JPS6147425B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6147425B2 JPS6147425B2 JP9785580A JP9785580A JPS6147425B2 JP S6147425 B2 JPS6147425 B2 JP S6147425B2 JP 9785580 A JP9785580 A JP 9785580A JP 9785580 A JP9785580 A JP 9785580A JP S6147425 B2 JPS6147425 B2 JP S6147425B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- resin layer
- layer
- base sheet
- hologram
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 61
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 60
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 60
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 26
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 26
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 26
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 26
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 26
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 14
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- -1 trimethylolethane triacrylate Methacrylate Chemical compound 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEBBLNDVSSWJLL-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C NEBBLNDVSSWJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJBFVQSGPLGDNX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)COC(=O)C(C)=C JJBFVQSGPLGDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFBKWKGWUZXRSW-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(CO)O Chemical compound C(C(=C)C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(CO)O QFBKWKGWUZXRSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMMUKUYEPRGBFB-UHFFFAOYSA-L dichromic acid Chemical compound O[Cr](=O)(=O)O[Cr](O)(=O)=O CMMUKUYEPRGBFB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethenylcarbamate Chemical compound CCOC(=O)NC=C HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002343 gold Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical class C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- DITXJPASYXFQAS-UHFFFAOYSA-N nickel;sulfamic acid Chemical compound [Ni].NS(O)(=O)=O DITXJPASYXFQAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005650 polypropylene glycol diacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005651 polypropylene glycol dimethacrylate Polymers 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 230000003442 weekly effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/0276—Replicating a master hologram without interference recording
- G03H1/028—Replicating a master hologram without interference recording by embossing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0866—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation
- B29C2035/0877—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation using electron radiation, e.g. beta-rays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/722—Decorative or ornamental articles
- B29L2031/7224—Holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
- G03H1/181—Pre-exposure processing, e.g. hypersensitisation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
- G03H2001/185—Applying a curing step
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ホログラムを大量に複製するための
方法ならびに装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method and apparatus for mass duplicating holograms.
コヒーレント光源としてのレーザーの開発によ
り3次元の立体情報を2次元の記録材料に記録し
たホログラムが製造されている。しかしながら、
ホログラム作製に関する現在までの開発研究は主
として被写体からの記録手法の改良に向けられて
おり、ホログラムの大量供給については、一、二
の提案があるが、困難であるとされていた。この
理由は次の通りである。 With the development of lasers as coherent light sources, holograms in which three-dimensional stereoscopic information is recorded on two-dimensional recording materials have been manufactured. however,
Developmental research on hologram production to date has mainly focused on improving methods for recording objects, and although there have been one or two proposals for mass supply of holograms, it has been considered difficult. The reason for this is as follows.
まずホログラムの作製は、コヒーレントな光の
干渉縞を感材面(乾板)に記録することが本質的
な原理であることから、被写体からの記録に際し
ての被写体と乾板との位置関係、又は複製に際し
ての原版(マスター)と乾板との位置関係には、
光の波長オーダー以上の振動や移動があつては干
渉縞が形成できない。したがつて繰り返し記録や
複製が困難であつて、ホログラムの大量生産は困
難である。また原版からの光学的複製は暗室作業
が前提であり、1対1複製を繰り返すだけであつ
て量産性に乏しい。 First of all, the essential principle of creating a hologram is to record interference fringes of coherent light on the photosensitive material surface (dry plate). The positional relationship between the original plate (master) and the dry plate is as follows.
If there is vibration or movement on the order of the wavelength of light, interference fringes cannot be formed. Therefore, repeated recording and duplication are difficult, and mass production of holograms is difficult. In addition, optical duplication from an original plate requires darkroom work, and only repeats one-to-one duplication, which is not suitable for mass production.
これに対し、原版を金属で作り、ホログラフイ
ツク情報を構成する微細な干渉縞の凹凸を高分子
材料面上にプレスする方法が提案されている(エ
ヌ・ケー・シエリドン“ブレーズド・ホログラフ
イー”の製造(Producing of blazed
holography)“Appl.Phys.Lett.12,316―318
(1968))この手法は典型的には以下のようにして
行われる。すなわち、まず、ガラス板上にコーテ
イングしたフオトレジストに干渉縞を記録し、現
像後、レジストに形成された凹凸状の干渉縞上に
金蒸着をする。次いで、この金蒸着面上に、スル
フアミン酸ニツケルメツキ浴中でニツケル対向電
極を用いニツケルメツキを施してマザー(母版)
を作る。その後、同様なメツキ処理でマザーから
マスター(原版)を作る。次いでこのニツケル原
版を熱可塑性樹脂シート上にプレスして干渉縞を
記録してホログラムとする。 In response, a method has been proposed in which the original plate is made of metal and the fine interference fringes constituting the holographic information are pressed onto the surface of the polymer material. Manufacturing of blazed
holography) “Appl.Phys.Lett. 12 , 316―318
(1968)) This technique is typically performed as follows. That is, first, interference fringes are recorded on a photoresist coated on a glass plate, and after development, gold is deposited on the uneven interference fringes formed on the resist. Next, nickel plating is applied to this gold evaporated surface using a nickel counter electrode in a sulfamic acid nickel plating bath to form a mother plate.
make. After that, a master (original version) is created from the mother using the same plating process. Next, this nickel original plate is pressed onto a thermoplastic resin sheet to record interference fringes to form a hologram.
このホログラムの作製方法は、原版から製品ホ
ログラムを複製する過程がプレス加工で行われる
ため、光学的手法を採用する従来方法と比較して
量産性に富むという利点がある。しかしながら、
この方法では微細な干渉縞の記録に樹脂の熱可塑
性を利用しているためプレス時の温度制御の困難
性、樹脂のスプリングバツクのため、経時変化・
温度変化により作製されたホログラムの回折効率
が減少してくるという欠点がある。 This hologram manufacturing method has the advantage of being more easily mass-produced than conventional methods that employ optical methods, since the process of duplicating the product hologram from the original is performed by press working. however,
This method uses the thermoplasticity of the resin to record minute interference fringes, so it is difficult to control the temperature during pressing, and due to the springback of the resin, it may change over time.
