JP2017072693A - Hologram structure - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hologram structure excellent in forgery preventing property and designing property.SOLUTION: The hologram structure has a hologram layer having a reflective hologram formation region and a transmissive hologram formation region, and a vapor deposition layer formed to be in contact with a rugged surface of the reflective hologram formation region of the hologram layer. A phase type Fourier transform hologram, which converts incident light from a point light source into a desired optical image is recorded in the reflective hologram formation region and the transmissive hologram formation region.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体に関するものである。   The present invention relates to a hologram structure having excellent anti-counterfeiting properties and design properties.

ホログラムは、波長の等しい二つの光(物体光と参照光)を干渉させることによって、物体光の波面が干渉縞として感光材料に記録されたものであり、干渉縞記録時の参照光と同一波長の光が当てられると干渉縞によって回折現象が生じ、元の物体光と同一の波面を再生することが可能である。ホログラムは、外観が美しく、複製が比較的困難である等の利点を有することから偽造防止用途等に多く使用されている。
ホログラムの使用方法としては、ホログラムに対して参照光を透過または反射させることで、光像として再生する方法が知られている。
例えば、特許文献1では、レーザー反射型ホログラムで反射した回折光をスクリーンに投影することで再生された光像を用いて、真贋判定を行うことが記載されている。
A hologram is the one where the wavefront of object light is recorded on the photosensitive material as interference fringes by interfering two lights with the same wavelength (object light and reference light), and the same wavelength as the reference light at the time of interference fringe recording When the light is applied, a diffraction phenomenon occurs due to interference fringes, and the same wavefront as the original object light can be reproduced. Holograms are widely used for anti-counterfeiting and the like because they have advantages such as beautiful appearance and relatively difficult replication.
As a method of using a hologram, a method of reproducing as a light image by transmitting or reflecting reference light with respect to the hologram is known.
For example, Patent Document 1 describes that authentication is performed using an optical image reproduced by projecting diffracted light reflected by a laser reflection hologram onto a screen.

特許第4872964号公報Japanese Patent No. 487964

しかしながら、特許文献1に記載されるようなスクリーンに投影した光像のみでは高度な偽造防止効果および意匠の付与が困難であるといった問題がある。   However, there is a problem that it is difficult to impart a high level of anti-counterfeiting effect and a design with only a light image projected on a screen as described in Patent Document 1.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object to provide a hologram structure excellent in forgery prevention and design.

上記目的を達成するために、本発明は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域を有するホログラム層と、上記ホログラム層の上記反射型ホログラム形成領域の凹凸表面に接するよう形成された蒸着層と、を有し、上記反射型ホログラム形成領域および上記透過型ホログラム形成領域には、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されていることを特徴とするホログラム構造体を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a hologram layer having a reflection hologram formation region and a transmission hologram formation region, and a vapor deposition layer formed so as to be in contact with the uneven surface of the reflection hologram formation region of the hologram layer. And a phase-type Fourier transform hologram that converts light incident from a point light source into a desired optical image is recorded in the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region. A hologram structure is provided.

本発明によれば、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域(以下、両領域を合わせてホログラム形成領域と称する場合がある。)に、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されていることにより、上記ホログラム構造体は、点光源により平面視上ホログラム形成領域内に光像を再生できる。
また、ホログラム構造体は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域を有することにより、点光源の位置、すなわち、点光源が観察面側であるか観察面とは反対側であるかにより、異なる光像を観察可能なものとなる。
このため、ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。
According to the present invention, light incident from a point light source is converted into a desired light image in a reflection hologram formation region and a transmission hologram formation region (hereinafter, both regions may be collectively referred to as a hologram formation region). Since the phase-type Fourier transform hologram is recorded, the hologram structure can reproduce an optical image in a hologram forming region in a plan view by a point light source.
Further, the hologram structure has a reflection hologram formation region and a transmission hologram formation region, so that depending on the position of the point light source, that is, whether the point light source is the observation surface side or the opposite side of the observation surface, Different light images can be observed.
For this reason, the hologram structure has excellent anti-counterfeiting properties and design properties.

本発明においては、上記反射型ホログラム形成領域および上記透過型ホログラム形成領域が平面視上重なることが好ましい。
上記両領域が平面視上重なることにより、ホログラム構造体の平面視上同一領域内に反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域にそれぞれ記録されている光像を再生することができる。
したがって、例えば、ホログラム構造体は、同一領域内に対して点光源の位置を変えることで異なる意匠を提供することや、同一領域内に両領域が形成されていることを知っている観察者のみに、点光源の位置を変えることで情報を提供することが可能となる。
このように、上記両領域が平面視上重なることにより、ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
In the present invention, it is preferable that the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region overlap in plan view.
By overlapping the two regions in plan view, it is possible to reproduce the optical images recorded in the reflection hologram forming region and the transmission hologram forming region in the same region in plan view of the hologram structure.
Therefore, for example, the hologram structure provides different designs by changing the position of the point light source in the same area, or only an observer who knows that both areas are formed in the same area. In addition, information can be provided by changing the position of the point light source.
This is because the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting and design properties when the two regions overlap in plan view.

本発明においては、上記ホログラム層の上記反射型ホログラム形成領域および上記透過型ホログラム形成領域の少なくとも一方には、点光源から入射した光を上記光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラムセルと、上記ホログラムセルと同一平面上に形成され、平面視上パターン状に配置されることにより回折格子図柄を描画する回折格子セルと、が配置されていることが好ましい。ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内に光像および回折格子図柄の両者を再生することが可能となる。
したがって、光像および回折格子図柄を組み合わせることにより、ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
In the present invention, a phase type Fourier transform hologram for recording light incident from a point light source into the optical image is recorded in at least one of the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region of the hologram layer. It is preferable that a hologram cell and a diffraction grating cell which is formed on the same plane as the hologram cell and draws a diffraction grating pattern by being arranged in a pattern in plan view are preferably arranged. The hologram structure can reproduce both the optical image and the diffraction grating pattern in the hologram forming region.
Therefore, by combining the optical image and the diffraction grating pattern, the hologram structure becomes excellent in anti-counterfeiting and design properties.

本発明においては、上記回折格子図柄が、平面的に図柄を再生可能な平面回折格子図柄であることが好ましい。平面回折格子図柄と光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。また、平面回折格子図柄は高輝度なものとすることが容易であり、視認性に優れた回折格子図柄を再生できるからである。   In the present invention, the diffraction grating pattern is preferably a planar diffraction grating pattern that can reproduce the pattern in a planar manner. This is because the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting and design properties by being able to combine a plane diffraction grating pattern and an optical image. Moreover, it is easy to make the plane diffraction grating pattern high in brightness, and a diffraction grating pattern with excellent visibility can be reproduced.

本発明においては、上記回折格子図柄が、立体的に図柄を再生可能な立体回折格子図柄であることが好ましい。立体回折格子図柄と光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。   In the present invention, the diffraction grating pattern is preferably a three-dimensional diffraction grating pattern that can be reproduced three-dimensionally. This is because it becomes possible to combine a three-dimensional diffraction grating pattern and an optical image, so that the hologram structure has excellent anti-counterfeiting properties and design properties.

本発明においては、ホログラム構造体が、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有し、ホログラムシールとして用いられることが好ましい。ホログラムシールとして用いられることで、ホログラム構造体は、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できるからである。   In the present invention, the hologram structure preferably has an adhesive layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and is used as a hologram seal. This is because the hologram structure can easily impart anti-counterfeiting properties and design properties to the adherend by being used as a hologram seal.

本発明においては、ホログラム構造体が、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ホログラム層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、上記剥離容易層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、を有し、ホログラム転写箔として用いられることが好ましい。ホログラム転写箔として用いられることで、ホログラム構造体は、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できるからである。   In the present invention, the hologram structure is a heat seal layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and a release formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer. It has an easy layer and a peeling substrate formed on the surface of the easy peeling layer opposite to the hologram layer, and is preferably used as a hologram transfer foil. This is because the hologram structure can easily impart anti-counterfeiting and design properties to the adherend by being used as a hologram transfer foil.

本発明においては、ホログラム構造体が、情報記録媒体として用いられることが好ましい。ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものであるため、偽造防止性および意匠性に優れた情報記録媒体とすることができるからである。   In the present invention, the hologram structure is preferably used as an information recording medium. This is because the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting properties and design properties, and therefore can be an information recording medium excellent in anti-counterfeiting properties and design properties.

本発明は、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体を提供できるという効果を奏する。   The present invention has an effect that a hologram structure excellent in forgery prevention and design properties can be provided.

本発明のホログラム構造体の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the hologram structure of this invention. 図1のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line of FIG. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the hologram structure of this invention. 図3のB−B線断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line BB in FIG. 3. 本発明のホログラム構造体の使用例を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the usage example of the hologram structure of this invention. 本発明のホログラム構造体の使用例を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the usage example of the hologram structure of this invention. ホログラム構造体を用いた光像の再生方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the reproducing method of the optical image using a hologram structure. ホログラム構造体を用いた光像の再生方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the reproducing method of the optical image using a hologram structure. ホログラム構造体を用いた光像の再生方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the reproducing method of the optical image using a hologram structure. 本発明におけるホログラム形成領域を説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining the hologram formation area in the present invention. 本発明におけるホログラムセルの配置を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining arrangement | positioning of the hologram cell in this invention. 本発明におけるホログラムセルの凹凸表面を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the uneven | corrugated surface of the hologram cell in this invention. 本発明におけるホログラムセルを説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the hologram cell in this invention. 本発明におけるホログラム形成領域の配置を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining arrangement | positioning of the hologram formation area in this invention. 本発明におけるホログラム形成領域の配置を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining arrangement | positioning of the hologram formation area in this invention. 本発明におけるホログラム形成領域の配置を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining arrangement | positioning of the hologram formation area in this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the hologram structure of this invention. 図17のC−C線断面図である。It is CC sectional view taken on the line of FIG. 本発明のホログラム構造体の使用例を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the usage example of the hologram structure of this invention. 本発明における回折格子図柄を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the diffraction grating pattern in this invention. 本発明における回折格子セルを説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the diffraction grating cell in this invention. 本発明における画像表示層を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the image display layer in this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the hologram structure of this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the hologram structure of this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the hologram structure of this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the hologram structure of this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the hologram structure of this invention.

以下、本発明のホログラム構造体について詳細に説明する。
本発明のホログラム構造体は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域を有するホログラム層と、上記ホログラム層の上記反射型ホログラム形成領域の凹凸表面に接するよう形成された蒸着層と、を有し、上記反射型ホログラム形成領域および上記透過型ホログラム形成領域には、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されていることを特徴とするものである。
Hereinafter, the hologram structure of the present invention will be described in detail.
The hologram structure of the present invention has a hologram layer having a reflection hologram formation region and a transmission hologram formation region, and a vapor deposition layer formed so as to be in contact with the uneven surface of the reflection hologram formation region of the hologram layer. The reflection hologram forming area and the transmission hologram forming area are recorded with a phase type Fourier transform hologram that converts light incident from a point light source into a desired optical image. is there.

このような本発明のホログラム構造体について図面を参照して説明する。
図1は、本発明のホログラム構造体の一例を示す概略平面図であり、図2は、図1のA−A線断面図である。
また、図3は、本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略平面図であり、図4は、図3のB−B線断面図である。
図1〜図4に例示するように、本発明のホログラム構造体10は、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12を有するホログラム層1と、上記ホログラム層1の上記反射型ホログラム形成領域11の凹凸表面に接するよう形成された蒸着層2と、を有し、上記反射型ホログラム形成領域11および上記透過型ホログラム形成領域12には、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されているものである。
Such a hologram structure of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of a hologram structure of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.
FIG. 3 is a schematic plan view showing another example of the hologram structure of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.
As illustrated in FIGS. 1 to 4, the hologram structure 10 of the present invention includes a hologram layer 1 having a reflection hologram formation region 11 and a transmission hologram formation region 12, and the reflection hologram formation of the hologram layer 1. A vapor deposition layer 2 formed so as to be in contact with the concavo-convex surface of the region 11, and the light incident from the point light source is converted into a desired light image in the reflective hologram forming region 11 and the transmission hologram forming region 12. A phase-type Fourier transform hologram to be converted is recorded.

図1〜図4は、ホログラム層1の蒸着層2とは反対側の表面に透明基材3が積層される例を示すものである。
また、図1〜図4は、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12が、それぞれ、点光源から入射した光を上記光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラムセルとして観察面側に配置された点光源から入射した光を所望の光像へ変換するもの(以下、単に、反射型セルと称する場合がある。)11aおよび観察面とは反対側に配置された点光源から入射した光を所望の光像へ変換するもの(以下、単に透過型セルと称する場合がある。)12aが複数配列されたものである例を示すものである。
図1および図2は、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12が平面視上重なる重複領域13を有し、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12の全てが重なる例を示すものである。図3および図4は、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12が平面視上重ならず、平面視上離間して配置される例を示すものである。
1 to 4 show an example in which a transparent substrate 3 is laminated on the surface of the hologram layer 1 opposite to the vapor deposition layer 2.
1 to 4 show holograms on which phase-type Fourier transform holograms are recorded, in which the reflection-type hologram formation region 11 and the transmission-type hologram formation region 12 each convert light incident from a point light source into the optical image. A cell that converts light incident from a point light source arranged on the observation surface side as a cell into a desired light image (hereinafter, simply referred to as a reflection type cell) 11a and an observation surface. This example shows an example in which a plurality of light sources 12a that convert light incident from a point light source into a desired light image (hereinafter simply referred to as a transmissive cell) 12a are arranged.
FIG. 1 and FIG. 2 show an example in which a reflection hologram forming region 11 and a transmission hologram forming region 12 have an overlapping region 13 that overlaps in plan view, and the reflection hologram forming region 11 and the transmission hologram forming region 12 all overlap. Is shown. 3 and 4 show an example in which the reflection hologram forming region 11 and the transmission hologram forming region 12 are arranged so as not to overlap in plan view but to be separated from each other in plan view.

なお、図1および図3は説明の容易のため、透明基材の記載を省略するものである。図1では、破線で囲まれた領域が反射型ホログラム形成領域11であり、かつ、透過型ホログラム形成領域12である。図3では、破線で囲まれた領域が反射型ホログラム形成領域11であり、一点破線で囲まれた領域が透過型ホログラム形成領域12である。   In FIG. 1 and FIG. 3, the description of the transparent base material is omitted for easy explanation. In FIG. 1, a region surrounded by a broken line is a reflection hologram forming region 11 and a transmission hologram forming region 12. In FIG. 3, the area surrounded by the broken line is the reflection hologram forming area 11, and the area surrounded by the one-dot broken line is the transmission hologram forming area 12.

本発明によれば、ホログラム形成領域に、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されていることにより、上記ホログラム構造体は、点光源により平面視上ホログラム形成領域内に光像を再生できる。
また、ホログラム構造体は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域を有することにより、ホログラム構造体に対して点光源を観察面側に配置した場合には反射型ホログラム形成領域内に、点光源を観察面とは反対側に配置した場合には透過型ホログラム形成領域内に、それぞれのホログラム形成領域に記録されている光像を鮮明に再生することができる。
一方、透過型ホログラム形成領域に対して点光源を観察面側に配置した場合、および反射型ホログラム形成領域に対して点光源を観察面とは反対側に配置した場合には、それぞれのホログラム形成領域に記録されている光像を鮮明に再生することができない。
このようなことから、ホログラム構造体は、点光源の位置、すなわち、点光源が観察面側であるか観察面とは反対側であるかにより、異なる光像を観察可能なものとなる。
According to the present invention, a phase-type Fourier transform hologram that records light incident from a point light source into a desired optical image is recorded in the hologram forming region, so that the hologram structure is viewed in plan by the point light source. An optical image can be reproduced in the upper hologram forming area.
In addition, the hologram structure has a reflection hologram formation region and a transmission hologram formation region, so that when a point light source is arranged on the observation surface side with respect to the hologram structure, a dot is formed in the reflection hologram formation region. When the light source is arranged on the side opposite to the observation surface, the optical image recorded in each hologram forming area can be clearly reproduced in the transmission hologram forming area.
On the other hand, when the point light source is arranged on the observation surface side with respect to the transmission hologram forming region and when the point light source is arranged on the side opposite to the observation surface with respect to the reflection hologram forming region, the respective hologram formation The optical image recorded in the area cannot be reproduced clearly.
For this reason, the hologram structure can observe different light images depending on the position of the point light source, that is, whether the point light source is on the observation surface side or the opposite side of the observation surface.

例えば、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域にそれぞれ異なる光像を記録することで、図5に示すように、点光源31を観察面側に配置することで(図5(a))、観察者30は反射型ホログラム形成領域11内に反射型ホログラム形成領域11に記録された光像(以下、第1の光像と称する場合がある。)21(図5(b)では数字の「2」)を観察でき、図6に示すように、点光源31を観察面とは反対側に配置することで(図6(a))、観察者30は透過型ホログラム形成領域12内に透過型ホログラム形成領域12に記録された光像(以下、第2の光像と称する場合がある。)22(図6(b)では数字の「3」)を観察することが可能となる。
このように、ホログラム構造体は、点光源の位置、すなわち、点光源が観察面側であるか観察面とは反対側であるかにより、異なる光像を観察可能なものとなる。
したがって、例えば、ホログラム構造体は、点光源の位置を変えることで異なる意匠を提供することや、両領域の存在を知っている観察者のみに、点光源の位置を変えることで情報を提供することが可能となる。
また、ホログラム構造体は、昼間には太陽光により反射型ホログラム形成領域内に第1の光像を再生でき、夜間には星や月、照明、花火等の光により透過型ホログラム形成領域内に第2の光像を再生可能となる等、昼間および夜間で、異なる光像を再生可能なものとすることが可能となる。
このように、ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。
なお、図5および図6は、ホログラム構造体が、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12が平面視上重なる重複領域13を有する例を示すものである。
For example, by recording different light images in the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region, the point light source 31 is arranged on the observation surface side as shown in FIG. 5 (FIG. 5A). The observer 30 has a light image (hereinafter sometimes referred to as a first light image) 21 recorded in the reflection hologram forming region 11 in the reflection hologram forming region 11 (in FIG. “2”) can be observed, and as shown in FIG. 6, by arranging the point light source 31 on the side opposite to the observation surface (FIG. 6A), the observer 30 can enter the transmission hologram forming region 12. It is possible to observe an optical image (hereinafter sometimes referred to as a second optical image) 22 (the numeral “3” in FIG. 6B) recorded in the transmission hologram forming region 12.
As described above, the hologram structure can observe different light images depending on the position of the point light source, that is, whether the point light source is on the observation surface side or the opposite side of the observation surface.
Therefore, for example, the hologram structure provides different designs by changing the position of the point light source, or provides information by changing the position of the point light source only to an observer who knows the existence of both regions. It becomes possible.
In addition, the hologram structure can reproduce the first light image in the reflection hologram formation area by sunlight during the daytime, and can enter the transmission hologram formation area by light such as stars, moon, illumination, and fireworks at night. Different light images can be reproduced in the daytime and at night, such as the second light image being reproducible.
Thus, the hologram structure has excellent anti-counterfeiting properties and design properties.
5 and 6 show an example in which the hologram structure has an overlapping region 13 where the reflection hologram forming region 11 and the transmission hologram forming region 12 overlap in plan view.

また、上記ホログラム構造体は、光像を投影するスクリーン等を別途準備することなく、真贋判定および意匠性の発現等を容易に行うことができる。
さらに、点光源からの光照射を受けているときのみ光像を再生できることから、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。
In addition, the hologram structure can easily perform authenticity determination and design development without separately preparing a screen or the like for projecting an optical image.
Furthermore, since the optical image can be reproduced only when receiving light from a point light source, the hologram structure has excellent anti-counterfeiting properties and design properties.

本発明のホログラム構造体は、ホログラム層および蒸着層を有するものである。
以下、本発明のホログラム構造体における各構成について説明する。
The hologram structure of the present invention has a hologram layer and a vapor deposition layer.
Hereinafter, each configuration in the hologram structure of the present invention will be described.

