JPH0980751A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
- Publication number
- JPH0980751A JPH0980751A JP25824495A JP25824495A JPH0980751A JP H0980751 A JPH0980751 A JP H0980751A JP 25824495 A JP25824495 A JP 25824495A JP 25824495 A JP25824495 A JP 25824495A JP H0980751 A JPH0980751 A JP H0980751A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- photopolymerizable composition
- compound
- alkyl group
- sensitizer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 可視光線のような長波長光線に対し、より高
感度な光重合性組成物を提供する。 【解決手段】 少なくとも1個のエチレン性不飽和二重
結合を有する付加重合可能な化合物、並びに(a)一般
式[I]で表される増感剤及び(b)該増感剤との共存
下で光照射時に活性ラジカルを発生し得るチタノセン化
合物からなる光重合開始剤系を含有する光重合性組成
物。 (式中、mは0又は1、nは1又は2の整数、R1は原
子数3〜15の複素芳香族環基、R2とR3は夫々独立に
水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基、R4は水素
原子、アルキル基等、R5〜R7は夫々独立に、水素原
子、ハロゲン原子等、R8及びR9は夫々独立に水素原子
又は炭素数1〜16のアルキル基を表すが、R8及びR9
は互いに結合して環を形成していてもよく、またR8と
R6及びR9とR7は互いに直接結合、或いは酸素原子又
はイオウ原子を介して結合し環を形成していてもよ
い。)。
感度な光重合性組成物を提供する。 【解決手段】 少なくとも1個のエチレン性不飽和二重
結合を有する付加重合可能な化合物、並びに(a)一般
式[I]で表される増感剤及び(b)該増感剤との共存
下で光照射時に活性ラジカルを発生し得るチタノセン化
合物からなる光重合開始剤系を含有する光重合性組成
物。 (式中、mは0又は1、nは1又は2の整数、R1は原
子数3〜15の複素芳香族環基、R2とR3は夫々独立に
水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基、R4は水素
原子、アルキル基等、R5〜R7は夫々独立に、水素原
子、ハロゲン原子等、R8及びR9は夫々独立に水素原子
又は炭素数1〜16のアルキル基を表すが、R8及びR9
は互いに結合して環を形成していてもよく、またR8と
R6及びR9とR7は互いに直接結合、或いは酸素原子又
はイオウ原子を介して結合し環を形成していてもよ
い。)。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光重合性組成物に
関するものである。特に可視領域の光線に対して極めて
高感度な光重合性組成物に関するものである。
関するものである。特に可視領域の光線に対して極めて
高感度な光重合性組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、光重合系を利用した画像形成法は
多数知られている。例えば、付加重合可能なエチレン性
二重結合を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望によ
り用いられる有機高分子結合剤等からなる光重合性組成
物を調製し、この光重合性組成物を支持体上に塗布して
光重合性組成物の層を設けた感光材料を作成し、所望画
像を像露光して露光部分を重合硬化させ、未露光部分を
溶解除去することにより硬化レリーフ画像を形成する方
法、上述の感光材料が少なくとも一方が透明である2枚
の支持体間に光重合性組成物の層を設けたものであり、
透明支持体側より像露光し光による接着強度の変化を惹
起させた後、支持体を剥離することにより画像を形成す
る方法、その他光重合性組成物層の光によるトナー付着
性の変化を利用した画像作成方法等がある。これらの方
法に応用される光重合性組成物の光重合開始剤としては
従来、ベンゾイル、ベンゾインアルキルエーテル、ベン
ジルケタール、ベンゾフェノン、アントラキノン、ベン
ジルあるいはミヒラーズケトンなどが用いられてきた。
しかしながら、これらの光重合開始剤は400nm以下
の紫外線領域の光線に対する光重合開始能力に比較し、
400nm以上の可視光線領域の光線に対するそれは著
しく低いので、それらを含む光重合性組成物の応用範囲
は限定されてきた。
多数知られている。例えば、付加重合可能なエチレン性
二重結合を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望によ
り用いられる有機高分子結合剤等からなる光重合性組成
物を調製し、この光重合性組成物を支持体上に塗布して
光重合性組成物の層を設けた感光材料を作成し、所望画
像を像露光して露光部分を重合硬化させ、未露光部分を
溶解除去することにより硬化レリーフ画像を形成する方
法、上述の感光材料が少なくとも一方が透明である2枚
の支持体間に光重合性組成物の層を設けたものであり、
透明支持体側より像露光し光による接着強度の変化を惹
起させた後、支持体を剥離することにより画像を形成す
る方法、その他光重合性組成物層の光によるトナー付着
性の変化を利用した画像作成方法等がある。これらの方
法に応用される光重合性組成物の光重合開始剤としては
従来、ベンゾイル、ベンゾインアルキルエーテル、ベン
ジルケタール、ベンゾフェノン、アントラキノン、ベン
ジルあるいはミヒラーズケトンなどが用いられてきた。
しかしながら、これらの光重合開始剤は400nm以下
の紫外線領域の光線に対する光重合開始能力に比較し、
400nm以上の可視光線領域の光線に対するそれは著
しく低いので、それらを含む光重合性組成物の応用範囲
は限定されてきた。
【0003】近年、画像形成技術の発展に伴い可視領域
の光線に対し高度な適応性を有するフォトポリマーが強
く要請される様になってきた。それらは、例えば、非接
触型の投影露光製版や可視光レーザーによるレーザー製
版等に適合した感光材料である。これらの技術の中で、
特にアルゴンイオンレーザーの可視光の発振ビームを用
いた製版方式は最も将来有望視された技法の一つと考え
られている。
の光線に対し高度な適応性を有するフォトポリマーが強
く要請される様になってきた。それらは、例えば、非接
触型の投影露光製版や可視光レーザーによるレーザー製
版等に適合した感光材料である。これらの技術の中で、
特にアルゴンイオンレーザーの可視光の発振ビームを用
いた製版方式は最も将来有望視された技法の一つと考え
られている。
【0004】可視光領域の光線に感応し得る光重合開始
系を含有する光重合性組成物に関しては、従来、いくつ
かの提案がなされてきた。例えば、ヘキサアリールビイ
ミダゾールとラジカル発生剤および染料の系(特公昭4
5−37377号公報)、ヘキサアリールビイミダゾー
ルと(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトンの系
(特開昭47−2528号、特開昭54−155292
号各公報)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料
の系(特開昭48−84183号公報)、置換トリアジ
ンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024
号公報)、ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−1
12681号、特開昭58−15503号、特開昭60
−88005号各公報)、置換トリアジンと増感剤の系
(特開昭58−29803号、特開昭58−40302
号各公報)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオー
ルの系(特開昭59−56403号公報)、有機過酸化
物と色素の系(特開昭59−140203号、特開昭5
9−189340号各公報)が挙げられる。
系を含有する光重合性組成物に関しては、従来、いくつ
