DE69115171T2 - Flexible Polyimid-Mehrschichtlaminate und ihre Herstellung. - Google Patents

Flexible Polyimid-Mehrschichtlaminate und ihre Herstellung.

Info

Publication number
DE69115171T2
DE69115171T2 DE69115171T DE69115171T DE69115171T2 DE 69115171 T2 DE69115171 T2 DE 69115171T2 DE 69115171 T DE69115171 T DE 69115171T DE 69115171 T DE69115171 T DE 69115171T DE 69115171 T2 DE69115171 T2 DE 69115171T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
dianhydride
polyimide
mol
mole
diamine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69115171T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69115171D1 (de
Inventor
Kuppusamy Kanakarajan
John Anthony Kreuz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Application granted granted Critical
Publication of DE69115171D1 publication Critical patent/DE69115171D1/de
Publication of DE69115171T2 publication Critical patent/DE69115171T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/34Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1042Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1067Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1067Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
    • C08G73/1071Wholly aromatic polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/02Temperature
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/04Time
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2311/00Metals, their alloys or their compounds
    • B32B2311/12Copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/08PCBs, i.e. printed circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/036Multilayers with layers of different types
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0393Flexible materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0154Polyimide
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0355Metal foils
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal
    • Y10T428/31681Next to polyester, polyamide or polyimide [e.g., alkyd, glue, or nylon, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31721Of polyimide

