JP2022036894A - Release film, release film with adhesive layer and film laminate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、離型フィルム、粘着層付き離型フィルムおよびフィルム積層体に関する。 The present invention relates to a release film, a release film with an adhesive layer, and a film laminate.
液晶テレビ、コンピューターディスプレイ、携帯電話やデジタルカメラなどの画像表示装置として利用されている液晶表示装置の製造方法の一例として、粘着層付き離型フィルムすなわち粘着剤層の片面側に離型層を介して基材フィルムを積層してなる粘着層付き離型フィルムを使用して、当該粘着剤層を偏光板に貼付して粘着剤層付偏光板を製造した後、液晶セルと貼り合せる際に、前記離型層を備えた基材フィルム(離型フィルム)を剥離して粘着剤層と液晶セルのガラス基板を貼付して製造する方法を挙げることができる。 As an example of a method for manufacturing a liquid crystal display device used as an image display device for a liquid crystal television, a computer display, a mobile phone, a digital camera, etc., a release film with an adhesive layer, that is, a release layer on one side of the adhesive layer is provided. When the pressure-sensitive adhesive layer is attached to a polarizing plate to produce a polarizing plate with an adhesive layer using a release film with an adhesive layer, which is formed by laminating a base film, and then bonded to a liquid crystal cell. Examples thereof include a method of peeling off the base film (release film) provided with the release layer and attaching the pressure-sensitive adhesive layer and the glass substrate of the liquid crystal cell to the production.
近年、ディスプレイの大型化に伴い、偏光板などの光学部材及び離型フィルムの寸法が大きくなり、上述のような液晶表示装置の製造に使用する離型フィルムには、剥離面積が大きくても軽く剥離することができる性質が求められるようになって来ている。
シリコーンは、シロキサン骨格が有する柔軟性と、メチル基置換による低表面エネルギーとにより、小さな力で剥離することができる性質(「軽剥離性」とも称する)に優れている材料である。そのため、光学部材、例えば液晶ディスプレイなどを構成する部材を貼り合わせる粘着剤を保護するための離型フィルムとして、シリコーン樹脂を主成分樹脂とする熱・紫外線硬化型シリコーン系離型剤が硬化してなる離型層を設けた離型フィルムが注目されている。
In recent years, as the size of displays has increased, the dimensions of optical members such as polarizing plates and release films have increased, and the release films used in the manufacture of liquid crystal display devices as described above are light even if the peeling area is large. There is a growing demand for properties that can be peeled off.
Silicone is a material excellent in the property of being able to be peeled off with a small force (also referred to as "light peeling property") due to the flexibility of the siloxane skeleton and the low surface energy due to the substitution of a methyl group. Therefore, as a release film for protecting the adhesive for adhering optical members, for example, members constituting a liquid crystal display, a heat / ultraviolet curable silicone release agent containing a silicone resin as a main component is cured. A release film provided with a release layer is attracting attention.
シリコーンを主成分樹脂として含有する離型層を備えた離型フィルムに関しては、例えば特許文献1において、剥離時に剥離が軽く、保存時の保持力に優れ、かつ耐大気暴露性や非移行性に優れる離型フィルムとして、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に硬化型シリコーンを主成分樹脂とする塗料を塗工した離型フィルムであり、当該塗料が、溶剤型硬化型シリコーンと無溶剤型硬化型シリコーンと、反応性重剥離調整剤とを主成分として含有し、かつ塗料中のSiH基とビニル基の比が特定範囲である離型フィルムが開示されている。 Regarding the release film provided with the release layer containing silicone as the main component resin, for example, in Patent Document 1, the release is light at the time of peeling, the holding power at the time of storage is excellent, and the air exposure resistance and non-migration property are improved. An excellent release film is a release film in which at least one side of a polyester film is coated with a paint containing a curable silicone as a main component resin, and the paints are solvent-type curable silicone and solvent-free curable silicone. Disclosed is a release film containing a reactive heavy peeling adjusting agent as a main component and having a specific range of the ratio of SiH group to vinyl group in the coating material.
特許文献2には、ヘキセニル基、ビニル基、フェニル基、およびヒドロシリル基を官能基として有する反応性シリコーン樹脂と、質量平均分子量が50000~100000の未反応性シリコーン樹脂と、白金系触媒とを含有する塗布液から形成されたシリコーン系離型層をポリエステルフィルムの片面に有することを特徴とする離型フィルムが開示されている。 Patent Document 2 contains a reactive silicone resin having a hexenyl group, a vinyl group, a phenyl group, and a hydrosilyl group as functional groups, an unreactive silicone resin having a mass average molecular weight of 50,000 to 100,000, and a platinum-based catalyst. Disclosed is a release film characterized by having a silicone-based release layer formed from a coating liquid on one side of the polyester film.
特許文献3には、ポリエステルフィルムの少なくとも片面側に離型層を備えた離型フィルムであり、当該離型層を形成する組成物が、数平均分子量50000以上の硬化型シリコーン(A)と、数平均分子量30000以下の硬化型シリコーン(B)とを含有し、前記硬化型シリコーン(B)は、T単位構造を有し、且つ、硬化型シリコーン(B)が有するポリシロキサン鎖におけるT単位構造の含有割合がシロキサン単位で3モル%以上であることを特徴とする、離型フィルムが開示されている。 Patent Document 3 describes a release film having a release layer on at least one side of a polyester film, and the composition forming the release layer is a curable silicone (A) having a number average molecular weight of 50,000 or more. The curable silicone (B) containing a curable silicone (B) having a number average molecular weight of 30,000 or less has a T unit structure, and the curable silicone (B) has a T unit structure in a polysiloxane chain. A release film is disclosed, wherein the content ratio of the above is 3 mol% or more in siloxane units.
ところで、偏光板やタッチセンサーなどの光学部材は、粘着層及び離型フィルムが積層された形で流通されることがある。例えば、光学部材の一方の面に、保護フィルムを、軽粘着層を介して剥離可能に積層し、他方の面に、粘着層付き離型フィルムを積層した状態、すわなち、離型フィルム/粘着層/光学フィルム/軽粘着層/保護フィルムの状態で流通することがある。
この際、粘着層から離型フィルムを剥離する際の剥離力が、光学部材と軽粘着層との密着力よりも大きいと、先に保護フィルムが剥離してしまう現象、いわゆる“泣き別れ現象”が発生することがあった。そのため、光学用途に使用する粘着層付き離型フィルムに関しては、より一層小さな力で剥離することができる軽剥離性に優れていることが求められる。
By the way, optical members such as polarizing plates and touch sensors may be distributed in a form in which an adhesive layer and a release film are laminated. For example, a protective film is laminated on one surface of an optical member so as to be peelable via a light adhesive layer, and a release film with an adhesive layer is laminated on the other surface, that is, a release film / It may be distributed in the form of an adhesive layer / optical film / light adhesive layer / protective film.
At this time, if the peeling force when peeling the release film from the adhesive layer is larger than the adhesive force between the optical member and the light adhesive layer, the phenomenon that the protective film is peeled off first, the so-called "crying farewell phenomenon" occurs. It could occur. Therefore, the release film with an adhesive layer used for optical applications is required to have excellent light peelability that can be peeled off with even smaller force.
また、従来は、粘着層付き離型フィルムの離型フィルムに接していない側の粘着層表面(単に「粘着層表面」とも称する)に多少の凹凸があっても、当該粘着層表面は光学部材に接合するため、問題にされることはなかった。ところが近年、各部材が薄くなり、且つ光学的特性に関する品質要求が高まったことから、粘着層付き離型フィルムにおける粘着層表面の凹凸が課題になるようになってきた。すなわち、当該粘着層表面に凹凸があると、光学部材に貼り合わせた際、粘着層と光学部材との界面に歪が生じ、この歪みによって光が散乱するなどして、正確な光学検査の妨げになることがあった。
よって、粘着層付き離型フィルムに関しては、離型フィルムに接していない側の粘着層表面は、凹凸が少なくて平滑であることが求められる。
Further, conventionally, even if the surface of the adhesive layer (also simply referred to as “the surface of the adhesive layer”) on the side of the release film with the adhesive layer that is not in contact with the release film has some irregularities, the surface of the adhesive layer is an optical member. It was not a problem because it was bonded to. However, in recent years, as each member has become thinner and quality requirements for optical properties have increased, unevenness on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer in the release film with a pressure-sensitive adhesive layer has become an issue. That is, if the surface of the adhesive layer is uneven, distortion occurs at the interface between the adhesive layer and the optical member when the adhesive layer is attached to the optical member, and the distortion causes light to be scattered, which hinders accurate optical inspection. Sometimes became.
Therefore, with respect to the release film with an adhesive layer, the surface of the adhesive layer on the side not in contact with the release film is required to be smooth with few irregularities.
本発明者は、粘着層付き離型フィルムに関して、離型フィルムに接していない側の粘着層表面に凹凸が出来る原因を検討した結果、離型層と粘着層との相互作用により、主に2つの原因で粘着層表面に凹凸が形成されることを見出した。すなわち、離型層の表面に凹凸があると、その影響で粘着層表面に凹凸が生じる場合があること、並びに、離型層から粘着層側に非相溶成分が溶出することで、粘着層組成物を塗布する際にハジキが発生したり、若しくは、粘着層内に当該非相溶成分が侵入して相分離構造を形成したりする結果、粘着層表面に凹凸が生じる場合があることを見出した。 As a result of investigating the cause of unevenness on the surface of the adhesive layer on the side not in contact with the release film with respect to the release film with the adhesive layer, the present inventor mainly causes 2 due to the interaction between the release layer and the adhesive layer. It was found that unevenness is formed on the surface of the adhesive layer due to one cause. That is, if the surface of the release layer is uneven, the surface of the adhesive layer may be uneven due to the effect, and the incompatible component is eluted from the release layer to the adhesive layer side, so that the adhesive layer is adhered. As a result of cissing when the composition is applied, or the incompatible component invading the adhesive layer to form a phase release structure, the surface of the adhesive layer may be uneven. I found it.
そこで本発明は、離型フィルム及び粘着層付き離型フィルムに関し、粘着層表面の凹凸を抑制して平滑にすることができ、それでいて、軽剥離性にも優れている新たな離型フィルム、並びに、これを用いた新たな粘着層付き離型フィルムおよびフィルム積層体を提供せんとするものである。 Therefore, the present invention relates to a release film and a release film with an adhesive layer, a new release film capable of suppressing unevenness on the surface of the adhesive layer and smoothing the surface, and yet having excellent light peelability, as well as a new release film. , A new release film with an adhesive layer and a film laminate using this are intended to be provided.
本発明は、基材フィルムの片面側に離型層を設けた構成を備えた離型フィルムであり、前記離型層の凝着エネルギーが35mJ/m2以上39mJ/m2以下であり、当該離型層に、アクリル系粘着テープを貼り合わせ、50mm×300mmのサイズにカットし、その状態で、熱風式オーブンにて100℃(設定温度)で1時間加熱保持した後、23℃、50%RHで1時間静置した後の、引張速度300mm/分の条件下での180°剥離力が15mN/cm以下である、離型フィルムを提案する。 The present invention is a release film having a structure in which a release layer is provided on one side of a base film, and the adhesion energy of the release layer is 35 mJ / m 2 or more and 39 mJ / m 2 or less. Acrylic adhesive tape is attached to the release layer, cut into a size of 50 mm x 300 mm, and in that state, heated and held at 100 ° C (set temperature) for 1 hour in a hot air oven, and then 23 ° C, 50%. We propose a release film having a 180 ° peeling force of 15 mN / cm or less under the condition of a tensile speed of 300 mm / min after being allowed to stand in RH for 1 hour.
本発明はまた、基材フィルムの片面側に、離型層組成物が硬化してなる離型層を備えた離型フィルムを提案する。
この際、当該離型層組成物として、数平均分子量(Mn)が20000以上、350000以下の硬化型シリコーン樹脂を主成分樹脂とする離型層組成物、又は、全シロキサン成分に対して0.01~5.0mol%のフェニル基を含む離型層組成物を提案する。
The present invention also proposes a release film provided with a release layer formed by curing the release layer composition on one side of the base film.
At this time, as the release layer composition, a release layer composition containing a curable silicone resin having a number average molecular weight (Mn) of 20,000 or more and 350,000 or less as a main component resin, or 0. We propose a release layer composition containing 01 to 5.0 mol% of phenyl groups.
本発明はまた、前記離型フィルムの前記離型層に粘着層が積層してなる構成を備えた粘着層付き離型フィルムを提案する。 The present invention also proposes a release film with an adhesive layer having a structure in which an adhesive layer is laminated on the release layer of the release film.
本発明はさらにまた、当該粘着層付き離型フィルムの前記粘着層表面に、光学部材が貼り合わされた構成を備えたフィルム積層体を提案する。 The present invention further proposes a film laminate having a structure in which an optical member is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the release film with a pressure-sensitive adhesive layer.
本発明が提案する離型フィルム、粘着層付き離型フィルム及びフィルム積層体は、軽剥離性に優れているばかりではなく、粘着層表面の凹凸を抑制して優れた平滑を得ることができる。よって、本発明が提案する離型フィルム、粘着層付き離型フィルムおよびフィルム積層体は、特に光学用途に好適に用いることができる。 The release film, the release film with an adhesive layer, and the film laminate proposed by the present invention are not only excellent in light peelability, but also can suppress unevenness on the surface of the adhesive layer to obtain excellent smoothness. Therefore, the release film, the release film with an adhesive layer, and the film laminate proposed by the present invention can be particularly suitably used for optical applications.
次に、本発明の実施形態の一例について説明する。但し、本発明が、次に説明する実施形態に限定されるものではない。 Next, an example of the embodiment of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to the embodiments described below.
<<<本離型フィルム>>>
本発明の実施形態の一例に係る離型フィルム(「本離型フィルム」と称する)は、基材フィルム(「本基材フィルム」と称する)の少なくとも片面側に離型層(「本離型層」と称する)を備えた離型フィルムである。
<<< Release film >>>
The release film (referred to as “main release film”) according to an example of the embodiment of the present invention has a release layer (“main release type”) on at least one side of the base film (referred to as “main base film”). It is a release film provided with a layer).
本離型フィルムは、本基材フィルムの片面側に本離型層を備えていればよく、後述するように、本基材フィルムと本離型層との間に他の層を備えていてもよい。 The release type film may be provided with the main release type layer on one side of the main base film, and as described later, the main release type film is provided with another layer between the main base film and the main release type layer. May be good.
<<本基材フィルム>>
本基材フィルムは、フィルム状を呈するものであれば、その材料を特に限定するものではない。例えば、紙製、樹脂製、金属製などであってもよい。これらの中でも、機械的強度および柔軟性の観点から、樹脂製であることが好ましい。
<< This base film >>
The material of the base film is not particularly limited as long as it is in the form of a film. For example, it may be made of paper, resin, metal, or the like. Among these, it is preferably made of resin from the viewpoint of mechanical strength and flexibility.