かの提案がなされてきた。例えば、ヘキサアリールビイ
ミダゾールとラジカル発生剤および染料の系(特公昭4
5−37377号公報)、ヘキサアリールビイミダゾー
ルと(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトンの系
(特開昭47−2528号、特開昭54−155292
号各公報)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料
の系(特開昭48−84183号公報)、置換トリアジ
ンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024
号公報)、ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−1
12681号、特開昭58−15503号、特開昭60
−88005号各公報)、置換トリアジンと増感剤の系
(特開昭58−29803号、特開昭58−40302
号各公報)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオー
ルの系(特開昭59−56403号公報)、有機過酸化
物と色素の系(特開昭59−140203号、特開昭5
9−189340号各公報)が挙げられる。
【0005】また、チタノセンを光重合開始系に使用す
る例としては、特開昭59−152396号、特開昭6
1−151197号、特開昭63−10602号、特開
昭63−41484号、特開平2−291号、特開平3
−12403号、特開平3−20293号、特開平3−
27393号、特開平3−52050号各公報、また、
チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基或いはウレ
タン基を有する付加重合可能なエチレン性不飽和二重結
合含有化合物を組合わせた系(特開平4−221958
号、特開平4−219756号各公報)、アルゴンイオ
ンレーザー488nm付近の感度に優れるチタノセンと
3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221110
号公報)、チタノセンと3位に複素環基を有するクマリ
ン色素の系(特開平6−289335号、特開平3−2
39703号各公報)が挙げられる。
る例としては、特開昭59−152396号、特開昭6
1−151197号、特開昭63−10602号、特開
昭63−41484号、特開平2−291号、特開平3
−12403号、特開平3−20293号、特開平3−
27393号、特開平3−52050号各公報、また、
チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基或いはウレ
タン基を有する付加重合可能なエチレン性不飽和二重結
合含有化合物を組合わせた系(特開平4−221958
号、特開平4−219756号各公報)、アルゴンイオ
ンレーザー488nm付近の感度に優れるチタノセンと
3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221110
号公報)、チタノセンと3位に複素環基を有するクマリ
ン色素の系(特開平6−289335号、特開平3−2
39703号各公報)が挙げられる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、可視光線の
ような長波長光線に対し、より高感度な光重合性組成物
を提供することを目的とし、複素芳香族環基を有する特
定のクマリン系色素の増感剤と該増感剤との共存下で光
照射時に活性ラジカルを発生し得る合物を用いることに
より、488nm付近の露光に対する感度に非常に優れ
る光重合性組成物の提供を可能とするものである。
ような長波長光線に対し、より高感度な光重合性組成物
を提供することを目的とし、複素芳香族環基を有する特
定のクマリン系色素の増感剤と該増感剤との共存下で光
照射時に活性ラジカルを発生し得る合物を用いることに
より、488nm付近の露光に対する感度に非常に優れ
る光重合性組成物の提供を可能とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、高い感度
を有する優れた光重合性組成物を得るべく鋭意検討の結
果、少なくとも付加重合可能な化合物および光重合開始
系を含む光重合性組成物であって、該付加重合可能な化
合物が1個以上のエチレン性不飽和二重結合を有してい
るものにおいて該光重合開始系がビニレン基を介して複
素芳香族環基を有する特定のクマリン系色素骨格を有す
る増感剤および該増感剤との共存下で光照射時に活性ラ
ジカルを発生し得る化合物を含有することにより、高感
度で実用性が高くなることを見出し、本発明に到達し
た。
を有する優れた光重合性組成物を得るべく鋭意検討の結
果、少なくとも付加重合可能な化合物および光重合開始
系を含む光重合性組成物であって、該付加重合可能な化
合物が1個以上のエチレン性不飽和二重結合を有してい
るものにおいて該光重合開始系がビニレン基を介して複
素芳香族環基を有する特定のクマリン系色素骨格を有す
る増感剤および該増感剤との共存下で光照射時に活性ラ
ジカルを発生し得る化合物を含有することにより、高感
度で実用性が高くなることを見出し、本発明に到達し
た。
【0008】即ち、本発明は、付加重合可能な化合物及
び光重合開始剤系を含む光重合性組成物において、該付
加重合可能な化合物は少なくとも1個のエチレン性不飽
和二重結合を有しており、該光重合開始剤系は、(a)
一般式[I]で表される増感剤及び(b)該増感剤との
共存下で光照射時に活性ラジカルを発生し得る化合物を
含有することからなる光重合性組成物を要旨とするもの
である。
び光重合開始剤系を含む光重合性組成物において、該付
加重合可能な化合物は少なくとも1個のエチレン性不飽
和二重結合を有しており、該光重合開始剤系は、(a)
一般式[I]で表される増感剤及び(b)該増感剤との
共存下で光照射時に活性ラジカルを発生し得る化合物を
含有することからなる光重合性組成物を要旨とするもの
である。
【0009】
【化3】
【0010】(式中、mは0又は1、nは1又は2の整
数を表し、R1は環を構成する原子数3〜15の複素芳
香族環基を表し、R2とR3は夫々独立に水素原子又は炭
素数1〜10のアルキル基を表し、R4は水素原子、ア
ルキル基、アシル基、シアノ基又はアルコキシカルボニ
ル基を表し、R5〜R7は夫々独立に、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、R8及び
R9は夫々独立に水素原子又は炭素数1〜16のアルキ
ル基を表すが、R8及びR9は互いに結合して環を形成し
ていてもよく、またR8とR6及びR9とR7は互いに直接
結合、或いは酸素原子又はイオウ原子を介して結合し環
を形成していてもよい。)。
数を表し、R1は環を構成する原子数3〜15の複素芳
香族環基を表し、R2とR3は夫々独立に水素原子又は炭
素数1〜10のアルキル基を表し、R4は水素原子、ア
ルキル基、アシル基、シアノ基又はアルコキシカルボニ
ル基を表し、R5〜R7は夫々独立に、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、R8及び
R9は夫々独立に水素原子又は炭素数1〜16のアルキ
ル基を表すが、R8及びR9は互いに結合して環を形成し
ていてもよく、またR8とR6及びR9とR7は互いに直接
結合、或いは酸素原子又はイオウ原子を介して結合し環
を形成していてもよい。)。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の光重合性組成物において第一の必須成分
として含まれるエチレン性不飽和二重結合を少なくとも
1個有する付加重合可能な化合物(以下、「エチレン性
化合物」と略す)とは、光重合性組成物が活性光線の照
射を受けた場合、第二の必須成分である光重合開始系の
作用により付加重合し、硬化するようなエチレン性不飽
和二重結合を有する化合物であって、例えばエチレン性
不飽和二重結合を有する単量体、または側鎖もしくは主
鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体である。
なお、本発明における単量体の意味するところは、所謂
高分子物質に相対する概念であって、従って、狭量の単
量体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包含するも