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

    Hintergrund der Erfindung
  • Diese Erfindung bezieht sich auf flexible mehrschichtige metallkaschierte Polyimidlaminate, die wenigstens eine Schicht aus einem aromatischen Polyimid und wenigstens eine Schicht aus einem metallischen Substrat umfassen, zur Verwendung in flexiblen gedruckten Schaltungen und bei Anwendungen des bandautomatisierten Verbindens. Die Erfindung bezieht sich auch auf ein Verfahren zur Herstellung dieser Laminate.
  • Laminate, die eine oder mehrere Schichten aus Polyimid und eine oder mehrere Schichten aus einem metallischen Substratmaterial umfassen, können für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden. Zum Beispiel können polyimidbeschichtete Metallfolien aufgrund der Flexibilität und der hervorragenden mechanischen, thermischen und elektrischen Eigenschaften von Polyimiden für gedruckte elektrische Schaltungen verwendet werden, da die Laminate während der weiteren Verarbeitung, zum Beispiel während des Lötens und Bohrens, häufig hohen Temperaturen ausgesetzt sind. Die Laminate müssen außerdem stringente Anforderungen in bezug auf ihre elektrischen und mechanischen Eigenschaften erfüllen.
  • Laminate, die nur eine Substratschicht aus Metall oder Metalllegierung und eine Schicht aus Polyimid umfassen, sogenannte Einzelkaschierungen, können für gedruckte elektrische Schaltungen verwendet werden. Dasselbe gilt für mehrschichtige Laminate, sogenannte Multikaschierungen oder mehrschichtige Schaltungen, die mehrere Metallschichten und/oder mehrere Polyimidschichten umfassen.
  • Laminate, die Polyimide und Metallsubstrate enthalten, sind in der Technik wohlbekannt. Gewöhnlich werden die Polyimidschichten mit einem herkömmlichen Klebstoff mit dem Metallsubstrat verbunden. Zum Beispiel offenbaren US 3,900,662 und US 3,822,175 das Verbinden von Polyimid mit Metall unter Verwendung eines Klebstoffs auf Acrylatbasis. Es wurde jedoch gefunden, daß bei Verwendung herkömmlicher Klebstoffe, wie Acrylate, Epoxide, Polyamide, Phenolharze usw., zum Verbinden des Polyimids mit dem Metall die resultierenden Laminate keine völlig befriedigenden Eigenschaften zeigen, die die häufig gestellten stringenten Anforderungen erfüllen. Herkömmliche Klebstoffe besitzen im allgemeinen nicht die Hochtemperatur-Hitzestabilität des Polyimidmaterials selbst, und die Festigkeit der Klebebindungen in mehrschichtigen laminaren Polyimidstrukturen verschlechtert sich rasch, wenn diese erhöhten Temperaturen unterworfen werden.
  • In Anbetracht der Nachteile von Laminaten, die Schichten herkömmlicher Klebstoffe zwischen Polyimid und Metall umfassen, wurden mehrschichtige Laminate vorgeschlagen, bei denen das Polyimid direkt, d.h. ohne eine Klebstoffschicht, mit dem Metall verbunden ist. So offenbart das Britische Patent 2,101,526 das direkte Verbinden eines Polyimids, das von Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid abgeleitet ist, mit einer Metallfolie durch Anwendung von Hitze und Druck. Mit anderen Worten, das Polyimid ist formbar. Es wurde jedoch gefunden, daß solche formbaren Polyimide eine schlechtere thermische Stabilität besitzen als herkömmliche, nicht formbare Polyimide.
  • Weiterhin offenbart EP-A-0 276 922 ein kristallines Polyimidpolymer, das wenigstens 30 Mol-% Imidrepetiereinheiten der Formel:
  • (in der X eine Einfachbindung, ein Sauerstoff- oder Schwefelatom oder eine Gruppe -CO- oder -SO&sub2;- ist) enthält, gegebenenfalls zusammen mit einer oder mehreren anderen Imidrepetiereinheiten, wobei das Polymer eine in einer Konzentration von 0,5 g/dl in konzentrierter Schwefelsäure bei einer Temperatur von 30 ± 0,01ºC gemessene logarithmische Viskositätszahl von 0,1 bis 5 dl/g besitzt, und EP-A-0 189 643 offenbart eine Zusammensetzung in Form einer Lösung einer aromatischen Polyamsäure, die eine aromatische Polyamsäure umfaßt, die in einer Menge von 5 bis 40 Gew.-% eines organischen polaren Lösungsmittels gelöst ist, wobei die aromatische Polyamsäure hergestellt wird durch Polymerisieren im wesentlichen äquimolarer Mengen einer aromatischen Tetracarbonsäurekomponente, die, bezogen auf die Gesamtmenge der aromatischen Tetracarbonsäurekomponente, 15 bis 85 Mol-% einer Biphenyltetracarbonsäure oder eines funktionellen Derivats davon und 15 bis 85 Mol-% einer Pyromellithsäure oder eines funktionellen Derivats davon umfaßt, und einer aromatischen Diaminkomponente, die, bezogen auf die Gesamtmenge der aromatischen Diaminkomponente, 30 bis 100 Mol-% eines Phenylendiamins und 0 bis 70 Mol-% eines Diaminodiphenylethers umfaßt.
  • Es ist das Ziel dieser Erfindung, flexible metallkaschierte Polyimidlaminate bereitzustellen, die hohen Temperaturen widerstehen, eine gute Haftung, gute thermische, mechanische und elektrische Eigenschaften haben und chemisch ätzbar sind (für TAB-Anwendungen bandautomatisiertes Verbinden).
  • Kurzbeschreibung der Erfindung
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat bereitgestellt, das sich zur Verwendung in flexiblen gedruckten Schaltungen und beim bandautomatisierten Verbinden eignet, umfassend wenigstens eine Schicht aus einem metallischen Substrat und wenigstens eine Schicht aus einem aromatischen Polyimid, wobei die Polyimidschicht mit einer Schälfestigkeit von wenigstens 71,4 kg/m (4 pli) über eine Haftschicht aus einem heißversiegelbaren Copolyimid, das wenigstens 30 Mol-% Imidrepetiereinheiten der Formel
  • und weniger als 30 Mol-% anderer und unterschiedlicher Imidrepetiereinheiten der Formel
  • umfaßt, wobei R ein aromatischer vierwertiger organischer Rest ist und R' ein zweiwertiger Rest eines aromatischen oder aliphatischen Diamins mit wenigstens zwei Kohlenstoffatomen ist, wobei die beiden Aminogruppen des Diamins jeweils an ein getrenntes Kohlenstoffatom des zweiwertigen Restes gebunden sind, auf wenigstens einer Seite mit der Schicht aus metallischem Substrat verbunden ist.
  • Eine weitere Ausführungsform der Erfindung bezieht sich auf ein Polyimidlaminat, das eine Schicht aus einem metallischen Substrat umfaßt, das auf einer oder auf beiden Seiten mit dem oben genannten Copolyimidklebstoff beschichtet ist, und das sich zur Verwendung als Einzelkaschierungslaminat für flexible gedruckte Schaltungen eignet.
  • Noch eine weitere Ausführungsform der Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines haftfähigen All-Polyimidlaminats zur Verwendung bei der Herstellung von Metallkaschierungen, umfassend das Auftragen eines Copolyamsäureklebstoffs direkt entweder auf eine vollständig gehärtete Polyimidgrundfolie oder auf ein teilweise gehärtetes Polyimidgel oder eine Grünfolie oder durch Coextrudieren der Copolyamsäure mit der Polyimidgrundfolie und dann Härten unter Bildung des Copolyimids.
  • Ausführliche Beschreibung der Erfindung
  • Die Laminate in Form metallkaschierter Polyimidfolien der vorliegenden Erfindung umfassen wenigstens eine Schicht aus einer Polyimidgrundfolie, die auf wenigstens einer ihrer beiden Seiten mit Hilfe eines heißversiegelbaren Copolyimidklebstoffs, der im folgenden näher definiert wird, mit einem Metall verbunden ist. Alternativ dazu kann der Copolyimidklebstoff direkt mit einer oder mit beiden Seiten des Metallsubstrats verbunden sein.
  • Die in den Laminaten der Erfindung verwendeten Polyimidgrundfolien haben vorzugsweise eine Dicke von 7,6 bis 127 um (0,3 bis 5 mil) und können aus Polyamsäurevorstufen erhalten werden, die aus der Reaktion geeigneter Diamine mit geeigneten Dianhydriden in der Weise, die zum Beispiel in US 3,179,614 beschrieben ist, abgeleitet sind.
  • Zu den Dianhydriden, die in der Polyimidgrundfolie verwendet werden können, gehören:
  • Pyromellithsäuredianhydrid;
