KR19980037415A - High Voltage Generation Circuit of Nonvolatile Semiconductor Memory Device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 요구되는 고전압 레벨들을 얻기 위해 각각 필요한 고전압 펌핑회로를 사용하지 않고 하나의 펌핑회로를 이용하여 원하는 복수개의 고전압들을 발생하기 위한 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로에 관한 것으로써, 본 발명은 외부로부터 인가되는 소정 주기를 갖는 클럭신호 및 고전압 인에이블 신호에 응답하여, 요구되는 복수개의 고전압 레벨들 중 가장 높은 레벨의 고전압을 출력하는 챠지펌핑부와; 상기 챠지펌핑부로부터 출력된 상기 고전압을 입력받아, 상기 클럭신호, 외부로부터 인가되는 제 1 신호, 그리고 소정의 제 2 신호에 응답하여 고전압을 출력하는 스위치 챠지펌핑수단 및, 상기 스위치 챠지펌핑수단으로부터 출력된 고전압을 입력받아, 상기 고전압의 레벨이 미리 예정된 전압레벨에 비해 높은 레벨일 경우 상기 스위치 챠지펌핑수단에 입력된 상기 제 2 신호를 출력하는 검출수단으로 이루어진 복수개의 고전압 발생부들으로 이루어졌다. 이로써, 복수개의 고전압 레벨이 필요한 경우 각각의 고전압 발생회로를 구비하지 않고, 하나의 고전압 발생장치를 이용하여 복수개의 고전압 레벨을 발생할 수 있도록 구현함으로써 고전압 발생회로에 의해 점유되는 칩 면적을 최소화함으로써 고집적화를 실현할 수 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device. Specifically, a high voltage generation of a semiconductor memory device for generating a plurality of desired high voltages using one pumping circuit without using a high voltage pumping circuit each required to obtain required high voltage levels. The present invention relates to a circuit, comprising: a charge pump unit for outputting a high voltage of a highest level among a plurality of high voltage levels required in response to a clock signal and a high voltage enable signal having a predetermined period applied from the outside; A switch charge pumping means for receiving the high voltage output from the charge pumping unit and outputting a high voltage in response to the clock signal, a first signal applied from the outside, and a predetermined second signal, and from the switch charge pumping means A plurality of high voltage generators are configured to receive the output high voltage and detect the output signal of the second signal input to the switch charge pumping means when the level of the high voltage is higher than a predetermined voltage level. As a result, when a plurality of high voltage levels are required, a high integration is achieved by minimizing the chip area occupied by the high voltage generation circuit by realizing the generation of a plurality of high voltage levels using one high voltage generator without using each high voltage generation circuit. Can be realized.
Description
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 요구되는 고전압 레벨들을 얻기 위해 각각 필요한 고전압 펌핑회로를 사용하지 않고 하나의 펌핑회로를 이용하여 원하는 복수개의 고전압들을 발생하기 위한 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device. Specifically, a high voltage generation of a semiconductor memory device for generating a plurality of desired high voltages using one pumping circuit without using a high voltage pumping circuit each required to obtain required high voltage levels. It is about a circuit.
