JP6630861B2 - Sealing sheet with separator and method of manufacturing semiconductor device - Google Patents

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Description

本発明は、セパレータ付き封止用シート、及び、半導体装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a sealing sheet with a separator and a method for manufacturing a semiconductor device.

従来、半導体装置の製造方法としては、基板などに固定された１又は複数の半導体チップを封止樹脂にて封止した後、封止体を半導体装置単位のパッケージとなるようにダイシングするという方法が知られている。このような封止樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂で構成される封止用シートが知られている（例えば、特許文献１参照）。このような封止用シートは、通常、使用される前はセパレータで覆われている。   2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of manufacturing a semiconductor device, a method of sealing one or a plurality of semiconductor chips fixed to a substrate or the like with a sealing resin and then dicing the sealed body into a package of a semiconductor device unit. It has been known. As such a sealing resin, for example, a sealing sheet made of a thermosetting resin is known (for example, see Patent Document 1). Such a sealing sheet is usually covered with a separator before use.

特開２００６−１９７１４号公報JP 2006-19714 A

従来、上述した方法により半導体装置を製造する場合、封止用シートの反対側の面にセパレータがついたままの状態で、封止用シートに半導体チップを埋め込む。その後、セパレータを剥離し、続いて、封止用シートを熱硬化させている。   Conventionally, when a semiconductor device is manufactured by the above-described method, a semiconductor chip is embedded in a sealing sheet while the separator is still attached to the surface on the opposite side of the sealing sheet. Thereafter, the separator is peeled off, and then the sealing sheet is thermally cured.

しかしながら、この手順により半導体装置を製造した場合、半導体装置の外観（特に、封止用シートの表面）が損なわれる場合がある。   However, when a semiconductor device is manufactured by this procedure, the appearance of the semiconductor device (particularly, the surface of the sealing sheet) may be impaired.

本発明は上述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、製造される半導体装置の外観を良好とすることが可能なセパレータ付き封止用シート、及び、半導体装置の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and has as its object to provide a sealing sheet with a separator capable of improving the appearance of a semiconductor device to be manufactured, and a method for manufacturing a semiconductor device. Is to do.

本発明者らは、半導体装置の外観が損なわれる原因について鋭意研究した。その結果、セパレータを剥離してから封止用シートを熱硬化させると、熱硬化後の封止シートの外観が損なわれることを見出した。そして、熱硬化後に、セパレータを剥離できれば、半導体装置の外観が良好となることを見出した。さらに、本発明者らは、鋭意研究した結果、セパレータがアミノアルキド系離型剤で処理されていると、熱硬化後に封止用シートからセパレータを容易に剥離できることを見出し、本発明を完成させるに至った。   The present inventors have conducted intensive studies on the cause of the deterioration of the appearance of a semiconductor device. As a result, they have found that when the sealing sheet is thermally cured after the separator is peeled off, the appearance of the thermally cured sealing sheet is impaired. Then, they have found that if the separator can be peeled off after heat curing, the appearance of the semiconductor device will be good. Furthermore, the present inventors have assiduously studied and, as a result, have found that when the separator is treated with an aminoalkyd-based release agent, the separator can be easily peeled off from the sealing sheet after heat curing, and the present invention is completed. Reached.

すなわち、本発明は、セパレータ付き封止用シートであって、
セパレータと、
前記セパレータ上に積層された封止用シートとを備え、
前記セパレータは、前記封止用シートと接する面がアミノアルキド系離型剤で処理されていることを特徴とする。 That is, the present invention is a sealing sheet with a separator,
A separator,
A sealing sheet laminated on the separator,
The separator is characterized in that a surface in contact with the sealing sheet is treated with an aminoalkyd release agent.

前記構成によれば、セパレータの、封止用シートと接する面がアミノアルキド系離型剤で処理されている。従って、封止用シートを熱硬化させた後に、封止用シートからセパレータを容易に剥離できる。その結果、例えば、半導体チップ上に、当該セパレータ付き封止用シートを配置した後、半導体チップを封止用シートに埋め込み、前記半導体チップが前記封止用シートに埋め込まれた封止体を形成し（下記工程Ｃ）、セパレータがついたままの状態で前記封止体の封止用シートを熱硬化させることができる（下記工程Ｄ）。これにより、封止用シートの熱硬化時の表面荒れを抑制することができる。また、セパレータの、封止用シートと接する面がアミノアルキド系離型剤で処理されているため、熱硬化後に、セパレータを封止用シートから容易に剥離できる（下記工程Ｅ）。熱硬化後であっても、セパレータを封止用シートから容易に剥離できるため、当該セパレータ付き封止用シートを使用すれば、表面荒れが抑制され、外観が良好な半導体装置を得ることができる。   According to the configuration, the surface of the separator that is in contact with the sealing sheet is treated with the aminoalkyd release agent. Therefore, the separator can be easily peeled off from the sealing sheet after the sealing sheet is thermally cured. As a result, for example, after disposing the sealing sheet with the separator on the semiconductor chip, the semiconductor chip is embedded in the sealing sheet to form a sealing body in which the semiconductor chip is embedded in the sealing sheet. Then, the sealing sheet of the sealing body can be thermoset with the separator attached (Step D below). Thereby, surface roughness at the time of thermosetting of the sheet for sealing can be controlled. In addition, since the surface of the separator that is in contact with the sealing sheet is treated with the aminoalkyd release agent, the separator can be easily peeled off from the sealing sheet after thermosetting (step E below). Even after heat curing, the separator can be easily peeled off from the sealing sheet. Therefore, when the sealing sheet with the separator is used, surface roughness is suppressed, and a semiconductor device with good appearance can be obtained. .

前記構成においては、１５０℃で１時間加熱後の前記封止用シートと前記セパレータとの剥離強度が０．４Ｎ／１００ｍｍ幅未満であることが好ましい。   In the above configuration, the peel strength between the sealing sheet and the separator after heating at 150 ° C. for 1 hour is preferably less than 0.4 N / 100 mm width.

１５０℃で１時間加熱後の前記封止用シートと前記セパレータとの剥離強度が０．４Ｎ／１００ｍｍ幅未満であれば、封止用シートを熱硬化させた後に、より容易にセパレータを封止用シートから剥離することができる。   If the peel strength between the sealing sheet and the separator after heating at 150 ° C. for 1 hour is less than 0.4 N / 100 mm width, the separator is more easily sealed after the sealing sheet is thermally cured. Can be peeled from the application sheet.

前記構成において、前記封止用シートは、エポキシ樹脂を含むことが好ましい。   In the above configuration, the sealing sheet preferably contains an epoxy resin.

本発明者らは、アミノアルキド系離型剤で処理されたセパレータと、エポキシ樹脂を含む封止用シートとの間の剥離強度が、加熱後においても低いことを見出した。すなわち、封止用シートがエポキシ樹脂を含むと、加熱後における、前記セパレータとの剥離強度をより低くすることができる。   The present inventors have found that the peel strength between a separator treated with an aminoalkyd-based release agent and a sealing sheet containing an epoxy resin is low even after heating. That is, when the sealing sheet contains an epoxy resin, the peel strength from the separator after heating can be further reduced.

また、本発明に係る半導体装置の製造方法は、
半導体チップが支持体上に固定された積層体を準備する工程Ａと、
前記セパレータ付き封止用シートを準備する工程Ｘと、
前記積層体の前記半導体チップ上に、前記セパレータ付き封止用シートを配置する工程Ｂと、
前記半導体チップを前記封止用シートに埋め込み、前記半導体チップが前記封止用シートに埋め込まれた封止体を形成する工程Ｃと、
前記封止体の前記封止用シートを熱硬化させる工程Ｄと、
前記工程Ｄの後に、前記セパレータを剥離する工程Ｅとを含むことを特徴とする。 Further, the method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes:
Step A of preparing a laminate in which a semiconductor chip is fixed on a support,
Step X of preparing the sealing sheet with the separator,
A step B of disposing the sealing sheet with a separator on the semiconductor chip of the laminate,
A step C of embedding the semiconductor chip in the sealing sheet and forming a sealed body in which the semiconductor chip is embedded in the sealing sheet;
A step D of thermally curing the sealing sheet of the sealing body;
After the step D, a step E of removing the separator is included.

前記構成によれば、半導体チップ上に、前記セパレータ付き封止用シートを配置した後、半導体チップを封止用シートに埋め込み、前記半導体チップが前記封止用シートに埋め込まれた封止体を形成する（工程Ｃ）。そして、セパレータがついたままの状態で前記封止体の封止用シートを熱硬化させる（工程Ｄ）。セパレータがついたままの状態で封止用シートを熱硬化させるため、封止用シートの熱硬化時の表面荒れを抑制することができる。そして、熱硬化後に、セパレータを封止用シートから剥離する（工程Ｅ）。セパレータの、封止用シートと接する面がアミノアルキド系離型剤で処理されているため、熱硬化後に、セパレータを封止用シートから容易に剥離できる。熱硬化後であっても、セパレータを封止用シートから容易に剥離できるため、表面荒れが抑制され、外観が良好な半導体装置を得ることができる。   According to the configuration, after disposing the sealing sheet with the separator on the semiconductor chip, the semiconductor chip is embedded in the sealing sheet, and the sealing body in which the semiconductor chip is embedded in the sealing sheet is (Step C). Then, the sealing sheet of the sealing body is thermally cured while the separator is still attached (Step D). Since the sealing sheet is thermoset with the separator attached, the surface roughness of the sealing sheet during thermosetting can be suppressed. Then, after heat curing, the separator is peeled off from the sealing sheet (step E). Since the surface of the separator that is in contact with the sealing sheet is treated with the aminoalkyd release agent, the separator can be easily peeled off from the sealing sheet after heat curing. Even after heat curing, the separator can be easily peeled off from the sealing sheet, so that surface roughness is suppressed and a semiconductor device with good appearance can be obtained.

