JPH05215694A - 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置 - Google Patents
回路パターンの欠陥検査方法及びその装置Info
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- JPH05215694A JPH05215694A JP4018816A JP1881692A JPH05215694A JP H05215694 A JPH05215694 A JP H05215694A JP 4018816 A JP4018816 A JP 4018816A JP 1881692 A JP1881692 A JP 1881692A JP H05215694 A JPH05215694 A JP H05215694A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】X線源1とX線蛍光像倍管3と撮像管3によ
り、プリント配線基板2のX線透過画像を撮像して被検
査回路パターンを含む画像を得て、この画像から回路パ
ターン抽出論理回路5の行う画像処理手段によって検査
対象画素を抽出し、この検査対象画素の信号強度を欠陥
検査論理回路6により条件判定して欠陥を検出する。 【効果】被検査回路パターンの表面形状の異常を検出す
るだけでなく、回路パターンの底部の欠けの異常も精度
良く検出できる。
り、プリント配線基板2のX線透過画像を撮像して被検
査回路パターンを含む画像を得て、この画像から回路パ
ターン抽出論理回路5の行う画像処理手段によって検査
対象画素を抽出し、この検査対象画素の信号強度を欠陥
検査論理回路6により条件判定して欠陥を検出する。 【効果】被検査回路パターンの表面形状の異常を検出す
るだけでなく、回路パターンの底部の欠けの異常も精度
良く検出できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプリント配線基板等の回
路パターンの欠陥検査方法及びその装置に係わり、特
に、回路パターンの厚み方向の欠陥を精度良く検査する
のに好適な欠陥検査方法及びその装置に関する。
路パターンの欠陥検査方法及びその装置に係わり、特
に、回路パターンの厚み方向の欠陥を精度良く検査する
のに好適な欠陥検査方法及びその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】回路パターンの欠陥、特に、厚み方向の
欠陥を検査する方法としては、特開昭62−27214
1号公報に述べられているような光切断法がある。光切
断法は、図11に示すように、検査対象、例えばプリン
ト配線基板2の表面に照明光学系12aを介し斜め上方
から線状照明8を行い、プリント配線基板2からの反射
光を検出光学系12bを介して上方のラインセンサ9で
検出する。プリント配線基板2が平坦である場合、検出
される反射光は照明光と同じ線状であるが、もしプリン
ト配線基板2に凹凸があると、その凹凸の位置で線は曲
線あるいは分断された線分となる。平坦な場合の直線の
位置と基板上の凹凸によって移動した反射光の位置は凹
凸の高さと相関関係があるので、この反射光の検出位置
のずれ量を計測することにより、基板上の凹凸が計測で
きる。回路パターン11がある場合、この厚みの変動も
検出される反射光の位置変動となって検出されるので、
この反射光の位置変動から回路パターンの厚み方向の異
常を検出できる。
欠陥を検査する方法としては、特開昭62−27214
1号公報に述べられているような光切断法がある。光切
断法は、図11に示すように、検査対象、例えばプリン
ト配線基板2の表面に照明光学系12aを介し斜め上方
から線状照明8を行い、プリント配線基板2からの反射
光を検出光学系12bを介して上方のラインセンサ9で
検出する。プリント配線基板2が平坦である場合、検出
される反射光は照明光と同じ線状であるが、もしプリン
ト配線基板2に凹凸があると、その凹凸の位置で線は曲
線あるいは分断された線分となる。平坦な場合の直線の
位置と基板上の凹凸によって移動した反射光の位置は凹
凸の高さと相関関係があるので、この反射光の検出位置
のずれ量を計測することにより、基板上の凹凸が計測で
きる。回路パターン11がある場合、この厚みの変動も
検出される反射光の位置変動となって検出されるので、
この反射光の位置変動から回路パターンの厚み方向の異
常を検出できる。
【0003】しかし、上記光切断法では、回路パターン
に図12の欠陥13a、欠陥13bに示すような底部の
欠けが存在した場合、この異常を検出できない。欠陥1
3a、欠陥13bのような欠陥を検出する手段として、
X線を回路パターンに照射しX線の回路パターンの厚み
に係る吸収を透過X線の変化量として測定する方法が知
られているが、ほぼ断線となるような欠陥13b部分の
上記変化量は回路パターンが存在しない部分の上記変化
量と同等となるため、単に変化量だけで判断すると欠陥
13bに示すような欠陥と回路パターンが存在しない部
分とは判別できず、検査できない。
に図12の欠陥13a、欠陥13bに示すような底部の
欠けが存在した場合、この異常を検出できない。欠陥1
3a、欠陥13bのような欠陥を検出する手段として、
X線を回路パターンに照射しX線の回路パターンの厚み
に係る吸収を透過X線の変化量として測定する方法が知
られているが、ほぼ断線となるような欠陥13b部分の
上記変化量は回路パターンが存在しない部分の上記変化
量と同等となるため、単に変化量だけで判断すると欠陥
13bに示すような欠陥と回路パターンが存在しない部
分とは判別できず、検査できない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来技
術のうち、光切断法では、回路パターンの底部に存在す
る欠けを検出できないという問題があり、また、回路パ
ターンを透過した透過X線の変化量から厚み方向の欠陥
を検出する方法では、ほぼ断線となるような厚み方向の
欠陥と回路パターンが存在しない場合とを判別できない
という問題があった。
術のうち、光切断法では、回路パターンの底部に存在す
る欠けを検出できないという問題があり、また、回路パ
ターンを透過した透過X線の変化量から厚み方向の欠陥
を検出する方法では、ほぼ断線となるような厚み方向の
欠陥と回路パターンが存在しない場合とを判別できない
という問題があった。
【0005】本発明の目的は、回路パターンの底部の欠
けを含む厚み方向の欠陥を、回路パターンが存在しない
場合と区別して精度良く検出できる回路パターンの欠陥
検査方法を提供することにある。
けを含む厚み方向の欠陥を、回路パターンが存在しない
場合と区別して精度良く検出できる回路パターンの欠陥
検査方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、回路パターン
を撮像して画像を得、この画像に対し画像処理手段を用
いて回路パターンが存在すべき領域を抽出し、該領域に
ついてのみ欠陥判定を行って、回路パターンの表面形状
の異常のみならず底部の欠けの異常をも検出するように
したものである。
を撮像して画像を得、この画像に対し画像処理手段を用
いて回路パターンが存在すべき領域を抽出し、該領域に
ついてのみ欠陥判定を行って、回路パターンの表面形状
の異常のみならず底部の欠けの異常をも検出するように
したものである。
【0007】
【作用】回路パターンはその厚みに応じてX線の変化量
が異なる。例えばX線透過像では、得られた画像は回路
パターンの厚みに応じた濃淡を有する。そこで、得られ
た画像から多値画像信号を得て、この画像信号に対して
濃淡値を参照するオペレータを用いた画像処理手段によ
り画像処理を行えば、画像は本来回路パターンが存在す
べき部分と存在しない部分とに分けることができ、この
回路パターンが存在すべき部分(片面又は両面)の画像
を被検査回路パターン部分の画像として抽出する。そし
て、この抽出した回路パターンの画像の濃淡値を判定す
ることにより、被検査回路パターンの厚み方向の欠陥を
検出できる。
が異なる。例えばX線透過像では、得られた画像は回路
パターンの厚みに応じた濃淡を有する。そこで、得られ
た画像から多値画像信号を得て、この画像信号に対して
濃淡値を参照するオペレータを用いた画像処理手段によ
り画像処理を行えば、画像は本来回路パターンが存在す
べき部分と存在しない部分とに分けることができ、この
回路パターンが存在すべき部分(片面又は両面)の画像
を被検査回路パターン部分の画像として抽出する。そし
て、この抽出した回路パターンの画像の濃淡値を判定す
ることにより、被検査回路パターンの厚み方向の欠陥を
検出できる。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。
説明する。
【0009】図1は、本発明の第1乃至第4の実施例で
用いる回路パターンの欠陥検査装置の基本的構成を示す
ブロック図である。なお、以下の実施例では、プリント
配線基板の回路パターンを検査する場合について説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
用いる回路パターンの欠陥検査装置の基本的構成を示す
ブロック図である。なお、以下の実施例では、プリント
配線基板の回路パターンを検査する場合について説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0010】図1において、1はX線を照射するX線
源、2は被検査体であるプリント配線基板、3はこのプ
リント配線基板2を介して上記X線源1に対峙され、プ
リント配線基板2のX線透過像を光学像に変換するX線
蛍光像倍管(イメージインテンシファイア;以下I.
