JPS62259294A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPS62259294A
JPS62259294A JP61103414A JP10341486A JPS62259294A JP S62259294 A JPS62259294 A JP S62259294A JP 61103414 A JP61103414 A JP 61103414A JP 10341486 A JP10341486 A JP 10341486A JP S62259294 A JPS62259294 A JP S62259294A
Authority
JP
Japan
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fets
sense
sense amplifiers
driven
dram
Prior art date
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Pending
Application number
JP61103414A
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English (en)
Inventor
Yasuo Ito
寧夫 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP61103414A priority Critical patent/JPS62259294A/ja
Publication of JPS62259294A publication Critical patent/JPS62259294A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、半導体記憶装置に係り、特にセンス動作時に
おけるピーク電流を抑制して信頼性の高い動作を可能と
した半導体記憶装置に関する。
(従来の技術) 近時、書替え可能な半導体メモリセルが各種実用化され
ている。これらのうち、第4図に示すヨウな一個のMO
8FET31 、!ニー111(7)MO8$ヤバシタ
32からなるメモリセルを用いたダイナミックRAM 
(dRAM)が農も高集積化されたものとして一般的で
ある。このメモリセルは、MO8FET31のゲートが
列アドレス線(以下、ワード線>WLに接続され、ドレ
インが行アドレス線(以下、ビット線)8Lに接続され
、記憶データは電荷の形でMOSキャパシタ32に蓄積
するものである。このメモリセルを用いてdRAMを構
成する場合、第5図に示すようにメモリセルアレイが構
成される。即ち、メモリセルを選択的に駆動する複数本
のワード線WLiとメモリセルとのrlでデータのやり
とりを行う複数本のビットll5Ljが互いに交差して
配列され、これらの各交差部にメモリセルが配置される
。ワード線WLiと平行して一対のダミーワードI! 
D W L 。
D W Lが配設され、これらとビット線BLjの交差
部にはダミーセルが配置される。この構成は、対をなす
ビットIIBLj 、BLjを折返し配列して各ビット
線対毎にセンスアンプSAjを設ける方式を採用してい
る。センスアンプSAJは、並列接続された二つの活性
化用MO8F E T−Qs s 、 Qs 6を介し
て接地されている。またビット!11BLj 、BLj
はトランスファゲート用MO8FET−O53,0s 
4を介して入出力線110、Iloに接続されている。
第5図のdRAMは、第6図に示す各内部りOツクを印
加することにより次のような動作をする。
先ず、センスアンプSAjを挟んだ一対のビット線BL
j 、BLjは、プリチャージ用クロックBLPが11
 HITレベル(例えばV CC+ V th以上)k
、なにとにJ:つ7MO8FET−O43。
O44がオンして全てVCCにプリチャージされる。こ
れによりセンスアンプのノードNは、VCCにプリチャ
ージされる。同時にダミーセル書込みりOツクDCPが
“H”レベル(例えばVcc)になることによってMO
SFET−Qs o 、 Qs 2がオンし、全てのダ
ミーセルのノードに“L”レベル(例えばv88)が書
込まれる。ここでダミーセルのMOSキャパシタC1s
 。
Cs s 、・・・の容量はメモリセルのM OSキャ
パシタC1t 、 Ct 2 、・・・のそれの1/2
の大きさとする。
次にビット線をプリチャージするクロックBLPとダミ
ーセルに“L″レベル書込むクロックDCPを共に“L
”レベルに下げてビット線をフローティングにする。こ
の後アクティブ動作に入り、一本のワード線1例えばW
LlがH”レベル(Vcc+Vth以上)になり、同時
にダミーワード纏DWLがH”レベルになることによっ
て、MOSFET−045,、Qs 1がオンする。
これにより、ビットIIBLtにはMOSキャパシタC
1tの情報が、またビット線BLsにはMOSキャパシ
タCtsの情報がそれぞれ現われて、一対のビット線B
Ls 、BLt間に電位差を生じる。これがセンスアン
プSA1の入力となる。
センスアンプSへ1は二段階に分けて活性化される。先
ず、相互コンダクタンスの小さい活性化用MO8FET
−Qs sを内部クロックPSENを゛H°°レベルに
することにより駆動して、ノードNのレベルを下げる。
これによりバランスの崩れたビット線BLr 、BLt
間の電位差の増幅を開始する。ビットl1BLt 、B
Lt間である程度電位差がついたところで、相互コンダ
クタンスの大きい活性化用MO8FET−Qs sを内
部クロックMSENを°゛H”レベルにすることにより
駆動して、BLl、BLlのうち“H+tレベル側はV
cc近くに保ち、“L”レベル側をVasに落とす。ビ
ット線の゛H″ルベル側は、センス動作中若干“H″レ
ベル側MOSFETがオンすること、およびこのMOS
FETのゲートがキ↑?パシタンス・カップリングによ
り下がること等の理由で完全にVCCには保たれず、1
v態度レベルが低下する。この“H″レベル低下、メモ