1.ホログラム層
本発明におけるホログラム層は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域を有するものである。
1. Hologram layer The hologram layer in the present invention has a reflection hologram formation region and a transmission hologram formation region.

(1)反射型ホログラム形成領域
反射型ホログラム形成領域は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された領域である。
(1) Reflective hologram forming area The reflective hologram forming area is an area where a phase type Fourier transform hologram that converts light incident from a point light source into a desired optical image is recorded.

ここで、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されるとは、原画像のフーリエ変換を介して得られたフーリエ変換像の位相情報を多値化して深さとして記録されることをいうものである。したがって、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラム層の反射型ホログラム形成領域には、凹凸表面が形成される。
上記ホログラム層は、反射型ホログラム形成領域の凹凸表面を構成する凹凸形状の高低差により、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、すなわちフーリエ変換レンズとして機能するものである。このような機能により、任意の点光源から入射する光が所定の複数の方向に回折され所定のイメージが光像として形成されるものである。なお、上述の機能のことを「フーリエ変換レンズ機能」と称する場合がある。
Here, the recording of the phase type Fourier transform hologram means that the phase information of the Fourier transform image obtained through the Fourier transform of the original image is multi-valued and recorded as the depth. Therefore, an uneven surface is formed in the reflection hologram forming region of the hologram layer in which the phase Fourier transform hologram is recorded.
The hologram layer converts light incident from a point light source into a desired light image, that is, functions as a Fourier transform lens, by the difference in height of the uneven shape that forms the uneven surface of the reflection hologram forming region. With such a function, light incident from an arbitrary point light source is diffracted in a plurality of predetermined directions, and a predetermined image is formed as an optical image. The above function may be referred to as a “Fourier transform lens function”.

上記反射型ホログラム形成領域は、反射型であり、点光源を観察面側に配置して、観察面側からホログラム層を平面視した際に、反射型ホログラム形成領域内に光像を再生可能なものである。   The reflection hologram forming area is a reflection type, and when a point light source is arranged on the observation surface side and the hologram layer is viewed in plan from the observation surface side, an optical image can be reproduced in the reflection hologram formation area. Is.

上記反射型ホログラム形成領域は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換可能な領域をいうものであり、具体的には、上記反射型セルの全てを含むことができる最小面積の長方形で囲まれる領域である。   The reflection hologram forming area refers to an area in which light incident from a point light source can be converted into a desired optical image, and specifically, a rectangular with a minimum area that can include all of the reflection cells. It is an area surrounded by.

上記反射型ホログラム形成領域の平面視サイズとしては、反射型ホログラム形成領域内に上記光像の全体像の全てが視認可能なサイズであり、かつ、反射型ホログラム形成領域内に再生された光像および回折格子図柄を観察者が容易に視認可能なサイズであることが好ましい。
図7に例示するように、上記反射型ホログラム形成領域11の平面視サイズが小さく、ホログラム構造体10からの点光源31の位置が遠い場合には(図7(a))、観察者30は、第1の光像21の全体像(図7では「E」の文字)のうち一部のみしか視認できない場合がある(図7(b))。また、図8に例示するように、平面視サイズの小さい反射型ホログラム形成領域11内に第1の光像21の全体像の全てを視認可能とするためには点光源31をホログラム構造体10に近接させる必要があるが(図8(a))、この場合には、再生された第1の光像21(図8では「E」の文字)のサイズが小さく、観察者30は、第1の光像21により表示される情報の視認が困難となる(図8(b))。
これに対して、図9に例示するように、上記反射型ホログラム形成領域11の平面視サイズが所定の大きさ以上である場合には、点光源31を上記ホログラム構造体10から離した場合でも(図9(a))、観察者30は、上記反射型ホログラム形成領域11内に第1の光像21の全体像(図9では「E」の文字)の全てを視認できる(図9(b))。また、観察者30は再生された第1の光像21により表示される情報の視認が容易となる。
The size of the reflection hologram forming area in plan view is such that the entire image of the optical image is visible in the reflection hologram forming area, and the optical image reproduced in the reflection hologram forming area. In addition, it is preferable that the size of the diffraction grating pattern be easily visible to an observer.
As illustrated in FIG. 7, when the planar size of the reflection hologram forming region 11 is small and the position of the point light source 31 from the hologram structure 10 is far (FIG. 7A), the observer 30 In some cases, only a part of the entire image of the first light image 21 (the letter “E” in FIG. 7) is visible (FIG. 7B). Further, as illustrated in FIG. 8, in order to make it possible to visually recognize all the entire images of the first light image 21 in the reflection hologram forming region 11 having a small size in plan view, the point light source 31 is provided with the hologram structure 10. In this case, the size of the reproduced first optical image 21 (the letter “E” in FIG. 8) is small, and the observer 30 It becomes difficult to visually recognize the information displayed by the first light image 21 (FIG. 8B).
On the other hand, as illustrated in FIG. 9, even when the point light source 31 is separated from the hologram structure 10 when the reflection-type hologram forming region 11 has a planar view size of a predetermined size or more. (FIG. 9A), the observer 30 can visually recognize all of the entire image of the first optical image 21 (the letter “E” in FIG. 9) in the reflection hologram forming region 11 (FIG. 9 ( b)). Further, the viewer 30 can easily view the information displayed by the reproduced first light image 21.

本発明においては、上記平面視サイズが、5mm角以上50mm角以下の範囲内であることが好ましく、なかでも、5mm角以上30mm角以下の範囲内であることが好ましく、特に5mm角以上15mm角以下の範囲内であることが好ましい。上記平面視サイズの下限が上述の範囲内であることにより、ホログラム構造体は、反射型ホログラム形成領域内の光像の視認が容易なものとなるからである。その結果、偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
また、上記平面視サイズの上限が上述の範囲内であることにより、ホログラム構造体は、低コスト化を図ることや、光像等と組み合わせて用いられる画像を表示する画像表示層等の形成が容易なものとなるからである。
なお、反射型ホログラム形成領域の平面視サイズが5mm角以上であるとは、上記反射型ホログラム形成領域が、5mm角の正方形の範囲を少なくとも含む平面視形状であることをいうものである。したがって、反射型ホログラム形成領域が長方形状である場合には、その短辺の長さが5mm以上であることをいうものであり、反射型ホログラム形成領域が正方形状がである場合には、その1辺の長さが5mm以上であることをいうものである。
In the present invention, the size in plan view is preferably in the range of 5 mm square to 50 mm square, particularly preferably in the range of 5 mm square to 30 mm square, particularly 5 mm square to 15 mm square. It is preferable to be within the following range. This is because, when the lower limit of the size in plan view is within the above-described range, the hologram structure can easily see the optical image in the reflection hologram forming region. As a result, the anti-counterfeiting property and the design property are excellent.
In addition, since the upper limit of the size in plan view is within the above-described range, the hologram structure can be reduced in cost, and an image display layer or the like for displaying an image used in combination with an optical image or the like can be formed. This is because it becomes easy.
In addition, the planar view size of the reflection hologram forming region being 5 mm square or more means that the reflection hologram forming region has a planar view shape including at least a 5 mm square area. Therefore, when the reflective hologram forming region is rectangular, it means that the length of the short side is 5 mm or more, and when the reflective hologram forming region is square, It means that the length of one side is 5 mm or more.

反射型ホログラム形成領域は、図10(a)で示されるように、点光源から入射した光を上記光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された1つのホログラムセルからなるもの、すなわち、1つの反射型セル11aからなる反射型ホログラム形成領域11(以下、単に、単一ホログラム領域と称する場合がある。)であってもよいが、通常、図10(b)で示されるように反射型セル11aを複数配列させて拡大させた反射型ホログラム形成領域11(以下、大判ホログラム領域と称する場合がある。)である。
なお、図10中の「E」は、単一、または大判ホログラム領域においてそれぞれ発現される第1の光像21である。
As shown in FIG. 10 (a), the reflection hologram forming region is composed of one hologram cell on which a phase type Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into the optical image. Although it may be a reflection hologram forming region 11 (hereinafter, simply referred to as a single hologram region) composed of one reflection cell 11a, as shown in FIG. This is a reflection hologram forming region 11 (hereinafter sometimes referred to as a large format hologram region) in which a plurality of reflection cells 11a are arranged and enlarged.
Note that “E” in FIG. 10 is a first optical image 21 that is expressed in a single or large hologram region.

上記反射型ホログラム形成領域が大判ホログラム領域である場合、反射型ホログラム形成領域を構成する個々のホログラムセルである反射型セルの平面視サイズとしては、精度良く反射型ホログラム形成領域を形成可能なものであればよい。
上記平面視サイズは、0.25mm角以上5mm角以下の範囲内であることが好ましい。上記平面視サイズが上述の範囲内であることにより、上記ホログラム構造体は、反射型ホログラム形成領域内への光像の再生が容易なものとなるからである。
なお、上記平面視サイズは、反射型セルを含むことができる最小の正方形の大きさをいうものである。したがって、反射型セルが1辺1mmの正方形である場合の平面視サイズは1mm角となる。また、反射型セルの平面視形状が直径1mmの円形状である場合の平面視サイズは1mm角となる。
When the reflection hologram forming area is a large hologram area, the reflection hologram forming area can be accurately formed as a planar view size of the reflection cell which is an individual hologram cell constituting the reflection hologram forming area. If it is.
The size in plan view is preferably in the range of 0.25 mm square to 5 mm square. This is because, when the size in plan view is within the above-described range, the hologram structure can easily reproduce the optical image in the reflection hologram forming region.
Note that the size in plan view refers to the size of the smallest square that can include a reflective cell. Accordingly, when the reflective cell is a square with a side of 1 mm, the size in plan view is 1 mm square. Further, when the shape of the reflective cell in plan view is a circle having a diameter of 1 mm, the size in plan view is 1 mm square.

上記反射型セルの上記反射型ホログラム形成領域に占める平面視上の面積の割合としては、所望の光像を再生可能なものであれば特に限定されるものではないが、25%以上であることが好ましく、なかでも、50%以上であることが望ましい。上記面積割合が上述の範囲であることより、ホログラム構造体は、光像を鮮明に再生可能なものとなるからである。   The ratio of the area of the reflection type cell in the reflection type hologram forming area in plan view is not particularly limited as long as a desired optical image can be reproduced, but it is 25% or more. Of these, 50% or more is desirable. This is because, since the area ratio is in the above-described range, the hologram structure can clearly reproduce an optical image.

上記反射型セルの反射型ホログラム形成領域おける分布としては、均一であってもよく、分布に偏りがあるものであってもよい。
反射型ホログラム形成領域に記録された光像は、反射型ホログラム形成領域内において反射型セルが多く分布している領域で高い鮮明度で再生される傾向がある。
このため、上記分布が均一であることにより、ホログラム構造体は、反射型ホログラム形成領域内で均一の鮮明度で光像を再生可能なものとなるからである。
一方、上記分布に偏りがある場合には、ホログラム構造体は、反射型ホログラム形成領域内で、反射型セルが多く分布している領域で光像が高い鮮明度で再生可能となものとなるからである。
例えば、図11(a)に例示するように、反射型セル11aの合計面積がA領域よりB領域で多い場合、点光源を観察面側に配置した際には、図11(b)に例示するように、反射型ホログラム形成領域11に記録された第1の光像21(図11(b)では数字の「2」)は、反射型ホログラム形成領域11のBの領域で鮮明に再生され、Aの領域ではBの領域より鮮明度低く再生されることが可能となる。
なお、図11(a)中の反射型ホログラム形成領域11は、反射型セル11aが配置されない箇所に、表面凹凸が形成されていない平坦領域11bを有するものである。反射型セルが配置されない箇所には、このような平坦領域以外にも、後述する回折格子セル、透過型セル等が配置されることにより、反射型セルの分布に偏りを設けることができる。
なお、分布は、例えば、反射型ホログラム形成領域を同一形状の長方形で2分割、3分割、4分割、9分割等に分割して、隣接する分割された長方形領域での反射型セルの占める合計面積を比較することで評価することができる。また、図11は、反射型ホログラム形成領域を同一形状の長方形で2分割して評価する例を示すものである。
The distribution in the reflection hologram forming region of the reflection type cell may be uniform or may be uneven in distribution.
The optical image recorded in the reflective hologram forming area tends to be reproduced with high definition in an area where many reflective cells are distributed in the reflective hologram forming area.
For this reason, when the distribution is uniform, the hologram structure can reproduce an optical image with uniform definition in the reflection hologram formation region.
On the other hand, when the distribution is biased, the hologram structure can reproduce a light image with high definition in a region where a large number of reflective cells are distributed in the reflective hologram forming region. Because.
For example, as illustrated in FIG. 11A, when the total area of the reflection type cell 11a is larger in the B region than in the A region, when the point light source is arranged on the observation surface side, it is illustrated in FIG. Thus, the first optical image 21 recorded in the reflection hologram forming area 11 (the number “2” in FIG. 11B) is clearly reproduced in the area B of the reflection hologram forming area 11. , A area can be reproduced with lower definition than B area.
Note that the reflection hologram forming region 11 in FIG. 11A has a flat region 11b where surface irregularities are not formed at a location where the reflection type cell 11a is not disposed. In addition to such a flat region, a diffraction cell, a transmission cell, etc., which will be described later, are disposed at a location where the reflective cell is not disposed, so that the distribution of the reflective cell can be biased.
The distribution is, for example, the total of the reflection-type cells formed in the adjacent divided rectangular areas by dividing the reflection-type hologram forming area into two, three, four, nine, etc. in the same shape rectangle. It can be evaluated by comparing the areas. FIG. 11 shows an example in which the reflection hologram forming region is evaluated by dividing it into two rectangles having the same shape.

上記反射型セルの平面視形状としては、所望の平面視形状の反射型ホログラム形成領域を形成可能なものであれば良く、任意の形状とすることができる。具体的には、上記平面視形状は、正方形状、長方形状、台形状、三角形状、五角形状、六角形状等の多角形状、円形状、楕円形状、星型形状、ハート型形状等とすることができるが、反射型ホログラム形成領域の形成容易の観点から、通常、正方形状または長方形状が用いられる。   The planar shape of the reflective cell may be any shape as long as it can form a reflective hologram forming region having a desired planar shape. Specifically, the shape in plan view is a square shape, a rectangular shape, a trapezoidal shape, a triangular shape, a pentagonal shape, a hexagonal shape or other polygonal shape, a circular shape, an elliptical shape, a star shape, a heart shape, or the like. However, from the viewpoint of easy formation of the reflection hologram forming region, a square shape or a rectangular shape is usually used.

上記反射型セルの凹凸表面の凹凸形状は、光像として表示させる原画の画像データをもとに形成される多値化されたフーリエ変換像を、縦横方向に所望の範囲まで複数個配列させたときの、フーリエ変換像のパターンに相当するものである。
このような反射型セルの凹凸表面の反射型ホログラム形成領域への形成方法としては、点光源から入射した光を所望の光像へ変換可能な凹凸表面を形成可能な方法であればよく、一般的なフーリエ変換ホログラムの形成方法を用いることができる。
上記形成方法は、具体的には、フーリエ変換像に対応した凹凸パターンを有するマスター原版を形成し、PET等の基材上に形成した紫外線硬化樹脂等の樹脂材料の塗膜に当該原版の凹凸パターンを転写することで反射型セルの凹凸表面を形成する方法を挙げることができる。
また、マスター原版の凹凸パターンの転写を複数回行うことにより、複数の反射型セルが配置された反射型ホログラム形成領域を有するホログラム層を形成することができる。
The uneven shape on the uneven surface of the reflection type cell is obtained by arranging a plurality of multi-valued Fourier transform images formed on the basis of image data of an original image to be displayed as a light image in a vertical and horizontal direction to a desired range. This corresponds to the pattern of the Fourier transform image.
As a method for forming such a concavo-convex surface of the reflective cell in the reflective hologram forming region, any method can be used as long as it can form a concavo-convex surface capable of converting light incident from a point light source into a desired optical image. A conventional Fourier transform hologram forming method can be used.
Specifically, the above forming method forms a master original having an uneven pattern corresponding to a Fourier transform image, and the unevenness of the original is applied to a coating film of a resin material such as an ultraviolet curable resin formed on a substrate such as PET. The method of forming the uneven | corrugated surface of a reflection type cell by transferring a pattern can be mentioned.
Moreover, the hologram layer which has the reflection type hologram formation area | region where the several reflection type cell is arrange | positioned can be formed by performing transcription | transfer of the uneven | corrugated pattern of a master original plate several times.

マスター原版の形成方法としては、表示させる原画の画像データをもとに、計算によりフーリエ変換像を形成する。次に、上記フーリエ変換像のデータを二値以上に多値化したものを電子線描画用データへ変換し、上記電子線描画用データを希望の範囲まで配列させる。例えば、電子線描画用データを縦、横方向に各10個ずつ配列させる。次いで、配列した電子線描画用データをもとに電子線描画装置でマスター原版を作成する方法を用いることができる。
電子線描画用データとして上記フーリエ変換像のデータを二値化したものを用いた場合には、上記凹凸表面の凹凸形状は、図12(a)に示すように2段の凹凸形状となり、四値化したものを用いた場合には、図12(b)に示すように4段の凹凸形状となる。
本発明においては、上記フーリエ変換像のデータの多値化が、四値以上に多値化するもの、すなわち、上記凹凸形状が4段以上の凹凸形状であることが好ましい。ホログラム構造体は、フーリエ変換像が二値化により得られたものでは、反射型ホログラム形成領域に再生される光像は鏡像関係にある2つの画像を表示するものとなるのに対して、四値化以上の多値化により得られたものでは、反射型ホログラム形成領域に再生される光像は1つの画像を表示するものとすることが可能となる。このため、ホログラム構造体は、光像の形状を自由度高く設定可能となるからである。
As a method for forming a master original plate, a Fourier transform image is formed by calculation based on image data of an original image to be displayed. Next, the data obtained by converting the Fourier transform image data into a binary value or more is converted into electron beam drawing data, and the electron beam drawing data is arranged in a desired range. For example, 10 pieces of electron beam drawing data are arranged in the vertical and horizontal directions. Next, a method of creating a master original with an electron beam drawing apparatus based on the arranged data for electron beam drawing can be used.
When binarized data of the Fourier transform image is used as the electron beam drawing data, the uneven shape of the uneven surface is a two-step uneven shape as shown in FIG. In the case of using a valuated one, a four-step uneven shape is formed as shown in FIG.
In the present invention, it is preferable that the data of the Fourier transform image is multivalued to four or more values, that is, the concavo-convex shape is a concavo-convex shape having four or more steps. In the hologram structure, in which a Fourier transform image is obtained by binarization, the optical image reproduced in the reflection hologram forming region displays two images having a mirror image relationship, whereas four hologram images are displayed. In the case of the one obtained by the multi-value conversion more than the value conversion, the light image reproduced in the reflection hologram forming region can display one image. For this reason, the hologram structure can set the shape of the optical image with a high degree of freedom.

上記凹凸表面の格子ピッチとしては、点光源から入射した光を所望の光像へ変換可能なものであればよい。
具体的には、上記格子ピッチは、1.0μm〜80.0μmの範囲内であることが好ましい。上記格子ピッチが上述の範囲内であることにより、上記ホログラム構造体は、反射型ホログラム形成領域内への光像の再生の容易なものとなるからである。
なお、格子ピッチは、例えば、図12中のPで示される幅をいうものである。
The lattice pitch on the uneven surface may be any as long as it can convert light incident from a point light source into a desired light image.
Specifically, the lattice pitch is preferably in the range of 1.0 μm to 80.0 μm. This is because, when the grating pitch is within the above-described range, the hologram structure can easily reproduce the optical image into the reflection hologram forming region.
Note that the lattice pitch refers to, for example, the width indicated by P in FIG.