I.と省略する)、4はこのI.I.3により変換され
た光学像を撮像する撮像管、5は得られた画像より回路
パターンの領域を抽出する回路パターン抽出論理回路、
6は回路パターン抽出論理回路5により抽出した回路パ
ターンの領域に対して欠陥検査を行う欠陥検査論理回
路、7は欠陥検査論理回路6により検査した結果を出力
する検査結果出力部である。
源、2は被検査体であるプリント配線基板、3はこのプ
リント配線基板2を介して上記X線源1に対峙され、プ
リント配線基板2のX線透過像を光学像に変換するX線
蛍光像倍管(イメージインテンシファイア;以下I.
I.と省略する)、4はこのI.I.3により変換され
た光学像を撮像する撮像管、5は得られた画像より回路
パターンの領域を抽出する回路パターン抽出論理回路、
6は回路パターン抽出論理回路5により抽出した回路パ
ターンの領域に対して欠陥検査を行う欠陥検査論理回
路、7は欠陥検査論理回路6により検査した結果を出力
する検査結果出力部である。
【0011】上記検査装置を用いてプリント配線基板2
の回路パターンを検査するには、まずX線源1から出る
X線をプリント配線基板2に照射し、その透過X線を
I.I.3の表面に照射する。すると、I.I.3によ
りX線像が光学像に変換され、例えば図2に示すような
光学像が得られる。この光学像はプリント配線基板2の
X線透過率に対応した明暗のレベルをもつ。金属である
回路パターンはX線透過率が低く、基材はX線透過率が
高い。そこで、上記光学像は、回路パターンが片面にあ
る部分に対応した暗部A14と、回路パターンが両面に
ある部分に対応した暗部B15と、回路パターンが存在
しない部分に対応した明部16とで形成される。そこ
で、撮像管4で上記光学像を撮像し画像を得る。
の回路パターンを検査するには、まずX線源1から出る
X線をプリント配線基板2に照射し、その透過X線を
I.I.3の表面に照射する。すると、I.I.3によ
りX線像が光学像に変換され、例えば図2に示すような
光学像が得られる。この光学像はプリント配線基板2の
X線透過率に対応した明暗のレベルをもつ。金属である
回路パターンはX線透過率が低く、基材はX線透過率が
高い。そこで、上記光学像は、回路パターンが片面にあ
る部分に対応した暗部A14と、回路パターンが両面に
ある部分に対応した暗部B15と、回路パターンが存在
しない部分に対応した明部16とで形成される。そこ
で、撮像管4で上記光学像を撮像し画像を得る。
【0012】撮像管4で得られた画像に対し、回路パタ
ーン抽出論理回路5は、後に詳説するような手順によっ
て、画像を、例えば図4に示すように、回路パターンが
存在すべき部分に対応した領域17と、回路パターンが
存在しない部分に対応した領域18とに分離し、その領
域17を被検査対象として抽出する。この抽出された画
像の領域17に対し、欠陥検査論理回路6は、画像の信
号強度を予め設定した欠陥検査基準値と比較して欠陥検
査を行う。そして、欠陥があると判定した場合には、そ
の欠陥の位置や大きさ等の情報を検査結果出力部7に出
力する。この出力結果を参照することにより、回路パタ
ーンの厚み方向の異常を検出することができる。
ーン抽出論理回路5は、後に詳説するような手順によっ
て、画像を、例えば図4に示すように、回路パターンが
存在すべき部分に対応した領域17と、回路パターンが
存在しない部分に対応した領域18とに分離し、その領
域17を被検査対象として抽出する。この抽出された画
像の領域17に対し、欠陥検査論理回路6は、画像の信
号強度を予め設定した欠陥検査基準値と比較して欠陥検
査を行う。そして、欠陥があると判定した場合には、そ
の欠陥の位置や大きさ等の情報を検査結果出力部7に出
力する。この出力結果を参照することにより、回路パタ
ーンの厚み方向の異常を検出することができる。
【0013】次に、本発明の第1の実施例を説明する。
回路パターン抽出論理回路5は、撮像管4で得られた画
像に対し、画像の一部分を切り出し、その画像の各画素
の値を参照して条件判断することによりパターン抽出を
行うオペレータの機能を有しており、本実施例では、次
のような手順で回路パターン抽出を行う。例えばオペレ
ータとしては、図3に示すように、19×19画素の大
きさの画像20を切り出し、位置t1、t2、c1、c
2、s1、s2、s3、s4の8画素の値を参照し、予
め設定された基準値th1により条件判定を行う。判定
の条件は、例えばt1について、th1>t1ならばt
1に回路パターンが存在するとし、t1≧th1ならば
t1にパターンが存在しないとする。位置t1、t2、
c1、c2、s1、s2、s3、s4の8画素の値につ
いてそれぞれ条件判定し、その結果の組み合わせから切
り出した画像20の中心画素a(i,j)が回路パター
ンの存在すべき画素かどうかを判定する。組み合わせと
しては、例えば、t1、t2に回路パターンが存在しc
1、c2、s1、s2、s3、s4に回路パターンが存
在しないとき、またc1、c2に回路パターンが存在し
t1、t2、s1、s2、s3、s4に回路パターンが
存在しないとき、またt1、t2、c1、c2に回路パ
ターンが存在しs1、s2、s3、s4に回路パターン
が存在しないときを取りあげ、上記の3種類の組み合わ
せのどれか1つの場合、a(i,j)は回路パターンの
存在すべき画素と判定し、それ以外の場合、a(i,
j)は回路パターンの存在しない画素と判定する、と定
める。そして、上記オペレータの位置座標を1画素ずつ
インクリメントさせ、全面を判定する。すると、画像は
図4に示すように回路パターンが存在すべき部分に対応
した領域17と、回路パターンが存在しない部分に対応
した領域18とに分離される。
回路パターン抽出論理回路5は、撮像管4で得られた画
像に対し、画像の一部分を切り出し、その画像の各画素
の値を参照して条件判断することによりパターン抽出を
行うオペレータの機能を有しており、本実施例では、次
のような手順で回路パターン抽出を行う。例えばオペレ
ータとしては、図3に示すように、19×19画素の大
きさの画像20を切り出し、位置t1、t2、c1、c
2、s1、s2、s3、s4の8画素の値を参照し、予
め設定された基準値th1により条件判定を行う。判定
の条件は、例えばt1について、th1>t1ならばt
1に回路パターンが存在するとし、t1≧th1ならば
t1にパターンが存在しないとする。位置t1、t2、
c1、c2、s1、s2、s3、s4の8画素の値につ
いてそれぞれ条件判定し、その結果の組み合わせから切
り出した画像20の中心画素a(i,j)が回路パター
ンの存在すべき画素かどうかを判定する。組み合わせと
しては、例えば、t1、t2に回路パターンが存在しc
1、c2、s1、s2、s3、s4に回路パターンが存
在しないとき、またc1、c2に回路パターンが存在し
t1、t2、s1、s2、s3、s4に回路パターンが
存在しないとき、またt1、t2、c1、c2に回路パ
ターンが存在しs1、s2、s3、s4に回路パターン
が存在しないときを取りあげ、上記の3種類の組み合わ
せのどれか1つの場合、a(i,j)は回路パターンの
存在すべき画素と判定し、それ以外の場合、a(i,
