JP5006987B2 - 4環性化合物を含む医薬 - Google Patents

4環性化合物を含む医薬 Download PDF

Info

Publication number
JP5006987B2
JP5006987B2 JP2011253797A JP2011253797A JP5006987B2 JP 5006987 B2 JP5006987 B2 JP 5006987B2 JP 2011253797 A JP2011253797 A JP 2011253797A JP 2011253797 A JP2011253797 A JP 2011253797A JP 5006987 B2 JP5006987 B2 JP 5006987B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxo
dihydro
benzo
carbazole
dimethyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011253797A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012126711A (ja
Inventor
和大 木下
康輔 麻生
紀之 古市
俊也 伊藤
発夫 河田
暢也 石井
洋 坂本
ウーサン ホン
ミンジョン パク
芳幸 小野
泰晴 加藤
賢治 森上
岳 江村
信宏 及川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chugai Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Chugai Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chugai Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Chugai Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP2011253797A priority Critical patent/JP5006987B2/ja
Publication of JP2012126711A publication Critical patent/JP2012126711A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5006987B2 publication Critical patent/JP5006987B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

本発明は、4環性化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を含む医薬、及び前記
化合物を含有する癌、がん転移、うつまたは認知機能障害を含む疾患の予防または治療用
医薬を提供する。
Anaplastic Lymphoma Kinase (ALK) はインスリン受容体ファミリ−に属する受容体型チロシンキナーゼの一つである(Proc Natl Acad Sci USA、第101巻、第13306−13311頁、2004年(以下、文献1)、Nature、第448巻、第561−566頁、2007年)。
ALKの遺伝子異常(転座、点変異および遺伝子増幅)の結果、他の遺伝子と融合した異常キナーゼの生成を引き起こし、癌化に関与することが報告されている。
例えば、肺がんでは、ALKが染色体の転座により細胞内骨格たんぱく質EML4と結合して、活性型チロシンキナーゼ活性をもつEML4−ALKを生成し、癌化能を得る(文献1)。また、ALKの転座による異常キナーゼの生成は、全身性anaplastic large cell lymphoma (ALCL)およびinflammatory myofibroblastic tumors (IMTs)(Blood、第72巻、第234−240頁、1988年、Cancer Res、第59巻、第2776−2780頁、1999年)、食道癌(World J Gastroenterol、第12巻、第7104−7112頁、2006年)においても報告され、神経芽腫は、ALKの活性型点変異(約10%)や遺伝子増幅に起因することが明らかにされた(Nature、第455巻、第930−935頁、2008年、Nature、第455巻、第971−974頁、2008年)。
一方、ALKのリガンドであるpleiotrophin(PTN)やmidkine(MK)(J Biol Chem、第276巻、第16772−16779頁、2001年、J Biol Chem、第277巻、第35990−35999頁、2002年)によって活性化される癌も報告されている。
さらに、ALKのノックアウトマウスの解析から、ALK阻害物質が抗うつや認知機能障害の予防あるいは治療薬として有用であることが示唆されている(Neuropsychopharmacology、第33巻、第685−700頁、2008年、WO 2007/023310 A2)。
従って、ALK阻害作用を有する化合物は癌、うつ、認知機能障害等の予防および治療に極めて有用である。
一方、ALK阻害物質としては、マルチキナーゼ阻害剤の中にその作用の一つとしてALKの阻害作用を有する化合物の例が存在する。例えば、c−MET(mesenchymal−epithelial transition factor)およびALKの阻害剤として2−アミノピリジン構造を有するPF02341066(WO 2006/021884 A2、Proc Am Assoc Cancer Res (AACR) 2006年, 47: Abst LB−271、Proc Am Assoc Cancer Res (AACR) 2006年, 47: Abst LB−273)、FAK, ZAP70,IGF−1R,ALKなどの阻害剤として、2、4−ジアミノピリミジン構造を持つNVP−TAE684が報告されている(WO 2004/080980 A1、Proc Natl Acad Sci USA 第104巻、第270−275頁,2007年)。その他、2、4−ジアミノピリミジン類および2、4−ジアミノキナゾリン類(WO 2009/008371 A1)、ピリドピラジン類(WO 2007/130468 A2)、ピラゾロ[3,4−C]イソキノリン類(WO 2005/009389 A2)、チアゾール類(WO 2005/097765 A1)、3環性化合物(WO 2008/021369 A2)、インダゾール類(WO 2009/013126 A1)などが報告されている。
しかしながら、いずれの文献においても、本発明の医薬の有効成分である4環性化合物についての記載は一切無い。
また、抗腫瘍活性を示す4環性化合物として、エリプチシンのようなカルバゾール構造を含む4環性化合物が知られている(非特許文献1)。
しかし、その作用機構はDNAとの相互作用により細胞毒性を示すものであり(非特許文献2)、これら4環性化合物とのALK阻害活性の有無に関する報告は全くなされていない。
Current Organic Chemistry、第5巻、第5号、第507−518頁、2001年 Current Medicinal Chemistry: Anti−Cancer Agents、第4巻、第2号、第149−172頁、2004年
ALK阻害化合物を含有する、ALKの異常を伴う疾患、例えばがん、がん転移、うつ
、認知機能障害に有効な、新規な構造を有する医薬が求められていた。
本発明者らは、鋭意検討した結果、下記式で表される、既存の薬剤のいずれとも異なる構造を持つ4環性化合物が、優れたALK阻害活性を有し、がん、がん転移、うつ、認知機能障害を含む疾患に有効な治療および予防に有用であり、かつこれらの疾患に対し優れた薬効を有することを初めて見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明の1つの側面によれば、以下に示す、4環性化合物またはその塩等を含有する医薬等を提供する。
〔1〕下記式(以下、式(I)と表記)で表される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する医薬:

[式中、
、A、A、A、A、A、AおよびA10は、全てCであるか、A、A、A、A、AまたはAのうち、いずれか1つがNであり(但し、Nの場合は置換基を有さない)、それ以外はCであり、
は、NR、O、Sから選択され、
およびR10はそれぞれ独立して、[1]水素原子,[2]シアノ基,[3]ハロゲン原子または[4]4〜10員ヘテロシクロアルキル基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基を示し;
は、
(1)水素原子,
(2)C1−8アルキル基,
(3)C2−8アルケニル基,
(4)C2−8アルキニル基,
(5)シアノ基,
(6)ハロゲン原子,
(7)C1−8アルキルスルホニル基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m2−アミノ基,
m2:0〜2,および
(8)ニトロ基
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)[1]ハロゲン原子,[2]水酸基または[3]C1−8アルコキシ基で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
(3)C6−10アリール基,
(4)シアノ基,
(5)C6−10アリール基で置換されていてもよいC1−8アルカノイル基,
(6)1以上のR3Aで置換されていてもよい(C1−8アルキル)m3a−アミノカルボニル基,
3A:[1]C6−10アリール基,[2]C1−8アルコキシ基,[3]5〜14員ヘテロアリール基,または[4]C6−10アリールスルホニル基,
m3a:0〜2,
(7)ヒドロキシカルボニル基,
(8)[1]水酸基または[2]C1−8アルコキシ基で置換されていてもよいC1−8アルコキシカルボニル基,
(9)ハロゲン原子,
(10)C6−10アリール基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m3b−アミノ基,
m3b:0〜2,
(11)[1]C6−10アリール基または[2]C6−10アリールオキシ基で置換されていてもよいC1−8アルキルカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(12)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキル基で置換されていてもよいC6−10アリールカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(13)C6−10アリール基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m3c−アミノカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
m3c:0〜2,
(14)ニトロ基,
(15)水酸基,
(16)1以上のR3Bで置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
3B:[1]水酸基,[2]C1−8アルコキシ基,[3]C6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニル基,[4](C1−8アルキル)m3d−アミノ基,または[5]ハロゲン原子,
m3d:0〜2,
(17)4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基,
(18)5〜14員ヘテロアリールオキシ基,
(19)C6−10アリール基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m3e−アミノカルボニルオキシ基
m3e:0〜2,
(20)4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基,
(21)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニルオキシ基,
(22)C1−8アルキルチオ基,
(23)C6−10アリール基で置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニル基,(24)C1−8アルコキシ基で置換されていてもよいC1−8アルキル基で置換されていてもよい5〜14員ヘテロアリール基,
(25)C1−8アルコキシ基で置換されていてもよいC1−8アルコキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(26)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキル基で置換されていてもよいC6−10アリールオキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(27)1以上のR3Cで置換されていてもよいC6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
3C:[1]ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキル基,または[2]C1−8アルコキシ基,
(28)C3−8シクロアルキル(C0−8アルキル)アミノカルボニルオキシ基,および
(29)[1]C1−8アルキル基および[2]C1−8アルコキシ基からなる群より選択される置換基により置換されていてもよいC6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニルオキシ基
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
(3)C2−8アルケニル基,
(4)C2−8アルキニル基,
(5)C3−8シクロアルキル基,
(6)シアノ基,
(7)アミノカルボニル基,
(8)(C1−8アルキル)m4a−アミノカルボニル基,
m4a:1〜2,
(9)ヒドロキシカルボニル基,
(10)C1−8アルコキシカルボニル基,
(11)ハロゲン原子,
(12)(C1−8アルキル)m4b−アミノ基,
m4b:0〜2,
(13)水酸基,および
(14)水酸基で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)1以上のR5Aで置換されていてもよいC1−8アルキル基,
5A:[1]ヒドロキシカルボニル基,[2]C1−8アルコキシカルボニル基,[3]水酸基,[4]C1−8アルコキシ基,[5](C1−8アルキル)m5−アミノ基,[6]C6−10アリール基,または[7]C1−8アルキルチオ基,
m5:0〜2,
(3)C2−8アルケニル基,
(4)C2−8アルキニル基,
(5)C3−8シクロアルキル基,および
(6)C1−8アルキルスルホニル基
から選択され;

およびR6’はそれぞれ独立して、
(1)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
(2)C2−8アルケニル基,および
(3)C2−8アルキニル基;
から選択されるか、または、RおよびR6’が結合する炭素原子と一体となって、
(4)C3−8シクロアルキル基,または、
(5)C1−8アルキル基で置換されていてもよいC1−8アルキルC6−10アリールスルホニル基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基
を形成し;

は、
(1)水素原子,
(2)ハロゲン原子,
(3)1以上のR7Aで置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
7A:[1](C1−8アルキル)m7a−アミノ基,[2]ヒドロキシ,[3]C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
m7a:0〜2,
(4)C1−8アルキルスルホニル基,
(5)ニトロ基,および
(6)ヒドロキシ基
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)1以上のR8Aで置換されていてもよいC1−8アルキル基,
8A:[1]1以上のR8A1で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,[2]ハロゲン原子により置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8a−アミノ基,または[3]水酸基:,
m8a:0〜2,
8A1:[1]C1−8アルキル基,[2]C1−8アルキルスルホニル基,[3](C1−8アルキル)m8b−アミノスルホニル基,[4]オキソ基,[5]C1−8アルコキシカルボニル,または[6]C1−8アルコキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノスルホニル,
m8b:0〜2,
(3)C2−8アルケニル基,
(4)1以上のR8Bで置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
8B
<1> 1以上のR8B1で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
<2> C2−8アルケニル基,
<3> C2−8アルキニル基,
<4> [1]シアノ基または[2]C1−8アルキル基で置換されていてもよいC3−8シクロアルキル基,
<5> 1以上のR8B2で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
<6> [1]C1−8アルコキシ基および[2]C3−8シクロアルキル基からなる群より選択される置換基により置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
<7> C1−8アルコキシカルボニル基,
<8> C1−8アルキルスルホニル基,
<9> 5〜14員ヘテロアリールスルホニル基,
<10> オキソ基,
<11> シアノ基,
<12> 1以上のR8B3で置換されていてもよいC1−8アルカノイル基,
<13> C3−8シクロアルキルカルボニル基,
<14> (C1−8アルキル)m8c−アミノスルホニル基,
<15> C1−8アルキルスルホニル(C0−8アルキル)アミノ基,
<16> 1以上のR8B4で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8d−アミノ基,
<17> 水酸基,
<18> (C1−8アルキル)m8e−アミノカルボニル基,または、
<19> C1−8アルコキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基
m8c:0〜2、
m8d:0〜2、
m8e:0〜2、
8B1:[1]C3−8シクロアルキル基,[2]水酸基,または[3]C1−8アルコキシ基,
8B2:[1]ハロゲン原子,[2]C1−8アルキル基,[3]オキソ基,[4]水酸基,または[5]重水素,
8B3:(C1−8アルキル)m8f−アミノ基,
m8f:0〜2,
8B4:[1]C3−8シクロアルキル基,または[2]水酸基,
(5)C1−8アルキル基で置換されていてもよい5〜14員ヘテロアリール基,
(6)1以上のR8Cで置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8g−アミノカルボニル基,
m8g:0〜2,
8C:[1]水酸基,[2]<1>(C1−8アルキル)m8i−アミノスルホニル基,<2>C1−8アルキルスルホニル基,<3>C1−8アルコキシカルボニル基および<4>C1−8アルコキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノスルホニル基からなる群より選択される置換基により置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8h−アミノ基,[3]C1−8アルキルスルホニル基,または[4]水酸基で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
m8h:0〜2,
m8i:0〜2,
(7)オキソ基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル(C0−8アルキル)アミノカルボニル基,
(8)1以上のR8Dで置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基,
8D:[1]1以上のR8D1で置換されていてもよいC1−8アルキル基,[2]水酸基,[3]C1−8アルキルスルホニル基,または[4]C1−8アルコキシカルボニル基,
8D1:[1]水酸基,または[2]C1−8アルコキシ基,
(9)ヒドロキシカルボニル基,
(10)水酸基で置換されていてもよいC0−8アルコキシ(C0−8アルキル)アミノカルボニル基,
(11)ハロゲン原子,
(12)1以上のR8Hで置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8j−アミノ基,
m8j:0〜2,
8H:[1]水酸基,または[2]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
(13)ヒドロキシ基,
(14)1以上のR8Eで置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
8E
<1> 水酸基,
<2> ハロゲン原子,
<3> ヒドロキシカルボニル基,
<4> C1−8アルコキシカルボニル基,
<5> 1以上のR8E1で置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基,
<6> 1以上のR8E2で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8k1−アミノ基,
m8k1:0〜2,
<7> 1以上のR8E3で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
<8> 5〜14員ヘテロアリール基,
<9> 1以上のR8E6で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8k2−アミノカルボニル基,
m8k2:0〜2,
<10> 1以上のR8E7で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
<11> C1−8アルキルチオ基,
<12> C1−8アルキルスルフィニル基,
<13> C1−8アルキルスルホニル基,
8E1
<1> C1−8アルコキシカルボニル基,
<2> C1−8アルカノイル基,
<3> C1−8アルキルスルホニル基,
<4> (C1−8アルキル)m8k3−アミノスルホニル基,
m8k3:0〜2,または、
<5> 4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
8E2
<1> 水酸基,
<2> ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルコキシカルボニル基,
<3> 水酸基で置換されていてもよいC1−8アルキル基で置換されていてもよいC3−8シクロアルキル基,
<4> [1](C1−8アルキル)m8k4−アミノ基および[2]ハロゲン原子からなる群より選択される置換基により置換されていてもよいC1−8アルカノイル基,
m8k4:0〜2,
<5> (C1−8アルキル)m8k5−アミノカルボニル基,
m8k5:0〜2,
<6> C1−8アルキルスルホニル基,
<7> C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニル基,
<8> C1−8アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8k6−アミノスルホニル基,
m8k6:0〜2,または、
8E3
<1> [1]水酸基および[2]C1−8アルキルカルボニルオキシ基からなる群より選択される置換基により置換されていてもよいC1−8アルキル基,
<2> C1−8アルキルカルボニルオキシ基,
<3> 水酸基,
<4> C3−8シクロアルキル基,
<5> C1−8アルコキシ基,
<6> C1−8アルコキシカルボニル基,
<7> C1−8アルキルスルホニル基,
<8> (C1−8アルキル)m8k8−アミノカルボニル基
m8k8:0〜2,
<9> 水酸基で置換されていてもよいC1−8アルカノイル基,
<10> オキソ基,または、
<11> [1]C1−8アルカノイル基,[2]C1−8アルコキシカルボニル基および[3]C1−8アルキルスルホニル基からなる群より選択される置換基により置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
8E6
<1> C2−8アルケニルカルボニルオキシ基,
<2> 水酸基,
<3> シアノ基,
<4> 水酸基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8k9−アミノ基
m8k9:0〜2,
<5> 水酸基で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
<6> C1−8アルキルカルボニルオキシ基,
<7> C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,または、
<8> 5〜14員ヘテロアリール基,
8E7
<1> 水酸基,または、
<2> 水酸基で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
(15)1以上のR8Fで置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基,
8F
<1> 1以上のR8F1で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
<2> C3−8シクロアルキル基,
<3> ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルカノイル基,
<4> C1−8アルキルカルボニルオキシ基,
<5> C1−8アルコキシカルボニル基,
<6> 1以上のR8F2で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
<7> C1−8アルキルスルホニル基,
<8> 水酸基,または、
<9> C6−10アリール基,
8F1:[1]水酸基,[2]C1−8アルコキシ基,または[3]ハロゲン原子,
8F2:[1]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,[2]C1−8アルコキシカルボニル基,または[3]C1−8アルキルスルホニル基,
(16)5〜14員ヘテロアリールオキシ基,
(17)4〜10員ヘテロシクロアルキルカルボニルオキシ基,
(18)(C1−8アルキル)m8l1−アミノスルホニルオキシ基,
m8l1:0〜2,
(19)[1](C1−8アルキル)m8l2−アミノ基,[2]水酸基または[3]ヒドロキシカルボニル基で置換されていてもよいC1−8アルキルチオ基,
m8l2:0〜2,
(20)1以上のR8Gで置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニル基,
8G:[1]ヒドロキシカルボニル基,[2]水酸基,または[3](C1−8アルキル)m8l3−アミノ基,
m8l3:0〜2,
(21)C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニルオキシ基,
(22)C2−8アルケニルオキシ基,および
(23)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニルオキシ基
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)1以上のR9Aで置換されていてもよいC1−8アルキル基,
9A:[1]C3−8シクロアルキル基,[2]1以上のR9A1で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,[3]水酸基,[4]C1−8アルコキシ基,または[5]ヒドロキシカルボニル基,
9A1:[1]C1−8アルキル基,[2]C3−8シクロアルキル基,または[3]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
(3)1以上のR9Bで置換されていてもよいC2−8アルケニル基,
9B:[1](C1−8アルキル)m9a−アミノ基,[2]1以上のR9B1で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
9B1:[1]C3−8シクロアルキル基,または[2]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
m9a:0〜2,
(4)1以上のR9Cで置換されていてもよいC2−8アルキニル基,
9C:[1]C1−8アルコキシ基,[2]C6−10アリール基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m9b−アミノ基,[3]1以上のR9C1で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,[4]C3−8シクロアルキル基,[5]水酸基,[6]ヒドロキシカルボニル基,または[7]C1−8アルキルオキシカルボニル基,
m9b:0〜2,
9C1:[1]C3−8シクロアルキル基,[2]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,または[3]オキソ基,
(5)C3−8シクロアルキル基,
(6)1以上のR9Dで置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
9D:[1]4〜10員ヘテロシクロアルキル基で置換されていてもよいC1−8アルキル基,[2]C3−8シクロアルキル基,[3]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,または[4]C1−6アルキルスルホニル基,または[5]C1−8アルコキシカルボニル基,
(7)1以上のR9Eで置換されていてもよいC6−10アリール基,
9E:[1]ハロゲン原子,[2]水酸基,[3]ヒドロキシカルボニル基,または[4]水酸基で置換されていてもよいC1−8アルキル基,または[5]C1−8アルコキシ基,
(8)C1−8アルキル基で置換されていてもよい5〜14員ヘテロアリール基,
(9)シアノ基,
(10)C1−8アルカノイル基,
(11)C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基,
(12)ハロゲン原子,
(13)1以上のR9Fで置換されていてもよい(C1−8アルキル)m9c−アミノ基,
m9c:0〜2,
(14)(C1−8アルキル)m9d−アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルキルカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
m9d:0〜2,
(15)C1−8アルキルスルホニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(16)(C1−8アルキル)m9e−アミノスルホニル(C0−8アルキル)アミノ基,
m9e:0〜2,
(17)ニトロ基,
(18)水酸基,
(19)1以上のR9Gで置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
9G:[1]水酸基,[2]ヒドロキシカルボニル基,[3]C1−8アルコキシ基で置換されていてもよいC6−10アリール基,[4](C1−8アルキル)m9g1−アミノ基,[5]1以上のR9G1で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,[6]5〜14員ヘテロアリール基,または[7]C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基,
m9g1:0〜2,
9G1:[1]C1−8アルコキシ基,または[2]ヒドロキシカルボニル基,(20)[1]4〜10員ヘテロシクロアルキル基または[2]C1−8アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基,
(21)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニルオキシ基,
(22)(C1−8アルキル)m9f−アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルキルチオ基,
m9f:0〜2,
(23)(C1−8アルキル)m9g−アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニル基,
m9g:0〜2,
(24)(C1−8アルキル)m9h−アミノスルホニル基,
m9h:0〜2,
(25)C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニル基,および
(26)ヒドロキシカルボニル基
から選択される。]。
〔2〕
式中、Rがシアノ基またはハロゲン原子である、前記〔1〕に記載の医薬。
〔3〕
式中、AがNRであり、Rが水素原子である、前記〔1〕に記載の医薬。
〔4〕
式中、A、A,A,A,A,A,AおよびA10が全てCである、前記〔1〕に記載の医薬。
〔5〕
式中、
,A,A,A,A,A,AおよびA10は全てCであるか,またはA,A,A,A,AおよびAのうち、いずれか1つがNであり(但し、Nの場合
は置換基を有さない)、それ以外はCであり;
はNR,OおよびSから選択され;
は[1]水素原子,[2]シアノ基,または[3]ハロゲン原子を示し;
は、
(1)水素原子,
(2)C1−8アルキル基,
(3)シアノ基,
(4)ハロゲン原子,および
(5)C1−8アルキルスルホニル基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m2−アミノ基,
m2:0〜2
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
(3)シアノ基,
(4)1以上のR3Aで置換されていてもよい(C1−8アルキル)m3a−アミノカルボニル基,
3A:[1]C6−10アリール基,[2]C1−8アルコキシ基,[3]5〜14員ヘテロアリール基,または[4]C6−10アリールスルホニル基,
m3a:0〜2,
(5)ヒドロキシカルボニル基,
(6)水酸基で置換されていてもよいC1−8アルコキシカルボニル基,
(7)ハロゲン原子,
(8)C6−10アリール基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m3b−アミノ基,
m3b:0〜2,
(9)[1]C6−10アリール基または[2]C6−10アリールオキシ基で置換されていてもよいC1−8アルキルカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(10)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキル基で置換されていてもよいC6−10アリールカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(11)ニトロ基,
(12)水酸基,
(13)1以上のR3Bで置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
3B:[1]水酸基,[2]C1−8アルコキシ基,[3]C6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニル基,[4](C1−8アルキル)m3d−アミノ基,または[5]ハロゲン原子,
m3d:0〜2,
(14)4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基,
(15)5〜14員ヘテロアリールオキシ基,
(16)C6−10アリール基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m3e−アミノカルボニルオキシ基,
m3e:0〜2,
(17)4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基,
(18)C1−8アルキルチオ基,
(19)C1−8アルコキシ基で置換されていてもよいC1−8アルキル基で置換されていてもよい5〜14員ヘテロアリール基,
(20)C1−8アルコキシ基で置換されていてもよいC1−8アルコキシlカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(21)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキル基で置換されていてもよいC6−10アリールオキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(22)C1−8アルコキシ基で置換されていてもよいC6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(23)C3−8シクロアルキル(C0−8アルキル)アミノカルボニルオキシ基,および
(24)[1]C1−8アルキル基および[2]C1−8アルコキシ基からなる群より選択される置換基により置換されていてもよいC6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニルオキシ基
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
(3)C3−8シクロアルキル基,
(4)シアノ基,
(5)アミノカルボニル基,
(6)ヒドロキシカルボニル基,
(7)ハロゲン原子,
(8)(C1−8アルキル)m4b−アミノ基,
m4b:0〜2,
(9)水酸基,および
(10)水酸基で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)1以上のR5Aで置換されていてもよいC1−8アルキル基,
5A:[1]ヒドロキシカルボニル基,[2]C1−8アルコキシカルボニル基,[3]水酸基,[4]C1−8アルコキシ基,[5](C1−8アルキル)m5−アミノ基,または[6]C1−8アルキルチオ基,
m5:0〜2,および
(3)C1−8アルキルスルホニル基
から選択され;

およびR6’はそれぞれ独立して
(1)C1−8アルキル基であるか,または、
およびR6’が結合する炭素原子と一体となって、
(2)C3−8シクロアルキル基,または
(3)4〜10員ヘテロシクロアルキル基
を形成し;

は、
(1)水素原子,
(2)ハロゲン原子,および
(3)1以上のR7Aで置換されていてもよいC1−8アルコキシ基
7A:[1](C1−8アルキル)m7a−アミノ基,または[2]水酸基,
m7a:0〜2
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)1以上のR8Aで置換されていてもよいC1−8アルキル基,
8A:[1]1以上のR8A1で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,[2]ハロゲン原子により置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8a−アミノ基,または[3]水酸基,
m8a:0〜2,
8A1:[1]C1−8アルキル基,[2]C1−8アルキルスルホニル基,[3](C1−8アルキル)m8b−アミノスルホニル基,または[4]オキソ基,
m8b:0〜2,
(3)C2−8アルケニル基,
(4)1以上のR8Bで置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
8B
<1> 1以上のR8B1で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
<2> C2−8アルキニル基,
<3> [1]シアノ基または[2]C1−8アルキル基で置換されていてもよいC3−8シクロアルキル基,
<4> 1以上のR8B2で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
<5> [1]C1−8アルコキシ基および[2]C3−8シクロアルキル基からなる群より選択される置換基により置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
<6> C1−8アルキルスルホニル基,
<7> オキソ基,
<8> シアノ基,
<9> 1以上のR8B3で置換されていてもよいC1−8アルカノイル基,
<10> C3−8シクロアルキルカルボニル基,
<11> (C1−8アルキル)m8c−アミノスルホニル基,
<12> C1−8アルキルスルホニル(C0−8アルキル)アミノ基,
<13> 1以上のR8B4で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8d−アミノ基,
<14> 水酸基,または、
<15> (C1−8アルキル)m8e−アミノカルボニル基,
m8c:0〜2,
m8d:0〜2,
m8e:0〜2,
8B1:[1]C3−8シクロアルキル基,[2]水酸基,または[3]C1−8アルコキシ基で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
8B2:[1]ハロゲン原子,[2]C1−8アルキル基,[3]オキソ基,または[4]水酸基,
8B3:(C1−8アルキル)m8f−アミノ基,
m8f:0〜2,
8B4:[1]C3−8シクロアルキル基,または[2]水酸基,
(5)C1−8アルキル基で置換されていてもよい5〜14員ヘテロアリール基,
(6)1以上のR8Cで置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8g−アミノカルボニル基,
m8g:0〜2,
8C:[1]水酸基,[2]<1>(C1−8アルキル)m8i−アミノスルホニル基および<2>C1−8アルキルスルホニル基からなる群より選択される置換基により置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8h−アミノ基,または[3]C1−8アルキルスルホニル基,
m8h:0〜2,
m8i:0〜2,
(7)4〜10員ヘテロシクロアルキル(C0−8アルキル)アミノカルボニル基(オキソ基で置換されていてもよい:,
(8)(1以上のR8Dで置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基:,
8D:[1]1以上のR8D1で置換されていてもよいC1−8アルキル基,[2]水酸基,または[3]C1−8アルキルスルホニル基,
8D1:[1]水酸基,または[2]C1−8アルコキシ基,
(9)ヒドロキシカルボニル基,
(10)水酸基で置換されていてもよいC0−8アルコキシ(C0−8アルキル)アミノカルボニル基,
(11)ハロゲン原子,
(12)4〜10員ヘテロシクロアルキル基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8j−アミノ基,
m8j:0〜2,
(13)ヒドロキシ基,
(14)1以上のR8Eで置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
8E
<1> 水酸基,
<2> C1−8アルコキシカルボニル基,
<3> 1以上のR8E1で置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基,
<4> 1以上のR8E2で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8k1−アミノ基,
m8k1:0〜2,
<5> 1以上のR8E3で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
<6> 5〜14員ヘテロアリール基,
<7> 1以上のR8E6で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8k2−アミノカルボニル基
m8k2:0〜2,
<8> 1以上のR8E7で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
<9> C1−8アルキルチオ基,
<10> C1−8アルキルスルフィニル基,または、
<11> C1−8アルキルスルホニル基,
8E1
<1> C1−8アルコキシカルボニル基,
<2> C1−8アルカノイル基,
<3> C1−8アルキルスルホニル基,
<4> (C1−8アルキル)m8k3−アミノスルホニル基
m8k3:0〜2,または、
<5> 4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
8E2
<1> 水酸基,
<2> C1−8アルコキシカルボニル基,
<3> 水酸基で置換されていてもよいC1−8アルキル基で置換されていてもよいC3−8シクロアルキル基,
<4> [1](C1−8アルキル)m8k4−アミノ基および[2]ハロゲン原子からなる群より選択される置換基により置換されていてもよいC1−8アルカノイル基,
m8k4:0〜2,
<5> (C1−8アルキル)m8k5−アミノカルボニル基,
m8k5:0〜2,
<6> C1−8アルキルスルホニル基,
<7> C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニル基,
<8> (C1−8アルキル)m8k6−アミノスルホニル基,
m8k6:0〜2,または
8E3
<1> [1]水酸基および[2]C1−8アルキルカルボニルオキシ基からなる群より選択される置換基により置換されていてもよいC1−8アルキル基,
<2> 水酸基,
<3> C3−8シクロアルキル基,
<4> C1−8アルキルスルホニル基,
<5> (C1−8アルキル)m8k8−アミノカルボニル基,
m8k8:0〜2,
<6> 水酸基で置換されていてもよいC1−8アルカノイル基,
<7> オキソ基,または、
<8> [1]C1−8アルカノイル基,および[2]C1−8アルキルスルホニル基からなる群より選択される置換基により置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
8E6
<1> C2−8アルケニルカルボニルオキシ基,
<2> 水酸基,
<3> シアノ基,
<4> 水酸基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m8k9−アミノ基,
m8k9:0〜2,
<5> 水酸基で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
<6> C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,または、
<7> 5〜14員ヘテロアリール基,
8E7
<1> 水酸基,または、
<2> 水酸基で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
(15)1以上のR8Fで置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基、
8F
<1> 1以上のR8F1で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
<2> C3−8シクロアルキル基,
<3> ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルカノイル基,
<4> C1−8アルコキシカルボニル基,
<5> 1以上のR8F2で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
<6> C1−8アルキルスルホニル基,または、
<7> 水酸基,
8F1:[1]水酸基,[2]C1−8アルコキシ基,または[3]ハロゲン原子,
8F2:[1]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,[2]C1−8アルコキシカルボニル基,または[3]C1−8アルキルスルホニル基,
(16)5〜14員ヘテロアリールオキシ基,
(17)(C1−8アルキル)m8l1−アミノスルホニルオキシ基,
m8l1:0〜2,
(18)(C1−8アルキル)m8l2−アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルキルチオ基,
m8l2:0〜2,
(19)1以上のR8Gで置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニル基,
8G:[1]ヒドロキシカルボニル基,[2]水酸基,または[3](C1−8アルキル)m8l3−アミノ基,
m8l3:0〜2,
(20)C2−8アルケニルオキシ基,および
(21)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニルオキシ基
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)1以上のR9Aで置換されていてもよいC1−8アルキル基,
9A:[1]C3−8シクロアルキル基,[2]1以上のR9A1で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,[3]水酸基,または[4]C1−8アルコキシ基,
9A1:[1]C1−8アルキル基,[2]C3−8シクロアルキル基,または[3]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
(3)C2−8アルケニル基,
(4)1以上のR9Cで置換されていてもよいC2−8アルキニル基,
9C:[1]C1−8アルコキシ基,[2]C6−10アリール基で置換されていてもよい(C1−8アルキル)m9b−アミノ基,[3]1以上のR9C1で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,[4]C3−8シクロアルキル基,[5]水酸基,または[6]ヒドロキシカルボニル基,
m9b:0〜2,
9C1:[1]C3−8シクロアルキル基,[2]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,または[3]オキソ基,
(5)C3−8シクロアルキル基,
(6)1以上のR9Dで置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
9D:[1]4〜10員ヘテロシクロアルキル基で置換されていてもよいC1−8アルキル基,[2]C3−8シクロアルキル基,[3]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,または[4]C1−6アルキルスルホニル基,
(7)1以上のR9Eで置換されていてもよいC6−10アリール基,
9E:[1]ハロゲン原子,[2]水酸基,[3]ヒドロキシカルボニル基,または[4]水酸基で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
(8)C1−8アルキル基で置換されていてもよい5〜14員ヘテロアリール基,
(9)シアノ基,
(10)C1−8アルカノイル基,
(11)C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基,
(12)ハロゲン原子,
(13)(C1−8アルキル)m9c−アミノ基,
m9c:0〜2,
(14)(C1−8アルキル)m9d−アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルキルカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基,
m9d:0〜2,
(15)C1−8アルキルスルホニル(C0−8アルキル)アミノ基,
(16)(C1−8アルキル)m9e−アミノスルホニル(C0−8アルキル)アミノ基,
m9e:0〜2,
(17)ニトロ基,
(18)水酸基,
(19)1以上のR9Gで置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
9G:[1]水酸基,[2]ヒドロキシカルボニル基,[3]C1−8アルコキシ基で置換されていてもよいC6−10アリール基,[4](C1−8アルキル)m9g1−アミノ基,[5]1以上のR9G1で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,または[6]5〜14員ヘテロアリール基,
m9g1:0〜2,
9G1:[1]C1−8アルコキシ基,または[2]ヒドロキシカルボニル基,
(20)4〜10員ヘテロシクロアルキル基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基,
(21)(C1−8アルキル)m9f−アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルキルチオ基,
m9f:0〜2,
(22)(C1−8アルキル)m9g−アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニル基,
m9g:0〜2,
(23)(C1−8アルキル)m9h−アミノスルホニル基,
m9h:0〜2,および
(24)C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニル基
から選択され;

10は[1]水素原子,または[2]4〜10員ヘテロシクロアルキル基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基を示す、前記〔1〕に記載の医薬。
〔6〕
式中、
,A,A,A,A,A,AおよびA10は全てCであり、
はNRであり;
、R、R、R、RおよびR10は水素原子を示し;
は、シアノ基を示し;
およびR6’はそれぞれ独立して、C1−8アルキル基であり;
は、
(1)水素原子,
(2)1以上のR8Bで置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
8B
<1> C1−8アルキル基,
<2> C3−8シクロアルキル基,
<3> 4〜10員ヘテロシクロアルキル基,または
<4> C1−8アルキルスルホニル基,
(3)(C1−8アルキル)m8k1−アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
m8k1:0〜2,および
(4)4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基
から選択され;

は、
(1)水素原子,
(2)C1−8アルキル基,
(3)C3−8シクロアルキル基で置換されていてもよいC2−8アルキニル基,
(4)C3−8シクロアルキル基,および
(5)ハロゲン原子,
から選択される、
前記〔1〕に記載の医薬。
〔7〕
前記化合物が、以下:
9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−クロロ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
6,6,9−トリメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−エチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−ブロモ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−エチニル−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−(1−メタンスルホニル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;および
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(テトラヒドロ−ピラン−4−イルオキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
から選択される、前記〔1〕に記載の医薬。
〔8〕
前記化合物が、以下:
8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−(1−メタンスルホニル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;および
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(テトラヒドロ−ピラン−4−イルオキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
から選択される、前記〔1〕に記載の医薬。
〔9〕
ALK阻害剤である、前記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の医薬。
〔10〕
がん、がん転移、うつ、または認知機能障害の予防剤または治療剤である、前記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の医薬。
〔10−1〕
ALKの融合遺伝子に点変異を有する腫瘍の治療剤である、前記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の医薬。
〔10−2〕
ALK遺伝子に点変異を有し、薬剤に対する耐性を獲得した腫瘍の治療剤である、前記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の医薬。
〔11〕
神経芽細胞腫、および肺癌からなる群より選択される腫瘍に対する予防剤または治療剤である、前記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の医薬。
〔12〕
前記腫瘍が非小細胞肺癌である前記〔11〕に記載の医薬。
〔13〕
ALK遺伝子異常を有する腫瘍に対する予防剤または治療剤である、前記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の医薬。
〔14〕
前記腫瘍が、急性骨髄性白血病、慢性骨髄性白血病、急性リンパ性白血病、慢性リンパ性白血病、ホジキンリンパ腫、非ホジキンリンパ腫、脳腫瘍、神経芽細胞腫、神経膠、甲状腺癌、骨髄異形成症候群、頭頸部癌、食道癌、胃癌、大腸癌、結腸直腸癌、乳癌、卵巣癌、肺癌、膵臓癌、肝臓癌、胆嚢癌、皮膚癌、悪性黒色、腎癌、腎盂尿管癌、膀胱癌、子宮癌、精巣癌、および前立腺癌からなる群より選択される、前記〔13〕に記載の医薬。
〔15〕
前記腫瘍が、非ホジキンリンパ腫、神経芽細胞腫、および肺癌からなる群より選択される、前記〔13〕に記載の医薬。
〔15−1〕
前記腫瘍が、神経芽細胞腫、および肺癌からなる群より選択される、前記〔13〕に記載の医薬。
〔15−2〕
前記腫瘍が非小細胞肺癌である前記〔13〕に記載の医薬。
〔16〕
前記式(I)で表される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有するがん、がん転移、うつ、または認知機能障害の予防または治療剤。
〔17〕
前記式(I)で表される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する非ホジキンリンパ腫、神経芽細胞腫、および肺癌の予防または治療剤。
〔18〕
前記式(I)で表される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する神経芽細胞腫、および肺癌の予防または治療剤。
〔19〕
前記式(I)で表される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する非小細胞肺癌の予防または治療剤。
〔20〕
前記式(I)で表される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有するALK遺伝子異常を有する腫瘍に対する予防または治療剤。
〔21〕
前記腫瘍が、急性骨髄性白血病、慢性骨髄性白血病、急性リンパ性白血病、慢性リンパ性白血病、ホジキンリンパ腫、非ホジキンリンパ腫、脳腫瘍、神経芽細胞腫、神経膠、甲状腺癌、骨髄異形成症候群、頭頸部癌、食道癌、胃癌、大腸癌、結腸直腸癌、乳癌、卵巣癌、肺癌、膵臓癌、肝臓癌、胆嚢癌、皮膚癌、悪性黒色、腎癌、腎盂尿管癌、膀胱癌、子宮癌、精巣癌、および前立腺癌からなる群より選択される、前記〔20〕に記載の予防または治療剤。
〔22〕
前記腫瘍が非ホジキンリンパ腫、神経芽細胞腫、および肺癌からなる群より選択される、〔20〕に記載の予防または治療剤。
〔23〕
前記腫瘍が神経芽細胞腫、および肺癌からなる群より選択される、〔20〕に記載の予防または治療剤。
〔24〕
前記腫瘍が非小細胞肺癌である〔20〕に記載の予防または治療剤。
〔25〕
前記化合物が、以下:
8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
9−(1−メタンスルホニル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;および
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(テトラヒドロ−ピラン−4−イルオキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
から選択される、〔16〕〜〔24〕に記載の予防または治療剤。
本発明の医薬は、優れたALK阻害作用を有し、体内における安定性および水に対する溶解性に優れ、増殖性疾患の予防剤または治療剤(特に治療剤)として有用である。また、本発明の医薬は、白血病(急性骨髄性白血病、慢性骨髄性白血病、急性リンパ性白血病、慢性リンパ性白血病など)、悪性リンパ腫(ホジキンリンパ腫、非ホジキンリンパ腫など)、脳腫瘍、神経芽細胞腫、神経膠、甲状腺癌、骨髄異形成症候群、頭頸部癌、食道癌、胃癌、大腸癌、結腸直腸癌、乳癌、卵巣癌、肺癌、膵臓癌、肝臓癌、胆嚢癌、皮膚癌、悪性黒色、腎癌、腎盂尿管癌、膀胱癌、子宮癌、精巣癌、前立腺癌のような種々の癌などの疾患の予防剤または治療剤(特に治療剤)として有用である。さらに本発明の医薬は、固形癌の浸潤・転移の予防剤または治療剤(特に治療剤)として有用である。さらに本発明の医薬は、ALKと関連するその他の疾患、例えばうつ、または認知機能障害の予防剤または治療剤としても有効である。
また、本発明の医薬は、ALK遺伝子異常を有する腫瘍の予防剤または治療剤としても有効である。
これまで、EGFR(epidermal growth factor receptor)やABL(c−abl oncogene 1 non−receptor tyrosine kinase)等、一般にチロシンキナーゼの阻害薬が耐性を示す場合、共通に見られる変異部位として「ゲートキーパー部位」がよく知られており(Proc. Natl. Acad. Sci. USA. 2004, 101, 13306−13311.、Blood 2002 , 99, 3472−3475.)、in vitroの変異スクリーニングからも(Proc Am Assoc Cancer Res (AACR) 2010年,51:Abst LB−298)、臨床サンプルからも(The New England Journal of Medicine, 2010, 363(18), 1734−9.)、ALKおよびmet proto−oncogene(MET)の阻害薬であるPF−02341066投与の後に引き起こされる耐性変異として、EML4−ALKのゲートキーパー部位であるL1196に、L1196Mの変異が起こり、PF−02341066に対して強い耐性を示すことが報告されている。
本発明の医薬の有効成分である4環性化合物は、このL1196M変異が起こったEML4−ALKに対しても、nativeと同等の阻害活性あるいはin vivo 抗腫瘍効果を示し、PF−02341066で耐性を生じた場合にも有効である。
さらに、本発明の医薬の有効成分である4環性化合物は、非小細胞肺癌の患者における脳へのがん転移の予防剤または治療剤(特に治療剤)として有用である。
本発明は、本発明の医薬の医薬的に有効な量を、このような治療を必要とするかまたはこのような疾患または状態にかかった患者に投与する工程を包含する。
ALK遺伝子異常を有する非小細胞肺癌株NCI−H2228の移植マウスモデルにおける化合物F6−20の抗腫瘍効果を示す。 ALK遺伝子異常を有する未分化大細胞型リンパ腫株KARPAS−299の移植マウスモデルにおける化合物F6−20の抗腫瘍効果を示す。 ALK遺伝子異常を有する神経芽腫株NB−1の移植マウスモデルにおける化合物F6−20の抗腫瘍効果を示す。
以下、本発明の医薬、その製法等について説明する。
(定義)
本発明において「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
などを意味する。本発明においてハロゲン原子が、芳香族炭素環、芳香族ヘテロ環などの
置換基となる場合、好ましいハロゲン原子として、フッ素、塩素原子および臭素原子が挙
げられる。本発明においてハロゲン原子がアルキル基、またはアルキルをその一部に含む
基(アルコキシ、アルケニル、不飽和炭素環、不飽和ヘテロ環など)の置環基となる場合
、好ましいハロゲン原子として、フッ素原子が挙げられる。具体的には、トリフルオロメ
チル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、
トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、ノ
ナフルオロブトキシ基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、ヘプ
タフルオロブチリル基、ノナフルオロペンタノイル基などが挙げられる。
「C1−8アルキル基」とは、炭素数1〜8の直鎖状および分枝鎖状の脂肪族炭化水素
から任意の水素原子を1個除いて誘導される1価の基である。具体的にはメチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t
−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、2,3−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、
2,3−ジメチルヘキシル基、1,1−ジメチルペンチル基、ヘプチル基、オクチル基な
どが挙げられる。好ましくはC1−6アルキル基であり、より好ましくはC1−5アルキ
ル基であり、より好ましくはC1−4アルキル基であり、さらに好ましくはC1−3アル
キル基である。
「置換されていてもよいC1−8アルキル基」とは、無置換の前記C1−8アルキル基、
またはアルキル基上の1以上の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意味する
。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。さらには
アルキル基がスピロ結合によって環状置換基により置換されていてもよい。好ましくは、
所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC1−8アルキル基である。
「C2−8アルケニル基」は、炭素数2〜8の直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素
基のうち、少なくとも1個の二重結合(2個の隣接SP2炭素原子)を有する1価の基で
ある。C2−8アルケニル基としては、具体的には、ビニル基、アリル基、1−プロペニ
ル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基(シス、トランスを含む)、
3−ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基などが挙げられる。好ましくはC2−6
ルケニル基であり、より好ましくはC2−5アルケニル基であり、より好ましくはC2−
アルケニル基であり、さらに好ましくはC2−3アルケニル基である。
「置換されていてもよいC2−8アルケニル基」とは、無置換の前記C2−8アルケニル
基、またはアルケニル基上の1以上の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意
味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。さ
らには炭素原子が単結合の部分がスピロ結合によって環状置換基により置換されていても
よい。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC2−8アルケニル
基である。より好ましくは、C2−6アルケニル基およびC2−5アルケニル基に対し、
1〜3置換基であり、C2−3アルケニル基に対しては1〜2置換基である。
「C2−8アルキニル基」は、炭素数2〜8の直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素
基のうち、少なくとも1個の三重結合(2個の隣接SP炭素原子)を有する、1価の基で
ある。具体的には、たとえば、エチニル基、1−プロピニル基、プロパルギル基、3−ブ
チニル基などが挙げられる。好ましくはC2−6アルキニル基、より好ましくはC2−5
アルキニル基であり、より好ましくはC2−4アルキニル基であり、さらに好ましくはC
2−3アルキニル基が挙げられる。
「置換されていてもよいC2−8アルキニル基」とは、無置換の前記C2−8アルキニル
基、またはアルキニル基上の1以上の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意
味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。さ
らには炭素原子が単結合の部分がスピロ結合によって環状置換基により置換されていても
よい。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC2−8アルキニル
基である。より好ましくは、C2−6アルキニル基およびC2−5アルキニル基に対し、
1〜3置換基であり、C2−3アルキニル基に対しては1〜2置換基である。
「C3−8シクロアルキル基」は、環状の脂肪族炭化水素基を意味し、好ましくはC
−6シクロアルキル基が挙げられる。具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などが挙げ
られる。好ましくはC3−6シクロアルキル基である。
「置換されていてもよいC3−8シクロアルキル基」とは、無置換の前記C3−8シク
ロアルキル基、または前記C3−8シクロアルキル基の1以上の水素原子が、所定の置換
基により置換された基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一また
は異なっていてもよい。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC
3−8シクロアルキル基である。
「4〜10員へテロシクロアルキル基」とは、O、S及びNから選択された1〜3個の
ヘテロ原子を含有し、環構成原子数4〜10個からなる飽和もしくは部分不飽和の複素環
基を意味する。当該へテロシクロアルキル基は単環、または2環もしくはスピロ環式ヘテ
ロシクロアルキル基であってもよい。具体的には、オキセタニル基、テトラヒドロフリル
基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基、ピロリジノ基、ピロリジニル基
、ピペリジノ基、ピペリジンニル基、ピペラジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、モ
ルホリニル基、テトラヒドロチオピラニル基、チオモルホリノ基、イミダゾリジニル基、
1,3−ジオキサジニル基、テトラヒドロピラニル基、1,3−ジオキサジニル基、1,
2,3,6−テトラヒドロピリジニル基、1−オキサ−8−アザ−スピロ[4.5]デカ
ニル基、1,4−ジオキサ−8−アザスピロ[4,5]デカニル基などが挙げられる。好
ましくは、4〜8員へテロシクロアルキル基、より好ましくは4〜6員へテロシクロアル
キル基である。
「置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基」とは、無置換の前記4〜
10員ヘテロシクロアルキル基であるか、ヘテロシクロアルキル基上の1以上の水素原子
が、所定の置換基により置換された基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置
換基は同一または異なっていてもよい。さらにはアルキル部分がスピロ結合によって環状
置換基により置換されていてもよい。好ましくは、所定の置換基により1〜4置換されて
いてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基である。より好ましくは、4〜8員へテロ
シクロアルキル基に対し1〜4置換基、4〜6員へテロシクロアルキル基に対し1〜3置
換基である。置換基がオキソ基のときは、2つのオキソ基が同一の硫黄原子に結合しても
よい。4級アンモニウム塩を形成するときは、窒素原子上に2つのアルキル基が結合して
いてもよい。
「C6−10アリール基」は、1価の芳香族炭化水素環を意味する。C6−10アリール
基としては具体的には、たとえば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基などが
挙げられる。
「置換されていてもよいC6−10アリール基」とは、無置換の前記C6−10アリー
ル基、または前記C6−10アリール基の1以上の水素原子が、所定の置換基により置換
された基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なってい
てもよい。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC6−10アリ
ール基である。
「5〜14員ヘテロアリール基」は、環を構成する原子5〜14個中に1または複数個
のヘテロ原子を含有する芳香族性の環の基を意味する。環は単環、またはベンゼン環また
は単環へテロアリール環と縮合した2環式ヘテロアリール基であってもよい。具体的には
、たとえば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チア
ゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル
基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、
ピリダジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基
、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾオキサ
ジアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、インダゾリル
基、キノリル基、イソキノリル基、シンノリニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基
、ベンゾジオキソリル基、インドリジニル基、イミダゾピリジル基などが挙げられる。好
ましくは、5〜6員ヘテロアリール基である。
「置換されていてもよい5〜14員ヘテロアリール基」とは、無置換の前記5〜14員
環ヘテロアリール基であるか、ヘテロアリール基上の1以上の水素原子が、所定の置換基
により置換された基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または
異なっていてもよい。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよい5〜
14員ヘテロアリール基である。さらに好ましくは、5〜6員ヘテロアリール基に対し1
〜3置換基または1〜2置換基である。
「C1−8アルカノイル基」とは、C1−8アルキル−C(O)−基を意味し、C1−
アルキル基は前記の通りである。具体的には、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、ペンタノイル、tert−ブチルカルボニル、ヘキサノイル基等があげられ
る。好ましくは、C1−6アルカノイル基であり、さらに好ましくは、C1−3アルカノ
イル基である。
「置換されていてもよいC1−8アルカノイル基」とは、無置換の前記C1−8アルカノ
イル基、またはアルカノイル基上の1以上の水素原子が、所定の置換基により置換された
基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよ
い。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC1−8アルカノイル
基である。さらに好ましくは、C1−6アルカノイル基およびC1−3アルカノイル基に
対し、1〜2置換基を有する。
「C3−8シクロアルキルカルボニル基」とは、C3−8シクロアルキル−C(O)−
基を意味し、C3−8シクロアルキル基は前記の通りである。具体的には、シクロプロピ
ルカルボニル基、シクロブチルカルボニル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキ
シルカルボニル基、シクロヘプチルカルボニル基、シクロオクチルカルボニル基などが挙
げられる。
「4〜10員ヘテロシクロアルキルカルボニル基」とは、4〜10員ヘテロシクロアルキ
ル−CO−基を意味し、前記4〜10員ヘテロシクロアルキルを有する。
「C3−8シクロアルキル(C0−8アルキル)アミノカルボニルオキシ基」とは、C
3−8シクロアルキル−NHC(O)O−基またはC3−8シクロアルキル−N(C1−8アル
キル)C(O)O−基を意味し、C3−8シクロアルキル基は前記の通りである。具体的には
、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロブチルアミノカルボニルオキシ基、
シクロペンチルアミノカルボニルオキシ基、シクロヘキシルアミノカルボニルオキシ基、
シクロプロピル(N−メチル)アミノカルボニルオキシ基、およびシクロブチル(N−メ
チル)アミノカルボニルオキシ基等が挙げられる。
「(C1−8アルキル)アミノカルボニル基」(式中、xは請求項において定義され
た記号を示す)とは、NH−C(O)−基、(C1−8アルキル)−N−C(O)−基
または(C1−8アルキル)−N−C(O)−基を意味する。具体的には、N−メチル
アミノカルボニル基、N−エチルアミノカルボニル基、N−n−ブチル−アミノカルボニ
ル基、およびN,N−ジメチルアミノカルボニル基等があげられる。
「置換されていてもよい(C1−8アルキル)アミノカルボニル基」とは、無置換の
(C1−8アルキル)アミノカルボニル基、または窒素原子またはアルキル部分の少な
くとも1以上の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意味する。複数置換の場
合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。
「C6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニル基」は、C6−10アリ
ールNHC(O)−基またはC6−10アリールN(C1−8アルキル)C(O)−基を
意味する。具体的には、フェニル−NHC(O)−基、またはフェニル−(N−メチル)
−アミノカルボニル基等が挙げられる。C6−10アリールおよびC1−8アルキルは前
記の通りである。具体的には、フェニルアミノカルボニルアミノ基およびフェニルアミノ
カルボニル(N−メチル)アミノ基等が挙げられる。
「4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基」とは、4〜10員含窒素ヘテ
ロシクロアルキル基が結合したカルボニル基を意味する。ここで、4〜10員含窒素ヘテ
ロシクロアルキル基(4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキル基)とは、ヘテロ原子とし
て少なくとも1個の窒素原子を含む、環構成原子が4〜10個からなるヘテロシクロアル
キル基を意味し、ヘテロシクロアルキル環中の窒素原子を介してカルボニル基に結合する
ものが好ましい。そのようなヘテロシクロアルキル基としては、具体的には、ピロリジニ
ルキ、イミダゾリジニル基、モルホリノ基、ピペラジノ基、ピペリジノ基などがあげられ
る。4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基としては、ピロリジノカルボニ
ル基、ピペリジノカルボニル基、ピペラジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基など
があげられる。
「置換されていてもよい、4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基」とは
、無置換の前記4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基、またはヘテロシク
ロアルキル部分の1以上の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意味する。2
以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。さらにはヘテ
ロシクロアルキル部分がスピロ結合によって環状置換基により置換されていてもよい。好
ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシク
ロアルキルカルボニル基である。
「4〜10員ヘテロシクロアルキル(C0−8アルキル)アミノカルボニル基」とは、
4〜10員ヘテロシクロアルキルNHC(O)−基または4〜10員ヘテロシクロアルキ
ルN(C1−8アルキル)C(O)−基を意味する。具体的には、オキセタン−3−イル
−アミド基および(1,1−ジオキソ−テトラヒドロチオフェン−3−イル)アミド基等
が挙げられる。
「1以上のオキソ基で置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルアミノカル
ボニル基」とは、無置換の前記4〜10員ヘテロシクロアルキルアミノカルボニル基であ
るか、ヘテロシクロアルキル部分に1以上のオキソ基が置換された基を意味する。
「C6−10アリールスルホニル基」とは、C6−10アリール−S(O)−基を意味し、C6−10アリール基は前記の通りである。具体的には、フェニルスルホニル基などがあげられる。
「5〜14員ヘテロアリールスルホニル基」とは、5〜14員ヘテロアリール−S(O)−基を意味し、5〜14員ヘテロアリール基は前記の通りである。具体的には、イミダゾールスルホニル基などがあげられる。
「C1−8アルキルC6−10アリールスルホニル基」とは、C1−8アルキル−C6−10アリール−S(O)−基を意味し、C1−8アルキルおよびC6−10アリール基は前記の通りである。具体的には、4−メチル−フェニルスルホニル基などがあげられる。
「(C1−8アルキル)−アミノ基」(式中、xは請求項において定義された記号を示す)とは、アミノ基、NH(C1−8アルキル)基、またはNH(C1−8アルキル)基を意味する。具体的には、アミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、ブチルアミノ、イソプロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなどがあげられる。好ましくは、C1−3アルキルアミノ基である。
「置換されていてもよい(C1−8アルキル)−アミノ基」は、無置換の(C1−8アルキル)アミノ基または窒素原子もしくはアルキル部分の少なくとも1つの水素原子が所定の置換基により置換された基を意味する。複数の置換基が存在するときは、各置換基は同一または異なっていてもよい。
「C1−8アルキルカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基」とは、C1−8アルキ
ル−C(O)−NH−基、もしくはC1−8アルキル−C(O)−N(C1−8アルキル
)−基を意味し、C1−8アルキルは前記の通りである。具体的には、メチルカルボニル
アミノ基、エチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ブチルカルボニル
アミノ基等があげられる。
「置換されていてもよいC1−8アルキルカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基」
とは、無置換の前記C1−8アルキルカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基、または
1-8アルキルカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基の末端のアルキル部分の1以
上の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意味する。2以上の置換基を有する
場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。さらにはアルキル部分がスピロ結合
によって環状置換基により置換されていてもよい。好ましくは、所定の置換基により1〜
3置換されていてもよいC1−8アルキルカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基であ
る。
「C6−10アリールカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基」とは、C6−10
リール−C(O)−NH−基、もしくはC6−10アリール−C(O)−N(C1−8
ルキル)−基を意味し、C6−10アリール基およびC1−8アルキル基は前記の通りで
ある。具体的には、フェニルカルボニルアミノ基などがあげられる。
「置換されていてもよいC6−10アリールカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基
」とは、無置換の前記C6−10アリールカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基、ま
たはC6−10アリールカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基のアリール部分の1以
上の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意味する。2以上の置換基を有する
場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。好ましくは、所定の置換基により1
〜3置換されていてもよいC6−10アリールカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基
である。
「(C1−8アルキル)−アミノカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基」(式中
、xは請求項において定義された記号を示す)とは、NHC(O)NH−基、(C1−
アルキル)NHC(O)NH−基、NHC(O)N(C1−8アルキル)−基、また
は(C1−8アルキル)NHC(O)N(C1−8アルキル)−基を意味し、C1−8
ルキルは前記の通りである。具体的には、アミノカルボニル−(N−メチル)アミノおよ
び(N−メチル)アミノカルボニル−(N’−メチル)アミノ等が挙げられる。
「置換されていてもよい(C1−8アルキル)−アミノカルボニル(C0−8アルキ
ル)アミノ基」とは、無置換の(C1−8アルキル)−アミノカルボニル(C0−8
ルキル)アミノ基、または窒素原子またはアルキル部分の少なくとも1つの水素原子が所
定の置換基により置換された(C1−8アルキル)−アミノカルボニル(C0−8アル
キル)アミノ基を意味する。好ましくは、フェニル基で置換されていてもよい(C1−8
アルキル)−アミノカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基である。
「(C1−8アルキル)アミノスルホニル(C0−8アルキル)アミノ基」(式中、
xは請求項において定義された記号を示す)とは、NHS(O)NH基、NH(C
−8アルキル)−S(O)NH基または、N(C1−8アルキル)−S(O)NH
基、NHS(O)N(C1−8アルキル)−基,NH(C1−8アルキル)−S(O
(C1−8アルキル)N−基,またはN(C1−8アルキル)−S(O)(C
−8アルキル)N−基,を意味し、C1−8アルキルは前記の通りである。具体的には、
メチルアミノスルホニルアミノ基およびジメチルアミノメチルスルホニルアミノ基が挙げ
られる。
「C1−8アルコキシ基」とはC1−8アルキル−O−基を意味する。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、1−プロポキシ基、2−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブ
トキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、1−ペンチルオキシ基、2−ペンチル
オキシ基、3−ペンチルオキシ基、2−メチル−1−ブチルオキシ基、3−メチル−1−
ブチルオキシ基、2−メチル−2−ブチルオキシ基、3−メチル−2−ブチルオキシ基、
2,2−ジメチル−1−プロピルオキシ基、1−へキシルオキシ基、2−へキシルオキシ
基、3−へキシルオキシ基、2−メチル−1−ペンチルオキシ基、3−メチル−1−ペン
チルオキシ基、4−メチル−1−ペンチルオキシ基、2−メチル−2−ペンチルオキシ基
、3−メチル−2−ペンチルオキシ基、4−メチル−2−ペンチルオキシ基、2−メチル
−3−ペンチルオキシ基、3−メチル−3−ペンチルオキシ基、2,3−ジメチル−1−
ブチルオキシ基、3,3−ジメチル−1−ブチルオキシ基、2,2−ジメチル−1−ブチ
ルオキシ基、2−エチル−1−ブチルオキシ基、3,3−ジメチル−2−ブチルオキシ基
、2,3−ジメチル−2−ブチルオキシ基、1−メチル−シクロプロピルメトキシ基など
があげられる。好ましくはC1−6アルコキシ基、より好ましくはC1−5アルコキシ基
、より好ましくはC1−4アルコキシ基、さらに好ましくはC1−3アルコキシ基である
「置換されていてもよいC1−8アルコキシ基」とは、無置換のC1−8アルコキシ基
、またはアルキル部分の1以上の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意味す
る。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。さらに
はアルキル部分がスピロ結合によって環状置換基により置換されていてもよい。好ましく
は、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC1−8アルコキシ基である。より
好ましくは、C1−6アルコキシ基およびC1−4アルコキシ基に対し、1〜3置換基で
あり、C1−3アルコキシ基に対し1〜2置換基である。
「C1−8アルコキシカルボニル基」とは、C1−8アルキル−O−C(O)−基を意
味し、C1−8アルキル基は前記の通りである。具体的には、メトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、i−プロポキシカルボニル基等があ
げられる。好ましくはC1−6アルコキシカルボニル基であり、さらに好ましくは、C
−3アルコキシカルボニル基である。
「置換されていてもよいC1−8アルコキシカルボニル基」とは、無置換の前記C1−
アルコキシカルボニル基、または、C1−8アルコキシカルボニル基上の1以上の水素
原子が、所定の置換基により置換された基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、
各置換基は同一または異なっていてもよい。さらにはアルコキシカルボニル基のアルキル
部分がスピロ結合によって環状置換基により置換されていてもよい。好ましくは、所定の
置換基により1〜3置換されていてもよいC1−8アルコキシカルボニル基である。
0−8アルコキシ(C0−8アルキル)アミノカルボニル基」とは、HO−NH−C
(O)−基、C1−8アルキル−NH−C(O)−基、HO−N(C1−8アルキル)−
C(O)−基、あるいはC1−8アルキル−N(C1−8アルキル)−C(O)−基を意
味し、C1−8アルコキシ基およびC1−8アルキル基は前記の通りである。具体的には
、メトキシアミノカルボニル基、エトキシアミノカルボニル基、n−プロポキシアミノカ
ルボニル基、i−プロポキシアミノカルボニル基等があげられる。好ましくはC1−6
ルコキシアミノカルボニル基であり、さらに好ましくは、C1−3アルコキシアミノカル
ボニル基である。
「置換されていてもよいC0−8アルコキシ(C0−8アルキル)アミノカルボニル基
」とは、無置換の前記ヒドロキシアミノカルボニル基、もしくはC1−8アルコキシアミ
ノカルボニル基、ヒドロキシ(C1−8アルキル)アミノカルボニル基または、C1−8
アルコキシ(C1−8アルキル)アミノカルボニル基のアルキル部分の1以上の水素原子
が、所定の置換基により置換された基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置
換基は同一または異なっていてもよい。さらにはアルキル部分がスピロ結合によって環状
置換基により置換されていてもよい。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されて
いてもよいC1−8アルコキシアミノカルボニル基である。
「4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基」とは、4〜10員ヘテロシクロアルキル
−O−基を意味し、前記4〜10員ヘテロシクロアルキルを有する。
「置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基」とは、無置換の前
記4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基、またはヘテロシクロアルキル部分の1以上
の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意味する。2以上の置換基を有する場
合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。さらにはヘテロシクロアルキル部分が
スピロ結合によって環状置換基により置換されていてもよい。好ましくは、所定の置換基
により1〜3置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基である。
「C6−10アリールオキシ基」は、C6−10アリール−O−基を意味し、C6−1
アリール基は前記の通りである。
「5〜14員ヘテロアリールオキシ基」とは、5〜14員ヘテロアリール−O−基を意
味し、前記5〜14員ヘテロアリールを有する。具体的には、ピリミジニルオキシ基など
があげられる。
「C1−8アルキルカルボニルオキシ基」とは、C1−8アルキル−C(O)−O−基
を意味し、前記C1−8アルキルを有する。具体的には、メチルカルボニルオキシ基、エ
チルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基等があげられる。
「C2−8アルケニルカルボニルオキシ基」とは、C2−8アルケニル−C(O)−O
−基を意味し、前記C2−8アルケニルを有する。具体的には、2−メチル−2−ブテノ
イルオキシ基等があげられる。
「4〜10員ヘテロシクロアルキルカルボニルオキシ基」とは、4〜10員ヘテロシクロ
アルキル−C(O)−O−基を意味し、前記4〜10員ヘテロシクロアルキルを有する。
「(C1−8アルキル)アミノカルボニルオキシ基」(式中、xは請求項において定
義された記号を示す)とは、NHC(O)−O−基、N(C1−8アルキル)C(O)−
O−基、またはN(C1−8アルキル)C(O)−O−基を意味する。具体的には、メ
チルアミノ−カルボニルオキシ基、エチルアミノ−カルボニルオキシ基、およびプロピル
アミノ−カルボニルオキシ基等が挙げられる。
「置換されていてもよい(C1−8アルキル)アミノカルボニルオキシ基」とは、無
置換の(C1−8アルキル)アミノカルボニルオキシ基、または窒素原子上もしくはア
ルキル部分の少なくとも1つの水素原子が、所定の置換基により置換された基を意味する
。複数置換の場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。
「4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニル基」とは、前記4〜10員含窒素ヘ
テロシクロアルキル−S(O)−基を意味する。具体的には、モルホリノ−スルホニル
基等が挙げられる。
「置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニル基」とは、無
置換の前記4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニル基であるか、4〜10員含
窒素ヘテロシクロアルキル部分の1以上の水素原子が、所定の置換基により置換された基
を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい
。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロ
シクロアルキルスルホニル基である。
「4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニルオキシ基」とは、前記4〜10員含
窒素ヘテロシクロアルキル−S(O)−O−基を意味する。具体的には、モルホリノ−
スルホニルオキシ基およびピペラジノ−スルホニルオキシ基等が挙げられる。
「置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニルオキシ基」と
は、無置換の前記4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニルオキシ基であるか、
4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキル部分の1以上の水素原子が、所定の置換基により
置換された基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっ
ていてもよい。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよい4〜10員
含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニルオキシ基である。
「C1−8アルキルスルホニルオキシ基」とは、C1−8アルキル−S(O)−O−基
を意味し、C1−8アルキルは前記の通りである。
「置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニルオキシ基」とは、無置換の前記C
1−8アルキルスルホニルオキシ基であるか、アルキル部分の1以上の水素原子が、所定
の置換基により置換された基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同
一または異なっていてもよい。さらにはアルキル部分がスピロ結合によって環状置換基に
より置換されていてもよい。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよ
いC1−8アルキルスルホニルオキシ基である。具体的には、トリフルオロメチルスルホ
ニルオキシ基が挙げられる。
「(C1−8アルキル)アミノスルホニルオキシ基」(式中、xは請求項において定
義された記号を示す)とは、NHS(O)O−基、N(C1−8アルキル)S(O)
O−基、またはN(C1−8アルキル)S(O)O−基を意味する。具体的には、
N−メチルアミノスルホニルオキシ基等が挙げられる。
「C1−8アルキルチオ基」とは、C1−8アルキル−S−基を意味し、C1−8アル
キル基は前記の通りである。例えば、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、i−
プロピルチオ、n−ブチルチオ、s−ブチルチオ、i−ブチルチオ、t−ブチルチオ、n
−ペンチルチオ、3−メチルブチルチオ、2−メチルブチルチオ、1−メチルブチルチオ
、1−エチルプロピルチオ、n−ヘキシルチオ、4−メチルペンチルチオ、3−メチルペ
ンチルチオ、2−メチルペンチルチオ、1−メチルペンチルチオ、3−エチルブチルチオ
、および2−エチルブチルチオなどが含まれる。好ましくは、C1−6アルキルチオ基で
あり、さらに好ましくは、C1−3アルキルチオ基である。
「置換されていてもよいC1−8アルキルチオ基」とは、無置換のC1−8アルキルチ
オ基、またはアルキル部分の1以上の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意
味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。さ
らにはアルキル部分がスピロ結合によって環状置換基により置換されていてもよい。好ま
しくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC1−8アルキルチオ基である
「C1−8アルキルスルホニル基」とは、C1−8アルキル−S(O)−基を意味し
、C1−8アルキル基は前記の通りである。具体的には、メチルスルホニル基、エチルス
ルホニル基、n−プロピルスルホニル基等があげられる。好ましくは、C1−6アルキル
スルホニル基、さらに好ましくはC1−3アルキルスルホニル基である。
「C1−8アルキルスルフィニル基」とは、C1−8アルキル−S(O)−基を意味し
、C1−8アルキル基は前記の通りである。具体的には、メチルスルフィニル基、エチル
スルフィニル基、n−プロピルスルフィニル基等があげられる。好ましくは、C1−6
ルキルスルフィニル基、さらに好ましくはC1−3アルキルスルフィニル基である。
「置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニル基」とは、無置換の前記C1−8
アルキルスルホニル基であるか、アルキル部分の1以上の水素原子が、所定の置換基によ
り置換された基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異な
っていてもよい。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC1−8
アルキルスルホニル基である。
「置換されていてもよいC1−8アルキルスルフィニル基」とは、無置換の前記C1−
アルキルスルフィニル基であるか、アルキル部分の1以上の水素原子が、所定の置換基
により置換された基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または
異なっていてもよい。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC
−8アルキルスルホニル基である。
「4〜10員ヘテロシクロアルキルスルホニル基」とは、4〜10員ヘテロシクロアルキ
ル−S(O)−基を意味し、前記4〜10員ヘテロシクロアルキルを有する。
「置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルスルホニル基」とは、無置換
の前記4〜10員ヘテロシクロアルキルスルホニル基、またはヘテロシクロアルキル部分
の1以上の水素原子が、所定の置換基により置換された基を意味する。2以上の置換基を
有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。さらにはヘテロシクロアルキ
ル部分がスピロ結合によって環状置換基により置換されていてもよい。好ましくは、所定
の置換基により1〜3置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルスルホニル
基である。
「(C1−8アルキル)アミノスルホニル基」(式中、xは請求項において定義され
た記号を示す)とは、NH−S(O)−基、C1−8アルキルアミノ−S(O)
基または(C1−8アルキル)アミノ−S(O)−基を意味し、C1−8アルキルは
前記の通りである。具体的には、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメ
チルアミノスルホニル基等があげられる。
「置換されていてもよい(C1−8アルキル)アミノスルホニル基」とは、無置換の
アミノスルホニル基、または窒素原子上もしくはアルキル部分の少なくとも1つの水素原
子が、所定の置換基により置換された基を意味する。複数置換の場合は、各置換基は同一
または異なっていてもよい。
「C1−8アルコキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基」とは、C1−8アル
コキシ−C(O)−NH基、またはC1−8アルコキシ−C(O)−N(C1−8アルキ
ル)基を意味し、C1−8アルコキシおよびC1−8アルキルは前記の通りである。具体
的には、メトキシカルバモイル基およびN−エチルカルボニル−N−メチルアミノ基等が
挙げられる。
「置換されていてもよいC1−8アルコキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基
」とは、無置換の前記C1−8アルコキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基また
は、窒素原子上もしくはアルキル部分の少なくとも1つの水素原子が所定の置換基により
置換されていてもよいC1−8アルコキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基を意
味する。好ましくは、1〜3置換基で置換されたC1−8アルコキシカルボニル(C0−
アルキル)アミノ基である。
「C1−8アルコキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノスルホニル基」とは、C
1−8アルコキシ−C(O)−NHS(O)−基、またはC1−8アルコキシ−C(O
)−N(C1−8アルキル)S(O)−基を意味し、C1−8アルコキシおよびC1−
アルキルは前記の通りである。具体的には、メトキシカルボニルアミノスルホニル基お
よびエトキシカルボニル−N−メチルアミノスルホニル基等が挙げられる。
「C6−10アリールオキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基」とは、C6−1
アリール−O−C(O)−NH基、またはC6−10アリール−O−C(O)−N(C
1−8アルキル)基を意味し、C6−10アリールおよびC1−8アルキル基は前記の通
りである。具体的には、フェニルオキシカルボニルアミノ基およびN−メチル−N−フェ
ニルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
「置換されていてもよいC6−10アリールオキシカルボニル(C0−8アルキル)ア
ミノ基」とは、無置換の前記C6−10アリールオキシカルボニル(C0−8アルキル)
アミノ基または窒素原子上もしくはアルキル部分の少なくとも1つの水素原子が所定の置
換基により置換されたC6−10アリールオキシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ
基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよ
い。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC6−10アリールオ
キシカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基である。
「C6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニル(C0−8アルキル)ア
ミノ基」とは、C6−10アリール−NH−C(O)−NH基、C6−10アリール−N
(C1−8アルキル)−C(O)−NH基、またはC6−10アリール−N(C1−8
ルキル)−C(O)−N(C1−8アルキル)基を意味し、C6−10アリールおよびC
1−8アルキル基は前記の通りである。具体的には、フェニルアミノカルボニルアミノ基
およびフェニルアミノカルボニル(N−メチル)アミノ基等が挙げられる。
「置換されていてもよいC6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニル(
0−8アルキル)アミノ基」とは、無置換の前記C6−10アリール(C0−8アルキ
ル)アミノカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基または窒素原子上もしくはアルキル
部分の少なくとも1つの水素原子が所定の置換基により置換されたC6−10アリール(
0−8アルキル)アミノカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基を意味する。2以上
の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよい。好ましくは、所定
の置換基により1〜3置換されていてもよいC6−10アリール(C0−8アルキル)ア
ミノカルボニル(C0−8アルキル)アミノ基である。
「C6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニルオキシ基」とは、C6−
10アリール−NH−C(O)−O−基、またはC6−10アリール−N(C1−8アル
キル)−C(O)−O−基を意味し、C6−10アリールおよびC1−8アルキル基は前
記の通りである。具体的には、フェニルアミノカルボニルオキシ基およびフェニル(N−
メチル)アミノカルボニルオキシ基等が挙げられる。
「置換されていてもよいC6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニルオ
キシ基」とは、無置換の前記C6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニル
オキシ基または窒素原子上もしくはアルキル部分の少なくとも1つの水素原子が所定の置
換基により置換されたC6−10アリール(C0−8アルキル)アミノカルボニルオキシ
基を意味する。2以上の置換基を有する場合は、各置換基は同一または異なっていてもよ
い。好ましくは、所定の置換基により1〜3置換されていてもよいC6−10アリール(
0−8アルキル)アミノカルボニルオキシ基である。
「C1−8アルキルスルホニル(C0−8アルキル)アミノ基」とは、C1−8アルキ
ル−S(O)−NH−基またはC1−8アルキル−S(O)−N(C1−8アルキル
)−基を意味し、C1−8アルキル基は前記の通りである。具体的には、メチルスルホニ
ルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基およびメチルスルホニル(N−メチル)アミノ基
等があげられる。
「C2−8アルケニルオキシ基」とは、C2−8アルケニル−O−基を意味し、C2−
アルケニルは前記の通りである。C2−8アルケニルオキシ基の具体例としては、ビニ
ルオキシ基、アリルオキシ基等があげられる。
好ましくは、A,A,A,A,A,A,AおよびA10の全てがCであ
るか,A,A,AおよびAのいずれか1つはNであり、それ以外はC(但し,A
,A,AまたはAがNのときは,R,R,RまたはRの置換基を有しな
い)。より好適には、,全てがCであるか,AがNであり、それ以外はC,さらに好適
には,全てがCであるか,A,A,およびAがNであり、それ以外はC(但し,A
,A,またはAがNのときは,R,R,Rの置換基は有さない)である。
は、好適にはNRまたはO,より好適には、NR,さらに好適には、NHであ
る。
は、好適には
[1]水素原子,
[2]ハロゲン原子,
より好適には、
[1]水素原子,
[2]フッ素原子,
[3]塩素原子。

10は、好適には水素原子。
は、好適には
[1]水素原子,
[2]C1−5アルキル基,
[3]シアノ,
[4]ハロゲン原子,
より好適には、
[1]水素原子,
[2]C1−3アルキル基,
[3]フッ素原子,
[4]塩素原子,
[5]臭素原子。
さらに好適には、
[1]水素原子,
[2]ハロゲン原子,
さらにより好適には、
[1]水素原子である。
は、好適には
[1]水素原子,
[2]1−11のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−5アルキル基,
[3]C3−6シクロアルキル基,
[4]シアノ,
[5]ハロゲン原子,
[6](C1−3アルキル)m4b−アミノ基(m4b:0〜2),
[7]ヒドロキシ,
[8]1−4のヒドロキシで置換されていてもよいC1−5アルコキシ基,
より好適には、
[1]水素原子,
[2]1−7のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−3アルキル基,
[3]C3−5シクロアルキル基,
[4]シアノ,
[5]フッ素原子,
[6]臭素原子,
[7]アミノ(C1−3アルキル)m4b−アミノ基,
[8]ヒドロキシ,
[9]1−2のヒドロキシで置換されていてもよいC1−3アルコキシ基。
さらに好適には、
[1]水素原子,
[2]少なくとも1つのハロゲン原子で置換されていてもよいC1−8アルキル基,
[3]C3−8シクロアルキル基,
[4]シアノ,
[5]ハロゲン原子,
[6]ヒドロキシ,
[7]ヒドロキシで置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
さらにより好適には、
[1]水素原子,
[2]ハロゲン原子である。
は、好適には
[1]水素原子,
[2]1−5の置換基R5Aで置換されていてもよいC1−5アルキル基,
[3]C1−5アルキルスルホニル基,
より好適には、
[1]水素原子,
[2]1−3の置換基R5Aで置換されていてもよいC1−3アルキル基,
[3]C1−3アルキルスルホニル基。
さらに好適には、
[1]水素原子,
[2]C1−8アルキル基,
さらにより好適には、
[1]水素原子。
5Aは、好適には
[1]C1−5アルコキシカルボニル基,
[2]ヒドロキシ,
[3]C1−5アルコキシ基,
[4](C1−5アルキル)m5−アミノ基(m5:0−2),
[5]Cアリール,
[6]C1−5アルキルチオ基,
より好適には、
[1]C1−3アルコキシカルボニル基,
[2]ヒドロキシ,
[3]C1−3アルコキシ基,
[4](C1−3アルキル)m5−アミノ基(m5:0−2),
[5]C1−3アルキルチオ基,
さらに好適には、
[1]ヒドロキシ,
[2]C1−5アルコキシ基,
[3](C1−5アルキル)m5−アミノ基(m5:0−2),
[4]C1−5アルキルチオ基。
およびR6’は、好適には、
[1]C1−8アルキル基,
または、それらが結合する炭素原子と一体となって
[2]C3−8シクロアルキル基,
[3]4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
より好適には、
[1]C1−3アルキル基,
または、それらが結合する炭素原子と一体となって
[2]C3−6シクロアルキル基,
[3]4〜6員ヘテロシクロアルキル基,
さらに好適には
[1]メチル,
または、それらが結合する炭素原子と一体となって
[2]シクロペンタン,
[3]テトラヒドロピラン,または
[4]ピペラジン。
は、好適には
[1]水素原子,
[2]フッ素原子,
[3]臭素原子,
[4]塩素原子,
[5]1−4の置換基R7Aで置換されていてもよいC1−5アルコキシ基,
より好適には
[1]水素原子,
[2]ハロゲン原子,
さらに好適には、
[1]水素原子,
[2]フッ素原子,
[3]臭素原子,
[4]塩素原子,そして
さらにより好適には、
[1]水素原子。
7Aは、好適には
[1](C1−5アルキル)m7−アミノ基(m7:0〜2),
[2]ヒドロキシ,
[3]C1−5アルキル基で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキル基,
より好適には、
[1](C1−3アルキル)m7−アミノ基(m7:2),
[2]ヒドロキシ。
は、好適には
[1]水素原子,
[2]1−11のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−5アルキル基,
[3]シアノ,
[4]1−5の置換基R3Aで置換されていてもよい(C1−5アルキル)m3a−アミ
ノカルボニル基(m3a:0〜2),
[5]ヒドロキシカルボニル,
[6]1−4のヒドロキシで置換されていてもよいC1−5アルキルカルボニル,
[7]ハロゲン原子,
[8]1−2のCアリールで置換されていてもよい(C1−3アルキル)m3b−アミ
ノ基(m3b:0〜2),
[9]1−2のCアリールまたは1−2のCアリールオキシで置換されていてもよい
1−5アルキルカルボニル(C0−3アルキル)アミノ基,
[10]1−7のハロゲン原子で置換されていてもよい1−5のC1−3アルキル基で置
換されていてもよいCアリールカルボニル(C0−3アルキル)アミノ基,
[11]Cアリールで置換されていてもよい(C1−3アルキル)m3c−アミノカル
ボニル(C0−3アルキル)アミノ基(m3c:0−1),
[12]ニトロ,
[13]ヒドロキシ,
[14]1−4のR3Bで置換されていてもよいC1−5アルコキシ基,
[15]4〜6員ヘテロシクロアルキルオキシ基
[16]6員ヘテロアリールオキシ,
[17]1−3のCアリールで置換されていてもよい(C1−5アルキル)m3e−ア
ミノカルボニルオキシ基(m3e:0〜2),
[18]4〜6員含窒素ヘテロシクロアルキルアミノカルボニル基,
[19]C1−5アルキルチオ基,
[20]1−3のC1−5アルコキシ基で置換されていてもよい1−4のC1−5アルキ
ル基で置換されていてもよい5〜6員ヘテロアリール基,
[21]C1−3アルコキシ基で置換されていてもよいC1−3アルコキシカルボニル(
0−3アルキル)アミノ基,
[22]1−9のハロゲン原子で置換されていてもよい1−3のC1−3アルキル基で置
換されていてもよいCアリールオキシカルボニル(C0−3アルキル)アミノ基,
[23]1−3のR3Cで置換されていてもよいCアリールオキシカルボニル(C0−
アルキル)アミノカルボニル(C0−3アルキル)アミノ基,
[24]C3−6シクロアルキル(C0−3アルキル)アミノカルボニルオキシ基,およ