リセルへの再書込み時に十分な書込みが行われない原因
となる。このため通常アクティブ・プルアップ回路等を
設けて“HItレベル側の電位を確実にVCCに戻すこ
とを行ってから、再書込みを行っている。このようにし
て、ビット線対8L1゜BLrは一方がVCC1他方が
Vasにラッチされる。
このセンスアンプの駆動は、クロックPSENによりブ
リセンスを行い、クロックMSENによりメインセンス
を行う、いわゆるマルチ・グランデッド(IuI t 
i−grounded )方式として知られている。ク
ロックMSENがH”レベルになると、一本の選ばれた
ワード線に接続された全てのメモリセルのトランスファ
ゲート〜IO3FETがオンし、全てのセンスアンプが
同時に動作してビット線の電位差を増幅する。通常のd
RAMでは1000(11以上のセンスアンプが同時に
動作することになる。しかしこのうち、一対のビット線
が行アドレスによって選択された行選択信号C3Ljに
より選ばれ、残りのビット線対は選ばれない。例えば、
行選択信号C3L1が選ばれることにより、ピッI−線
対BL1.BLtの情報だけがトランスファゲートMO
8FET−Qs s 。
QS4を介して入出力線I10.I10に転送される。
このように従来のセンス方式では、同時に全てのセンス
アンプが駆動されるため、全てのセンスアンプにつなが
るビット線が同時に放電される。
このビット線放電が短時間に行われると、ビーク1!流
が大きくなると共に、電流変化率di/dtも大きくな
る。この結果、接地線電位Vssの浮上りを生じたり、
外部のインダクタンス成分りにより電源線にΔV=L−
di/dtのノイズが乗り、周辺回路の動作に悪影響を
与える、という問題があった。
(発明が解決しようとする問題点) 以上のように従来のdRAMでは、多数のセンスアンプ
の動作に伴うピーク電流が周辺回路に悪影響を与える、
という問題があった。
本発明はこの嫌な問題を解決した信頼性の高い半導体記
憶装置を提供することを目的とする。
[発明の構成1 (問題点を解決するための手段) 本発明においては、それぞれ第1.第2の二つの活性化
用MO8FETを持つ複数のセンスアンプを複数個のブ
ロックに分け、第1の活性化用MO8FETは全て同時
に駆動され、第2の活性化用MO8FETは選択された
ブロックについてのみ駆動されるようにしたことを特徴
とする。第1の活性化用MO8FETは例えばプリセン
ス用であり、第2の活性化用MO8FETはメインセン
ス用として用いられる。
(作用) 本発明によれば、メインセンス時は選択されたセンスア
ンプ・ブロックのみが動作するために、センス動作時の
ピーク電流および電流変化率を共に小さくすることがで
きる。しかも従来のようにプリセンスとメインセンスを
行うから、高速動作を保ちながら、電源ノイズの少ない
信頼性の高いdRAMが得られる。またセンスアンプの
ブロック化により、多ビット構成のdRAMを容易に設
計することができる。
(実施例) 以下、本発明の詳細な説明する。
第1図は一実施例のdRAMの概略構成を示し、第2図
はその一部を詳細に示すものである。
第1図のMSAはメモリセルアレイであり、図ではビッ
ト線のみ示しである。センスアンプSAは各ビット線対
毎に設けられているが、このセンスアンプSAがこの実
施例では4個ずつブロック1゜、  2.・・・を構成
して分けられている。各センスアンプSAにはプリセン
ス用の第1の活性化MO3FET−Ql 3 、Qt 
s 、Qt y 、 ・・・とメインセンス用の第2の
活性化MO8FET−014、Qt s 、 Qt a
 、・・・が並列に設けられている。そして第1の活性
化用MO8FETは全てのセンスアンプにつきプリセン
ス用りOツクPSENにより同時に駆動され、第2の活
性化MO5FETは、センスアンプ・ブロック1,2゜
・・・毎にそれぞれ別のメインセンス用クロックMSE
N1.MSEN2 、・・・により選択的に駆動される
ようになっている。プリセンス用クロックPSENは、
dRAMのRASが“HIIレベルから“L”レベルに
なってからある遅延(約30nsec)をもって立上が
る信号である。第1の活性化用MO8FETの相互コン
ダクタンスは第2の活性化用MO8FETのそれより小
さく設定されている。従ってブリセンス用りOツクPS
ENにより全てのセンスアンプはゆっくり駆動される。
各ブロックのビット線は、ブロック毎に行選択信号C3
L1.C3L2 、・・・により選択されて入出力ll
l101.1102 、・・・に接続される。即ち一つ
のブロックの4ビツト情報が同時に並列に出力される構
成となっている。
このように構成されたdRAMの動作を第3因の信号波
形を参照して詳細に説明する。
先ずプリチャージ用りOツクBLPが“1(”レベルに
なることにより、全ビット線がVccにプリチャージさ
れる。これと同時にクロックDCPが°“H”レベルに
なることにより、各ダミーセルに“L″レベル書込まれ
る。これらのクロックBLP、DCPはアクティブ動作
に入る前にl L nレベルにしておく。そして、アク
ティブ動作に入り、一本のワード線例えばWLlが選択
され、これに繋がるメモリセルの情報がビット線に転送
される。
この後、プリセンス用クロックPSENがH”レベルに
なり、第1の活性化用MO8FETがオンしてノードN
の電位が徐々に下がり、各ビット線対BLJ 、BLj
に現われたアンバランスがセンスアンプにより増幅され
る。このプリセンス動作は、第1の活性化用MO8FE
Tの相互コンダクタンスが小さいため、比較的ゆっくり
したものである。第3図に示すようにこのプリーセンス
によりビット線対BLj 、BLjの“L″レベル側低
下するが、′H”レベル側は殆ど低下することなく保た
れる。
そして、ビット線対BLj 、BLjの電位差がある程
度ついたところで、メインセンス用クロックMSEN1
.MSEN2 、・・・のうちの一つ例えば、MSEN
lが“H”レベルになり、これによりセンスアンプ・ブ
ロック1のみ第2の活性化用MO8FETが駆動される
。そして一つの行選択信号C3L1が″H’レベルにな
り、ブロック1の4対のビット線のデータが入出力線に