There is a drawback that the diffraction efficiency of the produced hologram decreases due to temperature changes.
本発明は、このような事情に鑑み、ホログラム
を大量に且つ精度良く作成するための方法および
装置を提供することを目的とする。 In view of these circumstances, the present invention aims to provide a method and apparatus for producing holograms in large quantities and with high precision.
本発明者の研究によれば、このような目的は、
上述した原版の樹脂シートに対するプレス(押
圧)を行う手法に類似はするが、微細干渉縞の記
録のための樹脂の賦形に樹脂の熱可塑性ではなく
電子線硬化性を利用し、且つ電子線の二段照射に
より離型効果と賦形効果を調和させることにより
達成されることが見出された。 According to the research of the present inventor, such purpose is
Although it is similar to the method of pressing the original resin sheet described above, it utilizes the electron beam curability of the resin instead of its thermoplasticity to shape the resin for recording fine interference fringes, and It has been found that this can be achieved by harmonizing the mold release effect and the shaping effect through two-stage irradiation.
すなわち本発明のホログラムの製造方法は、基
材シート上に塗布された電子線硬化性樹脂層に、
電子線を予備露光してその表面層のみを硬化さ
せ、次いでホログラフイツク情報を構成する微細
凹凸を有する版面を前記樹脂層に押圧し、この押
圧と同時に樹脂層に再度電子線を照射して硬化を
完了させることを特徴とするものである。 That is, in the method for manufacturing a hologram of the present invention, an electron beam curable resin layer coated on a base sheet,
Only the surface layer is cured by preliminary exposure to an electron beam, and then a printing plate having fine irregularities constituting holographic information is pressed onto the resin layer, and at the same time as this pressing, the resin layer is again irradiated with an electron beam and cured. It is characterized by completing the following.
また本発明のホログラムの連続的製造装置は、
電子線硬化性樹脂層を形成した基材シートの供給
装置と、該基材シートの流れ方向に沿つて基材シ
ートの前記樹脂層形成面側に順次配置された前記
樹脂層の表面のみを予備硬化するための第一電子
線照射装置および該予備硬化した樹脂層に押圧転
写するためのホログラフイツク情報を微細凹凸模
様として有する原版と、基材シートの前記樹脂層
を設けた面とは逆の面側に前記原版と対向して設
けられた第二電子線照射装置とからなることを特
徴とするものである。 Further, the continuous hologram manufacturing apparatus of the present invention includes:
A supply device for a base sheet on which an electron beam curable resin layer is formed, and a supply device for preparing only the surfaces of the resin layers sequentially arranged on the resin layer forming surface side of the base sheet along the flow direction of the base sheet. A first electron beam irradiation device for curing, an original plate having holographic information as a fine uneven pattern for press-transferring to the pre-cured resin layer, and a base sheet on a side opposite to the side on which the resin layer is provided. It is characterized by comprising a second electron beam irradiation device provided on the surface side facing the original plate.
以下、本発明を更に詳細に説明する。 The present invention will be explained in more detail below.
本発明で使用する原版を得るための方法として
は、たとえば上述したシエリドン文献に記載され
たものも含めて既知の任意のものを用いることが
できる。 As a method for obtaining the master plate used in the present invention, any known method can be used, including, for example, the method described in the above-mentioned Sheridon document.
母版の作成
より一般的にはダイクロメートゼラチン乾板、
銀乾板等を用い、He―Neレーザー(波長632・
8nm)、Arレーザー(波長488nm、543nm)等の
レーザー光により、適当なレンズ、ミラーあるい
はビームスプリツターを含む光学系を用いて物体
光および参照光を得てこれらを乾板の感光剤層に
照射することにより、記録が行われる。その後、
硬膜、脱水、乾燥等の処理を行うことによりホロ
グラムを得る。これがマザー(母版)となる。Preparation of the master plate, more commonly a dichromate gelatin plate;
Using a silver dry plate, etc., a He-Ne laser (wavelength 632/
8nm), Ar laser (wavelength 488nm, 543nm), etc., using an optical system including an appropriate lens, mirror, or beam splitter to obtain an object beam and a reference beam, and irradiate these onto the photosensitive layer of the dry plate. Recording is performed by doing this. after that,
A hologram is obtained by performing treatments such as hardening, dehydration, and drying. This becomes the mother (mother version).
原版の作成
上述したようにこの母版から、シエリドンに記
載の方法により、金属蒸着を含む方法で金属原版
を得てもよい。しかしながら、シリンドリカルな
金属原版を得るためには、カーボテイツシユの使
用とエツチングを含む以下の方法により原版を製
造するのが良い。Preparation of original plate As described above, a metal original plate may be obtained from this mother plate by a method including metal vapor deposition by the method described in Sieridon. However, in order to obtain a cylindrical metal master plate, it is preferable to manufacture the master plate by the following method, which includes the use of a carboxylic plate and etching.
この方法は、一例として以下のように実施され
る。 This method is implemented as follows, by way of example.
すなわち第1図に示すように、ベンガラ台紙等
の暗色の台紙1上に、予め重クロム酸でセンシタ
イズした厚さがたとえば10〜300μのゼラチン層
2を形成したカーボンテイツシユAのゼラチン層
2に密着して、上記のガラス基板3上に微細な干
渉縞としてホログラフイツク情報を含む感光樹脂
層4を有する母版Bの感光樹脂層4を密着して、
母版B側からレーザー光5を照射することによ
り、母版Bのホログラフイツク情報が、カーボン
テイツシユAのゼラチン層2に転写される。ゼラ
チン層2には、ホログラフイツク情報は第2図に
示すように微細な干渉縞6の潜像として記録され
るものと考えられる。このような干渉縞6はゼラ
チン層2の全面に記録しても良いし、適当なマス
キングを行い、その一部に記録してもよい。 That is, as shown in FIG. 1, a gelatin layer 2 of a carbon tissue A is formed on a dark-colored mount 1 such as a red iron mount, and a gelatin layer 2 having a thickness of, for example, 10 to 300 μm is sensitized with dichromic acid in advance. The photosensitive resin layer 4 of the mother plate B, which has the photosensitive resin layer 4 containing holographic information as minute interference fringes, is closely attached to the glass substrate 3.
