JPH1078589A - Wiring board, liquid crystal element having the wiring board and production of the wiring board - Google Patents

Wiring board, liquid crystal element having the wiring board and production of the wiring board

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JPH1078589A
JPH1078589A JP23560096A JP23560096A JPH1078589A JP H1078589 A JPH1078589 A JP H1078589A JP 23560096 A JP23560096 A JP 23560096A JP 23560096 A JP23560096 A JP 23560096A JP H1078589 A JPH1078589 A JP H1078589A
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JP
Japan
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electrode
liquid crystal
light
forming
wiring board
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Application number
JP23560096A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaru Kamio
優 神尾
Hiroyuki Tokunaga
博之 徳永
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/107Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by filling grooves in the support with conductive material

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  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the delay of voltage waveforms, to reduce the thickness and weight of a liquid crystal panel and to reduce the cost thereof. SOLUTION: This liquid crystal panel is provided with metallic wirings 23 in addition to transparent electrodes 25 and, therefore, the resistance value of the electrodes may be lowered and the delay of the voltage waveforms may be prevented. The metallic wirings 23 are formed by an inexpensive method, by which the cost of the liquid crystal panel itself is reduced. Further, the metallic wirings 23 are formed by a plating method and, therefore, the use of a resin as a translucent base material 21 is possible. Consequently, the lightweight and thin liquid crystal panel is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低抵抗の配線基
板、該配線基板を備えた液晶素子、及び該配線基板の製
造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low-resistance wiring board, a liquid crystal device having the wiring board, and a method of manufacturing the wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、液晶を用いた液晶素子は種々
の分野において使用されている。その一例として、情報
を表示する液晶パネルの構造を、図1を参照して簡単に
説明する。
2. Description of the Related Art Hitherto, liquid crystal devices using liquid crystals have been used in various fields. As one example, the structure of a liquid crystal panel for displaying information will be briefly described with reference to FIG.

【0003】この液晶パネルP1 は、図1(a) に示すよ
うに、所定距離を開けて配置された一対の配線基板1を
備えており、これらの配線基板1はシーリング部材2に
よって貼り合わされて、その内部間隙には強誘電性液晶
3が保持されている。
As shown in FIG. 1A, the liquid crystal panel P 1 includes a pair of wiring boards 1 arranged at a predetermined distance from each other, and these wiring boards 1 are bonded by a sealing member 2. The ferroelectric liquid crystal 3 is held in the internal gap.

【0004】この配線基板1は、透光性基材としてのガ
ラス基板5を有しており、ガラス基板5の表面には液晶
駆動用のITO透明電極6がストライプ状に形成されて
いる(これらの透明電極6は、液晶パネルP1 が組み立
てられた状態では単純マトリクスを構成することとな
る)。なお、これらの透明電極6は500〜5000Å
程度の厚さであり、パターニング処理によってストライ
プ状に形成されている(図1(b) 参照)。また、これら
の透明電極6の表面には、ショート防止のための誘電体
膜7が酸化シリコンや酸化チタン等によって500〜3
000Å程度の厚さに形成されており、さらにその表面
にはポリイミド樹脂等によって配向膜層9が形成されて
いる。
The wiring substrate 1 has a glass substrate 5 as a light-transmitting base material, and ITO transparent electrodes 6 for driving liquid crystal are formed in a stripe shape on the surface of the glass substrate 5 (these substrates). the transparent electrode 6 of, constitutes the simple matrix in the state where the liquid crystal panel P 1 is assembled). In addition, these transparent electrodes 6 are 500-5000500.
It is formed in a stripe shape by a patterning process (see FIG. 1B). A dielectric film 7 for preventing short circuit is formed on the surface of these transparent electrodes 6 by silicon oxide, titanium oxide, or the like.
It is formed to a thickness of about 000 mm, and an alignment film layer 9 is formed on the surface thereof with a polyimide resin or the like.

【0005】なお、強誘電液晶3には、一般にはカイラ
ル・スメクチック液晶(SmC*、SmH*)を用いる
ので、バルク状態では液晶分子長軸がねじれた配向を示
すが、液晶パネルP1 のセル厚を薄くする(1〜3μm
程度)ことにより、このような液晶分子長軸のねじれを
解消している(P213−P234,N.A.CLAR
K etal,MCLC 1983,Vol.94)。
[0005] Incidentally, the strength in the dielectric liquid 3, generally chiral smectic liquid crystal (SmC *, SmH *) so used, but showing the orientation of liquid crystal molecular long axis is twisted in the bulk state, cells of the liquid crystal panel P 1 Reduce the thickness (1-3 μm
Degree), the twist of the long axis of the liquid crystal molecules is eliminated (P213-P234, NA CLAR).
K et al, MCLC 1983, Vol. 94).

【0006】ところで、このような液晶パネルP1 は、
相対向する透明電極6,6に電圧を印加して駆動される
が、透明電極6,6の間に介装されている液晶3が電気
回路的には容量性の負荷となることから電圧波形の伝搬
遅延が生じ易かった。特に、強誘電液晶3を利用した液
晶パネルP1 の場合には、セル厚が1〜2μmと、TN
型液晶素子などに比べて3分の1から5分の1と薄く、
同じ配線基板1を用いてもTN型液晶素子に比べて電圧
波形の伝搬遅延が顕著であった。そして、近年液晶パネ
ルの高精細化が望まれているが、そのためにはこの伝搬
遅延を回避する必要があり、液晶パネルの研究・開発も
変遷を重ねてきている。すなわち、 A.上述した構成の液晶パネルの場合には、ITO透明
電極の抵抗値が高いこと等から、電圧波形の遅延は解決
されなかった。 B.抵抗値の低い金属配線を透明電極の表面に併設する
方法も考え出されたが、種々の制約から金属配線を厚く
することができず、電圧波形の遅延を解消するには至ら
なかった。 C.ここで、金属配線の厚みを所定以上に設定すること
は、駆動周波数を高めるためには不可欠であることが、
本発明者らの実験により確かめられている。 D.金属配線を透明電極の表面に併設するのではなく、
ガラス基板と透明電極との間(透明電極の裏面)に配置
する方法であれば、制約も受けずに金属配線を厚くする
ことができ、電圧波形の遅延を解消できる。
By the way, such a liquid crystal panel P 1
The electrodes are driven by applying a voltage to the opposing transparent electrodes 6, 6, but since the liquid crystal 3 interposed between the transparent electrodes 6, 6 becomes a capacitive load in an electric circuit, a voltage waveform is generated. Propagation delay easily occurred. Particularly, in the case of the liquid crystal panel P 1 using a ferroelectric liquid crystal 3, cell thickness and 1 to 2 [mu] m, TN
Thinner than one third to one fifth of a liquid crystal device
Even when the same wiring board 1 was used, the propagation delay of the voltage waveform was remarkable as compared with the TN type liquid crystal element. In recent years, high definition of liquid crystal panels has been desired. For this purpose, it is necessary to avoid this propagation delay, and research and development of liquid crystal panels have been changing. That is, A. In the case of the liquid crystal panel having the above-described configuration, the delay of the voltage waveform was not solved because the resistance value of the ITO transparent electrode was high. B. A method of providing a metal wire having a low resistance value on the surface of the transparent electrode was also conceived, but the metal wire could not be thickened due to various restrictions, and the delay of the voltage waveform could not be eliminated. C. Here, setting the thickness of the metal wiring to a predetermined value or more is indispensable for increasing the driving frequency,
This has been confirmed by experiments performed by the present inventors. D. Instead of attaching metal wiring to the surface of the transparent electrode,
If the method is arranged between the glass substrate and the transparent electrode (the back surface of the transparent electrode), the thickness of the metal wiring can be increased without restriction, and the delay of the voltage waveform can be eliminated.

【0007】以下、上記A〜Dにつき詳述する。 A.透明電極のみ(金属配線を用いないで)によって電
圧波形の遅延を解消できない理由 上述した透明電極6の抵抗値は、シート抵抗で20〜4
00Ω、体積抵抗では200×10-8〜4000×10
-8Ωmと金属材料(例えば、アルミニウムでは3.0×
10-8Ωm)に比べて高いものであり、電圧波形の遅延
を回避するためには透明電極6を厚くしなければならな
いが、その場合には透過率が下がって透明電極6が認識
されてしまい、表示品質が悪化するという問題があっ
た。したがって、表示品質を良好に保った状態で電圧波
形の遅延を回避することは困難であった。 B.金属配線を透明電極の表面に併設する方法によって
電圧波形の遅延を解消できない理由 一方、電圧波形の遅延を回避する方法として、クロム
(体積抵抗=15×10-8Ωm)やモリブデン(体積抵
抗=6.0×10-8Ωm)などの抵抗率の低い金属配線
を、透明電極6の表面(液晶3が注入される側の面)に
併設する方法が考えられる。
Hereinafter, the above A to D will be described in detail. A. Reasons why delay of voltage waveform cannot be eliminated only by transparent electrode (without using metal wiring) The resistance value of transparent electrode 6 described above is a sheet resistance of 20 to 4
00Ω, 200 × 10 -8 to 4000 × 10 in volume resistance
-8 Ωm and a metal material (for example, 3.0 ×
10 −8 Ωm), and the transparent electrode 6 must be thickened in order to avoid the delay of the voltage waveform. In this case, the transmittance is reduced and the transparent electrode 6 is recognized. As a result, there is a problem that the display quality is deteriorated. Therefore, it has been difficult to avoid delay of the voltage waveform while maintaining good display quality. B. The reason why the delay of the voltage waveform cannot be eliminated by the method in which the metal wiring is provided on the surface of the transparent electrode On the other hand, as a method of avoiding the delay of the voltage waveform, chromium (volume resistance = 15 × 10 −8 Ωm) and molybdenum (volume resistance = A method is conceivable in which a metal wiring having a low resistivity such as 6.0 × 10 −8 Ωm) is provided on the surface of the transparent electrode 6 (the surface on which the liquid crystal 3 is injected).

