおよび五酸化二アンチモン等の薄膜等であっても良い。本発明においては、中でも、高屈折率粒子とバインダー樹脂とを含む高屈折率層形成用樹脂組成物により、高屈折率層を形成することが好ましい。 The high refractive index layer in the present invention can be formed by, for example, a resin composition for forming a high refractive index layer containing high refractive index particles such as zirconium oxide, diantimony pentoxide, antimony-doped tin oxide and a binder resin. .. Further, the high refractive index layer may be formed by a single polymer having a high refractive index itself, and zirconium oxide and pentoxide formed by a vapor deposition method such as a chemical vapor deposition method (CVD) or a physical vapor deposition method (PVD). (Ii) A thin film such as antimony may be used. In the present invention, it is particularly preferable to form a high refractive index layer with a resin composition for forming a high refractive index layer containing high refractive index particles and a binder resin.
高屈折率層に用いられる高屈折率粒子としては、例えば、酸化亜鉛(ZnO;1.90)、酸化チタン(TiO2;2.3〜2.7)、酸化セリウム(CeO2;1.95)、酸化インジウムスズ(ITO;1.95)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO;1.80)、酸化イットリウム(Y2O3;1.87)、酸化ジルコニウム(ZrO2;2.0)、五酸化アンチモン(Sb2O5;1.79)が好ましく挙げられ、用途に応じて適宜選択することができる。なお、上記かっこ内の数値は、屈折率を示す。 Examples of the high refractive index particles used in the high refractive index layer include zinc oxide (ZnO; 1.90), titanium oxide (TiO 2 ; 2.3 to 2.7), and cerium oxide (CeO 2 ; 1.95). ), Indium tin oxide (ITO; 1.95), antimony-doped tin oxide (ATO; 1.80), yttrium oxide (Y 2 O 3 ; 1.87), zirconium oxide (ZrO 2 ; 2.0), five Antimon oxide (Sb 2 O 5 ; 1.79) is preferably mentioned and can be appropriately selected depending on the intended use. The numerical value in parentheses indicates the refractive index.
高屈折率粒子の平均粒径としては、例えば、5nm以上200nm以下の範囲内であることが好ましく、中でも5nm以上100nm以下の範囲内であることが好ましく、特に10nm以上80nm以下の範囲内であることが好ましい。高屈折率粒子の平均粒径が上記範囲内であることにより、高屈折率層の光透過性を損なうことなく、高屈折率粒子の分散状態が得られるからである。なお、本発明においては、平均粒径が上記範囲内であれば、高屈折率粒子が鎖状に連なっていても良い。 The average particle size of the high-refractive index particles is, for example, preferably in the range of 5 nm or more and 200 nm or less, particularly preferably in the range of 5 nm or more and 100 nm or less, and particularly in the range of 10 nm or more and 80 nm or less. Is preferable. This is because when the average particle size of the high-refractive index particles is within the above range, the dispersed state of the high-refractive index particles can be obtained without impairing the light transmittance of the high-refractive index layer. In the present invention, high refractive index particles may be linked in a chain as long as the average particle size is within the above range.
高屈折率粒子は、必要に応じて表面処理されていても良い。表面処理としては、例えば、シランカップリング剤を用いて、高屈折率粒子の表面の改質を行う処理が挙げられる。
このような処理を施すことで、バインダー樹脂との親和性が向上し、高屈折率粒子を均一に分散させ、高屈折率粒子同士の凝集を抑制することができる。したがって、凝集由来の大粒子化による高屈折率層の光透過性の低下や、高屈折率層形成用樹脂組成物の塗布性や塗膜強度の低下を抑制することができる。
The high refractive index particles may be surface-treated, if necessary. Examples of the surface treatment include a treatment of modifying the surface of high-refractive index particles using a silane coupling agent.
By performing such a treatment, the affinity with the binder resin can be improved, the high refractive index particles can be uniformly dispersed, and the aggregation of the high refractive index particles can be suppressed. Therefore, it is possible to suppress a decrease in the light transmittance of the high refractive index layer due to the increase in the size of the particles derived from aggregation, and a decrease in the coatability and the coating strength of the resin composition for forming the high refractive index layer.
高屈折率粒子を分散させるバインダー樹脂やその他の添加剤、その他の詳細な説明については、例えば、特開2017−021293号公報に開示された内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The binder resin for dispersing the high-refractive index particles, other additives, and other detailed explanations can be the same as those disclosed in JP-A-2017-021293, for example. Is omitted.
