JPS62268122A - Solid electrolytic capacitor - Google Patents

Solid electrolytic capacitor

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JPS62268122A
JPS62268122A JP61110623A JP11062386A JPS62268122A JP S62268122 A JPS62268122 A JP S62268122A JP 61110623 A JP61110623 A JP 61110623A JP 11062386 A JP11062386 A JP 11062386A JP S62268122 A JPS62268122 A JP S62268122A
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layer
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は性能の良好な固体電解コンアン4ノに関する。[Detailed description of the invention] Industrial applications The present invention relates to a solid electrolytic converter with good performance.

従来の技術 従来の固体電解コンデンサを構成する陽極基体としては
、タンタル、アルミニウム、ニオブ、チタン等の弁作用
を有する金属(以下、弁金属という)が用いられ、この
うちタンタル、アルミニウムが多く採用されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Metals with valve action (hereinafter referred to as valve metals) such as tantalum, aluminum, niobium, and titanium are used as the anode substrates of conventional solid electrolytic capacitors, and among these, tantalum and aluminum are often used. ing.

たとえばアルミニウムを陽極基体とする固体電解コンデ
ンサは、第4図に示したようにアルミ粉の焼結体に誘電
体である酸化アルミ皮膜を形成して陽極体を構成し、こ
の酸化アルミ皮膜上に半導体層を形成し、さらにこの半
導体層上に導電体層を積層させることにより構成されて
いる。半導体層として硝酸マンガンの熱分解による二酸
化マンガンがもっばら使用されている。
For example, in a solid electrolytic capacitor that uses aluminum as the anode base, the anode body is formed by forming an aluminum oxide film as a dielectric on a sintered body of aluminum powder, as shown in Figure 4. It is constructed by forming a semiconductor layer and further laminating a conductor layer on this semiconductor layer. Manganese dioxide produced by thermal decomposition of manganese nitrate is mostly used as a semiconductor layer.

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、このような従来の技術では、熱分解を数
回行なうので工程が煩雑であり、また二酸化マンガンの
電導度がto−1s 、 cll−1以下であるので高
周波数域での等価直列抵抗値が大きく好ましくないとい
う問題点があった。
Problems to be Solved by the Invention However, in such conventional techniques, the process is complicated because thermal decomposition is performed several times, and the conductivity of manganese dioxide is less than to-1s, cll-1, so There was a problem in that the equivalent series resistance value in the frequency range was large and undesirable.

問題点を解決するための手段および作用本発明は上記の
問題点を解決するものであって、その要旨は、陽極端子
と電気的、機械的に一部分接続されて合体された酸化皮
膜層を有するN枚(Nは2以上の正整数)の弁金属エツ
チング箔において、該酸化皮WA層上に半導体層、該半
導体層上に導電体層を順次設け、さらに導電体層上に共
通の陰極端子を設けた固体電解コンデンサにある。
Means and operation for solving the problems The present invention solves the above problems, and the gist thereof is to have an oxide film layer that is partially electrically and mechanically connected to and integrated with the anode terminal. In N sheets (N is a positive integer of 2 or more) of valve metal etching foils, a semiconductor layer is sequentially provided on the oxide WA layer, a conductor layer is provided on the semiconductor layer, and a common cathode terminal is further provided on the conductor layer. A solid electrolytic capacitor equipped with

本発明の固体電解コンデンサは、半導体層が二酸化鉛も
しくは二酸化鉛と硫酸鉛からなるため、そノl1rf1
.カ10−’S ・atr−’ヨ’)大キ<、マタ第1
図で示すように積層並列構成のため、第2図に示すよう
にその等価回路の合成抵抗値は1/Nになり、高周波数
域での等価直列抵抗値は著しく小さいものとなる。さら
に、このような導電体層を作製する工程も極めて簡単で
あり工業的に有利である。
In the solid electrolytic capacitor of the present invention, since the semiconductor layer is made of lead dioxide or lead dioxide and lead sulfate,
.. Ka10-'S ・atr-'Yo') Daiki<, Mata 1st
As shown in the figure, due to the stacked parallel configuration, the combined resistance value of the equivalent circuit is 1/N as shown in FIG. 2, and the equivalent series resistance value in the high frequency range is extremely small. Furthermore, the process for producing such a conductor layer is also extremely simple and industrially advantageous.

以下、本発明の固体電解コンデンサについて説明する。The solid electrolytic capacitor of the present invention will be explained below.

陽極として用いられる弁金属基体として、アルミニウム
、タンタル、ニオブ、チタン及びこれらを基質とする合
金等弁作用を有する金属の何れを用いてもよい。このう
ち、アルミニウムを使用するのが有利である。
As the valve metal substrate used as the anode, any metal having a valve action may be used, such as aluminum, tantalum, niobium, titanium, and alloys using these as substrates. Of these, it is advantageous to use aluminum.