By irradiating the laser beam 5 from the mother plate B side, the holographic information of the mother plate B is transferred to the gelatin layer 2 of the carbon tissue A. It is considered that holographic information is recorded in the gelatin layer 2 as a latent image of fine interference fringes 6, as shown in FIG. Such interference fringes 6 may be recorded on the entire surface of the gelatin layer 2, or may be recorded on a portion thereof after performing appropriate masking.
かくしてホログラフイツク情報を記録したカー
ボンテイツシユAを金属版胴に巻き付ける。これ
は、たとえば第3図に示すように、アルコール水
溶液11をゴムロール12を介してCu製のグラ
ビア版胴13上に塗布し、この塗布面にカーボン
テイツシユAのゼラチン2面を密着させつつ、案
内ロール14a,b,c、を回るベルト16で押
圧することにより行われる。アルコール水溶液
は、2〜20%、特に5〜12%のアルコール含量の
ものを16〜24℃、特に20〜22℃で用いることが好
ましく、図示のようなロールコートのみならず、
スプレーコートをしても良い。また版胴13への
カーボンテイツシユAの付着は、好ましくは圧力
200g/cm2〜7.5Kg/cm2、速度15〜80cm/分で行わ
れる。 The carbon tissue A with the holographic information recorded thereon is wound around the metal plate cylinder. For example, as shown in FIG. 3, an alcohol aqueous solution 11 is applied onto a Cu gravure plate cylinder 13 via a rubber roll 12, and two gelatin sides of carbon tissue A are brought into close contact with this applied surface. This is done by pressing the guide rolls 14a, b, c with a rotating belt 16. The alcohol aqueous solution has an alcohol content of 2 to 20%, especially 5 to 12%, and is preferably used at 16 to 24°C, especially 20 to 22°C, and can be used not only for roll coating as shown in the figure, but also for roll coating as shown in the figure.
You can also spray coat it. Further, the adhesion of the carbon tissue A to the plate cylinder 13 is preferably carried out under pressure.
It is carried out at a rate of 200g/cm 2 to 7.5Kg/cm 2 and a speed of 15 to 80cm/min.
カーボンテイツシユAの版胴13への完全密着
を確認した後、台紙2を剥す。そのためには、ま
ず台紙2側から徐々に15〜65℃の水を、次第に温
度を増加させつつにじませてから台紙を剥す。 After confirming complete adhesion of the carbon tissue A to the plate cylinder 13, the mount 2 is peeled off. To do this, first, water at a temperature of 15 to 65°C is gradually oozed from the mount 2 side while gradually increasing the temperature, and then the mount is removed.
台紙剥離後、版胴に付着したゼラチン層2に好
ましくは32〜58℃の温水を流下することにより未
露光部のゼラチンを溶解除去し、更に版胴を回転
させつつ50〜100%のアルコール水溶液で1〜3
回洗浄する。次いで90〜190℃の熱風を吹き付け
つつゼラチンを10〜40分間で急速乾燥して、ゼラ
チンを硬化させる。ここまでの現像開始処理は、
カーボンテイツシユへのホログラフイツク情報の
記録後、24時間以内、特に3時間以内に行うのが
好ましい。またこの状態のゼラチン層は湿度に弱
いので乾燥状態に保つのが良い。 After peeling off the mount, gelatin in the unexposed area is dissolved and removed by flowing hot water, preferably at 32 to 58°C, onto the gelatin layer 2 attached to the plate cylinder, and then a 50 to 100% alcohol aqueous solution is added while rotating the plate cylinder. 1 to 3
Wash twice. Next, the gelatin is rapidly dried for 10 to 40 minutes while blowing hot air at 90 to 190°C to harden the gelatin. The development start process up to this point is
It is preferable to carry out the recording within 24 hours, especially within 3 hours after recording the holographic information on the carbon tissue. Also, the gelatin layer in this state is sensitive to humidity, so it is best to keep it dry.
このようにして形成されたゼラチン層2を形成
した版胴13の表層の断面は、版胴13としてバ
ラード法のグラビア版胴を用いた場合について第
4図に示すように、内側Cu層16、Ag層17、
外側Cu層18の上にホログラフイツク情報を微
細なクラツク19として有するゼラチン層2を形
成したものである。したがつて、この状態で、版
胴を適当なエツチング液に浸漬するとまずゼラチ
ン層2のクラツク19を通つてエツチング液が
Cu面18に到達し、またしばらくするとゼラチ
ン中を通過したエツチング液もCu面18に到達
する。この様にゼラチンが付着している所と、し
ていない所、またゼラチン層の厚さの異なる所で
エツチング速度が異なり、またエツチングの表層
パターンとしてはCu面18に密着した部分のゼ
ラチンの干渉縞が記録されることになる。エツチ
ング後にゼラチン層を除去した後の版胴13の表
層部の概念的断面図を第5図に示す。このように
してCu面18に形成された表層エツチング模様
は、一般に言われているブレーズドホログラムの
パターンと類似のものであることが本発明者によ
り発見された。 The cross section of the surface layer of the plate cylinder 13 on which the gelatin layer 2 formed in this way is formed is as shown in FIG. 4 when a Ballard method gravure plate cylinder is used as the plate cylinder 13. Ag layer 17,
A gelatin layer 2 having holographic information as minute cracks 19 is formed on an outer Cu layer 18. Therefore, when the plate cylinder is immersed in an appropriate etching solution in this state, the etching solution first passes through the cracks 19 in the gelatin layer 2.
The etching liquid that has passed through the gelatin also reaches the Cu surface 18 after a while. In this way, the etching speed differs depending on where gelatin is attached and where it is not, and where the thickness of the gelatin layer is different, and the etching surface pattern is due to the interference of gelatin in the areas that are in close contact with the Cu surface 18. The stripes will be recorded. FIG. 5 shows a conceptual cross-sectional view of the surface layer of the plate cylinder 13 after the gelatin layer has been removed after etching. The present inventor discovered that the surface layer etching pattern formed on the Cu surface 18 in this manner is similar to the pattern of a commonly-known blazed hologram.
