JPS61142498A - Radiation image conversion panel and manufacture thereof - Google Patents

Radiation image conversion panel and manufacture thereof

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Publication number
JPS61142498A
JPS61142498A JP26691484A JP26691484A JPS61142498A JP S61142498 A JPS61142498 A JP S61142498A JP 26691484 A JP26691484 A JP 26691484A JP 26691484 A JP26691484 A JP 26691484A JP S61142498 A JPS61142498 A JP S61142498A
Authority
JP
Japan
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stimulable phosphor
image conversion
support
radiation image
conversion panel
Prior art date
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Pending
Application number
JP26691484A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
久憲 土野
加野 亜紀子
幸二 網谷
文生 島田
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
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Landscapes

  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Radiography Using Non-Light Waves (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention] 【産業上の利用分野】[Industrial application field]

本発明は輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルに
関するものであり、さ呟に詳しくは鮮鋭性の高い放射線
画像を与える放射線画像変換パネル及びその製造方法に
関するものである。
The present invention relates to a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor, and more particularly to a radiation image conversion panel that provides a highly sharp radiation image and a method for manufacturing the same.

【従来技術】[Prior art]

X#i画像のような放射線画像は病気診断用などに多く
用いられている。このX線画像を得るために、被写体を
透過したX線を蛍光体層(蛍光スクリーン)に照射し、
これにより可視光を生じさせてこの可視光を通常の写真
をとるときと同じように銀塩を使用したフィルムに照射
して現像した、いわゆる放射線写真が利用されている。 しかし、近年銀塩を塗布したフィルムを使用しな−で蛍
光体層から直接画像を取り出す方法が工夫されるように
なった。 この方法としては被写体を透過した放射線を蛍光体に吸
収せしめ、しかる後この蛍光体を例えば光又は熱エネル
ギーで励起することによりこの蛍光体が上記吸収により
蓄積している放射線エネルギーを蛍光として放射せしめ
、この蛍光を検出して画像化する方法がある。具体的に
は、例えば米国特許3,859,527号及び特開昭5
5−1214’4号には輝尽性蛍光体を用い可視光線又
は赤外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方法が示さ
れてνする。この方法は支持体上に輝尽性蛍光体層を形
成した放射線画像変換パネルを使用するもので、この放
射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層に被写体を透過し
た放射線を当てて被写体各部の放射線透過度に対応する
放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形成し、しかる後
にこの輝尽性蛍光体層を輝尽励起光で走査することによ
って各部の蓄積された放射線エネルギーを放射させてこ
れを光に変換し、この光の強弱による光信号により画像
を得るものである。この最終的な画像はノ)−トコピー
として再生してしも良いし、CRT上に再生しても良−
1゜さて、この放射線画像変換方法に用〜1られる輝尽
性蛍光体層を有する放射線画像変換/<ネルは、前述の
蛍光スクリーンを用いる放射線写真法の場合と同様に放
射線吸収率及び光変換率(両者を含めて以下「放射線感
度」という)が高111ことは言うに及ばず画像の粒状
性が良仁しかも高鮮鋭性であることが要求される。 ところが、一般に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変
換パネルは粒径1〜30μ−程度の粒子状の輝尽性蛍光
体と有機結着剤とを含む分散液を支持体あるいは保護層
上に塗布・乾燥して形成されるので、111[N−性蛍
光体の充填密度が低く(充填率50%)、放射線感度を
充分高くするには第6図(a)に示すように輝尽性蛍光
体層の層厚を厚(する必要があった。 同図から明らかなように輝尽性蛍光体層の層厚200μ
鵠のときに輝尽性蛍光体の耐着量は50−g7cm”で
あり、層厚が350μ儲までは放射線感度は直線的に増
大して450μ−以上で飽和する。尚、放射線感度が飽
和するのは、輝尽性蛍光体層が厚くなり過ぎると、輝尽
性蛍光体粒子間での輝尽発光の散乱のため輝尽性蛍光体
層内部での輝尽発光が外部に出てこなくなるためである
。 一方、これに対し前記放射線画像変換方法における画像
の鮮鋭性は第6図(b)に示すように、放射線画像変換
パネルの輝尽発光体層の層厚が薄いほど高い傾向にあり
、鮮鋭性の向上のためには、輝尽性蛍光体層の薄層化が
必要であった。 また、前記放射線画像変換方法における画像の粒状性は
、放射重量子数の場所的ゆらぎ(量子モトル)あるいは
放射線画像変換ノ(ネルの輝尽性蛍光体層の構造的乱れ
(構造モトル)等番こよって決定されるので、輝尽性蛍
光体層の層厚が薄くなると、輝尽性蛍光体層に吸収され
る放射線量子数力C減少して量子モトルが増加したり構
造的乱れ力ず顕在(t。 して構造モトルが増加したりして画質の低下を生ずる。 よって画像の粒状性を向上させるため番こ1よ輝尽性蛍
光体層の層厚は厚−1必要があった。 即ち、前述のよ)に、従来の放射1画像変換l<ネルは
放射線に対する感度及び画像の粒状性と画像の鮮鋭性と
が輝尽性蛍光体層の層厚番二対してよった(逆の傾向を
示すので、前記放射線画像変換)くネルは放射線に対す
る感度と粒状性と鮮鋭性のある程度の犠牲によって作成
されてきた。 ところで従来の放射線写真法における画像の鮮鋭性が蛍
光スクリーン中の蛍光体の瞬間発光(放射線照射時の発
光)の広がりによって決定されるのは周知の通りである
が、これに対し、前述の輝尽性蛍光体を利用した放射線
画像変換方法:こお(する画像の鮮鋭性は放射線画像変
換)(ネル中の輝尽性蛍光体の輝尽発光の広がりによっ
て決定されるのではな(、すなわち放射線写真法におけ
るように蛍光体の発光の広がりによって決定されるので
はなく、輝尽励起光の該パネル内での広がりに依存して
決まる。なぜならばこの放射線画像変換方法においては
、放射線画像変換パネルに蓄積された放射線画像情報は
時系列化されて取り出されるので、ある時間(ti)に
照射された輝尽励起光にょる輝尽発光は望ましくは全て
採光されその時間に輝尽励起光が照射されていた該パネ
ル上のある画素(X!tyi)からの出力として記録さ
れるが、もし輝尽励起光が該パネル内で散乱等により広
がり、照射画素(xityi)の外側に存在する輝尽性
蛍光体をも励起してしまうと、上記(xityi)なる
画素からの出力としてその画素よりも広い領域からの出
力が記録されてしまうからである。従って、ある時間(
ti)に照射された輝!−励起尤にょる輝尽発光が、そ
の時間(ti)に輝尽励起光が真に照射されていた該パ
ネル上の画素(xLy+)からの発光のみであれば、そ
の発光がいかなる広がりを持つものであろうと得られる
画像の鮮鋭性には影響がない。 このような情況の中で、放射線画像の鮮鋭性を改善する
方法がいくつか考案されて来た。例えば特開昭55−1
46447号記載の放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光
体層中に白色粉体を混入する方法、特開昭55−163
500号記載の放射a画像変換パネルを輝尽性蛍光体の
輝尽励起波長領域における平均反射率が前記輝尽性蛍光
体の輝尽発光波長領域における平均反射率よりも小さく
なるように着色する方法等′である。しかし、これらの
方法は鮮鋭性を改良すると必然的に感度が着しく低下し
ていまい、好ましい方法とは言えない。 一方これに対し本出願人は既に特願昭59−  ・19
6365号において前述のような輝尽性蛍光7体を用い
た放射#I画像変換パネルにおける従来の欠点を改良し
た新規な放射線画像変換パネルとして、輝尽性蛍光体層
が結着剤を含有しない放射線画像変換パネルを提案して
いる。これによれば、放射線画像変換パネルの輝尽性蛍
光体層が結着剤を含有しないので輝尽性蛍光体の充填率
が着しく向上すると共に輝尽性蛍光体層の透明性が向上
するので、前記放射線画像変換パネルの放射線に対する
感度と画像の粒状性が改善されると同時に、画像の鮮鋭
性も改善される。 しかしながら前記放射線画像変換方法に於いて、感度、
粒状性を損うことなく且つ鮮鋭性の優れた画質の要求は
更に厳しくなって米ている。 に発明の目的】 本発明は輝尽性蛍光体を用いた前記提案の放射mma変
換パネルに関連し、これをさらに改良するものであり、
本発明の目的は放射線に対する感度が向上すると共に鮮
鋭性の商い画像を与える放射線画像変換パネルを提供す
ることにある。 本発明の他の目的は粒状性が向上すると共に、鮮鋭性の
高い画像を与える放射線画像変換パネルを提供すること
にある。 また前記目的に並んでの本発明の目的は、前記目的を満
足する放射線画像変換パネルの製造方法を提供すること
にある。
Radiographic images such as X#i images are often used for disease diagnosis. In order to obtain this X-ray image, X-rays that have passed through the subject are irradiated onto a phosphor layer (fluorescent screen).
This generates visible light, which is then irradiated onto a film using silver salt to develop it, in the same way as when taking ordinary photographs, in what is called radiography. However, in recent years, methods have been devised to directly extract images from the phosphor layer without using a film coated with silver salt. In this method, the radiation transmitted through the object is absorbed by a phosphor, and then this phosphor is excited with light or thermal energy, so that the phosphor emits the radiation energy accumulated through the absorption as fluorescence. There is a method of detecting this fluorescence and creating an image. Specifically, for example, U.S. Pat.
No. 5-1214'4 discloses a radiation image conversion method using a stimulable phosphor and using visible light or infrared rays as stimulable excitation light. This method uses a radiation image conversion panel in which a stimulable phosphor layer is formed on a support, and radiation that has passed through the object is applied to the stimulable phosphor layer of this radiation image conversion panel to visualize various parts of the object. A latent image is formed by accumulating radiation energy corresponding to the radiation transmittance, and then this stimulable phosphor layer is scanned with stimulable excitation light to radiate the accumulated radiation energy in each part. An image is obtained by converting the light into light and using an optical signal based on the intensity of this light. This final image can be reproduced as a notebook copy or on a CRT.
1. Now, the radiation image conversion/layer having a stimulable phosphor layer used in this radiation image conversion method has radiation absorption rate and light conversion similar to the case of radiography using a fluorescent screen described above. It goes without saying that the radiation sensitivity (hereinafter referred to as "radiation sensitivity") is high, 111, and that the image has good graininess and high sharpness. However, in general, a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer is prepared by dispersing a dispersion containing a particulate stimulable phosphor with a particle size of about 1 to 30μ and an organic binder on a support or a protective layer. Since it is formed by coating and drying, the packing density of the 111[N-type phosphor is low (filling rate 50%). It was necessary to increase the thickness of the phosphor layer. As is clear from the figure, the thickness of the stimulable phosphor layer was 200 μm.
At the same time, the adhesion resistance of the stimulable phosphor is 50g7cm'', and the radiation sensitivity increases linearly until the layer thickness reaches 350μ, and is saturated at 450μ or more. This is because if the stimulable phosphor layer becomes too thick, the stimulable phosphor layer will not be able to emit the stimulable luminescence to the outside due to scattering of the stimulable phosphor particles between the stimulable phosphor particles. On the other hand, as shown in FIG. 6(b), the image sharpness in the radiation image conversion method tends to be higher as the thickness of the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel becomes thinner. In order to improve sharpness, it was necessary to make the stimulable phosphor layer thinner. In addition, the graininess of the image in the radiation image conversion method is caused by local fluctuations in the number of radiant weight molecules ( It is determined by the structural disorder (structural mottle) of the photostimulable phosphor layer (quantum mottle) or radiation image conversion (fine layer), so as the layer thickness of the stimulable phosphor layer becomes thinner, the The number of radiation quantum forces C absorbed by the phosphor layer decreases, resulting in an increase in quantum mottles, and structural disturbances (t) increase, resulting in an increase in structural mottles, resulting in a decrease in image quality. In order to improve the performance, the layer thickness of the stimulable phosphor layer had to be -1.In other words, as mentioned above, the conventional radiation 1 image conversion l<N is the sensitivity to radiation and the image The graininess and image sharpness of the stimulable phosphor layer depend on the layer thickness of the stimulable phosphor layer. By the way, it is well known that the sharpness of images in conventional radiography is determined by the spread of instantaneous light emission (light emission during radiation irradiation) of the phosphor in the fluorescent screen. However, on the other hand, the radiation image conversion method using the stimulable phosphor mentioned above: (i.e., it is not determined by the spread of the phosphor emission as in radiography, but depends on the spread of the stimulated excitation light within the panel. In the radiation image conversion method, since the radiation image information stored in the radiation image conversion panel is retrieved in a time-series manner, all of the stimulated luminescence due to the stimulated excitation light irradiated at a certain time (ti) is desirably removed. It is recorded as the output from a certain pixel (X!tyi) on the panel that was illuminated with light and stimulated excitation light at that time, but if the stimulated excitation light spreads within the panel due to scattering etc. This is because if the stimulable phosphor existing outside the pixel (xityi) is also excited, the output from the pixel (xityi) will be recorded from a region wider than that pixel. Therefore, for a certain time (
The shine radiated on ti)! - If the stimulated luminescence caused by excitation is only the luminescence from the pixel (xLy+) on the panel that was truly irradiated with the stimulated excitation light at that time (ti), what kind of spread does the luminescence have? There is no effect on the sharpness of the image obtained. Under these circumstances, several methods have been devised to improve the sharpness of radiographic images. For example, JP-A-55-1
Method of incorporating white powder into the stimulable phosphor layer of a radiation image conversion panel described in No. 46447, JP-A-55-163
The radiation a image conversion panel described in No. 500 is colored so that the average reflectance of the stimulable phosphor in the stimulated excitation wavelength region is smaller than the average reflectance of the stimulable phosphor in the stimulated emission wavelength region. Method etc'. However, in these methods, improving the sharpness inevitably leads to a drastic decrease in sensitivity, and therefore cannot be said to be a preferable method. On the other hand, the present applicant has already filed a patent application for
As a novel radiation image conversion panel that improves the conventional drawbacks of the radiation #I image conversion panel using 7 photostimulable phosphors as described above in No. 6365, the stimulable phosphor layer does not contain a binder. We are proposing a radiation image conversion panel. According to this, since the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel does not contain a binder, the filling rate of the stimulable phosphor is significantly improved, and the transparency of the stimulable phosphor layer is improved. Therefore, the sensitivity of the radiation image conversion panel to radiation and the graininess of the image are improved, and at the same time, the sharpness of the image is also improved. However, in the radiation image conversion method, the sensitivity,
The demand for image quality with excellent sharpness without impairing graininess is becoming ever more stringent. OBJECTS OF THE INVENTION The present invention relates to the above-mentioned proposed radiation mma conversion panel using a stimulable phosphor, and further improves the same.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel that has improved sensitivity to radiation and provides images with improved sharpness. Another object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel that has improved graininess and provides images with high sharpness. Another object of the present invention in addition to the above object is to provide a method for manufacturing a radiation image conversion panel that satisfies the above object.

