JPS6225417A - Semiconductor manufacturing equipment - Google Patents
Semiconductor manufacturing equipmentInfo
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- JPS6225417A JPS6225417A JP60164798A JP16479885A JPS6225417A JP S6225417 A JPS6225417 A JP S6225417A JP 60164798 A JP60164798 A JP 60164798A JP 16479885 A JP16479885 A JP 16479885A JP S6225417 A JPS6225417 A JP S6225417A
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- command
- sequence
- cpu
- keyboard
- input
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- Granted
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、LSl、VLSI等の半導体デバイスを製造
する装置に関し、特に、装置に標準設定されている動作
を任意に組合せてユーザ独自のシーケンスを作成するこ
とを可能にした半導体製造装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of the Invention] The present invention relates to an apparatus for manufacturing semiconductor devices such as LSI and VLSI, and in particular, the present invention relates to an apparatus for manufacturing semiconductor devices such as LSI and VLSI, and in particular, a system for creating a user's own sequence by arbitrarily combining operations that are standard for the apparatus. This invention relates to semiconductor manufacturing equipment that makes it possible to
[発明の背景]
従来のステップアンドリピート式の投影露光装置におい
ては、装置本来の動作である所定のシーケンスに従った
露光動作の伯、この露光動作を構成する個々の単位動作
すなわちウェハ挿脱やスアップ送りや位置合ぜやZステ
ージ駆動等の動作をそれぞれ単独で実行させることがで
きる。[Background of the Invention] In a conventional step-and-repeat projection exposure apparatus, the number of exposure operations that follow a predetermined sequence, which is the original operation of the apparatus, and the individual unit operations that make up this exposure operation, such as wafer insertion and removal, are Operations such as up-feed, position alignment, and Z stage drive can be executed independently.
しかし、前記露光動作以外の動作例えばZステージの駆
動伍を較正するための一連の動作等はシーケンスとして
は実装されておらず、このような動作を実行させようと
する場合はオペレータが装置に付きっきりで、装置の動
作に合せて、Zステージ駆動、エアマイクロセンサ値計
測表示等の動作指令を必要回数繰返しキー人力しなけれ
ばならず、その手間と時間は大変なものであった。However, operations other than the exposure operation described above, such as a series of operations for calibrating the drive stage of the Z stage, are not implemented as a sequence, and when trying to execute such operations, the operator must stay with the equipment. Therefore, operation commands such as driving the Z stage, measuring and displaying air microsensor values, etc., must be manually entered as many times as necessary in accordance with the operation of the device, which is a great deal of effort and time.
[発明の目的]
本発明の目的は、上述の従来形における問題点に鑑み、
半導体liI造装置において、ユーザが、メーカ設定の
動作シーケンスや単位動作を適宜組合せた所望のシーケ
ンスを作成できるようにすることである。[Object of the invention] The object of the present invention is to solve the problems of the conventional type described above,
To enable a user to create a desired sequence by suitably combining operation sequences and unit operations set by a manufacturer in semiconductor manufacturing equipment.
