JP5301955B2 - Defect correction device - Google Patents

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Description

本発明は、フラットパネルディスプレイ(FPD)、半導体ウエハ等の基板の欠陥をレーザ光により修正する欠陥修正装置に関する。   The present invention relates to a defect correction apparatus for correcting defects of a substrate such as a flat panel display (FPD) and a semiconductor wafer with a laser beam.

従来、レーザ光源から出射されるレーザ光を加工ヘッドにより基板に照射して基板の欠陥を修正する手法がとられている。このように欠陥を修正する装置としては、例えば、レーザ発振器と加工ヘッドとを光ファイバによって接続したレーザ加工装置が知られている(特許文献1参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, a technique has been used in which a substrate is irradiated with laser light emitted from a laser light source and a defect of the substrate is corrected. As an apparatus for correcting such a defect, for example, a laser processing apparatus in which a laser oscillator and a processing head are connected by an optical fiber is known (see Patent Document 1).

上記特許文献1記載のレーザ加工装置は、装置端部に固定されたレーザ発振器と、ワーク上を水平2軸方向に移動可能な可動式の加工ヘッドとを備え、レーザ発振器と加工ヘッドとの間を光ファイバで連結している。
特開平9−239578号公報
The laser processing apparatus described in Patent Document 1 includes a laser oscillator fixed to the end of the apparatus, and a movable processing head that can move in two horizontal directions on the workpiece. Between the laser oscillator and the processing head, Are connected by an optical fiber.
JP-A-9-239578

しかしながら、上記特許文献1記載のレーザ加工装置は、光ファイバにより分離されたレーザ発振器及び加工ヘッドのうち加工ヘッドのみを移動させるため、加工ヘッドの移動に伴い光ファイバの変形が繰り返される。   However, since the laser processing apparatus described in Patent Document 1 moves only the processing head among the laser oscillator and the processing head separated by the optical fiber, the deformation of the optical fiber is repeated as the processing head moves.

光ファイバの変形が繰り返されると、耐久性が低下し、光ファイバの芯線に亀裂が入って均一な強度分布のレーザ光によるワークの加工を行うことができないという不都合がある。   If the deformation of the optical fiber is repeated, the durability deteriorates, and there is a problem that the core wire of the optical fiber is cracked and the workpiece cannot be processed with laser light having a uniform intensity distribution.

また、光ファイバの変形が繰り返されると、光ファイバ内の反射条件が変わるため、光ファイバ内を伝送されるレーザ光の品質が変わり、均一な強度分布のレーザ光による基板の加工を行うことができないという不都合がある。   In addition, when the optical fiber is repeatedly deformed, the reflection conditions in the optical fiber change, so the quality of the laser light transmitted through the optical fiber changes, and the substrate can be processed with laser light having a uniform intensity distribution. There is inconvenience that we cannot do it.

本発明の課題は、均一な強度分布を有するレーザ光を基板に照射することができる欠陥修正装置を提供することである。   The subject of this invention is providing the defect correction apparatus which can irradiate a laser beam which has uniform intensity distribution to a board | substrate.

上記課題を解決するために、本発明の欠陥修正装置は、レーザ光源と、このレーザ光源に接続された光ファイバと、この光ファイバにより導光されたレーザ光を基板に照射する加工ヘッドと、を備える欠陥修正装置において、上記光ファイバを互いに異なる方向に蛇行させる複数のモードスクランブラと、上記レーザ光源、上記光ファイバ、上記加工ヘッド、及び、上記複数のモードスクランブラ、を一体的に移動させる移動機構と、を備え、上記光ファイバには、上記加工ヘッド側の端部に一直線状に延びる直線部が形成されている構成とする。   In order to solve the above problems, a defect correction apparatus of the present invention includes a laser light source, an optical fiber connected to the laser light source, a processing head that irradiates a substrate with laser light guided by the optical fiber, A plurality of mode scramblers that meander the optical fibers in different directions, and the laser light source, the optical fiber, the processing head, and the plurality of mode scramblers as a single unit. The optical fiber is formed with a linear portion extending in a straight line at the end on the processing head side.

本発明では、レーザ光源、光ファイバ、加工ヘッド及び複数のモードスクランブラが一体的に移動するため、レーザ光源と加工ヘッドとの相対距離が一定となり、光ファイバに変形が生じない。   In the present invention, since the laser light source, the optical fiber, the processing head, and the plurality of mode scramblers move integrally, the relative distance between the laser light source and the processing head is constant, and the optical fiber is not deformed.

また、本発明では、複数のモードスクランブラが互いに異なる方向に光ファイバを蛇行させると共に、光ファイバには、加工ヘッド側の端部に一直線状に延びる直線部が形成されている。   In the present invention, the plurality of mode scramblers meander the optical fiber in different directions, and the optical fiber is formed with a straight line portion that extends in a straight line at the end on the processing head side.

よって、本発明によれば、均一な強度分布を有するレーザ光を基板に照射することができる。   Therefore, according to the present invention, the substrate can be irradiated with laser light having a uniform intensity distribution.

以下、本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置について、図面を参照しながら説明する。
図1A及び図1Bは、本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置1を示す平面図及び正面図である。
Hereinafter, a defect correction apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
1A and 1B are a plan view and a front view showing a defect correcting apparatus 1 according to an embodiment of the present invention.

図2は、欠陥修正装置1の加工ヘッド5の内部構造を説明するための概略構成図である。
図3A及び図3Bは、欠陥修正装置1の光ファイバ8及びモードスクランブラ11,12を説明するための概略側面図及び概略正面図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram for explaining the internal structure of the machining head 5 of the defect correcting apparatus 1.
3A and 3B are a schematic side view and a schematic front view for explaining the optical fiber 8 and the mode scramblers 11 and 12 of the defect correcting device 1.

欠陥修正装置1は、例えば、液晶ディスプレイ(LCD)等のFPDの製造工程におけるフォトリソグラフィ処理工程で回路パターンが形成されたガラス基板Aに、配線部分のショート、フォトレジストのはみ出し等の欠陥が検出された場合に、レーザ光により欠陥を除去するといったリペア加工等に用いられる。   For example, the defect correction apparatus 1 detects defects such as a short circuit of a wiring portion or a protrusion of a photoresist on a glass substrate A on which a circuit pattern is formed in a photolithography process in a manufacturing process of an FPD such as a liquid crystal display (LCD). In such a case, it is used for repair processing such as removing defects with laser light.