【発明の構成】[Structure of the invention]

前記本発明の目的は、支持体上に輝尽性蛍光体層を有す
る放射線画像変換パネルにおいて、多数の微小タイル状
板が微細な間隙により互いに隔絶されて敷きつめられた
ごとき表面構造を有する支持体と、その支持体上に前記
表面構造をそのまま引き継いだ微細柱状ブロック構造か
ら成る輝尽性蛍光体層とを有することを特徴とする放射
緑画像変換パネル・及び該放射線画像変換パネルの製造
方法によって達成される。 即ち本発明の放射線画像変換パネルにおいて、支持体の
゛表面はO・、01〜20μ−幅の亀裂、溝或は窪み等
の形態の間隙により互いに隔絶された約1〜400μI
の大きさの微小タイル状板が敷きつめられた構造を有し
、輝尽性蛍光体層は前記微小タイル状板上に生成され、
前記間隙を厚さ方向にそのまま深く残して互いに隔絶さ
れた微細柱状ブロックより成る。このような光学的に互
いに独立した補遺により、輝尽性蛍光体層に入射した輝
尽励起光は微細柱状ブ1177り内を全反射しながら横
方向にほとんど散逸することなく、支持体に対して垂直
な方向にのみ進む。特に支持体表面の間隙が輝尽性蛍光
体層にそのまま残されているため、輝尽性蛍光体層を形
成している微細柱状ブロックは光学的に互いに完全に独
立しており、輝尽励起光の横方向への散逸は非常に少な
い。 従って輝尽励起の機会を増大しなから輝尽発光による画
像の鮮鋭性は着しく増大される。 微細柱状ブロック構造の輝尽性蛍光体層の形成には感度
及び柱状ブロック形成の技術的面から見て真空蒸着、ス
パッタリング等の気相堆積法が好ましい。 また前記した微細な間隙に取り囲まれた多数の微小タイ
ル状板を敷き詰めた敷き表面構造を有する支持体として
は陽極酸化したアルミニウム板に封孔処理及び続いて熱
処理を施した支持体が好ましく、且つ該支持体を用いた
製造方法が有用である。 次に本発明を実施態様を用いて具体的に説明する。 第1図(a)は本発明の実施態様の一例を示す放射線画
像変換パネル(以後意味明晰な場合には単にパネルと略
称することがある)の厚み方向に切った断面図である。 同図(b)は前記微細柱状ブロック構造を有する輝尽性
蛍光体層をまだ設けていない時の、前記微小タイル状板
が微細な間隙により互いに隔絶されて敷きつめられたご
とき表面構造を有する支持体の厚み方向の断面図である
。 前記微小タイル状板の支持体上に於る分布パターンは任
意であってよい。第2図に該微小タイル状板の分布パタ
ーンの例として(a)、(b)及び(c)として示した
。 尚第1図及び第2図に於いて同記号は機能的に互いに同
義である。 第1図に於いて10は本発明のパネル、1lijは支持
体表面上の一つ一つ微小タイル状板、(Ilij)は該
微小タイル状板を取り囲む亀裂、溝或は窪み等の形態の
間隙である。11は前記11ijと(llij)で作る
支持体表面上に島状に離散した微小タイル状板の分布パ
ターン層である。12は支持体である。13ijは前記
微小タイル状板上に気相堆積法によって堆積した輝尽性
蛍光体の微細柱状ブロックの一つ一つであり、(13i
j)は1lij上に選択的に堆積した13ij間に深く
残された間隙である。 14は必要によって設けてもよい接着層であり、15は
設けることが好ましい保護層である。 前記13ij及び(13i、j)によって本発明に関わ
る微細柱状ブロック構造から成る輝尽性蛍光体層13が
形成される。 尚本発明に謂う間隙(13ij)は輝尽性蛍光体層表面
に於いて実質的な間隙を与えない単なる亀裂を形成する
に留める場合を含み従って微細柱状ブロック構造には微
細多角錐状ブロック構造を含んでいる。 微小タイル状板11ij及び微細な間隙(llij)の
作るパターンの例として第3図に陽極酸化処理、封孔処
理及び加熱処理したアルミニウム板支持体の斜面を示し
た。 微小タイル成板11ij上には前記接着層14と同様に
輝尽発光及び/又は輝尽励起光の反射層或は吸収層等必
要によって設けた多重構造でもよい。 本発明のパネルの輝尽性蛍光体層13の厚みはパネルの
放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって異
なるが10〜1000μ鰺の範囲であることが好ましく
、更に20〜800μmであることが好ましい。 本発明の放射線画像変換パネルにおいて輝尽性蛍光体と
は、最初の光もしくは^エネルギー放射線が照射された
後に、先約、熱的、機械的、化学的または、電気的等の
刺?1k(輝尽励起)により、最初の光もしくは高エネ
ルギーの放射線の照!#量に対応した輝尽発光を示す蛍
光体を言うが、実用的な面から好ましくは500+e*
以上の輝尽励起光によって輝尽発光を示す蛍光体である
0本発明の放射線画像変換パネルに用いられる輝尽性蛍
光体としては、例えば特開昭48−80487号に記載
されているBaSO4:AX(但しAはDy+Tb及び
T鎗のうち少な(とも1種であり、Xは0.0旧≦×〈
1モル%である。)で表される蛍光体、特開昭48−8
0488号記載のMgS O4:A X(但しAはHo
或いはDyのうちいずれがであり、0.001≦X≦1
モル%である)で表される蛍光体、特開昭48−804
89号に記Ili!されている5rSQ4:Ax(但し
AはD y t T b及びTn+のうち少なくとも1
種でありXは0.001≦x<1モル%ある。)で表わ
されている蛍光体、特開昭51−29889号に記載さ
れているNazSO,、Ca5O,及びBa5O<等に
Mn+Dy及びTbのうち少なくとも1種を添加した蛍
光体、特開昭52−30487号に記載されているBe
O+ L i F M g S O4及びCaF2等の
蛍光体、特開昭53−39277号に記載されているL
 izB 40 t:cu*Ag等の蛍光体、特開昭5
4−47883号に記載されているL izo ・(B
 202)X:CLl(但しXは2<x≦3)、及びL
 i20 ・(B 202)X:Cul A g(但し
Xは2く×≦3)等の蛍光体、米国特許3,859,5
27号に記載されているSrS:Ce、Ss、SrS:
Eu、Sn+、 Ll1202S:Eu、STI及び(
Zn、Cd)S :Mn、X (但しXはハロゲン)で
表わされる蛍光体が挙げられる。また、特開昭55−1
2142号に記載されているZnS:Cu、Pb蛍光体
、一般式がB ao ・XA 1203: E u(但
し0.8≦X≦10)で表わされるアルミン酸バリツム
蛍光体、及シー殻式がM”O・χS io 2:A (
但しMlはMgpCa、Sr、Zn、Cd又はBaであ
りAはCe−Tb−Eu−T+n−Pb、TI、Bi及
びMnのうち少なくとも1種であり、×は0.5≦X≦
2.5である。)で表わされるアルカリ土類金属珪酸塩
基蛍光体が挙げられる。′まな、一般式が (Ba     Mg  Ca  )FX: eEu”
1−xy   x   y (但しXはBr及びCIの中の少なくとも1つであり、
×、y及びeはそれぞれO<x+y≦0.6、xy;l
’ 0及び10−6≦e≦5X10−2なる条件を満た
す数である。)で表される一般式が L no X :xA (但しLnはLatY、Gd及びLuの少なくとも1つ
を、XはC1及び/又はBrを、AはCe及び/又はT
bを、×はO<x<’0.1を満足する数を表す、)で
表される蛍光体、特開昭55−12145号に記載され
ている一般式が (但しMlは、M g v Ca w S r * Z
 n及びCdのうちの少なくとも1つを、XはCI、B
r及びIのうち少なくとも1つを、AはEu、Tb、C
e、Tm、DytPrtHovNd、Yb及びE「のう
ちの少なくとも1つを、X及びyは0≦X≦0.6及び
0≦y≦0.2なる条件を満たす数を表す。)で表され
る蛍光体、特開昭55−84389号に記載されている
一般式がB a F X :xCezYA (但し、X
はCI、Br及びIのうちの少なくとも1つ、AはIn
、TI’、Gd、S■及びZrのうちの少なくとも1つ
であり、×及びyはそれぞれ0く×≦2X10−’及び
o<y≦5X1G−2である。)で表される蛍光体;特
開昭55−160078号に記載されている一般式がM
” FX−xA:yLn (但しMlはMgtCatBa+5rtZn及VCdの
うちの少なくとも1種、AはB e O? M g 0
1 Ca O+ SrO、B aO、Z nO、A I
203−Y 203.L 11201.I nzOit
s io ztT +02vZ ro 2yG eo 
2=s no 2.N bz05、Ta2o5及びTI
+02のうちの少なくとも1種、LnはEutTbvC
etTmtDy、Pr、l−1o、Nd、Yb、Ert
SIIl及(/Gdのうちの少なくとも1種であり、X
はC1,Br及び■のうちの少なくとも1種であり、X
及びyはそれぞれs x 1o−5≦×≦0.5及びo
’ < y≦0.2なる条件を満たす数である。)で表
される希土類元素付活2価金属フルオロハライド蛍光体
、一般式がZnS:A%CdS:A、(Zn、Ccl)
S:A、ZnS:A、X及びCdS :A 、X (但
しAはCut A gvAu、又はMnであり、Xはハ
ロゲンである。)で表される蛍光体、特開昭57−14
8285号に記載されている一般式(1)又は(II)
、 一般式(I )   xM3(PO4)2” NX2:
YA一般式(II )    Mz(PO−)2・yA
(式中、M及びNはそれぞれM g+ Cat S r
t B alZn及びCdのうち少なくとも1種、Xは
F 、CI。 Br、及び■のうち少なくとも1種、AはE ut T
 b。 CetTm、DytP rtHotN dtE rts
 bvT l*Mn及びSnのうち少なくと61種を表
す6 また、X及びyは0<x≦6.0≦y≦1なる条
件を満たす数である。)で表される蛍光体、一般式(I
II)又は〔■〕一般式(m )   hReXs・m
AX’ 2:xEu一般式(W )   nReX=・
mAX’ 2:XEuwySl*(式中、ReはLav
GdyY、Luのうち少なくとも1種、Aはアルカリ土
類金属、Ba*Sr、Caのうち少なくとも1種、X及
びX′はF=CI、Brのうち少なくとも1種を表わす
。また、X及びyは、1xto−’<x< 3 XIG
−’、I X10−  ’<y< I Xl0−’なる
条件を満たす数であり、n7mはI X 10−’ <
 n7m<7 X 10−’なる条件を満たす。)で表
される蛍光体、及び 一般式 %式%: (但し、MXはLi、Na、に、Rh、及びCsから選
ばれる少、なくとも一種のアルカリ金属であり、Mx、
はB ev−Mg* Cat S rt B at Z
 n* Cdv Cu及(7Niから選ばれる少なくと
も一種の二価金属である。MlはSc、Y、、La、C
e、Pr、Nd、P@、Ss、Eu、Gd、Tb。 DytHotErtTmtYbtLusAI*Gat及
(/ I nから選ばれる少なくとも一種の三価金属で
ある。X。 X′及びX#はFtCltBr及び■がら選ばれる少な
くとも一種のハロゲンである。AはE uv T b。 Ce、TmtDytPrtHotNdtYbtErtG
d、Lu、SmtY * T l t N a t A
 g v Cu及びMgから選ばれる少なくとも一種の
金属である。 またaは0≦a<0.5の範囲の数値であり、bは0≦
b<0.5の範囲の数値であり、Cは0<c≦0.2の
範囲の数値である。)で表されるアルカリハライド蛍光
体等が挙げられる。特にアルカリハライド蛍光体は真空
蒸着、スパッタ等の方法で輝尽性蛍光体層を形成させや
すく好ましい。 しかし、本発明の放射線画像変換パネルに用いられる輝
尽性蛍光体は、前述の蛍光体に限られるものではなく、
放射線を照射した後輝N−励起光を照射した場合に輝尽
蛍光を示す蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよ
い。 本発明の放射線画像変換パネルは前記の輝尽性蛍光体の
少なくとも一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽性
蛍光体層から成る輝尽性蛍光体層群であってもよい。ま
た、それぞれの輝尽性蛍光体層に含まれる輝尽性蛍光体
は同一であってもよいが異なっていでもよい。 本発明の放射線画像変換パネルにおいて、用いられる支
持体としては多数の微小タイル状板が微細な間隙により
互いに隔絶されて敷きつめられたごとき表面構造を有し
ていればいかなるものでもよいが、各種高分子材料、プ
ラス金属等が用い−られる。特に情報記録材料としての
取り扱い上可撓性のあるシートあるいはウェブに加工で
きるものが好適であり、この点から例えばセルロースア
セテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリ
イミドフィルム、)リアセテートフイルム。 ポリカーボネイトフィルム等のプラスチックフィルム、
アルミニウム、鉄1 M 1クロム等の金属シート或は
該金属酸化物の被覆層を有する金属シートが好ましい。 また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によ
って異なるが、一般的には80μff1〜1000μ−
であり、取り扱い上の点からさらに好ましくは80μ論
〜500μ倦である。 本発明の放射線画像変換パネルにおいては、一般的に前
記輝尽性蛍光体層が露呈する面に、輝尽性蛍光体層群を
物理的にあろいは化学的に保護するための保護層を設け
ることが好ましい。この保護層は、保護層用塗布液を輝
尽性蛍光体層上に直接塗布して形成してもよいし、ある
いはあらかじめ別途形成した保護層を輝尽性蛍光体層上
に接着してもよい、保護層の材料としては酢酸セルロー
ス。 ニトロセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネ
ート、ポリエステル、ポリエチレンテレ7タレー)、ポ
リエチレン、塩化ビニリデン、ナイロン等の通常の保護
層用材料が用いられる。 また、この保護層は真空蒸着法、スパッタ法等により、
SiC,Sio□−8iN tA lzo sなどの無
機物質を積層して形成しでもよい。 これら保護層の層厚は一般には0.1μ−〜100μ−
程度が好ましい。 次に本発明のパネルの製造方法について説明する。 本発明は第1図に於いて同図(b)→(、)の順に製造
工程が進められる。 工程(b):微小タイル状板11ij及び間隙(lli
j)の分布パターン プラスチックフィルム、金属シート或は金属酸化物被覆
層を有する金属シート等の支持体表面に分布させる微小
タイル状板の表面は先の工程でその上に堆積させる輝尽
性蛍光体との接着親和性がよいことが好ましく、また電
気的絶像性のある誘電体もしくは半導体であることが好
ましいことがある。従って前記条件を備えしかも支持体
表面に前記分布パターンを構成しうる写真蝕刻法で常用
される各種レジスト樹脂を塗設することが一つの方法と
して選ばれる。 この際支持体に金属酸化物被覆層を有する金属シートを
用いれば前記レジスト樹脂との接着親和性もよ(好都合
である。 尚該金属酸化物波rfi層はハード7オトマスク、透明
電導膜乍成等の技術分野で常用される、金属面に金属酸
化物を積層させる技術、例えば化学的には塗布法、スプ
レー法或はCV D (ChemicalV apor
 D eposition)法、物理的にはRFイオン
プレーテング法、RFスパッタリング法或は真空蒸着法
等を流用することができる。 前記レジスト樹脂としては、7オシレジスト、深紫外線
レジスト、電子線レジスト、X線レジストのポジ型、ネ
ガ型の各種レジスト樹脂が使用できる。例えばフォトレ
ノスト樹脂としてはす7トキノンアジト或はペンゾキノ
ンアノド等を7ボラ・ツク樹脂にエステル化反応させた
もの等が挙げられる。 まづ支持体に前記レジスト樹脂を塗布し、微小タイル状
板パターンを焼き付け、現像し、更に支持体表面が裸出
する深さまで湿式法または乾式法でエツチングすれば所
望の微小タイル状板と間隙の織りなす分布パターン層1
1が得られる。 また前記レジスト樹脂を用いた写真蝕刻法の外に支持体
としてアルミニウム板を用いる場合には、陽極酸化によ
って表面に生成する多孔質の酸化アルミニウムの封孔処
理続いて熱処理を加えることによって簡単に微小タイル
状板の分布ノ(ターンを作ることができる。 前記本発明に適用する方法はアルミニウム表面処理技術
