JPH07196585A - 置換ビシクロヘプタンジオン誘導体及び除草剤 - Google Patents
置換ビシクロヘプタンジオン誘導体及び除草剤Info
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- JPH07196585A JPH07196585A JP6257528A JP25752894A JPH07196585A JP H07196585 A JPH07196585 A JP H07196585A JP 6257528 A JP6257528 A JP 6257528A JP 25752894 A JP25752894 A JP 25752894A JP H07196585 A JPH07196585 A JP H07196585A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】一般式〔Ｉａ〕または〔Ｉｂ〕で表される置換
ビシクロヘプタンジオン誘導体またはその塩および除草
剤。 【化１】 〔Ｒ1 は、置換されてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル、置換
されてもよいフェニル、置換されてもよいアラルキル、
または置換されてもよい複素環を表す。Ｒ2 は、同一又
は相異なって、ハロゲン、置換されてもよいＣ1 〜Ｃ6
アルコキシ、置換されてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルチ
オ、置換されてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルスルホニル、
置換されてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル、置換されてもよ
いＣ1 〜Ｃ6アルコシキカルボニル、シアノを表す。ｎ
は０〜４である。Ｒ3 及びＲ4 は水素又は置換されても
よいＣ1 〜Ｃ6 アルキルを表す。Ｒ5 は、ハロゲン、Ｃ
Ｎ、ＯＣＮ、ＳＣＮあるいは式化２を表す。〕 【化２】
ビシクロヘプタンジオン誘導体またはその塩および除草
剤。 【化１】 〔Ｒ1 は、置換されてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル、置換
されてもよいフェニル、置換されてもよいアラルキル、
または置換されてもよい複素環を表す。Ｒ2 は、同一又
は相異なって、ハロゲン、置換されてもよいＣ1 〜Ｃ6
アルコキシ、置換されてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルチ
オ、置換されてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルスルホニル、
置換されてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル、置換されてもよ
いＣ1 〜Ｃ6アルコシキカルボニル、シアノを表す。ｎ
は０〜４である。Ｒ3 及びＲ4 は水素又は置換されても
よいＣ1 〜Ｃ6 アルキルを表す。Ｒ5 は、ハロゲン、Ｃ
Ｎ、ＯＣＮ、ＳＣＮあるいは式化２を表す。〕 【化２】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規な置換ビシクロヘプ
タン誘導体及び除草剤に関する。
タン誘導体及び除草剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】農園芸作物の栽培にあたり、多大の労力
を必要としてきた雑草防除に多くの除草剤が使用される
ようになってきた。しかし作物に薬害を生じたり、環境
に残留し、汚染したりすることから、より低い薬量で効
果が確実でしかも安全に使用できる薬剤の開発が望まれ
ている。本発明化合物と類似の化合物を開示したものと
して特開平３−２５５０４７、特開平５−７０４２６が
知られている。尚、本発明化合物の一部は、特開平２−
１４２２ (ＤＥ３９０２８１８に対応）、ＵＳＰ４９２
１５２６の特許請求の範囲に含まれるが、発明の詳細な
説明には本発明化合物の記載はない。
を必要としてきた雑草防除に多くの除草剤が使用される
ようになってきた。しかし作物に薬害を生じたり、環境
に残留し、汚染したりすることから、より低い薬量で効
果が確実でしかも安全に使用できる薬剤の開発が望まれ
ている。本発明化合物と類似の化合物を開示したものと
して特開平３−２５５０４７、特開平５−７０４２６が
知られている。尚、本発明化合物の一部は、特開平２−
１４２２ (ＤＥ３９０２８１８に対応）、ＵＳＰ４９２
１５２６の特許請求の範囲に含まれるが、発明の詳細な
説明には本発明化合物の記載はない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は工業的
に有利に合成でき、より低い薬量で効果の確実な安全性
の高い、作物との選択性の良い除草剤を提供することで
ある。
に有利に合成でき、より低い薬量で効果の確実な安全性
の高い、作物との選択性の良い除草剤を提供することで
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式〔Ｉ
ａ〕または〔Ｉｂ〕
ａ〕または〔Ｉｂ〕
【０００５】
【化４】
【０００６】〔式中、Ｒ1 は、置換されてもよいＣ1 〜
Ｃ6 アルキル基、置換されてもよいフェニル基、置換さ
れていてもよいアラルキル基または置換されていてもよ
い複素環基を表す。Ｒ2 は、同一又は相異なって、ハロ
ゲン原子、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ
基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルチオ基、
置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルスルフィニル
基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルスルホニ
ル基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基、置
換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 〜Ｃ6
アルキル基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキ
シカルボニル基、シアノ基またはシアノ−Ｃ1 〜Ｃ6ア
ルキル基を表す。ｎは０〜４である。Ｒ3 及びＲ4 は、
同一又は相異なって、水素原子または置換されていても
よいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基を表す。Ｒ5 は、ハロゲン原
子、ＣＮ、ＯＣＮ、ＳＣＮまたは化５
Ｃ6 アルキル基、置換されてもよいフェニル基、置換さ
れていてもよいアラルキル基または置換されていてもよ
い複素環基を表す。Ｒ2 は、同一又は相異なって、ハロ
ゲン原子、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ
基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルチオ基、
置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルスルフィニル
基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルスルホニ
ル基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基、置
換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 〜Ｃ6
アルキル基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキ
シカルボニル基、シアノ基またはシアノ−Ｃ1 〜Ｃ6ア
ルキル基を表す。ｎは０〜４である。Ｒ3 及びＲ4 は、
同一又は相異なって、水素原子または置換されていても
よいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基を表す。Ｒ5 は、ハロゲン原
子、ＣＮ、ＯＣＮ、ＳＣＮまたは化５
【０００７】
【化５】
【０００８】（式中、Ｒ6 は、置換されていてもよいＣ
1 〜Ｃ6 アルキル基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6
アルケニル基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロ
アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表
し、Ｒ7 は、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル
基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル基、置
換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキル基または
置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ8 、Ｒ
9 は、それぞれ独立して水素原子、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル
基、置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ10は、
Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル基、置換されていてもよいフェニル
基を表し、Ｒ11、Ｒ12は、それぞれ独立して水素原子、
Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル基、置換されていてもよいフェニル
基を表し、Ｒ13は、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 ア
ルキル基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル
基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキル
基、置換されていてもよいフェニル基、ＣＯＮＨＣＯｒ
1 、ＣＯＮＨＳＯ2 ｒ2 またはＣＯＳ−ｒ3 を表し、ｍ
は、０〜２を表し、Ｒ14は、置換されてもよいＣ1 〜Ｃ
6 アルキル基、置換されていてもよいＣ2〜Ｃ6 アルケ
ニル基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキ
ル基、置換されていてもよいフェニル基を表し、または
Ｒ14は、ｍ＝０のとき、ＣＯｒ4 、ＣＯＮＨｒ5 、ＣＯ
ＮＨＣＯｒ6 、ＣＯＮＨＳＯ2 ｒ7 、ＣＯＳ−ｒ8 また
はシアノ基を表し、Ｒ15、Ｒ16は、それぞれ独立して水
素原子、ヒドロキシ基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ
８アルキル基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケ
ニル基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキ
ル基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、
置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニルオキシ基、
置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルキニルオキシ基、
置換されていてもよいフェニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキ
シカルボニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルカルボニル基、Ｃ
ＯＮＨＣＯｒ9 またはＣＯＳ−ｒ10を表し、また、
Ｒ15、Ｒ16は、これらが結合しているＮ原子と一緒にな
って含Ｎヘテロ環を形成し、そしてさらに１〜２個の
Ｓ、Ｏ、Ｎ原子を含有してもよい。Ｒ17、Ｒ18、Ｒ
20は、それぞれ独立して水素原子または置換されていて
もよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基を表し、Ｒ19は水素原子ま
たは置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基を表
す。Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23はそれぞれ独立して置換されてい
てもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基、置換されていてもよい
Ｃ2 〜Ｃ6 アルケニル基、置換されていてもよいＣ2 〜
Ｃ6 アルキニル基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シ
クロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基を表
す。ｒ1 、ｒ2 、ｒ3 、ｒ4 、ｒ5 、ｒ6 、ｒ7 、
ｒ8 、ｒ9 、ｒ10は置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 ア
ルキル基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル
基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルキニル基、置
換されていてもよいＣ3〜Ｃ8 シクロアルキル基、置換
されていてもよいフェニル基を表す。）の基を表す。〕
で表される置換ビシクロヘプタンジオン誘導体もしくは
その塩の１種又は２種以上を有効成分として含有するこ
とを特徴とする除草剤である。
1 〜Ｃ6 アルキル基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6
アルケニル基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロ
アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表
し、Ｒ7 は、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル
基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル基、置
換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキル基または
置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ8 、Ｒ
9 は、それぞれ独立して水素原子、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル
基、置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ10は、
Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル基、置換されていてもよいフェニル
基を表し、Ｒ11、Ｒ12は、それぞれ独立して水素原子、
Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル基、置換されていてもよいフェニル
基を表し、Ｒ13は、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 ア
ルキル基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル
基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキル
基、置換されていてもよいフェニル基、ＣＯＮＨＣＯｒ
1 、ＣＯＮＨＳＯ2 ｒ2 またはＣＯＳ−ｒ3 を表し、ｍ
は、０〜２を表し、Ｒ14は、置換されてもよいＣ1 〜Ｃ
6 アルキル基、置換されていてもよいＣ2〜Ｃ6 アルケ
ニル基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキ
ル基、置換されていてもよいフェニル基を表し、または
Ｒ14は、ｍ＝０のとき、ＣＯｒ4 、ＣＯＮＨｒ5 、ＣＯ
ＮＨＣＯｒ6 、ＣＯＮＨＳＯ2 ｒ7 、ＣＯＳ−ｒ8 また
はシアノ基を表し、Ｒ15、Ｒ16は、それぞれ独立して水
素原子、ヒドロキシ基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ
８アルキル基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケ
ニル基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキ
ル基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、
置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニルオキシ基、
置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルキニルオキシ基、
置換されていてもよいフェニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキ
シカルボニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルカルボニル基、Ｃ
ＯＮＨＣＯｒ9 またはＣＯＳ−ｒ10を表し、また、
Ｒ15、Ｒ16は、これらが結合しているＮ原子と一緒にな
って含Ｎヘテロ環を形成し、そしてさらに１〜２個の
Ｓ、Ｏ、Ｎ原子を含有してもよい。Ｒ17、Ｒ18、Ｒ
20は、それぞれ独立して水素原子または置換されていて
もよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基を表し、Ｒ19は水素原子ま
たは置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基を表
す。Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23はそれぞれ独立して置換されてい
てもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基、置換されていてもよい