[実施例の説明] 以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。[Explanation of Examples] Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装量の外観
を示す。同図において、1は集積回路パターンを具えた
マスクで、他にマスクアライメントマークやマスク・ウ
ェハ・アライメントマークを員えるものとする。2はマ
スクステージで、マスク1を保持してマスク1を平面内
(XYh向)及び回転方向(θ方向)に移動させる。3
は縮小投影レンズ、4は感光層を具えるウェハで、マス
ク・ウェハ・アライメントマークとテレビ・ウェハアラ
イメントマークを貝えるものとする。5はウェハステー
ジζ゛ある。ウェハステージ5はウェハ4を保持してそ
れを平面内および回転方向に移動させるものであり、ま
たウェハ焼付位置(投影野内)とテレビ・ウェハアライ
メント位置間を移動する。6はテレビ・ウェハアライメ
ント用検知装置の対物レンズ、7は搬像管(または固体
搬像素子)である。9は双眼ユニットで、投影レンズ3
を介してウェハ4の表面を観察するために役立つ。10
は照明光学系ならびにマスク・ウェハ・アライメント用
の検知装置を収容する上部ユニットである。11はモニ
タ受像機(コンソールCRT)、12は装置における各
種の動作指令やパラメータを入力するためのキーボード
である。FIG. 1 shows the appearance of a projection exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. In the figure, numeral 1 denotes a mask having an integrated circuit pattern, and also includes mask alignment marks and mask-wafer alignment marks. 2 is a mask stage that holds the mask 1 and moves the mask 1 in the plane (XYh direction) and in the rotational direction (θ direction). 3
4 is a reduction projection lens, and 4 is a wafer provided with a photosensitive layer, which includes a mask/wafer alignment mark and a television/wafer alignment mark. 5 is a wafer stage ζ゛. The wafer stage 5 holds the wafer 4 and moves it in the plane and in the rotational direction, and also moves between the wafer printing position (inside the projection field) and the television/wafer alignment position. Reference numeral 6 represents an objective lens of a detection device for television/wafer alignment, and 7 represents an image carrier tube (or solid image carrier element). 9 is a binocular unit with a projection lens 3
This is useful for observing the surface of the wafer 4 through the wafer 4. 10
is an upper unit that houses the illumination optics and detection equipment for mask-wafer alignment. 11 is a monitor receiver (console CRT), and 12 is a keyboard for inputting various operating commands and parameters in the apparatus.
第2図は、第1図の装置の電気回路構成を示す。FIG. 2 shows the electrical circuit configuration of the device of FIG.
同図において、21は装置全体の制御を司る本体CPU
で、マイクロコンピュータまたはミニコンピユータ等の
中央演算処理装置からなる。22はウェハステージ駆動
装置、23はアライメント検出系、24はレチクルステ
ージ駆動装置、25は照明系、26はシャッタ駆動装置
、21はフォーカス検出系、28はZ駆動装置で、これ
らは、本体CP U 21により制御される。29は搬
送系である。In the figure, 21 is the main body CPU that controls the entire device.
It consists of a central processing unit such as a microcomputer or minicomputer. 22 is a wafer stage drive device, 23 is an alignment detection system, 24 is a reticle stage drive device, 25 is an illumination system, 26 is a shutter drive device, 21 is a focus detection system, and 28 is a Z drive device. 21. 29 is a conveyance system.
30はコンソールユニットで、本体CP U 21にこ
の露光装置の動作に関する各種の指令やパラメータを与
えるためのものである。31はコンソールCPU、32
はパラメータ等を記憶する外部メモリである。なJ3、
CRT 11およびキーボード12は第1図のものと同
一である。Reference numeral 30 denotes a console unit for giving various commands and parameters regarding the operation of this exposure apparatus to the main CPU 21. 31 is the console CPU, 32
is an external memory that stores parameters and the like. Na J3,
CRT 11 and keyboard 12 are identical to those in FIG.
次に、第3および5図のフローチャートならびに第4図
の表示画面例を参照しながら、第1図の装置の動作を説
明する。Next, the operation of the apparatus shown in FIG. 1 will be explained with reference to the flowcharts shown in FIGS. 3 and 5 and the display screen example shown in FIG. 4.
第3図のフローチャートは、本発明の特徴とするユーザ
・プログラマブル・シーケンス作成処理(以下、自動シ
ーケンス作成処理という)を示す。The flowchart in FIG. 3 shows user programmable sequence creation processing (hereinafter referred to as automatic sequence creation processing), which is a feature of the present invention.
第1図の装置においては、電源投入侵の初期化が終了し
たとき等にコマンド入力待■状態となる。The apparatus shown in FIG. 1 enters a command input waiting state when initialization after power-on is completed.
つまり、コンソールCP tJ 31はキーボード12
におけるギー操作を待機し、本体CP U 21はコン
ソールCP U 31からの通信持ち状態となる。そし
て、この状態でキーボード12から自動シーケンス作成
のだめのコマンド(例えばAS>が入力されると、コン
ソールCP U 31の制御のもとに以下の自動シーケ
ンス作成処理を開始する。In other words, the console CP tJ 31 is the keyboard 12
The main body CPU 21 waits for a key operation at the console CPU 31, and becomes in a state where it can communicate with the console CPU 31. In this state, when a command (for example, AS>) for automatic sequence creation is input from the keyboard 12, the following automatic sequence creation process is started under the control of the console CPU 31.
