JP4413674B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
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Description
本発明は、半導体メモリ装置に関するもので、特に、フラッシュメモリの高速読み出し時におけるデータ線の充電動作に関する。 The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a data line charging operation during high-speed reading of a flash memory.
近年、フラッシュメモリにおいては、高速読み出しのための各種の方法が模索されている(たとえば、特許文献1参照)。 In recent years, in flash memories, various methods for high-speed reading have been sought (for example, see Patent Document 1).
その1つに、たとえば、リファレンスセルの閾値(電流)を、本体セルの、“1”データを記憶するオンセルの閾値(電流)と“0”データを記憶するオフセルの閾値(電流)のほぼ中間に設定する。また、本体セルおよびリファレンスセルの各データ線に容量等価性を持たせるとともに、各データ線を同じ能力のセンスアンプ(S/A)負荷を用いて充電する。これにより、本体セルのデータ線の電位が、オンセルおよびオフセルに対応した充電の平衡状態に達する前(過渡状態)でも、データの確定を可能にした方法が知られている。 For example, for example, the threshold value (current) of the reference cell is approximately halfway between the threshold value (current) of the on-cell storing “1” data and the threshold value (current) of off-cell storing “0” data. Set to. In addition, each data line of the main body cell and the reference cell is given capacitance equivalence, and each data line is charged using a sense amplifier (S / A) load having the same capability. As a result, a method is known in which data can be determined even before the potential of the data line of the main cell reaches an equilibrium state of charge corresponding to the on-cell and off-cell (transient state).
しかしながら、上記した方法の場合、リファレンスセルのデータ線にダミー容量を付加することで、本体セルおよびリファレンスセルの各データ線に発生する容量に等価性を持たせるものであった。また、フラッシュメモリの場合、バンクの構成が多様化・大容量化するにつれて、本体セルのデータ線に発生する容量も多様化および増加してきた。そのため、本体セルのデータ線に発生する容量の多様化や増加にともなって、リファレンスセルのデータ線に付加するダミー容量が増大するという問題があった。 However, in the case of the above-described method, by adding a dummy capacitor to the data line of the reference cell, the capacitance generated in each data line of the main body cell and the reference cell is made equivalent. In the case of a flash memory, as the bank configuration is diversified and the capacity is increased, the capacity generated in the data line of the main body cell is also diversified and increased. For this reason, there is a problem that the dummy capacity added to the data line of the reference cell increases with the diversification and increase of the capacity generated in the data line of the main body cell.
上記したように、高速読み出しを可能とするために、本体セルのデータ線の容量に応じて、リファレンスセルのデータ線にダミー容量を付加する場合、本体セルのデータ線に発生する容量の多様化および増加にともなって、リファレンスセルのデータ線に付加するダミー容量が増大するという問題があった。
本発明は、本体セルのデータ線に発生する容量の多様化および増加に対してもデータ線の充電等価性を保存したまま、リファレンスセルのデータ線に付加するダミー容量が増大するのを抑制でき、高速読み出しが可能な半導体メモリ装置を提供する。 The present invention can suppress an increase in the dummy capacitance added to the data line of the reference cell while maintaining the charge equivalence of the data line against the diversification and increase of the capacity generated in the data line of the main body cell. , that provides memory device capable of high-speed reading.
本願発明の一態様によれば、センスアンプ回路と、前記センスアンプ回路の第1のセンス端子に接続された第1のデータ線と、前記第1のデータ線を充電する第1のセンスアンプ負荷と、前記センスアンプ回路の第2のセンス端子に接続されたリファレンス用の第2のデータ線と、前記第2のデータ線を充電する第2のセンスアンプ負荷とを具備し、前記第1のデータ線の容量と前記第2のデータ線の容量との差に応じて、前記第1のセンスアンプ負荷と前記第2のセンスアンプ負荷とに能力差を設け、前記第1のセンスアンプ負荷および前記第2のセンスアンプ負荷は、能力が同じ第1の充電負荷と、前記第1の充電負荷とは能力が異なる第2の充電負荷とをそれぞれ有し、前記第1,第2のデータ線の充電平衡状態到達時には前記第1の充電負荷によって、前記第1,第2のデータ線を充電し、前記充電平衡状態に到達するまでの充電過渡期には前記第1,第2の充電負荷によって、前記第1,第2のデータ線を急速充電する半導体メモリ装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, a sense amplifier circuit, a first data line connected to a first sense terminal of the sense amplifier circuit, and a first sense amplifier load that charges the first data line And a second data line for reference connected to the second sense terminal of the sense amplifier circuit, and a second sense amplifier load for charging the second data line, A capacity difference is provided between the first sense amplifier load and the second sense amplifier load according to the difference between the capacity of the data line and the capacity of the second data line, and the first sense amplifier load and The second sense amplifier load includes a first charging load having the same capability and a second charging load having a capability different from that of the first charging load, and the first and second data lines. When the charge equilibrium state is reached, the first The first and second data lines are charged by the first and second charging loads during a charging transition period until the first and second data lines are charged by the electric load and the charging equilibrium state is reached. A semiconductor memory device for rapidly charging a line is provided.