j)は回路パターンの存在しない画素と判定する、と定
める。そして、上記オペレータの位置座標を1画素ずつ
インクリメントさせ、全面を判定する。すると、画像は
図4に示すように回路パターンが存在すべき部分に対応
した領域17と、回路パターンが存在しない部分に対応
した領域18とに分離される。
【0014】上記回路パターン抽出論理回路5によって
分離された画像の領域17に対し、欠陥検査論理回路6
は、予め設定された2種類の基準値tha、thb(t
ha>thb)により欠陥検査を行う。領域17内の各
画素の値a(i,j)に対して、a(i,j)>tha
の場合を回路パターンの厚みが不足である欠陥、a
(i,j)<thbの場合を回路パターンの厚みが過剰
である欠陥、tha≧a(i,j)≧thbの場合を正
常であると判定する。欠陥であると判定した場合にはそ
の欠陥の位置や、欠陥の種類等、すなわち回路パターン
の厚み不足、過剰の区別、欠陥の大きさ等、を検査結果
出力部7に出力する。この出力結果を参照することによ
り、回路パターンの厚み方向の異常を検出することがで
きる。
分離された画像の領域17に対し、欠陥検査論理回路6
は、予め設定された2種類の基準値tha、thb(t
ha>thb)により欠陥検査を行う。領域17内の各
画素の値a(i,j)に対して、a(i,j)>tha
の場合を回路パターンの厚みが不足である欠陥、a
(i,j)<thbの場合を回路パターンの厚みが過剰
である欠陥、tha≧a(i,j)≧thbの場合を正
常であると判定する。欠陥であると判定した場合にはそ
の欠陥の位置や、欠陥の種類等、すなわち回路パターン
の厚み不足、過剰の区別、欠陥の大きさ等、を検査結果
出力部7に出力する。この出力結果を参照することによ
り、回路パターンの厚み方向の異常を検出することがで
きる。
【0015】次に、本発明の第2の実施例を説明する。
本実施例は、被検査回路パターンが両面にある場合の実
施例である。回路パターン抽出論理回路5が、画像の一
部分を切り出し、その画像の各画素の値を参照して条件
判断することによりパターン抽出を行うオペレータの機
能を有することは前記第1の実施例と同様であるが、本
実施例では、次のような手順で回路パターン抽出を行
う。例えばオペレータとしては、図3に示すように、1
9×19画素の大きさの画像20を切り出し、位置t
1、t2、c1、c2、s1、s2、s3、s4の8画
素の値を参照し、予め設定された2種類の基準値th
1、th2(th1>th2)により条件判定を行う。
条件判定の条件は、例えばt1について、t1>th1
ならばt1は回路パターンが存在しないとし、th1≧
t1≧th2ならばt1は片面のみに回路パターンが存
在するとし、th2>t1ならばt1は両面に回路パタ
ーンが存在するとする。位置t1、t2、c1、c2、
s1、s2、s3、s4の8画素の値について条件判定
しその結果の組み合わせから切り出した画像20の中心
画素a(i,j)が片面のみに回路パターンの存在すべ
き画素か、両面に回路パターンの存在すべき画素か、回
路パターンの存在しない画素かを判定する。組み合わせ
としては、例えば、t1、t2に片面のみに回路パター
ンが存在しc1、c2、s1、s2、s3、s4に回路
パターンが存在しないとき、またはc1、c2に片面の
みに回路パターンが存在しt1、t2、s1、s2、s
3、s4に回路パターンが存在しないとき、a(i,
j)は片面のみに回路パターンの存在すべき画素と判定
し、t1、t2、c1、c2、に片面のみに回路パター
ンが存在しs1、s2、s3、s4に回路パターンが存
在しないとき、a(i,j)は両面に回路パターンの存
在すべき画素と判定し、上記の3種類の組み合わせ以外
の場合、a(i,j)は回路パターンの存在しない画素
と判定する、と定める。そして、上記オペレータの位置
座標を1画素ずつインクリメントさせ、全面を判定す
る。以上の判定により、画像は図5に示すように、回路
パターンが片面のみに存在すべき部分に対応した領域1
9aと、回路パターンが両面に存在すべき部分に対応し
た領域19bと、回路パターンが存在しない部分に対応
した領域21とに分離される。
本実施例は、被検査回路パターンが両面にある場合の実
施例である。回路パターン抽出論理回路5が、画像の一
部分を切り出し、その画像の各画素の値を参照して条件
判断することによりパターン抽出を行うオペレータの機
能を有することは前記第1の実施例と同様であるが、本
実施例では、次のような手順で回路パターン抽出を行
う。例えばオペレータとしては、図3に示すように、1
9×19画素の大きさの画像20を切り出し、位置t
1、t2、c1、c2、s1、s2、s3、s4の8画
素の値を参照し、予め設定された2種類の基準値th
1、th2(th1>th2)により条件判定を行う。
条件判定の条件は、例えばt1について、t1>th1
ならばt1は回路パターンが存在しないとし、th1≧
t1≧th2ならばt1は片面のみに回路パターンが存
在するとし、th2>t1ならばt1は両面に回路パタ
ーンが存在するとする。位置t1、t2、c1、c2、
s1、s2、s3、s4の8画素の値について条件判定
しその結果の組み合わせから切り出した画像20の中心
画素a(i,j)が片面のみに回路パターンの存在すべ
き画素か、両面に回路パターンの存在すべき画素か、回
路パターンの存在しない画素かを判定する。組み合わせ
としては、例えば、t1、t2に片面のみに回路パター
ンが存在しc1、c2、s1、s2、s3、s4に回路
パターンが存在しないとき、またはc1、c2に片面の
みに回路パターンが存在しt1、t2、s1、s2、s
3、s4に回路パターンが存在しないとき、a(i,
j)は片面のみに回路パターンの存在すべき画素と判定
し、t1、t2、c1、c2、に片面のみに回路パター
ンが存在しs1、s2、s3、s4に回路パターンが存
在しないとき、a(i,j)は両面に回路パターンの存
在すべき画素と判定し、上記の3種類の組み合わせ以外
の場合、a(i,j)は回路パターンの存在しない画素
と判定する、と定める。そして、上記オペレータの位置
座標を1画素ずつインクリメントさせ、全面を判定す
る。以上の判定により、画像は図5に示すように、回路
パターンが片面のみに存在すべき部分に対応した領域1
9aと、回路パターンが両面に存在すべき部分に対応し
た領域19bと、回路パターンが存在しない部分に対応
した領域21とに分離される。
【0016】上記の回路パターン抽出論理回路5で分離
された画像の領域19a、領域19bに対し、欠陥検査
論理回路6は、設定された4種類の基準値tha、th
b、thc、thd(tha>thb>thc>th
d)により欠陥検査を行う。領域19a内の各画素の値
a(i,j)に対して、a(i,j)>thaの場合を
回路パターンの厚みが不足である欠陥、a(i,j)<
thbの場合を回路パターンの厚みが過剰である欠陥と
判定する。領域19b内の各画素の値a(i,j)に対
して、a(i,j)>thcの場合を回路パターンの厚
みが不足である欠陥、a(i,j)<thdの場合を回
路パターンの厚みが過剰である欠陥と判定する。欠陥が
