JPH0519497A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPH0519497A JPH0519497A JP19576391A JP19576391A JPH0519497A JP H0519497 A JPH0519497 A JP H0519497A JP 19576391 A JP19576391 A JP 19576391A JP 19576391 A JP19576391 A JP 19576391A JP H0519497 A JPH0519497 A JP H0519497A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- polysilane
- formula
- general formula
- substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 キャリア輸送能に優れ、高感度でありかつ繰
り返しの電位安定性に優れた電子写真感光体を提供す
る。 【構成】 導電性支持体上に少なくともポリシラン及び
紫外線吸収剤を含有する電荷輸送層を有する電子写真感
光体において、該ポリシランが下記一般式(I)及び/
又は一般式(II)で表わされる繰り返し単位を有する単
独重合体もしくは共重合体であり、かつ紫外線吸収剤が
下記一般式(III),(IV)又は(V)で表わされる化
合物である電子写真感光体に関する。 (R1,R2,R3及びR4は水素原子、ハロゲン原子、エ
ーテル基、(置換)アルキル基等。) (R5,R6,R7,R8及びR9はそれぞれ水素原子、ア
ルキル基、アリール基等、A1は酸素原子又はイオウ原
子、R10及びR11はそれぞれアルキル基、アリール基
等、R12は(置換)アリール基、A2は―CH2―又は
―CH=CR13―、R13は水素原子又はハロゲン原子を
表わす。)
り返しの電位安定性に優れた電子写真感光体を提供す
る。 【構成】 導電性支持体上に少なくともポリシラン及び
紫外線吸収剤を含有する電荷輸送層を有する電子写真感
光体において、該ポリシランが下記一般式(I)及び/
又は一般式(II)で表わされる繰り返し単位を有する単
独重合体もしくは共重合体であり、かつ紫外線吸収剤が
下記一般式(III),(IV)又は(V)で表わされる化
合物である電子写真感光体に関する。 (R1,R2,R3及びR4は水素原子、ハロゲン原子、エ
ーテル基、(置換)アルキル基等。) (R5,R6,R7,R8及びR9はそれぞれ水素原子、ア
ルキル基、アリール基等、A1は酸素原子又はイオウ原
子、R10及びR11はそれぞれアルキル基、アリール基
等、R12は(置換)アリール基、A2は―CH2―又は
―CH=CR13―、R13は水素原子又はハロゲン原子を
表わす。)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
さらに詳しくはキャリア輸送能に優れ、高感度で高耐久
性の電子写真感光体に関する。
さらに詳しくはキャリア輸送能に優れ、高感度で高耐久
性の電子写真感光体に関する。
【0002】
【従来技術】従来、電子写真感光体としては、セレン、
酸化亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を主成
分とする感光層を設けた無機感光体が広く使用されてき
た。しかしながら、このような無機感光体は複写機等の
電子写真感光体として要求される光感度、熱安定性、耐
湿性、耐久性等の特性において必ずしも満足できるもの
ではなかった。
酸化亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を主成
分とする感光層を設けた無機感光体が広く使用されてき
た。しかしながら、このような無機感光体は複写機等の
電子写真感光体として要求される光感度、熱安定性、耐
湿性、耐久性等の特性において必ずしも満足できるもの
ではなかった。
【0003】このような無機光導電性物質の欠点を改善
するために、種々の有機の光導電性物質を電子写真感光
体の感光層に使用することが試みられ、近年活発に研究
が行われている。例えば特公昭50-10496号公報には、ポ
リビニルカルバゾールとトリニトロフルオレノンを含有
した感光層を有する有機感光体が記載されている。しか
し、この感光体は感度及び耐久性において十分なもので
はなかった。そのため、電荷発生機能と電荷輸送機能を
異なる物質に個別に分担させた機能分離型の電子写真感
光体が開発された。このような機能分離型の電子写真感
光体は電荷発生機能と電荷輸送機能を有する物質を広範
囲から選択することができるので、任意の特性を得やす
く、感度が高く、耐久性の優れた有機感光体を得ること
ができる。
するために、種々の有機の光導電性物質を電子写真感光
体の感光層に使用することが試みられ、近年活発に研究
が行われている。例えば特公昭50-10496号公報には、ポ
リビニルカルバゾールとトリニトロフルオレノンを含有
した感光層を有する有機感光体が記載されている。しか
し、この感光体は感度及び耐久性において十分なもので
はなかった。そのため、電荷発生機能と電荷輸送機能を
異なる物質に個別に分担させた機能分離型の電子写真感
光体が開発された。このような機能分離型の電子写真感
光体は電荷発生機能と電荷輸送機能を有する物質を広範
囲から選択することができるので、任意の特性を得やす
く、感度が高く、耐久性の優れた有機感光体を得ること
ができる。
【0004】前記電荷発生機能を分担する電荷発生物質
としては、各種のアゾ化合物、縮合多環化合物及びフタ
ロシアニン系化合物が、また電荷輸送機能を分担する電
荷輸送物質としては、例えば特開昭51-94829号、同52-7
2231号、同53-27033号、同55-52063号、同58-65440号、
同58-198425号等の各公報に提案されているものが用い
られた。
としては、各種のアゾ化合物、縮合多環化合物及びフタ
ロシアニン系化合物が、また電荷輸送機能を分担する電
荷輸送物質としては、例えば特開昭51-94829号、同52-7
2231号、同53-27033号、同55-52063号、同58-65440号、
同58-198425号等の各公報に提案されているものが用い
られた。
【0005】しかし、上記の電荷輸送物質を用いて構成
された機能分離型の感光体は、電荷輸送能が十分ではな
く、特に環境温度が低い状態で高速度の複写プロセスに
供すると感度低下を生じ、或は残留電位の上昇を招くと
いう欠点を有していた。又、感光体ドラムの小径化によ
って複写プロセスの軽便化を図っても従来の電荷輸送物
質では電荷輸送能が十分ではないため、ドラム小径化は
必然的にプロセス速度の低下を招くことになる。
された機能分離型の感光体は、電荷輸送能が十分ではな
く、特に環境温度が低い状態で高速度の複写プロセスに
供すると感度低下を生じ、或は残留電位の上昇を招くと
いう欠点を有していた。又、感光体ドラムの小径化によ
って複写プロセスの軽便化を図っても従来の電荷輸送物
質では電荷輸送能が十分ではないため、ドラム小径化は
必然的にプロセス速度の低下を招くことになる。
【0006】斯かる事情から、最近、電荷(正孔)輸送
物質として特定の構造のポリシランを用いた感光体につ
いての技術が提案されるようになった(特開昭61-10747
号、同62-269964号、同63-285552号参照)。このポリシ
ランによれば、既述の電荷輸送物質と異なり自己成膜性
を有しているため、他のバインダと組合せることなく容
易に膜状の感光層を形成することができ、又正孔の移動
度が約10-4cm2/V・secのオーダもしくはそれ以上と従
来の電荷輸送物質に比して約1桁以上大きくなった。
物質として特定の構造のポリシランを用いた感光体につ
いての技術が提案されるようになった(特開昭61-10747
号、同62-269964号、同63-285552号参照)。このポリシ
ランによれば、既述の電荷輸送物質と異なり自己成膜性
を有しているため、他のバインダと組合せることなく容
易に膜状の感光層を形成することができ、又正孔の移動
度が約10-4cm2/V・secのオーダもしくはそれ以上と従
来の電荷輸送物質に比して約1桁以上大きくなった。
【0007】
【発明が解決すべき課題】しかしポリシランを用いた感
光体は光、オゾン等に対しての化学的安定性に欠け、劣
化を受けやすい。これはポリシランの主鎖の開裂が起こ
り、末端に−SiO−結合が生じ光導電性が失なわれ残
留電位の上昇が起こるものと考えられる。その劣化を抑
えるために紫外線吸収剤が添加されていたが、従来の紫
外線吸収剤では耐光(紫外線)性が充分ではなく、又感
度低下を生じるものもあり望ましいものではなかった。
ポリシランを用いた感光体に対しても感度低下を生じず
かつ紫外線吸収能力に優れた紫外線吸収剤が望まれてい
た。
光体は光、オゾン等に対しての化学的安定性に欠け、劣
化を受けやすい。これはポリシランの主鎖の開裂が起こ
り、末端に−SiO−結合が生じ光導電性が失なわれ残
留電位の上昇が起こるものと考えられる。その劣化を抑
えるために紫外線吸収剤が添加されていたが、従来の紫
外線吸収剤では耐光(紫外線)性が充分ではなく、又感
度低下を生じるものもあり望ましいものではなかった。
ポリシランを用いた感光体に対しても感度低下を生じず
かつ紫外線吸収能力に優れた紫外線吸収剤が望まれてい
た。
【0008】本発明は上記問題点を解決すべくなされた
ものであり、本発明の目的はキャリア輸送能に優れ、高
感度でありしかも繰り返しの電位安定性に優れた電子写
真感光体を提供することにある。
ものであり、本発明の目的はキャリア輸送能に優れ、高
感度でありしかも繰り返しの電位安定性に優れた電子写
真感光体を提供することにある。
【0009】本発明者等は鋭意検討した結果、本発明に
係る紫外線吸収剤をポリシラン含有の感光体に用いるこ
とにより、従来に比べて著しく優れた耐光(紫外線)性
を示しかつ他の電子写真特性に対し悪影響を及ぼさない
実用に適した優れた感光体が得られることを見出した。
係る紫外線吸収剤をポリシラン含有の感光体に用いるこ
とにより、従来に比べて著しく優れた耐光(紫外線)性
を示しかつ他の電子写真特性に対し悪影響を及ぼさない
実用に適した優れた感光体が得られることを見出した。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、導電性
支持体上に少なくともポリシラン及び紫外線吸収剤を含
有する電荷輸送層を有する電子写真感光体において、該
ポリシランが下記一般式(I)及び/又は一般式(II)
で表わされる繰り返し単位を有する単独重合体もしくは
共重合体であり、かつ紫外線吸収剤が下記一般式(II
I),(IV)又は(V)で表わされる化合物であること
を特徴とする電子写真感光体によって達成される。
支持体上に少なくともポリシラン及び紫外線吸収剤を含
有する電荷輸送層を有する電子写真感光体において、該
ポリシランが下記一般式(I)及び/又は一般式(II)
で表わされる繰り返し単位を有する単独重合体もしくは
共重合体であり、かつ紫外線吸収剤が下記一般式(II
I),(IV)又は(V)で表わされる化合物であること
を特徴とする電子写真感光体によって達成される。
【0011】
【化7】
(式中R1,R2,R3及びR4はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、エーテル基、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未
置換のアルコキシ基、アルキルシリル基又はアリールシ
リル基を表わす。)
ゲン原子、エーテル基、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未
置換のアルコキシ基、アルキルシリル基又はアリールシ
リル基を表わす。)
【0012】
【化8】
(式中R5,R6,R7,R8及びR9はそれぞれ水素原
子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロア
ルキル基又はヘテロ環基を表わす。)
子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロア
ルキル基又はヘテロ環基を表わす。)
【0013】
【化9】
(式中A1は酸素原子又はイオウ原子を表わし、R10及
びR11はそれぞれアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アラルキル基又は他の