Ｃ2 〜Ｃ6 アルケニル基、置換されていてもよいＣ2 〜
Ｃ6 アルキニル基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シ
クロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基を表
す。ｒ1 、ｒ2 、ｒ3 、ｒ4 、ｒ5 、ｒ6 、ｒ7 、
ｒ8 、ｒ9 、ｒ10は置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 ア
ルキル基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル
基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルキニル基、置
換されていてもよいＣ3〜Ｃ8 シクロアルキル基、置換
されていてもよいフェニル基を表す。）の基を表す。〕
で表される置換ビシクロヘプタンジオン誘導体もしくは
その塩の１種又は２種以上を有効成分として含有するこ
とを特徴とする除草剤である。
【０００９】上記のＲ1 のアルキル基、フェニル基、ア
ラルキル基および複素環基の置換基としては、同一又は
相異なって、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、
シアノ基、直鎖もしくは分枝のＣ1 〜Ｃ6 アルキル、直
鎖もしくは分枝のＣ2 〜Ｃ6アルケニル基、直鎖または
分枝のＣ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ2 〜Ｃ6 ハロアル
ケニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、Ｃ1 〜Ｃ6 ハロア
ルコキシ基、Ｃ2 〜Ｃ6 ハロアルケニルオキシ基、Ｃ1
〜Ｃ6 アルキルチオ基、Ｃ2 〜Ｃ6 アルケニルチオ基、
Ｃ2 〜Ｃ6 アルキニルチオ基、Ｃ1 〜Ｃ6 ハロアルキル
チオ基、Ｃ2 〜Ｃ6 ハロアルケニルチオ基、モノＣ1 〜
Ｃ6 アルキルアミノ基、ジＣ1 〜Ｃ6 アルキルアミノ
基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルチオ
基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルチオ−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルチオ
基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシカルボニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 ア
ルキルカルボニル−Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、Ｃ1 〜Ｃ
6 アルキルカルボニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシアミノ
基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルスルホニル基、Ｃ2 〜Ｃ6 アル
ケニルスルホニル基、Ｃ2 〜Ｃ6 アルキニルスルホニル
基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルスルホ
ニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルチオ−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル
スルホニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 ハロアルキルスルホニル基、
Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシカルボニル−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル
チオ基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシカルボニル−Ｃ1 〜Ｃ6
アルキルスルフィニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシカルボ
ニル−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルスルホニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 ア
ルキルアミド基、置換されてもよいフェニル基、置換さ
れてもよいアラルキル基、置換されてもよい複素環基、
置換されてもよい複素環で置換されたＣ1 〜Ｃ6 アルキ
ル基等が挙げられる。また、複素環基としては、例え
ば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−
ピリミジル、３−ピリミジル、４−ピリミジル、チエニ
ル、フリル、ピラゾリル、ピロリル、イミダゾリル、ピ
ラジニル、インドリル基等が挙げられる。
ラルキル基および複素環基の置換基としては、同一又は
相異なって、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、
シアノ基、直鎖もしくは分枝のＣ1 〜Ｃ6 アルキル、直
鎖もしくは分枝のＣ2 〜Ｃ6アルケニル基、直鎖または
分枝のＣ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ2 〜Ｃ6 ハロアル
ケニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、Ｃ1 〜Ｃ6 ハロア
ルコキシ基、Ｃ2 〜Ｃ6 ハロアルケニルオキシ基、Ｃ1
〜Ｃ6 アルキルチオ基、Ｃ2 〜Ｃ6 アルケニルチオ基、
Ｃ2 〜Ｃ6 アルキニルチオ基、Ｃ1 〜Ｃ6 ハロアルキル
チオ基、Ｃ2 〜Ｃ6 ハロアルケニルチオ基、モノＣ1 〜
Ｃ6 アルキルアミノ基、ジＣ1 〜Ｃ6 アルキルアミノ
基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルチオ
基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルチオ−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルチオ
基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシカルボニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 ア
ルキルカルボニル−Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、Ｃ1 〜Ｃ
6 アルキルカルボニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシアミノ
基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルスルホニル基、Ｃ2 〜Ｃ6 アル
ケニルスルホニル基、Ｃ2 〜Ｃ6 アルキニルスルホニル
基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルスルホ
ニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルチオ−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル
スルホニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 ハロアルキルスルホニル基、
Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシカルボニル−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル
チオ基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシカルボニル−Ｃ1 〜Ｃ6
アルキルスルフィニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシカルボ
ニル−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルスルホニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 ア
ルキルアミド基、置換されてもよいフェニル基、置換さ
れてもよいアラルキル基、置換されてもよい複素環基、
置換されてもよい複素環で置換されたＣ1 〜Ｃ6 アルキ
ル基等が挙げられる。また、複素環基としては、例え
ば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−
ピリミジル、３−ピリミジル、４−ピリミジル、チエニ
ル、フリル、ピラゾリル、ピロリル、イミダゾリル、ピ
ラジニル、インドリル基等が挙げられる。
【００１０】本発明の化合物は次の方法によって製造す
ることができる。 製造法（ｉ）
ることができる。 製造法（ｉ）
【００１１】
【化６】
【００１２】（式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ6 およ