あると判定した場合には、その欠陥の位置や、欠陥の種
類等、すなわち回路パターンの厚み不足、過剰の区別、
欠陥の大きさ等、を検査結果出力部7に出力する。この
出力結果を参照することにより、回路パターンの厚み方
向の異常を検出することができる。本実施例によりプリ
ント配線基板の両面の回路パターンの検査が可能とな
る。
された画像の領域19a、領域19bに対し、欠陥検査
論理回路6は、設定された4種類の基準値tha、th
b、thc、thd(tha>thb>thc>th
d)により欠陥検査を行う。領域19a内の各画素の値
a(i,j)に対して、a(i,j)>thaの場合を
回路パターンの厚みが不足である欠陥、a(i,j)<
thbの場合を回路パターンの厚みが過剰である欠陥と
判定する。領域19b内の各画素の値a(i,j)に対
して、a(i,j)>thcの場合を回路パターンの厚
みが不足である欠陥、a(i,j)<thdの場合を回
路パターンの厚みが過剰である欠陥と判定する。欠陥が
あると判定した場合には、その欠陥の位置や、欠陥の種
類等、すなわち回路パターンの厚み不足、過剰の区別、
欠陥の大きさ等、を検査結果出力部7に出力する。この
出力結果を参照することにより、回路パターンの厚み方
向の異常を検出することができる。本実施例によりプリ
ント配線基板の両面の回路パターンの検査が可能とな
る。
【0017】次に、本発明の第3の実施例を説明する。
【0018】図6に示すように、プリント配線基板22
に回路パターンの厚みが不足である欠陥23、回路パタ
ーンの底部の欠けで厚みが不足である欠陥24があると
する。ここで25は基材の表側の回路パターン、26は
基材の裏側の回路パターン、27は基材部である。この
プリント配線基板22を撮像すると、撮像管4で得られ
た画像は、図7に示す画像となる。図において、領域2
8は欠陥23の像の領域、領域29は欠陥24の像の領
域、領域30は片面のみに回路パターンが存在する部分
の像の領域、領域31は両面に回路パターンが存在する
部分の像の領域、領域32は基材部のみの部分の像の領
域であり、画像の信号強度は領域32>領域28≒領域
29>領域30>領域31である。
に回路パターンの厚みが不足である欠陥23、回路パタ
ーンの底部の欠けで厚みが不足である欠陥24があると
する。ここで25は基材の表側の回路パターン、26は
基材の裏側の回路パターン、27は基材部である。この
プリント配線基板22を撮像すると、撮像管4で得られ
た画像は、図7に示す画像となる。図において、領域2
8は欠陥23の像の領域、領域29は欠陥24の像の領
域、領域30は片面のみに回路パターンが存在する部分
の像の領域、領域31は両面に回路パターンが存在する
部分の像の領域、領域32は基材部のみの部分の像の領
域であり、画像の信号強度は領域32>領域28≒領域
29>領域30>領域31である。
【0019】このような画像に対し、本実施例において
は、回路パターン抽出論理回路5及び欠陥検査論理回路
6からなる処理回路は、予め設定された基準値th1、
th2(th1>th2)により3値化処理を行う。3
値化は、例えば任意画素a(i,j)の値がa(i,
j)>th1ならば、回路パターンが存在しないと判定
し、th1≧a(i,j)≧th2ならば、回路パター
ンのエッジ部分または回路パターンの厚みが不足である
欠陥部分と判定し、th2>a(i,j)ならば、回路
パターンが存在すると判定する。以上の3値化処理によ
り、画像は、図8に示すように、回路パターンのエッジ
部分の領域35、回路パターンの厚みが不足である欠陥
部分のエッジの領域36及び回路パターンの底部の欠け
で厚みが不足である欠陥部分のエッジの領域37を含む
領域33と、回路パターンが存在しない部分及び回路パ
ターンが存在する部分を含む領域34とに分離される。
以上の3値化処理により分離された領域33は、細長い
形状をした回路パターンのエッジ部分と広さをもった形
状の回路パターンの厚みが不足である欠陥部分とで形成
される。
は、回路パターン抽出論理回路5及び欠陥検査論理回路
6からなる処理回路は、予め設定された基準値th1、
th2(th1>th2)により3値化処理を行う。3
値化は、例えば任意画素a(i,j)の値がa(i,
j)>th1ならば、回路パターンが存在しないと判定
し、th1≧a(i,j)≧th2ならば、回路パター
ンのエッジ部分または回路パターンの厚みが不足である
欠陥部分と判定し、th2>a(i,j)ならば、回路
パターンが存在すると判定する。以上の3値化処理によ
り、画像は、図8に示すように、回路パターンのエッジ
部分の領域35、回路パターンの厚みが不足である欠陥
部分のエッジの領域36及び回路パターンの底部の欠け
で厚みが不足である欠陥部分のエッジの領域37を含む
領域33と、回路パターンが存在しない部分及び回路パ
ターンが存在する部分を含む領域34とに分離される。
以上の3値化処理により分離された領域33は、細長い
形状をした回路パターンのエッジ部分と広さをもった形
状の回路パターンの厚みが不足である欠陥部分とで形成
される。
【0020】上記の領域33に対し、画像処理手段によ
り形状を比較判定し、該欠陥部分の領域を分離する。上
記の画像処理手段としては、画像より7×7画素の大き
さの画像を切り出し、その画像の内で領域33に含まれ
る画素数を数え、該画素数が予め設定された基準値th
eよりも大ならば欠陥と判定し、該画素数が予め設定さ
れた基準値theに等しいかより小ならば正常と判定す
る。そして、切り出す画像をインクリメントさせ、全画
像を走査するとする。すると、回路パターンの厚みが不
足である欠陥部分のエッジの領域36及び回路パターン
の底部の欠けで厚みが不足である欠陥部分のエッジの領
域37は欠陥と判定され、回路パターンのエッジ部分の
領域35は正常と判定される。欠陥が存在すると判定さ
れた場合は、その欠陥の位置等を検査結果出力部7に出
力する。この出力結果を参照することにより、回路パタ
ーンの厚み方向の異常を検出することができる。
り形状を比較判定し、該欠陥部分の領域を分離する。上
記の画像処理手段としては、画像より7×7画素の大き
さの画像を切り出し、その画像の内で領域33に含まれ
る画素数を数え、該画素数が予め設定された基準値th
eよりも大ならば欠陥と判定し、該画素数が予め設定さ
れた基準値theに等しいかより小ならば正常と判定す
る。そして、切り出す画像をインクリメントさせ、全画
像を走査するとする。すると、回路パターンの厚みが不
足である欠陥部分のエッジの領域36及び回路パターン
の底部の欠けで厚みが不足である欠陥部分のエッジの領
域37は欠陥と判定され、回路パターンのエッジ部分の
領域35は正常と判定される。欠陥が存在すると判定さ
れた場合は、その欠陥の位置等を検査結果出力部7に出
力する。この出力結果を参照することにより、回路パタ
ーンの厚み方向の異常を検出することができる。
【0021】次に、本発明の第4の実施例を説明する。
【0022】前述の第3の実施例と同様にして得られた
図7に示す画像に対し、本実施例においては、回路パタ
ーン抽出論理回路5及び欠陥検査論理回路6からなる処
理回路は、微分処理手段によりエッジ検出を行う。その
