JP6409771B2 - Organic electroluminescence device and method for manufacturing the same - Google Patents
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Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法に関する。より詳しくは、可撓性が高く、かつ、非発光時及び非発光領域の色を種々の色にできる有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法に関する。 The present invention relates to an organic electroluminescence element and a method for manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to an organic electroluminescence element that is highly flexible and can change the color of a non-light emitting region and a non-light emitting region to various colors, and a method for manufacturing the same.
近年、平面状の光源体として、導光板(フィルム)を用いた発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)及び有機発光ダイオード(Organic Light Emitting Diode:OLED、以下、「有機エレクトロルミネッセンス素子」又は「有機EL素子」ともいう。)が注目されている。導光板を用いたLED(以下、「導光板LED」ともいう。)については、一般的な照明のみならず、液晶表示装置(Liquid Crystal Display:LCD)用バックライトなど、様々な場面、用途で使用されるようになってきた(例えば、特許文献1参照)。 In recent years, as a planar light source body, a light emitting diode (LED) and an organic light emitting diode (OLED) using a light guide plate (film), hereinafter referred to as “organic electroluminescent element” or “organic EL”. It is also called “element”.) About LED using a light-guide plate (henceforth "light-guide plate LED"), not only general illumination but a liquid crystal display (Liquid Crystal Display: LCD) backlight etc. are used in various scenes and applications. It has come to be used (for example, refer patent document 1).
また、例えば、導光板LEDは、2008年頃から生産量が伸びている、スマートフォンやタブレットなどに代表されるスマートデバイスにも組み込まれている。このスマートデバイスにおいて、導光板LEDは、メインディスプレイ(例えば、LCD)のバックライトや、メインディスプレイの外側にある共通機能キーボタンのバックライトとして組み込まれていることが多い。 Moreover, for example, the light guide plate LED is also incorporated in smart devices represented by smartphones and tablets whose production volume has been increasing since around 2008. In this smart device, the light guide plate LED is often incorporated as a backlight of a main display (for example, LCD) or a backlight of a common function key button outside the main display.
ここで、共通機能キーボタンとは、一般的なスマートデバイスにおいて、主に、四角形などのマークで表示された「ホーム」ボタン、矢印マークなどで表示された「戻る」ボタン及び虫眼鏡マークなどで表示された「検索」ボタンなどの固定の機能及び形状を持ったボタンのことである。通常、この「ホーム」ボタン、「戻る」ボタン及び「検索」ボタンの3種類が共通機能キーボタンとして、メインディスプレイの外側に配置されていることが多い。
この共通機能キーボタンは、一般的には、導光板LEDに、ドット状の拡散部材が配置されたカバーガラスを積層させた構成を有している。なお、このドット状の拡散部材は、表示したいマークの形状に配置されている。これにより、LEDが発光すると、光が導光板を通して導光され、カバーガラスに配置されたドット形状の拡散部材を通して、光取り出し面から光が取り出されるため、表示したいマークが表示される。Here, the common function key buttons are mainly displayed with a “Home” button displayed with a mark such as a rectangle, a “Back” button displayed with an arrow mark, and a magnifying glass mark on a general smart device. This is a button having a fixed function and shape such as a “Search” button. Usually, the “Home” button, “Back” button, and “Search” button are often arranged outside the main display as common function key buttons.
The common function key button generally has a configuration in which a cover glass on which a dot-shaped diffusion member is arranged is laminated on a light guide plate LED. The dot-like diffusing member is arranged in the shape of a mark to be displayed. Accordingly, when the LED emits light, the light is guided through the light guide plate, and the light is extracted from the light extraction surface through the dot-shaped diffusion member disposed on the cover glass, so that a mark to be displayed is displayed.
しかし、上述のようにスマートデバイスのバックライトとしてLED及びOLED(有機EL素子)を用いる場合、外部から有機EL素子に入射した光(以下、「外部入射光」ともいう。)の一部が陰極等の金属層で反射され、光取り出し面から出射されるという現象が生じる。反射した外部入射光が光取り出し面から出射されると、有機EL素子の非発光時及び非発光領域の色純度が劣化し、見栄えが悪化するという問題が生じる。この問題が生じることを防ぐために、有機EL素子の光取り出し面側に偏光板などを設けることがある。
しかし、偏光板などを設けた場合、それ自体の光透過率が悪く、発光効率が低下してしまうという問題がある。この問題に対して、特許文献2には、偏光板を設ける代わりに、封止部材に有機系塗膜を設けて缶封止をする技術が開示されている。
しかしながら、缶封止をした場合、有機ELの可撓性が損なわれるおそれがある、という問題がある。However, as described above, when an LED and an OLED (organic EL element) are used as the backlight of the smart device, a part of light (hereinafter also referred to as “external incident light”) incident on the organic EL element from the outside is a cathode. The phenomenon that the light is reflected by the metal layer and emitted from the light extraction surface occurs. When the reflected external incident light is emitted from the light extraction surface, the color purity of the organic EL element when not emitting light and the non-emitting area is deteriorated, and the appearance is deteriorated. In order to prevent this problem from occurring, a polarizing plate or the like may be provided on the light extraction surface side of the organic EL element.
However, when a polarizing plate or the like is provided, there is a problem that the light transmittance itself is poor and the light emission efficiency is lowered. To solve this problem,
However, there is a problem that the flexibility of the organic EL may be impaired when the can is sealed.
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、可撓性が高く、かつ、非発光時及び非発光領域の色を種々の色にできる有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above-described problems and situations, and the problem to be solved is an organic electroluminescence element that is highly flexible and can change the color of the non-light-emitting region and the non-light-emitting region to various colors. The manufacturing method is provided.
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、少なくとも一部が着色された封止部材によって、積層体をラミネートして封止することで、可撓性が高く、かつ、非発光時及び非発光領域に種々の色を持つ有機エレクトロルミネッセンス素子を提供できることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor is flexible by laminating and sealing the laminate with a sealing member colored at least partially in the process of examining the cause of the above-mentioned problem. It has been found that an organic electroluminescence device having a high color and various colors in a non-light-emitting region and a non-light-emitting region can be provided.
That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.
1.少なくとも透明基板、第1透明電極、有機層及び第2透明電極をこの順に積層した
積層体並びに封止部材を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記透明基板側からのみ、光を取り出し、
前記封止部材は、少なくとも接着層、及び前記接着層側のみに配置された着色された層を有する封止基材を有し、
前記積層体は、前記第2透明電極側の面に前記封止基材が前記接着層を介してラミネートされていることで、前記封止部材により封止されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
1. An organic electroluminescence element having a laminate and a sealing member in which at least a transparent substrate, a first transparent electrode, an organic layer, and a second transparent electrode are laminated in this order,
Extract light only from the transparent substrate side,
The sealing member has a capping group member having an adhesive layer, and a layer which is colored disposed only on the adhesive layer side even without low,
The laminated body is sealed by the sealing member by laminating the sealing substrate on the surface on the second transparent electrode side through the adhesive layer. Luminescence element.
2.前記第1透明電極及び前記第2透明電極が、金属薄膜であることを特徴とする第1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
2. 2. The organic electroluminescence element according to
3.前記封止基材が、アルマイト処理を施されたアルミニウム箔を構成要素として含んでいることを特徴とする第1項又は第2項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 3. 3. The organic electroluminescent element according to claim 1 or 2, wherein the sealing base material includes an aluminum foil subjected to an alumite treatment as a constituent element.
4.前記接着層が、接着剤として絶縁性の有機材料と、着色料とを含有していることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 4). The adhesive layer, and an organic material of the insulating as adhesives, coloring an organic electroluminescent device according to any one of the first term to the third term, characterized in that it contains a.
5.前記着色料の含有割合が、前記接着層中、0.5〜20質量%の範囲内であることを特徴とする第4項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
5. The organic electroluminescent element according to
6.少なくとも透明基板、第1透明電極、有機層及び第2透明電極をこの順に積層した積層体並びに封止部材を有し、前記透明基板側からのみ光を取り出す有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
前記有機層として、少なくとも正孔注入層、正孔輸送層、発光層を形成する有機層形成工程と、
前記第2透明電極側の面から前記積層体に、前記封止部材をラミネートする封止工程と、
を有し、
前記封止部材が、少なくとも接着層、及び前記接着層側のみに配置された着色された層を有する封止基材を有し、
前記封止部材をラミネートする封止工程では、前記積層体に前記接着層を介して前記封止基材をラミネートすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
6). At least a transparent substrate, a first transparent electrode, an organic layer and a second transparent electrode have a laminate as well as the sealing member are laminated in this order, a manufacturing method of an organic electroluminescent device is taken out only light from the transparent substrate side ,
As the organic layer, at least a hole injection layer, a hole transport layer, an organic layer forming step of forming a light emitting layer, and
A sealing step of laminating the the laminate, before Kifutome member from the surface of the second transparent electrode side,
I have a,
The sealing member has a sealing substrate having at least an adhesive layer, and a colored layer disposed only on the adhesive layer side,
In the sealing step of laminating the sealing member, the sealing substrate is laminated on the laminate through the adhesive layer . A method for producing an organic electroluminescent element, comprising:
7.前記封止工程により前記積層体に前記封止部材をラミネートした後に、当該積層体の少なくとも一部に紫外線を照射させて発光パターンを形成する工程を有していることを特徴とする第6項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
7 . 6. The method according to
本発明の上記手段により、可撓性が高く、かつ、非発光時及び非発光領域の色を種々の色にできる有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供することができる。 By the above means of the present invention, it is possible to provide an organic electroluminescence device which is highly flexible and can change the color of the non-light-emitting region and the non-light-emitting region into various colors and a method for manufacturing the same.
本発明の効果の発現機構・作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
従来、外部から有機EL素子に入射した光の一部が陰極等の金属層で反射され、光取り出し面から出射されるという問題がある。
これに対し、本発明者は、封止部材を着色することにより、外部から有機EL素子に入射した光が反射することを防ぐことができ、また、着色することにより、非発光時及び非発光領域の色を種々の色にでき、さらに、偏光板などを設ける必要がないため、有機EL素子を薄くできることを見出し本発明に至った。
また、本発明者は、非発光時及び非発光領域の有機EL素子の色は、第1透明電極、第2透明電極及び封止部材の重なり方に影響されることも見出し、第1透明電極及び第2透明電極を発光パターンの形状ではなく、べたに形成することで、非発光時及び非発光領域の有機EL素子の色純度を向上させることができることを見出した。
このように、本発明は、非発光時及び非発光領域の有機EL素子の色を調整することができる。なお、本発明において、発光領域の色は、有機層で調整する。The expression mechanism / action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.
Conventionally, there is a problem that part of light incident on the organic EL element from the outside is reflected by a metal layer such as a cathode and emitted from the light extraction surface.
On the other hand, the present inventor can prevent reflection of light incident on the organic EL element from the outside by coloring the sealing member, and the non-light emission and non-light emission by coloring. The present inventors have found that the color of the region can be various colors and that it is not necessary to provide a polarizing plate or the like, so that the organic EL element can be thinned, and the present invention has been achieved.
The inventor has also found that the color of the organic EL element in the non-light-emitting region and in the non-light-emitting region is affected by the way in which the first transparent electrode, the second transparent electrode, and the sealing member overlap, and the first transparent electrode And it discovered that the color purity of the organic EL element of the non-light-emission area | region and a non-light-emission area | region can be improved by forming a 2nd transparent electrode solidly instead of the shape of a light emission pattern.
Thus, the present invention can adjust the color of the organic EL element in the non-light-emitting region and in the non-light-emitting region. In the present invention, the color of the light emitting region is adjusted by the organic layer.
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、少なくとも透明基板、第1透明電極、有機層及び第2透明電極をこの順に積層した積層体並びに封止部材を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記封止部材は、少なくとも一部が着色されており、かつ、少なくとも封止基材及び接着層を有し、前記積層体は、前記第2透明電極側の面に前記封止基材が前記接着層を介してラミネートされていることで、前記封止部材により封止されていることを特徴とする。この特徴は、下記各実施形態に係る発明に共通する技術的特徴である。
これにより、本発明は、可撓性が高く、かつ、非発光時及び非発光領域の色を種々の色にできる有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供することができる。
The organic electroluminescence element of the present invention is an organic electroluminescence element having a laminate in which at least a transparent substrate, a first transparent electrode, an organic layer, and a second transparent electrode are laminated in this order, and a sealing member, wherein the sealing member Is at least partially colored, and has at least a sealing substrate and an adhesive layer, and the laminate has the sealing substrate on the surface on the second transparent electrode side through the adhesive layer. By being laminated, it is sealed by the sealing member. This feature is a technical feature common to the inventions according to the following embodiments .
Thereby, this invention can provide the organic electroluminescent element which has high flexibility, and can make the color of a non-light-emission and a non-light-emitting area | region into various colors, and its manufacturing method.
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から第1透明電極及び前記第2透明電極が、金属薄膜であることが好ましい。これにより、非発光時及び非発光領域の色を封止部材が着色された色に近づけることができる。また、封止部材が黒に着色されている場合は、有機EL層に含まれる金属層(第1透明電極等)による外部入射光の反射を抑えることができる。 As an embodiment of the present invention, it is preferable that the first transparent electrode and the second transparent electrode are metal thin films from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention. Thereby, the color of the non-light-emitting region and the non-light-emitting region can be brought close to the color in which the sealing member is colored. Moreover, when the sealing member is colored black, reflection of external incident light by the metal layer (first transparent electrode or the like) included in the organic EL layer can be suppressed.
さらに、本発明においては、封止基材が、アルマイト処理を施されたアルミニウム箔を構成要素として含んでいることが好ましい。これにより、高温高湿度の環境下での耐久性が向上し、かつ、封止基材が黒に着色されるため、有機EL層に含まれる金属層による外部入射光の反射を抑えることができる。 Furthermore, in this invention, it is preferable that the sealing base material contains the aluminum foil by which the alumite process was performed as a component. As a result, durability under a high temperature and high humidity environment is improved, and the sealing substrate is colored black, so that reflection of external incident light by the metal layer included in the organic EL layer can be suppressed. .
また、本発明においては、接着層が、着色料を含有していることが好ましい。これにより、非発光時及び非発光領域に種々の色を持たせることができるという効果が得られる。 Moreover, in this invention, it is preferable that the contact bonding layer contains the coloring agent. Thereby, the effect that various colors can be given to the non-light-emitting region and the non-light-emitting region can be obtained.
また、本発明においては、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光パターンの形状は、第1透明電極及び第2透明電極の形状と異なることが好ましい。すなわち、第1透明電極及び第2透明電極は、発光パターンの形状に限定されず、様々な形状に形成されてもよい。これにより、例えば、第1透明電極及び第2透明電極を透明基板の形状と近い形状に、かつ、べたに形成することができ、ひいては、発光時及び非発光領域の有機エレクトロルミネッセンス素子の色を、発光パターンの形状によらず均一にすることができるため、見栄えを向上させることができるという効果が得られる。 Moreover, in this invention, it is preferable that the shape of the light emission pattern of an organic electroluminescent element differs from the shape of a 1st transparent electrode and a 2nd transparent electrode. That is, the first transparent electrode and the second transparent electrode are not limited to the shape of the light emission pattern, and may be formed in various shapes. Thereby, for example, the first transparent electrode and the second transparent electrode can be formed in a shape close to the shape of the transparent substrate and solid, and as a result, the color of the organic electroluminescence element in the light emitting and non-light emitting regions can be changed. Since it can be made uniform regardless of the shape of the light emitting pattern, an effect that the appearance can be improved is obtained.
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法としては、有機層として、少なくとも正孔注入層、正孔輸送層、発光層を形成する有機層形成工程と、第2透明電極側の面から積層体に、少なくとも一部が着色された封止部材をラミネートする封止工程とを有する態様の製造方法であることが可撓性が高く、かつ、非発光時及び非発光領域の色を種々の色にできる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することができ、好ましい。 The organic electroluminescent element manufacturing method for manufacturing the organic electroluminescent element of the present invention includes an organic layer forming step of forming at least a hole injection layer, a hole transport layer, and a light emitting layer as an organic layer, and a second transparent electrode. And a non-light-emitting region and a non-light-emitting region that are highly flexible and have a sealing step of laminating a sealing member colored at least partially on the laminate from the side surface It is possible to provide a method for producing an organic electroluminescence device capable of changing the color of the material to various colors, which is preferable.