陽極基体表面の酸化物層は、陽極基体表層部分に設けら
れた陽極基体自体の酸化物層であってもよく、あるいは
陽極基体の表面上に設けられた他の誘電体酸化物の層で
あってもよい。このうち陽極弁金属自体の酸化物から成
る層であることが望ましい。何れの場合にも、酸化物層
を設ける方法としては、従来公知の方法を用いることが
できる。
The oxide layer on the surface of the anode substrate may be an oxide layer of the anode substrate itself provided on the surface layer of the anode substrate, or may be another dielectric oxide layer provided on the surface of the anode substrate. You can. Among these, a layer made of an oxide of the anode valve metal itself is preferable. In either case, a conventionally known method can be used to provide the oxide layer.

例えば、陽極基体としてアルミニウム箔を用いる場合、
アルミニウム箔の表面を電気化学的にエツチングし、さ
らにホウ酸及びホウ酸アンモニウムの水溶液中で電気化
学的に処理すれば、陽極基体であるアルミニウム箔上に
アルミナ誘電体から成る酸化物層が形成される。
For example, when using aluminum foil as the anode substrate,
By electrochemically etching the surface of aluminum foil and further electrochemically treating it in an aqueous solution of boric acid and ammonium borate, an oxide layer consisting of alumina dielectric is formed on the aluminum foil, which is the anode substrate. Ru.

なお、N枚(Nは2以上の正整数)の陽極弁金属基体は
、酸化物層を設ける前後に、かしめ付けや高周波接合等
の方法により陽極端子に電気的、機械的に一部分接続さ
れ合体される。
Note that N sheets (N is a positive integer of 2 or more) of the anode valve metal substrates are partially electrically and mechanically connected to the anode terminal by caulking, high-frequency bonding, etc. before and after providing the oxide layer, and are combined. be done.

本発明において使用する半々体層の組成及び作製方法に
特に$11 fflはないが、コンデンサの高17;1
波性能を高めるためには、二酸化鉛もしくは二酸化。
Although there is no particular $11 ffl in the composition and manufacturing method of the half-half layer used in the present invention, the height of the capacitor is 17;
To improve wave performance, use lead dioxide or carbon dioxide.

鉛と硫酸鉛を主成分として、例えば従来公知の電気化学
的析出法や化学的析出法等で作製するのが好ましい。
It is preferable to use lead and lead sulfate as main components, and to produce it by, for example, a conventionally known electrochemical deposition method or chemical deposition method.

二酸化鉛を主成分とする半導体層を設ける方法としては
、化学的析出法や電気化学的析出法等がある。
Methods for providing a semiconductor layer containing lead dioxide as a main component include a chemical deposition method and an electrochemical deposition method.

化学的析出法としては例えば鉛含有化合物と酸化剤を含
んだ溶液から化学的に析出させる方法があげられる。
Examples of the chemical precipitation method include a method of chemically precipitating from a solution containing a lead-containing compound and an oxidizing agent.

鉛含有化合物の代表例としては、例えばオキシン、アセ
チルアセトン、ピロメコン酸、サリチル酸、アリプリン
、ポリ酢酸ビニル、ポルフィリン系化合物、クラウン化
合物、クリブテート化合物等のキレート形成性化合物に
鉛原子が配位結合もしくはイオン結合している鉛含有化
合物、クエン酸鉛、酢酸鉛、塩基性酢pH鉛、塩化鉛、
臭化鉛、過塩素Fi!!鉛、塩素M鉛、リード丈ルファ
メイト、六弗化ケイ索鎖、臭素酸鉛、ホウフッ化鉛、酢
酸鉛水和物、硝Pl!2鉛等があげられる。これらの鉛
含有化合物は反応母液に使用する溶剤によって適宜選択
される。また、これらの鉛含有化合物は、2種以上混合
して使用しても良い。反応は液中の鉛含有化合物の濃度
は、飽和溶解度を与える濃度から0.05モル/1の範
囲内であり、好ましくは、飽和溶解度を与える濃度から
0.1モル/1の範囲内であり、より好ましくは、飽和
溶解度を与える濃度から0.5モル/1の範囲内である
。反応母液中の鉛含有化合物の濃度が0.05モル/f
J未満では、性能の良好な固体電解コンデンサを得るこ
とができない。また、反応母液中の鉛含有化合物の濃度
が飽和溶解度を越える場合は、増母添加によるメリット
が認められない。
Typical examples of lead-containing compounds include chelate-forming compounds such as oxine, acetylacetone, pyromeconic acid, salicylic acid, alipurin, polyvinyl acetate, porphyrin compounds, crown compounds, and cributate compounds, in which a lead atom forms a coordinate bond or ionic bond. lead-containing compounds, lead citrate, lead acetate, basic vinegar pH lead, lead chloride,
Lead bromide, perchlorine Fi! ! Lead, chlorine M lead, lead length Luffamate, silicon hexafluoride chain, lead bromate, lead borofluoride, lead acetate hydrate, nitrate Pl! Examples include lead. These lead-containing compounds are appropriately selected depending on the solvent used for the reaction mother liquor. Further, two or more of these lead-containing compounds may be used in combination. In the reaction, the concentration of the lead-containing compound in the solution is within the range of 0.05 mol/1 from the concentration that gives saturated solubility, preferably within the range of 0.1 mol/1 from the concentration that gives saturated solubility. , more preferably within the range of 0.5 mol/1 from the concentration that provides saturation solubility. The concentration of lead-containing compounds in the reaction mother liquor is 0.05 mol/f
If it is less than J, a solid electrolytic capacitor with good performance cannot be obtained. Further, if the concentration of the lead-containing compound in the reaction mother liquor exceeds the saturation solubility, no merit will be observed by addition of the mother liquor.

