JPH10325965A - Liquid crystal display element - Google Patents
Liquid crystal display elementInfo
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- JPH10325965A JPH10325965A JP2571698A JP2571698A JPH10325965A JP H10325965 A JPH10325965 A JP H10325965A JP 2571698 A JP2571698 A JP 2571698A JP 2571698 A JP2571698 A JP 2571698A JP H10325965 A JPH10325965 A JP H10325965A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示素子に
係り、特に、イン−プレイン−スイッチング液晶モード
とスイッチング素子としての薄膜トランジスタとを組合
せたアクティブマトリクス型液晶表示素子に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to an active matrix type liquid crystal display device combining an in-plane switching liquid crystal mode and a thin film transistor as a switching device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般的に、液晶表示素子は、それぞれ電
極を有する２枚のガラス基板の間に液晶組成物を挟持
し、その２枚の基板の周囲が液晶封入口を除いて接着剤
で固定されていて液晶封入口が封止剤で封止された構造
の液晶セルが用いられている。2. Description of the Related Art In general, a liquid crystal display element has a liquid crystal composition sandwiched between two glass substrates each having an electrode, and the periphery of the two substrates is covered with an adhesive except for a liquid crystal filling port. A liquid crystal cell which is fixed and has a structure in which a liquid crystal filling port is sealed with a sealant is used.
【０００３】そして、この液晶セルは、セルギャップ、
すなわち２枚の基板間の距離を一定に保つために、粒状
のプラスティックビーズなどがスペーサとして利用され
ている。このスペーサは、粒径が均一であり、２枚の基
板間に散在されている。This liquid crystal cell has a cell gap,
That is, granular plastic beads or the like are used as spacers to keep the distance between the two substrates constant. This spacer has a uniform particle size and is scattered between the two substrates.
【０００４】近年、上述したような構造、すなわち２枚
の基板にそれぞれ配置された電極間で形成される縦電界
を利用した液晶表示素子に対して、一方の基板のみに並
列するように配置された２種類の電極間で形成される横
電界を利用した液晶表示素子、すなわちアクティブマト
リクス駆動方式のイン−プレイン−スイッチング型液晶
モード（ＩＰＳ）を利用した液晶表示素子が実用されて
いる。In recent years, a liquid crystal display device using the above-described structure, that is, a liquid crystal display element utilizing a vertical electric field formed between electrodes respectively disposed on two substrates, is disposed so as to be parallel to only one substrate. In addition, a liquid crystal display device using a horizontal electric field formed between two types of electrodes, that is, a liquid crystal display device using an in-plane switching liquid crystal mode (IPS) of an active matrix driving system has been put to practical use.
【０００５】このＩＰＳ液晶表示素子は、対向基板上に
電極を形成せずに、アクティブマトリクス基板上に駆動
用電極と共通電極とを設け、この２つの電極間の電圧差
により液晶組成物に含まれる液晶分子を基板に平行な面
内で回転させることにより駆動するものであり、視野角
特性が良好であることが特徴である。In this IPS liquid crystal display element, a driving electrode and a common electrode are provided on an active matrix substrate without forming an electrode on a counter substrate, and are included in a liquid crystal composition by a voltage difference between the two electrodes. The liquid crystal molecules are driven by rotating liquid crystal molecules in a plane parallel to the substrate, and are characterized by good viewing angle characteristics.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】これらの液晶表示素子
では、表示領域における２枚の基板間のセルギャップを
均一に維持することが重要である。特に、ＩＰＳ液晶モ
ードを利用した液晶表示素子においては、セルギャップ
の不均一性により、例えばノーマリーホワイトモードの
表示画面に色づき等の表示不良を発生させる問題があ
る。このように、ＩＰＳ液晶モードでは、特にセルギャ
ップの均一化が重要である。In these liquid crystal display devices, it is important to maintain a uniform cell gap between two substrates in a display area. In particular, in a liquid crystal display device using the IPS liquid crystal mode, there is a problem that a display defect such as coloring occurs on a normally white mode display screen due to non-uniform cell gap. Thus, in the IPS liquid crystal mode, it is particularly important to make the cell gap uniform.
【０００７】一般に、セルギャップを一定に維持するた
めに、粒状のスペーサが２枚の基板間に散布されてい
る。しかしながら、散布させたスペーサが画素内に配置
されると、スペーサ周辺の液晶の配向が乱れることによ
り、スペーサ周辺から光が漏れて表示画面のコントラス
トを低下させる問題がある。Generally, granular spacers are dispersed between two substrates to maintain a constant cell gap. However, when the scattered spacers are arranged in the pixels, the alignment of the liquid crystal around the spacers is disturbed, so that there is a problem that light leaks from around the spacers and the contrast of the display screen is reduced.
【０００８】また、スペーサを基板上に散布させる工程
で、スペーサが不均一に配置される虞があり、結果的に
セルギャップを一定に維持することが困難となる。そし
て、スペーサの散布密度が不均一になると表示不良を引
き起こし、歩留まりの低下を招く問題が発生する。Further, in the step of dispersing the spacers on the substrate, the spacers may be unevenly arranged. As a result, it is difficult to maintain the cell gap constant. Then, if the distribution density of the spacers becomes non-uniform, a display defect is caused, which causes a problem of lowering the yield.
【０００９】そこで、この発明は、上記問題を解決しよ
うとするものであり、表示性能が良好であり、歩留まり
が高く、工程数の少ないカラー表示型液晶表示素子を安
価に提供することを目的とする。Accordingly, an object of the present invention is to provide a color display type liquid crystal display device having good display performance, high yield, and a small number of steps at a low cost. I do.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】この発明は、上記問題点
に基づきなされたもので、請求項１によれば、アレイ基
板と、このアレイ基板に対向配置された対向基板と、前
記アレイ基板と対向基板との間に挟持された液晶組成物
とを備えた液晶表示素子において、前記アレイ基板は、
基板の一主面上に互いに直交するように配置された走査
線及び信号線と、前記走査線及び信号線の各交差部に配
置されたスイッチング素子と、前記スイッチング素子に
接続された画素電極と、前記画素電極に対して所定の間
隔をおいて配置された共通電極とを備え、前記アレイ基
板と前記対向基板との間に柱状のスペーサが設けられて
いることを特徴とする液晶表示素子が提供される。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made based on the above problems. According to the present invention, there is provided an array substrate, a counter substrate disposed to face the array substrate, and an array substrate. In a liquid crystal display device comprising a liquid crystal composition sandwiched between a counter substrate, the array substrate,
A scanning line and a signal line arranged on one main surface of the substrate so as to be orthogonal to each other, a switching element arranged at each intersection of the scanning line and the signal line, and a pixel electrode connected to the switching element. A common electrode disposed at a predetermined distance from the pixel electrode, and a columnar spacer is provided between the array substrate and the counter substrate. Provided.
【００１１】この発明の液晶表示素子によれば、アレイ
基板上に画素電極と共通電極とを設け、両電極間に形成
される電界により液晶を駆動する液晶表示素子であっ
て、アレイ基板と対向基板との間に柱状のスペーサを設
けることにより、両基板間のギャップを一定に維持する
ことが可能となる。このため、表示性能の良好な液晶表
示素子を提供することができる。この柱状スペーサは、
アレイ基板及び対向基板の少なくとも一方に、フォトリ
ソグラフィ工程などにより所定の位置で所定の厚みをも
って形成すればよい。According to the liquid crystal display device of the present invention, a pixel electrode and a common electrode are provided on an array substrate, and the liquid crystal is driven by an electric field formed between the two electrodes. By providing the columnar spacer between the two substrates, the gap between the two substrates can be kept constant. For this reason, a liquid crystal display element with good display performance can be provided. This columnar spacer
It may be formed on at least one of the array substrate and the counter substrate at a predetermined position with a predetermined thickness by a photolithography process or the like.
【００１２】また、柱状のスペーサをアレイ基板または
対向基板に形成しなくとも、アレイ基板に設けられたス
イッチング素子の最も突出した部分を対向基板に接触さ
せることにより、スイッチング素子を柱状のスペーサと
して利用することが可能である。このスイッチング素子
は、アレイ基板上の所定位置に所定の間隔で配置され、
しかも略同一の高さに形成されている。Further, even if the columnar spacer is not formed on the array substrate or the opposing substrate, the most protruding portion of the switching element provided on the array substrate is brought into contact with the opposing substrate, so that the switching element is used as the columnar spacer. It is possible to The switching elements are arranged at predetermined positions on the array substrate at predetermined intervals,
Moreover, they are formed at substantially the same height.
【００１３】また、対向基板にカラーフィルタを配置す
る際に、カラーフィルタ形成工程と同一工程でカラーフ
ィルタを積層して柱状スペーサとして利用することが可
能である。When the color filters are arranged on the opposite substrate, the color filters can be stacked in the same step as the color filter forming step and used as a columnar spacer.
【００１４】このため、不均一な散布密度でスペーサが
散布されるような不具合は生じることがなく、均一にス
ペーサが配置されている状態にすることができ、セルギ
ャップを一定に維持することができる。また、画素領域
にスペーサが散布されるような不具合は生じることがな
いため、液晶の配向を乱す問題や光の漏れによるコント
ラストの低下などの問題を防止することができる。した
がって、表示性能が良好な液晶表示素子を提供すること
ができる。Therefore, the problem that the spacers are scattered at a non-uniform distribution density does not occur, the spacers can be uniformly arranged, and the cell gap can be maintained constant. it can. In addition, since a problem such as dispersal of the spacer in the pixel region does not occur, it is possible to prevent a problem of disturbing the alignment of the liquid crystal and a problem of a decrease in contrast due to light leakage. Therefore, a liquid crystal display element having good display performance can be provided.