また、本発明においては、有機層形成工程が、正孔注入層、正孔輸送層及び発光層の少なくとも一層を第1透明電極及び第2透明電極と異なる形状に形成することが好ましい。すなわち、第1透明電極及び第2透明電極は、発光パターンの形状に限定されず、様々な形状に形成されてもよい。これにより、例えば、第1透明電極及び第2透明電極を透明基板の形状と同じ形状に、かつ、べたに形成することができ、ひいては、発光時及び非発光領域の有機エレクトロルミネッセンス素子の色を、発光パターンの形状によらず均一にすることができるため、見栄えを向上させることができるという効果が得られる。 Moreover, in this invention, it is preferable that an organic layer formation process forms at least one layer of a positive hole injection layer, a positive hole transport layer, and a light emitting layer in the shape different from a 1st transparent electrode and a 2nd transparent electrode. That is, the first transparent electrode and the second transparent electrode are not limited to the shape of the light emission pattern, and may be formed in various shapes. Thereby, for example, the first transparent electrode and the second transparent electrode can be formed in the same shape as the shape of the transparent substrate and solidly, and as a result, the color of the organic electroluminescence element in the light emitting and non-light emitting regions can be changed. Since it can be made uniform regardless of the shape of the light emitting pattern, an effect that the appearance can be improved is obtained.
さらに、本発明においては、前記封止工程により前記積層体に前記封止部材をラミネートした後に、当該積層体の少なくとも一部に紫外線を照射させて発光パターンを形成する工程を有していることが好ましい。これにより、黒等の色の非発光領域(背景となる領域)に対して、発光領域が発光するため、形成される発光パターンが非発光領域に対して浮かび上がって見えるという視覚的効果を得ることができる。 Furthermore, in this invention, after laminating the said sealing member on the said laminated body by the said sealing process, it has the process of irradiating an ultraviolet-ray to at least one part of the said laminated body, and forming the light emission pattern. Is preferred. Accordingly, since the light emitting region emits light with respect to the non-light emitting region (background region) of black or the like, a visual effect is obtained that the formed light emission pattern appears to be raised with respect to the non-light emitting region. be able to.
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.
(本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の概要)
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、少なくとも透明基板、第1透明電極、有機層及び第2透明電極をこの順に積層した積層体並びに封止部材を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記封止部材は、少なくとも一部が着色されており、かつ、少なくとも封止基材及び接着層を有し、前記積層体は、前記第2透明電極側の面に前記封止基材が前記接着層を介してラミネートされていることで、前記封止部材により封止されていることを特徴とし、かかる構成により、可撓性が高く、かつ、非発光時及び非発光領域の色を種々の色にできる有機エレクトロルミネッセンス素子を提供できる。なお、本発明において、発光領域における発光時の色は、有機層で調整される。(Outline of the organic electroluminescence device of the present invention)
The organic electroluminescence element of the present invention is an organic electroluminescence element having a laminate in which at least a transparent substrate, a first transparent electrode, an organic layer, and a second transparent electrode are laminated in this order, and a sealing member, wherein the sealing member Is at least partially colored, and has at least a sealing substrate and an adhesive layer, and the laminate has the sealing substrate on the surface on the second transparent electrode side through the adhesive layer. By being laminated, it is characterized by being sealed by the sealing member. With such a configuration, the flexibility is high, and the color of the non-light-emitting region and the non-light-emitting region can be various colors. An organic electroluminescence element can be provided. In the present invention, the color at the time of light emission in the light emitting region is adjusted by the organic layer.
≪有機EL素子の構成≫
本発明の有機EL素子の一例を図1に示す。
図1に示すとおり、有機EL素子1は、透明基板2上に、第1透明電極4、有機層6、第2透明電極12が順次積層された積層体にさらに、封止部材105が積層して構成されている。≪Configuration of organic EL element≫
An example of the organic EL element of the present invention is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, the
(積層体)
本発明の有機EL素子1は、少なくとも透明基板2、第1透明電極4、有機層6及び第2透明電極12がこの順に積層した積層体13を有することを特徴とする。本発明において、積層体13は、後述のように、第2透明電極12側の面に封止基材105aが接着層105bを介してラミネートされていることで、封止部材105により封止されている。(Laminate)
The
<有機層>
本発明の有機層6の層構成の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。<Organic layer>
Although the preferable specific example of the layer structure of the
(i)正孔注入輸送層/発光層/電子注入輸送層
(ii)正孔注入輸送層/発光層/正孔阻止層/電子注入輸送層
(iii)正孔注入輸送層/電子阻止層/発光層/正孔阻止層/電子注入輸送層
(iv)正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層
(v)正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子注入層
(vi)正孔注入層/正孔輸送層/電子阻止層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子注入層(I) Hole injection transport layer / light emitting layer / electron injection transport layer (ii) Hole injection transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron injection transport layer (iii) Hole injection transport layer / electron blocking layer / Light emitting layer / hole blocking layer / electron injection transport layer (iv) Hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer (v) Hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / Hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer (vi) Hole injection layer / hole transport layer / electron blocking layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer
有機層6を構成する各層の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法(ラングミュア−ブロジェット法)、インクジェット法、スプレー法、印刷法及びスロット型コーター法等の公知の薄膜形成法により製膜して形成することができる。
Examples of the method for forming each layer constituting the
以下、本発明の有機EL素子1を構成する各層について説明する。
Hereinafter, each layer which comprises the
<発光層>
発光層には、ホスト化合物及び発光ドーパントが含まれていることが好ましい。
発光層に含有される発光ドーパントは、発光層の層厚方向に対し、均一な濃度で含有されていてもよく、また濃度分布を有していてもよい。
発光層の層厚は、特に制限はないが、形成する膜の均質性や、発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、かつ、駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、5〜200nmの範囲内に調整することが好ましく、更に好ましくは10〜100nmの範囲内に調整される。
以下、発光層に含まれるホスト化合物及びリン光ドーパントについて説明する。<Light emitting layer>
The light emitting layer preferably contains a host compound and a light emitting dopant.
The light-emitting dopant contained in the light-emitting layer may be contained at a uniform concentration in the thickness direction of the light-emitting layer, or may have a concentration distribution.
The thickness of the light emitting layer is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the uniformity of the film to be formed, preventing the application of unnecessary high voltage during light emission, and improving the stability of the emitted color against the drive current. It is preferable to adjust within the range of 5 to 200 nm, and more preferably within the range of 10 to 100 nm.
Hereinafter, the host compound and phosphorescent dopant contained in the light emitting layer will be described.
(1)ホスト化合物
本発明に用いられるホスト化合物としては、構造的には特に制限はないが、代表的にはカルバゾール誘導体、トリアリールアミン誘導体、芳香族ボラン誘導体、含窒素複素環化合物、チオフェン誘導体、フラン誘導体及びオリゴアリーレン化合物等の基本骨格を有するものや、カルボリン誘導体やジアザカルバゾール誘導体(ここで、ジアザカルバゾール誘導体とは、カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭化水素環の少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置換されているものを表す。)等が挙げられる。(1) Host compound The host compound used in the present invention is not particularly limited in terms of structure, but is typically a carbazole derivative, a triarylamine derivative, an aromatic borane derivative, a nitrogen-containing heterocyclic compound, or a thiophene derivative. Those having basic skeletons such as furan derivatives and oligoarylene compounds, carboline derivatives and diazacarbazole derivatives (where diazacarbazole derivatives are at least one carbon of the hydrocarbon ring constituting the carboline ring of the carboline derivative) Represents an atom substituted with a nitrogen atom.) And the like.
ホスト化合物は、単独で用いてもよいし、複数種併用して用いてもよい。 A host compound may be used independently and may be used in combination of multiple types.
本発明に係る発光層に用いられるホスト化合物は、低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物(蒸着重合性発光ホスト)でもよい。 The host compound used in the light emitting layer according to the present invention may be a low molecular compound or a high molecular compound having a repeating unit, and a low molecular compound having a polymerizable group such as a vinyl group or an epoxy group (evaporation polymerizable light emitting host). )
ホスト化合物としては、正孔輸送能又は電子輸送能を有しつつ、かつ、発光の長波長化を防ぎ、高Tg(ガラス転移温度)である化合物が好ましい。本発明においては、ガラス転移点が90℃以上の化合物が好ましく、更には130℃以上の化合物が優れた特性を得られることから好ましい。
ここで、ガラス転移点(Tg)とは、DSC(Differential Scanning Colorimetry:示差走査熱量法)を用いて、JIS K 7121に準拠した方法により求められる値である。As the host compound, a compound having a hole transporting ability or an electron transporting ability, which prevents a long wavelength emission and has a high Tg (glass transition temperature) is preferable. In the present invention, a compound having a glass transition point of 90 ° C. or higher is preferable, and a compound having a glass transition temperature of 130 ° C. or higher is preferable because excellent characteristics can be obtained.
Here, the glass transition point (Tg) is a value determined by a method based on JIS K 7121 using DSC (Differential Scanning Colorimetry).
また、本発明においては、従来公知のホスト化合物を用いることもできる。
従来公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物を好適に用いることができる。例えば、特開2001−257076号公報、同2002−308855号公報、同2001−313179号公報、同2002−319491号公報、同2001−357977号公報、同2002−334786号公報、同2002−8860号公報、同2002−334787号公報、同2002−15871号公報、同2002−334788号公報、同2002−43056号公報、同2002−334789号公報、同2002−75645号公報、同2002−338579号公報、同2002−105445号公報、同2002−343568号公報、同2002−141173号公報、同2002−352957号公報、同2002−203683号公報、同2002−363227号公報、同2002−231453号公報、同2003−3165号公報、同2002−234888号公報、同2003−27048号公報、同2002−255934号公報、同2002−260861号公報、同2002−280183号公報、同2002−299060号公報、同2002−302516号公報、同2002−305083号公報、同2002−305084号公報、同2002−308837号公報、米国特許公開第2003/0175553号明細書、米国特許公開第2006/0280965号明細書、米国特許公開第2005/0112407号明細書、米国特許公開第2009/0017330号明細書、米国特許公開第2009/0030202号明細書、米国特許公開第2005/238919号明細書、国際公開第2001/039234号、国際公開第2009/021126号、国際公開第2008/056746号、国際公開第2004/093207号、国際公開第2005/089025号、国際公開第2007/063796号、国際公開第2007/063754号、国際公開第2004/107822号、国際公開第2005/030900号、国際公開第2006/114966号、国際公開第2009/086028号、国際公開第2009/003898号、国際公開第2012/023947号、特開2008−074939号公報、特開2007−254297号公報、欧州特許第2034538号明細書等が挙げられる。In the present invention, a conventionally known host compound can also be used.
As specific examples of conventionally known host compounds, compounds described in the following documents can be suitably used. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-257076, 2002-308855, 2001-313179, 2002-319491, 2001-357777, 2002-334786, 2002-8860 Gazette, 2002-334787 gazette, 2002-15871 gazette, 2002-334788 gazette, 2002-43056 gazette, 2002-334789 gazette, 2002-75645 gazette, 2002-338579 gazette. No. 2002-105445, No. 2002-343568, No. 2002-141173, No. 2002-352957, No. 2002-203683, No. 2002-363227, No. 2002-231453. No. 2003-3165, No. 2002-234888, No. 2003-27048, No. 2002-255934, No. 2002-286061, No. 2002-280183, No. 2002-299060. 2002-302516, 2002-305083, 2002-305084, 2002-308837, US 2003/0175553, US 2006/0280965. US Patent Publication No. 2005/0112407, US Patent Publication No. 2009/0017330, US Patent Publication No. 2009/0030202, US Patent Publication No. 2005/238919, International Publication No. 0392 No. 4, International Publication No. 2009/021126, International Publication No. 2008/056746, International Publication No. 2004/093207, International Publication No. 2005/089025, International Publication No. 2007/063796, International Publication No. 2007/063754 International Publication No. 2004/107822, International Publication No. 2005/030900, International Publication No. 2006/114966, International Publication No. 2009/086028, International Publication No. 2009/003898, International Publication No. 2012/023947, Special JP 2008-074939 A, JP 2007-254297 A, European Patent No. 2034538, and the like.
本発明の有機EL素子1が複数の発光層を有する場合、ホスト化合物は発光層ごとに異なっていてもよいが、同一の化合物であることが生産効率上、工程管理上好ましい。
When the
また、ホスト化合物は、その最低励起3重項エネルギー(T1)が、2.7eVより大きいことがより高い発光効率を得られることから好ましい。
本発明でいう最低励起3重項エネルギーとは、ホスト化合物を溶媒に溶解し、液体窒素温度において観測したリン光発光スペクトルの最低振動バンド間遷移に対応する発光バンドのピークエネルギーのことをいう。In addition, it is preferable that the host compound has a lowest excited triplet energy (T1) larger than 2.7 eV because higher luminous efficiency can be obtained.
The lowest excited triplet energy as used in the present invention refers to the peak energy of an emission band corresponding to the transition between the lowest vibrational bands of a phosphorescence emission spectrum observed at a liquid nitrogen temperature after dissolving a host compound in a solvent.
(2)リン光発光ドーパント
本発明に用いることができるリン光発光ドーパントは、公知のものの中から選ぶことができる。例えば、元素の周期表で8族〜10族の金属を含有する錯体系化合物、好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、若しくは白金化合物(白金錯体系化合物)、又は希土類錯体から選ぶことができる。中でも、最も好ましいのはイリジウム化合物である。
白色発光を呈する有機EL素子1を作製する場合、少なくとも緑、黄及び赤領域の発光を担う発光体としては、リン光発光材料が好ましい。(2) Phosphorescence emission dopant The phosphorescence emission dopant which can be used for this invention can be selected from a well-known thing. For example, it can be selected from a complex compound containing a group 8-10 metal in the periodic table of elements, preferably an iridium compound, an osmium compound, a platinum compound (platinum complex compound), or a rare earth complex. Of these, iridium compounds are most preferred.
When producing the
本発明に使用できる公知のリン光発光性化合物の具体例としては、以下の文献あるいは特許に記載されている化合物等が挙げられる。 Specific examples of known phosphorescent compounds that can be used in the present invention include compounds described in the following documents or patents.
Nature 395,151(1998)、Appl.Phys.Lett.78,1622(2001)、Adv.Mater.19,739(2007)、Chem.Mater.17,3532(2005)、Adv.Mater.17,1059(2005)、国際公開第2009/100991号、国際公開第2008/101842号、国際公開第2003/040257号、米国特許公開第2006/835469号明細書、米国特許公開第2006/0202194号明細書、米国特許公開第2007/0087321号明細書、米国特許公開第2005/0244673号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。 Nature 395, 151 (1998), Appl. Phys. Lett. 78, 1622 (2001), Adv. Mater. 19, 739 (2007), Chem. Mater. 17, 3532 (2005), Adv. Mater. 17, 1059 (2005), International Publication No. 2009/100991, International Publication No. 2008/101842, International Publication No. 2003/040257, US Patent Publication No. 2006/835469, US Patent Publication No. 2006/020202194. The compounds described in the specification, US Patent Publication No. 2007/0087321, US Patent Publication No. 2005/0244673, and the like can be mentioned.