エツチングは、版胴13の外側Cuメツキ層と
して1.0〜40μ、特に2〜10μのものを用い、
Be′35〜44゜、特にBe′39〜42゜塩化第2鉄溶液を
エツチング液として用いて5分〜30分、特に10〜
15分行うことが好ましい。エツチング後直ちに水
洗を行い、更に30〜45℃の温水で充分にゼラチン
を溶解除去してCu面18を出す。 For etching, use a Cu plating layer on the outside of the plate cylinder 13 of 1.0 to 40μ, especially 2 to 10μ,
Be'35-44°, especially Be'39-42°, using ferric chloride solution as an etching solution for 5-30 minutes, especially 10-42°.
It is preferable to do this for 15 minutes. Immediately after etching, the gelatin is washed with water, and the gelatin is sufficiently dissolved and removed using warm water of 30 to 45°C to expose the Cu surface 18.
更にCu面上にCu面を保護し、且つ後述する樹
脂との離型性をよくするために0.1〜4μ、特に
0.2〜1.0μのCrメツキを施すことが好ましい。 Furthermore, in order to protect the Cu surface and improve the mold releasability from the resin described later, 0.1 to 4μ, especially
It is preferable to apply Cr plating with a thickness of 0.2 to 1.0μ.
かくして、本発明に使用するための好ましいホ
ログラム原版が得られたことになる。 In this way, a preferable hologram master plate for use in the present invention was obtained.
ホログラムの複製
上記のようにして得られたホログラム原版から
ホログラムを複製するためには、好ましくは、一
例として第6図(その一部を拡大して第7図およ
び第8図として示す)に示すような装置系を用い
て以下に示すような方法が採られる。Reproduction of hologram In order to reproduce a hologram from the hologram master plate obtained as described above, it is preferable to use the method shown in FIG. The following method is adopted using such a device system.
すなわち、紙あるいは好ましくは二軸延伸され
たプラスチツクフイルム等からなる厚み10μ〜
300μ程度の基材シート20を5〜50m/分、好
ましくは15〜35m/分で供給ロール21から送り
出しつつ塗布ロール21を介して電子線硬化性樹
脂23を、たとえば2.0〜6.0g/m2の塗布量ある
いは20〜300μの層厚で塗布する。電子線硬化性
樹脂の塗布に先立つて図示しないが、適当な印刷
ロールを付加して基材シート20の印刷を行つて
もよい。 That is, it is made of paper or preferably biaxially stretched plastic film, etc., and has a thickness of 10 μm or more.
While feeding out the base sheet 20 of about 300 μm from the supply roll 21 at a rate of 5 to 50 m/min, preferably 15 to 35 m/min, the electron beam curable resin 23 is applied via the application roll 21 at, for example, 2.0 to 6.0 g/m 2 . or in a layer thickness of 20 to 300μ. Although not shown, the base sheet 20 may be printed by adding an appropriate printing roll prior to applying the electron beam curable resin.
かくして電子線硬化性樹脂を一面に塗布した基
材シート20aを次いで窒素チエンバー24中に
導入し、ここで基材シート20aの電子線硬化性
樹脂塗布面に対向して設けられた第一電子線照射
装置25から電子線26を照射して電子線硬化性
樹脂層23の表層27のみを硬化させる(第6
図,第7図)。 The base sheet 20a coated with the electron beam curable resin in this manner is then introduced into the nitrogen chamber 24, where the first electron beam provided facing the electron beam curable resin coated surface of the base sheet 20a is introduced. The electron beam 26 is irradiated from the irradiation device 25 to harden only the surface layer 27 of the electron beam curable resin layer 23 (sixth
(Fig. 7).
次いで表層の硬化した電子線硬化性樹脂層を有
する基材シート20aは、第二の窒素チエンバー
24aに導入され、ここで基材シート20aの電
子線硬化性樹脂層23を有する側に設けられた上
述のようにして作成されたグラビアシリンダー状
のホログラム原版30により、ホログラフイツク
情報を構成する微細凹凸31が表層の硬化した熱
硬化性樹脂層23に押圧され、対応するホログラ
フイツク情報が微細凹凸32として電子線硬化性
樹脂層23ないしその硬化物層27に記録され
る。押圧の圧力は一対のテンシヨンロール30
a,bにより調節する。一方、基材シート20a
のホログラム原版30を設けた側の面と逆の面に
対向して設けられた第二電子線照射装置33から
は電子線26が基材シート20を通して電子線硬
化性樹脂層23に照射され、その全層にわたる硬
化物27を与える(第6図および第8図)。 Next, the base sheet 20a having the surface hardened electron beam curable resin layer is introduced into the second nitrogen chamber 24a, where the electron beam curable resin layer 23 is provided on the side of the base sheet 20a having the electron beam curable resin layer 23. With the gravure cylinder-shaped hologram original plate 30 created as described above, the fine irregularities 31 constituting the holographic information are pressed against the hardened thermosetting resin layer 23 on the surface layer, and the corresponding holographic information becomes the fine irregularities 32. is recorded in the electron beam curable resin layer 23 or its cured product layer 27. Pressure is applied by a pair of tension rolls 30
Adjust by a and b. On the other hand, the base sheet 20a
An electron beam 26 is irradiated onto the electron beam curable resin layer 23 through the base sheet 20 from a second electron beam irradiation device 33 provided opposite to the side on which the hologram original plate 30 is provided. A cured product 27 covering the entire layer is provided (FIGS. 6 and 8).
最後にかくして形成された基材シート20aの
硬化樹脂層27の表層に微細凹凸32としてホロ
グラフイツク情報を記録してなるホログラムの連
続体シート34は巻取ロール35により巻取られ
る。このシート34を適当な寸法に截断すること
により製品ホログラムが得られる。 Finally, the hologram continuous sheet 34, which is formed by recording holographic information as fine irregularities 32 on the surface layer of the cured resin layer 27 of the base sheet 20a thus formed, is wound up by a winding roll 35. A product hologram is obtained by cutting this sheet 34 into appropriate dimensions.
