DE2830622C2 - Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern unter Verwendung dieses Aufzeichnungsmaterials - Google Patents
Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern unter Verwendung dieses AufzeichnungsmaterialsInfo
- Publication number
- DE2830622C2 DE2830622C2 DE2830622A DE2830622A DE2830622C2 DE 2830622 C2 DE2830622 C2 DE 2830622C2 DE 2830622 A DE2830622 A DE 2830622A DE 2830622 A DE2830622 A DE 2830622A DE 2830622 C2 DE2830622 C2 DE 2830622C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- recording material
- photopolymerizable
- support
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
- H05K3/064—Photoresists
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
- G03F7/0955—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer one of the photosensitive systems comprising a non-macromolecular photopolymerisable compound having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0104—Properties and characteristics in general
- H05K2201/0108—Transparent
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
- H05K2203/0783—Using solvent, e.g. for cleaning; Regulating solvent content of pastes or coatings for adjusting the viscosity
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/13—Moulding and encapsulation; Deposition techniques; Protective layers
- H05K2203/1377—Protective layers
- H05K2203/1394—Covering open PTHs, e.g. by dry film resist or by metal disc
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0094—Filling or covering plated through-holes or blind plated vias, e.g. for masking or for mechanical reinforcement
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/136—Coating process making radiation sensitive element
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/14—Dimensionally stable material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/162—Protective or antiabrasion layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
β Die Erfindung betrifft ein Aufzeichnungsmaterial, das unter Lichteinwirkung seine Löslichkeitseigenschaften
'C, verändert, mit einer lichtempfindlichen Schicht, die auf einem transparenten, in einer Entwicklerflüssigkeit
•~ löslichen oderdsspergierbaren orientierten Schichtträger aufgetragen ist. und ein Verfahren zur Herstellung von
f? Rcliefbildern, bei dem auf ein Bildempfangsmaterial ein Aufzeichnungsmaterial, das unter Lichteinwirkung seine
j.·; Löslichkeitseigenschaften ändert, mit seiner lichtempfindlichen Schicht, die auf einen transparenten Schichtträ-
R ger aufgetragen ist, auflaminiert, bildmäßig belichtet und mit einer Entwicklerflüssigkeit entwickelt wird.
;i Das Aufzeichnungsmaterial und das Verfahren der Erfindung haben die verschiedensten Anwendungsmög-
Γ" lichkeiten, können jedoch mit besonderem Vorteil zur Herstellung von Photoresists eingesetzt werden.
Es wurden bereits verschiedene Verfahren und Aufzeichnungsmaterialien zur-Merstellung von Photoresists,
y weiche sich für die Erzeugung gedruckter Schaltungen bzw. Schaltbilder eignen, vorgeschlagen.
So geht beispielsweise das Verfahren gemäß der DE-AS 15 72 153 von einem Aufzeichnungsmaterial aus, mit
;·% einer lichtempfindlichen Schicht, die mit einer aus einer wäßrigen Lösung erzeugten Schutzschicht versehen ist.
|j Bei einem zwei'eii bekannten Verfahren zur Herstellung von Photoresists trägt man z. B. eine üchtempfindii-
ξί ehe flüssige Masse direkt auf ein Substrat auf, trocknet die Masse, belichtet die Schicht aus der Masse bildmäßig
y mit aktinischem Licht und ^ntwickdt die Schicht mit einem flüssigen Entwickler. Bei einer dritten herkömmli-
>;: chen Methode verwendet man rin Aufzeichnungsmaterial aus einem flexiblen Schichtträger (Trägerfolie), einer
f;i auf die Trägerfolie auflaminierten, . exiblen lichtempfindlichen Schicht mit Haftvermögen gegenüber einem
f~ Bildempfangsmaterial (Substrat) und einer Schutzfolie, welche die andere Oberfläche der lichtempfindlichen
A Schicht bedeckt und dazu dient, das Klebenbleiben beim Aufwickeln und das Anhaften von Staub bei der
|| Handhabung zu verhindern. Bei der letzteren Methode werden die Photoresists dadurch hergestellt, daß man die
fl Schutzfolie ablöst, die lichtempfindliche Schicht des Aufzeichnungsmaterials auf das Bildemp/qngsmaterial
κ. aufbringt und bildmäßig mit aktinischem Licht belichtet und die Schicht mit einem flüssigen Entwickler entwik-
U keil, wobei man den Schichtträger entweder vor oder nach der bildmäßigen Belichtung ablöst (vgl. z. B. US-PS
[I 34 69 982 und GB-PS !2 75 471).
'■■ Beim zweitgenannten Verfahren wird die lichtempfindliche flüssige Masse als solche in den Handel gebracht
ν und vom Verbraucher auf das Substrat aufgetragen. Der Verbraucher muß daher mit der Technik des gleichmä-
: ■ ßigen Auftragens der flüssigen Masse auf das Substrat vertraut sein. Das dritte Verfahren hat zwar den Vorteil,
daß die bei der zweiten Methode nötige Geschicklichkeit nicht erforderlich ist, weil die Bereitstellung der
. lichtempfindlichen Schicht am Bildempfangsmaterial in einfacher Weise durch bloßes Ablösen der Schutzfolie
und anschließendes Aufbringen der lichtempfindlichen Schicht auf das Bildempfangsmaterial erfolgt; aber auch
bei diesem Verfahren treten gewisse Schwierigkeiten auf. Beispielsweise muß der Schichtträger für die lichtempfindliche
Schicht im Falle des beim dritten Verfahren verwendeten Photoresistelements flexibel sein. Außerdem
■ muß die Haftung zwischen Bildempfangsmaterial und lichtempfindlicher Schicht größer als jene zwischen
Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht sein.
Wenn man das bei der vorgenannten dritten, herkömmlichen Methode verwendete Photoresistelement zur
Herstellung einer gedruckten Schaltung heranzieht, löst man die Schutzfolie ab und bringt die lichtempfindliche
Schicht auf ein Bildempfangsmaterial (wie eine kupferplattierte Epoxyharzplatte) auf. um darauf ein permanentes
Bild zu erzeugen. Wenn der Schichtträger opak ist, wird der Schichtträger abgelöst und danach die lichiempfindliche
Schicht bildmäßig mit aktinischem Licht belichtet. Wenn der Schichtträger transparent ist, kann man
die lichtempfindliche Schicht entweder vor oder nach Ablösung des Schichtträgers bildmäßig den aktinischen
Strahlen aussetzen. In beiden Fällen muß der Schichtträger zwangsläufig vor der Entwicklung abgelöst werden.
Anschließend werden die Bereiche der lichtempfindlichen Schicht, auf welchen kein Bild erzeugt wurde, zur
Herstellung eines Resistbildes an der Oberfläche des Bildcmpfangsmaterials mit einem flüssigen Entwickler t>o
, wcggelöst. Anschließend wird die gewünschte gedruckte Schaltung durch Ätzung erzeugt.
In der DE-OS 21 49 056 ist ferner ein Bildrcproduktions- und Bildübertragungsverfahren beschrieben, bei dem
man
(a) ein pholopolymerisierbarcs Filmclcmeni, das aus einem enlfcrnbaren Schichtträger, einer darauf befindlichen
photopolymerisierbaicn Schicht, enthaltend ein Monomer, und einer auf der photopolymerisierbaren
Schicht befindlichen Deckschicht besteht, die gegenüber dem belichteten Photopolymeren eine höhere
chemische Affinitat aufweist als gegenüber dem Schichtträger, bildmäßig mit aktiniscner Strahlung belich-
tet und
(b) die Deckfolie mit den anhaftenden belichteten polymeren Bildbereichen entfernt und die unbelichteten und
unpolymerisierten in gleicher Ebene liegenden komplementären Bildbereiche auf einen Bildempfänger
auflaminiert und überträgt, indem man
(c) die Schicht durch den Schichtträgerfilm oder den Bildempfänger, falls dieser transparent ist, mit aktinischcn
Strahlen belichtet und den Schichtträger von den belichteten, übertragenen komplementären Bildbereichen
abzieht.
Mit diesem Verfahren erhält man also zwei R.eliefbilder, von denen das eine dem positiven Bild und das andere
ίο dem negativen Bild entspricht Als Schichtträger werden zwei Arten von orientierten Folien eingesetzt, d. h. eine
biaxial orientierte Polypropylenfolie und eine biaxial orientierte Poiyäthylenterephthalatfolie. die in der Entwicklerflüssigkeit
bei den üblichen Entwicklungstemperaturen weder löslich noch dispergierbar sind. Gehl man
mit den Temperaturen bei der Entwicklung höher, so werden auch die belichteten Stellen, d. h. die photopolymerisierten
Stellen, mit weggelöst bzw. dispergiert.
In diesem Zusammenhang wird erwähnt, daß auch biaxial gereckte Folien aus Polystyrol seit langem bekannt
sind, beispielsweise aus Kunststoff-Handbuch, Band V, Polystyrol, Seite 5, C. Hanser-Verlag München 1969, und
daß in der US-PS 27 79 684 angegeben ist, daß orientierte Polyestcrfolien zur Herstellung von photographischen
Filmen Anwendung finden.
Polyäthylenterephthalatfolien werden derzeit wegen ihrer hohen Elastizität und Glattheit am häufigsten als
Schichtträger verwendet. Da Polyäthylenterephthalatfolien polare Gruppen in der Molekülstrvktur aufweisen,
haben sie ein beträchtliches Hafiverrnögen gegenüber der lichtempfindlichen Schicht, Wenn ^n Resist- bzw.
