JP3881124B2 - Liquid crystal display - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置に係り、特に、液晶を介して互いに対向配置される透明基板の間に介在されるスペーサを備える液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶を介して互いに対向配置される透明基板の間にスペーサを介在させることによって、液晶の層厚を一定とすることができ、表示むらの発生を防止することができる。
【0003】
このスペーサとしては、たとえばビーズ状のものがあり、一方の基板の液晶側の面に該スペーサを散在させた状態で他方の基板を対向配置させるようになっている。
【0004】
しかし、このビーズ状のスペーサは、凹凸がある基板面に散在させることから、あるスペーサは凹部に他のスペーサは凸部に位置づけられてしまい、他方の基板を対向配置させても、それらの基板のギャップは所定どおりにならない場合がある。
【0005】
これに対して、他のスペーサとして、一方の基板の液晶側の面に予め該基板の所定の個所に固定させて形成したものがある。
【0006】
この場合、凹凸がある基板面のうちたとえば凹部に該スペーサを形成することによって、他方の基板を対向配置させた際に、それらの基板のギャップは所定どおりに設定できるようになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、後者のスペーサは、それを形成した後に該スペーサを被って配向膜の材料膜を形成し、該スペーサによって突起部が発生している前記材料膜を配向処理をしなければならず、該配向膜にいわゆる配向乱れを生じさせてしまうことが確認された。
【0008】
すなわち、配向処理は該材料膜面に沿って一定方向にローラを回転させて行い、この際に、該スペーサが形成されている突起部の背面に所定どおりの配向ができなくなってしまうからである。
【0009】
スペーサは画素の集合である表示部内に形成されることから、この配向乱れは、他の部分と異なる表示状態を引き起こし、いわゆる表示むらの原因となってしまうことになる。
【0010】
本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、その目的は配向乱れによる表示むらのない液晶表示装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【0012】
すなわち、本発明による液晶表示装置は、基板の遮光領域内に固定されたスペーサを備え、該スペーサの近傍の遮光領域の幅が該遮光領域の延在方向の他の部分の幅よりも大きくなっていることを特徴とするものである。
【0013】
このように構成された液晶表示装置は、スペーサを遮光領域内に配置させるとともに、その周辺の遮光領域の幅が他の部分により大きくなっていることから、該スペーサに起因する配向乱れを該遮光領域によって完全に覆い隠すことができるようになる。
【0014】
このことから、この配向乱れを透過する光を認識できなくなり、表示むらの発生を抑制することができるようになる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による液晶表示装置の実施例を図面を用いて説明する。
【0016】
参考例1〕
図1は、いわゆる横電界方式と称される液晶表示装置の各画素のうちの一つの画素を示す平面図である。
【0017】
ここで、この参考例の液晶表示装置において、その液晶は正の誘電率異方性を有するものが用いられるようになっている。
【0018】
各画素はマトリックス状に配置されて表示部を構成している。このため、図1に示す画素の構成はその左右および上下に隣接する画素の構成と同様となっている。
【0019】
まず、液晶を介して対向配置される透明基板のうち、一方の透明基板1の液晶側の面において図中x方向に延在する走査信号線(ゲート線)2がたとえばクロム層によって形成されている。このゲート線2は、図中に示すように、たとえば画素領域の下側に形成され、実質的に画素として機能する領域をできるだけ大きくとるようになっている。
【0020】
そして、このゲート線2は表示部外からゲート信号が供給されるようになっており、後述の薄膜トランジスタTFTを駆動させるようになっている。
【0021】
また、画素領域のほぼ中央には図中x方向に延在する対向電圧信号線4がたとえばゲート線2と同じ材料によって形成されている。
【0022】
対向電圧信号線4には対向電極4Aが一体的に形成され、この対向電極4Aは画素領域内で該対向電圧信号線4とともにほぼ’H’字状のパターンで形成されている。
【0023】
この対向電極4Aは、後述する画素電極5に供給される映像信号に対して基準となる信号が該対向電圧信号線4を介して供給されるようになっており、該画素電極5との間に前記映像信号に対応した強度の電界を発生せしめるようになっている。
【0024】
この電界は透明基板1面に対して平行な成分をもち、この成分からなる電界によって液晶の光透過率を制御するようになっている。この参考例で説明する液晶表示装置がいわゆる横電界方式と称される所以となっている。
【0025】
なお、対向電圧信号線4には表示部外から基準信号が供給されるようになっている。
【0026】
そして、このようにゲート線2および対向電圧信号線4が形成された透明基板1面には、該ゲート線2および対向電圧信号線4をも含んでたとえばシリコン窒化膜からなる絶縁膜(図示せず)が形成されている。
【0027】
この絶縁膜は、後述の薄膜トランジスタTFTの形成領域においてはそのゲート絶縁膜としての機能、後述の映像信号線(ドレイン線)3の形成領域においてはゲート線2および対向電圧信号線4に対する層間絶縁膜としての機能、後述の容量素子Caddの形成領域においてはその誘電体膜としての機能を有するようになっている。
【0028】
このような絶縁膜において、ゲート線2と重畳して薄膜トランジスタTFTが形成され、その部分にはたとえばアモルファスSiからなる半導体層6が形成されている。
【0029】
そして、半導体層6の上面にドレイン電極3Aおよびソース電極5Aが形成されることによって、前記ゲート線2の一部をゲート電極とするいわゆる逆スタガ構造の薄膜トランジスタが構成される。
【0030】
ここで、半導体層6上のドレイン電極3Aおよびソース電極5Aは、たとえばドレイン線3の形成時に画素電極5ともに同時に形成されるようになっている。
【0031】
すなわち、図中y方向に延在するドレイン線3が形成され、このドレイン線3に一体的に形成されるドレイン電極3Aが半導体層6上に形成されている。
【0032】
ここで、ドレイン線3は、図中に示すように、たとえば画素領域の左側に形成され、実質的に画素として機能する領域をできるだけ大きくとるようになっている。
【0033】
また、ソース電極5Aは、ドレイン線3と同時に形成され、この際、画素電極5と一体的に形成されるようになっている。
【0034】
この画素電極5は、前述した対向電極4Aの間を走行するようにして図中y方向に延在するようにして形成されている。換言すれば、画素電極5の両脇にほぼ等間隔に対向電極4Aが配置されるようになっており、該画素電極5と対向電極4Aとの間に電界を発生せしめるようになっている。
【0035】
ここで、図中からも明らかとなるように、画素電極5は、対向電圧信号線4を境にして屈曲されたたとえば逆’く’字状のパターンに構成され、これにともない、該画素電極5と対向する各対向電極4Aも画素電極5に対して平行に離間されるようにその幅が変化するように構成されている。
【0036】
すなわち、屈曲された画素電極5がその長手方向において、同図に示すように均一な幅を有している場合、その両脇に位置づけられる対向電極4Aは、そのドレイン線3側の辺においては該ドレイン線3と平行に、また、画素電極5側の辺においては該画素電極5と平行になって形成されている。
【0037】
これにより、画素電極5と対向電極4Aとの間に発生する電界Eの方向は、対向電圧共通線4を境として、図中、その下側の画素領域においては該対向電圧共通線4に対して(−)θとなっており、上側の画素領域においては該対向電圧共通線4に対して(+)θとなっている。
【0038】
このように、一画素の領域内(必ずしも一画素の領域内に限らず、他の画素との関係であってもよい)において、電界Eの方向を異ならしめているのは、一定の初期配向方向に対して液晶分子をそれぞれ逆方向へ回転させて光透過率を変化させることにある。
【0039】
このようにすることによって、液晶表示パネルの主視角方向に対して視点を斜めに傾けると輝度の逆転現象を引き起こすという液晶表示パネルの視角依存性による不都合を解消した構成となっている。
【0040】
なお、この参考例では、液晶分子の初期配向方向はドレイン線3の延在方向とほぼ一致づけられており、後述する配向膜におけるラビング方向はドレイン線3に沿ってなされるようになっている。
【0041】
このため、上述した電界方向θは、該初期配向方向との関係で適切な値が設定されるようになっている。一般的には、このθは、電界Eのゲート線2に対する角度の絶対値が電界Eのドレイン線3に対する角度の絶対値より小さくなっている。
【0042】
そして、前記画素電極5において、その対向電圧信号線4に重畳する部分はその面積を大ならしめるように形成され、該対向電圧信号線4との間に容量素子Caddが形成されている。この場合の誘電体膜は前述した絶縁膜となっている。
【0043】
この容量素子Caddはたとえば画素電極5に供給される映像信号を比較的長く蓄積させるために形成されるようになっている。すなわち、ゲート線2から走査信号が供給されることによって薄膜トランジスタTFTがオンし、ドレイン線3からの映像信号がこの薄膜トランジスタTFTを介して画素電極5に供給される。その後、薄膜トランジスタTFTがオフした場合でも、画素電極5に供給された映像信号は該容量素子Caddによって蓄積されるようになっている。
【0044】
そして、このように形成された透明基板1の表面の全域には、たとえばシリコン窒化膜からなる保護膜(図示せず)が形成され、たとえば薄膜トランジスタTFTの液晶への直接の接触を回避できるようになっている。
【0045】
さらに、この保護膜の上面には、液晶の初期配向方向を決定づける配向膜(図示せず)が形成されている。この配向膜は、たとえば合成樹脂膜を被服し、その表面に前述したようにドレイン線の延在方向に沿ったラビング処理がなされることによって形成されている。
【0046】
このようにして表面加工がなされた透明基板はいわゆるTFT基板1Aと称され、その配向膜が形成された面に液晶を介在させていわゆるフィルタ基板1Bと称される透明基板を対向配置させることによって液晶表示パネルが完成されることになる。
【0047】
フィルタ基板1Bには、その液晶側の面に画素領域の輪郭を画するブラックマトリックス(その外輪郭を図1に示している)BM、このブラックマトリックスの開口部(画素領域の周辺を除く中央部に相当する)に形成されたカラーフィルタ、および液晶と接触するようして形成された配向膜等が形成されている。
【0048】
ここで、フィルタ基板1B側の配向膜は、TFT基板1A側のそれと同様、たとえば合成樹脂膜を被服し、その表面に前述したようにドレイン線3の延在方向に沿ったラビング処理がなされることによって形成されている。
【0049】
