JPH08333600A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH08333600A JPH08333600A JP17386595A JP17386595A JPH08333600A JP H08333600 A JPH08333600 A JP H08333600A JP 17386595 A JP17386595 A JP 17386595A JP 17386595 A JP17386595 A JP 17386595A JP H08333600 A JPH08333600 A JP H08333600A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】プリント基板などの電子・電気部品や機械部品
の洗浄に使用されているフロン１１３やトリクロロエタ
ンに代わる洗浄性、使用済リンス水の再生性に優れた洗
浄剤を提供する。 【構成】ＨＬＢが１０ないし１３のポリオキシエチレン
アルキルエーテルと炭素数１２ないし１８の脂肪酸と炭
素数１ないし１３アルコールとのエステルとを特定比率
で配合した洗浄剤。
の洗浄に使用されているフロン１１３やトリクロロエタ
ンに代わる洗浄性、使用済リンス水の再生性に優れた洗
浄剤を提供する。 【構成】ＨＬＢが１０ないし１３のポリオキシエチレン
アルキルエーテルと炭素数１２ないし１８の脂肪酸と炭
素数１ないし１３アルコールとのエステルとを特定比率
で配合した洗浄剤。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子・電気分野で使用さ
れるプリント基板をはじめとする精密部品、あるいは機
械分野で用いられる各種部品等硬質表面をもつ金属、ガ
ラス、プラスチック製部品の洗浄に適した洗浄剤組成物
に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】電子・電気分野や機械分野で使用される
部品類は、その製造工程でこれらの表面に付着している
ハンダフラックスや金属加工油等を除去するためにフロ
ン１１３やトリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水
素を用いて洗浄されている。しかし、これらはオゾン層
破壊物質として、あるいは人体に対する毒性からいずれ
も１９９５年１２月末で使用禁止される。これらの洗浄
剤にかわるものとして各種の洗浄剤が開発され、一部実
用化の段階に入っている。これらを大別すれば、活性剤
を主体とする水系あるいは準水系洗浄剤と炭化水素や低
級アルコールなどの溶剤系洗浄剤である。後者の場合は
洗浄方法，洗浄効果は従来のフロンやトリクロロエタン
の場合と類似するが，最大の問題は火災や爆発に対する
設備上の予防対応が必要になり、これにかなりのコスト
を要する。一方水系あるいは準水系洗浄剤は火災や爆発
のための対応がほとんどの場合不要であるが洗浄により
被洗浄物表面に付着した洗浄液を水でリンスする必要が
あり、これによって洗浄剤を含む大量の廃水が発生す
る。通常この廃水は産業廃棄物として廃棄するか、水を
加熱蒸発させ濃縮後廃棄するか、燃焼するか、あるいは
水と洗浄剤が比較的分離しやすい場合は油水分離装置を
通して油水分離後水部分をリンス水として再利用する方
法がとられている。しかしいずれの場合も非常にコスト
がかかる。すなわち廃棄の場合は廃棄コスト、処理する
場合は処理のための設備コストに多大のコストがかか
る。またかなりの広さの場所を必要とする。さらに、油
水分離で水部分をリンス水として再利用するとしても油
水分離の程度が不十分で水中の有機物含量が高くリンス
水として不適な場合が多い。さらに水系もしくは準水系
洗浄剤の問題点として１種類の洗浄剤で満足に洗浄でき
る汚染物の種類が少なく、したがって汚染物の種類が変
われば洗浄剤の種類を取りかえねばならず、各種の汚染
物が発生する作業場では作業効率上好ましくない。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明に
おいては従来の水系もしくは準水系洗浄剤よりも広範囲
な種類の汚染物に対して優れた洗浄性を示し、また洗浄
後のリンス工程で発生する使用済リンス水からの洗浄剤
の除去がきわめて容易で、良質のリンス水の再生を可能
にする洗浄剤組成物を提供することにある。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果本発明に至った。す
なわち一般式（１） Ｒ１ＣＯＯＲ２ （１） （式中Ｒ１は炭素数１１〜１７の炭化水素残基、Ｒ２は
炭素数４〜１３の炭化水素残基）で表される脂肪酸エス
テルおよび一般式（２） Ｒ３（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ （２） （式中Ｒ３は炭素数８〜１２の炭化水素残基、ｎは４〜
８）で表されるＨＬＢが１０ないし１３のポリオキシエ