【0008】しかし、このように金属配線を設けたとし
ても、金属配線を厚く形成することは種々の理由から困
難であり、電圧波形の遅延を回避するには限界があっ
た。以下、金属配線の厚さが制約される理由について説
明する。 (1) 金属配線は透明電極間間隙(セル厚)にて相対向す
るように配置されるが、寸法上の制約から金属配線を該
セル厚の半分以下の厚さにしなければならない。具体的
には、セル厚は1.1μm程度と薄いものであり、金属
配線は最大で550nmの厚さとなる。
However, even if such a metal wiring is provided, it is difficult to form a thick metal wiring for various reasons, and there is a limit in avoiding delay of a voltage waveform. Hereinafter, the reason why the thickness of the metal wiring is restricted will be described. (1) The metal wirings are arranged so as to face each other in the gap between the transparent electrodes (cell thickness). However, due to dimensional restrictions, the metal wirings must be less than half the cell thickness. Specifically, the cell thickness is as thin as about 1.1 μm, and the maximum thickness of the metal wiring is 550 nm.

【0009】したがって、透明電極の他に抵抗値の低い
金属配線を用いているものの、この金属配線による抵抗
値低減の効果は大きくなく、電圧波形の遅延を回避する
には限界があった。 (2) 一方、このように金属配線を形成する場合において
も、図1にて説明したと同様に、この金属配線を配向膜
層9によって被覆し、該配向膜層9によって液晶分子を
一定の秩序で並ばせる必要がある。
Therefore, although a metal wire having a low resistance value is used in addition to the transparent electrode, the effect of reducing the resistance value by the metal wire is not so large, and there is a limit in avoiding the delay of the voltage waveform. (2) On the other hand, also in the case of forming the metal wiring in this way, as described with reference to FIG. 1, the metal wiring is covered with the alignment film layer 9 and the liquid crystal molecules are fixed by the alignment film layer 9. They need to be ordered.

【0010】しかし、かかる場合、配向膜層9には金属
配線に起因する凹凸が生じ、この凹部と凸部とで光学的
な差異が生じて、表示品質が悪化してしまうという問題
があった。また、電界応答性が変化し、クロストークが
生じ易くなるという問題もあった。さらに、金属配線に
伴う凹凸のために配向膜層9のラビング処理が均一に行
えなくなって配向状態が均一でなくなり、やはり光学的
な差異や、クロストークが発生してしまうという問題が
あった。このような問題は、高精細化のために画素サイ
ズを小さくした液晶パネルにおいて顕著であった。そし
て、かかる問題を回避するためには金属配線の厚みは所
定以下(実際には250nm以下)である必要があり、
そのため、金属配線を用いたとしても電圧波形の遅延は
回避できなかった。 C.金属配線の厚みと駆動周波数との関係 ところで、液晶パネルの高精細化のためには駆動周波数
を高める必要があるが、金属配線の厚みと駆動周波数と
の関係について図2を参照して説明する。なお、図2
は、21インチ対角パネルにおける“金属配線の厚み−
波形遅延量−駆動周波数”の関係を示したものである。
ここで、配向膜層9としてはLQ−1802(日立化成
社製)を用い、液晶パネルを組み立てた状態ではラビン
グ処理方向が同一方向となるようにした。また、金属配
線としてはAl−Si−Cu合金を用いた。
However, in such a case, there is a problem that unevenness due to the metal wiring is generated in the alignment film layer 9, and an optical difference is generated between the concave portion and the convex portion, thereby deteriorating the display quality. . In addition, there is also a problem that the electric field response changes and crosstalk easily occurs. Further, there is a problem that the rubbing treatment of the alignment film layer 9 cannot be performed uniformly due to the unevenness due to the metal wiring, so that the alignment state is not uniform, and optical differences and crosstalk also occur. Such a problem was remarkable in a liquid crystal panel in which the pixel size was reduced for higher definition. In order to avoid such a problem, the thickness of the metal wiring must be equal to or less than a predetermined value (actually, equal to or less than 250 nm).
Therefore, even if the metal wiring is used, the delay of the voltage waveform cannot be avoided. C. Relationship Between Thickness of Metal Wiring and Driving Frequency By the way, it is necessary to increase the driving frequency in order to increase the definition of the liquid crystal panel. The relationship between the thickness of the metal wiring and the driving frequency will be described with reference to FIG. . Note that FIG.
Indicates the “thickness of metal wiring−” in a 21-inch diagonal panel.
The relationship between "waveform delay amount-drive frequency" is shown.
Here, LQ-1802 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used as the alignment film layer 9, and the rubbing direction was the same when the liquid crystal panel was assembled. Further, an Al-Si-Cu alloy was used as the metal wiring.

【0011】いま、自発分極が7nc/cm2 の液晶材料
を用い、セル厚を約1μmとした場合には、図2から明
らかなように、金属配線の膜厚が230nmの場合にお
ける遅延量(90%間での立ち上がり時間)を1とする
と、348nmの膜厚では遅延量が0.56であった。
そして、この関係を走査線数2048本の駆動周波数
(1フレーム走査周波数)で表現すると1本の走査線の
両端に電源を接続した場合(両側実装と表現してある)
と片側に電源を接続した場合(片側実装と表現してあ
る)でそれぞれ異なるものの、いずれも遅延量が少ない
ほど駆動周波数が高くできることがわかる。
Now, when a liquid crystal material having a spontaneous polarization of 7 nc / cm 2 is used and the cell thickness is set to about 1 μm, as is apparent from FIG. Assuming that the rise time between 90% is 1), the delay amount was 0.56 at the film thickness of 348 nm.
When this relationship is expressed by a drive frequency of 2048 scanning lines (one frame scanning frequency), a power supply is connected to both ends of one scanning line (expressed as both-side mounting).
However, it can be seen that the drive frequency can be increased as the amount of delay is smaller, although the power supply is connected to one side and the power supply is connected to one side (expressed as one-sided mounting).

【0012】また、高速駆動をするために自発分極を1
00nc/cm2 にし、セル厚を約2μmにして波形のな
まりを軽減した場合には、駆動周波数を15Hz以上に
するためには、両側実装でAl−Si−Cuを用いた場
合には629nmの膜厚が必要であり片側実装では22
76nmの膜厚が必要になる。これを金属の種類をかえ
ることにより軽減することができるがCuを用いた場合
でも両側実装で387nm、片側実装の場合には131
0nmの膜厚が必要になるがいずれにしても250nm
を越えている必要がある。換言すれば、上述したように
光学的な差異やクロストークの発生を防止するためには
金属配線の膜厚は250nm以下でなければならないが
(上記B(2) 参照)、その場合には駆動周波数を高くす
ることができず、高精細化等への対応が困難であった。
In addition, the spontaneous polarization is set to 1 for high-speed driving.
00 nc / cm 2 , the cell thickness is about 2 μm, and the rounding of the waveform is reduced. In order to increase the driving frequency to 15 Hz or more, when Al-Si-Cu is used for both-side mounting, 629 nm is used. Thickness is required, 22 for single-sided mounting
A film thickness of 76 nm is required. This can be alleviated by changing the type of metal. However, even when Cu is used, it is 387 nm for both-side mounting and 131 for single-side mounting.
A film thickness of 0 nm is required, but in any case 250 nm
Must be exceeded. In other words, as described above, the thickness of the metal wiring must be 250 nm or less in order to prevent the occurrence of optical differences and crosstalk (see B (2) above). The frequency could not be increased, and it was difficult to respond to high definition.

【0013】なお、上述した両側実装の場合と片側実装
の場合とでは電源ICのコストが倍違うため商品力に大
きな違いを生ずることになるので液晶素子の構成として
は片側実装が望ましい。 D.金属配線を透明電極の裏面に形成する方法 ところで、上述(1) (2) のような問題を解決すべく、図
3(h) に示すような配線基板10も提案されている。
Since the cost of the power supply IC is twice as large between the two-sided mounting and the one-sided mounting described above, which causes a great difference in the product strength, the single-sided mounting is desirable as the configuration of the liquid crystal element. D. Method of Forming Metal Wiring on Backside of Transparent Electrode By the way, to solve the above problems (1) and (2), a wiring board 10 as shown in FIG. 3 (h) has been proposed.