また、Inorg.Chem.40,1704(2001)、Chem.Mater.16,2480(2004)、Adv.Mater.16,2003(2004)、Angew.Chem.lnt.Ed.2006,45,7800、Appl.Phys.Lett.86,153505(2005)、Chem.Lett.34,592(2005)、Chem.Commun.2906(2005)、Inorg.Chem.42,1248(2003)、国際公開第2009/050290号、国際公開第2002/015645号、国際公開第2009/000673号、米国特許公開第2002/0034656号明細書、米国特許第7332232号明細書、米国特許公開第2009/0108737号明細書、米国特許公開第2009/0039776号、米国特許第6921915号、米国特許第6687266号明細書、米国特許公開第2007/0190359号明細書、米国特許公開第2006/0008670号明細書、米国特許公開第2009/0165846号明細書、米国特許公開第2008/0015355号明細書、米国特許第7250226号明細書、米国特許第7396598号明細書、米国特許公開第2006/0263635号明細書、米国特許公開第2003/0138657号明細書、米国特許公開第2003/0152802号明細書、米国特許第7090928号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。 Inorg. Chem. 40, 1704 (2001), Chem. Mater. 16, 2480 (2004), Adv. Mater. 16, 2003 (2004), Angew. Chem. lnt. Ed. 2006, 45, 7800, Appl. Phys. Lett. 86, 153505 (2005), Chem. Lett. 34, 592 (2005), Chem. Commun. 2906 (2005), Inorg. Chem. 42, 1248 (2003), International Publication No. 2009/050290, International Publication No. 2002/015645, International Publication No. 2009/000673, US Patent Publication No. 2002/0034656, US Pat. No. 7,332,232, US Patent Publication No. 2009/0108737, US Patent Publication No. 2009/0039776, US Patent No. 6921915, US Patent No. 6,687,266, US Patent Publication No. 2007/0190359, US Patent Publication No. 2006 No./0008670, U.S. Patent Publication No. 2009/0165846, U.S. Patent Publication No. 2008/0015355, U.S. Pat. No. 7,250,226, U.S. Pat. No. 7,396,598, U.S. Patent Publication No. 2006 / 026363 Pat, U.S. Patent Publication No. 2003/0138657, U.S. Patent Publication No. 2003/0152802, may be mentioned compounds described in U.S. Patent No. 7,090,928 Pat like.
また、Angew.Chem.lnt.Ed.47,1(2008)、Chem.Mater.18,5119(2006)、Inorg.Chem.46,4308(2007)、Organometallics 23,3745(2004)、Appl.Phys.Lett.74,1361(1999)、国際公開第2002/002714号、国際公開第2006/009024号、国際公開第2006/056418号、国際公開第2005/019373号、国際公開第2005/123873号、国際公開第2005/123873号、国際公開第2007/004380号、国際公開第2006/082742号、米国特許公開第2006/0251923号明細書、米国特許公開第2005/0260441号明細書、米国特許第7393599号明細書、米国特許第7534505号明細書、米国特許第7445855号明細書、米国特許公開第2007/0190359号明細書、米国特許公開第2008/0297033号明細書、米国特許第7338722号明細書、米国特許公開第2002/0134984号明細書、米国特許第7279704号明細書、米国特許公開第2006/098120号明細書、米国特許公開第2006/103874号明細書等に記載の化合物も挙げることができる。 Also, Angew. Chem. lnt. Ed. 47, 1 (2008), Chem. Mater. 18, 5119 (2006), Inorg. Chem. 46, 4308 (2007), Organometallics 23, 3745 (2004), Appl. Phys. Lett. 74, 1361 (1999), International Publication No. 2002/002714, International Publication No. 2006/009024, International Publication No. 2006/056418, International Publication No. 2005/019373, International Publication No. 2005/123873, International Publication No. 2005/123873, International Publication No. 2007/004380, International Publication No. 2006/082742, US Patent Publication No. 2006/0251923, US Publication No. 2005/0260441, US Pat. No. 7,393,599. U.S. Pat. No. 7,534,505, U.S. Pat. No. 7,445,855, U.S. Patent Publication No. 2007/0190359, U.S. Patent Publication No. 2008/0297033, U.S. Pat. No. 7,338,722, U.S. Pat. No. 2002 0134984 Pat, U.S. Pat. No. 7279704, U.S. Patent Publication No. 2006/098120, compounds described in U.S. Patent Publication No. 2006/103874 Pat like can be mentioned.
さらには、国際公開第2005/076380号、国際公開第2010/032663号、国際公開第第2008/140115号、国際公開第2007/052431号、国際公開第2011/134013号、国際公開第2011/157339号、国際公開第2010/086089号、国際公開第2009/113646号、国際公開第2012/020327号、国際公開第2011/051404号、国際公開第2011/004639号、国際公開第2011/073149号、特開2012−069737号公報、特開2009−114086号公報、特開2003−81988号公報、特開2002−302671号公報、特開2002−363552号公報等である。 Furthermore, International Publication No. 2005/076380, International Publication No. 2010/032663, International Publication No. 2008/140115, International Publication No. 2007/052431, International Publication No. 2011/134013, International Publication No. 2011/157339. No., International Publication No. 2010/086089, International Publication No. 2009/113646, International Publication No. 2012/020327, International Publication No. 2011/051404, International Publication No. 2011/004639, International Publication No. 2011/073149, JP2012-069737, JP2009-114086, JP2003-81988, JP2002-302671, JP2002-363552, and the like.
(3)蛍光発光ドーパント
蛍光発光ドーパント(蛍光性ドーパント又は蛍光発光体等ともいう。)としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素及び希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。(3) Fluorescent luminescent dopant Fluorescent luminescent dopants (also referred to as fluorescent dopants or fluorescent emitters) include coumarin dyes, pyran dyes, cyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, oxobenzanthracene dyes. Fluorescein dyes, rhodamine dyes, pyrylium dyes, perylene dyes, stilbene dyes, polythiophene dyes, rare earth complex phosphors, and the like.
<注入層:正孔注入層、電子注入層>
注入層は、必要に応じて設けることができ、正孔注入層であれば、第1透明電極4(陽極、アノード)と発光層又は正孔輸送層の間、電子注入層であれば第2透明電極12(陰極、カソード)と発光層又は電子輸送層との間に存在させても良い。<Injection layer: hole injection layer, electron injection layer>
The injection layer can be provided as needed. If it is a hole injection layer, it is between the first transparent electrode 4 (anode, anode) and the light emitting layer or hole transport layer, and if it is an electron injection layer, it is the second. You may exist between the transparent electrode 12 (cathode, cathode) and a light emitting layer or an electron carrying layer.
注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と発光層の間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されており、正孔注入層と電子注入層とがある。
An injection layer is a layer provided between an electrode and a light-emitting layer in order to lower drive voltage or improve light emission luminance. “An organic EL element and its forefront of industrialization (November 30, 1998, NTS) (Published by the company) "
正孔注入層(陽極バッファー層)としては、特開平9−45479号公報、同9−260062号公報及び同8−288069号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層及びポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。また、特表2003−519432号公報に記載されている材料を使用することも好ましい。 Details of the hole injection layer (anode buffer layer) are also described in JP-A-9-45479, 9-260062, and 8-288069. Specific examples include copper phthalocyanine. Phthalocyanine buffer layer typified by (2), oxide buffer layer typified by vanadium oxide, amorphous carbon buffer layer, and polymer buffer layer using a conductive polymer such as polyaniline (emeraldine) or polythiophene. Moreover, it is also preferable to use the material described in Japanese translations of PCT publication No. 2003-519432 gazette.
正孔注入層は、複数の材料を混合して用いてもよいが、本発明においては、単一の有機化合物を製膜することによって形成されることが好ましい。理由として、複数の材料を混合して使用する場合、混合比の生産時における変動、例えば、製膜基板面内における濃度変動等による性能変動のリスクが高くなることが挙げられる。 The hole injection layer may be used by mixing a plurality of materials, but in the present invention, it is preferably formed by forming a single organic compound. The reason is that, when a plurality of materials are used in combination, the risk of performance fluctuation due to fluctuation in the mixing ratio during production, for example, concentration fluctuation in the surface of the film-forming substrate is increased.
正孔注入層の層厚については特に制限はないが、通常は0.1〜100nm程度の範囲内、好ましくは1〜30nmの範囲内である。 Although there is no restriction | limiting in particular about the layer thickness of a positive hole injection layer, Usually, it exists in the range of about 0.1-100 nm, Preferably it exists in the range of 1-30 nm.
電子注入層に好適な材料としては、電子輸送層と陰極間に設ける電子注入層においては、仕事関数3eV以下のアルカリ金属、アルカリ土類金属、及びこれらの化合物が挙げられる。アルカリ金属化合物としては、具体的には、フッ化カリウム、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム、酸化リチウム、リチウムキノリン錯体及び炭酸セシウム等が挙げられ、フッ化リチウム及びフッ化セシウムが好ましい。 Suitable materials for the electron injection layer include alkali metals, alkaline earth metals, and compounds thereof having a work function of 3 eV or less in the electron injection layer provided between the electron transport layer and the cathode. Specific examples of the alkali metal compound include potassium fluoride, lithium fluoride, sodium fluoride, cesium fluoride, lithium oxide, lithium quinoline complex and cesium carbonate, and lithium fluoride and cesium fluoride are preferable. .
電子注入層の層厚については特に制限はないが、通常は0.1〜10nm程度の範囲内、好ましくは0.1〜2nmの範囲内である。 Although there is no restriction | limiting in particular about the layer thickness of an electron injection layer, Usually, it exists in the range of about 0.1-10 nm, Preferably it exists in the range of 0.1-2 nm.
<阻止層:正孔阻止層、電子阻止層>
阻止層は、必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層がある。<Blocking layer: hole blocking layer, electron blocking layer>
The blocking layer is provided as necessary. For example, it is described in JP-A Nos. 11-204258, 11-204359, and “Organic EL elements and their forefront of industrialization” (issued by NTT, Inc. on November 30, 1998). There is a hole blocking (hole blocking) layer.
正孔阻止層とは、広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなる。正孔阻止層によって、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで、電子と正孔との再結合確率を向上させることができる。また、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、正孔阻止層として用いることができる。
正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。The hole blocking layer has a function of an electron transport layer in a broad sense, and is made of a hole blocking material having a function of transporting electrons and an extremely small ability to transport holes. By blocking holes while transporting electrons by the hole blocking layer, the recombination probability between electrons and holes can be improved. Moreover, the structure of the electron carrying layer mentioned later can be used as a hole-blocking layer as needed.
The hole blocking layer is preferably provided adjacent to the light emitting layer.
一方、電子阻止層とは、広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなる。電子阻止層によって、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで、電子と正孔との再結合確率を向上させることができる。また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。 On the other hand, the electron blocking layer has a function of a hole transport layer in a broad sense, and is made of a material having a function of transporting holes and an extremely small ability to transport electrons. By blocking electrons while transporting holes by the electron blocking layer, the recombination probability of electrons and holes can be improved. Moreover, the structure of the positive hole transport layer mentioned later can be used as an electron blocking layer as needed.
本発明に係る正孔阻止層及び電子阻子層の厚さとしては、好ましくは3〜100nmの範囲内であり、更に好ましくは5〜30nmの範囲内である。 The thickness of the hole blocking layer and the electron blocking layer according to the present invention is preferably in the range of 3 to 100 nm, and more preferably in the range of 5 to 30 nm.
<正孔輸送層>
正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層及び電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。
正孔輸送層は、単層又は複数層設けることができる。<Hole transport layer>
The hole transport layer is made of a hole transport material having a function of transporting holes, and in a broad sense, a hole injection layer and an electron blocking layer are also included in the hole transport layer.
The hole transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.
正孔輸送材料としては、正孔を注入若しくは輸送する機能、又は電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物又は無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体や、導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。
正孔輸送材料としては、上記のものを使用することができるが、更には、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。The hole transport material has either a function of injecting or transporting holes or an electron barrier property, and may be either an organic substance or an inorganic substance. For example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, Examples thereof include stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline copolymers, conductive polymer oligomers, particularly thiophene oligomers.
As the hole transporting material, those described above can be used, but it is further preferable to use a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound, and a styrylamine compound, particularly an aromatic tertiary amine compound.
芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノフェニル、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(TPD)、2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン、N,N,N′,N′−テトラ−p−トリル−4,4′−ジアミノビフェニル、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン、ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン、ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタン、N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−メトキシフェニル)−4,4′−ジアミノビフェニル、N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル、N,N,N−トリ(p−トリル)アミン、4−(ジ−p−トリルアミノ)−4′−〔4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル〕スチルベン、4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン、3−メトキシ−4′−N,N−ジフェニルアミノスチルベンゼン及びN−フェニルカルバゾール、更には、米国特許第5061569号明細書に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(NPD)及び特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3個スターバースト型に連結された4,4′,4″−トリス〔N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン(MTDATA)等が挙げられる。 Representative examples of aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds include N, N, N ′, N′-tetraphenyl-4,4′-diaminophenyl, N, N′-diphenyl-N, N′— Bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (TPD), 2,2-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) propane, 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetra-p-tolyl-4,4′-diaminobiphenyl, 1,1-bis (4-di-p-tolyl) Aminophenyl) -4-phenylcyclohexane, bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethane, bis (4-di-p-tolylaminophenyl) phenylmethane, N, N'-diphenyl-N, N ' − (4-methoxyphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl, N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-bis (diphenylamino) quadriphenyl, N, N, N-tri (p-tolyl) amine, 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[4- (di-p-tolylamino) styryl] stilbene, 4-N, N-diphenylamino- (2-diphenylvinyl) benzene, 3-methoxy-4′-N, N-diphenylaminostilbenzene and N-phenylcarbazole, as well as two condensed aromatics described in US Pat. No. 5,061,569 Having a ring in the molecule, for example, 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPD) and JP-A-4-308 No. 88, 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine in which three triphenylamine units are linked in a starburst type ( MTDATA) and the like.
さらに、これらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、p型−Si及びp型−SiC等の無機化合物も正孔注入材料及び正孔輸送材料として使用することができる。
また、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、特開2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)、特開平11−251067号公報、J.Huang et.al.著文献(Applied Physics Letters 80(2002),p.139)及び特表2003−519432号公報に記載されているような、いわゆるp型半導体的性質を有するとされる正孔輸送材料を用いることもできる。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることから、これらの材料を用いることが好ましい。Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used. Inorganic compounds such as p-type-Si and p-type-SiC can also be used as the hole injection material and the hole transport material.
JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, JP-A-2001-102175, J. Pat. Appl. Phys. , 95, 5773 (2004), JP-A-11-251067, J. MoI. Huang et. al. It is also possible to use a hole transport material that has a so-called p-type semiconducting property, as described in the literature (Applied Physics Letters 80 (2002), p. 139) and Japanese translations of PCT publication No. 2003-519432. it can. In the present invention, it is preferable to use these materials because a light-emitting element with higher efficiency can be obtained.
正孔輸送層は、上記材料の1種又は2種以上からなる1層構造であってもよい。 The hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.
正孔輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度の範囲内、好ましくは5〜200nmの範囲内である。 Although there is no restriction | limiting in particular about the layer thickness of a positive hole transport layer, Usually, it exists in the range of about 5 nm-5 micrometers, Preferably it exists in the range of 5-200 nm.
<電子輸送層>
電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する材料からなる。
電子輸送層は、単層又は複数層設けることができる。<Electron transport layer>
The electron transport layer is made of a material having a function of transporting electrons.
The electron transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.
電子輸送層に用いられる電子輸送材料としては、第2透明電極12(陰極)を介して注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ビピリジル誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、カルボジイミド、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。また、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。さらに、これらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。 The electron transport material used for the electron transport layer may have any function of transmitting electrons injected through the second transparent electrode 12 (cathode) to the light emitting layer. Can be selected and used. Examples include nitro-substituted fluorene derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, bipyridyl derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, carbodiimides, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, and the like. In addition, in the above oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative in which the oxygen atom of the oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, and a quinoxaline derivative having a quinoxaline ring known as an electron-withdrawing group can also be used as an electron transport material. Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used.
また、8−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、Ga又はPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。その他、メタルフリー若しくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホ基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料としても用いられるジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様に、n型−Si、n型−SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。 In addition, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum (Alq), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-dibromo-8-quinolinol) aluminum Tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (Znq), and the like, and the central metals of these metal complexes are In, Mg, Metal complexes replaced with Cu, Ca, Sn, Ga, or Pb can also be used as the electron transport material. In addition, metal-free or metal phthalocyanine, or those having terminal ends substituted with an alkyl group or a sulfo group can be preferably used as the electron transporting material. Moreover, the distyrylpyrazine derivative used also as a material of a light emitting layer can also be used as an electron transport material, and like a positive hole injection layer and a positive hole transport layer, n-type-Si, n-type-SiC, etc. Inorganic semiconductors can also be used as electron transport materials.