[25]C1−5アルキル基およびC1−5アルコキシ基からなる群より選択される1−
3の置換基で置換されていてもよいCアリール(C0−3アルキル)アミノカルボニル
オキシ基。
は、より好適には、
[1]水素原子,
[2]1−7のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−3アルキル基,
[3]シアノ,
[4]1−4の置換基R3Aで置換されていてもよい(C1−4アルキル)m3a−アミ
ノカルボニル基(m3a:0〜1)
[5]ヒドロキシカルボニル,
[6]ハロゲン原子,
[7]1−2のCアリールまたは1−2のCアリールオキシで置換されていてもよい
1−4アルキルカルボニル(C1−3アルキル)アミノ基,
[8]Cアリールカルボニル(C0−3アルキル)アミノ基(1−7のハロゲン原子で
置換されていてもよいC1−3アルキル基で置換されていてもよい),
[9]ニトロ,
[10]ヒドロキシ,
[11]1−3の置換基R3Bで置換されていてもよいC1−4アルコキシ基,
[12]4員ヘテロシクロアルキルオキシ基,
[13]Cアリールで置換されていてもよい(C1−3アルキル)m3e−アミノカル
ボニルオキシ基(m3e:1),
[14]6員含窒素ヘテロシクロアルキルアミノカルボニル基,
[15]C1−3アルキルチオ基,
[16]C1−3アルコキシ基で置換されていてもよいC1−5アルキル基で置換されて
いてもよい5員ヘテロアリール基,
[17]置換基R3Cで置換されていてもよいCアリールオキシカルボニル(C0−3
アルキル)アミノカルボニル(C0−3アルキル)アミノ基,
[18]Cシクロアルキル(C0−2アルキル)アミノカルボニルオキシ基,および
[19]C1−4アルキル基およびC1−3アルコキシ基からなる群より選択される1−
2の置換基で置換されていてもよいCアリール(C0−3アルキル)アミノカルボニル
オキシ基。
は、さらにより好適には、
[1]水素原子,
[2]シアノ,
[3]ハロゲン原子,
は、よりさらに好適には、
[1]シアノ,
[2]ハロゲン原子。
3Aは、好適には
[1]Cアリール,
[2]C1−5アルコキシ基,
[3]5〜6員ヘテロアリール基,
[4]Cアリールスルホニル。
3Bは、より好適には
[1]ヒドロキシ,
[2]C1−5アルコキシ基,
[3]Cアリール(C0−3アルキル)アミノカルボニル基,
[4](C1−3アルキル)m3d−アミノ基(m3d:0〜2),
[5]ハロゲン原子,
より好適には、
[1]ヒドロキシ,
[2]C1−5アルコキシ基。
3Cは、好適には
[1]1−11のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−5アルキル基,
[2]C1−5アルコキシ基,
より好適には、
[1]1−9のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−4アルキル基,
[2]C1−3アルコキシ基。
は、好適には
[1]水素原子,
[2]1−5の置換基R8Aで置換されていてもよいC1−5アルキル基,
[3]C2−5アルケニル基,
[4]1−4の置換基R8Bで置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキル基,
[5]1−4のC1−8アルキル基で置換されていてもよい5〜6員ヘテロアリール基,
[6]1−3の置換基R8Cで置換されていてもよい(C1−5アルキル)m8g−アミ
ノカルボニル基(m8g:0〜2),
[7]1−2のオキソ基で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキル(C0−
アルキル)アミノカルボニル基,
[8]1−4の置換基R8Dで置換されていてもよい4〜6員含窒素ヘテロシクロアルキ
ルカルボニル基,
[9]ヒドロキシカルボニル,
[10]1−3のヒドロキシ基で置換されていてもよいC1−5アルコキシ(C0−3
ルキル)アミノカルボニル基,
[11]ハロゲン原子,
[12]1−2の置換基R8Hで置換されていてもよい(C1−5アルキル)m8j−ア
ミノ基(m8j:0〜2),
[13]ヒドロキシ,
[14]1−4の置換基R8Eで置換されていてもよいC1−5アルコキシ基,
[15]1−5の置換基R8Fで置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキルオ
キシ基,
[16]6員ヘテロアリールオキシ基,
[17](C1−5アルキル)m8l1−アミノスルホニルオキシ基(m8l1:0−2
),
[18]1−4の置換基R8Iで置換されていてもよいC1−5アルキルチオ基,
[19]1−4の置換基R8Gで置換されていてもよいC1−5アルキルスルホニル基,
[20]C1−3アルキル基で置換されていてもよい6員ヘテロシクロアルキルスルホニ
ル基,
[21]C2−5アルケニルオキシ基,および
[22]1−7のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−3アルキルスルホニルオキ
シ基。
より好適には、
[1]水素原子,
[2]1−3の置換基R8Aで置換されていてもよいC1−3アルキル基,
[3]C2−4アルケニル基,
[4]1−3の置換基R8Bで置換されていてもよい6員ヘテロシクロアルキル基,
[5]1−2のC1−3アルキル基で置換されていてもよい5〜6員ヘテロアリール基,
[6]1−2の置換基R8Cで置換されていてもよい(C1−3アルキル)m8g−アミ
ノカルボニル基(m8g:0〜2),
[7]1−2のオキソ基で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキル(C0−
アルキル)アミノカルボニル基,
[8]1−2の置換基R8Dで置換されていてもよい6員含窒素ヘテロシクロアルキルカ
ルボニル基,
[9]ヒドロキシカルボニル,
[10]1−2のヒドロキシ基で置換されていてもよいC1−3アルコキシ(C0−3
ルキル)アミノカルボニル基,
[11]臭素原子,
[12]1−2の置換基R8Hで置換されていてもよい(C1−3アルキル)m8j−ア
ミノ基(m8j:0〜2),
[13]ヒドロキシ,
[14]1−3の置換基R8Eで置換されていてもよいC1−5アルコキシ基,
[15]1−3の置換基R8Fで置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキルオ
キシ基,
[16]6員ヘテロアリールオキシ基,
[17](C1−3アルキル)m8l1−アミノスルホニルオキシ基(m8l1:0−2
),
[18]1−2の置換基R8Iで置換されていてもよいC1−3アルキルチオ基,
[19]1−2の置換基R8Gで置換されていてもよいC1−3アルキルスルホニル基,
[20]C1−3アルキル基で置換されていてもよい6員ヘテロシクロアルキルスルホニ
ル基,
[21]C2−3アルケニルオキシ基,および
[22]トリフルオロメチルスルホニルオキシ基,
さらに好適には、
[1]水素原子,
[2]1−3の置換基R8Aで置換されていてもよいC1−3アルキル基、
[3]1−3の置換基R8Bで置換されていてもよい6員ヘテロシクロアルキル基,
[4]1−2のC1−3アルキル基で置換されていてもよい5〜6員ヘテロアリール基,
[5]1−2のオキソ基で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキル(C0−
アルキル)アミノカルボニル基,
[6]1−2の置換基R8Dで置換されていてもよい6員含窒素ヘテロシクロアルキルカ
ルボニル基,
[7]1−2の置換基R8Hで置換されていてもよい(C1−3アルキル)m8j−アミ
ノ基(m8j:0〜2),
[8]ヒドロキシ,
[9]1−3の置換基R8Eで置換されていてもよいC1−5アルコキシ基,
[10]1−3の置換基R8Fで置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキルオ
キシ基,
[11]6員ヘテロアリールオキシ基,
[12]1−2の置換基R8Iで置換されていてもよいC1−3アルキルチオ基,
[13]1−2の置換基R8Gで置換されていてもよいC1−3アルキルスルホニル基,
および
[14]C2−3アルケニルオキシ基,
よりさらに好適には、
[1]水素原子,
[2]1−3の置換基R8Aで置換されていてもよいC1−3アルキル基,
[3]1−3の置換基R8Bで置換されていてもよい6員ヘテロシクロアルキル基,
[4]1−2の置換基R8Hで置換されていてもよい(C1−3アルキル)m8j−アミ
ノ基(m8j:0〜2),
[5]1−3の置換基R8Eで置換されていてもよいC1−5アルコキシ基,および
[6]1−3の置換基R8Fで置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキルオキ
シ基,
さらにより好適には、
[1]1以上の下記R8Bで置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,
さらにいっそう好適には、
[1]少なくとも1つのハロゲン原子,C1−8アルキル基,またはオキソで置換されて
いてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基。
8Aは、好適には
[8A−1]1−4の置換基R8A1で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアル
キル基,
[8A−2]1−11のハロゲン原子で置換されていてもよい(C1−5アルキル)m8
−アミノ基(m8a:0〜2),および
[8A−3]ヒドロキシ;
8Aは、より好適には、
[8A−1]1−2の置換基R8A1で置換されていてもよい6員ヘテロシクロアルキル
基,
[8A−2]1−11のハロゲン原子で置換されていてもよい(C1−3アルキル)m8
−アミノ基(m8a:0〜2),および
[8A−3]ヒドロキシ。
8A1は、好適には
[8A1−1]C1−5アルキル基,
[8A1−2]C1−5アルキルスルホニル基,
[8A1−3](C1−5アルキル)m8b−アミノスルホニル基(m8b:0〜2),
または
[8A1−4]オキソ基,
より好適には、
[8A1−1]C1−3アルキル基,
[8A1−2]C1−3アルキルスルホニル基,または、
[8A1−3](C1−3アルキル)m8b−アミノスルホニル基(m8b:0)。
8Bは、好適には
[8B−1]1−13の置換基R8B1で置換されていてもよいC1−6アルキル基,
[8B−2]C2−6アルキニル基,
[8B−3][1]シアノまたは[2]C1−6アルキル基で置換されていてもよいC
−6シクロアルキル基,
[8B−4]1−10の置換基R8B2で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロア
ルキル基,
[8B−5][1]C1−5アルコキシ基および[2]C3−6シクロアルキル基からな
る群より選択される1−5の置換基で置換されていてもよいC1−6アルコキシ基,
[8B−6]C1−5アルコキシカルボニル基,
[8B−7]C1−5アルキルスルホニル基,
[8B−8]5〜6員ヘテロアリールスルホニル基,
[8B−9]シアノ,
[8B−10]1−2の置換基R8B3で置換されていてもよいC1−6アルカノイル基

[8B−11]C3−8シクロアルキルカルボニル基,
[8B−12](C1−5アルキル)m8c−アミノスルホニル基(m8c:0−2),
[8B−13]C1−6アルキルスルホニル(C0−6アルキル)アミノ基,
[8B−14]1−3の置換基R8B4で置換されていてもよい(C1−8アルキル)
8d−アミノ基(m8d:0−2),
[8B−15]ヒドロキシ,
[8B−16](C1−6アルキル)m8e−アミノカルボニル基(m8e:0−2),
または
[8B−17]C1−4アルコキシカルボニルアミノ基。
より好適には、
[8B−1]1−3のR8B1で置換されていてもよいC1−5アルキル基,
[8B−2]C2−5アルキニル基,
[8B−3][1]シアノまたは[2]C1−6アルキル基で置換されていてもよいC
−5シクロアルキル基,
[8B−4]1−8の置換基R8B2で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアル
キル基,
[8B−5][1]C1−3アルコキシ基および[2]C3−6シクロアルキル基からな
る群より選択される1−2の置換基で置換されていてもよいC1−5アルコキシ基,
[8B−6]C1−3アルキルスルホニル基,
[8B−7]シアノ,
[8B−8]置換基R8B3で置換されていてもよいC1−6アルカノイル基,
[8B−9]C3−5シクロアルキルカルボニル基,
[8B−10](C1−3アルキル)m8c−アミノスルホニル基(m8c:1−2),
[8B−11]C1−3アルキルスルホニル(C0−3アルキル)アミノ基,
[8B−12]1−2の置換基R8B4で置換されていてもよい(C1−5アルキル)
8d−アミノ基(m8d:0−1),
[8B−13]ヒドロキシ,または、
[8B−14](C1−3アルキル)m8e−アミノカルボニル基(m8e:0−1)。
8B1は、好適には
[8B1−1]C3−6シクロアルキル基,
[8B1−2]ヒドロキシ,
[8B1−3]1−2のC1−5アルコキシ基で置換されていてもよいC1−8アルコキ
シ基,または
[8B1−4]シアノ,
より好適には、
[8B1−1]C3−5シクロアルキル基,
[8B1−2]ヒドロキシ,
[8B1−3]1つのC1−3アルコキシ基で置換されていてもよいC1−8アルコキシ
基,または
[8B1−4]シアノ。
8B2は、好適には
[8B2−1]ハロゲン原子,
[8B2−2]C1−6アルキル基,
[8B2−3]オキソ,
[8B2−4]ヒドロキシ,または
[8B2−5]重水素,
より好適には、
[8B2−1]フッ素原子,
[8B2−2]C1−3アルキル基,
[8B2−3]オキソ,または、
[8B2−4]ヒドロキシ。
8B3は、好適には
[8B3−1](C1−6アルキル)m8f−アミノ基(m8f:0−2),
より好適には、
[8B3−1](C1−3アルキル)m8f−アミノ基(m8f:2)。
8B4は、好適には
[8B4−1]C3−6シクロアルキル基,または
[8B4−2]ヒドロキシ。
8Cは、好適には
[8C−1]ヒドロキシ,
[8C−2]C1−3アルキル)m8i−アミノスルホニル基で置換されていてもよい(
1−3アルキル)m8h−アミノ基(m8h:0−1)(m8i:0−2),
[8C−3]C1−3アルキルスルホニル基。
8Dは、好適には
[8D−1]置換基R8D1で置換されていてもよいC1−6アルキル基,
[8D−2]ヒドロキシ基,
[8D−3]C1−3アルキルスルホニル基,または
[8D−4]C1−4アルコキシカルボニル基。
8D1は、好適には
[8D1−1]ヒドロキシ基,または
[8D1−2]C1−3アルコキシ基。
8Hは、好適には
[8H−1]4〜6員ヘテロシクロアルキル基。
8Eは、好適には
[8E−1]ヒドロキシ基,
[8E−2]1−2の置換基R8E7で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
[8E−3]C1−3アルキルスルホニル基,
[8E−4]C1−4アルコキシカルボニル基,
[8E−5]1−2の置換基R8E1で置換されていてもよい4〜6員含窒素ヘテロシク
ロアルキルカルボニル基,
[8E−6]置換基R8E2で置換されていてもよい(C1−5アルキル)m8k1−ア
ミノ基(m8k1:0〜2),
[8E−7]1−4の置換基R8E3で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアル
キル基,
[8E−8]5〜6員ヘテロアリール基,
[8E−9]1−2の置換基R8E6で置換されていてもよい(C1−6アルキル)m8
k2−アミノカルボニル基(m8k2:0〜2),
[8E−10]置換基R8E7で置換されていてもよいC1−5アルコキシ基,
[8E−11]C1−3アルキルチオ基,
[8E−12]C1−3アルキルスルフィニル基,
[8E−13]C1−5アルキルスルホニル基,
[8E−14]C1−3アルキルスルホニル(C0−8アルキル)アミノ基,
[8E−15]1−3のC1−5アルキル基で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシク
ロアルキルスルホニル(C0−3アルキル)アミノ基、
より好適には、
[8E−1]1以上のR8E2で置換されていてもよい(C1−3アルキル)m8k1
アミノ基(m8k1:2),
[8E−2]1以上のR8E7で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,
[8E−3]C1−3アルキルスルホニル基,
[8E−4]置換基R8E2で置換されていてもよい(C1−5アルキル)m8k1−ア
ミノ基(m8k1:0〜2),
[8E−5]1−4の置換基R8E3で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアル
キル基,
[8E−6]1−2のC1−3アルキル基で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロ
アルキルスルホニルアミノ基。
8E1は、好適には
[8E1−1]C1−4アルコキシカルボニル基,
[8E1−2]C1−3アルカノイル基,
[8E1−3]C1−5アルキルスルホニル基,
[8E1−4](C1−3アルキル)m8k3−アミノスルホニル基(m8k3:0〜2
),
[8E1−5]4〜6員ヘテロシクロアルキル基。
8E2は、好適には
[8E2−1]ヒドロキシ基,
[8E2−2]C1−6アルコキシカルボニル基,
[8E2−3]ヒドロキシで置換されていてもよいC1−8アルキル基で置換されていて
もよいC3−6シクロアルキル基,
[8E2−4][1](C1−3アルキル)m8k4−アミノ基(m8k4:0〜2)お
よび[2]ハロゲン原子からなる群より選択される1−3の置換基で置換されていてもよ
いC1−5アルカノイル基,
[8E2−5](C1−3アルキル)m8k5−アミノカルボニル基(m8k5:0〜2
),
[8E2−6]C1−3アルキルスルホニル基,
[8E2−7]C1−4アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい(C1−3アル
キル)m8k6−アミノスルホニル基(m8k6:0−1)。
より好適には、
[8E2−1]ヒドロキシ基。
8E3は、好適には
[8E3−1][1]ヒドロキシ基および[2]C1−3アルキルカルボニルオキシ基か
らなる群より選択される1−3の置換基で置換されていてもよいC1−6アルキル基,
[8E3−2]C1−4アルキルカルボニルオキシ基,
[8E3−3]ヒドロキシ基,
[8E3−4]C3−5シクロアルキル基,
[8E3−5]C1−4アルコキシカルボニル基,
[8E3−6]C1−5アルキルスルホニル基,
[8E3−7](C1−3アルキル)m8k8−アミノカルボニル基(m8k8:0〜2
),
[8E3−8]ヒドロキシで置換されていてもよいC1−3アルカノイル基,
[8E3−9]オキソ基,または、
[8E3−10][1]C1−3アルカノイル基,[2]C1−4アルコキシカルボニル
基および[3]C1−3アルキルスルホニル基からなる群より選択される1−3の置換基
で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキル基、
より好適には、
[8E3−1](C1−3アルキル)m8k8−アミノカルボニル基(m8k8:0〜2
),または、
[8E3−2]オキソ基。
8E4は、好適には
[8E4−1]4〜6員ヘテロシクロアルキル基,
[8E4−2]C1−3アルカノイル基,
[8E4−3]C1−3アルコキシカルボニル基,
[8E4−4]C1−3アルキルスルホニル基,
[8E4−5]C1−3アルキルアミノスルホニル基。
8E6は、好適には
[8E6−1]C2−3アルケニルカルボニルオキシ基,
[8E6−2]ヒドロキシ基,
[8E6−3]シアノ,
[8E6−4]1−2のヒドロキシ基で置換されていてもよい(C1−3アルキル)m8
k9−アミノ基(m8k9:0〜2),
[8E6−5]ヒドロキシで置換されていてもよいC1−3アルコキシ基,
[8E6−6]C1−4アルキルカルボニルオキシ基,
[8E6−7]1−3のC1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシク
ロアルキル基,
[8E6−8]5〜6員ヘテロアリール基。
8E7は、好適には
[8E7−1]ヒドロキシ基,
[8E7−2]ヒドロキシで置換されていてもよいC1−3アルコキシ基。
8Fは、好適には
[8F−1]1−3の置換基R8F1で置換されていてもよいC1−5アルキル基,
[8F−2]C3−6シクロアルキル基,
[8F−3]1−7のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−3アルカノイル基,
[8F−4]C1−5アルキルカルボニルオキシ基,
[8F−5]C1−5アルコキシカルボニル基,
[8F−6]1−3の置換基R8F2で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアル
キル基,
[8F−7]C1−5アルキルスルホニル基,または、
[8F−8]ヒドロキシ基;
より好適には、
[8F−1]置換基R8F1で置換されていてもよいC1−3アルキル基、
[8F−2]C3−5シクロアルキル基,
[8F−3]置換基R8F2で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキル基,
[8F−4]C1−3アルキルスルホニル基,
8F1は、好適には
[8F1−1]ヒドロキシ基,
[8F1−2]C1−5アルコキシ基,または
[8F1−3]ハロゲン原子。
8F2は、好適には
[8F2−1]4〜6員ヘテロシクロアルキル基,
[8F2−2]C1−5アルコキシカルボニル基,または
[8F2−3]C1−3アルキルスルホニル基。
8Gは、好適には
[8G−1]ヒドロキシカルボニル基,
[8G−2]ヒドロキシ基,または
[8G−3](C1−5アルキル)m8l3−アミノ基(m8l3:0〜2)。
は、好適には
[1]水素原子,
[2]1−8の置換基R9Aで置換されていてもよいC1−8アルキル基,
[3]C2−6アルケニル基,
[4]1−6の置換基R9Cで置換されていてもよいC2−8アルキニル基,
[5]C3−6シクロアルキル基,
[6]1−5の置換基R9Dで置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキル基,
[7]1−2の置換基R9Eで置換されていてもよいCアリール基,
[8]1−3のC1−5アルキル基で置換されていてもよい5〜6員ヘテロアリール基,
[9]シアノ,
[10]C1−6アルカノイル基,
[11]C1−5アルキル基で置換されていてもよい4〜6員含窒素ヘテロシクロアルキ
ルカルボニル基,
[12]ハロゲン原子,
[13]置換基R9Fで置換されていてもよい(C1−4アルキル)m9c−アミノ基(
m9c:0〜2),
[14]ヒドロキシ,
[15]1−5の置換基R9Gで置換されていてもよいC1−6アルコキシ基,
[16]1または2の4〜6員ヘテロシクロアルキル基で置換されていてもよい4〜6員
ヘテロシクロアルキルオキシ基,
[17](C1−3アルキル)m9f−アミノ基で置換されていてもよいC1−5アルキ
ルチオ基(m9f:0〜2),
[18](C1−3アルキル)m9g−アミノ基で置換されていてもよいC1−5アルキ
ルスルホニル基(m9g:0〜2),
[19](C1−3アルキル)m9h−アミノスルホニル基(m9h:0〜2),
[20]C1−3アルキル基で置換されていてもよい4〜6員含窒素ヘテロシクロアルキ
ルスルホニル基、
より好適には、
[1]水素原子,
[2]置換基R9Aで置換されていてもよいC1−6アルキル基,
[3]C2−5アルケニル基,
[4]置換基R9Cで置換されていてもよいC2−8アルキニル基,
[5]C3−6シクロアルキル基,
[6]置換基R9Dで置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキル基,
[7]C1−5アルキル基,で置換されていてもよい5〜6員ヘテロアリール基
[8]シアノ,
[9]C1−3アルカノイル基,
[10]ハロゲン原子,
[11](C1−4アルキル)m9b−アミノ基(m9b:0),
[12]ヒドロキシ,
[13]1−3の置換基R9Gで置換されていてもよいC1−6アルコキシ基,
[14]4〜6員ヘテロシクロアルキル基で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロ
アルキルオキシ基,
よりさらに好適には、
[1]水素原子,
[2]1以上の置換基R9Aで置換されていてもよいC1−8アルキル基,
[3]1以上の置換基R9Bで置換されていてもよいC2−8アルケニル基,
[4]1以上の置換基R9Cで置換されていてもよいC2−8アルキニル基,
[5]C3−8シクロアルキル基,
[6]ハロゲン原子,
さらにより好適には、
[1]水素原子,
[2]1以上の置換基R9Aで置換されていてもよいC1−8アルキル基,
[3]1以上の置換基R9Cで置換されていてもよいC2−8アルキニル基。
9Aは、好適には
[9A−1]C3−6シクロアルキル基,
[9A−2]1−3の置換基R9A1で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアル
キル基,
[9A−3]ヒドロキシ基,または
[9A−4]C1−6アルコキシ基,
より好適には、
[9A−1]置換基R9A1で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアルキル基,
[9A−2]ヒドロキシ基,または、
[9A−3]C1−3アルコキシ基。
9A1は、好適には
[9A1−1]C1−5アルキル基,
[9A1−2]C3−5シクロアルキル基,または
[9A1−3]4〜6員ヘテロシクロアルキル基,
より好適には、
[9A1−1]C1−3アルキル基,
[9A1−2]Cシクロアルキル基,または
[9A1−3]4員ヘテロシクロアルキル基。

9Cは、好適には
[9C−1]C1−8アルコキシ基,
[9C−2]1−2のCアリール基で置換されていてもよい(C1−5アルキル)m9
−アミノ基(m9b:0〜2),
[9C−3]1−3の置換基R9C1で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアル
キル基,
[9C−4]C3−6シクロアルキル基,
[9C−5]ヒドロキシ基,または
[9C−6]ヒドロキシカルボニル基;
より好適には、
[9C−1]C1−5アルコキシ基,
[9C−2]1−2のCアリール基で置換されていてもよい(C1−3アルキル)m9
−アミノ基(m9b:2),
[9C−3]1−2の置換基R9C1で置換されていてもよい4〜6員ヘテロシクロアル
キル基,
[9C−4]C3−5シクロアルキル基,
[9C−5]ヒドロキシ基。
9C1は、好適には
[9C1−1]C3−5シクロアルキル基,
[9C1−2]4〜6員ヘテロシクロアルキル基,または
[9C1−3]オキソ基,
より好適には、
[9C1−1]Cシクロアルキル基,
[9C1−2]4〜6員ヘテロシクロアルキル基,または、
[9C1−3]オキソ基。
9Dは、好適には
[9D−1]1〜2の4〜6員ヘテロシクロアルキル基で置換されていてもよいC1−5
アルキル基,
[9D−2]C3−5シクロアルキル基,
[9D−3]4〜6員ヘテロシクロアルキル基,または
[9D−4]C1−3アルキルスルホニル基;
より好適には、
[9D−1]4〜6員ヘテロシクロアルキル基で置換されていてもよいC1−5アルキル
基,
[9D−2]4〜6員ヘテロシクロアルキル基,または
[9D−3]メチルスルホニル基。
9Eは、好適には
[9E−1]ハロゲン原子,
[9E−2]ヒドロキシ基,
[9E−3]ヒドロキシカルボニル基,または
[9E−4]ヒドロキシで置換されていてもよいC1−3アルキル基。
9Fは、好適には
[9F−1]C1−3アルキルスルホニル基,
[9F−2](C1−3アルキル)m9f1−アミノスルホニル基(m9f1:0〜2)
,または
[9F−3](C1−3アルキル)m9f2−アミノ基で置換されていてもよいC1−3
アルカノイル基(m9f2:0〜2)。
9Gは、好適には
[9G−1]ヒドロキシ基,
[9G−2]ヒドロキシカルボニル基,
[9G−3]C1−3アルコキシ基で置換されていてもよいCアリール基,
[9G−4](C1−3アルキル)m9g1−アミノ基(m9g1:0〜2),
[9G−5]1−3の置換基R9G1で置換されていてもよいC1−5アルコキシ基,ま
たは
[9G−6]5〜6員ヘテロアリール基、
より好適には、
[9G−1]ヒドロキシ基,
[9G−2](C1−3アルキル)m9g1−アミノ基(m9g1:0〜2),
[9G−3]置換基R9G1で置換されていてもよいC1−3アルコキシ基,または、
[9G−4]5〜6員ヘテロアリール基。
9G1は、好適には
[9G1−1]C1−3アルコキシ基,または
[9G1−2]ヒドロキシカルボニル基。
好ましくは,AがNHであり,それ以外がCであり,Rがシアノ基,RおよびR
6がメチル,Rが(1)水素原子,(2)1以上のR8Aで置換されていてもよいC
−8アルキル基,(3)C2−8アルケニル基,(4)1以上のR8Bで置換されていて
もよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,(5)C1−8アルキル基で置換されていて
もよい5〜14員ヘテロアリール基,(6)1以上のR8Cで置換されていてもよい(C
1−8アルキル)m8g−アミノカルボニル基,(7)1以上のR8Dで置換されていて
もよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルカルボニル基,(8)ヒドロキシカルボニ
ル基,(9)1以上のヒドロキシ基で置換されていてもよいC0−8アルコキシ(C0−
アルキル)アミノカルボニル基,(10)ハロゲン原子,(11)ヒドロキシ基,(1
2)1以上のR8Eで置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,(13)1以上のR
8Fで置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキルオキシ基,(14)1以上
のC1−8アルキル基で置換されていてもよいアミノスルホニルオキシ基,(15)(C
1−8アルキル)−アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルキルチオ基,または
(16)R8Gで置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニル基,Rは(1)水
素原子,(2)1以上のR9Aで置換されていてもよいC1−8アルキル基,(3)1以
上のR9Bで置換されていてもよいC2−8アルケニル基,(4)1以上のR9Cで置換
されていてもよいC2−8アルキニル基,(5)C3−8シクロアルキル基,(6)1以
上のR9Dで置換されていてもよい4〜10員ヘテロシクロアルキル基,(7)1以上の
9Eで置換されていてもよいC6−10アリール基,(8)C1−8アルキル基で置換
されていてもよい5〜14員ヘテロアリール基,(9)シアノ基,(10)C1−8アル
カノイル基,(11)C1−8アルキル基で置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテ
ロシクロアルキルカルボニル基,(12)ハロゲン原子,(13)1以上のR9Fで置換
されていてもよい(C1−8アルキル)m9c−アミノ基,(14)C1−8アルキルス
ルホニルアミノ基,(15)ニトロ基,(16)ヒドロキシ基,(17)1以上のR9G
で置換されていてもよいC1−8アルコキシ基,(18)(C1−8アルキル)m9f
アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルキルチオ基,(19)(C1−8アルキル
m9g−アミノ基で置換されていてもよいC1−8アルキルスルホニル基,(20)(
1−8アルキル)m9h−アミノスルホニル基,または(21)C1−8アルキル基で
置換されていてもよい4〜10員含窒素ヘテロシクロアルキルスルホニル基,およびR
,R,R,RおよびR10は上記の通りである。
より好適には、,AがNHであり、それ以外はCであり,Rはシアノ基,Rおよ
びR6’はメチル基,Rは(1)水素原子,(2)1以上のR8Aで置換されていても
よいC1−8アルキル基,(3)1以上のR8Bで置換されていてもよい4〜10員ヘテ
ロシクロアルキル基,または(4)1以上のR8Eで置換されていてもよいC1−8アル
コキシ基,Rは(1)水素原子,(2)1以上のR9Aで置換されていてもよいC1−
アルキル基,(3)1以上のR9Cで置換されていてもよいC2−8アルキニル基,(
4)C3−8シクロアルキル基,または(5)ハロゲン原子,およびR,R,R
およびR10は水素原子である。
本発明において、式(I)で表される化合物の塩としては、例えば、塩酸塩、臭化水素
酸塩、ヨウ化水素酸塩、リン酸塩、ホスホン酸塩、硫酸塩、メタンスルホン酸塩、p−ト
ルエンスルホン酸塩などのスルホン酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、リンゴ酸塩、酒石酸塩、
コハク酸塩、サリチル酸塩などのカルボン酸塩、または、ナトリウム塩、カリウム塩など
のアルカリ金属塩;マグネシウム塩、カルシウム塩などのアルカリ土類金属塩;アンモニ
ウム塩、アルキルアンモニウム塩、ジアルキルアンモニウム塩、トリアルキルアンモニウ
ム塩、テトラアルキルアンモニウム塩などのアンモニウム塩などが含まれる。これらの塩
は、当該化合物と、医薬品の製造に使用可能である酸または塩基とを接触させることによ
り製造される。
本発明において式(I)で表される化合物またはその塩は、無水物であってもよく、水
和物などの溶媒和物を形成していてもよい。ここでいう「溶媒和」とは、溶液中で溶質分
子あるいはイオンがそれに隣接している溶媒分子を強く引き付け、一つの分子集団をつく
る現象をいい、例えば溶媒が水であれば水和という。溶媒和物は水和物、非水和物のいず
れであってもよい。非水和物としては、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、
n−プロパノール)、ジメチルホルムアミドなどを使用することができる。
また本発明の医薬の有効成分である化合物およびその塩には、いくつかの互変異性形態、例えばエノール及びイミン形態、ケト及びエナミン形態、並びにそれらの混合物で存在することができる。互変異性体は、溶液中で、互変異性セットの混合物として存在する。固体の形態では、通常、一方の互変異性体が優勢である。一方の互変異性体を記載することがあるが、本発明には、本発明の医薬の有効成分である化合物の全ての互変異性体が含まれる。
本発明には、式(I)で表される化合物の全ての立体異性体(例えば、エナンチオマー、ジアステレオマー(シス及びトランス幾何異性体を含む。))、前記異性体のラセミ体、およびその他の混合物が含まれる。例えば、本発明の医薬の有効成分である化合物は、式(I)は1以上の不斉点を有していてもよく、本発明の医薬には、そのような化合物のラセミ混合物、ジアステレオマー混合物、およびエナンチオマーが含まれる。
本発明の医薬の有効成分である化合物がフリー体として得られる場合、当該化合物が形成していてもよい塩またはそれらの水和物もしくは溶媒和物の状態に、常法に従って変換することができる。
また、本発明の医薬の有効成分である化合物が、当該化合物の塩、水和物、または溶媒和物として得られる場合、化合物のフリー体に常法に従って変換することができる。
本発明の医薬は式(I)で表される化合物の全ての同位体を含む。当該化合物の同位体は、少なくとも1の原子が、原子番号(陽子数)が同じで,質量数(陽子と中性子の数の和)が異なる原子で置換されたものである。本発明の医薬に含まれる同位体の例としては、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、リン原子、硫黄原子、フッ素原子、塩素原子などがあり、それぞれ、H,H,13C,14C,15N,17O,18O,31P,32P,35S,18F,36Cl等が含まれる。特に、Hや14Cのような、放射能を発して崩壊する放射性同位体は、医薬品あるいは化合物の体内組織分布試験等の際、有用である。安定同位体は、崩壊を起こさず、存在量がほとんど変わらず、放射能もないため、安全に使用することができる。本発明の医薬の有効成分である化合物の同位体は、合成で用いている試薬を、対応する同位体を含む試薬に置き換えることにより、常法に従って変換することができる。
また、本発明の医薬の有効成分である式(I)の化合物は、プロドラッグの形で投与してもよい。ここで、本発明の「プロドラッグ」とは、投与後に、生理条件下、酵素的または非酵素的分解よって、式(I)の化合物または製薬上許容されうるそれらの塩に変換される、式(I)の化合物の誘導体を意味する。プロドラッグは、患者に投与されたときには不活性であってもよいが、生体内では活性のある式(I)の化合物に変換されて存在するものである。
例えば、プロドラッグは、特定のpHになった時、あるいは酵素の作用によって所望の
薬物形態に転化する。典型的なプロドラッグは、生体内で遊離酸を生成する化合物であり
、加水分解性のエステル残基を有する化合物である。そのような加水分解性のエステル残
基は、これらに限定されないが、例えば、遊離水素(例えば、式(I)中のYがカルボキ
シル基を有する場合は、そのカルボキシル基中の遊離水素)がC1−4アルキル基、C
−7アルカノイルオキシメチル基、4〜9個の炭素原子を有する1−(アルカノイルオキ
シ)エチル基、5〜10個の炭素原子を有する1−メチル−1−(アルカノイルオキシ)
−エチル基、3〜6個の炭素原子を有するアルコキシカルボニルオキシメチル基、4〜7
個の炭素原子を有する1−(アルコキシカルボニルオキシ)エチル基、5〜8個の炭素原
子を有する1−メチル−1−(アルコキシカルボニルオキシ)エチル基、3〜9個の炭素
原子を有するN−(アルコキシカルボニル)アミノメチル、4〜10個の炭素原子を有す
る1−(N−(アルコキシカルボニル)アミノ)エチル基、3−フタリジル基、4−クロ
トノラクトニル基、γ−ブチロラクトン−4−イル基、ジ−N,N−(C1−2)アルキ
ルアミノ(C2−3)アルキル基(例えばN,N−ジメチルアミノエチル基)、カルバモ
イル−(C1−2)アルキル基、N,N−ジ(C1−2)アルキルカルバモイル−(C
−2)アルキル基、ピペリジノ(C2−3)アルキル基、ピロリジノ(C2−3)アルキ
ル基、又はモルホリノ(C2−3)アルキル基で置換されているカルボキシル部分を有す
る残基を含む。
代表的製造方法
本発明の医薬の有効成分である式(I)で表される化合物は例えば下記の方法に従って製造することができるが、本発明の医薬の有効成分である化合物の製造方法はこれらに限定されるものでない。また、必要に応じて置換基導入等の反応工程の順序を変えることもできる。なお製造に際して用いる原料化合物としては市販されているものを用いても、または必要に応じて常法により製造しても良い。
以下の反応工程を表す式中、A〜A10およびR〜R10は式(I)において定義
されたとおりである。PR〜PR10はそれぞれ、式(I)の定義におけるR〜R
と同じ定義であるかあるいは官能基修飾あるいは脱保護によって、R〜R10に変換
されうる基を表す。
以下の反応式において使用するその他の略号は、当該技術分野の当業者が理解しうる通
常の意味を有するものである。
PGは保護基(例えばメチル、エチル、t−ブチル、ベンジル、置換ベンジル、アセチ
ル、t−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メタンスルホニル、トリフル
オロメタンスルホニル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル
、t−ブチルジメチルシリル、テトラヒドロピラニルなど)を表し、以下に示した製造方
法において、定義した基が実施方法の条件下で望まない化学的変換を受けてしまう場合、
官能基の保護、脱保護等の手段を用いることにより、製造を実施することができる。
ここで保護基の選択および脱着操作は例えば、「Greene and Wuts,
“Protective Groups in Organic Sythesis”(
第4版,John Wiley & Sons 2007年)」に記載の方法を挙げるこ
とができ、これらを反応条件に応じて適宜用いればよい。
LGはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、メタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホ
ネート等の当該反応に適用可能な脱離基を示す。
また以下の一般的合成法および製造例において汎用される略号、化学式に対応する試薬
や溶媒の名称を以下に記す。
9−BBN 9−ボラビシクロ[3.3.1]ノナン
AcOH 酢酸
BINAP 2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル
BFOEt 三弗化ホウ素エーテラート
t−BuOK t−ブトキシカリウム
n−BuLi n−ブチルリチウム
t−BuONa t−ブトキシナトリウム
CDI カルボニルジイミダゾール
CPME c−ペンチルメチルエーテル
DBU 1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン
DCM ジクロロメタン
DEAD アゾジカルボン酸ジエチル
DDQ 2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン
DIPEA N,N−ジイソプロピルエチルアミン
DMA N,N−ジメチルアセトアミド
DME ジメトキシエタン
DMF N,N−ジメチルホルムアミド
DMSO ジメチルスルホキシド
DPPF ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン
EDC 1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル) カルボジイミド塩酸塩
EtOAc 酢酸エチル
HOBt 1−ヒドロキシベンゾトリアゾール
KHMDS カリウムヘキサメチルジシラジド
LDA リチウムジイソプロピルアミド
LiHMDS リチウムヘキサメチルジシラジド
MeCN アセトニトリル
MeI ヨウ化メチル
MeOH メタノール
MTBE t−ブチルメチルエーテル
NaHMDS ナトリウムヘキサメチルジシラジド
NMP N−メチルピロリドン
Pd(dba) トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)
Pd(OAc) 酢酸パラジウム
PdCl(CHCN) ジクロロ(ビスアセトニトリル)パラジウム(II)
PdCl(PPh ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(I
I)
Pd(PPh テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)
P(t−Bu) トリt−ブチルホスフィン
PPh トリフェニルホスフィン
P(o−tol) トリo−トリルホスフィン
TEA トリエチルアミン
TEMPO 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン1−オキシル
TFA トリフルオロ酢酸
TFAA 無水トリフルオロ酢酸
TFE トリフルオロエタノール
THF テトラヒドロフラン
TMAD 1、1’−アゾビス(N,N−ジメチルホルムアミド)
TMSCl トリメチルシリルクロリド
TMSI トリメチルシリルヨージド
DavePhos 2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’−(N,N−ジメチルアミ
ノ)ビフェニル
JohnPhos 2−(ジ−t−ブチルホスフィノ)ビフェニル
c−Hexyl JohnPhos 2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ビフェニル
S−Phos 2’、6’−ジメトキシ−2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)ビフェ
ニル
X−Phos 2’,4’,6’−トリイソプロピル−2−(ジシクロヘキシルホスフ
ィノ)ビフェニル
t−ButylX−Phos 2’,4’,6’−トリイソプロピル−2−(ジ−t−
ブチルホスフィノ)ビフェニル
Xantphos 4,5’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−9,9’−ジメチルキ
サンテン
製造方法I
式(I)においてAがN、RがHの場合の骨格を構築する方法の一つである。

工程I−1
環状ケトン誘導体Iaのアルキル化工程である。当工程は環状ケトンIaを塩基の存在
下RおよびR6‘に対応するアルキル化剤と反応させることで実施可能であり、例えば
Journal of the American Chemical Society
, 115(23), 10628−36; 1993、Organic Letter
s, 9(24), 5027−5029; 2007に記載の方法などを参考に実施可
能である。反応は触媒の存在または非存在下、溶媒中、−20℃〜溶媒沸点の反応条件で
行われる。RとR6‘が水素原子でない異なる原子団の場合の反応順序は任意に選択で
き、段階ごとに単離精製を行っても連続的に反応を行っても良い。
アルキル化剤としてはMeI、ヨウ化エチル、2−ヨードプロパン、1,4−ジブロモ
ブタン、1,1‘−オキシビス(2−ブロモエタン)などのアルキルハライド、ジメチル
硫酸、メチルメタンスルホネート、メチルトシレート、メチルトリフルオロメタンスルホ
ネートなどのスルホン酸エステルを挙げることができ、好ましくはMeIなどのアルキル
ハライドである。触媒としては、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアン
モニウムハイドロゲンサルフェートなどの相関移動触媒を挙げることができ、好ましくは
テトラブチルアンモニウムハイドロゲンサルフェートである。塩基としては、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の無機塩基、あるいはt−BuOK、t−B
uONa、ピリジン、TEA、DIPEA、LDA、LiHMDS、n−BuLi等の有
機塩基が挙げられる、好ましくは水酸化カリウム、t−ブトキシカリウム、t−ブトキシ
ナトリウムである。溶媒としては例えばトルエン、キシレン、n−ヘキサン、シクロヘキ
サン、DMF、DMA、EtOAc、DMSO、ジクロロメタン、四塩化炭素、THF、
ジオキサン、アセトニトリルなど、水、メタノール、エタノールなどおよびそれらの混合
物を挙げることができ、好ましくは水−THFの混合溶媒、THF、である。
工程I−2
Fischer法によるカルバゾール骨格Idの合成である。当工程は一般的には環状
ケトンIbをヒドラジン化合物Icと酸の存在下、溶媒中あるいは酸そのものを溶媒とし
て、0℃〜溶媒沸点の反応条件で行われ、例えばJournal of Heteroc
yclic Chemistry, 28(2), 321−3; 1991、Bioo
rganic & Medicinal Chemistry Letters (2
008), 18(24), 6479−6481に記載の方法を参考に実施可能で
ある。また反応速度が遅い場合、例えばOrganic Letters (2006
), 8(3), 367−370記載の条件などを参考に塩化亜鉛触媒などを用い
ることも可能である。反応はフェニルヒドラゾンの生成過程とシグマトロピー転位の過程
より成るが段階ごとに単離精製を行っても連続的に反応を行っても良い。また当工程にお
いては原料のアリールヒドラジンの構造によっては反応成績体として位置異性体混合物を
与える場合がある。これら位置異性体は分離しても混合物として次の工程に用いても使用
しても良い。
反応に用いる酸としては蟻酸、酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、TFA、塩酸、硫酸、ピリジニウムp−トルエンスルホネートなどを
挙げることができ、好ましくは酢酸、硫酸、TFAである。溶媒としてはトルエン、キシ
レン、NMP、DMF、DMA、DMSO、スルホラン、ジオキサン、DME、TFE、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコールなどおよびそれらの混合物を挙げること
ができる。
工程I−3
カルバゾール骨格Idの11位ベンジル位における酸化の工程である。当工程は触媒
の存在下または非存在下、酸化剤を溶媒中、基質に作用させることによって行われ、−2
0℃〜溶媒沸点の反応条件で行われる。反応条件としては例えばJournal of
Medicinal Chemistry, 51(13), 3814−3824;
2008に記載の方法などを参考にすることができる。
反応に用いる酸化剤ならびに触媒としてはDDQ、mCPBAなどの過酸、硝酸アンモ
ニウムセリウム (IV) (CAN)、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸バリウム
などの過マンガン酸塩、亜塩素酸ナトリウム、過酸化水素、N−ヒドロキシフタルイミド
などを単独あるいは組み合わせて使用することができ、好ましくはDDQ、N−ヒドロキ
シフタルイミドである。反応に用いる溶媒としては水、t−ブタノール、アセトニトリル
、THF、ジクロロメタン、酢酸エチルなどおよびそれらの混合物を挙げることができ、
好ましくはTHFである。
製造方法II
式(I)に表される化合物の骨格を構築する際のβ−ケトエステル中間体IIgの製造
方法の例である。
工程II−1、工程II−2
ニトリルIIaまたはカルボン酸エステルIIcのα位におけるアルキル化工程であり
、塩基の存在下溶媒中RおよびR6‘に対応するアルキル化剤と−20℃〜溶媒沸点の
反応条件で反応させることで実施可能であり、例えばJ. Org. Chem., 2
007, 72 (25), 9541−9549、European Journal
of Organic Chemistry(21), 3449−3462に記載の
方法などを参考にすることができる。反応試薬、条件の選択は工程I−1同様である。
工程II−3
カルボン酸エステルIIdのエステル加水分解工程である。当工程は水性溶媒中、無機
塩基の存在下で反応温度0℃〜溶媒沸点での加水分解によって行う方法、例えば、Tet
rahedron Lett. 3529, 1977に記載の方法を参考に実施可能で
ある。あるいは酸の存在下加水分解する方法によっても実施可能であり、例えば、J.
Am. Chem. Soc, 1977, 99, 2353に記載の方法が参考にで
きる。無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸セシウムなどが挙げられ、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウムで
ある。溶媒としては水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど
を単独あるいは組み合わせて使用することができ、好ましくは含水メタノール、含水エタ
ノールである。酸加水分解に用いる酸としては塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、メタンス
ルホン酸などを単独あるいは組み合わせて用いることが出来、好ましくは硫酸である。
工程II−4、工程II−5
カルボン酸エステルあるいはニトリルのα位における直接(ヘテロ)アリール化工程で
ある。当工程は脱離基を持つ芳香族化合物IIfにカルボン酸エステル、またはニトリル
を塩基の存在下作用させるSNAr反応によって実施可能であり、例えばJ. Am. Ch
em. Soc. 2000, 122, 712−713に記載の方法が使用可能であ
る。あるいは脱離基を持つ芳香族化合物IIfに触媒とリガンドの存在下カルボン酸エス
テル、またはニトリルを塩基の存在下作用させる方法によっても実施可能であり、例えば
Org. Lett, 2008,10(8),1545, J. Org. Che
m. 2003, 68, 8003, Angew. Chem. Int. Ed.
2003, 42, 5051に記載の方法などをあげることができる。
反応に用いる塩基としてはリン酸ナトリウム、リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、LiHMDS、NaHMDS、LDA、リ
チウムジシクロヘキシルアミド、リチウム2,2,6,6−テトラメチルピロリジド、K
HMDS、t−BuONa、t−BuOKなどを使用することができ好ましくはNaHM
DS、KHMDS、t−BuONaである。反応に用いる触媒、リガンド、または触媒リ
ガンド複合体としては例えば、酢酸パラジウム、Pd(dba)、π一アリルパラジ
ウムクロリドダイマー、PdCl(CHCN)、トリアルキルプロアザホスファト
ラン、{P(t−Bu)PdBr}、PPh、P(o−tol)、BINAP、
DPPF、P(t−Bu)、DavePhos、JohnPhos、c−Hexyl
JohnPhos、S−Phos、X−Phos、t−ButylX−Phos、Xan
tphos、4,5−ビス[ビス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ホスファ
ニル]−9,9−ジメチル−9H−キサンテン、1,3−ジアリルジヒドロイミダゾリウ
ム塩などを使用することができ、好ましくはトリイソブチルプロアザホスファトランであ
る。
工程II−6
ニトリルIIbのカルボン酸への加水分解の工程である。当工程は酸の存在下0℃〜溶
媒沸点の反応条件で加水分解する方法によって実施可能であり、例えば、Tetrahe
dron, 64(36), 8464−8475; 2008に記載の条件などを挙げ
ることができる。反応は酸そのものを溶媒としても溶媒で希釈してもよい。あるいは無機
塩基の存在下0℃〜溶媒沸点の反応条件で加水分解することも可能でありBioorga
nic & Medicinal Chemistry Letters, 18(2)
, 749−754; 2008に記載の条件など用いることができる。
反応はニトリルIIbの酸アミドへの加水分解及び更にカルボン酸への変換過程よりな
るが、段階ごとに単離精製を行っても連続的に反応を行っても良い。
反応に用いる酸としてはメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硫酸などを挙げることができる。溶媒としてはトルエン
、キシレン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、TFEなどおよびそれらの混合物を挙げることができる。無機塩基としては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどが
挙げられる。
工程II−7
カルボン酸IIeよりβ−ケトエステルへの変換の工程である。当工程においては原料
のカルボン酸は溶媒中、活性化剤により酸クロリド、活性エステルなどに0℃〜溶媒沸点
の反応条件で変換される。その後酸クロリド、活性エステルはマロン酸モノエステルのエ
ノレートと脱炭酸を伴い0℃〜溶媒沸点の反応条件で反応し目的物を与える。反応条件と
しては例えば、J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 198
8, 2345−2352、Synthesis 1993, 290−292.に記載
の方法を用いることができる。カルボン酸の活性化剤方法としてはチオニルクロリド、オ
キサリルクロリド、オキシ塩化りんなどを用いて酸クロリドに変換する方法、あるいはC
DIなどを用いて、活性エステルに変換する方法を用いることが出来、好ましくはチオニ
ルクロリド、CDIである。活性化されたカルボン酸はその状態で単離精製を行っても連
続的に反応を行っても良い。マロン酸モノエステルのエノレートの発生方法としてはマグ
ネシウムクロリドなどマグネシウム塩とマロン酸モノエステル(およびその塩)の組み合
わせやi―プロピルマグネシウムクロリドなどのグリニャール試薬とマロン酸モノエステ
ル(およびその塩)などを用いることが出来る。反応収率の改善のためにTEA、DIP
EAなど有機塩基を反応系に加えることも可能である。溶媒としてはトルエン、キシレン
、MeCN、THF,CPME、MTBE、NMP、DMF、DMA、DMSO、スルホ
ラン、ジオキサン、DME、などおよびそれらの混合物を挙げることができ、好ましくは
MeCN,THF、DMEである。
工程II−8
ニトリルIIbよりβ−ケトエステルへの変換の工程である。当工程はBlaise反
応と呼ばれる2−ハロカルボン酸エステルを活性化した亜鉛末の存在下ニトリルに0℃〜
溶媒沸点の反応条件で作用させる方法によって実施可能であり例えば、SYNTHESI
S 2004, No. 16, pp 2629-2632x.に記載の方法などが用
いることができる。亜鉛末の活性化方法としてはあらかじめ酸による洗浄と乾燥を行う方
法、あるいは系内にメタンスルホン酸などの酸を触媒量存在させる方法を用いることがで
きる。
製造方法III
製造方法IIにおいて製造された中間体IIgより化合物IIIhの製造方法の例であ
る。
工程III−1
当工程は脱離基を持つ芳香族ニトロ化合物にβ−ケトエステルIIgを塩基の存在下0
℃〜溶媒沸点の反応条件で作用させる芳香族求核置換反応によって実施可能であり、例え
ばSynlett, (5), 883−885; 2004、Tetrahedro
n, 38(23), 3479−83; 1982などに記載の方法を挙げることがで
きる。
反応に用いる塩基としてはリン酸ナトリウム、リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、LiHMDS、NaHMDS、LDA、リ
チウムジシクロヘキシルアミド、リチウム2,2,6,6−テトラメチルピロリジド、K
HMDS、t−BuOK、t−BuONaなどを使用することができ、好ましくは炭酸カ
リウム、炭酸セシウム、t−BuOK、t−BuONaである。溶媒としてはトルエン、
キシレン、MeCN、THF,CPME、MTBE、NMP、DMF、DMA、DMSO
、スルホラン、ジオキサン、DME、アセトン、メチルエチルケトンなどおよびそれらの
混合物を挙げることができ、好ましくはTHF、DMF,DMA、NMPおよびそれらの
混合物である。
または当工程は工程III−5記載の方法あるいはJournal of Organi
c Chemistry, 72(14), 5337−5341; 2007のように
触媒と塩基の存在下に実施することも可能である。
工程III−2
ニトロ基の還元ついでインドール環の形成をおこなう還元的環化工程である。本反応は
β−ケトエステルIIIaに還元剤を0℃〜溶媒沸点の反応条件で作用させニトロ基の還
元を行うことで実施可能である。反応に用いる還元剤としてはSynthesis、(1
8)、 2943−2952;2008年に挙げられる鉄、Tetrahedron、6
4(40)、 9607−9618;2008年のような亜鉛、Organic&Bio
molecular Chemistry、3(2)、213−215;2005年に挙
げられる塩化チタン(III)、Journal of Organic Chemis
try,58(19),5209−5220;1993年に挙げられる塩化スズ(II)
、Gazzetta Chimica Italiana,121(11),499−5
04;1991年に挙げられるハイドロサルファイトナトリウム、Synlett,(1
7),2689−2691;2008年に挙げられる接触還元条件など通常ニトロ基の還
元に用いられる条件を使用することができる。好ましい還元剤は鉄、ハイドロサルファイ
トナトリウムである。
工程III−3
インドール−3−カルボン酸エステルIIIbのエステル保護基の脱保護工程である。
エステル保護基は例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、ベンジル基、置換ベンジル
基などを用いることができるが望ましくはt−ブチルである。これらの脱保護は例えば、
「Greene and Wuts, “Protective Groups in
Organic Sythesis”(第4版,John Wiley & Sons
2007年)」に記載の方法を挙げることができ、これらを反応条件に応じて適宜用いれ
ばよい。エステル保護基がt−Butylの場合の脱保護条件としては例えばTMSI、
TMSCl、BF・OEtを用いることができる。溶媒としてはトルエン、キシレン
、ジエチルエーテル、THF、CPME,MTBE,NMP、DMF、DMA、DMSO
、スルホラン、ジオキサン、DME、TFEなどおよびそれらの混合物を挙げることがで
きるが望ましくはTHF,TFEである。
工程III−4
インドール−3−カルボン酸IIIcのFriedel−Crafts反応によるカル
バゾールへの環化工程である。本反応は無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸などを用い混合
酸無水物を形成するかあるいはチオニルクロリド、オキサリルクロリド、オキシ塩化リン
などを用いて酸クロリドに変換してカルボン酸を活性化する。好ましくは無水酢酸、無水
トリフルオロ酢酸である。反応は無溶媒、または溶媒中行われ、溶媒としてはトルエン、
キシレン、ジエチルエーテル、THF、CPME,MTBE,NMP、DMF、DMA、
DMSO、スルホラン、ジオキサン、DMEなどおよびそれらの混合物を挙げることがで
きるが望ましくはTHF,DMF,DMA、DMEである。またTEA、DIPEA、ピ
リジンなどの有機塩基を使用してもよい。
その後に溶媒中0℃〜溶媒沸点の反応条件で無触媒、ブレンステッド酸あるいはルイス酸
の触媒の存在下環化を行う(Heterocycles1999, 51,2127)。
ルイス酸触媒としては塩化アルミニウム、アルミニウムトリフレート、ビスマストリフレ
ート、イッテルビウムトリフレート、BF・OEtが挙げられ好ましくはBF・O
Etである。置換基の種類によっては工程III−3を経由せず直接インドール−3−
カルボン酸エステルIIIbにmethanesulfonic acid−phosp
horus pentoxide(Eaton試薬)、ポリ燐酸などを作用させることに
よっても実施可能である。
工程III−5、III−6
当工程は脱離基を持つ芳香族アシルアミド化合物にβ−ケトエステルIIgを塩基、触
媒、配位子の存在下0℃〜溶媒沸点の反応条件で作用させついでアシル保護基を脱保護す
る方法によって実施可能である。例えばJournal of Organic Che
mistry 2007、72、9329−9334、Organic Letters
10(4)、625−628、2008年に記載の方法が挙げられる。金属触媒として
はヨウ化銅(I)、酢酸パラジウム、配位子としては(S)−プロリン、トリt−ブチル
ホスフィン、ビス(t−ブチル)(2‘−メチル[1,1’−ビフェニル]−2−イル)
ホスフィンなどが使用可能である。反応に用いる塩基としてはリン酸ナトリウム、リン酸
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、LiHM
DS、NaHMDS、LDA、リチウムジシクロヘキシルアミド、リチウム2,2,6,
6−テトラメチルピロリジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、t−BuONa、t−
BuOKなどを使用することができる。
工程III−7、III−8
当工程は芳香族アミノ化合物にβ−ケトエステルIIgを作用させエナミン中間体を得
た後についで触媒的に環化を行う反応であり、例えばJournal of Organ
ic Chemistry, 68(15), 6011−6019; 2003、Eu
ropean Journal of Organic Chemistry, (2
4), 3977−3980; 2007の条件に記載の方法が挙げられる。
あるいは環化は酸化的にも実施可能であり、例えばAngewandte Chemie
, International Edition, 47(38), 7230−72
33; 2008に記載の条件を用いることも可能である。
工程III−9
β−ケトエステルIIgの環化反応による環化工程による1,3−ジケトン合成である
。本反応の条件、試薬としてはβ−ケトエステルIIgをBioorganic & M
edicinal Chemistry Letters, 18(2), 568−5
70; 2008記載条件のように溶媒中ブレンステッド酸触媒、ルイス酸触媒を作用さ
せる方法、あるいはmethanesulfonic acid−phosphorus
pentoxide(Eaton試薬)、ポリ燐酸など縮合剤を作用させることによっ
て実施可能である。
工程III−10、III−11
本工程は工程III−1、III−2あるいは工程III−5、III−6と同様の手法
を用いて実施することができる。
製造方法IV
式IVaを出発物質とする化合物IIIhの製造方法の例である。
工程IV−1、IV−3
本工程はオルソ位に脱離基を持つ芳香族アミン誘導体IVaに対し触媒、塩基の存在下、
触媒量の銅試薬の存在下あるいは非存在下末端アルキンを反応させる園頭反応を利用した
2−置換インドール誘導体の構築反応であり、具体的にはOrganic Letter
s, 11(1), 221−224; 2009に記載の方法が挙げられる。反応は適
当な溶媒中、パラジウム触媒とリガンド(あるいはその複合体)の存在下、塩基の存在下
、あるいは非存在下、銅触媒の存在下あるいは非存在下行われる。反応に用いる銅触媒と
しては例えばヨウ化銅を挙げることができる。触媒とリガンド(あるいは触媒リガンド複
合体)としては例えば、酢酸パラジウム、Pd(dba)、Π一アリルパラジウムク
ロリドダイマー、PdCl(CHCN)、PdCl(PPh2、トリアルキ
ルプロアザホスファトラン、{P(t−Bu)PdBr}、PPh、P(o−to
l)、BINAP、DPPF、P(t−Bu)、DavePhos、JohnPho
s、c−Hexyl JohnPhos、S−Phos、X−Phos、t−Butyl
X−Phos、Xantphos、4,5−ビス[ビス(3,5−ビストリフルオロメチ
ルフェニル)ホスファニル]−9,9−ジメチル−9H−キサンテン、1,3−ジアリル
ジヒドロイミダゾリウム塩などを使用することができる。反応に用いる塩基としてはリン
酸ナトリウム、リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、TEA
、DIPEAなどを使用することができ好ましくは炭酸セシウム、TEA、DIPEAで
ある。
工程IV−2
本工程はルイス酸触媒の存在下、0℃〜溶媒沸点の反応条件で2−置換インドール誘導体
IVbの3位におけるアシル化並びに分子内環化を行うタンデムFriedel−Cra
fts反応である。反応に用いる触媒としては塩化アルミニウム、アルミニウムトリフレ
ート、ビスマストリフレート、イッテルビウムトリフレート、BF・OEtなどを用
いることができ、望ましくは塩化アルミニウムである。
工程IV−4
本工程は2−置換インドール誘導体IVcのカルボン酸エステルを脱保護した後にインド
ール3位において触媒的、非触媒的に分子内環化を行う反応である。脱保護は例えば、「
Greene and Wuts, “Protective Groups in O
rganic Sythesis”(第4版,John Wiley & Sons 2
007年)」に記載の方法を挙げることができ、これらを保護基の種類に応じて適宜用い
ればよい。反応は活性化されたインドール誘導体の場合には容易に環化が起るため非触媒
的に実施できる。またポリリン酸、methanesulfonic acid−pho
sphorus pentoxide(イートン試薬)などの縮合剤を用いて環化を実施
することも可能である。または工程III−4同様の条件にてカルボン酸をカルボン酸ク
ロリド、混合酸無水物などに変換後ルイス酸触媒の存在下フリーデルクラフツ条件で環化
させることもでき、この際用いるルイス酸触媒としては塩化アルミニウム、アルミニウム
トリフレート、ビスマストリフレート、イッテルビウムトリフレート、BF・OEt
などを用いることができる。
製造方法V
式(I)においてAがO、S、NHで表される化合物の骨格を構築する方法の一つで
ある。
工程V−1
環状ケトン誘導体Ibに対する脱離基を持つ芳香族化合物Vaによるアリール化工程で
ある。反応は塩基の存在下、遷移金属触媒と配位子の組み合わせによる触媒的に行われ例
えばJ. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 1360−1370
、 Journal of Organic Chemistry (2003),
68(25), 9865−9866記載の条件などを使用することができる。反応
に用いられる塩基としては例えばt−BuONa、t−BuOK、LiHMDS、NaH
MDS、リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどを用いるこ
とができる。触媒とリガンド(あるいは触媒リガンド複合体)としては例えば、酢酸パラ
ジウム、Pd(dba)、Π一アリルパラジウムクロリドダイマー、PdCl(C
CN)、PdCl(PPh2、トリアルキルプロアザホスファトラン、{P
(t−Bu)PdBr}、PPh、P(o−tol)、BINAP、DPPF、
P(t−Bu)、DavePhos、JohnPhos、c−Hexyl JohnP
hos、S−Phos、X−Phos、t−ButylX−Phos、Xantphos
、4,5−ビス[ビス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ホスファニル]−9
,9−ジメチル−9H−キサンテン、1,3−ジアリルジヒドロイミダゾリウム塩などを
使用することができる。
工程V−2
保護基の脱保護工程である。AがO、Sの場合の保護基は例えばt−ブチル基、ベン
ジル基、置換ベンジル基、Oの場合はt−ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラニ
ル基、NHの場合はt−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、メタンス
ルホニル基、トリフルオロアセチル基などを用いることができるがこれらの脱保護は例え
ば、「Greene and Wuts, “Protective Groups i
n Organic Sythesis”(第4版,John Wiley & Son
s 2007年)」に記載の方法を挙げることができ、これらを保護基の種類に応じて適
宜用いればよい。
工程V−3
α−アリール環状ケトン誘導体Vcのベンゾフラン誘導体、ベンゾチオフェン、インド
ールVdへの環化工程である。反応は酸触媒による条件、あるいは脱水条件の使用により
実施することができ例えばActa Pharmaceutica Hungarica
(2003), 73(3), 171−178.記載の条件を使用することが
できる。また水酸基の保護基の選択によってはHeterocycles, 26(7)
, 1863−71; 1987記載条件のように工程V−2の脱保護工程と同時に進行
させることも可能である。脱水条件としてはトリフルオロメタンスルホン酸などの酸無水
物と有機塩基の組み合わせなどを用いることができる。
工程V−4
4環性化合物Vdの11位ベンジル位における酸化の工程である。当工程は触媒の存
在下または非存在下、酸化剤を溶媒中、基質に作用させることによって行われ、−20℃
〜溶媒沸点の反応条件で行われ例えばJournal of Medicinal Ch
emistry, 51(13), 3814−3824; 2008に記載の方法を使
用可能である。
反応に用いる酸化剤ならびに触媒としてはDDQ、mCPBAなどの過酸、硝酸アンモ
ニウムセリウム (IV) (CAN)、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸バリウム
などの過マンガン酸塩、亜塩素酸ナトリウム、過酸化水素、N−ヒドロキシフタルイミド
などを単独あるいは組み合わせて使用することができる。反応に用いる溶媒としては水、
t−ブタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、酢酸エチルな
どおよびそれらの混合物を挙げることができる。
製造方法VI
式(I)においてAがSで表される化合物の骨格を構築する方法の一つである。
工程VI−1
オルソ位にチオールを持つイリドVIaおよびアシルクロリドVIbの反応によるベン
ゾチオフェン環の構築反応である。反応は塩基の存在下行うことができ例えばSynth
esis, (2), 155−7; 1988に記載の条件を挙げることができる。
塩基としては例えばn−ブチルリチウム、ナトリムメチラート、トリエチルアミンなどを
使用することができる。
工程VI−2
芳香族カルボン酸の合成反応である。反応は塩基の存在下ハロゲン−メタル交換を利用
してリチオ化、マグネシオ化などメタル化を行った後に炭酸ガス、ドライアイス等でカル
ボキシル化を行うことによって実施でき例えばJournal of Organic
Chemistry (2008), 73(19), 7785−7788に記
載の条件を用いることができる。塩基としては例えばn−ブチルリチウム、s−ブチルリ
チウム、t−ブチルリチウム、グリニャール試薬、種々のアート錯体を使用することがで
きる。あるいはe−EROS Encyclopedia of Reagents f
or Organic Synthesis 2001年、電子版http://ww
w3.interscience.wiley.com/cgi−bin/mrwhom
e/104554785/HOMEに記載のような遷移金属触媒を用いたカルボキシル化
条件を用いることも可能である。
工程VI−3
本工程は2−置換ベンゾチオフェン誘導体VIdの3位において触媒的、非触媒的に分
子内環化を行う反応であり例えばJournal of the American C
hemical Society, 130(23), 7286−7299; 200
8記載の条件などが使用可能である。反応はポリリン酸、methanesulfoni
c acid−phosphorus pentoxide(イートン試薬)などの縮合
剤を用いて実施することが可能である。またはカルボン酸をカルボン酸クロリド、混合酸
無水物などに変換後ルイス酸触媒の存在下フリーデルクラフツ条件で環化させることもで
き、この際用いるルイス酸触媒としては塩化アルミニウム、アルミニウムトリフレート、
ビスマストリフレート、イッテルビウムトリフレート、BF・OEtなどを用いるこ
とができる。
製造方法VII 官能基変換、官能基修飾
式(I)中の官能基PR〜PR10は当業者に公知の官能基変換、官能基修飾法を用
いて種々の置換基を導入することができる。以下に代表的な官能基変換について述べる。
なお下記の工程において反応式は四環性化合物を構築した後におけるPR、PRの例
を特定して挙げたが、上記製造方法I〜VIで説明した任意の工程中の中間体、最終化合
物において実施が可能であり、PR〜PR、R〜PR10の任意の置換位置で行う
ことができる。
下記式中、Q、QはPR〜PR、R〜PR10を構成する任意の置換基を意味
する。
工程VII−1
芳香族水酸基の保護基の脱保護工程であり、保護基は例えばメチル基、t−ブチル基、
ベンジル基、置換ベンジル基、t−ブチルジメチルシリル基、テトラヒドロピラニル基な
どを用いることができ望ましくはメチル基である。これらの脱保護は例えば、「Gree
ne and Wuts, “Protective Groups in Organ
ic Sythesis”(第4版,John Wiley & Sons 2007年
)」に記載の方法を挙げることができ、これらを保護基の種類に応じて適宜用いればよい
。保護基にメチル基を用いた場合の脱保護法には種々の反応条件を反応性に応じて使い分
けることができ、例としてはピリジン塩酸塩中加熱条件、溶媒中ドデカンチオールとナト
リウムメチラートと加熱条件、溶媒中無水リチウムハライドと加熱条件、3臭化ホウ素、
TMSIなどを挙げることができる。
工程VII−2
芳香族の水酸基からエーテル結合の形成により置換基導入する手法の一つである。エーテ
ル結合の形成には例えば公知の文献(Mitsunobuら、Synthesis、第1
号、第1頁、1981年)に記載の光延法あるいは類似の手法を用いることができリン化
合物およびアゾ化合物の存在下溶媒中で−78℃〜溶媒沸点の反応温度で行われる。リン
化合物としては例えばPPh、トリ−n−ブチルホスフィンなどが挙げられまたアゾ化
合物としては例えばDEAD、TMAD、アゾジカルボン酸ジイソプロピルなどを挙げる
ことができ、これらを任意に組み合わせてもちいることにより目的化合物を得ることがで
きる。
工程VII−3
芳香族の水酸基に対しトリフルオロメタンスルホニル化を行う工程である。反応は塩基の
存在下溶媒中あるいは無溶媒でトリフルオロメタンスルホン酸などの反応試薬を−20℃
〜溶媒沸点で反応させることにより行われる。反応に用いられる塩基としてはTEA、D
IPEA、ピリジン、2,6−ルチジン、ジメチルアミノピリジンなどが使用可能であり
、望ましくはピリジンを無溶媒で用いる。得られたトリフルオロメタンスルホン酸エステ
ルVIIdは良好な脱離基として種々の誘導化に用いることができる。
工程VII−4
芳香族の水酸基に対しスルファモイル化を行いスルファミン酸エステルを得る工程である
。反応は塩基の存在下溶媒中あるいはスルファモイルクロリドなどの反応試薬を−20℃
〜溶媒沸点で反応させることにより行われる。反応に用いられる塩基としては水素化ナト
リウム、TEA、DIPEA、ピリジン、2,6−ルチジン、ジメチルアミノピリジンな
どが使用可能であり、望ましくは水素化ナトリウムである。得られたスルファミン酸エス
テルVIIeは工程VII−5のチアフリース転位の基質として種々の誘導化に用いるこ
とができる。
工程VII−5
本工程はスルファミン酸エステルの隣接位が無置換(C−H)の場合ルイス酸触媒の存在
下、0℃〜溶媒沸点の反応条件でスルファモイル基を隣接位に転位させる反応であり、チ
アフリース転位と呼ばれる反応である。反応に用いる触媒としては塩化アルミニウム、ア
ルミニウムトリフレート、ビスマストリフレート、イッテルビウムトリフレート、BF
・OEtなどを用いることができ、望ましくは塩化アルミニウムである。
工程VII−6
エーテル結合の形成により置換基導入する工程の別の手法である。本工程においては適
当な塩基の存在下にアルキルハライドなど適当な脱離基を持つ試薬を化合物VIIbの水
酸基と求核的に反応させエーテル結合を形成する。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の無
機塩基、あるいはピリジン、TEA、DIPEAの有機塩基が挙げられる。
また脱離基を持つ試薬としてアリールハライド、アリールホウ酸などを用いることにより
ジアリールエーテル結合の形成も使用可能である。反応性が十分でない場合は銅粉末、酢
酸銅、ヨウ化銅などの触媒、フェナントロリン、trans−1,2−シクロヘキサンジ
アミンなどの配位子の使用が可能である。
工程VII−7
脱離基を持つ化合物VIIgを用いたアリール−ヘテロ原子結合反応であり反応は反応に
不活性な適当な溶媒中、塩基の存在下行われる。脱離基LGとしては、ハロゲン、トリフ
ラートなどが使用可能である。溶媒としては例えばトルエン、キシレン、n−ヘキサン、
シクロヘキサン、DMF、DMA、EtOAc、DMSO、NMP、THF、DME,ジ
オキサン、アセトニトリルなどおよびそれらの混合物を挙げることができる。反応に用い
られる塩基としては例えばt−BuONa、t−BuOK、LiHMDS、NaHMDS
、KHMDS、リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどを用
いることができる。当工程は触媒、配位子を用いて行うことも可能であり、触媒とリガン
ド(あるいは触媒リガンド複合体)としては例えば、酢酸パラジウム、Pd(dba)
、Π一アリルパラジウムクロリドダイマー、PdCl(CHCN)、PdCl
(PPh2、トリアルキルプロアザホスファトラン、{P(t−Bu)PdBr}
、PPh、P(o−tol)、BINAP、DPPF、P(t−Bu)、Dav
ePhos、JohnPhos、c−Hexyl JohnPhos、S−Phos、X
−Phos、t−ButylX−Phos、Xantphos、4,5−ビス[ビス(3
,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ホスファニル]−9,9−ジメチル−9H−キ
サンテン、1,3−ジアリルジヒドロイミダゾリウム塩などを使用することができる。
工程VII−8
工程VII−7の反応成績体がチオエーテルVIIhの場合、mクロロ過安息香酸、オキ
ソン、TEMPO等で酸化することによりスルホキシド、スルホン化合物VIIjに導く
ことが可能である。
工程VII−9
脱離基を持つ化合物VIIgを用いたアリール−SP炭素、アリール−SP炭素結
合反応であり、反応は反応に不活性な適当な溶媒中、塩基の存在下行われる。脱離基LG
としては、ハロゲン、トリフラートなどが使用可能である。溶媒としては例えばトルエン
、キシレン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、DMF、DMA、EtOAc、DMSO、
NMP、THF、DME、ジオキサン、アセトニトリル、水、イソプロパノール、などお
よびそれらの混合物を挙げることができる。反応に用いられる塩基としては例えばt−B
uONa、t−BuOK、LiHMDS、NaHMDS、KHMDS、リン酸カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、TEA,DIPEA,などを用いること
ができる。当工程は触媒、配位子を用いて行うことも可能であり、触媒とリガンド(ある
いは触媒リガンド複合体)としては例えば、酢酸パラジウム、Pd(dba)、Π一
アリルパラジウムクロリドダイマー、PdCl(CHCN)、PdCl(PPh
2、トリアルキルプロアザホスファトラン、{P(t−Bu)PdBr}、PP
、P(o−tol)、BINAP、DPPF、P(t−Bu)、DavePho
s、JohnPhos、c−Hexyl JohnPhos、S−Phos、X−Pho
s、t−ButylX−Phos、Xantphos、4,5−ビス[ビス(3,5−ビ
ストリフルオロメチルフェニル)ホスファニル]−9,9−ジメチル−9H−キサンテン
、1,3−ジアリルジヒドロイミダゾリウム塩などを使用することができる。
工程VII−10
脱離基を持つ化合物VIIgを用いたカルボキシル化反応であり、反応は例えば反応に
不活性な適当な溶媒中、塩基、触媒の存在下、ギ酸(あるいはその合成等価体)を反応さ
せることにより実施される。脱離基LGとしては、ハロゲン、トリフラートなどが使用可
能である。溶媒、触媒の選択は工程VII−9と同様である。
工程VII−11
カルボン酸VIImを用いたアミド化反応であり、種々のアミン類、例えばアンモニア
、1級アミン、2級アミン、ヒドラジン、置換ヒドラジン類など脱水縮合させることによ
り実施できる。この反応は酸ハロゲン化剤または脱水縮合剤の存在下、活性エステル化剤
の存在または非存在下、塩基の存在または非存在下、非プロトン性溶媒中、−20℃〜溶
媒沸点の反応条件で行われる。
酸ハロゲン化剤としては例えば塩化オキサリル、塩化チオニル等を挙げることができる
。脱水縮合剤としては例えば1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、2−
エトキシ−1−エトキシカルボニル−1,2−ジヒドロキノリン(EEDQ)、ブロモ−
トリス(ピロリジノ)−ホスホニウム ヘキサフルオロホスファート(PyBrOP)、
EDC、(ベンゾトリアゾールイルオキシ)トリピロリジノ−ホスホニウム=ヘキサフル
オロホスファート(PyBOP)などを挙げることができる。活性エステル化剤としては
例えばHOBt、炭酸ジ(N−スクシンイミジル)、カルボニルジイミダゾール等を挙げ
ることができる。塩基としては例えばTEA、DIPEA、DBU等を挙げることができ
る。溶媒としては例えばDMF、DMA、DCM、アセトン、THF、ジオキサン、DM
E、酢酸エチル、MeCN、およびそれらの混合物を挙げることができる。
工程VII−12
脱離基を持つ化合物VIIoを用いたアリール−SP炭素結合反応である。反応は適当
な溶媒中、触媒、塩基の存在下、触媒量の銅試薬の存在下あるいは非存在下末端アルキン
を反応させるもので園頭反応と呼ばれる。反応に用いられる試薬、条件は工程IV−1、
工程IV−3記載と同様である。園頭法の変法としてはTetrahedron, 63
(43), 10671−10683; 2007記載の手法がある。すなわちアルキン
としてプロパルギルブロミドを用い2級アミンなどを反応系に共存させることでプロパル
ギルアミンを導入することが可能である。
工程VII−13
脱離基を持つ化合物VIIoを用いたアリール−CN結合反応である。反応は例えばO
rganic Letters, 10(23), 5325−5328; 2008年
、Tetrahedron Letters, 49(32), 4693−4694;
2008年Bioorganic & Medicinal Chemistry,
16(13), 6489−6500; 2008年の条件を参考に適当な溶媒中、銅、
亜鉛またはパラジウム触媒の存在下、配位子の存在下または非存在下にCN源を作用さ
せることで実施させることができる。CN源としてはシアン化銅(I)、シアン化亜鉛
(II)、ヘキサシアノ化鉄(III)塩、シアン化ナトリウム、シアン化カリウムなど
を用いることができる。
原料化合物の合成
本発明の医薬の有効成分である化合物の原料化合物の一部は新規化合物であり、これらの化合物は公知の原料化合物と同様にして、あるいは当業者に公知の方法を用いて容易に合成できる。
以上、本発明の医薬の有効成分である式(I)の化合物の製造方法の一例を示したが、上述の反応工程に示した目的化合物の単離・精製は、抽出、濃縮、留去、結晶化、濾過、再結晶、各種クロマトグラフィーなどの通常の化学操作を適用して行うことができる。
本発明の医薬
本発明の医薬は、本発明のために有用な選択された化合物に加えて、薬学的に許容される担体を含む。本明細書において、「薬学的に許容される担体」という用語は、一種以上の適合性の固体または液体の賦形希釈剤またはカプセル化材料であって、哺乳類への投与に適したものを意味する。本明細書において、「許容される」という用語は、通常の使用条件下で組成物の医薬的な有効性を実質的に減少させるような反応をお互いに起こすことがないような方法で、組成物中の成分と対象化合物とが混合されうることを意味する。薬学的に許容される担体は、当然、処置されようとする、好ましくは動物、より好ましくは哺乳類への投与に適するように、十分に高い純度と十分に低い毒性を有していなければならない。
薬学的に許容される担体として用いられうる材料の例としては、乳糖、ブドウ糖、ショ
糖などの糖類;トウモロコシデンプン、ジャガイモデンプンなどのデンプン類;セルロー
ス及びカルボキシメチルセルロースナトリウム、エチルセルロース、メチルセルロースな
どの誘導体;トラガカントガム粉末;麦芽;ゼラチン;タルク;ステアリン酸やステアリ
ン酸マグネシウムなどの固形潤滑剤;硫酸カルシウム;ピーナッツ油、綿実油、ゴマ油、
オリーブ油、コーン油、植物油、カカオ油などの植物油;プロピレングリコール、グリセ
リン、ソルビトール、マンニトール及びポリエチレングリコールなどの多価アルコール;
アルギン酸;TWEENのような乳化剤;レシチンのような湿潤剤;着色剤;香料;錠剤化剤(
tabletingagent);安定化剤;坑酸化剤;防腐剤;パイロジェンフリー水;等張塩水溶液
;及びリン酸緩衝液などがあげられる。
本発明の医薬を、ALK阻害剤、増殖性疾患の治療剤又は予防剤、あるいは、うつ、または認知機能障害として使用する場合、その投与方法は、経口的、直腸的、非経口的(静脈内的、筋肉内的、皮下的)、槽内的、膣内的、腹腔内的、膀胱内的、局所的(点滴、散剤、軟膏、ゲルまたはクリーム)投与および吸入(口腔内または鼻スプレー)などが挙げられる。その投与形態としては、例えば錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、丸剤、水性および非水性の経口用溶液および懸濁液、および個々の投与量に小分けするのに適応した容器に充填した非経口用溶液が挙げられる。また投与形態は、皮下移植のような調節された放出処方物を包含する種々の投与方法に適応させることもできる。
上記の製剤は、賦形剤、滑沢剤(コーティング剤)、結合剤、崩壊剤、安定剤、矯味矯
臭剤、希釈剤などの添加剤を用いて周知の方法で製造される。
例えば、賦形剤としては、デンプン、バレイショデンプン、トウモロコシデンプン等の
デンプン、乳糖、結晶セルロース、リン酸水素カルシウム等を挙げることができる。
コーティング剤としては、例えば、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース
、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、セラック、タルク、カルナウバロウ、パラフィ
ン等を挙げることができる。
結合剤としては、例えばポリビニルピロリドン、マクロゴール及び前記賦形剤と同様の
化合物を挙げることができる。
崩壊剤としては、例えば前記賦形剤と同様の化合物及びクロスカルメロースナトリウム
、カルボキシメチルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学修飾さ
れたデンプン・セルロース類を挙げることができる。
安定剤としては、例えばメチルパラベン、プロピルパラベンのようなパラオキシ安息香
酸エステル類;クロロブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコールのよ
うなアルコール類;塩化ベンザルコニウム;フェノール、クレゾールのようなフェノール
類;チメロサール;デヒドロ酢酸;及びソルビン酸を挙げることができる。
矯味矯臭剤としては、例えば通常使用される、甘味料、酸味料、香料等を挙げることが
できる。
また、液剤を製造するための溶媒としては、エタノール、フェノール、クロロクレゾー
ル、精製水、蒸留水等を使用することができる。
界面活性剤又は乳化剤としては、例えば、ポリソルベート80、ステアリン酸ポリオキ
シル40、ラウロマクロゴール等を挙げることができる。
本発明の医薬を、ALK阻害剤、あるいは増殖性疾患の治療剤若しくは予防剤あるいはうつ、または認知機能障害として使用する場合、本発明の医薬の使用量は、症状、年齢、体重、相対的健康状態、他の投薬の存在、投与方法等により異なる。例えば、患者(温血動物、特に人間)に対して、一般に有効な量は、有効成分(式(I)で表される本発明の化合物)として、経口剤の場合、一日につき体重1kg当たり好ましくは0.001〜1000mg、さらに好ましくは体重1kg当たり0.01〜300mgであり、一日当たりの使用量は、普通の体重の成人患者に対しては、好ましくは1〜800mgの範囲にある。非経口剤の場合、一日につき体重1kg当たり好ましくは0.001〜1000mg、さらに好ましくは体重1kg当たり0.01〜300mgである。これを1日1回又は数回に分けて、症状に応じて投与することが望ましい。
また、本発明の医薬は、他の化学療法剤、ホルモン療法剤、免疫療法剤または分子標的薬などから選ばれる1種以上の薬剤(以下、併用薬剤と略記することがある)と組み合わせて用いてもよい。これらの活性成分は、低分子化合物であってもよく、また高分子の蛋白、ポリペプチド、抗体であるか、あるいはワクチン等であってもよい。また、活性成分は、2種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。
例えば、該「化学療法剤」としては、例えばアルキル化剤、白金製剤、代謝拮抗剤、トポ
イソメラーゼ阻害剤、抗癌性抗生物質、植物由来抗癌剤などが挙げられる。「アルキル化
剤」としては、例えば、ナイトロジェンマスタード、塩酸ナイトロジェンマスタード−N
−オキシド、クロラムブチル、シクロフォスファミド、イホスファミド、チオテパ、カル
ボコン、トシル酸インプロスルファン、ブスルファン、塩酸ニムスチン、ミトブロニトー
ル、メルファラン、ダカルバジン、ラニムスチン、リン酸エストラムスチンナトリウム、
トリエチレンメラミン、カルムスチン、ロムスチン、ストレプトゾシン、ピポブロマン、
エトグルシド、アルトレタミン、アンバムスチン、塩酸ジブロスピジウム、フォテムスチ
ン、プレドニムスチン、プミテパ、リボムスチン、テモゾロミド、トレオスルファン、ト
ロフォスファミド、ジノスタチンスチマラマー、カルボコン、アドゼレシン、システムス
チン、ビゼレシンなどが挙げられる。「白金製剤」としては、例えば、カルボプラチン、
シスプラチン、ミボプラチン、ネダプラチン、オキサリプラチンなどが挙げられる。「代
謝拮抗剤」としては、例えば、メルカプトプリン、6−メルカプトプリンリボシド、チオ
イノシン、メトトレキサート、エノシタビン、シタラビン、シタラビンオクフォスファー
ト、塩酸アンシタビン、5−FU系薬剤(例、フルオロウラシル、テガフール、UFT、
ドキシフルリジン、カルモフール、ガロシタビン、エミテフールなど)、アミノプテリン
、ロイコボリンカルシウム、タブロイド、ブトシン、フォリネイトカルシウム、レボフォ
リネイトカルシウム、クラドリビン、エミテフール、フルダラビン、ゲムシタビン、ヒド
ロキシカルバミド、ペントスタチン、ピリトレキシム、イドキシウリジン、ミトグアゾン
、チアゾフリン、アンバムスチンなどが挙げられる。トポイソメラーゼI阻害薬(例、イ
リノテカン、トポテカンなど)、トポイソメラーゼII阻害薬(例えば、ソブゾキサンな
ど)、「抗癌性抗生物質」としては、例えば、アントラサイクリン系抗癌薬(塩酸ドキソ
ルビシン、塩酸ダウノルビシン、塩酸アクラルビシン、塩酸ピラルビシン、塩酸エピルビ
シンなど)、アクチノマイシンD、アクチノマイシンC、マイトマイシンC、クロモマイ
シンA3、塩酸ブレオマイシン、硫酸ブレオマイシン、硫酸ペプロマイシン、ネオカルチ
ノスタチン、ミスラマイシン、ザルコマイシン、カルチノフィリン、ミトタン、塩酸ゾル
ビシン、塩酸ミトキサントロン、塩酸イダルビシンなどが挙げられる。「植物由来抗癌剤
」としては、例えば、ビンカアルカロイド系抗癌薬(硫酸ビンブラスチン、硫酸ビンクリ
スチン、硫酸ビンデシンなど)、タキサン系抗癌薬(パクリタキセル、ドセタキセルなど
)、エトポシド、リン酸エトポシド、テニポシド、ビノレルビンなどが挙げられる。
該「ホルモン療法剤」としては、例えば、副腎皮質ホルモン系薬剤(例、デキサメタゾン
、プレドニゾロン、ベタメタゾン、トリアムシノロンなど)が挙げられ、なかでもプレド
ニゾロンが好ましい。
該「免疫療法剤(BRM)」としては、例えば、ピシバニール、クレスチン、シゾフィラ
ン、レンチナン、ウベニメクス、インターフェロン、インターロイキン、マクロファージ
コロニー刺激因子、顆粒球コロニー刺激因子、リンホトキシン、BCGワクチン、コリネ
バクテリウムパルブム、レバミゾール、ポリサッカライドK、プロコダゾールなどが挙げ
られる。
該「分子標的薬」は「細胞増殖因子ならびにその受容体の作用を阻害する薬剤」等を含み
、「細胞増殖因子」としては、細胞の増殖を促進する物質であればどのようなものでもよ
く、通常、分子量が20,000以下のペプチドで、受容体との結合により低濃度で作用
が発揮される因子が挙げられ、具体的には、(1)EGF(epidermal growth factor)ま
たはそれと実質的に同一の活性を有する物質〔例、EGF、ハレグリン(HER2リガン
ド)など〕、(2)インシュリンまたはそれと実質的に同一の活性を有する物質〔例、イ
ンシュリン、IGF(insulin-like growth factor)−1、IGF−2など〕、(3)FG
F(fibroblast growth factor)またはそれと実質的に同一の活性を有する物質〔例、酸
性FGF、塩基性FGF、KGF(keratinocyte growth factor)、FGF-10など〕
、(4)VEGF(vascular endothelial growth factor)、(5)その他の細胞増殖因子
〔例、CSF(colony stimulating factor)、EPO(erythropoietin)、IL−2(in
terleukin-2)、NGF(nervegrowth factor)、PDGF(platelet-derived growth fa
ctor)、TGFβ(transforminggrowth factorβ)、HGF(hepatocyte growth fact
or)、など)などがあげられる。
該「細胞増殖因子の受容体」としては、上記の細胞増殖因子と結合能を有する受容体であ
ればいかなるものであってもよく、具体的には、EGF受容体、ハレグリン受容体(HE
R2)、インシュリン受容体、IGF受容体、FGF受容体−1またはFGF受容体−2
、HGF受容体(c−met)、VEGF受容体、SCF受容体(c−kit)などがあ
げられる。該「細胞増殖因子の作用を阻害する薬剤」としては、ハーセプチン(HER2
抗体)、GLEEVEC(c−kit、abl阻害薬)、Iressa(EGF受容体阻
害薬)などがあげられる。
また、一つの薬剤で複数の細胞増殖因子の作用を阻害する薬剤や、細胞増殖因子よって発
せられる細胞内の情報を遮断する薬剤も含まれる。
前記の薬剤の他に、L−アスパラギナーゼ、アセグラトン、塩酸プロカルバジン、プロト
ポルフィリン・コバルト錯塩、水銀ヘマトポルフィリン・ナトリウム、分化誘導剤(例、
レチノイド、ビタミンD類など)、血管新生阻害薬、α−ブロッカー(例、塩酸タムスロ
シンなど)なども用いることができる。
上記した中でも、併用薬としては、白金錯体(例、カルボプラチン、シスプラチン、オキ
サリプラチンなど)、代謝拮抗剤(例、ゲムシタビン、ペメトレキセドなど)、トポイソ
メラーゼI阻害薬(例、イリノテカン、トポテカンなど)、植物由来抗癌剤(タキサン系
薬剤(例、パクリタキセル、ドセタキセル)、ビノレルビン)、抗癌性抗生物質(例、マ
イトマイシンC)等、さらに、ホルモン療法剤(例、プレドニゾロン)、免疫療法剤(例
、ピシバニール、クレスチンなど)、分子標的薬(例、ベバシズマブ等抗VEGF抗体、
エルロチニブ等EGFR阻害剤、スニチニブ等VEGFR阻害剤)などが好ましい。さら
に、シスプラチン、ゲムシタビン、パクリタキセル、ベバシズマブなどが好ましい。また
、これら薬剤の併用療法と併用して用いることもできる。例えば、シスプラチンとビンブ
ラスチンとマイトマイシンC、シスプラチンとビノレルビン、シスプラチンとパクリタキ
セル、シスプラチンとゲムシタビン、カルボプラチンとパクリタキセル、ペメトレキセド
とシスプラチン、ベバシズマブとシスプラチンとペメトレキセド等の併用療法に組み合わ
せた併用が挙げられる。
本発明の固形製剤および併用薬剤の投与時期は限定されず、これらを投与対象に対し、同
時に投与してもよいし、時間差をおいて投与してもよい。また、本発明の固形製剤および
併用薬剤を、これらを含む単一の製剤として投与対象に投与してもよい。例えば、3〜6
ヵ月にわたり、複数の薬を組み合わせて点滴注射する多剤併用療法や、約2年間にわたっ
て経口剤を服用する方法などがある。
また、既に散らばってしまっているがん細胞を抑え、転移による再発を防ぐためや、手術
範囲を小さくする目的で、手術施行前に「化学療法」などの術前補助療法を行うこともあ
る。
さらには、手術や放射線などの局所的治療だけでは充分でなく、残っているがん細胞の発
育を抑え、転移による再発を防ぐために、「化学療法」などの術後補助療法が行われるこ
ともある。
さらには、併用する抗がん剤は、がん細胞と同時に正常な細胞にも作用し、それが副作用
となって現れる。代表的な副作用には、消化器粘膜の障害による吐き気、嘔吐、食欲不振
、口内炎、下痢あるいは便秘、味覚異常、骨髄の障害による白血球・赤血球・血小板の減
少・脱毛、免疫力の低下などがあり、これらを抑制するための副作用軽減薬を併用するこ
ともできる。例えば、吐き気を効果的に抑える制吐剤(例、グラニセトロン塩酸塩)や、
骨髄障害の回復を早める薬(例えば、エリスロポイエチン、G−CSF、GM−CSF)
等が挙げられる。
併用薬剤の投与量は、臨床上用いられている用量を基準として適宜選択することができる
。また、本発明の固形製剤と併用薬剤の配合比は、投与対象、投与ルート、対象疾患、症
状、組み合わせなどにより適宜選択することができる。例えば投与対象がヒトである場合
、固形製剤1重量部に対し、併用薬剤を0.01ないし100重量部用いればよい。
以下に本発明の医薬の有効成分である化合物の製造例を示す。
NMR解析
JEOL社製JNM−EX270(270MHz)あるいは同社製JNM−GSX400
(400MHz)、Varian社製400MR(400MHz)を用いて行ない、NM
Rデータは、ppm(parts per million)(δ)で示し、サンプル溶
媒からのデューテリウムロック信号を参照した。
質量スペクトル
JEOL社製JMS−DX303あるいは同社製JMS−SX/SX102Aを用いて得
た。
高速液体クロマトグラフィーを備えた質量スペクトルデータ(LC−MS
Waters社製996−600E勾配高速液体クロマトグラフィー付きマイクロマス(
micromass社製ZMD)あるいはWaters社製2525勾配高速液体クロマ
トグラフィー付きマイクロマス(micromass社製ZQ)を用いて得た。
高速液体クロマトグラフィーの条件は、下記表1のいずれかを用いた。
マイクロウェーブ反応
CEM Microwave Technology社製ExplorerまたはBio
tage社製Initiatorによって、スナップキャップ反応バイアルを用いて行わ
れた。最大出力のセッティングはマイクロウェーブによる温度上昇を避けるための、反応
容器の空気冷却を含む。
市販の試薬は更に精製することなく用いた。室温とは20〜25℃程度の範囲をいう。
全ての非水性反応は窒素あるいはアルゴン雰囲気下で無水溶媒中実施した。減圧下濃縮あ
るいは溶媒留去は、ロータリーエバポレータを用いた。
化合物の調製において、好ましくない副反応が起こる可能性がある際は必要に応じ保護
基により官能基を保護し、標的分子を調製した後、前記保護基は除去した。保護基の選択
および脱着操作は、例えば、[Greene and Wuts, “Protecti
ve Groups in Organic Sythesis” (第4版,John
Wiley & Sons 2007)]に記載の方法により実施した。
[合成例]
[製造例1]
化合物A2
7−メトキシ−1、1−ジメチル−3、4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン


7−メトキシ−3、4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物A1、209g
、1.18mol)、テトラブチルアンモニウムハイドロゲンサルフェート(40g、0
.118mol)およびヨウ化メチル(162g、2.60mol)をTHF(500m
l)に室温にて懸濁し、攪拌しながら50%水酸化カリウム水溶液(400g)を5分か
けて加えた。内温が急激に上昇し環流が起こるが内温上昇が止まった後、攪拌を45分続
け、反応液を蒸留水1Lで希釈しCPME 1.5Lで2回抽出した。合わせた有機層を
洗浄し(蒸留水1Lx3)、無水硫酸ナトリウム上乾燥後、減圧下濃縮した。得られた粗
生成物をMeOH 1L及び蒸留水 500mlから再結晶し、標題化合物を無色針状結
晶(177g、73%)として得た。
H−NMR(400MHz, CDCl) δ: 1.43 (6 H, s),
2.65 (2H, t, 12Hz),3.02 (2H, t, 12Hz), 3
.79 (3H, s), 6.74 (1H, m),6.87 (1H, m),7
.24 (1H, m).
LCMS: m/z 205 [M+H]
[製造例2]
化合物A3−1、化合物A3−2
3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール
1−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール

7−メトキシ−1、1−ジメチル−3、4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、66.2g、324mmol)および3−ブロモフェニルヒドラジン塩酸塩(
71.0g、318mmol)をAcOH(350ml)に溶解し6時間環流攪拌した。
反応溶媒を減圧下留去し、標題化合物A3−1、A3−2の混合物として、粗生成物を得
た。
[製造例3]
化合物A4
3−ブロモ−8−メトキシ−6、6−ジメチル−5、6−ジヒドロベンゾ[b]カルバゾ
ール−11−オン


上記で得られた粗生成物(A3−1、A3−2の混合物)をTHF(450ml)と蒸留
水(50ml)の混合溶媒に溶解し、DDQ(115g、509mmol)を一度に加え
、1時間室温にて攪拌した。反応混合物をCPME 3Lで希釈し、有機層を0.5N水
酸化ナトリウム水溶液1Lで3回、蒸留水1Lで2回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上
乾燥した。有機層を減圧下500mlまで濃縮し、析出した生成物をろ集後、少量のCP
MEで洗浄し、標題化合物を黄色結晶(48g、40%)として得た。
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 1.73 (6 H, s)
, 3.90 (3H, s), 7.06−7.09 (1H, m), 7.32−
7.38 (2H, m), 7.65−7.66 (1H, m), 8.09−8.
17 (2H, m),12.32 (1H, br.s).
LCMS: m/z 370、372 [M+H]
[製造例4]
化合物AA1
4−メトキシ−2−(3−トリメチルシラニルプロパ−2−イニル)−安息香酸メチルエ
ステル


2−ブロモメチル−4−メトキシ−安息香酸メチルエステル(961mg、4.09mm
ol)のTHF(16ml)溶液にトリフェニルホスフィン(107mg、0.1当量)
、炭酸セシウム(1.87g、1.4当量)、ヨウ化銅(59mg、0.076当量)、
トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(86mg、0.023当量)を加え脱
気、窒素置換した後、トリメチルシリルアセチレン(734μl、1.3当量)を加え、
55℃で一晩攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出
し、有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(茶色油状物、606mg、54%)
を得た。
H−NMR(400MHz、CDCl) δ: 7.93 (1H, d, J =
8.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 2.6 Hz), 6.78
(1H, dd, J = 8.8, 2.6 Hz), 4.09 (2H, s)
, 3.86 (3H, s), 3.84 (3H, s), 0.14(9H, s
).
LCMS: m/z 277 [M+H]
HPLC保持時間: 3.30分 (分析条件U)
[製造例5]
化合物AA2
2−(1,1−ジメチル−3−トリメチルシラニルプロパ−2−イニル)−4−メトキシ
−安息香酸メチルエステル


4−メトキシ−2−(3−トリメチルシラニル−プロパ−2−イニル)−安息香酸メチル
エステル(化合物AA1、273mg、0.988mmol)のトルエン(4ml)溶液
にナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド(2.1ml、1.9M溶液、4当量)と
ヨードメタン(308μl、5当量)を−78℃で加えた後、室温に昇温し2時間攪拌し
た。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和塩
化ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去
後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へ
キサン)で精製し、標題化合物(黄色油状物、226mg、75%)を得た。
H−NMR(400MHz、CDCl) δ: 7.45 (1.0H, d, J
= 8.4 Hz), 7.09 (1.1H, d, J = 2.6 Hz),
6.75 (1H, m), 3.84 (3H, s), 3.82 (3H, s)
, 1.70 (6H, s), 0.14(9H, s)
LCMS: m/z 305 [M+H]
HPLC保持時間: 3.38分 (分析条件U)
[製造例6]
化合物AA3
2−(1,1−ジメチルプロパ−2−イニル)−4−メトキシ−安息香酸メチルエステル


2−(1,1−ジメチル−3−トリメチルシラニルプロパ−2−イニル)−4−メトキシ
−安息香酸メチルエステル(化合物AA2、912mg、3mmol)のTHF(18m
l)溶液にテトラブチルアンモニウムフルオリド(2.061g、2.6当量)を加えた
後、室温で3時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで
抽出し、有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(黄色油状物、524mg、75
%)を得た。
H−NMR(400MHz、CDCl) δ: 7.44 (1H, d, J =
8.4 Hz), 7.05 (1H, d, J = 2.3 Hz), 6.76
(1H, dd, J = 8.4, 2.3 Hz), 3.84 (3H, s)
, 3.82 (3H, s), 1.73 (6H, s)
LCMS: m/z 223 [M+H]
HPLC保持時間: 2.55分 (分析条件U)
[製造例7]
化合物AA4
2−[1−(6−シアノ−1−メタンスルホニル−1H−インドール−2−イル)−1−
メチルエチル]−4−メトキシ−安息香酸 メチル エステル


2−(1,1−ジメチルプロパ−2−イニル)−4−メトキシ−安息香酸メチルエステル
(化合物AA3、134mg、0.577mmol)とN−(2−ブロモ−5−シアノフ
ェニル)メタンスルホンアミド(化合物AA5、167mg、1.05当量)のDMF(
2ml)溶液にヨウ化銅(9mg、0.08当量)とTEA(129μl、1.6当量)
を加え脱気、窒素置換した後、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(2
0mg、0.05当量)を加え再び脱気、窒素置換した。90℃にて2時間攪拌した後、
反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後
、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(
白色固体、152mg、62%)を得た。
H−NMR(400MHz、DMSO−D) δ: 8.19 (1H, dd,
J = 0.6, 0.6 Hz), 7.84 (1H, dd, J = 8.0,
0.6 Hz), 7.67 (1H, dd, J = 8.0, 1.3 Hz)
, 7.13 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.99 (1H, s)
, 6.96 (1H,br. s), 6.85 (1H, dd, J = 8.4
, 2.5 Hz), 3.78 (3H, s), 3.12 (3H, s), 3
.09 (3H, br.s),1.89 (6H, s).
LCMS: m/z 427 [M+H]
HPLC保持時間: 2.77分 (分析条件U)
[製造例8]
化合物AA5
N−(2−ブロモ−5−シアノフェニル)メタンスルホンアミド


3−アミノ−4−ブロモ−ベンゾニトリル(1.98g、10mmol)TEA(5.0
6g、50mmol)、塩化メチレン(50ml)の混合物にメシルクロリド(2.71
ml、35mmol)を0℃で加え、室温で30分撹拌した。反応液に水を注ぎ、ジクロ
ロメタンで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して
得られた残渣にテトラヒドロフラン(100ml)、水(400μl)、水素化ナトリウ
ム(540mg、15.5mmol)を加え、室温で16時間攪拌した。反応液に飽和塩
化アンモニウム水溶液(200ml)を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル)で精製し、標題化合物(2.48g、90%)を
得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 9.82 (1H, s)
, 7.87 (1H, d, J=4Hz), 7.75 (1H, d, J=8H
z), 7.70 (1H, dd, J=8Hz, 4Hz), 3.14(3H,
s)
HPLC保持時間: 1.63分 (分析条件U)
[製造例9]
化合物AA6
2−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1H−インドール−6−カルボニトリル


N−(2−ブロモ−5−シアノフェニル)メタンスルホンアミド(化合物AA5、230
mg、1mmol)、3−メチル−2−ブチン−3−オル(0.15ml、1.5mmo
l)、X−Phos(72mg、15%mol)、PdCl(CHCN)(13m
g、5%mol)、炭酸セシウム(390mg、2mmol)にDMA(2ml)を加え
、100℃で3時間撹拌した。反応液に水、5N塩酸を注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機
層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル)で精製し、標題化合物(130m
g、75%)を得た
H−NMR(400 MHz, CDCl) δ: 8.76 (1H, s),
7.68 (1H, s), 7.60 (1H, d, J=8Hz), 7.32
(1H, dd, J=8Hz, 4Hz), 6.37(1H, m), 1.93
(1H, s), 1.70(6H, s)
LCMS: m/z 201 [M+H]
HPLC保持時間: 2.12分 (分析条件U)
[製造例10]
化合物A5−1
3−ブロモ−8−ヒドロキシ−6、6−ジメチル−5、6−ジヒドロベンゾ[b]カルバ
ゾール−11−オン


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物A4より標題化合物を合成した。
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 12.30 (1H, s)
, 10.21 (1H, s), 8.06−8.11 (1H, m), 8.01
−8.05 (1H, m), 7.62−7.66 (1H, m), 7.32−7
.37 (1H, m), 7.08−7.12 (1H, m), 6.84−6.9
0 (1H, m), 1.69 (6H, s).
LCMS: m/z 356、358 [M+H]
HPLC保持時間: 2.30分 (分析条件U)
[製造例11]
化合物A5−2
8−メトキシ−6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル


(手法1)3−ブロモ−8−メトキシ−6、6−ジメチル−5、6−ジヒドロベンゾ[b
]カルバゾール−11−オン(化合物A4、10.45g、28.2mmol)およびシ
アン化第一銅(5.0g、50.2mmol)をNMP(100ml)に溶解し170℃
にて17時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル 500mLおよび蒸留水200mLに
懸濁し、不溶物をセライトろ過で除き、酢酸エチル(300mLx2)で洗浄した。有機
層をEDTA2ナトリウム塩水溶液200mLで1回、飽和食塩水200mLで2回順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上乾燥した。有機層を減圧下濃縮し、生成物を少量のCPM
Eで懸濁洗浄し、標題化合物を無色結晶(6.58g、73%)として得た。
(手法2)2−[1−(6−シアノ−1−メタンスルホニル−1H−インドール−2−イ
ル)−1−メチルエチル]−4−メトキシ−安息香酸 メチルエステル(化合物AA4、
138mg、0.324mmol)のTHF(5.6ml)溶液に、テトラブチルアンモ
ニウムフルオリド(514mg、6当量)を加え室温で一晩攪拌した後、2M−水酸化ナ
トリウム水溶液(5.6ml)を加え4時間攪拌し、1M−HClを加え酢酸エチルで抽
出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチル(10ml)に溶解
し4M−HCl酢酸エチル溶液(10ml)を加え室温で30分攪拌した。反応液を減圧
濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)
で精製し、標題化合物(89.2mg、62%)を得た。
(手法3)ニトロベンゼン(5ml)、塩化アルミニウム(400mg、3mmol)に
塩化 4−メトキシベンゾイル(400mg、2.3mmol)を加え、室温で30分撹
拌後、2−(1−ヒドロキシ−1−メチル−エチル)−1H−インドール−6−カルボニ
トリル(化合物AA6、200mg、1mmol)を加え、室温で3時間攪拌した。反応
液に水を注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去
後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸
エチル)で精製し、標題化合物(127mg、40%)を得た
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 1.71 (6 H, s)
, 3.89 (3H, s), 7.07−7.09 (1H, m), 7.34
(1H, s), 7.58−7.60 (1H, m), 7.99 (1H, s)
, 8.14−8.16 (1H, m),8.30−8.32 (1H, m), 1
2.32 (1H, br.s),
LCMS: m/z 317 [M+H]
HPLC保持時間: 2.56分 (分析条件U)
[製造例12]
化合物A6
8−ヒドロキシ−6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


8−メトキシ−6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物A5−2、6.58g、20.8mmo
l)を、ピリジン塩酸塩(25.0g)に溶解し、170℃にて13時間攪拌した。反応
混合物を酢酸エチル 400mLおよび蒸留水400mLで分配し、水層を酢酸エチル4
00mLで更に1回抽出した。合わせた有機層を蒸留水100mLで2回、飽和食塩水1
00mLで1回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上乾燥した。有機層を減圧下濃縮し生成
物を少量のCPMEで懸濁洗浄し、標題化合物を無色結晶(5.91g、93%)として
得た。
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 1.73 (6 H, s)
, 6.87−6.90 (1H, m), 7.11 (1H, s), 7.57−
7.59 (1H, m), 7.97 (1H, s), 8.04−8.06 (1
H, m),8.29−8.31 (1H, m), 10.27 (1H, s),
12.66 (1H, br.s),
LCMS: m/z 303 [M+H]
[製造例13]
化合物A7−1
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブ
チルエステル


8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物A6、30mg、0.099mmol
)をTHF(1mL)に溶解し、4−ヒドロキシ−ピペリジン−1−カルボン酸 ter
t−ブチルエステル(40mg、2当量)、トリフェニルホスフィン(52mg、2当量
)、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート(43μL、2当量)を順に加え、室温で4
時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(37mg、7
6%)を得た。
H−NMR(400MHz, CDCl) δ: 9.44 (1H, s), 8
.77 (1H, d, J = 7.8 Hz), 8.62 (1H, d, J
= 8.2 Hz), 8.00 (1H, s), 7.81 (1H, d, J
= 8.2 Hz), 7.34 (1H, s), 7.26 (1H, d, J
= 7.8 Hz), 4.85−4.93 (1H, m), 3.96−4.04
(2H, m), 3.60−3.70 (2H, m), 2.19−2.32 (2
H, m), 1.89−2.15 (8H, m), 1.74 (9H, s)
LCMS: m/z 430 [M+H]+
HPLC保持時間: 4.09分 (分析条件W)
[製造例14]
化合物A7−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−[2−(2−オキソ−イミダゾリジン−1−イル
)−エトキシ]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6と1−(2−ヒドロキシ−エチル)
−イミダゾリジン−2−オンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 415 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.96分 (分析条件W)
[製造例15]
化合物A7−3
[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−エチル]−カルバミン酸 tert−ブチ
ル エステル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6と(2−ヒドロキシ−エチル)−カ
ルバミン酸 tert−ブチル エステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 346 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件W)
[製造例16]
化合物A7−4
6,6−ジメチル−8−(2−メチルスルファニル−エトキシ)−11−オキソ−6,1
1−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6と2−メチルチオエタノールより、
標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 451 [M+H]
HPLC保持時間: 4.23分 (分析条件W)
[製造例17]
化合物A7−5
6,6−ジメチル−8−(2−メチルスルファニル−エトキシ)−5−(2−メチルスル
ファニル−エチル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−3−カルボニトリル


化合物A7−4の合成の際の副生成物として、標題化合物を得た。
LCMS: m/z 377 [M+H]
HPLC保持時間: 3.75分 (分析条件W)
[製造例18]
化合物A7−6
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(テトラヒドロ−ピラン−4−イルオキシ)−6
,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6とテトラヒドロピラン−4−オール
より、標題化合物を合成した。
H−NMR(400MHz、DMSO−d) δ: 12.72 (1H, br.
s), 8.32 (1H, d, 8.5 H z), 8.15 (1H, d,
8.5 Hz), 8.01 (1H, s), 7.61 (1H, d, 8.5
Hz), 7.38 (1H, s), 7.15 (1H, d, 8.5 Hz),
4.86−4.81 (1H, m), 3.93−3.88 (2H, m), 3
.58−3.52 (2H, m), 2.06−2.00 (2H, m), 1.8
5 (6H, s), 1.69−1.60 (2H, m)
LCMS: m/z 387 [M+H]
HPLC保持時間: 3.47分 (分析条件W)
[製造例19]
化合物A7−7
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(ピリジン−4−イルメトキシ)−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6とピリジン−4−イル−メタノール
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 394 [M+H]
HPLC保持時間: 2.56分 (分析条件W)
[製造例20]
化合物A7−8
8−(2−メトキシエトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6と2−メトキシエタノールより、標
題化合物を合成した。
H−NMR(400MHz、DMSO−d) δ: 11.69 (1H, br.
s), 8.27 (1H, d, 7.9 Hz), 8.10 (1H, d,
8.5 Hz), 7.95 (1H, s), 7.55 (1H, d, 7.9
Hz), 7.32 (1H, d, 2.4 Hz), 7.05 (1H, d,
8.5 Hz), 4.22 (2H, t, 4.3 Hz), 3.67 (2H,
t, 4.3 Hz), 1.72 (6H, s)
LCMS: m/z 361 [M+H]
HPLC保持時間: 3.38分 (分析条件W)
[製造例21]
化合物A7−9
8−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]−6,6−ジメチル−11−オキソ−6
,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6と2−(2−メトキシエトキシ)エ
タノールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 405 [M+H]
HPLC保持時間: 3.32分 (分析条件W)
[製造例22]
化合物A7−10
6,6−ジメチル−8−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A6と3−クロロメチル−3−メチル
オキセタンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 387 [M+H]
HPLC保持時間: 2.23分 (分析条件S)
[製造例23]
化合物A7−11−1
[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)エチル]エチル−カルバミン酸 tert−
ブチル エステル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6とエチル−(2−ヒドロキシ−エチ
ル)−カルバミン酸 tert−ブチル エステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 474 [M+H]
HPLC保持時間: 2.93分 (分析条件U)
[製造例24]
化合物A7−11−2
8−(2−エチルアミノエトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒ
ドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物A7−11−1より、標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 374 [M+H]
HPLC保持時間: 1.35分 (分析条件U)
[製造例25]
化合物A7−12
8−(2−ヒドロキシエトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A6と2−ブロモ−エタノールより、
標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 437 [M+H]
HPLC保持時間: 2.93分 (分析条件U)
[製造例26]
化合物A7−13−1
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(2−フェニル−[1,3]ジオキサン−5−イ
ルオキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6と2−フェニル−[1,3]ジオキ
サン−5−オールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 465 [M+H]
HPLC保持時間: 4.10分 (分析条件W)
[製造例27]
化合物A7−13−2
8−(2−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチルエトキシ)−6,6−ジメチル−11−オ
キソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


無水三塩化鉄(56mg、5当量)を6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(2−フェ
ニル−[1,3]ジオキサン−5−イルオキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物A7−13−1、13mg、0.028
mmol)のジクロロメタン(2mL)懸濁液に加え、室温で1時間攪拌した。反応液を
水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣を高速液体クロマトグラフィーで精製し
、標題化合物(7mg、46%)を得た。
LCMS: m/z 377 [M+H]
HPLC保持時間: 2.70分 (分析条件W)
[製造例28]
化合物A7−14−1
8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,
6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A6とトルエン−4−スルホン酸 (
R)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメチル エステルより、標
題化合物を合成した。
LCMS: m/z 417 [M+H]
HPLC保持時間: 3.47分 (分析条件Y)
[製造例29]
化合物A7−14−2
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


8−(2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カバゾール−3−カルボ
ニトリル(化合物A14−1、30mg、0.07mmol)のTHF/水溶液(4:1
、1mL)にカンファースルホン酸(36mg、0.14mmol)を室温で加えた。3
8時間、室温で攪拌した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。
乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジ
クロロメタン/メタノール)で精製し、標題化合物(白色固体、28mg、72%)を得
た。
1H−NMR(300MHz, DMSO−d) σppm; 12.7 (s,
1H), 8.31 (d, 1H, J=8.01Hz), 8.15 (d, 1H
, J=8.77 Hz), 8.00 (s, 1H), 7.60 (d, 1H,
J=8.01Hz), 7.12 (s, 1H), 7.09 (d, 1H, J
=8.77Hz), 4.46 (m, 1H), 4.15 (m, 3H), 3.
78 (m, 1H), 1.76 (s, 6H), 1.38 (s, 3H),
1.32 (s, 3H)
LCMS: m/z 377 [M+H]
HPLC保持時間: 1.80分 (分析条件U)
[製造例30]
化合物A7−14−3
8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−5,
6,6−トリメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−3−カルボニトリル


化合物B3−4の合成法と同様の条件で、化合物A7−14−1より粗生成物として標題
化合物を得た。
[製造例31]
化合物A7−14−4
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−5,6,6−トリメチル−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物A7−14−3より標題化合物(
303 mg,98%)を合成した。
LCMS: m/z 484 [M+H]
HPLC保持時間: 2.08分 (分析条件D)
[製造例32]
化合物A7−15−1
8−[(4R,5S)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6と[(4R,5R)−5−(ter
t−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキ
ソラン−4−イル]−メタノールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 516 [M+H]+
HPLC保持時間: 3.97分 (分析条件Y)
[製造例33]
化合物A7−15−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ
−ブトキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物A7−15−1より、標題化合物
を合成した。
LCMS: m/z 407 [M+H]
HPLC保持時間: 1.73分 (分析条件U)
[製造例34]
化合物A7−16
6,6−ジメチル−8−(1−メチル−ピペリジン−4−イルオキシ)−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6と1−メチルピペリジン−4−オー
ルより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400MHz、DMSO−d) δ: 12.75 (1H, s),
8.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 8.14 (1H, d,
J = 9.8 Hz), 8.00 (1H, s), 7.60 (1H, d,
J = 7.9 Hz), 7.34 (1H, s), 7.11 (1H, d,
J = 9.1 Hz), 4.62 (1H, m), 2.64 (2H, m),
2.23 (2H, m), 2.21(s、3H)、1.99 (2H, m),
1.77(s、6H)、1.73 (2H, m).
LCMS: m/z 400 [M+H]
HPLC保持時間: 1.42分 (分析条件S)
[製造例35]
化合物A7−17
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


8−ヒドロキシ−6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物A6、25mg、0.083mmol
)をN,N−ジメチルアセタミド(1mL)に溶解し、2−クロロエチルジエチルアミン
(16mg、1.1当量)、炭酸セシウム(54mg、2当量)を順に加え、100℃で
4時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し
、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をアミノシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(11
mg、32%)を得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 8.32 (1H, d,
J = 8.2 Hz), 8.15 (1H, d, J = 8.7 Hz),
8.01 (1H, s), 7.61 (1H, d, J = 8.2 Hz),
7.35 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.09 (1H, dd,
J = 8.7, 1.8 Hz), 4.19 (2H, t, J = 5.9 H
z), 2.83 (2H, t, J = 5.9 Hz), 2.58 (4H,
q, J = 7.0 Hz), 1.78 (6H, s), 1.00 (6H,
t, J = 7.0 Hz)
LCMS: m/z 402 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.52分 (分析条件W)
[製造例36]
化合物A7−18
N−[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−エチル]−アセトアミド


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A6と2−クロロエチルアセタミドよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 388 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.91分 (分析条件W)
[製造例37]
化合物A7−19
[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−エチル]−カルバミン酸エチルエステル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A6とエチル−2−クロロエチルカル
バメートより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 418 [M+H]+
HPLC保持時間: 3.35分 (分析条件W)
[製造例38]
化合物A7−20
[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−エチル]−ウレア


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A6と2−クロルエチルウレアより、
標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 399 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.80分 (分析条件W)
[製造例39]
化合物A7−21
6,6−ジメチル−8−(オキセタン−3−イルオキシ)−11−オキソ−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A6とトルエン−4−スルホン酸オキ
セタン−3−イル エステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 359 [M+H]
HPLC保持時間: 2.00分 (分析条件S)
[製造例40]
化合物A7−22
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(ピリミジン−2−イルオキシ)−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A6と2−ブロモピリミジンより、標
題化合物を合成した。
LCMS: m/z 381 [M+H]
HPLC保持時間: 2.00分 (分析条件S)
[製造例41]
化合物A7−23
(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−8−イルオキシ)−酢酸エチルエステル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A6と3−クロロ−プロピオン酸エチ
ルエステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 389 [M+H]
HPLC保持時間: 3.37分 (分析条件U)
[製造例42]
化合物A7−24
8−(2−ブロモ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1と同様の条件で、化合物A6と2−ブロモエタノールより、標題化合物を
合成した。
H−NMR(270MHz、DMSO−d) δ: 12.75 (1H, br.
s), 8.32 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.17 (1H,
d, J = 8.6 Hz), 8.01 (1H, s), 7.61 (1H,
dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.40 (1H, d, J = 2
.2 Hz), 7.12 (1H, dd, J = 8.6, 2.2 Hz),
4.50 (2H, t, J = 5.3 Hz), 3.88 (2H, t, J
= 5.3 Hz), 1.77 (6H, s).
LCMS: m/z 409、411 [M+H]
HPLC保持時間: 2.48分 (分析条件S)
[製造例43]
化合物A7−25
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(ピペリジン−4−イルメトキシ)−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル 塩酸塩


窒素雰囲気下、3−シアノ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化合物A6、85mg,0.28mmol)およ
びトリフェニルホスフィン(150mg,2等量)にTHF(2ml)を加え、4−ヒド
ロキシメチル−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブチル エステル(120mg
,2等量)およびアゾジカルボン酸ジエチル トルエン溶液 2.19規定(0.26m
L,2等量)を滴下し、室温で窒素雰囲気下12時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ジクロロメタン)で精
製し、4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシメチル)−ピペリジン−1−カルボン酸
tert−ブチル エステル(白色粉末、120mg)を得た。
得られた化合物に4N塩酸ジオキサン溶液を冷却しながら加えた。室温で2時間撹拌した
後、窒素気流で溶媒を除去し、ジエチルエーテルで洗浄した後、トルエンで共沸し、真空
下乾燥を行い濾取することにより、標題化合物(79mg)を得た。
LCMS: m/z 399 [M+H]
HPLC保持時間: 2.22分 (分析条件C)
[製造例44]
化合物A8−1
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(ピペリジン−4−イルオキシ)−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブ
チル エステル(化合物A7−1、35mg、0.072mmol)にTHF(0.5m
L)、TFA(0.5mL)を加えた後、室温で化合物A7−1が消失するまで攪拌した
。反応液を減圧濃縮後、残渣を陰イオン交換樹脂PL StratoSpheresTM
PL−HCO3 MPを用いて脱塩し、標題化合物(37mg、76%)を得た。
H−NMR (400 MHz, CDOD) δ: 8.38 (1H, d,
J = 7.9 Hz), 8.24 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7
.85 (1H, s), 7.53 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7
.27 (1H, s), 7.09 (1H, d, J = 8.5 Hz), 4
.67−4.76 (1H, m), 3.07−3.20 (2H, m), 2.7
7−2.87 (2H, m), 2.03−2.15 (2H, m), 1.80
(6H, s), 1.69−1.77 (2H, m)
LCMS: m/z 386 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.51分 (分析条件W)
[製造例45]
化合物A8−2
8−(2−アミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物A7−3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 346 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件W)
[製造例46]
化合物A8−3
8−(2−メタンスルホニル−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−8の合成法と同様の条件で、化合物A7−5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 409 [M+H]+
HPLC保持時間: 3.13分 (分析条件W)
[製造例47]
化合物A8−4
8−(2−メタンスルフィニル−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,1
1−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−3を合成した際の副生成物として、標題化合物を得た。
LCMS: m/z 393 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.87分 (分析条件W)
[製造例48]
化合物A8−5
5,6,6−トリメチル−11−オキソ−8−(テトラヒドロ−ピラン−4−イルオキシ
)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A10−1の合成法と同様の条件で、化合物A7−6より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 401 [M+H]
HPLC保持時間: 2.72分 (分析条件S)
[製造例49]
化合物A8−6−1
2−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物A5−2、50mg、0.158mmo
l)をCH3CN(1mL)に溶解し、NBS(56mg、2等量)を加え、80℃で一
昼夜攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣にMeOHを加
え、溶け残った固体を濾取することで目的物(黄色粉末、20mg、38%)を得た。
H−NMR(400MHz、DMSO−d) δ: 12.92 (1H, s),
8.50 (1H, s), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz),
8.14 (1H, s), 7.36 (1H, d, J = 2.4 Hz),
7.11 (1H, dd, J = 8.5, 2.4 Hz), 3.92 (3
H, s), 1.78 (6H, s).
LCMS: m/z 395、397 [M+H]
HPLC保持時間: 2.57分 (分析条件S)
[製造例50]
化合物A8−6−2
2−ブロモ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物A8−6−1より標題化合物を合成した。
H−NMR(400MHz、DMSO−d) δ: 8.46 (1H, s),
8.10 (1H, s), 8.05 (1H, d, J = 8.6 Hz),
7.13 (1H, d, J = 2.1 Hz), 6.89 (1H, dd,
J = 8.5, 2.1 Hz), 1.71 (6H, s).
LCMS: m/z 381、383 [M+H]
HPLC保持時間: 2.10分 (分析条件S)
[製造例51]
化合物A8−6−3
2−ブロモ−8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A8−6−2より標題化合物を合成し
た。
H−NMR(400MHz、CDOD) δ: 8.53 (1H, d, J =
0.5 Hz), 8.20 (1H, d, J = 8.7 Hz), 7.88
(1H, d, J = 0.5 Hz), 7.28 (1H, d, J = 2
.3 Hz), 7.05 (1H, dd, J = 8.9, 2.5 Hz),
4.24 (2H, t, J = 5.7 Hz), 2.96 (2H, t, J
= 5.7 Hz), 2.70 (4H, q, J = 7.1 Hz), 1.
79 (6H, s), 1.12 (6H, t, J = 7.2 Hz).
LCMS: m/z 480、482 [M+H]
HPLC保持時間: 1.73分 (分析条件S)
[製造例52]
化合物A8−7
(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−8−イルオキシ)−酢酸


(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−8−イルオキシ)−酢酸 エチル エステル(化合物A7−23、1
80mg、0.464mmol)と水酸化カリウム(130mg、2.32mmol)を
THF(10ml)と水(1.8mL)に溶解させ、70℃で2時間攪拌した。室温まで
冷却した後、ジクロロメタンで抽出した。水層を1規定塩酸で酸性にして、析出した固体
を濾取し、水で数回洗浄し、標題化合物(白色固体、130mg、78%)を得た。
1H−NMR(300MHz,DMSO) σppm 13.09(s, 1H), 8
.31(d, 1H, J=8.1Hz), 8.11(d, 1H, J=8.4Hz
), 8.01(s, 1H), 7.58(d, 1H, J=7.8Hz), 7.
25(d, 1H, J=2.1Hz), 6.97(d, 1H, J=8.4Hz)
, 4.51(s, 2H), 1.73(s, 6H)
LCMS: m/z 361 [M+H]
HPLC保持時間: 2.97分 (分析条件U)
[製造例53]
化合物A8−8
6,6−ジメチル−8−(2−モルホリン−4−イル−エトキシ)−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−17の合成法と同様の条件で、化合物A7−24とモルホリンより、標題化
合物を合成した。
1H−NMR(500MHz, CDOD+CDCl) σ ppm; 8.4(
d, 1H, J=8.2Hz), 8.3(d, 1H, J=8.7Hz), 7.
8(s, 1H), 7.5(dd, 1H, J=1.1Hz, J=8.2Hz),
7.2(d, 1H, J=2.3Hz), 7.0(dd, 1H, J=2.2H
z, J=8.7Hz), 4.2(t, 2H, J=5.3Hz), 3.7(t,
4H, J=4.5Hz), 2.9(t, 2H, J=5.3Hz), 2.6(
t, 4H, J=4.5Hz), 1.8(s, 6H)
LCMS: m/z 416 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件U)
[製造例54]
化合物A8−9
8−[2−(1,1−ジオキソチオモルホリノ)−エトキシ]−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成と同様の手法で、化合物A7−24とチオモルホリン−1,1−
ジオキシドより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 12.72 (1 H, s
), 8.31 (1 H, d, 8.5 Hz), 8.15 (1 H, d,
8.5 Hz),8.00 (1 H, s), 7.60 (1 H, d, 8.5
Hz), 7.36 (1 H, d, 1.8 Hz),7.10 (1 H, d
d, 1.8, 8.5), 4.25 (2 H, t, 5.5 Hz), 3.0
6−3.33 (8 H, m), 2.97 (2 H, t, 5.5), 1.7
7 (6 H, s)
LCMS: m/z 464 [M+H]
HPLC保持時間: 2.70分 (分析条件W)
[製造例55]
化合物A8−10
8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6
,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成と同様の手法で、化合物A7−24とtert−ブチルアミンよ
り、標題化合物を合成した。
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 12.71 (1 H,
s), 8.32 (1 H, d, 7.9 Hz), 8.15 (1 H, d,
9.1 Hz),8.07 (1 d, 1.8 Hz), 7.60 (1 H,
dd, 1.8, 7.9 Hz), 7.35 (1 H, d, 2.4 Hz),
7.09 (1 H, dd, 2.4, 9.1 Hz), 4.16 (2 H,
t, 6.1 Hz), 2.91 (2 H, t, 6.1 Hz), 1.77
(6 H, s), 1.08 (9 H, s)
LCMS: m/z 402 [M+H]
HPLC保持時間: 2.55分 (分析条件W)
[製造例56]
化合物A8−11
8−(2−sec−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−17の合成法と同様の条件で、化合物A7−24とsec−ブチルアミンよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 402 [M+H]
HPLC保持時間: 1.88分 (分析条件U)
[製造例57]
化合物A8−12
8−[2−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチル−エチルアミノ)−エトキシ]−6,6
−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物A8−17の合成法と同様の条件で、化合物A7−24と2−アミノ−2−メチル
−プロパン−1−オールより、標題化合物を合成した。
1H−NMR(300MHz, DMSO−d) σppm; 12.65(brs
, 1H), 8.31 (d, 1H, J=8.0Hz), 8.15(d, 1H
, J=8.8Hz), 7.99(s, 1H), 7.59(d, 1H, J=8
.0Hz), 7.34(d, 1H, J=2.3Hz), 7.08(dd, 1H
, J=2.2Hz, J=8.8Hz), 4.58(brs, 1H), 4.16
(t, 2H, J=5.7Hz), 3.20(s, 2H), 2.88(t, 2
H, J=5.7Hz), 1.76(s, 6H), 0.97(s, 6H),
LCMS: m/z 418 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.47分 (分析条件U)
[製造例58]
化合物A8−13
8−[2−(4−エチル−ピペラジン−1−イル)−エトキシ]−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物A8−17の合成法と同様の条件で、化合物A7−24と1−エチル−ピペラジン
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 443 [M+H]
HPLC保持時間: 1.68分 (分析条件U)
[製造例59]
化合物A8−14
8−(2−イミダゾール−1−イル−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6
,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A6と2−イミダゾール−1−イル−エ
タノールより、標題化合物を合成した。
1H−NMR(300MHz, DMSO−d) σ ppm; 12.71(s,
1H), 8.31 (d, 1H, J=8.3Hz), 8.14(d, 1H,
J=8.8Hz), 7.99(s, 1H), 7.73(s, 1H), 7.6
0(d, 1H, J=8.3Hz), 7.34(s, 1H), 7.29(s,
1H), 7.09(d, 1H, J=8.8Hz), 6.91(s, 1H),
4.20(s, 4H), 1.76(s, 6H)
LCMS: m/z 387 [M+H]
HPLC保持時間: 1.77分 (分析条件U)
[製造例60]
化合物A8−15
8−{2−[ビス−(2−ヒドロキシ−エチル)−アミノ]−エトキシ}−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物A7−17の合成と同様の手法で、化合物A7−24と2−(2−ヒドロキシ−エ
チルアミノ)−エタノールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 434 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件U)
[製造例61]
化合物A8−16
1−[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−エチル]−ピペリジン−4−カルボン
酸アミド


化合物A8−17と同様の条件で、化合物A7−24とピペリジン−4−カルボン酸アミ
ドより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 457 [M+H]
HPLC保持時間: 1.28分 (分析条件S)
[製造例62]
化合物A8−17
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−[2−(3−オキソ−ピペラジン−1−イル)−
エトキシ]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



8−(2−ブロモ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物A7−24、30mg
、0.07mmol)のDMF溶液(5mL)に、ピペラジン−2−オン(44.9mg
、0.35mmol)とN,N−ジイソプロピルエチルアミン(0.061mL、0.3
5mmol)を室温で加え、80℃で18時間攪拌した。室温に冷却後、酢酸エチルで抽
出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥剤を濾去後、減
圧濃縮して得られた残渣を分取TLC(ジクロロメタン/メタノール)で精製し、標題化
合物(白色固体、24mg、80%)を得た。
1H−NMR(300MHz, DMSO−d) σppm; 12.71(s,
1H), 8.32(d, 1H, J=8.4Hz), 8.15(d, 1H, J
=8.8Hz), 8.00(s, 1H), 7.75(s, 1H), 7.60(
d, 1H, J=8.4Hz), 7.37(d, 1H, J=2.3Hz), 7
.09(dd, 1H, J=2.3Hz, J=8.8Hz), 4.27(t, 2
H, J=5.7Hz), 3.19(m, 2H), 3.08(s, 2H), 2
.83(t, 2H, J=5.7Hz), 2.70(t, 2H, J=5.7Hz
), 1.8(s, 6H)
LCMS: m/z 429 [M+H]
HPLC保持時間: 1.29分 (分析条件S)
[製造例63]
化合物A8−18
モルホリン−4−スルホン酸 [2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−エチル]−
アミド


化合物C1−2合成の際の副生成物として、標題化合物を得た。
LCMS: m/z 495 [M+H]
HPLC保持時間: 2.00分 (分析条件S)
[製造例64]
化合物A8−19
4−メチル−ピペラジン−1−スルホン酸 [2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)
−エチル]−アミド


化合物C1−4合成の際の副生成物として、標題化合物を得た。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.77 (6H, s)
, 2.16 (3H, s), 2.34 (4H, m), 3.08 (4H,
m), 3.35 (2H, m), 4.19 (2H, t, 5.34Hz),
7.09 (1H, dd, 8.77Hz, 2.99Hz), 7.37 (1H,
bs, 1.91Hz), 7.59 (2H, m), 8.01 (1H, s)
, 8.16 (1H, d, 8.40Hz), 8.32 (1H, d, 8.0
1Hz), 12.7 (1H, s).
LCMS: m/z 501 [M+H]
HPLC保持時間: 1.43分 (分析条件S)
[製造例65]
化合物A8−20
6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イルメトキシ)
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(ピペリジン−4−イルメトキシ)−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル 塩酸塩(化合物A7
−25、30mg、0.075mmol)、オキセタン−3−オン(38mg、7当量)
、を酢酸0.2ml,THF1ml、メタノール1mlに溶解し、シアノ水素化ホウ素ナ
トリウム(33mg、7当量)を室温で加え、終夜撹拌を行った。反応溶液に水を加え、
酢酸エチルで抽出を行い、硫酸ソーダで乾燥した後、溶媒を真空下除去することにより得
られた残渣を、分取TLC(クロロホルム:2規定アンモニアメタノール=9:1)で精
製することにより、目的物を15mg得た。
LCMS: m/z 456 [M+H]
HPLC保持時間: 2.78分 (分析条件C)
[製造例66]
化合物A8−21
6,6−ジメチル−8−[2−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−
エトキシ]−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物A7−25、A8−20の合成法と同様の条件で、化合物A6と4−(2−ヒドロ
キシ−エチル)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブチル エステルより、標題
化合物(15mg)を合成した。
LCMS: m/z 470 [M+H]
HPLC保持時間: 2.85分 (分析条件C)
[製造例67]
化合物A9−1
N−[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−エチル]−メタンスルホンアミド


8−(2−アミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリルのトリフルオロ酢酸塩(化合物
A8−2、19mg、0.044mmol)をジクロロメタン(0.5mL)に懸濁し、
ジイソプロピルエチルアミン(0.0157mL、2当量)、塩化メタンスルホニル(0
.0034mL、1等量)を加え、室温で2時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、ジクロロ
メタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾
去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(酢酸エチル10
0%)で分離し、目的物(5.5mg、29%)を得た。
H−NMR(400MHz、DMSO−d) δ: 8.47 (1H, d, J
= 8.2 Hz), 8.32 (1H, d, J = 8.7 Hz), 8.
16 (1H, s), 7.76 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.
53−7.46 (2H, m), 7.26 (1H, d, J = 8.7 Hz
), 4.39−4.33 (2H, m), 3.58−3.51 (2H, m),
3.12 (3H, s), 1.93 (6H, s)
LCMS: m/z 424 [M+H]
HPLC保持時間: 3.10分 (分析条件W)
[製造例68]
化合物A9−2
N−[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−エチル]−2,2,2−トリフルオロ
−アセトアミド」


化合物A9−1の合成の際の副生成物として、標題化合物を得た。
LCMS: m/z 442 [M+H]
HPLC保持時間: 3.45分 (分析条件W)
[製造例69]
化合物A9−3−1
8−{2−(tert−ブチルオキシカルボニルアミノスルホニル)アミノ−エトキシ}
−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−3−カルボニトリル


8−(2−アミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリルのトリフルオロ酢酸塩(化合物
A8−2、20mg、0.044mmol)をピリジン(0.5mL)に溶解し、N−(
tert−ブトキシカルボニル)−N−[4−(ジメチルアザニウミリデン)−1,4−
ジヒドロピリジン−1−イルスルホニル]アザニド(13.5mg、1当量)を加え、室
温で14時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、
有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリ
カゲル薄層クロマトグラフィー(酢酸エチル)で分離し、標題化合物(16.1mg、6
8%)を得た。
H−NMR(400MHz、DMSO−d) δ: 12.74 (1H, s),
10.94 (1H, s), 8.33 (1H, d, J = 8.5 Hz)
, 8.16 (1H, d, J = 9.1 Hz), 8.02 (1H, s)
, 7.84(1H, br. s), 7.62 (1H, d, J = 7.9
Hz), 7.36 (1H, s), 7.10 (1H, d, J = 7.9
Hz).4.24−4.18 (2H, m) , 1.78 (6H, s), 1.
32 (9H, s)
LCMS: m/z 525 [M+H]
HPLC保持時間: 3.48分 (分析条件W)
[製造例70]
化合物A9−3−2
8−{2−(メチルアミノスルホニル)アミノ−エトキシ}−6,6−ジメチル−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物A9−3−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 425 [M+H]
HPLC保持時間: 2.95分 (分析条件W)
[製造例71]
化合物A9−4
8−(1−メタンスルホニル−ピペリジン−4−イルオキシ)−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成と同様の手法で、化合物A8−1とメタンスルホニルクロリドよ
り、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−D) δ: 12.72 (1H, s
), 8.30 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.14 (1H, d
, J = 8.5 Hz), 8.00 (1H, s), 7.59 (1H, d
, J = 7.9 Hz), 7.38 (1H, s), 7.13 (1H, d
, J = 8.5 Hz), 4.81 (1H, s), 3.39−3.38 (
2H, m), 3.19−3.13 (2H, m), 2.93 (3H, s),
2.11−2.04 (2H, m), 1.83−1.75 (8H, m).
LCMS: m/z 464 [M+H]
HPLC保持時間: 3.41分 (分析条件U)
[製造例72]
化合物A9−5
8−[1−(2−メトキシ−エチル)−ピペリジン−4−イルオキシ]−6,6−ジメチ
ル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボ
ニトリル


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物A8−1と1−ブロモ−2−メトキシ−
エタンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, CDCl) δ: 8.48−8.53 (1H,
m), 8.32−8.38 (1H, m), 7.74−7.77 (1H, m
), 7.50−7.55 (1H, m), 7.07−7.10 (1H, m),
6.95−7.00 (1H, m), 4.43−4.51 (1H, m), 3
.53 (2H, t, J = 5.6 Hz), 3.36 (3H, s), 2
.77−2.87 (2H, m), 2.62 (2H, t, J = 5.6 H
z), 2.35−2.47 (2H, m), 2.02−2.12 (2H, m)
, 1.78−1.95 (2H, m), 1.82 (6H, s).
LCMS: m/z 444 [M+H]
HPLC保持時間: 2.00分 (分析条件U)
[製造例73]
化合物A9−6−2
8−[1−(2−ヒドロキシ−エチル)−ピペリジン−4−イルオキシ]−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物A7−17の合成と同様の手法で、化合物A8−1と(2−ブロモエトキシ)−t
ert−ブチルジメチルシラン、次いでテトラブチルアンモニウムフルオリドでの処理に
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 430 [M+H]
HPLC保持時間: 1.45分 (分析条件S)
[製造例74]
化合物A9−7
8−[1−(2−フルオロ−エチル)−ピペリジン−4−イルオキシ]−6,6−ジメチ
ル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボ
ニトリル


化合物A7−17の合成と同様の手法で、化合物A8−1とメタンスルホン酸2−フルオ
ロエチルエステルより、標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.67 (2H, m)
, 1.76 (6H, s), 2.01 (2H, m), 2.37 (2H,
t, 11.0Hz), 2.61 (1H, t, 4.20Hz), 2.70 (
1H, t, 4.58), 2.78 (2H, m), 4.46 (1H, t,
4.58Hz), 4.62 (2H, t, 5.34Hz), 7.10 (1H
, dd, 9.16Hz, 2.29Hz), 7.34 (1H, bs, 1.5
3Hz), 7.60 (1H, dd, 8.40Hz, 1.53Hz), 7.9
9 (1H, s), 8.13 (1H, d, 8.39Hz), 8.30 (1
H, d, 8.39Hz), 12.7 (1H, s).
LCMS: m/z 432 [M+H]
HPLC保持時間: 1.52分 (分析条件S)
[製造例75]
化合物A9−8
8−(1−アセチル−ピペリジン−4−イルオキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成と同様の手法で、化合物A8−1と塩化アセチルより、標題化合
物を合成した。
LCMS: m/z 428 [M+H]
HPLC保持時間: 1.91分 (分析条件S)
[製造例76]
化合物A9−9
2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−アセトアミド


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A6と2−ブロモ−アセトアミドより
、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 360 [M+H]
HPLC保持時間: 2.83分 (分析条件U)
[製造例77]
化合物A9−10
2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−N−メチル−アセトアミド


(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−8−イルオキシ)−酢酸(化合物A8−7、30mg、0.0838
mmol)、メチルアミン塩酸塩(28.1mg、0.417mmol)、EDC(32
mg、0.167mmol)、HOBT(0.023mg、0.167mmol)をDM
F(1mL)に溶解させ、ジイソプロピルエチルアミン(0.145mL、0.833m
mol)を室温で加えた。室温で18時間攪拌後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和
食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して
得られた残渣をジクロロメタンに溶解させ、ジエチルエーテルを加え、析出してきた標題
化合物(白色固体、19.7mg、63%)を得た。
1H−NMR(300MHz,DMSO) σ ppm 12.73(s, 1H),
8.33(d, 1H, J=8.1Hz), 8.17(d, 1H, J=8.7H
z), 8.13(s, 1H), 8.00(s, 1H), 7.62(d, 1H
, J=8.1Hz), 7.39(d, 1H, J=2.4Hz), 7.11(d
d, 1H, J=8.7Hz, 2.4Hz), 4.64(s, 2H), 3.1
7(d, 1H, J=5.4Hz), 2.69(d, 1H, J=4.5Hz),
1.76(s, 6H)
LCMS: m/z 374 [M+H]
HPLC保持時間: 2.43分 (分析条件U)
[製造例78]
化合物A9−11
2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−N−(2,2−ジメチル−[1,3]ジオキ
ソラン−4−イルメチル)−アセトアミド


化合物A9−10の合成法と同様の条件で、化合物A8−7とC−(2,2−ジメチル−
[1,3]ジオキソラン−4−イル)−メチルアミンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 474 [M+H]
HPLC保持時間: 2.20分 (分析条件U)
[製造例79]
化合物A9−12
2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−N−(2,3−ジヒドロキシ−プロピル)−
アセトアミド


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、A9−11より、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 434 [M+H]
HPLC保持時間: 1.72分 (分析条件U)
[製造例80]
化合物A9−13
2−メチル−アクリル酸 2−[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−アセチルア
ミノ]−エチル エステル


化合物A9−10の合成法と同様の条件で、化合物A8−7と2−メチル−アクリル酸
2−アミノ−エチル エステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 472 [M+H]
HPLC保持時間: 3.30分 (分析条件U)
[製造例81]
化合物A9−14
2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−N−(2−ヒドロキシ−エチル)−アセトア
ミド


2−メチル−アクリル酸 2−[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−アセチルア
ミノ]−エチル エステル(化合物A9−13、40mg、0.085mmol)をメタ
ノール(2mL)、水(2mL)の混合溶媒に溶解させ、水酸化カリウム(48mg、0
.85mmol)を加え、室温で18時間攪拌した。1規定塩酸で中和後、反応溶液を減
圧濃縮し、得られた残渣をアミノシリカゲルで精製し、標題化合物(白色固体、8.9m
g、26%)を得た。
1H−NMR(300MHz,DMSO) σ ppm 12.75(s, 1H),
8.32(d, 1H, J=8.1Hz), 8.17−8.13(m, 2Hz),
7.99(s, 1H), 7.60(d, 1H, J=8.1Hz), 7.3
8(d, 1H, J=1.8Hz), 7.11(dd, 1H, J=2.1Hz,
8.7Hz), 4.72(t, 1H, J=5.7Hz), 4.65(s, 1
H), 3.48(dd, 2H, J=12.0Hz, 6.0Hz), 3.26(
dd, 2H, J=12.0Hz, 6.0Hz), 1.76(s, 6H)
LCMS: m/z 404 [M+H]
HPLC保持時間: 2.83分 (分析条件U)
[製造例82]
化合物A9−15−1
4−[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−アセチル]−ピペラジン−1−カルボ
ン酸 tert−ブチル エステル


(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−8−イルオキシ)−酢酸 (化合物A8−7、30mg、0.083
mmol)、ピペラジン−1−カルボン酸 tert−ブチル エステル(31mg,2
当量)、HOBt(30mg,3当量)を0.5mlのDMFに溶解し、EDC(48m
g,3当量)を加えた。室温で一晩撹拌した後、溶媒を減圧下除去し、残渣を分取TLC
にて精製を行い、標題化合物(20mg)を得た。
LCMS: m/z 527, 471, 427[M−H]
HPLC保持時間: 2.77分 (分析条件C)
[製造例83]
化合物A9−15−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(2−オキソ−2−ピペラジン−1−イル−エト
キシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
塩酸塩


4−[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−アセチル]−ピペラジン−1−カルボ
ン酸 tert−ブチル エステル(化合物A9−15−1、20mg)に4N塩酸ジオ
キサン溶液(1ml)を加え、10℃(水浴)で4時間撹拌した。反応溶液に水を加え、
生じた沈殿物を濾取し、乾燥することで、標題化合物(15mg、白色粉末)を得た。
LCMS: m/z 429[M+H]
HPLC保持時間: 0.81分 (分析条件I)
[製造例84]
化合物A9−16
2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−N−(2−シアノ−エチル)−アセトアミド


(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−8−イルオキシ)−酢酸 (化合物A8−7、30mg、0.083
mmol)、3―アミノプロピオニトリル(12mg, 2当量)、HOBt(30mg
, 3当量)を0.5mlのDMFに溶解し、EDC(48mg,3当量)を加えた。室
温で一晩撹拌した後、溶媒を減圧下除去し、残渣を分取TLCにて精製を行い、23mg
の目的物を得た。
LCMS: m/z 411 [M+H]
HPLC保持時間: 2.27分 (分析条件C)
[製造例85]
化合物A9−17
2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−N−(2−シアノ−エチル)−N−メチル−
アセトアミド


(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−8−イルオキシ)−酢酸 (化合物A8−7、30mg、0.083
mmol)、N−メチル−3−アミノプロピオニトリル(14mg, 2当量)、HOB
t(30mg, 3当量)を0.5mlのDMFに溶解し、EDC(48mg,3当量)
を加えた。室温で一晩撹拌した後、溶媒を減圧下除去し、残渣を分取TLCにて精製を行
い、7mgの目的物を得た。
LCMS: m/z 411 [M+H]
HPLC保持時間: 2.33分 (分析条件C)
[製造例86]
化合物A10
8−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシ)−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物A6、100mg、0.331mmol
)、イミダゾール(67.5mg、3当量)、tert−ブチルクロロジメチルシラン(
92.4mg、1.5当量)のDMF溶液を室温で終夜攪拌した。反応液に飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液を加え、tert−ブチルメチルエーテルで抽出し有機層を飽和塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減
圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン
)で精製し、目的物(白色固体、170mg、100%)を得た。
LCMS: m/z 417 [M+H]
HPLC保持時間: 3.38分 (分析条件S)
[製造例87]
化合物A10−1
8−メトキシ−5,6,6−トリメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


トリフェニルホスフィン(260mg、3当量)のTHF溶液にアゾジカルボン酸ジイソ
プロピルエステル(0.195ml、3当量)を加え、室温で1時間攪拌し、8−(te
rt−ブチルジメチルシラニルオキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物A10、13
8mg、0.331mmol)、メタノール(1ml)を加えて終夜攪拌した。反応液を
HPLCにかけ精製し、標的化合物(44.8mg、41%)を合成した。
H−NMR(270MHz、DMSO−d) δ: 8.44 (1H, d, J
= 8.1 Hz), 8.33 (1H, s), 8.14 (1H, d, J
= 8.7 Hz), 7.66 (1H, dd, J = 8.2, 1.1 H
z), 7.39 (1H, d, J = 2.3 Hz), 7.09 (1H,
dd, J = 8.7, 2.3 Hz), 4.17 (3H, s), 3.92
(3H,s), 1.88 (6H,s).
LCMS: m/z 331 [M+H]
HPLC保持時間: 2.35分 (分析条件S)
[製造例88]
化合物A10−2
8−(1−メタンスルホニル−ピペリジン−4−イルオキシ)−5,6,6−トリメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物B3−4の合成法と同様の条件で、化合物A9−4より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 478 [M+H]
HPLC保持時間: 2.68分 (分析条件U)
[製造例89]
化合物B1
トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル


8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物A6、550mg、0.189mmo
l)をピリジン(18mL)に溶解し、無水トリフルオロメタンスルホン酸(0.758
ml、3等量)を加え、室温で30分間攪拌した。反応液を水に注ぎ、ジクロロメタンで
抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、目的物
(白色粉末、641mg、81%)を得た。
H−NMR(400MHz、DMSO−d) δ: 12.89 (1H, br.
s), 8.36 (1H, d, J = 8.8 Hz), 8.31 (1H,
dd, J = 8.1, 0.7 Hz), 8.11 (1H, d, J =
2.3 Hz), 8.04 (1H, dd, J = 1.5, 0.7 Hz),
7.65−7.60 (2H,m). 1.76 (6H,s)
LCMS: m/z 435 [M+H]
HPLC保持時間: 3.10分 (分析条件U)
[製造例90]
化合物B2−1
8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル(化合物B1、
40mg、0.0921mmol)をNMP(1ml)に溶解し、1−イソプロピルピペ
ラジン(236mg、20等量)を加えた。これを120℃で3時間撹拌した。室温に冷
却した後HPLCで精製し、目的物(白色粉末、12.8mg、34%)を得た。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 8.30 (1H, d,
8.1Hz), 8.03 (1H, d, 8.6Hz), 7.98 (1H,
s), 7.56 (1H, d, 8.6Hz), 7.21 (1H, s), 7
.04 (1H, d, 9.1Hz), 3.40−3.37 (4H, m), 2
.73−2.65 (1H, m), 2.61−2.58 (4H, m), 1.7
5 (6H, s), 1.02 (6H, d, 6.6Hz)
LCMS: m/z 413 [M+H]
[製造例91]
化合物B2−2
8−[4−(2−ヒドロキシ−エチル)−ピペラジン−1−イル]−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B2−1の合成法と同様の手法で、化合物B1とN−(2−ヒドロキシエチル)ピ
ペラジンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 8.30 (1H, d,
8.1Hz), 8.03 (1H, d, 8.7Hz), 7.99 (1H,
s), 7.58 (1H, d, 7.9Hz), 7.21 (1H, s), 7
.04 (1H, d, 8.7Hz), 4.50−4.46 (1H, br m)
, 3.59−3.53 (2H, m), 3.39−3.35 (4H, m),
2.59−2.56 (4H, m), 2.45 (2H, t, 6.1Hz),
1.76 (6H, s)
LCMS: m/z 415 [M+H]
HPLC保持時間: 1.27分 (分析条件S)
[製造例92]
化合物B2−3
6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物B1とモルホリンより、標題化合物を合
成した。
H−NMR(400MHz、DMSO−d) δ: 12.62 (1H, br.
s), 8.29 (1H, d, 8.2 Hz), 8.04 (1H, d,
9.0 Hz), 7.96 (1H, s), 7.56 (1H, d, 8.2
Hz), 7.22 (1H, s), 7.04 (1H, d, 9.0 Hz),
3.77−3.75 (4H, m), 3.35−3.30 (4H, m), 1
.74 (6H, s)
LCMS: m/z 372 [M+H]
HPLC保持時間: 2.45分 (分析条件U)
[製造例93]
化合物B2−4
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−
イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物B1と4−ピロリジン−1−イル−ピペ
リジンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 8.30 (1H, d,
8.1Hz), 8.01 (1H, d, 8.7Hz), 7.97 (1H,
s), 7.56 (1H, d, 8.6Hz), 7.20 (1H, s), 3
.94−3.90 (2H, m), 3.30−3.28 (4H, m), 2.9
5 (2H, t, 11.8Hz), 2.24−2.20 (1H, m), 1.
95−1.91 (2H, m), 1.75 (6H, s), 1.70−1.66
(4H, m), 1.54−1.52 (2H, m)
LCMS: m/z 439 [M+H]
[製造例94]
化合物B2−5−1
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペラジン−1−カルボン酸 tert−ブチルエ
ステル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物B1とピペラジン−1−カルボン酸 t
ert−ブチルエステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 471 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.67分 (分析条件S)
[製造例95]
化合物B2−5−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物B2−5−1より標題化合物を合成した

H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 8.32 (1H, d,
8.5Hz), 8.03 (1H, d, 9.1Hz), 7.99 (1H,
s), 7.59 (1H, dd, 8.2, 1.5Hz), 7.20 (1H,
d, 2.4Hz), 7.04 (1H, dd, 8.8, 2.1Hz), 3
.32−3.30 (4H, m), 2.88−2.87 (4H, m), 1.7
7 (6H, s)
LCMS: m/z 371 [M+H]
[製造例96]
化合物B2−6
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペリジン−1−イル−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物B1とピペリジンより、標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 370 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件U)
[製造例97]
化合物B2−7−1
8−(4−ヒドロキシ−ピペリジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6
,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物B1とピペリジン−4−オールより、標
題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 8.30 (1H, d,
8.1Hz), 8.01 (1H, d, 8.7Hz), 7.97 (1H,
s), 7.56 (1H, d, 7.7Hz), 7.19 (1H, s), 7
.04 (1H, d, 10.6Hz), 4.76−4.71 (1H, br m
), 3.81−3.75 (3H, m), 3.08 (2H, t, 10.2
Hz), 1.86−1.82 (2H, m), 1.75 (6H, s), 1.
49−1.42 (2H, m)
LCMS: m/z 386 [M+H]
[製造例98]
化合物B2−7−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−オキソ−ピペリジン−1−イル)−6,1
1−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


8−(4−ヒドロキシ−ピペリジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6
,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物B2
−7−1、210mg、0.545mmol)をDCM(2mL)とDMF(0.6mL
)の混合溶媒に溶解させ、1,1,1−トリアセトキシ−1,1−ジヒドロ−1,2−ベ
ンゾヨードキソール−3(1H)−オン(300mg、1.3当量)を加えて室温にて2
時間撹拌した。反応液に0.25mol/Lチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和重曹水、C
PMEを加えて室温にてさらに1時間撹拌した。反応液をろ過し、ろ液を分液後、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、目
的物(黄白色粉末、109mg、52%)を得た。
LCMS: m/z 384 [M+H]
HPLC保持時間: 2.17分 (分析条件U)
[製造例99]
化合物B2−8
8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1と同様の条件で、化合物B1と1−メタンスルホニルピペラジンより、標
題化合物を合成した。
H−NMR(270MHz、DMSO−d) δ: 12.66 (1H, br.
s), 8.31 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.06 (1H,
d, J = 8.7 Hz), 7.99 (1H, s), 7.59 (1H,
d, J = 8.2 Hz), 7.30 (1H, d, J = 1.8 Hz)
, 7.09 (1H, dd, J = 8.7, 1.8 Hz), 3.53 (
4H, t, J = 4.8 Hz), 3.27 (4H, t, J = 4.8
Hz), 2.94 (3H, s), 1.77 (6H, s).
LCMS: m/z 449 [M+H]
HPLC保持時間: 1.98分 (分析条件S)
[製造例100]
化合物B2−9
8−(3−メタンスルホニル−ピロリジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物B1と3−メタンスルホニルピロリジン
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 434 [M+H]
HPLC保持時間: 1.83分 (分析条件S)
[製造例101]
化合物B2−10
8−(1,1−ジオキソチオモルホリノ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル(化合物B1、
30mg、0.069mmol)を1、4−ジオキサン(1mL)に溶解し、チオモルホ
リン 1,1−二酸化物(19mg、2等量)、Pddba(6.3mg、0.1等
量)、BINAP(8.6mg、0.2等量)、KPO(29mg、2等量)を加え
、100℃で一昼夜攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、目的物(白
色粉末、2.1mg、7%)を得た。
H−NMR(270MHz、DMSO−d) δ: 8.29 (1H, d, J
= 8.6 Hz), 8.07 (1H, d, J = 8.9 Hz), 8.
00 (1H, s), 7.55 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 H
z), 7.34 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.15 (1H,
dd, J = 9.1, 2.7 Hz), 4.01 (4H, s), 3.16
(4H, s), 1.77 (6H, s).
LCMS: m/z 420 [M+H]
HPLC保持時間: 1.80分 (分析条件S)
[製造例102]
化合物B2−11
8−(4−シクロペンチル−2−オキソ−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B2−10の合成法と同様の条件で、化合物B1と4−シクロペンチルピペラジン
−2−オンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 453 [M+H]
HPLC保持時間: 1.30分 (分析条件S)
[製造例103]
化合物B2−12
6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物B1と4−ピペリジン−4−イルモルホ
リンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d)δ: 12.73 (1H, s)
, 8.27−8.31 (1H, m), 7.98−8.02 (1H, m),
7.95−7.97 (1H, m), 7.53−7.58 (1H, m), 7.
17−7.21 (1H, m), 6.99−7.05 (1H, m), 3.97
−4.05 (2H, m), 3.53−3.59 (4H, m), 2.80−2
.90 (2H, m), 2.43−2.51 (4H, m), 2.31−2.4
0 (1H, m), 1.83−1.92 (2H, m), 1.74 (6H,
s), 1.39−1.52 (2H, m)
LCMS: m/z 455 [M+H]
HPLC保持時間: 1.73分 (分析条件U)
[製造例104]
化合物B2−13
8−(4,4−ジフルオロ−1,4’−ビピペリジン−1’−イル)−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−7−2と4,4−ジフルオロピ
ペリジン塩酸塩より、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.59 (1H, s
), 8.25−8.32 (1H, m), 7.97−8.02 (1H, m),
7.96 (1H, s), 7.52−7.59 (1H, m), 7.16−7
.21 (1H, m), 6.99−7.05 (1H, mz), 4.00−4.
09 (2H, m), 3.55−3.62 (2H, m), 2.79−2.90
(2H, m), 2.55−2.67 (4H, m), 1.78−1.98 (
5H, m), 1.74 (6H, s), 1.44−1.58 (2H, m)
LCMS: m/z 489 [M+H]
HPLC保持時間: 1.88分 (分析条件U)
[製造例105]
化合物B2−14
8−[4−((2R,6S)−2,6−ジメチル−モルホリン−4−イル)−ピペリジン
−1−イル]−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−7−2と(2R,6S)−2,
6−ジメチルモルホリンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.60 (1H, s
), 8.25−8.31 (1H, m), 7.97−8.02 (1H, m),
7.95 (1H, s), 7.51−7.58 (1H, m), 7.18 (
1H, s), 6.99−7.05 (1H, m), 3.96−4.06 (2H
, m), 3.45−3.55 (2H, m), 2.80−2.91 (2H,
m), 2.72−2.79 (2H, m), 2.29−2.41 (1H, m)
, 1.70−1.90 (10H, m), 1.40−1.53 (2H, m),
1.03 (6H, d, 6.3 Hz)
LCMS: m/z 483 [M+H]
HPLC保持時間: 1.83分 (分析条件U)
[製造例106]
化合物B2−15
8−((3R,5S)−3,5‐ジメチルピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物B1と2,6−ジメチルピペラジンより
、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 399 [M+H]
HPLC保持時間: 1.76分 (分析条件U)
[製造例107]
化合物B2−16−1
(S)−4−(3−シアノ−6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−8−イル)−3−メチル−ピペラジン−1−カルボン酸
tert−ブチル エステル


化合物B2−10の合成法と同様の条件で、化合物B1と(S)−3−メチルピペラジン
−1−カルボン酸 tert−ブチルエステルより標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 485 [M+H]
HPLC保持時間: 3.97分 (分析条件W)
[製造例108]
化合物B2−16−2
6、6−ジメチル−8−((S)−2−メチル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ
−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物2−16−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 385 [M+H]
HPLC保持時間: 2.43分 (分析条件W)
[製造例109]
化合物B2−16−3
8−((S)−4−シクロブチル−2−メチル−ピペラジン−1−イル)−6、6−ジメ
チル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3−カル
ボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−16−2とシクロブタノンより
、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d)δ:8.31(1H, d, 8H
z), 8.03(1H, d, 12Hz), 7.98(1H, s), 7.59
(1H, d, 12Hz), 7.13(1H, s), 6.98(1H, d,
8Hz), 4.35−4.28(1H, m), 3.70(1H, d, 12Hz
), 3.02(1H, ddd, 12, 12, 4Hz), 2.87(1H,
d, 8Hz), 2.74−2.67(2H, m), 2.08−1.99(2H,
m), 1.92−1.64(10H, m), 1.70−1.62(2H, m)
, 1.12(3H, d, 8Hz)
LCMS: m/z 439 [M+H]
HPLC保持時間: 2.59分 (分析条件W)
[製造例110]
化合物B2−17
8−(2−ジエチルアミノ−エチルスルファニル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル(化合物B1、
25mg、0.057mmol)をジメトキシエタン(0.5mL)に溶解し、2−ジエ
チルアミノエタンチオール塩酸塩(19.6mg、2等量)、Pd(dba)(2.
6mg、0.05等量)、Xantphos(3.3mg、0.1等量)、DIPEA(
0.06mg、6等量)を加え、160℃で30分間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸
エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール)で精製し、
目的物(白色アモルファス、22.4mg、93%)を得た。
H−NMR (400MHz、CDCl) δ: 9.60 (1H, s), 8
.53−8.48 (1H, m), 8.32 (1H, d, J = 8.4 H
z), 7.77 (1H, s), 7.53−7.50 (2H, m), 7.3
8−7.35 (1H, m), 3.18−3.12 (2H, m), 2.81−
2.75 (2H,m), 2.65−2.57 (4H, m), 1.76 (6H
, s), 1.08−1.04 (6H, m)
LCMS: m/z 418 [M+H]
HPLC保持時間: 2.10分 (分析条件U)
[製造例111]
化合物B2−18
8−(2−ジイソプロピルアミノ−エチルスルファニル)−6,6−ジメチル−11−オ
キソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−17の合成法と同様の条件で、化合物B1と2−ジイソプロピルアミノエタ
ンチオール塩酸塩より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 446 [M+H]
HPLC保持時間: 2.22分 (分析条件U)
[製造例112]
化合物B2−19
8−(2−ジメチルアミノ−エチルスルファニル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−17の合成法と同様の条件で、化合物B1と2−ジメチルアミノエタンチオ
ール塩酸塩より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 390 [M+H]
HPLC保持時間: 1.98分 (分析条件U)
[製造例113]
化合物B2−20
3−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルスルファニル)−プロピオン酸


化合物B2−17の合成法と同様の条件で、化合物B1と3−メルカプトプロピオン酸よ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 391 [M+H]
HPLC保持時間: 2.45分 (分析条件U)
[製造例114]
化合物B2−21
8−(2,3−ジヒドロキシ−プロピルスルファニル)−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−17の合成法と同様の条件で、化合物B1と3−メルカプトプロパン−1,
2−ジオールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 393 [M+H]
HPLC保持時間: 2.15分 (分析条件U)
[製造例115]
化合物B2−22−1
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン−1−カルボン
酸 tert−ブチル エステル


トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル(化合物B1、
7.80g、18.0mmol)、4−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2
]ジオキサボロラン−2−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン−1−カルボン酸
tert−ブチルエステル(6.11g、19.8mmol、1.1等量)、Pd(P
PhCl(630mg、0.898mmol、0.05等量)、炭酸ナトリウム
(5.71g、53.9mmol、3.0等量)にDME(125ml)と水(25ml
)を加えた。これを超音波を照射しながら減圧した後、窒素を充填した。この作業を5回
繰り返して脱気を行った。窒素雰囲気下80℃で2時間撹拌した後、室温まで冷却し、水
(250ml)を加えてさらに30分間撹拌した。析出物を濾取し、水(50ml)で洗
浄した。さらにCHCN(50ml)で洗浄し、目的物(灰色粉末、7.54g、90
%)を粗生成物として得た。
LCMS: m/z 468 [M+H]
HPLC保持時間: 2.90分 (分析条件S)
[製造例116]
化合物B2−22−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4
−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物B2−22−1より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 368 [M+H]
HPLC保持時間: 1.47分 (分析条件S)
[製造例117]
化合物B2−23
6,6−ジメチル−8−(1−メチル−1H−ピラゾール−4−イル)−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−22−1の合成法と同様の条件で、化合物B1と1−メチル−4−(4,4
,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−1H−ピラゾー
ルより標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 367 [M+H]
HPLC保持時間: 2.42分 (分析条件U)
[製造例118]
化合物B2−24
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ビニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル


窒素雰囲気下、トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル
(化合物B1、1.00g、2.302mmol)にn−プロパノール(20mL)、ポ
タシウムビニルトリフルオロボレート(854mg、3.0当量)、ジクロロ−((ビス
−ジフェニルホスフィノ)フェロセニル)パラジウム(217mg、0.1当量)、トリ
エチルアミン(1.11ml、3.0当量)を順に加えた後、60℃で4時間攪拌した。
反応終了後、反応液に水を注ぎ、生じた析出物をろ過および蒸留水で洗浄し、得られた残
渣を乾燥することで標題化合物(666mg、80%)を得た。
H−NMR(400 MHz, CDCl) δ: 8.90 (1H, s),
8.55 (1H, d, J = 7.9 Hz), 8.40 (1H, d, J
= 8.5 Hz), 7.79 (1H, s), 7.58−7.61 (3H,
m), 6.85 (1H, dd, J = 17.7, 11.0 Hz), 5
.95 (1H, d, J = 17.1 Hz), 5.46 (1H, d, J
= 11.0 Hz), 1.84 (6H, s)
LCMS: m/z 313 [M+H]
HPLC保持時間: 3.75分 (分析条件W)
[製造例119]
化合物B2−25−1
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルメチル)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブ
チル エステル


4−メチレン−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブチルエステル(409mg、
2.07mmol、1.2等量)をTHF(2ml)に溶解し、窒素雰囲気下9−BBN
(0.5M−THF溶液、4.83ml、2.42mmol、1.4等量)を加え、60
℃で1時間撹拌した。さらに9−BBN(0.5M−THF溶液、5.52ml、2.7
7mmol、1.6等量)を加え、60℃で1時間撹拌した。これを室温まで冷却し、フ
ッ化セシウム(1.31g、8.60mmol、5.0等量)を加え、室温で30分撹拌
した。
上記で調整した溶液に、トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチ
ル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル
エステル(化合物B1、750mg、1.73mmol)とジクロロ−((ビス−ジフェ
ニルホスフィノ)フェロセニル)パラジウム(70.5mg、0.0863mmol、0
.05等量)をDMF(18ml)に懸濁させた溶液を加え、100℃で3時間撹拌した
。室温まで冷却した後、水(50ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、4−(3−
シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カ
ルバゾール−8−イルメチル)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブチルエステ
ル(黄色粉末、763mg、91%)を得た。
LCMS: m/z 484 [M+H]
HPLC保持時間: 2.97分 (分析条件S)
[製造例120]
化合物B2−25−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペリジン−4−イルメチル−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物B2−25−1より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 384 [M+H]
HPLC保持時間: 1.40分 (分析条件S)
[製造例121]
化合物B2−26−1
4−((3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−8−イル)メチル)ピペリジン−1−イルスルホニルカルバミ
ン酸 tert−ブチル


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物B2−25−2とN−(tert−ブト
キシカルボニル)−N−[4−(ジメチルアザニウミリデン)−1,4−ジヒドロピリジ
ン−1−イルスルホニル]アザニド(CAS番号872496−91−8)より、標題化
合物を合成した。LCMS: m/z 563 [M+H]
HPLC保持時間: 2.63分 (分析条件S)
[製造例122]
化合物B2−26−2
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルメチル)−ピペリジン−1−スルホン酸 アミド


化合物A8−1と同様の条件で、化合物B2−26−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 463 [M+H]
HPLC保持時間: 2.10分 (分析条件S)
[製造例123]
化合物B2−27
8−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イルメチル)−6,6−ジメチル−11−オ
キソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−25−2とアセトンより、標題
化合物を合成した。
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 12.80 (1H, s)
, 8.32 (1H, d, 7.9Hz), 8.12 (1H, d, 7.9H
z), 8.01 (1H, s), 7.65 (1H, s), 7.61 (1H
, d, 9.1Hz), 7.30 (1H, d, 7.9Hz), 2.75 (
2H, d, 11.0Hz), 2.65 (3H, q, 6.5Hz), 2.0
4 (2H, t, 11.0Hz), 1.77 (6H, s), 1.60−1.
57 (3H, m), 1.22 (2H, t, 11.6Hz), 0.94 (
6H, d, 6.7Hz)
LCMS: m/z 426 [M+H]
[製造例124]
化合物B2−28
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸


窒素雰囲気下、トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル
(化合物B1、150mg、0.345mmol)のジメチルホルムアミド(3ml)溶
液に、ぎ酸リチウム 一水和物(90mg、5.0当量)、4,5−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)−9,9−ジメチルキサンテン(Xantphos)(20mg、0.1当量
)、Pd(dba)(32mg、0.1当量)、塩化リチウム(88mg、6.0当
量)、N,N−ジイソプロピルエチルアミン(241μl、4.0当量)、無水酢酸(1
31μl、4.0当量)を加え、80℃で15時間攪拌した。反応終了後、反応液に酢酸
エチルを注ぎ、有機層を1M塩酸、蒸留水、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄した。
有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(88mg
、76%)を得た。
H−NMR (400MHz, DMSO−d) δ: 13.17 (1H, s
), 8.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 8.34 (1H, s
), 8.23 (1H, d, J = 7.9 Hz), 8.07 (1H, s
), 8.02 (1H, d, J = 9.1 Hz), 7.64 (1H, d
, J = 7.9 Hz), 1.80 (6H, s)
LCMS: m/z 331 [M+H]
HPLC保持時間: 3.08分 (分析条件W)
[製造例125]
化合物B2−29
8−ホルミル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル


6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ビニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物B2−24、600mg、1.920mm
ol)のTHF(24ml)、蒸留水(6ml)の懸濁液に、オスミウムテトラオキシド
のt−ブタノール溶液(192μl、0.1当量)、メタ過ヨウ素酸ナトリウム(821
mg、2.0当量)を加え、室温で3時間攪拌した。反応液に0.3M チオ硫酸ナトリ
ウム水溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を10%エチレンジアミン四酢酸二ナト
リウム水溶液で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥、乾燥剤を濾去後、減圧濃縮し
て得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製
し、標題化合物(470mg、77%)を得た。
H−NMR (400MHz, DMSO−d) δ: 12.95 (1H, s
), 10.20 (1H, s), 8.48 (1H, s), 8.42 (1H
, d, J = 8.5 Hz), 8.36 (1H, d, J = 8.5 H
z), 8.07 (1H, s), 8.02 (1H, d, J = 7.9 H
z), 7.67 (1H, d, J = 7.9 Hz), 1.85 (6H,
s)
LCMS: m/z 315 [M+H]
HPLC保持時間: 3.38分 (分析条件W)
[製造例126]
化合物B3−1
5,6,6−トリメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A10−1の合成法と同様の条件で、化合物B2−3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 386 [M+H]
HPLC保持時間: 2.62分 (分析条件U)
[製造例127]
化合物B3−2−1
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)ピペラジン−1−イルスルホニルカルバミン酸 te
rt−ブチル


化合物A9−1と同様の条件で、化合物B2−5−2とN−(tert−ブトキシカルボ
ニル)−N−[4−(ジメチルアザニウミリデン)−1,4−ジヒドロピリジン−1−イ
ルスルホニル]アザニド(CAS番号872496−91−8)より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 550 [M+H]
HPLC保持時間: 2.39分 (分析条件S)
[製造例128]
化合物B3−2−2
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペラジン−1−スルホン酸アミド


化合物A8−1と同様の条件で、化合物B3−2−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 450 [M+H]
HPLC保持時間: 1.82分 (分析条件S)
[製造例129]
化合物B3−3
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペラジン−1−スルホン酸 ジメチルアミド


化合物A9−1と同様の条件で、化合物B2−5−2と塩化ジメチルスルファモイルより
、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 478 [M+H]
HPLC保持時間: 2.45分 (分析条件S)
[製造例130]
化合物B3−4
4−(3−シアノ−5,6,6−トリメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペラジン−1−スルホン酸 ジメチルアミ



4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペラジン−1−スルホン酸アミド(化合物B3−
2−2、20mg、0.04mmol)、水素化ナトリウム(21.4mg、12当量)
のDMF懸濁溶液にヨードメタン(28μl、10当量)を加え、室温で終夜攪拌した。
反応液に水を加えた後、ろ過により標的化合物(25.8mg、100%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 8.43 (1H, d,
J = 8.2 Hz), 8.31 (1H, s), 8.03 (1H, d,
J = 8.9 Hz), 7.64 (1H, dd, J = 8.1, 1.3
Hz), 7.30 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.08 (1H,
dd, J = 8.9, 2.0 Hz), 4.16 (3H, s), 3.4
3−3.53 (4H, t, J = 4.7 Hz), 3.26−3.41 (4
H, s), 2.82 (6H, s), 1.87 (6H, s).
LCMS: m/z 492 [M+H]
HPLC保持時間: 2.69分 (分析条件S)
[製造例131]
化合物B3−5
8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物F5−36合成の際の副生成物として、標題化合物を得た。
LCMS: m/z 411 [M+H]
HPLC保持時間: 1.31分 (分析条件S)
[製造例132]
化合物B3−6
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3‐カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−5−2とシクロブタノンより、
標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、DMSO−d) δ: 8.29 (1H, d,
J = 8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 8.8 Hz), 7
.96 (1H, s), 7.55 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7
.19 (1H, d, J = 2.2 Hz),7.03 (1H, dd, J
= 2.4、8.8 Hz), 2.71−2.75(1H, m),2.37−2.3
9(4H, m),1.98−2.00(2H, m),1.77−1.85(2H,
m), 1.74 (6H, s),1.63−1.68(2H, m).
LCMS: m/z 425 [M+H]
HPLC保持時間: 1.80分 (分析条件U)
[製造例133]
化合物B3−7
6,6−ジメチル‐8−(4−オキセタン‐3‐イル‐ピペラジン−1−イル) -11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3‐カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−5−2と3−オキセタノンより
、標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、DMSO−d) δ: 8.29 (1H, dd,
J = 8.2,0.59 Hz), 8.02 (1H, d, J = 9.0
Hz),7.97(1H, d, J = 0.59 Hz),7.56(1H, dd
, J = 8.0,1.4 Hz),7.22(1H, d, J = 2.3 Hz
),7.04(1H, dd, J = 8.8,2.2 Hz),4.56−4.59
(2H, m),4.47−4.50(2H, m),3.43−3.48(1H, m
),3.39−3.42(4H, m),2.40−2.42(4H, m),1.74
(6H, s)
LCMS: m/z 427 [M+H]
HPLC保持時間: 1.67分 (分析条件U)
[製造例134]
化合物B3−8
8−(2−ジエチルアミノ−エタンスルホニル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6
,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


8−(2−ジエチルアミノ−エチルスルファニル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物B
2−17、16.8mg、0.0402mmol)をメタノール(1.5mL)に溶解し
、オキソン(54.3mg、2.2等量)を水(0.5mL)に溶解させて加え、室温で
2時間攪拌した。反応液を濃縮し、酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウムで洗浄
した後に硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール)で精製し、目的物(
白色固体、5.8mg、32%)を得た。
H−NMR (400MHz、CDCl) δ: 9.29 (1H, s), 8
.61 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.52 (1H, d, J
= 8.0 Hz), 8.21 (1H, s), 8.01 (1H, d, J
= 8.2 Hz), 7.81 (1H, s), 7.61 (1H, d, J
= 8.2 Hz), 3.33 (2H, t, J = 7.4 Hz), 2.9
5 (2H, t, J = 7.4 Hz), 2.41 (4H, q, J =
7.2 Hz), 1.86 (6H, s), 0.89 (4H, t, J =
7.1 Hz)
LCMS: m/z 450 [M+H]
HPLC保持時間: 2.05分 (分析条件U)
[製造例135]
化合物B3−9
8−(2−ジイソプロピルアミノ−エタンスルホニル)−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−8の合成法と同様の条件で、化合物B2−18より、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 478 [M+H]
HPLC保持時間: 2.18分 (分析条件U)
[製造例136]
化合物B3−10
8−(2−ジメチルアミノ−エタンスルホニル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6
,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−8の合成法と同様の条件で、化合物B2−19より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 422 [M+H]
HPLC保持時間: 2.03分 (分析条件U)
[製造例137]
化合物B3−11
3−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−スルホニル)−プロピオン酸


