JPS61171048A - Analyzing device - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は分析装置、殊に固体の表面に存在する物質を
局所分析する場合に適用して、特に効果の著しい分析装
置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an analytical device, and particularly to an analytical device that is particularly effective when applied to local analysis of substances present on the surface of a solid.
(従来技術とその問題点)
先づこの種の装置の代表的なものを概括的に述べると、
その一方に5Ml5やIMAと呼ばれる二次イオン質量
分析装置がある。この種の装置では、局所分析を行うた
めに、−次イオンビームを例えば1μm程度に絞ろうと
すると巨大なシステムが必要となって高価につく、他方
では、この問題を解決すべく液体金属イオン源(以下L
MIS)を用いたSIMSが研究されている模様である
が5目下のところその詳細な内容は明らかにされていな
い。しかし、このLMISを用いるSIMSでは金属イ
オン(主としてガリウムが用いられている模様)が基板
に残留し、その金属が1分析する前から被分析体に存在
していたのかどうかの判別が出来ない恐れがある。また
、いろいろなイオンに切換えて分析を試みることが出来
ない欠点などもある。また、別の代表的システムとして
SN−MSと云われる分析装置があり、スパッタされた
中性粒子を質量分析する方式をとっているが、これにも
前述と同様な欠点がある。その他にGD−MSと云われ
る、グロー放電(GD)領域で発生したイオンを質量分
析する方法もあり、この方法は先述のSN−MSと同様
に定量性において秀れているが局所分析が極めて困難で
あるという欠点をもっている。(Prior art and its problems) First, let us briefly describe typical devices of this type.
On the one hand, there are secondary ion mass spectrometers called 5Ml5 and IMA. With this type of device, if you try to narrow down the -order ion beam to about 1 μm for local analysis, you will need a huge system and it will be expensive.On the other hand, in order to solve this problem, a liquid metal ion source (Hereafter L
It appears that SIMS using MIS is being researched, but the details have not yet been disclosed. However, in SIMS using this LMIS, metal ions (mainly gallium appears to be used) remain on the substrate, and there is a risk that it may not be possible to determine whether the metal was present in the analyte before the first analysis. There is. Another disadvantage is that analysis cannot be attempted by switching to various ions. Another representative system is an analyzer called SN-MS, which performs mass spectrometry on sputtered neutral particles, but this system also has the same drawbacks as described above. There is also a method called GD-MS, which performs mass spectrometry on ions generated in the glow discharge (GD) region.This method, like the aforementioned SN-MS, is excellent in quantitative performance, but local analysis is extremely difficult. It has the disadvantage of being difficult.
(発明の目的)
この発明は、これらの欠点を持たない、固体表面の局所
分析を行うことの出来る新規の秀れた分析装置を提供す
ることを目的とする。(Objective of the Invention) The object of the present invention is to provide a new and excellent analysis device that does not have these drawbacks and is capable of performing local analysis of a solid surface.
(発明の構成)
本発明は、内部を所定の圧力に排気できる排気系をそな
えた真空容器の内部に、先端が鋭くとがった針状陽極と
、この針状陽極の表面に存在する物質であって、この物
質が被分析体の温度においては気体であるような物質を
イオンとしてとり出す手段とをそなえ、このイオンを被
分析体に照射してその被分析体から放出される物質を質
量分析する分析装置によって、前記目的を達成したもの
である。(Structure of the Invention) The present invention provides a vacuum container equipped with an exhaust system that can evacuate the interior to a predetermined pressure, and a needle-like anode with a sharp tip and a substance present on the surface of the needle-like anode. The analyte is irradiated with the ions, and the substance emitted from the analyte is analyzed by mass spectrometry. The above objective has been achieved by using an analyzer that does this.