樹脂製の本基材フィルムとしては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリイミドなどの高分子を膜状に形成したフィルムを挙げることができる。また、フィルム化が可能であれば、これらの材料を混合したもの(ポリマーブレンド)や構成単位を複合化したもの(共重合体)であっても構わない。 Examples of the resin-made base film include a film formed by forming a polymer such as polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polycarbonate, polyether sulfone, polyamide, and polyimide into a film. Further, as long as it can be formed into a film, it may be a mixture of these materials (polymer blend) or a composite of structural units (copolymer).
上記例示したフィルムの中でも、ポリエステルフィルムは、耐熱性、平面性、光学特性、強度などの物性が優れており、特に好ましい。
上記ポリエステルフィルムは単層でも、性質の異なる2以上の層を有する多層フィルム(積層フィルム)でもよい。
また、ポリエステルフィルムは、無延伸フィルム(シート)であっても、延伸フィルムであってもよい。中でも、一軸方向又は二軸方向に延伸された延伸フィルムであるのが好ましい。その中でも、力学特性のバランスや平面性の観点で、二軸延伸フィルムであるのがより好ましい。
Among the films exemplified above, the polyester film is particularly preferable because it has excellent physical properties such as heat resistance, flatness, optical properties, and strength.
The polyester film may be a single layer or a multilayer film (laminated film) having two or more layers having different properties.
Further, the polyester film may be a non-stretched film (sheet) or a stretched film. Above all, a stretched film stretched in the uniaxial direction or the biaxial direction is preferable. Among them, a biaxially stretched film is more preferable from the viewpoint of balance of mechanical properties and flatness.
上記ポリエステルフィルムの主成分樹脂であるポリエステルは、ホモポリエステルであっても、共重合ポリエステルであってもよい。
なお、当該「主成分樹脂」とは、本ポリエステルフィルムを構成する樹脂の中で最も質量割合の大きい樹脂の意味であり、本ポリエステルフィルムを構成する樹脂の50質量%以上、或いは75質量%以上、或いは90質量%以上、或いは100質量%を占める場合が想定される。
The polyester which is the main component resin of the polyester film may be a homopolyester or a copolymerized polyester.
The "main component resin" means the resin having the largest mass ratio among the resins constituting the present polyester film, and is 50% by mass or more or 75% by mass or more of the resin constituting the present polyester film. , Or 90% by mass or more, or 100% by mass is assumed.
上記ホモポリエステルとしては、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。この際、前記芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸などを挙げることができ、前記脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができる。
代表的なホモポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリブチレンテレフタレート(PBT)等を例示することができる。
The homopolyester is preferably obtained by polycondensing an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol. At this time, examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, and 1,4. -Cyclohexanedimethanol and the like can be mentioned.
As a typical homopolyester, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT) and the like can be exemplified.
一方、上記ポリエステルが共重合ポリエステルの場合は、30モル%以下の第三成分を含有した共重合体であることが好ましい。
前記共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸等の一種又は二種以上を挙げることができる。他方、前記共重合ポリエステルの前記グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上を挙げることができる。
On the other hand, when the polyester is a copolymerized polyester, it is preferably a copolymer containing 30 mol% or less of a third component.
Examples of the dicarboxylic acid component of the copolymerized polyester include one or more of isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid and the like. On the other hand, examples of the glycol component of the copolymerized polyester include one or more of ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, neopentyl glycol and the like. ..
中でも、本基材フィルムとしては、60モル%以上、好ましくは80モル%以上がエチレンテレフタレート単位であるポリエチレンテレフタレートが好ましい。 Among them, as the present base film, polyethylene terephthalate in which 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more is an ethylene terephthalate unit is preferable.
本基材フィルムは、易滑性の付与および各工程での傷発生防止を主たる目的として、粒子を含有するものであってもよい。
粒子を配合する場合、配合する粒子の種類は、易滑性付与可能な粒子であれば特に限定されるものではなく、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機粒子、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子等を挙げることができる。さらに、ポリエステルの製造工程中、触媒等の金属化合物の一部を沈殿、微分散させた析出粒子を用いることもできる。
The base film may contain particles for the main purpose of imparting slipperiness and preventing scratches in each step.
When the particles are blended, the type of the particles to be blended is not particularly limited as long as the particles can be easily slipped, and for example, silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, phosphorus. Examples thereof include inorganic particles such as magnesium acid, kaolin, aluminum oxide and titanium oxide, and organic particles such as acrylic resin, styrene resin, urea resin, phenol resin, epoxy resin and benzoguanamine resin. Further, during the polyester production process, precipitated particles in which a part of a metal compound such as a catalyst is precipitated and finely dispersed can also be used.
前記粒子の形状は、特に限定されるわけではない。例えば球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれであってもよい。また、粒子の硬度、比重、色等についても特に制限はない。また、必要に応じてこれらの物性が異なる2種類以上の粒子を併用してもよい。 The shape of the particles is not particularly limited. For example, it may be spherical, lumpy, rod-shaped, flat-shaped, or the like. Further, there are no particular restrictions on the hardness, specific gravity, color, etc. of the particles. Further, if necessary, two or more kinds of particles having different physical characteristics may be used in combination.
前記粒子の平均粒径は、0.1μm以上5μm以下であるのが好ましく、中でも0.5μm以上或いは4μm以下、その中でも1μm以上或いは4μm以下であるのがさらに好ましい。このような平均粒径の粒子を用いることにより、フィルムに適度な表面粗度を与え、良好な滑り性と平滑性が確保できる。 The average particle size of the particles is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less, and more preferably 0.5 μm or more or 4 μm or less, and more preferably 1 μm or more or 4 μm or less. By using particles having such an average particle size, it is possible to give an appropriate surface roughness to the film and secure good slipperiness and smoothness.
本基材フィルム中の粒子含有量に関しては、粒子がない場合或いは少ない場合、フィルムの透明性が高くなる反面、滑り性が不十分となる場合がある。他方、粒子含有量が多すぎると、フィルムの透明性が不十分になる可能性がある。かかる観点から、本基材フィルム中の粒子含有量は、5質量%以下であるのが好ましく、中でも0.1質量%以上或いは3質量%以下であるのがさらに好ましい。
なお、高度な検査レベルが要求される用途では、本基材フィルム表面に存在する粒子由来の凸形状が、本粘着層に転写してしまうことが問題とされることがある。そこで、当該粒子が検査の支障にならないように、少なくとも本基材フィルムの片側表面または両側表面は、粒子が存在しないように構成するのが好ましい場合がある。その他、本粘着層と接する面の粒子量を低下させたり、粒子径を小さくしたりして、当該面を平滑にする一方、反対面の表面粗度を高くするなど、表裏両面側の粒子量又は粒子径が互いに異なる構成とすることもできる。
Regarding the particle content in the base film, when there are no or few particles, the transparency of the film is high, but the slipperiness may be insufficient. On the other hand, if the particle content is too high, the transparency of the film may be insufficient. From this point of view, the particle content in the base film is preferably 5% by mass or less, and more preferably 0.1% by mass or more or 3% by mass or less.
In applications that require a high level of inspection, there may be a problem that the convex shape derived from particles existing on the surface of the substrate film is transferred to the adhesive layer. Therefore, it may be preferable that at least one side surface or both side surfaces of the substrate film are configured so that the particles do not exist so that the particles do not interfere with the inspection. In addition, the amount of particles on both the front and back sides is increased by reducing the amount of particles on the surface in contact with the adhesive layer or reducing the particle size to smooth the surface while increasing the surface roughness of the opposite surface. Alternatively, the particle sizes may be different from each other.
<<本離型層>>
本離型層は、硬化型シリコーン樹脂(「本硬化型シリコーン樹脂」)を主成分樹脂とする離型層組成物(「本離型層組成物」と称する)が硬化してなる層であり、本基材フィルムの少なくとも片面側に配置される。
本離型層は、本離型層組成物が硬化してなる硬化物を含有する離型層であるとも言うことができる。
<< This release layer >>
The release type layer is a layer formed by curing a release layer composition (referred to as "main release type layer composition") containing a curable silicone resin ("main cure type silicone resin") as a main component resin. , Is arranged on at least one side of the substrate film.
It can also be said that the release layer is a release layer containing a cured product obtained by curing the release layer composition.
<本離型層組成物>
本離型層組成物は、硬化型シリコーン樹脂を主成分樹脂とする組成物であればよい。
本離型層組成物は、硬化型シリコーン樹脂以外の他の成分を含有してもよく、必要に応じて、例えば触媒、反応制御剤、架橋剤、重合開始剤、粒子、希釈溶剤、その他の添加剤を含有することができる。
<Main release layer composition>
The release type layer composition may be a composition containing a curable silicone resin as a main component resin.
The release-type layer composition may contain components other than the curable silicone resin, and if necessary, for example, a catalyst, a reaction control agent, a cross-linking agent, a polymerization initiator, particles, a diluting solvent, and the like. Additives can be included.
なお、上記「主成分樹脂」とは、本離型層組成物を構成する樹脂の中で最も質量割合の大きい樹脂の意味であり、本離型層組成物を構成する樹脂の50質量%以上、或いは75質量%以上、或いは90質量%以上、或いは100質量%を占める場合が想定される。 The above-mentioned "main component resin" means a resin having the largest mass ratio among the resins constituting the present release type layer composition, and is 50% by mass or more of the resin constituting the present release type layer composition. , Or 75% by mass or more, 90% by mass or more, or 100% by mass is assumed.
本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量すなわち本離型層組成物乃至本離型層に含有されるシロキサン成分の全量に対して0.01~5.0mol%のフェニル基を含むのが好ましい。
本離型層組成物乃至本離型層が、所定量のフェニル基を含むことにより、本離型層の表面に残存している可能性のあるアルケニル基(例えばビニル基、ヘキセニル基)あるいはSi-H基を被覆することができ、本離型層と粘着層との相互作用を低減することができ、さらなる軽剥離化効果を発現させることが期待できる。
かかる観点から、本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量に対して0.01~5.0mol%のフェニル基を含んでいるのが好ましく、中でも0.05mol%以上或いは4.0mol%以下、その中でも0.1mol%以上或いは3.0mol%以下、その中でも0.2mol%以上或いは2.0mol%以下のフェニル基を含んでいるのが特に好ましい。
The main release layer composition to the main release layer contains 0.01 to 5.0 mol% of phenyl with respect to the total amount of the siloxane component, that is, the total amount of the siloxane component contained in the main release layer composition or the main release layer. It preferably contains a group.
The alkenyl group (for example, vinyl group, hexenyl group) or Si that may remain on the surface of the release type layer because the release type layer composition or the main release type layer contains a predetermined amount of phenyl group. -The H group can be coated, the interaction between the release type layer and the adhesive layer can be reduced, and further light peeling effect can be expected to be exhibited.
From this point of view, the release type layer composition or the present release type layer preferably contains 0.01 to 5.0 mol% of phenyl groups with respect to the total amount of siloxane components, and more than 0.05 mol% or more. It is particularly preferable that the phenyl group contains 4.0 mol% or less, particularly 0.1 mol% or more or 3.0 mol% or less, and more preferably 0.2 mol% or more or 2.0 mol% or less.
本離型層組成物乃至本離型層が、フェニル基を上記割合で含むようにするには、フェニル基を所定割合で含む硬化型シリコーン樹脂を使用すればよい。但し、かかる方法に限定するものではない。例えば、フェニル基を含有する化合物、例えばフェニル基を有する非硬化型シリコーン樹脂、シラン化合物などを添加するようにしてもよい。 In order for the release layer composition or the release layer to contain phenyl groups in the above proportions, a curable silicone resin containing phenyl groups in a predetermined proportion may be used. However, the method is not limited to this method. For example, a compound containing a phenyl group, for example, a non-curable silicone resin having a phenyl group, a silane compound, or the like may be added.
また、本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量に対して、アルケニル基、すなわちヘキセニル基、ビニル基などの二重結合を持つ残官能基の量が少ないと、離型層が十分に硬化しない可能性があり、一方で、アルケニル基量が大過剰であると、空気暴露後の剥離力が重くなる傾向にある。このことから、本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量に対して0.4~1.0mol%のアルケニル基を含んでいるのが好ましく、中でも0.5mol%以上或いは0.9mol%以下,その中でも0.6mol%以上或いは0.8mol%以下のアルケニル基を含んでいるのが特に好ましい。
また、本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量に対して、Si-H基量が少ないと離形層が十分に硬化せず、一方でSi-H基量が大過剰であると、残存するSi-H基が粘着層と反応することで離型フィルムの重剥離化に影響する可能性がある。このことから、本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量に対して0.8~2.2mol%のSi-H基を含んでいるのが好ましく、中でも1.2mol%以上或いは2.1mol%以下,その中でも1.4mol%以上或いは2.0mol%以下のSi-H基を含んでいるのが特に好ましい。
Further, when the amount of the alkenyl group, that is, the residual functional group having a double bond such as a hexenyl group or a vinyl group is small with respect to the total amount of the siloxane component, the main release layer composition or the main release layer is released from the mold. The layer may not be sufficiently cured, while a large excess of alkenyl groups tends to increase the peeling force after air exposure. From this, it is preferable that the release type layer composition to the present release type layer contains 0.4 to 1.0 mol% of alkenyl groups with respect to the total amount of siloxane components, and more than 0.5 mol% or more. It is particularly preferable that the alkenyl group is contained in an amount of 0.9 mol% or less, particularly 0.6 mol% or more or 0.8 mol% or less.
Further, in the release layer composition or the release layer, if the Si—H group amount is small with respect to the total siloxane component amount, the release layer is not sufficiently cured, while the Si—H group amount is large. If it is excessive, the remaining Si—H groups may react with the adhesive layer, which may affect the heavy release of the release film. From this, the release type layer composition to the present release type layer preferably contains 0.8 to 2.2 mol% of Si—H groups with respect to the total amount of siloxane components, and more preferably 1.2 mol%. It is particularly preferable that the Si—H group is contained in an amount of 2.1 mol% or less, particularly preferably 1.4 mol% or more or 2.0 mol% or less.
本離型層組成物乃至本離型層における全シロキサン成分含有量は、例えば、1H-NMRで主鎖のジメチルシロキサンユニットとそれ以外のユニットの積分比から測定することができ、フェニル基含有量、アルケニル基及びSi-H基の含有量についても、例えば、1H-NMRを測定することで評価することができる。但し、かかる方法に限定するものではない。 The total siloxane component content in the main release layer composition to the main release layer can be measured by, for example, 1H-NMR from the integral ratio of the dimethylsiloxane unit of the main chain and the other units, and the phenyl group content. , The content of the alkenyl group and the Si—H group can also be evaluated by measuring, for example, 1H-NMR. However, the method is not limited to this method.