酸化剤の代表例としては、例えばキノン、クロラニル、
ピリジン−N−オキサイド、ジメチルスルフオキ1ナイ
ド、クロム酸、過マンガン酸カリ、セレンオキサイド、
酢酸水銀、酸化バナジウム、塩素酸ナトリウム、過硫酸
アンモニウム、過硫酸カリ、過硫酸ナトリウム、塩化第
二鉄、゛″A酸化水素、サラシ粉、過酸化ベンゾイル等
があげられる。
Typical examples of oxidizing agents include quinone, chloranil,
Pyridine-N-oxide, dimethyl sulfoxide, chromic acid, potassium permanganate, selenium oxide,
Examples include mercury acetate, vanadium oxide, sodium chlorate, ammonium persulfate, potassium persulfate, sodium persulfate, ferric chloride, "A" hydrogen oxide, mustard powder, and benzoyl peroxide.

これらの酸化剤は、使用する溶剤によって適宜に選択す
ればよい。また酸化剤は、2種以上混合して使用しても
よい。酸化剤の使用割合は、鉛含有化合物の使用しル母
の5〜01倍モルの範囲内であることが好ましい。酸化
剤の使用割合が鉛含有化合物の使用[ル聞の5倍モルよ
り多い場合は、コスト的にメリットはなく、また0、1
倍モルより少ない場合は性能の良好な固体電解コンデン
サが得られない。
These oxidizing agents may be appropriately selected depending on the solvent used. Further, two or more oxidizing agents may be used in combination. The proportion of the oxidizing agent used is preferably within the range of 5 to 01 times the mole of the lead-containing compound used. If the proportion of the oxidizing agent used is more than 5 times the mole of lead-containing compounds, there is no cost advantage, and
If the amount is less than twice the molar amount, a solid electrolytic capacitor with good performance cannot be obtained.

二酸化鉛を主成分とする半導体層を形成する方法として
は、例えば鉛含有化合物を溶かした溶液と、酸化剤を溶
かした溶液を混合して反応母液を調製した後、反応母液
に上述したN枚の陽極基体を浸漬して化学的に析出させ
る方法があげられる。
As a method for forming a semiconductor layer containing lead dioxide as a main component, for example, a reaction mother liquor is prepared by mixing a solution in which a lead-containing compound is dissolved and a solution in which an oxidizing agent is dissolved. An example of this method is to immerse the anode substrate to chemically deposit the anode.

一方、電気化学的析出法としては、例えば本発明者等が
先に提案した高iIa度の鉛イオンを口んだ電解液中で
電解酸化により二酸化鉛を析出さける方法等が挙げられ
る(特願昭61−26952号公報)。
On the other hand, examples of electrochemical deposition methods include the method previously proposed by the present inventors in which lead dioxide is deposited by electrolytic oxidation in an electrolytic solution containing high IIa lead ions (patent application Publication number 61-26952).

使用する鉛イオン種には特に制限はなく、電解液中で鉛
イオン種を与える化合物であればいずれでもよく、例え
ばクエン酸鉛、過塩索閣鉛、酢酸鉛、塩基性酢酸鉛、ホ
ウフッ化鉛、硝酸鉛、塩化鉛、臭化鉛、臭素酸鉛、塩素
酸鉛、リードサルファメイト、六弗化ケイ素鉛、テトラ
エチル鉛、テトラフェニル鉛、鎗アセチルアセトン、鉛
オキシン等があげられる。これらの鉛イオン種を与える
化合物は2種以上混合して使用してもよい。
There are no particular restrictions on the type of lead ion to be used, and any compound that provides lead ion types in the electrolyte may be used, such as lead citrate, lead oversalt, lead acetate, basic lead acetate, and fluoroborate. Examples include lead, lead nitrate, lead chloride, lead bromide, lead bromate, lead chlorate, lead sulfamate, lead silicon hexafluoride, tetraethyl lead, tetraphenyl lead, acetylacetone, and lead oxine. Two or more of these compounds providing lead ion species may be used in combination.