分野で常用される方法である。 まづアルミニウム支持体表面の陽極酸化処理は、例えば
0.5111I11程度の厚みを有するアルミニウム板
の輝尽性蛍光体をtS積させる側を8%蓚酸溶液中で約
2時間、IA/am2の通電を行うと多孔質の酸化アル
ミニウムから成る陽極酸化被膜層が生成する。 次いで該被膜層を水洗し、続いて沸騰水中で約1時間煮
沸すると、前記多孔質酸化アルミニウムは結晶水を取り
込み膨張してm密な結晶から成る被膜層となる。 この操作が所謂封孔処理である。 封孔処理後250℃以上の熱処理を行なうと、前記結晶
水を有する酸化アルミニウムは該結晶水を失って収縮し
、収縮による亀裂によって生じた間隙に取り囲まれ相互
に隔絶された微小タイル状板が敷きつめられた如きパタ
ーが形成される。 この際酸化アルミニツム被膜の厚みは数μm以上あるこ
とが好ましく、薄い場合には微小タイル状板が大きくな
り易いので、陽極酸化の工程の条件を最適に選ぶ必要が
ある。 このようにして輝尽性蛍光体の気相ik積に物理的及び
/又は化学的に好都合な島状微細区画(タイル状板)が
、気相堆積が進行し難し一微細な筋状、溝状、凹部或は
亀裂に取り囲まれた形態の分布パターン層が得られる。 工程(a):輝尽性蛍光体層13 微細柱状ブロック構造を有する前記輝尽性蛍光体層の形
成方法としては、気相堆積法が該柱状ブロック形成の確
実性及び感度の面から最も好まし+11゜ 気相堆積法の第1の方法として真空蒸着法がある。該方
法に於いては、まず支持体を蒸着装置内に設置した後装
置内を排気して1O−6T orr程度の真空度とする
。 次いで、前記輝尽性蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱
法、エレクトロビーム法等の方法で加熱蒸発させて前記
支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。 この結果結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層が形成され
るが、前記蒸着工程て゛は複数回に分けて輝尽性蛍光体
層を形成することも可能である。また、前記蒸着工程で
は複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロビームを用いて
共蒸着を行うことも可能である。 蒸着終了後、必要に応じて前記輝尽性蛍光体層の支持体
側とは反対の側に好しくけ保護層を設は本発明の放射線
画像変換パネルが製造される。 尚、保護層上に輝尽性蛍光体層を形成した後、支持体を
設ける手順をとりてもよい。 また、前記真空蒸着法においては、輝尽性蛍光体原料を
複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて
共蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成す
ると同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能である
。 さらに前記真空蒸着法においては、蒸着時必要に応じて
被蒸着物(支持体あるいは保護層)を冷却あるいは加熱
してもよい。また、蒸着終了後輝尽性蛍光体層を加熱処
理してもよい。 第2の方法としてスパッタ法がある。該方法においては
、蒸着法と同様に支持体をスパッタ装置内に設置した後
装置内を一旦排気して10−’ T orr程度の真空
度とし、次いでスパッタ用のガスとしてAr、Ne等の
不活性ガスをスパッタ装置内に導入して1O−3T o
rr程度のガス圧とする。 次に前記輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタリ
ングすることにより、前記支持体表面に輝尽性蛍光体を
所望の厚さに堆積させる。 前記スバツタ工程では真空蒸着法と同様に複数回に分け
て輝尽性蛍光体層を形成することも可能であるし、また
それぞれ異なった輝尽性蛍光体からなる複数のターゲッ
トを用いて、同時あるいは順次、前記ターゲットをスパ
ッタリングしで輝尽性蛍光体層を形成することも可能で
ある。 スパッタ終了後、真空蒸着法と同様に必要に応じて前記
輝尽性蛍光体層の支持体側とは反対の側に好ましくは保
護層を設は本発明の放射M画像変換パネルが製造される
。尚、保護層上に輝尽性蛍光体層を形成した後、支持体
を設ける手順をとってもよい。 前記スパッタ法においては、複数の輝尽性蛍光体原料を
ターデッドして用い、これを同時あるいは順次スパッタ
リングして、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成
すると同時に輝尽性蛍光体層°・を形成することも可能
である。、また、前記スパッタ法においては、必要に応
じて0□、H2等のガスを導入して反応性スパッタを行
ってもよい。 さらに前記スパッタ法においては、スパッタ時必要に応
じて被蒸着物(支持体あるいは保護層)を冷却あるいは
加熱してもよい。またスパッタ終了後輝尽性蛍光体層を
加熱処理してもよい。 第3の方法としてCVD法がある。該方法は目的とする
輝尽性蛍光体あるいは輝尽性蛍光体原料を含有する有機
金属化合物を熱、高周波電力等のエネルギーで分解する
ことにより、支持体上に結着剤を含有しない輝尽性蛍光
体層を得る。 tIS4図(、)は気相堆積法によってえられた本発明
の放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層及び該層厚に
対応する哩尽性蛍光体附着量と放射線感度の関係の一例
を表している。 本発明に係る気相堆積法による輝尽性蛍光体層は結着剤
を含んでいないので輝尽性蛍光体の耐着量(充填率)が
従来の輝尽性蛍光体を塗設した輝尽性蛍光体層の約2倍
あり、輝尽性蛍光体層単位厚さ当たりの放射線吸収率が
向上し放射線に対して高感度となるばかりか、画像の粒
状性が向上する。 更に前記気相堆積法にょる輝尽性蛍光体層は透明性に優
れており、輝尽励起光及び輝尽発光の透過性が高く、従
来の塗設法にょる輝尽性蛍光体層上り層厚を厚(するこ
とが可能であり、放射線に対して一層高感度となる。 前記のようにして得られた微細柱状ブロック構造の輝尽
性蛍光体層を有する本発明のパネル鮮鋭性の一例を第4
図(b)に示す。 本発明のパネルは微細柱状ブロック構造の光誘導効果に
より、輝尽励起光が柱状ブロック内面で反射を繰り返し
、柱状ブロック外に散逸することが少ないので、従来の
パネルの特性を示す第6図(b)と比較すると明らかな
ように、画像の鮮鋭性が向上すると共に輝尽性蛍光体の
層厚の増大にともなう鮮鋭性の低下を小さくすることが
可能である。 本発明の放射線画像変換パネルは第5図に概略的に示さ
れる放射線画像変換方法に用いられた場合、優れてた鮮
鋭性粒状性及び感度を与える。すなわち、第5図におい
て、51は放射線発生装置、52は被写体、53は本発
明の放射線画像変換パネル、54は輝尽励起光源、55
は該放射線画像変換パネルより放射された輝尽発光を検
出する充電変換装置、56は55で検出された信号を画
像として再生する装置57は再生された画像を表示する
装置、58は輝尽励起光と輝尽発光とを分離し、輝尽発
光のみを透過させるフィルターである。尚55以降は5
3からの光情報を何らかの形で画像として再生できるも
のであればよく、上記に限定されるものではない。 第5図に示されるように放射線発生装置51からの放射
線は被写体52を通して本発明の放射線画像変換パネル
53に入射する。この入射した放射線は放射線画像変換
パネル53の輝尽性蛍光体層に吸収され、そのエネルギ
ーが蓄積され放射線透過像のV積像が形成される。次に
この蓄積像を輝尽励起光源54からの輝尽励起光で励起
して輝尽発光として放出せしめる。本発明の放射#I画
像変換パネル53は、輝尽性蛍光体層が微細柱状ブロッ
ク構造を有しているため、上記輝尽励起光による走査の
際に、輝尽励起光が輝尽性蛍光体層中ひ拡散するのが抑
制される。 放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギ
ー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管
等の光電変換装置55で光電変換し、画像再生装置56
によっで画像として再生し画像表示装置57によって表
示することにより、被写体の
The object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer on a support, which has a surface structure in which a large number of micro tile-like plates are laid out and separated from each other by minute gaps. and a stimulable phosphor layer having a fine columnar block structure inheriting the surface structure as it is on the support, and a method for producing the radiation image conversion panel. achieved. That is, in the radiation image conversion panel of the present invention, the surface of the support is approximately 1 to 400 μI separated from each other by gaps in the form of cracks, grooves, or depressions having a width of 0.01 to 20 μ.
The stimulable phosphor layer is formed on the micro tile-like plates;
It is made up of fine columnar blocks separated from each other with the gap left deep in the thickness direction. Due to such optically independent additions, the stimulable excitation light incident on the stimulable phosphor layer is totally reflected within the fine columnar blocks 1177, and is hardly dissipated in the lateral direction, and is directed toward the support. and move only in the vertical direction. In particular, because the gaps on the support surface are left as they are in the photostimulable phosphor layer, the fine columnar blocks forming the photostimulable phosphor layer are optically completely independent of each other, allowing photostimulable excitation to occur. There is very little lateral dissipation of light. Therefore, without increasing the opportunity for photostimulation, the sharpness of images due to stimulated emission can be significantly increased. For forming a stimulable phosphor layer having a fine columnar block structure, vapor deposition methods such as vacuum evaporation and sputtering are preferred from the viewpoint of sensitivity and technical aspects of forming columnar blocks. Further, as a support having a surface structure in which a large number of micro tile-like plates surrounded by minute gaps are spread, it is preferable to use a support made of an anodized aluminum plate subjected to a sealing treatment and subsequent heat treatment. A manufacturing method using this support is useful. Next, the present invention will be specifically explained using embodiments. FIG. 1(a) is a cross-sectional view taken in the thickness direction of a radiation image conversion panel (hereinafter sometimes simply referred to as a panel for clarity) showing an example of an embodiment of the present invention. The same figure (b) shows a support having a surface structure in which the micro tile-like plates are separated from each other by micro gaps, and are not yet provided with the stimulable phosphor layer having the micro columnar block structure. FIG. 3 is a cross-sectional view of the body in the thickness direction. The distribution pattern of the micro tile-like plate on the support may be arbitrary. FIG. 2 shows examples (a), (b), and (c) of the distribution pattern of the micro tile-like plates. Note that the same symbols in FIGS. 1 and 2 are functionally synonymous with each other. In FIG. 1, 10 is the panel of the present invention, 1lij is each micro tile-like plate on the support surface, and (Ilij) is a crack, groove, depression, etc. surrounding the micro tile-like plate. It is a gap. Reference numeral 11 denotes a distribution pattern layer of minute tile-like plates dispersed in the form of islands on the surface of the support made of the above-mentioned 11ij and (llij). 12 is a support. 13ij is each fine columnar block of stimulable phosphor deposited on the micro tile plate by vapor deposition method, (13i