<本硬化型シリコーン樹脂>
本発明において「硬化型シリコーン樹脂」とは、硬化することができる性質を備えたシリコーン樹脂を意味する。なお、予め架橋剤を混合することで、硬化させることができるものも包含する。
硬化型シリコーン樹脂の硬化方法は任意である。例えば、空気中の湿気と反応して縮合反応により硬化する性質を備えたものであっても、加熱による付加反応により硬化する性質を備えたものであっても、光により付加重合又はラジカル重合して硬化する性質を備えたものであってもよい。
中でも、硬化反応の副生成物が無く、硬化膜の物性も安定であることから、加熱による付加反応により硬化する熱硬化型シリコーン樹脂であるのが好ましい。
本硬化型シリコーン樹脂が熱硬化型である場合、構造中にシロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、ビニル基(Vi基)又はヘキセニル基などのアルケニル基が導入されているのが好ましい。
<Main curable silicone resin>
In the present invention, the "curable silicone resin" means a silicone resin having a property of being curable. In addition, those that can be cured by mixing a cross-linking agent in advance are also included.
The curing method of the curable silicone resin is arbitrary. For example, even if it has the property of reacting with moisture in the air and curing by a condensation reaction, or the one having the property of curing by an addition reaction by heating, it is addition-polymerized or radically polymerized by light. It may have the property of being cured.
Of these, a thermosetting silicone resin that cures by an addition reaction due to heating is preferable because there are no by-products of the curing reaction and the physical properties of the cured film are stable.
When the present curable silicone resin is a heat-curable type, an alkenyl group such as a vinyl group (Vi group) or a hexenyl group is introduced into the side chain and / or the terminal of the main chain composed of a siloxane bond in the structure. Is preferable.
本硬化型シリコーン樹脂は、ケイ素と酸素からなるシロキサン結合を主鎖としてなる重合体であればよい。
本硬化型シリコーン樹脂として、例えば、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖又は末端に各種置換基を導入したものを挙げることができる。この際、当該置換基としては、例えば、メチル基、フェニル基、ポリエーテル、エポキシ、アミン類、カルボキシル基、アラルキル基などのいずれか、又は、それらの二種以上の組み合わせを挙げることができる。
The present curable silicone resin may be a polymer having a siloxane bond consisting of silicon and oxygen as a main chain.
Examples of the present curable silicone resin include those in which various substituents are introduced into the side chain or the end of the main chain composed of a siloxane bond. At this time, examples of the substituent include any one of a methyl group, a phenyl group, a polyether group, an epoxy, amines, a carboxyl group, an aralkyl group, and the like, or a combination of two or more thereof.
本離型層組成物乃至本離型層が所定割合でフェニル基を含むようにするための手法の一例として、0.01~5.0mol%のフェニル基を含有する、中でも0.05mol%以上或いは4.0mol%以下、その中でも0.1mol%以上或いは3.0mol%以下、その中でも0.2mol%以上或いは2.0mol%以下のフェニル基を含有する本硬化型シリコーン樹脂を使用する例を挙げることができる。
この際、当該本硬化型シリコーン樹脂は、メチル基に対するフェニル基のモル比(フェニル基/メチル)が0.0001~0.05であるのがさらに好ましく、中でも0.0005以上或いは0.04以下、その中でも0.001以上或いは0.03以下、その中でも0.02以上或いは0.02以下であるのがさらに好ましい。
As an example of a method for making the main release layer composition or the main release layer contain phenyl groups in a predetermined ratio, it contains 0.01 to 5.0 mol% of phenyl groups, and more than 0.05 mol% among them. Alternatively, an example of using this curable silicone resin containing a phenyl group of 4.0 mol% or less, particularly 0.1 mol% or more or 3.0 mol% or less, and among them 0.2 mol% or more or 2.0 mol% or less. Can be mentioned.
At this time, it is more preferable that the molar ratio of the phenyl group (phenyl group / methyl) to the methyl group of the present curable silicone resin is 0.0001 to 0.05, and more preferably 0.0005 or more or 0.04 or less. Among them, 0.001 or more or 0.03 or less, and more preferably 0.02 or more or 0.02 or less.
本硬化型シリコーン樹脂の一例として、シロキサン結合からなる直鎖状の主鎖の側鎖又は末端に、フェニル基、Si-H基(単に「H基」とも称する)及びアルケニル基のいずれか又はこれら2種類以上が導入されたシリコーン樹脂を挙げることができる。
この際、本硬化型シリコーン樹脂におけるフェニル基の含有量は0.01~5.0mol%であるのが好ましく、中でも0.05mol%以上或いは4.0mol%以下、その中でも0.1mol%以上或いは3.0mol%以下、その中でも0.2mol%以上或いは2.0mol%以下であるのがさらに好ましい。
同じくこの際、本硬化型シリコーン樹脂におけるSi-H基の含有量は0.8~2.2mol%であるのが好ましく、中でも1.2mol%以上或いは2.1mol%以下,その中でも1.4mol%以上或いは2.0mol%以下であるのがさらに好ましい。
同じくこの際、本硬化型シリコーン樹脂におけるビニル基の含有量は0.4~1.0mol%であるのが好ましく、中でも0.4mol%以上或いは1.0mol%以下,その中でも0.6mol%以上或いは0.9mol%以下であるのがさらに好ましい。
As an example of this curable silicone resin, either a phenyl group, a Si—H group (also simply referred to as “H group”), an alkenyl group, or these are attached to the side chain or the terminal of a linear main chain composed of a siloxane bond. Examples thereof include silicone resins in which two or more types have been introduced.
At this time, the content of the phenyl group in the present curable silicone resin is preferably 0.01 to 5.0 mol%, particularly 0.05 mol% or more or 4.0 mol% or less, and among them, 0.1 mol% or more or It is more preferably 3.0 mol% or less, more preferably 0.2 mol% or more or 2.0 mol% or less.
Similarly, at this time, the content of Si—H groups in the present curable silicone resin is preferably 0.8 to 2.2 mol%, particularly 1.2 mol% or more or 2.1 mol% or less, and 1.4 mol among them. It is more preferably% or more or 2.0 mol% or less.
Similarly, at this time, the content of the vinyl group in the present curable silicone resin is preferably 0.4 to 1.0 mol%, particularly 0.4 mol% or more or 1.0 mol% or less, and among them, 0.6 mol% or more. Alternatively, it is more preferably 0.9 mol% or less.
本硬化型シリコーン樹脂は、2種類以上の硬化型シリコーン樹脂の組み合わせであってもよい。その場合、上述した各官能基の含有割合は、2種類以上の硬化型シリコーン樹脂の平均値が上記範囲内であるのが好ましい。 The present curable silicone resin may be a combination of two or more types of curable silicone resins. In that case, the content ratio of each of the above-mentioned functional groups is preferably such that the average value of two or more types of curable silicone resins is within the above range.
本硬化型シリコーン樹脂の数平均分子量(Mn)は20000以上350000以下であるのが好ましい。
本硬化型シリコーン樹脂の数平均分子量(Mn)が低過ぎると、本離型フィルムに粘着層を積層した際、低分子量のシリコーン樹脂が粘着層へ溶出乃至移行する量が多くなるため好ましくない。本離型層を厚塗りしても軽剥離化効果に乏しい傾向にある。他方、本硬化型シリコーン樹脂の数平均分子量(Mn)が高過ぎると、粘度が高くなり、本離型層組成物の流動性が低下して、本離型層組成物を塗布した際に、筋状のコートムラが生じて本離型層表面を平滑にすることが難しくなるから、好ましくない。
かかる観点から、本硬化型シリコーン樹脂の数平均分子量(Mn)は、20000以上であるのが好ましく、中でも50000以上であるのがより好ましく、中でも100000以上、その中でも特に150000以上であるのがさらに好ましい。他方、350000以下であるのが好ましく、中でも300000以下、その中でも特に250000以下であるのがさらに好ましい。
The number average molecular weight (Mn) of the present curable silicone resin is preferably 20,000 or more and 350,000 or less.
If the number average molecular weight (Mn) of the present-curable silicone resin is too low, the amount of the low-molecular-weight silicone resin eluted or transferred to the adhesive layer when the adhesive layer is laminated on the release-type film is not preferable. Even if the release layer is thickly applied, the light peeling effect tends to be poor. On the other hand, if the number average molecular weight (Mn) of the present-curing silicone resin is too high, the viscosity becomes high and the fluidity of the present-release layer composition decreases, and when the present-release layer composition is applied, the present-release layer composition is applied. It is not preferable because streaky coating unevenness occurs and it becomes difficult to smooth the surface of the release type layer.
From this point of view, the number average molecular weight (Mn) of the present curable silicone resin is preferably 20,000 or more, more preferably 50,000 or more, particularly 100,000 or more, and particularly 150,000 or more. preferable. On the other hand, it is preferably 350,000 or less, more preferably 300,000 or less, and particularly preferably 250,000 or less.
本硬化型シリコーン樹脂の質量平均分子量(Mw)は、同様の観点から、35000~600000であるのが好ましく、中でも50000以上或いは500000以下、その中でも100000以上或いは450000以下、その中でも特に120000以上であるのがさらに好ましい。 From the same viewpoint, the mass average molecular weight (Mw) of the present curable silicone resin is preferably 35,000 to 600,000, particularly 50,000 or more or 500,000 or less, particularly 100,000 or more or 450,000 or less, and particularly 120,000 or more. Is even more preferable.
本硬化型シリコーン樹脂は、数平均分子量(Mn)に対する質量平均分子量(Mw)の比率(Mw/Mn)が1.7~2.7であるのが好ましく、中でも1.9以上或いは2.5以下であるのがさらに好ましい。この範囲を満足することで、架橋反応を効率よく進行させることが期待できる。 In this curable silicone resin, the ratio (Mw / Mn) of the mass average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) is preferably 1.7 to 2.7, and above all, 1.9 or more or 2.5. The following is more preferable. By satisfying this range, it can be expected that the crosslinking reaction will proceed efficiently.
本硬化型シリコーン樹脂は、2種類以上の硬化型シリコーン樹脂の組み合わせからなるものであってもよく、その場合、2種類以上の硬化型シリコーン樹脂の分子量の平均が上記範囲内であるのが好ましい。 The present curable silicone resin may be composed of a combination of two or more types of curable silicone resins, and in that case, it is preferable that the average of the molecular weights of the two or more types of curable silicone resins is within the above range. ..
本硬化型シリコーン樹脂は、n-ヘプタン溶媒希釈にて、その含有量を15質量%に調整した際の25℃における粘度が10~400mcpsであるのが好ましい。
本硬化型シリコーン樹脂の当該粘度が10mcps以上であれば、塗布液の適度な粘度によりハジキが抑制され、良好なコート外観が得られるため好ましい。他方、当該粘度が400mcps以下であれば、本離型層組成物の流動性を維持することができ、本離型層組成物を塗布した際に、筋状のコートムラが生じるのを抑制でき、本離型層表面を平滑にすることができるから、好ましい。
かかる観点から、本硬化型シリコーン樹脂の当該粘度は、40mcps以上であるのがさらに好ましく、中でも80mcps以上であるのがさらに好ましい。他方、300mcps以下であるのがさらに好ましく、その中でも200mcps以下であるのがさらに好ましい。
The present curable silicone resin preferably has a viscosity of 10 to 400 mcps at 25 ° C. when its content is adjusted to 15% by mass by diluting with an n-heptane solvent.
When the viscosity of the present curable silicone resin is 10 mcps or more, repelling is suppressed by an appropriate viscosity of the coating liquid, and a good coat appearance can be obtained, which is preferable. On the other hand, when the viscosity is 400 mcps or less, the fluidity of the release layer composition can be maintained, and when the release layer composition is applied, it is possible to suppress the occurrence of streak-like coating unevenness. This is preferable because the surface of the release layer can be smoothed.
From this point of view, the viscosity of the present curable silicone resin is more preferably 40 mcps or more, and more preferably 80 mcps or more. On the other hand, it is more preferably 300 mcps or less, and more preferably 200 mcps or less.
本硬化型シリコーン樹脂は、無溶剤型硬化型シリコーン、溶剤型硬化型シリコーンのいずれであってもよい。また、両者を組み合わせて用いてもよい。
ここで、「無溶剤型硬化型シリコーン」とは、溶剤に希釈せずとも塗工できる粘度のシリコーンであり、短いポリシロキサン鎖よりなっており、比較的低分子量のシリコーンである。
他方、「溶剤型硬化型シリコーン」とは、溶剤に希釈しなければ塗工できない程度に粘度の高いシリコーンであり、無溶剤型硬化型シリコーンに比べると、比較的高い分子量を有するシリコーンである。
中でも、本硬化型シリコーン樹脂は、上記のように、中程度の数平均分子量(Mn)、中程度の粘度を有するのが好ましく、さらには、本基材フィルムへの密着性が良好となり、且つ、塗布外観(ムラ)も良く、且つ、本離型層の膜厚調整もし易いという観点から、溶剤型硬化型シリコーンであるのが好ましい。
The present curable silicone resin may be either a solvent-free curable silicone or a solvent-curable silicone. Moreover, you may use both in combination.
Here, the "solvent-free curable silicone" is a silicone having a viscosity that can be applied without being diluted with a solvent, has a short polysiloxane chain, and has a relatively low molecular weight.
On the other hand, the "solvent-type curable silicone" is a silicone having a viscosity so high that it cannot be coated unless it is diluted with a solvent, and is a silicone having a relatively high molecular weight as compared with the solvent-free curable silicone.
Above all, the present curable silicone resin preferably has a medium number average molecular weight (Mn) and a medium viscosity as described above, and further, the adhesion to the base film is good, and the adhesion to the base film is good. The solvent-type curable silicone is preferable from the viewpoint that the coating appearance (unevenness) is good and the film thickness of the release type layer can be easily adjusted.
<その他の成分>
本離型層組成物は、上述したように、本硬化型シリコーン樹脂以外に、必要に応じて、例えば硬化触媒、粒子、希釈溶剤、反応制御剤、架橋剤、重合開始剤、密着強化剤、その他の添加剤を含有することができる。
例えば、本離型層組成物の一例として、本硬化型シリコーン樹脂、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端にヒドロシリル基(SiH基)を有する架橋剤、白金(Pt)を含む触媒、及び、溶剤を含有する組成物を挙げることができる。
<Other ingredients>
As described above, the present release type layer composition may contain, for example, a curing catalyst, particles, a diluting solvent, a reaction control agent, a cross-linking agent, a polymerization initiator, an adhesion strengthening agent, as required, in addition to the present curing type silicone resin. Other additives can be contained.
For example, as an example of the present release layer composition, a catalyst containing a present curable silicone resin, a cross-linking agent having a hydrosilyl group (SiH group) at the side chain and / or the terminal of a main chain composed of a siloxane bond, and platinum (Pt). , And a composition containing a solvent.
(触媒)
本離型層組成物は、必要に応じて、硬化触媒、すなわち硬化型シリコーンの珪素原子に結合したアルケニル基と、シリコーン架橋剤のハイドロジェンシラン(SiH)基とのヒドロシリル化付加反応を促進するための触媒を含有してもよい。
硬化触媒としては、例えば白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などの白金族金属系触媒などを挙げることができる。但し、これらに限定するものではない。
(catalyst)
The release-type layer composition promotes a hydrosilylation addition reaction between a curing catalyst, that is, an alkenyl group bonded to a silicon atom of a curing silicone, and a hydrogensilane (SiH) group of a silicone cross-linking agent, if necessary. May contain a catalyst for the purpose.
