KR940007115B1 - X-ray imagine plate, method of producing x-ray imagine plate, phosphor of photostimulated luminescence material & method of producing phosphor of photostimulated luminescence materi - Google Patents
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Abstract
내용 없음.No content.
Description
[발명의 명칭][Name of invention]
광자극성 발광재료에 의한 형광체(PHOSPMOR OF PHOTO STIMULATED LUMINESCENCE MATERIAL) 및 그의 제조방법과 그 형광체로 제조한 X선 화상변환 플레이트 및 그의 제조방법(X-RAY IMAGING PLATE)PHOSPMOR OF PHOTO STIMULATED LUMINESCENCE MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD AND X-RAY IMAGING PLATE MANUFACTURING THE FLUOMETER AND THE METHOD OF MANUFACTURING THE SAME (X-RAY IMAGING PLATE)
[도면의 간단한 설명][Brief Description of Drawings]
제 1 도는 광자극성 발광재료로된 형광체의 작용을 설명하는 띠 도표이며,1 is a band chart illustrating the action of a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material,
제 2a 도는 본 발명의 제 2 목적의 달성방법중 첫번째것의 광자극성 발광재료로된 형광체층 구조의 횡단면도이며,2A is a cross sectional view of a phosphor layer structure made of a photo-stimulatory light emitting material as a first method of achieving the second object of the present invention,
제 2b 도는 본 발명의 제 2 목적의 달성방법중 두번째것의 광자극성 발광재료로된 형광체층 구조의 횡단면도이며,2B is a cross sectional view of a phosphor layer structure made of a photo-stimulatory light emitting material as a second of the methods for achieving the second object of the present invention,
제 3 도는 제 2a 및 2b 도의 참고도로서, 종래기술에서 사용하는 광자극성 발광재료로된 형광체층 구조의 횡단면도이고,3 is a cross-sectional view of the phosphor layer structure made of a photo-stimulatory light emitting material used in the prior art as a reference diagram of FIGS. 2A and 2B,
제 4 도는 본 발명의 제 2 목적의 달성방법의 결과를 나타내는 그래프 즉, 시험편을 습한 환경중에 노출하였을때 그 노출시간과 신호강도의 상관관계 그래프이며, 도면에서 쇄선(7)은, 제 2a 도에 나타난 층구조를 갖는 X선 화상변환 플레이트의 내습성 시험 결과를 나타내고, 실선(8)은 제 3b 도에 나타난 층 구조를 갖는 X선 화상변환 블레이트의 내습성시험결과를 나타내며, 실선(9)는 종래 기술의 X선 화상변환 플레이트의 내습성 시험결과를 나타내고, 파선(10)은 X선 화상변환 플레이트에서 보호외피를 제거한, 제 2b 도에 나타난 층구조를 갖는 X선 화상변환 플레이트의 내습성 시험 결과를 나타내며,4 is a graph showing the results of the method of achieving the second object of the present invention, that is, a graph showing the correlation between the exposure time and the signal intensity when the test piece is exposed to a humid environment. In FIG. The moisture resistance test results of the X-ray image conversion plate having the layer structure shown in Fig. 3 shows the moisture resistance test results of the X-ray image conversion bled having the layer structure shown in Fig. 3B, and the solid line (9). ) Shows the results of the moisture resistance test of the prior art X-ray image conversion plate, and the
제 5 도는 상기 제1목적의 달성방법의 결과를 설명하는, 하기 A항목 (2)항의 실시예의 결과를 나타내는 그래프, 즉, 발광강도와 여기광의 파장간의 상관관계 그래프(파선(11)로 도시됨)이며,FIG. 5 is a graph showing the results of the embodiment of item A (2) below, ie, the correlation graph between the emission intensity and the wavelength of the excitation light (dashed line 11) illustrating the results of the method of achieving the first object. ),
제 6 도는 X선 화상변환 플레이트의 용례를 나타내는 도면이며,6 is a view showing an example of the X-ray image conversion plate,
제 7 도는 종래기술의 BaFClEu :2+의 여기화 스펙트럼도이며(일본 특개소 51-28591호 공보),7 is an excitation spectrum diagram of BaFClEu: 2+ of the prior art (Japanese Patent Laid-Open No. 51-28591),
제 8 도는 종래기술의 BaClBr : Eu2+의 여기화 스펙트럼도이고(일본 특개소 63-28952호 공보),8 is an excitation spectrum diagram of BaClBr: Eu 2+ of the prior art (Japanese Patent Laid-Open No. 63-28952),
제 9 도는 본 발명의 제 6 목적의 달성방법에서 BaCl2-×BaBr2-yCaS : zEu2+의 여기화 스펙트럼도이다.9 is an excitation spectrum diagram of BaCl 2 -BaBr 2 -yCaS: zEu 2+ in the method of achieving the sixth object of the present invention.
[발명의 상세한 설명]Detailed description of the invention
[발명의 분야][Field of Invention]
본 발명은 광자극성 발광재료로 된 형광체 및 제조방법과 이 형광체로 제조된, 향상된 X선 화상변환 플레이트 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
보다 구체적으로는, 본 발명은 상기 목적을 포함하여, X선 화상변환 플레이트의 발광강도 및 내습성 및 X선 화상변환 플레이트의 휨(camber)보정능력 및 광자극성 발광재료로 된 형광체의 발광강도를 향상시키기 위한 것이며, 또한 이 형광체로된 X선 화상변환 플레이트에 기억된 X선 화상을 반도체 레이저를 사용하여 재생하는 것이 가능하도록, 이 형광체의 통상 반도체 레이저에서 발광된 파장들중의 몇가지 파장을 갖는 광(light)의 여기에 의한 발광능력을 향상시키기 위한 것이다.More specifically, the present invention includes the above object, and the light emission intensity and moisture resistance of the X-ray image conversion plate and the curvature correction ability of the X-ray image conversion plate and the light emission intensity of the phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material In order to improve and also to reproduce the X-ray image stored in the X-ray image conversion plate made of the phosphor by using a semiconductor laser, it has several wavelengths among the wavelengths emitted by the ordinary semiconductor laser of this phosphor. The purpose of the present invention is to improve the light emitting ability by excitation of light.
X선은 그 흡수율의 차이를 이용하여 인체의 동물몸체의 진단용으로 광범위하게 사용되고 있다. 동물몸체의 조직은 X선 노광에 의해 파괴되기 때문에, X선 흡수율이 서로 다른 영역을 나타내는 패턴을 감지할 수 있는 한 가능한한 적은 X선 노광량을 사용하는 것이 바람직하다. 따라서, 가능한한 적은 X선 노광량으로, X선 흡수영역을 나타내는 패턴을 감지하는 기술 및/또는 X선 흡수영역을 나타내는 가시 영상을 형성하는 기술의 개발이 필요하다. 무스크린형(no-screen type) X선 필름의 감도와 해상력간에는 상반원리가 적용된다.X-rays are widely used for the diagnosis of the animal body of the human body by using the difference in their absorption rate. Since the tissue of the animal body is destroyed by X-ray exposure, it is preferable to use as little X-ray exposure amount as possible as long as it can detect a pattern representing regions having different X-ray absorption rates. Therefore, it is necessary to develop a technique for detecting a pattern representing an X-ray absorption region and / or forming a visible image representing an X-ray absorption region with as little X-ray exposure as possible. The opposite principle applies between the sensitivity and resolution of a no-screen type X-ray film.
즉, 감도를 높이면, 해상력이 필연적으로 감소된다.That is, increasing the sensitivity inevitably reduces the resolution.
상기와 같은 단점을 제거하기 위하여, 광자극성 발광재료로된 형광체가 X선에 노광될때마다, 그 X선의 에너지를 축적하고, 특수파장의 레이저등의 광에 노광될때마다, 그 축적된 에너지가 가시영역이거나 또는 은할로겐화물에 반응성이거나 또는 감성을 나타내는 파장을 갖는 형광으로 전환될 수 있는 자연현상을 이용한, X선 화상변환 플레이트를 개발하였다.In order to eliminate the above drawbacks, whenever a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material is exposed to X-rays, the energy of the X-rays is accumulated, and each time it is exposed to light such as a laser of a special wavelength, the accumulated energy is visible. An X-ray image conversion plate has been developed that uses natural phenomena that can be converted into fluorescence having a wavelength that is local or reactive to silver halides or exhibits sensitivity.
상기 목적에 사용할 수 있는 광자극성 발광재료로 된 형광체를 예로들면, 2가의 유로퓸(europium)에 의해 활성화된 알칼리 토금속류가 있는데, 이들은 알칼리토금속과 2가 유로퓸 예를들어, 2가 유로퓸으로 활성화된 염화브롬화바륨 또는 BaClBr : Eu2+의 조합으로부터 형성되는 화합물들이다.Examples of phosphors made of a photo-stimulatory light emitting material that can be used for this purpose include alkali earth metals activated by divalent europium, which are activated by alkaline earth metals and divalent europium, for example, divalent europium. Compounds formed from a combination of barium chloride or BaClBr: Eu 2+ .
제 1 도는 2가 유로퓸에 의해 활성화된 염화브롬화바륨(BaClBr/Eu2+)으로 조성된, 광자극성 발광재료로된 형광체의 띠 도표이다.1 is a band chart of a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material composed of barium chloride bromide (BaClBr / Eu 2+ ) activated by divalent europium.
제 1 도에서 (C1)과 (V1)은 전도 대(conductionband)와 가전자 대(valence band)를 각각 나타내며 (C2)와 (V2)는 유로퓸의 여기상태와 기저상태를 각각 나타내며, (T)는 BaClBr의 원자로부터 음이온 제거시 발생되는 각자 결함 또는 반자리를 나타낸다. (T)는 발광중심의 역활을 한다.In FIG. 1, (C 1 ) and (V 1 ) represent the conduction band and the valence band, respectively, and (C 2 ) and (V 2 ) represent the excited state and the ground state of europium, respectively. , (T) represents each defect or bandage generated when anion is removed from an atom of BaClBr. (T) serves as a light emitting center.
제 1 도의 띠도표로 나타낸, 광자극성 발광재료로된 형광체가 X선으로 노광되면, 2가 유로퓸의 기저상태(V2)의 전자들이 여기상태가 되어 BaClEr의 전도대(C1)로 이동한다. 순간적으로 X선 노광을 중단하면, 상기 여기상태의 전자들이 에너지를 잃고, X선 노광영역에 가까운 발광 중심에 트랩(trap)된다.When the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material, shown in the band diagram of FIG. 1, is exposed to X-rays, electrons in the ground state V 2 of divalent europium become excited and move to the conduction band C 1 of BaClEr. When the X-ray exposure is momentarily stopped, electrons in the excited state lose energy and are trapped at the emission center close to the X-ray exposure area.
상기 현상은, X선 노광 영역의 2가 유로퓸의 전자들이, 기하학적 관점에서는 그 여기 에너지가 더 작은, X선 노광된 유로퓸 영역내의 발광중심(T)으로 이동한 것과 같으며, 이것은 구체적으로는, X선 에너지가, 이보다 에너지가 더 작은 광 또는 파장이 500∼900mm인 광으로 노광될때, 무스크린형 X선 필름에 반응성이거나 또는 민감성의 형광을 발광할 수 있는 어떤 기억수단 내에 기억됨을 의미한다.The phenomenon is the same as the electrons of the divalent europium in the X-ray exposure region moved to the emission center T in the X-ray exposed europium region, which has a lower excitation energy from a geometrical point of view. It means that the X-ray energy is stored in some storage means capable of emitting reactive or sensitive fluorescence to a screenless X-ray film when exposed to light having less energy or light having a wavelength of 500 to 900 mm.
그러므로, 2가 유로퓸의 전자들이 X선에 노광될 영역에 위치된 발광중심(T)(더 작은 에너지에 의해 형광의 발광이 가능한 준위)으로 이동된 상태의, 광자극성 발광재료로된 형광체를 특정광 예를들어 레이저로 노광하면, 발광중심(T)에 트랩된 전자들이 상기 형광체를 구성하는 알칼리토금속의 전도대(C1)로 여기된다.Therefore, it is possible to specify a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material in which the electrons of the divalent europium are moved to the emission center T (the level at which fluorescence can be emitted by smaller energy) located in the region to be exposed to X-rays. When exposed to light, for example, with a laser, electrons trapped in the emission center T are excited to the conduction band C 1 of the alkaline earth metal constituting the phosphor.
상기 전자들을 여가시킨 특정광의 공급을 순간적으로 중단하면, 상기 전자들이 유로퓸의 여기상태(C2)를 거쳐 유로퓸의 기저상태(V2)로 떨어진다. 이때, 2가 유로퓸의 여기상태(C2)와 기저상태(V2)의 준위차에 해당되는 파장을 갖는 형광이 발광중심(T)에 트랩된 전자량에 비례하는 강도로 발광된다.When the supply of the specific light which has spared the electrons is momentarily stopped, the electrons fall through the excited state C 2 of europium to the ground state V 2 of europium. At this time, fluorescence having a wavelength corresponding to the level difference between the excited state C 2 of the divalent europium and the ground state V 2 is emitted at an intensity proportional to the amount of electrons trapped at the emission center T.
이론적으로는, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체로 플레이트를 제조하므로써, 이 광자극성 발광재료로된 형광체를 사용하는 X선 화상변환 플레이트가 제조될 수 있다. 그러나, 실용적인 관점에서는, 통상 제3도에 나타낸 바와같이, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(이하, 폴리에틸렌 테레프탈레이트의 상표명) 미라(Mylar)라 한다)등의 투명수지로 만든 기재 필름상에 광자극성 발광재료로된 형광체층을 형성시켜 X선 화상변환 플레이트를 제조할 수 있다.In theory, by producing a plate from the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material, an X-ray image conversion plate using the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material can be produced. However, from a practical point of view, as shown in Fig. 3, a photo-stimulatory light emitting material is formed on a base film made of a transparent resin such as polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as " trademark of polyethylene terephthalate " Mylar). An X-ray image conversion plate may be manufactured by forming a phosphor layer.
다시 말해서, 큰 원자량과 높은 X선 흡수율을 갖는 알칼리 토금속의 할로겐화물과 유로퓸 할로겐화물의 혼합물층을 미라등으로된 투명 필름에 형성시킨 후, 이층을 수소화 질소의 혼합물 또는 일산화탄소화 이산화탄소의 혼합가스등의 환원분위기 중에서 소성하여 3가 유로퓸을 2가 유로퓸으로 환원시킨다. 결과적으로, 2가 유로퓸에 의해 활성화된 알칼리토금속으로 구성된, 광자극성 발광재료로된 형광체층을 형성한 후, 이층을 분말로 분쇄한다. 이 분말을 폴리메틸 메타크릴 레이트등의 중합체로된 결합체와 톨루엔등의 용제와 혼합한다.In other words, after forming a mixture layer of an alkaline earth metal halide and europium halide having a large atomic weight and a high X-ray absorption rate in a transparent film made of miracle, etc., the second layer is formed of a mixture of nitrogen hydride or a mixed gas of carbon monoxide carbon dioxide. The trivalent europium is reduced to divalent europium by firing in a reducing atmosphere. As a result, after forming a phosphor layer made of a photo-stimulatory light emitting material composed of alkaline earth metal activated by divalent europium, the two layers are pulverized into powder. This powder is mixed with a binder made of a polymer such as polymethyl methacrylate and a solvent such as toluene.
그 액상 혼합을 제 3 도에 나타낸 바와같이, 두께가 거의 70μm인 미라등으로된 기재 필름(5)에 도포하여, 두께가 250∼300μm인 광 자극성 발광재료로된 형광체층(1)을 형성시킨 후 접착체층(4)을 매개로하여 두께가 거의 10μm인 미라등으로된 보호용 박막 필름(6)을 그위에 형성시킨다.As shown in Fig. 3, the liquid mixture was applied to a
상기와 같이 제조된 X선 화상변환 플레이트를 두가지의 방법으로 사용할 수 있다.The X-ray image conversion plate manufactured as described above can be used in two ways.
그 한 방법은 포토필름(photofilm)에 화상을 만드는 것이다.One way is to make an image on a photofilm.
이 경우에, 인체등의 대상물을 통과시키는 약한 X선으로 X선 화상변환 플레이트를 노광한다. 이 공정중, 대상물의 X선 흡수영역과 X선 비흡수 영역을 표현하는 패턴이 상기 X선 화상변환 플레이트에 포함된 발광중심군으로 이루어진 패턴으로서 기억된다. 이후, 상기 X선 화상변환 플레이트를 형광에 감응하는 포토플립에 올려놓은 후, 파장이 630nm인 He-Ne 레이저등의 레이저로 노광한다. 이 공정에 의해, 상기 발광중심군으로 이루어진 패턴으로서 기억된, 상기 대상물의 X선 흡수영역과 X선 비흡수 영역을 표현하는 패턴이 상기 포토필름에 복사된다.In this case, the X-ray image conversion plate is exposed with weak X-rays through which an object such as a human body passes. During this process, the pattern representing the X-ray absorption region and the X-ray non-absorption region of the object is stored as a pattern consisting of a light emitting center group included in the X-ray image conversion plate. Thereafter, the X-ray image conversion plate is placed on a photo-flip sensitive to fluorescence, and then exposed to a laser such as a He-Ne laser having a wavelength of 630 nm. By this step, a pattern representing the X-ray absorption region and the X-ray non-absorption region of the object, stored as a pattern consisting of the light emitting center group, is copied to the photo film.