のである。
する。本発明の光重合性組成物において第一の必須成分
として含まれるエチレン性不飽和二重結合を少なくとも
1個有する付加重合可能な化合物(以下、「エチレン性
化合物」と略す)とは、光重合性組成物が活性光線の照
射を受けた場合、第二の必須成分である光重合開始系の
作用により付加重合し、硬化するようなエチレン性不飽
和二重結合を有する化合物であって、例えばエチレン性
不飽和二重結合を有する単量体、または側鎖もしくは主
鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体である。
なお、本発明における単量体の意味するところは、所謂
高分子物質に相対する概念であって、従って、狭量の単
量体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包含するも
のである。
【0012】エチレン性不飽和結合を有する単量体とし
ては、例えば不飽和カルボン酸及びそのアルキルエステ
ル、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸と
のエステル;芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステル;不飽和カルボン酸と多価カルボン
酸および前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポ
リヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物とのエス
テル化反応により得られるエステル等が挙げられる。
ては、例えば不飽和カルボン酸及びそのアルキルエステ
ル、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸と
のエステル;芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステル;不飽和カルボン酸と多価カルボン
酸および前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポ
リヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物とのエス
テル化反応により得られるエステル等が挙げられる。
【0013】不飽和カルボン酸及びそのアルキルエステ
ルとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、マレイン酸及びこれらカルボン酸の炭素数
1〜5のアルキルエステル等であり、アクリル酸のメチ
ル、エチル、プロピル、ブチルエステル、同様にアクリ
ル酸をメタクリル酸に代えたエステル等が挙げられる。
ルとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、マレイン酸及びこれらカルボン酸の炭素数
1〜5のアルキルエステル等であり、アクリル酸のメチ
ル、エチル、プロピル、ブチルエステル、同様にアクリ
ル酸をメタクリル酸に代えたエステル等が挙げられる。
【0014】前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和
カルボン酸とのエステルは限定はされないが、具体例と
しては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グ
リセロールアクリレート等のアクリル酸エステル、これ
ら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えた
メタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイ
タコン酸エステル、クロトネートに代えたクロトン酸エ
ステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル
等がある。
カルボン酸とのエステルは限定はされないが、具体例と
しては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グ
リセロールアクリレート等のアクリル酸エステル、これ
ら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えた
メタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイ
タコン酸エステル、クロトネートに代えたクロトン酸エ
ステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル
等がある。
【0015】芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリ
レート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシン
ジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガ
ロールトリアクリレート等が挙げられる。不飽和カルボ
ン酸と多価カルボン酸および多価ヒドロキシ化合物との
エステル化反応により得られるエステルとしては必ずし
も単一物ではないが代表的な具体例を挙げれば、アクリ
ル酸、フタル酸およびエチレングリコールの縮合物、ア
クリル酸、マレイン酸およびジエチレングリコールの縮
合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペンタエリス
ルトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、ブタンジ
オールおよびグリセリンの縮合物等がある。その他本発
明に用いられるエチレン性化合物の例としてはエチレン
ビスアクリルアミド等のアクリルアミド類;フタル酸ジ
アリル等のアリルエステル類;ジビニルフタレート等の
ビニル基含有化合物などが有用である。
ボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリ
レート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシン
ジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガ
ロールトリアクリレート等が挙げられる。不飽和カルボ
ン酸と多価カルボン酸および多価ヒドロキシ化合物との
エステル化反応により得られるエステルとしては必ずし
も単一物ではないが代表的な具体例を挙げれば、アクリ
ル酸、フタル酸およびエチレングリコールの縮合物、ア
クリル酸、マレイン酸およびジエチレングリコールの縮
合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペンタエリス
ルトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、ブタンジ
オールおよびグリセリンの縮合物等がある。その他本発
明に用いられるエチレン性化合物の例としてはエチレン
ビスアクリルアミド等のアクリルアミド類;フタル酸ジ
アリル等のアリルエステル類;ジビニルフタレート等の
ビニル基含有化合物などが有用である。
【0016】主鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合
体としては、例えば不飽和二価カルボン酸とヒドロキシ
化合物との重縮合反応により得られるポリエステル、不
飽和二価カルボン酸とジアミンとの重縮合反応により得
られるポリアミド等がある。側鎖にエチレン性不飽和結
合を有する重合体は側鎖に不飽和結合をもつ二価カルボ
ン酸、例えばイタコン酸、プロピリデンコハク酸、エチ
リデンマロン酸等とジヒドロキシまたはジアミン化合物
との縮合重合体がある。また側鎖にヒドロキシ基やハロ
ゲン化メチル基の如き反応活性を有する官能基をもつ重
合体、例えばポリビニルアルコール、ポリ(2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート)、ポリエピクロルヒドリン
等とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和
カルボン酸との高分子反応により得られるポリマーも好
適に使用し得る。
体としては、例えば不飽和二価カルボン酸とヒドロキシ
化合物との重縮合反応により得られるポリエステル、不