Examples of the curing catalyst include platinum black, second platinum chloride, platinum chloride acid, a reaction product of platinum chloride acid and a monovalent alcohol, a complex of platinum chloride acid and olefins, and a platinum-based catalyst such as platinum bisacetacetate. Examples thereof include platinum group metal catalysts such as palladium catalysts and rhodium catalysts. However, it is not limited to these.
本離型層組成物における硬化触媒の含有量としては、本硬化型シリコーンに対して、金属換算量として、0.5~500質量ppmであるのが好ましく、中でも5質量ppm以上或いは300質量ppm以下、その中でも10質量ppm以上或いは200ppm以下であるのがさらに好ましい。 The content of the curing catalyst in the main release layer composition is preferably 0.5 to 500 mass ppm as a metal equivalent amount with respect to the main curable silicone, and above all, 5 mass ppm or more or 300 mass ppm. Hereinafter, among them, it is more preferably 10 mass ppm or more or 200 ppm or less.
(架橋剤)
架橋剤は、シロキサン結合を有する架橋剤(「シリコーン架橋剤」とも称する)であるのが好ましい。中でも、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、珪素原子結合水素原子(SiH基)を有するものが好ましい。
(Crosslinking agent)
The cross-linking agent is preferably a cross-linking agent having a siloxane bond (also referred to as “silicone cross-linking agent”). Among them, those having a silicon atom-bonded hydrogen atom (SiH group) at the side chain and / or the terminal of the main chain composed of a siloxane bond are preferable.
例えば、下記一般式(1)で示され、一分子中に少なくとも2個、好ましくは3個以上(通常、3~200個程度)、より好ましくは3~100個、その中でも特に3~50個の珪素原子結合水素原子(SiH基)を有するものを挙げることができる。 For example, it is represented by the following general formula (1), and at least 2, preferably 3 or more (usually about 3 to 200), more preferably 3 to 100, and particularly 3 to 50 in one molecule. Examples thereof include those having a silicon atom-bonded hydrogen atom (SiH group).
RbHcSiO(4-b-c)/2 (1) R b H c SiO (4-bc) / 2 (1)
式(1)中、Rは炭素数1~10の非置換又は置換の1価炭化水素基である。また、bは0.7~2.1、特に0.8~2.0、cは0.001~1.0で、かつb+cは0.8~3.0、特に1.0~2.5を満足する正数である。 In formula (1), R is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Further, b is 0.7 to 2.1, particularly 0.8 to 2.0, c is 0.001 to 1.0, and b + c is 0.8 to 3.0, particularly 1.0 to 2. It is a positive number that satisfies 5.
ここで、Rとしては、アルケニル基含有オルガノポリシロキサン中のRと同様の基を挙げることができるが、好ましくはアルケニル基等の脂肪族不飽和結合を有さないものがよい。 Here, as R, the same group as R in the alkenyl group-containing organopolysiloxane can be mentioned, but those having no aliphatic unsaturated bond such as an alkenyl group are preferable.
この珪素原子結合水素原子は、分子鎖末端の珪素原子に結合したものであっても、分子鎖途中(分子鎖非末端)の珪素原子に結合したものであっても、これらの両方に結合したものであってもよい。 This silicon atom-bonded hydrogen atom is bonded to both of these, whether it is bonded to a silicon atom at the end of the molecular chain or to a silicon atom in the middle of the molecular chain (non-terminal of the molecular chain). It may be a thing.
なお、シリコーン架橋剤の分子構造は、直鎖状、環状、分岐状、三次元網状構造のいずれでもよい。
さらに、一分子中の珪素原子数(又は重合度)は2~1,000であるのが好ましく、中でも3以上或いは500以下、その中でも3以上或いは300以下、その中でも特に4以上或いは150以下であるのがさらに好ましい。
The molecular structure of the silicone cross-linking agent may be linear, cyclic, branched, or three-dimensional network structure.
Further, the number of silicon atoms (or degree of polymerization) in one molecule is preferably 2 to 1,000, particularly 3 or more or 500 or less, particularly 3 or more or 300 or less, and particularly 4 or more or 150 or less. It is even more preferable to have it.
シリコーン架橋剤としては、例えば、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)メチルシラン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)フェニルシラン、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン、メチルハイドロジェンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、(CH3)2HSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CH3)2HSiO1/2単位とSiO4/2単位と(C6H5)SiO3/2単位とからなる共重合体などや、これらの例示化合物において、メチル基の一部又は全部をエチル基、プロピル基等の他のアルキル基、フェニル基等のアリール基で置換したものを挙げることができる。但し、これらに限定するものではない。 Examples of the silicone cross-linking agent include tris (dimethylhydrogensiloxy) methylsilane, tris (dimethylhydrogensiloxy) phenylsilane, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, and 1,3,5,7-tetramethyl. Cyclotetrasiloxane, methylhydrogencyclopolysiloxane, methylhydrogensiloxane / dimethylsiloxane cyclic copolymer, double-ended trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogenpolysiloxane, double-ended trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane co-weight Combined, both-ended dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane, both-ended dimethylhydrogensiloxy group-blocked methylhydrogenpolysiloxane, both-ended dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, both-ended trimethyl Syloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / diphenylsiloxane copolymer, both-terminal trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane / diphenylsiloxane / dimethylsiloxane copolymer, (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 unit and SiO 4/2 unit In the copolymers consisting of (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 units, SiO 4/2 units and (C 6 H 5 ) SiO 3/2 units, etc., and examples of these compounds. Examples thereof include those in which a part or all of the methyl group is replaced with another alkyl group such as an ethyl group or a propyl group, or an aryl group such as a phenyl group. However, it is not limited to these.
(粒子)
本離型層組成物は、必要に応じて、剥離力調整あるいはブロッキング防止対策として、粒子を含有することもできる。
この際、粒子の種類は、前記特性を付与可能な粒子であれば特に限定されるものではなく、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機粒子、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子等を挙げることができる。
その中でも、バインダー樹脂成分であるシリコーン樹脂との相性が良好な点から、粒子がシリコーン樹脂から構成されるのが好ましい。
(particle)
The release type layer composition may contain particles as a measure for adjusting the peeling force or preventing blocking, if necessary.
At this time, the type of the particles is not particularly limited as long as the particles can impart the above-mentioned characteristics, and for example, silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, magnesium phosphate, kaolin, etc. Examples thereof include inorganic particles such as aluminum oxide and titanium oxide, and organic particles such as silicone resin, acrylic resin, styrene resin, urea resin, phenol resin, epoxy resin and benzoguanamine resin.
Among them, it is preferable that the particles are composed of a silicone resin from the viewpoint of good compatibility with the silicone resin which is a binder resin component.
粒子の形状は、特に限定されるものではない。例えば球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれであってもよい。
また、粒子の硬度、比重、色等についても特に制限はない。
これらの粒子は、必要に応じて2種類以上を併用してもよい。
The shape of the particles is not particularly limited. For example, it may be spherical, lumpy, rod-shaped, flat-shaped, or the like.
Further, there are no particular restrictions on the hardness, specific gravity, color, etc. of the particles.
Two or more kinds of these particles may be used in combination, if necessary.
(希釈溶剤)
本離型層組成物は、必要に応じて、希釈溶剤を含有することができる。
前記希釈溶剤としては、例えば、トルエン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、エチルメチルケトン(MEK)、イソブチルメチルケトン等のケトン類、エタノール、2-プロパノール等のアルコール類、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類などを挙げることができる。これらは、溶解性、塗工性や沸点等を考慮して単独または複数混合して使用するのが好ましい。
(Diluting solvent)
The release type layer composition can contain a diluting solvent, if necessary.
Examples of the diluting solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and isooctane, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ethyl methyl ketone (MEK) and isobutyl methyl ketone. Examples thereof include ketones such as ketones, ethanol, alcohols such as 2-propanol, ethers such as diisopropyl ether and dibutyl ether, and the like. It is preferable to use these individually or in combination in consideration of solubility, coatability, boiling point and the like.
(反応制御剤)
本離型層組成物は、必要に応じて、反応制御剤を含有することができる。
反応制御剤としては、例えばアセチレンアルコールなどを挙げることができる。
反応制御剤は1種類でもよいし、必要に応じて、2種類以上を併用してもよい。
反応制御剤の含有量は、本離型層組成物合計量100質量部あたり、0.001~5.0質量部であるのが好ましく、中でも0.01質量部以上或いは1.0質量部以下、その中でも0.05質量部以上或いは0.5質量部以下であるのがさらに好ましい。
(Reaction control agent)
The release type layer composition can contain a reaction control agent, if necessary.
Examples of the reaction control agent include acetylene alcohol and the like.
One type of reaction control agent may be used, or two or more types may be used in combination, if necessary.
The content of the reaction control agent is preferably 0.001 to 5.0 parts by mass, particularly 0.01 parts by mass or more or 1.0 part by mass or less, per 100 parts by mass of the total amount of the main release layer composition. Among them, it is more preferably 0.05 part by mass or more or 0.5 part by mass or less.
<本離型層の厚さ>
本離型層の厚さは、特に限定するものではない。本離型層の厚さが大きければ、本基材フィルムの影響、例えば本基材フィルムの硬さの影響を本離型フィルムの離型面に伝えづらくなり好ましい。かかる点から、0.01μm以上であるのが好ましく、中でも0.05μm以上、その中でも0.10μm以上であるのがさらに好ましい。その一方、本離型層の厚さが厚過ぎると、ブロッキングの発生、コート外観の悪化などを引き起こす場合があるから、10μm以下であるのが好ましく、中でも5.0μm以下、その中でも2.0μm以下、その中でも1.0μm以下、その中でも0.50μm以下であるのが特に好ましい。
<Thickness of this release layer>
The thickness of the release type layer is not particularly limited. If the thickness of the release layer is large, it is difficult to transmit the influence of the base film, for example, the influence of the hardness of the base film to the release surface of the release film, which is preferable. From this point of view, it is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, and further preferably 0.10 μm or more. On the other hand, if the thickness of the release layer is too thick, blocking may occur and the appearance of the coat may be deteriorated. Therefore, the thickness is preferably 10 μm or less, particularly 5.0 μm or less, and 2.0 μm among them. Hereinafter, it is particularly preferable that it is 1.0 μm or less, and more preferably 0.50 μm or less.
<<その他の層>>
本離型フィルムは、本基材フィルムと本離型層との間に「他の層」を備えていてもよい。
当該「他の層」としては、例えば、本基材フィルムと本離型層との密着性を高めるためのアンカーコート層、フィルム表面への配合物やオリゴマーの滲み出し(ブリード、プレートアウト)を封止するオリゴマー封止層のほか、帯電防止性を備えた帯電防止層などを挙げることができる。但し、これらに限定するものではない。
<< Other layers >>
The release film may include an "other layer" between the substrate film and the release layer.
Examples of the "other layer" include an anchor coat layer for enhancing the adhesion between the base film and the release type film, and exudation (bleeding, plate-out) of a compound or oligomer onto the film surface. In addition to the oligomer-sealing layer to be sealed, an antistatic layer having antistatic properties can be mentioned. However, it is not limited to these.
<<本離型フィルムの製造方法>>
本離型フィルムは、本基材フィルムの片面側又は両面側に、必要に応じて、帯電防止層やオリゴマー封止層などの塗布層を形成した後、これらの表面に、本離型層組成物を塗布し、乾燥させ、硬化させることで製造することができる。
<< Manufacturing method of this release film >>
In the release type film, a coating layer such as an antistatic layer or an oligomer-sealing layer is formed on one side or both sides of the base film, if necessary, and then the release layer composition is formed on these surfaces. It can be manufactured by applying an object, drying it, and curing it.
本離型層組成物の塗布方法としては、例えばマルチロールコート、リバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、バーコート、ダイコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。塗工方式に関しては「コーティング方式」(槇書店 原崎勇次著1979年発行)に記載例がある。 As a method for applying the main release layer composition, conventionally known coating methods such as multi-roll coat, reverse gravure coat, direct gravure coat, bar coat, and die coat can be used. Regarding the coating method, there is a description example in "Coating method" (published by Yuji Harasaki, Maki Shoten, 1979).
本離型層組成物を塗布する前に予め、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を本ポリエステルフィルムに施してもよい。 Before applying the release type layer composition, the polyester film may be subjected to surface treatment such as corona treatment and plasma treatment in advance.
本離型層組成物の塗布量、すなわち本離型層の厚み(乾燥後)は、ブロッキング防止と移行性(すなわち離型剤成分が粘着テープ等へ移行する特性)の増大抑制の観点からは、薄くするのが好ましい。他方、軽剥離性(剥離力の低さ)を維持する観点からは、厚くするのが好ましい。
かかる点を考慮して、本離型層組成物の塗布量、すなわち本離型層の厚み(乾燥後)は、0.1~5.0g/m2であるのが好ましく、さらに好ましくは0.2g/m2以上或いは3.0g/m2以下、その中でも0.3g/m2以上或いは2.0g/m2以下であるのがさらに好ましい。
The amount of the release layer composition applied, that is, the thickness of the release layer (after drying) is determined from the viewpoint of preventing blocking and suppressing the increase in transferability (that is, the characteristic that the release agent component is transferred to the adhesive tape or the like). , It is preferable to make it thinner. On the other hand, from the viewpoint of maintaining light peelability (low peeling force), it is preferable to make the thickness thicker.
In consideration of this point, the coating amount of the main release layer composition, that is, the thickness of the main release layer (after drying) is preferably 0.1 to 5.0 g / m 2 , and more preferably 0. .2 g / m 2 or more or 3.0 g / m 2 or less, more preferably 0.3 g / m 2 or more or 2.0 g / m 2 or less.
本離型層組成物を加熱によって硬化させる場合、従来から公知の加熱処理装置を用いて加熱すればよい。例えば、加熱オーブン、ホットプレート、熱風乾燥機、近赤外線ランプ、エアードライヤー等を例示することができる。また、加熱処理温度としては、35~220℃が好ましく、中でも40℃以上或いは200℃以下、その中でも50℃以上或いは180℃以下であるのがさらに好ましい。
さらに加熱処理時間としては、3秒~3分であるのが好ましく、中でも5秒以上或いは2分以下、その中でも5秒以上或いは1分以下であるのが特に好ましい。
When the release type layer composition is cured by heating, it may be heated using a conventionally known heat treatment apparatus. For example, a heating oven, a hot plate, a hot air dryer, a near-infrared lamp, an air dryer and the like can be exemplified. The heat treatment temperature is preferably 35 to 220 ° C., more preferably 40 ° C. or higher or 200 ° C. or lower, and even more preferably 50 ° C. or higher or 180 ° C. or lower.
Further, the heat treatment time is preferably 3 seconds to 3 minutes, particularly preferably 5 seconds or more or 2 minutes or less, and particularly preferably 5 seconds or more or 1 minute or less.
