KR102706835B1 - Heteromorphic film - Google Patents

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요스케 오세키
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Abstract

기재 필름의 일방의 면에 수지층 (A)를 구비하고, 타방의 면에 수지층 (B)를 구비한 이형 필름이며, 상기 수지층 (A)는, 실리콘 수지계 이형제를 포함하고, 두께가 0.2∼2.0㎛이며, 상기 수지층 (B)는, 비실리콘 수지계 이형제를 포함하는, 이형 필름이다.
각종의 점착제에 대하여 초경박리성을 실현하면서도, 블로킹에 의해 이형층의 박리 특성이 변화되기 어려운 이형 필름, 및 필름 적층체를 제공할 수 있다.
A release film having a resin layer (A) on one side of a base film and a resin layer (B) on the other side, wherein the resin layer (A) contains a silicone resin release agent and has a thickness of 0.2 to 2.0 µm, and the resin layer (B) contains a non-silicon resin release agent.
It is possible to provide a release film and a film laminate which realize ultra-light peeling properties for various adhesives and in which the peeling characteristics of the release layer are not easily changed by blocking.

Description

이형 필름Heteromorphic film

본 발명은, 이형 필름, 점착 시트 및 점착 시트의 사용 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a release film, an adhesive sheet, and a method of using the adhesive sheet.

종래, 폴리에스테르 필름을 기재(基材)로 하는 이형 필름은, 기계적 강도, 치수 안정성, 내약품성, 광학 특성 등이 우수한 특성을 가지고, 코스트 퍼포먼스가 우수하기 때문에, 각종 용도에 사용되고 있다. 예를 들면, 액정 디스플레이(이하, LCD라고 약기한다.)용 편광판, 위상차판 제조용, 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP라고 약기한다.) 구성 부재 제조용, 유기 일렉트로루미네선스(이하, 유기 EL이라고 약기한다.) 구성 부재 제조용 등, 각종 디스플레이 구성 부재 제조용 등, 각종 광학 용도 등에 사용되고 있다.Conventionally, release films using polyester films as a substrate have excellent properties such as mechanical strength, dimensional stability, chemical resistance, and optical properties, and have excellent cost performance, and are therefore used in various applications. For example, they are used for the production of polarizing plates and phase difference plates for liquid crystal displays (hereinafter abbreviated as LCD), for the production of plasma display panel (hereinafter abbreviated as PDP) component parts, for the production of organic electroluminescence (hereinafter abbreviated as organic EL) component parts, for the production of various display component parts, and for various optical applications.

근래, 점착제층을 사용하는 용도에 있어서는, 특히 종래 이상으로 내구성을 필요로 하는 경우가 있다. 예를 들면, 자동차 내부에 탑재되는 터치 패널의 구성 부재 접착용으로서 점착층을 이용하는 경우, 당해 용도에 있어서는, 옥외에서의 사용이기 때문에, 여름철의 고온 분위기 하, 또는 겨울철의 저온 환경 하에 노출되어도, 부재간끼리가 강고하게 접착하고 있는 것을 필요로 한다. 그 때문에, 점착층 자체의 내구성 향상에 따라, 종래보다 점착층 자체의 점착력이 더 강해지는 경향이 있었다. 따라서, 종래, 범용적으로 사용하고 있던 경박리 타입의 이형 필름은, 점착층으로부터 박리할 때에 박리 곤란하게 되는 일이 있어, 가일층의 경박리화가 요구되고 있다.Recently, in applications using adhesive layers, there are cases where durability is required more than before. For example, when using an adhesive layer for bonding components of a touch panel installed inside an automobile, since the application is outdoors, it is necessary for the components to be firmly bonded to each other even when exposed to a high temperature environment in summer or a low temperature environment in winter. Therefore, as the durability of the adhesive layer itself has improved, the adhesive force of the adhesive layer itself has tended to become stronger than before. Therefore, in the past, a release film of a light peeling type that was generally used sometimes became difficult to peel when peeled from the adhesive layer, and further light peeling has been demanded.

또한, 근래의 점착제의 트렌드로서, 단차 흡수성이 더 양호해지는 점에서, 저탄성률의 점착층이 기호되는 경향이 있다. 저탄성률의 점착층에 대응하는 경우, 이형 필름 박리 시에 점착층 표면이 변형되기 쉬워, 실 끌림 현상이 발생하는 경우가 있다. 그 때문에, 이형 필름에는 가일층의 경박리화, 이른바, 초경박리화가 필요하게 된다.In addition, as a recent trend in adhesives, low-elasticity adhesive layers tend to be preferred because step absorption is getting better. In the case of low-elasticity adhesive layers, the adhesive layer surface is easily deformed when the release film is peeled, and thread-pulling phenomenon may occur. Therefore, the release film needs to be further lightly peeled, so-called ultra-lightly peeled.

이형 필름의 초경박리화 대책으로서, 이형층의 두께를 두껍게 하여, 경박리화하려고 하는 방법이 있지만, 이 방법이면, 사용하는 이형제의 종류에 따라서는, 이형층 유래의 이행 성분이 점착제층 표면에 전착(轉着)하여, 원하는 점착력을 얻는 것이 곤란해지는 경우가 있다.As a countermeasure for ultra-light peeling of a release film, there is a method of increasing the thickness of the release layer to achieve light peeling. However, with this method, depending on the type of release agent used, the transfer component derived from the release layer may be transferred to the surface of the adhesive layer, making it difficult to obtain the desired adhesive strength.

한편, 이형층으로부터의 이행성을 억제하기 위해, 이행성이 적은 이형제를 이용한 경우에는, 점착제층 표면에의 이행 성분의 전착은 저감하지만, 이형층을 두껍게 바른 경우에 이형층 표면의 슬라이딩성이 나쁘고, 롤 형상으로 필름을 권취했을 때에, 필름끼리가 블로킹하여, 필름에 의해 압력이 가해지는 롤의 하측 감김 부분에서, 이형층의 박리력이 무거워지거나, 이형층 표면의 외관이 악화하는 과제가 있다. 이 과제를 해결하기 위해, 이형층 중에 미립자를 함유시켜 이형 필름의 블로킹을 방지하는 방법이 검토되어 있다(특허문헌 1, 2).On the other hand, in the case where a release agent with low migration properties is used to suppress migration from the release layer, the deposition of the migration component on the surface of the adhesive layer is reduced, but when the release layer is applied thickly, the sliding properties of the surface of the release layer are poor, and when the film is wound in a roll shape, the films block each other, so that the peeling force of the release layer becomes heavy at the lower winding portion of the roll where pressure is applied by the film, or the appearance of the surface of the release layer deteriorates. In order to solve this problem, a method of preventing blocking of the release film by including fine particles in the release layer has been examined (Patent Documents 1 and 2).

또한, 다른 검토로서, 필름의 이형층을 마련하는 면과는 반대측의 표면에, 입자를 함유하는 수지층을 마련하는 제안이 이루어져 있다(특허문헌 3).In addition, as another review, a proposal has been made to provide a resin layer containing particles on the surface opposite to the surface on which the release layer of the film is provided (Patent Document 3).

일본공개특허 특개2004-255704호 공보Japanese Patent Publication No. 2004-255704 일본공개특허 특개2017-61081호 공보Japanese Patent Publication No. 2017-61081 일본공개특허 특개2016-165825호 공보Japanese Patent Publication No. 2016-165825

그러나, 이형층 중에 미립자를 함유시키면, 블로킹은 방지할 수 있는 반면, 미립자를 안정적으로 이형층 표면에 존재시키는 것이 어렵고, 이형층 자체도 물러져, 입자의 탈락 등에 따라, 이형층의 박리 특성이 변화, 안정된 박리력을 얻는 것이 곤란한 경우가 있다.However, while blocking can be prevented by including fine particles in the release layer, it is difficult to stably have the fine particles exist on the surface of the release layer, and the release layer itself may become loose, and the release characteristics of the release layer may change due to particle shedding, etc., making it difficult to obtain stable release force.

또한, 이형층을 마련하는 면과는 반대측의 표면에, 입자를 함유하는 수지층을 마련하는 경우, 블로킹은 방지할 수 있지만, 요철 형성의 정도에 따라서는, 필름 롤 형성 시에 이형층에, 수지층에 함유하는 입자의 요철이 전사되고, 이형층의 박리 특성이 변화하여, 안정된 박리력을 얻는 것이 곤란한 경우가 있다.In addition, when a resin layer containing particles is provided on a surface opposite to the surface on which the release layer is provided, blocking can be prevented, but depending on the degree of unevenness formation, the unevenness of the particles contained in the resin layer is transferred to the release layer when forming the film roll, and the release characteristics of the release layer change, making it difficult to obtain a stable release force in some cases.

본 발명은 상기 실상을 감안하여 이루어진 것으로서, 그 해결 과제는, 각종의 점착제에 대하여 초경박리성을 실현하면서도, 블로킹에 의해 이형층의 박리 특성이 변화되기 어려운 이형 필름, 및 필름 적층체를 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in consideration of the above-mentioned circumstances, and the problem to be solved is to provide a release film and a film laminate which realize ultra-light peeling properties for various types of adhesives, while making it difficult for the peeling characteristics of the release layer to change due to blocking.

본 발명자들은, 상기 실상을 감안하여, 예의 검토한 결과, 특정한 구성으로 이루어지는 이형 필름을 이용하는 것에 의해, 상기 과제가 해결되는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은, 이하의 [1]∼[28]을 제공하는 것이다.The inventors of the present invention, taking the above facts into consideration, have conducted careful examination and have found that the above problems can be solved by using a heteromorphic film having a specific configuration, thereby completing the present invention. That is, the present invention provides the following [1] to [28].

[1] 기재 필름의 일방의 면에 수지층 (A)를 구비하고, 타방의 면에 수지층 (B)를 구비한 이형 필름이며, 상기 수지층 (A)는, 실리콘 수지계 이형제를 포함하고, 두께가 0.2∼2.0㎛이며, 상기 수지층 (B)는, 비실리콘 수지계 이형제를 포함하는, 이형 필름.[1] A release film having a resin layer (A) on one side of a substrate film and a resin layer (B) on the other side, wherein the resin layer (A) contains a silicone resin release agent and has a thickness of 0.2 to 2.0 µm, and the resin layer (B) contains a non-silicon resin release agent.

[2] 기재 필름의 적어도 편면측에 수지층 (A)를 구비하고, 상기 수지층 (A)가, 경화형 실리콘 수지 및 경박리화제를 포함하는 수지층 조성물의 경화물이며, 상기 경박리화제가 하기 식(I)로 나타내어지는 디메틸실록산 골격(DM) 및 하기 식(II)로 나타내어지는 메틸페닐실록산 골격(MP)을 가지고, 두께가 0.2∼1.5㎛인, 이형 필름.[2] A release film having a resin layer (A) on at least one side of a base film, wherein the resin layer (A) is a cured product of a resin layer composition containing a curable silicone resin and a light-release agent, and the light-release agent has a dimethylsiloxane skeleton (DM) represented by the following formula (I) and a methylphenylsiloxane skeleton (MP) represented by the following formula (II), and has a thickness of 0.2 to 1.5 µm.

[화학식 1][Chemical formula 1]

Figure 112024020746582-pct00001
Figure 112024020746582-pct00001

[화학식 2][Chemical formula 2]

Figure 112024020746582-pct00002
Figure 112024020746582-pct00002

[3] 상기 수지층 (A)를 마련하는 면과는 반대측의 필름 표면의 최대 단면 높이(Rt)가, 2.0㎛ 이하인, 상기 [2]에 기재된 이형 필름.[3] A release film as described in [2], wherein the maximum cross-sectional height (Rt) of the film surface opposite to the surface on which the resin layer (A) is provided is 2.0 ㎛ or less.

[4] 상기 기재 필름의 상기 수지층 (A)가 마련되는 면과는 반대측의 면이, 평균 입경 1∼6㎛의 입자를 0.4∼1.0질량% 함유하는 폴리에스테르층을 구비하는, 상기 [2] 또는 [3]에 기재된 이형 필름.[4] A release film as described in [2] or [3], wherein the side opposite to the side on which the resin layer (A) of the above-mentioned base film is provided has a polyester layer containing 0.4 to 1.0 mass% of particles having an average particle size of 1 to 6 ㎛.

[5] 상기 경박리화제의 질량 평균 분자량이 1만 이상 10만 이하인, 상기 [2]∼[4] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[5] A release film as described in any one of [2] to [4] above, wherein the mass average molecular weight of the light-release agent is 10,000 or more and 100,000 or less.

[6] 상기 수지층 (A)의 나노인덴터 장치를 이용하여 측정한, 25℃에 있어서의 탄성률이 500MPa 이하인, 상기 [1]∼[5] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[6] A release film according to any one of [1] to [5], wherein the elastic modulus of the resin layer (A) at 25°C is 500 MPa or less as measured using a nanoindenter device.

[7] 상기 비실리콘 수지계 이형제가 왁스, 장쇄 알킬기 함유 화합물, 불소 화합물의 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, 상기 [1] 또는 [6]에 기재된 이형 필름.[7] A release film as described in [1] or [6], wherein the non-silicone resin release agent is at least one selected from the group consisting of wax, long-chain alkyl group-containing compound, and fluorine compound.

[8] 상기 수지층 (B)의 불휘발 성분 중에 있어서의, 이형제의 함유량이 10∼70질량%인, 상기 [1], [6] 또는 [7]에 기재된 이형 필름.[8] A release film according to [1], [6] or [7], wherein the content of the release agent among the nonvolatile components of the resin layer (B) is 10 to 70 mass%.

[9] 상기 수지층 (B)가 입자를 실질적으로 함유하지 않는, 상기 [1] 및 [6]∼[8] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[9] A release film according to any one of [1] and [6] to [8], wherein the resin layer (B) substantially does not contain particles.

[10] 하기 평가 방법으로 측정한, 수지층 (A)의 상태(常態) 박리력이 5g/25㎜ 이하인, 상기 [1]∼[9] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[10] A release film according to any one of [1] to [9] above, wherein the normal peel strength of the resin layer (A) is 5 g/25 mm or less as measured by the evaluation method below.

<평가 방법><Evaluation method>

상기 이형 필름의 수지층 (A) 면에 아크릴계 점착 테이프(Tesa제의 「No.7475」)를 첩부(貼付)한 후, 25㎜×150㎜의 사이즈로 커트하고, 실온에서 1시간 방치한다. 박리력은 인장 속도 0.3m/min의 조건 하에서 180°로 박리를 행한다.After attaching an acrylic adhesive tape ("No. 7475" manufactured by Tesa) to the resin layer (A) surface of the above-mentioned release film, cut it to a size of 25 mm x 150 mm, and leave it at room temperature for 1 hour. The peeling force is performed at 180° under the condition of a tensile speed of 0.3 m/min.

[11] 상기 수지층 (A) 또는 수지층 (B) 중 적어도 일방의 층과 상기 기재 필름의 사이에 언더코팅층을 구비하는, 상기 [1] 및 [6]∼[10] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[11] A release film as described in any one of [1] and [6] to [10], comprising an undercoating layer between at least one of the resin layer (A) or the resin layer (B) and the base film.

[12] 상기 언더코팅층이 대전 방지층인, 상기 [11]에 기재된 이형 필름.[12] A release film as described in [11], wherein the undercoating layer is an antistatic layer.

[13] 상기 언더코팅층이 하기 화합물 (A)∼(C)를 함유하는, 상기 [11] 또는 [12]에 기재된 이형 필름.[13] A release film as described in [11] or [12], wherein the undercoating layer contains the following compounds (A) to (C).

(A) 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물에, 다른 음이온 화합물에 의해 도핑된 중합체, 또는 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물 중에 음이온기를 가지고 자기 도프된 중합체(A) A polymer doped with another anionic compound in a compound comprising thiophene or a thiophene derivative, or a polymer self-doped with an anionic group in a compound comprising thiophene or a thiophene derivative.

(B) 폴리히드록시 화합물(B) Polyhydroxy compound

(C) 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 및 아크릴 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물(C) At least one compound selected from the group consisting of polyurethane resin, polyester resin, and acrylic resin.

[14] 상기 수지층 (A) 또는 수지층 (B) 중 적어도 일방의 표면의 표면 고유 저항률이 1×1012Ω/□ 이하인, 상기 [1] 및 [6]∼[13] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[14] A release film according to any one of [1] and [6] to [13], wherein the surface resistivity of at least one surface of the resin layer (A) or the resin layer (B) is 1×10 12 Ω/□ or less.