本発明によれば、製造される半導体装置の外観を良好とすることが可能なセパレータ付き封止用シートを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the sealing sheet with a separator which can make the external appearance of the manufactured semiconductor device favorable can be provided.

本実施形態に係るセパレータ付き封止用シートの断面模式図である。It is a cross section of a sheet for closure with a separator concerning this embodiment. 本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment. 本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment. 本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment. 本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment. 本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment. 本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment. 本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment. 本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment. 本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment. 本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the embodiment.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。ただし、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to only these embodiments.

（セパレータ付き封止用シート）
図１に示すように、セパレータ付き封止用シート１０は、セパレータ１６と封止用シート１１とが積層された構成を有する。 (Sealing sheet with separator)
As shown in FIG. 1, the sealing sheet 10 with a separator has a configuration in which the separator 16 and the sealing sheet 11 are stacked.

（セパレータ）
セパレータ１６としては、例えば、プラスチックフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム）、不織布、紙などが挙げられる。前記基材は単層であってもよく２種以上の複層でもよい。 (Separator)
Examples of the separator 16 include a plastic film (for example, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene film, and a polypropylene film), a nonwoven fabric, and paper. The base material may be a single layer or two or more layers.

セパレータ１６は、封止用シート１１と接する面がアミノアルキド系離型剤で処理されている。従って、封止用シート１１を熱硬化させた後に、封止用シート１１からセパレータ１６を容易に剥離できる。   The surface of the separator 16 that is in contact with the sealing sheet 11 is treated with an aminoalkyd release agent. Therefore, the separator 16 can be easily peeled off from the sealing sheet 11 after the sealing sheet 11 is thermally cured.

セパレータ１６の厚さとしては、特に限定されないが、セパレータ剥離時のハンドリング性の観点から１０μｍ以上が好ましく、２５μｍ以上であることがより好ましい。また、セパレータの剥離し易さの観点から、２００μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましい。   The thickness of the separator 16 is not particularly limited, but is preferably 10 μm or more, and more preferably 25 μm or more, from the viewpoint of handleability at the time of separating the separator. In addition, from the viewpoint of easy separation of the separator, the thickness is preferably 200 μm or less, and more preferably 100 μm or less.

セパレータ１６の平面視での大きさ及び形状は、特に限定されないが、本実施形態のように、封止用シート１１の平面視での大きさ及び形状と同様とすることができる（図１参照）。また、セパレータ１６の平面視での大きさ及び形状は、封止用シート１１よりも大きい大きさ及び形状としてもよい。   The size and shape of the separator 16 in plan view are not particularly limited, but can be the same as the size and shape of the sealing sheet 11 in plan view as in the present embodiment (see FIG. 1). ). The size and shape of the separator 16 in plan view may be larger than the size and shape of the sealing sheet 11.

セパレータ１６は、封止用シート１１との接触面にエンボス加工が施されていてもよい。エンボス加工が施されていると、工程Ｄの後の外観をより向上させることができる。   The separator 16 may be embossed on the contact surface with the sealing sheet 11. When the embossing is performed, the appearance after the step D can be further improved.

（封止用シート）
封止用シート１１の構成材料としては、熱硬化性樹脂を含むことが好ましく、なかでも、エポキシ樹脂、及び、硬化剤としてのフェノール樹脂を含むことが好ましい。これにより、良好な熱硬化性が得られる。また、封止用シート１１がエポキシ樹脂を含むと、加熱後における、セパレータ１６との剥離強度をより低くすることができる。 (Sealing sheet)
The constituent material of the sealing sheet 11 preferably contains a thermosetting resin, and particularly preferably contains an epoxy resin and a phenol resin as a curing agent. Thereby, good thermosetting properties can be obtained. Further, when the sealing sheet 11 contains an epoxy resin, the peel strength between the sealing sheet 11 and the separator 16 after heating can be further reduced.

前記エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではない。例えば、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、変性ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、変性ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂などの各種のエポキシ樹脂を用いることができる。これらエポキシ樹脂は単独で用いてもよいし２種以上併用してもよい。   The epoxy resin is not particularly limited. For example, triphenylmethane type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, modified bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, modified bisphenol F type epoxy resin, dicyclopentadiene type Various epoxy resins such as an epoxy resin, a phenol novolak type epoxy resin, and a phenoxy resin can be used. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂の硬化後の靭性及びエポキシ樹脂の反応性を確保する観点からは、エポキシ当量１５０〜２５０、軟化点もしくは融点が５０〜１３０℃の常温で固形のものが好ましく、なかでも、信頼性の観点から、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂がより好ましい。   From the viewpoint of ensuring the toughness of the epoxy resin after curing and the reactivity of the epoxy resin, those having an epoxy equivalent of 150 to 250, a softening point or a melting point of 50 to 130 ° C. and solid at room temperature are preferable, and among them, From a viewpoint, a triphenylmethane type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, and a biphenyl type epoxy resin are more preferable.

前記フェノール樹脂は、エポキシ樹脂との間で硬化反応を生起するものであれば特に限定されるものではない。例えば、フェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、クレゾールノボラック樹脂、レゾール樹脂などが用いられる。これらフェノール樹脂は単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。   The phenol resin is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the epoxy resin. For example, a phenol novolak resin, a phenol aralkyl resin, a biphenyl aralkyl resin, a dicyclopentadiene type phenol resin, a cresol novolak resin, a resole resin, and the like are used. These phenol resins may be used alone or in combination of two or more.

前記フェノール樹脂としては、エポキシ樹脂との反応性の観点から、水酸基当量が７０〜２５０、軟化点が５０〜１１０℃のものを用いることが好ましく、なかでも硬化反応性が高いという観点から、フェノールノボラック樹脂を好適に用いることができる。また、信頼性の観点から、フェノールアラルキル樹脂やビフェニルアラルキル樹脂のような低吸湿性のものも好適に用いることができる。   As the phenol resin, from the viewpoint of reactivity with the epoxy resin, it is preferable to use one having a hydroxyl equivalent of 70 to 250 and a softening point of 50 to 110 ° C. Novolak resins can be suitably used. Further, from the viewpoint of reliability, a low-hygroscopic resin such as a phenol aralkyl resin or a biphenyl aralkyl resin can also be suitably used.

エポキシ樹脂とフェノール樹脂の配合割合は、硬化反応性という観点から、エポキシ樹脂中のエポキシ基１当量に対して、フェノール樹脂中の水酸基の合計が０．７〜１．５当量となるように配合することが好ましく、より好ましくは０．９〜１．２当量である。   The mixing ratio of the epoxy resin and the phenol resin is set such that the total of the hydroxyl groups in the phenol resin is 0.7 to 1.5 equivalents per 1 equivalent of the epoxy group in the epoxy resin from the viewpoint of curing reactivity. And more preferably 0.9 to 1.2 equivalents.

封止用シート１１中のエポキシ樹脂及びフェノール樹脂の合計含有量は、２．５重量％以上が好ましく、３．０重量％以上がより好ましい。２．５重量％以上であると、半導体チップ２３、半導体ウエハ２２などに対する接着力が良好に得られる。封止用シート１１中のエポキシ樹脂及びフェノール樹脂の合計含有量は、２０重量％以下が好ましく、１０重量％以下がより好ましい。２０重量％以下であると、吸湿性を低減できる。   The total content of the epoxy resin and the phenol resin in the sealing sheet 11 is preferably 2.5% by weight or more, more preferably 3.0% by weight or more. When the content is 2.5% by weight or more, good adhesion to the semiconductor chip 23, the semiconductor wafer 22, and the like can be obtained. The total content of the epoxy resin and the phenol resin in the sealing sheet 11 is preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less. When the content is 20% by weight or less, the hygroscopicity can be reduced.

封止用シート１１は、熱可塑性樹脂を含んでもよい。これにより、未硬化時のハンドリング性や、硬化物の低応力性が得られる。   The sheet for sealing 11 may include a thermoplastic resin. Thereby, the handleability at the time of uncuring and the low stress property of the cured product are obtained.

前記熱可塑性樹脂としては、天然ゴム、ブチルゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、ポリブタジエン樹脂、ポリカーボネート樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、６−ナイロンや６，６−ナイロンなどのポリアミド樹脂、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、ＰＥＴやＰＢＴなどの飽和ポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂、スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体などが挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。なかでも、低応力性、低吸水性という観点から、スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体が好ましい。   Examples of the thermoplastic resin include natural rubber, butyl rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-acrylate copolymer, polybutadiene resin, polycarbonate resin, Plastic polyimide resin, polyamide resin such as 6-nylon and 6,6-nylon, phenoxy resin, acrylic resin, saturated polyester resin such as PET and PBT, polyamide-imide resin, fluorine resin, styrene-isobutylene-styrene block copolymer, etc. Is mentioned. These thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more. Among them, a styrene-isobutylene-styrene block copolymer is preferred from the viewpoint of low stress and low water absorption.

封止用シート１１中の熱可塑性樹脂の含有量は、１．５重量％以上、２．０重量％以上とすることができる。１．５重量％以上であると、柔軟性、可撓性が得られる。封止用シート１１中の熱可塑性樹脂の含有量は、６重量％以下が好ましく、４重量％以下がより好ましい。４重量％以下であると、半導体チップ２３や半導体ウエハ２２との接着性が良好である。   The content of the thermoplastic resin in the sealing sheet 11 can be 1.5% by weight or more and 2.0% by weight or more. When the content is 1.5% by weight or more, flexibility and flexibility can be obtained. The content of the thermoplastic resin in the sealing sheet 11 is preferably 6% by weight or less, and more preferably 4% by weight or less. When the content is 4% by weight or less, the adhesion to the semiconductor chip 23 and the semiconductor wafer 22 is good.