【0014】この配線基板10は、透光性基材としての
透明なガラス基板11を備えており、このガラス基板1
1の表面には、ストライプ状の金属配線(第1電極)1
2が多数形成されている。これらの金属配線12は所定
間隙を置いて配置されているが、該間隙にはUV硬化樹
脂13が充填されている。そして、この樹脂13は金属
配線12と共に平滑な面を形成しており、該形成された
平滑な面上には、各金属配線12に沿うように透明電極
(第2電極)15が多数形成されている。
The wiring substrate 10 includes a transparent glass substrate 11 as a light-transmitting substrate.
1 has a stripe-shaped metal wiring (first electrode) 1
2 are formed in large numbers. These metal wirings 12 are arranged with a predetermined gap therebetween, and the gap is filled with a UV curing resin 13. The resin 13 forms a smooth surface together with the metal wires 12, and a large number of transparent electrodes (second electrodes) 15 are formed on the formed smooth surface along the metal wires 12. ing.

【0015】この配線基板10では、透明電極15の裏
側(ガラス基板11の側)に金属配線12を配置してい
ることから、金属配線12の厚さを自由に設定でき、上
述(1) (2) のような問題が解決される。
In the wiring board 10, since the metal wiring 12 is disposed on the back side of the transparent electrode 15 (on the side of the glass substrate 11), the thickness of the metal wiring 12 can be freely set, and the above (1) ( Problems such as 2) are solved.

【0016】次に、このような配線基板10の製造方法
について、図3(a) 〜(h) を参照して簡単に説明する。
Next, a method of manufacturing such a wiring board 10 will be briefly described with reference to FIGS.

【0017】まず、ガラス基板11の表面にはスパッタ
法等によって厚膜のメタル層を形成し、該メタル層をフ
ォトリソグラフィ法等によってパターン化し、ストライ
プ状の金属配線12を多数形成する(同図(a) 参照)。
そして、金属配線12を形成した面にUV硬化樹脂13
を滴下し(同図(b) 参照)、表面が平滑な平滑型16を
重ね合わせる(同図(c) 及び(d) 参照)。これにより、
金属配線12の間隙はUV硬化樹脂13によって充填さ
れ、また、樹脂13は金属配線12と共に平滑な面を形
成することとなる。そして、このUV硬化樹脂13に紫
外線を照射して硬化させ(同図(e) 参照)、その後、平
滑型16を剥離する(同図(f) 及び(g)参照)。さら
に、透明電極15を所定の方法によって形成する(同図
(h) 参照)。
First, a thick metal layer is formed on the surface of a glass substrate 11 by a sputtering method or the like, and the metal layer is patterned by a photolithography method or the like to form a large number of stripe-shaped metal wirings 12 (FIG. 1). (a)).
Then, a UV curable resin 13 is provided on the surface on which the metal wiring 12 is formed.
Is dropped (see FIG. 3 (b)), and a smooth mold 16 having a smooth surface is overlapped (see FIGS. 3 (c) and 3 (d)). This allows
The gap between the metal wires 12 is filled with the UV curing resin 13, and the resin 13 forms a smooth surface together with the metal wires 12. The UV curable resin 13 is cured by irradiating it with ultraviolet rays (see FIG. 7 (e)), and then the smoothing mold 16 is peeled off (see FIGS. (F) and (g)). Further, a transparent electrode 15 is formed by a predetermined method (see FIG.
(h)).

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の製造
方法では、ガラス基板11の表面に金属配線12を形成
し、その後にUV硬化樹脂13の塗布や硬化等の工程を
実施していたため、金属配線12の剥離や断線が生じ易
かった。その結果、液晶パネルの製造歩留りが低下した
り、金属配線12の剥離等に伴う画像欠陥が発生してい
た。
In the conventional manufacturing method, the metal wiring 12 is formed on the surface of the glass substrate 11, and then the steps of applying and curing the UV curing resin 13 are performed. The wiring 12 was easily peeled or disconnected. As a result, the manufacturing yield of the liquid crystal panel has been reduced, and image defects due to the peeling of the metal wiring 12 have occurred.

【0019】また、従来の製造方法では、真空成膜法や
エッチング処理法を用いて金属配線12を形成していた
が、高価な装置が必要で液晶パネルの製造コストが高く
なるという問題があった。
Further, in the conventional manufacturing method, the metal wiring 12 is formed by using a vacuum film forming method or an etching method. However, there is a problem that an expensive apparatus is required and the manufacturing cost of the liquid crystal panel is increased. Was.

【0020】そこで、本発明は、安価な配線基板、該配
線基板を備えた液晶素子、及び該配線基板の製造方法を
提供することを目的とするものである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an inexpensive wiring board, a liquid crystal device having the wiring board, and a method for manufacturing the wiring board.

【0021】また、本発明は、第1電極の剥離や断線を
防止する配線基板の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a wiring board which prevents peeling and disconnection of the first electrode.

【0022】さらに、本発明は、薄型で軽量な配線基板
及び該配線基板を備えた液晶素子を提供することを目的
とするものである。
Still another object of the present invention is to provide a thin and lightweight wiring board and a liquid crystal device provided with the wiring board.

【0023】またさらに、本発明は、薄型で軽量な樹脂
製基材を使用するものでありながら白濁や変形等を防止
する、配線基板及び該配線基板を備えた液晶素子を提供
することを目的とするものである。
Still another object of the present invention is to provide a wiring board and a liquid crystal device provided with the wiring board, which use a thin and lightweight resin base material while preventing clouding and deformation. It is assumed that.

【0024】また、本発明は、電圧波形の遅延を防止す
る配線基板及び該配線基板を備えた液晶素子を提供する
ことを目的とするものである。
Another object of the present invention is to provide a wiring board for preventing a delay of a voltage waveform and a liquid crystal device provided with the wiring board.

【0025】さらに、本発明は、光学的な差異やクロス
トークの発生のない液晶素子を提供することを目的とす
るものである。
Another object of the present invention is to provide a liquid crystal element free of optical difference and crosstalk.

【0026】またさらに、本発明は、表示品質の良好な
液晶素子を提供することを目的とするものである。
Still another object of the present invention is to provide a liquid crystal device having good display quality.

【0027】[0027]

【課題を解決するための手段】本発明は、上述事情に鑑
みなされたものであって、光を透過する透光性基材と、
該透光性基材に支持された複数の第1電極と、各第1電
極に電気的に接続されるように形成された複数の第2電
極と、を備えた配線基板において、前記透光性基材が、
樹脂にて形成されると共に、その表面に複数の凹部を有
し、前記第1電極が、前記凹部以外の部分とほぼ平坦な
面を形成するように前記複数の凹部に配置され、かつ、
前記第2電極が、各第1電極に電気的に接続されるよう
に前記平坦な面に形成された、ことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a light-transmitting base material that transmits light.
The wiring substrate, comprising: a plurality of first electrodes supported by the light-transmitting substrate; and a plurality of second electrodes formed to be electrically connected to the first electrodes. Base material,
While being formed of resin, the surface thereof has a plurality of recesses, the first electrode is disposed in the plurality of recesses so as to form a substantially flat surface with a portion other than the recesses, and
The second electrode is formed on the flat surface so as to be electrically connected to each first electrode.

【0028】また、本発明は、所定距離を開けて配置さ
れた一対の配線基板と、これら配線基板の間隙に配置さ
れた液晶とを備え、かつ、前記配線基板が、光を透過す
る透光性基材、該透光性基材に支持された複数の第1電
極、並びに該第1電極に沿って形成された第2電極から
なる液晶素子において、前記透光性基材が、その表面に
複数の凹部を有すると共に、前記第1電極が、前記凹部
以外の部分とほぼ平坦な面を形成するように前記複数の
凹部に配置され、かつ、前記第2電極が、各第1電極に
電気的に接続されるように前記平坦な面に形成された、
ことを特徴とする。
Further, the present invention comprises a pair of wiring boards arranged at a predetermined distance from each other, and a liquid crystal arranged in a gap between these wiring boards, and the wiring board has a light transmitting property of transmitting light. A liquid crystal element comprising a transparent substrate, a plurality of first electrodes supported by the transparent substrate, and a second electrode formed along the first electrode, wherein the transparent substrate has a surface And the first electrode is disposed in the plurality of recesses so as to form a substantially flat surface with a portion other than the recess, and the second electrode is provided in each first electrode. Formed on the flat surface to be electrically connected,
It is characterized by the following.

【0029】さらに、本発明は、表面に複数の凹部を有
すると共に光を透過する透光性基材を成形する工程と、
前記凹部以外の部分とほぼ平坦な面を形成するように、
前記凹部に第1電極を形成する工程と、第2電極を、各
第1電極に電気的に接続されるように前記平坦な面に形
成する工程と、からなることを特徴とする。
Further, the present invention provides a step of molding a light-transmitting base material having a plurality of concave portions on the surface and transmitting light.
To form a substantially flat surface with the portion other than the concave portion,
Forming a first electrode in the recess and forming a second electrode on the flat surface so as to be electrically connected to each first electrode.

