JP5976456B2 - 化粧料 - Google Patents
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- Cosmetics (AREA)
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(A)全モノマー中、(a1)ラジカル重合可能な有機基を有するカルボシロキサンデンドリマーモノマー 20〜50質量%、(a2)分子中に水酸基を有するビニル系モノマー 15〜40質量%を含むモノマーを重合させて得られるビニル系重合体、
(B)25℃で液状のシリコーン油、
(C)疎水化処理粉体
を含有する化粧料を提供するものである。
X1はi=1とした場合の次式で示されるシリルアルキル基である。
R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基等の直鎖状アルキレン基;メチルメチレン基、メチルエチレン基、1−メチルペンチレン基、1,4−ジメチルブチレン基等の分岐状アルキレン基が例示される。これらの中でも、エチレン基、メチルエチレン基、ヘキシレン基、1−メチルペンチレン基、1,4−ジメチルブチレン基が好ましい。
R3は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基等が例示される。
Xi+1は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基および上記シリルアルキル基からなる群から選択される基である。aiは0〜3の整数である。iは1〜10の整数であり、これは該シリルアルキル基の階層数、即ち、該シリルアルキル基の繰り返し数を示している。
このようなラジカル重合可能な有機基を含有するカルボキシデンドリマーモノマー(a1)としては、下記平均組成式で示されるカルボシロキサンデンドリマーが例示される。
従来、疎水化処理粉体を含有する場合、粉体同士が凝集しやすかったが、(a2)モノマーを有することで、成分(A)が疎水化処理粉体の表面に付着し、粉体間の凝集を抑制することで、疎水化処理粉体の分散性が向上すると考えられる。
成分(A)のビニル系重合体は、疎水化処理粉体の分散性の点から、全モノマー中、(a1)の質量割合が20〜50質量%、(a2)の質量割合が15〜40質量%を含むものであり、(a1)の質量割合が30〜50質量%、(a2)の質量割合が20〜35質量%を含むモノマーを重合させて得られるものが好ましい。
かかるモノマーとしては、次の一般式で表されるものが好ましい。
CH2=CR20COORf
式中、R20は水素原子またはメチル基である。Rfはフッ素化有機基であり、例えば、炭素数1〜20のアルキル基や炭素数6〜22のアルキルオキシアルキレン基の、水素原子の一部又は全部をフッ素原子で置換した、フルオロアルキル基やフルオロアルキルオキシフルオロアルキレン基などが挙げられる。
CH2=CCH3COO-CF3、CH2=CCH3COO-C2F5、CH2=CCH3COO-nC3F7、CH2=CCH3COO-CF(CF3)2、CH2=CCH3COO-nC4F9、CH2=CCH3COO-CF2CF(CF3)2、CH2=CCH3COO-nC5F11、CH2=CCH3COO-nC6F13、CH2=CCH3COO-nC8F17、CH2=CCH3COO-CH2CF3、CH2=CCH3COO-CH(CF3)2、CH2=CCH3COO-CH2CH(CF3)2、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)2F、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)3F、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)4F、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)6F、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)8F、CH2=CCH3COO-CH2CH2CF3、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)2F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)3F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)4F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)6F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)8F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)10F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)12F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)14F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)16F、CH2=CCH3COO-CH2CH2CH2CF3、CH2=CCH3COO-CH2CH2CH2(CF2)2F、CH2=CCH3COO-CH2CH2CH2(CF2)2H、CH2=CCH3COO-CH2(CF2)4H、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)3H、CH2=CCH3COO-CH2CH2CF(CF3)-[OCF2CF(CF3)]z-OC3F7、CH2=CCH3COO-CH2CH2CF2CF2-[OCF2CF(CF3)]z-OC3F7CH2=CHCOO-CF3、CH2=CHCOO-C2F5、CH2=CHCOO-nC3F7、CH2=CHCOO-CF(CF3)2、CH2=CHCOO-nC4F9、CH2=CHCOO-CF2CF(CF3)2、CH2=CHCOO-nC5F11、CH2=CHCOO-nC6F13、CH2=CHCOO-nC8F17、CH2=CHCOO-CH2CF3、CH2=CHCOO-CH(CF3)2、CH2=CHCOO-CH2CH(CF3)2、CH2=CHCOO-CH2(CF2)2F、CH2=CHCOO-CH2(CF2)3F、CH2=CHCOO-CH2(CF2)4F、CH2=CHCOO-CH2(CF2)6F、CH2=CHCOO-CH2(CF2)8F、CH2=CHCOO-CH2CH2CF3、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)2F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)3F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)4F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)6F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)8F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)10F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)12F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)14F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)16F、CH2=CHCOO-CH2CH2CH2CF3、CH2=CHCOO-CH2CH2CH2(CF2)2F、CH2=CHCOO-CH2CH2CH2(CF2)2H、CH2=CHCOO-CH2(CF2)4H、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)3H、CH2=CHCOO-CH2CH2CF(CF3)-[OCF2CF(CF3)]z-OC3F7、CH2=CHCOO-CH2CH2CF2CF2-[OCF2CF(CF3)]z-OC3F7
CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)6F、CH2=CHCOO-CH2CH2(CF2)8F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)6F、CH2=CCH3COO-CH2CH2(CF2)8F、CH2=CHCOO-CH2CF3、CH2=CCH3COO-CH2CF3
さらに、下記式で示されるビニル系モノマーがより好ましい。
CH2=CHCOO-CH2CF3、CH2=CCH3COO-CH2CF3
かかるビニル系モノマーとしては、ラジカル重合性のビニル基を有するものであれば良く、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸tert−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等の低級アルキル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリル等の高級アルキル(メタ)アクリレート;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、2−エチルヘキサン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の脂肪酸ビニルエステル;スチレン、ビニルトルエン、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の芳香族含有単量体;(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、イソブトキシメトキシ(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、ビニルピロリドン、N−ビニルアセトアミド等のアミド基含有ビニル型単量体;(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、フマル酸、マレイン酸等のカルボン酸含有ビニル型単量体及びそれらの塩;ブトキシエチル(メタ)アクリレート、セチルビニルエーテル、2ーエチルヘキシルビニルエーテル等のエーテル結合含有ビニル型単量体;(メタ)アリルグリシジルエーテル、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の反応性基含有モノマー;片末端に(メタ)アクリル基を含有したポリジメチルシロキサン、片末端にスチリル基を含有するポリジメチルシロキサンなどのマクロモノマー類;ブタジエン;塩化ビニル;塩化ビニリデン;(メタ)アクリロニトリル;フマル酸ジブチル;無水マレイン酸;スチレンスルホン酸、アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸のようなスルホン酸基を有するラジカル重合性不飽和単量体、およびそれらのアルカリ金属塩、アンモニウム塩、有機アミン塩;2−ヒドロキシ−3−メタクリルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドのような(メタ)アクリル酸から誘導される4級アンモニウム塩;メタクリル酸ジエチルアミノエチルのような3級アミノ基を有するアルコールのメタクリル酸エステル、ビニルピリジンおよびそれらの4級アンモニウム塩などが例示される。
尚、ガラス転移点(Tg)の計算式は、以下のとおりである。
TgはFoxの式(出典:ラジカル重合ハンドブック、P566(1999))
Tg=(ΣWn)/(ΣWn/Tgn), (Wn:モノマーの重量、Tgn:モノマーnのホモポリマーのTg、単位はK)より算出する。
かかるシリコーン油としては、通常の化粧料に用いられるものであれば特に制限されず、例えばジメチルポリシロキサン、ジメチルシクロポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルエチルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、高級アルコール変性オルガノポリシロキサン等が挙げられる。