ここで、図13に例示するように、ホログラム構造体10の反射型ホログラム形成領域11に対して所定の距離L1の位置に点光源31が配置され、反射型ホログラム形成領域11から所定の距離L2の位置で観察者30が反射型ホログラム形成領域11を観察する場合、観察者30が反射型ホログラム形成領域11の全領域で光像の全体像を観察できるためには、格子ピッチについて以下の式(1)が成り立つものとすることができる。
なお、λは回折光の波長、Pは凹凸表面の格子ピッチ、θ1は光源から反射型ホログラム形成領域の端部まで到達するための入射角、θ2は反射型ホログラム形成領域の端部からの回折光が観察者に到達するための回折角、nは回折の次数である。
P=nλ/(sinθ1+sinθ2) (1)
Here, as illustrated in FIG. 13, the point light source 31 is disposed at a predetermined distance L1 with respect to the reflective hologram forming region 11 of the hologram structure 10, and the predetermined distance L2 from the reflective hologram forming region 11. When the observer 30 observes the reflection hologram forming area 11 at the position of (2), in order for the observer 30 to observe the entire image of the optical image in the entire area of the reflection hologram forming area 11, the following expression is used for the grating pitch: (1) can be established.
Λ is the wavelength of the diffracted light, P is the grating pitch of the concavo-convex surface, θ1 is the incident angle for reaching the end of the reflective hologram forming region from the light source, and θ2 is the diffraction from the end of the reflective hologram forming region. The diffraction angle for light to reach the observer, and n is the order of diffraction.
P = nλ / (sin θ1 + sin θ2) (1)

上記格子ピッチの具体的な計算例としては、反射型ホログラム形成領域が1辺が15mmの正方形状であり、L1が50mm、L2が300mmであり、波長550nmの光である場合、sinθ2=0.025であり、sinθ1=0.148と計算され、観察者が反射型ホログラム形成領域の全領域で光像の全体像を観察するために必要な格子ピッチPは、最短で3179nmと計算される。
また、反射型ホログラム形成領域が1辺が15mmの正方形状であり、L1が1990mm、L2が2000mmであり、波長550nmの光である場合、sinθ2=0.00374であり、sinθ1=0.00377と計算され、上記格子ピッチPは、最短で73236nmと計算される。
さらに、反射型ホログラム形成領域が1辺が10mmの正方形状であり、L1が60mm、L2が60mmであり、波長550nmの光である場合、sinθ2=0.083であり、sinθ1=0.083と計算され、上記格子ピッチPは、最短で3313nmと計算される。
As a specific calculation example of the grating pitch, when the reflection hologram forming region is a square shape having a side of 15 mm, L1 is 50 mm, L2 is 300 mm, and light has a wavelength of 550 nm, sin θ2 = 0. Is 025 and sin θ1 = 0.148, and the grating pitch P necessary for the observer to observe the entire image of the optical image in the entire area of the reflection hologram forming area is calculated to be 3179 nm at the shortest.
Further, when the reflection hologram forming region is a square shape having a side of 15 mm, L1 is 1990 mm, L2 is 2000 mm, and light having a wavelength of 550 nm, sin θ2 = 0.00374 and sin θ1 = 0.00377. The lattice pitch P is calculated to be 73236 nm at the shortest.
Further, when the reflection hologram forming region is a square shape having a side of 10 mm, L1 is 60 mm, L2 is 60 mm, and light has a wavelength of 550 nm, sin θ2 = 0.083 and sin θ1 = 0.083. The lattice pitch P is calculated to be 3313 nm at the shortest.

上記凹凸形状の深さは、所望の光像を再生可能なものであればよい。上記深さは、例えば、0.05μm〜0.5μmの範囲内程度とすることができ、なかでも、0.1μm〜0.2μmの範囲内であることが好ましい。上記深さが上述の範囲内であることにより、ホログラム構造体は、光像を安定的に再生可能なものとなるからである。
なお、深さは、例えば、図12中のDで示されるものである。
The depth of the uneven shape may be any depth as long as a desired optical image can be reproduced. The depth can be, for example, in the range of 0.05 μm to 0.5 μm, and in particular, the depth is preferably in the range of 0.1 μm to 0.2 μm. This is because, when the depth is within the above-described range, the hologram structure can stably reproduce the optical image.
For example, the depth is indicated by D in FIG.

なお、凹凸形状の深さについては、反射型ホログラム形成領域の凹凸表面の凹凸形状が、フーリエ変換像のデータを4値化した4値型(4段)である場合には、反射型ホログラム形成領域において、以下の式(2)が成り立つものとすることができる。
なお、λは式(1)と同様に回折光の波長である。
D=λ/6+λ/12 (2)
As for the depth of the concavo-convex shape, when the concavo-convex shape on the concavo-convex surface of the reflective hologram forming region is a quaternary type (four steps) obtained by converting the Fourier transform image data into a quaternary type (four steps), In the region, the following expression (2) can be established.
Note that λ is the wavelength of the diffracted light as in the formula (1).
D = λ / 6 + λ / 12 (2)

上記凹凸形状の深さの具体的な計算例としては、反射型ホログラム形成領域では、550nmの波長の光が回折するとした場合、凹凸深さDは、550nm/6+550nm/12≒140nmと計算される。   As a specific calculation example of the depth of the concavo-convex shape, when light having a wavelength of 550 nm is diffracted in the reflection hologram forming region, the concavo-convex depth D is calculated as 550 nm / 6 + 550 nm / 12≈140 nm. .

上記反射型ホログラム形成領域において、上述のフーリエ変換レンズ機能を発現できる点光源の波長としては特に限定されるものではなく、所望の波長を対象とすることができる。また、点光源の波長としては、一波長の単色光に限られず、多波長を含む光であってもよく、さらには白色光であってもよい。   In the reflective hologram forming region, the wavelength of the point light source capable of exhibiting the above-described Fourier transform lens function is not particularly limited, and a desired wavelength can be targeted. Further, the wavelength of the point light source is not limited to monochromatic light of one wavelength, but may be light including multiple wavelengths, and may be white light.

(2)透過型ホログラム形成領域
透過型ホログラム形成領域は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された領域である。
(2) Transmission hologram forming area The transmission hologram forming area is an area in which a phase Fourier transform hologram that converts light incident from a point light source into a desired optical image is recorded.

また、透過型ホログラム形成領域は、通常、反射型ホログラム形成領域と、同一平面上に形成されるものである。ここで、同一平面上に形成されるとは、上記反射型セルおよび透過型セルがホログラム層の同一表面に形成されることをいうものである。すなわち、上記ホログラム層の同一表面に反射型セルの凹凸表面および透過型セルの凹凸表面の両者が形成されることをいうものである。   The transmission hologram forming area is usually formed on the same plane as the reflection hologram forming area. Here, being formed on the same plane means that the reflection type cell and the transmission type cell are formed on the same surface of the hologram layer. That is, both the uneven surface of the reflective cell and the uneven surface of the transmission cell are formed on the same surface of the hologram layer.

透過型ホログラム形成領域は、点光源を観察面とは反対側に配置して、観察面側からホログラム層を平面視した際に、透過型ホログラム形成領域内に光像を再生可能なものである。   The transmission hologram forming region is a region in which a point light source is arranged on the side opposite to the observation surface, and a light image can be reproduced in the transmission hologram formation region when the hologram layer is viewed in plan from the observation surface side. .

上記透過型ホログラム形成領域については、凹凸形状の深さ以外は、上記「(1)反射型ホログラム形成領域」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。   The transmission hologram forming region can be the same as the contents described in the section “(1) Reflection hologram forming region” except for the depth of the concave and convex shapes, and the description thereof is omitted here. .

上記凹凸形状の深さは、所望の光像を再生可能なものであればよい。上記深さは、例えば、0.5μm〜1.5μmの範囲内程度とすることができ、なかでも、0.6μm〜1.2μmの範囲内であることが好ましい。上記深さが上述の範囲内であることにより、ホログラム構造体は、光像を安定的に再生可能なものとなるからである。   The depth of the uneven shape may be any depth as long as a desired optical image can be reproduced. The depth can be, for example, in the range of 0.5 μm to 1.5 μm, and preferably in the range of 0.6 μm to 1.2 μm. This is because, when the depth is within the above-described range, the hologram structure can stably reproduce the optical image.

なお、凹凸形状の深さについては、透過型ホログラム形成領域の凹凸表面の凹凸形状が、フーリエ変換像のデータを4値化した4値型(4段)である場合には、透過型ホログラム形成領域において、以下の式(3)が成り立つものとすることができる。
なお、λは式(1)と同様に回折光の波長である。
D=λ+λ/2 (3)
As for the depth of the concavo-convex shape, when the concavo-convex shape on the concavo-convex surface of the transmission hologram forming region is a quaternary type (four steps) obtained by converting the Fourier transform image data into a quaternary type (four steps), In the region, the following equation (3) can be established.
Note that λ is the wavelength of the diffracted light as in the formula (1).
D = λ + λ / 2 (3)

上記凹凸形状の深さの具体的な計算例としては、550nmの波長の光が回折するとして、透過型ホログラム形成領域では、凹凸深さDは、550nm+550nm/2≒825nmと計算される。   As a specific calculation example of the depth of the concavo-convex shape, assuming that light having a wavelength of 550 nm is diffracted, the concavo-convex depth D is calculated as 550 nm + 550 nm / 2≈825 nm in the transmission hologram forming region.

(3)ホログラム形成領域の配置
上記反射型ホログラム形成領域および上記透過型ホログラム形成領域は、平面視上重ならないものであってもよいが、平面視上重なることが好ましい。
上記両領域が平面視上重なることにより、ホログラム構造体の平面視上同一領域内に反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域にそれぞれ記録されている光像を再生することができる。
したがって、例えば、ホログラム構造体は、同一領域内に対して点光源の位置を変えることで異なる意匠を提供することや、同一領域内に両領域が形成されていることを知っている観察者のみに、点光源の位置を変えることで情報を提供することが可能となる。
また、ホログラム構造体は、同一領域内に対して点光源の位置により異なる光像が再生可能であることの意外性を備えること、反射型ホログラム形成領域のみが形成されている、すなわち、点光源を観察面側に配置した場合にしか光像が再生されないもの等と装うことが可能となる。
このように、上記両領域が平面視上重なることにより、ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性により優れたものとなるからである。
(3) Arrangement of hologram forming region The reflection hologram forming region and the transmission hologram forming region may not overlap in plan view, but preferably overlap in plan view.
By overlapping the two regions in plan view, it is possible to reproduce the optical images recorded in the reflection hologram forming region and the transmission hologram forming region in the same region in plan view of the hologram structure.
Therefore, for example, the hologram structure provides different designs by changing the position of the point light source in the same area, or only an observer who knows that both areas are formed in the same area. In addition, information can be provided by changing the position of the point light source.
Further, the hologram structure has an unexpected feature that different light images can be reproduced depending on the position of the point light source in the same region, and only the reflection hologram forming region is formed, that is, the point light source. It is possible to disguise that the optical image is reproduced only when the is placed on the observation surface side.
This is because the hologram structure is more excellent in anti-counterfeiting and design properties when the two regions overlap in plan view.

なお、既に説明した図1および図2は、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12が平面視上重なる例を示すものであり、図3および図4は、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12が平面視上重ならず、離間して配置される例を示すものである。   1 and 2 described above show an example in which the reflection hologram forming region 11 and the transmission hologram forming region 12 overlap in plan view, and FIGS. 3 and 4 show the reflection hologram forming region 11. In addition, an example in which the transmission hologram forming regions 12 are arranged apart from each other without overlapping in plan view is shown.

また、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の端部同士が接するものは両領域が平面視上重ならずに隣接するものであり、両領域が平面視上重ならないのに含まれるものである。   In addition, when the reflection hologram forming area and the transmission hologram forming area are in contact with each other, the two areas are adjacent to each other without overlapping in plan view, and are included when both areas do not overlap in plan view. It is.

反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域が平面視上重なる場合には、少なくとも一方の領域が大判ホログラム領域であることが必要である。
したがって、両領域が重なる場合のホログラム形成領域の組み合わせとしては、図14(a)に例示するように反射型ホログラム形成領域11が単一ホログラム領域であり、透過型ホログラム形成領域12が大判ホログラム領域である組み合わせ、図14(b)に例示するように反射型ホログラム形成領域11が大判ホログラム領域であり、透過型ホログラム形成領域12が単一ホログラム領域である組み合わせ、図14(c)に例示するように反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12の両領域が大判ホログラム領域である組み合わせのいずれかとなる。
When the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region overlap in plan view, at least one region needs to be a large hologram region.
Therefore, as a combination of hologram forming areas when both areas overlap, as shown in FIG. 14A, the reflection hologram forming area 11 is a single hologram area, and the transmission hologram forming area 12 is a large hologram area. 14B, a combination in which the reflection hologram forming region 11 is a large hologram region and the transmission hologram forming region 12 is a single hologram region as illustrated in FIG. 14B, and is illustrated in FIG. 14C. As described above, the reflection hologram forming area 11 and the transmission hologram forming area 12 are either a combination of large areas.

反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域が平面視上重なる場合、両領域の重なりの状態は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の少なくとも一部同士が重なる状態であればよいが、一方の領域の全てが他方の領域内に含まれる状態であることが好ましい。ホログラム構造体は、同一領域内に対して点光源の位置により異なる光像が再生可能であることの意外性を備えること、反射型ホログラム形成領域のみが形成されていると装うこと等に優れたものとなるからである。
また、一方の領域の全てが他方の領域内に含まれる場合、両領域の重なりの状態は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の少なくとも一方の領域の全てが他方の領域内に含まれるものであればよいが、両領域の全てが重なる状態、すなわち、平面視上同一形状である両領域が同一領域内に配置され、反射型ホログラム形成領域、透過型ホログラム形成領域および両者の重複領域が平面視上同一箇所である状態であることが好ましい。ホログラム構造体の同一領域に2つの光像を再生できることが可能となることで、例えば、意外性を備えること、反射型ホログラム形成領域のみが形成されていると装うこと等により優れたものとなる。このため、ホログラム構造体は、意匠性および偽造防止性に優れたものとなるからである。
なお、既に説明した図14(a)〜(c)は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の一部同士のみが重なる例を示すものである。
また、図15(a)および(b)は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の一方の領域が一方の領域より面積の広い他方の領域内に含まれる例を示すものであり、図15(c)は、同一平面視形状の両領域が同一箇所に配置され、両領域の全てが重なる例を示すものである。
When the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region overlap in plan view, the overlapping state of both regions may be a state in which at least a part of the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region overlap each other. It is preferable that all of one region is included in the other region. The hologram structure has an unexpected feature that different light images can be reproduced depending on the position of the point light source in the same region, and is excellent in wearing as if only a reflective hologram forming region is formed. Because it becomes a thing.
In addition, when all of one area is included in the other area, the overlapping state of both areas is that all of at least one of the reflection hologram forming area and the transmission hologram forming area is included in the other area. As long as both regions overlap, that is, both regions having the same shape in plan view are arranged in the same region, the reflection hologram forming region, the transmission hologram forming region, and the overlapping of both It is preferable that the regions are in the same position in plan view. Since it becomes possible to reproduce two optical images in the same region of the hologram structure, for example, it becomes more excellent by having unexpectedness, wearing only a reflection type hologram forming region, etc. . For this reason, the hologram structure is excellent in design and anti-counterfeiting properties.
14A to 14C described above show an example in which only a part of the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region overlap each other.
FIGS. 15A and 15B show examples in which one of the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region is included in the other region having a larger area than the one region. FIG. 15C shows an example in which both areas having the same planar view shape are arranged at the same place and all the areas overlap.

反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域が平面視上重なる重複領域における反射型セルおよび透過型セルの配置は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域のそれぞれの領域において所望の光像が再生可能なものであればよい。上記配置は、例えば、既に説明した図14(c)に例示するように、1以上の反射型セルが帯状に配置された反射型セル集合体および1以上の透過型セルが帯状に配置された透過型セル集合体が交互に配置されるストライプ状、既に説明した図15(c)および(d)に例示するように、1以上の反射型セルを含む反射型セル集合体および1以上の透過型セルを含む透過型セル集合体が第1の方向および第1の方向に直交する第2の方向に交互に配置される碁盤の目状等とすることができる。
なお、図14(c)は、2つずつの帯状の反射型セル集合体および透過型セル集合体が交互に配置され、帯状の反射型セル集合体および透過型セル集合体がそれぞれ4つずつの反射型セルおよび透過型セルを含む例を示すものである。
図15(c)は、8つずつの反射型セル集合体および透過型セル集合体を含み、反射型セル集合体および透過型セル集合体がそれぞれ1つずつの反射型セルおよび透過型セルを含む例を示すものである。
また、図15(d)は、2つずつの反射型セル集合体および透過型セル集合体を含み、反射型セル集合体および透過型セル集合体がそれぞれ4つずつの反射型セルおよび透過型セルを含む例を示すものである。
The arrangement of the reflection type cell and the transmission type cell in the overlapping region where the reflection type hologram formation region and the transmission type hologram formation region overlap in plan view is such that a desired optical image is obtained in each of the reflection type hologram formation region and the transmission type hologram formation region. As long as it is reproducible. In the above arrangement, for example, as illustrated in FIG. 14C described above, a reflective cell assembly in which one or more reflective cells are arranged in a strip shape and one or more transmissive cells are arranged in a strip shape. Stripes in which transmissive cell assemblies are alternately arranged, as illustrated in FIGS. 15C and 15D, which have already been described, and a reflective cell assembly including one or more reflective cells and one or more transmissions The transmission cell aggregate including the type cells may be a grid pattern or the like alternately arranged in the first direction and the second direction orthogonal to the first direction.
In FIG. 14C, two band-like reflective cell aggregates and transmissive cell aggregates are alternately arranged, and four band-shaped reflective cell aggregates and four transmissive cell aggregates are provided. An example including a reflective cell and a transmissive cell is shown.
FIG. 15 (c) includes eight reflective cell assemblies and transmissive cell assemblies, each of which has one reflective cell and one transmissive cell assembly. An example including this is shown.
FIG. 15D includes two reflective cell assemblies and two transmissive cell assemblies, each having four reflective cell assemblies and four transmissive cell assemblies. An example including a cell is shown.

反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域が平面視上重なる重複領域全体における反射型セルが占める合計面積と、透過型セルが占める合計面積とは、同一であってもよく、異なるものであってもよい。重複領域での反射型セルおよび透過型セルのそれぞれの合計面積が同一であることにより、ホログラム構造体は、重複領域において反射型ホログラム形成領域に記録された光像と透過型ホログラム形成領域に記録された光像とが同程度の鮮明度で再生可能なものなるからである。
また、重複領域での反射型セルおよび透過型セルのそれぞれの合計面積が異なることにより、ホログラム構造体は、重複領域において反射型ホログラム形成領域に記録された光像と透過型ホログラム形成領域に記録された光像とが異なる鮮明度で再生可能なものとなるからである。
例えば、図16(a)に例示するように、重複領域13における反射型セル11aの合計面積が透過型セル12aの合計面積より多い場合には、ホログラム構造体は、図16(b)に例示するように、点光源を観察面側に配置した際には、反射型ホログラム形成領域11に記録された第1の光像21を鮮明に再生できる一方で、図16(c)に例示するように、点光源を観察面とは反対側に配置した際には、透過型ホログラム形成領域12に記録された第2の光像22を第1の光像より不鮮明に再生することが可能となる。このような構成とすることで、例えば、ホログラム形成領域として反射型ホログラム形成領域のみが形成されていると装うことが容易となり、ホログラム構造体は、透過型ホログラム形成領域の存在を知っている観察者のみに、情報を提供することが容易となる。
このように、点光源の位置により、光像の鮮明度に差を設けることが可能となることで、ホログラム構造体は、意匠性および偽造防止性に優れたものとなるからである。
なお、図16は、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12の全てが重なる例を示すものである。
The total area occupied by the reflection type cells and the total area occupied by the transmission type cells in the entire overlapping area where the reflection type hologram formation area and the transmission type hologram formation area overlap in plan view may be the same or different. May be. Since the total area of each of the reflection type cell and the transmission type cell in the overlapping region is the same, the hologram structure is recorded in the optical image recorded in the reflection type hologram forming region and the transmission type hologram forming region in the overlapping region. This is because the reproduced optical image can be reproduced with the same degree of definition.
In addition, since the total area of each of the reflection type cell and the transmission type cell in the overlapping region is different, the hologram structure is recorded in the optical image recorded in the reflection type hologram forming region and the transmission type hologram forming region in the overlapping region. This is because the reproduced optical image can be reproduced with different sharpness.
For example, as illustrated in FIG. 16A, when the total area of the reflective cells 11a in the overlapping region 13 is larger than the total area of the transmissive cells 12a, the hologram structure is illustrated in FIG. As described above, when the point light source is arranged on the observation surface side, the first optical image 21 recorded in the reflection hologram forming region 11 can be reproduced clearly, while being illustrated in FIG. In addition, when the point light source is arranged on the side opposite to the observation surface, the second optical image 22 recorded in the transmission hologram forming area 12 can be reproduced more clearly than the first optical image. . By adopting such a configuration, for example, it becomes easy to dispose if only the reflection hologram formation region is formed as the hologram formation region, and the hologram structure is observed to know the existence of the transmission hologram formation region. It becomes easy to provide information only to a person.
As described above, the difference in the sharpness of the optical image can be provided depending on the position of the point light source, so that the hologram structure has excellent design properties and anti-counterfeiting properties.
FIG. 16 shows an example in which the reflection hologram forming region 11 and the transmission hologram forming region 12 all overlap.