封止用シート１１は、無機充填剤を含むことが好ましい。   The sealing sheet 11 preferably contains an inorganic filler.

前記無機充填剤は、特に限定されるものではなく、従来公知の各種充填剤を用いることができ、例えば、石英ガラス、タルク、シリカ（溶融シリカや結晶性シリカなど）、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化ホウ素の粉末が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。なかでも、線膨張係数を良好に低減できるという理由から、シリカ、アルミナが好ましく、シリカがより好ましい。   The inorganic filler is not particularly limited, and various conventionally known fillers can be used. Examples thereof include quartz glass, talc, silica (such as fused silica and crystalline silica), alumina, aluminum nitride, and nitride. Examples of the powder include silicon and boron nitride. These may be used alone or in combination of two or more. Among them, silica and alumina are preferred, and silica is more preferred, because the coefficient of linear expansion can be favorably reduced.

シリカとしては、シリカ粉末が好ましく、溶融シリカ粉末がより好ましい。溶融シリカ粉末としては、球状溶融シリカ粉末、破砕溶融シリカ粉末が挙げられるが、流動性という観点から、球状溶融シリカ粉末が好ましい。なかでも、平均粒径が１０〜３０μｍの範囲のものが好ましく、１５〜２５μｍの範囲のものがより好ましい。
なお、平均粒径は、例えば、母集団から任意に抽出される試料を用い、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置を用いて測定することにより導き出すことができる。 As silica, silica powder is preferred, and fused silica powder is more preferred. Examples of the fused silica powder include a spherical fused silica powder and a crushed fused silica powder, and a spherical fused silica powder is preferable from the viewpoint of fluidity. Among them, those having an average particle size in the range of 10 to 30 μm are preferable, and those having the average particle size in the range of 15 to 25 μm are more preferable.
The average particle diameter can be derived, for example, by using a sample arbitrarily extracted from a population and measuring the particle diameter using a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer.

封止用シート１１中の前記無機充填剤の含有量は、封止用シート１１全体に対して、７５〜９５重量％であることが好ましく、より好ましくは、７８〜９５重量％である。前記無機充填剤の含有量が封止用シート１１全体に対して７５重量％以上であると、熱膨張率を低く抑えられることにより，熱衝撃よる機械的な破壊を抑制することができる。一方、前記無機充填剤の含有量が封止用シート１１全体に対して９５重量％以下であると、柔軟性、流動性、接着性がより良好となる。   The content of the inorganic filler in the sealing sheet 11 is preferably from 75 to 95% by weight, more preferably from 78 to 95% by weight, based on the entire sealing sheet 11. When the content of the inorganic filler is 75% by weight or more with respect to the entirety of the sealing sheet 11, the coefficient of thermal expansion can be kept low, so that mechanical destruction due to thermal shock can be suppressed. On the other hand, when the content of the inorganic filler is 95% by weight or less based on the entire sealing sheet 11, flexibility, fluidity, and adhesiveness are further improved.

封止用シート１１は、硬化促進剤を含むことが好ましい。   The sealing sheet 11 preferably contains a curing accelerator.

硬化促進剤としては、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の硬化を進行させるものであれば特に限定されず、例えば、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレートなどの有機リン系化合物；２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾールなどのイミダゾール系化合物；などが挙げられる。なかでも、混練時の温度上昇によっても硬化反応が急激に進まず、封止用シート１１を良好に作製できるという理由から、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾールが好ましい。   The curing accelerator is not particularly limited as long as it accelerates the curing of the epoxy resin and the phenol resin. For example, organic phosphorus compounds such as triphenylphosphine and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate; 2-phenyl-4, Imidazole compounds such as 5-dihydroxymethylimidazole and 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole; and the like. Above all, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole is preferred because the curing reaction does not proceed rapidly even by a rise in the temperature during kneading, and the sealing sheet 11 can be produced favorably.

硬化促進剤の含有量は、エポキシ樹脂及びフェノール樹脂の合計１００重量部に対して０．１〜５重量部が好ましい。   The content of the curing accelerator is preferably 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the epoxy resin and the phenol resin.

封止用シート１１は、難燃剤成分を含んでいてもよい。これにより、部品ショートや発熱などにより発火した際の、燃焼拡大を低減できる。難燃剤組成分としては、例えば水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化鉄、水酸化カルシウム、水酸化スズ、複合化金属水酸化物などの各種金属水酸化物；ホスファゼン系難燃剤などを用いることができる。   The sealing sheet 11 may include a flame retardant component. As a result, it is possible to reduce the expansion of combustion when the component is ignited due to a short circuit or heat generation. As the flame retardant component, for example, various metal hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, iron hydroxide, calcium hydroxide, tin hydroxide, and composite metal hydroxide; phosphazene-based flame retardants and the like are used. Can be.

封止用シート１１は、シランカップリング剤を含むことが好ましい。シランカップリング剤としては特に限定されず、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。   The sheet for sealing 11 preferably contains a silane coupling agent. The silane coupling agent is not particularly limited, and includes, for example, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane.

封止用シート１１中のシランカップリング剤の含有量は、０．１〜３重量％が好ましい。０．１重量％以上であると、硬化物の強度が十分得られ吸水率を低くできる。３重量％以下であると、アウトガス量を低くできる。   The content of the silane coupling agent in the sealing sheet 11 is preferably 0.1 to 3% by weight. When the content is 0.1% by weight or more, the strength of the cured product can be sufficiently obtained and the water absorption can be reduced. When the content is 3% by weight or less, the amount of outgas can be reduced.

封止用シート１１は、顔料又は染料を含むことが好ましい。顔料としては特に限定されず、カーボンブラックなどが挙げられる。   The sealing sheet 11 preferably contains a pigment or a dye. The pigment is not particularly limited, and examples thereof include carbon black.

封止用シート１１中の顔料又は染料の含有量は、０．１〜２重量％が好ましい。０．１重量％以上であると、良好なマーキング性が得られる。２重量％以下であると、硬化後の封止用シートの強度を確保することができる。   The content of the pigment or dye in the sealing sheet 11 is preferably 0.1 to 2% by weight. When the content is 0.1% by weight or more, good marking properties can be obtained. When the content is 2% by weight or less, the strength of the cured sealing sheet can be ensured.

なお、封止用シート１１には、上記の各成分以外に必要に応じて、他の添加剤を適宜配合できる。   The sealing sheet 11 may optionally contain other additives in addition to the components described above.

封止用シート１１の厚さは、特に限定されないが、封止用シートとして使用する観点、及び、半導体チップ２３を好適に埋め込みできる観点から、例えば、５０μｍ〜２０００μｍ、好ましくは、７０μｍ〜１２００μｍ、より好ましくは１００μｍ〜７００μｍとすることができる。   The thickness of the sealing sheet 11 is not particularly limited, but is preferably, for example, 50 μm to 2000 μm, and more preferably 70 μm to 1200 μm, from the viewpoint of use as the sealing sheet and from the viewpoint of suitably embedding the semiconductor chip 23. More preferably, it can be set to 100 μm to 700 μm.

封止用シート１１の大きさ及び形状は、特に限定されないが、平面視したときに、半導体ウエハ２２（積層体）上に、はみ出ない態様で積層できる形状であることが好ましい。例えば、封止用シート１１の大きさ及び形状は、平面視で半導体ウエハ２２（積層体）の平面視での大きさ及び形状と同様、又は、それよりも大きい形状とすることができる。   The size and shape of the sealing sheet 11 are not particularly limited, but preferably have a shape that allows the sealing sheet 11 to be stacked on the semiconductor wafer 22 (laminate) in a manner that does not protrude when viewed in plan. For example, the size and shape of the sealing sheet 11 can be the same as or larger than the size and shape of the semiconductor wafer 22 (stacked body) in plan view.

セパレータ付き封止用シート１０において、１５０℃で１時間加熱後の封止用シート１１とセパレータ１６との剥離強度Ｚ１は、剥離角度１８０°、剥離速度３００ｍｍ／分の条件で、０．４Ｎ／１００ｍｍ幅未満であることが好ましく、０．３５Ｎ／１００ｍｍ幅未満であることがより好ましく、０．３Ｎ／１００ｍｍ幅未満であることかさらに好ましい。前記剥離強度Ｚ１が、０．４Ｎ／１００ｍｍ未満であれば、封止用シート１１を熱硬化させた後に、より容易にセパレータ１６を封止用シート１１から剥離することができる。なお、前記剥離強度Ｚ１は、小さいほど好ましいが、例えば、０．０１Ｎ／１００ｍｍ幅以上である。   In the sealing sheet 10 with a separator, the peel strength Z1 between the sealing sheet 11 and the separator 16 after heating at 150 ° C. for 1 hour is 0.4 N / sec at a peel angle of 180 ° and a peel speed of 300 mm / min. It is preferably less than 100 mm width, more preferably less than 0.35 N / 100 mm width, and even more preferably less than 0.3 N / 100 mm width. When the peel strength Z1 is less than 0.4 N / 100 mm, the separator 16 can be more easily peeled off from the sealing sheet 11 after the sealing sheet 11 is thermally cured. In addition, although the said peeling strength Z1 is so preferable that it is small, it is 0.01 N / 100 mm width or more, for example.

封止用シート１１の製造方法は特に限定されないが、封止用シート１１を形成するための樹脂組成物の混練物を調製し、得られた混練物を塗工する方法や、得られた混練物をシート状に塑性加工する方法が好ましい。これにより、溶剤を使用せずに封止用シート１１を作製できるので、半導体チップ２３が揮発した溶剤により影響を受けることを抑制することができる。   The method for producing the sealing sheet 11 is not particularly limited, but a method of preparing a kneaded product of the resin composition for forming the sealing sheet 11 and applying the obtained kneaded product, or the obtained kneaded product A method of plastically processing an object into a sheet shape is preferable. Thereby, since the sealing sheet 11 can be manufactured without using a solvent, it is possible to suppress the semiconductor chip 23 from being affected by the volatilized solvent.