반도체 메모리 장치는 그 동작에 따라 전원전압 이외의 전압들을 필요로하는데, 통상적으로, 전원전압에 비해 낮은 기준전압과 상기 전원전압에 비해 높은 고전압으로 나눌 수 있다. 특히, 불휘발성 반도체 메모리에서는 데이터의 소거 또는 기입동작을 수행하기 위해서는 전원전압에 비해 높은 고전압이 필수적으로 필요하다. 통상적으로, 불휘발성 반도체 메모리 장치에서 데이터를 저장하기 위한 셀 어레이는, 도면에는 도시되지 않았지만, 복수개의 스트링들로 구성되어 있다. 상기 각 스트링은 제 1 선택라인에 연결된 제 1 선택트랜지스터와 제 2 선택라인에 연결된 제 2 선택트랜지스터 사이에 미리 예정된 수의 메모리 셀 트랜지스터들이 직렬 연결되어 있다. 상기 각 제 1 선택트랜지스터의 각 드레인 단자에는 각각 비트라인이 연결되어 있다. 여기서, 제 1 스트링에 대응되는 비트라인을 제 1 비트라인, 그리고 제 2 스트링에 대응되는 비트라인을 제 2 비트라인이라 하자. 그리고, 상기 각 스트링 내의 메모리 셀 트랜지스터들의 제어 게이트 단자에는 각각 대응되는 워드라인들이 연결되어 있다. 상기 각 메모리 셀 트랜지스터는 반도체 기판과 상기 반도체 기판에 채널을 사이에 두고 소오스 및 드레인 영역이 형성되어 있다. 그리고, 상기 채널 상부에 게이트 산화막, 플로팅 게이트, ONO막, 그리고 제어 게이트가 순차적으로 상기 소오스 및 드레인 영역의 상부에 일부분 걸쳐 형성되어 있다.The semiconductor memory device requires voltages other than the power supply voltage according to its operation. In general, the semiconductor memory device may be divided into a reference voltage lower than the power supply voltage and a high voltage higher than the power supply voltage. In particular, in the nonvolatile semiconductor memory, a high voltage higher than a power supply voltage is necessary to perform an erase or write operation of data. Typically, a cell array for storing data in a nonvolatile semiconductor memory device is composed of a plurality of strings, although not shown in the figure. Each string includes a predetermined number of memory cell transistors connected in series between a first select transistor connected to a first select line and a second select transistor connected to a second select line. A bit line is connected to each drain terminal of each of the first select transistors. Here, the bit line corresponding to the first string is referred to as the first bit line, and the bit line corresponding to the second string is referred to as the second bit line. Corresponding word lines are connected to the control gate terminals of the memory cell transistors in the strings, respectively. Each of the memory cell transistors has a source and a drain region formed with a channel between the semiconductor substrate and the semiconductor substrate. A gate oxide film, a floating gate, an ONO film, and a control gate are sequentially formed over a portion of the source and drain regions over the channel.
그러나, 종래의 고전압 발생회로에 의하면, 상기 고전압들은 복수개의 전압을 발생하기 위해 각각의 고전압 발생회로들이 필요한다. 이로인해, 요구되는 모든 고전압 발생회로들이 반도체 메모리 장치에 구현될 경우 상기 고전압 발생회로들에 의해 점유되는 칩 면적이 증가히여 고집적화를 실현할 수 없는 문제점이 생겼다.However, according to the conventional high voltage generation circuit, the high voltages require respective high voltage generation circuits to generate a plurality of voltages. As a result, when all the required high voltage generation circuits are implemented in the semiconductor memory device, a problem arises in that the chip area occupied by the high voltage generation circuits is increased and high integration cannot be realized.
따라서 본 발명의 목적은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 요구되는 고전압 레벨들을 얻기 위해 각각 필요한 고전압 펌핑회로를 사용하지 않고 하나의 펌핑회로를 이용하여 원하는 복수개의 고전압들을 발생함으로써 펌핑회로가 챠지하는 면적을 줄임으로써 고집적화를 실현할 수 있는 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로를 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention has been proposed to solve the above-mentioned problems, and the pumping circuit is generated by generating a plurality of desired high voltages using one pumping circuit, without using a high voltage pumping circuit each required to obtain required high voltage levels. It is an object of the present invention to provide a high voltage generation circuit of a semiconductor memory device capable of realizing high integration by reducing the area occupied.