  • 3,4,9,10-Perylentetracarbonsäuredianhydrid;
  • Naphthalin-2,3,6,7-tetracarbonsäuredianhydrid;
  • Naphthalin-1,4,5,8-tetracarbonsäuredianhydrid;
  • Bis(3,4-dicarboxyphenyl)etherdianhydrid;
  • Bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfondianhydrid;
  • 2,3,2',3',-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid;
  • Bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfiddianhydrid;
  • Bis(3,4-dicarboxyphenyl)methandianhydrid;
  • 2,2-Bis(3,4-dicarboxyphenyl)propandianhydrid;
  • 2,2-Bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluorpropan;
  • 3,4,3,,4,-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid;
  • 2,6-Dichlornaphthalin-1,4,5,8-tetracarbonsäuredianhydrid;
  • 2,7-Dichlornaphthalin-1,4,5,8-tetracarbonsäuredianhydrid;
  • 2,3,6,7-Tetrachlornaphthalin-1,4,5,8-tetracarbonsäuredianhydrid;
  • Phenanthren-1,8,9,10-tetracarbonsäuredianhydrid;
  • Pyrazin-2,3,5,6-tetracarbonsäuredianhydrid;
  • Benzol-1,2,3,4-tetracarbonsäuredianhydrid;und
  • Thiophen-2,3,4,5-tetracarbonsäuredianhydrid.
  • Zu den Diaminen, die zusammen mit den Dianhydriden in der Polyimidgrundfolie verwendet werden können, gehören die folgenden:
  • m-Phenylendiamin;
  • p-Phenylendiamin;
  • 2,2-Bis(4-aminophenyl)propan;
  • 4,4'-Diaminodiphenylmethan;
  • 4,4'-Diaminodiphenylsulfid;
  • 4,4'-Diaminodiphenylsulfon;
  • 3,3'-Diaminodiphenylsulfon;
  • 4,4'-Diaminodiphenylether;
  • 2,6-Diaminopyridin;
  • Bis(3-aminophenyl)diethylsilan;
  • Benzidin;
  • 3,3'-Dichlorbenzidin;
  • 3,3'-Dimethoxybenzidin;
  • 4,4'-Diaminobenzophenon;
  • N,N-Bis(4-aminophenyl)-n-butylamin;
  • N,N-Bis(4-aminophenyl)methylamin;
  • 1,5-Diaminonaphthalin;
  • 3,3'-Dimethyl-4,4,-diaminobiphenyl;
  • m-Aminobenzoyl-p-aminoanilid;
  • 4-Aminophenyl-3-aminobenzoat;
  • N,N-Bis(4-aminophenyl)anilin;
  • 2,4-Bis(β-amino-t-butyl)toluol;
  • Bis(p-β-amino-t-butylphenyl)ether;
  • p-Bis-2-(2-methyl-4-aminopentyl)benzol;
  • p-Bis-(1,1-dimethyl-5-aminopentyl)benzol;
  • m-Xylylendiamin;
  • p-Xylylendiamin;
  • Stellungsisomere der obigen und Gemische davon.
  • Die Herstellung von Polyimiden und Polyamsäuren ist in US-Patent Nr. 3,179,614 und in US-Patent Nr. 3,179,634 näher beschrieben.
  • Eine besonders bevorzugte Polyimidgrundfolie ist von 4,4'-Diaminodiphenylether und Pyromellithsäuredianhydrid abgeleitet.
  • Die in der vorliegenden Erfindung verwendeten heißversiegelbaren copolyimidklebstoffe können entweder statistische oder Blockcopolymere sein und enthalten wenigstens 30 Mol-% Imidrepetiereinheiten der Formel
  • und weniger als 30 Mol-% anderer Imidrepetiereinheiten der Formel
  • wobei R ein aromatischer vierwertiger organischer Rest ist und R' ein zweiwertiger Rest eines aromatischen oder aliphatischen Diamins mit wenigstens zwei Kohlenstoffatomen ist, wobei die beiden Aminogruppen des Diamins jeweils an ein getrenntes Kohlenstoffatom des zweiwertigen Restes gebunden sind.
  • Der heißversiegelbare Copolyimidklebstoff enthält wenigstens 30 Mol-%, vorzugsweise 40 bis 80 Mol-% und am meisten bevorzugt 70 bis 80 Mol-% Imideinheiten, die von 4,4'-Oxydiphthalsäuredianhydrid (ODPA) und einem aromatischen Etherdiamin der Formel
  • abgeleitet sind.
  • Wenn der Prozentsatz dieser Imideinheiten geringer als 30 Mol-% ist, ist es schwierig, copolyimidklebstoffe mit Glasübergangstemperaturen von weniger als 250ºC und guter Haftung an die Substrate zu erhalten.
  • Zu den repräsentativen aromatischen Etherdiaminen gehören:
  • 1,2-Bis(4-aminophenoxy)benzol
  • 1,3-Bis(4-aminophenoxy)benzol
  • 1,2-Bis(3-aminophenoxy)benzol
  • 1,3-Bis(3-aminophenoxy)benzol
  • 1-(4-Aminophenoxy)-3-(3-aminophenoxy)benzol
  • 1,4-Bis(4-aminophenoxy)benzol
  • 1,4-Bis(3-aminophenoxy)benzol
  • 1-(4-Aminophenoxy)-4-(3-aminophenoxy)benzol
  • Die Zugabe von bis zu 30 Mol-%, vorzugsweise 2 bis 25 Mol-% und am meisten bevorzugt 5 bis 15 Mol-% zusätzlicher Imideinheiten der Formel
  • wobei R und R' wie oben definiert sind, zu dem Copolyimidklebstoff liefert die erforderliche niedrige Glasübergangstemperatur (< 250ºC) und thermische Stabilität der Haftungseigenschaften [> 71,4 kg/m (> 4 pli)], ohne die für das Polyimid charakteristischen guten thermischen, mechanischen und elektrischen Eigenschaften zu reduzieren.
  • Diese zusätzlichen Imideinheiten können von Dianhydriden und Diaminen abgeleitet sein, die die gleichen wie das 4,4'-Oxydiphthalsäuredianhydrid und die oben definierten aromatischen Etherdiamine oder davon verschieden sind.
  • Zu den besonders bevorzugten Dianhydriden und Diaminen gehören die folgenden:
  • Pyromellithsäuredianhydrid;
  • 4,4'-Oxydiphthalsäuredianhydrid;
  • 3,3',4,4'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid;
  • 2,2',3,3'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid;
  • 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid;
  • 2,2',3,3'-Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid;
  • 2,2-Bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluorpropandianhydrid;
  • Bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfondianhydrid;
  • Bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfiddianhydrid;
  • Bis(2,3-dicarboxyphenyl)methandianhydrid;
  • Bis(3,4-dicarboxyphenyl)methandianhydrid;
  • 1,1-Bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethandianhydrid;
  • 1,1-Bis(2,3-dicarboxyphenyl)propandianhydrid;
  • 2,2-Bis(3,4-dicarboxyphenyl)propandianhydrid;
  • m-Phenylenbis(trimellithat)dianhydrid;
  • Hexamethylendiamin;
  • Heptamethylendiamin;
  • 3,3'-Dimethylpentamethylendiamin;
  • 3-Methylhexamethylendiamin;
  • 3-Methylheptamethylendiamin;
  • 2,5-Dimethylhexamethylendiamin;
  • Octamethylendiamin;
  • Nonamethylendiamin;
  • 1,1,6,6-Tetramethylhexamethylendiamin;
  • 2,2,5,5-Tetramethylhexamethylendiamin;
  • 4,4-Dimethylheptamethylendiamin;
  • Decamethylendiamin;
  • m-Phenylendiamin;
  • 4,4'-Diaminobenzophenon;
  • 4-Aminophenyl-3-aminobenzoat;
  • m-Aminobenzoyl-p-aminoanilid;
  • 4,4'-Diaminodiphenylether;
  • 3,4'-Diaminodiphenylether;
  • Bis(4-aminophenyl)methan;
  • 1,1-Bis(4-aminophenyl)ethan;
  • 2,2-Bis(4-aminophenyl)propan;
  • 4,4'-Diaminodiphenylsulfoxid;
  • 3,3'-Diaminobenzophenon;
  • 1,3-Bis(4-aminophenoxy)benzol;
  • 2,2'-Diaminobenzophenon
  • 1,2-Bis(4-aminophenoxy)boron;
  • 1,3-Bis(4-aminobenzoyloxy)benzol;
  • 4,4'-Diaminobenzanilid;
  • 4,4'-Bis(4-aminophenoxy)phenylether;
  • 2,2'-Bis(4-aminophenyl)hexafluorpropan;
  • 2,2-Bis(4-aminophenyl)-1,3-dichlor-1,1,3,3-tetrafluorpropan;
  • 4,4,-Diaminodiphenylsulfon;
  • 1,12-Diaminododecan;
  • 1,13-Diaminotridecan;
  • Polysiloxandiamin der Formel
  • worin R&sub4; C&sub1;&submin;&sub3;-Alkylen, Aralkylen oder Phenylen ist, R&sub5; C&sub1;&submin;&sub3;-Alkyl oder Phenyl ist, R&sub6; C&sub1;&submin;&sub3;-Alkyl oder Phenyl ist und m 1 bis 100 ist.
  • Besonders bevorzugte copolyimidklebstoffe der Erfindung enthalten 70 bis 95 Mol-% oxydiphthalsäuredianhydrid, 5 bis 30 Mol-% Pyromellithsäuredianhydrid und 100 Mol-% 1,3-Bis(4-aminophenoxy)- benzol sowie 80 bis 95 Mol-% 1,3-Bis(4-aminophenoxy)benzol, 5 bis 20 Mol-% Hexamethylendiamin und 100 Mol-% oxydiphthalsäuredianhydrid.
  • Die copolyimidklebstoffe der vorliegenden Erfindung zeigen ausgezeichnete physikalische Eigenschaften einschließlich eines Elastizitätsmoduls von unter 27,6 x 10³ N/mm² (400 kpsi), um die notwendige Schmiegsamkeit zu liefern, eines niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten (< 100 ppm), Dielektrizitätskonstante (< 315), Durchschlagfestigkeit [98,4-137,8 V/mm (2,5-3,5 Volt/mil)], Dissipationsfaktors (0,001-0,01), Wasserabsorption (< 2,5%) und Lötbeständigkeit.