Schutzfilm aus einem solchen Schichtträger jnd einer lichtempfindlichen Schicht auf ein Bildempfangsmaterial
(z. B. eine verkupferte Epoxyharzplatte) auflaminiert wird, erhitzt man das Bildempfangsmaterial und/oder den
Resistfilm und führt dann eine Drucklaminierung durch, um eine gute Haftung zwischen der lichtempfindlichen
Schicht und dem Bildempfangsmaterial zu erzielen. Wenn das Erhitzen und/oder die Druckanwendung nicht
gleichmäßig erfolgen und/oder das Bildempfangsmaterial verzogen oder verformt ist, läßt sich keine gleichmäßige
Haftung zwischen Bildempfangsmaterial und lichtempfindlicher Schicht erzielen. Daher tritt in einem solchen
Fall bei der Ablösung des Schichtträgers häufig die Schwierigkeit auf, daß ein Teil der lichtempfindlichen Schicht
mit dem Schichtträger verbunden zurückbleibt und zusammen mit letzterem entfernt wird. Es hat für die Praxis
jo nicht tragbar, ein Bildempfangsmaterial mit einer solchen unvollständigen auflaminierten Schicht der darauffolgenden
Stufe, z. B. der Entwicklung, zuzuführen. Im Falle einer niedrigen Temperatur bei der Hitzelaminicrung
wird ferner zuweilen eine unzureichende Haftung zwischen Bildempfangsmaterial und lichtempfindlicher
Schicht erzielt; dies führt z. B. zum Problem, daß die lichtempfindliche Schicht bei der Ablösung des Schichtträgers
zusammen mit dem Träger abgeschält wird. Dieser nachteilige Effekt tritt dann ein, wenn die Haftung
zwischen Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht größer als jene zwischen Bildempfangsmaterial und
lichtempfindlicher Schicht ist.
Die Verminderung der Dicke der lichtempfindlichen Schicht ist ein wirksames Mittel zur Verbesserung der
(optischen) Auflösung eines darauf erzeugten Resistbildes. Durch die Verminderung der Dicke der lichtempfindlichen
Schicht wird jedoch auch der absolute Wert der Kohäsion der Schicht herabgesetzt, was z. B. zur ;
AO unerwünscnten Erscheinung führt, daß die lichtempfindliche Schicht bei der Ablösung des Schichtträgers zcr- ,1
stört wird. Der Verminderung der Dicke der lichtempfindlichen Schicht sind daher zwangsläufig bestimmte I
Grenzen gesetzt.
Die vorgenannten Probleme und Nachteile treten zwangsläufig bei den herkömmlichen Methoden auf, bei
welchen zur Herstellung von Photoresists zur flüssigen Entwicklung vorgesehene Aufzeichnungsmaierialien
verwendet werden.
Aufgabe der Erfindung ist es daner, ein vorgeformtes lichtempfindliches, zur Erzeugung bzw. Aufzeichnung
eines Bildes geeignetes Aufzeichnungsmaterial zur Verfügung zu stellen, bei dem sich der Schichtträger während
des Entwicklungsprozesses leicht entfernen läßt und das insbesondere als Photoresist brauchbar ist.
beispielsweise zur Erzeugung von Leiterplatten bzw. gedruckten Schaltungen.
Gelöst wurde diese Aufgabe dadurch, daB man einen Schichtträger in Form einer orientierten Folie verwendet,
die beim Entwickeln durch die Entwicklerflüssigkcit wcggcwaschcn wird.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein Aufzeichnungsmaterial, das unter Lichteinwirkung seine Löslichkeilseigenschaften
verändert, mit einer lichtempfindlichen Schicht. JH nuf einem transparenten, in einer Entwicklerflüssigkeil
loslichen oder dispergierbaren orientierten Tragerschicht aufgetragen ist, das dadurch gekennzeich-
net ist, daß der Schichtträger eine orientierte Folie aus Polystyrol, einem Styro'copolymeren, Polymetliylmcthacrylat.
einem Methylmethacrylatcopolymercn. Polyvinylchlorid. Polyvinylacetat, Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymeren.
Polycarbonaten oder Mischungen davon ist, sowie ein Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern,
bei dem auf ein Bildempfangsmaterial dn Aufzeichnungsmaterial, das unter Lichteinwirkung seine Löslichkcitseigenschaften
ändert, mit seiner lichtempfindlichen Schicht, die auf einen transparenten Schichtträger aufgctra-
nO gen ibt, auflaminiert, bildmäßig belichtet und mit einer Enlwicklerilüssigkeil entwickelt wird, das dadurch
gekennzeichnet ist. daß man einen Schichtträger in Form einer orientierten Folie verwendet und daß der
Schichtträger beim Entwickeln durch die Entwicklerflüssigkeil weggewaschen wird.
Erfindungsgemäß kann als lichtempfindliche Masse entweder eine photopolymcrisicrbarc oder eine pholoab
baubare Masse verwendet werden. Die photopolymcrisicrbnrc Masse wird /ur Erzeugung eines Negativbildes
hi verwendet, während die photoabbaubare Masse zur Erzeugung eines Posiiivcildcs eingesetzt wird. Generell
wmlen in ilen mi-isi'-n Rillen negativ arbeitende lidiloiiipfindliclH· Massen verwendet. Die nachstchciulc nahm·
IkscIiivilMiiiK ι!:ί Ι·:ϊ:ΐκΙιιιι>! erfüll einher liaupisiUhlidi linier He/iiynahiiic auf eine Aiisführiingsform, bei
welcher eine photopulymerisicrbarc Masse als lichtempfindliche Masse eingesetzt wird.
Ein erfindungsgemäßes Bilderzeugungsverfahren wird z. B. wie folgt durchgeführt. Wenn ein Aufzeichnungsmaterial,
das eine photopolymcrisierbare Schicht, die aus einer photopolymerisierbaren Masse besteht und in
einem flüssigen Entwickler löslich oder dispcrgicrbar ist, und einen mit einer Oberfläche der Schicht verbundenen
Schichtträger enthält, an der anderen Oberfläche der photopolymerisierbaren Schicht mit einem Schutzfilm
ausgestattet wird, wird zunächst der Schutzfilm abgelöst bzw. -gezogen. Die Oberfläche der photopolymerisier- ■>
baren Schicht des Aufzeichnungsmaterial wird dann auf die Oberfläche eines Bildempfangsmaterials (wie eine
verkupferte Platte) auflaminicrt und mit dem Bildempfangsmaterial verbunden. Anschließend wird die photopolymcrisierbare
Schicht bildmäßig mit aktinischem Licht belichtet, wobei durch Photopolymerisation der photopolymerisierbaren
Masse ein polymeres Bild entsteht. Der Schichtträger und die unbelichteten Bereiche der
Schicht werden dann mit dem flüssigen Entwickler weggewaschen; dabei entsteht an der Oberfläche des w
Bildempfangsmaterials ein Bild aus einem polymeren Material.
Bei Verwendung des auf diese Weise erzeugten Bildes aus dem polymeren Material als Resistbild zur
Herstellung einer gedruckten Schaltung werden folgende Vcrfahrcnsschritte durchgeführt. Das das Resistbild
tragende Bildempfangsmaterial wird in eine z. B. Eisen(lll)-chlorid enthaltende Ätzlösung eingetaucht, wodurch
die freigelegten (blanken) Oberflächenbereiche des Bildempfangsmaterials, welche aus Kupfer oder dergleichen
bestehen und nicht durch das Resistbild geschützt sind, weggeätzt werden. Man entnimmt das behandelte
Bildempfangsmaterial dann aus der Äizlösiing und entfernt zur Herstellung der gewünschten gedruckten
Bei der Aufbringung bzw. Auflaminierung einer lichtempfindlichen Schicht auf ein Bildempfangsmaterial
können die Temperatur der Oberfläche des Bildempfangsmaterials und/oder der vom Schichtträger abgekehr- :o
ten Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht und der zwischen dem Bildempfangsmaterial und der lichtempfindlichen
Schicht anzuwendende Druck in Abhängigkeit von der Art des Bildempfangsmaterials und der
lichtempfindlichen Schicht variiert werden. Im allgemeinen beträgt die Temperatur jedoch etwa 0 bis etwa
1600C, vorzugsweise etwa 10 bis etwa 120"C, während der Druck gewöhnlich etwa 0,098 bis etwa 19.6 bar.
vorzugsweise etwa 0,49 bis etwa 4,9 bar ausmacht.
Die zur Herstellung von Photoresists geeigneten Aufzeichnungsrnaterialien des photopolymerisierbaren Typs
enthalten als wesentliche Bestandteile einen transparenten Schichtträger und eine photopolymerisierbare
Schicht, die ein organisches Bindemittel in Form mindestens eines polymeren Materials enthält, welches in einem
als Entwickler zu verwendenden organischen Lösungsmittel löslich oder dispergierbar ist. sowie gegebenenfalls
zusätzlich eine Schutzfolie bzw. einen Schutzfilm.
Als in einem Entwickler löslicher oder dispcrgierbarer, transparenter Schichtträger wird '.rfindungsgemäß
eine orientierte Folie verwendet, die z. B. monoaxial oder biaxial orientiert ist. Beispiele für geeignete Trägerfolienmaterialien
sind verschiedene Polymerarten, wie Polymethylmethacrylat oder Methylmethacrylatcopolymere
mit mindestens einem anderen Monomeren, wie Methacrylsäure, Acrylsäure, Methylacrylat oder Butylacrylat,
Polystyrol oder Styrolcopolymcre mit mindestens einem anderen Monomeren, wie Acrylnitril und/oder Butadien.
Polyvinylchlorid, Polyvinylacetat, Vinylchlorid/Vinylacctat-Copolymere, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon,
Polycarbonate, Celluloseacetatsuccinat und Mischungen davon. Das Viskositätsmittel des Molekulargewichts
des polymeren Materials für die Trägerfolic ist nicht ausschlaggebend; man kann jedes beliebige polymere
Material verwenden, sofern dieses in der Entwicklungsstufe durch Auflösung oder Dispergierung in einem
flüssigen Entwickler entfernt werden kann. Das Viskositätsmittel des Molekulargewichts kann im Bereich von -to
5000 bis 1 000 000 liegen.
Der erfindungsgemäß zu verwendende flüssige Entwickler muß — wie erwähnt — dazu befähigt sein, sowohl
die unbelichteten Bereiche der photopolymerisierbaren Schicht als auch den Schichtträger aufzulösen oder zu
dispergieren. Beispiele für als Entwickler geeignete organische Lösungsmittel sind Ketone, wie Aceton oder
Methyläthylketon. Ester, wie Methylformiat. Methylacetat, Äthylacetat oder die Amylacetate, Chlorkohlenwasserstoffe,
wie Chloroform, Trichlorethylen, 1.1,1-Trichloräthan, 1,1,2-Trichloräthan oder Methylendichlorid, aromatische
Kohlenwasserstoffe, wie Benzol, Toluol oder Xylol, alicyclische Kohlenwasserstoffe, wie Cyclohexan,
Alkohole, wie Methanol, Äthanol oder Isopropanol, die Cellosolve-Arten (Giykoläther), wie Methylcellosolve
(Athylenglykolmonomethyläther), und Tetrahydrofuran. Diese Lösungsmittel können entweder einzeln oder im
Gemisch verwendet werden.