チレンアルキルエーテルを必須成分とする配合物であ
り、配合比率が（１）２０〜６０重量パーセト、（２）
８０〜４０重量パーセントである洗浄剤組成物が上記課
題を解決するものであることを見出した。 【０００５】本発明における脂肪酸エステルの具体例と
しはラウリン酸メチル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸
ブチル、ラウリン酸２−エチルヘキシル、ラウリン酸ト
リデシル、ミリスチン酸トリデシル、パルミチン酸２−
エチルヘキシル、オレイン酸メチル、オレイン酸エチ
ル、オレイン酸ブチル、オレイン酸２−エチルヘキシ
ル、その他ヤシ油脂肪酸ブチルのような混合脂肪酸エス
テルも同様に用いられるし、またいくつかのエステルを
配合してもかまわない。いずれにしても凝固点ができる
だけ低いものが取扱い上便利である。 【０００６】本発明の脂肪酸エステルより、より低分子
量の脂肪酸エステルは引火点が低く、そのため火災・爆
発の予防対策が必要で、水系・準水系洗浄剤の成分とし
ては不適である。またより高分子量の脂肪酸エステルは
粘度が高く、良好な洗浄性を得るためには被洗浄物と洗
浄液との接触を機械的に強力に行う必要があり、また被
洗浄物の洗浄後に付着る洗浄液量が多くなり経済的に好
ましくない。 【０００７】一方ポリオキシエチレンアルキルエーテル
の具体例としては、ポリオキシエチレンオクチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンデシルエーテル、ポリオキシエ
チレンドデシルエーテル、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオ
キシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレン
オレイルエーテルなどのＨＬＢが１０ないし１３の範囲
のものが使用される。ポリオキシエチレンアルキルエー
テルは１価アルコールにエチレンオキサイドを付加して
製造されるがこの場合エチレンオキサイドの一部をプロ
ピレンオキサイドやブチレンオキサイドで代替したもの
も含まれる。 【０００８】またこれらのエーテル類は単品でも、また
何種かの組合せでも使用できる。また他のエチレンオキ
サイド付加物、たとえば脂肪酸やアルキルフェノールに
エチレンオキサイドを付加したようなものもごく少量な
ら配合してもかまわないが配合量が増えると、使用済リ
ンス水の油水分離を悪化し好ましくない。 【０００９】またポリオキシエチレンアルキルエーテル
のＨＬＢは使用済リンス水の油水分離による再利用の面
で重要である。ＨＬＢが１０以下になると水リンス性が
急激に低下する。一方ＨＬＢが１３を越えると使用済リ
ンスの油水分離操作に高温を要し操作面・装置面で好ま
しくなく、また油水分離後の水のなかの有機物含量が高
くなり、リンス水として再利用するに好ましくない。 【００１０】脂肪酸エステルとポリオキシエチレンアル
キルエーテルの配合比率はそれぞれ２０〜６０重量パー
セント、８０〜４０重量パーセントが洗浄性・リンス性
ならびに本洗浄液を含む使用済リンス水の再生性に優れ
ている。すなわち、脂肪酸エステルの比率がこれ以上に
なると水によるリンス性が悪くなり、またポリオキシエ
チレンアルキルエーテルの比率がこれ以上増えると洗浄
力が低下し、好ましくない。また使用済リンス水の再生
性については上記配合比をはずれたところでは油水分離
時の分離性が悪くなる。 【００１１】本発明の洗浄剤を使用しての洗浄は通常原
液のままで使用し行うが汚染度が軽度の場合は水で希釈
して用いてもよい。また、洗浄温度は原液使用の場合は
通常４０℃ないし８０℃、また水で希釈した場合は洗浄
液の曇点以下で使用する。また使用する洗浄機の方式と
しては浸漬法・揺動法・ジェット噴流法・超音波洗浄法
・スプレー法など通常水系もしくは準水系洗浄剤が使用
できるものであればよい。 【００１２】洗浄後，被洗浄物に付着した洗浄液は水リ
ンスにより除去するが、この場合も通常の水系もしくは
準水系洗浄剤と同様な方法が用いられる。普通予備リン
ス続いて仕上げリンスを行うが予備リンス水の温度は曇
点より低温で行う必要がある。また仕上げリンスは特に
温度の制限はない。 【００１３】 【実施例】以下、実施例をあげ説明するが本発明はこれ
に限定されるものではない。 【００１４】（実施例 １〜８）フラックスの洗浄試験 被洗浄物：Ａ−４版ガラスエポキシプリント基板の両面
にフラックスを塗布，溶剤を蒸発させテスト基板とし
た。 洗浄装置：揺動装置と超音波発生装置をもつ洗浄槽・予
備リンス槽ならびに揺動装置のみをもつ仕上げリンス槽
の３槽式洗浄機を使用した。 洗浄条件：洗浄液は原液のまま使用し、温度６０℃１分
間洗浄した。 予備リンス条件：４０℃の水を使用、１分間行なう。 仕上げリンス条件：１５℃の純水を使用し１分間行な