電子輸送層には、複数の材料を混合して用いてもよい。アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属化合物又はアルカリ土類金属化合物のドーピングを行うこともできるが、本発明に係る電子輸送層は、単一の有機化合物を製膜することによって形成されることが好ましい。理由として、複数の材料を混合して使用する場合、混合比の生産時における変動、例えば、製膜基板面内における濃度変動等による性能変動のリスクが高くなることが挙げられる。 A plurality of materials may be mixed and used for the electron transport layer. Alkali metal, alkaline earth metal, alkali metal compound or alkaline earth metal compound can be doped, but the electron transport layer according to the present invention is formed by forming a single organic compound. Is preferred. The reason is that, when a plurality of materials are used in combination, the risk of performance fluctuation due to fluctuation in the mixing ratio during production, for example, concentration fluctuation in the surface of the film-forming substrate is increased.
電子輸送層に含まれる有機化合物のガラス転移温度は、110℃以上であることがより優れた高温保存性、高温プロセス安定性が得られることから好ましい。 The glass transition temperature of the organic compound contained in the electron transport layer is preferably 110 ° C. or higher because better high temperature storage stability and high temperature process stability can be obtained.
電子輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度の範囲内、好ましくは5〜200nmの範囲内である。 Although there is no restriction | limiting in particular about the layer thickness of an electron carrying layer, Usually, it exists in the range of about 5 nm-5 micrometers, Preferably it exists in the range of 5-200 nm.
<透明基板>
本発明の有機EL素子1に適用する透明基板2(基体、基板、基材、支持体ともいう。)としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また、透明であればよい。本発明の有機EL素子1は、透明基板2側から光が取り出される。好ましく用いられる透明な透明基板2としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい透明基板2は、有機EL素子1に可撓性を与えることが可能な樹脂フィルムである。本発明でいう「透明基材」とは、光波長550nmでの光透過率が50%以上である基材であり、好ましくは。70%以上であり、より好ましくは80%以上の基材である。<Transparent substrate>
The transparent substrate 2 (also referred to as a substrate, a substrate, a substrate, or a support) applied to the
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン(商品名、JSR社製)あるいはアペル(商品名、三井化学社製)といったシクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。 Examples of the resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate ( CAP), cellulose esters such as cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide , Polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, Cycloolefins such as polyetherimide, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic or polyarylate, Arton (trade name, manufactured by JSR) or Appel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals) Examples thereof include resins.
樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された水蒸気透過度が0.01g/(m2・24h)以下のガスバリアー性フィルムであることが好ましく、更には、JIS K 7126−1992に準拠した方法で測定された酸素透過度が1×10−3ml/(m2・24h・atm)以下、及び水蒸気透過度が1×10−3g/(m2・24h)以下の高ガスバリアー性フィルムであることが好ましく、更には、酸素透過度が1×10−5ml/(m2・24h・atm)以下、及び水蒸気透過度が1×10−5/(m2・24h)であることが特に好ましい。An inorganic or organic film or a hybrid film of both may be formed on the surface of the resin film, and the water vapor permeability measured by a method according to JIS K 7129-1992 is 0.01 g / (m 2 24h) The following gas barrier film is preferable, and the oxygen permeability measured by a method based on JIS K 7126-1992 is 1 × 10 −3 ml / (m 2 · 24h · atm). In the following, a high gas barrier film having a water vapor permeability of 1 × 10 −3 g / (m 2 · 24 h) or less is preferable, and further, an oxygen permeability is 1 × 10 −5 ml / (m 2. It is particularly preferable that 24 h · atm) or less and the water vapor permeability is 1 × 10 −5 / (m 2 · 24 h).
ガスバリアー膜を形成する材料としては、水分や酸素など素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素などを用いることができる。さらに、ガスバリアー膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機材料からなる層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。 As a material for forming the gas barrier film, any material may be used as long as it has a function of suppressing intrusion of elements that cause deterioration of the element such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like can be used. Furthermore, in order to improve the brittleness of the gas barrier film, it is more preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers made of organic materials. Although there is no restriction | limiting in particular about the lamination order of the layer which consists of an inorganic layer and an organic material, It is preferable to laminate | stack both alternately several times.
ガスバリアー膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法及びコーティング法などを用いることができるが、特開2004−68143号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものも好適に用いることができる。 The method for forming the gas barrier film is not particularly limited. For example, the vacuum deposition method, sputtering method, reactive sputtering method, molecular beam epitaxy method, cluster ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma A polymerization method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, and the like can be used, but those using an atmospheric pressure plasma polymerization method as described in JP-A-2004-68143 are also preferably used. be able to.
<第1透明電極>
第1透明電極4は、通常有機EL素子1に使用可能な全ての電極を使用することができる。具体的には、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/同混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属並びにITO、ZnO、TiO2及びSnO2等の酸化物半導体等が挙げられる。<First transparent electrode>
As the first
好ましくは、酸化物ではない金属が好ましく、中でも、銀を主成分とする金属が好ましい。その場合、図2に示すように、第1透明電極4は、透明基板2側から、下地層4bと、この上部に成膜された電極層4aとを順に積層した2層構造であることが好ましい。このうち、電極層4aは、例えば、銀又は銀を主成分とする合金を用いて構成された層であり、下地層4bは、例えば、窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも1種の原子を有する有機化合物を含有する層であることが好ましい。
Preferably, a metal that is not an oxide is preferable, and among them, a metal containing silver as a main component is preferable. In this case, as shown in FIG. 2, the first
なお、第1透明電極4の透明とは、光波長550nmでの光透過率が50%以上であることをいう。また、電極層4aにおいて主成分とは、電極層4a中の含有量が98質量%以上であることをいう。
Note that the transparency of the first
(1)下地層
下地層4bは、電極層4aの透明基板2側に設けられる層である。下地層4bを構成する材料としては、特に限定されるものではなく、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層4aの成膜に際し、銀の凝集を抑制できるものであれば良く、例えば、窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも1種の原子を有する有機化合物等が挙げられる。(1) Underlayer The
上記有機化合物は、1種でもよく、2種以上を混合してもよい。また、窒素原子及び硫黄原子を有していない化合物を、下地層4bの効果を阻害しない範囲で混合することも許される。
The said organic compound may be 1 type, and may mix 2 or more types. Further, it is allowed to mix a compound having no nitrogen atom and sulfur atom within a range that does not inhibit the effect of the
下地層4bが、低屈折率材料(屈折率1.7未満)からなる場合、その層厚の上限としては、50nm未満である必要があり、30nm未満であることが好ましく、10nm未満であることがさらに好ましく、5nm未満であることが特に好ましい。層厚を50nm未満とすることにより、光学的ロスを最小限に抑えられる。一方、層厚の下限としては、0.05nm以上が必要であり、0.1nm以上であることが好ましく、0.3nm以上であることが特に好ましい。層厚を0.05nm以上とすることにより、下地層4bの成膜を均一とし、下地層としての上記効果(銀の凝集抑制)を発現し、薄銀電極層を均一化することができる。
When the
下地層4bが、高屈折率材料(屈折率1.7以上)からなる場合、その層厚の上限には特に制限はなく、層厚の下限には上記低屈折率材料からなる場合と同様である。
When the
ただし、単なる下地層4bの機能としては、均一な成膜が得られる必要層厚で形成されれば十分である。
However, as a simple function of the
下地層4bの成膜方法としては、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法などのウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法(抵抗加熱、EB法など)、スパッタ法、CVD法等のドライプロセスを用いる方法等が挙げられる。中でも、蒸着法が好ましく適用される。
As a method for forming the
以下、下地層の形成に適用が可能な、窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも1種の原子を有する有機化合物について説明する。 Hereinafter, an organic compound having at least one atom selected from a nitrogen atom and a sulfur atom that can be applied to the formation of the underlayer will be described.
(1−1)窒素原子を有する有機化合物
窒素原子を有する有機化合物とは、融点が80℃以上であり、分子量Mwが150〜1200の範囲内である化合物であることが好ましく、銀又は銀の合金との相互作用が大きい化合物であることが好ましく、例えば、含窒素複素環化合物及びフェニル基置換アミン化合物等が挙げられる。(1-1) Organic Compound Having Nitrogen Atom An organic compound having a nitrogen atom is preferably a compound having a melting point of 80 ° C. or higher and a molecular weight Mw in the range of 150 to 1200. A compound having a large interaction with the alloy is preferable, and examples thereof include a nitrogen-containing heterocyclic compound and a phenyl group-substituted amine compound.
また、窒素原子を有する有機化合物は、有効非共有電子対含有率[n/M](窒素原子を有する有機化合物の分子量Mに対する有効非共有電子対の数nの割合)が、2.0×10−3以上となるように選択された化合物であり、3.9×10−3以上であることがより好ましい。The organic compound having a nitrogen atom has an effective unshared electron pair content [n / M] (ratio of the number n of effective unshared electron pairs to the molecular weight M of the organic compound having a nitrogen atom) is 2.0 ×. 10 is a selected compound such that the -3 or more, more preferably 3.9 × 10 -3 or more.
ここで、有効非共有電子対とは、化合物を構成する窒素原子が有する非共有電子対のうち、芳香族性に関与していない非共有電子対であることとする。 Here, the effective unshared electron pair is an unshared electron pair that is not involved in aromaticity among the unshared electron pairs possessed by the nitrogen atoms constituting the compound.
ここでの芳香族性とは、π電子を持つ原子が環状に配列された不飽和環状構造をいい、いわゆる「ヒュッケル則」に従う芳香族性であって、環上のπ電子系に含まれる電子の数が「4n+2」(nは0以上の整数)個であることを条件としている。 The aromaticity here means an unsaturated cyclic structure in which atoms having π electrons are arranged in a ring, and is aromatic according to the so-called “Hückel rule”, and is included in the π electron system on the ring. Is 4n + 2 (n is an integer of 0 or more).
以上のような有効非共有電子対は、その非共有電子対を備えた窒素原子自体が、芳香環を構成するヘテロ原子であるか否かに関わらず、窒素原子が有する非共有電子対が芳香族性と関与しているか否かによって選択される。例えば、ある窒素原子が芳香環を構成するヘテロ原子であっても、その窒素原子が芳香族性に関与しない非共有電子対を有していれば、その非共有電子対は有効非共有電子対の一つとしてカウントされる。 The effective unshared electron pair as described above is such that the unshared electron pair possessed by the nitrogen atom is aromatic regardless of whether or not the nitrogen atom itself provided with the unshared electron pair is a heteroatom constituting the aromatic ring. It is selected based on whether or not it is involved in the family. For example, even if a nitrogen atom is a heteroatom constituting an aromatic ring, if the nitrogen atom has an unshared electron pair that does not participate in aromaticity, the unshared electron pair is an effective unshared electron pair. Counted as one of
これに対して、ある窒素原子が芳香環を構成するヘテロ原子でない場合であっても、その窒素原子の非共有電子対の全てが芳香族性に関与していれば、その窒素原子の非共有電子対は有効非共有電子対としてカウントされることはない。 In contrast, even if a nitrogen atom is not a heteroatom that constitutes an aromatic ring, if all of the non-shared electron pairs of the nitrogen atom are involved in aromaticity, the nitrogen atom is not shared. An electron pair is not counted as a valid unshared electron pair.
なお、各化合物において、有効非共有電子対の数nは、有効非共有電子対を有する窒素原子の数と一致する。 In each compound, the number n of effective unshared electron pairs coincides with the number of nitrogen atoms having effective unshared electron pairs.
下地層4bが、複数の窒素原子を有する有機化合物を用いて構成されている場合、有効非共有電子対含有率[n/M]は、各化合物の混合比に基づき、混合化合物の分子量Mと有効非共有電子対の数nを算出し、この分子量Mに対しての有効非共有電子対の数nの割合を有効非共有電子対含有率[n/M]とし、この値が上述した所定範囲であることが好ましい。
When the
以下に、下地層4bを構成する窒素原子を有する低分子有機化合物として、上述した有効非共有電子対含有率[n/M]が2.0×10−3以上である例示化合物No.1〜45を示すが、特にこれに限定されるものではない。なお、例示化合物No.31の銅フタロシアニンにおいては、窒素原子が有する非共有電子対のうち、銅に配位していない窒素原子の非共有電子対が有効非共有電子対としてカウントされる。Hereinafter, as the low molecular weight organic compound having a nitrogen atom constituting the
上記例示化合物No.1〜45について、有効非共有電子対の数n、分子量M及び有効非共有電子対含有率[n/M]を表1に示す。 The above exemplified compound No. Table 1 shows the number n of effective unshared electron pairs, the molecular weight M, and the effective unshared electron pair content [n / M] for 1 to 45.
(1−2)窒素原子を有するポリマー
本発明においては、窒素原子を有する有機化合物として、ポリマーを用いることもできる。(1-2) Polymer having a nitrogen atom In the present invention, a polymer can also be used as the organic compound having a nitrogen atom.
窒素原子を有するポリマーは、重量平均分子量が1000〜1000000の範囲内であることが好ましい。 The polymer having a nitrogen atom preferably has a weight average molecular weight in the range of 1,000 to 1,000,000.
窒素原子を有するポリマーとしては、下記一般式(P1)で表される部分構造、又は下記一般式(P2)で表される部分構造を有するポリマーであることが好ましい。 The polymer having a nitrogen atom is preferably a polymer having a partial structure represented by the following general formula (P1) or a partial structure represented by the following general formula (P2).
一般式(P1)中、A1は、2価の窒素原子含有基を表す。Y1は、2価の有機基又は結合手を表す。n1は、重量平均分子量が1000〜1000000の範囲内となる繰り返し数を表す。In General Formula (P1), A 1 represents a divalent nitrogen atom-containing group. Y 1 represents a divalent organic group or a bond. n1 represents the number of repetitions in which the weight average molecular weight is in the range of 1,000 to 1,000,000.
一般式(P2)中、A2は、1価の窒素原子含有基を表す。n2は、1以上の整数を表す。n2は、銀との相互作用性の点から1〜3の範囲内の整数であることが好ましく、合成容易性の点から1又は2であることがより好ましい。n2が2以上である場合、複数のA2は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。A3及びA4は、おのおの2価の窒素原子含有基を表す。A3及びA4は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。n3及びn4は、それぞれ独立に、0又は1を表す。Y2は、(n2+2)価の有機基を表す。n1は、重量平均分子量が1000〜1000000の範囲内となる繰り返し数を表す。In General Formula (P2), A 2 represents a monovalent nitrogen atom-containing group. n2 represents an integer of 1 or more. n2 is preferably an integer in the range of 1 to 3 from the viewpoint of interaction with silver, and more preferably 1 or 2 from the viewpoint of ease of synthesis. When n2 is 2 or more, the plurality of A 2 may be the same or different. A 3 and A 4 each represent a divalent nitrogen atom-containing group. A 3 and A 4 may be the same or different. n3 and n4 each independently represents 0 or 1. Y 2 represents an (n2 + 2) valent organic group. n1 represents the number of repetitions in which the weight average molecular weight is in the range of 1,000 to 1,000,000.
上記一般式(P1)又は(P2)で表される部分構造を有するポリマーは、上記一般式(P1)又は(P2)由来の単一の構成単位のみから構成される単独重合体(ホモポリマー)であってもよいし、上記一般式(P1)又は(P2)由来の2種以上の構成単位のみから構成される共重合体(コポリマー)であってもよい。 The polymer having the partial structure represented by the general formula (P1) or (P2) is a homopolymer composed of only a single structural unit derived from the general formula (P1) or (P2). It may be a copolymer (copolymer) composed of only two or more structural units derived from the above general formula (P1) or (P2).
また、上記一般式(P1)又は(P2)で示される構造単位に加えて、更に窒素原子含有基を有さない他の構造単位を有して共重合体を形成していてもよい。 Further, in addition to the structural unit represented by the general formula (P1) or (P2), the copolymer may be formed by further having another structural unit having no nitrogen atom-containing group.