二酸化鉛を主成分とする半導体層を電解酸化によって形
成させるための電解液は鉛イオンを含んだ水溶液または
鉛イオンを含んだ有機溶媒溶液である。この電解液は電
解液のイオン電導性を向上させるために公知の電解質を
含lνでいてもよい。
The electrolytic solution for forming a semiconductor layer containing lead dioxide as a main component by electrolytic oxidation is an aqueous solution containing lead ions or an organic solvent solution containing lead ions. This electrolyte may contain a known electrolyte to improve the ionic conductivity of the electrolyte.

有様溶媒溶液に使用する有償溶媒としては、上2鉛イオ
ン種を与える化合物を溶解するものであればいずれでも
よく、例えばエチルアルコール、グリセリン、ベンゼン
、ジオキサン、クロロホルム等があげられる。これらの
有償溶媒は2種以上混合して使用してもよく、また水と
相溶性を有する有別溶媒なら水と混合して使用してもよ
い。
The paid solvent used in the specific solvent solution may be any solvent as long as it dissolves the compound that provides the above lead ion species, such as ethyl alcohol, glycerin, benzene, dioxane, chloroform, and the like. Two or more of these paid solvents may be used as a mixture, and a separate solvent that is compatible with water may be used as a mixture with water.

電解液中の鉛イオン濃度は、0.2モル/磨から飽和溶
解度を与える温度まで、好ましくは0.5モル/1から
飽和溶解度まで、さらに好ましくは0.9モル/1から
飽和溶解度までである。鉛イオンの温度が飽和溶解度を
与える濃度を超える場合は、増R添加によるメリットが
認められない。また鉛イオン濃度が0.2モル/1より
低い場合には、電解液中の鉛イオンの濃度が薄すぎるた
め電W?酸化で生じた二酸化鉛の半導体層が陽極基体の
酸化物層上に充分付着せず、極めて8吊が低く、n失係
数が大きい固体電解コンデンサしか得られないという難
点がある。
The lead ion concentration in the electrolyte ranges from 0.2 mol/1 to a temperature that provides saturated solubility, preferably from 0.5 mol/1 to saturated solubility, and more preferably from 0.9 mol/1 to saturated solubility. be. When the temperature of lead ions exceeds the concentration that provides saturation solubility, no merit is observed by adding R. Also, if the lead ion concentration is lower than 0.2 mol/1, the concentration of lead ions in the electrolyte is too low and the electric current is low. The disadvantage is that the semiconductor layer of lead dioxide produced by oxidation does not adhere sufficiently onto the oxide layer of the anode substrate, resulting in only a solid electrolytic capacitor having an extremely low 8 coefficient and a large n lapse coefficient.

電解酸化は、従来公知の方法、例えば定電流法、定電圧
法、パルス法、あるいは定電流法と定電圧法を交互に利
用して行なわれる。また電解用装置とその操作方法につ
いては従来公知の装置および操作方法が採用される。電
解酸化の時間および温度については、使用する陽極基体
の種類、酸化皮膜の実質面積、使用する鉛イオン種の種
類、電解酸化の条件等により変化するので一概に規定で
きず、予かしめ行なう予備実験により決定ザるのが望ま
しい。
Electrolytic oxidation is carried out using conventionally known methods, such as a constant current method, a constant voltage method, a pulse method, or alternately a constant current method and a constant voltage method. Furthermore, conventionally known devices and operating methods are employed as the electrolysis device and its operating method. The time and temperature of electrolytic oxidation cannot be determined unconditionally because they vary depending on the type of anode substrate used, the actual area of the oxide film, the type of lead ion species used, the conditions of electrolytic oxidation, etc., and preliminary experiments should be carried out in advance. It is preferable to decide based on

一方、半導体層を本来半導体の役割を果たす二酸化鉛と
絶縁物質である硫酸鉛を主成分とする層で構成するとl
tAM鉛の配合により、コンデンサの漏れ電流値を低減
せしめることができる。一方、硝酸鉛の配合により半導
体層の電気伝導度が低くなるため、例えば等価直列抵抗
値が高くなるが、従来の固体電解コンデンサと比較して
も高水準の性能を発現し、維持することが本発明により
見出された。従って、半導体層を二酸化鉛と硫酸鉛の混
合物で構成する場合、二酸化鉛を10重量部以上100
重倒部未満に対して硫酸鉛を90重&部以下という広範
囲の組成で良好なコンデン号性能を発現し、維持するこ
とができるが、とりわけ二酸化鉛20〜50重量部に対
して硫R鉛80〜50重量部、更には、二酸化鉛25〜
35jT7&i部に対して硫酸鉛75〜65重り部の範
囲で、漏れ電流値と等価直列抵抗値のバランスがとりわ
け良好である。二酸化鉛が10重■部未満であると導電
性が悪くなるために等価直列抵抗1直が大きくなり、ま
た8社が充分出現しない。
On the other hand, if the semiconductor layer is composed of a layer whose main components are lead dioxide, which originally plays the role of a semiconductor, and lead sulfate, which is an insulating material, l
By adding tAM lead, the leakage current value of the capacitor can be reduced. On the other hand, the combination of lead nitrate lowers the electrical conductivity of the semiconductor layer, resulting in a higher equivalent series resistance value, but it is not possible to achieve and maintain a high level of performance compared to conventional solid electrolytic capacitors. It was discovered by the present invention. Therefore, when the semiconductor layer is composed of a mixture of lead dioxide and lead sulfate, 10 parts by weight or more of lead dioxide
Good condensation performance can be achieved and maintained over a wide range of compositions, including 90 parts by weight or less of lead sulfate for less than 20 to 50 parts by weight of lead dioxide. 80 to 50 parts by weight, furthermore, 25 to 50 parts by weight of lead dioxide
The balance between the leakage current value and the equivalent series resistance value is particularly good in the range of 75 to 65 weight parts of lead sulfate relative to the 35jT7&i part. If the amount of lead dioxide is less than 10 parts by weight, the conductivity deteriorates and the equivalent series resistance becomes large, and 8 companies do not appear sufficiently.