Beispiele für organische polymere Bindemittel, die in der photopolymerisierbaren Schicht des Aufzeichnungsmaterials eingesetzt werden können, sind Polymethylmethacrylat und Copolymere von Methylmethacrylat mit
mindestens einem anderen Monomeren, wie Methacrylsäure, Acrylsäure, Methylacrylat oder Butylacrylat, Styrol/
Acrylnitril-Copolymere, chlorierte Polyolefine, wie chloriertes Polyäthylen oder chloriertes Polypropylen,
Polyvinylbutyral und Mischungen davon. Von diesen organischen polymeren Bindemitteln werden Polymethylmethacrylat
und Methylmethacrylat-Copolymerc aufgrund ihrer Verträglichkeit mit dem für die photopolymerisierbare
Schicht verwendeten, photopolymerisierbaren Monomeren und/oder ihrer Affinität mit dem flüssigen
Entwickler (vgl. oben) besonders bevorzugt. Das Viskositälsmittel des Molekulargewichts des organischen
polymeren Bindemittels ist nicht ausschlaggebend; man kann jedes beliebige polymere Bindemittel verwenden,
sofern dieses in der Entwicklungsstufe durch Auflösung oder Dispergierung in einem flüssigen Entwickler μ
entfernbar ist. Das Viskositätsmitteides Molekulargewichts kann im Bereich vo η 5000 bis 1 000 000 liegen.
Im allgemeinen wird der passende flüssige Entwickler je nach der Art des für die photopolymerisierbare
Schicht verwendeten organischen polymeren Bindemittels und des für den Schichtträger verwendeten polymeren
Materials ausgewählt. Bei Verwendung von Acrylpolymeren (wie Polymethylmethacrylat) als Bindemittel
und Schichtträger setzt man als flüssigen Entwickler beispielsweise Ketone und/oder Chlorkohlenwasserstoffe
ein, während man Ketone für Vinylchloridpolymere und Ketone und/oder Ester für Cellulosederivate verwendet.
Wenn für das organische Bindemittel ein anderes Material als für den Schichtträger eingesetzt wird,
verwendet man als flüssigen Entwickler ein gemeinsames Lösungsmittel für beide Komponenten oder ein
geeignetes Lösungsmittclgemisch.
Die Entwicklung kann erfindungsgemäß durch Weglösen der unbelichteten Bereiche der photopolymerisicrbaren
Schicht und des Schichtträgers durchgeführt werden. Wahlweise kann die Entwicklung erfolgen, indem
man die Schicht und/oder den Schichtträger zum Quellen bringt und anschließend dispergiert und entfernt. Bei
', Verwendung von Polybutyral als Bindemittel der photopolymcrisierbaren Schicht und von Polyvinylalkohol
oder Polyvinylpyrrolidon als Schichtträger k.inn /.. B. ein Wasser/Äthanol-Gcmisch als flüssiger Entwickler
verbindet werden.
Die photopolymerisicrbare Schicht kann ein photopolymerisicrbares Monomcrcs. ein organisches polymeres
Bindemittel (vgl. oben) und einen Sensibilisator, wie einen Photopolymerisationsiniiiator, enthalten. Als photo-
ίο polymerisierbar Monomere werden zv~ckmäßig äthylenisch ungesättigte Verbindungen, insbesondere polyfunktionelle
Acrylmonomere, eingesetzt. Bevorzugt als photopolymerisicrbare Monomere werden Verbindungen
mit mindestens zwei ungesättigten Bindungen im Molekül, da diese Verbindungen bei Belichtung mit
akiinischcn Strahlen durch Photopolymerisation Vernetzungen ausbilden. Beispiele für zwei ungesättigte Bindungen
aufweisende Acrylmonomere sind Diacrylate, wie Polyäthylenglykoldiacrylat oder Polypropylcnglykoldiacrylat.
und Dimethacrylate, wie Polyäthylcnglykoldimethacrylai oder Polypropylcnglykoldimethacrylal.
Beispiele für Acrylmonomere mit drei ungesättigten Bindungen sind Triacrylate. wie Pentacrythrittriacrylat
oder Trimethylolpropantriacrylat. und Trimelhacrylatc, wie Pentacrythritlrimcthacrylat oder Trimethylolpro-
— panirimpiharrylni. Das Viskositäismittcl des Molekulargewichts von Polyäthylenglykoldiacrylat, Polypropylen-
glykoldiacrylat, Polyäthylenglykoldimcthacrylal und Polypropylenglykoldimethacrylat ist — wie erwähnt —
_>o nicht ausschlaggebend, beträgt jedoch in der Regel bis zu 10 000, vorzugsweise bis zu 5000. Weitcrc als
photopolymerisierbare Monomere cinsetzbare, äthylenisch ungesättigte Verbindungen sind z. B. die in der
US-PS 34 69 982 beschriebenen Verbindungen, wie Polyvinylcinnamat oder Polyacrylamid. Diese Monomeren
können einzeln oder im Gemisch eingesetzt werden. Das Mengenverhältnis des photopolymerisierbaren Monomeren
zum organischen polymeren Bindemittel kann je nach Art des Monomeren und des Bindemittels innerhalb
eines breiten Bereichs gewählt werden, sofern aus der daraus erzeugten photopolymerisierbaren Schicht
ein vorteilhaftes Bild erhalten werden kann. Im allgemeinen wird das pholopolymerisierbare Monomere in einer
Menge von 10 bis 500 Gew.-Teilen (vorzugsweise 20 bis 200 Gcw.-Teilen) pro 100 Gew.-Teile Bindemittel
eingesetzt.
Die Art des als Sensibilisator eingesetzten Photopolymerisationsinitiators ist bei der Erfindung nicht besonde ■» kritisch; man kann vielmehr einen beliebigen bekannten Photopolymerisationsinitiator verwenden. Beispiele für geeignete Photopolymerisationsinitiatoren sind Carbonylverbindungen, wie Benzoin. Benzoin-Ci—Ci-alkyläther, Benzophenon. Anthrachinon, 2-Methylanthrachinon, 2-tcrt.-Butylanthrachinon, 9,10-Phenanthrenchinon. Diacetyl oder Benzil. Peroxide, wie Wasserstoffperoxid, Di-tcrt.-butylperoxid, Benzoylperoxid oder Mcthyläthylketonperoxid, organische Schwefelverbindungen, wie Di-n-butyldisulfid, 2-Mcrcaptobcnzothiazol, 2-Mer-33 capiobenzoxazol. 2-Mercaptobenzimidazol. Thiophenol, Thiokrcsol, Carboxymethyl-N.N-dimethyldithiocarba-
Die Art des als Sensibilisator eingesetzten Photopolymerisationsinitiators ist bei der Erfindung nicht besonde ■» kritisch; man kann vielmehr einen beliebigen bekannten Photopolymerisationsinitiator verwenden. Beispiele für geeignete Photopolymerisationsinitiatoren sind Carbonylverbindungen, wie Benzoin. Benzoin-Ci—Ci-alkyläther, Benzophenon. Anthrachinon, 2-Methylanthrachinon, 2-tcrt.-Butylanthrachinon, 9,10-Phenanthrenchinon. Diacetyl oder Benzil. Peroxide, wie Wasserstoffperoxid, Di-tcrt.-butylperoxid, Benzoylperoxid oder Mcthyläthylketonperoxid, organische Schwefelverbindungen, wie Di-n-butyldisulfid, 2-Mcrcaptobcnzothiazol, 2-Mer-33 capiobenzoxazol. 2-Mercaptobenzimidazol. Thiophenol, Thiokrcsol, Carboxymethyl-N.N-dimethyldithiocarba-
mat oder Äthyltriehlormethansulfonat. Rcdoxinitiatorcn. wie F.iscn(ll)-ionen/Peroxide (z. B. H2O2), Eisen(lll)-ionen/Peroxide
(z. B. HjOj) oder EisenOIJ-ioncn/Pcrsulfationcn. photoreduzierbare Farbstoffe, wie Bengalrösa,
Erythrocin, Eosin, Acriflavin oder Thionin, Halogenverbindungen, wie Chlormcthylnaphthylchloridc, Phenacylchlorid,
Chloraceton./^-Naphthalinsulfonylchlorid oder Xylolsulfonylchloride, und Azo- oder Diazoverbindungen,
wie r^'-Azobisisobutyrnotril, 2-Azobis-2-mcthylbuiyroniiril oder Diazoniumsalze, z. 3. ein Diazoniumchlorid
von p-Aminodipncnylamin. Bei den vorgenannten Redoxinitiatoren können die Quelle für die Eisen(ll)-ioncn
Eisen(ll)-chlorid, die Quelle für die Eiscn(lll)ionen Eiscn(III)-chlorid und die Quelle für die Persulfationen
Ammoniumpersulfat sein. Das Mengenverhältnis des Photopolymerisationsinitiators zum photopolymerisierbaren
Monomeren kann innerhalb eines breiten Bereichs je nach der Art des Monomeren und Photopolymerisationsinitiators
gewählt werden, sofern sich das gewünschte Bild erzielen läßt. Im allgemeinen bevorzugt
man eine Menge des Photopolymerisationsinitiators von 0,1 bis 20 Gew.-Teilen, insbesondere 1 bis 10 Gew.-Tcilen,
pro 100 Gew.-Teile des Monomeren.
Die photopolymerisierbare Schicht kann erfindungsgemäß aus mehreren Einzelschichten bestehen, wobei die
Einzelschichten mit steigendem Abstand vom Schichtträger immer höhere Konzentrationen an Photopolymerisationsinitiator
aufweisen. Bei einer solchen mehrschichtigen photopolymerisierbaren Schicht kann eine ungenügende
Belichtung mit aktinischen Strahlen in den vom Schichtträger abgekehrten Bereichen der Schicht durch
die Erhöhung des Initiatoranteils, durch welche in der vertikalen Richtung der photopolymerisierbaren Schicht
eine praktisch gleichmäßige Photopolymerisation erzielt wird, kompensiert werden. Das praktisch gleichmäßig
photopolymerisierbare Bild liefert nach der Entwicklung einen Bildrcsist mit praktisch vertikalen Seitenflächen.
