随着日本将首次引入EUV光刻机 ASML当地员工计划增至600人

Rapidus将于2024年底在北海道千岁市建成其第一座晶圆厂，并将引进ASML的EUV光刻系统以建立其试点生产线，这一举措标志着EUV设备在日本的首次部署。

在广岛经营DRAM工厂的美光科技也计划在2025年前在其工厂内引入EUV设备，以生产先进的1γ DRAM产品和高带宽存储器（HBM）。

尽管包括铠侠、索尼和JASM在内的其他ASML日本客户尚未在当地使用EUV系统，但ASML正在这些半导体工厂附近设立服务中心，以满足他们的需求。

到2024年9月，ASML将在Rapidus的北海道工厂附近建立一个服务中心，最初将配备多达30名人员，以协助建立试点生产线。到2027年2nm芯片开始量产时，这一数字预计将增长到50名。随着该新中心的建立，ASML在日本的服务中心总数将增加到8个。

日本半导体企业的扩张在很大程度上是受日本政府大量补贴的推动，旨在使日本成为先进芯片制造业的领导者。引入EUV技术是该战略的关键部分，旨在增强经济安全性并加强日本在高价值先进芯片供应链中的地位。

Rapidus工厂已从日本政府获得总计9200亿日元（58.7亿美元）的补贴，但这还低于全面生产所需的2万亿日元。美光在广岛工厂的5000亿日元投资中包括1920亿日元的政府补贴。

ASML增加员工人数其中也有JASM的需求原因，JASM将于2024年开始第一家工厂的量产，第二家工厂也将开始建设并计划于2027年建成。这些工厂将生产的6nm/7nm先进工艺芯片需要EUV设备，因此需要额外的维护和支持。

据KnowledgeStore预测，2023年至2028年期间，EUV光刻市场将以年均21%的速度增长，到2028年市场规模将达到252亿美元。