JP6759600B2 - Hologram structure - Google Patents
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Description
本発明は、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体に関するものである。 The present invention relates to a hologram structure having excellent anti-counterfeiting property and designability.
ホログラムは、波長の等しい二つの光(物体光と参照光)を干渉させることによって、物体光の波面が干渉縞として感光材料に記録されたものであり、干渉縞記録時の参照光と同一波長の光が当てられると干渉縞によって回折現象が生じ、元の物体光と同一の波面が再生することが可能である。ホログラムは、外観が美しく、複製が比較的困難である等の利点を有することから偽造防止用途等に多く使用されている。
ホログラムの使用方法としては、ホログラムに対して参照光を透過または反射させることで、光像として再生する方法が知られている。
例えば、特許文献1では、レーザー反射型ホログラムで反射した回折光をスクリーンに投影することで再生された光像を用いて、真贋判定を行うことが記載されている。
A hologram is one in which the wave surface of an object light is recorded on a photosensitive material as interference fringes by interfering two lights having the same wavelength (object light and reference light), and has the same wavelength as the reference light at the time of recording the interference fringes. When the light of the above is applied, a diffraction phenomenon occurs due to the interference fringes, and it is possible to reproduce the same wave surface as the original object light. Holograms are often used for anti-counterfeiting applications because they have advantages such as a beautiful appearance and relatively difficult duplication.
As a method of using the hologram, a method of reproducing the hologram as an optical image by transmitting or reflecting reference light to the hologram is known.
For example, Patent Document 1 describes that authenticity determination is performed using an optical image reproduced by projecting diffracted light reflected by a laser-reflecting hologram onto a screen.
しかしながら、特許文献1に記載されるようなスクリーンに投影した光像のみでは高度な偽造防止効果および意匠の付与が困難であるといった問題がある。 However, there are problems that it is difficult to give a high degree of anti-counterfeiting effect and a design only by the light image projected on the screen as described in Patent Document 1.
このような問題に対して、本発明者等は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラム形成領域を有するホログラム層を有するホログラム構造体を提案している。
このようなホログラム構造体によれば、例えば、点光源をホログラム形成領域上に配置した状態で、ホログラム形成領域を正面から平面視した場合にのみ、ホログラム形成領域内に光像を観察可能となる。このため、上記ホログラム構造体は、例えば、点光源を配置した場合のみ光像が観察可能となることを知っている者のみが観察可能とすることができる等、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。
また、上記ホログラム構造体は、点光源をホログラム形成領域上に配置することで、ホログラム形成領域内に、ホログラム形成領域の正面から観察可能な光像を再生することができる。このため、上記ホログラム構造体は、光像を投影するスクリーン等を別途準備することなく、真贋判定および意匠性の発現等を容易に行うことができる。
一方で、上記ホログラム構造体は、ホログラム形成領域をその正面から平面視することで容易に光像が観察可能であることで、偽造防止性が不十分となる場合や、意匠性が不十分となる場合もある。
In response to such a problem, the present inventors have made a hologram structure having a hologram layer having a hologram forming region in which a phase-type Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired optical image. Is proposing.
According to such a hologram structure, for example, when a point light source is arranged on the hologram forming region and the hologram forming region is viewed in a plan view from the front, an optical image can be observed in the hologram forming region. .. Therefore, the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting property and design property, for example, it can be observed only by a person who knows that an optical image can be observed only when a point light source is arranged. It becomes a thing.
Further, in the hologram structure, by arranging a point light source on the hologram forming region, an optical image observable from the front of the hologram forming region can be reproduced in the hologram forming region. Therefore, the hologram structure can easily determine the authenticity and express the design without separately preparing a screen or the like for projecting an optical image.
On the other hand, in the hologram structure, the light image can be easily observed by viewing the hologram forming region from the front in a plan view, so that the anti-counterfeiting property is insufficient or the design property is insufficient. In some cases.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a hologram structure having excellent anti-counterfeiting property and designability.
上記目的を達成するために、本発明は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域を有するホログラム層と、上記ホログラム層の上記反射型ホログラム形成領域の凹凸表面に接するように形成された蒸着層と、を有し、上記光像が、上記反射型ホログラム形成領域に対して点光源とは異なる方向からのみ観察可能な第1光像を含むことを特徴とするホログラム構造体を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention comprises a hologram layer having a reflective hologram forming region in which a phased Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired optical image, and the hologram layer. It has a vapor-deposited layer formed so as to be in contact with the uneven surface of the reflective hologram forming region, and the optical image can be observed only from a direction different from the point light source with respect to the reflective hologram forming region. Provided is a hologram structure characterized by containing a first light image.
本発明によれば、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域(以下、単にホログラム形成領域と称する場合がある。)を有するホログラム層を用いることで、上記ホログラム構造体は、点光源により平面視上ホログラム形成領域内に光像を再生できる。
また、上記光像は、上記反射型ホログラム形成領域に対して点光源とは異なる方向からのみ観察可能な第1光像を含むものであることにより、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。
According to the present invention, a reflective hologram forming region (hereinafter, may be simply referred to as a hologram forming region) in which a phase Fourier transform hologram that converts light incident from a point light source into a desired optical image is recorded. By using the included hologram layer, the hologram structure can reproduce an optical image in the hologram forming region in a plan view by a point light source.
Further, since the optical image includes a first optical image that can be observed only from a direction different from that of the point light source with respect to the reflective hologram forming region, it is excellent in anti-counterfeiting property and designability.
本発明においては、上記光像が、上記反射型ホログラム形成領域に対して点光源と同一方向から観察可能な第2光像を含むことが好ましい。上記ホログラム構造体は、第1光像および第2光像を用いることで、偽造防止性および意匠性により優れたものとなるからである。 In the present invention, it is preferable that the optical image includes a second optical image that can be observed from the same direction as the point light source with respect to the reflective hologram forming region. This is because the hologram structure becomes more excellent in anti-counterfeiting property and design property by using the first light image and the second light image.
本発明においては、上記ホログラム層の上記反射型ホログラム形成領域には、点光源から入射した光を上記光像へ変換可能なホログラムセルと、上記ホログラムセルと同一平面上に形成され、平面視上パターン状に配置されることにより回折格子図柄を描画する回折格子セルと、が配置されていることが好ましい。上記ホログラム構造体は、第1光像および回折格子図柄を用いることで、偽造防止性および意匠性により優れたものとなるからである。 In the present invention, in the reflective hologram forming region of the hologram layer, a hologram cell capable of converting light incident from a point light source into the optical image and a hologram cell formed on the same plane as the hologram cell are formed in a plan view. It is preferable that the diffraction grating cells that draw the diffraction grating pattern by being arranged in a pattern are arranged. This is because the hologram structure is more excellent in anti-counterfeiting property and design property by using the first optical image and the diffraction grating pattern.
本発明においては、上記回折格子図柄が、平面的に図柄を再生可能な平面回折格子図柄であることが好ましい。平面回折格子図柄と光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。また、平面回折格子図柄は高輝度なものとすることが容易であり、視認性に優れた回折格子図柄を再生できるからである。 In the present invention, it is preferable that the diffraction grating design is a plane diffraction grating design that can reproduce the design in a plane. This is because the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting property and design property by being able to combine the planar diffraction grating pattern and the optical image. Further, it is easy to make the plane diffraction grating symbol have high brightness, and it is possible to reproduce the diffraction grating symbol having excellent visibility.
本発明においては、上記回折格子図柄が、立体的に図柄を再生可能な立体回折格子図柄であることが好ましい。立体回折格子図柄と光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。 In the present invention, it is preferable that the diffraction grating symbol is a three-dimensional diffraction grating symbol that can reproduce the symbol three-dimensionally. This is because the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting property and design property by being able to combine the three-dimensional diffraction grating pattern and the optical image.
本発明においては、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ホログラム層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、上記剥離容易層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、を有し、ホログラム転写箔として用いられることが好ましい。ホログラム転写箔として用いられることで、ホログラム構造体は、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できるからである。例えば、上記ホログラム構造体は、紙基材の裏面に接着層および剥離シートを有するラベルの紙基材表面に転写することで、偽造防止性および意匠性に優れたラベルを容易に得ることができる。 In the present invention, the heat-sealing layer formed on the surface of the hologram layer opposite to the hologram layer, the easily peelable layer formed on the surface of the hologram layer opposite to the hologram layer, and the above. It is preferable that the easily peelable layer has a peeling base material formed on the surface opposite to the hologram layer and is used as a hologram transfer foil. This is because the hologram structure can easily impart anti-counterfeiting property and design property to the adherend by being used as the hologram transfer foil. For example, by transferring the hologram structure to the surface of a label having an adhesive layer and a release sheet on the back surface of the paper substrate, a label having excellent anti-counterfeiting property and designability can be easily obtained. ..
本発明においては、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ヒートシール層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された紙基材と、上記紙基材の上記ヒートシール層とは反対側の表面に形成された接着層と、上記接着層の上記紙基材とは反対側の表面に形成された剥離シートと、を有し、ラベルとして用いられることが好ましい。ラベルとして用いられることで、ホログラム構造体は、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できるからである。 In the present invention, the heat-sealing layer formed on the surface of the vapor-deposited layer opposite to the hologram layer, and the paper base material formed on the surface of the heat-sealing layer opposite to the vapor-deposited layer. It has an adhesive layer formed on the surface of the paper substrate opposite to the heat seal layer, and a release sheet formed on the surface of the adhesive layer opposite to the paper substrate, and has a label. It is preferable to be used as. This is because the hologram structure can easily impart anti-counterfeiting property and design property to the adherend by being used as a label.
本発明は、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体を提供できるという効果を奏する。 The present invention has an effect of being able to provide a hologram structure having excellent anti-counterfeiting property and designability.
以下、本発明のホログラム構造体について詳細に説明する。
本発明のホログラム構造体は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域を有するホログラム層と、上記ホログラム層の上記反射型ホログラム形成領域の凹凸表面に接するように形成された蒸着層と、を有し、上記光像が、上記反射型ホログラム形成領域に対して点光源とは異なる方向からのみ観察可能な第1光像を含むことを特徴とするものである。
Hereinafter, the hologram structure of the present invention will be described in detail.
The hologram structure of the present invention includes a hologram layer having a reflective hologram forming region in which a phase-type Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired optical image, and the reflective type of the hologram layer. A first optical image having a vapor-deposited layer formed so as to be in contact with the uneven surface of the hologram forming region, and the optical image can be observed only from a direction different from that of a point light source with respect to the reflective hologram forming region. It is characterized by including.
このような本発明のホログラム構造体について図面を参照して説明する。
図1は、本発明のホログラム構造体の一例を示す概略平面図であり、図2は、図1のA−A線断面図である。図1および図2に示すように、本発明のホログラム構造体10は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域11を有するホログラム層1と、上記ホログラム層1の上記反射型ホログラム形成領域11の凹凸表面1aに接するように形成された蒸着層2と、を有し、上記光像が、上記反射型ホログラム形成領域11に対して点光源とは異なる方向からのみ観察可能な第1光像を含むものである。
なお、この例では、ホログラム層1の蒸着層2とは反対側の表面に透明基材3が積層する例を示すものである。
また、図1は説明の容易のため、透明基材の記載を省略するものである。また、図1では、破線で囲まれた領域がホログラム形成領域11である。
Such a hologram structure of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of the hologram structure of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the hologram structure 10 of the present invention has a reflective hologram forming region 11 in which a phase-type Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired optical image. The hologram layer 1 has the hologram layer 1 and the vapor-deposited layer 2 formed so as to be in contact with the uneven surface 1a of the reflective hologram forming region 11 of the hologram layer 1, and the optical image is the reflective hologram forming region 11. On the other hand, it includes a first light image that can be observed only from a direction different from that of the point light source.
In this example, the transparent base material 3 is laminated on the surface of the hologram layer 1 opposite to the vapor deposition layer 2.
Further, in FIG. 1, the description of the transparent base material is omitted for the sake of simplicity. Further, in FIG. 1, the region surrounded by the broken line is the hologram forming region 11.
本発明によれば、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラム形成領域を有するホログラム層を用いることで、上記ホログラム構造体は、点光源により平面視上ホログラム形成領域内に光像を再生できる。
また、上記光像は、上記ホログラム形成領域に対して点光源とは異なる方向からのみ観察可能な第1光像を含むものである。
例えば、図3(a)に例示するように、点光源21をホログラム形成領域11の中心点から垂直方向に配置した際に、点光源21と同一方向からホログラム形成領域11を観察する観察者31aは、ホログラム形成領域11内に光像を観察することができない(図3(b))が、図3(a)において点光源とは異なる方向からホログラム形成領域11を観察する観察者31bは、ホログラム形成領域11内に第1光像12の画像である「1」を観察可能とすることができる(図3(c))。
さらに、光像が、上記反射型ホログラム形成領域に対して点光源と同一方向から観察可能な第2光像を有するものである場合には、図4(a)に例示するように、点光源21をホログラム形成領域11の中心点から垂直方向に配置した際に、点光源21と同一方向からホログラム形成領域11を観察する観察者31aは、ホログラム形成領域11内に第2光像13の画像である「OK」のみを観察することができ(図4(b))、図4(a)において点光源21とは異なる方向からホログラム形成領域11を観察する観察者31bは、ホログラム形成領域11内に第1光像12の画像である「1」のみを観察可能とすることができる(図4(c))。
According to the present invention, the hologram structure can be a point light source by using a hologram layer having a hologram forming region in which a phased Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired optical image. Therefore, the optical image can be reproduced in the hologram forming region in a plan view.
Further, the optical image includes a first optical image that can be observed only from a direction different from that of the point light source with respect to the hologram forming region.
For example, as illustrated in FIG. 3A, when the point light source 21 is arranged in the direction perpendicular to the center point of the hologram forming region 11, the observer 31a observes the hologram forming region 11 from the same direction as the point light source 21. Cannot observe an optical image in the hologram forming region 11 (FIG. 3 (b)), but the observer 31b who observes the hologram forming region 11 from a direction different from the point light source in FIG. 3 (a) The image "1" of the first optical image 12 can be observed in the hologram forming region 11 (FIG. 3 (c)).
Further, when the light image has a second light image that can be observed from the same direction as the point light source with respect to the reflective hologram forming region, the point light source is illustrated as shown in FIG. 4 (a). When the 21 is arranged in the direction perpendicular to the center point of the hologram forming region 11, the observer 31a observing the hologram forming region 11 from the same direction as the point light source 21 sees the image of the second light image 13 in the hologram forming region 11. Only "OK" can be observed (FIG. 4B), and the observer 31b who observes the hologram forming region 11 from a direction different from that of the point light source 21 in FIG. 4A can observe the hologram forming region 11. Only "1", which is an image of the first optical image 12, can be observed inside (FIG. 4 (c)).
このように、点光源とは異なる所定の方向からのみ第1光像を観察可能であるため、上記ホログラム構造体は、例えば、第1光像が記録されていることを知っている者のみが、第1光像を観察可能なものとすることができる。したがって、上記ホログラム構造体は、偽造防止性に優れたものとなる。
また、上記ホログラム構造体は、点光源とは異なる方向からのみ観察可能な第1光像により意外性を観察者に与えることができる。したがって、上記ホログラム構造体は、意匠性に優れたものとなる。
さらに、点光源からの光照射を受けているときのみ光像を再生できることから、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。
As described above, since the first light image can be observed only from a predetermined direction different from that of the point light source, the hologram structure can be used only by a person who knows that the first light image is recorded, for example. , The first optical image can be made observable. Therefore, the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting property.
Further, the hologram structure can give the observer unexpectedness by the first light image that can be observed only from a direction different from that of the point light source. Therefore, the hologram structure is excellent in design.
Further, since the optical image can be reproduced only when it is irradiated with light from a point light source, the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting property and design property.
また、上述のような点光源とは異なる方向からのみ観察可能な第1光像は、ホログラム形成領域よりも面積が広く、ホログラム形成領域の外側に形成される仮想ホログラム形成領域に、第1光像の画像が再生されるように設計することで得ることができる。つまり、上記第1光像は、本来大面積のホログラム形成領域で再生可能な光像を、小さい面積のホログラム形成領域に記録することで、点光源とは異なる方向からのみ観察可能な第1光像が再生されることになるのである。
このため、例えば、ホログラム形成領域が小さい場合であっても、ホログラム層を介して光像を効果的に再生することができ、偽造防止性および意匠性を高めることができるのである。
Further, the first light image that can be observed only from a direction different from the point light source as described above has a larger area than the hologram forming region, and the first light is generated in the virtual hologram forming region formed outside the hologram forming region. It can be obtained by designing the image of the image to be reproduced. That is, the first light image is a first light that can be observed only from a direction different from that of a point light source by recording an optical image that can be reproduced in a hologram forming region having a large area in a hologram forming region having a small area. The image will be reproduced.
Therefore, for example, even when the hologram forming region is small, the optical image can be effectively reproduced through the hologram layer, and the anti-counterfeiting property and the design property can be improved.
本発明のホログラム構造体は、ホログラム層および蒸着層を有するものである。
以下、本発明のホログラム構造体における各構成について説明する。
The hologram structure of the present invention has a hologram layer and a thin-film deposition layer.
Hereinafter, each configuration in the hologram structure of the present invention will be described.
1.ホログラム層
本発明におけるホログラム層は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域を有するものである。
1. 1. Hologram layer The hologram layer in the present invention has a reflective hologram forming region in which a phase Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point source into a desired optical image.
(1)光像
上記光像は、少なくとも第1光像を含むものである。
(1) Optical image The optical image includes at least a first optical image.
(a)第1光像
上記第1光像は、上記反射型ホログラム形成領域に対して点光源とは異なる方向からのみ観察可能なものである。
ここで、点光源とは異なる方向とは、ホログラム形成領域の中心点と第1光像を観察可能な方向とを結ぶ方向が、ホログラム形成領域の中心点と点光源とを結ぶ方向(以下、単に点光源と同一方向または点光源方向と称する場合がある。)とは異なることをいうものである。
したがって、上記反射型ホログラム形成領域に対して点光源とは異なる方向からのみ観察可能であるとは、例えば、点光源をホログラム形成領域の中心点から垂直方向に配置した際には、ホログラム形成領域の中心点から垂直方向とは異なる方向からのみ観察可能であるが、ホログラム形成領域の中心点から垂直方向の方向からは観察することができないものとすることができる。
つまり、第1光像は、点光源をホログラム形成領域の中心点から垂直方向に配置した場合には、反射型ホログラム形成領域を平面視した際に、点光源と観察者とが重ならない状態でのみ観察されるものである。
また、点光源方向とは異なる方向とは、具体的には、上記ホログラム形成領域の中心点において、上記点光源方向と、反射型ホログラム形成領域に対する仰角が1°以上異なる方向とすることができる。
つまり、点光源をホログラム形成領域の中心点から垂直方向に配置した際に、上記ホログラム形成領域の中心点を通過する第1光像が観察可能な方向の反射型ホログラム形成領域に対する仰角(以下、単に第1光像の仰角と称する場合がある。)としては、89°以下とすることができ、15°〜85°の範囲内であることが好ましく、なかでも25°〜80°の範囲内であることが好ましい。上記第1光像の仰角が上記範囲内であることにより、本発明のホログラム構造体は、例えば、点光源方向とは異なる方向からのみ反射型ホログラム形成領域内に第1光像を観察可能とすることが容易となるからである。また、本発明のホログラム構造体は、例えば、ホログラム形成領域の凹凸表面、例えば、格子ピッチ等の形成が容易なものとなるからである。
なお、点光源をホログラム形成領域の中心点から垂直方向に配置するとは、点光源とホログラム形成領域の中心点とを結ぶ直線と、ホログラム形成領域表面との間の角度である仰角(例えば図3(a)中のθ0)が90°となるように配置することをいうものである。
また、既に説明した図3(a)では、第1光像の仰角は、例えば、既に説明した図3(a)中のθ1をいうものである。
さらに、ホログラム形成領域の中心点とは、ホログラム形成領域が正方形、長方形等の矩形の場合には、2本の対角線の交点である。
(A) First light image The first light image can be observed only from a direction different from that of a point light source with respect to the reflective hologram forming region.
Here, the direction different from the point light source is that the direction connecting the center point of the hologram forming region and the direction in which the first optical image can be observed is the direction connecting the center point of the hologram forming region and the point light source (hereinafter, It is different from the same direction as the point light source or the direction of the point light source).