この発明によれば、本体セルのデータ線およびリファレンスセルのデータ線をそれぞれ最適な充電負荷により充電できるようになる結果、本体セルのデータ線に発生する容量の多様化および増加に対してもデータ線の充電等価性を保存したまま、リファレンスセルのデータ線に付加するダミー容量が増大するのを抑制でき、高速読み出しが可能な半導体メモリ装置を提供できる。 According to the present invention, the data line of the main body cell and the data line of the reference cell can be charged with the optimum charging load, respectively. It is possible to provide a semiconductor memory device that can suppress an increase in the dummy capacitance added to the data line of the reference cell while preserving the charge equivalence of the line and can perform high-speed reading.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[第1の実施形態]
図1は、この発明の第1の実施形態にしたがった、半導体メモリ装置の基本構成を示すものである。ここでは、半導体メモリ装置の一例として、入出力データを電気的に一括消去可能なフラッシュメモリ(たとえば、DINOR型8Mビット・フラッシュメモリ)を例に説明する。
[First Embodiment]
FIG. 1 shows a basic configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. Here, as an example of a semiconductor memory device, a flash memory (for example, a DINOR type 8M bit flash memory) capable of electrically erasing input / output data at once will be described.
図1において、メモリセルアレイ11は複数のブロック12を有している。各ブロック12は、入出力データを一括消去する際の最小単位となっている。上記各ブロック12は、本体セル領域12aとリダンダンシーセル領域12bとを有している。上記本体セル領域12aには、入出力データを記憶する複数のメモリセル(本体セル)MCが設けられている。上記各メモリセルMCは、ワード線WLとビット線BLとの各交点にそれぞれ配置されている。上記リダンダンシーセル領域12bには、そのブロック12内における不良セル(×MC)を置換するための複数のリダンダンシー用セルRMCが設けられている。上記各リダンダンシー用セルRMCは、上記ワード線WLとリダンダンシー用のビット線RBLとの各交点にそれぞれ配置されている。なお、上記複数のメモリセルMCおよび上記複数のリダンダンシー用セルRMCは、いずれも2層ゲート構造の絶縁ゲート型電界効果トランジスタにより構成されている。
In FIG. 1, the memory cell array 11 has a plurality of
本実施形態の場合、ブロック12ごとに、1乃至複数本のリダンダンシー用ビット線RBLが設けられている。ブロック12内の不良セル(×MC)は、ビット線BL単位で、リダンダンシー用セルRMCと置換される。これにより、メモリセルアレイ11における欠陥救済が行われる。そして、この欠陥救済にともなう不良アドレス情報は、たとえば、上記メモリセルアレイ11内の特定のメモリセルまたは上記メモリセルアレイ11とは別の不揮発性メモリやヒューズによって保持される。
In the present embodiment, one to a plurality of redundancy bit lines RBL are provided for each
また、後述するように、上記ビット線BLおよび上記リダンダンシー用ビット線RBLは、それぞれ、ゲート部21内のカラムゲート21a,21bを介して、データ線DL,RDLに接続されている。上記データ線DL,RDLは、各ブロック12に共通に設けられたセンスアンプ部23に接続されている。
As will be described later, the bit line BL and the redundancy bit line RBL are connected to the data lines DL and RDL via the
アドレスデータA0〜A7が入力されるYアドレス・バッファ25には、Y(行)デコーダ27がそれぞれ接続されている。上記Yデコーダ27には、上記ゲート部21がそれぞれ接続されている。一方、アドレスデータA8〜A18が入力されるXアドレス・バッファ29には、X(列)デコーダ31がそれぞれ接続されている。上記Xデコーダ31には、それぞれ、上記各ブロック12のワード線WLが接続されている。