  • Die chemische Ätzbarkeit des Copolyimidklebstoffs kann erhalten werden, indem man die Polyamsäurevorstufe unter Verwendung von Konversionschemikalien, wie Essigsäureanhydrid und &beta;-Picolin, umwandelt. Der chemisch umgewandelte Copolyimidklebstoff ergibt beim Auftragen auf chemisch umgewandelte Polyimidgrundfolie ein chemisch ätzbares Folienlaminat, das bei TAB-Anwendungen verwendet werden kann. Die chemische Ätzbarkeit kann auch erreicht werden, indem man Esterfunktionen in das Gerüst des Klebstoffs einbaut, wobei man ein Diesterdiamin (RDEDA) oder ein Diesterdianhydrid (MPBTDA) als Comonomer verwendet.
  • Idealerweise werden die Klebstoffe bei Temperaturen im Bereich von 150ºC bis 400ºC gehärtet, indem man die Temperatur in Stufen von 5ºC/min im Verlauf von 90 Minuten auf 300ºC erhöht und 5 Minuten auf 400ºC erhitzt, und dann bei 350ºC laminiert, wobei man hohe Bindungsfestigkeiten erhält. Höhere Härtungstemperaturen neigen dazu, die Bindefähigkeit des Klebstoff s zu reduzieren. Längere Verweilzeiten bei hohen Temperaturen reduzieren ebenfalls die Bindungsfestigkeit.
  • Zum Beispiel ergab der Klebstoff ODPA/PMDA:RODA (80/20:100), wenn er auf Polyimidgrünfolie aufgetragen und bei 150-300ºC gehärtet und 20 min bei 350ºC und einem Druck von 10,3 bar (150 Psi) auf Kupterfolie laminiert wurde, eine Schälfestigkeit von 214,3 kg/m (12 pli). Wenn dieselbe Folie weitere 5 Minuten bei 400ºC gehärtet und bei 350ºC laminiert wird, fällt die Schälfestigkeit auf 178,6 kg/m (10 pli) ab. Länger als 10 Minuten Härten bei 400ºC kann zu reduzierten Bindungsfestigkeiten führen. Die Polyimidlaminate der vorliegenden Erfindung können hergestellt werden, indem man einen dünnen Überzug einer Copolyamsäurevorstufe des oben beschriebenen gewünschten Copolyimids auf die Polyimidgrundfolie oder direkt auf ein metallisches Substrat aufträgt und danach die beschichtete Polyimidgrundfolie oder das beschichtete metallische Substrat so behandelt, daß die Polyamsäurevorstufe vollständig zu Polyimid umgewandelt wird. Die Beschichtungsdicken liegen in einem Bereich von 2,54 bis 50,8 um (0,1 bis 2 mil) . Die Polyimidgrundfolie wird selbstverständlich von dem aufgetragenen Polyimid verschieden sein.
  • Die Copolyamsäurevorstufen werden hergestellt, indem man ungefähr äquimolare Mengen der genannten Dianhydride und Diamine in einem inerten organischen Lösungsmittel, wie N,N-Dimethylacetamid oder N-Methylpyrrolidon, miteinander umsetzt. Weitere organische Lösungsmittel, wien,N-Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Xylol, Toluol und Tetrahydrofuran, können ebenfalls als Cosolventien verwendet werden.
  • Die Polyamsäuren können entweder nach einem thermischen Konversionsverfahren oder einem chemischen Konversionsverfahren unter Verwendung eines Dehydratisierungsmittels und eines Katalysators zu Polyimiden umgesetzt werden, was unterschiedliche Produkte mit unterschiedlichen Haftungseigenschaften ergibt.
  • Copolyimidklebstoffbeschichtungen können auf vollständig gehärtete Polyimidgrundfolie oder auf eine der Herstellungszwischenstufen, wie "Gelfolie" oder "Grünfolie", aufgetragen werden.
  • Der Ausdruck "Gelfolie" bezieht sich auf ein Polyimid-Bahnenmaterial, das in einem solchen Ausmaß mit flüchtigen Stoffen, vorwiegend Lösungsmittel, beladen ist, daß sich das Polyimid in einem gelartig gequollenen, plastifizierten, kautschukartigen Zustand befindet. Der Gehalt an flüchtigen Stoffen liegt gewöhnlich im Bereich von 80 bis 90 Gew.-%, und der Polymergehalt liegt gewöhnlich im Bereich von 10 bis 20 Gew.-% der Gelfolie. Die Folie wird im Gelfolienstadium selbsttragend und kann von dem Träger, auf den sie gegossen und auf dem sie erhitzt wurde, abgezogen werden. Die Gelfolie hat im allgemeinen ein Amsäure-zu-Imid- Verhältnis zwischen 90:10 und 10:90.
  • Die Gelfolienstruktur kann nach dem in US 3,410,826 beschriebenen Verfahren hergestellt werden, indem man ein chemisches Konversionsmittel und einen Katalysator, wie ein Niederfettsäureanhydrid und ein tertiäres Amin, bei einer niedrigen Temperatur in die Polyamsäurelösung mischt, anschließend die Polyamsäurelösung auf einer Gießtrommel in Folienform gießt und die gegossene Folie gelinde auf zum Beispiel 100ºC erwärmt, um das Konversionsmittel und den Katalysator zu aktivieren, um die gegossene Folie in eine Polyamsäure-Polyimid-Gelfolie umzuwandeln.
  • Ein anderer Typ von Polyimidgrundfolie, die mit dem Copolyimidklebstoff beschichtet werden kann, ist "Grünfolie", die ganz aus Polyamsäure besteht oder einen sehr geringen Polyimidgehalt hat. Grünfohe enthält im allgemeinen etwa 50 bis 75 Gew.-% Polymer und 25 bis 50 Gew.-% Lösungsmittel und ist ausreichend stark, um selbsttragend zu sein.
  • Grünfolie kann hergestellt werden, indem man die Polyamsäurelösung auf einem geeigneten Träger, wie einer Gießtrommel oder einem Gießband, in Folienform gießt und das Lösungsmittel durch gelindes Erwärmen auf bis zu 150ºC entfernt. Ein geringer Anteil von Amsäureeinheiten in dem Polymer, z.B. bis zu 25%, kann zu Imideinheiten umgesetzt werden.
  • Das Auftragen der copolyamsäurebeschichtung kann auf mehrererlei Weise erfolgen, wie durch Schlitzgießen, Tauchbeschichten oder Kiss-Roll-Coating und anschließendes Dosieren mit einer Rakel, Dosierwalzen, Abquetschwalzen oder einem Luftmesser. Sie kann auch durch Bürsten oder Sprühen aufgetragen werden.
  • Mit Hilfe solcher Techniken ist es möglich, sowohl einseitig als auch zweiseitig beschichtete Strukturen herzustellen. Bei der Herstellung der zweiseitig beschichteten Strukturen kann man die Beschichtungen entweder gleichzeitig oder nacheinander auf die beiden Seiten auftragen, bevor sie durch die Härtungs- und Trocknungsphase gehen.
  • In einer anderen Ausführungsform kann die Polyamsäureklebstofflösung direkt auf eine oder beide Seiten der Polyamsäuregrundfolie extrudiert und die Polyamsäureschicht(en) anschließend durch Wärmebehandlung gehärtet werden.
  • In einer weiteren Ausführungsform kann der Polyamsäureklebstoff auf eine vollständig gehärtete Polyimidgrundfolie oder direkt auf ein Metallsubstrat aufgetragen und anschließend durch Hitzebehandlung imidiert werden. Die Polyimidgrundfolie kann entweder nach einem chemischen oder thermischen Konversionsverfahren hergestellt werden und kann z.B. durch chemisches Ätzen, Koronabehandlung, Laserätzen usw. oberflächenbehandelt werden, um die Haftung zu verbessern.
  • Eine einzelne Polyimid-Metallkaschierung der vorliegenden Erfindung umfaßt eine flexible Copolyimidschicht, die an einer Metallfolie, wie Kupfer, Aluminium, Nickel, Stahl oder eine Legierung, die eines oder mehrere dieser Metalle als wesentlichen Bestandteil enthält, oder an einer Folie aus amorphem Metall haftet. Die Copolyimidschicht haftet fest an dem Metall und hat eine hohe Schälfestigkeit von 4 pli und mehr. Die Metalle brauchen nicht als Elemente in reiner Form verwendet zu werden, d.h. es ist auch möglich, Substrate aus Metallegierungen, wie Legierungen, die Nickel, Chrom oder Eisen oder Nickel und Kupfer enthalten, oder aus amorphen eisenhaltigen Legierungen zu verwenden. Besonders geeignete metallische Substrate sind Folien aus gewalztem, getempertem oder galvanisch abgeschiedenem Kupfer oder gewalzter, getemperter Kupferlegierung. In vielen Fällen erwies es sich als vorteilhaft, das metallische Substrat vor dem Beschichten vorzubehandeln. Die Vorbehandlung kann aus einer chemischen Behandlung oder einer mechanischen Aufrauhungsbehandlung bestehen. Es wurde gefunden, daß diese Vorbehandlung es ermöglicht, die Haftung der Copolyimidschicht und damit die Schälfestigkeit weiter zu erhöhen. Neben dem Aufrauhen der Oberfläche kann die chemische Vorbehandlung auch zur Bildung von Metalloxidgruppen führen, was es ermöglicht, die Haftung des Metalls an der copolyimidschicht weiter zu erhöhen. Es wurde gefunden, daß sich aus jeder Erhöhung der Oberflächenrauheit um 25 nm (1 Mikroinch) eine Erhöhung der Schälfestigkeit von ungefähr 3,57 kg/m (0,2 pli) ergibt.