[15] 상기 기재 필름이 폴리에스테르 필름인, 상기 [1]∼[14] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[15] A release film as described in any one of [1] to [14], wherein the above-mentioned film is a polyester film.

[16] 상기 폴리에스테르 필름이 3층 구성인, 상기 [15]에 기재된 이형 필름.[16] A release film as described in [15], wherein the polyester film has a three-layer configuration.

[17] 이하의 방법으로 평가한 상기 수지층 (A)의 프레스 후 중박리화율이 100% 이하인, 상기 [1]∼[16] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[17] A release film as described in any one of [1] to [16] above, wherein the post-press peeling rate of the resin layer (A) evaluated by the following method is 100% or less.

<평가 방법><Evaluation method>

상기 수지층 (A) 면에 아크릴계 점착 테이프(Tesa제의 「No.7475」)를 첩부한 후, 25㎜×150㎜의 사이즈로 커트하고, 실온에서 1시간 방치한다. 인장 속도 0.3m/min의 조건 하에서 180°로 박리한 박리력을 (F1)이라고 한다.After attaching an acrylic adhesive tape ("No. 7475" manufactured by Tesa) to the surface of the above resin layer (A), cut it to a size of 25 mm x 150 mm, and leave it at room temperature for 1 hour. The peeling force at 180° under the condition of a tensile speed of 0.3 m/min is referred to as (F1).

다음에, 상기 수지층 (A) 면에 접촉하도록 적층하고, 온도 40℃, 습도 90%RH, 하중 1MPa로 20시간 프레스 처리를 행한다. 처리 후의 상기 수지층 (A) 면에, 아크릴계 점착 테이프(Tesa제의 「No.7475」)를 첩부한 후, 25㎜×150㎜의 사이즈로 커트하고, 실온에서 1시간 방치한다. 인장 속도 0.3m/min의 조건 하에서 180°로 박리한 박리력을 (F2)라고 한다.Next, the resin layer (A) surface is laminated so as to come into contact with each other, and a press treatment is performed at a temperature of 40°C, a humidity of 90%RH, and a load of 1 MPa for 20 hours. After the treatment, an acrylic adhesive tape ("No. 7475" manufactured by Tesa) is attached to the resin layer (A) surface, and then cut to a size of 25 mm x 150 mm, and left at room temperature for 1 hour. The peeling force at 180° peeling under the condition of a tensile speed of 0.3 m/min is referred to as (F2).

다음 식에 의해 프레스 후 중박리화율을 구한다.The post-press peeling rate is calculated by the following equation.

프레스 후 중박리화율(%)=(F2-F1)/F1×100After pressing, peeling rate (%) = (F2-F1)/F1×100

[18] 상기 수지층 (A) 면의 중심선 평균 거칠기(Ra(A))가 30㎚ 이하인, 상기 [1]∼[17] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[18] A release film according to any one of [1] to [17], wherein the center line average roughness (Ra(A)) of the surface of the resin layer (A) is 30 nm or less.

[19] 상기 수지층 (B) 면의 중심선 평균 거칠기(Ra(B))가 60㎚ 이하인, 상기 [1] 또는 [6]∼[18] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[19] A release film according to any one of [1] or [6] to [18], wherein the center line average roughness (Ra(B)) of the surface of the resin layer (B) is 60 nm or less.

[20] 상기 [1]∼[19] 중 어느 것에 기재의 이형 필름과, 점착층을 개재하여, 다른 이형 필름을 구비한, 점착 시트.[20] An adhesive sheet comprising a release film as described in any one of the above [1] to [19] and another release film with an adhesive layer interposed therebetween.

[21] 상기 점착층이 아크릴계 점착제 조성물로부터 형성되는, 상기 [20]에 기재된 점착 시트.[21] An adhesive sheet as described in [20], wherein the adhesive layer is formed from an acrylic adhesive composition.

[22] 상기 점착층의 탄성률(25℃)이 6.0MPa 이하인, 상기 [20] 또는 [21]에 기재된 점착 시트.[22] An adhesive sheet according to [20] or [21], wherein the elastic modulus (25°C) of the adhesive layer is 6.0 MPa or less.

[23] 상기 점착층이 2-에틸헥실아크릴레이트 및/또는 부틸아크릴레이트를 포함하는, 상기 [20]∼[22] 중 어느 것에 기재된 점착 시트.[23] An adhesive sheet according to any one of [20] to [22], wherein the adhesive layer comprises 2-ethylhexylacrylate and/or butylacrylate.

[24] 광학용 투명 점착 시트용인, 상기 [20]∼[23] 중 어느 것에 기재된 점착 시트.[24] An adhesive sheet for optical transparent adhesive sheets, as described in any one of [20] to [23] above.

[25] 디스플레이용인, 상기 [1]∼[19] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[25] A heteromorphic film for display purposes, described in any one of [1] to [19] above.

[26] 폴더블 디스플레이용인, 상기 [1]∼[19] 중 어느 것에 기재된 이형 필름.[26] A heteromorphic film as described in any one of [1] to [19] for a foldable display.

[27] 상기 [20]∼[23] 중 어느 것에 기재된 점착 시트에 있어서, 상기 다른 이형 필름을 벗긴 후, 노출되는 점착층 표면을 광학 부재에 첩합(貼合)하는, 점착 시트의 사용 방법.[27] A method of using an adhesive sheet, wherein, in the adhesive sheet described in any one of [20] to [23] above, after peeling off the other release film, the exposed adhesive layer surface is bonded to an optical member.

[28] 상기 광학 부재가 편광판 또는 터치 센서인, 상기 [27]에 기재된 점착 시트의 사용 방법.[28] A method of using the adhesive sheet described in [27], wherein the optical member is a polarizing plate or a touch sensor.

본 발명의 이형 필름에 의하면, 각종의 점착제에 대하여 초경박리성을 실현하면서도, 블로킹에 의해 이형층의 박리 특성이 변화되기 어려운 이형 필름, 및 필름 적층체를 제공할 수 있다.According to the release film of the present invention, it is possible to provide a release film and a film laminate which realize ultra-light peeling properties for various types of adhesives, while making it difficult for the peeling characteristics of the release layer to change due to blocking.

이하, 본 발명의 실시형태의 일례에 관하여 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 다음에 설명하는 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에 있어서, 임의로 변형하여 실시할 수 있다.Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the embodiment described below, and can be implemented by arbitrarily modifying it without departing from the gist of the present invention.

<<<이형 필름>>><<<Lee Hyung Film>>>

본 발명의 실시형태의 일례에 관련된 이형 필름(이하, 「본 이형 필름」이라고 하는 경우가 있다.)은, 기재 필름의 일방의 면에 수지층 (A)를 구비하고, 타방의 면에 수지층 (B)를 구비한 이형 필름이다. 이형 필름은, 권취된 롤 형상의 이형 필름(이형 필름 롤)으로 되어, 이형 필름 롤의 형태로 보관 등 되는 것이 좋다. 그 경우, 이형층 (A)는 롤의 내측 및 외측의 어느 측에 배치해도 된다.A release film related to an example of an embodiment of the present invention (hereinafter, sometimes referred to as “the present release film”) is a release film having a resin layer (A) on one surface of a base film and a resin layer (B) on the other surface. The release film is preferably formed as a release film in a wound roll shape (release film roll), and is stored, etc., in the form of a release film roll. In that case, the release layer (A) may be arranged on either the inner or outer side of the roll.

본 이형 필름에 있어서, 일방의 면의 수지층 (A)는, 실리콘 수지계 이형제를 포함하는 것이 특징이다. 수지층 (A)의 두께는 0.2∼2.0㎛이고, 나노인덴터 장치를 이용하여 측정한, 수지층 (A)의 25℃에 있어서의 탄성률은 500MPa 이하인 것이 바람직하다. 또한, 다른 일방의 필름 표면의 수지층 (B)는, 비실리콘 수지계 이형제를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the present release film, the resin layer (A) on one surface is characterized by containing a silicone resin-based release agent. The thickness of the resin layer (A) is 0.2 to 2.0 µm, and the elastic modulus of the resin layer (A) at 25° C., as measured using a nanoindenter device, is preferably 500 MPa or less. In addition, the resin layer (B) on the other film surface is characterized by containing a non-silicone resin-based release agent.

이상의 구성을 가지는 이형 필름은, 롤 형상으로 되면, 수지층 (A)의 면이, 수지층 (B)의 면과 포개지지만, 그 때, 수지층 (B)에 의해 수지층 (A) 표면에의 밀착에 의한 데미지를 경감하여, 블로킹을 억제하여, 보다 필름에 압력이 가해지는 롤의 하측 감김 부분에서의 수지층 (A)의 중박리화 및 표면의 외관의 악화를 막을 수 있다. 또한, 수지층 (A)는, 초경박리성을 실현하면서도, 입자를 실질적으로 함유하지 않음으로써 기재 필름에 대한 밀착성도 양호하고, 나아가서는 입자 탈락도 없기 때문에 점착 테이프 등으로의 이행성을 저감할 수도 있다.The above-described heteromorphic film, when formed into a roll shape, covers the surface of the resin layer (A) with the surface of the resin layer (B), but at that time, damage caused by adhesion to the surface of the resin layer (A) by the resin layer (B) is reduced, blocking is suppressed, and peeling of the resin layer (A) and deterioration of the surface appearance at the lower winding portion of the roll where more pressure is applied to the film can be prevented. In addition, the resin layer (A) realizes ultra-light peelability, and since it substantially does not contain particles, the adhesion to the base film is also good, and furthermore, since there is no particle shedding, the transferability to an adhesive tape or the like can be reduced.

<<기재 필름>><<Reference Film>>

본 이형 필름에 있어서의 기재 필름은, 필름 형상을 나타내는 것이면, 그 재료를 특별히 한정하는 것은 아니다. 예를 들면, 종이제, 수지제, 금속제 등이어도 된다. 이들 중에서도, 기계적 강도 및 유연성의 관점에서, 수지제인 것이 바람직하다.The base film in this heteromorphic film is not particularly limited in its material as long as it has a film shape. For example, it may be made of paper, resin, metal, etc. Among these, from the viewpoint of mechanical strength and flexibility, it is preferable to be made of resin.

수지제의 기재 필름으로서는, 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리아미드, 폴리이미드 등의 고분자를 막 형상으로 형성한 필름을 들 수 있다. 또한, 필름화가 가능하면, 이들 재료를 혼합한 것(폴리머 블렌드)이나 구성 단위를 복합화한 것(공중합체)이어도 상관없다.As a resin-based base film, examples thereof include films formed in the form of membranes using polymers such as polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyamide, and polyimide. In addition, as long as film formation is possible, a mixture of these materials (polymer blend) or a composite of their constituent units (copolymer) may be used.

상기 예시한 필름 중에서도, 내열성, 평면성, 광학 특성, 강도 등의 물성이 우수한 점에서, 폴리에스테르 필름인 것이 특히 바람직하다.Among the films exemplified above, polyester film is particularly preferable in that it has excellent physical properties such as heat resistance, flatness, optical properties, and strength.

<폴리에스테르 필름><Polyester film>

본 발명의 적층 필름을 구성하는 폴리에스테르 필름은 단층 구성이어도 다층 구성이어도 되고, 2층, 3층 구성 이외에도 본 발명의 요지를 넘어서지 않는 한, 4층 또는 그 이상의 다층이어도 되며, 특별히 한정되는 것은 아니다. 본 발명에 있어서는, 적어도 3층 구성으로 이루어지는 폴리에스테르 필름인 것이 바람직하다. 또한, 폴리에스테르 필름으로서는 2축 연신 폴리에스테르 필름이, 박막화나 치수 안정성의 점 등에서 바람직하다.The polyester film constituting the laminated film of the present invention may have a single-layer configuration or a multilayer configuration, and in addition to a two-layer or three-layer configuration, it may also have a four-layer or more multilayer configuration as long as it does not exceed the gist of the present invention, and there are no particular limitations. In the present invention, it is preferable that it is a polyester film having at least a three-layer configuration. Furthermore, as the polyester film, a biaxially oriented polyester film is preferable in terms of thin film formation and dimensional stability.

본 발명에 있어서 사용하는 폴리에스테르는, 호모 폴리에스테르여도 공중합 폴리에스테르여도 된다. 호모 폴리에스테르로 이루어지는 경우, 방향족 디카르본산과 지방족 글리콜을 중축합시켜 얻어지는 것이 바람직하다. 방향족 디카르본산으로서는, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌디카르본산 등을 들 수 있고, 지방족 글리콜로서는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올 등을 들 수 있다. 대표적인 폴리에스테르로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등이 예시된다. 한편, 공중합 폴리에스테르의 디카르본산 성분으로서는, 이소프탈산, 프탈산, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌디카르본산, 아디프산, 세바스산, 옥시카르본산(예를 들면, p-옥시벤조산 등) 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있고, 글리콜 성분으로서는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 4-시클로헥산디메탄올, 네오펜틸글리콜 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다.The polyester used in the present invention may be either a homopolyester or a copolymerized polyester. When composed of a homopolyester, it is preferable that it is obtained by polycondensation of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and the like. Representative examples of the polyester include polyethylene terephthalate. Meanwhile, as a dicarboxylic acid component of the copolyester, one or more types, such as isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, and oxycarboxylic acid (for example, p-oxybenzoic acid, etc.), can be mentioned, and as a glycol component, one or more types, such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 4-cyclohexanedimethanol, and neopentyl glycol can be mentioned.

공중합 폴리에스테르로 이루어지는 경우, 디카르본산 성분과, 글리콜 성분을 중축합시켜 얻어지는 것을 들 수 있다. 디카르본산 성분으로서는, 이소프탈산, 프탈산, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌디카르본산, 아디프산, 세바스산, 옥시카르본산(예를 들면, p-옥시벤조산 등) 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있고, 글리콜 성분으로서는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 4-시클로헥산디메탄올, 네오펜틸글리콜 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다. 공중합 폴리에스테르는, 디카르본산 성분과 글리콜 성분의 합계에 대하여, 30몰% 이하의 제 3 성분을 함유한 공중합체인 것이 바람직하다.When composed of a copolyester, examples thereof include those obtained by condensation of a dicarboxylic acid component and a glycol component. Examples of the dicarboxylic acid component include one or more types of isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, and oxycarboxylic acid (for example, p-oxybenzoic acid, etc.), and examples of the glycol component include one or more types of ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 4-cyclohexanedimethanol, and neopentyl glycol. It is preferable that the copolyester be a copolymer containing a third component of 30 mol% or less with respect to the total of the dicarboxylic acid component and the glycol component.

또한, 주성분 수지란, 본 폴리에스테르 필름을 구성하는 수지 중에서 가장 질량 비율이 큰 수지의 의미이며, 본 폴리에스테르 필름을 구성하는 수지의 50질량% 이상, 또는 75질량% 이상, 또는 90질량% 이상, 또는 100질량%를 차지하는 경우이다.In addition, the main component resin means a resin having the largest mass ratio among the resins constituting the polyester film, and is a case where it accounts for 50 mass% or more, or 75 mass% or more, or 90 mass% or more, or 100 mass% of the resin constituting the polyester film.

상기 폴리에스테르 필름의 중합 촉매로서는, 특별히 제한은 없고, 종래 공지의 화합물을 사용할 수 있으며, 예를 들면, 안티몬 화합물, 티탄 화합물, 게르마늄 화합물, 망간 화합물, 알루미늄 화합물, 마그네슘 화합물, 칼슘 화합물 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 촉매 활성이 높아, 소량으로 중합을 행하는 것이 가능하고, 필름 중에 잔류하는 금속량이 적어 필름의 휘도가 높아지는 점에서, 티탄 화합물이나 게르마늄 화합물이 바람직하다. 또한, 게르마늄 화합물은 고가인 점에서, 티탄 화합물이 더 바람직하다.There is no particular limitation as the polymerization catalyst of the above polyester film, and a conventionally known compound can be used, and examples thereof include antimony compounds, titanium compounds, germanium compounds, manganese compounds, aluminum compounds, magnesium compounds, calcium compounds, etc. Among these, titanium compounds or germanium compounds are preferable because they have high catalytic activity, enable polymerization in a small amount, and reduce the amount of metal remaining in the film, thereby increasing the brightness of the film. In addition, since germanium compounds are expensive, titanium compounds are more preferable.