j) is a deep gap left between 13ij selectively deposited on 1lij. 14 is an adhesive layer that may be provided if necessary, and 15 is a protective layer that is preferably provided. The stimulable phosphor layer 13 having a fine columnar block structure according to the present invention is formed by 13ij and (13i, j). Note that the gap (13ij) referred to in the present invention includes a case in which a mere crack is formed without providing a substantial gap on the surface of the stimulable phosphor layer. Contains. As an example of the pattern of the minute tile-like plates 11ij and minute gaps (llij), FIG. 3 shows the slopes of an aluminum plate support which has been anodized, sealed and heat treated. Similar to the adhesive layer 14, a multilayer structure may be provided on the micro tile plate 11ij, such as a reflecting layer or an absorbing layer for stimulated luminescence and/or stimulated excitation light, if necessary. The thickness of the stimulable phosphor layer 13 of the panel of the present invention varies depending on the sensitivity of the panel to radiation, the type of stimulable phosphor, etc., but is preferably in the range of 10 to 1000 μm, and more preferably 20 to 800 μm. It is preferable. In the radiation image conversion panel of the present invention, the stimulable phosphor refers to a stimulable phosphor that is irradiated with a priori, thermal, mechanical, chemical, electrical, etc. after being irradiated with the first light or energy radiation. 1k (photostimulation excitation) causes the first light or high-energy radiation to shine! It refers to a phosphor that exhibits stimulated luminescence corresponding to the amount of #, but from a practical standpoint, it is preferably 500+e*
Examples of the stimulable phosphor used in the radiation image conversion panel of the present invention include BaSO4 described in JP-A-48-80487: AX (However, A is the lesser of Dy+Tb and T spear (both are 1 type, X is 0.0 old ≦×〈
It is 1 mol%. ) Phosphor expressed by JP-A-1988-8
MgS O4:A X (however, A is Ho) described in No. 0488
Or which one of Dy is 0.001≦X≦1
Phosphor expressed as mol%), JP-A-48-804
Written in issue 89! 5rSQ4:Ax (However, A is at least one of D y t T b and Tn +
species, and X is 0.001≦x<1 mol%. ), a phosphor in which at least one of Mn+Dy and Tb is added to NazSO, Ca5O, Ba5O<, etc. described in JP-A-51-29889; - Be described in No. 30487
O+ L i F M g SO Phosphors such as O4 and CaF2, L described in JP-A-53-39277
izB 40 t: Phosphors such as cu*Ag, JP-A-5
Lizo ・(B
202) X: CLl (where X is 2<x≦3), and L
Phosphors such as i20 ・(B 202)
SrS described in No. 27: Ce, Ss, SrS:
Eu, Sn+, Ll1202S: Eu, STI and (
Examples include phosphors represented by Zn, Cd)S:Mn,X (where X is a halogen). Also, JP-A-55-1
ZnS:Cu, Pb phosphor described in No. 2142, barium aluminate phosphor whose general formula is represented by B ao ・XA 1203: E u (however, 0.8≦X≦10), and the sea shell type M”O・χS io 2:A (
However, Ml is MgpCa, Sr, Zn, Cd, or Ba, A is at least one of Ce-Tb-Eu-T+n-Pb, TI, Bi, and Mn, and × is 0.5≦X≦
It is 2.5. ) are alkaline earth metal silicate base phosphors. 'Mana, the general formula is (Ba Mg Ca)FX: eEu''
1-xy x y (where X is at least one of Br and CI,
×, y and e are respectively O<x+y≦0.6, xy; l
' This is a number that satisfies the following conditions: 0 and 10-6≦e≦5X10-2. ) is the general formula represented by L no X : xA (where Ln is at least one of LatY, Gd and Lu,
b is a number satisfying O<x<'0.1), the general formula described in JP-A-55-12145 is (where Ml is v Ca w S r * Z
at least one of n and Cd, X is CI, B
at least one of r and I, A is Eu, Tb, C
e, Tm, DytPrtHovNd, Yb, and E (X and y represent numbers satisfying the conditions 0≦X≦0.6 and 0≦y≦0.2.) The general formula of the phosphor described in JP-A-55-84389 is B a F X :xCezYA (where X
is at least one of CI, Br and I, A is In
, TI', Gd, S and Zr, and x and y are 0x≦2X10-' and o<y≦5X1G-2, respectively. ); the general formula described in JP-A-55-160078 is M
”FX-xA:yLn (However, Ml is at least one of MgtCatBa+5rtZn and VCd, A is B e O? M g 0
1 Ca O+ SrO, BaO, Z nO, A I
203-Y 203. L 11201. InzOit
s io ztT +02vZ ro 2yG eo
2=s no 2. Nbz05, Ta2o5 and TI
+02, Ln is EutTbvC
etTmtDy, Pr, l-1o, Nd, Yb, Ert
is at least one of SIIl and (/Gd, and
is at least one of C1, Br and ■, and
and y are s x 1o-5≦x≦0.5 and o, respectively
It is a number that satisfies the condition '<y≦0.2. ) rare earth element-activated divalent metal fluorohalide phosphor, the general formula is ZnS:A%CdS:A, (Zn, Ccl)
Phosphors represented by S: A, ZnS: A, X and CdS: A,
General formula (1) or (II) described in No. 8285
, General formula (I) xM3(PO4)2''NX2:
YA general formula (II) Mz(PO-)2・yA
(In the formula, M and N are each M g+ Cat S r
tB At least one of alZn and Cd, X is F, CI. At least one of Br and ■, A is E ut T
b. CetTm, DytP rtHotN dtE rts
bvT l*6 representing at least 61 types of Mn and Sn. Furthermore, X and y are numbers that satisfy the condition 0<x≦6.0≦y≦1. ), a phosphor represented by the general formula (I
II) or [■] General formula (m ) hReXs・m
AX' 2:xEu general formula (W) nReX=・
mAX' 2:XEuwySl* (where Re is Lav
At least one of GdyY and Lu, A represents an alkaline earth metal, at least one of Ba*Sr and Ca, and X and X' represent at least one of F=CI and Br. Also, X and y are 1xto-'<x<3 XIG
-', IX10-'<y<IX10-', and n7m is IX10-'<
The condition n7m<7×10-' is satisfied. ), and the general formula % formula %: (However, MX is at least one kind of alkali metal selected from Li, Na, Rh, and Cs; Mx,
is B ev-Mg* Cat S rt B at Z
n* Cdv At least one divalent metal selected from Cu and (7Ni. Ml is Sc, Y, La, C
e, Pr, Nd, P@, Ss, Eu, Gd, Tb. DytHotErtTmtYbtLusAI*Gat and (/In) is at least one kind of trivalent metal selected from X. X' and X# are at least one kind of halogen selected from FtCltBr and TmtDytPrtHotNdtYbtErtG
d, Lu, SmtY * T l t N a t A
g v At least one metal selected from Cu and Mg. Also, a is a numerical value in the range of 0≦a<0.5, and b is 0≦
b is a numerical value in the range of <0.5, and C is a numerical value in the range of 0<c≦0.2. ) and the like can be mentioned. In particular, alkali halide phosphors are preferred because they facilitate the formation of a stimulable phosphor layer by methods such as vacuum evaporation and sputtering. However, the stimulable phosphor used in the radiation image conversion panel of the present invention is not limited to the above-mentioned phosphor,