(4)回折格子セル
上記ホログラム形成領域には、点光源から入射した光を上記光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラムセルのみが配置されるものであってもよいが、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の少なくとも一方には、上記ホログラムセルと、上記ホログラムセルと同一平面上に形成され、平面視上パターン状に配置されることにより回折格子図柄を描画する回折格子セルと、が配置されているものであってもよい。
ホログラム形成領域に、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラムセルと、回折格子図柄を描画する回折格子セルとが配置されていることにより、上記ホログラム形成領域内に上記光像および上記回折格子図柄の両者を再生することができる。
例えば、反射型ホログラム形成領域が反射型セルと回折格子セルとを有する場合には、反射型ホログラム形成領域内に上記光像および上記回折格子図柄の両者を再生することができる。
したがって、上記光像および上記回折格子図柄を組み合わせることにより、ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
(4) Diffraction grating cell In the hologram formation region, only a hologram cell in which a phase Fourier transform hologram is recorded that converts light incident from a point light source into the optical image may be disposed. At least one of the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region is formed on the same plane as the hologram cell and the hologram cell, and a diffraction grating pattern is drawn by being arranged in a pattern in plan view. The diffraction grating cell to be arranged may be arranged.
A hologram cell in which a phase-type Fourier transform hologram is recorded that converts light incident from a point light source into a desired light image and a diffraction grating cell that draws a diffraction grating pattern are disposed in the hologram formation region. Both the optical image and the diffraction grating pattern can be reproduced in the hologram forming area.
For example, when the reflective hologram forming region has a reflective cell and a diffraction grating cell, both the optical image and the diffraction grating pattern can be reproduced in the reflective hologram forming region.
Therefore, by combining the optical image and the diffraction grating pattern, the hologram structure is excellent in anti-counterfeiting and design properties.

ホログラム形成領域にホログラムセルと回折格子セルとが配置されているホログラム構造体を図を参照して説明する。
図17は、ホログラム構造体の他の例を示す概略平面図であり、図18は図17のC−C線断面図である。
図17および図18に例示するように、本発明のホログラム構造体10は、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12の両領域に、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラムセルである反射型セル11aおよび透過型セル12aと、これらのホログラムセル(11aおよび12a)と同一平面上に形成され、平面視上パターン状に配置されることにより回折格子図柄14を描画する回折格子セル14aと、が配置されているものとすることができる。
なお、図17および図18では、回折格子図柄14が回折格子セル14aにより描画された「F」の文字である例を示すものである。
A hologram structure in which hologram cells and diffraction grating cells are arranged in the hologram forming region will be described with reference to the drawings.
FIG. 17 is a schematic plan view showing another example of the hologram structure, and FIG. 18 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG.
As illustrated in FIG. 17 and FIG. 18, the hologram structure 10 of the present invention converts light incident from a point light source into a desired optical image in both the reflection hologram formation region 11 and the transmission hologram formation region 12. The reflection type cell 11a and the transmission type cell 12a, which are hologram cells on which phase type Fourier transform holograms are recorded, are formed on the same plane as these hologram cells (11a and 12a), and are formed in a pattern in plan view. The diffraction grating cell 14a which draws the diffraction grating pattern 14 by being arrange | positioned shall be arrange | positioned.
17 and 18 show an example in which the diffraction grating pattern 14 is a letter “F” drawn by the diffraction grating cell 14a.

ホログラム形成領域に回折格子セルが配置されているホログラム構造体の使用例を図を参照して説明する。
図19は、ホログラム構造体の使用例を説明する説明図である。図19(a)に示すように、例えば太陽光等の参照光を受けかつ点光源が配置されていない光像再生前では、反射型ホログラム形成領域11内に回折格子図柄14として描画された「F」の文字のみが観察され、図19(b)に示すように、点光源が反射型ホログラム形成領域11上に配置された光像再生後では、回折格子図柄14および第1の光像21により「E」の文字が観察されるようにホログラム構造体を使用する例を挙げることができる。
これにより、例えば、ホログラム形成領域に回折格子図柄を描画する回折格子セル以外に光像を再生可能な反射型セルが配置されていることを知らない観察者、つまり、ホログラム形成領域が回折格子セルのみを有するものであり、反射型ホログラム形成領域であることを知らない観察者は、「F」の文字のみを観察し、上記反射型セルが配置されていることを知っている観察者のみが、「E」の文字を観察可能とすることができる。
このように、本発明のホログラム構造体は、例えば、上記ホログラム構造体の構成を知っている観察者のみが光像および回折格子図柄を組み合わせた画像を認識可能とすることにより偽造防止効果等を発現可能となる。
なお、図19は、回折格子セルが配置されるホログラム形成領域が反射型ホログラム形成領域11である例を示すものである。
A usage example of a hologram structure in which diffraction grating cells are arranged in the hologram forming region will be described with reference to the drawings.
FIG. 19 is an explanatory diagram for explaining an example of use of the hologram structure. As shown in FIG. 19 (a), for example, before reproducing an optical image that receives reference light such as sunlight and does not have a point light source disposed therein, it is drawn as a diffraction grating pattern 14 in the reflection hologram forming region 11. Only the letter “F” is observed, and as shown in FIG. 19B, after reproducing the optical image in which the point light source is arranged on the reflection hologram forming region 11, the diffraction grating pattern 14 and the first optical image 21 are obtained. Thus, an example in which the hologram structure is used so that the letter “E” is observed can be given.
Thus, for example, an observer who does not know that a reflective cell capable of reproducing an optical image is arranged in addition to a diffraction grating cell that draws a diffraction grating pattern in the hologram formation area, that is, the hologram formation area is a diffraction grating cell. An observer who does not know that it is a reflection hologram forming region only observes the letter “F” and only an observer who knows that the reflection type cell is arranged. , “E” can be observed.
As described above, the hologram structure of the present invention has, for example, an anti-counterfeiting effect by allowing only an observer who knows the configuration of the hologram structure to recognize an image combining a light image and a diffraction grating pattern. It can be expressed.
FIG. 19 shows an example in which the hologram forming area where the diffraction grating cells are arranged is the reflection hologram forming area 11.

ここで、同一平面上に形成されるとは、上記ホログラムセルおよび上記回折格子セルが上記ホログラム層の同一表面に形成されることをいうものである。すなわち、上記ホログラム層の同一表面にホログラムセル、すなわち、反射型セルおよび透過型セルの凹凸表面と回折格子セルの凹凸表面との両者が形成されることをいうものである。   Here, being formed on the same plane means that the hologram cell and the diffraction grating cell are formed on the same surface of the hologram layer. That is, the hologram cell, that is, both the uneven surface of the reflection type cell and the transmission type cell and the uneven surface of the diffraction grating cell are formed on the same surface of the hologram layer.

上記回折格子セルの配置場所としては、ホログラム形成領域、すなわち、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の少なくとも一方の領域とすることができるが、両領域に形成されるものであってもよい。
なお、既に説明した図17および図18は回折格子セル14aが、両領域(11および12)に形成される例を示すものであり、より具体的には、両領域(11および12)の重複領域13のみに形成される例を示すものである。
The location of the diffraction grating cell may be a hologram forming region, that is, at least one of a reflection hologram forming region and a transmission hologram forming region, but may be formed in both regions. Good.
FIG. 17 and FIG. 18 already described show examples in which the diffraction grating cell 14a is formed in both regions (11 and 12), and more specifically, overlap between both regions (11 and 12). An example in which only the region 13 is formed is shown.

上記回折格子図柄は、参照光として可視光を照射することにより、回折格子セルが配置されたパターン形状の図柄が再生されるものである。
ここで、回折格子図柄は、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された図柄であり、原図柄を例えば碁盤目状の微細セルに分割し、分割された微細セルを回折格子セルに置き換えて描画されたものである。
既に説明した図17は、回折格子セル14aが「F」の文字のパターン状に配置されることにより回折格子図柄14を描画する例を示すものであり、上記回折格子図柄14に対して参照光を照射することで、反射型ホログラム形成領域11および透過型ホログラム形成領域12内に回折格子図柄14として「F」の文字が再生されるものである。
The diffraction grating pattern is one in which a pattern having a diffraction grating cell is reproduced by irradiating visible light as reference light.
Here, the diffraction grating pattern is a pattern drawn by diffraction grating cells arranged in a pattern in plan view. The original pattern is divided into, for example, grid-like fine cells, and the divided fine cells are diffraction gratings. It is drawn by replacing with a cell.
FIG. 17 that has already been described shows an example in which the diffraction grating pattern 14 is drawn by arranging the diffraction grating cells 14 a in the pattern of the letter “F”. , The letter “F” is reproduced as the diffraction grating pattern 14 in the reflection hologram formation region 11 and the transmission hologram formation region 12.

上記図柄としては、光像と組み合わせることで、偽造防止性および意匠性を向上できるものであることが好ましい。
上記図柄としては、具体的には、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて、適宜設定することができ、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等を挙げることができる。
また、上記光像と組み合わせることで、光像単独の場合と比較して、偽造防止性および意匠性を特に向上できる図柄としては、具体的には、図20(a)および(b)に例示するように、光像の再生箇所を指し示す矢印、光像の再生箇所を囲む枠、光像の再生箇所であることを示す文字等の光像の認識に用いられる図柄、図20(c)および(d)に例示するように上記光像が図形の一部を表わすものである場合に、図形の他の部分を表わす図柄、既に説明した図17ならびに図20(e)および(f)に例示するように上記光像が文字列または数列の一部を表わす画像である場合に、文字列または数列の他の部分を表わす図柄、上記光像が太陽を表わす画像である場合に、太陽の周囲に配置される雲や空等の背景を表わす図柄等の上記ホログラム形成領域内に再生される光像との組み合わせで1つの統一感のある画像を形成する図柄等を挙げることができる。
なお、図20(a)、(c)および(e)は、それぞれ、光像再生前の状態を示し、図20(b)、(d)および(f)は、それぞれ光像再生時の状態を示すものである。
また、図20(a)および(b)では、回折格子図柄14は、反射型ホログラム形成領域11内の第1の光像21の再生箇所を指し示す矢印である。図20(c)および(d)では、回折格子図柄14は、楕円の一部であり、第1の光像21により示される楕円の他の部分と組み合わせて1つの楕円を表示可能なものである。図20(e)および(f)では、回折格子図柄14は、文字列「ホンモノ」の一部であり、第1の光像21により示される文字列「ホンモノ」の他の部分と組み合わせて1つの意味のある文字列「ホンモノ」を表示可能なものである。
なお、図20は、回折格子セルが配置されるホログラム形成領域が反射型ホログラム形成領域11である例を示すものである。
As the above-mentioned pattern, it is preferable that anti-counterfeiting and design properties can be improved by combining with a light image.
Specifically, the design can be appropriately set according to the use of the hologram structure of the present invention, and examples thereof include patterns, line drawings, characters, figures, symbols and the like.
In addition, as a pattern that can improve the anti-counterfeiting property and the design property in comparison with the case of the light image alone by combining with the light image, specifically, examples shown in FIGS. 20 (a) and (b). As shown in FIG. 20C, an arrow pointing to the reproduction location of the optical image, a frame surrounding the reproduction location of the optical image, a symbol used to recognize the optical image such as a character indicating the reproduction location of the optical image, When the optical image represents a part of the graphic as illustrated in (d), the pattern representing the other part of the graphic, illustrated in FIGS. 17, 20 (e) and 20 (f) already described. Thus, when the light image is an image representing a part of a character string or a number sequence, a pattern representing another part of the character string or the number sequence, and when the light image is an image representing the sun, The above holo such as a symbol representing the background of clouds, sky, etc. It can be given a design such as to form an image with one unity in combination with the light image to be reproduced ram forming region.
20 (a), (c), and (e) each show a state before optical image reproduction, and FIGS. 20 (b), (d), and (f) each show a state during optical image reproduction. Is shown.
In FIGS. 20A and 20B, the diffraction grating pattern 14 is an arrow indicating a reproduction position of the first optical image 21 in the reflection hologram forming region 11. 20C and 20D, the diffraction grating pattern 14 is a part of an ellipse and can display one ellipse in combination with other parts of the ellipse indicated by the first light image 21. is there. 20E and 20F, the diffraction grating pattern 14 is a part of the character string “real” and is combined with the other part of the character string “real” shown by the first optical image 21. One meaningful character string “real” can be displayed.
FIG. 20 shows an example in which the hologram forming area where the diffraction grating cells are arranged is the reflective hologram forming area 11.

上記回折格子図柄は、平面的に図柄を再生可能な平面回折格子図柄であってもよく、立体的に図柄を再生可能な立体回折格子図柄であってもよい。
上記回折格子図柄が平面回折格子図柄であることにより、平面回折格子図柄と上記光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。また、平面回折格子図柄は高輝度なものとすることが容易であり、視認性に優れた回折格子図柄を再生できるからである。
上記回折格子図柄が立体回折格子図柄であることにより、立体回折格子図柄と光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
上記回折格子図柄は、平面回折格子図柄または立体回折格子図柄であっても良く、両者を組み合わせたものであっても良い。
The diffraction grating symbol may be a planar diffraction grating symbol that can reproduce the symbol in plan, or a three-dimensional diffraction grating symbol that can reproduce the symbol in three dimensions.
Since the diffraction grating pattern is a plane diffraction grating pattern, it becomes possible to combine the plane diffraction grating pattern and the optical image, so that the hologram structure has excellent anti-counterfeiting and design properties. It is. Moreover, it is easy to make the plane diffraction grating pattern high in brightness, and a diffraction grating pattern with excellent visibility can be reproduced.
Since the above-mentioned diffraction grating pattern is a three-dimensional diffraction grating pattern, it becomes possible to combine a three-dimensional diffraction grating pattern and an optical image, so that the hologram structure has excellent anti-counterfeiting and design properties. is there.
The diffraction grating pattern may be a plane diffraction grating pattern, a three-dimensional diffraction grating pattern, or a combination of both.

上記平面回折格子図柄の形成方法としては、回折格子図柄が回折光の振幅が同程度の回折格子セルを用いて描画する方法を挙げることができる。
また、回折光の振幅を同程度とする方法としては、特許第4984938号公報に記載されるように、回折格子セルの回折格子が形成されている領域(以下、単に回折格子形成領域と称する場合がある。)の面積を同程度とする方法が挙げられる。すなわち、平面回折格子図柄は、回折格子形成領域の面積が同程度の回折格子セルを敷き詰めることで描画されたものとすることができる。また、同程度の回折格子形成領域の面積として、どの程度の回折格子形成領域の面積の回折格子セルを用いるかについては、平面回折格子図柄が再生可能なものであればよく、再生される平面回折格子図柄のサイズ、カラー表示の有無等に応じて適宜設定されるものである。
As a method for forming the above-mentioned plane diffraction grating pattern, a method can be used in which the diffraction grating pattern is drawn using diffraction grating cells having the same amplitude of diffracted light.
Further, as a method for making the amplitude of the diffracted light to be approximately the same, as described in Japanese Patent No. 4998438, a region where the diffraction grating of the diffraction grating cell is formed (hereinafter simply referred to as a diffraction grating formation region). In the same area). That is, the plane diffraction grating pattern can be drawn by spreading diffraction grating cells having the same area of the diffraction grating formation region. In addition, as for the area of the diffraction grating forming region, the diffraction grating cell having the same area as the diffraction grating forming region may be used as long as the plane diffraction grating pattern can be reproduced. It is appropriately set according to the size of the diffraction grating pattern, the presence or absence of color display, and the like.

上記立体回折格子図柄の形成方法としては、上記回折格子図柄の端部側より中央部側に回折光の振幅が大きい回折格子セルを配置する方法が挙げられる。
より具体的には、図17では、「F」の文字が回折格子セルを幅方向に3個配置した描画線により描画されている(例えば、14a1、14a2および14a3)。この場合、描画線の幅方向の端部側に配置される回折格子セル14a1および14a3より、中央部側に配置される回折格子セル14a2を回折光の振幅が大きい回折格子セルとすることで、参照光を照射した際に「F」の文字が立体的に浮かび上がるように再生することが可能となる。
また、回折光の振幅を端部側より中央部側を大きくする方法としては、特許第4984938号公報に記載されるように、端部側より中央部側に回折格子形成領域の面積が広い回折格子セルを配置する方法を挙げることができる。すなわち、立体回折格子図柄は、回折格子図柄の端部側より中央部側に回折格子形成領域の面積が広い回折格子セルが配置されたものとすることができる。
例えば、図17中の回折格子セル14a1〜14a3の拡大図である図21に例示するように、描画線の幅方向の端部側に配置される回折格子セル14a1および14a3より、中央部側に配置される回折格子セル14a2を、回折格子形成領域14bの面積が広い回折格子セルとすることができる。
Examples of a method for forming the three-dimensional diffraction grating pattern include a method in which a diffraction grating cell having a large amplitude of diffracted light is arranged closer to the center than to the end of the diffraction grating.
More specifically, in FIG. 17, the letter “F” is drawn by drawing lines in which three diffraction grating cells are arranged in the width direction (for example, 14a1, 14a2, and 14a3). In this case, by making the diffraction grating cell 14a2 arranged at the center side closer to the diffraction grating cells 14a1 and 14a3 arranged at the end side in the width direction of the drawing line, a diffraction grating cell having a larger amplitude of diffracted light, When the reference light is irradiated, it is possible to reproduce the character “F” so that it appears three-dimensionally.
Further, as a method of increasing the amplitude of the diffracted light from the end side to the center side, as described in Japanese Patent No. 498494938, the diffraction grating forming region has a wide area from the end side to the center side. A method of arranging lattice cells can be mentioned. In other words, the three-dimensional diffraction grating pattern may have a diffraction grating cell in which the area of the diffraction grating forming region is larger than the end part side of the diffraction grating pattern.
For example, as illustrated in FIG. 21, which is an enlarged view of the diffraction grating cells 14a1 to 14a3 in FIG. 17, the diffraction grating cells 14a1 and 14a3 arranged on the end side in the width direction of the drawing line are closer to the center side. The arranged diffraction grating cell 14a2 can be a diffraction grating cell having a wide area of the diffraction grating forming region 14b.