転送される。
この実施例によれば、70ツク分けされたセンスアンプ
について、プリセンス用の第1の活性化用MO8FET
は全て同時に駆動され、第2の活性化用MO8FETは
選択されたブロックのみ駆動してメインセンスを行うよ
うにしている。従って、センス動作時のピーク電流値が
抑制されて、ピーク電流による接地線電位Vasの浮上
りが少なく、周辺回路の誤動作が防止される。またセン
スアンプは複数ブロックに分けられ、各ブロック内では
第2の活性化用MO3F E Tが同時に駆動されるよ
うにして、多ビツト構成のdRAMが容易に得られる。
なお本発明は上記実施例に限られるものではなく、その
趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することがで
きる。
[発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、センスアンプをブロ
ック分けして、メインセンス動作についてはブロック毎
に選択して行うことにより、電源ノイズを低減してdR
AMの信頼性向上を図ることができ、また、多ビット構
成d RA Mを容易に実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のdRAMの概略構成を示す
図、第2図はその一部を詳細に示す図、第3図はそのd
RAMのセンス動作を説明するための信号波形図、第4
図は一般的なdRAMのメモリセル構成を示す図、第5
図は同じ<dRAMアレイ構成を示す図、第6図はその
センス動作を説明するための信号波形図である。 MSA・・・メモリセルアレイ、WLi・・・ワード線
、DWL、DWL・・・ダミーワード線、BLj。 BLj・・・ビット線、SA (SAt t 、 SA
s 2 。 ・・・)・・・センスアンプ、Qs s 、Ql s 
、Ql7・・・第1の活性化用MO8FET(プリセン
ス用)、Ql4.Ql6.Qla・・・第2の活性化用
MO8FET (メインセンス用)、1.2.3・・・
ブロック、PSEN・・・プリセンス用クロック、MS
ENs 、MSEN2 、MSENi・・・メインセン
ス用クロック、Ilo・・・入出力線、C8L・・・行
選択信号、BLP・・・ビット線プリチャージ用クロッ
ク。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第4図 −C5L3 ′る 第6図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体基板に、マトリクス配列された複数のメモ
    リセルと、これらのメモリセルを選択的に駆動する複数
    本のワード線と、各メモリセルとの間で情報のやりとり
    を行う複数対のビット線と、各対のビット線間の電位差
    を検知する複数のセンスアンプとを集積してなる半導体
    記憶装置において、前記複数のセンスアンプは複数のブ
    ロックに分けられ、且つ各センスアンプに第1、第2の
    活性化用トランジスタが設けられ、第1の活性化用トラ
    ンジスタは全てのセンスアンプについて同時に駆動され
    、第2の活性化用トランジスタは前記ブロック毎に選択
    的に駆動されるようにしたことを特徴とする半導体記憶
    装置。
  2. (2)第1の活性化用トランジスタはプリセンス用であ
    って相互コンダクタンスが小さく、第2の活性化用トラ
    ンジスタはメインセンス用であって相互コンダクタンス
    が大きい特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。
JP61103414A 1986-05-06 1986-05-06 半導体記憶装置 Pending JPS62259294A (ja)

Priority Applications (1)

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JP61103414A JPS62259294A (ja) 1986-05-06 1986-05-06 半導体記憶装置

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JPS62259294A true JPS62259294A (ja) 1987-11-11

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JP61103414A Pending JPS62259294A (ja) 1986-05-06 1986-05-06 半導体記憶装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02126495A (ja) * 1988-07-11 1990-05-15 Toshiba Corp 半導体メモリ
JPH02195593A (ja) * 1989-01-23 1990-08-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
KR100408873B1 (ko) * 2000-04-10 2003-12-11 엔이씨 일렉트로닉스 코포레이션 반도체 기억장치 및 데이터 출력방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH02126495A (ja) * 1988-07-11 1990-05-15 Toshiba Corp 半導体メモリ
JPH02195593A (ja) * 1989-01-23 1990-08-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
KR100408873B1 (ko) * 2000-04-10 2003-12-11 엔이씨 일렉트로닉스 코포레이션 반도체 기억장치 및 데이터 출력방법

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