  • Eine Polyimid-Mehrfachkaschierung der vorliegenden Erfindung, die eine doppelseitige Kupferkaschierung umfaßt, kann hergestellt werden, indem man Kupferfohe auf beide Seiten einer mit Klebstoff beschichteten dielektrischen Polyimidfolie laminiert. Die Konstruktion kann auch hergestellt werden, indem man mit Klebstoff beschichtete Kupferfolie auf beide Seiten einer dielektrischen Polyimidfolie oder auf eine mit Klebstoff beschichtete dielektrische Polyimidfolie laminiert.
  • Die vorteilhaften Eigenschaften dieser Erfindung können unter Bezugnahme auf die folgenden Beispiele beobachtet werden, die die Erfindung veranschaulichen, aber nicht einschränken. Alle Teile und Prozentangaben sind gewichtbezogen, wenn nichts anderes angegeben ist. Glossar POLYSILOXANDIAMIN
  • Beispiele 1-30
  • Polyamsäurelösungen wurden hergestellt, indem man die geeigneten molaren Äquivalente der Monomere in Dimethylacetamid-Lösungsmittel (DMAC) umsetzte. Typischerweise wurden die in DMAC gelösten Diamine (0,05 mol) unter Stickstoff gerührt, und die Dianhydride (0,05 mol) wurden im Verlaufe mehrerer Minuten als Feststoff hinzugefügt. Es wurde weitergerührt, um eine maximale Viskosität des copolymers zu erhalten. Die Viskosität wurde durch Steuern der Menge des Dianhydrids in der Polyamsäurezusammensetzung eingestellt.
  • Die copolyamsäuren wurden auf eine vollständig gehärtete, koronabehandelte Polyimidgrundfolie, die aus Pyromellithsäuredianhydrid und 4,4'-Diaminodiphenylether abgeleitet war, aufgetragen und entweder nach einem thermischen Konversionsverfahren oder nach einem chemischen Konversionsverfahren unter Verwendung von Essigsäureanhydrid als Dehydratisierungsmittel und &beta;-Picolin als Katalysator zu Copolyimid umgesetzt, wobei man unterschiedliche Produkte mit unterschiedlichen Haftungseigenschaften erhielt.
  • Die Copolyamsäuren wurden unter Verwendung einer Beschichtungsstange in einer Dicke von 12,7 um (0,5 mil) auf die Polyimidgrundfolie aufgetragen und das Lösungsmittel durch 20 Minuten Erwärmen auf 80ºC entfernt. Die beschichteten Polyimidfolien wurden auf einen Nadelrahmen gespannt, und die Beispiele 1 bis 19 wurden 90 Minuten bei 160 bis 220ºC und die Beispiele 20 bis 30 bei 160 bis 260ºC gehärtet.
  • Die beschichteten Polyimidfolien wurden anschließend bei Temperaturen von 250ºC, 300ºC und 350ºC unter Bildung der Kupferkaschierungen auf walzgetempertes Kupfer laminiert.
  • Walzkaschierungen konnten auch durch kontinuierliche Laminierung der mit Klebstoff beschichteten dielektrischen Folie auf Kupferfolie unter Verwendung einer Hochtemperaturdoppelbandpresse oder eines Hochtemperaturquetschwalzenlaminators hergestellt werden.
  • Die Schälfestigkeitsergebnisse der kupferkaschierten Polyimidlaminate sind in den Tabellen I und II angegeben. Tabelle 1 Schälfestigkeit von chemisch umgesetztem Klebstoff auf koronabehandelter 2-mil-PMDA/ODA-Polyimidfolie Beispiel Klebstoffzusammensetzung (Mol-%) Schälfestigkeit Kontrolle
  • a = Versagen der Bindung zwischen Polyimid und Klebstoff
  • b = Versagen der Bindung zwischen Kupfer und Klebstoff
  • c = maximale Bindungsfestigkeit, bevor die Grundfolie reißt. Tabelle II Schälfestigkeit von thermisch umgesetztem Klebstoff auf koronabehandelter 2-mil-PMDA/ODA-Polyimidfolie Beispiel Klebstoffzusammensetzung (Mol-%) schälfestigkeit Folie reißt
  • a = Versagen der Bindung zwischen Polyimid und Klebstoff
  • b = Versagen der Bindung zwischen Kupfer und Klebstoff
  • c = maximale Bindungsfestigkeit, bevor die Grundfolie reißt.
  • Beispiele 31-55
  • Polyamsäurelösungen wurden hergestellt, wie es in Beispiel 1 bis 30 beschrieben ist, und auf eine Polyamsäure-"Grünfolie" aufgetragen, die aus der Reaktion von Pyromellithsäuredianhydrid und 4,4'-Diaminodiphenylether abgeleitet war. Die beschichtete Polyimidfolie wurde 20 Minuten auf 80ºC erhitzt, um den größten Teil des Lösungsmittels zu entfernen, auf einen Nadelrahmen gespannt und 90 Minuten bei 160-260ºC und anschließend 5 Minuten bei 400ºC getrocknet und gehärtet.
  • Kupferkaschierte Polyimidlaminate wurden wie oben beschrieben hergestellt, und die Schälfestigkeiten wurden bestimmt. Die Ergebnisse sind in Tabelle III angegeben.
  • Beispiel 56
  • Eine Copolyamsäure, die 80 Mol-% ODPA, 20 Mol-% PMDA und 100 Mol- % RODA enthielt, wurde wie oben beschrieben hergestellt und auf eine "Grünfolie", eine "Gelfolie" und eine vollständig gehärtete Polyimidfolie, die aus der Reaktion von PMDA und ODA abgeleitet waren, aufgetragen und gehärtet. Die Eigenschaften des ODPA/ PMDA/RODA-Klebstoffs sind in Tabelle IV angegeben.
  • Kupferkaschierte Polyimidlaminate wurden unter Verwendung von walzgetemperten (RA), galvanisch abgeschiedenen (ED) und messingbehandelten (JTC) Kupferfolien hergestellt. Die Schälfestigkeitsergebnisse sind in Tabelle V angegeben. Tabelle III Schälfestigkeit von thermisch umgesetztem Klebstoff auf PMDA/ODA-Polyimid-"Grünfolie" Beispiel Klebstoffzusammensetzung (Mol-%) schälfestigkeit " Kontrolle Folie reißt Tabelle III (Fortsetzung) Beispiel Klebstoffzusammensetzung (Mol-%) Schälfestigkeit c = maximale Bindungsfestigkeit, bevor die Grundfolie reißt. Tabelle IV Eigenschaften von ODPA/PMDA/RODA-Klebstoffolie Zugfestigkeit Dehnung Modul Schrumpfung bei 200ºC Glasübergangstemperatur Dielektrizitätskonstante Durchschlagfestigkeit Verlustfaktor Wärmeausdehnungskoeffizient (CTE) Wasserabsorption Dichte Reißfestigkeit Feuchtigkeitsgehalt Tabelle V Schälfestigkeit von ODPA/PMDA:RODA-Klebstoff auf verschiedenen Kupferfolien Schälfestigkeit (pli; 1 pli 17,86 kg/m) Klebstoff aufgetragen auf und gehärtet "Grünfolie" "Gelfolie" ausgehärtete Folie * Grundfolie riß; Schälfestigkeit konnte nicht bestimmt werden.
  • Beispiele 57-61
  • Verschiedene Kupferfolien wurden verwendet, um Polyimidlaminate mit einem ODPA/PMDA:RODA-Klebstoff (80/20:100) herzustellen, wie in Tabelle VI gezeigt.
  • Die Ergebnisse zeigen, daß das arithmetische Mittel der Rauheit (AA) der Folie die gemessene Schälfestigkeit beeinflußt. Über den Bereich der getesteten Rauheit zeigte der ODPA/PMDA: RODA-Klebstoff eine Erhöhung der Schälfestigkeit von 3,57 kg/m (0,2 lb/in) für jede Zunahme des AA um 1 Mikroinch. Die Oxid- und die Messingbehandlung ergaben beide eine ähnliche Erhöhung der Schälfestigkeit gegenüber der mit einer unbehandelten Oberfläche gemessenen. Tabelle VI Auswirkung der Kupferoberflächenbehandlung auf die Schälfestigkeit von ODPA/PMDA:RODA-Klebstoff (80/20:100) Schälfestigkeit (pli; 1 pli 17,86 kg/m) --ODPA/PMDA:RODA (80/20:100)- Kupferfolie (Mikroinch) Grünfolie Gelfolie ausgehärtete Folie RA/Oxid (Brightside) RA/Messing ED/Messing ED/OxidBeispiele 62-65
  • Polyamsäurelösungen wurden hergestellt, wie es in Beispiel 1 bis 30 beschrieben ist, und auf eine Polyamsäure-"Gelfolie" aufgetragen, die durch chemische Umsetzung von Pyromellithsäuredianhydrid und 4,4'-Diaminodiphenylether hergestellt worden war. Die beschichtete Gelfolie wurde 20 Minuten auf 80ºC erhitzt, um das Lösungsmittel zu entfernen, auf einen Nadelrahmen gespannt und 90 Minuten bei 160-260ºC getrocknet.
  • Kupferkaschierte Laminate wurden wie oben beschrieben hergestellt, und die Schälfestigkeiten wurden bestimmt. Die Ergebnisse sind in Tabelle VII angegeben. Tabelle VII Schälfestigkeit von Klebstoffen auf PMDA/ODA-Gelfolie Schälfestigkeit* (pli; 1 pli 17,86 kg/m) Beispiel Klebstoffzusammensetzung (Mol-%) * Versagen der Bindung zwischen Kupfer und Klebstoff.