Therefore, it can be observed only from a direction different from that of the point light source with respect to the reflection type hologram forming region. For example, when the point light source is arranged in the direction perpendicular to the center point of the hologram forming region, the hologram forming region is observed. Although it can be observed only from a direction different from the vertical direction from the center point of the hologram forming region, it can be observed from a direction perpendicular to the center point of the hologram forming region.
That is, in the first optical image, when the point light source is arranged in the vertical direction from the center point of the hologram forming region, the point light source and the observer do not overlap when the reflective hologram forming region is viewed in a plane. Only observed.
Further, the direction different from the point light source direction can be specifically a direction in which the elevation angle with respect to the reflective hologram forming region differs from the point light source direction at the center point of the hologram forming region by 1 ° or more. ..
That is, when the point light source is arranged in the direction perpendicular to the center point of the hologram forming region, the elevation angle with respect to the reflective hologram forming region in the direction in which the first light image passing through the center point of the hologram forming region can be observed (hereinafter, The elevation angle of the first light image may be simply referred to as an elevation angle) of 89 ° or less, preferably in the range of 15 ° to 85 °, and in particular, in the range of 25 ° to 80 °. Is preferable. When the elevation angle of the first light image is within the above range, the hologram structure of the present invention can observe the first light image in the reflective hologram forming region only from a direction different from the point light source direction, for example. This is because it becomes easy to do. Further, the hologram structure of the present invention facilitates the formation of, for example, an uneven surface of a hologram forming region, for example, a lattice pitch or the like.
Placing the point light source in the vertical direction from the center point of the hologram forming region means an elevation angle (for example, FIG. 3) which is an angle between the straight line connecting the point light source and the center point of the hologram forming region and the surface of the hologram forming region. It means that the arrangement is made so that θ0) in (a) is 90 °.
Further, in FIG. 3A already described, the elevation angle of the first optical image refers to, for example, θ1 in FIG. 3A already described.
Further, the center point of the hologram forming region is an intersection of two diagonal lines when the hologram forming region is a rectangle such as a square or a rectangle.
上記第1光像の数としては、少なくとも1つが含まれるものであればよいが、2以上であること、すなわち、上記光像が仰角および方位角の少なくとも一方が異なる方向から観察可能な2以上の異なる第1光像を含むものであってもよい。光像が2以上の異なる第1光像を含むことにより、本発明のホログラム構造体は、点光源とは異なる2以上の方向から、それぞれ異なる第1光像の画像を観察可能となる。その結果、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性により優れたものとなるからである。
なお、異なる方向から観察可能であるとは、それぞれの第1光像の画像のみをそれぞれ別方向から観察可能であることをいうものである。
The number of the first optical images may be at least one, but is two or more, that is, two or more that the optical images can be observed from different directions at least one of the elevation angle and the azimuth angle. It may include a first light image different from each other. When the optical image includes two or more different first optical images, the hologram structure of the present invention can observe images of different first optical images from two or more directions different from the point light source. As a result, the hologram structure becomes more excellent in anti-counterfeiting property and design property.
Note that observable from different directions means that only the images of the first optical images can be observed from different directions.
ここで、光像が異なる方位角から観察可能な2以上の第1光像を含む例としては、例えば、図5(a)および(b)に例示するように、点光源をホログラム形成領域の中心点から垂直方向に配置した際に、点光源方向であるホログラム形成領域の中心点から垂直方向とは異なる方向から観察する第1の観察者31bが図5(c)に示される第1光像12aの画像である「1」のみを観察可能であり、図5(a)および(b)において第1の観察者31bとは90°または180°異なる方位角から観察する第2〜第4の観察者31c〜31eが、それぞれ、図5(d)〜(f)に示されるように第1光像12b〜12dの画像である「2」、「3」および「4」のみを観察可能であるものとすることができる。
また、光像が異なる仰角から観察可能な2以上の第1光像を含む例としては、例えば、図6(a)に例示するように、点光源をホログラム形成領域の中心点から垂直方向に配置した際に、点光源方向であるホログラム形成領域の中心点から垂直方向とは異なる方向から観察する第1の観察者31bが図6(b)に示される第1光像12aの画像である「1」のみを観察可能であり、図6(a)において第1の観察者31bとは同一の方位角であり、かつ、異なる仰角から観察する第2の観察者31cが、図6(c)に示されるように第1光像12bの画像「2」のみを観察可能であるものとすることができる。
なお、図5(b)は、図5(a)の第1の観察者31bおよび第3の観察者31dを通過する方向での概略断面図を示すものである。また、図5において、第1〜第4の観察者31b〜eは、いずれも、ホログラム形成領域11に対して所定の仰角をとる方向から観察するものである。
なお、方位角とは、例えば、ホログラム形成領域を平面視した際に、ホログラム形成領域の中心点と、観察者とホログラム層とが平面視上重なる位置と、を結ぶ直線のホログラム形成領域表面における上記中心点からの方向をいうものである。
例えば、第1の観察者31bの方位角を0°とすると、図5(a)および(b)において、第2〜第4の観察者31c〜31eの方位角は、それぞれ90°、180°、270°となる。
Here, as an example in which the light image includes two or more first light images that can be observed from different azimuth angles, for example, as illustrated in FIGS. 5A and 5B, a point light source is used in the hologram forming region. The first light shown in FIG. 5C shows a first observer 31b who observes from a direction different from the vertical direction from the center point of the hologram forming region which is the point light source direction when arranged in the vertical direction from the center point. Only "1" which is an image of the image 12a can be observed, and in FIGS. 5A and 5B, the second to fourth observations are made from an azimuth angle different from that of the first observer 31b by 90 ° or 180 °. Observers 31c to 31e can observe only the images "2", "3" and "4" of the first optical images 12b to 12d, respectively, as shown in FIGS. 5D to 5F, respectively. Can be assumed to be.
Further, as an example in which the light images include two or more first light images that can be observed from different elevation angles, for example, as illustrated in FIG. 6A, the point light source is set in the direction perpendicular to the center point of the hologram forming region. When arranged, the first observer 31b observing from a direction different from the vertical direction from the center point of the hologram forming region which is the point light source direction is the image of the first light image 12a shown in FIG. 6 (b). Only "1" can be observed, and in FIG. 6A, the second observer 31c, which has the same azimuth angle as the first observer 31b and observes from a different elevation angle, is shown in FIG. 6 (c). ), Only the image “2” of the first optical image 12b can be observed.
Note that FIG. 5B shows a schematic cross-sectional view in the direction of passing through the first observer 31b and the third observer 31d in FIG. 5A. Further, in FIG. 5, the first to fourth observers 31b to e are all observing from a direction in which a predetermined elevation angle is taken with respect to the hologram forming region 11.
The azimuth is, for example, on the surface of a linear hologram forming region connecting the center point of the hologram forming region and the position where the observer and the hologram layer overlap in the plane view when the hologram forming region is viewed in a plane. It refers to the direction from the center point.
For example, assuming that the azimuth angle of the first observer 31b is 0 °, the azimuth angles of the second to fourth observers 31c to 31e in FIGS. 5A and 5B are 90 ° and 180 °, respectively. It becomes 270 °.
光像が異なる方位角から観察可能な2以上の異なる第1光像を含む場合、それぞれの第1光像の画像のみを観察可能な方位角の差としては、例えば、30°以上とすることができ、なかでも45°〜180°の範囲内であることが好ましく、特に、90°〜180°の範囲内であることが好ましい。上記方位角の差が上述の範囲内であることにより、本発明のホログラム構造体は、それぞれの第1光像のみを別角度で観察可能とすることが容易となるからである。
なお、それぞれの画像のみを観察可能な方位角の差は、上記方位角の差の最小値をいうものである。例えば、ホログラム形成領域を平面視した際に、ホログラム形成領域内の点光源位置を通過する任意の方位角を0°とした場合に、1つ目の第1光像のみ観察可能な方位角が30°〜60°の範囲内であり、2つ目の第1光像のみ観察可能な方位角が90°〜150°の範囲内である場合、上記方位角の差の最小値は、30°となる。
When the light image contains two or more different first light images that can be observed from different azimuth angles, the difference in azimuth angles at which only the image of each first light image can be observed is, for example, 30 ° or more. It is preferable that the temperature is in the range of 45 ° to 180 °, and particularly preferably in the range of 90 ° to 180 °. This is because when the difference in azimuth angles is within the above range, the hologram structure of the present invention makes it easy to observe only each first optical image at a different angle.
The difference in azimuths at which only each image can be observed refers to the minimum value of the difference in azimuths. For example, when the hologram forming region is viewed in a plane, when an arbitrary azimuth passing through the point light source position in the hologram forming region is set to 0 °, the azimuth in which only the first first optical image can be observed is If the azimuth is within the range of 30 ° to 60 ° and only the second first optical image can be observed within the range of 90 ° to 150 °, the minimum value of the difference between the azimuths is 30 °. It becomes.
光像が異なる仰角から観察可能な2以上の異なる第1光像を含む場合、それぞれの第1光像の画像のみを観察可能な仰角の差としては、例えば、10°以上とすることができ、なかでも15°〜80°の範囲内であることが好ましく、特に、20°〜45°の範囲内であることが好ましい。上記仰角の差が上述の範囲内であることにより、本発明のホログラム構造体は、それぞれの第1光像のみを別角度で観察可能とすることが容易となるからである。
なお、それぞれの画像のみを観察可能な仰角の差は、上記仰角の差の最小値をいうものである。例えば、1つ目の第1光像のみ観察可能な仰角が60°〜80°の範囲内であり、2つ目の第1光像のみ観察可能な仰角が30°〜50°の範囲内である場合、上記仰角の差の最小値は、10°となる。
When the optical images include two or more different first optical images that can be observed from different elevation angles, the difference in elevation angles that allows only the images of the respective first optical images to be observed can be, for example, 10 ° or more. In particular, it is preferably in the range of 15 ° to 80 °, and particularly preferably in the range of 20 ° to 45 °. This is because when the difference in elevation angle is within the above range, the hologram structure of the present invention makes it easy to observe only each first optical image at a different angle.
The difference in elevation angle at which only each image can be observed refers to the minimum value of the difference in elevation angle. For example, the elevation angle at which only the first first optical image can be observed is within the range of 60 ° to 80 °, and the elevation angle at which only the second first optical image can be observed is within the range of 30 ° to 50 °. In some cases, the minimum value of the difference in elevation is 10 °.
上記第1光像により表示される画像としては、具体的には、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて、適宜設定することができ、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等を挙げることができる。 Specifically, the image displayed by the first light image can be appropriately set according to the use of the hologram structure of the present invention, for example, a pattern, a line drawing, a character, a figure, a symbol, or the like. Can be mentioned.
(b)第2光像
上記光像は、少なくとも第1光像を含むものであればよいが、上記反射型ホログラム形成領域に対して点光源と同一方向から観察可能な第2光像を含むものであることが好ましい。上記ホログラム構造体は、第1光像および第2光像を用いることで、偽造防止性および意匠性により優れたものとなるからである。
このような第2光像を観察可能なホログラム構造体としては、例えば、既に説明した図4および図6を挙げることができる。図4および図6では、ホログラム構造体10が、点光源方向から観察する観察者31aにより第2光像13の画像である「OK」を観察可能な例を示すものである(図4(b)および図6(d))。
ここで、上記反射型ホログラム形成領域に対して点光源と同一方向から観察可能であるとは、例えば、点光源をホログラム形成領域の中心点から垂直方向に配置した際には、点光源方向であるホログラム形成領域の中心点から垂直方向の方向から観察可能であることをいうものである。
また、点光源方向から観察可能であるとは、少なくとも点光源方向から観察可能であることであり、第1光像のみおよび第2光像のみをそれぞれ別方向から観察可能なものであれば、点光源方向とは異なる方向からも観察可能なものであってもよい。
上記第2光像のみを観察可能な方向、すなわち、第2光像と共に第1光像を同時に観察できない方向の反射型ホログラム形成領域に対する仰角としては、例えば、60°以上であることが好ましく、なかでも70°以上であることが好ましく、特に、80°以上であることが好ましい。上記仰角が上述の範囲内であることにより、本発明のホログラム構造体は、第1光像および第2光像を別角度でそれぞれ観察可能とすることが容易となるからである。
なお、第2光像のみを観察可能な方向の反射型ホログラム形成領域に対する仰角は、例えば、既に説明した図3(a)中のθ2とすることができる。
(B) Second light image The light image may include at least the first light image, but includes a second light image that can be observed from the same direction as the point light source with respect to the reflection hologram forming region. It is preferable that the light source is used. This is because the hologram structure becomes more excellent in anti-counterfeiting property and design property by using the first light image and the second light image.
Examples of the hologram structure in which such a second light image can be observed include FIGS. 4 and 6 already described. 4 and 6 show an example in which the hologram structure 10 can observe “OK”, which is an image of the second light image 13, by an observer 31a observing from the direction of a point light source (FIG. 4 (b). ) And FIG. 6 (d)).
Here, the fact that the reflection type hologram forming region can be observed from the same direction as the point light source means that, for example, when the point light source is arranged in the direction perpendicular to the center point of the hologram forming region, it is in the point light source direction. It means that it can be observed from the direction perpendicular to the center point of a certain hologram forming region.
Further, observable from the direction of the point light source means that it can be observed from at least the direction of the point light source, as long as only the first light image and only the second light image can be observed from different directions. It may be observable from a direction different from the point light source direction.
The elevation angle with respect to the reflective hologram forming region in the direction in which only the second light image can be observed, that is, in the direction in which the first light image cannot be observed at the same time as the second light image, is preferably 60 ° or more, for example. Above all, it is preferably 70 ° or more, and particularly preferably 80 ° or more. This is because when the elevation angle is within the above range, the hologram structure of the present invention makes it easy to observe the first light image and the second light image at different angles.
The elevation angle with respect to the reflective hologram forming region in the direction in which only the second light image can be observed can be, for example, θ2 in FIG. 3A already described.
上記第2光像により表示される画像としては、上記第1光像により表示される画像と同様とすることができる。 The image displayed by the second light image can be the same as the image displayed by the first light image.
(c)第1光像の形成方法
第1光像の形成方法、すなわち第1光像を含む光像を再生可能なホログラム形成領域の形成方法としては、例えば、本発明のホログラム構造体のホログラム形成領域よりも面積の広い仮想ホログラム形成領域において原画像の全体を点光源方向から観察可能に格子ピッチを設計し、次いで、設計により得られた格子ピッチで仮想ホログラム形成領域よりも面積の狭いホログラム形成領域を形成する方法を挙げることができる。
(C) Method for Forming First Light Image As a method for forming a first light image, that is, a method for forming a hologram forming region in which a light image including the first light image can be reproduced, for example, a hologram of the hologram structure of the present invention. The lattice pitch is designed so that the entire original image can be observed from the point light source direction in the virtual hologram formation area having a larger area than the formation area, and then the hologram having the lattice pitch obtained by the design and having a smaller area than the virtual hologram formation area. A method of forming a forming region can be mentioned.
上記形成方法は、より具体的には、既に説明した図4のように点光源方向からは「OK」の画像のみが観察され、点光源方向とは異なる方向からは「1」の画像のみが観察されるものとする場合には、点光源方向から観察した際に仮想ホログラム形成領域内において中央部分に「OK」の画像が配置され、中央部分より右側に外側に「1」の画像が配置された原画像の全体を再生可能とするように、以下の式(1)が成り立つ格子ピッチを設計する。
より具体的には、図7(a)に例示するように、幅L2の仮想ホログラム形成領域22に対して、仮想ホログラム形成領域22の中心点から垂直方向に所定の距離L3の位置に点光源21が配置され、仮想ホログラム形成領域22の中心点から垂直方向に所定の距離L4の位置から仮想ホログラム形成領域22を観察する場合、観察者31aが、図7(b)に例示するように仮想ホログラム形成領域22内に原画像の全体を観察可能とするように、以下の式(1)が成り立つ格子ピッチを設計する。
次いで、設計により得られた格子ピッチで、幅L2より狭い幅L1のホログラム形成領域を形成する。より具体的には、図7(b)に示すように、「OK」の画像のみが観察され、「1」の画像が含まれないものとなる幅L1で、ホログラム形成領域を形成する方法を挙げることができる。
P=nλ/(sinθa+sinθb) (1)
なお、λは回折光の波長、Pは凹凸表面の格子ピッチ、θaは光源からホログラム形成領域の端部まで到達するための入射角、θbはホログラム形成領域の端部からの回折光が観察者に到達するための回折角、nは回折の次数である。
More specifically, in the above forming method, as shown in FIG. 4 described above, only the image of "OK" is observed from the direction of the point light source, and only the image of "1" is observed from the direction different from the direction of the point light source. When observing, the image of "OK" is arranged in the central part in the virtual hologram formation region when observed from the direction of the point light source, and the image of "1" is arranged on the outside on the right side of the central part. The lattice pitch for which the following equation (1) holds is designed so that the entire original image can be reproduced.
More specifically, as illustrated in FIG. 7A, a point light source is located at a predetermined distance L3 in the direction perpendicular to the center point of the virtual hologram forming region 22 with respect to the virtual hologram forming region 22 having a width L2. When 21 is arranged and the virtual hologram forming region 22 is observed from a position of a predetermined distance L4 in the vertical direction from the center point of the virtual hologram forming region 22, the observer 31a virtualizes as illustrated in FIG. 7 (b). A lattice pitch for which the following equation (1) holds is designed so that the entire original image can be observed in the hologram forming region 22.
Next, a hologram forming region having a width L1 narrower than the width L2 is formed with the lattice pitch obtained by the design. More specifically, as shown in FIG. 7B, a method of forming a hologram forming region with a width L1 such that only the image of "OK" is observed and the image of "1" is not included. Can be mentioned.
P = nλ / (sinθa + sinθb) (1)
Λ is the wavelength of the diffracted light, P is the lattice pitch of the uneven surface, θa is the incident angle for reaching the end of the hologram forming region from the light source, and θb is the diffracted light from the end of the hologram forming region. The diffraction angle for reaching, n is the order of diffraction.
なお、図8(a)に例示するように、設計により得られた格子ピッチで仮想ホログラム形成領域と同一幅L2のホログラム形成領域11を形成した場合、点光源方向から観察する観察者31aは、図8(b)に例示するように、ホログラム形成領域11内に、「OK」の画像および「1」の画像の両者を含む原画像の全体を観察することができる。
一方、図8(a)に示すように、点光源方向とは異なる方向から観察する観察者31bは、図8(c)に例示するように、ホログラム形成領域11内に、光像を観察することができないものとすることができる。
As illustrated in FIG. 8A, when the hologram forming region 11 having the same width L2 as the virtual hologram forming region is formed with the lattice pitch obtained by the design, the observer 31a observing from the point light source direction As illustrated in FIG. 8B, the entire original image including both the “OK” image and the “1” image can be observed in the hologram forming region 11.
On the other hand, as shown in FIG. 8A, the observer 31b observing from a direction different from the point light source direction observes the optical image in the hologram forming region 11 as illustrated in FIG. 8C. Can't be.
また、例えば、図9(a)に例示する原画像を、幅L2の仮想ホログラム形成領域22内にその全体が表示されるように格子ピッチを設計した上で、幅L1でホログラム形成領域を形成した場合には、既に説明した図5に示すように90°ずつ異なる方位角から第1光像の画像である「1」、「2」、「3」および「4」をそれぞれ観察可能とすることができる。
さらに、例えば、図9(b)に例示する原画像を、幅L2の仮想ホログラム形成領域22内にその全体が表示されるように格子ピッチを設計した上で、幅L1でホログラム形成領域を形成した場合には、既に説明した図6に示すように、異なる仰角から第1光像の画像である「1」および「2」をそれぞれ観察可能とすることができる。
Further, for example, the original image illustrated in FIG. 9A is formed with a hologram forming region having a width L1 after designing a lattice pitch so that the entire image is displayed in a virtual hologram forming region 22 having a width L2. In this case, as shown in FIG. 5 described above, the images of the first optical image "1", "2", "3" and "4" can be observed from different azimuth angles by 90 °, respectively. be able to.
Further, for example, the original image illustrated in FIG. 9B is formed with a hologram forming region having a width L1 after designing a lattice pitch so that the entire image is displayed in the virtual hologram forming region 22 having a width L2. In this case, as shown in FIG. 6 described above, the images “1” and “2” of the first optical image can be observed from different elevation angles, respectively.