第3図において、ステップ51では、CRTIIの画面
表示を第4図(a>のものく但し、点線部43内のデー
タは表示されていない)に切換え、キーボード12から
順次入力される数字または英字をCRTllの画面の最
下段(第4図(a>の点線部43)に表示し、さらに、
キーボード12で改行キーが押下された後口の改行キー
が押下される前までに入力されたデータ(またはデータ
列)に基づいてCRTllの画面に表示された項目(1
,ファイル名、2、コメント、3.エディタ)で示され
るモードまたは終了モードのうちいずれが選択されたか
を判定する。ここでは、各モードは上記項目に付された
1〜3の数字または終了を示す英字rEJにより選択さ
れる。なお、自動シーケンス作成処理に入ったばかりの
時点では第4図(a)の点線部41および42内には未
だ何も表示されない。また、点線部43の改行マーク(
))は便宜的に表示したもので実際上は表示されない。In FIG. 3, in step 51, the screen display of the CRTII is switched to that shown in FIG. is displayed at the bottom of the screen of the CRTll (dotted line area 43 in FIG. 4 (a)), and further,
Items (1
, file name, 2, comment, 3. editor) or the exit mode is selected. Here, each mode is selected by the numbers 1 to 3 attached to the above items or the alphabetic character rEJ indicating the end. Note that, at the time when the automatic sequence creation process has just started, nothing is displayed within the dotted line areas 41 and 42 in FIG. 4(a). In addition, the line break mark (
)) is displayed for convenience and is not actually displayed.
ステップ51において1のファイル名登録丘−ドが選択
されたときは、ステップ52に進む。そして、以復、改
行キーが押下されるまでのキー人力データを順次、CR
T 11の画面中、第4図(a)の点線部41に表示す
るとともに、改行キーが押下されると、それまでに入力
されたデータ(ここではZM E A S 1.J R
E )を現在作成しようとしている(または作成中の)
8作シーケンスのファイル名として外部メモリ32のフ
ァイル名エリアに登録し、その後、ステップ51に戻る
。なあ、このコメン1−名は、装置を動作さぜる際、メ
ーカ設定のコメントと同列に扱われる。つまり、後述す
るように、前述のコマンド持ち状態において、このファ
イル名をキー人力すると、装置はこのファイル名で作成
された動作シーケンスを実行する。When one file name registration field is selected in step 51, the process advances to step 52. Then, from then on, the key data until the line feed key is pressed is CR
In the screen of T11, when the line feed key is pressed, the data input so far (in this case, ZM E A S 1. J R
E ) is currently being created (or is being created)
The file name of the 8-work sequence is registered in the file name area of the external memory 32, and then the process returns to step 51. By the way, this comment 1-name is treated in the same way as a comment set by the manufacturer when operating the device. That is, as will be described later, when this file name is entered manually in the above-mentioned command holding state, the device executes the operation sequence created with this file name.
また、ステップ51において2のコメント登録モードが
選択されたときは、ステップ53に進む。ステップ53
では、以侵、改行キーが押下されるまでのキー人力デー
タを順次、CRTTIの画面中、第4図(a)の点線部
42に表示するとともに、改行キーが押下されると、そ
れまでに入力されたデータを現在作成しようとしている
かまたは作成中の動作シーケンスのコメントつまり注意
書きどして外部メモリ32のコメントエリアに登録し、
その後、ステップ51に戻る。なJj、このコメントは
上記ファイル名をコマンドとして使用する際、何ら影響
しイ1い。Further, when comment registration mode 2 is selected in step 51, the process advances to step 53. Step 53
Now, the key manual data up to when the line feed key is pressed will be sequentially displayed in the dotted line area 42 in FIG. 4(a) on the CRTTI screen, and when the line feed key is pressed, The input data is registered in the comment area of the external memory 32 as a comment, that is, a cautionary note, for the operation sequence that is currently being created or is being created;
After that, the process returns to step 51. Jj, this comment has no effect when using the above file name as a command.