びｎは前記と同じ意味を有し、Ｘはハロゲン、−ＣＯＲ
6 を表わす。） 原料トリオン体を溶媒中−２０℃〜室温下で塩基の存在
下、Ｒ6 ＣＯＸと０．５時間から数１０時間反応させる
ことによって得られる。さらに一般式〔Ｉａ〕あるいは
〔Ｉｂ〕において、Ｒ5 ＝ＯＳＯ2 Ｒ7 、ＯＳＯ2 ＮＲ
8 Ｒ9 、ＯＣＯＲ10、ＯＣＯＮＲ11Ｒ12（式中、Ｒ5 、
Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12は前記と同じ
意味を有する）の場合も上記と同様の操作によって目的
物を製造することができる。ここで用いられる溶媒は、
ジクロロメタン等の塩素系炭化水素、トルエン等の炭化
水素、ＴＨＦ等のエーテル、アセトニトリル等であり、
塩基としてはトリエチルアミン等の三級脂肪族アミン、
ピリジン類、アルカリ金属炭酸塩等が用いられる。
びｎは前記と同じ意味を有し、Ｘはハロゲン、−ＣＯＲ
6 を表わす。） 原料トリオン体を溶媒中−２０℃〜室温下で塩基の存在
下、Ｒ6 ＣＯＸと０．５時間から数１０時間反応させる
ことによって得られる。さらに一般式〔Ｉａ〕あるいは
〔Ｉｂ〕において、Ｒ5 ＝ＯＳＯ2 Ｒ7 、ＯＳＯ2 ＮＲ
8 Ｒ9 、ＯＣＯＲ10、ＯＣＯＮＲ11Ｒ12（式中、Ｒ5 、
Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12は前記と同じ
意味を有する）の場合も上記と同様の操作によって目的
物を製造することができる。ここで用いられる溶媒は、
ジクロロメタン等の塩素系炭化水素、トルエン等の炭化
水素、ＴＨＦ等のエーテル、アセトニトリル等であり、
塩基としてはトリエチルアミン等の三級脂肪族アミン、
ピリジン類、アルカリ金属炭酸塩等が用いられる。
【００１３】製造法（ii） ａ）
【００１４】
【化７】
【００１５】（反応式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 および
ｎは、前記と同じ意味を有する。） トリオン体をジクロロメタン等の不活性溶媒中、１．２
倍〜２倍モルのオキザリルクロリドと、触媒としてジメ
チルホルムアミド０．０１〜０．５当量を用いて、０℃
から室温で１時間から数１０時間反応させることによっ
て得られる。 ｂ）
ｎは、前記と同じ意味を有する。） トリオン体をジクロロメタン等の不活性溶媒中、１．２
倍〜２倍モルのオキザリルクロリドと、触媒としてジメ
チルホルムアミド０．０１〜０．５当量を用いて、０℃
から室温で１時間から数１０時間反応させることによっ
て得られる。 ｂ）
【００１６】
【化８】
【００１７】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、ｎ、Ｒ
13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は前記と同じ意味を有す
る。）
13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は前記と同じ意味を有す
る。）
【００１８】工程においてクロル体あるいは製造法
（ｉ）において得られたエノールエステル体を、適当な
溶媒中、アルコールＲ13ＯＨ（１〜２当量）と塩基（１
〜２当量）の存在下、−２０℃から溶媒の沸点まで、好
ましくは０℃から室温で３０分から数１０時間反応させ
ることによって、目的物を得ることができる。用いられ
る溶媒としては、ベンゼン等の炭化水素類、ＴＨＦ等の
エーテル類、Ｒ13ＯＨ、ＤＭＦ、アセトニトリル等であ
り、塩基としては金属アルコラート、水素化ナトリウム
等が用いられる。
（ｉ）において得られたエノールエステル体を、適当な
溶媒中、アルコールＲ13ＯＨ（１〜２当量）と塩基（１
〜２当量）の存在下、−２０℃から溶媒の沸点まで、好
ましくは０℃から室温で３０分から数１０時間反応させ
ることによって、目的物を得ることができる。用いられ
る溶媒としては、ベンゼン等の炭化水素類、ＴＨＦ等の
エーテル類、Ｒ13ＯＨ、ＤＭＦ、アセトニトリル等であ
り、塩基としては金属アルコラート、水素化ナトリウム
等が用いられる。
【００１９】工程において、クロル体あるいは製造法
（ｉ）において得られたエノールエステル体を、適当な
溶媒中、メルカプタンＲ14ＳＨ（１〜２当量）と塩基
（１〜２当量）の存在下、工程と同様に反応させるこ
とによって目的物が得られる。用いられる溶媒は、工程
と同様であり、塩基として金属チオレート、水素化ナ
トリウム、Ｋ2 ＣＯ3 等のアルカリ金属炭酸塩、トリエ
チルアミン等の脂肪族三級アミン等が用いられる。
（ｉ）において得られたエノールエステル体を、適当な
溶媒中、メルカプタンＲ14ＳＨ（１〜２当量）と塩基
（１〜２当量）の存在下、工程と同様に反応させるこ
とによって目的物が得られる。用いられる溶媒は、工程
と同様であり、塩基として金属チオレート、水素化ナ
トリウム、Ｋ2 ＣＯ3 等のアルカリ金属炭酸塩、トリエ
チルアミン等の脂肪族三級アミン等が用いられる。
【００２０】工程において、クロル体あるいは製造法
（ｉ）において得られたエノールエステル体を、適当な
溶媒中、アミンＮＲ15Ｒ16Ｈ（２〜２．５当量）と工程
と同様の条件下で反応させることによって、目的物を
得ることができる。用いられる溶媒は、工程と同様の
ものを用いることができる。 ｃ）
（ｉ）において得られたエノールエステル体を、適当な
溶媒中、アミンＮＲ15Ｒ16Ｈ（２〜２．５当量）と工程
と同様の条件下で反応させることによって、目的物を
得ることができる。用いられる溶媒は、工程と同様の
ものを用いることができる。 ｃ）
【００２１】工程において、クロル体あるいは製造法
（ｉ）において得られたエノールエステル体を、適当な
溶媒中、ＭＲ5'（式中、Ｍはカリウム、ナトリウム、
銅、アンモニウムなどを表し、Ｒ5'はＣＮ、ＯＣＮまた
はＳＣＮ基を表す。）の存在下、工程と同様に反応さ
せるとによって目的物が得られる。用いられる溶媒とし
ては、アセトニトリル、ＤＭＦ，ＴＨＦ等のエーテル
類、ベンゼン等の炭化水素類である。
（ｉ）において得られたエノールエステル体を、適当な
溶媒中、ＭＲ5'（式中、Ｍはカリウム、ナトリウム、
銅、アンモニウムなどを表し、Ｒ5'はＣＮ、ＯＣＮまた
はＳＣＮ基を表す。）の存在下、工程と同様に反応さ
せるとによって目的物が得られる。用いられる溶媒とし
ては、アセトニトリル、ＤＭＦ，ＴＨＦ等のエーテル
類、ベンゼン等の炭化水素類である。
【００２２】
【化９】
【００２３】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ14お
よびｎは前記と同じ意味を有し、ｌは１あるいは２を表
わす。） 原料のチオエーテルを、溶媒中、酸化剤１．０〜２．５
当量の存在下、０℃から１００℃で１時間から数１０時
間反応させることによって、目的物を得ることができ
る。用いられる溶媒としてはジクロロメタン、クロロホ
ルム、水、酢酸等であり、酸化剤としては過酢酸、ｍ−
クロロ過安息香酸、過酸化水素等が用いられる。
よびｎは前記と同じ意味を有し、ｌは１あるいは２を表
わす。） 原料のチオエーテルを、溶媒中、酸化剤１．０〜２．５
当量の存在下、０℃から１００℃で１時間から数１０時
間反応させることによって、目的物を得ることができ
る。用いられる溶媒としてはジクロロメタン、クロロホ
ルム、水、酢酸等であり、酸化剤としては過酢酸、ｍ−
クロロ過安息香酸、過酸化水素等が用いられる。
【００２４】製造法（iii ） ａ）
【００２５】
【化１０】
【００２６】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびｎ
は前記と同じ意味を有する。） 原料トリオン体を、溶媒中、ＣＨ2 Ｎ2 あるいはＴＭＳ
ＣＨＮ2 などのアルキル化剤の存在下、０℃から室温で
３０分から数１０時間反応させることによって目的物を
得ることができる。溶媒としては、ＴＨＦ等のエーテル
類、ＴＭＳＣＨＣＮ2 を用いる場合は、ベンゼン等の炭
化水素類とメタノール等のアルコール混合溶媒の使用が
好ましく用いられる。 ｂ）
は前記と同じ意味を有する。） 原料トリオン体を、溶媒中、ＣＨ2 Ｎ2 あるいはＴＭＳ
ＣＨＮ2 などのアルキル化剤の存在下、０℃から室温で
３０分から数１０時間反応させることによって目的物を
得ることができる。溶媒としては、ＴＨＦ等のエーテル
類、ＴＭＳＣＨＣＮ2 を用いる場合は、ベンゼン等の炭
化水素類とメタノール等のアルコール混合溶媒の使用が
好ましく用いられる。 ｂ）
【００２７】
【化１１】
【００２８】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ15、
Ｒ16およびｎは前記と同じ意味を有する。） 原料メトキシ体を、溶媒中、ＮＲ15Ｒ16Ｈと、０℃から
溶媒の還流温度で３０分から数時間反応させることによ
って目的物を得ることができる。用いられる溶媒として
はベンゼン等の炭化水素類、ＴＨＦ等のエーテル類、ジ
クロロメタン等の塩素系炭化水素類等があげられる。
Ｒ16およびｎは前記と同じ意味を有する。） 原料メトキシ体を、溶媒中、ＮＲ15Ｒ16Ｈと、０℃から
溶媒の還流温度で３０分から数時間反応させることによ
って目的物を得ることができる。用いられる溶媒として
はベンゼン等の炭化水素類、ＴＨＦ等のエーテル類、ジ
クロロメタン等の塩素系炭化水素類等があげられる。
【００２９】なお、原料化合物および本発明化合物〔Ｉ
ａ〕および〔Ｉｂ〕には、光学異性体が存在し、さらに
多数の互変異性体、たとえば化１２の形で存在しうる。