다른 한 방법은 CRT 튜브등에 화상을 만드는 것이다.Another way is to burn the image on a CRT tube.
이 경우, 파장이 630nm인 He-Ne 레이저등의 레이저를 발광중심군으로 이루어진 패턴으로서 기억된, 상기 대상물의 X선 흡수 영역 및 X선 비흡수영역을 표현하는 패턴을 이루는 각 화상요소(pictureelemeat)를 따라 주사한다.In this case, each picture element forming a pattern representing an X-ray absorption region and an X-ray non-absorption region of the object, in which a laser such as a He-Ne laser having a wavelength of 630 nm is stored as a pattern consisting of a light emitting center group. Inject along.
이 공정에 의해 각각의 화상요소가 작은 형광스폿(spot)을 발광하며, 이 스폿들은 광증배관(photomultiplier)등에 의해 포착된다.By this process, each image element emits a small fluorescent spot, which is captured by a photomultiplier or the like.
결과적으로, 대상물의 X선 흡수영역 및 X선 비흡수영역을 표현하는 전기펄스열(train of electric pulses)이 출력된다. 대상물의 X선 흡수영역 및 X선 비흡수 영역을 표현하는 상기 전기펄스열에 준하여 CRT 튜브 등에 화상이 형성된다.As a result, train of electric pulses representing the X-ray absorption region and the X-ray non-absorption region of the object are output. An image is formed on a CRT tube or the like in accordance with the electric pulse trains representing the X-ray absorption region and the X-ray non-absorption region of the object.
상기 두 방법 모두, X선 화상변환 플레이트의 감도는 발광중심에 포획된 전자량에 비례한다.In both of these methods, the sensitivity of the X-ray image conversion plate is proportional to the amount of electrons trapped at the emission center.
상기에 설명한 바와같이, 상기 X선 화상변환 플레이트에 기억된 패턴은, 통상 파장이 거의 630nm인 He-Ne 레이저에 의해 재생된다. 그러나, He-Ne 레이저는 크기가 크므로, 파장이 거의 830nm인 AlGaAs 레이저등의 반도체 레이저 사용을 가능하게 하는 기술개발이 필요하다. 기억재생용 레이저의 파장이 갈수록, 광자극성 발광재로로된 형광체의 발광강도가 작아지므로, X선 화상변환 플레이트는 파장이 830nm이고 크기가 작은 반도체 레이저를 기억 재생용 레이저로 사용할 수 없는 단점을 항상 갖는다.As described above, the pattern stored in the X-ray image conversion plate is normally reproduced by a He-Ne laser having a wavelength of almost 630 nm. However, since the He-Ne laser is large in size, it is necessary to develop a technology that enables the use of a semiconductor laser such as an AlGaAs laser having a wavelength of almost 830 nm. As the wavelength of the memory for reproducing laser increases, the light emission intensity of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material decreases, so that the X-ray image conversion plate cannot use a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm and a small size as the laser for memory reproducing. Always have.
둘째로는, 광자극성 발광재료로된 형광체와 결합체의 혼합물로된 플레이트가, 미라로된 기재 필름과 미라로된 커버필름(cover film) 사이에 형성되어 있는 구조로된 X선 화상변환 플레이트는, 그 내습성이 약하여 습한환경에 방치된 후 사용하면 그 발광강도가 저하되는 단점을 갖는다.Secondly, an X-ray image conversion plate having a structure in which a plate made of a mixture of a phosphor and a binder made of a photo-stimulatory light emitting material is formed between a mummy base film and a mummy cover film, If the moisture resistance is weak and used after being left in a humid environment, the luminous intensity is lowered.
셋째로는, 유로퓸할로겐화물과 알칼리토금속 할로겐화물의 혼합물을 소성하여 만든, 광자극성 발광재료로된 형광체를 분쇄한 분말과, 결합체의 혼합물을 미라로된 필름등의 수지 필름에 도포하여, 광자극성 발광재료로된 형광체와 상기 결합체를 함유하는 시트(sheet)를 만들고, 이 시트를 가열 정화한후, 미라필름등의 또 하나의 수지필름을, 상기 광자극성 발광재료로된 형광제 및 결합체를 함유하는 상기 건조시트에 증착시켜된, 종래 방법에 의한 X선 화상변환 플레이트는, 감도와 해상력이 만족스립지 못하다.Thirdly, a powder obtained by sintering a mixture of europium halide and an alkaline earth metal halide, pulverized phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material, and a mixture of the binder was applied to a resin film such as a mummy film, After making a sheet containing the phosphor and the binder made of a light emitting material, and heating and purifying the sheet, another resin film such as a mira film contains a fluorescent agent and a binder made of the photo-stimulatory light emitting material. The X-ray image conversion plate according to the conventional method, which is deposited on the drying sheet, does not satisfy the sensitivity and the resolution.
상기 문제점들의 해결 방법으로서 상기 결합체의 상대량을 감소시키고, 광자극성 발광재료로된 상기 형광체의 상대량을 증가시키는 것을 고려해 볼 수 있으나, 결합체의 상대량의 감소가 과도하면, 평평한 미라 수지막의 형성이 곤란해지며, 결과적으로는, 광자극성 발광재료로된 형광제의 표면에 레이저가 산란되어 해상력이 감소하게 된다. 또한 광자극성 발광재료로된 형광체가 분쇄공정중 훼손되어 감도가 저하된다.As a solution to the problems, it may be considered to decrease the relative amount of the binder and increase the relative amount of the phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material. However, if the decrease in the relative amount of the binder is excessive, the formation of a flat mummy resin film This becomes difficult, and as a result, the laser is scattered on the surface of the fluorescent agent made of the photo-stimulatory light emitting material, and the resolution is reduced. In addition, the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material is damaged during the crushing process, and the sensitivity is lowered.
네째로는, 광자극성 발광재료로된 형공체의 분말과 결합체의 액상 혼합물을 미라 필름등의 수지 필름에 도포하고, 이 액상 혼합물 필름을 건조시켜, 광자극성 발광재료로된 형광체와 결합체로된 시트를 제조한후, 이 시트에서 상기 수지 필름을 제거하고, 상기 분쇄공정중에 발생된 결함의 복구, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체의 상대량 증가 및 상기 결합체의 상대량 감소를 위하여, 광자극성 발광재료로된 형광체와 결합체로된 시트를, 800∼900℃하에서 환원분위기중에서 소성시키므로서 X선 화상변환 플레이트를 제조하는 향상된 방법이 개발된 바 있다.Fourthly, a liquid mixture of a powder of a conjugate made of a photo-stimulatory light emitting material and a binder is applied to a resin film such as a mira film, and the liquid mixture film is dried to form a sheet of phosphor and a binder made of a photo-stimulatory light emitting material. After the preparation, the resin film was removed from the sheet, and the photostimulatory light emission was performed to recover the defects generated during the grinding process, to increase the relative amount of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material and to decrease the relative amount of the binder. An improved method of producing an X-ray image conversion plate has been developed by firing a sheet of phosphor and a binder made of material in a reducing atmosphere at 800 to 900 ° C.
그러나 이 방법은 제조공정중 쉽게 하는 단점이 있다.However, this method has the disadvantage of facilitating the manufacturing process.
본 발명의 X선 화상변환 플레이트는, 2가의 유로퓸에 의해 활성화된 알칼리토금속의 할로겐화물로된 광자극성 발광재료로된 형광체를 포함하는 것을 특징으로 하며 BaXX'Eu(식에서, X 또는 X'는 F, Cl, Br 및 I로 이루어지는 그룹에서 선택된 적어도 하나의 할로겐이다)가 유용하게 사용되고 있다.The X-ray image conversion plate of the present invention is characterized in that it comprises a phosphor made of a photostimulatory light emitting material made of a halide of alkaline earth metals activated by divalent europium, wherein BaXX'Eu (where X or X 'is F , At least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br, and I).
상기 광자극성 발광재료로된 형광체는, X선 노광후 가시광선 및 적외선등의 전자파로 여기될때, 광자극성 발광성 또는 근자외선 발광성등을 갖기 때문에, X선 화상변환 플레이트의 재료로서 유용하다.The phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material is useful as a material for an X-ray image conversion plate because it has photo-stimulatory light emission or near-ultraviolet light emission when excited by electromagnetic waves such as visible light and infrared light after X-ray exposure.
입수 가능한 것을 예로들면 2가 유로퓸에 의해 활성화된 2가 금속의 플루오르할라이드 형광체가 있으며, 하기식으로 표시된다.Examples of available ones include fluoride halide phosphors of divalent metals activated by divalent europium, and are represented by the following formulas.
(Ba1-x-y-pSrxCayEUp 2+)F(Cl1-a-bBraIb)(Ba 1-xyp Sr x Ca y EU p 2+ ) F (Cl 1-ab Br a Ib)
식에서, 상기 기호 x,y,p,a 및 b는, (x+y+p)≤1, y≥0.2, 0.01≤p≤0.2 및 (a+b)≤1의 부등식을 만족하는 수이다.In the formula, the symbols x, y, p, a and b are numbers satisfying the inequality of (x + y + p) ≦ 1, y ≧ 0.2, 0.01 ≦ p ≦ 0.2 and (a + b) ≦ 1.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체는, X선, 자외선 및 전자 비임등에 의한 노광시 390nm 근처의 피크(peak)를 갖는 근자외선 스펙트럼을 발광한다.The phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material emits a near-ultraviolet spectrum having a peak near 390 nm upon exposure by X-rays, ultraviolet rays and electron beams.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체는 X선에 대해 높은 감도를 갖으며, 가장 높은 분광감도 범위에 속하는 파장을 갖는 형광을 발광하므로, X선 필름의 증감제(sensitizer)용 형광체로서 광범위하게 사용된다(일본특개소 51-28591호 공보)The phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material has high sensitivity to X-rays and emits fluorescence having a wavelength belonging to the highest spectral sensitivity range, and thus is widely used as a phosphor for a sensitizer of an X-ray film. (Japanese Patent Application No. 51-28591)
제7도에서, 형광강도와 여기광(exciting light)의 파장의 상관관계 또는, 여기광 파장에 대한 형광강도의 스펙트럼이 나타나 있으며, 580nm 근방에 피크가 나타나 있다. 그러므로, He-Ne 레이저가 광자극성 발광재료로 된 형광체의 여기화(excitation)에 통상 사용된다.In FIG. 7, the correlation between the fluorescence intensity and the wavelength of the excitation light or the spectrum of the fluorescence intensity with respect to the excitation light wavelength is shown, and a peak appears near 580 nm. Therefore, He-Ne lasers are commonly used for excitation of phosphors made of photo-stimulatory light emitting materials.
최근, X선 화상변환 플레이트의 재료로서 유용한 다른 광자극성 발광 재료로된 형광체(일본특개소 63-28952호 공보)로는 하기식을 갖는 것이 있다.In recent years, the fluorescent substance (Japanese Unexamined-Japanese-Patent No. 63-28952) which consists of another photo-stimulatory light emitting material useful as a material of an X-ray image conversion plate has the following formula.
MX2-aMX'2: xEu2+ MX 2 -aMX ' 2 : xEu 2+
(상기 식에서, M은 Ba, Sr 및 Ca를 포함하는 그룹에서 선택된 적어도 하나의 알칼리토금속이고, X 또는 X'는 Cl, Br 및 I를 포함하는 그룹에서 선택된 적어도 하나의 할로겐이고, X는 X'와 같지 않으며, a는 0.1 이상, 10 이하인 수이고 x는 0.2 이하인 양수이다) 구체적으로는, BaClBr : Eu계에 속하는 광자극성 발광재료로된 형광체는 X선, 자외선 및 전자비임에 의해 노광될때 410nm 근방의 발광 스펙트럼 피크를 갖는다.Wherein M is at least one alkaline earth metal selected from the group containing Ba, Sr and Ca, X or X 'is at least one halogen selected from the group containing Cl, Br and I, and X is X' A is a positive number of 0.1 or more and 10 or less and x is a positive number of 0.2 or less). Specifically, a phosphor made of a photostimulatory light emitting material belonging to BaClBr: Eu is 410 nm when exposed by X-rays, ultraviolet rays and electron beams. It has an emission spectrum peak in the vicinity.
또한 제8도를 참조하여 보면, 형광강도와 여기광의 파장의 상관관계 또는 여기광의 파장에 대한 형광강도의 스펙트럼이 나타나 있으며, 580nm 근방과 700nm 근방에서 피크가 나타나 있다.In addition, referring to FIG. 8, the correlation between the fluorescence intensity and the wavelength of the excitation light or the spectrum of the fluorescence intensity with respect to the wavelength of the excitation light is shown, and peaks are shown near 580 nm and around 700 nm.
즉, He-Ne 레이저 뿐만 아니라 반도체 레이저도 여기화를 위해 사용할 수 있다.That is, not only He-Ne laser but also semiconductor laser can be used for excitation.
상기에 설명한 광자극성 발광재료로된 형광체는 그 발광재료를 600∼1000℃ 범위의 온도에서 소성하여 제조할 수 있다.The phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material described above can be produced by firing the light emitting material at a temperature in the range of 600 to 1000 占 폚.
상기에 설명한 바와 같이, 광자극성 발광재료로된 종래의 형광체, 구체적으로는, BaClBr : Eu계에 속하는 광자극성 발광재료로된 형광체는, 여기광 스펙트럼의 가시파장 범위에서 큰 피크를 갖으며, 반도체 레이저의 발광파장 범위에서 저감된 감도를 갖는다.As described above, a conventional phosphor made of a photostimulatory light emitting material, specifically, a phosphor made of a photostimulatory light emitting material belonging to BaClBr: Eu has a large peak in the visible wavelength range of the excitation light spectrum and is a semiconductor. It has a reduced sensitivity in the emission wavelength range of the laser.
다시말해서, 광자극성 발광재료로된 상기 형광체는, 대상물의 X선 흡수영역과 X선 비흡수영역을 표현하는 기억된 패턴 재생용으로 편리한 장치인 반도체 레이저의 발광파장 범위내에서 저감된 감도를 갖기 때문에, 결과적으로 사용상 불편한 단점이 있다.In other words, the phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material has a reduced sensitivity within the emission wavelength range of a semiconductor laser, which is a convenient device for reproducing stored patterns expressing an X-ray absorption region and an X-ray non-absorption region of an object. As a result, there is a disadvantage inconvenient to use.
[발명의 설명 및 목적][Explanation and purpose of the invention]
본 발명의 목적은 전술한 여러 단점들을 제거하는데 있다It is an object of the present invention to obviate the aforementioned disadvantages.
본 발명의 제1목적은, 큰 발광강도를 갖는 X선 화상변환 플레이트 및 그의 제조방법을 제공하는데 있다.It is a first object of the present invention to provide an X-ray image conversion plate having a large luminous intensity and a manufacturing method thereof.
본 발명의 제2목적은, 내습성과 방습성을 갖는 X선 화상변환 플레이트를 제공하는데 있다.A second object of the present invention is to provide an X-ray image conversion plate having moisture resistance and moisture resistance.
본 발명의 제3목적은, 광자극성 발광재료로된 형광체의 양이 결합제의 양보다 상대적으로 많음으로써 큰 발광강도를 갖는 X선 화상변환 플레이트 및 그의 제조방법을 제공하는데 있다.A third object of the present invention is to provide an X-ray image conversion plate having a large luminous intensity and a method of manufacturing the same, since the amount of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material is relatively larger than that of the binder.
본 발명의 제4목적은, 소성 공정중 휨 발생이 없는 X선 화상변환 플레이트의 제조방법을 제공하는데 있다.A fourth object of the present invention is to provide a method for producing an X-ray image conversion plate without warping during the firing process.
본 발명의 제5목적은, 큰 발광감도를 갖는 광자극성 발광재료로된 형광체 및 그의 제조방법을 제공하는데 있다.A fifth object of the present invention is to provide a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material having a large luminous sensitivity and a manufacturing method thereof.
본 발명의 제6목적은, 반도체 레이저가, 대상물의 X선 흡수영역 및 X선 비흡수영역을 표현하는 패턴재생용으로 사용되는 700nm 근처의 발광파장을 갖도록 하는, 광자극성 발광재료로된 형광체 및 그의 제조방법을 제공하는데 있다.A sixth object of the present invention is a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material, in which a semiconductor laser has a light emission wavelength of around 700 nm used for pattern reproduction representing an X-ray absorption region and an X-ray non-absorption region of an object, and It is to provide a method for producing the same.