う。 評価法：（１）基板上に残存するイオン性成分をオメガメーターで測定。 （２）使用済リンス水の油水分離性 使用済リンス水を１００ｍｌのビーカーにとり７０℃に加熱同温 度で１０分間放置後下層の蒸発残渣量を求める。 ０〜１０００ ｐｐｍ ◎ １００１〜３０００ ｐｐｍ ○ ３００１〜５０００ ｐｐｍ △ ５００１ ｐｐｍ 以上 × 試験結果を第一表に示す。 （第一表） 【００１５】（実施例９〜１５） 被洗浄物：２５ｍｍ×１００ｍｍの鉄鋼性テストピース
に切剤油を塗布後加熱焼付ける。 洗浄装置、洗浄条件は実施例１〜８の場合と同じ。 評価法：洗浄したテストピースの外観評価 ◎：固型物の付着・変色なし。 ○：固型物の付着はよいが，一部黄褐色のしみあり。 △：固型物の付着は見当たらないが，褐色しみ一面にあ
り。 ×：僅かに固型物の付着あり。 試験結果を第二表に示す。 （第二表） 【００１６】 【発明の効果】以上のごとく、本発明の洗浄剤組成物は
広範囲な種類の汚染物に対し、優れた洗浄性を示し、ま
た洗浄後リンス工程で発生する汚染リンス水の再生性に
優れており、再生のために高価な油水分離機の使用は不
要でごく簡単な装置があればよく洗浄装置面でも有利な
洗浄剤である。
れるプリント基板をはじめとする精密部品、あるいは機
械分野で用いられる各種部品等硬質表面をもつ金属、ガ
ラス、プラスチック製部品の洗浄に適した洗浄剤組成物
に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】電子・電気分野や機械分野で使用される
部品類は、その製造工程でこれらの表面に付着している
ハンダフラックスや金属加工油等を除去するためにフロ
ン１１３やトリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水
素を用いて洗浄されている。しかし、これらはオゾン層
破壊物質として、あるいは人体に対する毒性からいずれ
も１９９５年１２月末で使用禁止される。これらの洗浄
剤にかわるものとして各種の洗浄剤が開発され、一部実
用化の段階に入っている。これらを大別すれば、活性剤
を主体とする水系あるいは準水系洗浄剤と炭化水素や低
級アルコールなどの溶剤系洗浄剤である。後者の場合は
洗浄方法，洗浄効果は従来のフロンやトリクロロエタン
の場合と類似するが，最大の問題は火災や爆発に対する
設備上の予防対応が必要になり、これにかなりのコスト
を要する。一方水系あるいは準水系洗浄剤は火災や爆発
のための対応がほとんどの場合不要であるが洗浄により
被洗浄物表面に付着した洗浄液を水でリンスする必要が
あり、これによって洗浄剤を含む大量の廃水が発生す
る。通常この廃水は産業廃棄物として廃棄するか、水を
加熱蒸発させ濃縮後廃棄するか、燃焼するか、あるいは
水と洗浄剤が比較的分離しやすい場合は油水分離装置を
通して油水分離後水部分をリンス水として再利用する方
法がとられている。しかしいずれの場合も非常にコスト
がかかる。すなわち廃棄の場合は廃棄コスト、処理する
場合は処理のための設備コストに多大のコストがかか
る。またかなりの広さの場所を必要とする。さらに、油
水分離で水部分をリンス水として再利用するとしても油
水分離の程度が不十分で水中の有機物含量が高くリンス
水として不適な場合が多い。さらに水系もしくは準水系
洗浄剤の問題点として１種類の洗浄剤で満足に洗浄でき
る汚染物の種類が少なく、したがって汚染物の種類が変
われば洗浄剤の種類を取りかえねばならず、各種の汚染
物が発生する作業場では作業効率上好ましくない。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明に
おいては従来の水系もしくは準水系洗浄剤よりも広範囲
な種類の汚染物に対して優れた洗浄性を示し、また洗浄
後のリンス工程で発生する使用済リンス水からの洗浄剤
の除去がきわめて容易で、良質のリンス水の再生を可能
にする洗浄剤組成物を提供することにある。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果本発明に至った。す
なわち一般式（１） Ｒ１ＣＯＯＲ２ （１） （式中Ｒ１は炭素数１１〜１７の炭化水素残基、Ｒ２は
炭素数４〜１３の炭化水素残基）で表される脂肪酸エス
テルおよび一般式（２） Ｒ３（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ （２） （式中Ｒ３は炭素数８〜１２の炭化水素残基、ｎは４〜
８）で表されるＨＬＢが１０ないし１３のポリオキシエ
チレンアルキルエーテルを必須成分とする配合物であ
り、配合比率が（１）２０〜６０重量パーセト、（２）
８０〜４０重量パーセントである洗浄剤組成物が上記課
題を解決するものであることを見出した。 【０００５】本発明における脂肪酸エステルの具体例と
しはラウリン酸メチル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸
ブチル、ラウリン酸２−エチルヘキシル、ラウリン酸ト
リデシル、ミリスチン酸トリデシル、パルミチン酸２−