二酸化鉛とla酸鉛を主成分とする半導体層は、例えば
鉛イオン及び過硫酸イオンを含んだ水溶液を反応母液と
して化学的析出によって形成することができる。また、
過硫酸イオンを含まない適当な酸化剤を加えてもよい。
A semiconductor layer containing lead dioxide and lead oxide as main components can be formed by chemical precipitation using, for example, an aqueous solution containing lead ions and persulfate ions as a reaction mother liquid. Also,
A suitable oxidizing agent that does not contain persulfate ions may also be added.

特に硫酸鉛の析出を容易にするため、反応母液を40〜
100℃程度に加熱することが好ましい。
In particular, in order to facilitate the precipitation of lead sulfate, the reaction mother liquor was
It is preferable to heat to about 100°C.

母液中の鉛イオン濃度は、飽和溶解度を与える濃度から
0.1℃ル/l、好ましくは飽和溶解度を与える濃度か
ら0.5モル/lの範囲内である。鉛イオンの濃度が飽
和溶解度を与える濃度より高い場合には増量添加による
メリットがない。また、鉛イオンの濃度が0.1モル/
1より低い場合には、母液中の鉛イオン濃度が薄すぎる
ため塗布回数を多くしなければならないという難点があ
る。一方、母液中の過硫酸イオン濃度は、鉛イオンに対
してモル比で5からO,OSの範囲内である。過硫酸イ
オンの濃度が鉛イオンに対してモル比で5より多いと、
未反応の過硫酸イオンが残るためコスト高となり、また
過硫酸イオンの濃度が鉛イオンに対してモル比で0.0
5より少ないと、未反応の鉛イオンが残り電導性が悲く
なるので好ましくない。
The concentration of lead ions in the mother liquor is within the range of 0.1° C. mol/l from the concentration giving saturation solubility, preferably 0.5 mol/l from the concentration giving saturation solubility. If the concentration of lead ions is higher than the concentration that gives saturation solubility, there is no advantage to adding an increased amount. Also, the concentration of lead ions is 0.1 mol/
When the lead ion concentration is lower than 1, the lead ion concentration in the mother liquor is too low, so there is a problem that the number of applications must be increased. On the other hand, the concentration of persulfate ions in the mother liquor is within the range of 5 to O.OS in terms of molar ratio to lead ions. When the concentration of persulfate ions is more than 5 in molar ratio to lead ions,
Unreacted persulfate ions remain, resulting in high costs, and the concentration of persulfate ions is 0.0 molar ratio to lead ions.
If it is less than 5, unreacted lead ions remain and conductivity deteriorates, which is not preferable.

鉛イオン種を与える化合物の代表例として、クエンM鉛
、過塩素酸鉛、硝酸鉛、酢酸鉛、塩基性酢酸鉛、塩素酸
鉛、リードサルファメイト、六弗化ケイ素鉛、臭素!鉛
、塩化鉛、臭化鉛等が挙げられる。これらの鉛イオン種
を与える化合物は2種以上混合して使用してもよい。一
方過硫酸イオン種を与える化合物の代表例として過硫酸
カリ、過硫酸ツートリウム、過WA酸アンモニウム等が
あげられる。これらの過lil!INイオン種を与える
化合物は、2種以上混合して使用してもよい。
Typical examples of compounds that provide lead ion species include citric M lead, lead perchlorate, lead nitrate, lead acetate, basic lead acetate, lead chlorate, lead sulfamate, lead silicon hexafluoride, and bromine! Examples include lead, lead chloride, lead bromide, etc. Two or more of these compounds providing lead ion species may be used in combination. On the other hand, typical examples of compounds that provide persulfate ion species include potassium persulfate, ztrium persulfate, ammonium persulfate, and the like. These overlils! Two or more compounds that provide IN ion species may be used in combination.