ａ〕および〔Ｉｂ〕には、光学異性体が存在し、さらに
多数の互変異性体、たとえば化１２の形で存在しうる。
【００３０】
【化１２】
【００３１】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ15お
よびｎは前記と同じ意味を有する。） かかる異性体は全て本発明の範囲に含まれる。本発明化
合物の構造は、ＮＭＲ、ＩＲ、ＭＳ等から決定した。
よびｎは前記と同じ意味を有する。） かかる異性体は全て本発明の範囲に含まれる。本発明化
合物の構造は、ＮＭＲ、ＩＲ、ＭＳ等から決定した。
【００３２】
【実施例】次に実施例を挙げ本発明化合物を更に詳細に
説明する。 実施例１ ２−アセトキシ−５−エトキシカルボニル−３−（３−
メトキシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベンゾイ
ル）−５−メチル−２−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプテ
ン−４−オン（ｔｒａｎｓ体）：化合物番号１−２２
説明する。 実施例１ ２−アセトキシ−５−エトキシカルボニル−３−（３−
メトキシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベンゾイ
ル）−５−メチル−２−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプテ
ン−４−オン（ｔｒａｎｓ体）：化合物番号１−２２
【００３３】
【化１３】
【００３４】５−エトキシカルボニル−３−（３−メト
キシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベンゾイル）
−５−メチルビシクロ〔４．１．０〕ヘプタン−２、４
−ジオン０．６０ｇを、ジクロロメタン６ｍｌに溶解
し、氷水で冷却下にトリエチルアミン０．１５ｇを添加
し、続いてアセチルクロリド０．１２ｇを添加した。こ
の後室温で３時間撹拌した。反応液を水に注ぎ水洗し、
有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧濃縮して
粗生成物１．０ｇを得た。このものをカラムクロマトに
て精製を行い、粉末の目的物０．３４ｇを得た。（収率
５１．７％）
キシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベンゾイル）
−５−メチルビシクロ〔４．１．０〕ヘプタン−２、４
−ジオン０．６０ｇを、ジクロロメタン６ｍｌに溶解
し、氷水で冷却下にトリエチルアミン０．１５ｇを添加
し、続いてアセチルクロリド０．１２ｇを添加した。こ
の後室温で３時間撹拌した。反応液を水に注ぎ水洗し、
有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧濃縮して
粗生成物１．０ｇを得た。このものをカラムクロマトに
て精製を行い、粉末の目的物０．３４ｇを得た。（収率
５１．７％）
【００３５】実施例２ ２−クロロ−５−エトキシカルボニル−３−（３−メト
キシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベンゾイル）
−５−メチル−２−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプテン−
４−オン（ｔｒａｎｓ体）：化合物番号７−８
キシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベンゾイル）
−５−メチル−２−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプテン−
４−オン（ｔｒａｎｓ体）：化合物番号７−８
【００３６】
【化１４】
【００３７】５−エトキシカルボニル−３−（３−メト
キシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベンゾイル）
−５−メチルビシクロ〔４．１．０〕ヘプタン−２、４
−ジオン１０．０ｇをジクロロメタン１００ｍｌに溶解
し、室温下にオキザリルクロリド４．４０ｇを添加し、
ついでジメチルホルムアミド０．５ｍｌを加えた。発泡
が止むまで室温下１５時間反応させた後、水に注ぎ、水
洗、炭酸カリウム水溶液で洗浄、ついで飽和食塩水で洗
浄後有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
濃縮して得られた粗生成物にエチルエーテルを加え、結
晶化させ、ろ過後結晶として目的物６．９８ｇを得た。
収率６７．０％、融点１４０〜１℃
キシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベンゾイル）
−５−メチルビシクロ〔４．１．０〕ヘプタン−２、４
−ジオン１０．０ｇをジクロロメタン１００ｍｌに溶解
し、室温下にオキザリルクロリド４．４０ｇを添加し、
ついでジメチルホルムアミド０．５ｍｌを加えた。発泡
が止むまで室温下１５時間反応させた後、水に注ぎ、水
洗、炭酸カリウム水溶液で洗浄、ついで飽和食塩水で洗
浄後有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
濃縮して得られた粗生成物にエチルエーテルを加え、結
晶化させ、ろ過後結晶として目的物６．９８ｇを得た。
収率６７．０％、融点１４０〜１℃
【００３８】実施例３ ５−エトキシカルボニル−３−（３−メトキシ−２−メ
チル−４−メチルスルホニルベンゾイル）−５−メチル
−２−メチルチオ−２−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプテ
ン−４−オン：化合物番号５−５８
チル−４−メチルスルホニルベンゾイル）−５−メチル
−２−メチルチオ−２−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプテ
ン−４−オン：化合物番号５−５８
【００３９】
【化１５】
【００４０】２−クロロ−５−エトキシカルボニル−３
−（３−メトキシ−２−メチル−４−メチルスルホニル
ベンゾイル）−５−メチル−２−ビシクロ〔４．１．
０〕ヘプテン−４−オン１．５ｇをテトラヒドロフラン
１０ｍｌに溶解し、室温下にメチルメルカプタンのナト
リウム塩０．３５ｇを添加し、室温で１時間反応させ
た。反応液を、氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有
機層を希塩酸ついで水酸化ナトリウムで洗浄し、飽和食
塩水で洗浄後有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトに
て精製を行い、粉末の目的物１．３０ｇを得た。収率８
４．５％
−（３−メトキシ−２−メチル−４−メチルスルホニル
ベンゾイル）−５−メチル−２−ビシクロ〔４．１．
０〕ヘプテン−４−オン１．５ｇをテトラヒドロフラン
１０ｍｌに溶解し、室温下にメチルメルカプタンのナト
リウム塩０．３５ｇを添加し、室温で１時間反応させ
た。反応液を、氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有
機層を希塩酸ついで水酸化ナトリウムで洗浄し、飽和食
塩水で洗浄後有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマトに
て精製を行い、粉末の目的物１．３０ｇを得た。収率８
４．５％
【００４１】実施例４ ５−エトキシカルボニル−３−（３−メトキシ−２−メ
チル−４−メチルスルホニルベンゾイル）−５−メチル
−２−モルホリノ−２−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプテ
ン−４−オン、及び、５−エトキシカルボニル−３−
（３−メトキシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベ
ンゾイル）−５−メチル−４−モルホリノ−３−ビシク
ロ〔４．１．０〕ヘプテン−２−オン：化合物番号６−
４５，６−４６
チル−４−メチルスルホニルベンゾイル）−５−メチル
−２−モルホリノ−２−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプテ
ン−４−オン、及び、５−エトキシカルボニル−３−
（３−メトキシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベ
ンゾイル）−５−メチル−４−モルホリノ−３−ビシク
ロ〔４．１．０〕ヘプテン−２−オン：化合物番号６−
４５，６−４６
【００４２】
【化１６】
【００４３】５−エトキシカルボニル−３−（３−メト
キシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベンゾイル）
−５−メチルビシクロ〔４．１．０〕ヘプタン−２、４
−ジオン１．００ｇをベンゼン１２ｍｌに溶解し、氷冷
却下にトリメチルシリルジアゾメタン０．３５ｇを添加
する。その後室温で１５分間撹拌した後メタノール５ｍ
ｌを滴下し、さらに室温で２０分間撹拌した後、室温下
にモルホリン０．２７ｇを添加し、さらに５時間撹拌し
た。反応液を０．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液５ｍｌで
洗浄、水洗の後有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマト
グラフィーにて精製を行い、２種類の異性体をそれぞれ
０．２５ｇ、０．１９ｇ得た。
キシ−２−メチル−４−メチルスルホニルベンゾイル）
−５−メチルビシクロ〔４．１．０〕ヘプタン−２、４
−ジオン１．００ｇをベンゼン１２ｍｌに溶解し、氷冷
却下にトリメチルシリルジアゾメタン０．３５ｇを添加
する。その後室温で１５分間撹拌した後メタノール５ｍ
ｌを滴下し、さらに室温で２０分間撹拌した後、室温下
にモルホリン０．２７ｇを添加し、さらに５時間撹拌し
た。反応液を０．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液５ｍｌで
洗浄、水洗の後有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧濃縮して得られた粗生成物をカラムクロマト
グラフィーにて精製を行い、２種類の異性体をそれぞれ
０．２５ｇ、０．１９ｇ得た。
【００４４】実施例５ ２−シアノ−５−メチル−３−（４−メチルスルホニル
−２−ニトロベンゾイル）−2-ビシクロ〔４．１．０〕
ヘプテン−４−オン：化合物番号９−２
−２−ニトロベンゾイル）−2-ビシクロ〔４．１．０〕
ヘプテン−４−オン：化合物番号９−２
【００４５】
【化１７】
【００４６】５−メチル−３−〔４−メチルスルホニル
−２−ニトロベンゾイル）ビシクロ〔４．１．０〕ヘプ
タン−２，４−ジオン０．７３ｇをアセトニトリル２０
ｍｌに溶解し、トリエチルアミン０．２０ｇを添加した
のち、０℃に冷却し、無水トリフルオロメタンスルホン
酸０．５０ｇを滴下した。０℃で３０分間攪拌し、トリ
フルオロメタンスルホン酸のエノールエステルを合成し
た。次に、この反応液に０℃でシアン化銅０．１８ｇを
添加し、０℃で１時間攪拌後、徐々に室温まで戻し、さ
らに室温で５時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、クロロ
ホルムで抽出し、有機層を希塩酸、希炭酸カリウム水溶
液、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して粉末と
して目的物０．５７ｇを得た。収率７６．２％
−２−ニトロベンゾイル）ビシクロ〔４．１．０〕ヘプ
タン−２，４−ジオン０．７３ｇをアセトニトリル２０
ｍｌに溶解し、トリエチルアミン０．２０ｇを添加した
のち、０℃に冷却し、無水トリフルオロメタンスルホン
酸０．５０ｇを滴下した。０℃で３０分間攪拌し、トリ
フルオロメタンスルホン酸のエノールエステルを合成し
た。次に、この反応液に０℃でシアン化銅０．１８ｇを
添加し、０℃で１時間攪拌後、徐々に室温まで戻し、さ
らに室温で５時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、クロロ
ホルムで抽出し、有機層を希塩酸、希炭酸カリウム水溶
液、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して粉末と
して目的物０．５７ｇを得た。収率７６．２％
【００４７】実施例６ ５−メチル−３−（４−メチルスルホニル−２−ニトロ
ベンゾイル）−２−チオシアノ−２−ビシクロ〔４．
１．０〕ヘプテン−４−オン：化合物番号１０−２
ベンゾイル）−２−チオシアノ−２−ビシクロ〔４．
１．０〕ヘプテン−４−オン：化合物番号１０−２
【００４８】
【化１８】
【００４９】実施例５で得られたトリフルオロメタンス
ルホン酸のエノールエステルに０℃でチオシアン酸カリ
ウム０．１９ｇを添加した後、実施例５と同様な操作に
より標記化合物を粉末として０．５７ｇ得た。収率７
０．２％
ルホン酸のエノールエステルに０℃でチオシアン酸カリ
ウム０．１９ｇを添加した後、実施例５と同様な操作に
より標記化合物を粉末として０．５７ｇ得た。収率７
０．２％
【００５０】上記実施例を含め、本発明化合物の代表例
を表−１〜表−１１に示す。ただし物性中のｔｒａｎ
ｓ，ｃｉｓはビシクロ環の５位の置換基とシクロプロパ
ン環との立体配置を示す。
を表−１〜表−１１に示す。ただし物性中のｔｒａｎ
ｓ，ｃｉｓはビシクロ環の５位の置換基とシクロプロパ
ン環との立体配置を示す。
【００５１】
【表１０１】
【００５２】
【表１０２】
【００５３】
【表１０３】
【００５４】
【表１０４】
【００５５】
【表２０１】
【００５６】
【表２０２】
【００５７】
【表２０３】
【００５８】
【表３】
【００５９】
【表４０１】
【００６０】
【表４０２】
【００６１】
【表４０３】
【００６２】
【表５０１】
【００６３】
【表５０２】
【００６４】
【表５０３】
【００６５】
【表５０４】
【００６６】
【表５０５】
【００６７】
【表５０６】
【００６８】
【表６０１】
【００６９】
【表６０２】
【００７０】
【表６０３】
【００７１】
【表６０４】
【００７２】
【表６０５】
【００７３】
【表６０６】
【００７４】
【表７】
【００７５】
【表８】
【００７６】
【表９】
【００７７】
【表１０】
【００７８】
【表１１】
【００７９】
【表１２０１】
【００８０】
【表１２０２】
【００８１】
【表１２０３】
【００８２】
【表１２０４】
【００８３】本発明化合物は畑作条件で、土壌処理、茎
葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示す。特に茎
葉散布処理で、メヒシバ、アキノエノコログサ、カヤツ
リグサ、イチビ、イヌビユ等の各種の畑雑草に高い効力
を示し、トウモロコシ、ムギ、大豆等の作物に選択性を
示す化合物も含まれている。本発明化合物は、作物、観
賞用植物、果樹等の有用植物に対し、生育抑制作用を示
す化合物も含まれている。本発明化合物は、水田雑草の
ノビエ、タマガヤツリ、オモダカ、ホタルイ等の雑草に
対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示す化合
物も含まれている。本発明化合物は果樹園、芝生、線路
端、空き地等の雑草の防除にも適用することができる。
また、本発明の中間体化合物の中には除草活性を示すも
のもある。さらに、本発明の化合物は高チロシン血症の
治療薬としての可能性もある。
葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示す。特に茎
葉散布処理で、メヒシバ、アキノエノコログサ、カヤツ
リグサ、イチビ、イヌビユ等の各種の畑雑草に高い効力
を示し、トウモロコシ、ムギ、大豆等の作物に選択性を
示す化合物も含まれている。本発明化合物は、作物、観
賞用植物、果樹等の有用植物に対し、生育抑制作用を示
す化合物も含まれている。本発明化合物は、水田雑草の
ノビエ、タマガヤツリ、オモダカ、ホタルイ等の雑草に
対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示す化合
物も含まれている。本発明化合物は果樹園、芝生、線路
端、空き地等の雑草の防除にも適用することができる。
また、本発明の中間体化合物の中には除草活性を示すも
のもある。さらに、本発明の化合物は高チロシン血症の
治療薬としての可能性もある。
【００８４】
【課題を解決するための手段】 −除草剤− 本発明除草剤は、前記一般式〔Ｉ〕で示される化合物も
しくはその塩の１又は２以上を有効成分として含有し、
通常の農薬と同様の形態を有する。即ち、有効成分化合
物は一般に適当な量を担体と混合して水和剤、乳剤、粒
剤、水溶剤、フロアブル剤等の形に製剤化して使用され
る。固体担体としてはタルク、ホワイトカーボン（シリ
カ）、ベントナイト、クレイ、ケイソウ土等が挙げら
れ、液体担体としては、水、アルコール、ベンゼン、キ
シレン、ケロシン、鉱油、シクロヘキサン、シクロヘキ
サノン、ジメチルホルムアミド等が用いられる。これら
の製剤に於て、均一かつ安定な形態を取るために必要な
らば、界面活性剤を添加することもできる。
しくはその塩の１又は２以上を有効成分として含有し、
通常の農薬と同様の形態を有する。即ち、有効成分化合
物は一般に適当な量を担体と混合して水和剤、乳剤、粒
剤、水溶剤、フロアブル剤等の形に製剤化して使用され
る。固体担体としてはタルク、ホワイトカーボン（シリ
カ）、ベントナイト、クレイ、ケイソウ土等が挙げら
れ、液体担体としては、水、アルコール、ベンゼン、キ
シレン、ケロシン、鉱油、シクロヘキサン、シクロヘキ
サノン、ジメチルホルムアミド等が用いられる。これら
の製剤に於て、均一かつ安定な形態を取るために必要な
らば、界面活性剤を添加することもできる。
【００８５】本発明除草剤における有効成分濃度は前述
した製剤の形により種々の濃度に変化するものである
が、例えば、水和剤に於いては、５〜７０％、好ましく
は１０〜３０％：乳剤に於いては、３〜７０％、好まし
くは５〜２０％：粒剤に於いては、０．０１〜３０％、
好ましくは、０．０５〜１０％の濃度が用いられる。こ
のようにして得られた水和剤、乳剤は水で所定の濃度に
希釈して懸濁液或は乳濁液として、粒剤はそのまま雑草
の発芽前又は発芽後に散布処理もしくは混和処理され
る。実際に本発明除草剤を適用するに当たっては１０ア
ール当り有効成分０．１ｇ以上の適当量が施用される。
した製剤の形により種々の濃度に変化するものである
が、例えば、水和剤に於いては、５〜７０％、好ましく
は１０〜３０％：乳剤に於いては、３〜７０％、好まし
くは５〜２０％：粒剤に於いては、０．０１〜３０％、
好ましくは、０．０５〜１０％の濃度が用いられる。こ
のようにして得られた水和剤、乳剤は水で所定の濃度に