結果、例えば図9に示すような画像が得られる。図9
に、正常な回路パターンのエッジ部分の画素の信号強度
と異なる、欠陥23のエッジ部分の領域39、欠陥24
のエッジ部分の領域40を示す。領域41は正常な回路
パターンのエッジ部分の領域であり、領域39及び領域
40の信号強度は領域41の信号強度と異なる。その理
由は、回路パターンの厚みが不足である欠陥部分の微分
値は正常な回路パターンの微分値よりも小さくなり、回
路パターンの厚みが過剰である欠陥部分の微分値は正常
な回路パターンの微分値よりも大きくなるからである。
従って、画像処理手段を用いて前記の領域39、40の
領域の形状及び信号強度の変化を検出することにより、
欠陥を検出することができる。上記の画像処理手段とし
ては、例えば画像より7×7画素の大きさの画像を切り
出し、その画像のなかで予め設定された基準値thfよ
りも大きい信号強度を持つ画素数を数え、該画素数が予
め設定された基準値theよりも大ならば欠陥と判定
し、該画素数が予め設定された基準値theに等しいか
より小ならば正常と判定し、切り出す画像をインクリメ
ントさせ、全画像を走査する。これによって、回路パタ
ーンの厚みが不足である欠陥23のエッジ部分の領域3
9及び回路パターンの底部の欠けで厚みが不足である欠
陥24のエッジ部分の領域40は欠陥と判定され、正常
な回路パターンのエッジ部分の領域41は正常と判定さ
れる。欠陥が存在すると判定された場合は、その欠陥の
位置等を検査結果出力部7に出力する。この出力結果を
参照することにより回路パターンの厚み方向の異常を検
出することができる。
図7に示す画像に対し、本実施例においては、回路パタ
ーン抽出論理回路5及び欠陥検査論理回路6からなる処
理回路は、微分処理手段によりエッジ検出を行う。その
結果、例えば図9に示すような画像が得られる。図9
に、正常な回路パターンのエッジ部分の画素の信号強度
と異なる、欠陥23のエッジ部分の領域39、欠陥24
のエッジ部分の領域40を示す。領域41は正常な回路
パターンのエッジ部分の領域であり、領域39及び領域
40の信号強度は領域41の信号強度と異なる。その理
由は、回路パターンの厚みが不足である欠陥部分の微分
値は正常な回路パターンの微分値よりも小さくなり、回
路パターンの厚みが過剰である欠陥部分の微分値は正常
な回路パターンの微分値よりも大きくなるからである。
従って、画像処理手段を用いて前記の領域39、40の
領域の形状及び信号強度の変化を検出することにより、
欠陥を検出することができる。上記の画像処理手段とし
ては、例えば画像より7×7画素の大きさの画像を切り
出し、その画像のなかで予め設定された基準値thfよ
りも大きい信号強度を持つ画素数を数え、該画素数が予
め設定された基準値theよりも大ならば欠陥と判定
し、該画素数が予め設定された基準値theに等しいか
より小ならば正常と判定し、切り出す画像をインクリメ
ントさせ、全画像を走査する。これによって、回路パタ
ーンの厚みが不足である欠陥23のエッジ部分の領域3
9及び回路パターンの底部の欠けで厚みが不足である欠
陥24のエッジ部分の領域40は欠陥と判定され、正常
な回路パターンのエッジ部分の領域41は正常と判定さ
れる。欠陥が存在すると判定された場合は、その欠陥の
位置等を検査結果出力部7に出力する。この出力結果を
参照することにより回路パターンの厚み方向の異常を検
出することができる。
【0023】前述の各実施例においては、回路パターン
抽出論理回路5は、撮像管4で得られた画像に対し、画
像処理手段によって回路パターンが存在する領域である
ことを判定して抽出しているが、回路パターンの存在し
ない領域であることを判定し前記画像より回路パターン
の存在しない領域を除いた領域を抽出してもよい。
抽出論理回路5は、撮像管4で得られた画像に対し、画
像処理手段によって回路パターンが存在する領域である
ことを判定して抽出しているが、回路パターンの存在し
ない領域であることを判定し前記画像より回路パターン
の存在しない領域を除いた領域を抽出してもよい。
【0024】また、前述の各実施例においては、回路パ
ターン抽出論理回路5及び欠陥検査論理回路6は電気回
路として示されているが、それぞれコンピュータのソフ
トウェアで処理することができる。
ターン抽出論理回路5及び欠陥検査論理回路6は電気回
路として示されているが、それぞれコンピュータのソフ
トウェアで処理することができる。
【0025】次に、本発明の第5の実施例を説明する。
本実施例は、図1において、X線を照射するX線源1を
超音波発振源に、I.I.3及び撮像管4を超音波検出
器に代えた回路パターンの欠陥検査装置を用いて回路パ
ターンの欠陥検査を行う実施例であり、図10は、該装
置の構成を示すブロック図である。なお、本実施例にお
いても、前記実施例の場合と同様、プリント配線基板の
回路パターンを検査する場合について説明するが、本発
明がこれに限定されるものではないことは言うまでもな
い。
本実施例は、図1において、X線を照射するX線源1を
超音波発振源に、I.I.3及び撮像管4を超音波検出
器に代えた回路パターンの欠陥検査装置を用いて回路パ
ターンの欠陥検査を行う実施例であり、図10は、該装
置の構成を示すブロック図である。なお、本実施例にお
いても、前記実施例の場合と同様、プリント配線基板の
回路パターンを検査する場合について説明するが、本発
明がこれに限定されるものではないことは言うまでもな
い。
【0026】図10において、43は超音波を発振する
超音波発振源、2は被検査体であるプリント配線基板、
44はこのプリント配線基板2を介して上記超音波発振
源43に対峙されプリント配線基板2の超音波透過像を
検出する超音波検出器、5は得られた画像より回路パタ
ーンの領域を抽出する回路パターン抽出論理回路、6は
回路パターン抽出論理回路5により抽出した回路パター
ンの領域に対して欠陥検査を行う欠陥検査論理回路、7
は欠陥検査論理回路6により検査した結果を出力する検
査結果出力部である。
超音波発振源、2は被検査体であるプリント配線基板、
44はこのプリント配線基板2を介して上記超音波発振
源43に対峙されプリント配線基板2の超音波透過像を
検出する超音波検出器、5は得られた画像より回路パタ
ーンの領域を抽出する回路パターン抽出論理回路、6は
回路パターン抽出論理回路5により抽出した回路パター
ンの領域に対して欠陥検査を行う欠陥検査論理回路、7
は欠陥検査論理回路6により検査した結果を出力する検
査結果出力部である。
【0027】上記検査装置を用いて、プリント配線基板
2の回路パターンを検査するには、まず超音波発振源4
3から出る超音波をプリント配線基板2に照射し、その
透過超音波を超音波検出器44に照射する。すると例え
ば図2に示すような画像が得られる。この画像はプリン
ト配線基板2の超音波透過率に対応した明暗のレベルを
もつ。金属である回路パターンは透過率が低く、基材は
透過率が高い。そこで上記画像は、回路パターンが片面
にある部分に対応した暗部A14と回路パターンが両面
にある部分に対応した暗部B15と回路パターンが存在
しない部分に対応した明部16とで形成される。得られ