상기 제1목적의 달성방법을 하기에 설명한다.A method of achieving the first object is described below.
제1목적을 달성하기 위한 제1방법은, 광자극성 발광재료로된 형광체 분말과 결합체의 혼합물로부터 쉬트를 제조한 후에, 종래 기술의 필수적인 상기 형광체 제조를 위한 첫번째 소성공정 및 X선 화상변환 플레이트 제조를 위한 두번째 소성공정으로된 2단계 소성공정을 행하지 않고, 1단계 소송공정만으로 X선 화상변환 플레이트를 제조하는 것이다(이 방법은 청구범위 제 1 및 2 항에 해당됨)A first method for achieving the first object is to prepare a sheet from a mixture of phosphor powder and a binder made of a photo-stimulatory light emitting material, and then to prepare a first firing process and an X-ray image conversion plate for manufacturing the phosphor, which is essential in the prior art. Instead of performing a two-stage firing step as a second firing step for the production of the X-ray image conversion plate using only one step litigation process (this method corresponds to
청구범위 제1항 및 2항에 해당되는 상기 방법에서, 세라믹(ceramic) 기재로된 내열성 기재를 사용하는 것이 유리하다(이 방법은 청구범위 제7 및 8항에 해당됨).In the method according to
제1목적을 달성하기 위한 제 2 방법은, 소성 공정을 행하여 광자극성 발광재료로된 형광체를 제조하는 제 1 공정과, 분쇄공정을 행하여 상기 광자극성 발광재료로된 형광체의 분말을 만드는 제 2 공정과, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체와 결합제의 혼합물의 쉬트를 기재 필름상에 형성시키는 제 3 공정과 상기 광자극성 발광재료로된 형광체와 결합제의 혼합물 쉬트를 상기 기재 필름으로부터 떼어내는 제 4 공정과, 상기 결합제를 소성 정화하여 X선 화상변환 플레이트중의 결합제의 상대량을 감소시키는 제 5 공정을 포함한다(상기 방법은 청구범위 제4 및 5항에 해당됨).A second method for achieving the first object comprises a first step of producing a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material by performing a firing step, and a second process of making a powder of phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material by a pulverizing process. And a third step of forming a sheet of a mixture of the phosphor and a binder made of the photo-stimulatory light emitting material on the base film and a fourth step of removing the mixture sheet of the phosphor and the binder made of the photo-stimulatory light emitting material from the base film. And a fifth step of plastically purifying the binder to reduce the relative amount of the binder in the X-ray image conversion plate (the method corresponds to claims 4 and 5).
청구범위 제4 및 5항에 해당되는 상기 방법에서, 중합체 필름을 사용하는 것이 유리하다(이 방법은 청구범위 제27 및 28항에 해당됨).In the above methods corresponding to
제 2 목적을 달성하기 위한 상기 방법은, 상, 하 보호필름간에 형성된 광자극성 발광재료로된 형광체층을 포함하는 것과 또한, 상, 하 보호필름중 적어도 하나의 보호능의 보강용으로, SiO2, ITO 필름등 적어도 하나의 내습성 필름을 더 포함하는 X선 화상변환 플레이트를 제공하는 것이다(이 방법은 청구범위 제 9 항에 해당된다).The method for achieving the second object is, up, down as comprising a fluorescent layer of a light stimulating light-emitting material formed between the protective film In addition, the upper and lower protection for the reinforcement of at least one of the protective functions of the film, SiO 2 It is to provide an X-ray image conversion plate further comprising at least one moisture resistant film, such as, ITO film (this method corresponds to claim 9).
제 3 목적을 달성하기 위한 방법은, 광자극성 발광재료로된 형광체의 상대량을 증가시키기 위한 결합제의 연소를 위하여, 그리고, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체의 분쇄 및 혼합공정중 발생되는, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체의 결함의 복구를 위하여, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체와 결합제의 혼합물 쉬트를 산화소성하는 공정을 포함한다(이 방법은 청구범위 제10 및 13항에 해당됨).A method for achieving the third object comprises the above-mentioned method for combustion of a binder for increasing a relative amount of a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material and during the grinding and mixing of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material. In order to recover the defects of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material, a step of oxidizing the mixture sheet of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material and the binder is included (this method corresponds to
보다 구체적으로는, 상기 방법은, X선 화상변환 플레이트의 제조방법으로서, 할로겐 및 IIa족 원소로 된 화합물과 다른 할로겐 및 IIa족 원소 및 유로퓸 할로겐화합물로된 화합물의 혼합물을 제조하는 공정(i)과, 할로겐 및 Ia족 원소로된 화합물과 할로겐 및 유로퓸 또는 탈륨으로된 화합물의 혼합물을 제조하는 공정(ii)과, 또는, 할로겐 및 IIa족 원소로된 화합물과 다른 할로겐 및 IIa족 원소로된 화합물의 혼합물로서, 이들 두 화합물중 하나가 실리콘 옥사이드, 산화인, Mg, Ca, Sr 또는 Ba의 황화합물중 하나, 또는 이트륨 옥사이드 및 유로퓸 할로겐화물로 이루어지는 그룹에서 선택된 화합물인, 혼합물을 제조하는 공정(iii)과, 상기 혼합물을 분쇄하는 공정과, 상기 혼합물의 분말과 결합제의 혼합물을 제조하는 공정과, 이 혼합물의 쉬트를 제조하는 공정과, 이 쉬트를 소성하여 결합제를 제거하는 공정 및, 혼합물을 환원소성하여, 광자극성 발광재료로된 형광체로 변환시키는 공정을 포함하는 X선 화상변환 플레이트의 제조방법으로 정의된다.More specifically, the method is a method for producing an X-ray image conversion plate, comprising: (i) preparing a mixture of a compound made of a halogen and group IIa element with a compound made of another halogen and group IIa element and a europium halogen compound; And (ii) preparing a mixture of a compound of halogen and group Ia elements and a compound of halogen and europium or thallium, or a compound of halogen and group IIa elements and another halogen and group IIa element. A process for preparing a mixture, wherein one of these two compounds is a compound selected from the group consisting of silicon oxide, phosphorous oxide, sulfur compounds of Mg, Ca, Sr or Ba, or yttrium oxide and europium halides (iii ), Grinding the mixture, preparing a mixture of powder and binder of the mixture, preparing a sheet of the mixture, The sheet is calcined, and the binder is removed, and the mixture is reduced-baked to convert it into a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material.
일반적으로는, 상기 방법은, 하기 식들로 표시되는, 광자극성 발광재료로된 형광체와 결합제의 혼합물을 제조하는 공정과,In general, the method comprises the steps of preparing a mixture of a phosphor and a binder of a photo-stimulatory light emitting material represented by the following formula,
aMX2-(1-a)MX'2: bEuaMX 2- (1-a) MX ' 2 : bEu
(식에서, M은 Mg, Ca, Sr 및 Ba중에서 선택된 원소이고, X와 X'는 할로겐족에서 개별 선택된 원소이며, a는 1보다 작은 양수이고, b는 0.2 이하의 양수이다)(Wherein M is an element selected from Mg, Ca, Sr and Ba, X and X 'are individually selected elements from the halogen group, a is a positive number less than 1 and b is a positive number less than or equal to 0.2)
또는or
MA : aAMA: aA
(식에서, M은 Ia족에서 선택된 원소이고, X는 할로겐이며, A는 유로퓸 또는 탈륨이고 a는 1보다 작은 양수이다)(Wherein M is an element selected from group Ia, X is halogen, A is europium or thallium and a is a positive number less than 1)
또는or
aMX2-(1-a)MX'2-cB : bEuaMX 2- (1-a) MX ' 2 -cB: bEu
(식에서, m은 Mg, Ca, Sr 및 Ba중에서 선택된 원소이고, X와 X'는 할로겐족에서 개별 선택된 원소이며, B는 Mg, Ca, Sr 또는 Ba의 황화물중의 하나, 실리콘 옥사이드, 산화인 또는 이트륨 옥사이드 중의 한 화합물이고, a는 1보다 작은 양수이고, b와 c는 0.2 이하의 양수이다)Wherein m is an element selected from Mg, Ca, Sr and Ba, X and X 'are individually selected elements from the halogen group, B is one of the sulfides of Mg, Ca, Sr or Ba, silicon oxide, phosphorus oxide or Is a compound in yttrium oxide, a is a positive number less than 1, b and c are positive numbers less than or equal to 0.2)
상기 광자극성 발광재료로된 형광체들중 한 형광체의 분말과 결합제의 혼합물을 제조하는 공정과, 상기 혼합물의 쉬트를 제조하는 공정과, 상기 쉬트를 소성하여 결합제를 제거하는 공정을 포함하는 방법이며, 상기 방법에 의한 X선 화상변환 플레이트는 하기 식으로 표시되는 광자극성 발광재료로된 형광체의 소결체를 포함한다.A process comprising preparing a mixture of a powder of one phosphor and a binder among phosphors of the photo-stimulatory light emitting material, preparing a sheet of the mixture, and firing the sheet to remove the binder; The X-ray image conversion plate according to the above method includes a sintered body of phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material represented by the following formula.
aMX2-(1-a)MX'2: bEuaMX 2- (1-a) MX ' 2 : bEu
(식에서, M은 Mg, Ca, Sr 및 Ba중에서 선택된 원소이고, X와 X'는 할로겐족에서 개별 선택된 원소이며, a는 1보다 작은 양수이고, b는 0.2 이하의 양수이다)(Wherein M is an element selected from Mg, Ca, Sr and Ba, X and X 'are individually selected elements from the halogen group, a is a positive number less than 1 and b is a positive number less than or equal to 0.2)
또는or
MX : aAMX: aA
(식에서, M은 Ia족에서 선택된 원소이고, X는 할로겐이며, A는 유로퓸 또는 탈륨이고 a는 1보다 작은 양수이다)(Wherein M is an element selected from group Ia, X is halogen, A is europium or thallium and a is a positive number less than 1)
또는or
aMX2-(1-a)MX'2-cB : bEuaMX 2- (1-a) MX ' 2 -cB: bEu
(식에서, M은 Mg, Ca, Sr 및 Ba중에서 선택된 원소이고, X와 X'는 할로겐족에서 개별 선택된 원소이며, B는 Ma, Ca, Sr 또는 Ba의 황화물중의 하나, 실리콘 옥사이드, 산화인 또는 이트륨 옥사이드 중의 한 화합물이고, a는 1보다 작은 양수이고, b와 c는 0.2 이하의 양수이다)Wherein M is an element selected from Mg, Ca, Sr and Ba, X and X 'are individually selected elements from the halogen group, B is one of the sulfides of Ma, Ca, Sr or Ba, silicon oxide, phosphorus oxide or Is a compound in yttrium oxide, a is a positive number less than 1, b and c are positive numbers less than or equal to 0.2)
제 4 목적을 달성하기 위한 방법은, 석영 평판 또는 세라믹 평판을 광자극성 발광재료로된 형광체층상에 설치하는 공정과, 광자극성 발광재료로된 형광체층을 환원분위기중에서 소성하여 광자극성 발광재료로된 형광체층의 휨을 보정하는 공정을 포함한다(이 방법은 청구범위 제 3 항 또는 6항에 해당된다).A method for achieving the fourth object includes the steps of: installing a quartz plate or a ceramic plate on a phosphor layer made of a photostimulatory light emitting material; and firing a phosphor layer made of the photostimulatory light emitting material in a reducing atmosphere to form a photostimulatory light emitting material. And a step of correcting warping of the phosphor layer (this method corresponds to
상기 제 5 목적을 달성방법은 수소와 질소의 혼합가스중에서 소성공정(3가 유로퓸과 3가 탈륨을 2가 탈륨으로 환원하는 공정)을 행하는 것이다(이 방법은 청구범위 제 14 항에 해당된다).A method of achieving the fifth object is to perform a calcination process (a process of reducing trivalent europium and trivalent thallium to divalent thallium) in a mixed gas of hydrogen and nitrogen (this method corresponds to claim 14). .
제 6 목적을 달성하는 방법은, 광자극성 발광재료로된 형광체로서 BaCl2-xBaBr2-yCaS : zEu2+등을 사용하는 것이다. 보다 구체적으로는, 이 방법은 유로퓸에 의해 활성화된 착알칼리토금속 할로겐화화합물로 된 형광체의 제조방법으로서 하기식으로 표시되는 상대량을 갖는 원료물질의 혼합물을 제조하는 공정과,A method for achieving the sixth object is to use BaCl 2 -xBaBr 2 -yCaS: zEu 2+ or the like as a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material. More specifically, this method is a method for producing a phosphor of a complex alkaline earth metal halide compound activated by europium, which is a process for preparing a mixture of raw materials having a relative amount represented by the following formula;
(1-X)MeX2-xMeX'2-yMe'S : zEu(1-X) MeX 2 -xMeX ' 2 -yMe'S: zEu
(식에서, Me와 Me'는 Mg, Ca, Sr 및 Ba를 포함하는 그룹에서 선택된 적어도 한 원소이고, X와 X'는 F, Cl, Br 및 I를 포함하는 그룹에서 선택된 서로 다른 원소이며, x는 0.4이상, 0.6 이하인 수이고, y는 0.1이하의 양수이며, z는 0.0001이상, 0.03이하인 수이다)Wherein Me and Me 'are at least one element selected from the group comprising Mg, Ca, Sr and Ba, and X and X' are different elements selected from the group containing F, Cl, Br and I, and x Is a number greater than or equal to 0.4 and less than or equal to 0.6, y is a positive number less than or equal to 0.1, and z is a number greater than or equal to 0.0001 and less than or equal to 0.03)
상기 혼합물을 약한 환원분위기중에서, 500∼1100℃의 온도로 소성하는 공정을 포함하는 방법이며, 이 방법에 의해 하기 식으로 표시되는 유로퓸에 의해 활성화된 착알칼리토금속 할로겐 화합물로된 형광체가 제공된다:A process comprising calcining the mixture at a temperature of 500 to 1100 ° C. in a weak reducing atmosphere, which provides a phosphor of a complex alkaline earth metal halogen compound activated by europium represented by the following formula:
(1- x) MeX2-xMeX'2-yMe'S : zEu(1- x) MeX 2 -xMeX ' 2 -yMe'S: zEu
(식에서, Me와 Me'는 Mg, Ca, Sr 및 Ba를 포함하는 그룹에서 선택된 적어도 한 원소이고, X와 X'는 F, Cl, Br 및 I를 포함하는 그룹에서 선택된 서로 다른 원소이며, x는 0.4이상, 0.6이하인 수이고, y는 0.1이하의 양수이며, z는 0.0001이상, 0.03이하인 수이다)Wherein Me and Me 'are at least one element selected from the group comprising Mg, Ca, Sr and Ba, and X and X' are different elements selected from the group containing F, Cl, Br and I, and x Is a number greater than or equal to 0.4 and less than or equal to 0.6, y is a positive number less than or equal to 0.1, and z is a number greater than or equal to 0.0001 and less than or equal to 0.03)
[양호한 실시예들의 설명]DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS
본 발명의 양호한 실시예 몇가지를 하기에 상세히 설명한다.Some preferred embodiments of the invention are described in detail below.
A. 제 1 목적 달성 방법의 실시예A. Embodiment of the method of achieving the first object
(1) 청구범위 제 1 항 및 2 항에 해당하는 실시예들(1) Embodiments corresponding to
본 실시예에서는, 강자극성 발광재료로된 형광체를 소성 또는 소결하여, 또는, 광자극성 발광재료로된 형광체를 분쇄하지 않고 사용하여 X선 화상변환 플레이트를 제조한다.In this embodiment, an X-ray image conversion plate is manufactured by firing or sintering a phosphor made of a strong stimulating light emitting material or by using a phosphor made of a photo stimulating light emitting material without crushing.
BaCl2…………………………………………………………………… 208.246gBaCl 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 208.246 g
BaBr2…………………………………………………………………… 297.148gBaBr 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 297.148 g
EuBr3…………………………………………………………………… 0.783gEuBr 3 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.783 g
PMMA…………………………………………………………………… 40gPMMA… … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 40 g
디부틸프탈레이트……………………………………………………… 30gDibutyl phthalate... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 30 g
톨루엔…………………………………………………………………… 400gtoluene… … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 400 g
을 포함하는 원료를 볼 분쇄기(ball mill)로 24시간 동안 혼합하여 액상 혼합물을 제조하였다. 이 액상 혼합물을 막대 코우터(bar coater)를 사용하여 알루미나 판에 도포하여 상기 조성으로 된 혼합물의 박막을 만들었다. 이 알루미나 판상에 도포된 상기 조성으로된 혼합물의 박막을 50℃에서 7시간동안 건조기로 건조한 후, 통기중 1시간 동안 전기로(e : ectricfurnace)에서 처리하여 상기 결합제를 제거하였다.Raw materials including the mixture were mixed for 24 hours in a ball mill to prepare a liquid mixture. This liquid mixture was applied to an alumina plate using a bar coater to form a thin film of the mixture of this composition. The thin film of the mixture having the composition applied on the alumina plate was dried in a dryer at 50 ° C. for 7 hours, and then treated in an electric furnace (e: ectricfurnace) for 1 hour in aeration to remove the binder.