【0030】なお、透光性基材を樹脂にて形成したた
め、配線基板並びに液晶素子の薄型化及び軽量化を図る
ことができる。また、前記第1電極を、前記透光性基材
の凹部に形成するようにしたため、安価なメッキ法を利
用でき、製造コストを低減できる。
Since the translucent substrate is formed of a resin, the thickness and weight of the wiring board and the liquid crystal element can be reduced. In addition, since the first electrode is formed in the concave portion of the translucent substrate, an inexpensive plating method can be used, and the manufacturing cost can be reduced.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0032】まず、本発明の第1の実施の形態につい
て、図4を参照して説明する。
First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0033】本実施の形態に係る液晶素子P2 は、図4
(f) に示す配線基板20を2つ備えている。そして、こ
れら2つの配線基板20,20は、図1に示した配線基
板1,1と同様に所定距離を開けて配置されており、こ
れら配線基板20,20の間隙には液晶3が配置されて
いる。
The liquid crystal element P 2 according to the present embodiment is similar to that of FIG.
Two wiring boards 20 shown in (f) are provided. These two wiring boards 20, 20 are arranged at a predetermined distance, similarly to the wiring boards 1, 1 shown in FIG. 1, and a liquid crystal 3 is arranged in a gap between these wiring boards 20, 20. ing.

【0034】そして、各配線基板20は、光を透過する
樹脂製の透光性基材21を有しており、この透光性基材
21は多数の凹部21aを表面に有している。これらの
凹部21aには、下地層22と第1電極23とが埋設さ
れており、第1電極23は、透光性基材21の平坦部2
1b(凹部21a以外の部分。同図(e) 参照)と共にほ
ぼ平坦な面を形成している。なお、下地層22は、第1
電極23と透光性基材21との密着性を高める役割を果
たしている。また、この平坦な面には第2電極25が、
第1電極23に沿うように形成されて、各第1電極23
に電気的に接続されている。なお、第2電極25の表面
には、ショート防止のための誘電体膜7が形成されてお
り、さらにその表面には配向膜層9が形成されている
(不図示)。
Each wiring substrate 20 has a light-transmitting base material 21 made of resin which transmits light, and the light-transmitting base material 21 has a large number of concave portions 21a on the surface. The base layer 22 and the first electrode 23 are buried in these recesses 21 a, and the first electrode 23 is formed on the flat portion 2 of the translucent substrate 21.
1b (a portion other than the concave portion 21a; see FIG. 3E) and a substantially flat surface. The underlayer 22 is made of the first
It plays a role in enhancing the adhesion between the electrode 23 and the light-transmitting substrate 21. The second electrode 25 is provided on this flat surface.
The first electrodes 23 are formed along the first electrodes 23.
Is electrically connected to Note that a dielectric film 7 for preventing short circuit is formed on the surface of the second electrode 25, and an alignment film layer 9 is further formed on the surface (not shown).

【0035】透光性基材21は、板状で平滑で透明な樹
脂基板であれば如何なるものでも良く、例えば、アクリ
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、フェノ
ール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタ
ール樹脂、フッ素樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリサルホン樹
脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、メチルペンテン
樹脂等を用いれば良い。
The light-transmitting substrate 21 may be any plate-shaped, smooth and transparent resin substrate, for example, acrylic resin, polycarbonate resin, epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, polyethylene resin. For example, a polypropylene resin, a polyamide resin, a polyacetal resin, a fluorine resin, a vinyl chloride resin, a polystyrene resin, a polyphenylene oxide resin, a polysulfone resin, a polyphenylene sulfide resin, and a methylpentene resin may be used.

【0036】また、下地層22は、導電性を有するもの
であれば如何なるものでも良く、例えば、Pd,Ag,
Au,Pt等の金属を用いれば良い。
The underlayer 22 may be of any type as long as it has conductivity. For example, Pd, Ag,
A metal such as Au or Pt may be used.

【0037】さらに、第1電極23には、Cu,Cr,
Mo,Ni,Au,Ag,Pt等の金属や、これらの金
属の合金を用いれば良い。
Further, Cu, Cr,
Metals such as Mo, Ni, Au, Ag, and Pt, and alloys of these metals may be used.

【0038】次に、本実施の形態に係る液晶素子(配線
基板)の製造方法について、図4(a) 〜(f) を参照して
説明する。
Next, a method for manufacturing the liquid crystal element (wiring board) according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

【0039】まず、上述したように凹部21aを有する
透光性基材21を成形する(同図(a) 参照)。その成形
方法は如何なる方法でも良く、例えば、キャスティング
成形、圧縮成形、トランスファ成形、射出成形、押し出
し成形、ブロー成形、カレンダ成形、真空成形、圧空成
形、粉末成形、ペースト成形、積層成形法等を用いるこ
とができ、凹部21aは、第1電極のパターン形状に加
工された金型等を用いることにより形成すれば良い。
First, as described above, the light-transmissive substrate 21 having the concave portions 21a is formed (see FIG. 1A). The molding method may be any method, for example, using casting molding, compression molding, transfer molding, injection molding, extrusion molding, blow molding, calendar molding, vacuum molding, air pressure molding, powder molding, paste molding, lamination molding, or the like. The recess 21a may be formed by using a mold or the like processed into the pattern shape of the first electrode.

【0040】次に、透光性基材21の表面に感光性樹脂
26を塗布する(同図(b) 参照)。この塗布には、スピ
ナー、ロールコート、印刷、スプレー等を用いる。その
後、感光性樹脂26を乾燥させると共に、露光及び現像
処理を施し、平坦部21bにのみ感光性樹脂26が残る
ようにする。なお、感光性樹脂26としては、パターニ
ングが容易で、且つ除去が容易なものであれば良く、例
えば、フォトレジスト、ディープUVレジスト、EBレ
ジスト、X線レジスト等を挙げることができる。
Next, a photosensitive resin 26 is applied to the surface of the translucent substrate 21 (see FIG. 3B). For this application, a spinner, a roll coat, printing, spraying or the like is used. After that, the photosensitive resin 26 is dried, exposed and developed, so that the photosensitive resin 26 remains only on the flat portion 21b. The photosensitive resin 26 may be any resin that can be easily patterned and easily removed. Examples thereof include a photoresist, a deep UV resist, an EB resist, and an X-ray resist.

【0041】さらに、脱脂処理によって、透光性基材2
1や感光性樹脂26の表面に付着した汚れを除去する。
なお、脱脂処理の方法としては、溶剤処理、乳化脱脂
(エマルジョン脱脂)、アルカリ脱脂、電解脱脂、機械
的脱脂等を用いれば良い。
Further, the light-transmissive substrate 2
1 and dirt attached to the surface of the photosensitive resin 26 are removed.
As a method of the degreasing treatment, a solvent treatment, emulsification degreasing (emulsion degreasing), alkali degreasing, electrolytic degreasing, mechanical degreasing, or the like may be used.

【0042】次に、下地層22を形成する(同図(c) 参
照)。下地層22を形成する方法としては、メッキ法や
蒸着法を用いれば良い。さらに、下地層22の厚みは、
その表面に第1電極23をメッキできるような厚みであ
れば良く、具体的には、1〜1000Åの範囲、特に1
〜500Åの範囲が好ましい。下地層22がこのような
厚みであることから、その抵抗値は十分に高くなり、液
晶素子を駆動してもショートの心配はないが、この下地
層22をレーザやフォトリソ法を用いて適宜分断して、
隣り合う第1電極同士が電気的に導通しないようにして
もよい。
Next, an underlayer 22 is formed (see FIG. 3C). As a method for forming the underlayer 22, a plating method or an evaporation method may be used. Further, the thickness of the underlayer 22 is
It is sufficient that the thickness is such that the first electrode 23 can be plated on the surface thereof.
It is preferably in the range of -500 °. Since the underlayer 22 has such a thickness, its resistance value is sufficiently high, and there is no fear of short circuit even when the liquid crystal element is driven. However, this underlayer 22 is appropriately divided by using a laser or a photolithography method. do it,
The first electrodes adjacent to each other may not be electrically connected.

【0043】次に、感光性樹脂26を溶解液で溶解し、
凹部21aにのみ下地層22を残す(同図(d) 参照)。
この溶解液としては、溶剤、アルカリ液、専用剥離液等
を用いれば良い。
Next, the photosensitive resin 26 is dissolved with a dissolving solution,
The underlayer 22 is left only in the concave portion 21a (see FIG. 3D).
As the solution, a solvent, an alkaline solution, a dedicated stripping solution, or the like may be used.

【0044】その後、透光性基材21の凹部21aにメ
ッキ法によって第1電極23を形成する(同図(e) 参
照)。なお、第1電極23のメッキ方法としては、無電
解メッキ(化学メッキ)、電界メッキ等を用いれば良い
が、膜厚均一性に優れる無電解メッキが好ましい。
Thereafter, the first electrode 23 is formed in the concave portion 21a of the translucent substrate 21 by a plating method (see FIG. 3E). In addition, as a plating method of the first electrode 23, electroless plating (chemical plating), electric field plating, or the like may be used, but electroless plating excellent in film thickness uniformity is preferable.

【0045】さらに、透光性基材21並びに第1電極2
3によって形成される平坦な面に、ITO等からなる第
2電極25を形成する(同図(f) 参照)。
Further, the light-transmitting substrate 21 and the first electrode 2
A second electrode 25 made of ITO or the like is formed on the flat surface formed by 3 (see FIG. 2F).

【0046】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
Next, the effect of the present embodiment will be described.