本発明の場合、第7図、第8図を参照するとよ
くわかるように、紙又は樹脂フイルムからなる基
材シート20の面のように光の波長オーダから見
て粗面と見なされる面に対して電子線硬化性樹脂
層23を塗布形成し、電子線を照射して表層27
を硬化させると、平滑性に富んだ高光沢な平面が
与えられる。かくして形成された表層のみを硬化
させた樹脂層は、干渉縞の微細凹凸を付与するに
適した適当な全体としての軟らかさと表面の離型
性が理想的に調和している。そして賦形とほぼ同
時に第二の電子線が照射されて樹脂層全体が硬化
されるため、熱可塑性樹脂を用いて成形するとき
に見られるようなスプリングバツクも殆んど問題
とならない。したがつて原版30に形成された干
渉縞の微細凹凸が硬化樹脂層27に精密に転写さ
れる。 In the case of the present invention, as can be clearly seen with reference to FIGS. 7 and 8, when viewed from the wavelength order of light, such as the surface of the base sheet 20 made of paper or resin film, The electron beam curable resin layer 23 is coated and formed, and the surface layer 27 is irradiated with an electron beam.
When cured, a smooth, high-gloss surface is obtained. The thus formed resin layer, in which only the surface layer is hardened, has an ideal balance of overall softness suitable for imparting fine irregularities of interference fringes and surface releasability. Since the entire resin layer is cured by being irradiated with the second electron beam almost simultaneously with the shaping, springback, which occurs when molding using thermoplastic resin, is hardly a problem. Therefore, the fine irregularities of the interference fringes formed on the original plate 30 are accurately transferred to the cured resin layer 27.
本発明で使用する電子線硬化性樹脂はラジカル
硬化性組成物であつて、通常は二重結合を有する
オリゴマー単独あるいはビニルモノマーとの混合
物から成る。ビニルモノマーはフイルムへのコー
トを可能にするための粘度調整剤であり、また、
硬化する際にはオリゴマーと共重合する。オリゴ
マーとしては不飽和ポリエステル系樹脂、アクリ
ル系樹脂、ウレタン変性不飽和ポリエステル、シ
リコン変性不飽和ポリエステル、ビニルウレタン
系樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル、アク
リル変性エポキシ樹脂等の単独もしくは2種以上
の混合物として使用できる。また、ビニルモノマ
ーとしては、アクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、
アクリル酸n―およびi―プロピル、メタクリル
酸n―およびi―プロピル、アクリル酸n―、i
―およびtブチル、メタクリル酸n―、i―およ
びt―ブチル、アクリル酸2―エチルヘキシル、
メタクリル酸2―エチルヘキシル、アクリル酸ラ
ウリル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸シク
ロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、酢酸
ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、ビニ
ルトルエン、エチレングリコールジアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジメタクリレート、プロピレングリコールジ
アクリレート、プロピレングリコールジメタクリ
レート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジメタクリレー
ト、1,3―ブチレングリコールジアクリレー
ト、1,3―ブチレングリコールジメタクリレー
ト、1,4―ブチレングリコールジアクリレー
ト、1,4―ブチレングリコールジメタクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネ
オペンチルグリコールジメタクリレート、ジビニ
ルベンゼン、ジアリルフタレート、トリメチロー
ルエタントリアクリレート、トリメチロールエタ
ントリメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート、グリセリントリアクリレート、
グリセリントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ペンタエンスリトー
ルテトラメタクリレート等の化合物が単独もしく
は2種以上の混合物として使用できる。 The electron beam curable resin used in the present invention is a radical curable composition and usually consists of an oligomer having double bonds alone or in a mixture with a vinyl monomer. Vinyl monomers are viscosity modifiers to enable coating on films, and
When curing, it copolymerizes with oligomers. Oligomers include unsaturated polyester resins, acrylic resins, urethane-modified unsaturated polyesters, silicone-modified unsaturated polyesters, vinyl urethane resins, epoxy-modified unsaturated polyesters, acrylic-modified epoxy resins, etc. alone or as a mixture of two or more. Can be used. In addition, vinyl monomers include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate,
n- and i-propyl acrylate, n- and i-propyl methacrylate, n-, i-acrylate
- and t-butyl, n-, i- and t-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate,
2-ethylhexyl methacrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene, vinyltoluene, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate Methacrylate, diethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, 1,3-butylene Glycol dimethacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,4-butylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, divinylbenzene, diallyl phthalate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolethane triacrylate Methacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, glycerin triacrylate,
Compounds such as glycerin trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and pentaenethritol tetramethacrylate can be used alone or as a mixture of two or more.
これら電子線硬化性樹脂の基材シート20への
塗布は前述したロールコート法以外にも、グラビ
アコート法、フレキソリバース法等の方法が適宜
使用される。 In addition to the above-mentioned roll coating method, methods such as a gravure coating method and a flexographic reverse method may be appropriately used to apply these electron beam curable resins to the base sheet 20.
第一および第二電子線照射装置としては、リニ
アフイラメント型のカーテン方式あるいはスキヤ
ニング方式の電子線照射装置のいずれを用いるこ
ともできる。ただし、第二電子線照射装置に関し
てはスキヤニング方式であると、円筒状の原版の
微細凹凸に対して電子線が斜めに入射する場合か
げを作り、電子線硬化性樹脂中に未露光部を作る
こともあるので、カーテン方式の方が好ましい。
適当なカーテン方式の電子線照射装置の一例とし
てはESI(エネルギー、サイエンス、インコーポ
レーテツド)社製のリニアフイラメント型のもの
がある。 As the first and second electron beam irradiation devices, either a linear filament curtain type electron beam irradiation device or a scanning type electron beam irradiation device can be used. However, if the second electron beam irradiation device uses a scanning method, if the electron beam is incident obliquely on the fine irregularities of the cylindrical original, it will create shadows and create unexposed areas in the electron beam curable resin. Therefore, the curtain method is preferable.
An example of a suitable curtain type electron beam irradiation device is a linear filament type manufactured by ESI (Energy, Science, Inc.).