A Y (row)
また、入出力データI/O0〜I/O15および上記アドレスデータA1が入出力される入出力バッファ33には、マルチプレクサ35が接続されている。上記マルチプレクサ35には、ステータス/IDレジスタ37、ライト・ステート・マシン(WSM)39および上記センスアンプ部23が接続されている。上記WSM39には、コマンド・ユーザ・インターフェース(CUI)41が接続されている。上記CUI41には、たとえば、チップイネーブル信号/CE、アウトプットイネーブル信号/OE、および、ライトイネーブル信号/WEのほか、各種の制御信号/WP,/RP,/BYTEなどが入力される。また、上記WSM39には、たとえば、レディ/ビジィ信号RDY・/Busyが入力される。
A
ここで、欠陥救済にともなうRD置換の方法について説明する。たとえば、リダンダンシー用ビット線RBLの本数を「2」とした場合の例である。アクセスを律束しないために、通常のリード動作時には、常に、センスアンプ部23によって、メモリセルMCのデータ(16・I/O分)とリダンダンシー用セルRMCのデータ(2・I/O分)とがほぼ同時に読み出される。こうして、18・I/O分のデータを読み出した後において、入力されたアドレスデータA0〜A7のいずれかが、チップ内で記憶している不良アドレス情報と一致したとする。すると、マルチプレクサ35によって、不良セルのデータとリダンダンシー用セルRMCのデータとの置換が行われ、16・I/O分の入出力データとして入出力バッファ33より出力される。
Here, a method of RD replacement accompanying defect repair will be described. For example, the number of redundancy bit lines RBL is “2”. In order not to restrict access, the data of the memory cell MC (for 16 · I / O) and the data of the redundancy cell RMC (for 2 · I / O) are always performed by the
図2は、上記センスアンプ部23の構成例を示すものである。ここでは、本体側のデータ線DLの容量(寄生容量)を3C、リファレンス(Ref)側のデータ線Ref−DLの容量をCとし、メモリセルMCおよびリファレンスセルRef−Cのデータ線容量に等価性を持たせるのではなく、データ線容量に応じた能力を有するセンスアンプ負荷23a,23bによって本体データ線DLおよびRefデータ線Ref−DLをそれぞれ充電することにより、データ線の充電等価性は保存したまま、リファレンス用のダミー容量を削減するようにした場合について説明する。
FIG. 2 shows a configuration example of the
ここで、上記センスアンプ部23は、たとえば図3に示すように、リファレンスセルRef−Cの閾値(電流)Referenceを、メモリセルMCの、“1”データを記憶するオン(ON)セルの閾値(電流)と“0”データを記憶するオフ(OFF)セルの閾値(電流)のほぼ中間に設定する。また、メモリセルMCおよびリファレンスセルRef−Cにつながる各データ線DL,Ref−DLを、それぞれの容量(3C:C)に応じた能力のセンスアンプ(S/A)負荷23a,23bを用いて充電する。これにより、本体データ線DLの電位が、オンセルおよびオフセルに対応した充電の平衡状態に達する前(過渡状態)でも、データの確定が可能、つまり、高速読み出しが可能になる。
Here, for example, as shown in FIG. 3, the
すなわち、上記センスアンプ部23は、たとえば図2に示すように、センスアンプ回路S/Aと本体センスアンプ負荷23aとRefセンスアンプ負荷23bとラッチ回路23cとを有して構成されている。本実施形態の場合、上記本体センスアンプ負荷23aはpチャネル型MOSトランジスタからなり、本体データ線DLの容量(3C)に応じて、3Isaの充電能力を有している。上記本体センスアンプ負荷23aは、上記本体データ線DLに接続されるとともに、たとえば、上記センスアンプ回路S/Aの非反転入力端(第1のセンス端子)につながる本体センス線SLに接続されている。一方、上記Refセンスアンプ負荷23bはpチャネル型MOSトランジスタからなり、Refデータ線Ref−DLの容量(C)に応じて、Isaの充電能力を有している。上記Refセンスアンプ負荷23bは、上記Refデータ線Ref−DLに接続されるとともに、たとえば、上記センスアンプ回路S/Aの反転入力端(第2のセンス端子)につながるRefセンス線Ref−SLに接続されている。上記センスアンプ回路S/Aの出力端は、上記ラッチ回路23cを介して、上記マルチプレクサ35に接続されている。
That is, the
このように、たとえばメモリセルMCにつながる本体データ線DLの容量が、リファレンスセルRef−CにつながるRefデータ線Ref−DLの容量の3倍だとすると、Refデータ線Ref−DLを充電する負荷23bの、その3倍の能力を有する負荷23aで本体データ線DLを充電する。これにより、本体データ線DLの容量に応じて、リファレンス用のダミー容量を増大させることなしに、データ線の充電等価性は保存したまま、高速読み出しを実現できる。