また、ステップ51において3のエディタモードが選択
されたときは、ステップ54に進む。このエディタモー
ドは、新たな動作シーケンスを作成したり、現在作成中
の動作シーケンスを訂正するためのモードである。ステ
ップ54では、CRTllの画面表示を第4図(b)の
ものく但し、点線部44内のデータは表示されていない
)に切換え、キーボード12から、順次入力される数字
または英字を点線部44に表示し、さらに、キーボード
12で改行キーが押下された後、上記点線部44の表示
データがコマンドのステップナンバを示ずSl、S2、
・・・および終了を示す英字rEJのいずれであるがを
判定する。もし、ステップナンバが入力されていれば、
ステップ55に進む。ステップ55ではキーボード12
から入力されるコマンドを上記キー人力により指定され
たステップナンバのコマンドとして第4図(C>のよう
にCR−rllに表示するとともに外部メモリ32に記
憶させた後、ステップ54に戻る。このステップ54と
55を繰返寸ことにより、第4図(C)に示すような一
連の動作シーケンスが作成される。また、既にコマンド
が書込まれているステップナンバを指定して新たなコマ
ンドをキー人力すれば、動作シーケンスを訂正すること
ができる。このエディタモードは、ステップ54にJ3
いて、キーボード12からrEJが入力されると終了し
、処理はステップ51に戻る。このステップ51におけ
るC RT 11の表示は前述の第4図(a)に示すも
のである。Further, when editor mode 3 is selected in step 51, the process advances to step 54. This editor mode is a mode for creating a new action sequence or correcting the action sequence currently being created. In step 54, the screen display of the CRTll is changed to that shown in FIG. , and after the line feed key is pressed on the keyboard 12, the display data in the dotted line section 44 does not indicate the step number of the command, and the steps SL, S2,
. . . and the alphabetic character rEJ indicating the end. If a step number is entered,
Proceed to step 55. In step 55, the keyboard 12
The command inputted from the key is displayed on the CR-rll as shown in FIG. 4 (C>) as the command of the step number specified manually by the key, and after being stored in the external memory 32, the process returns to step 54. By repeating steps 54 and 55, a series of operation sequences as shown in FIG. The operation sequence can be corrected manually.In this editor mode, J3 is added to step 54.
Then, when rEJ is input from the keyboard 12, the process ends and the process returns to step 51. The display on the CRT 11 in step 51 is as shown in FIG. 4(a) described above.
ステップ57において′、キーボード12からrEJが
入力されたとき(第4図(d))は、終了モードが選択
されたときである。この場合は、ステップ56に進み、
自動シーケンス作成処理を終了する。In step 57', when rEJ is input from the keyboard 12 (FIG. 4(d)), the end mode is selected. In this case, proceed to step 56;
Ends automatic sequence creation processing.
この装置において、自動シーケンスを作成する際の操作
を示すと以下の通りである。The operations for creating an automatic sequence using this device are as follows.
■装置のコマンド持ち状態においてキーボード12より
自動シーケンス作成コマンド(As)を入力する。(2) Input an automatic sequence creation command (As) from the keyboard 12 while the device has a command.
■Cfl T fiへの表示(第4図(a))に従って
、キーボード12r:r3」を入力し、エディタモード
を選択する。■According to the display on Cfl T fi (FIG. 4(a)), input "12r:r3" on the keyboard and select the editor mode.
■CRT 11への表示(第4図(b))を児ながら、
キーボード12を操作してステップナンバおよび該ステ
ップナンバにおけるコマンドを必要数だけ繰返し入力覆
る。■ While displaying on CRT 11 (Fig. 4 (b)),
The keyboard 12 is operated to repeatedly input the step number and the command at the step number as many times as necessary.
■上記キー人力の結果、所望の動作シーケンスが完成し
たことをCRTIIへの表示(第4図(C))により確
認したら、キーボード12よりrEJを入力し、エディ
タモードを終了する。(2) When it is confirmed by the display on the CRTII (FIG. 4(C)) that the desired operation sequence has been completed as a result of the manual input of the keys, rEJ is input from the keyboard 12 and the editor mode is ended.