具体的には、後述の各成分をミキシングロール、加圧式ニーダー、押出機などの公知の混練機で溶融混練することにより混練物を調製し、得られた混練物を塗工又は塑性加工によりシート状にする。混練条件として、温度は、上述の各成分の軟化点以上であることが好ましく、例えば３０〜１５０℃、エポキシ樹脂の熱硬化性を考慮すると、好ましくは４０〜１４０℃、さらに好ましくは６０〜１２０℃である。時間は、例えば１〜３０分間、好ましくは５〜１５分間である。   Specifically, a kneaded material is prepared by melt-kneading the components described below with a known kneading machine such as a mixing roll, a pressure kneader, or an extruder, and the obtained kneaded material is coated or plastically processed to form a sheet. Shape. As the kneading conditions, the temperature is preferably equal to or higher than the softening point of each of the above-described components. ° C. The time is, for example, 1 to 30 minutes, preferably 5 to 15 minutes.

混練は、減圧条件下（減圧雰囲気下）で行うことが好ましい。これにより、脱気できるとともに、混練物への気体の侵入を防止できる。減圧条件下の圧力は、好ましくは０．１ｋｇ／ｃｍ２以下、より好ましくは０．０５ｋｇ／ｃｍ２以下である。減圧下の圧力の下限は特に限定されないが、例えば、１×１０−４ｋｇ／ｃｍ２以上である。 The kneading is preferably performed under reduced pressure conditions (under reduced pressure atmosphere). Thereby, while being able to be deaerated, invasion of gas into the kneaded material can be prevented. The pressure under reduced pressure is preferably 0.1 kg / cm 2 or less, more preferably 0.05 kg / cm 2 or less. The lower limit of the pressure under reduced pressure is not particularly limited, but is, for example, 1 × 10 −4 kg / cm 2 or more.

混練物を塗工して封止用シート１１を形成する場合、溶融混練後の混練物は、冷却することなく高温状態のままで塗工することが好ましい。塗工方法としては特に制限されず、バーコート法、ナイフコート法，スロットダイ法等を挙げることができる。塗工時の温度としては、上述の各成分の軟化点以上が好ましく、エポキシ樹脂の熱硬化性および成形性を考慮すると、例えば４０〜１５０℃、好ましくは５０〜１４０℃、さらに好ましくは７０〜１２０℃である。   When forming the sealing sheet 11 by applying the kneaded material, it is preferable that the kneaded material after the melt-kneading be applied in a high temperature state without cooling. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include a bar coating method, a knife coating method, and a slot die method. The temperature at the time of coating is preferably equal to or higher than the softening point of each of the above-mentioned components. 120 ° C.

混練物を塑性加工して封止用シート１１を形成する場合、溶融混練後の混練物は、冷却することなく高温状態のままで塑性加工することが好ましい。塑性加工方法としては特に制限されず、平板プレス法、Ｔダイ押出法、スクリューダイ押出法、ロール圧延法、ロール混練法、インフレーション押出法、共押出法、カレンダー成形法などなどが挙げられる。塑性加工温度としては上述の各成分の軟化点以上が好ましく、エポキシ樹脂の熱硬化性および成形性を考慮すると、例えば４０〜１５０℃、好ましくは５０〜１４０℃、さらに好ましくは７０〜１２０℃である。   When forming the sealing sheet 11 by plastically processing the kneaded material, it is preferable that the kneaded material after melt-kneading be plastically processed in a high temperature state without cooling. The plastic working method is not particularly limited, and examples thereof include a flat plate pressing method, a T-die extrusion method, a screw die extrusion method, a roll rolling method, a roll kneading method, an inflation extrusion method, a co-extrusion method, and a calendar molding method. The plastic working temperature is preferably equal to or higher than the softening point of each component described above, and in consideration of the thermosetting property and moldability of the epoxy resin, for example, 40 to 150 ° C, preferably 50 to 140 ° C, and more preferably 70 to 120 ° C. is there.

なお、封止用シート１１は、適当な溶剤に封止用シート１１を形成するための樹脂等を溶解、分散させてワニスを調整し、このワニスを塗工して得ることもできる。   The sealing sheet 11 can also be obtained by dissolving and dispersing a resin or the like for forming the sealing sheet 11 in an appropriate solvent, adjusting a varnish, and applying this varnish.

以上、セパレータ付き封止用シート１０について説明した。   The sealing sheet 10 with a separator has been described above.

次に、セパレータ付き封止用シート１０を用いた半導体装置の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing a semiconductor device using the sealing sheet 10 with a separator will be described.

本実施形態に係る半導体装置の製造方法は、
半導体チップが半導体ウエハの回路形成面にフリップチップボンディングされた積層体を準備する工程Ａと、
前記積層体の前記半導体チップ上に、封止用シートと保護フィルムとを配置する工程Ｂと、
前記半導体チップを前記封止用シートに埋め込み、前記半導体チップが前記封止用シートに埋め込まれた封止体を形成する工程Ｃと、
前記封止体の前記封止用シートを熱硬化させる工程Ｄと、
前記工程Ｄの後に、前記保護フィルムを剥離する工程Ｅとを含む。
すなわち、本実施形態では、本発明における「半導体チップが支持体上に固定された積層体」が、「半導体チップが半導体ウエハの回路形成面にフリップチップボンディングされた積層体」である場合について説明する。本実施形態は、いわゆる、チップオンウエハ方式の半導体装置の製造方法である。 The method for manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment includes:
A step A of preparing a laminate in which a semiconductor chip is flip-chip bonded to a circuit forming surface of a semiconductor wafer;
A step B of disposing a sealing sheet and a protective film on the semiconductor chip of the laminate,
A step C of embedding the semiconductor chip in the sealing sheet and forming a sealed body in which the semiconductor chip is embedded in the sealing sheet;
A step D of thermally curing the sealing sheet of the sealing body;
After the step D, a step E of removing the protective film is included.
That is, in the present embodiment, the case where the “laminate in which the semiconductor chip is fixed on the support” in the present invention is a “laminate in which the semiconductor chip is flip-chip bonded to the circuit forming surface of the semiconductor wafer” will be described. I do. This embodiment is a method for manufacturing a so-called chip-on-wafer type semiconductor device.

図２〜図１１は、本実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。   2 to 11 are schematic cross-sectional views illustrating the method for manufacturing the semiconductor device according to the present embodiment.

［準備工程］
本実施形態に係る半導体装置の製造方法では、まず、半導体チップ２３が半導体ウエハ２２の回路形成面２２ａにフリップチップボンディングされた積層体２０を準備する（工程Ａ）。第１実施形態において、半導体ウエハ２２は、本発明の「支持体」に相当する。積層体２０は、例えば、以下のようにして得られる。 [Preparation process]
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment, first, a stacked body 20 in which a semiconductor chip 23 is flip-chip bonded to a circuit forming surface 22a of a semiconductor wafer 22 is prepared (Step A). In the first embodiment, the semiconductor wafer 22 corresponds to the “support” of the present invention. The laminate 20 is obtained, for example, as follows.

図２に示すように、まず、回路形成面２３ａを有する１又は複数の半導体チップ２３と、回路形成面２２ａを有する半導体ウエハ２２とを準備する。なお、以下では、複数の半導体チップを半導体ウエハにフリップチップボンディングする場合について説明する。半導体ウエハ２２（支持体）の平面視での形状及びサイズとしては、封止用シート１１の平面視での大きさ及び形状と同様とすることができ、例えば、直径が２００ｍｍ以上の円形とすることができる。   As shown in FIG. 2, first, one or a plurality of semiconductor chips 23 having a circuit forming surface 23a and a semiconductor wafer 22 having a circuit forming surface 22a are prepared. Hereinafter, a case where a plurality of semiconductor chips are flip-chip bonded to a semiconductor wafer will be described. The shape and size of the semiconductor wafer 22 (support) in plan view can be the same as the size and shape of the sealing sheet 11 in plan view, for example, a circle having a diameter of 200 mm or more. be able to.

次に、図３に示すように、半導体チップ２３を半導体ウエハ２２の回路形成面２２ａにフリップチップボンディングする。半導体チップ２３の半導体ウエハ２２への搭載には、フリップチップボンダーやダイボンダーなどの公知の装置を用いることができる。具体的には、半導体チップ２３の回路形成面２３ａに形成されたバンプ２３ｂと、半導体ウエハ２２の回路形成面２２ａに形成された電極２２ｂとを電気的に接続する。これにより、複数の半導体チップ２３が半導体ウエハ２２に実装された積層体２０が得られる。この際、半導体チップ２３の回路形成面２３ａにアンダーフィル用の樹脂シート２４が貼り付けられていてもよい。この場合、半導体チップ２３を半導体ウエハ２２にフリップチップボンディングすると、半導体チップ２３と半導体ウエハ２２との間の間隙を樹脂封止することができる。なお、アンダーフィル用の樹脂シート２４が貼り付けられた半導体チップ２３を半導体ウエハ２２にフリップチップボンディングする方法については、例えば、特開２０１３−１１５１８６号公報等に開示されているため、ここでの詳細な説明は省略する。   Next, as shown in FIG. 3, the semiconductor chip 23 is flip-chip bonded to the circuit forming surface 22a of the semiconductor wafer 22. For mounting the semiconductor chip 23 on the semiconductor wafer 22, a known device such as a flip chip bonder or a die bonder can be used. Specifically, the bumps 23b formed on the circuit forming surface 23a of the semiconductor chip 23 and the electrodes 22b formed on the circuit forming surface 22a of the semiconductor wafer 22 are electrically connected. Thereby, the stacked body 20 in which the plurality of semiconductor chips 23 are mounted on the semiconductor wafer 22 is obtained. At this time, a resin sheet 24 for underfill may be attached to the circuit forming surface 23a of the semiconductor chip 23. In this case, when the semiconductor chip 23 is flip-chip bonded to the semiconductor wafer 22, the gap between the semiconductor chip 23 and the semiconductor wafer 22 can be sealed with resin. A method of flip-chip bonding the semiconductor chip 23 to which the underfill resin sheet 24 is attached to the semiconductor wafer 22 is disclosed in, for example, JP-A-2013-115186. Detailed description is omitted.