Um das vorgenannte Ziel zu erreichen, verwendet man gewöhnlich eine photopolymerisierbare Schicht mit zwei
Einzelschichten, die eine unterschiedliche Initiatorkonzentration aufweisen. In diesem Falle ist die Konzentration
des Photopolymerisationsinitiators in der Schicht an der vom Schichtträger abgekehrten Seile zweckmäßig
1.5- bis lOmal so groß wie in der Schicht an der Seite des Schichiträgers.
Die photopolymerisierbare Schicht kann einen Polymerisationsinhibitor enthalten. Beispiele für geeignete
Die photopolymerisierbare Schicht kann einen Polymerisationsinhibitor enthalten. Beispiele für geeignete
ec Polymerisationsinhibitoren sind p-Methoxyphenol. Hydrochinon. Hydrochinone, die durch einen Alkylrest (wie
sine Methyl- oder Äthylgruppe) oder einen Arylrest (wie eine Phenylgruppe) substituiert sind, tert.-Butylbrenzcatechin.
Pyrogallol. Kupferchlorid, Phenolhiazin.Chloranil, Naphthylamine./-Naphthol. 2,6-Di-terl.-buiyl-pkresol.
Pyridin, Nitrobenzol. Dimtrobenzole. p-Toluidin, Methylenblau und Kupfersalzc von organischen Säuren,
wie Essigsäure. Der Anteil des Polymerisationsinhibitors kann je nach der Art des photopolymerisierbaren
b5 Monomeren und des Polymerisationsinhibitors variiert werden. Im allgemeinen wird der Poiymerisaiiünsinhibitor
jedoch in einer Menge von 0,01 bis 5 Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teile photopolymerisierbares Monomcres
eingesetzt.
Bezüglich der Verwendung eines Polymerisationsinhibitors wird festgestellt, daß die pholopolymerisierbare
Schicht einen anderen Aufbau aus mehreren Hinzclsehiehten aufweisen k?nn, bei welchem die jeweiligen
Schichten mit steigendem Abstand vom Schichtträger immer geringere Polymcrisationsinhibitorkonzentrationen
aufweisen. Bei einer solchen mehrschichtigen phoiopolymerisierbaren Schicht wird durch Belichtung der
Schicht mit aklinischen Strahlen eine praktisch gleichmäßige Photopolymerisation in vertikaler Richtung der
photopolymcrisierbaren Schicht erzielt. Das praktisch gleichmäßig pholopolymcrisicrbare Bild liefert nach der
Entwicklung einen Bildresisi mit praktisch vertikalen Seitenflächen. Um das vorgenannte Ziel zu erreichen, sieht
man in der Regel eine photopolymeri:.ierbare Schicht mil zwei F.inzclschichten vor, die unterschiedliche Inhibilorkon/.enlratioiKjn
aufweisen. In diesem halle ist die Konzentration des Polymerisationsinhibitors in der Schicht
an der vom Schichtträger abgekehrten Seite zweckmäßig 0,01 - bis 0,5mal so groß wie in der Schicht an der Seite
desSchichtlrägcrs.
Um das Bild besser sichtbar zu machen, kann man der photopolymerisierbaren Schicht ein Farbmittel
einverleiben. Man kann für diesen Zweck beliebige, auf dem einschlägigen Gebiet gebräuchliche Farbmittel
verwenden, beispielsweise Titandioxid, Ruß, Kristallviolett, Azopigmentc, Eisenoxide, Phihaloeyaninpigmente.
Methylenblau, Rhodamin B, Fuchsin, Auramine. Azofarbstoffe oder Anthrachinonfarbstoffe. Wenn man als
Farbmittel ein Pigment einsetzt, wird dieses in einem Anteil von 0,1 bis 25 Gew.-Teilen (vorzugsweise 0.1 bis 5 1 j
Gcw.-Teilen) pro 100 Gew.-Tcile der Summe aus Bindemittel und Monomerem verwendet. Bei Verwendung
eines Farbstoffs als Farbmittel wird dieser in einem Anteil von 0,01 bis 10 Gcw.-Teilen pro 100 Gew.-Teile der
Summe aus Bindemittel und Monomerem eingesetzt.
Nach Bedarf kann man der photopolymerisierbaren Schicht ferner eine heterocyclische Stickstoffverbindung
einverleiben. Man kann für diesen Zweck beliebige, auf dem einschlägigen Gebiet gebräuchliche heterocyclische :o
Stickstoffverbindungen verwenden, beispielsweise Benzimidazol, 2-Aminobenzimidazol, 5-Nitrobenzirmdazol,
5-Methylbenzimidazol, Bcnzotriazol, l-Chlorben/.otriazol oder 2-Aminolbenzothiazol. Durch die Einverleibung
einer solchen heterocyclischen Stickstoffverbindung in die photopolymerisierbare Schicht läßt sich deren Haftvermögen
gegenüber einem metallplattiertcn Bildempfangsmaterial oder einem Metallbildempfangsmaterial
verbessern. Im allgemeinen werden Anteile der heterocyclischen Stickstoffverbindung von 0,1 bis 10 Gew.-Tei- _>5
len (insbesondere 0,5 bis 5 Gew.-Teilen) pro 100 Gew.-Tcile der Summe des Bindemittels und photopolymerisierbaren
Monomeren bevorzugt. Als Alternative oder zusätzlich kann man zur Verbesserung der Haftfähigkeit
zwischen photopolymerisierbarer Schicht und Bildempfangsmaterial einen Klebstoff auf das Bildempfangsmaterial
aufbringen.
Weiterhin kann man der photopolymerisierbaren Schicht nach Bedarf einen Weichmacher einverleiben. Man jo
kann für diesen Zweck einen beliebigen, auf dem einschlägigen Gebiet gebräuchlichen Weichmacher einsetzen,
beispielsweise Phthalsäureester, wie Dimethylphthalat, Diäthylphthalat. Dibutylphthalat oder Dioctylphthalat,
Glykolester, wie Dimethylglykolphthalat oder Äthylphthalyläthylglykolat, Phosphorsäureester, wie Trikresylphosphat
oder Triphenylphosphat und Ester aliphatischen dibasischer Säuren, wie Diisobutyladipat. Dioctyladipat
oder Dimethylsebacat. Der Weichmacher wird in einer Menge von 0.1 bis 30 Gew.-Teilen (vorzugsweise 2 bis J5
10 Gew.-Teilen) pro 100 Gew.-Tcile der Summe des organischen polymeren Bindemittels und des photopolymer!SiC!*Lrüreri
incrionicrcri eingesetzt.
Wie erwähnt, können positiv arbeitende photoabbaubare Massen im erfindungsgemäßen Bilderzeugungsverfahren
als anderer Typ einer lichtempfindlichen Masse verwendet werden. Beispiele für organische polymere
Bindemittel, die für die positiv arbeitende lichtempfindliche Schicht verwendet werden können, sind Methylme- jo
thacrylat-Copolymere mit Acrylsäure und/oder Methacrylsäure, Novolakharze, Cellulosederivate, wie CcIuIoseacetatsuccinat,
und Mischungen davon. Als Schichtträger können mit Vorteil Folien dienen, die aus einem in
einem wäßrigen Lösungsmittel löslichen Polymeren, wie Polyvinylalkohol. Polyvinylpyrrolidon oder Celluloseacetatsuccinat.
erzeugt wurden. Der Ausdruck »wäßriges Lösungsmittel« schließt hier Wasser allein und wäUrige
Lösungen von Säuren oder Alkalien ein. Als photoabbaubare Massen können mit Vorteil solche verwendet
werden, die ein o-Chinondiazid enthalten, da derartige Massen eine hervorragende (optische) Auflösung besitzen.
Wenn eine ein o-Chinondiazid enthaltende lichtempfindliche Masse verwendet wird, kann man als flüssigen
Entwickler eine wäßrige Alkalilösung einsetzen.
Ein für die erfindungsgemäße Bilderzeugung geeignetes Aufzeichnungsmaterial ist leicht herstellbar, z. B. in
folgender Weise: Man bringt eine Lösung einer lichtempfindlichen Masse auf eine Ablösungs- bzw. Trennvermögen
aufweisende Platte oder Folie auf und überträgt die gebildete lichtempfindliche Schicht auf einen
Schichtträger, wobei man ein Aufzeichnungsmaterial ohne Schutzfolie erhält. Bei Verwendung eines Schichtträgers,
der gegenüber dem Angriff des Lösungsmittels einer Lösung einer lichtempfindlichen Masse widerstandsfähig
ist, kann man die Lösung direkt auf den Schichtträger aufbringen, um ein Aufzeichnungsmaterial zu
erzeugen. Im Falle eines eine Schutzfolie aufweisenden Aufzeichnungsmaterials bringt man eine Lösung einer
lichtempfindlichen Masse auf die Schutzfolie auf und laminiert die gebildete lichtempfindliche Schicht mit der
Schutzfolie auf einen Schichtträger.
Das erfindungsgemäße, zur Bilderzeugung dienende Aufzeichnungsmaterial enthält einen orientierten, transparenten
Schichtträger, der aus einem aus den vorgenannten Polymeren ausgewählten polymeren Material
besieht, und eine lichtempfindliche Schicht. Ein zur Auflösung oder Dispergierung sowohl des Schichtträgers als
auch der Nicht-Bildbereiche der Schicht befähigter flüssiger Entwickler wird unter den vorgenannten Lösungsmitteln
ausgewählt und zur Entwicklung verwendet. Es sei jedoch festgestellt, daß auch andere flüssige Entwickler
als die hier beispielhaft aufgeführten Substanzen mit Vorteil verwendbar sind.
Unter einem »flüssigen Entwickler« ist hier eine Flüssigkeit zu verstehen, die dazu befähigt ist. den Schichtträger
und die Nicht-Büdbereiche der Schicht zu entfernen, damn ein Bild erzeugt wird. Daher kann eine Flüssigkeit
sogar dann, wenn sie nicht zum Weglösen dia Schichtträgers und/oder der Nicht-Bildbereiche der Schicht
befähigt ist, als Entwickler verwendet werden, sofern sie irgendwie in der Lage ist, den Schichtträger und die
Nicht-Bii'Jbereiche der Schicht im Rahmen irgendeiner Behandlung mit dem flüssigen Entwickler zu entfernen.
