JP4893539B2 - Article having antiglare layer and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は、アンチグレア層を有する物品およびその製造方法に関する。 The present invention relates to an article having an antiglare layer and a method for producing the same.
各種画像表示装置(液晶ディスプレイ(以下、LCDと記す。)、プラズマディスプレイ(以下、PDPと記す。)等。)においては、室内照明(蛍光灯等。)、太陽光等の外光が表示面に映り込むと、反射像によって視認性が低下する。
外光の映り込みを抑える処理としては、下記のアンチグレア(以下、AGと記す。)処理または低反射(以下、ARと記す。)処理が知られている。
AG処理:表示面に凹凸を形成し、外光を拡散反射させることで、反射像を不鮮明にする処理。
AR処理:表示面に、透明低屈折率材料と透明高屈折率材料との組み合わせによるAR層を形成し、外光の反射自体を抑える処理。
In various image display devices (liquid crystal display (hereinafter referred to as LCD), plasma display (hereinafter referred to as PDP), etc.), external light such as indoor lighting (fluorescent lamps, etc.) and sunlight is displayed on the display surface. When the image is reflected in the image, the visibility decreases due to the reflected image.
As processing for suppressing the reflection of external light, the following antiglare (hereinafter referred to as AG) processing or low reflection (hereinafter referred to as AR) processing is known.
AG processing: processing that blurs the reflected image by forming irregularities on the display surface and diffusing and reflecting external light.
AR processing: processing for suppressing reflection of external light itself by forming an AR layer made of a combination of a transparent low refractive index material and a transparent high refractive index material on the display surface.
AG処理およびAR処理には、それぞれ下記の利点および欠点がある。
AG処理の利点:外光を拡散反射させているため、外光の入射角または画面を見る人の位置に関係なく、AG効果が発揮される。
AG処理の欠点:凸凹により画像の解像度が低下する。解像度の低下は、表示素子とAG処理面との距離が離れるほど大きくなる。また、凸凹による乱反射によりヘイズが大きくなり、画像のコントラストが低下する。
The AG process and the AR process have the following advantages and disadvantages, respectively.
Advantages of AG processing: Since the external light is diffusely reflected, the AG effect is exhibited regardless of the incident angle of the external light or the position of the person viewing the screen.
Disadvantages of AG processing: Image resolution decreases due to unevenness. The decrease in resolution increases as the distance between the display element and the AG processing surface increases. Moreover, haze increases due to irregular reflection due to unevenness, and the contrast of the image decreases.
AR処理の利点:凹凸を形成しないため、解像度の低下、ヘイズによるコントラストの低下はない。
AR処理の欠点:AR層が垂直入射角による光路長をもとに設計されているため、外光の入射角または画面を見る人の位置によっては、光路長が設計からずれてしまい、反射率が上昇し、AR効果が損なわれる。
Advantages of AR treatment: Since unevenness is not formed, there is no reduction in resolution or contrast due to haze.
Disadvantages of AR processing: Since the AR layer is designed based on the optical path length due to the normal incidence angle, the optical path length may deviate from the design depending on the incident angle of external light or the position of the person viewing the screen. Increases and the AR effect is impaired.
外光の映り込みを抑える点では、AG処理の方が有利であることから、表示素子の最外層の偏光膜に直接AG処理を施すことができ、表示素子とAG処理面との距離が近いLCDでは、主にAG処理が採用されている。
一方、表示素子の前面に隙間をあけて保護板を設けるPDPでは、AG処理を施す場合、保護板にAG処理を施す必要があるため、表示素子とAG処理面との距離が離れ、解像度が著しく低下する。よって、PDPではAR処理を採用せざるを得ない。
Since AG processing is more advantageous in terms of suppressing reflection of external light, AG processing can be directly performed on the polarizing film on the outermost layer of the display element, and the distance between the display element and the AG processing surface is short. In the LCD, AG processing is mainly adopted.
On the other hand, in a PDP in which a protective plate is provided with a gap in front of the display element, when the AG process is performed, it is necessary to perform the AG process on the protective plate. It drops significantly. Therefore, AR processing must be adopted in the PDP.
なお、粒子を含むAG層またはAR層を有する物品としては、下記のものが提案されている。
(1)粒子を含むAG層を有するフィルム(特許文献1〜3)。
(2)中空SiO2微粒子を含むAR層を有する基材(特許文献4)。
As articles having an AG layer or an AR layer containing particles, the following have been proposed.
(1) A film having an AG layer containing particles (Patent Documents 1 to 3).
(2) A base material having an AR layer containing hollow SiO 2 fine particles (Patent Document 4).
しかし、(1)のAG層は、表面に凹凸を形成するために粒子径の大きい粒子を用いる必要があるため、ヘイズが大きい。
(2)のAR層は、下記(i)、(ii)の理由から表面が平滑なため、AG効果が得られない。
(i)AR層が垂直入射角による光路長をもとに設計されているため、表面に凹凸を形成すると、AR層の厚さが不均一となり、AR層の設計が困難になる。
(ii)中空SiO2微粒子の粒子径が小さく、中空SiO2微粒子を含ませただけでは、表面にAGに有効な凹凸は形成されない。
The AR layer (2) has a smooth surface for the following reasons (i) and (ii), and therefore cannot provide an AG effect.
(I) Since the AR layer is designed on the basis of the optical path length due to the normal incidence angle, if the surface is uneven, the thickness of the AR layer becomes non-uniform, making it difficult to design the AR layer.
(Ii) The hollow SiO 2 fine particles have a small particle diameter, and if the hollow SiO 2 fine particles are simply included, the surface has no effective unevenness on the AG.
本発明は、良好なAG効果を有しつつ、解像度の低下が少なく、かつヘイズが充分に小さいAG層を有する物品、およびその製造方法を提供する。 The present invention provides an article having an AG layer that has a good AG effect, has a low resolution, and has a sufficiently small haze, and a method for producing the same.
本発明の物品は、基材上に、屈折率が1.45以下であり、かつ表面粗さが0.04〜0.17μmであるAG層を有し、前記AG層は、中空SiO 2 微粒子を含み、前記中空SiO 2 微粒子の平均凝集粒子径は、5〜300nmであることを特徴とする。
前記中空SiO2微粒子の含有量は、前記AG層(100質量%)のうち、1〜70質量%であることが好ましい。
The article of the present invention comprises a base material, the refractive index is 1.45 or less, and surface roughness have a AG layer is 0.04~0.17Myuemu, the AG layer, the hollow fine SiO 2 particles wherein the average agglomerated particle size of the hollow fine SiO 2 particles is characterized 5~300nm der Rukoto.
The content of the hollow SiO 2 fine particles is preferably 1 to 70% by mass in the AG layer (100% by mass).
本発明の物品のヘイズは、6.5%未満であることが好ましい。
前記AG層の光沢度は、60%以下であることが好ましい。
本発明の物品の製造方法は、屈折率が1.45以下の塗膜を形成しうる材料を含む塗布液をスプレー法にて前記基材上に塗布して、前記AG層を形成することを特徴とする。
The haze of the article of the present invention is preferably less than 6.5%.
The glossiness of the AG layer is preferably 60% or less.
In the method for producing an article of the present invention, the AG layer is formed by applying a coating solution containing a material capable of forming a coating film having a refractive index of 1.45 or less onto the substrate by a spray method. Features.
本発明の物品は、良好なAG効果を有しつつ、解像度の低下が少なく、かつヘイズが充分に小さい。
本発明の物品の製造方法によれば、良好なAG効果を有しつつ、解像度の低下が少なく、かつヘイズが充分に小さいAG層を有する物品を製造できる。
The article of the present invention has a good AG effect, a small decrease in resolution, and a sufficiently low haze.
According to the method for producing an article of the present invention, it is possible to produce an article having an AG layer that has a good AG effect, has little reduction in resolution, and has a sufficiently small haze.
<物品>
本発明の物品は、基材と、該基材上に設けられたAG層とを有する物品である。AG層は、基材の片面のみに設けられていてもよく、基材の両面に設けられていてもよい。
該物品としては、各種画像表示装置(LCD、PDP等。)、画像表示装置用フィルタまたは保護板、太陽電池用カバーガラス等が挙げられる。
本発明の物品は、AG層の他に、アルカリバリヤ層、着色層、帯電防止層等を有していてもよい。
<Article>
The article of the present invention is an article having a base material and an AG layer provided on the base material. The AG layer may be provided only on one side of the base material, or may be provided on both sides of the base material.