Any phosphor may be used as long as it exhibits stimulated fluorescence when irradiated with radiation and then irradiated with bright N-excitation light. The radiation image conversion panel of the present invention may be a stimulable phosphor layer group consisting of one or more stimulable phosphor layers containing at least one kind of the above-mentioned stimulable phosphors. Furthermore, the stimulable phosphors contained in each stimulable phosphor layer may be the same or different. In the radiation image conversion panel of the present invention, any support may be used as long as it has a surface structure in which a large number of micro tile-like plates are laid out and separated from each other by minute gaps. Molecular materials, positive metals, etc. are used. In particular, materials that can be processed into flexible sheets or webs are suitable for handling as information recording materials, and from this point of view, for example, cellulose acetate films, polyester films, polyethylene terephthalate films, polyamide films, polyimide films, and reacetate films. . Plastic films such as polycarbonate films,
A metal sheet such as aluminum, iron 1 M 1 chromium, or a metal sheet having a coating layer of the metal oxide is preferable. The layer thickness of these supports varies depending on the material of the support used, but is generally 80 μff1 to 1000 μ-
From the viewpoint of handling, it is more preferably 80 μm to 500 μm. In the radiation image conversion panel of the present invention, a protective layer for physically or chemically protecting the stimulable phosphor layer group is generally provided on the surface where the stimulable phosphor layer is exposed. It is preferable to provide one. This protective layer may be formed by directly applying a protective layer coating liquid onto the stimulable phosphor layer, or by adhering a separately formed protective layer onto the stimulable phosphor layer. A good material for the protective layer is cellulose acetate. Common protective layer materials such as nitrocellulose, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyester, polyethylene chloride, polyethylene, vinylidene chloride, and nylon are used. In addition, this protective layer can be formed by vacuum evaporation, sputtering, etc.
It may be formed by laminating inorganic materials such as SiC, Sio□-8iN tAlzos, etc. The thickness of these protective layers is generally 0.1μ- to 100μ-
degree is preferred. Next, a method for manufacturing the panel of the present invention will be explained. In the present invention, the manufacturing process proceeds in the order of (b)→(,) in FIG. 1. Step (b): Micro tile-like plate 11ij and gap (lli
j) Distribution pattern The surface of the micro tile-like plate distributed on the surface of a support such as a plastic film, metal sheet, or metal sheet having a metal oxide coating layer is the stimulable phosphor deposited thereon in the previous step. It is preferable that the material has good adhesion affinity with the material, and it may be preferable that the material is a dielectric or a semiconductor that has electrical image fastness. Therefore, one method selected is to apply various resist resins commonly used in photolithography that meet the above conditions and can form the above distribution pattern on the surface of the support. At this time, it is convenient to use a metal sheet having a metal oxide coating layer as the support because it has good adhesion affinity with the resist resin. Techniques for laminating metal oxides on metal surfaces are commonly used in technical fields such as coating, spraying, or chemical vapor deposition (CVD).
Physically, an RF ion plating method, an RF sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like can be used. As the resist resin, various positive type and negative type resist resins such as 7-oscilloscope resist, deep ultraviolet resist, electron beam resist, and X-ray resist can be used. For example, photorenost resins include those obtained by subjecting 7-bora-tsuku resin to an esterification reaction with solutoquinone azide or penzoquinone anode. First, the resist resin is applied to the support, a micro tile-like plate pattern is baked, developed, and etched using a wet or dry method to a depth where the surface of the support is exposed. Distribution pattern layer 1 woven by
1 is obtained. In addition, when using an aluminum plate as a support in addition to the photolithography method using the above-mentioned resist resin, it is possible to easily form microscopic particles by sealing the porous aluminum oxide generated on the surface by anodizing, followed by heat treatment. It is possible to create a distribution pattern (turn) in the tile-like plate. The method applied to the present invention is a method commonly used in the field of aluminum surface treatment technology. First, the anodizing treatment of the surface of the aluminum support is performed by, for example, 0. When the side of an aluminum plate having a thickness of about 5111I11 on which the stimulable phosphor is to be subjected to tS deposition is energized at IA/am2 for about 2 hours in an 8% oxalic acid solution, an anodic oxide film layer made of porous aluminum oxide is formed. Next, the coating layer is washed with water and then boiled in boiling water for about 1 hour, and the porous aluminum oxide takes in crystal water and expands to form a coating layer consisting of m-dense crystals. This operation is so-called. This is a sealing treatment. When heat treatment is performed at 250°C or higher after the sealing treatment, the aluminum oxide containing the crystal water loses the crystal water and shrinks, and is surrounded by gaps created by cracks due to shrinkage and separated from each other. A putter is formed in which the aluminum oxide coating has a thickness of several micrometers or more, and if it is thin, the microtile plates tend to become large, so the anodic oxidation process is In this way, the island-like fine sections (tile-like plates) that are physically and/or chemically favorable to the vapor phase ik product of the stimulable phosphor are It is difficult to progress and a distribution pattern layer surrounded by fine streaks, grooves, recesses or cracks is obtained.Step (a): Stimulable phosphor layer 13 The stimulable phosphor layer 13 has a fine columnar block structure. As a method for forming the phosphor layer, vapor phase deposition is most preferable from the viewpoint of reliability and sensitivity in forming the columnar blocks, and the first method of the +11° vapor phase deposition method is vacuum evaporation. In this process, the support is first placed in a vapor deposition apparatus, and then the apparatus is evacuated to a degree of vacuum of about 10-6 Torr.Next, at least one of the stimulable phosphors is heated by a resistance heating method, The stimulable phosphor is deposited on the surface of the support to a desired thickness by heating and evaporating it using a method such as an electrobeam method.As a result, a stimulable phosphor layer containing no binder is formed, but It is also possible to form the stimulable phosphor layer in multiple steps in the vapor deposition process.Also, in the vapor deposition process, it is also possible to co-evaporate using a plurality of resistance heaters or electrobeams. . After the vapor deposition is completed, a protective layer is optionally provided on the side of the stimulable phosphor layer opposite to the support, and the radiation image conversion panel of the present invention is manufactured. Note that a step may be taken in which the support is provided after forming the stimulable phosphor layer on the protective layer. In addition, in the vacuum evaporation method, the stimulable phosphor raw material is codeposited using a plurality of resistance heaters or an electron beam, and the desired stimulable phosphor is synthesized on the support while the stimulable phosphor is simultaneously evaporated. It is also possible to form a phosphor layer. Furthermore, in the vacuum evaporation method, the object to be evaporated (support or protective layer) may be cooled or heated as necessary during the evaporation. Further, the stimulable phosphor layer may be heat-treated after the vapor deposition is completed. A second method is a sputtering method. In this method, like the vapor deposition method, the support is placed in a sputtering device, the inside of the device is once evacuated to a vacuum level of about 10-' Torr, and then a non-containing gas such as Ar or Ne is used as a sputtering gas. Introducing active gas into the sputtering equipment to generate 1O-3T o