びR11はそれぞれアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アラルキル基又は他の
【0014】
【化10】
基を含む有機基を表わす。)
【0015】一般式(V)
R12−A2−COCOOH
(式中R12はアリール基又は置換アリール基を表わし、
A2は−CH2−又は−CH=CR13−を表わし、R13は
水素原子又はハロゲン原子を表わす。)
A2は−CH2−又は−CH=CR13−を表わし、R13は
水素原子又はハロゲン原子を表わす。)
【0016】以下本発明を更に詳しく説明する。
【0017】本発明の電子写真感光体は電荷輸送層中に
ポリシランを含有し、該ポリシランは下記一般式(I)
及び/又は一般式(II)で表わされる繰り返し単位を有
する単独重合体もしくは共重合体である。
ポリシランを含有し、該ポリシランは下記一般式(I)
及び/又は一般式(II)で表わされる繰り返し単位を有
する単独重合体もしくは共重合体である。
【0018】
【化11】
(式中R1,R2,R3及びR4はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、エーテル基、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未
置換のアルコキシ基、アルキルシリル基又はアリールシ
リル基を表わす。)
ゲン原子、エーテル基、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未
置換のアルコキシ基、アルキルシリル基又はアリールシ
リル基を表わす。)
【0019】前記一般式(I)中R1又はR2で表される
アルキル基としては、炭素原子数が1〜24、好ましくは
1〜8の直鎖又は枝分かれしたアルキル基、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘ
キシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ペンタデ
シル基、ステアリル基、シクロヘキシル基などのシクロ
アルキル基等を挙げることができる。
アルキル基としては、炭素原子数が1〜24、好ましくは
1〜8の直鎖又は枝分かれしたアルキル基、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘ
キシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ペンタデ
シル基、ステアリル基、シクロヘキシル基などのシクロ
アルキル基等を挙げることができる。
【0020】アリール基としては、炭素原子数が6〜24
のものが好ましく、フェニル基、ナフチル基、アンスリ
ル基等を挙げることができる。
のものが好ましく、フェニル基、ナフチル基、アンスリ
ル基等を挙げることができる。
【0021】アルコキシ基としては、炭素原子数が1〜
10のものが好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等を挙げることができる。
10のものが好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等を挙げることができる。
【0022】アルケニル基としては、炭素原子数が2〜
10のものが好ましく、ビニル基、アリル基、ブテニル基
等が挙げられる。
10のものが好ましく、ビニル基、アリル基、ブテニル基
等が挙げられる。
【0023】アルキルシリル基としては、−SiH(C
H3)2,−Si(CH3)3,−Si(C2H5)3,−S
i(C3H7)3,−Si(C4H9)3,−Si(CH3)2
(C2H5),−Si(CH3)(C2H5)2などを挙げる
ことができる。
H3)2,−Si(CH3)3,−Si(C2H5)3,−S
i(C3H7)3,−Si(C4H9)3,−Si(CH3)2
(C2H5),−Si(CH3)(C2H5)2などを挙げる
ことができる。
【0024】アリールシリル基としては−SiH(C6
H5)2,−Si(CH3)2(C6H5),−CH2Si
(CH3)2(C6H5)などを挙げることができる。
H5)2,−Si(CH3)2(C6H5),−CH2Si
(CH3)2(C6H5)などを挙げることができる。
【0025】前記R1又はR2で表されるアルキル基、ア
リール基又はアルコキシ基は置換基を有していてもよ
く、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子
又はその他の置換基が挙げられる。
リール基又はアルコキシ基は置換基を有していてもよ
く、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子
又はその他の置換基が挙げられる。
【0026】前記一般式(I)で表される繰り返し単位
の好ましい例を下記に示す。尚 する。
の好ましい例を下記に示す。尚 する。
【0027】
【化12】
【0028】
【化13】
【0029】
【化14】
【0030】
【化15】
【0031】本発明においては、重合度がスチレン換算
で重量平均分子量Mw=5000〜2000000のものが好ましく
用いられる。
で重量平均分子量Mw=5000〜2000000のものが好ましく
用いられる。
【0032】前記一般式(II)中R3又はR4で表される
アルキル基は炭素原子数20以下のものが好ましく、例え
ばメチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピ
ル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、t−ブチル基、
n−ペンチル基、neo−ペンチル基、n−ヘキシル基、
n−オクチル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。また
R3又はR4で表されるハロゲン原子としては、塩素、臭
素、ヨウ素等が挙げられ、アリール基としてはフェニル
基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基又はナフチル
基等が挙げられ、アルコキシ基としては例えばメトキシ
基、エトキシ基、イソプロポキシ基、フェノキシ基等が
挙げられる。これらの基は置換基を有していてもよく、
置換基としては、カルボキシル基、アミノ基、ハロゲン
原子、水酸基、アルデヒド基等が挙げられる。
アルキル基は炭素原子数20以下のものが好ましく、例え
ばメチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピ
ル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、t−ブチル基、
n−ペンチル基、neo−ペンチル基、n−ヘキシル基、
n−オクチル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。また
R3又はR4で表されるハロゲン原子としては、塩素、臭
素、ヨウ素等が挙げられ、アリール基としてはフェニル
基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基又はナフチル
基等が挙げられ、アルコキシ基としては例えばメトキシ
基、エトキシ基、イソプロポキシ基、フェノキシ基等が
挙げられる。これらの基は置換基を有していてもよく、
置換基としては、カルボキシル基、アミノ基、ハロゲン
原子、水酸基、アルデヒド基等が挙げられる。
【0033】本発明に好ましく用いられるポリシランと
しては例えばシクロテトラシラン類が挙げられるが、そ
の具体例としては、デカメチルビシクロ[2.2.0]
ヘキサシラン(Decamethyl bicyclo [2.2.0] hexasilan
e)、デカイソプロピルビシクロ[2.2.0]ヘキサ
シラン(Decaisopropyl bicyclo [2.2.0] hexasilan
e)、ドデカメチルトリシクロ[4.2.0.02,5]オ
クタシラン(Dodecamethyl tricyclo [4.2.0.02,5] oct
asilane)、ドデカイソプロピルトリシクロ[4.2.
0.02,5]オクタシラン(Dodecaisopropyl tricyclo
[4.2.0.02,5] octasilane)、テトラデカイソプロピル
テトラシクロ[6.2.0.0.2,7.03,6]デカシラ
ン(Tetradecaisopropyl tetracyclo [6.2.0.0.2,7.0
3,6] decasilane)、ヘキサデカイソプロピルペンタシ
クロ[8.2.0.02,9.03,8.04,7]ドデカシラ
ン(Hexadecaisopropyl pentacyclo [8.2.0.02,9.03,8.
04,7] dodecasilane)、
しては例えばシクロテトラシラン類が挙げられるが、そ
の具体例としては、デカメチルビシクロ[2.2.0]
ヘキサシラン(Decamethyl bicyclo [2.2.0] hexasilan
e)、デカイソプロピルビシクロ[2.2.0]ヘキサ
シラン(Decaisopropyl bicyclo [2.2.0] hexasilan
e)、ドデカメチルトリシクロ[4.2.0.02,5]オ
クタシラン(Dodecamethyl tricyclo [4.2.0.02,5] oct
asilane)、ドデカイソプロピルトリシクロ[4.2.
0.02,5]オクタシラン(Dodecaisopropyl tricyclo
[4.2.0.02,5] octasilane)、テトラデカイソプロピル
テトラシクロ[6.2.0.0.2,7.03,6]デカシラ
ン(Tetradecaisopropyl tetracyclo [6.2.0.0.2,7.0
3,6] decasilane)、ヘキサデカイソプロピルペンタシ
クロ[8.2.0.02,9.03,8.04,7]ドデカシラ
ン(Hexadecaisopropyl pentacyclo [8.2.0.02,9.03,8.
04,7] dodecasilane)、
【0034】
【化16】
(但し、iPrはイソプロピル基、Etはエチル基を示
す。)などが挙げられる。
す。)などが挙げられる。
【0035】本発明においては重合度がスチレン換算で
重量平均分子量Mw=1000〜2000000のポリシランが好ま
しく用いられる。
重量平均分子量Mw=1000〜2000000のポリシランが好ま
しく用いられる。
【0036】本発明において重合度nはn=10〜20000
の範囲であることが好ましい。
の範囲であることが好ましい。
【0037】また本発明においては下記一般式で示され
るように、適当な繰返し単位を有するランダム共重合体
及びブロック共重合体等による多次元共重合体が可能で
ある。
るように、適当な繰返し単位を有するランダム共重合体
及びブロック共重合体等による多次元共重合体が可能で
ある。
【0038】
【化17】
式中、l,m及びnはそれぞれ0又は正の整数を表わ
し、R1′〜R14′はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、エーテル基、アルキル基、水酸基、アルケニル基ま
たはアリール基である。また末端基であるR1′,
R2′,R3′,R4′,R11′,R12′,R13′,
R14′等はハロゲン原子、水酸基、−O−Si(R′)
3(但しR′は置換基)、アルコキシ基、アルキルチオ
エーテル基、アリールチオエーテル基等が好ましく、更
にはこれらの基と他の分子を縮合させて新たな分子を作
っていてもよい。
し、R1′〜R14′はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、エーテル基、アルキル基、水酸基、アルケニル基ま
たはアリール基である。また末端基であるR1′,
R2′,R3′,R4′,R11′,R12′,R13′,
R14′等はハロゲン原子、水酸基、−O−Si(R′)
3(但しR′は置換基)、アルコキシ基、アルキルチオ
エーテル基、アリールチオエーテル基等が好ましく、更
にはこれらの基と他の分子を縮合させて新たな分子を作
っていてもよい。
【0039】上記ポリシランについては、例えば特開平
2-19853号公報に記載されており、特願昭62-138287号及
び特開平2-19853号公報記載の方法又は特開昭61-170747
号公報、ジャーナル オブ オルガノメタリック ケミ
ストリー(R.West,J.Organomet.Chem.,300,327 (198
6))、R.D.Miller and J.Michl,Chemical Reviewsvol.