도 1은 본 발명에 따른 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로의 구성을 보여주는 블록도;1 is a block diagram showing a configuration of a high voltage generation circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention;
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 동작 타이밍도;2 is an operation timing diagram according to a preferred embodiment of the present invention;
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 스위치 챠지펌핑수단의 상세회로를 보여주는 회로도;3 is a circuit diagram showing a detailed circuit of a switch charge pumping means according to a preferred embodiment of the present invention;
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전압 검출수단의 상세회로를 보여주는 회로도,4 is a circuit diagram showing a detailed circuit of a voltage detecting means according to a preferred embodiment of the present invention;
*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings
100 : 챠지펌핑부200 : 고전압 발생부100: charge pumping unit 200: high voltage generating unit
210 : 스위치 챠지펌핑수단220 : 검출수단210: switch charge pumping means 220: detection means
상술한 바와같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일특징에 의하면, 외부로부터 인가되는 소정 주기를 갖는 클럭신호 및 고전압 인에이블 신호에 응답하여, 요구되는 복수개의 고전압 레벨들 중 가장 높은 레벨의 고전압을 출력하는 챠지펌핑부와; 상기 챠지펌핑부로부터 출력된 상기 고전압을 입력받아, 상기 클럭신호, 외부로부터 인가되는 제 1 신호, 그리고 소정의 제 2 신호에 응답하여 고전압을 출력하는 스위치 챠지펌핑수단 및, 상기 스위치 챠지펌핑수단으로부터 출력된 고전압을 입력받아, 상기 고전압의 레벨이 미리 예정된 전압레벨에 비해 높은 레벨일 경우 상기 스위치 챠지펌핑수단에 입력된 상기 제 2 신호를 출력하는 검출수단으로 이루어진 복수개의 고전압 발생부들을 포함한다.According to one aspect of the present invention for achieving the above object, in response to a clock signal and a high voltage enable signal having a predetermined period applied from the outside, a high voltage of the highest level among a plurality of high voltage levels required A charge pumping unit for outputting; A switch charge pumping means for receiving the high voltage output from the charge pumping unit and outputting a high voltage in response to the clock signal, a first signal applied from the outside, and a predetermined second signal, and from the switch charge pumping means And a plurality of high voltage generators configured to receive the output high voltage and output the second signal input to the switch charge pumping means when the level of the high voltage is higher than a predetermined voltage level.
이 실시예에 있어서, 상기 스위치 챠지펌핑수단은 복수개의 낸드게이트들, 인버터, 커플링 커패시터, 그리고 복수개의 NMOS 트랜지스터들로 구성된다.In this embodiment, the switch charge pumping means is composed of a plurality of NAND gates, an inverter, a coupling capacitor, and a plurality of NMOS transistors.
이 실시예에 있어서, 상기 검출수단은 외부로부터 인가되는 기준전압과 소정 분배전압을 입력받아, 이를 비교한 비교신호를 출력하는 비교수단과; 상기 스위치 챠지펌핑수단으로부터 출력된 고전압을 입력받아, 이를 상기 기준전압 레벨로 변환한 상기 분배전압을 출력하는 전압분배수단과; 상기 비교수단으로부터 출력된 상기 비교신호를 증폭하여 이를 출력하는 출력수단으로 구성된다.In this embodiment, the detecting means comprises: comparing means for receiving a reference voltage and a predetermined distribution voltage applied from the outside and outputting a comparison signal comparing the same; Voltage dividing means for receiving the high voltage output from the switch charge pumping means and outputting the divided voltage converted to the reference voltage level; And an output means for amplifying and outputting the comparison signal output from the comparison means.
이 실시예에 있어서, 상기 비교수단은 복수개의 PMOS 트랜지스터들 및 NMOS 트랜지스터들로 구성된다.In this embodiment, the comparing means is composed of a plurality of PMOS transistors and NMOS transistors.
이 실시예에 있어서, 상기 전압분배수단은 저항들로 구성된다.In this embodiment, the voltage distribution means is composed of resistors.
이 실시예에 있어서, 상기 출력수단은 복수개의 인버터들로 구성된다.In this embodiment, the output means consists of a plurality of inverters.
이와같은 회로에 의해서, 요구되는 고전압 레벨들을 얻기 위해 각각 필요한 고전압 펌핑회로를 사용하지 않고 하나의 펌핑회로를 이용하여 원하는 복수개의 고전압들을 발생함으로써 펌핑회로가 챠지하는 면적을 줄임으로써 고집적화를 실현할 수 있게 되었다.By such a circuit, it is possible to realize high integration by reducing the area occupied by the pumping circuit by generating a plurality of desired high voltages by using one pumping circuit instead of using the high voltage pumping circuit each required to obtain the required high voltage levels. It became.