The gas pressure is set to about rr. Next, the stimulable phosphor is deposited on the surface of the support to a desired thickness by sputtering using the stimulable phosphor as a target. In the sputtering process, it is possible to form the stimulable phosphor layer in multiple steps as in the vacuum evaporation method, or it is possible to form the stimulable phosphor layer in multiple steps at the same time by using multiple targets each made of a different stimulable phosphor. Alternatively, it is also possible to sequentially sputter the targets to form a stimulable phosphor layer. After the sputtering is completed, a protective layer is preferably provided on the side of the stimulable phosphor layer opposite to the support, if necessary, in the same manner as in the vacuum evaporation method, and the radiation M image conversion panel of the present invention is manufactured. Note that a step may be taken in which the support is provided after forming the stimulable phosphor layer on the protective layer. In the sputtering method, a plurality of stimulable phosphor raw materials are used in a tarded manner, and these are sputtered simultaneously or sequentially to synthesize the desired stimulable phosphor on a support and simultaneously produce the stimulable phosphor. It is also possible to form layers. Furthermore, in the sputtering method, reactive sputtering may be performed by introducing a gas such as 0□ or H2 as necessary. Furthermore, in the sputtering method, the object to be deposited (support or protective layer) may be cooled or heated as necessary during sputtering. Further, the stimulable phosphor layer may be heat-treated after sputtering. A third method is the CVD method. This method involves decomposing a target photostimulable phosphor or an organometallic compound containing a photostimulable phosphor raw material with energy such as heat or high-frequency power, thereby producing a photostimulable material on a support that does not contain a binder. Obtain a fluorescent phosphor layer. tIS4 diagram (,) shows an example of the relationship between the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel of the present invention obtained by the vapor deposition method and the amount of stimulable phosphor attached corresponding to the layer thickness and radiation sensitivity. represents. Since the stimulable phosphor layer produced by the vapor deposition method according to the present invention does not contain a binder, the adhesion resistance (filling rate) of the stimulable phosphor is lower than that of the conventional stimulable phosphor coated layer. The thickness of the stimulable phosphor layer is approximately twice that of the stimulable phosphor layer, and the radiation absorption rate per unit thickness of the stimulable phosphor layer is improved, resulting in not only high sensitivity to radiation but also improved image graininess. Furthermore, the stimulable phosphor layer produced by the vapor deposition method has excellent transparency and has high transmittance to stimulated excitation light and stimulated luminescence, making it easier to use the stimulable phosphor layer produced by the conventional coating method. An example of the sharpness of a panel of the present invention having a stimulable phosphor layer with a fine columnar block structure obtained as described above. The fourth
Shown in Figure (b). In the panel of the present invention, due to the light guiding effect of the fine columnar block structure, the stimulated excitation light is repeatedly reflected on the inner surface of the columnar block and is less likely to be dissipated outside the columnar block. As is clear from the comparison with b), it is possible to improve the sharpness of the image and to reduce the decrease in sharpness due to an increase in the layer thickness of the stimulable phosphor. The radiographic image conversion panel of the present invention provides excellent sharpness, granularity and sensitivity when used in the radiographic image conversion method shown schematically in FIG. That is, in FIG. 5, 51 is a radiation generator, 52 is a subject, 53 is a radiation image conversion panel of the present invention, 54 is a stimulated excitation light source, and 55
56 is a charging conversion device that detects stimulated luminescence emitted from the radiation image conversion panel; 56 is a device that reproduces the signal detected by 55 as an image; 57 is a device that displays the reproduced image; and 58 is a device that displays stimulated excitation. It is a filter that separates light and stimulated luminescence and allows only stimulated luminescence to pass through. In addition, 5 after 55
It may be any device that can reproduce the optical information from 3 as an image in some form, and is not limited to the above. As shown in FIG. 5, radiation from a radiation generating device 51 enters a radiation image conversion panel 53 of the present invention through a subject 52. This incident radiation is absorbed by the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel 53, and its energy is accumulated to form a V product image of the radiation transmission image. Next, this accumulated image is excited with stimulated excitation light from the stimulated excitation light source 54 to emit stimulated luminescence. In the radiation #I image conversion panel 53 of the present invention, since the photostimulable phosphor layer has a fine columnar block structure, when scanning with the above-mentioned photostimulable excitation light, the photostimulable excitation light is absorbed into the photostimulable fluorescence. Diffusion through the body layers is suppressed. Since the intensity of the emitted stimulated luminescence is proportional to the amount of accumulated radiation energy, this optical signal is photoelectrically converted by a photoelectric conversion device 55 such as a photomultiplier tube, and an image reproduction device 56
The image of the subject is reproduced as an image and displayed on the image display device 57.