(d)光像の観察方法
上記光像は、点光源をホログラム層の蒸着層とは反対側の表面上に配置して、観察されるものである。
このような点光源の反射型ホログラム形成領域との距離としては、本発明のホログラム構造体の種類および用途等に応じて適宜設定できるものである。
上記点光源の反射型ホログラム形成領域との距離としては、例えば、ホログラム構造体またはこれを有する物品を観察者が手で掴んで第1光像を観察容易とする観点からは、1cm〜50cmの範囲内とすることができ、5cm〜30cmの範囲内であることが好ましく、なかでも、5cm〜20cmの範囲内であることが好ましい。
第1光像の観察者の反射型ホログラム形成領域との距離としては、本発明のホログラム構造体の種類および用途等に応じて適宜設定できるものである。
このような第1光像の反射型ホログラム形成領域との距離としては、例えば、ホログラム構造体またはこれを有する物品を観察者が手で掴んで第1光像を観察容易とする観点からは、5cm〜70cmの範囲内とすることができ、10cm〜50cmの範囲内であることが好ましく、なかでも、20cm〜50cmの範囲内であることが好ましい。
なお、点光源の反射型ホログラム形成領域との距離および第1光像の観察者の反射型ホログラム形成領域との距離としては、それぞれ点光源および観察者と反射型ホログラム形成領域の中心点との距離とすることができ、具体的には、図3および図7中のL3およびL4の距離とすることができる。
(D) Method of observing an optical image The above optical image is observed by arranging a point light source on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer.
The distance of such a point light source from the reflective hologram forming region can be appropriately set according to the type and application of the hologram structure of the present invention.
The distance of the point light source from the reflective hologram forming region is, for example, 1 cm to 50 cm from the viewpoint that the observer can easily observe the first optical image by grasping the hologram structure or an article having the hologram structure by hand. It can be within the range, preferably within the range of 5 cm to 30 cm, and more preferably within the range of 5 cm to 20 cm.
The distance of the first light image from the observer's reflective hologram forming region can be appropriately set according to the type and use of the hologram structure of the present invention.
The distance of the first light image from the reflective hologram forming region is, for example, from the viewpoint that the observer can easily observe the first light image by grasping the hologram structure or an article having the hologram structure by hand. It can be in the range of 5 cm to 70 cm, preferably in the range of 10 cm to 50 cm, and more preferably in the range of 20 cm to 50 cm.
The distance between the point light source and the reflective hologram forming region and the distance between the observer of the first light image and the reflective hologram forming region are the point light source and the observer and the center point of the reflective hologram forming region, respectively. It can be a distance, and specifically, it can be a distance of L3 and L4 in FIGS. 3 and 7.
また、本発明のホログラム構造体は、光像として点光源とは異なる方向からのみ観察可能な第1光像を含むものである。
このような第1光像の観察方法としては、点光源をホログラム形成領域の中心点から垂直方向に配置して観察する方法に限定されず、点光源方向のホログラム形成領域に対する仰角(以下、単に点光源方向の仰角と称する場合がある。)を90°未満となる方向に点光源を配置して観察する方法であってもよい。
例えば、図10(a)に例示するように、既に説明した図4のホログラム構造体10のように、点光源21をホログラム形成領域11の中心点から垂直方向に配置した際に、点光源方向、すなわち、ホログラム形成領域11の中心点から垂直方向とは異なる方向からのみ第1光像12を観察可能なホログラム構造体10について、点光源21を点光源方向の仰角が90°未満となる方向に配置して観察する場合、点光源21と同一方向からホログラム形成領域11を観察する観察者31bは、ホログラム形成領域11内に第2光像13の画像である「OK」のみを観察することができ(図10(b))、図10(a)において点光源21とは異なる方向からホログラム形成領域11を観察する観察者31aは、ホログラム形成領域11内に第1光像12の画像である「1」のみを観察可能とすることができる(図10(c))。
なお、図10(a)は、第1光像12の画像を観察する観察者31aがホログラム形成領域11の中心点から垂直方向の方向(θ1が90°)から観察する例を示すものである。
また、図10(a)において第2光像13の画像を観察する観察者31bは、既に説明した図4において第1光像12の画像を観察する観察者31bとは180°方位角が異なる方向から観察する例を示すものである。
Further, the hologram structure of the present invention includes a first light image that can be observed only from a direction different from that of a point light source as a light image.
Such a method of observing the first light image is not limited to a method of arranging a point light source in the vertical direction from the center point of the hologram forming region and observing the first light image, and the elevation angle with respect to the hologram forming region in the point light source direction (hereinafter, simply It may be referred to as an elevation angle in the direction of the point light source).
For example, as illustrated in FIG. 10A, when the point light source 21 is arranged in the direction perpendicular to the center point of the hologram forming region 11 as in the hologram structure 10 of FIG. 4 described above, the point light source direction That is, with respect to the hologram structure 10 in which the first optical image 12 can be observed only from a direction different from the vertical direction from the center point of the hologram forming region 11, the direction in which the elevation angle of the point light source 21 in the point light source direction is less than 90 °. The observer 31b who observes the hologram forming region 11 from the same direction as the point light source 21 observes only "OK" which is an image of the second light image 13 in the hologram forming region 11. (FIG. 10 (b)), the observer 31a observing the hologram forming region 11 from a direction different from that of the point light source 21 in FIG. 10 (a) can see the image of the first light image 12 in the hologram forming region 11. Only a certain "1" can be observed (FIG. 10 (c)).
Note that FIG. 10A shows an example in which the observer 31a observing the image of the first optical image 12 observes from the direction perpendicular to the center point of the hologram forming region 11 (θ1 is 90 °). ..
Further, the observer 31b observing the image of the second light image 13 in FIG. 10A has a 180 ° azimuth angle different from that of the observer 31b observing the image of the first light image 12 in FIG. 4 described above. It shows an example of observing from the direction.
(2)反射型ホログラム形成領域
反射型ホログラム形成領域は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された領域である。
(2) Reflective Hologram Forming Region The reflective hologram forming region is a region in which a phase Fourier transform hologram that converts light incident from a point light source into a desired optical image is recorded.
ここで、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されるとは、原画像のフーリエ変換を介して得られたフーリエ変換像の位相情報を多値化して深さとして記録されることをいうものである。したがって、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラム層のホログラム形成領域には、凹凸表面が形成される。
上記ホログラム層は、ホログラム形成領域の凹凸表面を構成する凹凸形状の高低差により、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、すなわちフーリエ変換レンズとして機能するものである。このような機能により、任意の点光源から入射する光が所定の複数の方向に回折され所定のイメージが光像として形成されるものである。なお、上述の機能のことを「フーリエ変換レンズ機能」と称する場合がある。
上記ホログラム形成領域は、反射型であり、点光源をホログラム層の蒸着層とは反対側の面側である観察面側に配置して、観察面側からホログラム層を平面視した際に、ホログラム形成領域内に光像を再生可能なものである。
Here, recording a phase-type Fourier transform hologram means that the phase information of the Fourier transform image obtained through the Fourier transform of the original image is multi-valued and recorded as the depth. Therefore, an uneven surface is formed in the hologram forming region of the hologram layer on which the phase Fourier transform hologram is recorded.
The hologram layer converts the light incident from the point light source into a desired light image by the height difference of the uneven shape forming the uneven surface of the hologram forming region, that is, functions as a Fourier transform lens. With such a function, light incident from an arbitrary point light source is diffracted in a plurality of predetermined directions to form a predetermined image as an optical image. The above-mentioned function may be referred to as a "Fourier transform lens function".
The hologram forming region is a reflection type, and when a point light source is arranged on the observation surface side, which is the surface side opposite to the vapor deposition layer of the hologram layer, and the hologram layer is viewed in a plan view from the observation surface side, the hologram is formed. The optical image can be reproduced in the formed region.
上記ホログラム形成領域は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換可能な領域をいうものであり、具体的には、上記光像へ変換可能なホログラムセルの全てを含むことができる最小面積の長方形で囲まれる領域である。 The hologram forming region refers to a region capable of converting light incident from a point light source into a desired light image, and specifically, a minimum that can include all of the hologram cells that can be converted into the light image. It is an area surrounded by a rectangle of area.
上記ホログラム形成領域の平面視サイズとしては、点光源とは異なる方向からのみ第1光像を観察可能なものであればよい。
上記平面視サイズは、例えば、ホログラム構造体またはこれを有する物品を観察者が手で掴んで第1光像を観察容易とする観点からは、2mm角以上とすることができ、なかでも、5mm角以上30mm角以下の範囲内であることが好ましく、特に、10mm角以上20mm角以下の範囲内であることが好ましい。上記平面視サイズが上述のサイズであることにより、本発明のホログラム構造体は、小さな視点移動で第1光像を観察できる等、第1光像を観察容易とすることができるからである。
なお、ホログラム形成領域の平面視サイズが5mm角以上であるとは、上記ホログラム形成領域が、5mm角の正方形の範囲を少なくとも含む平面視形状であることをいうものである。したがって、ホログラム形成領域が長方形状である場合には、その短辺の長さが5mm以上であることをいうものであり、ホログラム形成領域が正方形状である場合には、その1辺の長さが5mm以上であることをいうものである。
The size of the hologram forming region in a plan view may be such that the first light image can be observed only from a direction different from that of the point light source.
The plan view size can be, for example, 2 mm square or more from the viewpoint of making it easy for the observer to grasp the hologram structure or an article having the hologram structure by hand and observe the first optical image, and in particular, 5 mm. The angle is preferably within the range of 30 mm square or less, and particularly preferably within the range of 10 mm square or more and 20 mm square or less. This is because the hologram structure of the present invention can easily observe the first light image, for example, the first light image can be observed with a small movement of the viewpoint because the plan view size is the above size.
The fact that the hologram forming region has a plan view size of 5 mm square or more means that the hologram forming region has a plan view shape that includes at least a square range of 5 mm square. Therefore, when the hologram forming region is rectangular, it means that the length of the short side thereof is 5 mm or more, and when the hologram forming region is square, the length of one side thereof is long. Is 5 mm or more.
上記ホログラム形成領域の平面視形状としては、例えば、正方形状であってもよく、長方形状であってもよいが、長方形状であることが好ましい。例えば、第1光像の観察可能な方位角を、ホログラム形成領域の中心点から、長方形状の短辺に平行な方向とすることで、わずかな視点移動で第1光像を観察可能とすることができるからである。
また、例えば、第1光像の観察可能な方位角を、ホログラム形成領域の中心点から、長方形状の長辺に平行な方向とすることで、大きく視点移動をしないと、第1光像を観察できないことを知っている者のみが、第1光像を観察可能とすることが容易だからである。
The shape of the hologram forming region in a plan view may be, for example, a square shape or a rectangular shape, but a rectangular shape is preferable. For example, by setting the observable azimuth angle of the first optical image from the center point of the hologram forming region to a direction parallel to the short side of the rectangle, the first optical image can be observed with a slight movement of the viewpoint. Because it can be done.
Further, for example, by setting the observable azimuth angle of the first light image to be a direction parallel to the long side of the rectangle from the center point of the hologram forming region, the first light image must be moved significantly. This is because it is easy for only those who know that they cannot observe the first optical image to be able to observe it.
本発明において、上記ホログラム形成領域は、図11(a)で示されるように、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された1つのホログラムセル11a(以下、単に、ホログラムセルと称する場合がある。)からなるホログラム形成領域11(以下、単に、単一ホログラム領域と称する場合がある。)であってもよいが、通常、図11(b)で示されるようにホログラムセル11aを複数配列させて拡大させたホログラム形成領域11(以下、大判ホログラム領域と称する場合がある。)である。
なお、図11中の「1」は、単一、または大判ホログラム領域においてそれぞれ発現される第1光像12の画像である。
In the present invention, as shown in FIG. 11A, the hologram forming region is one hologram cell 11a in which a phase type Fourier transform hologram that converts light incident from a point light source into a desired optical image is recorded. It may be a hologram forming region 11 (hereinafter, may be simply referred to as a single hologram region) composed of (hereinafter, may be simply referred to as a hologram cell), but is usually shown in FIG. 11 (b). This is a hologram forming region 11 (hereinafter, may be referred to as a large-format hologram region) in which a plurality of hologram cells 11a are arranged and enlarged as shown by.
Note that "1" in FIG. 11 is an image of the first optical image 12 expressed in a single or large-format hologram region, respectively.
上記ホログラム形成領域が大判ホログラム領域である場合、ホログラム形成領域を構成する個々のホログラムセルの平面視サイズとしては、精度良くホログラム形成領域を形成可能なものであればよい。
上記平面視サイズは、0.25mm角以上5mm角以下の範囲内であることが好ましい。上記平面視サイズが上述の範囲内であることにより、上記ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内への光像の再生が容易なものとなるからである。
なお、上記平面視サイズは、上記ホログラムセルを含むことができる最小の正方形の大きさをいうものである。したがって、ホログラムセルが1辺1mmの正方形である場合の平面視サイズは1mm角となる。また、ホログラムセルの平面視形状が直径1mmの円形状である場合の平面視サイズは1mm角となる。
When the hologram forming region is a large-format hologram region, the size of each hologram cell constituting the hologram forming region in a plan view may be such that the hologram forming region can be formed with high accuracy.
The plan view size is preferably in the range of 0.25 mm square or more and 5 mm square or less. This is because when the plan view size is within the above range, the hologram structure facilitates reproduction of an optical image into the hologram forming region.
The plan view size refers to the size of the smallest square that can include the hologram cell. Therefore, when the hologram cell is a square with a side of 1 mm, the plan view size is 1 mm square. Further, when the hologram cell has a circular shape with a diameter of 1 mm, the plan-view size is 1 mm square.
上記ホログラムセルの上記ホログラム形成領域に占める平面視上の面積の割合としては、所望の光像を再生可能なものであれば特に限定されるものではないが、25%以上であることが好ましく、なかでも、50%以上であることが望ましい。上記面積割合が上述の範囲であることより、ホログラム構造体は、光像を鮮明に再生可能なものとなるからである。 The ratio of the area of the hologram cell to the hologram forming region in a plan view is not particularly limited as long as it can reproduce a desired optical image, but is preferably 25% or more. Above all, it is desirable that it is 50% or more. This is because the hologram structure can clearly reproduce an optical image because the area ratio is within the above range.
上記ホログラムセルの平面視形状としては、所望の平面視形状のホログラム形成領域を形成可能なものであればよく、任意の形状とすることができる。具体的には、上記平面視形状は、正方形状、長方形状等の矩形状、台形状、三角形状、五角形状、六角形状等の多角形状、円形状、楕円形状、星型形状、ハート型形状等とすることができるが、ホログラム形成領域の形成容易の観点から、通常、矩形状が用いられる。 The planar view shape of the hologram cell may be any shape as long as it can form a hologram forming region having a desired planar view shape. Specifically, the holographic shape includes a rectangular shape such as a square shape and a rectangular shape, a trapezoidal shape, a triangular shape, a pentagonal shape, a polygonal shape such as a hexagonal shape, a circular shape, an elliptical shape, a star shape, and a heart shape. However, from the viewpoint of easy formation of the hologram forming region, a rectangular shape is usually used.
本発明において、ホログラム形成領域の凹凸表面の凹凸形状は、光像として表示させる原画の画像データをもとに形成される多値化されたフーリエ変換像を、縦横方向に所望の範囲まで複数個配列させたときの、フーリエ変換像のパターンに相当するものである。
このような凹凸表面のホログラム形成領域へ形成方法としては、点光源から入射した光を所望の光像へ変換可能な凹凸表面を形成可能な方法であればよく、一般的なフーリエ変換ホログラムの形成方法を用いることができる。
上記形成方法は、具体的には、フーリエ変換像に対応した凹凸パターンを有するマスター原版を形成し、PET等の基材上に形成した紫外線硬化樹脂等の樹脂材料の塗膜に当該原版の凹凸パターンを転写することでホログラム形成領域の凹凸表面を形成する方法を挙げることができる。
また、マスター原版の凹凸パターンの転写を1回のみ行うことにより、ホログラム形成領域として、1つのホログラムセルからなる単一ホログラム領域を形成することができる。そして、マスター原版の凹凸パターンの転写を複数回行うことにより、ホログラム形成領域として、複数のホログラムセルが配列された所望の大きさの大判ホログラム形成領域を有するホログラム層を形成することができる。
In the present invention, the uneven shape of the uneven surface of the hologram forming region is formed by forming a plurality of multi-valued Fourier transform images formed based on the image data of the original image to be displayed as an optical image up to a desired range in the vertical and horizontal directions. It corresponds to the pattern of the Fourier transform image when arranged.
The method for forming the hologram forming region on the uneven surface may be any method capable of forming the uneven surface capable of converting the light incident from the point light source into a desired optical image, and forming a general Fourier transform hologram. The method can be used.
Specifically, the above-mentioned forming method forms a master original plate having an unevenness pattern corresponding to the Fourier transform image, and the unevenness of the original plate is formed on a coating film of a resin material such as an ultraviolet curable resin formed on a substrate such as PET. A method of forming an uneven surface of a hologram forming region by transferring a pattern can be mentioned.
Further, by transferring the uneven pattern of the master original plate only once, a single hologram region composed of one hologram cell can be formed as the hologram forming region. Then, by transferring the uneven pattern of the master original plate a plurality of times, it is possible to form a hologram layer having a large-format hologram forming region having a desired size in which a plurality of hologram cells are arranged as the hologram forming region.
マスター原版の形成方法としては、表示させる原画の画像データをもとに、計算によりフーリエ変換像を形成する。次に、上記フーリエ変換像のデータを二値以上に多値化したものを電子線描画用データへ変換し、上記電子線描画用データを希望の範囲まで配列させる。例えば、電子線描画用データを縦、横方向に各10個ずつ配列させる。次いで、配列した電子線描画用データをもとに電子線描画装置でマスター原版を作成する方法を用いることができる。
電子線描画用データとして上記フーリエ変換後のデータを二値化したものを用いた場合には、上記凹凸表面の凹凸形状は、図12(a)に示すように2段の凹凸形状となり、四値化したものを用いた場合には、図12(b)に示すように4段の凹凸形状となる。
本発明においては、上記フーリエ変換像のデータの多値化が、四値以上に多値化するもの、すなわち、上記凹凸形状が4段以上の凹凸形状であることが好ましい。複雑な形状の光像を再生可能となるからである。また、ホログラム形成領域内に第1光像を大面積で表示可能となるからである。
As a method of forming the master original plate, a Fourier transform image is formed by calculation based on the image data of the original image to be displayed. Next, the data of the Fourier transform image is multivalued to two or more values and converted into electron beam drawing data, and the electron beam drawing data is arranged to a desired range. For example, 10 electron beam drawing data are arranged vertically and 10 horizontally. Next, a method of creating a master original plate with an electron beam drawing apparatus based on the arranged electron beam drawing data can be used.
When the binarized data after the Fourier transform is used as the electron beam drawing data, the uneven shape of the uneven surface becomes a two-step uneven shape as shown in FIG. 12 (a). When a valued product is used, it has a four-stage uneven shape as shown in FIG. 12 (b).
In the present invention, it is preferable that the multi-valued data of the Fourier transform image is multi-valued to four or more values, that is, the uneven shape has four or more steps. This is because it is possible to reproduce an optical image having a complicated shape. Further, it is possible to display the first optical image in a large area in the hologram forming region.
上記凹凸表面の格子ピッチとしては、点光源から入射した光を所望の光像へ変換可能なものであればよい。
具体的には、上記格子ピッチは、1.0μm〜80.0μmの範囲内であることが好ましい。上記格子ピッチが上述の範囲内であることにより、上記ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内への光像の再生の容易なものとなるからである。
なお、格子ピッチは、例えば、図12中のPで示される幅をいうものである。
The lattice pitch of the uneven surface may be any as long as it can convert the light incident from the point light source into a desired light image.
Specifically, the lattice pitch is preferably in the range of 1.0 μm to 80.0 μm. This is because when the lattice pitch is within the above range, the hologram structure facilitates reproduction of an optical image into the hologram forming region.
The lattice pitch refers to, for example, the width indicated by P in FIG.
ここで、格子ピッチの設計方法については、上記「(1)光像」の「(c)第1光像の形成方法」の項に記載とおり、既に説明した図7に示すように、ホログラム構造体のホログラム形成領域より面積の広い仮想ホログラム形成領域22に対して所定の距離L3の位置に光源が配置され、仮想ホログラム形成領域22から所定の距離L4の位置で観察者31aがホログラム形成領域22を観察する場合、観察者31aが仮想ホログラム形成領域22の全領域で第1光像を含む光像の全体像を観察できるように、格子ピッチについて上記の式(1)が成り立つものとすることができる。 Here, as for the method of designing the lattice pitch, as described in the section of "(c) Method of forming the first optical image" of the above "(1) Optical image", as shown in FIG. 7 described above, the hologram structure A light source is arranged at a predetermined distance L3 with respect to the virtual hologram forming region 22 having a larger area than the hologram forming region of the body, and the observer 31a visits the hologram forming region 22 at a predetermined distance L4 from the virtual hologram forming region 22. When observing, the above equation (1) shall hold for the lattice pitch so that the observer 31a can observe the entire image of the optical image including the first optical image in the entire area of the virtual hologram forming region 22. Can be done.
