KR102053481B1 - 3차원 조형물의 형성 방법 - Google Patents
3차원 조형물의 형성 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102053481B1 KR102053481B1 KR1020150153963A KR20150153963A KR102053481B1 KR 102053481 B1 KR102053481 B1 KR 102053481B1 KR 1020150153963 A KR1020150153963 A KR 1020150153963A KR 20150153963 A KR20150153963 A KR 20150153963A KR 102053481 B1 KR102053481 B1 KR 102053481B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- dimensional
- forming
- support
- water
- group
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 44
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 24
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- -1 vinyl ether compound Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims description 17
- 238000010146 3D printing Methods 0.000 claims description 16
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 9
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 claims description 9
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims description 6
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims description 6
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 5
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 5
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 5
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 claims description 4
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enamide Chemical compound CC(C)=CC(N)=O WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 3
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MWZJGRDWJVHRDV-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenoxy)butane Chemical compound C=COCCCCOC=C MWZJGRDWJVHRDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LAYAKLSFVAPMEL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC=C LAYAKLSFVAPMEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 3-(ethenoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COC=C DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 3
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RWHRFHQRVDUPIK-UHFFFAOYSA-N 50867-57-7 Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O RWHRFHQRVDUPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- LNDXUWTXMPNJKQ-UHFFFAOYSA-N C(C)C=C(C(=O)O)O.C(C)OC(C(=C)O)=O Chemical compound C(C)C=C(C(=O)O)O.C(C)OC(C(=C)O)=O LNDXUWTXMPNJKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 32
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YSDVERQJWQAOEO-UHFFFAOYSA-N 1-phosphanylprop-2-en-1-one Chemical compound PC(=O)C=C YSDVERQJWQAOEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KGQLBLGDIQNGSB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;methoxymethane Chemical compound COC.OC1=CC=C(O)C=C1 KGQLBLGDIQNGSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCBPJVKVIMMEQC-UHFFFAOYSA-N 1,1-diphenyl-2-(2,4,6-trinitrophenyl)hydrazine Chemical group [O-][N+](=O)C1=CC([N+](=O)[O-])=CC([N+]([O-])=O)=C1NN(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WCBPJVKVIMMEQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYKPJMYWPYIXGG-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutane;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(C)(C)C OYKPJMYWPYIXGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LOLKAJARZKDJTD-UHFFFAOYSA-N 4-Ethoxy-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCOC(=O)CCC(O)=O LOLKAJARZKDJTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWLAKDEPYABCV-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical compound C(C)(C)(CC(C)(C)C)C1=C(O)C=C(C(=C1)O)C(C)(C)CC(C)(C)C.C(C)(C)(CC(C)(C)C)C1=C(O)C=C(C(=C1)O)C(C)(C)CC(C)(C)C OIWLAKDEPYABCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVXLLHWEQSZBLW-UHFFFAOYSA-N 2-(4-acetyl-2-methoxyphenoxy)acetic acid Chemical compound COC1=CC(C(C)=O)=CC=C1OCC(O)=O WVXLLHWEQSZBLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical class OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWKKPVABSRYRFO-UHFFFAOYSA-N N(=O)N(O)C1=CC=CC=C1.N(=O)N(O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound N(=O)N(O)C1=CC=CC=C1.N(=O)N(O)C1=CC=CC=C1 CWKKPVABSRYRFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012356 Product development Methods 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- PSYUBHDPOIZRST-UHFFFAOYSA-N ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(O)=C PSYUBHDPOIZRST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229960004337 hydroquinone Drugs 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XKLJHFLUAHKGGU-UHFFFAOYSA-N nitrous amide Chemical compound ON=N XKLJHFLUAHKGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003017 thermal stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/30—Auxiliary operations or equipment
- B29C64/386—Data acquisition or data processing for additive manufacturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/40—Structures for supporting 3D objects during manufacture and intended to be sacrificed after completion thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/112—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using individual droplets, e.g. from jetting heads
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C67/00—Shaping techniques not covered by groups B29C39/00 - B29C65/00, B29C70/00 or B29C73/00
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y40/00—Auxiliary operations or equipment, e.g. for material handling
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y40/00—Auxiliary operations or equipment, e.g. for material handling
- B33Y40/20—Post-treatment, e.g. curing, coating or polishing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y50/00—Data acquisition or data processing for additive manufacturing
- B33Y50/02—Data acquisition or data processing for additive manufacturing for controlling or regulating additive manufacturing processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y70/00—Materials specially adapted for additive manufacturing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
- C07C225/02—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C225/04—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being saturated
- C07C225/06—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being saturated and acyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/02—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having nitrogen atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals
- C07C233/09—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having nitrogen atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals with carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of an acyclic unsaturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/18—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D207/22—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/24—Oxygen or sulfur atoms
- C07D207/26—2-Pyrrolidones
- C07D207/263—2-Pyrrolidones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms
- C07D207/267—2-Pyrrolidones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
- C07D251/30—Only oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2033/00—Use of polymers of unsaturated acids or derivatives thereof as moulding material
- B29K2033/04—Polymers of esters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2105/00—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped
- B29K2105/0002—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped monomers or prepolymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
- B29K2995/0037—Other properties
- B29K2995/0059—Degradable
- B29K2995/0062—Degradable water-soluble
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
본 발명은 3차원 조형물의 형성 방법에 대한 것으로, 본 발명에 따르면 잉크젯 방식에 의해 3차원 조형물 제조 시 구조체의 손상 없이 지지체를 제거할 수 있어 간편하고 경제적으로 3차원 조형물을 제조할 수 있는 장점이 있다.