H2및 N2함유 분위기중, 895℃에서 1시간동안 소성을 행하여, 소결된 BaClBr : Eu2+의 광자극성 발광재료로된 두께 300μm 형광체를 제조하였다.In a H 2 and N 2 -containing atmosphere, firing was performed at 895 ° C. for 1 hour to prepare a 300 μm-thick phosphor made of a sintered BaClBr: Eu 2+ photostimulating light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체판의 양면에, 두께 0.5mm의 투명유리판을 접착제로 접착하여 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다.An X-ray image conversion plate was prepared by adhering a 0.5 mm thick transparent glass plate to both surfaces of the phosphor plate made of the photo-stimulatory light emitting material with an adhesive.
비교용으로, 종래방법으로 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다For comparison, an X-ray image conversion plate was prepared by a conventional method.
다시 말해서, 광자극성 발광재료로된 형광체와 결합제로된 두께 300μm 혼합층을, 두께 250μm 미라 쉬트상에 형성시킨후, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체층에, 두께 50μm 다른 미라 쉬트를 증착시켰다.In other words, a 300 μm-thick mixed layer made of a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material and a binder was formed on a 250 μm-thick Mira sheet, and another 50 μm-thick Mira sheet was deposited on the phosphor layer made of the photo-stimulative light emitting material.
상기의 X선 화상변환 플레이트들을 120kV, 200mA 및 조사시간 0.05초의 조건으로 X선을 판톰(phatom)을 통해 노광한후, 반도체 레이저에 의한 파장 830nm, 10mW의 레이저로 조사하여, 형광을 발광시키고, 그 형광을 광증배관으로 측정하였다.The X-ray image conversion plates were exposed to X-rays through a phantom under conditions of 120 kV, 200 mA and an irradiation time of 0.05 seconds, and then irradiated with a laser having a wavelength of 830 nm and 10 mW by a semiconductor laser to emit fluorescence. The fluorescence was measured by photomultipliers.
표 1은 종래기술에 의한 경우 신호강도를 100으로하여 나타낸 상기 시험의 결과들을 나타낸다.Table 1 shows the results of the above test with signal strength of 100 according to the prior art.
[표 1]TABLE 1
(2) 청구범위 제4 및 5항에 해당되는 실시예들(2) Embodiments corresponding to
본 실시예는 광자극성 발광제료로된 형광체와 결합제의 혼합물 쉬트를 기재 쉬트상에 형성하는 공정과, 기재쉬트에서 상기 혼합물 쉬트를 분리하는 공정과, 상기 광자극성 발광 재료로된 형광체의 상대량을 증가시키기 위해 결합제를 제거하는 소성공정을 포함한다.In this embodiment, a process of forming a mixture sheet of phosphor and a binder made of a photo-stimulatory light emitting material on a base sheet, separating the mixture sheet from a base sheet, and a relative amount of phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material Firing process to remove the binder to increase.
광자극성 발광재료로된 형광체의 분말을 얻은 후에, 이 분말에 결합제인 폴리메틸메타크릴레이트와 용제를 혼합하고, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체 쉬트를 미라 필름상에 형성시켰다.After obtaining a powder of phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material, polymethyl methacrylate as a binder and a solvent were mixed with the powder, and a phosphor sheet made of the photo-stimulating light-emitting material was formed on a mummy film.
건조후, 미라 필름으로부터, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체 쉬트만을 분리하였다.After drying, only the phosphor sheet made of the photo-stimulatory light emitting material was separated from the mummy film.
이 쉬트를, 혼합농도비가 10 : 1∼1 : 5 범위인 N2와 O2을 함유하는 분위기중, 600℃에서 1∼40시간동안 가열하여 결합제를 제거한후, H2및 N2함유 분위기중 850℃에서 1시간 동안 소성하여, 광자극성 발광재료로된 형광체의 두께 300μm 소성제 플레이트 또는 소결제 플레이트를 얻었다.The sheet was heated in 600 占 폚 for 1 to 40 hours in an atmosphere containing N 2 and O 2 having a mixed concentration ratio in the range of 10: 1 to 1: 5, and then the binder was removed in an atmosphere containing H 2 and N 2 . It baked at 850 degreeC for 1 hour, and obtained the 300 micrometer thickness baking agent plate or the sintering agent plate of the fluorescent substance which used the photo-stimulatory light emitting material.
최종적으로, 광자극성 발광재료로된 상기 형광제 플레이트의 양면에, 석영유리판을 접착제로 접착하여 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다.Finally, a quartz glass plate was attached to both surfaces of the fluorescent plate made of a photo-stimulatory light emitting material with an adhesive to prepare an X-ray image conversion plate.
상기 X선 화상변환 플레이트를, 종래기술에 의한, 즉, 광자극성 발광재료로된 형광체 분말과 결합제 PMMA의 혼합물을 기재상에 도포하여 두께 300μm 쉬트를 제조하여 얻은, X선 화상변환 플레이트와 비교하였다.The X-ray image conversion plate was compared with an X-ray image conversion plate obtained by applying a mixture of phosphor powder made of a photo-stimulatory light emitting material and a binder PMMA on a substrate according to the prior art, to prepare a sheet having a thickness of 300 μm. .
그 비교시험은, 상기의 X선 화상변환 플레이트들을, 120kV, 200mA 및 조사시간 0.05초의 조건으로 X선을 판톰을 통해 노광한후, 반도체 레이저에 의한 파장 830m, 10mW의 레이저로 조사하여 형광을 발광시키고 그 형광을 광증배관으로 측정하는 방법을 사용하여 행하였다.In the comparative test, the X-ray image conversion plates were exposed to X-rays through a pantom under conditions of 120 kV, 200 mA and an irradiation time of 0.05 seconds, and then irradiated with a laser having a wavelength of 830 m and 10 mW by a semiconductor laser to emit fluorescence. And fluorescence was measured using a photomultiplier tube.
표 2는 종래기술에 의한 경우의 신호 강도를 100으로하여 나타낸, 상기 시험의 결과들을 나타낸다.Table 2 shows the results of the above test, indicated with a signal strength of 100 according to the prior art.
[표 2]TABLE 2
상기 표로부터, 본 발명의 광자극성 발광재료로된 형광체에 의한 X선 화상변환 플레이트는, 종래 기술에 의한 것에 비해 그 발광강도의 면에서 현저하게 향상된 것임을 알 수 있으며, 그 이유는, 본 발명에 의한 것은 그 광자극성 발광재료로된 형광체의 상대량이 더 많고, 결합제의 상대량이 더 적기 때문이며, 또, 분쇄공정중의 결정 결함이 소정공정중 결정의 성장에 의해 보정되기 때문이다.From the above table, it can be seen that the X-ray image conversion plate by the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material of the present invention is remarkably improved in terms of its luminescence intensity as compared with that of the prior art. This is because the relative amount of the phosphor of the photo-stimulatory light emitting material is larger, the relative amount of the binder is smaller, and the crystal defects during the grinding process are corrected by the growth of the crystals in the predetermined process.
800kV, 100mW의 조건으로 발광된 X선과 파장이 500∼900nm인 여기화용 레이저를 사용하여, 상기와 유사한 시험을, 상기 실시예의 X선 화상변환 플레이트에 대해 실시하였다.A similar test to the above was carried out on the X-ray image conversion plate of the above example, using X-rays emitted at 800 kV and 100 mW and an excitation laser having a wavelength of 500 to 900 nm.
제5도는 상기 시험의 결과를 나타낸 도면으로서, 발광강도와 여기광의 파장과의 상관관계를 나타낸다(파선(11)로 도시됨)5 is a diagram showing the results of the test, showing the correlation between the emission intensity and the wavelength of the excitation light (shown by broken line 11).
제5도에서, 실선(12)는 N2및 H2의 혼합가스중에서 소성한, 본 실시예의, 광자극성 발광재료로된 형광체를 상기와 동일 조건하에서 측정했을때의 발광강도와 여기광 파장과의 상관관계를 나타내며, 쇄선(13)은 종래 기술에 의한 BaFBr : Eu를 상기와 동일 조건하에서 측정했을때의 발광강도와 여기광 파장과의 상관관계를 나타낸다(일본 특개소 63-28954호 공보).In FIG. 5, the solid line 12 shows the emission intensity and the excitation light wavelength when the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material of the present embodiment, which is fired in a mixed gas of N 2 and H 2 , is measured under the same conditions as described above. The dotted
상기 그래프로부터, 본 발명의 X선 화상변환 플레이트가 파장범위 500∼900nm의 여기광에 대해 뛰어난 감도를 갖는 다는 것을 명백히 알 수 있다.From the graph, it is clear that the X-ray image conversion plate of the present invention has excellent sensitivity to excitation light in the wavelength range of 500 to 900 nm.
그러므로, 제6도를 참조하여 보면, 대상물(14)을 투과한 X선(15)에 노광된, 본 발명의 X선 화상변환 플레이트는 파장이 500∼900nm인 여기화전류(exciting curreut)에 노광되면, 형광을 발광하며, 이 형광은 광학계(18)에 의해 포집되고, 광 감지기(light sensor)(광증배관)(19)에 의해 감지되어 전기적신호로 변환된다.Therefore, referring to FIG. 6, the X-ray image conversion plate of the present invention, which is exposed to the
B. 제 2 목적의 달성 방법의 실시예들B. Examples of a method of achieving the second object
본 실시예에서는, 그 양면 또는 한쪽면에 하나 또는 두 보호층을 갖는 X선 화상변환 플레이트의 보호층에, SiO2, ITO등으로된 보호층을 하나 또는 두개 더 첨가한다.In this embodiment, one or two further protective layers made of SiO 2 , ITO, or the like are added to the protective layer of the X-ray image conversion plate having one or two protective layers on both sides or one side thereof.
상기 A항목(1)항에 설명된 것과 유사한 방법을 사용하여, 광자극성 발광재료로된 두께 300μm 형광체를, 미라로된 두께 50μm 기재필름상에 형성하였다.Using a method similar to that described in item A (1) above, a 300 μm-thick phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material was formed on a mummy-thick 50 μm base film.
건조후, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체를 A4크기로 절단하고, 상기 기재필름을 제거한후, 이산화규소(SiO2) 및 인디움 틴옥사이드(indium tin oxide : ITO)등으로 된 층을 한쪽면에 갖는 미라 필름을 A4크기보다 길이 및 폭이 5mm더 길게 절단한 것을, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체층의 양면에 접착제로 접착하였다.After drying, the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material is cut into A 4 size, the base film is removed, and a layer made of silicon dioxide (SiO 2 ) and indium tin oxide (ITO), etc. that the mummy film having one surface on the length and width of 5mm longer than the cut a 4 size, was laminated with an adhesive to both sides of the phosphor layer with the stimulating light emitting material.
제 2a 도는 상기 방법에 의해 제조된 X선 화상변환 플레이트의 횡단면도이다.2A is a cross sectional view of an X-ray image conversion plate manufactured by the above method.
제 2a 도에서, 광자극성 발광재료로된 형광체층(1)이, 미라 필름층(3)과 SiO2필름층(2)으로된 적층물(pile)들 사이에 접착제(4)에 의해 서로 접착되어 있다.In FIG. 2A, the
상기 점작제(4)가 상기 광자극성 발광재료로된 형광체층(1)의 가장자리를 둘러싸므로, 상기 광자극성 발광재료로된 형광층(1)이 외기에 노출되지 않는다.Since the dropper 4 surrounds the edge of the
제 2b 도는 상기 광자극성 발광재료로된 형광체층(1)으로부터 기재필름(5)를 제거하지 않아도 되는 경우를 나타낸다.FIG. 2B shows a case where the
다시말해서, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체층(1)을 포함하는 적층물을, 미라필름(3)과 SiO2필름(2)으로된 적층물들 사이에 접착제로 서로 접착시킬 수 있다.In other words, the laminate including the
제 4 도는 제 2a 및 2b도의 층구조를 갖는 본 발명에 의한 X선 화상변환 플레이트와, 광자극성 발광재료로된 형광체층(1)의 적층물이 미라필름(3)과 SiO2필름(2)으로된 적층물들 사이에 접착제(4)에 의해 적층되어진 층구조를 갖는 종래기술에 의한 X선 화상변환 플레이트에 대해, 온도 60℃, 상대습도 90%의 조건으로 내습성 시험을 행한 결과를 나타내는 그래프이다.4 is a laminate of an X-ray image conversion plate according to the present invention having a layer structure of FIGS. 2A and 2B, and a
제 4 도로부터, 제2a 및 제2b도에 각각 설명된 층구조를 갖는 X선 화상변환 플레이트의 내습성(쇄선(7)과 실선(8)로 각각 도시됨)이, 제 3 도에 설명된 층구조를 갖는 종래의 X선 화상변환 플레이트의 내습성(실선(9)로 도시됨)보다 더 크다는 것을 명백히 알 수 있다.From FIG. 4, the moisture resistance (shown by the dashed
또한, 제 4 도에서 파선(10)은 상기 발광재료로된 형광체층(1)의 가장자리부분 외에는 이와 유사한 구조를 갖는 X선 화상변환 플레이트의 내습성을 나타내는 선이며, 그 내습성은 제 2a 도 또는 제 2b 도의 X선 화상변환 플레이트의 경우보다 휠씬 작으며, 그 이유는, 미라필름(3)과 SiO2필름(2)으로된 적층물들의 크기가 광자극성 발광재료로된 형광체(1)와 기재필름(5)으로된 적층물의 크기와 동일해지기 때문이다. 알칼리토금속 할로겐화물과 유로폼할로겐화물의 혼합물중의 3가 유로폼을 2가 유로폼으로 환원시키기 위한 가스로서, 헬륨과 수소가스의 혼합가스를 사용하면, 헬륨원자의 크기가 작으므로 그 원자가 상기 알칼리토금속내로 효과적으로 확산하여 바람직하지 못한 가스를 제거하므로, 그 제조되는 광자극성 발광재료로된 형광체의 발광강도를 높이는데 효과적임을, "E. 제 5 목적의 달성방법의 실시예(청구범위 제14항에 해당됨)"의 항목에서 설명된다.In addition, in FIG. 4, the
SiO2, ITO등의 무기재료로된 하나 또는 두개의 보호필름을, 헬륨과 수소의 혼합가스를 3가 유로폼의 2가 유로폼으로의 환원용으로 사용하여 제조한, 광자극성 발광재료로된 형광제에 의한 X선 화상변환 플레이트에 첨가하면, 본 실시예와 제 5 목적의 달성방법의 결과가 조합되는 결과가 되어, 상기 X선 화상변환 플레이트의 성능을 제고하는데 효과적이다.One or two protective films made of inorganic materials such as SiO 2 and ITO are prepared by using a mixed gas of helium and hydrogen for reduction of trivalent euroforms into divalent euroforms. When added to the X-ray image conversion plate, the result of the present embodiment and the fifth object achieving method is combined, which is effective in improving the performance of the X-ray image conversion plate.
C. 제 4 목적의 달성방법의 실시예들(청구범위 제3 및 6항에 해당됨)C. Embodiments of the method of achieving the fourth object (corresponding to
본 실시예들은 X선 화상변환 플레이트의 휨 보정에 관한 실시예들이다.The embodiments are embodiments related to warpage correction of the X-ray image conversion plate.
BaCl2……………………………………………………………208.246gBaCl 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 208.246 g
BaBr2……………………………………………………………297.148gBaBr 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 297.148 g
EuBr3………………………………………………………… 0.783gEuBr 3 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.783 g
증류수……………………………………………………… 400gDistilled water… … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 400 g
등을 혼합하여 액상혼합물을 얻은후, 거의 80℃에서 건조시킨 후, 그 건조된 혼합물을 분말로 분쇄하였다.After mixing and the like to obtain a liquid mixture, and dried at almost 80 ℃, the dried mixture was ground to a powder.
전기로를 사용하여 상기 분말을 대기중에서 거의 500℃에서 2시간 동안 소성한후, 그 광자극성 발광재료로된 형광체의 소성체를 입경이 30∼50μm이 되도록 분쇄하였다.After the powder was calcined in the air at about 500 ° C. for 2 hours using an electric furnace, the calcined body of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material was pulverized so as to have a particle size of 30 to 50 μm.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체 분말 500g PMMA 30g, 프탈산 디부틸 3g 및 톨루엔 150g을, 볼 분쇄(bal1 will)용 용기중에서 24시간 동안 혼합하여 액상 혼합물을 얻었다. 이 액상혼합물을 덕터블레이드(doctor blade)를 사용하여 미라 필름상에 도포한후, 건조하여, 광자극성 발광재료로된 형광체와 결합제의 400μm 두께 혼합물 쉬크를 제조한후, 상기 미라 필름에서 떼어내었다.30 g of phosphor powder 500 g PMMA, 3 g of dibutyl phthalate and 150 g of toluene made of the photo-stimulatory light emitting material were mixed for 24 hours in a bowl for ball grinding to obtain a liquid mixture. This liquid mixture was applied onto a mummy film using a duct blade, then dried to prepare a 400 μm thick mixture chic of a phosphor and a binder made of a photo-stimulatory light emitting material and then removed from the mummy film.