이하 본 발명의 실시예에 따른 참조도면 도 1 내지 도 4에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, reference will be made in detail with reference to FIGS. 1 to 4 according to an embodiment of the present invention.
도 1은 본 발명에 따른 불휘발성 반도체 메모리 장치의 고전압 발생회로의 구성을 보여주는 블록도가 도시되어 있다.1 is a block diagram showing a configuration of a high voltage generation circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention.
도 1에 도시된 본 발명에 따른 고전압 발생회로는 챠지펌핑부(100)와 복수개의 고전압 발생부들(200)로 구성되어 있다. 상기 챠지펌핑부(100)는 외부로부터 인가되는 소정 주기를 갖는 클럭신호(ψhv) 및 고전압 인에이블 신호(HVen)에 응답하여, 요구되는 복수개의 고전압 레벨들 중 가장 높은 레벨의 고전압(HVmout)을 출력한다. 그리고, 상기 각 고전압 발생부(200)는 스위치 챠지펌핑수단(210)과 검출수단(220)으로 구성되어 있다. 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)은 상기 챠지펌핑부(100)로부터 출력된 상기 고전압(HVmout)을 입력받아, 상기 클럭신호(ψhv), 외부로부터 인가되는 인에이블 신호(HVSi), 그리고 소정의 디세이블 신호(DISi)에 응답하여 고전압(HVi)을 출력한다. 그리고, 상기 검출수단(220)은 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)으로부터 출력된 고전압(HVi)을 입력받아, 상기 고전압(HVi)의 레벨이 미리 예정된 전압레벨에 비해 높은 레벨일 경우 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)에 입력된 상기 디세이블 신호(DISi)를 출력한다.The high voltage generation circuit according to the present invention shown in FIG. 1 includes a charge pumping unit 100 and a plurality of high voltage generation units 200. The charge pumping unit 100 receives a high voltage HVmout of the highest level among a plurality of required high voltage levels in response to a clock signal ψ hv and a high voltage enable signal HVen having a predetermined period applied from the outside. Output Each of the high voltage generators 200 includes a switch charge pumping means 210 and a detection means 220. The switch charge pumping unit 210 receives the high voltage HVmout output from the charge pumping unit 100, the clock signal ψ hv, an enable signal HVSi applied from the outside, and a predetermined de-energization signal. The high voltage HVi is output in response to the sable signal DISi. The detection means 220 receives the high voltage HVi output from the switch charge pumping means 210, and the switch charge pumping when the level of the high voltage HVi is higher than a predetermined voltage level. The disable signal DISi input to the means 210 is output.
도 2에는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 동작 타이밍도가 도시되어 있다.2 is an operation timing diagram according to a preferred embodiment of the present invention.
도 3에는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 스위치 챠지펌프회로가 도시되어 있다. 도 3에 도시된 스위치 챠지펌프회로(210)는 도 2의 챠지펌핑부(100)로부터 출력된 고전압(HVmout)을 입력받아, 외부로부터 인가되는 제어신호들(DISi, HVSi) 및 소정주기를 갖는 클럭신호(ψhv)에 응답하여 고전압을 출력한다. 그리고, 상기 스위치 챠지펌프회로(210)는 제 1 및 제 2 낸드 게이트(220, 222), 인버터(221), 커플링 커패시터(C), 그리고 복수개의 NMOS 트랜지스터들(233 - 256)로 이루어졌다.3 shows a switch charge pump circuit according to a preferred embodiment of the present invention. The switch charge pump circuit 210 illustrated in FIG. 3 receives the high voltage HVmout output from the charge pumping unit 100 of FIG. 2 and has control signals DISi and HVSi applied from the outside and a predetermined period. The high voltage is output in response to the clock signal .phi.v. In addition, the switch charge pump circuit 210 includes first and second NAND gates 220 and 222, an inverter 221, a coupling capacitor C, and a plurality of NMOS transistors 233 to 256. .
도 4에는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전압 검출 회로가 도시되어 있다.4 shows a voltage detection circuit according to a preferred embodiment of the present invention.
도 4에 도시된 바와같이, 전압 검출 회로(220)는 도 3에 도시된 스위치 챠지펌핑회로(210)로부터 출력된 고전압을 입력받아, 상기 고전압의 레벨이 미리 예정된 전압레벨에 비해 높은 레벨일 경우 상기 스위치 챠지펌프회로(210)에 디세이블 신호(DISi)를 출력하여 상기 스위치 챠지펌프회로(210)의 펌핑동작을 디세이블시킨다. 그리고, 상기 전압 검출 회로(220)는 비교수단(270), 전압분배수단(280), 그리고 출력수단(290)으로 구성되어 있다. 상기 비교수단(270)은 기준전압(Vref)과 상기 전압분배수단(280)으로부터 출력되는 분배전압(V_div)을 입력받아, 이들의 전압레벨을 비교한 비교신호(S_com)를 출력한다. 즉, 상기 기준전압(Vref)이 상기 분배전압(V_div)에 비해 높은 레벨일 경우 상기 비교수단(270)은 하이 레벨의 비교신호(S_com)를 출력한다. 반면, 상기 기준전압(Vref)이 상기 분배전압(V_div)에 비해 낮은 레벨일 경우 상기 비교수단(270)은 로우 레벨의 상기 비교신호(S_com)를 출력한다.As shown in FIG. 4, the voltage detection circuit 220 receives a high voltage output from the switch charge pumping circuit 210 shown in FIG. 3, and when the level of the high voltage is higher than a predetermined voltage level. The disable signal DISi is output to the switch charge pump circuit 210 to disable the pumping operation of the switch charge pump circuit 210. In addition, the voltage detection circuit 220 is composed of a comparison means 270, a voltage distribution means 280, and an output means 290. The comparison means 270 receives a reference voltage Vref and a distribution voltage V_div output from the voltage distribution means 280, and outputs a comparison signal S_com comparing the voltage levels thereof. That is, when the reference voltage Vref is higher than the distribution voltage V_div, the comparison means 270 outputs a high level comparison signal S_com. On the other hand, when the reference voltage Vref is at a level lower than the division voltage V_div, the comparison means 270 outputs the comparison signal S_com having a low level.
여기서, 상기 비교수단(270)은 로드 트랜지스터로써 동작하는 PMOS 트랜지스터들(259, 260)과 상기 기준전압(Vref) 및 상기 분배전압(V_div)에 응답하여 각각 인에이블되는 NMOS 트랜지스터들(257, 258) 그리고 상기 NMOS 트랜지스터들(257, 258)을 통해 전달되는 전류를 일정하게 흘려주기 위한 NMOS 트랜지스터(261)로 이루어졌다. 그리고, 상기 분배수단(280)은 도 3에 도시된 스위치 챠지펌프회로(210)로부터 출력된 고전압(HV)을 입력받아 상기 기준전압 레벨로 이를 변환한 상기 분배전압(V_div)을 출력한다. 상기 분배수단(280)은 상기 고전압이 인가되는 라인과 접지전압(VSS)이 인가되는 접지단자 사이에 직렬연결된 저항들(262, 263)로 이루어졌다. 상기 출력수단(290)은 상기 비교수단(270)으로부터 출력된 상기 비교신호(S_com)를 증폭하여 이를 도 3에 도시된 스위치 챠지 펌프회로(210)로 디세이블 신호(DISi)를 출력한다.Here, the comparing means 270 is PMOS transistors 259 and 260 operating as load transistors and NMOS transistors 257 and 258 enabled in response to the reference voltage Vref and the distribution voltage V_div, respectively. And an NMOS transistor 261 for uniformly flowing a current transmitted through the NMOS transistors 257 and 258. The distribution means 280 receives the high voltage HV output from the switch charge pump circuit 210 shown in FIG. 3 and outputs the distribution voltage V_div converted to the reference voltage level. The distribution means 280 includes resistors 262 and 263 connected in series between the line to which the high voltage is applied and the ground terminal to which the ground voltage VSS is applied. The output means 290 amplifies the comparison signal S_com output from the comparison means 270 and outputs the disable signal DISi to the switch charge pump circuit 210 shown in FIG. 3.
이하, 도 1 내지 도 4에 의거하여 본 발명에 따른 동작을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an operation according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4.
먼저, 챠지펌핑부(100)의 활성화 신호(HVen)가 로우 레벨에서 하이 레벨로 천이하면 일정주기를 갖고 발진하는 챠지 펌프 클럭신호(ψhv)에 의해 챠지펌핑부(100)의 출력(HVmout)은 필요한 고전압들 중 가장 높은 전압레벨이 된다. 여기서는 상기 챠지펌핑부(100)의 구체적인 동작은 생략하기로 한다. 이어서, 상기 챠지펌핑부(100)의 출력에 병렬로 연결된 복수개의 스위치 챠지펌핑수단들(210)의 활성화 신호(여기서 설명의 편의를 위해 CPsub1이 활성화되었다고 가정한다.) 'HVsub1'이 로우 레벨에서 하이 레벨로 천이하면 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)이 활성화된다. 상기 챠지펌핑부(100)의 출력전압(HVmout)이 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)을 통해 상기 스위치 챠지펌핑부(210)의 출력(HV1)에 전달되어 출력(HV1)의 전압레벨이 상승한다.First, when the activation signal HVen of the charge pumping unit 100 transitions from the low level to the high level, the output HVmout of the charge pumping unit 100 is generated by the charge pump clock signal ψhv which oscillates with a certain period. It is the highest voltage level among the required high voltages. Here, the detailed operation of the charge pumping unit 100 will be omitted. Subsequently, an activation signal of the plurality of switch charge pumping means 210 connected in parallel to the output of the charge pumping unit 100 (assuming that CPsub1 is activated for convenience of description) 'HVsub1' is at a low level. When the transition to the high level the switch charge pumping means 210 is activated. The output voltage HVmout of the charge pumping unit 100 is transmitted to the output HV1 of the switch charge pumping unit 210 through the switch charge pumping unit 210 to increase the voltage level of the output HV1. .
상기 스위치 챠지펌핑수단(210)의 출력(HV1)이 상승하여 일정 고전압 레벨이 되면 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)의 출력단에 연결된 검출수단(220)으로부터 디세이블 신호(DIS1)가 하이 레벨에서 로우 레벨로 천이된다. 이에 의해, 스위치 챠지펌핑수단(210)이 비활성화되어 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)의 출력(HV1)이 일정 고전압 레벨 이상이 되는 것을 방지한다. 즉, 상기 검출수단(220)의 분배수단(280)을 통해 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)으로 출력된 고전압(HV1)을 기준전압(Vref) 레벨로 변환하여 이에 대응되는 분배전압(V_div)을 출력한다. 이때, 상기 변환된 분배전압이 상기 기준전압 레벨에 비해 높은 레벨일 경우 비교수단(270)은 로우 레벨의 비교신호(S_com)를 출력한다. 그리고, 출력수단(290)은 상기 비교신호(S_com)를 증폭하여 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)으로 출력함으로써 상기 챠지펌핑수단(210)이 디세이블되어 더 이상 펌핑동작을 수행하지 않는다.When the output HV1 of the switch charge pumping means 210 rises to a certain high voltage level, the disable signal DIS1 is low from the high level from the detection means 220 connected to the output terminal of the switch charge pumping means 210. Transition to level. As a result, the switch charge pumping means 210 is deactivated to prevent the output HV1 of the switch charge pumping means 210 from being above a certain high voltage level. That is, the distribution voltage V_div corresponding to the high voltage HV1 outputted to the switch charge pumping means 210 through the distribution means 280 of the detection means 220 is converted to the reference voltage Vref level. Output At this time, when the converted divided voltage is higher than the reference voltage level, the comparison means 270 outputs a low level comparison signal S_com. In addition, the output means 290 amplifies the comparison signal S_com and outputs it to the switch charge pumping means 210 so that the charge pumping means 210 is disabled and no pumping operation is performed anymore.