た画像に対し、前記の実施例に示したものと同様の機能
を持つ回路パターン抽出論理回路5及び欠陥検査論理回
路6及び検査結果出力部7を用い、同様な手順を行うこ
とにより、回路パターンの厚み方向の異常を検出するこ
とができる。
2の回路パターンを検査するには、まず超音波発振源4
3から出る超音波をプリント配線基板2に照射し、その
透過超音波を超音波検出器44に照射する。すると例え
ば図2に示すような画像が得られる。この画像はプリン
ト配線基板2の超音波透過率に対応した明暗のレベルを
もつ。金属である回路パターンは透過率が低く、基材は
透過率が高い。そこで上記画像は、回路パターンが片面
にある部分に対応した暗部A14と回路パターンが両面
にある部分に対応した暗部B15と回路パターンが存在
しない部分に対応した明部16とで形成される。得られ
た画像に対し、前記の実施例に示したものと同様の機能
を持つ回路パターン抽出論理回路5及び欠陥検査論理回
路6及び検査結果出力部7を用い、同様な手順を行うこ
とにより、回路パターンの厚み方向の異常を検出するこ
とができる。
【0028】以上の実施例で詳説したように、本発明に
おいては、回路パターンの欠陥検査に際し、まず回路パ
ターンの存在すべき領域を抽出し、この領域について欠
陥検査を行うので、例えば断線に近いような欠陥でも、
回路パターンの存在しない領域と区別して検出でき、精
度の高い検査ができる。その結果、回路パターンの品質
を高めるとともに、これを組み込んだ製品の信頼性を向
上させることができる。
おいては、回路パターンの欠陥検査に際し、まず回路パ
ターンの存在すべき領域を抽出し、この領域について欠
陥検査を行うので、例えば断線に近いような欠陥でも、
回路パターンの存在しない領域と区別して検出でき、精
度の高い検査ができる。その結果、回路パターンの品質
を高めるとともに、これを組み込んだ製品の信頼性を向
上させることができる。
【0029】
【発明の効果】本発明によれば、被検査回路パターンの
表面形状の異常を検出するだけではなく、回路パターン
の厚み方向の異常も精度良く検出できるので、回路パタ
ーンの品質を高め、これを組み込んだ製品の信頼性を向
上することができる。
表面形状の異常を検出するだけではなく、回路パターン
の厚み方向の異常も精度良く検出できるので、回路パタ
ーンの品質を高め、これを組み込んだ製品の信頼性を向
上することができる。
【図1】本発明による回路パターンの欠陥検査装置の構
成の一例を示すブロック図である。
成の一例を示すブロック図である。
【図2】本発明の実施例に係る、プリント配線基板をX
線で透過し光電変換した光学像の一例を示す図である。
線で透過し光電変換した光学像の一例を示す図である。
【図3】本発明の実施例に係る、回路パターン抽出を行
う論理回路の機能としてのオペレータの、切り出した画
像の一例を示す図である。
う論理回路の機能としてのオペレータの、切り出した画
像の一例を示す図である。
【図4】本発明の一実施例に係る、検査領域の抽出結果
の一例を示す図である。
の一例を示す図である。
【図5】本発明の一実施例に係る、検査領域の抽出結果
の他の例を示す図である。
の他の例を示す図である。
【図6】本発明の一実施例に係る、プリント配線基板の
一例を示す斜視図である。
一例を示す斜視図である。
【図7】図6のプリント配線基板の画像の一例を示す図
である。
である。
【図8】本発明の一実施例に係る、検査領域の抽出結果
である3値化処理結果の一例を示す図である。
である3値化処理結果の一例を示す図である。
【図9】本発明の一実施例に係る、検査領域の抽出結果
であるエッジ検出結果の一例を示す図である。
であるエッジ検出結果の一例を示す図である。
【図10】本発明による回路パターンの欠陥検査装置の
構成の他の例を示すブロック図である。
構成の他の例を示すブロック図である。
【図11】従来技術による回路パターンの欠陥検査装置
の構成の一例を示す説明図である。
の構成の一例を示す説明図である。
【図12】回路パターンに生じた回路パターンの底部の
欠けの一例を示す図である。
欠けの一例を示す図である。
1…X線源 2…プリント配線基板 3…X線蛍光像倍管(I.I.) 4…撮像管 5…回路パターン抽出
論理回路 6…欠陥検査論理回路 7…検査結果出力部 8…線状照明 9…ラインセンサ 10…基材部 11…回路パターン 12a…照明光学系 12b…検出光学系 13a…欠陥 13b…欠陥 14…暗部A 15…暗部B 16…明部 17…回路パターンが存在すべき部分に対応した領域 18…回路パターンが存在しない部分に対応した領域 19a…回路パターンが片面のみに存在すべき部分に対
応した領域 19b…回路パターンが両面に存在すべき部分に対応し
た領域 20…19×19画素の大きさの切り出した画像 21…回路パターンが存在しない部分に対応した領域 22…プリント配線基板 23…回路パターンの厚みが不足である欠陥 24…回路パターンの底部の欠けで厚みが不足である欠
陥 25…基材の表側の回路パターン 26…基材の裏側の回路パターン 27…基材部 28…欠陥23の像の
領域 29…欠陥24の像の領域 30…片面のみに回路パターンが存在する部分の像の領
域 31…両面に回路パターンが存在する部分の像の領域 32…基材部のみの部分の像の領域 33…回路パターンのエッジ部分の領域35及び回路パ
ターンの厚みが不足である欠陥部分のエッジの領域36
及び回路パターンの底部の欠けで厚みが不足である欠陥
部分のエッジの領域37を含む領域 34…回路パターンが存在しない部分及び回路パターン
が存在する部分を含む領域 35…回路パターンのエッジ部分の領域 36…回路パターンの厚みが不足である欠陥部分のエッ
ジの領域 37…回路パターンの底部の欠けで厚みが不足である欠
陥部分のエッジの領域 39…欠陥23のエッジ部分の領域 40…欠陥24のエッジ部分の領域 41…正常の回路パターンのエッジ部分の領域 42…基材部のみの部分の領域 43…超音波発振源 44…超音波検出器
論理回路 6…欠陥検査論理回路 7…検査結果出力部 8…線状照明 9…ラインセンサ 10…基材部 11…回路パターン 12a…照明光学系 12b…検出光学系 13a…欠陥 13b…欠陥 14…暗部A 15…暗部B 16…明部 17…回路パターンが存在すべき部分に対応した領域 18…回路パターンが存在しない部分に対応した領域 19a…回路パターンが片面のみに存在すべき部分に対
応した領域 19b…回路パターンが両面に存在すべき部分に対応し
た領域 20…19×19画素の大きさの切り出した画像 21…回路パターンが存在しない部分に対応した領域 22…プリント配線基板 23…回路パターンの厚みが不足である欠陥 24…回路パターンの底部の欠けで厚みが不足である欠
陥 25…基材の表側の回路パターン 26…基材の裏側の回路パターン 27…基材部 28…欠陥23の像の
領域 29…欠陥24の像の領域 30…片面のみに回路パターンが存在する部分の像の領
域 31…両面に回路パターンが存在する部分の像の領域 32…基材部のみの部分の像の領域 33…回路パターンのエッジ部分の領域35及び回路パ
ターンの厚みが不足である欠陥部分のエッジの領域36
及び回路パターンの底部の欠けで厚みが不足である欠陥
部分のエッジの領域37を含む領域 34…回路パターンが存在しない部分及び回路パターン
が存在する部分を含む領域 35…回路パターンのエッジ部分の領域 36…回路パターンの厚みが不足である欠陥部分のエッ
ジの領域 37…回路パターンの底部の欠けで厚みが不足である欠
陥部分のエッジの領域 39…欠陥23のエッジ部分の領域 40…欠陥24のエッジ部分の領域 41…正常の回路パターンのエッジ部分の領域 42…基材部のみの部分の領域 43…超音波発振源 44…超音波検出器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柄崎 晃一 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立製作所神奈川工場内 (72)発明者 飯田 正 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立製作所神奈川工場内
Claims (16)
- 【請求項1】撮像手段によって回路パターンを撮像し、
得られた画像の信号強度に基づいて回路パターンの欠陥
を検査する方法において、得られた画像より画像処理手
段によって回路パターンが本来形成されている部分を検
査対象領域として抽出し、該検査対象領域の信号強度
を、予め設定された欠陥検査基準値と比較して条件判定
することにより、該回路パターンの欠陥を検出すること
を特徴とする回路パターンの欠陥検査方法。 - 【請求項2】請求項1に記載の回路パターンの欠陥検査
方法において、検査対象領域の信号強度を欠陥検査基準
値と比較して条件判定する方法として、該欠陥検査基準
値を少なくとも2種類設け、該欠陥検査基準値のうち1
種類の第1の欠陥検査基準値と該検査対象領域の信号強
度とを比較して、検査対象領域の信号強度が第1の欠陥
検査基準値より大なることを条件1とし、該欠陥検査基
準値のうち条件1で参照した第1の欠陥検査基準値より
小なる第2の欠陥検査基準値と該検査対象領域の信号強
度とを比較して、検査対象領域の信号強度が第2の欠陥
検査基準値より小なることを条件2とし、条件1及び条
件2で参照する2種類の欠陥検査基準値と該検査対象領
域の信号強度とを比較して、検査対象領域の信号強度が
第1の欠陥検査基準値と第2の欠陥検査基準値の間にあ
ることを条件3とし、条件1を満たす領域を回路パター
ンの厚みが不足である欠陥とし、条件2を満たす領域を
回路パターンの厚みが過剰である欠陥とし、条件3を満
たす領域を正常とすることを特徴とする回路パターンの
欠陥検査方法。 - 【請求項3】請求項1または2に記載の回路パターンの
欠陥検査方法において、画像処理手段は、回路パターン
の存在を検知する第1の手段と回路パターンが存在しな
いことを検知する第2の手段とから構成され、前記画像
内の任意領域の近傍の2次元領域内に配置された複数の
前記第1の手段と複数の前記第2の手段の検知結果の組
み合わせから、該任意領域が本来回路パターンが存在す
べき領域であることを判定して検査対象領域を決定する
ことを特徴とする回路パターンの欠陥検査方法。 - 【請求項4】請求項1または2に記載の回路パターンの
欠陥検査方法において、画像処理手段は、回路パターン
の存在を検知する第1の手段と回路パターンが存在しな
いことを検知する第2の手段とから構成され、前記画像
内の任意領域の近傍の2次元領域内に配置された複数の
前記第1の手段と複数の前記第2の手段の検知結果の組
み合わせから、該任意領域が本来回路パターンが存在し
ない領域であることを判定して、それ以外の領域を検査
対象領域とすることを特徴とする回路パターンの欠陥検
査方法。 - 【請求項5】請求項3または4に記載の回路パターンの
欠陥検査方法において、回路パターンの存在を検知する
第1の手段は、予め定められた少なくとも1種類の判定
基準値と該第1の手段が配置された領域の信号強度を比
較することにより検知結果を出力するものであることを
特徴とする回路パターンの欠陥検査方法。 - 【請求項6】請求項3または4に記載の回路パターンの
欠陥検査方法において、回路パターンの存在を検知する
第1の手段として、請求項5に記載の判定基準値を少な
くとも2種類設け、該判定基準値のうち1種類の第1の
判定基準値と該第1の手段が配置された領域の信号強度
とを比較して、領域の信号強度が第1の判定基準値より
大なることを条件1とし、該判定基準値のうち条件1で
参照した第1の判定基準値より小なる第2の判定基準値
と前記第1の手段が配置された領域の信号強度とを比較
して、領域の信号強度が第2の判定基準値より小なるこ
とを条件2とし、前記の条件1及び条件2で参照した2
種類の判定基準値と前記第1の手段が配置された領域の
信号強度とを比較して、領域の信号強度が第1の判定基
準値と第2の判定基準値の間にあることを条件3とし、
条件1を満たす領域を検査対象領域ではないと判定し、
条件2を満たす領域を両面に回路パターンが存在すると
判定し、条件3を満たす領域を片面のみに回路パターン
が存在すると判定することを特徴とする回路パターンの
欠陥検査方法。 - 【請求項7】請求項1または2に記載の回路パターンの
欠陥検査方法において、画像処理手段は、請求項6記載
の回路パターンの存在を検知する第1の手段と回路パタ
ーンが存在しないことを検知する第2の手段とから構成
され、前記画像内の任意領域の近傍の2次元領域内に配
置された複数の前記第1の手段と複数の前記第2の手段
の検知結果の組み合わせから、該任意領域が本来回路パ
ターンが片面のみに存在すべき検査対象領域であるか、
本来回路パターンが両面に存在すべき検査対象領域であ
るか、検査対象領域ではないか、を判定して、検査対象
領域を回路パターンが片面のみに存在すべき検査対象領
域と、回路パターンが両面に存在すべき検査対象領域と
を分離して検査対象領域を決定することを特徴とする回
路パターンの欠陥検査方法。 - 【請求項8】請求項1に記載の回路パターンの欠陥検査
方法において、検査対象領域の信号強度を欠陥検査基準
値と比較して条件判定する方法として、該欠陥検査基準
値を4種類設け、請求項7記載の画像処理手段によって
該検査対象領域が片面のみに回路パターンが存在すべき
検査対象領域と判定された場合には、該欠陥検査基準値
のうち1種類の第1の欠陥検査基準値と該検査対象領域
の信号強度とを比較して、検査対象領域の信号強度が第
1の欠陥検査基準値より大なることを条件1とし、該欠
陥検査基準値のうち条件1で参照した第1の欠陥検査基
準値より小なる第2の欠陥検査基準値と該検査対象領域
の信号強度とを比較して、検査対象領域の信号強度が第
2の欠陥検査基準値より小なることを条件2とし、条件
1及び条件2で参照する2種類の欠陥検査基準値と該検
査対象領域の信号強度とを比較して、検査対象領域の信
号強度が第1の欠陥検査基準値と第2の欠陥検査基準値
の間にあることを条件3とし、条件1を満たす該検査対
象領域を回路パターンの厚みが不足である欠陥とし、条
件2を満たす該検査対象領域を回路パターンの厚みが過
剰である欠陥とし、条件3を満たす該検査対象領域を正