【実施例】【Example】

次(こ実施例によって本発明を説明する。 実施例1 500μ論厚のアルミニウム板を前記の方法により陽極
酸化処理、封孔処理及び加熱処理してタイル状板が微細
な間隙により互いに隔絶されで敷きつめられたごとき表
面構造とした支持体を蒸着器中に設置した。前記タイル
状板の平均径は60μ齢であった。 次に抵抗加熱用のタングステンボート中にアルカリハラ
イド輝尽性蛍光体(0,9RbB r ・0.ICsF
:O,0ITI)を入れ、抵抗加熱用電極にセットし、
続いて蒸着器を排気して2 X 10−’ T orr
の真空度とした。 次にタングステンボートに電流を流し、抵抗加熱法によ
ってアルカリハライド輝尽性蛍光体を蒸発させ前記支持
体上に輝尽性蛍光体層の層厚が300μmの厚さになる
まで堆積させ、本発明の放射線画像変換パネルAを得た
。 このようなして得られた本発明の放射線画像変換パネル
Aに管電圧80KV9のXMを10輸R照射した後、H
e−Neレーザ光(633n醜)で輝尽励起し、輝尽性
蛍光体層から放射される輝尽発光を光検出器(光電子増
倍管)で充電変換し、この信号を画像再生装置によって
画像として再生し、銀塩フィルム上に記録した。信号の
大きさより、放射線画像変換パネルAのX線に対する感
度を調べ、また得られた画像より、画像の変調伝達関数
(MTF)及び粒状性を調べ第1表に示す。 第1表において、X線に対する感度は本発明の放射線画
像変換パネルAを100として相対値で示しである。ま
た、変調伝達関数(M T F )は、空間周波数が2
サイクル/−一の時の値セあり、粒状性は(良い、普通
、悪い)をそれぞれ(○、Δ、X)で示しである。 実施例2 実施例1において、輝尽性蛍光体層の層厚を150μ−
とした以外は実施例1と同様にして本発明の放射線画像
変換パネルBを得た。 このようにして得られた本発明の放射llAm像変換パ
ネルBは、実施例1と同様にして評価し、結果を第1表
に併記する。 実施例3 実施例1において、支持体のタイル状板の平均径を12
0μ籠とした以外は実施例1と同様にして本発明の放射
線画像変換パネルCを得た。 このようにして得られた本発明の放射線画像変換パネル
Cは、実施例1と同様にして評価し、結果をtA1表に
併記する。 実施例4 実施例1において、支持体として500μ論厚のアルミ
ニウム板を実施例1と同様の方法により陽極酸化処理、
封孔処理及び加熱処理してタイル状板が微細な間隙によ
り互いに隔絶されて敷きつめられたごとき表面構造とし
た後、金属アルミニウムを0.1μ請厚となるように真
空蒸着して用いた以外は実施例1と同様にして本発明の
放射線画像変換パネルDを得た。このように金属アルミ
ニウムを薄く蒸着することにより、アルミニウム支持体
のタイル状表面は黒化する。 本発明の放射線画像変換パネルDは、実施例1と同様に
して、評価し、結果を第1表に併記する。 実施例5 実施例1において、支持体として500μ噴厚のアルミ
ニウム板を実施例1と同様の方法により陽極酸化処理、
封孔処理及び加熱処理してタイル状板が微細な間隙によ
り互いに隔絶されて敷きつめられたごとき表面構造とし
た後、金属アルミニウムを1μ論厚とな、るように真空
蒸着して用いた以外は実施例1と同様にして本発明の放
射線画像変換パネルEを得た。このように金属アルミニ
ウムを厚く蒸着することにより、アルミニウム支持体の
タイル状板表面の反射率は約20%向上した。 本発明の放射線画像変換パネルEは、実施°例1と同様
にして評価し、結果を第1表に併記する。 比較例1 アルカリハライド輝尽性蛍光体(0,9RbBr・0、
ICsF :O,OIT l)8重量部とポリビニルブ
チラール樹脂1重量部と溶剤(シクロヘキサノン)5重
量部を用いて混合・什散し、輝尽性蛍光体層用塗布液を
調整した。次にこの塗布液を水平に置いた。 300μ論厚の支持体としての黒色ポリエチレンナフタ
レートフィルム上に均一に塗布し、自然乾燥させて30
0μ論厚の輝尽性蛍光体層を形成した。 このようにして得られた比較の放射線画像変換パネルP
は実施例1と同様にして評価し、結果を第1表に併記す
る。 比較例2 比較例1において輝尽性蛍光体層の層厚を150μ−と
した以外は比較例1と同様にして比較の放射線画像変換
パネルQを得た。 二のようにして得られた比較の放射線画像変換パネルQ
は実施例1と同様にして評価し、結果を第1表に併記す
る。 第1表 第1表より明らかなように本発明の放射線画像変換パネ
ルA−Eは、それぞれ相当する輝尽性蛍光体層厚を有す
る比較の放射線画像変換パネルP。 Qに比べてX線感度が約2倍高くしかも画像の粒状性が
優れていた。これは本発明の放射線画像変換パネルは輝
尽性蛍光体層中に結着剤を含んでおらず輝尽性蛍光体の
充填率が比較のパネルに比べて高<xmの吸収率が良い
ためである。 また、本発明の放射線画像変換パネルA−Eはそれぞれ
相当する輝尽性蛍光体層厚を有する比較の放射線画像変
換パネルP、Qに比べてX線感度が高いにもかかわらず
鮮鋭性の点でも優れていた。 これは、本発明の放射線画像変換パネルにおいては支持
体の間隙によって輝尽性蛍光体層中にも亀裂を入れ、こ
れによって輝尽性蛍光体層を細分化した微細柱状ブロッ
ク構造とすることにより、輝尽性蛍光体層中での輝尽励
起光であるHe−Neレーザが散乱が抑制・減少するた
めである。
The present invention will be explained with reference to the following example. Example 1 An aluminum plate having a thickness of 500 μm was anodized, sealed and heated by the method described above so that the tile-like plates were separated from each other by minute gaps. A support with a paved surface structure was placed in a vapor deposition apparatus.The average diameter of the tile-like plate was 60 microns.Next, an alkali halide stimulable phosphor ( 0.9RbB r ・0.ICsF
:O,0ITI) and set it on the resistance heating electrode.
Then, the evaporator was evacuated to 2 x 10-' T orr.
The degree of vacuum was set to . Next, an electric current is applied to the tungsten boat, and the alkali halide stimulable phosphor is evaporated by a resistance heating method, and the stimulable phosphor layer is deposited on the support until the layer thickness becomes 300 μm. A radiation image conversion panel A was obtained. The radiation image conversion panel A of the present invention thus obtained was irradiated with XM at a tube voltage of 80KV9 for 10 minutes, and then H
The e-Ne laser beam (633n) is used to stimulate excitation, and the stimulated luminescence emitted from the stimulable phosphor layer is charged and converted by a photodetector (photomultiplier tube), and this signal is transmitted by an image reproducing device. It was reproduced as an image and recorded on silver halide film. The sensitivity of the radiation image conversion panel A to X-rays was investigated based on the signal magnitude, and the modulation transfer function (MTF) and granularity of the image were investigated using the obtained images, which are shown in Table 1. In Table 1, the sensitivity to X-rays is shown as a relative value, with the radiation image conversion panel A of the present invention being taken as 100. Moreover, the modulation transfer function (M T F ) has a spatial frequency of 2
The values at cycle/-1 are shown, and the graininess (good, average, bad) is indicated by (○, Δ, X), respectively. Example 2 In Example 1, the layer thickness of the stimulable phosphor layer was changed to 150 μ-
A radiation image conversion panel B of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except for the following. The thus obtained radiation llAm image conversion panel B of the present invention was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are also listed in Table 1. Example 3 In Example 1, the average diameter of the tile-like plate of the support was 12
A radiation image conversion panel C of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the 0μ cage was used. The radiation image conversion panel C of the present invention thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are also listed in Table tA1. Example 4 In Example 1, a 500μ thick aluminum plate was anodized in the same manner as in Example 1 as a support.
After sealing and heat treatment to create a surface structure in which tile-like plates are separated from each other by minute gaps, metal aluminum was vacuum-deposited to a thickness of 0.1 μm. A radiation image conversion panel D of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1. By depositing metallic aluminum thinly in this manner, the tile-like surface of the aluminum support is blackened. The radiation image conversion panel D of the present invention was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are also listed in Table 1. Example 5 In Example 1, an aluminum plate with a spray thickness of 500μ was anodized in the same manner as in Example 1 as a support.
After sealing and heat treatment to create a surface structure in which tile-like plates are separated from each other by minute gaps, metal aluminum was vacuum-deposited to a thickness of 1 μm. A radiation image conversion panel E of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1. By depositing metallic aluminum thickly in this way, the reflectance of the tile-like plate surface of the aluminum support was improved by about 20%. The radiation image conversion panel E of the present invention was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are also listed in Table 1. Comparative Example 1 Alkali halide stimulable phosphor (0,9RbBr・0,
8 parts by weight of ICsF:O,OIT l), 1 part by weight of polyvinyl butyral resin, and 5 parts by weight of a solvent (cyclohexanone) were mixed and dispersed to prepare a coating liquid for a stimulable phosphor layer. Next, this coating liquid was placed horizontally. It was coated uniformly on a black polyethylene naphthalate film as a support with a thickness of 300 μm and air-dried for 30 μm.
A stimulable phosphor layer with a theoretical thickness of 0 μm was formed. Comparative radiation image conversion panel P obtained in this way
was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are also listed in Table 1. Comparative Example 2 A comparative radiation image conversion panel Q was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the thickness of the stimulable phosphor layer was changed to 150 μ-. Comparative radiation image conversion panel Q obtained as in 2.
was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are also listed in Table 1. Table 1 As is clear from Table 1, the radiation image conversion panels A to E of the present invention each have a corresponding photostimulable phosphor layer thickness as the comparative radiation image conversion panel P. Compared to Q, the X-ray sensitivity was about twice as high and the image graininess was excellent. This is because the radiation image conversion panel of the present invention does not contain a binder in the stimulable phosphor layer and has a higher absorption rate of stimulable phosphor than a comparative panel when the filling rate of the stimulable phosphor is high <xm. It is. Furthermore, although the radiation image conversion panels A to E of the present invention have higher X-ray sensitivities than the comparative radiation image conversion panels P and Q each having a corresponding stimulable phosphor layer thickness, they have poor sharpness. But it was excellent. In the radiation image conversion panel of the present invention, cracks are created in the stimulable phosphor layer due to the gaps in the support, thereby creating a fine columnar block structure in which the stimulable phosphor layer is subdivided. This is because the scattering of the He--Ne laser, which is the stimulable excitation light in the stimulable phosphor layer, is suppressed and reduced.