窒素原子を有するポリマーが窒素原子含有基を有していない他の構造単位を有する場合、当該他の構造単位由来の単量体の含有量は、本発明に係る窒素原子を有するポリマーによる効果を損なわない程度であれば特に制限されないが、全構造単位由来の単量体中、好ましくは10〜75モル%の範囲内、より好ましくは20〜50モル%の範囲内である。 When the polymer having a nitrogen atom has another structural unit not having a nitrogen atom-containing group, the content of the monomer derived from the other structural unit has the effect of the polymer having a nitrogen atom according to the present invention. Although it will not restrict | limit especially if it is a grade which is not impaired, Preferably it exists in the range of 10-75 mol% in the monomer derived from all the structural units, More preferably, it exists in the range of 20-50 mol%.
一般式(P1)又は(P2)で表される部分構造を有するポリマーの末端は、特に制限されず、使用される原料(単量体)の種類によって適宜規定されるが、通常、水素原子である。 The terminal of the polymer having the partial structure represented by the general formula (P1) or (P2) is not particularly limited and is appropriately defined depending on the type of raw material (monomer) used. is there.
一般式(P2)において、A2で表される1価の窒素原子含有基は、窒素原子を有する有機基であれば特に制限されない。そのような窒素原子含有基としては、例えば、アミノ基、ジチオカルバメート基、チオアミド基、シアノ基(−CN)、イソニトリル基(−N+≡C−)、イソシアナート基(−N=C=O)、チオイソシアナート基(−N=C=S)、又は置換若しくは無置換の含窒素芳香族環を含む基が挙げられる。In the general formula (P2), the monovalent nitrogen atom-containing group represented by A 2 is not particularly limited as long as it is an organic group having a nitrogen atom. Examples of such nitrogen atom-containing groups include amino groups, dithiocarbamate groups, thioamide groups, cyano groups (—CN), isonitrile groups (—N + ≡C—), isocyanate groups (—N═C═O). , A thioisocyanate group (—N═C═S), or a group containing a substituted or unsubstituted nitrogen-containing aromatic ring.
以下に、本発明に好ましく用いられる窒素原子を有するポリマーを構成するモノマーの具体例(PN1〜41)を示すが、特にこれに限定されるものではない。なお、窒素原子を有するポリマーは、下記に示すモノマーを重量平均分子量が1000〜1000000の範囲内となる範囲の繰り返し数で構成されている。 Although the specific example (PN1-41) of the monomer which comprises the polymer which has a nitrogen atom preferably used for this invention below is shown, it is not specifically limited to this. In addition, the polymer which has a nitrogen atom is comprised by the repeating number of the range from which the monomer shown below becomes in the range whose weight average molecular weights are 1000-1 million.
本発明に係る窒素原子を有する低分子有機化合物及びポリマーは、公知、周知の方法で合成することができる。 The low molecular organic compound and polymer having a nitrogen atom according to the present invention can be synthesized by a known and well-known method.
(1−3)硫黄原子を有する有機化合物
本発明に係る硫黄原子を有する有機化合物は、分子内に、スルフィド結合、ジスルフィド結合、メルカプト基、スルホン基、チオカルボニル結合等を有している。これらの中でも、スルフィド結合又はメルカプト基を有していることが好ましい。これらの硫黄原子を有する有機化合物は、例えば、特開2009−163177号公報等に記載されている。(1-3) Organic Compound Having Sulfur Atom The organic compound having a sulfur atom according to the present invention has a sulfide bond, disulfide bond, mercapto group, sulfone group, thiocarbonyl bond and the like in the molecule. Among these, it is preferable to have a sulfide bond or a mercapto group. These organic compounds having a sulfur atom are described, for example, in JP-A No. 2009-163177.
本発明に用いられる硫黄原子を有する有機化合物及びポリマーは、公知、周知の方法で合成することができる。 The organic compound and polymer having a sulfur atom used in the present invention can be synthesized by known and well-known methods.
なお、本発明に用いられる窒素原子又は硫黄原子を有するポリマーの重量平均分子量は、室温(25℃)下、下記の測定条件にて測定を行った値である。
(測定条件)
装置:東ソー高速GPC装置 HLC−8220GPC
カラム:TOSOH TSKgel Super HM−M
検出器:RI及び/又はUV
溶出液流速:0.6ml/分
温度:30℃
試料濃度:0.1質量%
試料量:100μl
検量線:標準ポリスチレンにて作製(標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=500〜1000000の範囲内の13サンプルを用いて検量線(校正曲線ともいう。)を作成し、測定対象物の重量平均分子量の算出に使用した。ここで、サンプルに用いたポリスチレンの重量平均分子量は、ほぼ等間隔に設定した。)In addition, the weight average molecular weight of the polymer which has a nitrogen atom or sulfur atom used for this invention is the value which measured on the following measurement conditions under room temperature (25 degreeC).
(Measurement condition)
Equipment: Tosoh High Speed GPC Equipment HLC-8220GPC
Column: TOSOH TSKgel Super HM-M
Detector: RI and / or UV
Eluent flow rate: 0.6 ml / min Temperature: 30 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Sample volume: 100 μl
Calibration curve: prepared with standard polystyrene (standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation) Mw = 500 to 1000000 using 13 samples, a calibration curve (also referred to as calibration curve) is created, and the measurement target (This was used to calculate the weight average molecular weight of the product. Here, the weight average molecular weight of the polystyrene used in the sample was set at approximately equal intervals.)
(2)電極層
電極層4aは、銀又は銀を主成分とした合金を用いて構成された層であって、下地層4b上に成膜された層であることが好ましい。(2) Electrode layer The
このような電極層4aの成膜方法としては、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法等のウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法(抵抗加熱、EB法など)、スパッタ法、CVD法等のドライプロセスを用いる方法等が挙げられる。中でも、蒸着法が好ましく適用される。
As a method of forming such an
また、電極層4aは、下地層4b上に成膜されることにより、電極層4a成膜後の高温アニール処理等がなくても十分に導電性を有することを特徴とするが、必要に応じて、成膜後に高温アニール処理等を行ったものであっても良い。
In addition, the
電極層4aを構成する銀(Ag)を主成分とする合金としては、例えば、銀マグネシウム(AgMg)、銀銅(AgCu)、銀パラジウム(AgPd)、銀パラジウム銅(AgPdCu)及び銀インジウム(AgIn)等が挙げられる。
Examples of the alloy mainly composed of silver (Ag) constituting the
さらに、銀に対してアルミニウム(Al)や金(Au)を2原子数%程度添加して共蒸着することも好ましい。 Further, it is also preferable to add about 2 atomic% of aluminum (Al) or gold (Au) to silver and co-evaporate.
以上のような電極層4aは、銀又は銀を主成分とした合金の層が、必要に応じて複数の層に分けて積層された構成であっても良い。
The
さらに、この電極層4aは、厚さが5〜30nmの範囲内であることが好ましい。厚さが30nmより薄い場合には、層の吸収成分又は反射成分が少なく、第1透明電極4の透過率が大きくなる。また、厚さが5nmより厚い場合には、層の導電性を十分に確保することができる。好ましくは6〜20nmの範囲であり、さらに好ましくは6〜15nmの範囲である。
Further, the
なお、以上のような下地層4bと、この上部に成膜された電極層4aとからなる積層構造の第1透明電極4は、電極層4aの上部が保護膜で覆われていたり、別の電極層4aが積層されていたりしても良い。この場合、第1透明電極4の光透過性を損なうことのないように、保護膜及び別の電極層4aが光透過性を有することが好ましい。
The first
(3)第1透明電極の効果
以上のような構成の第1透明電極4は、例えば、窒素原子及び硫黄原子から選択される少なくとも1種の原子を有する有機化合物を用いて構成された下地層4b上に、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層4aを設けた構成である。これにより、下地層4bの上部に電極層4aを成膜する際には、電極層4aを構成する銀原子が下地層4bを構成する窒素原子又は硫黄原子を含んだ化合物と相互作用する。この結果、下地層4b表面において、銀原子が拡散する距離が減少し、ひいては、銀の凝集が抑えられる。(3) Effect of first transparent electrode The first
ここで、一般的に銀を主成分とした電極層4aの成膜においては、核成長型(Volumer−Weber:VW型)で薄膜成長するため、銀粒子が島状に孤立しやすい。このため、当該電極層4aの厚さを薄くした場合、導電性を得ることが困難であり、ひいては、シート抵抗値が高くなる。従って、導電性を確保するには、電極層4aの厚さを厚くする必要があるが、厚さを厚くすると光透過率が下がるため、第1透明電極4としては不適であった。
Here, in general, in the formation of the
しかしながら、本発明に係る第1透明電極4によれば、上述したように、下地層4b上においては銀の凝集が抑えられる。このため、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層4aの成膜においては、単層成長型(Frank−van der Merwe:FM型)で薄膜成長するようになる。
However, according to the 1st
また、ここで、第1透明電極4の透明とは、光波長550nmでの光透過率が50%以上であることをいうが、下地層4bとして用いられる上述した各材料は、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層4aと比較して十分に光透過性の良好な膜である。一方、第1透明電極4の導電性は、主に、電極層4aによって確保される。従って、上述のように、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層4aが、より薄い厚さで導電性が確保されたものとなることにより、第1透明電極4の導電性の向上と光透過性の向上との両立を図ることが可能になるのである。また、下地層4bを設けることにより、非発光領域の有機EL素子1の色純度を向上させることができる。
Here, the transparency of the first
さらに、本発明に係る第1透明電極4は、銀電極での鏡面光反射が発生しない程度の範囲で、薄膜化に調整が可能であるため、発光輝度の向上に寄与することができる。
Furthermore, since the first
<第2透明電極>
第2透明電極12は、有機発光層に電子を供給するカソードとして機能する電極膜であり、金属、合金、有機又は無機の導電性化合物、及びこれらの混合物が用いられる。<Second transparent electrode>
The second
第2透明電極12は、第1透明電極4と同様に、通常有機EL素子1に使用可能な全ての電極を使用することができる。具体的には、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/同混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物及び希土類金属並びにITO、ZnO、TiO2及びSnO2等の酸化物半導体等が挙げられる。As with the first
中でも、第2透明電極12は、第1透明電極4と同様に、銀又は銀を主成分とした合金を用いて構成された層であることが好ましい。
Especially, it is preferable that the 2nd
このような第2透明電極12の成膜方法としては、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法等のウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法(抵抗加熱、EB法など)、スパッタ法、CVD法等のドライプロセスを用いる方法等が挙げられる。中でも、蒸着法が好ましく適用される。
As a method for forming the second
第2透明電極12を構成する銀(Ag)を主成分とする合金としては、例えば、銀マグネシウム(AgMg)、銀銅(AgCu)、銀パラジウム(AgPd)、銀パラジウム銅(AgPdCu)及び銀インジウム(AgIn)等が挙げられる。
Examples of the alloy mainly composed of silver (Ag) constituting the second
さらに、銀に対してアルミニウム(Al)や金(Au)を2原子数%程度添加して共蒸着することも好ましい。 Further, it is also preferable to add about 2 atomic% of aluminum (Al) or gold (Au) to silver and co-evaporate.
以上のような第2透明電極12は、銀又は銀を主成分とした合金の層が、必要に応じて複数の層に分けて積層された構成であっても良い。
The second
さらに、この第2透明電極12は、層厚が5〜30nmの範囲内であることが好ましい。層厚が30nmより薄い場合には、層の吸収成分又は反射成分が少なく、第2透明電極12の透過率が大きくなる。また、層厚が5nmより厚い場合には、層の導電性を十分に確保することができる。好ましくは8〜20nmの範囲であり、さらに好ましくは10〜15nmの範囲である。
Furthermore, the second
なお、本発明においては、上記の第1透明電極4及び第2透明電極12が、金属薄膜であることが好ましい。これにより、非発光時及び非発光領域の色を、封止部材が着色された色に近づけることができる。また、封止部材105が黒に着色されている場合は有機EL層に含まれる金属層による外部入射光の反射を抑えることができる。
また、本発明においては、第1透明電極4及び第2透明電極12の形状は、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光パターンの形状とは異なることが好ましい。すなわち、第1透明電極4及び第2透明電極12は、発光パターンの形状に限定されず、様々な形状に形成されることができる。これにより、例えば、第1透明電極4及び第2透明電極12を透明基板の形状と近い形状に、かつ、べたに形成することができ、ひいては、発光時及び非発光領域の有機エレクトロルミネッセンス素子の色を、発光パターンの形状によらず均一にすることができるため、見栄えを向上させることができるという効果が得られる。
また、本発明においては、第1透明電極4及び第2透明電極12を銀(Ag)を用いて作製することで非発光時及び非発光領域の有機EL素子1を色純度の高い黒色とすることができるため、好ましい。In the present invention, the first
Moreover, in this invention, it is preferable that the shape of the 1st
Moreover, in this invention, the 1st
<電極保護層>
本発明では、図3に示すとおり、第2透明電極12に、有機又は無機の化合物を含有する電極保護層12aが積層されていることが、当該第2透明電極12の表面を平滑にし、かつ機械的な保護を十分にするため、好ましい。また、有機又は無機の化合物を含有することによって、封止部材105をラミネートする際に、固体封止されるために接着強度が高くなる。<Electrode protective layer>
In the present invention, as shown in FIG. 3, the
このような電極保護層12aは、可撓性を有することが好ましく、薄型のポリマーフィルム、又は薄型の金属フィルムを用いることができるが、前記下地層4b、又は有機発光層で用いた有機化合物を適宜選択して、前記塗布法又は蒸着法によって形成された層であることも好ましい。
The electrode
本発明に係る電極保護層12aは、金属酸化物を含有することが固体封止の観点から好ましく、当該金属酸化物の具体例としては、酸化モリブデンが挙げられる。
The electrode
本発明に係る電極保護層12aの好ましい層厚としては目的に応じて適切に設定され得るが、例えば、10nm〜10μm程度の範囲内であることが好ましく、15nm〜1μm程度の範囲内であることがより好ましく、20〜500nmの範囲であることがさらに好ましい。
The preferred layer thickness of the electrode
<取り出し電極>
取り出し電極は、第1透明電極4及び第2透明電極12と外部電源とを電気的に接続するものであって、その材料としては特に限定されるものではなく公知の素材を好適に使用できるが、例えば、3層構造からなるMAM電極(Mo/Al・Nd合金/Mo)等の金属膜を用いることができる。<Extraction electrode>
The extraction electrode is for electrically connecting the first
<補助電極>
補助電極は、第1透明電極4及び第2透明電極12の抵抗を下げる目的で設けるものであって、第1透明電極4の電極層4a及び第2透明電極12の電極層4aに接して設けられる。補助電極を形成する材料は、金、白金、銀、銅、アルミニウム等の抵抗が低い金属が好ましい。これらの金属は光透過性が低いため、光取り出し面からの発光光hの取り出しの影響のない範囲でパターン形成される。<Auxiliary electrode>
The auxiliary electrode is provided for the purpose of reducing the resistance of the first
このような補助電極の形成方法としては、蒸着法、スパッタリング法、印刷法、インクジェット法、エアロゾルジェット法等が挙げられる。補助電極の線幅は、光を取り出す開口率の観点から50μm以下であることが好ましく、補助電極の厚さは、導電性の観点から1μm以上であることが好ましい。 Examples of a method for forming such an auxiliary electrode include a vapor deposition method, a sputtering method, a printing method, an ink jet method, and an aerosol jet method. The line width of the auxiliary electrode is preferably 50 μm or less from the viewpoint of the aperture ratio for extracting light, and the thickness of the auxiliary electrode is preferably 1 μm or more from the viewpoint of conductivity.