티탄 화합물을 이용한 폴리에스테르의 경우, 티탄 원소 함유량은, 바람직하게는 50ppm 이하, 보다 바람직하게는 1∼20ppm, 더 바람직하게는 2∼10ppm의 범위이다. 티탄 화합물의 함유량이 지나치게 많은 경우는, 폴리에스테르를 용융 압출하는 공정에서 폴리에스테르의 열화가 촉진되어 황색이 강한 필름이 되는 경우가 있다. 또한, 함유량이 지나치게 적은 경우는, 중합 효율이 나빠 비용 상승이나 충분한 강도를 갖는 필름이 얻어지지 않는 경우가 있다.In the case of polyester using a titanium compound, the titanium element content is preferably 50 ppm or less, more preferably 1 to 20 ppm, and even more preferably 2 to 10 ppm. If the content of the titanium compound is too high, deterioration of the polyester may be accelerated in the process of melt extruding the polyester, resulting in a film with a strong yellow color. In addition, if the content is too low, the polymerization efficiency may be poor, resulting in an increase in cost or inability to obtain a film with sufficient strength.

또한, 티탄 화합물에 의한 폴리에스테르를 이용하는 경우, 용융 압출하는 공정에서의 열화 억제의 목적으로, 티탄 화합물의 활성을 낮추기 위해 인 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 인 화합물로서는, 폴리에스테르의 생산성이나 열 안정성을 고려하면 정인산(正燐酸)이 바람직하다. 인 원소 함유량은, 용융 압출하는 폴리에스테르량에 대하여, 바람직하게는 1∼300질량ppm, 보다 바람직하게는 3∼200질량ppm, 더 바람직하게는 5∼100질량ppm의 범위이다. 인 화합물의 함유량이 상기 상한값 이하이면, 겔화나 이물의 원인이 되는 일이 없고, 또한, 상기 하한값 이상이면, 티탄 화합물의 활성을 충분히 낮출 수 있고, 착색을 억제할 수 있어, 황색을 띠는 필름이 되는 일이 없다.In addition, when using polyester by titanium compound, it is preferable to use a phosphorus compound to lower the activity of the titanium compound for the purpose of suppressing deterioration in the melt extrusion process. As the phosphorus compound, considering the productivity and thermal stability of polyester, orthophosphoric acid is preferable. The phosphorus element content is preferably in the range of 1 to 300 mass ppm, more preferably 3 to 200 mass ppm, and even more preferably 5 to 100 mass ppm, based on the amount of polyester to be melt extruded. When the content of the phosphorus compound is equal to or less than the above upper limit, gelation or foreign matter will not occur, and when it is equal to or more than the above lower limit, the activity of the titanium compound can be sufficiently lowered and coloring can be suppressed, so that the film will not become yellow.

올리고머 성분의 석출량을 억제하기 위해, 올리고머 성분의 함유량이 적은 폴리에스테르를 원료로 하여 필름을 제조해도 된다. 올리고머 성분의 함유량이 적은 폴리에스테르의 제조 방법으로서는, 여러 가지 공지의 방법을 이용할 수 있고, 예를 들면 폴리에스테르 제조 후에 고상(固相) 중합하는 방법 등을 들 수 있다.In order to suppress the precipitation amount of the oligomer component, a film may be manufactured using a polyester having a low content of the oligomer component as a raw material. Various known methods can be used as a method for manufacturing a polyester having a low content of the oligomer component, and examples thereof include a method of solid-phase polymerization after manufacturing the polyester.

또한, 폴리에스테르 필름을 3층 이상의 구성으로 하고, 폴리에스테르 필름의 최외층을, 올리고머 성분의 함유량이 적은 폴리에스테르 원료를 이용한 층으로 함으로써, 올리고머 성분의 석출량을 억제해도 된다. 또한, 폴리에스에르는, 에스테르화 또는 에스테르 교환 반응을 한 후에, 더 반응 온도를 높게 하여 감압 하에서 용해 중축합하여 얻어도 된다.In addition, by forming a polyester film with a composition of three or more layers and forming the outermost layer of the polyester film with a layer using a polyester raw material having a low content of oligomer components, the amount of precipitation of oligomer components can be suppressed. In addition, polyester can be obtained by subjecting the polyester film to esterification or ester exchange reaction, and then dissolving and condensing the polyester film under reduced pressure at a higher reaction temperature.

폴리에스테르 필름 중에는 필름의 내후성의 향상, 피착체(예를 들면 액정) 등의 열화 방지를 위해, 자외선 흡수제를 함유시키는 것도 가능하다. 자외선 흡수제는, 자외선을 흡수하는 화합물로서, 폴리에스테르 필름의 제조 공정에서 부가되는 열을 견딜 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다.Among polyester films, it is also possible to include an ultraviolet absorber to improve the weather resistance of the film and prevent deterioration of the adherend (e.g., liquid crystal). The ultraviolet absorber is a compound that absorbs ultraviolet rays, and is not particularly limited as long as it can withstand the heat added during the manufacturing process of the polyester film.

자외선 흡수제로서는, 유기계 자외선 흡수제와 무기계 자외선 흡수제가 있지만, 투명성의 관점에서 유기계 자외선 흡수제가 바람직하다. 유기계 자외선 흡수제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 환상(環狀) 이미노에스테르계, 벤조트리아졸계, 벤조페논계 등을 들 수 있다. 내구성의 관점에서는 환상 이미노에스테르계, 벤조트리아졸계가 보다 바람직하다. 또한, 자외선 흡수제를 2종류 이상 병용하여 이용하는 것도 가능하다.As ultraviolet absorbers, there are organic ultraviolet absorbers and inorganic ultraviolet absorbers, but from the viewpoint of transparency, organic ultraviolet absorbers are preferable. As organic ultraviolet absorbers, there are no particular limitations, but examples thereof include cyclic iminoesters, benzotriazoles, and benzophenones. From the viewpoint of durability, cyclic iminoesters and benzotriazoles are more preferable. In addition, it is also possible to use two or more types of ultraviolet absorbers in combination.

폴리에스테르 필름의 폴리에스테르층 중에는, 이활성(易滑性)의 부여 및 각 공정에서의 상처 발생 방지를 주된 목적으로 하여, 입자를 배합하는 것도 가능하다. 입자를 배합하는 경우, 배합하는 입자의 종류는, 이활성 부여 가능한 입자이면 특별히 한정되는 것은 아니고, 구체예로서는, 예를 들면, 실리카, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 인산칼슘, 인산마그네슘, 카올린, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 산화티탄 등의 무기 입자, 아크릴 수지, 스티렌 수지, 요소 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 벤조구아나민 수지 등의 유기 입자 등을 들 수 있다. 또한, 폴리에스테르 제조 공정 중, 촉매 등의 금속 화합물의 일부를 침전, 미분산시킨 석출 입자를 이용할 수도 있다. 이들 중에서도 특히 소량으로 효과가 나오기 쉽다는 점에서 실리카 입자나 탄산칼슘 입자가 바람직하다.Among the polyester layers of the polyester film, it is also possible to blend particles for the main purpose of imparting lubricity and preventing scratches in each process. When blending particles, the type of particles to be blended is not particularly limited as long as they are particles capable of imparting lubricity, and specific examples thereof include inorganic particles such as silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, magnesium phosphate, kaolin, aluminum oxide, zirconium oxide, and titanium oxide; and organic particles such as acrylic resin, styrene resin, urea resin, phenol resin, epoxy resin, and benzoguanamine resin. In addition, precipitated particles in which a part of a metal compound such as a catalyst is precipitated and finely dispersed can be used during the polyester manufacturing process. Among these, silica particles and calcium carbonate particles are particularly preferable because they are easy to be effective in small quantities.

또한, 입자의 평균 입경은, 바람직하게는 0.01∼5㎛의 범위, 보다 바람직하게는 0.03∼4㎛, 더 바람직하게는 0.05∼3.0㎛범위이다. 평균 입경이 상기 상한 이하이면, 필름의 헤이즈가 낮게 억제되고, 또한 필름의 슬라이딩성을 구비한 필름이 된다.In addition, the average particle diameter of the particles is preferably in the range of 0.01 to 5 ㎛, more preferably in the range of 0.03 to 4 ㎛, and even more preferably in the range of 0.05 to 3.0 ㎛. When the average particle diameter is equal to or less than the upper limit, the haze of the film is suppressed to a low level, and the film has sliding properties.

추가로 폴리에스테르 필름의 폴리에스테르층 중의 입자 함유량은, 바람직하게는 5질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.001∼3질량%의 범위이고, 더 바람직하게는 0.01∼1질량%, 특히 바람직하게는 0.05∼0.5질량%이다. 입자가 없는 경우, 또는 적은 경우는, 필름의 투명성이 높아져 양호한 필름이 되지만, 슬라이딩성이 저하하는 것을 방지하기 위해, 도포층 중에 입자를 넣는 것에 의해 슬라이딩성을 향상시키는 등의 연구가 필요한 경우가 있다. 또한, 입자 함유량이 상기 상한값 이하이면, 헤이즈가 높아지는 일이 없어, 충분한 필름의 투명성을 확보할 수 있다.In addition, the particle content in the polyester layer of the polyester film is preferably 5 mass% or less, more preferably 0.001 to 3 mass%, still more preferably 0.01 to 1 mass%, and particularly preferably 0.05 to 0.5 mass%. When there are no particles or when there are few particles, the transparency of the film increases and it becomes a good film, but in order to prevent the sliding property from deteriorating, there are cases where it is necessary to study how to improve the sliding property, such as by adding particles to the coating layer. In addition, when the particle content is equal to or less than the upper limit, the haze does not increase, and sufficient transparency of the film can be secured.

사용하는 입자의 형상에 관해서도 특별히 한정되는 것은 아니고, 구상, 괴상(塊狀), 막대 형상, 편평 형상 등의 어느 것을 이용할 수도 있으며, 그 경도, 비중, 색 등에 관해서도 특별히 제한은 없다. 이러한 일련의 입자는, 필요에 따라 2종류 이상을 병용해도 된다.There is no particular limitation on the shape of the particles to be used, and any shape such as spherical, blocky, rod-shaped, or flat may be used, and there are no particular limitations on their hardness, specific gravity, color, etc. These series of particles may be used in combination of two or more types as needed.

폴리에스테르층 중에 입자를 첨가하는 방법으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 종래 공지의 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 각 층을 구성하는 폴리에스테르를 제조하는 임의의 단계에 있어서 첨가할 수 있지만, 바람직하게는 에스테르화 또는 에스테르 교환 반응 종료 후, 첨가하는 것이 좋다.There is no particular limitation on the method for adding particles to the polyester layer, and a conventionally known method can be adopted. For example, addition can be made at any stage of manufacturing the polyester constituting each layer, but it is preferable to add the particles after the esterification or ester exchange reaction is completed.

폴리에스테르 필름은, 2층 이상의 다층 구성으로 해도 되지만, 3층 구성의 폴리에스테르 필름이 바람직하다. 3층 구성으로 하면, 후술하는 대로, 양 표면에 있어서의 폴리에스테르층(표층)에 입자를 함유시키고, 중간층에 있어서 입자를 함유시키지 않아도 된다. 따라서, 슬라이딩성이나 내블로킹성 등을 높이면서도, 폴리에스테르 필름의 투명성을 높일 수도 있다. 또한, 각 층을 구성하는 폴리에스테르는, 상기에서 설명한 대로이다.The polyester film may have a multilayer structure of two or more layers, but a polyester film having a three-layer structure is preferable. If it has a three-layer structure, as described later, the polyester layers (surface layers) on both surfaces contain particles, and the middle layer does not need to contain particles. Therefore, while improving the sliding properties and blocking resistance, it is also possible to improve the transparency of the polyester film. In addition, the polyester constituting each layer is as described above.

또한, 폴리에스테르 필름이 2층 이상의 다층 구성인 경우, 이형층이 마련되는 면과는 반대측의 면(반이형면)에 있어서의 폴리에스테르층(전형적으로는, 이형층을 마련하지 않는 측의 폴리에스테르층) 중에 이용하는 입자의 평균 입경은, 1∼6㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2∼5㎛, 그 중에서도 특히 바람직하게는 3∼5㎛의 범위이다. 또한, 당해 폴리에스테르층에 있어서의 입자의 함유량은, 예를 들면, 0.03∼1.0질량%, 바람직하게는 0.3∼1.0질량%, 보다 바람직하게는 0.4∼1.0질량%, 그 중에서도 특히 0.4∼0.8질량%이 바람직하다. 상기 평균 입경 및 첨가량을 동시에 만족하는 것에 의해, 반이형면은, 최대 단면 높이(Rt)가 커지고, 적당한 요철 형상을 가져, 이형 필름은, 내블로킹 방지성과 이형성의 양립이 가능해진다.In addition, when the polyester film has a multilayer configuration of two or more layers, the average particle size of the particles used in the polyester layer (typically, the polyester layer on the side where the release layer is not provided) on the side opposite to the side on which the release layer is provided (semi-release side) is preferably 1 to 6 µm, more preferably 2 to 5 µm, and particularly preferably 3 to 5 µm. In addition, the content of the particles in the polyester layer is, for example, 0.03 to 1.0 mass%, preferably 0.3 to 1.0 mass%, more preferably 0.4 to 1.0 mass%, and particularly preferably 0.4 to 0.8 mass%. By simultaneously satisfying the above average particle size and the amount added, the semi-release side has a large maximum cross-sectional height (Rt) and an appropriate uneven shape, so that the release film can achieve both anti-blocking properties and release properties.

또한, 폴리에스테르 필름이 단층으로 구성되는 경우에서도, 그 단층의 폴리에스테르층은, 내블로킹 방지성과 이형성의 관점에서, 입자를 함유하면 좋고, 그 입자의 평균 입경과 입자 첨가량의 범위를 상기와 같이 하면 된다.In addition, even in the case where the polyester film is composed of a single layer, the single polyester layer preferably contains particles from the viewpoint of anti-blocking properties and releasability, and the range of the average particle diameter and the amount of particles added may be as described above.

2층 또는 그 이상의 폴리에스테르 필름에 있어서는, 이형층이 마련되는 면의 폴리에스테르층(표층)은, 입자를 함유해도 되고, 입자를 함유하지 않아도 되지만, 슬라이딩성 등의 관점에서, 입자를 함유하는 것이 바람직하다. 이형층이 마련되는 면의 폴리에스테르층(표층)에 있어서 입자 함유량(질량%)은, 이형층이 마련되는 면과는 반대측의 면(반이형면)의 폴리에스테르층에 있어서의 입자 함유량(질량%)보다 적은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 이형층이 마련되는 면의 폴리에스테르층에 있어서의 입자 함유량(질량%)은, 바람직하게는 0.001∼0.8질량%의 범위이고, 보다 바람직하게는 0.01∼0.5질량%, 더 바람직하게는 0.02∼0.2질량%이다.In a polyester film having two or more layers, the polyester layer (surface layer) on the side on which the release layer is provided may or may not contain particles, but from the viewpoint of sliding properties, etc., it is preferable to contain particles. The particle content (mass%) in the polyester layer (surface layer) on the side on which the release layer is provided is preferably less than the particle content (mass%) in the polyester layer on the side opposite to the side on which the release layer is provided (semi-release side). Specifically, the particle content (mass%) in the polyester layer on the side on which the release layer is provided is preferably in the range of 0.001 to 0.8 mass%, more preferably 0.01 to 0.5 mass%, and even more preferably 0.02 to 0.2 mass%.

또한, 본 발명에 있어서의 폴리에스테르 필름 중에는, 상술한 입자 이외에 필요에 따라 종래 공지의 자외선 흡수제, 산화 방지제, 대전 방지제, 열 안정제, 윤활제, 염료, 안료 등을 첨가할 수 있다.In addition, in the polyester film of the present invention, in addition to the particles described above, conventionally known ultraviolet absorbers, antioxidants, antistatic agents, heat stabilizers, lubricants, dyes, pigments, etc. may be added as needed.

본 발명에 있어서의 폴리에스테르 필름의 두께는, 필름으로서 제막(製膜) 가능한 범위이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는 10∼300㎛, 보다 바람직하게는 15∼200㎛, 더 바람직하게는 25∼125㎛, 가장 바람직하게는 38∼75㎛이다.The thickness of the polyester film in the present invention is not particularly limited as long as it is within a range that can be formed into a film, but is preferably 10 to 300 µm, more preferably 15 to 200 µm, still more preferably 25 to 125 µm, and most preferably 38 to 75 µm.