전기로중에서 상기 쉬트의 온도를 6시간에 걸쳐 600℃까지 상승시킨후, 이 온도에서 1시간 동안 유지하고, 5시간 걸쳐 200℃ 이하로 온도를 낮추었다.The temperature of the sheet was raised to 600 ° C. over 6 hours in an electric furnace, and then maintained at this temperature for 1 hour and lowered to 200 ° C. or less over 5 hours.
이후, 상기 반소결된 쉬트를, 수소의 질소의 혼합가스가 충전된 전기로에 넣고, 쉬트의 온도를 9시간에 걸쳐 900℃까지 상승시킨후, 그 온도에서 3시간동안 유지하고, 5시간에 걸쳐 200℃까지 온도를 낮추었다.Thereafter, the semi-sintered sheet was placed in an electric furnace filled with a nitrogen gas mixture of hydrogen, the temperature of the sheet was raised to 900 ° C. over 9 hours, and maintained at that temperature for 3 hours, and then over 5 hours. The temperature was lowered to 200 ° C.
그러나, 상기와 같이 제조된, 광자극성 발광재료로된 형광체 쉬트에는 반드시 휨이 발생했다.However, warpage always occurred in the phosphor sheet made of the photo-stimulatory light emitting material manufactured as described above.
이 휨을 보정하기 위해서 수소와 질소의 혼합가스중에서 상기 소성공저을 다시 행하는 중에, 두께 0.5mm의 석영판을 상기 광자극성 발광재료로된 형광체 쉬트에 올려 놓았다. 이 방법은 상기 휨을 보정하는데 효과적이었으며, 휨 발생이 없는 광자극성 발광재료로된 형광체의 300μm 두께 쉬트를 얻는데도 효과적이었다In order to correct this warp, while performing the baking step again in a mixed gas of hydrogen and nitrogen, a 0.5 mm thick quartz plate was placed on the phosphor sheet made of the photo-stimulatory light emitting material. This method was effective in correcting the warpage, and was also effective in obtaining a 300 μm thick sheet of a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material with no warpage.
이후, 상기 광자극성 발광재료로된 형광체 쉬트를 두께 50μm 미라 필름사이에 접착제로 서로 접작시켜 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다.Subsequently, the X-ray image conversion plate was manufactured by contacting the phosphor sheet made of the photo-stimulatory light emitting material with an adhesive between the 50 μm thick mummy films.
D. 제 3 목적 달성 방법의 실시예들(청구범위 제10∼13항에 해당됨)D. Embodiments of the method of achieving the third object (corresponding to
본 실시예는, 광자극성 발광재료로된 형광체분말과 결합제의 혼합물 쉬트를 가열하여 그 결합제를 제거하고, 혼합공정중 발생된 결정결함을 보정하는 공정을 포함한다.This embodiment includes a step of heating a mixture sheet of a phosphor powder and a binder made of a photo-stimulatory light emitting material to remove the binder and correcting crystal defects generated during the mixing process.
[제 1실시예][First Embodiment]
BaCl2…………………………………………………………………208.246gBaCl 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 208.246 g
BaBr2…………………………………………………………………297.148gBaBr 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 297.148 g
EuBr3……………………………………………………………… 0.652gEuBr 3 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.652 g
을 포함하는 원료물질을 볼 분쇄기로 6시간동안 혼합한후, 그 뚜껑을 열고 3시간동안 방치한후, 그 혼합물을 진공중 150℃에서 약 3시간 건조시켰다.After mixing the raw material comprising a ball mill for 6 hours, the lid was opened and left for 3 hours, the mixture was dried at 150 ℃ in vacuum for about 3 hours.
상기 볼 분쇄기를 다시 사용하여, 그 건조된 혼합물을 6시간동안 더 혼합하였다Using the ball mill again, the dried mixture was further mixed for 6 hours.
전기로를 사용하여, 수소 및 헬륨을 포함하는 환원분위기중에서 상기 혼합물을 거의 900℃에서 거의 2시간동안 소성하여, 광자극성 발광재료로된 형광체분말을 얻었다.Using an electric furnace, the mixture was calcined at about 900 ° C. for about 2 hours in a reducing atmosphere containing hydrogen and helium to obtain a phosphor powder made of a photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체분말 500g, PMMA 30g 프탈산 디부틸 3g 및 톨루엔 150g을 함유하는 혼합물을 볼 분쇄기 용기중에서 거의 20시간동안 혼합하여 액상혼합물을 얻었다. 덕터블레이드를 사용하여 상기 액상 혼합물을 미라 필름상에 도포하였다.The mixture containing 500 g of the phosphor powder of the photo-stimulatory light emitting material, 3 g of PMMA 30 g of dibutyl phthalate, and 150 g of toluene was mixed in a ball mill vessel for about 20 hours to obtain a liquid mixture. The liquid mixture was applied onto the mummy film using duct blades.
거의 120℃에서 건조시킨후, 광자극성 발광재료로된 형광제 쉬트에서 미라필름을 떼어내었다.After drying at nearly 120 [deg.] C., the mirafilm was removed from the phosphor sheet of the photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체쉬트를 석영판위에 올려놓은 것을 전기로에 넣었다. 이 쉬트의 온도를 산화분위기(대기중)중에서 거의 150℃까지 상승시키고, 그 온도에서 2시간동안 유지한후, 상기 쉬트의 온도를 600℃까지 더 상승시킨후, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시켰다. 최종적으로, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다. 이러한 공정에 의해, 결합제와 휨이 배제된 반 소결체 쉬트를 얻었다.The phosphor sheet made of the photo-stimulatory light emitting material was placed on a quartz plate in an electric furnace. The temperature of this sheet was raised to approximately 150 ° C. in an oxidizing atmosphere (atmosphere), held at that temperature for 2 hours, and then further raised to a temperature of 600 ° C., and maintained at that temperature for approximately 2 hours. . Finally, the temperature of the sheet was lowered to 100 ° C or lower. By this process, the semi-sintered compact sheet from which the binder and the warpage were removed was obtained.
상기 반소결체 쉬트를 흑연판위에 올려 놓은 것을 전기로에 넣었다. 상기 쉬트의 온도를, 수소와 질소의 혼합 가스 또는 수소와 헬륨의 혼합기스를 함유하는 환원분위기중에서, 거의 800℃까지 상승시키고, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시킨후, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다. 이러한 공정에 의해, 광자극성 발광재료로된 형광체의 약 300μm 두께 소결체 쉬트 또는 쉬트를 얻었다The semi-sintered sheet placed on the graphite plate was placed in an electric furnace. The temperature of the sheet is raised to nearly 800 ° C. in a reducing atmosphere containing a mixed gas of hydrogen and nitrogen or a mixed gas of hydrogen and helium, and maintained at that temperature for about 2 hours, and then the temperature of the sheet is 100 Lowered below ℃. By this process, about 300 μm-thick sintered sheet or sheet of phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material was obtained.
상기 광자극성 발광재료로된 형광제를 습기로부터 보호하기 위해, 상기 소결체 쉬트의 한쪽면에, 강화 유리쉬트 또는 석영유리 쉬트를 에폭시 수지에 의해 접착하고, 그 소결체 쉬트의 다른 한 면에는 미라필름, 강화 유리막 또는 석영유리막을 에폭시 수지에 의해 접착하였다. 이러한 방법에 의해 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다.In order to protect the fluorescent material made of the photo-stimulatory light emitting material from moisture, a tempered glass sheet or a quartz glass sheet is adhered to one side of the sintered sheet by epoxy resin, and a mira film, The tempered glass film or the quartz glass film was bonded with an epoxy resin. An X-ray image conversion plate was produced by this method.
상기 제조된 X선 화상변환 플레이트를, 관(tube)전압, 120kV, 관전류 50mA의 조건으로 자극된 X선관의 촛점으로부터 70cm 떨어진 곳에 설치하고, 이 X선관을 사용하여 0.2초간 X선 노광하였다.The prepared X-ray image conversion plate was installed at a distance of 70 cm from the focus of the X-ray tube stimulated under the conditions of a tube voltage, 120 kV, and a tube current of 50 mA, and X-ray exposure was performed for 0.2 seconds using this X-ray tube.
노광후, 그 노광된 X선 화상변환 플레이트를 파장 780nm, 전력 10kV의 레이저로 조사하였다.After the exposure, the exposed X-ray image conversion plate was irradiated with a laser of wavelength 780 nm and
상기 X선 화상변환 플레이트에서 발광된 형광의 강도를 광증배관에 의해 감지하였다. 그 결과, 상기 X선 화상변환 플레이트의 발광강도는 종래 기술에 의한 것의 3.7배였다.The intensity of fluorescence emitted from the X-ray image conversion plate was sensed by photomultipliers. As a result, the light emission intensity of the X-ray image conversion plate was 3.7 times that of the prior art.
[제 2 실시예]Second Embodiment
BaCl2………………………………………………………………208.246gBaCl 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 208.246 g
BaBr2………………………………………………………………297.148gBaBr 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 297.148 g
EuCl3…………………………………………………………… 0.652gEuCl 3 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.652 g
을 포함하는 원료물질을 볼 분쇄기로 6시간동안 혼합한후, 그 뚜껑을 열고 3시간동안 방치한후, 그 혼합물을 진공중 거의 150℃에서 3시간동안 건조시켰다.After mixing the raw material comprising a for 6 hours in a ball mill, the lid was opened and left for 3 hours, the mixture was dried at almost 150 ℃ in vacuum for 3 hours.
상기 볼 분쇄기를 다시 사용하여, 그 건조된 혼합물을 6시간동안 더 혼합하였다. 혼합물이 습윤한 경우, 대기중에서 진공건조 또는 열처리를 행하였다. 상기 혼합물(광자극성 발광제료로된 형광체 원료) 500g, PMMA 30g, 프탈산 디부틸 3g 및 톨루엔 150g을, 함유하는 혼합물을 볼 분쇄 용기중에서 거의 20시간동안 혼합하여 액상 혼합물을 얻었다. 덕터블레이드를 사용하여 상기 액상 혼합물을 미라필름상에 도포하였다. 거의 120℃에서 건조시킨후, 광자극성 발광재료로된 형광제 쉬트에서 미라필름을 떼어내었다.Using the ball mill again, the dried mixture was further mixed for 6 hours. When the mixture was wet, vacuum drying or heat treatment was performed in air. A mixture containing 500 g of the mixture (phosphor raw material made of a photo-stimulatory light emitting material), 30 g of PMMA, 3 g of dibutyl phthalate, and 150 g of toluene was mixed in a ball grinding vessel for about 20 hours to obtain a liquid mixture. The liquid mixture was applied onto the mirafilm using duct blades. After drying at nearly 120 [deg.] C., the mirafilm was removed from the phosphor sheet of the photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체 원료로된 쉬트를 석영판위에 올려놓은 것을 전지로에 넣었다.The sheet made of the phosphor raw material of the photo-stimulatory light emitting material was placed on a quartz plate and placed in a battery furnace.
이 쉬트의 온도를 산화분위기(대기중)중에서 거의 150℃까지 상승시키고, 그 온도에서 2시간동안 유지한후, 상기 쉬트의 온도를 600℃까지 더 상승시킨후, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시켰다.The temperature of this sheet was raised to approximately 150 ° C. in an oxidizing atmosphere (atmosphere), held at that temperature for 2 hours, and then further raised to a temperature of 600 ° C., and maintained at that temperature for approximately 2 hours. .
최종적으로, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다. 이러한 공정에 의해 결합제와 휨이 배제된 반소결체 쉬트를 얻었다.Finally, the temperature of the sheet was lowered to 100 ° C or lower. This process yielded a semi-sintered sheet with no binder and no warpage.
상기 반소결체 쉬트를 흑연판위에 올려놓은 체로 전기로에 넣었다.The semi-sintered sheet was placed in an electric furnace on a graphite plate.
상기 쉬트의 온도를 수소와 질소의 혼합가스 또는 수소와 헬륨의 혼합가스를 함유하는 환원분위기중에서, 거의 800℃까지 상승시키고, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시킨후, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다. 이러한 공정에 의해, 광자극성 발광재료로된 형광체의 약 300μm 두께의 소결체 쉬트 또는 쉬트를 얻었다.The temperature of the sheet is raised to nearly 800 ° C. in a reducing atmosphere containing a mixture of hydrogen and nitrogen or a mixture of hydrogen and helium, and maintained at that temperature for approximately 2 hours, and then the temperature of the sheet is 100 ° C. Lowered below. By this process, a sintered compact sheet or sheet having a thickness of about 300 µm of a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material was obtained.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체를 습기로부터 보호하기 위해, 상기 소결체 쉬트의 한쪽면에, 강화 유리쉬트 또는 석영유리의 쉬트를 에폭시 수지에 의해 접착하고 그 소결체 쉬트의 다른 한 면에는 미라필름강화 유리막 또는 석영유리막을 에폭시 수지에 의해 접착하였다. 이러한 방법에 의해 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다.In order to protect the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material from moisture, a sheet of tempered glass sheet or quartz glass is bonded to one side of the sintered body sheet with an epoxy resin and a mirafilm-reinforced glass film on the other side of the sintered body sheet. Or the quartz glass film was bonded by epoxy resin. An X-ray image conversion plate was produced by this method.
상기 제조된 X선 화상변환 플레이트를, 관(tube)전압 120kV, 관전류 50mA의 조건으로 자극하는 X선관의 촛점으로부터 70cm 떨어진 곳에 설치하고, 이 X선관을 사용하여 0.2초 X선 노광하였다.The X-ray image conversion plate prepared above was installed at a distance of 70 cm from the focus of the X-ray tube stimulated under a condition of a tube voltage of 120 kV and a tube current of 50 mA, and subjected to 0.2 second X-ray exposure using this X-ray tube.
노광후, 그 노광된 X선 화상변환 플레이트를 파장 780nm, 전력 10mW의 레이저로 조사하였다. 상기 X선 화상변환 플레이트에서 발광된 형광의 강도를 광증배관에 의해 감지하였다.After the exposure, the exposed X-ray image conversion plate was irradiated with a laser of wavelength 780 nm and
그 결과, 상기 X선 화상변환 플레이트의 발광강도는 종래기술에 의한 것이 3.6배였다.As a result, the light emission intensity of the X-ray image conversion plate was 3.6 times that according to the prior art.
[제 3 실시예]Third Embodiment
RbBr…………………………………………………………… 164.4gRbBr… … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 164.4 g
TlBr…………………………………………………………… 0.568gTlBr… … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.568 g
을 포함하는 원료물질을 볼 분쇄기로 6시간동안 혼합한후, 그 뚜껑을 열고 3시간동안 방치한후, 그 혼합물을 진공중 거의 150℃에서 3시간동안 건조시켰다.After mixing the raw material comprising a for 6 hours in a ball mill, the lid was opened and left for 3 hours, the mixture was dried at almost 150 ℃ in vacuum for 3 hours.
상기 볼 분쇄기를 다시 사용하여, 그 건조된 혼합물을 6시간동안 더 혼합하였다.Using the ball mill again, the dried mixture was further mixed for 6 hours.
전기로를 사용하여 수소 및 헬륨을 포함하는 환원분위기중에서 상기 혼합물을 거의 650℃에서 거의 2시간동안 소성하여, 광자극성 발광재료로된 형광체 분말을 얻었다.The mixture was calcined at about 650 ° C. for about 2 hours in a reducing atmosphere containing hydrogen and helium using an electric furnace to obtain a phosphor powder made of a photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체 분말 500g, PMMA 30g, 프탈산 디부틸 3g 및 톨루엔 150g을, 함유하는 혼합물을 볼 분쇄 용기중에서 20시간동안 혼합하여 액상 혼합물을 얻었다. 덕터블레이드를 사용하여 상기 액상 혼합물을 미라필름상에 도포하였다. 거의 120℃에서 건조시킨후, 광자극성 발광재료로된 형광체쉬트에서 미라필름을 떼어내었다.A mixture containing 500 g of the phosphor powder of the photo-stimulatory light emitting material, 30 g of PMMA, 3 g of dibutyl phthalate, and 150 g of toluene was mixed in a ball grinding vessel for 20 hours to obtain a liquid mixture. The liquid mixture was applied onto the mirafilm using duct blades. After drying at nearly 120 ° C., the mirafilm was removed from the phosphor sheet of photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체 쉬트를 석영판위에 올려놓은 체로 전지로에 넣었다. 이 쉬트의 온도를 산화분위기(대기중)중에서 거의 150℃까지 상승시키고, 그 온도에서 2시간동안 유지한후, 상기 쉬트의 온도를 600℃까지 더 상승시킨후, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시켰다.The phosphor sheet made of the photo-stimulatory light emitting material was placed in a cell furnace on a quartz plate. The temperature of this sheet was raised to approximately 150 ° C. in an oxidizing atmosphere (atmosphere), held at that temperature for 2 hours, and then further raised to a temperature of 600 ° C., and maintained at that temperature for approximately 2 hours. .