この発明の構成ポイントの一つは、細いイオンビームを
取り出す技術にある。しかもそのイオンビームは、被分
析体の温度において気体であるようなイオンビームであ
る。かへるイオンビームを選ぶ理由は、イオンが電荷を
失った後は気体となって飛散し、基板に残留することが
ないからである。One of the key points of this invention is the technology for extracting a narrow ion beam. Furthermore, the ion beam is an ion beam that is a gas at the temperature of the analyte. The reason for choosing a heated ion beam is that after the ions lose their charge, they become a gas and scatter, and do not remain on the substrate.
次に、殆んど常温で気体であるような物質をイオン化す
る手段と、これをビーム化する手段とをそなえる装置と
しては、針状電極の表面からイオンを取り出す構成の装
置が有力である。Next, as a device equipped with a means for ionizing a substance that is a gas at almost room temperature and a means for turning it into a beam, a device configured to extract ions from the surface of a needle-shaped electrode is effective.
このような気体を送りこんでその気体に含まれる元素等
をイオンビームとして取り出す技術は極く最近の技術に
属し、その文献は下記のものが主となる程度であって極
めて少い1文献の一つは次のものである。The technology of sending such a gas and extracting the elements contained in the gas as an ion beam belongs to a very recent technology, and the literature on it is mainly the following, which is one of the very few documents. One is:
rH,and rare gas field ion
5ource with hi−gh angula
r currentJ [Gary R,Hanson
andB enjamin M 、S iegel
コ (J 、Vac、sci、Techn−°1°・
1°(6)・ゞ°“、/Dec、”979 °”9J8
0 American Vacuum 5oc
iety)この文献の装置では冷却用に液体ヘリウムを
使用し、送り込む気体としては水素を選んでいる。rH, and rare gas field ion
5source with hi-gh angula
r currentJ [Gary R, Hanson
and B enjamin M, Siegel.
Ko (J, Vac, sci, Techn-°1°・
1°(6)・ゞ°“, /Dec,”979°”9J8
0 American Vacuum 5oc
iety) The device in this document uses liquid helium for cooling, and hydrogen is selected as the gas to be fed.
文献の他の一つは1次のものである
「微細加工用ガスイオン源」
〔川内 敬、外4名〕(日本学術振興会第132委員会
第81回研究会資料(57,9,24)第21頁)
この文献の装置では、冷却用に液体窒素を使用し、送り
込む気体としては水素を選んでいる。The other document is of the first order, "Gas ion source for microfabrication" [Takashi Kawauchi, 4 others] (Japan Society for the Promotion of Science 132nd Committee 81st Study Group Materials (57, 9, 24) ) p. 21) In the device of this document, liquid nitrogen is used for cooling, and hydrogen is selected as the gas to be fed.
これら液体ヘリウム、液体窒素等を冷却に用いるもので
はそれら冷媒の固有の極めて狭い温度範囲でしか装置を
使用できない欠点があり、それは選定できるイオンの種
類を自ずから狭いものに限定シている。本来、送り込む
気体のそれぞれには利用の最適温度が存在し、温度条件
をその最適温度点に合せることが必要であるが、上記し
た諸装置ではこれを考慮することができない。These devices that use liquid helium, liquid nitrogen, etc. for cooling have the disadvantage that the device can only be used within an extremely narrow temperature range unique to these refrigerants, which naturally limits the types of ions that can be selected. Originally, each of the gases to be fed has an optimum temperature for use, and it is necessary to adjust the temperature conditions to the optimum temperature point, but the above-mentioned devices cannot take this into account.
(実施例)
次にこの発明を図面により実施例を用いて詳しく説明す
る。第1図およびその要部を拡大図示する第2図の実施
例において、10はイオン源で、11が針状陽極、12
がその先端、13が基底部、14が冷媒溜、15が例え
ば液体窒素などの冷媒、16はガス容器、17は絶縁体
、19は加速電源である。(Example) Next, the present invention will be described in detail with reference to the drawings and examples. In the embodiment shown in FIG. 1 and FIG. 2, which shows an enlarged view of the main parts thereof, 10 is an ion source, 11 is a needle-like anode, and 12 is an ion source.