Thus, for example, if the capacity of the main body data line DL connected to the memory cell MC is three times the capacity of the Ref data line Ref-DL connected to the reference cell Ref-C, the
図4は、図2に示した構成のセンスアンプ部23における本体側の動作点(セル電流Idとセンス電圧Vsaとの関係)を示すものである。この図からも明らかなように、本体センスアンプ負荷23aの負荷特性(能力)をRefセンスアンプ負荷23bの負荷特性の3倍にした場合、オフセル“0”側の本体センス線SLの到達電位(Vsa“0”=Vcc−Vthp(Vthpは上記pチャネル型MOSトランジスタの閾値電圧))は変化しない。これに対し、オンセル“1”側の本体センス線SLの到達電位(Vsa“1”3倍)は、本体センスアンプ負荷23aの負荷特性をRefセンスアンプ負荷23bの負荷特性と同じにした場合(Vsa“1”)に比べて高くなる(4a>4b)。
FIG. 4 shows operating points (relationship between the cell current Id and the sense voltage Vsa) on the main body side in the
上記したように、本体データ線DLの容量に応じて、本体データ線DLとRefデータ線Ref−DLとをそれぞれ異なった能力の負荷23a,23bで充電動作させるようにしている。つまり、メモリセルMCの本体データ線DLおよびリファレンスセルRef−CのRefデータ線Ref−DLを、それぞれの容量に応じた最適な充電負荷(23a,23b)により充電できるようにしている。これにより、本体データ線DLに発生する容量の多様化および増加に対してもデータ線の充電等価性は保存したまま、容量の増加にともなってRefデータ線Ref−DLに付加するダミー容量が増大するのを抑制でき、高速読み出しが可能となるものである。
As described above, according to the capacity of the main body data line DL, the main body data line DL and the Ref data line Ref-DL are charged with the
しかも、ダミー容量の増大を抑制できるようになる結果、チップ面積を小さくすることが可能となる。 Moreover, as a result of suppressing the increase in dummy capacitance, the chip area can be reduced.
[第2の実施形態]
図5は、この発明の第2の実施形態にしたがった、センスアンプ部23Aの構成例を示すものである。ここでは、上述した第1の実施形態における、センスマージン(対ノイズ特性)の悪化を改善するようにした場合の例(急速充電)について説明する。なお、図2と同一部分には同一符号を付し、詳しい説明は割愛する。
[Second Embodiment]
FIG. 5 shows a configuration example of the
すなわち、上記第1の実施形態において、たとえば図4に示したように、オフセル“0”側の本体センス線SLの到達電位(Vcc−Vthp)は変化しないのに、オンセル“1”側の本体センス線SLの到達電位が、センスアンプ負荷を同じサイズ(負荷特性)とした場合に比べて高くなるということは、到達電位の振幅差(d)が減少するということである。この振幅差(d)の減少は、センスマージン・対ノイズ特性を悪化させる。 That is, in the first embodiment, as shown in FIG. 4, for example, the ultimate potential (Vcc−Vthp) of the main body sense line SL on the off cell “0” side does not change, but the main body on the on cell “1” side. The arrival potential of the sense line SL is higher than that when the sense amplifier load has the same size (load characteristic), which means that the amplitude difference (d) of the arrival potential is reduced. This decrease in the amplitude difference (d) deteriorates the sense margin / noise characteristic.