최종적으로, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다.Finally, the temperature of the sheet was lowered to 100 ° C or lower.
이러한 공정에 의해 결합제와 휨이 배제된 반소결체 쉬트를 얻었다.This process yielded a semi-sintered sheet with no binder and no warpage.
상기 반소결체 쉬트를 흑연판위에 올려놓은 체로 전기로에 넣었다.The semi-sintered sheet was placed in an electric furnace on a graphite plate.
상기 쉬트의 온도를 수소와 질소의 혼합가스 또는 수소와 헬륨의 혼합가스를 함유하는 환원분위기중에서, 거의 800℃까지 상승시키고, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시킨후, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다. 이러한 공정에 의해, 광자극성 발광재료로된 형광체의 약 300μm 두께 소결체 쉬트 또는 쉬트를 얻었다.The temperature of the sheet is raised to nearly 800 ° C. in a reducing atmosphere containing a mixture of hydrogen and nitrogen or a mixture of hydrogen and helium, and maintained at that temperature for approximately 2 hours, and then the temperature of the sheet is 100 ° C. Lowered below. By this process, about 300 μm thick sintered sheet or sheet of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material was obtained.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체를 습기로부터 보호하기 위해, 상기 소결체 쉬트의 한쪽면에, 강화 유리쉬트 또는 석영유리의 쉬트를 에폭시 수지에 의해 접착하고 그 소결체 쉬트의 다른 한 면에는 미라필름, 강화 유리막 또는 석영유리막을 에폭시 수지에 의해 접착하였다.In order to protect the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material from moisture, a sheet of tempered glass sheet or quartz glass is bonded to one side of the sintered body sheet by epoxy resin, and a mirafilm, reinforced on the other side of the sintered body sheet. A glass film or a quartz glass film was bonded with an epoxy resin.
이러한 방법에 의해 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다.An X-ray image conversion plate was produced by this method.
상기 제조된 X선 화상변환 플레이트를 관(tube)전압 120kV, 관전류 50mA의 조건으로 자극하는 X선관의 촛점으로부터 70cm 떨어진 곳에 설치하고, 이 X선관을 사용하여 0.2초간 X선 노광하였다.The prepared X-ray image conversion plate was installed at a distance of 70 cm from the focal point of the X-ray tube stimulated under the condition of a tube voltage of 120 kV and a tube current of 50 mA, and the X-ray tube was subjected to X-ray exposure for 0.2 seconds.
노광후, 그 노광된 X선 화상변환 플레이트를 파장 780nm, 전력 10mW의 레이저로 조사하였다. 상기 X선 화상변환 플레이트에서 발광된 형광의 강도를 광증배관에 의해 감지하였다.After the exposure, the exposed X-ray image conversion plate was irradiated with a laser of wavelength 780 nm and
그 결과, 상기 X선 화상변환 플레이트의 발광강도는 종래기술에 의한 것이 3.7배였다.As a result, the light emission intensity of the X-ray image conversion plate was 3.7 times that according to the prior art.
[제 4 실시예][Example 4]
RbBr………………………………………………………………164.4gRbBr… … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 164.4 g
TlBr……………………………………………………………… 0.568gTlBr… … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.568 g
을 포함하는 원료물질을 볼 분쇄기로 6시간동안 혼합한후, 그 뚜껑을 열고 3시간동안 방치한후, 그 혼합물을 진공중 거의 150℃에서 3시간동안 건조시켰다After mixing the raw material containing a for 6 hours in a ball mill, the lid was opened and left for 3 hours, and the mixture was dried at almost 150 DEG C for 3 hours in a vacuum.
상기 볼 분쇄기를 다시 사용하여, 그 건조된 혼합물을 6시간동안 더 혼합하였다. 그 혼합물이 습윤한 경우, 대기중에서 진공건조 또는 열처리를 행하였다Using the ball mill again, the dried mixture was further mixed for 6 hours. If the mixture was wet, vacuum drying or heat treatment was performed in air.
상기 혼합물(광자극성 발광재료로된 형광체 원료) 500g, PMMA 30g, 프탈산 디부틸 3g 및 톨루엔 150g을, 함유하는 혼합물을 볼 분쇄 용기중에서 거의 20시간동안 혼합하여 액상 혼합물을 얻었다. 덕터블레이드를 사용하여 상기 액상 혼합물을 미라필름상에 도포하였다.A mixture containing 500 g of the above-mentioned mixture (phosphor raw material made of a photo-stimulatory light emitting material), 30 g of PMMA, 3 g of dibutyl phthalate, and 150 g of toluene was mixed in a ball grinding vessel for about 20 hours to obtain a liquid mixture. The liquid mixture was applied onto the mirafilm using duct blades.
거의 120℃에서 전조시킨후, 광자극성 발광재료로된 형광체 쉬트에서 미라필름을 떼어내었다.After precursoring at nearly 120 ° C., the mirafilm was removed from the phosphor sheet of photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체 원료의 쉬트를 석영판위에 올려놓은 것을 전기로에 넣었다.The sheet of the phosphor raw material of the photo-stimulatory light emitting material was placed on a quartz plate and placed in an electric furnace.
이 쉬트의 온도를 산화분위기(대기중)중에서 거의 150℃까지 상승시키고, 그 온도에서 2시간동안 유지한후, 상기 쉬트의 온도를 550℃까지 더 상승시킨후, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시켰다.The temperature of this sheet was raised to nearly 150 ° C. in an oxidizing atmosphere (atmosphere), held at that temperature for 2 hours, and then the temperature of the sheet was further raised to 550 ° C. and maintained at that temperature for almost 2 hours. .
최종적으로, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다.Finally, the temperature of the sheet was lowered to 100 ° C or lower.
이러한 공정에 의해 결합제와 휨이 배제된 반소결체 쉬트를 얻었다.This process yielded a semi-sintered sheet with no binder and no warpage.
상기 반소결체 쉬트를 흑연판위에 올려놓은 것을 전기로에 넣었다.The semi-sintered sheet was placed on a graphite plate and placed in an electric furnace.
상기 쉬트의 온도를 수소와 질소의 혼합가스 또는 수소와 헬륨의 혼합가스를 함유하는 환원분위기중에서, 거의 600℃까지 상승시키고, 그온도에서 거의 2시간동안 유지시킨후, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다. 이러한 공정에 의해, 광자극성 발광재료로된 형광체의 약 300μm 두께 소결체 쉬트 또는 쉬트를 얻었다.The temperature of the sheet is raised to nearly 600 ° C. in a reducing atmosphere containing a mixture of hydrogen and nitrogen or a mixture of hydrogen and helium, and maintained at that temperature for approximately 2 hours, and then the temperature of the sheet is 100 ° C. Lowered below. By this process, about 300 μm thick sintered sheet or sheet of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material was obtained.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체를 습기로부터 보호하기 위해, 상기 소결체 쉬트의 한쪽면에, 강화 유리쉬트 또는 석영유리의 쉬트를 에폭시 수지에 의해 접착하고 그 소결체 쉬트의 다른 한 면에는 미라필름, 강화 유리막 또는 석영유리막을 에폭시 수지에 의해 접착하였다.In order to protect the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material from moisture, a sheet of tempered glass sheet or quartz glass is bonded to one side of the sintered body sheet by epoxy resin, and a mirafilm, reinforced on the other side of the sintered body sheet. A glass film or a quartz glass film was bonded with an epoxy resin.
이러한 방법에 의해 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다.An X-ray image conversion plate was produced by this method.
상기 제조된 X선 화상변환 플레이트를 관(tube)전압 120kV, 관전류 50mA의 조건으로 자극된 X선관의 촛점으로부터 70cm 떨어진 곳에 설치하고, 이 X선관을 사용하여 0.2초간 X선 노광하였다.The prepared X-ray image conversion plate was installed at a distance of 70 cm from the focus of the X-ray tube stimulated under the condition of a tube voltage of 120 kV and a tube current of 50 mA, and X-ray exposure was performed for 0.2 seconds using this X-ray tube.
노광후, 그 노광된 X선 화상변환 플레이트를 파장 780nm, 전력 10mV의 레이저로 조사하였다. 상기 X선 화상변환 플레이트에서 발광된 형광의 강도를 광증배관에 의해 감지하였다.After the exposure, the exposed X-ray image conversion plate was irradiated with a laser of wavelength 780 nm and
그 결과, 상기 X선 화상변환 플레이트의 발광강도는 종래기술에 의한 것이 3.2배였다.As a result, the light emission intensity of the X-ray image conversion plate was 3.2 times that according to the prior art.
[제 5 실시예][Example 5]
BaCl2…………………………………………………………… 208.246gBaCl 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 208.246 g
BaBr2……………………………………………………………297.148gBaBr 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 297.148 g
CaS…………………………………………………………… 0.721gCaS… … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.721 g
EuCl3………………………………………………………… 0.652gEuCl 3 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.652 g
을 포함하는 원료물질을 불 분쇄기로 6시간동안 혼합한후, 그 뚜껑을 열고 3시간동안 방치한후, 그 혼합물을 진공중 거의 150℃에서 3시간동안 건조시켰다.After mixing the raw material containing for 6 hours in a fire crusher, the lid was opened and left for 3 hours, the mixture was dried at almost 150 ℃ in vacuum for 3 hours.
상기 볼 분쇄기를 다시 사용하여, 그 건조된 혼합물을 6시간동안 더 혼합하였다.Using the ball mill again, the dried mixture was further mixed for 6 hours.
전기로를 사용하여 수소 및 헬륨을 포함하는 환원분위기중에서 상기 혼합물을 거의 900℃에서 거의 2시간동안 소성하여, 광자극성 발광재료로된 형광체 분말을 얻었다.The mixture was calcined at about 900 ° C. for about 2 hours in a reducing atmosphere containing hydrogen and helium using an electric furnace to obtain a phosphor powder made of a photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체 분말 500g, PMMA 30g, 프탈산 디부틸 3g 및 톨루엔 150g을, 함유하는 혼합물을 볼 분쇄 용기중에서 거의 20시간동안 혼합하여 액상 혼합물을 얻었다. 덕터블레이드를 사용하여 상기 액상 혼합물을 미라필름상에 도포하였다.A mixture containing 500 g of the phosphor powder of the photo-stimulatory light emitting material, 30 g of PMMA, 3 g of dibutyl phthalate and 150 g of toluene was mixed in a ball grinding vessel for about 20 hours to obtain a liquid mixture. The liquid mixture was applied onto the mirafilm using duct blades.
거의 120℃에서 건조시킨후, 광자극성 발광재료로된 형광체 쉬트에서 미라필름을 떼어내었다.After drying at nearly 120 ° C., the mirafilm was removed from the phosphor sheet of photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체 쉬트를 석영판위에 올려놓은 것을 전지로에 넣었다. 이 쉬트의 온도를 산화분위기(대기중)중에서 거의 150℃까지 상승시키고, 그 온도에서 2시간동안 유지한후, 상기 쉬트의 온도를 600℃까지 더 상승시킨후, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시켰다.The phosphor sheet made of the photo-stimulatory light emitting material was placed on a quartz plate and placed in a battery furnace. The temperature of this sheet was raised to approximately 150 ° C. in an oxidizing atmosphere (atmosphere), held at that temperature for 2 hours, and then further raised to a temperature of 600 ° C., and maintained at that temperature for approximately 2 hours. .
최종적으로, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다.Finally, the temperature of the sheet was lowered to 100 ° C or lower.
이러한 공정에 의해 결합제와 휨이 배제된 반소결제 쉬트를 얻었다.This process yielded a semi-sintered sheet that eliminated the binder and warpage.
상기 반소결제 쉬트를 흑연판위에 올려놓은 것을 전기로에 넣었다.The semisintered sheet was placed on a graphite plate and placed in an electric furnace.
상기 쉬트의 온도를 수소와 질소의 혼합가스 또는 수소와 헬륨의 혼합가스를 함유하는 환원분위기중에서, 거의 800℃까지 상승시키고, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시킨후, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다. 이러한 공정에 의해, 광자극성 발광재료로된 형광제의 약 300μm 두께 소결체 쉬트 또는 쉬트를 얻었다.The temperature of the sheet is raised to nearly 800 ° C. in a reducing atmosphere containing a mixture of hydrogen and nitrogen or a mixture of hydrogen and helium, and maintained at that temperature for approximately 2 hours, and then the temperature of the sheet is 100 ° C. Lowered below. By this process, about 300 μm thick sintered sheet or sheet of the fluorescent material made of the photo-stimulatory light emitting material was obtained.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체를 습기로부터 보호하기 위해, 상기 소결체 쉬트의 한쪽면에, 강화 유리쉬트 또는 석영유리의 쉬트를 에폭시 수지에 의해 접착하고, 그 소결체 쉬트의 다른 한 면에는 미라필름, 강화 유리막 또는 석영유리막을 에폭시 수지에 의해 접착하였다. 이러한 방법에 의해 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다.In order to protect the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material from moisture, a sheet of tempered glass sheet or quartz glass is bonded to one side of the sintered body sheet with an epoxy resin, and a mira film, on the other side of the sintered body sheet, The tempered glass film or the quartz glass film was bonded with an epoxy resin. An X-ray image conversion plate was produced by this method.
상기 제조된 X선 화상변환 플레이트를 관(tube)전압 120kV, 관전류 50mA의 조건으로 자극하는 X선관의 촛점으로부터 70cm 떨어진 곳에 설치하고, 이 X선관을 사용하여 0.2초간 X선 노광하였다.The prepared X-ray image conversion plate was installed at a distance of 70 cm from the focal point of the X-ray tube stimulated under the condition of a tube voltage of 120 kV and a tube current of 50 mA, and the X-ray tube was subjected to X-ray exposure for 0.2 seconds.
노광후, 그 노광된 X선 화상변환 플레이트를 파장 780nm, 전력 10mW의 레이저로 조사하였다. 상기 X선 화상변환 플레이트에서 발광된 형광의 강도를 광증배관에 의해 감지하였다.After the exposure, the exposed X-ray image conversion plate was irradiated with a laser of wavelength 780 nm and
그 결과, 상기 X선 화상변환 플레이트의 발광강도는 종래기술에 의한 것이 1.8배였다.As a result, the light emission intensity of the X-ray image conversion plate was 1.8 times that according to the prior art.
[제 6 실시예][Example 6]
BaCl2……………………………………………………………… 208.246gBaCl 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 208.246 g
BABr2………………………………………………………………297.148gBABr 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 297.148 g
EuCl3…………………………………………………………… 0.652gEuCl 3 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.652 g
CaS……………………………………………………………… 0.721gCaS… … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.721 g
을 포함하는 원료물질을 볼 분쇄기로 6시간동안 혼합한후, 그 뚜껑을 열고 3시간동안 방치한후, 그 혼합물을 진공중 거의 150℃에서 3시간동안 건조시켰다.After mixing the raw material comprising a for 6 hours in a ball mill, the lid was opened and left for 3 hours, the mixture was dried at almost 150 ℃ in vacuum for 3 hours.
상기 볼 분쇄기를 다시 사용하여, 그 건조된 혼합물을 6시간동안 더 혼합하였다. 그 혼합물이 습윤한 경우, 대기중에서 진공건조 또는 열처리를 행하였다.Using the ball mill again, the dried mixture was further mixed for 6 hours. When the mixture was wet, vacuum drying or heat treatment was performed in air.
상기 혼합물(광자극성 발광재료로된 형광체 원료) 500g, 500g, PMMA 30g, 프탈산 디부틸 3g 및 톨루엔 150g을, 함유하는 혼합물을 볼 분쇄 용기중에서 20시간동안 혼합하여 액상 혼합물을 얻었다. 덕터블레이드를 사용하여 상기 액상 혼합물을 미라필름상에 도포하였다.A mixture containing 500 g, 500 g, PMMA 30 g, 3 g dibutyl phthalate and 150 g toluene was mixed in a ball grinding vessel for 20 hours to obtain a liquid mixture. The liquid mixture was applied onto the mirafilm using duct blades.
거의 120℃에서 건조시킨후, 광자극성 발광재료로된 형광체 쉬트에서 미라필름을 떼어내었다.After drying at nearly 120 ° C., the mirafilm was removed from the phosphor sheet of photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체 원료의 쉬트를 석영판위에 올려놓은 것을 전지로에 넣었다.The sheet of the phosphor raw material made of the photo-stimulatory light emitting material was placed on a quartz plate and placed in a battery furnace.