Claims (21)

1. Flexibles metallkaschiertes Polylmidlaminat, das sich zur Verwendung in flexiblen gedruckten Schaltungen und beim bandautomatisierten Verbinden eignet, umfassend wenigstens eine Schicht aus einem metallischen Substrat und wenigstens eine Schicht aus einem aromatischen Polyimid, wobei die Polyimidschicht mit einer Schälfestigkeit von wenigstens 71,4 kg/m (4 pli) über eine Haftschicht aus einem heißversiegelbaren copolyimid, das wenigstens 30 Mol-% Imidrepetiereinheiten der Formel
und weniger als 30 Mol-% anderer und unterschiedlicher Imidrepetiereinheiten der Formel
umfaßt, wobei R ein aromatischer vierwertiger organischer Rest ist und R' ein zweiwertiger Rest eines aromatischen oder aliphatischen Diamins mit wenigstens zwei Kohlenstoffatomen ist, wobei die beiden Aminogruppen des Diamins jeweils an ein getrenntes Kohlenstoffatom des zweiwertigen Restes gebunden sind, auf wenigstens einer Seite mit der Schicht aus metallischem Substrat verbunden ist.
2. Flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat gemäß Anspruch 1, wobei das aromatische Polyimid von 4,4'-Diaminodiphenylether und Pyromellithsäuredianhydrid abgeleitet ist.
3. Flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat gemäß Anspruch 1, wobei der heißversiegelbare Klebstoff ein copolymer eines Dianhydrids ist, umfassend 70 bis 95 Mol-% Oxydiphthalsäuredianhydrid, 5 bis 30 Mol-% Pyromellithsäuredianhydrid sowie ein Diamin, das 100 Mol-% 1,3-Bis(4-aminophenoxy) benzol umfaßt.
4. Flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat gemäß Anspruch 2, wobei der heißversiegelbare Klebstoff ein Copolymer aus einem Dianhydrid, das 70 bis 95 Mol-% Oxydiphthalsäuredianhydrid und 5 bis 30 Mol-% Pyromellithsäuredianhydrid umfaßt, und einem Diamin, das 100 Mol-% 1,3-Bis(4-aminophenoxy)benzol umfaßt, ist.
5. Flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat gemäß Anspruch 3, wobei es sich bei dem metallischen Substrat um Kupfer handelt.
6. Flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei der heißversiegelbare Klebstoff ein Copolymer aus einem Dianhydrid, das 80 Mol-% Oxydiphthalsäuredianhydrid und 20 Mol-% Pyromellithsäuredianhydrid umfaßt, und einem Diamin, das 90 bis 98 Mol-% 1,3-Bis(4-aminophenoxy)benzol und 2 bis 10 Mol-% Polysiloxandiamin der Formel
worin R&sub4; C&sub1;&submin;&sub3;-Alkylen, Aralkylen oder Phenylen ist, R&sub5; C&sub1;&submin;&submin; &sub3;-Alkyl oder Phenyl ist, R&sub6; C&sub1;&submin;&sub3;-Alkyl oder Phenyl ist und m 1 bis 100 ist, umfaßt, ist.
7. Flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei der heißversiegelbare Klebstoff ein Copolymer aus einem Dianhydrid, das 100 Mol-% Oxydiphthalsäuredianhydrid umfaßt, und einem Diamin, das 80 bis 95 Mol-% 1,3- Bis(4-aminophenoxy)benzol und 5 bis 20 Mol-% Hexamethylendiamin umfaßt, ist.
8. Flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei der heißversiegelbare Klebstoff ein Copolymer aus einem Dianhydrid, das 100 Mol-% Oxydiphthalsäuredianhydrid umfaßt, und einem Diamin, das 70 bis 95 Mol-% 1,3- Bis(4-aminophenoxy)benzol und 5 bis 30 Mol-% p-Phenylendiamin umfaßt, ist.
9. Flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat gemäß Anspruch 1, wobei der heißversiegelbare Klebstoff ein Copolymer aus einem Dianhydrid, das 70-95 Mol-% Oxydiphthalsäuredianhydrid und 5-30 Mol-% Biphenyltetracarbonsäuredianhydrid umfaßt, und einem Diamin, das 100 Mol-% 1,3-Bis(4-aminophenoxy)benzol umfaßt, ist.
10. Flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat gemäß Anspruch 1, wobei der heißversiegelbare Klebstoff ein Copolymer aus einem Dianhydrid, das 70-95 Mol-% Oxydiphthalsäuredianhydrid und 5-30 Mol-% Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid umfaßt, und einem Diamin, das 100 Mol-% 1,3-Bis(4-aminophenoxy)benzol umfaßt, ist.
11. Flexibles metallkaschiertes Polyimidlaminat, umfassend ein metallisches Substrat, das mit einer Schälfestigkeit von wenigstens 71,4 kg/m (4 pli) auf wenigstens einer Seite an einen heißversiegelbaren copolyimidklebstoff gebunden ist, der wenigstens 30 Mol-% Imidrepetiereinheiten der Formel
und weniger als 30 Mol-% anderer und unterschiedlicher Imidrepetiereinheiten der Formel
umfaßt, wobei R ein aromatischer vierwertiger organischer Rest ist und R' ein zweiwertiger Rest eines aromatischen oder aliphatischen Diamins mit wenigstens zwei Kohlenstoffatomen ist, wobei die beiden Aminogruppen des Diamins jeweils an ein getrenntes Kohlenstoffatom des zweiwertigen Restes gebunden sind.
12. Flexibles metallkaschiertes Laminat gemäß Anspruch 11, wobei es sich bei dem metallischen Substrat um Kupfer handelt.
13. Flexibles metallkaschiertes Laminat gemäß Anspruch 12, wobei der heißversiegelbare Klebstoff ein Copolymer aus einem Dianhydrid, das 70 bis 95 Mol-% Oxydiphthalsäuredianhydrid und 5 bis 30 Mol-% Pyromellithsäuredianhydrid umfaßt, und einem Diamin, das 100% 1,3-Bis(4-aminophenoxy)- benzol umfaßt, ist.
14. Verfahren zur Herstellung eines haftfähigen Polyimidlaminats, umfassend das Beschichten wenigstens einer Fläche einer Folie auf der Basis eines aromatischen Polyimids mit einer Copolyamsäurevorstufe eines Copolyimids und anschließend das Behandeln der mit Copolyamsäure beschichteten Folie auf Polyimidbasis, so daß die Copolyamsäurevorstufe vollständig zu Copolyimid umgesetzt wird, wobei das Copolyimid wenigstens 30 Mol-% Imidrepetiereinheiten der Formel
und weniger als 30 Mol-% anderer und unterschiedlicher Imidrepetiereinheiten der Formel
umfaßt, wobei R ein aromatischer vierwertiger organischer Rest ist und R' ein zweiwertiger Rest eines aromatischen oder aliphatischen Diamins mit wenigstens zwei Kohlenstoffatomen ist, wobei die beiden Aminogruppen des Diamins jeweils an ein getrenntes Kohlenstoffatom des zweiwertigen Restes gebunden sind.
15. Verfahren gemäß Anspruch 14, wobei die Copolyamsäurevorstufe thermisch durch 90minütiges Wärmebehandeln bei 160 bis 260ºC zu Copolyimid umgesetzt wird.
16. Verfahren gemäß Anspruch 14, wobei die Copolyamsäurevorstufe chemisch zu Copolyimid umgesetzt wird, indem man ein chemisches Konversionsmittel und einen Katalysator bei einer Temperatur von 80ºC mit der Copolyamsäure mischt und dann 90 Minuten bei 160 bis 220ºC wärmebehandelt.
17. Verfahren gemäß Anspruch 16, wobei das chemische Konversionsmittel ein Niederfettsäureanhydrid und der Katalysator ein tertiäres Amin ist.
18. Verfahren gemäß Anspruch 14, wobei die Folie auf Polyimidbasis ein vollständig gehärtetes Polyimid ist, das Pyromellithsäuredianhydrid und 4,4'-Diaminodiphenylether umfaßt.
19. Verfahren gemäß Anspruch 14, wobei die Folie auf Polyimidbasis eine Folie aus einem partiell umgesetzten Polyimidgel ist, das Pyromellithsäuredianhydrid und 4,4'-Diaminodiphenylether umfaßt und 20 bis 80 Gew.-% Reaktionslösungsmittel enthält.
20. Verfahren gemäß Anspruch 14, wobei die Folie auf Polyimidbasis eine Grünfolie aus im wesentlichen nicht umgesetzter Polyamsäure ist, die Pyromellithsäuredianhydrid und 4,4'- Diaminodiphenylether umfaßt und 20 bis 80 Gew.-% Polyamsäurepolymer und 20 bis 80 Gew.-% Reaktionslösungsmittel enthält.
21. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 18 bis 20, wobei das Copolyimid 70 bis 95 Mol-% Oxydiphthalsäuredianhydrid und 5 bis 30 Mol-% Pyromellithsäuredianhydrid als Dianhydridkomponente und 100 Mol-% 1,3-Bis(4-aminophenoxy)benzol als Diaminkomponente umfaßt.
DE69115171T 1990-08-27 1991-08-23 Flexible Polyimid-Mehrschichtlaminate und ihre Herstellung. Expired - Lifetime DE69115171T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US57191390A 1990-08-27 1990-08-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69115171D1 DE69115171D1 (de) 1996-01-18
DE69115171T2 true DE69115171T2 (de) 1996-05-15