89 1359頁(1989)に準じて簡単に合成することができ
る。
2-19853号公報に記載されており、特願昭62-138287号及
び特開平2-19853号公報記載の方法又は特開昭61-170747
号公報、ジャーナル オブ オルガノメタリック ケミ
ストリー(R.West,J.Organomet.Chem.,300,327 (198
6))、R.D.Miller and J.Michl,Chemical Reviewsvol.
89 1359頁(1989)に準じて簡単に合成することができ
る。
【0040】本発明の電子写真感光体は電荷輸送層中に
前記一般式(III)、一般式(IV)又は一般式(V)で
表わされる紫外線吸収剤を含有する。
前記一般式(III)、一般式(IV)又は一般式(V)で
表わされる紫外線吸収剤を含有する。
【0041】一般式(III)において、R5,R6,R7,
R8又はR9で表わされるアルキル基は直鎖状でも分岐状
でもよいが、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、t−ブチル、オクチル、t−オクチル、ドデシル、
sec−ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコ
シル等が挙げられる。アリール基としては例えばフェニ
ル基、ナフチル基等が挙げられ、アラルキル基としては
例えばベンジル基、フェニルエチル基、メチルベンジル
基、ナフチルメチル基等が挙げられ、シクロアルキル基
としては例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基等が挙げられ、ヘテロ環基としては窒
素原子、酸素原子、イオウ原子等を含有するヘテロ環が
好ましく、例えばフリル、ピラニル、テトラヒドロピラ
ニル、イミダゾリル、ピロニル、ピリミジル、ピラジニ
ル、トリアジニル、チエニル、キノリル、オキサゾリ
ル、チアゾリル、ピリジル等が挙げられる。
R8又はR9で表わされるアルキル基は直鎖状でも分岐状
でもよいが、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、t−ブチル、オクチル、t−オクチル、ドデシル、
sec−ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコ
シル等が挙げられる。アリール基としては例えばフェニ
ル基、ナフチル基等が挙げられ、アラルキル基としては
例えばベンジル基、フェニルエチル基、メチルベンジル
基、ナフチルメチル基等が挙げられ、シクロアルキル基
としては例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基等が挙げられ、ヘテロ環基としては窒
素原子、酸素原子、イオウ原子等を含有するヘテロ環が
好ましく、例えばフリル、ピラニル、テトラヒドロピラ
ニル、イミダゾリル、ピロニル、ピリミジル、ピラジニ
ル、トリアジニル、チエニル、キノリル、オキサゾリ
ル、チアゾリル、ピリジル等が挙げられる。
【0042】以下本発明に好ましく用いられる一般式
(III)で表わされる化合物の具体的例示化合物を示す
が、本発明はこれらにより限定されるものではない。
(III)で表わされる化合物の具体的例示化合物を示す
が、本発明はこれらにより限定されるものではない。
【0043】
【化18】
【0044】一般式(IV)において、R10又はR11で表
わされるアルキル基、アリール基又はアラルキル基とし
ては一般式(III)におけるR5〜R9で表わされるもの
と同様のものが挙げられ、アルケニル基としてはアリル
基、ブテニル基、オクテニル基もしくはオレイル基等が
挙げられる。
わされるアルキル基、アリール基又はアラルキル基とし
ては一般式(III)におけるR5〜R9で表わされるもの
と同様のものが挙げられ、アルケニル基としてはアリル
基、ブテニル基、オクテニル基もしくはオレイル基等が
挙げられる。
【0045】以下に本発明に好ましく用いられる一般式
(IV)で表わされる化合物の具体的例示化合物を示す
が、本発明はこれらにより限定されるものではない。
(IV)で表わされる化合物の具体的例示化合物を示す
が、本発明はこれらにより限定されるものではない。
【0046】
【化19】
【0047】一般式(V)において、R12は置換もしく
は無置換のアリール基を表わし、具体的には
は無置換のアリール基を表わし、具体的には
【0048】
【化20】
等が挙げられる。以下本発明に好ましく用いられる一般
式(V)で表わされる化合物の具体的例示化合物を示す
が、本発明はこれらにより限定されるものではない。
式(V)で表わされる化合物の具体的例示化合物を示す
が、本発明はこれらにより限定されるものではない。
【0049】
【化21】
【0050】
【化22】
【0051】紫外線吸収剤(UV吸収剤と称す)の有機
物質に対する安定化機構は、紫外線の保有する分解エネ
ルギーがUV吸収剤内で振動エネルギーに変化すること
によるものと思われる。この振動エネルギーは熱エネル
ギーとして該UV吸収剤から放出されるが、熱エネルギ
ーでは有機物質を劣化させるには既に不十分であり、感
光体は紫外線の繰り返し照射による害から保護されるこ
とになる。
物質に対する安定化機構は、紫外線の保有する分解エネ
ルギーがUV吸収剤内で振動エネルギーに変化すること
によるものと思われる。この振動エネルギーは熱エネル
ギーとして該UV吸収剤から放出されるが、熱エネルギ
ーでは有機物質を劣化させるには既に不十分であり、感
光体は紫外線の繰り返し照射による害から保護されるこ
とになる。
【0052】上記一般式(III),(IV)又は(V)で
表わされる紫外線吸収剤は例えば特開昭63-153553号、
同63-159855号、同63-163359号等に準じて容易に合成す
ることができる。
表わされる紫外線吸収剤は例えば特開昭63-153553号、
同63-159855号、同63-163359号等に準じて容易に合成す
ることができる。
【0053】本発明において前記一般式(III)〜
(V)で表わされる紫外線吸収剤の添加量は、感光体の
層構成、電荷発生物質の種類などによって一定でない
が、ポリシランに対して0.1〜100重量%、好ましくは0.
5〜50重量%、特に好ましくは1〜25重量%の範囲であ
る。
(V)で表わされる紫外線吸収剤の添加量は、感光体の
層構成、電荷発生物質の種類などによって一定でない
が、ポリシランに対して0.1〜100重量%、好ましくは0.
5〜50重量%、特に好ましくは1〜25重量%の範囲であ
る。
【0054】本発明に用いられる電荷発生物質としては
例えばアゾ系顔料、多環キノン系顔料、スクエアリウム
系顔料又はペリレン系顔料、フタロシアニン系顔料等が
挙げられる。これらの中ではアゾ系顔料、多環キノン系
顔料又はフタロシアニン系顔料を用いることが特に好ま
しい。
例えばアゾ系顔料、多環キノン系顔料、スクエアリウム
系顔料又はペリレン系顔料、フタロシアニン系顔料等が
挙げられる。これらの中ではアゾ系顔料、多環キノン系
顔料又はフタロシアニン系顔料を用いることが特に好ま
しい。
【0055】本発明に用いられるアゾ系顔料については
特開平1-179155号公報に記載されており、例えば下記一
般式(イ)〜一般式(ハ)で示されるものが挙げられ
る。
特開平1-179155号公報に記載されており、例えば下記一
般式(イ)〜一般式(ハ)で示されるものが挙げられ
る。
【0056】
【化23】
(式中Cp1及びCp2はそれぞれカプラー残基を表わ
し、R1及びR2はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキ
シル基を表わし、m1及びm2はそれぞれ0〜3の整数を
表わす。但し、m1個のR1及びm2個のR2はそれぞれ同
じでも異なっていてもよい。)
し、R1及びR2はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキ
シル基を表わし、m1及びm2はそれぞれ0〜3の整数を
表わす。但し、m1個のR1及びm2個のR2はそれぞれ同
じでも異なっていてもよい。)
【0057】
【化24】
(式中Cp1及びCp2はそれぞれカプラー残基を表わ
す。)
す。)
【0058】
【化25】
(式中Cp1及びCp2はそれぞれカプラー残基を表わ
す。)
す。)
【0059】前記一般式(イ)〜(ハ)において、Cp
1又はCp2で表わされるカプラー残基としては、例えば
下記一般式(1)〜(11)で示すものが挙げられ、各式
においてCp1及びCp2はそれぞれ同じでも異なってい
てもよい。
1又はCp2で表わされるカプラー残基としては、例えば
下記一般式(1)〜(11)で示すものが挙げられ、各式
においてCp1及びCp2はそれぞれ同じでも異なってい
てもよい。
【0060】
【化26】
【0061】
【化27】
式中、Zはベンゼン環と縮合して多環式芳香族環あるい
は複素環を形成するに必要な原子群を表わす。
は複素環を形成するに必要な原子群を表わす。
【0062】R1′,R2′は水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基、アリール基、複素環基あるいはそれらの置
換体を表わす。また窒素原子あるいは炭素原子と共に環
を形成してもよい。
ラルキル基、アリール基、複素環基あるいはそれらの置
換体を表わす。また窒素原子あるいは炭素原子と共に環
を形成してもよい。
【0063】R3′はO,S,−NHを表わす。
【0064】R4′,R5′は水素原子、アルキル基、ア
ルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、アセ
チル基を表わす。
ルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、アセ
チル基を表わす。
【0065】Yは5員環、6員環を形成するに必要な原