Die Dicke der erfindungsgemäß verwendeten liciitcmpfindlichen Schicht beträgt vorzugsweise 0,1 bis
1000 μΓΠ, insbesondere I bis 100 μηι. Je dünner die lichtempfindliche Schicht ist, umso größer ist die Verbesserung
der Auflösung.
Die Dicke des orientierten transparenten Schichtträger betragt vorzugsweise 5 bis 100 μιη, insbesondere 10
bis 50 μΐη. Solche Dicken werden gewählt, weii der transparente Schichtträger dem Aufzeichnungsmaterial eine
genügend große Fesligkeil verleihen muß, daß das Aufzeichnungsmaterial der Ablösung der Schutzfolie und der
Laminierung auf dem Bildempfangsmaterial widersteht, damit eine Verformung des Aufzeir:hnungsmaleriak
vermieden wird, und auch weil die für die Entwicklung erforderliche Zeit im Falle eines dünnen, transparenten
Schichtträgers verkürzt werden kann. Der orientierte Schichtträger kann nach herkömmlichen Methoden,
ίο beispielsweise durch Reck- oder Walzoricntierung, hergestellt werden. Ein biaxial orientierter Schichtträger ist
am besten geeignet.
Ein orientierter transparenter Schichtträger ist im allgemeinen dünn, verleiht einem Aufzeichnungsmaterial
aber trotzdem eine ausreichende Festigkeit bzw. Elastizität. Ferner wird in diesem Falle die Auflösung des
SchichttrSgers durch die restliche innere Spannung aufgrund der Molekülorientierung erleichtert, weshalb die
is Entwicklungszeit verkürzt werden kann. Außerdem kann der Slreuungsbereich von aklinischen Strahlen in der
Folie bei Verwendung eines dünnen Schichtträgers verschmälert werden, wodurch die Bildauflösung verbessert
wird. Die Verwendung eines orientierten, transparenten Schichtträgers bringt somit verschiedene praktische
Vorteile mit sich.
Als Schutzioiien eignen sich z. B. bekannte Materialien, wie Poiyäiliyieiiicrcpiuuuiai-, Polypropylen-, "olyäthylen-.
Cellulosetriacetat-, Cellulosediacetat-, Polyamid- und Polytetrafluoräthylcnfolicn, Papier, polyäthylenkaschiertes
Papier und polypropylenkaschiertes Papier. Die Dicke der Schutzfolie bclrägt 8 bis 80 μιτι, vorzugsweise
10 bis 30 μιτι.
Als Bildempfangsmaterialien, auf welchen ein Bild erzeugt wird, eignen sich beispielsweise eine Schichtplattc,
deren Oberfläche^) durch eine Ätzflüssigkeit ätzbar ist (sind), eine Metallplatte, wie eine Platte aus Kupfer,
Aluminium, Eisen, Messing, Silber, Gold oder korrosionsbeständigem Stahl, eine Glasplatte oder eine Steinplatte.
Schichtplatten, deren Oberfläche^) äi/.bar ist (sind), z. B. kupfer- oder aluminiumplatticrte Bildcmpfangsmaterialien,
körnen zur Herstellung von gedruckten Schaltungen gemäß dem Verfahren der Erfindung eingesetzt
werden.
Als Lichtquelle für die Beachtung mit aklinischen Strahlen eignen sich z.B. Quccksilberhochdrucklampen,
Quecksilberhöchstdrucklampen, Quecksilbcrniederdrucklampen, Xcnonlampen, Kohlcnbogenlampcn und
Glimm- bzw. Leuchtstofflampen (Fluoreszenzlampen). Außer aktinischcm Licht von den genannten Lichtquellen
kann man für die bildmäßige Belichtung auch Röntgen-, Laser- und Elektronenstrahlen verwenden.
Aus den vorangehenden Ausführungen geht hervor, daß die mühsame Verfahrensstufe des Ablösens des
Schichtträgers vor oder nach der Belichtung bei der vorliegenden Erfindung entfallen kann. Da der Schichtträger
nicht abgelöst zu werden braucht, kann die Dicke der lichtempfindlichen Schicht beträchtlich herabgesetzt
werden, ohne daß die Kohäsion der lichtempfindlichen Schicht berücksichtigt zu werden braucht. Auf diese
Weise kann die Bildauflösung beträchtlich verbessert werden. Wenn das für das erfindungsgemäße Verfahren
verwendete Aufzeichnungsmaterial unter Erhitzen mit dem Bildempfangsmaterial laminiert wird, braucht ferner
die Temperatur, da die Ablösung des Schichtträgers entfällt, nicht so stark wie bei de: herkömmlichen Methode
erhöht zu werden. Außerdem werden selbst bei geringer Haftung zwischen der lichtempfindlichen Schicht und
dem Bildempfangsmaterial gute Resultate erzielt, wenn lediglich die Haftung zwischen dem durch die Entwicklung
erzeugten Bild und dem Bildempfangsmaterial genügend groß ist, um der darauffolgenden Behandlung (wie
einer Ätzung) zu widerstehen. Die Handhabung des Aufzeichnungsmaterial wird daher durch die Erfir dung
beträchtlich vereinfacht und erleichtert. Bei der Erfindung stellt weiterhin die ungleichmäßige Haftung zwischen
lichtempfindlicher Schicht und Bildempfangsmaterial aufgrund eines ungleichmäßigen Erhitzens oder Pressens
kein Problem mehr dar.
Das Aufzeichnungsmaterial und das Bilderzeugungsverfahren der Erfindung können mit Vorteil zur Herstellung
gedruckter Schaltungen herangezogen werden; der Anwendungsbereich der Erfindung beschränkt sich
jedoch nicht darauf. Beispielsweise kann das crfindungsgemäße Verfahren wirkungsvoll für das chemische
so Fräsen oder Bearbeiten von Halbleitern angewendet werden. Das Verfahren eignet sich auf für die Herstellung
von Photoreliefs, wie für Druckplatten, Namens- oder Motorschilder, Dekorationsartikel und dergleichen.
Man kann das erfindungsgernäße Aufzeichnungsmaterial ferner vortcilhaflerwcise in Form eines langgestreckten
Streifenr erzeugen, der zur besseren Handhabung oder Lagerung oder dergleichen zu einer Rolle
aufgewickelt werden kann.
Die nachstehenden Beispiele sollen die Erfindung näher erläutern, ohne sie jedoch zu beschränken.
Die nachstehenden Beispiele sollen die Erfindung näher erläutern, ohne sie jedoch zu beschränken.
In den Beispielen wird die »Auflösung« wie folgt bestimmt. Man erzeugt nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren mehrere polymere Bilder unter Verwendung eines Aufzeichnungsmaterials und mehrerer Filmmasken
die sich in der Linienbreite des Bildes unterscheiden, welches aus eine gegebene Breite aufweisenden
transparenten Linien und dieselbe Breite wie die transparenten Linien aufweisenden opaken Linien besteht.
Man betrachtet jedes polymere Bild visuell durch ein Mikroskop, um festzustellen, ob das polymere Bild
erkennbare Linien aufweist oder nicht. Die Mindest-Linienbreite unter den Linienbreiten der Bilder jener
Filmmasken, welche ein polymeres Bild mit erkennbaren Linien ergeben können, wird als die »Auflösung« des
lichtempfindlichen Elements definiert.
Das im vorliegenden Rahmen angegebene Viskositätsmittel des Molekulargewichts (M1.) wird aus der grundo5
molaren Viskositätszahl (Imrinsikviskosiiät) [y] bei 25°C einer Lösung des Polymeren in einem Lösungsmittel
nach folgender Gleichung berechnet:
worin K und α artspezifische Konstanten des Polymeren darstellen.
Die grundmolare Viskositätszahl wird mit Hilfe eines Ostwald-Viskosimeters bestimmt.
Für Polymethylmethacrylat und Polystyrol werden z. B. folgende Lösungsmittel verwendet und gelten folgende
Konstanten K und n:
5 Lösungsmittel K a
Polymethylmethacrylat Chloroform 4,85x10-" 0,80
Polystyrol Benzol 1.Ox 10-4 0,74
Das Viskositätsmittel des Molekulargewichts (M1) ist praktisch gleich wie das Gewichtsmittel des Molekulargewichts
(M»\
Bc i s pi c 1 1 -5
Man stellt eine Lösung zur Herstellung einer photopolymerisierbaren Schicht aus folgenden Bestandteilen
her:
Mithylmethacrylat/Methaerylsäure-Copolymeres
(Molverhältnis 90 :10; M, = 120 000) 40 g
Trimethylolpropantriacrylat 15 g
2-Äthylanthrachinon 0.5 g
Methylviolett (C. 1.42 535) 0.1 g
p-Methoxyphenol 0,15 g
Methyläthylketon 140 g
Die Lösung wird auf eine 25 μηι dicke Polyäthyicnterephthalatfolie aufgetragen und 5 Min. bei 803C getrocknet.
Es bildet sich eine photopolymcrisicrbare Schicht mit einer trockenen Dicke von 12 μιη. Auf diese photopolymerisierbare
Schicht wird dann zur Herstellung eines Aufzeichnungsmaterial unter Anwendung einer Druckwalze
eine 20 μπι dicke, biaxial orientierte Polystyrolfolie als Schichtträger auflaminiert.
Weiterhin wird ein verkupfertes, glasfaserverstärktes Epoxyharz-Bildempfangsmaterial mit Trichloräthylen
entfettet. 30 Sekunden in 10gcw.-°/oige wäßrige Salzsäure getaucht, mit Wasser gewaschen, mit einer Oberflächenschleifmaschinc
aufgerauht, mit Wasser gewaschen und getrocknet.
Die als Schutzfolie für das Aufzeichnungsmaterial dienende Polyäthylenterephthalatfolie wird dann abgezogen.
Dann wird die photopolymerisierbare Schicht mit dem Schichtträger mit Hilfe von Quetschwalzen auf das
in der vorgenannten Weise behandelte und auf 90°C erhitzte, verkupferte Bildempfangsmaterial zur Herstellung
einer Schichtplatte auflaminiert. Der Laminierdruck beträgt 1,96 bar und die Laminiergeschwindigkeit 1 m/min.