常とし、請求項7記載の画像処理手段によって該検査対
象領域が両面に回路パターンが存在すべき検査対象領域
と判定された場合には、該欠陥検査基準値のうち条件1
で参照した第1の欠陥検査基準値より小さく、かつ条件
2で参照した第2の欠陥検査基準値とは異なる第3の欠
陥検査基準値と該検査対象領域の信号強度とを比較し
て、検査対象領域の信号強度が第3の欠陥検査基準値よ
り大なることを条件4とし、該欠陥検査基準値のうち条
件4で参照した第3の欠陥検査基準値より小なる第4の
欠陥検査基準値と該検査対象領域の信号強度とを比較し
て、検査対象領域の信号強度が第4の欠陥検査基準値よ
り小なることを条件5とし、条件4及び条件5で参照す
る2種類の欠陥検査基準値と該検査対象領域の信号強度
とを比較して、検査対象領域の信号強度が第3の欠陥検
査基準値と第4の欠陥検査基準値の間にあることを条件
6とし、条件4を満たす該検査対象領域を回路パターン
の厚みが不足である欠陥とし、条件5を満たす該検査対
象領域を回路パターンの厚みが過剰である欠陥とし、条
件6を満たす該検査対象領域を正常とすることを特徴と
する回路パターンの欠陥検査方法。 - 【請求項9】請求項1ないし8のいずれか1項に記載の
回路パターンの欠陥検査方法において、回路パターンを
撮像する方法として、X線源を使用し、X線で該回路パ
ターンを透過した信号を電気信号に変換して回路パター
ンを撮像することを特徴とする回路パターンの欠陥検査
方法。 - 【請求項10】請求項1ないし8のいずれか1項に記載
の回路パターンの欠陥検査方法において、回路パターン
を撮像する方法として、超音波発振源を使用し、超音波
で該回路パターンを撮像することを特徴とする回路パタ
ーンの欠陥検査方法。 - 【請求項11】走査して任意に位置決めする機構によっ
て被検査回路パターンを保持する手段と、該回路パター
ンの画像を得る手段と、請求項1ないし8のいずれか1
項に記載の方法によって前記回路パターンの欠陥を検査
する手段と、前記の各手段を制御する機構とを有するこ
とを特徴とする回路パターンの欠陥検査装置。 - 【請求項12】請求項11に記載の回路パターンの欠陥
検査装置において、回路パターンの画像を得る手段が、
X線源から出るX線を回路パターンに照射し、該X線の
変化量を画像として得るものであることを特徴とする回
路パターンの欠陥検査装置。 - 【請求項13】請求項11に記載の回路パターンの欠陥
検査装置において、回路パターンの画像を得る手段が、
超音波発振源から出る超音波を回路パターンに照射し、
該超音波の変化量を画像として得るものであることを特
徴とする回路パターンの欠陥検査装置。 - 【請求項14】請求項11ないし13のいずれか1項に
記載の回路パターンの欠陥検査装置において、検出した
欠陥を、欠陥の種類別に出力することを特徴とする回路
パターンの欠陥検査装置。 - 【請求項15】請求項11ないし14のいずれか1項に
記載の回路パターンの欠陥検査装置を製造工程に用いて
製作された回路パターン。 - 【請求項16】請求項15に記載の回路パターンを組み
込んだ製品。
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---|---|---|---|
JP04018816A JP3089079B2 (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 回路パターンの欠陥検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP04018816A JP3089079B2 (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 回路パターンの欠陥検査方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05215694A true JPH05215694A (ja) | 1993-08-24 |
JP3089079B2 JP3089079B2 (ja) | 2000-09-18 |
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ID=11982101
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP04018816A Expired - Fee Related JP3089079B2 (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 回路パターンの欠陥検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3089079B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5930382A (en) * | 1995-05-15 | 1999-07-27 | Hitachi, Ltd. | Wiring pattern inspecting method and system for carrying out the same |
US6072899A (en) * | 1997-01-23 | 2000-06-06 | Hitachi, Ltd. | Method and device of inspecting three-dimensional shape defect |
JP2004340973A (ja) * | 2003-05-15 | 2004-12-02 | Samsung Electronics Co Ltd | 接合工程のリアルタイムモニタリングシステム及びその方法 |
JP2005283583A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Ajuhitek Inc | フィルム、テープ形態の印刷回路基板外観検査における過検出防止用システム及びその処理方法 |
JP2006266941A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Sekisui Chem Co Ltd | 導電性粒子の表面検査方法及び表面検査装置 |
JP2008051583A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd | 検査装置 |
JP2010164333A (ja) * | 2009-01-13 | 2010-07-29 | Toshiba Corp | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
-
1992
- 1992-02-04 JP JP04018816A patent/JP3089079B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3089079B2 (ja) | 2000-09-18 |
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