そこで、本実施形態においては、たとえば図5に示すように、本体センスアンプ負荷23a’およびRefセンスアンプ負荷23b’とは別に、急速充電負荷23e,23fと急速充電負荷制御スイッチ23g,23hとを設ける。その際、上記本体センスアンプ負荷23a’および上記Refセンスアンプ負荷23b’の能力は、本体側とリファレンス側とで同じにする(Isa)。一方、上記急速充電負荷23e,23fは、本体データ線DLとRefデータ線Ref−DLとの容量差に応じて能力を異ならせる(Iacc1>Iacc2)。つまり、本体データ線DLの容量を3Cとし、Refデータ線Ref−DLの容量をCとした場合、本体側の、上記本体センスアンプ負荷23a’と上記急速充電負荷23eとの負荷特性(負荷電流供給能力)の総和(Iacc1+Isa)が、リファレンス側の、上記Refセンスアンプ負荷23b’と上記急速充電負荷23fとの負荷電流供給能力の総和(Iacc2+Isa)の3倍になるように設定される。
Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 5, for example, the quick charge loads 23e and 23f and the quick charge
このような構成において、充電動作の初期時には、上記急速充電負荷制御スイッチ23gをオンし、上記急速充電負荷23eと上記本体センスアンプ負荷23a’との両方を用いて、上記本体データ線DLを急速充電する。同様に、上記急速充電負荷制御スイッチ23hをオンし、上記急速充電負荷23fと上記Refセンスアンプ負荷23b’との両方を用いて、上記Refデータ線Ref−DLを急速充電する。こうして、過渡状態においては、データ線充電等価性を保存しつつ、過渡状態から平衡状態に達するところで、上記急速充電負荷制御スイッチ23g,23hをオフする。これにより、高速読み出し時において、上記本体センス線SLの最終到達電位の振幅差(d)が減少するのを抑制でき、センスマージン・対ノイズ特性が悪化するのを改善することが可能となる。
In such a configuration, at the initial stage of the charging operation, the quick charge
[第3の実施形態]
図6は、この発明の第3の実施形態にしたがった、センスアンプ部23Bの基本構成を示すものである。ここでは、読み出すバンク(Bank)に起因するデータ線の容量の変化に応じて、急速充電負荷を切り換えるようにした場合の例について説明する。なお、同図(a)はセンスアンプ部23Bの構成例を示すものであり、同図(b)はBankデコード回路の構成例を示すものであり、図5と同一部分には同一符号を付し、詳しい説明は割愛する。
[Third Embodiment]
FIG. 6 shows a basic configuration of the
ここで、フラッシュメモリにおいては、書き込み・消去動作中にリード動作を行う機能(同時実行機能)を実現させるために、たとえば図7に示すように、複数のメモリセルMCを含む1乃至複数のブロック12からなる複数のバンク13が構成されている。そして、そのバンク13ごとに、書き込み・消去用あるいは読み出し用のアドレス(Address)、データ線、および、電源をデコードする方式が用いられている。
Here, in the flash memory, in order to realize a function (simultaneous execution function) of performing a read operation during a write / erase operation, for example, as shown in FIG. 7, one to a plurality of blocks including a plurality of memory cells MC A plurality of 12
上記バンク13は、たとえば図7にBank0,1,2,3で示すように、データ線のの容量が必ずしも同じではない(この例の場合、1:3:3:1)。また、バンク13と上記センスアンプ部23Bとの位置関係が物理的に近いのか遠いのかによっても、本体側に発生するデータ線DLの容量は変化する。
In the
そこで、本実施形態では、たとえば図6(a)に示すように、Bank0/3に発生するデータ線DLの容量(2C)に対して最適な負荷特性(Iacc1,Iacc2)を有する急速充電負荷23e,23fと、これとは能力の異なる、Bank1/2に発生するデータ線DLの容量(3C)に対して最適な負荷特性(Iacc1’,Iacc2’)を有する急速充電負荷23i,23jおよび急速充電負荷制御スイッチ(Bank1/2選択スイッチ)23m,23nとを用意する。また、たとえば図6(b)に示すように、入力のアドレスから読み出すバンク13をデコードする、AND回路14a,14b,14c,14dとNOR回路14e,14fとからなるBankデコード回路14を設ける。こうして、上記急速充電負荷23e,23fまたは上記急速充電負荷23i,23jの選択を、読み出すバンク13に起因するデータ線DLの容量の変化に応じて切り換える。これにより、データ線充電等価性に対するバンク依存性を抑制することが可能となる。
Therefore, in the present embodiment, for example, as shown in FIG. 6A, a
このような構成によれば、今後、フラッシュメモリのバンク構成の多様化・大容量化の際に問題となる、本体データ線DLの容量の多様化に対しても充電等価性をもたせることが可能となる。 According to such a configuration, it is possible to provide charge equivalence to the diversification of the capacity of the main body data line DL, which will be a problem when diversifying and increasing the capacity of the flash memory bank configuration in the future. It becomes.