【0047】本実施の形態によれば、第1電極23が、
各第2電極25に電気的に接続されるように配置されて
いるため、電極の抵抗値が低減される。したがって、従
来例で述べたような電圧波形の遅延が解消され、液晶分
子の反転が均一で、高精細化に対応可能な液晶素子を得
ることができる。
According to the present embodiment, the first electrode 23
Since they are arranged so as to be electrically connected to each second electrode 25, the resistance value of the electrodes is reduced. Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal element in which the delay of the voltage waveform as described in the conventional example is eliminated, the inversion of the liquid crystal molecules is uniform, and the liquid crystal element can cope with high definition.

【0048】また、本実施の形態によれば、第1電極2
3は透光性基材21の凹部21aに埋め込まれた状態で
配置されると共に、第2電極25はその表面に形成され
ているため、配向膜層9に過度な凹凸が生じることもな
く、光学的な差異やクロストークの発生もなく、良好な
品質の画像が得られる。換言すれば、画像欠陥の心配も
なく第1電極23を厚くできるので、電極の低抵抗化が
可能となり、電圧波形の遅延をより一層確実に防止でき
る。なお、本発明者が実際に抵抗値を測定したところ、
300Ω以下であった。
According to the present embodiment, the first electrode 2
3 is arranged in a state of being embedded in the concave portion 21a of the translucent substrate 21, and since the second electrode 25 is formed on the surface thereof, the alignment film layer 9 does not have excessive unevenness. Good quality images can be obtained without occurrence of optical difference or crosstalk. In other words, the first electrode 23 can be made thicker without worrying about image defects, so that the resistance of the electrode can be reduced and the delay of the voltage waveform can be more reliably prevented. Incidentally, when the inventor actually measured the resistance value,
It was 300Ω or less.

【0049】さらに、本実施の形態によれば、低抵抗化
のために第1電極23を設けたため、第2電極25を厚
く形成する必要がない。したがって、第2電極25の透
過率が下がって第2電極25が認識されることもなく、
それに伴って表示品質が悪化することもない。
Further, according to the present embodiment, since the first electrode 23 is provided for lowering the resistance, it is not necessary to form the second electrode 25 thick. Therefore, the transmittance of the second electrode 25 does not decrease and the second electrode 25 is not recognized,
Accordingly, the display quality does not deteriorate.

【0050】またさらに、透光性基材21を樹脂にて形
成しているため、液晶素子の薄型化及び軽量化が可能と
なる。
Further, since the translucent base 21 is formed of a resin, the liquid crystal element can be made thinner and lighter.

【0051】また、凹部21aと第1電極23との間
に、透光性基材21と第1電極23との密着性を高める
下地層22を形成しているため、第1電極23の剥離が
低減され、その結果、液晶素子の製造歩留りの低下や、
第1電極23の剥離等に伴う画像欠陥の発生が防止され
る。
Further, since the base layer 22 for improving the adhesiveness between the light-transmitting substrate 21 and the first electrode 23 is formed between the recess 21a and the first electrode 23, the first electrode 23 is peeled off. Is reduced, and as a result, the production yield of the liquid crystal element is reduced,
The occurrence of image defects due to the separation of the first electrode 23 and the like is prevented.

【0052】さらに、従来の製造方法において金属配線
12をメッキ法によって形成した場合には、金属配線1
2と基板11との密着性に欠けることから、平滑板16
を剥離する工程において金属配線12の剥離や断線が発
生するおそれがあった。しかし、本実施の形態では、そ
のような剥離工程がないことから、第1電極23の剥離
等の心配もなく、液晶素子の製造歩留りの低下や、第1
電極23の剥離等に伴う画像欠陥の発生を防止できる。
また、第1電極23を安価なメッキ法によって形成する
ため、液晶素子の製造コストを低減できる。さらに、こ
のようなメッキ法の使用に伴い、透光性基材21の白濁
や変形が回避できる。
Further, when the metal wiring 12 is formed by a plating method in the conventional manufacturing method, the metal wiring 1
2 and the substrate 11, the smooth plate 16
In the step of peeling off, there is a possibility that peeling or disconnection of the metal wiring 12 may occur. However, in the present embodiment, since there is no such a peeling step, there is no need to worry about peeling of the first electrode 23, etc.
It is possible to prevent the occurrence of image defects due to the separation of the electrode 23 and the like.
Further, since the first electrode 23 is formed by an inexpensive plating method, the manufacturing cost of the liquid crystal element can be reduced. Further, with the use of such a plating method, it is possible to avoid white turbidity and deformation of the translucent substrate 21.

【0053】ついで、本発明の第2の実施の形態につい
て、図6を参照して説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0054】本実施の形態に係る配線基板30は、図6
(c) に示すように、第1の実施の形態と同じ形状の透光
性基材21を備えており、その平坦部21bにはカラー
フィルタ32が形成されている。また、透光性基材21
の凹部21aには下地層22や第1電極31が配置され
ているが、その第1電極31はカラーフィルタ32と共
にほぼ平坦な面を形成している。そして、この平坦な面
には第2電極25が形成されている。
The wiring board 30 according to the present embodiment is similar to that shown in FIG.
As shown in (c), a transparent substrate 21 having the same shape as in the first embodiment is provided, and a color filter 32 is formed on a flat portion 21b. Further, the translucent substrate 21
The base layer 22 and the first electrode 31 are arranged in the concave portion 21a, and the first electrode 31 forms a substantially flat surface together with the color filter 32. The second electrode 25 is formed on this flat surface.

【0055】次に、配線基板30の製造方法について簡
単に説明する。
Next, a method of manufacturing the wiring board 30 will be briefly described.

【0056】まず、表面に凹部21aを有する透光性基
材21を成形する。
First, a light-transmissive substrate 21 having a concave portion 21a on its surface is formed.

【0057】次に、透光性基材21の平坦部21bにカ
ラーフィルタ32を形成する。なお、カラーフィルタ3
2の形成方法としては、フォトリソ法や、印刷法や、昇
華法や、インクジェット法等の方法を用いれば良い。
Next, a color filter 32 is formed on the flat portion 21b of the translucent substrate 21. The color filter 3
As a method for forming 2, a photolithography method, a printing method, a sublimation method, an inkjet method, or the like may be used.

【0058】さらに、透光性基材21の凹部21aに下
地層22を形成する(図6(a) 参照)。
Further, an underlayer 22 is formed in the concave portion 21a of the translucent substrate 21 (see FIG. 6A).

【0059】その後、凹部21aに第1電極31を形成
する(同図(b) 参照)。
Thereafter, the first electrode 31 is formed in the recess 21a (see FIG. 3B).

【0060】さらに、各第1電極31に電気的に接続さ
れるように第2電極25を形成する(同図(c) 参照)。
Further, the second electrodes 25 are formed so as to be electrically connected to the respective first electrodes 31 (see FIG. 3C).

【0061】本実施の形態によれば、第1の実施の形態
と同様の効果を有するカラー液晶素子を得ることができ
る。
According to the present embodiment, a color liquid crystal element having the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0062】ついで、本発明の第3の実施の形態につい
て、図7を参照して説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0063】本実施の形態に係る配線基板50は、図7
(c) に示すように、第1の実施の形態と同じ形状の透光
性基材21を備えており、その平坦部21bにはカラー
フィルタ32が形成されている。そして、このカラーフ
ィルタ32の表面は保護層51によって被覆されてい
る。また、透光性基材21の凹部21aには下地層22
や第1電極31が配置されているが、その第1電極31
は保護層51と共にほぼ平坦な面を形成している。そし
て、この平坦な面には第2電極25が形成されている。
The wiring board 50 according to the present embodiment is similar to the wiring board shown in FIG.
As shown in (c), a transparent substrate 21 having the same shape as in the first embodiment is provided, and a color filter 32 is formed on a flat portion 21b. The surface of the color filter 32 is covered with a protective layer 51. In addition, the underlayer 22 is formed in the concave portion 21a of the translucent substrate 21.
And the first electrode 31 are arranged.
Forms a substantially flat surface together with the protective layer 51. The second electrode 25 is formed on this flat surface.

【0064】次に、配線基板50の製造方法について簡
単に説明する。
Next, a method for manufacturing the wiring board 50 will be briefly described.

【0065】まず、表面に凹部21aを有する透光性基
材21を成形する。
First, a light-transmissive substrate 21 having a concave portion 21a on the surface is formed.

【0066】次に、透光性基材21の平坦部21bにカ
ラーフィルタ32を形成する。なお、カラーフィルタ3
2の形成方法としては、フォトリソ法や、印刷法や、昇
華法や、インクジェット法等の方法を用いれば良い。さ
らに、カラーフィルタ32の表面に保護層51を形成
し、凹部21aに下地層22を形成する(図7(a) 参
照)。
Next, a color filter 32 is formed on the flat portion 21b of the translucent substrate 21. The color filter 3
As a method for forming 2, a photolithography method, a printing method, a sublimation method, an inkjet method, or the like may be used. Further, a protective layer 51 is formed on the surface of the color filter 32, and an underlayer 22 is formed in the concave portion 21a (see FIG. 7A).

【0067】その後、凹部21aに第1電極31を形成
する(同図(b) 参照)。
After that, the first electrode 31 is formed in the recess 21a (see FIG. 3B).

【0068】さらに、各第1電極31に電気的に接続さ
れるように第2電極25を形成する(同図(c) 参照)。
Further, the second electrodes 25 are formed so as to be electrically connected to the respective first electrodes 31 (see FIG. 3C).

【0069】本実施の形態によれば、上述した第1及び
第2の実施の形態と同様の効果が得られると共に、酸性
やアルカリ性の脱脂処理液やメッキ液からカラーフィル
タ32を保護でき、カラーフィルタ32の脱色を防止で
きる。
According to this embodiment, the same effects as those of the first and second embodiments can be obtained, and the color filter 32 can be protected from an acidic or alkaline degreasing solution or plating solution. Decolorization of the filter 32 can be prevented.

【0070】[0070]

【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例につ
いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0071】まず、本発明の第1実施例について、図4
を参照して説明する。
First, the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0072】本実施例においては、まず、凹部21aを
有する透明樹脂基板(透光性基材)21を成形する(同
図(a) 参照)。この成形に際しては、所定の金型に、ア
クリルモノマー(メタクリル酸メチル)と重合開始剤
(過酸化ベンゾイル系)とを注入して重合を生じさせ
る。その後離型し、アクリル樹脂からなる透明樹脂基板
21を得る。なお、本実施例では、透明樹脂基板21の
寸法を300×310×0.2mmとし、凹部21aのピ
ッチを320μmとし、凹部21aの幅を20μmと
し、凹部21aの深さを2μmとしている。
In this embodiment, first, a transparent resin substrate (translucent base material) 21 having a concave portion 21a is formed (see FIG. 1A). In this molding, an acrylic monomer (methyl methacrylate) and a polymerization initiator (benzoyl peroxide) are injected into a predetermined mold to cause polymerization. Thereafter, the mold is released to obtain a transparent resin substrate 21 made of an acrylic resin. In the present embodiment, the dimensions of the transparent resin substrate 21 are 300 × 310 × 0.2 mm, the pitch of the concave portions 21a is 320 μm, the width of the concave portions 21a is 20 μm, and the depth of the concave portions 21a is 2 μm.

【0073】次に、感光性樹脂としてのポジ型レジスト
(OFPR−800:東京応化社製)を、透明樹脂基板
21の表面にスピンナーで1μmの厚みに塗布し、これ
を90℃の温度で30分間プリベークした。その後、フ
ォトマスクを介して凹部21aのみに露光を行ない、さ
らに現像やリンスを行ない、100℃の温度で30分間
のポストベークを行なった。これにより、凹部21a以
外の部分に感光性樹脂26を形成する(同図(b) 参
照)。
Next, a positive resist (OFPR-800: manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) as a photosensitive resin is applied to the surface of the transparent resin substrate 21 to a thickness of 1 μm using a spinner, and this is applied at a temperature of 90 ° C. for 30 minutes. Prebaked for minutes. Thereafter, exposure was performed only on the concave portion 21a through a photomask, development and rinsing were performed, and post-baking was performed at a temperature of 100 ° C. for 30 minutes. Thus, the photosensitive resin 26 is formed in a portion other than the concave portion 21a (see FIG. 2B).

【0074】その後、基板21の表面を中性洗剤で洗浄
し、さらにアルカリ脱脂処理を施した。
Thereafter, the surface of the substrate 21 was washed with a neutral detergent, and further subjected to an alkali degreasing treatment.

【0075】次に、Pd溶液を用い、室温で1分間の化
学メッキ処理を行ない、厚さが20ÅのPd膜を基板全
面に形成した(同図(c) 参照)。その後、ポジ型レジス
ト専用剥離液を用いて感光性樹脂26を溶解し、凹部2
1aのみにPd膜(下地層22)を残した(同図(d) 参
照)。
Next, using a Pd solution, a chemical plating treatment was carried out at room temperature for 1 minute to form a Pd film having a thickness of 20 ° on the entire surface of the substrate (see FIG. 3C). Thereafter, the photosensitive resin 26 is dissolved using a stripper for exclusive use of a positive resist, and the concave portion 2 is removed.
The Pd film (underlayer 22) was left only on 1a (see FIG. 3D).

【0076】その後、透明樹脂基板21の凹部21aに
メッキ法によって金属配線(第1電極)23を形成する
(同図(e) 参照)。なお、本実施例においては、3層の
金属メッキを行なうことによって金属配線23を3層構
造とした。
Thereafter, a metal wiring (first electrode) 23 is formed in the concave portion 21a of the transparent resin substrate 21 by plating (see FIG. 7E). In this embodiment, the metal wiring 23 has a three-layer structure by performing three-layer metal plating.

【0077】具体的には、Ni溶液を用い、80℃で2
分間の化学メッキ処理を行ない、厚さが2000ÅのN
i膜を形成した。その後、水洗し乾燥した後、100℃
の温度で30分間のアニールを行なった。さらに、希塩
酸により室温で1分間の処理をした後、Cu溶液を用い
て80℃で30分間の化学メッキ処理を行ない、160
00Åの厚さのCu膜を形成した。その後、水洗を行な
った。さらに、Ni溶液を用い、80℃の温度で2分間
の化学メッキ処理を行ない、Cu膜上に、2000Åの
厚さのNiを形成した。
Specifically, a Ni solution was used at 80 ° C. for 2 hours.
2,000 minutes of chemical plating
An i film was formed. Then, after washing with water and drying, 100 ° C
At 30 ° C. for 30 minutes. Further, after a treatment with diluted hydrochloric acid at room temperature for 1 minute, a chemical plating treatment is performed at 80 ° C. for 30 minutes using a Cu solution,
A Cu film having a thickness of 00 ° was formed. Thereafter, washing was performed with water. Further, using a Ni solution, a chemical plating treatment was carried out at a temperature of 80 ° C. for 2 minutes to form a 2000-nm thick Ni on the Cu film.

【0078】さらに、透明樹脂基板21並びに金属配線
23によって形成される平坦な面に、透明電極(第2電
極)25を形成した(同図(f) 参照)。なお、本実施例
においては、透明電極25のピッチを320μmとし、
電極幅を300μmとした。
Further, a transparent electrode (second electrode) 25 was formed on the flat surface formed by the transparent resin substrate 21 and the metal wiring 23 (see FIG. 1F). In this embodiment, the pitch of the transparent electrodes 25 is set to 320 μm,
The electrode width was 300 μm.

【0079】次に、本実施例の効果について説明する。Next, the effect of this embodiment will be described.

【0080】本実施例によれば、金属配線23が、各透
明電極25に電気的に接続されるように配置されている
ため、電極の抵抗値が低減される。したがって、従来例
で述べたような電圧波形の遅延が解消され、液晶分子の
反転が均一で、高精細化に対応可能な液晶パネルを得る
ことができる。
According to this embodiment, since the metal wiring 23 is arranged so as to be electrically connected to each transparent electrode 25, the resistance value of the electrode is reduced. Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal panel in which the delay of the voltage waveform as described in the conventional example is eliminated, the inversion of the liquid crystal molecules is uniform, and the definition is compatible.

【0081】また、本実施例によれば、金属配線23は
透明樹脂基板21の凹部21aに埋め込まれた状態で配
置されると共に、透明電極25はその表面に形成されて
いるため、配向膜層9に過度な凹凸が生じることもな
く、光学的な差異やクロストークの発生もなく、良好な
品質の画像が得られる。換言すれば、画像欠陥の心配も
なく金属配線23を厚くできるので、電極の低抵抗化が
可能となり、電圧波形の遅延をより一層確実に防止でき
る。なお、本発明者が実際に抵抗値を測定したところ、
300Ω以下であった。
Further, according to the present embodiment, the metal wiring 23 is disposed in a state of being embedded in the concave portion 21a of the transparent resin substrate 21, and the transparent electrode 25 is formed on the surface thereof. 9 does not have excessive unevenness, does not have optical difference or crosstalk, and can obtain an image of good quality. In other words, the thickness of the metal wiring 23 can be increased without worrying about image defects, so that the resistance of the electrode can be reduced and the delay of the voltage waveform can be more reliably prevented. Incidentally, when the inventor actually measured the resistance value,
It was 300Ω or less.

【0082】さらに、本実施例によれば、低抵抗化のた
めに金属配線23を設けたため、透明電極25を厚く形
成する必要がない。したがって、透明電極25の透過率
が下がって透明電極25が認識されることもなく、それ
に伴って表示品質が悪化することもない。
Further, according to the present embodiment, since the metal wiring 23 is provided to reduce the resistance, it is not necessary to form the transparent electrode 25 thick. Therefore, the transmittance of the transparent electrode 25 does not decrease and the transparent electrode 25 is not recognized, and the display quality does not deteriorate accordingly.

【0083】またさらに、透明樹脂基板21を樹脂にて
形成しているため、液晶パネルの薄型化及び軽量化が可
能となる。
Further, since the transparent resin substrate 21 is formed of resin, the liquid crystal panel can be made thinner and lighter.

【0084】また、凹部21aと金属配線23との間
に、透明樹脂基板21と金属配線23との密着性を高め
る下地層22を形成しているため、金属配線23の剥離
が低減され、その結果、液晶パネルの製造歩留りの低下
や、金属配線23の剥離等に伴う画像欠陥の発生が防止
される。
Since the underlayer 22 for improving the adhesion between the transparent resin substrate 21 and the metal wiring 23 is formed between the recess 21a and the metal wiring 23, the peeling of the metal wiring 23 is reduced. As a result, a reduction in the production yield of the liquid crystal panel and the occurrence of image defects due to peeling of the metal wiring 23 and the like are prevented.