上記回折格子セルの上記ホログラム形成領域に占める平面視上の面積の割合としては、所望の回折格子図柄を描画可能なものであれば特に限定されるものではない。
上記反射型ホログラム形成領域内の上記反射型セルの合計面積に対する上記回折格子セルの合計面積の割合(回折格子セルの合計面積/反射型セルの合計面積)および上記透過型ホログラム形成領域内の上記透過型セルの合計面積に対する上記回折格子セルの合計面積の割合(回折格子セルの合計面積/透過型セルの合計面積)としては、光像および回折格子図柄の両者を鮮明に再生できるものであれば特に限定されるものではないが、上記回折格子図柄が平面回折格子図柄である場合には、それぞれ、1/4〜3/2の範囲内であることが好ましく、なかでも、1/2〜1の範囲内であることが好ましく、特に、5/8〜7/8の範囲内であることが好ましい。上記面積の割合が上述の範囲内であることにより、ホログラム構造体は、光像および平面回折格子図柄の両者の視認性に優れたものとなるからである。
また、上記面積の割合(回折格子セルの合計面積/反射型セルの合計面積および回折格子セルの合計面積/透過型セルの合計面積)は、上記回折格子図柄が立体回折格子図柄である場合には、それぞれ、1/3〜3の範囲内であることが好ましく、なかでも、2/3〜2の範囲内であることが好ましく、特に、1〜5/3の範囲内であることが好ましい。上記面積の割合が上述の範囲内であることにより、ホログラム構造体は、光像および立体回折格子図柄の両者の視認性に優れたものとなるからである。
The ratio of the area of the diffraction grating cell in the hologram forming region in plan view is not particularly limited as long as a desired diffraction grating pattern can be drawn.
The ratio of the total area of the diffraction grating cells to the total area of the reflection cells in the reflection hologram formation area (total area of diffraction grating cells / total area of reflection cells) and the above in the transmission hologram formation area As a ratio of the total area of the diffraction grating cell to the total area of the transmission cell (total area of the diffraction grating cell / total area of the transmission cell), both the optical image and the diffraction grating pattern can be reproduced clearly. Although not particularly limited, in the case where the diffraction grating pattern is a plane diffraction grating pattern, it is preferably within a range of 1/4 to 3/2. 1 is preferable, and 5/8 to 7/8 is particularly preferable. This is because, when the area ratio is within the above range, the hologram structure has excellent visibility of both the optical image and the planar diffraction grating pattern.
Further, the ratio of the area (the total area of the diffraction grating cells / the total area of the reflection type cells and the total area of the diffraction grating cells / the total area of the transmission type cells) is determined when the diffraction grating pattern is a three-dimensional diffraction grating pattern. Are preferably in the range of 1/3 to 3, particularly preferably in the range of 2/3 to 2, and particularly preferably in the range of 1 to 5/3. . This is because, when the area ratio is within the above-described range, the hologram structure has excellent visibility of both the optical image and the three-dimensional diffraction grating pattern.

上記回折格子セルの格子ピッチ、格子角度、格子密度(図柄に対して回折格子セルが占める平面視上の面積割合)は、参照光が照射された際に再生される図柄に応じて適宜設定されるものである。
例えば、格子ピッチをそれぞれ1.2μm程度、1.0μm程度および0.8μm程度とすることで、それぞれ波長600nm用(赤色用)、500nm用(緑色用)、400nm(青色用)の光を回折するものとすることで、カラー画像を再生可能なものとすることができる。
また、さらに格子角度および格子密度により様々な図柄を表現可能なものとすることができる。
The grating pitch, grating angle, and grating density (area ratio of the grating cell occupied by the diffraction grating cell with respect to the pattern) of the diffraction grating cell are appropriately set according to the pattern reproduced when the reference light is irradiated. Is.
For example, by setting the grating pitch to about 1.2 μm, about 1.0 μm, and about 0.8 μm, respectively, the light for wavelengths of 600 nm (for red), 500 nm (for green), and 400 nm (for blue) is diffracted, respectively. By doing so, a color image can be reproduced.
Further, various symbols can be expressed by the lattice angle and the lattice density.

上記回折格子セルの平面視サイズとしては、再生される回折格子図柄に応じて適宜設定できるものであるが、例えば、5μm角以上100μm角以内とすることができる。上記平面視サイズであることにより、高精細な回折格子図柄を描画できるからである。また、回折格子図柄を描画する個々の回折格子セルの存在を隠ぺいできるからである。   The size of the diffraction grating cell in plan view can be appropriately set according to the diffraction grating pattern to be reproduced, and can be set to, for example, 5 μm square or more and 100 μm square or less. This is because a high-definition diffraction grating pattern can be drawn with the size in plan view. In addition, it is possible to conceal the existence of individual diffraction grating cells for drawing a diffraction grating pattern.

上記回折格子セルの平面視形状としては、再生される回折格子図柄に応じて適宜設定できるものであるが、例えば、上記「(1)反射型ホログラム形成領域」の項に記載の反射型セルと同様とすることができる。   The shape of the diffraction grating cell in plan view can be appropriately set according to the diffraction grating pattern to be reproduced. For example, the reflection type cell described in the section “(1) Reflection hologram forming region” The same can be said.

上記回折格子セルの凹凸表面のホログラム形成領域への形成方法については、一般的な回折格子図柄の形成方法と同様とすることができる。   The method of forming the concavo-convex surface of the diffraction grating cell in the hologram forming region can be the same as the general diffraction grating pattern forming method.

上記回折格子図柄の再生に用いられる参照光については特に限定されるものではなく、一般的なホログラムに用いられるものを使用できる。
上記参照光としては、具体的には、可視光を含む光を用いることができる。
例えば、参照光は、上記ホログラム形成領域内のホログラムセルに記録された光像の再生に用いられる点光源と同一とすることができる。ホログラム形成領域に記録された光像の再生と同時に回折格子図柄を再生できるからである。
上記参照光の光源は、点光源に限らず、平行光等であっても良い。
上記ホログラム構造体は、例えば、上記点光源以外の光源からの参照光が照射される明所に配置することで回折格子図柄を再生でき、さらにその明所において、上記点光源をホログラム形成領域上に配置することで光像も再生可能となる。
The reference light used for reproducing the diffraction grating pattern is not particularly limited, and those used for general holograms can be used.
Specifically, light including visible light can be used as the reference light.
For example, the reference light can be the same as the point light source used for reproducing the optical image recorded in the hologram cell in the hologram forming area. This is because the diffraction grating pattern can be reproduced simultaneously with the reproduction of the optical image recorded in the hologram forming area.
The light source of the reference light is not limited to a point light source, and may be parallel light or the like.
For example, the hologram structure can be reproduced in a bright place where reference light from a light source other than the point light source is irradiated, and in the bright place, the point light source is placed on the hologram forming region. The optical image can also be reproduced by arranging in the position.

(5)その他
上記ホログラム層を構成する材料としては、ホログラム形成領域において上述したフーリエ変換レンズ機能を発現するための凹凸形状を形成でき、かつ、所定の屈折率を示すものであれば特に限定されない。上記ホログラム層を構成する材料が示す屈折率としては、特に限定されるもではなく、本発明のホログラム構造体の用途に応じて適宜設定が可能である。
また、上記屈折率の基準となる波長も特に限定されず、400nm〜750nmの範囲内から適宜選択すればよい。中でも本発明においては、波長555nmにおける屈折率が1.3〜2.0の範囲内であることが好ましく、特に1.33〜1.8の範囲内であることが好ましい。ここで、上記屈折率は分光エリプソメーターにより測定することができる。
(5) Others The material constituting the hologram layer is not particularly limited as long as it can form an uneven shape for exhibiting the above-described Fourier transform lens function in the hologram forming region and exhibits a predetermined refractive index. . The refractive index of the material constituting the hologram layer is not particularly limited, and can be appropriately set according to the use of the hologram structure of the present invention.
Moreover, the wavelength used as the reference | standard of the said refractive index is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably from the range of 400 nm-750 nm. In particular, in the present invention, the refractive index at a wavelength of 555 nm is preferably in the range of 1.3 to 2.0, and particularly preferably in the range of 1.33 to 1.8. Here, the refractive index can be measured by a spectroscopic ellipsometer.

上記ホログラム層の材料としては、従来からレリーフ型ホログラム等の形成に使用されている樹脂材料、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等の硬化性樹脂の硬化物、熱可塑性樹脂等を用いることができる。   As a material of the hologram layer, resin materials conventionally used for forming relief holograms, for example, cured products of curable resins such as thermosetting resins, ultraviolet curable resins, ionizing radiation curable resins, A thermoplastic resin or the like can be used.

上記熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、アクリル変性ウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。また、上記熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、ポリスチレン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独重合体であっても2種以上の構成成分からなる共重合体であってもよい。また、これらの樹脂は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the thermosetting resin include unsaturated polyester resins, acrylic modified urethane resins, epoxy modified acrylic resins, epoxy modified unsaturated polyester resins, alkyd resins, and phenol resins. Examples of the thermoplastic resin include acrylate resin, acrylamide resin, nitrocellulose resin, polystyrene resin, and the like. These resins may be homopolymers or copolymers composed of two or more components. Moreover, these resin may be used independently and may use 2 or more types together.

上述の熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂は、各種イソシアネート化合物、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛等の金属石鹸、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の有機過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルスルフィド等の熱あるいは紫外線硬化剤を含んでいてもよい。   The thermosetting resin or thermoplastic resin described above includes various isocyanate compounds, metal soaps such as cobalt naphthenate and zinc naphthenate, organic peroxides such as benzoyl peroxide and methyl ethyl ketone peroxide, benzophenone, acetophenone, anthraquinone, naphthoquinone, A thermal or ultraviolet curing agent such as azobisisobutyronitrile or diphenyl sulfide may be included.

また、上記電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂等が挙げられ、中でもウレタン変性アクリレート樹脂が好ましく、特に特開2007−017643号公報で示される化学式で表わされるウレタン変性アクリル系樹脂が好ましい。   Examples of the ionizing radiation curable resin include an epoxy-modified acrylate resin, a urethane-modified acrylate resin, an acrylic-modified polyester resin, and the like. Among them, a urethane-modified acrylate resin is preferable, and particularly shown in JP-A-2007-017643. A urethane-modified acrylic resin represented by the following chemical formula is preferred.

上記電離放射線硬化性樹脂を硬化させる際には、架橋構造、粘度の調整等を目的として、単官能または多官能のモノマー、オリゴマー等を併用することができる。上記単官能モノマーとしては、例えば、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ビニルピロリドン、(メタ)アクリロイルオキシエチルサクシネート、(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレート等のモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、2官能以上のモノマーとしては、骨格構造で分類するとポリオール(メタ)アクリレート(例えば、エポキシ変性ポリオール(メタ)アクリレート、ラクトン変性ポリオール(メタ)アクリレート等)、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、その他ポリブタジエン系、イソシアヌール酸系、ヒダントイン系、メラミン系、リン酸系、イミド系、ホスファゼン系等の骨格を有するポリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。さらに、紫外線、電子線硬化性である種々のモノマー、オリゴマー、ポリマーが利用できる。   When the ionizing radiation curable resin is cured, a monofunctional or polyfunctional monomer, oligomer, or the like can be used in combination for the purpose of adjusting the cross-linked structure and viscosity. Examples of the monofunctional monomer include mono (meth) acrylates such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, vinylpyrrolidone, (meth) acryloyloxyethyl succinate, and (meth) acryloyloxyethyl phthalate. Etc. In addition, as a bifunctional or higher monomer, classified according to a skeleton structure, polyol (meth) acrylate (for example, epoxy-modified polyol (meth) acrylate, lactone-modified polyol (meth) acrylate, etc.), polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) ) Acrylate, urethane (meth) acrylate, other polybutadiene, isocyanuric acid, hydantoin, melamine, phosphoric acid, imide, phosphazene, and other poly (meth) acrylates. Furthermore, various monomers, oligomers, and polymers that are ultraviolet and electron beam curable can be used.

更に詳しくは、2官能のモノマー、オリゴマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。3官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、脂肪族トリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。4官能のモノマー、オリゴマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、脂肪族テトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、5官能以上のモノマー、オリゴマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、モノマー、オリゴマーとしては、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、ホスファゼン骨格を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。官能基数は特に限定されるものではないが、官能基数が3より小さいと耐熱性が低下する傾向があり、また、20を超える場合には柔軟性が低下する傾向があるため、特に官能基数が3〜20の範囲内のものが好ましい。   More specifically, examples of the bifunctional monomer and oligomer include polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol di (meth). An acrylate etc. are mentioned. Examples of the trifunctional monomer, oligomer, and polymer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and aliphatic tri (meth) acrylate. Examples of tetrafunctional monomers and oligomers include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and aliphatic tetra (meth) acrylate. Examples of pentafunctional or higher functional monomers and oligomers include dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Examples of the monomer and oligomer include (meth) acrylate having a polyester skeleton, a urethane skeleton, and a phosphazene skeleton. The number of functional groups is not particularly limited, but if the number of functional groups is less than 3, the heat resistance tends to decrease, and if it exceeds 20, the flexibility tends to decrease. The thing within the range of 3-20 is preferable.

上記のような単官能または多官能のモノマー、オリゴマーの含有量としては適宜調整することができるが、通常、電離放射線硬化性樹脂100重量部に対して50重量部以下とすることが好ましく、中でも0.5重量部〜20重量部の範囲内が好ましい。   The content of the monofunctional or polyfunctional monomer and oligomer as described above can be appropriately adjusted, but it is usually preferably 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin. The range of 0.5 to 20 parts by weight is preferable.

また、上記ホログラム層は必要に応じて、光重合開始剤、重合禁止剤、劣化防止剤、可塑剤、滑剤、染料や顔料などの着色剤、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤等の添加剤を、適宜加えてもよい。   In addition, the hologram layer may be a photopolymerization initiator, a polymerization inhibitor, an anti-degradation agent, a plasticizer, a lubricant, a colorant such as a dye or pigment, a surfactant, an antifoaming agent, a leveling agent, a thixotropic property, if necessary. You may add additives, such as an imparting agent, suitably.

上記ホログラム層の膜厚としては、上記ホログラム層が自己支持性を有する場合、0.05mm〜5mmの範囲内が好ましく、中でも0.1mm〜3mmの範囲内であることが好ましい。一方、上記ホログラム層が自己支持性を有さず、後述する透明基材上に形成される場合は、ホログラム層の膜厚としては、0.1μm〜50μmの範囲内が好ましく、中でも2μm〜20μmの範囲内とすることが好ましい。
なお、上記ホログラム層の膜厚は、具体的には、既に説明した図2および図4のaで示される距離である。
また、ホログラム層の平面視上の大きさ等については、本発明のホログラム構造体の用途に応じて適宜設定することができる。
The film thickness of the hologram layer is preferably in the range of 0.05 mm to 5 mm, more preferably in the range of 0.1 mm to 3 mm, when the hologram layer has self-supporting properties. On the other hand, when the hologram layer does not have a self-supporting property and is formed on a transparent substrate to be described later, the film thickness of the hologram layer is preferably within a range of 0.1 μm to 50 μm, particularly 2 μm to 20 μm. It is preferable to be within the range.
The film thickness of the hologram layer is specifically the distance indicated by a in FIGS. 2 and 4 already described.
The size of the hologram layer in plan view can be appropriately set according to the use of the hologram structure of the present invention.

本発明におけるホログラム層は、ホログラム形成領域を少なくとも有するものであるが、上記ホログラム形成領域の他に、凹凸形状が形成されていない領域(非ホログラム形成領域)を有してもよい。
上記ホログラム層において上記各領域が占める割合については、特に限定されるものでは無く、用途に応じて適宜選択することができる。
The hologram layer in the present invention has at least a hologram forming region, but may have a region where a concavo-convex shape is not formed (non-hologram forming region) in addition to the hologram forming region.
The proportion of each region in the hologram layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the application.

2.蒸着層
本発明における蒸着層は、上記ホログラム層の上記反射型ホログラム形成領域の凹凸表面に接するよう形成されるものである。
2. Vapor deposition layer The vapor deposition layer in this invention is formed so that the uneven | corrugated surface of the said reflection type hologram formation area of the said hologram layer may be touched.

蒸着層の形成箇所としては、少なくとも反射型ホログラム形成領域の凹凸表面を覆うものであればよい。
ここで、少なくとも反射型ホログラム形成領域の凹凸表面を覆うとは、反射型ホログラム形成領域を構成する全ての反射型セルの凹凸表面を覆うことをいうものであるが、反射型ホログラム形成領域の全表面を覆うことが好ましい。蒸着層の形成が容易だからである。
また、上記形成箇所は、上記ホログラム層の上記透過型ホログラム形成領域の凹凸表面を覆うものであることが好ましい。ホログラム構造体は、透過型ホログラム形成領域に記録された光像の再生容易なものとなるからである。
上記形成箇所は、ホログラム層の凹凸表面が形成された表面の全表面を覆うものであってもよい。蒸着層の形成が容易となるからである。
なお、既に説明した図2は、上記形成箇所が、ホログラム層の凹凸表面が形成された表面の全表面を覆うものである例を示すものである。
As a formation place of a vapor deposition layer, what is necessary is just to cover the uneven | corrugated surface of a reflection type hologram formation area at least.
Here, covering at least the uneven surface of the reflective hologram forming area means covering the uneven surface of all the reflective cells constituting the reflective hologram forming area. It is preferable to cover the surface. This is because it is easy to form a vapor deposition layer.
Moreover, it is preferable that the said formation location covers the uneven | corrugated surface of the said transmission type hologram formation area of the said hologram layer. This is because the hologram structure can easily reproduce the optical image recorded in the transmission hologram forming region.
The said formation location may cover the whole surface of the surface in which the uneven | corrugated surface of the hologram layer was formed. This is because the vapor deposition layer can be easily formed.
Note that FIG. 2 described above shows an example in which the above-mentioned formation location covers the entire surface of the hologram layer where the uneven surface is formed.

上記蒸着層は、反射型ホログラム形成領域に用いられる場合には、透明性を有していてもよく、反射性を有するものであってもよい。
上記蒸着層が透明性を有する透明蒸着層である場合には、ホログラム構造体は、平面視した際に反射型ホログラム形成領域が光沢を有しないものとなる。このため、上記ホログラム構造体は、上記反射型ホログラム形成領域が隠ぺいされたものとなり、上記ホログラム構造体は、偽造防止性に優れたものとなる。
一方、上記蒸着層が反射性を有する反射性蒸着層である場合には、ホログラム構造体は、反射型ホログラム形成領域内に鮮明に光像を再生可能となる。このため、上記ホログラム構造体は、情報の取得の容易なものとなる。
When the vapor deposition layer is used in a reflective hologram forming region, the vapor deposition layer may have transparency or may have reflectivity.
In the case where the vapor deposition layer is a transparent vapor deposition layer having transparency, the hologram structure is such that the reflection hologram forming region does not have gloss when viewed in plan. For this reason, the hologram structure has a reflection hologram forming region concealed, and the hologram structure has excellent anti-counterfeiting properties.
On the other hand, when the vapor deposition layer is a reflective vapor deposition layer having reflectivity, the hologram structure can reproduce a light image clearly in the reflection hologram formation region. Therefore, the hologram structure can easily acquire information.

また、上記蒸着層は、透過型ホログラム形成領域に用いられる場合には、透明性を有するものが用いられる。
上記蒸着層は、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の両領域に形成される場合、両領域共に透明蒸着層であることが好ましい。反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の両領域に対して同一材料を用いて蒸着層を形成することが可能となり、蒸着層の形成が容易となるからである。
Moreover, the said vapor deposition layer has a transparency, when used for a transmission hologram formation area.
When the said vapor deposition layer is formed in both the area | regions of a reflection type hologram formation area and a transmission type hologram formation area, it is preferable that both areas are transparent vapor deposition layers. This is because the vapor deposition layer can be formed using the same material for both the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region, and the vapor deposition layer can be easily formed.

上記透明蒸着層は、全光線透過率(以下、単に光透過率と称する場合がある。)が80%以上であることが好ましく、中でも90%以上であることがより好ましい。上記光透過率であることにより、ホログラム構造体は、ホログラム形成領域がより隠ぺいされたものとなるからである。
なお、上記光透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定した値である。
The transparent vapor-deposited layer preferably has a total light transmittance (hereinafter sometimes simply referred to as light transmittance) of 80% or more, and more preferably 90% or more. This is because the hologram structure is such that the hologram forming region is more concealed due to the light transmittance.
In addition, the said light transmittance is the value measured by JISK7361-1 (the test method of the total light transmittance of a plastic-transparent material).