[第4の実施形態]
図8は、この発明の第4の実施形態にしたがった、センスアンプ部23Cの基本構成を示すものである。ここでは、読み出すバンク(Bank)に起因するデータ線の容量の変化に応じて、Refデータ線Ref−DLに付加されるダミー容量を切り換えるようにした場合の例について説明する。なお、同図(a)はセンスアンプ部23Cの構成例を示すものであり、同図(b)はBankデコード回路の構成例を示すものであり、図6と同一部分には同一符号を付し、詳しい説明は割愛する。
[Fourth Embodiment]
FIG. 8 shows a basic configuration of a
すなわち、本実施形態の場合、たとえば図8(a)に示すように、Bank0/3に発生するデータ線DLの容量(2C)に対して最適な容量(2C)を有するRefダミー容量16aと、これとは容量の異なる、Bank1/2に発生するデータ線DLの容量(3C)に対して最適な容量(3C)を有するRefダミー容量16bと、これらRefダミー容量16a,16bを切り換える切り換えスイッチ17とを用意する。また、たとえば図8(b)に示すように、入力のアドレスから読み出すバンク13をデコードする、AND回路14a,14b,14c,14dとNOR回路14e,14fとからなるBankデコード回路14を設ける。こうして、上記Refダミー容量16aまたは上記Refダミー容量16bの、上記Refデータ線Ref−DLとの接続を、読み出すバンク13に起因するデータ線DLの容量の変化に応じて切り換える。これにより、同じ能力(Isa)の充電負荷23a’,23b’でデータ線DL,Ref−DLを充電することによって、データ線充電等価性に対するバンク依存性を抑制することが可能となる。
That is, in the case of the present embodiment, as shown in FIG. 8A, for example, a
このような構成によっても、今後、フラッシュメモリのバンク構成の多様化・大容量化の際に問題となる、本体データ線DLの容量の多様化に対しても充電等価性をもたせることが可能となる。 Even with such a configuration, it is possible to provide charge equivalence to the diversification of the capacity of the main body data line DL, which will be a problem in the future when the flash memory bank configuration is diversified and increased in capacity. Become.
その他、本願発明は、上記(各)実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。さらに、上記(各)実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。たとえば、(各)実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題(の少なくとも1つ)が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果(の少なくとも1つ)が得られる場合には、その構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。 In addition, the present invention is not limited to the above (each) embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention in the implementation stage. Further, the above (each) embodiment includes various stages of the invention, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements. For example, even if several constituent requirements are deleted from all the constituent requirements shown in the (each) embodiment, the problem (at least one) described in the column of the problem to be solved by the invention can be solved. When the effect (at least one of the effects) described in the “Effect” column is obtained, a configuration from which the constituent requirements are deleted can be extracted as an invention.
11…メモリセルアレイ、12…ブロック、12a…本体セル領域、12b…リダンダンシーセル領域、13…バンク(Bank0,1,2,3)、14…Bankデコード回路、14a,14b,14c,14d…AND回路、14e,14f…NOR回路、16a,16b…Refダミー容量、17…切り換えスイッチ、21…ゲート部、21a,21b…カラムゲート、23,23A,23B,23C…センスアンプ部、23a…本体センスアンプ負荷(第1のセンスアンプ負荷)、23a’…本体センスアンプ負荷(第1の充電負荷)、23b…Refセンスアンプ負荷(第2のセンスアンプ負荷)、23b’…Refセンスアンプ負荷(第1の充電負荷)、23c…ラッチ回路、23e,23f…急速充電負荷(第2の充電負荷)、23i,23j…急速充電負荷(第3の充電負荷)、23g,23h…急速充電負荷制御スイッチ(Bank0/3選択スイッチ)、23m,23n…Bank1/2選択スイッチ、25…Yアドレス・バッファ、27…Y(行)デコーダ、29…Xアドレス・バッファ、31…X(列)デコーダ、33…入出力バッファ、35…マルチプレクサ、37…ステータス/IDレジスタ、39…ライト・ステート・マシン(WSM)、41…コマンド・ユーザ・インターフェース(CUI)、MC…メモリセル(本体セル)、WL…ワード線、BL…ビット線、RMC…リダンダンシー用セル、RBL…リダンダンシー用ビット線、DL…データ線(本体側)、RDL…リダンダンシー用データ線、Ref−DL…データ線(リファレンス側)、Ref−C…リファレンスセル、SL…本体センス線、Ref−SL…Refセンス線、S/A…センスアンプ回路。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Memory cell array, 12 ... Block, 12a ... Main body cell area, 12b ... Redundancy cell area, 13 ... Bank (Bank0, 1, 2, 3), 14 ... Bank decoding circuit, 14a, 14b, 14c, 14d ... AND
Claims (4)
前記センスアンプ回路の第1のセンス端子に接続された第1のデータ線と、
前記第1のデータ線を充電する第1のセンスアンプ負荷と、
前記センスアンプ回路の第2のセンス端子に接続されたリファレンス用の第2のデータ線と、
前記第2のデータ線を充電する第2のセンスアンプ負荷と
を具備し、
前記第1のデータ線の容量と前記第2のデータ線の容量との差に応じて、前記第1のセンスアンプ負荷と前記第2のセンスアンプ負荷とに能力差を設け、
前記第1のセンスアンプ負荷および前記第2のセンスアンプ負荷は、
能力が同じ第1の充電負荷と、
前記第1の充電負荷とは能力が異なる第2の充電負荷と
をそれぞれ有し、
前記第1,第2のデータ線の充電平衡状態到達時には前記第1の充電負荷によって、前記第1,第2のデータ線を充電し、
前記充電平衡状態に到達するまでの充電過渡期には前記第1,第2の充電負荷によって、前記第1,第2のデータ線を急速充電する
ことを特徴とする半導体メモリ装置。 A sense amplifier circuit;
A first data line connected to a first sense terminal of the sense amplifier circuit;
A first sense amplifier load for charging the first data line;
A second data line for reference connected to a second sense terminal of the sense amplifier circuit;
A second sense amplifier load for charging the second data line;
In accordance with the difference between the capacity of the first data line and the capacity of the second data line, a capacity difference is provided between the first sense amplifier load and the second sense amplifier load ;
The first sense amplifier load and the second sense amplifier load are:
A first charging load with the same capacity;
A second charging load having a different capacity from the first charging load;
Each with
When the charge equilibrium state of the first and second data lines is reached, the first and second data lines are charged by the first charging load,
In the charge transition period until the charge equilibrium state is reached, the first and second data lines are rapidly charged by the first and second charge loads.
A semiconductor memory device.
前記センスアンプ回路の第1のセンス端子に接続された第1のデータ線と、
前記センスアンプ回路の第2のセンス端子に接続されたリファレンス用の第2のデータ線と、
前記第1のデータ線を充電する、前記第1のデータ線の容量に応じた能力を有する第1のセンスアンプ負荷と、
前記第2のデータ線を充電する、前記第2のデータ線の容量に応じた能力を有する第2のセンスアンプ負荷と
を具備し、前記第1のセンスアンプ負荷および前記第2のセンスアンプ負荷は、
能力が同じ第1の充電負荷と、
前記第1の充電負荷とは能力が異なり、第1のバンクに起因するデータ線の容量に応じた能力を有する第2の充電負荷と、
前記第1,第2の充電負荷とは能力が異なり、第2のバンクに起因するデータ線の容量に応じた能力を有する第3の充電負荷と
をそれぞれ有し、
前記第2,第3の充電負荷は、前記第1または第2のバンクのアドレスをデコードするデコード回路の出力によって選択されることを特徴とする半導体メモリ装置。 A sense amplifier circuit;
A first data line connected to a first sense terminal of the sense amplifier circuit;
A second data line for reference connected to a second sense terminal of the sense amplifier circuit;
A first sense amplifier load for charging the first data line and having a capacity according to a capacity of the first data line;
A second sense amplifier load for charging the second data line and having a capacity corresponding to a capacity of the second data line, and the first sense amplifier load and the second sense amplifier load. Is
A first charging load with the same capacity;
A second charging load having a capacity different from that of the first charging load and having a capacity corresponding to the capacity of the data line caused by the first bank;
A third charging load having a capacity different from that of the first and second charging loads and having a capacity corresponding to the capacity of the data line caused by the second bank;
Each with
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the second and third charging loads are selected by an output of a decoding circuit that decodes an address of the first or second bank .