【００１５】また、スイッチング素子を柱状のスペーサ
として利用することにより、製造工程数を削減すること
が可能であり、低コストの液晶表示素子を提供すること
ができる。By using the switching element as a columnar spacer, the number of manufacturing steps can be reduced, and a low-cost liquid crystal display element can be provided.
【００１６】また、請求項６によれば、アレイ基板と、
このアレイ基板に対向配置された対向基板と、前記アレ
イ基板と対向基板との間に挟持された液晶組成物とを備
えた液晶表示素子において、前記アレイ基板は、基板の
一主面上に互いに直交するように配置された走査線及び
信号線と、前記走査線及び信号線の各交差部に配置され
たスイッチング素子と、前記スイッチング素子に接続さ
れた画素電極と、前記画素電極に対して所定の間隔をお
いて配置された共通電極とを備え、前記対向基板は、前
記アレイ基板に対向配置された状態で非画素領域に対向
する領域に設けられた遮光膜と、前記アレイ基板に対向
配置された状態で画素領域に対向する領域に設けられて
いるとともに前記遮光膜上に設けられた着色層と、前記
遮光膜と複数の着色層とを積層することにより非画素領
域に形成されたスペーサと、前記着色層上および前記ス
ペーサを覆うとともに少なくとも前記画素領域を平坦化
する保護膜と、を備えていることを特徴とする液晶表示
素子が提供される。Further, according to claim 6, an array substrate,
In a liquid crystal display device including a counter substrate disposed to face the array substrate and a liquid crystal composition sandwiched between the array substrate and the counter substrate, the array substrates are disposed on one main surface of the substrate. A scanning line and a signal line arranged orthogonally; a switching element arranged at each intersection of the scanning line and the signal line; a pixel electrode connected to the switching element; A common electrode disposed at an interval of, and the opposing substrate is provided with a light-shielding film provided in a region opposing a non-pixel region in a state where the opposing substrate is opposing the array substrate; The colored layer provided in the region facing the pixel region in the state of being formed and provided on the light shielding film, and the color layer formed in the non-pixel region by laminating the light shielding film and a plurality of colored layers. And p o, the liquid crystal display element characterized by comprising a protection film to flatten at least the pixel region covering the and the spacer on the colored layer.
【００１７】この発明の液晶表示素子によれば、対向基
板の画素領域には、着色層が設けられ、対向基板の非画
素領域には、遮光膜の他に、この遮光膜上に着色層を積
層することによって形成されたスペーサが設けられてい
る。スペーサを形成するための着色層の積層位置の違い
により、各画素領域の着色層とスペーサとの境界では、
着色層の傾きに違いが生じる。すなわち、スペーサを形
成する遮光膜上に積層された第１着色層と、画素領域に
設けられた第１着色層との境界付近において、遮光膜の
厚さ分だけ段差が生じ、第１の傾きが形成される。スペ
ーサを形成する第１着色層上に積層された第２着色層
と、画素領域に設けられた第２着色層との境界付近にお
いて、遮光膜と第１着色層の厚さ分だけ段差が生じ、第
１の傾きより急峻な第２の傾きが形成される。このよう
な画素領域における着色層の傾きの違いは、液晶組成物
に含まれる液晶分子のプレチルト角に違いを生じさせて
配向不良を発生させる虞がある。According to the liquid crystal display device of the present invention, a coloring layer is provided in the pixel region of the opposing substrate, and the coloring layer is provided on the non-pixel region of the opposing substrate in addition to the light shielding film. A spacer formed by stacking is provided. Due to the difference in the lamination position of the colored layer for forming the spacer, at the boundary between the colored layer and the spacer in each pixel region,
A difference occurs in the inclination of the coloring layer. In other words, near the boundary between the first colored layer laminated on the light-shielding film forming the spacer and the first colored layer provided in the pixel region, a step occurs by the thickness of the light-shielding film, and the first inclination Is formed. In the vicinity of the boundary between the second coloring layer formed on the first coloring layer forming the spacer and the second coloring layer provided in the pixel region, a step is generated by the thickness of the light shielding film and the first coloring layer. , A second slope that is steeper than the first slope is formed. Such a difference in the inclination of the coloring layer in the pixel region may cause a difference in the pretilt angle of the liquid crystal molecules contained in the liquid crystal composition, and may cause poor alignment.
【００１８】このため、この液晶表示素子は、保護膜に
より、着色層上およびスペーサを覆い、少なくとも画素
領域を平坦化している。したがって、画素領域における
着色層の傾きの違いを補正することが可能となり、液晶
分子の配向不良による表示性能の低下を抑制することが
できる。For this reason, in this liquid crystal display element, the protective film covers the coloring layer and the spacer, and at least the pixel region is flattened. Therefore, it is possible to correct a difference in inclination of the coloring layer in the pixel region, and it is possible to suppress a decrease in display performance due to poor alignment of liquid crystal molecules.
【００１９】[0019]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明に
係る液晶表示素子の実施の形態について詳細に説明す
る。図１は、この発明に係る液晶表示素子、すなわちア
クティブマトリクス駆動方式の液晶表示素子の第１の実
施の形態を概略的に示す断面図であり、図２は、図１に
示した液晶表示素子を概略的に示す平面図である。な
お、図１は、図２のＡ−Ａ線で切断した断面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the liquid crystal display device according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to the present invention, that is, a first embodiment of an active matrix drive type liquid crystal display device. FIG. 2 is a sectional view showing the liquid crystal display device shown in FIG. It is a top view which shows roughly. FIG. 1 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.
【００２０】図１に示すように、この第１の実施の形態
に係る液晶表示素子は、アレイ基板１０と、アレイ基板
１０に対向配置される対向基板３０と、アレイ基板１０
と対向基板３０との間に配置される液晶層５０とを備え
ている。As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device according to the first embodiment includes an array substrate 10, an opposing substrate 30 disposed opposite to the array substrate 10, and an array substrate 10.
And a liquid crystal layer 50 disposed between the liquid crystal layer 50 and the counter substrate 30.
【００２１】このアレイ基板１０は、イン−プレイン−
スイッチング型液晶モードのアレイ基板である。このア
レイ基板１０は、ガラスなどの絶縁性基板１１上に配置
された共通電極１２及び画素電極１３を有し、この２つ
の電極の電位差により液晶層５０に含まれる液晶組成物
を駆動しようとするものである。The array substrate 10 has an in-plane
This is a switching type liquid crystal mode array substrate. The array substrate 10 has a common electrode 12 and a pixel electrode 13 disposed on an insulating substrate 11 such as glass, and attempts to drive a liquid crystal composition included in the liquid crystal layer 50 by a potential difference between the two electrodes. Things.
【００２２】図２に示すように、アレイ基板１０は、共
通電極１２と同一の層に走査線１４を有し、画素電極１
３と同一の層に信号線１５を有している。共通電極１２
及び走査電極１４が形成された層と、画素電極１３及び
信号線１５が形成された層との間には、絶縁膜２０が設
けられている。As shown in FIG. 2, the array substrate 10 has the scanning lines 14 on the same layer as the common electrodes 12 and the pixel electrodes 1.
3 has a signal line 15 in the same layer. Common electrode 12
An insulating film 20 is provided between the layer on which the scanning electrodes 14 are formed and the layer on which the pixel electrodes 13 and the signal lines 15 are formed.
【００２３】走査線１４と信号線１５の交差部には、ス
イッチング素子としての薄膜トランジスタ、すなわちＴ
ＦＴ１６が設けられている。このＴＦＴ１６は、信号線
１５の一部をなすドレイン電極１７、及び画素電極１３
の一部をなすソース電極１８、及び走査線１４の一部を
なすゲート電極１９を有している。At the intersection of the scanning line 14 and the signal line 15, a thin film transistor as a switching element, that is, T
An FT 16 is provided. The TFT 16 includes a drain electrode 17 forming a part of the signal line 15 and a pixel electrode 13.
And a gate electrode 19 which forms a part of the scanning line 14.
【００２４】以下に、上述したアレイ基板１０の形成方
法について説明する。まず、走査線用の金属として、モ
リブデンとタンタルとの合金をスパッタ法により絶縁性
基板１１上に３００ｎｍの厚さに形成する。この合金の
上にフォトレジストを塗布した後、フォトプロセスによ
り、走査線を形成する部分、及び共通電極を形成する部
分にフォトレジストが残るようにパターニングする。Hereinafter, a method of forming the above-described array substrate 10 will be described. First, as a metal for a scanning line, an alloy of molybdenum and tantalum is formed on the insulating substrate 11 to a thickness of 300 nm by a sputtering method. After a photoresist is applied on the alloy, patterning is performed by a photo process so that the photoresist remains on a portion where a scanning line is formed and a portion where a common electrode is formed.
【００２５】続いて、フォトレジストが除去された部
分、すなわち、モリブデンータンタル合金が露出してい
る部分をエッチング法により除去し、走査線１４及び共
通電極１２を同時に形成する。Subsequently, the portion from which the photoresist has been removed, that is, the portion where the molybdenum-tantalum alloy is exposed, is removed by an etching method, and the scanning line 14 and the common electrode 12 are simultaneously formed.