酸化剤としては、たとえば過酸化水素、次亜塩素酸カル
シウム、唖塩素酸カルシウム、塩素酸カルシウム、過塩
素酸カルシウムなどが挙げられる。
Examples of the oxidizing agent include hydrogen peroxide, calcium hypochlorite, calcium chlorate, calcium chlorate, and calcium perchlorate.

半導体層上に設けられる導電体層は、例えば導電ペース
トの固化、メッキ、金属蒸着等により設層することがで
きる。導電ペーストとしては、銀ペースト、銅ペースト
、ニッケルペースト、アルミペースト、カーボンペース
ト等が好ましいが、これらは1種を用いても2種以上を
用いてもよい。
The conductor layer provided on the semiconductor layer can be formed by, for example, solidifying a conductive paste, plating, metal vapor deposition, or the like. As the conductive paste, silver paste, copper paste, nickel paste, aluminum paste, carbon paste, etc. are preferable, but one type or two or more types of these may be used.

2種以上用いる場合、混合して設層してもよく、または
別々の層として重ねてもよい。導電ペーストを滴用した
後、空気中に放置するかまたは加熱して固化ぜしめる。
When two or more types are used, they may be mixed and layered, or they may be stacked as separate layers. After applying the conductive paste dropwise, it is left in the air or heated to solidify.

メッキとしてはニッケルメッキ、銅メッキ、アルミメッ
キ等があげられる。また烹着金属としてはアルミニウム
、銅等があげられる。
Examples of plating include nickel plating, copper plating, and aluminum plating. Further, examples of the adhering metal include aluminum, copper, and the like.

共通の陰極端子は導電体層上に例えば導電ペーストを使
用して取付けるかまたは導電体層の上にハンダ付けする
方法等が採用できる。
The common cathode terminal can be attached to the conductive layer using, for example, a conductive paste or soldered onto the conductive layer.

共通の陰極端子を取付ける前後に、テーピング等により
合体を強固なものにしてもよい。
Before and after attaching the common cathode terminal, the combination may be strengthened by taping or the like.

以上述べた如く構成される本発明の固体電解コンデンサ
は、例えば樹脂モールド、樹脂ケース、金属製の外装ケ
ース、樹脂のディッピング、ラミネートフィルムによる
外装などの外装により各種用途の汎用コンデンサ製品と
することができる。
The solid electrolytic capacitor of the present invention constructed as described above can be made into a general-purpose capacitor product for various uses by, for example, exterior packaging such as resin molding, resin case, metal exterior case, resin dipping, or laminate film exterior. can.

発明の効果 本発明の固体電解コンデンサは、従来の電解コンデンサ
に比べ、更に小型・小容積化が可能でしかもコンデンサ
性能も良好である。
Effects of the Invention The solid electrolytic capacitor of the present invention can be made smaller and smaller in volume than conventional electrolytic capacitors, and has good capacitor performance.

実施例 以下実施例を示して、本発明をさらに詳しく説明する。Example EXAMPLES The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.

実施l941 交流により電気化学的にエツヂング処理したエツチング
アルミ箔から長さ1 crtt、巾0.5ctrrの小
片を10枚切り出した。この10枚の小片を積層して一
端に陽極端子をかしめ付けし、電気的、機械的に一部分
を合体させた。続けて、ホウ酸およびホウ酸アンモニウ
ムの水溶液中で電気化学的に処理してアルミナの酸化物
層を形成し、一部分が陽極端子によって合体した10枚
の低圧用エツチングアルミ化成箔(約1μF/c112
)を1qだ。引き続き酢酸鉛の1′Uニル/lの水溶液
に化成箔を浸漬し、酢酸鉛に対して0.5倍モルの過酸
化水素の希釈水溶液を加えた。1時間放置した摂、化成
箔上に析出した二酸化鉛層を水で充分洗浄した後120
℃で減圧乾燥した。さらに二酸化鉛層が付着した化成箔
を銀ペースト浴に浸漬し引き上げた後風乾した。
Example 1941 Ten small pieces each having a length of 1 ctrr and a width of 0.5 ctrr were cut from etched aluminum foil that had been electrochemically etched using alternating current. These 10 pieces were laminated and an anode terminal was caulked to one end to electrically and mechanically combine the pieces. Subsequently, an alumina oxide layer was formed by electrochemical treatment in an aqueous solution of boric acid and ammonium borate, and 10 sheets of low-pressure etched aluminum chemical foil (approximately 1 μF/c112
) is 1q. Subsequently, the chemically formed foil was immersed in an aqueous solution of lead acetate at a concentration of 1'U nyl/l, and a diluted aqueous solution of hydrogen peroxide in an amount of 0.5 times the mole of lead acetate was added. After leaving it for 1 hour, the lead dioxide layer deposited on the chemically formed foil was thoroughly washed with water.
It was dried under reduced pressure at ℃. Furthermore, the chemically formed foil with the lead dioxide layer adhered to it was immersed in a silver paste bath, pulled up, and then air-dried.