■CRT表示が5XX71図(a>に示す状態において
、キーボード12より[1]を入力し、さらにファイル
名を入力して完成した動作シーケンスのファイル名を登
録する。(2) With the CRT display in the state shown in Figure 5XX71 (a>), input [1] from the keyboard 12, and then input the file name to register the file name of the completed operation sequence.
■CRT表示が第4図(a>に示す状態において、キー
ボード12より「2」を入力し、ざらにコメン1へを入
力してこのファイルのコメントをσ録する。(2) With the CRT display in the state shown in FIG. 4 (a>), input "2" from the keyboard 12, roughly input comment 1, and record the comment of this file.
■最後に、CR丁表示が第4図(a)に示す状態のとき
キーボード12よりrEJを入力し、この自動シーケン
ス作成モードを終了する。■Finally, when the CR display is in the state shown in FIG. 4(a), rEJ is input from the keyboard 12 to end this automatic sequence creation mode.
なお、上記■〜■の操作、■の操作、および■の操作の
順序は相前後してもよい。また、■の操作は省略するこ
ともできる。Note that the order of the operations ① to ②, the operation ①, and the operation ② may be performed one after the other. Furthermore, the operation (■) can be omitted.
第5図は、上述のようにして作成した動作シーケンスを
実行する際の処理を示す。FIG. 5 shows the processing when executing the operation sequence created as described above.
上記コマンド入力持ら状態において、ファイル名(例え
ば上記rZ MEASUREJを入力すると、先ず、
コンソールCPU31が外部メモリ32に格納されてい
るファイル名を検索し、該当するファイルに書込まれて
いるデータを読出す。これにより、露光装置にJ′3け
る自動動作シーケンス実行処理を開始する。In the above command input state, if you input a file name (for example, the above rZ MEASUREJ), first,
The console CPU 31 searches for a file name stored in the external memory 32 and reads data written in the corresponding file. This causes the exposure apparatus to start automatic operation sequence execution processing at J'3.
この処理においては、コンソールCP U 31が外部
メモリ32から1ライン分ずつのデータを読出して解析
しくステップら1.62> 、この解析結果に応じて以
下の処理を行なう。In this process, the console CPU 31 reads data for each line from the external memory 32 and analyzes it (step 1.62>), and performs the following process according to the analysis result.
71′なわら、上記データがコマンドであれば、そのコ
マンドを本体CP U 21に送信した後(ステップ6
3)、本体CP U 21から該コマンド処理実行終了
コードが送信されるまで待機する(ステップ64)。こ
れに対し、本体CP U 21では、コンソールCPU
31から受信したコマンドに従って露光装量各部を制御
するとともに、コマンドの実行状況に応じて該当ザるコ
マンド処理の実行終了コードをコンソールCP U 3
1に送信する。これは、本体c p U 21とコンソ
ールCP U 31とを同期させるためである。ステッ
プ64で待機中のコンソールCPU31は、本体CP
U 21からのコマンド処理実行終了コードを受信する
とステップ61に戻って、次ラインのデータ続出を行な
う。71' However, if the above data is a command, the command is sent to the main body CPU 21 (step 6).
3) Wait until the command processing execution completion code is sent from the main body CPU 21 (step 64). On the other hand, in the main body CPU 21, the console CPU
The exposure unit is controlled according to the command received from the console CPU 31, and the execution completion code of the corresponding command processing is sent to the console CPU 3 according to the execution status of the command.
Send to 1. This is to synchronize the main CPU 21 and the console CPU 31. The console CPU 31 on standby in step 64 is the main CPU
When the command processing completion code is received from U21, the process returns to step 61 and data for the next line is successively output.