【００２６】続いて、絶縁膜として、シリコン酸化物、
すなわちＳｉＯをパターニングする。続いて、半導体素
子として、アモルファスシリコン、すなわちａ−Ｓｉを
走査線上の所定位置にパターニングして、アクティブ素
子部として形成する。Subsequently, silicon oxide as an insulating film,
That is, the SiO is patterned. Subsequently, as a semiconductor element, amorphous silicon, that is, a-Si is patterned at a predetermined position on a scanning line to form an active element portion.
【００２７】これらのパターニング工程は、上述した走
査線などと同様にフォトプロセス及びエッチング法によ
って成される。続いて、アルミニウム、すなわちＡｌを
スパッタ法により全面に形成し、フォトプロセス及びエ
ッチング法によりパターニングし、信号線１５、画素電
極１３、ドレイン電極１７、及びソース電極１８などを
形成する。These patterning steps are performed by a photo process and an etching method as in the case of the above-described scanning lines. Subsequently, aluminum, that is, Al is formed on the entire surface by a sputtering method, and is patterned by a photo process and an etching method to form a signal line 15, a pixel electrode 13, a drain electrode 17, a source electrode 18, and the like.
【００２８】その後、絶縁膜として、窒化シリコン膜、
すなわちＳｉＮｘを全面にパターニングし、アレイ基板
１０が完成する。このアレイ基板１０において、最も高
さが高い部分は、ドレイン電極１７及びソース電極１８
が形成されている部分であり、画素電極１３からの高さ
は、約１〜２μｍ、好ましくは１．５μｍとなってい
る。Thereafter, a silicon nitride film as an insulating film,
That is, SiNx is patterned on the entire surface, and the array substrate 10 is completed. In the array substrate 10, the highest part is the drain electrode 17 and the source electrode 18.
Are formed, and the height from the pixel electrode 13 is about 1 to 2 μm, and preferably 1.5 μm.
【００２９】このアレイ基板１０の特徴としては、共通
電極１２と画素電極１３とが同一の基板１１上に形成さ
れている点、画素電極１３がＩＴＯではなく、信号線と
同一の材料によって形成されている点、さらに、従来の
液晶表示素子に適用されるＴＦＴより最高部の高さが高
く形成されている点が挙げられる。The characteristics of this array substrate 10 are that the common electrode 12 and the pixel electrode 13 are formed on the same substrate 11, and that the pixel electrode 13 is formed of the same material as the signal line, not ITO. And the height of the highest part is higher than that of a TFT applied to a conventional liquid crystal display element.
【００３０】このように、成膜とパターニングを繰り返
し、共通電極１２や画素電極１３などの電極、信号線１
５や走査線１４などの配線、及びＴＦＴ１６を形成した
縦横１００画素、合計１００００画素を有したイン−プ
レイン−スイッチング型アモルファスシリコンＴＦＴア
レイ基板１０を形成する。As described above, the film formation and the patterning are repeated, and the electrodes such as the common electrode 12 and the pixel electrode 13 and the signal line 1 are formed.
An in-plane-switching type amorphous silicon TFT array substrate 10 having a total of 10,000 pixels, that is, 100 pixels vertically and horizontally, on which wirings such as 5 and scanning lines 14 and TFTs 16 are formed.
【００３１】最後に、配向膜材料としてＡＬ−１０５１
（日本合成ゴム（株）製）を全面に５００オングストロ
ームの膜厚に塗布し、ラビング処理を行い、配向膜２１
を形成する。Finally, AL-1051 was used as an alignment film material.
(Manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) is applied to the entire surface to a thickness of 500 angstroms, rubbed, and subjected to alignment film 21.
To form
【００３２】一方、対向基板３０は、透明な絶縁性基板
３１における、アレイ基板１０に対向配置された際に配
線上、及びスイッチング素子上に位置する部分に黒色の
遮光膜３２を備え、また、電極上に位置する部分、すな
わち１画素単位に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のそれ
ぞれのカラーフィルタ、すなわち着色層３３Ｒ、３３
Ｇ、３３Ｂを備えている。ここで、１画素のサイズは、
例えば１００μｍである。On the other hand, the opposing substrate 30 is provided with a black light-shielding film 32 on a portion of the transparent insulating substrate 31 that is located on the wiring and the switching element when the opposing substrate is disposed facing the array substrate 10. Red (R), green (G), and blue (B) color filters, i.e., colored layers 33R and 33, on a portion located on the electrode, that is, on a pixel-by-pixel basis.
G, 33B. Here, the size of one pixel is
For example, it is 100 μm.
【００３３】このような対向基板３０は、以下のように
して形成される。すなわち、基板３１上に、感光性の黒
色樹脂をスピンナーを用いて１．２μｍの膜厚に塗布し
た後、９０℃で１０分間乾燥する。そして、所定のパタ
ーン形状、すなわちアレイ基板１０における配線及びス
イッチング素子のパターンに対応した形状のフォトマス
クを介して３６５ｎｍの波長で、３００ｍＪ／ｃｍ2
の露光量で露光した後、ｐＨ１１．５のアルカリ水溶液
にて現像する。そして、２００℃で６０分間焼成するこ
とにより遮光層３２を形成する。Such a counter substrate 30 is formed as follows. That is, a photosensitive black resin is applied to a thickness of 1.2 μm on the substrate 31 using a spinner, and then dried at 90 ° C. for 10 minutes. Then, at a wavelength of 365 nm and 300 mJ / cm 2 through a photomask having a predetermined pattern shape, that is, a shape corresponding to the pattern of wiring and switching elements on the array substrate 10.
And then developed with an aqueous alkaline solution of pH 11.5. Then, by baking at 200 ° C. for 60 minutes, the light shielding layer 32 is formed.
【００３４】続いて、赤色の顔料を分散させた紫外線硬
化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士ハント
テクノロジー（株）製）を基板３１上にスピンナーにて
全面塗布した後、乾燥する。そして、赤色の画素に対応
した部分、すなわちアレイ基板１０における電極が形成
された領域に対応した形状のフォトマスクを介して３６
５ｎｍの波長で、１００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で露光し
た後、水酸化カリウムＫＯＨの１％水溶液で１０秒間現
像する。そして、２３０℃で１時間焼成することにより
膜厚２．０μｍの赤の着色層３３Ｒを形成する。Subsequently, a UV-curable acrylic resin resist CR-2000 (manufactured by Fuji Hunt Technology Co., Ltd.) in which a red pigment is dispersed is applied on the entire surface of the substrate 31 by a spinner and dried. Then, through a photomask having a shape corresponding to a portion corresponding to the red pixel, that is, a region on the array substrate 10 where the electrode is formed, 36
After exposure at a wavelength of 5 nm at an exposure of 100 mJ / cm 2 , development is performed for 10 seconds with a 1% aqueous solution of potassium hydroxide KOH. Then, by firing at 230 ° C. for one hour, a red colored layer 33R having a thickness of 2.0 μm is formed.
【００３５】同様に、緑の画素に対応した部分に膜厚
２．０μｍの緑の着色層３３Ｇ、及び、青の画素に対応
した部分に膜厚２．０μｍの青の着色層３３Ｂを形成す
る。ここでは、緑の着色材料としては、ＣＧ−２０００
（富士ハントテクノロジー（株）製）、青の着色材料と
しては、ＣＢ−２０００（富士ハントテクノロジ（株）
製）を用いた。Similarly, a 2.0 μm-thick green coloring layer 33G is formed in a portion corresponding to a green pixel, and a 2.0 μm-thick blue coloring layer 33B is formed in a portion corresponding to a blue pixel. . Here, CG-2000 is used as the green coloring material.
(Manufactured by Fuji Hunt Technology Co., Ltd.), and as a blue coloring material, CB-2000 (Fuji Hunt Technology Co., Ltd.)
Was used.
【００３６】このようにして形成された黒色の遮光膜３
２、及び赤、緑、青のそれぞれの着色層３３Ｒ、３３
Ｇ、３３Ｂの上に、アレイ基板と同様に、配向膜材料と
してＡＬ−１０５１を全面に５００オングストロームの
膜厚に塗布し、ラビング処理を行い、配向膜３５を形成
する。The black light shielding film 3 thus formed
2, and respective colored layers 33R, 33 of red, green, and blue, respectively.
As in the case of the array substrate, AL-1051 is coated on the entire surface of G and 33B as an alignment film material to a thickness of 500 angstroms, and a rubbing process is performed to form an alignment film 35.
【００３７】このようにして、対向基板３０を形成す
る。以上のような方法で形成されたアレイ基板１０、及
び対向基板３０により、この第１の実施の形態に係る液
晶表示素子を形成する。Thus, the counter substrate 30 is formed. The liquid crystal display element according to the first embodiment is formed from the array substrate 10 and the counter substrate 30 formed by the above method.
【００３８】すなわち、対向基板３０の配向膜３５の周
辺に沿って接着剤５２、例えば熱硬化性のエポキシ樹脂
を注入口（図示せず）を除いて印刷する。そして、アレ
イ基板１０上に形成された共通電極１２に電圧を印加す
るための電極材（図示せず）を接着剤３９の周辺の電極
上（図示せず）に形成する。That is, an adhesive 52, for example, a thermosetting epoxy resin is printed along the periphery of the alignment film 35 of the counter substrate 30 except for an injection port (not shown). Then, an electrode material (not shown) for applying a voltage to the common electrode 12 formed on the array substrate 10 is formed on an electrode (not shown) around the adhesive 39.