欠陥修正装置1は、図1A及び図1Bに示されるように、基板Aを水平な平面状態を保ったまま浮上させる浮上ステージ2と、この浮上ステージ2の側方において基板Aの一側縁部を吸着保持してX方向に搬送する吸着搬送ステージ3と、浮上ステージ2を挟んで基板の搬送方向と直交するY方向に掛け渡される門型のガントリ(移動機構)4と、このガントリ4の水平ビーム20に沿ってY方向に一体に移動する加工ヘッド5及びレーザユニット(レーザ電源6、レーザ光源7、光ファイバ8及び2つのモードスクランブラ11,12)と、を備えている。   As shown in FIG. 1A and FIG. 1B, the defect correction apparatus 1 includes a levitation stage 2 that levitates the substrate A while maintaining a horizontal plane state, and one side edge of the substrate A at the side of the levitation stage 2. A suction transfer stage 3 that holds and holds the substrate in the X direction, a portal gantry (moving mechanism) 4 that spans the floating stage 2 in the Y direction perpendicular to the substrate transfer direction, and the gantry 4 A machining head 5 and a laser unit (laser power source 6, laser light source 7, optical fiber 8, and two mode scramblers 11 and 12) that integrally move in the Y direction along the horizontal beam 20 are provided.

ガントリ4は、加工ヘッド5を取り付けるヘッド取付部18と、レーザ電源6およびレーザ光源7を取り付けるレーザユニット取付部19を水平ビーム20に沿って移動させる移動機構を備えている。ヘッド取付部18は、ガントリ4を構成する水平ビーム20の側方に片持ち梁状に、且つ、図示しないリニアガイドレール及びリニアモータによりY方向に移動可能に設けられている。また、ヘッド取付部18には、対物レンズ9を鉛直下方に向けて加工ヘッド5が取り付けられている。   The gantry 4 includes a moving mechanism that moves along a horizontal beam 20 a head mounting portion 18 to which the machining head 5 is mounted and a laser unit mounting portion 19 to which the laser power source 6 and the laser light source 7 are mounted. The head mounting portion 18 is provided in a cantilever shape on the side of the horizontal beam 20 constituting the gantry 4 and is movable in the Y direction by a linear guide rail and a linear motor (not shown). The processing head 5 is attached to the head attachment portion 18 with the objective lens 9 facing vertically downward.

レーザユニット取付部19は、水平ビーム20の上面に設けられたレール21に沿ってY方向にスライド可能に支持されたスライダであり、水平ビーム20の鉛直上方に、比較的重量の大きなレーザ電源6およびレーザ光源7を配置するようになっている。   The laser unit mounting portion 19 is a slider supported so as to be slidable in the Y direction along a rail 21 provided on the upper surface of the horizontal beam 20. A laser power source 6 having a relatively heavy weight is disposed vertically above the horizontal beam 20. In addition, a laser light source 7 is arranged.

これらヘッド取付部18およびレーザユニット取付部19は、相互に固定されることにより一体的にY方向に移動させられるようになっている。
欠陥修正装置1を用いてガラス基板Aの後述する顕微鏡検査およびレーザ加工を行うには、図示しない搬送ロボット等によって基板Aを浮上ステージ2上に載置して浮上させた状態で、基板整列機構23によって位置決めする。位置決め後、吸着搬送ステージ3を上昇させて吸着部3aによってガラス基板Aを吸着し、吸着搬送ステージ3のリニアモータを駆動させ、リニアガイドレールに沿ってX方向に搬送する。
The head mounting portion 18 and the laser unit mounting portion 19 are moved together in the Y direction by being fixed to each other.
In order to perform microscopic inspection and laser processing of the glass substrate A, which will be described later, using the defect correction apparatus 1, the substrate alignment mechanism is placed in a state where the substrate A is placed on the floating stage 2 and floated by a transfer robot (not shown). Position by 23. After the positioning, the suction conveyance stage 3 is raised, the glass substrate A is sucked by the suction portion 3a, the linear motor of the suction conveyance stage 3 is driven, and is transported in the X direction along the linear guide rail.

FPD製造ラインに配置されたパターン検査装置等により特定されたガラス基板Aの欠陥位置情報により、加工ヘッド5をY方向に、吸着搬送ステージ3をX方向に移動させて、後述する顕微鏡検査やレーザ加工を行うことにより、ガラス基板Aのほぼ全面にわたって顕微鏡検査およびレーザ加工を施すことができる。   The processing head 5 is moved in the Y direction and the suction conveyance stage 3 is moved in the X direction based on the defect position information of the glass substrate A specified by the pattern inspection apparatus or the like arranged on the FPD production line, and a microscopic inspection or laser to be described later. By performing the processing, it is possible to perform microscopic inspection and laser processing over almost the entire surface of the glass substrate A.

ここで、光ファイバ8は、入射側端面8aがレーザ光源7に、出射側端面8bが加工ヘッド5の投影レンズ(投影光学系)41が配置された入射ポート側に、それぞれ接続されている。   Here, in the optical fiber 8, the incident side end face 8a is connected to the laser light source 7, and the output side end face 8b is connected to the incident port side where the projection lens (projection optical system) 41 of the processing head 5 is arranged.

光ファイバ8には、図3A及び図3Bに示すように、2つのモードスクランブラ11,12が配置されると共に、出射側端面8bに向かって一直線状に延びる直線部8cが形成されている。   As shown in FIGS. 3A and 3B, the optical fiber 8 is provided with two mode scramblers 11 and 12 and a linear portion 8c extending linearly toward the emission-side end face 8b.

入射側のモードスクランブラ11は、Y軸方向に延び先端で光ファイバ8を押圧する3本のネジ11a,11b,11cを有する。中央のネジ11bはX軸の負方向に光ファイバ8を押圧し、両端のネジ11a,11cは、X軸の正方向に光ファイバ8を押圧する。これにより、入射側端面8aからY軸方向に延びる光ファイバ8は、XY平面においてX軸方向に蛇行する。   The incident-side mode scrambler 11 has three screws 11a, 11b, and 11c that extend in the Y-axis direction and press the optical fiber 8 at the tip. The central screw 11b presses the optical fiber 8 in the negative direction of the X axis, and the screws 11a and 11c at both ends press the optical fiber 8 in the positive direction of the X axis. Thereby, the optical fiber 8 extending in the Y axis direction from the incident side end face 8a meanders in the X axis direction on the XY plane.