13 is a base, 14 is a refrigerant reservoir, 15 is a refrigerant such as liquid nitrogen, 16 is a gas container, 17 is an insulator, and 19 is an acceleration power source.
冷媒溜14を接地電位に対して正の高電位にしたくない
場合は、基底部13をサファイヤなどの熱絶縁物で作り
、針状陽極11のみを正の高電位に保つとよい、その場
合、絶縁体17は通常の金属でよい、20は加熱手段で
21はヒーター、22はリード線、23は電源、24は
絶縁体、25は温度調節機である。If you do not want the refrigerant reservoir 14 to have a high positive potential with respect to the ground potential, the base 13 may be made of a thermal insulator such as sapphire, and only the needle anode 11 may be kept at a high positive potential. The insulator 17 may be an ordinary metal, 20 is a heating means, 21 is a heater, 22 is a lead wire, 23 is a power source, 24 is an insulator, and 25 is a temperature controller.
ヒーター21が針状陽極12の近傍の電界を乱すおそれ
のある場合は26の位置に設置するとよい、ヒーターの
電位は、正の高電位でも接地電位でもよく、必要性によ
って定める。30は所定のガスを送る手段で31は送ガ
ス管、32は熱的電気的絶縁体、33はガス吹付管、3
4は流量調節機、35はバルブ、36はボンベである。If the heater 21 is likely to disturb the electric field in the vicinity of the needle-like anode 12, it is recommended to install it at the position 26.The potential of the heater may be a positive high potential or a ground potential, and is determined according to necessity. 30 is means for sending a predetermined gas, 31 is a gas pipe, 32 is a thermal and electrical insulator, 33 is a gas blowing pipe, 3
4 is a flow rate regulator, 35 is a valve, and 36 is a cylinder.
前述の基底部13を絶縁物で作る場合は、通常絶縁体3
2は不要である。40はイオン引出系で、41が引出電
極、42は引出電源である。50はその他の諸系で必要
により例えば、イオンビーム18をしぼるためのレンズ
系、ビームを偏向させるための偏向系、不純物を選別し
たりするための、電場や磁場のいづれか又は両方を使っ
た各種の系などが用いられる。51はそのための各種電
極を総括して示しである。52はそのための電源である
。60は真空系で、61が真空容器である。真空ポンプ
を主体とする排気系などは図示してないが、必要の度合
によって各種のポンプを用いる。When the base portion 13 mentioned above is made of an insulator, the insulator 3 is usually
2 is unnecessary. 40 is an ion extraction system, 41 is an extraction electrode, and 42 is an extraction power source. Reference numeral 50 indicates other systems as necessary, such as a lens system for constricting the ion beam 18, a deflection system for deflecting the beam, and various types of systems using either an electric field or a magnetic field, or both, for sorting out impurities. The system is used. Reference numeral 51 collectively shows various electrodes for this purpose. 52 is a power supply for that purpose. 60 is a vacuum system, and 61 is a vacuum container. Although an exhaust system mainly consisting of a vacuum pump is not shown, various pumps are used depending on the degree of necessity.
70は陰極系で、71は、被分析体72を置く台を兼ね
た陰極、73はヒーターである。80は、ガスを送る手
段30から送り込まれた余剰ガスを排気する手段で、8
1が排気管、82は熱的電気的絶縁体、83は排出口で
、矢印84の方向に図に示されてないポンプで排気する
。90は質量分析計、91は四極子、92は四極子制御
電源、93は検出器である。100はエネルギフィルタ
系で、101が引込電極、102が偏向板、103がス
リット、104が偏向板制御電源、105は直流電源で
ある。70 is a cathode system, 71 is a cathode which also serves as a stand on which the object to be analyzed 72 is placed, and 73 is a heater. 80 is means for exhausting excess gas sent from the gas sending means 30;
1 is an exhaust pipe, 82 is a thermal and electrical insulator, and 83 is an exhaust port, which is evacuated in the direction of arrow 84 by a pump not shown in the figure. 90 is a mass spectrometer, 91 is a quadrupole, 92 is a quadrupole control power source, and 93 is a detector. 100 is an energy filter system, 101 is a lead-in electrode, 102 is a deflection plate, 103 is a slit, 104 is a deflection plate control power source, and 105 is a DC power source.