希釈して懸濁液或は乳濁液として、粒剤はそのまま雑草
の発芽前又は発芽後に散布処理もしくは混和処理され
る。実際に本発明除草剤を適用するに当たっては１０ア
ール当り有効成分０．１ｇ以上の適当量が施用される。
【００８６】又、本発明除草剤は公知の雑菌剤、殺虫
剤、殺ダニ剤、除草剤、植物成長調整剤等と混合して使
用することも出来る。特に、除草剤と混合使用すること
により、使用薬量を減少させることが可能である。又、
省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相乗作用によ
り一層高い効果も期待できる。その場合、複数の公知除
草剤との組合せも可能である。本発明除草剤と混合使用
するにふさわしい薬剤としては、ベンチオカーブ、モリ
ネート、ジメピペレート等のカーバメイト系除草剤、チ
オカーバメイト系除草剤、ブタクロール、プレチラクロ
ール、メフェナセット等の酸アミド系除草剤、クロメト
キシニル、ビフェノックス等のジフェニルエーテル系除
草剤、アトラジン、ジアナジン等のトリアジン系除草
剤、クロルスルフロン、スルホメチュロン−メチル等の
スルホニルウレア系除草剤、ＭＣＰ、ＭＣＰＢ等のフェ
ノキシアルカンカルボン酸系除草剤、ジクロホップ−メ
チル等のフェノキシフェノキシプロピオン酸系除草剤、
フルアジホップブチル等のピリジルオキシフェノキシプ
ロピオン酸系除草剤、ベンゾイルプロップエチル、フラ
ンプロップエチル等のベンゾイルアミノプロピオン酸系
除草剤、イマザキン等のイミダゾリノン系除草剤、その
他として、ピペロホス、ダイムロン、ベンタゾン、ダイ
フェンゾコート、ナプロアニリド、ＨＷ−５２ (４−エ
トキシメトキシベンズ−２，３−ジクロルアニライ
ド）、ＫＮＷ−２４２〔１−（３−メチルフェニル）−
５−フェニル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−
カルボキサミド〕、キンクロラック、更に、セトキシジ
ム、アロキシジム−ソディウム等のシクロヘキサンジオ
ン系の除草剤等が挙げられる。又、これらの組み合わせ
た物に植物油及び油濃縮物を添加することも出来る。
剤、殺ダニ剤、除草剤、植物成長調整剤等と混合して使
用することも出来る。特に、除草剤と混合使用すること
により、使用薬量を減少させることが可能である。又、
省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相乗作用によ
り一層高い効果も期待できる。その場合、複数の公知除
草剤との組合せも可能である。本発明除草剤と混合使用
するにふさわしい薬剤としては、ベンチオカーブ、モリ
ネート、ジメピペレート等のカーバメイト系除草剤、チ
オカーバメイト系除草剤、ブタクロール、プレチラクロ
ール、メフェナセット等の酸アミド系除草剤、クロメト
キシニル、ビフェノックス等のジフェニルエーテル系除
草剤、アトラジン、ジアナジン等のトリアジン系除草
剤、クロルスルフロン、スルホメチュロン−メチル等の
スルホニルウレア系除草剤、ＭＣＰ、ＭＣＰＢ等のフェ
ノキシアルカンカルボン酸系除草剤、ジクロホップ−メ
チル等のフェノキシフェノキシプロピオン酸系除草剤、
フルアジホップブチル等のピリジルオキシフェノキシプ
ロピオン酸系除草剤、ベンゾイルプロップエチル、フラ
ンプロップエチル等のベンゾイルアミノプロピオン酸系
除草剤、イマザキン等のイミダゾリノン系除草剤、その
他として、ピペロホス、ダイムロン、ベンタゾン、ダイ
フェンゾコート、ナプロアニリド、ＨＷ−５２ (４−エ
トキシメトキシベンズ−２，３−ジクロルアニライ
ド）、ＫＮＷ−２４２〔１−（３−メチルフェニル）−
５−フェニル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−
カルボキサミド〕、キンクロラック、更に、セトキシジ
ム、アロキシジム−ソディウム等のシクロヘキサンジオ
ン系の除草剤等が挙げられる。又、これらの組み合わせ
た物に植物油及び油濃縮物を添加することも出来る。
【００８７】
−除草剤− 次に、本発明除草剤に関する製剤例を若干示すが、有効
成分化合物、添加物及び添加割合は、本実施例にのみ限
定されることなく、広い範囲で変更可能である。
成分化合物、添加物及び添加割合は、本実施例にのみ限
定されることなく、広い範囲で変更可能である。
【００８８】実施例７ 水和剤 本発明化合物 ２０部 ホワイトカーボン ２０部 ケイソウ土 ５２部 アルキル硫酸ソーダ ８部 以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分２０％の
水和剤を得た。
水和剤を得た。
【００８９】実施例８ 乳剤 本発明化合物 ２０部 キシレン ５５部 ジメチルホルムアミド １５部 ポリオキシエチレンフェニルエーテル １０部 以上を混合、溶解して有効成分２０％の乳剤を得た。
【００９０】実施例９ 粒剤 本発明化合物 ５部 タルク ４０部 クレー ３８部 ベントナイト １０部 アルキル硫酸ソーダ ７部 以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径０．５〜１．
０ｍｍの粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得た。
０ｍｍの粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得た。
【００９１】
【発明の効果】次に本発明除草剤の効果に関する試験例
を示す。 茎葉散布処理 ２００ｃｍ2 のポットに土壌を充填し、表層にメヒシ
バ、アキノエノコログサ、イヌビユ、カヤツリグサ、イ
チビ及びトウモロコシ（品種：パイオニア３３５８）の
各種子を播き、軽く覆土後温室内で生育させた。トウモ
ロコシが約２０ｃｍ、各雑草が５〜１０ｃｍの草丈に生
育した時点で各供試化合物の乳剤を水で希釈して調整し
た２５０ｐｐｍの薬液を１００リットル／１０ａの水量
にて（１０ａ当たり２５ｇ相当）小型噴霧器で雑草の茎
葉部に散布した。３週間後に雑草の除草効果を下記の調
査基準に従って調査し、その結果を表−１３に示した。
を示す。 茎葉散布処理 ２００ｃｍ2 のポットに土壌を充填し、表層にメヒシ
バ、アキノエノコログサ、イヌビユ、カヤツリグサ、イ
チビ及びトウモロコシ（品種：パイオニア３３５８）の
各種子を播き、軽く覆土後温室内で生育させた。トウモ
ロコシが約２０ｃｍ、各雑草が５〜１０ｃｍの草丈に生
育した時点で各供試化合物の乳剤を水で希釈して調整し
た２５０ｐｐｍの薬液を１００リットル／１０ａの水量
にて（１０ａ当たり２５ｇ相当）小型噴霧器で雑草の茎
葉部に散布した。３週間後に雑草の除草効果を下記の調
査基準に従って調査し、その結果を表−１３に示した。
【００９２】 また、１、３、５、７、９の数値は、各々０と２、２と
４、４と６、６と８、８と１０の中間の値を示す。
４、４と６、６と８、８と１０の中間の値を示す。
【００９３】
【数１】
【００９４】
【表１３０１】
【００９５】
【表１３０２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 309/63 7419−4Ｈ 317/24 7419−4Ｈ 323/22 7419−4Ｈ 331/08 7106−4Ｈ 331/10 7106−4Ｈ 331/14 7106−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 295/10 Ｚ (72)発明者 阿達 弘之 神奈川県小田原市高田字柳町345 日本曹 達株式会社小田原研究所内 (72)発明者 冨田 和之 神奈川県小田原市高田字柳町345 日本曹 達株式会社小田原研究所内 (72)発明者 高橋 明裕 神奈川県小田原市高田字柳町345 日本曹 達株式会社小田原研究所内 (72)発明者 川名 貴 神奈川県小田原市高田字柳町345 日本曹 達株式会社小田原研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式〔Ｉａ〕または〔Ｉｂ〕 【化１】 〔式中、Ｒ1 は、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アル
キル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されて
いてもよいアラルキル基または置換されていてもよい複
素環基を表す。Ｒ2 は、同一又は相異なって、ハロゲン
原子、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、
置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルチオ基、置換
されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルスルフィニル基、
置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキルスルホニル
基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基、置換
されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 〜Ｃ6 ア
ルキル基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ
カルボニル基、シアノ基またはシアノ−Ｃ1 〜Ｃ6アル
キル基を表す。ｎは０〜４である。Ｒ3 およびＲ4 は、
同一又は相異なって、水素原子または置換されていても
よいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基を表す。Ｒ5 は、ハロゲン原
子、ＣＮ、ＯＣＮ、ＳＣＮまたは化２ 【化２】 （式中、Ｒ6 は、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アル
キル基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル
基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキル
基、置換されていてもよいフェニル基を表し、 Ｒ7 は、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基、
置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル基、置換さ
れていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキル基または置換
されていてもよいフェニル基を表し、 Ｒ8 、Ｒ9 は、それぞれ独立して水素原子、Ｃ1 〜Ｃ6
アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表
し、 Ｒ10は、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル基または置換されていても
よいフェニル基を表し、 Ｒ11、Ｒ12は、それぞれ独立して水素原子、Ｃ1 〜Ｃ6
アルキル基、置換されていてもよいフェニル基を表し、 Ｒ13は、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基、
置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル基、置換さ
れていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキル基、置換され
ていてもよいフェニル基、ＣＯＮＨＣＯｒ1 、ＣＯＮＨ
ＳＯ2 ｒ2 またはＣＯＳ−ｒ3 を表し、 ｍは、０〜２を表し、 Ｒ14は、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル、置
換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル、置換されて
いてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキル、置換されていて
もよいフェニルを表し、または、Ｒ14は、ｍ＝０のと
き、ＣＯｒ4 、ＣＯＮＨｒ5 、ＣＯＮＨＣＯｒ6 、ＣＯ
ＮＨＳＯ2 ｒ7 、ＣＯＳ−ｒ8 またはシアノ基を表し、 Ｒ15、Ｒ16は、それぞれ独立して水素原子、ヒドロキシ
基、置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ８アルキル基、置換
されていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル基、置換されて
いてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキル基、置換されてい
てもよいＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、置換されていてもよ
いＣ2 〜Ｃ6 アルケニルオキシ基、置換されていてもよ
いＣ2 〜Ｃ6 アルキニルオキシ基、置換されていてもよ
いフェニル基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシカルボニル基、Ｃ
1 〜Ｃ6 アルキルカルボニル基、ＣＯＮＨＣＯｒ9 また
はＣＯＳ−ｒ10を表し、また、Ｒ15、Ｒ16は、これらが
結合しているＮ原子と一緒になって含Ｎヘテロ環を形成
し、そしてさらに１〜２個のＳ、Ｏ、Ｎ原子を含有して
もよい。Ｒ17、Ｒ18、Ｒ20は、それぞれ独立して水素原
子または置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基を
表し、 Ｒ19は水素原子または置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6
アルキル基を表す。Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23はそれぞれ独立し
て置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基、置換さ
れていてもよいＣ2 〜Ｃ6 アルケニル基、置換されてい
てもよいＣ2 〜Ｃ6 アルキニル基、置換されていてもよ
いＣ3 〜Ｃ8 シクロアルキル基、置換されていてもよい
フェニル基を表す。また、ｒ1 、ｒ2 、ｒ3 、ｒ4 、ｒ
5 、ｒ6 、ｒ7 、ｒ8 、ｒ9 、ｒ10は置換されていても
よいＣ1 〜Ｃ6 アルキル基、置換されていてもよいＣ2
〜Ｃ6 アルケニル基、置換されていてもよいＣ2 〜Ｃ6
アルキニル基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ8 シクロ
アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表
す。）の基を表す。〕で表される置換ビシクロヘプタン
ジオン誘導体またはその塩。 - 【請求項２】 一般式〔Ｉａ〕または〔Ｉｂ〕 【化３】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびｎは、前
記と同じ意味を有する。〕で表される化合物もしくはそ
の塩の１種または２種以上を有効成分として含有するこ
とを特徴とする除草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6257528A JPH07196585A (ja) | 1993-09-27 | 1994-09-27 | 置換ビシクロヘプタンジオン誘導体及び除草剤 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26044293 | 1993-09-27 | ||
| JP5-323260 | 1993-11-29 | ||
| JP32326093 | 1993-11-29 | ||
| JP5-260442 | 1993-11-29 | ||
| JP6257528A JPH07196585A (ja) | 1993-09-27 | 1994-09-27 | 置換ビシクロヘプタンジオン誘導体及び除草剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07196585A true JPH07196585A (ja) | 1995-08-01 |
Family
ID=27334632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6257528A Pending JPH07196585A (ja) | 1993-09-27 | 1994-09-27 | 置換ビシクロヘプタンジオン誘導体及び除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07196585A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002003467A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-01-09 | Sds Biotech:Kk | 置換ベンゾイルチオエーテル化合物の製造方法 |
| EP1182203A1 (en) * | 1999-05-13 | 2002-02-27 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Azole compounds and herbicide compositions |
-
1994
- 1994-09-27 JP JP6257528A patent/JPH07196585A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1182203A1 (en) * | 1999-05-13 | 2002-02-27 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Azole compounds and herbicide compositions |
| EP1182203A4 (en) * | 1999-05-13 | 2002-11-06 | Idemitsu Kosan Co | AZOLE DERIVATIVES AND HERBICIDAL PREPARATIONS |
| JP2002003467A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-01-09 | Sds Biotech:Kk | 置換ベンゾイルチオエーテル化合物の製造方法 |
| JP4608054B2 (ja) * | 2000-06-26 | 2011-01-05 | 株式会社エス・ディー・エス バイオテック | 置換ベンゾイルチオエーテル化合物の製造方法 |
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