<폴리에스테르 필름의 제조 방법><Method for manufacturing polyester film>

다음에 폴리에스테르 필름의 제조예에 관하여 구체적으로 설명하지만, 이하의 제조예에 전혀 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 2축 연신 폴리에스테르 필름을 제조하는 경우, 먼저 앞서 서술한 폴리에스테르 원료를, 압출기를 이용하여 다이로부터 용융 압출하고, 용융 시트를 냉각 롤로 냉각 고화하여 미연신 시트를 얻는다. 이 경우, 시트의 평면성을 향상시키기 위해 시트와 회전 냉각 드럼의 밀착성을 높이는 것이 바람직하고, 정전 인가 밀착법이나 액체 도포 밀착법이 바람직하게 채용된다. 다음에 얻어진 미연신 시트를 일방향으로 롤 또는 텐터 방식의 연신기에 의해 연신한다. 연신 온도는, 통상 70∼120℃, 바람직하게는 80∼110℃이고, 연신 배율은 통상 2.5∼7배, 바람직하게는 3.0∼6배이다. 이어서, 1단째의 연신 방향과 직교하는 방향으로, 통상 70∼170℃에서, 연신 배율은 통상 2.5∼7배, 바람직하게는 3.0∼6배로 연신한다. 계속해서 180∼270℃의 온도에서 긴장 하 또는 30% 이내의 이완 하에서 열처리를 행하여, 이축 배향 필름을 얻는 방법을 들 수 있다. 상기의 연신에 있어서는, 1방향의 연신을 2단계 이상으로 행하는 방법을 채용할 수도 있다. 그 경우, 최종적으로 2방향의 연신 배율이 각각 상기 범위가 되도록 행하는 것이 바람직하다.Hereinafter, a specific description will be given of examples of manufacturing polyester films, but the present invention is not limited to the following examples. For example, when manufacturing a biaxially oriented polyester film, first, the polyester raw material described above is melt-extruded from a die using an extruder, and the molten sheet is cooled and solidified by a cooling roll to obtain an unstretched sheet. In this case, in order to improve the flatness of the sheet, it is preferable to increase the adhesion between the sheet and the rotating cooling drum, and an electrostatically applied adhesion method or a liquid coating adhesion method is preferably employed. Next, the obtained unstretched sheet is stretched in one direction by a roll or tenter-type stretching machine. The stretching temperature is usually 70 to 120°C, preferably 80 to 110°C, and the stretching ratio is usually 2.5 to 7 times, preferably 3.0 to 6 times. Next, in a direction orthogonal to the first-stage stretching direction, stretching is performed at a temperature of usually 70 to 170°C, with a stretching ratio of usually 2.5 to 7 times, preferably 3.0 to 6 times. Subsequently, a heat treatment is performed at a temperature of 180 to 270°C under tension or under relaxation of 30% or less, thereby obtaining a biaxially oriented film. In the above stretching, a method of performing stretching in one direction in two or more stages may be adopted. In that case, it is preferable that the stretching ratios in the two directions are finally performed so as to fall within the above ranges, respectively.

또한, 폴리에스테르 필름의 제조에 관해서는 동시 2축 연신법을 채용할 수도 있다. 동시 2축 연신법은, 상기의 미연신 시트를 통상 70∼120℃, 바람직하게는 80∼110℃에서 온도 컨트롤된 상태로 기계 방향 및 폭 방향으로 동시에 연신하여 배향시키는 방법이며, 연신 배율로서는, 면적 배율로 통상 4∼50배, 바람직하게는 7∼35배, 보다 바람직하게는 10∼25배이다. 그리고, 계속해서, 170∼270℃의 온도에서 긴장 하 또는 30% 이내의 이완 하에서 열처리를 행하여, 연신 배향 필름을 얻는다. 상술한 연신 방식을 채용하는 동시 2축 연신 장치에 관해서는, 스크루 방식, 팬터그래프 방식, 리니어 구동 방식 등, 종래 공지의 연신 방식을 채용할 수 있다.In addition, with regard to the production of polyester films, a simultaneous biaxial stretching method can also be adopted. The simultaneous biaxial stretching method is a method in which the above-mentioned unstretched sheet is simultaneously stretched in the machine direction and the width direction under temperature control at usually 70 to 120°C, preferably 80 to 110°C, and is oriented, and the stretching ratio is usually 4 to 50 times, preferably 7 to 35 times, and more preferably 10 to 25 times in terms of area magnification. Then, heat treatment is performed at a temperature of 170 to 270°C under tension or under relaxation of 30% or less to obtain a stretched and oriented film. With regard to the simultaneous biaxial stretching device that adopts the above-mentioned stretching method, a conventionally known stretching method such as a screw method, a pantograph method, or a linear drive method can be adopted.

<<수지층 (A)>><<Resin layer (A)>>

다음에 본 발명에 있어서의 이형 필름을 구성하는 수지층 (A)의 형성에 관하여 설명한다.Next, the formation of the resin layer (A) constituting the heteromorphic film in the present invention will be described.

수지층 (A)는, 경화형 실리콘 수지를 주성분 수지로 하는 수지층 (A) 조성물이 경화하여 이루어지는 층이며, 상기한 기재 필름의 적어도 편면측에 배치된다. 수지층 (A)층은, 수지층 (A) 조성물이 경화하여 이루어지는 경화물을 함유하는 이형층이라고도 할 수 있다.The resin layer (A) is a layer formed by curing a resin layer (A) composition containing a curable silicone resin as a main component resin, and is arranged on at least one side of the above-described base film. The resin layer (A) layer can also be referred to as a release layer containing a cured product formed by curing the resin layer (A) composition.

또한, 상기 「주성분 수지」란, 본 수지층 (A) 조성물을 구성하는 수지 중에서 가장 질량 비율이 큰 수지의 의미이며, 본 수지층 (A) 조성물을 구성하는 수지의 50질량% 이상, 또는 75질량% 이상, 또는 90질량% 이상, 또는 100질량%를 차지하는 경우가 상정된다.In addition, the above "main component resin" means a resin having the largest mass ratio among the resins constituting the present resin layer (A) composition, and it is assumed that it accounts for 50 mass% or more, or 75 mass% or more, or 90 mass% or more, or 100 mass% of the resin constituting the present resin layer (A) composition.

본 발명에 있어서의 수지층 (A)는, 경화형 실리콘 수지를 함유하는 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the resin layer (A) contains a curable silicone resin.

경화형 실리콘 수지로서는, 경화형 실리콘 수지를 주성분으로 하는 수지여도 되고, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 에폭시 수지, 알키드 수지 등의 유기 수지와의 그래프트 중합 등에 의한 변성 실리콘 등을 사용해도 된다. 또한 점착층이 실리콘 점착제 등인 경우는 플루오로실리콘 수지 등을 함유하는 것이 바람직하다.As the curable silicone resin, a resin containing a curable silicone resin as a main component may be used, or a modified silicone, etc., may be used through graft polymerization with an organic resin such as an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, or an alkyd resin. In addition, when the adhesive layer is a silicone adhesive, etc., it is preferable to contain a fluorosilicone resin, etc.

경화형 실리콘 수지의 종류로서는, 부가형·축합형 등의 열 경화형이나, 자외선 경화형 등의 전자선 경화형 등, 기존의 어느 경화 반응 타입에서도 이용할 수 있고, 또한 복수 종류의 경화형 실리콘 수지를 병용하여 사용해도 된다. 추가로 수지층 (A)를 형성할 때의 경화형 실리콘 수지의 도공 형태에도 특별히 제한은 없고, 유기 용제에 용해되어 있는 형태, 무용제의 형태, 수계 에멀젼의 형태의 어느 것이어도 된다.As for the type of curable silicone resin, any of the existing curing reaction types, such as thermal curing types such as addition type and condensation type, or electron beam curing types such as ultraviolet curing type, can be used, and also, multiple types of curable silicone resins can be used in combination. In addition, there is no particular limitation on the coating form of the curable silicone resin when forming the resin layer (A), and any of the forms may be dissolved in an organic solvent, solvent-free, or aqueous emulsion.

무용제형의 경화형 실리콘은, 용제에 희석하지 않고도 도공할 수 있는 점도의 실리콘이며, 짧은 폴리실록산쇄로 이루어져 있어, 비교적 저분자량의 실리콘 수지이다.The non-solvent curable silicone is a silicone with a viscosity that allows coating without dilution with a solvent, and is a silicone resin with a relatively low molecular weight as it is composed of short polysiloxane chains.

한편, 용제형의 경화형 실리콘이란, 용제에 희석하지 않으면 도공할 수 없을 정도로 점도가 높은 실리콘 수지이며, 무용제형의 경화형 실리콘에 비하면, 비교적 높은 분자량을 갖는 실리콘이다.Meanwhile, solvent-based curable silicone is a silicone resin with a viscosity so high that it cannot be coated without being diluted in a solvent, and is a silicone with a relatively high molecular weight compared to solvent-free curable silicone.

기재 필름에의 밀착성이 양호해지고, 또한, 코팅 불균일이 없는 균일한 코팅 외관, 또한, 수지층 (A)의 두께의 조정도 하기 쉽다는 관점에서, 용제형 경화형 실리콘인 것이 바람직하다.From the viewpoints of improved adhesion to the substrate film, uniform coating appearance without coating unevenness, and easy adjustment of the thickness of the resin layer (A), a solvent-based curable silicone is preferable.

본 발명에서 이용하는 실리콘 수지의 종류에는 제한은 없지만, 경박리성 특성 등 우수한 이형 특성의 관점에서 본 발명에 있어서는 알케닐기를 포함하는 경화형 실리콘 수지의 사용이 바람직하다. 알케닐기를 포함하는 경화형 실리콘 수지는, 디오르가노폴리실록산으로서, 하기 일반식(1)로 나타내어지는 것을 예시할 수 있다.There is no limitation on the type of silicone resin used in the present invention, but from the viewpoint of excellent release properties such as peelability, use of a curable silicone resin containing an alkenyl group is preferable in the present invention. The curable silicone resin containing an alkenyl group is exemplified by a diorganopolysiloxane represented by the following general formula (1).

R(3-a)XaSiO-(RXSiO)m-(R2SiO)n-SiXaR(3-a)···(1) R ( 3 - a )

일반식(1)에 있어서, R은 탄소수 1∼10의 1가 탄화수소기이고, X는 알케닐기 함유의 유기기이다. a는 0∼3의 정수로서 1이 바람직하고, m은 0 이상이지만, a=0의 경우, m은 2 이상이고, m 및 n은, 각각 100≤m+n≤20000을 만족하는 수이며, 또한 상기 식은 블록 공중합체를 의미하고 있는 것은 아니다. R은 탄소수 1∼10의 1가 탄화수소기이며, 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등의 알킬기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기, 페닐기, 톨릴기 등의 아릴기 등을 들 수 있지만, 특히 메틸기, 페닐기가 바람직하다. X는 알케닐기 함유의 유기기로서 탄소수 2∼10인 것이 바람직하고, 구체적으로는 비닐기, 알릴기, 헥세닐기, 옥테닐기, 아크릴로일프로필기, 아크릴로일메틸기, 메타크릴로일프로필기, 시클로헥세닐에틸기, 비닐옥시프로필기 등을 들 수 있지만, 특히 비닐기, 헥세닐기 등이 바람직하다. 구체적으로 예시하면, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸헥세닐실록산 공중합체(디메틸실록산 단위 96몰%, 메틸헥세닐실록산 단위 4몰%), 분자쇄 양 말단 디메틸비닐실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸헥세닐실록산 공중합체(디메틸실록산 단위 97몰%, 메틸헥세닐실록산 단위 3몰%), 분자쇄 양 말단 디메틸헥세닐실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸헥세닐실록산 공중합체(디메틸실록산 단위 95몰%, 메틸헥세닐실록산 단위 5몰%)를 들 수 있다.In the general formula (1), R is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and X is an organic group containing an alkenyl group. a is an integer from 0 to 3, preferably 1, and m is 0 or greater, but when a = 0, m is 2 or greater, and m and n are numbers that each satisfy 100≤m+n≤20000, and further, the above formula does not mean a block copolymer. R is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and specifically, examples thereof include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, cycloalkyl groups such as a cyclohexyl group, and aryl groups such as a phenyl group and a tolyl group, but a methyl group and a phenyl group are particularly preferable. X is an organic group containing an alkenyl group, preferably having 2 to 10 carbon atoms, and specifically, examples thereof include a vinyl group, an allyl group, a hexenyl group, an octenyl group, an acryloylpropyl group, an acryloylmethyl group, a methacryloylpropyl group, a cyclohexenylethyl group, a vinyloxypropyl group, and the like, but a vinyl group, a hexenyl group, and the like are particularly preferable. Specific examples thereof include a dimethylsiloxane/methylhexenylsiloxane copolymer having trimethylsiloxy groups capped at both molecular terminals (96 mol% of dimethylsiloxane units, 4 mol% of methylhexenylsiloxane units), a dimethylsiloxane/methylhexenylsiloxane copolymer having dimethylvinylsiloxy groups capped at both molecular terminals (97 mol% of dimethylsiloxane units, 3 mol% of methylhexenylsiloxane units), and a dimethylsiloxane/methylhexenylsiloxane copolymer having dimethylhexenylsiloxy groups capped at both molecular terminals (95 mol% of dimethylsiloxane units, 5 mol% of methylhexenylsiloxane units).

다음에 알케닐기를 포함하는 경화형 실리콘 수지와 반응하여, 보다 강고한 실리콘 이형층을 형성하기 위해 필요한, SiH기를 함유하는 폴리오르가노실록산으로서는, 1분자 중에 규소 원자에 결합한 수소 원자를 적어도 2개, 바람직하게는 3개 이상 갖는 오르가노하이드로젠폴리실록산에서, 직쇄상, 분기상, 환상인 것 등을 사용할 수 있고, 하기 일반식(2)로 나타내어지는 화합물을 들 수 있지만, 이러한 것에는 한정되지 않는다.Next, as the polyorganosiloxane containing a SiH group, which is necessary for forming a more rigid silicone release layer by reacting with a curable silicone resin containing an alkenyl group, an organohydrogenpolysiloxane having at least 2, preferably 3 or more hydrogen atoms bonded to silicon atoms per molecule, linear, branched, cyclic, etc. can be used, and examples thereof include compounds represented by the following general formula (2), but are not limited thereto.

HbR1 (3-b)SiO-(HR1SiO)x-(R1 2SiO)y-SiR1 (3-b)Hb···(2)HbR 1 (3-b) SiO-(HR 1 SiO) x -(R 1 2 SiO) y -SiR 1 (3-b) H b ···(2)

일반식(2)에 있어서, R1은 탄소수 1∼6의 지방족 불포화 결합을 함유하지 않는 1가 탄화수소기이다. b는 0∼3의 정수, x, y는 각각 정수이다. 구체적으로 예시하면, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 메틸하이드로젠폴리실록산, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸하이드로젠실록산 공중합체, 분자쇄 양 말단 디메틸하이드로젠실록시기 봉쇄 메틸하이드로젠폴리실록산, 분자쇄 양 말단 디메틸하이드로젠실록시기 봉쇄 디메틸실록산·메틸하이드로젠실록산 공중합체를 들 수 있다.In general formula (2), R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and not containing an aliphatic unsaturated bond. b is an integer of 0 to 3, and x and y are each integers. Specific examples thereof include a methylhydrogenpolysiloxane having trimethylsiloxy groups capped at both molecular terminals, a dimethylsiloxane/methylhydrogensiloxane copolymer having trimethylsiloxy groups capped at both molecular terminals, a methylhydrogenpolysiloxane having dimethylhydrogensiloxy groups capped at both molecular terminals, and a dimethylsiloxane/methylhydrogensiloxane copolymer having dimethylhydrogensiloxy groups capped at both molecular terminals.