【００３９】続いて、アレイ基板１０の配向膜２１、及
び対向基板３０の配向膜３５が互いに対向し、且つそれ
ぞれのラビング方向が平行となるように配置した後、加
熱して接着剤５２を硬化させることにより両基板１０、
３０を貼り合わせる。この時、アレイ基板１０における
最高部、すなわちＴＦＴ１６のドレイン電極１７及びソ
ース電極１８が対向基板３０における着色層に接触する
ように配置される。つまり、ＴＦＴ１６がスペーサの役
割を担っている。したがって、アレイ基板１０と対向基
板３０との間に形成される液晶層５０のギャップを一定
に維持することが出来る。この液晶層５０のギャップ
は、例えば、２〜５μｍである。Subsequently, after the alignment film 21 of the array substrate 10 and the alignment film 35 of the counter substrate 30 are arranged so as to face each other and the rubbing directions thereof are parallel to each other, the adhesive 52 is cured by heating. By doing so, both substrates 10,
30 are pasted together. At this time, the uppermost portion of the array substrate 10, that is, the drain electrode 17 and the source electrode 18 of the TFT 16 are arranged so as to be in contact with the coloring layer of the counter substrate 30. That is, the TFT 16 plays a role of a spacer. Therefore, the gap of the liquid crystal layer 50 formed between the array substrate 10 and the counter substrate 30 can be kept constant. The gap of the liquid crystal layer 50 is, for example, 2 to 5 μm.
【００４０】続いて、通常の方法により注入口から液晶
組成物５１として、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク社
製）に、Ｓ８１１を０．１ｗｔ％添加したものを注入
し、この後、注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。Subsequently, a liquid crystal composition 51 obtained by adding 0.1% by weight of S811 to ZLI-1565 (manufactured by E. Merck) is injected as a liquid crystal composition 51 from an injection port by an ordinary method. Seal with UV curable resin.
【００４１】続いて、加熱して液晶組成物５１を再度配
向した後、アレイ基板１０及び対向基板３０にそれぞれ
図示しない偏光板を貼り付けてカラー表示型アクティブ
マトリクス液晶表示素子が完成する。Subsequently, after heating, the liquid crystal composition 51 is oriented again, and a polarizing plate (not shown) is attached to each of the array substrate 10 and the counter substrate 30 to complete a color display type active matrix liquid crystal display device.
【００４２】このようにして形成された液晶表示素子
は、アレイ基板１０と対向基板３０とのギャップが均一
であり、コントラスト比が高く、また画質の良好な表示
が得られた。In the liquid crystal display device thus formed, the gap between the array substrate 10 and the opposing substrate 30 was uniform, the contrast ratio was high, and a display with good image quality was obtained.
【００４３】上述したように、アレイ基板１０の最高
部、例えばＴＦＴのドレイン電極及びソース電極を対向
基板３０に接蝕させて貼り合わせることにより、アレイ
基板の最高部を基板間のギャップを一定に保持するスペ
ーサの役割を持たせることが可能となる。As described above, the uppermost part of the array substrate 10, for example, the drain electrode and the source electrode of the TFT are brought into contact with and adhered to the counter substrate 30, so that the uppermost part of the array substrate is made to have a constant gap between the substrates. It is possible to have a role of a holding spacer.
【００４４】これにより、図２中の破線で示した領域１
のように、非画素部、すなわち配線上のみにスペーサを
形成することになり、通常のスペーサで起こるスペーサ
周辺の光漏れによる表示不良を防ぐことができる。ま
た、図２に示すように、スペーサとしての最高部１は、
アレイ基板１０上に等間隔に形成されているため、スペ
ーサの分散によるスペーサの単位面積当たりの数の不均
一性による表示不良を防ぐことができる。As a result, the area 1 indicated by the broken line in FIG.
As described above, the spacer is formed only on the non-pixel portion, that is, only on the wiring, and it is possible to prevent a display defect due to light leakage around the spacer caused by a normal spacer. Also, as shown in FIG. 2, the highest part 1 as a spacer is
Since the spacers are formed at equal intervals on the array substrate 10, it is possible to prevent a display failure due to unevenness in the number of spacers per unit area due to the dispersion of the spacers.
【００４５】また、対向基板上におけるスペーサが接す
る点に電極を形成しないことにより、アレイ基板上の電
極と対向基板との電気的短絡を防止することができる。
この結果、高い表示性能のカラー表示型液晶表示素子を
提供することができる。Further, since no electrode is formed at a point on the opposing substrate where the spacer is in contact, an electrical short circuit between the electrode on the array substrate and the opposing substrate can be prevented.
As a result, a color display type liquid crystal display device having high display performance can be provided.
【００４６】さらに、従来のように、粒状のスペーサを
分散させる工程が必要なく、また、第１の実施の形態の
ように、アレイ基板上に共通電極及び画素電極を設けた
ようなＩＰＳ表示モードの液晶表示素子においては、走
査線と共通電極、及び信号線と画素電極とを同一の工程
で形成できるため、製造工程数を削減でき、歩留まりの
高い安価な液晶表示素子を提供することが出来る。Further, unlike the prior art, there is no need for a step of dispersing the granular spacers, and the IPS display mode in which the common electrode and the pixel electrode are provided on the array substrate as in the first embodiment. In the liquid crystal display element, the scanning lines and the common electrode, and the signal lines and the pixel electrode can be formed in the same step, so that the number of manufacturing steps can be reduced, and an inexpensive liquid crystal display element with high yield can be provided. .
【００４７】次に、この発明の第２の実施の形態に係る
液晶表示素子について図面を参照して説明する。図３
は、この発明に係る液晶表示素子、すなわちアクティブ
マトリクス駆動方式の液晶表示素子の第２の実施の形態
を概略的に示す断面図である。なお、第１の実施の形態
と同一の構成要素に関しては、同一の参照符号を付し、
詳細な説明は省略する。Next, a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG.
FIG. 2 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display element according to a second embodiment of the present invention, that is, a liquid crystal display element of an active matrix drive system. Note that the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
Detailed description is omitted.
【００４８】図３に示すように、この第２の実施の形態
に係る液晶表示素子は、アレイ基板１０と、アレイ基板
１０に対向配置される対向基板３０’と、アレイ基板１
０と対向基板３０’との間に配置される液晶層５０とを
備えている。As shown in FIG. 3, the liquid crystal display device according to the second embodiment includes an array substrate 10, a counter substrate 30 'arranged to face the array substrate 10, and an array substrate 1'.
0 and a liquid crystal layer 50 disposed between the counter substrate 30 ′.
【００４９】このアレイ基板１０は、第１の実施の形態
と同様に、イン−プレイン−スイッチング型液晶モード
のアレイ基板であり、ガラスなどの絶縁性基板１１上に
配置された共通電極１２及び画素電極１３を有し、この
２つの電極の電位差により液晶層５０に含まれる液晶組
成物を駆動しようとするものである。The array substrate 10 is an in-plane-switching type liquid crystal mode array substrate as in the first embodiment, and includes a common electrode 12 and a pixel disposed on an insulating substrate 11 such as glass. An electrode 13 is provided, and the liquid crystal composition contained in the liquid crystal layer 50 is driven by a potential difference between the two electrodes.
【００５０】また、アレイ基板１０において、共通電極
１２及び走査電極１４が形成された層と、画素電極１３
及び信号線１５が形成された層との間には、ＳｉＯ絶縁
膜２０が設けられている。Further, in the array substrate 10, the layer where the common electrode 12 and the scanning electrode 14 are formed and the pixel electrode 13
An SiO insulating film 20 is provided between the layer and the layer where the signal lines 15 are formed.
【００５１】ＴＦＴ１６は、信号線１５の一部をなすド
レイン電極１７、及び画素電極１３の一部をなすソース
電極１８、及び走査線１４の一部をなすゲート電極１９
を有している。The TFT 16 includes a drain electrode 17 forming a part of the signal line 15, a source electrode 18 forming a part of the pixel electrode 13, and a gate electrode 19 forming a part of the scanning line 14.
have.
【００５２】このアレイ基板１０は、第１の実施の形態
と同一の方法により形成される。一方、対向基板３０’
は、透明な絶縁性基板３１における、アレイ基板１０に
対向配置された際に配線上、及びスイッチング素子上に
位置する部分に黒色の遮光膜３２を備え、また、電極上
に位置する部分、すなわち１画素単位に赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）のそれぞれのカラーフィルタ、すなわ
ち着色層３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂを備えている。ここ
で、１画素のサイズは、例えば１００μｍである。This array substrate 10 is formed by the same method as in the first embodiment. On the other hand, the counter substrate 30 '
Is provided with a black light-shielding film 32 on a portion of the transparent insulating substrate 31 that is located on the wiring and the switching element when it is arranged to face the array substrate 10, and a portion that is located on the electrode, that is, Each pixel is provided with a red (R), green (G), and blue (B) color filter, that is, coloring layers 33R, 33G, and 33B. Here, the size of one pixel is, for example, 100 μm.
【００５３】このような対向基板３０’は、以下のよう
にして形成される。すなわち、基板３１上に、感光性の
黒色樹脂をスピンナーを用いて１．２μｍの膜厚に塗布
した後、９０℃で１０分間乾燥する。そして、所定のパ
ターン形状、すなわちアレイ基板１０における配線及び
スイッチング素子のパターンに対応した形状のフォトマ
スクを介して３６５ｎｍの波長で、３００ｍＪ／ｃｍ2
の露光量で露光した後、ｐＨ１１．５のアルカリ水溶液
にて現像する。そして、２００℃で６０分間焼成するこ
とにより遮光層３２を形成する。The counter substrate 30 'is formed as follows. That is, a photosensitive black resin is applied to a thickness of 1.2 μm on the substrate 31 using a spinner, and then dried at 90 ° C. for 10 minutes. Then, at a wavelength of 365 nm and 300 mJ / cm 2 through a photomask having a predetermined pattern shape, that is, a shape corresponding to the pattern of wiring and switching elements on the array substrate 10.