固化した銀ペースト層は化成箔の二酸化鉛層上に形成さ
れていた。つづいて陽極端子が接続していない一端を残
して巾0.2備のテーピングを行なって積層状態にした
後、陽極端子が接続していない一端側をハンダ浴につけ
共通の陰8i端子を接続した。その後樹脂月日して固体
電解コンデンサ゛を作製した。
A solidified silver paste layer was formed on the lead dioxide layer of the chemically formed foil. Next, I left one end where the anode terminal was not connected and taped it with a width of 0.2 mm to form a laminated state, and then put the one end where the anode terminal was not connected in a solder bath and connected the common negative 8I terminal. . After that, a solid electrolytic capacitor was manufactured using resin.

実施例 2 硝B鉛1,9モル/p水溶液に、実施例1と同様な積層
された化成箔を陽極端子の一部を除いて浸漬した。陰極
としてカーボンを用いて定電流で10時間電解酸化を行
ない化成箔上に二酸化鉛層を形成した。化成箔を電解液
から取出し水で充分洗かした後100℃で1時間減圧乾
燥した。その少、実施例1と同様にして固体電解コンデ
ンサを作製した。
Example 2 A laminated chemical foil similar to that in Example 1 was immersed in a 1.9 mol/p aqueous solution of lead nitrate except for a part of the anode terminal. Electrolytic oxidation was performed for 10 hours at a constant current using carbon as a cathode to form a lead dioxide layer on the chemically formed foil. The chemically formed foil was taken out from the electrolyte, thoroughly washed with water, and then dried under reduced pressure at 100° C. for 1 hour. A solid electrolytic capacitor was produced in the same manner as in Example 1.

実施例 3 酢M鉛三水和物3.8モル/Ω水溶液と過硫酸アンモニ
ウム4.Otル/9水溶液を各々50℃に保温し混合し
た後、この混液に実施例1と同様な化成箔を浸漬し80
℃で20分放置した。化成箔上に析出した半導体層を水
で充分洗って未反応物を除き120℃で1時間減圧乾燥
した。生成した半導体層は二酸化鉛と5A酸鉛からなり
、二酸化鉛がおおにそ25重量%含むことを、質m分析
、X線分析、赤外分光分析より確認した。ひきつづき実
施例1ど同様にして固体電解コンデンサを作製した。
Example 3 Vinegar M lead trihydrate 3.8 mol/Ω aqueous solution and ammonium persulfate 4. After mixing each of the Otl/9 aqueous solutions at a temperature of 50°C, a chemically formed foil similar to that in Example 1 was immersed in this mixture and heated to 80°C.
It was left at ℃ for 20 minutes. The semiconductor layer deposited on the chemically formed foil was thoroughly washed with water to remove unreacted substances, and then dried under reduced pressure at 120° C. for 1 hour. The produced semiconductor layer was composed of lead dioxide and 5A acid lead, and it was confirmed by quality analysis, X-ray analysis, and infrared spectroscopy that it contained approximately 25% by weight of lead dioxide. Subsequently, a solid electrolytic capacitor was produced in the same manner as in Example 1.

実施例 4 実施例3で半導体形成の際の過l1iiI酸アンモニウ
ムの濃度を0.3七ル/」にした以外は実施例1と同様
にして固体電解コンデン1すを作製した。このときの半
と1体だ1は、二酸化鉛と硫酸鉛から成る組成物であっ
て、二酸化鉛がおおよそ35重量%含まれることを確認
した。
Example 4 A solid electrolytic capacitor 1 was produced in the same manner as in Example 1, except that the concentration of ammonium perllIII acid in forming the semiconductor in Example 3 was changed to 0.37 l/''. It was confirmed that the half and one body 1 at this time was a composition consisting of lead dioxide and lead sulfate, and contained approximately 35% by weight of lead dioxide.

実施例 5 実施例3で半導体層形成の際に過酸化水素水を0、05
5七ル/加えた以外は実施例1と同様にして固体電解コ
ンデンサを作製した。このときの半導体層は二酸化鉛と
W11酎鉛から成る組成物であって、二酸化鉛がおおよ
そ50車岨%含まれることを確認した。
Example 5 In Example 3, when forming a semiconductor layer, hydrogen peroxide solution was added at 0.05%.
A solid electrolytic capacitor was produced in the same manner as in Example 1, except that 57 l/l was added. It was confirmed that the semiconductor layer at this time was a composition consisting of lead dioxide and W11 lead, and that lead dioxide contained approximately 50%.