다음에 본 발명에 이용하는 것이 가능한 시판되고 있는 여러 가지 타입의 실리콘 수지의 구체예를 들면, 신에츠화학공업(주)제로서, KS-774, KS-775, KS-778, KS-779H, KS-847H, KS-856, X-62-2422, X-62-2461, X-62-1387, X-62-5039, X-62-5040, KNS-3051, X-62-1496, KNS320A, KNS316, X-62-1574A/B, X-62-7052, X-62-7028A/B, X-62-7619, X-62-7213, X-41-3035, 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈제로서, YSR-3022, TPR-6700, TPR-6720, TPR-6721, TPR6500, TPR6501, UV9300, UV9425, XS56-A2775, XS56-A2982, UV9430, TPR6600, TPR6604, TPR6605, 도레이·다우코닝(주)제로서, SRX357, SRX211, SD7220, SD7292, LTC750A, LTC760A, LTC303E, SP7259, BY24-468C, SP7248S, BY24-452, DKQ3-202, DKQ3-203, DKQ3-204, DKQ3-205, DKQ3-210, 아사히카세이왓커실리콘주식회사제의 DEHESIVE 시리즈 중, DEHESIVE 636, 919, 920, 921, 924, 929 등이 예시되지만, 이러한 것에는 한정되지 않는다.Next, specific examples of various types of commercially available silicone resins that can be used in the present invention include those manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., such as KS-774, KS-775, KS-778, KS-779H, KS-847H, KS-856, X-62-2422, X-62-2461, X-62-1387, X-62-5039, X-62-5040, KNS-3051, X-62-1496, KNS320A, KNS316, X-62-1574A/B, X-62-7052, X-62-7028A/B, X-62-7619, X-62-7213, X-41-3035, and those manufactured by Momentive Performance Materials. YSR-3022, TPR-6700, TPR-6720, TPR-6721, TPR6500, TPR6501, UV9300, UV9425, XS56-A2775, XS56-A2982, UV9430, TPR6600, TPR6604, TPR6605, Made by Toray and Dow Corning Co., Ltd., SRX357, SRX211, SD7220, SD7292, LTC750A, LTC760A, LTC303E, SP7259, BY24-468C, SP7248S, BY24-452, DKQ3-202, DKQ3-203, DKQ3-204, DKQ3-205, DKQ3-210, Among the DEHESIVE series manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd., examples thereof include, but are not limited to, DEHESIVE 636, 919, 920, 921, 924, and 929.

수지층 (A)는 부가형의 반응을 촉진하는 백금계 촉매를 이용하는 것이 바람직하다. 본 성분으로서는, 염화백금산, 염화백금산의 알코올 용액, 염화백금산과 올레핀의 착체, 염화백금산과 알케닐실록산의 착체 등의 백금계 화합물, 백금흑, 백금 담지 실리카, 백금 담지 활성탄이 예시된다.It is preferable that the resin layer (A) utilizes a platinum-based catalyst that promotes the addition reaction. Examples of this component include platinum-based compounds such as chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, a complex of chloroplatinic acid and an olefin, a complex of chloroplatinic acid and an alkenylsiloxane, platinum black, platinum-supported silica, and platinum-supported activated carbon.

수지층 (A)에 있어서의 경화 촉매의 함유량은, 경화형 실리콘 수지에 대하여, 금속 환산량으로서, 0.5∼500질량ppm인 것이 바람직하고, 그 중에서도 5질량ppm 이상이 보다 바람직하고, 그 중에서도 10질량ppm 이상인 것이 더 바람직하며, 또한, 300질량ppm 이하가 보다 바람직하고, 200질량ppm 이하인 것이 더 바람직하다. 이형층 중의 백금계 촉매 함유량이 상기 하한값 이상이면, 충분한 박리력이 얻어지고, 경화 반응이 충분히 진행되어, 코팅면 형상의 악화 등의 문제를 발생시키는 일이 없다. 한편, 수지층 (A) 중의 백금계 촉매 함유량이 상기 상한값 이하이면, 비용적으로 유리한 것에 더하여, 반응성이 높아져 겔 이물이 발생하는 등의 공정 상의 문제가 생기는 일이 없다.The content of the curing catalyst in the resin layer (A) is preferably 0.5 to 500 mass ppm in terms of metal relative to the curable silicone resin, more preferably 5 mass ppm or more, more preferably 10 mass ppm or more, further preferably 300 mass ppm or less, and still more preferably 200 mass ppm or less. When the content of the platinum-based catalyst in the release layer is equal to or greater than the lower limit above, sufficient peeling force is obtained, the curing reaction progresses sufficiently, and problems such as deterioration of the shape of the coating surface do not occur. On the other hand, when the content of the platinum-based catalyst in the resin layer (A) is equal to or less than the upper limit above, in addition to being advantageous in terms of cost, the reactivity is increased, and problems such as generation of gel foreign substances do not occur in the process.

또한, 부가형의 반응은 매우 반응성이 높기 때문에, 경우에 따라서는, 반응 억제제로서 아세틸렌알코올을 첨가하는 경우가 있다. 그 성분은 탄소-탄소 3중 결합과 수산기를 갖는 유기 화합물이지만, 바람직하게는, 3-메틸-1-부틴-3-올, 3,5-디메틸-1-헥신-3-올 및 페닐부틴올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 화합물이다.In addition, since the addition reaction is highly reactive, in some cases, acetylene alcohol is added as a reaction inhibitor. The component is an organic compound having a carbon-carbon triple bond and a hydroxyl group, but is preferably a compound selected from the group consisting of 3-methyl-1-butyn-3-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, and phenylbutynol.

반응 제어제의 함유량은, 수지층 (A) 조성물 합계량(불휘발 성분 기준) 100질량부당, 바람직하게는 0.001∼5.0질량부, 보다 바람직하게는 0.01∼2.0질량부, 더 바람직하게는 0.05∼1.5질량부, 가장 바람직하게는 0.1∼0.5질량부이다. 상기 범위 내로 함으로써, 반응 활성을 저하하는 일 없이, 경화형 실리콘 수지가 경화 저해를 받지 않아, 이형 필름의 경박리성을 담보할 수 있다.The content of the reaction control agent is preferably 0.001 to 5.0 parts by mass, more preferably 0.01 to 2.0 parts by mass, further preferably 0.05 to 1.5 parts by mass, and most preferably 0.1 to 0.5 parts by mass, per 100 parts by mass of the total amount of the resin layer (A) composition (based on nonvolatile components). By setting it within the above range, the curable silicone resin is not subject to curing inhibition without lowering the reaction activity, and the light peelability of the release film can be ensured.

이형 필름을 구성하는 수지층 (A)에는, 가수분해·축합 반응 촉진을 목적으로 하여, 촉매를 병용하는 것이 가능하다. 촉매의 구체예로서는, 아세트산, 부티르산, 말레산, 구연산 등의 유기산류, 염산, 질산, 인산, 황산 등의 무기산류, 트리에틸아민 등의 염기성 화합물류, 테트라부틸티타네이트, 디부틸주석디라우레이트, 디부틸주석디아세테이트, 디부틸주석디옥테이트, 디부틸주석디올레이트, 디페닐주석디아세테이트, 디부틸주석옥사이드, 디부틸주석디메톡사이드, 디부틸비스(트리에톡시실록시)주석, 디부틸주석벤질말레이트 등의 유기 금속염류, KF, NH4F 등의 불소 원소 함유 화합물 등을 들 수 있다. 상기 촉매는 단독으로 사용해도 되고 또는 2종류 이상을 병용해도 된다. 그 중에서도, 특히 도막 내구성이 양호해지는 점에서 유기 금속염류가 바람직하다.In the resin layer (A) constituting the heteromorphic film, it is possible to use a catalyst in combination for the purpose of promoting a hydrolysis/condensation reaction. Specific examples of the catalyst include organic acids such as acetic acid, butyric acid, maleic acid, and citric acid; inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, and sulfuric acid; basic compounds such as triethylamine; organometallic salts such as tetrabutyl titanate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dioleate, diphenyltin diacetate, dibutyltin oxide, dibutyltin dimethoxide, dibutylbis(triethoxysiloxy)tin, and dibutyltin benzyl maleate; and fluorine element-containing compounds such as KF, NH 4 F. The above catalyst may be used alone or in combination of two or more. Among them, organometallic salts are particularly preferable in that the durability of the coating film becomes good.

수지층 (A)의 박리성 등을 조정하기 위해, 각종 박리 컨트롤제를 병용해도 된다. 박리력을 중박리화시키는 경우는, 일반적으로 오르가노폴리실록산 레진이나 실리카 입자, 중박리력의 실리콘종 등을 원하는 박리력을 얻기 위해 수지층 (A)에 적당한 함유량 조정을 행한다.In order to adjust the peelability of the resin layer (A), various peel control agents may be used in combination. In the case of increasing the peeling strength, the content of organopolysiloxane resin, silica particles, silicone species with medium peeling strength, etc. is generally adjusted appropriately in the resin layer (A) to obtain the desired peeling strength.

시판되고 있는 중박리화제의 구체예를 들면, 신에츠화학공업(주)제 KS-3800, X-92-183, 도레이다우코닝(주)제 SD7292, BY24-843, BY24-4980이 예시된다.Specific examples of commercially available heavy-duty peeling agents include KS-3800 and X-92-183 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and SD7292, BY24-843 and BY24-4980 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.

박리력을 경박리화시키는 경우는, 저분자 실록산을 여러 가지 선택하고, 수지층 (A)에 적당한 함유량 조정을 행하여, 실록산 이행 성분이 이형 성능을 발휘하도록 한다. 저분자 실록산 화합물의 예로서는, 헥사메틸시클로트리실록산, 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산 등을 들 수 있다. 또한, 이들 저분자 환상 실록산의 다른 화합물로서는, 분자쇄 양 말단 트리메틸실록시기 봉쇄 디메틸실록산 올리고머; 분자쇄 양 말단 디메틸히드록시실록시기 봉쇄 디메틸실록산 올리고머 등이 있고, 필요에 따라 이들 화합물은 혼합하여 사용해도 된다.In the case of making the peeling force light, various low-molecular-weight siloxanes are selected, and the content in the resin layer (A) is adjusted appropriately so that the siloxane migration component exhibits release performance. Examples of the low-molecular-weight siloxane compounds include hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, etc. In addition, as other compounds of these low-molecular-weight cyclic siloxanes, there are dimethylsiloxane oligomers having trimethylsiloxy groups capped at both molecular chain terminals; dimethylsiloxane oligomers having dimethylhydroxysiloxy groups capped at both molecular chain terminals, etc., and these compounds may be used in mixtures as necessary.

상기와 같이 수지층 (A) 조성물은, 필요에 따라, 경박리화제를 함유하고 있어도 되고, 하기 식(3)으로 나타내어지는 디메틸실록산 골격(DM) 및 하기 식(4)로 나타내어지는 메틸페닐실록산 골격(MP)을 갖는 실리콘 오일이 바람직하다. 경박리화제가 디메틸실록산 골격(DM) 및 메틸페닐실록산 골격(MP)을 가짐으로써, 첩합하는 점착제층으로 이행해도, 점착층 내부에 침입하는 것이 가능해져, 점착력의 저하를 경감할 수 있다. 하기 식(3)으로 나타내어지는 디메틸실록산 골격(DM) 및 하기 식(4)로 나타내어지는 메틸페닐실록산 골격(MP)의 비율(DM:MP)은, 몰비로 98:2∼70:30의 범위인 것이 바람직하고, 95:5∼80:20의 범위인 것이 더 바람직하고, 92:8∼85:15의 범위인 것이 특히 바람직하다. DM:PM을 상기 범위 내로 함으로써, 본 이형 필름의 박리성을 담보할 수 있다.As described above, the resin layer (A) composition may contain a light-releasing agent as needed, and is preferably a silicone oil having a dimethylsiloxane skeleton (DM) represented by the following formula (3) and a methylphenylsiloxane skeleton (MP) represented by the following formula (4). Since the light-releasing agent has a dimethylsiloxane skeleton (DM) and a methylphenylsiloxane skeleton (MP), even when transferred to the adhesive layer to be bonded, it is possible to penetrate into the adhesive layer, thereby reducing the decrease in adhesive strength. The ratio (DM:MP) of the dimethylsiloxane skeleton (DM) represented by the following formula (3) and the methylphenylsiloxane skeleton (MP) represented by the following formula (4) is preferably in the range of 98:2 to 70:30 in terms of molar ratio, more preferably in the range of 95:5 to 80:20, and particularly preferably in the range of 92:8 to 85:15. By setting DM:PM within the above range, the peelability of this heteromorphic film can be ensured.

또한, 경박리화제의 질량 평균 분자량은 1만 미만인 것이 바람직하다. 경박리화제의 질량 평균 분자량이 1만 미만이면 이행성 및 경박리성의 점에서 유리하다.In addition, it is preferable that the mass average molecular weight of the light peeling agent is less than 10,000. If the mass average molecular weight of the light peeling agent is less than 10,000, it is advantageous in terms of mobility and light peeling properties.

[화학식 3][Chemical Formula 3]

Figure 112024020746582-pct00003
Figure 112024020746582-pct00003

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure 112024020746582-pct00004
Figure 112024020746582-pct00004

이들 저분자 실록산 화합물은, 이행 성분으로서 실리콘 수지 중에 통상 0.1∼15.0질량%, 바람직하게는 0.5∼10.0질량%, 더 바람직하게는 0.5∼5.0질량% 함유함으로써 원하는 경박리를 달성할 수 있다. 0.1질량% 이상이면, 이행성 성분이 충분하기 때문에 이형성이 충분히 발휘되고, 저분자 실록산의 함유량이, 15.0질량% 이하이면, 이행성 성분이 과잉으로 석출되는 일이 없어, 공정 오염의 우려가 없다.These low molecular weight siloxane compounds can achieve the desired peeling property by containing them as a transition component in the silicone resin, usually at 0.1 to 15.0 mass%, preferably at 0.5 to 10.0 mass%, more preferably at 0.5 to 5.0 mass%. When the content is 0.1 mass% or more, the transition component is sufficient, so that the release property is sufficiently exhibited, and when the content of the low molecular weight siloxane is 15.0 mass% or less, the transition component does not precipitate excessively, so there is no concern about process contamination.

수지층 (A) 조성물은, 필요에 따라, 희석 용제를 함유할 수 있다. 희석 용제로서는, 예를 들면, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소류, 헥산, 헵탄, 이소옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르류, 메틸에틸케톤(MEK), 이소부틸메틸케톤 등의 케톤류, 에탄올, 2-프로판올 등의 알코올류, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르 등의 에테르류 등을 들 수 있다. 이들은, 용해성, 도공성이나 비점(沸點) 등을 고려하여 단독 또는 복수 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.The resin layer (A) composition may contain a diluting solvent, if necessary. Examples of the diluting solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and isooctane, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone (MEK) and isobutyl methyl ketone, alcohols such as ethanol and 2-propanol, ethers such as diisopropyl ether and dibutyl ether, etc. It is preferable to use these alone or in combination of two or more, taking into consideration solubility, coatability, boiling point, etc.

또한, 수지층 (A)에는, 필름과의 도막 밀착성을 양호하게 하기 위해 하기 일반식(5)로 나타내어지는 유기 규소 화합물을 병용하는 것이 바람직하다.In addition, in order to improve the adhesion of the coating to the film, it is preferable to use an organic silicon compound represented by the following general formula (5) in the resin layer (A).

Si(X)d(Y)e(R1)f···(5)Si(X) d (Y) e (R 1 ) f ···(5)

[상기 식 중, X는 에폭시기, 메르캅토기, (메타)아크릴로일기, 알케닐기, 할로알킬기 및 아미노기로부터 선택되는 적어도 1종을 갖는 유기기, R1은 1가 탄화수소기이고, 또한 탄소수 1∼10인 것이며, Y는 가수분해성기이고, d는 1 또는 2의 정수, e는 2 또는 3의 정수, f는 0 또는 1의 정수이고, d+e+f=4이다][In the above formula, X is an organic group having at least one selected from an epoxy group, a mercapto group, a (meth)acryloyl group, an alkenyl group, a haloalkyl group, and an amino group, R 1 is a monovalent hydrocarbon group and further has 1 to 10 carbon atoms, Y is a hydrolyzable group, d is an integer of 1 or 2, e is an integer of 2 or 3, f is an integer of 0 or 1, and d+e+f=4]

상기 일반식(5)로 나타내어지는 유기 규소 화합물은, 가수분해·축합 반응에 의해 실록산 결합을 형성할 수 있는 가수분해성기 Y를 2개 갖는 것(D단위원) 또는 3개 갖는 것(T단위원)을 사용할 수 있다.The organic silicon compound represented by the above general formula (5) can be used as one having two (D unit) or three (T unit) hydrolyzable groups Y capable of forming a siloxane bond by a hydrolysis/condensation reaction.