Examples of the article include various image display devices (LCD, PDP, etc.), filters or protective plates for image display devices, and cover glasses for solar cells.
The article of the present invention may have an alkali barrier layer, a colored layer, an antistatic layer and the like in addition to the AG layer.
物品のヘイズは、6.5%未満であり、4%以下が好ましい。物品のヘイズが6.5%未満であれば、画像のコントラストの低下が充分に抑えられる。物品のヘイズは低ければ低いほどよい。
物品のヘイズは、JIS K7105(1981年)に準拠し、市販のヘイズメーターを用いて測定される。
The haze of the article is less than 6.5%, preferably 4% or less. If the haze of the article is less than 6.5%, the reduction in image contrast can be sufficiently suppressed. The lower the haze of the article, the better.
The haze of the article is measured using a commercially available haze meter according to JIS K7105 (1981).
(基材)
基材の材質としては、ガラス、プラスチック等が挙げられる。
ガラスとしては、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、ホウ珪酸ガラス、石英ガラス等が挙げられる。
プラスチックとしては、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース等が挙げられる。プラスチック基材は、AG層との密着性の点から、シランカップリング材等によるプライマー処理が施されていてもよい。
基材としては、板状、フィルム状、球状等、その形状を問わない。
(Base material)
Examples of the material for the substrate include glass and plastic.
Examples of the glass include soda lime glass, alkali-free glass, borosilicate glass, and quartz glass.
Examples of the plastic include polycarbonate, polyethylene terephthalate, and triacetyl cellulose. The plastic substrate may be subjected to primer treatment with a silane coupling material or the like from the viewpoint of adhesion to the AG layer.
As a base material, the shape, such as plate shape, film shape, and spherical shape, is not ask | required.
(AG層)
AG層の表面粗さは、0.04〜0.17μmであり、0.04〜0.14μmが好ましく、0.04〜0.1μmがさらに好ましい。AG層の表面粗さが0.04μm以上であれば、光沢度が充分に抑えられ、反射像が不鮮明となり、AG効果が充分に発揮される。AG層の表面粗さが0.17μm以下であれば、解像度の低下が少なく、かつヘイズが充分に小さい。
AG層の表面粗さは、JIS B0601(1994年)に規定される算術平均粗さRaである。
(AG layer)
The surface roughness of the AG layer is 0.04 to 0.17 μm, preferably 0.04 to 0.14 μm, and more preferably 0.04 to 0.1 μm. When the surface roughness of the AG layer is 0.04 μm or more, the glossiness is sufficiently suppressed, the reflected image is unclear, and the AG effect is sufficiently exhibited. When the surface roughness of the AG layer is 0.17 μm or less, the resolution is hardly lowered and the haze is sufficiently small.
The surface roughness of the AG layer is an arithmetic average roughness Ra defined in JIS B0601 (1994).
AG層の光沢度は、60%以下であり、50%以下が好ましい。AG層の光沢度は、AG効果の指標であり、AG層の光沢度が60%以下であれば、AG効果が充分に発揮される。
AG層の光沢度は、JIS Z8741(1997年)の60°鏡面光沢度に規定されている方法で測定される。
The glossiness of the AG layer is 60% or less, preferably 50% or less. The glossiness of the AG layer is an index of the AG effect. If the glossiness of the AG layer is 60% or less, the AG effect is sufficiently exhibited.
The glossiness of the AG layer is measured by a method defined in 60 ° specular glossiness of JIS Z8741 (1997).
AG層の屈折率は、1.45以下であり、1.37〜1.45が好ましい。屈折率が1.45以下であれば、同じ光沢度のAG層では、屈折率が1.45超のものと比較して、ヘイズと解像度が有利となる。
屈折率は、550nmにおける屈折率であり、屈折率計により測定される。
The refractive index of the AG layer is 1.45 or less, preferably 1.37 to 1.45. If the refractive index is 1.45 or less, an AG layer having the same glossiness is advantageous in terms of haze and resolution as compared with a refractive index exceeding 1.45.
The refractive index is a refractive index at 550 nm and is measured by a refractometer.
AG層を構成する材料は、たとえば、低屈折率の微粒子を含み、必要に応じてマトリックス成分を含む。また、フッ素系樹脂等の低屈折率材料でもよい。 The material constituting the AG layer includes, for example, fine particles having a low refractive index and, if necessary, a matrix component. Further, a low refractive index material such as a fluorine-based resin may be used.
低屈折率の微粒子としては、中空SiO2微粒子、エアロゲル微粒子、中空ポリマー微粒子等が挙げられ、AG層の強度、耐熱性等の点から、中空SiO2微粒子が好ましい。
中空SiO2微粒子の含有量は、AG層(100質量%)中、1〜70質量%が好ましく、5〜50質量%がより好ましい。中空SiO2微粒子の含有量が1質量%以上であれば、AG層の表面粗さを小さくしても、AG効果が充分に発揮される。中空SiO2微粒子の含有量が70質量%以下であれば、基材との充分な密着強度が得られる。
Examples of the low refractive index fine particles include hollow SiO 2 fine particles, airgel fine particles, and hollow polymer fine particles. From the viewpoint of the strength and heat resistance of the AG layer, hollow SiO 2 fine particles are preferable.
The content of the hollow SiO 2 particles during AG layer (100 mass%) is preferably from 1 to 70 wt%, more preferably 5 to 50 mass%. If the content of the hollow SiO 2 fine particles is 1% by mass or more, the AG effect is sufficiently exhibited even if the surface roughness of the AG layer is reduced. When the content of the hollow SiO 2 fine particles is 70% by mass or less, sufficient adhesion strength with the substrate can be obtained.
中空SiO2微粒子は、SiO2外殻の内部に空隙を有する微粒子である。中空SiO2微粒子としては、球状中空SiO2微粒子、繊維状中空SiO2微粒子、チューブ状中空SiO2微粒子、シート状中空SiO2微粒子等が挙げられる。繊維状中空SiO2微粒子は、伸長方向の長さが、伸長方向に垂直な方向の長さに比べて大きい中空SiO2微粒子である。繊維状中空SiO2微粒子は、一次粒子であってもよく、複数の中空微粒子が凝集した二次粒子であってもよい。 The hollow SiO 2 fine particles are fine particles having voids inside the SiO 2 outer shell. Examples of the hollow SiO 2 fine particles include spherical hollow SiO 2 fine particles, fibrous hollow SiO 2 fine particles, tubular hollow SiO 2 fine particles, and sheet-like hollow SiO 2 fine particles. Fibrous hollow fine SiO 2 particles, the length of the extending direction is larger hollow SiO 2 particles as compared to the length in the direction perpendicular to the stretching direction. The fibrous hollow SiO 2 fine particles may be primary particles or secondary particles in which a plurality of hollow fine particles are aggregated.
中空SiO2微粒子は、他の金属を含んでいてもよい。他の金属としては、Al、Cu、Ce、Sn、Ti、Cr、Co、Fe、Mn、Ni、Zn等が挙げられる。他の金属は、Siとともに複合酸化物を形成していてもよい。 The hollow SiO 2 fine particles may contain other metals. Examples of other metals include Al, Cu, Ce, Sn, Ti, Cr, Co, Fe, Mn, Ni, and Zn. Other metals may form a complex oxide with Si.
中空SiO2微粒子の平均凝集粒子径は、5〜300nmが好ましく、10〜100nmがより好ましい。中空SiO2微粒子の平均凝集粒子径が300nmを超えると、AG層のヘイズの増加を招くため好ましくない。中空SiO2微粒子の平均凝集粒子径が300nm以下であれば、AG層のヘイズが充分に小さくなる。
中空SiO2微粒子の平均凝集粒子径は、分散媒中における中空SiO2微粒子の平均凝集粒子径であり、動的光散乱法で測定される。
The average aggregate particle diameter of the hollow SiO 2 fine particles is preferably 5 to 300 nm, and more preferably 10 to 100 nm. If the average aggregate particle diameter of the hollow SiO 2 fine particles exceeds 300 nm, the haze of the AG layer is increased, which is not preferable. If the average aggregate particle diameter of the hollow SiO 2 fine particles is 300 nm or less, the haze of the AG layer is sufficiently small.
The average agglomerated particle size of the hollow fine SiO 2 particles is the average agglomerated particle size of the hollow fine SiO 2 particles in a dispersion medium and is measured by dynamic light scattering method.
球状中空SiO2微粒子は、たとえば、コア−シェル粒子のコアを除去することによって製造される。
具体的には、下記の工程を経て製造される。
(a)分散媒中にて、コア微粒子の存在下にSiO2前駆物質を加水分解して、コア微粒子表面にSiO2を析出させ、コア−シェル粒子の分散液を得る工程。
(b)コア−シェル粒子のコアを溶解または分解し、球状中空SiO2微粒子の分散液を得る工程。
The spherical hollow SiO 2 fine particles are produced, for example, by removing the core of the core-shell particles.
Specifically, it is manufactured through the following steps.
(A) A step of hydrolyzing the SiO 2 precursor in the presence of the core fine particles in a dispersion medium to precipitate SiO 2 on the surface of the core fine particles to obtain a dispersion of core-shell particles.
(B) A step of dissolving or decomposing the core of the core-shell particles to obtain a dispersion of spherical hollow SiO 2 fine particles.
(a)工程:
コア粒子としては、熱分解性有機微粒子(界面活性剤ミセル、水溶性有機ポリマー、スチレン樹脂、アクリル樹脂等。)、酸溶解性無機微粒子(ZnO、NaAlO2、CaCO3、塩基性ZnCO3等。)、光溶解性無機微粒子(ZnS、CdS、ZnO等。)等が挙げられる。
(A) Process:
The core particles include thermally decomposable organic fine particles (surfactant micelles, water-soluble organic polymer, styrene resin, acrylic resin, etc.), acid-soluble inorganic fine particles (ZnO, NaAlO 2 , CaCO 3 , basic ZnCO 3, etc.). ), Photosoluble inorganic fine particles (ZnS, CdS, ZnO, etc.) and the like.
SiO2前駆物質としては、ケイ酸、ケイ酸塩、アルコキシシラン等が挙げられる。
分散媒としては、水、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール等。)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等。)、エーテル類(テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等。)、エステル類(酢酸エチル、酢酸メチル等。)、グリコールエーテル類(エチレングリコールモノアルキルエーテル等。)、含窒素化合物類(N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等。)、含硫黄化合物類(ジメチルスルホキシド等。)等が挙げられる。
Examples of the SiO 2 precursor include silicic acid, silicate, alkoxysilane and the like.
Examples of the dispersion medium include water, alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), ethers (tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.), esters (ethyl acetate, acetic acid, etc.). Methyl, etc.), glycol ethers (ethylene glycol monoalkyl ether, etc.), nitrogen-containing compounds (N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, etc.), sulfur-containing compounds (dimethylsulfoxide, etc.) Etc.
分散媒は、SiO2前駆物質の加水分解に水が必要であるため、分散媒100質量%中、5〜100質量%の水を含む。
分散媒のpHは、SiO2前駆物質が三次元的に重合してシェルを形成しやすい点から、7以上が好ましく、8以上が好ましく、9〜10が特に好ましい。コア微粒子として酸溶解性無機微粒子を用いる場合は、該微粒子が溶解しないpH、すなわち8以上が好ましい。
The dispersion medium contains 5 to 100% by mass of water in 100% by mass of the dispersion medium because water is required for hydrolysis of the SiO 2 precursor.
The pH of the dispersion medium is preferably 7 or more, more preferably 8 or more, and particularly preferably 9 to 10 from the viewpoint that the SiO 2 precursor is easily three-dimensionally polymerized to form a shell. When acid-soluble inorganic fine particles are used as the core fine particles, a pH at which the fine particles are not dissolved, that is, 8 or more is preferable.
(b)工程:
コア微粒子が酸溶解性無機微粒子の場合、酸を添加することによってコア微粒子を溶解、除去できる。
酸としては、無機酸(塩酸、硫酸、硝酸等。)、有機酸(ギ酸、酢酸等。)、酸性カチオン交換樹脂等が挙げられる。
(B) Process:
When the core fine particles are acid-soluble inorganic fine particles, the core fine particles can be dissolved and removed by adding an acid.
Examples of the acid include inorganic acids (hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, etc.), organic acids (formic acid, acetic acid, etc.), acidic cation exchange resins, and the like.
AG層中のマトリックス成分としては、SiO2、有機樹脂等が挙げられる。
SiO2としては、後述のバインダー(アルコキシシランの加水分解重合物またはシランカップリング剤の加水分解重合物)を焼成したものが挙げられる。
有機樹脂としては、シリコーン樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。
Examples of the matrix component in the AG layer include SiO 2 and organic resins.
Examples of SiO 2 include those obtained by baking a binder (hydrolyzed polymer of alkoxysilane or hydrolyzed polymer of silane coupling agent) described later.
Examples of the organic resin include a silicone resin and an acrylic resin.
以上説明した本発明の物品にあっては、屈折率が1.45以下であり、かつ表面粗さが0.04〜0.17μmであるAG層を有するため、良好なAG効果を有しつつ、解像度の低下が少なく、かつヘイズが充分に小さい。すなわち、AG層が、屈折率が1.45以下であることにより、屈折率が1.45を超えるAG層よりも表面粗さを小さくしても、AG効果が充分に発揮される。そして、屈折率が1.45を超えるAG層よりもAG層の表面粗さを小さくできるため、屈折率が1.45を超えるAG層と同程度のAG効果を発揮させた場合であっても、屈折率が1.45を超えるAG層に比べ解像度の低下が少なく、かつヘイズが充分に小さい。 The article of the present invention described above has an AG layer having a refractive index of 1.45 or less and a surface roughness of 0.04 to 0.17 μm, and thus has a good AG effect. The resolution is small and the haze is sufficiently small. That is, since the AG layer has a refractive index of 1.45 or less, the AG effect is sufficiently exerted even if the surface roughness is smaller than that of the AG layer having a refractive index exceeding 1.45. And since the surface roughness of the AG layer can be made smaller than that of the AG layer having a refractive index exceeding 1.45, even when the AG effect equivalent to that of the AG layer having a refractive index exceeding 1.45 is exhibited. As compared with the AG layer having a refractive index exceeding 1.45, the resolution is less lowered and the haze is sufficiently small.
<物品の製造方法>
本発明の物品の製造方法は、塗布液をスプレー法にて基材上に塗布し、必要に応じて焼成して、アンチグレア層を形成する方法である。
<Production method>
The method for producing an article of the present invention is a method for forming an antiglare layer by applying a coating solution on a substrate by a spray method and baking it as necessary.
(塗布液)
塗布液は、分散媒と、屈折率が1.45以下の塗膜を形成しうる材料とを含む液である。屈折率が1.45以下の塗膜を形成しうる材料とは、該材料を基材上に塗布し、必要に応じて焼成して形成される塗膜が、後述の測定方法によって求めた550nmにおける屈折率N1が1.45以下となる材料である。該材料としては、前記低屈折率の微粒子と、前記マトリックス成分(SiO2)の前駆体であるバインダーとの組み合わせ;前記低屈折率の微粒子と、前記マトリックス成分(有機樹脂)との組み合わせ;前記フッ素系樹脂等の低屈折率材料;塗布後に焼成等による熱履歴で分解あるいは気化発泡により気泡を多く含む膜となり結果として屈折率が1.45以下の塗膜を形成するもの、等が挙げられる。
(Coating solution)
The coating liquid is a liquid containing a dispersion medium and a material capable of forming a coating film having a refractive index of 1.45 or less. A material capable of forming a coating film having a refractive index of 1.45 or less is a coating film formed by applying the material on a substrate and firing it as necessary. This is a material having a refractive index N 1 of 1.45 or less. Examples of the material include a combination of the low refractive index fine particles and a binder which is a precursor of the matrix component (SiO 2 ); a combination of the low refractive index fine particles and the matrix component (organic resin); Low refractive index materials such as fluorine-based resins; those that have a film containing a large amount of bubbles due to thermal history due to baking or the like after application, or resulting in formation of a coating film having a refractive index of 1.45 or less. .
屈折率が1.45以下の塗膜を形成しうる材料が、前記低屈折率の微粒子と、前記マトリックス成分(SiO2)の前駆体であるバインダーとの組み合わせである場合、塗布液は、たとえば、低屈折率の微粒子の分散液と、バインダーの分散液とを混合することによって調製できる。 When the material capable of forming a coating film having a refractive index of 1.45 or less is a combination of the low refractive index fine particles and a binder that is a precursor of the matrix component (SiO 2 ), the coating liquid is, for example, It can be prepared by mixing a dispersion of fine particles with a low refractive index and a dispersion of a binder.
低屈折率の微粒子の分散液としては、上述の球状中空SiO2微粒子の分散液等が挙げられる。
バインダーの分散液としては、アルコキシシランの加水分解重合物が分散媒に分散したシリカゾル液、シランカップリング剤の加水分解重合物が分散媒に分散した分散液等が挙げられる。
Examples of the dispersion liquid of the low refractive index fine particles include the dispersion liquid of the spherical hollow SiO 2 fine particles described above.
Examples of the binder dispersion liquid include a silica sol liquid in which a hydrolysis polymer of alkoxysilane is dispersed in a dispersion medium, and a dispersion liquid in which a hydrolysis polymer of a silane coupling agent is dispersed in a dispersion medium.
アルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
シランカップリング剤としては、ビニル基を有するアルコキシシラン(ビニルトリメトキシシラン等。)、エポキシ基を有するアルコキシシラン(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等。)、アクリル基を有するアルコキシシラン(3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等。)等が挙げられる。
Examples of the alkoxysilane include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, methyltrimethoxysilane, and ethyltriethoxysilane.
Examples of the silane coupling agent include an alkoxysilane having a vinyl group (such as vinyltrimethoxysilane), an alkoxysilane having an epoxy group (such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane), and an alkoxysilane having an acrylic group (3 -Acryloxypropyltrimethoxysilane etc.) etc. are mentioned.
分散媒としては、水、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール等。)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等。)、エーテル類(テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等。)、エステル類(酢酸エチル、酢酸メチル等。)、グリコールエーテル類(エチレングリコールモノアルキルエーテル等。)、含窒素化合物類(N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等。)、含硫黄化合物類(ジメチルスルホキシド等。)等が挙げられる。 Examples of the dispersion medium include water, alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), ethers (tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.), esters (ethyl acetate, acetic acid, etc.). Methyl, etc.), glycol ethers (ethylene glycol monoalkyl ether, etc.), nitrogen-containing compounds (N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, etc.), sulfur-containing compounds (dimethylsulfoxide, etc.) Etc.
球状中空SiO2微粒子の含有量は、AG層を構成する球状中空SiO2微粒子の固形分とバインダーの固形分との合計(100質量%)のうち、1〜70質量%が好ましく、5〜50質量%がより好ましい。球状中空SiO2微粒子の割合が1質量%以上であれば、AG層の表面粗さを小さくしても、AG効果が充分に発揮される。球状中空SiO2微粒子の割合が70質量%以下であれば、基材との充分な密着強度が得られる。低屈折率の微粒子が中空SiO2微粒子であり、バインダーがアルコキシシランの加水分解重合物である場合は、固形分はSiO2換算とする。 The content of spherical hollow fine SiO 2 particles, out of the total of the solids in the solids and the binder of the spherical hollow fine SiO 2 particles constituting the AG layer (100 mass%) is preferably 1 to 70 wt%, 5-50 The mass% is more preferable. When the ratio of the spherical hollow SiO 2 fine particles is 1% by mass or more, the AG effect is sufficiently exhibited even if the surface roughness of the AG layer is reduced. When the ratio of the spherical hollow SiO 2 fine particles is 70% by mass or less, sufficient adhesion strength with the substrate can be obtained. When the low refractive index fine particles are hollow SiO 2 fine particles and the binder is a hydrolysis polymer of alkoxysilane, the solid content is converted to SiO 2 .
塗布液の固形分濃度は、0.3〜5.0質量%が好ましく、1.0〜3.0質量%がより好ましい。塗布液の固形分濃度が0.3質量%以上であれば、スプレー法により充分なAG効果をもつ凹凸膜を形成することが可能である。塗布液の固形分濃度が5.0質量%以下であれば、スプレー法による凹凸膜の膜厚制御が充分に可能である。 The solid content concentration of the coating solution is preferably 0.3 to 5.0% by mass, and more preferably 1.0 to 3.0% by mass. If the solid content concentration of the coating solution is 0.3% by mass or more, it is possible to form a concavo-convex film having a sufficient AG effect by a spray method. If the solid content concentration of the coating liquid is 5.0% by mass or less, the film thickness of the uneven film can be sufficiently controlled by the spray method.
(塗布方法)
塗布方法としては、スプレー法が最適である。
スプレー法に用いるノズルとしては、2流体ノズル、1流体ノズル等が挙げられる。
ノズルから吐出される塗布液の液滴の粒径は、通常0.1〜100μmであり、1〜50μmが好ましい。液滴の粒径が1μm以上であれば、AG効果が充分に発揮される凹凸を短時間で形成できる。液滴の粒径が50μm以下であれば、AG効果が充分に発揮される適度な凹凸を形成しやすい。
(Application method)
As the coating method, the spray method is most suitable.
Examples of the nozzle used in the spray method include a two-fluid nozzle and a one-fluid nozzle.
The particle diameter of the droplet of the coating liquid discharged from the nozzle is usually 0.1 to 100 μm, and preferably 1 to 50 μm. If the particle size of the droplets is 1 μm or more, it is possible to form irregularities that sufficiently exhibit the AG effect in a short time. If the particle size of the droplet is 50 μm or less, it is easy to form moderate unevenness that sufficiently exhibits the AG effect.
液滴の粒径は、ノズルの種類、スプレー圧力、液量等により適宜調整できる。たとえば、2流体ノズルでは、スプレー圧力が高くなるほど液滴は小さくなり、また、液量が多くなるほど液滴は大きくなる。
液滴の粒径は、レーザ測定器によって測定されるザウター平均粒子径である。
The particle size of the droplets can be adjusted as appropriate according to the type of nozzle, spray pressure, liquid volume, and the like. For example, in a two-fluid nozzle, the higher the spray pressure, the smaller the droplet, and the larger the liquid volume, the larger the droplet.
The particle size of the droplet is the Sauter average particle size measured by a laser measuring device.
AG層の表面粗さは、一定の塗布条件下では、塗布時間、すなわちスプレー法によるコート面数(重ね塗り回数)によって調整できる。コート面数が多くなるほど、AG層の表面粗さは大きくなり、その結果、光沢度は下がり反射像が不鮮明となり(AG効果が高くなり)、ヘイズは大きくなる(コントラストは低下する)。 The surface roughness of the AG layer can be adjusted by applying time, that is, the number of coated surfaces (number of times of overcoating) by a spray method under a certain application condition. As the number of coated surfaces increases, the surface roughness of the AG layer increases. As a result, the glossiness decreases and the reflected image becomes unclear (AG effect increases), and the haze increases (contrast decreases).
スプレー法にて塗布液を塗布する際には、基材を、あらかじめ30〜90℃に加熱することが好ましい。基材の温度が30℃以上であれば、分散媒がすばやく蒸発するため、充分な凸凹を形成しやすい。基材の温度が90℃以下であれば、基材とAG層との密着性が良好となる。基材がフィルムの場合、または厚さ5mm以下のガラス板の場合、あらかじめ基板の温度以上の温度に設定した保温板を基材の下に配置し、基材の温度低下を抑えてもよい。 When applying the coating solution by the spray method, it is preferable to heat the substrate to 30 to 90 ° C. in advance. If the temperature of the substrate is 30 ° C. or higher, the dispersion medium evaporates quickly, so that sufficient unevenness is easily formed. If the temperature of a base material is 90 degrees C or less, the adhesiveness of a base material and AG layer will become favorable. In the case where the substrate is a film or a glass plate having a thickness of 5 mm or less, a heat insulating plate set in advance to a temperature equal to or higher than the temperature of the substrate may be disposed under the substrate to suppress the temperature decrease of the substrate.
以上説明した本発明の物品の製造方法にあっては、屈折率が1.45以下の塗膜を形成しうる材料を含む塗布液をスプレー法にて基材上に塗布して、AG層を形成するため、良好なAG効果を有しつつ、解像度の低下が少なく、かつヘイズが充分に小さいAG層を有する物品を製造できる。 In the method for producing an article of the present invention described above, a coating solution containing a material capable of forming a coating film having a refractive index of 1.45 or less is applied on a substrate by a spray method, and an AG layer is formed. As a result, an article having an AG layer having a good AG effect, little decrease in resolution, and sufficiently small haze can be produced.
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
例1〜4は、実施例であり、例5〜7は、比較例である。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.
Examples 1 to 4 are examples, and examples 5 to 7 are comparative examples.
(中空SiO2微粒子の平均凝集粒子径)
中空SiO2微粒子の平均凝集粒子径は、動的光散乱法粒度分析計(日機装社製、マイクロトラックUPA)を用いて測定した。
(Average aggregated particle diameter of hollow SiO 2 fine particles)
The average aggregate particle diameter of the hollow SiO 2 fine particles was measured using a dynamic light scattering particle size analyzer (manufactured by Nikkiso Co., Ltd., Microtrac UPA).
(屈折率)
塗布液またはシリカゾル液の1.5mLを基材(旭硝子社製、ソーダライムガラス、100mm×100mm、厚さ3.4mm)の表面にスピンコーター(ミカサ社製、IH−360S)を用いて塗布した。このときの回転数は300rpmであり、基材温度は室温とした。該膜を300℃で30分間焼成し、厚さ約100μmの塗膜を形成した。該塗膜について、反射率Rを反射率計(大塚電子社製、MCPD3000)で測定し、光が垂直入射したものと仮定して下式(1)により550nmにおける屈折率N1を算出した。
R=〔((N1)2−NoNs)2/((N1)2+NoNs)2〕 ・・・(1)。
ただし、Noは、空気の屈折率であり、N1は、塗膜の屈折率であり、Nsは、基材の屈折率である。
上記塗膜は、スピンコート法でなく、スプレー法等の他の塗布方法で形成されたものでもよいが、スプレー法等で形成された塗膜の場合、表面凹凸の大きさや表面性状によっては塗膜の反射率Rを測定するのが困難なことがある。そのような場合、塗膜の反射率Rを測定することに代えて、塗膜を構成する材料を鋭利な物体で削って微粉末を採取し、その微粉末を屈折率が既知の標準液に混合し、混合液が透明になったときの標準液の屈折率を、AG層の屈折率としてもよい。なお、同一の塗布液により形成された塗膜の屈折率は、塗布方法によらない。したがって、スプレー法により基材上に形成されたAG層の反射率Rを直接測定せずに、同一の塗布液によりスピンコート法で形成された平滑な塗膜の反射率Rを測定し、(1)式により算出される塗膜の屈折率N1をAG層の屈折率とみなしてよい。
(Refractive index)
1.5 mL of the coating solution or silica sol solution was applied to the surface of a substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., soda lime glass, 100 mm × 100 mm, thickness 3.4 mm) using a spin coater (manufactured by Mikasa Co., Ltd., IH-360S). . The rotation speed at this time was 300 rpm, and the substrate temperature was room temperature. The film was baked at 300 ° C. for 30 minutes to form a coating film having a thickness of about 100 μm. For coating film, reflectance R reflectometer (manufactured by Otsuka Electronics, MCPD3000) by measuring with light is calculated refractive index N 1 of 550nm by the following equation on the assumption that the incident perpendicularly (1).
R = [((N 1 ) 2 −N o N s ) 2 / ((N 1 ) 2 + N o N s ) 2 ] (1).
However, N o is the index of refraction of air, N 1 is the refractive index of the coating film, N s is the refractive index of the substrate.
The coating film may be formed by another coating method such as a spray method instead of the spin coating method. However, in the case of a coating film formed by a spray method or the like, depending on the size of the surface unevenness and the surface properties, It may be difficult to measure the reflectivity R of the film. In such a case, instead of measuring the reflectance R of the coating film, the material constituting the coating film is scraped with a sharp object to collect a fine powder, and the fine powder is converted into a standard solution having a known refractive index. The refractive index of the standard solution when mixed and the mixed solution becomes transparent may be the refractive index of the AG layer. In addition, the refractive index of the coating film formed with the same coating liquid does not depend on the coating method. Therefore, instead of directly measuring the reflectance R of the AG layer formed on the substrate by the spray method, the reflectance R of the smooth coating film formed by the spin coating method with the same coating solution is measured. 1) the refractive index N 1 of the coating film can be regarded as the refractive index of the AG layer calculated by the equation.
(液滴の粒径)
液滴の粒径は、レーザ測定器(マルバーン社製、マスターサイザーS)によって測定されるザウター平均粒子径とした。
(Drop size)
The particle diameter of the droplets was the Sauter average particle diameter measured by a laser measuring device (manufactured by Malvern, Mastersizer S).
(表面粗さ)
AG層の表面粗さ(JIS B0601(1994年)に規定される算術平均粗さRa)は、表面粗さ測定機(東京精密社製、サーフコム130A)を用いて、コートサンプルのほぼ中央部で測定した。測定長さは25mm、カットオフ値は0.8mmとした。
(Surface roughness)
The surface roughness of the AG layer (arithmetic average roughness Ra specified in JIS B0601 (1994)) is measured at a substantially central portion of the coat sample using a surface roughness measuring machine (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., Surfcom 130A). It was measured. The measurement length was 25 mm, and the cut-off value was 0.8 mm.
(ヘイズ)
物品のヘイズは、ヘイズメーター(村上色彩研究所社製、HR−100型)を用いて、コートサンプルのほぼ中央部で測定した。
(Haze)
The haze of the article was measured at a substantially central portion of the coat sample using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, model HR-100).
(光沢度)
AG層の光沢度は、JIS Z8741(1997年)の60゜鏡面光沢度に規定されている方法で、光沢度計(日本電色工業社製、PG−3D型)を用い、コートサンプルのほぼ中央部で測定した。
(Glossiness)
The glossiness of the AG layer is a method defined by 60 ° specular glossiness of JIS Z8741 (1997), and a gloss meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., PG-3D type) is used, Measured at the center.
(強度)
AG層の強度(耐磨耗性)は、下記の方法により評価した。
消しゴム(ライオン社製、GAZA1K、たて18mm×よこ11mm)をラビングテスター(大平理化工業社製)に取り付け、1Kg荷重にてコートサンプルのAG層上で水平往復運動をさせた。この際、消しゴムがAG層に当たる面積は、198mm2(たて18mm×よこ11mm)である。50往復させた後のAG層の外観について、下記の基準にて評価した。
A:AG層にキズがない、またはわずかにキズがある。
B:AG層に少しキズがある。
C:AG層にキズがあるが、AG層の剥離はない。
D:AG層にキズがあり、AG層の剥離がある。
(Strength)
The strength (abrasion resistance) of the AG layer was evaluated by the following method.
An eraser (manufactured by Lion Corporation, GAZA1K, vertical 18 mm × width 11 mm) was attached to a rubbing tester (manufactured by Ohira Rika Kogyo Co., Ltd.), and a horizontal reciprocating motion was performed on the AG layer of the coated sample with a 1 kg load. At this time, the area where the eraser hits the AG layer is 198 mm 2 (vertically 18 mm × width 11 mm). The appearance of the AG layer after 50 reciprocations was evaluated according to the following criteria.
A: The AG layer is not scratched or slightly scratched.
B: There is a slight scratch on the AG layer.
C: The AG layer has scratches, but there is no peeling of the AG layer.
D: There are scratches in the AG layer, and there is peeling of the AG layer.
(反射像のボケ具合)
コートサンプルのAG層が形成されていない面に、黒のビニールテープを、気泡を含まないように貼り付けた。高さ2mの位置にある2本の32W蛍光灯(東芝社製、メロウライン3波長型昼白色FHF32EX−N−H)の反射像を、AG層側で反射させ、反射像を目視し、反射像のボケ具合を下記の基準にて評価した。
◎:反射像が見えない、または反射像がほぼ見えない。
○:反射像がぼんやり見える。
△:反射像が見える。
×:反射像がはっきり見える。
AG効果としては、反射像のボケ具合が◎または○であるのが実用上好ましい。
(Defocused reflection image)
A black vinyl tape was affixed to the surface of the coated sample on which the AG layer was not formed so as not to contain bubbles. Reflect the reflected image of two 32W fluorescent lamps (Toshiba Corp., Mellow Line 3-wavelength daylight white FHF32EX-N-H) located at a height of 2m on the AG layer side, and visually observe the reflected image. The degree of image blur was evaluated according to the following criteria.
A: The reflected image is not visible or the reflected image is almost invisible.
○: The reflection image is blurred.
Δ: A reflected image is visible.
X: The reflected image is clearly visible.
As the AG effect, it is practically preferable that the degree of blurring of the reflected image is ◎ or ○.
(解像度)
JIS Z8801(1994年)に規定されている標準ふるい(IIDA MANUFACTURING社製、目の開き125μm、90μm、75μm、63μm、53μm、45μm)を用意した。
図1に示すように、目の開き125μmの標準ふるい10の前方に、AG層が形成されていない面を標準ふるい10側にして、コートサンプル12を配置した。標準ふるい10の20cm後方に、光源14(木原医科工業社製、医療用X線写真観察装置)を配置した。光源14には、15W蛍光灯(松下電器産業社製、FL15ECW)が4本装着されており、標準ふるい10の表面での照度は、3700ルクスであった。
(resolution)
A standard sieve defined by JIS Z8801 (1994) (made by IIDA MANUFACTURING, 125 μm, 90 μm, 75 μm, 63 μm, 53 μm, 45 μm) was prepared.
As shown in FIG. 1, a
標準ふるい10およびコートサンプル12を透過した光を、コートサンプル12の15cm前方から目視で観察し、標準ふるい10の目が識別できるか否を判定した。
標準ふるい10の目が識別できた場合、目の開きの小さい標準ふるいに交換し、同様の判定を標準ふるいの目が識別できなくなるまで繰り返した。識別できた最も小さい目の開きを解像度とした。
解像度は、75μm以下であるのが実用上好ましい。
The light transmitted through the
When the eyes of the
It is practically preferable that the resolution is 75 μm or less.
(照度)
照度は、デジタル照度計(タスコジャパン社製、TMS870)を用いて測定した。
(Illuminance)
The illuminance was measured using a digital illuminometer (manufactured by Taxco Japan, TMS870).
(シリカゾル液A)
イオン交換水7.06質量部に、61質量%の硝酸1.46質量部を加え、5分間撹拌し、硝酸水溶液を調製した。該硝酸水溶液を、エタノール87.9質量%、イソプロパノール10.4質量%およびメチルエチルケトン1.7質量%からなる混合アルコール80.77質量部に加え、5分間撹拌し、混合液を調製した。該混合液に、テトラエトキシシラン10.71質量部を加え、常温で30分間撹拌、反応させ、テトラエトキシシランの加水分解重合物が分散媒に分散したシリカゾル液A(SiO2換算固形分濃度3.0質量%)を得た。該シリカゾル液Aから形成される塗膜の屈折率は、1.458であった。
(Silica sol solution A)
To 7.06 parts by mass of ion-exchanged water, 1.46 parts by mass of 61% by mass nitric acid was added and stirred for 5 minutes to prepare an aqueous nitric acid solution. The nitric acid aqueous solution was added to 80.77 parts by mass of a mixed alcohol composed of 87.9% by mass of ethanol, 10.4% by mass of isopropanol and 1.7% by mass of methyl ethyl ketone, and stirred for 5 minutes to prepare a mixed solution. To this mixed solution, 10.71 parts by mass of tetraethoxysilane was added, stirred and reacted at room temperature for 30 minutes, and a silica sol solution A (solid content concentration 3 in terms of SiO 2 ) in which a hydrolysis polymer of tetraethoxysilane was dispersed in a dispersion medium. 0.0 mass%) was obtained. The refractive index of the coating film formed from the silica sol solution A was 1.458.
(球状中空SiO2微粒子の分散液B)
容量200mLのガラス製反応容器に、水39g、ZnO微粒子の水分散ゾル(石原産業社製、FZO−50、平均一次粒子径21nm、平均凝集粒子径40nm)21g、テトラエトキシシラン(SiO2換算固形分濃度29質量%)10gを加えた後、アンモニア水溶液を添加してpHを10とし、20℃で6時間撹拌し、コア−シェル粒子の分散液(固形分濃度6質量%)100gを得た。
(Dispersion B of spherical hollow SiO 2 fine particles)
In a glass reaction vessel with a capacity of 200 mL, 39 g of water, 21 g of an aqueous dispersion sol of ZnO fine particles (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., FZO-50, average primary particle size 21 nm, average aggregate particle size 40 nm), tetraethoxysilane (SiO 2 equivalent solid) After adding 10 g of an aqueous ammonia solution, the pH was adjusted to 10 and the mixture was stirred at 20 ° C. for 6 hours to obtain 100 g of a core-shell particle dispersion (solid content concentration of 6 mass%). .
コア−シェル粒子の分散液に、強酸性カチオン交換樹脂(三菱化学社製、商品名:ダイヤイオン、総交換量2.0mseq/mL以上)100gを加え、1時間撹拌してpHが4となった後、ろ過により強酸性カチオン樹脂を除去し、球状中空SiO2微粒子の分散液100gを得た。
球状中空SiO2微粒子の外殻厚さは6nmであり、空孔径は30nmであった。球状中空SiO2微粒子は凝集体粒子であり、平均凝集粒子径は50nmであり、SiO2換算固形分濃度は3.0質量%であった。
球状中空SiO2微粒子の分散液を限外ろ過で濃縮し、イソプロパノールにて分散媒を置換し、球状中空SiO2微粒子の分散液B(分散媒:イソプロパノール、SiO2換算固形分濃度15.0質量%)を得た。
100 g of a strongly acidic cation exchange resin (trade name: Diaion, total exchange amount of 2.0 mseq / mL or more) is added to the core-shell particle dispersion, and the pH is 4 after stirring for 1 hour. Thereafter, the strongly acidic cationic resin was removed by filtration to obtain 100 g of a spherical hollow SiO 2 fine particle dispersion.
The outer shell thickness of the spherical hollow SiO 2 fine particles was 6 nm, and the pore diameter was 30 nm. The spherical hollow SiO 2 fine particles were aggregate particles, the average aggregate particle diameter was 50 nm, and the solid content concentration in terms of SiO 2 was 3.0% by mass.
The dispersion of spherical hollow SiO 2 fine particles is concentrated by ultrafiltration, the dispersion medium is replaced with isopropanol, and dispersion B of spherical hollow SiO 2 fine particles (dispersion medium: isopropanol, SiO 2 equivalent solid content concentration 15.0 mass) %).
(塗布液C)
シリカゾル液Aの83.3質量部に、球状中空SiO2微粒子の分散液Bの3.3質量部を撹拌しつつ加え、さらにエタノール87.9質量%、イソプロパノール10.4質量%およびメチルエチルケトン1.7質量%からなる混合アルコール13.4質量部を加え、常温下で20分間撹拌し、塗布液C(SiO2換算固形分濃度3.0質量%)を得た。該塗布液Cから形成される塗膜の屈折率は、1.446であった。
また、球状中空SiO2微粒子の固形分とバインダーの固形分との合計(100質量%)に対する球状中空SiO2微粒子の含有量は、16.5質量%であった。
(Coating liquid C)
To 83.3 parts by mass of silica sol liquid A, 3.3 parts by mass of dispersion B of spherical hollow SiO 2 fine particles was added with stirring, and further, 87.9% by mass of ethanol, 10.4% by mass of isopropanol and 1. 13.4 parts by mass of a mixed alcohol consisting of 7% by mass was added and stirred at room temperature for 20 minutes to obtain a coating liquid C (SiO 2 equivalent solid content concentration of 3.0% by mass). The refractive index of the coating film formed from the coating solution C was 1.446.
Further, the content of the spherical hollow SiO 2 fine particles with respect to the total (100% by mass) of the solid content of the spherical hollow SiO 2 fine particles and the solid content of the binder was 16.5% by mass.
(塗布液D)
シリカゾル液Aの66.7質量部に、球状中空SiO2微粒子の分散液Bの6.7質量部を撹拌しつつ加え、さらにエタノール87.9質量%、イソプロパノール10.4質量%およびメチルエチルケトン1.7質量%からなる混合アルコール26.6質量部を加え、常温下で20分間撹拌し、塗布液D(SiO2換算固形分濃度3.0質量%)を得た。該塗布液Dから形成される塗膜の屈折率は、1.415であった。
また、球状中空SiO2微粒子の固形分とバインダーの固形分との合計(100質量%)に対する球状中空SiO2微粒子の含有量は、33.3質量%であった。
(Coating solution D)
To 66.7 parts by mass of silica sol solution A, 6.7 parts by mass of dispersion B of spherical hollow SiO 2 fine particles were added with stirring, and further 87.9% by mass of ethanol, 10.4% by mass of isopropanol and 1. 26.6 parts by mass of a mixed alcohol consisting of 7% by mass was added and stirred at room temperature for 20 minutes to obtain a coating liquid D (SiO 2 equivalent solid content concentration of 3.0% by mass). The refractive index of the coating film formed from the coating solution D was 1.415.
Further, the content of the spherical hollow SiO 2 fine particles with respect to the total (100 mass%) of the solid content of the spherical hollow SiO 2 fine particles and the solid content of the binder was 33.3 mass%.
(塗布液E)
シリカゾル液Aの50.0質量部に、球状中空SiO2微粒子の分散液Bの10.0質量部を撹拌しつつ加え、さらにエタノール87.9質量%、イソプロパノール10.4質量%およびメチルエチルケトン1.7質量%からなる混合アルコール40.0質量部を加え、常温下で20分間撹拌し、塗布液E(SiO2換算固形分濃度3.0質量%)を得た。該塗布液Eから形成される塗膜の屈折率は、1.400であった。
また、球状中空SiO2微粒子の固形分とバインダーの固形分との合計(100質量%)に対する球状中空SiO2微粒子の含有量は、50.0質量%であった。
(Coating fluid E)
To 50.0 parts by mass of silica sol liquid A, 10.0 parts by mass of dispersion B of spherical hollow SiO 2 fine particles was added with stirring, and further 87.9% by mass of ethanol, 10.4% by mass of isopropanol and 1. 40.0 parts by mass of a mixed alcohol consisting of 7% by mass was added and stirred at room temperature for 20 minutes to obtain a coating liquid E (SiO 2 equivalent solid content concentration of 3.0% by mass). The refractive index of the coating film formed from the coating solution E was 1.400.
Further, the content of the spherical hollow SiO 2 fine particles with respect to the total (100% by mass) of the solid content of the spherical hollow SiO 2 fine particles and the solid content of the binder was 50.0% by mass.
(塗布液F)
シリカゾル液Aの33.3質量部に、球状中空SiO2微粒子の分散液Bの13.3質量部を撹拌しつつ加え、さらにエタノール87.9質量%、イソプロパノール10.4質量%およびメチルエチルケトン1.7質量%からなる混合アルコール53.4質量部を加え、常温下で20分間撹拌し、塗布液Fを(SiO2換算固形分濃度3.0質量%)得た。該塗布液Fから形成される塗膜の屈折率は、1.378であった。
また、球状中空SiO2微粒子の固形分とバインダーの固形分との合計(100質量%)に対する球状中空SiO2微粒子の含有量は、66.7質量%であった。
(Coating fluid F)
To 33.3 parts by mass of silica sol liquid A, 13.3 parts by mass of dispersion B of spherical hollow SiO 2 fine particles were added with stirring, and further, 87.9% by mass of ethanol, 10.4% by mass of isopropanol and 1. 53.4 parts by mass of a mixed alcohol consisting of 7% by mass was added and stirred at room temperature for 20 minutes to obtain a coating liquid F (SiO 2 equivalent solid content concentration of 3.0% by mass). The refractive index of the coating film formed from the coating solution F was 1.378.
Further, the content of the spherical hollow SiO 2 fine particles with respect to the total (100% by mass) of the solid content of the spherical hollow SiO 2 fine particles and the solid content of the binder was 66.7% by mass.
〔例1〕
ガラス板(旭硝子社製、ソーダライムガラス、100mm×100mm、厚さ3.4mm)を、水に分散した酸化セリウムにて磨いた。ついで、磨いたガラス板を、2%に希釈した中性洗剤を含ませたスポンジにて、こすりながら磨いた。ついで、上水にてガラス板の中性洗剤を洗い流し、さらにイオン交換水にてリンスした。該ガラス板を、ガラス板上のイオン交換水が乾く前に、イソプロパノールで洗浄し、溶媒置換を実施した。ガラス板を常温で風乾させ、洗浄済ガラス板とした。
[Example 1]
A glass plate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., soda lime glass, 100 mm × 100 mm, thickness 3.4 mm) was polished with cerium oxide dispersed in water. The polished glass plate was then polished with a sponge soaked in 2% neutral detergent. Subsequently, the neutral detergent of the glass plate was washed away with clean water, and further rinsed with ion exchange water. Before the ion exchange water on the glass plate was dried, the glass plate was washed with isopropanol to carry out solvent substitution. The glass plate was air-dried at room temperature to obtain a washed glass plate.
洗浄済ガラス板は、あらかじめ表面温度が70℃になるようにオーブンで加熱しておき、ガラス板がスプレー位置に設置された後、すみやかに塗布液Cを下記の条件のスプレー法にてガラス板上に塗布した。
スプレー圧力:0.28MPa、
液量:15mL/分、
ノズル先端からガラス板までの距離:170mm、
ノズル移動速度:750mm/分、
スプレーピッチ:22mm。
The washed glass plate is heated in an oven in advance so that the surface temperature becomes 70 ° C., and after the glass plate is placed at the spray position, the coating liquid C is immediately applied to the glass plate by a spray method under the following conditions. It was applied on top.
Spray pressure: 0.28 MPa,
Liquid volume: 15 mL / min,
Distance from nozzle tip to glass plate: 170mm,
Nozzle moving speed: 750 mm / min,
Spray pitch: 22 mm.
スプレーロボットとしては、6軸塗装用ロボット(川崎ロボティックス社製、JF−5)を用いた。
ノズルとしては、VAUノズル(スプレーイングシステムジャパン社製、SUV67B)を用いた。
As the spray robot, a 6-axis painting robot (manufactured by Kawasaki Robotics, JF-5) was used.
As the nozzle, a VAU nozzle (manufactured by Spraying System Japan, SUV67B) was used.
スプレーピッチおよびスプレーパターンを図2に示す。ノズル20は、ガラス板22上を750mm/分の速度で横方向に移動し、ついで、前方へ22mm移動し、そこからガラス板22上を750nm/分のスピードで横方向に移動する。ノズル20の移動は、ガラス板22の全面をノズル20がスキャニングするまで実施する。
該方法でガラス板の全面に塗布液を塗布したものを1面コート品と呼ぶ。該1面コート品の上に、同様の方法で塗布液を塗布したものを2面コート品と呼ぶ。同様に2面コート品の上に、塗り重ねしていくことで、3面以上のコート品が得られる。
The spray pitch and spray pattern are shown in FIG. The
A method in which the coating solution is applied to the entire surface of the glass plate by this method is called a one-side coated product. A product obtained by applying a coating solution on the one-side coated product in the same manner is called a two-sided coated product. Similarly, a coated product having three or more surfaces can be obtained by applying the coating on the two-side coated product.
以上のようにして、2面コート品、3面コート品、4面コート品、6面コート品を作製した。
該コート品を300℃のオーブンで30分間焼成し、コートサンプルを得た。該コートサンプルについて評価を行った。結果を表1および表2に示す。
As described above, a 2-side coated product, a 3-side coated product, a 4-side coated product, and a 6-side coated product were produced.
The coated product was baked in an oven at 300 ° C. for 30 minutes to obtain a coated sample. The coat sample was evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
〔例2〕
塗布液Cを塗布液Dに変更した以外は、例1と同様にしてコートサンプルを得た。該コートサンプルについて評価を行った。結果を表1および表2に示す。
[Example 2]
A coated sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid C was changed to the coating liquid D. The coat sample was evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
〔例3〕
塗布液Cを塗布液Eに変更した以外は、例1と同様にしてコートサンプルを得た。ただし、8面コート品は作成していない。該コートサンプルについて評価を行った。結果を表1および表2に示す。
[Example 3]
A coated sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid C was changed to the coating liquid E. However, an 8-sided coated product has not been created. The coat sample was evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
〔例4〕
塗布液Cを塗布液Fに変更した以外は、例1と同様にしてコートサンプルを得た。ただし、4面コート品、6面コート品は作成していない。該コートサンプルについて評価を行った。結果を表1および表2に示す。
[Example 4]
A coated sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid C was changed to the coating liquid F. However, a 4-sided coated product and a 6-sided coated product are not prepared. The coat sample was evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
〔例5〕
塗布液Cをシリカゾル液Aに変更した以外は、例1と同様にしてコートサンプルを得た。さらに、コート面数が8面のコートサンプルを得た。該コートサンプルについて評価を行った。結果を表1および表2に示す。
[Example 5]
A coated sample was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid C was changed to the silica sol liquid A. Further, a coated sample having 8 coated surfaces was obtained. The coat sample was evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
〔例6〕
塗布液Aの1.5mLをガラス板(旭硝子社製、ソーダライムガラス、100mm×100mm、厚さ3.4mm)の表面にスピンコーター(ミカサ社製、IH−360S)を用い塗布した。このときの回転数は300rpmであり、ガラス板の温度は室温とした。該膜を300℃で30分間焼成し、スピンコートサンプルASを得た。該コートサンプルについて評価を行った。結果を表3に示す。
[Example 6]
1.5 mL of coating solution A was applied to the surface of a glass plate (Asahi Glass Co., Soda Lime Glass, 100 mm × 100 mm, thickness 3.4 mm) using a spin coater (Mikasa IH-360S). The rotation speed at this time was 300 rpm, and the temperature of the glass plate was room temperature. The film was baked at 300 ° C. for 30 minutes to obtain a spin coat sample AS. The coat sample was evaluated. The results are shown in Table 3.
〔例7〕
塗布液をCに変更した以外は、すべて例6の塗布液Aのコート方法と同様にしてスピンコートサンプルCSを得た。該コートサンプルについて評価を行った。結果を表3に示す。
[Example 7]
A spin coat sample CS was obtained in the same manner as the coating method of the coating liquid A in Example 6 except that the coating liquid was changed to C. The coat sample was evaluated. The results are shown in Table 3.
例5に示すように、AG効果として実用上好ましい、光沢度60%以下かつ反射像のボケ具合の評価が◎または○となるように、球状中空SiO2微粒子を含まないシリカゾル液Aで塗膜した場合、6面コートが必要であり、AG層の表面粗さは0.1μm以上となり、ヘイズも4%以上となる。また、6面コート品、8面コート品では、光沢度60%以下かつ反射像のボケ具合の評価が◎であったが、解像度は90μm以上であり解像度の低下が著しい。一方、例1〜4では、球状中空SiO2微粒子を含む塗布液を用いているため、例5の6面コート品と同程度の光沢度、反射像のボケ具合を呈するAG層では、表面粗さは0.1μm未満であり、ヘイズも4%未満である。すなわち、表面粗さが0.04〜0.1μmで実用上充分な反射像のボケ具合が得られ、かつコントラスト低下の要因となるヘイズも4%未満に抑えることができる。また、解像度が75μm以下であり、実用上好ましい。 As shown in Example 5, the coating is made of silica sol solution A that does not contain spherical hollow SiO 2 fine particles so that it is practically preferable as the AG effect, and the glossiness is 60% or less and the evaluation of the bokeh of the reflected image is ◎ or ○. In this case, a 6-side coating is required, the surface roughness of the AG layer is 0.1 μm or more, and the haze is 4% or more. Further, in the 6-side coated product and the 8-side coated product, the glossiness was 60% or less and the evaluation of the blurred state of the reflected image was ◎, but the resolution was 90 μm or more, and the resolution was remarkably lowered. On the other hand, in Examples 1 to 4, since a coating solution containing spherical hollow SiO 2 fine particles was used, the AG layer exhibiting the same degree of gloss and reflection image blur as the 6-side coated product of Example 5 had a rough surface. The thickness is less than 0.1 μm, and the haze is also less than 4%. That is, when the surface roughness is 0.04 to 0.1 μm, a practically sufficient reflected image blur can be obtained, and haze that causes a decrease in contrast can be suppressed to less than 4%. Moreover, the resolution is 75 μm or less, which is practically preferable.
このように、例1〜4においては、AG層の表面粗さが0.04〜0.17μm、かつヘイズが6.5%以下の範囲であれば、例5に示す球状中空SiO2微粒子を含まないシリカゾル液Aで塗膜したものよりも少ないコート回数で、同等の光沢度と反射像のボケ具合を呈するAG層が得られる。したがって、同等のAG効果(光沢度、反射像のボケ具合)を有するものであれば、解像度の低下がより少なく、かつヘイズが充分に小さいAG層が得られる。
たとえば、例5の6面コート品と同等のAG効果を有するAG層が、例1の4面コート品で得られる。同様に、例5の8面コート品と同等のAG効果を有するAG層が、例2の4面コート品で得られる。また、これらのAG層は、例5と比較して、解像度の低下がより少なく、かつヘイズが充分に小さい。
Thus, in Examples 1 to 4, if the AG layer has a surface roughness of 0.04 to 0.17 μm and a haze of 6.5% or less, the spherical hollow SiO 2 fine particles shown in Example 5 are used. An AG layer exhibiting an equivalent glossiness and a blurred state of a reflected image can be obtained with a smaller number of coatings than those coated with silica sol solution A that is not contained. Therefore, if it has the same AG effect (glossiness, blurring of the reflected image), an AG layer can be obtained in which the resolution is less reduced and the haze is sufficiently small.
For example, an AG layer having an AG effect equivalent to that of the 6-side coated product of Example 5 is obtained with the 4-sided coated product of Example 1. Similarly, an AG layer having an AG effect equivalent to that of the 8-side coated product of Example 5 is obtained with the 4-side coated product of Example 2. In addition, these AG layers have a lower resolution and a sufficiently low haze as compared with Example 5.
また、例6、7のように、塗布液をスピンコート法で塗布した場合は、塗布液が球状中空SiO2微粒子を含んでいたとしても、塗膜の表面に凹凸が形成されず、表面が平滑なため、AG効果(光沢度、反射像のボケ具合)が得られない。 Further, as in Examples 6 and 7, when the coating solution was applied by the spin coating method, even if the coating solution contained spherical hollow SiO 2 fine particles, the surface of the coating film was not formed with irregularities. Since it is smooth, the AG effect (glossiness, degree of blur of reflected image) cannot be obtained.
本発明の物品は、各種画像表示装置(LCD、PDP等。)、画像表示装置用フィルタまたは保護板、太陽電池用カバーガラス等として有用である。 The article of the present invention is useful as various image display devices (LCD, PDP, etc.), filters or protective plates for image display devices, cover glasses for solar cells, and the like.
12 コートサンプル(物品)
22 ガラス板(基材)
12 Coat sample (article)
22 Glass plate (base material)
Claims (5)
前記アンチグレア層が、中空SiO 2 微粒子を含み、
前記中空SiO 2 微粒子の平均凝集粒子径が、5〜300nmである、物品。 On a substrate, the refractive index is 1.45 or less, and surface roughness have a antiglare layer is 0.04~0.17Myuemu,
The antiglare layer includes hollow SiO 2 fine particles,
The average agglomerated particle size of the hollow SiO 2 particles, Ru 5~300nm der article.
屈折率が1.45以下の塗膜を形成しうる材料を含む塗布液をスプレー法にて前記基材上に塗布して、前記アンチグレア層を形成する、物品の製造方法。 It is a manufacturing method of the article according to any one of claims 1 to 4 ,
The manufacturing method of the articles | goods which apply | coats the coating liquid containing the material which can form the coating film whose refractive index is 1.45 or less on the said base material by the spray method, and forms the said anti-glare layer.
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