Description
본 발명은 3차원 조형물의 형성 방법에 대한 것이다.
오늘날 제품 생산에 있어 무한경쟁시장의 다양한 요구에 빠르게 부응하기 위해 3차원 프린팅 기술이 급속히 확산되고 있다. 이는 기업들이 3차원 프린팅 기술을 채택함으로써 제품의 개발 공정 중 가능한 한 빠른 시기에 기술적인 문제를 해결하여 비용 절감과 함께 개념 설계로부터 완제품 생산에 이르는 과정을 최소화할 수 있기 때문이다. 잉크젯 기술에 의해 3차원 조형물을 형성하는 기술은 매우 얇은 레이어로 제품의 형상을 정밀하게 구현할 수 있어 각 산업분야에서 요구하는 기술과 용도에 따라 매우 쉽게 적용할 수 있는 장점이 있다.
상기 잉크젯 기술에 의해 3차원 조형물을 형성하는 경우 주 재료인 구조체 잉크 외에 지지체 잉크를 함께 사용해야 하는데, 지지체 잉크는 공중에 떠있는 형태의 구조물을 만들 때 아래쪽 부분에 임시로 형성하여 지지 역할을 하다가 추후에는 깨끗하게 제거될 수 있어야 한다.
종래에는 3차원 조형물을 만든 후 지지체 부분을 손으로 제거하고, 남은 부분을 손이나 워터 젯(water jet)으로 일일이 제거해야 하므로 매우 번거로워 생산성이 저하되고 경제적이지 못한 문제점이 있었다. 이에 지지체를 수작업으로 제거하지 않고, 쉽게 제거할 수 있는 방법이 필요한 실정이다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서,
잉크젯 방식으로 3차원 조형물 제조 시 구조체의 손상 없이 지지체를 제거할 수 있어 간편하고 경제적으로 3차원 조형물을 제조할 수 있는 3차원 조형물의 형성 방법을 제공하는 것이다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명은,
a) 복수의 레이어를 적층하여 구조체 및 지지체를 포함하는 3차원 조형물을 형성하는 단계; 및
b) 상기 지지체를 물, 또는 물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액으로 용해시켜 지지체를 제거하는 단계를 포함하는, 3차원 조형물의 형성 방법을 제공한다.
본 발명에 따르면 잉크젯 방식에 의해 3차원 조형물 제조 시 구조체의 손상 없이 지지체를 제거할 수 있어 간편하고 경제적으로 3차원 조형물을 제조할 수 있는 장점이 있다.
본 발명은 3차원 조형물의 형성 방법에 대한 것으로, 이하에서 상기 형성 방법을 각 단계별로 상세하게 설명한다.
먼저, a) 복수의 레이어를 적층하여 구조체 및 지지체를 포함하는 3차원 조형물을 형성하는 단계를 수행한다.
상기 a) 단계는 3차원 조형물을 형성하는 구조체 잉크와 지지체 잉크를 잉크젯 프린팅(inkjet printing)하여 구조체 및 지지체를 포함하는 3차원 조형물을 형성하는 단계로, 3차원 조형물 형성 시 광량을 조절할 수 있는데 예를 들면 아래층을 형성할 때는 광량을 줄여서 경화 반응 속도를 느리게 해서 경화 수축을 줄일 수 있고, 위층으로 올라갈수록 광량을 세게 해서 경화를 시킬 수 있다.
상기 a) 단계는 광경화성 수지를 매우 얇은 층으로 분사하여 얇은 벽과 오버행 그리고 동작 파트를 포함한 3차원 조형물을 정밀하게 프린팅하는 단계이다. 각 층은 구조체 잉크 조성물과 지지체 잉크 조성물이 함께 분사되며, 지지체 잉크 조성물은 오버행, 캐비티, 홀 등의 형상을 가능하게 해 준다. 프린팅 헤드는 X축과 Y축으로 이동하며 조형판 위에 잉크 조성물을 분사한다. 한 층의 잉크 조성물이 분사되면 헤드 좌우에 있는 자외선 램프로 인해 즉시 구조체 잉크 조성물과 지지체 잉크 조성물은 경화된다. 다음 층의 분사를 위해 조형판이 밑으로 내려가고 같은 작업이 반복되어 최종 3차원 조형물을 형성하게 된다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 구조체는 아크릴계 광경화성 수지, 경화제, 중합 방지제 및 감광제를 포함하는 구조체 잉크 조성물의 경화 단계를 통해 제조될 수 있으며,
바람직하게는 상기 아크릴계 광경화성 수지는 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(DPHA, dipentaerythritol hexaacrylate), 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트(TPGDA, Tripropylene Glycol Diacrylate), 트리메틸프로판 트리아크릴레이트(TMPTA, Trimethylolpropane triacrylate), 이소보닐 아크릴레이트(Isobornyl Acrylate), 벤질 아크릴레이트(Benzyl Acrylate), 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(1,6-Hexanediol Diacrylate), 트리에틸렌글리콜 디아크릴레이트(Tri ethylene glycol Diacrylate), 비스페놀 A (EO)4 디아크릴레이트(Bisphenol A (EO)4 Diacrylate), 글리세린 (PO3) 트리아크릴레이트(Glycerine (PO)3 Triacrylate) 및 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트(Pentaerythritol Tetraacrylate)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 경화제는 경화 방식에 따라서 다양한 것을 사용할 수 있으며, 당업계에서 사용하는 것이라면 특별한 제한은 없다. 상기 경화제의 구체적인 예로서, 광개시제를 사용할 수 있다. 상기 광개시제로는 사용하는 광원에 맞추어 당업계에서 사용하는 것이라면 특별한 제한이 없으나, 바람직하게는 Irgacure 819 (Bis acryl phosphine계), Darocur TPO (Mono acryl phosphine 계), Irgacure 369 (α-aminoketone계), Irgacure 184 (α-hydroxyketone계), Irgacure 907 (α-aminoketone계), Irgacure 2022 (Bis acryl phosphine/α-hydroxyketone 계), Irgacure 2100 (Phosphine oxide 계), 또는 이와 유사한 구조의 광개시제 등과 같은 상용품을 사용할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 중합 방지제는 니트로사민(Nitrosoamine)계 및 하이드로퀴논(Hydroquinone)계 중합 방지제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으며,
바람직하게는 모노메틸에테르 하이드로퀴논(MEHQ, Mono Methyl Ether Hydroquinone), N-니트로소페닐히드록사민(N-nitrosophenylhydroxyamine), 2,5-비스(1,1,3,3-테트라메틸부틸)하이드로퀴논(2,5-Bis(1,1,3,3-tetramethylbutyl)hydroquinone), 2,5-비스(1,1-디메틸부틸)하이드로퀴논(2,5-Bis(1,1-dimethylbutyl)hydroquinone), 니트로벤젠(Nitrobenzene), 부틸화된 히드록실 톨루엔(butylated hydroxyl toluene) 및 디페닐 피크릴 히드라질(diphenyl picryl hydrazyl (DPPH))로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있고,
더 바람직하게는 모노메틸에테르 하이드로퀴논(MEHQ, Mono Methyl Ether Hydroquinone)일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
본 발명의 다른 일 실시예에 있어서,
상기 감광제는 벤조페논(benzophenone) 및 이소프로필티오잰톤(Darocur ITX, Isopropylthioxanthone)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으며, 이소프로필티오잰톤(Darocur ITX, Isopropylthioxanthone)인 것이 바람직하나 이에 한정되지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
더 바람직하게는 상기 구조체는 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(DPHA, dipentaerythritol hexaacrylate), 트리메틸프로판 트리아크릴레이트(TMPTA, Trimethylolpropane triacrylate), 비스 아실 포스핀계 경화제(Irgacure 819), 이소프로필티오잰톤(ITX, Isopropylthioxanthone) 및 모노메틸에테르 하이드로퀴논(MEHQ)을 포함하는 구조체 잉크 조성물의 경화 단계를 통해 제조될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
본 발명의 다른 일 실시예에 있어서,
상기 지지체는 아민 함유 단량체 및 경화제를 포함하는 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물의 경화 단계를 통해 제조될 수 있다.
상기 아민 함유 단량체는 당업계에서 사용하는 것이라면 특별한 제한이 없으나, 바람직하게는 하기 화학식 1 내지 6 중 어느 하나 이상인 것을 사용할 수 있다.
먼저, 본 발명의 아민 함유 단랑체로서, 하기 화학식 1의 화합물을 사용할 수 있다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에서, R1은 수소 또는 메틸기이고, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소, C1~C10의 알킬기, 비닐기, 알콕시기, 시클로헥실기, 페닐기, 벤질기, 알킬아민기, 알킬에스터기 또는 알킬에테르기일 수 있다,
상기 R'1은 CH2, CH2CH2, CH2CH2CH2, CH(CH2)CH2, CH2CH2CH2CH2, CH2C(CH3)2 또는 C(CH3)2CH2CH2이고,
R'2 및 R'3는 각각 독립적으로 수소, CH3, CH2CH3, CH2CH2CH3, CH2CH(CH3)2,CH2C(CH3)3, CH(CH3)2, CH2CH2CH2CH3, C(CH3)2CH2CH3 또는 -CH=CH2이고,
R"1 은 CH2, CH2CH2, CH2CH2CH2, CH(CH2)CH2, CH2CH2CH2CH2, CH2C(CH3)2 또는 C(CH3)2CH2CH2이고,
R"2는 수소, CH3, CH2CH3, CH2CH2CH3, CH2CH(CH3)2, CH2C(CH3)3, CH(CH3)2, CH2CH2CH2CH3, C(CH3)2CH2CH3 또는 -CH=CH2 일 수 있다.
또한, 바람직하게는 상기 화학식 1은 하기 화학식 1a일 수 있다.
[화학식 1a]
상기 화학식 1a에서,
상기 R'1은 수소 또는 메틸기이고, R'2 및 R'3는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, tert-부틸 또는 -CH=CH2 일 수 있다.
또한, 본 발명의 아민 함유 단랑체로서, 하기 화학식 2의 화합물을 사용할 수 있다.
[화학식 2]
상기 화학식 2에서, R'1 및 R'2는 각각 독립적으로 수소, C1~C10의 알킬기, 비닐기, 알콕시기, 시클로헥실기, 페닐기, 벤질기, 알킬아민기, 알킬에스터기 또는 알킬에테르기이고, R'3는 수소 또는 메틸기일 수 있다.
또한, 본 발명의 아민 함유 단랑체로서, 하기 화학식 3의 화합물을 사용할 수 있다.
[화학식 3]
상기 화학식 3에서, R1은 수소 또는 메틸기이고, R2는 CH2, CH2CH2, CH2CH2CH2, CH(CH2)CH2, CH2CH2CH2CH2, CH2C(CH3)2 또는 C(CH3)2CH2CH2이고, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, tert-부틸, -CH=CH2 또는 -CH2-CH=CH2 일 수 있다.
또한, 본 발명의 아민 함유 단랑체로서, 하기 화학식 4의 화합물을 사용할 수 있다.
[화학식 4]
상기 화학식 4에 있어서, n은 1 내지 4의 정수이고, A는 C, O, N 또는 S이고, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소 또는 C1 내지 C10의 알킬기이고, R4는 -CH=CH2, , , , , , 또는 일 수 있다.
또한, 본 발명의 아민 함유 단랑체로서, 하기 화학식 5, 화학식 6 또는 화학식 7의 화합물을 사용할 수 있다.
[화학식 5]
[화학식 6]
[화학식 7]
상기 아민 함유 단량체는 본 발명의 잉크 조성물 전체 중량을 기준으로 10 내지 99.9 중량%로 포함될 수 있다. 상기 아민 함유 단량체의 포함량이 10 중량% 미만이면 지지체를 제거할 때 물에 대한 용해 특성이 충분하지 못한 문제가 있고, 99.9 중량%를 초과하면 경화 특성이 안 좋아지는 문제가 있다.
상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은, 경화제를 포함한다. 상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은, 경화제를 포함함으로써, 다양한 경화 방식을 통한 경화 공정에 이용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 경화제는 경화 방식에 따라서 다양한 것을 사용할 수 있으며, 당업계에서 사용하는 것이라면 특별한 제한은 없다. 상기 경화제의 구체적인 예로서, 광개시제를 사용할 수 있다. 상기 광개시제로는 사용하는 광원에 맞추어 당업계에서 사용하는 것이라면 특별한 제한이 없으나, 바람직하게는 Irgacure 819 (Bis acryl phosphine계), Darocur TPO (Mono acryl phosphine 계), Irgacure 369 (α-aminoketone계), Irgacure 184 (α-hydroxyketone계), Irgacure 907 (α-aminoketone계), Irgacure 2022 (Bis acryl phosphine/α-hydroxyketone 계), Irgacure 2100 (Phosphine oxide 계), Darocur ITX (isopropyl thioxanthone) 또는 이와 유사한 구조의 광개시제 등과 같은 상용품을 사용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 경화제는 본 발명의 잉크 조성물 전체 중량을 기준으로 0.01 내지 20 중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 1 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 경화제의 포함량이 0.01 중량% 미만이면 경화가 일어나지 않을 수 있다는 문제가 있고, 20 중량%를 초과하면 경화감도가 너무 상승하여 헤드(head)가 막힐 수 있다는 문제가 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 있어서,
상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은, 비닐기 및 아크릴레이트기 중 어느 하나 이상을 포함하는 단량체를 더 포함할 수 있다. 상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은, 비닐기 및 아크릴레이트기 중 어느 하나 이상을 포함하는 단량체를 포함함으로써, 경화 감도를 조절하고, 경화물의 강도 (물렁물렁하거나 단단한 정도)와 같은 특성을 조절할 수 있다는 특성을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 비닐기 및 아크릴레이트기 중 어느 하나 이상을 포함하는 단량체는 당업계에서 사용하는 것이라면 특별한 제한이 없으나, 바람직하게는 비닐 아세테이트 (Vinyl acetate), 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 (2-hydroxyethyl(meth)acrylate), 2-히드록시메틸(메타)아크릴레이트 (2-hydroxymethyl(meth)acrylate), 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 (2-hydroxypropyl(meth)acrylate), 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트 (4-hydroxybutyl(meth)acrylate), 에틸-2-히드록시아크릴레이트 (Ethyl-2-hydroxyacrylate), 2-(아크릴로일옥시)에틸 히드로겐 숙시네이트(2-(Acryloyloxy)ethyl hydrogen succinate) 및 메 메타크릴산 (Methacrylic acid)으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 있어서,
상기 비닐기 및 아크릴레이트기 중 어느 하나 이상을 포함하는 단량체는 본 발명의 잉크 조성물 전체 중량을 기준으로 0.1 내지 80 중량%로 포함될 수 있다. 상기 비닐기 및 아크릴레이트기 중 어느 하나 이상을 포함하는 단량체의 포함량이 0.1 중량% 미만이면 단량체 첨가에 따른 충분한 효과를 얻기 힘들다는 문제가 있고, 80 중량%를 초과하면 경화물이 물에 녹지 않는다는 문제가 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은, 수용성 중합체를 더 포함할 수 있다. 상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은, 상기 수용성 중합체를 포함함으로써, 잉크의 점도를 조절하고, 경화물이 물에 더 쉽게 녹을 수 있도록 하는 특성을 가질 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 있어서,
상기 수용성 중합체는 당업계에서 사용하는 것이라면 특별한 제한이 없으나, 바람직하게는 하기 화학식 8a 내지 화학식 8e로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용할 수 있다.
[화학식 8a]
[화학식 8b]
[화학식 8c]
[화학식 8d]
[화학식 8e]
상기 화학식 8a 내지 화학식 8e 에 있어서, n은 50 내지 25,000일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 수용성 중합체는 상기 잉크 조성물 전체 중량을 기준으로 0.1 내지 30 중량%로 포함될 수 있다. 상기 수용성 중합체의 포함량이 0.1 중량% 미만이면 첨가에 따른 용해도 상승의 효과가 미미하고, 30 중량%를 초과하면 잉크의 점도가 높아져 jetting이 불가능하다는 문제가 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 있어서,
상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은, 비닐 에테르 화합물을 더 포함할 수 있다. 상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은, 비닐 에테르 화합물을 포함함으로써, 조성물이 경화되었을 때 수축이 되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 비닐 에테르 화합물은 특별한 제한이 없으나, 바람직하게는 4-하이드록시부틸 비닐 에테르(HBVE), 에틸 비닐 에테르, 부틸 비닐 에테르, 시클로헥실 비닐 에테르, 2-에틸헥실 비닐 에테르, 도데실 비닐 에테르, 다이에틸렌 글리콜 디비닐 에테르(diethyleneglycol divinyl ether), 1,4-시클로헥산디메탄올 디비닐 에테르, 트리에틸렌글리콜 디비닐 에테르, 1,4-부탄디올 디비닐 에테르 등을 사용할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 있어서,
상기 비닐 에테르 화합물은 본 발명의 잉크 조성물 전체 중량을 기준으로 0.1 내지 50 중량%로 포함될 수 있다. 상기 비닐 에테르 화합물의 포함량이 0.1 중량% 미만이면 경화시 수축 현상에 대한 개선이 미약한 문제가 있고, 50 중량%를 초과하면 경화 시 막의 경도 및 강도가 약해지고, 경화감도가 감소한다는 문제가 있다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 있어서,
상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은, 상기 조성 외에 첨가제를 더 포함할 수 있다. 상기 포함되는 첨가제로는 계면활성제, 가소제, 중합방지제, 소포제, 희석제, 열안정제, 점도 조절제 등이 있다.
상기 첨가제들은 경제적인 측면에서 상기 작용이 일어날 수 있는 최소한의 양을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 잉크 조성물 전체에 대하여 0.1~5 중량%로 포함될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
바람직하게는, 상기 지지체는 (메타)아크릴아미드계 단량체, 비닐계 단량체, 수용성 중합체 및 경화제를 포함하는 지지체 잉크 조성물의 경화 단계를 통해 제조될 수 있으며,
더 바람직하게는 디메틸아크릴아미드, 1-비닐-2-피롤리돈(VP), 폴리비닐피롤리돈(PVP) 및 Bis acryl phosphine계 경화제(Irgacure 819)를 포함하는 지지체 잉크 조성물의 경화 단계를 통해 제조될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
다음으로 b) 상기 지지체를 물, 또는 물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액으로 용해시켜 지지체를 제거하는 단계를 수행한다.
상기 b) 단계는 상기 a) 단계에서 생성한 구조체 및 지지체를 포함하는 3차원 조형물을 물 또는 물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액으로 용해시켜 지지체를 제거하는 단계이다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 b)단계 수행 시 상기 물 또는 물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액의 온도는 20 ℃ 내지 90 ℃인 것이 바람직하고, 40 ℃ 내지 60 ℃인 것이 더 바람직하나 이에 한정되지 않는다.
상온에서도 상기 b)단계를 수행할 수 있지만, 보다 신속한 제거를 위하여 용액의 온도를 상기 범위 내에서 높이는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 일 실시예에 있어서,
상기 b)단계 수행 시 물 또는 물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액을 교반(stirring) 또는 소니케이션(sonication)하는 단계를 더 수행하여 지지체의 제거 속도를 빠르게 할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 극성 유기 용매는 알코올계, 글리콜계, 글리콜 에테르계, 케톤계, 클로린계, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 디메틸 설폭사이드(DMSO) 및 아세토니트릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으며,
메탄올, 에탄올, 이소프로필 알코올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 아세톤, 메틸에틸케톤(MEK), 클로로포름, 클로로벤젠, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 디메틸 설폭사이드(DMSO) 및 아세토니트릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하나 이에 한정되지 않으며,
더 바람직하게는 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알코올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 및 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하나 이에 한정되지 않는다.
상기 b)단계에서 극성 유기 용매 단독 사용으로도 지지체를 제거할 수 있으나, 극성 유기 용매 단독 사용 시 구조체 부분을 함께 녹이거나 스웰링(swelling)시키는 문제점이 있기 때문에 상기와 같이 물 또는 물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액을 사용하는 것이 바람직하며,
물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액의 경우 물 및 알코올계의 혼합 용액인 것이 바람직하다.
그 다음으로, c) 지지체가 제거된 3차원 조형물의 건조 단계를 더 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 있어서,
상기 c)단계의 건조는 자연 건조 또는 건조 수단에 의한 건조일 수 있으며,
자연 건조인 것이 바람직하고,
상기 건조 수단은 열풍기, 오븐 및 히트 건(heat gun)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으나 가능한 건조 수단이라면 그 종류에 한정이 없다.
이하 본 발명을 비한정적인 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명한다. 하기에 개시되는 본 발명의 실시 형태는 어디까지 예시로써, 본 발명의 범위는 이들의 실시 형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허청구범위에 표시되었고, 더욱이 특허 청구범위 기록과 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경을 함유하고 있다. 또한, 이하의 실시예, 비교예에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다.