<封止部材>
本発明の有機EL素子1の封止部材105は、有機EL素子1の封止に用いられ、少なくとも一部が着色されており、かつ、少なくとも封止基材105a及び接着層105bを有する。本実施形態では、封止部材105は、封止基材105a及び接着層105bから構成される。また、封止部材105は、封止基材105aが接着層105bを介して、積層体13の第2透明電極12側の面にラミネートされる。
なお、封止部材105は、積層体13を密着して封止するようにラミネートされていれている。<Sealing member>
The sealing
The sealing
封止基材105aは、特に限定されず、公知のもので良い。具体的には、例えば、ガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・金属箔・フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる1種以上の金属又は合金からなるものが挙げられる。
The sealing
また、他にも、有機EL素子1を薄膜化できるということからポリマーフィルム又は金属フィルムを好ましく使用することができる。さらには、ポリマーフィルムは、酸素透過度が1×10−3ml/(m2・24h・atm)以下、及び水蒸気透過度が1×10−3g/(m2・24h)以下のものであることが好ましい。また、酸素透過度が1×10−5ml/(m2・24h・atm)以下、及び水蒸気透過度が1×10−5/(m2・24h)であることがより好ましい。In addition, a polymer film or a metal film can be preferably used because the
さらに、本発明においては、封止基材105aとして、特に、少なくとも一面(被アルマイト処理面)がアルマイト処理を施されたアルミニウム箔を構成要素として含んでいることが好ましい。
これにより、高温高湿度の環境下での耐久性が向上し、かつ、封止基材105aが黒に着色されるため、有機EL層に含まれる金属層による外部入射光の反射を抑えることができる。Further, in the present invention, it is preferable that the sealing
As a result, the durability under a high temperature and high humidity environment is improved, and the sealing
アルマイト処理は、通常、クロム酸、硫酸、シュウ酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸等の酸性浴中で行うことができるが、硫酸浴中で行うことが好ましい。硫酸浴中でのアルマイト処理は、硫酸濃度100〜200g/lの範囲内、アルミニウムイオン濃度1〜10g/lの範囲内、液温20℃、印加電圧約20Vの条件で行うことが好ましい。アルマイト処理被膜の平均膜厚は、通常、20μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましい。 The alumite treatment can be usually carried out in an acidic bath such as chromic acid, sulfuric acid, oxalic acid, phosphoric acid, boric acid, sulfamic acid, etc., but is preferably carried out in a sulfuric acid bath. The alumite treatment in the sulfuric acid bath is preferably performed under the conditions of a sulfuric acid concentration of 100 to 200 g / l, an aluminum ion concentration of 1 to 10 g / l, a liquid temperature of 20 ° C., and an applied voltage of about 20V. The average film thickness of the alumite-treated film is usually preferably 20 μm or less, and more preferably 10 μm or less.
また、封止基材105aは、後述の公知の着色料によって着色されたものが用いられてもよく、例えば、カーボンブラックやピグメントブルーなどで表面が着色されたアルミニウム箔などを好適に用いることができる。これにより、非発光時及び非発光領域の色を種々の色にできる。
Further, the sealing
接着層105b(接着剤)としては、具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、2−シアノアクリル酸エステルなどの湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系などの熱及び化学硬化型(二液混合)を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。
Specific examples of the
本発明では、特に、接着層105bが、着色料を含有していることが好ましい。着色料は、公知のものでよく、また、接着層105bに分散又は溶解可能なものであれば、顔料であっても、染料であってもよく、特に限定されない。
In the present invention, it is particularly preferable that the
本発明に係る封止部材(封止基材及び接着層)に適用可能な公知の着色料としては、具体的には、例えば、黒色の着色料として、カーボンブラック、磁性体、鉄・チタン複合酸化物ブラックなどを使用することができ、カーボンブラックとしてはチャンネルブラック、ファーネスブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、ランプブラックなどが挙げられ、また磁性体としてはフェライト、マグネタイトなどが挙げられる。
また、イエローの着色料としては、染料としてC.I.ソルベントイエロー19、同44、同77、同79、同81、同82、同93、同98、同103、同104、同112、同162など、また、顔料としてC.I.ピグメントイエロー14、同17、同74、同93、同94、同138、同155、同180、同185などを使用することができ、これらの混合物も使用することができる。
また、マゼンタの着色料としては、染料としてC.I.ソルベントレッド1、同49、同52、同58、同63、同111、同122など、顔料としてC.I.ピグメントレッド5、同48:1、同53:1、同57:1、同122、同139、同144、同149、同166、同177、同178、同222などを使用することができ、これらの混合物も使用することができる。
また、シアンの着色料としては、染料としてC.I.ソルベントブルー25、同36、同60、同70、同93、同95など、顔料としてC.I.ピグメントブルー1、同7、同15、同60、同62、同66、同76などを使用することができ、これらの混合物も使用することができる。Specific examples of the known colorant applicable to the sealing member (sealing substrate and adhesive layer) according to the present invention include, for example, black colorant, carbon black, magnetic substance, iron / titanium composite An oxide black or the like can be used. Examples of the carbon black include channel black, furnace black, acetylene black, thermal black, and lamp black. Examples of the magnetic material include ferrite and magnetite.
The yellow colorant includes C.I. as a dye. I. Solvent Yellow 19, 44, 77, 79, 81, 82, 93, 98, 103, 104, 112, 162, etc., and C.I. I. Pigment Yellow 14, 17, 74, 93, 94, 138, 155, 180, 185, etc. can be used, and mixtures thereof can also be used.
Further, as a colorant for magenta, C.I. I.
Cyan coloring agents include C.I. as a dye. I. Solvent Blue 25, 36, 60, 70, 93, 95, etc.
着色料の含有割合は、接着層105b中0.5〜20質量%の範囲内であることが好ましい。
The content of the colorant is preferably in the range of 0.5 to 20% by mass in the
なお、着色料としては、有機EL層に含まれる金属層による外部入射光の反射を抑える効果が得られることからカーボンブラック等の黒色の顔料が用いられることがより好ましい。 In addition, as a coloring agent, since the effect which suppresses reflection of the external incident light by the metal layer contained in an organic electroluminescent layer is acquired, it is more preferable to use black pigments, such as carbon black.
また、有機EL素子1が熱処理により劣化する場合があるので、室温(25℃)から80℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。封止部分への接着剤の塗布は、市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。
また、第2透明電極12あるいは電極保護層12aと、封止部材105の間に、バリアー層を設けてもよい。本発明において、バリアー層は封止部材105には含めない。
このバリアー層の材料としては、例えば水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの侵入を抑制する機能を有する無機材料であれば良く、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等を用いることができる。
バリアー層の特性として、水蒸気透過度が約0.01g/[m2・day・atm]以下、好ましくは水蒸気透過度が約0.001g/[m2・day・atm]以下、抵抗率が1×1012Ω・cm以上と、ガスバリアー性と絶縁性を有するものであることが好ましい。
バリアー層の形成する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法等の手法が用いられる。
なお、バリアー層の層厚は、条件に応じて適宜設定されるが、100〜1000nmが好ましい。Moreover, since the
Further, a barrier layer may be provided between the second
As the material of the barrier layer, any inorganic material having a function of suppressing the intrusion of elements such as moisture and oxygen may be used. For example, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, zirconium oxide Etc. can be used.
As the characteristics of the barrier layer, the water vapor transmission rate is about 0.01 g / [m 2 · day · atm] or less, preferably the water vapor transmission rate is about 0.001 g / [m 2 · day · atm] or less, and the resistivity is 1. It is preferable that the gas barrier property and the insulating property be 10 × 10 12 Ω · cm or more.
The barrier layer can be formed by, for example, vacuum deposition, sputtering, magnetron sputtering, molecular beam epitaxy, cluster ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma polymerization method, plasma CVD. A method such as a method, a laser CVD method, or a thermal CVD method is used.
In addition, although the layer thickness of a barrier layer is suitably set according to conditions, 100-1000 nm is preferable.
≪有機EL素子の製造方法≫
本発明の、少なくとも透明基板、第1透明電極、有機層及び第2透明電極がこの順に積層した積層体並びに封止部材を有する有機EL素子1の製造方法は、有機層として、少なくとも正孔注入層、正孔輸送層、発光層を形成する有機層形成工程と、第2透明電極側の面から積層体に、少なくとも一部が着色された封止部材をラミネートする封止工程とを有する態様の製造方法であることを特徴とする。これにより、可撓性が高く、かつ、非発光時及び非発光領域の色を種々の色にできる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することができる。≪Method for manufacturing organic EL element≫
The manufacturing method of the
また、本発明の上記有機EL素子1の製造方法おいては、有機層形成工程が、正孔注入層、正孔輸送層及び発光層の少なくとも一層を第1透明電極又は第2透明電極と異なる形状に形成することが好ましい。すなわち、第1透明電極及び第2透明電極は、発光パターンの形状に限定されず、様々な形状に形成されてもよい。これにより、例えば、第1透明電極及び第2透明電極を透明基板の形状と近い形状に、かつ、べたに形成することができ、ひいては、発光時及び非発光領域の有機エレクトロルミネッセンス素子の色を、発光パターンの形状によらず均一にすることができるため、見栄えを向上させることができるという効果が得られる。
Moreover, in the manufacturing method of the said
さらに、本発明の上記有機EL素子1の製造方法おいては、前記封止工程により前記積層体に前記封止部材をラミネートした後に、当該積層体の少なくとも一部に紫外線を照射させて発光パターンを形成する工程(光照射工程)を有していることが好ましい。これにより、黒等の色の非発光領域に対して、発光領域が発光するため、形成される発光パターンが非発光領域に対して浮かび上がって見えるという視覚的効果を得ることができるという効果が得られる。
Furthermore, in the manufacturing method of the
なお、ここでいう「発光パターン」とは、有機EL素子1により表示される図案(図の柄や模様)、文字、画像等をいう。
Here, the “light emission pattern” refers to a design (pattern or pattern in the figure), characters, images, etc. displayed by the
ここでは、一例として、図1に示す有機EL素子1の製造方法を説明する。
Here, as an example, a method for manufacturing the
(1)積層工程
本実施形態の有機EL素子1の製造方法では、透明基板2上に、第1透明電極4、有機層6及び第2透明電極12を積層して本発明に係る積層体13を形成する工程(積層工程)を行う。
この積層工程は、有機層6として少なくとも正孔注入層、正孔輸送層、発光層を形成する有機層形成工程を有する。(1) Lamination process In the manufacturing method of the
This stacking step includes an organic layer forming step of forming at least a hole injection layer, a hole transport layer, and a light emitting layer as the
まず、透明基板2を準備し、該透明基板2上に、所望の電極物質、例えば、第1透明電極4用物質からなる薄膜を1μm以下、好ましくは10〜200nmの範囲内の膜厚になるように、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、第1透明電極4を作製する。同時に、第1透明電極4端部に、外部電源と接続される取出し電極を蒸着法等の適宜の方法に形成する。
First, a
(有機層形成工程)
本実施形態における有機層形成工程では、有機層6として、少なくとも正孔注入層、正孔輸送層、発光層をこの順に第1透明電極4の上に形成する。なお、本実施形態の有機層6は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層から構成されるものとする。(Organic layer formation process)
In the organic layer forming step in the present embodiment, at least a hole injection layer, a hole transport layer, and a light emitting layer are formed on the first
これらの各層の形成は、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、蒸着法、印刷法等があるが、均質な層が得られやすく、かつ、ピンホールが生成しにくい等の点から、真空蒸着法又はスピンコート法が特に好ましい。さらに、層ごとに異なる形成法を適用してもよい。これらの各層の形成に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度50〜450℃の範囲内、真空度1×10−6〜1×10−2Paの範囲内、蒸着速度0.01〜50nm/秒の範囲内、基板温度−50〜300℃の範囲内、層厚0.1〜5μmの範囲内で、各条件を適宜選択することが望ましい。The formation of each of these layers includes spin coating, casting, inkjet, vapor deposition, and printing, but vacuum vapor deposition is easy because a homogeneous layer is easily obtained and pinholes are difficult to generate. The method or spin coating method is particularly preferred. Further, different formation methods may be applied for each layer. When employing a vapor deposition method for forming each of these layers, the vapor deposition conditions vary depending on the type of compound used, but generally the boat heating temperature is in the range of 50 to 450 ° C., and the degree of vacuum is 1 × 10 −6 to 1 × 10. Each condition is appropriately selected within a range of −2 Pa, a deposition rate of 0.01 to 50 nm / second, a substrate temperature of −50 to 300 ° C., and a layer thickness of 0.1 to 5 μm. Is desirable.
以上のようにして有機発光層を形成した後、この上部に第2透明電極12を、蒸着法やスパッタ法などの適宜の形成法によって形成する。この際、第2透明電極12は、有機層6によって第1透明電極4に対して絶縁状態を保ちつつ、有機層6の上方から透明基板2の周縁に端子部分を引き出した形状にパターン形成する。
After the organic light emitting layer is formed as described above, the second
なお、積層体13を形成する際には、発光パターンが形成されるように、シャドーマスクを適宜選択して使用してもよい。
また、この場合、シャドーマスクは、同一ものが積層体13の各層を形成する際に使用されてもよいし、いずれか一層を形成する際にのみ使用されても良い。なお、シャドーマスクは、正孔注入層及び電子注入層を形成する際に使用されることが発光パターンのコントラスト(発光時、非発光時とも)を上げることができるため好ましく、さらには、正孔注入層を形成する際にのみ使用されることがより好ましい。
また、発光パターンの形成は、このシャドーマスクを用いながら積層体13を形成する方法に限定されず、たとえば、発光パターンを形成したい層を形成した後に、公知のフォトリソグラフィー法などを用いるものであってもよい。When forming the
In this case, the same shadow mask may be used when forming each layer of the stacked
In addition, the formation of the light emission pattern is not limited to the method of forming the
(2)封止工程
積層工程の後には、有機EL素子1を封止する工程(封止工程)を行う。
本発明の封止工程は、第2透明電極12側の面から前記積層体13に、少なくとも一部が着色された前記封止部材105をラミネートして有機EL素子1を封止する。
すなわち、積層体13の第2透明電極12側の面を少なくとも一部が着色された封止部材105によって固体密着封止する。(2) Sealing Step After the stacking step, a step (sealing step) for sealing the
In the sealing step of the present invention, the
In other words, the surface of the
(3)光照射工程
本実施形態における光照射工程は、積層体13の少なくとも一部に紫外線を照射(光照射)することにより有機EL素子1の発光機能を変調させて、発光パターンを形成する工程である。
ここで、光照射により発光機能を変調させるとは、光照射により、有機EL素子1を構成する正孔輸送材料等の機能を変化させることにより、当該有機EL素子1の発光機能を変化させることをいう。(3) Light irradiation process The light irradiation process in this embodiment modulates the light emission function of the
Here, modulating the light emitting function by light irradiation means changing the light emitting function of the
本発明の上記有機EL素子1の製造方法おいては、光照射工程は、封止工程により前記積層体13に前記封止部材105をラミネートした後に、当該積層体13の少なくとも一部に紫外線を照射させて発光パターンを形成する工程であることが好ましい。これにより、黒等の色の非発光領域に対して、発光領域が発光するため、形成される発光パターンが非発光領域に対して浮かび上がって見えるという視覚的効果を得ることができるという効果が得られる。
In the manufacturing method of the
光照射工程において、その光照射方法は、有機層6の所定パターン領域に所定の光照射することで当該照射部分を輝度が変化した発光領域又は非発光領域とすることができれば、いずれの方法であってもよく、特定の方法に限定されるものではない。
光照射工程において照射される光は、紫外線、可視光線又は赤外線を更に含有していてもよいが、紫外線を含むことが好ましい。
ここで、本発明において、紫外線とは、その波長がX線よりも長く、可視光線の最短波長より短い電磁波をいい、具体的には波長が1〜400nmの範囲内のものである。In the light irradiation step, the light irradiation method may be any method as long as the predetermined pattern region of the
The light irradiated in the light irradiation step may further contain ultraviolet rays, visible rays or infrared rays, but preferably contains ultraviolet rays.
Here, in the present invention, ultraviolet rays refer to electromagnetic waves having a wavelength longer than that of X-rays and shorter than the shortest wavelength of visible light, and specifically those having a wavelength in the range of 1 to 400 nm.