子群を表わす。
子群を表わす。
【0066】Aは炭素環式芳香族環又は複素環式芳香族
環の2価の基を表わす。
環の2価の基を表わす。
【0067】R6′はアルキル基、アラルキル基、アリ
ール基、複素環基あるいはそれらの置換体を表わす。
ール基、複素環基あるいはそれらの置換体を表わす。
【0068】R7′は水素原子、アルキル基、ジアルキ
ルアミノ基、ジアリールアミノ基、ジアラルキルアミノ
基、カルバモイル基、カルボキシル基またはそのエステ
ル基を表わす。
ルアミノ基、ジアリールアミノ基、ジアラルキルアミノ
基、カルバモイル基、カルボキシル基またはそのエステ
ル基を表わす。
【0069】R8′は芳香族環基あるいはその置換体を
表わす。
表わす。
【0070】前記Zの芳香族環としては、ベンゼン、ナ
フタレンなどがあり、複素環としてはインドール、カル
バゾール、ベンゾフラン、ジベンゾフランなどがある。
Zは置換基を有してもよく、置換基としては、ハロゲン
原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子など)、
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基など)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基など)、ニトロ基
などがあげられる。
フタレンなどがあり、複素環としてはインドール、カル
バゾール、ベンゾフラン、ジベンゾフランなどがある。
Zは置換基を有してもよく、置換基としては、ハロゲン
原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子など)、
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基など)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基など)、ニトロ基
などがあげられる。
【0071】なお前記一般式(1)〜(11)で示される
カプラー残基の具体例としては例えば特願平2-277176号
第72〜75頁記載の化合物No.1〜15が挙げられる。また
本発明に好ましく用いられるアゾ系顔料の具体例として
は例えば特願平2-277176号第76頁記載の化合物が挙げら
れ、次頁に代表的な例を示すが本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
カプラー残基の具体例としては例えば特願平2-277176号
第72〜75頁記載の化合物No.1〜15が挙げられる。また
本発明に好ましく用いられるアゾ系顔料の具体例として
は例えば特願平2-277176号第76頁記載の化合物が挙げら
れ、次頁に代表的な例を示すが本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
【0072】
【化28】
【0073】本発明に用いられる多環キノン系顔料につ
いては特開昭59-184349号公報に記載されており、例え
ば下記一般式(ニ)〜(ヘ)で示されるものが挙げられ
るが本発明においては一般式(ニ)で示されるものが特
に好ましい。
いては特開昭59-184349号公報に記載されており、例え
ば下記一般式(ニ)〜(ヘ)で示されるものが挙げられ
るが本発明においては一般式(ニ)で示されるものが特
に好ましい。
【0074】
【化29】
(一般式(ニ)〜(ヘ)において式中X1はハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、アシル基又はカルボキシル基
を表わし、n1は0〜4の整数を表わし、n2は0〜6の
整数を表わす。)
子、ニトロ基、シアノ基、アシル基又はカルボキシル基
を表わし、n1は0〜4の整数を表わし、n2は0〜6の
整数を表わす。)
【0075】本発明に好ましく用いられる多環キノン系
顔料の具体例としては例えば特願平2-277176号第79〜80
頁記載の化合物(X−1)〜(XII−1)、化合物1〜
2が挙げられる。
顔料の具体例としては例えば特願平2-277176号第79〜80
頁記載の化合物(X−1)〜(XII−1)、化合物1〜
2が挙げられる。
【0076】本発明に用いられるスクエアリウム系顔料
としては例えば下記一般式(ト)で示されるものが挙げ
られる。
としては例えば下記一般式(ト)で示されるものが挙げ
られる。
【0077】
【化30】
(式中、R0′,R1′及びR2′は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基
またはNHY′を表わす。Y′は、 てもよいアルキル基、フェニル基もしくは水素原子を表
わす。)を表わす。R3′は置換もしくは未置換のアル
キル基を表わす。X2は少なくとも6員の飽和若しくは
不飽和の単環若しくは多環炭化水素を形成するのに必要
な炭素原子群を表わす。)
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基
またはNHY′を表わす。Y′は、 てもよいアルキル基、フェニル基もしくは水素原子を表
わす。)を表わす。R3′は置換もしくは未置換のアル
キル基を表わす。X2は少なくとも6員の飽和若しくは
不飽和の単環若しくは多環炭化水素を形成するのに必要
な炭素原子群を表わす。)
【0078】R3′の置換基としては、たとえばヒドロ
キシル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、エ
ステル基、アシル基、ジアルキルアミノ基、ジアラルキ
ルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリール基などを挙
げることができる。
キシル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、エ
ステル基、アシル基、ジアルキルアミノ基、ジアラルキ
ルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリール基などを挙
げることができる。
【0079】本発明に好ましく用いられるスクエアリウ
ム系顔料の具体例としては例えば特願平2-277176号第83
〜84頁記載の化合物XIII−1〜XIII−13が挙げられ
る。
ム系顔料の具体例としては例えば特願平2-277176号第83
〜84頁記載の化合物XIII−1〜XIII−13が挙げられ
る。
【0080】本発明に好ましく用いられるペリレン系顔
料としては例えば特願平2-277176号第86〜87頁記載の化
合物No.P−1〜P−9が挙げられる。
料としては例えば特願平2-277176号第86〜87頁記載の化
合物No.P−1〜P−9が挙げられる。
【0081】フタロシアニン系顔料としては金属あるい
は無金属フタロシアニン系顔料が使用可能であり、具体
的にはχ型τ型無金属フタロシアニンと、α−型、β−
型の銅フタロシアニンあるいはチタニルフタロシアニン
等が好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる
チタニルフタロシアニン系顔料としては下記一般式
(チ)で表わされる化合物が挙げられ、詳しくは特開平
3-35246号に示されている。
は無金属フタロシアニン系顔料が使用可能であり、具体
的にはχ型τ型無金属フタロシアニンと、α−型、β−
型の銅フタロシアニンあるいはチタニルフタロシアニン
等が好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる
チタニルフタロシアニン系顔料としては下記一般式
(チ)で表わされる化合物が挙げられ、詳しくは特開平
3-35246号に示されている。
【0082】
【化31】
式中、X1,X2,X3及びX4はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基あるいはアルコキシ基を表し、
n,m,l及びkはそれぞれ0〜4の整数を表す。
ゲン原子、アルキル基あるいはアルコキシ基を表し、
n,m,l及びkはそれぞれ0〜4の整数を表す。
【0083】チタニルフタロシアニン系顔料は、Cu−
Kα線(波長1.541Å)に対するX線回折スペクトルに
おいて少なくともブラッグ角2θの9.6°±0.2°と27.2
°±0.2°にピークを持ち、かつ9.6°±0.2°のピーク
強度が27.2°±0.2°のピーク強度の40%以上である結
晶状態のものである。
Kα線(波長1.541Å)に対するX線回折スペクトルに
おいて少なくともブラッグ角2θの9.6°±0.2°と27.2
°±0.2°にピークを持ち、かつ9.6°±0.2°のピーク
強度が27.2°±0.2°のピーク強度の40%以上である結
晶状態のものである。
【0084】さらに、好ましくは9.6°±0.2°のピーク
強度が27.2°±0.2°のそれの60%以上を示す結晶状態
又は9.6°±0.2°のピーク強度が27.2°±0.2°のそれ
の50%以上で、かつ6.7°±0.2°のピーク強度が、27.2
°±0.2°のそれの30%以下である結晶状態のチタニル
フタロシアニンである。
強度が27.2°±0.2°のそれの60%以上を示す結晶状態
又は9.6°±0.2°のピーク強度が27.2°±0.2°のそれ
の50%以上で、かつ6.7°±0.2°のピーク強度が、27.2
°±0.2°のそれの30%以下である結晶状態のチタニル
フタロシアニンである。
【0085】X線回折スペクトルは次の条件で測定さ
れ、ここでのピークとは、明瞭にノイズと異なった鋭角
の錐状突起である。
れ、ここでのピークとは、明瞭にノイズと異なった鋭角
の錐状突起である。
【0086】
X線管球 Cu
電 圧 40.0 KV
電 流 100 mA
スタート角度 6.0 deg.
ストップ角度 35.0 deg.
ステップ角度 0.02 deg.
測定時間 0.50 sec.