이후, 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)의 출력(HV1)이 일정 고전압 레벨 이하로 떨어지면 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)의 출력을 검출하는 상기 검출수단(220)의 디세이블 신호(DIS1)는 로우 레벨에서 하이 레벨로 출력된다. 이로인해, 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)이 다시 활성화되어 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)의 출력(HV1)이 일정 고전압 레벨이 되게한다. 이와같은 동작이 반복되어 상기 스위치 챠지펌핑수단(210)의 출력(HV1)은 일정 고전압 레벨로 유지된다. 복수개의 고전압 레벨이 필요할 경우 본 발명에 따른 스위치 챠지펌핑수단(210)를 상기와 같은 방법으로 동작시켜 복수개의 고전압을 발생시킬 수 있다.Thereafter, when the output HV1 of the switch charge pumping means 210 falls below a predetermined high voltage level, the disable signal DIS1 of the detection means 220 for detecting the output of the switch charge pumping means 210 is low. Output from level to high level. As a result, the switch charge pumping means 210 is activated again to bring the output HV1 of the switch charge pumping means 210 to a constant high voltage level. This operation is repeated to maintain the output HV1 of the switch charge pumping means 210 at a constant high voltage level. When a plurality of high voltage levels are required, the switch charge pumping means 210 according to the present invention may be operated in the above manner to generate a plurality of high voltages.
상기한 바와같이, 복수개의 고전압 레벨이 필요한 경우 각각의 고전압 발생회로를 구비하지 않고, 하나의 고전압 발생장치를 이용하여 복수개의 고전압 레벨을 발생할 수 있도록 구현함으로써 고전압 발생회로에 의해 점유되는 칩 면적을 최소화함으로써 고집적화를 실현할 수 있다.As described above, the chip area occupied by the high voltage generation circuit is realized by implementing a plurality of high voltage levels by using a single high voltage generator without using each high voltage generation circuit when a plurality of high voltage levels are required. By minimizing, high integration can be realized.
Claims (6)
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KR1019960056163A KR19980037415A (en) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | High Voltage Generation Circuit of Nonvolatile Semiconductor Memory Device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960056163A KR19980037415A (en) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | High Voltage Generation Circuit of Nonvolatile Semiconductor Memory Device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19980037415A true KR19980037415A (en) | 1998-08-05 |
Family
ID=66320788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960056163A KR19980037415A (en) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | High Voltage Generation Circuit of Nonvolatile Semiconductor Memory Device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR19980037415A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100455389B1 (en) * | 2001-07-23 | 2004-11-06 | 삼성전자주식회사 | Devices, circuits and methods for dual voltage generation using single charge pump |
KR100481834B1 (en) * | 1997-07-31 | 2005-06-16 | 삼성전자주식회사 | Non-volatile semiconductor device memory with word line driving circuit |
KR100755061B1 (en) * | 2005-11-28 | 2007-09-06 | 주식회사 하이닉스반도체 | Voltage Level Detecting Circuit |
US7692977B2 (en) | 2006-08-29 | 2010-04-06 | Samsung Electronics Co., Ltd | Voltage generator circuit capable of generating different voltages based on operating mode of non-volatile semiconductor memory device |
US9019003B2 (en) | 2012-12-11 | 2015-04-28 | SK Hynix Inc. | Voltage generation circuit |
-
1996
- 1996-11-21 KR KR1019960056163A patent/KR19980037415A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100481834B1 (en) * | 1997-07-31 | 2005-06-16 | 삼성전자주식회사 | Non-volatile semiconductor device memory with word line driving circuit |
KR100455389B1 (en) * | 2001-07-23 | 2004-11-06 | 삼성전자주식회사 | Devices, circuits and methods for dual voltage generation using single charge pump |
KR100755061B1 (en) * | 2005-11-28 | 2007-09-06 | 주식회사 하이닉스반도체 | Voltage Level Detecting Circuit |
US7692977B2 (en) | 2006-08-29 | 2010-04-06 | Samsung Electronics Co., Ltd | Voltage generator circuit capable of generating different voltages based on operating mode of non-volatile semiconductor memory device |
US9019003B2 (en) | 2012-12-11 | 2015-04-28 | SK Hynix Inc. | Voltage generation circuit |
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