紫外線の発生手段及び照射手段は、従来公知の装置等により紫外線を発生させ、かつ、照射すればよく、特に限定されない。具体的な光源としては、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、水素(重水素)ランプ、希ガス(キセノン、アルゴン、ヘリウム、ネオンなど)放電ランプ、窒素レーザー、エキシマレーザー(XeCl,XeF,KrF,KrClなど)、水素レーザー、ハロゲンレーザー、各種可視(LD)−赤外レーザーの高調波(YAGレーザーのTHG(Third HarmonicGeneration)光など)等が挙げられる。 Ultraviolet generation means and irradiation means are not particularly limited as long as they are generated and irradiated by a conventionally known apparatus or the like. Specific examples of the light source include a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a hydrogen (deuterium) lamp, a rare gas (xenon, argon, helium, neon, etc.) discharge lamp, a nitrogen laser, and an excimer laser (XeCl, XeF, KrF, KrCl). Etc.), hydrogen lasers, halogen lasers, various harmonics of visible (LD) -infrared lasers (THG (Third Harmonic Generation) light of YAG lasers) and the like.
このような光照射工程は、封止工程の後に行われることが好ましい。 Such a light irradiation process is preferably performed after the sealing process.
また、光照射工程において、光強度又は照射時間等を調整して、光照射量を変化させることにより、当該光照射量に応じて光照射部分の発光輝度を変化させることが可能である。光照射量が多いほど発光輝度は減衰し、光照射量が少ないほど発光輝度の減衰率は小さい。従って、光照射量が0、すなわち、光未照射の場合には、発光輝度は最大である。また、光照射を十分に行うことで、発光輝度が0、すなわち非発光領域とすることができる。 Further, in the light irradiation step, by adjusting the light intensity or the irradiation time and changing the light irradiation amount, it is possible to change the light emission luminance of the light irradiation portion according to the light irradiation amount. The greater the light irradiation amount, the lower the emission luminance, and the smaller the light irradiation amount, the smaller the emission luminance attenuation rate. Therefore, when the light irradiation amount is 0, that is, when no light is irradiated, the light emission luminance is maximum. Further, by sufficiently performing light irradiation, the light emission luminance can be set to 0, that is, a non-light emitting region.
以上により、所望の発光パターンを有する有機EL素子1を製造することができる。このような有機EL素子1の製造においては、1回の真空引きで一貫して有機層6から第2透明電極12まで作製するのが好ましいが、途中で真空雰囲気から透明基板2を取り出して異なる形成法を施しても構わない。その際、作業を乾燥不活性ガス雰囲気下で行う等の配慮が必要となる。
As described above, the
また、このようにして得られた有機EL素子1に直流電圧を印加する場合には、第1透明電極4と第2透明電極12とに、2〜40V程度の範囲内の電圧を印加すると発光が観測できる。また、交流電圧を印加してもよく、印加する交流の波形は任意でよい。
この際、電流は、発光パターン部分にのみ流れるため、不必要な部分にまで光を導光するLEDと比較して、消費電力を低減させることができる。In addition, when a direct current voltage is applied to the
At this time, since the current flows only in the light emitting pattern portion, the power consumption can be reduced as compared with the LED that guides light to the unnecessary portion.
また、シャドーマスクを用いて発光パターンを形成した後、光照射を施すことによって、発光パターンをより精緻に形成することができる。 Moreover, after forming a light emission pattern using a shadow mask, a light emission pattern can be formed more precisely by performing light irradiation.
≪有機EL素子の用途≫
本発明の有機EL素子は、面発光体であり、各種の発光光源として用いることができる。例えば、家庭用照明や車内照明等の照明装置、時計や液晶用のバックライト、看板広告用照明、信号機の光源、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等に使用することができる。≪Use of organic EL elements≫
The organic EL element of the present invention is a surface light emitter and can be used as various light sources. For example, lighting devices such as home lighting and interior lighting, backlights for watches and liquid crystals, lighting for billboard advertisements, light sources for traffic lights, light sources for optical storage media, light sources for electrophotographic copying machines, light sources for optical communication processors, It can be used as a light source for an optical sensor.
特に、本発明の有機EL素子は、照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置(ディスプレイ)として使用してもよい。特に本発明の有機EL素子は、トップエミッション型であるため、表示装置に用いるとコントラストが高く、優れた表示性能を実現することができる。 In particular, the organic EL element of the present invention may be used as a kind of lamp such as an illumination or exposure light source, a projection device that projects an image, or a type that directly recognizes a still image or a moving image. It may be used as a display device (display). In particular, since the organic EL element of the present invention is a top emission type, when used in a display device, the contrast is high and excellent display performance can be realized.
動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス(パッシブマトリクス)方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。また、異なる発光色を有する本発明の有機EL素子を2種以上使用することにより、カラー又はフルカラー表示装置を作製することが可能である。 The driving method when used as a display device for moving image reproduction may be either a simple matrix (passive matrix) method or an active matrix method. In addition, a color or full-color display device can be manufactured by using two or more organic EL elements of the present invention having different emission colors.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。
なお、本実施例で作製された有機EL素子101〜109は全て、図4A〜図4Cに示す発光領域21によって形成される発光パターンを持つ。また、以下で特に言及がない限り、積層体及び封止部材は、図4A〜図4Cに示す透明基板2(実線)、第1透明電極4(点線)、有機層6(一点鎖線)、第2透明電極12(破線)、封止部材105(実線)で表される形状に形成されたものとする。なお、図4Bにおける6aは、後述のように有機層6のいずれか一層を表す。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.
Note that all the organic EL elements 101 to 109 manufactured in this example have a light emission pattern formed by the
≪有機EL素子101の作製≫
(透明基材の準備)
可撓性透明基材として、市販のポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)基材(厚さ125μm)を選択し、当該基材上に、特開2012−116101号公報の実施例1を参照にして、ガスバリアー層を形成した。<< Production of Organic EL Element 101 >>
(Preparation of transparent substrate)
As a flexible transparent base material, a commercially available polyethylene terephthalate film (PET film) base material (thickness 125 μm) is selected, and on the base material, referring to Example 1 of JP2012-116101A, A gas barrier layer was formed.
具体的には、両面に易接着加工された幅500mm、厚さ125μmのポリエステルフィルム(帝人デュポンフィルム株式会社製、極低熱収PET Q83)の片面に、JSR株式会社製 UV硬化型有機/無機ハイブリッドハードコート材OPSTAR Z7535を、塗布・乾燥後の層厚が4μmになるように塗布した後、硬化条件;1.0J/cm2、空気雰囲気下、高圧水銀ランプ使用、乾燥条件;80℃、3分で硬化を行い、ブリードアウト防止層を形成した。Specifically, UV curing organic / inorganic manufactured by JSR Corporation on one side of a polyester film (Teijin DuPont Films Co., Ltd., ultra-low heat yield PET Q83) having a width of 500 mm and a thickness of 125 μm that is easily bonded on both sides. Hybrid hard coat material OPSTAR Z7535 was applied so that the layer thickness after application and drying was 4 μm, and then curing conditions: 1.0 J / cm 2 , in an air atmosphere, using a high-pressure mercury lamp, drying conditions: 80 ° C., Curing was performed in 3 minutes to form a bleed-out prevention layer.
続けて、上記樹脂基材の反対面に、JSR株式会社製 UV硬化型有機/無機ハイブリッドハードコート材OPSTAR Z7501を、塗布・乾燥後の層厚が4μmになるように塗布した後、乾燥条件;80℃、3分で乾燥後、空気雰囲気下、高圧水銀ランプ使用、硬化条件;1.0J/cm2で硬化を行い、平坦層を形成した。Subsequently, a UV curable organic / inorganic hybrid hard coat material OPSTAR Z7501 manufactured by JSR Corporation is applied to the opposite surface of the resin substrate so that the layer thickness after application and drying is 4 μm, and then drying conditions; After drying at 80 ° C. for 3 minutes, curing was performed in an air atmosphere using a high-pressure mercury lamp, curing conditions: 1.0 J / cm 2 to form a flat layer.
得られた平坦層の最大断面高さRt(p)は、JIS B 0601で規定される表面粗さで、16nmであった。 The maximum cross-sectional height Rt (p) of the obtained flat layer was 16 nm with a surface roughness specified by JIS B 0601.
なお、表面粗さは、SII社製のAFM(原子間力顕微鏡)SPI3800N DFMを用いて測定した。1回の測定範囲は10μm×10μmとし、測定箇所を変えて3回の測定を行い、それぞれの測定で得られたRtの値を平均したものを測定値とした。 The surface roughness was measured using an AFM (Atomic Force Microscope) SPI3800N DFM manufactured by SII. The measurement range for one time was 10 μm × 10 μm, the measurement location was changed, and the measurement was performed three times. The average of the Rt values obtained in each measurement was taken as the measurement value.
上記のように作製した樹脂基材の厚さは、133μmであった。 The thickness of the resin base material produced as described above was 133 μm.
次いで、樹脂基材の平坦層表面に、無機前駆体化合物を含有する塗布液を、減圧押し出し方式のコーターを用いて、乾燥層厚が150nmとなるように、1層目のガスバリアー層を塗布した。 Next, the first gas barrier layer is applied to the surface of the flat layer of the resin base material using a vacuum extrusion type coater so that the dry layer thickness is 150 nm. did.
無機前駆体化合物を含有する塗布液は、無触媒のパーヒドロポリシラザン20質量%ジブチルエーテル溶液(AZエレクトロニックマテリアルズ(株)製アクアミカ NN120−20)とアミン触媒を固形分の5質量%含有するパーヒドロポリシラザン20質量%ジブチルエーテル溶液(AZエレクトロニックマテリアルズ(株)製アクアミカ NAX120−20)とを混合して用い、アミン触媒を固形分の1質量%に調整した後、さらに、ジブチルエーテルで希釈することにより5質量%ジブチルエーテル溶液として作製した。 The coating solution containing the inorganic precursor compound is a non-catalytic perhydropolysilazane 20 mass% dibutyl ether solution (AZ Electronic Materials Co., Ltd. Aquamica NN120-20) and an amine catalyst containing 5 mass% solids. Hydroamine silazane 20% by mass dibutyl ether solution (AZ Electronic Materials Co., Ltd. Aquamica NAX120-20) is used by mixing, and after adjusting the amine catalyst to 1% by mass of solid content, it is further diluted with dibutyl ether. This was prepared as a 5% by mass dibutyl ether solution.
塗布後、乾燥温度80℃、乾燥時間300秒、乾燥雰囲気の露点5℃の条件下で乾燥させた。 After coating, the film was dried under the conditions of a drying temperature of 80 ° C., a drying time of 300 seconds, and a dew point of 5 ° C. in a dry atmosphere.
乾燥後、樹脂基材を25℃まで徐冷し、真空紫外線照射装置内で、塗布面に真空紫外線照射による改質処理を行った。真空紫外線照射装置の光源としては、172nmの真空紫外線を照射する二重管構造を有するXeエキシマーランプを用いた。 After drying, the resin substrate was gradually cooled to 25 ° C., and the coating surface was subjected to a modification treatment by irradiation with vacuum ultraviolet rays in a vacuum ultraviolet irradiation apparatus. A Xe excimer lamp having a double tube structure that irradiates vacuum ultraviolet rays of 172 nm was used as a light source of the vacuum ultraviolet irradiation apparatus.
〈改質処理装置〉
株式会社エム・ディ・コム製エキシマー照射装置MODEL:MECL−M−1−200、波長172nm、ランプ封入ガス Xe
〈改質処理条件〉
エキシマー光強度 3J/cm2(172nm)
ステージ加熱温度 100℃
照射装置内の酸素濃度 1000ppm
改質処理後、ガスバリアー層を形成した基材を、上記と同様にして乾燥させ、さらに、同条件にて2回目の改質処理を行い、乾燥層厚150nmのガスバリアー層を形成した。<Modification processing equipment>
Excimer irradiation device MODEL: MECL-M-1-200, wavelength 172 nm, manufactured by M.D.
<Reforming treatment conditions>
Excimer light intensity 3J / cm 2 (172nm)
Stage heating temperature 100 ° C
Oxygen concentration in the irradiation device 1000ppm
After the modification treatment, the base material on which the gas barrier layer was formed was dried in the same manner as described above, and further subjected to the second modification treatment under the same conditions to form a gas barrier layer having a dry layer thickness of 150 nm.
次いで、1層目のガスバリアー層と同様にして、1層目のガスバリアー層上に2層目のガスバリアー層を形成し、ガスバリアー層を有するPETフィルムを作製した。 Next, in the same manner as the first gas barrier layer, a second gas barrier layer was formed on the first gas barrier layer to produce a PET film having a gas barrier layer.
上記のガスバリアー層付PETフィルムを50mm×50mmのサイズに断裁し、テフロン(登録商標)枠に固定(張力100N/m相当)し、以下の操作を行った。 The above PET film with a gas barrier layer was cut into a size of 50 mm × 50 mm, fixed to a Teflon (registered trademark) frame (equivalent to a tension of 100 N / m), and the following operation was performed.
(内部光取出し層の作製)
有機EL素子101は内部光取り出し層は形成せず、下記第1透明電極、第2透明電極及び有機層を直接前記PET基材上に形成した。(Preparation of internal light extraction layer)
The organic EL element 101 did not form an internal light extraction layer, and the following first transparent electrode, second transparent electrode, and organic layer were formed directly on the PET substrate.
(第1透明電極の作製)
第1透明電極として、上記透明基板に対し、フォトリソグラフィー法によって、図4Aに示す第1透明電極4の形状にパターニングを行った後、このITO透明電極を付けた透明基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った後、この透明基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。
真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に、各層の構成材料を最適の量で充填した。蒸着用るつぼは、モリブデン製又はタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。(Production of first transparent electrode)
As the first transparent electrode, after patterning the transparent substrate into the shape of the first
Each of the deposition crucibles in the vacuum deposition apparatus was filled with an optimal amount of the constituent material of each layer. As the evaporation crucible, a crucible made of a resistance heating material made of molybdenum or tungsten was used.
真空度1×10−4Paまで減圧した後、図4Aに示す有機層6の形状にパターニングできるシャドーマスクを用い、化合物M−4の入った蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で透明基板に蒸着し、厚さ15nmの正孔注入層を設けた。
次いで、化合物M−2を同様にして蒸着し、厚さ40nmの正孔輸送層を設けた。
次いで、下記化合物BD−1及び化合物H−1を用い、化合物BD−1が5%の濃度、化合物H−1が95%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ15nmの青色発光を呈する蛍光発光層を設けた。
次いで、下記化合物GD−1、化合物RD−1及び化合物H−2を用い、化合物GD−1が17%の濃度、RD−1が0.8%の濃度、化合物H−2が82.2%の濃度となるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ15nmの黄色を呈するリン光発光層を設けた。
次いで、化合物E−1を蒸着速度0.1nm/秒で蒸着して、厚さ30nmの電子輸送層を形成した。After depressurizing to a vacuum degree of 1 × 10 −4 Pa, using a shadow mask that can be patterned into the shape of the
Next, Compound M-2 was vapor-deposited in the same manner to provide a 40 nm-thick hole transport layer.
Subsequently, using the following compound BD-1 and compound H-1, the compound BD-1 was co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of compound BD-1 was 5% and the concentration of compound H-1 was 95%. A fluorescent light emitting layer exhibiting blue light emission having a thickness of 15 nm was provided.
Then, using the following compound GD-1, compound RD-1 and compound H-2, the compound GD-1 has a concentration of 17%, the RD-1 has a concentration of 0.8%, and the compound H-2 has 82.2%. Co-deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second so as to achieve a concentration of 15 nm / second, and provided a phosphorescent light-emitting layer exhibiting a yellow thickness of 15 nm.
Next, Compound E-1 was deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an electron transport layer having a thickness of 30 nm.
さらに、LiFからなる電子注入層を厚さ1.5nmで形成した後に、続けて、アルミニウムを1nm成膜した。さらに、5×10−4Paの真空下で、第2透明電極を形成する材料として銀(Ag)を使用し、取り出し電極を有するように抵抗加熱蒸着にて、厚さ10nmの第2透明電極を形成した。Further, after an electron injection layer made of LiF was formed to a thickness of 1.5 nm, aluminum was subsequently formed to a thickness of 1 nm. Further, under a vacuum of 5 × 10 −4 Pa, silver (Ag) is used as a material for forming the second transparent electrode, and the second transparent electrode having a thickness of 10 nm is formed by resistance heating vapor deposition so as to have an extraction electrode. Formed.