［セパレータ付き封止用シートを準備する工程］
また、本実施形態に係る半導体装置の製造方法では、封止用シート１１とセパレータ１６とが予め積層されたセパレータ付き封止用シート１０（図１参照）を準備する（工程Ｘ）。 [Step of preparing sealing sheet with separator]
Further, in the method of manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment, a sealing sheet 10 with a separator (see FIG. 1) in which the sealing sheet 11 and the separator 16 are laminated in advance is prepared (Step X).

［積層体上にセパレータ付き封止用シートを配置する工程］
工程Ａ及び工程Ｘの後、図４に示すように、下側加熱板３２上に積層体２０を半導体チップ２３が実装された面を上にして配置するとともに、半導体チップ２３と封止用シート１１とが接するように、セパレータ付き封止用シート１１を、積層体２０の半導体チップ２３上に配置する（工程Ｂ）。この工程においては、下側加熱板３２上にまず積層体２０を配置し、その後、積層体２０上にセパレータ付き封止用シート１１を配置してもよく、積層体２０上にセパレータ付き封止用シート１１を先に積層し、その後、積層体２０とセパレータ付き封止用シート１１とが積層された積層物を下側加熱板３２上に配置してもよい。 [Step of arranging sealing sheet with separator on laminate]
After the process A and the process X, as shown in FIG. 4, the stacked body 20 is disposed on the lower heating plate 32 with the surface on which the semiconductor chip 23 is mounted facing up, and the semiconductor chip 23 and the sealing sheet are arranged. The sealing sheet with separator 11 is arranged on the semiconductor chip 23 of the laminate 20 so that the sealing sheet 11 contacts with the semiconductor chip 23 (step B). In this step, first, the laminated body 20 may be disposed on the lower heating plate 32, and then the sealing sheet 11 with a separator may be disposed on the laminated body 20. The sheet for use 11 may be laminated first, and then the laminate in which the laminate 20 and the sealing sheet 11 with a separator are laminated may be arranged on the lower heating plate 32.

［封止体を形成する工程］
次に、図５に示すように、下側加熱板３２と上側加熱板３４とにより熱プレスして、半導体チップ２３を封止用シート１１に埋め込み、半導体チップ２３が封止用シート１１に埋め込まれた封止体２８を形成する（工程Ｃ）。 [Step of forming sealed body]
Next, as shown in FIG. 5, the semiconductor chip 23 is embedded in the sealing sheet 11 by hot pressing with the lower heating plate 32 and the upper heating plate 34, and the semiconductor chip 23 is embedded in the sealing sheet 11. A sealed body 28 is formed (step C).

半導体チップ２３を封止用シート１１に埋め込む際の熱プレス条件としては、温度が、例えば、４０〜１００℃、好ましくは５０〜９０℃であり、圧力が、例えば、０．１〜１０ＭＰａ、好ましくは０．５〜８ＭＰａであり、時間が、例えば０．３〜１０分間、好ましくは０．５〜５分間である。これにより、半導体チップ２３が封止用シート１１に埋め込まれた半導体装置を得ることができる。また、封止用シート１１の半導体チップ２３及び半導体ウエハ２２への密着性および追従性の向上を考慮すると、減圧条件下においてプレスすることが好ましい。
前記減圧条件としては、圧力が、例えば、０．１〜５ｋＰａ、好ましくは、０．１〜１００Ｐａであり、減圧保持時間（減圧開始からプレス開始までの時間）が、例えば、５〜６００秒であり、好ましくは、１０〜３００秒である。 As the hot pressing conditions for embedding the semiconductor chip 23 in the sealing sheet 11, the temperature is, for example, 40 to 100 ° C., preferably 50 to 90 ° C., and the pressure is, for example, 0.1 to 10 MPa, preferably Is 0.5 to 8 MPa, and the time is, for example, 0.3 to 10 minutes, preferably 0.5 to 5 minutes. Thereby, a semiconductor device in which the semiconductor chip 23 is embedded in the sealing sheet 11 can be obtained. Further, in consideration of the improvement of the adhesiveness and the followability of the sealing sheet 11 to the semiconductor chip 23 and the semiconductor wafer 22, it is preferable to press under a reduced pressure condition.
As the pressure reduction conditions, the pressure is, for example, 0.1 to 5 kPa, preferably 0.1 to 100 Pa, and the pressure reduction holding time (the time from the start of pressure reduction to the start of pressing) is, for example, 5 to 600 seconds. Yes, preferably 10 to 300 seconds.

［トリミング工程］
工程Ｃの後、必要に応じて、図６に示すように、工程Ｃによって面方向に押し流された樹脂（封止用シート１１）を切断し、はみ出した部分を取り除く。 [Trimming process]
After the step C, if necessary, as shown in FIG. 6, the resin (sealing sheet 11) that has been flushed in the plane direction in the step C is cut, and the protruding portion is removed.

［熱硬化工程］
次に、封止用シート１１を熱硬化させる（工程Ｄ）。具体的には、例えば、半導体ウエハ２２上に実装されている半導体チップ２３が封止用シート１１に埋め込まれた封止体２８全体を加熱する。 [Thermal curing process]
Next, the sealing sheet 11 is thermally cured (step D). Specifically, for example, the entire sealing body 28 in which the semiconductor chip 23 mounted on the semiconductor wafer 22 is embedded in the sealing sheet 11 is heated.

熱硬化処理の条件として、加熱温度が好ましくは１００℃以上、より好ましくは１２０℃以上である。一方、加熱温度の上限が、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１８０℃以下である。加熱時間が、好ましくは１０分以上、より好ましくは３０分以上である。一方、加熱時間の上限が、好ましくは１８０分以下、より好ましくは１２０分以下である。この際、加圧することが好ましく、好ましくは０．１ＭＰａ以上、より好ましくは０．５ＭＰａ以上である。一方、上限は好ましくは１０ＭＰａ以下、より好ましくは５ＭＰａ以下である。   The heating temperature is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher. On the other hand, the upper limit of the heating temperature is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower. The heating time is preferably at least 10 minutes, more preferably at least 30 minutes. On the other hand, the upper limit of the heating time is preferably 180 minutes or less, more preferably 120 minutes or less. At this time, pressure is preferably applied, preferably 0.1 MPa or more, more preferably 0.5 MPa or more. On the other hand, the upper limit is preferably 10 MPa or less, more preferably 5 MPa or less.

［剥離ライナー剥離工程］
次に、図７に示すように、セパレータ１６を剥離する（工程Ｅ）。セパレータ１６は、封止用シート１１と接する面がアミノアルキド系離型剤で処理されているため、熱硬化後に、封止用シート１１から容易に剥離できる。 [Release liner release step]
Next, as shown in FIG. 7, the separator 16 is peeled (step E). Since the surface of the separator 16 that is in contact with the sealing sheet 11 is treated with an aminoalkyd release agent, the separator 16 can be easily peeled off from the sealing sheet 11 after thermosetting.

［封止用シートを研削する工程］
次に、図８に示すように、封止体２８の封止用シート１１を研削して半導体チップ２３の裏面２３ｃを表出させる。封止用シート１１を研削する方法としては、特に限定されず、例えば、高速回転する砥石を用いるグラインディング法を挙げることができる。 [Step of grinding sealing sheet]
Next, as shown in FIG. 8, the sealing sheet 11 of the sealing body 28 is ground to expose the back surface 23c of the semiconductor chip 23. The method for grinding the sealing sheet 11 is not particularly limited. For example, a grinding method using a high-speed rotating grindstone can be used.

［配線層を形成する工程］
次に、半導体ウエハ２２における、半導体チップ２３が搭載されている側とは反対側の面を研削して、ビア（Ｖｉａ）２２ｃを形成した後（図９参照）、配線２７ａを有する配線層２７を形成する（図１０参照）。半導体ウエハ２２を研削する方法としては、特に限定されず、例えば、高速回転する砥石を用いるグラインディング法を挙げることができる。配線層２７には、配線２７ａから突出したバンプ２７ｂを形成してもよい。配線層２７を形成する方法には、セミアディティブ法や、サブトラクティブ法など、従来公知の回路基板やインターポーザの製造技術を適用することができるから、ここでの詳細な説明は省略する。 [Step of Forming Wiring Layer]
Next, after grinding the surface of the semiconductor wafer 22 opposite to the side on which the semiconductor chip 23 is mounted to form a via (via) 22c (see FIG. 9), the wiring layer 27 having the wiring 27a is formed. Is formed (see FIG. 10). The method for grinding the semiconductor wafer 22 is not particularly limited, and includes, for example, a grinding method using a grindstone that rotates at high speed. In the wiring layer 27, bumps 27b protruding from the wiring 27a may be formed. As a method for forming the wiring layer 27, a conventionally known technique for manufacturing a circuit board or an interposer, such as a semi-additive method or a subtractive method, can be applied, and thus a detailed description thereof will be omitted.