上記格子ピッチの具体的な計算例としては、仮想ホログラム形成領域が1辺の幅L2が15mmの正方形状であり、L3が50mm、L4が300mmであり、波長550nmの光である場合、sinθb=0.025であり、sinθa=0.148と計算され、観察者が仮想ホログラム形成領域の全領域で光像の全体像を観察するために必要な格子ピッチPは、最短で3179nmと計算される。
また、仮想ホログラム形成領域が1辺の幅L2が15mmの正方形状であり、L3が1990mm、L4が2000mmであり、波長550nmの光である場合、sinθb=0.00374であり、sinθa=0.00377と計算され、上記格子ピッチPは、最短で73236nmと計算される。
さらに、仮想ホログラム形成領域が1辺の幅L2が10mmの正方形状であり、L3が60mm、L4が60mmであり、波長550nmの光である場合、sinθb=0.083であり、sinθa=0.083と計算され、上記格子ピッチPは、最短で3313nmと計算される。
As a specific calculation example of the lattice pitch, when the virtual hologram forming region has a square shape with a side width L2 of 15 mm, L3 is 50 mm, L4 is 300 mm, and the light has a wavelength of 550 nm, sinθb = It is 0.025, and it is calculated that sinθa = 0.148, and the lattice pitch P required for the observer to observe the entire image of the optical image in the entire virtual hologram formation region is calculated to be 3179 nm at the shortest. ..
Further, when the virtual hologram forming region has a square shape with a side width L2 of 15 mm, L3 is 1990 mm, L4 is 2000 mm, and the light has a wavelength of 550 nm, sinθb = 0.00374 and sinθa = 0. It is calculated as 00377, and the lattice pitch P is calculated to be 73236 nm at the shortest.
Further, when the virtual hologram forming region has a square shape with a side width L2 of 10 mm, L3 is 60 mm, L4 is 60 mm, and the light has a wavelength of 550 nm, sinθb = 0.083 and sinθa = 0. It is calculated as 083, and the lattice pitch P is calculated as 3313 nm at the shortest.
ホログラム形成領域の仮想ホログラム形成領域に対する面積比率(ホログラム構造体のホログラム形成領域の面積/仮想ホログラム形成領域の面積)については、第1光像の仰角、画像の大きさ等に応じて適宜設定することができる。
上記面積比率は1未満であればよく、例えば、1/3以上とすることができる。
The area ratio of the hologram forming region to the virtual hologram forming region (area of the hologram forming region of the hologram structure / area of the virtual hologram forming region) is appropriately set according to the elevation angle of the first optical image, the size of the image, and the like. be able to.
The area ratio may be less than 1, for example, 1/3 or more.
上記凹凸形状の深さは、4段の凹凸構造の場合0.1μm〜0.3μmの範囲内程度とすることができる。
なお、深さは、例えば、図12中のDで示されるものである。
The depth of the uneven shape can be in the range of 0.1 μm to 0.3 μm in the case of a four-stage uneven structure.
The depth is, for example, indicated by D in FIG.
上記ホログラム形成領域において、上述のフーリエ変換レンズ機能を発現できる点光源の波長としては特に限定されるものではなく、所望の波長を対象とすることができる。また、点光源の波長としては、一波長の単色光に限られず、多波長を含む光であってもよく、さらには白色光であってもよい。 In the hologram forming region, the wavelength of the point light source capable of exhibiting the above-mentioned Fourier transform lens function is not particularly limited, and a desired wavelength can be targeted. The wavelength of the point light source is not limited to monochromatic light having one wavelength, and may be light including multiple wavelengths, or may be white light.
(3)回折格子セル
上記ホログラム形成領域は、点光源から入射した光を上記光像へ変換可能なホログラムセルのみが配置されるものであってもよいが、点光源から入射した光を上記光像へ変換可能なホログラムセルと、上記ホログラムセルと同一平面上に形成され、平面視上パターン状に配置されることにより回折格子図柄を描画する回折格子セルと、が配置されているものであってもよい。
ホログラム形成領域に、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラムセルと、回折格子図柄を描画する回折格子セルとが配置されていることにより、上記ホログラム形成領域内に上記光像および上記回折格子図柄の両者を再生することができる。
例えば、反射型ホログラム形成領域が反射型セルと回折格子セルとを有する場合には、反射型ホログラム形成領域内に上記光像および上記回折格子図柄の両者を再生することができる。
また、上記ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内に、点光源からの光の入射前に、回折格子図柄を再生可能であり、点光源からの光の入射時には上記光像を再生可能となる。このため、上記ホログラム構造体は、ホログラム形成領域には回折格子図柄が記録され、光像が記録されていないものであると装うことができ、情報の秘匿性に優れたものとすることもできる。
したがって、上記光像および上記回折格子図柄を組み合わせることにより、ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
(3) Diffraction Grating Cell The hologram forming region may include only a hologram cell capable of converting light incident from a point light source into the optical image, but light incident from a point light source may be used as the light. A hologram cell that can be converted into an image and a diffraction grating cell that is formed on the same plane as the hologram cell and is arranged in a pattern in a plan view to draw a diffraction grating pattern are arranged. You may.
By arranging a hologram cell in which a phased Fourier transform hologram that converts light incident from a point light source into a desired optical image and a diffraction grating cell that draws a diffraction grating pattern are arranged in the hologram forming region. , Both the optical image and the diffraction grating pattern can be reproduced in the hologram forming region.
For example, when the reflective hologram forming region has a reflective cell and a diffraction grating cell, both the optical image and the diffraction grating symbol can be reproduced in the reflective hologram forming region.
Further, the hologram structure can reproduce the diffraction grating pattern in the hologram forming region before the light from the point light source is incident, and can reproduce the optical image when the light from the point light source is incident. Therefore, the hologram structure can be pretended to have a diffraction grating pattern recorded in the hologram forming region and no optical image recorded, and can be made excellent in information confidentiality. ..
Therefore, by combining the light image and the diffraction grating pattern, the hologram structure becomes excellent in anti-counterfeiting property and design property.
ホログラム形成領域にホログラムセルと回折格子セルとが配置されているホログラム構造体を図を参照して説明する。
図13(a)は、ホログラム形成領域11にホログラムセル11aおよび回折格子セル15aの両者を有する場合のホログラム構造体の一例を示す概略平面図であり、図13(b)は、図13(a)のB−B線断面図である。
図13では、回折格子図柄15が「F」の文字である例を示すものである。
A hologram structure in which a hologram cell and a diffraction grating cell are arranged in a hologram forming region will be described with reference to the drawings.
FIG. 13A is a schematic plan view showing an example of a hologram structure when both the hologram cell 11a and the diffraction grating cell 15a are provided in the hologram forming region 11, and FIG. 13B is FIG. 13A. ) Is a sectional view taken along line BB.
FIG. 13 shows an example in which the diffraction grating symbol 15 is the letter “F”.
ここで、同一平面上に形成されるとは、上記ホログラムセルおよび上記回折格子セルが上記ホログラム層の同一表面に形成されることをいうものである。すなわち、上記ホログラム層の同一表面にホログラムセルの凹凸表面および回折格子セルの凹凸表面の両者が形成されることをいうものである。 Here, the term "formed on the same plane" means that the hologram cell and the diffraction grating cell are formed on the same surface of the hologram layer. That is, it means that both the uneven surface of the hologram cell and the uneven surface of the diffraction grating cell are formed on the same surface of the hologram layer.
上記回折格子図柄は、参照光として可視光を照射することにより、回折格子セルが配置されたパターン形状の図柄が再生されるものである。
ここで、回折格子図柄は、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された図柄であり、原図柄を例えば碁盤目状の微細セルに分割し、分割された微細セルを回折格子セルに置き換えて描画されたものである。
既に説明した図13は、回折格子セル15aが「F」の文字のパターン状に配置されることにより回折格子図柄15を描画する例を示すものであり、上記回折格子図柄15に対して参照光を照射することで、上記ホログラム形成領域11内に回折格子図柄15として「F」の文字が再生される。
The above-mentioned diffraction grating symbol is one in which a pattern-shaped symbol in which the diffraction grating cells are arranged is reproduced by irradiating visible light as reference light.
Here, the diffraction grating pattern is a pattern drawn by diffraction grating cells arranged in a pattern in a plan view. The original design is divided into, for example, grid-shaped fine cells, and the divided fine cells are divided into diffraction gratings. It is drawn by replacing it with a cell.
FIG. 13 described above shows an example in which the diffraction grating pattern 15 is drawn by arranging the diffraction grating cells 15a in the pattern of the letter “F”, and the reference light with respect to the diffraction grating symbol 15. By irradiating with, the letter "F" is reproduced as the diffraction grating pattern 15 in the hologram forming region 11.
上記図柄としては、具体的には、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて、適宜設定することができ、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等を挙げることができる。 Specifically, the design can be appropriately set according to the use of the hologram structure of the present invention, and examples thereof include patterns, line drawings, characters, figures, and symbols.
また、上記光像と組み合わせることで、光像単独の場合と比較して、偽造防止性および意匠性を特に向上できる図柄としては、具体的には、図14(a)および(b)に例示するように、光像の再生箇所を指し示す矢印、光像の再生箇所を囲む枠、光像の再生箇所であることを示す文字等の光像の認識に用いられる図柄、図14(c)および(d)に例示するように上記光像が図形の一部を表わすものである場合に、図形の他の部分を表わす図柄、図14(e)および(f)に例示するように上記光像が文字列または数列の一部を表わす画像である場合に、文字列または数列の他の部分を表わす図柄、上記光像が太陽を表わす画像である場合に、太陽の周囲に配置される雲や空等の背景を表わす図柄等の上記ホログラム形成領域内に再生される光像との組み合わせで1つの統一感のある画像を形成する図柄等を挙げることができる。
なお、図14(a)、(c)および(e)は、それぞれ、光像再生前の状態を示し、図14(b)、(d)および(f)は、それぞれ光像再生時の状態を示すものである。より具体的には、図14(b)、(d)および(f)は、光像として第1光像12の再生時の状態を示すものである。
また、図14(a)および(b)では、回折格子図柄15は、ホログラム形成領域11内の光像の再生箇所を指し示す矢印である。図14(c)および(d)では、回折格子図柄15は、楕円の一部であり、光像により示される楕円の他の部分と組み合わせて1つの楕円を表示可能なものである。図14(e)および(f)では、回折格子図柄15は、文字列「ホンモノ」の一部であり、光像により示される文字列「ホンモノ」の他の部分と組み合わせて1つの意味のある文字列「ホンモノ」を表示可能なものである。
Further, as a symbol capable of particularly improving the anti-counterfeiting property and the design property as compared with the case of the light image alone by combining with the above-mentioned light image, specific examples are shown in FIGS. 14 (a) and 14 (b). A symbol used for recognizing an optical image such as an arrow pointing to a reproduction location of the optical image, a frame surrounding the reproduction portion of the optical image, and characters indicating the reproduction location of the optical image, FIG. 14 (c) and When the light image represents a part of the figure as illustrated in (d), the symbol representing the other part of the figure, the light image as illustrated in FIGS. 14 (e) and 14 (f). When is an image representing a part of a character string or a number string, a symbol representing another part of the character string or the number string, and when the above light image is an image representing the sun, a cloud or a cloud arranged around the sun Examples thereof include a symbol that forms a unified image in combination with an optical image reproduced in the hologram forming region, such as a symbol that represents a background such as the sky.
14 (a), (c) and (e) show the states before the optical image reproduction, and FIGS. 14 (b), (d) and (f) show the states at the time of optical image reproduction, respectively. Is shown. More specifically, FIGS. 14 (b), 14 (d) and (f) show the state of the first light image 12 at the time of reproduction as a light image.
Further, in FIGS. 14A and 14B, the diffraction grating pattern 15 is an arrow indicating a reproduction location of an optical image in the hologram forming region 11. In FIGS. 14 (c) and 14 (d), the diffraction grating symbol 15 is a part of an ellipse and can display one ellipse in combination with other parts of the ellipse shown by the optical image. In FIGS. 14 (e) and 14 (f), the diffraction grating symbol 15 is a part of the character string "real thing", and has one meaning in combination with other parts of the character string "real thing" shown by an optical image. The character string "real" can be displayed.
上記回折格子図柄は、平面的に図柄を再生可能な平面回折格子図柄であってもよく、立体的に図柄を再生可能な立体回折格子図柄であってもよい。
上記回折格子図柄が平面回折格子図柄であることにより、平面回折格子図柄と上記光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。また、平面回折格子図柄は高輝度なものとすることが容易であり、視認性に優れた回折格子図柄を再生できるからである。
上記回折格子図柄が立体回折格子図柄であることにより、立体回折格子図柄と光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
上記回折格子図柄は、平面回折格子図柄または立体回折格子図柄であってもよく、両者を組み合わせたものであってもよい。
The diffraction grating symbol may be a plane diffraction grating symbol that can reproduce the symbol in a plane, or may be a three-dimensional diffraction grating symbol that can reproduce the symbol in three dimensions.
Since the diffraction grating symbol is a planar diffraction grating symbol, the planar diffraction grating symbol and the optical image can be combined, so that the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting property and designability. Is. Further, it is easy to make the plane diffraction grating symbol have high brightness, and it is possible to reproduce the diffraction grating symbol having excellent visibility.
Since the diffraction grating design is a three-dimensional diffraction grating design, it is possible to combine the three-dimensional diffraction grating design and the optical image, so that the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting property and designability. is there.
The diffraction grating symbol may be a plane diffraction grating symbol or a three-dimensional diffraction grating symbol, or may be a combination of both.
上記平面回折格子図柄の形成方法としては、回折格子図柄が回折光の振幅が同程度の回折格子セルを用いて描画する方法を挙げることができる。
また、回折光の振幅を同程度とする方法としては、特許第4984938号公報に記載されるように、回折格子セルの回折格子が形成されている領域(以下、単に回折格子形成領域と称する場合がある。)の面積を同程度とする方法が挙げられる。すなわち、平面回折格子図柄は、回折格子形成領域の面積が同程度の回折格子セルを敷き詰めることで描画されたものとすることができる。また、同程度の回折格子形成領域の面積として、どの程度の回折格子形成領域の面積の回折格子セルを用いるかについては、平面回折格子図柄が再生可能なものであればよく、再生される平面回折格子図柄のサイズ、カラー表示の有無等に応じて適宜設定されるものである。
As a method of forming the plane diffraction grating pattern, a method of drawing the diffraction grating pattern using a diffraction grating cell having the same amplitude of the diffracted light can be mentioned.
Further, as a method of making the amplitude of the diffracted light about the same, as described in Japanese Patent No. 4948938, a region in which the diffraction grating of the diffraction grating cell is formed (hereinafter, simply referred to as a diffraction grating forming region). There is a method of making the area of) similar. That is, the planar diffraction grating pattern can be drawn by laying out diffraction grating cells having the same area of the diffraction grating forming region. As for the area of the diffraction grating forming region of the same degree, the area of the diffraction grating forming region of the diffraction grating cell may be determined as long as the plane diffraction grating design is reproducible. It is appropriately set according to the size of the diffraction grating pattern, the presence or absence of color display, and the like.
上記立体回折格子図柄の形成方法としては、上記回折格子図柄の端部側より中央部側に回折光の振幅が大きい回折格子セルを配置する方法が挙げられる。
より具体的には、図13(a)では、「F」の文字が回折格子セルを幅方向に3個配置した描画線により描画されている(例えば、15a1、15a2および15a3)。この場合、描画線の幅方向の端部側に配置される回折格子セル15a1および15a3より、中央部側に配置される回折格子セル15a2を回折光の振幅が大きい回折格子セルとすることで、参照光を照射した際に「F」の文字が立体的に浮かび上がるように再生することが可能となる。
また、回折光の振幅を端部側より中央部側を大きくする方法としては、特許第4984938号公報に記載されるように、端部側より中央部側に回折格子形成領域の面積が広い回折格子セルを配置する方法を挙げることができる。すなわち、立体回折格子図柄は、回折格子図柄の端部側より中央部側に回折格子形成領域の面積が広い回折格子セルが配置されたものとすることができる。
例えば、図13(a)中の回折格子セル15a1〜15a3の拡大図である図15に例示するように、描画線の幅方向の端部側に配置される回折格子セル15a1および15a3より、中央部側に配置される回折格子セル15a2を、回折格子形成領域15bの面積が広い回折格子セルとすることができる。
Examples of the method for forming the three-dimensional diffraction grating pattern include a method of arranging a diffraction grating cell having a large amplitude of diffracted light on the central portion side of the edge side of the diffraction grating symbol.
More specifically, in FIG. 13A, the letter "F" is drawn by drawing lines in which three diffraction grating cells are arranged in the width direction (for example, 15a1, 15a2, and 15a3). In this case, the diffraction grating cells 15a2 arranged on the central side of the diffraction grating cells 15a1 and 15a3 arranged on the end side in the width direction of the drawing line are used as the diffraction grating cells having a large amplitude of the diffracted light. When the reference light is irradiated, the letter "F" can be reproduced so as to appear three-dimensionally.
Further, as a method of increasing the amplitude of the diffracted light from the end side to the central portion side, as described in Japanese Patent No. 49844938, diffraction having a large area of the diffraction grating forming region from the end side to the central portion side. A method of arranging the grating cells can be mentioned. That is, the three-dimensional diffraction grating symbol can be such that a diffraction grating cell having a large area of the diffraction grating forming region is arranged on the central portion side from the end portion side of the diffraction grating symbol.
For example, as illustrated in FIG. 15, which is an enlarged view of the diffraction grating cells 15a1 to 15a3 in FIG. 13A, the center of the diffraction grating cells 15a1 and 15a3 arranged on the end side in the width direction of the drawing line. The diffraction grating cell 15a2 arranged on the portion side can be a diffraction grating cell having a large area of the diffraction grating forming region 15b.
上記回折格子セルの上記ホログラム形成領域に占める平面視上の面積の割合としては、所望の回折格子図柄を描画可能なものであれば特に限定されるものではない。
上記ホログラム形成領域内の上記ホログラムセルの合計面積に対する上記回折格子セルの合計面積の割合(回折格子セルの合計面積/ホログラムセルの合計面積)は、光像および回折格子図柄の両者を鮮明に再生できるものであれば特に限定されるものではないが、上記回折格子図柄が平面回折格子図柄である場合には、1/4〜3/2の範囲内であることが好ましく、なかでも、1/2〜1の範囲内であることが好ましく、特に、5/8〜7/8の範囲内であることが好ましい。上記面積の割合が上述の範囲内であることにより、ホログラム構造体は、光像および平面回折格子図柄の両者の視認性に優れたものとなるからである。
また、上記合計面積割合は、上記回折格子図柄が立体回折格子図柄である場合には、1/3〜4の範囲内であることが好ましく、なかでも、2/3〜3の範囲内であることが好ましく、特に、1〜2の範囲内であることが好ましい。上記面積の割合が上述の範囲内であることにより、ホログラム構造体は、光像および立体回折格子図柄の両者の視認性に優れたものとなるからである。
The ratio of the area of the diffraction grating cell to the hologram forming region in a plan view is not particularly limited as long as a desired diffraction grating pattern can be drawn.
The ratio of the total area of the diffraction grating cells to the total area of the hologram cells in the hologram forming region (total area of the diffraction grating cells / total area of the hologram cells) clearly reproduces both the optical image and the diffraction grating pattern. It is not particularly limited as long as it can be made, but when the diffraction grating symbol is a plane diffraction grating symbol, it is preferably in the range of 1/4 to 3/2, and in particular, 1 /. It is preferably in the range of 2 to 1, and particularly preferably in the range of 5/8 to 7/8. This is because when the ratio of the area is within the above range, the hologram structure has excellent visibility of both the optical image and the planar diffraction grating pattern.
Further, when the diffraction grating symbol is a three-dimensional diffraction grating symbol, the total area ratio is preferably in the range of 1/3 to 4, and in particular, in the range of 2/3 to 3. It is preferable, and in particular, it is preferably in the range of 1 to 2. This is because when the ratio of the area is within the above range, the hologram structure has excellent visibility of both the optical image and the three-dimensional diffraction grating pattern.