【0085】さらに、従来の製造方法において金属配線
12をメッキ法によって形成した場合には、金属配線1
2と基板11との密着性に欠けることから、平滑板16
を剥離する工程において金属配線12の剥離や断線が発
生するおそれがあった。しかし、本実施例では、そのよ
うな剥離工程がないことから、金属配線23の剥離等の
心配もなく、液晶パネルの製造歩留りの低下や、金属配
線23の剥離等に伴う画像欠陥の発生を防止できる。ま
た、金属配線23を安価なメッキ法によって形成するた
め、液晶パネルの製造コストを低減できる。さらに、こ
のようなメッキ法の使用に伴い、透明樹脂基板21の白
濁や変形が回避できる。なお、本発明者は金属配線23
を形成した状態で顕微鏡観察をしたが、金属配線23の
断線や剥れや、透明樹脂基板21の白濁や変形等は全く
観察されなかった。
Further, when the metal wiring 12 is formed by a plating method in the conventional manufacturing method, the metal wiring 1
2 and the substrate 11, the smooth plate 16
In the step of peeling off, there is a possibility that peeling or disconnection of the metal wiring 12 may occur. However, in the present embodiment, since there is no such a peeling step, there is no fear of peeling of the metal wiring 23 and the like. Can be prevented. Further, since the metal wiring 23 is formed by an inexpensive plating method, the manufacturing cost of the liquid crystal panel can be reduced. Further, with the use of such a plating method, cloudiness or deformation of the transparent resin substrate 21 can be avoided. Note that the present inventor has proposed the metal wiring 23.
Microscopic observation was performed in the state in which was formed, but no disconnection or peeling of the metal wiring 23 or clouding or deformation of the transparent resin substrate 21 was observed at all.

【0086】ついで、本発明の第2実施例について、図
5を参照して説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0087】上述実施例においては、金属配線23を形
成するためのメッキは、感光性樹脂26を溶解した後に
行なったが、本実施例においては、図5に示すように、
金属配線23をメッキする段階では感光性樹脂26等を
残しておき、その後、感光性樹脂26を除去した。
In the above embodiment, the plating for forming the metal wiring 23 was performed after the photosensitive resin 26 was dissolved, but in this embodiment, as shown in FIG.
At the stage of plating the metal wiring 23, the photosensitive resin 26 and the like were left, and thereafter, the photosensitive resin 26 was removed.

【0088】本実施例によれば、上記第1実施例と同様
の効果が得られる。
According to this embodiment, the same effects as in the first embodiment can be obtained.

【0089】ついで、本発明の第3実施例について、図
6を参照して説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0090】本実施例においては、透明樹脂基板21の
平坦部21bに、顔料系カラーフィルタ(宇部興産社
製)32をフォトリソ・エッチング法によって1μmの
厚さに形成した。
In the present embodiment, a pigment-based color filter (manufactured by Ube Industries, Ltd.) 32 was formed on the flat portion 21b of the transparent resin substrate 21 to a thickness of 1 μm by photolithographic etching.

【0091】次に、本実施例の効果について説明する。Next, the effect of this embodiment will be described.

【0092】本実施例によれば、上記第1実施例と同様
の効果を有するカラー液晶パネルを得ることができる。
According to this embodiment, it is possible to obtain a color liquid crystal panel having the same effects as in the first embodiment.

【0093】ついで、本発明の第4実施例について、図
7を参照して説明する。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0094】本実施例においては、透明樹脂基板21の
平坦部21bに、顔料系カラーフィルタ(宇部興産社
製)32をフォトリソ・エッチング法によって1μmの
厚さに形成した。さらに、このカラーフィルタ32の表
面には、保護層51として、感光性ポリアミド系透明コ
ーティング剤(宇部興産社製)を0.5μmの厚さに塗
布・パターニングした。
In this embodiment, a pigment-based color filter (manufactured by Ube Industries, Ltd.) 32 was formed on the flat portion 21b of the transparent resin substrate 21 to a thickness of 1 μm by a photolithographic etching method. Further, on the surface of the color filter 32, a photosensitive polyamide-based transparent coating agent (manufactured by Ube Industries, Ltd.) was applied and patterned to a thickness of 0.5 μm as a protective layer 51.

【0095】次に、本実施例の効果について説明する。Next, the effect of this embodiment will be described.

【0096】本実施例によれば、上述した第1及び第3
実施例と同様の効果が得られると共に、酸性やアルカリ
性の脱脂処理液やメッキ液からカラーフィルタ32を保
護でき、カラーフィルタ32の脱色を防止できる。
According to the present embodiment, the above-described first and third
The same effect as that of the embodiment can be obtained, and the color filter 32 can be protected from an acidic or alkaline degreasing solution or plating solution, and the color filter 32 can be prevented from being decolorized.

【0097】[0097]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
前記第1電極が、各第2電極に電気的に接続されるよう
に配置されているため、電極の抵抗値が低減される。し
たがって、従来例で述べたような電圧波形の遅延が解消
され、液晶分子の反転が均一で、高精細化に対応可能な
液晶素子を得ることができる。
As described above, according to the present invention,
Since the first electrodes are arranged so as to be electrically connected to the respective second electrodes, the resistance value of the electrodes is reduced. Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal element in which the delay of the voltage waveform as described in the conventional example is eliminated, the inversion of the liquid crystal molecules is uniform, and the liquid crystal element can cope with high definition.

【0098】また、本発明によれば、第1電極は前記透
光性基材の凹部に埋め込まれた状態で配置されると共
に、第2電極はその表面に形成されているため、第1電
極を厚くしてもセル厚が不均一になることもなく、光学
的な差異やクロストークの発生もなく、良好な品質の画
像が得られる。換言すれば、画像欠陥の心配もなく第1
電極を厚くできるので、電極の低抵抗化が可能となり、
電圧波形の遅延をより一層確実に防止できる。
Further, according to the present invention, the first electrode is disposed so as to be embedded in the concave portion of the light-transmitting substrate, and the second electrode is formed on the surface thereof. Even if the thickness is increased, the cell thickness does not become non-uniform, and there is no occurrence of optical difference and crosstalk, and an image of good quality can be obtained. In other words, there is no need to worry about image defects.
Since the electrodes can be made thicker, the resistance of the electrodes can be reduced,
The delay of the voltage waveform can be more reliably prevented.

【0099】さらに、本発明によれば、低抵抗化のため
に第1電極を設けたため、第2電極を厚く形成する必要
がない。したがって、第2電極の透過率が下がって第2
電極が認識されることもなく、それに伴って表示品質が
悪化することもない。
Further, according to the present invention, since the first electrode is provided for reducing the resistance, it is not necessary to form the second electrode thick. Therefore, the transmittance of the second electrode decreases and the second electrode
The electrodes are not recognized, and the display quality is not deteriorated accordingly.

【0100】またさらに、透光性基材を樹脂にて形成し
ているため、液晶素子の薄型化及び軽量化が可能とな
る。
Further, since the light-transmitting substrate is formed of a resin, the liquid crystal element can be made thinner and lighter.

【0101】また、前記凹部と前記第1電極との間に、
前記透光性基材と前記第1電極との密着性を高める下地
層を形成した場合には、第1電極の剥離が低減され、そ
の結果、液晶素子の製造歩留りの低下や、第1電極の剥
離等に伴う画像欠陥の発生が防止される。
Further, between the concave portion and the first electrode,
In the case where an underlayer that enhances the adhesion between the light-transmissive substrate and the first electrode is formed, the separation of the first electrode is reduced, and as a result, the production yield of the liquid crystal element is reduced, and The occurrence of image defects due to peeling of the image is prevented.

【0102】さらに、前記透光性基材と前記第2電極と
の間にカラーフィルタを配置した場合には、上述した種
々の効果を有するカラー液晶素子を得ることができる。
Further, when a color filter is disposed between the light-transmitting substrate and the second electrode, a color liquid crystal element having the various effects described above can be obtained.

【0103】またさらに、前記カラーフィルタを覆うよ
うに該カラーフィルタと前記第2電極との間に保護層を
配置した場合には、カラーフィルタを種々の薬品から保
護でき、カラーフィルタの脱色を防止できる。
Further, when a protective layer is disposed between the color filter and the second electrode so as to cover the color filter, the color filter can be protected from various chemicals, and decolorization of the color filter can be prevented. it can.

【0104】また、前記第1電極をメッキ法によって形
成するようにした場合には、上述のように透光性基材を
樹脂にて形成しても、該基材が白濁したり変形したりす
ることもない。さらに、安価なメッキ法の使用に伴い、
液晶素子の製造コストを低減できる。
In the case where the first electrode is formed by plating, even if the light-transmitting substrate is formed of resin as described above, the substrate may become cloudy or deformed. Nothing to do. Furthermore, with the use of inexpensive plating methods,
The manufacturing cost of the liquid crystal element can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の液晶パネルの構造を説明するための図で
あり、(a) は液晶パネルの断面図、(b) は透明電極の形
状を説明するための平面図。
1A and 1B are diagrams for explaining the structure of a conventional liquid crystal panel, wherein FIG. 1A is a cross-sectional view of the liquid crystal panel, and FIG. 1B is a plan view for explaining the shape of a transparent electrode.