일반식(5)에 있어서, 1가 탄화수소기 R1은, 탄소수가 1∼10인 것이고, 특히 메틸기, 에틸기, 프로필기가 바람직하다.In general formula (5), the monovalent hydrocarbon group R 1 has 1 to 10 carbon atoms, and is particularly preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.

일반식(5)에 있어서, 가수분해성기 Y로서는, 이하의 것을 예시할 수 있다. 즉, 메톡시기, 에톡시기, 부톡시기, 이소프로페녹시기, 아세톡시기, 부탄옥심기 및 아미노기 등이다. 이러한 가수분해성기는, 단독 또는 복수종을 사용해도 된다. 메톡시기 또는 에톡시기를 적용하면, 코팅재에 양호한 보존 안정성을 부여할 수 있고, 또한 적당한 가수분해성이 있기 때문에, 특히 바람직하다.In general formula (5), examples of the hydrolyzable group Y include the following. Namely, a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, an isopropenoxy group, an acetoxy group, a butanoxime group, and an amino group. These hydrolyzable groups may be used singly or in combination. When a methoxy group or an ethoxy group is used, it is particularly preferable because it can impart good preservation stability to the coating material and also has appropriate hydrolyzability.

수지층 (A)에 함유하는 유기 규소 화합물의 구체예로서, 비닐트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, 5-헥세닐트리메톡시실란, p-스티릴트리메톡시실란, 트리플루오로프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디이소프로페녹시실란 등을 예시할 수 있다.Specific examples of the organosilicon compound contained in the resin layer (A) include vinyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, 5-hexenyltrimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiisopropenoxysilane, and the like.

수지층 (A)는, 입자를 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 수지층 (A)에 입자를 실질적으로 함유하지 않음으로써, 박리 특성을 안정화하면서, 이행성을 낮출 수 있다. 또한, 실질적으로 함유하지 않는다란, 본 발명의 효과를 저해하지 않을 정도로 소량이면 수지층 (A)가 입자를 함유해도 되는 것을 의미하며, 예를 들면, 불가피하게 혼입되는 입자가 포함되어도 된다. 구체적인 본 수지층 (A)(A층)에 있어서의 입자의 함유량은, 불휘발 성분 기준으로, 예를 들면, 0.05질량% 미만, 바람직하게는 0.01질량% 미만, 보다 바람직하게는 0.0001질량% 미만이다. 또한, 불휘발 성분 기준의 본 수지층 (A) 조성물에 있어서의 입자의 함유량의 범위도, 상기 입자의 함유량과 동일하다.It is preferable that the resin layer (A) substantially does not contain particles. By substantially not containing particles in the resin layer (A), the peeling characteristics can be stabilized while the migration property can be lowered. In addition, substantially not containing means that the resin layer (A) may contain particles as long as the amount is small enough not to impede the effect of the present invention, and for example, particles that are inevitably mixed may be included. The content of particles in the specific resin layer (A) (A layer) is, for example, less than 0.05 mass%, preferably less than 0.01 mass%, more preferably less than 0.0001 mass%, based on the nonvolatile component. In addition, the range of the content of particles in the resin layer (A) composition based on the nonvolatile component is also the same as the content of the particles.

추가로 본 발명의 주지를 손상하지 않는 범위에 있어서, 수지층 (A) 조성물에는 필요에 따라 소포제, 도포성 개량제, 증점제, 유기계 윤활제, 대전 방지제, 도전제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 발포제, 염료, 안료 등이 함유되어도 된다.In addition, within a range that does not impair the spirit of the present invention, the resin layer (A) composition may contain, as necessary, an antifoaming agent, a coating improving agent, a thickener, an organic lubricant, an antistatic agent, a conductive agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a foaming agent, a dye, a pigment, and the like.

경화형 실리콘 수지의 수평균 분자량(Mn)은 9000 이상 350000 이하인 것이 바람직하다. 경화형 실리콘 수지의 수평균 분자량(Mn)을 상기 하한값 이상으로 하면, 이형 필름에 점착층을 적층했을 때, 저분자량의 실리콘 수지가 점착층으로 용출 내지 이행되는 양을 저감시킬 수 있고, 또한, 수지층 (A)를 두껍게 칠함으로써 경박리화 효과를 얻기 쉬워진다. 한편, 경화형 실리콘 수지의 수평균 분자량(Mn)을 상기 상한값 이하로 하면, 점도가 높아져 수지층 (A) 조성물의 유동성이 저하하는 것을 방지한다. 그 때문에, 수지층 (A) 조성물을 도포했을 때에, 줄무늬 형상의 코팅 불균일이 생기거나 하는 것을 방지하여, 수지층 (A) 표면을 평활하게 하기 쉬워진다.The number average molecular weight (Mn) of the curable silicone resin is preferably 9,000 or more and 350,000 or less. When the number average molecular weight (Mn) of the curable silicone resin is equal to or greater than the lower limit above, when an adhesive layer is laminated on a release film, the amount of low-molecular-weight silicone resin that is eluted or transferred into the adhesive layer can be reduced, and further, by applying the resin layer (A) thickly, it becomes easy to obtain a light-peeling effect. On the other hand, when the number average molecular weight (Mn) of the curable silicone resin is equal to or less than the upper limit above, the viscosity increases, preventing the fluidity of the resin layer (A) composition from decreasing. Therefore, when the resin layer (A) composition is applied, it is possible to prevent uneven coating in the shape of stripes from occurring, and it becomes easy to smooth the surface of the resin layer (A).

이러한 관점에서, 경화형 실리콘 수지의 수평균 분자량(Mn)은, 9000 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 10000 이상인 것이 보다 바람직하고, 그 중에서도 20000 이상이 더 바람직하고, 그 중에서도 특히 30000 이상인 것이 더 바람직하다. 한편, 350000 이하인 것이 바람직하고, 50000 이하인 것이 보다 바람직하고, 그 중에서도 40000 이하인 것이 더 바람직하다.From this viewpoint, the number average molecular weight (Mn) of the curable silicone resin is preferably 9000 or more, more preferably 10000 or more, more preferably 20000 or more, and most preferably 30000 or more. On the other hand, it is preferably 350000 or less, more preferably 50000 or less, and most preferably 40000 or less.

경화형 실리콘 수지의 질량 평균 분자량(Mw)은, 수평균 분자량과 마찬가지의 관점에서, 10000∼500000인 것이 바람직하고, 그 중에서도 20000 이상이 보다 바람직하고, 그 중에서도 50000 이상이 더 바람직하고, 그 중에서도 특히 80000 이상인 것이 바람직하며, 또한, 250000 이하인 것이 보다 바람직하고, 그 중에서도 100000 이하인 것이 더 바람직하다.The mass average molecular weight (Mw) of the curable silicone resin is preferably 10,000 to 500,000 from the same viewpoint as the number average molecular weight, more preferably 20,000 or more, more preferably 50,000 or more, and most preferably 80,000 or more, and more preferably 250,000 or less, and most preferably 100,000 or less.

경화형 실리콘 수지는, 수평균 분자량(Mn)에 대한 질량 평균 분자량(Mw)의 비율(Mw/Mn)은, 바람직하게는 1.7∼3.5, 보다 바람직하게는 1.9∼3.0, 그 중에서도 2.0∼3.0이 더 바람직하다. 이 범위를 만족함으로써, 가교 반응을 효율적으로 진행시키는 것을 기대할 수 있다.The ratio (Mw/Mn) of the mass average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) of the curable silicone resin is preferably 1.7 to 3.5, more preferably 1.9 to 3.0, and most preferably 2.0 to 3.0. By satisfying this range, it can be expected that the crosslinking reaction will proceed efficiently.

또한, 수평균 분자량(Mn) 및 질량 평균 분자량(Mw)은, 폴리스티렌 기준으로 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC) 측정에 의해 구한 값이며, 구체적인 측정 방법은, GPC 측정 장치를 사용하여, 크로마토그램을 측정하고, 표준 폴리스티렌을 사용한 검량선에 기초하여 수평균 분자량(Mn) 및 질량 평균 분자량(Mw)을 구한다. 구체적으로는, 측정용의 시료 4㎎을, 4mL의 THF에 용해하여 측정 용액으로 하고, 측정 용액 100μL를 GPC 측정 장치에 주입하여 측정했다. 용리액에는 테트라히드로푸란(THF)을 사용했다. 분석에는 토소(주)제 「Ecosec8320」을 사용하고, 가드 칼럼에는 토소(주)제 「TSKgel guardcolumn HXL-L」, 칼럼에는 토소(주)제 「TSKgel GMHXL」을 4개 연결하여 사용했다. 또한, 오븐의 온도는 40℃, THF 유량 1.0mL/분의 조건에서 분석을 행하고, 검출에는 RI를 이용했다.In addition, the number average molecular weight (Mn) and the mass average molecular weight (Mw) are values obtained by gel permeation chromatography (GPC) measurement using polystyrene as a standard, and a specific measurement method is to use a GPC measuring apparatus to measure a chromatogram, and obtain the number average molecular weight (Mn) and the mass average molecular weight (Mw) based on a calibration curve using standard polystyrene. Specifically, 4 mg of the sample for measurement was dissolved in 4 mL of THF to prepare a measurement solution, and 100 μL of the measurement solution was injected into the GPC measuring apparatus for measurement. Tetrahydrofuran (THF) was used as the eluent. For the analysis, "Ecosec8320" manufactured by Tosoh Corporation was used, and four "TSKgel guardcolumn HXL-L" manufactured by Tosoh Corporation was used as the guard column, and "TSKgel GMHXL" manufactured by Tosoh Corporation was used as the column in connections. In addition, the analysis was performed under the conditions of oven temperature of 40℃ and THF flow rate of 1.0 mL/min, and RI was used for detection.

경화형 실리콘 수지는, 2종류 이상의 경화형 실리콘 수지의 조합으로 이루어지는 것이어도 되고, 그 경우, 2종류 이상의 경화형 실리콘 수지의 수평균 분자량(Mn) 및 질량 평균 분자량(Mw)의 평균이 상기 범위 내인 것이 바람직하다. 또한, 여기서 말하는 평균이란, 각 수지의 질량에 의해 가중치를 부여한 가중 평균이다. 또한, 경화형 실리콘 수지로서, 주제(主劑)와 실리콘 가교제를 사용하는 경우에는, 주제의 질량 평균 분자량(Mn), 수평균 분자량(Mw), Mw/Mn이 상기 범위 내이면 된다.The curable silicone resin may be formed by a combination of two or more types of curable silicone resins, and in this case, it is preferable that the average of the number average molecular weight (Mn) and the mass average molecular weight (Mw) of the two or more types of curable silicone resins be within the above range. In addition, the average referred to here is a weighted average that is weighted by the mass of each resin. In addition, when a main agent and a silicone crosslinking agent are used as the curable silicone resin, the mass average molecular weight (Mn), number average molecular weight (Mw) of the main agent, and Mw/Mn may be within the above range.

경화형 실리콘 수지는, n-헵탄 용매 희석으로 15질량%로 조정했을 때의 25℃에 있어서의 점도는, 바람직하게는 1∼400mcps, 보다 바람직하게는 5∼300mcps, 더 바람직하게는 10∼200mcps이다.The viscosity of the curable silicone resin at 25°C when adjusted to 15 mass% by dilution with n-heptane solvent is preferably 1 to 400 mcps, more preferably 5 to 300 mcps, and even more preferably 10 to 200 mcps.

경화형 실리콘 수지의 당해 점도가 1mcps 이상이면, 도포액의 적당한 점도에 의해 씨싱(cissing)이 억제되어, 시인성이 높은 균일한 코팅 외관이 얻어지기 때문에 바람직하고, 400mcps 이하이면, 수지층 (A) 조성물의 유동성을 유지할 수 있고, 수지층 (A) 조성물을 도포했을 때에, 줄무늬 형상의 코팅 불균일이 생기는 것을 억제할 수 있어, 수지층 (A) 표면을 평활하게 할 수 있다.When the viscosity of the curable silicone resin is 1 mcps or more, cissing is suppressed by the appropriate viscosity of the coating solution, so that a uniform coating appearance with high visibility is obtained, which is preferable. When the viscosity is 400 mcps or less, the fluidity of the resin layer (A) composition can be maintained, and when the resin layer (A) composition is applied, the occurrence of striped coating unevenness can be suppressed, so that the surface of the resin layer (A) can be made smooth.

점도의 측정은, 경화형 실리콘 수지를 n-헵탄으로 15질량%로 용매 희석하고, 이 용액의 25℃에서의 점도를, E형 점도계(도키산교(주)제 「TVE-22L」)를 이용하여 측정했다.Viscosity was measured by diluting the curable silicone resin with n-heptane to 15 mass%, and measuring the viscosity of the solution at 25°C using an E-type viscometer (“TVE-22L” manufactured by Tokisangyo Co., Ltd.).

경화형 실리콘 수지가, 실리콘 수지 중에 알케닐기를 갖는 경우, 알케닐기의 함유량은, 전체 실록산 성분량에 대하여 바람직하게는 0.4∼2.5mol%, 보다 바람직하게는, 0.5∼2.0mol%, 더 바람직하게는 0.5∼1.5mol%이다. 이 범위를 만족함으로써, 알케닐기가 일정량 이상 함유되기 때문에 이형층이 충분히 경화하며, 반면에 알케닐기 양이 과잉이 되지 않음으로써, 공기 폭로 후의 박리력이 무거워지는 것을 방지할 수 있다.When the curable silicone resin has an alkenyl group in the silicone resin, the content of the alkenyl group is preferably 0.4 to 2.5 mol%, more preferably 0.5 to 2.0 mol%, and even more preferably 0.5 to 1.5 mol%, based on the total amount of the siloxane component. By satisfying this range, since a certain amount or more of the alkenyl group is contained, the release layer is sufficiently cured, and on the other hand, since the amount of the alkenyl group is not excessive, the peeling force after exposure to air can be prevented from becoming heavy.

경화형 실리콘 수지가, 실리콘 수지 중에 Si-H기를 갖는 경우, Si-H기의 함유량은, 전체 실록산 성분량에 대하여 바람직하게는 0.8∼2.5mol%, 보다 바람직하게는 0.8∼2.0mol%, 더 바람직하게는 1.0∼2.0mol%이다. 이 범위를 만족함으로써, Si-H기가 일정량 이상 함유되기 때문에 이형층이 충분히 경화하며, 반면에 Si-H기 양이 과잉이 되지 않으로써, 점착층과 반응하는 것이 방지되어, 이형 필름의 중박리화를 억제할 수 있다.When the curable silicone resin has a Si-H group in the silicone resin, the content of the Si-H group is preferably 0.8 to 2.5 mol%, more preferably 0.8 to 2.0 mol%, and even more preferably 1.0 to 2.0 mol%, based on the total amount of the siloxane component. By satisfying this range, since a certain amount or more of the Si-H group is contained, the release layer is sufficiently cured, and on the other hand, since the amount of the Si-H group is not excessive, reaction with the adhesive layer is prevented, and heavy peeling of the release film can be suppressed.

경화형 실리콘 수지는, 동일 구조 중에 실록산 결합으로 이루어지는 주쇄의 측쇄 및/또는 말단에 알케닐기 및 Si-H기(간단히 「H기」라고도 한다.)를 포함하고 있어도 된다. 그 경우, 알케닐기 및 Si-H기의 함유량이 상기 범위 내인 것이 바람직하다.The curable silicone resin may contain an alkenyl group and a Si-H group (also simply referred to as “H group”) in the side chain and/or terminal of the main chain formed by a siloxane bond in the same structure. In that case, it is preferable that the content of the alkenyl group and the Si-H group is within the above range.

본 이형층 조성물에 있어서의 전체 실록산 성분의 함유량은, 예를 들면, 1H-NMR에서 주쇄의 디메틸실록산 유닛과 그 이외의 유닛의 적분비로부터 측정할 수 있다. 또한, 비닐기 및 Si-H기의 함유량은, 실록산쇄에 결합되는 관능기 전량에 대한 비율을 나타내며, 1H-NMR을 측정함으로써 평가할 수 있다. 단, 이러한 방법에 한정하는 것은 아니다.The content of the total siloxane component in the present heterolayer composition can be measured, for example, from the integral ratio of the dimethylsiloxane unit of the main chain to the other units in 1 H-NMR. In addition, the content of vinyl groups and Si-H groups represents the ratio to the total amount of functional groups bonded to the siloxane chain, and can be evaluated by measuring 1 H-NMR. However, this method is not limited thereto.

수지층 (A)의 두께는, 초경박리화, 블로킹 방지, 및 이행성의 증대 억제의 관점에서, 바람직하게는 0.2∼2.0㎛, 보다 바람직하게는 0.4∼1.5㎛, 더 바람직하게는 0.4∼1.2㎛, 가장 바람직하게는 0.4∼1.0㎛의 범위이다. 수지층 (A)의 두께가 0.2㎛ 미만이 되면, 후술하는 대로, 수지층 (A)의 탄성률을 소정의 범위로 해도, 수지층 (A)를 경박리화하는 것이 어렵다. 또한, 2.0㎛보다 두껍게 하면, 수지층 (A) 성분이 점착 테이프 등으로 이행하는 이행성의 증대를 일으키는 경우나, 블로킹을 충분히 방지할 수 없는 경우가 있다.The thickness of the resin layer (A) is preferably in the range of 0.2 to 2.0 µm, more preferably 0.4 to 1.5 µm, further preferably 0.4 to 1.2 µm, and most preferably 0.4 to 1.0 µm, from the viewpoints of ultra-light peeling, prevention of blocking, and suppression of increased migration properties. If the thickness of the resin layer (A) is less than 0.2 µm, it is difficult to easily peel the resin layer (A) even if the elastic modulus of the resin layer (A) is within a predetermined range, as described later. In addition, if it is made thicker than 2.0 µm, there are cases where the migration properties of the resin layer (A) component to an adhesive tape or the like increase, or blocking cannot be sufficiently prevented.

수지층 (A)의 25℃에 있어서의 탄성률은, 바람직하게는 500MPa 이하이고, 보다 바람직하게는 65∼400MPa, 더 바람직하게는 80∼300MPa이다. 이들 범위를 만족함으로써, 점착층에 대하여 양호한 박리성을 나타낼 수 있다. 또한, 수지층 (A)의 탄성률은, 사용하는 실리콘 수지의 종류, 수지층 (A)의 두께 등에 의해 조정할 수 있고, 예를 들면 수지층 (A)가 얇아지면, 탄성률이 높아지는 경향이 있다. 또한, 여기서 말하는 탄성률은, 나노인덴터에 의해 측정된 값이다.The elastic modulus of the resin layer (A) at 25°C is preferably 500 MPa or less, more preferably 65 to 400 MPa, and even more preferably 80 to 300 MPa. By satisfying these ranges, good peelability can be exhibited with respect to the adhesive layer. In addition, the elastic modulus of the resin layer (A) can be adjusted by the type of silicone resin used, the thickness of the resin layer (A), etc., and for example, when the resin layer (A) becomes thin, the elastic modulus tends to increase. In addition, the elastic modulus referred to here is a value measured by a nanoindenter.

수지층 (A)의 상태 박리력은, 바람직하게는 5g/25㎜ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.1∼4g/25㎜, 더 바람직하게는 0.5∼3g/25㎜의 범위이다. 상태 박리력이 5g/25㎜ 이하가 되면, 광학 부재의 대형화·박막화에 따라 탄성률이 낮아져 있는 점착층에 대해서도, 양호한 박리성을 나타낼 수 있다. 한편, 상태 박리력이 5g/25㎜를 넘으면, 점착층으로부터 박리할 때에 박리 곤란이 되는 경우가 있어, 점착층의 변형이나 파단에 의해 이형 필름측으로 점착제층이 전사되어 버리는 경우가 있다.The state-of-the-art peeling strength of the resin layer (A) is preferably 5 g/25 mm or less, more preferably 0.1 to 4 g/25 mm, and even more preferably 0.5 to 3 g/25 mm. When the state-of-the-art peeling strength is 5 g/25 mm or less, good peeling properties can be exhibited even for the adhesive layer whose elasticity has decreased due to the enlargement and thinning of the optical member. On the other hand, when the state-of-the-art peeling strength exceeds 5 g/25 mm, peeling from the adhesive layer may become difficult, and the adhesive layer may be transferred to the release film side due to deformation or breakage of the adhesive layer.

수지층 (A)의 잔류 접착률은, 수지층 (A) 유래의 이행 성분이 첩합하는 점착 테이프 등으로 이행하는 이행성의 지표가 되는 것이다. 이행성이 큰 수지층 (A)에서는, 포갠 평가 필름에 많은 이행 성분이 부착되기 때문에, 그 평가 필름에 첩합하는 점착 테이프의 박리력이 작아지고, 잔류 접착률(%)도 저하한다. 그 때문에 잔류 접착률(%)은 높은 것이 좋으며, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 더 바람직하게는 90% 이상이다. 잔류 접착률이 80% 이상이면, 실사용 상, 문제가 없다고 생각해도 된다.The residual adhesion rate of the resin layer (A) is an index of the transferability of the transition component derived from the resin layer (A) to the adhesive tape to be bonded. In the case of a resin layer (A) with high transferability, since a large amount of the transition component is attached to the coated evaluation film, the peeling force of the adhesive tape bonded to the evaluation film decreases, and the residual adhesion rate (%) also decreases. Therefore, the residual adhesion rate (%) is preferably high, and is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more. If the residual adhesion rate is 80% or more, it can be considered that there is no problem in actual use.

수지층 (A)의 프레스 후의 중박리화율은, 바람직하게는 100% 이하, 보다 바람직하게는 50% 이하, 더 바람직하게는 20% 이하이다. 프레스 후 중박리화율이 100% 이하이면, 본 이형 필름을 롤 형상으로 권취했을 때, 필름에 의해 압력이 가해지는 롤의 하측 감김 부분에서의 수지층 (A)의 중박리화가 작게 억제되어, 중박리화에 의한 문제를 발생시키지 않는다. 프레스 후의 중박리화율의 산정 방법은, 실시예에 기재된 대로이다.The post-press peeling rate of the resin layer (A) is preferably 100% or less, more preferably 50% or less, and even more preferably 20% or less. If the post-press peeling rate is 100% or less, when the release film is wound into a roll shape, the peeling of the resin layer (A) at the lower winding portion of the roll to which pressure is applied by the film is greatly suppressed, and thus no problem due to the peeling occurs. The method for calculating the post-press peeling rate is as described in the Examples.

수지층 (A)의 형성에 관해서는, 필름의 제막 공정 중에 필름 표면을 처리하는, 인라인 코팅에 의해 마련되어도 되고, 일단 제조한 필름 상에 계(系) 외에서 도포하는, 오프라인 코팅을 채용해도 되지만, 보다 바람직하게는 오프라인 코팅에 의해 형성되는 것이다.Regarding the formation of the resin layer (A), it may be provided by inline coating, which treats the film surface during the film forming process, or by offline coating, which is applied externally on a film once manufactured. However, it is more preferably formed by offline coating.

필름에 수지층 (A)를 마련하는 방법으로서, 리버스 그라비아 코팅, 다이렉트 그라비아 코팅, 롤 코팅, 다이 코팅, 바 코팅, 커튼 코팅 등, 종래 공지의 도공 방식을 이용할 수 있다.As a method for providing a resin layer (A) on a film, a conventionally known coating method such as reverse gravure coating, direct gravure coating, roll coating, die coating, bar coating, or curtain coating can be used.

본 발명에 있어서의 이형 필름을 구성하는 필름에는 미리, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 처리를 실시해도 된다.The film constituting the release film in the present invention may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment in advance.

수지층 (A)를 형성할 때의 경화 조건에 관해서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 오프라인 코팅에 의해 수지층 (A)를 마련하는 경우, 통상, 80℃ 이상에서 10초 이상, 바람직하게는 100∼200℃에서 3∼40초간, 보다 바람직하게는 120∼190℃에서 3∼40초간, 더 바람직하게는 150∼180℃에서 3∼40초간을 기준으로 하여 열처리를 행하는 것이 좋다.There are no particular limitations on the curing conditions when forming the resin layer (A), and when the resin layer (A) is prepared by offline coating, it is usually preferable to perform heat treatment at 80°C or higher for 10 seconds or longer, preferably at 100 to 200°C for 3 to 40 seconds, more preferably at 120 to 190°C for 3 to 40 seconds, and even more preferably at 150 to 180°C for 3 to 40 seconds.

또한, 필요에 따라 열처리와 자외선 조사 등의 활성 에너지선 조사를 병용해도 된다. 또한, 활성 에너지선 조사에 의한 경화를 위한 에너지원으로서는, 공지의 장치, 에너지원을 이용할 수 있다. 예를 들면, 광원으로서, 퓨전(H) 램프, 메탈할라이드 램프, 고압 수은 램프(오존 발생 타입, 오존리스 타입), UV-LED 등이 예시된다.In addition, heat treatment and active energy ray irradiation such as ultraviolet ray irradiation may be used in combination as needed. In addition, as an energy source for curing by active energy ray irradiation, a known device or energy source can be used. For example, as a light source, a fusion (H) lamp, a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp (ozone generating type, ozone-less type), UV-LED, etc. are exemplified.

활성 에너지선 조사로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 자외선 조사인 경우, 적산 광량 환산으로서, 10∼3000mJ/㎠, 바람직하게는 50∼2000mJ/㎠, 더 바람직하게는 100∼1000mJ/㎠의 범위가 된다. 자외선 조사의 적산 광량 환산을 상기 범위 내로 함으로써, 수지층 (A)의 경화가 촉진되며, 반면에 과잉으로 지나치게 조사하지 않음으로써, 수지층 (A)가 파괴되지 않아 조사 후의 박리력이 무거워지는 것을 방지할 수 있다.There is no particular limitation on the active energy ray irradiation, but in the case of ultraviolet irradiation, the range is 10 to 3000 mJ/cm2, preferably 50 to 2000 mJ/cm2, and more preferably 100 to 1000 mJ/cm2 in terms of the accumulated light dose. By setting the accumulated light dose of ultraviolet irradiation to be within the above range, the curing of the resin layer (A) is promoted, and on the other hand, by not irradiating excessively, the resin layer (A) is not destroyed, which prevents the peeling force after the irradiation from becoming heavy.

본 발명의 이형 필름은, 수지층 (A) 또는 수지층 (B) 중 적어도 일방의 표면의 표면 고유 저항률이 1×1012Ω/□ 이하인 것이 바람직하다. 수지층 (A) 또는 수지층 (B)의 표면 고유 저항률이 낮을수록, 대전 방지성이 양호하여, 공정 내에서의 필름의 대전을 억제하여 이물 등의 부착을 방지할 수 있다.In the release film of the present invention, it is preferable that the surface resistivity of at least one surface of the resin layer (A) or the resin layer (B) is 1×10 12 Ω/□ or less. The lower the surface resistivity of the resin layer (A) or the resin layer (B), the better the antistatic property, and the charging of the film can be suppressed during the process, thereby preventing the attachment of foreign substances, etc.

상기 수지층 (A) 면의 중심선 평균 거칠기(Ra(A))는 30㎚ 이하인 것이 바람직하다. 중심선 평균 거칠기(Ra(A))가 30㎚ 이하인 것에 의해, 초경박리화가 가능해지므로, 바람직하다. (Ra(A))에 관하여, 더 바람직하게는 25㎚ 이하, 그 중에서도 특히 20㎚ 이하가 좋다. 한편, 하한값에 관해서는, 필름 취급성의 점에서, 5㎚ 이상이 좋다.The centerline average roughness (Ra(A)) of the surface of the above resin layer (A) is preferably 30 nm or less. Since ultra-thin peeling becomes possible when the centerline average roughness (Ra(A)) is 30 nm or less, it is preferable. Regarding (Ra(A)), it is more preferably 25 nm or less, and particularly preferably 20 nm or less. On the other hand, regarding the lower limit, from the viewpoint of film handleability, it is preferably 5 nm or more.

<<수지층 (B)>><<Resin layer (B)>>

본 발명에 있어서의 수지층 (B)에 관하여, 이하에 설명한다.Regarding the resin layer (B) in the present invention, it is described below.

본 발명에 있어서의 이형 필름을 구성하는 수지층 (B)는, 기재 필름의 수지층 (A)를 마련한 면과는 반대의 표면에 마련되며, 비실리콘계 이형제를 포함하는 수지층 (B)이면 되고, 보다 바람직하게는, 비실리콘계 이형제를 포함하고, 또한 대전 방지 성능을 갖는 수지층 (B)이다.The resin layer (B) constituting the release film in the present invention is provided on a surface opposite to the surface on which the resin layer (A) of the base film is provided, and may be a resin layer (B) containing a non-silicon-based release agent, and more preferably, it is a resin layer (B) containing a non-silicon-based release agent and having antistatic properties.

수지층 (B)에 이용되는 비실리콘계 이형제는, 실리콘 화합물을 제외한 이형제이면 특별히 제한은 없어, 종래 공지의 이형제를 사용하는 것이 가능하고, 예를 들면, 장쇄 알킬기 함유 화합물, 불소 화합물, 왁스 등을 들 수 있다.There are no particular restrictions on the non-silicon release agent used in the resin layer (B) as long as it is a release agent other than a silicone compound, and any conventionally known release agent can be used, and examples thereof include long-chain alkyl group-containing compounds, fluorine compounds, waxes, etc.

이들 중에서도 오염성이 적고, 블로킹 경감이 우수하다는 점에서는 장쇄 알킬 화합물이나 왁스가 바람직하며, 특히 블로킹 경감의 관점에서 장쇄 알킬 화합물이 보다 바람직하다. 이러한 이형제는 단독으로 이용해도 되고, 복수종 사용해도 된다.Among these, long-chain alkyl compounds or waxes are preferable in that they have less contamination and excellent blocking reduction, and long-chain alkyl compounds are more preferable in particular in that they reduce blocking. These release agents may be used alone or in combination.

실리콘 화합물이란, 분자 내에 실록산 결합을 갖는 화합물이며, 실록산 결합으로 이루어지는 주쇄의 측쇄 및/또는 말단에 각종의 관능기를 갖는 것도 포함된다. 예를 들면, 에테르기, 수산기, 아미노기, 에폭시기, 카르본산기, 불소 등의 할로겐기, 퍼플루오로알킬기, 탄화수소기(알킬기, 알케닐기, 아릴기, 각종 방향족기 등) 등을 들 수 있다. 수지층 (B)가 실리콘 화합물을 포함하는 경우는, 수지층 (A)와 강하게 블로킹하여, 수지층 (A)의 표면이 변형되는 등 하여 수지층 (A)의 박리 특성이 악화하기 때문에, 본 이형 필름에 있어서는 사용하는 것이 곤란하다.A silicone compound is a compound having a siloxane bond in the molecule, and includes those having various functional groups on the side chain and/or terminal of the main chain composed of the siloxane bond. Examples thereof include an ether group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, a carboxylic acid group, a halogen group such as fluorine, a perfluoroalkyl group, a hydrocarbon group (an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, various aromatic groups, etc.). When the resin layer (B) contains a silicone compound, it strongly blocks the resin layer (A), deforming the surface of the resin layer (A), and the peeling characteristics of the resin layer (A) deteriorate, so it is difficult to use it in the present release film.

장쇄 알킬기 함유 화합물이란, 탄소수가 통상 6 이상, 바람직하게는 8 이상, 더 바람직하게는 12 이상인 직쇄 또는 분기의 알킬기를 갖는 화합물이다. 알킬기로서는, 예를 들면, 헥실기, 옥틸기, 데실기, 라우릴기, 옥타데실기, 베헤닐기 등을 들 수 있다. 알킬기를 갖는 화합물이란, 예를 들면, 각종의 장쇄 알킬기 함유 고분자 화합물, 장쇄 알킬기 함유 아민 화합물, 장쇄 알킬기 함유 에테르 화합물, 장쇄 알킬기 함유 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 내열성, 오염성을 고려하면 고분자 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 효과적으로 이형성을 얻을 수 있다는 관점에서, 장쇄 알킬기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물인 것이 보다 바람직하다.A long-chain alkyl group-containing compound is a compound having a straight-chain or branched alkyl group having usually 6 or more, preferably 8 or more, and more preferably 12 or more carbon atoms. Examples of the alkyl group include a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a lauryl group, an octadecyl group, a behenyl group, and the like. Examples of the compound having an alkyl group include various long-chain alkyl group-containing polymer compounds, long-chain alkyl group-containing amine compounds, long-chain alkyl group-containing ether compounds, long-chain alkyl group-containing quaternary ammonium salts, and the like. Considering heat resistance and contamination resistance, it is preferable that it is a polymer compound. Furthermore, from the viewpoint of effectively obtaining releasability, it is more preferable that it is a polymer compound having a long-chain alkyl group in a side chain.