この装置の運転は、イオンビーム18を取り出すことか
ら始める。まず、真空容器61の内部を所定の圧力、例
えば10−’Pa以下の圧力に排気した後、冷媒溜14
に冷媒15として例えば液体窒素を注入する。その後、
ガス吹付管33から例えば所定のガスとしてキセノン(
沸点と融点は、164.8下と161.3玉、アルゴン
87.3”Kと84.0″になどを導入する。冷却され
、且つヒーター21によって所定の温度に設定された針
状陽極11の表面には、アルゴン導入の場合を例にとる
とアルゴンが凝結し丁度液体でぬらしたようになる。つ
いで、引出電源42と加速電源19を動作させると、針
状陽極11の先端からアルゴンのイオンを極く細いビー
ムとして取り出すことが出来る。このイオンビーム18
は諸系51により、使用目的に合わせてしぼったり、偏
向させたり、tp6bz4t′F′m(71elIl&
H°?=uLl[t6° J針状陽極のとるべき
温度は、針状陽極の材質と表面に出来る液体の組み合せ
とによって大きく変わるが、沸点と融点の間で粘度に大
きな差がなげれば一般に両者の中点から沸点寄りのとこ
ろがよい。しかし蒸気圧などを考えて融点寄りのところ
を使うこともある。温度によって粘度に大きい差を生ず
るときは、粘度のなるべく小さい温度点がよい。また針
状陽極の材質もガスとの組み合せによって決定され、そ
の形状も、表面を多孔質にする、階段状にするまたは表
面の全部あるいは一部に所定のガスにとくになじみやす
い材料を配するなどが、必要によって定められる。The operation of this device begins with the extraction of the ion beam 18. First, after evacuating the inside of the vacuum container 61 to a predetermined pressure, for example, a pressure of 10-'Pa or less, the refrigerant reservoir 14
For example, liquid nitrogen is injected as the refrigerant 15 into the refrigerant 15. after that,
For example, xenon (
The boiling point and melting point are 164.8 and 161.3, and argon is introduced at 87.3"K and 84.0", etc. In the case of introducing argon, for example, argon condenses on the surface of the needle-shaped anode 11, which has been cooled and set to a predetermined temperature by the heater 21, and becomes as if it were wetted with liquid. Then, by operating the extraction power source 42 and the acceleration power source 19, argon ions can be extracted from the tip of the needle-like anode 11 as an extremely thin beam. This ion beam 18
can be squeezed or deflected according to the purpose of use, or tp6bz4t'F'm (71elIl&
H°? =uLl [t6° J The temperature that the needle-like anode should take varies greatly depending on the material of the needle-like anode and the combination of the liquid formed on the surface, but in general, if there is no large difference in viscosity between the boiling point and melting point, It is best to choose between the midpoint and the boiling point. However, in consideration of vapor pressure, etc., a temperature closer to the melting point is sometimes used. When there is a large difference in viscosity depending on temperature, it is best to choose the temperature point where the viscosity is as small as possible. The material of the needle-shaped anode is also determined by the combination with the gas, and its shape may be made porous, stepped, or all or part of the surface is covered with a material that is particularly compatible with the specified gas. is determined by necessity.
イオンビーム18は、例えば直径1μm以下という極め
て細いビームに絞ることが出来る。最近の実験結果では
、0.04μm以下に絞ることも出来ることがわかった
。この細く絞られたビームは被分析体72の表面に当り
、イオンの入射にともなう各種の粒子の放出をうながす
。そして、例えば、発生した二次イオンは、引込電極1
01、偏向板102、スリット103を経て凹板質量分
析計90に導かれ質量分析される。また、例えば。The ion beam 18 can be focused into an extremely narrow beam with a diameter of 1 μm or less, for example. Recent experimental results have shown that it is possible to narrow down the thickness to 0.04 μm or less. This finely focused beam hits the surface of the object to be analyzed 72 and promotes the emission of various particles as the ions are incident. For example, the generated secondary ions are transferred to the drawing electrode 1
01, a deflection plate 102, a slit 103, and then guided to a concave plate mass spectrometer 90 for mass analysis. Also, for example.