【0087】上記チタニルフタロシアニンの製造は一般
によく知られた方法で作る事ができる。これに限定され
るものではないが、例えば四酸化チタンとフタロジニト
リルとをα−クロルナフタレン等の不活性高沸点溶媒中
で反応温度は160〜300℃で、一般には160〜260℃で反応
させることにより得られるジクロルチタニウムフタロシ
アニンを塩基もしくは水で加水分解することによってチ
タニルフタロシアニンを得ることができる。
によく知られた方法で作る事ができる。これに限定され
るものではないが、例えば四酸化チタンとフタロジニト
リルとをα−クロルナフタレン等の不活性高沸点溶媒中
で反応温度は160〜300℃で、一般には160〜260℃で反応
させることにより得られるジクロルチタニウムフタロシ
アニンを塩基もしくは水で加水分解することによってチ
タニルフタロシアニンを得ることができる。
【0088】合成法には更に、優れた方法として、アル
コキシチタネート、所謂チタンカップリング剤を使う方
法がある。
コキシチタネート、所謂チタンカップリング剤を使う方
法がある。
【0089】チタンカップリング剤としては例えば一般
式(T)で表わされる化合物が用いられる。
式(T)で表わされる化合物が用いられる。
【0090】一般式(T)
式中、X1,X2,X3及びX4はそれぞれ−OR1,−
SR2,−OS2R3, 基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アリロイル
基又は複素環基を表し、これらは任意の置換基を有して
いてもよい。)又、X1〜X4は任意に結合し環を形成し
てもよい。Yは配位子を表し、nは0,1又は2を表
す。
SR2,−OS2R3, 基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アリロイル
基又は複素環基を表し、これらは任意の置換基を有して
いてもよい。)又、X1〜X4は任意に結合し環を形成し
てもよい。Yは配位子を表し、nは0,1又は2を表
す。
【0091】本発明においてはX1〜X4が−OR1であ
るものが反応性や取り扱い易さ、価格などの点で望まし
い。
るものが反応性や取り扱い易さ、価格などの点で望まし
い。
【0092】以下本発明に好ましく用いられるチタンカ
ップリング剤の具体的例示化合物を示す。
ップリング剤の具体的例示化合物を示す。
【0093】
【化32】
【0094】チタニルフタロシアニンを合成する際の反
応式は下記の通りである。このチタンカップリング剤を
使う方法は副反応のない、従って、高純度品を容易に得
られる優れた方法である。
応式は下記の通りである。このチタンカップリング剤を
使う方法は副反応のない、従って、高純度品を容易に得
られる優れた方法である。
【0095】
【化33】
式中、R1〜R16はそれぞれ水素原子、アルキル基、ア
ルコキシ基又はハロゲン原子を表す。
ルコキシ基又はハロゲン原子を表す。
【0096】結晶型を得るには、例えば加水分解したチ
タニルフタロシアニンから直接、又は硫酸に溶かして水
に注いで得たアモルファスのものから水の存在下、水に
非混和性の有機溶媒で処理することによって得ることが
できる。処理に用いられる装置としては一般的な攪拌装
置の他に、ホモミキサー、ディスパーサ、アジター、或
はボールミル、サンドミル、アトライタ等を用いること
ができる。
タニルフタロシアニンから直接、又は硫酸に溶かして水
に注いで得たアモルファスのものから水の存在下、水に
非混和性の有機溶媒で処理することによって得ることが
できる。処理に用いられる装置としては一般的な攪拌装
置の他に、ホモミキサー、ディスパーサ、アジター、或
はボールミル、サンドミル、アトライタ等を用いること
ができる。
【0097】本発明では必要に応じて電荷輸送物質(以
下CTMということもある)を添加してもよく、例えば
下記一般式(a),(b),(c),(d)又は(e)
で表わされる化合物が好ましく用いられる。これらにつ
いての詳細は特願平2-277176号に記載されている。
下CTMということもある)を添加してもよく、例えば
下記一般式(a),(b),(c),(d)又は(e)
で表わされる化合物が好ましく用いられる。これらにつ
いての詳細は特願平2-277176号に記載されている。
【0098】
【化34】
(式中、R3は水素原子、アルキル基又はアリール基を
表わし、R4は置換基を表わし、A1はフェニレン基又は
ナフチレン基を表わし、Ar1及びAr2はそれぞれアル
キル基、フェニル基又はナフチル基を表わし、Ar3は
水素原子、フェニル基又はナフチル基を表わし、n1は
0又は1を表わし、n2は0〜5の整数を表わす。)
表わし、R4は置換基を表わし、A1はフェニレン基又は
ナフチレン基を表わし、Ar1及びAr2はそれぞれアル
キル基、フェニル基又はナフチル基を表わし、Ar3は
水素原子、フェニル基又はナフチル基を表わし、n1は
0又は1を表わし、n2は0〜5の整数を表わす。)
【0099】
【化35】
(式中、R5,R6及びR7はそれぞれ水素原子、アルキ
ル基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表わし、R
8は水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアリール
基を表わし、m及びlは1又は2を表わし、qは0又は
1を表わす。m及びlが2の時、R5及びR6はそれぞれ
同一であっても異なっていてもよい。)
ル基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表わし、R
8は水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアリール
基を表わし、m及びlは1又は2を表わし、qは0又は
1を表わす。m及びlが2の時、R5及びR6はそれぞれ
同一であっても異なっていてもよい。)
【0100】
【化36】
(式中、Ar4及びAr5はそれぞれアリール基を表し、
Ar6はアリーレン基を表し、Ar7はp−フェニレン基
又はナフチレン基を表し、R9及びR10はそれぞれアル
キル基を表わす。)
Ar6はアリーレン基を表し、Ar7はp−フェニレン基
又はナフチレン基を表し、R9及びR10はそれぞれアル
キル基を表わす。)
【0101】
【化37】
(式中、R11及びR13はそれぞれジアルキルアミノ基を
表し、R12及びR14はそれぞれハロゲン原子又はシアノ
基を表し、Ar8及びAr9はそれぞれフェニル基又はナ
フチル基を表し、m1,m2,m3及びm4はそれぞれ0又
は1を表す。但しm1とm3が同時に0になることはな
い。)
表し、R12及びR14はそれぞれハロゲン原子又はシアノ
基を表し、Ar8及びAr9はそれぞれフェニル基又はナ
フチル基を表し、m1,m2,m3及びm4はそれぞれ0又
は1を表す。但しm1とm3が同時に0になることはな
い。)
【0102】
【化38】
(式中、R15は水素原子又は置換基を表し、R16は水素
原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ar10は水素
原子、ベンジル基、フェニル基又はナフチル基を表し、
Ar11はフェニレン基又はナフチレン基を表わし、Ar
12はアルキル基、フェニル基又はナフチル基を表わし、
k1は0〜5の整数を表わし、k2は0又は1を表す。)
原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ar10は水素
原子、ベンジル基、フェニル基又はナフチル基を表し、
Ar11はフェニレン基又はナフチレン基を表わし、Ar
12はアルキル基、フェニル基又はナフチル基を表わし、
k1は0〜5の整数を表わし、k2は0又は1を表す。)
【0103】本発明の電子写真感光体の構成は通常は、
図1(イ)〜(ニ)に示される形態である。(イ)及び
(ロ)では、導電性支持体1上に電荷発生物質を含有す
る電荷発生層2と、ポリシラン及び必要に応じて電荷輸
送物質を含有する電荷輸送層3との積層体より成る感光
層4A,4Bを設けており、(イ)と(ロ)では、電荷
発生層2と電荷輸送層3の積層順が異なる。(ハ)及び
(ニ)に示すようにこれらの感光層4A,4Bは、導電
性支持体1上に、接着層、バリア層などの中間層5を介
して設けてもよい。また、最表面層として保護層を設け
てもよい。本発明においては電荷発生層中に電荷発生物
質の他に電荷輸送物質を添加してもよい。
図1(イ)〜(ニ)に示される形態である。(イ)及び
(ロ)では、導電性支持体1上に電荷発生物質を含有す
る電荷発生層2と、ポリシラン及び必要に応じて電荷輸
送物質を含有する電荷輸送層3との積層体より成る感光
層4A,4Bを設けており、(イ)と(ロ)では、電荷
発生層2と電荷輸送層3の積層順が異なる。(ハ)及び
(ニ)に示すようにこれらの感光層4A,4Bは、導電
性支持体1上に、接着層、バリア層などの中間層5を介
して設けてもよい。また、最表面層として保護層を設け
てもよい。本発明においては電荷発生層中に電荷発生物
質の他に電荷輸送物質を添加してもよい。
【0104】感光層、保護層、中間層に使用可能なバイ
ンダー樹脂としては、任意のものを用いることができる
が、例えばポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、
酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ
樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリ
コン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付加型
樹脂、重縮合型樹脂、並びにこれらの樹脂の繰り返し単
位のうちの2つ以上を含む共重合体樹脂等が挙げられ
る。またこれらの絶縁性樹脂の他、ポリ−N−ビニルカ
ルバゾール等の高分子有機半導体が挙げられる。
ンダー樹脂としては、任意のものを用いることができる
が、例えばポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、
酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ
樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリ
コン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、重付加型
樹脂、重縮合型樹脂、並びにこれらの樹脂の繰り返し単
位のうちの2つ以上を含む共重合体樹脂等が挙げられ
る。またこれらの絶縁性樹脂の他、ポリ−N−ビニルカ
ルバゾール等の高分子有機半導体が挙げられる。
【0105】次に前記感光層を支持する導電性支持体と
しては、アルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ド
ラム又は金属箔をラミネートした、或はアルミニウム、
酸化錫、酸化インジュウムなどを蒸着したプラスチック
フィルムあるいは導電性物質を塗布した紙、プラスチッ
クなどのフィルム又はドラムを使用することができる。
しては、アルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ド
ラム又は金属箔をラミネートした、或はアルミニウム、
酸化錫、酸化インジュウムなどを蒸着したプラスチック
フィルムあるいは導電性物質を塗布した紙、プラスチッ
クなどのフィルム又はドラムを使用することができる。
【0106】本発明において、電荷発生層は代表的には
前述の電荷発生物質及び必要に応じて電荷輸送物質を適
当な分散媒に単独もしくは適当なバインダ樹脂と共に分
散せしめた分散液を例えばディップ塗布、スプレイ塗
布、ブレード塗布、ロール塗布等によって支持体若しく
は下引層上又は電荷輸送層上に塗布して乾燥させる方法
により設けることができる。また本発明において電荷発
生物質の分散にはボールミル、ホモミキサ、サンドミ
ル、超音波分散機、アトライタ等が用いられる。
前述の電荷発生物質及び必要に応じて電荷輸送物質を適
当な分散媒に単独もしくは適当なバインダ樹脂と共に分
散せしめた分散液を例えばディップ塗布、スプレイ塗
布、ブレード塗布、ロール塗布等によって支持体若しく
は下引層上又は電荷輸送層上に塗布して乾燥させる方法
により設けることができる。また本発明において電荷発
生物質の分散にはボールミル、ホモミキサ、サンドミ
ル、超音波分散機、アトライタ等が用いられる。
【0107】本発明に用いられる分散媒としては、例え
ばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素類;メチレンクロライド、1,2−ジクロルエタン、
sym−テトラクロルエタン、1,1,2−トリクロルエ
タン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素;アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロヘ
キサノール、ヘプタノール、エチレングリコール、メチ
ルセルソルブ、エチルセルソルブ、酢酸セルソルブ等の
アルコール類及びこの誘導体;テトラヒドロフラン、
1,4−ジオキサン、フラン、フルフラール等のエーテ
ル、アセタール類;ピリジンやブチルアミン、ジエチル
アミン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミン等
のアミン類;N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド
類等の窒素化合物を用いることができる。
ばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素類;メチレンクロライド、1,2−ジクロルエタン、
sym−テトラクロルエタン、1,1,2−トリクロルエ
タン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素;アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロヘ
キサノール、ヘプタノール、エチレングリコール、メチ