いわゆる横電界方式の液晶表示装置においては、液晶を介して配置されるそれぞれの配向膜における配向方向はいずれもほぼ同方向で、その方向は、本参考例の場合、ドレイン線3の延在方向にほぼ一致づけられている。
【0050】
さらに、液晶を介して互いに対向配置されるTFT基板1Aとフィルタ基板1Bとの間にはそれらの間のギャップを保持するため、スペーサ10が介在されている。上述したように、これにより液晶の層厚を均一なものとして表示むらの発生を防止せんがためである。
【0051】
この場合のスペーサ10は、たとえばフィルタ基板1B側に予め所定の個所に固定されて配置されたもので、本参考例の場合、ドレイン線3に重畳するようにして設けられている。
【0052】
図2は図1のII−II線における断面を示す図である。フィルタ基板1B側の透明基板の液晶側の面にはブラックマトリックスBMが形成され、このブラックマトリックスBMの一部において突起体が形成されることによって、この突起体が前記スペーサ10として機能するようになっている。
【0053】
この突起体は、たとえば通常より厚めの遮光材料層を全面に形成し、周知のフォトリソグラフィ技術による選択エッチング方法で形成することができる。その後、再びフォトリソグラフィ技術による選択エッチング方法で開口部を形成することによってブラックマトリックスBMを形成することができる。
【0054】
このブラックマトリックスBMは、図1に示すように、ゲート線2およびその近傍、ドレイン線3およびその近傍を被って形成され、その開口部は、画素電極5と対向電極4Aとの間の領域を露出し、画素電極5と対向電極4Aの端部を覆い隠すようにして形成されている。
【0055】
ブラックマトリックスの開口部は、それが大きければ画素の開口率をより向上させることができるが、不要電界(ドレイン線3と対向電極4Aとの間に生じる)および電界の乱れ(画素電極5と対向電極4Aの端部の近傍に生じる)を覆い隠すに足りる程度に最大限の大きさに設定されている。
【0056】
そして、ブラックマトリックスBMの開口部にはカラーフィルタ7が形成され、それらを被って平坦膜8が形成され、さらに、この平坦膜8を被うようにして配向膜9が形成されている。
【0057】
この配向膜9は、上述したように、ドレイン線3の延在方向に沿ってラビング処理がなされたものであり、具体的には、図3に示すように、ローラ100を配向膜9に当接させた状態でドレイン線3の延在方向に移動させるようになっている。
【0058】
この場合、同図に示すように、スペーサ10が形成されている部分はその突起体によって、ローラ100が浮き上がり、該スペーサ10の背面側において充分な配向ができない(配向乱れ200の発生)という不都合が生じる。
【0059】
しかし、この部分は、図1に示すように、予め形成されているブラックマトリックスの形成領域内において発生するようになっており、該配向乱れによる表示むらを憂うことがないという効果を奏するようになる。
【0060】
なお、この参考例では、スペーサ10に起因する配向乱れをブラックマトリックスBM内に位置づけられるように構成したが、特に、この部分においてブラックマトリックスBMがない状態であってもよいことはいうまでもない。
【0061】
ドレイン線3に重畳されたスペーサ10に起因する配向乱れは遮光領域となる該ドレイン線3によって覆い隠され同様の効果を奏するからである。
【0062】
また、対向電極4Aに接続される対向電圧信号線4をドレイン線3と平行に延在させて構成することもでき、このようにした場合に、該スペーサ10を対向電圧信号線4に重畳するように構成しても同様の効果を奏することはいうまでもない。対向電圧信号線4も該スペーサ10の遮光領域となるからである。
【0063】
参考例2〕
図4は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す平面図で、図1と対応した図となっている。
【0064】
同図において、ゲート線2、対向電圧信号線4、対向電極4A、ドレイン線3、画素電極5等のパターンは図1と同様となっている。
【0065】
図1の場合と異なる構成は、まず、用いられる液晶は負の誘電率異方性を有するものとなっている。
【0066】
そして、TFT基板1Aおよびフィルタ基板1Bのそれぞの側の配向膜のラビング方向(初期配向方向)はゲート線2の延在方向に沿ってなされるようになっている。
【0067】
さらに、基板に固定されるスペーサ10はゲート線2に重畳されるようにして配置されていることにある。
【0068】
スペーサ10に起因する配向膜の配向乱れはゲート線2に沿って生じることになり、この場合において、該配向乱れはゲート線2あるいはブラックマトリックスBMによる遮光領域によって覆い隠されることになる。
【0069】
参考例3〕
図5は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す平面図で、図1と対応した図となっている。
【0070】
そして、この参考例の液晶表示装置において、その液晶は正の誘電率異方性を有するものが用いられるようになっている。また、配向膜のラビング方向によって決定づけられる液晶の初期配向方向はゲート線2に沿って形成されている。
【0071】
図1の場合と比較して、まず、画素電極5と対向電極4Aのそれぞれのパターンが異なっている。
【0072】
すなわち、画素電極5と対向電極4Aはそれぞれゲート線とほぼ平行に配置されるように構成されている。
【0073】
具体的には、画素電極5は、薄膜トランジスタTFTのソース電極5Aから近接するドレイン線3に沿って延在され、その延在部から画素領域内に実質的に機能する画素電極5が延在されている。
【0074】
この場合、対向電圧信号線4を境にして、その図中上側においては各画素電極5がそれぞれゲート線2に対して(−)θの角度を有して形成され、下側においては各画素電極がそれぞれゲート線2に対して(+)θの角度を有して形成されている。
【0075】
また、対向電極4Aは、前記ドレイン線3に隣接する他方のドレイン線(図示せず)に沿った対向電圧信号線4の延在部から画素領域内に延在されて形成されている。
【0076】
この場合の対向電極4Aは前記画素電極5を間にかつ平行に位置づけるようにして延在されている。従って、このため、これら対向電極4Aのうち幾つかはその幅が変化した状態で形成されるようになっている。
【0077】
このように構成された画素電極と対向電極との間で発生する電界Eは、対向電圧信号線4を境にして、図中その上側における方向と下側における方向とでは異なるようになっている。
【0078】
しかし、上下のいずれの場合においても、各電界Eのゲート線2に対する角度の絶対値がドレイン線3に対する角度の絶対値より大きくなっている。
【0079】
すなわち、これにより、液晶の分子を一定の初期配向方向(ゲート線2に沿う方向)に対してそれぞれ逆方向に回転できるようにして、上述した液晶表示パネルの視角依存性による不都合を解消した構成となっている。
【0080】
すなわち、前記初期配向方向は、ゲート線2に沿った方向となっており、TFT基板1Aおよびフィルタ基板1Bのそれぞの側の配向膜のラビング方向はゲート線2の延在方向にほぼ一致づけられている。
【0081】
そして、基板に固定されるスペーサ10はゲート線2に重畳されるようにして配置されていることにある。
【0082】
スペーサ10に起因する配向膜の配向乱れはゲート線2に沿って生じることになり、この場合においても、該配向乱れはゲート線2あるいはブラックマトリックスBMによる遮光領域によって覆い隠されることになる。
【0083】
参考例4〕
図6は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す平面図で、図5と対応した図となっている。
【0084】
同図において、ゲート線2、対向電圧信号線4、対向電極4A、ドレイン線3、画素電極5等のパターンは図5と同様となっている。
【0085】
図5の場合と異なる構成は、まず、用いられる液晶は負の誘電率異方性を有するものとなっている。
【0086】
そして、TFT基板1Aおよびフィルタ基板1Bのそれぞの側の配向膜のラビング方向(初期配向方向)はゲート線2とほぼ直交する方向に沿ってなされるようになっている。
【0087】
さらに、基板に固定されるスペーサ10はドレイン線3に重畳されるようにして配置されていることにある。
【0088】
スペーサ10に起因する配向膜の配向乱れはドレイン線3に沿って生じることになり、この場合において、該配向乱れはドレイン線3あるいはブラックマトリックスBMによる遮光領域によって覆い隠されることになる。
【0089】
参考例5〕
図7は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図である。
【0090】
同図(a)は、液晶表示装置の各画素の配列の状態を示しているものである。図中、黒枠はブラックマトリックスBMを示し、その開口部は各画素を示している。
【0091】
いわゆるデルタ配置と称されるもので、隣接するゲート線(図中x方向に延在する)に沿うそれぞれの画素群が1/2ピッチずれて配置されている。このような画素の配置はカラー表示における一画素に相当するR(赤)、G(緑)、B(青)の3画素が互いに近接して配置されることからカラー表示品質を良好なものとできることが知られている。
【0092】
このような場合において、基板に固定されるスペーサはゲート線に重畳されるように配置されるとともに、配向膜のラビング方向(初期配向方向)はゲート線に沿った方向となっている。
【0093】
このように構成することによって、スペーサに起因する配向膜の配向乱れはブラックマトリックスの形成領域内に配置され、その開口部から露出することがないので、表示の品質を劣化させるようなことがなくなる。
【0094】
さらに詳細に説明すると、仮に、同図(b)の構成で、基板に固定されるスペーサをドレイン線に重畳して配置させるとともに、配向膜のラビング方向(初期配向方向)をゲート線に直交する方向とした場合に、スペーサ10に起因する配向膜の配向乱れは1/2ピッチずれた下段(あるいは上段)の画素領域(ブラックマトリックスの開口部内)にまで及んで形成され、表示の品質の劣化をもたらすことになってしまうからである。
【0095】
そして、この参考例に示す液晶表示装置において、横電界方式を採用する場合には、たとえば上述した参考例のうち図4および図5の画素構成とすることができるようになる。
【0096】
図4および図5の場合、そのいずれも基板に固定されるスペーサ10はゲート線2に重畳されるように配置されるとともに、配向膜のラビング方向(初期配向方向)はゲート線2に沿った方向となっているからである。
【0097】
なお、この参考例に示す液晶表示装置においていわゆる縦電界方式を採用できることはいうまでもない。
【0098】
すなわち、縦電界方式の液晶表示装置は、液晶を介して対向配置される各透明基板側の配向膜はそれぞれ互いに直交する方向にラビング処理がなされている。
【0099】
このため、スペーサをTFT基板側に固定させる場合には、そのスペーサをゲート線に重畳する位置に配置させるとともに、該TFT基板側の配向膜のラビング処理の方向をゲート線に沿った方向とすればよい。また、スペーサをフィルタ基板側に固定させる場合には、そのスペーサをゲート線に重畳する位置に配置させるとともに、該フィルタ基板側の配向膜のラビング処理の方向をゲート線に沿った方向とすればよい。