被分析体72の表面からスパッタされた中性粒子は、イ
オン化機構110とその電極111でイオン化され同様
に引込電極101、偏向板102゜スリット103を経
て凹板質量分析計90に導かれて質量分析される(イオ
ン化機構110に用いられる方式には1例えばイオンゲ
ージ方式、ペニングゲージ方式、高用波方式、プラズマ
式などの通常用いられる諸方式がある。)
上記のようにして被分析体72の表面にある物質を分析
することができる。イオンビームを例えば0.04μm
及至1μmに絞ることにより、極めて小さい局所の分析
を行うことが出来る。しかも高感度の分析が可能である
。このときは、例えば同一出願人の特願58−2475
37の二次イオン質料分析装置に用いた四極子を用いる
と好結果かえられ、この装置を用いるときは絶縁物の分
析も行うことが出来る。イオンビーム18のイオン種と
して被分析体の温度において、気体である物質を選定し
た結果、被分析体の表面からその内部にイオン注入され
るものを除けば全ては気体として排気されるのでイオン
種が分析結果に混入することがない。殊に従来は、例え
ばイオン種にガリウムを用いた場合には、針状陽極12
から蒸発したガリウムが被分析体72の表面に付着し、
そのためガリウムがあたかも被分析体内に最初から存在
したかのような誤りを犯すことがあるが、本発明の装置
による分析ではこの不都合は全くない。Neutral particles sputtered from the surface of the analyte 72 are ionized by the ionization mechanism 110 and its electrode 111, and similarly led to the concave plate mass spectrometer 90 via the pull-in electrode 101, deflection plate 102 and slit 103, where the mass is (Methods used in the ionization mechanism 110 include various commonly used methods such as an ion gauge method, a Penning gauge method, a high wave method, and a plasma method.) As described above, the analyte 72 can analyze substances on the surface of For example, the ion beam is 0.04 μm.
By narrowing down the size to 1 μm, analysis of extremely small local areas can be performed. Furthermore, highly sensitive analysis is possible. In this case, for example, patent application No. 58-2475 of the same applicant
Good results can be obtained by using the quadrupole used in the secondary ion mass spectrometer of No. 37, and when this device is used, it is also possible to analyze insulators. As a result of selecting a substance that is a gas at the temperature of the analyte as the ion species for the ion beam 18, all ions except those ions implanted from the surface of the analyte into the interior are exhausted as a gas, so the ion species will not be mixed into the analysis results. Particularly in the past, when gallium was used as the ionic species, the needle anode 12
Gallium evaporated from the sample adheres to the surface of the analyte 72,
As a result, it may be erroneously assumed that gallium was present in the body to be analyzed from the beginning, but analysis using the apparatus of the present invention does not suffer from this problem at all.
尤も、イオン種がサンプルにイオン注入されてそれが分
析結果に出て来ることは、この分析法においても避ける
ことは出来ない。しかし、分析結果を解釈するとき、例
えば前述のガリウムの場合では、被分析体の内部にもと
から存在しても不思議ではないケースが屡々であるが、
アルゴンやキセノンのような通常気体である物質が被分
析体の内部にもとから存在することは極めて希であり判
定は容易である。こうして本発明の分析装置によれば局
所の分析を高い信頼度をもって行うことが出来る。However, even in this analysis method, it cannot be avoided that ion species are implanted into the sample and this appears in the analysis results. However, when interpreting the analysis results, for example in the case of gallium mentioned above, there are many cases where it is not surprising that it exists inside the analyte.