ルセルソルブ、エチルセルソルブ、酢酸セルソルブ等の
アルコール類及びこの誘導体;テトラヒドロフラン、
1,4−ジオキサン、フラン、フルフラール等のエーテ
ル、アセタール類;ピリジンやブチルアミン、ジエチル
アミン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミン等
のアミン類;N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド
類等の窒素化合物を用いることができる。
【0108】本発明の感光体が積層型構成の場合、電荷
発生層中のバインダ:電荷発生物質:電荷輸送物質の重
量比は0〜100:1〜500:0〜500が好ましい。電荷発
生物質の含有割合がこれより少ないと感度が低く、残留
電位の増加を招き、またこれより多いと暗減衰及び受容
電位が低下する。
発生層中のバインダ:電荷発生物質:電荷輸送物質の重
量比は0〜100:1〜500:0〜500が好ましい。電荷発
生物質の含有割合がこれより少ないと感度が低く、残留
電位の増加を招き、またこれより多いと暗減衰及び受容
電位が低下する。
【0109】以上のようにして形成される電荷発生層の
膜厚は、好ましくは0.01〜10μm、特に好ましくは0.1〜
5μmである。
膜厚は、好ましくは0.01〜10μm、特に好ましくは0.1〜
5μmである。
【0110】本発明において電荷輸送層は、ポリシラン
及び必要に応じて電荷輸送物質を適当な分散媒に単独で
あるいは上述のバインダ樹脂と共に溶解分散せしめたも
のを塗布、乾燥して形成することができる。用いられる
分散媒としては前記電荷発生物質の分散において用いた
分散媒を用いることができる。
及び必要に応じて電荷輸送物質を適当な分散媒に単独で
あるいは上述のバインダ樹脂と共に溶解分散せしめたも
のを塗布、乾燥して形成することができる。用いられる
分散媒としては前記電荷発生物質の分散において用いた
分散媒を用いることができる。
【0111】本発明においてポリシラン及び必要に応じ
て添加される電荷輸送物質は電荷輸送層全重量中40%以
上含有することが好ましく、特に好ましくは60%以上で
ある。
て添加される電荷輸送物質は電荷輸送層全重量中40%以
上含有することが好ましく、特に好ましくは60%以上で
ある。
【0112】形成される電荷輸送層の膜厚は、好ましく
は5〜50μm、特に好ましくは5〜30μmである。
は5〜50μm、特に好ましくは5〜30μmである。
【0113】本発明において中間層は、前記バインダー
及び必要に応じて添加剤をメタノール、エタノール、ブ
タノール等に溶かしたアルコール溶液又はトルエン等の
溶剤に溶かした溶液を浸漬コーティング法、ロールコー
ティング法、スプレーコーティング法、ワイヤーバーコ
ーティング法、ビードコーティング法又はカーテンコー
ティング法等のコーティング法を用いて基体上に塗工す
ることによって得られる。ただし、前記バインダーには
電荷発生層に用いられるバインダーと同じものが併用さ
れていてもよい。その膜厚は0.1〜5μmが一般的で、好
ましくは0.5〜3μmである。使用されるバインダー量は
溶剤に対して1〜5重量%であることが好ましい。
及び必要に応じて添加剤をメタノール、エタノール、ブ
タノール等に溶かしたアルコール溶液又はトルエン等の
溶剤に溶かした溶液を浸漬コーティング法、ロールコー
ティング法、スプレーコーティング法、ワイヤーバーコ
ーティング法、ビードコーティング法又はカーテンコー
ティング法等のコーティング法を用いて基体上に塗工す
ることによって得られる。ただし、前記バインダーには
電荷発生層に用いられるバインダーと同じものが併用さ
れていてもよい。その膜厚は0.1〜5μmが一般的で、好
ましくは0.5〜3μmである。使用されるバインダー量は
溶剤に対して1〜5重量%であることが好ましい。
【0114】又、本発明の感光体において、耐刷性向上
等のため感光体表面に保護層(保護膜)を形成してもよ
く、例えば合成樹脂被膜をコーティングしてもよい。
等のため感光体表面に保護層(保護膜)を形成してもよ
く、例えば合成樹脂被膜をコーティングしてもよい。
【0115】本発明において電荷発生層には感度の向
上、残留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的とし
て、一種又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめる
ことができる。電子受容性物質の添加割合は重量比で、
電荷発生物質:電子受容性物質=100:0.01〜200が好ま
しく、更に好ましくは100:0.1〜100である。
上、残留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的とし
て、一種又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめる
ことができる。電子受容性物質の添加割合は重量比で、
電荷発生物質:電子受容性物質=100:0.01〜200が好ま
しく、更に好ましくは100:0.1〜100である。
【0116】電子受容性物質は電荷輸送層に添加しても
よく、この場合の電子受容性物質の添加割合は重量比
で、全電荷輸送物質:電子受容性物質=100:0.01〜100
が好ましく、更に好ましくは100:0.1〜50である。
よく、この場合の電子受容性物質の添加割合は重量比
で、全電荷輸送物質:電子受容性物質=100:0.01〜100
が好ましく、更に好ましくは100:0.1〜50である。
【0117】本発明の感光体に使用可能な電子受容性物
質としては、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、ジ
ブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無
水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無
水フタル酸、4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリッ
ト酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノジメタン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニ
トロベンゼン、1,3,5−トリニトロベンゼン、パラ
ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンク
ロルイミド、クロラニル、ブルマニル、2−メチルナフ
トキノン、ジクロロジシアノパラベンゾキノン、アント
ラキノン、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオ
レノン、9−フルオレニリデン[ジシアノメチレンマロ
ノジニトリル]、ポリニトロ−9−フルオレニリデン−
[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ピクリン酸、
o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−ジ
ニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニトロ
サリチル酸、3,5−ジニトロサリチル酸、フタル酸等
が挙げられる。
質としては、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、ジ
ブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無
水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無
水フタル酸、4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリッ
ト酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノジメタン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニ
トロベンゼン、1,3,5−トリニトロベンゼン、パラ
ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンク
ロルイミド、クロラニル、ブルマニル、2−メチルナフ
トキノン、ジクロロジシアノパラベンゾキノン、アント
ラキノン、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオ
レノン、9−フルオレニリデン[ジシアノメチレンマロ
ノジニトリル]、ポリニトロ−9−フルオレニリデン−
[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ピクリン酸、
o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−ジ
ニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニトロ
サリチル酸、3,5−ジニトロサリチル酸、フタル酸等
が挙げられる。
【0118】また更に表面改質剤としてシリコーンオイ
ルを存在させてもよい。また耐久性向上剤としてアンモ
ニウム化合物が含有されていてもよい。本発明の感光体
には、その他、必要により感色性補正の染料を含有して
もよい。
ルを存在させてもよい。また耐久性向上剤としてアンモ
ニウム化合物が含有されていてもよい。本発明の感光体
には、その他、必要により感色性補正の染料を含有して
もよい。
【0119】本発明の感光体に用いられる光源としては
ハロゲンランプ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴ
ンレーザー、ヘリウム−ネオンレーザー等の気体レーザ
ー、半導体レーザー、LED等が用いられる。
ハロゲンランプ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴ
ンレーザー、ヘリウム−ネオンレーザー等の気体レーザ
ー、半導体レーザー、LED等が用いられる。
【0120】
【実施例】以下本発明を実施例を用いて具体的に説明す
るが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。
るが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。
【0121】実施例1−(1)感光体試料No.1〜No.11
アルミニウム蒸着ポリエステルベースからなる導電性支
持体上に、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共
重合体「エスレックMF−10」(積水化学工業社製)よ
りなる厚さ0.1μmの中間層を設けた。
持体上に、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共
重合体「エスレックMF−10」(積水化学工業社製)よ
りなる厚さ0.1μmの中間層を設けた。
【0122】下記の構造式(CGM−1)で示される
4,10−ジブロムアンスアンスロン「モノライトレッド
2Y」(ICI社製)1重量部と、ポリカーボネート樹
脂「パンライトL−1250」(帝人化成社製)0.5重量部
と電荷輸送物質CTM−I 1.0重量部を1,2−ジクロ
ルエタン100重量部に混合し、ボールミルで24時間分散
して塗布液を調製し、この塗布液を用いて浸漬法によ
り、前記中間層上に、乾燥後の膜厚が0.5μmとなるよう
に電荷発生層を形成した。
4,10−ジブロムアンスアンスロン「モノライトレッド
2Y」(ICI社製)1重量部と、ポリカーボネート樹
脂「パンライトL−1250」(帝人化成社製)0.5重量部
と電荷輸送物質CTM−I 1.0重量部を1,2−ジクロ
ルエタン100重量部に混合し、ボールミルで24時間分散
して塗布液を調製し、この塗布液を用いて浸漬法によ
り、前記中間層上に、乾燥後の膜厚が0.5μmとなるよう
に電荷発生層を形成した。
【0123】次いで、ポリシラン及び紫外線吸収剤をト
ルエンに混合し((ポリシラン+UV吸収剤)/トルエ
ン=15W/V%)塗布液を作製し、前記電荷発生層上に乾
燥後の膜厚が20μmの電荷輸送層を形成し電子写真感光
体試料No.1〜No.11を作製した。但しポリシラン及び
紫外線吸収剤は表1に示すように用いた。
ルエンに混合し((ポリシラン+UV吸収剤)/トルエ
ン=15W/V%)塗布液を作製し、前記電荷発生層上に乾
燥後の膜厚が20μmの電荷輸送層を形成し電子写真感光
体試料No.1〜No.11を作製した。但しポリシラン及び
紫外線吸収剤は表1に示すように用いた。
【0124】得られた試料No.1〜No.11についてそれ
ぞれKonica 1550MR(コニカ製)の改造機を用いて評
価した。黒紙電位VB0、白紙電位VW0、残留電位VR0を
求め、感度を評価し、また10万コピーの繰り返し評価を
行なった後、黒紙電位VB、白紙電位VW、残留電位VR
を求めた。その結果を表1に示した。
ぞれKonica 1550MR(コニカ製)の改造機を用いて評
価した。黒紙電位VB0、白紙電位VW0、残留電位VR0を
求め、感度を評価し、また10万コピーの繰り返し評価を
行なった後、黒紙電位VB、白紙電位VW、残留電位VR
を求めた。その結果を表1に示した。
【0125】
【化39】
【0126】
【化40】
【0127】
【化41】
【0128】
【表1】
表1から明らかなように、本発明の試料は初期及び10万
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題がないものであった。
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題がないものであった。
【0129】実施例1−(2)
実施例1−(1)においてUV吸収剤の種類をかえた以
外は同様にして感光体試料を作成し同様の評価を行なっ
た。その結果を表2に示す。但しポリシラン、UV吸収
剤は表2に示すように用いた。
外は同様にして感光体試料を作成し同様の評価を行なっ
た。その結果を表2に示す。但しポリシラン、UV吸収