他方、本離型層組成物を紫外線照射によって硬化させる場合、従来から公知の紫外線照射装置を用いて紫外線照射することができる。この際、光源として、例えばフュージョン(H)ランプ、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ(オゾン発生タイプ、オゾンレスタイプ)、UV-LEDなどを用いることができる。 On the other hand, when the release layer composition is cured by ultraviolet irradiation, it can be irradiated with ultraviolet rays using a conventionally known ultraviolet irradiation device. At this time, as the light source, for example, a fusion (H) lamp, a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp (ozone generation type, ozoneless type), a UV-LED, or the like can be used.
紫外線照射量としては特に限定されるわけではない。積算光量換算として、10~3000(mJ/cm2)であるのが好ましく、中でも50(mJ/cm2)以上或いは2000(mJ/cm2)以下、その中でも100(mJ/cm2)以上或いは1500(mJ/cm2)以下であるのが特に好ましい。 The amount of ultraviolet irradiation is not particularly limited. In terms of integrated light quantity, it is preferably 10 to 3000 (mJ / cm 2 ), among which 50 (mJ / cm 2 ) or more or 2000 (mJ / cm 2 ) or less, and 100 (mJ / cm 2 ) or more or 100 (mJ / cm 2) or more. It is particularly preferably 1500 (mJ / cm 2 ) or less.
<<本離型フィルムの物性>>
本離型フィルムは、次の物性を有することができる。
<< Physical characteristics of this release film >>
The release film can have the following physical characteristics.
<凝着エネルギー>
本離型フィルムにおける本離型層の凝着エネルギーは35mJ/m2以上39mJ/m2以下であるのが好ましく、中でも36mJ/m2以上或いは39mJ/m2以下であるのがさらに好ましく、その中でも36mJ/m2以上或いは38mJ/m2以下であるのがさらに好ましい。
本離型層の凝着エネルギーが前記範囲を満足することにより、本離型層が適度な濡れ性を有する表面を形成し、本離型層上に粘着層を設けた際にも、本離型層から粘着層側に非相溶成分が溶出することで、粘着層組成物を塗布する際にハジキが発生したり、若しくは、粘着層内に当該非相溶成分が侵入して相分離構造を形成したりすることを抑制しながら、軽剥離性を得ることができる。
<Adhesion energy>
The adhesion energy of the release layer in the release film is preferably 35 mJ / m 2 or more and 39 mJ / m 2 or less, and more preferably 36 mJ / m 2 or more or 39 mJ / m 2 or less. Above all, it is more preferably 36 mJ / m 2 or more or 38 mJ / m 2 or less.
When the adhesion energy of the release type layer satisfies the above range, the present release type layer forms a surface having appropriate wettability, and even when the adhesive layer is provided on the main release type layer, the main release type layer is released. Elution of the incompatible component from the mold layer to the adhesive layer side causes repelling when the adhesive layer composition is applied, or the incompatible component invades into the adhesive layer and has a phase release structure. It is possible to obtain light releasability while suppressing the formation of.
<弾性率>
本離型フィルムにおける本離型層の弾性率は0.1MPa以上、好ましくは0.2MPa以上、その中でも特に0.5MPa以上がよい。一方、上限値に関しては8.0MPa以下が好ましく、さらに好ましくは6.0MPa以下、その中でも特に5.0MPa以下がよい。
本離型層が、凝着エネルギー及び弾性率について前記範囲を同時に満足することで、本離型層上に形成した粘着層表面が平滑性を維持できるようになる。
<Elastic modulus>
The elastic modulus of the release layer in the release film is 0.1 MPa or more, preferably 0.2 MPa or more, and particularly preferably 0.5 MPa or more. On the other hand, the upper limit value is preferably 8.0 MPa or less, more preferably 6.0 MPa or less, and particularly preferably 5.0 MPa or less.
When the release type layer simultaneously satisfies the above ranges with respect to the adhesion energy and the elastic modulus, the surface of the adhesive layer formed on the main release type layer can maintain the smoothness.
なお、本離型層の凝着エネルギー及び弾性率は、原子間力顕微鏡(商品名:SPM-9700HT、島津製作所社製)にシリコンプローブ(team nanotec製、LRCH、曲率半径:250nm、バネ定数:0.2N/m)を取り付け、600m/sでタッピングを実施して得られたフォースカーブに基づいて、JKR 2点法に準拠して算出することができる。 The adhesion energy and elastic modulus of this release layer are determined by using an atomic force microscope (trade name: SPM-9700HT, manufactured by Shimadzu Corporation) with a silicon probe (team nanotec, LRCH, radius of curvature: 250 nm, spring constant:). It can be calculated according to the JKR two-point method based on the force curve obtained by attaching 0.2 N / m) and tapping at 600 m / s.
<加熱剥離力>
本離型フィルムは、アクリル系粘着テープ、例えば日東電工製No.502を貼り合わせ、50mm×300mmのサイズにカットし、その状態で、熱風式オーブンにて100℃(設定温度)で1時間加熱保持した後、23℃、50%RHで1時間静置した後の、引張速度300mm/分の条件下での180°剥離力、すなわち、前記アクリル系粘着テープを引張速度300mm/分の条件下で180°剥離した際の剥離力を15mN/cm以下を満足するのが好ましい。中でも14mN/cm以下、その中でも11mN/cm以下がさらに好ましい。
なお、上記剥離力は、例えば引張試験機((株)島津製作所「EZgraph」)を使用して測定することができる。但し、かかる試験機に限定するものではない。
<Heat peeling force>
This release film is an acrylic adhesive tape, for example, Nitto Denko No. After laminating 502, cutting into a size of 50 mm × 300 mm, heating and holding in a hot air oven at 100 ° C (set temperature) for 1 hour, and then allowing to stand at 23 ° C and 50% RH for 1 hour. Satisfies the 180 ° peeling force under the condition of a tensile speed of 300 mm / min, that is, the peeling force when the acrylic adhesive tape is peeled 180 ° under the condition of a tensile speed of 300 mm / min, which is 15 mN / cm or less. Is preferable. Above all, 14 mN / cm or less, and above all, 11 mN / cm or less is more preferable.
The peeling force can be measured using, for example, a tensile tester (“EZgraph” manufactured by Shimadzu Corporation). However, the present invention is not limited to such a testing machine.
<<<粘着層付き離型フィルム>>>
本離型フィルムを用いて、当該本離型フィルムの本離型層上に粘着層(「本粘着層」)を備えた粘着層付き離型フィルム(「本粘着層付き離型フィルム」と称する)を作製することができる。
<<< Release film with adhesive layer >>>
A release film with an adhesive layer (referred to as a "release film with an adhesive layer") having an adhesive layer ("the adhesive layer") on the release layer of the release film using the release film. ) Can be produced.
<本粘着層表面の平滑性(写像性)>
本粘着層付き離型フィルムは、本粘着層の表面、すなわち、本離型フィルムに接していない側の本粘着層の表面における写像性値を70以上とすることができ、中でも好ましくは75以上とすることができる。かかる写像性値を満足することは、本粘着層の表面が極めて平滑であることを示している。
<Smoothness (mapping property) of the surface of this adhesive layer>
The release film with the adhesive layer can have a image quality value of 70 or more on the surface of the adhesive layer, that is, the surface of the adhesive layer on the side not in contact with the release film, and more preferably 75 or more. Can be. Satisfying such a mapping property value indicates that the surface of the present adhesive layer is extremely smooth.
本粘着層付き離型フィルムにおける本粘着層の表面が上記写像性値を満足するためには、上述したように、本離型層を形成する本硬化型シリコーン樹脂の数平均分子量(Mn)を所定範囲に調整すると共に、本離型層組成物乃至本離型層中のフェニル基含有量を所定範囲に調整することにより、本離型層表面の凹凸を抑制することができ、且つ、本粘着層側への非相溶成分の溶出を抑制することができる結果、本粘着層表面の凹凸を抑制して平滑にすることができる。 In order for the surface of the adhesive layer in the release film with the adhesive layer to satisfy the above-mentioned image quality value, as described above, the number average molecular weight (Mn) of the present-curable silicone resin forming the present-release layer is determined. By adjusting the content of the phenyl group in the release layer composition or the release layer to a predetermined range while adjusting the content to a predetermined range, the unevenness of the surface of the release layer can be suppressed, and the present invention can be suppressed. As a result of suppressing the elution of the incompatible component to the adhesive layer side, the unevenness of the surface of the adhesive layer can be suppressed and smoothed.
<粘着層表面の算術平均高さ(Sa)>
本粘着層付き離型フィルムは、本粘着層表面、すなわち、本離型フィルムに接していない側の本粘着層の表面の算術平均高さ(Sa、ISO 25178表面性状)は、53nm以下とすることができ、中でも35nm以下とすることができ、中でも好ましくは30nm以下、中でも好ましくは25nm以下とすることができる。
<Arithmetic mean height (Sa) on the surface of the adhesive layer>
In the release film with the present adhesive layer, the arithmetic average height (Sa, ISO 25178 surface texture) of the surface of the main adhesive layer, that is, the surface of the main adhesive layer on the side not in contact with the main release film is 53 nm or less. It can be 35 nm or less, particularly preferably 30 nm or less, and particularly preferably 25 nm or less.
なお、算術平均高さ(Sa、ISO25178表面性状)は、算術平均粗さRaを三次元に拡張したパラメータであり、表面の平均面に対して、各点の高さの差の絶対値の平均を表す数値である。 The arithmetic mean height (Sa, ISO25178 surface texture) is a parameter obtained by extending the arithmetic average roughness Ra in three dimensions, and is the average of the absolute values of the differences in height of each point with respect to the average surface of the surface. It is a numerical value representing.
<<本粘着層>>
本粘着層は、粘着剤組成物(「本粘着剤組成物」と称する)を本離型フィルム上に塗布し、硬化させることで形成することができる。
<< This adhesive layer >>
The pressure-sensitive adhesive layer can be formed by applying a pressure-sensitive adhesive composition (referred to as "the present pressure-sensitive adhesive composition") onto the release-type film and curing the pressure-sensitive adhesive composition.
<本粘着剤組成物>
本粘着剤組成物は、アクリル系樹脂を主成分樹脂とするアクリル系粘着剤組成物であっても、ゴムを主成分とするゴム系粘着剤組成物であっても、ウレタン系樹脂を主成分とするウレタン系粘着剤組成物であっても、シリコーン樹脂を主成分とするシリコーン系粘着剤組成物であってもよい。
中でも、本粘着剤組成物は、粘着力と剥離力をバランス良く調整することができ、且つ、安価である点から、アクリル系樹脂を主成分とするアクリル系粘着剤組成物が好ましい。
<This adhesive composition>
The present pressure-sensitive adhesive composition is mainly composed of a urethane-based resin, whether it is an acrylic-based pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic resin as a main component resin or a rubber-based pressure-sensitive adhesive composition containing rubber as a main component. The urethane-based pressure-sensitive adhesive composition may be a silicone-based pressure-sensitive adhesive composition, or may be a silicone-based pressure-sensitive adhesive composition containing a silicone resin as a main component.
Among them, the present pressure-sensitive adhesive composition is preferably an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic resin as a main component because the pressure-sensitive adhesive force and the peeling power can be adjusted in a well-balanced manner and the cost is low.
なお、上記「主成分樹脂」とは、本粘着剤組成物を構成する樹脂の中でも最も質量割合の高い樹脂を意味する。例えば、本粘着剤組成物を構成する樹脂全量の50質量%以上、好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上を占める成分を意味する。なお、上限としては通常99.99質量%である。 The above-mentioned "main component resin" means a resin having the highest mass ratio among the resins constituting the present pressure-sensitive adhesive composition. For example, it means a component which occupies 50% by mass or more, preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more of the total amount of the resin constituting the present pressure-sensitive adhesive composition. The upper limit is usually 99.99% by mass.
本粘着剤組成物は、上記主成分以外、後述する架橋剤のほか、必要に応じて、例えばシランカップリング剤、帯電防止剤、その他のアクリル系粘着剤、その他の粘着剤、ウレタン樹脂、ロジン、ロジンエステル、水添ロジンエステル、フェノール樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、脂肪族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、スチレン系樹脂、キシレン系樹脂等の粘着付与剤、着色剤、充填剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、機能性色素等の従来公知の添加剤や、紫外線あるいは放射線照射により呈色あるいは変色を起こすような化合物などの添加剤を配合することができる。
これら添加剤の配合量は、本粘着剤組成物全体の10質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは5質量%以下、その中でも特に5質量%以下であり、添加剤として分子量が1万よりも低い低分子成分は極力含まないことが耐久性に優れる点で好ましい。
In addition to the above-mentioned main components, the present pressure-sensitive adhesive composition may contain, for example, a silane coupling agent, an antistatic agent, other acrylic pressure-sensitive adhesives, other pressure-sensitive adhesives, urethane resins, and rosins, in addition to the cross-linking agents described below. , Rosin ester, hydrogenated rosin ester, phenol resin, aromatic modified terpene resin, aliphatic petroleum resin, alicyclic petroleum resin, styrene resin, xylene resin and other adhesives, colorants, fillers, Conventionally known additives such as antiaging agents, ultraviolet absorbers, and functional dyes, and additives such as compounds that cause color development or discoloration by ultraviolet rays or irradiation with radiation can be blended.
The blending amount of these additives is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and particularly 5% by mass or less, and the molecular weight of the additive is 10,000. It is preferable that a low molecular weight component lower than the above is not contained as much as possible in terms of excellent durability.
(アクリル系樹脂)
本粘着剤組成物の主成分樹脂であるアクリル系樹脂としては、(メタ)アクリル系重合体を挙げることができる。
(Acrylic resin)
Examples of the acrylic resin which is the main component resin of the pressure-sensitive adhesive composition include (meth) acrylic polymers.
(メタ)アクリル系重合体は、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主な構成単位とする重合体である。
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸sec-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸n-ペンチル及び(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸4-t-ブチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸トリシクロデカニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタエニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル等を挙げることができる。これらは1種のみで用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、(メタ)アクリル系重合体の(メタ)アクリレートとの相溶性、硬化樹脂層の耐熱性の点から、(メタ)アクリル酸メチルが好ましい。(メタ)アクリル系重合体はラジカル重合可能な二重結合を有するものであってもよい。
The (meth) acrylic polymer is a polymer having a (meth) acrylic acid alkyl ester as a main constituent unit.
Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include methyl (meth) acrylic acid, ethyl (meth) acrylic acid, n-propyl (meth) acrylic acid, isopropyl (meth) acrylic acid, and n- (meth) acrylic acid. Butyl, isobutyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) acrylate and n-hexyl (meth) acrylate, (meth) acrylate Examples thereof include isobornyl, 4-t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, dicyclopentaenyl (meth) acrylate, and adamantyl (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, methyl (meth) acrylate is preferable from the viewpoint of compatibility of the (meth) acrylic polymer with (meth) acrylate and heat resistance of the cured resin layer. The (meth) acrylic polymer may have a radically polymerizable double bond.