And then developed with an aqueous alkaline solution of pH 11.5. Then, by baking at 200 ° C. for 60 minutes, the light shielding layer 32 is formed.
【００５４】続いて、赤色の顔料を分散させた紫外線硬
化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士ハント
テクノロジー（株）製）を基板３１上にスピンナーにて
全面塗布した後、乾燥する。そして、赤色の画素に対応
した部分、及び黒色の遮光層３２上におけるスイッチン
グ素子１６に対向する部分に、それぞれ対応した形状の
フォトマスクを介して３６５ｎｍの波長で、１００ｍＪ
／ｃｍ2 の露光量で露光した後、水酸化カリウムＫＯ
Ｈの１％水溶液で１０秒間現像する。そして、２３０℃
で１時間焼成することにより膜厚２．０μｍの赤の着色
層３３Ｒを形成する。Subsequently, a UV-curable acrylic resin resist CR-2000 (manufactured by Fuji Hunt Technology Co., Ltd.) in which a red pigment is dispersed is applied on the entire surface of the substrate 31 by a spinner and dried. Then, a portion corresponding to the red pixel and a portion facing the switching element 16 on the black light-shielding layer 32 are irradiated with 100 mJ at a wavelength of 365 nm through a photomask having a corresponding shape.
/ Cm 2 after exposure to potassium hydroxide KO
Develop with a 1% aqueous solution of H for 10 seconds. And 230 ° C
For 1 hour to form a 2.0 μm-thick red colored layer 33R.
【００５５】続いて、緑の画素に対応した部分に、赤色
着色層３３と同様に、膜厚２．０μｍの緑の着色層３３
Ｇを形成するとともに、同時に、スイッチング素子１６
に対向する部分における遮光層３２上に積層された赤の
着色層３３Ｒ上にも、膜厚２．０μｍの緑の着色層３３
Ｇを形成する。ここでは、緑の着色材料としては、ＣＧ
−２０００（富士ハントテクノロジー（株）製）を用い
た。Subsequently, similarly to the red coloring layer 33, a green coloring layer 33 having a thickness of 2.0 μm is formed in a portion corresponding to the green pixel.
G, and at the same time, the switching element 16
The 2.0 μm-thick green colored layer 33 is also formed on the red colored layer 33 </ b> R laminated on the light-shielding layer 32 in the portion facing
G is formed. Here, CG is used as the green coloring material.
-2000 (manufactured by Fuji Hunt Technology Co., Ltd.) was used.
【００５６】続いて、青の画素に対応した部分に、赤色
着色層３３と同様に、膜厚２．０μｍの青の着色層３３
Ｂを形成するとともに、同時に、及びスイッチング素子
１６に対向する部分における赤の着色層３３Ｒ及び緑の
着色層３３Ｇが積層された部分にも膜厚２．０μｍの青
の着色層３３Ｂを形成する。ここでは、青の着色材料と
しては、ＣＢ−２０００（富士ハントテクノロジ（株）
製）を用いた。Subsequently, similarly to the red colored layer 33, a blue colored layer 33 having a thickness of 2.0 μm is formed in a portion corresponding to the blue pixel.
B is formed, and at the same time, a 2.0 μm-thick blue coloring layer 33B is also formed in a portion where the red coloring layer 33R and the green coloring layer 33G are stacked in a portion facing the switching element 16. Here, as a blue coloring material, CB-2000 (Fuji Hunt Technology Co., Ltd.)
Was used.
【００５７】このようにして、スイッチング素子１６に
対向する部分に、黒色の遮光膜３２、及び赤、緑、青の
それぞれの着色層３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂを積層するこ
とにより、柱状の突起物３６を形成する。そして、この
突起物をスペーサとして利用する。なお、この実施の形
態では、スイッチング素子に対向する位置に着色層を積
層して突起物を形成したが、必ずしもすべてのスイッチ
ング素子に対向するように形成する必要はなく、液晶表
示素子のサイズ、突起物のサイズ、及び液晶表示素子の
形成プロセスに応じて最適な位置に最適な数の突起物を
形成すればよい。As described above, the black light-shielding film 32 and the colored layers 33R, 33G, and 33B of red, green, and blue are laminated on the portion facing the switching element 16, so that the columnar projections 36 are formed. To form Then, this projection is used as a spacer. In this embodiment, the colored layer is stacked at a position facing the switching element to form the projection, but it is not necessary to form the projection so as to face all the switching elements. The optimum number of protrusions may be formed at the optimum positions according to the size of the protrusions and the process of forming the liquid crystal display element.
【００５８】続いて、黒色の遮光膜３２、及び赤、緑、
青のそれぞれの着色層３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂの上に、
アレイ基板１０と同様に、配向膜材料としてＡＬ−１０
５１を全面に５００オングストロームの膜厚に塗布し、
ラビング処理を行い、配向膜３５を形成する。Subsequently, a black light shielding film 32 and red, green,
On each blue colored layer 33R, 33G, 33B,
Similarly to the array substrate 10, AL-10 is used as an alignment film material.
51 over the entire surface to a thickness of 500 angstroms,
A rubbing process is performed to form an alignment film 35.
【００５９】このようにして、対向基板３０’を形成す
る。以上のような方法で形成されたアレイ基板１０、及
び対向基板３０’により、この第２の実施の形態に係る
液晶表示素子を形成する。Thus, the counter substrate 30 'is formed. The liquid crystal display element according to the second embodiment is formed from the array substrate 10 and the counter substrate 30 'formed by the above method.
【００６０】すなわち、対向基板３０’の配向膜３５の
周辺に沿って接着剤５２、例えば熱硬化性のエポキシ樹
脂を注入口（図示せず）を除いて印刷する。そして、ア
レイ基板１０上に形成された共通電極１２に電圧を印加
するための電極材（図示せず）を接着剤３９の周辺の電
極上（図示せず）に形成する。That is, an adhesive 52, for example, a thermosetting epoxy resin is printed along the periphery of the alignment film 35 of the counter substrate 30 ′ except for an injection port (not shown). Then, an electrode material (not shown) for applying a voltage to the common electrode 12 formed on the array substrate 10 is formed on an electrode (not shown) around the adhesive 39.
【００６１】続いて、アレイ基板１０の配向膜２１、及
び対向基板３０’の配向膜３５が互いに対向し、且つそ
れぞれのラビング方向が直交するように配置した後、加
熱して接着剤５２を硬化させることにより両基板１０、
３０’を貼り合わせる。この時、対向基板３０’におけ
る最高部、すなわち着色層を積層することによって形成
された突起物３６がアレイ基板１０における最高部、す
なわちスイッチング素子１６のドレイン電極１７及びソ
ース電極１８に接触するように配置される。Subsequently, the alignment film 21 of the array substrate 10 and the alignment film 35 of the counter substrate 30 ′ are arranged so as to face each other and their rubbing directions are orthogonal to each other. By doing so, both substrates 10,
Stick 30 'together. At this time, the highest part of the counter substrate 30 ′, that is, the protrusion 36 formed by stacking the coloring layers, is in contact with the highest part of the array substrate 10, that is, the drain electrode 17 and the source electrode 18 of the switching element 16. Be placed.
【００６２】つまり、突起物３６がスペーサの役割を担
っている。したがって、アレイ基板１０と対向基板３
０’との間に形成される液晶層５０のギャップを一定に
維持することが出来る。この液晶層５０のギャップは、
例えば、２〜５μｍである。That is, the projection 36 plays the role of a spacer. Therefore, the array substrate 10 and the counter substrate 3
The gap of the liquid crystal layer 50 formed between 0 ′ can be kept constant. The gap of the liquid crystal layer 50 is
For example, it is 2 to 5 μm.
【００６３】なお、この実施の形態では、アレイ基板１
０側の最高部と、対向基板３０’側の最高部とが接触す
るように配置されたが、対向基板３０’側の最高部、す
なわち突起物３６は、非画素部であれば、配線上のいず
れの位置に配置されても構わない。In this embodiment, the array substrate 1
Although the highest part on the 0 side and the highest part on the counter substrate 30 'side are arranged to be in contact with each other, the highest part on the counter substrate 30' side, that is, May be arranged at any position.
【００６４】続いて、通常の方法により注入口から液晶
組成物５１として、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク社
製）に、Ｓ８１１を０．１ｗｔ％添加したものを注入
し、この後、注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。Subsequently, as a liquid crystal composition 51, ZLI-1565 (manufactured by E. Merck) to which 0.1% by weight of S811 was added was injected as a liquid crystal composition 51 from an injection port by an ordinary method. Seal with UV curable resin.
【００６５】続いて、加熱して液晶組成物５１を再度配
向した後、アレイ基板１０及び対向基板３０’にそれぞ
れ図示しない偏光板を貼り付けてカラー表示型アクティ
ブマトリクス液晶表示素子が完成する。Subsequently, after heating to realign the liquid crystal composition 51, a polarizing plate (not shown) is attached to each of the array substrate 10 and the counter substrate 30 'to complete a color display type active matrix liquid crystal display device.
【００６６】このようにして形成された液晶表示素子
は、アレイ基板１０と対向基板３０’とのギャップが均
一であり、コントラスト比が高く、また画質の良好な表
示が得られた。In the liquid crystal display device thus formed, the gap between the array substrate 10 and the opposing substrate 30 'was uniform, the contrast ratio was high, and a display with good image quality was obtained.
【００６７】上述したように、対向基板３０’の最高
部、例えばカラーフィルタを形成する着色層を積層する
ことによって形成された突起物をアレイ基板１０に接蝕
させて貼り合わせることにより、対向基板の最高部を基
板間のギャップを一定に保持するスペーサの役割を持た
せることが可能となる。As described above, the uppermost portion of the opposing substrate 30 ′, for example, a protrusion formed by laminating a color layer forming a color filter is brought into contact with the array substrate 10 and bonded to the opposing substrate 30 ′. Can function as a spacer to keep the gap between substrates constant.
【００６８】これにより、第１の実施の形態と同様に、
図２中の破線で示した領域１のように、非画素部、すな
わち配線上のみにスペーサを形成することになり、通常
のスペーサで起こるスペーサ周辺の光漏れによる表示不
良を防ぐことができる。また、図２に示すように、スペ
ーサとしての最高部１は、アレイ基板１０上に等間隔に
形成されているため、スペーサの分散によるスペーサの
単位面積当たりの数の不均一性による表示不良を防ぐこ
とができる。Thus, similar to the first embodiment,
As shown in a region 1 indicated by a broken line in FIG. 2, the spacer is formed only on the non-pixel portion, that is, only on the wiring, and it is possible to prevent a display defect due to light leakage around the spacer caused by a normal spacer. Further, as shown in FIG. 2, since the highest portions 1 as spacers are formed at equal intervals on the array substrate 10, display defects due to non-uniformity in the number of spacers per unit area due to the dispersion of the spacers are eliminated. Can be prevented.
【００６９】この結果、高い表示性能のカラー表示型液
晶表示素子を提供することができる。さらに、従来のよ
うに、粒状のスペーサを分散させる工程が必要なく、ま
た、第２の実施の形態のように、アレイ基板上に共通電
極及び画素電極を設けたようなＩＰＳ表示モードの液晶
表示素子においては、走査線と共通電極、及び信号線と
画素電極とを同一の工程で形成できるため、製造工程数
を削減でき、歩留まりの高い安価な液晶表示素子を提供
することが出来る。As a result, a color display type liquid crystal display device having high display performance can be provided. Furthermore, unlike the related art, there is no need for a step of dispersing the granular spacers, and the liquid crystal display in the IPS display mode in which the common electrode and the pixel electrode are provided on the array substrate as in the second embodiment. In the element, since the scanning line and the common electrode, and the signal line and the pixel electrode can be formed in the same step, the number of manufacturing steps can be reduced, and an inexpensive liquid crystal display element with high yield can be provided.
【００７０】次に、この発明の液晶表示素子の変形例に
ついて、図面を参照して説明する。図４は、この発明に
係る液晶表示素子、すなわちアクティブマトリクス駆動
方式の液晶表示素子の変形例を概略的に示す平面図であ
り、図５は、図４に示した液晶表示素子をＢ−Ｂ線で切
断した時の断面図である。なお、第１の実施の形態と同
一の構成要素に関しては、同一の参照符号を付し、詳細
な説明は省略する。Next, a modification of the liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a plan view schematically showing a liquid crystal display element according to the present invention, that is, a modified example of a liquid crystal display element of an active matrix drive system. FIG. 5 is a plan view of the liquid crystal display element shown in FIG. It is sectional drawing at the time of cutting by a line. Note that the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
【００７１】この変形例では、図５に示すように、アレ
イ基板１０と対向基板３０との間にアクリル樹脂などの
絶縁物をパターニングすることによって形成された柱状
の突起物４０が設けられている。この突起物４０は、図
４及び図５に示すように、アレイ基板１０における配線
上に配置されている。この変形例では、突起物４０は、
図４中の破線で示す領域４１、すなわち信号線１５の上
に配置されている。In this modified example, as shown in FIG. 5, a columnar projection 40 formed by patterning an insulator such as an acrylic resin is provided between the array substrate 10 and the counter substrate 30. . The protrusions 40 are arranged on the wiring of the array substrate 10 as shown in FIGS. In this modification, the protrusion 40 is
It is arranged on a region 41 indicated by a broken line in FIG.
【００７２】この変形例では、配線上に突起物４０を配
置したが、非画素部であれば他の位置、例えばスイッチ
ング素子上に配置されてもよい。この突起物４０は、ア
レイ基板１０側、または対向基板３０側のどちらに設け
られてもよく、それぞれの基板を形成する過程における
フォトプロセス工程の所定の形成しやすいタイミングで
所定の高さに形成されればよい。また、この突起物４０
の配置される位置は、図４に示した領域４１に限られ
ず、所定の分布密度で一定に間隔をおいて配置されてい
ればよい。In this modification, the protrusions 40 are arranged on the wiring, but may be arranged at other positions, for example, on the switching elements, as long as they are non-pixel portions. The protrusions 40 may be provided on either the array substrate 10 side or the counter substrate 30 side, and are formed at a predetermined height at a predetermined easy-to-form timing of a photo process in the process of forming each substrate. It should be done. In addition, this projection 40
Are not limited to the area 41 shown in FIG. 4 and may be arranged at a predetermined distribution density and at regular intervals.
【００７３】つまり、この発明では、アレイ基板側また
は対向基板側に形成された突起物などの最高部を他方の
基板に接触させて、両基板を貼り合わせて液晶表示素子
を形成することにより、その最後部を両基板間のギャッ
プを一定に保持するスペーサとして利用することが可能
となり、且つこのスペーサが一定の間隔で配置されるの
で、光漏れなどの表示不良を防止することが出来る。In other words, according to the present invention, the highest portion such as a projection formed on the array substrate side or the opposite substrate side is brought into contact with the other substrate, and the two substrates are bonded to form a liquid crystal display element. The last part can be used as a spacer for keeping the gap between the two substrates constant, and since the spacers are arranged at regular intervals, display defects such as light leakage can be prevented.
【００７４】次に、この発明の液晶表示素子の他の変形
例について図面を参照して説明する。図６は、この発明
の液晶表示素子、すなわちアクティブマトリクス駆動方
式の液晶表示素子の他の変形例を概略的に示す断面図で
ある。なお、第２の実施の形態と同一の構成要素に関し
ては、同一の参照符号を付し、詳細な説明は省略する。Next, another modification of the liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a sectional view schematically showing another modification of the liquid crystal display element of the present invention, that is, the liquid crystal display element of the active matrix drive system. Note that the same components as those of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
【００７５】すなわち、この変形例に係る液晶表示素子
は、図６に示したように、第２の実施の形態に係る液晶
表示素子において、対向基板３０’の各着色層３３Ｒ、
３３Ｇ、３３Ｂと配向膜３５との間に保護膜６０が設け
られた構造に形成されている。That is, as shown in FIG. 6, the liquid crystal display device according to this modification is different from the liquid crystal display device according to the second embodiment in that each colored layer 33R,
The protective film 60 is formed between the alignment films 35 and 33G and 33B.
【００７６】図３に示すような第２の実施の形態に係る
液晶表示素子では、遮光膜３２上に第１着色層としての
赤色着色層３３Ｒ、第２着色層としての緑色着色層３３
Ｇ、第３着色層としての青色着色層３３Ｂを順に積層す
ることにより、柱状の突起物３６を形成し、この突起物
３６をスイッチング素子１６に当接することでスペーサ
として機能させている。このように、遮光膜と複数の着
色層とを積層することによって柱状の突起物３６を構成
する場合、図６に示すように、各画素領域に設けられた
着色層とスペーサを構成する着色層との境界付近におい
て、着色層の積層順序の違いにより、各着色層毎に異な
る傾きを有する面が形成される。In the liquid crystal display device according to the second embodiment as shown in FIG. 3, a red coloring layer 33 R as a first coloring layer and a green coloring layer 33 as a second coloring layer are formed on a light shielding film 32.
G and a blue colored layer 33B as a third colored layer are sequentially laminated to form a columnar protrusion 36, and the protrusion 36 contacts the switching element 16 to function as a spacer. As described above, when the columnar protrusions 36 are formed by stacking the light shielding film and the plurality of coloring layers, as shown in FIG. 6, the coloring layers provided in each pixel region and the coloring layers forming the spacers are provided. In the vicinity of the boundary with, a surface having a different inclination for each coloring layer is formed due to a difference in the stacking order of the coloring layers.
【００７７】すなわち、赤用の画素領域７０Ｒに設けら
れているとともに、遮光膜３２上に積層されて突起物３
６を形成している赤色着色層３３Ｒは、画素領域７０Ｒ
と突起物３６との境界付近において、遮光膜の厚さ分だ
け段差が生じ、第１の傾きを有する面６１が形成され
る。That is, the projections 3 are provided on the pixel region 70R for red and are laminated on the light shielding film 32.
6 are formed in the pixel region 70R.
In the vicinity of the boundary between the projection and the projection 36, a step is generated by the thickness of the light shielding film, and the surface 61 having the first inclination is formed.