(封止)
さらに、透明基板上に形成されている積層体に対し、特開2002−319485号公報の実施例に記載の方法(特開2002−319485号公報の段落0018〜0022までの本発明例1に関する記載を参照。)で缶封止を行い、有機EL素子101を作製した。(Sealing)
Furthermore, for the laminate formed on the transparent substrate, the method described in the examples of JP-A No. 2002-319485 (the description relating to Example 1 of the present invention from paragraphs 0018 to 0022 of JP-A No. 2002-319485). The organic EL element 101 was produced by sealing the can.
≪有機EL素子102の作製≫
有機EL素子101の作製において、封止を、下記のように行った以外は、同様にして有機EL素子102の作製した。<< Production of Organic EL Element 102 >>
In the production of the organic EL element 101, the organic EL element 102 was produced in the same manner except that the sealing was performed as follows.
(封止)
<接着剤組成物の調製>
ポリイソブチレン系樹脂(A)として「オパノールB50(BASF製、Mw:34万)」100質量部、ポリブテン樹脂(B)として「日石ポリブテン グレードHV−1900(新日本石油社製、Mw:1900)」30質量部、ヒンダードアミン系光安定剤(C)として「TINUVIN765(BASF・ジャパン製、3級のヒンダードアミン基を有する)」0.5質量部、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)として「IRGANOX1010(BASF・ジャパン製、ヒンダードフェノール基のβ位が二つともターシャリーブチル基を有する)」0.5質量部、及び環状オレフィン系重合体(E)として「Eastotac H−100L Resin(イーストマンケミカル.Co.製)」50質量部を、トルエンに溶解し、固形分濃度約25質量%の接着剤組成物を調製した。(Sealing)
<Preparation of adhesive composition>
100 parts by weight of “OPanol B50 (manufactured by BASF, Mw: 340,000)” as polyisobutylene resin (A), and “Nisseki Polybutene Grade HV-1900 (manufactured by Nippon Oil Corporation, Mw: 1900) as polybutene resin (B) 30 parts by weight, 0.5 parts by weight of “TINUVIN 765 (manufactured by BASF Japan, having a tertiary hindered amine group)” as a hindered amine light stabilizer (C), “IRGANOX 1010 as a hindered phenol antioxidant (D)” (BASF Japan made, both β-positions of hindered phenol groups have a tertiary butyl group) 0.5 parts by weight, and cyclic olefin polymer (E) as “Eastotac H-100L Resin (Eastman Chemical Co.) ”50 parts by mass is dissolved in toluene, The solid content concentration of about 25 wt% of the adhesive composition was prepared.
<封止部材の作製>
まず、厚さ100μmのアルミニウム(Al)箔が張り合わされた厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの、アルミニウム箔側の面をカーボンブラックで着色し、封止基材を作製した。次に、調製した上記接着剤組成物の溶液を乾燥後に形成される接着層の厚さが20μmとなるように封止基材のアルミニウム側(ガスバリアー層側)に塗工し、120℃で2分間乾燥させて接着層を形成した。次に、形成した接着層面に対して、剥離シートとして、厚さ38μmの剥離処理をしたポリエチレンテレフタレートフィルムの剥離処理面を貼付して、封止部材を作製した。<Preparation of sealing member>
First, a surface of an aluminum foil side of a 50 μm thick polyethylene terephthalate film on which an aluminum (Al) foil having a thickness of 100 μm was laminated was colored with carbon black to prepare a sealing substrate. Next, the solution of the prepared adhesive composition was applied to the aluminum side (gas barrier layer side) of the sealing substrate so that the thickness of the adhesive layer formed after drying was 20 μm. It was dried for 2 minutes to form an adhesive layer. Next, as a release sheet, a release treatment surface of a polyethylene terephthalate film subjected to a release treatment with a thickness of 38 μm was attached to the formed adhesive layer surface to produce a sealing member.
上述の方法で作製した封止部材を、40mm×50mmのサイズで準備し、窒素雰囲気下において、剥離シートを除去し、120℃に加熱したホットプレート上で10分間乾燥した後、室温まで低下するのを確認してから、有機発光素子の陰極を完全に覆う形でラミネートし、90℃で10分加熱し、封止した。 The sealing member produced by the above-described method is prepared in a size of 40 mm × 50 mm, the release sheet is removed under a nitrogen atmosphere, dried on a hot plate heated to 120 ° C. for 10 minutes, and then lowered to room temperature. After confirming this, the organic light-emitting device was laminated so as to completely cover the cathode, and heated at 90 ° C. for 10 minutes for sealing.
≪有機EL素子103の作製≫
有機EL素子102の作製において、第1透明電極の作製を以下のようにして行った以外は、同様にして有機EL素子103を作製した。<< Production of Organic EL Element 103 >>
In the production of the organic EL element 102, the organic EL element 103 was produced in the same manner except that the production of the first transparent electrode was performed as follows.
(第1透明電極の作製)
窒素原子を含有している化合物No.10をタンタル製の抵抗加熱ボートに入れた。これらの基板ホルダーと抵抗加熱ボートとを真空蒸着装置の第1真空槽に取り付けた。また、タングステン製の抵抗加熱ボートに銀(Ag)を入れ、真空蒸着装置の第2真空槽内に取り付けた。(Production of first transparent electrode)
Compound No. containing nitrogen atom 10 was placed in a resistance heating boat made of tantalum. These substrate holders and resistance heating boats were attached to the first vacuum chamber of the vacuum deposition apparatus. Moreover, silver (Ag) was put into the resistance heating boat made from tungsten, and it attached in the 2nd vacuum chamber of a vacuum evaporation system.
次いで、第1真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、化合物の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒の範囲内で基板上に層厚25nmの化合物No.10で構成された下地層を設けた。Next, after reducing the pressure of the first vacuum tank to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing the compound was heated by heating, and the layer was deposited on the substrate within a deposition rate range of 0.1 to 0.2 nm / second. Compound No. 25 having a thickness of 25 nm. An underlayer composed of 10 was provided.
次に、下地層まで形成した基板を真空のまま第2真空槽に移し、第2真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、銀の入った加熱ボートを通電して加熱した。これにより、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒の範囲内で層厚10nmの銀からなる電極層を形成した。これにより、下地層及び電極層とがこの順に積層された第1透明電極を得た。
なお、図4Aに示す第1透明電極4の形状になるよう、蒸着時に、シャドーマスクを使用して、下地層及び電極層を形成した。Next, the substrate formed up to the base layer was transferred to the second vacuum chamber while being vacuumed, and after the pressure of the second vacuum chamber was reduced to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing silver was energized and heated. As a result, an electrode layer made of silver having a layer thickness of 10 nm was formed within a deposition rate range of 0.1 to 0.2 nm / second. Thereby, the 1st transparent electrode by which the base layer and the electrode layer were laminated | stacked in this order was obtained.
In addition, the base layer and the electrode layer were formed using a shadow mask at the time of vapor deposition so that it might become the shape of the 1st
≪有機EL素子104の作製≫
有機EL素子103の作製において、封止基材の作製を、アルミニウム箔側の面にカーボンブラックで着色する代わりに、黒アルマイト処理を施して行った以外は、同様にして有機EL素子104を作製した。<< Production of Organic EL Element 104 >>
In the production of the organic EL element 103, the organic EL element 104 was similarly produced except that the sealing substrate was produced by performing black alumite treatment instead of coloring the surface on the aluminum foil side with carbon black. did.
≪有機EL素子105の作製≫
有機EL素子104の作製において、ラミネートさせる際に、粘着剤組成物の調製にカーボンブラック5.2質量部を加えた以外は、同様にして、有機EL素子105を作製した。<< Production of
In the production of the organic EL element 104, an
≪有機EL素子106の作製≫
有機EL素子105の作製において、発光層をシャドーマスクを用いて図4Bに示す有機層6aの形状に形成した。その他の有機層は、図4Bに示す有機層6の形状に形成した。また、第1透明電極及び第2透明電極の形状を発光領域21の形状とせず、50mm×50mmのサイズとなるよう形成した。これら以外は、同様にして有機EL素子106を作製した。<< Production of Organic EL Element 106 >>
In the production of the
≪有機EL素子107の作製≫
有機EL素子106の作製において、発光層ではなく、正孔注入層をシャドーマスクを用いて図4Bに示す有機層6aの形状に形成した以外は、同様にして有機EL素子107を作製した。<< Production of Organic EL Element 107 >>
In the production of the organic EL element 106, the organic EL element 107 was produced in the same manner except that the hole injection layer was formed in the shape of the organic layer 6a shown in FIG. 4B using a shadow mask instead of the light emitting layer.
≪有機EL素子108の作製≫
有機EL素子106の作製において、発光層ではなく、電子注入層をシャドーマスクを用いて図4Bに示す有機層6aの形状に形成した以外は、同様にして有機EL素子108を作製した。<< Production of Organic EL Element 108 >>
In the production of the organic EL element 106, the organic EL element 108 was produced in the same manner except that the electron injection layer was formed in the shape of the organic layer 6a shown in FIG. 4B using a shadow mask instead of the light emitting layer.
≪有機EL素子109の作製≫
有機EL素子106の作製において、発光層の形成時にパターニングを行わず、下記のように封止後に、光照射によるパターニングによって図4Cに示す発光領域21を形成をしたこと以外は同様にして有機EL素子109を作製した。<< Production of Organic EL Element 109 >>
In the production of the organic EL element 106, patterning is not performed when the light emitting layer is formed, and the organic EL element is similarly formed except that the
(光照射によるパターニング)
透明基板の光取り出し側の面上に、パターンマスク及び紫外線吸収フィルター(五鈴精工硝子株式会社製)を配置した状態で減圧密着させ、UVテスター(岩崎電気株式会社製、SUV−W151:100mW/cm2)を用いて、基板側から紫外線を3時間照射し、パターニングした。
なお、紫外線吸収フィルターは、320nm以下の波長成分の光透過率が50%以下のもの(カット波長:320nm)を用いた。(Patterning by light irradiation)
On the surface of the transparent substrate on the light extraction side, a pattern mask and an ultraviolet absorption filter (made by Isuzu Seiko Glass Co., Ltd.) are placed under reduced pressure, and a UV tester (Iwasaki Electric Co., Ltd., SUV-W151: 100 mW / cm 2 ), patterning was performed by irradiating ultraviolet rays from the substrate side for 3 hours.
In addition, the ultraviolet absorption filter used the thing with the light transmittance of a wavelength component of 320 nm or less of 50% or less (cut wavelength: 320 nm).
≪評価≫
[可撓性(折り曲げ特性)]
直径5cmの円柱に100回巻き付けた後、発光画像を確認し、発光領域の面積を測定した。表2に示す数値は、ダークスポットになった発光領域の面積の割合(%)である。30%以下を合格とする。≪Evaluation≫
[Flexibility (bending characteristics)]
After being wound 100 times on a cylinder having a diameter of 5 cm, the luminescent image was confirmed and the area of the luminescent region was measured. The numerical values shown in Table 2 are the ratio (%) of the area of the light emitting region that is a dark spot. 30% or less is acceptable.
[高温高湿の環境下での耐性]
各有機EL素子を、85℃かつ85%RHの環境下で300時間保管した後、ダークスポットになってしまった発光領域の面積を測定した。表に示す数値は、ダークスポットになった発光領域の面積の割合(%)である。30%以下を合格とする。[Resistance under high temperature and high humidity]
Each organic EL element was stored for 300 hours in an environment of 85 ° C. and 85% RH, and then the area of the light emitting region that had become a dark spot was measured. The numerical values shown in the table are the ratio (%) of the area of the light emitting region that is a dark spot. 30% or less is acceptable.
[色の測定]
色の測定:コニカミノルタ製CM−2600dにて、非発光時の発光領域と、非発光領域との色をL*a*b*表色系で測定した。
なお、測定に使用した光源としてA光源(タングステン光源)を使用し、測定方法としてSCI(正反射光込み)方式を採用し、視野角は2°とした。
表2には、非発光時の発光領域の色として、L*の値を示した。L*は、明度を表し、その値が0であると黒色であり、100であると白色であることを意味する。なお、本実施例では、封止部材を黒に着色しており、L*が小さいほど外部入射光の反射が少ないことを示すため、好ましい。25以下を合格とする。
色ずれは、下式のように計算されるΔE* abによって評価を行った。ΔL*、Δa*及びΔb*は、発光領域と非発光領域との色差を表す。
ΔE* abは、20未満を合格とする。
ΔE* ab=[(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2]1/2 [Measurement of color]
Measurement of color: With a CM-2600d manufactured by Konica Minolta, the color of the non-light-emitting region and the non-light-emitting region was measured in the L * a * b * color system.
Note that an A light source (tungsten light source) was used as the light source used for the measurement, an SCI (regular reflection light included) method was adopted as the measurement method, and the viewing angle was 2 °.
Table 2 shows the value of L * as the color of the light emitting region when no light is emitted. L * represents lightness, and when the value is 0, it means black, and when it is 100, it means white. In this embodiment, the sealing member is colored black, and the smaller L * is, the less reflection of external incident light is, which is preferable. Accept 25 or less.
The color misregistration was evaluated by ΔE * ab calculated as follows. ΔL * , Δa *, and Δb * represent the color difference between the light emitting region and the non-light emitting region.
ΔE * ab is less than 20 as acceptable.
ΔE * ab = [(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 ] 1/2
表2に示した結果より、有機EL素子102から109は、有機EL素子101に比べて、可撓性、高温高湿の環境下での耐性、及び非発光時の色が良好なことが認められた。 From the results shown in Table 2, it is recognized that the organic EL elements 102 to 109 are more flexible, resistant in a high temperature and high humidity environment, and have a better color when not emitting light than the organic EL element 101. It was.
以上のように、本発明は、可撓性が高く、かつ、非発光時及び非発光領域の色を種々の色にできる有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供することに適している。 As described above, the present invention is suitable for providing an organic electroluminescence element having high flexibility and capable of changing the color of the non-light-emitting region and the non-light-emitting region to various colors and a method for manufacturing the same.
1 有機EL素子
2 透明基板
4 第1透明電極
4a 電極層
4b 下地層
6 有機層
12 第2透明電極
12a 電極保護層
13 積層体
105 封止部材
105a 封止基材
105b 接着層DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記透明基板側からのみ、光を取り出し、
前記封止部材は、少なくとも接着層、及び前記接着層側のみに配置された着色された層を有する封止基材を有し、
前記積層体は、前記第2透明電極側の面に前記封止基材が前記接着層を介してラミネートされていることで、前記封止部材により封止されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 An organic electroluminescence element having a laminate and a sealing member in which at least a transparent substrate, a first transparent electrode, an organic layer, and a second transparent electrode are laminated in this order,
Extract light only from the transparent substrate side,
The sealing member has a capping group member having an adhesive layer, and a layer which is colored disposed only on the adhesive layer side even without low,
The laminated body is sealed by the sealing member by laminating the sealing substrate on the surface on the second transparent electrode side through the adhesive layer. Luminescence element.
前記有機層として、少なくとも正孔注入層、正孔輸送層、発光層を形成する有機層形成工程と、
前記第2透明電極側の面から前記積層体に、前記封止部材をラミネートする封止工程と、
を有し、
前記封止部材が、少なくとも接着層、及び前記接着層側のみに配置された着色された層を有する封止基材を有し、
前記封止部材をラミネートする封止工程では、前記積層体に前記接着層を介して前記封止基材をラミネートすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 At least a transparent substrate, a first transparent electrode, an organic layer and a second transparent electrode have a laminate as well as the sealing member are laminated in this order, a manufacturing method of an organic electroluminescent device is taken out only light from the transparent substrate side ,
As the organic layer, at least a hole injection layer, a hole transport layer, an organic layer forming step of forming a light emitting layer, and
A sealing step of laminating the the laminate, before Kifutome member from the surface of the second transparent electrode side,
I have a,
The sealing member has a sealing substrate having at least an adhesive layer, and a colored layer disposed only on the adhesive layer side,
In the sealing step of laminating the sealing member, the sealing substrate is laminated on the laminate through the adhesive layer . A method for producing an organic electroluminescent element, comprising:
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