【発明の効果】【Effect of the invention】

以上述べてきたように、本発明によれば輝尽性蛍光体層
が微細柱状ブロック構造を有するため、輝尽励起光の輝
尽性蛍光体層中での散乱が着しく減少し、その結果画像
の鮮鋭性を向上されることが可能である。 また、本発明によれば輝尽性蛍光体層厚の増大による画
像の鮮鋭性の低下が小さいため、輝尽性蛍光体層厚を大
きくすることにより、画像の鮮鋭性を低下させることな
く放射線感度を向上させることが可能である。 また、本発明によれば輝尽性蛍光体層厚の増大による画
像の鮮鋭性の低下が小さいため、輝尽性蛍光体層厚を大
きくすることにより、画像の鮮鋭性を低下させることな
く画像の粒状性を向上させる二とが可能である。 また、本発明によれば本発明の放射線画像変換パネルを
安価に安定して製造することが可能である。 本発明はその効果が極めて大きく、工業的に有用である
As described above, according to the present invention, since the stimulable phosphor layer has a fine columnar block structure, the scattering of the stimulable excitation light in the stimulable phosphor layer is significantly reduced. It is possible to improve the sharpness of the image. In addition, according to the present invention, the decrease in image sharpness due to an increase in the thickness of the stimulable phosphor layer is small. It is possible to improve sensitivity. In addition, according to the present invention, the decrease in image sharpness due to an increase in the thickness of the stimulable phosphor layer is small. It is possible to improve the graininess of Further, according to the present invention, it is possible to stably manufacture the radiation image conversion panel of the present invention at low cost. The present invention has extremely great effects and is industrially useful.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の放射線画像変換パネル及び製造工程中
の支持体面の一部を示す断面図である。 第2図は微小タイル状板の分布パターンの例を示す平面
図である。第3図は支持体の一例を示す図である第4図
(a)は本発明の一例に関する放射線画像変換パネルに
おける輝尽性蛍光体層厚及び附着量と放射線に対する感
度とを示す図であり、(b)は前記放射線画像変換パネ
ルにおける11[尽性蛍光体層及び附着量と空間周波数
が2サイクル/Iにおける変調伝達関数(M T F 
)とを示す図である。 第5図は本発明に用いられる放射線画像変換方法の概略
図である。第6図(a)は従来の放射線画像変換パネル
における輝尽性蛍光体層及び附着量と放射線に対する感
度とを示す図であり、(b)は′前記従来の放射線画像
変換パネルにおける輝尽性蛍光体層厚及び附着量と空間
周波数が2サイクル/I1mにおける変調伝達関数(M
 T F )とを示す図である。 10・・・パネル 11・・・分布パターン層 11ij・・・微小タイル状板 (11ij)・・・間隙 12・・・支持体 13・・・輝尽性蛍光体層 13ij・・・微細柱状ブロック (13ij)・・・間隙 14・・・接着層 15・・・保護層 代理人 弁理士 野 1)義 親 第1図 畝) O (bン 第2図 第4図 (α) o    zoo   4′o屑雁味−)第5図 り4 第6I!l (α〕 手続補正書 昭和61年3月14  日
FIG. 1 is a sectional view showing a radiation image conversion panel of the present invention and a part of the support surface during the manufacturing process. FIG. 2 is a plan view showing an example of the distribution pattern of the micro tile-like plates. FIG. 3 is a diagram showing an example of a support. FIG. 4(a) is a diagram showing the thickness of the stimulable phosphor layer, the adhesion amount, and the sensitivity to radiation in a radiation image conversion panel according to an example of the present invention. , (b) is the modulation transfer function (M T F
). FIG. 5 is a schematic diagram of the radiation image conversion method used in the present invention. FIG. 6(a) is a diagram showing the photostimulable phosphor layer and adhesion amount in the conventional radiation image conversion panel, and the sensitivity to radiation; FIG. Modulation transfer function (M
It is a figure showing TF). 10... Panel 11... Distribution pattern layer 11ij... Micro tile-like plate (11ij)... Gap 12... Support 13... Stimulable phosphor layer 13ij... Fine columnar block (13ij)...Gap 14...Adhesive layer 15...Protective layer agent Patent attorney No 1) Parent-in-law Figure 1 ridge) O (b Figure 2 Figure 4 (α) o zoo 4' o Kuzugarami-) 5th plan 4 6th I! l (α) Procedural amendment March 14, 1986

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換
パネルにおいて、多数の微小タイル状板が微細な間隙に
より互いに隔絶されて敷きつめられたごとき表面構造を
有する支持体と、前記支持体上に前記表面構造をそのま
ま引き継いだ微細柱状ブロック構造から成る輝尽性蛍光
体層とを有することを特徴とする放射線画像変換パネル
。 2)前記微小タイル状板がアルミニウムの陽極酸化層で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の放射
線画像変換パネル。 3)支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換
パネルの製造方法において、前記支持体を多数の微小タ
イル状板が微細な間隙により互いに隔絶されて敷きつめ
られたごとき表面構造とする工程と、前記支持体表面上
に前記表面構造をそのまま引き継いだ微細柱状ブロック
構造の輝尽性蛍光体層を形成する工程とを具備すること
を特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 4)前記支持体がアルミニウムであり、該アルミニウム
支持体表面上に陽極酸化処理法により陽極酸化層を形成
する工程と、この陽極酸化層を封孔処理する工程と、次
いで前記支持体を熱処理を施し、前記陽極酸化層に微細
な間隙を形成する工程と、前記間隙によって形成された
微小タイル状板の上に前記陽極酸化層の表面構造をその
まま引き継いだ微細柱状ブロック構造の輝尽性蛍光体層
を形成する工程とを具備することを特徴とする特許請求
の範囲第3項記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
[Claims] 1) In a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer on a support, a support having a surface structure in which a large number of micro tile-like plates are laid out and separated from each other by minute gaps. 1. A radiation image conversion panel comprising: a stimulable phosphor layer having a fine columnar block structure that directly inherits the surface structure on the support; 2) The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the micro tile-like plate is an anodized layer of aluminum. 3) In a method for producing a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer on a support, the support has a surface structure in which a large number of micro tile-like plates are laid out and separated from each other by minute gaps. A method for manufacturing a radiation image conversion panel, comprising the steps of: forming a stimulable phosphor layer having a fine columnar block structure on the surface of the support, inheriting the surface structure as it is. 4) The support is made of aluminum, and the support includes a step of forming an anodized layer on the surface of the aluminum support by an anodizing method, a step of sealing the anodic oxide layer, and then a heat treatment of the support. a stimulable phosphor with a fine columnar block structure inheriting the surface structure of the anodic oxide layer as it is on the micro tile-like plate formed by the gap; 4. The method of manufacturing a radiation image conversion panel according to claim 3, further comprising the step of forming a layer.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63225200A (en) * 1987-03-14 1988-09-20 株式会社 堀場製作所 Fluorescent screen for x-ray photographing
JP2004117347A (en) * 2002-09-11 2004-04-15 Siemens Ag Phosphor sheet
JP2008008741A (en) * 2006-06-29 2008-01-17 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Scintillator plate for radiation, and its manufacturing method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5270784A (en) * 1976-12-16 1977-06-13 Toshiba Corp Fluorescent screen
JPS586260A (en) * 1982-06-24 1983-01-13 Tadashi Ii Nozzle and device for generation of tornado
JPS59202100A (en) * 1983-04-30 1984-11-15 コニカ株式会社 Radiation image conversion panel and manufacture thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5270784A (en) * 1976-12-16 1977-06-13 Toshiba Corp Fluorescent screen
JPS586260A (en) * 1982-06-24 1983-01-13 Tadashi Ii Nozzle and device for generation of tornado
JPS59202100A (en) * 1983-04-30 1984-11-15 コニカ株式会社 Radiation image conversion panel and manufacture thereof

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63225200A (en) * 1987-03-14 1988-09-20 株式会社 堀場製作所 Fluorescent screen for x-ray photographing
JP2004117347A (en) * 2002-09-11 2004-04-15 Siemens Ag Phosphor sheet
JP2008008741A (en) * 2006-06-29 2008-01-17 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Scintillator plate for radiation, and its manufacturing method
JP4569529B2 (en) * 2006-06-29 2010-10-27 コニカミノルタエムジー株式会社 Radiation scintillator plate and manufacturing method thereof

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