また、ステップ61で読出したデータがコマンドの繰返
し実行を表わすステートメントrLOOPJであれば、
ステップ65に進んでループ処理を実行する。このルー
プ処理は、繰返して実行すべきコマンド(またはコマン
ド群)が記載されているステップナンバ範囲と繰返し回
数とを記憶し、上記1ラインを読出す際のいわばライン
(またはステップナンバ)ポインタともいうべきカウン
タをセットするものである。Furthermore, if the data read in step 61 is the statement rLOOPJ representing repeated execution of a command,
Proceeding to step 65, loop processing is executed. This loop processing stores the step number range in which the command (or command group) to be repeatedly executed and the number of repetitions are written, and is also referred to as a line (or step number) pointer when reading the above-mentioned one line. This is to set the appropriate counter.
例えば、第4図(C)に示す動作シーケンスを実行する
場合について説明すると、ステップナンバS1のデータ
は、ステー1〜メントr L OOP Jであるから、
繰返して実行すべきコマンドが記載されているステップ
ナンバ範囲$2〜S3および繰返し回数10をコンソー
ルCP U 31内のRAMエリアに記憶しておく。そ
して、次のステップナンバS2から83の間の続出処理
(ステップ63.64実行)の際、ステップナンバS3
の実行回数を計数してこれが10回未満であれば、上記
カウンタをステップナンバ$3から・ステップナンバS
2に戻し、10回になって初めて、ステップナンバS3
から次のステップナンバS4に進める。For example, to explain the case of executing the operation sequence shown in FIG.
The step number range $2 to S3 in which commands to be repeatedly executed are written and the number of repetitions 10 are stored in the RAM area within the console CPU 31. Then, at the time of successive processing between the next step numbers S2 to 83 (step 63.64 execution), step number S3
Count the number of executions of , and if it is less than 10, change the counter from step number $3 to step number S.
Step number S3 is returned to 2, and only after the 10th time is step number S3.
Then proceed to the next step number S4.
また、ステップ61で読出したデータがステートメント
rENDJであれば、このステートメントrENDJは
動作シーケンスが終了したことを示すから、ステップ6
6に進んで、この動作シーケンス実行処理を終了する。Further, if the data read in step 61 is the statement rENDJ, this statement rENDJ indicates that the operation sequence has ended, so step 6
Proceeding to step 6, this operation sequence execution process ends.
従って、この露光装置においては、前述のコマンド入力
待ち状態で、キーボード12よりコマンドとしてファイ
ル名rZ MEASUREJを入力すると、第4図(
C>に示すU)作シーケンスを実行する。つまり、第6
図に示すように、Zステージを0.5μm上昇させて(
ステップナンバ82)はフA−カス検出装置27で計測
したウェハ4の位置(z8標)をCRTllに表示する
(ステップナンバS3>という動作を10回繰返したく
ステップナンバ81)I、動作を終了する(ステップナ
ンバ34)。Therefore, in this exposure apparatus, when the file name rZ MEASUREJ is entered as a command from the keyboard 12 in the above-mentioned command input waiting state, the image shown in FIG.
U) Execute the operation sequence shown in C>. In other words, the 6th
As shown in the figure, raise the Z stage by 0.5 μm (
Step number 82) displays the position of the wafer 4 (z8 mark) measured by the focus detection device 27 on the CRTll (step number 81) I want to repeat the operation 10 times with step number S3>, and ends the operation. (Step number 34).
従来の装置において、このように7ステージを0.5μ
mずつ上背させてエアフォーカス検出装置27で7ステ
一ジ位置を計測しコンソール表示しようとすれば、オペ
レータが付きっきりで、コマンド入力持ち状態において
先ずコマンドrZDJを入力し、その露光装置が7駆動
を終了してコマンド入力持ら状態に戻ったことを確認し
た後、コマンドrFcJを入ノJするというようなキー
人力操作を10回繰返す必要があった。In conventional equipment, seven stages are separated by 0.5μ in this way.
If you want to measure the 7-stage position with the air focus detection device 27 and display it on the console by tilting the back up by m, the operator must be present, and first input the command rZDJ while holding the command input, and the exposure device will move to the 7-stage position. After confirming that the command has been completed and returned to the state where command input is required, it was necessary to repeat manual key operations such as entering command rFcJ 10 times.