飽和二価カルボン酸とジアミンとの重縮合反応により得
られるポリアミド等がある。側鎖にエチレン性不飽和結
合を有する重合体は側鎖に不飽和結合をもつ二価カルボ
ン酸、例えばイタコン酸、プロピリデンコハク酸、エチ
リデンマロン酸等とジヒドロキシまたはジアミン化合物
との縮合重合体がある。また側鎖にヒドロキシ基やハロ
ゲン化メチル基の如き反応活性を有する官能基をもつ重
合体、例えばポリビニルアルコール、ポリ(2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート)、ポリエピクロルヒドリン
等とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和
カルボン酸との高分子反応により得られるポリマーも好
適に使用し得る。
【0017】以上記載したエチレン性化合物の内、アク
リル酸エステルまたはメタクリル酸エステルの単量体が
特に好適に使用できる。次に本発明の光重合性組成物の
第二の必須成分である光重合開始系について説明する。
本発明の光重合開始系は、2種成分の組み合わせから構
成されており、その第1成分は、本発明において(a)
として表される前記した一般式[I]で示される増感剤
である。
リル酸エステルまたはメタクリル酸エステルの単量体が
特に好適に使用できる。次に本発明の光重合性組成物の
第二の必須成分である光重合開始系について説明する。
本発明の光重合開始系は、2種成分の組み合わせから構
成されており、その第1成分は、本発明において(a)
として表される前記した一般式[I]で示される増感剤
である。
【0018】これらの増感剤は、限定されないが、下記
に示すように3−シアノ−7−ジアルキルアミノ−クマ
リンを通常の方法により、ラネーニッケルを用いて還元
反応をすることにより、7−ジアルキルアミノクマリン
−3−カルバルデヒドを合成する方法、または7−ジア
ルキルアミノクマリンをビルスマイヤー法を用いてホル
ミル化した後、該ホルミル化クマリンをハロゲン化複素
芳香環化合物、トリフェニルメチルフォスフォニムブロ
マイドとn−ブチルリチウムより生成されるWittig試薬
と反応させることにより合成する方法、或いは前記のホ
ルミル化クマリンと活性メチル基を有する複素芳香族環
化合物とを反応させて合成する方法等により合成するこ
とができる。
に示すように3−シアノ−7−ジアルキルアミノ−クマ
リンを通常の方法により、ラネーニッケルを用いて還元
反応をすることにより、7−ジアルキルアミノクマリン
−3−カルバルデヒドを合成する方法、または7−ジア
ルキルアミノクマリンをビルスマイヤー法を用いてホル
ミル化した後、該ホルミル化クマリンをハロゲン化複素
芳香環化合物、トリフェニルメチルフォスフォニムブロ
マイドとn−ブチルリチウムより生成されるWittig試薬
と反応させることにより合成する方法、或いは前記のホ
ルミル化クマリンと活性メチル基を有する複素芳香族環
化合物とを反応させて合成する方法等により合成するこ
とができる。
【0019】
【化4】
【0020】前記一般式[I]において、R1がベンゾチ
アゾール基、ベンゾオキサゾール基、ベンゾイミダゾー
ル基、ナフトチアゾール基、ナフトオキサゾール基また
はナフトイミダゾール基等の複素環基、R2、R3及びR
5が水素原子、R4が水素原子、メチル基或いは塩素原
子、n又はmが1であり、且つR8及びR9が炭素数1〜
8のアルキル基又は互いに結合してピペリジン環を形成
するか、或いはクマリン骨格のR6〜R9が互いに結合し
て6又は7員環を形成し、特に下記構造の脂環式アミノ
基を形成した化合物が感応度の改善に有効であり好まし
い。
アゾール基、ベンゾオキサゾール基、ベンゾイミダゾー
ル基、ナフトチアゾール基、ナフトオキサゾール基また
はナフトイミダゾール基等の複素環基、R2、R3及びR
5が水素原子、R4が水素原子、メチル基或いは塩素原
子、n又はmが1であり、且つR8及びR9が炭素数1〜
8のアルキル基又は互いに結合してピペリジン環を形成
するか、或いはクマリン骨格のR6〜R9が互いに結合し
て6又は7員環を形成し、特に下記構造の脂環式アミノ
基を形成した化合物が感応度の改善に有効であり好まし
い。
【0021】
【化5】
【0022】特に、前記一般式[I]において、R8及
びR9の炭素数が3以上であるもの及びR6〜R9が互い
に結合して上記の構造を有する脂環式アミノ基を形成す
る場合には、塗布溶媒に対する溶解性或いは感光層中で
の溶解安定性に優れ、R6とR8或いはR7とR9とが結合
した脂環式アミノ基骨格を有するものは、吸収波長ピー
クが長波長へシフトし、さらに感度が向上する特性を有
する。
びR9の炭素数が3以上であるもの及びR6〜R9が互い
に結合して上記の構造を有する脂環式アミノ基を形成す
る場合には、塗布溶媒に対する溶解性或いは感光層中で
の溶解安定性に優れ、R6とR8或いはR7とR9とが結合
した脂環式アミノ基骨格を有するものは、吸収波長ピー
クが長波長へシフトし、さらに感度が向上する特性を有
する。
【0023】以下、一般式[I]で表される増感剤につ
いてその代表例を挙げるが、本発明に用いる一般式
[I]で表される増感剤はこれら具体例に限定されるも
のではなく、本発明では、下記の如き増感剤の少なくと
も一種を選択して使用に供する。
いてその代表例を挙げるが、本発明に用いる一般式
[I]で表される増感剤はこれら具体例に限定されるも
のではなく、本発明では、下記の如き増感剤の少なくと
も一種を選択して使用に供する。
【0024】
【化6】
【0025】
【化7】
【0026】本発明の光重合開始系を構成する第2の成
分は、本願発明において(b)として表される、前記増
感剤との共存下で光照射した場合、活性ラジカルを発生
し得るチタノセン化合物である。
分は、本願発明において(b)として表される、前記増
感剤との共存下で光照射した場合、活性ラジカルを発生
し得るチタノセン化合物である。
【0027】該チタノセン化合物は、特に限定はされな
いが例えば特開昭59−152396号、特開昭61−
151197号、特開平6−41170号各公報に記載
されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いる
ことができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジ
エニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロ
フェニー1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル−1−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,
6−トリフルオロフェニル−1−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ
ル−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス
−2,4−ジ−フルオロフェニル−1−イル、ジ−メチ
ルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチル
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−
テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ
ル−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス
−2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェ
ニ−1−イル(以下B−1と表す)、ビス〔シクロペン
タジエニル〕ビス〔6−クロロ−2−i−ブチルチオ−
4−(3−メチルブト−1−オキシ)ピリミジニル〕チ
タン、ビス〔シクロペンタジエニル〕ビス〔2,4−ビ
ス(1,1−ジメチルプロポキシ)ピリミジル〕チタン
等を挙げることができる。
いが例えば特開昭59−152396号、特開昭61−
151197号、特開平6−41170号各公報に記載
されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いる
ことができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジ
エニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロ
フェニー1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル−1−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,
6−トリフルオロフェニル−1−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ
ル−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス
−2,4−ジ−フルオロフェニル−1−イル、ジ−メチ
ルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチル
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−
テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ
ル−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス
−2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェ
ニ−1−イル(以下B−1と表す)、ビス〔シクロペン
タジエニル〕ビス〔6−クロロ−2−i−ブチルチオ−
4−(3−メチルブト−1−オキシ)ピリミジニル〕チ
タン、ビス〔シクロペンタジエニル〕ビス〔2,4−ビ
ス(1,1−ジメチルプロポキシ)ピリミジル〕チタン
等を挙げることができる。
【0028】本発明では、チタノセン化合物以外のラジ
カルを発生しうる活性剤も併用することができる。これ
らの化合物としては、例えば2,2’−ビス(o−クロ
ロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビ
イミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラ(p−カルボエトキシフ
ェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−ブロモ
フェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロ
ロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,p−
ジクロロフェニル)ビイミダゾール(以下B−2と表
す)、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−
ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テ
トラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニルビイミダゾール等のヘキサアリールビイミダゾ
ールが挙げられる。
カルを発生しうる活性剤も併用することができる。これ
らの化合物としては、例えば2,2’−ビス(o−クロ
ロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビ
イミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラ(p−カルボエトキシフ
ェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(p−ブロモ
フェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロ
ロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,p−
ジクロロフェニル)ビイミダゾール(以下B−2と表
す)、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−
ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テ
トラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニルビイミダゾール等のヘキサアリールビイミダゾ
ールが挙げられる。
【0029】また、2,4,6−トリス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブ
ロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−
ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−
メトキシフェニル)−4,6−ジ(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2,2,2−トリクロロメチルアセ
トフェノン、トリブロモメチルフェニルスルホン、2−
トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−
1,3,4−オキサジアゾール等のハロゲン化炭化水素
誘導体、更に特開昭58−29803号公報に記載のチ
オール化合物、または、アミン化合物等があげられ、特
に好ましい添加剤としては、ジアルキルアミン誘導体化
合物が挙げられ、具体的にはミヒラーズケトン、ジアル
キルアミノフェニル基を有する化合物等が挙げられる。
ジアルキルアミノフェニル基を含有する化合物として
は、例えば下記一般式[II]〜[IV]の化合物が挙げら
れる。
チル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブ
ロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−
ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−
メトキシフェニル)−4,6−ジ(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2,2,2−トリクロロメチルアセ
トフェノン、トリブロモメチルフェニルスルホン、2−
トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−
1,3,4−オキサジアゾール等のハロゲン化炭化水素
誘導体、更に特開昭58−29803号公報に記載のチ
オール化合物、または、アミン化合物等があげられ、特
に好ましい添加剤としては、ジアルキルアミン誘導体化
合物が挙げられ、具体的にはミヒラーズケトン、ジアル
キルアミノフェニル基を有する化合物等が挙げられる。
ジアルキルアミノフェニル基を含有する化合物として
は、例えば下記一般式[II]〜[IV]の化合物が挙げら
れる。
【0030】
【化8】
【0031】一般式[II]〜[IV]において、R10〜R
20はそれぞれアルキル基を表すが、R10、R11、R13〜
R20は、好ましくは低級アルキル基、特に好ましくは、
炭素数1〜4のアルキル基を示し、R12はより具体的に
は炭素数1〜20のアルキル基を示すが、これらはいず
れも直鎖状であっても、分岐構造を有していてもよい。
R12のアルキル基は更に置換基、例えばハロゲン原子、
アリール基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシ基
等で置換されていても良い。
20はそれぞれアルキル基を表すが、R10、R11、R13〜
R20は、好ましくは低級アルキル基、特に好ましくは、
炭素数1〜4のアルキル基を示し、R12はより具体的に
は炭素数1〜20のアルキル基を示すが、これらはいず
れも直鎖状であっても、分岐構造を有していてもよい。
R12のアルキル基は更に置換基、例えばハロゲン原子、
アリール基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシ基
等で置換されていても良い。
【0032】一般式[II]〜[IV]で表される化合物
を、具体的に例示するに、例えば、p−ジメチルアミノ
安息香酸エチルエステル、p−ジエチルアミノ安息香酸
エチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソプロ
ピルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸−n−ブチ
ルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸−n−オクチ