이 쉬트의 온도를 산화분위기(대기중)중에서 거의 150℃까지 상승시키고, 그 온도에서 2시간동안 유지한후, 상기 쉬트의 온도를 600℃까지 더 상승시킨후, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시켰다.The temperature of this sheet was raised to approximately 150 ° C. in an oxidizing atmosphere (atmosphere), held at that temperature for 2 hours, and then further raised to a temperature of 600 ° C., and maintained at that temperature for approximately 2 hours. .
최종적으로, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다.Finally, the temperature of the sheet was lowered to 100 ° C or lower.
이러한 공정에 의해 결합제와 휨이 배제된 반소결체 쉬트를 얻었다.This process yielded a semi-sintered sheet with no binder and no warpage.
상기 반소결체 쉬트를 흑연판위에 올려놓은 것을 전기로에 넣었다.The semi-sintered sheet was placed on a graphite plate and placed in an electric furnace.
상기 쉬트의 온도를 수소와 질소의 혼합가스 또는 수소와 헬륨의 혼합가스를 함유하는 환원분위기중에서, 거의 800℃까지 상승시키고, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시킨후, 그 쉬트의 온도를 100℃ 이하로 낮추었다. 이러한 공정에 의해, 광자극성 발광재료로된 형광체의 약 300μm 두께 소결체 쉬트 또는 쉬트를 얻었다.The temperature of the sheet is raised to nearly 800 ° C. in a reducing atmosphere containing a mixture of hydrogen and nitrogen or a mixture of hydrogen and helium, and maintained at that temperature for approximately 2 hours, and then the temperature of the sheet is 100 ° C. Lowered below. By this process, about 300 μm thick sintered sheet or sheet of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material was obtained.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체를 습기로부터 보호하기 의해, 상기 소결체 쉬트의 한쪽면에, 강화 유리쉬트 또는 석영유리의 쉬트를 에폭시 수지에 의해 접착하고 그 소결체 쉬트의 다른 한 면에는 미라필름, 강화 유리막 또는 석영유리막을 에폭시 수지에 의해 접착하였다.By protecting the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material from moisture, a sheet of tempered glass sheet or quartz glass is bonded to one surface of the sintered body sheet with an epoxy resin, and a mirafilm, reinforced on the other side of the sintered body sheet. A glass film or a quartz glass film was bonded with an epoxy resin.
이러한 방법에 의해 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다.An X-ray image conversion plate was produced by this method.
상기 제조된 X선 화상변환 플레이트를 관(tube)전압 120kV, 관전류 50mA의 조건으로 자극하는 X선관의 촛점으로부터 70cm 떨어진 곳에 설치하고, 이 X선관을 사용하여 0.2초간 X선 노광하였다.The prepared X-ray image conversion plate was installed at a distance of 70 cm from the focal point of the X-ray tube stimulated under the condition of a tube voltage of 120 kV and a tube current of 50 mA, and the X-ray tube was subjected to X-ray exposure for 0.2 seconds.
노광후, 그 노광된 X선 화상변환 플레이트를 파장 780nm, 전력 10mW의 레이저로 조사하였다.After the exposure, the exposed X-ray image conversion plate was irradiated with a laser of wavelength 780 nm and
상기 X선 화상변환 플레이트에서 발광된 형광의 강도를 광증배관에 의해 감지하였다.The intensity of fluorescence emitted from the X-ray image conversion plate was sensed by photomultipliers.
그 결과, 상기 X선 화상변환 플레이트의 발광강도는 종래기술에 의한 것이 3.7배였다.As a result, the light emission intensity of the X-ray image conversion plate was 3.7 times that according to the prior art.
[제 7 실시예][Seventh Embodiment]
BaCl2…………………………………………………………………208.246gBaCl 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 208.246 g
BaBr2…………………………………………………………………297.148gBaBr 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 297.148 g
EuCl3………………………………………………………………… 0.652gEuCl 3 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.652 g
Y2O3………………………………………………………………… 2.256gY 2 O 3 . … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 2.256g
을 포함하는 원료물질을 볼 분쇄기로 6시간동안 혼합한후, 그 뚜껑을 열고 3시간동안 방치한후, 그 혼합물을 진공중 거의 150℃에서 3시간동안 건조시켰다.After mixing the raw material comprising a for 6 hours in a ball mill, the lid was opened and left for 3 hours, the mixture was dried at almost 150 ℃ in vacuum for 3 hours.
상기 볼 분쇄기를 다시 사용하여, 그 건조된 혼합물을 6시간동안 더 혼합하였다.Using the ball mill again, the dried mixture was further mixed for 6 hours.
전기로를 사용하여 수소 및 헬륨을 포함하는 환원분위기중에서 상기 혼합물을 거의 900℃에서 거의 2시간동안 소성하여, 광자극성 발광재료로된 형광체 분말을 얻었다.The mixture was calcined at about 900 ° C. for about 2 hours in a reducing atmosphere containing hydrogen and helium using an electric furnace to obtain a phosphor powder made of a photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광재료로된 형광체 분말 500g, PMMA 30g, 프탈산 디부틸 3g 및 톨루엔 150g을, 함유하는 혼합물을 볼 분쇄 용기중에서 20시간동안 혼합하여 액상 혼합물을 얻었다. 덕터블레이드를 사용하여 상기 액상 혼합물을 미라필름상에 도포하였다.A mixture containing 500 g of the phosphor powder of the photo-stimulatory light emitting material, 30 g of PMMA, 3 g of dibutyl phthalate, and 150 g of toluene was mixed in a ball grinding vessel for 20 hours to obtain a liquid mixture. The liquid mixture was applied onto the mirafilm using duct blades.
거의 120℃에서 건조시킨후, 광자극성 발광재료로 된 형광체 쉬트에서 미라필름을 떼어내었다.After drying at nearly 120 ° C., the mirafilm was removed from the phosphor sheet of photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광 재료로 된 형광체쉬트를 석영판위에 올려놓은 것을 전지로에 넣었다. 이 쉬트의 온도를 산화분위기(대기중)중에서 거의 150℃까지 승온시키고, 그 온도에서 2시간 동안 유지한후, 상기 쉬트의 온도를 600℃까지 더 상승시킨후, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시켰다. 최종적으로, 그 쉬트의 온도를 100℃이하로 낮추었다.The phosphor sheet made of the photo-stimulatory light emitting material was placed on a quartz plate and placed in a battery furnace. The temperature of this sheet was raised to nearly 150 ° C. in an oxidizing atmosphere (atmosphere), and maintained at that temperature for 2 hours, after which the temperature of the sheet was further raised to 600 ° C. and maintained at that temperature for almost 2 hours. . Finally, the temperature of the sheet was lowered below 100 ° C.
이러한 공정에 의해 결합제와 휨이 배제된 반소결체 쉬트를 얻었다.This process yielded a semi-sintered sheet with no binder and no warpage.
상기 반소결체 쉬트를 흑연판위에 올려놓은 것을 전기로에 넣었다.The semi-sintered sheet was placed on a graphite plate and placed in an electric furnace.
상기 쉬트의 온도를 수소와 질소의 혼합가스 또는 수소와 헬륨의 혼합가스를 함유하는 환원 분위기중에서, 거의 800℃까지 상승시키고, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시킨후, 그 쉬트의 온도를 100℃이하로 낮추었다. 이러한 공정에 의해, 광자극성 발광재료로 된 형광체의 약 300μm두께 소결체 쉬트 또는 쉬트를 얻었다. 상기 광자극성 발광재료로 된 형광체를 습기로부터 보호하기 위해, 상기 소결체 쉬트의 한쪽면에, 강화 유리쉬트 또는 석영유리의 쉬트를 에폭시 수지에 의해 접착하고 그 소결체 쉬트의 다른 한 면에는 미라필름, 강화 유리막 또는 석영유리막을 에폭시 수지에 의해 접착하였다. 이러한 방법에 의해 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다.The temperature of the sheet is raised to nearly 800 ° C. in a reducing atmosphere containing a mixed gas of hydrogen and nitrogen or a mixed gas of hydrogen and helium, and maintained at that temperature for almost 2 hours, and then the temperature of the sheet is 100 ° C. Lowered below. By this process, about 300 µm-thick sintered sheet or sheet of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material was obtained. In order to protect the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material from moisture, a sheet of tempered glass sheet or quartz glass is adhered to one side of the sintered sheet by epoxy resin, and the other side of the sintered sheet is mirafilm, reinforced A glass film or a quartz glass film was bonded with an epoxy resin. An X-ray image conversion plate was produced by this method.
상기 제조된 X선 화상변환 플레이트를 관(tube)전압 120kV, 관전류 50mA의 조건으로 자극하는 X선관의 촛점으로부터 70cm 떨어진 곳에 설치하고, 이 X선관을 사용하여 0.2초간 X선 노광하였다. 노광후, 그 노광된 X선 화상변환 플레이트를 파장 780nm, 전력 10mW의 레이저로 조사하였다. 상기 X선 화상변환 플레이트에서 발광된 형광의 강도를 광증배관에 의해 감지하였다. 그 결과, 상기 X선 화상변환 플레이트의 발광강도는 종래기술에 의한 것이 1.7배였다.The prepared X-ray image conversion plate was installed at a distance of 70 cm from the focal point of the X-ray tube stimulated under the condition of a tube voltage of 120 kV and a tube current of 50 mA, and the X-ray tube was subjected to X-ray exposure for 0.2 seconds. After the exposure, the exposed X-ray image conversion plate was irradiated with a laser of wavelength 780 nm and
[제 8 실시예][Example 8]
BaCl2…………………………………………………………… 208.246gBaCl 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 208.246 g
BaBr2……………………………………………………………297.148gBaBr 2 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 297.148 g
EuCl3…………………………………………………………… 0.652gEuCl 3 ... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.652 g
Y2O3…………………………………………………………… 2.259gY 2 O 3 . … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 2.259 g
을 포함하는 원료물질을 볼 분쇄기로 6시간동안 혼합한후, 그 뚜껑을 열고 3시간동안 방치한후, 그 혼합물을 진공중 거의 150℃에서 3시간동안 건조시켰다.After mixing the raw material comprising a for 6 hours in a ball mill, the lid was opened and left for 3 hours, the mixture was dried at almost 150 ℃ in vacuum for 3 hours.
상기 볼 분쇄기를 다시 사용하여, 그 건조된 혼합물을 6시간동안 더 혼합하였다. 그 혼합물이 습윤한 경우, 대기중에서 진공건조 또는 열처리를 행하였다. 상기 혼합물(광자극성 발광재료로 된 형광체원료) 500g, PMMA 30g, 프탈산 디부틸 3g 및 톨루엔 150g을, 함유하는 혼합물을 볼 분쇄 용기중에서 거의 20시간동안 혼합하여 액상 혼합물을 얻었다. 덕터블레이드를 사용하여 상기 액상 혼합물을 미라필름상에 도포하였다. 거의 120℃에서 건조시킨후, 광자극성 발광재료로 된 형광체 쉬트에서 미라필름을 떼어내었다.Using the ball mill again, the dried mixture was further mixed for 6 hours. When the mixture was wet, vacuum drying or heat treatment was performed in air. A mixture containing 500 g of the above-mentioned mixture (phosphor material made of a photo-stimulatory light emitting material), 30 g of PMMA, 3 g of dibutyl phthalate and 150 g of toluene was mixed in a ball grinding vessel for about 20 hours to obtain a liquid mixture. The liquid mixture was applied onto the mirafilm using duct blades. After drying at nearly 120 ° C., the mirafilm was removed from the phosphor sheet of photo-stimulatory light emitting material.
상기 광자극성 발광 재료로 된 형광체 쉬트를 석영판위에 올려놓은 것을 전기로에 넣었다. 이 쉬트의 온도를 산화분위기(대기중)중에서 거의 150℃까지 상승시키고, 그 온도에서 2시간 동안 유지한후, 상기 쉬트의 온도를 600℃까지 더 상승시킨후, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시켰다. 최종적으로, 그 쉬트의 온도를 100℃이하로 낮추었다.The phosphor sheet made of the photo-stimulatory light emitting material was placed on a quartz plate in an electric furnace. The temperature of this sheet was raised to nearly 150 ° C. in an oxidizing atmosphere (atmosphere), held at that temperature for 2 hours, and then further raised to a temperature of 600 ° C., and maintained at that temperature for almost 2 hours. . Finally, the temperature of the sheet was lowered below 100 ° C.
이러한 공정에 의해 결합제와 휨이 배제된 반소결체 쉬트를 얻었다.This process yielded a semi-sintered sheet with no binder and no warpage.
상기 반소결체 쉬트를 흑연판위에 올려놓은 것을 전기로에 넣었다. 상기 반소결체 쉬트를 흑연판위에 올려놓은 것을 전기로에 넣었다.The semi-sintered sheet was placed on a graphite plate and placed in an electric furnace. The semi-sintered sheet was placed on a graphite plate and placed in an electric furnace.
상기 쉬트의 온도를 수소와 질소의 혼합가스 또는 수소와 헬륨의 혼합가스를 함유하는 환원 분위기중에서, 거의 800℃까지 상승시키고, 그 온도에서 거의 2시간동안 유지시킨후, 그 쉬트의 온도를 100℃이하로 낮추었다. 이러한 공정에 의해, 광자극성 발광재료로 된 형광체의 약 300μm두께 소결체 쉬트 또는 쉬트를 얻었다.The temperature of the sheet is raised to nearly 800 ° C. in a reducing atmosphere containing a mixed gas of hydrogen and nitrogen or a mixed gas of hydrogen and helium, and maintained at that temperature for almost 2 hours, and then the temperature of the sheet is 100 ° C. Lowered below. By this process, about 300 µm-thick sintered sheet or sheet of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material was obtained.
상기 광자극성 발광재료로 된 형광체를 습기로부터 보호하기 위해, 상기 소결체 쉬트의 한쪽면에, 강화유리쉬트 또는 석영유리의 쉬트를 에폭시 수지에 의해 접착하고 그 소결체 쉬트의 다른 한 면에는 미라필름, 강화 유리막 또는 석영유리막을 에폭시 수지에 의해 접착하였다. 이러한 방법에 의해 X선 화상변환 플레이트를 제조하였다. 상기 제조된 X선 화상변환 플레이트를 관(tube)전압 120kV, 관전류 50mA의 조건으로 자극하는 X선관의 촛점으로부터 70cm 떨어진 곳에 설치하고, 이 X선관을 사용하여 0.2초간 X선 노광하였다. 노광후, 그 노광된 X선 화상변환 플레이트를 파장 780nm, 전력 10mW의 레이저로 조사하였다. 상기 X선 화상변환 플레이트에서 발광된 형광의 강도를 광증배관에 의해 감지하였다. 그 결과, 상기 X선 화상변환 플레이트의 발광강도는 종래기술에 의한 것이 3.5배였다.In order to protect the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material from moisture, a sheet of tempered glass sheet or quartz glass is adhered to one side of the sintered sheet by epoxy resin, and the other side of the sintered sheet is mirafilm, reinforced A glass film or a quartz glass film was bonded with an epoxy resin. An X-ray image conversion plate was produced by this method. The prepared X-ray image conversion plate was installed at a distance of 70 cm from the focal point of the X-ray tube stimulated under the condition of a tube voltage of 120 kV and a tube current of 50 mA, and the X-ray tube was subjected to X-ray exposure for 0.2 seconds. After the exposure, the exposed X-ray image conversion plate was irradiated with a laser of wavelength 780 nm and
또한, 상기의 실시예들에 의한 광자극성 발광재료로 된 형광체의 소결체 쉬트중 어느것이라도, 전술된 항목 "C., 제 4 목적의 달성 방법의 실시예"에서 제시한 광자극성 발광재료로 된 형광체쉬트의 휨 보정처리 방법을 적용할 수 있다.Further, any of the sintered body sheets of the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material according to the above embodiments, the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material described in the above item "C. The sheet warping correction method can be applied.
다시 말해서, 상기 소결체 쉬트중 어느것이라도 휨이 발생된 것은 헬륨과 수소를 함유하는 환원분위기중에서 800∼900℃의 온도로 제 2 의 소성공정에 의해 보정할 수 있으며, 상기 제 2 소성공정은, 상기 소결체쉬트상에 석영판을 적층한 조건하에서 행한다.In other words, warpage of any of the sintered sheet may be corrected by a second firing step at a temperature of 800 to 900 ° C. in a reducing atmosphere containing helium and hydrogen, and the second firing step may include It is performed under the conditions which laminated | stacked the quartz plate on the sintered compact sheet.