上記回折格子セルの格子ピッチ、格子角度、格子密度(図柄に対して回折格子セルが占める平面視上の面積割合)は、参照光が照射された際に再生される図柄に応じて適宜設定されるものである。
例えば、格子ピッチをそれぞれ1.2μm程度、1.0μm程度および0.8μm程度とすることで、それぞれ波長600nm用(赤色用)、500nm用(緑色用)、400nm(青色用)の光を回折するものとすること等が可能となり、カラー画像を再生可能なものとすることができる。
また、さらに格子角度および格子密度により様々な図柄を表現可能なものとすることができる。
The lattice pitch, lattice angle, and lattice density (ratio of the area of the diffraction grating cell in the plan view to the symbol) of the diffraction grating cell are appropriately set according to the symbol to be reproduced when the reference light is irradiated. It is a thing.
For example, by setting the lattice pitch to about 1.2 μm, about 1.0 μm, and about 0.8 μm, respectively, light of wavelengths of 600 nm (for red), 500 nm (for green), and 400 nm (for blue) is diffracted. It is possible to make a color image reproducible.
Further, various patterns can be expressed by the lattice angle and the lattice density.
上記回折格子セルの平面視サイズとしては、再生される回折格子図柄に応じて適宜設定できるものであるが、例えば、5μm角以上100μm角以内とすることができる。上記平面視サイズであることにより、高精細な回折格子図柄を描画できるからである。また、回折格子図柄を描画する個々の回折格子セルの存在を隠ぺいできるからである。 The plan-view size of the diffraction grating cell can be appropriately set according to the diffraction grating pattern to be reproduced, and can be, for example, 5 μm square or more and 100 μm square or less. This is because a high-definition diffraction grating pattern can be drawn by the above-mentioned plan view size. In addition, the existence of individual diffraction grating cells for drawing the diffraction grating pattern can be hidden.
上記回折格子セルの平面視形状としては、再生される回折格子図柄に応じて適宜設定できるものであるが、例えば、ホログラムセルと同様とすることができる。 The shape of the diffraction grating cell in a plan view can be appropriately set according to the diffraction grating pattern to be reproduced, and can be, for example, the same as that of the hologram cell.
上記回折格子セルの凹凸表面のホログラム形成領域への形成方法については、一般的な回折格子図柄の形成方法と同様とすることができる。 The method of forming the uneven surface of the diffraction grating cell on the hologram forming region can be the same as the method of forming a general diffraction grating pattern.
上記回折格子図柄の再生に用いられる参照光については特に限定されるものではなく、一般的なホログラムに用いられるものを使用できる。
上記参照光としては、具体的には、可視光を含む光を用いることができる。
例えば、参照光は、上記ホログラム層のホログラムセルに記録された光像の再生に用いられる点光源と同一とすることができる。
上記参照光の光源は、点光源に限らず、太陽光等の平行光等であってもよい。
上記ホログラム構造体は、例えば、上記点光源以外の光源からの参照光が照射される明所に配置することで回折格子図柄を再生でき、さらにその明所において、上記点光源をホログラム形成領域上に配置することで光像も再生可能となる。
The reference light used for reproducing the diffraction grating pattern is not particularly limited, and one used for a general hologram can be used.
Specifically, as the reference light, light including visible light can be used.
For example, the reference light can be the same as the point light source used for reproducing the light image recorded in the hologram cell of the hologram layer.
The light source of the reference light is not limited to a point light source, and may be parallel light such as sunlight.
The hologram structure can reproduce the diffraction grating pattern by arranging the hologram structure in a bright place where reference light from a light source other than the point light source is irradiated, and further, in the bright place, the point light source is placed on the hologram forming region. The optical image can also be reproduced by arranging it in.
(4)その他
上記ホログラム層を構成する材料としては、ホログラム形成領域において上述したフーリエ変換レンズ機能を発現するための凹凸形状を形成でき、かつ、所定の屈折率を示すものであれば特に限定されない。上記ホログラム層を構成する材料が示す屈折率としては、特に限定されるもではなく、本発明のホログラム構造体の用途に応じて適宜設定が可能である。
また、上記屈折率の基準となる波長も特に限定されず、400nm〜750nmの範囲内から適宜選択すればよい。中でも本発明においては、波長555nmにおける屈折率が1.3〜2.0の範囲内であることが好ましく、特に1.33〜1.8の範囲内であることが好ましい。ここで、上記屈折率は分光エリプソメーターにより測定することができる。
(4) Others The material constituting the hologram layer is not particularly limited as long as it can form a concave-convex shape for exhibiting the above-mentioned Fourier transform lens function in the hologram forming region and exhibits a predetermined refractive index. .. The refractive index exhibited by the material constituting the hologram layer is not particularly limited, and can be appropriately set according to the use of the hologram structure of the present invention.
Further, the wavelength that serves as a reference for the refractive index is not particularly limited, and may be appropriately selected from the range of 400 nm to 750 nm. Above all, in the present invention, the refractive index at a wavelength of 555 nm is preferably in the range of 1.3 to 2.0, and particularly preferably in the range of 1.33 to 1.8. Here, the refractive index can be measured by a spectroscopic ellipsometer.
上記ホログラム層の材料としては、従来からレリーフ型ホログラム等の形成に使用されている樹脂材料、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等の硬化性樹脂の硬化物、熱可塑性樹脂等を用いることができる。 As the material of the hologram layer, a resin material conventionally used for forming a relief type hologram or the like, for example, a cured product of a curable resin such as a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, or an ionizing radiation curable resin, Thermoplastic resin or the like can be used.
上記熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、アクリル変性ウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。また、上記熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、ポリスチレン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独重合体であっても2種以上の構成成分からなる共重合体であってもよい。また、これらの樹脂は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the thermosetting resin include unsaturated polyester resin, acrylic-modified urethane resin, epoxy-modified acrylic resin, epoxy-modified unsaturated polyester resin, alkyd resin, and phenol resin. Examples of the thermoplastic resin include acrylic acid ester resin, acrylamide resin, nitrocellulose resin, and polystyrene resin. These resins may be homopolymers or copolymers composed of two or more kinds of constituent components. Further, these resins may be used alone or in combination of two or more.
上述の熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂は、各種イソシアネート化合物、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛等の金属石鹸、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の有機過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルスルフィド等の熱あるいは紫外線硬化剤を含んでいてもよい。 The above-mentioned thermosetting resin or thermoplastic resin includes various isocyanate compounds, metal soaps such as cobalt naphthenate and zinc naphthenate, organic peroxides such as benzoyl peroxide and methyl ethyl ketone peroxide, benzophenone, acetophenone, anthraquinone and naphthoquinone. It may contain a thermosetting agent such as azobisisobutyronitrile or diphenylsulfide.
また、上記電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂等が挙げられ、中でもウレタン変性アクリレート樹脂が好ましく、特に特開2007−017643号公報で示される化学式で表わされるウレタン変性アクリル系樹脂が好ましい。 Examples of the ionizing radiation curable resin include epoxy-modified acrylate resin, urethane-modified acrylate resin, acrylic-modified polyester resin, and the like. Among them, urethane-modified acrylate resin is preferable, and is particularly shown in JP-A-2007-017643. A urethane-modified acrylic resin represented by the above chemical formula is preferable.
上記電離放射線硬化性樹脂を硬化させる際には、架橋構造、粘度の調整等を目的として、単官能または多官能のモノマー、オリゴマー等を併用することができる。上記単官能モノマーとしては、例えば、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ビニルピロリドン、(メタ)アクリロイルオキシエチルサクシネート、(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレート等のモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、2官能以上のモノマーとしては、骨格構造で分類するとポリオール(メタ)アクリレート(例えば、エポキシ変性ポリオール(メタ)アクリレート、ラクトン変性ポリオール(メタ)アクリレート等)、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、その他ポリブタジエン系、イソシアヌール酸系、ヒダントイン系、メラミン系、リン酸系、イミド系、ホスファゼン系等の骨格を有するポリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。さらに、紫外線、電子線硬化性である種々のモノマー、オリゴマー、ポリマーが利用できる。 When the ionizing radiation curable resin is cured, a monofunctional or polyfunctional monomer, an oligomer, or the like can be used in combination for the purpose of adjusting the crosslinked structure and viscosity. Examples of the monofunctional monomer include mono (meth) acrylates such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, vinylpyrrolidone, (meth) acryloyloxyethyl succinate, and (meth) acryloyloxyethyl phthalate. And so on. The bifunctional or higher functional monomers are classified by skeletal structure and are classified into polyol (meth) acrylate (for example, epoxy-modified polyol (meth) acrylate, lactone-modified polyol (meth) acrylate, etc.), polyester (meth) acrylate, and epoxy (meth). ) Acrylate, urethane (meth) acrylate, other polybutadiene-based, isocyanuric acid-based, hydantin-based, melamine-based, phosphoric acid-based, imide-based, phosphazene-based poly (meth) acrylate and the like. In addition, various monomers, oligomers and polymers that are UV and electron beam curable are available.
更に詳しくは、2官能のモノマー、オリゴマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。3官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、脂肪族トリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。4官能のモノマー、オリゴマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、脂肪族テトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、5官能以上のモノマー、オリゴマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、ホスファゼン骨格を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。官能基数は特に限定されるものではないが、官能基数が3より小さいと耐熱性が低下する傾向があり、また、20を超える場合には柔軟性が低下する傾向があるため、特に官能基数が3〜20の範囲内のものが好ましい。 More specifically, examples of the bifunctional monomer and oligomer include polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol di (meth). Examples include acrylate. Examples of the trifunctional monomer, oligomer, and polymer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and aliphatic tri (meth) acrylate. Examples of the tetrafunctional monomer and oligomer include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and aliphatic tetra (meth) acrylate. Examples of the pentafunctional or higher functional monomers and oligomers include dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Further, (meth) acrylate having a polyester skeleton, a urethane skeleton, and a phosphazene skeleton can be mentioned. The number of functional groups is not particularly limited, but if the number of functional groups is smaller than 3, the heat resistance tends to decrease, and if it exceeds 20, the flexibility tends to decrease, so that the number of functional groups is particularly high. Those in the range of 3 to 20 are preferable.
上記のような単官能または多官能のモノマー、オリゴマーの含有量としては適宜調整することができるが、通常、電離放射線硬化性樹脂100重量部に対して50重量部以下とすることが好ましく、中でも0.5重量部〜20重量部の範囲内が好ましい。 The content of the monofunctional or polyfunctional monomer or oligomer as described above can be appropriately adjusted, but is usually preferably 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin. It is preferably in the range of 0.5 parts by weight to 20 parts by weight.
また、上記ホログラム層は必要に応じて、光重合開始剤、重合禁止剤、劣化防止剤、可塑剤、滑剤、染料や顔料などの着色剤、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤等の添加剤を、適宜加えてもよい。 Further, the hologram layer has, if necessary, a photopolymerization initiator, a polymerization inhibitor, a deterioration inhibitor, a plasticizer, a lubricant, a colorant such as a dye or a pigment, a surfactant, a defoaming agent, a leveling agent, and a thixotropic property. Additives such as a primer may be added as appropriate.
上記ホログラム層の膜厚としては、上記ホログラム層が自己支持性を有する場合、0.05mm〜5mmの範囲内が好ましく、中でも0.1mm〜3mmの範囲内であることが好ましい。一方、上記ホログラム層が自己支持性を有さず、後述する透明基材上に形成される場合は、ホログラム層の膜厚としては、0.1μm〜50μmの範囲内が好ましく、中でも2μm〜20μmの範囲内とすることが好ましい。
なお、上記ホログラム層の膜厚は、具体的には、既に説明した図2のaで示される距離である。
また、ホログラム層の平面視上の大きさ等については、本発明のホログラム構造体の用途に応じて適宜設定することができる。
When the hologram layer has self-supporting property, the thickness of the hologram layer is preferably in the range of 0.05 mm to 5 mm, and more preferably in the range of 0.1 mm to 3 mm. On the other hand, when the hologram layer does not have self-supporting property and is formed on a transparent substrate described later, the film thickness of the hologram layer is preferably in the range of 0.1 μm to 50 μm, particularly 2 μm to 20 μm. It is preferably within the range of.
Specifically, the film thickness of the hologram layer is the distance shown by a in FIG. 2 already described.
Further, the size of the hologram layer in a plan view and the like can be appropriately set according to the use of the hologram structure of the present invention.
本発明におけるホログラム層は、ホログラム形成領域を少なくとも有するものであるが、上記ホログラム形成領域の他に、凹凸形状が形成されていない領域(非ホログラム形成領域)を有してもよい。
上記ホログラム層において上記各領域が占める割合については、特に限定されるものでは無く、用途に応じて適宜選択することができる。
The hologram layer in the present invention has at least a hologram forming region, but may have a region (non-hologram forming region) in which an uneven shape is not formed in addition to the hologram forming region.
The ratio occupied by each of the above regions in the hologram layer is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the intended use.
2.蒸着層
本発明における蒸着層は、ホログラム層のホログラム形成領域の凹凸表面に接するように形成されるものである。
2. 2. Thin-film deposition layer The thin-film deposition layer in the present invention is formed so as to be in contact with the uneven surface of the hologram-forming region of the hologram layer.
上記蒸着層は、透明性を有していてもよく、反射性を有するものであってもよい。
上記蒸着層が透明性を有する透明蒸着層である場合には、ホログラム構造体は、平面視した際にホログラム形成領域が光沢を有しないものとなる。このため、上記ホログラム構造体は、上記ホログラム形成領域が隠ぺいされたものとなり、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。
一方、上記蒸着層が反射性を有する反射性蒸着層である場合には、ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内に鮮明に光像を再生可能となる。このため、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。
The vapor-deposited layer may have transparency or may have reflectivity.
When the thin-film deposition layer is a transparent thin-film deposition layer having transparency, the hologram-forming region of the hologram structure does not have gloss when viewed in a plan view. Therefore, the hologram structure is such that the hologram forming region is concealed, and the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting property and design property.
On the other hand, when the vapor-deposited layer is a reflective vapor-deposited layer having reflectivity, the hologram structure can clearly reproduce an optical image in the hologram forming region. Therefore, the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting property and design property.
上記透明蒸着層は、全光線透過率(以下、単に光透過率とする場合がある。)が80%以上であることが好ましく、中でも90%以上であることがより好ましい。上記光透過率であることにより、ホログラム構造体は、ホログラム形成領域がより隠ぺいされたものとなるからである。
なお、上記光透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定した値である。
The transparent vapor deposition layer preferably has a total light transmittance (hereinafter, may be simply referred to as light transmittance) of 80% or more, and more preferably 90% or more. This is because the light transmittance makes the hologram structure more concealed in the hologram forming region.
The light transmittance is a value measured by JIS K7361-1 (a test method for the total light transmittance of a plastic-transparent material).
上記蒸着層を構成する材料としては、ホログラム層との間で屈折率差を生じる材料であれば特に限定されるものではない。上記反射性蒸着層を形成可能な材料としては、例えば、Mg、Al、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Se、Rb、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、Au、Pb、もしくはBi等の金属を挙げることができる。
また、上記透明蒸着層を形成可能な材料としては、例えば、上記金属の酸化物を挙げることができる。
上記材料は、単独でまたは2以上の材料を組み合わせたものも用いることができる。
The material constituting the vapor-deposited layer is not particularly limited as long as it is a material that causes a difference in refractive index from the hologram layer. Examples of the material capable of forming the reflective vapor deposition layer include Mg, Al, Ti, Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Se, Rb, Pd, Ag, Cd, In and Sn. , Sb, Te, Au, Pb, Bi, and the like.
Further, as a material capable of forming the transparent vapor deposition layer, for example, an oxide of the above metal can be mentioned.
The above materials may be used alone or in combination of two or more materials.
上記蒸着層の厚みは、所望の反射性、色調、デザイン、用途等の観点から適宜に設定でき、例えば、50Å〜1μmの範囲内であることが好ましく、なかでも100Å〜1000Åの範囲内であることが好ましい。
なお、上記蒸着層の厚みは、具体的には、既に説明した図2のbで示される距離である。
The thickness of the vapor-deposited layer can be appropriately set from the viewpoint of desired reflectivity, color tone, design, application, etc., and is preferably in the range of 50 Å to 1 μm, particularly in the range of 100 Å to 1000 Å. Is preferable.
The thickness of the thin-film deposition layer is specifically the distance shown in FIG. 2b, which has already been described.
上記蒸着層の形成箇所は、少なくともホログラム形成領域内の全ての凹凸表面と平面視上重なるものであればよく、ホログラム層の凹凸表面側の全表面を覆うものであってもよい。 The formed portion of the vapor-deposited layer may be at least overlapped with all the uneven surfaces in the hologram forming region in a plan view, and may cover the entire surface of the hologram layer on the uneven surface side.
上記蒸着層の形成方法としては、一般的な蒸着層の形成方法を用いることができ、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を挙げることができる。 As the method for forming the thin-film deposition layer, a general method for forming the thin-film deposition layer can be used, and examples thereof include a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method.
3.その他の構成
本発明のホログラム構造体は、ホログラム層および蒸着層を有するものであるが、必要に応じてその他の構成を有するものであってもよい。
3. 3. Other Structures The hologram structure of the present invention has a hologram layer and a vapor-deposited layer, but may have other structures if necessary.
(1)透明基材
本発明のホログラム構造体は、上記ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面に形成された透明基材を有するものであってもよい。透明基材を有することにより、本発明のホログラム構造体の熱的または機械的強度を高めることができるからである。
(1) Transparent Base Material The hologram structure of the present invention may have a transparent base material formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor-deposited layer. This is because having a transparent substrate can increase the thermal or mechanical strength of the hologram structure of the present invention.
上記透明基材は、上記ホログラム層と直接接するように形成されるものであってもよく、他の層を介して形成されるものであってもよい。
例えば、透明基材は、後述する層間接着層を介してホログラム層表面に接着されたものとすることができる。
The transparent base material may be formed so as to be in direct contact with the hologram layer, or may be formed via another layer.
For example, the transparent base material may be adhered to the surface of the hologram layer via an interlayer adhesive layer described later.
上記透明基材の光透過率は、80%以上であることが好ましく、中でも90%以上であることがより好ましい。透明基材の光透過率を上述の範囲内とすることにより、ホログラム構造体は、光像の視認が容易なものとなるからである。 The light transmittance of the transparent substrate is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. This is because by setting the light transmittance of the transparent base material within the above range, the hologram structure can easily visually recognize the light image.
また、上記透明基材はヘイズ値が低いものほど好ましく、具体的にはヘイズ値が0.01%〜5%の範囲内であるものが好ましく、中でも0.01%〜3%の範囲内であるものが好ましく、特に0.01%〜1.5%の範囲内であるものが好ましい。透明基材のヘイズ値を上記範囲内とすることにより、視認性を阻害することなくホログラム形成領域において発現する光像の表示が可能となるからである。なお、上記透明基材のヘイズ値は、JIS K7136に準拠して測定した値とする。 Further, the transparent substrate preferably has a low haze value, specifically, a transparent substrate having a haze value in the range of 0.01% to 5%, particularly in the range of 0.01% to 3%. Some are preferable, and those in the range of 0.01% to 1.5% are particularly preferable. This is because by setting the haze value of the transparent substrate within the above range, it is possible to display the optical image expressed in the hologram forming region without impairing the visibility. The haze value of the transparent substrate is a value measured in accordance with JIS K7136.
上記透明基材の構成材料としては、上述の光透過率およびヘイズ値を示すものであれば特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリルスチレン樹脂等の樹脂フイルム、石英ガラス、パイレックス(登録商標)、合成石英板等のガラスを用いることができる。中でも、上記透明基材としては、軽量且つ破損等の危険性が少ないという点から、樹脂フイルムを用いることが好ましく、複屈折性の面からポリカーボネートが最適である。 The constituent material of the transparent base material is not particularly limited as long as it exhibits the above-mentioned light transmittance and haze value. For example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic resin, cycloolefin resin, polyester resin, and polystyrene resin. , Resin film such as acrylic styrene resin, quartz glass, Pilex (registered trademark), synthetic quartz plate and other glass can be used. Among them, as the transparent base material, it is preferable to use a resin film from the viewpoint of light weight and less risk of breakage, and polycarbonate is most suitable from the viewpoint of birefringence.
上記透明基材は、必要に応じて、添加剤が含まれていてもよい。
上記添加剤としては、例えば、分散剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤等を挙げることができる。
The transparent substrate may contain additives, if necessary.
Examples of the additive include a dispersant, a filler, a plasticizer, an antistatic agent, and the like.