また、出射側のモードスクランブラ12は、Z軸方向に延び先端で光ファイバ8を押圧する3本のネジ12a,12b,12cを有する。中央のネジ12bはZ軸の正方向に光ファイバ8を押圧し、両端のネジ12a,12cは、Z軸の負方向に光ファイバ8を押圧する。これにより、Y軸方向に延びる光ファイバ8がYZ平面においてZ軸方向に蛇行する。   The output-side mode scrambler 12 has three screws 12a, 12b, and 12c that extend in the Z-axis direction and press the optical fiber 8 at the tip. The central screw 12b presses the optical fiber 8 in the positive direction of the Z axis, and the screws 12a and 12c at both ends press the optical fiber 8 in the negative direction of the Z axis. Thereby, the optical fiber 8 extending in the Y-axis direction meanders in the Z-axis direction on the YZ plane.

なお、モードスクランブラ11,12の各ネジは、例えば、モードスクランブラ11,12の図示しない筐体等に形成したネジ孔に螺合することで、光ファイバの押圧量を調整可能となっている。   Each screw of the mode scramblers 11 and 12 can be adjusted by, for example, screwing into a screw hole formed in a housing or the like (not shown) of the mode scramblers 11 and 12. Yes.

上述のように、本実施の形態では、入射側のモードスクランブラ11と出射側のモードスクランブラ12とは、互いに直交する方向(X軸方向とZ軸方向)に光ファイバ8を蛇行させている。   As described above, in the present embodiment, the incident-side mode scrambler 11 and the emitting-side mode scrambler 12 meander the optical fiber 8 in directions perpendicular to each other (X-axis direction and Z-axis direction). Yes.

ここで、各モードスクランブラ11,12により光ファイバ8を蛇行させて光ファイバ8に曲げ応力を付与したことで、マルチモード光ファイバである光ファイバ8に入射したレーザ光の高次モードを除去して安定したモード分布を得ることができ、したがって、均一な強度分布を有するレーザ光を後述する加工ヘッド5により基板Aに照射することができる。   Here, the optical fiber 8 is meandered by the mode scramblers 11 and 12 to apply a bending stress to the optical fiber 8, thereby removing higher-order modes of the laser light incident on the optical fiber 8 which is a multimode optical fiber. Thus, a stable mode distribution can be obtained. Therefore, the substrate A can be irradiated with a laser beam having a uniform intensity distribution by the processing head 5 described later.

更には、本実施の形態では、2つのモードスクランブラ11,12が互いに直交する方向に光ファイバ8を蛇行させているため、2つのモードスクランブラが同一方向に光ファイバを蛇行させた場合よりも確実に高次モードを除去することができ、したがって、より一層安定したモード分布を得ることができる。   Furthermore, in this embodiment, since the two mode scramblers 11 and 12 meander the optical fiber 8 in a direction orthogonal to each other, the two mode scramblers meander the optical fiber in the same direction. However, it is possible to reliably remove higher-order modes, and thus a more stable mode distribution can be obtained.

また、本実施の形態では、光ファイバ8を蛇行させるモードスクランブラ11,12を用いているため、ファイバを旋回させるモードスクランブラを用いるよりも、特に光ファイバ8を太くした場合に、より安定したモード分布を得ることができる。   In the present embodiment, since the mode scramblers 11 and 12 that meander the optical fiber 8 are used, it is more stable especially when the optical fiber 8 is thicker than the mode scrambler that turns the fiber. Mode distribution can be obtained.

なお、本実施の形態では、2つのモードスクランブラ11,12が互いに直交する方向に光ファイバ8を蛇行させるため、非常に安定したモード分布を得ることができるが、複
数のモードスクランブラのうちの2つのモードスクランブラが光ファイバ8を蛇行させる方向が互いに異なっていれば、それらのなす角度が垂直に近いことが望ましくはあるが、同一方向に蛇行させるよりも高次モードを有効に除去することは可能である。
In the present embodiment, since the two mode scramblers 11 and 12 meander the optical fiber 8 in a direction orthogonal to each other, a very stable mode distribution can be obtained. Of the plurality of mode scramblers, If the directions in which the two mode scramblers meander the optical fiber 8 are different from each other, it is desirable that the angle between them is close to the vertical, but higher order modes are effectively removed than meandering in the same direction. It is possible to do.

また、本実施の形態では、モードスクランブラ11,12のネジにより光ファイバ8を蛇行させるが、光ファイバ8を蛇行させることができれば、例えば、ピン、突起、或いは、光ファイバ8が挿入される孔や溝が蛇行して形成された部材、などを用いることができるが、光ファイバ8を損傷させにくいものを用いるのが望ましい。   Further, in this embodiment, the optical fiber 8 is meandered by the screws of the mode scramblers 11 and 12, but if the optical fiber 8 can be meandered, for example, a pin, a protrusion, or the optical fiber 8 is inserted. A member formed by meandering holes and grooves can be used, but it is desirable to use a member that is difficult to damage the optical fiber 8.

また、本実施の形態では、各モードスクランブラ11,12が3本のネジを用いる例について説明したが、2本或いは、4本以上のネジを用いてもよい。
本実施の形態の直線部8cは、光ファイバ8を固定する固定部材により強制的に形成するのではなく、モードスクランブラ11,12と加工ヘッド5との位置関係に起因して一直線状に延びるように形成されているが、例えば、光ファイバ8を固定部材によって固定することで直線部8cを強制的に形成してもよい。
Further, in the present embodiment, an example in which each mode scrambler 11 and 12 uses three screws has been described, but two or four or more screws may be used.
The straight portion 8c of the present embodiment is not forcibly formed by a fixing member that fixes the optical fiber 8, but extends linearly due to the positional relationship between the mode scramblers 11 and 12 and the processing head 5. For example, the linear portion 8c may be forcibly formed by fixing the optical fiber 8 with a fixing member.

なお、直線部8cの長さLは、レーザ光の強度分布を均一となるようにするには、好ましくは50mm以上、より好ましくは100mm以上とするとよい。
また、本実施の形態では、ヘッド取付部18が駆動されると、ヘッド取付部18およびレーザユニット取付部19が一体的にY方向に駆動される結果、加工ヘッド5とレーザユニット(レーザ電源6、レーザ光源7、光ファイバ8及びモードスクランブラ11,12)が一体的にY方向に移動させられる。すなわち、加工ヘッド5が移動させられても、光ファイバ8が変形することがなく、一定の形態を維持したまま移動させられるようになっている。
The length L of the straight portion 8c is preferably 50 mm or more, more preferably 100 mm or more in order to make the intensity distribution of the laser light uniform.
In the present embodiment, when the head mounting portion 18 is driven, the head mounting portion 18 and the laser unit mounting portion 19 are integrally driven in the Y direction. As a result, the machining head 5 and the laser unit (laser power source 6) are driven. The laser light source 7, the optical fiber 8, and the mode scramblers 11, 12) are integrally moved in the Y direction. That is, even if the machining head 5 is moved, the optical fiber 8 is not deformed and can be moved while maintaining a certain form.

