JP7363638B2 - 表示制御装置及び制御プログラム - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施形態に係る表示制御装置を含む鋳造システム1を概略的に示す構成図である。鋳造システム1は、搬送路にそって搬送される複数の鋳型2に注湯することによって鋳物を製造するシステムである。鋳造システム1は、表示制御装置10、検査装置20、入出力装置30、造型機40、ラインコントローラ50、注湯機60、搬送装置70、型合わせ装置110、及びプロジェクタ80を備える。
図8は、鋳造システム1における鋳物の製造工程を示す工程図である。造型工程S01において、ラインコントローラ50は、造型機40に造型を指示する旨の制御信号及び位置Pの鋳型情報を送信する。造型機40は、ラインコントローラ50から受信される鋳型情報に含まれるパターンコードで示される種類の鋳型2を製造する。
本発明の他の実施形態について説明する。この実施形態が上述した実施形態1と異なる点は、表示制御装置10が行う鋳型2の検査結果の表示処理(図9のステップS103の処理)の内容が異なる点である。なお、説明の便宜上、上記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。
図14は、本実施形態に係る鋳造システム1Cの概略構成を示す図である。図14の例では、1つの工場の中に複数の鋳造ラインL1、L2、L3、…が併設されている。鋳造ラインL1、L2、L3、…はそれぞれ、図2に示した鋳造システム1を含む。特に、鋳造ラインL1、L2、L3、…はそれぞれ、表示制御装置10、入出力装置30、ラインコントローラ50、及びゲートウェイGWを含む。表示制御装置10、入出力装置30、及びラインコントローラ50は、上述の実施形態1のそれらと同様である。
図15は、本実施形態に係る鋳造システム1Dの概略構成を示す図である。鋳造システム1Dは、1つの工場8の中に複数の鋳造ラインが併設された鋳造システム1Cを、複数備える。各鋳造システム1Cでは、鋳造ライン毎に管理が行われる。各鋳造システム1Cの管理サーバ5は、ネットワーク4を介して統合監視サーバ7と接続される。統合監視サーバ7は、複数の管理サーバ5からデータを受信し、データの整理及び管理を行う。
上述の実施形態1において、表示制御部11が、搬送装置70により搬送される鋳型2の位置に追従させて、マーカ画像の投影方向(又はレーザ光の照射方向)を変更してもよい。この場合、表示制御部11は、ラインコントローラ50から鋳型2の位置に関する情報を取得し、取得した情報に従って投影方向(又は照射方向)を制御する。位置に関する情報は例えば、プロジェクタ80に対する鋳型2の相対的な位置を示す情報、鋳型2の絶対位置を示す情報、搬送装置70による鋳型2の搬送速度である。この態様によれば、鋳型2が移動する場合であっても、マーカを鋳型2の位置に追従させて鋳型2上にマーカを光学的に表示することができる。これにより、鋳型2の作業者は、作業対象である鋳型2の検査結果を、鋳型2を視認するだけで把握することができる。
表示制御装置10、検査装置20、入出力装置30、及びラインコントローラ50の制御ブロック(特に表示制御部11及び特定部12)は、集積回路(ICチップ)等に形成された論理回路(ハードウェア)によって実現してもよいし、ソフトウェアによって実現してもよい。
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。上述した実施形態に含まれる個々の技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても、本発明の技術的範囲に含まれる。
2 鋳型
3 鋳枠
10、10B 表示制御装置
11 表示制御部
12 特定部
20 検査装置
21 センサ
30 入出力装置
40 造型機
50 ラインコントローラ
60 注湯機
70 搬送装置
80 プロジェクタ
90 レーザ光源
101 プロセッサ
102 主メモリ
103 補助メモリ
104 入力インタフェース
105 出力インタフェース
A1 中子セット場
f11~f13 矩形画像
f21~f23 図形
m1~m2 マーカ画像
P1~P19 位置
w1 壁面
Claims (9)
- コントローラを備え、
前記コントローラは、
鋳型を検査した検査結果により特定される当該鋳型の欠陥を示すマーカを、当該鋳型上に光学的に表示する第1の表示処理と、
前記第1の表示処理により前記マーカを表示している期間において、前記欠陥を表す画像を前記鋳型を表す基準画像に重畳した重畳画像をディスプレイに表示する第2の表示処理と、
を実行し、
前記基準画像は、当該鋳型を造型するための模型を用いて欠陥なしに造型された鋳型を撮影した画像データである、
ことを特徴とする表示制御装置。 - 前記コントローラは、前記第1の表示処理において、プロジェクタを制御して前記鋳型の欠陥を示すマーカ画像を前記鋳型に投影する、
ことを特徴とする請求項1に記載の表示制御装置。 - 前記コントローラは、前記第1の表示処理において、前記マーカ画像を前記鋳型の前記欠陥に対応する位置に投影する、
ことを特徴とする請求項2に記載の表示制御装置。 - 前記コントローラは、前記第1の表示処理において、レーザ光源を制御して前記鋳型にレーザ光を照射する、
ことを特徴とする請求項1に記載の表示制御装置。 - 前記コントローラは、前記第1の表示処理において、前記レーザ光を前記鋳型の前記欠陥に対応する位置に照射する、
ことを特徴とする請求項4に記載の表示制御装置。 - 前記コントローラは、前記第1の表示処理において、前記欠陥の態様に応じて前記レーザ光の照射態様を異ならせる、
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の表示制御装置。 - 前記コントローラは、
搬送路に沿って搬送される複数の鋳型の中から、表示対象とする鋳型を特定する特定処理、を更に実行し、
前記第1の表示処理において、前記特定処理において特定した鋳型を検査した検査結果により示される前記鋳型の欠陥を示すマーカを、前記搬送路に沿って搬送される前記複数の鋳型のうちの当該検査結果に対応する鋳型上に光学的に表示する、
請求項1~6までの何れか1項に記載の表示制御装置。 - 前記コントローラは、
予め定められたプログラムに従って前記各処理を実行する少なくとも1つのプロセッサと、
前記プログラムを格納した少なくとも1つのメモリと、を備えている、
ことを特徴とする請求項1~7までの何れか1項に記載の表示制御装置。 - 請求項1~8の何れか1項に記載の表示制御装置を制御する制御プログラムであって、前記コントローラに前記各処理を実行させることを特徴とする制御プログラム。
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