上記透明基材の膜厚としては、ホログラム層等を支持するための剛性および強度を有することが可能な厚さであればよく、例えば0.005mm〜5mm程度であることが好ましく、中でも0.02mm〜1mmの範囲内であることが好ましい。また、上記透明基材の形状については特に限定されるものではなく、本発明のホログラム構造体の使用形態に応じて適宜選択することができる。 The film thickness of the transparent substrate may be any thickness that can have rigidity and strength to support the hologram layer and the like, and is preferably about 0.005 mm to 5 mm, and above all, 0. It is preferably in the range of 02 mm to 1 mm. Further, the shape of the transparent base material is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the usage pattern of the hologram structure of the present invention.
上記透明基材は、他の層との密着性を向上させるために、例えば表面にコロナ処理等が行われていてもよい。 The surface of the transparent base material may be, for example, corona-treated in order to improve the adhesion to other layers.
(2)画像表示層
本発明のホログラム構造体は、上記光像と組み合わせて用いられる画像を表示する画像表示層を有することが好ましい。
上記画像表示層が表示する画像と、上記ホログラム形成領域内に再生される光像とを組み合わせることが可能となり、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
(2) Image Display Layer The hologram structure of the present invention preferably has an image display layer for displaying an image used in combination with the above optical image.
This is because the image displayed by the image display layer can be combined with the light image reproduced in the hologram forming region, and the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting property and designability. ..
ここで、上記画像としては、光像と組み合わせることで、偽造防止性および意匠性を向上できるものであれば特に限定されるものではない。
上記画像としては、具体的には、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて、適宜設定することができ、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等のみならず、単に全面が着色された態様も含むものである。
また、上記光像と組み合わせることで偽造防止性および意匠性をより向上できる画像としては、例えば図16(a)および(b)に例示するように、上記ホログラム形成領域の形成箇所を指し示す矢印、上記形成箇所を囲む枠、上記形成箇所であることを示す文字等のホログラム形成領域の認識に用いられる画像、図16(c)および(d)に例示するように上記光像が図形の一部を表わすものである場合に、図形の他の部分を表わす画像、図16(e)および(f)に例示するように上記光像が文字列または数列の一部を表わす画像である場合に、文字列または数列の他の部分を表わす画像、上記光像が太陽を表わす画像である場合に、太陽の周囲に配置される雲や空等の背景を表わす画像等の上記ホログラム形成領域内に再生される光像との組み合わせで1つの統一感のある画像を形成する画像等を挙げることができる。
なお、図16(a)、(c)および(e)は、それぞれ、光像再生前の状態を示し、図16(b)、(d)および(f)は、それぞれ光像再生時の状態を示すものである。より具体的には、図16(b)、(d)および(f)は、光像として第1光像12の再生時の状態を示すものである。
また、図16(a)および(b)では、画像16は、ホログラム形成領域11の形成箇所を指し示す矢印であり、ホログラム形成領域11内に光像として「ホンモノ」を表わす文字列を再生可能なものである。図16(c)および(d)では、画像16は、楕円の一部であり、光像により示される楕円の他の部分と組み合わせて1つの楕円を表示可能なものである。図16(e)および(f)では、画像16は、文字列「ホンモノ」の一部であり、光像16により示される文字列「ホンモノ」の他の部分と組み合わせて1つの意味のある文字列「ホンモノ」を表示可能なものである。
Here, the above image is not particularly limited as long as it can improve the anti-counterfeiting property and the design property by combining with the optical image.
Specifically, the above image can be appropriately set according to the use of the hologram structure of the present invention. For example, not only patterns, line arts, characters, figures, symbols, etc., but also the entire surface is simply colored. It also includes the aspects described above.
Further, as an image whose anti-counterfeiting property and design property can be further improved by combining with the above-mentioned optical image, for example, as illustrated in FIGS. 16A and 16B, an arrow indicating the formation location of the hologram-forming region, An image used for recognizing a hologram forming region such as a frame surrounding the forming portion and a character indicating that the forming portion is formed, and as illustrated in FIGS. 16C and 16D, the optical image is a part of a figure. When the above-mentioned optical image is an image representing a part of a character string or a number string as illustrated in FIGS. 16 (e) and 16 (f), an image representing another part of the figure. Reproduced in the hologram forming region such as an image representing other parts of a character string or a number string, or an image representing a background such as a cloud or sky arranged around the sun when the optical image is an image representing the sun. An image or the like that forms one unified image in combination with the light image to be formed can be mentioned.
16 (a), (c) and (e) show the states before the optical image reproduction, and FIGS. 16 (b), (d) and 16 (f) show the states at the time of optical image reproduction, respectively. Is shown. More specifically, FIGS. 16 (b), 16 (d) and (f) show the state of the first optical image 12 at the time of reproduction as an optical image.
Further, in FIGS. 16A and 16B, the image 16 is an arrow indicating the formation location of the hologram forming region 11, and a character string representing “real” as an optical image can be reproduced in the hologram forming region 11. It is a thing. In FIGS. 16 (c) and 16 (d), image 16 is part of an ellipse that can display one ellipse in combination with other parts of the ellipse represented by the optical image. In FIGS. 16 (e) and 16 (f), the image 16 is a part of the character string "real" and is one meaningful character in combination with the other part of the character string "real" indicated by the optical image 16. It is possible to display the column "real".
上記画像表示層は、所望の画像を表示できるものであればよく、例えば、着色材および樹脂材料を有する印刷層、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された回折格子図柄を有する第2ホログラム層等を挙げることができる。
上記印刷層は、様々な色およびパターンの画像を容易に描画できる。上記第2ホログラム層は、参照光を照射した場合にのみ画像を表示できる。このため、上記印刷層等は、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体を容易に形成できるからである。
上記画像表示層は、1種類のみであってもよく、2種類以上を組み合わせて用いるものであってもよい。例えば、画像表示層は、複数の印刷層を含むもの、印刷層および第2ホログラム層を含むもの等とすることができる。
以下、印刷層および第2ホログラム層について説明する。
The image display layer may be any one capable of displaying a desired image. For example, a printing layer having a coloring material and a resin material, and a diffraction grating pattern drawn by a diffraction grating cell arranged in a pattern in a plan view. A second hologram layer having a second hologram layer and the like can be mentioned.
The print layer can easily draw images of various colors and patterns. The second hologram layer can display an image only when it is irradiated with reference light. Therefore, the print layer or the like can easily form a hologram structure having excellent anti-counterfeiting property and design property.
The image display layer may be of only one type, or may be used in combination of two or more types. For example, the image display layer may include a plurality of print layers, a print layer, a second hologram layer, and the like.
Hereinafter, the print layer and the second hologram layer will be described.
(a)印刷層
上記印刷層は、着色材および樹脂材料を有するものである。
上記樹脂材料としては、例えばポリカーボネート類、ポリエステル類、セルロース誘導体、ノルボルネン系樹脂、ポリ塩化ビニル類、ポリ酢酸ビニル類、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリプロピレン系類、ポリエチレン系類、スチレン系類等の樹脂を用いることができる。
上記着色材としては、印刷層として一般的に用いられるものを使用でき、無機顔料および有機顔料等の顔料、酸性染料、直接染料、分散染料、油溶性染料、含金属油溶性染料、および昇華性色素等の染料等を挙げることができる。
また、上記着色材としては、紫外線または赤外線を吸収することにより蛍光を発する紫外線発光材料および赤外線発光材料等の蛍光発光材料、偏光コレステリック高分子液晶顔料、ガラスビーズなど反射鏡となる粒子も用いることができる。
上記印刷層の形成方法、すなわち、印刷方法としては、一般的な印刷層の形成方法と同様の方法を用いることができる。上記印刷方法としては、具体的には、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷等の各種印刷法を挙げることができる。
また、上記印刷層に用いられるインクとしては、一般的な印刷層の形成に用いられるものを使用でき、上記樹脂材料および着色材を溶媒中に分散または溶解したものを用いることができる。
(A) Print layer The print layer has a coloring material and a resin material.
Examples of the resin material include polycarbonates, polyesters, cellulose derivatives, norbornene resins, polyvinyl chlorides, polyvinyl acetates, acrylic resins, urethane resins, polypropylenes, polyethylenes, styrenes and the like. Resin can be used.
As the coloring material, those generally used as a printing layer can be used, and pigments such as inorganic pigments and organic pigments, acidic dyes, direct dyes, disperse dyes, oil-soluble dyes, metal-containing oil-soluble dyes, and sublimation properties Dyes such as dyes can be mentioned.
Further, as the coloring material, fluorescent light emitting materials such as ultraviolet light emitting materials and infrared light emitting materials that emit fluorescence by absorbing ultraviolet rays or infrared rays, polarized cholesteric polymer liquid crystal pigments, and particles that serve as reflectors such as glass beads are also used. Can be done.
As the method for forming the print layer, that is, the printing method, the same method as the general method for forming the print layer can be used. Specific examples of the printing method include various printing methods such as inkjet printing, screen printing, offset printing, gravure printing, and flexographic printing.
Further, as the ink used for the printing layer, an ink used for forming a general printing layer can be used, and an ink obtained by dispersing or dissolving the resin material and the coloring material in a solvent can be used.
上記印刷層の形成位置としては、ホログラム形成領域内での光像の再生および視認を妨げない位置であれば特に限定されるものではなく、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面上、ホログラム層と同一平面上、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面上等とすることができる。
上記印刷層は、上記ホログラム形成領域と平面視上重なるものであってもよいが、通常、重ならないものである。
図17(a)は、上記印刷層4が、透明基材3のホログラム層1とは反対側の表面上に形成される例を示すものである。
The formation position of the print layer is not particularly limited as long as it does not interfere with the reproduction and visual recognition of the optical image in the hologram formation region, and the hologram is formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer. It can be on the same plane as the layer and on the surface opposite to the hologram layer of the vapor deposition layer.
The print layer may overlap the hologram forming region in a plan view, but usually does not overlap.
FIG. 17A shows an example in which the print layer 4 is formed on the surface of the transparent base material 3 opposite to the hologram layer 1.
(b)第2ホログラム層
上記第2ホログラム層は、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された回折格子図柄を有し、参照光を照射することにより、回折格子セルが配置されたパターン形状の図柄が再生されるものである。
このような回折格子図柄、回折格子セルおよび参照光については上記「1.ホログラム層」に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
(B) Second Hologram Layer The second hologram layer has a diffraction grating pattern drawn by diffraction grating cells arranged in a pattern in a plan view, and the diffraction grating cells are arranged by irradiating with reference light. The pattern of the pattern shape that has been formed is reproduced.
Since such a diffraction grating pattern, a diffraction grating cell, and reference light can be the same as those described in "1. Hologram layer" above, the description thereof is omitted here.
上記第2ホログラム層を構成する材料としては、回折格子セルに含まれる回折格子として機能する凹凸形状を形成できるものであれば特に限定されるものではない。
このような材料としては、上記「1.ホログラム層」の項に記載のホログラム層の構成材料と同様とすることができる。
The material constituting the second hologram layer is not particularly limited as long as it can form a concave-convex shape that functions as a diffraction grating included in the diffraction grating cell.
Such a material can be the same as the constituent material of the hologram layer described in the above section “1. Hologram layer”.
上記第2ホログラム層の膜厚としては、安定的に回折格子の凹凸形状を形成可能なものであればよく、上記「1.ホログラム層」の項に記載のホログラム層と同様とすることができる。 The film thickness of the second hologram layer may be the same as that of the hologram layer described in the above section "1. Hologram layer" as long as it can stably form the uneven shape of the diffraction grating. ..
上記第2ホログラム層の形成位置としては、ホログラム形成領域内での光像の再生および視認を妨げない位置であれば特に限定されるものではなく、ホログラム層の凹凸表面とは反対側の表面上、ホログラム層と同一平面上、ホログラム層の凹凸表面上等とすることができる。
図17(b)は、第2ホログラム層6および第2ホログラム層6の回折格子図柄の凹凸表面に接するように形成される第2蒸着層7が、ホログラム層1の凹凸表面上に、ホログラム形成領域11と平面視上重ならないように形成される例を示すものであり、蒸着層2および層間接着層5を介して形成されるものである。
また、図17(c)は、第2ホログラム層6がホログラム層1と同一平面上に配置される例を示すものである。また、図17(c)では、第2ホログラム層6およびホログラム層1が一体として形成され、さらに、第2ホログラム層6の回折格子の凹凸形状形成面が、ホログラム層1の凹凸表面の形成面と同一である例を示すものである。
The formation position of the second hologram layer is not particularly limited as long as it does not interfere with the reproduction and visual recognition of the optical image in the hologram formation region, and is on the surface opposite to the uneven surface of the hologram layer. , It can be on the same plane as the hologram layer, on the uneven surface of the hologram layer, or the like.
In FIG. 17B, the second thin-film deposition layer 7 formed so as to be in contact with the uneven surface of the diffraction grating pattern of the second hologram layer 6 and the second hologram layer 6 forms a hologram on the uneven surface of the hologram layer 1. It shows an example which is formed so that it does not overlap with a region 11 in a holographic view, and is formed through a vapor deposition layer 2 and an interlayer adhesive layer 5.
Further, FIG. 17C shows an example in which the second hologram layer 6 is arranged on the same plane as the hologram layer 1. Further, in FIG. 17C, the second hologram layer 6 and the hologram layer 1 are integrally formed, and the uneven shape forming surface of the diffraction grating of the second hologram layer 6 is the forming surface of the uneven surface of the hologram layer 1. It shows an example which is the same as.
本発明のホログラム構造体は、第2ホログラム層の回折格子図柄の凹凸表面に接するように形成される第2蒸着層を有するものとすることができる。
このような第2蒸着層としては、第2ホログラム層を反射型として機能可能とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、反射型ホログラムに一般的に用いられるものとすることができる。具体的には、上記第2蒸着層は、上記「2.蒸着層」の項に記載の内容と同様とすることができる。
なお、既に説明した図17(b)は、ホログラム構造体10が、第2ホログラム層6のホログラム層1とは反対側の表面に第2ホログラム層の凹凸表面に接するように形成された第2蒸着層7を有する例を示すものである。また、図17(c)は、第2ホログラム層6の回折格子図柄の凹凸表面に接するように形成された第2蒸着層7が、蒸着層2と一体として形成される例を示すものである。
The hologram structure of the present invention may have a second vapor-deposited layer formed so as to be in contact with the uneven surface of the diffraction grating pattern of the second hologram layer.
The second thin-film deposition layer is not particularly limited as long as the second hologram layer can function as a reflective hologram, and is generally used for a reflective hologram. Can be done. Specifically, the second vapor deposition layer can be the same as the content described in the section “2. Vapor deposition layer” above.
Note that FIG. 17B, which has already been described, shows a second hologram structure 10 formed so as to be in contact with the uneven surface of the second hologram layer on the surface of the second hologram layer 6 opposite to the hologram layer 1. The example which has the vapor deposition layer 7 is shown. Further, FIG. 17C shows an example in which the second vapor deposition layer 7 formed so as to be in contact with the uneven surface of the diffraction grating pattern of the second hologram layer 6 is formed integrally with the vapor deposition layer 2. ..
(3)層間接着層
本発明のホログラム構造体は、各構成間を接着する層間接着層を有するものであってもよい。
なお、層間接着層については、ホログラム構造体に一般的に用いられるものを使用することができ、上記透明基材およびホログラム層等を構成する材料に応じて適宜選択されるものである。
上記層間接着層としては、例えば、2液硬化型接着剤層、紫外線硬化型接着剤層、熱硬化型接着剤層、熱溶融型接着剤層等の公知の接着剤層を用いることができる。
上記層間接着層の厚みについては、接着する構成の大きさ等により適宜設定されるものである。
(3) Adhesive Layer The hologram structure of the present invention may have an interlayer adhesive layer for adhering between the configurations.
As the interlayer adhesive layer, a layer generally used for a hologram structure can be used, and the layer is appropriately selected according to the material constituting the transparent base material, the hologram layer and the like.
As the interlayer adhesive layer, for example, a known adhesive layer such as a two-component curable adhesive layer, an ultraviolet curable adhesive layer, a thermosetting adhesive layer, or a thermosetting adhesive layer can be used.
The thickness of the interlayer adhesive layer is appropriately set depending on the size of the structure to be bonded and the like.
(4)接着層
本発明のホログラム構造体は、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有していてもよい。接着層を有することにより、上記ホログラム構造体は被着体に容易に貼付可能となるからである。
(4) Adhesive Layer The hologram structure of the present invention may have an adhesive layer formed on the surface opposite to the hologram layer of the vapor deposition layer. This is because the hologram structure can be easily attached to the adherend by having the adhesive layer.
上記接着層は透明性を有するものであってもよく、遮光性を有するものであってもよい。 The adhesive layer may be transparent or may have light-shielding properties.
上記接着層は、粘着性を有する粘着剤層であってもよく、密着性および再剥離性の双方の特性を有する再剥離密着層であってもよい。
なお、上記接着層は、上記層間接着層と同様に2液硬化型接着剤層、紫外線硬化型接着剤層、熱硬化型接着剤層、熱溶融型接着剤層等の接着剤層であってもよい。
上記接着層が粘着剤層である場合、本発明のホログラム構造体を所望の部材に強固に貼りあわせることができ、被着体からホログラム構造体が剥がれにくいものとすることが可能となる。
また、上記接着層が再剥離密着層である場合、再剥離密着層と被着体との間に空気が入らないよう密着させることにより、本発明のホログラム構造体を所望の部材に貼りあわせることができる。このような再剥離密着層は、被着体に粘着剤等による跡を残すことなく容易に密着および剥離を繰り返し行うことが可能であり、被着体へのダメージを抑えることができる。
The adhesive layer may be an adhesive layer having adhesiveness, or may be a re-peelable adhesive layer having both adhesiveness and re-peelability characteristics.
The adhesive layer is an adhesive layer such as a two-component curable adhesive layer, an ultraviolet curable adhesive layer, a thermosetting adhesive layer, and a thermosetting adhesive layer, similarly to the interlayer adhesive layer. May be good.
When the adhesive layer is an adhesive layer, the hologram structure of the present invention can be firmly attached to a desired member, and the hologram structure can be made difficult to peel off from the adherend.
Further, when the adhesive layer is a re-peelable adhesive layer, the hologram structure of the present invention is attached to a desired member by adhering the re-peelable adhesive layer and the adherend so as not to allow air to enter. Can be done. Such a re-peelable adhesive layer can easily repeatedly adhere and peel without leaving a trace due to an adhesive or the like on the adherend, and damage to the adherend can be suppressed.
上記接着層が粘着剤層である場合、上記粘着剤層に用いられる樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ラテックス系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタンエステル系樹脂、またはフッ化ビニリデン系樹脂(PVDF)、フッ化ビニル系樹脂(PVF)等のフッ素系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂等を挙げることができる。上記樹脂は、中でもアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ラテックス系樹脂であることが好ましい。 When the adhesive layer is an adhesive layer, examples of the resin used for the adhesive layer include acrylic resin, ester resin, urethane resin, ethylene vinyl acetate resin, latex resin, epoxy resin, and polyurethane. Examples thereof include ester-based resins, fluorine-based resins such as vinylidene fluoride-based resin (PVDF) and vinyl fluoride-based resin (PVF), and polyimide-based resins such as polyimide, polyamideimide, and polyetherimide. The resin is preferably an acrylic resin, a urethane resin, an ethylene vinyl acetate resin, or a latex resin.
また、上記接着層が再剥離密着層である場合、上記再剥離密着層に用いられる樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、アクリル酸エステル樹脂、またはこれらの共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、天然ゴム、カゼイン、ゼラチン、ロジンエステル、テルペン樹脂、フェノール系樹脂、スチレン系樹脂、クマロンインデン樹脂、ポリビニルエーテル、シリコーン樹脂等を挙げることができる。上記樹脂は、中でもアクリル系樹脂、シリコーン樹脂であることが好ましい。アクリル系樹脂は、被着体の表面に多少の凹凸がある場合であっても接着が可能であるからである。また、シリコーン樹脂は、密着および剥離を繰り返し行っても接着強度が低下しにくいからである。 When the adhesive layer is a re-peelable adhesive layer, the resin used for the re-peelable adhesive layer includes, for example, an acrylic resin, an acrylic acid ester resin, or a copolymer thereof, a styrene-butadiene copolymer, or the like. Examples thereof include natural rubber, casein, gelatin, rosin ester, terpene resin, phenol-based resin, styrene-based resin, Kumaron inden resin, polyvinyl ether, silicone resin and the like. The resin is preferably an acrylic resin or a silicone resin. This is because the acrylic resin can be adhered even when the surface of the adherend has some irregularities. In addition, the silicone resin is unlikely to lose its adhesive strength even after repeated adhesion and peeling.
上記接着層の厚みとしては、本発明のホログラム構造体の種類や用途等に応じて適宜選択されるが、通常1μm〜500μmの範囲内とすることが好ましく、中でも2μm〜50μmの範囲内とすることが好ましい。上記厚みが上述の範囲内であることにより、接着層は、接着性に優れたものとなるからである。 The thickness of the adhesive layer is appropriately selected depending on the type and application of the hologram structure of the present invention, but is usually preferably in the range of 1 μm to 500 μm, and in particular, in the range of 2 μm to 50 μm. Is preferable. This is because when the thickness is within the above range, the adhesive layer has excellent adhesiveness.
(5)剥離シート
また、本発明のホログラム構造体は、上述した接着層上に剥離シートが配置されていてもよい。本発明のホログラム構造体を接着層を介して所望の被着体に貼り合せる直前に、剥離シートと接着層とを剥離して使用することが可能となる。これにより、接着層と被着体との間に異物が付着することを防止できる。
(5) Release sheet In the hologram structure of the present invention, the release sheet may be arranged on the adhesive layer described above. Immediately before the hologram structure of the present invention is attached to a desired adherend via an adhesive layer, the release sheet and the adhesive layer can be peeled off and used. This makes it possible to prevent foreign matter from adhering between the adhesive layer and the adherend.
上記剥離シートとしては、接着層を保護することができ、且つ上記接着層から容易に剥離することが可能なものであれば、特に限定されるものではない。このような剥離シートとしては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)等からなる層とすることができる。
上記剥離シートの厚さは、本発明のホログラム構造体の種類や用途等に応じて適宜選択される。
The release sheet is not particularly limited as long as it can protect the adhesive layer and can be easily peeled from the adhesive layer. As such a release sheet, for example, a layer made of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS) or the like can be used.
The thickness of the release sheet is appropriately selected according to the type and application of the hologram structure of the present invention.
また、上記剥離シートの接着層と接する側の面には、接着層との剥離操作を容易とするために、剥離処理が施されていることが好ましい。このような処理方法としては、例えばシリコーン処理、アルキッド処理等が挙げられるが、特に限定されるものではない。 Further, it is preferable that the surface of the release sheet on the side in contact with the adhesive layer is subjected to a release treatment in order to facilitate the operation of peeling from the adhesive layer. Examples of such a treatment method include silicone treatment, alkyd treatment, and the like, but are not particularly limited.
(6)任意の部材
さらに、本発明のホログラム構造体は、上記透明基材上や上記ホログラム層の非ホログラム形成領域上に紫外線吸収層や赤外線吸収層、反射防止層等を有していてもよい。この様な層を有することにより、上記ホログラム構造体に紫外線吸収機能や赤外線吸収機能、反射防止機能等を付与することができ、本発明のホログラム構造体を各種フィルタ等としても用いることが可能となる。
なお、これらの層については、一般的に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(6) Arbitrary member Further, even if the hologram structure of the present invention has an ultraviolet absorbing layer, an infrared absorbing layer, an antireflection layer, or the like on the transparent base material or the non-hologram forming region of the hologram layer. Good. By having such a layer, it is possible to impart an ultraviolet absorbing function, an infrared absorbing function, an antireflection function and the like to the hologram structure, and the hologram structure of the present invention can also be used as various filters and the like. Become.
Since these layers can be the same as those generally used, the description thereof is omitted here.
4.ホログラム構造体
本発明のホログラム構造体は、ホログラム構造体を被着体に接着して使用するものであってもよく、被着体に接着せずに使用するものであってもよい。
4. Hologram structure The hologram structure of the present invention may be used by adhering the hologram structure to the adherend, or may be used without adhering to the adherend.
上記被着体に接着して使用する態様としては、被着体との接着に用いられる接着層を有するものであれば特に限定されるものではなく、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有し、ホログラムシールとして用いられる態様(第1使用態様)、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ホログラム層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、上記剥離容易層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、を有し、ホログラム転写箔として用いられる態様(第2使用態様)、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ヒートシール層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された紙基材と、上記紙基材の上記ヒートシール層とは反対側の表面に形成された接着層と、上記接着層の上記紙基材とは反対側の表面に形成された剥離シートと、を有し、ラベルとして用いられる態様(第3使用態様)等を挙げることができる。
また、上記被着体に接着せずに使用する態様としては、上記ホログラム構造体が、情報記録媒体として用いられる態様(第4使用態様)等を挙げることができる。
The mode of use by adhering to the adherend is not particularly limited as long as it has an adhesive layer used for adhering to the adherend, and the side of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer. A mode in which an adhesive layer is formed on the surface of the paper and is used as a hologram seal (first use mode), a heat seal layer formed on the surface of the vapor-deposited layer opposite to the hologram layer, and the hologram layer. The hologram transfer foil has an easy-to-peel layer formed on the surface opposite to the vapor-deposited layer and a peeling base material formed on the surface of the easy-to-peel layer opposite to the hologram layer. (Second use mode), the heat-sealed layer formed on the surface of the vapor-deposited layer opposite to the hologram layer, and the heat-sealed layer formed on the surface of the heat-sealed layer opposite to the vapor-deposited layer. A paper base material, an adhesive layer formed on the surface of the paper base material opposite to the heat seal layer, and a release sheet formed on the surface of the adhesive layer opposite to the paper base material. , And a mode used as a label (third use mode) and the like can be mentioned.
Moreover, as an embodiment which is used without adhering to the adherend, an embodiment in which the hologram structure is used as an information recording medium (fourth usage embodiment) and the like can be mentioned.
(1)第1使用態様
本発明のホログラム構造体の第1使用態様は、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有し、ホログラムシールとして用いられるものである。
(1) First Usage Mode The first usage mode of the hologram structure of the present invention has an adhesive layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and is used as a hologram seal. is there.
このような本態様のホログラム構造体について図面を参照して説明する。図18(a)は、本態様のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図18(a)に例示するように、本態様のホログラム構造体10は、上記蒸着層2の上記ホログラム層1とは反対側の表面に形成された接着層31を有し、ホログラムシールとして用いられるものである。
なお、図18(a)中の符号については、図1および図2のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
また、この例においては、ホログラム構造体10は、接着層31の蒸着層2とは反対側の表面に剥離シート32を有するものである。
Such a hologram structure of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 18A is a schematic cross-sectional view showing an example of the hologram structure of this embodiment. As illustrated in FIG. 18A, the hologram structure 10 of this embodiment has an adhesive layer 31 formed on the surface of the vapor deposition layer 2 opposite to the hologram layer 1, and is used as a hologram seal. Is something that can be done.
The reference numerals in FIGS. 18A indicate the same members as those in FIGS. 1 and 2, and thus the description thereof will be omitted here.
Further, in this example, the hologram structure 10 has a release sheet 32 on the surface of the adhesive layer 31 opposite to the vapor deposition layer 2.
本態様によれば、上記接着層を有することにより、接着層を用いてホログラム構造体を被着体に接着させることが容易であり、上記ホログラム構造体は、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できる。
このような本態様のホログラム構造体の具体的な用途としては、チケット、ブランド品、製品の品質管理番号ラベル等に貼り付けて、点光源をホログラム形成領域上に配置することでホログラム形成領域内に再生される光像を用いて真贋判定を行う用途、意匠性を付与する用途等を挙げることができる。
According to this aspect, by having the adhesive layer, it is easy to adhere the hologram structure to the adherend by using the adhesive layer, and the hologram structure is easily anti-counterfeiting to the adherend. And can give design.
As a specific application of such a hologram structure of this embodiment, it is attached to a ticket, a brand product, a quality control number label of a product, or the like, and a point light source is arranged on the hologram forming region in the hologram forming region. Examples include applications for determining authenticity using an optical image reproduced in a holographic image, and applications for imparting design.
本態様のホログラム構造体は、接着層を有するものである。
なお、接着層については、上記「3.その他の構成」の項に記載の内容と同様とすることができる。
また、必要に応じて、上記「3.その他の構成」の項に記載のその他の構成等を有するものであってもよい。
The hologram structure of this embodiment has an adhesive layer.
The adhesive layer may be the same as the content described in the above section "3. Other configurations".
Further, if necessary, it may have other configurations described in the above-mentioned "3. Other configurations".
(2)第2使用態様
本発明のホログラム構造体の第2使用態様は、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ホログラム層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、上記剥離容易層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、を有し、ホログラム転写箔として用いられるものである。
(2) Second Usage Mode The second usage mode of the hologram structure of the present invention includes a heat seal layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and the vapor deposition layer of the hologram layer. Has an easy-to-peel layer formed on the surface on the opposite side and a peeling base material formed on the surface on the opposite side of the easy-to-peel layer from the hologram layer, and is used as a hologram transfer foil. is there.
このような本態様のホログラム構造体について図面を参照して説明する。図18(b)は、本態様のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図18(b)に例示するように、本態様のホログラム構造体10は、上記蒸着層2の上記ホログラム層1とは反対側の表面に形成されたヒートシール層33と、上記ホログラム層1の上記蒸着層2とは反対側の表面に形成された剥離容易層34と、上記剥離容易層34の上記ホログラム層1とは反対側の表面に形成された剥離用基材35と、を有し、ホログラム転写箔として用いられるものである。
なお、図18(b)中の符号については、図1および図2のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
また、この例においては、ホログラム構造体10は、ヒートシール層33の蒸着層2とは反対側の表面に剥離シート32を有するものである。
Such a hologram structure of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 18B is a schematic cross-sectional view showing an example of the hologram structure of this embodiment. As illustrated in FIG. 18B, the hologram structure 10 of this embodiment has a heat seal layer 33 formed on the surface of the vapor deposition layer 2 on the opposite side of the hologram layer 1 and the hologram layer 1. It has an easy-to-peel layer 34 formed on the surface opposite to the vapor-deposited layer 2, and a peeling base material 35 formed on the surface of the easy-to-peel layer 34 opposite to the hologram layer 1. , Used as a hologram transfer foil.
Since the reference numerals in FIG. 18B indicate the same members as those in FIGS. 1 and 2, the description thereof will be omitted here.
Further, in this example, the hologram structure 10 has a release sheet 32 on the surface of the heat seal layer 33 opposite to the vapor deposition layer 2.
本態様によれば、ヒートシール層を用いて上記ホログラム構造体を被着体に接着させることが容易であり、上記ホログラム構造体は、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できる。
また、ホログラム層の蒸着層とは反対側に剥離層を介して剥離用基材が形成されていることにより、被着体に貼付する前にホログラム構造体が損傷することを防ぐことができる。
このような本態様のホログラム構造体の具体的な用途としては、チケット、ブランド品、製品の品質管理番号ラベル等に所望のパターン形状で転写して、点光源をホログラム形成領域上に配置することでホログラム形成領域内に再生される光像を用いて真贋判定を行う用途、意匠性を付与する用途等を挙げることができる。
According to this aspect, it is easy to adhere the hologram structure to the adherend by using the heat seal layer, and the hologram structure can easily impart anti-counterfeiting property and design property to the adherend. ..
Further, since the peeling base material is formed on the side of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer via the peeling layer, it is possible to prevent the hologram structure from being damaged before being attached to the adherend.
As a specific application of such a hologram structure of this embodiment, a point light source is arranged on a hologram forming region by transferring it to a ticket, a brand product, a quality control number label of a product, or the like in a desired pattern shape. Examples include an application for determining authenticity using an optical image reproduced in the hologram forming region, an application for imparting design, and the like.
本態様のホログラム構造体は、ヒートシール層、剥離容易層および剥離用基材を有するものである。
以下、本態様のホログラム構造体の各構成について詳細に説明する。
The hologram structure of this embodiment has a heat seal layer, a peelable layer, and a peeling base material.
Hereinafter, each configuration of the hologram structure of this embodiment will be described in detail.
上記ヒートシール層は、ホログラム層および蒸着層と被着体とを接着させる機能を有するものである。 The heat seal layer has a function of adhering the hologram layer and the vapor deposition layer to the adherend.
このようなヒートシール層としては、ホログラム層と被着体とを接着できるものであれば特に限定されるものではなく、本態様のホログラム構造体からホログラム層および蒸着層が転写される被着体の種類に応じて適宜設定されるものである。
上記ヒートシール層としては、例えば、特開2014−16422号公報等に記載の熱可塑性樹脂を含むヒートシール層を用いることができる。
Such a heat seal layer is not particularly limited as long as the hologram layer and the adherend can be adhered to each other, and the adherend to which the hologram layer and the vapor deposition layer are transferred from the hologram structure of this embodiment. It is set as appropriate according to the type of.
As the heat seal layer, for example, a heat seal layer containing a thermoplastic resin described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-16422 can be used.
上記剥離用基材は、ホログラム層および蒸着層等を支持するものである。
また、上記剥離用基材は、本態様のホログラム構造体を被着体に接着した後にホログラム構造体から剥離されるものである。
このような剥離用基材としては、透明性を有するものであってもよく、遮光性を有するものであってもよい。
上記剥離用基材を構成する材料および膜厚としては、例えば、上記「3.その他の構成」の項に記載の透明基材と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
The peeling base material supports a hologram layer, a vapor deposition layer, and the like.
Further, the peeling base material is one in which the hologram structure of this embodiment is adhered to an adherend and then peeled from the hologram structure.
The peeling base material may be a transparent material or a light-shielding material.
The material and film thickness constituting the peeling base material can be, for example, the same as the transparent base material described in the section "3. Other configurations", and thus the description thereof is omitted here.
上記剥離容易層は、ホログラム層を接着層を介して被着体に接着した後に、剥離用基材およびホログラム層を容易に分離するために設けられるものである。
このような剥離容易層としては、上記「3.その他の構成」の項に記載の再剥離密着層を用いることができる。
The easily peelable layer is provided to easily separate the peeling base material and the hologram layer after the hologram layer is adhered to the adherend via the adhesive layer.
As such an easily peelable layer, the re-peelable adhesion layer described in the above section "3. Other configurations" can be used.
上記剥離容易層の平面視上の形成箇所としては、剥離用基材をホログラム層に対して容易に剥離可能とするものであれば特に限定されるものではない。 The location of the easily peelable layer in a plan view is not particularly limited as long as the peeling base material can be easily peeled off from the hologram layer.
本態様のホログラム構造体は、必要に応じて、上記「3.その他の構成」の項に記載のその他の構成等を有するものであってもよい。 The hologram structure of this embodiment may have other configurations described in the above-mentioned "3. Other configurations", if necessary.
(3)第3使用態様
本発明のホログラム構造体の第3使用態様は、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ヒートシール層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された紙基材と、上記紙基材の上記ヒートシール層とは反対側の表面に形成された接着層と、上記接着層の上記紙基材とは反対側の表面に形成された剥離シートと、を有し、ラベルとして用いられるものである。
(3) Third Usage Mode The third usage mode of the hologram structure of the present invention is a heat-sealing layer formed on the surface of the vapor-deposited layer opposite to the hologram layer, and the vapor-deposited layer of the heat-sealing layer. The paper base material formed on the surface opposite to the above, the adhesive layer formed on the surface of the paper base material opposite to the heat seal layer, and the side of the adhesive layer opposite to the paper base material. It has a release sheet formed on the surface of the above and is used as a label.
このような本態様のホログラム構造体について図面を参照して説明する。図18(c)は、本態様のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図18(c)に例示するように、本態様のホログラム構造体10は、上記蒸着層2の上記ホログラム層1とは反対側の表面に形成されたヒートシール層33と、上記ヒートシール層33の上記蒸着層2とは反対側の表面に形成された紙基材36と、上記紙基材36の上記ヒートシール層33とは反対側の表面に形成された接着層31と、上記接着層31の上記紙基材36とは反対側の表面に形成された剥離シート32と、を有し、ラベルとして用いられるものである。
なお、図18(c)中の符号については、図1および図2のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
Such a hologram structure of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 18C is a schematic cross-sectional view showing an example of the hologram structure of this embodiment. As illustrated in FIG. 18C, the hologram structure 10 of this embodiment has a heat-sealing layer 33 formed on the surface of the vapor-deposited layer 2 on the opposite side of the hologram layer 1 and the heat-sealing layer 33. A paper base material 36 formed on the surface of the paper base material 36 opposite to the vapor deposition layer 2, an adhesive layer 31 formed on the surface of the paper base material 36 opposite to the heat seal layer 33, and the adhesive layer. 31 has a release sheet 32 formed on the surface opposite to the paper base material 36, and is used as a label.
Since the reference numerals in FIGS. 18 (c) indicate the same members as those in FIGS. 1 and 2, the description thereof will be omitted here.
本態様によれば、上記ホログラム層および蒸着層を有するものであることにより、偽造防止性および意匠性に優れたラベルとすることができる。
また、蒸着層のホログラム層とは反対側に紙基材を有することにより、本態様のホログラム構造体は、紙基材の蒸着層およびホログラム層が形成された側の表面に、例えば印刷層等を容易に形成できる。
このような本態様のホログラム構造体の具体的な用途としては、工業製品の品質管理番号ラベル等を挙げることができ、ホログラム形成領域内に再生される光像を用いて真贋判定を行う用途、意匠性を付与する用途等を挙げることができる。
According to this aspect, by having the hologram layer and the vapor deposition layer, it is possible to obtain a label having excellent anti-counterfeiting property and designability.
Further, by having the paper base material on the side opposite to the hologram layer of the vapor deposition layer, the hologram structure of this embodiment can be formed on the surface of the paper base material on the side where the vapor deposition layer and the hologram layer are formed, for example, a printing layer or the like. Can be easily formed.
Specific uses of the hologram structure of this embodiment include quality control number labels for industrial products, and applications for determining authenticity using an optical image reproduced in the hologram forming region. Uses for imparting design can be mentioned.
本態様のホログラム構造体は、ヒートシール層、紙基材、接着層、剥離シートを有するものである。
以下、本態様のホログラム構造体の各構成について詳細に説明する。
なお、ヒートシール層については、上記「(2)第2使用態様」の項に記載のヒートシール層と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、接着層および剥離シートについては、上記「3.その他の層」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
The hologram structure of this embodiment has a heat seal layer, a paper base material, an adhesive layer, and a release sheet.
Hereinafter, each configuration of the hologram structure of this embodiment will be described in detail.
The heat-sealing layer can be the same as the heat-sealing layer described in the above-mentioned "(2) Second usage mode", and thus the description thereof is omitted here.
Further, the adhesive layer and the release sheet can be the same as those described in the above section "3. Other layers", and thus the description thereof will be omitted here.
上記紙基材を構成する紙としては、印刷層の形成に一般的に用いられるものを使用でき、例えば、上質紙、純白ロール紙、クラフト紙、模造紙、コート紙、アルミニウム蒸着紙、合成紙、耐水紙、コートボール、マニラボール等の板紙、カード紙、アイボリー紙、ミルクカートン紙、カップ原紙等を用いることができる。
上記紙基材の厚みとしては、例えば、50μm〜200μmの範囲内とすることができる。
As the paper constituting the paper base material, those generally used for forming a printing layer can be used, for example, high-quality paper, pure white roll paper, kraft paper, imitation paper, coated paper, aluminum vapor-deposited paper, synthetic paper. , Water resistant paper, coated ball, paperboard such as Manila ball, card paper, ivory paper, milk carton paper, cup base paper and the like can be used.
The thickness of the paper substrate can be, for example, in the range of 50 μm to 200 μm.
上記ホログラム構造体は、長尺状に作成され、巻き取り可能な形態(リール状)であってもよい。上記ホログラム構造体を、リール状のラベル等とすることで、被着体に貼付する際に、適宜必要な長さ分を切り出して、使用することができる。 The hologram structure may be formed in a long shape and may be in a rewindable form (reel shape). By using the hologram structure as a reel-shaped label or the like, it is possible to cut out an appropriate length and use it when the hologram structure is attached to the adherend.