(メタ)アクリル重合体は、ガラス転移温度、機械物性、相溶性等を良好にすることを目的として、(メタ)アクリル酸アルキルエステル以外の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸、その他ビニル基を有する化合物を共重合することができる。前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル以外の(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル等の(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル、(メタ)アクリル酸メトキシメチル(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシメチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸γ-ブチロラクトン等を挙げることができる。
前記ビニル基を有する化合物としては、ジメチルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド等のアクリルアミド系化合物、スチレン、α-メチルスチレン、p-メトキシスチレン等のスチレン系化合物、無水マレイン酸等を挙げることができる。
The (meth) acrylic polymer is a (meth) acrylic acid ester other than the (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid, and others for the purpose of improving the glass transition temperature, mechanical properties, compatibility, etc. A compound having a vinyl group can be copolymerized. Examples of the (meth) acrylic acid ester other than the (meth) acrylic acid alkyl ester include (meth) acrylic such as (meth) hydroxyethyl acrylate, (meth) hydroxypropyl acrylate, and (meth) hydroxybutyl acrylate. (Meta) acrylic acid alkoxyalkyl esters such as hydroxyalkyl acid, methoxymethyl (meth) acrylate, ethoxymethyl (meth) acrylate, ethoxymethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid Examples thereof include phenyl, benzyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and γ-butyrolactone (meth) acrylate.
Examples of the compound having a vinyl group include acrylamide compounds such as dimethylacrylamide, hydroxyethylacrylamide and dimethylaminopropylacrylamide, styrene compounds such as styrene, α-methylstyrene and p-methoxystyrene, maleic anhydride and the like. Can be done.
ガラス転移温度(Tg)は、(メタ)アクリル系重合体を形成する単量体の種類および質量分率から、下記のFoxの式より求められる。
1/Tg=Σ(Wi/Tgi)この式で、Tgは(メタ)アクリル系重合体のガラス転移温度(単位はK)、Wiは(メタ)アクリル系重合体を構成する単量体i由来の単量体単位の質量分率、Tgiは単量体iの単独重合体のガラス転移温度(単位はK)を示す。Tgiの値は、POLYMERHANDBOOK Volume 1(WILEY-INTERSCIENCE)に記載の値を用いることができる。
The glass transition temperature (Tg) can be obtained from the following Fox formula from the type and mass fraction of the monomer forming the (meth) acrylic polymer.
1 / Tg = Σ (Wi / Tgi) In this formula, Tg is derived from the glass transition temperature (unit: K) of the (meth) acrylic polymer, and Wi is derived from the monomer i constituting the (meth) acrylic polymer. The mass fraction of the monomer unit of, Tgi indicates the glass transition temperature (unit is K) of the homopolymer of the monomer i. As the value of Tgi, the value described in POLYMERHANDBOOK Volume 1 (WILEY-INTERSCIENCE) can be used.
本発明において、共重合成分としては、後述する架橋剤との反応点となる点でアクリルモノマー(a1)を含有してもよい。 In the present invention, the copolymerization component may contain an acrylic monomer (a1) at a point of reaction point with a cross-linking agent described later.
アクリルモノマー(a1)は、その他の共重合成分と共重合されアクリル系樹脂となった際に、架橋構造の反応点となるものであり、後述する架橋剤(B)の含有する官能基と反応しうる官能基を含有するモノマーを用いればよい。このようなアクリルモノマー(a1)としては、例えば、水酸基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、アセトアセチル基含有モノマー、イソシアネート基含有モノマー、グリシジル基含有モノマー等を挙げることができる。これらの中でも、架橋剤と効率的に架橋反応ができる点で水酸基含有モノマーが好ましく用いられる。アクリルモノマー(a1)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。 The acrylic monomer (a1) becomes a reaction point of a crosslinked structure when copolymerized with other copolymerization components to form an acrylic resin, and reacts with a functional group contained in the crosslinking agent (B) described later. A monomer containing a possible functional group may be used. Examples of such an acrylic monomer (a1) include a hydroxyl group-containing monomer, an amino group-containing monomer, an acetoacetyl group-containing monomer, an isocyanate group-containing monomer, and a glycidyl group-containing monomer. Among these, a hydroxyl group-containing monomer is preferably used because it can efficiently carry out a cross-linking reaction with a cross-linking agent. The acrylic monomer (a1) may be used alone or in combination of two or more.
水酸基含有モノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、5-ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、8-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート等のアクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、カプロラクトン変性2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のカプロラクトン変性モノマー、ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等のオキシアルキレン変性モノマー、その他、2-アクリロイロキシエチル2-ヒドロキシエチルフタル酸、N-メチロール(メタ)アクリルアミド等の1級水酸基含有モノマー;2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3-クロロ2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の2級水酸基含有モノマー;2,2-ジメチル2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の3級水酸基含有モノマーを挙げることができる。 Examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 5-hydroxypentyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, and 8-hydroxyoctyl (meth). ) Acrylic acid hydroxyalkyl esters such as acrylates, caprolactone-modified monomers such as caprolactone-modified 2-hydroxyethyl (meth) acrylates, oxyalkylene-modified monomers such as diethylene glycol (meth) acrylates and polyethylene glycol (meth) acrylates, and 2-acrylate. Primary hydroxyl group-containing monomers such as leuroxyethyl 2-hydroxyethylphthalic acid and N-methylol (meth) acrylamide; 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-chloro2-hydroxypropyl Secondary hydroxyl group-containing monomers such as (meth) acrylate; Tertiary hydroxyl group-containing monomers such as 2,2-dimethyl2-hydroxyethyl (meth) acrylate can be mentioned.
上記水酸基含有モノマーの中でも、架橋剤との反応性に優れる点で1級水酸基含有モノマーが好ましく、更には、2-ヒドロキシエチルアクリレートを使用することが、ジ(メタ)アクリレート等の不純物が少なく、製造しやすい点で特に好ましい。 Among the above hydroxyl group-containing monomers, a primary hydroxyl group-containing monomer is preferable because it has excellent reactivity with a cross-linking agent, and further, the use of 2-hydroxyethyl acrylate has less impurities such as di (meth) acrylate. It is particularly preferable because it is easy to manufacture.
なお、本発明で使用する水酸基含有モノマーとしては、不純物であるジ(メタ)アクリレートの含有割合が、0.5%以下のものを用いることも好ましく、更に0.2%以下、殊には0.1%以下のものを使用することが好ましい。水酸基含有モノマーとしては、具体的には、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレートなどが特に好ましく、これらは低分子量であるため精製しやすい点で好ましい。 As the hydroxyl group-containing monomer used in the present invention, it is preferable to use a monomer having a content ratio of di (meth) acrylate as an impurity of 0.5% or less, further 0.2% or less, particularly 0. It is preferable to use 1% or less. As the hydroxyl group-containing monomer, specifically, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate and the like are particularly preferable, and these are preferable because they have a low molecular weight and are easy to purify.
アミノ基含有モノマーとしては、例えば、t-ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、エチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 Examples of the amino group-containing monomer include t-butylaminoethyl (meth) acrylate, ethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate and the like.
アセトアセチル基含有モノマーとしては、例えば、2-(アセトアセトキシ)エチル(メタ)アクリレート、アリルアセトアセテート等を挙げることができる。 Examples of the acetoacetyl group-containing monomer include 2- (acetoacetoxy) ethyl (meth) acrylate and allyl acetoacetate.
イソシアネート基含有モノマーとしては、例えば、2-アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネートやそれらのアルキレンオキサイド付加物等を挙げることができる。 Examples of the isocyanate group-containing monomer include 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, and alkylene oxide adducts thereof.
グリシジル基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸アリルグリシジル等を挙げることができる。 Examples of the glycidyl group-containing monomer include glycidyl (meth) acrylate and allyl glycidyl (meth) acrylate.
共重合成分中におけるアクリルモノマー(a1)の含有量は、好ましくは0.01~20質量%、さらに好ましくは0.1~10質量%、その中でも特に0.2~3質量%である。
アクリルモノマー(a1)が少なすぎると、架橋時の架橋点が少なくなりすぎるため、架橋後の凝集力が不足する傾向があり、多すぎると粘着力が下がりすぎる傾向がある。
The content of the acrylic monomer (a1) in the copolymerization component is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and particularly 0.2 to 3% by mass.
If the amount of the acrylic monomer (a1) is too small, the number of cross-linking points at the time of cross-linking is too small, so that the cohesive force after cross-linking tends to be insufficient, and if it is too large, the adhesive force tends to be too low.
また、必要に応じて、共重合成分として、(a1)以外の共重合性モノマー(a2)を含有することもできる。
共重合性モノマー(a2)としては、例えば、メチルメタリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-ブチルメタクリレート、iso-ブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシ化o-フェニルフェニル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、スチレン等の芳香環含有モノマー、(メタ)アクリロイルモルホリン、ジメチル(メタ)アクリルアミド、ジエチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド等のアミド系モノマー、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アルキルビニルエーテル、ビニルトルエン、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、イタコン酸ジアルキルエステル、フマル酸ジアルキルエステル、アリルアルコール、アクリルクロライド、メチルビニルケトン、N-アクリルアミドメチルトリメチルアンモニウムクロライド、アリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジメチルアリルビニルケトン等を挙げることができる。
Further, if necessary, a copolymerizable monomer (a2) other than (a1) can be contained as a copolymerization component.
Examples of the copolymerizable monomer (a2) include methyl metallicate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl methacrylate, iso-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, and n-propyl (meth) acrylate. , N-hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (Meta) acrylic acid alkyl ester-based monomers such as (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, ethoxylated o-phenylphenyl (meth) Aromatic ring-containing monomers such as acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, styrene, (meth) acryloylmorpholine, dimethyl (meth) acrylamide, diethyl (meth) acrylamide, (meth). ) Amid-based monomers such as acrylamide, acrylonitrile, methacrylate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl stearate, vinyl chloride, vinylidene chloride, alkyl vinyl ether, vinyl toluene, vinyl pyridine, vinylpyrrolidone, itaconic acid dialkyl ester, fumaric acid. Examples thereof include dialkyl esters, allyl alcohols, acrylic chlorides, methyl vinyl ketones, N-acrylamide methyltrimethylammonium chlorides, allyltrimethylammonium chlorides, and dimethylallylvinyl ketones.
共重合成分中における共重合性モノマー(a2)の含有割合は、好ましくは0~20質量%、さらに好ましくは1~15質量%、その中でも特に2~10質量%であり、共重合性モノマー(a2)が多すぎると粘着特性が低下しやすい傾向がある。 The content ratio of the copolymerizable monomer (a2) in the copolymerization component is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, and particularly 2 to 10% by mass, and the copolymerizable monomer (a2). If a2) is too large, the adhesive properties tend to deteriorate.
(架橋剤)
本粘着剤組成物は、その硬化方法に応じて、必要に応じて架橋剤を含有することができる。
架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、メラミン系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、アミン系架橋剤などを挙げることができる。中でも、基材との密着性向上、あるいはアクリル系樹脂との反応性の点で、イソシアネート系架橋剤が好適に用いられる。
架橋剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(Crosslinking agent)
The present pressure-sensitive adhesive composition may contain a cross-linking agent, if necessary, depending on the curing method thereof.
Examples of the cross-linking agent include isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, aziridine-based cross-linking agents, melamine-based cross-linking agents, aldehyde-based cross-linking agents, amine-based cross-linking agents and the like. Among them, an isocyanate-based cross-linking agent is preferably used in terms of improving the adhesion to the substrate or the reactivity with the acrylic resin.
The cross-linking agent may be used alone or in combination of two or more.
架橋剤の含有量は、主成分樹脂100質量部に対して、0.01~10質量部であることが好ましく、さらに好ましくは0.05~5質量部、その中でも0.1~3質量部である。
架橋剤の含有量が上記範囲内であれば、凝集力が不足することもなく、所望する耐久性を得ることができる一方、柔軟性および粘着力が低下するのを防ぐことができる。
The content of the cross-linking agent is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.05 to 5 parts by mass, and more preferably 0.1 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the main component resin. Is.
When the content of the cross-linking agent is within the above range, the cohesive force is not insufficient and the desired durability can be obtained, while the flexibility and the adhesive force can be prevented from being lowered.
なお、硬化反応に関して、活性エネルギー線を照射する光硬化による場合は、架橋剤として、本粘着剤組成物に多官能(メタ)アクリレートを配合することが好ましい。
かかる多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
Regarding the curing reaction, in the case of photo-curing by irradiating with active energy rays, it is preferable to add a polyfunctional (meth) acrylate to the present pressure-sensitive adhesive composition as a cross-linking agent.
Examples of such polyfunctional (meth) acrylates include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and di. Examples thereof include pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate.
<本粘着層の厚さ>
本粘着層の厚さは、特に限定するものではない。例えば、十分な粘着力を付与したり、粘着剤を貼り合わせる基材の凹凸や段差を埋めたりする観点から、0.1μm以上であるのが好ましく、中でも0.5μm以上、その中でも1μm以上であるのがさらに好ましい。その一方、材料の使用効率や透過度、アウトガスの観点から、10000μm以下であるのが好ましく、中でも3000μ以下、その中でも1000μm以下であるのがさらに好ましい。
<Thickness of this adhesive layer>
The thickness of the adhesive layer is not particularly limited. For example, from the viewpoint of imparting sufficient adhesive strength and filling the unevenness and steps of the base material to which the adhesive is adhered, it is preferably 0.1 μm or more, particularly 0.5 μm or more, and particularly 1 μm or more. It is even more preferable to have it. On the other hand, from the viewpoint of material usage efficiency, permeability, and outgas, it is preferably 10,000 μm or less, more preferably 3000 μm or less, and even more preferably 1000 μm or less.
<<<本フィルム積層体>>>
本粘着層付き離型フィルムの前記粘着層表面に、光学部材を貼り合わせてなる構成を備えたフィルム積層体(「本フィルム積層体」と称する)を作製することができる。
<<< This film laminate >>>
A film laminate (referred to as "the film laminate") having a structure in which an optical member is bonded to the surface of the adhesive layer of the release film with the adhesive layer can be produced.
前記光学部材としては、例えば、偏光板、タッチセンサーなどを挙げることができる。また、自動車に搭載されるタッチパネルなどの車載用光学部材であってもよい。 Examples of the optical member include a polarizing plate and a touch sensor. Further, it may be an in-vehicle optical member such as a touch panel mounted on an automobile.
(偏光板)
上記偏光板の材料および構成は任意である。例えば、ヨウ素を配向色素として用いた延伸ポリビニルアルコールフィルムに保護フィルムとしてTAC(トリアセチルセルロース)フィルムを積層したものが、この種の偏光板として広く実用化されている。
また、偏光板は、表面に、実質的に位相差を有しないハードコート、防眩、低反射、帯電防止などの機能を持つ層構成を有するものであってもよい。
(Polarizer)
The material and composition of the polarizing plate are arbitrary. For example, a stretched polyvinyl alcohol film using iodine as an alignment dye and a TAC (triacetyl cellulose) film laminated as a protective film have been widely put into practical use as this type of polarizing plate.