上記蒸着層を構成する材料としては、ホログラム層との間で屈折率差を生じる材料であれば特に限定されるものではない。上記反射性蒸着層を形成可能な材料としては、例えば、Mg、Al、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Se、Rb、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、Au、Pb、もしくはBi等の金属を挙げることができる。
また、上記透明蒸着層を形成可能な材料としては、例えば、上記金属の酸化物を挙げることができる。
上記材料は、単独でまたは2以上の材料を組み合わせたものも用いることができる。
The material constituting the vapor deposition layer is not particularly limited as long as it is a material that produces a refractive index difference with the hologram layer. Examples of materials that can form the reflective vapor deposition layer include Mg, Al, Ti, Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Se, Rb, Pd, Ag, Cd, In, and Sn. , Sb, Te, Au, Pb, or Bi.
Moreover, as a material which can form the said transparent vapor deposition layer, the said metal oxide can be mentioned, for example.
The said material can also use what combined single or 2 or more materials.

上記蒸着層の厚みは、光像の再生容易性、色調、デザイン、用途等の観点から適宜に設定でき、例えば、50Å〜1μmの範囲内であることが好ましく、なかでも100Å〜1000Åの範囲内であることが好ましい。
また、上記厚みは、蒸着層に透明性を持たせるとの観点からは、200Å以下であることが好ましく、蒸着層に隠ぺい性を持たせるとの観点からは、200Åを超える厚みであることが好ましい。
なお、上記蒸着層の厚みは、具体的には、既に説明した図2および図4のbで示される距離である。
The thickness of the vapor-deposited layer can be appropriately set from the viewpoints of light image reproducibility, color tone, design, application, etc., for example, preferably within a range of 50 mm to 1 μm, and more preferably within a range of 100 mm to 1000 mm. It is preferable that
In addition, the thickness is preferably 200 mm or less from the viewpoint of providing transparency to the vapor deposition layer, and may be more than 200 mm from the viewpoint of providing concealment to the vapor deposition layer. preferable.
In addition, the thickness of the said vapor deposition layer is specifically the distance shown by b of already demonstrated FIG. 2 and FIG.

上記蒸着層の形成方法としては、一般的な蒸着層の形成方法を用いることができ、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を挙げることができる。   As a formation method of the said vapor deposition layer, the formation method of a general vapor deposition layer can be used, A vacuum vapor deposition method, sputtering method, an ion plating method etc. can be mentioned.

3.その他の構成
本発明のホログラム構造体は、ホログラム層を有するものであるが、必要に応じてその他の構成を有するものであっても良い。
3. Other Configurations The hologram structure of the present invention has a hologram layer, but may have other configurations as necessary.

(1)透明基材
本発明のホログラム構造体は、上記ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面に形成された透明基材を有するものであってもよい。透明基材を有することにより、本発明のホログラム構造体の熱的または機械的強度を高めることができるからである。
(1) Transparent substrate The hologram structure of the present invention may have a transparent substrate formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer. It is because the thermal or mechanical strength of the hologram structure of the present invention can be increased by having a transparent substrate.

上記透明基材は、上記ホログラム層と直接接するように形成されるものであっても良く、他の層を介して形成されるものであってもよい。
例えば、透明基材は、後述する層間接着層を介してホログラム層表面に接着されたものとすることができる。
The transparent substrate may be formed so as to be in direct contact with the hologram layer, or may be formed via another layer.
For example, the transparent substrate can be bonded to the hologram layer surface via an interlayer adhesive layer described later.

上記透明基材の光透過率は、80%以上であることが好ましく、中でも90%以上であることがより好ましい。透明基材の光透過率を上述の範囲内とすることにより、ホログラム構造体は、光像の視認が容易なものとなるからである。   The light transmittance of the transparent substrate is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. This is because by making the light transmittance of the transparent substrate within the above-mentioned range, the hologram structure becomes easy to visually recognize the optical image.

また、上記透明基材はヘイズ値が低いものほど好ましく、具体的にはヘイズ値が0.01%〜5%の範囲内であるものが好ましく、中でも0.01%〜3%の範囲内であるものが好ましく、特に0.01%〜1.5%の範囲内であるものが好ましい。透明基材のヘイズ値を上記範囲内とすることにより、視認性を阻害することなくホログラム形成領域において発現する光像の表示が可能となるからである。なお、上記透明基材のヘイズ値は、JIS K7136に準拠して測定した値とする。   Moreover, the said transparent base material is so preferable that a haze value is low, Specifically, the thing whose haze value is in the range of 0.01%-5% is preferable, and in particular within the range of 0.01%-3%. Some are preferred, especially those in the range of 0.01% to 1.5%. This is because by setting the haze value of the transparent substrate within the above range, it is possible to display an optical image that appears in the hologram forming region without impairing the visibility. In addition, the haze value of the said transparent base material shall be the value measured based on JISK7136.

上記透明基材の構成材料としては、上述の光透過率およびヘイズ値を示すものであれば特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリルスチレン樹脂等の樹脂フイルム、石英ガラス、パイレックス(登録商標)、合成石英板等のガラスを用いることができる。中でも、上記透明基材としては、軽量且つ破損等の危険性が少ないという点から、樹脂フイルムを用いることが好ましく、複屈折性の面からポリカーボネートが最適である。   The constituent material of the transparent substrate is not particularly limited as long as it exhibits the above light transmittance and haze value. For example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic resin, cycloolefin resin, polyester resin, polystyrene resin A glass such as a resin film such as an acrylic styrene resin, quartz glass, Pyrex (registered trademark), or a synthetic quartz plate can be used. Among these, as the transparent substrate, it is preferable to use a resin film from the viewpoint of light weight and less risk of breakage and the like, and polycarbonate is optimal from the viewpoint of birefringence.

上記透明基材は、必要に応じて、添加剤が含まれていてもよい。
上記添加剤としては、例えば、分散剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤等を挙げることができる。
The transparent substrate may contain an additive as necessary.
Examples of the additive include a dispersant, a filler, a plasticizer, and an antistatic agent.

上記透明基材の膜厚としては、ホログラム層等を支持するための剛性および強度を有することが可能な厚さであればよく、例えば0.005mm〜5mm程度であることが好ましく、中でも0.02mm〜1mmの範囲内であることが好ましい。また、上記透明基材の形状については特に限定されるものではなく、本発明のホログラム構造体の使用形態に応じて適宜選択することができる。   The film thickness of the transparent substrate may be any thickness that can provide rigidity and strength for supporting the hologram layer and the like, and is preferably about 0.005 mm to 5 mm, for example. It is preferably within a range of 02 mm to 1 mm. Further, the shape of the transparent substrate is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the usage form of the hologram structure of the present invention.

上記透明基材は、他の層との密着性を向上させるために、例えば表面にコロナ処理等が行われていてもよい。   In order to improve the adhesiveness with the other layers, for example, the surface of the transparent substrate may be subjected to corona treatment or the like.

(2)画像表示層
本発明のホログラム構造体は、上記光像と組み合わせて用いられる画像を表示する画像表示層を有することが好ましい。
上記画像表示層が表示する画像と、上記ホログラム形成領域内に再生される光像とを組み合わせることが可能となり、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
(2) Image Display Layer The hologram structure of the present invention preferably has an image display layer that displays an image used in combination with the optical image.
This is because an image displayed by the image display layer and an optical image reproduced in the hologram forming region can be combined, and the hologram structure has excellent anti-counterfeiting and design properties. .

ここで、上記画像としては、光像と組み合わせることで、偽造防止性および意匠性を向上できるものであれば特に限定されるものではない。上記画像は、上記ホログラム形成領域内に形成される回折格子図柄とも組み合わせて用いられるものであっても良い。
上記画像としては、具体的には、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて、適宜設定することができ、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等のみならず、単に全面が着色された態様も含むものである。
Here, the image is not particularly limited as long as it can improve anti-counterfeiting and design properties by combining with an optical image. The image may be used in combination with a diffraction grating pattern formed in the hologram forming region.
Specifically, the image can be set as appropriate according to the application of the hologram structure of the present invention. For example, not only patterns, line drawings, characters, figures, symbols, but also the entire surface is colored. This embodiment is also included.

また、上記光像と組み合わせることで偽造防止性および意匠性をより向上できる画像としては、例えば図22(a)および(b)に例示するように、上記ホログラム形成領域の形成箇所を指し示す矢印、上記形成箇所を囲む枠、上記形成箇所であることを示す文字等のホログラム形成領域の認識に用いられる画像、図22(c)および(d)に例示するように、上記光像および回折格子図柄が図形の一部を表わすものである場合に、図形の他の部分を表わす画像、図22(e)および(f)に例示するように上記光像が文字列または数列の一部を表わす画像である場合に、文字列または数列の他の部分を表わす画像、上記光像が太陽を表わす画像である場合に、太陽の周囲に配置される雲や空等の背景を表わす画像等の上記ホログラム形成領域内に再生される光像との組み合わせで1つの統一感のある画像を形成する画像等を挙げることができる。
なお、図22(a)、(c)および(e)は、それぞれ、光像再生前の状態を示し、図22(b)、(d)および(f)は、それぞれ光像再生時の状態を示すものである。
また、図22(a)および(b)では、画像15は、反射型ホログラム形成領域11の形成箇所を指し示す矢印であり、反射型ホログラム形成領域11内に第1の光像21として「ホンモノ」を表わす文字列を再生可能なものである。図22(c)および(d)では、画像15は、楕円の一部であり、第1の光像21および回折格子図柄14により示される楕円の他の部分と組み合わせて1つの楕円を表示可能なものである。図22(e)および(f)では、画像15は、文字列「ホンモノ」の一部であり、第1の光像21により示される文字列「ホンモノ」の他の部分と組み合わせて1つの意味のある文字列「ホンモノ」を表示可能なものである。
なお、図22は、画像表示層が表示する画像と組み合わされる光像が記録されたホログラム形成領域が反射型ホログラム形成領域11である例を示すものである。
In addition, as an image that can further improve anti-counterfeiting and design properties by combining with the optical image, for example, as illustrated in FIGS. 22 (a) and (b), an arrow indicating the formation location of the hologram forming region, A frame surrounding the formation location, an image used for recognizing a hologram formation region such as a character indicating the formation location, and the optical image and diffraction grating pattern as illustrated in FIGS. 22 (c) and 22 (d) Is an image representing another part of the figure, and an image in which the optical image represents a part of the character string or number string as illustrated in FIGS. 22 (e) and (f). The above-mentioned hologram such as an image representing another part of a character string or a number of strings, or an image representing a background such as a cloud or a sky arranged around the sun when the light image is an image representing the sun Formation Images with a single unity in combination with the light image to be reproduced within can be given image or the like to form a.
FIGS. 22A, 22C, and 22E show the state before the optical image reproduction, and FIGS. 22B, 22D, and 22F show the state during the optical image reproduction. Is shown.
In FIGS. 22A and 22B, the image 15 is an arrow indicating the location where the reflective hologram forming region 11 is formed, and “real” is used as the first optical image 21 in the reflective hologram forming region 11. A character string representing can be reproduced. In FIGS. 22C and 22D, the image 15 is a part of an ellipse, and one ellipse can be displayed in combination with the other part of the ellipse indicated by the first light image 21 and the diffraction grating pattern 14. It is a thing. In FIGS. 22E and 22F, the image 15 is a part of the character string “real” and has one meaning in combination with the other part of the character string “real” shown by the first light image 21. It is possible to display a character string “real” with
FIG. 22 shows an example in which the hologram forming area in which the optical image combined with the image displayed by the image display layer is recorded is the reflective hologram forming area 11.

上記画像表示層は、所望の画像を表示できるものであればよく、例えば、着色材および樹脂材料を有する印刷層、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された回折格子図柄を有する第2ホログラム層等を挙げることができる。
上記印刷層は、様々な色およびパターンの画像を容易に描画できる。上記第2ホログラム層は、参照光を照射した場合にのみ画像を表示できる。このため、上記印刷層等は、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体を容易に形成できるからである。
上記画像表示層は、1種類のみであっても良く、2種類以上を組み合わせて用いるものであっても良い。例えば、画像表示層は、複数の印刷層を含むもの、印刷層および第2ホログラム層を含むもの等とすることができる。
以下、印刷層および第2ホログラム層について説明する。
The image display layer is not particularly limited as long as it can display a desired image. For example, a printed layer having a colorant and a resin material, and a diffraction grating pattern drawn by a diffraction grating cell arranged in a pattern in plan view. Examples thereof include a second hologram layer.
The printed layer can easily draw images of various colors and patterns. The second hologram layer can display an image only when irradiated with reference light. For this reason, it is because the said printed layer etc. can form easily the hologram structure excellent in forgery prevention property and design property.
The image display layer may be only one type or may be a combination of two or more types. For example, the image display layer may include a plurality of print layers, a print layer, and a second hologram layer.
Hereinafter, the print layer and the second hologram layer will be described.

(a)印刷層
上記印刷層は、着色材および樹脂材料を有するものである。
上記樹脂材料としては、例えばポリカーボネート類、ポリエステル類、セルロース誘導体、ノルボルネン系樹脂、ポリ塩化ビニル類、ポリ酢酸ビニル類、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリプロピレン系類、ポリエチレン系類、スチレン系類等の樹脂を用いることができる。
上記着色材としては、印刷層として一般的に用いられるものを使用でき、無機顔料および有機顔料等の顔料、酸性染料、直接染料、分散染料、油溶性染料、含金属油溶性染料、および昇華性色素等の染料等を挙げることができる。
また、上記着色材としては、紫外線または赤外線を吸収することにより蛍光を発する紫外線発光材料および赤外線発光材料等の蛍光発光材料、偏光コレステリック高分子液晶顔料、ガラスビーズなど反射鏡となる粒子も用いることができる。
上記印刷層の形成方法、すなわち、印刷方法としては、一般的な印刷層の形成方法と同様の方法を用いることができる。上記印刷方法としては、具体的には、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷等の各種印刷法を挙げることができる。
また、上記印刷層に用いられるインクとしては、一般的な印刷層の形成に用いられるものを使用でき、上記樹脂材料および着色材を溶媒中に分散または溶解したものを用いることができる。
(A) Print layer The print layer has a colorant and a resin material.
Examples of the resin material include polycarbonates, polyesters, cellulose derivatives, norbornene resins, polyvinyl chlorides, polyvinyl acetates, acrylic resins, urethane resins, polypropylenes, polyethylenes, styrenes, and the like. These resins can be used.
As the coloring material, those generally used as a printing layer can be used, pigments such as inorganic pigments and organic pigments, acidic dyes, direct dyes, disperse dyes, oil-soluble dyes, metal-containing oil-soluble dyes, and sublimation properties. And dyes such as pigments.
In addition, as the coloring material, a fluorescent light emitting material such as an ultraviolet light emitting material and an infrared light emitting material that emits fluorescence by absorbing ultraviolet light or infrared light, particles that become a reflecting mirror such as a polarized cholesteric polymer liquid crystal pigment, glass beads, and the like are also used. Can do.
As the printing layer forming method, that is, the printing method, a method similar to a general printing layer forming method can be used. Specific examples of the printing method include various printing methods such as inkjet printing, screen printing, offset printing, gravure printing, and flexographic printing.
Moreover, as an ink used for the said printing layer, what is used for formation of a general printing layer can be used, and what dispersed or melt | dissolved the said resin material and the coloring material in the solvent can be used.

上記印刷層の形成箇所としては、ホログラム形成領域内での光像および回折格子図柄の再生および視認を妨げない位置であれば特に限定されるものではなく、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面上、ホログラム層と同一平面上、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面上等とすることができる。
上記印刷層は、上記ホログラム形成領域と平面視上重なるものであっても良いが、通常、重ならないものである。
図23は、上記印刷層4が、透明基材3のホログラム層1とは反対側の表面上に形成される例を示すものである。
The printed layer is not particularly limited as long as it is a position that does not hinder the reproduction and visual recognition of the optical image and the diffraction grating pattern in the hologram forming region. On the surface, on the same plane as the hologram layer, on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, or the like.
The printed layer may overlap the hologram forming region in plan view, but usually does not overlap.
FIG. 23 shows an example in which the printed layer 4 is formed on the surface of the transparent substrate 3 opposite to the hologram layer 1.

(b)第2ホログラム層
上記第2ホログラム層は、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された回折格子図柄を有し、参照光を照射することにより、回折格子セルが配置されたパターン形状の図柄が再生されるものである。
このような回折格子図柄、回折格子セルおよび参照光については上記「1.ホログラム層」に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
(B) Second hologram layer The second hologram layer has a diffraction grating pattern drawn by a diffraction grating cell arranged in a pattern in plan view, and the diffraction grating cell is arranged by irradiating reference light. The pattern having the pattern shape is reproduced.
Such a diffraction grating pattern, diffraction grating cell, and reference light can be the same as the contents described in the above-mentioned “1. Hologram layer”, and thus description thereof is omitted here.

上記第2ホログラム層の形成箇所は、上記ホログラム層と同一平面上であっても良く、上記ホログラム層の上記蒸着層側の表面上または、上記蒸着層とは反対側の表面上であってもよい。第2ホログラム層がホログラム層と同一平面上に形成される例としては、ホログラム層および第2ホログラム層が一体として形成され、ホログラム層の非ホログラム領域に回折格子図柄が形成されるものを挙げることができる。
図24は、上記第2ホログラム層6および第2ホログラム層の回折格子図柄の凹凸表面に接するように形成される第2蒸着層7が、ホログラム層1の蒸着層2側の表面上に配置される例を示すものであり、蒸着層2および層間接着層5を介して形成されるものである。
また、上記第2ホログラム層は、通常、回折格子図柄がホログラム形成領域と平面視上重ならないように配置されるものである。
The formation position of the second hologram layer may be on the same plane as the hologram layer, or may be on the surface of the hologram layer on the vapor deposition layer side or on the surface opposite to the vapor deposition layer. Good. As an example in which the second hologram layer is formed on the same plane as the hologram layer, the hologram layer and the second hologram layer are integrally formed, and a diffraction grating pattern is formed in a non-hologram area of the hologram layer. Can do.
In FIG. 24, the second vapor deposition layer 7 formed so as to be in contact with the irregular surface of the diffraction grating pattern of the second hologram layer 6 and the second hologram layer is disposed on the surface of the hologram layer 1 on the vapor deposition layer 2 side. In this example, the film is formed through the vapor deposition layer 2 and the interlayer adhesive layer 5.
The second hologram layer is usually arranged so that the diffraction grating pattern does not overlap the hologram forming region in plan view.

上記第2ホログラム層を構成する材料としては、回折格子セルに含まれる回折格子として機能する凹凸形状を形成できるものであれば特に限定されるものではない。
このような材料としては、上記「1.ホログラム層」の項に記載のホログラム層の構成材料と同様とすることができる。
The material constituting the second hologram layer is not particularly limited as long as it can form an uneven shape functioning as a diffraction grating included in the diffraction grating cell.
Such a material can be the same as the constituent material of the hologram layer described in the section “1. Hologram layer”.

上記第2ホログラム層の膜厚としては、安定的に回折格子の凹凸形状を形成可能なものであればよく、上記「1.ホログラム層」の項に記載のホログラム層と同様とすることができる。   The film thickness of the second hologram layer is not particularly limited as long as it can stably form the concavo-convex shape of the diffraction grating, and can be the same as the hologram layer described in the section “1. Hologram layer”. .

上記第2ホログラム層の形成箇所としては、上記「(a)印刷層」の項に記載の印刷層と同様とすることができる。   The formation location of the second hologram layer may be the same as the printing layer described in the section “(a) Printing layer”.

本発明のホログラム構造体は、第2ホログラム層の回折格子図柄の凹凸表面に接するように形成される第2蒸着層を有するものとすることができる。
このような第2蒸着層としては、第2ホログラム層を反射型として機能可能とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、反射型ホログラムに一般的に用いられるものとすることができる。具体的には、上記第2蒸着層は、上記「2.蒸着層」の項に記載の内容と同様とすることができる。
The hologram structure of the present invention may have a second vapor deposition layer formed so as to be in contact with the uneven surface of the diffraction grating pattern of the second hologram layer.
The second vapor deposition layer is not particularly limited as long as the second hologram layer can function as a reflection type, and is generally used for a reflection hologram. Can do. Specifically, the second vapor deposition layer can be the same as the content described in the section “2. Vapor deposition layer”.