【００７８】また、緑用の画素領域７０Ｇに設けられて
いるとともに、赤色着色層３３Ｒ上に積層されて突起物
３６を形成している緑色着色層３３Ｇは、画素領域７０
Ｇと突起物３６との境界付近において、遮光膜の厚さお
よび赤色着色層３３Ｒの厚さ分だけ段差が生じ、第２の
傾きを有する面６２が形成される。第２の傾きは、第１
の傾きより急峻である。つまり、第２の傾きを有する面
６２は、第１の傾きを有する面６１より、基板３１に対
する成す角度が大きい。The green coloring layer 33G, which is provided in the green pixel region 70G and is stacked on the red coloring layer 33R to form the protrusion 36, is provided in the pixel region 70G.
In the vicinity of the boundary between G and the projection 36, a step is generated by the thickness of the light shielding film and the thickness of the red coloring layer 33R, and the surface 62 having the second inclination is formed. The second slope is the first
Is steeper than the slope of. That is, the surface 62 having the second inclination has a larger angle with respect to the substrate 31 than the surface 61 having the first inclination.
【００７９】さらに、青用の画素領域７０Ｂに設けられ
ているとともに、緑色着色層３３Ｇ上に積層されて突起
物３６を形成している青色着色層３３Ｂは、画素領域７
０Ｂと突起物３６との境界付近において、遮光膜の厚
さ、赤色着色層３３Ｒの厚さ、および緑色着色層３３Ｇ
の厚さ分だけ段差が生じ、第３の傾きを有する面６３が
形成される。第３の傾きは、第２の傾きより急峻であ
る。つまり、第３の傾きを有する面６３は、第２の傾き
を有する面６２より、基板３１に対する成す角度が大き
い。Further, the blue coloring layer 33B provided in the blue pixel region 70B and laminated on the green coloring layer 33G to form the projection 36 is provided in the pixel region 7B.
In the vicinity of the boundary between the projections 36 and 0B, the thickness of the light shielding film, the thickness of the red coloring layer 33R, and the green coloring layer 33G
Is formed by a thickness corresponding to the thickness of the surface 63, and the surface 63 having the third inclination is formed. The third slope is steeper than the second slope. That is, the surface 63 having the third inclination has a larger angle with respect to the substrate 31 than the surface 62 having the second inclination.
【００８０】それぞれ傾きが異なる面６１、６２、６３
上に、液晶組成物に含まれる液晶分子を所定の向きに配
向させる配向膜を形成した場合、各面上において、傾き
の違いにより、配向方向が異なることがある。配向方向
が異なると、液晶分子のプレチルト角に違いが発生し、
配向不良を発生する虞がある。Surfaces 61, 62, 63 having different inclinations
When an alignment film for aligning liquid crystal molecules included in the liquid crystal composition in a predetermined direction is formed thereon, the alignment direction may be different on each surface due to a difference in inclination. If the orientation direction is different, a difference occurs in the pretilt angle of the liquid crystal molecules,
There is a possibility that poor alignment may occur.
【００８１】このような、傾きが異なる面６１、６２、
６３が各画素領域７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂ内に配置され
ると、液晶層５０を形成するアレイ基板１０と対向基板
３０’の着色層３３との間隙すなわちギャップが不均一
となる。すなわち、傾きが緩やかな面では、アレイ基板
１０と着色層３３とのギャップは、緩やかに変化し、傾
きが急峻な面では、アレイ基板と着色層３３とのギャッ
プが急峻に変化する。The surfaces 61, 62 having different inclinations as described above.
When 63 is arranged in each of the pixel regions 70R, 70G, and 70B, the gap, that is, the gap between the array substrate 10 forming the liquid crystal layer 50 and the coloring layer 33 of the counter substrate 30 'becomes non-uniform. That is, the gap between the array substrate 10 and the coloring layer 33 changes gradually on a surface with a gentle inclination, and the gap between the array substrate and the coloring layer 33 changes on a surface with a steep inclination.
【００８２】液晶分子が複屈折モードである場合には、
ギャップの違いにより、画面表示が変化する。このた
め、液晶表示素子の表示性能を低下させる原因となる。
そこで、この液晶表示素子では、図６に示したように、
着色層３３と配向膜３５との間に、ポリイミド系などの
有機材料によって形成された保護膜６０を設けている。
この保護膜６０は、各着色層３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂ、
および突起物３６を覆い、少なくとも各画素領域７０
Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂ内の着色層上をアレイ基板１０に対
して平行となるように平坦化している。この保護膜６０
により、各画素領域内におけるアレイ基板１０と保護膜
６０との間に形成される液晶層５０のギャップを均一化
することが可能となる。When the liquid crystal molecules are in the birefringence mode,
The screen display changes depending on the gap. For this reason, it causes the display performance of the liquid crystal display element to deteriorate.
Therefore, in this liquid crystal display element, as shown in FIG.
A protective film 60 formed of an organic material such as a polyimide is provided between the coloring layer 33 and the alignment film 35.
The protective film 60 is formed of the respective colored layers 33R, 33G, 33B,
And at least each pixel region 70
The colored layers in R, 70G, and 70B are flattened so as to be parallel to the array substrate 10. This protective film 60
Thereby, the gap of the liquid crystal layer 50 formed between the array substrate 10 and the protective film 60 in each pixel region can be made uniform.
【００８３】このような対向基板３０’は、以下のよう
にして形成される。まず、第２の実施の形態で説明した
ように、基板３１上に遮光膜３２を形成した後、赤色画
素領域７０Ｒおよび遮光膜３３上に赤色着色層３３Ｒを
形成し、緑色画素領域７０Ｇおよび遮光膜３３上の赤色
着色層３３Ｒ上に緑色着色層３３Ｇを形成し、青色画素
領域７０Ｂおよび遮光膜３３上の緑色着色層３３Ｂ上に
青色着色層３３Ｂを形成する。これにより、各画素領域
に着色層が配置されるとともに非画素領域に遮光膜３２
と複数の着色層３３Ｒ、３３Ｇ、３３ｂを積層した突起
物３６を形成する。The counter substrate 30 'is formed as follows. First, as described in the second embodiment, after forming the light shielding film 32 on the substrate 31, a red coloring layer 33R is formed on the red pixel region 70R and the light shielding film 33, and the green pixel region 70G and the light shielding A green coloring layer 33G is formed on the red coloring layer 33R on the film 33, and a blue coloring layer 33B is formed on the blue pixel region 70B and the green coloring layer 33B on the light shielding film 33. As a result, a colored layer is arranged in each pixel region, and the light shielding film 32 is formed in a non-pixel region.
And a plurality of colored layers 33R, 33G, and 33b are stacked to form a projection 36.
【００８４】続いて、スピンコータで各着色層３３Ｒ、
３３Ｇ、３３ｂ、および突起物３６の上に保護膜６０を
塗布し、少なくとも各画素領域内の着色層を基板３１に
対してほぼ平行とするように平坦化する。このとき、保
護膜の膜厚は、画素領域内で約１乃至３μｍであり、突
起物３６上においては画素領域内の膜厚よりも十分に薄
いものとする。Subsequently, each colored layer 33R,
A protective film 60 is applied on 33G, 33b and the protrusion 36, and flattened so that at least the colored layer in each pixel region is substantially parallel to the substrate 31. At this time, the thickness of the protective film is about 1 to 3 μm in the pixel region, and is sufficiently thinner on the protrusion 36 than in the pixel region.
【００８５】続いて、この保護膜６０上に配向膜材料を
塗布した後、ラビング処理することにより配向膜３５を
形成する。このようにして、対向基板３０’を形成す
る。Subsequently, after applying an alignment film material on the protective film 60, a rubbing process is performed to form an alignment film 35. Thus, the counter substrate 30 'is formed.
【００８６】上述したような対向基板を適用した液晶表
示素子では、画素領域と突起物との境界付近における着
色層に、基板に対する傾きが異なる面が形成される。そ
して、少なくとも画素領域内において、それぞれ傾きの
異なる着色層の面を覆うとともに、アレイ基板に対する
ギャップを均一化する保護膜を配置している。In the liquid crystal display device employing the above-described counter substrate, a surface having a different inclination with respect to the substrate is formed in the colored layer near the boundary between the pixel region and the projection. Then, at least in the pixel region, a protective film that covers the surfaces of the colored layers having different inclinations and that equalizes the gap with the array substrate is disposed.
【００８７】このため、傾きが異なる面による液晶分子
の配向不良を防止するとともに、液晶層の不均一なギャ
ップによる表示欠陥を抑制し、表示性能の低下を防止す
ることが可能となる。Thus, it is possible to prevent poor alignment of liquid crystal molecules due to planes having different inclinations, to suppress display defects due to non-uniform gaps in the liquid crystal layer, and to prevent deterioration in display performance.
【００８８】[0088]
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、アレイ基板及び対向基板にいずれか一方の基板上の
最も高い場所を他方の基板と接触させ、２枚の基板の間
隔を保つためのスペーサとして用いることにより、表示
性能を向上するとともに、歩留まりの高い、工程数の少
ない、高性能かつ安価な液晶表示素子を提供することが
できる。As described above, according to the present invention, the highest position on either one of the array substrate and the counter substrate is brought into contact with the other substrate to keep the distance between the two substrates. By using as a spacer, it is possible to improve the display performance and provide a high-performance and inexpensive liquid crystal display element with a high yield, a small number of steps, and a high yield.
【図１】図１は、この発明の第１の実施の形態に係る液
晶表示素子を概略的に示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】図２は、この発明の第１の実施の形態に係る液
晶表示素子を概略的に示す平面図である。FIG. 2 is a plan view schematically showing a liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図３】図３は、この発明の第２の実施の形態に係る液
晶表示素子を概略的に示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.