Die Haftung zwischen der als Schichtträger dienenden, biaxial orientierten Polystyrolfolie und der photopolymerisierbaren
Schicht ist sehr groß, so daß der Schichtträger beim Versuch zur gewaltsamen Auftrennung reißt «o
oder zwischen der Kupferoberfläche und der photopolymerisierbaren Schicht eine Ablösung stattfindet.
Die pholopolymerisicrbare Schicht der erhaltenen Schichtplatte wird 45 Sekunden durch ein Negativbild mit
den aktinischen Strahlen einer 3-kW-Quecksilbcrhochdrucklampe, die in 50-cm-Abstand von der Schichtträgeroberfläche
angeordnet wird, belichtet. Anschließend spritzt man b0 Sekunden lang aus einer Sprühdüse 1,1,1 -Trichloräthan
gegen die Schichtplatte, um den Schichtträger und die unbelichteten Bereiche der photopolymerisier- *5
baren Schicht wcgzulösen und zu beseitigen. Auf diese Weise erhält man ein Resistbild. Man bestimmt die
Auflösung des Bildes und stellt klare Linien mit einer Breite von 25 μιη fest. Dann spritzt man zur Entfernung des
Kupfers an den nicht durch das Resistbild geschützten Bereichen mit Hilfe einer Düsen-Ätzvorrichtung Eisen(lll)-ch!oridlösung
(50"C; Dichte 45" Baume) gegen die Schichtplatte. Das Resistbild wird bei dieser Ätzung
überhaupt nicht angcgriffr-n und bleibt mit dem verkupferten Substrat fest verbunden. Die geätzte Schichtplatte
bzw. -tafel wird dann mit Wasser gewaschen und getrocknet, wonach der Resist mit Methylendichlorid entfernt
wird. Man erhält ein klares Kupfcnnuster mit einer Linienbreite von 25 μπι.
Man stellt eine Lösung für eine photopolymerisierbare Schicht aus folgenden Bestandteilen her:
Slyrol/Acrylniiril-Copolymercs:
(Molverhältnis « 85 :15: Af, « 150 000) 50 g
Penlaerythrittriacrylat 15 g
2-Methylanthrachinon 0.5 g
Victoriablau (C. 1.42 563) 0,2 g
Methyläthylketon 280 g
Man trägt die erhaltene Lösung auf eine 50 μιη dicke Polypropylenfolie auf, wobei eine photopolymerisierba- b5
re Schicht mit einer trockenen Dicke von 15 μπι entsteht. Die photopolymerisierbare Schicht wird dann auf eine
15 μιη dicke, biaxial orientierte Polystyrolfolie auflaminiert. Die Auflaminierung auf das Bildempfangsmaterial
sowie die anschließende Belichtung und Entwicklung werden gemäß Beispiel 1 durchgeführt. Die Auflösung des
erhaltenen Bildes beträgt 30 μπι. Das Resistbild erleidet bei der Ätzung keinerlei Veränderung. Nach der*
Entfernung des Resists erhält man ein befriedigendes Muster.
Chloriertes Polyäthylen 21 g
Polymethylmethacrylat 9 g
ίο Trimethylolpropantriacrylat 20 g
Die Lösung wird auf eine 50 μπι dicke Polypropylenfolie aufgebracht, wobei eine photopolymeriyierbarc
Schicht mit einer trockenen Dicke von 10 μπι erhalten wird. Anschließend wird die photopolymeriiierbare
Schicht auf eine als Schichtträger dienende, 20 μπι dicke, biaxial orientierte Polymcthylmelhacrylatfolic auflaminiert. Dann wird die Polypropylenfolie abgelöst und die photopolymensierbare Schicht mit ihrem Träger unter
Verwendung von Quetschwalzen auf ein auf !0Q0C erhitztes, verkupfertes EpQxyharz-Büdempfangsmaiena!
auflaminiert. Der Laminierdruck beträgt 3,9 bar und die Laminiergcschwindigkeit 1,5 m/min. Anschließend
werden die Belichtung und Entwicklung gemäß Beispiel 1 durchgeführt. Die Auflösung des erhaltenen Bildes
beträgt 20 μπι. Das Resistbild ist selbst nach der Ätzung stabil. Nach der Entfernung des Resist* erhält man ein
befriedigendes Muster.
Eine Lösung für eine photopolymerisierbare Schicht wird gemäß Beispiel 3 hergestellt und auf eine 50 μιτι
dicke Polypropylenfolie aufgetragen, wobei man eine photopolymerisicrbare Schicht mit einer trockenen Dicke
von 15μπι erhält. Der Überzugsfilm wird zur Herstellung eines lichtempfindlichen Elements auf eine ais
Schichtträger dienende, 20 μπι dicke, biaxial orientierte Polyvinylchloridfolie auflaminicrt. Dann wird die Polypropylenfolie abgelöst und die photopolymerisicrbare Schicht mit ihrem Träger auf ein ;iuf 100"C erhitztes,
verkupfertes Epoxyharz-Bildempfangsmaterial auflaminicri. Anschließend belichtet man die photopolymerisierbare Schicht der Schichtplatte 30 Sekunden durch ein Negativbild mit den aklinischen Strahlen einer 2-kW-
Quecksilberhöchstdrucklampe, die in 50-cm-Abstand von der Schichtträgcroberflächc aufgestellt wird. Danach
wird zur Auflösung und Entfernung des Schichtträger und der unbelichteten Bereiche der photopolymerisicrbaren Schicht Tetrahydrofuran 45 Sekunden lang aus einer Sprühdüse gegen die Schichtplatie gespritzt Man
erhält ein Resistbild, dessen Auflösung mit 30 μπι ermittelt wird. Selbst nach der Ätzung ist das Resistbild stabil.
Nach Entfernung des Resists erhält man ein befriedigendes Muster.
Gemäß Beispiel 1 wird eine photopolymerisierbare Schicht mit einer trockenen Dicke von 12 μηι auf eine
25 μιτι dicke Polyäthylentcrephthalatfolie als .Schichtträger aufgebracht. Analog Beispiel I wird die photopolymerisierbare Schicht mit ihrem Träger durch Pressen auf ein auf 90"C erhitztes, verkupfertes Epoxy-Bildemp
fangsmaterial aufgebracht und danach mit aktinischcm Licht belichtet. Bei der anschließenden Ablösung der
Polyäthylenterephthalatfolic bleiben ein Teil der photopolyinerisierbaren Schicht am verkupferten Bildempfangsmaterial und der andere Teil dieser Schicht an der Polyälhylcnlcrcphthalatfolic haften. Die photopolymerisierbare Schicht wird somit zerstört, und es wird ein unregelmäßiges Bild erzieh.
Eine auf eine 50 μπι dicke Polypropylenfolic als Schichtträger gemäß Beispiel 3 aufgebrachte, photopolymerisierbare Schicht wird zur Herstellung einer Schichtplatte analog Beispiel 3 auf ein auf 100"C erhitztes, vcrkupfertes Epoxyharzsubstrat auflaminiert. Dann belichtet man analog Beispiel 1 mit aklinischem Licht. Durch
Ablösung der Polypropylenfolien (Schichtträger) wird die photopolymerisicrbare Schicht zerstört und bleibt
sowohl am Schichtträger als auch auf der Kiipfcrobcrflächc haften. Eine Entwicklung der erhaltenen Schichtplatte ist daher praktisch nutzlos.
bo B e i s ρ i c I 5
Man stellt eine Lösung für eine pholopolyincrisicrbare Schicht analog Beispiel I her. wobei man anstelle von
1.5 g 2-Äthylanthrachinon nur 0,5 g dieses Photopolymerisationsinitiators einsetzt. Diese Lösung wird nachstehend als »Lösung A« bezeichnet. Die gemäß Beispiel I hergestellte Lösung erhält die Bezeichnung »Lösung B«.
tj5 Die Lösung A wird auf eine 25 μητ dicke Polyälhylcnlcrcphlhalatfolic aufgetragen und getrocknet, wobei eine
Schicht A mit einer trockenen Dick? von 12 μηι erhalten wird. Die Lösung B wird dann auf die Schicht Λ
aufgebracht und getrocknet, wobei eine Schicht B mit einer trockenen Dicke von 12 μιτι gebildet wird. Man
erhält somit eine pholopolymerisierbarc Schicht mit einer (iesnmtdickc von 24 μηι. Diese Schicht wird auf eine
20 μηι dicke, biaxial orientierte Polyslyrolfolie auflaminiert.
Analog Beispiel I führt man dann eine !.aminierung auf eine Kupferplattc, bildmüßige Belichtung und
Entwicklung durch, wobei an der Kupferplalle ein Rcsistbild erzeugt wird.
Das Resisibild besitzt im wesentlichen vertikale Seitenflächen. Ks wird nicht festgestellt, daß der Polymerisationsgrad
in der Schicht A aufgrund der Streuung der akiinischen Strahlen geringer als der Polynierisationsgrad
in der Schicht B ist.
Man stellt eine Lösung für eine photopolynierisierbare Schicht analog Beispiel I her. wobei man jedoch 0.03 g id
anstelle 0.15 g p-Methoxyphenol als Polymerisalionsinhibitor einsetzt. Die erhaltene Lösung wird als »Lösung
C« bezeichnet. Die gcmäU Beispiel 1 hergestellte Lösung wird »Lösung D« genannt.
Die Lösung C wird auf eine 25 μπι dicke Polyälhylcnterephthalatfolie aufgebracht dnd getrocknet, wobei eine
Schicht C mit einer trockenen Dicke von 10 μηι gebildet v'rd. Anschließend trägt man die Lösung D auf die
Schicht C auf und trocknet sie, wobei eine Schicht D mit einer trockenen Dicke von 10 um entsieht. Man erhäii :5
somit eine photopolymerisierbare Schicht mit einer Gesamtdieke von 20 μηι. Diese Schicht wird auf eine 20 um
dicke, biaxial orientierte Polystyrolfolie auflaminieri.
Analog Beispiel 1 werden dann eine !.aminierung auf eine Kupferplalte. bildmäßige Belichtung und Entwicklung
durchgeführt, wodurch letztlich ein Resisibild an der Kupferplatte erzeugt wird.