化合物B3−8の合成法と同様の条件で、化合物B2−20より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 423 [M+H]
HPLC保持時間: 2.28分 (分析条件U)
[製造例138]
化合物B3−12
8−(2,3−ジヒドロキシ−プロパン−1−スルホニル)−6,6−ジメチル−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−8の合成法と同様の条件で、化合物B2−21より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 425 [M+H]
HPLC保持時間: 2.17分 (分析条件U)
[製造例139]
化合物B3−13−1
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブチル
エステル


4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン−1−カルボン
酸 tert−ブチル エステル(化合物B2−22−1、16.2g、34.6mmo
l)をTHF(800ml)とメタノール(230ml)に溶解し、10wt%Pd/C
(3.2g)を加えて水素雰囲気下19時間撹拌した。固体をセライトでろ過し、THF
/メタノール=4/1の混合溶媒400mlで溶出した後、減圧下濃縮した。残渣を酢酸
エチル400mlに溶解させ、これを1%−N−アセチルシステイン水溶液、飽和NaH
CO水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤を濾去
後、減圧濃縮して標題化合物(白色粉末、14.0g、86%)を粗生成物として得た。
LCMS: m/z 470 [M+H]
HPLC保持時間: 2.88分 (分析条件S)
[製造例140]
化合物B3−13−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペリジン−4−イル−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物B3−13−1より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 370 [M+H]
HPLC保持時間: 1.30分 (分析条件S)
[製造例141]
化合物B3−14
8−(1,2−ジヒドロキシ−エチル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ビニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物B2−24、20mg、0.064mmo
l)のTHF(1ml)溶液に、オスミウムテトラオキシドのt−ブタノール溶液(19
μl、0.3当量)、N−メチルモルホリン−N−オキシドの50%水溶液(30μl、
2.0当量)を加え、室温で3時間攪拌した。反応液に10%エチレンジアミン4酢酸2
ナトリウム水溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾
燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣を高速液体クロマトグラフィーで精製し、標題
化合物(21mg、63%)を得た。
H−NMR(400 MHz, CDOD) δ: 8.41 (1H, d, J
= 7.9 Hz), 8.29 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.
87 (1H, s), 7.86 (1H, s), 7.57 (1H, d, J
= 7.9 Hz), 7.52 (1H, d, J = 6.7 Hz), 4.
85 (1H, dd, J = 7.0, 4.6 Hz), 3.73 (1H,
dd, J = 11.3, 4.6 Hz), 3.68 (1H, dd, J =
11.3, 7.0 Hz), 1.83 (6H, s)
LCMS: m/z 347 [M+H]
HPLC保持時間: 2.68分 (分析条件W)
[製造例142]
化合物B3−15
6,6−ジメチル−8−(モルホリン−4−カルボニル)−11−オキソ−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸(化合物B2−28、15mg、0.045mmol)
のテトラヒドロフラン(1ml)溶液に、モルホリン(6μl、1.5当量)、ヘキサフ
ルオロリン酸ウロニウム 2−(1H−7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−1,
1,3,3−テトラメチルメタンアミニウム(HATU)(26mg、1.5当量)、N
,N−ジイソプロピルエチルアミン(24μl、3.0当量)を加え、室温で3時間攪拌
した。反応液をろ過して不溶物をろ別した後、減圧濃縮して得られた残渣を高速液体クロ
マトグラフィーで精製し、標題化合物(11mg、55%)を得た。
H−NMR (400 MHz, DMSO−D) δ: 12.85 (1H,
s), 8.33 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.27 (1H,
d, J = 7.9 Hz), 8.03 (1H, s), 7.92 (1H,
s), 7.63 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.54 (1H,
d, J = 7.9 Hz), 3.52−3.77 (6H, m), 3.30−
3.42 (2H, m), 1.79 (6H, s)
LCMS: m/z 400 [M+H]
HPLC保持時間: 2.96分 (分析条件W)
[製造例143]
化合物B3−16
8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−カルボニル)−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−15の合成法と同様の条件で、化合物B2−28と1−メタンスルホニルピ
ペラジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 477 [M+H]
HPLC保持時間: 3.03分 (分析条件W)
[製造例144]
化合物B3−17
8−(4−ヒドロキシ−ピペリジン−1−カルボニル)−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−15の合成法と同様の条件で、化合物B2−28とピペリジン−4−オール
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 414 [M+H]
HPLC保持時間: 2.75分 (分析条件W)
[製造例145]
化合物B3−18
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸 (2−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチル−エチル)
−アミド


化合物B3−15の合成法と同様の条件で、化合物B2−28と2−アミノプロパン−1
,3−ジオールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 404 [M+H]
HPLC保持時間: 2.60分 (分析条件W)
[製造例146]
化合物B3−19
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸 (2−メタンスルホニル−エチル)−アミド


化合物B3−15の合成法と同様の条件で、化合物B2−28と2−メタンスルホニルエ
チルアミンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 436 [M+H]
HPLC保持時間: 2.87分 (分析条件W)
[製造例147]
化合物B3−20
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸 (1,1−ジオキソ−テトラヒドロ−チオフェン−3
−イル)−アミド


化合物B3−15と同様の条件で、化合物B2−28と(1,1−ジオキソテトラヒドロ
チオフェン−3−イル)アミンより標題化合物を合成した
LCMS: m/z 448 [M+H]
HPLC保持時間: 1.70分 (分析条件S)
[製造例148]
化合物B3−21
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸 ((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロピル)−アミ



化合物B3−15と同様の条件で、化合物B2−28と(R)−(+)−3−アミノ−1
,2−プロパンジオールより標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 404 [M+H]
HPLC保持時間: 1.38分 (分析条件S)
[製造例149]
化合物B3−22
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸 ビス−(2−ヒドロキシ−エチル)−アミド


化合物B3−15と同様の条件で、化合物B2−28とN,N−ジエタノールアミンより
標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 418 [M+H]
HPLC保持時間: 1.35分 (分析条件S)
[製造例150]
化合物B3−23
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸 オキセタン−3−イルアミド


化合物B3−15と同様の条件で、化合物B2−28とオキセタン−3−イルアミンより
標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 386 [M+H]
HPLC保持時間: 1.63分 (分析条件S)
[製造例151]
化合物B3−24
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸 (2−ヒドロキシ−エトキシ)−アミド


化合物B3−15と同様の条件で、化合物B2−28と2−アミノオキシ−エタノールよ
り標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 390 [M+H]
HPLC保持時間: 1.54分 (分析条件S)
[製造例152]
化合物B3−25−1
2−[(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−8−カルボニル)−アミノ]−エチル}−カルバミン酸 te
rt−ブチル エステル


化合物B3−15と同様の条件で、化合物B2−28と(2−アミノ−エチル)−カルバ
ミン酸 tert−ブチルエステルより標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 473 [M+H]
HPLC保持時間: 2.08分 (分析条件S)
[製造例153]
化合物B3−25−2
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸 (2−アミノ−エチル)−アミド


化合物A8−1と同様の条件で、化合物B3−25−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 373 [M+H]
HPLC保持時間: 1.19分 (分析条件S)
[製造例154]
化合物B3−25−3
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸 (2−メタンスルホニルアミノ−エチル)−アミド


化合物A9−1と同様の条件で、化合物B3−25−2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 451 [M+H]
HPLC保持時間: 1.62分 (分析条件S)
[製造例155]
化合物B3−26
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−8−カルボン酸 (2−ヒドロキシ−エチル)−メチル−アミド


化合物B3−15と同様の条件で、化合物B2−28と2−メチルアミノ−エタノールよ
り標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 388 [M+H]
HPLC保持時間: 1.53分 (分析条件S)
[製造例156]
化合物B3−27−1
N−(2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−カルボキサミド)エチル)スルファモイルカルバミン
酸 tert−ブチル


化合物A9−1と同様の条件で、化合物B3−25−2とN−(tert−ブトキシカル
ボニル)−N−[4−(ジメチルアザニウミリデン)−1,4−ジヒドロピリジン−1−
イルスルホニル]アザニド(CAS番号872496−91−8)より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 552 [M+H]
HPLC保持時間: 2.03分 (分析条件S)
[製造例157]
化合物B3−27−2
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−N−(2−(スルファモイルアミノ)エ
チル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−カルボキサミド


化合物A8−1と同様の条件で、化合物B3−27−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 452 [M+H]
HPLC保持時間: 1.57分 (分析条件S)
[製造例158]
化合物B3−28
8−[4−(2−ヒドロキシ−エチル)−ピペラジン−1−カルボニル]−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物B3−15の合成法と同様の条件で、化合物B2−28と2−ピペラジン−1−イ
ルエタノールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 443 [M+H]
HPLC保持時間: 1.75分 (分析条件U)
[製造例159]
化合物B3−29
8−(4−tert−ブチル−ピペラジン−1−カルボニル)−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−15の合成法と同様の条件で、化合物B2−28と1−tert−ブチルピ
ペラジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 455 [M+H]
HPLC保持時間: 1.88分 (分析条件U)
[製造例160]
化合物B3−30
8−[4−(2−メトキシ−エチル)−ピペラジン−1−カルボニル]−6,6−ジメチ
ル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボ
ニトリル


化合物B3−15の合成法と同様の条件で、化合物B2−28と1−(2−メトキシエチ
ル)ピペラジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 457 [M+H]
HPLC保持時間: 1.83分 (分析条件U)
[製造例161]
化合物B3−31−1
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−カルボニル)−ピペラジン−1−カルボン酸 tert−ブ
チル エステル


化合物B3−15の合成法と同様の条件で、化合物B2−28とピペラジン−1−カルボ
ン酸 tert−ブチルエステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 499 [M+H]
HPLC保持時間: 2.63分 (分析条件U)
[製造例162]
化合物B3−31−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(ピペラジン−1−カルボニル)−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物B3−31−1より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 399 [M+H]
HPLC保持時間: 1.78分 (分析条件U)
[製造例163]
化合物B3−32
6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イルメチル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−29(30mg、0.095mmol)のTHF(1ml)溶液に、モルホ
リン(6μl、1.5当量)、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド(81mg、2.
0当量)を加え、室温で1時間攪拌した。反応液をろ過して不溶物をろ別した後、減圧濃
縮して得られた残渣を高速液体クロマトグラフィーで精製し、標題化合物(19mg、5
0%)を得た。
H−NMR(400 MHz, CD3OD) δ: 8.41 (1 H, d,
7.9 Hz), 8.27 (1 H, d, 8.5 Hz),7.87 (1
s), 7.81 (1 H, s), 7.56 (1 H, d, 8.5 Hz)
,7.49 (1 H, d, 7.9 Hz), 3.71 (4 H, t, 4.
6 Hz), 3.68 (2 H, s), 2.51 (4 H, t, 4.6
Hz), 1.82 (6 H, s)
LCMS: m/z 386 [M+H]
HPLC保持時間: 2.41分 (分析条件W)
[製造例164]
化合物B3−33
6,6−ジメチル−8−(4−メチル−ピペラジン−1−イルメチル)−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−29と1−メチルピペラジンよ
り、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, CD3OD) δ: 8.41 (1 H, d,
7.9 Hz), 8.26 (1 H, d, 7.9 Hz),7.88 (1
s), 7.81 (1 H, s), 7.56 (1 H, d, 7.9 Hz)
,7.48 (1 H, d, 7.9 Hz), 3.70 (2 H, s), 2
.42−2.78 (8 H, m), 2.31 (3 H, s), 1.82 (
6 H, s)
LCMS: m/z 399 [M+H]
HPLC保持時間: 2.30分 (分析条件W)
[製造例165]
化合物B3−34
8−[4−(1,1−ジオキシド−4−チオモルホリニル)メチル]−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−29とチオモルホリン 1,1
−ジオキシドより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 434 [M+H]
HPLC保持時間: 2.75分 (分析条件W)
[製造例166]
化合物B3−35
8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イルメチル)−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−29と1−メタンスルホニルピ
ペラジンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, CD3OD) δ: 8.41 (1 H, d,
8.5 Hz), 8.28 (1 H, d, 7.9 Hz),7.87 (1
s), 7.80 (1 H, s), 7.56 (1 H, d, 8.5 Hz)
,7.50 (1 H, d, 7.9 Hz), 3.73 (2 H, s), 3
.24−3.28 (4 H, m), 2.85 (3 H, s), 2.59−2
.65 (4 H, m), 1.82 (6 H, s)
LCMS: m/z 463 [M+H]
HPLC保持時間: 2.47分 (分析条件W)
[製造例167]
化合物B3−36
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルメチル)−ピペラジン−1−スルホン酸 ジメチルアミ



化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−29とピペラジン−1−スルホ
ン酸ジメチルアミドより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.79 (1 H,
s), 8.32 (1 H, d, 7.9 Hz), 8.18 (1 H, d
, 7.9 Hz),8.00 (1 s), 7.77 (1 H, s), 7.6
0 (1 H, d, 7.9 Hz),7.46 (1 H, d, 7.9 Hz)
, 3.67 (2 H, s), 3.18−3.23 (4 H, m), 2.7
6 (6 H, s), 2.45−2.50 (4 H, m), 1.77 (6
H, s)
LCMS: m/z 492 [M+H]
HPLC保持時間: 2.58分 (分析条件W)
[製造例168]
化合物B3−37
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−[(2,2,2−トリフルオロ−エチルアミノ)
−メチル]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B2−29と2,2,2−トリフルオ
ロエチルアミンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 398 [M+H]
HPLC保持時間: 2.73分 (分析条件W)
[製造例169]
化合物B3−38
8−ヒドロキシメチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−
ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−37を合成した際の反応副生成物を高速液体クロマトグラフィーで精製する
ことで、標題化合物を得た。
LCMS: m/z 317 [M+H]
HPLC保持時間: 2.91分 (分析条件W)
[製造例170]
化合物B4−1
8−(1−シクロブチル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B3−13−2とシクロブタノンより
、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.73 (1H, s
), 8.28−8.33 (1H, m), 8.09−8.14 (1H, m),
7.99 (1H, s), 7.72 (1H, s), 7.56−7.62 (
1H, m), 7.34−7.41 (1H, m), 3.52−3.64 (2H
, m), 2.85−2.95 (2H, m), 2.56−2.75 (2H,
m), 1.91−2.04 (2H, m), 1.56−1.84 (14H, m

LCMS: m/z 424 [M+H]
HPLC保持時間: 1.87分 (分析条件U)
[製造例171]
化合物B4−2
8−(1−メタンスルホニル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物B3−13−2とメシルクロライドより
、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.77 (1H, s
), 8.31 (1H, d, 8.6Hz), 8.15 (1H, d, 8.2
Hz), 8.00 (1H, s), 7.77 (1H, s), 7.59 (1
H, d, 7.3Hz), 7.42 (1H, d, 8.6Hz), 3.74−
3.70 (1H, m), 2.93 (3H, s), 2.86−2.77 (4
H, m), 1.93−1.87 (4H, m), 1.77 (6.0H, s)
LCMS: m/z 448 [M+H]
HPLC保持時間: 2.37分 (分析条件S)
[製造例172]
化合物B4−3−1
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)ピペリジン−1−イルスルホニルカルバミン酸 te
rt−ブチル


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物B3−13−2とN−(tert−ブト
キシカルボニル)−N−[4−(ジメチルアザニウミリデン)−1,4−ジヒドロピリジ
ン−1−イルスルホニル]アザニドより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 549 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.72分 (分析条件S)
[製造例173]
化合物B4−3−2
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペリジン−1−スルホン酸アミド


化合物A8−1と同様の条件で、化合物B4−3−1より標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.78 (1H, s
), 8.29 (1H, d, 7.9Hz), 8.14 (1H, d, 8.5
Hz), 7.97 (1H, s), 7.76 (1H, s), 7.55 (
1H, d, 8.5Hz), 7.41 (1H, d, 7.9 Hz), 6.7
9 (2H, s), 3.63 (2H, d, 12.2Hz), 2.80−2.
73 (1H, m), 2.70−2.64 (2H, m), 1.96−1.93
(2H, m), 1.87−1.81 (2H, m), 1.77 (6H, s

LCMS: m/z 449 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.03分 (分析条件S)
[製造例174]
化合物B4−4
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペリジン−1−スルホン酸 メチルアミド


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物B3−13−2と2−オキソオキサゾリ
ジン−3−スルホン酸 メチルアミドより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 463 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件S)
[製造例175]
化合物B4−5
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペリジン−1−スルホン酸 ジメチルアミド


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物B3−13−2と塩化ジメチルスルファ
モイルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 477 [M+H]
HPLC保持時間: 2.65分 (分析条件S)
[製造例176]
化合物B4−6
6,6−ジメチル−8−(1−メチル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,1
1−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物B3−13−2とヨードメタンより、標
題化合物を合成した。
LCMS: m/z 384 [M+H]
HPLC保持時間: 1.50分 (分析条件S)
[製造例177]
化合物B4−7
8−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B3−13−2とアセトンより、標題
化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.77 (1H, s
), 8.32 (1H, d, 7.9Hz), 8.13 (1H, d, 7.9
Hz), 8.01 (1H, s), 7.73 (1H, s), 7.61 (1
H, d, 9.1Hz), 7.39 (1H, d, 9.8Hz), 2.93
(2H, d, 11.0Hz), 2.77−2.71 (1H, m), 2.67
− 2.62 (1H, m), 2.25 (2H, t, 10.1Hz), 1.
80−1.73 (10H, m), 1.02 (6H, d, 6.7 Hz)
LCMS: m/z 412 [M+H]
HPLC保持時間: 1.60分 (分析条件S)
[製造例178]
化合物B4−8
6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物B3−13−2とオキセタン−3−オ
ンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.74 (1H,
s), 8.32 (1H, d, 7.9Hz), 8.13 (1H, d, 7.
9Hz), 8.00 (1H, s), 7.74 (1H, s), 7.61 (
1H, d, 9.8Hz), 7.40 (1H, d, 7.9Hz), 4.56
(2H, t, 6.7Hz), 4.46 (2H, t, 6.1Hz), 3.
46−3.39 (1H, m), 2.85−2.82 (2H, m), 2.71
−2.64 (1H, m), 1.92−1.86 (2H, m), 1.82−1
.79 (4H, m), 1.77 (6H, s)
LCMS: m/z 426 [M+H]
HPLC保持時間: 1.53分 (分析条件S)

化合物B4−8の硫酸塩
6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリルを
DMA5容および2規定硫酸1.4容の混液に80℃にて溶解した。室温に冷却後アセト
ン15容を滴下し析出した固体をろ過、乾燥し6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン
−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル硫酸塩を得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.81 (1H,
s), 10.26 (1H、br.s)、8.33 (1H, d, 8.3Hz),
8.21 (1H, d, 8.3Hz), 8.04 (1H, s), 7.75
(1H, s), 7.63 (1H, d, 8.3Hz), 7.41 (1H,
d, 8.3Hz), 4.85−4.70 (4H, m), 4.50−4.40
(1H, br.s), 3.60−3.00(6H, br.m), 2.20−2
.10 (2H, m), 2.05−1.90 (2H, m), 1.79 (6H
, s)
LCMS: m/z 426 [M+H]
[製造例179]
化合物B4−9
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペリジン−1−カルボン酸 エチルアミド


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物B−3−13−2とエチルイソシアナー
トより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 441 [M+H]
HPLC保持時間: 2.20分 (分析条件S)
[製造例180]
化合物B4−10
8−[1−(イミダゾール−1−スルホニル)−ピペリジン−4−イル]−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


Journal of Organic Chemistry, 2003年、115ペ
ージの文献記載の方法に基づき、6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペリジン−4
−イル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(
化合物B3−13−2、10mg、0.027mmol)、3−(イミダゾール−1−ス
ルホニル)−1−メチル−3H−イミダゾール−1−イウム(19mg,2当量)と反応
させた後、溶媒を除去し、残渣を液体クロマトグラフィーで精製し、標題化合物(3mg
)を得た。
LCMS: m/z 500 [M+H]
HPLC保持時間: 2.80分 (分析条件C)
[製造例181]
化合物CC1
3−メトキシ−5,5−ジメチル−6−オキソ−5,6,7,8−テトラヒドロ−ナフタ
レン−2−スルホニルクロリド


7−メトキシ−1、1−ジメチル−3、4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、200mg、0.980mmol)のジクロロメメタン(2ml)溶液にクロ
ロスルホン酸(110μl、1.70当量)加え、室温で2時間撹拌した。反応液に塩化
オキサリル(297μl、3.0当量)およびN,N−ジメチルホルムアミド(45μl
、0.6当量)を3回に分けて加えた後、室温で30分撹拌した。反応液を減圧濃縮して
標題化合物(295mg)を得た。表題化合物は不安定なため、次ステップで構造確認を
行なった。
[製造例182]
化合物CC2−1
7−メトキシ−1,1−ジメチル−6−(ピロリジン−1−スルホニル)−3,4−ジヒ
ドロ−1H−ナフタレン−2−オン


3−メトキシ−5,5−ジメチル−6−オキソ−5,6,7,8−テトラヒドロ−ナフタ
レン−2−スルホニルクロリド(化合物CC1、295mg、0.974mmol)のT
HF(4ml)溶液を0℃に冷却し、ピロリジン(121μl、1.5当量)とトリエチ
ルアミン(272μl、2当量)を併せたテトラフラン(1ml)溶液を2分間かけて滴
下した。化合物CC−1が消失するまで0℃で撹拌した後、反応液に蒸留水を注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。有機層を10%エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム水溶液で洗浄し
た。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥、乾燥剤の濾去後
、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキ
サン)で精製し、標題化合物(246mg、75%)を得た。
H−NMR(400 MHz, CDCl) δ: 7.76 (1H, s),
6.93 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.37−3.46 (4
H, m), 3.09 (0.0H, t, J = 6.9 Hz), 2.69
(0.0H, t, J = 6.9 Hz), 1.82−1.91 (4H, m)
, 1.47 (6H, s)
LCMS: m/z 338 [M+H]
HPLC保持時間: 3.21分 (分析条件W)
[製造例183]
化合物CC2−2
7−メトキシ−1,1−ジメチル−6−(4−メチル−ピペラジン−1−スルホニル)−
3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン


化合物CC2−1の合成法と同様の条件で、化合物CC1とN−メチルピペラジンより標
題化合物を合成した。
LCMS: m/z 367 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.22分 (分析条件Y)
[製造例184]
化合物CC3−1
8−メトキシ−6,6−ジメチル−9−(ピロリジン−1−スルホニル)−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E2−1の合成法と同様の条件で、化合物CC2−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 436 [M+H]
HPLC保持時間: 3.76分 (分析条件W)
[製造例185]
化合物CC3−2
3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−9−(4−メチル−ピペラジン−1−ス
ルホニル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール


化合物A3−1の合成法と同様の条件で、化合物CC2−2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 519 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.99分 (分析条件Y)
[製造例186]
化合物CC4−1
8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(ピロリジン−1−スルホニル)
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物CC3−1より標題化合物を合成した。
H−NMR (400 MHz, DMSO−D) δ: 12.86 (1H,
s), 8.60 (1H, s), 8.30 (1H, d, J = 8.5 H
z), 8.01 (1H, s), 7.60 (1H, s), 7.59 (1H
, d, J = 8.5 Hz), 4.09 (3H, s), 3.21−3.4
2 (4H, m), 1.72−1.90 (10H, m)
LCMS: m/z 450 [M+H]
HPLC保持時間: 3.40分 (分析条件W)
[製造例187]
化合物CC4−2
3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−9−(4−メチル−ピペラジン−1−ス
ルホニル)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物CC3−2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 532、534 [M+H]
HPLC保持時間: 2.18分 (分析条件U)
[製造例188]
化合物CC−4−3
8−メトキシ−6,6−ジメチル−9−(4−メチル−ピペラジン−1−スルホニル)−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物A5−2の合成法と同様の条件で、化合物CC4−2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 479 [M+H]
HPLC保持時間: 1.93分 (分析条件U)
[製造例189]
化合物C1−1
ジメチル−スルファミン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル


8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物A6、50mg、0.165mmol
)をDMF(1.5mL)に溶解し、水素化ナトリウム(13mg、2.0等量)、ジメ
チルスルファモイルクロリド(0.02mL、1.2等量)を加え、室温で1時間攪拌し
た。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して、目的物(黄白色粉末、62mg、92
%)を得た。
H−NMR(270MHz、DMSO−d) δ: 12.87 (1H, s),
8.40−8.30 (2H, m), 8.05 (1H, s), 7.82 (
1H, d, J = 1.8 Hz), 7.64 (1H, d, J = 7.9
Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.5, 2.4 Hz), 2.
96 (6H, s), 1.81 (6H, s)
LCMS: m/z 410 [M+H]
HPLC保持時間: 2.38分 (分析条件S)
[製造例190]
化合物C1−2
モルホリン−4−スルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル


化合物A8−17の合成と同様の手法で、化合物A6とA8−18−0より標題化合物を
粗生成物として得た。
[製造例191]
化合物C1−4
4−メチル−ピペラジン−1−スルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル


化合物A8−17の合成と同様の手法で、化合物A6とA8−19−0より標題化合物を
粗生成物として得た。
[製造例192]
化合物C2−1
3−シアノ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸 ジメチルアミド


ジメチル−スルファミン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル(化合物C1−1、2
50mg、0.610mmol)に塩化アルミニウム(1.0M、ニトロメタン溶液(1
.8mL、3.0等量)を加え、マイクロウェーブ照射下、160℃で10分攪拌した。
反応液を水に注ぎ、ジクロロメタンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ジクロロメタン/メタノール)で精製し、目的物(黄白色粉末、99mg
、40%)を得た。
H−NMR(270MHz、DMSO−d) δ: 12.78 (1H, s),
11.72 (1H, s), 8.50 (1H, s), 8.32 (1H,
d, J = 8.5 Hz), 8.02 (1H, s), 7.62 (1H,
d, J = 7.9 Hz), 7.25 (1H, s), 2.80 (6H,
s), 1.75 (6H, s).
LCMS: m/z 410 [M+H]
HPLC保持時間: 2.00分 (分析条件S)
[製造例193]
化合物C2−2
8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(ピロリジン−1−スルホニル
)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E3−2の合成法と同様の条件で、化合物CC4−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 436 [M+H]
HPLC保持時間: 3.32分 (分析条件W)
[製造例194]
化合物C2−3
8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−9−(モルホリン−4−スルホニル)−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物C2−1の合成法と同様の条件で、化合物C1−2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 452 [M+H]
HPLC保持時間: 1.89分 (分析条件S)
[製造例195]
化合物C2−4
8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−9−(4−メチル−ピペラジン−1−スルホニル)
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物E3−2の合成法と同様の条件で、化合物CC4−3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 465 [M+H]
HPLC保持時間: 1.87分 (分析条件U)
[製造例196]
化合物C3−1
トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−9−ジメチルスルファモイル−6,6−
ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−
イル エステル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物C2−1より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz,DMSO−d) δ: 13.05 (1H, s)
, 8.67 (1H, s), 8.32 (1H, d, J = 8.2 Hz)
, 8.06 (2H, m), 7.67 (1H, dd, J = 7.9, 1
.3 Hz), 2.79 (6H, s), 1.84 (6H, s).
LCMS: m/z 542 [M+H]
HPLC保持時間: 2.67分 (分析条件S)
[製造例197]
化合物C3−2
トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−
(ピロリジン−1−スルホニル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−8−イル エステル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物C2−2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 568 [M+H]
HPLC保持時間: 4.00分 (分析条件W)
[製造例198]
化合物C4−1
3−シアノ−8−(2−メトキシ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸 ジメチルアミド


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物C2−1と1−ブロモ−2−メトキシ
−エタンより、標題化合物を合成した。
1H−NMR(300MHz, DMSO−d) σppm; 12.8(s, 1
H), 8.58 (s, 1H), 8.31 (d, 1H, J=8.4 Hz)
, 8.03 (s, 1H), 7.62 (m, 2H), 4.47 (m, 2
H), 3.75 (m, 2H), 3.32 (s, 3H), 2.27 (s,
6H), 1.83 (s, 6H)
LCMS: m/z 468 [M+H]
HPLC保持時間: 2.68分 (分析条件U)
[製造例199]
化合物C4−2
3−シアノ−8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸 ジメチルア
ミド


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物C2−1より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 8.57 (1H, s),
8.29 (1H, d, J = 8.4 Hz), 8.02 (1H, s),
7.70−7.60 (2H, m), 4.37 (2H, t, J = 6.3
Hz), 2.84 (2H, m), 2.80 (6H, s), 2.64−2
.53 (4H, m), 1.83 (6H, s), 0.98 (6H, t,
J = 7.1 Hz).
LCMS: m/z 509 [M+H]
HPLC保持時間: 1.55分 (分析条件S)
[製造例200]
化合物C4−3
3−シアノ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸 ジメチルアミド


化合物A7−17と同様の条件で、化合物C2−1とヨードメタンより、標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 424 [M+H]
HPLC保持時間: 2.17分 (分析条件S)
[製造例201]
化合物C4−4
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(ピペリジン−4−イルオキシ)−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸 ジメチルアミ



化合物A7−1およびA8−1と同様の条件で、化合物C2−1と4−ヒドロキシ−ピペ
リジン−1−カルボン酸 tert−ブチルエステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 493 [M+H]
HPLC保持時間: 1.49分 (分析条件S)
[製造例202]
化合物C4−5
3−シアノ−6,6−ジメチル−8−(2−モルホリン−4−イル−エトキシ)−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸 ジメ
チルアミド


化合物A7−1と同様の条件で、化合物C2−1と2−モルホリン−4−イル−エタノー
ルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 523 [M+H]
HPLC保持時間: 1.64分 (分析条件S)
[製造例203]
化合物C4−6
3−シアノ−8−[2−(1,1−ジオキソ−チオモルホリン−4−イル)−エトキシ]
−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−9−スルホン酸 ジメチルアミド


化合物A7−1と同様の条件で、化合物C2−1と2−(1,1−ジオキソチオモルホリ
ノ)エタノールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 571 [M+H]
HPLC保持時間: 1.75分 (分析条件S)
[製造例204]
化合物C4−7
3−シアノ−8−(1−エチル−ピペリジン−4−イルオキシ)−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸
ジメチルアミド


化合物A7−1と同様の条件で、化合物C2−1と1−エチル−ピペリジン−4−オール
より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 521 [M+H]
HPLC保持時間: 1.52分 (分析条件S)
[製造例205]
化合物C4−8
3−シアノ−8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸
ジメチルアミド


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物C3−1より標題化合物を合成した。
H−NMR(270MHz、DMSO−d) δ: 8.61 (1H, s),
8.30 (1H, d, J = 8.1 Hz), 8.04 (1H, s),
7.87 (1H, s), 7.62 (1H, dd, J = 8.2, 1.8
Hz), 3.17−3.06 (2H, m), 2.75−2.70 (6H,
s), 2.67−2.58 (2H, m), 1.81 (6H, s), 1.0
2(6H, d,J = 6.4 Hz).
LCMS: m/z 520 [M+H]
HPLC保持時間: 1.52分 (分析条件S)
[製造例206]
化合物C4−9
3−シアノ−8−[4−(2−ヒドロキシ−エチル)−ピペラジン−1−イル]−6,6
−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9
−スルホン酸 ジメチルアミド


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物C3−1と2−ピペラジン−1−イル−
エタノールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 522 [M+H]
HPLC保持時間: 1.40分 (分析条件S)
[製造例207]
化合物C4−10
3−シアノ−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸 ジメチルアミド


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物C3−1とモルホリンより、標題化合物
を合成した。
LCMS: m/z 479 [M+H]
HPLC保持時間: 2.22分 (分析条件S)
[製造例208]
化合物C4−11
4−(3−シアノ−9−ジメチルスルファモイル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6
,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペラジン−1−カ
ルボン酸 tert−ブチル エステル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物C3−1とピペラジン−1−カルボン酸
tert−ブチルエステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 578 [M+H]
HPLC保持時間: 2.72分 (分析条件S)
[製造例209]
化合物C4−12
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸 ジメチルアミド


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物C4−11より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、CDOD) δ: 8.78 (1H, s), 8
.39 (1H, dd, J = 8.2, 0.7 Hz), 7.88 (1H,
m), 7.75 (1.1H, s), 7.55 (1H, dd, J = 8
.2, 1.5 Hz), 3.15 (4H, m), 3.04 (4H, m),
2.82 (s, 6H), 1.85 (6H, s)
LCMS: m/z 478 [M+H]
HPLC保持時間: 1.43分 (分析条件S)
[製造例210]
化合物C4−13
6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(ピロリジン−1−スルホニル)−8−(4−ピ
ロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物C3−2と4−(1−ピロリジル)−ピ
ペリジンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.83 (1 H,
s), 8.64 (1 H, s), 8.32 (1 H, d, 8.2 Hz
),8.03 (1 H, s), 7.80 (1 H, s), 7.63 (1
H, d, 8.2 Hz), 2.87−2.94 (4 H, m), 1.94−
1.99 (4 H, m), 1.80 (6 H, s), 1.58−1.76
(10 H, m)
LCMS: m/z 572 [M+H]
HPLC保持時間: 2.81分 (分析条件W)
[製造例211]
化合物C4−14
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−9−(モルホリン−4−ス
ルホニル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物C2−3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 551 [M+H]
HPLC保持時間: 1.46分 (分析条件S)
[製造例212]
化合物C4−15
6,6−ジメチル−9−(モルホリン−4−スルホニル)−11−オキソ−8−(テトラ
ヒドロ−ピラン−4−イルオキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物C2−3とテトラヒドロピラン−4−オ
ールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 536 [M+H]
HPLC保持時間: 2.05分 (分析条件S)
[製造例213]
化合物C4−16
6,6−ジメチル−9−(4−メチル−ピペラジン−1−スルホニル)−11−オキソ−
8−(テトラヒドロ−ピラン−4−イルオキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物C2−4とテトラヒドロピラン−4−オ
ールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 549 [M+H]
HPLC保持時間: 2.03分 (分析条件U)
[製造例214]
化合物C4−17
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−9−(4−メチル−ピペラ
ジン−1−スルホニル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カル
バゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物C2−3より標的化合物を合成した。
LCMS: m/z 564 [M+H]
HPLC保持時間: 1.20分 (分析条件S)
[製造例215]
化合物C5
3−シアノ−8−メトキシ−5,6,6−トリメチル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸 ジメチルアミド


化合物C4−3を合成する際の副生成物として標題化合物を得た。
LCMS: m/z 438 [M+H]
HPLC保持時間: 2.29分 (分析条件S)
[製造例216]
化合物D0−1−1
7−メトキシ−1,1−ジメチル−6−ニトロ−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オン


硝酸テトラブチルアンモニウム(2.47g、1.07当量)をジクロロメタンに溶解し
、0度でトリフルオロメタンスルホン酸無水物(1.33ml、1.07当量)を加え1
時間攪拌した後、7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレ
ン−2−オン(化合物A2、1.55g、7.59mmol)のDCM溶液を加えて0℃
で2時間半攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出
し有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した
。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(淡黄色固体、1.144g、60%)を
得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 7.79 (1H, s),
7.28 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.06 (2H, t
, J = 6.9 Hz), 2.64 (2H, t, J = 6.9 Hz),
1.41 (6H, s).
HPLC保持時間: 2.03分 (分析条件S)
[製造例217]
化合物D0−1−2
7−メトキシ−1,1−ジメチル−8−ニトロ−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オン


化合物D0−1−1合成の際の副生成物として、標題化合物を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 7.44 (1H, d,
J = 8.6 Hz), 7.23 (1H, d, J = 8.6 Hz), 3
.84 (3H, s), 3.07 (2H, t, J = 6.9 Hz), 2
.65 (2H, t, J = 6.9 Hz), 1.35 (6H, s)
HPLC保持時間: 2.15分 (分析条件S)
[製造例218]
化合物D0−2−1
3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−9−ニトロ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール


化合物A3−1の合成法と同様の条件で、化合物D0−1−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 401、403 [M+H]
HPLC保持時間: 3.07分 (分析条件S)
[製造例219]
化合物D0−2−2
3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−7−ニトロ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール


化合物A3−1と同様の条件で、化合物D0−1−2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 401、403 [M+H]
HPLC保持時間: 3.10分 (分析条件S)
[製造例220]
化合物D0−3−1
3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−9−ニトロ−5,6−ジヒドロ−ベンゾ
[b]カルバゾール−11−オン


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物D0−2−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 415、417 [M+H]
HPLC保持時間: 3.07分 (分析条件S)
[製造例221]
化合物D0−3−2
3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−7−ニトロ−5,6−ジヒドロ−ベンゾ
[b]カルバゾール−11−オン


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物D0−2−2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 415、417 [M+H]
HPLC保持時間: 2.72分 (分析条件S)
[製造例222]
化合物D0−4−1
8−メトキシ−6,6−ジメチル−9−ニトロ−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A5−2と同様の条件で、化合物D0−3−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 362 [M+H]
HPLC保持時間: 2.35分 (分析条件S)
[製造例223]
化合物D0−4−2
8−メトキシ−6,6−ジメチル−7−ニトロ−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A5−2の合成法と同様の条件で、化合物D0−3−2より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 362 [M+H]
HPLC保持時間: 2.35分 (分析条件S)
[製造例224]
化合物D0−5−1
8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−9−ニトロ−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物D0−4−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 348 [M+H]
HPLC保持時間: 2.28分 (分析条件S)
[製造例225]
化合物D0−5−2
8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−7−ニトロ−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物D0−4−2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 348 [M+H]
HPLC保持時間: 2.23分 (分析条件S)
[製造例226]
化合物D1
6,6−ジメチル−8−(1−メチル−ピペリジン−4−イルオキシ)−9−ニトロ−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物D0−5−1と1−メチルピペリジン−
4−オールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 445 [M+H]
HPLC保持時間: 1.64分 (分析条件S)
[製造例227]
化合物D2
9−アミノ−6,6−ジメチル−8−(1−メチル−ピペリジン−4−イルオキシ)−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



6,6−ジメチル−8−(1−メチル−ピペリジン−4−イルオキシ)−9−ニトロ−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ
ル(化合物D1、83mg、0.19mmol)をエタノールに溶解し、酢酸アンモニウ
ム水溶液、塩化チタン(III)水溶液を加え室温で45分攪拌した。反応液を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出し有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で
洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮し、表題化
合物(黄色固体、60mg、78%)を得た。
H−NMR (270MHz, DMSO−d) δ: 12.61 (1H, b
r.s), 8.28−8.34 (1H, m), 7.94−8.00 (1H,
m), 7.57 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.46
(1H, s), 7.19 (1H, s), 4.93 (1.8H, s),
4.65 (1.0H, s), 4.06−4.15 (1H, m), 3.34
(5.7H, s), 3.16−3.18 (2H, m), 2.55−2.67
(2H, m), 2.17−2.33 (5H, m), 1.89−2.07 (2
H, m), 1.65−1.81 (8H, m)
LCMS: m/z 415 [M+H]
HPLC保持時間: 1.12分 (分析条件S)
[製造例228]
化合物D3−1
N−[3−シアノ−6,6−ジメチル−8−(1−メチル−ピペリジン−4−イルオキシ
)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−イル]
−メタンスルホンアミド


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物D2とメタンスルホニルクロリドより、
標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 493 [M+H]
HPLC保持時間: 1.43分 (分析条件S)
[製造例229]
化合物D3−2
3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(1−メチルピペリジン−4−イル
オキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−スルホン酸 ジ
メチルアミド


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物D2と塩化ジメチルスルファモイルより
、標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、CDOD) δ: 8.34−8.42 (2.0H
, m), 7.85 (1.0H, s), 7.47−7.58 (1.0H, m
), 7.32 (1.0H, s), 4.73−4.89 (1H, m), 2.
75−2.91 (8H, m), 2.38−2.52 (2H, m), 2.34
(3H, s), 2.06−2.21 (2H, m), 1.87−2.05 (
2H, m), 1.80 (6H, s).
LCMS: m/z 522 [M+H]
HPLC保持時間: 1.66分 (分析条件S)
[製造例230]
化合物D3−3
N−[3−シアノ−6,6−ジメチル−8−(1−メチル−ピペリジン−4−イルオキシ
)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−イル]
−2−ジメチルアミノ−アセトアミド


化合物A9−10と同様の条件で、化合物D2とN,N−ジメチルグリシンより、標題化
合物を合成した。
LCMS: m/z 500 [M+H]
HPLC保持時間: 1.31分 (分析条件S)
[製造例231]
化合物E1
6−ブロモ−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オン


7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、2.0g、9.791mmol)をCHCN(40mL)に溶解し、NBS
(1.92g、1.1等量)を加え、室温で2.5時間攪拌した。反応液に水(40mL
)に注ぎ、析出した固体を濾取することで標題化合物(白色粉末、2.55g、92%)
を得た。
H−NMR (270MHz、CDCl) δ: 7.36 (1H, s), 6
.84 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.02 (2H, t,
J = 6.8 Hz), 2.66 (2H, t, J = 6.8 Hz), 1
.42 (6H, s).
LCMS: m/z 283、285 [M+H]
HPLC保持時間: 2.67分 (分析条件S)
[製造例232]
化合物E2−1
9−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル


6−ブロモ−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オン(化合物E1、7.89g、27.85mmol)と3−ヒドラジノ−ベンゾニ
トリル(4.45g、1.2等量)をTFA(250mL)に溶解し、100℃で2時間
攪拌した。減圧濃縮によりTFAを除去した後に、残渣に飽和NaHCO水溶液(50
0mL)を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで
乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣に酢酸エチルを加え、室温で撹拌
し析出した固体を濾別した(化合物E2−2)。濾液を減圧濃縮することによりE2−2
との混合物として、表題化合物(黄白色粉末、2.65g)を得た。
LCMS: m/z 381、383 [M+H]
HPLC保持時間: 3.03分 (分析条件S)
[製造例233]
化合物E2−2
9−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−1−カルボニトリル


化合物E2−1合成の際の副生成物として、標題化合物を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 11.70 (1H, s)
, 7.69 (1H, dd, J = 8.1, 0.8 Hz), 7.55 (
1H, s), 7.48 (1H, dd, J = 7.4, 0.8 Hz),
7.27 (1H, s), 7.22 (1H, dd, J = 8.1, 7.4
Hz), 4.23 (2H, s), 3.91 (3H, s), 1.70 (
6H, s).
LCMS: m/z 381、383 [M+H]
HPLC保持時間: 2.92分 (分析条件S)
[製造例234]
化合物E2−3、化合物E2−4
3,9−ジブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール
1,9−ジブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール

化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物E1より標題化合物(混合物)を合成した。
[製造例235]
化合物E3−1−1
9−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物E2−1より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 12.82 (1H, s)
, 8.30 (2H, s+d), 8.03 (1H, s), 7.61 (1H
, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.49 (1H, s), 4.
04 (3H, s), 1.81 (6H, s).
LCMS: m/z 395、397 [M+H]
HPLC保持時間: 2.77分 (分析条件S)
[製造例236]
化合物E3−1−2
9−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−1−カルボニトリル


化合物E3−1−1合成の際の副生成物として、標題化合物を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 12.84 (1H, s)
, 8.31 (1H, s), 7.86 (1H, dd, J = 8.2, 0
.9 Hz), 7.70 (1H, d, J = 7.1 Hz), 7.47 (
1H, s), 7.43 (1H, t, J = 7.8 Hz), 4.04 (
3H, s), 1.81 (6H, s).
LCMS: m/z 395、397 [M+H]
HPLC保持時間: 2.42分 (分析条件S)
[製造例237]
化合物E3−1−3
3,9−ジブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]
カルバゾール−11−オン


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物E2−3、E2−4(混合物)より標題化合
物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.42 (1H, s)
, 8.28 (1H, s), 8.09 (1H, d, J = 8.2 Hz)
, 7.68 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.47 (1H, s)
, 7.39 (1H, dd, J = 8.3, 1.7 Hz), 4.03 (
3H, s), 1.78 (6H, s).
LCMS: m/z 448、450、452 [M+H]
HPLC保持時間: 2.93分 (分析条件S)
[製造例238]
化合物E3−2
9−ブロモ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


9−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物E3−1−1、1.0g、
2.53mmol)をNMP(10mL)に溶解し、NaOMe(683mg、5等量)
、1−ドデカンチオール(3.0mL,5等量)を加え、160℃で1時間攪拌した。反
応液を0.5N塩酸水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣にMeOHを加
え、溶け残った固体を濾取することで標題化合物(黄色粉末、1.88g、65%)を得
た。
H−NMR (400MHz、DMSO−d) δ: 12.77 (1H, s)
, 11.13 (1H, d, J = 2.4 Hz), 8.31 (1H, d
d, J = 7.9, 2.4 Hz), 8.25 (1H, d, J = 3.
0 Hz), 8.01 (1H, s), 7.61 (1H, d, J = 7.
9 Hz), 7.28 (1H, d, J = 2.4 Hz), 1.74 (6
H, s).
LCMS: m/z 381,383 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件S)
[製造例239]
化合物E3−3
9−ブロモ−8−イソプロポキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物E3−2と2−ブロモプロパンより、
標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.77 (1H, s)
,8.29 (2H, s+d), 8.01 (1H, s), 7.60 (1H,
d, J = 8.1 Hz), 7.50 (1H, s), 5.03 (1H,
m), 1.79 (6H, s), 1.36 (6H, d, J = 5.9
Hz).
LCMS: m/z 423,425 [M+H]
HPLC保持時間: 2.98分 (分析条件S)
[製造例240]
化合物E4−1
8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3,9−ジカルボニトリル


化合物A5−2と同様の条件で、化合物E3−1−1より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.88 (1H, br
.s), 8.43 (1H, s), 8.30 (1H, d, J = 8.2
Hz), 8.05 (1H, d, J = 0.5 Hz), 7.65−7.62
(2H, m), 4.11 (3H, s), 1.84 (6H, s).
LCMS: m/z 342 [M+H]
HPLC保持時間: 2.23分 (分析条件S)
[製造例241]
化合物E4−2−1
9−(3−ヒドロキシ−3−メチル−ブタ−1−イニル)−8−メトキシ−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


9−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物E3−1−1、50mg、
0.13mmol)、ビス(アセトニトリル)ジクロロパラジウム(II)(1.64
mg、0.05当量)、XPhos(9.05mg、0.15当量)、炭酸セシウム(1
85mg、4.5当量)、3−メチル−1−ブチン−1−オール(18.6μl、1.5
当量)をアセトニトリルに溶解し、85℃で2時間攪拌した。反応液を水に注ぎ酢酸エチ
ルで抽出し有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで
乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をHPLCで精製し、標題化合物
(茶色固体、21.3mg、42%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 8.29 (1H, d,
J = 8.1 Hz), 8.11 (1H, s), 8.00 (1H, s),
7.57 (1H, d, J = 8.1Hz), 7.40 (1H, s),
5.50 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.54 (1H, s)
, 1.79 (6H, s), 1.49 (6H, s).
LCMS: m/z 399 [M+H]
HPLC保持時間: 2.10分 (分析条件S)
[製造例242]
化合物E4−2−2
9−エチニル−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


9−(3−ヒドロキシ−3−メチル−ブタ−1−イニル)−8−メトキシ−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル(化合物E4−2−1、21.3mg、0.05mmol)、水素化ナトリウ
ム(3.2mg、1.5当量)をTHFに溶解し、50℃で一晩攪拌した。反応液に水を
加え、減圧濃縮して得られた残渣をHPLCで精製し、標題化合物(茶色固体、9.6m
g、31%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 8.26 (1H, d,
J = 8.2 Hz), 8.16 (1 H, s), 7.97 (1H, s)
, 7.53 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.41 (1H, s)
, 4.32 (1H, s), 4.00 (3H, s), 1.79 (6H,
s).
LCMS: m/z 341 [M+H]
HPLC保持時間: 2.27分 (分析条件S)
[製造例243]
化合物E4−3
8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−ビニル−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


9−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物E3−1−1、50mg、
0.13mmol)、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジ
ウム(II)ジクロリド ジクロロメタン錯体(1:1)(10.3mg、0.1当量)
、TEA(53μl、3当量)、ビニルトリフルオロホウ酸カリウム(51mg、3当量
)をn−プロパノールに溶解し、60℃で5日間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出し有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで
乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(茶色粉末、25mg、19%)
を得た。
LCMS: m/z 343 [M+H]
HPLC保持時間: 2.55分 (分析条件S)
[製造例244]
化合物E4−4
9−(2−ジエチルアミノ−エチルスルファニル)−8−メトキシ−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B2−17の合成法と同様の条件で、化合物E3−1−1より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 448 [M+H]
HPLC保持時間: 2.05分 (分析条件U)
[製造例245]
化合物E4−5
9−イソプロピルスルファニル−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−17の合成法と同様の条件で、化合物E3−1−1とプロパン−2−チオー
ル ナトリウム塩より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 391 [M+H]
HPLC保持時間: 2.98分 (分析条件U)
[製造例246]
化合物E4−6
8−メトキシ−6,6−ジメチル−9−(4−メチルピペラジン−1−イル)−11−オ
キソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−10の合成法と同様の条件で、化合物E3−1−1と1−メチルピペラジン
より、標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、DMSO−D) δ: 8.25 (1H, d,
J = 7.8 Hz), 7.93 (1H, s), 7.65 (1H, s),
7.50 (1H, d, J = 6.8 Hz), 7.25 (1H, s),
3.93 (3H, s), 3.02 (4H, br), 2.22 (3H,
s), 1.73 (6H, s).
LCMS: m/z 415 [M+H]
HPLC保持時間: 1.80分 (分析条件U)
[製造例247]
化合物E4−7−1
4−(3−シアノ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン
−1−カルボン酸 tert−ブチル エステル


9−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物E3−1−1、300mg
、0.759mmol)、4−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキ
サボロラン−2−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン−1−カルボン酸 ter
t−ブチルエステル(282mg、0.911mmol、1.2等量)、Pd(PPh
Cl(26.6mg、0.0379mmol、0.05等量)、炭酸ナトリウム(
241mg、2.28mmol、3.0等量)にDME(5ml)と水(1ml)を加え
た。これを超音波を照射しながら減圧した後、窒素を充填した。この作業を5回繰り返し
て脱気を行った。窒素雰囲気下80℃で80分撹拌した。Pd(PPhCl(2
6.6mg、0.0379mmol、0.05等量)を加え、80℃でさらに20分撹拌
した。室温まで冷却した後、水と酢酸エチルを加えて不溶物をセライトで濾去した。有機
層を硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して標題化合物(灰色粉末)を
粗生成物として得た。
LCMS: m/z 498 [M+H]
HPLC保持時間: 2.85分 (分析条件S)
[製造例248]
化合物E4−7−2
8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(1,2,3,6−テトラヒドロ
−ピリジン−4−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−
カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物B4−4−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 368 [M+H]
HPLC保持時間: 1.27分 (分析条件S)
[製造例249]
化合物E4−8−1
4−(3−シアノ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−イル)−ピペリジン−1−カルボン酸 te
rt−ブチル エステル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物B4−7−1より標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 500 [M+H]
HPLC保持時間: 4.18分 (分析条件W)
[製造例250]
化合物E4−8−2
8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−ピペリジン−4−イル−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物B4−8−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 400 [M+H]
HPLC保持時間: 1.35分 (分析条件S)
[製造例251]
化合物E4−9−1
4−(3−シアノ−8−イソプロポキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピ
リジン−1−カルボン酸 tert−ブチル エステル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物E3−3より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 526 [M+H]
HPLC保持時間: 3.13分 (分析条件S)
[製造例252]
化合物E4−9−2
8−イソプロポキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(1,2,3,6−テトラ
ヒドロ−ピリジン−4−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール
−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物E4−9−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 426 [M+H]
HPLC保持時間: 1.40分 (分析条件S)
[製造例253]
化合物E4−10
9−シクロプロピル−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒ
ドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物E3−1−1とシクロプロピルトリ
フルオロホウ酸カリウムより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 357 [M+H]
HPLC保持時間: 2.62分 (分析条件S)
[製造例254]
化合物E4−11
3−シアノ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−カルボン酸


化合物B2−28の合成法と同様の条件で、E3−1−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 361 [M+H]
HPLC保持時間: 1.68分 (分析条件S)
[製造例255]
化合物E5−1
9−エチル−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−ビニル−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物E4−3、25mg、0.
07mmol)、パラジウム炭素(25mg)の酢酸エチル懸濁溶液を水素雰囲気下、室
温で1時間攪拌した。反応液をセライトを用いてろ過した後、ろ液を減圧濃縮して得られ
た残渣を高速液体クロマトグラフィーで精製し、標題化合物(白色固体、3.2mg、1
3%)を得た。
LCMS: m/z 345 [M+H]
HPLC保持時間: 2.62分 (分析条件S)
[製造例256]
化合物E5−2
9−(2−ジエチルアミノ−エタンスルホニル)−8−メトキシ−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物B3−8の合成法と同様の条件で、化合物E4−4より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 480 [M+H]
HPLC保持時間: 1.97分 (分析条件U)
[製造例257]
化合物E5−3
8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(プロパン−2−スルホニル)−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−8の合成法と同様の条件で、化合物E4−5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 423 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件U)
[製造例258]
化合物E5−4
9−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イル)−8−メトキシ−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、E4−8−2とアセトンより、標題化合物を
合成した。
LCMS: m/z 442 [M+H]
HPLC保持時間: 1.48分 (分析条件S)
[製造例259]
化合物E5−5
8−メトキシ−6,6−ジメチル−9−(1−オキセタン−3−イル−1,2,3,6−
テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物E4−7−2とオキセタン−3−オン
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 454 [M+H]
HPLC保持時間: 1.32分 (分析条件S)
[製造例260]
化合物E5−6
8−イソプロポキシ−6,6−ジメチル−9−(1−オキセタン−3−イル−1,2,3
,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物E4−9−2とオキセタン−3−オン
より、標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz,DMSO−D) δ: 12.71 (1H, s)
, 8.31 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.99 (1H, s)
, 7.94 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.6 Hz)
, 7.33 (1H, s), 5.84 (1.0H, m), 4.95 (1H
, m), 4.56 (4H, dt, J = 17.4, 6.3 Hz), 3
.56 (1H,m), 3.01 (2H, br), 1.78 (6H, s),
1.34 (6H, d, J = 5.9 Hz).
LCMS: m/z 482 [M+H]
HPLC保持時間: 1.43分 (分析条件S)
[製造例261]
化合物E5−7
9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−カルボニル)−8−メトキシ−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物B3−15の合成法と同様の条件で、化合物E4−11と1−イソプロピルピペラ
ジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 471 [M+H]
HPLC保持時間: 1.18分 (分析条件S)
[製造例262]
化合物E5−8
8−メトキシ−6,6−ジメチル−9−(モルホリン−4−カルボニル)−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−15の合成法と同様の条件で、化合物E4−11とモルホリンより、標題化
合物を合成した。
LCMS: m/z 430 [M+H]
HPLC保持時間: 1.68分 (分析条件S)
[製造例263]
化合物E6−1
(3−シアノ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−イル)−プロピン酸メチルエステル


9−エチニル−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物E4−2、27mg,0
.079mmol)、塩化パラジウム(II)(2.0mg,0.14等量)、塩化銅(
II)(25.0mg,2.2等量)、および酢酸ナトリウム(14.1mg,2.13
等量)の混合物にメタノール(1.5mL)を加え、一酸化炭素雰囲気下室温にて2日間
撹拌した。水および酢酸エチルを加え抽出し、不溶物をろ別したのちに有機層を食塩水に
て洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をジクロロ
メタンにより洗浄し、標題化合物(13.9mg,44%)を得た。
LCMS: m/z 399 [M+H]
HPLC保持時間: 2.81分 (分析条件F)
[製造例264]
化合物E6−2
(3−シアノ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−イル)−プロピン酸


(3−シアノ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−イル)−プロピン酸メチルエステル(化合物E6
−1、15.2mg,0.038mmol)をメタノール(1.5mL)およびTHF(
0.5mL)の混合溶媒に溶解し、2N水酸化カリウム水溶液(5滴)を加え、室温にて
終夜撹拌した。反応液に0.5N塩酸を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を食塩水
にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた固体をジクロ
ロメタンにより洗浄したのちにHPLCにより精製し、標題化合物(白色固体、9.6m
g,66%)を得た。
LCMS: m/z 385 [M+H]
HPLC保持時間: 2.35分 (分析条件F)
[製造例265]
化合物E6−3
9−(3−ヒドロキシ−3−メチル−ブチル)−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


9−(3−ヒドロキシ−3−メチル−ブタ−1−イニル)−8−メトキシ−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル (化合物E4−2−1、21.0mg, 0.0527mmol)をエタノ
ール(15mL)およびN,N−ジメチルアセタミド(2mL)に溶解し、10% Pd
/C (6.7mg)を加え、水素雰囲気下、室温にて終夜撹拌した。反応液をろ過し、
減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルにて希釈し、食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウ
ムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮し、得られた固体をジクロロメタンにて洗浄し、標題化
合物(黄色粉末、16.9mg、80%)を得た。
LCMS: m/z 403 [M+H]
HPLC保持時間: 5.39分 (分析条件H)
[製造例266]
化合物F1−1
4−(9−ブロモ−3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸
tert−ブチルエステル


化合物A7−17の合成と同様の手法で、化合物E3−2と4−トリフルオロメタンスル
ホニルオキシ−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブチルエステルより、標題化合
物を合成した。
LCMS: m/z 564、566 [M+H]
HPLC保持時間: 3.30分 (分析条件S)
[製造例267]
化合物F1−2
9−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(ピペリジン−4−イルオキシ)−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物F1−1より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 464、466 [M+H]
HPLC保持時間: 1.52分 (分析条件S)
[製造例268]
化合物F1−3
9−ブロモ−8−(1−メタンスルホニル−ピペリジン−4−イルオキシ)−6,6−ジ
メチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物F1−2とメタンスルホニルクロリドよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 542、544 [M+H]
HPLC保持時間: 2.57分 (分析条件S)
[製造例269]
化合物F1−4
9−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(テトラヒドロ−ピラン−4−イル
オキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物E3−2とテトラヒドロピラン−4−オ
ールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 465、467 [M+H]
HPLC保持時間: 2.70分 (分析条件S)
[製造例270]
化合物F2
トリフルオロ−メタンスルホン酸 9−ブロモ−3−シアノ−6,6−ジメチル−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物E3−2より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.99 (1H, s)
, 8.51 (1H, s), 8.31 (1H, dd, J = 8.2, 0
.7 Hz), 8.17 (1H, s), 8.07 (1H, s), 7.67
(1 H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 1.81 (6H, s
).
LCMS: m/z 513,515 [M+H]
HPLC保持時間: 3.13分 (分析条件S)
[製造例271]
化合物F3−1
9−ブロモ−6、6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イ
ルオキシ)−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3
−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物F1−2とオキセタン−3−オンより
、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 8.29(1H,d,8H
z), 8.29(1H, s),8.01(1H, s),7.60(1H,d,8H
z),7.55(1H, s), 5.00−4.95(1H, m),4.55(2H
,dd,8,8Hz),4.44(2H, dd, 8, 8Hz),2.52−2.4
6(1H, m), 2.33−2.29(2H,m)、 1.96−1.94(2H,
m)、1.79(8H, br.s)
LCMS: m/z 519,521 [M+H]
HPLC保持時間: 2.78分 (分析条件W)
[製造例272]
化合物F3−2
9−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペ
リジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物B2−1と同様の条件で、化合物F2と4−ピロリジン−1−イル−ピペリジンよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 517,519 [M+H]
HPLC保持時間: 1.70分 (分析条件S)
[製造例273]
化合物F3−3
9−ブロモ−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物F2と1−メタンスルホニルピペラジン
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 527,529 [M+H]
HPLC保持時間: 2.48分 (分析条件S)
[製造例274]
化合物F3−4
9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物F2とモルホリンより、標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 450,452 [M+H]
HPLC保持時間: 2.65分 (分析条件S)
[製造例275]
化合物F3−5
9−ブロモ−8−[4−(2−ヒドロキシ−エチル)−ピペラジン−1−イル]−6,6
−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物F2と2−ピペラジン−1−イル−エタ
ノールより、標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 8.26 (2.0H, s
+d), 7.97 (1H, s), 7.54 (1H, d, J = 8.7
Hz), 7.43 (1H, s), 4.45 (1H, t, J = 5.4
Hz), 3.55 (2H, q, J = 5.8 Hz), 3.17 (4H,
br), 2.66 (2H, br), 1.76 (6H, s).
LCMS: m/z 493,495 [M+H]
HPLC保持時間: 1.43分 (分析条件S)
[製造例276]
化合物F3−6−1
[1−(9−ブロモ−3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペリジン−4−イル]−カルバミ
ン酸 tert−ブチル エステル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物F2とピペリジン−4−イル−カルバミ
ン酸 tert−ブチルエステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 563、565 [M+H]
HPLC保持時間: 3.05分 (分析条件S)
[製造例277]
化合物F3−6−2
8−(4−アミノ−ピペリジン−1−イル)−9−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オ
キソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物F3−6−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 463、465 [M+H]
HPLC保持時間: 1.47分 (分析条件S)
[製造例278]
化合物F3−7
9−ブロモ−8−(4−ヒドロキシ−ピペリジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物F2とピペリジン−4−オールより、標
題化合物を合成した。
LCMS: m/z 464、466 [M+H]
HPLC保持時間: 2.25分 (分析条件S)
[製造例279]
化合物F3−8
9−ブロモ−8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物F2と1−イソプロピルピペラジンより
、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 491、493 [M+H]
HPLC保持時間: 1.58分 (分析条件S)
[製造例280]
化合物F3−9
9−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物F2とピペラジンより、標題化合物を合
成した。
1H−NMR (DMSO−D) δ: 8.30−8.24 (2H, m), 8
.00 (1H, s), 7.63−7.58 (1H, m), 7.37 (1H
, s), 3.10−3.01 (4H, m), 2.91−2.85 (4H,m
), 1.76 (6H, s)
LCMS: m/z 449、451 [M+H]
HPLC保持時間: 1.45分 (分析条件S)
[製造例281]
化合物F3−10
4−(9−ブロモ−3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペラジン−1−カルボン酸 ter
t−ブチル エステル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物F2とピペラジン−1−カルボン酸 t
ert−ブチルエステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 549、 551 [M+H]
HPLC保持時間: 4.61分 (分析条件W)
[製造例282]
化合物F3−11
9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物F2と4−ピペリジン−4−イルモルホ
リンより、標題化合物を合成した。
1H−NMR (DMSO−D) δ: 8.30−8.24 (2H, m), 8
.00 (1H, s), 7.59 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7
.42 (1H, s), 3.66−3.45 (6H, m), 2.80 (2H
, t, J = 11.1 Hz), 2.38−2.28 (1H, m), 1.
96−1.87 (2H, m), 1.75 (6H, s), 1.66−1.56
(2H, m)
LCMS: m/z 533、535 [M+H]
HPLC保持時間: 1.53分 (分析条件S)
[製造例283]
化合物F4−1−1
9−エチニル−6、6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−
イルオキシ)−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−
3−カルボニトリル


化合物F5−43の合成法と同様の条件で、F3−1より標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ:8.30(1H, d, 8
Hz), 8.17(1H, s), 8.01(1H, s), 7.60(1H,
d, 8Hz), 7.50(1H, s), 4.87−4.83(1H, m),
4.55(2H, dd, 4, 4Hz), 4.45(2H, dd, 4, 4H
z), 3.44(1H, ddd、 4、4、4Hz), 2.33−2.24(2H
, m)、 1.99−1.91(2H, m)、 1.78(8H, br.s)
LCMS: m/z 466 [M+H]
HPLC保持時間: 2.67分 (分析条件W)
[製造例284]
化合物F4−1−2
9−エチル−6、6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イ
ルオキシ)−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3
−カルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−1−1より標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 470 [M+H]
HPLC保持時間: 2.74分 (分析条件W)
[製造例285]
化合物F4−2
N−[1−(9−ブロモ−3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペリジン−4−イル]−メタ
ンスルホンアミド


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物F3−6−2と塩化メタンスルホニルよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 541、543 [M+H]
HPLC保持時間: 2.37分 (分析条件S)
[製造例286]
化合物F4−3
9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物B3−32と同様の条件で、化合物F3−9と1−オキセタン−3−オンより、標
題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.83 (1H, br
.s), 8.31−8.32 (1H, m), 8.27−8.29 (1H, m
), 8.01−8.04 (1H, m), 7.59−7.64 (1H, m),
7.48 (1H, s), 4.59 (2H, dd, J = 6.3, 6.
3 Hz), 4.48 (2H, dd, J = 6.3, 6.3 Hz), 3
.52 (1H, t, J = 6.3 Hz), 3.12−3.25 (4H,
m), 2.44−2.54 (4H, m), 1.78 (6H, s).
LCMS: m/z 505、507 [M+H]
HPLC保持時間: 1.45分 (分析条件S)

化合物F4−3の塩酸塩
9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリルをDMSOおよび6N塩酸1.05等量を加え溶解した。凍結乾燥後25%含
水エタノールより結晶化し9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−
イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル一塩酸塩を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.91 (1H、br.
s)、11.70(1H、br.s)、8.32−8.29(2H, m)、8.04(
1H, s),7.64−7.62(1H, m)、7.52(1H、s)、4.89−
4.62(4H,br.m)、3.66−3.39(1H、m)、3.31−3.05(
8H, br.m)、1.81 (6H、s)
LCMS: m/z 505、507 [M+H]
[製造例287]
化合物F4−4
9−ブロモ−8−{4−[2−(2−メトキシ−エトキシ)−エチル]−ピペラジン−1
−イル}−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]
カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物F3−9と1−ブロモ−2−(2−メ
トキシエトキシ)エタンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 551,553 [M+H]
HPLC保持時間: 2.80分 (分析条件W)
[製造例288]
化合物F4−5
9−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−[4−(テトラヒドロ−ピラン−4
−イル)−ピペラジン−1−イル]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物F3−9とテトラヒドロピラン−4−
オンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 533,535 [M+H]
HPLC保持時間: 2.67分 (分析条件W)
[製造例289]
化合物F4−6
9−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−[4−(テトラヒドロ−チオピラン
−4−イル)−ピペラジン−1−イル]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カル
バゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物F3−9とテトラヒドロチオピラン−
4−オンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 549,551 [M+H]
HPLC保持時間: 2.86分 (分析条件W)
[製造例290]
化合物F4−7
9−ブロモ−8−[4−(1,1−ジオキソ−ヘキサヒドロ−1λ6−チオピラン−4−
イル)−ピペラジン−1−イル]−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−8の合成法と同様の条件で、化合物F4−6より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 581,583 [M+H]
HPLC保持時間: 2.66分 (分析条件W)
[製造例291]
化合物F4−8
9−ブロモ−8−(4−シクロプロピルメチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物F3−9とブロモメチルシクロプロパ
ンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 503,505 [M+H]
HPLC保持時間: 2.81分 (分析条件W)
[製造例292]
化合物F4−9
9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B3−32と同様の条件で、化合物F3−9と(1−エトキシ−シクロプロポキシ
)−トリメチル−シランより、標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 8.22−8.30 (2H
, m), 8.00 (1H, s), 7.56 (1H, d, J = 7.9
Hz), 7.43 (1H, s), 3.30(1H, d, J = 5.8
Hz), 3.11 (4H, s), 2.75 (4H, s), 1.75 (6
H, s), 0.47 (2H, d, J = 5.8 Hz), 0.34 (2
H, d, J = 5.8 Hz)
LCMS: m/z 489,491 [M+H]
HPLC保持時間: 1.68分 (分析条件S)
[製造例293]
化合物F4−10
9−ブロモ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物F3−9とシクロブタノンより、標題
化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 8.23−8.29 (
2 H, m), 8.00 (1 H, s),7.55 (1 H, d, 7.9
Hz), 7.45 (1 H, s), 4.04−4.15 (1 H, m),
3.10−3.20 (4 H, m), 2.39−2.48 (4 H, m),
1.97−2.06 (2 H, m), 1.78−1.88 (2 H, m),
1.77 (6 H, s), 1.61−1.72 (2 H, m)
LCMS: m/z 503, 505 [M+H]
HPLC保持時間: 2.78分 (分析条件W)
[製造例294]
化合物F5−1
9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチ
ル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボ
ニトリル


化合物F5−43の合成法と同様の条件で、化合物F3−3より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 12.78 (1H, s)
, 8.31 (1H, dd, J = 8.1, 0.7 Hz), 8.19 (
1H, s), 8.02 (1H, dd, J = 1.4, 0.7 Hz),
7.61 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.33 (1H
, s), 4.55 (1H, s), 3.43 (4H, br), 2.98
(3H, s), 1.79 (6H, s).
LCMS: m/z 473 [M+H]
HPLC保持時間: 2.27分 (分析条件S)
[製造例295]
化合物F5−2
N−[1−(3−シアノ−9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペリジン−4−イル]−メ
タンスルホンアミド


化合物F5−43の合成法と同様の条件で、化合物F4−2より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 12.98 (1H, s)
, 8.30 (1H, d, J = 8.1 Hz), 8.15 (1H, s)
, 8.02 (1H, s), 7.61 (1H, d, J = 7.9 Hz)
, 7.23 (2H, s+d), 4.55 (1H, s), 3.79 (2H
, brd), 2.95 (4H, br), 1.96 (2H,brd), 1.
78 (3H, s), 1.65 (2H, brd).
LCMS: m/z 487 [M+H]
HPLC保持時間: 2.15分 (分析条件S)
[製造例296]
化合物F5−3
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−
イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3,9−ジカルボニト
リル


化合物A5−2と同様の条件で、化合物F3−2より標的化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 8.33 (1H, d,
J = 1.3 Hz), 8.27 (1H, dd, J = 7.7, 1.3
Hz), 8.00 (1H, s), 7.57 (1H, d, J = 7.7
Hz), 7.40 (1H, s), 3.74 (2H, m), 3.19−3.
33 (1H, m), 2.98−3.12 (2H, m), 2.35−2.62
(2H, m), 2.11−2.29 (2H, m), 1.89−2.06
(2H, m), 1.78 (6H, s), 1.54−1.70 (6H, m)

LCMS: m/z 464 [M+H]
HPLC保持時間: 1.55分 (分析条件S)

[製造例297]
化合物F5−4
9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピ
ペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物E4−2−1、E4−2−2の合成法と同様の条件で、化合物F3−2より標題化
合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 8.29 (1H, d,
J = 8.2 Hz), 8.14 (1H, s), 8.00 (1H, s),
7.58 (1H, dd, J = 8.1, 1.3 Hz), 7.24 (1
H, s), 4.50 (1H, s), 3.70−3.83 (2H, m),
3.34−3.48 (1H, m), 2.83−2.98 (2H, m), 2.
45−2.58 (2H, m), 2.10−2.23 (2H, m), 1.90
−2.03 (2H, m), 1.76 (6H, s), 1.51−1.74 (
6H, m).
LCMS: m/z 463 [M+H]
HPLC保持時間: 1.60分 (分析条件S)
[製造例298]
化合物F5−5
9−エチニル−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1、E4−2−2の合成法と同様の条件で、化合物F3−4より標題化
合物を合成した。
H−NMR (400MHz、DMSO−d) δ: 12.82 (1H, s)
, 8.31 (1H, d, J = 7.9 Hz), 8.18 (1H, s)
, 8.02 (1H, s), 7.61 (1H, d, J = 7.9 Hz)
, 7.28 (1H, s), 4.53 (1H, s), 3.80 (4H,
s), 3.36 (4H, s), 1.79 (6H, s).
LCMS: m/z 396 [M+H]
HPLC保持時間: 2.32分 (分析条件S)
[製造例299]
化合物F5−6
9−(3−ジメチルアミノ−プロパ−1−イニル)−6,6−ジメチル−8−モルホリン
−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F3−4と3−ジメチルアミノプロ
ピンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, CDCl) δ: 8.52 (1H, d, J
=7.8Hz), 8.47 (1H, s),7.76 (1H, s),7.56
(1H, d, J=7.8Hz), 7.03 (1H, s), 3.92 (4H
, m), 3.55 (2H, s),3.39 (4H, m), 2.37 (6
H, s), 1.83 (6H, s)
LCMS: m/z 453 [M+H]
[製造例300]
化合物F5−7
6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−9−(3−モルホリン−4−イル−プロ
パ−1−イニル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−3−カルボニトリル


9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物F3−4、3
0mg、0.067mmol)、3−ブロモプロピン(0.01ml、0.13mmol
)、モルホリン(0.029ml、0.33mmol)、X−Phos(4.8mg、1
5%mol)、PdCl(CHCN)(0.9mg、5%mol)、炭酸セシウム
(87mg、0.27mmol)にアセトニトリル(2ml)を加え、80℃で2時間撹
拌した。反応液を水に注ぎ、ジクロロメタンで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し
た。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ジクロロメタン/メタノール)で精製し、目的物(薄茶色固体、18mg、64%)を
得た。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 8.29 (1H, d,
J=7.8Hz), 8.14 (1H, s),8.00 (1H, s),7.5
9 (1H, d, J=7.8Hz), 7.27 (1H, s), 3.79 (
4H, m), 3.64 (4H, m), 3.61 (2H, s),3.33
(4H, m), 2.56 (4H, m), 1.77 (6H, s)
LCMS: m/z 495 [M+H]
[製造例301]
化合物F5−8
6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−9−ペンタ−1−イニル
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F3−4と1−ペンチンより、標題
化合物を合成した。
LCMS: m/z 438 [M+H]
HPLC保持時間: 2.88分 (分析条件S)
[製造例302]
化合物F5−9
9−(3−メトキシ−プロパ−1−イニル)−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−
イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F3−4と3−メトキシプロピンよ
り、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 8.30 (1H, d,
J=7.8Hz), 8.15 (1H, s),8.01 (1H, s),7.6
0 (1H, d, J=7.8Hz), 7.28 (1H, s), 4.41 (
2H, s), 3.79 (4H, m), 3.37 (3H, s), 3.34
(4H, m), 1.78 (6H, s)
LCMS: m/z 440 [M+H]
[製造例303]
化合物F5−10
9−[3−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−プロパ−1−イニル]−6
,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物F5−7の合成法と同様の条件で、化合物F3−4と3−ブロモプロピンと4−シ
クロプロピルピペラジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 534 [M+H]
HPLC保持時間: 1.40分 (分析条件S)
[製造例304]
化合物F5−11
6,6−ジメチル−9−(1−メチル−1H−ピラゾール‐4‐イル)‐8−モルホリン
−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物F3−4と1−メチル‐4‐(4,
4,5,5‐テトラメチル‐1,3,2−ジオキサボロラン‐2‐イル)‐1H‐ピラゾ
ールより、標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、DMSO−d) δ: 8.29 (1H, d,
J = 7.8Hz), 8.22 (1H, s),8.09 (1H, s),7.
99(1H, s),7.95(1H, s),7.56−7.61(1H, m),7
.36(1H, s),3.90(3H, s),3.73(4H, s),2.95(
4H, s),1.77 (6H, s).
LCMS: m/z 452 [M+H]
HPLC保持時間: 2.18分 (分析条件U)
[製造例305]
化合物F5−12
9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6
,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物F3−4とシクロプロピルトリフル
オロホウ酸カリウムより、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, CDOD+CDCl) δ: 8.45 (1H
, d, J=7.8Hz), 7.83(2H, m),7.54 (1H, d,
J=7.8Hz), 7.20 (1H, s), 3.96 (4H, m), 3.
24 (4H, m), 2.25 (1H, m), 1.80 (6H, s),
1.09 (2H, m), 0.93 (2H, m)
LCMS: m/z 412 [M+H]
[製造例306]
化合物F5−13
6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−9‐ビニル−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−24の合成法と同様の条件で、化合物F3−4とビニルトリフルオロホウ酸
カリウムより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 398 [M+H]
HPLC保持時間: 2.67分 (分析条件U)
[製造例307]
化合物F5−14
9−エチニル−8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物F5−43の合成法と同様の条件で、化合物F3−8より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、DMSO−D) δ: 12.73 (1H, s)
, 8.31 (1H, d, J = 9.1 Hz), 8.16 (1H, d,
J = 1.2 Hz), 8.00 (1H, s), 7.60 (1H, d,
J = 7.9 Hz), 7.25 (1H, s), 4.50 (1H, d,
J = 1.8 Hz), 2.72 (1H, m), 2.65 (4H, s)
, 1.78 (6H, s), 1.04 (6H, d, J = 5.5 Hz)

LCMS: m/z 437 [M+H]
HPLC保持時間: 1.48分 (分析条件S)
[製造例308]
化合物F5−15−1
4−(3−シアノ−9−シクロプロピル−6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−8−イル)−ピペラジン−1−カルボン酸
tert−ブチル エステル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物F3−10とシクロプロピルトリフ
ルオロホウ酸カリウムより、標題の化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 8.55(1H、s)、
8.28−8.25(1H、 m)、 7.98−7.95(1H、 m)、 7.62
(1H、 s)、 7.32(1H、 s)、 3.56−3.53(4h、 m)、3
.09−3.07(4H、 m)、 2.22−2.18(1H、 m)、 1.73(
6H、 br s)、 1.44(9H、 s)、 1.08−1.05(2H、 m)
、 0.77−0.76(2H、m)
LCMS: m/z 511 [M+H]
HPLC保持時間: 4.50分 (分析条件W)
[製造例309]
化合物F5−15−2
9−シクロプロピル−6、6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−6
、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−15−1より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 411 [M+H]
HPLC保持時間: 2.67分 (分析条件W)
[製造例310]
化合物F5−16
9−エチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−
イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物F5−43の合成法と同様の条件で、化合物F4−3より、標題化合物を合成した

H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 12.77 (1H, br
.s), 8.31 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.16 (1H,
s), 8.02 (1H, s), 7.61 (1H, dd, J = 8.2
, 1.3 Hz), 7.27 (1H, s), 4.59 (2H, dd, J
= 6.6, 6.6 Hz), 4.51 (1H, s), 4.49 (2H,
dd, J = 6.6, 6.6 Hz), 3.51 (1H, t, J =
6.6 Hz), 3.35−3.43 (4H, m), 2.43−2.50 (4
H, s), 1.78 (6H, s).
LCMS: m/z 451 [M+H]
HPLC保持時間: 1.40分 (分析条件S)
[製造例311]
化合物F5−17
6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3,9−ジカルボニト
リル


化合物A5−2の合成と同様の手法で、化合物F4−3より標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.84 (1 H,
br.s), 8.36 (1 H, s), 8.32−8.29 (1 H, d,
8.08 Hz), 8.04 (1 H, s), 7.65−7.62 (1
H, d, 8.08 Hz), 7.44 (1 H, s), 4.62−4.57
(2 H, m), 4.52−4.47 (2 H, m),3.81−3.78
(2 H, t, 4.61 Hz), 3.57−3.50 (1 H, m), 3
.43 (4 H, m) 2.51 (4 H, m), 1.80 (6 H, s

LCMS: m/z 452 [M+H]
[製造例312]
化合物F5−18
9−(3−メトキシ−プロパ−1−イニル)−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン
−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と3−メトキシプロピンよ
り、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.77 (1 H,
br.s), 8.32−8.29 (1 H, d, 8.08 Hz), 8.1
3 (1 H, s), 8.01 (1 H, s),7.62−7.59 (1 H
, d, 8.08 Hz), 7.27 (1 H, s), 4.62−4.57
(2 H, m), 4.52−4.47 (2 H, m), 4.39 (2 H,
s), 3.53−3.47 (1 H, m), 3.38 (4 H, m),
3.36 (3 H, s), 2.51 (4 H, m), 1.77 (6 H,
s)
LCMS: m/z 495 [M+H]
[製造例313]
化合物F5−19
9−(3−ジメチルアミノ−プロパ−1−イニル)−6,6−ジメチル−8−(4−オキ
セタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3とジメチル−プロパ−2−
イニルアミンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 508 [M+H]
HPLC保持時間: 1.07分 (分析条件S)
[製造例314]
化合物F5−20
6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−9−[
3−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−プロパ−1−イニル]−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物F5−7の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と3−ブロモプロピンと4−オ
キセタン−3−イル−ピペラジンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 8.30 (1H, d,
J=7.8Hz), 8.12 (1H, s),8.00 (1H, s),7.5
9 (1H, d, J=7.8Hz), 7.26 (1H, s), 4.60−4
.42 (8H, m),
3.61 (2H, s),3.60−3.30 (6H, m), 2.60−2.3
0 (12H, m), 1.77 (6H, s)
LCMS: m/z 605 [M+H]
[製造例315]
化合物F5−21
9−シクロペンチルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イルピペ
ラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3とシクロペンチルアセチレ
ンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 519 [M+H]
HPLC保持時間: 1.80分 (分析条件S)
[製造例316]
化合物F5−22
6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−
オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3とプロピンより、標題化合
物を合成した。
H−NMR(400 MHz, CDOD) δ: 8.37 (1H, d, J
= 8.2 Hz), 8.18 (1H, s), 7.84 (1H, s),
7.53 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.19 (1H, s),
4.70−4.77 (2H, m), 4.62−4.68 (2H, m), 3.
57−3.63 (1H, m), 3.38−3.45 (4H, m), 2.54
−2.61 (4H, m), 2.10 (3H, s), 1.79 (6H, s

LCMS: m/z 465 [M+H]
HPLC保持時間: 1.90分 (分析条件U)
[製造例317]
化合物F5−23
9−(3−ヒドロキシ−プロパ−1−イニル)−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタ
ン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3とトリメチルプロパ−2−
イニルオキシシランより、標題化合物のTMS体を合成した。得られたTMS体をテトラ
ブチルアンモニウムフルオリドで処理することで、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 481 [M+H]
HPLC保持時間: 1.30分 (分析条件S)
[製造例318]
化合物F5−24
6,6−ジメチル−9−(4−メチル−ペンタ−1−イニル)−8−(4−オキセタン−
3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と4−メチルペンタ−1−
インより、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.75 (1 H,
br.s), 8.32−8.29 (1 H, d, 8.08 Hz), 8.0
8 (1 H, s), 8.01 (1 H, s), 7.62−7.59 (1
H, m), 7.23 (1 H, s), 4.61−4.57 (2 H, m)
, 4.51−4.46 (2 H, m), 3.51−3.47 (1 H, m)
, 3.37 (4 H, m), 2.46 (4 H, m), 2.41−2.3
9 (2 H, d, 5.94 Hz), 1.92−1.80 (1 H, m),
1.77 (6 H, s), 1.04 (3 H, s), 1.01 (3 H
, s)
LCMS: m/z 507 [M+H]
[製造例319]
化合物F5−25
9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピ
ペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3とエチニルシクロプロパン
より、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.74 (1 H,
br.s), 8.32−8.29 (1 H, d, 8.08 Hz), 8.0
5 (1 H, s), 8.00 (1 H, s), 7.62−7.58 (1
H, m), 7.21 (1 H, s), 4.62−4.57 (2 H, m)
, 4.51−4.47 (2 H, m), 3.53−3.48 (1 H, m)
, 3.34 (4 H, m), 2.46 (4 H, m), 1.76 (6
H, s), 1.64−1.58 (1 H, m), 0.97−0.89 (2
H, m), 0.76−0.70 (2 H, m)
LCMS: m/z 491 [M+H]
[製造例320]
化合物F5−26
6,6−ジメチル−9−(3−モルホリン−4−イル−プロパ−1−イニル)−8−(4
−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物F5−7の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と3−ブロモプロピンとモルホ
リンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 8.29 (1H, d,
J=7.8Hz), 8.13 (1H, s),8.02 (1H, s),7.5
9 (1H, d, J=7.8Hz), 7.25 (1H, s), 4.61−4
.48 (4H, m), 3.64−3.32 (11H, m), 2.60−2.
40 (8H, m), 1.78 (6H, s)
LCMS: m/z 550 [M+H]
[製造例321]
化合物F5−27
6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−
オキソ−9−ペンタ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と1−ペンチンより、標題
化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、DMSO−d) δ: 12.72 (1H, br
. s), 8.28 (1H, d, 8.1 Hz), 8.06 (1H, s)
, 7.98 (1H, s), 7.58 (1H, d, 8.1 Hz), 7.
21 (1H, s), 4.60−4.43 (4H, m), 3.53−3.44
(1H, m), 3.39−3.32 (2H, m), 1.75 (6H, s
), 1.60−1.53 (4H, m), 1.01 (3H, t, 7.3 H
z)
LCMS: m/z 493 [M+H]
HPLC保持時間: 2.17分 (分析条件U)
[製造例322]
化合物F5−28
6,6−ジメチル−9−(5−メチル−ヘキサ−1−イニル)−8−(4−オキセタン−
3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と5−メチルヘキサ−1−
インより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 521 [M+H]
HPLC保持時間: 2.37分 (分析条件U)
[製造例323]
化合物F5−29
9−(3−ジエチルアミノ−プロパ−1−イニル)−6,6−ジメチル−8−(4−オキ
セタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と3−ジエチルアミノプロ
ピンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 536 [M+H]
HPLC保持時間: 1.13分 (分析条件S)
[製造例324]
化合物F5−30
9−[3−(ベンジル−エチル−アミノ)−プロパ−1−イニル]−6,6−ジメチル−
8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と3−ベンジル−3−エチ
ルアミノプロピンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 584 [M+H]
HPLC保持時間: 1.32分 (分析条件S)
[製造例325]
化合物F5−31
9−[3−(1,1−ジオキソ−1λ6−チオモルホリン−4−イル)−プロパ−1−イ
ニル]−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と3−(1,1−ジオキソ
−1λ6−チオモルホリン−4−イル)−プロピンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 598 [M+H]
HPLC保持時間: 1.35分 (分析条件S)
[製造例326]
化合物F5−32
9−イソプロペニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン
−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3−カルボニトリル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と2−イソプロペニル−4
,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロランより、標題化合物を合成
した。
H−NMR(270 MHz, CDOD+CDCl) δ: 8.44 (1
H, d, J=7.8Hz), 8.09 (1H, s),7.83 (1H, s
),7.54 (1H, d, J=7.8Hz), 7.18 (1H, s), 5
.24−5.20 (2H, m), 4.81−4.68 (4H, m), 3.6
6 (1H, m),3.30 (4H, m), 2.57 (4H, m), 2.
21 (3H, s),1.82 (6H, s)
LCMS: m/z 467 [M+H]
[製造例327]
化合物F5−33
6,6,9−トリメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物F5−47の合成法と同様の条件で、化合物F4−3より標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.71 (1 H,
br.s), 8.33−8.31 (1 H, d, 8.08 Hz), 8.0
1 (1 H, s), 7.97 (1 H, s), 7.62−7.59 (1
H, m), 7.32 (1 H, s), 4.61−4.57 (2 H, m)
, 4.51−4.47 (2 H, m), 3.55−3.49 (1 H, m)
, 3.05 (4 H, m), 2.47 (4 H, m), 2.33 (3
H, s), 1.76 (6 H, s)
LCMS: m/z 441 [M+H]
[製造例328]
化合物F5−34
9−シクロプロピル−6、6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン
−1−イル)−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−
3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物F5−15−2とオキセタン−3−オ
ンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ:8.32−8.29(1H,
m)、 8.00−7.99(1H, m), 7.62−7.58(2H, m),
7.32−7.31(1H, m), 4.61−4.57(2H, m), 4.5
2−4.49(2H, m)、 3.53(1H, br.s)、 3.18(4H,
br.s)、 1.75(6H, s)、 1.25−1.23(1H, m), 1.
09−1.04(2H, m), 0.79−0.75(2H, m)
LCMS: m/z 467 [M+H]
HPLC保持時間: 2.74分 (分析条件W)
[製造例329]
化合物F5−35
6,6−ジメチル−9−(1−メチル−1H−ピラゾール−4−イル)−8−(4−オキ
セタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−3と1−メチル−4−(4,
4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−1H−ピラ
ゾールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 507 [M+H]
HPLC保持時間: 1.75分 (分析条件U)
[製造例330]
化合物F5−36−1
4−[3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル
−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9
−イル]−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン−1−カルボン酸 tert−ブチル エ
ステル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物F3−2より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 621 [M+H]
HPLC保持時間: 2.58分 (分析条件U)
[製造例331]
化合物F5−36−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−
イル)−9−(1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−6,11−ジヒ
ドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−36−1より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 520 [M+H]
HPLC保持時間: 1.82分 (分析条件U)
[製造例332]
化合物F5−37
8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−9−エチニル−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物F5−43と同様の条件で、化合物F4−9より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.76 (1H, br
.s), 8.31 (1H, d, J = 8.1 Hz), 8.15 (1H,
s), 8.01 (1H, s), 7.61 (1H, dd, J = 8.1
, 1.5 Hz), 7.24 (1H, s), 4.52 (1H, s), 3
.28−3.36 (4H, m), 3.17 (1H, d, J = 5.3 H
z), 2.70−2.77 (4H, m), 1.76 (6H, s), 0.4
7 (2H, d, J = 5.3 Hz), 0.36 (2H, d, J =
5.3Hz).
LCMS: m/z 435 [M+H]
HPLC保持時間: 1.57分 (分析条件S)
[製造例333]
化合物F5−38
8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−9とプロピンより、標題化合
物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.76 (1 H,
br.s), 8.31−8.28 (1 H, d, 8.08 Hz), 8.0
6 (1 H, s), 8.00 (1 H, s), 7.60−7.57 (1
H, m), 7.19 (1 H, s), 3.29 (4 H, m), 2
.74 (4 H, m), 2.55 (1 H, m), 2.13 (3 H,
s), 1.75 (6 H, s), 0.51−0.43 (2 H, m), 0
.38−0.32 (2 H, m)
LCMS: m/z 449 [M+H]
[製造例334]
化合物F5−39
8‐(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−9−フェニル‐6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−9とフェニルホウ酸より、標
題化合物を合成した。
LCMS: m/z 487 [M+H]
HPLC保持時間: 2.15分 (分析条件U)
[製造例335]
化合物F5−40
8‐(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−9−ピリジン‐3‐イル‐6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−9とピリジン‐3‐ホウ酸よ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 488 [M+H]
HPLC保持時間: 1.53分 (分析条件U)
[製造例336]
化合物F5−41
8‐(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−9−チオフェン‐2‐イル‐6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3−カルボニトリル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−9とチオフェン‐2‐ホウ酸
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 493 [M+H]
HPLC保持時間: 2.13分 (分析条件U)
[製造例337]
化合物F5−42
8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6,9−トリメチル−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物F5−47の合成法と同様の条件で、化合物F4−9より標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.71 (1 H,
br.s), 8.33−8.30 (1 H, d, 8.08 Hz), 8.0
0 (1 H, s), 7.96 (1 H, s), 7.61−7.58 (1
H, m), 7.29 (1 H, s), 2.97 (4 H, m), 2
.73 (4 H, m), 2.56 (1 H, m), 2.34 (3 H,
s), 1.76 (6 H, s), 1.64−1.58 (1 H, m), 0
.50−0.44 (2 H, m), 0.37−0.32 (2 H, m)
LCMS: m/z 425 [M+H]
[製造例338]
化合物F5−43
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチニル−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


窒素雰囲気下、9−ブロモ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6
−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル(化合物F4−10、200mg、0.397mmol)のMeCN(
8ml)懸濁液に、エチニルトリイソプロピルシラン(268mg、3.0当量)、2−
ジシクロヘキシルホスフィノ−2′,4′,6′−トリイソプロピルビフェニル (Xp
hos)(39mg、0.2当量)、Pd(CHCN)Cl(11mg、0.1当
量)、炭酸セシウム(518mg、4.0当量)を加え、加熱還流条件下で反応が完結す
るまで攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水を注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を飽
和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減
圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/メタノー
ル)で精製し、8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−9−[(トリイソプロピルシラニル)−エチニル]−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(179mg、74%)を得た

得られた化合物(179mg、0.295mmol)のTHF(6ml)溶液に、テトラ
ブチルアンモニウムフルオリドの1MTHF溶液(710μl)を加え、反応が完結する
まで攪拌した。反応終了後、反応液に酢酸エチルを注ぎ、蒸留水で洗浄した後、硫酸ナト
リウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をエタノールと蒸留水の
混合溶媒で洗浄し、標題化合物(67mg、92%)を得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.85 (1 H,
s), 8.31 (1 H, d, 7.9 Hz), 8.20 (1 H, s)
,8.03 (1 H, s), 7.62 (1 H, d, 7.9 Hz), 7
.35 (1 H, s), 4.62 (1 H, s), 3.94−4.03 (
2 H, m), 3.79−3.89 (1 H, m), 3.48−3.54 (
2 H, m), 3.27−3.38 (2 H, m), 2.96−3.16 (
2 H, m), 2.30−2.41 (2 H, m), 2.16−2.26 (
2 H, m), 1.72−1.85 (8 H, m)
LCMS: m/z 449 [M+H]
HPLC保持時間: 2.69分 (分析条件W)
[製造例339]
化合物F5−44
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−
カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−10よりプロピンガス雰囲気
下で、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.71 (1 H,s
), 8.30 (1 H, d, 7.9 Hz), 8.06 (1 H, s),
8.00 (1 H, s), 7.59 (1 H, d, 7.9 Hz), 7.
20 (1 H, s), 2.75−2.83 (1 H, m), 2.40−2.
48 (4 H, m), 2.11 (3 H, s), 1.97−2.06 (2
H, m), 1.76 (6 H, s), 1.62−1.71 (2 H, m

LCMS: m/z 463 [M+H]
HPLC保持時間: 2.80分 (分析条件W)
[製造例340]
化合物F5−45
9−シクロブチルエチニル−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6
−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−10とエチニルシクロブタン
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 503 [M+H]
HPLC保持時間: 1.85分 (分析条件S)
[製造例341]
化合物F5−46
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6、6−ジメ
チル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3−カル
ボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物F5−15−2とシクロブタノンより
、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d)δ:8.23(1H, d, 8H
z)、 7.92(1H, br.s)、 7.59(1H, s)、 7.47(1H
, br.d, 8Hz), 7.28(1H, s), 3.12(4H, br.s
)、 2.80(1H, dddd, 8,8,8,8Hz)、 2.20−2.13(
1H, m)、 2.01(2H, br.s), 1.86−1.68(10H, m
), 1.05(2H, d, 8Hz), 0.76(2H, d, 4Hz)
LCMS: m/z 465 [M+H]
HPLC保持時間: 2.79分 (分析条件W)

化合物F5−46の塩酸塩
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6、6−ジメ
チル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3−カル
ボニトリルをDMSOおよび6N塩酸1.05等量を加え溶解した。凍結乾燥後25%含
水エタノールより結晶化し8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シク
ロプロピル−6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾ−ル−3−カルボニトリル一塩酸塩を得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d)δ:12.81(1H,s)、10
.64(1H、br.s)、8.32−8.29(1H, m)、8.01(1H, s
),7.67(1H、s)、7.61−7.60(1H、m)、7.33(1H、s)、
4.00−3.39(6H、m)、3.28−3.02(3H、m)、2.45−2.0
5(5H、m)、1.83−1.77(8H、m)、1.09−1.07(2H、m)、
0.81−0.80(2H、m)
LCMS: m/z 465 [M+H]
[製造例342]
化合物F5−47
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6,9−トリメチル−11−オ
キソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


窒素雰囲気下、9−ブロモ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6
−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル(化合物F4−10、50mg、0.099mmol)のN、N−ジメ
チルホルムアミド(1.5ml)溶液に、トリメチルボロキシン(12mg、0.1当量
)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(39mg、0.2当量)、炭酸カリ
ウム(41mg、3.0当量)を加え、100℃で24時間攪拌した。反応終了後、反応
液に蒸留水を注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した
後、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/メタノール)で精製し、標題化合物(25m
g、58%)を得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.67 (1 H,
s), 8.31 (1 H, d, 7.9 Hz), 7.98 (1 H, s)
,7.95 (1 H, s), 7.59 (1 H, d, 7.9 Hz), 7
.30 (1 H, s), 2.96−3.04 (4 H, m), 2.76−2
.84 (1 H, m), 2.39−2.48 (4 H, m), 2.32 (
3 H, s), 1.78−1.87 (2 H, m), 1.75 (6 H,
s), 1.63−1.71 (2 H, m)
LCMS: m/z 439 [M+H]
HPLC保持時間: 2.66分 (分析条件W)
[製造例343]
化合物F5−48
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−イソプロペニル−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物E4−7−1の合成法と同様の条件で、化合物F4−10と2−イソプロペニル−
4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロランより、標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 465 [M+H]
HPLC保持時間: 1.63分 (分析条件S)
[製造例344]
化合物F5−49
9−エチニル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−
イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物F5−43の合成法と同様の条件で、化合物F3−11より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 479 [M+H]
HPLC保持時間: 1.90分 (分析条件U)
[製造例345]
化合物F5−50
6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−
オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物F3−11とプロピンガスより、標
題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, CDOD+CDCl) δ: 8.40 (1H
, d, J=7.8Hz), 8.24 (1H, s),7.84 (1H, s)
,7.54 (1H, d, J=7.8Hz), 7.14 (1H, s), 4.
01−3.96 (2H, m), 3.78 (4H, m), 2.88−2.84
(2H, m),2.68 (4H, m), 2.16−1.73 (5H, m)
, 2.16 (3H, s), 1.80 (6H, s)
LCMS: m/z 493 [M+H]
[製造例346]
化合物F5−51
6,6,9−トリメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物F5−47の合成法と同様の条件で、化合物F3−11より標題化合物を合成した
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.70 (1 H,
br.s), 8.33−8.30 (1 H, d, 8.08 Hz), 8.0
0 (1 H, s), 7.95 (1 H, s), 7.61−7.58 (1
H, m), 7.28 (1 H, s), , 3.60 (4 H, m), 3
.32−3.26 (2 H, m), 2.79−2.69 (2 H, m), 2
.32 (3 H, s), 1.95−1.90 (2 H, m), 1.74 (
6 H, s), 1.65−1.52 (2 H, m),
LCMS: m/z 469 [M+H]

化合物F5−51のメタンスルホン酸塩
6,6,9−トリメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リルをDMSOおよび2Nメタンスルホン酸1.05等量を加え溶解した。凍結乾燥後エ
タノールより結晶化し6,6,9−トリメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペ
リジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−3−カルボニトリルメタンスルホン酸塩を得た。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.72(1H、br.
s)、9.60(1H、br.s)、8.33−8.31(1H、d、9.8Hz)、8
.01(1H、s)、7.99(1H、s)、7.61−7.59(1H、m)、7.3
1 (1H、s)、4.07−4.04 (2H、m)、3.73−3.67(2H、m
)、 3.55−3.40(8H、m)、3.32−3.26(1H、m)、2.70−
2.60(2H、m)、2.34(3H、s)、2.30(3H、s)、1.95−1.
90 (2 H、m)、1.75(6H、s)
LCMS: m/z 469 [M+H]
[製造例347]
化合物F6−1
9−(1−イソプロピル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−6,
6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル
)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物F5−36−2とアセトンより、標題
化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、DMSO−D) δ: 12.68 (1H, br
. s), 8.30 (1H, d, 8.1 Hz), 7.98 (1H, s)
, 7.82 (1H, s), 7.58 (1H, d, 8.1 Hz), 7.
20 (1H, s), 5.85 (1H, s), 3.56−3.44 (2H,
m), 3.21−3.14 (2H, m), 2.77−2.66 (5H, m
), 2.12−2.09 (1H, m), 1.98−1.88 (2H, m),
1.74 (6H, s), 1.70−1.63 (1H, m), 1.58−1
.45(2H, m), 1.09−1.00 (6H, m)
LCMS: m/z 563 [M+H]
HPLC保持時間: 1.90分 (分析条件U)
[製造例348]
化合物F6−2
9−(1−メタンスルホニル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−
イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−36−2より、標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 598 [M+H]
HPLC保持時間: 1.52分 (分析条件S)
[製造例349]
化合物F6−3
9−[3−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−プロピル]−6,6−ジメ
チル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−10より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 538 [M+H]
HPLC保持時間: 1.32分 (分析条件S)
[製造例350]
化合物F6−4
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−16より標題化合物を合成
した。
H−NMR (400MHz、DMSO−d) δ: 12.70 (1H, br
. s), 8.29 (1H, d, 8.0 Hz), 8.03−7.94 (2
H, m), 7.59−7.55 (1H, m), 7.38 (1H, s),
4.59−4.47 (4H, m), 3.53−5.47 (1H, m), 3.
03−2.97 (2H, m), 2.73−2.62 (2H, m), 1.74
(6H, s), 1.29−1.98 (3H, m)
LCMS: m/z 455 [M+H]
HPLC保持時間: 1.92分 (分析条件U)

化合物F6−4の塩酸塩
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリルをDMSOおよび6N塩酸1.05等量を加え溶解した。凍結乾燥後25%含
水エタノールより結晶化し9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−
イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル一塩酸塩を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.83 (1H、br.
s)、11.59(1H、br.s)、8.33−8.31(1H、m)、8.09(1
H、s),8.02(1H、s)、7.63−7.61(1H、m)、7.39(1H、
s)、4.91−4.60(4H,br.m)、3.58−3.40(1H、m)、3.
31−3.05(8H, br.m)、2.73(2H、q、、J=7.3)、1.81
(6H、s)、1.29(3H、t、J=7.3)
LCMS: m/z 455 [M+H]
[製造例351]
化合物F6−5
9−(3−メトキシ−プロピル)−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル
−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カ
ルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−18より、標題化合物を合
成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.73 (1 H,
br.s), 8.33−8.30 (1 H, d, 8.08 Hz), 8.0
1 (1 H, s), 8.00 (1 H, s),7.62−7.59 (1 H
, d, 8.08 Hz), 7.42 (1 H, s), 4.61−4.56
(2 H, m), 4.51−4.46 (2 H, m), 3.53−3.47
(1 H, m), 3.42−3.37 (2 H, m), 3.02 (4 H,
m), 2.75−2.68 (2 H, m), 2.51 (4 H, m),
1.93−1.82 (2 H, m), 1.76 (6 H, s)
LCMS: m/z 499 [M+H]
[製造例352]
化合物F6−6
6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−9−[
3−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−プロピル]−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−20より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 609 [M+H]
HPLC保持時間: 1.00分 (分析条件S)
[製造例353]
化合物F6−7
9−(2−シクロペンチル−エチル)−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−
イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−21より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 523 [M+H]
HPLC保持時間: 1.92分 (分析条件S)
[製造例354]
化合物F6−8
6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−
オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−22より、標題化合物を合
成した。
H−NMR (270mHz DMSO−D) δ: 12.75 (1H, s)
, 8.30 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.01−7.97 (2
H, m), 7.59 (1H, d, J = 7.1 Hz), 7.38 (1
H, s), 4.51 (4H, dt, J = 27.7, 6.3 Hz),
3.55−3.49 (1H, m), 3.02−2.96 (4H, m), 2.
63 (2H, t, J = 7.3 Hz), 2.47−2.41 (4H, m
), 1.73 (6H, s), 1.70−1.61 (2H, m), 0.94
(3H, t, J = 7.4 Hz).
LCMS: m/z 469 [M+H]
HPLC保持時間: 1.57分 (分析条件S)
[製造例355]
化合物F6−9
8−[4−(4−ヒドロキシ−ブチル)−ピペラジン−1−イル]−6,6−ジメチル−
11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3−カルボニトリル


化合物F6−8を合成する際の副生成物として、標題化合物を得た。
LCMS: m/z 485 [M+H]
HPLC保持時間: 1.61分 (分析条件S)
[製造例356]
化合物F6−10
9−(3−ヒドロキシ−プロピル)−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イ
ル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]
カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−23より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 499 [M+H]
HPLC保持時間: 1.42分 (分析条件S)
[製造例357]
化合物F6−11
6,6−ジメチル−9−(3−モルホリン−4−イル−プロピル)−8−(4−オキセタ
ン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−26より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 554 [M+H]
HPLC保持時間: 1.50分 (分析条件U)
[製造例358]
化合物F6−12
6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−
オキソ−9−ペンチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−27より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 497 [M+H]
HPLC保持時間: 2.25分 (分析条件U)
[製造例359]
化合物F6−13
9−(3−イソプロポキシ−プロパ−1−イニル)−6,6−ジメチル−8−(4−オキ
セタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物F5−23と2−ブロモプロパンより
、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, CDOD+CDCl) δ: 8.40 (1H
, d, J=7.8Hz), 8.32 (1H, s),7.84 (1H, s)
,7.53 (1H, d, J=7.8Hz), 7.18 (1H, s), 4.
80−4.68 (4H, m), 4.46 (2H, s), 3.95 (1H,
m), 3.64 (1H, m), 3.46 (4H, m), 2.62 (4
H, m), 1.82 (6H, s), 1.24 (6H, d, J=7.0
Hz)
LCMS: m/z 523 [M+H]
[製造例360]
化合物F6−14
9−イソプロピル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−
1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−32より標題化合物を合成
した。
H−NMR(270 MHz, CDOD+CDCl) δ: 8.44 (1H
, d, J=7.8Hz), 8.27 (1H, s),7.84 (1H, s)
,7.54 (1H, d, J=7.8Hz), 7.36 (1H, s), 4.
82−4.70 (4H, m), 3.68 (1H, m), 3.45 (1H,
m),3.13−3.09 (4H, m), 2.64−2.62 (4H, m)
, 1.81 (6H, s), 1.31 (6H, d, J=7.0Hz)
LCMS: m/z 469 [M+H]
[製造例361]
化合物F6−15
8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−37より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 439 [M+H]
HPLC保持時間: 1.98分 (分析条件U)
[製造例362]
化合物F6−16
8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−38より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 453 [M+H]
HPLC保持時間: 1.63分 (分析条件S)
[製造例363]
化合物F6−17
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−43より標題化合物を合成
した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.80 (1 H,
s), 8.32 (1 H, d, 7.9 Hz), 8.10 (1 H, s)
,8.02 (1 H, s), 7.62 (1 H, d, 7.9 Hz), 7
.38 (1 H, s), 3.78−3.88 (1 H, m), 3.79−3
.89 (1 H, m), 3.48−3.54 (2 H, m), 3.40−3
.47 (2 H, m), 3.30−3.39 (2 H, m), 3.02−3
.24 (4 H, m), 2.73 (2 H, q, 7.3 Hz), 2.3
0−2.41 (2 H, m), 2.17−2.26 (2 H, m), 1.7
1−1.86 (8 H, m), 1.29 (3 H, t, 7.3 Hz)
LCMS: m/z 453 [M+H]
HPLC保持時間: 2.76分 (分析条件W)

化合物F6−17のメタンスルホン酸塩
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ
ルをDMF6容に室温にて溶解しメタンスルホン酸水溶液(2M)1.05等量を滴下し
た。この溶液をアセトニトリル60容中に滴下し析出した固体を、ろ過、乾燥し8−(4
−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル一メタ
ンスルホン酸塩を得た。
H−NMR (400MHz、DMSO−D) δ: 12.75(1H,s)、8
.31(1H、J = 8.4 Hz)、8.07(1H,s)、8.01(1H,s)
、7.59(1H、d、J = 7.9 Hz)、7.38(1H、s)、3.58−2
.84(10H、m)、2.71(2H、q、J = 7.5 Hz)、2.34(3H
、s)、2.20−2.04(4H、m)、1.76−1.68(8H,m)、1.26
(3H、t、J = 7.5 Hz)
FABMS: m/z 453 [M+H]

[製造例364]
化合物F6−18
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−44より標題化合物を合成
した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.69 (1 H,
s), 8.31 (1 H, d, 7.9 Hz), 8.01 (1 H, s)
,7.99 (1 H, s), 7.60 (1 H, d, 7.9 Hz), 7
.39 (1 H, s), 2.92−3.02 (4 H, m), 2.75−2
.84 (1 H, m), 2.65 (2 H, t, 7.3 Hz), 2.3
8−2.48 (4 H, m), 1.96−2.06 (2 H, m), 1.7
8−1.87 (2 H, m), 1.75 (6 H, s), 1.62−1.7
3 (4 H, m), 0.97 (3 H, t, 7.3 Hz)
LCMS: m/z 467 [M+H]
HPLC保持時間: 2.96分 (分析条件W)
[製造例365]
化合物F6−19
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−イソプロピル−6,6−ジメチ
ル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボ
ニトリル


化合物B3−13の合成法と同様の条件で、化合物F5−48より、標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 467 [M+H]
HPLC保持時間: 1.67分 (分析条件S)
[製造例366]
化合物F6−20
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−49より標題化合物を合成
した。
H−NMR (400MHz、DMSO−D) δ: 12.70 (1H, s)
, 8.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 8.04 (1H, s)
, 8.00 (1H, s), 7.61 (1H, d, J = 8.5 Hz)
, 7.34 (1H, s), 3.64−3.57 (4H, m), 3.27
−3.18(2H, m), 2.82−2.66 (4H, m), 2.39−2.
28 (1H,m), 1.96−1.87 (2H, m), 1.76 (6H,
s), 1.69−1.53 (2H, m), 1.29 (3H, t, J =
7.3 Hz)
LCMS: m/z 483 [M+H]
HPLC保持時間: 1.98分 (分析条件U)

化合物F6−20の塩酸塩
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリルをメチルエチルケトン10容、水4容および酢酸3容の混液に60℃にて溶解
した。溶解液に塩酸(2規定)1容を滴下した。60℃にて30分撹拌後、エタノール2
5容を滴下し析出した固体をろ過、乾燥し9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モ
ルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル一塩酸塩を得た。
H−NMR (400MHz、DMSO−D) δ: 12.78(1H,s)、1
0.57(1H、br.s)、8.30(1H、J = 8.4 Hz)、
8.05(1H,s)、7.99(1H,s)、7.59(1H、d、J = 7.9
Hz)、7.36(1H、s)、4.02−3.99(2H、m)、3.84−3.78
(2H、m)、3.51−3.48(2H、m)、3.15−3.13(1H、s)、2
.83−2.73(2H、s)、2.71−2.67(2H、s)、2.23−2.20
(2H、m)、1.94−1.83(2H、m)、1.75(6H,s)、1.27(3
H、t、J = 7.5 Hz)
FABMS: m/z 483 [M+H]
[製造例367]
化合物F6−21
6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−
オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物F5−50より標題化合物を合成
した。
H−NMR(270 MHz, CDOD+CDCl) δ: 8.41 (1H
, d, J=7.8Hz), 8.14 (1H, s),7.84 (1H, s)
,7.53 (1H, d, J=7.8Hz), 7.31 (1H, s), 3.
77 (4H, m), 3.32 (2H, m), 2.86−2.66 (8H,
m), 2.43−2.05 (3H, m), 1.79 (6H, s), 1
.79−1.66 (4H, m), 1.02 (3H, t, J=7.3Hz)
LCMS: m/z 497 [M+H]
[製造例368]
化合物G2
8−メトキシ−10,10−ジメチル−10,11−ジヒドロ−5H−1,11−ジアザ
−ベンゾ[B]フルオレン


2−ヒドラジノピリジン(1.3g、11.8mmol)と7−メトキシ−1,1−ジメ
チル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物A2、2.4g、11.
8mmol)をNMP(60mL)に溶解し、190℃で48時間攪拌した。反応液を酢
酸エチルで希釈し、水で洗浄した後に硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減
圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル
)で精製し、目的物(白色固体、101mg、3%)を得た。
H−NMR (400MHz、DMSO−d) δ: 11.53 (1 H, s
), 8.16 − 8.12 (1H, m), 7.84 (1H, d, J =
7.8 Hz), 7.23 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.11
(1H, s), 7.03−6.98 (1H, m), 6.85−6.81 (
1H, m), 3.96 (2H, s), 3.77 (3H, s), 1.64
(6H, s)
LCMS: m/z 279 [M+H]
HPLC保持時間: 2.08分 (分析条件U)
[製造例369]
化合物G3
8−メトキシ−10,10−ジメチル−10,11−ジヒドロ−1,11−ジアザ−ベン
ゾ[b]フルオレン−5−オン


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物G2より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、CDCl) δ: 12.95 (1H, br.
s), 8.78 (1H, d, J = 7.8 Hz), 8.52 (1H,
d, J = 4.9 Hz), 8.41 (1H, d, J = 8.8 Hz
), 7.37 (1H, dd, J = 7.7, 5.0 Hz), 7.15
(1H, s), 7.04−7.00 (1H, m), 3.94 (3H, s)
, 1.98 (6H, s)
LCMS: m/z 293 [M+H]
HPLC保持時間: 2.13分 (分析条件U)
[製造例370]
化合物G4
8−ヒドロキシ−10,10−ジメチル−10,11−ジヒドロ−1,11−ジアザ−ベ
ンゾ[b]フルオレン−5−オン


化合物E3−2の合成法と同様の条件で、化合物G3より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、CDCl) δ: 8.66 (1H, d, J
= 7.7 Hz), 8.29 (1H, d, J = 4.9 Hz), 8.2
3 (1H, d, J = 13.8 Hz), 7.29 (1H, dd, J
= 7.7, 5.0 Hz), 7.12 (1H, s), 6.93 (1H,
d, J = 8.6 Hz), 1.71 (6H, s)
LCMS: m/z 279 [M+H]
HPLC保持時間: 1.72分 (分析条件U)
[製造例371]
化合物G5
トリフルオロ−メタンスルホン酸 10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジ
ヒドロ−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−8−イル エステル


化化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物G4より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、CDCl) δ: 8.81 (1H, d, J
= 7.8 Hz), 8.60−8.52 (2H, m), 7.55 (1H,
s), 7.46−7.40 (2H, m), 2.01 (6H, s)
LCMS: m/z 411 [M+H]
HPLC保持時間: 1.75分 (分析条件U)
[製造例372]
化合物G6
10,10−ジメチル−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−1
0,11−ジヒドロ−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物G5と4−ピロリジン−1−イル−ピペ
リジンより、標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz、CDCl) δ: 13.12 (1H, s),
8.78 (1H, d, J = 7.8 Hz), 8.49 (1H, d, J
= 4.9 Hz), 8.29 (1H, d, J = 8.8 Hz), 7.
34 (1H, dd, J = 7.7, 5.0 Hz), 7.06−6.98
(2H, m), 3.96−3.88 (2H, m), 3.02−3.92 (2
H, m), 2.69−2.60 (4H, m), 2.32−2.23 (1H,
m), 2.09−2.00 (4H,m), 1.92 (6H, s), 1.2
6−1.19 (4H, m)
LCMS: m/z 415 [M+H]
HPLC保持時間: 1.57分 (分析条件U)
[製造例373]
化合物H1
6−アセチル−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン
−2−オン


7−メトキシ−1、1−ジメチル−3、4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、3g、14.7mmol)のジクロロメタン(70ml)溶液に0℃にて無水
酢酸(1.7ml、1.2当量)と塩化アルミニウム―ニトロベンゼン溶液(1M、44
ml、3当量)を加え3時間攪拌した後、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
、ジクロロメタンで2回抽出し有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、目的物を粗生成物として得た。
[製造例374]
化合物H2−1
1−(3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−9−イル)−エタノン


化合物A3−1の合成法と同様の条件で、化合物H1と(3−ブロモ−フェニル)−ヒド
ラジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 398 [M+H]+
HPLC保持時間: 3.97分 (分析条件Y)
[製造例375]
化合物H2−2
1−(1−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−9−イル)−エタノン


化合物H2−1の合成の際の、副生成物として、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 398 [M+H]+
HPLC保持時間: 3.97分 (分析条件Y)
[製造例376]
化合物H3
9−アセチル−3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベン
ゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物H2より標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.80 (6H, s)
, 2.58 (3H, s), 4.06 (3H, s), 7.38 (1H,
dd, 8.39Hz, 1.91Hz), 7.51 (1H, s), 7.67
(1H, bs, 1.53Hz), 8.10 (1H, d, 8.39Hz),
8.41 (1H, s), 12.3 (1H, s)
LCMS: m/z 412, 414 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.73分 (分析条件U)
[製造例377]
化合物H4
9−アセチル−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A5−2の合成と同様の手法で、化合物H3より標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.83 (6H, s)
, 2.58 (3H, s), 4.07 (3H, s), 7.53 (1H,
s), 7.61 (1H, d, 8.01Hz), 8.03 (1H, s),
8.31 (1H, d, 8.77Hz), 8.42 (1H, s), 12.8
(1H, s).
LCMS: m/z 359 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.47分 (分析条件U)
[製造例378]
化合物H5
9−アセチル−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物H4より、標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.77 (6H, s)
, 2.75 (3H, s), 7.43 (1H, s), 7.63 (1H,
d, 8.01Hz), 8.02 (1H, s), 8.32 (1H, d, 8
.01Hz), 8.67 (1H, s), 12.2 (1H, s), 12.8
(1H, s).
LCMS: m/z 345 [M+H]
HPLC保持時間: 2.27分 (分析条件S)
[製造例379]
化合物H6−1
9−アセチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(テトラヒドロ−ピラン−4−イ
ルオキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物H5とテトラヒドロピラン−4−オール
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 429 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.48分 (分析条件U)
[製造例380]
化合物H6−2
9−アセチル−8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物H5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 444 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.05分 (分析条件U)
[製造例381]
化合物H7
トリフルオロ−メタンスルホン酸 9−アセチル−3−シアノ−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物H5より、標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.83 (6H, s)
, 2.74 (3H, s), 7.68 (1H, dd, 8.01Hz, 1.
53Hz), 8.08 (2H, s), 8.33 (1H, d, 8.77Hz
), 8.79 (1H, s), 12.9 (1H, s).
[製造例382]
化合物H8−1
9−アセチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピ
ペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物H7と4−ピロリジン−1−イル−ピペ
リジンより、標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.65 (2H, m)
, 1.69 (4H, s), 1.79 (6H, s), 1.95 (2H,
m), 2.18 (1H, m), 2.54 (4H, s), 2.59 (3H
, s), 2.93 (2H, t, 11.8Hz), 3.37 (2H, m)
, 7.36 (1H, s), 7.60 (1H, d, 8.01), 8.01
(1H, s), 8.13 (1H, s), 8.30 (1H, d, 8.3
9), 12.7 (1H, s).
LCMS: m/z 481 [M+H]
HPLC保持時間: 2.03分 (分析条件U)
[製造例383]
化合物H8−2
9−アセチル−8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物H7より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 455 [M+H]
HPLC保持時間: 2.02分 (分析条件U)
[製造例384]
化合物H8−3
9−アセチル−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1と同様の条件で、化合物H7とモルホリンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 414 [M+H]
HPLC保持時間: 2.11分 (分析条件S)
[製造例385]
化合物H8−4
9−アセチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−
イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物B2−1と同様の条件で、化合物H7と4−ピペリジン−4−イル−モルホリンよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 497 [M+H]
HPLC保持時間: 1.45分 (分析条件S)
[製造例386]
化合物H8−5
9−アセチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物H7とピペラジンより標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 413 [M+H]
HPLC保持時間: 1.71分 (分析条件U)
[製造例387]
化合物H9−1
9−アセチル−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物H8−5とシクロブタノンより、標題
化合物を合成した。
LCMS: m/z 467 [M+H]
HPLC保持時間: 1.82分 (分析条件U)
[製造例388]
化合物H9−2
9−アセチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−[4−(テトラヒドロ−ピラン−
4−イル)−ピペラジン−1−イル]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物H8−5とテトラヒドロピラン−4−
オンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 497 [M+H]
HPLC保持時間: 1.76分 (分析条件U)
[製造例389]
化合物H9−3
9−アセチル−8−[4−(1,1−ジメチル−プロパ−2−イニル)−ピペラジン−1
−イル]−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]
カルバゾール−3−カルボニトリル


9−アセチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物H8−5、
25mg、0.06mmol)の脱水THF溶液(0.5mL)に、3−クロロ−3−メ
チル−ブタ−1−イン(0.013mL、0.12mmol)と塩化銅(I)(0.6m
g、0.006mmol)、トリエチルアミン(0.017mL、0.12mmol)を
室温で加え、30分間攪拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をアミノシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール)で精製し、標題化合物(白色固
体、9.8mg、35%)を得た。
LCMS: m/z 479 [M+H]
HPLC保持時間: 1.88分 (分析条件U)
[製造例390]
化合物I1−1
6−クロロ−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オン


7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、3.37g、16.5mmol)をCHCN(82mL)に溶解し、NCS
(2.42g、1.1等量)を加え、90℃で1.5時間攪拌した。反応液を酢酸エチル
で抽出した後、有機層を飽和食塩水で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を除去後
、減圧濃縮することにより目的物(黄色油状物質、4.45g)を得た。
H−NMR(400 MHz, CDCl) δ: 7.16 (1H, s),
6.85 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.00 (2H, t,
J = 6.8 Hz), 2.65 (2H, t, J = 6.8 Hz),
1.42 (6H, s).
LCMS: m/z 239 [M+H]
HPLC保持時間: 2.80分 (分析条件U)
[製造例391]
化合物I1−2
9−クロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル


6−クロロ−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オン(化合物I1−1、4.45g、16.5mmol)と3−ヒドラジノベンゾニ
トリル(2.63g、1.2等量)をTFA(91mL)に溶解し、90℃で3時間攪拌
した。減圧濃縮によりTFAを除去した後に、残渣に飽和NaHCO水溶液を加え、酢
酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を
濾去後、減圧濃縮して得られた残渣に酢酸エチルを加え、室温で撹拌し析出した固体を濾
別した。濾液を減圧濃縮することによりI1−3との混合物として、目的物(赤色粉末、
6.46g)を得た。
[製造例392]
化合物I1−3
9−クロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−1−カルボニトリル


化合物I1−2合成の際の副生成物として、標題化合物を得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 11.66 (1H, s
), 7.65−7.69 (1H, m), 7.44−7.48 (1H, m),
7.39 (1H, s), 7.29 (1H, s), 7.17−7.23 (
1H, m), 4.21 (2H, s), 3.91 (3H, s), 1.69
(6H, s).
LCMS: m/z 337 [M+H]
HPLC保持時間: 3.15分 (分析条件U)
[製造例393]
化合物I2−1
2−(4−クロロ−3−メトキシ−フェニル)−2−メチル−プロピオニトリル


1−クロロ−4−フルオロ−2−メトキシ−ベンゼン(4.3g、26.78mmol)
、イソブチロニトリル(9.61mL、4.0等量)をトルエン(9.0mL)に溶解し
、KHMDS(80mL、0.5Mトルエン溶液)を添加し、65度で2時間撹拌した。
反応液を室温まで冷却後、1N塩酸水溶液を加え、MTBEで抽出した。有機層を飽和食
塩水で洗浄した後に硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル)で精製し、標題
化合物(1.72g、31%)を得た。
H−NMR (270MHz、CDCl) δ: 7.37 (1H, d, J
= 8.4 Hz), 7.05 (1H, d, J = 2.1 Hz), 6.9
7 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 3.95 (3H, s
), 1.73 (6H, s).
HPLC保持時間: 2.33分 (分析条件S)
[製造例394]
化合物I2−2
4−(4−クロロ−3−メトキシ−フェニル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸
エチル エステル


化合物K3の合成法と同様の条件で、化合物I2−1より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 7.42 (1H, d,
J = 8.1 Hz), 6.92 (1H, d, J = 2.1 Hz), 6
.86 (1H, dd, J = 8.2, 2.3 Hz), 4.01 (2H,
q, J = 7.1 Hz), 3.87 (3H, s), 3.43 (2H,
s), 1.44 (6H, s), 1.12 (3H, t, J = 7.2
Hz).
LCMS: m/z 299、301 [M+H]
HPLC保持時間: 2.52、3.05分 (分析条件S)
[製造例395]
化合物I2−3
4−(4−クロロ−3−メトキシ−フェニル)−2−(4−シアノ−2−ニトロ−フェニ
ル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸 エチル エステル


化合物K4の合成法と同様の条件で、化合物I2−2より標題化合物を粗生成物として得
た。
[製造例396]
化合物I2−4
2−[1−(4−クロロ−3−メトキシ−フェニル)−1−メチル−エチル]−6−シア
ノ−1H−インドール−3−カルボン酸 エチル エステル


化合物K5の合成法と同様の条件で、化合物I2−3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 397、399 [M+H]
HPLC保持時間: 2.83分 (分析条件S)
[製造例397]
化合物I3
9−クロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


(手法1)化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物I1−2より標題化合物を合成し
た。
(手法2)化合物L8−1の合成法と同様の条件で、化合物I2−4より標題化合物を合
成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.79 (1H, s
), 8.27−8.31 (1H, m), 8.12 (1H, s), 8.00
−8.02 (1H, m), 7.58−7.63 (1H, m), 7.51 (
1H, s), 4.03 (3H, s), 1.80 (6H, s).
LCMS: m/z 351 [M+H]
HPLC保持時間: 2.87分 (分析条件U)
[製造例398]
化合物I4
9−クロロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E3−2の合成法と同様の条件で、化合物I3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 337 [M+H]
HPLC保持時間: 2.47分 (分析条件U)
[製造例399]
化合物I5
トリフルオロ−メタンスルホン酸 9−クロロ−3−シアノ−6,6−ジメチル−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル エステル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物I4より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 469 [M+H]
HPLC保持時間: 3.40分 (分析条件U)
[製造例400]
化合物I6−1
9−クロロ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペ
リジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物I5と4−ピロリジン−1−イル−ピペ
リジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 473 [M+H]
HPLC保持時間: 2.25分 (分析条件U)
[製造例401]
化合物I6−2
9−クロロ−8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物I5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 447 [M+H]
HPLC保持時間: 2.30分 (分析条件U)
[製造例402]
化合物I6−3
9−クロロ−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物I5とモルホリンより、標題化合物を合
成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.79 (1H,
s), 8.28 (1H, d, 8.0 Hz), 8.09 (1H, s),
8.00 (1H, s), 7.59 (1H, d, 8.0 Hz), 7.4
5 (1H, s), 3.75−3.81 (4H, m), 3.13−3.19
(4H, m), 1.76 (6H, s)
LCMS: m/z 406 [M+H]
HPLC保持時間: 2.88分 (分析条件U)
[製造例403]
化合物I6−4
9−クロロ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物I5と4−ピペリジン−4−イル−モル
ホリンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.75 (1H, s
), 8.28 (1H, d, 8.0 Hz), 8.07 (1H, s), 8
.00 (1H, s), 7.59 (1H, d, 8.0 Hz), 7.41
(1H, s), 3.55−3.62 (4H, m), 3.47−3.56 (4
H, m), 2.75−2.86 (2H, m), 2.45−2.55 (4H,
m), 2.28−2.39 (1H, m), 1.86−1.96 (2H, m
), 1.76 (6H, s), 1.52−1.66 (2H, m)
LCMS: m/z 489 [M+H]
HPLC保持時間: 1.97分 (分析条件U)
[製造例404]
化合物I6−5−1
[1−(9−クロロ−3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペリジン−4−イル]−カルバミ
ン酸 tert−ブチル エステル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物I5とピペリジン−4−イル−カルバミ
ン酸 tert−ブチルエステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 519 [M+H]
HPLC保持時間: 3.27分 (分析条件U)
[製造例405]
化合物I6−5−2
8−(4−アミノ−ピペリジン−1−イル)−9−クロロ−6,6−ジメチル−11−オ
キソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物I6−5−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 419 [M+H]
HPLC保持時間: 2.12分 (分析条件U)
[製造例406]
化合物I6−6
9−クロロ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物I5とピペラジンより、標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 405 [M+H]
HPLC保持時間: 1.87分 (分析条件U)
[製造例407]
化合物I7−1
N−[1−(9−クロロ−3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル)−ピペリジン−4−イル]−メタ
ンスルホンアミド


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物I6−5−2より、標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 497 [M+H]
HPLC保持時間: 2.62分 (分析条件U)
[製造例408]
化合物I7−2
9−クロロ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物I5と1−オキセタン−3−イル−ピペ
ラジンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 12.78 (1H, s
), 8.27−8.31 (1H, m), 8.07−8.09 (1H, s),
7.99−8.02 (1H, m), 7.59−7.62 (1H, m), 7
.44−7.46 (1H, s), 4.54−4.60 (2H, m), 4.4
4−4.51 (2H, m), 3.47−3.55 (1H, m), 3.16−
3.24 (4H, m), 2.40−2.55 (4H, m), 1.77 (6
H, s)
LCMS: m/z 461 [M+H]
HPLC保持時間: 2.13分 (分析条件U)
[製造例409]
化合物I7−3
9−クロロ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物I5と1−シクロプロピルピペラジンよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 445 [M+H]
HPLC保持時間: 1.97分 (分析条件U)
[製造例410]
化合物I7−4
9−クロロ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物I6−6とシクロブタノンより、標題
化合物を合成した。
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 12.78 (1H, s)
, 8.29 (1H, d, 8.5Hz), 8.08 (1H, s), 8.0
1 (1H, s), 7.60 (1H, d, 8.5Hz), 7.44 (1H
, s), 3.17−3.15 (4H, m), 2.83−2.76 (1H,
m), 2.47−2.44 (4H, m), 2.04−1.97 (2H, m)
, 1.82 (2H, t, 9.8Hz), 1.77 (6H, s), 1.7
0−1.63 (2H, m)
LCMS: m/z 459,461 [M+H]
HPLC保持時間: 1.63分 (分析条件S)
[製造例411]
化合物J2
6−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン


化合物A2と同様の条件で、6−メトキシ−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−
オンとヨードメタンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 205 [M+H]
HPLC保持時間: 1.54分 (分析条件S)
[製造例412]
化合物J3−1
9−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−3−カルボニトリル


化合物E2−1の合成と同様の条件で、化合物J2と3−ヒドラジノ−ベンゾニトリルよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 303 [M+H]
HPLC保持時間: 2.73分 (分析条件S)
[製造例413]
化合物J3−2
9−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−1−カルボニトリル


化合物J3−1合成の際の副生成物として、化合物J3−2を得た。
LCMS: m/z 303 [M+H]
HPLC保持時間: 2.67分 (分析条件S)
[製造例414]
化合物J4
9−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物J3−1、J3−2(混合物)より標題化合
物を合成した。
H−NMR (DMSO−D) δ: 12.79 (1H, s), 8.33
(1H, d, J = 8.2 Hz), 8.02 (1H, s), 7.81
(1H, d, J = 8.6 Hz), 7.69 (1H, d, J = 3.
0 Hz), 7.63 (1H, dd, J = 8.3, 1.4 Hz), 7
.28 (1H, dd, J = 8.7, 3.0 Hz), 3.87 (3H,
s), 1.74 (6H, s).
LCMS: m/z 317 [M+H]
HPLC保持時間: 2.25分 (分析条件S)
[製造例415]
化合物J5
9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物J4より標題化合物を合成した。
H−NMR (DMSO−D) δ: 12.75 (1H, s), 9.77
(1H, s), 8.32 (1H, dd, J = 8.2, 0.7 Hz),
8.01 (1H, s), 7.68 (1H, d, J = 8.6 Hz),
7.62 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.58 (1
H, d, J = 2.8 Hz), 7.10 (1H, dd, J = 8.6
, 2.8 Hz), 1.72 (6H, s).
LCMS: m/z 303 [M+H]
HPLC保持時間: 1.75分 (分析条件S)
[製造例416]
化合物J6
トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−イル エステル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物J5より標題化合物を合成した。
H−NMR (DMSO−D) δ: 12.95 (1H, s), 8.31
(1H, d, J = 8.2 Hz), 8.15 (2H,m), 8.05 (
1H, s), 7.87 (1H, dd, J = 9.0, 2.7 Hz),
7.65 (1H, d, J = 8.2 Hz), 1.80 (6H, s).
LCMS: m/z 435 [M+H]
HPLC保持時間: 2.75分 (分析条件S)
[製造例417]
化合物J7−1
9−イソプロポキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物J4とイソプロパノールより標題化合物
を合成した。
LCMS: m/z 345 [M+H]
HPLC保持時間: 3.87分 (分析条件W)
[製造例418]
化合物J7−2−1
4−(3−シアノ−6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾ−ル−9−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブ
チル エステル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物J5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 486 [M+H]
HPLC保持時間: 4.15分 (分析条件W)
[製造例419]
化合物J7−2−2
6、6−ジメチル−11−オキソ−9−(ピペリジン−4−イルオキシ)−6、11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3−カルボニトリル


A8−1の合成法と同様の条件で、化合物J7−2−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 386 [M+H]
HPLC保持時間: 2.48分 (分析条件W)
[製造例420]
化合物J7−2−3
6、6−ジメチル−9−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イルオキシ)−
11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3−カルボニト
リル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物J7−2−2とオキセタン−3−オン
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 442 [M+H]
HPLC保持時間: 2.61分 (分析条件W)
[製造例421]
化合物J7−3
6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−
イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−10の合成法と同様の条件で、化合物J6と4−ピロリジン−1−イル−ピ
ペリジンより、標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 13.12 (1H, s)
, 8.32 (1H, d, J = 8.1 Hz), 8.01 (1H, s)
, 7.72 (1H, d, J = 8.7 Hz), 7.68 (1H, d,
J = 2.6 Hz), 7.62 (1H, dd, J = 8.2, 1.2
Hz), 7.38 (1H, dd, J = 9.1, 2.8 Hz), 3.
90 (2H, d, J = 11.5 Hz), 2.76 (2H, t, J
= 12.2 Hz), 2.14 (2H, d, J = 10.9 Hz), 1
.91 (4H, br), 1.74 (6H, s).
LCMS: m/z 439 [M+H]
HPLC保持時間: 1.35分 (分析条件S)
[製造例422]
化合物J7−4
9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−10の合成法と同様の条件で、化合物J6と1−イソプロピル−ピペラジン
より、標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.80 (1H, s)
, 8.33 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.02 (1H, s)
, 7.66 (3H, m), 7.33 (1H, d, J = 8.2 Hz)
, 3.21 (4H, br), 2.66 (5H, m), 1.72 (6H,
s), 1.02 (6H, d, J = 6.3 Hz).
LCMS: m/z 413 [M+H]
HPLC保持時間: 1.38分 (分析条件S)
[製造例423]
化合物J7−5
6,6−ジメチル−11−オキソ−9−ピロリジン−1−イル−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−10の合成法と同様の条件で、化合物J6とピロリジンより、標題化合物を
合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 8.24 (1H, d,
J = 8.1 Hz), 7.91 (1H, s), 7.59 (1H, d,
J = 8.6 Hz), 7.45 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7
.30 (1H, d, J = 2.6 Hz), 6.85 (1H, dd, J
= 8.6, 2.8 Hz), 3.31 (4H, t, J = 6.3 Hz
), 1.99 (4H, t, J = 6.2 Hz), 1.67 (6H, s
).
LCMS: m/z 356 [M+H]
HPLC保持時間: 2.38分 (分析条件S)
[製造例424]
化合物J7−6
6,6−ジメチル−11−オキソ−9−((S)−2−ピロリジン−1−イルメチル−ピ
ロリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物B2−10の合成法と同様の条件で、化合物J6と(S)−2−ピロリジン−1−
イルメチル−ピロリジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 439 [M+H]
HPLC保持時間: 1.50分 (分析条件S)
[製造例425]
化合物J7−7
6,6−ジメチル−11−オキソ−9−ピペラジン−1−イル−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−10と同様の条件で、化合物J6とピペラジンより、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 371 [M+H]
HPLC保持時間: 1.31分 (分析条件S)
[製造例426]
化合物J7−8
9−(3−ヒドロキシ−3−メチル−ブタ−1−イニル)−6,6−ジメチル−11−オ
キソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物J6より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 369 [M+H]
HPLC保持時間: 2.16分 (分析条件S)
[製造例427]
化合物J7−9
9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E4−2−2の合成法と同様の条件で、化合物J7−8より標題化合物を合成した

H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 8.31 (1H, d,
J = 8.1 Hz), 8.23 (1H, d, J = 1.8 Hz), 8
.02 (1H, d, J = 1.3 Hz), 7.93 (1H, d, J
= 8.2 Hz), 7.78 (1H, dd, J = 8.2, 1.8 Hz
), 7.61 (1H, dd, J = 8.1, 1.3 Hz), 4.31
(1H, s), 1.77 (6H, s).
LCMS: m/z 311 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件S)
[製造例428]
化合物J7−10−1
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−9−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−ピリジン−1−カルボン
酸 tert−ブチル エステル


化合物B2−22−1の合成法と同様の条件で、化合物J6より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 468 [M+H]
HPLC保持時間: 2.90分 (分析条件S)
[製造例429]
化合物J7−10−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4
−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物J7−10−1より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 368 [M+H]
HPLC保持時間: 1.27分 (分析条件S)
[製造例430]
化合物J7−11−1
9−(ピペリジン−4−イルメチル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−25−1、B2−25−2の合成法と同様の条件で、化合物J6より標題化
合物を合成した。
LCMS: m/z 384 [M+H]+
HPLC保持時間: 1.42分 (分析条件S)
[製造例431]
化合物J7−11−2
9−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イルメチル)−6,6−ジメチル−11−オ
キソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物J7−11−1とアセトンより、標題
化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.79 (1H,
s), 8.33 (1H, d, 7.9Hz), 8.01 (1H, s), 7
.98 (1H, d, 1.8Hz), 7.79 (1H, d, 7.9 Hz)
, 7.61 (1H, d, 7.9Hz), 7.51−7.49 (1H, m)
, 2.74 (2H, d, 11.0Hz), 2.64−2.60 (3H, m
), 2.04 (2H, t, 10.7Hz), 1.77 (6H, s), 1
.60−1.51 (3H, m), 1.23−1.14 (2H, m), 0.9
4 (6H, d, 6.7Hz)
LCMS: m/z 426 [M+H]
[製造例432]
化合物J7−12
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−9−イルオキシ)−酪酸


9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物J5、30mg、0.099mmol
)、4−ブロモ−酪酸 メチル エステル(24.9μl、 0.198mmol)、炭
酸セシウム(64.5mg、 0.198mmol)をDMA(0.20ml)溶解し、
室温で4時間撹拌した。反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した後、有機層を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮して得られた黄色個体を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレン/MeOH)で精製し、4−(3−
シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カ
ルバゾール−9−イルオキシ)−酪酸 メチル エステルを中間体として得た。
これをMeOH(0.50ml)に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液(6mol/l)を
加え、室温で30分撹拌した。反応液に塩酸(3mol/l)を加え、ジエチルエーテル
で抽出した後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
することで白色固体を得た。この白色固体を塩化メチレンで洗浄し、標題化合物(19.
0mg,70%)を得た。
LCMS: m/z 389 [M+H]
HPLC保持時間: 2.39分 (分析条件F)
[製造例433]
化合物J7−13
5−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−9−イルオキシ)−ペンタン酸


化合物J7−12の合成法と同様の条件で、化合物J5と5−ブロモ−ペンタン酸メチル
エステルを反応させて、標題化合物(19.5 mg,64%)を得た。
LCMS: m/z 403 [M+H]
HPLC保持時間: 2.49分 (分析条件F)
[製造例434]
化合物J7−14
6−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−9−イルオキシ)−ヘキサン酸


化合物J7−12の合成法と同様の条件で、化合物J5と6−ブロモ−ヘキサン酸 エチ
ル エステルを反応させて、標題化合物(19.6mg,66%)を得た。
LCMS: m/z 417 [M+H]
HPLC保持時間: 2.61分 (分析条件F)
[製造例435]
化合物J7−15
3−[2−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−9−イルオキシ)−エトキシ]−プロピオン酸



化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物JJ2と3−(2−ヒドロキシ−エトキ
シ)−プロピオン酸 tert−ブチル エステルを反応させて、3−[2−(3−ブロ
モ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−9−イルオキシ)−エトキシ]−プロピオン酸 tert−ブチル エステルを
得た。
これをDMA(0.30ml)に溶解し、シアン化銅(25.5mg、 0.285mm
ol)を加え、マイクロウェーブ照射条件化、200℃で1時間撹拌した。反応液を酢酸
エチルで希釈し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て得られた残渣を塩化メチレン(0.75 ml)に溶解した。これにTFA(250
μl)を加え、室温で5分撹拌した後、反応液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(塩化メチレン/MeOH)で精製し、標題化合物(5.6m
g,14%)を得た。
LCMS: m/z 419 [M+H]
HPLC保持時間: 2.31分 (分析条件F)
[製造例436]
化合物J7−16
6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(ピリジン−4−イルメトキシ)−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物J5とピリジン−4−イル−メタノール
より、標題化合物(淡黄色固体、6.1mg,31%)を得た。
LCMS: m/z 394 [M+H]
HPLC保持時間: 1.97分 (分析条件F)
[製造例437]
化合物J7−17
6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(ピリジン−3−イルメトキシ)−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物JJ3−1の合成法と同様の条件で、化合物J5とピリジン−3−イル−メタノー
ルより、標題化合物(淡黄色固体、7.9mg,38%)を得た。
LCMS: m/z 394 [M+H]
HPLC保持時間: 1.99分 (分析条件F)
[製造例438]
化合物J8−1
6,6−ジメチル−9−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物J7−7とオキセタン−3−オンより
、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 427 [M+H]
HPLC保持時間: 1.31分 (分析条件S)
[製造例439]
化合物J8−2
9−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物J7−7と(1−エトキシシクロプロ
ポキシ)トリメチルシランより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 411 [M+H]
HPLC保持時間: 1.39分 (分析条件S)
[製造例440]
化合物J8−3
9−(1−メタンスルホニル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−
6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−3−カルボニトリル


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物J7−10−2より標題化合物を合成し
た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.81 (1H,
s), 8.33 (1H, d, 7.9Hz), 8.26 (1H, d, 2.
4Hz), 8.01 (1H, s), 7.88−7.81 (2H, m), 7
.61 (1H, d, 7.9Hz), 6.36 (1H, s), 3.93 (
2H, d, 3.0Hz), 3.45 (2H, t, 5.8Hz), 2.97
(3H, s), 2.73−2.70 (2H, m), 1.78 (6H, s

LCMS: m/z 446 [M+H]
HPLC保持時間: 2.15分 (分析条件S)
[製造例441]
化合物J8−4
9−(1−イソプロピル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−6,
6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物J7−10−2とアセトンより、標題
化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.82 (1H, s
), 8.33 (1H, d, 7.9Hz), 8.22 (1H, d, 1.8
Hz), 8.02 (1H, s), 7.84 (1H, d, 8.5Hz),
7.78 (1H, dd, 8.2, 2.1Hz), 7.62 (1H, d,
7.9Hz), 6.32 (1H, t, 3.7Hz), 3.23−3.20 (
2H, m), 2.83−2.76 (1H, m), 2.72 (2H, t,
5.5Hz), 2.56−2.54 (2H, m), 1.78 (6H, s),
1.06 (6H, d, 6.7Hz)
LCMS: m/z 410 [M+H]
HPLC保持時間: 1.38分 (分析条件S)
[製造例442]
化合物J8−5
6,6−ジメチル−9−(1−オキセタン−3−イル−1,2,3,6−テトラヒドロ−
ピリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−32と同様の条件で、化合物J7−10−2とオキセタン−3−オンより、
標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 12.81 (1H, br
.s), 8.34 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.22 (1H,
d, J = 1.8 Hz), 8.03 (1H, s), 7.76−7.90
(2H, m), 7.64 (1H, dd, J = 8.2, 1.8 Hz)
, 6.25−6.34 (1H, m), 4.60 (2H, dd, J = 6
.6, 6.0 Hz), 4.52 (2H, dd, J = 6.6, 6.0
Hz), 3.57 (1H, t, J = 6.0 Hz), 3.03 (2H,
m), 2.55 (4H, m), 1.77 (6H, s).
LCMS: m/z 424 [M+H]
HPLC保持時間: 1.34分 (分析条件S)
[製造例443]
化合物J8−6
9−(1−シクロプロピル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−6
,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール
−3−カルボニトリル


化合物B3−32と同様の条件で、化合物J7−10−2と(1−エトキシシクロプロポ
キシ)トリメチルシランより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 408 [M+H]
HPLC保持時間: 1.36分 (分析条件S)
[製造例444]
化合物J9−1
4−(3−シアノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−9−イル)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブチル
エステル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物J7−10−1より標題化合物を
合成した。
LCMS: m/z 414、470 [M+H]
HPLC保持時間: 2.83分 (分析条件S)
[製造例445]
化合物J9−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−9−ピペリジン−4−イル−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物J9−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 370 [M+H]
HPLC保持時間: 1.30分 (分析条件S)
[製造例446]
化合物J9−3
9−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A9−1の合成法と同様の条件で、化合物J9−2と2−ブロモプロパンより、標
題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 12.83 (1H, s)
, 8.34 (2H, d, J = 8.1 Hz), 8.05 (2H, m)
, 7.82 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.61 (2H, m)
, 3.02 (2H, br), 2.42 (2H, br), 1.76 (6H
, s), 1.06 (6H, d, J = 6.4 Hz).
LCMS: m/z 412 [M+H]
HPLC保持時間: 1.45分 (分析条件S)
[製造例447]
化合物J9−4
6,6−ジメチル−9−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−13−1と同様の条件で、化合物J8−5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 426 [M+H]
HPLC保持時間: 1.26分 (分析条件S)
[製造例448]
化合物J9−5
9−(1−シクロプロピル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B3−13−1と同様の条件で、化合物J8−6より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 410 [M+H]
HPLC保持時間: 1.43分 (分析条件S)
[製造例449]
化合物JJ1
3−ブロモ−9−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−11−オン


6−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物J2、2.15g,10.5mmol)および3−ブロモフェニルヒドラジン塩酸塩
(3.11g,1.3等量)を酢酸(12mL)に溶解し、窒素雰囲気下、100℃にて
2.5時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、および飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮
した。得られた残渣をTHF(30mL)および水(3mL)に溶解し、0℃にてDDQ
(5.96g,2.5等量)を加え、室温にて終夜撹拌した。反応液にMTBEを加え、
0.5N水酸化ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾
燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をMTBEにて洗浄し、標題化合物(褐色固体
、1.80g,46%)を得た。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.4 (1 H, s
), 8.12 (1 H, d, J = 8.6 Hz), 7.79 (1 H,
d, J = 8.9 Hz), 7.67−7.68 (2 H, m), 7.4
0 (1 H, dd, J = 1.7, 8.6 Hz), 7.26 (1 H,
dd, J = 2.6, 8.9 Hz), 3.86 (3 H, s), 1.
72 (6 H, s)、
LCMS: m/z 370 [M+H]
HPLC保持時間: 6.45分 (分析条件H)
[製造例450]
化合物JJ2
3−ブロモ−9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オン


3−ブロモ−9−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−11−オン(化合物JJ1、1.50g,4.05mmol)および塩化ピリジ
ニウム(15.2g,32.5等量)を窒素雰囲気下160℃にて12時間撹拌した。放
冷後、水および酢酸エチルを加えて得られた懸濁液をろ過し、有機層を水および飽和食塩
水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をMT
BEにて洗浄し、標題化合物(褐色固体、1.47g,100%)を得た。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.4 (1 H, s
), 9.71 (1 H, s), 8.11 (1 H, d, J = 8.2
Hz), 7.64−7.68 (2 H, m), 7.57 (1 H, d, J
= 3.0 Hz), 7.38 (1 H, dd, J = 1.7, 8.2
Hz), 7.07 (1 H, dd, J = 3.0, 8.6 Hz), 1.
69 (6 H, s)、
LCMS: m/z 356 [M+H]
HPLC保持時間: 2.52分 (分析条件F)
[製造例451]
化合物JJ3−1
3−ブロモ−9−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、3−ブロモ−9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化合物JJ2、356 mg,1.00 mmo
l)およびトリフェニルホスフィン(317 mg,1.2等量)にTHF(3 ml)
を加え、((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル)−メタノー
ル(148 μL,1.2等量)およびアゾジカルボン酸ジイソプロピル(252 μL
,1.3等量)を滴下し、50℃で2時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチルを加え
、食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ジクロロメタン)で精製し、得ら
れた固体をジクロロメタンにて洗浄し、標題化合物(白色粉末、241.6mg、51%
)を得た。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.4 (1 H,
s), 8.12 (1 H, d, J = 8.2 Hz), 7.79 (1 H
, d, J = 8.9 Hz),7.67−7.69 (2 H, m), 7.4
0 (1 H, dd, J = 1.8, 8.2 Hz), 7.28 (1 H,
dd, J = 3.0, 8.9 Hz),4.41−4.48 (1 H, m)
, 4.06−4.17 (2 H, m), 3.79−3.85 (1 H, m)
,1.72 (3 H, s), 1.38 (3 H, s), 1.33 (3 H
, s)、
LCMS: m/z 470 [M+H]
HPLC保持時間: 3.08分 (分析条件F)
[製造例452]
化合物JJ3−2
3−ブロモ−9−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−
5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−ブロモ−9−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン
(化合物JJ3−1、18.7mg,0.0398 mmol)をメタノール(1 mL
)およびTHF(0.3 mL)に溶解し、1N塩酸(5滴)を加え、50℃で1時間撹
拌した。放冷後反応液を減圧濃縮し、得られた残渣にジクロロメタンを加え、固体をろ取
し、標題化合物(黄色粉末、16.8mg、98%)を得た。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.43(1 H,
s), 8.12 (1 H, d, J = 8.6 Hz), 7.78 (1 H
, d, J = 8.9 Hz),7.67−7.70 (2 H, m), 7.4
0 (2 H, dd, J = 1.8, 8.6 Hz), 7.27 (2 H,
dd, J = 2.8, 8.9 Hz), 4.43 (2 H, brs),
4.12 (1 H, dd, J = 9.9, 4.3 Hz), 3.96 (1
H, dd, J = 9.7, 6.1 Hz), 3.85 (1 H, dd,
J = 9.9, 5.6 Hz), 3.48 (2 H, d, J = 5.6
Hz), 1.72 (6 H, s)、
LCMS: m/z 430 [M+H]
HPLC保持時間: 2.02分 (分析条件F)
[製造例453]
化合物JJ4−1
3−ブロモ−9−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−5,6,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11
−オン


3−ブロモ−9−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン
(化合物JJ3−1、33.2mg,0.0706mmol)および水素化ナトリウム(
60% in oil, 6.4mg, 2.3等量)の混合物に、窒素雰囲気下、0℃
にてDMA(0.55mL)およびヨウ化メチル(0.015mL,3.4等量)を加え
、室温にて終夜撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を食塩水
にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた固体をMTB
Eにて洗浄し、標題化合物(白色固体、31.2mg、91%)を得た。
LCMS: m/z 484 [M+H]
HPLC保持時間: 3.34分 (分析条件F)
[製造例454]
化合物JJ4−2
3−ブロモ−9−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−5,6,6−トリメ
チル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物JJ3−2の合成法と同様の条件で、化合物JJ4−1より、標題化合物(黄色固
体、13.3mg,83%)を得た。
LCMS: m/z 444 [M+H]
HPLC保持時間: 2.47分 (分析条件F)
[製造例455]
化合物JJ5
(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−9−イルオキシ)−酢酸


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物JJ2とヒドロキシ−酢酸メチルエステ
ルより(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−9−イルオキシ)−酢酸メチルエステルを得た。これをMeO
H(0.35ml)に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液(6mol/l)を加え、室温で
10分撹拌した。反応液に塩酸(3mol/l)を加え、ジエチルエーテルで抽出した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮することで白色固体を得た。この白色固体を
塩化メチレンで洗浄し、標題化合物(11.2 mg,48%)を得た。
LCMS: m/z 414 [M+H]
HPLC保持時間: 2.50分 (分析条件F)
[製造例456]
化合物JJ6
4−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−9−イルオキシ)−酪酸


3−ブロモ−9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オン(化合物JJ2、20mg、0.056mmol)、4−ブロモ−
酪酸 メチル エステル(7.0μl、 0.056mmol)、炭酸セシウム(36.
6mg、 0.112mmol)をDMA(0.09ml)溶解し、室温で1時間撹拌し
た。その後、4−ブロモ−酪酸 メチル エステル(7.0μl、 0.056mmol
)を加え、室温で3時間撹拌した後、45℃で30分撹拌した。反応液に水を加え、ジエ
チルエーテルで抽出した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧濃縮して得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、4−(3
−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]
カルバゾール−9−イルオキシ)−酪酸 メチル エステルを得た。これをMeOH(0
.50ml)に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液(6mol/l)を加え、室温で10分
撹拌した。反応液に塩酸(3mol/l)を加え、ジエチルエーテルで抽出した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮することで白色固体を得た。この白色固体を塩化メ
チレンで洗浄し、標題化合物(6.1mg,25%)を得た。
LCMS: m/z 442 [M+H]
HPLC保持時間: 2.65分 (分析条件F)
[製造例457]
化合物JJ7−1
3−ブロモ−9−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキ
シメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−6,6
−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物JJ2と[(4R,5R)−5−(te
rt−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオ
キソラン−4−イル]−メタノールより、標題化合物(白色固体、111.5mg,65
%)を得た。
LCMS: m/z 614 [M+H]
HPLC保持時間: 4.04分 (分析条件F)
[製造例458]
化合物JJ7−2
3−ブロモ−6,6−ジメチル−9−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ−
ブトキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−ブロモ−9−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキ
シメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−6,6
−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化合物JJ7
−1、13.7mg,0.0223mmol)をTHF(0.15mL)およびメタノー
ル(0.1mL)に溶解し、0.5M硫酸(0.05mL)を加え、60℃にて3時間撹
拌した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルにて抽出した。有機層
を食塩水にて洗浄した。硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた固
体をジクロロメタンにて洗浄し、標題化合物(白色固体、8.4mg、82%)を得た。
LCMS: m/z 460 [M+H]
HPLC保持時間: 2.18分 (分析条件F)
[製造例459]
化合物JJ8−1
9−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物A5−2の合成と同様の手法で、化合物JJ7−1と[(4R,5R)−5−(t
ert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジ
オキソラン−4−イル]−メタノールより、標題化合物(11.1mg,50%)を得た

LCMS: m/z 561 [M+H]
HPLC保持時間: 3.84分 (分析条件F)
[製造例460]
化合物JJ8−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−9−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ
−ブトキシ)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物JJ7−2の合成法と同様の条件で、9−[(4R,5R)−5−(tert−ブ
チル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン
−4−イルメトキシ]−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−
ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物JJ8−1)より、標題化合物
(白色固体、7.8mg,97%)を得た。
LCMS: m/z 407 [M+H]
HPLC保持時間: 1.92分 (分析条件F)
[製造例461]
化合物JJ9−1
9−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


3−ブロモ−9−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン
(化合物JJ3−1、49.5mg,0.105mmol)およびシアン化銅(90%、
35.3mg,3.4等量)にDMA(0.5mL)を加え、窒素雰囲気下、200℃に
て1時間マイクロ波照射した。放冷後、水を加え、酢酸エチルにて抽出した。不溶物をろ
別し、有機層を食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して
得られた残渣を薄層シリカゲルカラムプレート(メタノール/ジクロロメタン)で精製し
、標題化合物(白色固体、8.5mg,22%)を得た。
LCMS: m/z 377 [M+H]
HPLC保持時間: 2.02分 (分析条件F)
[製造例462]
化合物JJ9−2
9−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,
6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3−カルボニトリル


化合物JJ9−1を合成する際の副生成物として、標題化合物(白色固体、24.8mg
,57%)を得た。
LCMS: m/z 417 [M+H]
HPLC保持時間: 2.81分 (分析条件F)
[製造例463]
化合物JJ9−3
9−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−5,
6,6−トリメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−3−カルボニトリル


化合物JJ4−1の合成法と同様の条件で、9−((S)−2,2−ジメチル−[1,3
]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物JJ9−2)よ
り、標題化合物(17.0mg,84%)を得た。
LCMS: m/z 431 [M+H]
HPLC保持時間: 3.00分 (分析条件F)
[製造例464]
化合物JJ9−4
9−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−5,6,6−トリメチル−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物JJ3−2の合成法と同様の条件で、9−((S)−2,2−ジメチル−[1,3
]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−5,6,6−トリメチル−11−オキソ−6,1
1−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(JJ9−3)よ
り、標題化合物(白色固体、12.1mg,90%)を得た。
LCMS: m/z 391 [M+H]
HPLC保持時間: 2.13分 (分析条件F)
[製造例465]
化合物JJ10−1
9−ベンジルオキシ−3−ブロモ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]
カルバゾール−11−オン


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物JJ2とベンジルブロミドより、標題
化合物(18.2mg,61%)を合成した。
LCMS: m/z 446 [M+H]
HPLC保持時間: 2.68分 (分析条件D)
[製造例466]
化合物JJ10−2
5−ベンジル−9−ベンジルオキシ−3−ブロモ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ
−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物JJ10−1の合成の際の副生成物として、標題化合物(5.3mg,21%)を
得た。
LCMS: m/z 536 [M+H]
HPLC保持時間: 3.17分 (分析条件D)
[製造例467]
化合物JJ10−3
3−ブロモ−9−(4−メトキシ−ベンジルオキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒ
ドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物JJ2と(4−メトキシフェニル)−メ
タノールを反応させて、標題化合物(7.5 mg,28%)を合成した。
LCMS: m/z 476 [M+H]
HPLC保持時間: 2.70分 (分析条件D)
[製造例468]
化合物K2
2−(3−ブロモ−4−メトキシ−フェニル)−2−メチル−プロピオニトリル


カリウム tert−ブトキシド(15.35g, 3当量)のTHF懸濁溶液に(3−
ブロモ−4−メトキシフェニル)アセトニトリル(化合物K1、10g、 0.044
mmol)を加え0℃にて1時間攪拌した後、ヨードメタン(8.26ml、 3当量)
を加え、室温で1時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液と水を加え酢酸エ
チルで抽出し有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウム
で乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(無色油状物、11.24g、
100%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 7.69 (1H, d,
J = 2.5 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.6, 2.5
Hz), 7.16 (1H, d, J = 8.6 Hz), 3.86 (3H,
s), 1.67 (6H, s).
HPLC保持時間: 2.30分 (分析条件S)
[製造例469]
化合物K3
4−(3−ブロモ−4−メトキシ−フェニル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸
エチル エステル


亜鉛(5.72g、 2当量)のTHF懸濁溶液にメタンスルホン酸(25.6μl、0
.01当量)を加え80℃で10分攪拌した後、2−(3−ブロモ−4−メトキシ−フェ
ニル)−2−メチル−プロピオニトリル(10g、 39.35mmol)のTHF溶液
を加えた。そこへブロモ酢酸エチル(11.07ml、1.6当量)を1時間かけて加え
た後、更に30分攪拌した。反応液に4M塩酸を加え室温で一晩攪拌し、酢酸エチルで抽
出し有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し
た。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(橙色油状物、9.74g、72%)を
得た。
H−NMR (270MHz、CDCl) δ: 7.46 (1H, d, J
= 2.5 Hz), 7.16 (1H, dd, J = 8.6, 2.5 Hz
), 6.89 (1H, d, J = 8.6 Hz), 4.17−4.08 (
2H, m), 3.90 (3H, s), 3.26 (2H, s), 1.49
(6H, s), 1.23 (3H, t, J = 7.2 Hz).
LCMS: m/z 343、345 [M+H]
HPLC保持時間: 2.64分 (分析条件S)
[製造例470]
化合物K4
4−(3−ブロモ−4−メトキシ−フェニル)−2−(4−シアノ−2−ニトロ−フェニ
ル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸 エチル エステル


4−(3−ブロモ−4−メトキシ−フェニル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸
エチル エステル(化合物K3、10.3g、30.01mmol)をDMF(80mL
)に溶解し、炭酸セシウム(24.4g、2.5等量)、4−クロロ−3−ニトロ−ベン
ゾニトリル(7.12g、1.3等量)を加え、45℃で4時間攪拌した。反応液を1N
塩酸水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮により、粗生成物として標題化合物(黄色油状物
)を得た。
LCMS: m/z 489、491 [M+H]
HPLC保持時間: 2.85、3.20分 (分析条件S)
[製造例471]
化合物K5
2−[1−(3−ブロモ−4−メトキシ−フェニル)−1−メチル−エチル]−6−シア
ノ−1H−インドール−3−カルボン酸 エチル エステル


上記で合成した4−(3−ブロモ−4−メトキシ−フェニル)−2−(4−シアノ−2−
ニトロ−フェニル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸 エチル エステル(化合物
K4)をTHF(140mL)と水(70mL)に溶解し、Na2S2O4(26.13
g、5.0等量)を加え、50℃で一昼夜攪拌した。反応液を飽和食塩水に注ぎ、酢酸エ
チルで抽出し、有機層を1M炭酸カリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナト
リウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をMeCN(80mL)
での晶析により精製し、標題化合物(黄色固体、8.20g、62%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 12.15 (1H, s)
, 8.07 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.94 (1H, s)
, 7.51 (1H, dd, J = 8.5, 1.2 Hz), 7.33 (
1H, d, J = 2.1 Hz), 7.03 (1H, dd, J = 8.
7, 2.4 Hz), 6.96 (1H, d, J = 8.4 Hz), 3.
97 (2H, q, J = 7.3 Hz), 3.78 (3H, s), 1.
80 (6H, s), 1.09 (3H, t, J = 7.2 Hz).
LCMS: m/z 441、443 [M+H]
HPLC保持時間: 2.85分 (分析条件S)
[製造例472]
化合物K6
8−ブロモ−9−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


五酸化リン―メタンスルホン酸(12mL)に、2−[1−(3−ブロモ−4−メトキシ
−フェニル)−1−メチル−エチル]−6−シアノ−1H−インドール−3−カルボン酸
エチル エステル(化合物K5、1.0g、2.27mmol)を加え、室温で20分
間攪拌した。反応液をMeCN(20mL)で希釈した後に、反応液を水(20mL)に
注ぎ、析出した固体を濾取し、標題化合物(黄色固体、763mg、85%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 12.84 (1H, s)
, 8.32 (1H, d, J = 8.1 Hz), 8.15 (1H, s)
, 8.03 (1H, s), 7.77 (1H, s), 7.64 (1H,
dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 3.97 (3H, s), 1.75
(6H, s).
LCMS: m/z 395、397 [M+H]
HPLC保持時間: 2.58分 (分析条件S)
[製造例473]
化合物K7−1
9−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピ
ペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物K6と4−ピロリジン−1−イル−ピペ
リジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 469 [M+H]
HPLC保持時間: 1.37分 (分析条件S)
[製造例474]
化合物K7−2
9−メトキシ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−
イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物K6と4−ピペリジン−4−イル−モル
ホリンより、標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−D) δ: 12.70 (1H, s)
, 8.31 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.99 (1H, s)
, 7.63 (1H, s), 7.60 (1H, dd, J = 8.2, 1
.2 Hz), 7.16 (1H, s), 3.89 (3H, s), 3.64
(2H, brd), 2.72 (2H, brd), 1.91 (2H, br
d), 1.73 (6H, s), 1.57 (2H, brd).
LCMS: m/z 485 [M+H]
HPLC保持時間: 1.33分 (分析条件S)
[製造例475]
化合物K7−3
9−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物K6とピペラジンより、標的化合物を合
成した。
LCMS: m/z 401 [M+H]
HPLC保持時間: 1.31分 (分析条件S)
[製造例476]
化合物K7−4
9−メトキシ−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物K6とモルホリンより、標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 402 [M+H]
HPLC保持時間: 2.10分 (分析条件S)
[製造例477]
化合物K8
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−メトキシ−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B3−32と同様の条件で、化合物K7−3とシクロブタノンより、標題化合物を
合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.70 (1H, br
.s), 8.31 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.00 (1H,
s), 7.64 (1H, s), 7.61 (1H, dd, J = 8.1
, 1.3 Hz), 7.16 (1H, s), 3.88 (3H, s), 3
.60 (1H, t, J = 6.2 Hz), 3.10−3.25 (4H,
m), 2.77 (1H, t, J = 7.1 Hz), 2.35−2.51
(4H, m), 1.74(6H, s), 1.58−2.08(6H, m).
LCMS: m/z 455 [M+H]
HPLC保持時間: 1.45分 (分析条件S)
[製造例478]
化合物K9−1
9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−
ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−
カルボニトリル


化合物K7−1を合成する際の副生成物として標題化合物を得た。
LCMS: m/z 455 [M+H]
HPLC保持時間: 1.22分 (分析条件S)
[製造例479]
化合物K9−2
9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1
−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−
カルボニトリル


化合物E3−2の合成法と同様の条件で、化合物K7−2より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.65 (1H, s)
, 9.61 (1H, s), 8.30 (1H, d, J = 8.2 Hz)
, 7.98 (1H, s), 7.59−7.56 (2H, m), 7.10
(1H, s), 3.71 (2H, brd, J = 11.2 Hz), 3.
60 (4H, m), 2.66 (2H, m), 1.88 (2H, brd,
J = 9.7 Hz), 1.71 (6H, s), 1.57 (2H, br
d).
LCMS: m/z 471 [M+H]
HPLC保持時間: 1.20分 (分析条件S)
[製造例480]
化合物K9−3
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物E3−2と同様の条件で、化合物K8より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.66 (1H, br
.s), 9.67 (1H, s), 8.31 (1H, d, J = 8.2
Hz), 7.98 (1H, s), 7.56−7.60 (2H, m), 7.
09 (1H, s), 3.10−3.24 (4H, m), 2.77 (1H,
t, J = 7.5 Hz), 2.37−2.49 (4H, m), 1.52
−2.07 (6H, m), 1.72 (6H, s).
LCMS: m/z 441 [M+H]
HPLC保持時間: 1.31分 (分析条件S)
[製造例481]
化合物K9−4
9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,1
1−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E3−2の合成法と同様の条件で、化合物K7−4より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 388 [M+H]
HPLC保持時間: 1.67分 (分析条件S)
[製造例482]
化合物K10−1
9−イソプロポキシ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン
−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物K9−2と2−ブロモプロパンより、
標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.68 (1H, s)
, 8.30 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.99 (1H, s)
, 7.60 (2H, m), 7.14 (1H, s), 4.72−4.63
(2H, m), 3.71 (2H, brd, J = 10.7 Hz), 3.
59 (6H, m), 2.68 (2H, t, J = 12.9 Hz), 2
.27 (2H, brd), 1.90 (2H, brd), 1.73 (6H,
s), 1.56 (2H, br), 1.34 (6H, d, J = 5.9
Hz).
LCMS: m/z 513 [M+H]
HPLC保持時間: 1.48分 (分析条件S)
[製造例483]
化合物K10−2
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−イソプロポキシ−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物A7−17と同様の条件で、化合物K9−3と2−ヨードプロパンより、標題化合
物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 8.29 (1H, d,
J = 8.1 Hz), 7.98 (1H, s), 7.56−7.63 (2H
, m), 7.14 (1H, s), 4.62−4.74 (1H, m), 3
.10−3.26 (4H, m), 2.69−2.85 (1H, m), 2.3
5−2.48 (4H, m), 1.57−2.08 (6H, m), 1.73
(6H, s), 1.32 (6H, d, J = 6.1 Hz).
LCMS: m/z 483 [M+H]
HPLC保持時間: 1.65分 (分析条件S)
[製造例484]
化合物K10−3
9−(2−メトキシ−エトキシ)−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物K9−4と1−ブロモ−2−メトキシ
エタンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 12.67 (1 H,
s), 8.30 (1 H, d, 7.9 Hz), 7.98 (1 H, s)
,7.64 (1, s), 7.58 (1 H, d, 7.9 Hz), 7.1
6 (1 H, s), 4.18−4.22 (2 H, m), 3.72−3.8
0 (6 H, m), 3.35 (3 H, s), 3.18−3.24 (4
H, s), 1.74 (1 H, s)
LCMS: m/z 446 [M+H]
HPLC保持時間: 3.23分 (分析条件W)
[製造例485]
化合物K10−4
9−[2−(2−メトキシ−エトキシ)−エトキシ]−6,6−ジメチル−8−モルホリ
ン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物K9−4と1−ブロモ−2−(2−メ
トキシエトキシ)エタンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 490 [M+H]
HPLC保持時間: 3.16分 (分析条件W)
[製造例486]
化合物K10−5
6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−9−[(S)−(テトラ
ヒドロ−フラン−3−イル)オキシ]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物K9−4と3−メシルオキシテトラヒ
ドロフランより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 458 [M+H]
HPLC保持時間: 3.20分 (分析条件W)
[製造例487]
化合物K10−6
9-−イソプロポキシ−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物K9−4と2−ブロモプロパンより、
標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.70 (1 H,
br.s), 8.32−8.29 (1 H, d, 8.08 Hz), 8.0
0 (1 H, s), 7.63 (1 H, s), 7.62−7.59 (1
H, d, 8.08 Hz), 7.16 (1 H, s), 4.75−4.66
(1 H, m), 3.77 (4 H, m) 3.19 (4 H, m),
1.74 (6 H, s), 1.35 (3 H, s), 1.33 (3 H,
s)
LCMS: m/z 430 [M+H]
[製造例488]
化合物K10−7
9−(2−ヒドロキシ−エトキシ)−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ



化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物K9−4と2−ブロモエタノールより
、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 12.71 (1 H,
br.s), 8.33−8.30 (1 H, d, 8.08 Hz), 8.0
0 (1 H, s), 7.63 (1 H, s), 7.62−7.59 (1
H, d, 8.08 Hz), 7.16 (1 H, s), 4.13−4.09
(2 H, t, 4.61 Hz), 3.81−3.78 (2 H, t, 4
.61 Hz), 3.78 (4 H, m) 3.23 (4 H, m), 1.
75 (6 H, s)
LCMS: m/z 432 [M+H]
[製造例489]
化合物L2−1
(4−イソプロポキシ−3−メトキシ−フェニル)−酢酸 エチル エステル


(4−ヒドロキシ−3−メトキシ−フェニル)−酢酸エチルエステル(化合物L1−1、
3.0g、14.27mmol)をDMF(70mL)に溶解し、2−ヨードプロパン(
2.9mL、2.0等量)、炭酸カリウム(3.94g、2.0等量)を加え、80℃で
一昼夜攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し
、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、目的物(黄色油状物、2
.61g、73%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 6.88 (2H, m),
6.74 (1H, dd, J = 8.1, 2.1 Hz), 4.52−4.
43 (1H, m), 4.07 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.
72 (3H, s), 3.56 (2H, s), 1.23 (6H, d, J
= 6.1 Hz), 1.18 (3H, t, J = 7.1 Hz).
LCMS: m/z 253 [M+H]
HPLC保持時間: 2.18分 (分析条件S)
[製造例490]
化合物L2−2
(4−イソプロポキシ−3−メトキシ−フェニル)−酢酸 イソプロピル エステル


(4−ヒドロキシ−3−メトキシ−フェニル)−酢酸(化合物L1−2、1.5g、8.
23mmol)をDMF(30mL)に溶解し、2−ヨードプロパン(3.3mL、4.
0等量)、炭酸カリウム(4.55g、4.0等量)を加え、80℃で一昼夜攪拌した。
反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、目的物(黄色油状物、1.21g、55%
)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 6.87 (2H, s+d
), 6.73 (1H, dd, J = 8.1, 2.1 Hz), 4.94−
4.84 (1H, m), 4.52−4.43 (1H, m), 3.72 (3
H, s), 3.52 (2H, s), 1.23 (6H, d, J = 6.
1 Hz), 1.18 (6H, d, J = 6.1 Hz).
LCMS: m/z 267 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件S)
[製造例491]
化合物L3−1
2−(4−イソプロポキシ−3−メトキシ−フェニル)−2−メチル−プロピオン酸 エ
チル エステル


化合物K2の合成法と同様の条件で、化合物L2−1より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 6.90−6.76 (3H
, m), 4.53−4.44 (1H, m), 4.06 (2H, q, J
= 7.1 Hz), 3.73 (3H, s), 1.47 (6H, s), 1
.23 (6H, d, J = 6.1 Hz), 1.12 (3H, t, J
= 7.0 Hz).
LCMS: m/z 281 [M+H]
HPLC保持時間: 2.57分 (分析条件S)
[製造例492]
化合物L3−2
2−(4−イソプロポキシ−3−メトキシ−フェニル)−2−メチル−プロピオン酸 イ
ソプロピル エステル


化合物K2の合成法と同様の条件で、化合物L2−2より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 6.88 (1H, d,
J = 8.2 Hz), 6.79 (2H, m), 4.94−4.84 (1H
, m), 4.53−4.44 (1H, m), 3.72 (3H, s), 1
.45 (6H, s), 1.23 (6H, d, J = 6.1 Hz), 1
.12 (6H, d, J = 6.3 Hz).
LCMS: m/z 295 [M+H]
HPLC保持時間: 2.75分 (分析条件S)
[製造例493]
化合物L4
2−(4−イソプロポキシ−3−メトキシ−フェニル)−2−メチル−プロピオン酸


2−(4−イソプロポキシ−3−メトキシ−フェニル)−2−メチル−プロピオン酸 エ
チル エステル(化合物L3−1、1.45g、5.17mmol)をTHF(13mL
)、EtOH(13mL)に溶解し、1N水酸化ナトリウム水溶液(10.3mL、2.
0等量)を加え、80℃で一昼夜攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。
水層を1N塩酸水溶液で酸性にした後、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、目的物(白色固体、1.10g
、84%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.26 (1H, s)
, 6.90−6.80 (3H, m), 4.49 (1H, m), 3.73
(3H, s), 1.45 (6H, s), 1.23 (6H, d, J =
6.1 Hz).
LCMS: m/z 253 [M+H]
HPLC保持時間: 1.83分 (分析条件S)
[製造例494]
化合物L5
4−(4−イソプロポキシ−3−メトキシ−フェニル)−4−メチル−3−オキソ−ペン
タン酸 エチル エステル


2−(4−イソプロポキシ−3−メトキシ−フェニル)−2−メチル−プロピオン酸(化
合物L4、1.4g、5.55mmol)に、塩化チオニル(10mL)を加え、室温で
5時間攪拌した。減圧濃縮により、未反応の塩化チオニルを留去して、対応する酸塩化物
を得た。
MeCN(40mL)にマロン酸モノエチルエステル カリウム塩(1.98g、2.1
等量)、トリエチルアミン(2.47mL、3.2等量)、塩化マグネシウム(1.32
g、2.5等量)を加え、室温で2時間撹拌した。この反応液に、上記で合成した酸塩化
物のMeCN(15mL)溶液を滴下し、滴下終了後室温で一昼夜撹拌した。減圧濃縮に
より、MeCNを留去した後に、残渣に1N塩酸水溶液を加え、トルエンで抽出し、飽和
食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、目的物(
黄色油状物、1.45g、81%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 6.94 (1H, d,
J = 8.2 Hz), 6.76 (2H, m), 4.56−4.47 (1H
, m), 4.00 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.74 (3H
, s), 3.38 (2H, s), 1.41 (6H, s), 1.24 (
6H, d, J = 6.1 Hz), 1.12 (3H, t, J = 7.3
Hz).
LCMS: m/z 323 [M+H]
HPLC保持時間: 2.45、3.03分 (分析条件S)
[製造例495]
化合物L6
2−(4−シアノ−2−ニトロ−フェニル)−4−(4−イソプロポキシ−3−メトキシ
−フェニル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸 エチル エステル


化合物K4の合成法と同様の条件で、化合物L5より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 8.35 (1H, d,
J = 1.8 Hz), 8.14 (1H, dd, J = 8.2, 1.9
Hz), 7.67 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.68 (1H,
d, J = 8.4 Hz), 6.59 (1H, dd, J = 8.4,
2.0 Hz), 6.45 (1H, d, J = 2.1 Hz), 5.44
(1H, s), 4.43 (1H, m), 4.09 (2H, q, J =
7.1 Hz), 3.53 (3H, s), 1.59 (3H, s), 1.3
5 (3H, s), 1.24 (6H, dx2), 1.13 (3 H, t,
J = 7.1 Hz).
LCMS: m/z 469 [M+H]
HPLC保持時間: 2.85、3.10分 (分析条件S)
[製造例496]
化合物L7
6−シアノ−2−[1−(4−イソプロポキシ−3−メトキシ−フェニル)−1−メチル
−エチル]−1H−インドール−3−カルボン酸 エチル エステル


化合物K5の合成法と同様の条件で、化合物L6より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.04 (1H, s)
, 8.05 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.93 (1H, s)
, 7.49 (1H, dd, J = 8.4, 1.5 Hz), 6.79 (
2H, m), 6.54 (1H, dd, J = 8.3, 1.9 Hz),
4.43 (1H, t, J = 6.1 Hz), 3.94 (2H, q, J
= 7.0 Hz), 3.65 (3H, s), 1.81 (6H, s),
1.21 (6H, d, J = 5.9 Hz), 1.05 (3H, t, J
= 7.1 Hz).
LCMS: m/z 421 [M+H]
HPLC保持時間: 2.82分 (分析条件S)
[製造例497]
化合物L8−1
9−ヒドロキシ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


6−シアノ−2−[1−(4−イソプロポキシ−3−メトキシ−フェニル)−1−メチル
−エチル]−1H−インドール−3−カルボン酸 エチル エステル(化合物L7、1.
25g、2.97mmol)をMeCN(18mL)に溶解し、メタンスルホン酸(3.
75mL)を加え、50℃で8時間攪拌した。反応液にヘキサンを加え、析出した固体を
濾取し、標題化合物(黄色固体、185mg、19%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.67 (1H, s)
, 8.30 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.99 (1H, s)
, 7.59 (2H, m), 7.28 (1H, s), 3.93 (3H,
s), 1.75 (6H, s).
LCMS: m/z 333 [M+H]
HPLC保持時間: 1.73分 (分析条件S)
[製造例498]
化合物L8−2
9−イソプロポキシ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒ
ドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物L8−1の合成の際の濾液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄し
、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して、標題化合物(赤色アモル
ファス、830mg、75%)を得た。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.72 (1H, s)
, 8.31 (1H, d, J = 8.4 Hz), 8.01 (1H, d,
J = 0.7 Hz), 7.66 (1H, s), 7.61 (1H, dd
, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.33 (1H, s), 4.65 (
1H, m), 3.93 (3H, s), 1.77 (6H, s), 1.32
(6H, d, J = 6.1 Hz).
LCMS: m/z 375 [M+H]
HPLC保持時間: 2.38分 (分析条件S)
[製造例499]
化合物L9
8−ヒドロキシ−9−イソプロポキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E3−2の合成法と同様の条件で、化合物L8−2より標題化合物を合成した。
H−NMR (270MHz、DMSO−d) δ: 12.69 (1H, s)
, 9.69 (1H, s), 8.30 (1H, d, J = 8.1 Hz)
, 7.99 (1H, s), 7.65 (1H, s), 7.60 (1H,
dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 7.17 (1H, s), 4.64
(1H,m), 1.69 (6H, s), 1.32 (6H, d, J =
6.1 Hz).
LCMS: m/z 361 [M+H]
HPLC保持時間: 2.20分 (分析条件S)
[製造例500]
化合物L10−1
8−(1−シクロブチル−ピペリジン−4−イルオキシ)−9−イソプロポキシ−6,6
−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物L9と1−シクロブチルピペリジン−4
−オールより、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, CDCl3) δ: 9.31 (1 H, br
.s), 8.54−8.50 (1 H, d, 8.08 Hz), 7.90
(1 H, s), 7.77 (1 H, s), 7.59−7.55 (1 H,
m), 7.09 (1 H, s), 4.70−4.61 (1 H, m),
4.52−4.43 (1 H, m), 2.79−2.73 (1 H, m),
2.70−2.60 (2 H, m), 2.25−2.16 (2 H, m),
2.09−1.99 (4 H, m), 1.98−1.88 (4 H, m),
1.77 (6 H, s), 1.72−1.58 (2 H, m), 1.39
(3 H, s), 1.37 (3 H, s)
LCMS: m/z 498 [M+H]
[製造例501]
化合物L10−2
8−((R)−1−シクロブチル−ピロリジン−3−イルオキシ)−9−イソプロポキシ
−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物L9と(S)−1−シクロブチルピロリ
ジン−3−オールより、標題化合物を合成した。
H−NMR(270 MHz, CDCl3) δ: 10.63 (1 H, br
.s), 8.51−8.48 (1 H, d, 8.08 Hz), 7.89
(1 H, s), 7.85 (1 H, s), 7.55−7.51 (1 H,
m), 6.99 (1 H, s), 5.03−4.97 (1 H, m),
4.71−4.62 (1 H, m), 3.07−292 (2 H, m), 2
.84−2.73 (2 H, m), 2.64−2.53 (1 H, m),
2.36−2.23 (2 H, m), 2.10−1.97 (2 H, m),
1.83−1.67 (2 H, m), 1.78 (6 H, s), 1.53−
1.46 (2 H, m),1.39 (3 H, s), 1.37 (3 H,
s)
LCMS: m/z 484 [M+H]
[製造例502]
化合物M1
7−メトキシ−3,4−ジヒドロ−2H−スピロ[シクロペンタン−1,1’−ナフタレ
ン]−2−オン


7−メトキシ−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物A1、0.5g
、2.84mmol)のTHF(300ml)溶液に0℃にて水素化ナトリウム(36.
4mg、2.2当量)を加え20分攪拌した後、1,4−ジブロモブタン(0.74ml
、1.2当量)を滴下し80℃にて4時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶
液を加え、酢酸エチルで抽出し有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄し硫酸マグネ
シウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(黄色固体、0.31g
、47%)を得た。
H−NMR(CDCl3, 300MHz) δ: 1.79−1.92(6H,m)
, 2.42−2.27(m, 2H), 3.03(t, 2H, J = 6.5H
z), 3.81(t, 2H, J = 6.5Hz), 3.81(s, 3H),
6.73(dd, 1H, J = 2.7Hz, 8.0Hz), 6.83(d,
1H, J =2.7Hz), 7.09(d, 1H, J =8.0Hz)
LCMS:m/z 231[M+H]
[製造例503]
化合物M2
3−ブロモ−8−メトキシ−5,11−ジヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6
,1’−シクロペンタン]


化合物A3−1の合成法と同様の条件で、化合物M1と(3−ブロモ−フェニル)−ヒド
ラジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 380,382 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.90分 (分析条件Y)
[製造例504]
化合物M3
3−ブロモ−8−メトキシスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,1’−シクロペンタ
ン]−11(5H)−オン


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物M2より、標題化合物を合成した。
H−NMR (CDCl3, 300MHz) δ: 2.11−2.51(8H,
m), 3.91(s, 3H), 6.98(dd, 1H, J=2.3Hz,
8.8 Hz), 7.01(d, 1H, J =2.3Hz), 7.41(dd,
1H, J =1.5 Hz, 8.4Hz), 7.57(d, 1H, J =1
.5Hz), 8.30(d, 1H, J =8.4Hz), 8.35(d, 1H
, J =8.8Hz), 8.69(s, 1H)
LCMS: m/z 396、398 [M+H]
[製造例505]
化合物M4
8−メトキシ−11−オキソ−5,11−ジヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−
6,1’−シクロペンタン]−3−カルボニトリル


化合物A5−2の合成法と同様の条件で、化合物M3より標題化合物を合成した。
H−NMR (DMSO−d, 300MHz) δ: 2.14−2.37(m
, 8H), 3.90(s, 3H), 7.05−7.10(m, 2H), 7.
60(dd, 1H, J =1.5Hz, 8.4Hz), 7.95(s, 1H)
, 8.13(d, 1H, J =9.5Hz), 8.30(d, 1H, J =
8.4Hz), 12.24(s, 1H)
LCMS:m/z 343 [M+H]
[製造例506]
化合物M5
8−ヒドロキシ−11−オキソ−5,11−ジヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール
−6,1’−シクロペンタン]−3−カルボニトリル


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物M4より標題化合物を合成した。
H−NMR (DMSO−d, 300MHz) δ: 2.06−2.39(m,
8H), 6.87(dd, 1H, J =1.9Hz, 8.8Hz), 6.9
0(d, 1H, J =1.9Hz), 7.57(dd, 1H, J =1.1H
z, 8.0Hz), 7.95(s, 1H), 8.02(d, 1H, J =8
.8Hz), 8.30(d, 1H, J =8.0Hz), 10.29(s, 1
H), 12.25(s, 1H)
LCMS:m/z 329 [M+H]
[製造例507]
化合物M6−1
(S)−8−((2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)メトキシ)−1
1−オキソ−5,11−ジヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,1’−シクロ
ペンタン]−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物M5とトルエン−4−スルホン酸 (
R)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメチル エステルより、標
題化合物を粗生成物として得た。
[製造例508]
化合物M6−2
(R)−8−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)−11−オキソ−5,11−ジヒドロ
スピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,1’−シクロペンタン]−3−カルボニトリル


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物M6−1より、標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 403 [M+H]
HPLC保持時間: 2.88分 (分析条件U)
[製造例509]
化合物N1
7−メトキシ−2’,3,3’,4,5’,6’−ヘキサヒドロ−2H−スピロ[ナフタ
レン−1,4’−ピラン]−2−オン


7−メトキシ−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物A1、20g、
0.11mol)のTHF(300ml)溶液に0℃にて水素化ナトリウム(9.9g、
3.7当量)を加え10分攪拌した後、1−ブロモ−2−(2−ブロモ−エトキシ)−エ
タン(19ml、12当量)を滴下し80℃にて3時間攪拌した。反応液に飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出し有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。
乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(白色固体、13g、51%)を得た。
H−NMR (300MHz, CDCl3) δ: 2.07(4H,m), 2.
70(t, 2H, 6.8Hz), 3.12(t, 2H, 6.8Hz), 3.
81(s, 3H), 3.89(m, 4H), 6.75(dd, 1H, 2.
6Hz, 8.3Hz), 6.9(d, 1H, 2.6Hz), 7.0(d, 1
H, 8.3Hz)
LCMS:m/z 247[M+H]
[製造例510]
化合物N2−1、化合物N2−2
3−ブロモ−8−メトキシ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[
ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]
1−ブロモ−8−メトキシ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[
ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]


化合物A3−1の合成法と同様の条件で、化合物N1より標題化合物を混合物として得た

[製造例511]
化合物N3
3−ブロモ−8−メトキシ−2’,3’,5’,6’−テトラヒドロスピロ[ベンゾ[b
]カルバゾール−6,4’−ピラン]−11(5H)−オン


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物N2−1より標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.9(2H, m),
2.4(m, 2H), 3.9(s, 3H), 4.0(m, 2H), 4.2
(m, 2H), 7.1(dd, 1H, 2.2Hz, 8.7Hz), 7.3(
m, 2H), 7.8(d, 1H, 2.2Hz), 8.1(d, 2H, 8.
7Hz), 11.8(s, 1H)
LCMS:m/z 413 (M+1)+
[製造例512]
化合物N4
8−メトキシ−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ
[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニリル


化合物A5−2の合成法と同様の条件で、化合物N3より標題化合物を合成した。
1H−NMR(300MHz, DMSO−d) δ: 1.9(m, 2H),
2.4(m, 2H), 3.9(s, 3H), 4.0(m, 2H), 4.1(
m, 2H), 7.1(dd, 1H, 2.2Hz, 8.7Hz), 7.4(d
, 1H, 2.2Hz), 7.6(dd, 1H, 1.5Hz, 8.3Hz),
8.0(s, 1H), 8.1(d, 1H, 8.7Hz), 8.3(d, 1
H, 8.3Hz), 12.2(s, 1H)
LCMS: m/z 359 [M+H]
HPLC保持時間: 2.80分 (分析条件U)
[製造例513]
化合物N5
8−ヒドロキシ−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピ
ロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物N4より標題化合物を合成した。
1H−NMR(300MHz, DMSO−d) δ ppm 2.0(m, 2H
), 2.3(m,. 2H), 4.0(m, 2H), 4.1(m, 2H),
6.9(dd, 1H, 1.9Hz, 8.3Hz), 7.3(d, 1H, 1.
9Hz), 7.6(dd, 1H, 1.5Hz, 8.3Hz), 8.0(s,
1H), 8.1(d, 1H, 8.3Hz), 8.3(d, 1H, 8.3Hz
), 10.3(s, 1H), 12.2(s, 1H)
LCMS: m/z 345 [M+H]
HPLC保持時間: 2.37分 (分析条件U)
[製造例514]
化合物N6−1−1
(S)−8−((2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)メトキシ)−1
1−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カ
ルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物A7−1と同様の条件で、化合物N6−2と(S)−2,2−ジメチル−4−p−
トリルオキシメチル−[1,3]ジオキソランより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 459 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.93分 (分析条件Y)
[製造例515]
化合物N6−1−2
(R)−8−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)−11−オキソ−2’,3’,5,5
’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]
−3−カルボニトリル


化合物A7−14−2と同様の条件で、化合物N6−1−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 419 [M+H]
HPLC保持時間: 1.52分 (分析条件S)
[製造例516]
化合物N6−2
11−オキソ−8−(ピペリジン−4−イルオキシ)−2’,3’,5,5’,6’,1
1−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボ
ニトリル


化合物A7−1、A8−1と同様の条件で、化合物N5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 428 [M+H]
HPLC保持時間: 1.38分 (分析条件S)
[製造例517]
化合物N6−3
8−(3−モルホリノエトキシ)−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11−
ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニト
リル


化合物A8−17と同様の条件で、化合物N5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 458 [M+H]
HPLC保持時間: 1.33分 (分析条件S)
[製造例518]
化合物N6−4
8−(3−モルホリノプロポキシ)−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11
−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニ
トリル


化合物A8−17と同様の条件で、化合物N5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 472 [M+H]
HPLC保持時間: 1.41分 (分析条件S)
[製造例519]
化合物N6−5
3−シアノ−8−[2−(1,1−ジオキソ−チオモルホリン−4−イル)−エトキシ]
−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−9−スルホン酸 ジメチルアミド


化合物A8−17と同様の条件で、化合物N5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 506 [M+H]
HPLC保持時間: 1.53分 (分析条件S)
[製造例520]
化合物N6−6
8−(1−エチルピペリジン−4−イルオキシ)−11−オキソ−2’,3’,5,5’
,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−
3−カルボニトリル


化合物A7−1と同様の条件で、化合物N6−2より標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.02 (3H, t,
7.25Hz), 1.18 (2H, m), 1.71 (2H, m), 1.
97 (4H, m), 2.27 (2H, m), 2.38 (3H, m),
2.71 (2H, m), 4.03 (2H, m), 4.21 (2H, m)
, 4.66 (1H, s), 7.13 (1H, dd, 8.77Hz, 1.
91Hz), 7.39 (1H, bs, 1.91Hz), 7.60 (1H,
d, 8.40Hz), 8.07 (1H, s), 8.15 (1H, d, 8
.40Hz), 8.37 (1H, d, 8.01Hz), 12.2 (1H,
s).
LCMS: m/z 456 [M+H]
HPLC保持時間: 1.48分 (分析条件S)
[製造例521]
化合物N7
トリフルオロメタンスルホン酸 3−シアノ−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6
’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−8−
イル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物N5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 477 [M+H]
HPLC保持時間: 3.58分 (分析条件Y)
[製造例522]
化合物N8−1
11−オキソ−8−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)−2’,3
’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’
−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物N7と4−ピロリジン−1−イル−ピペ
リジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 481 [M+H]
HPLC保持時間: 1.75分 (分析条件U)
[製造例523]
化合物N8−2
8−(4−モルホリノピペリジン−1−イル)−11−オキソ−2’,3’,5,5’,
6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3
−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物N7と4−ピペリジン−4−イル−モル
ホリンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 497 [M+H]
HPLC保持時間: 1.70分 (分析条件U)
[製造例524]
化合物O1
6−ブロモ−7−メトキシ−2’,3,3’,4,5’,6’−ヘキサヒドロ−2H−ス
ピロ[ナフタレン−1,4’−ピラン]−2−オン


化合物E1の合成法と同様の条件で、化合物N1より、標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 2.01 (4H, m)
, 2.66 (2H, t, 6.87Hz), 3.08 (2H, t, 6.8
7Hz), 3.62 (2H, m), 3.78 (2H, m), 3.87 (
3H, s), 7.00 (1H, s), 7.43 (1H, s)
[製造例525]
化合物O2
9−ブロモ−8−メトキシ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[
ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物E2−1の合成法と同様の条件で、化合物O1より標題化合物を粗生成物として得
た。
[製造例526]
化合物O3
9−ブロモ−8−メトキシ−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサ
ヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物O2より標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.95 (2H, d,
14.87Hz), 2.55 (2H, m), 4.04 (2H, m), 4
.09 (3H, s), 4.22 (2H, m), 7.51 (1H, s),
7.63 (1H, dd, 8.01Hz, 1.53Hz), 8.09 (1H
, s), 8.30 (1H, s), 8.36 (1H, d, 8.01Hz)
, 12.3 (1H, s).
LCMS: m/z 437、439 [M+H]
HPLC保持時間: 2.65分 (分析条件U)
[製造例527]
化合物O4
9−フルオロ−8−メトキシ−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキ
サヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物O5−3の合成法と同様の条件で、化合物O3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 377 [M+H]
HPLC保持時間: 2.29分 (分析条件S)
[製造例528]
化合物O5−1
9−フルオロ−8−ヒドロキシ−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘ
キサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリ



化合物E3−2と同様の条件で、化合物O4より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 363 [M+H]
HPLC保持時間: 1.88分 (分析条件S)
[製造例529]
化合物O5−2
トリフルオロメタンスルホン酸 3−シアノ−9−フルオロ−11−オキソ−2’,3’
,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−
ピラン]−8−イル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物O5−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 495 [M+H]
HPLC保持時間: 3.47分 (分析条件Y)
[製造例530]
化合物O5−3
9−フルオロ−11−オキソ−8−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イ
ル)−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾ
ール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


9−ブロモ−6−テトラヒドロピラン−8−ピロリジノピペリジン−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物O8−
1、90mg、0.161mmol)のTHF(0.9ml)溶液に−78℃にてn−ブ
チルリチウムTHF溶液(2M−溶液、0.241ml、3当量)を加え30分攪拌した
後、N−フルオロベンゼン スルホンイミド(152mg、3当量)のTHF(1ml)
溶液を滴下し、室温に昇温して18時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出
し有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾
去後、減圧濃縮して得られた残渣を高速液体クロマトグラフィーで精製し、目的物(白色
固体、0.44mg、0.5%)を得た。
H−NMR(CDCl3+CD3OD, 300MHz) δ: 1.75−1.94
(m, 11H), 2.02−2.01(m, 2H), 2.30−2.27(m,
1H), 2.75−2.72(m,2H), 2.90−3.00(m,2H),
3.61−3.47(m,4H), 4.01−3.90(m,4H), 7.08(d
d, 1H, J = 1,2Hz, 8.4Hz), 7.29(dd, 1H, J
= 1,5Hz, 8.1Hz), 7.68(d, 1H, J = 12.9Hz
), 7.72(s, 1H), 8.22(d, 1H, J =8.4Hz)
LCMS: m/z 499 [M+H]+
HPLC保持時間: 1.95分 (分析条件U)
[製造例531]
化合物O5−4
8−(4−シクロブチルピペラジン−1−イル)−9−フルオロ−11−オキソ−2’,
3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4
’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物O5−2と1−シクロブチルピペラジン
より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 485 [M+H]+
HPLC保持時間: 1.97分 (分析条件U)
[製造例532]
化合物O6−1
9−ブロモ−8−ヒドロキシ−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキ
サヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物O3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 423、425[M+H]
HPLC保持時間: 2.30分 (分析条件U)
[製造例533]
化合物O6−2
トリフルオロメタンスルホン酸 9−ブロモ−3−シアノ−11−オキソ−2’,3’,
5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピ
ラン]−8−イル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物O6−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 555、557 [M+H]
HPLC保持時間: 3.13分 (分析条件U)
[製造例534]
化合物O7−1
9−ブロモ−11−オキソ−8−(ピペラジン−1−イル)−2’,3’,5,5’,6
’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−
カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物O6−2とピペラジンより、標題化合物
を合成した。
LCMS: m/z 491、493 [M+H]
HPLC保持時間: 1.88分 (分析条件U)
[製造例535]
化合物O7−2
4−(9−ブロモ−3−シアノ−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘ
キサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−8−イル)ピペラ
ジン−1−カルボン酸 tert−ブチル


9−ブロモ−11−オキソ−8−(ピペラジン−1−イル)−2’,3’,5,5’,6
’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−
カルボニトリル(化合物O7−1、250mg、0.509mmol)と炭酸 モノ−t
ert−ブチル エステル無水物(122mg、0.560mmol)のジクロロメタン
溶液(5mL)にトリエチルアミン(0.21mL、1.53mmol)を0℃で加え、
室温で1時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(メタノール/ジクロロメタン)で精製し、白色固体の目的物(212mg、70
%)を得た。
1H−NMR(300MHz, DMSO−d) d ppm: 1.44 (9H,
s), 1.97 (2H, m), 2.44 (2H,m), 1.35 (4H
, m), 3.54 (4H, m), 4.06 (2H, m), 4.18 (
2H, m), 7.57 (1H, s), 7.63 (1H, dd, 8.01
Hz, 1.52Hz), 8.08 (1H, d, 1.52Hz), 8.31
(1H, s), 8.36 (1H, d, 8.01Hz), 12.3 (1H,
s)
LCMS: m/z 591、593 [M+H]
HPLC保持時間: 3.23分 (分析条件T)
[製造例536]
化合物O7−3
4−(3−シアノ−11−オキソ−9−(プロパ−1−イニル)−2’,3’,5,5’
,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−
8−イル)ピペラジン−1−カルボン酸 tert−ブチル


化合物O9−1の合成法と同様の条件で、化合物O7−2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 551 [M+H]+
HPLC保持時間: 3.92分 (分析条件Y)
[製造例537]
化合物O7−4
11−オキソ−8−(ピペラジン−1−イル)−9−(プロパ−1−イニル)−2’,3
’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’
−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物O7−3より標題化合物を合成した。
LCMS: 451 m/z [M+H]
HPLC保持時間: 1.87分 (分析条件U)
[製造例538]
化合物O7−5
4−(3−シアノ−9−エチニル−11−オキソ−2’,3’,5,5’,6’,11−
ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−8−イル)ピペ
ラジン−1−カルボン酸 tert−ブチル


LCMS: m/z 537 [M+H]+
HPLC保持時間: 3.82分 (分析条件Y)
[製造例539]
化合物O8−1
9−ブロモ−11−オキソ−8−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル
)−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾー
ル−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物O6−2と4−ピロリジン−1−イル−
ピペリジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 559、561 [M+H]
HPLC保持時間: 2.05分 (分析条件U)
[製造例540]
化合物O8−2
9−ブロモ−8−(4−シクロブチルピペラジン−1−イル)−11−オキソ−2’,3
’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’
−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物O6−2と1−シクロブチルピペラジン
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 547 [M+H]
HPLC保持時間: 1.61分 (分析条件S)
[製造例541]
化合物O8−3
9−ブロモ−8−(4−モルホリノピペリジン−1−イル)−11−オキソ−2’,3’
,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−
ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物O6−2と4−ピペリジン−4−イル−
モルホリンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 575、577 [M+H]
HPLC保持時間: 1.95分 (分析条件U)
[製造例542]
化合物O8−4
9−ブロモ−8−(4−(オキセタン−3−イル)ピペラジン−1−イル)−11−オキ
ソ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾー
ル−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物O7−1とオキセタン−3−オンより
、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 547、549 [M+H]
HPLC保持時間: 1.43分 (分析条件S)
[製造例543]
化合物O8−5
9−ブロモ−8−(4−tert−ブチルピペラジン−1−イル)−11−オキソ−2’
,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,
4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物O6−2と1−tert−ブチルピペラ
ジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: 547、549 m/z [M+H]
HPLC保持時間: 2.07分 (分析条件U)
[製造例544]
化合物O9−1
11−オキソ−9−(プロパ−1−イニル)−8−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペ
リジン−1−イル)−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ
[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


9−ブロモ−11−オキソ−8−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル
)−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾー
ル−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル(化合物O8−1、100mg、0.17
0mmol)、トリブチル(1−プロピニル)スズ(0.082mL、0.268mmo
l)、ビス(アセトニトリル) ジクロリド パラジウム(II)(2.64mg、0.
00895mmol)、X−Phos(12.8mg、0.0269mmol)、炭酸セ
シウム(262.4mg、0.806mmol)をアセトニトリル(1mL)に懸濁させ
、80℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上乾燥させた。乾燥剤を濾去後
、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン/
メタノール)で精製し、目的物(薄黄色固体、3.8mg、4.1%)を得た。
1H−NMR(300MHz,DMSO) σppm 12.20(bs, 1H),
8.35(d, 1H, J=8.1Hz), 8.06(s, 1H), 8.06(
d, 1H, J=10.8Hz), 7.58(d, 1H, J=8.4Hz),
7.29(s, 1H), 4.25−4.23(m, 2H), 4.02−3.98
(m, 2H), 3.78(d, 2H, J=11.4Hz), 2.93(t,
2H, J=11.1Hz), 2.55(s, 1H), 2.45−2.28(m,
2H), 2.24−2.05(m, 4H), 2.08−1.81(m, 4H)
, 1.75−1.50(m, 7H)
LCMS: m/z 519 [M+H]
HPLC保持時間: 1.98分 (分析条件U)
[製造例545]
化合物O9−2
9−エチニル−11−オキソ−8−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イ
ル)−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾ
ール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物F5−43の合成法と同様の条件で、化合物O8−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 505 [M+H]
HPLC保持時間: 1.92分 (分析条件U)
[製造例546]
化合物O9−3
11−オキソ−8−(4−(ピロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)−2’,3
’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’
−ピラン]−3,9−ジカルボニトリル


化合物A5−2の合成法と同様の条件で、化合物O8−1より標題化合物を合成した。
LCMS: 506 m/z [M+H]
HPLC保持時間: 1.87分 (分析条件U)
[製造例547]
化合物O9−4
9−(3−ヒドロキシ−3−メチルブタ−1−イニル)−11−オキソ−8−(4−(ピ
ロリジン−1−イル)ピペリジン−1−イル)−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘ
キサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリ



化合物E4−2−1の合成法と同様の条件で、化合物O8−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 563 [M+H]
HPLC保持時間: 1.92分 (分析条件U)
[製造例548]
化合物O9−5
8−(4−シクロブチルピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−(プロパ−1−イ
ニル)−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバ
ゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物O9−1の合成法と同様の条件で、化合物O8−2より標題化合物を合成した。
1H−NMR(300MHz, DMSO−d) δ: 1.6(m, 2H), 1
.8(m, 2H), 1.9(m, 4H), 2.1(s, 3H), 2.4(m
, 6H), 2.8(m, 1H), 3.4(m, 4H), 4.0(m, 2H
), 4.1(m, 2H), 7.3(s, 1H), 7.6(d, 1H, 8.
0Hz), 8.0(m, 2H), 8.3(d, 1H, 8.0Hz), 12.
2(s, 1H)
LCMS: m/z 505 [M+H]
HPLC保持時間: 2.03分 (分析条件U)
[製造例549]
化合物O9−6
8−(4−シクロブチルピペラジン−1−イル)−9−エチニル−11−オキソ−2’,
3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4
’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物F5−43の合成法と同様の条件で、化合物O8−2より標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.66 (2H, m)
, 1.83 (2H, t, 8.77Hz), 1.99 (4H, m), 2.
41 (6H, m), 2.79 (1H, t, 7.63Hz), 3.35 (
4H, m), 4.01 (2H, m), 4.27 (2H, m), 4.51
(1H, s), 7.33 (1H, s), 7.54 (1H, m), 8.
03 (1H, s), 8.16 (1H, s), 8.32 (1H, d, 8
.40Hz), 12.3 (1H, s).
LCMS: m/z 491 [M+H]
HPLC保持時間: 1.95分 (分析条件U)
[製造例550]
化合物O9−7
8−(4−モルホリノピペリジン−1−イル)−11−オキソ−9−(プロパ−1−イニ
ル)−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾ
ール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物O9−1の合成法と同様の条件で、化合物O8−3より標題化合物を合成した。
H−NMR (300MHz, DMSO−d) δ: 1.57 (2H, m)
, 1.95 (4H, m), 2.14 (3H, s), 2.37 (3H,
m), 3.35 (4H, m), 2.83 (2H, t, 12.6Hz),
3.56 (4H, s), 3.86 (2H, d, 11.8Hz), 4.04
(2H, m), 4.17 (2H, m), 7.31 (1H, s), 7.
61 (1H, d, 8.01Hz), 8.06 (1H, s), 8.07 (
1H, s), 8.36 (1H, d, 8.01Hz), 12.3 (1H,
s).
LCMS: m/z 535 [M+H]
HPLC保持時間: 1.95分 (分析条件U)
[製造例551]
化合物O9−8
9−エチニル−8−(4−モルホリノピペリジン−1−イル)−11−オキソ−2’,3
’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’
−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物F5−43の合成法と同様の条件で、化合物O8−3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 521 [M+H]
HPLC保持時間: 1.90分 (分析条件U)
[製造例552]
化合物O9−9
8−(4−(オキセタン−3−イル)ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−(プ
ロパ−1−イニル)−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ
[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物O7−4とオキセタン−3−オンより
、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 507 [M+H]
HPLC保持時間: 1.43分 (分析条件S)
[製造例553]
化合物O10−1−1
4−(3−シアノ−9−エチル−11−オキソ−2’,3’,5,5a,5’,6’,1
1,11a−オクタヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−8
−イル)ピペラジン−1−カルボン酸 tert−ブチル


化合物B3−13−1の合成法と同様の条件で、化合物O7−5より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 541 [M+H]
HPLC保持時間: 3.08分 (分析条件S)
[製造例554]
化合物O10−1−2
9−エチル−11−オキソ−8−(ピペラジン−1−イル)−2’,3’,5,5’,6
’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−3−
カルボニトリル


化合物A8−1の合成と同様の条件で、化合物O10−1−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 441 [M+H]
HPLC保持時間: 1.42分 (分析条件S)
[製造例555]
化合物O10−2
9−エチル−8−(4−モルホリノピペリジン−1−イル)−11−オキソ−2’,3’
,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−
ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B3−13−1の合成と同様の手法で、化合物O9−8より標題化合物を合成した

H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 8.23−8.21 (1
H, m), 8.02−8.00 (1H, m), 7.88−7.86 (1H,
m), 7.39−7.36 (2H, m), 4.63−4.59 (2H, m
), 3.89−3.85 (2H, m), 3.60−3.56 (6H, m),
3.22−3.19 (4H, m), 2.76−2.68 (4H, m), 2
.37−2.32 (3H, m), 1.92−1.88 (2H, m), 1.7
5−1.72 (2H, m), 1.61−1.57 (2H, m), 1.27−
1.25 (3H, m)
LCMS: m/z 525 [M+H]
HPLC保持時間: 1.48分 (分析条件S)
[製造例556]
化合物O10−3
9−エチル−8−(4−(オキセタン−3−イル)ピペラジン−1−イル)−11−オキ
ソ−2’,3’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾー
ル−6,4’−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物O10−1−2とオキセタン−3−オ
ンより、標題化合物を合成した。
H−NMR(400MHz, DMSO−d) δ: 12.26 (1H, s
), 8.39 (1H, d, 7.9Hz), 8.09−8.07 (2H, m
), 7.63 (1H, d, 8.5Hz), 7.51 (1H, s), 4.
60−4.50 (4H, m), 4.20−4.09 (4H, m), 3.56
−3.51 (1H, m), 3.07−3.05 (4H, m), 2.76−2
.70 (2H, m), 2.44−2.40 (2H, m), 2.02−1.9
8 (2H, m), 1.29−1.26 (4H, m)
LCMS: m/z 497 [M+H]
HPLC保持時間: 1.42分 (分析条件S)
[製造例557]
化合物O10−4
8−(4−シクロブチルピペラジン−1−イル)−9−エチル−11−オキソ−2’,3
’,5,5’,6’,11−ヘキサヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’
−ピラン]−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物O10−1−2とシクロブタノンより
、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 495 [M+H]
HPLC保持時間: 1.57分 (分析条件S)
[製造例558]
化合物P1(中間体)
8−メトキシ−6,6−ジメチル−2−ニトロ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール


化合物A3−1の合成法と同様の条件で、化合物A2と4−ニトロフェニルヒドラジンよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 323 [M+H]
HPLC保持時間: 4.08分 (分析条件W)
[製造例559]
化合物P2(中間体)
8−メトキシ−6,6−ジメチル−2−ニトロ−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−11−オン


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物P1より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz, DMSO−d) δ: 12.85 (1H, s
), 9.03 (1H, d, J = 1.9 Hz), 8.17−8.20 (
2H, m), 7.71(1H,d, J = 9.1 Hz)、 7.38 (1H
, d、J = 2.4 Hz), 7.12 (1H, dd, J = 8.5,
2.4 Hz), 3.93 (3H, s), 1.79 (6H, s)
LCMS: m/z 337 [M+H]
HPLC保持時間: 3.55分 (分析条件W)
[製造例560]
化合物P3(中間体)
8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−2−ニトロ−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オン


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物P2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 323 [M+H]
HPLC保持時間: 3.11分 (分析条件W)
[製造例561]
化合物P4(中間体)
4−(6,6−ジメチル−2−ニトロ−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブ
チルエステル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物P3より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz, CDCl) δ: 9.40 (1H, s),
9.37 (1H, s), 8.41 (1H, d, J = 8.5 Hz),
8.24 (1H, d, J = 11.0 Hz), 7.51 (1H, d,
J = 8.5 Hz), 7.13 (1H, s), 7.03 (1H, d,
J = 9.1 Hz), 4.61−4.71 (1H, m), 3.69−3.8
4 (2H, m), 3.35−3.49 (2H, m), 1.94−2.10
(2H, m), 1.75−1.93 (8H, m), 1.50 (9H, s)
LCMS: m/z 506 [M+H]
HPLC保持時間: 4.17分 (分析条件W)
[製造例562]
化合物P5
2−アミノ−6,6−ジメチル−8−(ピペリジン−4−イルオキシ)−5,6−ジヒド
ロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物P6より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz, CDOD) δ: 8.23 (1H, d, J
= 8.5 Hz), 7.68 (1H, d, J = 2.4 Hz), 7.
26 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.24 (1H, d, J =
2.4 Hz), 7.06 (1H, dd, J = 8.5, 2.4 Hz)
, 6.80 (1H, dd, J = 8.5, 2.4 Hz), 4.64−4
.71 (1H, m), 3.06−3.15 (2H, m), 2.73−2.8
3 (2H, m), 2.02−2.13 (2H, m), 1.67−1.82
(8H, m)
LCMS: m/z 506 [M+H]
HPLC保持時間: 4.17分 (分析条件W)
[製造例563]
化合物P6(中間体)
4−(2−アミノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブ
チルエステル


4−(6,6−ジメチル−2−ニトロ−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブ
チルエステル(化合物P4、103mg、0.204mmol)のエタノール(8ml)
懸濁液に、鉄粉(228mg、20当量)、塩化アンモニウム(109mg、10当量)
、蒸留水(4ml)を加え、90℃で30分間攪拌した。反応終了後、不溶物をろ別し、
ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、硫酸ナ
トリウムで乾燥した。乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、標題化合物(115mg、57%
)を得た。
LCMS: m/z 476 [M+H]
HPLC保持時間: 2.82分 (分析条件W)
[製造例564]
化合物P7(中間体)
4−(2−メタンスルホニルアミノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒ
ドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン
酸 tert−ブチルエステル


4−(2−アミノ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブ
チルエステル(化合物P6、50mg、0.105mmol)のピリジン(2ml)溶液
に、メシルクロリド(9μl、1.2当量)を加え、室温で30分間攪拌した。反応終了
後、反応液を減圧濃縮して未精製物として標題化合物を得た。
LCMS: m/z 554 [M+H]
HPLC保持時間: 3.60分 (分析条件W)
[製造例565]
化合物P8
N−[6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(ピペリジン−4−イルオキシ)−6,1
1−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−2−イル]−メタンスルホンアミド


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物P7より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz, CDOD) δ: 8.25 (1H, d, J
= 8.5 Hz), 8.16 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.
46 (1H, d, J = 9.1 Hz), 7.27−7.29 (2H, m
), 7.09 (1H, dd, J = 9.1, 1.8 Hz), 4.67−
4.75 (1H, m), 3.09−3.18 (2H, m), 2.95 (3
H, s), 2.77−2.87 (2H, m), 1.70−1.84 (8H,
m)
LCMS: m/z 454 [M+H]
HPLC保持時間: 2.22分 (分析条件W)
[製造例566]
化合物Q3(中間体)
2−フルオロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A3−1の合成法と同様の条件で、化合物A2と3−シアノ−4−フルオロフェニ
ルヒドラジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 321 [M+H]
HPLC保持時間: 4.13分 (分析条件W)
[製造例567]
化合物Q4(中間体)
2−フルオロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物Q3より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz, DMSO−d) δ: 12.89 (1H, s
), 8.16 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.07 (1H, d
, J = 4.9 Hz), 8.04 (1H, d, J = 9.8 Hz),
7.36 (1H, d, J = 2.4 Hz), 7.10 (1H, dd,
J = 8.5, 2.4 Hz), 3.91 (3H, s), 1.78 (3
H, s)
LCMS: m/z 335 [M+H]
HPLC保持時間: 3.61分 (分析条件W)
[製造例568]
化合物Q5(中間体)
2−フルオロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物Q4より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 321 [M+H]
HPLC保持時間: 3.16分 (分析条件W)
[製造例569]
化合物Q6(中間体)
4−(3−シアノ−2−フルオロ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸
tert−ブチルエステル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物Q5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 504 [M+H]
HPLC保持時間: 4.25分 (分析条件W)
[製造例570]
化合物Q7
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−2−フルオロ−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物Q5より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz, CDOD) δ: 8.25 (1H, d, J
= 8.5 Hz), 8.09 (1H, d, J = 9.8 Hz), 7.
83 (1H, d, J = 5.5 Hz), 7.30 (1H, d, J =
2.4 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 8.5, 2.4 Hz)
, 4.26 (2H, t, J = 5.7 Hz), 2.98 (2H, t,
J = 5.7 Hz), 2.72 (4H, q, J = 7.2 Hz),
1.81 (6H, s), 1.13 (6H, t, J = 7.2 Hz)
LCMS: m/z 420 [M+H]
HPLC保持時間: 2.65分 (分析条件W)
[製造例571]
化合物Q8
2−フルオロ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(ピペリジン−4−イルオキシ)
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A8−1の合成法と同様の条件で、化合物Q6より標題化合物を合成した。
H−NMR (400MHz, DMSO−d) δ: 8.11 (1H, d,
J = 8.5 Hz), 7.98 (1H, d, J = 5.5 Hz),
7.96 (1H, d, J = 9.8 Hz), 7.29 (1H, s),
7.08 (1H, d, J = 8.5 Hz), 4.58−4.69 (1H,
m), 2.93−3.05 (2H, m), 2.60−2.69 (2H, m
), 1.94−2.03 (2H, m), 1.74 (6H, s), 1.45
−1.57 (2H, m)
LCMS: m/z 404 [M+H]
HPLC保持時間: 2.67分 (分析条件W)
[製造例572]
化合物R2
2−フルオロ−3−ヒドラジニルベンゾニトリル


3−アミノ−2−フルオロ−ベンゾニトリル(100mg、0.735mmol)を水(
0.94mL)に溶解させ、濃塩酸(0.74mL)を0℃で加えた後に、亜硝酸ナトリ
ウム(61mg、0.882mmol)の水溶液(0.294mL)を加え、0℃で1時
間攪拌した。反応混合物に塩化スズ(321mg、1.69mmol)の農塩酸溶液(0
.94mL)を加え、室温で1時間攪拌した後、水酸化ナトリウム水溶液で反応液を中和
し、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させ、乾燥剤を濾去後、減圧濃縮して目的物を粗生成物として得た。
[製造例573]
化合物R3
4−フルオロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物E2−1の合成と同様の条件で、化合物A2と化合物R2より、標題化合物の粗生
成物を得た。
[製造例574]
化合物R4
4−フルオロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A4の合成法と同様の条件で、化合物R3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 335 [M+H]
HPLC保持時間: 2.70分 (分析条件U)
[製造例575]
化合物R5
4−フルオロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物R4より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 321 [M+H]
HPLC保持時間: 2.32分 (分析条件U)
[製造例576]
化合物R6
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−4−フルオロ−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−17と同様の条件で、化合物R5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 420 [M+H]
HPLC保持時間: 1.51分 (分析条件S)
[製造例577]
化合物R7
トリフルオロメタンスルホン酸 3−シアノ−4−フルオロ−6,6−ジメチル−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物R5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 453 [M+H]
HPLC保持時間: 3.82分 (分析条件Y)
[製造例578]
化合物R8−1
4−フルオロ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピ
ペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物R7と4−ピロリジン−1−イル−ピペ
リジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 457 [M+H]
HPLC保持時間: 2.10分 (分析条件U)
[製造例579]
化合物R8−2
4−フルオロ−8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物R7より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 431 [M+H]
HPLC保持時間: 2.07分 (分析条件U)
[製造例580]
化合物R9−1
8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−4−
フルオロ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]
カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物R5と(R)−(−)−2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソラン−4−メタノールより、粗生成物として標題化合物を得た。
[製造例581]
化合物R9−2
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−4−フルオロ−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物R9−1より標題化合物(9.9
mg,80%)を合成した。
LCMS: m/z 395 [M+H]
HPLC保持時間: 2.38分 (分析条件C)
[製造例582]
化合物S1−1
3−クロロ−8−メトキシ−6、6−ジメチル−5、6−ジヒドロベンゾ[b]カルバゾ
ール−11−オン


化合物A3−1、A4の合成法と同様の条件で、化合物A2、(3−クロロフェニル)−
ヒドラジン塩酸塩より、標題化合物を粗生成物として得た。
[製造例583]
化合物S1−2
3−クロロ−8−メトキシ−2,6,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]
カルバゾール−11−オン


7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、99.1mg,0.485mmol)および(3−クロロ−4−メチル−フェ
ニル)ヒドラジン塩酸塩(100.4mg,1.1等量)をTFA(1mL)に溶解し、
窒素雰囲気下、80℃にて10分間マイクロ波を照射した。放冷後、反応液に酢酸エチル
を加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をTHF(2mL)および水(0
.2mL)に溶解し、DDQ(125.7mg,1.1等量)を加え、室温にて終夜撹拌
した。反応液にヘキサンおよび酢酸エチルの混合溶媒を加え、乾式シリカゲルカラムにて
原点成分を除去し、溶出液を減圧濃縮して得られた残渣を薄層クロマトグラフィ(メタノ
ール/ジクロロメタン)で精製し、標題化合物(19.4mg,12%)を得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.2 (1 H, s
), 8.15 (1 H, d, J = 8.8 Hz), 8.12 (1 H,
s), 7.52 (1 H, s), 7.32 (1 H, s), 7.07
(1 H, dd, J = 2.4, 8.8 Hz),3.90 (3 H, s)
, 2.45 (3 H, s), 1.73 (6 H, s)、
LCMS: m/z 340 [M+H]
HPLC保持時間: 2.80分 (分析条件F)
[製造例584]
化合物S1−3
3−クロロ−4−フルオロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベン
ゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A3−1の合成法と同様の手法にて、化合物A2と(3−クロロ−2−フルオロ−
フェニル)−ヒドラジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 344、346 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.68分 (分析条件S)
[製造例585]
化合物S1−4
9−ブロモ−3−クロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ
[b]カルバゾール−11−オン


6−ブロモ−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オン(化合物E1、0.2g、0.71mmol)および3−クロロフェニルヒドラ
ジン塩酸塩(0.17g,1.3当量)を酢酸(0.5mL)に溶解し、窒素雰囲気下、
90℃にて8時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、および飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減
圧濃縮して得られた残渣を10%含水THF(3mL)に溶解し、室温にてDDQ(22
7mg,3等量)を加え、室温にて2時間撹拌した。反応液にTHF/ジエチルエーテル
1:1の混合液を加え、0.5N水酸化ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて洗浄し、
硫酸ソーダにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をヘキサン/ジエチルエーテ
ル1:1の混合液にて洗浄し、標題化合物(褐色粉末、86mg)を得た。
LCMS: m/z 404,406,408 [M+H]
HPLC保持時間: 3.02分 (分析条件C)
[製造例586]
化合物S2−1
3−クロロ−8−ヒドロキシ−6、6−ジメチル−5、6−ジヒドロベンゾ[b]カルバ
ゾール−11−オン


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物S1−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 312 [M+H]
HPLC保持時間: 4.18分 (分析条件H)
[製造例587]
化合物S2−2
3−クロロ−8−ヒドロキシ−2,6,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b
]カルバゾール−11−オン


3−クロロ−8−メトキシ−2,6,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]
カルバゾール−11−オン(化合物S1−2、18.9mg,0.0556mmol)お
よび塩化ピリジニウム(220mg,34等量)を185℃にて2.5時間撹拌した。放
冷後、水および酢酸エチルを加え、有機層を水および飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮により、粗生成物として、標題化合物を得た。
[製造例588]
化合物S2−3
3−クロロ−4−フルオロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−クロロ−4−フルオロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベン
ゾ[b]カルバゾール−11−オン (化合物S1−3、220.0mg、 0.640
mmol)と塩化ピリジニウム(800mg, 6.922mmol)を混合し、160
℃に加熱して20時間攪拌した。反応液に水を加え、析出してきた黒色固体をろ過し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(1
39.4mg,66%)を得た。
LCMS: m/z 330 [M+H]
HPLC保持時間: 2.60分 (分析条件F)
[製造例589]
化合物S2−4
9−ブロモ−3−クロロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベン
ゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A6と同様の条件で、化合物S1−4より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 390,392,394 [M+H]
HPLC保持時間: 2.75分 (分析条件C)
[製造例590]
化合物S3
3−クロロ−8−(2−ジエチルアミノエトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒド
ロベンゾ[b]カルバゾール−11−オン (CH5263231−000)


3−クロロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オン(化合物S2−1、10mg, 0.03207mmol)をDM
F(0.1mL)に溶解し、(2−クロロエチル)ジエチルアミン(5.5mg, 0.
03207mmol)、炭酸セシウム(20.9mg, 0.06414mmol)を加
え、80℃で2時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をNHシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(11.6mg,76%)を得た

LCMS: m/z 411 [M+H]
HPLC保持時間: 4.49分 (分析条件H)
[製造例591]
化合物S4
3−クロロ−2,6,6−トリメチル−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロ
キシ−ブトキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物S2−2の粗生成物をトリフェニルホスフィン(18.9mg,1.3等量)およ
び[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2
,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル]−メタノール(17mg,1.2
等量)のTHF溶液(0.2mL)とともに、窒素雰囲気下THF(0.4mL)に溶解
し、DEAD(40%トルエン溶液、0.0031mL,1.2等量)を加え、室温にて
40分間および40℃にて4時間撹拌した。反応液にトリフェニルホスフィン(18.9
mg,1.3等量)およびDEAD(40%トルエン溶液、0.002mL,0.8等量
)を加え40℃にて終夜撹拌した。反応液に酢酸エチルを加え、水および飽和食塩水にて
洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣を薄層クロマ
トグラフィ(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、8−[(4R,5R)−5−(tert
−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソ
ラン−4−イルメトキシ]−3−クロロ−2,6,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−
ベンゾ[b]カルバゾール−11−オンの粗精製物(12.6mg)を得た。
これを窒素雰囲気下THF(0.15mL)およびメタノール(0.03mL)に溶解し
、0.5M硫酸(0.05mL)を加え、60℃にて3時間撹拌した。放冷後、ジエチル
エーテルを加え、炭酸水素ナトリウム(8.4mg)および水を加えた。有機層を飽和食
塩水にて洗浄した。水層を酢酸エチルにて抽出した。有機層をあわせて硫酸マグネシウム
にて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた固体をジクロロメタンにて洗浄し、標題化合
物(白色固体、5.3mg、22%)を得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 12.18(1 H,
s), 8.14 (1 H,d, J = 8.8 Hz), 8.12 (1 H,
s), 7.52 (1 H, s), 7.31 (1 H, d, J = 2.
4 Hz),7.06(1 H, dd, J = 2.4, 8.8 Hz), 4.
78(1 H, d, J = 5.9 Hz), 4.60 (1 H, d, J
= 5.9 Hz), 4.52 (1 H, t, J = 5.4 Hz),4.1
8−4.22(1 H, m), 4.02−4.06 (1 H, m), 3.85
−3.95 (1 H, m), 3.50−3.60(2 H, m), 3.40−
3.46 (1 H, m), 2.45 (3 H, s),1.73 (3 H,
s)、
LCMS: m/z 430 [M+H]
HPLC保持時間: 2.27分 (分析条件F)
[製造例592]
化合物S5
3−クロロ−8−エトキシ−4−フルオロ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベン
ゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物S6を合成する際の副生成物として、表題化合物を得た。
LCMS: m/z 358 [M+H]
HPLC保持時間: 3.16分 (分析条件F)

[製造例593]
化合物S6
3−クロロ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−4−フルオロ−6,
6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−クロロ−4−フルオロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化合物S2−3、20.0mg, 0.061m
mol)をTHF(0.25mL)に溶解し、((S)−2,2−ジメチル−[1,3]
ジオキソラン−4−イル)−メタノール (9.8μL, 0.079mmol)、トリ
フェニルホスフィン(20.7mg, 0.079mmol)、アゾジカルボン酸ジエチ
ル(35.9μl, 0.079mmol)を加え40℃で5時間攪拌した。反応液を減
圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン
)で精製し、中間体3−クロロ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソ
ラン−4−イルメトキシ)−4−フルオロ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベン
ゾ[b]カルバゾール−11−オンを得た。これをTHF(0.10mL)およびMeO
H(0.08ml)に溶解し、硫酸(0.5M、 0.045ml)を加え、60℃で1
時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得られた黄色固体を塩化メチレン/ヘキ
サン溶媒で洗浄し、ろ過することで標題化合物(4.3mg,18%)を得た。
LCMS: m/z 404 [M+H]+---
HPLC保持時間: 2.34分 (分析条件F)
[製造例594]
化合物S7−1
3−クロロ−9−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−
4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール
−11−オン


窒素雰囲気下、9−ブロモ−3−クロロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−
ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化合物S2−4、76mg,0.2
mmol)およびトリフェニルホスフィン(69mg,1.3等量)にTHF(2ml)
を加え、((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル)−メタノー
ル(35mg,1.3等量)およびアゾジカルボン酸ジエチル トルエン溶液 2.19
規定(118μL,1.3等量)を滴下し、50℃で2時間撹拌した。放冷後、反応液に
酢酸エチルを加え、食塩水にて洗浄し、硫酸ソーダにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ジクロロメタン)で精
製し、得られた固体をジクロロメタンにて洗浄し、標題化合物(褐色粉末、53mg)を
得た。
LCMS: m/z 504,506,508 [M+H]
HPLC保持時間: 3.17分 (分析条件C)
[製造例595]
化合物S7−2
9−ブロモ−3−クロロ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6
−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−クロロ−9−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−
4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール
−11−オン(化合物S7−1、56mg,0.11 mmol)をメタノール(5 m
L)に溶解し、1N塩酸(0.2 ml)を加え、50℃で2時間撹拌した。放冷後反応
液を減圧濃縮し、得られた残渣にメタノールを加え、析出した固体をろ取し、標題化合物
(白色粉末、26mg)を得た。
LCMS: m/z 464,466,468 [M+H]
HPLC保持時間: 2.77分 (分析条件C)
[製造例596]
化合物S7−3
3−クロロ−9−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−
4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール
−11−オン


窒素雰囲気下、9−ブロモ−3−クロロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−
ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化合物S2−4、112mg,0.
29mmol)およびトリフェニルホスフィン(227mg,3等量)にTHF(2ml
)を加え、((R)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル)−メタノ
ール(114mg,3等量)およびアゾジカルボン酸ジエチル トルエン溶液 2.19
規定(0.4mL,3等量)を滴下し、40℃で窒素雰囲気下12時間撹拌した。反応液
を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ジク
ロロメタン)で精製し、標題化合物(白色粉末、100mg)を得た。
LCMS: m/z 504,506,508 [M+H]
HPLC保持時間: 3.15分 (分析条件C)
[製造例597]
化合物S7−4
9−ブロモ−3−クロロ−8−((S)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6
−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物S7−2と同様の条件で、化合物S7−3より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 464,466,468 [M+H]
HPLC保持時間: 2.77分 (分析条件C)
[製造例598]
化合物S8−1
9−ヒドロキシ−3−クロロ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラ
ン−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾ
ール−11−オン


9−ブロモ−3−クロロ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−
4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール
−11−オン(化合物S7−1、30mg,0.06 mmol)を水・ジオキサン1:
1の混合溶媒(0.5 mL)に溶解し、トリス(ベンジリデン アセトン 2パラジウ
ム)クロロホルム錯体(3.1mg, 0.05当量)、2−ジ−tert−ブチルホス
フィノ−2′,4′,6′−トリイソプロピルビフェニル(2.5 mg, 0.1当量
)、KOH (0.5規定水溶液180μL, 1.5と当量)を加え、60℃で12時
間撹拌した。放冷後反応液を減圧濃縮し、得られた残渣HPLCで精製することにより、
標題化合物(白色固体、4.6mg)を得た。
LCMS: m/z 442,444 [M+H]
HPLC保持時間: 2.78分 (分析条件C)
[製造例599]
化合物S8−2
3−クロロ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−9−ヒドロキシ−6
,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物S7−2と同様の条件で、化合物S8−1より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 402,404[M+H]
HPLC保持時間: 0.90分 (分析条件I)
[製造例600]
化合物S9−1
8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−(1H−テトラゾール−5−イ
ル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


9−ブロモ−3−クロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ
[b]カルバゾール−11−オン(化合物S1−4、150mg、0.37mMol)を
NMPに溶解し、CuCN(100mg,3当量)を加え、マイクロウェーブ照射下、2
10℃で1.5時間撹拌した。放冷後反応液に水、および酢酸エチルを加え、析出した固
体をろ取し、溶媒を除去した。得られた残渣をDMF(1ml)に溶解し、アジ化ソーダ
(100mg、8当量)、塩化アンモニウム(5mg)を加え封管中120℃で24時間
撹拌した。水を加え、不溶物を濾取し、HPLCで精製することにより、標題化合物(6
.5mg)を得た。
LCMS: m/z 371 [M+H]
HPLC保持時間: 2.22分 (分析条件C)
[製造例601]
化合物S9−2
3−クロロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−9−(1H−テトラゾール−5−イル
)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物S9−1を合成する際の合成中間体として、標題化合物を得た。
LCMS: m/z 380、382 [M+H]
HPLC保持時間: 2.38分 (分析条件C)
[製造例602]
化合物S10
3−クロロ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−9−(3−ヒドロキ
シ−3−メチル−ブタ−1−イニル)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[
b]カルバゾール−11−オン


9−ブロモ−3−クロロ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−
4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール
−11−オン(化合物S7−1、50mg,0.1 mmol)、ビス(アセトニトリル
)パラジウム(II)ジクロリド(2.6mg,0.01等量)、炭酸セシウム(195
mg、6当量)、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2′,4′,6′−トリイソプロピ
ルビフェニル(14.3mg, 0.03当量)の混合物にアセトニトリル(2mL)を
加え、80℃で12時間撹拌した。減圧濃縮して得られたタール状残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、3−クロロ−8−((S)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−9−(3−ヒドロキ
シ−3−メチル−ブタ−1−イニル)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[
b]カルバゾール−11−オン(褐色粉末、105mg)を得た。
得られた3−クロロ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−
イルメトキシ)−9−(3−ヒドロキシ−3−メチル−ブタ−1−イニル)−6,6−ジ
メチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(20mg,0.0
4mmol)をメタノール(3 mL)に溶解し、1N塩酸(1 ml)を加え、室温で
12時間撹拌した。放冷後反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を塩化メチレンで洗浄する
ことにより、標題化合物(薄黄色粉末、5.2mg)を得た。
LCMS: m/z 468,470 [M+H]
HPLC保持時間: 2.70分 (分析条件C)
[製造例603]
化合物S11−1
3−クロロ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−カルボニト
リル


3−クロロ−9−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−
4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール
−11−オン(化合物S7−2、17mg、37μmol)をDMAに溶解し、CuCN
(17mg,5当量)を加え、マイクロウェーブ照射下、220℃で2時間撹拌した。放
冷後反応液に酢酸エチルを加え、析出した固体をろ取し、溶媒を除去し、得られた残渣を
HPLCで精製することにより、標題化合物(4mg)を得た。
LCMS: m/z 409,411 [M+H]
HPLC保持時間: 2.65分 (分析条件C)
[製造例604]
化合物S11−2
3−クロロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−9−カルボニトリル


化合物S11−1合成の副生成物として、標題化合物を得た。
LCMS: m/z 337、339 [M+H]
HPLC保持時間: 2.35分 (分析条件C)
[製造例605]
化合物T1−1
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−[(R)−(テトラヒドロ−フラン−3−イル)オ
キシ]−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−1の合成法と同様の手法で、化合物A5−1と(S)−テトラヒドロ−フラ
ン−3−オールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 426 [M+H]
HPLC保持時間: 2.08分 (分析条件D)
[製造例606]
化合物T1−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−[(R)−(テトラヒドロ−フラン−3−イル)
オキシ]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A5−2の合成法と同様の手法で、化合物T1−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 373 [M+H]
HPLC保持時間: 1.98分 (分析条件A)
[製造例607]
化合物T2−1
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−[(S)−(テトラヒドロ−フラン−3−イル)オ
キシ]−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−1の合成法と同様の手法で、化合物A5−1と(R)−テトラヒドロ−フラ
ン−3−オールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 426 [M+H]
HPLC保持時間: 6.12分 (分析条件H)
[製造例608]
化合物T2−2
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−[(S)−(テトラヒドロ−フラン−3−イル)
オキシ]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A5−2の合成法と同様の手法で、化合物T2−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 373 [M+H]
HPLC保持時間: 2.00分 (分析条件D)
[製造例609]
化合物T3−1
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(テトラヒドロ−ピラン−4−イルオキシ)−5,
6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−1の合成法と同様の手法で、化合物A5−1とテトラヒドロ−ピラン−4−
オールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 440 [M+H]
HPLC保持時間: 8.07分 (分析条件H)

[製造例610]
化合物T3−2
3−ブロモ−5,6,6−トリメチル−8−(テトラヒドロ−ピラン−4−イルオキシ)
−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A10−2の合成法と同様の手法で、化合物T3−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 454 [M+H]
HPLC保持時間: 6.88分 (分析条件H)
[製造例611]
化合物T4−1
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(2−フェニル−[1,3]ジオキサン−5−イル
オキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−1の合成法と同様の手法で、化合物A5−1と5−フェニル−[1,3]ジ
オキサン−2−オールより標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 518 [M+H]
HPLC保持時間: 2.68分 (分析条件D)
[製造例612]
化合物T4−2
3−ブロモ−8−(2−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチル−エトキシ)−6,6−ジメ
チル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−13−2の合成法と同様の手法で、化合物T4−1より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 430 [M+H]
HPLC保持時間: 4.64分 (分析条件H)
[製造例613]
化合物T5−1
4−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸 tert−ブ
チル エステル


化合物A7−1の合成法と同様の手法で、化合物A5−1と4−ヒドロキシ−ピペリジン
−1−カルボン酸 tert−ブチル エステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 539 [M+H]
HPLC保持時間: 2.72分 (分析条件D)
[製造例614]
化合物T5−2
4−(3−ブロモ−5,6,6−トリメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ピペリジン−1−カルボン酸 ter
t−ブチル エステル


化合物A10−1の合成法と同様の手法で、化合物T5−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 553 [M+H]
HPLC保持時間: 2.93分 (分析条件D)
[製造例615]
化合物T5−3
3−ブロモ−5,6,6−トリメチル−8−(ピペリジン−4−イルオキシ)−5,6−
ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A8−1の合成法と同様の手法で、化合物T5−2より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 453 [M+H]+
HPLC保持時間: 1.98分 (分析条件D)
[製造例616]
化合物T5−4
3−ブロモ−8−(1−メタンスルホニル−ピペリジン−4−イルオキシ)−5,6,6
−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A9−7の合成法と同様の手法で、化合物T5−3とメタンスルホニルクロリドよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 531 [M+H]
HPLC保持時間: 2.38分 (分析条件D)
[製造例617]
化合物T5−5
8−(1−アセチル−ピペリジン−4−イルオキシ)−3−ブロモ−6,6−ジメチル−
5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T5−3と無水酢酸より、標題化合物を
合成した。
LCMS: m/z 482 [M+H]
HPLC保持時間: 2.10分 (分析条件D)
[製造例618]
化合物T6−1
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−[1−(2,2,2−トリフルオロ−アセチル)−
ピペリジン−4−イルオキシ]−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−
オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T6−2と無水トリフルオロ酢酸より、
標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 535 [M+H]
HPLC保持時間: 2.53分 (分析条件D)
[製造例619]
化合物T6−2
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(ピペリジン−4−イルオキシ)−5,6−ジヒド
ロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−[1−(2,2,2−トリフルオロ−アセチル)−
ピペリジン−4−イルオキシ]−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−
オン (化合物T6−1、28.0mg, 52.3μmol)をTHF(1.00mL
)とメタノール(0.50mL)に溶解し、水酸化カリウム水溶液(1.00mL, 2
0wt%)を加え室温で1時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、クロロホルムとメタノール
の混合溶液で抽出し、硫酸ナトリウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して3−ブロモ−6
,6−ジメチル−8−(ピペリジン−4−イルオキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b
]カルバゾール−11−オンを粗生成物として得た。
LCMS: m/z 439 [M+H]+
HPLC保持時間: 1.83分 (分析条件D)
[製造例620]
化合物T6−3
3−ブロモ−8−(1−メタンスルホニル−ピペリジン−4−イルオキシ)−6,6−ジ
メチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T6−2とメシルクロライドより、標題
化合物を合成した。
LCMS: m/z 517 [M+H]
HPLC保持時間: 2.23分 (分析条件D)
[製造例621]
化合物T6−4
8−(1−アセチル−ピペリジン−4−イルオキシ)−3−ブロモ−5,6,6−トリメ
チル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T6−2と無水酢酸より、標題化合物を
合成した。
LCMS: m/z 496 [M+H]
HPLC保持時間: 2.27分 (分析条件D)
[製造例622]
化合物T7−1
3−ブロモ−8−イソプロポキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]
カルバゾール−11−オン


化合物T4−1の合成の際の副生成物として、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 398 [M+H]+
HPLC保持時間: 3.18分 (分析条件F)
[製造例623]
化合物T7−2
3−ブロモ−8−イソプロポキシ−5,6,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ
[b]カルバゾール−11−オン


化合物A10−2の合成法と同様の手法で、化合物T7−1より、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 413 [M+H]
HPLC保持時間: 2.70分 (分析条件D)
[製造例624]
化合物T8−1
3−ブロモ−5,6,6−トリメチル−8−(2−フェニル−[1,3]ジオキサン−5
−イルオキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A10−2の合成法と同様の手法で、化合物T4−1より、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 532 [M+H]
HPLC保持時間: 2.90分 (分析条件D)
[製造例625]
化合物T8−2
3−ブロモ−8−(2−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチル−エトキシ)−5,6,6−
トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−13−2の合成法と同様の手法で、化合物T4−1より、標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 444 [M+H]
HPLC保持時間: 1.90分 (分析条件D)
[製造例626]
化合物T9
N−[2−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−エチル]−アセトアミド


化合物A7−17の合成法と同様の手法で、化合物A5−1と(N−(2−クロロ−エチ
ル)−アセトアミドより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 441 [M+H]
HPLC保持時間: 1.92分 (分析条件D)
[製造例627]
化合物T10
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(オキセタン−3−イルオキシ)−5,6−ジヒド
ロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−17の合成法と同様の手法で、化合物A5−1とトルエン−4−スルホン酸
オキセタン−3−イル エステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 412 [M+H]
HPLC保持時間: 2.17分 (分析条件D)
[製造例628]
化合物T11
3−ブロモ−8−(4−ヒドロキシ−テトラヒドロ−フラン−3−イルオキシ)−6,6
−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、テトラヒドロ−フロ[3,4−d][1,3,2]ジオキサチオール 2
,2−ジオキシド (71.5 mg, 0.420 mmol)をDMF(1.40m
L)に溶解し、3−ブロモ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−11−オン (化合物A5−1、50.0mg, 0.140
mmol)、炭酸セシウム(228mg, 0.700mmol)を加え80℃で15時
間攪拌した。続いて、硫酸(0.10mL, 18 M)、THF(3.00mL)およ
び水(0.50mL)を加え室温で24時間、60℃で24時間攪拌した。反応液を水に
注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて
乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をジクロロメタンにて洗浄した後、NHシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/THF)で精製し、目的物(44.7m
g,72%)を得た。
LCMS: m/z 442 [M+H]
HPLC保持時間: 1.98分 (分析条件D)
[製造例629]
化合物T12−1
酢酸 (2S,3R,4S,5R,6R)−4,5−ジアセトキシ−6−(3−ブロモ−
6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−8−イルオキシメチル)−2−メトキシ−テトラヒドロ−ピラン−3−イル エステ



化合物A7−1の合成法と同様の手法で、化合物A5−1とメチル 2,3,4−トリ−
O−アセチル−α−D−グルコピラノシドより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 658 [M+H]
HPLC保持時間: 2.38分 (分析条件D)
[製造例630]
化合物T12−2
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−((2R,3S,4S,5R,6S)−3,4,5
−トリヒドロキシ−6−メトキシ−テトラヒドロ−ピラン−2−イルメトキシ)−5,6
−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、酢酸 (2S,3R,4S,5R,6R)−4,5−ジアセトキシ−6−
(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−8−イルオキシメチル)−2−メトキシ−テトラヒドロ−ピラン−3
−イル エステル (化合物T12−1、34.0mg, 51.63μmol)にアン
モニアのメタノール溶液 (2.50mL, 2M)を加え室温で21時間攪拌した。反
応液を減圧濃縮して得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄し、目的物(25.7mg,
94%)を得た。
LCMS: m/z 532 [M+H]
HPLC保持時間: 2.42分 (分析条件D)
[製造例631]
化合物T13−1
(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−8−イルオキシ)−酢酸 tert−ブチル エステル


化合物A7−17の合成法と同様の手法で、化合物A5−1とブロモ−酢酸 tert−
ブチル エステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 470 [M+H]
HPLC保持時間: 2.53分 (分析条件D)
[製造例632]
化合物T13−2
(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール−8−イルオキシ)−酢酸


化合物A8−1の合成法と同様の手法で、化合物T13−1より、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 414 [M+H]
HPLC保持時間: 1.50分 (分析条件D)
[製造例633]
化合物T13−3
2−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−N−(3−エチル−3−ヒドロキシ−ペンチ
ル)−アセトアミド


窒素雰囲気下、(3−アジド−1,1−ジエチル−プロポキシ)−トリメチル−シラン(
16.6mg, 72.42μmol)をトルエン(0.48mL)に溶解し、3−ブロ
モ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−8−イルオキシ)−酢酸(20.0mg, 48.28μmol)とモレキュラ
ーシーブス4Åを加え室温で5分間攪拌した後、トリメチルホスフィン(10.2μL,
96.56μmol)を加え80℃で22時間攪拌した。反応液を塩酸(1 M)に注
ぎ、酢酸エチルで抽出し、水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾
燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタ
ノール/ジクロロメタン)で精製し、目的物(0.7mg,3%)を得た。
LCMS: m/z 527 [M+H]
HPLC保持時間: 2.93分 (分析条件D)
[製造例634]
化合物T13−4
4−[2−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−アセチル]−ピペラジン−1−カルボ
ン酸 tert−ブチル エステル


化合物A9−10の合成法と同様の手法で、化合物T13−2と1−(tert−ブトキ
シカルボニル)ピペラジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 582 [M+H]
HPLC保持時間: 2.32分 (分析条件D)
[製造例635]
化合物T13−5
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(2−オキソ−2−ピペラジン−1−イル−エトキ
シ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン 塩酸塩


化合物A8−1の合成法と同様の手法で、化合物T13−4より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 482 [M+H]
HPLC保持時間: 1.75分 (分析条件D)
[製造例636]
化合物T13−6
3−ブロモ−8−[2−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−2−オキソ
−エトキシ]−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11
−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T13−5とメタンスルホニルクロリド
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 560 [M+H]
HPLC保持時間: 2.00分 (分析条件D)
[製造例637]
化合物T13−7
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−{2−オキソ−2−[4−(プロパン−2−スルホ
ニル)−ピペラジン−1−イル]−エトキシ}−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−11−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T13−5と塩化イソプロピルスルホニ
ルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 588 [M+H]
HPLC保持時間: 2.47分 (分析条件D)
[製造例638]
化合物T13−8
8−[2−(4−アセチル−ピペラジン−1−イル)−2−オキソ−エトキシ]−3−ブ
ロモ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T13−5と無水酢酸より、標題化合物
を合成した。
LCMS: m/z 524 [M+H]
HPLC保持時間: 1.85分 (分析条件D)
[製造例639]
化合物T13−9
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−[2−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−
1−イル)−2−オキソ−エトキシ]−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−
11−オン


化合物B3−32の合成法と同様の手法で、化合物T13−5と3−オキセタノンより、
標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 538 [M+H]
HPLC保持時間: 1.88分 (分析条件D)
[製造例640]
化合物T13−10
4−[2−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−アセチル]−ピペラジン−1−スルホ
ン酸 メチルアミド


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T13−5と2−オキソ−オキサゾリジ
ン−3−スルホン酸 メチルアミドより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 575 [M+H]
HPLC保持時間: 2.29分 (分析条件A)
[製造例641]
化合物T14−1
4−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシメチル)−ピペリジン−1−カルボン酸 ter
t−ブチル エステル


化合物A7−1の合成法と同様の手法で、化合物A5−1と1−(tert−ブトキシカ
ルボニル)−4−(ヒドロキシメチル)ピペリジンより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 553 [M+H]
HPLC保持時間: 2.80分 (分析条件D)
[製造例642]
化合物T14−2
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(ピペリジン−4−イルメトキシ)−5,6−ジヒ
ドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン 塩酸塩


化合物A8−1の合成法と同様の手法で、化合物T14−1より、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 454 [M+H]
HPLC保持時間: 1.90分 (分析条件D)
[製造例643]
化合物T14−3
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イ
ルメトキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物B3−32の合成法と同様の手法で、化合物T14−2と3−オキセタノンより、
標題化合物を合成した。
H−NMR(400 MHz, CDCl3) δ: 9.24 (1 H, s)
, 8.37 (1 H, d, 8.8 Hz), 8.30 (1 H, d, 8
.3 Hz), 7.57 (1 H, d, 1.5 Hz), 7.41 (1 H
, dd, 8.3, 1.5 Hz), 7.08 (1 H, d, 2.4 H
z), 6.98 (1 H, dd, 8.8, 2.4 Hz) 4.60−4.9
5 (7 H, m), 3.93 (2 H, d, 5.9 Hz), 3.50
(1 H, m), 2.83 (2 H, d, 11.2 Hz), 1.89 (
4 H, m), 1.78 (6 H, s)、
LCMS: m/z 509 [M+H]
HPLC保持時間: 2.10分 (分析条件A)
[製造例644]
化合物T14−4
8−(1−アセチル−ピペリジン−4−イルメトキシ)−3−ブロモ−6,6−ジメチル
−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T14−2と無水酢酸より、標題化合物
を合成した。
LCMS: m/z 495 [M+H]
HPLC保持時間: 2.53分 (分析条件A)
[製造例645]
化合物T14−5
3−ブロモ−8−(1−メタンスルホニル−ピペリジン−4−イルメトキシ)−6,6−
ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T14−2とメタンスルホニルクロリド
より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 531 [M+H]
HPLC保持時間: 2.30分 (分析条件D)
[製造例646]
化合物T14−6
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−[1−(プロパン−2−スルホニル)−ピペリジン
−4−イルメトキシ]−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T14−2と塩化イソプロピルスルホニ
ルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 559 [M+H]
HPLC保持時間: 2.58分 (分析条件D)
[製造例647]
化合物T14−7
3−[4−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシメチル)−ピペリジン−1−イル]−アゼ
チジン−1−カルボン酸 テルトブチル エステル


化合物B3−32の合成法と同様の手法で、化合物T14−2と3−オキソ−アゼチジン
−1−カルボン酸 tert−ブチル エステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 608 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.29分 (分析条件A)
[製造例648]
化合物T14−8
8−(1−アゼチジン−3−イル−ピペリジン−4−イルメトキシ)−3−ブロモ−6,
6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A8−1の合成法と同様の手法で、化合物T14−7より、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 508 [M+H]+
HPLC保持時間: 1.90分 (分析条件A)
[製造例649]
化合物T14−9
3−ブロモ−8−[1−(1−メタンスルホニル−アゼチジン−3−イル)−ピペリジン
−4−イルメトキシ]−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−11−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T14−8とメシルクロライドより、標
題化合物を合成した。
LCMS: m/z 586 [M+H]
HPLC保持時間: 2.06分 (分析条件A)
[製造例650]
化合物T14−10
8−[1−(1−アセチル−アゼチジン−3−イル)−ピペリジン−4−イルメトキシ]
−3−ブロモ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11
−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T14−8と無水酢酸より、標題化合物
を合成した。
LCMS: m/z 550 [M+H]
HPLC保持時間: 2.53分 (分析条件A)
[製造例651]
化合物T15−1
4−[2−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−エチル]−ピペリジン−1−カルボン
酸 tert−ブチル エステル


化合物A7−1の合成法と同様の手法で、化合物A5−1とN−(tert−ブトキシカ
ルボニル)−4−ピペリジンエタノールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 567 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.29分 (分析条件D)
[製造例652]
化合物T15−2
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(2−ピペリジン−4−イル−エトキシ)−5,6
−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A8−1の合成法と同様の手法で、化合物T15−1より、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 467 [M+H]+
HPLC保持時間: 1.95分 (分析条件D)
[製造例653]
化合物T15−3
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−[2−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−
4−イル)−エトキシ]−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物B3−32の合成法と同様の手法で、化合物T15−2と3−オキセタノンより、
標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 523 [M+H]
HPLC保持時間: 2.28分 (分析条件D)
[製造例654]
化合物T16−1
4−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−1−オキサ−8−アザ−スピロ[4.5]デ
カン−8−カルボン酸 tert−ブチル エステル


化合物A7−1の合成法と同様の手法で、化合物A5−1と3−ヒドロキシ−1−オキサ
−8−アザ−スピロ[4.5]デカン−8−カルボン酸 tert−ブチル エステルよ
り、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 595 [M+H]
HPLC保持時間: 3.08分 (分析条件A)
[製造例655]
化合物T16−2
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(1−オキサ−8−アザ−スピロ[4.5]デカ−
4−イルオキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A8−1の合成法と同様の手法で、化合物T16−1より、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 496 [M+H]+
HPLC保持時間: 1.99分 (分析条件A)
[製造例656]
化合物T16−3
3−ブロモ−8−(8−メタンスルホニル−1−オキサ−8−アザ−スピロ[4.5]デ
カ−4−イルオキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−11−オン


化合物A9−1の合成法と同様の手法で、化合物T16−2とメシルクロライドより、標
題化合物を合成した。
LCMS: m/z 573 [M+H]
HPLC保持時間: 2.56分 (分析条件A)
[製造例657]
化合物T16−4
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(8−オキセタン−3−イル−1−オキサ−8−ア
ザ−スピロ[4.5]デカ−4−イルオキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−11−オン


化合物B3−32の合成法と同様の手法で、化合物T16−2と3−オキセタノンより、
標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 551 [M+H]
HPLC保持時間: 2.01分 (分析条件A)
[製造例658]
化合物T17−1
3,7,9−トリブロモ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベン
ゾ[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、4−[1,3]ジチアン−2−イリデン−ピペリジン−1−カルボン酸
tert−ブチル エステル(100g, 0.332mmol)をジクロロメタン(2
.50mL)に溶解し、トリフルオロメタンスホン酸(30.8μL, 0.348mm
ol)を−20℃で加え室温で30分攪拌した。反応液を−70℃に冷却した後、3−ブ
ロモ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−11−オン(化合物A5−1、177 mg, 0.498mmol)とトリエチル
アミン(78.6μL, 0.564mmol)をジクロロメタン(2.50mL)に溶
解した溶液を滴下した後、トリエチルアミン 三フッ化水素酸塩(262μL, 1.6
10mmol)と1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン(460mg, 1
.610mmol)を加え、−70℃で1時間攪拌した。反応液を水酸化ナトリウム水溶
液(1 M)に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル/へキサン)およびアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル/へキサン)で精製し、目的物(42.0mg,25%)を得た。
LCMS: m/z 511 [M+H]
HPLC保持時間: 6.34分 (分析条件B)
[製造例659]
化合物T17−2
3,7,9−トリブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−
4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール
−11−オン


化合物A7−1の合成法と同様の手法で、化合物A17−1と(S)−(+)−2,2−
ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−メタノールより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 625 [M+H]
HPLC保持時間: 3.41分 (分析条件A)
[製造例660]
化合物T17−3
3,7,9−トリブロモ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6
−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−14−2の合成法と同様の手法で、化合物T17−2より、標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 585 [M+H]
HPLC保持時間: 2.44分 (分析条件A)
[製造例661]
化合物T18−1
3−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−ブロモ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オン(化合物A5−1、18.0mg,50.5μmol)をDMF(
0.18mL)に溶解し、トルエン−4−スルホン酸 (R)−2,2−ジメチル−[1
,3]ジオキソラン−4−イルメチル エステル (14.5mg, 0.0505mm
ol)、炭酸カリウム (10.0mg,0.07575mmol)を加え70℃で3日
間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧濃縮して得られた残渣をプレパラティブTLC(塩化メチレン/メタノール)
で精製し、標題化合物(16.6mg,70%)を得た。
LCMS: m/z 470 [M+H]
HPLC保持時間: 3.01分 (分析条件F)
[製造例662]
化合物T18−2
3−ブロモ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−
5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物T18−1より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 430 [M+H]
HPLC保持時間: 4.72分 (分析条件H)
[製造例663]
化合物T19−1−1
3−ブロモ−8−メトキシ−5,6,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]
カルバゾール−11−オン


化合物A10−1の合成法と同様の条件で、化合物A4より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 384 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.84分 (分析条件D)
[製造例664]
化合物T19−1
3−ブロモ−8−ヒドロキシ−5,6,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b
]カルバゾール−11−オン


化合物A6の合成法と同様の条件で、化合物T19−1−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 370 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件D)
[製造例665]
化合物T19−2
3−ブロモ−8−(2−ジエチルアミノエトキシ)−6,6−トリメチル−5,6−ジヒ
ドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A5−1より標題化合物(9.8mg
,36%)を合成した。
LCMS: m/z 455 [M+H]
HPLC保持時間: 1.96分 (分析条件D)
[製造例666]
化合物T19−3
3−ブロモ−8−(2−ジエチルアミノエトキシ)−5,6,6−トリメチル−5,6−
ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物T19−1より標題化合物を合成した

LCMS: m/z 469 [M+H]
HPLC保持時間: 2.09分 (分析条件D)
[製造例667]
化合物T20
5−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−ペンタン酸


化合物A7−17の合成法と同様の条件で、化合物A5−1とメチル 5−ブロモバレネ
イトを反応させた後、1N−NaOH(140μL)を加え、室温で2時間攪拌した。反
応混合物に2N−HCl(70μL)を加え減圧濃縮した。残渣をプレパラティブTLC
(塩化メチレン:メタノール=15:1)で精製し、7mg(55%)を得た。
LCMS: m/z 456 [M+H]
HPLC保持時間: 5.88分 (分析条件H)
[製造例668]
化合物T21
(R)−5−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシ)−4−ヒドロキシ−ペンタン酸


化合物T20の合成法と同様の条件で、化合物A5−1とトルエン−4−スルホン酸 (
R)−5−オキソ−テトラヒドロフラン−2−イルメチルエステルを反応させ、標題化合
物を合成した。
LCMS: m/z 471 [M+H]
HPLC保持時間: 4.57分 (分析条件H)
[製造例669]
化合物T22−0
[5−(tert−ブチルジメチルシラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,
3]ジオキソラン−4−イル]−メタノール


THF(50 mL)に室温でNaH(1.41g, 0.032mmol)を加えた後
、((4R,5R)−5−ヒドロキシメチル−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラ
ン−4−イル)−メタノール(5.0g、0.031mmol)を室温で加え、室温で1
時間攪拌した。TBSCl (5.11g、0.034mmol)を室温で加え、室温で
終夜攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(8.21g、 96%
)を得た。
H−NMR(270 MHz, DMSO−d) δ: 3.64−4.98(6
H, m), 2.37 (1 H, m), 1.41 (3 H, s),1.4
0 (3 H, s), 0.90 (9 H, s), 0.08 (6 H,s)
[製造例670]
化合物T22−1
3−ブロモ−8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチルジメチルシラニルオキシメ
チル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−6,6−ジ
メチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物A5−1と[5−(tert−ブチルジ
メチルシラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル
]−メタノール(化合物T22−0)より、標題化合物(704mg,80%)を合成し
た。
LCMS: m/z 614 [M+H]
HPLC保持時間: 4.00分 (分析条件F)
[製造例671]
化合物T22−1−1
3−ブロモ−8−((1R,5R)−5−ヒドロキシメチル−2,2−ジメチル−[1,
3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ
[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、3−ブロモ−8−[(1R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル
−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ]−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン
(化合物T22−1,50.3mg,0.0818mmol)とヨウ化銅(I)(34m
g)のDMF(0.4mL)懸濁液にナトリウムメトキシド(1Mメタノール溶液,0.
82mL,0.818mmol)を添加し、外温90℃で6時間45分間撹拌した。室温
に冷却後、反応混合物にジエチルエーテル及び酢酸エチルを添加し、不溶物をセライトで
濾去した。濃縮残渣にジエチルエーテル、ヘキサン、酢酸エチル及び水を添加し、混合物
をジエチルエーテルで2回抽出した。有機層を水、続いて食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をpreparative TLC (M
erck60 F254,0.5mm)にて精製{溶離液:ヘキサン/酢酸エチル(1:
2)}し、標題化合物(無色油状物,22.6mg,55%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDCl) δ: 8.44−8.38 (1
H, b), 8.39 (1 H, d, 8.6 Hz), 8.31 (1 H,
d, 8.2 Hz), 7.60 (1 H, d, 1.3 Hz), 7.44
(1 H, dd, 8.2 Hz, 1.3 Hz), 7.12 (1 H, d
, 2.3 Hz), 7.02 (1 H, dd, 8.6 Hz, 2.3 Hz
), 4.41−4.10 (4 H, m), 4.00−3.88 (1 H, m
), 3.86−3.76 (1 H, m), 1.78 (6 H, s), 1.
50 (3 H, s), 1.49 (3 H, s)
LCMS: m/z 500 [M+H]
HPLC保持時間: 2.85分 (分析条件C)
[製造例672]
化合物T22−1−2
酢酸 (3R,4R)−5−(3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−8−イルオキシメチル)−2,2−ジメ
チル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメチル エステル


化合物T22−1−1の合成の際の副生成物として、標題化合物(白色固体,17.8m
g,40%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDCl) δ: 8.92−8.80 (1
H, b), 8.40 (1 H, d, 8.9 Hz), 8.31 (1 H,
d, 8.6 Hz), 7.58 (1 H, d, 1.7 Hz), 7.43
(1 H, dd, 8.6 Hz, 1.7 Hz), 7.14 (1 H, d
, 2.3 Hz), 7.02 (1 H, dd, 8.9 Hz, 2.3 Hz
), 4.51−4.38 (1 H, m), 4.34−4.16 (4 H, m
), 2.13 (3 H, s), 1.78 (6 H, s), 1.50 (6
H, s)
LCMS: m/z 542 [M+H]
HPLC保持時間: 3.00分 (分析条件C)
[製造例673]
化合物T22−2
3−ブロモ−6,6−ジメチル−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ−
ブトキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物T22−1より標題化合物(2.
83g,95%)を合成した。
LCMS: m/z 460 [M+H]
HPLC保持時間: 4.50分 (分析条件H)
[製造例674]
化合物T22−3
3−ブロモ−8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチルジメチルシラニルオキシメ
チル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−5,6,6
−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物B3−4の合成法と同様の条件で、化合物T22−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 628 [M+H]
HPLC保持時間: 4.74分 (分析条件F)
[製造例675]
化合物T22−4
3−ブロモ−8−((2R,3R)−2,3−ジヒドロキシ−ペンチルオキシ)−5,6
,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物T22−3より標題化合物を合成
した。
LCMS: m/z 475 [M+H]
HPLC保持時間: 4.86分 (分析条件H)
[製造例676]
化合物T22−5
{3−ブロモ−8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチルジメチルシラニルオキシ
メチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−6,6−
ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−5−イル}
−酢酸 メチル エステル


窒素雰囲気下、3−ブロモ−8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチルジメチルシ
ラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ
]−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化
合物T22−1、40.0mg, 65.2μmol)をDMF(0.20 mL)に溶
解し、ブロモ酢酸メチル (30.5μL, 134.5μmol)、水素化ナトリウム
(4.5mg, 132μmol)を0℃で加え室温で2時間攪拌した。反応液を減圧
濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)
で精製し、標題化合物(44.5 mg,85%)を得た。
LCMS: m/z 686 [M+H]
HPLC保持時間: 3.35分 (分析条件D)
[製造例677]
化合物T22−6
{3−ブロモ−8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチルジメチルシラニルオキシ
メチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−6,6−
ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−5−イル}
−酢酸


{3−ブロモ−8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオ
キシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−6,
6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−5−イ
ル}−酢酸 メチル エステル(化合物T22−5、40mg,60.0μmol)をメ
タノール(120μl)と水(30μl)の混合溶媒に溶解させ、水酸化リチウム一水和
物(10mg,240μmol)を加え、40度において15分撹拌した。反応液を減圧
濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレン/メタノー
ル)で精製し、目的物(35.2mg,96%)を得た。
LCMS: m/z 672 [M+H]
HPLC保持時間: 3.41分 (分析条件D)
[製造例678]
化合物T22−7
[3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−((2R,3R)−2,3,4−
トリヒドロキシ−ブトキシ)−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−5−イ
ル]−酢酸


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物T22−6より標題化合物(6.
2 mg,31%)を合成した。
LCMS: m/z 518 [M+H]
HPLC保持時間: 1.30分 (分析条件D)
[製造例679]
化合物T22−8
[3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−((2R,3R)−2,3,4−
トリヒドロキシ−ブトキシ)−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−5−イ
ル]−酢酸 メチル エステル


[3−ブロモ−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−((2R,3R)−2,3,4−
トリヒドロキシ−ブトキシ)−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−5−イ
ル]−酢酸(化合物T22−6、15.0mg, 29.0μmol)をメタノール(0
.30mL)に溶解させ、トリメチルシリルジアゾメタン(0.10mL)を加え、室温
1時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(塩化メチレン/メタノール)で精製し、目的物(15.2mg,96%)を得た。
LCMS: m/z 532 [M+H]
HPLC保持時間: 1.80分 (分析条件D)
[製造例680]
化合物T23−1
3−ブロモ−5−((R)−1,2−ジヒドロキシエチル)−8−メトキシ−6,6−ジ
メチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物T18−1、T18−2の合成法と同様の条件で、化合物A5−1、トルエン−4
−スルホン酸 (R)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメチルエ
ステルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 366 [M+H]
HPLC保持時間: 4.50分 (分析条件H)
[製造例681]
化合物T23−2
3−ブロモ−5−((S)−1,2−ジヒドロキシエチル)−8−メトキシ−6,6−ジ
メチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物T18−1、T18−2の合成法と同様の条件で、化合物A4、トルエン−4−ス
ルホン酸 (S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメチルエステ
ルより、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 366 [M+H]
HPLC保持時間: 4.50分 (分析条件H)
[製造例682]
化合物T24−1
3−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−5,6,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11
−オン


窒素雰囲気下、3−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン
−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−11−オン(化合物T18−1,112.2mg,0.239mmol)と水素化ナ
トリウム(60%)(19mg,0.477mmol)の氷浴で冷却したDMF(1mL
)懸濁液にヨウ化メチル(37mL,0.596mmol)を添加した。反応混合物を室
温にて45分間撹拌後、氷冷下で飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和チオ硫酸ナトリウ
ム水溶液を添加した。混合物を酢酸エチル/ジエチルエーテル/ヘキサンで2回抽出した
。有機層を水、続いて塩化アンモニウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
濃縮した。得られた粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー{Merck Ki
eselgel60,溶離液:ヘキサン/酢酸エチル(1:1)}にて精製し、標題化合
物(白色固体,107.3mg,93%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDCL) δ: 8.41 (1 H, d,
8.6 Hz), 8.35 (1 H, d, 8.9 Hz), 7.56 (1
H, d, 1.7 Hz), 7.46 (1 H, dd, 8.6 Hz, 1
.7 Hz), 7.14 (1 H, d, 2.3 Hz), 7.00 (1 H
, dd, 8.9 Hz, 2.3 Hz), 4.60−4.49 (1 H, m
), 4.20−3.90 (4 H, m), 4.03 (3 H, s), 1.
88 (6 H, s), 1.50 (3 H, s), 1.43 (3 H, s

LCMS: m/z 484 [M+H]
HPLC保持時間: 6.59分 (分析条件B)
[製造例683]
化合物T24−2
3−ブロモ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−5,6,6−トリメ
チル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、3−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン
−4−イルメトキシ)−5,6,6−トリメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オン(化合物T24−1、15.5mg,0.0320mmol)のT
HF(0.15mL)−MeOH(0.1mL)溶液に室温で0.5M硫酸水溶液(12
8μL,0.0640mmol)を添加した。反応混合物を外温55℃で2時間撹拌後、
室温に冷却してジエチルエーテル、続いて炭酸水素ナトリウム(11mg)を添加した。
混合物をジエチルエーテル/酢酸エチルで2回抽出し、有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥後、減圧濃縮し、標題化合物(白色固体,11.9mg,84%)を得た

H−NMR(270 MHz, CDOD) δ: 8.26 (1 H, d,
8.6 Hz), 8.20 (1 H, d, 8.9 Hz), 7.77 (1
H, d, 1.7 Hz), 7.42 (1 H, dd, 8.6 Hz, 1
.7 Hz), 7.33 (1 H, d, 2.3 Hz), 7.09 (1 H
, dd, 8.9 Hz, 2.3 Hz), 4.26−3.96 (3 H, m
), 4.10 (3 H, s), 3.74−3.66 (1 H, m), 1.
92 (6 H, s)
LCMS: m/z 444 [M+H]
HPLC保持時間: 4.65分 (分析条件B)
[製造例684]
化合物T25
3−ブロモ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−
オン


化合物A3−1、A4の合成法と同様の条件で、3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オンより、標題化合物(560mg)を得た。
LCMS: m/z 340 [M+H]
HPLC保持時間: 4.57分 (分析条件H)
[製造例685]
化合物T26−1
8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチルジメチルシラニルオキシメチル)−2,
2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−3−ヨード−6,6−ジ
メチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、3−ブロモ−8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチルジメチルシ
ラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ
]−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化
合物T22−1、300mg, 0.47mmol)と、ヨウ素化ナトリウム(147m
g, 0.94mmol)及びヨウ化銅(9.40mg, 0.047mmol)をジオ
キサン(1.00ml)に溶解させた後、(1R,2R)−N,N,N’,N’−テトラ
メチル−シクロヘキサン−1,2−ジアミン(15.4μl, 0.094mmol)を
加えた後、110℃において16時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレン/メタノール)で精製し、標題化合物
(220 mg,70%)を得た。
LCMS: m/z 662 [M+H]
HPLC保持時間: 3.40分 (分析条件D)
[製造例686]
化合物T26−2
3−ヨード−6,6−ジメチル−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ−
ブトキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物T26−1より標題化合物(17
.0mg,90%)を得た。
LCMS: m/z 508 [M+H]
HPLC保持時間: 1.77分 (分析条件D)
[製造例687]
化合物T27−1
3−ブロモ−9−(2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−8−メトキシ−6,6−
ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


6−ブロモ−7−メトキシ−1、1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オン(化合物E1、410mg,1.44mmol)、テトラキストリフェニルホス
フィンパラジウム(80mg,0.05等量)、炭酸ナトリウム(614mg、4当量)
の混合物にトルエン(3mL)、水(1ml)を加え、室温にて90℃で3時間撹拌した
。水およびジエチルエーテルを加え抽出し、有機層を食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウ
ムにて乾燥し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸
エチル/ヘキサン)で精製し、6−(2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−7−メ
トホキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(白色固
体、320mg)を得た。
得られた6−(2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−7−メトキシ−1,1−ジメ
チル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(320mg、0.1mmol)
および3−ブロモフェニルヒドラジン(0.29g,1.3当量)を酢酸(1mL)に溶
解し、窒素雰囲気下、90℃にて8時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチルを加え、
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムに
て乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣を10%含水THF(3mL)に溶解し、
室温にてDDQ(227mg,3等量)を加え、室温にて2時間撹拌した。反応液にTH
F/ジエチルエーテル1:1の混合液を加え、0.5N水酸化ナトリウム水溶液および飽
和食塩水にて洗浄し、硫酸ソーダにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、標題化合物(赤色
固体、75mg)を得た。
LCMS: m/z 494,496 [M+H]
HPLC保持時間: 3.10分 (分析条件C)
[製造例688]
化合物T27−2
3−ブロモ−9−(2−フルオロ−4−ヒドロキシ−フェニル)−8−ヒドロキシ−6,
6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物A6と同様の条件で、化合物T27−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 464,466 [M+H]
HPLC保持時間: 2.68分 (分析条件C)
[製造例689]
化合物U5
4−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


2−ブロモ−3−ニトロ−ベンゾニトリル(化合物U1、678mg, 2.987mm
ol)をエタノール(20.9mL)と水(8.96mL)に溶解し、酢酸(2.39m
L, 41.81mmol)と鉄(1.17g, 20.91mmol)を加え60℃で
18時間攪拌した。反応液を水酸化ナトリウム水溶液(1 M)に注ぎ、酢酸エチルで抽
出し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して3−
アミノ−2−ブロモ−ベンゾニトリル(化合物U2)の粗生成物を得た。
上記の粗生成物を12M塩酸水溶液(4.00mL)に溶解し、亜硝酸ナトリウム(24
7mg, 3.584mmol)を水(3.58mL)に溶解した水溶液を0℃でゆっく
りと加え0℃で30分間攪拌した。遮光条件下、反応液に塩化スズ二水和物(2.02g
, 8.961mmol)を12M塩酸水溶液(4.00mL)に溶解した水溶液を0℃
でゆっくりと加え0℃で1時間攪拌した。反応液を5M水酸化ナトリウム水溶液に注ぎ、
酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃
縮して2−ブロモ−3−ヒドラジノ−ベンゾニトリル(化合物U3)の粗生成物を得た。
窒素雰囲気下、上記の粗生成物と7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−
1H−ナフタレン−2−オン(化合物A2、462mg, 2.260mmol)にTF
A(6.78mL)を加え100℃で2時間攪拌した。放冷後、反応液を飽和重曹水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥し、ろ過し
、減圧濃縮して4−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物U4)の粗生成物を得た。
上記の粗生成物をTHF(10.0mL)と水(1.00mL)に溶解し、2,3−ジク
ロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(1.54g, 6.780mmol)
を加え室温で20時間攪拌した。反応液を1M水酸化ナトリウム水溶液に注ぎ、シクロペ
ンチルメチルエーテルで抽出し、1M水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し
、硫酸ナトリウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をシクロペンチルメチ
ルエーテルで洗浄し、標題化合物(460mg,52%)を得た。
LCMS: m/z 395 [M+H]
HPLC保持時間: 2.25分 (分析条件D)
[製造例690]
化合物U6
8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


4−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物U5、325mg, 0.
822mmol)にピリジン塩酸塩(3.80g, 32.89mmol)を加え160
℃で28時間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水で洗浄し、硫酸ナト
リウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して粗生成物として標題化合物を得た。
LCMS: m/z 381 [M+H]
HPLC保持時間: 1.92分 (分析条件D)
[製造例691]
化合物U7−1
4−ブロモ−8−((R)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カ
ルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物U6と(R)−(−)−2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソラン−4−メタノールを反応させて、目的物(354mg,87%
)を合成した。
LCMS: m/z 495 [M+H]
HPLC保持時間: 2.35分 (分析条件D)
[製造例692]
化合物U7−2
4−ブロモ−8−((S)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニト
リル


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物U7−1より標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 455 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件C)
[製造例693]
化合物U8−2
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−5,6,6−トリメチル−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物U7−1、U7−2の合成法と同様の条件で、化合物U6と(S)−(+)−2,
2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−メタノールを反応させて、目的物(4.5m
g,29%)を合成した。
LCMS: m/z 455 [M+H]
HPLC保持時間: 2.37分 (分析条件C)
[製造例694]
化合物U8−3−1
8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,
6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3,4−ジカルボニトリル


窒素雰囲気下、4−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン
−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−
ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物U6、20.0mg, 40.
37μmol)をDMA(0.35mL)に溶解し、シアン化銅(I)(18.1mg,
201.9μmol)を加えマイクロウェーブ波照射下、200℃で1時間攪拌した。
反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて
乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル/へキサン)で精製し、粗生成物として標題化合物得た。
LCMS: m/z 442 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.30分 (分析条件D)
[製造例695]
化合物U8−3−2
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3,4−ジカルボニトリル


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物U8−3−1より標題化合物(9
.5mg,59%)を得た。
LCMS: m/z 402 [M+H]
HPLC保持時間: 2.40分 (分析条件D)
[製造例696]
化合物U8−4−1
8−((R)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−4−
ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物U9の合成法と同様の条件で、化合物U8−1より標題化合物(9.5mg,59
%)を粗生成物として合成した。
LCMS: m/z 433 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.34分 (分析条件A)
[製造例697]
化合物U8−4−2
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−4−ヒドロキシ−6,6−ジメチ
ル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボ
ニトリル


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物U8−4−1(粗生成物)より標
題化合物(9.7mg,52%)を得た。
LCMS: m/z 393 [M+H]
HPLC保持時間: 1.69分 (分析条件A)
[製造例698]
化合物U8−4−3
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−4−メトキシ−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


窒素雰囲気下、8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−4−ヒドロキシ−
6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−3−カルボニトリル(化合物U8−4−2、8.0mg, 20.39μmol)を
メタノール(2.0mL)とクロロホルム(2.00mL)に溶解し、トリメチルシリル
ジアゾメタン(ジエチルエーテル溶液,2 M,15.3μL, 30.58μmol)
とジイソプロピルエチルアミン(0.05 mL)を加え、室温で31時間攪拌した。反
応液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール/
ジクロロメタン)で精製し、標題化合物(5.1mg,62%)を得た。
LCMS: m/z 407 [M+H]
HPLC保持時間: 3.74分 (分析条件A)
[製造例699]
化合物U8−5−1
8−((R)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,
6−ジメチル−11−オキソ−4−トリフルオロメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


窒素雰囲気下、4−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン
−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−
ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物U8−1、25.0mg, 5
0.47μmol)をDMF(0.75mL)に溶解し、ヨウ化銅(I)(48.0mg
, 252.3μmol)とジフルオロ−フルオロスルホニル−酢酸 メチルエステル(
31.9μL, 252.3μmol)を加え100℃で2日間攪拌した。反応液を塩酸
(1 M)に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、粗生成物として標題化合物を得た。
LCMS: m/z 485 [M+H]+
HPLC保持時間: 2.88分 (分析条件A)
[製造例700]
化合物U8−5−2
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−4−トリフルオロメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3
−カルボニトリル


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物U8−5−1より標題化合物(4
.0mg,30%)を合成した。
LCMS: m/z 445 [M+H]
HPLC保持時間: 2.17分 (分析条件A)
[製造例701]
化合物U8−6−1
4−シクロプロピル−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−
イルメトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


窒素雰囲気下、2−シクロプロピル−4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジ
オキサボロラン(13.2mg, 78.73μmol)とリン酸カリウム(212.2
7mg, 212.0μmol)を水(0.20mL)に溶解し、室温で15分間攪拌し
た。反応液に4−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−
4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物U8−1、30.0mg, 60
.56μmol)、酢酸パラジウム(1.36mg, 6.056μmol)、トリシク
ロヘキシルホスフィン(トルエン溶液,20wt%,17.0mg, 12.11μmo
l)を加え、80℃で24時間攪拌した。反応液を塩酸(1M)に注ぎ、酢酸エチルで抽
出し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮
して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精
製し、標題化合物(13.6mg,49%)を得た。
LCMS: m/z 457 [M+H]
HPLC保持時間: 2.38分 (分析条件D)
[製造例702]
化合物U8−6−2
4−シクロプロピル−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジ
メチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物U8−6−1より標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 417 [M+H]
HPLC保持時間: 2.42分 (分析条件A)
[製造例703]
化合物U8−7−1
(S)−8−((2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)メトキシ)−4
,6,6−トリメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−3−カルボニトリル


窒素雰囲気下、4−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン
−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−
ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物U8−1、30.0 mg,
60.56 μmol)と塩化リチウム(7.70 mg, 181.7 μmol)を
DMF(1.00 mL)に溶解し、テトラメチルスズ(12.5 μL, 90.84
μmol)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(3.50 mg, 6.
056 μmol)、トリシクロヘキシルホスフィン(トルエン溶液,20wt%,17
.0 mg, 3.028 μmol)を加え、100℃で24時間攪拌した。反応液を
塩酸(1 M)に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、8−((S)−2,2−ジメチル−[
1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−4,6,6−トリメチル−11−オキソ−
6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(20.9
mg,80%)を粗生成物として得た。
[製造例704]
化合物U8−7−2
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−4,6,6−トリメチル−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物U8−7−1より標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 391 [M+H]
HPLC保持時間: 1.82分 (分析条件A)
[製造例705]
化合物U8−8−1
3−シアノ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カ
ルバゾール−4−カルボン酸 アミド


窒素雰囲気下、4−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン
−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−
ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物U8−1、30.0mg, 6
0.56μmol)、酢酸パラジウム(1.36mg, 6.056μmol)、1,1
’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(3.36mg, 6.056μmol)
、イミダゾール(4.12mg, 60.56μmol)、tert−ブトキシカリウム
(10.2mg, 90.84μmol)をホルムアミド(3.00 mL)に溶解し、
マイクロウェーブ波照射下、180℃で5分間攪拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチル
で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール/ジクロロメタン)で
精製し、目的物(7.6mg,27%)を得た。
LCMS: m/z 460 [M+H]
HPLC保持時間: 1.82分 (分析条件A)
[製造例706]
化合物U8−8−2

3−シアノ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−4−カルボン酸


化合物A7−14−2の合成法と同様の条件で、化合物U8−8−1より標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 421 [M+H]
HPLC保持時間: 1.57分 (分析条件A)
[製造例707]
化合物U8−8−3
3−シアノ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−4−カルボン酸
アミド


化合物U8−8−2の合成の際の副生成物として、標題化合物を得た。
LCMS: m/z 420 [M+H]
HPLC保持時間: 1.27分 (分析条件A)
[製造例708]
化合物U9
4−ヒドロキシ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


窒素雰囲気下、4−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物U5、10
.0mg, 25.30μmol)、X−phos(1.07mg, 2.530μmo
l)、水酸化ナトリウム(4.36mg, 75.90μmol)およびPddba
・CHCl(1.31mg, 1.265μmol)をジオキサン(0.50 mL)
と水(0.50 mL)に溶解し、100℃で1時間攪拌した。反応液を塩酸(1 M)
に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥し、ろ過し
、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキ
サン)で精製した後、ジクロロメタンで洗浄し標題化合物(5.4mg,64%)を得た

LCMS: m/z 333 [M+H]
HPLC保持時間: 1.62分 (分析条件D)
[製造例709]
化合物U10−1
4−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−8−メトキシ−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物U9と(S)−(+)−2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソラン−4−メタノールを反応させて、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 407 [M+H]
HPLC保持時間: 2.06分 (分析条件A)
[製造例710]
化合物U10−2
4−((S)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−8−メトキシ−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物U9と(R)−(−)−2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソラン−4−メタノールを反応させて、標題化合物を合成した。。
LCMS: m/z 407 [M+H]
HPLC保持時間: 2.06分 (分析条件A)
[製造例711]
化合物U11
4−アミノ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5
H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


窒素雰囲気下、4−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物U5、25
.0mg, 63.25μmol)、ヨウ化銅(2.41 mg,12.65 μmol
)、アジ化ナトリウム(20.6mg, 316.3μmol)、(1S,2S)−N,
N’−ジメチル−シクロヘキサン−1,2−ジアミン(2.70mg, 18.98μm
ol)、アスコルビン酸ナトリウム(1.25mg, 6.325μmol)をエタノー
ル(0.70mL)と水(0.30mL)に溶解し、100℃で2時間攪拌した。反応液
を水酸化ナトリウム水溶液(1 M)に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗
浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(メタノール/ジクロロメタン)で精製し、標題化合物(5.6m
g,27%)を得た。
LCMS: m/z 332 [M+H]
HPLC保持時間: 2.16分 (分析条件A)
[製造例712]
化合物V2
3−フルオロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
b]カルバゾール


窒素雰囲気下、7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン
−2−オン(化合物A2,101.0mg,0.495mmol)と(3−フルオロ−フ
ェニル)−ヒドラジン塩酸塩(化合物V1,96.5mg,0.593mmol)の酢酸
(1mL)懸濁液を外温95℃で3.75時間撹拌した。室温に冷却後、反応混合物に水
(1mL)及びヘキサン/酢酸エチル(15:1)(0.5mL)を添加し、室温で15
分間撹拌した。固体を濾取し、ヘキサン/酢酸エチル(15:1)で洗浄後、減圧下乾燥
して標題化合物(ベージュ粉末,72.7mg,50%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDCL) δ: 7.92−7.82 (1
H, b), 7.47 (1 H, dd, 8.9 Hz, 5.6 Hz), 7
.10−7.03 (2 H, m), 6.95−6.81 (2 H, m), 4
.05 (2 H, s), 3.86 (3 H, s), 1.67 (6 H,
s)
[製造例713]
化合物V3
3−フルオロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オン


窒素雰囲気下、3−フルオロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール(化合物V2,72.4mg,0.245mmol)の
THF(1.8mL)−水(0.18mL)溶液にDDQ(122.4mg,0.539
mmol)を添加し、室温で5時間撹拌した。反応混合物にジエチルエーテル及び0.5
N水酸化ナトリウム水溶液(2mL)を添加し、混合物をジエチルエーテルで2回抽出し
た。有機層を0.5N水酸化ナトリウム水溶液(2mL)で2回、続いて食塩水(2mL
)で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物にヘキサン
/酢酸エチル(5:1)及びジエチルエーテルを添加し、固体を粉砕後、上澄みを除去し
て減圧乾燥後、標題化合物(黄色固体,57.0mg,75%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDCL) δ: 8.54−8.44 (1
H, b), 8.43−8.33 (2 H, m), 7.16−6.98 (4
H, m), 3.93 (3 H, s), 1.77 (6 H, s)
[製造例714]
化合物V4
3−フルオロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カ
ルバゾール−11−オン


3−フルオロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オン(化合物V3,56.6mg,0.183mmol)と塩化ピリジ
ニウム(0.65g)の混合物を外温160℃で12時間撹拌した。反応混合物を室温に
冷却後、酢酸エチル及び水を添加し、混合物を酢酸エチルで4回抽出した。有機層を水で
3回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物(褐色固体,6
1.6mg,100%)を精製せずに次工程に用いた。
H−NMR(270 MHz, CDOD) δ: 8.20 (1 H, dd
, 8.9 Hz, 5.3 Hz), 8.15 (1 H, d, 9.6 Hz)
, 7.17 (1 H, dd, 9.6 Hz, 2.3 Hz), 7.12 (
1 H, d, 2.3 Hz), 7.05−6.95 (1 H, m), 6.8
8 (1 H, dd, 8.9 Hz, 2.3 Hz), 1.74 (6 H,
s)
[製造例715]
化合物V5−1
8−[(1R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−3−フルオロ−6,
6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、3−フルオロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−
ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化合物V4,0.183mmol)、(4S,
5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチ
ル−[1,3]ジオキソラン−4−オール(75.9mg,0.275mmol)及びト
リフェニルホスフィン(72mg,0.275mmol)のTHF(1.5mL)溶液に
室温でDEADのトルエン溶液(125μL,0.275mmol)を滴下した。反応混
合物を外温40℃で7時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応混合物を減圧濃縮し、得
られた粗生成物をpreparative TLC (Merck 60 F254,0
.5 mm)にて精製{溶離液:ヘキサン/酢酸エチル(3:1)}し、標題化合物(淡
橙色アモルファス,54.1 mg,53.4%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDCL) δ: 8.54−8.45 (1
H, b), 8.42−8.33 (2 H, m), 7.17−6.99 (4
H, m), 4.41−4.27 (2 H, m), 4.25−4.15 (1
H, m), 4.06−3.96 (1 H, m), 3.96−3.88 (1
H, m), 3.83−3.74 (1 H, m), 1.76 (3 H, s)
, 1.75 (3 H, s), 1.48 (3 H, s), 1.47 (3
H, s), 0.87 (9 H, s), 0.092 (6 H, s)
[製造例716]
化合物V5−2
3−フルオロ−6,6−ジメチル−8−((3R,4R)−2,3,4−トリヒドロキシ
−ブトキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、8−[(1R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオ
キシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−3−
フルオロ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オ
ン(化合物V5−1,52.8mg,0.0954mmol)のTHF(0.3mL)−
MeOH(0.1mL)溶液に室温で0.5M硫酸水溶液(0.19mL,0.0954
mmol)を添加した。反応混合物を外温55℃で4時間撹拌後、室温に冷却してジエチ
ルエーテル、続いて炭酸水素ナトリウム(20mg)及び水を添加した。混合物をジエチ
ルエーテルで2回続いて酢酸エチルで2回抽出し、有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をジクロロメタンで洗浄後、減圧下乾燥
して標題化合物(白色粉末,29.9mg,78%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDOD) δ: 8.24 (1 H, d,
8.9 Hz), 8.19 (1 H, dd, 8.6 Hz, 5.3 Hz)
, 7.30 (1 H, d, 2.3 Hz), 7.18 (1 H, dd,
9.2 Hz, 2.3 Hz), 7.09 (1 H, dd, 8.9 Hz,
2.3 Hz), 7.06−6.96 (1 H, m), 4.32−4.22 (
1 H, m), 4.21−4.12 (1 H, m), 4.11−4.02 (
1 H, m), 3.84−3.75 (1 H, m), 3.74−3.61 (
2 H, m), 1.77 (6 H, s)
LCMS: m/z 400 [M+H]
HPLC保持時間: 4.02分 (分析条件H)
[製造例717]
化合物W2
7−((S)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


ナトリウム−t−ブトキシド(700mg、2.5当量)のトルエン懸濁液に、8−メト
キシ−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物W1、500mg、2.
9mmol)を0℃で滴下した。15分後には溶液は黒緑色に変化した。当混合溶液に対
して、メチルヨージド(1.03g, 2.5当量)を滴下して加え、15℃で終夜撹拌
を行った。褐色の沈殿が生じた。反応液を飽和塩化アンモニウム水/ジエチルエーテルに
撹拌しながら冷却下加え、ジエチルエーテルで抽出を行い、硫酸ソーダで乾燥した。減圧
下溶媒を除去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル
/ヘキサン)で精製を行い、8−メトキシ−1、1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H
−ナフタレン−2−オン(350mg)得た。
得られた8−メトキシ−1、1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−
オン(250mg、1.23mmol)と3−シアノフェニルヒドラジン(0.2g,1
.2等量)をトリフルオロ酢酸(1mL)に溶解し、マイクロウェーブ照射下、120℃
にて1時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、および飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮
して得られた残渣を10%含水THF(3mL)に溶解し、室温にてDDQ(227mg
,3等量)を加え、室温にて2時間撹拌した。反応液にTHF/ジエチルエーテル1:1
の混合液を加え、0.5N水酸化ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ソ
ーダにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製し、7−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(褐色
固体、54mg)を得た。
LCMS: m/z 317 [M+H]
HPLC保持時間: 1.00分 (分析条件I)
[製造例718]
化合物W3
7−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物A6と同様の条件で、化合物W2より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 316[M+H]
HPLC保持時間: 0.93分 (分析条件I)
[製造例719]
化合物W4−1
7−((R)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,
6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3−カルボニトリル


窒素雰囲気下、7−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル(化合物W3、15mg,0.0
5mmol)およびトリフェニルホスフィン(40mg,3等量)にTHF(1ml)を
加え、((R)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル)−メタノール
(20mg,3等量)およびアゾジカルボン酸ジエチル トルエン溶液 2.19規定(
68μL,3等量)を滴下し、50℃で2時間撹拌した。放冷後、反応液に酢酸エチルを
加え、食塩水にて洗浄し、硫酸ソーダにて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮して得られた残渣を
分取TLC(酢酸エチル/ジクロロメタン)で精製し、得られた固体をジクロロメタンに
て洗浄し、目的物(褐色粉末、5mg)を得た。
LCMS: m/z 417 [M+H]
HPLC保持時間: 1.04分(分析条件I)
[製造例720]
化合物W4−2
7−((S)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物S7−2と同様の条件で、化合物W4−1より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 377 [M+H]
HPLC保持時間: 0.88分 (分析条件I)
[製造例721]
化合物X1
1,1−スピロ−4−ピペリジン−N−パラトルエンスルホニル−7−メトキシ−3,4
−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン


7−メトキシ−3、4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物A1、100m
g,0.568 mmol)をトルエン(4mL)に溶解し、NaH(60% in o
il,68mg,3eq)を加え、室温で10分間撹拌した。この混合液にビス−(2−
ヨード−エチル)−p−トルエンスルホンアミド(172mg、0.568mmol)を
加え窒素気流下70度で2時間攪拌した。放冷後反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に
空け、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧
濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル/
3:1)で精製し、標題化合物(無色油状物、62mg、33%)を得た。
LCMS: m/z 400 [M+H]
HPLC保持時間: 2.02分 (分析条件B)
[製造例722]
化合物X2
1,1−スピロ−4−ピペリジン−N−パラトルエンスルホニル−7−メトキシ−3,4
−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン


1,1−スピロ−4−ピペリジン−N−パラトルエンスルホニル−7−メトキシ−3,4
−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物X1,400mg,1.0mmol)
、フェニルヒドラジン(217mg、1.5eq)、酢酸(6mL)に溶解し、窒素雰囲
気下、120度、4時間撹拌した。放冷後反応液を水に空け、酢酸エチルで抽出、飽和食
塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル/4:1)で精製し標題化合物(茶
色固体、185mg、43%)を得た。
LCMS: m/z 473 [M+H]
HPLC保持時間: 7.23分 (分析条件B)
[製造例723]
化合物X3
6,6−スピロ−4−ピペリジン−N−パラトルエンスルホニル−8−メトキシ−5,6
−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


6,6−スピロ−4−ピペリジン−N−パラトルエンスルホニル−8−メトキシ−5,6
−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール(化合物X2,400mg,0.848
mmol)、DDQ(770mg、4eq)をTHF(10mL)、水(2mL)に溶解
し、50度、5時間撹拌した。放冷後反応液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液に空け、酢酸
エチルで抽出、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル/3:1)で
精製し得られた固体をエチルエーテルで洗浄し、標題化合物(黄色固体、86mg、21
%)を得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 11.9 (1 H, s
), 8.22 (2 H, m), 7.75 (2 H, d), 7.60(4H
,m)7.30(2H, m),7.11(1H, d),3.81(2H, m),3
.68(3H,s),3.62(2H, m),2.49(3H, s),2.21(2
H, m),2.10(2H, m),
LCMS: m/z 487 [M+H]
HPLC保持時間: 6.05分 (分析条件B)
[製造例724]
化合物X4
6,6−スピロ−4−ピペリジン−8−ヒドロキシ−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カ
ルバゾール−11−オン


6,6−スピロ−4−ピペリジン−N−パラトルエンスルホニル−8−メトキシ−5,6
−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化合物X3,35mg,0.07
2mmol)、ピリジン塩酸塩(800mg)の混合物を、封管中160度、10時間撹
拌した。放冷後、反応液を水に空け、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マ
グネシウムにて乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(ジクロロメタン:メタノール/4:1)で精製し、標題化合物(黄色固体、30m
g、98%)を得た。
H−NMR(400 MHz, DMSO−d) δ: 8.20 (1 H, m
), 8.10(1H, m),7.53(1H, m), 7.25(3H, m),
6.80(1H,m), 3.60(2H,m), 3.45(2H, m), 2.
52(2H, m), 2.05(2H, m).
LCMS: m/z 319 [M+H]
HPLC保持時間: 2.86分 (分析条件B)
[製造例725]
化合物X5
8−(2−ジエチルアミノエトキシ)−6,6−スピロ−4−ピペリジン−8−ヒドロキ
シ−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


6,6−スピロ−4−ピペリジン−8−ヒドロキシ−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カ
ルバゾール−11−オン(化合物X4,30mg,0.094 mmol)、ジエチルア
ミノエタノール(22mg、2eq),トリフェニルフォスフィン(50mg、2eq)
,DIAD(39mg,2eq)をTHF(4mL)に溶解し、室温で4時間撹拌した。
反応液を水に空け、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾
燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメ
タン:メタノール/4:1)で精製し、標題化合物(黄色油状物、6.8mg、17%)
を得た。
LCMS: m/z 418 [M+H]
HPLC保持時間: 2.75分 (分析条件B)
[製造例726]
化合物Y2
2,3−ジクロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベン
ゾ[b]カルバゾール


窒素雰囲気下、7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン
−2−オン(化合物A2,92.3mg,0.452mmol)と(3,4−ジクロロフ
ェニル)ヒドラジン塩酸塩(化合物Y1,96.5mg,0.452mmol)の酢酸(
1mL)懸濁液を外温90℃で3.5時間撹拌した。室温に冷却後、反応混合物にジエチ
ルエーテル及び水を添加し、得られた混合物をジエチルエーテルで2回抽出した。有機層
を水で3回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をフラッ
シュカラムクロマトグラフィー{Merck Kieselgel60,溶離液:ヘキサ
ン/酢酸エチル(4:1)}にて精製し、標題化合物(淡黄色固体,62.1mg,40
%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDCL) δ: 7.92−7.84 (1
H, b), 7.62 (1 H, s), 7.46 (1 H, s), 7.0
5 (1 H, d, 2.6), 6.84 (1 H, dd, 8.6 Hz,
2.6 Hz), 4.01 (2 H, s), 3.86 (3 H, s), 1
.67 (6 H, s)
[製造例727]
化合物Y3
2,3−ジクロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]
カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、2,3−ジクロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール(化合物Y2,61.0mg,0.176mmol
)の1,4−ジオキサン(1.7mL)−水(0.1mL)溶液にDDQ(120mg,
0.529mmol)を添加し、室温で16時間15分間撹拌した。反応混合物をフラッ
シュカラムクロマトグラフィー{Merck Kieselgel60,溶離液:ヘキサ
ン/酢酸エチル(2:1)}にて精製し、標題化合物(淡橙色固体,16.7mg,26
%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDCL) δ: 8.55 (1 H, s)
, 8.42−8.36 (1 H, b), 8.39 (1 H, d, 8.6
Hz), 7.54 (1 H, s), 7.08 (1 H, d, 2.3 Hz
), 7.03 (1 H, dd, 8.6 Hz, 2.3 Hz), 3.93
(3 H, s), 1.76 (6 H, s)
[製造例728]
化合物Y4
2,3−ジクロロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b
]カルバゾール−11−オン


2,3−ジクロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]
カルバゾール−11−オン(化合物Y3,16.5mg,0.0457mmol)と塩化
ピリジニウム(0.2g)の混合物を外温160℃で7時間撹拌した。反応混合物を室温
に冷却後、酢酸エチル及び水を添加し、混合物を酢酸エチルで3回抽出した。有機層を水
で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物(褐色固体,
14.8mg,94%)を精製せずに次工程に用いた。
H−NMR(270 MHz, CDOD) δ: 8.34 (1 H, s)
, 8.14 (1 H, d, 8.6 Hz), 7.61 (1 H, s),
7.10 (1 H, d, 2.3 Hz), 6.89 (1 H, dd, 8.
6 Hz, 2.3 Hz), 1.75 (1 H, s)
[製造例729]
化合物Y5−1
8−[(1R,5R)−5−(tert−ブチルジメチルシラニルオキシメチル)−2,
2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−2,3−ジクロロ−6,
6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、2,3−ジクロロ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒド
ロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(化合物Y4,12.9mg,0.0373
mmol)、(4S,5R)−5−(tert−ブチルジメチルシラニルオキシメチル)
−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−オール(15.5mg,0.055
9mmol)及びトリフェニルホスフィン(14.7mg,0.0559mmol)のT
HF(0.3mL)溶液に室温でDEADのトルエン溶液(25.4μL,0.0559
mmol)を滴下した。反応混合物を外温40℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後
、反応混合物を減圧濃縮し、得られた粗生成物をpreparative TLC (M
erck 60 F254,0.5 mm)にて精製{溶離液:ヘキサン/酢酸エチル(
3:1)}し、標題化合物(白色固体,15.1mg,67%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDCL) δ: 8.55 (1 H, s)
, 8.44−8.37 (1 H, b), 8.37 (1 H, d, 8.6
Hz), 7.54 (1 H, s), 7.15 (1 H, d, 2.6 Hz
), 7.03 (1 H, dd, 8.6 Hz, 2.6 Hz), 4.41−
4.26 (2 H, m), 4.25−4.15 (1 H, m), 4.06−
3.86 (2 H, m), 3.83−3.73 (1 H, m), 1.76
(3 H, s), 1.75 (3 H, s), 1.48 (3 H, s),
1.47 (3 H, s), 0.90 (9 H, s), 0.092 (6 H
, s)
[製造例730]
化合物Y5−2
2,3−ジクロロ−6,6−ジメチル−8−((3R,4R)−2,3,4−トリヒドロ
キシ−ブトキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


窒素雰囲気下、8−[(1R,5R)−5−(tert−ブチルジメチル−シラニルオキ
シメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−2,3
−ジクロロ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−
オン(化合物Y5−1,14.6mg,0.0242mmol)のTHF(0.2mL)
−MeOH(0.1mL)溶液に室温で0.5 M硫酸水溶液(96.6μL,0.04
83mmol)を添加した。反応混合物を外温55℃で3時間撹拌後、室温に冷却してジ
エチルエーテル、続いて炭酸水素ナトリウム(10mg)を添加した。混合物をジエチル
エーテルで2回抽出し、有機層を水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
濃縮した。得られた粗生成物をジクロロメタンで洗浄後、減圧下乾燥して標題化合物(白
色固体,8.3mg,76%)を得た。
H−NMR(270 MHz, CDOD) δ: 8.35 (1 H, s)
, 8.24 (1H, d, 8.9 Hz), 7.62 (1 H, s), 7
.31 (1 H, d, 2.3 Hz), 7.10 (1 H, dd, 8.9
Hz, 2.3 Hz), 4.31−4.23 (1 H, m), 4.12−4
.12 (1 H, m), 4.11−4.02 (1H, m), 3.84−3.
74 (1 H, m), 3.73−3.61 (1 H, m), 1.78 (6
H, s)
LCMS: m/z 450 [M+H]
HPLC保持時間: 4.92分 (分析条件H)
[製造例731]
化合物Z3
2−[1−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−1−メチルエチル]−ベンゾ[b
]チオフェン


2−(2−ブロモ−5−メトキシフェニル)−2−メチル−プロピオン酸(1.5g、5
.5mmol)を塩化メチレン(15mL)に溶解し、オキザリルクロライド(1.5m
L)、ジメチルフォルムアミド(2マイクロL)を室温で加え、室温で30分攪拌した。
溶媒を除去後、残渣をトルエンに溶解し、室温で2−[(トリフェニル−5−ホスファニ
ル)−メチル]−ベンゼンチオール ハイドロブロマイド(2.56g、5.5mmol
)、トリエチルアミン(2.27mL)を加え、30分加熱還流後、O度に冷却しリチウ
ムヘキサメチルジシラジド(1Mテトラヒドロフラン溶液、5.5mL)を加え、24時
間加熱還流した。反応混合物を、酢酸エチルで抽出し、水で洗浄した。有機層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(0.55g、28%)を得た。
H−NMR (270MHz、CDCl3) δ: 6.61 (1 H, s),3
.37 (3 H, s), 1.83 (6 H, s)
[製造例732]
化合物Z4
2−(1−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1−メチル−エチル)−4−メトキシ−
安息香酸


2−[1−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−1−メチルエチル]−ベンゾ[b
]チオフェン (化合物Z3、40mg、0.11mmol)をテトラヒドロフラン(0
.5mL)に溶解し、−78度に冷却後、n−ブチルリチウム (1.57M、ヘキサン
溶液、0.07mL)を加え、10分間攪拌した。反応混合物にドライアイスを加え、1
時間放置後、0.5N 塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、水で洗浄した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(22mg、55%)を得た。
H−NMR (270MHz、CDCl3) δ: 7.46 (1 H, d),7
.44 (1 H, d), 6.92 (s、1H), 6.70 (d、1H),
3.84 (s、3H), 1.89 (6 H, s)
[製造例733]
化合物Z5
8−メトキシ−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]チオフェン
−11−オン


2−(1−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−1−メチルエチル)−4−メトキシ−安
息香酸 (化合物Z4、68mg、0.22mmol)にポリリン酸 (3.5g)を加
え、100度で1時間加熱攪拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、水で洗浄した。有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(41 mg、 63%
)を得た。
LCMS: m/z 309 [M+H]
HPLC保持時間: 2.89分 (分析条件C)
[製造例734]
化合物Z6
8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]チオフェ
ン−11−オン


化合物A6と同様の条件で、化合物Z5より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 295 [M+H]
HPLC保持時間: 2.91分 (分析条件F)
[製造例735]
化合物Z7
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト
[2,3−d]チオフェン−11−オン


化合物A7−17の合成と同様の手法で、化合物Z6より標題化合物を得た。
LCMS: m/z 394 [M+H]
HPLC保持時間: 5.06分 (分析条件F)
[製造例736]
化合物Z9
2−ブロモ−1,3−ジハイドロキシテトラヒドロピランベンゼン


4−ブロモ−ベンゼン−1,3−ジオール(化合物Z8、20g、105.8mmol)
、および3,4−ジヒドロ−2H−ピラン(38.6mL)にピリジウムパラトルエンス
ルフォネイト(266 mg)を加え、50度で1時間攪拌した。減圧濃縮して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化
合物(31.82mg、84%)を得た。
LCMS: m/z 358 [M+H]
HPLC保持時間: 3.15分 (分析条件C)
[製造例737]
化合物Z10
3−(2,4−ジヒドロキシ−フェニル)−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−
ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン


7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、10g)、2−ブロモ−1,3−ジハイドロキシテトラヒドロピランベンゼン
(化合物Z9、20.98g)、ナトリウム t−ブトキシド(5.88g)、酢酸パラ
ジウム(550mg)、トリ−t−ブチルホスホニウム テトラフルオロホウ酸塩(71
0 mg)にトルエン(40mL)を加え、窒素雰囲気下 70度で6時間加熱攪拌した
。反応混合物に冷却後、室温でメタノール(38mL)、トリフルオロ酢酸(14.54
mL)を加え、室温で一昼夜攪拌した。残渣に塩化メチレン、飽和リン酸水素二カリウ
ムを加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。減
圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン
)で精製し、標題化合物(5.53g、36%)を得た。
LCMS: m/z 312 [M+H]
HPLC保持時間: 2.39分 (分析条件F)
[製造例738]
化合物Z11
トリフルオロメタンスルホン酸 8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ
−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−3−イル エステル


3−(2,4−ジヒドロキシ−フェニル)−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−
ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物Z10、5.53g)を塩化メチレン(
40mL)に溶解し、無水トリフルオロメタンスルフォン酸(2.98mL)を室温で加
えた。5度に冷却後、ジイソプロピルエチルアミン(9.25mL)、無水トリフルオロ
メタンスルフォン酸(4.47mL)を加えた。反応混合物に塩化メチレン、飽和リン酸
水素二カリウムを加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル/へキサン)で精製し、標題化合物(4.82g、 64%)を得た。
LCMS: m/z 427 [M+H]
HPLC保持時間: 8.95分 (分析条件H)
[製造例739]
化合物Z12
トリフルオロメタンスルホン酸 8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,
11−ジヒドロ−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−3−イル エステル


トリフルオロメタンスルホン酸 8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ
−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−3−イル エステル(化合物Z11、4.
82g)をアセトニトリル (48mL)、水(24mL)に溶解し、亜塩素酸ナトリウ
ム(2.55g)、N−ハイドロキシフタルイミド(369mg)を加え、40度で1時
間攪拌した。反応混合物に塩化メチレンを加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(2.80g、56%)を
得た。
LCMS: m/z 441 [M+H]
HPLC保持時間: 8.02分 (分析条件H)
[製造例740]
化合物Z13
トリフルオロメタンスルホン酸 8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6
,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−3−イル エステル


化合物A6と同様の条件で、化合物Z12より標題化合物を粗生成物として得た。
[製造例741]
化合物Z14
トリフルオロ−メタンスルホン酸 8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジ
メチル−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イ
ルメトキシ]−6,6ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]ナフ
ト[2,3−d]フラン−3−イル エステル


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物Z13と[5−(tert−ブチルジメ
チルシラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル]
−メタノール(化合物T22−0)より、標題化合物を粗生成物として得た。
[製造例742]
化合物Z15
8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−6,6−ジメチル−
11−オキソ−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−3−カ
ルボニトリル


トリフルオロ−メタンスルホン酸 8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジ
メチル−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イ
ルメトキシ]−6,6ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]ナフ
ト[2,3−d]フラン−3−イル エステル(化合物Z14、24mg)をDMF(0
.5mL)に溶解し、シアン化亜鉛(II)(8.2mg)、パラジウムテトラキストリ
フェニルフォスフィン(2.0mg)を加え、マイクロ波照射により200度で20分間
加熱攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(15mg)を得た。
LCMS: m/z 562 [M+H]
HPLC保持時間: 4.14分 (分析条件F)
[製造例743]
化合物Z16
6,6−ジメチル−11−オキソ−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ
−ブトキシ)−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−3−カ
ルボニトリル


化合物S7−2と同様の条件で、化合物Z15より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 408 [M+H]
HPLC保持時間: 4.51分 (分析条件H)
[製造例744]
化合物K7−5 4−(3−シアノ−9−メトキシ−6、6−ジメチル−11−オキソ−
6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−8−イル)−3、6−ジヒドロ
−2H−ピリジン−1−カルボン酸tert−ブチル エステル


化合物B2−22−1の合成法と同様の条件で、化合物K6と4−(4,4,5,5−テ
トラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−3,6−ジヒドロ−2H−
ピリジン−1−カルボン酸 tert−ブチル エステルより標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 498 [M+H]
HPLC保持時間: 4.24分 (分析条件W)
[製造例745]
化合物K7−6
9−メトキシ−6、6−ジメチル−11−オキソ−8−(1、2、3、6−テトラヒドロ
−ピリジン−4−イル)−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3−
カルボニトリル


化合物A8−1の合成に用いた手法と同様の条件で、化合物K7−5より標題化合物を合
成した。LCMS: m/z 398 [M+H]
HPLC保持時間: 2.57分 (分析条件W)
[製造例746]
化合物K8−1
8−(1−シクロブチル−1、2、3、6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−9−
メトキシ−6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]
カルバゾ−ル−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成に用いた手法と同様の条件で、化合物K7−6とシクロブタノン
より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 452 [M+H]
HPLC保持時間: 2.72分 (分析条件W)
[製造例747]
化合物K8−2
8−(1−シクロブチル−ピペリジン−4−イル)−9−メトキシ−6、6−ジメチル−
11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3−カルボニト
リル


化合物B3−13−1の合成に用いた手法と同様の条件で、化合物K8−1より標題化合
物を合成した。
LCMS: m/z 454 [M+H]
HPLC保持時間: 2.76分 (分析条件W)
[製造例748]
化合物K9−5
8−(1−シクロブチル−ピペリジン−4−イル)−9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


化合物E3−2の合成に用いた手法と同様の条件で、化合物K8−2より標題化合物を合
成した。
LCMS: m/z 440 [M+H]
HPLC保持時間: 2.57分 (分析条件W)
[製造例749]
化合物K10−8
8−(1−シクロブチル−ピペリジン−4−イル)−9−イソプロポキシ−6,6−ジメ
チル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


化合物A7−17と同様の条件で化合物K9−5とヨウ化イソプロピルより標題の化合物
を合成した。
LCMS: m/z 482 [M+H]
HPLC保持時間: 1.74分 (分析条件S)

以下の表2および3の化合物は化合物K、Lの系統の中間体を用いて化合物A7−1に用
いた光延反応、あるいは化合物A7−17の合成に用いた手法をもちいて(表記載)、水
酸基をアルキル化し合成した。

以下の表4の化合物は化合物Bの系統の中間体から表に記載の手法で合成した。
[製造例777]
化合物E6−4
9−エチル−8−ヒドロキシ−6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−
5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−3−カルボニトリル


化合物E3−2の合成法と同様の条件で、化合物E5−1より表題化合物を合成した。
LCMS: m/z 331 [M+H]
HPLC保持時間: 3.42分 (分析条件W)
[製造例778]
化合物E7
トリフルオロ−メタンスルホン酸 3−シアノ−9−エチル−6、6−ジメチル−11−
オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−8−イル エステル


化合物B1の合成法と同様の条件で、化合物E6−4より標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 463 [M+H]
HPLC保持時間: 4.39分 (分析条件W)
[製造例779]
化合物E8−19−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペラジン−1−イ
ル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の手法で、化合物E7とピペラジンより標題の化合物を合
成した。
LCMS: m/z 399 [M+H]
HPLC保持時間: 1.88分 (分析条件U)
[製造例780]
化合物E8−29−エチル−6、6−ジメチル−8−((S)−3−メチル−ピペラジン
−1−イル)−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−ル−
3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物E7および2−(S)−メチルピペラジ
ンより標題の化合物を合成した。
LCMS: m/z 413 [M+H]
HPLC保持時間: 2.76分 (分析条件W)
[製造例781]
化合物E8−38−((3R,5S)−3,5−ジメチル−ピペラジン−1−イル)−9
−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]
カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物B2−1の合成法と同様の条件で、化合物E7とシス−2,6−ジメチルピペラジ
ンより標題の化合物を合成した。
LCMS: m/z 427 [M+H]
HPLC保持時間: 2.00分 (分析条件U)
[製造例782]
化合物E8−4
8−(1−シクロブチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ピリジン−4−イル)−9−
エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カ
ルバゾール−3−カルボニトリル
化合物7を化合物B2−22−1および2と同様の手法で変換し、ついで化合物B3−3
2と同様の手法で還元的アミノ化を行い表題の化合物を合成した。


LCMS: m/z 450 [M+H]
HPLC保持時間: 2.12分 (分析条件U)
[製造例783]
化合物E9−1
8−((S)−4−シクロブチル−3−メチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−
6、6−ジメチル−11−オキソ−6、11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾ−
ル−3−カルボニトリル


化合物B3−32の合成法と同様の条件で、化合物E8−2とシクロブタノンより標題化
合物を合成した。
LCMS: m/z 467 [M+H]
HPLC保持時間: 2.90分 (分析条件W)

以下の表5化合物は化合物E8−1を用いて化合物A9−10と同様の手法でアシル化し
て調製した。
[製造例791]
化合物E9−9
8−[4−(1−シアノ−シクロヘキシル)−ピペラジン−1−イル]−9−エチル−6
,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール
−3−カルボニトリル


9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−6,11−
ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル 45mg,シクロヘ
キサノン25mgをクロロホルム2mlに懸濁しトリメチルシリルシアニド30mgおよ
びヨウ化亜鉛5mgを加え60℃にて17時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル20m
Lで希釈し有機層を10%食塩水液で洗浄した後に減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカ
ラム(ジクロロメタン/メタノール=99/1)で精製し表題化合物12mg(収率30
%)を得た。

LCMS: m/z 506 [M+H]
HPLC保持時間: 3.00分 (分析条件U)

以下の表6の化合物は化合物E9―9と同様の手法で化合物E8−1または化合物PR1
0−1より調製した。

以下の表7の化合物は化合物F2をもちいて化合物B2−1同様の手法でアミノ化した。
ついで化合物B3−32同様の手法で還元的アミノ化することで調製した。
[製造例797]
化合物PR1
2−(4−ビニルフェニル)−2−メチルプロパン酸


2−(4−ブロモフェニル)−2−メチルプロパン酸30g、PPh5.0g、カリウ
ムビニルトリフルオロボレート24.8g、炭酸カリウム51.2g、酢酸パラジウム1
.43gを1−プロパノール198mLおよび蒸留水99mlに溶解し脱気したのち窒素
雰囲気下6時間還流攪拌した。不溶物をろ去し1−プロパノール210mlで洗浄し、ろ
液を減圧下濃縮した。濃縮残渣をCPME300mL、蒸留水150mL(エチレンジア
ミン4.17mlを含む)で分配した後、有機層を除去し、水層は2N塩酸でpH5に調
製した。水層を酢酸イソプロピル240mLおよびヘプタン240mLの混合物で抽出し
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧下濃縮した。これにエタノール 300mlを
加えて懸濁洗浄した。固体をセライトで濾去し、濾液を減圧下濃縮して表題化合物21.
7g(93%)を得た。

H−NMR (400MHz CDCl) δ ppm 7.49−7.34(4H
,m),6.69(1H,dd,J=17.6,11.0Hz),5.72(1H,d,
J=17.6Hz),5.23(1H,d,11.0Hz),1.59(s,6H)
HPLC保持時間: 2.05分 (分析条件S)
[製造例798]
化合物PR2
2−(4−エチルフェニル)−2−メチルプロパン酸


2−(4−ビニルフェニル)−2−メチルプロパン酸58gをエタノールに溶解し10%
パラジウム炭素5.8g上で3時間常圧水素雰囲気下攪拌した。触媒をろ過によって除去
した後、ろ液を濃縮し粗生成物をヘキサンで懸濁洗浄して表題化合物56.5g(94.
8%)を得た。

H−NMR (270MHz DMSO−d) δ ppm 12.28(1H,s
)、7.27−7.22(2H,m)、7.18−7.14(2H,m)、2.56(2
H,q,J=7.6Hz)、1.45(6H,s)、1.16(3H,t,J=7.6H
z)
LCMS: m/z 193 [M+H]
HPLC保持時間: 2.18分 (分析条件S)
[製造例799]
化合物PR3
2−(4−エチル−3−ヨードフェニル)−2−メチルプロパン酸


2−(4−エチルフェニル)−2−メチルプロパン酸58.1g(302.2mmol)
を酢酸(175mL)に溶解し、N−ヨードスクシンイミド71.4g(317.3mm
ol、1.05等量)および濃硫酸75mLを0度にて加え、その後室温で2時間攪拌し
た。反応溶液を0度に冷却後、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液(100mL)を加え
、1時間攪拌した。H2O(450mL)を加え、析出した固体を濾取し粗生成物として
表題化合物を得た。粗生成物にエタノール(150mL)、10%亜硫酸水素ナトリウム
水溶液(50mL)を加え、50度にて加熱溶解させた。溶解を確認後、室温まで冷却し
、H2O(300mL)を加えた後、0度で1時間攪拌した。析出した固体を濾取し、表
題化合物95.8g(99%)を得た。
H−NMR (270MHz DMSO−d) δ ppm 12.46(1H,s
)、7.70(1H,d,J=1.8Hz)、7.32(1H,dd,J=8.1、1.
8Hz)、7.26(1H,d,J=8.1Hz)、2.64(2H,q,J=7.5H
z)、1.43(6H,s)、1.12(3H,t,J=7.5Hz)
HPLC保持時間: 2.53分 (分析条件S)
[製造例800]
化合物PR4
4−(4−エチル−3−ヨードフェニル)−4−メチル−3−オキソペンタン酸 ter
t−ブチル



マロン酸モノ−tert−ブチル72.5gをDME360mLに溶解しTEA189m
Lおよびマグネシウムクロリド29.63gを加え2時間攪拌した。別容器にて、2−(
4−エチル−3−ヨードフェニル)−2−メチルプロパン酸90gのDME360mL溶
液にCDI52.75gを加え室温にて1時間攪拌した溶液を調製し、これを前述の混合
物に滴下しDME90mLで洗いこみ後70℃にて3時間攪拌した。反応混合物を酢酸イ
ソプロピル225mLおよびヘプタン225mLで希釈し有機層を2N塩酸684mL、
0.17N塩酸540mL、15%塩化アンモニウム水溶液540mL、1N水酸化ナト
リウム水溶液540mL、15%食塩水540mLで順に洗浄した。有機層を減圧下濃縮
し表題化合物の粗生成物を得、これを更に精製することなく次工程に使用した。
H−NMR (270MHz DMSO−d) δ :7.64(1H、d、J=2
.0Hz)、7.30(1H,d、J=8.1Hz)、7.24(1H,d、J=8.0
、2.0Hz)、3.32(2H,s)、2.65(2H,q、J=7.4Hz)、1.
40(6H、s)、1.34(9H、s)、1.13(3H、t、J=7.4Hz)
[製造例801]
化合物PR5−1
6−シアノ−2−(2−(4−エチル−3−ヨードフェニル)プロパン−2−イル)−1
H−インドール−3−カルボン酸 tert−ブチル


4−(4−エチル−3−ヨードフェニル)−4−メチル−3−オキソペンタン酸 ter
t−ブチル117.76gをDMF471mLに溶解し炭酸セシウム276.5gを加え
た。4−クロロ−3−ニトロベンゾニトリル63.9gのDMF176.6mL溶液を滴
下(洗い込みDMF58.8mL)し35℃にて6時間攪拌した。混合物にTHF588
.8mL、酢酸エチル588.8mL、酢酸72.87mL、蒸留水588.8mLを加
え分配し水層を除去した。有機層にTHF588.8mLおよび水588.8mLを加え
攪拌しながらハイドロサルファイトナトリウム(80%)147.76gを少しずつ投入
しながら、室温で3時間攪拌した。水層を除去した後に有機層を15%食塩水588.8
mLで洗浄した。有機層に1N塩酸94.2mLを加え1時間攪拌後1N水酸化ナトリウ
ム水溶液329.7mLを加えた。水層を除去した後に、有機層を減圧濃縮した。濃縮残
渣をエタノール824.3mLに溶解し蒸留水247.3mLを滴下し析出した結晶をろ
集し、水:エタノール=1:2の混液588.8mLで洗浄した後乾燥し表題化合物98
.12g(2工程63.5%)を得た。
H−NMR (270MHz DMSO−d) δ :12.04(1H,br.s
)、8.01(1H,d、J=8.4Hz)、7.91(1H,d、J=0.8Hz)、
7.55(1H、d、J=1.8Hz)、7.49(1H,dd、J=1.5、8.4H
z)、7.16(1H,d、J=8.1Hz)、7.07(1H、dd、J=2.0、8
.1Hz)、2.58(2H,q、J=7.4Hz)、1.79(6H,s)、1.23
(9H,s)、1.06(3H,t、J=7.4Hz)
LCMS: m/z 459、515 [M+H]
[製造例802]
化合物PR5−2
6−シアノ−2−(2−(4−エチル−3−ヨードフェニル)プロパン−2−イル)−1
H−インドール−3−カルボン酸 メチル


マロン酸モノメチルおよび2−(4−エチル−3−ヨードフェニル)−2−メチルプロパ
ン酸より化合物PR4および化合物PR5−1と同様の手法で表題化合物を調製した。
H−NMR (270MHz DMSO−D) δ :12.20(s、1H)、8
.06−8.03(m、1H)、7.95−7.94(m、1H)、7.58−7.57
(m、1H)、7.53−7.49(m、1H)、7.17−7.14(m、1H)、7
.06−7.02(m、1H)、3.46(s、3H)、2.65−2.56(q、2H
、J=7.5Hz)、1.78(s、6H)、1.12−1.07(t、3H、J=7.
5Hz)
LCMS: m/z 473 [M+H]
[製造例803]
化合物PR6
6−シアノ−2−(2−(4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−
1−イル)フェニル)プロパン−2−イル)−1H−インドール−3−カルボン酸 te
rt−ブチル 塩酸塩


6−シアノ−2−(2−(4−エチル−3−ヨードフェニル)プロパン−2−イル)−1
H−インドール−3−カルボン酸 tert−ブチル 390.5g、4−モルホリン−
4−イルピペリジン 158g、1,3−ビス−(2,6−ジイソプロピルフェニル)−
イミダゾイル−2−イリデン−(アリル)パラジウム(II)クロリド 8.83gをN
aHMDS(1.9M、THF溶液)1.32LおよびDME1.95Lの混合物に窒素
気流下溶解し40℃にて1時間攪拌した。反応混合物を酢酸イソプロピル1.95Lおよ
び20%塩化アンモニウム溶液1.95Lで分配し有機層を10%食塩水液1.56Lで
2回洗浄した後に減圧下濃縮した。残渣をDME3.9L、水78.1mLの混合物に溶
解しN−アセチルシステイン12.39gを加え45℃にて1時間攪拌した後に不溶物を
ろ過しDME1.95Lで洗浄し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をアセトン5.5Lに溶
解しピリジン塩酸塩96.5gのアセトン195mLおよびエタノール78mLに溶解さ
せた溶液を加え析出した固体をろ集し、アセトン1.95Lで洗浄した後乾燥し表題化合
物373g(83%)を得た。

H−NMR (400MHz DMSO−D) δ :12.03(1H,s)、1
0.75−10.88(1H,m)、7.99(1H,d、J=8.3Hz)、7.93
(1H,d、J=1.3Hz)、7.46(1H,dd、J=1.3、8.1Hz)、7
.10(1H,d、J=7.9Hz)、6.88(1H,dd、J=1.7、7.9Hz
)、6.79(1H,d、J=1.7Hz)、3.91−4.01(2H,m)、3.7
6−3.87(2H,m)、3.37−3.46(2H,m)、3.22(1H,m)、
2.94−3.11(4H,m)、2.57(2H,q、J=7.5Hz)、2.45−
2.53(2H,m)、2.09−2.16(2H,m)、1.80(6H,s)、1.
71−1.77(2H,m)、1.19(9H,s)、1.14(3H,t、J=7.5
Hz)
LCMS: m/z 557 [M+H]
[製造例804]
化合物PR7
6−シアノ−2−(2−(4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−
1−イル)フェニル)プロパン−2−イル)−1H−インドール−3−カルボン酸


6−シアノ−2−(2−(4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−
1−イル)フェニル)プロパン−2−イル)−1H−インドール−3−カルボン酸 te
rt−ブチル塩酸塩 1400gを窒素気流下TFE7Lに懸濁させ、8℃にてTMSC
l 554mLを滴下した。3時間攪拌後、反応液にアセトン5.6Lを加えNaOH水
溶液(1N)4.39L、10%KHPO水溶液 1.4Lを加え中和した。析出し
た固体をろ集し、水:アセトン=1:1の混液2.8Lで2回洗浄した後乾燥し表題化合
物1061g(96.6%)を得た。

H−NMR (270MHz DMSO−D) δ :11.95 (1H, s)
, 11.92(1H,bs), 8.04 (1H, d, J = 8.4 Hz),
7.89 (1H, d, J = 1.3 Hz), 7.44 (1H, J =
dd, 1.3, 8.4 Hz), 7.00 (1H, d, J = 8.4 Hz)
, 6.88 (1H, d, J = 1.8 Hz),6.71(1H, dd, J =
2.2, 7.9 Hz), 3.50−3.55 (4H, m), 2.92−2.
96(2H, m), 2.54(2H, q, 7.5 Hz), 2.39−2.50
(6H, m), 2.15−2.22 (1H,m), 1.74−1.85 (8H
, m),1.43−1.52 (2H, m), 1.13 (3H, t, J =
7.5 Hz)
LCMS: m/z 501 [M+H]
HPLC保持時間: 1.53分 (分析条件U)
[製造例805]
化合物F6−20
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル


6−シアノ−2−(2−(4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−
1−イル)フェニル)プロパン−2−イル)−1H−インドール−3−カルボン酸 50
0gを窒素気流下にDMA9.4L、無水酢酸270mL、DIPEA1170mLの混
合物に溶解し90℃で1時間攪拌した。室温冷却後、メタノール3.525Lついで蒸留
水5.875Lを加え析出した固体をろ集し、メタノール:水=3:5の混液1.41L
で2回洗浄した後乾燥し表題化合物389.6g(85%)を得た。

H−NMR (400MHz、DMSO−d) δ: 12.70 (1H, s)
, 8.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 8.04 (1H, s)
, 8.00 (1H, s), 7.61 (1H, d, J = 8.5 Hz)
, 7.34 (1H, s), 3.64−3.57 (4H, m), 3.27−
3.18(2H, m), 2.82−2.66 (4H, m), 2.39−2.2
8 (1H,m), 1.96−1.87 (2H, m), 1.76 (6H, s
), 1.69−1.53 (2H, m), 1.29 (3H, t, J = 7
.3 Hz)
LCMS: m/z 483 [M+H]
HPLC保持時間: 1.98分 (分析条件U)

化合物F6−20の塩酸塩
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル400gをメチルエチルケトン4.8L、酢酸1.44Lおよび蒸留水1.6
8Lの混合溶媒に室温にて溶解しこの溶液をエタノール12Lおよび2N塩酸0.8Lの
混合物中に滴下した。析出した固体を濾取しエタノール2Lで洗浄乾燥し化合物F6−2
0の塩酸塩357gを得た。
H−NMR (400MHz、DMSO−d) δ: 12.83 (1H, s)
, 10.78 (1H,s), 8.32 (1H, d、J = 8.1 Hz),
8.06 (1H, s), 8.01(1H,s)、7.61 (1H, d, J
= 8.1 Hz), 7.37 (1H, s), 4.02(2H、m)、3.8
5(2H,m)、3.51(2H,m)、3.34(1H,m)、3.32(2H,m)
、3.15(2H、m)、2.81(2H,dd、J = 11.98、11.7 Hz
)、2.72(2H、q、J = 7.5 Hz)、2.23(2H,m)、1.89(
2H、m)、1.77(6H,s)、1.29(3H,t、J = 7.5 Hz)
FABMS: m/z 483.4 [M+H]
[製造例806]
化合物F6−22
9−エチル−6,6−ジメチル−10−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−
イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カ
ルボニトリル


化合物F6−20調製の際のろ過母液より表題化合物を得た。
H−NMR (400MHz DMSO−D) δ :12.56(1H, s),
8.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.96 (1H, s),
7.45−7.59 (3H, m), 3.55−3.62 (4H, m), 3
.36−3.50 (2H, m), 2.75−2.86 (2H, m), 2.7
1 (2H, q, J = 7.5 Hz), 2.45−2.56 (4H, m)
, 2.27−2.38 (1H, m), 1.73−1.84 (2H, m),
1.69 (6H, s), 1.43−1.58 (2H, m), 1.21 (3
H, t, J = 7.5 Hz).
LCMS: m/z 483 [M+H]+
HPLC保持時間: 1.52分 (分析条件U)
[製造例807]
化合物PR8
9−エチル−6,6−ジメチル−8−ヨード−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


6−シアノ−2−(2−(4−エチル−3−ヨードフェニル)プロパン−2−イル)−1
H−インドール−3−カルボン酸 tert−ブチル11gをイートン試薬200gに溶
解し室温にて30分攪拌した。反応液をアセトニトリル200mLおよび蒸留水400m
Lで希釈し析出した固体をろ集し蒸留水で洗浄し乾燥した。粗生成物をDMA45mlで
溶解後アセトニトリル20mLおよび蒸留水18mLで希釈し再沈殿し表題化合物6.6
2g(70%)を得た。

H−NMR (400MHz DMSO−D) δ :12.79(1H、s)、8
.32−8.29(2H、m)、8.06(1H、s)、8.01(1H、s)、7.6
2(1H、dd、J=1.3、7.9Hz)、2.78(2H、q、J=7.5Hz)、
1.75(6H、s)、1.20(3H、t、J=7.5Hz)
LCMS: m/z 441 [M+H]
HPLC保持時間: 3.17分 (分析条件U)
[製造例808]
化合物PR9−1
8−(1,4−ジオキサ−8−アザ−スピロ[4.5]デカ−8−イル)−9−エチル−
6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−3−カルボニトリル


9−エチル−6,6−ジメチル−8−ヨード−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル 5.0g,1,4−ジオキサ−8−
アザ−スピロ[4.5]デカン 2.08mL、Pd(dba)520mg、S−
Phos 963mgのジオキサン50mL溶液を窒素置換した後、NaHMDS(1M
、THF溶液)40mLを加え60℃で1時間攪拌した反応混合物を酢酸エチル200m
Lで希釈し有機層を10%食塩水液で3回洗浄した後に減圧下濃縮し表題化合物を粗生成
物として得た。これを更に精製することなく次の工程に使用した
LCMS: m/z 456 [M+H]
HPLC保持時間: 2.78分 (分析条件U)
[製造例809]
化合物PR9−2
9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物PR9−1の際の副生成物として製造例810のシリカゲルカラムによる分離で標
的化合物を得た。
LCMS: m/z 315[M+H]
HPLC保持時間: 2.77分 (分析条件U)
[製造例810]
化合物PR10−1
9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−オキソピペリジン−1−イル
)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


製造例809にて調製した8−(1,4−ジオキサ−8−アザ−スピロ[4.5]デカ−
8−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H
−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリルをTHF10mLに溶解し5N塩酸5
0mLを加え17時間攪拌した。反応混合物を5N水酸化ナトリウム水溶液で中和し酢酸
エチル200mLで希釈し有機層を10%食塩水液で洗浄した後に減圧下濃縮した。残渣
をシリカゲルカラム(ジクロロメタン/メタノール=99/1〜90/10)で精製し表
題化合物2.9g(2工程収率64%)を得た。
H−NMR (400MHz DMSO−D) δ :12.70(1H、s)、8
.32(1H,d、J=8.4)、8.07(1H,s)、7.99(1H、s)、7.
60(1H、dd、J=1.3、7.9Hz)、7.42(1H,s)、3.28(4H
、t、J=5.7)、2.80(q、2H、J=7.5Hz)、2.55(4H,t、J
=5.7)、1.75(6H、s)、1.31(3H、t、J=7.5Hz)
LCMS: m/z 412 [M+H]
HPLC保持時間: 2.57分 (分析条件U)
[製造例811]
化合物PR11−1
9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−[4−(3−オキソ−ピペラジン−
1−イル)−ピペリジン−1−イル]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−3−カルボニトリル


9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−オキソピペリジン−1−イル
)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル 30
mg,2−ケトピペラジン10mgをTHF2mlに溶解しナトリウムトリアセトキシボ
ロヒドリド30mgを加え30℃にて6時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル20mL
で希釈し有機層を10%食塩水液で洗浄した後に減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ム(ジクロロメタン/メタノール=99/1〜90/10)で精製し表題化合物11.5
mg(収率32%)を得た。

LCMS: m/z 496 [M+H]
HPLC保持時間: 1.90分 (分析条件U)
[製造例812]
化合物PR11−2
9−エチル−8−(4−ヒドロキシ−ピペリジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11
−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


化合物PR11−1の際の副生成物として標的化合物を得た。
LCMS: m/z 414 [M+H]
HPLC保持時間: 2.13分 (分析条件S)

以下の表8〜10の化合物を9−エチル−6,6−ジメチル−8−ヨード−11−オキソ
−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリルに化合物
PR9−1の合成に用いた手法で対応するアミンを導入して合成した。窒素原子に3級ア
ルキル基が付いたアミンの一部は文献未知であるがJournal of Medici
nal Chemistry,45(14),3143−3160、2002に記載の方
法で調製した。または9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−オキソ
ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−
カルボニトリルに対応するアミンを化合物PR11−1の合成に用いた手法(還元的アミ
ノ化)で導入し調製した。
[製造例853]
化合物PR11−22
9−エチル−8−(4−ヒドロキシイミノ−ピペリジン−1−イル)−6,6−ジメチル
−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニ
トリル


9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−オキソピペリジン−1−イル
)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル 30
mg,ヒドロキシルアミン塩酸塩10mgをエタノール5mlに溶解し60℃にて6時間
攪拌した。反応混合物を酢酸エチル20mLで希釈し有機層を10%食塩水液で洗浄した
後に減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン/メタノール=99/1
〜90/10)で精製し表題化合物23.5 mg(収率74%)を得た。

LCMS: m/z 427 [M+H]
HPLC保持時間: 3.08分 (分析条件Y)
[製造例854]
化合物PR10−2
9−エチル−6,6−ジメチル−5−(2−モルホリン−4−イル−エチル)−8−(2
−モルホリン−4−イル−エチルアミノ)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−
ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル


9−エチル−6,6−ジメチル−8−(2−モルホリン−4−イル−エチルアミノ)−1
1−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリ
ル 10mgをDMF1mLに溶解しKCO 10mgおよび1−(2−クロロエチ
ル)モルホリン8mgを加え90℃で17時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル10m
Lで希釈し有機層を10%食塩水液で洗浄した後に減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカ
ラム(ジクロロメタン/メタノール=99/1〜90/10)で精製し表題化合物6.4
mg(収率58%)を得た。

LCMS: m/z 556 [M+H]
HPLC保持時間: 1.78分 (分析条件Y)
[製造例855]
化合物F7
9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−[4−(4−オキシ−モルホリン−
4−イル)−ピペリジン−1−イル]−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバ
ゾール−3−カルボニトリル


9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カル
ボニトリル 400mgをトリフルオロエタノール80mLに溶解し30%過酸化水素水
0.8mLを加え60℃で17時間攪拌した。反応混合物を30mLに濃縮したのち水2
0mLで希釈した。析出物をろ集し、乾燥し表題化合物375 mg(収率90%)を得
た。

LCMS: m/z 499 [M+H]
HPLC保持時間: 2.05分 (分析条件U)
[製造例856]
化合物FR1
6−シアノ−2−[1−(4−エチル−3−ヨードフェニル)−1−メチル−エチル]−
ベンゾフラン−3−カルボン酸 tert−ブチル エステル


4−(4−エチル−3−ヨード−フェニル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸 t
ert−ブチル エステル(1.00g、2.40mmol)をNMP(4ml)に溶解
し、炭酸セシウム(1.56g、4.80mmol、2.0等量)を加えて5分間攪拌し
た。4−クロロ−3−ニトロ−ベンゾニトリル(542mg、2.88mmol、1.2
等量)のNMP溶液(2ml)を加え、窒素雰囲気下50℃で64時間攪拌した。室温ま
で冷却した後、酢酸エチル20mlを加え、飽和塩化アンモニウム水溶液20mlで有機
層を洗浄した。さらに有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤
を濾去後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル/ヘキサン)で精製し、表題化合物(白色アモルファス、320mg、26%)を得た


LCMS: m/z 516 [M+H]
[製造例857]
化合物FR2
6−シアノ−2−{1−[4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−
1−イル)−フェニル]−1−メチル−エチル}−ベンゾフラン−3−カルボン酸 te
rt−ブチル エステル


6−シアノ−2−[1−(4−エチル−3−ヨードフェニル)−1−メチル−エチル]−
ベンゾフラン−3−カルボン酸 tert−ブチル エステルを化合物PR6と同様の手
法で変換し表題化合物を得た。

LCMS: m/z 558 [M+H]
[製造例858]
化合物FR3
6−シアノ−2−{1−[4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−
1−イル)−フェニル]−1−メチル−エチル}−ベンゾフラン−3−カルボン酸 ヨウ
化水素酸塩


6−シアノ−2−{1−[4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−
1−イル)−フェニル]−1−メチル−エチル}−ベンゾフラン−3−カルボン酸 te
rt−ブチル エステルをトリメチルシリルヨージドを用いて化合物PR7と同様の手法
で脱保護し表題化合物を得た。

LCMS: m/z 502 [M+H]
[製造例859]
化合物FR4
9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イ
ル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−
3−カルボニトリル


6−シアノ−2−{1−[4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−
1−イル)−フェニル]−1−メチル−エチル}−ベンゾフラン−3−カルボン酸 ヨウ
化水素酸塩を製造例805記載の方法と同様にして変換し表題化合物を得た。

LCMS: m/z 484 [M+H]
[製造例860]
化合物LB1
2−[4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−フェニ
ル]−2−メチル−プロピオン酸


2−(4−エチル−3−ヨードフェニル)−2−メチルプロパン酸を用いて化合物PR6
の調製に用いた手法でアミノ化を行い表題化合物を得た。

LCMS: m/z 361 [M+H]
[製造例861]
化合物LB2
2−{1−[4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−
フェニル]−1−メチル−エチル}−6−ヨード−1H−インドール−3−カルボン酸
tert−ブチル エステル


2−[4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−フェニ
ル]−2−メチル−プロピオン酸を化合物PR5−1の合成に用いた手法で変換し表題化
合物を得た。
LCMS: m/z 658 [M+H]
HPLC保持時間: 2.76分 (分析条件U)
[製造例862]
化合物LB3
2−{1−[4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−
フェニル]−1−メチル−エチル}−6−ヨード−1H−インドール−3−カルボン酸


2−{1−[4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−
フェニル]−1−メチル−エチル}−6−ヨード−1H−インドール−3−カルボン酸
tert−ブチル エステルを化合物PR7の調製に用いた手法で脱保護し表題化合物を
得た
LCMS: m/z 602 [M+H]
HPLC保持時間: 2.17分 (分析条件U)
[製造例863]
化合物LB4
9−エチル−3−ヨード−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリ
ジン−1−イル)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


2−{1−[4−エチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−
フェニル]−1−メチル−エチル}−6−ヨード−1H−インドール−3−カルボン酸を
製造例805記載の方法と同様にして変換し表題化合物を得た。

LCMS: m/z 584 [M+H]
HPLC保持時間: 2.25分 (分析条件U)

以下の表11の化合物は9−エチル−3−ヨード−6,6−ジメチル−8−(4−モルホ
リン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−11−オンより表記載の手法で変換し調製した。
[製造例867]
化合物AZ1
メタンスルホン酸 (2−フルオロピリジン−4−イル)メチルエステル


(2−フルオロピリジン−4−イル)メタノール 1g をDCM40mLに溶解し、T
EA3.3mL及びメシルクロリド0.67mLを加え0℃で1時間攪拌した。混合物を
濃縮後シリカゲルカラム(n−ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し表題化合物1.
18g(77%)を得た。
1H−NMR(270MHz DMSO−d)δ:3.21(3H,s)、5.38(
2H,s),7.22(1H,s),7.39(1H,d,J=5.0),8.29(1
H,d,J=5.0)
[製造例868]
化合物AZ2
(2−フルオロピリジン−4−イル)アセトニトリル


メタンスルホン酸 (2−フルオロピリジン−4−イル)メチル エステル1.16gの
DMF28mL溶液にシアン化ナトリウム0.42gを加え80℃にて1時間攪拌した。
混合物を酢酸エチル100mLで希釈し、15%食塩水、蒸留水で順に洗浄した。有機層
を濃縮後、シリカゲルカラム(n−ヘキサン/酢酸エチル=5/1)で精製し表題化合物
278mg(36%)を得た。
H−NMR(270MHz DMSO−d)δ:4.22(2H,s),7.18
(1H,s),7.36(1H,d,J=5.0),8.27(1H,d,J=5.0)
[製造例869]
化合物AZ3
(2−フルオロピリジン−4−イル)2−メチルプロピオニトリル


(2−フルオロピリジン−4−イル)アセトニトリルより化合物K2と同様の手法で表題
化合物を合成した。
H−NMR(270MHz DMSO−d)δ:1.72(6H,s),7.34
(1H,s),7.53(1H,d,J=5.3),8.31(1H,d,J=5.3)
[製造例870]
化合物AZ4
4−(2−フルオロピリジン−4−イル)−4−メチル−3−オキソペンタン酸 エチル
エステル


(2−フルオロピリジン−4−イル)2−メチルプロピオニトリルより化合物K3と同様
の手法で表題化合物を合成した。
H−NMR(270MHz DMSO−d)δ:1.13(3H,t,J=7.3)
, 1.48(6H,s),3.57(2H,s),4.01(2H,q,J=7.3)
, 7.12(1H,s),7.25(1H,d,J=5.3),8.22(1H,d,
J=5.3)
[製造例871]
化合物AZ5
6−シアノ−2−[1−(2−フルオロピリジン−4−イル)−1−メチル−エチル]−
1H−インドール−3−カルボン酸 エチルエステル


4−(2−フルオロピリジン−4−イル)−4−メチル−3−オキソペンタン酸 エチル
エステルより化合物K4およびK5と同様の手法で表題化合物を合成した。
LCMS: m/z 352 [M+H]
H−NMR(270MHz DMSO−d)δ:1.05(3H,t,J=7.3)
,1.82(6H,s),3.98(2H,q,J=7.3),6.99−7.02(2
H,m),7.16(1H,dd,J=8.4,1.5),7.97(1H,s)、8.
05−8.11(2H,m)
[製造例872]
化合物AZ6
6−シアノ−2−[1−(2−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル))ピ
リジン−4−イル)−1−メチル−エチル]−1H−インドール−3−カルボン酸 エチ
ルエステル


6−シアノ−2−[1−(2−フルオロピリジン−4−イル)−1−メチル−エチル]−
1H−インドール−3−カルボン酸 エチルエステル 110mgをNMP3.3mLに
溶解し4−モルホリン−4−イル−ピペリジン 319mgを加え封菅中120℃にて1
時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル50mLで希釈し、15%食塩水、蒸留水で順に
洗浄した。有機層を濃縮後、シリカゲルカラム(DCM/メタノール=20/1)で精製
し表題化合物120mg(76%)を得た。
LCMS: m/z 502 [M+H]
[製造例873]
化合物AZ7−1
5,5−ジメチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ピリド[4,3−b]カルバゾール−8−カルボン
酸 アミド



6−シアノ−2−[1−(2−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル))ピ
リジン−4−イル)−1−メチル−エチル]−1H−インドール−3−カルボン酸 エチ
ルエステル110mgをイートン試薬2.5mLに溶解し55℃にて17時間攪拌した。
反応混合物を飽和重曹水で中和し析出物をろ集し、水で洗浄し表題化合物72mg(70
%)を得た。
LCMS: m/z 474 [M+H]
HPLC保持時間: 1.17分 (分析条件U)

H−NMR(270MHz DMSO−d)δ:1.38(2H,m),1.75(
6H,s),1.88(2H,m),2.44(5H,m),2.94(2H,m),3
.57(4H、m)、4.58(2H,m),7.10(1H,s),7.32(1H,
s),7.75(1H,d,J=8.4),8.00(2H,m),8.15(1H,d
,J=8.4),8.85 (1H,s),12.3(1H,s)
[製造例874]
化合物AZ7−2
5,5−ジメチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ピリド[4,3−b]カルバゾール−8−カルボニ
トリル


5,5−ジメチル−3−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−
オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ピリド[4,3−b]カルバゾール−8−カルボン
酸 アミド54mgをDMF1mLに溶解しチオニルクロリド25μLを加え室温にて1
時間攪拌した。反応混合物を水で希釈し析出物をろ集し表題化合物25mg(49%)を
得た。

LCMS: m/z 456 [M+H]
HPLC保持時間: 1.55分 (分析条件U)
H−NMR(270MHz DMSO−d)δ:1.36(2H,m),1.76(
6H,s),1.89(2H,m),2.44(5H,m),2.95(2H,m),3
.57(4H、m)4.58(2H,m),7.10(1H,s),7.59(1H,d
,J=8.0),7.99(1H,s),8.29(1H,d,J=8.0),8.86
(1H,s),12.7(1H,s)

以下の表12および13の化合物を6−シアノ−2−[1−(2−フルオロピリジン−4
−イル)−1−メチル−エチル]−1H−インドール−3−カルボン酸 エチルエステル
に対応するアミノ基を導入したのちに、化合物AZ7−1の合成に用いた手法で環化し調
製した。また化合物AZ7−2の合成に用いた手法で3位の置換基をカルボキシアミド基
からシアノ基に変換することで調製した。

以下の表14の化合物を(2−クロロ−3−フルオロピリジン−4−イル)メタノールか
ら化合物AZ1〜AZ7−2の合成に用いた手法で調製した。
[製造例900]
化合物BZ1
2−シアノ−4−ヒドラジノピリジン



4−クロロ−2−シアノピリジン1gをヒドラジン1水和物1mLおよび1,4−ジオ
キサン10mLに溶解し終夜還流攪拌した。反応溶液を水30mLで希釈し酢酸エチルで
繰り返し抽出した。有機層を濃縮し表題化合物を粗生成物として得た。これを精製するこ
となく次の反応に使用した。
LCMS: m/z 135 [M+H]
[製造例901]
化合物BZ2−1
8−メトキシ−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[
f]ピリド[4,3−b]インドール−3−カルボニトリル


2−シアノ−4−ヒドラジノピリジンおよび7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4ジ
ヒドロ−1H−ナフタレン−2−オンより化合物A3−1の調製に用いた手法で中間体を
調製し、これを精製することなく化合物A4の調製に用いた手法で酸化し表題化合物を得
た。

LCMS: m/z 318 [M+H]
HPLC保持時間: 2.10分 (分析条件U)
[製造例902]
化合物BZ2−2
3−クロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[f]ピリド
[4,3−b]インドール−11−オン


2−クロロ−4−ヒドラジノピリジンおよび7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4ジ
ヒドロ−1H−ナフタレン−2−オンより化合物A3−1の調製に用いた手法で中間体を
調製し、これを精製することなく化合物A4の調製に用いた手法で酸化し表題化合物を得
た。

LCMS: m/z 327,329 [M+H]
HPLC保持時間: 1.80分 (分析条件S)
[製造例903]
化合物CZ1
2−ブロモ−8−メトキシ−10,10−ジメチル−10,11−ジヒドロ−1,11−
ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


2−ブロモ−6−ヒドラジノピリジンおよび7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4ジ
ヒドロ−1H−ナフタレン−2−オンより化合物A3−1の調製に用いた手法で中間体を
調製し、これを精製することなく化合物A4の調製に用いた手法で酸化し表題化合物を得
た。

LCMS: m/z 371,373 [M+H]
HPLC保持時間: 2.85分 (分析条件U)
[製造例904]
化合物CZ2
8−メトキシ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−1,
11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリル


2−ブロモ−8−メトキシ−10,10−ジメチル−10,11−ジヒドロ−1,11−
ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オンより化合物A5−2の手法1でシアノ化を行
い表題化合物を得た。
LCMS: m/z 318 [M+H]
HPLC保持時間: 2.35分 (分析条件U)
[製造例905]
化合物CZ3
8−ヒドロキシ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−1
,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリル


8−メトキシ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−1,
11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリルを化合物A6の調製にもち
いた手法で脱メチル化し表題化合物を得た。
LCMS: m/z 304 [M+H]
HPLC保持時間: 1.72分 (分析条件S)
[製造例906]
化合物CZ4
トリフルオロメタンスルホン酸 2−シアノ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10
,11−ジヒドロ−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−8−イル エス
テル


8−ヒドロキシ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−1
,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリルを化合物B1の調製に用
いた手法でトリフルオロメタンスルホンエステル化し表題化合物を得た。
LCMS: m/z 436 [M+H]
HPLC保持時間: 3.32分 (分析条件Y)
[製造例907]
化合物CZ5−1
10,10−ジメチル−5−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−10,11−ジヒドロ
−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリル


トリフルオロメタンスルホン酸 2−シアノ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10
,11−ジヒドロ−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−8−イル エス
テル
を化合物B2−1の調製に用いた手法でピペラジンを導入し表題化合物を得た。
LCMS: m/z 372 [M+H]
HPLC保持時間: 1.17分 (分析条件S)
[製造例908]
化合物CZ5−2
10,10−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−5
−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−
2−カルボニトリル


トリフルオロメタンスルホン酸 2−シアノ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10
,11−ジヒドロ−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−8−イル エス
テル
を化合物B2−1の調製に用いた手法で4−モルホリン−4−イルピペリジンを導入し表
題化合物を得た。
LCMS: m/z 456 [M+H]
HPLC保持時間: 1.68分 (分析条件U)
[製造例909]
化合物CZ6
8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−10,10−ジメチル−5−オキソ
−10,11−ジヒドロ−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カル
ボニトリル


10,10−ジメチル−5−オキソ−8−ピペラジン−1−イル−10,11−ジヒドロ
−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリルを化合物B3
−32の合成に用いた手法でシクロブタノンと還元的アミノ化を行い表題化合物を得た。
LCMS: m/z 426 [M+H]
HPLC保持時間: 1.60分 (分析条件U)
[製造例910]
化合物DZ1
6−エチニル−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン
−2−オン


6−ブロモ−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オン 1g をアセトニトリル50mLに溶解しPdCl(CHCN)45m
g、X−phos 168mg、CsCO 1.2g、トリメチルシリルアセチレン0
.9mLを加え85℃にて2時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル100mLで希釈し
有機層を10%食塩水液で2回洗浄した後に減圧下濃縮した。残渣をTHF 10mLに
溶解し、テトラブチルアンモニウムフルオリドのTHF溶液4mLを加え室温にて1時間
攪拌した。反応混合物を酢酸エチル100mLで希釈し有機層を10%食塩水液で2回洗
浄した後に減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(n−ヘキサン/酢酸エチル=9/
1)で精製し表題化合物346mg(2工程収率43%)を得た。

LCMS: m/z 229 [M+H]
[製造例911]
化合物DZ2
6−エチル−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−
2−オン


6−エチニル−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン
−2−オン 346mg をエタノール:THF=2:1の混合溶媒20mLに溶解し1
0%Pd/Cl70mgを加え水素雰囲気下室温にて1時間攪拌した。触媒をろ過によっ
て除き有機層を減圧下濃縮し表題化合物322mg(収率91%)を得た。

LCMS: m/z 233 [M+H]
[製造例912]
化合物DZ3
2−ブロモ−7−エチル−8−メトキシ−10,10−ジメチル−10,11−ジヒドロ
−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


2−ブロモ−6−ヒドラジノピリジンおよび6−エチル−7−メトキシ−1,1−ジメチ
ル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オンより化合物A3−1の調製に用いた
手法で中間体を調製し、これを精製することなく化合物A4の調製に用いた手法で酸化し
表題化合物を得た。

LCMS: m/z 399,401 [M+H]
HPLC保持時間: 3.35分 (分析条件Y)
[製造例913]
化合物DZ4
7−エチル−8−メトキシ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ
−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリル


2−ブロモ−7−エチル−8−メトキシ−10,10−ジメチル−10,11−ジヒドロ
−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オンより化合物A5−2の手法1で
シアノ化を行い表題化合物を得た。
LCMS: m/z 346 [M+H]
HPLC保持時間: 3.05分 (分析条件Y)
[製造例914]
化合物DZ5
7−エチル−8−ヒドロキシ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒド
ロ−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリル


7−エチル−8−メトキシ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ
−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリルを化合物A5
の調製にもちいた手法で脱メチル化し表題化合物を得た。
LCMS: m/z 332 [M+H]
HPLC保持時間: 2.60分 (分析条件Y)
[製造例915]
化合物DZ6−1
トリフルオロ−メタンスルホン酸 2−シアノ−7−エチル−10,10−ジメチル−5
−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−
8−イル エステル


7−エチル−8−ヒドロキシ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒド
ロ−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリルを化合物B
1の調製に用いた手法でトリフルオロメタンスルホンエステル化し表題化合物を得た。

LCMS: m/z 464 [M+H]
HPLC保持時間: 3.50分 (分析条件Y)

以下の表15の化合物をトリフルオロ−メタンスルホン酸 2−シアノ−7−エチル−1
0,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−1,11−ジアザ−ベ
ンゾ[b]フルオレン−8−イル エステルと対応するアミンより化合物B2−10の合
成に用いた手法で調製した。製造例919、920は反応の際の副生成物として得られた
[製造例921]
化合物DZ6−2
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−11−(2−ジエチルアミノ−エチル)−7−
エチル−10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−1,11−
ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリル


7−エチル−8−ヒドロキシ−10,10−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒド
ロ−5H−1,11−ジアザ−ベンゾ[b]フルオレン−2−カルボニトリルを化合物A
7−17の調製に用いた手法でアルキル化し表題化合物を得た。

LCMS: m/z 530 [M+H]
HPLC保持時間: 1.38分 (分析条件Y)
[製造例922]
化合物EZ1
2−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−2−メチル−プロピオン酸 エチル エス
テル


2−ブロモ−6−メトキシピリジン 7.0g、イソ酪酸エチル4.75g、トリt−ブ
チルホスフィン 300mg、Pd(dba) 680mgをトルエン200mLに
窒素雰囲気下に溶解しLiHMDS THF溶液(1.6M)24mLを加え100℃で
6時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル300mLで希釈し15%食塩水200mlで
3回洗浄した。有機層を減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラム(n−ヘキサン/酢酸エチル
=4/1)で精製し表題化合物5.353g(収率60%)を得た。

LCMS: m/z 224 [M+H]
[製造例923]
化合物EZ2
2−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−2−メチル−プロピオン酸


2−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−2−メチル−プロピオン酸 エチル エス
テル 5.33gをメタノール200mLに溶解し5N 水酸化カリウム水溶液 25m
Lを加え還流攪拌した。反応混合物を濃縮し2N塩酸で中和し析出物をろ集、乾燥し表題
化合物3.55gを得た。

LCMS: m/z 196 [M+H]
[製造例924]
化合物EZ3
4−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸 t
ert−ブチル エステル


2−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−2−メチル−プロピオン酸およびマロン酸
モノ−tert−ブチルより化合物PR4の調製に用いた手法で表題化合物を合成し更に
精製することなく次工程に使用した。
[製造例925]
化合物EZ4−1
6−シアノ−2−[1−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−1−メチル−エチル]
−1H−インドール−3−カルボン酸 tert−ブチル エステル


4−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸 t
ert−ブチル エステルおよび4−クロロ−3−ニトロベンゾニトリルより化合物PR
5−1の調製に用いた手法で表題化合物を合成した。

LCMS: m/z 392 [M+H]
[製造例926]
化合物EZ4−2
6−シアノ−2−[1−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−1−メチル−エチル]
−ベンゾフラン−3−カルボン酸 tert−ブチル エステル


4−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−4−メチル−3−オキソ−ペンタン酸 t
ert−ブチル エステルおよび4−クロロ−3−ニトロベンゾニトリルより化合物FR
1の調製に用いた手法で表題化合物を合成した。

LCMS: m/z 393 [M+H]
[製造例927]
化合物EZ5−1
6−シアノ−2−[1−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−1−メチル−エチル]
−1H−インドール−3−カルボン酸


6−シアノ−2−[1−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−1−メチル−エチル]
−1H−インドール−3−カルボン酸 tert−ブチル エステルより化合物PR7の
調製に用いた手法で表題化合物を合成した。

LCMS: m/z 336 [M+H]
[製造例928]
化合物EZ5−2
6−シアノ−2−[1−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−1−メチル−エチル]
−ベンゾフラン−3−カルボン酸


6−シアノ−2−[1−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−1−メチル−エチル]
−ベンゾフラン−3−カルボン酸 tert−ブチル エステルより化合物PR7の調製
に用いた手法で表題化合物を合成した。

LCMS: m/z 337 [M+H]
[製造例929]
化合物EZ6−1
2−メトキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−ピリ
ド[2,3−b]カルバゾール−8−カルボン酸 アミド


6−シアノ−2−[1−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−1−メチル−エチル]
−1H−インドール−3−カルボン酸より化合物AZ7−1の調製に用いた手法で表題化
合物を合成した。

LCMS: m/z 336 [M+H]
HPLC保持時間: 1.98分 (分析条件S)
[製造例930]
化合物EZ6−2
2−メトキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−5,11−ジヒドロ−ベンゾ[4,
5]フロ[3,2−g]キノリン−8−カルボン酸 アミド


6−シアノ−2−[1−(6−メトキシ−ピリジン−2−イル)−1−メチル−エチル]
−ベンゾフラン−3−カルボン酸より化合物AZ7−1の調製に用いた手法で表題化合物
を合成した。

LCMS: m/z 337 [M+H]
HPLC保持時間: 2.38分 (分析条件S)
[製造例931]
化合物EZ7−1
2−メトキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−ピリ
ド[2,3−b]カルバゾール−8−カルボニトリル


2−メトキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−ピリ
ド[2,3−b]カルバゾール−8−カルボン酸 アミドよりAZ7−2の調製に用いた
手法で表題化合物を合成した。

LCMS: m/z 318 [M+H]
HPLC保持時間: 2.60分 (分析条件S)
[製造例932]
化合物EZ7−2
2−メトキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−5,11−ジヒドロ−ベンゾ[4,
5]フロ[3,2−g]キノリン−8−カルボニトリル


2−メトキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−5,11−ジヒドロ−ベンゾ[4,
5]フロ[3,2−g]キノリン−8−カルボン酸 アミドよりAZ7−2の調製に用い
た手法で表題化合物を合成した。

LCMS: m/z 319 [M+H]
HPLC保持時間: 3.18分 (分析条件S)
[製造例933]
化合物EZ8−1
2−ヒドロキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−ピ
リド[2,3−b]カルバゾール−8−カルボニトリル


2−メトキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−10,11−ジヒドロ−5H−ピリ
ド[2,3−b]カルバゾール−8−カルボニトリルより化合物A5の調製に用いた手法
で脱メチル化し表題化合物を合成した。

LCMS: m/z 304 [M+H]
HPLC保持時間: 1.70分 (分析条件U)
[製造例934]
化合物EZ8−2
2−ヒドロキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−5,11−ジヒドロ−ベンゾ[4
,5]フロ[3,2−g]キノリン−8−カルボニトリル


2−メトキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−5,11−ジヒドロ−ベンゾ[4,
5]フロ[3,2−g]キノリン−8−カルボニトリルより化合物A5の調製に用いた手
法で脱メチル化し表題化合物を合成した。

LCMS: m/z 305 [M+H]
HPLC保持時間: 2.17分 (分析条件U)

以下の表16の化合物は2−ヒドロキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−10,1
1−ジヒドロ−5H−ピリド[2,3−b]カルバゾール−8−カルボニトリルまたは2
−ヒドロキシ−11,11−ジメチル−5−オキソ−5,11−ジヒドロ−ベンゾ[4,
5]フロ[3,2−g]キノリン−8−カルボニトリルより表に記載の手法を用いて調製
した。

以下の表17の化合物を化合物W3および対応するハライドから化合物A7−17の合成
に用いた手法で水酸基をアルキル化し調製した。

以下の表18の化合物は以下の方法により調製した。すなわち化合物J2およびフェニル
ヒドラジンから化合物A3、A4の調製に用いた方法で化合物GT1−1を調製した。つ
いで化合物A10−1と同様の手法でメチル化して化合物GT1−2を調製した。

以下の表19の化合物は以下の方法により調製した。すなわち化合物A2およびフェニル
ヒドラジンから化合物A3、A4の調製に用いた方法で化合物GT2−1を調製した。
ついで化合物A10−1と同様の手法でアルキル化して化合物GT2−2、化合物GT2
−8を調製した。
化合物GT2−1または化合物GT2−1の5−アルキル体からの化学的変換を表に記載
する既述の官能基変換(化合物A6の調製に用いた手法で脱メチル化しその後官能基導入
など)を組み合わせて実施し表の化合物を得た。

以下の表20の化合物は以下の方法により調製した。すなわち化合物A2および対応する
置換基をもつフェニルヒドラジンから化合物A3、A4の調製に用いた方法で2(または
3)−置換−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b
]カルバゾール−11−オンに導いた。ついでこれらからの化学的変換を表に記載する既
述の官能基変換を組み合わせて実施し表の化合物を得た。

以下の表21の化合物は以下の方法により調製した。すなわち化合物E1および対応する
置換基をもつフェニルヒドラジンから化合物A3、A4の調製に用いた方法で9−ブロモ
−1−クロロ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オンまたは9−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−3−トリフ
ルオロメトキシ−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オンに導いた。
ついでこれらからの化学的変換を表に記載する既述の官能基変換を組み合わせて実施し表
の化合物を得た。

以下の表22および23の化合物を以下の方法により調製した。すなわち化合物GT3−
3を化合物D2の調製に用いた手法で接触還元し化合物GT5−1に導いた。
化合物GT5−1をB3−32の調製に用いた手法で還元的アルキル化しメチル基または
ベンジル基を導入した(化合物GT5−2、化合物GT5−3)。
化合物GT5−3を化合物D2の調製に用いた手法で接触還元し化合物GT5−4を調製
した。
得られた化合物GT5−1〜4のアミノ誘導体に対して化合物A9−1の調製に用いた手
法で対応するアシルクロリド、イソシアネートまたはクロロフォルメートを反応させるこ
とで表の化合物を得た。

以下の表24の化合物を以下の方法により調製した。すなわち化合物T22−1を出発原
料として、化合物B2−28の調製に用いた手法を用いて8−[(4R,5R)−5−
(tert−ブチル−ジメチルシラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]
ジオキソラン−4−イルメトキシ]−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−11−オキ
ソ−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボン酸を調製した。
このカルボン酸に対して化合物A9−10の調製に用いた手法で対応するアミン、アルコ
ールを脱水縮合させ、ついで化合物T22−1−1、およびT22−1−2の手法で脱保
護を実施し表の化合物を得た。

以下の表25の化合物を化合物T17−3よりJACS 2006年128巻10964
ページに記載の方法で水酸基を導入し、次いでA7−14−2およびT22−2の方法で
脱保護を行い下記の化合物を得た。

以下の表26の化合物を化合物GT7−1またはGT7−2より化合物A7−1の調製に
用いた手法でアルキル化、またはA9−1の調製に用いた手法でカルバメート化すること
により調製した。
[製造例1015]
化合物GT9−1
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−3−(2H−
テトラゾール−5−イル)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,
6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−
3−カルボニトリル(20.0mg、0.048mmol)、塩化アンモニウム(1.2
8mg、0.024mmol)およびNaN(6.24mg、0.096mmol)を
DMFに溶かし、120度で14時間攪拌した。さらにNaN(6.24mg、0.0
96mmol)を追加し、120度で30時間攪拌した。反応液に1規定塩酸水溶液を加
えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、減圧濃縮した。濃縮して
得られた個体をヘキサン:酢酸エチル=1:1で洗浄し、8−((S)−2,2−ジメチ
ル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−3−(2H−テ
トラゾール−5−イル)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オンを
白色固体として得た。
生成物をMeOH(1.0ml)に懸濁させ、1規定塩酸水溶液を加えて60度で1時間
半攪拌した。室温まで冷却した後、反応液を減圧濃縮し、得られた固体をDCMで洗浄し
、標題化合物を淡黄色固体(13.4mg、66.3%)として得た。

LCMS: m/z 420 [M+H]
[製造例1016]
化合物GT9−2
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−3−チオフェ
ン−3−イル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン
(20.0mg、0.043mmol)、チオフェン−3−ボロン酸(10.9mg、0
.085mmol)、KPO(40mg)およびPd(PPh(9.9mg、
0.0086mmol)をDMA(0.8ml)および水(0.2ml)に溶解し、マイ
クロウェーブ照射下140度で10分攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩
水で洗浄した。有機層を減圧濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン/酢酸エチル)で精製し、8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン
−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−3−チオフェン−3−イル−5,6−ジヒド
ロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オンを得た。
この生成物をMeOH(1.0ml)に懸濁させ、1規定塩酸を加えて60度で1時間半
攪拌した。反応液を減圧濃縮し得られた固体をDCMで洗浄し、標題化合物を黄色固体(
12.6mg、67.1%)として得た。

LCMS: m/z 434 [M+H]

化合物T18−1と対応するボロン酸の組み合わせ、または(S)−8−((2,2−ジ
メチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)メトキシ)−6,6−ジメチル−3−(4,
4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−5H−ベンゾ
[b]カルバゾール−11(6H)−オンと対応するブロミドの組み合わせで化合物GT
9−2と同様の方法を実施し、以下の表27の化合物を合成した。
[製造例1022]
化合物GT10−1
8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシブトキシ)−2’,3’,5’,6
’−テトラヒドロスピロ[ベンゾ[b]カルバゾール−6,4’−ピラン]−11(5H
)−オン


化合物N6−1−2と同様の手法で調製した。
LCMS: m/z 434 [M+H]
HPLC保持時間:1.56分(分析条件A)

以下の表28〜32の化合物を以下の方法により調製した。すなわち化合物A2とブロモ
フェノールより化合物Z10、Z11、Z12およびZ13の調製に用いた手法を用いて
8−ヒドロキシ−6、6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−
11−オンを調製した。これに化合物A7−1の調製に用いた光延反応、A7−17の方
法等で対応する側鎖あるいはその合成等価体を導入後、必要に応じ脱保護操作等の官能基
変換を行い以下の化合物を調製した。

以下の表33の化合物を以下の方法により調製した。化合物A2および対応する位置にフ
ッ素原子を持つ2−ブロモフェノールより化合物Z10、Z11およびZ12の調製に用
いた手法を用いて対応する位置にフッ素原子を持つ8−メトキシ−6H−ベンゾ[b]ナ
フト[2,3−d]フラン−11−オン(化合物GT12−1,GT12−2,GT12
−5およびGT12−7)を調製した。次いで化合物A6の調製に用いた手法で脱メチル
化し対応する位置にフッ素原子を持つ8−ヒドロキシ−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,
3−d]フラン−11−オンに導いた。その後、化合物A7−1の調製に用いた光延反応
または化合物A7−17の調製に用いたアルキル化で対応する側鎖を導入し必要に応じ脱
保護操作等の官能基変換を行い以下の化合物を調製した。

以下の表34の化合物を以下の方法により調製した。8−ヒドロキシ−6H−ベンゾ[b
]ナフト[2,3−d]フラン−11−オンを化合物B1の調製に用いた手法を用いてト
リフルオロメタンスルホン酸エステルとした。次いでこれに対し化合物B2−1あるいは
化合物B2−18の調製に用いた手法を実施し化合物GT13−1,化合物GT13−2
および化合物GT13−3を調製した。化合物GT13−3を化合物B3−8の調製に用
いた手法で酸化し化合物13−4を調製した。

以下の表35の化合物を以下の方法により調製した。すなわち化合物Z13に対し化合物
A7−17の調製に用いた手法で側鎖を導入し化合物GT13−5を調製した。更に化合
物GT13−5または化合物Z14のトリフルオロメタンスルホン酸エステルを化合物T
20の調製に用いた手法で加水分解を行い化合物GT13−6および化合物GT13−7
を調製した。

以下の表36の化合物を化合物GT13−6またはGT13−7に化合物A7−1の調製
に用いた光延反応を実施し対応する側鎖あるいはその合成等価体を導入後、必要に応じ脱
保護操作を行い以下の化合物を調製した。

以下の表37の化合物を化合物GT13−7より化合物A9−1の調製に用いた手法でカ
ルバメート化し調製した。

以下の表38の化合物を対応する中間体から表に記載の手法でアルキル化、カルバメート
化して調製した。
[製造例1133]
化合物GT14−1
3−クロロ−8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−
5,6−ジヒドロ−ベンゾ[f]ピリド[4,3−b]インドール−11−オン


化合物BZ2−2より化合物A6の調製に用いた手法で脱メチル化を行い、ついで化合物
A7−14−1およびA7−14−2の調製に用いた手法で置換基導入と脱保護を実施し
て調製した
LCMS: m/z 386 [M+H]
HPLC保持時間:3.02分(分析条件B)
[製造例1134]
化合物GT15−1
2−ヨード−3−(4−メトキシ−ベンジルオキシ)−ピリジン


2−ヨード−ピリジン−3−オール(50mg、0.226mmol)、KCO(6
2mg、0.452mmol)およびDMF(2mL)にパラメトキシベンジルクロリド
(46μL、0.339mmol)を加え、45度で終夜加熱攪拌した。水を加え、酢酸
エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、減圧濃縮して得られた残渣をシリ
カゲルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(21mg、27%)を得
た。
LCMS: m/z 342 [M+H]
HPLC保持時間: 3.44分 (分析条件Y)
[製造例1135]
化合物GT15−2
7−メトキシ−3−[3−(4−メトキシ−ベンジルオキシ)−ピリジン−2−イル]−
1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン


7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、36mg)、2−ヨード−3−(4−メトキシ−ベンジルオキシ)−ピリジン
(化合物GT15−1、50mg)、ナトリウムt−ブトキシド(35.3mg)、Pd
dba(13.5mg)、Xantphos(17mg)にトルエン0.5mlを加
え、窒素雰囲気下80度で2.5時間加熱攪拌した。反応混合物に冷却後、酢酸エチルで
希釈し、セライト濾過した。有機層を飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄した後、減圧濃
縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物
(27mg、44%)を得た。
LCMS: m/z 419 [M+H]
HPLC保持時間: 3.31分 (分析条件Y)
[製造例1136]
化合物GT15−3
8−メトキシ−10,10−ジメチル−5,10−ジヒドロ−11−オキサ−4−アザ−
ベンゾ[b]フルオレン


7−メトキシ−3−[3−(4−メトキシ−ベンジルオキシ)−ピリジン−2−イル]−
1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物GT15−
2、21mg)、酢酸エチル(0.8mL)の混合物に硫酸(0.2mL)を加え、70
度で5時間加熱攪拌した。反応混合物に冷却後、2規定水酸化ナトリウム水溶液で中和し
た。混合物を酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄した後、
減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題
化合物(7mg、50%)を得た。
LCMS: m/z 280 [M+H]
HPLC保持時間: 2.71分 (分析条件Y)
[製造例1137]
化合物GT15−4
8−メトキシ−10,10−ジメチル−10H−11−オキサ−4−アザ−ベンゾ[b]
フルオレン−5−オン


8−メトキシ−10,10−ジメチル−5,10−ジヒドロ−11−オキサ−4−アザ−
ベンゾ[b]フルオレン(化合物GT15−3、22mg)をMeCN (0.26mL
)、水(0.13mL)に溶解し、亜塩素酸ナトリウム(14mg)、N−ハイドロキシ
フタルイミド(2.6mg)を加え、40度で1時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル
で希釈し、有機層を飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄した後、減圧濃縮して得られた残
渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(16mg、70
%)を得た。
LCMS: m/z 294 [M+H]
HPLC保持時間: 2.85分 (分析条件Y)
[製造例1138]
化合物GT15−5
8−ヒドロキシ−10,10−ジメチル−10H−11−オキサ−4−アザ−ベンゾ[b
]フルオレン−5−オン


8−メトキシ−10,10−ジメチル−10H−11−オキサ−4−アザ−ベンゾ[b]
フルオレン−5−オン(化合物GT15−4、25mg)およびピリジン塩酸塩 (49
2mg)の混合物を、178度で終夜加熱攪拌した。反応混合物を冷却後、水を加えた。
混合物を飽和重曹水で中和した後、DCMで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後
、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(DCM/MeOH)で精製し、標題化
合物(13mg、54%)を得た。
LCMS: m/z 280 [M+H]
HPLC保持時間: 2.30分 (分析条件Y)
[製造例1139]
化合物GT15−6
8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−10,10−ジメチ
ル−10H−11−オキサ−4−アザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


化合物GT15−5および化合物T22−0より、化合物A7−1と同様の手法で、標題
化合物(29mg,50%)を合成した。
LCMS: m/z 538[M+H]
HPLC保持時間: 3.64分 (分析条件Y)
[製造例1140]
化合物GT15−7
10,10−ジメチル−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ−ブトキシ
)−10H−11−オキサ−4−アザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−10,10−ジメチ
ル−10H−11−オキサ−4−アザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン(化合物GT
15−6、27mg)、MeOH(0.1mL)、THF(0.3mL)の混合物に0.
5規定硫酸(0.1mL)を加え、55−60度で4時間加熱攪拌した。反応混合物を飽
和重曹水で中和した。生じた固体を濾取後、固体はジエチルエーテルにて洗浄した。ろ液
をDCM:MeOH=10:1混合液で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸
マグネシウムで乾燥した。濾取した固体と減圧濃縮して得られた残渣を合わせシリカゲル
カラム(DCM/MeOH)で精製し、標題化合物(5.4mg、28%)を得た。
LCMS: m/z 384 [M+H]
HPLC保持時間: 2.02分 (分析条件Y)
[製造例1141]
化合物GT15−8
7−メトキシ−3−(3−メトキシメトキシ−ピリジン−4−イル)−1,1−ジメチル
−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン


7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、924mg)、4−ヨード−3−メトキシメトキシ−ピリジン(1g)、ナト
リウムt−ブトキシド(906mg)、Pddba(173mg)、S−Phos
(185mg)にトルエン(19mL)を加え、窒素雰囲気下70度で2時間加熱攪拌し
た。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、セライト濾過した。有機層を飽和重曹水および飽
和食塩水で洗浄した後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル/へ
キサン)で精製し、標題化合物(610mg、47%)を得た。
LCMS: m/z 342 [M+H]
HPLC保持時間: 2.60分 (分析条件Y)
[製造例1142]
化合物GT15−9
3−(3−ヒドロキシ−ピリジン−4−イル)−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,
4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン


7−メトキシ−3−(3−メトキシメトキシ−ピリジン−4−イル)−1,1−ジメチル
−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物GT15−8、430mg)
、4規定塩酸ジオキサン溶液(5mL)の混合物を、室温で1.5時間加熱攪拌した。反
応混合物を2規定水酸化ナトリウム水溶液で中和した。混合物をDCM:MeOH=9:
1で抽出した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(DCM/MeOH)で精
製し、標題化合物(280mg、75%)を得た。
LCMS: m/z 298 [M+H]
HPLC保持時間: 2.41分 (分析条件Y)
[製造例1143]
化合物GT15−10
8−メトキシ−10,10−ジメチル−5,10−ジヒドロ−11−オキサ−2−アザ−
ベンゾ[b]フルオレン


3−(3−ヒドロキシ−ピリジン−4−イル)−7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,
4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化合物GT15−9、270mg)および
メタンスルホン酸(1mL)の混合物を、110度で0.5時間加熱攪拌した。反応混合
物に冷却後、2規定水酸化ナトリウム水溶液で中和した。混合物をDCM:MeOH(9
:1)混合物で抽出した。有機層を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(DC
M/MeOH)で精製し、標題化合物(110mg、43%)を得た。
LCMS: m/z 280 [M+H]
HPLC保持時間: 2.53分 (分析条件Y)
[製造例1144]
化合物GT15−11
8−メトキシ−10,10−ジメチル−10H−11−オキサ−2−アザ−ベンゾ[b]
フルオレン−5−オン


8−メトキシ−10,10−ジメチル−5,10−ジヒドロ−11−オキサ−2−アザ−
ベンゾ[b]フルオレン(化合物GT15−10、20mg)をアセトニトリル (0.
2mL)、水(0.15mL)に溶解し、亜塩素酸ナトリウム(16mg)、N−ハイド
ロキシフタルイミド(2.3mg)を加え、40度で40分間攪拌した。反応混合物に酢
酸エチルを加え、有機層を飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄した後、減圧濃縮して得ら
れた残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(12mg
、57%)を得た。
LCMS: m/z 294 [M+H]
HPLC保持時間: 2.51分 (分析条件Y)
[製造例1145]
化合物GT15−12
8−ヒドロキシ−10,10−ジメチル−10H−11−オキサ−2−アザ−ベンゾ[b
]フルオレン−5−オン


8−メトキシ−10,10−ジメチル−10H−11−オキサ−2−アザ−ベンゾ[b]
フルオレン−5−オン(化合物GT15−11、10mg)のDCM(0.34mL)溶
液を−78度に冷却し、1.0M BBr DCM溶液(0.17mL)を加え、室温
で終夜攪拌した。反応混合物に水および飽和重曹水を加え、生じた固体を濾取した。ろ液
をDCM:MeOH=9:1混合液で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。濾取した
固体と減圧濃縮して得られた残渣を合わせ、標題化合物(9.5mg、99%)を得た。
LCMS: m/z 280 [M+H]
HPLC保持時間: 2.50分 (分析条件Y)
[製造例1146]
化合物GT15−13
8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−10,10−ジメチ
ル−10H−11−オキサ−2−アザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物GT15−12および化合物T22−0
より、標題化合物(38mg,66%)を合成した。
LCMS: m/z 538[M+H]
HPLC保持時間: 3.55分 (分析条件Y)
[製造例1147]
化合物GT15−14
10,10−ジメチル−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ−ブトキシ
)−10H−11−オキサ−2−アザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


化合物GT15−7の合成法と同様の条件で、化合物GT15−13より、表題化合物(
2.1mg,84%)を合成した。
LCMS: m/z 384[M+H]
HPLC保持時間: 1.70分 (分析条件Y)
[製造例1148]
化合物GT15−15
3−ブロモ−2−(4−メトキシ−ベンジルオキシ)−ピリジン


化合物G15−1の合成法と同様の条件で、3−ブロモ−ピリジン−2−オールより、標
題化合物(740mg,88%)を合成した。
LCMS: m/z 295 [M+H]
HPLC保持時間: 2.86分 (分析条件Y)
[製造例1149]
化合物GT15−16
7−メトキシ−3−[2−(4−メトキシ−ベンジルオキシ)−ピリジン−3−イル]−
1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン


7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、845mg)、3−ブロモ−2−(4−メトキシ−ベンジルオキシ)−ピリジ
ン(化合物GT15−15、1.46g)、ナトリウムt−ブトキシド(597mg)、
酢酸パラジウム(18.6mg)、テトラフルオロほう酸トリ−TERT−ブチルホス
フィン(21mg)にトルエン(10mL)およびTHF(2mL)を加え、窒素雰囲気
下90度で2.5時間加熱攪拌した。反応混合物に冷却後、飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(140mg、8%
)を得た。
LCMS: m/z 419 [M+H]
HPLC保持時間: 3.50分 (分析条件Y)
[製造例1150]
化合物GT15−17
8−メトキシ−10,10−ジメチル−10H−11−オキサ−1−アザ−ベンゾ[b]
フルオレン−5−オン


化合物GT15−3の合成法と同様の条件で、化合物GT15−16より、表題化合物(
49mg,52%)を合成した。
LCMS: m/z 294 [M+H]
HPLC保持時間: 3.39分 (分析条件Y)
[製造例1151]
化合物GT15−18
8−ヒドロキシ−10,10−ジメチル−10H−11−オキサ−1−アザ−ベンゾ[b
]フルオレン−5−オン


化合物GT15−5の合成法と同様の条件で、化合物GT15−17より、標題化合物(
6.5mg,51%)を合成した。
LCMS: m/z 280 [M+H]
HPLC保持時間: 3.10分 (分析条件Y)
[製造例1152]
化合物GT15−19
8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−10,10−ジメチ
ル−10H−11−オキサ−1−アザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物GT15−18および化合物T22−0
より、標題化合物(4.5mg,11%)を合成した。
LCMS: m/z 538[M+H]
HPLC保持時間: 3.88分 (分析条件Y)
[製造例1153]
化合物GT15−20
10,10−ジメチル−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ−ブトキシ
)−10H−11−オキサ−1−アザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


化合物GT15−7の合成法と同様の条件で、化合物GT15−19より、標題化合物
(7.9mg,51%)を合成した。
LCMS: m/z 384 [M+H]
HPLC保持時間: 2.57分 (分析条件Y)
[製造例1154]
化合物GT15−21
8−メトキシ−10,10−ジメチル−5,10−ジヒドロ−11−オキサ−3−アザ−
ベンゾ[b]フルオレン


7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オン(化
合物A2、2.5g)、3−ブロモ−4−クロロ−ピリジン(2g)、ナトリウム t−
ブトキシド(3g)、Pddba(476mg)、S−Phos(512 mg)に
トルエン(20mL)を加え、窒素雰囲気下 100度で終夜加熱攪拌した。反応混合物
に冷却後、酢酸エチルで希釈し、セライト濾過した。有機層を飽和重曹水および飽和食塩
水で洗浄した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリ
カゲルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(112mg、4%)を得
た。
LCMS: m/z 280 [M+H]
HPLC保持時間: 2.46分 (分析条件Y)
[製造例1155]
化合物GT15−22
8−メトキシ−10,10−ジメチル−10H−11−オキサ−3−アザ−ベンゾ[b]
フルオレン−5−オン


化合物GT15−3の合成法と同様の条件で、化合物GT15−21より、標題化合物(
49mg,52%)を合成した。
LCMS: m/z 294 [M+H]
HPLC保持時間: 2.30分 (分析条件Y)
[製造例1156]
化合物GT15−23
8−ヒドロキシ−10,10−ジメチル−10H−11−オキサ−3−アザ−ベンゾ[b
]フルオレン−5−オン


化合物GT15−12の合成法と同様の条件で、化合物GT15−22より、標題化合物
(110mg,77%)を合成した。
LCMS: m/z 280 [M+H]
HPLC保持時間: 1.95分 (分析条件Y)
[製造例1157]
化合物GT15−24
8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ]−10,10−ジメチ
ル−10H−11−オキサ−3−アザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


化合物A7−1の合成法と同様の条件で、化合物GT15−23および化合物T22−0
より、標題化合物(38mg,49%)を合成した。
LCMS: m/z 538[M+H]
HPLC保持時間: 3.40分 (分析条件Y)
[製造例1158]
化合物GT15−25
10,10−ジメチル−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ−ブトキシ
)−10H−11−オキサ−3−アザ−ベンゾ[b]フルオレン−5−オン


化合物GT15−7の合成法と同様の条件で、化合物GT15−24より、標題化合物(
17 mg,72%)を合成した。
LCMS: m/z 384 [M+H]
HPLC保持時間: 1.48分 (分析条件Y)
[製造例1159]
化合物GT16−1
2−(2−ブロモ−4−メトキシ−フェニル)−プロパン−2−オール


1−(2−ブロモ−4−メトキシフェニル)−エタノン(300mg)のTHF溶液(3
mL)の混合物に、窒素雰囲気下0℃にてMeMgBr(3M THF溶液)0.52m
Lを加え、室温で6時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢
酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、減圧濃縮して得られた残渣をシ
リカゲルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(220mg、69%)
を得た。
H−NMR (CDCL) δ :7.55(1H,d)、7.14(1H,d)、
6.83(1H,dd)、3.79(3H、s)、2.72(1H、s)、1.73(6
H,s)
[製造例1160]
化合物GT16−2
2−[1−(2−ブロモ−4−メトキシフェニル)−1−メチルエチル]ベンゾフラン



2−(2−ブロモ−4−メトキシフェニル)−プロパン−2−オール(100mg)、2
,3−ベンゾフラン(0.19mL)およびポリリン酸(1g)の混合物を90度で30
分間加熱撹拌した。反応混合物に水を加え、DCMで抽出した。減圧濃縮して得られた残
渣をシリカゲルカラム(DCM/へキサン)で精製し、標題化合物(143mg、51%
)を得た。
H−NMR (CDCL) δ :7.4−7.5(1H,m)、7.3−7.4(
2H,m)、7.1−7.25(3H、m)、6.87(1H、dd)、6.42(1H
、s)3.79(3H、s)、1.84(6H,s)
[製造例1161]
化合物GT16−3
2−(1−ベンゾフラン−2−イル−1−メチル−エチル)−5−メトキシ−安息香酸



2−[1−(2−ブロモ−4−メトキシフェニル)−1−メチルエチル]ベンゾフラン(
140mg)およびTHF(2mL)の混合物に窒素雰囲気下、−78度でn−ブチルリ
チウム(2.5M溶液、0.17mL)を加え、20分間撹拌した。得られた反応混合物
に二酸化炭素ガスを15分間吹き込んだ。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄した後、減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラム(DCM/MeOH)で精製し、標題化合物(68mg、
54%)を得た。
LCMS: m/z 311 [M+H]
HPLC保持時間: 2.92分 (分析条件Y)
[製造例1162]
化合物GT16−4
9−メトキシ−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−1
1−オン


2−(1−ベンゾフラン−2−イル−1−メチルエチル)−5−メトキシ安息香酸(63
mg)のDCM溶液(1mL)に窒素雰囲気下、室温でトリフルオロ酢酸無水物 (0.
03mL)を加え、30分間撹拌した。反応混合物に水を加え、DCMで抽出し有機層を
硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(DCM)で
精製し、標題化合物(50mg、84%)を得た。
LCMS: m/z 293 [M+H]
HPLC保持時間: 3.49分 (分析条件Y)
[製造例1163]
化合物GT16−5
9−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−
11−オン



化合物A6と同様の条件で、化合物GT16−4より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 279 [M+H]
HPLC保持時間: 3.05分 (分析条件Y)
[製造例1164]
化合物GT16−6
9−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト
[2,3−d]フラン−11−オン




化合物A7−17と同様の条件で、化合物GT16−5より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 378 [M+H]
HPLC保持時間: 2.41分 (分析条件Y)
[製造例1165]
化合物GT16−7
9−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−6,
6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン



化合物A7−17と同様の条件で、化合物GT16−5とトルエン−4−スルホン酸 (
R)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメチル エステルより、標
題化合物を合成した。
LCMS: m/z 393 [M+H]
HPLC保持時間: 3.22分 (分析条件Y)
[製造例1166]
化合物GT16−8
9−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ
[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン



化合物A7−14−2と同様の条件で、化合物GT16−7より、標題化合物を合成した

LCMS: m/z 353 [M+H]
HPLC保持時間: 2.83分 (分析条件Y)
[製造例1167]
化合物GT16−9
3−(6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]ナフト[2
,3−d]フラン−9−イル)−安息香酸


化合物GT9−2と同様の手法で、化合物GT16−5より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 383 [M+H]
HPLC保持時間: 7.11分 (分析条件H)
[製造例1168]
化合物GT16−10
9−(4−ヒドロキシメチル−フェニル)−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフ
ト[2,3−d]フラン−11−オン


化合物GT9−2と同様の手法で、化合物GT16−5より、標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 369 [M+H]
HPLC保持時間: 6.97分 (分析条件H)

以下の表39の化合物は以下の方法により調製した。すなわち8−メトキシ−1,1−ジ
メチル−3,4−ジヒドロ−1Hナフタレン−2−オンとブロモフェノールより化合物Z
10、Z11およびZ12の調製に用いた手法を用いて化合物GT17−1を調製した。
化合物GT17−1を化合物A6の調製に用いた手法で脱メチル化し7−ヒドロキシ−6
、6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オンを調製し
た。得られたヒドロキシ体を化合物A7−1の調製に用いたアルキル化、あるいは化合物
A7−17の調製に用いた光延反応で対応する側鎖あるいはその合成等価体を導入後、必
要に応じ官能基変換を行い化合物GT17−2および化合物GT17−3を調製した。

以下の表40の化合物は以下の方法により調製した。
化合物M1とブロモフェノールより化合物Z10、Z11およびZ12の調製に用いた手
法を用いて化合物GT18−1を調製した。化合物GT18−1は化合物A6の調製に用
いた手法で脱メチル化し8−ヒドロキシ−11H−スピロ[ベンゾ[b]ナフト[2,3
−d]フラン−6,1’−シクロペンタン]−11−オンを調製し、これを化合物A7−
1の調製に用いたアルキル化で側鎖導入し化合物GT18−2を調製した。
同様にして7−メトキシ−3,4−ジヒドロ−1H−ナフタレン−2−オンおよび対応す
るジブロミドより以下のスピロ化合物を調製した。
[製造例1178]
化合物GT19−1
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−3−トリフルオロメチル−
6H−ベンゾ[B]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン


7−メトキシ−1,1−ジメチル−3,4−ジヒドロ−1Hナフタレン−2−オンと2−
ブロモ−5−トリフルオロフェノールより記述の手法で調製した。
LCMS: m/z 446 [M+H]
HPLC保持時間:3.25分(分析条件C)
[製造例1179]
化合物GT19−2
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−3−フェニル−6H−ベン
ゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン


化合物GT23−5および対応するボロン酸試薬を用いて化合物GT9−2の調製に用い
た手法で鈴木カップリングを行うことにより表題化合物を調製した。
LCMS: m/z 454 [M+H]
HPLC保持時間:2.67分(分析条件F)
[製造例1180]
化合物GT20−1
8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−3−(2−フェニル−エタンスルホニル)−5,6
−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−ブロモ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オン(72.2mg、0.203mmol)、2−フェニルエタンチオ
ール(0.0297ml、0.221mmol)、Pddba(9.3mg、0.0
102mmol)、Xantphos(11.6mg、0.020mmol)およびエチ
ルジイソプロピルアミン(0.068ml、0.40mmol)をジオキサン(0.6m
l)に溶解し、窒素雰囲気下110℃にて16時間撹拌した。水および酢酸エチルを加え
て得られた懸濁液をろ過し、有機層を水および飽和食塩水にて洗浄し、減圧濃縮して得ら
れた残渣を、シリカゲルカラム(酢酸エチル/ヘキサン)で精製した。得られた残渣をT
HF(4ml)に溶解し、上澄み液2mlを採取し、それに水(1ml)を加え、OXO
NE(99mg)を加え、室温にて終夜撹拌した。反応液を水−酢酸エチルにて分配し、
有機層を食塩水にて洗浄し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル
/ヘキサン)で精製し、標題化合物(37.1mg)を得た。
LCMS: m/z 446 [M+H]
HPLC保持時間:2.51分(分析条件 F)
[製造例1181]
化合物GT20−2
6,6−ジメチル−3−(2−フェニル−エタンスルホニル)−8−((2R,3R)−
2,3,4−トリヒドロキシ−ブトキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾー
ル−11−オンおよび
化合物GT20−3
8−イソプロポキシ−6,6−ジメチル−3−(2−フェニル−エタンスルホニル)−5
,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン

8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−3−(2−フェニル−エタンスルホニル)−5,6
−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(30mg、0.0673mmol
)、[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−
2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル]メタノール(22.3mg、0
.0808mmol)、PPh(23mg、0.0875mmol)をTHF(0.5
ml)に溶解し、DIAD(0.0169ml、0.0808mmol)を加え、50℃
にて終夜撹拌した。放冷後反応液をろ過し、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ム(酢酸エチル/ヘキサン)で精製して得られた残渣をTHF(0.4ml)および水(
0.13ml)に溶解し、カンファースルホン酸(28.1mg、0.121mmol)
を加え、窒素雰囲気下80℃にて15分間マイクロ波照射した。酢酸エチルを加え、有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて洗浄し、減圧濃縮し得られた残渣を
薄層クロマトグラフィー(MeOH/DCM)にて精製し、化合物GT20−2(10.
5mg)および化合物GT20−3(2.4mg)を得た。
化合物GT20−2
LCMS: m/z 550 [M+H]
HPLC保持時間:2.20分(分析条件 F)

化合物GT20−3
LCMS: m/z 488 [M+H]
HPLC保持時間:3.13分(分析条件 F)
[製造例1182]
化合物GT20−4
3−メタンスルホニル−6,6−ジメチル−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒ
ドロキシ−ブトキシ)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


化合物GT23−2(59.6mg、0.167mmol)、ナトリウム メタンチオラ
ート(77mg、1.10mmol)、Pddba(23.7mg、0.0259m
mol)、Xantphos(29.7mg、0.0513mmol)のDMA溶液(0
.6ml)を窒素雰囲気下180℃にて30分間マイクロ波照射した。反応液をリン酸二
水素カリウム水溶液、酢酸エチルにて分配し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、減圧濃縮
し得られた残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル/ヘキサン および MeOH/DCM
)にて精製した。得られた固体をTHF(1ml)および水(0.5ml)に溶解し、O
XONE(101.4mg)を加え、室温にて2時間撹拌した。反応液を水および酢酸エ
チルにて分配し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、減圧濃縮し得られた残渣をMTBEで
懸濁洗浄した。得られた固体をTHF(0.4ml)に溶解し、PPh(37mg、0
.141mmol)、[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−ジメチル−シラニル
オキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル]−メタノール
(39.0mg、0.141mmol)およびDEAD(2.2Mトルエン溶液、0.0
64ml、0.141mmol)を加え、窒素雰囲気下40℃にて4時間撹拌した。反応
液を、水、酢酸エチルにて分配し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、減圧濃縮し得られた
残渣をシリカゲルカラム(MeOH/DCM)にて精製した。得られた生成物をTHF(
0.25ml)およびMeOH(0.05ml)に溶解し、0.5M硫酸(0.1ml)
を加え、60℃にて5時間撹拌した。放冷後ジエチルエーテルを加え、炭酸水素ナトリウ
ム(13mg、0.15mmol)を加え、分離した水層をろ過し、減圧濃縮し、MeO
Hにて懸濁精製し、標題化合物を白色固体として得た(10.4mg、14%)。
LCMS: m/z 460 [M+H]
HPLC保持時間:1.71分(分析条件 F)
[製造例1183]
化合物GT20−5
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−3−メチルス
ルファニル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン
(47.3mg、0.101mmol)、ナトリウム メタンチオラート(34.6mg
、0.493mmol)、Pd(dba)(13.1mg、0.0413mmol)
、およびXantphos(17.9mg、0.0309mmol)をDMA(0.5m
l)に溶解し、窒素雰囲気下200℃にて30分間マイクロ波照射した。リン酸二水素カ
リウム水溶液と酢酸エチルにて分配し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、減圧濃縮し得ら
れた残渣を薄層クロマトグラフィー(酢酸エチル/DCM)にて精製した。得られた固体
をTHF(0.23ml)およびMeOH(0.06ml)に溶解し、0.5M硫酸(0
.12ml)を加え、60℃にて2時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで希釈し、
炭酸水素ナトリウム(15.5mg、0.185mmol)で中和した後、食塩水および
酢酸エチルで分配した。有機層を減圧濃縮し得られた残渣にジエチルエーテルを加え、析
出した固体をろ取し、標題化合物を白色固体として得た(15.8mg、39%)。
LCMS: m/z 398 [M+H]
HPLC保持時間:4.46分(分析条件 H)
[製造例1184]
化合物GT20−5
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジメチル−3−チアゾー
ル−2−イル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン


3−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(
47mg、0.10mmol)、ビス(ピナコレート)ジボロン(33mg、0.13m
mol)、Pd(dppf)Cl・DCM(8.2mg、0.010mmol)およ
び酢酸カリウム(294mg、0.3mmol)をジオキサン(0.6ml)に溶解し、
窒素雰囲気下、100℃にて終夜撹拌した。リン酸二水素カリウム水溶液、酢酸エチルに
て分配し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、減圧濃縮し得られた残渣をシリカゲルカラム
(酢酸エチル/DCM)にて精製し8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキ
ソラン−4−イルメトキシ)−6,6−ジメチル−3−(4,4,5,5−テトラメチル
−[1,3,2]ジオキサボロラン−2−イル)−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カル
バゾール−11−オン(30.2mg)を得た。生成物11mgをDMA(0.4ml)
に溶解し、2−ブロモチアゾール(0.0038ml、0.0428mmol)、Pd(
PPh(5.3mg、0.00459mmol)リン酸カリウム(27.4mg、
0.129mmol)および水(0.1ml)を加え、窒素雰囲気下140℃にて7分間
マイクロ波照射した。リン酸二水素カリウム水溶液、酢酸エチルにて分配し、有機層を飽
和食塩水にて洗浄し、減圧濃縮し得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(MeOH/D
CM)にて精製して得られた固体をMeOH(1ml)に溶解し、1N−HCl(3滴)
を加え、60℃にて2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮した残渣を、DCM/ヘキサン(
2/1)で懸濁洗浄し乾燥し標題化合物を黄色固体として得た(8.7mg)。
LCMS: m/z 435 [M+H]
HPLC保持時間:1.76分(分析条件 A)

同様の手法で以下の表41の化合物を合成した。
[製造例1187]
化合物GT20−8
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−3−メトキシメチル−6,6−ジ
メチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オンおよび
化合物GT20−9
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−3−ヒドロキシメチル−6,6−
ジメチル−5,6−ジヒドロ−ベンゾ[b]カルバゾール−11−オン

3−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−5,6−ジヒドロベンゾ[b]カルバゾール−11−オン(
200.2mg、0.426mmol)、酢酸パラジウム(II)(19mg、0.08
48mmol)、ヘキサカルボニルモリブデン(115.5mg、0.438mmol)
およびトリス(o−トリル)ホスフィン(52.5mg、0.172mmol)をTHF
(1.3ml)およびエタノール(0.075ml)に溶解し、DBU(0.195ml
)を加え、窒素雰囲気下160℃にて15分間マイクロ波照射した。反応液をリン酸二水
素カリウム水溶液、酢酸エチルにて分配し、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、減圧濃縮し
た。得られた残渣をエタノール(10ml)およびTHF(3ml)に溶解し、2N−K
OH(2ml)を加え、室温にて2時間、50℃にて終夜、70℃にて2時間撹拌した。
反応液をリン酸二水素カリウム水溶液、酢酸エチルにて分配し、有機層を飽和食塩水にて
洗浄し、減圧濃縮した。得られた残渣をMTBE/ヘキサン(1/1)に懸濁精製した(
155.4mg)。このうち109mgのTHF溶液(1.5ml)に氷冷下TEA(0
.052ml、0.373mmol)およびクロロギ酸エチル(0.029ml、0.3
03mmol)を加え、0℃にて2時間撹拌した。次いでエタノール(1ml)および水
素化ホウ素ナトリウム(75.7mg、2.0mmol)を加え、室温にて2時間撹拌し
た。反応液を酢酸エチル、リン酸二水素カリウム水溶液で分配し、有機層を飽和食塩水に
て洗浄し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(MeOH/DCM)にて精製
した(35.2mg)。得られた固体の9.6mgをMeOH(1ml)に溶解し、1N
−HCl(3滴)を加え、60℃にて90分間撹拌した。放冷後減圧濃縮し、TLC(M
eOH/DCM)にて精製し、化合物GT20−8(6.2mg、白色固体)および化合
物GT20−9(4.3mg、白色固体)を得た。
化合物GT20−8
LCMS: m/z 396 [M+H]
HPLC保持時間:1.66分(分析条件 A)

化合物GT20−9
LCMS: m/z 382 [M+H]
HPLC保持時間:1.37分(分析条件 A)
[製造例1188]
化合物GT21−1
8−[(E)−2−(2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル)−ビニル
]−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン


トリフルオロ−メタンスルホン酸 6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11− ジヒ
ドロ−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−8−イル エステル(300mg)、
2,2−ジメチル−4−ビニル−[1,3]ジオキソラン(469mg)、PdCl
PPh(103mg)のDMF溶液(4mL)に炭酸水素ナトリウム(184mg
)を加え、窒素雰囲気下100℃にて終夜攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、
有機層を飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄し、減圧濃縮した残渣をシリカゲルカラム(
酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(130mg、46%)を得た。
LCMS: m/z 389 [M+H]
HPLC保持時間: 3.28分 (分析条件Y)
[製造例1189]
化合物GT21−2
8−(3,4−ジヒドロキシ−ブチル)−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト
[2,3−d]フラン−11−オン




8−[(E)−2−(2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イル)−ビニル
]−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン
(125mg)のMeOH溶液(5mL)に10%Pd−C(25mg)を加え、水素雰
囲気下室温で終夜攪拌した。触媒を濾過で除去した後、減圧濃縮して得られた残渣をHP
LC精製し、標題化合物(35mg、31%)を得た。
LCMS: m/z 351 [M+H]
HPLC保持時間: 1.79分 (分析条件Y)
[製造例1190]
化合物GT21−3
8−アミノ−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11
−オン


トリフルオロ−メタンスルホン酸6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ
−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−8−イルエステル(100mg)、ベンズ
ヒドリリデンアミン(0.05mL)、炭酸セシウム(110mg)、酢酸パラジウム(
2mg)、BINAP(7mg)にTHF(2mL)を加え、窒素雰囲気下65度で終夜
加熱攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和重曹水および飽和食塩水
で洗浄し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精
製し、標題化合物(16mg、23%)を得た。
LCMS: m/z 278 [M+H]
HPLC保持時間: 2.52分 (分析条件Y)
[製造例1191]
化合物GT21−4
8−[((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメチル)−アミ
ノ]−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン


8−アミノ−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11
−オン(50mg)、(R)−4−ヨードメチル−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキ
ソラン(104mg)、炭酸カリウム(150mg)、DMF(2mL)の混合物を窒素
下160度で2日間加熱攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、有機層を水および
飽和食塩水で洗浄し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル/へキ
サン)で精製した。得られた化合物(71mg)にTHF(1mL)および濃塩酸(8滴
)を加え、室温で1時間撹拌した。反応混合物に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで希釈し
た。有機層を飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄し減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲ
ルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精製し標題化合物(34mg、51%)を得た。
LCMS: m/z 392 [M+H]
HPLC保持時間: 3.11分 (分析条件Y)
[製造例1192]
化合物GT21−5
8−((S)−2,3−ジヒドロキシ−プロピルアミノ)−6,6−ジメチル−6H−ベ
ンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン


化合物GT21−4を化合物A7−14−2と同様な方法で脱保護し標題化合物を得た。
LCMS: m/z 352 [M+H]
HPLC保持時間: 2.26分 (分析条件Y)
[製造例1193]
化合物GT22−1
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−3−プロピル−6H−ベン
ゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン



化合物A7−25と同様の手法で調製したトリフルオロ−メタンスルホン酸 8−(2−
ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−
ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−3−イル エステル(15mg)、トリス(
1‐メチル‐3‐オキソ‐1‐ブテニルオキシ)鉄(III)(1mg)NMP(0.3
mL)およびTHF(0.3mL)混合物に窒素雰囲気下、0度でn−PrMgBr(0
.88M、THF溶液、0.291mL)および塩化亜鉛(0.5M THF溶液、0.
114mL)を加え、0度で10分間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラ
ム(酢酸エチル/へキサン)で精製し、標題化合物(4.5mg、38%)を得た。
LCMS: m/z 420 [M+H]+
HPLC保持時間: 5.77分 (分析条件H)
[製造例1194]
化合物GT22−2
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−3−エチル−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ
[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン



化合物GT22−2と同様にして標題化合物を合成した。
LCMS: m/z 406 [M+H]
HPLC保持時間: 5.12分 (分析条件B)
[製造例1195]
化合物GT23−1
3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d
]フラン−11−オン



化合物GT20−5と同様の条件で、化合物Z12より調製した8−メトキシ−6,6−
ジメチル−3−(4,4,5,5−テトラメチル−[1,3,2]ジオキサボロラン−2
−イル)−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン(10.3 m
g)を臭化銅(II) (16.5 mg)、MeOH (0.5 mL)、水 (0.
25 mL)と混合し70℃にて2時間加熱攪拌した。反応液にDCMを加え抽出した。
有機層を濃縮し、シリカゲルカラムにて精製し標題化合物 (9.4 mg)を得た。
LCMS: m/z 371 [M+H]
HPLC保持時間: 7.55分 (分析条件B)
[製造例1196]
化合物GT23−2
3−ブロモ−8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−
d]フラン−11−オン


3−ブロモ−8−メトキシ−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d
]フラン−11−オンを化合物GT15−5と同様の手法で脱保護し標題化合物を合成し
た。
LCMS: m/z 357 [M+H]
HPLC保持時間: 2.82分 (分析条件A)

以下の表42の化合物を化合物GT23−2より表の調製法に従い合成した。
[製造例 1200]
化合物GT24−1
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−3−ヨード−6,6−ジメチル−
6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン



3−ブロモ−8−((S)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメト
キシ)−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オ
ン(15mg、0.032mmol), CuI (6.2 mg, 0.032 mm
ol), NaI (9.6 mg, 0.064 mmol), トランス−N,N’
−ジメチルシクロヘキサン−1,2−ジアミン (0.01 ml)を加え窒素下、48
時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、減圧濃
縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル/へキサン)で精製し、8−((S
)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−イルメトキシ)−3−ヨード−6
,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン(16m
g、97%)を得、これをA−14−2の方法に従い脱保護を行い標題化合物を得た。
LCMS: m/z 479 [M+H]
HPLC保持時間: 4.26分 (分析条件A)
[製造例 1201]
化合物GT24−2
3−ヨード−6,6−ジメチル−8−((2R,3R)−2,3,4−トリヒドロキシ−
ブトキシ)−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン


化合物GT24−1と同様にして3−ブロモ−8−[(4R,5R)−5−(tert−
ブチル−ジメチル−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラ
ン−4−イルメトキシ]−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]
フラン−11−オンより3−ヨード−8−[(4R,5R)−5−(tert−ブチル−
ジメチル−シラニルオキシメチル)−2,2−ジメチル−[1,3]ジオキソラン−4−
イルメトキシ]−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−
11−オンを合成し、ついで化合物T22−2の手法により脱保護し標題化合物を得た。
[製造例 1202]
化合物GT25−1
6,6−ジメチル−8−(4−メチル−ピペラジン−1−スルホニル)−6H−ベンゾ[
b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン


8−ヒドロキシ−6,6−ジメチル−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−
11−オンより化合物B1の調製手法をもちいて、トリフルオロ−メタンスルホン酸 6
,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d
]フラン−8−イル エステルを調製した。このトリフルオロメタンスルホン酸エステル
205mg、(2R)−1−[(1R)−1−[ビス(1,1−ジメチルエチル)ホスフ
ィノ]エチル]−2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)フェロセン13mg, 酢酸パラ
ジウム6mg, 2−トリメチルシラニル−エタンチオール 90μL、炭酸カリウム8
5mgをDME中反応させることにより、120mgの生成物を得た。生成物50mg、
ベンジルアルコール溶液90μLにN−クロロスクシンイミド90mgのDCM溶液を加
え室温で撹拌した。反応液を水、酢酸エチルで分配した後、有機層を減圧濃縮した。得ら
れた白色固体のDCM溶液にN−メチルピペラジン10uLを加え撹拌した。溶媒を留去
した残渣をTLCにより精製し、表題化合物6mgを白色固体として得た。
[製造例1203]
化合物GT26−1
(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−アセトニトリル


2−ブロモ−5−メトキシ−安息香酸 メチル エステル(20g、81.6mmol)
のTHF溶液(1000ml)に、氷冷下、LAH(4.07g、102mmol)のT
HF懸濁液(50ml)を加え、氷冷下30分攪拌した。反応液を飽和NaSO水溶
液、酢酸エチルで分配した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、減圧濃縮して得られた残渣を
DCM(200ml)に溶解し、氷冷下、TEA(12.51ml、89.76mmol
)、MsCl(6.63ml、85.68mmol)を加え室温で終夜攪拌した。反応混
合物をDCMで希釈し、10%クエン酸水溶液、飽和NaHCO水溶液、飽和食塩水で
順に洗浄した。減圧濃縮して得られた残渣をDMF(100ml)に溶解し、NaCN(
40g、81.6mmol)のDMF(500ml)溶液を、氷冷下で加えた。氷冷下で
2時間攪拌後、反応混合物をエーテルで抽出、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル=10:
1)で精製し、表題化合物(12.1g、67%)を得た。
H−NMR (400MHz, CDCl) δ 3.82 (s, 3 H),
6.77(d,1H), 7.07 (s, 1 H), 7.47 (d, 1 H)
[製造例1204]
1−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−シクロプロパンカルボニトリル
化合物GT26−2


2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−アセトニトリル (12.2g、53.97m
mol)をトルエン(50ml)に溶解し、テトラブチルアンモニウムブロマイド(3.
55g、10.79mmol)、ジブロモエタン(7.05ml、80.95mmol)
、50%NaOH水溶液(50ml)室温で加え、室温で4時間攪拌した。反応混合物に
水を加え、酢酸エチルで抽出した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキ
サン:酢酸エチル)で精製し、表題化合物(11.18g、82%)を得た。
H−NMR (400MHz, CDCl) δ 1.33 (t, 1 H),
1.76 (t, 1 H), 3.79 (s, 3 H), 6.75−6.79(
m,1H), 6.89 (d, 1 H), 7.47 (d, 1 H)
[製造例1205]
1−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−シクロプロパンカルボン酸
化合物GT26−3


1−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−シクロプロパンカルボニトリル(3.0
g、11.9mmol)をエチレングリコール(30ml)に溶解し、KOH(2.1g
、33.3mmol)を加え、180度で7時間加熱攪拌した。反応混合物を冷却後、1
NHClを90ml加えた。混合物をエーテルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧濃縮して表題化合物(12.3g、72%)を得た。
LCMS: m/z 272 [M+H]
HPLC保持時間: 2.03分 (分析条件Y)
[製造例1206]
化合物GT26−4
2−[1−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−シクロプロピル]−ベンゾフラン


1−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−シクロプロパンカルボン酸(0.3g、
1.1mmol)のDCM溶液(6ml)にDMF2滴、オキザリルクロライド(0.2
3ml、2.5mmol)を室温で加え、室温で2時間攪拌した。反応液を減圧濃縮して
得られた残渣をトルエン(6ml)に溶解し、(2−ヒドロキシベンジル)トリフェニル
ホスホニウム 臭化物(0.605g、1.32mmol)、TEA(0.46ml、3
.3mmol)を加え、100度で終夜加熱攪拌した。減圧濃縮して得られた残渣をシリ
カゲルカラム(ヘキサン:DCM)で精製し、表題化合物(0.309g、81%)を得
た。
LCMS: m/z 343 [M+H]
HPLC保持時間: 3.55分 (分析条件Y)
[製造例1207]
化合物GT26−5

2−(1−ベンゾフラン−2−イル−シクロプロピル)−4−メトキシ−安息香酸


2−[1−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−シクロプロピル]−ベンゾフラン
(0.259g、0.75mmol)のTHF溶液(3ml)に−78度でn−BuLi
を加え−78度で20分攪拌した後、二酸化炭素ガスを吹き付けた。反応混合物に飽和N
Cl溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカ
ラム(DCM:MeOH)で精製し、表題化合物(0.163g、70%)を得た。
LCMS: m/z 309 [M+H]
HPLC保持時間: 2.67分 (分析条件Y)
[製造例1208]
化合物GT26−6
8−メトキシ−11H−スピロ[ベンゾ[d]ナフト[2,3−b]フラン−6,1’−
シクロプロパン]−11−オン



2−(1−ベンゾフラン−2−イル−シクロプロピル)−4−メトキシ−安息香酸(1.
0g、3.24mmol)のDCM溶液(10ml)に−78度で無水トリフルオロ酢酸
(0.45ml、3.24mmol)を加え、―78度で10分、―50度で10分、―
30度で20分、攪拌した。水を加え、DCMで抽出した。減圧濃縮して得られた残渣を
DCM、ヘキサンで洗浄し、表題化合物を得た(0.163g、70%)を得た。
LCMS: m/z 291 [M+H]
HPLC保持時間: 2.90分 (分析条件Y)
[製造例1209]
化合物GT26−7
8−(2−(ジエチルアミノ)エトキシ)−11H−スピロ[ベンゾ[d]ナフト[2,
3−b]フラン−6,1’−シクロプロパン]−11−オン


8−メトキシ−11H−スピロ[ベンゾ[d]ナフト[2,3−b]フラン−6,1’−
シクロプロパン]−11−オンより、化合物A6およびA7−17と同様な方法で、表題
化合物を得た。
LCMS: m/z 376 [M+H]
HPLC保持時間: 1.65分 (分析条件Y)
[製造例1210]
化合物GT27−1
2−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−2−エチル−酪酸


(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−酢酸 メチル エステル(3.51g、13
.5mmol)をDMF(4.5ml)に溶解し、NaH(2.1g、67.7mmol
)を加えた。次いで15−crown−5(1.38ml、6.8mmol)、EtI(
5.5ml、67.7mmol)をO度に冷却して加えた。混合物を酢酸エチルで希釈し
、水、飽和食塩水で洗浄し減圧濃縮した残渣を、シリカゲルカラム(ヘキサン−酢酸エチ
ル)で精製した。ついで、エタノール(80ml)、水(80ml)に溶解しKOH(9
1g)を加え、140度攪拌した。反応液を酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄
し、減圧濃縮し目的物を得た(10.62g、78%)。
LCMS: m/z 301 [M+H]
HPLC保持時間: 3.07分 (分析条件Y)
[製造例1211]
化合物GT27−2
2−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−2−エチル−酪酸 o−トリル エステ



化合物GT27−1(0.5g、1.66mmol)をDCM(10ml)に溶解し、D
MF(2滴)、オキザリルクロライド(0.28ml、3.32mmol)を加え、2時
間攪拌した。減圧濃縮した反応混合物をトルエン(5ml)に溶解し、DMAP(406
mg、3.32mmol)を加え、加熱還流した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、1
NHCl、飽和食塩水で洗浄し、減圧濃縮した残渣を、シリカゲルカラム(ヘキサン−酢
酸エチル)で精製し目的物を得た(0.36g、86%)。
LCMS: m/z 393 [M+H]
HPLC保持時間: 3.03分 (分析条件Y)
[製造例1212]
化合物GT27−3
2−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−2−エチル−酪酸 2−[(トリフェニ
ル−ホスファニル)−メチル]−フェニル エステル 臭素酸塩


化合物GT27−2(0.118g, 0.302mmol)を四塩化炭素(3ml)に
溶解し、N−ブロモスクシンイミド(54mg、0.302mmol)を加え加熱還流し
た。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムで精製した(酢酸エチル−ヘキサ
ン)。生成物をトルエン(3ml)に溶解し、PPh(77mg、0.302mmol
)を加え加熱還流した。反応混合物を減圧濃縮し目的物を得た(130mg、57%)。
[製造例1213]
化合物GT27−4
2−[1−(2−ブロモ−5−メトキシ−フェニル)−1−エチル−プロピル]−ベンゾ
フラン


化合物GT27−3(0.14g、0.137mmol)のトルエン溶液(3ml)に1
M LiHMDSトルエン溶液を(0.16ml, 0.164mmol)加え4時間加
熱攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル:ヘキサン
)で精製し、表題化合物(28mg、35%)を得た。
LCMS: m/z 373 [M+H]
HPLC保持時間: 2.73分 (分析条件Y)
[製造例1214]
化合物GT27−5
8−(2−ジエチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジエチル−6H−ベンゾ[b]ナフト
[2,3−d]フラン−11−オン


化合物GT27−4よりA7−17と同様の方法で、表題化合物を得た。
LCMS: m/z 407 [M+H]
HPLC保持時間: 1.92分 (分析条件Y)
[製造例1215]
化合物GT27−6
8−((R)−2,3−ジヒドロキシ−プロポキシ)−6,6−ジエチル−6Hベンゾ[
b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン


化合物GT27−4より化合物A7−14−1およびA7−14−2と同様の手法で表題
化合物を得た。
LCMS: m/z 381 [M+H]
HPLC保持時間: 2.38分 (分析条件Y)

以下の表43の化合物を以下の方法により調製した。化合物A2および2−ブロモ−5−
クロロフェノールより化合物Z10、Z11およびZ12の調製に用いた手法を用いて3
−クロロ−8−メトキシ−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オン
を調製した。次いで化合物A6の調製に用いた手法で脱メチル化し3−クロロ−8−ヒド
ロキシ−6H−ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−11−オンに導いた。その後
、化合物A7−1の調製に用いた光延反応または化合物A7−17の調製に用いたアルキ
ル化で対応する側鎖を導入し必要に応じ脱保護操作等の官能基変換を行い以下の化合物を
調製した。
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが,本発明はこれら実施例に限定さ
れるものではない。
薬理学的試験法−1
1.ALKのエンザイムの阻害活性
ALK阻害活性は、ビオチン化ペプチド(EGPWLEEEEEAYGWMDF)のリン
酸化反応の阻害活性により測定した。リン酸化ビオチン化ペプチドの検出は、ユーロピウ
ムクリプテートを結合させた抗リン酸化チロシン抗体およびアロフィコシアニンの誘導体
であるXL665を結合させたストレプトアビジンを用いた時間分解蛍光測定法で行い、
被検物質を含まない対照群に対する阻害率より50%阻害濃度(IC50値)を算出した


2.Karpas−299細胞生育阻害活性の測定
被験化合物はジメチルスルホキシドにて系列希釈後、Ca2+,Mg2+不含リン酸緩衝
生理食塩水で50倍希釈し、その10μLを96穴プレートに分注した。ヒトリンパ腫細
胞株KARPAS−299は、RPMI−1640培地に10%牛胎児血清を添加した培
地で、10,000細胞/190μLとなるよう細胞懸濁液を調製した。この細胞懸濁液
を被験化合物添加済みプレートに1ウェルあたり190μL分注し、37℃、5%炭酸ガ
スインキュベーターにて培養した。96時間後、10μLのWST−8(同仁)を各ウェ
ルに添加し、450nmの吸光度を測定した。被験化合物無添加の対照に対する被験化合
物添加時の増殖阻害率より、被験化合物の50%増殖阻害濃度(IC50値)を算出した
。結果を表44〜49に記す。
薬理学的試験法−2
ALK遺伝子異常を有する腫瘍に対するゼノグラフトモデルによる抗腫瘍活性評価
製造例366に従って合成した化合物F6-20のin vivoにおける抗腫瘍活性を、EML4-ALK
の融合遺伝子が発現する非小細胞肺癌株NCI-H2228、NPM-ALKの融合遺伝子が発現する未分
化大細胞型非ホジキンリンパ腫株KARPAS-299及びALK遺伝子増幅の認められる神経芽腫株N
B-1の3細胞株を移植したマウスゼノグラフトモデルを用いて評価した。それぞれの細胞
をSCIDマウスの皮下に移植し、腫瘍の大きさが200〜250 mm3に到達した後にランダマイズ
し、化合物の投与を開始した。化合物を溶解するための溶媒(最終濃度)は、10% DMSO,
10%Cremophor EL, 15% PEG400, および 15% HPCD (2-hydroxypropyl-β-cyclodextrin)
(F6-20のKARPAS-299及びNB-1の評価時のみ、これらの溶媒に0.02N HClを添加)を用いた
。6mg/kg及び20mg/kgのF6-20を1日1回11日間経口投与した。その結果、いずれの腫瘍に対
しても、用量依存的な腫瘍増殖抑制効果と腫瘍の退縮が認められた。抗腫瘍効果の結果を
図1A〜Cに示す。
腫瘍増殖抑制効果(TGI)は、以下の計算式により算出した。
最終投与日の腫瘍増殖抑制率(TGI)は、NCI-H2228モデルにおいて、6mg/kgで147%、20 mg/kgで168%、KARPAS-299モデルにおいて、6mg/kgで94%、20 mg/kgで119%、NB-1モデルにおいて、6mg/kgで63%、20 mg/kgで104%であった。

化合物F6-20以外の誘導体のTGIは、NCI-H2228のモデルにおいて、化合物F6-17では、6
mg/kgで161%、20 mg/kgで171%、化合物B4-8では6 mg/kgで156%、20mg/kgで182%、化合物
F5-46では6 mg/kgで141%、20 mg/kgで164%の腫瘍増殖抑制率を示した。

さらに、化合物F6-20及びその誘導体のKARPAS-299ゼノグラフトモデルの腫瘍増殖抑制
効果を以下の表に示す。複数の誘導体において、腫瘍増殖抑制効果が認められた。

Claims (10)

  1. 9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−クロロ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6,9−トリメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;および
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
    から選択される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する、ALK阻害剤である医薬。
  2. 9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−クロロ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6,9−トリメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;および
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
    から選択される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する、がん、がん転移、うつ、または認知機能障害の予防剤または治療剤である医薬。
  3. 9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−クロロ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6,9−トリメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;および
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
    から選択される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する、ALKの融合遺伝子に点変異を有する腫瘍の治療剤である医薬。
  4. 9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−クロロ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6,9−トリメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;および
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
    から選択される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する、ALK遺伝子に点変異を有し、薬剤に対する耐性を獲得した腫瘍の治療剤である医薬。
  5. 9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−クロロ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6,9−トリメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;および
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
    から選択される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する、神経芽細胞腫、および肺癌からなる群より選択される腫瘍に対する予防剤または治療剤である医薬。
  6. 9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−クロロ−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロパ−1−イニル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6,9−トリメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−11−オキソ−8−(4−ピロリジン−1−イル−ピペリジン−1−イル)−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチニル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(1−イソプロピル−ピペリジン−4−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−9−プロピル−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;および
    9−エチニル−6,6−ジメチル−8−モルホリン−4−イル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
    から選択される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物を有効成分として含有する、ALK遺伝子異常を有する腫瘍に対する予防剤または治療剤である医薬。
  7. 前記肺癌が非小細胞肺癌である請求項に記載の医薬。
  8. 前記腫瘍が、急性骨髄性白血病、慢性骨髄性白血病、急性リンパ性白血病、慢性リンパ性白血病、ホジキンリンパ腫、非ホジキンリンパ腫、脳腫瘍、神経芽細胞腫、神経膠、甲状腺癌、骨髄異形成症候群、頭頸部癌、食道癌、胃癌、大腸癌、結腸直腸癌、乳癌、卵巣癌、肺癌、膵臓癌、肝臓癌、胆嚢癌、皮膚癌、悪性黒色、腎癌、腎盂尿管癌、膀胱癌、子宮癌、精巣癌、および前立腺癌からなる群より選択される、請求項に記載の医薬。
  9. 前記腫瘍が、非ホジキンリンパ腫、神経芽細胞腫、および肺癌からなる群より選択される、請求項に記載の医薬。
  10. 前記化合物が、以下:
    8−(2−tert−ブチルアミノ−エトキシ)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    6,6−ジメチル−8−(1−オキセタン−3−イル−ピペリジン−4−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−ブロモ−8−(4−シクロプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチニル−8−(4−メタンスルホニル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−シクロプロピルエチニル−6,6−ジメチル−8−(4−オキセタン−3−イル−ピペラジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−シクロプロピル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    8−(4−シクロブチル−ピペラジン−1−イル)−9−エチル−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;
    9−エチル−6,6−ジメチル−8−(4−モルホリン−4−イル−ピペリジン−1−イル)−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル;および
    9−(4−イソプロピル−ピペラジン−1−イル)−6,6−ジメチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロ−5H−ベンゾ[b]カルバゾール−3−カルボニトリル
    から選択される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の医薬。
JP2011253797A 2010-11-22 2011-11-21 4環性化合物を含む医薬 Active JP5006987B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011253797A JP5006987B2 (ja) 2010-11-22 2011-11-21 4環性化合物を含む医薬

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010259772 2010-11-22
JP2010259772 2010-11-22
JP2011253797A JP5006987B2 (ja) 2010-11-22 2011-11-21 4環性化合物を含む医薬

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012126711A JP2012126711A (ja) 2012-07-05
JP5006987B2 true JP5006987B2 (ja) 2012-08-22

Family

ID=46644152

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011253797A Active JP5006987B2 (ja) 2010-11-22 2011-11-21 4環性化合物を含む医薬

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5006987B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106518842A (zh) * 2016-09-20 2017-03-22 北京万全德众医药生物技术有限公司 一种艾乐替尼的制备方法
CN109384664A (zh) * 2018-11-20 2019-02-26 成都正善达生物医药科技有限公司 一种艾乐替尼中间体的制备方法
WO2022163794A1 (ja) 2021-01-29 2022-08-04 中外製薬株式会社 小児がん治療用医薬組成物
WO2023074785A1 (ja) 2021-10-28 2023-05-04 中外製薬株式会社 シロップ剤
EP4316598A2 (en) 2018-06-29 2024-02-07 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Pharmaceutical composition containing poorly-soluble basic medicine
US11939322B2 (en) 2018-09-04 2024-03-26 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Method for producing tetracyclic compound

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AR083246A1 (es) 2010-08-20 2013-02-13 Chugai Pharmaceutical Co Ltd Composicion que comprende compuestos tetraciclicos
LT2902029T (lt) 2012-09-25 2018-10-25 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Ret inhibitorius
CN104177342B (zh) * 2013-05-21 2018-01-05 中国科学院上海药物研究所 杂环基取代的吲哚并萘酮衍生物及其医药用途
US9714229B2 (en) 2014-04-25 2017-07-25 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Crystal of tetracyclic compound
TWI720943B (zh) 2014-04-25 2021-03-11 日商中外製藥股份有限公司 以高用量含有4環性化合物的製劑
TWI718102B (zh) * 2014-08-08 2021-02-11 日商中外製藥股份有限公司 4環性化合物的非晶質體
CN104402862B (zh) * 2014-11-12 2016-10-05 苏州明锐医药科技有限公司 艾立替尼的制备方法
JP6797923B2 (ja) * 2015-09-23 2020-12-09 デイナ ファーバー キャンサー インスティチュート,インコーポレイテッド Alkおよびsrpk阻害剤ならびに使用方法
WO2017073706A1 (ja) * 2015-10-30 2017-05-04 中外製薬株式会社 ジヒドロナフト[2,3-b]ベンゾフラン誘導体
CN105777710B (zh) * 2016-04-05 2018-09-04 湖南欧亚药业有限公司 一种艾乐替尼的合成方法
JP7054134B2 (ja) * 2017-12-07 2022-04-13 国立大学法人京都大学 ベンゾ[b]カルバゾール化合物及びそれを用いたイメージング
CN108178743A (zh) * 2018-02-08 2018-06-19 安庆奇创药业有限公司 一种艾乐替尼关键中间体的制备方法
CN109438218B (zh) * 2018-10-23 2021-04-09 成都艾必克医药科技有限公司 一种盐酸艾乐替尼中间体2-(4-乙基-3-碘苯基)-2-甲基丙酸的合成方法
CN111349012B (zh) * 2018-12-21 2023-01-10 上海复星星泰医药科技有限公司 一种卤代芳烃类化合物的制备方法及其中间体
CN112062669A (zh) * 2019-06-11 2020-12-11 上海复星星泰医药科技有限公司 芳烃类化合物的制备方法
CN110590739A (zh) * 2019-09-20 2019-12-20 中国药科大学 一种艾乐替尼的制备方法
WO2022029096A1 (de) * 2020-08-06 2022-02-10 Merck Patent Gmbh Materialien für organische elektrolumineszenzvorrichtungen
CN116003280A (zh) * 2022-12-30 2023-04-25 合肥工业大学 一种芳基甲酰胺类化合物的光化学合成方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0892090A (ja) * 1994-07-26 1996-04-09 Tanabe Seiyaku Co Ltd 医薬組成物
JPH08291285A (ja) * 1995-04-21 1996-11-05 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた要素
ES2555803T3 (es) * 2006-10-23 2016-01-08 Cephalon, Inc. Fusión de derivados bicíclicos 2,4-diaminopirimidina como utilizar inhibidores ALK y c-Met
CN101932325B (zh) * 2007-11-30 2014-05-28 新联基因公司 Ido抑制剂
PL2441753T3 (pl) * 2009-06-10 2016-09-30 Związek tetracykliczny

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106518842A (zh) * 2016-09-20 2017-03-22 北京万全德众医药生物技术有限公司 一种艾乐替尼的制备方法
EP4316598A2 (en) 2018-06-29 2024-02-07 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Pharmaceutical composition containing poorly-soluble basic medicine
US11939322B2 (en) 2018-09-04 2024-03-26 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Method for producing tetracyclic compound
CN109384664A (zh) * 2018-11-20 2019-02-26 成都正善达生物医药科技有限公司 一种艾乐替尼中间体的制备方法
CN109384664B (zh) * 2018-11-20 2021-04-13 成都正善达生物医药科技有限公司 一种艾乐替尼中间体的制备方法
WO2022163794A1 (ja) 2021-01-29 2022-08-04 中外製薬株式会社 小児がん治療用医薬組成物
WO2023074785A1 (ja) 2021-10-28 2023-05-04 中外製薬株式会社 シロップ剤

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012126711A (ja) 2012-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5006987B2 (ja) 4環性化合物を含む医薬
JP4588121B1 (ja) 4環性化合物
WO2019158019A1 (zh) 嘧啶并环化合物及其制备方法和应用
KR101496273B1 (ko) 1,7-디아자카르바졸 및 암 치료에서의 그 용도
SG187614A1 (en) Composition containing tetracyclic compound
WO2001042247A1 (fr) Composes heterotricycliques fusionnes, procede de preparation de ces composes et medicaments contenant ces composes
CN112939967A (zh) 吡唑并[1,5-a]吡啶类化合物及其制备方法和应用
IL311024A (en) Modified tricyclic compounds as PARP inhibitors and their use
CN113518779B (zh) 噻吩并杂环类衍生物、其制备方法及其在医药上的应用
CN116143805A (zh) 一类含氮杂环联芳基类化合物、制备方法和用途
CN117800976A (zh) 一类含氮杂环类化合物、制备方法和用途

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120329

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120515

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120525

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150601

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5006987

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150601

Year of fee payment: 3

R153 Grant of patent term extension

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R153

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R153 Grant of patent term extension

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R153

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R153 Grant of patent term extension

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R153

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250