剤は表2に示すように用いた。
【0130】
【化42】
UV吸収剤(比較用)
実施例1−(1)で示したものと同様の化合物
ポリシラン:実施例1−(1)で示したものと同様
【0131】
【表2】
表2から明らかなように、本発明の試料は初期及び10万
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題がないものであった。
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題がないものであった。
【0132】実施例1−(3)
実施例1−(1)において紫外線吸収剤の種類をかえた
以外は同様にして感光体試料を作成し同様の評価を行な
った。その結果を表3に示す。但しポリシラン、UV吸
収剤は表3に示すように用いた。
以外は同様にして感光体試料を作成し同様の評価を行な
った。その結果を表3に示す。但しポリシラン、UV吸
収剤は表3に示すように用いた。
【0133】
【化43】
UV吸収剤(比較用)
実施例1−(1)で示したものと同様
ポリシラン:実施例1−(1)で示したものと同様
【0134】
【表3】
表3から明らかなように、本発明の試料は初期及び10万
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題がないものであった。
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題がないものであった。
【0135】実施例2−(1)感光体試料No.34〜44の作製
アルミ蒸着ポリエステルベースからなる導電性支持体上
にナイロン共重合体X1874M(ダイセルヒュルス株式会
社製)よりなる厚さ0.1μmの中間層を設けた。下記構造
式で示されるビスアゾ顔料1重量部と、ポリカーボネー
ト樹脂「パンライトL−1300」(帝人化成社製)0.5重
量部、電荷輸送物質CTM−II 1.0重量部をテトラヒ
ドロフラン100重量部に混合し、ボールミルで24時間分
散して塗布液を調製し、この塗布液を用いて浸漬法によ
り、前記中間層上に、乾燥後の膜厚が0.4μmとなるよう
に電荷発生層を形成した。
にナイロン共重合体X1874M(ダイセルヒュルス株式会
社製)よりなる厚さ0.1μmの中間層を設けた。下記構造
式で示されるビスアゾ顔料1重量部と、ポリカーボネー
ト樹脂「パンライトL−1300」(帝人化成社製)0.5重
量部、電荷輸送物質CTM−II 1.0重量部をテトラヒ
ドロフラン100重量部に混合し、ボールミルで24時間分
散して塗布液を調製し、この塗布液を用いて浸漬法によ
り、前記中間層上に、乾燥後の膜厚が0.4μmとなるよう
に電荷発生層を形成した。
【0136】次いで、前述のポリシラン及び紫外線吸収
剤を表4に示すように用いて塗布液を作製し、前記電荷
発生層上に乾燥後の膜厚が20μmの電荷輸送層を形成
し、電子写真感光体試料No.34〜44を作製した。但しポ
リシランとUV吸収剤はバインダーなしでTHFに溶解
(ポリシラン+UV吸収剤=15W/V%)して用いた。
剤を表4に示すように用いて塗布液を作製し、前記電荷
発生層上に乾燥後の膜厚が20μmの電荷輸送層を形成
し、電子写真感光体試料No.34〜44を作製した。但しポ
リシランとUV吸収剤はバインダーなしでTHFに溶解
(ポリシラン+UV吸収剤=15W/V%)して用いた。
【0137】得られた試料No.34〜44についてそれぞれ
Konica 5570MR(コニカ製)の改造機を用いて評価し
た。黒紙電位VB0、白紙電位VW0、残留電位VR0を求
め、感度を評価し、また10万コピー後の黒紙電位VB、
白紙電位VW、残留電位VRを評価した。その結果を表4
に示す。
Konica 5570MR(コニカ製)の改造機を用いて評価し
た。黒紙電位VB0、白紙電位VW0、残留電位VR0を求
め、感度を評価し、また10万コピー後の黒紙電位VB、
白紙電位VW、残留電位VRを評価した。その結果を表4
に示す。
【0138】
【化44】
【0139】
【化45】
ポリシラン:実施例1−(1)で示したものと同様
【0140】
【表4】
表4から明らかなように、本発明の試料は初期及び10万
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題のないものであった。
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題のないものであった。
【0141】実施例2−(2)
実施例2−(1)において紫外線吸収剤の種類をかえた
以外は同様にして感光体試料を作成し同様の評価を行な
った。その結果を表5に示す。但しポリシラン、UV吸
収剤は表5に示すように用いた。
以外は同様にして感光体試料を作成し同様の評価を行な
った。その結果を表5に示す。但しポリシラン、UV吸
収剤は表5に示すように用いた。
【0142】UV吸収剤(本発明)
実施例1−(2)で示したものと同じ化合物
UV吸収剤(比較用)
実施例1−(2)で示したものと同じ化合物
ポリシラン:実施例1−(1)で示したものと同様
【0143】
【表5】
表5から明らかなように、本発明の試料は初期及び10万
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題がないものであった。
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題がないものであった。
【0144】実施例2−(3)
実施例2−(1)において紫外線吸収剤の種類をかえた
以外は同様にして感光体試料を作成し、同様の評価を行
なった。その結果を表6に示す。但しポリシラン、UV
吸収剤は表6に示すように用いた。
以外は同様にして感光体試料を作成し、同様の評価を行
なった。その結果を表6に示す。但しポリシラン、UV
吸収剤は表6に示すように用いた。
【0145】UV吸収剤(本発明)
実施例1−(3)で示したものと同じ化合物
UV吸収剤(比較用)
実施例1−(3)で示したものと同じ化合物
ポリシラン:実施例1−(1)で示したものと同様
【0146】
【表6】
表6から明らかなように、本発明の試料は初期及び10万
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題がないものであった。
コピー後の黒紙電位、白紙電位、残留電位すべてにおい
て満足な値が得られ、問題がないものであった。
【0147】実施例3−(1)チタニルフタロシアニンの合成
フタロジニトリル65gとα−クロルナフタレン500mlの混
合物中に窒素気流下で14.7mlの四塩化チタンを滴下した
後、徐々に200℃まで昇温し、反応温度を200℃〜220℃
の間に保って3時間攪拌して反応を完結させた。その後
放冷し130℃になったところで熱時濾過し、α−クロル
ナフタレンで洗浄した後、メタノールで数回洗浄し更に
80℃の熱水で数回洗浄した。
合物中に窒素気流下で14.7mlの四塩化チタンを滴下した
後、徐々に200℃まで昇温し、反応温度を200℃〜220℃
の間に保って3時間攪拌して反応を完結させた。その後
放冷し130℃になったところで熱時濾過し、α−クロル
ナフタレンで洗浄した後、メタノールで数回洗浄し更に
80℃の熱水で数回洗浄した。
【0148】乾燥後その5gを96%硫酸100g中に添加し
3〜5℃で攪拌し、濾過して得られた硫酸溶液を水1.5
リットル中にあけ、析出した結晶を濾取した。次いで洗
浄液が中性となるまで水洗を繰返した。
3〜5℃で攪拌し、濾過して得られた硫酸溶液を水1.5
リットル中にあけ、析出した結晶を濾取した。次いで洗
浄液が中性となるまで水洗を繰返した。
【0149】このようにして得られたヌッチェケーキに
1,2−ジクロルエタンを加え、室温で1時間攪拌した
のち、濾過しメタノール洗浄してチタニルフタロシアニ
ンの結晶を得た。この結晶は図2に示すようにブラッグ
角2θの27.3°に最大強度のピークを有し、又9.6°、1
1.7°、24.1°に特徴的なピークを示した。
1,2−ジクロルエタンを加え、室温で1時間攪拌した
のち、濾過しメタノール洗浄してチタニルフタロシアニ
ンの結晶を得た。この結晶は図2に示すようにブラッグ
角2θの27.3°に最大強度のピークを有し、又9.6°、1
1.7°、24.1°に特徴的なピークを示した。
【0150】感光体試料No.67〜77の作製
アルミニウムを蒸着したポリエステルベース上に共重合
ポリアミド(CM−8000,東レ社製)よりなる厚さ0.15
μmの下引層を作成した。次いで得られた図2のX線回
折パターンを有するチタニルフタロシアニン1部(wt、
以下同様)、バインダ樹脂としてポリビニルブチラール
「XYHL」(ユニオン・カーバイド社製)1部、分散
媒としてメチルエチルケトン100部をサンドミルを用い
て分散し、これを、上記下引層上にワイヤバーを用いて
塗布して、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
ポリアミド(CM−8000,東レ社製)よりなる厚さ0.15
μmの下引層を作成した。次いで得られた図2のX線回
折パターンを有するチタニルフタロシアニン1部(wt、
以下同様)、バインダ樹脂としてポリビニルブチラール
「XYHL」(ユニオン・カーバイド社製)1部、分散
媒としてメチルエチルケトン100部をサンドミルを用い
て分散し、これを、上記下引層上にワイヤバーを用いて
塗布して、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
【0151】次いで、合計量で7.5部となるようにポリ
シランとUV吸収剤をトルエン25部に溶解した液をブレ
ード塗布機を用いて塗布し乾燥の後、膜厚15μmの電荷
輸送層を形成し電子写真感光体試料No.67〜77を作製し
た。但しポリシランとUV吸収剤は表7に示すように用
いた。
シランとUV吸収剤をトルエン25部に溶解した液をブレ
ード塗布機を用いて塗布し乾燥の後、膜厚15μmの電荷
輸送層を形成し電子写真感光体試料No.67〜77を作製し
た。但しポリシランとUV吸収剤は表7に示すように用
いた。
【0152】得られた試料No.67〜77についてそれぞれ
Konica DC8010(コニカ製)の改造機を用いて評価し
た。未露光部電位VH0、露光電位VL0、残留電位VR0を
求め、感度を評価し、また10万コピー後の未露光部電位
VH、露光部電位VL、残留電位VRを評価した。その結
果を表7に示す。
Konica DC8010(コニカ製)の改造機を用いて評価し
た。未露光部電位VH0、露光電位VL0、残留電位VR0を
求め、感度を評価し、また10万コピー後の未露光部電位
VH、露光部電位VL、残留電位VRを評価した。その結
果を表7に示す。
【0153】
【化46】
ポリシラン:実施例1−(1)で示したものと同様
【0154】
【表7】
表7から明らかなように、本発明の試料は初期及び10万
コピー後の未露光部電位、露光部電位、残留電位すべて
において満足な値が得られ、問題がないものであった。
コピー後の未露光部電位、露光部電位、残留電位すべて
において満足な値が得られ、問題がないものであった。
【0155】実施例3−(2)
実施例3−(1)において紫外線吸収剤の種類をかえた
以外は同様にして感光体試料を作成し同様の評価を行な
った。その結果を表8に示す。但しポリシラン、UV吸
収剤は表8に示すように用いた。
以外は同様にして感光体試料を作成し同様の評価を行な
った。その結果を表8に示す。但しポリシラン、UV吸
収剤は表8に示すように用いた。
【0156】UV吸収剤(本発明)
実施例1−(2)で示したものと同じ化合物
UV吸収剤(比較用)
実施例1−(2)で示したものと同じ化合物
ポリシラン:実施例1−(1)で示したものと同様
【0157】
【表8】
表8から明らかなように、本発明の試料は初期及び10万
コピー後の未露光部電位、露光部電位、残留電位すべて
において満足な値が得られ、問題がないものであった。
コピー後の未露光部電位、露光部電位、残留電位すべて
において満足な値が得られ、問題がないものであった。
【0158】実施例3−(3)
実施例3−(1)において紫外線吸収剤の種類をかえた
以外は同様にして感光体試料を作成し同様の評価を行な
った。その結果を表9に示す。但しポリシラン、UV吸
収剤は表9に示すように用いた。
以外は同様にして感光体試料を作成し同様の評価を行な
った。その結果を表9に示す。但しポリシラン、UV吸
収剤は表9に示すように用いた。
【0159】UV吸収剤(本発明)
実施例1−(3)で示したものと同じ化合物
UV吸収剤(比較用)
実施例1−(3)で示したものと同じ化合物
ポリシラン:実施例1−(1)で示したものと同様
【0160】
【表9】
表9から明らかなように、本発明の試料は初期及び10万
コピー後の未露光部電位、露光部電位、残留電位すべて
において満足な値が得られ、問題がないものであった。
コピー後の未露光部電位、露光部電位、残留電位すべて
において満足な値が得られ、問題がないものであった。
【0161】
【発明の効果】以上詳しく説明したように本発明により
キャリア輸送能に優れ、高感度かつ繰り返しの電位安定
性に優れた電子写真感光体を提供することができた。
キャリア輸送能に優れ、高感度かつ繰り返しの電位安定
性に優れた電子写真感光体を提供することができた。
【図1】(イ),(ロ),(ハ),(ニ)はそれぞれ本
発明の感光体の構成例について示す断面図である。
発明の感光体の構成例について示す断面図である。
【図2】実施例で用いられたチタニルフタロシアニンの
X線回折図である。
X線回折図である。
1 導電性支持体
2 電荷発生層
3 電荷輸送層
4A,4B 感光層
5 中間層
Claims (3)
- 【請求項1】 導電性支持体上に少なくともポリシラン
及び紫外線吸収剤を含有する電荷輸送層を有する電子写
真感光体において、該ポリシランが下記一般式(I)及
び/又は一般式(II)で表わされる繰り返し単位を有す
る単独重合体もしくは共重合体であり、かつ紫外線吸収
剤が下記一般式(III)で表わされる化合物であること
を特徴とする電子写真感光体。 【化1】 (式中R1,R2,R3及びR4はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、エーテル基、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未
置換のアルコキシ基、アルキルシリル基又はアリールシ
リル基を表わす。) 【化2】 (式中R5,R6,R7,R8及びR9はそれぞれ水素原
子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロア
ルキル基又はヘテロ環基を表わす。) - 【請求項2】 導電性支持体上に少なくともポリシラン
及び紫外線吸収剤を含有する電荷輸送層を有する電子写
真感光体において、該ポリシランが下記一般式(I)及
び/又は一般式(II)で表わされる繰り返し単位を有す
る単独重合体もしくは共重合体であり、かつ紫外線吸収
剤が下記一般式(IV)で表わされる化合物であることを
特徴とする電子写真感光体。 【化3】 (式中R1,R2,R3及びR4はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、エーテル基、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未
置換のアルコキシ基、アルキルシリル基又はアリールシ
リル基を表わす。) 【化4】 (式中A1は酸素原子又はイオウ原子を表わし、R10及
びR11はそれぞれアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アラルキル基又は他の基を含む有機基を表わす。) 【化5】 基を含む有機基を表わす。) - 【請求項3】 導電性支持体上に少なくともポリシラン
及び紫外線吸収剤を含有する電荷輸送層を有する電子写
真感光体において、該ポリシランが下記一般式(I)及
び/又は一般式(II)で表わされる繰り返し単位を有す
る単独重合体もしくは共重合体であり、かつ紫外線吸収
剤が下記一般式(V)で表わされる化合物であることを
特徴とする電子写真感光体。 【化6】 (式中R1,R2,R3及びR4はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、エーテル基、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未
置換のアルコキシ基、アルキルシリル基又はアリールシ
リル基を表わす。) 一般式(V) R12−A2−COCOOH (式中R12はアリール基又は置換アリール基を表わし、
A2は−CH2−又は−CH=CR13−を表わし、R13は
水素原子又はハロゲン原子を表わす。)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19576391A JPH0519497A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 電子写真感光体 |
US07/896,156 US5278014A (en) | 1991-06-21 | 1992-06-10 | Electrophotographic photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19576391A JPH0519497A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0519497A true JPH0519497A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=16346556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19576391A Pending JPH0519497A (ja) | 1991-06-21 | 1991-07-10 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0519497A (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0654495A1 (fr) * | 1993-11-24 | 1995-05-24 | France Telecom | Film photoconducteur formé d'un polymère de silane greffé, procédé de préparation, procédé de formation d'une image électrostatique mettant en oeuvre un tel film et valve optique comportant un tel film |
EP1600822A2 (en) | 2004-05-25 | 2005-11-30 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor and image forming method, apparatus and process cartridge therefor using the photoreceptor |
US7416823B2 (en) | 2004-01-15 | 2008-08-26 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and image formation method, image formation apparatus, and process cartridge for image formation apparatus using the same |
EP2017676A1 (en) | 2006-04-17 | 2009-01-21 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus, image forming method, and process cartridge |
US7718335B2 (en) | 2005-12-27 | 2010-05-18 | Ricoh Company Limited | Image bearing member, and image forming apparatus and process cartridge using the same |
US7865114B2 (en) | 2006-11-21 | 2011-01-04 | Ricoh Company Limited | Image forming apparatus, image forming method and process cartridge |
US7914959B2 (en) | 2005-11-28 | 2011-03-29 | Ricoh Company, Limited | Image bearing member, image forming method, and image forming apparatus |
US7985519B2 (en) | 2007-01-29 | 2011-07-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | Aromatic polycarbonate, electrophotographic photoreceptor, and image forming apparatus |
US8043773B2 (en) | 2006-11-16 | 2011-10-25 | Ricoh Company, Limited | Image bearing member, image forming apparatus and process cartridge |
US8148038B2 (en) | 2007-07-02 | 2012-04-03 | Ricoh Company, Ltd. | Image bearing member, process cartridge, image forming apparatus and method of forming image bearing member |
WO2012099182A1 (en) | 2011-01-21 | 2012-07-26 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and image forming method, image forming apparatus, and process cartridge using the electrophotographic photoconductor |
US9535344B2 (en) | 2014-12-26 | 2017-01-03 | Ricoh Company, Ltd. | Photoconductor, image-forming apparatus, and cartridge |
-
1991
- 1991-07-10 JP JP19576391A patent/JPH0519497A/ja active Pending
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2712893A1 (fr) * | 1993-11-24 | 1995-06-02 | France Telecom | Film photoconducteur formé d'un polymère de silane greffé, procédé de préparation, procédé de formation d'une image électrostatique mettant en Óoeuvre un tel film et valve optique comportant un tel film. |
EP0654495A1 (fr) * | 1993-11-24 | 1995-05-24 | France Telecom | Film photoconducteur formé d'un polymère de silane greffé, procédé de préparation, procédé de formation d'une image électrostatique mettant en oeuvre un tel film et valve optique comportant un tel film |
US7416823B2 (en) | 2004-01-15 | 2008-08-26 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and image formation method, image formation apparatus, and process cartridge for image formation apparatus using the same |
EP1600822A2 (en) | 2004-05-25 | 2005-11-30 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor and image forming method, apparatus and process cartridge therefor using the photoreceptor |
US7914959B2 (en) | 2005-11-28 | 2011-03-29 | Ricoh Company, Limited | Image bearing member, image forming method, and image forming apparatus |
US7718335B2 (en) | 2005-12-27 | 2010-05-18 | Ricoh Company Limited | Image bearing member, and image forming apparatus and process cartridge using the same |
EP2017676A1 (en) | 2006-04-17 | 2009-01-21 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus, image forming method, and process cartridge |
US8043773B2 (en) | 2006-11-16 | 2011-10-25 | Ricoh Company, Limited | Image bearing member, image forming apparatus and process cartridge |
US7865114B2 (en) | 2006-11-21 | 2011-01-04 | Ricoh Company Limited | Image forming apparatus, image forming method and process cartridge |
US7985519B2 (en) | 2007-01-29 | 2011-07-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | Aromatic polycarbonate, electrophotographic photoreceptor, and image forming apparatus |
US8148038B2 (en) | 2007-07-02 | 2012-04-03 | Ricoh Company, Ltd. | Image bearing member, process cartridge, image forming apparatus and method of forming image bearing member |
WO2012099182A1 (en) | 2011-01-21 | 2012-07-26 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and image forming method, image forming apparatus, and process cartridge using the electrophotographic photoconductor |
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