照射する電子線のエネルギーは、10〜1000KeV
の範囲とし、特に予備露光では15〜65KeV、硬化
完了のための第二電子線照射は100〜300KeVの範
囲が好ましい。一つの目安として予備照射エネル
ギーは硬化に要するエネルギーの1/10〜1/3の範
囲とするのが好ましい。 The energy of the irradiated electron beam is 10 to 1000 KeV
In particular, the pre-exposure is preferably in the range of 15 to 65 KeV, and the second electron beam irradiation to complete curing is preferably in the range of 100 to 300 KeV. As a guideline, the preliminary irradiation energy is preferably in the range of 1/10 to 1/3 of the energy required for curing.
なお、本発明の実施に当り原版は必ずしも円筒
状である必要はなく平板な原版を基材シート上の
予備硬化した電子線硬化性樹脂層に押圧すること
によつても実施可能である。この際第6図に示し
たような装置系においては基材シートの供給は間
欠的に行われる。本発明のホログラムの連続的製
造装置における「連続的」の意味はこのような間
欠的な場合を包含するものとする。但し第6図の
装置系は完全な連続製造が可能であるという点で
より好ましいことはいうまでもない。 In carrying out the present invention, the original plate does not necessarily have to be cylindrical, and the invention can also be carried out by pressing a flat original plate against a pre-cured electron beam curable resin layer on a base sheet. At this time, in the apparatus system shown in FIG. 6, the supply of the base sheet is performed intermittently. The meaning of "continuously" in the continuous hologram manufacturing apparatus of the present invention includes such intermittent cases. However, it goes without saying that the apparatus system shown in FIG. 6 is more preferable in that it allows complete continuous production.
上述したように、本発明によれば、ホログラフ
イツク情報(干渉縞)をなす微細な凹凸模様を有
するホログラム原版を、樹脂面に押圧してホログ
ラムを複製するに際して樹脂として電子線硬化性
樹脂を用い、且つ電子線の二段照射を併用するこ
とにより微細な凹凸模様を精密に転写することが
できる。特にカーボンテイツシユとエツチングの
併用を特徴とする一連の方法により得られた円筒
状のホログラム原版を用いることにより、ホログ
ラムの完全な連続製造が可能となる。 As described above, according to the present invention, an electron beam curable resin is used as the resin when a hologram master having a fine uneven pattern forming holographic information (interference fringes) is pressed onto a resin surface to reproduce a hologram. , and two-stage electron beam irradiation, it is possible to precisely transfer a fine uneven pattern. Particularly, by using a cylindrical hologram master plate obtained by a series of methods characterized by the combination of carbon tissue and etching, complete continuous production of holograms becomes possible.
以下、実施例により本発明をより具体的に説明
する。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
実施例 1
オフセツト輪転機で印刷した週刊紙の表紙の銀
刷り部分に、第6図に図示の装置でグラビアロー
ルを使い、電子線硬化性樹脂(Mobil Chemical
社製78E145B)を5.2g/m2塗布し、30m/分の
速度で巻き取りながら、窒素雰囲気中で、電子線
を12.5kV、30mAの条件で予備照射し、該電子線
硬化性樹脂の表面層約0.4μを硬化させ、ピツチ
3μの干渉縞の凹凸を有する円筒状ホログラム原
版で押圧し、同時に紙面裏部から電子線をカーテ
ン状に175kV、30mAのエネルギーの条件で、
2.5Mradの線量を照射した。これにより該樹脂層
を原版の凹凸で変形させると同時に硬化させ、干
渉縞を紙面上に記録し、同時に表面のつや出し効
果も与えた。このようにして、作られた週刊紙の
表紙は、光沢があり、銀刷り部分は干渉縞によつ
て、光を回折し、ニジ色に見え、極めて幻想的な
効果をかもし出した。Example 1 Using a gravure roll with the apparatus shown in FIG. 6, an electron beam curable resin (Mobil Chemical
Co., Ltd. 78E145B) was applied at a rate of 5.2 g/ m2 , and while being wound at a speed of 30 m/min, the surface of the electron beam curable resin was pre-irradiated with an electron beam at 12.5 kV and 30 mA in a nitrogen atmosphere. The layer was cured to about 0.4μ, and pressed with a cylindrical hologram original plate having interference fringes with a pitch of 3μ.At the same time, an electron beam was applied from the back of the paper in a curtain shape under the energy conditions of 175kV and 30mA.
A dose of 2.5 Mrad was irradiated. As a result, the resin layer was deformed by the irregularities of the original plate, and at the same time was cured, and interference fringes were recorded on the paper surface, and at the same time, the surface was given a glossy effect. The covers of the weekly newspapers produced in this way were glossy, and the silver-printed areas diffracted light due to interference fringes, making them appear rainbow-colored, creating an extremely fantastic effect.
実施例 2
2軸延伸ポリプロピレンフイルムの25μ厚さの
ものを、連続型2槽真空蒸着装置で、蒸着槽の真
空度を10-5Torrに保ち、アルミニウムを600Åの
厚さに蒸着し、蒸着フイルムとした。Example 2 A biaxially stretched polypropylene film with a thickness of 25μ was deposited with aluminum to a thickness of 600 Å using a continuous two-tank vacuum evaporation apparatus while maintaining the vacuum level of the evaporation tank at 10 -5 Torr. And so.
該フイルムに電子線硬化性樹脂(Mobil
Chemical社製の78E145B)をグラビアロールを
用いて、4.5g/m2の量で塗布し、30m/分の速
さで巻きとりながら、第6図に示すような装置
で、電子線を13kV、30mA、の条件で予備照射し
て表面層のみを硬化させ、縦、横2μピツチの格
子状の干渉縞を、カーボンテイツシユ全面に記録
して作つた円筒状ホログラム原版で該樹脂上に凹
凸の干渉縞をつけ更に175kV、30mAの電子線で
該樹脂を完全に硬化させた。このフイルムを化粧
品用の袋にしたところ、光が袋表面で回折し、ニ
ジ色に見え、極めてアピール効果の高い袋を作る
ことができた。 Electron beam curable resin (Mobil) is applied to the film.