比較例 1 従来公知のアルミ粉の焼結体を陽極基体として酸化皮膜
を設けた後、硝酸マンガン水溶液へ浸:6しまた熱分解
するという操作を5回行なって二酸化マンガンから成る
半導体層を形成した。その1リカーボンペースト、およ
び銀ペーストを付着させ乾燥した後ハンダ浴に浸漬して
陰極を取り出した。
Comparative Example 1 A conventionally known sintered body of aluminum powder was used as an anode substrate to form an oxide film, and then immersed in an aqueous manganese nitrate solution for 6 hours and thermally decomposed 5 times to form a semiconductor layer made of manganese dioxide. did. After applying carbon paste and silver paste and drying, it was immersed in a solder bath and the cathode was taken out.

次に樹脂1(口して固体電解コンデンサを作製した。Next, a solid electrolytic capacitor was prepared by using resin 1.

得られたコンデンサの特性値を表1に示す。Table 1 shows the characteristic values of the obtained capacitor.

表     1 *  120tlzでの値 本−120tlzでの1直 *** 20Kllzでの値Table 1 *Value at 120tlz Book - 1st shift at 120tlz ***Value at 20Kllz

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の固体電解コンデンサの断面図、第2図
は第1図に示した固体電解コンデンサの等価回路図、第
3図は一部分合体した陽極基体の斜視図である。第4図
は従来の固体電解コンデンサの断面図である。 1・・・陽極端子     2・・・陽極基体3・・・
半導体層     4,5・・・導電体層6・・・ハン
ダ層     7・・・陽極端子8・・・化成箔   
   9・・・半導体層10・・・導電体層     
11・・・陰極端子12・・・陽極端子 13・・・化成箔 特許出願人  昭和電工株式会社 代  理  人     弁理士   菊  地  精
  −窮1図 第2図 第3図
FIG. 1 is a sectional view of a solid electrolytic capacitor of the present invention, FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the solid electrolytic capacitor shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a perspective view of a partially assembled anode base. FIG. 4 is a sectional view of a conventional solid electrolytic capacitor. 1... Anode terminal 2... Anode base 3...
Semiconductor layer 4, 5... Conductor layer 6... Solder layer 7... Anode terminal 8... Chemically formed foil
9...Semiconductor layer 10...Conductor layer
11...Cathode terminal 12...Anode terminal 13...Chemical foil patent applicant Showa Denko Co., Ltd. Agent Patent attorney Sei Kikuchi Figure 1 Figure 2 Figure 3

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)陽極端子と電気的、機械的に一部分接続されて合
体された酸化皮膜層を有するN枚(Nは2以上の正整数
)の弁金属エッチング箔において、該酸化皮膜層上に半
導体層、該半導体層上に導電体層を順次設け、さらに導
電体層上に共通の陰極端子を設けたことを特徴とする固
体電解コンデンサ。
(1) In a valve metal etching foil of N pieces (N is a positive integer of 2 or more) having an oxide film layer partially electrically and mechanically connected to the anode terminal and combined, a semiconductor layer is formed on the oxide film layer. A solid electrolytic capacitor characterized in that conductor layers are sequentially provided on the semiconductor layer, and a common cathode terminal is further provided on the conductor layers.
(2)半導体層が二酸化鉛を主成分とする層であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の固体電解コン
デンサ。
(2) The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the semiconductor layer is a layer containing lead dioxide as a main component.
(3)二酸化鉛を主成分とする半導体層が、鉛イオンを
含む反応母液から電気化学的に析出された層であること
を特徴とする特許請求の範囲第2項記載の固体電解コン
デンサ。
(3) The solid electrolytic capacitor according to claim 2, wherein the semiconductor layer containing lead dioxide as a main component is a layer electrochemically deposited from a reaction mother liquor containing lead ions.
(4)二酸化鉛を主成分とする半導体層が、鉛含有化合
物及び酸化剤を含む反応母液から化学的に析出された層
であることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の固
体電解コンデンサ。
(4) The solid electrolyte according to claim 2, wherein the semiconductor layer containing lead dioxide as a main component is a layer chemically deposited from a reaction mother liquor containing a lead-containing compound and an oxidizing agent. capacitor.
(5)反応母液中の鉛含有化合物の濃度が、0.1モル
/lから飽和溶解度を与える濃度までの範囲であり、且
つ酸化剤が、鉛含有化合物1モルに対して0.1モルか
ら5モルまでの範囲であることを特徴とする特許請求の
範囲第4項記載の固体電解コンデンサ。
(5) The concentration of the lead-containing compound in the reaction mother liquor is in the range from 0.1 mol/l to the concentration that provides saturation solubility, and the oxidizing agent is in the range from 0.1 mol/l to 1 mol of the lead-containing compound. 5. A solid electrolytic capacitor according to claim 4, wherein the solid electrolytic capacitor is in the range of up to 5 moles.
(6)半導体層が二酸化鉛と硫酸鉛を主成分とする層で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の固体
電解コンデンサ。
(6) The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the semiconductor layer is a layer containing lead dioxide and lead sulfate as main components.
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