【0100】
参考例6〕
上述の参考例5と同様に、いわゆるデルタ配置の構成としては、隣接するドレイン線に沿うそれぞれの画素群が1/2ピッチずれているものも知られている。
【0101】
この場合、基板に固定されるスペーサはドレイン線に重畳されるように配置されるとともに、配向膜のラビング方向(初期配向方向)はドレイン線に沿った方向となっている。
【0102】
そして、この参考例に示す液晶表示装置において横電界方式を採用する場合には、たとえば上述した参考例のうち図1および図6の画素構成とすることができるようになる。
【0103】
図1および図6の場合、そのいずれも基板に固定されるスペーサ10はドレイン線3に重畳されるように配置されるとともに、配向膜のラビング方向(初期配向方向)はゲート線とほぼ直交する方向となっているからである。
【0104】
また、縦電界方式の液晶表示装置の場合、スペーサをTFT基板側に固定させる場合には、そのスペーサをドレイン線に重畳する位置に配置させるとともに、該TFT基板側の配向膜のラビング処理の方向をドレイン線に沿った方向とすればよい。また、スペーサをフィルタ基板側に固定させる場合には、そのスペーサをドレイン線に重畳する位置に配置させるとともに、該フィルタ基板側の配向膜のラビング処理の方向をドレイン線に沿った方向とすればよい。
【0105】
参考例7〕
上述した参考例6では、画素がデルタ配置された縦電界方式の液晶表示装置について説明したものである。
【0106】
しかし、画素がデルタ配置されていない縦電界方式の液晶表示装置においても前述した参考例を適用することができる。
【0107】
上述したように縦電界方式の液晶表示装置は液晶を介して対向配置される各透明基板のそれぞれの配向膜のラビング方向は直交しており、一方の基板側の配向膜のラビング方向は任意に設定することができる。
【0108】
このため、スペーサをTFT基板側に固定し、かつ、そのTFT基板側の配向膜のラビング方向をゲート線に沿って設定した場合、該スペーサはゲート線に重畳する位置に配置させるようにすればよい。また、スペーサをフィルタ基板側に固定し、かつ、そのTFT基板側の配向膜のラビング方向をゲート線とほぼ直交する方向に沿って設定した場合、該スペーサはドレイン線に重畳する位置に配置させるようにすればよい。
【0109】
さらに、スペーサをTFT基板側に固定し、かつ、そのTFT基板側の配向膜のラビング方向をゲート線に直交する方向に沿って設定した場合、該スペーサはドレイン線に重畳する位置に配置させるようにすればよい。また、スペーサをフィルタ基板側に固定し、かつ、そのTFT基板側の配向膜のラビング方向をゲート線に沿って設定した場合、該スペーサはゲート線に重畳する位置に配置させるようにすればよい。
【0110】
〔実施例〕
図8は、本発明による液晶表示装置のうち横電界方式における実施例を示す図である。
【0111】
同図は、液晶表示装置の各ゲート線のうちの一つに沿って切断された断面図であり、TFT基板1Aに対向するフィルタ基板1Bの側に固定されたスペーサ10が備えられている。
【0112】
そして、前記スペーサ10は、各基板のギャップを保持するスペーサ(第1スペーサ10Bと称す:図中領域Bに存在する)と、特に、各ゲート線の両端にそれぞれ重畳されて配置されるスペーサ(第2スペーサ10Aと称す:図中領域Aに存在する)からなっている。
【0113】
さらに、フィルタ基板1Bの液晶側の面には、TFT基板1A側の各ゲート線にそれぞれ重畳するようにしてそれぞれ導電層21が形成されている。
【0114】
この場合、これら各導電層21は、必然的に第2スペーサ10Aを被服する状態で形成されることになり、この第2スペーサ10Aの個所で対向配置されるゲート線2と電気的な接続がなされるようになる。
【0115】
このことから、ゲート線2は、それ本来の信号線とは別に迂回回路を備えることになり、たとえゲート線2に断線が発生したとしても、その断線は該迂回回路によって保護される効果を奏するようになる。
【0116】
そして、上述した実施例は、ゲート線2の保護回路について説明したものであるが、ドレイン線3を保護する場合にもそのまま適用できることはいうまでもない。この場合、図中のゲート線2がドレイン線3に置き換えられることとなる。
【0117】
なお、この実施例は、上述した各参考例のうち横電界方式の液晶表示装置の構成において適用してもよいことはいうまでもない。
【0118】
参考
図9は、本発明による液晶表示装置のうち縦電界方式のものの他の参考例を示す図である。
【0119】
同図は、液晶表示装置の各ゲート線2のうちの一つに沿って切断された断面図であり、TFT基板1Aに対向するフィルタ基板1Bの側に固定されたスペーサ10が備えられている。
【0120】
前記スペーサ10は、各基板のギャップを保持するスペーサ(第1スペーサと称す:図中領域Bに存在する)10Bと、特に、各基板をシールするシール材24の近傍に配置されたスペーサ(第3スペーサと称す:図中領域Aに存在する)10Aからなっている。
【0121】
この第3スペーサ10Aは、その形成時において第1スペーサ10Bと同時に形成されるようになっている。
【0122】
そして、フィルタ基板1Bの液晶側の面には、前記各スペーサをも被って各画素に共通な共通電極(透明電極)22が形成されている。
【0123】
また、前記各スペーサのうち第3スペーサ10Aと当接するTFT基板1A面に、該第3スペーサ10Aを被う共通電極22と電気的に接続される導電層23が形成されている。
【0124】
この導電層23はTFT基板1A上でシール材24を超えて延在され、前記共通電極22に基準信号を供給するための端子に接続されるようになっている。
【0125】
したがって、TFT基板1A上の該端子に基準信号を供給した場合に、この基準信号は、第3スペーサ10Aの部分を介してフィルタ基板1B側の共通電極に供給されるようになる。
【0126】
このように構成した液晶表示装置は、共通電極22をTFT基板1A面に引き出すための導電手段を特に設ける必要がなくなるという効果を奏するようになる。なお、この参考例は、上述した各参考例のうち縦電界方式の液晶表示装置の構成において適用してもよいことはいうまでもない。
【0127】
参考
上述した各参考例では、TFT基板側にスペーサを固定させたもの、あるいはフィルタ基板側にスペーサを固定させたものを説明した。
【0128】
しかし、薄膜トランジスタの特性劣化を特に防止する必要がある場合には、フィルタ基板側にスペーサを固定させることが好ましい。
【0129】
TFT基板側にスペーサを固定させる場合、そのスペーサを形成するためのフォトリソグラフィ技術による選択エッチング工程の増加をもたらし、それに用いる薬剤等によって薄膜トランジスタの劣化をもたらすことになるからである。
【0130】
また、TFT基板に対してスペーサを位置的に精度よく配置させる必要がある場合には、TFT基板側にスペーサを固定させることが好ましい。
【0131】
フィルタ基板側にスペーサを固定させる場合、そのフィルタ基板をTFT基板に対して対向配置させる際に位置づれが生じて、スペーサをTFT基板に対して位置的に精度よく配置させることができない場合があるからである。
【0132】
参考10
図10は、フィルタ基板1B側に固定して形成されるスペーサ10の詳細を示した断面図である。
【0133】
フィルタ基板1Bの液晶側の面には、ブラックマトリックスBM、カラーフィルタ7が形成され、それらの上面に表面を平坦にするため、熱硬化性の樹脂膜からなる平坦膜8が形成されている。
【0134】
そして、この平坦膜8の所定の個所にスペーサ10が形成されているが、このスペーサ10は、光硬化性の樹脂膜から構成されている。
【0135】
光硬化性の樹脂膜によってスペーサ10を構成することによって、選択エッチングの工程を行う必要がなくなることから、製造工程の低減を図れるようになる。なお、この参考例は、上述した各例の構成においてそれぞれ適用してもよいことはいうまでもない。
【0136】
また、必ずしもフィルタ基板1B側に限定する必要はなく、TFT基板1A側に形成する場合にも適用することができる。
【0137】
参考例1
図11(a)は、表示部において、各画素の輪郭を画するブラックマトリックスBMに重畳するようにして配置されたスペーサ10を示した図である。
【0138】
このようにして配置されるスペーサ10は表示部全体として均一に配置されているが、互いに隣接されたほぼ同数の画素に対して一つのスペーサ10が配置されるようになっている。
【0139】
表示部におけるスペーサ10の数を減らし、これにともない該スペーサに起因する配向乱れを少なくしている。
【0140】
これにより、光漏れ(特に黒表示の場合)によるコントラストの防止が図れる効果を奏する。
【0141】
参考例1
図11(b)は、参考例1と同様に、示部におけるスペーサ10の数を減らしているとともに、その配置が均一でなく、ランダム(均一性なく)になっている点が参考例1と異なっている。
【0142】
人間の視覚の特性として、光漏れの部分が繰り返しパターンで発生している場合それを認識し易いことから、スペーサを均一性なく配置させることによって、その不都合を解消している。
【0143】
参考例1
図12は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図で、図2あるいは図10に対応した図となっている。
【0144】
同図において、スペーサ10が固定された側の透明基板と対向する他の透明基板との間の該スペーサ10の当接部に接着剤30が介在されている。
【0145】
該スペーサ10の当接部は配向膜同士の接触部であり、これらは同材料であることから固着力が弱いという不都合が生じる。
【0146】
それ故、該接着剤としてたとえばSiカップリング剤を用いることにより、各透明基板の間のギャップの保持の信頼性を確保することができるようになる。
【0147】
次に、このような構成からなる液晶表示装置の製造方法の一例を図13を用いて説明する。
【0148】
工程1.
一方の基板にスペーサ10を形成し、そのスペーサ10をも被って配向膜が形成されたものを用意する(同図(a))。
【0149】
工程2.
接着剤が満たされた容器に、前記基板を近接させ、そのスペーサ10の頂部に該接着剤30の表面を接触させる(同図(b))。
【0150】
工程3.
これにより、スペーサ10の頂部に接着剤30が塗布されるようになる(同図(c))。
【0151】
工程4.
上記基板を他の基板と対向配置させる(同図(d))。
【0152】
工程5.
熱処理を加えることにより、接着剤30を硬化させる。これにより、スペーサ10は各基板のそれぞれに固着された状態となる(同図(e))。
【0153】
また、上述した構成からなる液晶表示装置の製造方法の他の例を図14を用いて説明する。
【0154】
工程1.
一方の基板にスペーサ10を形成し、そのスペーサ10をも被って配向膜が形成されたものを用意する(同図(a))。
【0155】
工程2.
接着剤30が満たされた容器でローラ31を備える装置を用意し、該ローラ31の回転によってその表面に付着する接着剤を前記スペーサの頂部に塗布させる(同図(b))。
【0156】
工程3.
これにより、スペーサ10の頂部に接着剤30が塗布されるようになる(同図(c))。
【0157】
工程4.
上記基板を他の基板と対向配置させる(同図(d))。
【0158】
工程5.
熱処理を加えることにより、接着剤30を硬化させる。これにより、スペーサ10は各基板のそれぞれに固着された状態となる(同図(e))。
【0159】
なお、この例は、上述した各例の液晶表示装置の構成において適用してもよいことはいうまでもない。
【0160】
参考例1
図15は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図である。
【0161】
同図は、スペーサ10が固定された基板に対向する他の基板側に、該スペーサの頂部が嵌め込まれる凹陥部40を備えている。
【0162】
そして、この凹陥部40はたとえばTFT基板1Aの側の保護膜41に形成されており、その表面に対して底面側において面積の大きないわゆる逆テーパ状となっている。
【0163】
このように構成した場合、スペーサ10は、その頂部が該凹陥部40に食い込んで配置され、TFT基板1Aに対して接着された状態と同様になる。
【0164】
また、図16は、同様の趣旨で構成された他の参考例であり、前記凹陥部40と同様の機能を有する手段を一対の信号線(配線)42の間の溝で構成したものである。
【0165】
そして、この場合、各信号線の互いに対向する辺部が逆テーパ状となっている。 なお、この実施例では、前記凹陥部においてスペーサ10の頂部が食い込むようにして構成されているが、必ずしも、このような構成に限定されることはなく、たとえば比較的ゆとりのある状態でスペーサ10が嵌め込まれるように構成してもよい。
【0166】
このようにした場合、各基板の離間する方向に対してはその移動を規制できない(しかし、この機能はシール材が担当する)が、各基板の水平方向の移動を規制できるようになるからである。
【0167】
また、この場合、スペーサ10と前記凹陥部とで、各基板を対向配置させる際の位置決め手段として用いることもできるようになる。
【0168】
参考例1
図17は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図である。
【0169】
同図は、ゲート線2あるいはドレイン線3等の信号線に重畳されて形成されたスペーサ10を示し、該信号線に沿って形成されたブラックマトリックスBMは、該スペーサ10の近傍にてその幅が該スペーサの近傍で幅広になって形成されている。
【0170】
換言すれば、スペーサ10を被うブラックマトリックスBMは、該スペーサ10の近傍において該スペーサを中心とする径をもつ輪郭を有するパターンとなっている。
【0171】
この場合、この参考例では、配向膜のラビング方向は信号線に沿った方向となっており、該ラビング処理によるスペーサ10に起因する配向乱れはブラックマトリックス10それ自身によって覆い隠されるのが通常であるが、該配向乱れの発生する領域が大きくなってしまう場合があることから、これを事前に解消せんとするものである。
【0172】
なお、この参考例では、配向膜のラビング方向は信号線に沿って形成されたものとしたものであるが、ブラックマトリックスBMを幅広に形成してスペーサ10に起因する配向乱れを覆い隠すという趣旨から、該配向膜のラビング方向は信号線に対して角度を有する方向であっても適用できることはもちろんである。
【0173】
参考例1
図18は本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図で、図17に対応したものとなっている。
【0174】
同図は、まず、図17の場合と異なり、配向膜のラビング方向が図中に示すように、信号線に対して角度(θ)を有するようになっている。
【0175】
この場合、スペーサに起因する配向膜の配向乱れは、信号線に対して角度θの方向に延在して発生するようになる。
【0176】
このため、ブラックマトリックスBMは、特に、該配向乱れが発生している側にて、その延在方向の他の部分の幅よりも大きく形成されている。
【0177】
換言すれば、スペーサ10を被うブラックマトリックスBMは、該スペーサ10の近傍において該スペーサを中心とする径をもつ輪郭を有するが、この径は配向乱れが発生する方向において特に大きく形成されている。
【0178】
そして、このことから、配向膜のラビング方向であってスペーサ10に起因する配向乱れが生じていない方向は、特にブラックマトリックスBMによって覆い隠す必要に乏しいことから、図19に示すように、幅広の部分をブラックマトリックスの一辺側のみに形成するようにしてもよいことはいうまでもない。
【0179】
参考例1
図20は本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図である。
【0180】
同図は、ゲート線2あるいはドレイン線3等の信号線に重畳されて形成されたスペーサ10を示し、該スペーサ10の近傍における該信号線の両脇に遮光金属層50が形成された構成となっている。
【0181】
この参考例では、該遮光金属層50は信号線に分離されて形成され、それらの間の隙間はブラックマトリックスBMによって遮光されるようになっている。
【0182】
そして、この場合も、配向膜のラビング方向は信号線に沿った方向となっており、該ラビング処理によるスペーサ10に起因する配向乱れは信号線あるいはブラックマトリックスBM自身によって覆い隠されるのが通常であるが、該配向乱れの発生する領域が大きくなってしまう場合があることから、これを事前に解消せんとするものである。
【0183】
なお、前記遮光金属膜50は、信号線と同層であってもよく、また、異層であってもよい。
【0184】
遮光金属膜50を信号線と同層で形成する場合、該信号線と一体化して形成することもできる。
【0185】
そして、遮光金属膜50を信号線と異層で形成する場合、該信号線の材料と異なる材料で形成することができる。たとえば該信号線がドレイン線である場合にゲート線あるいは対向電圧信号線と同一の材料で形成することができる。
【0186】
また、配向膜のラビング方向は信号線に沿って形成されたものとしたものであるが、実質的に信号線を幅広に形成してスペーサに起因する配向乱れを覆い隠すという趣旨から、該配向膜のラビング方向は信号線に対して角度を有する方向であっても適用できることはもちろんである。
【0187】
参考例1
図21は、上記参考例と同趣旨の基に形成される遮光金属膜50で、信号線に対して一方の側にのみ形成されたものとなっている。
【0188】
スペーサ10に起因する配向膜に生じる配向乱れの方向に合わせて遮光金属膜50を配置し、該方向と逆の方向には該遮光金属膜50を配置させないようになっている。
【0189】
同図に示した参考例の場合、たとえば、配向膜のラビング処理が信号線とほぼ直交した図中左の方向となっている場合に有効となる。
【0190】
この場合、参考例1と比較すると、画素の開口率を狭める度合いを小さくできるという効果を奏する。
【0191】
参考19
図22は、参考例1と同様に、信号線の両脇に遮光金属膜50をそれぞれ配置した構成となっているが、一方の遮光金属膜50に対して他方の遮光金属膜50は信号線の延在方向に沿って長く形成されたものとなっている。
【0192】
スペーサ10に起因する配向膜の配向乱れの方向に応じて各遮光金属膜50を配置させ、これにより、信号線および各遮光金属膜50(ブラックマトリックスBMも含む)とで構成される遮光領域に、該スペーサ10の近傍にて該スペーサ10を中心とする径を有する輪郭をもたせ、該径を前記ラビング処理の方向のうち配向膜の配向乱れが発生している方向にて大きくさせている。
【0193】
参考例2
上述した参考例における遮光金属膜50は、遮光の機能のみをもたせるものとして構成したものである。
【0194】
しかし、この遮光金属膜50は画素内に存在する電極にその機能をもたせるようにしてもよいことはいうまでもない。
【0195】
図23は、このような場合の一参考例を示すもので、図1に示した画素構成において、ドレイン線2の両脇に位置づけられる共通電極4Aに前記遮光金属膜の機能を兼ね備えさせたものとして構成している。
【0196】
換言すれば、ゲート線2に重畳させてスペーサ10を配置させることなく、共通電極4Aを隣接させて形成されたドレイン線3に重畳させてスペーサ10を配置させることによって、得意遮光金属膜50を形成させることなく、スペーサに起因する配向膜の配向乱れによる不都合を信頼性よく回避できることになる。
【0197】
この場合においても、初期配向方向は特に限定されることはない。
【0198】
参考例2
図24は、本発明による液晶表示装置の他の参考例を示す説明図である。同図(a)は平面図で、同図(b)は同図(a)のb−b線における断面図である。
【0199】
同図において、液晶を介して互いに対向配置されるTFT基板1Aとフィルタ基板1Bとがあり、これら各基板は該液晶を封入するシール材24によって互いに固定されるとともに、該シール材24の形成された部分において所定のギャップが確保されるようになっている。
【0200】
そして、液晶の封入領域すなわちシール材24によって囲まれた領域が表示領域となり、この表示領域内には、この表示領域の各基板のギャップを確保するためのスペーサ10が散在して配置されている。
【0201】
このスペーサ10は、上述した参考例で示したように、一方の基板側に固定されて形成されたもので、この参考例では、該基板と平行な面での断面積が等しく形成されている。
【0202】
そして、このスペーサ10は、前記表示領域をその周辺部(シール材24の近傍)とその周辺部を除く中央部とに区分けした場合、周辺部における個数が中央部における個数よりも少なくなっている。
【0203】
すなわち、これらスペーサ10は表示領域の周辺部における単位当たりの密度が該周辺部を除く中央部における密度より小さく配置されている。
【0204】
ここで、対象とする液晶表示パネルの大型化にともない、前記密度はたとえば1cm2あるいは1mm2の面積内に存在するスペーサ10の密度として想定することが妥当となる。
【0205】
このように構成された液晶表示装置は、表示領域の中央部に配置されるスペーサ群の基板に対する支持力を周辺部に配置されるスペーサ群の基板に対する支持力を強くしていることに他ならない。
【0206】
近年における液晶表示装置はその液晶表示パネルが大型化してきており、シール材24から遠く位置づけられる表示領域の中央部はその周辺部よりもスペーサの基板に対する支持力を大きくしなければ、各基板のギャップをその全域にわたって均一に保持できなくなる不都合を回避せんとするものである。
【0207】
基板に固定されて形成されるスペーサ10は、該基板の全面に形成された該スペーサ10の材料層に、たとえばフォトリソグラフィ技術を用いた選択エッチング(図10に示した構成はフォトリソグラフィ技術だけで形成できる)によって所望のパターンに、しかも、所定の位置に配置できることから、上述した構成のスペーサ10を容易に形成することができる。
【0208】
また、この場合、液晶が封入された領域の周辺部におけるスペーサ10の密度と該周辺部を除く中央部におけるスペーサ10の密度は、周辺部と中央部との境界で段差的に変化するのではなく、周辺部から中央部にかけて滑らかに変化するように配置させるようにしてもよい。
【0209】
このようにした場合、対向する基板のギャップに急俊が部分が生じるのを回避できる効果を奏する。
【0210】
なお、上述した参考例は、たとえば、図中x方向における中央部と周辺部においてスペーサ10の密度を異ならしめるようにし、図中y方向における中央部と周辺部においてスペーサ10の密度を同じように構成してもよいことはいうまでもない。
【0211】
また、上述した参考例は、明細書の他の参考例と合わせて実施できるが、このようにしなくてもよいことはいうまでもない。
【0212】
参考例2
また、参考例2と同様の趣旨で、図25に示すように、表示領域内の各スペーサ10は均等に散在されているが、該表示領域の中央部におけるスペーサ10の基板と平行な面での断面積が周辺部におけるスペーサ10の前記面での断面積より大きくなるように構成してもよい。
【0213】
この場合にも、基板面の全域に形成したスペーサ10の材料層にたとえばフォトリソグラフィ技術を用いた選択エッチング方法を行うことにより各スペーサを容易に形成することができる。
【0214】
さらに、表示領域の中央部のスペーサの材料強度を周辺部のスペーサの材料強度よりも大きくしても同様の効果を得ることができるようになる。
【0215】
参考例2
上述した各スペーサは、表示領域内で任意の個所に容易に配置できることは上述したとおりである。
【0216】
そして、この参考例では、カラー用液晶表示装置において、緑色(G)フィルタが形成されている画素を画する遮光領域以外の他の遮光領域に該スペーサを配置させるようにしたものである。
【0217】
換言すれば、該スペーサは、赤色(R)フィルタが形成されている画素を画する遮光領域あるいは青色(B)フィルタが形成されている画素を画する遮光領域に重畳されるように配置させるようにしたものである。
【0218】
緑色(G)は他の色と比較して最も光透過率が高く、人間の視覚に敏感であることに鑑み、この色を透過する画素の近傍(遮光領域内)に配置させるスペーサによって光漏れを感知させるのを防止する趣旨である。
【0219】
【発明の効果】
以上説明したことから本発明による液晶表示装置によれば、配向乱れによる表示むらのないものを得ることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による液晶表示装置の画素の一参考例を示す平面図である。
【図2】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの断面を示す図である。
【図3】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサによる不都合を示す説明図である。
【図4】 本発明による液晶表示装置の画素の他の参考例を示す平面図である。
【図5】 本発明による液晶表示装置の画素の他の参考例を示す平面図である。
【図6】 本発明による液晶表示装置の画素の他の参考例を示す平面図である。
【図7】 本発明による液晶表示装置の画素の他の参考例を示す平面図である。
【図8】 本発明による液晶表示装置の画素の実施例を示す断面図である。
【図9】 本発明による液晶表示装置の画素の他の参考例を示す断面図である。
【図10】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの他の参考例を示す断面図である。
【図11】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの配置の参考例を示す平面図である。
【図12】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの他の参考例を示す断面図である。
【図13】 図12に示すスペーサの製造方法の一例を示す工程図である。
【図14】 図12に示すスペーサの製造方法の他の例を示す工程図である。
【図15】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの他の参考例を示す断面図である。
【図16】 本発明による液晶表示装置に用いられるスペーサの他の参考例を示す断面図である。
【図17】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。
【図18】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。
【図19】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。
【図20】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。
【図21】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。
【図22】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。
【図23】 本発明による液晶表示装置のスペーサの近傍における他の参考例を示す平面図である。
【図24】 本発明による液晶表示装置のスペーサの配置状態の一参考例を示す平面図である。
【図25】 本発明による液晶表示装置のスペーサの配置状態の一参考例を示す平面図である。
【符号の説明】
1……透明基板、1A……TFT基板、2……ゲート線、3……ドレイン線、3A……ドレイン電極、4……対向電圧信号線、4A……対向電極、5……画素電極、5A……ソース電極、6……半導体層、7……カラーフィルタ、9……配向膜、10……スペーサ、TFT……薄膜トランジスタ、BM……ブラックマトリックス。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device including a spacer interposed between transparent substrates disposed to face each other via liquid crystal.
[0002]
[Prior art]
By interposing a spacer between the transparent substrates arranged to face each other via the liquid crystal, the liquid crystal layer thickness can be made constant and display unevenness can be prevented.
[0003]
As this spacer, for example, there is a bead-like one, and the other substrate is arranged to face the other substrate in a state where the spacer is scattered on the liquid crystal side surface of the one substrate.
[0004]
However, since this bead-shaped spacer is scattered on uneven substrate surfaces, some spacers are positioned in the recesses and the other spacers are positioned in the projections, and even if the other substrate is placed opposite, those substrates The gap may not be as prescribed.
[0005]
On the other hand, as another spacer, there is one which is formed in advance on a liquid crystal side surface of one substrate and fixed to a predetermined portion of the substrate.