It is extremely rare that a normally gaseous substance such as argon or xenon exists inside the analyte, and it is easy to determine. In this way, according to the analysis device of the present invention, local analysis can be performed with high reliability.
また、一つの装置10内にガスを送る手段30を多数併
設することをすれば、イオンの種類を簡単に変更するこ
とができ極めて便利である。Further, by providing a large number of gas supply means 30 in one device 10, the type of ions can be easily changed, which is very convenient.
第3図には、イオン源10の別の実施例を示しである。FIG. 3 shows another embodiment of the ion source 10. In FIG.
この実施例は、最もシンプルで、冷媒による冷却を行な
わない場合の実施例で、針状陽極12の周りの雰囲気の
気体が、針状陽極の表面にうすい吸着層を作り、その表
面からイオンをとり出すことのできる場合の例である。This embodiment is the simplest and is an embodiment in which cooling with a refrigerant is not performed.The gas in the atmosphere around the needle-shaped anode 12 forms a thin adsorption layer on the surface of the needle-shaped anode, and removes ions from the surface. This is an example of a case where it can be extracted.
さらに第4図の実施例では、小さな穴をもった絞り62
(引出し電極41を兼用)によって針状陽極11の周り
の圧力を上げている。これによってイオンを一層効率的
に取り出すことが出来る。Furthermore, in the embodiment shown in FIG.
(which also serves as the extraction electrode 41) increases the pressure around the needle-shaped anode 11. This allows ions to be extracted more efficiently.
第5図には、イオン機構110の別の実施例を示しであ
る。112は円筒状電極111の内部に設けたリング状
の磁石で矢印113の方向磁場を設定する。円筒状電極
の内部では電源114がら印加される電場と磁場が直交
し、ペニング放電を形成する。その結果被分析体72の
表面から放出された中性物質がイオン化されて引込電極
1014:lJ*1llO°(’)J l’l ’=’
−210ii!! 8 h 1% 91 r 、
vに導かれ質量分析される。FIG. 5 shows another embodiment of the ion mechanism 110. A ring-shaped magnet 112 is provided inside the cylindrical electrode 111 and sets a magnetic field in the direction of an arrow 113. Inside the cylindrical electrode, the electric field and magnetic field applied from the power source 114 are perpendicular to each other, forming a Penning discharge. As a result, the neutral substance released from the surface of the analyte 72 is ionized and the drawing electrode 1014: lJ*1llO° (') J l'l '='
-210ii! ! 8 h 1% 91 r,
v and undergo mass spectrometry.
第6図には、別のイオン化機構110の実施例を示しで
ある。111はコイル状のグリッドで115が熱陰極、
116が熱陰極電源、117がグリッド電源である。こ
こでは熱陰極115から放出された電子が、イオンゲー
ジの内部におけると同様の方法で被分析体72の表面か
ら放出された中性物質をイオン化し、そのイオンが第5
図の場合と同様に質量分析されるものである。FIG. 6 shows another embodiment of the ionization mechanism 110. 111 is a coiled grid, 115 is a hot cathode,
116 is a hot cathode power source, and 117 is a grid power source. Here, electrons emitted from the hot cathode 115 ionize neutral substances emitted from the surface of the analyte 72 in the same manner as in the interior of the ion gauge, and the ions are
It is subjected to mass spectrometry in the same way as in the case shown in the figure.
以上本発明の詳細な説明したが、これらは何ら限定的な
意味をもつものではなく、多数の変形、が可能であるこ
とは云う迄もない。以下、その若干の例について述べる
。Although the present invention has been described in detail above, these are not meant to be limiting in any way, and it goes without saying that many modifications are possible. Some examples will be described below.
イオン種としては、被分析体温度において気体であるも
のなら何でもよいが、多くの場合、不活性で被分析体と
反応しないものを選定することが望ましい。Any ion species may be used as long as it is a gas at the temperature of the analyte, but in most cases it is desirable to select an inert species that does not react with the analyte.