Family

ID=24285573

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69115171T Expired - Lifetime DE69115171T2 (de) 1990-08-27 1991-08-23 Flexible Polyimid-Mehrschichtlaminate und ihre Herstellung.

Country Status (4)

Country Link
US (2) US5298331A (de)
EP (1) EP0474054B1 (de)
JP (1) JP2907598B2 (de)
DE (1) DE69115171T2 (de)

Families Citing this family (111)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0659553A1 (de) * 1993-12-22 1995-06-28 E.I. Du Pont De Nemours And Company Koextrudierter Mehrschichtfilm aus aromatischen Polyimiden und seine Herstellung
US6351348B1 (en) 1994-03-15 2002-02-26 International Business Machines Corporation Minimal stiffness conductors for a head gimbal assembly
US6282064B1 (en) 1994-03-15 2001-08-28 International Business Machines Corporation Head gimbal assembly with integrated electrical conductors
US5955176A (en) * 1994-03-15 1999-09-21 International Business Machines Corporation Integrated suspension using a high strength conductive material
US5781379A (en) * 1994-03-15 1998-07-14 International Business Machines Corporation Single beam flexure for a head gimbal assembly
US6365500B1 (en) * 1994-05-06 2002-04-02 Industrial Technology Research Institute Composite bump bonding
US5771135A (en) * 1994-06-13 1998-06-23 International Business Machines Corporation Vibration damping system for head suspension assemblies
WO1997001437A1 (en) * 1995-06-28 1997-01-16 Fraivillig Materials Company Circuit board laminates and method of making
JP3942642B2 (ja) * 1996-12-05 2007-07-11 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 高いTg、高いTOS、および低い水分率を有するポリイミド
US5922167A (en) * 1997-01-16 1999-07-13 Occidential Chemical Corporation Bending integrated circuit chips
US6293012B1 (en) 1997-07-21 2001-09-25 Ysi Incorporated Method of making a fluid flow module
US6073482A (en) * 1997-07-21 2000-06-13 Ysi Incorporated Fluid flow module
US5932799A (en) * 1997-07-21 1999-08-03 Ysi Incorporated Microfluidic analyzer module
EP0902048B1 (de) * 1997-09-11 2005-11-23 E.I. Du Pont De Nemours And Company Flexible Polyimidfolie mit hoher dielektrischer Konstante
JP3270378B2 (ja) * 1997-11-25 2002-04-02 住友ベークライト株式会社 金属・樹脂複合体、その製造方法及びフレキシブル回路配線板用基板
JP3631105B2 (ja) * 2000-05-31 2005-03-23 キヤノン株式会社 定着フィルムおよびそれを用いた像加熱装置
JP3694890B2 (ja) * 2000-06-05 2005-09-14 富士ゼロックス株式会社 無端状ベルトの製造方法並びに無端状ベルト及び画像形成装置
US6908685B2 (en) * 2000-08-24 2005-06-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide film, method of manufacture, and metal interconnect board with polyimide film substrate
US6476177B2 (en) * 2000-12-21 2002-11-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Melt-processible, thermoplastic random copolyimides having recoverable crystallinity and associated processes
US6444783B1 (en) 2000-12-21 2002-09-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Melt-processible semicrystalline block copolyimides
US6469126B1 (en) * 2000-12-21 2002-10-22 E. I. Du Pont De Nmeours And Company Melt-processible, thermoplastic random copolyimides having recoverable crystallinity and associated processes
US6476182B1 (en) 2000-12-21 2002-11-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Melt-processible, thermoplastic random copolyimides having recoverable crystallinity and associated processes
US6852828B2 (en) * 2001-02-16 2005-02-08 Medtronic, Inc. Poly amic acid system for polyimides
JPWO2002066546A1 (ja) * 2001-02-23 2004-06-17 鐘淵化学工業株式会社 ポリイミドフィルムおよびその製造方法
US6808818B2 (en) * 2001-10-11 2004-10-26 Ube Industries, Ltd. Fusible polyimide and composite polyimide film
JP2003176354A (ja) * 2001-12-11 2003-06-24 Manac Inc 透明な耐熱性ポリイミドフイルム
US20030216800A1 (en) * 2002-04-11 2003-11-20 Medtronic, Inc. Implantable medical device conductor insulation and process for forming
US7783365B2 (en) * 2002-04-11 2010-08-24 Medtronic, Inc. Implantable medical device conductor insulation and process for forming
CN100335534C (zh) * 2002-05-21 2007-09-05 株式会社钟化 聚酰亚胺薄膜及其制造方法,和使用聚酰亚胺薄膜的聚酰亚胺/金属叠层体
US7026436B2 (en) * 2002-11-26 2006-04-11 E.I. Du Pont De Nemours And Company Low temperature polyimide adhesive compositions and methods relating thereto
WO2004085146A1 (en) * 2003-03-26 2004-10-07 Lg Chem Ltd Double-sided metallic laminate and method for manufacturing the same
US8103358B2 (en) * 2003-04-04 2012-01-24 Medtronic, Inc. Mapping guidelet
US7442727B2 (en) * 2003-06-04 2008-10-28 Degussa Ag Pyrogenically prepared, surface modified aluminum oxide
JP3952196B2 (ja) * 2003-06-25 2007-08-01 信越化学工業株式会社 フレキシブル金属箔ポリイミド積層板の製造方法
US7285321B2 (en) * 2003-11-12 2007-10-23 E.I. Du Pont De Nemours And Company Multilayer substrates having at least two dissimilar polyimide layers, useful for electronics-type applications, and compositions relating thereto
DE602005002981T2 (de) * 2004-07-09 2008-08-07 Dupont-Toray Co., Ltd. Polyimid-Mehrschichtfolie und diese enthaltendes biegsames Schaltungssubstrat
US20060019102A1 (en) * 2004-07-26 2006-01-26 Kuppsuamy Kanakarajan Flame-retardant halogen-free polyimide films useful as thermal insulation in aircraft applications and methods relating thereto
KR100591068B1 (ko) * 2004-09-03 2006-06-19 주식회사 코오롱 플렉시블 동박 폴리이미드 적층판 및 그 제조방법
CN1305933C (zh) * 2004-12-07 2007-03-21 长春人造树脂厂股份有限公司 聚酰亚胺的制法
US20060124693A1 (en) * 2004-12-15 2006-06-15 Meloni Paul A Thermally conductive polyimide film composites having high mechanical elongation useful as a heat conducting portion of an electronic device
US7495887B2 (en) * 2004-12-21 2009-02-24 E.I. Du Pont De Nemours And Company Capacitive devices, organic dielectric laminates, and printed wiring boards incorporating such devices, and methods of making thereof
WO2006114901A1 (ja) * 2005-04-18 2006-11-02 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha 薄膜積層ポリイミドフィルム及びフレキシブルプリント配線板
CN101193751B (zh) * 2005-04-20 2012-10-31 东洋纺织株式会社 粘合板、金属-层压板和印刷线路板
US7504150B2 (en) 2005-06-15 2009-03-17 E.I. Du Pont De Nemours & Company Polymer-based capacitor composites capable of being light-activated and receiving direct metalization, and methods and compositions related thereto
US7452610B2 (en) * 2005-06-29 2008-11-18 Du Pont Toray Company Limited Multi-layer polyimide films and flexible circuit substrates therefrom
US7621041B2 (en) * 2005-07-11 2009-11-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Methods for forming multilayer structures
US7550194B2 (en) 2005-08-03 2009-06-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Low color polyimide compositions useful in optical type applications and methods and compositions relating thereto
US20090226642A1 (en) * 2005-08-03 2009-09-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Low color polyimide compositions useful in optical type applications and methods and compositions relating thereto
US7338715B2 (en) * 2005-12-30 2008-03-04 E.I. Du Pont De Nemours And Company Low temperature cure polyimide compositions resistant to arc tracking and methods relating thereto
JP4896533B2 (ja) * 2006-01-25 2012-03-14 三菱瓦斯化学株式会社 樹脂複合銅箔およびその製造方法
US20070231588A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Karthikeyan Kanakarajan Capacitive polyimide laminate
US20070232734A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Karthikeyan Kanakarajan Polyimide based compositions useful in high frequency circuitry applications and methods relating thereto
US20070298260A1 (en) * 2006-06-22 2007-12-27 Kuppusamy Kanakarajan Multi-layer laminate substrates useful in electronic type applications
US8568867B2 (en) * 2006-06-26 2013-10-29 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polyimide solvent cast films having a low coefficient of thermal expansion and method of manufacture thereof
US20080044639A1 (en) * 2006-06-26 2008-02-21 Kwok Pong Chan Polyimide solvent cast films having a low coefficient of thermal expansion and method of manufacture thereof
US8545975B2 (en) * 2006-06-26 2013-10-01 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Articles comprising a polyimide solvent cast film having a low coefficient of thermal expansion and method of manufacture thereof
US9161440B2 (en) * 2006-06-26 2015-10-13 Sabic Global Technologies B.V. Articles comprising a polyimide solvent cast film having a low coefficient of thermal expansion and method of manufacture thereof
US20080118730A1 (en) * 2006-11-22 2008-05-22 Ta-Hua Yu Biaxially oriented film, laminates made therefrom, and method
US20080119616A1 (en) * 2006-11-22 2008-05-22 General Electric Company Polyimide resin compositions
US8399573B2 (en) * 2006-11-22 2013-03-19 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polymer blend compositions
US20080213605A1 (en) * 2006-12-07 2008-09-04 Briney Gary C Multi-functional circuitry substrates and compositions and methods relating thereto
US8475924B2 (en) * 2007-07-09 2013-07-02 E.I. Du Pont De Nemours And Company Compositions and methods for creating electronic circuitry
US7829794B2 (en) * 2007-09-13 2010-11-09 3M Innovative Properties Company Partially rigid flexible circuits and method of making same
JP5424234B2 (ja) * 2008-12-02 2014-02-26 日立金属株式会社 絶縁電線
US20100193950A1 (en) * 2009-01-30 2010-08-05 E.I.Du Pont De Nemours And Company Wafer level, chip scale semiconductor device packaging compositions, and methods relating thereto
JP2010189510A (ja) * 2009-02-17 2010-09-02 Hitachi Cable Ltd 絶縁塗料及び絶縁電線
JP5740834B2 (ja) * 2009-05-11 2015-07-01 三菱化学株式会社 液晶性ポリイミド、及びこれを含有する液晶性樹脂組成物、並びに半導体素子用樹脂膜
US8784980B2 (en) * 2009-05-13 2014-07-22 E I Du Pont De Nemours And Company Film prepared from a casting composition comprising a polymer and surface modified hexagonal boron nitride particles
US8258346B2 (en) * 2009-05-13 2012-09-04 E I Du Pont De Nemours And Company Surface modified hexagonal boron nitride particles
US8288466B2 (en) 2009-05-13 2012-10-16 E I Du Pont De Nemours And Company Composite of a polymer and surface modified hexagonal boron nitride particles
US8440292B2 (en) * 2009-05-13 2013-05-14 E I Du Pont De Nemours And Company Multi-layer article for flexible printed circuits
KR20110042831A (ko) * 2009-10-20 2011-04-27 주식회사 두산 폴리아믹산 용액, 폴리이미드 수지 및 이를 이용한 연성 동박 적층판
TWI560215B (en) * 2010-02-10 2016-12-01 Ube Industries Polyimide metal laminate and manufacturing process thereof
US8809690B2 (en) * 2010-03-04 2014-08-19 Rogers Corporation Dielectric bond plies for circuits and multilayer circuits, and methods of manufacture thereof
US8263202B2 (en) * 2010-03-19 2012-09-11 Glenn Danny E Film based heating device and methods relating thereto
US8853723B2 (en) 2010-08-18 2014-10-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Light emitting diode assembly and thermal control blanket and methods relating thereto
US20130194814A1 (en) * 2012-01-31 2013-08-01 E.I. Du Pont De Nemours And Company Bent layered structure and methods relating thereto
JP5868753B2 (ja) * 2012-03-26 2016-02-24 東レ・デュポン株式会社 ポリイミドフィルム
US8962890B1 (en) 2012-04-20 2015-02-24 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Multifunctional crosslinkers for shape-memory polyimides, polyamides and poly(amide-imides) and methods of making the same
US8791227B1 (en) 2012-04-20 2014-07-29 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Crosslinked aromatic polyimides and methods of making the same
US9085661B1 (en) 2012-10-26 2015-07-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Photomechanically active copolyimides derived from an azobenzenediamine, a rigid dianhydride, and a flexible dianhydride
KR101775198B1 (ko) * 2013-04-09 2017-09-06 주식회사 엘지화학 적층체 및 이를 이용하여 제조된 기판을 포함하는 소자
US9139696B1 (en) 2014-03-28 2015-09-22 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Air Force Aromatic diamines containing three ether-linked-benzonitrile moieties, polymers thereof, and methods of making the same
US9644071B1 (en) 2014-09-05 2017-05-09 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Bis(azobenzene) diamines and photomechanical polymers made therefrom
JP6462708B2 (ja) * 2014-09-30 2019-01-30 ソマール株式会社 ポリイミド共重合体およびこれを用いた成形体
US10239254B1 (en) 2015-08-07 2019-03-26 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Method of fabricating shape memory films
US10294255B1 (en) 2015-08-07 2019-05-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Multifunctional crosslinking agent, crosslinked polymer, and method of making same
US11021606B2 (en) 2017-09-13 2021-06-01 E I Du Pont De Nemours And Company Multilayer film for electronic circuitry applications
US11104801B2 (en) 2018-03-09 2021-08-31 Dupont Electronics, Inc. Low haze polyimide film
TW201943798A (zh) 2018-04-06 2019-11-16 美商杜邦股份有限公司 供使用於電子裝置之聚合物
TWI843741B (zh) 2018-08-07 2024-06-01 美商杜邦電子股份有限公司 用於電子裝置中之聚合物
TWI832882B (zh) 2018-08-08 2024-02-21 美商杜邦電子股份有限公司 用於電子裝置中之聚合物
CN109438702A (zh) * 2018-09-29 2019-03-08 苏州市新广益电子有限公司 一种用于fpc行业的tpi薄膜及其制备和加工方法
DE112019005062T5 (de) 2018-10-09 2021-06-24 Dupont Electronics, Inc. Thermische Substrate
US11256001B2 (en) 2018-10-23 2022-02-22 Dupont Electronics, Inc. Low haze polymer films and electronic devices
JP7195530B2 (ja) * 2019-01-11 2022-12-26 エルジー・ケム・リミテッド フィルム、金属張積層板、フレキシブル基板、フィルムの製造方法、金属張積層板の製造方法、及びフレキシブル基板の製造方法
TW202041571A (zh) 2019-02-22 2020-11-16 美商杜邦電子股份有限公司 聚醯亞胺膜及電子裝置
CN110212090A (zh) * 2019-05-23 2019-09-06 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种pi基板及其制备方法
US11248143B2 (en) * 2019-05-24 2022-02-15 Dupont Electronics, Inc. Coated films and electronic devices
TW202110948A (zh) 2019-06-14 2021-03-16 美商杜邦電子股份有限公司 聚合物膜及電子裝置
US11718728B2 (en) 2019-11-21 2023-08-08 Dupont Electronics, Inc. Single layer polymer films and electronic devices
US11898011B2 (en) 2020-02-19 2024-02-13 Dupont Electronics, Inc. Polymers for use in electronic devices
US20210310126A1 (en) 2020-04-03 2021-10-07 Dupont Electronics, Inc. Metal-clad polymer films and electronic devices
JP2023521590A (ja) * 2020-09-21 2023-05-25 エルジー・ケム・リミテッド フレキシブルディスプレイ装置製造用複合基板、これを利用したフレキシブルディスプレイ装置の製造方法、およびフレキシブルディスプレイ装置用積層体
US11643514B2 (en) 2021-04-23 2023-05-09 Dupont Electronics, Inc. Polyimide films and electronic devices
KR102564595B1 (ko) * 2021-07-20 2023-08-09 피아이첨단소재 주식회사 폴리아믹산 조성물 및 이를 포함하는 폴리이미드 피복물
KR102564597B1 (ko) * 2021-07-20 2023-08-09 피아이첨단소재 주식회사 폴리이미드 피복물
US20230082265A1 (en) 2021-09-15 2023-03-16 Dupont Electronics, Inc. Articles having inorganic substrates and polymer film layers
CN113831570A (zh) * 2021-10-13 2021-12-24 无锡顺铉新材料有限公司 特种线缆用聚酰亚胺复合膜及其制备方法
CN114736409B (zh) * 2022-04-19 2023-06-30 宝珠特种材料科技(江苏)有限公司 一种侧链接枝硅氧烷的聚酰亚胺薄膜
CN116003794A (zh) * 2022-12-29 2023-04-25 中国科学院化学研究所 一种高频高耐热可热封性聚(芳酯-酰亚胺)树脂及其制备方法与应用