78E145B (manufactured by Chemical) was applied at an amount of 4.5 g/m 2 using a gravure roll, and while being wound at a speed of 30 m/min, an electron beam was applied at 13 kV and Preliminary irradiation at 30 mA was used to harden only the surface layer, and a cylindrical hologram master was created by recording lattice-like interference fringes with a vertical and horizontal pitch of 2 μ on the entire surface of the carbon tissue. After applying interference fringes, the resin was completely cured with an electron beam of 175 kV and 30 mA. When this film was made into a bag for cosmetics, light was diffracted on the surface of the bag, giving it a rainbow-colored appearance, making the bag extremely appealing.
実施例 3
グラビア印刷されたカタログの表紙の
「DNP」の文字部分を、凹状に作つた被写体を、
ホログラムに記録し、このホログラムを原版とし
て、第1図のようにしてカーボンテイツシユのゼ
ラチン層に転写した。この時、原版に入射する参
照光の向きは、被写体を記録した時の参照光の入
射方向とは反対側にした。該カーボンテイツシユ
より本文に記載した手法で円筒状にホログラム原
版を作つた。該原版のホログラム部分と、印刷さ
れた該文字部分とを第6図に示す装置で、検討合
せをした後、実施例―1に述べた電子線の照射条
件でホログラムを記録した。Example 3 A subject with the letters “DNP” on the cover of a gravure-printed catalog made in a concave shape.
It was recorded on a hologram, and using this hologram as an original plate, it was transferred to the gelatin layer of a carbon tissue as shown in FIG. At this time, the direction of the reference light incident on the original was set to be opposite to the direction of incidence of the reference light when recording the subject. A cylindrical hologram original was made from the carbon tissue by the method described in the text. After examining the hologram portion of the original plate and the printed character portion using the apparatus shown in FIG. 6, a hologram was recorded under the electron beam irradiation conditions described in Example-1.
このカタログは、光(点光源)にてらすと、
「DNP」の文字部分が表紙より約1cm飛び出して
みえ、カタログとしての価値をより一層高めるこ
とができた。 When you look at this catalog under light (point light source),
The text "DNP" appears to protrude approximately 1 cm from the cover, further increasing the value of the catalog.
実施例 4
80g/m2の上質紙(0.75m幅巻取)に電子線硬
化性樹脂(Mobil Chemical社製78E145B)をグ
ラビアロールを用いて45g/m2の量で塗布し、30
m/分の速さで巻き取りながら、窒素雰囲気中で
175kV、30mAの電子線カーテンにより、
2.5Mradの線量を照射し、平滑な樹脂コート面を
もつ紙を得た。Example 4 Electron beam curable resin (78E145B manufactured by Mobil Chemical) was applied to 80 g/m 2 high-quality paper (0.75 m width roll) using a gravure roll in an amount of 45 g/m 2 .
In a nitrogen atmosphere while winding at a speed of m/min.
With a 175kV, 30mA electron beam curtain,
Paper with a smooth resin-coated surface was obtained by irradiating with a dose of 2.5 Mrad.
これを、連続型2槽真空蒸着装置で、蒸着槽の
真空度を10-5Torrに保ちアルミニウムを600Åの
厚さに蒸着し、蒸着紙とした。 This was then used in a continuous two-tank vacuum evaporation apparatus to maintain the vacuum level of the evaporation tank at 10 -5 Torr, and aluminum was evaporated to a thickness of 600 Å to obtain a evaporated paper.
この蒸着紙上に実施例―2で述べた条件で再
度、電子線硬化性樹脂を塗布し、第6図の装置で
該蒸着紙の表面にホログラムを記録した。以上の
ようにして製造した回折格子(ホログラム)を表
面にもつ蒸着紙は、金属が樹脂コート面上に均一
に、かつ最密に積層した全く金属的な光沢を示す
面を有しているため、光にあたると、該面で光を
80%近く反射し、表面の回折格子の回折効果を高
めた。しかも、この蒸着紙は、樹脂が電子線照射
により硬化してもなお柔軟なため紙としての性質
を失なつておらず、成形性は良好であつた。 The electron beam curable resin was again coated on this vapor-deposited paper under the conditions described in Example 2, and a hologram was recorded on the surface of the vapor-deposited paper using the apparatus shown in FIG. The vapor-deposited paper with the diffraction grating (hologram) produced in the above manner has a surface that exhibits a completely metallic luster with the metal layered evenly and closely on the resin-coated surface. , when exposed to light, the light is emitted on that surface.
It reflects nearly 80%, increasing the diffraction effect of the diffraction grating on the surface. Moreover, even when the resin was cured by electron beam irradiation, this vapor-deposited paper remained flexible and did not lose its properties as paper, and had good moldability.
第1図はホログラム母版からカーボンテイツシ
ユへの転写工程を示す母版―カーボンテイツシユ
積層体の断面図、第2図は、転写後のカーボンテ
イツシユの断面図、第3図はカーボンテイツシユ
の版胴への貼付工程を示す側面図、第4図および
第5図はそれぞれエツチング前後の版胴の表層の
断面図、第6図は本発明のホログラム製造装置の
一例を示す各部の配置図、第7図および第8図
は、第6図の二つの窒素チヤンバーにおける変化
を概念的に示す基材シートの側方から見た拡大断
面図である。
A…カーボンテイツシユ、(1…台紙、2…ゼ
ラチン層)、B…ホログラム母版(3…基板、4
…感光剤層)、5…レーザー光、6…干渉縞潜
像、13…版胴、15…押圧ベルト、16…内側
Cu層、17…Ag層、18…外側Cuメツキ層、1
9…ゼラチン層クラツク、20…基材シート、2
3…電子線感光性樹脂層、24…窒素チエンバ
ー、25,33…電子線照射装置、26…電子
線、27…硬化樹脂、30…ホログラム原版、3
1…ホログラフイツク情報をなす微細凹凸、32
…転写された凹凸、34…ホログラム。
Figure 1 is a sectional view of the mother plate-carbon tissue laminate showing the transfer process from the hologram mother plate to the carbon tissue, Figure 2 is a sectional view of the carbon tissue after transfer, and Figure 3 is the carbon tissue laminate. 4 and 5 are cross-sectional views of the surface layer of the plate cylinder before and after etching, respectively. FIG. 6 is a side view showing the process of attaching the plate to the plate cylinder, and FIG. 6 is a layout of various parts showing an example of the hologram manufacturing apparatus of the present invention. 7 and 8 are enlarged cross-sectional views of the base sheet viewed from the side, conceptually showing changes in the two nitrogen chambers of FIG. 6. A...Carbon tissue, (1...mounting paper, 2...gelatin layer), B...hologram mother plate (3...substrate, 4
...photosensitive agent layer), 5...laser light, 6...interference fringe latent image, 13...plate cylinder, 15...pressing belt, 16...inside
Cu layer, 17...Ag layer, 18...Outer Cu plating layer, 1
9... Gelatin layer crack, 20... Base sheet, 2
3... Electron beam photosensitive resin layer, 24... Nitrogen chamber, 25, 33... Electron beam irradiation device, 26... Electron beam, 27... Cured resin, 30... Hologram original plate, 3
1...Minute irregularities forming holographic information, 32
...Transferred unevenness, 34...Hologram.