エチルヘキシル、オレイン酸メチル、オレイン酸エチ
ル、オレイン酸ブチル、オレイン酸２−エチルヘキシ
ル、その他ヤシ油脂肪酸ブチルのような混合脂肪酸エス
テルも同様に用いられるし、またいくつかのエステルを
配合してもかまわない。いずれにしても凝固点ができる
だけ低いものが取扱い上便利である。 【０００６】本発明の脂肪酸エステルより、より低分子
量の脂肪酸エステルは引火点が低く、そのため火災・爆
発の予防対策が必要で、水系・準水系洗浄剤の成分とし
ては不適である。またより高分子量の脂肪酸エステルは
粘度が高く、良好な洗浄性を得るためには被洗浄物と洗
浄液との接触を機械的に強力に行う必要があり、また被
洗浄物の洗浄後に付着る洗浄液量が多くなり経済的に好
ましくない。 【０００７】一方ポリオキシエチレンアルキルエーテル
の具体例としては、ポリオキシエチレンオクチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンデシルエーテル、ポリオキシエ
チレンドデシルエーテル、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオ
キシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレン
オレイルエーテルなどのＨＬＢが１０ないし１３の範囲
のものが使用される。ポリオキシエチレンアルキルエー
テルは１価アルコールにエチレンオキサイドを付加して
製造されるがこの場合エチレンオキサイドの一部をプロ
ピレンオキサイドやブチレンオキサイドで代替したもの
も含まれる。 【０００８】またこれらのエーテル類は単品でも、また
何種かの組合せでも使用できる。また他のエチレンオキ
サイド付加物、たとえば脂肪酸やアルキルフェノールに
エチレンオキサイドを付加したようなものもごく少量な
ら配合してもかまわないが配合量が増えると、使用済リ
ンス水の油水分離を悪化し好ましくない。 【０００９】またポリオキシエチレンアルキルエーテル
のＨＬＢは使用済リンス水の油水分離による再利用の面
で重要である。ＨＬＢが１０以下になると水リンス性が
急激に低下する。一方ＨＬＢが１３を越えると使用済リ
ンスの油水分離操作に高温を要し操作面・装置面で好ま
しくなく、また油水分離後の水のなかの有機物含量が高
くなり、リンス水として再利用するに好ましくない。 【００１０】脂肪酸エステルとポリオキシエチレンアル
キルエーテルの配合比率はそれぞれ２０〜６０重量パー
セント、８０〜４０重量パーセントが洗浄性・リンス性
ならびに本洗浄液を含む使用済リンス水の再生性に優れ
ている。すなわち、脂肪酸エステルの比率がこれ以上に
なると水によるリンス性が悪くなり、またポリオキシエ
チレンアルキルエーテルの比率がこれ以上増えると洗浄
力が低下し、好ましくない。また使用済リンス水の再生
性については上記配合比をはずれたところでは油水分離
時の分離性が悪くなる。 【００１１】本発明の洗浄剤を使用しての洗浄は通常原
液のままで使用し行うが汚染度が軽度の場合は水で希釈
して用いてもよい。また、洗浄温度は原液使用の場合は
通常４０℃ないし８０℃、また水で希釈した場合は洗浄
液の曇点以下で使用する。また使用する洗浄機の方式と
しては浸漬法・揺動法・ジェット噴流法・超音波洗浄法
・スプレー法など通常水系もしくは準水系洗浄剤が使用
できるものであればよい。 【００１２】洗浄後，被洗浄物に付着した洗浄液は水リ
ンスにより除去するが、この場合も通常の水系もしくは
準水系洗浄剤と同様な方法が用いられる。普通予備リン
ス続いて仕上げリンスを行うが予備リンス水の温度は曇
点より低温で行う必要がある。また仕上げリンスは特に
温度の制限はない。 【００１３】 【実施例】以下、実施例をあげ説明するが本発明はこれ
に限定されるものではない。 【００１４】（実施例 １〜８）フラックスの洗浄試験 被洗浄物：Ａ−４版ガラスエポキシプリント基板の両面
にフラックスを塗布，溶剤を蒸発させテスト基板とし
た。 洗浄装置：揺動装置と超音波発生装置をもつ洗浄槽・予
備リンス槽ならびに揺動装置のみをもつ仕上げリンス槽
の３槽式洗浄機を使用した。 洗浄条件：洗浄液は原液のまま使用し、温度６０℃１分
間洗浄した。 予備リンス条件：４０℃の水を使用、１分間行なう。 仕上げリンス条件：１５℃の純水を使用し１分間行な
う。 評価法：（１）基板上に残存するイオン性成分をオメガメーターで測定。 （２）使用済リンス水の油水分離性 使用済リンス水を１００ｍｌのビーカーにとり７０℃に加熱同温 度で１０分間放置後下層の蒸発残渣量を求める。 ０〜１０００ ｐｐｍ ◎ １００１〜３０００ ｐｐｍ ○ ３００１〜５０００ ｐｐｍ △ ５００１ ｐｐｍ 以上 × 試験結果を第一表に示す。 （第一表） 【００１５】（実施例９〜１５） 被洗浄物：２５ｍｍ×１００ｍｍの鉄鋼性テストピース