ルエステルまたはp−ジ−n−ブチルアミノ安息香酸エ
チルエステル等のジアルキルアミノ安息香酸アルキルエ
ステル;4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェ
ノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ンまたは4,4’−ビス(ジイソプロピルアミノ)ベン
ゾフェノン等のビスアミノベンゾフェノン;4,4’−
ビス(ジメチルアミノ)ベンジルまたは4,4’−ビス
(ジエチルアミノ)ベンジル等のビスアミノベンジルが
挙げられる。これらの内、一般式[II]または[III]
で表される化合物、特にジアルキルアミノ安息香酸アル
キルエステルが好ましい。
を、具体的に例示するに、例えば、p−ジメチルアミノ
安息香酸エチルエステル、p−ジエチルアミノ安息香酸
エチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソプロ
ピルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸−n−ブチ
ルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸−n−オクチ
ルエステルまたはp−ジ−n−ブチルアミノ安息香酸エ
チルエステル等のジアルキルアミノ安息香酸アルキルエ
ステル;4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェ
ノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ンまたは4,4’−ビス(ジイソプロピルアミノ)ベン
ゾフェノン等のビスアミノベンゾフェノン;4,4’−
ビス(ジメチルアミノ)ベンジルまたは4,4’−ビス
(ジエチルアミノ)ベンジル等のビスアミノベンジルが
挙げられる。これらの内、一般式[II]または[III]
で表される化合物、特にジアルキルアミノ安息香酸アル
キルエステルが好ましい。
【0033】以上述べた本発明の光重合性組成物に用い
られる光重合開始系を構成する増感剤および活性ラジカ
ルを発生し得る化合物の好適な使用量は特に制限されな
いが、エチレン性不飽和化合物100重量部に対し、増
感剤が好ましくは0.05〜20重量部、より好ましく
は0.2〜10重量部、活性ラジカルを発生し得る化合
物が一般的には0.1〜30重量部、好ましくは0.5
〜20重量部、より好ましくは0.5〜10重量部であ
る。
られる光重合開始系を構成する増感剤および活性ラジカ
ルを発生し得る化合物の好適な使用量は特に制限されな
いが、エチレン性不飽和化合物100重量部に対し、増
感剤が好ましくは0.05〜20重量部、より好ましく
は0.2〜10重量部、活性ラジカルを発生し得る化合
物が一般的には0.1〜30重量部、好ましくは0.5
〜20重量部、より好ましくは0.5〜10重量部であ
る。
【0034】本発明の光重合性組成物は前記の各構成成
分の他に本組成物の改質、光硬化後の物性改善の為に結
合剤として有機高分子物質を更に添加することが好まし
い。結合剤は相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性等の
改善目的に応じて適宜選択すればよい。具体的には例え
ば、水系現像性改善にはアクリル酸共重合体、メタクリ
ル酸共重合体、イタコン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体、側鎖にカルボキシル基を有する酸性
セルロース変性物、ポリエチレンオキシド、ポリビニル
ピロリドン等がある。
分の他に本組成物の改質、光硬化後の物性改善の為に結
合剤として有機高分子物質を更に添加することが好まし
い。結合剤は相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性等の
改善目的に応じて適宜選択すればよい。具体的には例え
ば、水系現像性改善にはアクリル酸共重合体、メタクリ
ル酸共重合体、イタコン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体、側鎖にカルボキシル基を有する酸性
セルロース変性物、ポリエチレンオキシド、ポリビニル
ピロリドン等がある。
【0035】皮膜強度、接着性の改善にはエピクロロヒ
ドリンとビスフェノールAとのポリエーテル;可溶性ナ
イロン;ポリメチルメタクリレート等のポリメタクリル
酸アルキルやポリアクリル酸アルキル;メタクリル酸ア
ルキルとアクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル
酸、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共重
合体;アクリロニトリルと塩化ビニル、塩化ビニリデン
との共重合体;塩化ビニリデン、塩素化ポリオレフィ
ン、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体;ポリ酢酸ビ
ニル;アクリロニトリルとスチレンとの共重合体;アク
リロニトリルとブタジエン、スチレンとの共重合体;ポ
リビニルアルキルエーテル;ポリビニルアルキルケト
ン;ポリスチレン;ポリアミド;ポリウレタン;ポリエ
チレンテレフタレートイソフタレート;アセチルセルロ
ースおよびポリビニルブチラール等を挙げることができ
る。これらの結合剤は前記エチレン性化合物に対し重量
比率で一般的には500%以下、好ましくは200%以
下の範囲で添加混合することができる。
ドリンとビスフェノールAとのポリエーテル;可溶性ナ
イロン;ポリメチルメタクリレート等のポリメタクリル
酸アルキルやポリアクリル酸アルキル;メタクリル酸ア
ルキルとアクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル
酸、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共重
合体;アクリロニトリルと塩化ビニル、塩化ビニリデン
との共重合体;塩化ビニリデン、塩素化ポリオレフィ
ン、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体;ポリ酢酸ビ
ニル;アクリロニトリルとスチレンとの共重合体;アク
リロニトリルとブタジエン、スチレンとの共重合体;ポ
リビニルアルキルエーテル;ポリビニルアルキルケト
ン;ポリスチレン;ポリアミド;ポリウレタン;ポリエ
チレンテレフタレートイソフタレート;アセチルセルロ
ースおよびポリビニルブチラール等を挙げることができ
る。これらの結合剤は前記エチレン性化合物に対し重量
比率で一般的には500%以下、好ましくは200%以
下の範囲で添加混合することができる。
【0036】本発明の光重合性組成物は、必要に応じ更
に熱重合防止剤、着色剤、可塑剤、保存安定剤、表面保
護剤、平滑剤、塗布助剤その他の添加剤を添加すること
ができる。熱重合防止剤としては例えばハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ピロガロール、カテコー
ル、2,6−t−ブチル−p−クレゾール、β−ナフト
ールなどがあり、着色剤としては例えばフタロシアニン
系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンな
どの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレッ
ト、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染
料がある。これら熱重合防止剤や着色剤の添加量は前記
結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和化合物と結合
剤との合計重量に対し熱重合防止剤が0.01〜3%、
着色剤が0.1〜20%が好ましい。
に熱重合防止剤、着色剤、可塑剤、保存安定剤、表面保
護剤、平滑剤、塗布助剤その他の添加剤を添加すること
ができる。熱重合防止剤としては例えばハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ピロガロール、カテコー
ル、2,6−t−ブチル−p−クレゾール、β−ナフト
ールなどがあり、着色剤としては例えばフタロシアニン
系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンな
どの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレッ
ト、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染
料がある。これら熱重合防止剤や着色剤の添加量は前記
結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和化合物と結合
剤との合計重量に対し熱重合防止剤が0.01〜3%、
着色剤が0.1〜20%が好ましい。
【0037】また、前記可塑剤としては、例えばジオク
チルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレン
グリコールジカプリレート、ジメチルグリコ−ルフタレ
ート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペー
ト、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が
あり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和化合物
と結合剤との合計重量に対し10%以下添加することが
できる。
チルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレン
グリコールジカプリレート、ジメチルグリコ−ルフタレ
ート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペー
ト、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が
あり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和化合物
と結合剤との合計重量に対し10%以下添加することが
できる。
【0038】本発明の光重合性組成物を使用する際は、
無溶媒にて感光材料を形成するか、または適当な溶剤に
溶解して溶液とし、これを支持体上に塗布、乾燥して感
光材料を調製することができる。溶剤としては、例えば
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、
酢酸アミル、プロピオン酸エチル、トルエン、キシレ
ン、モノクロロベンゼン、四塩化炭素、トリクロロエチ
レン、トリクロロエタン、ジメチルホルムアミド、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラ
ン、ベントキソン、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート等があり、一種または二種以上を併用して用いる
ことができる。
無溶媒にて感光材料を形成するか、または適当な溶剤に
溶解して溶液とし、これを支持体上に塗布、乾燥して感
光材料を調製することができる。溶剤としては、例えば
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、
酢酸アミル、プロピオン酸エチル、トルエン、キシレ
ン、モノクロロベンゼン、四塩化炭素、トリクロロエチ
レン、トリクロロエタン、ジメチルホルムアミド、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラ
ン、ベントキソン、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート等があり、一種または二種以上を併用して用いる
ことができる。
【0039】本発明の光重合性組成物を用いて感光材料
を調製する際に適用される支持体は通常用いられるもの
はいずれでも良い。例えばアルミニウム、マグネシウ
ム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属またはそ
れらを主成分とした合金のシート;上質紙、アート紙、
剥離紙等の紙類;ガラス、セラミックス等の無機シー
ト;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
メチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6−ナイロ
ン、セルローストリアセテート、セルロースアセテート
ブチレート等のポリマーシート等が挙げられる。
を調製する際に適用される支持体は通常用いられるもの
はいずれでも良い。例えばアルミニウム、マグネシウ
ム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属またはそ
れらを主成分とした合金のシート;上質紙、アート紙、
剥離紙等の紙類;ガラス、セラミックス等の無機シー
ト;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
メチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6−ナイロ
ン、セルローストリアセテート、セルロースアセテート
ブチレート等のポリマーシート等が挙げられる。
【0040】また、本発明の光重合性組成物はさらに酸
素による感度低下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止
する為の公知技術、例えば、感光層上に剥離可能な透明
カバーシートを設けたり酸素透過性の小さいロウ状物
質、水溶性ポリマー等による被覆層を設けることもでき
る。本発明の組成物に適用し得る露光光源としては特に
限定されないが、カーボンアーク、高圧水銀灯、キセノ
ンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タング
ステンランプ、ヘリウムカドミニウムレーザー、アルゴ
ンイオンレーザー、YAGレーザー等400nm以上の
可視光線を含む汎用の光源がより好適に使用し得る。
素による感度低下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止
する為の公知技術、例えば、感光層上に剥離可能な透明
カバーシートを設けたり酸素透過性の小さいロウ状物
質、水溶性ポリマー等による被覆層を設けることもでき
る。本発明の組成物に適用し得る露光光源としては特に
限定されないが、カーボンアーク、高圧水銀灯、キセノ
ンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タング
ステンランプ、ヘリウムカドミニウムレーザー、アルゴ
ンイオンレーザー、YAGレーザー等400nm以上の
可視光線を含む汎用の光源がより好適に使用し得る。
【0041】
【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。
【0042】参考例 1 (増感剤[I−1]の合成)ピリジン−酢酸水溶液
(水:酢酸:ピリジン=1:1:2)50mlに、下記
式(a)で示される3−シアノクマリン0.7g及びホ
スフィン酸ナトリウム1.4gを完全に溶解させた後、
該溶液を40〜45℃に昇温し、ラネーニッケル0.3
gの水懸濁液を加え、温度を保ちながら1.5時間攪拌
した。次に、上澄み液をクロロホルム450mlで抽出
して下記式(b)で示されるクマリン−3−カルバルデ
ヒド0.5gを得た。
(水:酢酸:ピリジン=1:1:2)50mlに、下記
式(a)で示される3−シアノクマリン0.7g及びホ
スフィン酸ナトリウム1.4gを完全に溶解させた後、
該溶液を40〜45℃に昇温し、ラネーニッケル0.3
gの水懸濁液を加え、温度を保ちながら1.5時間攪拌
した。次に、上澄み液をクロロホルム450mlで抽出
して下記式(b)で示されるクマリン−3−カルバルデ
ヒド0.5gを得た。
【0043】
【化9】
【0044】次いで、得られた該クマリン−3−カルバ
ルデヒド0.5g(0.019モル)に、2−クロロベ
ンゾチアゾール及び当モルのトリフェニルメチルフォス
フォニウムブロマイドとn−ブチルリチウムを−35℃
で混合し、24時間還流して得られたWittig試薬(0.
019モル)を−50℃で混合し、室温で24時間攪拌
し目的の化合物[I−1]0.6gを合成した。
ルデヒド0.5g(0.019モル)に、2−クロロベ
ンゾチアゾール及び当モルのトリフェニルメチルフォス
フォニウムブロマイドとn−ブチルリチウムを−35℃
で混合し、24時間還流して得られたWittig試薬(0.