Claims (1)
層に、電子線を予備露光してその表面層のみを硬
化させ、次いでホログラフイツク情報を構成する
微細凹凸面を有する原版を前記樹脂層に押圧し、
この押圧と同時に樹脂層に再度電子線を照射して
硬化を完了させることを特徴とする、ホログラム
の製造方法。 2 電子線硬化性樹脂層を形成した基材シートの
供給装置と、該基材シートの流れ方向に沿つて基
材シートの前記樹脂層形成面側に順次配置された
前記樹脂層の表層のみを予備硬化するための第一
電子線照射装置および該予備硬化した樹脂層に押
圧転写するためのホログラフイツク情報を微細凹
凸模様として有する原版と、基材シートの前記樹
脂層を設けた面とは逆の面側に前記押圧版と対向
して設けられた第二電子線照射装置とからなるこ
とを特徴とする、ホログラムの連続的製造装置。 3 前記原版が、金属版胴上に設けたホログラフ
イツク情報を含むカーボンテイツシユのゼラチン
硬化層を介して、該金属版胴をエツチングして得
られたものである上記第2項の装置。[Claims] 1. An electron beam curable resin layer coated on a base sheet is pre-exposed to an electron beam to harden only the surface layer, and then has a finely uneven surface constituting holographic information. Pressing the original plate onto the resin layer,
A method for manufacturing a hologram, characterized in that simultaneously with this pressing, the resin layer is irradiated with an electron beam again to complete curing. 2. A supply device for a base sheet on which an electron beam curable resin layer is formed, and a supply device for supplying only the surface layer of the resin layer sequentially arranged on the resin layer forming surface side of the base sheet along the flow direction of the base sheet. A first electron beam irradiation device for pre-curing, an original plate having holographic information as a fine uneven pattern for press-transferring to the pre-cured resin layer, and a base sheet opposite to the surface on which the resin layer is provided. and a second electron beam irradiation device provided on the side of the pressing plate facing the pressing plate. 3. The apparatus according to item 2 above, wherein the original plate is obtained by etching a metal plate cylinder through a hardened gelatin layer of a carbon tissue containing holographic information provided on the metal plate cylinder.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9785580A JPS5722277A (en) | 1980-07-17 | 1980-07-17 | Method and device for producing hologram |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9785580A JPS5722277A (en) | 1980-07-17 | 1980-07-17 | Method and device for producing hologram |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5722277A JPS5722277A (en) | 1982-02-05 |
JPS6147425B2 true JPS6147425B2 (en) | 1986-10-18 |
Family
ID=14203348
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9785580A Granted JPS5722277A (en) | 1980-07-17 | 1980-07-17 | Method and device for producing hologram |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5722277A (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07101445B2 (en) * | 1984-06-21 | 1995-11-01 | 大日本印刷株式会社 | Method of manufacturing card with hologram |
JPH0685104B2 (en) * | 1984-12-28 | 1994-10-26 | 大日本印刷株式会社 | Hologram duplicator |
JPS6242768A (en) * | 1985-08-20 | 1987-02-24 | Dynic Corp | Method for irradiating electron beam |
US5838468A (en) * | 1996-04-12 | 1998-11-17 | Nec Corporation | Method and system for forming fine patterns using hologram |
JP5130647B2 (en) * | 2006-04-25 | 2013-01-30 | 凸版印刷株式会社 | Embossing roll for producing optical film, method for producing the same, and method for producing optical film |
-
1980
- 1980-07-17 JP JP9785580A patent/JPS5722277A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5722277A (en) | 1982-02-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5948199A (en) | Surface relief holograms and holographic hot-stamping foils, and method of fabricating same | |
US4758296A (en) | Method of fabricating surface relief holograms | |
US4840757A (en) | Replicating process for interference patterns | |
CN1173843A (en) | Embossed substrate and photoreceptor device incorporating the same and method | |
JPS58132271A (en) | Manufacture of hologram | |
JPS61156273A (en) | Duplicator of hologram | |
JPS6147425B2 (en) | ||
JPS60254175A (en) | Hologram transfer sheet and its production | |
JPS58184986A (en) | Duplicating method of hologram | |
JPH0685103B2 (en) | Hologram duplication method | |
JPS58144879A (en) | Duplicating method of hologram | |
JPS58144877A (en) | Duplicating method of hologram | |
JPS58144878A (en) | Duplicating method of hologram | |
JPH04151188A (en) | Duplicating method for relief pattern | |
CN1100533A (en) | Ultraviolet-solidified hologram duplicating technology | |
JPH03223883A (en) | Duplicating method for hologram | |
JP3419308B2 (en) | Method for producing fine metal pieces with embossed pattern | |
JPS59154482A (en) | Hologram and its preparation | |
JPH036883Y2 (en) | ||
JPH0334075B2 (en) | ||
JPS5983110A (en) | Reproduction of patterned diffraction grating | |
JPH04151189A (en) | Duplicating method for relief pattern | |
JP2982011B2 (en) | How to create embossing roll | |
JPH02281285A (en) | Hologram reproducing matrix, production thereof and production of hologram | |
JPH03284786A (en) | Hologram reproducing mold and production thereof and production of hologram |