に切剤油を塗布後加熱焼付ける。 洗浄装置、洗浄条件は実施例１〜８の場合と同じ。 評価法：洗浄したテストピースの外観評価 ◎：固型物の付着・変色なし。 ○：固型物の付着はよいが，一部黄褐色のしみあり。 △：固型物の付着は見当たらないが，褐色しみ一面にあ
り。 ×：僅かに固型物の付着あり。 試験結果を第二表に示す。 （第二表） 【００１６】 【発明の効果】以上のごとく、本発明の洗浄剤組成物は
広範囲な種類の汚染物に対し、優れた洗浄性を示し、ま
た洗浄後リンス工程で発生する汚染リンス水の再生性に
優れており、再生のために高価な油水分離機の使用は不
要でごく簡単な装置があればよく洗浄装置面でも有利な
洗浄剤である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所
Ｃ１１Ｄ 1:72
3:20）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式（１） Ｒ１ＣＯＯＲ２ （１） （式中Ｒ１は炭素数１１〜１７の炭化水素残基、Ｒ２は
炭素数１〜１３の炭化水素残基）で表される脂肪酸エス
テルおよび一般式（２） Ｒ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ （２） （式中Ｒ３は炭素数８〜１２の炭化水素残基、ｎは４〜
８）で表されるＨＬＢが１０ないし１３のポリオキシエ
チレンアルキルエーテルを必須成分とする配合物であり
配合比率が（１）２０〜６０重量パーセント、（２）８
０〜４０重量パーセントである電子・電気部品・機械部
品等の硬質表面の洗浄に適した洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17386595A JPH08333600A (ja) | 1995-06-05 | 1995-06-05 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17386595A JPH08333600A (ja) | 1995-06-05 | 1995-06-05 | 洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08333600A true JPH08333600A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15968574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17386595A Pending JPH08333600A (ja) | 1995-06-05 | 1995-06-05 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08333600A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005049774A1 (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Johnson Diversey Inc. | Ｃｉｐ洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法 |
| JP2005206794A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-08-04 | Daisan Kogyo Kk | Ｃｉｐ洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法 |
| CN113009779A (zh) * | 2021-02-05 | 2021-06-22 | 深圳市路维光电股份有限公司 | 掩模版清洗液及掩模版的清洗方法 |
-
1995
- 1995-06-05 JP JP17386595A patent/JPH08333600A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005049774A1 (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Johnson Diversey Inc. | Ｃｉｐ洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法 |
| JP2005206794A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-08-04 | Daisan Kogyo Kk | Ｃｉｐ洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法 |
| CN113009779A (zh) * | 2021-02-05 | 2021-06-22 | 深圳市路维光电股份有限公司 | 掩模版清洗液及掩模版的清洗方法 |
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