ί·;ίπρ I Inicr^ichiing der Querschnitte des erhaltenen Rcsistbildes ergibt, daß dieses praktisch vertikale Seiten- :n
flächen und befriedigende Querschnitte mit praktisch rechteckiger Form aufweist. Dieser Effekt ist auf die
praktisch gleichmäßige Polymerisation zurückzuführen, welche dadurch erzielt wird, daß man in der photopolymerisierbaren
Gesamtschicht die Schicht C vorsieht, welche zur Erhöhung ihrer Lichtempfindlichkeit eine
geringere Menge des Polymcrisationsiniiiators enthält.
Man versetzt die gemäß Beispiel 1 hergestellte Lösung mit 0.6 g Bcn/.imidazol, trägt sie auf eine 25 μιη dicke
Polyäthylenlercphihalatfolie auf und trocknet sie zur Bildung einer photopolymerisierbaren Schicht mit einer
trockenen Dick:; von 25 μηι. Die photopolynierisierbare Schicht wird dann zur Herstellung eines lichiempfindli- ;·■
then Elements auf eine als Schichtträger dienende, 20 μηι dicke, biaxial orientierte Poljstyrolfolie auflüminiert.
Anschließend wird die Polya-.nvlcnicrcphthaluifolic abgelöst und die freigelegte photopoKmerisierbare
Schicht gemäß Beispiel 1 ai.i eine Kupferplalle auf la minien. Dabei erhält man eine Schicht platte, die man analog
Beispiel 1 mit uklinischCin Licht belichtet, wobei man jedoch keinen Negativfilm verwendet. I crner wird eine
gleiche photopolymerisierbare Schicht, wie sie in Beispiel ! hergestellt wird, mit ihrem Träger gemäß Beispiel 1
auf ein Kupfer-Bildeinpfangsmaierial auflaminiert. Die erhaltene Schichiplatle wird in der vorstehend beschriebenen
Weise mil aklinischem Licht belichtet. Dann wird auf die Schichtplattcn zur Entfernung des Trägers
jeweils gemäß Beispiel I 1.1,1-Trichlorälhan aufgespritzt. Danach bringt man aufdie Oberfläche finer freigelegten
photopolymerisierten Schicht jeder erhaltenen Schichiplatle einen Kpoxyharzklebcr auf. Zur Herstellung
einer Schichtplatlenprobe wird dann aufdie Klebsioffschicht ein Kupfer- Bildempfangsmaterial auflaminieri. -tu
Man bestimmt die Scherspannung /wischen der plioiopolymcrisierien Schicht und dem Kupfer-Bildempfangsmaterial
jeder Schichiplattcnprobe gemäß ASTM1 Prüfnorm D 1002-64. Die Scherspannung zwischen der
Benzimidazol enthaltenden photopolymerisierten Schicht und dem Kupfer-Bildempfangsmaterial beträgt
29,4 bar und die Schcrspannung zwischen der kein Bcn/imidazol enthaltenden photopolymerisierlen Schicht
und dem Kupfer-Bildempfangsmalerial 17.6 bar. Das Benzimidazol hat somit eine ausgeprägte Wirkung auf die
Haftfähigkeil zwischen photopolymerisicrter Schicht und Kupfcr-Bildempfangsmatcrial.
Claims (1)
1. Aufzeichnungsmaterial, das unter Lichteinwirkung seine Löslichkeitseigenschaften verändert, mit einer
lichtempfindlichen Schicht, die auf einem transparenten, in einer Entwicklerfiüssigkeit löslichen oder dispergierbaren
orientierten Schichtträger aufgetragen ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger
eine orientierte Folie aus Polystyrol, einem Styrolcopolymcren, Polymethylmethacrylat, einem Mcthylmethacrylatcopolymeren.
Polyvinylchlorid, Polyvinylacetat. Vinylchlorid/Vinylacetal-Copolymeren. Polycarbonaten
oder Mischungen davon ist.
2. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es eine an der anderen Obcrfläehe
der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse angebrachte ablösbare Schulzfolie aufweist.
3. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzfolie eine Polyethylenterephthalat-,
Polyamid-, Polypropylen- oder Polyäthylenfolie ist.
4. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Masse
der betreffenden Schicht eine photopolymerisierbare Masse ist.
5. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare Masse
ein organisches polymeres Bindemittel, eine äthylenisch ungesättigte Verbindung und einen Photopolymerisationsinitiator
enthält.
6. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das organische polymere Bindemittel
ein Homo- oder Copolymeres von Methylmethacrylat und die äthylenisch ungesättigte Verbindung ein
polyfunktionelles Acrylmonomeres sind. |
7. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus der photo- §
polymerisierbaren Masse mit einem flüssigen Entwickler cnlwickclbar ist, der im wesentlichen aus einem §
Material aus der Gruppe bestehend aus Ketonen. Estern, Alkoholen, Chlorkohlenwasserstoffe^ aromati- U
sehen Kohlenwasserstoffen und Mischungen davon besteht, und daß der transparente, orientierte Schichtträ- ii
ger im flüssigen Entwickler löslich oder dispergicrbar ist. %
8. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch I bis 7. dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus der licht- !i
empfindlichen Masse eine Dicke von 0.1 bis 1000 μιτι aufweist. §
9. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 8. dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Schicht I bis |
100 jim beträgt. &
jo 10. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß der transparente, orien- 3
lierte Schichtträger eine Dicke von 5 bis 100 μπι aufweist. j,
11. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 10. dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke des Schichtträgers t?
i0 bis 50 μπι beträgt. '';
12. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch I bis 11 in Form eines langgestreckten, zu einer Rolle aufwickel- ?
baren Streifens. .;,
13. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 5 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierba- [>
re Masse eine Mehrfachschicht darstellt, i;i welcher die einzelnen Schichten mit steigender Distanz vom ■'
Schichtträger immer höhere Konzentrationen des Photopolymerisationsinitiators aufweisen. -
14. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 5 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierba- S§
rc Masse zusätzlich einen Phoiopoiymerisationsinhibitor enthält und eine Mchrfachschicht darstellt, in .|
welcher die Einzelschichtcn mit steigender Distanz vom Schichtträger immer geringere Konzentrationen des i.
Polymerisationsinhibitors aufweisen. f.
15. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 5 bis 14. dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierba- £
re Masse zusätzlich eine heterocyclische Stickstoffverbindung enthält. fi
•15 16. Verfahren zur Herstellung von Rclicfbildern. bei dein auf ein bildempfangsmaterial ein Aufzeichnungsmaterial,
das unter Lichteinwirkung seine Löslichkeitseigenschaften ändert, mit seiner lichtempfindlichen ,····
Schicht, die auf einen transparenten Schichtträger aufgetragen ist. auflaminiert, bildmäßig belichtet und mit ;;
einer Entwicklcrflüssigkeit entwickelt wird, dadurch gekennzeichnet, daß man einen Schichtträger in Form ,■
einer orientierten Folie verwendet und daß der Schichtträger beim Entwickeln durch die EntW'.klerflüssigkcii
weggewaschen wird.
17. Verfahren nach Anspruch 16. dadurch gekennzeichnet, daß man als lichtempfindliche Masse der
betreffenden Schicht eine photopolymerisierbare Masse verwendet.
18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß man eine photopolymerisierbare Masse '·,
\ erwendet, die ein organisches polymeres Bindemittel, eine äthylenisch ungesättigte Verbindung und einen
Photopolymerisationsinitiator enthält.
19. Verfahren nach Anspruch 18. dadurch gekennzeichnet, daß man als organisches polymeres Bindemittel
ein Homo- oder Copolymeres von Methylmethacrylat und als äthylenisch ungesättigte Verbindung ein ,
polyfunktionelles Acrylmonomcres verwendet.
20. Verfahren nach Anspruch 16. dadurch gekennzeichnet, daß man als lichtempfindliche Masse der
m\ betroffenden Schicht eine photoabbaubarc. positiv arbeitende Masse verwendet.
2t. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß man als positiv arbeitende Masse eine ein
oC'hinondia/id enthaltende Masse und als Schichtträger eine Folie aus einem wasserlöslichen Polymeren
verwendet
22. Verfahren nach Anspruch 20 und 21, dadurch gekennzeichnet, daß man als Schicht träger eine orientieren",
te Polyvinylalkohol-. Polyvinylpyrrolidon- oderCclluloseaceiatsuccinatfolie verwendet.
2J. Verfahren nach Anspruch Ib bis 19. dadurch gekennzeichnet, daß man als Schichtträger eine orientierte
Folie aus einem Material aus der Gruppe bestehend aus Polystyrol. Styrolcopolymcren, Polymcthylmcthai-iv
la 1. MethvlnicthaiTvlatcopolymeren. Polyvinylchlorid. Poly vinylacetat. Vinylchlorid/Vinylacetat-Copoly-
meren. Polycarbonaten und Mischungen davon verwendet.
24. Verfahren nach Anspruch 16 bis 19 und 23, dadurch gekennzeichnet, daß man als Entwickler ein
Material aus der Gruppe bestehend aus Ketonen, Estern, Alkoholen, Chlorkohlenwasserstoffen, aromatischen
Kohlenwasserstoffen und Mischungen davon verwendet.
25. Verfahren nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß man als Entwickler ein Material aus der
Gruppe bestehend aus Methylethylketon, Äthylacetat, Trichloräthylen, 1,1,1-Trichloräthan und Mischungen
davon verwendet.
26. Verfahren nach Anspruch 16 bis 19 und 23 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß man als photopolymei '.-sierbare
Masse eine Masse verwendet, weiche Polymethylmethacrylat als organisches polymeres Bindemittel,
Trimethylolpropantriacrylat als äthylenisch ungesättigte Verbindung sowie einen Photopolymerisationsinitiator
enthält, daß man als Schichtträger eine orientierte Folie aus Polystyrol oder Polymethylmethacrylat
einsetzt und daß man als Entwickler ein Material aus der Gruppe bestehend aus Methyläthylketon, Äthylacetat,
Trichloräthylen, 1,1,1-Trichloräthan oder Mischungen davon verwendet
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52082573A JPS5836331B2 (ja) | 1977-07-12 | 1977-07-12 | レジスト像の形成法 |
JP15709177A JPS5487869A (en) | 1977-12-26 | 1977-12-26 | Method of producing printed circuit base board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2830622A1 DE2830622A1 (de) | 1979-01-18 |
DE2830622C2 true DE2830622C2 (de) | 1985-03-14 |
Family
ID=26423601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2830622A Expired DE2830622C2 (de) | 1977-07-12 | 1978-07-12 | Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern unter Verwendung dieses Aufzeichnungsmaterials |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US4211560A (de) |
DE (1) | DE2830622C2 (de) |
FR (1) | FR2397770A1 (de) |
GB (2) | GB2049972B (de) |
NL (1) | NL187372C (de) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2049972B (en) * | 1977-07-12 | 1982-06-23 | Asahi Chemical Ind | Photosensitive element for producing a printed circuit board |
JPS57208556A (en) | 1981-06-18 | 1982-12-21 | Nippon Paint Co Ltd | Photosensitive printing plate material |
US4888450A (en) * | 1981-12-11 | 1989-12-19 | At&T Bell Laboratories | Circuit board fabrication leading to increased capacity |
DE3279915D1 (en) * | 1981-12-11 | 1989-10-05 | Western Electric Co | Circuit board fabrication leading to increased capacity |
JPS58178348A (ja) * | 1982-04-13 | 1983-10-19 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 画像形成法 |
US4631246A (en) * | 1982-04-14 | 1986-12-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Uniform cover sheet with rough surface in a photosensitive element |
US4567128A (en) * | 1982-04-14 | 1986-01-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Cover sheet in a photosensitive element |
JPS5997140A (ja) * | 1982-11-26 | 1984-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラ−プル−フイングシ−トの製法 |
US4483917A (en) * | 1983-02-14 | 1984-11-20 | The Dow Chemical Company | Photoresist stripper composition and method of use |
US4438192A (en) * | 1983-02-14 | 1984-03-20 | The Dow Chemical Company | Photoresist stripper composition and method of use |
US4582778A (en) * | 1983-10-25 | 1986-04-15 | Sullivan Donald F | Multi-function photopolymer for efficiently producing high resolution images on printed wiring boards, and the like |
US4846552A (en) * | 1986-04-16 | 1989-07-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method of fabricating high efficiency binary planar optical elements |
CA2022753C (en) * | 1989-05-17 | 1996-11-12 | Hideki Matsuda | Photocurable resin laminate and method for producing printed circuit board by use thereof |
JPH0476985A (ja) * | 1990-07-18 | 1992-03-11 | Cmk Corp | プリント配線板の製造法 |
EP0729071A1 (de) * | 1995-02-15 | 1996-08-28 | Schablonentechnik Kufstein Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung einer Druckschablone |
TW475098B (en) * | 1995-10-27 | 2002-02-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminated film containing the same |
US6156433A (en) | 1996-01-26 | 2000-12-05 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electrode for plasma display panel and process for producing the same |
MY120763A (en) * | 1997-09-19 | 2005-11-30 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive film, process for laminating photosensitive resin layer, photosensitive resin layer-laminated substrate and process for curing photosensitive resin layer |
US6424339B1 (en) * | 2000-06-16 | 2002-07-23 | The Bergquist Company | Touch screen assembly |
DE10260235B4 (de) * | 2002-12-20 | 2010-10-28 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Strukturieren einer Resistschicht und Negativ-Resistschicht |
JP4322757B2 (ja) * | 2004-09-06 | 2009-09-02 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成材料及びパターン形成方法 |
KR100714377B1 (ko) | 2006-02-27 | 2007-05-04 | 김수학 | 연결부가 생략된 패턴을 형성시키는 방법 및 연결부가생략된 패턴이 형성된 금속평판 |
TW200939452A (en) * | 2008-03-05 | 2009-09-16 | Harvatek Corp | LED chip package structure applied to a backlight module manufacturing method thereof |
KR101318517B1 (ko) * | 2008-05-30 | 2013-10-16 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 필름형 광분해성 전사재료 |
CN111279804B (zh) * | 2017-12-20 | 2023-10-24 | 住友电气工业株式会社 | 制造印刷电路板和层压结构的方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL87862C (de) * | 1951-08-20 | |||
US2731347A (en) * | 1951-10-20 | 1956-01-17 | Du Pont | Photographic emulsions containing fluorine substituted ethylene polymers as delustering agents |
BE538815A (de) * | 1954-06-08 | 1900-01-01 | ||
NL295625A (de) * | 1962-07-26 | |||
US3269861A (en) * | 1963-06-21 | 1966-08-30 | Day Company | Method for electroless copper plating |
DE1202136B (de) * | 1964-06-04 | 1965-09-30 | Agfa Ag | Photographisches Material mit einer aussen angeordneten, eine rauhe Oberflaeche besitzenden Schutzschicht |
US3404057A (en) * | 1966-02-07 | 1968-10-01 | Du Pont | Stripping and laminating machine |
DE1572153B2 (de) * | 1966-06-27 | 1971-07-22 | E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) | Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
US3458311A (en) * | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
CH475690A (fr) * | 1967-07-14 | 1969-07-15 | Jaquet Henri | Procédé pour la fabrication de circuits imprimés et circuit imprimé obtenu par ce procédé |
US3469982A (en) | 1968-09-11 | 1969-09-30 | Jack Richard Celeste | Process for making photoresists |
GB1275471A (en) * | 1969-06-04 | 1972-05-24 | Du Pont | Improvements relating to photo-resists |
US3785817A (en) | 1970-10-05 | 1974-01-15 | A Kuchta | Transfer of photopolymer images by irradiation |
DE2123702C3 (de) | 1971-05-13 | 1988-05-26 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes |
JPS5034966B2 (de) * | 1972-07-24 | 1975-11-12 | ||
US3867153A (en) * | 1972-09-11 | 1975-02-18 | Du Pont | Photohardenable element |
US4072527A (en) * | 1972-09-27 | 1978-02-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Oxygen barrier layers for photopolymerizable elements |
JPS5547383B2 (de) * | 1972-12-13 | 1980-11-29 | ||
US3832176A (en) * | 1973-04-06 | 1974-08-27 | Eastman Kodak Co | Novel photoresist article and process for its use |
JPS5421089B2 (de) * | 1973-05-29 | 1979-07-27 | ||
US3856527A (en) * | 1973-08-06 | 1974-12-24 | Eastman Kodak Co | Protective layer for photothermographic elements |
US3898086A (en) * | 1974-07-12 | 1975-08-05 | Minnesota Mining & Mfg | Sheet material useful in image transfer techniques |
US4126466A (en) * | 1974-07-22 | 1978-11-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Composite, mask-forming, photohardenable elements |
US4081282A (en) * | 1975-11-03 | 1978-03-28 | Seal Incorporated | Dry transfer image systems with non-light sensitive frangible layer |
GB2049972B (en) * | 1977-07-12 | 1982-06-23 | Asahi Chemical Ind | Photosensitive element for producing a printed circuit board |
-
1978
- 1978-07-10 GB GB8021847A patent/GB2049972B/en not_active Expired
- 1978-07-10 GB GB7829290A patent/GB2000874B/en not_active Expired
- 1978-07-11 US US05/923,763 patent/US4211560A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-07-11 FR FR7820677A patent/FR2397770A1/fr active Granted
- 1978-07-12 NL NLAANVRAGE7807528,A patent/NL187372C/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-07-12 DE DE2830622A patent/DE2830622C2/de not_active Expired
-
1979
- 1979-12-18 US US06/104,944 patent/US4301230A/en not_active Expired - Lifetime
-
1981
- 1981-08-25 US US06/295,960 patent/US4360582A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL187372C (nl) | 1991-09-02 |
NL187372B (nl) | 1991-04-02 |
GB2000874A (en) | 1979-01-17 |
US4360582A (en) | 1982-11-23 |
FR2397770B1 (de) | 1984-06-08 |
GB2049972A (en) | 1980-12-31 |
NL7807528A (nl) | 1979-01-16 |
GB2049972B (en) | 1982-06-23 |
US4211560A (en) | 1980-07-08 |
FR2397770A1 (fr) | 1979-02-09 |
GB2000874B (en) | 1982-02-17 |
DE2830622A1 (de) | 1979-01-18 |
US4301230A (en) | 1981-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2830622C2 (de) | Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern unter Verwendung dieses Aufzeichnungsmaterials | |
DE2027467C3 (de) | Photopolymerisierbare Kopiermasse | |
DE1906668C3 (de) | Fotografisches Aufzeichnungsmaterial für Bildreproduktionen und Verfahren zu seiner Herstellung sowie ein Reproduktionsverfahren | |
EP0767407B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckplatten unter Verwendung eines durch digitale Informationsübertragung geeigneten mehrschichtigen Aufzeichnungselements | |
DE2123702C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes | |
DE2039861C3 (de) | Photopolymensierbare Kopier masse | |
EP0326977B1 (de) | Flächenförmiges lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
DE3720725C2 (de) | Lichtempfindliches Material | |
DE2558530A1 (de) | Bilderzeugungsverfahren | |
DE2558528A1 (de) | Aufzeichnungsmaterial | |
DE2004214A1 (de) | Verfahren zur Bildreproduktion unter Verwendung eines fotohaertbaren Materials | |
DE3342681A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer farbprueffolie | |
DE2558531A1 (de) | Aufzeichnungsverfahren | |
DE2414240A1 (de) | Photopolymerisierbare masse und ihre verwendung in einem aufzeichnungsmaterial | |
DE19711696C1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines photopolymerisierbaren Aufzeichungsmaterials | |
DE3600442A1 (de) | Photopolymerisierbare masse | |
EP0295547B1 (de) | Durch Photopolymerisation vernetzbares Gemisch | |
EP0249857A2 (de) | Lichtempfindliches Aufzeichnungselement | |
DE4336115A1 (de) | Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten | |
EP0361173A1 (de) | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
DE2623926C3 (de) | Photographisches Aufzeichnungsmaterial und Bildreproduktionsverfahren | |
DE69026510T2 (de) | Abziehschicht für wässrig oder halbwässrig entwickelbare flexodruckplatten | |
DE4415607A1 (de) | Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten | |
EP0413216A2 (de) | Photopolymerisierbares Schichtübertragungsmaterial | |
DE4022978C1 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAP | Request for examination filed | ||
OD | Request for examination | ||
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8365 | Fully valid after opposition proceedings | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |