KR100625792B1 - Semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 프리차지 시간을 줄여 고속 동작의 지원이 가능한 반도체메모리소자를 제공하기 위한 것으로, 이를 위한 본 발명으로 워드라인 및 비트라인에 접속되어 데이터를 저장하는 복수개의 메모리셀을 구비하는 메모리셀어레이블록; 상기 비트라인 쌍의 일측단에만 연결되어, 상기 비트라인 쌍의 레벨 차이를 감지 및 증폭하기 위한 복수의 비트라인 감지증폭기 블록을 구비하는 비트라인 감지증폭기 어레이블록; 및 상기 비트라인 쌍의 양측단에서 상기 비트라인 감지증폭기 블록에 의해 프리차지가 수행되도록 하기 위한 복수의 프리차지 보조수단을 포함하는 반도체메모리소자를 제공한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a semiconductor memory device capable of supporting high-speed operation by reducing precharge time. The present invention provides a memory cell array including a plurality of memory cells connected to a word line and a bit line to store data. block; A bit line sense amplifier array block connected to only one end of the bit line pair and having a plurality of bit line sense amplifier blocks for detecting and amplifying a level difference between the bit line pairs; And a plurality of precharge auxiliary means for performing precharge by the bit line sense amplifier block at both ends of the bit line pair.
공유, 프리차지, 액티브 영역, 확장, 비트라인 쌍Shared, precharged, active area, extended, bitline pairs
Description
도 1은 종래기술에 따른 반도체메모리소자의 코어 블록 회로도.1 is a core block circuit diagram of a semiconductor memory device according to the prior art.
도 2는 도 1의 반도체메모리소자의 메모리셀 데이터를 액세스하는 과정을 도시한 도면.FIG. 2 is a diagram illustrating a process of accessing memory cell data of the semiconductor memory device of FIG. 1; FIG.
도 3은 도 1의 반도체메모소자에서 표기된 'A'영역 내의 레이아웃을 도시한 도면.FIG. 3 is a diagram illustrating a layout in an area 'A' marked in the semiconductor memo device of FIG. 1. FIG.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체메모리소자의 코어 블록도.4 is a core block diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
도 5는 도 4의 반도체메모리소자의 데이터를 액세스하는 과정을 도시한 도면.FIG. 5 is a diagram illustrating a process of accessing data of the semiconductor memory device of FIG. 4; FIG.
도 6은 도 5의 제1 및 제3 비트라인 감지증폭기 블록과, 보조 프리차지부의 레이아웃을 도시한 도면.FIG. 6 is a diagram illustrating a layout of the first and third bit line sense amplifier blocks and the auxiliary precharge unit of FIG. 5. FIG.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
420, 440, 460, 480 : 프리차지 보조부420, 440, 460, 480: precharge auxiliary unit
본 발명은 반도체 설계 기술에 관한 것으로, 특히 프리차지시간을 줄일 수 있는 반도체메모리소자에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
반도체 메모리소자의 동작속도가 고속화됨에 따라 데이터 입출력에 대한 고속화 요구가 증가하고 있다.As the operation speed of semiconductor memory devices is increased, the demand for speeding up data input / output increases.
데이터 입출력을 고속화하기 위해 여러 가지 방법들이 개발되고 있으며 그중의 하나가 데이터 입출력라인 쌍을 빠른 속도로 디벨럽(Develop)시키고 빠른 속도로 프리차지시키는 것이다.Various methods are being developed to speed up data input and output, and one of them is to rapidly develop and precharge data pairs.
다시 말해, 데이터 입출력라인 쌍을 디벨럽시키는 시간과 데이터 입출력라인 쌍을 프리차지시키는 시간을 합한 시간에 의해 데이터 입출력 속도가 결정된다.In other words, the data input / output speed is determined by the sum of the time for developing the data input / output line pair and the time for precharging the data input / output line pair.
따라서 데이터 입출력라인 쌍에 대한 프리차지 시간을 줄이면 데이터 입출력 속도가 향상된다.Therefore, reducing the precharge time for the data input / output line pairs improves the data input / output speed.
도 1은 종래기술에 따른 반도체메모리소자의 코어 블록 회로도이다.1 is a core block circuit diagram of a semiconductor memory device according to the prior art.
도 1을 참조하면, 종래기술에 따른 반도메모리소자는 워드라인 및 비트라인에 접속되어 데이터를 저장하는 단위메모리셀(12, 14)을 복수개 구비하는 메모리셀어레이블록(10)과, 메모리셀어레이블록(10)의 비트라인 쌍(BL, BLb)을 감지 및 증폭하기 위한 비트라인 감지증폭기를 복수개 구비하는 비트라인 감지증폭기 어레이블록(20, 30)을 구비한다.Referring to FIG. 1, a semiconductor memory device according to the related art includes a memory
그리고 비트라인 감지증폭기 어레이 블록(20)은 비트라인 쌍 단위로 구비되 는 복수의 비트라인 감지증폭기 블록(22, 24)으로 이뤄지는데, 비트라인 감지증폭기 블록(22)은 비트라인과 비트라인 감지증폭기(도면에 도시되지 않음)를 분리/연결하기 위한 비트라인 분리부(22a)와, 비트라인 쌍(BL0, BLb0)을 프리차지시키고, 이의 전압레벨이 동일하게 유지되도록 하기 위한 프리차지/균등화부(22b)와, 비트라인 쌍의 전압레벨 차이를 감지 및 증폭하기 위한 비트라인 감지증폭기(도면에 도시되지 않음)를 구비한다.The bit line sense
도 2는 도 1의 반도체메모리소자의 메모리셀 데이터를 액세스하는 과정을 도시한 도면이다.FIG. 2 is a diagram illustrating a process of accessing memory cell data of the semiconductor memory device of FIG. 1.
먼저, 액티브 커맨드(ACT)가 인가되어 워드라인(WL)이 전원전압 VCORE보다 높은 VCORE + VTn으로 오버드라이빙 된다. 워드라인(WL)의 액티브로 커패시터에 저장된 메모리셀 데이터가 정 비트라인(BL)에 미세전압으로 유입된다.First, the active command ACT is applied to overdrive the word line WL to VCORE + VTn higher than the power supply voltage VCORE. Memory cell data stored in the active capacitor of the word line WL flows into the positive bit line BL at a minute voltage.
이어, 비트라인 분리부(22a)는 상위/하위 비트라인 분리신호(BISH, BISL)의 활성화에 응답하여 비트라인 쌍(BL, BLb)과 비트라인 감지증폭기를 연결하며, 비트라인 감지증폭기는 메모리셀 데이터가 인가된 비트라인 쌍(BL, BLb)의 레벨 차이를 감지 및 증폭한다.Subsequently, the
이후, 프리차지 커맨드(PRE)가 인가되어 워드라인(WL)이 전원전압 VSS 레벨로 드라이빙되면, 메모리셀의 트랜지스터가 비활성화된다. 또한, 프리차지 커맨드(PRE)에 의해 균등화신호(bleq)가 활성화되어, 프리차지/균등화부(22b)가 비트라인 쌍(BL, BLb)을 프리차지전압 레벨(VCORE × 1/2)로 프리차지시킨다.Thereafter, when the precharge command PRE is applied to drive the word line WL to the power supply voltage VSS level, the transistor of the memory cell is inactivated. In addition, the equalization signal bleq is activated by the precharge command PRE, so that the precharge /
끝으로, 비트라인 분리부(22a)가 비트라인 분리신호(BISH, BISL)의 비활성화 에 응답하여, 비트라인 쌍과 비트라인 감지증폭기 어레이 블록이 끊어지도록 한다.Finally, the
참고적으로, 반도체메모리소자는 셀의 페일 시 이를 보완하기 위한 더미 셀을 구비하는데, 도면에 도시된 바와같이 단위 메모리셀 12는 일반적인 셀이며, 단위 메모리셀 14는 더미셀이다.For reference, the semiconductor memory device includes a dummy cell to compensate for the failure of the cell. As shown in the drawing, the
또한, 반도체메모리소자는 인접한 두개의 메모리셀어레이블록이 비트라인 감지증폭기 어레이블록을 공유하도록 하므로서, 비트라인 감지증폭기가 비트라인 쌍이 갖는 간격에 비해 2배의 간격을 갖도록 한다. 이와같이, 비트라인 감지증폭기를 보다 큰 면적에서 구현하므로서, 큰 구동력을 가져 비트라인을 빠르게 감지 및 증폭할 수 있다.In addition, the semiconductor memory device allows two adjacent memory cell array blocks to share a bit line sense amplifier array block, thereby allowing the bit line sense amplifier to have a space twice as large as that of the bit line pair. As such, by implementing the bit line sense amplifier in a larger area, the bit line can be detected and amplified quickly with a large driving force.
전술한 바와 같은 메모리셀어레이블록과 비트라인 감지증폭기 어레이블록을 레이아웃 레벨에서 살펴보도록 한다.The memory cell array block and the bit line sense amplifier array block described above will be described at a layout level.
도 3은 도 1의 반도체메모소자에서 표기된 'A'영역 내의 레이아웃을 도시한 도면이다.FIG. 3 is a diagram illustrating a layout in an area 'A' marked in the semiconductor memo device of FIG. 1.
도 3을 참조하면, 반도체메모리소자는 메모리셀어레이블록(10) 내 워드라인 WL0과 비트라인 BL0에 위치하는 단위 메모리셀 12와, 더미 워드라인 DWL0와 더미 비트라인에 위치하는 단위메모리셀 14과, 비트라인 감지증폭기 어레이 블록(20) 내 비트라인 감지증폭기와 비트라인 쌍(BL, BLb)을 연결하기 위한 비트라인 분리부(22a)를 구비한다.Referring to FIG. 3, a semiconductor memory device may include a
도면에 도시된 바와같이, 비트라인 감지증폭기 블록의 폭(b)은 비트라인 쌍 사이의 폭(a)에 2배가 되는 것을 알 수 있다.As shown in the figure, it can be seen that the width b of the bit line sense amplifier block is twice the width a between the bit line pairs.
한편, 종래기술에 따른 반도체메모리소자는 비트라인 감지증폭기의 감지 및 증폭 속도의 향상을 위해 비트라인 감지증폭기 블록을 비트라인 쌍의 2배에 위치하도록 하기때문에, 비트라인 쌍의 일측단에 접속된 비트라인 감지증폭기 블록에 의해서만 구동되게 된다.Meanwhile, in the semiconductor memory device according to the related art, since the bit line sense amplifier block is positioned twice of the bit line pair in order to improve the detection and amplification speed of the bit line sense amplifier, the semiconductor memory device is connected to one end of the bit line pair. It is only driven by the bitline sense amplifier block.
따라서, 소자의 프리차지 시간이 길어진다. 이는 프리차지가 비트라인의 일측단에서만 이뤄지기 때문에, 비트라인 감지증폭기 블록으로 부터 동일 비트라인 쌍의 타측단까지의 거리가 상대적으로 길어져 비트라인의 기생 커패시턴스가 커지기 때문이다.Therefore, the precharge time of the device becomes long. This is because the precharge is performed only at one end of the bit line, so that the distance from the bit line sense amplifier block to the other end of the same bit line pair is relatively long, thereby increasing the parasitic capacitance of the bit line.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 프리차지 시간을 줄여 고속 동작의 지원이 가능한 반도체메모리소자를 제공하는데 그 목적이 있다.
The present invention has been proposed to solve the above problems of the prior art, and an object thereof is to provide a semiconductor memory device capable of supporting high-speed operation by reducing the precharge time.
상기의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일측면에 따른 반도체메모리소자는 워드라인 및 비트라인에 접속되어 데이터를 저장하는 복수개의 메모리셀을 구비하는 메모리셀어레이블록; 상기 비트라인 쌍의 일측단에만 연결되어, 상기 비트라인 쌍의 레벨 차이를 감지 및 증폭하기 위한 복수의 비트라인 감지증폭기 블록을 구비하는 비트라인 감지증폭기 어레이블록; 및 상기 비트라인 쌍의 양측단에서 상기 비트라인 감지증폭기 블록에 의해 프리차지가 수행되도록 하기 위한 복수의 프리차지 보조수단을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including: a memory cell array block having a plurality of memory cells connected to a word line and a bit line to store data; A bit line sense amplifier array block connected to only one end of the bit line pair and having a plurality of bit line sense amplifier blocks for detecting and amplifying a level difference between the bit line pairs; And a plurality of precharge auxiliary means for precharging by the bit line sense amplifier blocks at both ends of the bit line pair.
본 발명의 다른 측면에 따른 반도체메모리소자는 제1 비트라인 쌍의 일측단에 연결된 제1 비트라인 감지증폭기 블록; 제2 비트라인 쌍의 타측단에 연결된 제2 비트라인 감지증폭기 블록; 제3 비트라인 쌍의 일측단에 연결된 제3 비트라인 감지증폭기 블록; 및 보조 프리차지신호에 응답하여 상기 제1 및 제3 비트라인 감지증폭기 블록을 상기 제2 비트라인 쌍의 일측단에 연결시키기 위한 프리차지 보조수단을 포함한다.According to another aspect of the present invention, a semiconductor memory device may include: a first bit line sense amplifier block connected to one end of a first bit line pair; A second bit line sense amplifier block connected to the other end of the second bit line pair; A third bit line sense amplifier block connected to one end of the third bit line pair; And precharge auxiliary means for connecting the first and third bit line sense amplifier blocks to one end of the second bit line pair in response to an auxiliary precharge signal.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. do.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체메모리소자의 코어 블록도이다.4 is a core block diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 코어 블록은 워드라인(WL) 및 비트라인(BL, BLb)에 접속되어 데이터를 저장하는 메모리셀을 복수개 구비하는 메모리셀어레이블록(100)과, 비트라인 쌍의 한쪽 측단에만 연결되어, 비트라인 쌍의 레벨 차이를 감지 및 증폭하기 위한 비트라인 감지증폭기 블록을 복수개 구비하는 비트라인 감지증폭기 어레이블록(200, 300)과, 비트라인 감지증폭기 블록(220, 240, 320, 340)에 의해 비트라인 쌍(BL, BLb)의 양측단에서 프리차지가 수행되도록 하기 위한 복수의 프리차지 보조부(420, 440, 460, 480)를 구비한다.Referring to FIG. 4, a core block according to an embodiment of the present invention includes a memory
다시 살펴보면, 반도체메모리소자는 제1 비트라인 쌍(BL0, BLb0)의 일측단에 연결된 제1 비트라인 감지증폭기 블록(220)과, 제2 비트라인 쌍(BL1, BLb1)의 타측단에 연결된 제2 비트라인 감지증폭기 블록(240)과, 제3 비트라인 쌍(BL2, BLb2)의 일측단에 연결된 제3 비트라인 감지증폭기 블록(320)과, 보조 프리차지신호에 응답하여 제1 및 제3 비트라인 감지증폭기 블록(220, 240)을 제2 비트라인 쌍(BL1, BLb1)의 일측단에 연결시키기 위한 프리차지 보조부(420)를 구비한다.Looking back, the semiconductor memory device may include a first bit line
프리차지 보조부(420)를 보다 구체적으로 살펴보면, 프리차지 보조부(420)는 더미 워드라인(DWL0)에 게이트단이 접속되고 제1 부 비트라인(BLB0) 및 제2 정 비트라인(BL1) 사이에 드레인-소스 경로를 갖는 제1 NMOS트랜지스터(NM1)와, 더미 워드라인(DWL0)에 게이트단이 접속되고 제2 정 비트라인(BL1)과 제2 부 비트라인(BLb1) 사이에 드레인-소스 경로를 갖는 제2 NMOS트랜지스터(NM2)와, 더미 워드라인(DWL0)에 게이트단이 접속되고 제2 부 비트라인(BLb1)과 제3 정 비트라인(BL2) 사이에 드레인-소스 경로를 갖는 제3 NMOS트랜지스터(NM3)를 구비한다.Looking at the precharge
도 5는 도 4의 반도체메모리소자의 데이터를 액세스하는 과정을 도시한 도면이다.FIG. 5 is a diagram illustrating a process of accessing data of the semiconductor memory device of FIG. 4.
먼저, 액티브 커맨드(ACT)의 인가되면, 비활성화된 보조 프리차지신호가 더미 워드라인(DWL)으로 인가되어 프리차지 보조부(420)가 비활성화되므로, 제1 부 비트라인 내지 제3 정 비트라인(BLb0, BL1, BLb1, BL2)가 각각 연결되지 않는다.First, when the active command ACT is applied, the deactivated auxiliary precharge signal is applied to the dummy word line DWL so that the precharge
이어, 프리차지 커맨드(PRE)가 인가되면, 활성화된 보조 프리차지신호가 더미 워드라인(DWL)을 통해 인가되므로서, 프리차지 보조부(420)가 액티브 되어 제1 부 비트라인 내지 제3 정 비트라인(BLb0, BL1, BLb1, BL2)를 연결시킨다.Subsequently, when the precharge command PRE is applied, the activated auxiliary precharge signal is applied through the dummy word line DWL, and thus the precharge
따라서, 프리차지 커맨드의 인가시 제2 비트라인 쌍(BL1, BLb1)의 타측단은 제2 비트라인 감지증폭기 블록(320)에 의해, 제2 비트라인 쌍(BL1, BLb1)의 일측단은 제1 및 제3 비트라인 감지증폭기 블록(220, 240)에 의해 프리차지가 수행된다.Accordingly, when the precharge command is applied, the other end of the second bit line pair BL1 and BLb1 is formed by the second bit line
참고적으로, 보조 프라차지신호는 더미 워드라인(DWL)을 통해 인가되어 프리차지 보조부(420)를 구동시키는데, 더미 워드라인(DWL)이란 노말 메모리셀의 페일 시 이를 대체하기 위한 더미 메모리셀을 구동하기 위한 것이다.For reference, the auxiliary precharge signal is applied through the dummy word line DWL to drive the precharge
한편, 도 6은 도 5의 제1 및 제3 비트라인 감지증폭기 블록(220, 240)과, 보조 프리차지부(420)의 레이아웃을 도시한 도면이다.6 is a diagram illustrating a layout of the first and third bit line sense amplifier blocks 220 and 240 and the auxiliary
도 6에 도시된 바와같이, 보조 프리차지부(420)는 제1 내지 제3 NMMOS트랜지스터(NM1, NM2, NM3)를 더미 메모리셀 영역에 구현하므로서, 면적의 증가 없이 프리차지 시간을 줄이는 것을 알 수 있다.As shown in FIG. 6, the auxiliary
또한, 보조프리차지부(420)는 제1 및 제3 NMOS트랜지스터(NM1, NM3)의 액티브 영역을 비트라인 분리부(220, 240)의 액티브 영역까지 확장하여 구현한다.In addition, the auxiliary
구체적으로 살펴보면, 반도체메모리소자는 제1 내지 제3 비트라인 쌍(BL0/BLb0, BL1/BLb1, BL2/BLb2)과, 제1 및 제3 비트라인 쌍(BL0/BLb0, BL2/BLb2)의 일측에 연결되어 데이터를 감지 및 증폭하기 위한 제1 및 제3 비트라인 감지증폭기 블록(220, 240)과, 로우 방향으로 형성된 제1 및 제2 더미 워드라인(DWL0, DWL1)과, 제1 부 비트라인(BLb0)과 제2 정 비트라인(BL1) 사이에 평행하게 형성되어 제1 비트라인 감지증폭기 블록(220)까지 확장된 제1 NMOS 트랜지스터(NM1)의 제 1 액티브 영역과, 제1 더미 워드라인(DWL0)과 수직하게 형성된 제2 NMOS트랜지스터(NM2)의 제2 액티브 영역과, 제2 부 비트라인(BLb1)과 제3 정 비트라인(BL2) 사이에 평행하게 형성되어 제2 비트라인 감지증폭기 블록까지 확장된 제3 NMOS트랜지스터(NM3)의 제3 액티브 영역을 포함한다.Specifically, the semiconductor memory device may include first to third bit line pairs BL0 / BLb0, BL1 / BLb1, and BL2 / BLb2, and one side of the first and third bit line pairs BL0 / BLb0 and BL2 / BLb2. First and third bit line sense amplifier blocks 220 and 240 connected to the first and third bit line sense amplifier blocks 220 and 240, first and second dummy word lines DWL0 and DWL1 formed in a row direction, and a first sub bit. A first active region and a first dummy word of the first NMOS transistor NM1 formed in parallel between the line BLb0 and the second positive bit line BL1 and extending to the first bit line
그러므로, 전술한 본 발명에 따른 반도체메모리소자는 비트라인 쌍의 일측단에 접속된 제1 비트라인 감지증폭기 블록을 통해 메모리셀 데이터를 감지 및 증폭시키되, 프리차지 시에는 비트라인 쌍의 일측단은 제1 비트라인 감지증폭기 블록에 의해서 프리차지 되며, 비트라인 쌍의 타측단은 프리차지 보조부를 통해 타측단에 인접하여 형성된 제2 및 제3비트라인 감지증폭기 블록에 의해 프리차지 되도록 한다.Therefore, the above-described semiconductor memory device according to the present invention senses and amplifies memory cell data through a first bit line sense amplifier block connected to one end of a bit line pair. Precharged by the first bit line sense amplifier block, and the other end of the bit line pair is precharged by the second and third bit line sense amplifier blocks formed adjacent to the other end through the precharge auxiliary unit.
즉, 비트라인 쌍의 양측단으로 부터 프리차지를 수행하므로, 빠른 프리차지 시간을 얻을 수 있어, 데이터 입출력 시간이 빨라진다.That is, since precharge is performed from both ends of the bit line pair, a fast precharge time can be obtained, and the data input / output time is faster.
또한, 전술한 프리차지 보조부를 더미 메모리셀 영역 내에 구현하므로서, 면적의 증가없이 빠른 프리차지 시간을 얻을 수 있다.In addition, by implementing the above-described precharge auxiliary unit in the dummy memory cell region, it is possible to obtain a fast precharge time without increasing the area.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible in the art without departing from the technical spirit of the present invention. It will be clear to those of ordinary knowledge.
전술한 본 발명은 비트라인 쌍의 일측단에 접속되어 메모리셀 데이터를 감지 및 증폭시키는 비트라인 감지증폭기 블록을, 프리차지 시에는 프리차지 보조부를 통해 인접한 비트라인 쌍에 접속되도록 하므로서, 비트라인 쌍의 양측단에서 프리차지가 수행되도록 하여 프리차지 시간을 줄인다. The present invention described above is connected to one end of the bit line pair bit line sense amplifier block for sensing and amplifying the memory cell data, and when precharged to be connected to the adjacent bit line pair through the precharge auxiliary unit, the bit line pair Precharge is performed at both ends of the circuit to reduce the precharge time.
또한, 프리차지 보조부를 더미 메모리셀 영역 내에 형성하므로서, 면적의 증가없이 프리차지 시간을 개선할 수 있다.
In addition, since the precharge auxiliary part is formed in the dummy memory cell area, the precharge time can be improved without increasing the area.
Claims (9)
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