JP3394173B2 - ガス放電パネル及びその排気方法 - Google Patents

ガス放電パネル及びその排気方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ガス放電パネル
及びその排気方法に関し、さらに詳しくは、製造時にお
けるガスの排気および導入を良好にしたパネル構造と排
気方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガス放電パネルは、一対の基板を微少間
隔で配置し、周辺をシール材からなる封止部で封止する
ことによって内部に放電空間を形成した自己発光型のパ
ネルであり、壁掛けＴＶ用のプラズマディスプレイパネ
ル（ＰＤＰ）等に適用されている。
【０００３】カラー表示を可能にしたＰＤＰでは、通
常、放電空間の表示領域は隔壁によって仕切られてお
り、例えばマトリクス表示方式の代表的なものとして、
３電極面放電形式のＡＣ型ＰＤＰでは、画面となる表示
領域に、高さ１００〜２００μｍ、幅３０〜５０μｍ程
度のストライプ状（帯状）の複数の隔壁が、２００μｍ
程度の間隔で並列に配置されている。この隔壁が形成さ
れた表示領域は、シール材から放出されるガスによって
汚染されるのを避けるために、隔壁と封止部との間に例
えば１〜３ｃｍ程度の幅の隙間（非表示領域）が設けら
れる。そして、このような隔壁で仕切られた放電空間に
は、Ｘｅ，Ｎｅ等の放電ガスが混入されている。
【０００４】この放電ガスの導入は、通常、以下のよう
にして行われる。すなわち、図３３に示すように、隔壁
５１が形成された背面側基板５２の封止部５３で囲まれ
た領域内の一角に通気孔５４を設けておく。そして、図
３４（ａ）に示すように、前面側基板５５の周囲に塗布
された低融点ガラスのシール材５６を加熱により溶かし
て前面側基板５５と背面側基板５２とを貼り合わせ、封
止部５３を形成する。なお、その加熱の際に、前記封止
用の低融点ガラスを接着材として使用し、背面側基板５
２の通気孔５４にガラス製の通気管５７を接着する作業
が同時に施される。
【０００５】この後、まず、図３４（ｂ）に示すよう
に、接着した通気管５７を通してパネル内の不純物ガス
を排気し、次に、図３４（ｃ）に示すように、同じ通気
管５７を通して放電空間内に放電ガスを導入し、所望の
圧力に到達後、通気管の先端開口を封止して、ＰＤＰを
完成させるようにしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなストライプ状の隔壁を備えるＰＤＰでは、このよう
なガスの排出および導入の際、放電空間内の当該隔壁が
通気の障害となる。すなわち、図３５に示すように、隔
壁と隔壁との間の隔壁間溝部（細長いストライプ状の空
洞「キャビティー」）の通気コンダクタンス（ガスの通
過の容易度）のほうが、隔壁形成領域と封止部５３との
間の隔壁周辺空隙の通気コンダクタンスよりも小さいた
めに、不純物ガスは、矢印Ｓで示すように、隔壁周辺空
隙を通って排出される。また、放電ガスの導入時にも、
同じ理由から、図３６の矢印Ｔで示すように、放電ガス
は隔壁周辺空隙を通って導入される。
【０００７】このように、ＰＤＰでは、不純物ガスや放
電ガスは、主として隔壁周辺空隙を流れ、隔壁間溝部を
流れることは少ない。そのため、封止工程時の加熱等に
より隔壁間で不純物ガスが発生しても、これを十分に排
出することができず、不純物ガスは隔壁間溝部に残留し
て、パネル内部に再吸着し、ＡＣ型ＰＤＰの場合ＭｇＯ
などの保護膜表面を汚染したりして、これがパネルの表
示特性を低下させる。また、このことを改善するため
に、不純物ガスの排気時間を長くすると、パネルの作製
時間が長くなり、生産性の低下に結びつく。
【０００８】このように、ストライプ状の隔壁を備える
ＰＤＰにおいては、パネルの内部構造に起因する通気コ
ンダクタンスの不均一性により、単純に圧力差を利用し
た排気だけでは、不純物ガスを短時間で十分に除去する
ことは不可能である。
【０００９】そこで、このような隔壁間溝部に残留する
不純物ガスを強制的に除去する方法として、不純物ガス
を抜き取る際にパネルを加熱しながらパネル内に清浄化
用のガスを導入し、ガスの置き換えにより不純物ガスを
排出するという方法が考えられている（特開平５−２３
４５１２号公報参照）。
【００１０】すなわち、パネルの背面側基板に２つの通
気孔を対角線上に設け、パネルを加熱した状態で一方の
通気孔から不純物ガスを抜き取ると同時に他方の通気孔
から清浄化用のガスを流し込む方法が考えられている。
【００１１】しかし、この方法においても、ガスは、図
３７の矢印Ｕで示すように、隔壁間溝部を通過するより
もむしろ隔壁周辺空隙を通過するため、隔壁間溝部に残
留する不純物ガスを十分に除去することができなかっ
た。このため、ストライプ状の隔壁を備えるＰＤＰから
不純物ガスを完全に抜き出すことが可能な技術の出現が
望まれていた。
【００１２】この発明は、このような事情を考慮してな
されたもので、パネル内の隔壁周辺空隙に通気障壁を設
けることにより、当該隔壁周辺空隙の通気コンダクタン
スよりも隔壁間溝部のそれを大きくし、隔壁間溝部内に
対する不純物ガスの十分な排出及び放電ガスの十分な導
入を可能にしたガス放電パネル及びその排気方法を提供
するものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】この発明は、放電空間を
形成する２枚の基板間の表示部に対応する領域に放電部
を仕切るためのストライプ状の複数の隔壁が並列に配置
され、周辺に封止部が設けられたガス放電パネルであっ
て、前記パネルの周辺部にパネル内外の通気を可能とす
る一方と他方の通気孔を設け、かつ少なくとも両側に位
置する各隔壁と封止部との間にそれぞれ通気障壁を設
け、それにより一方の通気孔から導入されたガスが隔壁
と隔壁との間を通過して他方の通気孔から排出されるよ
うにしたことを特徴とするガス放電パネルである。
【００１４】この発明のパネル構造によれば、一方の通
気孔から導入されたガスは、パネルの両側の隔壁と封止
部との間（隔壁周辺空隙）が広いためここを通り抜けよ
うとするが、ここには通気障壁が設けられており、この
通気障壁によってガスの通過が阻止されるので、ガスは
隔壁と隔壁との間を通過して他方の通気孔から強制的に
排出されることになり、これにより、隔壁と隔壁との間
の隔壁間溝部に存在する不純物ガスを完全に抜き出すこ
とができ、また隔壁間溝部に十分なガスを導入すること
ができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】この発明において、基板として
は、従来のたとえばＰＤＰのようなガス放電パネルに用
いられる公知のガラス基板を適用することができる。
【００１６】隔壁は、ガスが通過できる直線状、蛇行状
のものが複数本、並列に配置されていればよく、断面形
状については特に限定はされない。隔壁の材料として
は、従来のたとえばＰＤＰのようなガス放電パネルに用
いられる公知の材料を用いることができる。また、封止
部に用いられる材料も、従来のたとえばＰＤＰのような
ガス放電パネルに用いられる公知のシール材を用いるこ
とができる。
【００１７】通気孔と通気管としては、パネル内外の通
気を可能とするものであればよく、例えば基板間の封止
部に通気管を取り付け、パネルの側面から突出させるよ
うにして設置することも可能である。また、この通気孔
の形成方法については、従来公知の形成方法を適用する
ことができる。
【００１８】通気障壁は、基板に並列に配置された隔壁
の内の一方の端に位置する隔壁と封止部との間と、他方
の端に位置する隔壁と封止部との間との２個所に設け
る。この通気障壁は、隔壁の形成時、隔壁の形成後から
封止部を形成するまでの間、あるいは封止部の形成時の
いずれの時期に形成してもよい。通気障壁の材料として
は、どのようなものを用いてもよく、例えば隔壁と同じ
材料、または封止部と同じ材料のものを用いることもで
きる。
【００１９】ガスとしては、例えば、２枚の基板の周辺
部を封止する際に発生する不純物ガスや、清浄化用のガ
ス、あるいは放電ガスなどのあらゆる種類のガスを意味
する。
【００２０】上記構成においては、一方の通気孔と他方
の通気孔をパネルの対角線上に配置し、隔壁と隔壁との
間をガスが順に通過するように、隔壁１本毎に、隔壁の
一端と封止部との間および隔壁の他端と封止部との間に
互い違いに通気障壁を設けた構造としてもよい。
【００２１】あるいは、一方の通気孔と他方の通気孔を
パネルの一辺に対して並列に配置し、隔壁と隔壁との間
をガスが順に通過するように、隔壁１本毎に、隔壁の一
端と封止部との間および隔壁の他端と封止部との間に互
い違いに通気障壁を設けた構造としてもよい。
【００２２】さらに、一方の通気孔と他方の通気孔をパ
ネルの対角線上に配置し、両側に位置する一方の隔壁に
おいては隔壁の一端と封止部との間に、他方の隔壁にお
いては隔壁の他端と封止部との間に、それぞれ通気障壁
を配置した構造としてもよい。
【００２３】また、一方の通気孔を、パネルの一方辺の
近傍に並列に配置した一対の通気孔とし、他方の通気孔
を、パネルの他方辺の近傍に並列に配置した一対の通気
孔とする。つまりパネルの４隅に４つの通気孔を設け、
両側に位置する各隔壁の側面と封止部との間に、それぞ
れ通気障壁を配置した構造としてもよい。
【００２４】通気障壁は、隔壁または封止部と一体的に
形成されていてもよい。つまり通気障壁は、隔壁と同じ
材料を用いて形成してもよいし、封止部と同じ材料を用
いて形成してもよい。
【００２５】一方の通気孔の形成されたパネル周辺部の
隔壁と封止部との間には、ガスを放電させる浄化用電極
を設けるようにしてもよい。。この場合、浄化用電極
は、隔壁と交差する方向に並列に配置された一対の電極
で構成することができる。
【００２６】あるいは、一方の基板が、隔壁と並列に配
置されたアドレス電極を有する基板である場合には、浄
化用電極は、他方の基板において隔壁と交差する方向に
配置した電極で構成することができる。この場合、浄化
用の放電は、浄化用電極とアドレス電極との間で生じさ
せるようにする。
【００２７】この発明においては、パネル内の不純物ガ
スを、清浄化用のガスにより強制的に排出するために、
隔壁の配置を工夫している。すなわち、ガス放電パネル
を構成する２枚の基板の一方に、パネル内外の通気を可
能とする２つ以上の通気孔を設け、少なくとも一方の通
気孔から導入されるガスが他方の通気孔から排出される
ときに隔壁間溝部の通気コンダクタンスが隔壁周辺空隙
の通気コンダクタンスよりも大きくなるように、隔壁の
配置を工夫したパネル構造とする。
【００２８】このとき、パネル内に、問題となる不純物
ガスを吸着する物質、例えば、ゲッター材を導入し、そ
のゲッター材近傍の通気コンダクタンスが隔壁周辺空隙
の通気コンダクタンスよりも大きくなるように、隔壁の
配置を工夫したパネル構造としてもよい。
【００２９】作製したパネルの排気工程時には、通気孔
のうち少なくとも一つ以上からパネル内部を排気する。
そして、なんらかの手段によって、パネルの隔壁間溝部
から不純物ガスを放出させる。この放出させる手段とし
ては、例えば、パネルを加熱してもよく、また、パネル
内部にガスを導入してパネルの放電電極あるいは浄化専
用の電極で放電を生じさせてもよい。また、両者を組み
合わせても良い。
【００３０】パネルのいずれかの通気孔から、放電ガ
ス、あるいは、パネル内を清浄化することを目的とした
ガス、例えば、Ｎ2、Ｎｅ、Ｈｅ、Ａｒ、またはこれら
の混合ガスをパネル内部に導入することで、パネルから
放出された隔壁間溝部にある不純物ガスを押し出して、
排気用の通気孔から排出する。あるいはこの不純物ガス
をゲッター材等に誘導して吸着させ隔壁間溝部から除去
する。その後、ガスの導入を中止し、パネル内の排気を
継続する。この操作は必要であれば何回か行うようにす
る。
【００３１】その後、上記操作が全て終了した後にパネ
ルを室温にし、排気を終了し、パネル内へ所望の圧力ま
で放電ガスを導入し封止する。
【００３２】この様な構造をとることにより以下のよう
な作用がある。すなわち、不純物ガスを低減すること
で、表示特性の改善を図ることができる。また、ガス導
入により不純物ガスを強制的に排除するので、パネル内
を真空排気しただけの場合よりも排気・ガス導入時間を
短縮することができ、生産性が向上する。
【００３３】また、本発明においては、パネル内に浄化
専用電極を設け、排気工程の際に浄化用の放電を生じさ
せて、パネル内の清浄化を行うことができる。
【００３４】すなわち、排気工程においては、パネル内
を加熱排気後、ガスをパネル内部へ導入する前に、パネ
ル内の電極であらかじめ放電を生じさせ、多量の活性な
ガスを発生させてから、ガスを導入する。導入するガス
は、放電ガス、あるいは、放電させてもパネルの表示特
性に劣化を及ぼさないもので、パネル内を清浄化するこ
とを目的としたガス、例えば、Ｎ2、Ｎｅ、Ｈｅ、Ａ
ｒ、またはこれらの混合ガスを用いる。そして、この活
性な粒子を利用して表示エリア内の不純物を除去する。
このとき、活性な粒子を利用して、パネル内部で放電を
生じさせるようにしてもよい。
【００３５】パネルの浄化用放電を発生させる電極構造
は、次のようにする。すなわち、パネル内で、ガスが入
ってくる側の放電隔壁外の表示に関係しない部分（隔壁
と封止部との間）に、排気時にのみ使用する浄化用電極
を形成しておく。
【００３６】この浄化用電極は、隔壁外の隔壁周辺空隙
にあることから、放電隔壁内よりも放電空間が広いため
放電が起こりやすい。また、表示に関係ないので、電極
の形状を表示エリア部よりも放電が起こりやすい形状に
してもよい。放電を生じさせる電極対の配置は、同一基
板上にあってもよいし、対向基板上にあってもよい。こ
の部分で放電させることで活性な粒子を発生させ、放電
させやすくしてから表示部内を放電させる。また、この
とき、表示エリア外で最初の放電が起こりやすいよう
に、先に述べたように、導入するガスをあらかじめ放電
してから導入してもよい。
【００３７】さらに、また、不純物の除去がスムーズに
行えるように、ガスを導入しつつ放電し排気してもよ
い。この場合は、ガスがパネル内をスムーズに流れるよ
うな構造が望ましく、例えば、前述の通気障壁を持つパ
ネル構造が望ましい。
【００３８】この際、前面側基板に、例えば、ストライ
プ状、またはメッシュ状のような隔壁構造があっても支
障はない。放電の順序は、表示領域外の浄化用電極で放
電を生じさせ、パネルの表示領域の電極が放電しやすい
ようにしてから表示領域内で放電を生じさせる。
【００３９】パネル内の浄化操作は必要であれば何度で
も行ってよい。その後、上記操作を全て終了した後に、
パネルを室温にし、排気している通気孔を閉じ、所望の
圧力になるまでパネルに放電ガスを導入し封止する。こ
のとき、導入前にガスをあらかじめ放電させながら導入
してもよい。
【００４０】この様な構造をとることにより以下のよう
な作用がある。すなわち、放電の利用により、低温でも
十分に排気することができるので、従来よりも排気・ガ
ス導入時間を短縮することができ、生産性が向上する。
【００４１】以下、図面に示す実施の形態に基づいてこ
の発明を詳述する。なお、これによってこの発明が限定
されるものではない。以下においては、ガス放電パネル
としてカラー表示用のＡＣ駆動型ＰＤＰを例に挙げて説
明する。
【００４２】図１はこの発明のカラー表示用のＡＣ駆動
型ＰＤＰの構造を示す斜視図である。この図において、
１はカラー表示用のＡＣ駆動型ＰＤＰである。前面側の
ガラス基板（以下、前面側基板という）１１の内面に
は、マトリクス表示のラインＬ毎に一対のサステイン電
極Ｘ，Ｙが配列されている。サステイン電極Ｘ，Ｙは、
それぞれが透明電極１２と金属電極１３とからなり、誘
電体層１７で被覆され、誘電体層１７は酸化マグネシウ
ム（ＭｇＯ）からなる保護膜１８で覆われている。
【００４３】背面側のガラス基板（以下、背面側基板と
いう）２１の内面には、下地層２２、アドレス電極Ａ、
絶縁層２４が順次形成された後、アドレス電極Ａを挟む
ように帯状の隔壁２９が形成されている。帯状の隔壁２
９によって規定される細長い隔壁間溝部には、３色
（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂが形
成されている。表示の１ピクセル（画素）は、ライン方
向に並ぶ３つのサブピクセルからなる。隔壁２９によっ
て放電空間３０がマトリクス表示のライン方向にサブピ
クセル毎に区画され、かつ放電空間３０の間隙寸法が一
定に保持されている。
【００４４】このように、ＰＤＰ１（以下、単に「パネ
ル」ともいう）は、表示のための放電維持を行うサステ
イン電極Ｘ，Ｙを持つ前面側基板１１と、表示点をアド
レスするための放電を発生するアドレス電極Ａ、放電を
物理的に仕切るための隔壁２９および蛍光体層２８Ｒ，
２８Ｇ，２８Ｂを持つ背面側基板２１とを貼り合わせた
構造となっている。
【００４５】以下、ＰＤＰ１の構造の詳細例を第１〜第
１０構造例として説明する。 ・第１構造例 図２は第１構造例のＰＤＰの外観を示す斜視図である。
この例では、図に示すように、背面側基板２１には、ほ
ぼ対角線上に背面側基板２１を貫通する２つの通気孔３
１ａ，３１ｂを設けている。
【００４６】隔壁は、図３に示すような構造のストライ
プ状の隔壁を並列に設けている。すなわち、図中左端の
隔壁２９を、左下の通気孔３１ａの方向へ封止部３２の
近くまで延ばし、その次の隔壁は隣接する隔壁とは反対
方向へ封止部３２の近くまで延ばし、次々と隔壁が互い
違いになるように配列している。ただし、最終的には図
中右端の隔壁２９が右上の通気孔３１ｂの方向へ延びる
ように隔壁の数を調整する。封止部３２としては公知の
シール材を用いている。
【００４７】延ばした隔壁２９と封止部３２との間には
隙間があるが、この隙間は、延ばした隔壁２９と封止部
３２との間の通気コンダクタンス（排気コンダクタンス
ともいう）が、隔壁２９の延ばした反対側の一端と封止
部３２との間の通気コンダクタンスよりも小さくなる程
度の隙間とする。なお、この隙間をさらにつめて、隔壁
２９を封止部３２に接触させるようにしてもよい。
【００４８】この構造例では、隔壁の上から見た形状は
直線状であるが、蛇行するような形状であってもよい。
このような構造の背面側基板２１と前面側基板１１とを
貼り合わせ、同時に通気孔３１ａ，３１ｂに後述するガ
ラス製の通気管を取り付ける。
【００４９】・第２構造例 図４は第２構造例のＰＤＰの外観を示す斜視図である。
この例では、図に示すように、背面側基板２１には、背
面側基板２１の上辺とほぼ平行に背面側基板２１を貫通
する２つの通気孔３１ａ，３１ｂを設けている。
【００５０】隔壁は、図５に示すような構造の直線状の
隔壁を平行に設けている。上述したように、通気孔３１
ａ，３１ｂを対角線上ではなく一方側に対向させて設け
ているため、第１構造例とは、通気孔３１ａに隣接する
隔壁の配置だけが異なる。すなわち、図中左端の隔壁２
９を、左上の通気孔３１ａの方向へ封止部３２の近くま
で延ばし、あとは第１構造例と同様に、その次の隔壁は
隣接する隔壁とは反対方向へ封止部３２の近くまで延ば
し、次々と隔壁が互い違いになるように配列している。
ただし、最終的には図中右端の隔壁２９が右上の通気孔
３１ｂの方向へ延びるように隔壁の数を調整する。この
とき、延ばした隔壁２９は、第１構造例と同様に、封止
部３２に接触させてもよい。
【００５１】この構造例では、隔壁の上から見た形状は
直線状であるが、蛇行するような形状であってもよい。
このような構造の背面側基板２１と前面側基板１１とを
貼り合わせ、同時に通気孔３１ａ，３１ｂに後述する通
気管を取り付ける。
【００５２】・第３構造例 この第３構造例のＰＤＰでは、第１構造例と同様に、ほ
ぼ対角線上に２つの通気孔３１ａ，３１ｂを設けてい
る。
【００５３】隔壁は、図６に示すような構造の直線状の
隔壁を平行に設けている。すなわち、図中両側の隔壁２
９を、それぞれ通気孔３１ａ，３１ｂの方向へ、封止部
３２の近くまで延ばし、それ以外の隔壁は従来のままの
形状とする。このとき、両側の延ばした隔壁２９は、第
１および第２構造例と同様に、封止部３２に接触させて
もよい。
【００５４】この構造例は、単に両側の隔壁２９だけを
延長させたものであり、第１および第２構造例に比べて
隔壁の形状の変更が少なく、また隔壁の数を調整する必
要もないため、形成が容易である。
【００５５】この構造例では、隔壁の上から見た形状は
直線状であるが、蛇行するような形状であってもよい。
このような構造の背面側基板２１と前面側基板１１とを
貼り合わせ、同時に通気孔３１ａ，３１ｂに後述する通
気管を取り付ける。
【００５６】・第４構造例 図７は第４構造例のＰＤＰの外観を示す斜視図である。
この例では、図に示すように、背面側基板２１には、４
隅に４つの通気孔３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを設
けている。４つの通気孔３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１
ｄの内、上２つの通気孔３１ｂ，３１ｄをガス導入口と
し、下２つの通気孔３１ａ，３１ｃを排気口とする。こ
れは上下の役割が逆であってもよい。
【００５７】隔壁は、図８に示すような構造の直線状の
平行な隔壁２９と、通気障壁としての通気阻止用隔壁２
９ａを設けている。すなわち、並列に配置されている隔
壁の内、両側の隔壁２９の側面から、上下の通気孔を分
ける通気阻止用隔壁２９ａを封止部３２の近傍まで延ば
している。
【００５８】この通気阻止用隔壁２９ａの位置は、両側
の隔壁２９の側面であれば同じ位置である必要はなく、
それぞれ任意の位置であってもよい。ただし、通気阻止
用隔壁２９ａと封止部３２との隙間は、この隙間の通気
コンダクタンスを隔壁間溝部のものよりも小さくすると
いう意味あいで、隔壁間溝部よりも狭くすることが望ま
しい。
【００５９】この場合、通気阻止用隔壁２９ａは封止部
３２に接触させてもよい。この構造例では、隔壁２９お
よび通気阻止用隔壁２９ａの上から見た形状は直線状で
あるが、蛇行するような形状であってもよい。
【００６０】このような構造の背面側基板２１と前面側
基板１１とを貼り合わせ、同時に通気孔３１ａ，３１
ｂ，３１ｃ，３１ｄに後述する通気管を取り付ける。こ
の場合、通気管を４本取り付けることになり、組立工程
は通気孔が２つのものよりも煩雑になるが、下２つの通
気孔３１ａ，３１ｃから上２つの通気孔３１ｂ，３１ｄ
へガスを流す（あるいはその逆も可）ことができ、排気
およびガス導入経路が２倍となるため、排気・ガス導入
時間の短縮が可能となる。
【００６１】・第５構造例 図９は第５構造例のＰＤＰの内部構造を示す説明図であ
る。この例は、パネル内の基本構造は第３構造例と同じ
であるが、隔壁を設けて通気を阻止するのではなく、隔
壁とは異なる任意の材料の通気障壁２７ａを設けて通気
を阻止している。通気障壁２７ａは、左端の隔壁２９の
一端と封止部３２との間と、右端の隔壁２９の他端と封
止部３２との間とに、それらの間をそれぞれ狭めるよう
に形成している。通気障壁２７ａは、全ての隔壁２９の
一端と他端に、第１構造例に示すように互い違いにそれ
ぞれ設けるようにしてもよい。
【００６２】・第６構造例 図１０は第６構造例のＰＤＰの内部構造を示す説明図で
ある。この例は、パネル内の基本構造は第４構造例と同
じであるが、通気孔が２つである。そして、第５構造例
と同じ材料の通気障壁２７ｂで通気を阻止している。こ
の例では、第４構造例の通気阻止用隔壁２９ａに代えて
通気障壁２７ｂを設けている。
【００６３】通気障壁２７ｂを設ける位置は、隔壁２９
の側面であればどのような位置であってもよい。この例
においても、第５構造例で示したような通気障壁２７ａ
を、全ての隔壁２９の一端と他端に、第１構造例に示す
ように互い違いにそれぞれ設けるようにしてもよい。
【００６４】・第７構造例 図１１は第７構造例のＰＤＰの内部構造を示す説明図で
ある。この例は、第６構造例のパネルの通気孔を４つに
したものであり、パネル内の基本構造は第４構造例と同
じである。
【００６５】通気障壁２７ｃを設ける位置は、隔壁２９
の側面であればどのような位置であってもよい。上記第
５〜第７構造例においては、通気障壁２７ａ，２７ｂ，
２７ｃは、隔壁２９の形成時に同時に形成してもよい
し、封止部３２の形成時に同時に形成してもよい。
【００６６】・第８構造例 図１２は第８構造例のＰＤＰの内部構造を示す説明図で
ある。この例は、パネル内の基本構造は第５構造例と同
じであるが、封止部３２の一部を突出させて通気障壁３
２ａを形成している。通気障壁３２ａは、全ての隔壁２
９の一端と他端の対応個所に、第１構造例に示すように
互い違いにそれぞれ設けるようにしてもよい。
【００６７】・第９構造例 図１３は第９構造例のＰＤＰの内部構造を示す説明図で
ある。この例は、パネル内の基本構造は第６構造例と同
じであるが、封止部３２の一部を突出させて通気障壁３
２ｂを形成している。
【００６８】通気障壁３２ｂを設ける位置は、隔壁２９
の側面に対応する位置であればどのような位置であって
もよい。また、第８構造例で示したような通気障壁３２
ａを、全ての隔壁２９の一端と他端の対応個所に、第１
構造例に示すように互い違いにそれぞれ設けるようにし
てもよい。
【００６９】・第１０構造例 図１４は第１０構造例のＰＤＰの内部構造を示す説明図
である。この例は、パネル内の基本構造は第７構造例と
同じであるが、封止部３２の一部を突出させて通気障壁
３２ｃを形成している。通気障壁３２ｃを設ける位置
は、隔壁２９の側面に対応する位置であればどのような
位置であってもよい。
【００７０】以上で第１〜第１０構造例を説明したが、
これらのいずれにおいても、通気管の封着は、図１５
（ａ）に示すように、前面側基板１１の周囲に塗布され
た低融点ガラスからなる封止部３２を加熱により溶かし
て前面側基板１１と背面側基板２１とを貼り合わせる際
に、各通気孔にそれぞれセットした融着用のガラスペー
スト３４ａを溶融することにより通気管３３を接着す
る。
【００７１】そして、パネル内に残留する不純物ガスを
強制的に除去するために、図１５（ｂ）に示すように、
不純物ガスを抜き取る際にパネル内に清浄化用のガスを
導入し、ガスの置き換えにより不純物ガスを排出する。
すなわち、一方の通気管３３を通して放電ガスを導入し
ながら、他方の通気管３３を通して内部を排気し、所望
の圧力に到達後、通気管３３を封止してＰＤＰを完成さ
せる。
【００７２】図１６（ａ）および図１６（ｂ）は通気管
内に不純物ガスを吸収（吸着）する不純物ガス吸収剤を
配置した例を示す説明図である。これらの図に示すよう
に、通気管３３内に不純物ガス吸収剤を配置するように
してもよい。この場合、パネルは、第１〜第１０構造例
のいずれのＰＤＰであってもよい。
【００７３】不純物ガス吸収剤の配置は、図１６（ａ）
に示すように、封止部３２を溶かして前面側基板１１と
背面側基板２１とを貼り合わせて各通気孔にそれぞれ通
気管３３を接着する際に、図１６（ｂ）に示すように、
少なくとも一つ以上の通気管３３内に、例えばゲッター
材のような不純物ガス吸収剤３４を導入して固定する。
これは全ての通気管３３に導入してもよいし、一部の通
気管３３だけに導入してもよい。また、不純物ガス吸収
剤３４を入れた通気管３３を封じるようにしてもよい。
【００７４】次に、上記において説明した構造を持つＰ
ＤＰの排気および放電ガスの導入工程およびその装置例
について説明する。以下においては、この排気・ガス導
入工程例を第１〜第６排気・ガス導入工程例として説明
する。
【００７５】・第１排気・ガス導入工程例 この工程例においては、図１７に示す装置でＰＤＰ１の
排気・ガス導入を行う。この図において、３５は通気管
を封止する前のＰＤＰ１を加熱するオーブン、３６は排
気装置、３７は排気装置３６の真空度を示す真空計、３
８は排気バルブ、３９は清浄化ガスボンベ、４０は清浄
化ガス導入バルブ、４１は放電ガスボンベ、４２は放電
ガス導入バルブである。導入側の通気管は３３ａとし、
排出側の通気管は３３ｂとして示している。
【００７６】オーブン３５内には、第１〜第１０構造例
のＰＤＰ、あるいはさらに不純物ガス吸収剤３４を付加
したＰＤＰを配置する。配管は、ＰＤＰ１の一方の通気
管３３ｂには排気装置３６につながる排気バルブ３８を
取り付け、他方の通気管３３ａには清浄化ガスボンベ３
９につながる清浄化ガス導入バルブ４０と放電ガスボン
ベ４１につながる放電ガス導入バルブ４２とを取り付け
る。
【００７７】なお、第４構造例、第７構造例、あるいは
第１０構造例のＰＤＰを取り付ける場合は、それぞれ排
気用の配管を２本、ガス導入用の配管を２本用意して取
り付ける。
【００７８】清浄化ガスは、不純物の除去に使用した場
合にパネル特性に影響を与えないガスであればどのよう
なものでもよく、また複数使用してもよい。例えば、Ｎ
2、Ｎｅ、Ｈｅ、Ａｒ、またはこれらの混合ガスでもよ
い。また、放電ガスを清浄化ガスの代わりに使用しても
よい。その場合にはガスボンベとバルブは各ひとつにな
る。
【００７９】排気工程は次の順序で行う。まず、パネル
の温度を制御するためにパネルをオーブン３５に入れ
る。次に、清浄化ガス導入バルブ４０と放電ガス導入バ
ルブ４２を閉めたまま、排気バルブ３８だけを開け、排
気装置３６によってパネル内部を排気する。この排気を
適当に行いながら、オーブン３５で、パネルの温度プロ
ファイルが図１８のグラフとなるように温度制御を行
う。
【００８０】すなわち、パネルを、パネル内の不純物ガ
スが脱離するような温度となるまで加熱する。パネルが
この所定の脱離温度に到達した後は、しばらくこの温度
を維持し、パネル内部に吸着している不純物ガスを脱離
させる。
【００８１】続いて、ガス導入工程では、清浄化ガス導
入バルブ４０を開けて清浄化ガスを導入し、そのままの
状態でしばらく維持する。このとき、途中からガスの種
類を入れ替えても良い。例えば、Ｎｅ導入後途中からＮ
2に変更しても良い。
【００８２】このようにして清浄化ガスをパネル内に導
入した場合、清浄化ガスの流れは、第１構造例のＰＤＰ
では、図３の矢印Ａで示すような流れとなり、第２構造
例のＰＤＰでは、図５の矢印Ｂで示すような流れとな
り、第３構造例のＰＤＰでは、図６の矢印Ｃで示すよう
な流れとなり、第４構造例のＰＤＰでは、図８の矢印Ｄ
で示すような流れとなる。
【００８３】また、第５構造例のＰＤＰでは、図９の矢
印Ｅで示すような流れとなり、第６構造例のＰＤＰで
は、図１０の矢印Ｆで示すような流れとなり、第７構造
例のＰＤＰでは、図１１の矢印Ｇで示すような流れとな
る。
【００８４】さらに、第８構造例のＰＤＰでは、図１２
の矢印Ｈで示すような流れとなり、第９構造例のＰＤＰ
では、図１３の矢印Ｉで示すような流れとなり、第１０
構造例のＰＤＰでは、図１４の矢印Ｊで示すような流れ
となる。
【００８５】このように、清浄化ガスは隔壁間溝部を通
過し、隔壁内部で発生した不純物ガスを排出側の通気管
３３ｂまで押し出し排出する。
【００８６】図１６で示したように、通気管３３ａ，３
３ｂ内に不純物ガス吸収剤を配置している場合には、導
入側の通気管３３ａ内の不純物ガス吸収剤によって清浄
化ガスの純化が行われ、排出側の通気管３３ｂ内の不純
物ガス吸収剤によって不純物ガスの吸収が行われる。
【００８７】その後、清浄化ガス導入バルブ４０を閉じ
てガス導入を停止し、オーブン３５によりパネルの温度
が室温になるように制御する。パネルの温度が室温に到
達後、排気バルブ３８を閉じ、放電ガス導入バルブ４２
を開けてパネル内に所望の圧力の放電ガスを導入して、
通気管３３ａ，３３ｂを封止する。
【００８８】・第２排気・ガス導入工程例 この工程例においては、第１排気・ガス導入工程例と同
じ装置を用いる。オーブン３５内には、第１排気・ガス
導入工程例と同様に、第１〜第１０構造例のＰＤＰ、あ
るいはさらに不純物ガス吸収剤３４を付加したＰＤＰを
配置する。この工程例では、排気工程とガス導入工程に
おける温度制御の方法が、第１排気・ガス導入工程例と
は異なり、オーブン３５で、パネルの温度プロファイル
が図１９のグラフとなるように温度制御を行う。
【００８９】すなわち、パネルが所定の不純物ガス脱離
温度に到達するまでの過程において、特定の温度に達し
た段階で何回か清浄化ガス導入バルブ４０を開け、清浄
化ガス３９を導入する。清浄化ガスは第１排気・ガス導
入工程例と同じものを用いる。
【００９０】特定の温度に到達した段階では、その温度
を維持しながら清浄化ガス３９を導入し、その後、清浄
化ガス導入バルブ４０を閉じて排気する。パネルが所定
の不純物ガス脱離温度に到達するまで、何度かこの操作
を繰り返す。
【００９１】このような操作を行った場合、パネルが所
定の不純物ガス脱離温度に達するまでの時間と手間はか
かるが、各段階の特定の温度で放出のピークを持つガ
ス、例えばＨ2Ｏなどを排出することができる。パネル
が所定の不純物ガス脱離温度に到達した以降の工程は、
第１排気・ガス導入工程例と同じである。
【００９２】・第３排気・ガス導入工程例 この工程例においては、図２０に示す装置でＰＤＰ１の
排気・ガス導入を行う。この装置は、基本的には図１７
に示したものと同じであるが、図１７の装置とは、ガス
導入側と排気側とのパイプを接続し、そのパイプに排気
バルブ４３を設けたところが異なっている。これによ
り、排気時にガス導入口としていた通気管３３ａから排
気を行うことができる。
【００９３】オーブン３５内には、第１および第２排気
・ガス導入工程例と同様に、第１〜第１０構造例のＰＤ
Ｐ、あるいはさらに不純物ガス吸収剤３４を付加したＰ
ＤＰを配置する。排気工程およびガス導入工程における
温度制御は、第１および第２排気・ガス導入工程例のい
ずれの制御を行ってもよい。
【００９４】排気工程では、清浄化ガス導入バルブ４０
と放電ガス導入バルブ４２を閉め、排気バルブ３８と排
気バルブ４３を開け、排気装置３６によりパネル内部を
排気する。
【００９５】ガス導入工程では、排気バルブ４３を閉
め、清浄化ガス導入バルブ４０を開け、清浄化ガスの導
入後は、清浄化ガス導入バルブ４０を閉じ、排気バルブ
４３を開いて排気する。
【００９６】放電ガスを導入する際には、排気バルブ３
８と排気バルブ４３を閉じ、放電ガス導入バルブ４２を
開けてパネル内に所望の圧力の放電ガス４１を導入し
て、通気管３３ａ，３３ｂを封止する。その他の操作は
第１または第２排気・ガス導入工程例と同じである。
【００９７】この工程例では、配管の系統は複雑になる
が、両方の通気管３３ａ，３３ｂから排気することがで
きるので、排気時間を短縮することができる。
【００９８】・第４排気・ガス導入工程例 この工程例においては、図２１に示す装置でＰＤＰ１の
排気・ガス導入を行う。この装置は、基本的には図１７
に示したものと同じであるが、図１７の装置とは、ＰＤ
Ｐ１に放電を生じさせることができるように、パネルの
電極に任意の波形の電圧を印加できる放電発生装置４４
を設けたところが異なっている。ＰＤＰ１の各部の電極
は、配線により放電発生装置４４に接続されている。そ
の他の排気およびガス導入の配管の接続等は、第１およ
び第２排気・ガス導入工程例と同じである。
【００９９】オーブン３５内には、第１および第２排気
・ガス導入工程例と同様に、第１〜第１０構造例のＰＤ
Ｐ、あるいはさらに不純物ガス吸収剤３４を付加したＰ
ＤＰを配置する。排気工程およびガス導入工程における
温度制御は、第１排気・ガス導入工程例の温度制御を適
用する。
【０１００】排気・ガス導入工程は、基本的には、第１
排気・ガス導入工程例と同じであるが、パネルが所定の
不純物ガス脱離温度に到達して、清浄化ガス３９を導入
した時点で放電発生装置４４を作動させ、パネル内で放
電を生じさせる。
【０１０１】この放電により、保護層等の表面に吸着し
ている不純物ガスが叩き出されて排出されやすくなる。
この放電は、サステイン電極Ｘ−Ｙ間、あるいはサステ
イン電極Ｙ−アドレス電極Ａ間、さらには後述する専用
の浄化用電極で生じさせてもよい。印加する電圧波形は
適当なものを用いる。放電を終了した後は、導入するガ
スの種類を入れ替えても良い。例えば、Ｎｅを導入して
放電し、放電終了後、Ｎ2に入れ替えてもよい。清浄化
ガス３９を導入した後の操作は、第１排気・ガス導入工
程例と同じある。
【０１０２】このように放電発生装置４４を設けること
により、装置は複雑になるが、パネルの排気・ガス導入
時の任意の時にパネル内部で放電を生じさせることがで
きるので、不純物ガスの除去に有効である。
【０１０３】・第５排気・ガス導入工程例 この工程例においては、第４排気・ガス導入工程例と同
じ装置を用いる。オーブン３５内には、第４排気・ガス
導入工程例と同様に、第１〜第１０構造例のＰＤＰ、あ
るいはさらに不純物ガス吸収剤３４を付加したＰＤＰを
配置する。この工程例では、排気工程とガス導入工程に
おける温度制御の方法が、第１排気・ガス導入工程例と
は異なり、オーブン３５で、パネルの温度プロファイル
が図１９のグラフとなるように温度制御を行う。すなわ
ち、第２排気・ガス導入工程例と同じ温度制御を行う。
【０１０４】すなわち、パネルが所定の不純物ガス脱離
温度に到達するまでの過程において、特定の温度に達し
た段階で何回か清浄化ガス導入バルブ４０を開け、清浄
化ガス３９を導入し、その際、第４排気・ガス導入工程
例と同じように、放電発生装置４４を作動させ、ＰＤＰ
１内で放電を生じさせる。清浄化ガスは第４排気・ガス
導入工程例と同じものを用いる。清浄化ガス３９を導入
した後の操作は、第１排気・ガス導入工程例と同じあ
る。
【０１０５】・第６排気・ガス導入工程例 この工程例においては、図２２に示す装置でＰＤＰ１の
排気・ガス導入を行う。この装置は、基本的には図２１
に示したものと同じであるが、図２１の装置とは、ガス
導入側と排気側とのパイプを接続し、そのパイプに排気
バルブ４３を設けたところが異なっている。これによ
り、排気時にガス導入口としていた通気管３３ａから排
気を行うことができる。この排気バルブ４３の構成およ
び作用は、第６排気・ガス導入工程例で示したものと同
じである。
【０１０６】排気工程は、基本的には、第３排気・ガス
導入工程例と同じである。ただし、清浄化ガス３９を導
入した時点で、放電発生装置４４を作動させ、ＰＤＰ１
内で放電を生じさせる操作については第４排気・ガス導
入工程例と同じである。清浄化ガス３９を導入した後の
操作は、第３排気・ガス導入工程例と同じある。
【０１０７】次に、排気時の放電に使用する浄化用電極
の例を示す。この浄化用電極の特徴を図２３で説明す
る。この図に示すように、前面側基板１１におけるパネ
ルの表示エリア外の隔壁の最も近傍に、排気時のみに使
用する一対の浄化用電極４５を設ける。以下、浄化用電
極４５の他の構造例を示す。
【０１０８】図２４は浄化用電極４５間でより放電を起
こしやすいように、浄化用電極４５の間隔を、表示に使
用するサステイン電極Ｘ，Ｙ間の間隙よりも狭めた例で
ある。
【０１０９】図２５は浄化用電極４５間でより放電を起
こしやすいように、浄化用電極４５の電極の幅を、表示
に使用するサステイン電極Ｘ，Ｙの電極の幅よりも広く
した例である。
【０１１０】図２６は浄化用電極４５間でより放電を起
こしやすいように、浄化用電極４５の電極表面上の絶縁
膜の厚みを、表示に使用するサステイン電極Ｘ，Ｙの電
極表面上の絶縁膜の厚みよりも薄くした例である。この
例では、領域４５ａの部分だけ絶縁膜の厚みを薄くして
いる。
【０１１１】以上の例では、浄化用電極４５の双方を同
じ前面側基板１１に設けて、面放電を生じさせるように
しているが、この浄化用電極４５は、面放電を生じさせ
る構造・配置だけでなく、対向放電を生じさせる構造・
配置であってもよい。
【０１１２】図２７および図２８は浄化用電極４５に対
向放電を生じさせる構造・配置の例を示している。
【０１１３】図２７は前面側基板１１に片側の浄化用電
極４５を形成しておき、前面側基板１１側の浄化用電極
４５と、背面側基板２１側のアドレス電極Ａとの間で浄
化用の放電を生じさせるようにした例である。
【０１１４】図２８は背面側基板２１側のアドレス電極
Ａは全て片側だけに形成しておき、前面側基板１１側に
一方の浄化用電極４５を形成し、背面側基板２１の対応
する位置に他方の浄化用電極４５を形成し、双方の浄化
用電極４５間で浄化用の放電を生じさせるようにした例
である。
【０１１５】対向放電させる場合には、以上のような電
極構造をパネル内に形成する。ただし、これまで示した
例はパネルの一辺側に浄化用電極４５を一組だけ配置し
ているが、表示特性に影響がない範囲で対向する二辺に
設けてもよく、また、浄化用電極４５は複数組設けても
よい。
【０１１６】浄化用電極４５を形成する前面側基板１１
は、その表面に隔壁があってもよい。例えば、メッシュ
状あるいは、ストライプ状の隔壁があってもよい。ま
た、浄化用電極４５はストライプ状のものを示したが、
どのような形状であってもよく、例えば、くし形形状で
あってもよい。
【０１１７】以上の浄化用電極４５の構造は、上記した
第１〜第１０構造例のＰＤＰのいずれにでも適用可能で
ある。
【０１１８】次に、上記において説明した構造を持つＰ
ＤＰの排気および放電ガスの導入工程およびその装置例
を第７排気・ガス導入工程例として説明する。
【０１１９】・第７排気・ガス導入工程例 この工程例においては、図２９に示す装置でＰＤＰ１の
排気・ガス導入を行う。この装置例は、以下の排気・ガ
ス導入工程に必要な機器を全て網羅しているが、必ずし
も全てが必要なわけではない。
【０１２０】ＰＤＰ１の通気管への配管の取り付けは、
通気管が一本の場合は、排気およびガス導入バルブを兼
用したバルブを取り付ける。パネルに付いている通気管
が複数ある場合は、排気装置３６につながる排気バルブ
３８と、放電ガスボンベ４１および清浄化用放電ガスボ
ンベ３９ａにつながるガス導入バルブ３８ａを各々取り
付ける。ただし、それらは排気バルブ４３を介してつな
がっており、それぞれの役割を自由に変えてもよい。
【０１２１】清浄化用放電ガスを流す場合には、配管の
接続はパネル内でガスの導入側に浄化用電極が位置する
ようにする。清浄化用放電ガスを放電させる場合には、
清浄化ガス導入バルブ４０の配管経路に放電発生装置４
６を接続する。また、パネル内で放電を起こす場合に
は、パネル内の電極の任意の場所に任意の電圧波形を印
加できるようにした放電発生装置４４を取り付ける。
【０１２２】清浄化用放電ガスは、不純物の除去に使用
したときにパネル特性を劣化させないガスなら何でもよ
く、複数使用してもよい。例えば、Ｎ2、Ｎｅ、Ｈｅ、
Ａｒ、またはこれらの混合ガスでもよい。また、放電ガ
スを清浄化用放電ガスの代わりに使用してもよい。
【０１２３】排気工程は次の順序で行う。まず、パネル
の温度を制御するためにパネルをオーブン３５に入れ
る。次に、全てのガス導入バルブを閉めたまま、排気バ
ルブ３８だけを開け、排気装置３６によってパネル内部
を排気する。この排気を適当に行いながら、オーブン３
５で、パネルの温度プロファイルが図３０のグラフとな
るように温度制御を行う。
【０１２４】一定の温度に到達した後、ガス導入工程で
は、排気バルブ３８を閉めてガス導入バルブ３８ａを開
ける。そして、清浄化用放電ガス導入バルブ４０ａを開
け、清浄化用放電ガスをパネル内に排気管を通して導入
する。清浄化用放電ガスの導入工程は、必要であれば何
度でも繰り返してよい。
【０１２５】このとき、あらかじめ、清浄化用放電ガス
を配管内の放電発生装置４６で放電させ、活性な粒子を
形成してからパネル内へ導入し、活性粒子によりパネル
内の不純物を除去する。この際、ガス導入用の通気管が
複数ある場合には、パネル内の不純物を効率的に除去す
ることができる。
【０１２６】次に、パネル内部で放電を生じさせる例を
示す。この例では、第７排気・ガス導入工程と同じ操作
で、清浄化用放電ガスを導入する。この清浄化用放電ガ
スを利用し、パネル内の表示エリア外の浄化用電極に電
圧を印加して放電を生じさせ、活性な粒子であるプライ
ミング粒子を生成する。このとき、導入する清浄化用放
電ガスをあらかじめ放電発生装置４６で放電させてから
導入してもよい。
【０１２７】浄化用電極が設けられている位置には隔壁
がないので、放電はパネルの端から端まで一様に生じ、
プライミング粒子は一様に発生する。図３１に示すよう
に、表示エリア部の放電開始電圧はこの種火効果により
放電開始電圧が低下し、不純物が吸着している保護層の
ＭｇＯの表面上でも、極端には高くない電圧で放電が開
始される。そのため、種火に近いところから順に放電が
進んでいく。
【０１２８】図３２は第３構造例のＰＤＰに浄化用電極
を設けた場合の放電の様子を示す説明図であり、この図
に示すように、通気孔３１ａから清浄化用放電ガスを流
している場合は、隔壁と隔壁との間への清浄化用放電ガ
スの導入も、より効率的になる。この流入するプライミ
ング粒子により、表示部内の全ての領域で放電させ、表
示部内の不純物を除去することができる。この清浄化用
放電ガスを導入して、パネル内部で放電を生じさせる工
程は、適当な温度で何度でも繰り返してもよい。
【０１２９】以上の工程を終了後、排気バルブ３８を開
けて排気を行い、パネルの温度が室温になるように制御
する。パネルの温度が室温に到達後、排気バルブ３８を
閉じ、放電ガス導入バルブ４２を開けてパネル内に所望
の圧力の放電ガスを導入して、通気管を封止する。
【０１３０】このようにして、ＰＤＰ内の隔壁を第１〜
第１０構造例のように形成し、第１〜第６排気・ガス導
入工程例のようにして、第１〜第１０構造例のＰＤＰ、
または不純物ガス吸収剤を付加したＰＤＰを排気・ガス
導入する。あるいは、浄化用電極で浄化用の放電を行わ
せながら、第７排気・ガス導入工程例のようにして、Ｐ
ＤＰの排気・ガス導入を行う。これにより、プラズマデ
ィスプレイパネル内の不純物ガスを完全に抜き出して、
放電ガスを導入することができる。これにより、パネル
内に不純物ガスが残留しないので、従来のプラズマディ
スプレイパネルよりも表示特性を向上させることができ
る。
【０１３１】なお、本実施例においては、ＰＤＰとして
カラー表示用のＡＣ駆動型ＰＤＰを例に挙げて説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、隔壁さえ
有していれば、あらゆるＰＤＰに適用することができ
る。
【０１３２】
【発明の効果】この発明によれば、ガス放電パネル内に
残った不純物ガスを確実に除去することができるので、
表示特性の改善を図ることができ、また、排気・ガス導
入工程での処理時間を短縮することができ、生産性が向
上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明のカラー表示用のＡＣ駆動型ＰＤＰの
構造を示す斜視図である。
【図２】この発明による第１構造例のＰＤＰの外観を示
す斜視図である。
【図３】この発明による第１構造例のＰＤＰの内部構造
を示す説明図である。
【図４】この発明による第２構造例のＰＤＰの外観を示
す斜視図である。
【図５】この発明による第２構造例のＰＤＰの内部構造
を示す説明図である。
【図６】この発明による第３構造例のＰＤＰの内部構造
を示す説明図である。
【図７】この発明による第４構造例のＰＤＰの外観を示
す斜視図である。
【図８】この発明による第４構造例のＰＤＰの内部構造
を示す説明図である。
【図９】この発明による第５構造例のＰＤＰの内部構造
を示す説明図である。
【図１０】この発明による第６構造例のＰＤＰの内部構
造を示す説明図である。
【図１１】この発明による第７構造例のＰＤＰの内部構
造を示す説明図である。
【図１２】この発明による第８構造例のＰＤＰの内部構
造を示す説明図である。
【図１３】この発明による第９構造例のＰＤＰの内部構
造を示す説明図である。
【図１４】この発明による第１０構造例のＰＤＰの内部
構造を示す説明図である。
【図１５】この発明による基板の貼り合わせと通気管の
封着および排気・ガス導入工程を示す説明図である。
【図１６】この発明による通気管内に不純物ガス吸収剤
を配置した例を示す説明図である。
【図１７】この発明による第１排気・ガス導入工程例の
排気・ガス導入装置を示す説明図である。
【図１８】この発明による第１排気・ガス導入工程例に
おけるパネルの温度プロファイルを示すグラフである。
【図１９】この発明による第２排気・ガス導入工程例に
おけるパネルの温度プロファイルを示すグラフである。
【図２０】この発明による第３排気・ガス導入工程例の
排気・ガス導入装置を示す説明図である。
【図２１】この発明による第４および第５排気・ガス導
入工程例の排気・ガス導入装置を示す説明図である。
【図２２】この発明による第６排気・ガス導入工程例の
排気・ガス導入装置を示す説明図である。
【図２３】この発明による浄化用電極を設けた例を示す
説明図である。
【図２４】この発明による浄化用電極を設けた例を示す
説明図である。
【図２５】この発明による浄化用電極を設けた例を示す
説明図である。
【図２６】この発明による浄化用電極を設けた例を示す
説明図である。
【図２７】この発明による浄化用電極を設けた例を示す
説明図である。
【図２８】この発明による浄化用電極を設けた例を示す
説明図である。
【図２９】この発明による第７排気・ガス導入工程例の
排気・ガス導入装置を示す説明図である。
【図３０】この発明による浄化用電極を設けた場合のパ
ネルの温度プロファイルを示すグラフである。
【図３１】この発明による放電の広がりを示す説明図で
ある。
【図３２】この発明による第３構造例のＰＤＰに浄化用
電極を設けた場合の放電の様子を示す説明図である。
【図３３】従来のＰＤＰの隔壁構造を示す説明図であ
る。
【図３４】従来の基板の貼り合わせと通気管の封着およ
び排気・ガス導入工程を示す説明図である。
【図３５】従来のＰＤＰにおける不純物ガスの流れを示
す説明図である。
【図３６】従来のＰＤＰにおける放電ガスの流れを示す
説明図である。
【図３７】従来の通気孔を２つ設けたＰＤＰにおけるガ
スの流れを示す説明図である。
【符号の説明】
１ ＰＤＰ １１ 前面側のガラス基板 １２ 透明電極 １３ 金属電極 １７ 誘電体層 １８ 保護膜 ２１ 背面側のガラス基板 ２２ 下地層 ２４ 絶縁層 ２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂ 蛍光体層 ２９ 隔壁 ３０ 放電空間 ３１ａ，３１ｂ 通気孔 ３２ 封止部 ３３，３３ａ，３３ｂ 通気管 ３４ 不純物ガス吸収剤 ３５ オーブン ３６ 排気装置 ３７ 真空計 ３８，４３ 排気バルブ ３９ 清浄化ガスボンベ ４０ 清浄化ガス導入バルブ ４１ 放電ガスボンベ ４２ 放電ガス導入バルブ ４４，４６ 放電発生装置 ４５ 浄化用電極 Ａ アドレス電極 Ｘ，Ｙ サステイン電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福田 晋也 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１ 番１号 富士通株式会社内 (72)発明者 小坂 忠義 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１ 番１号 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 平９−115451（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−255569（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−245138（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−342991（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 11/02 H01J 9/385 H01J 9/02

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 放電空間を形成する２枚の基板間の表示
    部に対応する領域に放電部を仕切るためのストライプ状
    の複数の隔壁が並列に配置され、周辺に封止部が設けら
    れたガス放電パネルであって、 前記パネルの周辺部にパネル内外の通気を可能とする一
    方と他方の通気孔を設け、かつ少なくとも両側に位置す
    る各隔壁と封止部との間にそれぞれ通気障壁を設け、そ
    れにより一方の通気孔から導入されたガスが隔壁と隔壁
    との間を通過して他方の通気孔から排出されるようにし
    たことを特徴とするガス放電パネル。
  2. 【請求項２】 前記一方の通気孔と他方の通気孔が、パ
    ネルの対角線上に配置され、前記通気障壁が、隔壁と隔
    壁との間を前記ガスが順に通過するように、隔壁１本毎
    に、隔壁の一端と封止部との間および隔壁の他端と封止
    部との間に互い違いに設けられていることを特徴とする
    請求項１記載のガス放電パネル。
  3. 【請求項３】 前記一方の通気孔と他方の通気孔が、パ
    ネルの一辺に対して並列に配置され、前記通気障壁が、
    隔壁と隔壁との間を前記ガスが順に通過するように、隔
    壁１本毎に、隔壁の一端と封止部との間および隔壁の他
    端と封止部との間に互い違いに設けられていることを特
    徴とする請求項１記載のガス放電パネル。
  4. 【請求項４】 前記一方の通気孔と他方の通気孔が、パ
    ネルの対角線上に配置され、前記通気障壁が、両側に位
    置する一方の隔壁においては隔壁の一端と封止部との間
    に、他方の隔壁においては隔壁の他端と封止部との間
    に、それぞれ配置されていることを特徴とする請求項１
    記載のガス放電パネル。
  5. 【請求項５】 前記一方の通気孔が、パネルの一方辺の
    近傍に並列に配置された一対の通気孔からなり、前記他
    方の通気孔が、パネルの他方辺の近傍に並列に配置され
    た一対の通気孔からなり、前記通気障壁が、両側に位置
    する各隔壁の側面と封止部との間に、それぞれ配置され
    ていることを特徴とする請求項１記載のガス放電パネ
    ル。
  6. 【請求項６】 前記通気障壁が、隔壁または封止部と一
    体的に形成されていることを特徴とする請求項１記載の
    ガス放電パネル。
  7. 【請求項７】 前記一方の通気孔の形成されたパネル周
    辺部の隔壁と封止部との間に、ガスを放電させる浄化用
    電極を設けたことを特徴とする請求項１記載のガス放電
    パネル。
  8. 【請求項８】 前記浄化用電極が、隔壁と交差する方向
    に並列に配置された一対の電極からなることを特徴とす
    る請求項７記載のガス放電パネル。
  9. 【請求項９】 一方の基板が隔壁と並列に配置されたア
    ドレス電極を有する基板からなり、前記浄化用電極が、
    他方の基板において隔壁と交差する方向に配置された電
    極からなり、この浄化用電極とアドレス電極との間で浄
    化用の放電を生じさせることを特徴とする請求項７記載
    のガス放電パネル。
  10. 【請求項１０】 放電空間を介して対向する一対の基板
    の周辺に封止部が設けられ、放電空間の表示部に対応す
    る表示領域に放電部を仕切る複数の平行なストライプ状
    隔壁が設けられたガス放電パネルであって、前記パネルの周辺部にパネル内外の通気を可能とする少
    なくとも一つの通気孔を設け、かつ前記両側に位置する
    各隔壁 と封止部との間の非表示領域に通気障壁を設け
    て、当該非表示領域の通気コンダクタンスを前記各隔壁
    間に形成される細長い空洞の通気コンダクタンスより小
    さくし、それにより前記各隔壁間に形成される細長い空
    洞に対する通気孔を介しての排気またはガス導入を良好
    にしたことを特徴とするガス放電パネル。
  11. 【請求項１１】 請求項７記載のガス放電パネルの排気
    方法であって、 前記一方の通気孔を通してガスをパネル内に導入しなが
    ら前記他方の通気孔を通してパネル内を排気するととも
    に、導入されたガスを前記浄化用電極により放電させ、
    それによってパネル内部の浄化を行うことを特徴とする
    ガス放電パネルの排気方法。
  12. 【請求項１２】 前記浄化用電極でガスを放電させた
    後、その放電による種火を利用してパネルの放電電極に
    より放電を発生させることを特徴とする請求項１１記載
    のガス放電パネルの排気方法。
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