前記センスアンプ回路の第1のセンス端子に接続された第1のデータ線と、
前記センスアンプ回路の第2のセンス端子に接続されたリファレンス用の第2のデータ線と、
前記第1のデータ線を充電する、前記第1のデータ線の容量に応じた能力を有する第1のセンスアンプ負荷と、
前記第2のデータ線を充電する、前記第2のデータ線の容量に応じた能力を有する第2のセンスアンプ負荷と
を具備し、前記第1のセンスアンプ負荷および前記第2のセンスアンプ負荷は、
能力が同じ第1の充電負荷と、
前記第1の充電負荷とは能力が異なる第2の充電負荷と
をそれぞれ有し、
前記第1,第2のデータ線の充電平衡状態到達時には前記第1の充電負荷によって、前記第1,第2のデータ線を充電し、
前記充電平衡状態に到達するまでの充電過渡期には前記第1,第2の充電負荷によって、前記第1,第2のデータ線を急速充電する
ことを特徴とする半導体メモリ装置。 A sense amplifier circuit;
A first data line connected to a first sense terminal of the sense amplifier circuit;
A second data line for reference connected to a second sense terminal of the sense amplifier circuit;
A first sense amplifier load for charging the first data line and having a capacity according to a capacity of the first data line;
A second sense amplifier load for charging the second data line and having a capacity corresponding to a capacity of the second data line;
And the first sense amplifier load and the second sense amplifier load are:
A first charging load with the same capacity;
A second charging load having a different capacity from the first charging load,
When the charge equilibrium state of the first and second data lines is reached, the first and second data lines are charged by the first charging load,
Wherein the first to charge transition to reach the charge equilibrium, the second charging load, the first semi-conductor memory device you characterized by rapidly charging the second data line.
前記センスアンプ回路の第1のセンス端子に接続された第1のデータ線と、
前記第1のデータ線を充電する第1のセンスアンプ負荷と、
前記センスアンプ回路の第2のセンス端子に接続されたリファレンス用の第2のデータ線と、
前記第2のデータ線を充電する第2のセンスアンプ負荷と
を具備し、
前記第1のデータ線の容量と前記第2のデータ線の容量との差に応じて、前記第1のセンスアンプ負荷と前記第2のセンスアンプ負荷とに能力差を設け、
前記第1のセンスアンプ負荷および前記第2のセンスアンプ負荷は、
能力が同じ第1の充電負荷と、
前記第1の充電負荷とは能力が異なり、第1のバンクに起因するデータ線の容量に応じた能力を有する第2の充電負荷と、
前記第1,第2の充電負荷とは能力が異なり、第2のバンクに起因するデータ線の容量に応じた能力を有する第3の充電負荷と
をそれぞれ有し、
前記第2,第3の充電負荷は、前記第1または第2のバンクのアドレスをデコードするデコード回路の出力によって選択されることを特徴とする半導体メモリ装置。 A sense amplifier circuit;
A first data line connected to a first sense terminal of the sense amplifier circuit;
A first sense amplifier load for charging the first data line;
A second data line for reference connected to a second sense terminal of the sense amplifier circuit;
A second sense amplifier load for charging the second data line;
Comprising
In accordance with the difference between the capacity of the first data line and the capacity of the second data line, a capacity difference is provided between the first sense amplifier load and the second sense amplifier load;
The first sense amplifier load and the second sense amplifier load are:
A first charging load with the same capacity;
A second charging load having a capacity different from that of the first charging load and having a capacity corresponding to the capacity of the data line caused by the first bank;
The first and second charging loads have different capacities, and each has a third charging load having a capability according to the capacity of the data line caused by the second bank,
The second, third charging load, the first or semi-conductor memory device you being selected by the output of the decoding circuit for decoding the address of the second bank.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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