[0006]
In this case, by forming the spacer in, for example, the concave portion of the substrate surface with the unevenness, when the other substrate is disposed to face the other, the gap between the substrates can be set as predetermined.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the latter spacer, after forming it, the spacer is covered to form a material film of the alignment film, and the material film in which the protrusion is generated by the spacer must be subjected to an alignment treatment, It was confirmed that so-called alignment disorder was caused in the alignment film.
[0008]
That is, the alignment process is performed by rotating the roller in a certain direction along the material film surface, and at this time, the predetermined alignment cannot be performed on the back surface of the projection portion on which the spacer is formed. .
[0009]
Since the spacers are formed in the display portion which is a set of pixels, this alignment disorder causes a display state different from the other portions, which causes so-called display unevenness.
[0010]
The present invention has been made based on such circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device free from display unevenness due to alignment disorder.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
Of the inventions disclosed in this application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.
[0012]
That is, the liquid crystal display device according to the present invention includes a spacer fixed in the light shielding region of the substrate, and the width of the light shielding region in the vicinity of the spacer is larger than the width of other portions in the extending direction of the light shielding region. It is characterized by that.
[0013]
In the liquid crystal display device configured as described above, the spacer is disposed in the light shielding region, and the width of the surrounding light shielding region is larger than that of the other part. The area can be completely obscured.
[0014]
For this reason, it becomes impossible to recognize the light that passes through this alignment disorder, and the occurrence of display unevenness can be suppressed.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of a liquid crystal display device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0016]
[referenceExample 1)
  FIG. 1 is a plan view showing one pixel of each pixel of a liquid crystal display device called a so-called lateral electric field method.
[0017]
  Where thisreferenceIn the liquid crystal display device of the example, the liquid crystal having positive dielectric anisotropy is used.
[0018]
Each pixel is arranged in a matrix to form a display unit. For this reason, the configuration of the pixel shown in FIG. 1 is the same as the configuration of the adjacent pixels on the left and right and top and bottom.
[0019]
First, scanning signal lines (gate lines) 2 extending in the x direction in the figure on the liquid crystal side surface of one transparent substrate 1 among the transparent substrates opposed to each other through the liquid crystal are formed by a chromium layer, for example. Yes. As shown in the figure, the gate line 2 is formed, for example, on the lower side of the pixel region so that a region that substantially functions as a pixel is as large as possible.
[0020]
The gate line 2 is supplied with a gate signal from outside the display unit, and drives a thin film transistor TFT described later.
[0021]
In addition, a counter voltage signal line 4 extending in the x direction in the drawing is formed of, for example, the same material as that of the gate line 2 substantially at the center of the pixel region.
[0022]
A counter electrode 4A is integrally formed on the counter voltage signal line 4, and the counter electrode 4A is formed in a substantially 'H'-shaped pattern together with the counter voltage signal line 4 in the pixel region.
[0023]
The counter electrode 4 </ b> A is configured such that a reference signal with respect to a video signal supplied to the pixel electrode 5 described later is supplied via the counter voltage signal line 4. In addition, an electric field having an intensity corresponding to the video signal is generated.
[0024]
  This electric field has a component parallel to the surface of the transparent substrate 1, and the light transmittance of the liquid crystal is controlled by the electric field composed of this component. thisreferenceThis is the reason why the liquid crystal display device described as an example is called a so-called lateral electric field method.
[0025]
A reference signal is supplied to the counter voltage signal line 4 from outside the display unit.
[0026]
An insulating film (not shown) made of, for example, a silicon nitride film is formed on the surface of the transparent substrate 1 on which the gate line 2 and the counter voltage signal line 4 are thus formed, including the gate line 2 and the counter voltage signal line 4. ) Is formed.
[0027]
This insulating film functions as a gate insulating film in a formation region of a thin film transistor TFT described later, and an interlayer insulating film for the gate line 2 and the counter voltage signal line 4 in a formation region of a video signal line (drain line) 3 described later. And a function as a dielectric film in a region where a capacitor element Cadd described later is formed.
[0028]
In such an insulating film, a thin film transistor TFT is formed so as to overlap with the gate line 2, and a semiconductor layer 6 made of, for example, amorphous Si is formed there.
[0029]
Then, by forming the drain electrode 3A and the source electrode 5A on the upper surface of the semiconductor layer 6, a thin film transistor having a so-called inverted stagger structure having a part of the gate line 2 as a gate electrode is formed.
[0030]
Here, the drain electrode 3A and the source electrode 5A on the semiconductor layer 6 are formed simultaneously with the pixel electrode 5 when the drain line 3 is formed, for example.
[0031]
That is, a drain line 3 extending in the y direction in the figure is formed, and a drain electrode 3 A formed integrally with the drain line 3 is formed on the semiconductor layer 6.
[0032]
Here, as shown in the drawing, the drain line 3 is formed on the left side of the pixel region, for example, so that the region that substantially functions as a pixel is as large as possible.
[0033]
The source electrode 5A is formed at the same time as the drain line 3, and is formed integrally with the pixel electrode 5 at this time.
[0034]
The pixel electrode 5 is formed to extend in the y direction in the figure so as to travel between the counter electrodes 4A described above. In other words, the counter electrodes 4A are arranged at approximately equal intervals on both sides of the pixel electrode 5, and an electric field is generated between the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A.
[0035]
Here, as is apparent from the figure, the pixel electrode 5 is formed in, for example, an inverted “<”-shaped pattern bent with the counter voltage signal line 4 as a boundary. Each of the counter electrodes 4 </ b> A opposed to 5 is configured to change its width so as to be separated from the pixel electrode 5 in parallel.
[0036]
In other words, when the bent pixel electrode 5 has a uniform width in the longitudinal direction as shown in the figure, the counter electrode 4A positioned on both sides of the pixel electrode 5 is on the drain line 3 side. It is formed in parallel to the drain line 3 and in parallel with the pixel electrode 5 on the side on the pixel electrode 5 side.
[0037]
Thus, the direction of the electric field E generated between the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A is relative to the counter voltage common line 4 in the lower pixel region in the figure with the counter voltage common line 4 as a boundary. (−) Θ, and (+) θ with respect to the counter voltage common line 4 in the upper pixel region.
[0038]
As described above, the direction of the electric field E in the region of one pixel (not necessarily limited to the region of one pixel but may be a relationship with other pixels) is different from a certain initial alignment direction. In contrast, the liquid crystal molecules are rotated in opposite directions to change the light transmittance.
[0039]
By doing so, the inconvenience due to the viewing angle dependence of the liquid crystal display panel, which causes a luminance reversal phenomenon when the viewpoint is tilted with respect to the main viewing angle direction of the liquid crystal display panel, is eliminated.
[0040]
  In addition, thisreferenceIn the example, the initial alignment direction of the liquid crystal molecules is substantially matched with the extending direction of the drain line 3, and the rubbing direction in the alignment film described later is made along the drain line 3.
[0041]
For this reason, the electric field direction θ described above is set to an appropriate value in relation to the initial alignment direction. In general, the absolute value of the angle of the electric field E with respect to the gate line 2 is smaller than the absolute value of the angle of the electric field E with respect to the drain line 3.
[0042]
In the pixel electrode 5, a portion overlapping the counter voltage signal line 4 is formed so as to increase its area, and a capacitive element Cadd is formed between the pixel electrode 5 and the counter voltage signal line 4. In this case, the dielectric film is the insulating film described above.
[0043]
The capacitive element Cadd is formed, for example, to store a video signal supplied to the pixel electrode 5 for a relatively long time. That is, when the scanning signal is supplied from the gate line 2, the thin film transistor TFT is turned on, and the video signal from the drain line 3 is supplied to the pixel electrode 5 through the thin film transistor TFT. Thereafter, even when the thin film transistor TFT is turned off, the video signal supplied to the pixel electrode 5 is accumulated by the capacitor Cadd.
[0044]
A protective film (not shown) made of, for example, a silicon nitride film is formed over the entire surface of the transparent substrate 1 formed in this way, so that direct contact of the thin film transistor TFT with the liquid crystal can be avoided, for example. It has become.
[0045]
Further, an alignment film (not shown) that determines the initial alignment direction of the liquid crystal is formed on the upper surface of the protective film. This alignment film is formed, for example, by applying a synthetic resin film and rubbing the surface along the extending direction of the drain line as described above.
[0046]
The transparent substrate thus surface-treated is called a so-called TFT substrate 1A, and a transparent substrate called a so-called filter substrate 1B is disposed opposite to the surface on which the alignment film is formed with a liquid crystal interposed. A liquid crystal display panel will be completed.
[0047]
The filter substrate 1B includes a black matrix (the outer contour of which is shown in FIG. 1) BM that defines the pixel region on the liquid crystal side surface, and an opening (a central portion excluding the periphery of the pixel region) of the black matrix. And an alignment film formed so as to be in contact with the liquid crystal.
[0048]
Here, the alignment film on the filter substrate 1B side is covered with, for example, a synthetic resin film, and the surface thereof is rubbed along the extending direction of the drain line 3 as described above, like the TFT substrate 1A side. It is formed by.
[0049]
  In a so-called lateral electric field type liquid crystal display device, the alignment directions in the respective alignment films arranged via the liquid crystal are almost the same direction,referenceIn the case of the example, it is substantially matched with the extending direction of the drain line 3.
[0050]
Further, a spacer 10 is interposed between the TFT substrate 1A and the filter substrate 1B, which are arranged to face each other via the liquid crystal, in order to maintain a gap between them. As described above, this is to prevent the occurrence of display unevenness by making the layer thickness of the liquid crystal uniform.
[0051]
  The spacer 10 in this case is, for example, fixed in advance at a predetermined location on the filter substrate 1B side.referenceIn the case of the example, it is provided so as to overlap the drain line 3.
[0052]
FIG. 2 is a view showing a cross section taken along line II-II in FIG. A black matrix BM is formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate on the filter substrate 1B side, and a protrusion is formed in a part of the black matrix BM so that the protrusion functions as the spacer 10. It has become.
[0053]
This protrusion can be formed by, for example, a selective etching method using a well-known photolithography technique by forming a light shielding material layer thicker than usual on the entire surface. Thereafter, the black matrix BM can be formed by forming openings again by a selective etching method using a photolithography technique.
[0054]
As shown in FIG. 1, the black matrix BM is formed so as to cover the gate line 2 and the vicinity thereof, the drain line 3 and the vicinity thereof, and an opening thereof covers an area between the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A. It is formed so as to be exposed and cover the end portions of the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A.
[0055]
If the aperture of the black matrix is large, the aperture ratio of the pixel can be further improved. However, an unnecessary electric field (generated between the drain line 3 and the counter electrode 4A) and electric field disturbance (opposed to the pixel electrode 5). The maximum size is set to such a degree that it is sufficient to cover up (occurs in the vicinity of the end of the electrode 4A).
[0056]
A color filter 7 is formed in the opening of the black matrix BM. A flat film 8 is formed over the color filter 7, and an alignment film 9 is formed so as to cover the flat film 8.
[0057]
As described above, this alignment film 9 has been subjected to a rubbing process along the direction in which the drain line 3 extends. Specifically, as shown in FIG. The drain line 3 is moved in the contacted state.
[0058]
In this case, as shown in the figure, the roller 100 is lifted by the protrusions in the portion where the spacer 10 is formed, and the orientation of the rear side of the spacer 10 is not sufficient (the occurrence of orientation disorder 200). Occurs.
[0059]
However, as shown in FIG. 1, this portion is generated in the pre-formed black matrix forming region, and there is an effect that the display unevenness due to the alignment disorder is not worried. Become.
[0060]
  In addition, thisreferenceIn the example, the alignment disorder caused by the spacers 10 is configured to be positioned in the black matrix BM. However, it is needless to say that the black matrix BM may not be present particularly in this portion.
[0061]
This is because the alignment disorder caused by the spacer 10 superimposed on the drain line 3 is covered by the drain line 3 serving as a light-shielding region and has the same effect.
[0062]
Further, the counter voltage signal line 4 connected to the counter electrode 4A can be configured to extend in parallel with the drain line 3, and in this case, the spacer 10 is superimposed on the counter voltage signal line 4. It goes without saying that the same effect can be obtained even if configured as described above. This is because the counter voltage signal line 4 also becomes a light shielding region of the spacer 10.
[0063]
[referenceExample 2)
  FIG. 4 shows another liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example, and is a figure corresponding to FIG.
[0064]
In the figure, the patterns of the gate line 2, the counter voltage signal line 4, the counter electrode 4A, the drain line 3, the pixel electrode 5, and the like are the same as those in FIG.
[0065]
In the configuration different from that in FIG. 1, first, the liquid crystal used has negative dielectric anisotropy.
[0066]
The rubbing direction (initial alignment direction) of the alignment film on each side of the TFT substrate 1A and the filter substrate 1B is made along the extending direction of the gate line 2.
[0067]
Further, the spacer 10 fixed to the substrate is arranged so as to overlap the gate line 2.
[0068]
The alignment disorder of the alignment film caused by the spacer 10 occurs along the gate line 2, and in this case, the alignment disorder is covered by the light shielding region by the gate line 2 or the black matrix BM.
[0069]
[referenceExample 3)
  FIG. 5 shows another liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example, and is a figure corresponding to FIG.
[0070]
  And thisreferenceIn the liquid crystal display device of the example, the liquid crystal having positive dielectric anisotropy is used. The initial alignment direction of the liquid crystal determined by the rubbing direction of the alignment film is formed along the gate line 2.
[0071]
Compared to the case of FIG. 1, first, the patterns of the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A are different.
[0072]
That is, the pixel electrode 5 and the counter electrode 4A are configured to be arranged substantially in parallel with the gate line.
[0073]
Specifically, the pixel electrode 5 extends along the drain line 3 adjacent to the source electrode 5A of the thin film transistor TFT, and the pixel electrode 5 that substantially functions in the pixel region extends from the extended portion. ing.
[0074]
In this case, with the counter voltage signal line 4 as a boundary, each pixel electrode 5 is formed at an angle of (−) θ with respect to the gate line 2 on the upper side in the figure, and each pixel on the lower side. The electrodes are respectively formed with an angle of (+) θ with respect to the gate line 2.
[0075]
The counter electrode 4A is formed to extend from the extending portion of the counter voltage signal line 4 along the other drain line (not shown) adjacent to the drain line 3 into the pixel region.
[0076]
The counter electrode 4A in this case extends so as to position the pixel electrode 5 in between and in parallel. Therefore, some of these counter electrodes 4A are formed with their widths changed.
[0077]
The electric field E generated between the pixel electrode and the counter electrode configured as described above is different between the upper side direction and the lower side direction in the figure with the counter voltage signal line 4 as a boundary. .
[0078]
However, in either case, the absolute value of the angle of each electric field E with respect to the gate line 2 is larger than the absolute value of the angle with respect to the drain line 3.
[0079]
That is, this allows the liquid crystal molecules to be rotated in opposite directions with respect to a certain initial alignment direction (the direction along the gate line 2), thereby eliminating the above-described disadvantage due to the viewing angle dependency of the liquid crystal display panel. It has become.
[0080]
That is, the initial alignment direction is a direction along the gate line 2, and the rubbing direction of the alignment film on each side of the TFT substrate 1 A and the filter substrate 1 B is substantially aligned with the extending direction of the gate line 2. It has been.
[0081]
The spacer 10 fixed to the substrate is arranged so as to overlap the gate line 2.
[0082]
The alignment disorder of the alignment film caused by the spacer 10 occurs along the gate line 2. Even in this case, the alignment disorder is covered by the light shielding region by the gate line 2 or the black matrix BM.
[0083]
[referenceExample 4)
  FIG. 6 shows another liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example, and becomes a figure corresponding to FIG.
[0084]
In the figure, patterns of the gate line 2, the counter voltage signal line 4, the counter electrode 4A, the drain line 3, the pixel electrode 5, and the like are the same as those in FIG.
[0085]
The configuration different from the case of FIG. 5 is that the liquid crystal used has a negative dielectric anisotropy.
[0086]
The rubbing direction (initial alignment direction) of the alignment film on each side of the TFT substrate 1A and the filter substrate 1B is made along a direction substantially orthogonal to the gate line 2.
[0087]
Further, the spacer 10 fixed to the substrate is arranged so as to overlap the drain line 3.
[0088]
The alignment disorder of the alignment film caused by the spacer 10 occurs along the drain line 3, and in this case, the alignment disorder is covered by the light shielding region by the drain line 3 or the black matrix BM.
[0089]
[referenceExample 5)
  FIG. 7 shows another liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is explanatory drawing which shows an example.
[0090]
FIG. 4A shows the state of the arrangement of each pixel of the liquid crystal display device. In the figure, a black frame indicates a black matrix BM, and an opening thereof indicates each pixel.
[0091]
This is a so-called delta arrangement, and each pixel group along an adjacent gate line (extending in the x direction in the figure) is arranged with a 1/2 pitch shift. The arrangement of such pixels is excellent in color display quality because three pixels of R (red), G (green), and B (blue) corresponding to one pixel in color display are arranged close to each other. It is known that it can be done.
[0092]
In such a case, the spacer fixed to the substrate is disposed so as to overlap the gate line, and the rubbing direction (initial alignment direction) of the alignment film is a direction along the gate line.
[0093]
With such a configuration, the alignment disorder of the alignment film caused by the spacer is disposed in the black matrix formation region and is not exposed from the opening, so that the display quality is not deteriorated. .
[0094]
More specifically, suppose that the spacer fixed to the substrate is arranged so as to overlap the drain line, and the rubbing direction (initial alignment direction) of the alignment film is orthogonal to the gate line in the configuration of FIG. When the direction is set, the alignment disorder of the alignment film due to the spacer 10 is formed to reach the lower (or upper) pixel region (within the opening of the black matrix) shifted by 1/2 pitch, and the display quality deteriorates. Because it will bring about.
[0095]
  And thisreferenceIn the liquid crystal display device shown in the example, when the lateral electric field method is adopted, for example, as described abovereferenceAmong the examples, the pixel configurations of FIGS. 4 and 5 can be obtained.
[0096]
4 and 5, the spacer 10 fixed to the substrate is disposed so as to overlap the gate line 2, and the rubbing direction (initial alignment direction) of the alignment film is along the gate line 2. Because it is a direction.
[0097]
  In addition, thisreferenceIt goes without saying that a so-called vertical electric field method can be adopted in the liquid crystal display device shown in the example.
[0098]
In other words, in the vertical electric field type liquid crystal display device, the alignment films on the transparent substrates facing each other through the liquid crystal are rubbed in directions orthogonal to each other.
[0099]
For this reason, when the spacer is fixed to the TFT substrate side, the spacer is disposed at a position overlapping the gate line, and the rubbing treatment direction of the alignment film on the TFT substrate side is changed to the direction along the gate line. That's fine. Further, when fixing the spacer to the filter substrate side, the spacer is disposed at a position overlapping the gate line, and the rubbing treatment direction of the alignment film on the filter substrate side is a direction along the gate line. Good.
[0100]
[referenceExample 6)
  AbovereferenceSimilar to Example 5, a so-called delta arrangement is known in which each pixel group along an adjacent drain line is shifted by 1/2 pitch.
[0101]
In this case, the spacer fixed to the substrate is disposed so as to overlap the drain line, and the rubbing direction (initial alignment direction) of the alignment film is a direction along the drain line.
[0102]
  And thisreferenceWhen adopting the horizontal electric field method in the liquid crystal display device shown in the example, for example, as described abovereferenceAmong the examples, the pixel configuration shown in FIGS. 1 and 6 can be obtained.
[0103]
1 and 6, the spacer 10 fixed to the substrate is disposed so as to overlap the drain line 3, and the rubbing direction (initial alignment direction) of the alignment film is substantially orthogonal to the gate line. Because it is a direction.
[0104]
Further, in the case of a vertical electric field type liquid crystal display device, when the spacer is fixed to the TFT substrate side, the spacer is disposed at a position overlapping the drain line, and the direction of rubbing treatment of the alignment film on the TFT substrate side May be the direction along the drain line. When the spacer is fixed on the filter substrate side, the spacer is disposed at a position overlapping the drain line, and the rubbing treatment direction of the alignment film on the filter substrate side is a direction along the drain line. Good.
[0105]
[referenceExample 7)
  Mentioned abovereferenceExample 6 describes a vertical electric field type liquid crystal display device in which pixels are arranged in a delta arrangement.
[0106]
  However, even in a vertical electric field type liquid crystal display device in which the pixels are not delta-arrangedReference example mentioned aboveCan be applied.
[0107]
As described above, in the vertical electric field type liquid crystal display device, the rubbing directions of the alignment films of the transparent substrates facing each other through the liquid crystal are orthogonal, and the rubbing direction of the alignment film on one substrate side is arbitrary. Can be set.
[0108]
Therefore, when the spacer is fixed to the TFT substrate side and the rubbing direction of the alignment film on the TFT substrate side is set along the gate line, the spacer is arranged at a position overlapping the gate line. Good. Further, when the spacer is fixed to the filter substrate side and the rubbing direction of the alignment film on the TFT substrate side is set along the direction substantially perpendicular to the gate line, the spacer is arranged at a position overlapping the drain line. What should I do?
[0109]
Further, when the spacer is fixed to the TFT substrate side and the rubbing direction of the alignment film on the TFT substrate side is set along the direction orthogonal to the gate line, the spacer is arranged at a position overlapping the drain line. You can do it. Further, when the spacer is fixed to the filter substrate side and the rubbing direction of the alignment film on the TFT substrate side is set along the gate line, the spacer may be disposed at a position overlapping the gate line. .
[0110]
[ImplementationExample)
  FIG. 8 shows a liquid crystal display device according to the present invention in the horizontal electric field mode.FruitIt is a figure which shows an Example.
[0111]
This figure is a cross-sectional view taken along one of the gate lines of the liquid crystal display device, and is provided with a spacer 10 fixed on the side of the filter substrate 1B facing the TFT substrate 1A.
[0112]
The spacer 10 includes a spacer (referred to as a first spacer 10B: present in the region B in the figure) that holds a gap between the substrates, and a spacer (in particular, overlapped on both ends of each gate line ( The second spacer 10A is present in the region A in the figure).
[0113]
Further, the conductive layer 21 is formed on the surface of the filter substrate 1B on the liquid crystal side so as to overlap each gate line on the TFT substrate 1A side.
[0114]
In this case, each of these conductive layers 21 is inevitably formed in a state of being covered with the second spacer 10A, and the electrical connection with the gate line 2 disposed opposite to the second spacer 10A is made. Will be made.
[0115]
For this reason, the gate line 2 includes a bypass circuit separately from the original signal line. Even if the gate line 2 is disconnected, the disconnection is protected by the bypass circuit. It becomes like this.
[0116]
In the above-described embodiment, the protection circuit for the gate line 2 has been described. Needless to say, the protection circuit for the drain line 3 can be applied as it is. In this case, the gate line 2 in the figure is replaced with the drain line 3.
[0117]
  In addition, this Example is the above-mentioned eachreferenceNeedless to say, the present invention may be applied to the configuration of a horizontal electric field type liquid crystal display device.
[0118]
[referenceExample8]
  FIG. 9 shows another example of the vertical electric field type liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a figure which shows an example.
[0119]
This figure is a cross-sectional view taken along one of the gate lines 2 of the liquid crystal display device, and is provided with a spacer 10 fixed on the side of the filter substrate 1B facing the TFT substrate 1A. .
[0120]
The spacer 10 is a spacer (referred to as a first spacer: existing in the region B in the figure) 10B that holds a gap between the substrates, and in particular, a spacer (first 3A (presented in the region A in the figure) 10A).
[0121]
The third spacer 10A is formed simultaneously with the first spacer 10B at the time of formation.
[0122]
A common electrode (transparent electrode) 22 common to each pixel is formed on the liquid crystal side surface of the filter substrate 1B so as to cover the spacers.
[0123]
Also, a conductive layer 23 electrically connected to the common electrode 22 covering the third spacer 10A is formed on the surface of the TFT substrate 1A that contacts the third spacer 10A among the spacers.
[0124]
The conductive layer 23 extends beyond the sealing material 24 on the TFT substrate 1A, and is connected to a terminal for supplying a reference signal to the common electrode 22.
[0125]
Therefore, when a reference signal is supplied to the terminal on the TFT substrate 1A, the reference signal is supplied to the common electrode on the filter substrate 1B side through the third spacer 10A.
[0126]
  The liquid crystal display device configured as described above has an effect that it is not necessary to particularly provide conductive means for drawing the common electrode 22 to the surface of the TFT substrate 1A. In addition, thisreferenceExamples are for each of the abovereferenceNeedless to say, the present invention may be applied to the configuration of a vertical electric field type liquid crystal display device.
[0127]
[referenceExample9]
  Each of the abovereferenceIn the example, the spacer fixed on the TFT substrate side or the spacer fixed on the filter substrate side has been described.
[0128]
However, when it is particularly necessary to prevent deterioration of the characteristics of the thin film transistor, it is preferable to fix the spacer on the filter substrate side.
[0129]
This is because when the spacer is fixed on the TFT substrate side, the selective etching process is increased by the photolithography technique for forming the spacer, and the thin film transistor is deteriorated by the chemicals used therefor.
[0130]
In addition, when it is necessary to accurately position the spacer with respect to the TFT substrate, it is preferable to fix the spacer on the TFT substrate side.
[0131]
When the spacer is fixed on the filter substrate side, the filter substrate may be positioned opposite to the TFT substrate, and the spacer may not be positioned accurately with respect to the TFT substrate. Because.
[0132]
[referenceExample10]
  FIG. 10 is a cross-sectional view showing details of the spacer 10 formed to be fixed to the filter substrate 1B side.
[0133]
A black matrix BM and a color filter 7 are formed on the liquid crystal side surface of the filter substrate 1B, and a flat film 8 made of a thermosetting resin film is formed on the upper surface of the black matrix BM and the color filter 7.
[0134]
A spacer 10 is formed at a predetermined position of the flat film 8, and the spacer 10 is made of a photocurable resin film.
[0135]
  By forming the spacer 10 with a photo-curable resin film, it is not necessary to perform a selective etching step, so that the number of manufacturing steps can be reduced. In addition, thisreferenceThe example is described aboveExamplesNeedless to say, each of the configurations may be applied.
[0136]
Moreover, it is not necessarily limited to the filter substrate 1B side, and can be applied to the case of forming on the TFT substrate 1A side.
[0137]
[referenceExample 11]
  FIG. 11A is a diagram showing the spacers 10 arranged so as to be superimposed on the black matrix BM that defines the outline of each pixel in the display unit.
[0138]
The spacers 10 arranged in this way are arranged uniformly over the entire display portion, but one spacer 10 is arranged for substantially the same number of pixels adjacent to each other.
[0139]
The number of spacers 10 in the display portion is reduced, and accordingly, the alignment disturbance caused by the spacers is reduced.
[0140]
As a result, the effect of preventing contrast caused by light leakage (particularly in the case of black display) can be achieved.
[0141]
[referenceExample 12]
  FIG. 11 (b)referenceExample 11Similarly to the above, the number of spacers 10 in the indicated portion is reduced, and the arrangement is not uniform and random (no uniformity).referenceExample 11Is different.
[0142]
As a human visual characteristic, it is easy to recognize a light leakage portion in a repeated pattern. Therefore, the inconvenience is eliminated by arranging the spacers without uniformity.
[0143]
[referenceExample 13]
  FIG. 12 shows another liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is explanatory drawing which shows an example, and is a figure corresponding to FIG. 2 or FIG.
[0144]
In the figure, an adhesive 30 is interposed at the contact portion of the spacer 10 between the transparent substrate on the side where the spacer 10 is fixed and another transparent substrate facing the transparent substrate.
[0145]
The contact portion of the spacer 10 is a contact portion between the alignment films, and since these are the same material, there is a disadvantage that the fixing force is weak.
[0146]
Therefore, by using, for example, a Si coupling agent as the adhesive, it is possible to ensure the reliability of holding the gap between the transparent substrates.
[0147]
  Next, a manufacturing method of a liquid crystal display device having such a configuration will be described.One caseWill be described with reference to FIG.
[0148]
Step 1.
A spacer 10 is formed on one substrate, and an alignment film is formed covering the spacer 10 (FIG. 1A).
[0149]
Step 2.
The substrate is brought close to a container filled with the adhesive, and the surface of the adhesive 30 is brought into contact with the top of the spacer 10 ((b) in the figure).
[0150]
Step 3.
As a result, the adhesive 30 is applied to the top of the spacer 10 (FIG. 3C).
[0151]
Step 4.
The said board | substrate is arrange | positioned facing another board | substrate (the figure (d)).
[0152]
Step 5.
By applying heat treatment, the adhesive 30 is cured. As a result, the spacer 10 is fixed to each substrate (FIG. 5E).
[0153]
  In addition to the method of manufacturing the liquid crystal display device having the above-described configuration.ExampleWill be described with reference to FIG.
[0154]
Step 1.
A spacer 10 is formed on one substrate, and an alignment film is formed covering the spacer 10 (FIG. 1A).
[0155]
Step 2.
An apparatus including a roller 31 is prepared in a container filled with the adhesive 30, and the adhesive that adheres to the surface of the roller 31 by rotation of the roller 31 is applied to the top of the spacer (FIG. 5B).
[0156]
Step 3.
As a result, the adhesive 30 is applied to the top of the spacer 10 (FIG. 3C).
[0157]
Step 4.
The said board | substrate is arrange | positioned facing another board | substrate (the figure (d)).
[0158]
Step 5.
By applying heat treatment, the adhesive 30 is cured. As a result, the spacer 10 is fixed to each substrate (FIG. 5E).
[0159]
  In addition, thisExampleMentioned aboveExamplesNeedless to say, the present invention may be applied to the configuration of the liquid crystal display device.
[0160]
[referenceExample 14]
  FIG. 15 shows another liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is explanatory drawing which shows an example.
[0161]
In the figure, a concave portion 40 into which the top portion of the spacer is fitted is provided on the other substrate side facing the substrate to which the spacer 10 is fixed.
[0162]
The recess 40 is formed, for example, in the protective film 41 on the TFT substrate 1A side, and has a so-called reverse taper shape having a large area on the bottom surface side with respect to the surface.
[0163]
When configured in this manner, the spacer 10 is arranged in such a manner that its top portion is inserted into the recessed portion 40 and bonded to the TFT substrate 1A.
[0164]
  In addition, FIG. 16 shows other configurations configured with the same purpose.referenceThis is an example, and means having the same function as the recessed portion 40 is configured by a groove between a pair of signal lines (wirings) 42.
[0165]
In this case, opposite sides of each signal line are inversely tapered. In this embodiment, the top portion of the spacer 10 bites into the recessed portion. However, the configuration is not necessarily limited to such a configuration. For example, the spacer 10 is relatively relaxed. May be configured to be fitted.
[0166]
In this case, the movement of each substrate cannot be restricted in the direction of separation (but this function is handled by the sealing material), but the horizontal movement of each substrate can be restricted. is there.
[0167]
In this case, the spacer 10 and the recessed portion can also be used as positioning means when the substrates are arranged to face each other.
[0168]
[referenceExample 15]
  FIG. 17 shows another liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is explanatory drawing which shows an example.
[0169]
The figure shows a spacer 10 formed so as to overlap with a signal line such as a gate line 2 or a drain line 3, and the black matrix BM formed along the signal line has a width in the vicinity of the spacer 10. Is formed wide in the vicinity of the spacer.
[0170]
In other words, the black matrix BM covering the spacer 10 has a pattern having a contour with a diameter centered on the spacer in the vicinity of the spacer 10.
[0171]
  In this case, thisreferenceIn the example, the rubbing direction of the alignment film is a direction along the signal line, and the alignment disorder caused by the spacer 10 due to the rubbing process is usually covered by the black matrix 10 itself. Since the region where the disturbance occurs may become large, this is to be solved in advance.
[0172]
  In addition, thisreferenceIn the example, the rubbing direction of the alignment film is formed along the signal line. However, for the purpose of covering the alignment disorder caused by the spacer 10 by forming the black matrix BM wide, the alignment film is formed. Needless to say, the rubbing direction of the film can be applied even if the film has an angle with respect to the signal line.
[0173]
[referenceExample 16]
  FIG. 18 shows another example of the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is explanatory drawing which shows an example, and corresponds to FIG.
[0174]
In the drawing, unlike the case of FIG. 17, the rubbing direction of the alignment film has an angle (θ) with respect to the signal line as shown in the drawing.
[0175]
In this case, the alignment disorder of the alignment film caused by the spacer occurs in the direction of the angle θ with respect to the signal line.
[0176]
For this reason, the black matrix BM is formed to be larger than the width of the other part in the extending direction, particularly on the side where the alignment disorder is generated.
[0177]
In other words, the black matrix BM covering the spacer 10 has a contour with a diameter centered on the spacer in the vicinity of the spacer 10, and this diameter is formed particularly large in the direction in which the alignment disorder occurs. .
[0178]
From this, the rubbing direction of the alignment film and the direction in which the alignment disorder due to the spacer 10 does not occur is not particularly required to be covered by the black matrix BM. Therefore, as shown in FIG. Needless to say, the portion may be formed only on one side of the black matrix.
[0179]
[referenceExample 17]
  FIG. 20 shows another liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is explanatory drawing which shows an example.
[0180]
The figure shows a spacer 10 formed so as to overlap with a signal line such as a gate line 2 or a drain line 3, and a configuration in which a light shielding metal layer 50 is formed on both sides of the signal line in the vicinity of the spacer 10. It has become.
[0181]
  thisreferenceIn the example, the light shielding metal layer 50 is formed by being separated into signal lines, and the gap between them is shielded by the black matrix BM.
[0182]
Also in this case, the rubbing direction of the alignment film is a direction along the signal line, and the alignment disorder caused by the spacer 10 due to the rubbing process is usually covered by the signal line or the black matrix BM itself. However, there is a case where the region where the alignment disorder occurs is increased, and this is to be solved in advance.
[0183]
The light shielding metal film 50 may be the same layer as the signal line or may be a different layer.
[0184]
When the light shielding metal film 50 is formed in the same layer as the signal line, it can be formed integrally with the signal line.
[0185]
When the light shielding metal film 50 is formed in a different layer from the signal line, it can be formed from a material different from the material of the signal line. For example, when the signal line is a drain line, it can be formed of the same material as the gate line or the counter voltage signal line.
[0186]
In addition, the rubbing direction of the alignment film is formed along the signal line. However, the alignment film is substantially formed to widen the signal line so as to cover the alignment disorder caused by the spacer. Needless to say, the rubbing direction of the film can be applied even if the film has an angle with respect to the signal line.
[0187]
[referenceExample 18]
  FIG.referenceThe light shielding metal film 50 is formed on the same side as the example, and is formed only on one side with respect to the signal line.
[0188]
The light shielding metal film 50 is arranged in accordance with the direction of the alignment disorder generated in the alignment film caused by the spacer 10, and the light shielding metal film 50 is not arranged in the direction opposite to the direction.
[0189]
  Shown in the figurereferenceIn the case of the example, for example, this is effective when the rubbing process of the alignment film is in the left direction in the figure substantially orthogonal to the signal line.
[0190]
  in this case,referenceExample 17As compared with the above, there is an effect that the degree of narrowing the aperture ratio of the pixel can be reduced.
[0191]
[referenceExample19]
  FIG.referenceExample 17Similarly, the light shielding metal film 50 is disposed on both sides of the signal line, but the other light shielding metal film 50 is arranged along the extending direction of the signal line with respect to one light shielding metal film 50. It has been formed for a long time.
[0192]
The respective light shielding metal films 50 are arranged in accordance with the direction of alignment disorder of the alignment film caused by the spacers 10, so that the light shielding regions constituted by the signal lines and the respective light shielding metal films 50 (including the black matrix BM) are arranged. A contour having a diameter centered on the spacer 10 is provided in the vicinity of the spacer 10, and the diameter is increased in the direction in which the alignment disorder of the alignment film occurs in the rubbing treatment direction.
[0193]
[referenceExample 20]
  Mentioned abovereferenceThe light shielding metal film 50 in the example is configured to have only a light shielding function.
[0194]
However, it goes without saying that this light-shielding metal film 50 may be provided with the function of an electrode present in the pixel.
[0195]
  FIG. 23 shows an example of such a case.referenceFor example, in the pixel configuration shown in FIG. 1, the common electrode 4 </ b> A positioned on both sides of the drain line 2 is configured to have the function of the light shielding metal film.
[0196]
In other words, the good light-shielding metal film 50 can be formed by arranging the spacer 10 so as to overlap the drain line 3 formed adjacent to the common electrode 4A without arranging the spacer 10 so as to overlap the gate line 2. Without the formation, it is possible to reliably avoid the disadvantage caused by the alignment disorder of the alignment film caused by the spacer.
[0197]
Even in this case, the initial alignment direction is not particularly limited.
[0198]
[referenceExample 21]
  FIG. 24 shows another liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is explanatory drawing which shows an example. FIG. 4A is a plan view, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line bb in FIG.
[0199]
In the figure, there are a TFT substrate 1A and a filter substrate 1B which are arranged to face each other via a liquid crystal. These substrates are fixed to each other by a sealing material 24 enclosing the liquid crystal, and the sealing material 24 is formed. A predetermined gap is secured in the part.
[0200]
A liquid crystal sealing area, that is, an area surrounded by the sealing material 24 is a display area, and spacers 10 are provided in the display area in order to secure gaps between the substrates in the display area. .
[0201]
  This spacer 10 has been described above.referenceAs shown in the example, it was fixed on one side of the board and thisreferenceIn the example, the cross-sectional areas in the plane parallel to the substrate are equally formed.
[0202]
In the spacer 10, when the display area is divided into a peripheral portion (near the sealant 24) and a central portion excluding the peripheral portion, the number in the peripheral portion is smaller than the number in the central portion. .
[0203]
That is, the spacers 10 are arranged such that the density per unit in the peripheral part of the display area is smaller than the density in the central part excluding the peripheral part.
[0204]
Here, with the increase in the size of the target liquid crystal display panel, the density is, for example, 1 cm.2Or 1mm2It is reasonable to assume the density of the spacers 10 existing within the area of.
[0205]
The liquid crystal display device configured as described above is nothing but the support force for the substrate of the spacer group arranged at the center of the display region is strengthened for the substrate of the spacer group arranged at the peripheral portion. .
[0206]
In recent liquid crystal display devices, the liquid crystal display panel has been increased in size, and the central portion of the display area positioned far from the sealing material 24 has to have a larger supporting force for the spacer substrate than the peripheral portion thereof. It is intended to avoid the inconvenience that the gap cannot be maintained uniformly over the entire area.
[0207]
The spacer 10 fixed to the substrate is formed by selectively etching the material layer of the spacer 10 formed on the entire surface of the substrate using, for example, a photolithography technique (the configuration shown in FIG. 10 is only the photolithography technique). Can be formed in a desired pattern and at a predetermined position, and thus the spacer 10 having the above-described configuration can be easily formed.
[0208]
In this case, the density of the spacer 10 in the peripheral portion of the region where the liquid crystal is sealed and the density of the spacer 10 in the central portion excluding the peripheral portion do not change stepwise at the boundary between the peripheral portion and the central portion. Instead, it may be arranged so as to change smoothly from the peripheral part to the central part.
[0209]
When it does in this way, there exists an effect which can avoid that an abrupt part arises in the gap of the board | substrate which opposes.
[0210]
  As mentioned abovereferenceFor example, the density of the spacer 10 may be different between the central portion and the peripheral portion in the x direction in the drawing, and the density of the spacer 10 may be the same in the central portion and the peripheral portion in the y direction in the drawing. Needless to say.
[0211]
  Also mentioned abovereferenceExamples of otherreferenceNeedless to say, this can be done with examples.
[0212]
[referenceExample 22]
  Also,referenceExample 21For the same purpose, as shown in FIG. 25, the spacers 10 in the display area are evenly distributed, but the cross-sectional area in the plane parallel to the substrate of the spacer 10 in the center of the display area is the periphery. You may comprise so that it may become larger than the cross-sectional area in the said surface of the spacer 10 in a part.
[0213]
Also in this case, each spacer can be easily formed by performing, for example, a selective etching method using a photolithography technique on the material layer of the spacer 10 formed on the entire surface of the substrate.
[0214]
Further, the same effect can be obtained even if the material strength of the spacer at the center of the display region is made larger than the material strength of the spacer at the peripheral portion.
[0215]
[referenceExample 23]
  As described above, each of the spacers described above can be easily arranged at an arbitrary position in the display area.
[0216]
  And thisreferenceIn the example, in the color liquid crystal display device, the spacer is arranged in a light shielding region other than the light shielding region that defines the pixel on which the green (G) filter is formed.
[0217]
In other words, the spacer is arranged so as to be superimposed on a light shielding region that defines a pixel in which a red (R) filter is formed or a light shielding region that defines a pixel in which a blue (B) filter is formed. It is a thing.
[0218]
In light of the fact that green (G) has the highest light transmittance compared to other colors and is sensitive to human vision, light leakage is caused by a spacer disposed in the vicinity of the pixel that transmits this color (in the light shielding area). This is to prevent the perception of the image.
[0219]
【The invention's effect】
As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to obtain a display having no display unevenness due to alignment disorder.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 shows a pixel of a liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a spacer used in the liquid crystal display device according to the present invention.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing disadvantages caused by spacers used in the liquid crystal display device according to the present invention.
FIG. 4 shows another pixel of the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 5 shows another pixel of the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 6 shows another pixel of the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 7 shows another pixel of the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 8 is a pixel of a liquid crystal display device according to the present invention.The fruitIt is sectional drawing which shows an Example.
FIG. 9 shows another pixel of the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is sectional drawing which shows an example.
FIG. 10 shows another spacer used in the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is sectional drawing which shows an example.
FIG. 11 shows the arrangement of spacers used in the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 12 shows another spacer used in the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is sectional drawing which shows an example.
13 shows a manufacturing method for the spacer shown in FIG.One caseFIG.
14 is another method for manufacturing the spacer shown in FIG.ExampleFIG.
FIG. 15 shows another spacer used in the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is sectional drawing which shows an example.
FIG. 16 shows another spacer used in the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is sectional drawing which shows an example.
FIG. 17 shows another liquid crystal display device according to the present invention in the vicinity of the spacer.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 18 shows another liquid crystal display device according to the present invention in the vicinity of the spacer.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 19 shows another liquid crystal display device in the vicinity of the spacer of the present invention.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 20 shows another liquid crystal display device according to the present invention in the vicinity of the spacer.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 21 shows another liquid crystal display device according to the present invention in the vicinity of the spacer.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 22 shows another liquid crystal display device according to the present invention in the vicinity of the spacer.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 23 shows another liquid crystal display device in the vicinity of the spacer of the present invention.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 24 shows an example of the arrangement state of spacers in the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example.
FIG. 25 shows an example of the arrangement state of spacers in the liquid crystal display device according to the present invention.referenceIt is a top view which shows an example.
[Explanation of symbols]
  DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate, 1A ... TFT substrate, 2 ... Gate line, 3 ... Drain line, 3A ... Drain electrode, 4 ... Counter voltage signal line, 4A ... Counter electrode, 5 ... Pixel electrode, 5A ... source electrode, 6 ... semiconductor layer, 7 ... color filter, 9 ... alignment film, 10 ... spacer, TFT ... thin film transistor, BM ... black matrix.

Claims (2)

横電界方式の液晶表示装置において、
液晶を介して互いに対向配置されるTFT基板とフィルタ基板と、
TFT基板の液晶側の面に形成されたゲート線とドレイン線と、
フィルタ基板に形成された第1及び第2のスペーサを有し、
前記第1のスペーサは前記ゲート線上に、及び前記第2のスペーサは前記ゲート線の両端に重畳されて配置され、
前記フィルタ基板には前記ゲート線に重畳し、且つ前記第1のスペーサを被覆する配向膜を有し、
前記フィルタ基板には前記ゲート線に重畳し、且つ前記第1及び第2のスペーサを被覆する導電層を有し、
前記導電層は、前第2のスペーサの位置で前記ゲート線と電気的に接続することを特徴とする液晶表示装置。
In a horizontal electric field type liquid crystal display device,
A TFT substrate and a filter substrate that are arranged to face each other via a liquid crystal;
A gate line and a drain line formed on the liquid crystal side surface of the TFT substrate;
Having first and second spacers formed on the filter substrate;
The first spacer is disposed on the gate line, and the second spacer is disposed on both ends of the gate line.
The filter substrate has an alignment film overlapping the gate line and covering the first spacer,
The filter substrate has a conductive layer overlapping the gate line and covering the first and second spacers ,
The conductive layer, before Symbol liquid crystal display device characterized by connecting a second of said at gate lines and electrically at the location of the spacer.
横電界方式の液晶表示装置において、
液晶を介して互いに対向配置されるTFT基板とフィルタ基板と、
TFT基板の液晶側の面に形成されたゲート線とドレイン線と、
フィルタ基板に形成された第1及び第2のスペーサを有し、
前記第1のスペーサは前記ゲート線上に、及び前記第2のスペーサは前記ドレイン線の両端に重畳されて配置され、
前記フィルタ基板には前記ドレイン線に重畳し、且つ前記第1のスペーサを被覆する配向膜を有し、
前記フィルタ基板には前記ドレイン線に重畳し、且つ前記第1及び第2のスペーサを被覆する導電層を有し、
前記導電層は、前第2のスペーサの位置で前記ドレイン線と電気的に接続することを特徴とする液晶表示装置。
In a horizontal electric field type liquid crystal display device,
A TFT substrate and a filter substrate that are arranged to face each other via a liquid crystal;
A gate line and a drain line formed on the liquid crystal side surface of the TFT substrate;
Having first and second spacers formed on the filter substrate;
The first spacer is disposed on the gate line, and the second spacer is disposed on both ends of the drain line,
The filter substrate has an alignment film overlapping the drain line and covering the first spacer,
The filter substrate has a conductive layer overlapping the drain line and covering the first and second spacers ,
The conductive layer, before Symbol liquid crystal display device, characterized by connecting said to drain line electrically at the location of the second spacer.
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