실시예
실시예
1
a) 복수의 레이어를 적층하여 구조체 및 지지체를 포함하는 3차원 조형물을 형성하는 단계
디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(DPHA, dipentaerythritol hexaacrylate) 8 g, 트리메틸프로판 트리아크릴레이트(TMPTA, Trimethylolpropane triacrylate) 68.5 g, Irgacure 819 3.5 g, 이소프로필티오잰톤(ITX, Isopropylthioxanthone) 1 g 및 모노메틸에테르 하이드로퀴논(MEHQ) 0.5 g을 혼합하여 구조체 잉크 조성물을 제조하였다.
또한 디메틸아크릴아미드 49.2 g, 1-비닐-2-피롤리돈(VP) 32.8 g, 폴리비닐피롤리돈(PVP) 14 g 및 Irgacure 819 4 g을 혼합하여 지지체 잉크 조성물을 제조하였다.
상기 구조체 잉크 조성물 및 지지체 잉크 조성물을 잉크젯 방식으로 3차원 프린팅(Spectra 사 제조, Apollo II, 헤드 : Dimatix 30 pL 128 노즐 헤드)하여 3차원 조형물을 형성하였으며, 경화는 395 nm LED를 사용하였다(2000 mJ/cm2).
b) 상기 지지체를 제거하는 단계
상기 a) 단계에서 형성된 3차원 조형물을 50 ℃의 물에 녹여서 지지체를 제거하였다.
c) 지지체가 제거된 3차원 조형물의 건조 단계
상기 지지체가 제거된 3차원 조형물을 상온에서 건조 공기(dry air)를 불어 10분 간 건조하였다.
실시예
2
상기 b)단계에서 물 대신 물과 에탄올을 50:50으로 혼합한 용액을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
비교예
1
상기 b)단계에서 물 대신 에탄올을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
비교예
2
상기 b)단계에서 물 대신 클로로벤젠을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
비교예
3
상기 b)단계에서 물 대신 아세토니트릴을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
비교예
4
상기 b)단계에서 물 대신 아세톤을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
비교예
5
상기 b)단계에서 물 대신 에테르를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
비교예
6
상기 b)단계에서 물 대신 톨루엔을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
상기 실시예 1 및 2 내지 비교예 1 내지 6에서 지지체 제거 가능 여부 및 구조체 손상 여부를 확인하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
*지지체 제거 가능 여부 :
지지체를 포함하는 3차원 조형물을 해당 용매에 침지시켜 지지체 부분이 녹아 나가면 O, 녹지 않으면 X로 표시함.
** 구조체 손상 여부 : 구조체의 일부가 녹는 경우 O, 구조체 부분이 휘거나 색이 변하거나 하는 등의 손상이 있는 경우 △, 손상이 전혀 없는 경우 X로 표시함.
실시예 1 및 2와 같이 제거 용매로 물을 단독으로 사용하는 경우와 물 및 유기 용매의 혼합 용액을 사용하는 경우에는 구조체가 손상되지 않게 지지체를 제거할 수 있었다. 그러나 비교예 1 내지 4와 같이 극성 유기 용매 단독으로 지지체를 제거하는 경우에는, 구조체가 일부 녹거나 손상되는 결과를 나타내었다. 비교예 5 및 6과 같이 비극성 유기 용매를 사용하는 경우는 지지체가 녹지 않는 결과를 나타내었다.
Claims (37)
- a) 복수의 레이어를 적층하여 구조체 및 지지체를 포함하는 3차원 조형물을 형성하는 단계; 및
b) 상기 지지체를 물, 또는 물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액으로 용해시켜 지지체를 제거하는 단계를 포함하는, 3차원 조형물의 형성 방법으로서,
상기 지지체는 하기 화학식 1의 아민 함유 단량체; ,,, ,, 및 에서 선택되는 비닐기를 포함하는 단량체; 하기 화학식 8a의 수용성 중합체; 및 광개시제를 포함하는 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물의 경화 단계를 통해 제조되고,
상기 극성 유기 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알코올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 및 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것인, 3차원 조형물의 형성 방법:
[화학식 1]
상기 화학식 1에서, R1은 수소 또는 메틸기이고, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소 또는 C1~C10의 알킬기이고,
[화학식 8a]
상기 화학식 8a에서, n은 50 내지 25,000임. - 청구항 1에 있어서,
c) 지지체가 제거된 3차원 조형물의 건조 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 청구항 1에 있어서,
상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은 아크릴레이트기를 포함하는 단량체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 삭제
- 삭제
- 청구항 1 또는 청구항 7에 있어서,
상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은 비닐 에테르 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 청구항 7에 있어서,
상기 아크릴레이트기를 포함하는 단량체는 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 (2-hydroxyethyl(meth)acrylate), 2-히드록시메틸(메타)아크릴레이트 (2-hydroxymethyl(meth)acrylate), 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 (2-hydroxypropyl(meth)acrylate), 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트 (4-hydroxybutyl(meth)acrylate), 에틸-2-히드록시아크릴레이트 (Ethyl-2-hydroxyacrylate), 2-(아크릴로일옥시)에틸 히드로겐 숙시네이트(2-(Acryloyloxy)ethyl hydrogen succinate) 및 메타크릴산 (Methacrylic acid)으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 삭제
- 청구항 10에 있어서,
상기 비닐 에테르 화합물은 4-하이드록시부틸 비닐 에테르(HBVE), 에틸 비닐 에테르, 부틸 비닐 에테르, 시클로헥실 비닐 에테르, 2-에틸헥실 비닐 에테르, 도데실 비닐 에테르, 다이에틸렌 글리콜 디비닐 에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올 디비닐 에테르(diethyleneglycol divinyl ether), 트리에틸렌글리콜 디비닐 에테르 및 1,4-부탄디올 디비닐 에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 삭제
- 청구항 1에 있어서,
상기 3차원 프린팅 지지체용 잉크 조성물은 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 24에 있어서,
상기 첨가제는 계면활성제, 가소제, 중합방지제, 소포제, 희석제, 열안정제 및 점도 조절제로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 아민 함유 단량체는 조성물 전체 중량을 기준으로 10 내지 99.9 중량% 포함되는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 비닐기를 포함하는 단량체는 조성물 전체 중량을 기준으로 0.1 내지 80 중량% 포함되는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 수용성 중합체는 조성물 전체 중량을 기준으로 0.1 내지 30 중량% 포함되는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 10에 있어서,
상기 비닐 에테르 화합물은 조성물 전체 중량을 기준으로 0.1 내지 50 중량% 포함되는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 광개시제는 조성물 전체 중량을 기준으로 0.01 내지 20 중량% 포함되는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 아민 함유 단량체는 (메타)아크릴아미드계 단량체인 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 지지체는 디메틸아크릴아미드, 1-비닐-2-피롤리돈(VP), 폴리비닐피롤리돈(PVP) 및 비스 아실 포스핀계 광개시제(Irgacure 819)를 포함하는 지지체 잉크 조성물의 경화 단계를 통해 제조되는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 b)단계 수행 시 상기 물, 또는 물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액의 온도는 20 ℃ 내지 90 ℃인 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 b)단계 수행 시 상기 물, 또는 물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액의 온도는 40 ℃ 내지 60 ℃인 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 b)단계 수행 시 상기 물, 또는 물 및 극성 유기 용매의 혼합 용액을 교반(stirring) 또는 소니케이션(sonication)하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 2에 있어서,
상기 c)단계의 건조 단계는 자연 건조 또는 건조 수단에 의한 건조인 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법. - 청구항 2에 있어서,
상기 c)단계의 건조 단계는 자연 건조인 것을 특징으로 하는, 3차원 조형물의 형성 방법.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150153963A KR102053481B1 (ko) | 2015-11-03 | 2015-11-03 | 3차원 조형물의 형성 방법 |
EP16862348.6A EP3372388B1 (en) | 2015-11-03 | 2016-10-28 | Method for forming three-dimensional object |
JP2018510057A JP2018529551A (ja) | 2015-11-03 | 2016-10-28 | 3次元造形物の形成方法 |
US15/764,708 US20180281293A1 (en) | 2015-11-03 | 2016-10-28 | Method for forming three-dimensional object |
CN201680052379.8A CN108025491B (zh) | 2015-11-03 | 2016-10-28 | 用于形成三维物体的方法 |
PCT/KR2016/012286 WO2017078332A1 (ko) | 2015-11-03 | 2016-10-28 | 3차원 조형물의 형성 방법 |
JP2020033174A JP7088458B2 (ja) | 2015-11-03 | 2020-02-28 | 3次元造形物の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150153963A KR102053481B1 (ko) | 2015-11-03 | 2015-11-03 | 3차원 조형물의 형성 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170052046A KR20170052046A (ko) | 2017-05-12 |
KR102053481B1 true KR102053481B1 (ko) | 2019-12-06 |
Family
ID=58662228
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150153963A KR102053481B1 (ko) | 2015-11-03 | 2015-11-03 | 3차원 조형물의 형성 방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180281293A1 (ko) |
EP (1) | EP3372388B1 (ko) |
JP (2) | JP2018529551A (ko) |
KR (1) | KR102053481B1 (ko) |
CN (1) | CN108025491B (ko) |
WO (1) | WO2017078332A1 (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101942244B1 (ko) | 2016-02-26 | 2019-01-28 | 주식회사 엘지화학 | 3d 프린팅 지지체용 잉크 조성물 및 이를 이용한 3d 프린팅 제조방법 |
KR102246693B1 (ko) * | 2017-12-21 | 2021-04-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기막 조성물 및 패턴 형성 방법 |
KR102202042B1 (ko) | 2017-12-26 | 2021-01-11 | 주식회사 엘지화학 | 3d 프린팅용 잉크젯 잉크 조성물 |
KR20230141991A (ko) * | 2022-03-30 | 2023-10-11 | 아주대학교산학협력단 | 다중 지지체 구조를 이용한 팬텀 제작 방법 및 장치 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015111366A1 (en) * | 2014-01-23 | 2015-07-30 | Ricoh Company, Ltd. | Three-dimensional object and method for forming same |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6863859B2 (en) * | 2001-08-16 | 2005-03-08 | Objet Geometries Ltd. | Reverse thermal gels and the use thereof for rapid prototyping |
JP2006282689A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Kuraray Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物及びそれを用いた立体造形物 |
IN2009CN03597A (ko) * | 2006-12-21 | 2015-09-11 | Agfa Graphics Nv | |
JP4264108B2 (ja) * | 2007-01-11 | 2009-05-13 | 横浜ゴム株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
KR100910021B1 (ko) * | 2007-04-27 | 2009-07-30 | 한국기계연구원 | 입체 조형물의 제조방법 |
JP2010155889A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Jsr Corp | 光硬化性液状樹脂組成物およびインクジェット光造形法による支持体の製造方法 |
CN102421586B (zh) * | 2009-05-12 | 2014-12-17 | 3D系统公司 | 用于选择性沉积成型的组合物以及方法 |
US9138981B1 (en) * | 2009-07-22 | 2015-09-22 | Stratasys Ltd. | Water soluble ink-jet composition for 3D printing |
CN107089004B (zh) | 2010-10-27 | 2019-08-16 | 雷兹公司 | 用于制作三维物体的工艺和设备 |
EP2514775A1 (en) * | 2011-04-20 | 2012-10-24 | Evonik Röhm GmbH | Maleic anhydride copolymers as soluble support material for fused deposition modelling (FDM) printer |
JP5980088B2 (ja) * | 2012-10-23 | 2016-08-31 | 花王株式会社 | 3dプリンタ造形物用現像液組成物、3dプリンタ造形物の現像方法、及び3dプリンタ造形物の製造方法 |
JP6186946B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2017-08-30 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物、及び立体造形物 |
JP6346746B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2018-06-20 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 三次元造形物の製造方法、三次元造形物を製造するためのキット及び三次元造形物 |
KR102303883B1 (ko) * | 2014-01-16 | 2021-09-24 | 뉴트리션 & 바이오사이언시즈 유에스에이 1, 엘엘씨 | 3d 인쇄용 지지재료 |
CN104014794B (zh) * | 2014-05-30 | 2016-08-24 | 珠海天威飞马打印耗材有限公司 | 三维打印方法及三维打印机 |
KR102037558B1 (ko) * | 2015-07-20 | 2019-10-28 | 주식회사 엘지화학 | 3d 프린팅 지지체용 잉크 조성물 및 이를 이용한 3d 프린팅 제조방법 |
-
2015
- 2015-11-03 KR KR1020150153963A patent/KR102053481B1/ko active IP Right Grant
-
2016
- 2016-10-28 WO PCT/KR2016/012286 patent/WO2017078332A1/ko active Application Filing
- 2016-10-28 JP JP2018510057A patent/JP2018529551A/ja active Pending
- 2016-10-28 EP EP16862348.6A patent/EP3372388B1/en active Active
- 2016-10-28 US US15/764,708 patent/US20180281293A1/en not_active Abandoned
- 2016-10-28 CN CN201680052379.8A patent/CN108025491B/zh active Active
-
2020
- 2020-02-28 JP JP2020033174A patent/JP7088458B2/ja active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015111366A1 (en) * | 2014-01-23 | 2015-07-30 | Ricoh Company, Ltd. | Three-dimensional object and method for forming same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3372388A4 (en) | 2018-12-19 |
JP2020121557A (ja) | 2020-08-13 |
EP3372388B1 (en) | 2020-04-22 |
EP3372388A1 (en) | 2018-09-12 |
JP7088458B2 (ja) | 2022-06-21 |
JP2018529551A (ja) | 2018-10-11 |
US20180281293A1 (en) | 2018-10-04 |
CN108025491B (zh) | 2021-05-14 |
KR20170052046A (ko) | 2017-05-12 |
CN108025491A (zh) | 2018-05-11 |
WO2017078332A1 (ko) | 2017-05-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7088458B2 (ja) | 3次元造形物の形成方法 | |
WO2017018453A1 (ja) | モデル材用樹脂組成物、サポート材用樹脂組成物、光造形品、および、光造形品の製造方法 | |
US20100256255A1 (en) | Jettable ink composition | |
KR102711561B1 (ko) | 3d 광중합체 젯팅을 위한 지지 서브-구조체를 제조하기 위한 조성물 | |
JP6630444B2 (ja) | エッチング処理されたガラス製品を製造する方法 | |
WO2017222025A1 (ja) | モデル材用樹脂組成物、および、光造形品の製造方法 | |
JPWO2018142485A1 (ja) | 光造形用インクセット、光造形品、及び、光造形品の製造方法 | |
US10471633B2 (en) | Photocurable compositions | |
JP2014141621A (ja) | 紫外線硬化性組成物 | |
WO2017159358A1 (ja) | モデル材用組成物、光造形品、および、光造形品の製造方法 | |
WO2018081422A2 (en) | Energy curable foam inhibition ink | |
JP2019515854A (ja) | エッチング処理されたガラス製品を製造する方法 | |
JP6744420B2 (ja) | エッチング処理されたガラス製品を製造する方法 | |
TW200902656A (en) | UV inkjet resist | |
JP6926395B2 (ja) | 重合性組成物 | |
JP2019081296A (ja) | 三次元造形物の製造方法 | |
WO2019230134A1 (ja) | 光造形用組成物セット、光造形品、及び光造形品の製造方法 | |
CN114945616A (zh) | 用于三维印刷应用的水溶性蜡质载体材料 | |
TW202000800A (zh) | 聚合性組成物、噴墨用墨水、耐熱性可溶構件、帶支撐部的立體結構物、及立體造形物的製造方法 | |
JP6993611B2 (ja) | 三次元造形物の製造方法 | |
KR20240004994A (ko) | 3d 광중합체 분사를 위한 지지체 하위-구조체를 생성하기 위한 방사선-경화성 조성물 | |
JP2020055908A (ja) | 液体組成物、立体造形用材料セット、立体造形物の製造方法、及び立体造形物の製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |