JP2906548B2 - 流量制御装置 - Google Patents
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- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
- G01F1/34—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
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- G01F1/007—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by measuring the level variations of storage tanks relative to the time
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、気体の流量を制御する流量制御装置に関す
る。
る。
＜従来の技術＞ 従来から用いられている流量制御装置では、被制御対
象となる流体の圧力を圧力調整器により一定の値とし、
この一定の圧力となった気体を流路の断面積が可変な流
量調整器に導くようにした構成が一般的である。このよ
うな構成により、流量調整器における流路の断面積を制
御することによって、気体の流量の制御が可能である。
象となる流体の圧力を圧力調整器により一定の値とし、
この一定の圧力となった気体を流路の断面積が可変な流
量調整器に導くようにした構成が一般的である。このよ
うな構成により、流量調整器における流路の断面積を制
御することによって、気体の流量の制御が可能である。
＜発明が解決しようとする課題＞ しかし、上記のような流量制御装置においては、流路
の断面積を精密に制御する必要があるので、機構が複雑
になり、コスト高となるとともに故障が生じやすい。ま
た、流路の断面積を厳密に制御することは難しいので微
小流量を精密に制御することが困難である。さらに流量
を自動的に変更しようとすると、流路の断面積を連続的
に変化させるための複雑な機構（その駆動装置を含
む。）が必要となり、コスト高となるとともに、この流
路の断面積の制御のための機構の配置のために大きなス
ペースが必要となる。このため、流量の変更の自動化が
困難である。
の断面積を精密に制御する必要があるので、機構が複雑
になり、コスト高となるとともに故障が生じやすい。ま
た、流路の断面積を厳密に制御することは難しいので微
小流量を精密に制御することが困難である。さらに流量
を自動的に変更しようとすると、流路の断面積を連続的
に変化させるための複雑な機構（その駆動装置を含
む。）が必要となり、コスト高となるとともに、この流
路の断面積の制御のための機構の配置のために大きなス
ペースが必要となる。このため、流量の変更の自動化が
困難である。
そこで、本発明は、上述の技術的課題を解決し、流量
の精密な制御が可能で、また流量の変更の自動化にも容
易に対応できるとともに、構成を簡単にして、低コスト
化および耐久性の向上にも寄与することができる流量制
御装置を提供することを目的とする。
の精密な制御が可能で、また流量の変更の自動化にも容
易に対応できるとともに、構成を簡単にして、低コスト
化および耐久性の向上にも寄与することができる流量制
御装置を提供することを目的とする。
＜課題を解決するための手段および作用＞ 第１図は第１の発明の流量制御装置の基本的な構成を
示す概念図である。気体は、流体入口１から制御手段２
により開閉制御される弁３を介して流体溜め部４に流入
する。流入した気体は、一定容量を持つ密閉構造の流体
溜め部４において一時的に保持された後、流体溜め部４
に形成した開口部５から出口６を介して流出する。開口
部５の開口面積は、気体の性質および流体溜め部４にお
ける気体の圧力の変化量などに対応した所定の値に定め
られており、流量はこの開口面積に依存する。
示す概念図である。気体は、流体入口１から制御手段２
により開閉制御される弁３を介して流体溜め部４に流入
する。流入した気体は、一定容量を持つ密閉構造の流体
溜め部４において一時的に保持された後、流体溜め部４
に形成した開口部５から出口６を介して流出する。開口
部５の開口面積は、気体の性質および流体溜め部４にお
ける気体の圧力の変化量などに対応した所定の値に定め
られており、流量はこの開口面積に依存する。
このような構成において、制御手段２による制御によ
って、弁３をT1秒間隔で開放し、かつ一回の開放時間が
T2秒となるように開閉制御した場合に、流体出口６から
流出する気体の平均流量Ｆ（／分）は下記第（１）式
で表される。
って、弁３をT1秒間隔で開放し、かつ一回の開放時間が
T2秒となるように開閉制御した場合に、流体出口６から
流出する気体の平均流量Ｆ（／分）は下記第（１）式
で表される。
ただし、この第（１）式において、P1は弁３を開放す
る直前の流体溜め部４内の気体の圧力（単位：気圧）で
あり、P2は弁３を開閉した直後の流体溜め部４内の気体
の圧力（単位：気圧）を示す。さらに、ａは、開口部５
の開口面積、開口部５の前後における気体の圧力差およ
び気体の物性により決定される定数（単位：／分）で
ある。さらに、Ｖは流体溜め部４の容積である（単位：
）。
る直前の流体溜め部４内の気体の圧力（単位：気圧）で
あり、P2は弁３を開閉した直後の流体溜め部４内の気体
の圧力（単位：気圧）を示す。さらに、ａは、開口部５
の開口面積、開口部５の前後における気体の圧力差およ
び気体の物性により決定される定数（単位：／分）で
ある。さらに、Ｖは流体溜め部４の容積である（単位：
）。
この第（１）式から明らかなように、本発明の流量制
御装置では、パラメータとなるP1,P2,V,aを予め設定し
ておけば、弁３を開放させる時間間隔T1と、一回の開放
時間T2との制御によって、弁３の開閉前後における流体
溜め部４内の圧力変化を利用して、所定の平均流量を得
ることができる。
御装置では、パラメータとなるP1,P2,V,aを予め設定し
ておけば、弁３を開放させる時間間隔T1と、一回の開放
時間T2との制御によって、弁３の開閉前後における流体
溜め部４内の圧力変化を利用して、所定の平均流量を得
ることができる。
しかも、開口部５の開口面積、流体溜め部４の容積
Ｖ、および弁２が開閉する流路の断面積を適当な条件に
設定すれば、或る範囲内の弁２の開閉時間間隔T1および
或る範囲内の一回の開放時間T2を設定した場合におい
て、圧力P2は流体入口１における気体の圧力に等しくな
り、圧力P1は流体出口６における気体の圧力と等しくな
る。このような条件下では、圧力P1,P2をほぼ一定とす
ることができるので、圧力P1,P2の測定を伴うことな
く、弁３の開閉制御のみによって流量の制御を行うこと
ができる。
Ｖ、および弁２が開閉する流路の断面積を適当な条件に
設定すれば、或る範囲内の弁２の開閉時間間隔T1および
或る範囲内の一回の開放時間T2を設定した場合におい
て、圧力P2は流体入口１における気体の圧力に等しくな
り、圧力P1は流体出口６における気体の圧力と等しくな
る。このような条件下では、圧力P1,P2をほぼ一定とす
ることができるので、圧力P1,P2の測定を伴うことな
く、弁３の開閉制御のみによって流量の制御を行うこと
ができる。
このように弁３の開閉制御によって流量の制御が行わ
れる結果、流路の断面積を変化させることによって流量
を制御を行っていた従来技術に比較して、構成が簡単に
なり、また精密な流量の制御が容易に実現される。しか
も、弁３の開閉時間間隔や一回の開放時間の変更によっ
て容易に流量を変更できるので、流量の変更の自動化に
も容易に対応することができる。
れる結果、流路の断面積を変化させることによって流量
を制御を行っていた従来技術に比較して、構成が簡単に
なり、また精密な流量の制御が容易に実現される。しか
も、弁３の開閉時間間隔や一回の開放時間の変更によっ
て容易に流量を変更できるので、流量の変更の自動化に
も容易に対応することができる。
第２図には上記第１の発明の変更例が示されている。
この変更例では、流体入口１における気体の圧力を検出
する第１の圧力検出手段S1と、流体出口６における気体
の圧力を検出する第２の圧力検出手段S2とが設けられ、
これらの第１および第２の圧力検出手段S1,S2の出力は
制御手段２に与えられている。このような構成によれ
ば、上述の第（１）式におけるパラメータP1,P2が制御
手段２に与えられることになるので、流体入口１または
流体出口６における気体の圧力の時間変化が無視できな
い場合でも、所望の流量Ｆを得ることができる時間T1,T
2を随時設定して、気体の流量を高精度で所期の流量Ｆ
に制御することができる。
この変更例では、流体入口１における気体の圧力を検出
する第１の圧力検出手段S1と、流体出口６における気体
の圧力を検出する第２の圧力検出手段S2とが設けられ、
これらの第１および第２の圧力検出手段S1,S2の出力は
制御手段２に与えられている。このような構成によれ
ば、上述の第（１）式におけるパラメータP1,P2が制御
手段２に与えられることになるので、流体入口１または
流体出口６における気体の圧力の時間変化が無視できな
い場合でも、所望の流量Ｆを得ることができる時間T1,T
2を随時設定して、気体の流量を高精度で所期の流量Ｆ
に制御することができる。
第３図には上記第１の発明のさらに他の変更例が示さ
れている。この変更例では、流体溜め部４における気体
の圧力を検出する圧力検出手段S3が設けられ、この圧力
検出手段S3の出力が制御手段２に与えられている。この
ような構成によれば、弁３を開放する直前の流体溜め部
４内の気体の圧力P1と、弁３を閉鎖した直後の流体溜め
部４内の気体の圧力P2とを検出手段S3で共通に検出させ
ることができる。この結果、１個の圧力検出手段S3を用
いて、圧力P1,P2が時間的に変化する場合にも良好に対
応して高精度で所期の流量Ｆを得ることができる。
れている。この変更例では、流体溜め部４における気体
の圧力を検出する圧力検出手段S3が設けられ、この圧力
検出手段S3の出力が制御手段２に与えられている。この
ような構成によれば、弁３を開放する直前の流体溜め部
４内の気体の圧力P1と、弁３を閉鎖した直後の流体溜め
部４内の気体の圧力P2とを検出手段S3で共通に検出させ
ることができる。この結果、１個の圧力検出手段S3を用
いて、圧力P1,P2が時間的に変化する場合にも良好に対
応して高精度で所期の流量Ｆを得ることができる。
第４図は第２の発明の基本的な構成を示す概念図であ
る。この第４図において、前述の第１図に示された各部
に対応する部分には同一の参照符号を付して示す。本発
明における前述の第１の発明の構成との最も特徴的な差
異は、流体入口１からの流体を、所定の開口面積を有す
る開口部５から流体溜め部４に流入させ、この流体溜め
部４に保持された気体を弁３を介して流体出口６から流
出させるようにしたことである。換言すれば、本発明で
は、流体溜め部４と流体出口６との間に制御手段２によ
って開閉制御される弁３が設けられている。
る。この第４図において、前述の第１図に示された各部
に対応する部分には同一の参照符号を付して示す。本発
明における前述の第１の発明の構成との最も特徴的な差
異は、流体入口１からの流体を、所定の開口面積を有す
る開口部５から流体溜め部４に流入させ、この流体溜め
部４に保持された気体を弁３を介して流体出口６から流
出させるようにしたことである。換言すれば、本発明で
は、流体溜め部４と流体出口６との間に制御手段２によ
って開閉制御される弁３が設けられている。
このような構成によって、前述の第１の発明の場合と
同様に、弁３を、所定の時間間隔T1秒毎に開放させ、か
つ一回の開放時間をT2秒となるように開閉制御した場合
には、流体出口６から流出する気体の平均流量Ｆ′（
／分）は、近似的に下記第（２）式で表される。ただ
し、下記第（２）式は、弁３が開閉する流路の断面積が
開口部５の開口面積よりも充分に大きく、かつ流体溜め
部４の容積Ｖが充分に大きいという条件下で成立する。
同様に、弁３を、所定の時間間隔T1秒毎に開放させ、か
つ一回の開放時間をT2秒となるように開閉制御した場合
には、流体出口６から流出する気体の平均流量Ｆ′（
／分）は、近似的に下記第（２）式で表される。ただ
し、下記第（２）式は、弁３が開閉する流路の断面積が
開口部５の開口面積よりも充分に大きく、かつ流体溜め
部４の容積Ｖが充分に大きいという条件下で成立する。
この第（２）式において、P4は弁３を開放する直前の
流体溜め部４内の気体の圧力（単位：気圧）を示し、P3
は弁３を閉鎖する直前の流体溜め部４内に気体の圧力
（単位：気圧）を示す。
流体溜め部４内の気体の圧力（単位：気圧）を示し、P3
は弁３を閉鎖する直前の流体溜め部４内に気体の圧力
（単位：気圧）を示す。
この第（２）式から明らかなように、パラメータとな
るP4,P3,Vなどを予め所定の値に設定しておけば、弁３
の開放の時間間隔T1などを制御することによって、流量
Ｆ′の制御が可能である。すなわち、本発明において
も、弁３の開閉制御のみによって流量を制御することが
できる。なお、開口部５の開口面積、流体溜め部４の容
積Ｖ、および弁２が開閉する流路の面積を適当な条件に
設定し、弁２の開閉時間間隔T1および一回の開放時間T2
をそれぞれ或る範囲とすることによって、圧力P4,P3を
それぞれ流体入口１、流体出口６における気体の圧力に
等しくできるのは前述の第１の発明の場合と同様であ
る。
るP4,P3,Vなどを予め所定の値に設定しておけば、弁３
の開放の時間間隔T1などを制御することによって、流量
Ｆ′の制御が可能である。すなわち、本発明において
も、弁３の開閉制御のみによって流量を制御することが
できる。なお、開口部５の開口面積、流体溜め部４の容
積Ｖ、および弁２が開閉する流路の面積を適当な条件に
設定し、弁２の開閉時間間隔T1および一回の開放時間T2
をそれぞれ或る範囲とすることによって、圧力P4,P3を
それぞれ流体入口１、流体出口６における気体の圧力に
等しくできるのは前述の第１の発明の場合と同様であ
る。
なお、この第２の発明に関しても、第１の発明の場合
と同様に第３図または第４図図示の構成と類似の変更例
を構成することができる。すなわち、流体入口１と流体
出口６との気体の圧力をそれぞれ検出する検出手段を設
け、各検出手段の出力を制御手段２に入力するようにす
れば、時間的に変化する圧力P3,P4に対応することがで
きる。また、流体溜め部４内の気体の圧力を検出する圧
力検出手段を設け、この圧力検出手段の出力を制御手段
２に入力するようにすれば、上記第（２）式における圧
力P3,P4が制御手段２に与えられるので、１個の圧力検
出手段を用いて、圧力P3,P4が時間液に変動する場合に
良好に対応することができる。
と同様に第３図または第４図図示の構成と類似の変更例
を構成することができる。すなわち、流体入口１と流体
出口６との気体の圧力をそれぞれ検出する検出手段を設
け、各検出手段の出力を制御手段２に入力するようにす
れば、時間的に変化する圧力P3,P4に対応することがで
きる。また、流体溜め部４内の気体の圧力を検出する圧
力検出手段を設け、この圧力検出手段の出力を制御手段
２に入力するようにすれば、上記第（２）式における圧
力P3,P4が制御手段２に与えられるので、１個の圧力検
出手段を用いて、圧力P3,P4が時間液に変動する場合に
良好に対応することができる。
＜実施例＞ 第５図は、第１図に示された第１の発明の流量制御装
置をガス分圧測定用センサの較正装置に応用した実施例
を示す概念図である。ガス分圧測定用センサは、たとえ
ば血液中の炭酸ガスや酸素ガスなどのガス分圧を測定す
るためなどに用いられるもので、一般にガス分圧に１対
１に対応した出力を得ることができる電気化学的センサ
により構成される。このような電気化学的センサにおい
て、たとえば炭酸ガスの分圧を測定するものでは、その
使用に当たり、既知の炭酸ガス濃度を有する２種類の空
気混合ガス（標準ガス）を用いた２点較正が行われる。
置をガス分圧測定用センサの較正装置に応用した実施例
を示す概念図である。ガス分圧測定用センサは、たとえ
ば血液中の炭酸ガスや酸素ガスなどのガス分圧を測定す
るためなどに用いられるもので、一般にガス分圧に１対
１に対応した出力を得ることができる電気化学的センサ
により構成される。このような電気化学的センサにおい
て、たとえば炭酸ガスの分圧を測定するものでは、その
使用に当たり、既知の炭酸ガス濃度を有する２種類の空
気混合ガス（標準ガス）を用いた２点較正が行われる。
このガス分圧測定用センサの較正を行うための装置の
詳細はたとえば特開昭63−143035号公報、特開昭63−14
3036号公報に開示されており、本願第５図にはその一部
の構成が示されている。この装置は、ガス分圧測定用セ
ンサ31が載置されるセンサ載置部21に、一定流量でセン
サ較正用の標準ガスを供給し、このときのセンサ31の出
力を検出するようにしたものである。センサ載置部21に
たとえば炭酸ガスの濃度を異ならせた２種類の標準ガス
を導入し、各標準ガスに対応したセンサ31の出力に基づ
いて、当該センサ31の較正が行われる。
詳細はたとえば特開昭63−143035号公報、特開昭63−14
3036号公報に開示されており、本願第５図にはその一部
の構成が示されている。この装置は、ガス分圧測定用セ
ンサ31が載置されるセンサ載置部21に、一定流量でセン
サ較正用の標準ガスを供給し、このときのセンサ31の出
力を検出するようにしたものである。センサ載置部21に
たとえば炭酸ガスの濃度を異ならせた２種類の標準ガス
を導入し、各標準ガスに対応したセンサ31の出力に基づ
いて、当該センサ31の較正が行われる。
流量制御装置20は、標準ガスを収納したガスカートリ
ッジ22と、センサ載置部21との間に接続されて、ガスカ
ートリッジ22からの標準ガスの流量を制御する。ガスカ
ートリッジ22からの標準ガスは流量制御装置20の配管23
から電磁弁24を介して密閉構造のガス溜め部25に導入さ
れる。このガス溜め部25に一時保持された標準ガスは、
流路絞り26を介し、配管27からセンサ載置部21に供給さ
れる。
ッジ22と、センサ載置部21との間に接続されて、ガスカ
ートリッジ22からの標準ガスの流量を制御する。ガスカ
ートリッジ22からの標準ガスは流量制御装置20の配管23
から電磁弁24を介して密閉構造のガス溜め部25に導入さ
れる。このガス溜め部25に一時保持された標準ガスは、
流路絞り26を介し、配管27からセンサ載置部21に供給さ
れる。
電磁弁24はマイクロコンピュータ28によって開閉制御
されており、このマイクロコンピュータ28には、配管23
内の標準ガスの圧力を検出する半導体圧力センサ29の出
力がアナログ／ディジタル変換器30（以下「A/D変換器3
0」という）を介して与えられている。
されており、このマイクロコンピュータ28には、配管23
内の標準ガスの圧力を検出する半導体圧力センサ29の出
力がアナログ／ディジタル変換器30（以下「A/D変換器3
0」という）を介して与えられている。
この第５図に示された構成において、たとえばガスカ
ートリッジ22から供給される標準ガスの圧力は、このガ
スカートリッジ22内の標準ガスの残量に応じて、0.5〜
７気圧（相対圧）の間で変動する。一方、配管27からの
標準ガスが供給されるセンサ載置部21における標準ガス
の圧力は常時大気圧と等しく（相対圧が０気圧）なって
いる。すなわち、この構成では、上記第（１）式におけ
る圧力P1が一定であって、圧力P2がガスカートリッジ22
内の標準ガスの残量に対応して時間的に変化する。
ートリッジ22から供給される標準ガスの圧力は、このガ
スカートリッジ22内の標準ガスの残量に応じて、0.5〜
７気圧（相対圧）の間で変動する。一方、配管27からの
標準ガスが供給されるセンサ載置部21における標準ガス
の圧力は常時大気圧と等しく（相対圧が０気圧）なって
いる。すなわち、この構成では、上記第（１）式におけ
る圧力P1が一定であって、圧力P2がガスカートリッジ22
内の標準ガスの残量に対応して時間的に変化する。
このため、本構成例では、半導体圧力センサ29で上記
の圧力P2を監視し、その出力をA/D変換器30を介してマ
イクロコンピュータ28に与えることとしている。これに
より、圧力P2の時間変化に対応して、上記第（１）式に
おける時間T1,T2を随時変更しながら、確実に所期の流
量で標準ガスをセンサ載置部21に供給することができ
る。
の圧力P2を監視し、その出力をA/D変換器30を介してマ
イクロコンピュータ28に与えることとしている。これに
より、圧力P2の時間変化に対応して、上記第（１）式に
おける時間T1,T2を随時変更しながら、確実に所期の流
量で標準ガスをセンサ載置部21に供給することができ
る。
なお、この第５図図示の構成の場合には、たとえばガ
ス溜め部25の容積を0.22mlとし、流路絞り26において第
１図図示の開口部５に対応する部分の開口面積を変更す
ることにより第（１）式の定数ａを５〜20ml/分に調整
した条件で、標準ガスの圧力に応じて3.5〜47秒の時間
間隔で電磁弁24を0.1秒間開放することによって、セン
サ載置部21に供給される標準ガスの供給量を約2ml/分と
することができる。
ス溜め部25の容積を0.22mlとし、流路絞り26において第
１図図示の開口部５に対応する部分の開口面積を変更す
ることにより第（１）式の定数ａを５〜20ml/分に調整
した条件で、標準ガスの圧力に応じて3.5〜47秒の時間
間隔で電磁弁24を0.1秒間開放することによって、セン
サ載置部21に供給される標準ガスの供給量を約2ml/分と
することができる。
第６図は上記第２の発明の流量制御装置40を前述の分
圧測定用センサの較正装置に適用した実施例を示す概念
図である。この第６図において、前述の第５図に示され
た各部に対応する部分には同一の参照符号を付して示
す。この実施例の構成における第５図図示の実施例の構
成との最も特徴的な差異は、ガス溜め部25に関して弁24
と流路絞り26との配置を逆転させたことである。弁24を
制御するマイクロコンピュータ28には、配管23における
標準ガスの圧力を検出する半導体圧力センサ29の出力が
A/D変換器30を介して与えられている。これによって、
ガスカートリッジ22内の標準ガスの残量の減少に伴う、
上述の第（２）式における圧力P4の時間変化に良好に対
応して、所望の流量を確実に達成することができる。
圧測定用センサの較正装置に適用した実施例を示す概念
図である。この第６図において、前述の第５図に示され
た各部に対応する部分には同一の参照符号を付して示
す。この実施例の構成における第５図図示の実施例の構
成との最も特徴的な差異は、ガス溜め部25に関して弁24
と流路絞り26との配置を逆転させたことである。弁24を
制御するマイクロコンピュータ28には、配管23における
標準ガスの圧力を検出する半導体圧力センサ29の出力が
A/D変換器30を介して与えられている。これによって、
ガスカートリッジ22内の標準ガスの残量の減少に伴う、
上述の第（２）式における圧力P4の時間変化に良好に対
応して、所望の流量を確実に達成することができる。
なお、上記第１および第２の発明は分圧測定用センサ
の較正用以外の任意の用途に応用し得るものであり、ま
た発明の要旨を変更しない範囲内において、種々の設計
変更を施すことが可能である。
の較正用以外の任意の用途に応用し得るものであり、ま
た発明の要旨を変更しない範囲内において、種々の設計
変更を施すことが可能である。
＜発明の効果＞ 以上のように本発明の流量制御装置によれば、流量の
制御は、制御手段によって弁の開閉の時間間隔と一回の
開放時間とを制御することにより達成されるので、従来
のように流路の面積を変化させたりする必要がない。こ
れにより、簡単な構成で流量の制御が達成され、しかも
流量の精密な制御が可能となる。また構成が簡単になる
結果、コストを低減できるとともに、故障が生じにくく
なるので耐久性を向上することもできる。さらに、弁の
開閉の時間間隔および一回の開放時間を変更することに
よって、容易に流量を変更させることができるので、流
量の変更の自動化にも容易に対応することができる。
制御は、制御手段によって弁の開閉の時間間隔と一回の
開放時間とを制御することにより達成されるので、従来
のように流路の面積を変化させたりする必要がない。こ
れにより、簡単な構成で流量の制御が達成され、しかも
流量の精密な制御が可能となる。また構成が簡単になる
結果、コストを低減できるとともに、故障が生じにくく
なるので耐久性を向上することもできる。さらに、弁の
開閉の時間間隔および一回の開放時間を変更することに
よって、容易に流量を変更させることができるので、流
量の変更の自動化にも容易に対応することができる。
第１図は第１の発明の流量制御装置の基本的な構成を示
す概念図、 第２図および第３図は前記第１の発明の変更例をそれぞ
れ示す概念図、 第４図は第２の発明の基本的な構成を示す概念図、 第５図は前記第１の発明の流量制御装置をガス分圧セン
サの較正装置に適用した実施例を示す概念図、 第６図は前記第２の発明の流量制御装置をガス分圧セン
サの較正装置に適用した実施例を示す概念図である。 １……流体入口、２……制御手段、３……弁、４……流
体溜め部、５……開口部、６……流体出口、S1,S2,S3…
…圧力検出手段、20,40……流量制御装置、24……弁、2
5……ガス溜め部、26……流路絞り、28……マイクロコ
ンピュータ、29……半導体圧力センサ
す概念図、 第２図および第３図は前記第１の発明の変更例をそれぞ
れ示す概念図、 第４図は第２の発明の基本的な構成を示す概念図、 第５図は前記第１の発明の流量制御装置をガス分圧セン
サの較正装置に適用した実施例を示す概念図、 第６図は前記第２の発明の流量制御装置をガス分圧セン
サの較正装置に適用した実施例を示す概念図である。 １……流体入口、２……制御手段、３……弁、４……流
体溜め部、５……開口部、６……流体出口、S1,S2,S3…
…圧力検出手段、20,40……流量制御装置、24……弁、2
5……ガス溜め部、26……流路絞り、28……マイクロコ
ンピュータ、29……半導体圧力センサ
Claims (2)
- 【請求項１】流体入口からの気体を一時的に保持し、こ
の保持した気体を所定の開口面積を有する開口部から流
出させる、一定容量を持つ密閉構造の流体溜め部と、 この流体溜め部と前記流体入口との間を開閉する弁と、 この弁を開閉制御する制御手段とを備え、 前記制御手段は、所望の流量に対応して、前記弁の開閉
の時間間隔および一回の開放時間を制御し、前記弁の開
閉に伴う前記流体溜め部内の圧力変化を利用して、前記
開口部から流出する流体の流量を制御するものであるこ
とを特徴とする流量制御装置。 - 【請求項２】流体入口からの気体を所定の開口面積を有
する開口部から取り入り、取り入れた気体を一時的に保
持する、一定容量を持つ密閉構造の流体溜め部と、 この流体溜め部と、この流体溜め部からの気体が導かれ
る流体出口との間を開閉する弁と、 この弁を開閉制御する制御手段とを備え、 前記制御手段は、所望の流量に対応して、前記弁の開閉
の時間間隔および一回の開放時間を制御し、前記弁の開
閉に伴う前記流体溜め部内の圧力変化を利用して、前記
流体出口から流出する流体の流量を制御するものである
ことを特徴とする流量制御装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2063538A JP2906548B2 (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 流量制御装置 |
| EP19910103943 EP0446920A3 (en) | 1990-03-14 | 1991-03-14 | Fluid flow control device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2063538A JP2906548B2 (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 流量制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03263209A JPH03263209A (ja) | 1991-11-22 |
| JP2906548B2 true JP2906548B2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=13232095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2063538A Expired - Lifetime JP2906548B2 (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 流量制御装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0446920A3 (ja) |
| JP (1) | JP2906548B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2059228B1 (es) * | 1992-02-14 | 1995-05-16 | Univ Santiago Compostela | Dispositivo de pulsacion para ser acoplado a equipos de fermentacion, reactores enzimaticos o reactores quimicos. |
| JP2633820B2 (ja) * | 1995-06-16 | 1997-07-23 | ボッシュ包装機株式会社 | 液体の圧力充填方法 |
| GB0907807D0 (en) * | 2009-05-06 | 2009-06-17 | Norgren Ltd C A | Differential pressure sensor and method |
| US9428373B2 (en) | 2011-04-06 | 2016-08-30 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machine Co., Ltd. | Rotary-type filling machine and method for calculating filling quantity for rotary-type filling machine |
| CN103076815B (zh) * | 2012-12-26 | 2015-11-25 | 桂林电子科技大学 | 流体流量的高精度线性控制装置 |
| CN107422754B (zh) * | 2017-09-01 | 2023-11-14 | 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院 | 一种微量气体流速控制装置及控制方法 |
| DE102018130079A1 (de) * | 2018-11-28 | 2020-05-28 | Bühnen GmbH & Co. KG | Messsystem zur Erfassung eines Füllstands eines Klebstofftanks und Klebepistole mit einem solchen Messsystem |
Family Cites Families (5)
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|---|---|---|---|---|
| US4600401A (en) * | 1981-04-15 | 1986-07-15 | Baxter Travenol Laboratories | Fluid flow control system |
| GB2139737B (en) * | 1983-04-29 | 1986-07-02 | Furmanite Int Ltd | Valve testing system |
| GB8522064D0 (en) * | 1985-09-05 | 1985-10-09 | Lucas Ind Plc | Anti-skid braking systems |
| DE3635880A1 (de) * | 1986-10-22 | 1988-05-05 | Bosch Gmbh Robert | Hydraulisches fahrzeugbremssystem |
| US4792335A (en) * | 1987-02-11 | 1988-12-20 | Goosen Carl C | Pressure controlled valve apparatus |
-
1990
- 1990-03-14 JP JP2063538A patent/JP2906548B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-03-14 EP EP19910103943 patent/EP0446920A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0446920A2 (en) | 1991-09-18 |
| JPH03263209A (ja) | 1991-11-22 |
| EP0446920A3 (en) | 1992-08-05 |
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