上記ホログラム構造体は、リール状である場合、ホログラム層、蒸着層およびヒートシール層の積層体が、紙基材の全面を覆うように配置されるものであってもよいが、紙基材を部分的に覆うように配置されるものであることが好ましく、なかでも、図19に例示するように、リール状の長手方向Yに沿って、上記積層体の幅方向Xの端部が紙基材の幅方向端部に接するように形成されていることが好ましい。上記積層体をこのように配置することで、ホログラム層の位置ずれを防止することができる。より具体的には、本態様のホログラム構造体を、紙基材の裏面に接着層および剥離シートを有するラベルの紙基材表面に、上記「(2)第2使用態様」のホログラム構造体を転写することで製造する場合に、転写される第2使用態様のホログラム構造体の位置ずれを防止することができる。
なお、図19は、リール状に形成された上記ホログラム構造体を有するラベルの一部を表す概略平面図である。図19においては、X方向をホログラム構造体の幅方向とし、Y方向をホログラム構造体の長手方向(巻き取り方向)とするものである。
When the hologram structure is reel-shaped, the laminate of the hologram layer, the vapor deposition layer, and the heat seal layer may be arranged so as to cover the entire surface of the paper base material, but the paper base material may be used. It is preferable that the laminate is arranged so as to partially cover it, and among them, as illustrated in FIG. 19, the end portion of the laminate in the width direction X is a paper base along the reel-shaped longitudinal direction Y. It is preferably formed so as to be in contact with the widthwise end of the material. By arranging the laminate in this way, it is possible to prevent the hologram layer from being displaced. More specifically, the hologram structure of the present embodiment is applied to the surface of the paper substrate of the label having the adhesive layer and the release sheet on the back surface of the paper substrate, and the hologram structure of the above "(2) second usage mode" is applied to the surface of the paper substrate. In the case of manufacturing by transferring, it is possible to prevent the position shift of the hologram structure of the second usage mode to be transferred.
Note that FIG. 19 is a schematic plan view showing a part of the label having the hologram structure formed in a reel shape. In FIG. 19, the X direction is the width direction of the hologram structure, and the Y direction is the longitudinal direction (winding direction) of the hologram structure.
上記紙基材は、ホログラム層が配置されない露出箇所に形成された印刷層を有するもの、すなわち、紙基材表面に印字されたものであってもよい。
なお、このような印刷層については、上記「3.その他の構成」の項に記載の内容と同様とすることができる。
The paper base material may have a print layer formed in an exposed portion where the hologram layer is not arranged, that is, a paper base material printed on the surface of the paper base material.
It should be noted that such a print layer can be the same as the content described in the above section "3. Other configurations".
本態様のホログラム構造体は、必要に応じて、上記「3.その他の構成」の項に記載のその他の構成等を有するものであってもよい。 The hologram structure of this embodiment may have other configurations described in the above-mentioned "3. Other configurations", if necessary.
(4)第4使用態様
本発明のホログラム構造体の第4使用態様は、上記ホログラム構造体が、情報記録媒体として用いられるものである。
(4) Fourth Usage Mode In the fourth usage mode of the hologram structure of the present invention, the hologram structure is used as an information recording medium.
このような本態様のホログラム構造体について図面を参照して説明する。図18(d)は、本態様のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図18(d)に例示するように、本態様のホログラム構造体10は、蒸着層2のホログラム層1とは反対側の表面に形成された裏面側保護層37と、ホログラム層1の蒸着層2とは反対側の表面に形成された表面側保護層38と、ホログラム層1および表面側保護層38の間に形成された中間基材39と、を有し、情報記録媒体として用いられるものである。
なお、図18(d)中の符号については、図1および図2のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
Such a hologram structure of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 18D is a schematic cross-sectional view showing an example of the hologram structure of this embodiment. As illustrated in FIG. 18D, the hologram structure 10 of this embodiment has a back surface side protective layer 37 formed on the surface of the vapor deposition layer 2 opposite to the hologram layer 1 and a vapor deposition layer of the hologram layer 1. A surface-side protective layer 38 formed on the surface opposite to the hologram layer 1 and an intermediate base material 39 formed between the hologram layer 1 and the surface-side protective layer 38, which are used as an information recording medium. Is.
Note that the reference numerals in FIGS. 18D indicate the same members as those in FIGS. 1 and 2, and thus the description thereof will be omitted here.
本態様によれば、情報記録媒体として用いられることで、偽造防止性および意匠性に優れた情報記録媒体とすることができる。
本態様のホログラム構造体の具体的な用途としては、例えば、クレジットカード、キャッシュカード、ポイントカード等のカード、社員証、運転免許所等の身分証明書、通帳、パスポート等を挙げることができる。
According to this aspect, by using it as an information recording medium, it is possible to obtain an information recording medium having excellent anti-counterfeiting property and designability.
Specific uses of the hologram structure of this embodiment include, for example, cards such as credit cards, cash cards, and point cards, employee ID cards, identification cards such as driver's licenses, passbooks, passports, and the like.
本態様のホログラム構造体は、ホログラム層および蒸着層を有するものであるが、情報記録媒体用の種類に応じてその他の構成を有するものであってもよい。 The hologram structure of this embodiment has a hologram layer and a thin-film deposition layer, but may have other configurations depending on the type of information recording medium.
このようなその他の構成としては、例えば、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面に形成された裏面側保護層と、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面に形成された表面側保護層と、ホログラム層および表面側保護層の間に形成された中間基材と、を挙げることができる。
上記表面側保護層は、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面に形成され、ホログラム層を保護するものであり、少なくとも、上記ホログラム形成領域と平面視上重なる領域が透明性を有するものが用いられる。
上記裏面側保護層は、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面に形成され、ホログラム層および蒸着層を保護するものである。
上記中間基材は、ホログラム層および表面側保護層の間に形成され、ホログラム層、表面側保護層および裏面側保護層を支持するものであり、少なくとも、上記ホログラム形成領域と平面視上重なる領域が透明性を有するものが用いられる。なお、中間基材は透明基材と兼用されるものであってもよい。
このような表面側保護層、裏面側保護層および中間基材の構成材料および膜厚については、例えば、上記「3.その他の構成」の項に記載の透明基材と同様とすることができる。より具体的には、表面側保護層および裏面側保護層の構成材料としてポリカーボネートを用いることができ、中間基材の構成材料としてポリエチレンテレフタレートを用いることができる。
また、表面側保護層、裏面側保護層および中間基材の形成箇所としては、ホログラム層等を保護できるものであればよいが、ホログラム層および蒸着層の全面を覆うものとすることができる。
As such other configurations, for example, a back surface side protective layer formed on the surface of the hologram layer opposite to the hologram layer and a surface side protection formed on the surface of the hologram layer opposite to the hologram layer. Examples thereof include an intermediate base material formed between the layer and the hologram layer and the surface side protective layer.
The surface-side protective layer is formed on the surface opposite to the vapor-deposited layer of the hologram layer to protect the hologram layer, and at least a region that overlaps the hologram-forming region in a plan view is transparent. Used.
The back surface side protective layer is formed on the surface opposite to the hologram layer of the vapor deposition layer to protect the hologram layer and the vapor deposition layer.
The intermediate base material is formed between the hologram layer and the front surface side protective layer to support the hologram layer, the front surface side protective layer, and the back surface side protective layer, and at least a region that overlaps the hologram formation region in a plan view. Is used which is transparent. The intermediate base material may also be used as a transparent base material.
The constituent materials and film thickness of the front surface side protective layer, the back surface side protective layer, and the intermediate base material can be, for example, the same as those of the transparent base material described in the above section "3. Other configurations". .. More specifically, polycarbonate can be used as a constituent material of the front surface side protective layer and the back surface side protective layer, and polyethylene terephthalate can be used as a constituent material of the intermediate base material.
Further, the front surface side protective layer, the back surface side protective layer, and the intermediate base material may be formed as long as they can protect the hologram layer or the like, but can cover the entire surface of the hologram layer and the vapor deposition layer.
上記その他の構成としては、情報を記録する情報記録層等を挙げることができる。
上記情報記録層としては、印刷により情報が記録された印刷層、磁気等により情報が記録された磁気層、集積回路(IC)チップを含むICチップ層等を挙げることができる。
上記その他の構成としては、アンテナを含むアンテナ層等の機能層を含むことができる。
これらの情報記録層および機能層等の形成箇所としては、ホログラム形成領域内での光像の再生および視認を妨げない位置であれば特に限定されるものではなく、例えば、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面上、ホログラム層と同一平面上、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面上等とすることができる。
Examples of the other configuration include an information recording layer for recording information.
Examples of the information recording layer include a printing layer in which information is recorded by printing, a magnetic layer in which information is recorded by magnetism, an IC chip layer including an integrated circuit (IC) chip, and the like.
The other configuration may include a functional layer such as an antenna layer including an antenna.
The positions where these information recording layers and functional layers are formed are not particularly limited as long as they do not interfere with the reproduction and visibility of the optical image in the hologram forming region. For example, the vapor-deposited layer of the hologram layer. Can be on the surface on the opposite side, on the same plane as the hologram layer, on the surface on the side opposite to the hologram layer of the vapor deposition layer, and the like.
5.製造方法
本発明のホログラム構造体の製造方法は、上記各構成を含むホログラム構造体を精度良く製造できる方法であれば特に限定されるものではなく、一般的なホログラム構造体の形成方法と同様の方法を用いることができる。
上記製造方法としては、具体的には、透明基材を準備し、ホログラム層および蒸着層をこの順で形成する方法を挙げることができる。
5. Manufacturing Method The manufacturing method of the hologram structure of the present invention is not particularly limited as long as it can accurately manufacture the hologram structure including each of the above configurations, and is the same as the general method for forming the hologram structure. The method can be used.
Specific examples of the manufacturing method include a method of preparing a transparent base material and forming a hologram layer and a thin-film deposition layer in this order.
6.用途
本発明のホログラム構造体の用途としては、偽造防止用途に用いられるものとすることができ、クレジットカード、キャッシュカード等のカード等を含む情報記録媒体を挙げることができる。
また、ホログラム構造体を他の被着体に接着可能な接着層を有するものとし、被着体に貼付可能なホログラム構造体シール等として用いられるものであってもよい。
さらに、ホログラム構造体として、ヒートシール層を有するものとし、被着体に転写可能なホログラム構造体転写箔等として用いられるものであってもよい。
さらにまた、ホログラム構造体として、紙基材および接着層を有するものとし、被着体に貼付可能なラベル等として用いられるものであってもよい。
6. Applications The hologram structure of the present invention can be used for anti-counterfeiting applications, and examples thereof include information recording media including cards such as credit cards and cash cards.
Further, the hologram structure may have an adhesive layer that can be adhered to another adherend, and may be used as a hologram structure seal or the like that can be attached to the adherend.
Further, the hologram structure may have a heat seal layer and may be used as a hologram structure transfer foil or the like that can be transferred to an adherend.
Furthermore, the hologram structure may have a paper base material and an adhesive layer, and may be used as a label or the like that can be attached to an adherend.
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above embodiment is an example, and any one having substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and exhibiting the same action and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.
以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。 Examples will be shown below, and the present invention will be described in more detail.
[実施例1]
<原版およびホログラム構造体の形成>
合成石英の基板上に表面低反射クロム薄膜が積層されたフォトマスクブランク板のクロム薄膜上に、ドライエッチング用レジストをスピンナーにより回転塗布した。ドライエッチング用レジストとしては日本ゼオン(株)製ZEP7000を使用し、400nmの厚みとなるように形成した。このレジスト層に対し、電子線描画装置(MEBES4500:ETEC社製)を用い、仮想ホログラム形成領域のサイズを10mm角の領域として、この仮想ホログラム形成領域内で、既に説明した図7(b)の原画像の全体を観察できるように、事前に計算機で作成したパターンを露光し、レジスト樹脂の露光部分を易溶化した。その後、現像液を噴霧し(スプレー現像)して易溶化部分を除去し、レジストパターンを形成した。
なお、パターンの格子ピッチは、最短で3313nmとした。
続いて、形成されたレジストパターンを利用して、ドライエッチングによりレジストで被覆されていない部分のクロム薄膜をエッチング除去し、石英基板を露出させた。次いで、露出した石英基板をエッチングし、石英基板に凹部を形成した。その後、レジスト薄膜を溶解除去することにより、石英基板がエッチングされて生じた凹部と、石英基板およびクロム薄膜がエッチングされずに残存している凸部とを有する原版を得た。また、原版のサイズ、すなわち、ホログラムセルのサイズを0.25mmとした。
厚み0.5mmのポリカーボネートシート(透明基材)に、ホログラム層形成用組成物(UV硬化性アクリレート樹脂:屈折率1.52 測定波長633nm)を滴下し、上記組成物の塗膜を形成した。次いで、上記塗膜上に凹凸を有する原版を積置し、押圧した。次に、活性放射線を照射して上記塗膜を硬化させた後剥離させ、原版の凹凸型を反転させた凹凸表面を有するホログラムセルを形成した。その後、原版の積置、押圧、硬化および剥離を繰り返し、ホログラムセルが敷き詰められた5mm角のホログラム形成領域を有する厚さ2μmのホログラム層を形成した。
[Example 1]
<Formation of original plate and hologram structure>
A resist for dry etching was rotationally coated on the chromium thin film of the photomask blank plate in which the surface low-reflection chromium thin film was laminated on the synthetic quartz substrate by a spinner. ZEP7000 manufactured by Nippon Zeon Corporation was used as the resist for dry etching, and the resist was formed so as to have a thickness of 400 nm. For this resist layer, an electron beam drawing apparatus (MEBES4500: manufactured by ETEC) was used, and the size of the virtual hologram forming region was set to a region of 10 mm square, and in this virtual hologram forming region, FIG. A pattern prepared in advance by a computer was exposed so that the entire original image could be observed, and the exposed portion of the resist resin was easily dissolved. Then, the developing solution was sprayed (spray development) to remove the easily soluble portion, and a resist pattern was formed.
The grid pitch of the pattern was set to 3313 nm at the shortest.
Subsequently, using the formed resist pattern, the chromium thin film in the portion not covered with the resist was removed by etching by dry etching to expose the quartz substrate. The exposed quartz substrate was then etched to form recesses in the quartz substrate. Then, by dissolving and removing the resist thin film, an original plate having a recess formed by etching the quartz substrate and a convex portion remaining without etching the quartz substrate and the chromium thin film was obtained. Further, the size of the original plate, that is, the size of the hologram cell was set to 0.25 mm.
A composition for forming a hologram layer (UV curable acrylate resin: refractive index 1.52, measurement wavelength 633 nm) was added dropwise to a polycarbonate sheet (transparent substrate) having a thickness of 0.5 mm to form a coating film of the above composition. Next, an original plate having irregularities was placed on the coating film and pressed. Next, the coating film was cured by irradiating with active radiation and then peeled off to form a hologram cell having a concavo-convex surface in which the concavo-convex type of the original plate was inverted. After that, stacking, pressing, curing and peeling of the original plate were repeated to form a hologram layer having a thickness of 2 μm having a hologram forming region of 5 mm square in which hologram cells were spread.
次いで、ホログラム層の凹凸表面側の全面に膜厚100nmのAl層をスパッタリング法により形成し、ホログラム構造体を得た。 Next, an Al layer having a film thickness of 100 nm was formed on the entire surface of the hologram layer on the uneven surface side by a sputtering method to obtain a hologram structure.
<評価>
ホログラム構造体のホログラム層表面から60mmの位置であり、ホログラム形成領域の中心点と平面視上重なる位置に点光源を配置し、ホログラム層表面から60mm離れた点光源方向から観察したところ、5mm角のホログラム形成領域内にフーリエ変換された所定の第2光像の画像「OK」を視認性良く観察することができた。
また、点光源の位置を変えず、観察者のホログラム形成領域の観察方向を、ホログラム形成領域の点光源位置からの距離を同一とし、点光源位置であるホログラム形成領域の中心点を通過し、ホログラム形成領域に対する仰角が60°となる方向から観察したところ、第2光像の画像「OK」は観察されず、第1光像の画像である「1」のみを観察することができた。
<Evaluation>
A point light source is placed at a position 60 mm from the surface of the hologram layer of the hologram structure and overlaps the center point of the hologram forming region in a plan view, and is observed from a point light source direction 60 mm away from the surface of the hologram layer. The image "OK" of the predetermined second light image subjected to the Fourier transform in the hologram forming region of No. 1 could be observed with good visibility.
Further, without changing the position of the point light source, the observer observes the hologram forming region at the same distance from the point light source position of the hologram forming region, and passes through the center point of the hologram forming region which is the point light source position. When observed from the direction in which the elevation angle with respect to the hologram forming region was 60 °, the image "OK" of the second light image was not observed, and only the image "1" of the first light image could be observed.
1 … ホログラム層
1a … 凹凸表面
2 … 蒸着層
3 … 透明基材
4 … 印刷層
5 … 層間接着層
6 … 第2ホログラム層
7 … 第2蒸着層
10 … ホログラム構造体
11 … ホログラム形成領域
11a … ホログラムセル
12 … 第1光像
13 … 第2光像
15 … 回折格子図柄
15a … 回折格子セル
32 … 剥離シート
33 … ヒートシール層
34 … 剥離容易層
35 … 剥離用基材
36 … 紙基材
37 … 裏面側保護層
38 … 表面側保護層
1 ... Hologram layer 1a ... Concavo-convex surface 2 ... Vapor deposition layer 3 ... Transparent substrate 4 ... Printing layer 5 ... Interlayer adhesive layer 6 ... Second hologram layer 7 ... Second vapor deposition layer 10 ... Hologram structure 11 ... Hologram formation area 11a ... Hologram cell 12 ... 1st light image 13 ... 2nd light image 15 ... Diffraction grating pattern 15a ... Diffraction grating cell 32 ... Peeling sheet 33 ... Heat seal layer 34 ... Easy peeling layer 35 ... Peeling base material 36 ... Paper base material 37 … Back side protective layer 38… Front side protective layer
Claims (7)
前記ホログラム層の前記反射型ホログラム形成領域の凹凸表面に接するように形成された蒸着層と、
を有し、
前記光像が、前記反射型ホログラム形成領域に対して点光源とは異なる方向からのみ観察可能な第1光像を含み、
前記反射型ホログラム形成領域が、前記反射型ホログラム形成領域よりも面積の広い仮想ホログラム形成領域において、前記反射型ホログラム形成領域の外側に前記第1光像の画像を含む原画像の全体を前記点光源方向から観察可能に格子ピッチを設計し、設計により得られた前記格子ピッチで、前記仮想ホログラム形成領域よりも面積が狭く、前記第1光像の画像が含まれない幅のホログラム形成領域を形成することで形成されたものであることを特徴とするホログラム構造体。 A hologram layer having a reflective hologram forming region in which a phase Fourier transform hologram is recorded, which converts the light incident from a point light source into a desired optical image, and
A vapor-deposited layer formed so as to be in contact with the uneven surface of the reflective hologram forming region of the hologram layer.
Have,
The light image includes a first light image that can be observed only from a direction different from that of a point light source with respect to the reflective hologram forming region.
In a virtual hologram forming region in which the reflective hologram forming region has a larger area than the reflective hologram forming region, the entire original image including the image of the first optical image outside the reflective hologram forming region is the point. The lattice pitch is designed so that it can be observed from the direction of the light source, and the hologram forming area having a width smaller than that of the virtual hologram forming area and not including the image of the first optical image is formed by the lattice pitch obtained by the design. A hologram structure characterized in that it is formed by forming .
前記反射型ホログラム形成領域に対して点光源と同一方向から観察した場合に、前記反射型ホログラム形成領域内に前記第2光像を観察可能であることを特徴とする請求項1に記載のホログラム構造体。 The light image includes a second light image that can be observed from the same direction as the point light source with respect to the reflective hologram forming region.
The hologram according to claim 1, wherein the second light image can be observed in the reflective hologram forming region when the reflective hologram forming region is observed from the same direction as the point light source. Structure.
前記ホログラム層の前記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、
前記剥離容易層の前記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、
を有し、
ホログラム転写箔として用いられることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のホログラム構造体。 A heat-sealing layer formed on the surface of the vapor-deposited layer opposite to the hologram layer,
An easily peelable layer formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor-deposited layer,
A peeling base material formed on the surface of the easily peelable layer opposite to the hologram layer,
Have,
The hologram structure according to any one of claims 1 to 5, wherein the hologram structure is used as a hologram transfer foil.
前記ヒートシール層の前記蒸着層とは反対側の表面に形成された紙基材と、
前記紙基材の前記ヒートシール層とは反対側の表面に形成された接着層と、
前記接着層の前記紙基材とは反対側の表面に形成された剥離シートと、
を有し、
ラベルとして用いられることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のホログラム構造体。 A heat-sealing layer formed on the surface of the vapor-deposited layer opposite to the hologram layer,
A paper base material formed on the surface of the heat seal layer opposite to the vapor deposition layer,
An adhesive layer formed on the surface of the paper substrate opposite to the heat seal layer,
A release sheet formed on the surface of the adhesive layer opposite to the paper substrate,
Have,
The hologram structure according to any one of claims 1 to 5, wherein the hologram structure is used as a label.
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