벤질 그룹
Benzyl group유기 화학에서 벤질(benzyl)은 CHCH652– 구조를 가진 대체 물질 또는 분자 조각이다. 벤질에는 CH2 그룹에 부착된 벤젠 링이 특징이다.[1]
명명법
IUPAC 명명법에서 접두사 벤질(benzyl)은 예를 들어 염화 벤질(benzyl) 또는 벤질 벤조이트(benzyl benzoate)와 같은 CHCH652 대체물을 가리킨다. Benzyl은 CH라는65페닐과혼동해서는 안 된다 공식으로. 벤질릭(benzylic)이라는 용어는 벤젠이나 다른 방향족 고리에 접합된 첫 번째 탄소의 위치를 설명하는 데 사용된다. 예를 들어 (CH65)(CH3)2C는+ "벤질릭" 탄수화물이라고 한다. 벤질 프리 래디컬은 CHCH라는
6
5•
2 공식을 가지고 있다. 벤질 양이온 또는 페닐카르베늄 이온은 CHCH
6
5+
2 공식의 탄수화물이고, 벤질 음이온 또는 페닐메탄니드 이온은 CHC
6
5−
2 공식의 카르바니온이다. 이러한 종들 중 어떤 종도 정상적인 조건 하에서 해결 단계에서 유의한 양으로 형성될 수 없지만, 그들은 반응 메커니즘에 대한 논의를 위한 유용한 참고자료가 되며 반응 매개체로 존재할 수 있다.
약어
약칭 "Bn"은 벤질(benzyl)을 의미한다. 예를 들어, 벤질 알코올은 BnOH로 표현될 수 있다. 이약어는 벤조일 그룹 CH의65"박사"와혼동해서는 안 된다 약어인 그룹 CHC65(O)-의또는 페닐"벤질"약어인. 혼란스러울 정도로 옛 문헌에서는 'Bz'가 벤질에도 사용되었다.
벤질리크 센터의 반응성
벤질릭 포지션의 반응성이 개선된 것은 벤질릭 C-H 채권에 대한 낮은 본드 분리 에너지 때문이다. 구체적으로 CHCH-H652 채권은 다른 종류의 C-H 채권에 비해 약 10~15% 약하다. 이웃한 방향족은 벤질산소를 안정시킨다. 아래 표에 제시된 데이터는 벤질릭 C-H 본드를 관련 C-H 본드 강도와 비교한다.
본드 | 본드 | 결합분리에너지[2][3] | 댓글 | |
---|---|---|---|---|
(kcal/message) | (kJ/mol) | |||
C6H5CH2−H | 벤질 C-H 결합 | 90 | 377 | 동맹 C-H 채권과 유사하다. 그러한 결합은 향상된 반응성을 보여준다. |
H3C−H | 메틸 C-H 결합 | 105 | 439 | 가장 강력한 하이파틱 C-H 결합의 하나 |
C2H5−H | 에틸 C-H 결합 | 101 | 423 | HC-H보다3 약간 약한 |
C6H5−H | 페닐 C-H 결합 | 113 | 473 | 비닐 래디컬에 필적하는, 희귀한 |
CH2=CHCH2−H | 동맹 C-H사채 | 89 | 372 | 벤질릭 C-H와 비슷한 |
(C6H4)2CH−H | 형광 C-H 결합 | 80 | 더 활성화 vs 디페닐메틸(pKa = 22.6) | |
(C6H5)2CH−H | 디페닐메틸 C-H 결합 | 82 | "benzylic"(pKa = 32.2) | |
(C6H5)3C−H | 트리틀 C-H 결합 | 81 | 339 | "트립 벤질릭" |
C-H 채권의 약점은 벤질릭 급진파의 안정성을 반영한다. 관련 이유 때문에 벤질릭 대체물은 산화, 자유 급진 할로겐화 또는 수소 분해와 같이 반응성이 향상된다. 실제적인 예로서 적절한 촉매들이 존재하는 경우, p-자일렌은 벤질 위치에서 독점적으로 산화하여 테레프탈산을 공급한다.
- CHCH3643 + 3 O2 → HOCCOH2642 + 2 HO2.
이 방법으로 매년 수백만 톤의 테레프탈산이 생산된다.[4]
벤질 위치에서의 기능화
몇 가지 경우, 이러한 벤질리 변환은 실험실 합성에 적합한 조건에서 발생한다. Wohl-Ziegler 반응은 benzylic C–H 결합을 브롬화시킬 것이다: (ArCHR → ARCBRR).2[5] 비 3차 벤질릭 알킬 그룹은 수용성 과망간산칼륨(KMNO4) 또는 농축 질산(HNO3): (ArCHr → ArCOOH)에 의해 카르복실 그룹으로 산화된다.[6] 마지막으로 삼산화 크롬과 3,5-디메틸피라졸(CrO3–dmpyz)의 복합체는 벤질릭 메틸렌 그룹을 카보닐로 선택적으로 산화시킨다. (ArCHr → ARC(O)R).[7] DMSO의 2-iodoxybenzoic acid도 이와 유사하게 작용한다.[8]
보호 그룹으로서
벤질 그룹은 유기적 합성에 있어서 때때로 보호 집단으로 고용된다. 이들의 설치와 특히 제거는 비교적 가혹한 조건을 필요로 하기 때문에 벤질 보호는 일반적으로 선호되지 않는다.[9]
알코올 보호
벤질(Benzyl)은 알코올과 카복실산을 강력하게 보호하는 그룹으로 유기합성에 흔히 사용된다.
- 수산화칼륨 분말 또는 수산화나트륨, 벤질할라이드 등 기초가 강한 알코올(BnCl 또는 BnBr)[9][10]의 처리
- 높은 온도의[11] 주변 환경에서 디메틸포름아미드(DMF)의 AGO를2 사용하여 다이올의 모노벤질화를 달성할 수 있다.
- 1차 알코올은 Cu(acac)2[12]를 사용하여 페놀 기능 그룹이 있는 곳에서 선택적으로 벤질될 수 있다.
절제 방법
벤질 에테르들은 환원 조건, 산화 조건, 루이스 산스의 사용 아래에서 제거될 수 있다.[9]
- 벤질 보호 그룹은 다음을 포함한 광범위한 산화제를 사용하여 제거할 수 있다.
- 주변 온도에서의 CRO3/아세트산
- 오존
- N-브로모수치니미드(NBS)
- NIS(N-Iodosuccinimide)
- 주변 온도에서 디클로로메탄의 트리메틸실릴요오드화합물(MeSiI3) (특정 조건에서 선택성을 얻을 수 있음)
p-methoxybenzyl 보호 그룹
p-Methoxybenzyl(PMB)은 유기합성 시 알코올의 보호 그룹으로 사용된다(4-Methoxybenzylthiol은 티올을 보호하는 데 사용된다).
- 가루로 된 수산화칼륨 또는 수산화나트륨과 p-methoxybenzyl 할라이드(염화물 또는 브롬화물)[14][15]와 같은 강한 염기
- 4-methoxybenzyl-2,2-트리클로아세티미드ate를 사용하여 PMB 그룹을 다음과 같이 설치할 수 있다.
절제 방법
- 2,3-디클로로-5,6-디시카노-p-벤조퀴논(DDQ)[18]
- 벤질 그룹의 절제 조건은 PMB 보호 그룹의 분할에 적용할 수 있다.
아민 보호
벤질 그룹은 유기 합성에서 아민의 보호 그룹으로 가끔 사용된다. 다른 방법이 존재한다.[9]
절제 방법
참고 항목
참조
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외부 링크
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