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3576691A (en) * 1968-04-18 1971-04-27 Trw Inc Method of bonding employing high-temperature polymaleimide adhesives
US3728150A (en) * 1971-07-12 1973-04-17 Du Pont Bondable adhesive coated polyimide film
US3900662A (en) * 1973-01-17 1975-08-19 Du Pont Bondable adhesive coated polyimide film and laminates
US4543295A (en) * 1980-09-22 1985-09-24 The United States Of America As Represented By The Director Of The National Aeronautics And Space Administration High temperature polyimide film laminates and process for preparation thereof
JPS57181857A (en) * 1981-05-06 1982-11-09 Ube Industries Polyimide laminated material and its manufacture
GB2104411B (en) * 1981-07-08 1985-02-20 Ube Industries Aromatic polyimide composite separating membrane
US4576857A (en) * 1983-03-14 1986-03-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Melt-fusible polyimides
DE3583817D1 (de) * 1984-05-17 1991-09-26 Ciba Geigy Ag Homo- und copolymere, verfahren zu deren vernetzung und derenverwendung.
EP0167020B1 (de) * 1984-06-30 1988-11-23 Akzo Patente GmbH Flexible Polyimid-Mehrschichtlaminate
JPS61111359A (ja) * 1984-11-06 1986-05-29 Ube Ind Ltd ポリイミド膜
US4837300A (en) * 1985-06-20 1989-06-06 The United States Of America As Represented By The Administration Of The National Aeronautics And Space Administration Copolyimide with a combination of flexibilizing groups
JP2622678B2 (ja) * 1987-01-12 1997-06-18 チッソ株式会社 溶融成形可能な結晶性ポリイミド重合体
JPH0655491B2 (ja) * 1987-05-29 1994-07-27 宇部興産株式会社 芳香族ポリイミドフィルムの製造方法
US5233011A (en) * 1988-10-20 1993-08-03 Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated Process for preparing insulated wire
US5101005A (en) * 1989-05-08 1992-03-31 Hoechst Celanese Corp. Crosslinkable polyimides from bis (aminophenoxy) benzonitriles
US5137751A (en) * 1990-03-09 1992-08-11 Amoco Corporation Process for making thick multilayers of polyimide
US5152863A (en) * 1990-10-31 1992-10-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Reactive-oligoimide adhesives, laminates, and methods of making the laminates
US5252700A (en) * 1991-04-30 1993-10-12 Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. Heat-resistant adhesive and method of adhesion by using adhesive
US5166292A (en) * 1991-10-29 1992-11-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing a polyimide film with a preselected value for CTE

Also Published As

Publication number Publication date
JP2907598B2 (ja) 1999-06-21
JPH04234191A (ja) 1992-08-21
US5298331A (en) 1994-03-29
EP0474054A2 (de) 1992-03-11
EP0474054A3 (en) 1992-05-06
US5411765A (en) 1995-05-02
DE69115171D1 (de) 1996-01-18
EP0474054B1 (de) 1995-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69115171T2 (de) Flexible Polyimid-Mehrschichtlaminate und ihre Herstellung.
DE68925490T2 (de) Flexible Grundmaterialen für Leiterplatten
DE3586948T2 (de) Polyamidsaeure-loesung und daraus hergestellter film.
DE69120379T2 (de) Verfahren zur Herstellung von einer mit einer Deckschicht überzogenen biegsamen Leiterplatte
DE69519919T2 (de) Mehrschichtfilm aus aromatischen Polyimid ohne Klebstoff
JP4540964B2 (ja) 低温ポリイミド接着剤組成物
DE60016217T2 (de) Polyimidharzzusammensetzung mit verbesserter feuchtigkeitsbeständigkeit, leimlösung, mehrlagiger klebefilm und verfahren zu deren herstellung
DE3788937T2 (de) Polyimide.
DE69125694T2 (de) Tetrapolyimid-Film enthaltend Benzophenon Tetracarboxyl Dianhydrid
US5084345A (en) Laminates utilizing chemically etchable adhesives
DE10048132A1 (de) Aromatisches Polyimidlaminat
DE102016210892A1 (de) Metallkaschiertes Laminat, Herstellungsverfahren davon, und Verfahren zum Herstellen einer flexiblen Leiterplatte unter Verwendung desselben
DE69026158T2 (de) Gedruckte Schaltung auf flexibler Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE19946682A1 (de) Flexible Verbundfolien aus einem aromatischen Polyimidfilm und einem Metallfilm
DE60100329T2 (de) Polyimidfilm sowie Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung als Substrat für Metallverbindungsplatten
EP0167020A2 (de) Flexible Polyimid-Mehrschichtlaminate
DE10008121A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Polyamidsäure und Polyimid
JPH07214637A (ja) 同時押出多層芳香族ポリイミドフィルムの製造方法
DE69304086T2 (de) Polyimide, ritzehärtbare Harzzusammensetzungen mit den Polyimide, Formkörper auf die Harzzusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung von deren Polyimiden
DE69318675T2 (de) Klebefilm und seine herstellung
DE69232894T2 (de) Herstellungsverfahren fuer zweischichtenband vom tab-typ
DE69016477T2 (de) Hitzebeständige Klebstoffzusammensetzungen und Verfahren zur Bindung damit.
DE60124321T2 (de) Polyimidzusammensetzung mit verbessertem abschälwiderstand
DE69224758T2 (de) Laminat auf basis eines verstärkten polyimidfilms, der metallorganische verbindungen zur haftverbesserung enthält
DE60120300T2 (de) Polyimidfolie, Verfahren zu ihrer Herstellung, und Metalleiterplatte mit einer Polyimidfolien-Unterlage

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition