JP4592183B2 - ２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオン - Google Patents

Description

【０００１】
本発明は、式Ｉ
【０００２】
【化５】

［但し、Ｒ¹及びＲ²が、それぞれ水素、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、シアノ、チオシアナト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、−ＯＲ³、−ＯＣＯＲ³、−ＯＳＯ₂Ｒ³、−Ｓ（Ｏ）_nＲ³、−ＳＯ₂ＯＲ³、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ³）₂、−ＮＲ³ＳＯ₂Ｒ³又は−ＮＲ³ＣＯＲ³を表し；
Ｒ³が水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、フェニル又はフェニルＣ₁〜Ｃ₆アルキルを表し、且つ上述のアルキル基は部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又は１〜３個の下記の基：ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、Ｒ³、−ＯＲ³、−ＳＲ³、−Ｎ（Ｒ³）₂、＝ＮＯＲ³、−ＯＣＯＲ³、−ＳＣＯＲ³、−ＮＲ³ＣＯＲ³、−ＣＯ₂Ｒ³、−ＣＯＳＲ³、−ＣＯＮ（Ｒ³）₂、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルイミノオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシＣ₂〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルオキシ、フェニル、ベンジル、ヘテロアリール、フェノキシ、ベンジルオキシ及びヘテロアリールオキシ（最後の８個の基は置換されていても良い）を有していても良く；
ｎが０、１又は２を表し；
Ｑが、２位で結合する、置換基を有していても良いシクロヘキサン−１，３−ジオン環を表し；
Ｘ¹が直鎖又は分岐Ｃ₁〜Ｃ₆アルキレン鎖、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニレン鎖又はＣ₂〜Ｃ₆アルキニレン鎖｛これら鎖は、酸素又は硫黄から選択されるヘテロ原子により遮断されている｝を表し、且つ上述のアルキル、アルケニル又はアルキニル基は、部分的にハロゲン化されていても、及び／又は１〜３個の下記の基：−ＯＲ⁴、−ＯＣＯＲ⁴、−ＯＣＯＮＨＲ⁴又は−ＯＳＯ₂Ｒ⁴から選択される基を有していても良く；
Ｒ⁴が水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、フェニル又はフェニルＣ₁〜Ｃ₆アルキルを表し、且つ上述のアルキル、アルケニル又はアルキニル基は部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又は１個以上の下記の基：ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシから選択される基で置換されていても良く；
Ｈｅｔが、３〜６員の部分飽和若しくは完全飽和ヘテロシクリル基、又は３〜６員のヘテロ芳香族基｛これら基は、下記の３個の群：窒素、酸素と少なくとも１個の窒素との組み合わせ、又は硫黄と少なくとも１個の窒素との組み合わせから選択されるヘテロ原子を３個まで有する｝を表し、且つ上述のヘテロシクリル基又はヘテロ芳香族基は、部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又はＲ⁵で置換されていても良く；
Ｒ⁵が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシを表し、且つ上記アルキル基は、それぞれ１個以上の下記の基：シアノ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシで置換されていても良い］
で表される２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオン又はその農業上有用な塩に関する。
【０００３】
さらに本発明は、式Ｉの化合物を製造する方法及びそのための中間体、化合物Ｉを含む組成物、式Ｉの化合物の使用、並びに有害植物防除用としての化合物Ｉを含む組成物に関する。
【０００４】
２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオンは、文献、例えばＥＰ−Ａ２７８７４２、ＥＰ−Ａ２９８６８０、ＥＰ−Ａ３２０８６４及びＷＯ９６／１４２８５に開示されている。
【０００５】
しかしながら、従来技術の化合物が示す除草特性及びその栽培植物の安全性は、完全に満足できるものではない。
【０００６】
本発明の目的は、新規な、特に除草作用において、特性が改良された化合物を提供することにある。
【０００７】
本発明者等は、この目的が式Ｉの２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオン及びその除草作用により達成されることを見出した。
【０００８】
さらに本発明者等は、化合物Ｉを含み極めて良好な除草作用のある除草剤組成物を見出した。さらに、本発明者等は、これら組成物を製造する方法及びこの化合物Ｉを用いて望ましくない植生を制御する方法を見出した。
【０００９】
本発明は、さらに式Ｉで表される化合物の立体異性体を提供することにある。この異性体には、純粋な立体異性体のみならず、その混合物も含まれている。
【００１０】
置換形式により、式Ｉの化合物は１個以上のキラル中心を有することができ、この場合、エナンチオマー又はジアステレオマー混合物として存在する。本発明は、純粋なエナンチオマー又はジアステレオマーのみならず、これらの混合物に関するものでもある。
【００１１】
式Ｉの化合物は、その農業上有用な塩の形態で存在することもでき、塩の種類は一般に重要でない。一般に、これらのカチオンの塩又はこれら酸の酸付加塩が適当であり、そのカチオン又はアニオンは、化合物Ｉの除草作用に悪影響を与えない。
【００１２】
好適なカチオンは、特にアルカリ金属、好ましくはリチウム、ナトリウム及びカリウムのイオン、アルカリ土類金属、好ましくはカルシウム及びマグネシウムのイオン、並びに遷移金属、好ましくはマンガン、銅、亜鉛及び鉄のイオンであり、さらにまたアンモニウム塩（必要により、１〜４個の水素原子は、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル又はヒドロキシＣ₁〜Ｃ₄アルキル及び／又は１個のフェニル又はベンジルで置き換わって良い）、好ましはジイソプロピルアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウムであり、さらにホスホニウムイオン、スルホニウムイオン（好ましくは、トリ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）スルホニウム）及びスルホキソニウムイオン（好ましくはトリ（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）スルホキソニウムである。
【００１３】
有用な酸付加塩のアニオンは、主に塩化物、臭化物、フッ化物、硫酸水素塩、硫酸塩、燐酸二水素塩、燐酸水素塩、硝酸塩、炭酸水素塩、炭酸塩、ヘキサフルオロ珪酸塩、ヘキサフルオロ燐酸塩、安息香酸塩であり、またさらにＣ₁〜Ｃ₄アルカン酸のアニオン、好ましくはホルマート、アセタート、プロピオナート及びブチラートである。
【００１４】
Ｑは２位で結合する式ＩＩ
【００１５】
【化６】

で表され、さらに互変異性体ＩＩ’及びＩＩ”
【００１６】
【化７】

も表すシクロヘキサン−１，３−ジオン環である場合の、本発明の式Ｉで表される化合物が特に重要である：
［但し、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹¹が、それぞれ水素又はＣ₁〜Ｃ₄アルキルを表し；
Ｒ⁸が水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル又はＣ₃〜Ｃ₄シクロアルキル｛最後の２個の基は１〜３個の下記の基：ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ又はＣ₁〜Ｃ₄アルコキシから選択される置換基を有していても良い｝を表し、或いは
テトラヒドロピラン−２−イル、テトラヒドロピラン−３−イル、テトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、テトラヒドロチオピラン−３−イル、テトラヒドロチオピラン−４−イル、１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキサン−２−イル、１，３−オキサチオラン−２−イル、１，３−オキサチアン−２−イル、１，３−ジチオラン−２−イル又は１，３−ジチアン−２−イル｛最後の６個の基は１〜３個のＣ₁〜Ｃ₄アルキル基で置換されていても良い｝を表し；
Ｒ¹⁰が水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル又はＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルを表し、又は
Ｒ⁸とＲ¹¹が合体して、π結合又は３〜６員の炭素環を形成し；又は
上記ＣＲ⁸Ｒ⁹単位が、Ｃ＝Ｏで置き換わっていても良い］。
【００１７】
方法Ａ：
式ＩＩのシクロヘキサン−１，３−ジオンを、好ましくは系内で活性化される活性化カルボン酸ＩＩＩａ又はカルボン酸ＩＩＩｂと反応させ、アシル化生成物ＩＶを得、次いで本発明の式Ｉの化合物に転位させる反応。
【００１８】
【化８】

Ｌ¹は求核置換可能な脱離基であり、例えばハロゲン（例えば、臭素、塩素）、ヘテロアリール（例えば、イミダゾリル、ピリジル）、又はカルボキシラート（例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸）等が挙げられる。
【００１９】
活性化カルボン酸を、ハロゲン化アシルの場合のように直接使用することができ、或いは系内で、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、トリフェニルホスフィン／アゾジカルボン酸エステル、２−ピリジンジスルフィド／トリフェニルホスフィン、カルボニルジイミダゾール等を用いて発生させることができる。
【００２０】
塩基の存在下にアシル化反応を行うことが有利であろう。出発材料及び補助塩基を、等モル量で使用することが有利である。特定の条件では、ＩＩに対して僅かに過剰の、例えば１．２〜１．５モル等量の補助塩基が有利であろう。
【００２１】
好適な補助塩基は、第三級アルキルアミン、ピリジン又はアルカリ金属炭酸塩である。使用することができる溶剤の例としては、塩素化炭化水素（例えば、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン）、芳香族炭化水素（例えば、トルエン、キシレン、クロロベンゼン）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン）、非プロトン性極性溶剤（例えば、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド）、又はエステル（例えば、酢酸エチル）、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【００２２】
ハロゲン化アシルを、活性化カルボン酸成分として使用した場合、この反応材料を添加した際に反応混合物を０〜１０℃に冷却することが有利である。次いで、混合物を２０〜１００℃、好ましくは２５〜５０℃で、反応が完結するまで撹拌する。後処理は、慣用法で行われ、例えば反応混合物を水に注ぎ、所望の生成物を抽出する。この目的に特に好適な溶剤は、塩化メチレン、ジエチルエーテル及び酢酸エチルである。有機層を乾燥し、溶剤を除去した後、式ＩＶの粗エノールエステルが、好ましくはクロマトグラフィー処理することにより精製される。或いは、転位反応を行うために、式ＩＶの粗エノールエステルを、さらに精製することなく用いることも可能である。
【００２３】
式ＩＶの粗エノールエステルを反応させて式Ｉの化合物に転位させる反応は、塩基の存在下、また適宜シアノ化合物の存在下、溶剤中、２０〜４０℃で行われることが有利である。
【００２４】
使用することができる溶剤の例としては、アセトニトリル、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、ジオキサン、酢酸エチル、トルエン、又はこれらの混合物である。好ましい溶剤は、アセトニトリル及びジオキサンである。
【００２５】
適当な塩基は、第三級アミン（例えば、トリエチルアミン、ピリジン）、又はアルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム）であり、これら塩基は上記エステルに対して等モル量で、又は４倍量までの過剰量で使用することが好ましい。トリエチルアミン又はアルカリ金属炭酸塩を用いることが好ましい。
【００２６】
適当なシアノ化合物は、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム等の無機シアン化物、及びアセトンシアノヒドリン、トリメチルシリルシアニド等の有機シアノ化合物である。これらは、上記エステルに対して１〜５０モル％の量で使用される。アセトンシアノヒドリン又はトリメチルシリルシアニドを使用することが好ましく、例えば上記エステルに対して、５〜１５モル％、好ましくは１０モル％の量で使用される。
【００２７】
特に、アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸カリウムを、アセトニトリル又はジオキサン中で用いることが好ましい。
【００２８】
後処理は、それ自体公知の方法で行われる。例えば、反応混合物を希薄な鉱酸（例えば、５％濃度の塩酸又は硫酸）で酸性化し、有機溶剤（例えば、塩化メチレン又は酢酸エチル）で抽出する。有機層を、５〜１０％濃度アルカリ金属炭酸塩溶液（例えば、炭酸ナトリウム溶液又は炭酸カリウム溶液）で抽出することができる。水層を酸性化し、形成した沈殿を吸引ろ過及び／又は塩化メチレン若しくは酢酸エチルで抽出し、乾燥し、そして濃縮する。
【００２９】
式ＩＩＩで表される安息香酸は、新規である：
【００３０】
【化９】

［但し、Ｒ¹とＲ²が、それぞれ水素、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、シアノ、チオシアナト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、−ＯＲ³、−ＯＣＯＲ³、−ＯＳＯ₂Ｒ³、−Ｓ（Ｏ）_nＲ³、−ＳＯ₂ＯＲ³、−ＳＯ₂Ｎ（Ｒ³）₂、−ＮＲ³ＳＯ₂Ｒ³又は−ＮＲ³ＣＯＲ³を表し；
Ｒ³が水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、フェニル又はフェニルＣ₁〜Ｃ₆アルキルを表し、且つ上述のアルキル基は部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又は１〜３個の下記の基：ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、Ｒ³、−ＯＲ³、−ＳＲ³、−Ｎ（Ｒ³）₂、＝ＮＯＲ³、−ＯＣＯＲ³、−ＳＣＯＲ³、−ＮＲ³ＣＯＲ³、−ＣＯ₂Ｒ³、−ＣＯＳＲ³、−ＣＯＮ（Ｒ³）₂、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルイミノオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシＣ₂〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルオキシ、フェニル、ベンジル、ヘテロアリール、フェノキシ、ベンジルオキシ及びヘテロアリールオキシ（最後の８個の基は置換されていても良い）を有していても良く；
ｎが０、１又は２を表し；
Ｘ¹が直鎖又は分岐Ｃ₁〜Ｃ₆アルキレン鎖、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニレン鎖又はＣ₂〜Ｃ₆アルキニレン鎖｛これら鎖は、酸素又は硫黄から選択されるヘテロ原子により遮断されている｝を表し、且つ上述のアルキル、アルケニル又はアルキニル基は、部分的にハロゲン化されていても、及び／又は１〜３個の下記の基：−ＯＲ⁴、−ＯＣＯＲ⁴、−ＯＣＯＮＨＲ⁴又は−ＯＳＯ₂Ｒ⁴から選択される基を有していても良く；
Ｒ⁴が水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、フェニル又はフェニルＣ₁〜Ｃ₆アルキルを表し、且つ上述のアルキル、アルケニル又はアルキニル基は部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又は１個以上の下記の基：ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシから選択される基で置換されていても良く；
Ｈｅｔが、３〜６員の部分飽和若しくは完全飽和ヘテロシクリル基、又は３〜６員のヘテロ芳香族基｛これら基は、窒素、酸素又は硫黄から選択されるヘテロ原子を３個まで有する｝を表し、且つ上述のヘテロシクリル基又はヘテロ芳香族基は、部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又はＲ⁵で置換されていても良く；
Ｒ⁵が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシを表し、且つ上記アルキル基は、それぞれ１個以上の下記の基：シアノ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシで置換されていても良く；
Ｒ¹²がヒドロキシル又は加水分解可能な基を表す］。
【００３１】
加水分解可能な基の例としては、アルコキシ、フェノキシ、アルキルチオ及びフェニルチオ（置換されていることもある）、ハロゲン化物、窒素を介して結合するヘテロアリール基、アミノ及びイミノ基（置換されていることもある）、等である。
【００３２】
Ｌ¹がハロゲンであるハロゲン化ベンゾイルＩＩＩａ（Ｒ¹²がハロゲンであるＩＩＩに該当）
【００３３】
【化１０】

［但し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｘ¹及びＨｅｔは式ＩＩＩと同義であり、Ｌ¹はハロゲン、特に塩素又は臭素である］
が好ましい。
【００３４】
さらに式ＩＩＩｂ（Ｒ¹²がヒドロキシルであるＩＩＩに該当）
【００３５】
【化１１】

［但し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｘ¹及びＨｅｔは式ＩＩＩと同義である］
で表される安息香酸が好ましい。
【００３６】
さらに式ＩＩＩｃ（Ｒ¹²がＣ₁〜Ｃ₆アルコキシであるＩＩＩに該当）
【００３７】
【化１２】

［但し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｘ¹及びＨｅｔは式ＩＩＩと同義であり、ＭはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシである］
で表される安息香酸エステルが好ましい。
【００３８】
式ＩＩＩの好ましい安息香酸について、式Ｉで表される２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオンで述べたことは、基Ｒ¹、Ｒ²、Ｘ¹及びＨｅｔに使用する。
【００３９】
式ＩＩＩａ（Ｌ¹がハロゲン）の化合物は、文献（L.G. Fieser, M. Fieser "Reagents for Organic Synthesis", 第I巻, 767〜769頁 (1967)、参照）により知られている類似の方法により、式ＩＩＩｂの安息香酸を、ハロゲン化剤（例えば、塩化チオニル、臭化チオニル、ホスゲン、ジホスゲン、トリホスゲン、塩化オキサリル及び臭化オキサリル）と反応させて合成することができる。
【００４０】
式ＩＩＩｂの安息香酸は、特に式ＩＩＩｃの安息香酸エステル（ＭがＣ₁〜Ｃ₆アルコキシ）を加水分解することにより得ることができる。
【００４１】
本発明の式ＩＩＩｃで表される安息香酸エステルは、下記の例に記載されているように、文献（例えば、ａ：G. Dittus in Houben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie, 第VI/3巻, Oxygen compounds I, 第4版, 493頁以下., Georg Thieme Verlag, 1965；ｂ：T. L. Gilchrist, Heterocyclenchemie, 第2版, Verlag Chemie, 1995）公知の種々の方法により製造することができる。
【００４２】
方法Ｂ：
安息香酸エステルＶａを適当な求核試薬ＶＩで置換して、本発明の安息香酸エステルＩＩＩｃを得る；
【００４３】
【化１３】

［但し、Ｍ、Ｒ¹及びＲ²が、それぞれ上記と同義であり、
Ｌ²が適当な求核置換可能な脱離基、例えばハロゲン（例えば、臭素、塩素）、ヘテロアリール（例えば、イミダゾリル、ピリジル）、カルボキシラート（例えば、アセタート、トリフルオロアセタート）、スルホナート（例えば、メシラート、トリフラート）等を表し、
Ｘ²が、炭素原子が少なくとも１個で、最大５個の、直鎖又は分枝アルキレン鎖、アルケニレン鎖又はアルキニレン鎖｛上述のアルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基は、部分的にハロゲン化されていても、及び／又は１〜３個の下記の基：−ＯＲ⁴、−ＯＣＯＲ⁴、−ＯＣＯＮＨＲ⁴又は−ＯＳＯ₂Ｒ⁴から選択される基を有していても良い｝を表し、
Ｘ³が、最大５個の炭素原子を有する、直鎖又は分枝アルキレン鎖、アルケニレン鎖又はアルキニレン鎖｛上述のアルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基は部分的にハロゲン化されていても、及び／又は１〜３個の下記の基：−ＯＲ⁴、−ＯＣＯＲ⁴、−ＯＣＯＮＨＲ⁴又は−ＯＳＯ₂Ｒ⁴から選択される基を有していても良い｝を表し、且つはＸ²ＯＸ³は基Ｘ¹を形成する］。
【００４４】
一般に、出発材料は等モル量で用いられる。しかしながら、過剰量の出発材料又は他の成分を使用することが有利であろう。
【００４５】
適宜、反応を塩基の存在下で行うことが有利であろう。出発材料及び補助塩基は、等モル量で用いることが有利である。特定の場合、Ｖａに対して、過剰量の補助塩基、例えば１．５〜３モル等量用いることが有利であろう。
【００４６】
適当な補助塩基は、第三級アルキルアミン（例えば、トリエチルアミン、ピリジン）、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属水素化物（例えば、水素化ナトリウム）である。トリエチルアミン、ピリジン及び炭酸カリウムを用いることが好ましい。
【００４７】
適当な溶剤の例としては、塩素化炭化水素（例えば、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン）、芳香族炭化水素（例えば、トルエン、キシレン、クロロベンゼン）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン）、非プロトン性極性溶剤（例えば、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド）、又はエステル（例えば、酢酸エチル）、或いはこれらの混合物である。
【００４８】
一般に反応温度は、０℃〜反応混合物の沸点の間である。
【００４９】
後処理は、それ自体公知の方法で行われる。
【００５０】
方法Ｃ：
適当な置換ヘテロシクリルＶＩＩを安息香酸エステルＶｂで置換して、本発明の安息香酸エステルＩＩＩｃを得る；
【００５１】
【化１４】

［但し、Ｍ、Ｒ¹及びＲ²が、それぞれ上記と同義であり、
Ｌ²が適当な求核置換可能な脱離基、例えばハロゲン（例えば、臭素、塩素）、ヘテロアリール（例えば、イミダゾリル、ピリジル）、カルボキシラート（例えば、アセタート、トリフルオロアセタート）、スルホナート（例えば、メシラート、トリフラート）等を表し、
Ｘ²が、炭素原子が少なくとも１個で、最大５個の、直鎖又は分枝アルキレン鎖、アルケニレン鎖又はアルキニレン鎖｛上述のアルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基は、部分的にハロゲン化されていても、及び／又は１〜３個の下記の基：−ＯＲ⁴、−ＯＣＯＲ⁴、−ＯＣＯＮＨＲ⁴又は−ＯＳＯ₂Ｒ⁴から選択される基を有していても良い｝を表し、
Ｘ³が、最大５個の炭素原子を有する、直鎖又は分枝アルキレン鎖、アルケニレン鎖又はアルキニレン鎖｛上述のアルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基は部分的にハロゲン化されてても、及び／又は１〜３個の下記の基：−ＯＲ⁴、−ＯＣＯＲ⁴、−ＯＣＯＮＨＲ⁴又は−ＯＳＯ₂Ｒ⁴から選択される基を有していても良い｝を表し、且つはＸ²ＯＸ³は基Ｘ¹を形成する］。
【００５２】
一般に、出発材料は等モル量で用いられる。しかしながら、過剰量の出発材料又は他の成分を使用することが有利であろう。
【００５３】
適宜、反応を塩基の存在下で行うことが有利であろう。出発材料及び補助塩基は、等モル量で用いることが有利である。特定の場合、ＶＩＩに対して、過剰量の補助塩基、例えば１．５〜３モル等量用いることが有利であろう。
【００５４】
適当な補助塩基は、第三級アルキルアミン（例えば、トリエチルアミン、ピリジン）、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属水素化物（例えば、水素化ナトリウム）である。トリエチルアミン、ピリジン及び炭酸カリウムを用いることが好ましい。
【００５５】
適当な溶剤の例としては、塩素化炭化水素（例えば、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン）、芳香族炭化水素（例えば、トルエン、キシレン、クロロベンゼン）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン）、非プロトン性極性溶剤（例えば、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド）、又はエステル（例えば、酢酸エチル）、或いはこれらの混合物である。
【００５６】
一般に反応温度は、０℃〜反応混合物の沸点の間である。
【００５７】
後処理は、それ自体公知の方法で行われる。
【００５８】
本発明の式Ｉで表される以下の化合物が重要である。即ち、 基Ｘ¹が、１個の他の酸素又は硫黄原子を含むＣ₁〜Ｃ₂アルキレン鎖又はＣ₂アルケニレン鎖を表し、 Ｈｅｔが、３〜６員の部分飽和若しくは完全飽和ヘテロシクリル基、又は窒素、酸素及び硫黄から選択される３個までのヘテロ原子を有する、３〜６員のヘテロ芳香族基｛このヘテロシクリル基又はヘテロ芳香族基は、部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又はＲ⁵で置換されていても良い｝を表す。
【００５９】
さらに、本発明の式Ｉで表される以下の化合物が重要である。即ち、Ｈｅｔが、５員若しくは６員の部分飽和若しくは完全飽和のヘテロシクリル基、又は窒素、酸素及び硫黄から選択される３個までのヘテロ原子を有する、５員若しくは６員のヘテロ芳香族基｛このヘテロシクリル基又はヘテロ芳香族基は、部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又はＲ⁵で置換されていても良い｝を表し；
Ｒ⁵が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシを表し、且つ上記アルキル基は、それぞれ１個以上の下記の基：シアノ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシで置換されていても良い。
【００６０】
置換基Ｒ¹〜Ｒ¹²について、或いはフェニル、ヘテロアリール環及びヘテロシクリル環の基として記載された有機基は、個々の基の構成員をそれぞれ例示するための共通の用語を表す。全ての炭化水素鎖、即ち全てのアルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルイミノオキシ、アルコキシアミノ、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、アルキルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルコキシアルコキシカルボニル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキニル部分は、直鎖でも分岐でも良い。特段述べない限り、ハロゲン化置換基は、１個〜５個の同一又は異なるハロゲンを有することが好ましい。ハロゲンは、それぞれフッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表す。
【００６１】
他の意味の例として、下記のものを挙げることができる：
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル及びＣ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルのアルキル部分：メチル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル及び１，１−ジメチルエチル；
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、及びＣ₁〜Ｃ₆アルコキシＣ₁〜Ｃ₆アルキル及びＣ₁〜Ｃ₆アルキルカルボニルのアルキル部分：上述のＣ₁〜Ｃ₄アルキル、さらにペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ヘキシル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピル及び１−エチル−３−メチルプロピル；
Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル：部分的又は完全にフッ素、塩素、臭素及び／又はヨウ素で置換された上述のＣ₁〜Ｃ₄アルキル基、例えばクロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、２−フルオロエチル、２−クロロエチル、２−ブロモエチル、２−ヨードエチル、２，２−ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２−クロロ−２−フルオロエチル、２−クロロ−２，２−ジフルオロエチル、２，２−ジクロロ−２−フルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、２−フルオロプロピル、３−フルオロプロピル、２，２−ジフルオロプロピル、２，３−ジフルオロプロピル、２−クロロプロピル、３−クロロプロピル、２，３−ジクロロプロピル、２−ブロモプロピル、３−ブロモプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、３，３，３−トリクロロプロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、ヘプタフルオロプロピル、１−（フルオロメチル）−２−フルオロエチル、１−（クロロメチル）−２−クロロエチル、１−（ブロモメチル）−２−ブロモエチル、４−フルオロブチル、４−クロロブチル、４−ブロモブチル及びノナフルオロブチル；
Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル及びＣ₁〜Ｃ₆ハロアルキルカルボニルのハロアルキル部分：上述のＣ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、さらに５−フルオロペンチル、５−クロロペンチル、５−ブロモペンチル、５−ヨードペンチル、ウンデカフルオロペンチル、６−フルオロヘキシル、６−クロロヘキシル、６−ブロモヘキシル、６−ヨードヘキシル及びドデカフルオロヘキシル；
Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、及びＣ₁〜Ｃ₄アルコキシアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシＣ₂〜Ｃ₆アルコキシカルボニル及びＣ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニルのアルコキシ部分：メトキシ、エトキシ、プロポキシ、１−メチルエトキシ、ブトキシ、１−メチルプロポキシ、２−メチルプロポキシ及び１，１−ジメチルエトキシ；
Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、及びＣ₁〜Ｃ₆アルコキシＣ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシＣ₂〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシＣ₂〜Ｃ₆アルコキシカルボニル及びＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルのアルコキシ部分：上述のＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ、さらにペントキシ、１−メチルブトキシ、２−メチルブトキシ、３−メトキシブトキシ、１，１−ジメチルプロポキシ、１，２−ジメチルプロポキシ、２，２−ジメチルプロポキシ、１−エチルプロポキシ、ヘキソキシ、１−メチルペントキシ、２−メチルペントキシ、３−メチルペントキシ、４−メチルペントキシ、１，１−ジメチルブトキシ、１，２−ジメチルブトキシ、１，３−ジメチルブトキシ、２，２−ジメチルブトキシ、２，３−ジメチルブトキシ、３，３−ジメチルブトキシ、１−エチルブトキシ、２−エチルブトキシ、１，１，２−トリメチルプロポキシ、１，２，２−トリメチルプロポキシ、１−エチル−１−メチルプロポキシ又は１−エチル−２−メチルプロポキシ；
Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシ：部分的又は完全にフッ素、塩素、臭素及び／又はヨウ素で置換された上述のＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基、例えば、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、クロロジフルオロメトキシ、ブロモジフルオロメトキシ、２−フルオロエトキシ、２−クロロエトキシ、２−ブロモエトキシ、２−ヨードエトキシ、２，２−ジフルオロエトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、２−クロロ−２−フルオロエトキシ、２−クロロ−２，２−ジフルオロエトキシ、２，２−ジクロロ−２−フルオロエトキシ、２，２，２−トリクロロエトキシ、ペンタフルオロエトキシ、２−フルオロプロポキシ、３−フルオロプロポキシ、２−クロロプロポキシ、３−クロロプロポキシ、２−ブロモプロポキシ、３−ブロモプロポキシ、２，２−ジフルオロプロポキシ、２，３−ジフルオロプロポキシ、２，３−ジクロロプロポキシ、３，３，３−トリフルオロプロポキシ、３，３，３−トリクロロプロポキシ、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロプロポキシ、１−（フルオロメチル）−２−フルオロエトキシ、１−（クロロメチル）−２−クロロエトキシ、１−（ブロモメチル）−２−ブロモエトキシ、４−フルオロブトキシ、４−クロロブトキシ、４−ブロモブトキシ又はノナフルオロブトキシ；
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル−Ｓ（＝Ｏ）₂−）：メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、１−メチルエチルスルホニル、ブチルスルホニル、１−メチルプロピルスルホニル、２−メチルプロピルスルホニル及び１，１−ジメチルエチルスルホニル；
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル：上述のＣ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、さらにペンチルスルホニル、１−メチルブチルスルホニル、２−メチルブチルスルホニル、３−メチルブチルスルホニル、２，２−ジメチルプロピルスルホニル、１−エチルプロピルスルホニル、１，１−ジメチルプロピルスルホニル、１，２−ジメチルプロピルスルホニル、ヘキシルスルホニル、１−メチルペンチルスルホニル、２−メチルペンチルスルホニル、３−メチルペンチルスルホニル、４−メチルペンチルスルホニル、１，１−ジメチルブチルスルホニル、１，２−ジメチルブチルスルホニル、１，３−ジメチルブチルスルホニル、２，２−ジメチルブチルスルホニル、２，３−ジメチルブチルスルホニル、３，３−ジメチルブチルスルホニル、１−エチルブチルスルホニル、２−エチルブチルスルホニル、１，１，２−トリメチルプロピルスルホニル、１，２，２−トリメチルプロピルスルホニル、１−エチル−１−メチルプロピルスルホニル及び１−エチル−２−メチルプロピルスルホニル；
Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキルスルホニル：部分的又は完全にフッ素、塩素、臭素及び／又はヨウ素で置換された上述のＣ₁〜Ｃ₆アルキルスルホニル基、例えばフルオロメチルスルホニル、ジフルオロメチルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニル、クロロジフルオロメチルスルホニル、ブロモジフルオロメチルスルホニル、２−フルオロエチルスルホニル、２−クロロエチルスルホニル、２−ブロモエチルスルホニル、２−ヨードエチルスルホニル、２，２−ジフルオロエチルスルホニル、２，２，２−トリフルオロエチルスルホニル、２，２，２−トリクロロエチルスルホニル、２−クロロ−２−フルオロエチルスルホニル、２−クロロ−２，２−ジフルオロエチルスルホニル、２，２−ジクロロ−２−フルオロエチルスルホニル、ペンタフルオロエチルスルホニル、２−フルオロプロピルスルホニル、３−フルオロプロピルスルホニル、２−クロロプロピルスルホニル、３−クロロプロピルスルホニル、２−ブロモプロピルスルホニル、３−ブロモプロピルスルホニル、２，２−ジフルオロプロピルスルホニル、２，３−ジフルオロプロピルスルホニル、２，３−ジクロロプロピルスルホニル、３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル、３，３，３−トリクロロプロピルスルホニル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルスルホニル、ヘプタフルオロプロピルスルホニル、１−（フルオロメチル）−２−フルオロエチルスルホニル、１−（クロロメチル）−２−クロロエチルスルホニル、１−（ブロモメチル）−２−ブロモエチルスルホニル、４−フルオロブチルスルホニル、４−クロロブチルスルホニル、４−ブロモブチルスルホニル、ノナフルオロブチルスルホニル、５−フルオロペンチルスルホニル、５−クロロペンチルスルホニル、５−ブロモペンチルスルホニル、５−ヨードペンチルスルホニル、６−フルオロヘキシルスルホニル、６−ブロモヘキシルスルホニル、６−ヨードヘキシルスルホニル及びドデカフルオロヘキシルスルホニル；
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルイミノオキシ：メチルイミノオキシ、エチルイミノオキシ、１−プロピルイミノオキシ、２−プロピルイミノオキシ、１−ブチルイミノオキシ及び２−ブチルイミノオキシ；
Ｃ₃〜Ｃ₆アルケニル：プロパ−１−エン−１−イル、プロパ−２−エン−１−イル、１−メチルエテニル、ブテン−１−イル、ブテン−２−イル、ブテン−３−イル、１−メチルプロパ−１−エン−１−イル、２−メチルプロパ−１−エン−１−イル、１−メチルプロパ−２−エン−１−イル、２−メチルプロパ−２−エン−１−イル、ペンテン−１−イル、ペンテン−２−イル、ペンテン−３−イル、ペンテン−４−イル、１−メチルブタ−１−エン−１−イル、２−メチルブタ−１−エン−１−イル、３−メチルブタ−１−エン−１−イル、１−メチルブタ−２−エン−１−イル、２−メチルブタ−２−エン−１−イル、３−メチルブタ−２−エン−１−イル、１−メチルブタ−３−エン−１−イル、２−メチルブタ−３−エン−１−イル、３−メチルブタ−３−エン−１−イル、１，１−ジメチルプロパ−２−エン−１−イル、１，２−ジメチルプロパ−１−エン−１−イル、１，２−ジメチルプロパ−２−エン−１−イル、１−エチルプロパ−１−エン−２−イル、１−エチルプロパ−２−エン−１−イル、ヘキサ−１−エン−１−イル、ヘキサ−２−エン−１−イル、ヘキサ−３−エン−１−イル、ヘキサ−４−エン−１−イル、ヘキサ−５−エン−１−イル、１−メチルペンタ−１−エン−１−イル、２−メチルペンタ−１−エン−１−イル、３−メチルペンタ−１−エン−１−イル、４−メチルペンタ−１−エン−１−イル、１−メチルペンタ−２−エン−１−イル、２−メチルペンタ−２−エン−１−イル、３−メチルペンタ−２−エン−１−イル、４−メチルペンタ−２−エン−１−イル、１−メチルペンタ−３−エン−１−イル、２−メチルペンタ−３−エン−１−イル、３−メチルペンタ−３−エン−１−イル、４−メチルペンタ−３−エン−１−イル、１−メチルペンタ−４−エン−１−イル、２−メチルペンタ−４−エン−１−イル、３−メチルペンタ−４−エン−１−イル、４−メチルペンタ−４−エン−１−イル、１，１−ジメチルブタ−２−エン−１−イル、１，１−ジメチルブタ−３−エン−１−イル、１，２−ジメチルブタ−１−エン−１−イル、１，２−ジメチルブタ−２−エン−１−イル、１，２−ジメチルブタ−３−エン−１−イル、１，３−ジメチルブタ−１−エン−１−イル、１，３−ジメチルブタ−２−エン−１−イル、１，３−ジメチルブタ−３−エン−１−イル、２，２−ジメチルブタ−３−エン−１−イル、２，３−ジメチルブタ−１−エン−１−イル、２，３−ジメチルブタ−２−エン−１−イル、２，３−ジメチルブタ−３−エン−１−イル、３，３−ジメチルブタ−１−エン−１−イル、３，３−ジメチルブタ−２−エン−１−イル、１−エチルブタ−１−エン−１−イル、１−エチルブタ−２−エン−１−イル、１−エチルブタ−３−エン−１−イル、２−エチルブタ−１−エン−１−イル、２−エチルブタ−２−エン−１−イル、２−エチルブタ−３−エン−１−イル、１，１，２−トリメチルプロパ−２−エン−１−イル、１−エチル−１−メチルプロパ−２−エン−１−イル、１−エチル−２−メチルプロパ−１−エン−１−イル及び１−エチル−２−メチルプロパ−２−エン−１−イル；
Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル：上述のＣ₃〜Ｃ₆アルケニル及びエテニル；
Ｃ₃〜Ｃ₆アルキニル：プロパ−１−イン−１−イル、プロパ−２−イン−１−イル、ブタ−１−イン−１−イル、ブタ−１−イン−３−イル、ブタ−１−イン−４−イル、ブタ−２−イン−１−イル、ペンタ−１−イン−１−イル、ペンタ−１−イン−３−イル、ペンタ−１−イン−４−イル、ペンタ−１−イン−５−イル、ペンタ−２−イン−１−イル、ペンタ−２−イン−４−イル、ペンタ−２−イン−５−イル、３−メチルブタ−１−イン−３−イル、３−メチルブタ−１−イン−４−イル、ヘキサ−１−イン−１−イル、ヘキサ−１−イン−３−イル、ヘキサ−１−イン−４−イル、ヘキサ−１−イン−５−イル、ヘキサ−１−イン−６−イル、ヘキサ−２−イン−１−イル、ヘキサ−２−イン−４−イル、ヘキサ−２−イン−５−イル、ヘキサ−２−イン−６−イル、ヘキサ−３−イン−１−イル、ヘキサ−３−イン−２−イル、３−メチルペンタ−１−イン−１−イル、３−メチルペンタ−１−イン−３−イル、３−メチルペンタ−１−イン−４−イル、３−メチルペンタ−１−イン−５−イル、４−メチルペンタ−１−イン−１−イル、４−メチルペンタ−２−イン−４−イル及び４−メチルペンタ−２−イン−５−イル；
Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル：上述のＣ₃〜Ｃ₆アルキニル及びエチニル；
Ｃ₃〜Ｃ₆シクロアルキル：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシル；
Ｃ₄〜Ｃ₆シクロアルケニル：シクロブテン−１−イル、シクロブテン−３−イル、シクロペンテンテン−１−イル、シクロペンテン−３−イル、シクロペンテン−４−イル、シクロヘキセン−１−イル、シクロヘキセン−３−イル及びシクロヘキセン−４−イル；
ヘテロシクリル、及びヘテロシクリルオキシのヘテロシクリル基：酸素、窒素及び硫黄原子から選ばれる１〜３個のヘテロ原子を有する３〜７員の飽和又部分不飽和の単環もしくは多環ヘテロシクリル、例えば、オキシラニル、２−テトラヒドロフラニル、３−テトラヒドロフラニル、２−テトラヒドロチエニル、３−テトラヒドロチエニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、３−イソオキサゾリジニル、４−イソオキサゾリジニル、５−イソオキサゾリジニル、３−イソチアゾリジニル、４−イソチアゾリジニル、５−イソチアゾリジニル、３−ピラゾリジニル、４−ピラゾリジニル、５−ピラゾリジニル、２−オキサゾリジニル、４−オキサゾリジニル、５−オキサゾリジニル、２−チアゾリジニル、４−チアゾリジニル、５−チアゾリジニル、２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、１，２，４−オキサジアゾリジン−３−イル、１，２，４−オキサジアゾリジン−５−イル、１，２，４−チアジアゾリジン−３−イル、１，２，４−チアジアゾリジン−５−イル、１，２，４−トリアゾリジン−３−イル、１，３，４−オキサジアゾリジン−２−イル、１，３，４−チアジアゾリジン−２−イル、１，３，４−トリアゾリジン−２−イル、２，３−ジヒドロフラン−２−イル、２，３−ジヒドロフラン−３−イル、２，３−ジヒドロフラン−４−イル、２，３−ジヒドロフラン−５−イル、２，５−ジヒドロフラン−２−イル、２，５−ジヒドロフラン−３−イル、２，３−ジヒドロチエン−２−イル、２，３−ジヒドロチエン−３−イル、２，３−ジヒドロチエン−４−イル、２，３−ジヒドロチエン−５−イル、２，５−ジヒドロチエン−２−イル、２，５−ジヒドロチエン−３−イル、２，３−ジヒドロピロール−２−イル、２，３−ジヒドロピロール−３−イル、２，３−ジヒドロピロール−４−イル、２，３−ジヒドロピロール−５−イル、２，５−ジヒドロピロール−２−イル、２，５−ジヒドロピロール−３−イル、２，３−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル、２，３−ジヒドロイソオキサゾール−４−イル、２，３−ジヒドロイソオキサゾール−５−イル、４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル、４，５−ジヒドロイソオキサゾール−４−イル、４，５−ジヒドロイソオキサゾール−５−イル、２，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル、２，５−ジヒドロイソオキサゾール−４−イル、２，５−ジヒドロオキサゾール−５−イル、２，３−ジヒドロイソチアゾール−３−イル、２，３−ジヒドロイソチアゾール−４−イル、２，３−ジヒドロイソチアゾール−５−イル、４，５−ジヒドロイソチアゾール−３−イル、４，５−ジヒドロイソチアゾール−４−イル、４，５−ジヒドロイソチアゾール−５−イル、２，５−ジヒドロイソチアゾール−３−イル、２，５−ジヒドロイソチアゾール−４−イル、２，５−ジヒドロイソチアゾール−５−イル、２，３−ジヒドロピラゾール−３−イル、２，３−ジヒドロピラゾール−４−イル、２，３−ジヒドロピラゾール−５−イル、４，５−ジヒドロピラゾール−３−イル、４，５−ジヒドロピラゾール−４−イル、４，５−ジヒドロピラゾール−５−イル、２，５−ジヒドロピラゾール−３−イル、２，５−ジヒドロピラゾール−４−イル、２，５−ジヒドロピラゾール−５−イル、２，３−ジヒドロオキサゾール−２−イル、２，３−ジヒドロオキサゾール−４−イル、２，３−ジヒドロオキサゾール−５−イル、４，５−ジヒドロオキサゾール−２−イル、４，５−ジヒドロオキサゾール−４−イル、４，５−ジヒドロオキサゾール−５−イル、２，５−ジヒドロオキサゾール−２−イル、２，５−ジヒドロオキサゾール−４−イル、２，５−ジヒドロオキサゾール−５−イル、２，３−ジヒドロチアゾール−２−イル、２，３−ジヒドロチアゾール−４−イル、２，３−ジヒドロチアゾール−５−イル、４，５−ジヒドロチアゾール−２−イル、４，５−ジヒドロチアゾール−４−イル、４，５−ジヒドロチアゾール−５−イル、２，５−ジヒドロチアゾール−２−イル、２，５−ジヒドロチアゾール−４−イル、２，５−ジヒドロチアゾール−５−イル、２，３−ジヒドロイミダゾール−２−イル、２，３−ジヒドロイミダゾール−４−イル、２，３−ジヒドロイミダゾール−５−イル、４，５−ジヒドロイミダゾール−２−イル、４，５−ジヒドロイミダゾール−４−イル、４，５−ジヒドロイミダゾール−５−イル、２，５−ジヒドロイミダゾール−２−イル、２，５−ジヒドロイミダゾール−４−イル、２，５−ジヒドロイミダゾール−５−イル、２−モルホリニル、３−モルホリニル、２−ピペリジニル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル、３−テトラヒドロピリダジニル、４−テトラヒドロピリダジニル、２−テトラヒドロピリミジニル、４−テトラヒドロピリミジニル、５−テトラヒドロピリミジニル、２−テトラヒドロピラジニル、１，３，５−テトラヒドロトリアジン−２−イル、１，２，４−テトラヒドロトリアジン−３−イル、１，３−ジヒドロオキサジン−２−イル、１，３−ジチアン−２−イル、２−テトラヒドロピラニル、３−テトラヒドロピラニル、４−テトラヒドロピラニル、２−テトラヒドロチオピラニル、３−テトラヒドロチオピラニル、４−テトラヒドロチオピラニル、１，３−ジオキソラン−２−イル、３，４，５，６−テトラヒドロピリジン−２−イル、４Ｈ−１，３−チアジン−２−イル、４Ｈ−３，１−ベンゾチアジン−２−イル、１，１−ジオキソ−２，３，４，５−テトラヒドロチエン−２−イル、２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３−イル、２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３−イル、１，３−ジヒドロオキサジン−２−イル；
ヘテロアリール、及びヘテロアリールオキシのヘテロアリール基：炭素環員とは別に、１〜４個の窒素原子、又は１〜３個の窒素原子と１個の酸素又は硫黄原子、又は１個の酸素原子、又は１個の硫黄原子をさらに有していても良い芳香族の単環もしくは多環基、例えば、２−フリル、３−フリル、２−チエニル、３−チエニル、２−ピロリル、３−ピロリル、３−イソオキサゾリル、４−イソオキサゾリル、５−イソオキサゾリル、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、５−ピラゾリル、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，２，４−チアジアゾール−３−イル、１，２，４−チアジアゾール−５−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、２−ピリジニル、３−ピリジニル、４−ピリジニル、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、２−ピラジニル、１，３，５−トリアジン−２−イル、１，２，４−トリアジン−３−イル、１，２，４，５−テトラジン−３−イル、及び対応するベンゾ縮合誘導体。
【００６２】
全てのフェニル、ヘテロアリール及びヘテロシクリル環（複素環）は、非置換あるか、或いは１〜３個のハロゲン原子及び／又は１個又は２個の下記の基：ニトロ、シアノ、メチル、トリフルオロメチル、メトキシ、トリフルオロメトキシ又はメトキシカルボニルから選択される基を有することが好ましい。
【００６３】
本発明の式Ｉの化合物を除草剤として使用する観点から、上記記号が、それぞれ単独で又は組み合わせて下記の意味を有することが好ましい：
Ｒ¹がニトロ、ハロゲン、シアノ、チオシアナト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシＣ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、−ＯＲ³又は−Ｓ（Ｏ）_nＲ³を表し、特に好ましくは、ニトロ、ハロゲン（例えば、フッ素、塩素又は臭素）、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、−ＯＲ³、又は−ＳＯ₂Ｒ³を表し；
Ｒ²が水素、ニトロ、ハロゲン、シアノ、チオシアナト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシＣ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、−ＯＲ³又は−Ｓ（Ｏ）_nＲ³を表し、特に好ましくは、水素、ニトロ、ハロゲン（例えば、フッ素、塩素又は臭素）、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、−ＯＲ³又は−ＳＯ₂Ｒ³を表し；
Ｒ³が水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、フェニル又はフェニルＣ₁〜Ｃ₆アルキルを表し、特に好ましくは水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₃アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₃アルキニル又はフェニルを表し、且つ上述のアルキル基は部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又は１〜３個の下記の基：ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、Ｒ³、−ＯＲ³、−ＳＲ³、−Ｎ（Ｒ³）₂、＝ＮＯＲ³、−ＯＣＯＲ³、−ＳＣＯＲ³、−ＮＲ³ＣＯＲ³、−ＣＯ₂Ｒ³、−ＣＯＳＲ³、−ＣＯＮ（Ｒ³）₂、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルイミノオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシＣ₂〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルオキシ、フェニル、ベンジル、ヘテロアリール、フェノキシ、ベンジルオキシ及びヘテロアリールオキシ｛最後の８個の基は置換されていても良い｝を有していても良く、
さらにＲ³が水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、フェニル又はフェニルＣ₁〜Ｃ₆アルキルを表すことが好ましく、且つ上述のアルキル基は部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又は１〜３個の下記の基：ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、Ｒ³’、−ＯＲ³’、−ＳＲ³’、−Ｎ（Ｒ³’）₂、＝ＮＯＲ³’、−ＯＣＯＲ³’、−ＳＣＯＲ³’、−ＮＲ³’ＣＯＲ³’、−ＣＯ₂Ｒ³’、−ＣＯＳＲ³’、−ＣＯＮ（Ｒ³’）₂、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルイミノオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシＣ₂〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルスルホニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルオキシ、フェニル、ベンジル、ヘテロアリール、フェノキシ、ベンジルオキシ及びヘテロアリールオキシ｛最後の８個の基は置換されていても良い｝を有していても良く［但し、Ｒ³’は水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、フェニル又はフェニルＣ₁〜Ｃ₆アルキルを表す］；
ｎが０、１又は２、特に好ましくは０又は２を表し；
Ｘ¹が直鎖又は分岐Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレン鎖、Ｃ₂〜Ｃ₄アルケニレン鎖又はＣ₂〜Ｃ₄アルキニレン鎖、特に好ましくはエチレン、プロピレン、プロペニレン又はプロピニレン鎖｛これらの鎖は、酸素又は硫黄（好ましくは酸素）から選択されるヘテロ原子により遮断されている｝を表し、且つ上述のアルキレン、アルケニレン又はアルキニレン基は、部分的にハロゲン化されていても、及び／又は１〜３個の下記の基：−ＯＲ⁴、−ＯＣＯＲ⁴、−ＯＣＯＮＨＲ⁴又は−ＯＳＯ₂Ｒ⁴から選択される基を有していても良く；
Ｒ⁴が水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアアルキル、特に好ましくは水素、メチル、エチル又はトリフルオロメチルを表し；
Ｒ⁵が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシを表し、且つ上記アルキル基は、それぞれ１個以上の下記の基：シアノ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシで置換されていても良い。
【００６４】
Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹¹が、それぞれ水素又はＣ₁〜Ｃ₄アルキル、特に好ましくは水素、メチル又はエチルを表し；
Ｒ⁸が水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル又はＣ₃〜Ｃ₄シクロアルキル｛最後の２個の基は１〜３個の下記の基：ハロゲン、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ又はＣ₁〜Ｃ₄アルキルチオから選択される置換基を有していても良い｝を表し、或いは
テトラヒドロピラン−２−イル、テトラヒドロピラン−３−イル、テトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、テトラヒドロチオピラン−３−イル、テトラヒドロチオピラン−４−イル、１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキサン−２−イル、１，３−オキサチオラン−２−イル、１，３−オキサチアン−２−イル、１，３−ジチアン−２−イル又は１，３−ジチオラン−２−イル｛最後の６個の基は１〜３個のＣ₁〜Ｃ₄アルキル基を有していても良い｝、特に好ましくは水素、メチル、エチル、シクロプロピル、ジ（メトキシ）メチル、ジ（エトキシ）メチル、２−エチルチオプロピル、テトラヒドロピラン−２−イル、テトラヒドロピラン−３−イル、テトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、テトラヒドロチオピラン−３−イル、テトラヒドロチオピラン−４−イル、１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキサン−２−イル、５，５−ジメチル−１，３−ジオキサン−２−イル、１，３−オキサチオラン−２−イル、１，３−オキサチアン−２−イル、１，３−ジチオラン−２−イル、５，５−ジメチル−１，３−ジチアン−２−イル又は１−メチルチオシクロプロピルを表し；
Ｒ¹⁰が水素、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル又はＣ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、特に好ましくは水素、メチル又はメトキシカルボニルを表す。
【００６５】
同様に、Ｒ⁸とＲ¹¹が二重結合系発生の素になるπ結合を形成することが有利であろう。
【００６６】
或いは、ＣＲ⁸Ｒ⁹単位がＣ＝Ｏで置き換えられていることは有利であろう。
【００６７】
Ｒ¹がベンゼン環の２位に、そしてＲ²がベンゼン環の４位に結合する式Ｉａで表される化合物が特に好ましい。
【００６８】
【化１５】

以下の式Ｉａで表される化合物が最も好ましい。即ち、 置換基Ｒ¹、Ｒ²及びＱがそれぞれ上記と同義であり、 Ｘ¹が、１個の他の酸素原子を含むＣ₁〜Ｃ₂アルキレン鎖又はＣ₂アルケニレン鎖を表し、そして Ｈｅｔが、３〜６員、好ましくは５員又は６員の部分飽和若しくは完全飽和ヘテロシクリル基、又は下記の３個の群：即ち、窒素、酸素と少なくとも１個の窒素との組み合わせ、又は硫黄と少なくとも１個の窒素との組み合わせ、特に好ましくは以下の２個の群：即ち、窒素、又は酸素と少なくとも１個の窒素との組み合わせから選択される３個まで、特に好ましくは１個又は２個のヘテロ原子を有する、３〜６員、好ましくは５員又は６員のヘテロ芳香族基を表し、且つこのヘテロシクリル基又はヘテロ芳香族基は、部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又はＲ⁵で置換されていても良い。
【００６９】
さらに、以下の、本発明の式Ｉａで表される化合物が極めて最も好ましい。即ち、 置換基Ｒ¹、Ｒ²及びＸ¹がそれぞれ上記と同義であり、 Ｈｅｔが、５員又は６員の部分飽和若しくは完全飽和ヘテロシクリル基、又は下記の３個の群：即ち、窒素、酸素と少なくとも１個の窒素との組み合わせ、又は硫黄と少なくとも１個の窒素との組み合わせ、特に好ましくは以下の２個の群：即ち、窒素、又は酸素と少なくとも１個の窒素との組み合わせから選択される３個まで、特に好ましくは１個又は２個のヘテロ原子を有する、５員又は６員のヘテロ芳香族基、を表し、且つこのヘテロシクリル基又はヘテロ芳香族基は、部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又はＲ⁵で置換されていても良い。
【００７０】
下記の表１〜３６の化合物Ｉｂが特に好ましい。
【００７１】
【表１】

【表２】

【表３】

【表４】

【表５】

【表６】

【表７】

【表８】

【表９】

【表１０】

【表１１】

【表１２】

【表１３】

【表１４】

【表１５】

【表１６】

【表１７】

【表１８】

【表１９】

【表２０】

【表２１】

【表２２】

【表２３】

【表２４】

【表２５】

【表２６】

【表２７】

＊ ブリッジＸ¹は、左端に中心となるフェニル基があり、右端にＨｅｔがある位置で結合する。
【００７２】
下記の表１〜３６は、式Ｉｂで表される２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオンに基づくものである。
【００７３】
【化１６】

表１：化合物１．１〜１．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素であり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００７４】
表２：化合物２．１〜２．９２０
Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素であり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００７５】
表３：化合物３．１〜３．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素であり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００７６】
表４：化合物４．１〜４．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²が塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素であり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００７７】
表５：化合物５．１〜５．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素であり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００７８】
表６：化合物６．１〜６．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素であり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００７９】
表７：化合物７．１〜７．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００８０】
表８：化合物８．１〜８．９２０
Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００８１】
表９：化合物９．１〜９．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００８２】
表１０：化合物１０．１〜１０．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²が塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００８３】
表１１：化合物１１．１〜１１．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００８４】
表１２：化合物１２．１〜１２．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００８５】
表１３：化合物１３．１〜１３．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれ水素、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００８６】
表１４：化合物１４．１〜１４．９２０
Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれ水素、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００８７】
表１５：化合物１５．１〜１５．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれ水素、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００８８】
表１６：化合物１６．１〜１６．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²が塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれ水素、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００８９】
表１７：化合物１７．１〜１７．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれ水素、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００９０】
表１８：化合物１８．１〜１８．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹がそれぞれ水素、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００９１】
表１９：化合物１９．１〜１９．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルを表し、ＣＲ⁸Ｒ⁹単位が基Ｃ＝Ｏを形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００９２】
表２０：化合物２０．１〜２０．９２０
Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルを表し、ＣＲ⁸Ｒ⁹単位が基Ｃ＝Ｏを形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００９３】
表２１：化合物２１．１〜２１．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルを表し、ＣＲ⁸Ｒ⁹単位が基Ｃ＝Ｏを形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００９４】
表２２：化合物２２．１〜２２．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²が塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルを表し、ＣＲ⁸Ｒ⁹単位が基Ｃ＝Ｏを形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００９５】
表２３：化合物２３．１〜２３．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルを表し、ＣＲ⁸Ｒ⁹単位が基Ｃ＝Ｏを形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００９６】
表２４：化合物２４．１〜２４．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれメチルを表し、ＣＲ⁸Ｒ⁹単位が基Ｃ＝Ｏを形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００９７】
表２５：化合物２５．１〜２５．９２０
Ｒ¹がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁹がメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００９８】
表２６：化合物２６．１〜２６．９２０
Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁹がメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【００９９】
表２７：化合物２７．１〜２７．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁹がメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【０１００】
表２８：化合物２８．１〜２８．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²が塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁹がメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【０１０１】
表２９：化合物２９．１〜２９．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁹がメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【０１０２】
表３０：化合物３０．１〜３０．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹がそれぞれ水素、Ｒ⁹がメチルであり、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【０１０３】
表３１：化合物３１．１〜３１．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がそれぞれ水素を表し、Ｒ⁸とＲ¹¹が合体してメチレン基を形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【０１０４】
表３２：化合物３２．１〜３２．９２０
Ｒ¹及びＲ²がそれぞれ塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がそれぞれ水素を表し、Ｒ⁸とＲ¹¹が合体してメチレン基を形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【０１０５】
表３３：化合物３３．１〜３３．９２０
Ｒ¹が塩素、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がそれぞれ水素を表し、Ｒ⁸とＲ¹¹が合体してメチレン基を形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【０１０６】
表３４：化合物３４．１〜３４．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²が塩素、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がそれぞれ水素を表し、Ｒ⁸とＲ¹¹が合体してメチレン基を形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【０１０７】
表３５：化合物３５．１〜３５．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がメチルスルホニル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がそれぞれ水素を表し、Ｒ⁸とＲ¹¹が合体してメチレン基を形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【０１０８】
表３６：化合物３６．１〜３６．９２０
Ｒ¹がメチル、Ｒ²がトリフルオロメチル、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹及びＲ¹⁰がそれぞれ水素を表し、Ｒ⁸とＲ¹¹が合体してメチレン基を形成し、そして個々の化合物について、置換基Ｘ¹及びＨｅｔが表Ａの各行に対応する式Ｉｂで表される化合物。
【０１０９】
化合物Ｉ及びその農業上有用な塩は、異性体混合物、また純粋な異性体の形態で、除草剤として好適である。Ｉを含む除草剤組成物は、非栽培領域の植生の制御に、特に高い施与率で効果的である。これらの組成物は、オオムギ、米、トウモロコシ、大豆、及び綿花等の作物の中に広範囲に残った雑草及び牧草に対して、栽培植物に損傷を与えることなく作用する。この効果は、主に低施与率で観察される。
【０１１０】
施与方法の相違によるが、化合物Ｉ又はこれらを含む組成物は、更に多くの栽培植物に、望ましくない植物の除去のために使用することができる。適当な作物として以下のものを挙げることができる：
タマネギ（Ａｌｌｉｕｍ ｃｅｐａ）
パイナップル（Ａｎａｎａｓ ｃｏｍｏｓｕｓ）
ナンキンマメ（Ａｒａｃｈｉｓ ｈｙｐｏｇａｅａ）
アスパラガス（Ａｓｐａｒａｇｕｓ ｏｆｆｉｃｉｎａｌｉｓ）
フダンソウ（Ｂｅｔａ ｖｕｌｇａｒｉｓ ｓｐｐ．ａｌｔｉｓｓｉｍａ）
サトウジシヤ（Ｂｅｔａ ｖｕｌｇａｒｉｓ ｓｐｐ．ｒａｐａ）
アブラナ（変種カブラ）（Ｂｒａｓｓｉｃａ ｎａｐｕｓ ｖａｒ．ｎａｐｕｓ）
カブカンラン（変種ナポプラシーカ）（Ｂｒａｓｓｉｃａ ｎａｐｕｓ ｖａｒ．ｎａｐｏｂｒａｓｓｉｃａ）
テンサイ（変種シルベストリス）（Ｂｒａｓｓｉｃａ ｒａｐａ ｖａｒ．ｓｉｌｖｅｓｔｒｉｓ）
トウツバキ（Ｃａｍｅｌｌｉａ ｓｉｎｅｎｓｉｓ）
ベニバナ（Ｃａｒｔｈａｍｕｓ ｔｉｎｃｔｏｒｉｕｓ）
キヤリーヤイリノイネンシス（Ｃａｒｙａ ｉｌｌｉｎｏｉｎｅｎｓｉｓ）
レモン（Ｃｉｔｒｕｓ ｌｉｍｏｎ）
ナツミカン（Ｃｉｔｒｕｓ ｓｉｎｅｎｓｉｓ）
コーヒー〔Ｃｏｆｆｅａ ａｒａｂｉｃａ（Ｃｏｆｆｅａ ｃａｎｅｐｈｏｒａ、Ｃｏｆｆｅａ ｌｉｂｅｒｉｃａ）〕
キユウリ（Ｃｕｃｕｍｉｓ ｓａｔｉｖｕｓ）
ギヨウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎ ｄａｃｔｙｌｏｎ）
ニンジン（Ｄａｕｃｕｓ ｃａｒｏｔａ）
アブラヤシ（Ｅｌａｅｉｓ ｇｕｉｎｅｅｎｓｉｓ）
イチゴ（Ｆｒａｇａｒｉａ ｖｅｓｃａ）
大豆（Ｇｌｙｃｉｎｅ ｍａｘ）
木棉［Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ｈｉｒｓｕｔｕｍ（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ａｒｂｏｒｅｕｍ、Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ｈｅｒｂａｃｅｕｍ、 Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ｖｉｔｉｆｏｌｉｕｍ）］
ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ ａｎｎｕｕｓ）
ゴムノキ（Ｈｅｖｅａ ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）
大麦（Ｈｏｒｄｅｕｍ ｖｕｌｇａｒｅ）
カラハナソウ（Ｈｕｍｕｌｕｓ ｌｕｐｕｌｕｓ）
アメリカイモ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｂａｔａｔａｓ）
オニグルミ（Ｊｕｇｌａｎｓ ｒｅｇｉａ）
レンズマメ（Ｌｅｎｓ ｃｕｌｉｎａｒｉｓ）
アマ（Ｌｉｎｕｍ ｕｓｉｔａｔｉｓｓｉｍｕｍ）
トマト（Ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｏｎ ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｕｍ）
リンゴ属（Ｍａｌｕｓ ｓｐｅｃ．）
キヤツサバ（Ｍａｎｉｈｏｔ ｅｓｃｕｌｅｎｔａ）
ムラサキウマゴヤシ（Ｍｅｄｉｃａｇｏ ｓａｔｉｖａ）
バシヨウ属（Ｍｕｓａ ｓｐｅｃ．）
タバコ［Ｎｉｃｏｔｉａｎａ ｔａｂａｃｕｍ（Ｎ．ｒｕｓｔｉｃａ）］
オリーブ（Ｏｌｅａ ｅｕｒｏｐａｅａ）
イネ（Ｏｒｙｚａ ｓａｔｉｖａ）
アズキ（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ ｌｕｎａｔｕｓ）
ゴガツササゲ（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ ｖｕｌｇａｒｉｓ）
トウヒ（Ｐｉｃｅａ ａｂｉｅｓ）
マツ属（Ｐｉｎｕｓ ｓｐｅｃ．）
シロエンドウ（Ｐｉｓｕｍ ｓａｔｉｖｕｍ）
サクラ（Ｐｒｕｎｕｓ ａｖｉｕｍ）
モモ（Ｐｒｕｎｕｓ ｐｅｒｓｉｃａ）
ナシ（Ｐｙｒｕｓ ｃｏｍｍｕｎｉｓ）
スグリ（Ｒｉｂｅｓ ｓｙｌｖｅｓｔｒｅ）
トウゴマ（Ｒｉｃｉｎｕｓ ｃｏｍｍｕｎｉｓ）
サトウキビ（Ｓａｃｃｈａｒｕｍ ｏｆｆｉｃｉｎａｒｕｍ）
ライムギ（Ｓｅｃａｌｅ ｃｅｒｅａｌｅ）
ジャガイモ（Ｓｏｌａｎｕｍ ｔｕｂｅｒｏｓｕｍ）
モロコシ［Ｓｏｒｇｈｕｍ ｂｉｃｏｌｏｒ（ｓ．ｖｕｌｇａｒｅ）］
カカオ（Ｔｈｅｏｂｒｏｍａ ｃａｃａｏ）
ムラサキツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ ｐｒａｔｅｎｓｅ）
小麦（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ ａｅｓｔｉｖｕｍ）
トリテイカム、ドラム（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ ｄｕｒｕｍ）
ソラマメ（Ｖｉｃｉａ ｆａｂａ）
ブドウ（Ｖｉｔｉｓ ｖｉｎｉｆｅｒａ）
トウモロコシ（Ｚｅａ ｍａｙｓ）。
更に、遺伝子工学的方法を含む栽培の結果として除草剤の作用に耐性を有する農作物においても化合物Ｉを使用することができる。
【０１１１】
除草剤組成物又は有効成分は、事前法または事後法により施与される。有効成分にある種の栽培植物がほとんど耐性を示さない場合、下部に成長している望ましくない植物の葉又は露出している土壌には付着しても、敏感な栽培植物の葉にできるだけ接触しないように、噴霧装置により除草剤を噴霧することができる（後直接撒布、レイ−バイ）。
【０１１２】
化合物Ｉ又はこれらを含む除草剤組成物は、例えば直ぐに噴霧可能な水溶液、粉末、懸濁液、高濃度の水性、油性または他の懸濁液または分散液、エマルジョン、油性分散液、ペースト、ダスト剤、散布剤または顆粒の形で、噴霧、ミスト法、ダスト法、散布法または注入法によって施与することができる。施与方法は、使用目的に基づいて決定される。いずれの場合にも、本発明の有効物質の可能な限りの微細分配が保証されるべきである。
【０１１３】
好適な不活性添加剤としては、本質的に下記のものである：中位乃至高位の沸点の鉱油留分（例えば燈油またはディーゼル油、更にコールタール油等）、並びに植物性または動物性産出源の油、脂肪族、環式および芳香族炭化水素（例えばパラフィン、テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフタリン又はその誘導体、アルキル置換ベンゼン又はその誘導体）、アルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン（例えば、シクロヘキサノン）、高極性溶剤（例えば、Ｎ−メチルピロリドン等のアミン、水）。
【０１１４】
水性使用形態は、乳濁液濃縮物、懸濁液、ペースト、湿潤可能の粉末または水分散可能の粉末から水の添加により製造することができる。乳濁液、ペーストまたは油分散液の製造は、置換２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオンをそのまま、または油または溶剤中に溶解して、湿潤剤、粘着付与剤、分散剤または乳化剤により水中に均質に混合することにより行うことができる。或いは、有効物質、湿潤剤、粘着付与剤、分散剤または乳化剤、及び必要により溶剤又は油よりなる濃縮物を製造することもでき、これらは水にて希釈するのに適する。
【０１１５】
適当な界面活性剤としては次のものが挙げられる：芳香族スルホン酸（例えば、リグニンスルホン酸、フェノールスルホン酸、ナフタリンスルホン酸、ジブチルナフタリンスルホン酸）のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及びアンモニウム塩；脂肪酸、アルキルスルホナート、アルキルアリールスルホナート、アルキルスルファート、ラウリルエーテルスルファート及び脂肪アルコールスルファートのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及びアンモニウム塩；硫酸化ヘキサデカノール、ヘプタデカノールおよびオクタデカノールの塩；脂肪アルコールグリコールエーテルの塩；スルホン化ナフタリン及びその誘導体とホルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタリン或いはナフタリンスルホン酸とフェノール及びホルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、エトキシル化イソオクチルフェノール、エトキシル化オクチルフェノール、エトキシル化ノニルフェノール、アルキルフェニルポリグリコールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコールエーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、イソトリデシルアルコール、脂肪アルコール／エチレンオキシド縮合物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、またはポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ラウリルアルコールポリグリコールエーテルアセタート、ソルビットエステル、リグニン−亜硫酸廃液およびメチルセルロース。
【０１１６】
粉末、散布剤およびダスト剤は、有効物質と固体担体物質とを混合または一緒に磨砕することにより製造することができる。
【０１１７】
粒状体（例えば、被覆粒状体、含浸粒状体及び均質粒状体）は、有効物質を固体担体物質に結合させることにより製造することができる。固体担体物質の例としては、鉱物土（例えば、シリカ、シリカゲル、珪酸塩、タルク、カオリン、石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、クレイ、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化マグネシウム、磨砕合成物質）、肥料（例えば、硫酸アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素）及び植物性生成物（例えば、穀物粉、樹皮、木材およびクルミ穀粉、セルロース粉末）、又は他の固形担体物質である。
【０１１８】
直接使用可能な製剤の有効成分Ｉの濃度は、広い範囲で変更することができる。一般に、その処方は、少なくとも１種の有効成分を、０．００１〜９８重量％、好ましくは０．０１〜９５重量％の量で含む。有効成分は９０〜１００％の純度（ＮＭＲスペクトルによる）のもの、好ましくは９５〜１００％の純度のものが使用される。
【０１１９】
本発明の化合物Ｉの製造を、下記の調製例に示す：
Ｉ：２０重量部の化合物Ｉを、８０重量部のアルキル化ベンゼン、１０重量部の、オレイン酸Ｎ−モノエタノールアミド（１モル）のエチレンオキシド（８〜１０モル）付加体、５重量部のドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム及び５重量部の、ヒマシ油（１モル）のエチレンオキシド（４０モル）付加体からなる混合物に溶解させる。この溶液を１０００００重量部の水に注ぎ、その中で微細に分散させ、これにより０．０２重量％の有効成分を含む水性分散液を得る。
【０１２０】
ＩＩ：２０重量部の化合物Ｉを、４０重量部のシクロヘキサノン、３０重量部のイソブタノール、２０重量部の、イソオクチルフェノール（１モル）のエチレンオキシド（７モル）付加体及び１０重量部の、ヒマシ油（１モル）のエチレンオキシド（４０モル）付加体からなる混合物に溶解させる。この溶液を１０００００重量部の水に注ぎ、その中で微細に分散させ、これにより０．０２重量％の有効成分を含む水性分散液を得る。
【０１２１】
ＩＩＩ：２０重量部の化合物Ｉを、２５重量部のシクロヘキサノン、６５重量部の鉱物油（沸点２１０〜２８０℃の留分）及び１０重量部の、ヒマシ油（１モル）のエチレンオキシド（４０モル）付加体からなる混合物に溶解させる。この溶液を１０００００重量部の水に注ぎ、その中で微細に分散させ、これにより０．０２重量％の有効成分を含む水性分散液を得る。
【０１２２】
ＩＶ：２０重量部の化合物Ｉを、３重量部のジイソブチルナフタリンスルホン酸ナトリウム、１７重量部のリグノスルホン酸のナトリウム塩（亜硫酸廃液から得られる）及び６０重量部の微粉末のシリカゲルと完全に混合させ、そしてその混合物をハンマーミルで磨砕する。最後に、この混合物を２００００重量部の水に分散させ、これにより０．１重量％の有効成分を含む噴霧混合物を得る。
【０１２３】
Ｖ：３重量部の化合物Ｉを、９７重量部の微粉砕カオリンと混合し、これにより３重量％の有効成分を含むダストを得る。
【０１２４】
ＶＩ：２０重量部の化合物Ｉを、２重量部のドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム、８重量部の脂肪アルコールポリグリコールエーテル、２重量部のフェノール／尿素／ホルムアルデヒド縮合物のナトリウム塩及び６８重量部のパラフィン鉱物油とまず充分に混合させ、これにより安定な油性分散液を得る。
【０１２５】
ＶＩＩ：１重量部の化合物Ｉを、７０重量部のシクロヘキサノン、２０重量部のエトキシル化イソオクチルフェノール及び１０重量部のエトキシル化ヒマシ油からなる混合物に溶解させ、これにより安定なエマルジョン濃縮体を得る。
【０１２６】
ＶＩＩＩ：１重量部の化合物Ｉを、８０重量部のシクロヘキサノン及び２０重量部のウエットール（登録商標）ＥＭ３１(Wettol^R EM31;エトキシ化ひまし油を基礎とする非イオン乳化剤）からなる混合物に溶解させ、これにより安定なエマルジョン濃縮体を得る。
【０１２７】
作用範囲を広げ、そして相乗作用を得るために、置換２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオンＩは、多くの他の代表的なグループの除草剤又は成長調整剤の有効成分と混合することができ、そしてこれらと共に施与することができる。混合に適当な成分としては、例えば１，２，４−チアジアゾール、１，３，４−チアジアゾール、アミド、アミノホスホン酸及びその誘導体、アミノトリアゾール、アニリド、アリール／ヘテロアリールオキシアルカン酸及びその誘導体、安息香酸及びその誘導体、ベンゾチアジアジノン、２−アロイル−１，３−シクロヘキサンジオン、ヘテロアリールアリールケトン、ベンジルイソオキサゾリジノン、メタ−ＣＦ₃−フェニル誘導体、カルバメート、キノリンカルボン酸及びその誘導体、クロロアセトアニリド、シクロヘキサン−１，３−ジオン誘導体、ジアジン、ジクロロプロピオン酸及びその誘導体、ジヒドロベンゾフラン、ジヒドロフラン−３−オン、ジニトロアニリン、ジニトロフェノール、ジフェニルエーテル、ジピリジル、ハロカルボン酸及びその誘導体、尿素、３−フェニルウラシル、イミダゾール、イミダゾリノン、Ｎ−フェニル−３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミド、オキサジアゾール、オキシラン、フェノール、アリールオキシ−又はヘテロアリールオキシ−フェノキシプロピオン酸エステル、フェニル酢酸及びその誘導体、フェニルプロピオン酸及びその誘導体、ピラゾール、フェニルピラゾール、ピリダジン、ピリジンカルボン酸及びその誘導体、ピリミジルエーテル、スルホンアミド、スルホニル尿素、トリアジン、トリアジノン、トリアジノン、トリアゾールカルボキシアミド及びウラシル、を挙げることができる。
【０１２８】
さらに化合物Ｉは、単一、あるいは他の除草剤との組合せたものを、他の栽培植物保護剤、例えば殺虫剤または植物殺菌剤または殺バクテリア剤と共に施与することが有利であり得る。苗栄養不足、希元素欠乏などの症状治癒のために使用されるミネラル塩溶液と混合し得ることことも重要である。植物に無害の油類、油濃縮物類も添加し得る。
【０１２９】
有効化合物（物質）の施与率は、施与目的、季節、対象の植物および成長段階に応じて、１ヘクタールあたり０．００１〜３．０ｋｇの有効物質（ａ．ｓ．）の量、好ましくは０．０１〜１．０ｋｇの量である。
【０１３０】
出発材料と生成物の幾つかの合成を、以下に記載する。
【０１３１】
｛２−クロロ−３−［（１−メチルピラゾール−５−イル）オキシメチル］−４−メチルスルホニルフェニル｝｛５，５−ジメチル−１，３−ジオキソ−シクロヘキサ−２−イル｝メタノン
工程ａ：２−クロロ−３−ブロモメチル−４−メチルスルホニル安息香酸メチル
８０ｇ（０．３モル）の２−クロロ−３−メチル−４−メチルスルホニル安息香酸メチル、５４ｇ（０．３１モル）のＮ−ブロモスクシンイミド及び１．５ｇのアゾイソブチロニトリルを、７６℃で６時間撹拌した。反応混合物をろ過し、そして減圧下に溶剤を除去した。収量：１０４ｇ；融点：８３〜８５℃。
【０１３２】
工程ｂ：２−クロロ−［（１−メチルピラゾール−５−イル）オキシメチル］−４−メチルスルホニル安息香酸メチル
４．３ｇ（４４ミリモル）の１−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、９．１ｇの炭酸カリウム及び１００ｍｌのテトラヒドロフランを、６５℃で１時間加熱した。この混合物に、１５ｇ（４４ミリモル）の２−クロロ−３−ブロモメチル−４−メチルスルホニル安息香酸メチル及び１５０ｍｌのテトラヒドロフランを添加し、４０℃で４時間加熱した。この混合物を、１２時間撹拌し、減圧下に溶剤を除去し、酢酸エチルに溶解し、炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄し、乾燥し、そして溶剤を除去した。粗生成物を、シリカゲル上で精製した（溶離液：シクロヘキサン／酢酸エチル＝１／１）。収量：７．６ｇ；融点７０℃。
【０１３３】
工程ｃ：２−クロロ−［（１−メチルピラゾール−５−イル）オキシメチル］−４−メチルスルホニル安息香酸
３０ｍｌのテトラヒドロフランと３０ｍｌの水との混合物中の、６．９５ｇ（１９ミリモル）の２−クロロ−［（１−メチルピラゾール−５−イル）オキシメチル］−４−メチルスルホニル安息香酸メチルを、０．９３ｇの水酸化リチウムを用いて室温で１２時間処理した。１０％濃度塩酸を用いて反応混合物のｐＨを４に調整し、塩化メチレンで抽出した。有機層を乾燥し、溶剤を除去した。収量：４．３ｇ；融点１９７℃。
【０１３４】
工程ｄ：｛２−クロロ−３−［（１−メチルピラゾール−５−イル）オキシメチル］−４−メチルスルホニルフェニル｝｛５，５−ジメチル−１，３−ジオキソ−シクロヘキサ−２−イル｝メタノン
５０ｍｌのアセトニトリル中の、１．０ｇ（２．９ミリモル）の２−クロロ−３−［（１−メチルピラゾール−５−イル）オキシメチル］−４−メチルスルホニル安息香酸、０．４ｇ（２．９ミリモル）のジメドン及び０．７２ｇのＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミドを、４０℃で４時間加熱した。反応混合物を室温で１２時間撹拌させた後、０．８７ｇのトリエチルアミン及び０．５７ｇのトリメチルシリルニトリルを添加した。その後、反応混合物を４０℃で６時間加熱し、ろ過し、減圧下に溶剤を除去し、そして残留物をシリカゲル上で精製した（溶離液：トルエン／テトラヒドロフラン／酢酸：１００／０／０〜４／１／０．１）。収量：０．２５ｇ；融点８２℃。
【０１３５】
【表２８】

【０１３６】
［使用実施例］
式Ｉで表される置換２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオンの除草作用を下記の温室実験で示した。
【０１３７】
プラスチック植木鉢を栽培容器として用い、約３．０％の腐葉土を含むローム質砂を培養基とした。被検植物の種子を種類ごとに播種した。
【０１３８】
事前法(pre-emergence treatment)により、水中に懸濁または乳化させた有効成分を、種子を撒いた後に微細散布ノズルを使用して直接撒布した。出芽と成長を促進させるために容器を軽く灌水し、次いで植物が根付くまで透明のプラスチックの覆いを被せた。有効成分により害が与えられない限り、この被覆が被検植物の均一な出芽をもたらす。
【０１３９】
事後法(post-emergence treatment)により、被検植物を、発育型によるが、草丈３〜１５ｃｍとなった後、水中に懸濁または乳化させた有効成分で処理することのみを行った。この目的のため、被検植物を直接播種し同一の容器で栽培することも、当初は別々に苗として植え、処理の行われる２〜３日前に試験用容器に移植することも可能である。
【０１４０】
各被検植物を種類により、１０〜２５℃または２０〜３５℃に保持し、実験期間を２〜４週間とした。この間、被検植物を管理し、個々の処理に対する反応を評価した。
【０１４１】
０〜１００の尺度を用いて評価を行った。この尺度において１００は植物が全く出芽しないか、或いは少なくとも地上に出ている部分の全てが破壊してしまったことを示し、０は全く被害がなく正常な成長を遂げたことを示す。

Claims (4)

1. 式Ｉａ
   

   

   ［但し、Ｒ¹が、ニトロ、ハロゲン、シアノ、チオシアナト、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシＣ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキニル、−ＯＲ³又は−Ｓ（Ｏ）_nＲ³を表し、
   Ｒ²が、水素、又はハロゲン以外のＲ¹で述べた基の１個を表し、
   Ｒ³が水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルを表し、
   ｎが１又は２を表し、
   Ｑが２位に結合する式ＩＩ
   

   

   ［但し、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が、それぞれ水素又はＣ₁〜Ｃ₄アルキルを表し、上記ＣＲ⁸Ｒ⁹単位が、Ｃ＝Ｏで置き換わっていても良い］
   で表されるシクロヘキサン−１，３−ジオン環を表し、
   Ｘ¹が酸素により中断された、直鎖又は分岐のＣ_２〜Ｃ_６アルキレン鎖、Ｃ₂〜Ｃ_６アルケニレン鎖、またはＣ₂〜Ｃ_６アルキニレン鎖、或いは−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_２Ｏ−又は−Ｃ≡ＣＣＨ_２Ｏ−を表し、
   Ｈｅｔが、
   窒素、酸素及び硫黄から選択される１〜３個のヘテロ原子を有する、３〜６員の部分飽和若しくは完全飽和ヘテロシクリル基、又は
   下記の３個の群：窒素、酸素と少なくとも１個の窒素との組み合わせ、又は硫黄と少なくとも１個の窒素との組み合わせから選択されるヘテロ原子を３個まで有する、３〜６員のヘテロ芳香族基、を表し、且つ上述のヘテロシクリル基又はヘテロ芳香族基は、部分的に又は完全にハロゲン化されていても、及び／又はＲ⁵で置換されていても良く、
   Ｒ⁵が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシを表し、且つ上記アルキル基は、それぞれ１個以上の下記の基：シアノ、ホルミル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄ジアルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₄ハロアルコキシで置換されていても良い］
   で表される２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオン又はその農業上有用な塩。
2. Ｘ¹が酸素で遮断されているＣ_２〜Ｃ₃アルキレン鎖、Ｃ₂〜Ｃ₃アルケニレン鎖又はＣ₂〜Ｃ₃アルキニレン鎖、或いは−ＯＣＨ_２−または−ＣＨ_２Ｏ−を表す、請求項１に記載の式Ｉａで表される２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオン。
3. Ｈｅｔが、
   窒素、酸素及び硫黄から選択される１〜３個のヘテロ原子を有する、５員若しくは６員の部分飽和若しくは完全飽和ヘテロシクリル基、又は
   下記の３個の群：窒素、酸素と少なくとも１個の窒素との組み合わせ、又は硫黄と少なくとも１個の窒素との組み合わせから選択されるヘテロ原子を３個まで有する、５員若しくは６員のヘテロ芳香族基、を表す請求項１又は２に記載の式Ｉａで表される２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオン。
4. 請求項１〜３のいずれかに記載の式Ｉａで表される２−ベンゾイルシクロヘキサン−１，３−ジオンの製造方法であって、 置換又は非置換のシクロヘキサン−１，３−ジオンＱを、カルボン酸ＩＩＩｂ’
   

   

   ［但し、置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｘ¹及びＨｅｔが、それぞれ請求項１と同義である］
   でアシル化し、適宜触媒の存在下に、アシル化生成物を転位させて化合物Ｉａを得ることを特徴とする製造方法。