(e)層間接着層
本発明のホログラム構造体は、ホログラム構造体を構成する各部材の層間を接着するための層間接着層を有していても良い。
(E) Interlayer Adhesive Layer The hologram structure of the present invention may have an interlayer adhesive layer for adhering the layers of each member constituting the hologram structure.
このような層間接着層としては、例えば、2液硬化型接着剤層、紫外線硬化型接着剤層、熱硬化型接着剤層、熱溶融型接着剤層等の公知の接着剤層を用いることができる。 As such an interlayer adhesive layer, for example, a known adhesive layer such as a two-component curable adhesive layer, an ultraviolet curable adhesive layer, a heat-curable adhesive layer, or a heat-melt type adhesive layer can be used. can.
本発明における層間接着層の厚みについては、ホログラム構造体を構成する各部材の大きさ等に応じて適宜調整することができるため、ここでの記載は省略する。 Since the thickness of the interlayer adhesive layer in the present invention can be appropriately adjusted according to the size of each member constituting the hologram structure and the like, the description thereof is omitted here.
本発明における層間接着層は、反射型フーリエ変換ホログラム領域や透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なる場合には、所定の透明性を有することが好ましい。なお、具体的な透明性については、上記「(b)接着層」の項で記載した接着層の透明性と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The interlayer bonding layer in the present invention preferably has a predetermined transparency when it overlaps with the reflective Fourier transform hologram region or the transmissive Fourier transform hologram region in a plan view. The specific transparency can be the same as the transparency of the adhesive layer described in the above section "(b) Adhesive layer", and thus the description thereof is omitted here.
(f)印刷層
本発明のホログラム構造体は、印刷層を有していても良い。ここでいう「印刷層」とは、インク等を用いて情報が印刷された層を指す。印刷層を有することにより、本発明のホログラム構造体の意匠性を更に優れたものとすることができる。
(F) Print layer The hologram structure of the present invention may have a print layer. The "printing layer" here refers to a layer on which information is printed using ink or the like. By having the printed layer, the design of the hologram structure of the present invention can be further improved.
印刷層の材料としては、各種印刷方式により印刷することが可能な材料であれば良く、特に限定されない。例えば、ポリカーボネート類、ポリエステル類、セルロース誘導体、ノルボルネン系樹脂、ポリ塩化ビニル類、ポリ酢酸ビニル類、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリプロピレン系類、ポリエチレン系類、スチレン系類等が挙げられる。また、印刷層に用いられるインクとしては、通常、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷等の各種印刷法に用いられるインクが挙げられる。 The material of the printing layer may be any material that can be printed by various printing methods, and is not particularly limited. Examples thereof include polycarbonates, polyesters, cellulose derivatives, norbornene-based resins, polyvinyl chlorides, polyvinyl acetates, acrylic resins, urethane-based resins, polypropylene-based resins, polyethylene-based resins, and styrene-based resins. In addition, examples of the ink used for the printing layer include inks used in various printing methods such as inkjet printing, screen printing, offset printing, gravure printing, and flexographic printing.
印刷層の形成方法としては、例えば、平版印刷、凹版印刷、凸版印刷、孔版印刷の基本印刷法、フレキソ印刷、樹脂凸版印刷、グラビアオフセット印刷、タコ印刷、インクジェット印刷、転写印刷、静電印刷、紫外線硬化印刷、焼き付け印刷、水なしオフセット印刷等が挙げられる。 Examples of the printing layer forming method include flat plate printing, concave printing, letterpress printing, basic printing method for stencil printing, flexo printing, resin letterpress printing, gravure offset printing, octopus printing, inkjet printing, transfer printing, electrostatic printing, etc. Examples include UV curable printing, printing, and waterless offset printing.
本発明における印刷層は、ホログラム構造体に意匠性を付与する部材である。例えば、印刷層は、上述した第1光像や第2光像とは異なる情報を表示する部材であることが好ましい。印刷層が表示する情報は、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、例えば、文字、記号、マーク、イラスト、キャラクター等の絵柄、会社名、商品名、セールスポイント、キャッチコピー、取扱い説明等の各種文字情報が挙げられる。 The printing layer in the present invention is a member that imparts design to the hologram structure. For example, the print layer is preferably a member that displays information different from the above-mentioned first light image and second light image. The information displayed by the print layer can be appropriately selected depending on the use of the hologram structure of the present invention and is not particularly limited, but for example, characters, symbols, marks, illustrations, patterns such as characters, company names, etc. Various character information such as product name, selling point, catch phrase, handling explanation, etc. can be mentioned.
本発明における印刷層の配置位置は、第1光像および第2光像の表示を妨げないような位置であることが好ましい。具体的には、印刷層を、第1ホログラム層の凹凸構造が形成された面側に配置しても良く、第1ホログラム層の凹凸構造が形成された面とは反対側に配置しても良い。なお、本発明のホログラム構造体が例えば図1に示すような構成を有する場合であって、印刷層を第1ホログラム層の凹凸構造が形成された面側に配置する場合、印刷層は、第1ホログラム層と第2第2ホログラム層との間に配置しても良く、あるいは第2ホログラム層の第1ホログラム層とは反対側の面に配置しても良い。 The arrangement position of the print layer in the present invention is preferably a position that does not interfere with the display of the first light image and the second light image. Specifically, the print layer may be arranged on the surface side on which the uneven structure of the first hologram layer is formed, or may be arranged on the side opposite to the surface on which the uneven structure of the first hologram layer is formed. good. When the hologram structure of the present invention has a configuration as shown in FIG. 1, for example, and the print layer is arranged on the surface side where the uneven structure of the first hologram layer is formed, the print layer is the first. It may be arranged between the first hologram layer and the second second hologram layer, or may be arranged on the surface of the second hologram layer opposite to the first hologram layer.
(g)任意の構成
本発明のホログラム構造体は、例えば、上述した透明基材上に紫外線吸収層や赤外線吸収層、反射防止層等を有していても良い。このような任意の構成を有することにより、本発明のホログラム構造体を各種フィルタ等として用いることが可能となる。なお、紫外線吸収層や赤外線吸収層、反射防止層等については、一般的に公知のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。
(G) Arbitrary Structure The hologram structure of the present invention may have, for example, an ultraviolet absorbing layer, an infrared absorbing layer, an antireflection layer, or the like on the above-mentioned transparent base material. By having such an arbitrary configuration, the hologram structure of the present invention can be used as various filters and the like. As the ultraviolet absorbing layer, the infrared absorbing layer, the antireflection layer, and the like, generally known ones can be used, and thus the description thereof is omitted here.
2.ホログラム構造体の使用態様
本発明のホログラム構造体は、次のような使用態様を有する。なお、ホログラム構造体の使用態様の一例を、第1使用態様、第2使用態様および第3使用態様に分けて説明する。
2. Usage of Hologram Structure The hologram structure of the present invention has the following usage. An example of the usage mode of the hologram structure will be described separately for the first usage mode, the second usage mode, and the third usage mode.
(1)第1使用態様
本態様のホログラム構造体は、上記第1ホログラム層の凹凸面側に接着層を有し、ホログラムシールとして用いられることを特徴とする。
(1) First Usage Mode The hologram structure of this mode has an adhesive layer on the uneven surface side of the first hologram layer, and is used as a hologram seal.
本態様のホログラム構造体は、例えば、上述した図1に示すように、第1ホログラム層1aの凹凸面側に接着層2を有することで、ホログラムシールとして用いることができる。具体的には、第1ホログラム層1aの凹凸面側であって、第2ホログラム層1bの第1ホログラム層1aとは反対側の面、いわゆるホログラム構造体の最外層として接着層2を有することが好ましい。
The hologram structure of this embodiment can be used as a hologram seal by having an
本態様のホログラム構造体をホログラムシールとして用いる場合、ホログラムシールは接着層を介して被着体に貼り付けられる。このときの被着体は、少なくとも透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なる領域において透明性を有していても良く、透明性を有していなくても良い。図11(a)に示すように、ホログラムシール100aを、少なくとも透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なる領域において透明性を有する被着体200に貼り付けた場合には、透明基材4側から点光源により光L10を反射させて第1光像を表示することができ、また、被着体200を介して点光源により光L20を透過させて第2光像を表示することができる。一方、図11(b)に示すように、ホログラムシール100aを、透明性を有しない被着体200に貼り付けた場合には、透明基材4側から点光源により光L10を反射させて第1光像を表示することができるが、被着体200を介して点光源より光L20を透過させることは困難となる。したがって、この場合には、図11(c)に示すように、ホログラムシール100aを被着体200から剥離して第2光像を表示することが好ましい。図11(a)〜(c)において説明していない符号については、上述した図1と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
When the hologram structure of this embodiment is used as a hologram sticker, the hologram sticker is attached to an adherend via an adhesive layer. The adherend at this time may or may not have transparency at least in a region that overlaps with the transmissive Fourier transform hologram region in a plan view. As shown in FIG. 11A, when the
本態様において、被着体が透明性を有しない場合には、ホログラムシールを用いた真贋判定を行うことができ、偽造防止性の更なる向上を図ることが可能となる。具体的には、ホログラムシールを被着体から剥離し、点光源を透過させた際に初めて第2光像を表示することができるため、ホログラムシールが、第2光像を表示するための透過型フーリエ変換ホログラム領域を有することを隠ぺいすることができ、偽造防止性の更なる向上を図ることができる。 In this embodiment, when the adherend does not have transparency, the authenticity can be determined using the hologram sticker, and the anti-counterfeiting property can be further improved. Specifically, since the second light image can be displayed only when the hologram sticker is peeled off from the adherend and transmitted through a point light source, the hologram sticker is transparent for displaying the second light image. It is possible to hide the fact that it has a type Fourier transform hologram region, and it is possible to further improve the anti-counterfeiting property.
なお、本態様のホログラム構造体は、必要に応じて上記「1.構成 (4)その他の構成」の項に記載した構成を有していても良い。 The hologram structure of this embodiment may have the configuration described in the above section "1. Configuration (4) Other configurations", if necessary.
本態様において用いられる接着層については、上記「1.構成 (4)その他の構成 (b)接着層」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 Since the adhesive layer used in this embodiment can be the same as the content described in the above section "1. Configuration (4) Other configurations (b) Adhesive layer", the description here is omitted.
本態様のホログラム構造体をホログラムシールとして用いる場合の具体的な用途としては、例えば、チケット、ブランド品、製品の品質管理番号ラベル等に貼り付けて、真贋判定としての用途が挙げられる。 Specific uses of the hologram structure of this embodiment as a hologram sticker include, for example, affixing it to a ticket, a branded product, a quality control number label of a product, or the like to determine authenticity.
(2)第2使用態様
本態様のホログラム構造体は、上記第1ホログラム層の凹凸面側にヒートシール層を有し、上記第1ホログラム層の凹凸面とは反対側の面に剥離容易層を有し、上記剥離容易層の上記第1ホログラム層とは反対側の面に剥離用基材を有し、ホログラム転写箔として用いられることを特徴とする。
(2) Second Usage Mode The hologram structure of this embodiment has a heat seal layer on the uneven surface side of the first hologram layer, and is an easily peelable layer on the surface opposite to the uneven surface of the first hologram layer. The peeling base material is provided on the surface of the easily peelable layer opposite to the first hologram layer, and is used as a hologram transfer foil.
本態様のホログラム構造体は、例えば、図12に示すようにホログラム転写箔100bとして用いることができる。例えば、ホログラム転写箔100bは、第1ホログラム層1aの凹凸面側の最外層となる位置、すなわち、第2ホログラム層1bの第1ホログラム層1aとは反対側の面にヒートシール層5を有し、第1ホログラム層1aの凹凸面とは反対側の面に剥離容易層6を有し、剥離容易層6の第1ホログラム層1aとは反対側の面に剥離基材7を有する。
The hologram structure of this embodiment can be used as, for example, the
なお、本態様のホログラム構造体は、必要に応じて上記「1.構成 (4)その他の構成」の項に記載した構成を有していても良い。 The hologram structure of this embodiment may have the configuration described in the above section "1. Configuration (4) Other configurations", if necessary.
以下、本態様のホログラム構造体に用いられる構成について説明する。 Hereinafter, the configuration used for the hologram structure of this embodiment will be described.
(a)ヒートシール層
本態様におけるヒートシール層は、ホログラム構造体を被着体に貼り付ける機能を有する。
(A) Heat-seal layer The heat-seal layer in this embodiment has a function of attaching a hologram structure to an adherend.
本態様におけるヒートシール層は、ホログラム構造体を被着体に貼り付けることができれば良く、その材料については特に限定されない。具体的なヒートシール層の材料については、例えば、特開2014−16422号公報に開示された熱可塑性樹脂を含むヒートシール層が挙げられる。 The heat seal layer in this embodiment is not particularly limited as long as the hologram structure can be attached to the adherend. Specific examples of the heat-sealing layer material include a heat-sealing layer containing a thermoplastic resin disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-16422.
(b)剥離用基材
本態様における剥離用基材は、ホログラム構造体を支持する部材である。また、本態様における剥離用基材は、上述したヒートシール層を用いてホログラム構造体を被着体に貼り付けた後に、ホログラム構造体から剥離される部材である。
(B) Peeling base material The peeling base material in this embodiment is a member that supports the hologram structure. Further, the peeling base material in this embodiment is a member that is peeled off from the hologram structure after the hologram structure is attached to the adherend using the heat seal layer described above.
剥離用基材は、透明性を有していても良く、透明性を有しなくても良い。なお、剥離用基材の材料や厚み等については、例えば、上記「1.構成 (4)その他の構成 (a)透明基材」の項に記載した透明基材の材料や厚みと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 The peeling base material may or may not have transparency. The material and thickness of the peeling base material are the same as those of the transparent base material described in the above section "1. Composition (4) Other configurations (a) Transparent base material". Therefore, the description here is omitted.
(c)剥離容易層
本態様における剥離容易層は、上述したヒートシール層を介してホログラム構造体を被着体に貼り付けた後に、ホログラム構造体から上述した剥離用基材を容易に剥離するための部材である。
(C) Easy-to-peel layer The easy-to-peel layer in this embodiment easily peels off the above-mentioned peeling base material from the hologram structure after the hologram structure is attached to the adherend via the above-mentioned heat seal layer. It is a member for.
本態様における剥離容易層は、例えば上記「1.構成 (4)その他の構成 (b)接着層」の項に記載した再剥離密着層と同様とすることができる。 The easy-to-peel layer in this embodiment can be, for example, the same as the re-peelable adhesive layer described in the above section “1. Configuration (4) Other configurations (b) Adhesive layer”.
本態様における剥離容易層の平面視上の配置位置としては、剥離容易層が所望の機能を発揮することができる位置であれば良く、特に限定されない。剥離容易層は、平面視上、剥離用基材の全面に配置されていれも良く、パターン状に配置されていても良い。 The position of the easy-to-peel layer in the plan view in this embodiment is not particularly limited as long as the easy-to-peel layer can exert a desired function. The easily peelable layer may be arranged on the entire surface of the peeling base material in a plan view, or may be arranged in a pattern.
(3)第3使用態様
本態様のホログラム構造体は、情報記録媒体として用いられることを特徴とする。
(3) Third Use Mode The hologram structure of this mode is characterized in that it is used as an information recording medium.
本態様のホログラム構造体は、例えば、図13に示すように、情報記録媒体100cとして用いることができる。例えば、情報記録媒体100cは、第1ホログラム層1aの凹凸面側、すなわち、第2ホログラム層1bの第1ホログラム層1aとは反対側の面に、層間接着層8を介して裏面側保護層9aを有し、第1ホログラム層1aの凹凸面とは反対側の面に、中間基材11を有し、さらに、中間基材11の第1ホログラム層1aとは反対側の面に層間接着層8を介して表面側保護層9bを有する。
The hologram structure of this embodiment can be used as the
本態様のホログラム構造体を情報記録媒体として用いる場合の具体的な用途としては、例えば、クレジットカード、キャッシュカード、ポイントカード等のカード、社員証、運転免許証等の身分証明書、通帳やパスポート等が挙げられる。本態様においては、ホログラム構造体と平面視上重なる部材が所定の透明性を有する。ホログラム構造体に光源からの光を照射することで、第1光像または第2光像を表示するためである。 Specific uses when the hologram structure of this embodiment is used as an information recording medium include, for example, credit cards, cash cards, point cards and other cards, employee ID cards, driver's licenses and other identification cards, passbooks and passports. And so on. In this embodiment, the member that overlaps the hologram structure in a plan view has a predetermined transparency. This is to display a first light image or a second light image by irradiating the hologram structure with light from a light source.
なお、本態様のホログラム構造体は、必要に応じて上記「1.構成 (4)その他の構成」の項に記載した構成を有していても良い。また、図13に示すように、中間基材や裏面側保護層、表面側保護層等を有していても良い。 The hologram structure of this embodiment may have the configuration described in the above section "1. Configuration (4) Other configurations", if necessary. Further, as shown in FIG. 13, it may have an intermediate base material, a back surface side protective layer, a front surface side protective layer, and the like.
以下、本態様のホログラム構造体に用いられる構成について説明する。 Hereinafter, the configuration used for the hologram structure of this embodiment will be described.
(a)表面側保護層および裏面側保護層
本態様における表面側保護層および裏面側保護層は、通常、少なくとも反射型フーリエ変換ホログラム領域および透過型フーリエ変換ホログラム領域と平面視上重なる領域において透明性を有する部材である。
(A) Front-side protective layer and back-side protective layer The front-side protective layer and the back-side protective layer in this embodiment are usually transparent at least in a region that overlaps the reflective Fourier transform hologram region and the transmissive Fourier transform hologram region in a plan view. It is a member having a property.
本態様における表面側保護層および裏面側保護層に用いられる材料としては、例えば、ポリカーボネートが挙げられる。なお、表面側保護層および裏面側保護層に用いられる具体的な材料や厚み等については、上記「1.構成 (4)その他の構成 (a)透明基材」の項に記載した透明基材の材料や厚みと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 Examples of the material used for the front surface side protective layer and the back surface side protective layer in this embodiment include polycarbonate. The specific materials and thicknesses used for the front surface side protective layer and the back surface side protective layer are described in the above section "1. Configuration (4) Other configurations (a) Transparent substrate". Since it can be the same as the material and thickness of the above, the description here is omitted.
本態様における表面側保護層および裏面側保護層は、ホログラム構造体を保護するという機能を有する。そのため、表面側保護層および裏面側保護層は、平面視上、ホログラム構造体の全面を覆うように形成されることが好ましい。 The front surface side protective layer and the back surface side protective layer in this embodiment have a function of protecting the hologram structure. Therefore, it is preferable that the front surface side protective layer and the back surface side protective layer are formed so as to cover the entire surface of the hologram structure in a plan view.
(b)中間基材
本態様における中間基材は、ホログラム構造体および表面側保護層等を支持するための部材である。このような中間基材は、上記「1.構成 (4)その他の構成 (a)透明基材」の項に記載した透明基材と兼用する部材であっても良い。
(B) Intermediate base material The intermediate base material in this embodiment is a member for supporting the hologram structure, the surface side protective layer, and the like. Such an intermediate base material may be a member that also serves as the transparent base material described in the above section "1. Structure (4) Other configurations (a) Transparent base material".
本態様における中間基材に用いられる材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートが挙げられる。なお、中間基材に用いられる具体的な材料や厚み等については、上記「1.構成 (4)その他の構成 (a)透明基材」の項に記載した透明基材の材料や厚みと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。 Examples of the material used for the intermediate base material in this embodiment include polyethylene terephthalate. The specific material and thickness used for the intermediate base material are the same as the material and thickness of the transparent base material described in the above section "1. Composition (4) Other configurations (a) Transparent base material". Therefore, the description here is omitted.
本態様における中間基材は、通常、平面視上、ホログラム構造体の全面を覆うように形成される。 The intermediate base material in this embodiment is usually formed so as to cover the entire surface of the hologram structure in a plan view.
(c)その他の構成
本態様におけるその他の構成としては、例えば、情報を記録する情報記録層が挙げられる。情報記録層としては、例えば、印刷により情報が記録された印刷層、磁気等により情報が記録された磁気層、集積回路(IC)チップを含むICチップ層等が挙げられる。その他にも、アンテナを含むアンテナ層等の機能層を有していても良い。
(C) Other configurations Other configurations in this embodiment include, for example, an information recording layer for recording information. Examples of the information recording layer include a printing layer in which information is recorded by printing, a magnetic layer in which information is recorded by magnetism, an IC chip layer including an integrated circuit (IC) chip, and the like. In addition, it may have a functional layer such as an antenna layer including an antenna.
上述したその他の構成は、本態様のホログラム構造体による第1光像および第2光像の表示を妨げない位置に適宜配置することができる。 The other configurations described above can be appropriately arranged at positions that do not interfere with the display of the first light image and the second light image by the hologram structure of this embodiment.
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an example, and any object having substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and exhibiting the same effect and effect is the present invention. Is included in the technical scope of.
[実施例]
(マスター原版の形成)
合成石英の基板上に表面低反射クロム薄膜が積層されたフォトマスクブランク板(アルバック成膜株式会社製 マスクブランクス)を準備した。上記フォトマスクブランク板のクロム薄膜上に、ドライエッチング用レジストをスピンナーにより回転塗布した。ドライエッチング用レジストとしては日本ゼオン(株)製ZEP7000を使用し、400nmの厚みとなるように形成した。このレジスト層に対し、電子線描画装置(MEBES4500:ETEC社製)を用い、事前に計算機で作成したパターンを露光し、レジスト樹脂の露光部分を易溶化した。その後、現像液を噴霧(スプレー現像)して易溶化部分を除去し、レジストパターンを形成した。なお、パターンの格子ピッチは、3179nmとした。
続いて、形成されたレジストパターンを利用して、ドライエッチングによりレジストで被覆されていない部分のクロム薄膜をエッチング除去し、石英基板を露出させた。次いで、露出した石英基板をエッチングし、石英基板に凹部を形成した。その後、レジスト薄膜を溶解除去することにより、石英基板がエッチングされて生じた凹部と、石英基板およびクロム薄膜がエッチングされずに残存している凸部とを有するマスター原版を得た。また、マスター原版のサイズを150mm×150mm角とした。
[Example]
(Formation of master original plate)
A photomask blank plate (mask blanks manufactured by ULVAC COATING Co., Ltd.) in which a surface low-reflection chromium thin film was laminated on a synthetic quartz substrate was prepared. A resist for dry etching was rotationally coated on the chromium thin film of the photomask blank plate with a spinner. ZEP7000 manufactured by Nippon Zeon Corporation was used as the resist for dry etching, and the resist was formed so as to have a thickness of 400 nm. An electron beam drawing apparatus (MEBES4500: manufactured by ETEC) was used to expose the resist layer to a pattern prepared in advance by a computer to easily dissolve the exposed portion of the resist resin. Then, the developer was sprayed (spray developed) to remove the easily soluble portion to form a resist pattern. The lattice pitch of the pattern was 3179 nm.
Subsequently, using the formed resist pattern, the chromium thin film in the portion not covered with the resist was removed by etching by dry etching to expose the quartz substrate. The exposed quartz substrate was then etched to form recesses in the quartz substrate. Then, by dissolving and removing the resist thin film, a master original plate having a concave portion formed by etching the quartz substrate and a convex portion remaining without etching the quartz substrate and the chromium thin film was obtained. The size of the master original plate was set to 150 mm × 150 mm square.
(反射型フーリエ変換ホログラム領域の形成)
透明基材として、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡株式会社製 A4300)を準備した。この透明基材に、ホログラム層形成用組成物(UV硬化性アクリレート樹脂:屈折率1.52 測定波長633nm)を滴下し、上記組成物の塗膜を形成した。次いで、上記塗膜上に凹凸を有するマスター原版を積置し、押圧した。
次に、マスター原版が積置された状態で活性放射線を照射して上記塗膜を硬化させた。その後、マスター原版を剥離させ、マスター原版の凹凸型を反転させた凹凸表面を有する第1ホログラム層を形成した。その後、マスター原版の積置、押圧、硬化および剥離を繰り返し、単一のフーリエ変換ホログラム領域を複数有する15mm角の反射型フーリエ変換ホログラム領域を形成した。反射型フーリエ変換ホログラム領域を有する第1ホログラム層の厚みは2μmである。
(Formation of reflective Fourier transform hologram region)
A polyethylene terephthalate film (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was prepared as a transparent base material. A composition for forming a hologram layer (UV curable acrylate resin: refractive index 1.52, measurement wavelength 633 nm) was added dropwise to this transparent substrate to form a coating film of the above composition. Next, a master original plate having irregularities was placed on the coating film and pressed.
Next, the coating film was cured by irradiating active radiation with the master original plate stacked. Then, the master original plate was peeled off to form a first hologram layer having an uneven surface obtained by inverting the concave-convex type of the master original plate. After that, the master original plate was repeatedly stacked, pressed, cured, and peeled to form a 15 mm square reflective Fourier transform hologram region having a plurality of single Fourier transform hologram regions. The thickness of the first hologram layer having the reflective Fourier transform hologram region is 2 μm.
(透過型フーリエ変換ホログラム領域の形成)
次いで、反射型フーリエ変換ホログラム領域とは異なるフーリエ変換パターンが形成されたグラビア印刷版胴を用いて、水溶性インキをAl層表面に印刷した。ここで用いた水溶性インキは尾池アドバンストフィルム株式会社製 SL No14クリヤー(改)である。次いで、第1ホログラム層の凹凸面側の全面に膜厚100nmのAl層をスパッタリング法により形成した。次いで、Al層表面側を水洗したところ、水溶性インキが溶け落ちるのとともに、その水溶性インキ膜上に付着していたAl層も一緒に除去された。このようにして、Al層がパターン状に形成された第2ホログラム層を形成した。
(Formation of transparent Fourier transform hologram region)
Next, the water-soluble ink was printed on the surface of the Al layer using a gravure printing plate cylinder on which a Fourier transform pattern different from that of the reflective Fourier transform hologram region was formed. The water-soluble ink used here is SL No14 Clear (revised) manufactured by Oike Advanced Film Co., Ltd. Next, an Al layer having a film thickness of 100 nm was formed on the entire surface of the first hologram layer on the uneven surface side by a sputtering method. Next, when the surface side of the Al layer was washed with water, the water-soluble ink melted down and the Al layer adhering to the water-soluble ink film was also removed. In this way, the second hologram layer in which the Al layer was formed in a pattern was formed.
[評価]
得られた本発明のホログラム構造体の透明基材側に点光源を配置し、透明基材側から目視で反射観察したところ、15mm角の反射型フーリエ変換ホログラム領域内に、フーリエ変換された第1ホログラム層による所定の画像、すなわち第1光像を視認性良く観察することがでた。また、第2ホログラム層側に点光源を配置し、透明基材側から透過観察したところ、第2ホログラム層による所定の画像、すなわち第2光像を視認性良く観察することができた。
[evaluation]
When a point light source was placed on the transparent base material side of the obtained hologram structure of the present invention and visually reflected and observed from the transparent base material side, the Fourier transformed third within the 15 mm square reflective Fourier transform hologram region. It was possible to observe a predetermined image by one hologram layer, that is, a first optical image with good visibility. Further, when a point light source was arranged on the second hologram layer side and transmission observation was performed from the transparent substrate side, a predetermined image by the second hologram layer, that is, a second light image could be observed with good visibility.
1a … 第1ホログラム層
1b … 第2ホログラム層
2 … 接着層
3 … セパレータ
4 … 透明基材
5 … ヒートシール層
6 … 剥離容易層
7 … 剥離層
8 … 層間接着層
9a … 裏面側保護層
9b … 表面側保護層
10 … 第1光像
20 … 第2光像
10’、20’…フーリエ変換像
11 … 中間基材
100… ホログラム構造体
100a…ホログラムシール
100b…ホログラム転写箔
100c…情報記録媒体
1a ...
Claims (1)
前記反射型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、表面に凹凸面を有する第1ホログラム層の前記凹凸面で反射した反射光を、第1光像に変換する領域であり、
前記透過型フーリエ変換ホログラム領域は、点光源から入射した光が、パターン状に配置された第2ホログラム層を透過した透過光を、第2光像に変換する領域であることを特徴とするホログラム構造体。 A hologram structure having a reflective Fourier transform hologram region and a transmissive Fourier transform hologram region.
The reflective Fourier transform hologram region is a region in which light incident from a point light source converts the reflected light reflected by the uneven surface of the first hologram layer having an uneven surface on the surface into a first optical image.
The transmission type Fourier transform hologram region is a hologram in which light incident from a point light source converts transmitted light transmitted through a second hologram layer arranged in a pattern into a second light image. Structure.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021114886A JP2021177248A (en) | 2017-03-31 | 2021-07-12 | Hologram structure |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017070024A JP6915346B2 (en) | 2017-03-31 | 2017-03-31 | Hologram structure |
JP2021114886A JP2021177248A (en) | 2017-03-31 | 2021-07-12 | Hologram structure |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017070024A Division JP6915346B2 (en) | 2017-03-31 | 2017-03-31 | Hologram structure |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021177248A true JP2021177248A (en) | 2021-11-11 |
Family
ID=64108696
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017070024A Active JP6915346B2 (en) | 2017-03-31 | 2017-03-31 | Hologram structure |
JP2021114886A Pending JP2021177248A (en) | 2017-03-31 | 2021-07-12 | Hologram structure |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017070024A Active JP6915346B2 (en) | 2017-03-31 | 2017-03-31 | Hologram structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6915346B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2017-03-31 JP JP2017070024A patent/JP6915346B2/en active Active
-
2021
- 2021-07-12 JP JP2021114886A patent/JP2021177248A/en active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6915346B2 (en) | 2021-08-04 |
JP2018173463A (en) | 2018-11-08 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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