［ダイシング工程］
続いて、図１１に示すように、半導体チップ２３の裏面２３ｃが表出している封止体２８をダイシングする。これにより、半導体チップ２３単位での半導体装置２９を得ることができる。 [Dicing process]
Subsequently, as shown in FIG. 11, the sealing body 28 on which the back surface 23c of the semiconductor chip 23 is exposed is diced. Thus, the semiconductor device 29 can be obtained in units of the semiconductor chip 23.

［基板実装工程］
必要に応じて、半導体装置２９を別途の基板（図示せず）に実装する基板実装工程を行うことができる。半導体装置２９の前記別途の基板への実装には、フリップチップボンダーやダイボンダーなどの公知の装置を用いることができる。 [Board mounting process]
If necessary, a substrate mounting step of mounting the semiconductor device 29 on a separate substrate (not shown) can be performed. For mounting the semiconductor device 29 on the separate substrate, a known device such as a flip chip bonder or a die bonder can be used.

以上、本実施形態に係る半導体装置の製造方法によれば、半導体チップ２３上に、セパレータ付き封止用シート１０を配置した後、半導体チップ２３を封止用シート１１に埋め込み、半導体チップ２３が封止用シート１１に埋め込まれた封止体２８を形成する（工程Ｃ）。そして、セパレータ１６がついたままの状態で封止体２８の封止用シート１１を熱硬化させる（工程Ｄ）。セパレータ１６がついたままの状態で封止用シート１１を熱硬化させるため、封止用シート１１の熱硬化時の表面荒れを抑制することができる。そして、熱硬化後に、セパレータ１６を封止用シート１１から剥離する（工程Ｅ）。セパレータ１６の、封止用シート１１と接する面がアミノアルキド系離型剤で処理されているため、熱硬化後に、セパレータ１６を封止用シート１１から容易に剥離できる。熱硬化後であっても、セパレータ１６を封止用シート１１から容易に剥離できるため、表面荒れが抑制され、外観が良好な半導体装置２９を得ることができる。   As described above, according to the method for manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment, after the sealing sheet 10 with the separator is disposed on the semiconductor chip 23, the semiconductor chip 23 is embedded in the sealing sheet 11, and the semiconductor chip 23 The sealing body 28 embedded in the sealing sheet 11 is formed (Step C). Then, the sealing sheet 11 of the sealing body 28 is thermoset while the separator 16 is still attached (Step D). Since the sealing sheet 11 is thermally cured while the separator 16 is still attached, the surface roughness of the sealing sheet 11 during thermal curing can be suppressed. Then, after heat curing, the separator 16 is peeled off from the sealing sheet 11 (step E). Since the surface of the separator 16 that is in contact with the sealing sheet 11 is treated with the aminoalkyd release agent, the separator 16 can be easily peeled off from the sealing sheet 11 after heat curing. Even after heat curing, the separator 16 can be easily peeled off from the sealing sheet 11, so that the surface roughness is suppressed and the semiconductor device 29 having a good appearance can be obtained.

上述した実施形態では、下側加熱板３２と上側加熱板３４とにより熱プレスして、半導体チップ２３を封止用シート１１に埋め込み、半導体チップ２３が封止用シート１１に埋め込まれた封止体２８を形成する場合について説明した。すなわち、平板プレスにより半導体チップを封止用シートに埋め込む場合について説明した。しかしながら、本発明において、前記半導体チップが前記封止用シートに埋め込まれた封止体を形成する工程Ｃは、この例に限定されない。例えば、金型を用いたコンプレッション成形であってもよい。   In the embodiment described above, the semiconductor chip 23 is embedded in the sealing sheet 11 by hot pressing with the lower heating plate 32 and the upper heating plate 34, and the semiconductor chip 23 is embedded in the sealing sheet 11. The case where the body 28 is formed has been described. That is, the case where the semiconductor chip is embedded in the sealing sheet by the flat plate press has been described. However, in the present invention, the step C of forming a sealing body in which the semiconductor chip is embedded in the sealing sheet is not limited to this example. For example, compression molding using a mold may be used.

上述した実施形態では、セパレータ付き封止用シートの備える封止用シートが１層構成である場合について説明したが、本発明における封止用シートの層構成は、この例に限定されず、２層以上であってもよい。   In the above-described embodiment, the case where the sealing sheet provided in the sealing sheet with the separator has a single-layer configuration has been described. However, the layer configuration of the sealing sheet in the present invention is not limited to this example, and may be 2 layers. There may be more than one layer.

上述した実施形態では、本発明に係る半導体装置の製造方法が、いわゆる、チップオンウエハ方式の半導体装置の製造方法である場合について説明した。すなわち、本発明における「半導体チップが支持体上に固定された積層体」が、「半導体チップが半導体ウエハの回路形成面にフリップチップボンディングされた積層体」である場合について説明した。
しかしながら、本発明に係る半導体装置の製造方法は、この例に限定されない。本発明の支持体は、仮固定材であり、工程Ｄ（封止体の封止用シートを熱硬化させる工程）の後に取り除かれるものであってもよい。
すなわち、他の実施形態に係る半導体装置の製造方法は、
半導体チップが仮固定材上に仮固定された積層体を準備する工程Ａと、
前記積層体の前記半導体チップ上に、封止用シートと保護フィルムとを配置する工程Ｂと、
前記半導体チップを前記封止用シートに埋め込み、前記半導体チップが前記封止用シートに埋め込まれた封止体を形成する工程Ｃと、
前記封止体の前記封止用シートを熱硬化させる工程Ｄと、
前記工程Ｄの後に、前記保護フィルムを剥離する工程Ｅとを含む半導体装置の製造方法である。
この場合、半導体チップが露出した箇所（回路形成面）に再配線を形成してもよい。これにより、Ｆａｎ−ｏｕｔ（ファンアウト）型ウェハレベルパッケージ（ＷＬＰ）と呼称される半導体装置を製造することができる。前記仮固定材としては、例えば、従来公知の発泡剤を含有する熱剥離シートが挙げられる。前記熱剥離シートに関しては、例えば、熱膨張性粘着剤層として特開２００９−０４０９３０号公報等に詳細に記載されているので、ここで説明は省略する。 In the above-described embodiment, the case where the method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention is a so-called chip-on-wafer method for manufacturing a semiconductor device has been described. That is, the case where the “laminate in which the semiconductor chip is fixed on the support” in the present invention is the “laminate in which the semiconductor chip is flip-chip bonded to the circuit forming surface of the semiconductor wafer” has been described.
However, the method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention is not limited to this example. The support of the present invention is a temporary fixing material, and may be removed after step D (step of thermally curing the sealing sheet of the sealing body).
That is, the method for manufacturing a semiconductor device according to another embodiment includes:
A step A of preparing a laminate in which the semiconductor chip is temporarily fixed on the temporary fixing material;
A step B of disposing a sealing sheet and a protective film on the semiconductor chip of the laminate,
A step C of embedding the semiconductor chip in the sealing sheet and forming a sealed body in which the semiconductor chip is embedded in the sealing sheet;
A step D of thermally curing the sealing sheet of the sealing body;
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a step E of removing the protective film after the step D.
In this case, a rewiring may be formed at a portion (circuit formation surface) where the semiconductor chip is exposed. As a result, a semiconductor device called a fan-out (fan-out) type wafer level package (WLP) can be manufactured. As the temporary fixing material, for example, a heat release sheet containing a conventionally known foaming agent can be used. The heat release sheet is described in detail in, for example, JP-A-2009-040930 as a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer, and the description thereof is omitted here.

その他、本発明は、上述した実施形態に限定されず、各工程は、本発明の趣旨に反しない範囲内において、行ってもよく行わなくてもよい。また、本発明の趣旨に反しない範囲内において、どのような順番で行なわれてもよい。   In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and each step may or may not be performed within a range not contrary to the gist of the present invention. Further, the steps may be performed in any order without departing from the spirit of the present invention.

以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。また、各例中、部は特記がない限りいずれも重量基準である。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist. In addition, in each example, all parts are by weight unless otherwise specified.

＜封止用シートの作製＞
（実施例１）
エポキシ樹脂Ａ（商品名「ＹＳＬＶ−８０ＸＹ」、新日鐵化学社製）１００部、エポキシ樹脂Ｂ（商品名「エピコート８２８」、三菱化学（株）製、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキン当量１８５ｇ／ｅｑ）９７部、フェノール樹脂（商品名「ＭＥＨ−７５００−３Ｓ」、明和化成社製）９０部、無機充填剤Ａ（商品名「ＦＢ−９４５４ＦＣ」、電気化学工業社製）２８９４部、無機充填剤Ｂ（商品名「ＦＢ−５ＳＤＣ」、電気化学工業社製、溶融球状シリカ、平均粒子径５μｍ）９９部、シランカップリング剤（商品名「ＫＢＭ−４０３」、信越化学社製）３部、カーボンブラック（商品名「＃２０」、三菱化学社製）７部、及び、硬化促進剤（商品名「２ＰＨＺ−ＰＷ」、四国化成工業社製）３部を配合し、ロール混練機により６０℃で２分間、８０℃２分間、１２０℃６分間、この順番で加熱していき、合計１０分間、減圧条件下（０．０１ｋｇ／ｃｍ２）で溶融混練し、混練物を調製した。次いで、得られた混練物を、１２０℃の条件下、スロットダイ法によりセパレータ上に塗工してシート状に形成し、厚さ５００μｍの封止用シートＡを作製した。上記セパレータとしては、アミノアルキド系離型剤で表面を離型処理した厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名「ＰＥＴ−５０−ＳＨＰーＡＯ」、株式会社フジコー社製）を用いた。その後、封止用シートＡの露出している面側に、同一のセパレータを貼り合わせて両面セパレータ付き封止用シートＡとした。 <Preparation of sealing sheet>
(Example 1)
100 parts of epoxy resin A (trade name "YSLV-80XY", manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), epoxy resin B (trade name "Epicoat 828", manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol A type epoxy resin, Epokin equivalent 185 g / eq) 97 parts, phenol resin (trade name "MEH-7500-3S", manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) 90 parts, inorganic filler A (trade name "FB-9454FC", manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK) 2894 parts, inorganic filler 99 parts of Agent B (trade name “FB-5SDC”, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., fused spherical silica, average particle diameter 5 μm), 3 parts of a silane coupling agent (trade name “KBM-403”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 7 parts of carbon black (trade name "# 20", manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and 3 parts of a curing accelerator (trade name "2PHZ-PW", manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.) are blended, and the mixture is mixed with a roll kneader. 2 min at 0 ° C., 80 ° C. for 2 minutes, 120 ° C. 6 minutes, gradually heated in this order, a total of 10 minutes, and melt-kneaded under reduced pressure (0.01 kg / cm 2), to prepare a kneaded material. Next, the obtained kneaded material was applied on a separator by a slot die method at 120 ° C. to form a sheet, and a sealing sheet A having a thickness of 500 μm was prepared. As the separator, a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film (trade name “PET-50-SHP-AO”, manufactured by Fujiko Co., Ltd.) whose surface was release-treated with an aminoalkyd release agent was used. Thereafter, the same separator was attached to the exposed surface side of the sheet A for sealing to obtain a sheet A for sealing with a double-sided separator.