[発明の効果コ
以上のように、本発明によれば、ユーザサイドでユーザ
の希望する動作シーケンスを1つのコマンドとして登録
することができるので、半導体製造装置の7駆動装置の
精度検査や駆動り較正のように従来極めて面倒であった
操作を1つのコマンドを入力するという極めて簡単な操
作だけで装置に自動的に行なわせることができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the user's desired operation sequence can be registered as a single command on the user side, so that accuracy inspection and driving of the 7 drive devices of semiconductor manufacturing equipment can be easily performed. Operations such as calibration, which were conventionally extremely troublesome, can be automatically performed by the device simply by inputting a single command.
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
斜視図、
第2図は、第1図の装置の電気回路構成図、第3.5お
よび6図は第1図の装置の動作を説明するためのフロー
チャート、
第4図は、第1図の装置におけるCRTの表示両面例を
示す図である。
11:モニタ用CRT、12:キーボード、21:本体
CPU、30:コンソールCPU、34:外部メモリ。FIG. 1 is an external perspective view of a projection exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an electric circuit configuration diagram of the apparatus shown in FIG. 1, and FIGS. Flowchart for explaining the operation of FIG. 4 is a diagram showing an example of a double-sided display of a CRT in the apparatus of FIG. 11: CRT for monitor, 12: Keyboard, 21: Main body CPU, 30: Console CPU, 34: External memory.
Claims (1)
つた複数種類の動作が可能な半導体製造装置において、
複数個の動作指令およびその動作指令の実行タイミング
を予め入力する動作シーケンス入力手段と、該動作シー
ケンス入力手段により入力された動作指令/実行タイミ
ング列を1つのコマンドとして記憶する手段と、該記憶
したコマンドが上記動作指令入力手段を介して指定され
たときは上記実行タイミングごとに上記動作指令を読出
して装置本体に与える読出手段とを設け、ユーザが上記
動作指令群を組合せて新しいシーケンスを作成し実行さ
せることを可能にしたことを特徴とする半導体製造装置
。 2、前記動作指令入力手段がキーボードであり、前記動
作シーケンス入力手段を兼ねている特許請求の範囲第1
項記載の半導体製造装置。[Claims] 1. In a semiconductor manufacturing apparatus capable of performing multiple types of operations according to operation commands input through an operation command input means,
a motion sequence input means for inputting in advance a plurality of motion commands and execution timings of the motion commands; a means for storing the motion command/execution timing sequence inputted by the motion sequence input means as one command; When a command is designated via the operation command input means, a readout means is provided which reads out the operation command at each execution timing and supplies it to the main body of the apparatus, so that the user can create a new sequence by combining the group of operation commands. 1. A semiconductor manufacturing device characterized by being able to perform the following steps. 2. Claim 1, wherein the operation command input means is a keyboard, which also serves as the operation sequence input means.
Semiconductor manufacturing equipment as described in .
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60164798A JPS6225417A (en) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | Semiconductor manufacturing equipment |
US07/752,986 US5197118A (en) | 1985-07-25 | 1991-09-03 | Control system for a fine pattern printing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP60164798A JPS6225417A (en) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | Semiconductor manufacturing equipment |
Related Child Applications (1)
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JP6107398A Division JPH07311607A (en) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | Sequence control method |
Publications (2)
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JPS6225417A true JPS6225417A (en) | 1987-02-03 |
JPH0535565B2 JPH0535565B2 (en) | 1993-05-26 |
Family
ID=15800133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60164798A Granted JPS6225417A (en) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | Semiconductor manufacturing equipment |
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JP (1) | JPS6225417A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPWO2006019166A1 (en) * | 2004-08-19 | 2008-05-08 | 株式会社ニコン | Alignment information display method and program, alignment method, exposure method, device manufacturing method, display system, display device, program, and measurement / inspection device |
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1985
- 1985-07-25 JP JP60164798A patent/JPS6225417A/en active Granted
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JP4715749B2 (en) * | 2004-08-19 | 2011-07-06 | 株式会社ニコン | Alignment information display method and program thereof, alignment method, exposure method, device manufacturing method, display system, and display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0535565B2 (en) | 1993-05-26 |
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