(3)層間接着層
本発明のホログラム構造体は、各構成間を接着する層間接着層を有するものであっても良い。
なお、層間接着層については、ホログラム構造体に一般的に用いられるものを使用することができ、上記透明基材およびホログラム層等を構成する材料に応じて適宜選択されるものである。
上記層間接着層としては、例えば、2液硬化型接着剤層、紫外線硬化型接着剤層、熱硬化型接着剤層、熱溶融型接着剤層等の公知の接着剤層を用いることができる。
上記層間接着層の厚みについては、接着する構成の大きさ等により適宜設定されるものである。
(3) Interlayer Adhesive Layer The hologram structure of the present invention may have an interlayer adhesive layer that adheres the components.
In addition, about an interlayer contact bonding layer, what is generally used for a hologram structure can be used, and it is suitably selected according to the material which comprises the said transparent base material, a hologram layer, etc.
As the interlayer adhesive layer, for example, a known adhesive layer such as a two-component curable adhesive layer, an ultraviolet curable adhesive layer, a thermosetting adhesive layer, or a hot melt adhesive layer can be used.
About the thickness of the said interlayer contact bonding layer, it sets suitably by the magnitude | size etc. of the structure to adhere | attach.

上記層間接着層は、透過型ホログラム形成領域と平面視上重なるように形成される場合には、透明性を有するものが用いられる。
上記層間接着層の光透過率としては、例えば、上記「(1)透明基材」の項に記載の光透過率と同様とすることができる。
When the interlayer adhesive layer is formed so as to overlap the transmission hologram forming region in plan view, a layer having transparency is used.
The light transmittance of the interlayer adhesive layer can be, for example, the same as the light transmittance described in the section “(1) Transparent substrate”.

(4)接着層
本発明のホログラム構造体は、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有していてもよい。接着層を有することにより、上記ホログラム構造体は被着体に容易に貼付可能となるからである。
(4) Adhesive layer The hologram structure of the present invention may have an adhesive layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer. This is because the hologram structure can be easily attached to an adherend by having an adhesive layer.

上記接着層は、透過型ホログラム形成領域と平面視上重なるように形成される場合には、透明性を有するものが用いられる。
上記接着層の光透過率としては、例えば、上記「(1)透明基材」の項に記載の光透過率と同様とすることができる。
When the adhesive layer is formed so as to overlap the transmission hologram forming region in plan view, a layer having transparency is used.
The light transmittance of the adhesive layer can be the same as the light transmittance described in the section “(1) Transparent base material”, for example.

上記接着層は、粘着性を有する粘着剤層であってもよく、密着性および再剥離性の双方の特性を有する再剥離密着層であってもよい。
なお、上記接着層は、上記層間接着層と同様に2液硬化型接着剤層、紫外線硬化型接着剤層、熱硬化型接着剤層、熱溶融型接着剤層等の接着剤層であっても良い。
上記接着層が粘着剤層である場合、本発明のホログラム構造体を所望の部材に強固に貼りあわせることができ、被着体からホログラム構造体が剥がれにくいものとすることが可能となる。
また、上記接着層が再剥離密着層である場合、再剥離密着層と被着体との間に空気が入らないよう密着させることにより、本発明のホログラム構造体を所望の部材に貼りあわせることができる。このような再剥離密着層は、被着体に粘着剤等による跡を残すことなく容易に密着および剥離を繰り返し行うことが可能であり、被着体へのダメージを抑えることができる。
The adhesive layer may be a pressure-sensitive adhesive layer, or a re-peeling adhesive layer having both adhesion and re-peeling properties.
The adhesive layer is an adhesive layer such as a two-component curable adhesive layer, an ultraviolet curable adhesive layer, a thermosetting adhesive layer, or a hot-melt adhesive layer similar to the interlayer adhesive layer. Also good.
When the adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer, the hologram structure of the present invention can be firmly attached to a desired member, and the hologram structure can be hardly peeled off from the adherend.
Further, when the adhesive layer is a re-peeling adhesive layer, the hologram structure of the present invention is bonded to a desired member by adhering so that air does not enter between the re-peeling adhesive layer and the adherend. Can do. Such a re-peeling adhesion layer can easily perform adhesion and peeling repeatedly without leaving a mark due to an adhesive or the like on the adherend, and can suppress damage to the adherend.

上記接着層が粘着剤層である場合、上記粘着剤層に用いられる樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ラテックス系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタンエステル系樹脂、またはフッ化ビニリデン系樹脂(PVDF)、フッ化ビニル系樹脂(PVF)等のフッ素系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂等を挙げることができる。上記樹脂は、中でもアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ラテックス系樹脂であることが好ましい。   When the adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer, examples of the resin used for the pressure-sensitive adhesive layer include acrylic resins, ester resins, urethane resins, ethylene vinyl acetate resins, latex resins, epoxy resins, and polyurethanes. Examples thereof include ester resins, fluorine resins such as vinylidene fluoride resin (PVDF) and vinyl fluoride resin (PVF), and polyimide resins such as polyimide, polyamideimide, and polyetherimide. The resin is preferably an acrylic resin, a urethane resin, an ethylene vinyl acetate resin, or a latex resin.

また、上記接着層が再剥離密着層である場合、上記再剥離密着層に用いられる樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、アクリル酸エステル樹脂、またはこれらの共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、天然ゴム、カゼイン、ゼラチン、ロジンエステル、テルペン樹脂、フェノール系樹脂、スチレン系樹脂、クマロンインデン樹脂、ポリビニルエーテル、シリコーン樹脂等を挙げることができる。上記樹脂は、中でもアクリル系樹脂、シリコーン樹脂であることが好ましい。アクリル系樹脂は、被着体の表面に多少の凹凸がある場合であっても接着が可能であるからである。また、シリコーン樹脂は、密着および剥離を繰り返し行っても接着強度が低下しにくいからである。   When the adhesive layer is a re-peeling adhesive layer, examples of the resin used for the re-peeling adhesive layer include acrylic resins, acrylic ester resins, copolymers thereof, styrene-butadiene copolymers, Examples include natural rubber, casein, gelatin, rosin ester, terpene resin, phenolic resin, styrene resin, coumarone indene resin, polyvinyl ether, and silicone resin. The resin is preferably an acrylic resin or a silicone resin. This is because the acrylic resin can be bonded even when the surface of the adherend has some unevenness. In addition, the silicone resin is less likely to decrease in adhesive strength even when adhesion and peeling are repeated.

上記接着層の厚みとしては、本発明のホログラム構造体の種類や用途等に応じて適宜選択されるが、通常1μm〜500μmの範囲内とすることが好ましく、中でも2μm〜50μmの範囲内とすることが好ましい。上記厚みが上述の範囲内であることにより、接着層は、接着性に優れたものとなるからである。   The thickness of the adhesive layer is appropriately selected according to the type and use of the hologram structure of the present invention, but is usually preferably in the range of 1 μm to 500 μm, and more preferably in the range of 2 μm to 50 μm. It is preferable. This is because the adhesive layer is excellent in adhesiveness when the thickness is within the above-described range.

(5)剥離シート
また、本発明のホログラム構造体は、上述した接着層上に剥離シートが配置されていてもよい。本発明のホログラム構造体を接着層を介して所望の被着体に貼り合せる直前に、剥離シートと接着層とを剥離して使用することが可能となる。これにより、接着層と被着体との間に異物が付着することを防止できる。
(5) Release sheet Moreover, as for the hologram structure of this invention, the release sheet may be arrange | positioned on the contact bonding layer mentioned above. Immediately before the hologram structure of the present invention is bonded to a desired adherend via the adhesive layer, the release sheet and the adhesive layer can be peeled off and used. Thereby, it can prevent that a foreign material adheres between a contact bonding layer and a to-be-adhered body.

上記剥離シートとしては、接着層を保護することができ、且つ上記接着層から容易に剥離することが可能なものであれば、特に限定されるものではない。このような剥離シートとしては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)等からなる層とすることができる。
上記剥離シートの厚さは、本発明のホログラム構造体の種類や用途等に応じて適宜選択される。
The release sheet is not particularly limited as long as it can protect the adhesive layer and can be easily released from the adhesive layer. As such a release sheet, for example, a layer made of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS) or the like can be used.
The thickness of the release sheet is appropriately selected according to the type and application of the hologram structure of the present invention.

また、上記剥離シートの接着層と接する側の面には、接着層との剥離操作を容易とするために、剥離処理が施されていることが好ましい。このような処理方法としては、例えばシリコーン処理、アルキッド処理等が挙げられるが、特に限定されるものではない。   Moreover, it is preferable that the surface of the release sheet on the side in contact with the adhesive layer is subjected to a release treatment in order to facilitate the release operation with the adhesive layer. Examples of such treatment methods include silicone treatment and alkyd treatment, but are not particularly limited.

(6)任意の部材
さらに、本発明のホログラム構造体は、上記透明基材上や上記ホログラム層の非ホログラム形成領域上に紫外線吸収層や赤外線吸収層、反射防止層等を有していてもよい。この様な層を有することにより、上記ホログラム構造体に紫外線吸収機能や赤外線吸収機能、反射防止機能等を付与することができ、本発明のホログラム構造体を各種フィルタ等としても用いることが可能となる。
なお、これらの層については、一般的に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(6) Arbitrary member Furthermore, the hologram structure of the present invention may have an ultraviolet absorbing layer, an infrared absorbing layer, an antireflection layer or the like on the transparent substrate or on the non-hologram forming region of the hologram layer. Good. By having such a layer, the hologram structure can be given an ultraviolet absorption function, an infrared absorption function, an antireflection function, etc., and the hologram structure of the present invention can be used as various filters. Become.
Since these layers can be the same as those generally used, description thereof is omitted here.

4.ホログラム構造体
本発明のホログラム構造体は、ホログラム構造体を被着体に接着して使用するものであっても良く、被着体に接着せずに使用するものであっても良い。
4). Hologram Structure The hologram structure of the present invention may be used by adhering the hologram structure to the adherend, or may be used without adhering to the adherend.

上記被着体に接着して使用する態様としては、被着体との接着に用いられる接着層を有するものであれば特に限定されるものではなく、上記ホログラム構造体が、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有し、ホログラムシールとして用いられる態様(第1使用態様)、上記ホログラム構造体が、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ホログラム層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、上記剥離容易層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、を有し、ホログラム転写箔として用いられる態様(第2使用態様)等を挙げることができる。
また、上記被着体に接着せずに使用する態様としては、上記ホログラム構造体が、情報記録媒体として用いられる態様(第3使用態様)等を挙げることができる。
The embodiment to be used by adhering to the adherend is not particularly limited as long as it has an adhesive layer used for adhesion to the adherend, and the hologram structure is the above-mentioned of the vapor deposition layer. An aspect (first usage aspect) having an adhesive layer formed on the surface opposite to the hologram layer and used as a hologram seal, the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer A heat seal layer formed on the surface of the hologram layer, a peelable layer formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor-deposited layer, and a peelable layer formed on the surface of the peelable layer opposite to the hologram layer. And a base material used as a hologram transfer foil (second use mode).
Moreover, as an aspect used without adhere | attaching on the said to-be-adhered body, the aspect (3rd usage aspect) etc. which the said hologram structure is used as an information recording medium can be mentioned.

(1)第1使用態様
本発明のホログラム構造体の第1使用態様は、上記ホログラム構造体が、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有し、ホログラムシールとして用いられる態様である。
(1) First Use Mode A first use mode of the hologram structure of the present invention is such that the hologram structure has an adhesive layer formed on a surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, It is an aspect used as a seal.

このような本態様のホログラム構造体について図面を参照して説明する。図25は、本態様のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図25に例示するように、本態様のホログラム構造体10は、上記蒸着層2の上記ホログラム層1とは反対側の表面に形成された接着層41を有し、ホログラムシールとして用いられるものである。
なお、図25中の符号については、図1および図2のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
また、この例においては、ホログラム構造体10は、接着層41の蒸着層2とは反対側の表面に剥離シート42を有するものである。
Such a hologram structure of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 25 is a schematic cross-sectional view showing an example of the hologram structure according to this aspect. As illustrated in FIG. 25, the hologram structure 10 of this embodiment has an adhesive layer 41 formed on the surface of the vapor deposition layer 2 opposite to the hologram layer 1 and is used as a hologram seal. is there.
In addition, about the code | symbol in FIG. 25, since it shows the member same as the thing of FIG. 1 and FIG. 2, description here is abbreviate | omitted.
In this example, the hologram structure 10 has a release sheet 42 on the surface of the adhesive layer 41 opposite to the vapor deposition layer 2.

本態様によれば、上記接着層を有することにより、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できる。
このような本態様のホログラム構造体の具体的な用途としては、チケット、ブランド品、製品の品質管理番号ラベル等に貼り付けて、点光源をホログラム形成領域上に配置することでホログラム形成領域内に再生される光像を用いて真贋判定を行う用途、意匠性を付与する用途等を挙げることができる。
なお、被着体は少なくとも透過型ホログラム形成領域と平面視上重なる領域が透明性を有するものが用いられる。
According to this aspect, by providing the adhesive layer, anti-counterfeiting properties and design properties can be easily imparted to the adherend.
As a specific application of the hologram structure of this embodiment, a point light source is disposed on the hologram forming area by attaching it to a ticket, a branded product, a product quality control number label, etc. Uses for authenticity determination using an optical image reproduced on the surface, uses for imparting design properties, and the like.
As the adherend, one having transparency at least in a region overlapping with the transmission hologram forming region in plan view is used.

本態様のホログラム構造体は、接着層を有するものである。
なお、接着層については、上記「3.その他の構成」の項に記載の内容と同様とすることができる。
また、必要に応じて、上記「3.その他の構成」の項に記載のその他の構成等を有するものであっても良い。
The hologram structure of this aspect has an adhesive layer.
The adhesive layer can be the same as that described in the section “3. Other Configurations”.
Moreover, you may have the other structure of the above-mentioned "3. Other structure" etc. as needed.

(2)第2使用態様
本発明のホログラム構造体の第2使用態様は、上記ホログラム構造体が、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ホログラム層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、上記剥離容易層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、を有し、ホログラム転写箔として用いられる態様である。
(2) Second Usage Aspect The second usage aspect of the hologram structure of the present invention is that the hologram structure is a heat seal layer formed on a surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and the hologram. A detachable layer formed on the surface of the layer opposite to the vapor deposition layer, and a detachable substrate formed on the surface of the easy layer on the opposite side of the hologram layer. It is an aspect used as a foil.

このような本態様のホログラム構造体について図面を参照して説明する。図26は、本態様のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図26に例示するように、本態様のホログラム構造体10は、上記蒸着層2の上記ホログラム層1とは反対側の表面に形成されたヒートシール層43と、上記ホログラム層1の上記蒸着層2とは反対側の表面に形成された剥離容易層44と、上記剥離容易層44の上記ホログラム層1とは反対側の表面に形成された剥離用基材45と、を有し、ホログラム転写箔として用いられるものである。
なお、図26中の符号については、図1および図2のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
また、この例においては、ホログラム構造体10は、ヒートシール層43の蒸着層2とは反対側の表面に剥離シート42を有するものである。
Such a hologram structure of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 26 is a schematic cross-sectional view showing an example of the hologram structure according to this aspect. As illustrated in FIG. 26, the hologram structure 10 of this aspect includes a heat seal layer 43 formed on the surface of the vapor deposition layer 2 opposite to the hologram layer 1, and the vapor deposition layer of the hologram layer 1. 2 having a peeling easy layer 44 formed on the surface opposite to the surface 2 and a peeling substrate 45 formed on the surface of the peeling easy layer 44 opposite to the hologram layer 1. It is used as a foil.
In addition, about the code | symbol in FIG. 26, since it shows the same member as the thing of FIG. 1 and FIG. 2, description here is abbreviate | omitted.
In this example, the hologram structure 10 has a release sheet 42 on the surface of the heat seal layer 43 opposite to the vapor deposition layer 2.

本態様によれば、上記ヒートシール層を有するものであることにより、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できる。
また、ホログラム層の蒸着層とは反対側に剥離層を介して剥離用基材が形成されていることにより、被着体に貼付する前にホログラム構造体が損傷することを防ぐことができる。
このような本態様のホログラム構造体の具体的な用途としては、チケット、ブランド品、製品の品質管理番号ラベル等に所望のパターン形状で転写して、点光源をホログラム形成領域上に配置することでホログラム形成領域内に再生される光像を用いて真贋判定を行う用途、意匠性を付与する用途等を挙げることができる。
なお、被着体は少なくとも透過型ホログラム形成領域と平面視上重なる領域が透明性を有するものが用いられる。
According to this aspect, the anti-counterfeiting property and the design property can be easily imparted to the adherend by having the heat seal layer.
Further, since the peeling base material is formed on the opposite side of the hologram layer from the vapor deposition layer via the peeling layer, it is possible to prevent the hologram structure from being damaged before being attached to the adherend.
As a specific application of the hologram structure of this embodiment, a point light source is placed on a hologram forming region by transferring it in a desired pattern shape onto a ticket, a branded product, a product quality control number label, or the like. Can be used for performing authenticity determination using an optical image reproduced in the hologram forming region, for providing design properties, and the like.
As the adherend, one having transparency at least in a region overlapping with the transmission hologram forming region in plan view is used.

本態様のホログラム構造体は、ヒートシール層、剥離容易層および剥離用基材を有するものである。
以下、本態様のホログラム構造体の各構成について詳細に説明する。
The hologram structure of this embodiment has a heat seal layer, a peelable layer and a peeling substrate.
Hereafter, each structure of the hologram structure of this aspect is demonstrated in detail.

上記ヒートシール層は、ホログラム層および蒸着層と被着体とを接着させる機能を有するものである。   The heat seal layer has a function of bonding the hologram layer and the vapor deposition layer to the adherend.

上記ヒートシール層としては、透過型ホログラム形成領域と平面視上重なるように形成される場合には、透明性を有するものが用いられる。
上記ヒートシール層の光透過率としては、例えば、上記「3.その他の構成」の「(1)透明基材」の項に記載の光透過率と同様とすることができる。
When the heat seal layer is formed so as to overlap the transmission hologram forming region in plan view, a layer having transparency is used.
The light transmittance of the heat seal layer can be the same as the light transmittance described in “(1) Transparent substrate” of “3.

上記ヒートシール層としては、本態様のホログラム構造体からホログラム層および蒸着層が転写される被着体の種類に応じて、ホログラム層と被着体とを接着できるものであれば特に限定されるものではない。
上記ヒートシール層としては、例えば、特開2014−16422号公報等に記載の熱可塑性樹脂を含むヒートシール層を用いることができる。
The heat seal layer is not particularly limited as long as it can adhere the hologram layer and the adherend according to the type of adherend to which the hologram layer and the vapor deposition layer are transferred from the hologram structure of the present embodiment. It is not a thing.
As the heat seal layer, for example, a heat seal layer containing a thermoplastic resin described in JP 2014-16422 A can be used.

上記剥離用基材は、ホログラム層および蒸着層等を支持するものである。
また、上記剥離用基材は、本態様のホログラム構造体を被着体に接着した後にホログラム構造体から剥離されるものである。
このような剥離用基材としては、透明性を有するものであっても良く、遮光性を有するものであっても良い。
上記剥離用基材を構成する材料および膜厚としては、例えば、上記「3.その他の構成」の項に記載の透明基材と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
The peeling substrate supports the hologram layer, the vapor deposition layer, and the like.
The peeling substrate is peeled from the hologram structure after the hologram structure of this aspect is bonded to the adherend.
Such a peeling substrate may be transparent or may have light shielding properties.
As a material and film thickness which comprise the said base material for peeling, since it can be the same as that of the transparent base material as described in the term of said "3. other structure", description here is abbreviate | omitted.

上記剥離容易層は、ホログラム層を接着層を介して被着体に接着した後に、剥離用基材およびホログラム層を容易に分離するために設けられるものである。
このような剥離容易層としては、上記「3.その他の構成」の項に記載の再剥離密着層を用いることができる。
The easy peeling layer is provided to easily separate the peeling base material and the hologram layer after the hologram layer is bonded to the adherend via the adhesive layer.
As such an easy-peeling layer, the re-peeling adhesion layer described in the section “3. Other configuration” can be used.