本発明の方法に、前述の文献や、特許58−16562
8など、従来使用されている数々の技術や今後に開発さ
れる技術を加味して用いることが出来るのは云う迄もな
い、また、イオンビームを偏向して被分析体表面をスイ
ープしたり、被分析体を動かして必要な分析点をきめた
り等々の、現在分析の分野で用いられている多数の手法
はすべて本発明の装置に適用できる。また、イオン化機
構110.エネルギフィルタ系100、偏向電極などは
その都度最適条件が得られるよう設計されるものである
。質量分析系90も実施例は四極子のものを例に用いた
が、セクター型、飛行時間型など何でもよい。The method of the present invention is based on the above-mentioned documents and patent No. 58-16562.
It goes without saying that it is possible to use a number of conventionally used techniques such as 8, as well as techniques to be developed in the future. Many techniques currently used in the field of analysis, such as moving the object to be analyzed to determine the required analysis points, can all be applied to the apparatus of the present invention. Also, the ionization mechanism 110. The energy filter system 100, deflection electrodes, etc. are designed to obtain optimal conditions each time. Although a quadrupole mass spectrometry system 90 is used in the embodiment, it may be of any type, such as a sector type or a time-of-flight type.
第1図はこの発明の実施例を示す図。第2図はそのイオ
ン源部の拡大断面図。第3図、第4図はそれぞれイオン
源の針状陽極部の別の実施例を示す図。第5図、第6図
はそれぞれイオン化機構の実施例を示す図である。61
は真空容器。11は針状陽極で12がその先端、電源4
2と19が針状陽極の表面に存在する物質をイオンとし
て取り出す手段を形成する引出電源と加速電源。72は
被分析体。18はイオンビーム、90は質量分析計であ
る。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the invention. FIG. 2 is an enlarged sectional view of the ion source section. FIG. 3 and FIG. 4 are diagrams each showing another embodiment of the needle-like anode portion of the ion source. FIG. 5 and FIG. 6 are diagrams each showing an example of the ionization mechanism. 61
is a vacuum container. 11 is a needle anode, 12 is its tip, power source 4
2 and 19 are an extraction power source and an accelerating power source forming a means for extracting substances present on the surface of the needle-shaped anode as ions. 72 is the object to be analyzed. 18 is an ion beam, and 90 is a mass spectrometer.
Claims (1)
排気系と、該真空容器の内部にあって先端が鋭くとがっ
た針状陽極と、該針状陽極の表面に存在する物質であっ
て、該物質が被分析体の温度において気体であるものを
イオンとしてとり出す手段とをそなえ、該イオンを該被
分析体に照射し該被分析体より放出される物質を質量分
析することを特徴とする分析装置。A vacuum container that evacuates the inside to a predetermined pressure, its exhaust system, a needle-like anode with a sharp tip located inside the vacuum container, and a substance existing on the surface of the needle-like anode. , comprising a means for extracting the substance which is a gas at the temperature of the analyte as ions, irradiating the ion to the analyte and subjecting the substance emitted from the analyte to mass spectrometry analysis. Analyzer for
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60012300A JPS61171048A (en) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | Analyzing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60012300A JPS61171048A (en) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | Analyzing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61171048A true JPS61171048A (en) | 1986-08-01 |
Family
ID=11801471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60012300A Pending JPS61171048A (en) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | Analyzing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61171048A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63231986A (en) * | 1987-03-20 | 1988-09-28 | Dainippon Printing Co Ltd | Sheet to be subjected to thermal transfer |
JP2009517844A (en) * | 2005-12-02 | 2009-04-30 | アリス コーポレーション | Ion source, system and method |
-
1985
- 1985-01-25 JP JP60012300A patent/JPS61171048A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63231986A (en) * | 1987-03-20 | 1988-09-28 | Dainippon Printing Co Ltd | Sheet to be subjected to thermal transfer |
JP2009517844A (en) * | 2005-12-02 | 2009-04-30 | アリス コーポレーション | Ion source, system and method |
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