Further, the polarizing plate may have a layer structure on the surface having functions such as a hard coat having substantially no phase difference, antiglare, low reflection, and antistatic.
(タッチセンサー)
上記タッチセンサーは、ユーザが画面に表示される画像を指やタッチペンなどで接触する場合、この接触に反応してタッチ地点を把握する部材であり、センサー技術により、静電容量方式、抵抗膜方式、赤外線または超音波などを利用した表面波方式などの方法が例示される。
一般にタッチセンサーは液晶表示パネル、有機ELなどの表示装置に搭載される。
また、近年、ガラス基板の代替として、フレキシブル性に着目して、基材フィルムを用いる傾向にある。
タッチセンサーフィルムは、感知電極の機能を実行するためのパターン化した透明導電層を設けるのが一般的である。
(Touch sensor)
The touch sensor is a member that grasps the touch point in response to the contact when the user touches the image displayed on the screen with a finger or a touch pen. , A method such as a surface wave method using infrared rays or ultrasonic waves is exemplified.
Generally, the touch sensor is mounted on a display device such as a liquid crystal display panel or an organic EL.
Further, in recent years, as an alternative to the glass substrate, there is a tendency to focus on flexibility and use a base film.
The touch sensor film is generally provided with a patterned transparent conductive layer for performing the function of the sensing electrode.
<<<語句の説明など>>>
本発明においては、「フィルム」と称する場合でも「シート」を含むものとし、「シート」と称する場合でも「フィルム」を含むものとする。
また、画像表示パネル、保護パネル等のように「パネル」と表現する場合、板体、シート及びフィルムを包含するものである。
<<< Explanation of words and phrases >>>
In the present invention, the term "film" shall include a "sheet", and the term "sheet" shall include a "film".
Further, when the term "panel" is used, such as an image display panel or a protective panel, it includes a plate, a sheet, and a film.
本発明において、「X~Y」(X,Yは任意の数字)と記載した場合、特にことわらない限り「X以上Y以下」の意と共に、「好ましくはXより大きい」或いは「好ましくはYより小さい」の意も包含するものである。
また、「X以上」(Xは任意の数字)と記載した場合、特にことわらない限り「好ましくはXより大きい」の意を包含し、「Y以下」(Yは任意の数字)と記載した場合、特にことわらない限り「好ましくはYより小さい」の意も包含するものである。
In the present invention, when "X to Y" (X and Y are arbitrary numbers) is described, it means "X or more and Y or less" and "preferably larger than X" or "preferably Y" unless otherwise specified. It also includes the meaning of "smaller".
Further, when described as "X or more" (X is an arbitrary number), it includes the meaning of "preferably larger than X" and is described as "Y or less" (Y is an arbitrary number). In this case, unless otherwise specified, it also includes the meaning of "preferably smaller than Y".
次に、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。但し、本発明が、以下に説明する実施例に限定されるものではない。 Next, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the present invention is not limited to the examples described below.
<評価方法>
以下において、種々の物性等の測定及び評価は次のようにして行った。
<Evaluation method>
In the following, various physical properties were measured and evaluated as follows.
(1)硬化型シリコーン樹脂の粘度
硬化型シリコーン樹脂をn-ヘプタンで15質量%に溶媒希釈し、この溶液の25℃での粘度を、E型粘度計(東機産業(株)製「TVE-22L」)粘度計を用いて測定した。
(1) Viscosity of curable silicone resin The curable silicone resin is solvent-diluted with n-heptane to 15% by mass, and the viscosity of this solution at 25 ° C is measured by an E-type viscometer (TVE manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.). -22L ") Measured using a viscometer.
(2)硬化型シリコーン樹脂の分子量測定
GPC測定装置を使用して、クロマトグラムを測定し、標準ポリスチレンを使用した検量線に基づいて数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を求め、表2に示した。具体的には、測定用の試料4mgを、4mLのTHFに溶解して測定溶液とし、測定溶液100μLをGPC測定装置に注入して測定した。溶離液にはテトラヒドロフラン(THF)を使用した。分析には東ソー(株)製「Ecosec8320」を使用し、ガードカラムには東ソー(株)製「TSKgel guardcolumn HXL-L」、カラムには東ソー(株)製「TSKgel GMHXL」を4本連結して使用した。また、オーブンの温度は40℃、THF流量1.0mL/分の条件で分析を行い、検出にはRIを用いた。
(2) Molecular weight measurement of curable silicone resin A chromatogram is measured using a GPC measuring device, and a number average molecular weight (Mn) and a weight average molecular weight (Mw) are obtained based on a calibration curve using standard polystyrene. It is shown in Table 2. Specifically, 4 mg of the sample for measurement was dissolved in 4 mL of THF to prepare a measurement solution, and 100 μL of the measurement solution was injected into a GPC measuring device for measurement. Tetrahydrofuran (THF) was used as the eluent. "Ecosec8320" manufactured by Tosoh Corporation is used for analysis, "TSKgel guardcolum HXL-L" manufactured by Tosoh Corporation is used for the guard column, and "TSKgel GMHXL" manufactured by Tosoh Corporation is connected to the column. used. The analysis was performed under the conditions of an oven temperature of 40 ° C. and a THF flow rate of 1.0 mL / min, and RI was used for detection.
(3)離型層の厚み測定
裏面からの反射を抑えるために、あらかじめ、試料フィルムの測定裏面に黒テープ(ニチバン(株)製ビニールテープVT-50)を貼った。測定には、分光光度計(日本分光(株)製紫外可視分光光度計V-670)を使用して、波長範囲300~800nmでの絶対反射率を、同期モード、入射角5°、N偏光、レスポンスFast、データ取得間隔1.0nm、バンド幅10nm、走査速度1000m/minの条件で測定した。この測定で得られたデータと、シリコーンの屈折率を1.43として計算したデータとを比較することで、離型層の膜厚を求めた。
(3) Measurement of thickness of release layer In order to suppress reflection from the back surface, a black tape (vinyl tape VT-50 manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was attached to the measurement back surface of the sample film in advance. For the measurement, a spectrophotometer (UV visible spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation) is used to measure the absolute reflectance in the wavelength range of 300 to 800 nm in the synchronous mode, incident angle of 5 °, and N polarization. , Response Fast, data acquisition interval 1.0 nm, bandwidth 10 nm, scanning speed 1000 m / min. The film thickness of the release layer was determined by comparing the data obtained by this measurement with the data calculated with the refractive index of silicone as 1.43.
(4)加熱剥離力
試料フィルムの離型層表面に、アクリル系両面粘着テープ(日東電工(株)製「No.502」)の片面を貼り付け、50mm×300mmのサイズにカットし、この状態で、熱風式オーブンにて100℃(設定温度)で1時間加熱保持し、次いで23℃、50%RHで1時間静置した後、引張試験機((株)島津製作所「EZgraph」)を使用して、引張速度300mm/分の条件下で180°剥離力を測定した。
(4) Heat peeling force One side of acrylic double-sided adhesive tape (“No.502” manufactured by Nitto Denko Corporation) is attached to the surface of the release layer of the sample film, cut into a size of 50 mm × 300 mm, and in this state. Then, heat and hold at 100 ° C. (set temperature) for 1 hour in a hot air oven, then stand at 23 ° C. and 50% RH for 1 hour, and then use a tensile tester (Shimadzu Corporation "EZgraph"). Then, the 180 ° peeling force was measured under the condition of a tensile speed of 300 mm / min.
(5)離型層の凝着エネルギー
試料フィルムの離型層表面を、原子間力顕微鏡で観察し、得られた画像を解析して凝着エネルギーを算出した。
この際、原子間力顕微鏡(商品名:SPM-9700HT、島津製作所社製)にシリコンプローブ(team nanotec製、LRCH、曲率半径:250nm、バネ定数:0.2N/m)を取り付け、600m/sでタッピングを実施して得られたフォースカーブに基づいて、JKR 2点法に準拠して算出した。
(5) Adhesion energy of the release layer The surface of the release layer of the sample film was observed with an atomic force microscope, and the obtained image was analyzed to calculate the adhesion energy.
At this time, a silicon probe (made by team nanotec, LRCH, radius of curvature: 250 nm, spring constant: 0.2 N / m) was attached to an atomic force microscope (trade name: SPM-9700HT, manufactured by Shimadzu Corporation), and 600 m / s. It was calculated according to the JKR two-point method based on the force curve obtained by tapping in.
(6)離型層の弾性率の測定
前記凝着エネルギー測定と同様の装置/手法によって得られたフォースカーブに基づいて、JKR 2点法に準拠して、弾性率を算出した。
(6) Measurement of elastic modulus of the release layer The elastic modulus was calculated according to the JKR two-point method based on the force curve obtained by the same device / method as the adhesion energy measurement.
(7)粘着層表面の凹凸評価
試料フィルムの離型層の表面(離型面)に、下記粘着剤組成物を、湿潤状態での膜厚が2milになるように塗布し、150℃、3分間、熱処理して硬化させて粘着層を形成し、前記離型面と接触していない側の粘着層表面の凹凸を下記(7-1)~(7-3)の各方法で評価した。
(7) Evaluation of unevenness on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer The following pressure-sensitive adhesive composition is applied to the surface (release surface) of the release layer of the sample film so that the film thickness in a wet state is 2 mil, and the temperature is 150 ° C., 3 A pressure-sensitive adhesive layer was formed by heat treatment for a minute and cured, and the unevenness of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer on the side not in contact with the release surface was evaluated by the following methods (7-1) to (7-3).
《粘着剤組成物》
主剤(アクリル系樹脂):AT352(サイデン化学製)100質量部
硬化剤:AL(サイデン化学製)0.25質量部
添加剤:X-301-375SK(サイデン化学製)0.25質量部
添加剤:X-301-352S(サイデン化学製)0.25質量部
トルエン:40質量部
<< Adhesive composition >>
Main agent (acrylic resin): AT352 (manufactured by Saiden Chemical) 100 parts by mass Hardener: AL (manufactured by Saiden Chemical) 0.25 parts by mass Additive: X-301-375SK (manufactured by Saiden Chemical) 0.25 parts by mass Additive : X-301-352S (manufactured by Saiden Chemical Co., Ltd.) 0.25 parts by mass Toluene: 40 parts by mass
(7-1)目視判定
試料フィルムの離型面に上記のようにして粘着層を形成し、前記離型面と接触していない側の粘着層表面の凹凸を目視で観察し、下記判定基準に従い判定し、判定結果を表2に示した。
(判定基準)
○(good):表面凹凸を認識できないくらいに良好であるか、または非常に表面凹凸が軽微である。
△(poor):表面凹凸を認識できる。
×(very poor):明瞭に表面凹凸を認識できる。
(7-1) Visual Judgment An adhesive layer is formed on the release surface of the sample film as described above, and the unevenness of the surface of the adhesive layer on the side not in contact with the release surface is visually observed, and the following determination criteria are used. Judgment was made according to the above, and the judgment results are shown in Table 2.
(criterion)
○ (good): The surface unevenness is so good that it cannot be recognized, or the surface unevenness is very slight.
Δ (poor): Surface unevenness can be recognized.
× (very poor): Surface unevenness can be clearly recognized.
(7-2)粘着層表面の算術平均高さ(Sa)測定
試料フィルムの離型面に上記のようにして粘着層を形成し、ISO25178に準拠し、前記離型面と接触していない側の粘着層表面の算術平均高さ(Sa)を、ブルカージャパン(株)製Contour GTを使用し、928×1235μmの領域において測定した。測定した算術平均高さ(Sa)を表2に示した。
(7-2) Arithmetic mean height (Sa) measurement of the surface of the adhesive layer An adhesive layer is formed on the release surface of the sample film as described above, and the side that conforms to ISO25178 and is not in contact with the release surface. The arithmetic mean height (Sa) of the surface of the adhesive layer was measured in a region of 928 × 1235 μm using a Contour GT manufactured by Bruker Japan Co., Ltd. The measured arithmetic mean height (Sa) is shown in Table 2.
(7-3)粘着層表面の写像性評価
試料フィルムの離型面に上記のようにして粘着層を形成し、前記離型面と接触していない側の粘着層表面の凹凸について、写像性測定装置(スガ試験機株式会社製、ICM-1DP)を用いて、光学軸0°(透過モード)、光学櫛幅0.125mmの条件において、フィルムのタテ方向(シリコーン離型層および粘着層塗布方向)とヨコ方向にそれぞれ各3回の測定を行い、それらの平均値を用いて評価した。
写像性の値が大きいほど、粘着層表面に映し出された像の歪みが少なく、鮮明な像が得られることを示す。
(7-3) Evaluation of image quality of the surface of the adhesive layer The adhesive layer is formed on the release surface of the sample film as described above, and the unevenness of the surface of the adhesive layer on the side not in contact with the release surface is imager. Using a measuring device (ICM-1DP, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the film is applied in the vertical direction (silicone release layer and adhesive layer coating) under the conditions of an optical axis of 0 ° (transmission mode) and an optical comb width of 0.125 mm. Measurements were made three times each in the direction) and the horizontal direction, and the average value was used for evaluation.
The larger the mapability value, the less the distortion of the image projected on the surface of the adhesive layer, and the clearer the image can be obtained.
[原料]
実施例及び比較例では次の原料を使用した。
[material]
The following raw materials were used in Examples and Comparative Examples.
<離型層組成物>
a1:硬化型シリコーン樹脂組成物(シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、ビニル基が導入された硬化型シリコーン樹脂(数平均分子量:176000)と、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、Si-H基が導入された架橋剤とを含有する混合物(粘度:95mcps))
a2:硬化型シリコーン樹脂組成物(シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、ビニル基が導入された硬化型シリコーン樹脂、数平均分子量:10600、粘度:1.7mcps)
a3:硬化型シリコーン樹脂組成物(シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、ビニル基が導入された硬化型シリコーン樹脂(数平均分子量:364000)と、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、Si-H基が導入された架橋剤とを含有する混合物(粘度:410mcps))
a4:硬化型シリコーン樹脂組成物(シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、ヘキセニル基が導入された硬化型シリコーン樹脂(数平均分子量:399000)と、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、Si-H基が導入された架橋剤とを含有する混合物(粘度:430mcps))
<Release layer composition>
a1: Curable silicone resin composition (a curable silicone resin (number average molecular weight: 176000) in which a vinyl group is introduced into a side chain and / or a terminal of a main chain composed of a siloxane bond) and a main chain composed of a siloxane bond. A mixture containing a cross-linking agent having a Si—H group introduced into the side chain and / or the terminal (viscosity: 95 mcps).
a2: Curable silicone resin composition (curable silicone resin having a vinyl group introduced into the side chain and / or the terminal of the main chain composed of a siloxane bond, number average molecular weight: 10600, viscosity: 1.7 mcps).
a3: Curable silicone resin composition (a curable silicone resin (number average molecular weight: 364000) in which a vinyl group is introduced into a side chain and / or a terminal of a main chain composed of a siloxane bond) and a main chain composed of a siloxane bond. A mixture containing a cross-linking agent having a Si—H group introduced in the side chain and / or the terminal (viscosity: 410 mcps).
a4: Curable silicone resin composition (a curable silicone resin (number average molecular weight: 399000) in which a hexenyl group is introduced into the side chain and / or the terminal of the main chain composed of a siloxane bond) and the main chain composed of a siloxane bond. A mixture containing a cross-linking agent having a Si—H group introduced into the side chain and / or the terminal (viscosity: 430 mcps).
(硬化型シリコーン樹脂の組成分析)
実施例・比較例で用いた硬化型シリコーン樹脂の組成分析を、400MHz-NMR(Bruker Avance400M)を用いて行い、結果を表1に示した。
1H-NMR測定には、溶媒としてCDCl3を用い、ジメチルシロキサンのメチル基に由来するピークを化学シフト基準として、温度30℃にて行った。
下記表1には、硬化型シリコーン樹脂における各官能基の含有割合(mol%)を示した。
(Composition analysis of curable silicone resin)
The composition analysis of the curable silicone resin used in Examples and Comparative Examples was performed using 400 MHz-NMR (Bruker Avance 400M), and the results are shown in Table 1.
For 1H-NMR measurement, CDCl 3 was used as a solvent, and the peak derived from the methyl group of dimethylsiloxane was used as a chemical shift reference, and the measurement was carried out at a temperature of 30 ° C.
Table 1 below shows the content ratio (mol%) of each functional group in the curable silicone resin.
b1:架橋剤(CL750:モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製)
c1:付加型白金触媒(PL-50T:信越化学工業株式会社製)
c2:付加型白金触媒(CM678:モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製)
c3:付加型白金触媒(SRX212:ダウ・東レ株式会社製)
b1: Cross-linking agent (CL750: manufactured by Momentive Performance Materials)
c1: Addition type platinum catalyst (PL-50T: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
c2: Addition type platinum catalyst (CM678: manufactured by Momentive Performance Materials)
c3: Addition type platinum catalyst (SRX212: manufactured by Dow Toray Co., Ltd.)
[実施例1]
三菱ケミカル(株)製38μm厚さPETフィルム「T100-38」の片面に、下記離型剤組成Aからなる離型層組成物をバーコート方式により塗布し、150℃、15秒間熱処理して硬化させて、厚さ(乾燥後)0.23μmの離型層を形成して離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Example 1]
A release layer composition consisting of the following release agent composition A is applied to one side of a 38 μm-thick PET film “T100-38” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation by a bar coat method, and heat-treated at 150 ° C. for 15 seconds to cure. Then, a release layer having a thickness (after drying) of 0.23 μm was formed to obtain a release film (sample film).
<離型剤組成-A>
硬化型シリコーン樹脂組成物a1:98質量%
付加型白金触媒c1 : 2質量%
上記離型層組成物をn-ヘプタンで希釈し、固形分濃度を5.4質量%に調整した。
<Release agent composition-A>
Curable silicone resin composition a1: 98% by mass
Addition type platinum catalyst c1: 2% by mass
The release layer composition was diluted with n-heptane to adjust the solid content concentration to 5.4% by mass.
[実施例2]
実施例1において、離型層の厚み(乾燥後)が0.18μmになるように、離型層組成物の固形型分濃度を3.7質量%に変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Example 2]
In Example 1, the same as in Example 1 except that the solid form concentration of the release layer composition was changed to 3.7% by mass so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.18 μm. A release film (sample film) was obtained.
[実施例3]
実施例1において、離型層の厚み(乾燥後)が0.09μmになるように、離型層組成物の固形分濃度を1.9質量%に変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Example 3]
In Example 1, the same as in Example 1 except that the solid content concentration of the release layer composition was changed to 1.9% by mass so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.09 μm. To obtain a release film (sample film).
[比較例1]
実施例1において、離型層組成物を下記離型剤組成-Bに変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型層の厚み(乾燥後)が0.23μmの離型層を有する離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the release layer composition was produced in the same manner as in Example 1 except that the release layer composition was changed to the following release agent composition-B, and the release layer had a thickness (after drying) of 0.23 μm. A release film (sample film) having a layer was obtained.
<離型剤組成-B>
硬化型シリコーン樹脂組成物a2:91質量%
架橋剤b1 : 3質量%
付加型白金触媒c2 : 6質量%
上記離型層組成物をn-ヘプタンで希釈し、固形分濃度を5.4質量%に調整した。
<Release agent composition-B>
Curable silicone resin composition a2: 91% by mass
Crosslinker b1: 3% by mass
Addition type platinum catalyst c2: 6% by mass
The release layer composition was diluted with n-heptane to adjust the solid content concentration to 5.4% by mass.
[比較例2]
比較例1において、離型層の厚み(乾燥後)が0.14μmになるように、離型層組成物の固形分濃度を3.7質量%に変更した以外は、比較例1と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 1, the same as in Comparative Example 1 except that the solid content concentration of the release layer composition was changed to 3.7% by mass so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.14 μm. To obtain a release film (sample film).
[比較例3]
比較例1において、離型層の厚み(乾燥後)が0.07μmになるように、離型層組成物の固形分濃度を1.9質量%に変更した以外は、比較例1と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 3]
In Comparative Example 1, the same applies to Comparative Example 1 except that the solid content concentration of the release layer composition was changed to 1.9% by mass so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.07 μm. To obtain a release film (sample film).
[比較例4]
実施例1において、離型層組成物を下記離型剤組成-Cに変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型層の厚み(乾燥後)が0.24μmの離型層を有する離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 4]
In Example 1, the release layer composition was produced in the same manner as in Example 1 except that the release layer composition was changed to the following release agent composition-C, and the release layer had a thickness (after drying) of 0.24 μm. A release film (sample film) having a layer was obtained.
<離型剤組成-C>
硬化型シリコーン樹脂組成物a3:99質量%
付加型白金触媒c1 : 1質量%
上記離型層組成物をn-ヘプタンで希釈し、固形分濃度を5.4質量%に調整した。
<Release agent composition-C>
Curable silicone resin composition a3: 99% by mass
Addition type platinum catalyst c1: 1% by mass
The release layer composition was diluted with n-heptane to adjust the solid content concentration to 5.4% by mass.
[比較例5]
比較例4において、離型層の厚み(乾燥後)が0.16μmになるように、離型層組成物の固形分濃度を3.7質量%に変更した以外は、比較例4と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 5]
In Comparative Example 4, the same as in Comparative Example 4 except that the solid content concentration of the release layer composition was changed to 3.7% by mass so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.16 μm. To obtain a release film (sample film).
[比較例6]
比較例4において、離型層の厚み(乾燥後)が0.09μmになるように、離型層組成物の固形分濃度を1.9質量%に変更した以外は、比較例4と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 6]
In Comparative Example 4, the same applies to Comparative Example 4 except that the solid content concentration of the release layer composition was changed to 1.9% by mass so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.09 μm. To obtain a release film (sample film).
[比較例7]
実施例1において、離型層組成物を下記離型剤組成-Dに変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型層の厚み(乾燥後)が0.28μmの離型層を有する離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 7]
In Example 1, the release layer composition was produced in the same manner as in Example 1 except that the release layer composition was changed to the following release agent composition −D, and the release layer had a thickness (after drying) of 0.28 μm. A release film (sample film) having a layer was obtained.
<離型剤組成-D>
硬化型シリコーン樹脂組成物a4:99質量%
付加型白金触媒c3 : 1質量%
上記離型層組成物をn-ヘプタンで希釈し、固形分濃度を5.4質量%に調整した。
<Release agent composition-D>
Curable Silicone Resin Composition a4: 99% by Mass
Addition type platinum catalyst c3: 1% by mass
The release layer composition was diluted with n-heptane to adjust the solid content concentration to 5.4% by mass.
[比較例8]
比較例7において、離型層の厚み(乾燥後)が0.22μmになるように、離型層組成物の固形分濃度を3.7質量%に変更した以外は、比較例7と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 8]
In Comparative Example 7, the same applies to Comparative Example 7 except that the solid content concentration of the release layer composition was changed to 3.7% by mass so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.22 μm. To obtain a release film (sample film).
[比較例9]
比較例7において、離型層の厚み(乾燥後)が0.11μmになるように、離型層組成物の固形分濃度を1.9質量%に変更した以外は、比較例7と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 9]
In Comparative Example 7, the same applies to Comparative Example 7 except that the solid content concentration of the release layer composition was changed to 1.9% by mass so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.11 μm. To obtain a release film (sample film).
上記実施例および比較例で得られた各離型フィルム(試料フィルム)の特性を表2にまとめて示す。 The characteristics of each release film (sample film) obtained in the above Examples and Comparative Examples are summarized in Table 2.
<考察>
上記実施例及び発明者がこれまで行ってきた試験結果より、数平均分子量(Mn)が20000以上350000以下である中程度の数平均分子量(Mn)を有する硬化型シリコーンを、離型層組成物の主成分樹脂として使用し、且つ、当該離型層組成物が所定量のフェニル基を含むように調整することにより、軽剥離性を実現できるばかりではなく、粘着層表面の凹凸を抑制することができ平滑にすることができることが分かった。この際、粘着層表面の凹凸を抑制できるのは、離型層表面が適度な濡れ性を有し、また、粘着層側への低分子量のシリコーン樹脂、すなわち非相溶成分の溶出乃至移行を抑制することができた結果であると考えることができる。
<Discussion>
Based on the above examples and the test results conducted by the inventor so far, a release layer composition is obtained from a curable silicone having a medium number average molecular weight (Mn) having a number average molecular weight (Mn) of 20,000 or more and 350,000 or less. By using it as the main component resin of the above and adjusting the release layer composition so as to contain a predetermined amount of phenyl groups, not only light peelability can be realized but also unevenness on the surface of the adhesive layer can be suppressed. It turned out that it can be smoothed. At this time, it is possible to suppress the unevenness of the surface of the adhesive layer because the surface of the release layer has an appropriate wettability and the low molecular weight silicone resin, that is, the incompatible component is eluted or transferred to the adhesive layer side. It can be considered that this is the result of being able to suppress it.
特に、数平均分子量(Mn)が20000以上350000以下である中程度の数平均分子量(Mn)を有する硬化型シリコーンを主成分樹脂として含む離型層組成物を塗布し硬化させて形成した離型層を有する離型フィルムは、当該離型層を0.1g/m2を超える塗布厚み(乾燥後の厚み:0.18μm以上)で厚塗りした場合でも、良好な軽剥離性と、高平滑な粘着層表面を得ることができることが分かった。
また、上記のように中程度の分子量を有する硬化型シリコーン樹脂を主成分樹脂とする離型層組成物は、軽剥離化を目的として、離型層の厚みを厚くするために塗布液を高濃度で調製した場合でも、塗布液の粘度が適切な領域内に保つことが可能であり、塗布外観(スジなどコートムラの無い)が良好であり、離型フィルム面内において、剥離力値のバラツキが抑えられた安定な剥離特性を有する離型フィルムを製造できることが分かった。
実施例の離型層は膜厚みを厚くしても凝着エネルギーの変化がほとんどなく、安定した被膜形成をしていることが推察できる。一方、比較例はいずれも離型層の厚みを厚くするに伴い、凝着エネルギーが低下する傾向が確認された。
In particular, a mold release formed by applying and curing a release layer composition containing a curable silicone having a medium number average molecular weight (Mn) of 20,000 or more and 350,000 or less as a main component resin. The release film having a layer has good light peelability and high smoothness even when the release layer is thickly coated with a coating thickness of more than 0.1 g / m 2 (thickness after drying: 0.18 μm or more). It was found that a good adhesive layer surface can be obtained.
Further, as described above, the release layer composition containing a curable silicone resin having a medium molecular weight as a main component resin has a high coating liquid in order to increase the thickness of the release layer for the purpose of light peeling. Even when prepared at a concentration, the viscosity of the coating liquid can be kept within an appropriate region, the coating appearance (without coating unevenness such as streaks) is good, and the peeling force value varies within the release film surface. It was found that a mold release film having a stable peeling property with reduced viscosity can be produced.
It can be inferred that the release layer of the example has almost no change in adhesion energy even if the film thickness is increased, and a stable film formation is formed. On the other hand, in all of the comparative examples, it was confirmed that the adhesion energy tends to decrease as the thickness of the release layer increases.
さらに、上記実施例及び発明者がこれまで行ってきた試験結果より、離型層上に粘着層を形成した際、離型層中にフェニル基が存在すると、粘着層表面の凹凸を抑制したまま、より軽剥離にすることができることが分かった。
現時点では詳細なメカニズムは不明だが、一般的な高分子量を有する硬化型シリコーン樹脂を主成分樹脂とする離型層組成物(離型層組成物a3、a4など)に対して、中分子量化により増加する反応基(アルケニル基、Si-H基)の未反応分が、フェニル基によって粘着剤から隠される(フェニル基とアルケニル基、Si-H基の相互作用)ためと推測される。
また、上記実施例及び発明者がこれまで行ってきた試験結果より、離型層において、全シロキサン成分量に対して0.01~5.0mol%のフェニル基を含むのが好ましいことが分かってきた。
Furthermore, based on the above examples and the test results conducted by the inventor so far, when the adhesive layer is formed on the release layer, if a phenyl group is present in the release layer, the unevenness of the surface of the adhesive layer is suppressed. , It turned out that the peeling can be made lighter.
Although the detailed mechanism is unknown at this time, the release layer composition (release layer composition a3, a4, etc.) containing a curable silicone resin having a general high molecular weight as a main component resin is made into a medium molecular weight. It is presumed that the unreacted component of the increasing reactive group (alkenyl group, Si—H group) is hidden from the pressure-sensitive adhesive by the phenyl group (interaction between the phenyl group and the alkenyl group, Si—H group).
Further, from the above-mentioned Examples and the test results conducted by the inventor so far, it has been found that it is preferable that the release layer contains 0.01 to 5.0 mol% of phenyl groups with respect to the total amount of siloxane components. rice field.
Claims (12)
前記離型層の凝着エネルギーが35mJ/m2以上39mJ/m2以下であり、当該離型層に、アクリル系粘着テープを貼り合わせ、50mm×300mmのサイズにカットし、その状態で、熱風式オーブンにて100℃(設定温度)で1時間加熱保持した後、23℃、50%RHで1時間静置した後の、引張速度300mm/分の条件下での180°剥離力が15mN/cm以下である、離型フィルム。 It is a release film having a structure in which a release layer is provided on one side of the base film.
The adhesion energy of the release layer is 35 mJ / m 2 or more and 39 mJ / m 2 or less, an acrylic adhesive tape is attached to the release layer, cut into a size of 50 mm × 300 mm, and hot air is provided in that state. After heating and holding at 100 ° C. (set temperature) for 1 hour in a formula oven and then allowing it to stand at 23 ° C. and 50% RH for 1 hour, the 180 ° release force under the condition of a tensile speed of 300 mm / min is 15 mN /. Release film that is cm or less.
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