【図４】図４は、この発明の変形例に係る液晶表示素子
を概略的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing a liquid crystal display element according to a modification of the present invention.
【図５】図５は、この発明の変形例に係る液晶表示素子
を概略的に示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display element according to a modification of the present invention.
【図６】図６は、この発明の他の変形例に係る液晶表示
素子を概略的に示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view schematically showing a liquid crystal display element according to another modification of the present invention.
１０…アレイ基板 １１…絶縁性基板 １２…共通電極 １３…画素電極 １４…走査線 １５…信号線 １６…スイッチング素子（ＴＦＴ） １７…ドレイン電極 １８…ソース電極 １９…ゲート電極 ２０…絶縁膜 ２１…配向膜 ３０（３０’）…対向基板 ３１…透明基板 ３２…黒色遮光膜 ３３（Ｒ、Ｇ、Ｂ）…着色層 ３５…配向膜 ３６（４０）…突起物 ５０…液晶層 ５１…液晶組成物 ５２…接着剤 ６０…保護膜 ７０( Ｒ、Ｇ、Ｂ) …画素領域 Reference Signs List 10 array substrate 11 insulating substrate 12 common electrode 13 pixel electrode 14 scanning line 15 signal line 16 switching element (TFT) 17 drain electrode 18 source electrode 19 gate electrode 20 insulating film 21 Alignment film 30 (30 ') ... Counter substrate 31 ... Transparent substrate 32 ... Black light-shielding film 33 (R, G, B) ... Colored layer 35 ... Alignment film 36 (40) ... Projection 50 ... Liquid crystal layer 51 ... Liquid crystal composition 52: adhesive 60: protective film 70 (R, G, B): pixel area
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森光 淳 神奈川県川崎市川崎区日進町７番地１ 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Jun Morimitsu 7-1 Nisshincho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Toshiba Electronic Engineering Co., Ltd.
Claims (6)
された対向基板と、前記アレイ基板と対向基板との間に
挟持された液晶組成物とを備えた液晶表示素子におい
て、 前記アレイ基板は、 基板の一主面上に互いに直交するように配置された走査
線及び信号線と、 前記走査線及び信号線の各交差部に配置されたスイッチ
ング素子と、 前記スイッチング素子に接続された画素電極と、 前記画素電極に対して所定の間隔をおいて配置された共
通電極とを備え、 前記アレイ基板と前記対向基板との間に柱状のスペーサ
が設けられていることを特徴とする液晶表示素子。1. A liquid crystal display device comprising: an array substrate; a counter substrate disposed to face the array substrate; and a liquid crystal composition sandwiched between the array substrate and the counter substrate. A scanning line and a signal line disposed on one main surface of the substrate so as to be orthogonal to each other; a switching element disposed at each intersection of the scanning line and the signal line; and a pixel electrode connected to the switching element. And a common electrode disposed at a predetermined distance from the pixel electrode, and a columnar spacer is provided between the array substrate and the counter substrate. .
された対向基板と、前記アレイ基板と対向基板との間に
挟持された液晶組成物とを備えた液晶表示素子におい
て、 前記アレイ基板は、 基板の一主面上に互いに直交するように配置された走査
線及び信号線と、 前記走査線及び信号線の各交差部に配置されたスイッチ
ング素子と、 前記スイッチング素子に接続された画素電極と、 前記画素電極に対して所定の間隔をおいて配置された共
通電極とを備え、 前記アレイ基板及び対向基板のいずれか一方の基板に
は、他方の基板に向って突出された柱状のスペーサが設
けられていることを特徴とする液晶表示素子。2. A liquid crystal display device comprising: an array substrate; a counter substrate disposed to face the array substrate; and a liquid crystal composition sandwiched between the array substrate and the counter substrate. A scanning line and a signal line disposed on one main surface of the substrate so as to be orthogonal to each other; a switching element disposed at each intersection of the scanning line and the signal line; and a pixel electrode connected to the switching element. And a common electrode disposed at a predetermined distance from the pixel electrode, and one of the array substrate and the counter substrate has a columnar spacer protruding toward the other substrate. A liquid crystal display device, comprising:
された対向基板と、前記アレイ基板と対向基板との間に
挟持された液晶組成物とを備えた液晶表示素子におい
て、 前記アレイ基板は、 基板の一主面上に互いに直交するように配置された走査
線及び信号線と、 前記走査線及び信号線の各交差部に配置されたスイッチ
ング素子と、 前記スイッチング素子に接続された画素電極と、 前記画素電極に対して所定の間隔をおいて配置された共
通電極とを備え、 前記スイッチング素子における最も前記アレイ基板から
突出した部分を前記対向基板に接触させ、前記スイッチ
ング素子をスペーサとして利用することを特徴とする液
晶表示素子。3. A liquid crystal display device comprising: an array substrate; a counter substrate disposed to face the array substrate; and a liquid crystal composition sandwiched between the array substrate and the counter substrate. A scanning line and a signal line disposed on one main surface of the substrate so as to be orthogonal to each other; a switching element disposed at each intersection of the scanning line and the signal line; and a pixel electrode connected to the switching element. And a common electrode disposed at a predetermined distance from the pixel electrode, wherein a portion of the switching element that protrudes most from the array substrate is brought into contact with the counter substrate, and the switching element is used as a spacer. A liquid crystal display device characterized in that:
された対向基板と、前記アレイ基板と対向基板との間に
挟持された液晶組成物とを備えた液晶表示素子におい
て、 前記アレイ基板は、 基板の一主面上に互いに直交するように配置された走査
線及び信号線と、 前記走査線及び信号線の各交差部に配置されたスイッチ
ング素子と、 前記スイッチング素子に接続された画素電極と、 前記画素電極に対して所定の間隔をおいて配置された共
通電極とを備え、 前記対向基板は、前記アレイ基板に対向配置された状態
で非画素領域となる位置に柱状のスペーサを備えている
ことを特徴とする液晶表示素子。4. A liquid crystal display device comprising: an array substrate; a counter substrate disposed to face the array substrate; and a liquid crystal composition sandwiched between the array substrate and the counter substrate. A scanning line and a signal line disposed on one main surface of the substrate so as to be orthogonal to each other; a switching element disposed at each intersection of the scanning line and the signal line; and a pixel electrode connected to the switching element. And a common electrode disposed at a predetermined distance from the pixel electrode, and the counter substrate includes a columnar spacer at a position that becomes a non-pixel region in a state where the counter electrode is disposed to face the array substrate. A liquid crystal display device, comprising:
信号線、走査線、及びスイッチング素子に対向する部分
に設けられた遮光膜と、１画素毎に赤、緑、青にそれぞ
れ着色された着色層とを備え、前記柱状のスペーサが遮
光膜上に赤、緑、青の着色層を積層した突起物によって
形成されることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示
素子。5. A light-shielding film provided on a portion of the array substrate opposed to signal lines, scanning lines, and switching elements on the array substrate, and a coloring layer colored red, green, and blue for each pixel. 5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the columnar spacer is formed by a protrusion in which red, green, and blue colored layers are stacked on a light shielding film. 6.
された対向基板と、前記アレイ基板と対向基板との間に
挟持された液晶組成物とを備えた液晶表示素子におい
て、 前記アレイ基板は、 基板の一主面上に互いに直交するように配置された走査
線及び信号線と、 前記走査線及び信号線の各交差部に配置されたスイッチ
ング素子と、 前記スイッチング素子に接続された画素電極と、 前記画素電極に対して所定の間隔をおいて配置された共
通電極とを備え、 前記対向基板は、 前記アレイ基板に対向配置された状態で非画素領域に対
向する領域に設けられた遮光膜と、 前記アレイ基板に対向配置された状態で画素領域に対向
する領域に設けられているとともに前記遮光膜上に設け
られた着色層と、 前記遮光膜と複数の着色層とを積層することにより非画
素領域に形成されたスペーサと、 前記着色層上および前記スペーサを覆うとともに少なく
とも前記画素領域を平坦化する保護膜と、を備えている
ことを特徴とする液晶表示素子。6. A liquid crystal display device comprising: an array substrate; a counter substrate disposed to face the array substrate; and a liquid crystal composition sandwiched between the array substrate and the counter substrate. A scanning line and a signal line disposed on one main surface of the substrate so as to be orthogonal to each other; a switching element disposed at each intersection of the scanning line and the signal line; and a pixel electrode connected to the switching element. And a common electrode disposed at a predetermined distance from the pixel electrode, wherein the counter substrate is provided in a region facing the non-pixel region in a state where the counter substrate is disposed to face the array substrate. A film, a color layer provided in a region facing the pixel region in a state where the film is opposed to the array substrate, and provided on the light shielding film; The liquid crystal display element characterized in that it comprises a spacer formed on the non-pixel region, and a protective film to flatten at least the pixel region covering the and the spacer on the colored layer by.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2571698A JPH10325965A (en) | 1997-03-26 | 1998-02-06 | Liquid crystal display element |
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|---|---|---|---|
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| JP7353697 | 1997-03-26 | ||
| JP2571698A JPH10325965A (en) | 1997-03-26 | 1998-02-06 | Liquid crystal display element |
Publications (1)
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|---|---|
| JPH10325965A true JPH10325965A (en) | 1998-12-08 |
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ID=26363384
Family Applications (1)
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| JP2571698A Pending JPH10325965A (en) | 1997-03-26 | 1998-02-06 | Liquid crystal display element |
Country Status (1)
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