（実施例２）
エポキシ樹脂Ａ（商品名「ＹＳＬＶ−８０ＸＹ」、新日鐵化学社製）１００部、フェノール樹脂（商品名「ＭＥＨ−７８５１−ＳＳ」、明和化成社製）８５部、熱可塑性樹脂（商品名「ＳＩＢＳＴＡＲ ０７２Ｔ」、カネカ社製）８４部、無機充填剤Ａ（商品名「ＦＢ−９４５４ＦＣ」、電気化学工業社製）２２５４部、シランカップリング剤（商品名「ＫＢＭ−４０３」、信越化学社製）２部、カーボンブラック（商品名「＃２０」、三菱化学社製）８部、及び、硬化促進剤（商品名「２ＰＨＺ−ＰＷ」、四国化成工業社製）３部を配合し、ロール混練機により６０℃で２分間、８０℃２分間、１２０℃６分間、この順番で加熱していき、合計１０分間、減圧条件下（０．０１ｋｇ／ｃｍ２）で溶融混練し、混練物を調製した。次いで、得られた混練物を、１２０℃の条件下、スロットダイ法によりセパレータ上に塗工してシート状に形成し、厚さ５００μｍの封止用シートＢを作製した。上記セパレータとしては、アミノアルキド系離型剤で表面を離型処理した厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名「ＰＥＴ−５０−ＳＨＰーＡＯ」、株式会社フジコー社製）を用いた。その後、封止用シートＢの露出している面側に、同一のセパレータを貼り合わせて両面セパレータ付き封止用シートＢとした。 (Example 2)
100 parts of epoxy resin A (trade name "YSLV-80XY", manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), 85 parts of phenol resin (trade name "MEH-7851-SS", manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.), thermoplastic resin (trade name " SIBSTAR 072T "(manufactured by Kaneka Corporation) 84 parts, inorganic filler A (brand name" FB-9454FC ", manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 2254 parts, silane coupling agent (brand name" KBM-403 ", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) 2 parts, 8 parts of carbon black (trade name "# 20", manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and 3 parts of a curing accelerator (trade name "2PHZ-PW", manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.) The mixture is heated at 60 ° C. for 2 minutes, then at 80 ° C. for 2 minutes and then at 120 ° C. for 6 minutes, and melt-kneaded under reduced pressure (0.01 kg / cm 2 ) for a total of 10 minutes to prepare a kneaded product. did. Next, the obtained kneaded material was applied on a separator by a slot die method at 120 ° C. to form a sheet, and a sealing sheet B having a thickness of 500 μm was prepared. As the separator, a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film (trade name “PET-50-SHP-AO”, manufactured by Fujiko Co., Ltd.) whose surface was release-treated with an aminoalkyd release agent was used. Thereafter, the same separator was bonded to the exposed surface side of the sheet B for sealing to obtain a sheet B for sealing with a double-sided separator.

（実施例３）
エポキシ樹脂Ａ（商品名「ＹＳＬＶ−８０ＸＹ」、新日鐵化学社製）１００部、エポキシ樹脂Ｂ（商品名「エピコート８２８」、三菱化学（株）製、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキン当量１８５ｇ／ｅｑ）１６９部、フェノール樹脂（商品名「ＭＥＨ−７８５１−ＳＳ」、明和化成社製）１６９部、熱可塑性樹脂（商品名「ＳＩＢＳＴＡＲ ０７２Ｔ」、カネカ社製）９６部、無機充填剤Ａ（商品名「ＦＢ−９４５４ＦＣ」、電気化学工業社製）４６８５部、無機充填剤Ｂ（商品名「ＦＢ−５ＳＤＣ」、電気化学工業社製、溶融球状シリカ、平均粒子径５μｍ）１４５部、シランカップリング剤（商品名「ＫＢＭ−４０３」、信越化学社製）９部、カーボンブラック（商品名「＃２０」、三菱化学社製）１１部、及び、硬化促進剤（商品名「２ＰＨＺ−ＰＷ」、四国化成工業社製）５部を配合し、ロール混練機により６０℃で２分間、８０℃２分間、１２０℃６分間、この順番で加熱していき、合計１０分間、減圧条件下（０．０１ｋｇ／ｃｍ２）で溶融混練し、混練物を調製した。次いで、得られた混練物を、１２０℃の条件下、スロットダイ法によりセパレータ上に塗工してシート状に形成し、厚さ５００μｍの封止用シートＣを作製した。上記セパレータとしては、アミノアルキド系離型剤で表面を離型処理した厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名「ＰＥＴ−５０−ＳＨＰーＡＯ」、株式会社フジコー社製）を用いた。その後、封止用シートＣの露出している面側に、同一のセパレータを貼り合わせて両面セパレータ付き封止用シートＣとした。 (Example 3)
100 parts of epoxy resin A (trade name "YSLV-80XY", manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), epoxy resin B (trade name "Epicoat 828", manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol A type epoxy resin, Epokin equivalent 185 g / eq) 169 parts, phenol resin (trade name “MEH-7851-SS”, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) 169 parts, thermoplastic resin (trade name “SIBSTAR 072T”, manufactured by Kaneka Corporation) 96 parts, inorganic filler A (trade name) 4885 parts, "FB-9454FC", manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., 145 parts of inorganic filler B (trade name: "FB-5SDC", manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., fused spherical silica, average particle diameter 5 μm), silane coupling 9 parts of an agent (trade name “KBM-403”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 11 parts of carbon black (trade name “# 20”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and a curing accelerator ( 5 parts of product name “2PHZ-PW”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), and heated by a roll kneader at 60 ° C. for 2 minutes, 80 ° C. for 2 minutes, 120 ° C. for 6 minutes, and in this order, for a total of 10 minutes The mixture was melt-kneaded under reduced pressure (0.01 kg / cm 2 ) to prepare a kneaded product. Next, the obtained kneaded material was applied on a separator by a slot die method at 120 ° C. to form a sheet, and a sealing sheet C having a thickness of 500 μm was produced. As the separator, a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film (trade name “PET-50-SHP-AO”, manufactured by Fujiko Co., Ltd.) whose surface was release-treated with an aminoalkyd release agent was used. Thereafter, the same separator was attached to the exposed surface side of the sealing sheet C to obtain a sealing sheet C with a double-sided separator.

（実施例４）
エポキシ樹脂Ａ（商品名「ＹＳＬＶ−８０ＸＹ」、新日鐵化学社製）１００部、フェノール樹脂（商品名「Ｈ−４」、明和化成社製）５５部、無機充填剤Ａ（商品名「ＦＢ−５ＳＤＣ」、電気化学工業社製）４７３部、シランカップリング剤（商品名「ＫＢＭ−４０３」、信越化学社製）０．２部、カーボンブラック（商品名「＃２０」、三菱化学社製）１部、及び、硬化促進剤（商品名「２Ｅ４ＭＺ−Ａ」、四国化成工業社製）２部を配合し、ロール混練機により６０℃で２分間、８０℃２分間、１２０℃６分間、この順番で加熱していき、合計１０分間、減圧条件下（０．０１ｋｇ／ｃｍ２）で溶融混練し、混練物を調製した。次いで、得られた混練物を、１２０℃の条件下、スロットダイ法によりセパレータ上に塗工してシート状に形成し、厚さ５００μｍの封止用シートＤを作製した。上記セパレータとしては、アミノアルキド系離型剤で表面を離型処理した厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名「ＰＥＴ−５０−ＳＨＰーＡＯ」、株式会社フジコー社製）を用いた。その後、封止用シートＤの露出している面側に、同一のセパレータを貼り合わせて両面セパレータ付き封止用シートＤとした。 (Example 4)
100 parts of epoxy resin A (trade name "YSLV-80XY", manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), 55 parts of phenol resin (trade name "H-4", manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.), inorganic filler A (trade name "FB -5 parts SDC ”, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., 473 parts, silane coupling agent (brand name“ KBM-403 ”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.2 parts, carbon black (brand name“ # 20 ”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) ) 1 part, and 2 parts of a curing accelerator (trade name “2E4MZ-A”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), and mixed with a roll kneader at 60 ° C. for 2 minutes, 80 ° C. for 2 minutes, 120 ° C. for 6 minutes, Heating was performed in this order, and the mixture was melt-kneaded under reduced pressure (0.01 kg / cm 2 ) for a total of 10 minutes to prepare a kneaded product. Next, the obtained kneaded material was applied on a separator by a slot die method at 120 ° C. to form a sheet, and a sealing sheet D having a thickness of 500 μm was produced. As the separator, a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film (trade name “PET-50-SHP-AO”, manufactured by Fujiko Co., Ltd.) whose surface was release-treated with an aminoalkyd release agent was used. Thereafter, the same separator was attached to the exposed surface side of the sealing sheet D to obtain a sealing sheet D with a double-sided separator.