019モル)を−50℃で混合し、室温で24時間攪拌
し目的の化合物[I−1]0.6gを合成した。
【0045】実施例1〜6及び比較例1〜4 砂目立て及び陽極酸化を施したアルミニウムシート上
に、ホワラーを用い、下記組成の感光性組成物塗布液を
乾燥膜厚2μmになるように塗布し、更に、その表面に
ポリビニルアルコール水溶液を、乾燥膜厚が3μmにな
るように塗布して感光材試料を作成した。
に、ホワラーを用い、下記組成の感光性組成物塗布液を
乾燥膜厚2μmになるように塗布し、更に、その表面に
ポリビニルアルコール水溶液を、乾燥膜厚が3μmにな
るように塗布して感光材試料を作成した。
【0046】
【表1】 [感光性組成物塗布液] メタクリル酸メチル/メタクリル酸/アクリル酸メチル共重合体 55部 (重量平均分子量45,000、共重合比80/10/10) トリメチロールプロパントリアクリレート 45部 メチルセロソルブ 800部 テトラハイドロフラン 50部 増感剤 (表−1に記載) 活性ラジカルを発生し得る化合物 (表−1に記載)
【0047】次に、この感光材試料に、ウシオ電気社製
キセノンランプ;UI−501Cを用い、ナルミ社製分
光感度測定装置により横軸が波長、縦軸が対数的に光強
度が弱くなる様に10秒間照射した。露光試料は、ケイ
酸ナトリウム1重量%を含む水溶液により現像を行い、
488nmにおいて得られた硬化画像の高さより光硬化
画像形成に必要な最も少ない露光量を算出し、その感光
組成物の感度とした。その結果を表−1に示す。
キセノンランプ;UI−501Cを用い、ナルミ社製分
光感度測定装置により横軸が波長、縦軸が対数的に光強
度が弱くなる様に10秒間照射した。露光試料は、ケイ
酸ナトリウム1重量%を含む水溶液により現像を行い、
488nmにおいて得られた硬化画像の高さより光硬化
画像形成に必要な最も少ない露光量を算出し、その感光
組成物の感度とした。その結果を表−1に示す。
【0048】
【表2】
【0049】表−1中、増感剤[S−1]〜[S−4]
は夫々下記式で示され、活性ラジカル発生剤[C−1]
〜[C−5]は、次に示す通りである。
は夫々下記式で示され、活性ラジカル発生剤[C−1]
〜[C−5]は、次に示す通りである。
【0050】
【化10】
【0051】
【化11】
【0052】
【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、可視光線に
対して極めて高感度なものであり、コスト的、時間的に
極めて有利な製版作業をも可能にする。従って、該組成
物は広範囲な応用分野に有用であって例えば平板、凹
版、凸版等印刷版の作成、プリント配線やICの作成の
為のフォトレジスト、ドライフィルム、レリーフ像や画
像複製などの画像形成、光硬化性のインク、塗料、接着
剤等に利用できるので工業的に極めて有用である。
対して極めて高感度なものであり、コスト的、時間的に
極めて有利な製版作業をも可能にする。従って、該組成
物は広範囲な応用分野に有用であって例えば平板、凹
版、凸版等印刷版の作成、プリント配線やICの作成の
為のフォトレジスト、ドライフィルム、レリーフ像や画
像複製などの画像形成、光硬化性のインク、塗料、接着
剤等に利用できるので工業的に極めて有用である。
フロントページの続き (72)発明者 専田 泰久 山形県山形市東原4丁目19−38−103
Claims (3)
- 【請求項1】 付加重合可能な化合物及び光重合開始剤
系を含む光重合性組成物において、該付加重合可能な化
合物は少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有
しており、該光重合開始剤系は、(a)一般式[I]で
表される増感剤及び(b)該増感剤との共存下で光照射
時に活性ラジカルを発生し得る化合物を含有することを
特徴とする光重合性組成物。 【化1】 (式中、mは0又は1、nは1又は2の整数を表し、R
1は環を構成する原子数3〜15の複素芳香族環基を表
し、R2とR3は夫々独立に水素原子又は炭素数1〜10
のアルキル基を表し、R4は水素原子、アルキル基、ア
シル基、シアノ基又はアルコキシカルボニル基を表し、
R5〜R7は夫々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基又はアルコキシ基を表し、R8及びR9は夫々独立
に水素原子又は炭素数1〜16のアルキル基を表すが、
R8及びR9は互いに結合して環を形成していてもよく、
またR8とR6及びR9とR7は互いに直接結合、或いは酸
素原子又はイオウ原子を介して結合し環を形成していて
もよい。)。 - 【請求項2】 活性ラジカルを発生し得る化合物がチタ
ノセン化合物であることを特徴とする請求項1記載の光
重合性組成物。 - 【請求項3】 光重合性組成物が、さらに下記一般式
[II]又は[III]で表される化合物の少なくとも一種
を含有することを特徴とする請求項1又は2記載の光重
合性組成物。 【化2】 (式中、R10〜R16はそれぞれアルキル基を表す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25824495A JPH0980751A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25824495A JPH0980751A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0980751A true JPH0980751A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=17317537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25824495A Pending JPH0980751A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0980751A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006090623A1 (ja) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 感光性平版印刷版材料 |
WO2007007564A1 (ja) * | 2005-07-14 | 2007-01-18 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 感光性組成物、感光性平版印刷版材料および感光性平版印刷版材料の画像形成方法 |
KR100813012B1 (ko) * | 2004-08-27 | 2008-03-13 | 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 | 포지티브형 감광성 조성물 |
DE112010000772T5 (de) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
-
1995
- 1995-09-12 JP JP25824495A patent/JPH0980751A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100813012B1 (ko) * | 2004-08-27 | 2008-03-13 | 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 | 포지티브형 감광성 조성물 |
WO2006090623A1 (ja) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 感光性平版印刷版材料 |
WO2007007564A1 (ja) * | 2005-07-14 | 2007-01-18 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 感光性組成物、感光性平版印刷版材料および感光性平版印刷版材料の画像形成方法 |
DE112010000772T5 (de) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS5819315A (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3324279B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3275439B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3070184B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光材料 | |
JPH07225474A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH0980751A (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3324266B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光材料 | |
JP3010880B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3301154B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光材料 | |
JPH10195118A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH08297367A (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3324349B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光材料 | |
JPH0876377A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH0643641A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPS61123603A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH08314139A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH08179504A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH10237117A (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3473259B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3424368B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3508434B2 (ja) | 光重合性組成物及びこれを用いた感光性平版印刷版 | |
JP3355753B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光材料 | |
JPH07281434A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH0943843A (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3508310B2 (ja) | 光重合性組成物 |