上記剥離容易層の平面視上の形成箇所としては、剥離用基材をホログラム層に対して容易に剥離可能とするものであれば特に限定されるものではない。   The formation position of the easy-peeling layer in plan view is not particularly limited as long as the base material for peeling can be easily peeled from the hologram layer.

本態様のホログラム構造体は、必要に応じて、上記「3.その他の構成」の項に記載のその他の構成等を有するものであっても良い。   The hologram structure according to this aspect may have other configurations described in the above section “3. Other configurations” as necessary.

(3)第3使用態様
本発明のホログラム構造体の第3使用態様は、上記ホログラム構造体が、情報記録媒体として用いられる態様である。
(3) Third Usage Mode A third usage mode of the hologram structure of the present invention is an mode in which the hologram structure is used as an information recording medium.

このような本態様のホログラム構造体について図面を参照して説明する。図27は、本態様のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図27に例示するように、本態様のホログラム構造体10は、蒸着層2のホログラム層1とは反対側の表面に形成された裏面側保護層46と、ホログラム層1の蒸着層2とは反対側の表面に形成された表面側保護層47と、ホログラム層1および表面側保護層47の間に形成された中間基材48と、を有し、情報記録媒体として用いられるものである。
なお、図27中の符号については、図1および図2のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
Such a hologram structure of this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 27 is a schematic cross-sectional view showing an example of the hologram structure according to this aspect. As illustrated in FIG. 27, the hologram structure 10 of this aspect includes a back-side protective layer 46 formed on the surface of the vapor deposition layer 2 opposite to the hologram layer 1, and the vapor deposition layer 2 of the hologram layer 1. It has a surface-side protective layer 47 formed on the opposite surface and an intermediate substrate 48 formed between the hologram layer 1 and the surface-side protective layer 47, and is used as an information recording medium.
In addition, about the code | symbol in FIG. 27, since it shows the member same as the thing of FIG. 1 and FIG. 2, description here is abbreviate | omitted.

本態様によれば、情報記録媒体として用いれることで、偽造防止性および意匠性に優れた情報記録媒体とすることができる。
本態様のホログラム構造体の具体的な用途としては、例えば、クレジットカード、キャッシュカード、ポイントカード等のカード、社員証、運転免許所等の身分証明書、通帳、パスポート等を挙げることができる。
According to this aspect, it can be set as the information recording medium excellent in forgery prevention property and design property by using as an information recording medium.
Specific examples of the use of the hologram structure of the present aspect include cards such as credit cards, cash cards and point cards, employee ID cards, ID cards such as driver's licenses, passbooks, passports and the like.

本態様のホログラム構造体は、ホログラム層および蒸着層を有するものであるが、情報記録媒体用の種類に応じてその他の構成を有するものであっても良い。   The hologram structure of this aspect has a hologram layer and a vapor deposition layer, but may have other configurations depending on the type for the information recording medium.

このようなその他の構成としては、例えば、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面に形成された裏面側保護層と、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面に形成された表面側保護層と、ホログラム層および表面側保護層の間に形成された中間基材と、を挙げることができる。
上記表面側保護層は、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面に形成され、ホログラム層を保護するものであり、少なくとも、上記ホログラム形成領域と平面視上重なる領域が透明性を有するものが用いられる。
上記裏面側保護層は、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面に形成され、ホログラム層および蒸着層を保護するものである。このような裏面側保護層としては、少なくとも、上記透過型ホログラム形成領域と平面視上重なる領域が透明性を有するものが用いられる。
上記中間基材は、ホログラム層および表面側保護層の間に形成され、ホログラム層、表面側保護層および裏面側保護層を支持するものであり、少なくとも、上記ホログラム形成領域と平面視上重なる領域が透明性を有するものが用いられる。なお、中間基材は透明基材と兼用されるものであってもよい。
このような表面側保護層、裏面側保護層および中間基材の構成材料および膜厚については、例えば、上記「3.その他の構成」の項に記載の透明基材と同様とすることができる。より具体的には、表面側保護層および裏面側保護層の構成材料としてポリカーボネートを用いることができ、中間基材の構成材料としてポリエチレンテレフタレートを用いることができる。
また、表面側保護層、裏面側保護層および中間基材の形成箇所としては、ホログラム層等を保護できるものであればよいが、ホログラム層および蒸着層の全面を覆うものとすることができる。
Such other configurations include, for example, a back side protective layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and a surface side protection formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer. And an intermediate substrate formed between the hologram layer and the surface-side protective layer.
The surface-side protective layer is formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer and protects the hologram layer, and at least a region overlapping the hologram forming region in plan view is transparent Used.
The said back surface side protective layer is formed in the surface on the opposite side to the hologram layer of a vapor deposition layer, and protects a hologram layer and a vapor deposition layer. As such a back side protective layer, a layer having transparency at least in a region overlapping the transmission hologram forming region in plan view is used.
The intermediate substrate is formed between the hologram layer and the front surface side protective layer, and supports the hologram layer, the front surface side protective layer, and the back surface side protective layer, and at least overlaps the hologram forming region in plan view. Those having transparency are used. The intermediate base material may be used also as a transparent base material.
About the constituent material and film thickness of such a surface side protective layer, a back surface side protective layer, and an intermediate | middle base material, it can be made to be the same as that of the transparent base material as described in the said "3. . More specifically, polycarbonate can be used as the constituent material of the front surface side protective layer and the back surface side protective layer, and polyethylene terephthalate can be used as the constituent material of the intermediate substrate.
Moreover, as a formation location of a surface side protective layer, a back surface side protective layer, and an intermediate | middle base material, what is necessary is just to be able to protect a hologram layer etc., but the whole surface of a hologram layer and a vapor deposition layer can be covered.

上記その他の構成としては、情報を記録する情報記録層等を挙げることができる。
上記情報記録層としては、印刷により情報が記録された印刷層、磁気等により情報が記録された磁気層、集積回路(IC)チップを含むICチップ層等を挙げることができる。
上記その他の構成としては、アンテナを含むアンテナ層等の機能層を含むことができる。
これらの情報記録層および機能層等の形成箇所としては、ホログラム形成領域内での光像の再生および視認を妨げない位置であれば特に限定されるものではなく、例えば、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面上、ホログラム層と同一平面上、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面上等とすることができる。
Examples of the other configuration include an information recording layer for recording information.
Examples of the information recording layer include a printed layer on which information is recorded by printing, a magnetic layer on which information is recorded by magnetism, an IC chip layer including an integrated circuit (IC) chip, and the like.
As said other structure, functional layers, such as an antenna layer containing an antenna, can be included.
The formation location of these information recording layer and functional layer is not particularly limited as long as it does not hinder the reproduction and visual recognition of the optical image in the hologram formation region. May be on the opposite surface, on the same plane as the hologram layer, on the opposite surface of the vapor deposition layer from the hologram layer, or the like.

5.製造方法
本発明のホログラム構造体の製造方法は、上記各構成を含むホログラム構造体を精度良く製造できる方法であれば特に限定されるものではなく、一般的なホログラム構造体の形成方法と同様の方法を用いることができる。
上記製造方法としては、具体的には、透明基材を準備し、ホログラム層および蒸着層をこの順で形成する方法を挙げることができる。
5. Manufacturing Method The manufacturing method of the hologram structure of the present invention is not particularly limited as long as it can accurately manufacture a hologram structure including the above-described configurations, and is the same as a general hologram structure forming method. The method can be used.
Specific examples of the production method include a method of preparing a transparent substrate and forming a hologram layer and a vapor deposition layer in this order.

6.用途
本発明のホログラム構造体の用途としては、偽造防止用途に用いられるものとすることができ、クレジットカード、キャッシュカード等のカード等を含む情報記録媒体を挙げることができる。
また、ホログラム構造体を他の被着体に接着可能な接着層を有するものとし、被着体に貼付可能なホログラム構造体シール等として用いられるものであっても良い。
さらに、ホログラム構造体として、ヒートシール層を有するものとし、被着体に転写可能なホログラム構造体転写箔等として用いられるものであっても良い。
6). Applications Applications of the hologram structure of the present invention can be used for anti-counterfeit applications, and include information recording media including cards such as credit cards and cash cards.
Further, the hologram structure may have an adhesive layer that can be bonded to another adherend, and may be used as a hologram structure seal that can be attached to the adherend.
Furthermore, the hologram structure may have a heat seal layer and may be used as a hologram structure transfer foil that can be transferred to an adherend.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。   The following examples illustrate the present invention in more detail.

[実施例1]
<反射型セル用原版および反射型セルの形成>
合成石英の基板上に表面低反射クロム薄膜が積層されたフォトマスクブランク板のクロム薄膜上に、ドライエッチング用レジストをスピンナーにより回転塗布した。ドライエッチング用レジストとしては日本ゼオン(株)製ZEP7000を使用し、400nmの厚みとなるように形成した。このレジスト層に対し、電子線描画装置(MEBES4500:ETEC社製)を用い、事前に計算機で作成したパターンを露光し、レジスト樹脂の露光部分を易溶化した。その後、現像液を噴霧し(スプレー現像)して易溶化部分を除去し、レジストパターンを形成した。
なお、パターンの格子ピッチは、最短で3179nmとした。
また、パターンの深さは、140nmとした。
続いて、形成されたレジストパターンを利用して、ドライエッチングによりレジストで被覆されていない部分のクロム薄膜をエッチング除去し、石英基板を露出させた。次いで、露出した石英基板をエッチングし、石英基板に凹部を形成した。その後、レジスト薄膜を溶解除去することにより、石英基板がエッチングされて生じた凹部と、石英基板およびクロム薄膜がエッチングされずに残存している凸部とを有する反射型セル用原版を得た。また反射型セルのサイズを0.25mmとした。
[Example 1]
<Formation of reflective cell master and reflective cell>
A dry etching resist was spin-coated with a spinner on a chromium thin film of a photomask blank plate in which a surface low-reflection chromium thin film was laminated on a synthetic quartz substrate. As a resist for dry etching, ZEP7000 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. was used and formed to have a thickness of 400 nm. The resist layer was exposed to a pattern previously created by a computer using an electron beam drawing apparatus (MEBES4500: manufactured by ETEC), and the exposed portion of the resist resin was easily dissolved. Thereafter, the developer was sprayed (spray development) to remove the easily soluble portion, and a resist pattern was formed.
The pattern lattice pitch was 3179 nm at the shortest.
The pattern depth was 140 nm.
Subsequently, by using the formed resist pattern, a portion of the chromium thin film not covered with the resist was etched away by dry etching to expose the quartz substrate. Next, the exposed quartz substrate was etched to form a recess in the quartz substrate. Thereafter, the resist thin film was dissolved and removed to obtain a reflective cell original plate having a concave portion formed by etching the quartz substrate and a convex portion in which the quartz substrate and the chromium thin film remained without being etched. The size of the reflective cell was 0.25 mm.

厚み0.5mmのポリカーボネートシート(透明基材)に、ホログラム層形成用組成物(UV硬化性アクリレート樹脂:屈折率1.52 測定波長633nm)を滴下し、上記組成物の塗膜を形成した。次いで、上記塗膜上に凹凸を有する原版を積置し、押圧した。次に、活性放射線を照射して上記塗膜を硬化させた後剥離させ、原版の凹凸型を反転させた凹凸表面を有する反射型セルを形成した。その後、原版の積置、押圧、硬化および剥離を繰り返し、反射型セルを碁盤の目状に配置することで、反射型セルの面積割合が50%であり、分布がほぼ均等となるように15mm角の反射型ホログラム形成領域を有する厚さ2μmのホログラム層を形成した。   A composition for forming a hologram layer (UV curable acrylate resin: refractive index 1.52, measurement wavelength: 633 nm) was dropped onto a polycarbonate sheet (transparent substrate) having a thickness of 0.5 mm to form a coating film of the above composition. Next, an original plate having irregularities was placed on the coating film and pressed. Next, after irradiating actinic radiation and hardening the said coating film, it peeled, and the reflection type cell which has the uneven surface which reversed the uneven | corrugated type | mold of the original was formed. Thereafter, the original plate is repeatedly placed, pressed, cured, and peeled, and the reflective cells are arranged in a grid pattern so that the area ratio of the reflective cells is 50% and the distribution is approximately 15 mm. A hologram layer having a thickness of 2 μm and having a corner reflection hologram forming region was formed.

<透過型セル用原版および透過型セルの形成>
反射型セル用原版と同様の方法により原版を得た。
透過型セルのサイズを0.25mmとした。
また、パターンの格子ピッチは、最短で3179nmとし、パターンの深さは、825nmとした。
次いで、反射型セルの形成後の上記塗膜上に上記透過型セル用原版の積置、押圧、硬化および剥離を繰り返し、反射型ホログラム形成領域内の反射型セルが配置されていない領域に透過型セルが敷き詰めることで、反射型セルおよび透過型セルが碁盤の目状に配置され、透過型セルの面積割合が50%であり、分布がほぼ均等である15mm角の透過型ホログラム形成領域を有する厚さ2μmのホログラム層を形成した。
これにより、反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の全てが重なるように形成され、反射型セルおよび透過型セルが碁盤の目状に配置されたホログラム形成領域を有するホログラム層を形成した。
<Formation of transmission cell master and transmission cell>
An original plate was obtained in the same manner as the reflective cell original plate.
The size of the transmissive cell was 0.25 mm.
The pattern lattice pitch was 3179 nm at the shortest, and the pattern depth was 825 nm.
Next, stacking, pressing, curing, and peeling of the transmission cell original plate is repeated on the coating film after the formation of the reflection type cell, and the reflection cell is transmitted to the area where the reflection type cell is not disposed in the reflection hologram forming area. By spreading the type cells, the reflection type cells and the transmission type cells are arranged in a grid pattern, the area percentage of the transmission type cells is 50%, and the 15 mm square transmission hologram forming region is almost evenly distributed. A hologram layer having a thickness of 2 μm was formed.
As a result, a hologram layer having a hologram forming area formed so that all of the reflection hologram forming area and the transmission hologram forming area overlap each other and the reflection type and transmission type cells are arranged in a grid pattern is formed.

次いで、ホログラム層の反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域の凹凸表面側の全面に透明蒸着層として膜厚100nmの酸化アルミニウム層をスパッタリング法により形成し、ホログラム構造体を得た。   Subsequently, an aluminum oxide layer having a film thickness of 100 nm was formed as a transparent vapor deposition layer on the entire surface of the reflection hologram forming region and the transmissive hologram forming region of the hologram layer by a sputtering method to obtain a hologram structure.

<評価>
ホログラム構造体の観察面側にホログラム層表面から50mmの位置に点光源を配置し、ホログラム層表面から300mm離れた箇所から観察したところ、15mm角のホログラム形成領域内にフーリエ変換された所定の画像を視認性良く観察することができた。
また、ホログラム構造体の観察面とは反対側にホログラム層表面から50mmの位置に点光源を配置し、ホログラム層表面から300mm離れた箇所から観察したところ、15mm角のホログラム形成領域内にフーリエ変換された所定の画像を視認性良く観察することができた。
<Evaluation>
When a point light source is arranged at a position 50 mm from the hologram layer surface on the observation surface side of the hologram structure and observed from a location 300 mm away from the hologram layer surface, a predetermined image Fourier transformed into a 15 mm square hologram formation region Could be observed with good visibility.
In addition, when a point light source is arranged at a position 50 mm away from the hologram layer surface on the opposite side of the hologram structure observation surface and observed from a location 300 mm away from the hologram layer surface, Fourier transform is performed within a 15 mm square hologram formation region. The predetermined image thus obtained could be observed with good visibility.

1 … ホログラム層
1a … 凹凸表面
2 … 蒸着層
3 … 透明基材
4 … 印刷層
5 … 層間接着層
6 … 第2ホログラム層
7 … 第2蒸着層
10 … ホログラム構造体
11 … 反射型ホログラム形成領域
11a … 反射型セル
12 … 透過型ホログラム形成領域
12a … 透過型セル
13 … 重複領域
14 … 回折格子図柄
14a … 回折格子セル
15 … 画像
21 … 第1の光像
22 … 第2の光像
41 … 接着層
42 … 剥離シート
43 … ヒートシール層
44 … 剥離容易層
45 … 剥離用基材
46 … 裏面側保護層
47 … 表面側保護層
48 … 中間基材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Hologram layer 1a ... Uneven surface 2 ... Deposition layer 3 ... Transparent base material 4 ... Print layer 5 ... Interlayer adhesion layer 6 ... 2nd hologram layer 7 ... 2nd vapor deposition layer 10 ... Hologram structure 11 ... Reflective hologram formation area DESCRIPTION OF SYMBOLS 11a ... Reflection type cell 12 ... Transmission type hologram formation area 12a ... Transmission type cell 13 ... Overlapping area 14 ... Diffraction grating pattern 14a ... Diffraction grating cell 15 ... Image 21 ... First light image 22 ... Second light image 41 ... Adhesive layer 42 ... Release sheet 43 ... Heat seal layer 44 ... Easy peel layer 45 ... Peeling substrate 46 ... Back side protective layer 47 ... Front side protective layer 48 ... Intermediate substrate

Claims (8)

反射型ホログラム形成領域および透過型ホログラム形成領域を有するホログラム層と、
前記ホログラム層の前記反射型ホログラム形成領域の凹凸表面に接するよう形成された蒸着層と、
を有し、
前記反射型ホログラム形成領域および前記透過型ホログラム形成領域には、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されていることを特徴とするホログラム構造体。
A hologram layer having a reflective hologram forming region and a transmission hologram forming region;
A vapor deposition layer formed so as to be in contact with the concavo-convex surface of the reflective hologram forming region of the hologram layer;
Have
A hologram structure, wherein a phase type Fourier transform hologram for converting light incident from a point light source into a desired optical image is recorded in the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region.
前記反射型ホログラム形成領域および前記透過型ホログラム形成領域が平面視上重なることを特徴とする請求項1に記載のホログラム構造体。   2. The hologram structure according to claim 1, wherein the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region overlap in plan view. 前記ホログラム層の前記反射型ホログラム形成領域および前記透過型ホログラム形成領域の少なくとも一方には、点光源から入射した光を前記光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラムセルと、前記ホログラムセルと同一平面上に形成され、平面視上パターン状に配置されることにより回折格子図柄を描画する回折格子セルと、が配置されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のホログラム構造体。   At least one of the reflection hologram formation region and the transmission hologram formation region of the hologram layer, a hologram cell in which a phase Fourier transform hologram is recorded that converts light incident from a point light source into the optical image; 3. A diffraction grating cell, which is formed on the same plane as the hologram cell and draws a diffraction grating pattern by being arranged in a pattern in plan view, is arranged. The hologram structure according to 1. 前記回折格子図柄が、平面的に図柄を再生可能な平面回折格子図柄であることを特徴とする請求項3に記載のホログラム構造体。   4. The hologram structure according to claim 3, wherein the diffraction grating design is a planar diffraction grating design capable of reproducing the design in a planar manner. 前記回折格子図柄が、立体的に図柄を再生可能な立体回折格子図柄であることを特徴とする請求項3に記載のホログラム構造体。   The hologram structure according to claim 3, wherein the diffraction grating pattern is a three-dimensional diffraction grating pattern that can be reproduced three-dimensionally. 前記ホログラム構造体は、前記蒸着層の前記ホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有し、
ホログラムシールとして用いられることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のホログラム構造体。
The hologram structure has an adhesive layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer,
6. The hologram structure according to claim 1, wherein the hologram structure is used as a hologram seal.
前記ホログラム構造体は、前記蒸着層の前記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、
前記ホログラム層の前記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、
前記剥離容易層の前記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、
を有し、
ホログラム転写箔として用いられることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のホログラム構造体。
The hologram structure has a heat seal layer formed on a surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer;
An easy peeling layer formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer;
A peeling base material formed on the surface of the peelable layer opposite to the hologram layer;
Have
6. The hologram structure according to claim 1, wherein the hologram structure is used as a hologram transfer foil.
前記ホログラム構造体は、情報記録媒体として用いられることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のホログラム構造体。   The hologram structure according to any one of claims 1 to 5, wherein the hologram structure is used as an information recording medium.
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