（比較例１）
セパレータとして、シリコーン離型処理した厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして両面セパレータ付き封止用シートＥを得た。 (Comparative Example 1)
A sealing sheet E with a double-sided separator was obtained in the same manner as in Example 1, except that a 50 μm thick polyethylene terephthalate film subjected to a silicone release treatment was used as a separator.

（比較例２）
セパレータとして、シリコーン離型処理した厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いたこと以外は、実施例２と同様にして両面セパレータ付き封止用シートＦを得た。 (Comparative Example 2)
A sealing sheet F with a double-sided separator was obtained in the same manner as in Example 2, except that a silicone release-treated polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm was used as the separator.

（比較例３）
セパレータとして、シリコーン離型処理した厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いたこと以外は、実施例３と同様にして両面セパレータ付き封止用シートＧを得た。 (Comparative Example 3)
A sealing sheet G with a double-sided separator was obtained in the same manner as in Example 3 except that a silicone release-treated polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm was used as the separator.

（比較例４）
セパレータとして、シリコーン離型処理した厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いたこと以外は、実施例４と同様にして両面セパレータ付き封止用シートＨを得た。 (Comparative Example 4)
A sealing sheet H with a double-sided separator was obtained in the same manner as in Example 4, except that a 50 μm-thick polyethylene terephthalate film subjected to a silicone release treatment was used as a separator.

（剥離強度測定用サンプルの作製）
作製した両面セパレータ付き封止用シートＡ〜Ｈの片側のセパレータを剥離し、幅１００ｍｍ、長さ２００ｍｍ、厚さ：７８０μｍのシリコンウエハ上に配置した。この際、シリコンウエハの面と封止用シートの面とが接触する態様で配置した。次に、真空プレス装置（商品名「ＶＡＣＵＵＭ ＡＣＥ」、ミカドテクノス社製）を用いて、以下の条件で熱プレスし、シリコンウエハと封止用シートとの積層物（シリコンウエハの厚さ：７８０μｍ、封止用シートの厚さ：３００μｍ、総厚：１０８０μｍ）を得た。その後、１５０℃の熱風式乾燥機で１時間加熱し、剥離強度測定用サンプルを得た。
＜熱プレス条件＞
真空圧力：１０Ｐａ
プレス圧力：１．０ＭＰａ
プレス温度：封止用シートが最低溶融粘度となる温度
プレス時間：６０秒
＜封止用シートが最低溶融粘度となる温度の測定方法＞
動的粘弾性測定装置（ＴＡインスツルメント社製、ＡＲＥＳ）を用いて封止用シートの最低溶融粘度を測定した（測定条件：直径２５ｍｍのプレート、ギャップ１ｍｍ、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚ、歪み量１０％、温度範囲５０℃から１５０℃まで１０℃／ｍｉｎで昇温測定）。この際の最低の値を最低溶融粘度とした。 (Preparation of peel strength measurement sample)
The separators on one side of the produced sealing sheets A to H with double-sided separators were peeled off, and placed on a silicon wafer having a width of 100 mm, a length of 200 mm, and a thickness of 780 μm. At this time, they were arranged so that the surface of the silicon wafer and the surface of the sheet for sealing were in contact with each other. Next, using a vacuum press device (trade name “VACUUM ACE”, manufactured by Mikado Technos Co., Ltd.), hot pressing was performed under the following conditions, and a laminate of a silicon wafer and a sealing sheet (silicon wafer thickness: 780 μm) (Thickness of sealing sheet: 300 μm, total thickness: 1080 μm). Thereafter, the sample was heated for 1 hour with a hot-air dryer at 150 ° C. to obtain a sample for peel strength measurement.
<Heat pressing conditions>
Vacuum pressure: 10Pa
Press pressure: 1.0MPa
Pressing temperature: Temperature at which the sealing sheet has the lowest melt viscosity Pressing time: 60 seconds <Method of measuring the temperature at which the sealing sheet has the lowest melt viscosity>
The minimum melt viscosity of the sheet for sealing was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device (ARES, manufactured by TA Instruments) (measurement conditions: plate having a diameter of 25 mm, gap of 1 mm, heating rate of 10 ° C./min, The temperature was measured at a frequency of 1 Hz, a strain amount of 10%, and a temperature range of 50 ° C. to 150 ° C. at a rate of 10 ° C./min). The lowest value at this time was defined as the lowest melt viscosity.

（１５０℃で１時間加熱後の封止用シートとセパレータとの剥離強度Ｚ１の測定）
剥離強度測定用サンプルの封止用シートからセパレータを引き剥がし、剥離強度Ｚ１を測定した。具体的には、下記条件にて引き剥がしを行い、その際の荷重の最大荷重（測定初期のピークトップを除いた荷重の最大値）を測定し、この最大荷重を封止用シートとセパレータとの剥離強度（Ｎ／１００ｍｍ幅）として求めた。なお、１５０℃で１時間の熱硬化は、封止用シートを熱硬化させる工程Ｄを想定したものである。すなわち、１５０℃で１時間熱硬化後の剥離強度測定用サンプルは、工程Ｄの後の状態を想定したものである。結果を表１、表２に示す。なお、比較例１〜４では、セパレータを封止用シートから引き剥がすことができなかったため、値を示していない。
（剥離力の測定条件）
使用装置：オートグラフＡＧＳ−Ｋ（島津製作所社製）
温度：２３℃
剥離角度：１８０°
引張速度：３００ｍｍ／ｍｉｎ (Measurement of peel strength Z1 between sealing sheet and separator after heating at 150 ° C. for 1 hour)
The separator was peeled off from the sealing sheet of the peel strength measurement sample, and the peel strength Z1 was measured. Specifically, peeling was carried out under the following conditions, and the maximum load (the maximum value of the load excluding the peak top at the initial stage of the measurement) was measured. (N / 100 mm width). The heat curing at 150 ° C. for 1 hour is based on the assumption of step D of thermally curing the sealing sheet. That is, the sample for peel strength measurement after thermosetting at 150 ° C. for 1 hour assumes the state after step D. The results are shown in Tables 1 and 2. In Comparative Examples 1 to 4, no value was shown because the separator could not be peeled off from the sealing sheet.
(Measurement condition of peeling force)
Equipment used: Autograph AGS-K (manufactured by Shimadzu Corporation)
Temperature: 23 ° C
Peeling angle: 180 °
Tensile speed: 300mm / min

（剥離性評価）
上記の剥離強度Ｚ１の測定において、セパレータが剥離できた場合を○、剥離できなかった場合を×として評価した。結果を表１、表２に示す。 (Releasability evaluation)
In the above measurement of the peel strength Z1, the case where the separator could be peeled was evaluated as ○, and the case where the separator could not be peeled was evaluated as x. The results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 0006630861
Figure 0006630861

Figure 0006630861
Figure 0006630861

１０ セパレータ付き封止用シート
１１ 封止用シート
１６ セパレータ
２０ 積層体
２２ 半導体ウエハ（支持体）
２３ 半導体チップ
２８ 封止体
２９ 半導体装置 Reference Signs List 10 sealing sheet with separator 11 sealing sheet 16 separator 20 laminated body 22 semiconductor wafer (support)
23 semiconductor chip 28 sealing body 29 semiconductor device

Claims (3)

セパレータと、
前記セパレータ上に積層された封止用シートとを備え、
前記セパレータは、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、又は、ポリプロピレンフィルムであり、
前記セパレータは、前記封止用シートと接する面がアミノアルキド系離型剤で処理されており、
１５０℃で１時間加熱後の前記封止用シートと前記セパレータとの剥離強度が０．４Ｎ／１００ｍｍ幅未満であることを特徴とするセパレータ付き封止用シート。 A separator,
A sealing sheet laminated on the separator,
The separator is a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, or a polypropylene film,
The surface of the separator, which is in contact with the sealing sheet, is treated with an amino alkyd release agent,
A sealing sheet with a separator, wherein a peel strength between the sealing sheet and the separator after heating at 150 ° C. for 1 hour is less than 0.4 N / 100 mm width. 前記封止用シートは、エポキシ樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載のセパレータ付き封止用シート。   The sheet for sealing with a separator according to claim 1, wherein the sheet for sealing contains an epoxy resin. 半導体チップが支持体上に固定された積層体を準備する工程Ａと、
請求項１又は２に記載のセパレータ付き封止用シートを準備する工程Ｘと、
前記積層体の前記半導体チップ上に、前記セパレータ付き封止用シートを配置する工程Ｂと、
前記半導体チップを前記封止用シートに埋め込み、前記半導体チップが前記封止用シートに埋め込まれた封止体を形成する工程Ｃと、
前記封止体の前記封止用シートを熱硬化させる工程Ｄと、
前記工程Ｄの後に、前記セパレータを剥離する工程Ｅとを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 Step A of preparing a laminate in which a semiconductor chip is fixed on a support,
Step X of preparing a sealing sheet with a separator according to claim 1 or 2,
A step B of disposing the sealing sheet with a separator on the semiconductor chip of the laminate,
A step C of embedding the semiconductor chip in the sealing sheet and forming a sealed body in which the semiconductor chip is embedded in the sealing sheet;
A step D of thermally curing the sealing sheet of the sealing body;
A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a step E of removing the separator after the step D.
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