成分(B)のシリコーン油としては、25℃における粘度が1mPa・s以上が好ましく、2mPa・s以上がより好ましく、1000mPa・s以下が好ましく、100mPa・s以下がより好ましい。
処理される粉体としては、通常の化粧料に用いられる体質顔料、着色顔料であれば特に制限されず、例えば、ケイ酸、無水ケイ酸、ケイ酸マグネシウム、タルク、セリサイト、マイカ、カオリン、ベンガラ、クレー、ベントナイト、チタン被膜雲母、オキシ塩化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化鉄、群青、酸化クロム、水酸化クロム、カラミン及びカーボンブラック、これらの複合体等の無機粉体;ポリアミド、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、ビニル樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、ケイ素樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジビニルベンゼン・スチレン共重合体、シルクパウダー、セルロース、長鎖アルキルリン酸金属塩、N−モノ長鎖アルキルアシル塩基性アミノ酸、これらの複合体等の有機粉体;さらに、上記無機粉体と有機粉体との複合粉体などが挙げられる。
なお、本発明において、成分(C)の粒子径は、電子顕微鏡観察、レーザー回折/散乱法による粒度分布測定機によって、測定される。具体的には、レーザー回折/散乱法の場合、エタノールを分散媒として、レーザー回折散乱式粒度分布測定器(例えば、堀場製作所製、LA−920)で測定する。
また、化粧水、乳液、クリーム、美容液、洗浄剤等のスキンケア化粧料;ファンデーション、化粧下地、ほお紅、アイシャドウ、マスカラ、アイライナー、アイブロウ、オーバーコート剤、口紅等のメイクアップ化粧料などとして適用することができる。中でも、ファンデーション、化粧下地が好ましい。
上述した実施形態に関し、本発明は、更に以下の組成物を開示する。
(A)全モノマー中、(a1)ラジカル重合可能な有機基を有するカルボシロキサンデンドリマーモノマー 20〜50質量%、(a2)分子中に水酸基を有するビニル系モノマー 15〜40質量%を含むモノマーを重合させて得られるビニル系重合体、
(B)25℃で液状のシリコーン油、
(C)疎水化処理粉体
を含有する化粧料。
で表されるものである前記<1>記載の化粧料。
<4>成分(A)及び成分(C)の質量割合が、(A)/(C)=0.003〜30であって、0.005以上が好ましく、0.01以上がより好ましく、5以下が好ましく、0.1以下がより好ましい前記<1>〜<3>のいずれか1記載の化粧料。
<5>成分(A)が、更に(a3)分子中にフッ素化有機基を有するビニル系モノマー 1〜45質量%を含むモノマーを重合させて得られるビニル系重合体である前記<1>〜<4>のいずれか1記載の化粧料。
<7>成分(C)の含有量が1〜40質量%であって、全組成中、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、35質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましいある前記<1>〜<6>のいずれか1記載の化粧料。
<8>パラメトキシケイ皮酸オクチルの含有量が0.1〜15質量%であって、全組成中、1質量%以上が好ましく、6質量%以下が好ましい。前記<1>〜<7>のいずれか1記載の化粧料。
製造例で得られた重合体のモノマー組成、分子量、ガラス転移点を表1に示す。
攪拌装置,温度計,還流管を取り付けた500ミリリットル4つ口フラスコに、イソプロピルアルコール(IPA)を100g仕込み、窒素ガスでバブリングを行い十分に脱気し、80℃に加熱した。滴下ロートにメチルメタクリレート25g、2−エチルヘキシルアクリレート 10g、ヒドロキシエチルメタクリレート20g、下記式(A)
得られた重合体の重量平均分子量は、21700であり、Mw/Mnは1.66であった。
滴下ロートにメチルメタクリレート18g、2−エチルヘキシルアクリレート 7g、ヒドロキシエチルメタクリレート30g、式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー45g及び2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込む組成に変更した以外は、実施例1と同様な操作を行い、ビニル重合体の固形分濃度30質量%のデカメチルペンタシロキサン溶液を得た。
得られた重合体の重量平均分子量は、12800であり、Mw/Mnは2.24であった。
滴下ロートにメタクリル酸2−エチルヘキシル32g、2−エチルヘキシルアクリレート 5g、メタクリル酸グリセリル 18g、式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー45g及び2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込む組成に変更した以外は、実施例1と同様な操作を行い、ビニル重合体の固形分濃度30質量%のデカメチルペンタシロキサン溶液を得た。
滴下ロートにメタクリル酸トリフルオロエチル 20g、2−エチルヘキシルアクリレート 5g、メタクリル酸ヒドロキシエチル 30g、式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー45g及び2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込む組成に変更した以外は、実施例1と同様な操作を行い、ビニル重合体の固形分濃度30質量%のデカメチルペンタシロキサン溶液を得た。
得られた重合体の重量平均分子量は、9300であり、Mw/Mnは4.65であった。
滴下ロートにメタクリル酸トリフルオロエチル 16g、2−エチルヘキシルアクリレート 4g、メタクリル酸ヒドロキシエチル 35g、式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー45g及び2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込む組成に変更した以外は、実施例1と同様な操作を行い、ビニル重合体の固形分濃度30質量%のデカメチルペンタシロキサン溶液を得た。