【図2】金属配線の厚みと駆動周波数との関係を説明す
るための図表。
FIG. 2 is a chart for explaining a relationship between a thickness of a metal wiring and a driving frequency.

【図3】従来の配線基板の製造方法を説明するための
図。
FIG. 3 is a view for explaining a conventional method for manufacturing a wiring board.

【図4】第1の実施の形態に係る配線基板の製造方法を
説明するための図。
FIG. 4 is a diagram for explaining the method for manufacturing the wiring board according to the first embodiment.

【図5】第1の実施の形態に係る配線基板の製造方法の
変形例を示す図。
FIG. 5 is a view showing a modification of the method of manufacturing the wiring board according to the first embodiment;

【図6】第2の実施の形態に係る配線基板の製造方法を
説明するための図。
FIG. 6 is a diagram for explaining a method for manufacturing a wiring board according to the second embodiment.

【図7】第3の実施の形態係る配線基板の製造方法を説
明するための図。
FIG. 7 is a diagram for explaining a method of manufacturing a wiring board according to a third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 配線基板 21 透明樹脂基板(透光性基材) 21a 凹部 22 下地層 23 金属配線(第1電極) 25 透明電極(第2電極) 30 配線基板 31 金属配線(第1電極) 32 カラーフィルタ 50 配線基板 51 保護層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 Wiring board 21 Transparent resin substrate (translucent base material) 21a Depression 22 Underlayer 23 Metal wiring (1st electrode) 25 Transparent electrode (2nd electrode) 30 Wiring board 31 Metal wiring (1st electrode) 32 Color filter 50 Wiring board 51 Protective layer

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光を透過する透光性基材と、該透光性基
材に支持された複数の第1電極と、各第1電極に電気的
に接続されるように形成された複数の第2電極と、を備
えた配線基板において、 前記透光性基材が、樹脂にて形成されると共に、その表
面に複数の凹部を有し、 前記第1電極が、前記凹部以外の部分とほぼ平坦な面を
形成するように前記複数の凹部に配置され、かつ、 前記第2電極が、各第1電極に電気的に接続されるよう
に前記平坦な面に形成された、 ことを特徴とする配線基板。
1. A light-transmitting substrate that transmits light, a plurality of first electrodes supported by the light-transmitting substrate, and a plurality of electrodes formed to be electrically connected to each of the first electrodes. Wherein the light-transmitting substrate is formed of a resin and has a plurality of recesses on its surface, and the first electrode has a portion other than the recesses. And the second electrode is formed on the flat surface so as to form an almost flat surface, and the second electrode is electrically connected to each of the first electrodes. Characteristic wiring board.
【請求項2】 前記凹部と前記第1電極との間に、前記
透光性基材と前記第1電極との密着性を高める下地層が
形成された、 ことを特徴とする請求項1記載の配線基板。
2. The method according to claim 1, further comprising: forming a base layer between the recess and the first electrode, the base layer increasing the adhesion between the light-transmissive substrate and the first electrode. Wiring board.
【請求項3】 前記下地層が、Pd,Ag,Au,Pt
等の金属によって形成された、 ことを特徴とする請求項1又は2記載の配線基板。
3. The method according to claim 1, wherein the underlayer is made of Pd, Ag, Au, Pt.
The wiring board according to claim 1, wherein the wiring board is formed of a metal such as the above.
【請求項4】 前記第1電極が、Cu,Cr,Mo,N
i,Au,Ag,Pt等の金属、或はこれらの金属の合
金によって形成された、 ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の
配線基板。
4. The method according to claim 1, wherein the first electrode is made of Cu, Cr, Mo, N
4. The wiring board according to claim 1, wherein the wiring board is formed of a metal such as i, Au, Ag, Pt, or an alloy of these metals.
【請求項5】 所定距離を開けて配置された一対の配線
基板と、これら配線基板の間隙に配置された液晶とを備
え、かつ、前記配線基板が、光を透過する透光性基材、
該透光性基材に支持された複数の第1電極、並びに該第
1電極に沿って形成された第2電極からなる液晶素子に
おいて、 前記透光性基材が、その表面に複数の凹部を有すると共
に、 前記第1電極が、前記凹部以外の部分とほぼ平坦な面を
形成するように前記複数の凹部に配置され、かつ、 前記第2電極が、各第1電極に電気的に接続されるよう
に前記平坦な面に形成された、 ことを特徴とする液晶素子。
5. A light-transmitting base material comprising: a pair of wiring boards arranged at a predetermined distance from each other; and a liquid crystal arranged in a gap between these wiring boards, wherein said wiring board transmits light.
In a liquid crystal element including a plurality of first electrodes supported by the translucent substrate and a second electrode formed along the first electrode, the translucent substrate includes a plurality of concave portions on a surface thereof. And the first electrode is disposed in the plurality of recesses so as to form a substantially flat surface with a portion other than the recesses, and the second electrode is electrically connected to each first electrode. A liquid crystal element formed on the flat surface so as to be formed.
【請求項6】 前記一対の配線基板のうちの少なくとも
いずれか一方が、前記透光性基材と前記第2電極との間
に配置されたカラーフィルタを備え、かつ、 該カラーフィルタが前記第1電極と共にほぼ平坦な面を
形成すると共に、前記第2電極が該平坦な面に形成され
た、 ことを特徴とする請求項5記載の液晶素子。
6. At least one of the pair of wiring boards includes a color filter disposed between the light-transmissive base material and the second electrode, and the color filter includes The liquid crystal device according to claim 5, wherein a substantially flat surface is formed together with one electrode, and the second electrode is formed on the flat surface.
【請求項7】 前記一対の配線基板のうちの少なくとも
いずれか一方が、前記透光性基材と前記第2電極との間
に配置されたカラーフィルタと、該カラーフィルタを覆
うように該カラーフィルタと前記第2電極との間に配置
された保護層と、を備え、かつ、 該保護層が前記第1電極と共にほぼ平坦な面を形成する
と共に、前記第2電極が該平坦な面に形成された、 ことを特徴とする請求項5記載の液晶素子。
7. A color filter provided between at least one of the pair of wiring substrates and the light-transmissive substrate and the second electrode, and the color filter covering the color filter. A protective layer disposed between the filter and the second electrode, wherein the protective layer forms a substantially flat surface together with the first electrode, and the second electrode is formed on the flat surface. The liquid crystal element according to claim 5, wherein the liquid crystal element is formed.
【請求項8】 表面に複数の凹部を有すると共に光を透
過する透光性基材を成形する工程と、 前記凹部以外の部分とほぼ平坦な面を形成するように、
前記凹部に第1電極を形成する工程と、 第2電極を、各第1電極に電気的に接続されるように前
記平坦な面に形成する工程と、 からなる配線基板の製造方法。
8. A step of forming a light-transmitting substrate having a plurality of recesses on its surface and transmitting light, and forming a substantially flat surface with portions other than the recesses.
Forming a first electrode in the concave portion; and forming a second electrode on the flat surface so as to be electrically connected to each of the first electrodes.
【請求項9】 表面に複数の凹部を有すると共に光を透
過する透光性基材を成形する工程と、 前記凹部に第1電極を形成する工程と、 前記凹部以外の部分に、前記第1電極と共にほぼ平坦な
面を形成するようにカラーフィルタを形成する工程と、 第2電極を、各第1電極に電気的に接続されるように前
記平坦な面に形成する工程と、 からなる配線基板の製造方法。
9. A step of forming a light-transmitting substrate having a plurality of recesses on the surface and transmitting light, a step of forming a first electrode in the recesses, and a step of forming the first electrode in a portion other than the recesses. Forming a color filter so as to form a substantially flat surface together with the electrodes; and forming a second electrode on the flat surface so as to be electrically connected to each of the first electrodes. Substrate manufacturing method.
【請求項10】 表面に複数の凹部を有すると共に光を
透過する透光性基材を成形する工程と、 前記凹部に第1電極を形成する工程と、 前記凹部以外の部分にカラーフィルタを形成する工程
と、 前記カラーフィルタの表面に、前記第1電極と共にほぼ
平坦な面を形成するように保護層を形成する工程と、 第2電極を、各第1電極に電気的に接続されるように前
記平坦な面に形成する工程と、 からなる配線基板の製造方法。
10. A step of forming a light-transmitting substrate having a plurality of recesses on the surface and transmitting light, a step of forming a first electrode in the recesses, and forming a color filter in portions other than the recesses. Forming a protective layer on the surface of the color filter so as to form a substantially flat surface together with the first electrode; and connecting the second electrode to each of the first electrodes. Forming a wiring substrate on the flat surface.
【請求項11】 前記第1電極をメッキ法によって形成
する、 ことを特徴とする請求項8乃至10のいずれか1項記載
の配線基板の製造方法。
11. The method according to claim 8, wherein the first electrode is formed by a plating method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005283911A (en) * 2004-03-29 2005-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd Electroluminescence display panel
US8629346B2 (en) 2002-10-03 2014-01-14 Fujikura Ltd. Electrode substrate, photoelectric conversion element, conductive glass substrate and production method thereof, and pigment sensitizing solar cell

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