そのため、加工ヘッド5が移動しても、レーザ光源7、光ファイバ8及びモードスクランブラ11,12が一緒に移動するので、光ファイバ8が変形することがなく、光ファイバ8内の反射条件が常に一定に保たれ、基板Aに照射されるレーザ光の強度分布を安定させることができる。その結果、常に均一な強度分布のレーザ光を照射して、高精度のレーザ加工を継続することができる。   Therefore, even if the processing head 5 moves, the laser light source 7, the optical fiber 8, and the mode scramblers 11 and 12 move together, so that the optical fiber 8 is not deformed, and the reflection condition in the optical fiber 8 is It is always kept constant, and the intensity distribution of the laser light applied to the substrate A can be stabilized. As a result, high-precision laser processing can be continued by always irradiating laser light with a uniform intensity distribution.

また、光ファイバ8を変形させずに済むので、繰り返し使用により損傷し易い光ファイバ8の劣化を防止することもできる。
また、本実施の形態においては、比較的軽量の加工ヘッド5のみを片持ち梁状のヘッド取付部18に取り付け、比較的重量の大きなレーザ電源6およびレーザ光源7を門型の水平ビーム20の鉛直上方に配置することとしたので、加工ヘッド5の移動時に、ヘッド取付部18に加わる負荷を最小限に抑えることができる。したがって、加工ヘッド5の高精度の移動を可能にして、精度よくレーザ加工を行うことができる。
Further, since it is not necessary to deform the optical fiber 8, it is possible to prevent the optical fiber 8 that is easily damaged by repeated use from being deteriorated.
Further, in the present embodiment, only the relatively light processing head 5 is attached to the cantilevered head mounting portion 18, and the relatively heavy laser power source 6 and laser light source 7 are connected to the gate-shaped horizontal beam 20. Since it is arranged vertically above, the load applied to the head mounting portion 18 when the machining head 5 is moved can be minimized. Therefore, the machining head 5 can be moved with high accuracy, and laser machining can be performed with high accuracy.

また、本実施の形態においては、ガラス基板Aを浮上ステージ2によって浮上させ、吸着搬送ステージ3によってX方向に移動させ、加工ヘッド5をガントリ4によってY方向に移動させることで基板Aのほぼ全面にわたる顕微鏡検査とレーザ加工とを行うこととしたが、これに代えて、基板Aを固定し、ガントリ4をX方向に移動に移動させ、加工ヘッド5及びレーザユニットをガントリ4の水平ビーム20に沿ってY方向に移動させることにしてもよい。   In the present embodiment, the glass substrate A is levitated by the levitation stage 2, moved in the X direction by the suction conveyance stage 3, and the processing head 5 is moved in the Y direction by the gantry 4, thereby almost the entire surface of the substrate A. However, instead of this, the substrate A is fixed, the gantry 4 is moved to move in the X direction, and the processing head 5 and the laser unit are moved to the horizontal beam 20 of the gantry 4. You may decide to move in the Y direction along.

以下、特に図2を参照しながら、欠陥修正装置1の加工ヘッド5の内部構成等について説明する。
レーザ光源7は、リペア加工用の光源である。本実施の形態では、図3A及び図3Bに示すように、レーザ発振器7a、結合レンズ7b、ハーフミラー7c及びLED光源7e
有する構成を採用している。
Hereinafter, the internal configuration of the machining head 5 of the defect correction apparatus 1 will be described with particular reference to FIG.
The laser light source 7 is a light source for repair processing. In this embodiment, as shown in FIGS. 3A and 3B, a laser oscillator 7a, a coupling lens 7b, a half mirror 7c, and an LED light source 7e.
The structure which has is adopted.

レーザ発振器7aは、ガラス基板A上の欠陥を除去できるように、波長、出力が設定されたレーザ光を発振するもので、例えば、パルス発振可能なYAGレーザなどを好適に採用することができる。発振波長は、リペア対象に応じて複数の発振波長を切り換えられるようになっている。   The laser oscillator 7a oscillates a laser beam whose wavelength and output are set so that defects on the glass substrate A can be removed. For example, a YAG laser capable of pulse oscillation can be preferably used. The oscillation wavelength can be switched among a plurality of oscillation wavelengths according to the repair target.

レーザ発振器7aは、制御ユニット22に電気的に接続され、制御ユニット22からの制御信号に応じて発振が制御されるようになっている。
ハーフミラー7cは、レーザ発振器7aによりX軸負方向に発振されるレーザ光を結合レンズ7bに向けてY軸負方向に反射する。また、ハーフミラー7cは、LED光源7eから結合レンズ7bに向けてY軸負方向に出射される光を透過する。
The laser oscillator 7 a is electrically connected to the control unit 22, and oscillation is controlled according to a control signal from the control unit 22.
The half mirror 7c reflects the laser beam oscillated by the laser oscillator 7a in the negative X-axis direction toward the coupling lens 7b in the negative Y-axis direction. The half mirror 7c transmits light emitted in the Y-axis negative direction from the LED light source 7e toward the coupling lens 7b.

ハーフミラー7cがレーザ発振器7aにより発振されるレーザ光を結合レンズ7bに向けて反射するため、レーザ発振器7aの発振方向を装置構成に合わせて決定することができるため、設計の自由度が増すと共に省スペース化を図ることができる。   Since the half mirror 7c reflects the laser light oscillated by the laser oscillator 7a toward the coupling lens 7b, the oscillation direction of the laser oscillator 7a can be determined in accordance with the apparatus configuration, and the degree of freedom of design increases. Space can be saved.

結合レンズ7bは、レーザ発振器7aから出射されるレーザ光をファイバ3に光結合するための光学素子である。
光ファイバ8は、結合レンズ7bにより、ファイバ端面8aに光結合されたレーザ光を内部で伝搬させて加工ヘッド5内に導き、レーザ光60として、ファイバ端面8bから出射するものである。レーザ光60は、光ファイバ8の内部を伝搬してから出射されるので、レーザ発振器7aのレーザ光がガウシアン分布であっても、光量分布が均一化された拡散光となっている。
The coupling lens 7 b is an optical element for optically coupling the laser beam emitted from the laser oscillator 7 a to the fiber 3.
The optical fiber 8 propagates the laser beam optically coupled to the fiber end surface 8a by the coupling lens 7b, guides it into the processing head 5, and emits the laser beam 60 from the fiber end surface 8b. Since the laser light 60 is emitted after propagating through the optical fiber 8, even if the laser light of the laser oscillator 7a has a Gaussian distribution, it is a diffused light with a uniform light amount distribution.

なお、図2は模式図のため、レーザ発振器7aから出射されるレーザ光の光軸がZ方向に沿っているかのように図示しているが、本実施の形態においては図3Bに示すようにX軸方向に沿っている。但し、レーザ発振器7aの配置位置・姿勢は、これらに限定されるものではない。   2 is a schematic diagram, the optical axis of the laser light emitted from the laser oscillator 7a is shown as if it is along the Z direction. In this embodiment, as shown in FIG. 3B. Along the X-axis direction. However, the arrangement position and orientation of the laser oscillator 7a are not limited to these.

また、レーザ光の均一化手段として、上述のモードスクランブラ11,12に加えて、他の光学素子、例えば、フライアイレンズ、回折素子、非球面レンズや、カレイド型ロッドを用いたものなどの種々の構成のホモジナイザなどを用いた構成としてもよい。   Further, in addition to the above-described mode scramblers 11 and 12, as laser beam uniformizing means, other optical elements such as a fly-eye lens, a diffractive element, an aspherical lens, and a kaleido type rod are used. It is good also as a structure using the homogenizer etc. of various structures.

加工ヘッド5は、その筐体5a内に、投影レンズ(投影光学系)41、空間変調素子42、照射光学系43、観察用光源44、観察用結像レンズ45、撮像素子46などの光学素子やデバイスを保持している。   The processing head 5 includes optical elements such as a projection lens (projection optical system) 41, a spatial modulation element 42, an irradiation optical system 43, an observation light source 44, an observation imaging lens 45, and an imaging element 46 in a housing 5a. And holding the device.

投影レンズ41は、加工ヘッド5の筐体5aに固定された光ファイバ8のファイバ端面8bと空間変調素子42の基準面とを共役な関係とする配置とされ、ファイバ端面8bの像を空間変調素子42の変調領域全体を照射できるように投影倍率が設定されたレンズまたはレンズ群である。   The projection lens 41 has an arrangement in which the fiber end surface 8b of the optical fiber 8 fixed to the housing 5a of the processing head 5 and the reference surface of the spatial modulation element 42 have a conjugate relationship, and spatially modulates the image of the fiber end surface 8b. It is a lens or a lens group in which the projection magnification is set so that the entire modulation region of the element 42 can be irradiated.

図2では、投影レンズ41の光軸P1は、ZY平面において、Y軸正方向から負方向に向かうにつれて、Z軸正方向から負方向に向かう斜め方向に設定されている。
空間変調素子42は、投影レンズ41から投射されたレーザ光61を空間変調するもので、微小ミラーアレイであるDMD(Digital Mirror Device)からなり、揺動制御可能な複数の微小ミラーが矩形状の変調領域内に2次元的に等ピッチで配列されている。
In FIG. 2, the optical axis P <b> 1 of the projection lens 41 is set in an oblique direction from the Z-axis positive direction to the negative direction as it goes from the Y-axis positive direction to the negative direction on the ZY plane.
The spatial modulation element 42 spatially modulates the laser light 61 projected from the projection lens 41, and is composed of a DMD (Digital Mirror Device) that is a micromirror array, and a plurality of micromirrors that can be controlled to swing are rectangular. Two-dimensionally arranged in the modulation region at an equal pitch.

本実施の形態では、レーザ光61の光路上にミラー47を配置して、レーザ光61の光
軸P1を光軸P2の方向に反射している。そして、レーザ光61が、空間変調素子42の基準面の法線に沿う光軸P3に沿ってオン光62として反射されるように、空間変調素子42の基準面の法線に対して所望の角度で入射する配置としている。なお、光軸P1、P2と、オン光62の光軸P3とは、同一平面上に位置する。
In the present embodiment, a mirror 47 is disposed on the optical path of the laser beam 61, and the optical axis P1 of the laser beam 61 is reflected in the direction of the optical axis P2. Then, the laser light 61 is reflected with respect to the normal of the reference surface of the spatial modulation element 42 so that the laser light 61 is reflected as the ON light 62 along the optical axis P3 along the normal of the reference surface of the spatial modulation element 42. It is arranged to enter at an angle. The optical axes P1 and P2 and the optical axis P3 of the on light 62 are located on the same plane.

照射光学系43は、空間変調素子42で空間変調され一定方向に向けて反射されたオン光62による像を、ガラス基板A上に所望の倍率で結像する結像光学系を構成する光学素子群であり、空間変調素子42側に結像レンズ48が、ガラス基板A側に対物レンズ9がそれぞれ配置されている。   The irradiation optical system 43 is an optical element that forms an imaging optical system that forms an image on the glass substrate A with a desired magnification by the ON light 62 that is spatially modulated by the spatial modulation element 42 and reflected in a certain direction. The imaging lens 48 is disposed on the spatial modulation element 42 side, and the objective lens 9 is disposed on the glass substrate A side.

対物レンズ9は、ガラス基板Aのレジストパターンを加工するための紫外用対物レンズ等の複数個の対物レンズからなる。これら複数個の対物レンズは、レボルバ機構によって切り替え可能に保持され、互いに倍率が異なる。そのため、レボルバ機構を回転させて対物レンズ9を切り替えることで、照射光学系8の倍率を変更できるようになっている。以下では、特に断らない限り、対物レンズ9は、照射光学系43を構成するために選択されたレンズを指すものとする。   The objective lens 9 is composed of a plurality of objective lenses such as an ultraviolet objective lens for processing the resist pattern of the glass substrate A. The plurality of objective lenses are switchably held by a revolver mechanism, and have different magnifications. Therefore, the magnification of the irradiation optical system 8 can be changed by switching the objective lens 9 by rotating the revolver mechanism. Hereinafter, unless otherwise specified, the objective lens 9 refers to a lens selected to constitute the irradiation optical system 43.

また本実施の形態では、結像レンズ48の光軸P4は、Y軸方向に平行に配置され、対物レンズ9の光軸P5は、Z軸方向に平行に配置されている。
このため、空間変調素子42と結像レンズ48との間には、オン光62を反射して、光軸P4に沿って入射させるミラー49が設けられている。そして、結像レンズ48と対物レンズ9との間には、結像レンズ48を透過した光を反射して、光軸P5に沿って入射させるハーフミラー51が設けられている。
In the present embodiment, the optical axis P4 of the imaging lens 48 is arranged in parallel to the Y-axis direction, and the optical axis P5 of the objective lens 9 is arranged in parallel to the Z-axis direction.
Therefore, a mirror 49 is provided between the spatial modulation element 42 and the imaging lens 48 to reflect the ON light 62 and make it incident along the optical axis P4. Between the imaging lens 48 and the objective lens 9, there is provided a half mirror 51 that reflects the light transmitted through the imaging lens 48 and makes it incident along the optical axis P5.

このようにして、光軸P4、P5は、光軸P1、P2、P3と同一平面上に位置している。すなわち、レーザ光源7aから空間変調素子42のオン状態の微小ミラーで反射し照射光学系43を経て基板Aに至る第1の光軸を構成する光軸P1〜P5は、すべて同一平面上に位置している。   Thus, the optical axes P4 and P5 are located on the same plane as the optical axes P1, P2, and P3. That is, the optical axes P1 to P5 constituting the first optical axis that is reflected from the laser light source 7a by the on-state micromirror of the spatial modulation element 42 and reaches the substrate A through the irradiation optical system 43 are all located on the same plane. doing.

また、ミラー49及びハーフミラー51は、いずれもX軸回りにのみ傾斜されている。
観察用光源44は、ガラス基板A上の加工可能領域内を照明するための観察用光70を発生する光源であり、ハーフミラー51と対物レンズ9との間の光路の側方に設けられている。
Further, both the mirror 49 and the half mirror 51 are inclined only around the X axis.
The observation light source 44 is a light source that generates observation light 70 for illuminating the processable area on the glass substrate A, and is provided on the side of the optical path between the half mirror 51 and the objective lens 9. Yes.

ハーフミラー51と対物レンズ9との間の光路上において観察用光源44に対向する位置には、ハーフミラー51で反射されたオン光62を透過し、観察用光70を対物レンズ9に向けて反射するハーフミラー52が設けられている。そして、観察用光源44とハーフミラー52との間には、観察用光70を適宜径の照明光束に集光する集光レンズ53が設けられている。なお、集光レンズ53の光軸P6は、第1の光軸が位置する平面上にあってもよいし、交差する位置にあってもよい。   On the optical path between the half mirror 51 and the objective lens 9, the ON light 62 reflected by the half mirror 51 is transmitted to a position facing the observation light source 44, and the observation light 70 is directed toward the objective lens 9. A reflecting half mirror 52 is provided. A condensing lens 53 is provided between the observation light source 44 and the half mirror 52 to collect the observation light 70 into an illumination light beam having an appropriate diameter. Note that the optical axis P6 of the condensing lens 53 may be on a plane on which the first optical axis is located or may be at a crossing position.

観察用光源44としては、例えば、可視光を発生するキセノンランプやLEDなど適宜の光源を採用することができる。なお、オートフォーカス用光源を有するオートフォーカスユニットを設けて、対物レンズ9の前側焦点位置を制御するようにしてもよい。   As the observation light source 44, for example, an appropriate light source such as a xenon lamp or LED that generates visible light can be used. An autofocus unit having an autofocus light source may be provided to control the front focal position of the objective lens 9.

観察用結像レンズ(撮像光学系)45は、ハーフミラー51の上方側に、対物レンズ9の光軸P5と同軸に配置され、観察用光70によって照明されたガラス基板Aから反射され、対物レンズ9によって集光された光を撮像素子(撮像部)46の撮像面上に結像するための光学素子である。このため、光軸P5は、基板Aから撮像光学系を経て撮像部に至る第2の光軸を兼ねている。なお、撮像素子46は、撮像面上に結像された画像を光電変
換するもので、例えば、CCDなどからなる。
The observation imaging lens (imaging optical system) 45 is disposed on the upper side of the half mirror 51 and coaxially with the optical axis P5 of the objective lens 9, and is reflected from the glass substrate A illuminated by the observation light 70 to be objective. This is an optical element for forming an image of the light collected by the lens 9 on the imaging surface of the imaging element (imaging unit) 46. For this reason, the optical axis P5 also serves as the second optical axis from the substrate A through the imaging optical system to the imaging unit. Note that the image sensor 46 photoelectrically converts an image formed on the imaging surface, and includes, for example, a CCD.

制御ユニット22の装置構成は、本実施の形態では、CPU、メモリ、入出力部、外部記憶装置などで構成されたコンピュータと適宜のハードウェアとの組合せからなる。制御ユニット22は、例えば、操作パネル、キーボード、マウスなどの適宜の操作入力手段を備えるユーザインタフェースからの操作入力に基づいて、欠陥修正装置1の動作を制御するものであり、レーザ光源7、空間変調素子42、撮像素子46に電気的に接続され、それぞれの動作や動作タイミングを制御できるようになっている。   In the present embodiment, the control unit 22 is configured by a combination of a computer including a CPU, a memory, an input / output unit, an external storage device, and the like and appropriate hardware. The control unit 22 controls the operation of the defect correction apparatus 1 based on an operation input from a user interface including appropriate operation input means such as an operation panel, a keyboard, and a mouse. It is electrically connected to the modulation element 42 and the image pickup element 46 so that the operation and operation timing of each can be controlled.

制御ユニット22がレーザ発振器7aに対して、レーザ光を発振させる制御信号を送出し、基板Aに応じて予め選択された照射条件に基づいて、レーザ発振器7aからレーザ光を発振させる。レーザ光の照射条件としては、例えば、波長、光出力、発振パルス幅などが挙げられる。   The control unit 22 sends a control signal for oscillating the laser beam to the laser oscillator 7a, and oscillates the laser beam from the laser oscillator 7a based on the irradiation condition preselected according to the substrate A. Examples of laser light irradiation conditions include wavelength, optical output, oscillation pulse width, and the like.

発振されたレーザ光は、結合レンズ7bで光ファイバ8のファイバ端面8aに光結合され、上述のモードスクランブラ11,12及び直線部8cによりファイバ端面8bから光強度分布が均一化された発散光であるレーザ光60が出射される。   The oscillated laser light is optically coupled to the fiber end surface 8a of the optical fiber 8 by the coupling lens 7b, and the divergent light whose light intensity distribution is made uniform from the fiber end surface 8b by the above-described mode scramblers 11 and 12 and the linear portion 8c. A laser beam 60 is emitted.

なお、本実施の形態では、FPD製造工程で製造されるガラス基板Aの欠陥修正を行う欠陥修正装置1について説明したが、欠陥修正装置1は、半導体ウエハ基板の欠陥修正を行うものとしても用いることができる。但し、欠陥修正装置1を半導体ウエハ基板の欠陥修正に用いる場合には、浮上ステージ2及び吸着搬送ステージ3に代えて、半導体ウエハ基板に適合する載置台等を用意する必要がある。   In the present embodiment, the defect correction apparatus 1 that corrects a defect of the glass substrate A manufactured in the FPD manufacturing process has been described. However, the defect correction apparatus 1 is also used to correct a defect of a semiconductor wafer substrate. be able to. However, when the defect correcting apparatus 1 is used for correcting a defect of a semiconductor wafer substrate, it is necessary to prepare a mounting table or the like suitable for the semiconductor wafer substrate in place of the floating stage 2 and the suction transfer stage 3.

図4A及び図4Bは、本発明の一実施の形態の変形例に係る欠陥修正装置のレーザ光源17を説明するための概略側面図である。
なお、図4A及び図4Bにおいては、結合レンズ17b、ハーフミラー17c及びミラー17dの可動方向を括弧書きで符号に付している。
4A and 4B are schematic side views for explaining the laser light source 17 of the defect correction apparatus according to the modification of the embodiment of the present invention.
In FIGS. 4A and 4B, the movable directions of the coupling lens 17b, the half mirror 17c, and the mirror 17d are denoted by reference numerals in parentheses.

本変形例のレーザ光源17は、レーザ発振器17aと、結合レンズ17bと、反射部材としてのハーフミラー17c及びミラー17dとを有する。上述の実施の形態のレーザ光源7と相違するのは、主に、ミラー17dを配置した点、並びに、結合レンズ17b、ハーフミラー17c及びミラー17dを可動式にした点であり、上記一実施の形態と同様に、光ファイバ8にはモードスクランブラ11,12が配置され且つ直線部8cが形成されている。   The laser light source 17 of this modification includes a laser oscillator 17a, a coupling lens 17b, and a half mirror 17c and a mirror 17d as reflecting members. The difference from the laser light source 7 of the above-described embodiment is mainly that the mirror 17d is disposed and that the coupling lens 17b, the half mirror 17c, and the mirror 17d are movable. Similar to the embodiment, mode scramblers 11 and 12 are arranged in the optical fiber 8 and a straight portion 8c is formed.

図4Bに示すようにレーザ発振器17aからX軸負方向に出射されるレーザ光は、図4Aに示すようにミラー17dによりZ軸正方向に反射され、更に、ハーフミラー17cによりY軸負方向に反射され、結合レンズ17bに入射する。なお、ハーフミラー17cは、LED光源17eから結合レンズ7bに向けてY軸負方向に出射される光を透過する。   As shown in FIG. 4B, the laser beam emitted from the laser oscillator 17a in the negative X-axis direction is reflected in the positive Z-axis direction by the mirror 17d as shown in FIG. 4A, and further, in the negative Y-axis direction by the half mirror 17c. It is reflected and enters the coupling lens 17b. The half mirror 17c transmits light emitted from the LED light source 17e toward the coupling lens 7b in the negative Y-axis direction.

ところで、図2に示す空間変調素子42の微小ミラーは、等ピッチに配列されて同一方向に傾斜するとレーザ光P2に対して回折格子として作用する。ミラー47により反射するレーザ光61は、その波長と、空間変調素子42の微小ミラーの配列ピッチとに応じて回折される。   Incidentally, when the micromirrors of the spatial modulation element 42 shown in FIG. 2 are arranged at an equal pitch and tilted in the same direction, they act as a diffraction grating on the laser beam P2. The laser beam 61 reflected by the mirror 47 is diffracted according to the wavelength and the arrangement pitch of the micromirrors of the spatial modulation element 42.

そのため、投影光学系41、空間変調素子42及びミラー47の傾きを調整して回折光を結像レンズ48の光軸P4に導光することで、回折効率の高いレーザ光を得ることができる。   Therefore, by adjusting the tilts of the projection optical system 41, the spatial modulation element 42, and the mirror 47 and guiding the diffracted light to the optical axis P4 of the imaging lens 48, laser light with high diffraction efficiency can be obtained.

この点、本変形例の図4A及び図4Bに示す光ファイバ8は、上記一実施の形態の図3A及び図3Bと同様に、レーザ光源7から投影光学系41にかけて、モードスクランブラ11,12によって蛇行させられ且つ直線部8cが形成される以外に、余分な弛みを残した引き回しはしていない。また、レーザ光源7ごと光ファイバ8を投影光学系41の傾きに合わせて移動させるのは困難であり、したがって、光ファイバ8に接続される投影光学系41を自在に傾けることはできない。   In this respect, the optical fiber 8 shown in FIGS. 4A and 4B of this modification is similar to the optical fiber 8 shown in FIGS. 3A and 3B of the above-described embodiment from the laser light source 7 to the projection optical system 41. In addition to the meandering and the formation of the straight portion 8c, no extra slack is drawn. Further, it is difficult to move the optical fiber 8 together with the laser light source 7 in accordance with the inclination of the projection optical system 41, and therefore the projection optical system 41 connected to the optical fiber 8 cannot be freely tilted.

そこで、本変形例の結合レンズ17bは、ハーフミラー17c、ミラー17d及びレーザ発振器17aと独立してY軸方向(光軸方向)に移動可能、言い換えると、ハーフミラー17c、ミラー17d及びレーザ発振器17aとの相対位置を調整可能としてあり、投影光学系41の傾き調整に伴い光ファイバ8の入射側端面8aがY軸方向へ移動するのを許容することができる。   Therefore, the coupling lens 17b of this modification can be moved in the Y-axis direction (optical axis direction) independently of the half mirror 17c, the mirror 17d, and the laser oscillator 17a. In other words, the half mirror 17c, the mirror 17d, and the laser oscillator 17a. Can be adjusted, and the incident-side end face 8a of the optical fiber 8 can be allowed to move in the Y-axis direction as the inclination of the projection optical system 41 is adjusted.

また、結合レンズ17b及びハーフミラー17cは、ミラー17d及びレーザ発振器17aと独立してミラー17dに反射されたレーザ光の光軸方向であるZ軸方向に一体的に移動可能、言い換えると、ミラー17d及びレーザ発振器17aとの相対位置を調整可能としてあり、投影光学系41の傾き調整に伴い光ファイバ8の入射側端面8aがZ軸方向へ移動するのを許容することができる。   Further, the coupling lens 17b and the half mirror 17c can move integrally in the Z-axis direction that is the optical axis direction of the laser light reflected by the mirror 17d independently of the mirror 17d and the laser oscillator 17a, in other words, the mirror 17d. The relative position with respect to the laser oscillator 17a can be adjusted, and the incident-side end face 8a of the optical fiber 8 can be allowed to move in the Z-axis direction as the tilt of the projection optical system 41 is adjusted.

更には、結合レンズ17b、ハーフミラー17c及びミラー17dは、レーザ発振器17aと独立してZ軸方向(レーザ発振器7aにより出射されるレーザ光の光軸方向)に一体的に移動可能、言い換えると、レーザ発振器17aとの相対位置を調整可能としてあり、投影光学系41の傾き調整に伴い光ファイバ8の入射側端面8aがX軸方向へ移動するのを許容することができる。   Furthermore, the coupling lens 17b, the half mirror 17c, and the mirror 17d can be moved integrally in the Z-axis direction (the optical axis direction of the laser beam emitted from the laser oscillator 7a) independently of the laser oscillator 17a. The relative position with respect to the laser oscillator 17a can be adjusted, and the incident side end face 8a of the optical fiber 8 can be allowed to move in the X-axis direction in accordance with the inclination adjustment of the projection optical system 41.

以上のように、本変形例では、結合レンズ17bは、レーザ発振部17aとの相対位置を調整可能に配置されている。また、結合レンズ17b及び反射部材(ハーフミラー17c及びミラー17d)は、レーザ発振部17aとの相対位置を調整可能に配置されている。   As described above, in the present modification, the coupling lens 17b is arranged so that the relative position with the laser oscillation unit 17a can be adjusted. Further, the coupling lens 17b and the reflecting member (half mirror 17c and mirror 17d) are arranged so that the relative position with respect to the laser oscillation unit 17a can be adjusted.

そのため、結合レンズ17b、ハーフミラー17c及びミラー17dをレーザ発振部17aと独立して適宜移動させることで、光ファイバ8の入射側端面8aのXYZ軸の3軸方向への移動が許容される。   Therefore, by appropriately moving the coupling lens 17b, the half mirror 17c, and the mirror 17d independently of the laser oscillation unit 17a, the movement of the incident side end face 8a of the optical fiber 8 in the three axis directions of the XYZ axes is allowed.

よって、本変形例では、光ファイバ8に接続される投影光学系41を自在に傾けることができ、したがって、回折光を結像レンズ48の光軸P4に導光することで、回折効率の高いレーザ光を得ることができる。   Therefore, in this modification, the projection optical system 41 connected to the optical fiber 8 can be freely tilted. Therefore, by guiding the diffracted light to the optical axis P4 of the imaging lens 48, the diffraction efficiency is high. Laser light can be obtained.

本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置を示す平面図である。It is a top view which shows the defect correction apparatus which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置を示す正面図である。It is a front view which shows the defect correction apparatus which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置の加工ヘッドの内部構造を説明するための概略構成図である。It is a schematic block diagram for demonstrating the internal structure of the process head of the defect correction apparatus which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置の光ファイバ及びモードスクランブラを説明するための概略側面図である。It is a schematic side view for demonstrating the optical fiber and mode scrambler of the defect correction apparatus which concern on one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係る欠陥修正装置の光ファイバ及びモードスクランブラを説明するための概略正面図である。It is a schematic front view for demonstrating the optical fiber and mode scrambler of the defect correction apparatus which concern on one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態の変形例に係る欠陥修正装置のレーザ光源を説明するための概略側面図である。It is a schematic side view for demonstrating the laser light source of the defect correction apparatus which concerns on the modification of one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態の変形例に係る欠陥修正装置のレーザ光源を説明するための概略正面図である。It is a schematic front view for demonstrating the laser light source of the defect correction apparatus which concerns on the modification of one embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

A ガラス基板
1 欠陥修正装置
4 ガントリ(移動機構)
5 加工ヘッド
7 レーザ光源
7a レーザ発振器
7b 結合レンズ
7c ハーフミラー
7e LED光源
8 光ファイバ
8a 入射側端面
8b 出射側端面
8c 直線部
10 落射照明光源
11,12 モードスクランブラ
11a〜11c,12a〜12c ネジ
17 レーザ光源
17a レーザ発振器
17b 結合レンズ
17c ハーフミラー
17d ミラー
17e LED光源
41 投影光学系
42 空間変調素子
47 ミラー
A Glass substrate 1 Defect correction device 4 Gantry (movement mechanism)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 5 Processing head 7 Laser light source 7a Laser oscillator 7b Coupled lens 7c Half mirror 7e LED light source 8 Optical fiber 8a Incident side end surface 8b Emission side end surface 8c Straight line part 10 Incident illumination light source 11,12 Mode scramblers 11a-11c, 12a-12c Screw 17 laser light source 17a laser oscillator 17b coupling lens 17c half mirror 17d mirror 17e LED light source 41 projection optical system 42 spatial modulation element 47 mirror

Claims (1)

レーザ光源と、該レーザ光源に接続された光ファイバと、該光ファイバにより導光されたレーザ光を基板に照射する加工ヘッドと、を備える欠陥修正装置において、
前記光ファイバを互いに異なる方向に蛇行させる複数のモードスクランブラと、
前記レーザ光源、前記光ファイバ、前記加工ヘッド、及び、前記複数のモードスクランブラ、を一体的に移動させる移動機構と、
を備え、
前記光ファイバには、前記加工ヘッド側の端部に一直線状に延びる直線部が形成され、
前記レーザ光源は、レーザ光を発振するレーザ発振部と、該レーザ発振部から発振されたレーザ光を前記光ファイバの端部に結合する結合レンズと、前記発振部から発振されるレーザ光を前記結合レンズに反射させる反射部材と、を有し、
前記結合レンズ及び前記反射部材は、前記レーザ発振部との相対位置を調整可能に配置され、
前記結合レンズは、前記反射部材との相対位置を調整可能に配置される、
ことを特徴とする欠陥修正装置。

In a defect correction apparatus comprising: a laser light source; an optical fiber connected to the laser light source; and a processing head that irradiates a substrate with laser light guided by the optical fiber.
A plurality of mode scramblers that meander the optical fibers in different directions;
A moving mechanism for integrally moving the laser light source, the optical fiber, the processing head, and the plurality of mode scramblers;
With
In the optical fiber, a linear portion extending in a straight line is formed at the end on the processing head side ,
The laser light source includes a laser oscillation unit that oscillates a laser beam, a coupling lens that couples the laser beam oscillated from the laser oscillation unit to an end of the optical fiber, and a laser beam oscillated from the oscillation unit. A reflecting member that reflects the coupling lens;
The coupling lens and the reflection member are arranged so that the relative position with the laser oscillation unit can be adjusted,
The coupling lens is disposed so that the relative position with the reflecting member can be adjusted.
A defect correction apparatus characterized by the above.

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