滴下ロートにトリフルオロエチルメタクリレート32g、2−エチルヘキシルアクリレート 5g、メタクリル酸グリセリル18g、式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー45g及び2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込む組成に変更した以外は、実施例1と同様な操作を行い、ビニル重合体の固形分濃度30質量%のデカメチルペンタシロキサン溶液を得た。
得られた重合体の重量平均分子量は、6080であり、Mw/Mnは3.38であった。
滴下ロートにメタクリル酸メチル 42g、2−エチルヘキシルアクリレート 10g、メタクリル酸ヒドロキシエチル 3g、式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー45g及び2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込む組成に変更した以外は、実施例1と同様な操作を行い、ビニル重合体の固形分濃度30質量%のデカメチルペンタシロキサン溶液を得た。
得られた重合体の重量平均分子量は、73300であり、Mw/Mnは3.35であった。
滴下ロートにメタクリル酸メチル 35g、2−エチルヘキシルアクリレート 10g、メタクリル酸ヒドロキシエチル 10g、式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー45g及び2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込む組成に変更した以外は、実施例1と同様な操作を行い、ビニル重合体の固形分濃度30質量%のデカメチルペンタシロキサン溶液を得た。
得られた重合体の重量平均分子量は、71400であり、Mw/Mnは3.13であった。
滴下ロートにメタクリル酸メチル 36g、2−エチルヘキシルアクリレート 14g、ビニルアセトアミド 5g、式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー45g及び2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込む組成に変更した以外は、実施例1と同様な操作を行い、ビニル重合体の固形分濃度30質量%のデカメチルペンタシロキサン溶液を得た。
得られた重合体の重量平均分子量は、79000であり、Mw/Mnは3.35であった。
滴下ロートにメタクリル酸メチル 25g、2−エチルヘキシルアクリレート 25g、ビニルアセトアミド 5g、式(A)で示されるカルボシロキサンデンドリマーモノマー45g及び2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル(大塚化学製)1.0gを仕込む組成に変更した以外は、実施例1と同様な操作を行い、ビニル重合体の固形分濃度30質量%のデカメチルペンタシロキサン溶液を得た。
得られた重合体の重量平均分子量は、91100であり、Mw/Mnは4.07であった。
表2に示す組成のW/O乳化ファンデーションを製造し、粉体の分散性、化粧料塗布直後のカバー力、化粧料塗布直後の筋むらのできにくさ及び塗り始めののびを評価した。結果を表2に併せて示す。
粉体成分を粗混合した後、アドマイザー粉砕機(不二パウダル社製)を用いて混合粉砕した。油相成分を混合し、粉砕した粉体成分を添加して、ディスパーで分散した。さらに水相成分を混合し、油相と紛体の混合物に添加して乳化した。その後、ホモミキサーで粘度調整して、W/O乳化ファンデーションを得た。
専門評価者5名により、表2の各W/O乳化ファンデーションを使用した。化粧料塗布直後の肌上での「粉体の分散性」、「化粧料塗布直後のカバー力」、「化粧料塗布直後の筋むらのできにくさ」、また、化粧料塗布時の「塗り始めののび」を官能評価し、以下の基準で判定した。5名の評価結果の積算値を表2に示す。
4;粉体の凝集が見られない。
3;粉体の凝集があまり見られない。
2;粉体の凝集がやや見られる。
1;粉体の凝集が見られる。
4;カバー力が非常に高い。
3;カバー力が高い。
2;カバー力があまり高くない。
1;カバー力が高くない。
4;筋むらができない。
3;筋むらがあまりできない。
2;筋むらがややできる。
1;筋むらができる。
4;塗り始めののびが非常に良い。
3;塗り始めののびが良い。
2;塗り始めののびがあまり良くない。
1;塗り始めののびが良くない。
実施例2、4及び比較例2のW/O乳化ファンデーションを、それぞれ25μmのコーターで人工皮革に塗布し、ホットプレートを用いて37℃で3時間乾燥した。乾燥後の粉体の分散状態をデジタルカメラにて撮影した。得られた画像を図1に示す。人工皮革は、オカモト新和社製の黒色のものを用いた。
Claims (4)
- 次の成分(A)、(B)及び(C):
(A)全モノマー中、(a1)ラジカル重合可能な有機基を有するカルボシロキサンデンドリマーモノマー 20〜50質量%、(a2)分子中に水酸基を有するビニル系モノマー 15〜40質量%を含むモノマーを重合させて得られるビニル系重合体 全組成中に0.1〜30質量%、
(B)25℃で液状のシリコーン油、
(C)疎水化処理粉体
を含有し、成分(A)及び成分(C)の質量割合が、(A)/(C)=0.003〜0.1である化粧料。 - 成分(A)において、(a1)ラジカル重合可能な有機基を有するカルボシロキサンデンドリマーモノマーが、次式(1)
で表されるものである請求項1記載の化粧料。 - 成分(A)が、更に(a3)分子中にフッ素化有機基を有するビニル系モノマー 1〜45質量%を含むモノマーを重合させて得られるビニル系重合体である請求項1又は2記載の化粧料。
- 成分(B)の含有量が1〜50質量%、成分(C)の含有量が1〜40質量%である請求項1〜3のいずれか1項記載の化粧料。
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