E. 제 5 목적의 달성방법의 실시예(청구범위 제14항에 해당됨)E. An example of a method of achieving a fifth object (corresponding to claim 14)
본 실시예는, 적어도 하나의 알칼리토금속 할로겐화물과 유로퓸 할로겐화물의 혼합물중에 함유된 3가 유로퓸의 2가 유로퓸으로의 환원을 의한 환원가스로서, 헬륨과 수소의 혼합가스를 사용하여, 상기 할로겐화물 혼합물을 광자극성 발광재료로 된 형광체로 변환시키는 실시예이다.The present embodiment is a reducing gas of reduction of trivalent europium into divalent europium contained in a mixture of at least one alkaline earth metal halide and europium halide, using a mixed gas of helium and hydrogen, The embodiment converts the mixture into a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material.
BaCl2…………………………………………………………… 208.246gBaCl2... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 208.246 g
BaBr2…………………………………………………………… 297.148gBaBr2... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 297.148 g
EuBr3…………………………………………………………… 0.783gEuBr3... … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 0.783 g
증류수…………………………………………………………… 1,000gDistilled water… … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … … 1,000g
을 반응용기중에서 혼합하여 액상 혼합물을 얻은 후, 물중탕법으로 거의 80℃에서 6시간동안 처리하여 건조한후, 건조기중 80℃에서 5시간동안 더 가열하였다.The mixture was mixed in a reaction vessel to obtain a liquid mixture. The mixture was treated with water for about 6 hours at 80 DEG C and dried, and further heated at 80 DEG C for 5 hours in a drier.
상기 건조된 혼합물을 소성보트(calcinationboat)중에 넣은 것을 H2와 He의 질량비가 20 : 1∼1 : 100인 혼합물이 공급된 전기로중에 넣었다. 이 전기로중에서 30분∼10시간동안 800℃온도를 소성 처리하였다. 이러한 공정에 의해 광자극성 발광재료로 된 형광체를 얻었다.The dried mixture was placed in a calcination boat and placed in an electric furnace supplied with a mixture having a mass ratio of H 2 and He of 20: 1 to 1: 100. The oven was calcined at 800 ° C. for 30 minutes to 10 hours. By this step, a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material was obtained.
상기와 같이 제조된 광자극성 발광재료로 된 형광체를 X선 화상변환 플레이트로서 사용할 수 있다. 그러나, 통상적인 방법을 사용하여, 상기 광자극성 발광재료로 된 형광체를 분말로 분쇄한후, 결합체 프탈산 디부틸 및 톨루엔 용제와 혼합하여, 적어도 광자극성 발광재료로 된 형광체와 PMMA를 1 : 9.5의 질량비로 함유하는 액상 혼합물을 얻었다.The phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material prepared as above can be used as the X-ray image conversion plate. However, using a conventional method, the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material is pulverized into powder, and then mixed with the conjugated dibutyl phthalate and toluene solvent, and at least the phosphor made of the photo-stimulating light emitting material and PMMA are 1: 9.5. The liquid mixture contained in mass ratio was obtained.
이 액상 혼합물을 덕터블레이드를 사용하여 두께가 250μm의 미라필름상에 도포한후 이 액상 혼합물 박판을 건조시켜 광자극성 발광재료로 된 형광제의 300μm두께 고체쉬트를 얻었으며, 이 광자극성 발광재료로 된 형광체의 고체쉬트상에 두께가 12μm인 미라필름을 접착시켰다.The liquid mixture was applied onto a ummy film having a thickness of 250 μm using a duct blade, and then the liquid mixture thin plate was dried to obtain a 300 μm thick solid sheet of a fluorescent material made of a photo-stimulatory light emitting material. On the solid sheet of the phosphor, a mirafilm having a thickness of 12 µm was adhered.
비교용으로, H2와 Ar의 혼합가스 또는 H2와 N2의 혼합가스를 환원가스로 사용하여 다른 X선 화상변환 플레이트들을 제조했다. 물론, 기타의 조건을 상기와 동일하게 하였다.For comparison, other X-ray image conversion plates were prepared using a mixed gas of H 2 and Ar or a mixed gas of H 2 and N 2 as a reducing gas. Of course, other conditions were made the same as the above.
상기 비교용 X선 화상변환 플레이트들을 X선(80kV, 200mA)으로 조사한후, He-Ne레이저(파장 630nm, 전력 10mW)와 반도체레이저(파장 830nm, 전력 10mW)로 노광하였다. 발광되는 형광을 광중배관에 의해 감지하였다.The comparative X-ray image conversion plates were irradiated with X-rays (80 kV, 200 mA) and then exposed with a He-Ne laser (wavelength 630 nm,
그 결과들을 표 3에 나타냈으며, 환원가스로서, H2와 N2인 혼합가스를 기준 또는 100으로 하여 사용한 경우의 결과를 나타낸다.The results are shown in Table 3 and show the results when a mixed gas of H 2 and N 2 was used as the reference or 100 as the reducing gas.
[표 3]TABLE 3
H2와 He의 혼합가스중에서 환원하는 공정을 포함하는, 광자극성 발광재료로 된 형광체의 상기 제조방법의 경우, He이 결정내로 확산되어 그 결정으로부터 바람직하지 못한 가스를 쉽게 제거하는 이유는, He의 크기가 작다는 그 고유특성에 기인한 것으로 보여진다.In the above method for producing a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material, which includes a step of reducing in a mixture gas of H 2 and He, He diffuses into a crystal and easily removes an undesirable gas from the crystal. The small size of is believed to be due to its intrinsic properties.
F. 제 6 목적의 달성방법의 실시예들(청구범위 제15∼26항에 해당됨)F. Embodiments of the method of achieving the sixth object (corresponding to
본 실시예는, 여기광의 유효 또는 감응 파장범위들, AlGaAs레이저등의 반도체레이저의 방출광의 파장범위로 변경시키기 위해, 광자극성 발광재료로 된 형광체 조성물을 선택한 실시예이다.This embodiment is an embodiment in which a phosphor composition made of a photo-stimulatory light emitting material is selected to change the effective or sensitive wavelength range of excitation light and the wavelength range of emission light of a semiconductor laser such as an AlGaAs laser.
하기 조성예를 참조하여 설명한다 :It demonstrates with reference to the following composition example.
BaCl2-xBaBr2-yCaS : ZEu2+.BaCl 2 -xBaBr 2 -yCaS: ZEu 2+ .
BaCl28.553gBaCl 2 8.553 g
(99.999%, 아시아부상 가부시끼가이샤제),(99.999%, Asian injury Kabuki Kaisha),
(48.0몰%)(48.0 mol%)
BaBr212.175gBaBr 2 12.175 g
(99.999%, 아시아부상 가부시끼가이샤제),(99.999%, Asian injury Kabuki Kaisha),
(48.0몰%)(48.0 mol%)
CaS 0.2464gCaS 0.2464 g
(99.999%, 고준도가가꾸 가부시끼가이샤제)(99.999%, product made by Kazuki Kaisha)
(4.0몰%)(4.0 mol%)
을 포함하는 원료물질을 볼 분쇄기로 혼합하였다. 또한, 상기 원료물질의 활성화에 효과적인 EuCl3(99.9%, 후루우찌 가가꾸 가부시끼가이샤제)를, 상기 원료물질 혼합물 1몰에 대해 0.0004몰(0.08820g)의 질량비로 상기 분쇄기에 의한 혼합물에 가했다. 또한, CaS에 함유된 황 결핍을 방지하기 위해 황(99.999%, 후루우찌 가가꾸 가부시끼가이샤제)을, 상기 CaS양과 동일한 양인 4몰(0.010942g)의 양으로 상기 볼 분쇄기에 의한 혼합물에 가한후,12시간동안 혼합을 행하였다.The raw material including was mixed with a ball mill. In addition, EuCl 3 (99.9%, manufactured by Furuchi Chemical Industries, Ltd.) effective for activating the raw material was added to the mixture by the mill in a mass ratio of 0.0004 mole (0.08820 g) to 1 mole of the raw material mixture. . In addition, sulfur (99.999%, manufactured by Furuuchi Chemical Co., Ltd.) was added to the mixture by the ball mill in an amount of 4 moles (0.010942 g), which is the same amount as the CaS amount, to prevent sulfur deficiency contained in CaS. Thereafter, mixing was performed for 12 hours.
상기와 같이 혼합된 원료물질을 석영보트(quartz boat)에 넣고, 관형로(tube furnace)중에서 소성처리하였다. 이 소성처리는 H2를 20용량% 함유하며 유속이 10ι/분인 He가스중에서, 882℃의 온도로 90분간 행하였다. 소성공정 종료후, 소성된 원료물질을 전술한 분위기중에서 주위온도까지 서서히 냉각하였다. 이소결된 광자극성 발광재료로 된 형광체를 분쇄하여, 광자극성 발광재료로 된 형광체 분말을 얻었다. 그의 스펙트럼을 제 9 도에 나타냈다.The mixed raw materials as described above were placed in a quartz boat and calcined in a tube furnace. This calcining treatment was performed for 90 minutes at a temperature of 882 ° C in He gas containing 20 vol% of H 2 and having a flow rate of 10 pi / min. After completion of the firing step, the fired raw material was gradually cooled to ambient temperature in the above-described atmosphere. The phosphor made of the sintered photo-stimulatory light emitting material was pulverized to obtain a phosphor powder made of the photo-stimulatory light-emitting material. Its spectrum is shown in FIG.
상기 설명으로부터, 본 발명에 의한 광자극성 발광재료로 된 형광체는 가시영역 파장의 여기광에 대해 감응성이 덜하며, 반도체레이저에 의한 방출광의 파장범위에 큰 감응성을 갖기 때문에, 반도체레이저를 재생용광 또는 여기광으로서 사용하는 것을 가능하게 한다.From the above description, the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material according to the present invention is less sensitive to the excitation light of the visible wavelength and has a large sensitivity to the wavelength range of the emitted light by the semiconductor laser. It is possible to use as excitation light.
본 실시예에 의한 방법으로, 광자극성 발광재료로 된 형광체를 제조하는 경우, 그 원료물질을 충분한 정도로 혼합해야 하며, 그 혼합공정은 믹서, 볼 분쇄기, V형 블렌더, 막대분쇄기등의 통상적인 믹서를 사용해서 행할 수 있어야 한다. 활성화용 원료를 액상으로 사용하는 경우, 그 활성화용 원료물질을 함유하는 원료물질의 혼합물을 건조시키는 것이 바람직하며, 이후, 상기 혼합공정을 행한다. 형광체의 원료물질은 흡수성을 갖기 때문에, 상기 혼합공정은 건조분위기중 또는 불활성가스 분위기중에서 행하는 것이 바람직하다.In the method according to the present embodiment, when a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material is produced, the raw materials must be mixed to a sufficient degree, and the mixing process is a conventional mixer such as a mixer, a ball mill, a V-type blender, a rod mill, or the like. You should be able to use When the activation raw material is used in the liquid phase, it is preferable to dry the mixture of the raw material containing the activation raw material, and then the mixing step is performed. Since the raw material of the phosphor has absorbency, the mixing step is preferably carried out in a dry atmosphere or in an inert gas atmosphere.
이후, 상기 형광체 원료물질을, 알루미나 도가니, 석영도가니, 석영보트등의 내열성 용기중에 넣고, 소성공정을 행한다.Thereafter, the phosphor raw material is placed in a heat resistant container such as an alumina crucible, a quartz crucible, or a quartz boat, and a firing step is performed.
그 소성분위기로서 사용 가능한 분위기로서는, 대기 분위기(산화분위기), 환원분위기, 불활성가스 분위기 등이 있다.Examples of the atmosphere that can be used as the minor component atmosphere include an atmospheric atmosphere (oxidation atmosphere), a reducing atmosphere, an inert gas atmosphere, and the like.
그러나 상기 대기분위기는 산화 분위기이기 때문에, 환원분위기 또는 불활성가스 분위기가 바람직하다.However, since the air atmosphere is an oxidizing atmosphere, a reducing atmosphere or an inert gas atmosphere is preferable.
바람직한 환원분위기로는, 수소를 30용량% 이하로 함유하는 질소분위기가 있다. 적합한 불활성가스 분위기로는, 질소가스 분위기, 아르곤가스 분위기, 헬륨가스 분위기등이 있다.As a preferable reducing atmosphere, there is a nitrogen atmosphere containing 30 vol% or less of hydrogen. Suitable inert gas atmospheres include nitrogen gas atmospheres, argon gas atmospheres, helium gas atmospheres, and the like.
본 발명에 의한, 2가 유로퓸에 의해 활성화된 알칼리토금속의 착할로겐화 황화물로 된, 광자극성 발광재료로 된 형광체에는 그 활성제로서 2가 유로퓸을 사용한다.The divalent europium is used as the activator for the phosphor made of a photostimulatory light emitting material of the complexed halide sulfide of alkaline earth metal activated by divalent europium according to the present invention.
그러므로, 광자극성 발광재료로 된 형광체를 제조하는 경우, 3가 유로퓸이 그 원료물질중에 함유되어 있어서 소성공정중 2가 유로퓸으로 환원되어야 한다.Therefore, in the case of producing a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material, trivalent europium is contained in the raw material, so that it is reduced to divalent europium during the firing process.
즉, 2가 유로퓸을 활성제로서 사용한, 광자극성 발광재료로 된 형광체가 생성되며, 환원분위기중에서 소성공정을 행해야 한다.That is, a phosphor made of a photo-stimulatory light emitting material using divalent europium as an activator is produced, and a firing step must be performed in a reducing atmosphere.
바람직한 소성온도는 광자극성 발광재료로 된 형광체 원료의 종류 및 조성에 의한다. 통상의 경우, 온도범위는 600∼1,000℃가 적당하다. 또한, 700∼950℃ 의 온도범위가 더욱 바람직하다. 바람직한 소성시간은, 원료물질의 종류 및/또는 조성, 내열성 용기에 투입되는 원료물질의 1회 투입량 및 소성온도등에 의해 결정된다. 온도를 상기 바람직한 온도 범위내로 선택하는 경우, 그 소성시간은 30분∼48시간이 적당하며, 1시간∼12시간의 범위가 더욱 바람직하다. 소결이 발생하는 소성공정후에, 분쇄공정 및 분급공정은(classification process)이 필수적이다. 이 분쇄공정 및 분급공정은 건조분위기, 불활성분위기 또는 그와 유사한 분위기중에서 행하는 것이 바람직하다.Preferred firing temperatures depend on the type and composition of the phosphor raw material of the photo-stimulatory light emitting material. In general, the temperature range is preferably 600 to 1,000 占 폚. Moreover, the temperature range of 700-950 degreeC is more preferable. The preferred firing time is determined by the type and / or composition of the raw material, the amount of the raw material input into the heat resistant container, the firing temperature and the like. When the temperature is selected within the above preferred temperature range, the firing time is preferably 30 minutes to 48 hours, more preferably 1 hour to 12 hours. After the firing process in which sintering occurs, the grinding process and the classification process are essential. This grinding step and the classification step are preferably carried out in a dry atmosphere, an inert atmosphere or a similar atmosphere.
본 발명에 의한 광자극성 발광재료로 된 형광체는, X선, UV, 전자 비임등에 의해 조사되는 경우, 적외선 파장 영역의 여기광에 대해 감응피크를 보인다. 따라서, 제 7 도 또는 제 8 도에 나타난 바와 같은 여기광 스펙트럼을 갖는 희토류 금속에 의해 활성화된 2가의 금속 할라이드로 된, 광자극성 발광재료로 된 형광체와 비교해 볼 때, 본 발명에 의한 광자극성 발광재료로 된 형광체는 가시영역 파장범위에서 발광강도가 덜하며, 결과적으로 반도체레이저를 사용하여 형광체를 리딩(reading)할 수 있는 장점을 갖는다. 예를들어, 제 9 도에 설명된 바와같이, 630nm에 대한 BaClBr-CaS : Eu2+의 발광강도는 780nm에 대한 것의 거의 60%이다. 그러므로, 본 발명의 광자극성 발광재료로 된 형광체를 화상처리 시스템에 사용하는 경우, X선 화상변환 플레이트에 기억된 X선 패턴의 재생용으로서 He-Ne레이저보다 반도체레이저를 사용하는 것을 가능하게 하므로, 그 화상처리 시스템 설비의 칫수 및 중량을 감소시킬 수 있다.The phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material according to the present invention exhibits a peak sensitive to excitation light in the infrared wavelength region when irradiated by X-ray, UV, electron beam or the like. Accordingly, the photostimulatory light emission according to the present invention is compared with the phosphor made of a photostimulatory light emitting material, which is a divalent metal halide activated by a rare earth metal having an excitation light spectrum as shown in FIG. 7 or 8. Phosphors made of a material have less luminous intensity in the visible wavelength range, and consequently have the advantage of reading the phosphors using a semiconductor laser. For example, as illustrated in FIG. 9, the luminescence intensity of BaClBr—CaS: Eu 2+ for 630 nm is almost 60% of that for 780 nm. Therefore, when the phosphor made of the photo-stimulatory light emitting material of the present invention is used in an image processing system, it is possible to use a semiconductor laser rather than a He-Ne laser for reproducing an X-ray pattern stored in an X-ray image conversion plate. The size and weight of the image processing system equipment can be reduced.
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