장쇄 알킬기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물이란, 반응성기를 갖는 고분자와, 당해 반응성기와 반응 가능한 알킬기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻을 수 있다. 상기 반응성기로서는, 예를 들면, 수산기, 아미노기, 카르복실기, 산 무수물 등을 들 수 있다. 이러한 반응성기를 갖는 화합물로서는, 예를 들면, 폴리비닐알코올, 폴리에틸렌이민, 폴리에틸렌아민, 반응성기 함유 폴리에스테르 수지, 반응성기 함유 폴리(메타)아크릴 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 이형성이나 취급 용이성을 고려하면 폴리비닐알코올인 것이 바람직하다.A polymer compound having a long-chain alkyl group in the side chain can be obtained by reacting a polymer having a reactive group with a compound having an alkyl group capable of reacting with the reactive group. Examples of the reactive group include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, an acid anhydride, and the like. Examples of the compound having such a reactive group include polyvinyl alcohol, polyethyleneimine, polyethyleneamine, a polyester resin containing a reactive group, and a poly(meth)acrylic resin containing a reactive group. Among these, polyvinyl alcohol is preferable in consideration of releasability and ease of handling.

상기의 반응성기와 반응 가능한 알킬기를 갖는 화합물이란, 예를 들면, 헥실이소시아네이트, 옥틸이소시아네이트, 데실이소시아네이트, 라우릴이소시아네이트, 옥타데실이소시아네이트, 베헤닐이소시아네이트 등의 장쇄 알킬기 함유 이소시아네이트, 헥실클로라이드, 옥틸클로라이드, 데실클로라이드, 라우릴클로라이드, 옥타데실클로라이드, 베헤닐클로라이드 등의 장쇄 알킬기 함유 산 클로라이드, 장쇄 알킬기 함유 아민, 장쇄 알킬기 함유 알코올 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 이형성이나 취급 용이성을 고려하면 장쇄 알킬기 함유 이소시아네이트가 바람직하고, 옥타데실이소시아네이트가 특히 바람직하다.Examples of the compound having an alkyl group capable of reacting with the above reactive group include long-chain alkyl group-containing isocyanates such as hexyl isocyanate, octyl isocyanate, decyl isocyanate, lauryl isocyanate, octadecyl isocyanate, and behenyl isocyanate; long-chain alkyl group-containing acid chlorides such as hexyl chloride, octyl chloride, decyl chloride, lauryl chloride, octadecyl chloride, and behenyl chloride; long-chain alkyl group-containing amines; and long-chain alkyl group-containing alcohols. Among these, considering releasability and ease of handling, long-chain alkyl group-containing isocyanates are preferable, and octadecyl isocyanate is particularly preferable.

또한, 장쇄 알킬기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물은, 장쇄 알킬(메타)아크릴레이트의 중합물이나 장쇄 알킬(메타)아크릴레이트와 다른 비닐기 함유 모노머와의 공중합에 의해 얻을 수도 있다. 장쇄 알킬(메타)아크릴레이트란, 예를 들면, 헥실(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 옥타데실(메타)아크릴레이트, 베헤닐(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.In addition, a polymer compound having a long-chain alkyl group in the side chain can also be obtained by polymerization of a long-chain alkyl (meth)acrylate or copolymerization of a long-chain alkyl (meth)acrylate with another vinyl group-containing monomer. Examples of long-chain alkyl (meth)acrylates include hexyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, and behenyl (meth)acrylate.

왁스란, 천연 왁스, 합성 왁스, 그들을 배합한 왁스 중에서 선택된 왁스이다. 천연 왁스란, 식물계 왁스, 동물계 왁스, 광물계 왁스, 석유 왁스이다. 식물계 왁스로서는, 칸델릴라 왁스, 카르나우바 왁스, 라이스 왁스, 목랍, 호호바유 등을 들 수 있다. 동물계 왁스로서는, 밀랍, 라놀린, 고래 왁스 등을 들 수 있다. 광물계 왁스로서는 몬탄 왁스, 오조케라이트, 세레신 등을 들 수 있다. 석유 왁스로서는 파라핀 왁스, 마이크로크리스탈린 왁스, 페트로라텀 등을 들 수 있다. 합성 왁스로서는, 합성 탄화수소, 변성 왁스, 수소화 왁스, 지방산, 산 아미드, 아민, 이미드, 에스테르, 케톤 등을 들 수 있다. 합성 탄화수소로서는, 예를 들면, 피셔·트롭시 왁스(별명 사졸 왁스), 폴리에틸렌 왁스를 들 수 있고, 이 밖에 저분자량의 고분자(구체적으로는 점도 수평균 분자량 500 내지 20000의 고분자)인 이하의 폴리머, 즉, 폴리프로필렌, 에틸렌·아크릴산 공중합체, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜과 폴리프로필렌글리콜의 블록 또는 그래프트 결합체 등을 들 수 있다. 변성 왁스로서는 몬탄 왁스 유도체, 파라핀 왁스 유도체, 마이크로크리스탈린 왁스 유도체 등을 들 수 있다. 여기서의 유도체란, 정제, 산화, 에스테르화, 비누화 중 어느 처리, 또는 그들의 조합에 의해 얻어지는 화합물이다. 수소화 왁스로서는 경화 피마자유, 및 경화 피마자유 유도체를 들 수 있다.Wax is a wax selected from natural wax, synthetic wax, and a mixture of them. Natural waxes include plant wax, animal wax, mineral wax, and petroleum wax. Examples of plant waxes include candelilla wax, carnauba wax, rice wax, rose wax, and jojoba oil. Examples of animal waxes include beeswax, lanolin, and whale wax. Examples of mineral waxes include montan wax, ozokerite, and ceresin. Examples of petroleum waxes include paraffin wax, microcrystalline wax, and petrolatum. Examples of synthetic waxes include synthetic hydrocarbons, modified waxes, hydrogenated waxes, fatty acids, acid amides, amines, imides, esters, and ketones. Examples of synthetic hydrocarbons include Fischer-Tropsch wax (also known as Sasol wax) and polyethylene wax, and in addition, low-molecular-weight polymers (specifically, polymers having a viscosity number-average molecular weight of 500 to 20,000) include the following polymers: polypropylene, ethylene-acrylic acid copolymers, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and block or graft bonds of polyethylene glycol and polypropylene glycol. Examples of modified waxes include montan wax derivatives, paraffin wax derivatives, and microcrystalline wax derivatives. The derivatives herein are compounds obtained by any of refining, oxidation, esterification, and saponification treatments, or a combination thereof. Examples of hydrogenated waxes include hydrogenated castor oil and hydrogenated castor oil derivatives.

상기 왁스 중에서도 특성이 안정된다는 관점에서, 합성 왁스가 바람직하고, 그 중에서도 폴리에틸렌 왁스가 보다 바람직하고, 산화 폴리에틸렌 왁스가 더 바람직하다. 합성 왁스의 수평균 분자량(Mn)으로서는, 블로킹 등의 특성의 안정성, 취급성의 관점에서, 바람직하게는 500∼30000, 보다 바람직하게는 1000∼15000, 더 바람직하게는 2000∼8000의 범위이다.Among the above waxes, from the viewpoint of stable properties, synthetic wax is preferable, among them, polyethylene wax is more preferable, and oxidized polyethylene wax is even more preferable. As for the number average molecular weight (Mn) of the synthetic wax, from the viewpoint of stability of properties such as blocking and handleability, it is preferably in the range of 500 to 30,000, more preferably 1,000 to 15,000, and even more preferably 2,000 to 8,000.

불소 화합물이란, 화합물 중에 불소 원자를 함유하고 있는 화합물이다. 인라인 코팅에 의한 도포 외관의 점에서 유기계 불소 화합물이 적합하게 이용되며, 예를 들면, 퍼플루오로알킬기 함유 화합물, 불소 원자를 함유하는 올레핀 화합물의 중합체, 플루오로벤젠 등의 방향족 불소 화합물 등을 들 수 있다. 이형성의 관점에서 퍼플루오로알킬기를 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 추가로 불소 화합물에는 후술하는 바와 같은 장쇄 알킬 화합물을 함유하고 있는 화합물도 사용할 수 있다.Fluorine compounds are compounds containing fluorine atoms in the compound. From the viewpoint of the appearance of the coating by inline coating, organic fluorine compounds are suitably used, and examples thereof include compounds containing perfluoroalkyl groups, polymers of olefin compounds containing fluorine atoms, and aromatic fluorine compounds such as fluorobenzene. From the viewpoint of releasability, compounds containing perfluoroalkyl groups are preferable. In addition, compounds containing long-chain alkyl compounds, as described below, can also be used as fluorine compounds.

퍼플루오로알킬기를 갖는 화합물이란, 예를 들면, 퍼플루오로알킬(메타)아크릴레이트, 퍼플루오로알킬메틸(메타)아크릴레이트, 2-퍼플루오로알킬에틸(메타)아크릴레이트, 3-퍼플루오로알킬프로필(메타)아크릴레이트, 3-퍼플루오로알킬-1-메틸프로필(메타)아크릴레이트, 3-퍼플루오로알킬-2-프로펜일(메타)아크릴레이트 등의 퍼플루오로알킬기 함유 (메타)아크릴레이트나 그 중합물, 퍼플루오로알킬메틸비닐에테르, 2-퍼플루오로알킬에틸비닐에테르, 3-퍼플루오로프로필비닐에테르, 3-퍼플루오로알킬-1-메틸프로필비닐에테르, 3-퍼플루오로알킬-2-프로펜일비닐에테르 등의 퍼플루오로알킬기 함유 비닐에테르나 그 중합물 등을 들 수 있다. 내열성, 오염성을 고려하면 중합물인 것이 바람직하다. 중합물은 단일 화합물만이어도 복수 화합물의 중합물이어도 된다. 또한, 이형성의 관점에서 퍼플루오로알킬기는 탄소 원자수가 3∼11인 것이 바람직하다. 추가로 후술하는 바와 같은 장쇄 알킬 화합물을 함유하고 있는 화합물과의 중합물이어도 된다. 또한, 기재와의 밀착성의 관점에서, 염화비닐과의 중합물인 것도 바람직하다.Examples of the compound having a perfluoroalkyl group include perfluoroalkyl group-containing (meth)acrylates, perfluoroalkylmethyl (meth)acrylate, 2-perfluoroalkylethyl (meth)acrylate, 3-perfluoroalkylpropyl (meth)acrylate, 3-perfluoroalkyl-1-methylpropyl (meth)acrylate, 3-perfluoroalkyl-2-propenyl (meth)acrylate, and other perfluoroalkyl group-containing (meth)acrylates or polymers thereof; perfluoroalkyl group-containing vinyl ethers, such as perfluoroalkyl methyl vinyl ether, 2-perfluoroalkyl ethyl vinyl ether, 3-perfluoropropyl vinyl ether, 3-perfluoroalkyl-1-methylpropyl vinyl ether, and 3-perfluoroalkyl-2-propenyl vinyl ether, and polymers thereof. Considering heat resistance and contamination resistance, a polymer is preferable. The polymer may be a single compound or a polymer of multiple compounds. In addition, from the viewpoint of heteromorphism, it is preferable that the perfluoroalkyl group has 3 to 11 carbon atoms. Additionally, it may be a polymer with a compound containing a long-chain alkyl compound as described later. In addition, from the viewpoint of adhesion to the substrate, it is also preferable that it is a polymer with vinyl chloride.

수지층 (B)의 형성에는, 이물 등의 부착을 방지한다는 관점에서, 대전 방지제를 함유하는 것이 바람직하고, 예를 들면, 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물에, 다른 음이온 화합물에 의해 도핑된 중합체, 또는 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물 중에 음이온기를 가지고 자기 도프된 중합체, 또는, 알킬술폰산 이온을 카운터 이온으로 하는 단량체를 성분으로서 포함하는 중합체 등을 이용할 수 있다. 그 중에서도, 우수한 대전 방지 성능이 얻어지는 관점에서, 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물을 함유하는 것이 보다 바람직하다.In forming the resin layer (B), from the viewpoint of preventing adhesion of foreign substances, etc., it is preferable to contain an antistatic agent, and for example, a polymer doped with another anionic compound in a compound composed of thiophene or a thiophene derivative, a polymer self-doped with an anionic group in a compound composed of thiophene or a thiophene derivative, or a polymer containing a monomer having an alkylsulfonic acid ion as a counter ion as a component, etc. can be used. Among these, from the viewpoint of obtaining excellent antistatic performance, it is more preferable to contain a compound composed of thiophene or a thiophene derivative.

티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물로서는, 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물의 다른 음이온 화합물에 의해 도핑된 중합체, 또는, 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물 중에 음이온기를 가지고 자기 도프된 중합체로서는, 예를 들면 하기 식(6) 또는 하기 식(7)의 화합물을, 폴리 음이온의 존재 하에서 중합하여 얻어지는 것이 예시된다.As a compound comprising thiophene or a thiophene derivative, a polymer doped with another anionic compound of a compound comprising thiophene or a thiophene derivative, or a polymer self-doped with an anionic group in a compound comprising thiophene or a thiophene derivative, for example, a compound of the following formula (6) or the following formula (7) is exemplified, obtained by polymerizing in the presence of a polyanion.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112024020746582-pct00005
Figure 112024020746582-pct00005

상기 식(6) 중, R1 및 R2는, 각각 독립하여, 수소 원자 또는 탄소수가 1∼20인 지방족 탄화수소기, 지환족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 등을 나타낸다.In the above formula (6), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, etc. having 1 to 20 carbon atoms.

[화학식 6][Chemical formula 6]

Figure 112024020746582-pct00006
Figure 112024020746582-pct00006

상기 식(7) 중, n은 1∼4의 정수를 나타낸다.In the above equation (7), n represents an integer from 1 to 4.

중합 시에 사용하는 폴리 음이온으로서는, 예를 들면, 폴리(메타)아크릴산, 폴리말레산, 폴리스티렌술폰산, 폴리비닐술폰산 등이 예시된다. 이러한 중합체의 제조 방법으로서는, 예를 들면 일본공개특허 특개평7-90060호 공보에 나타내어지는 바와 같은 방법을 채용할 수 있다.Examples of polyanions used in polymerization include poly(meth)acrylic acid, polymaleic acid, polystyrene sulfonic acid, and polyvinyl sulfonic acid. As a method for producing such polymers, a method such as that disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-90060 can be adopted.

본 발명에 있어서는, 상기 식(7)의 화합물에 있어서 n이 2이고, 폴리 음이온으로서 폴리스티렌술폰산을 이용한 것이 적합하게 이용된다.In the present invention, a compound of the above formula (7) in which n is 2 and polystyrene sulfonic acid is used as the polyanion is suitably used.

또한 이러한 폴리 음이온이 산성인 경우, 일부 또는 전부가 중화되어 있어도 된다. 중화에 이용하는 염기로서는 암모니아, 유기 아민류, 알칼리 금속 수산화물이 바람직하다.In addition, if these polyanions are acidic, some or all of them may be neutralized. Ammonia, organic amines, and alkali metal hydroxides are preferable as bases used for neutralization.

알킬술폰산 이온을 카운터 이온으로 하는 단량체를 성분으로서 포함하는 중합체의 구체적인 예로서는, 예를 들면 하기 식(8)로 나타내어지는 구성 요소를 반복 단위로서 갖는 중합체를 들 수 있다. 이러한 단독 중합체나 공중합체, 또한, 그 밖의 복수의 성분을 공중합하고 있어도 상관없다. 대전 방지성을 향상시키는 관점에서, 단독 중합체인 것이 바람직하다.As a specific example of a polymer containing a monomer having an alkylsulfonic acid ion as a counter ion as a component, there may be mentioned, for example, a polymer having a component represented by the following formula (8) as a repeating unit. Such a homopolymer or a copolymer, or even a copolymer of multiple other components, may be used. From the viewpoint of improving antistatic properties, a homopolymer is preferable.

[화학식 7][Chemical formula 7]

Figure 112024020746582-pct00007
Figure 112024020746582-pct00007

중합체의 구조로서는, 예를 들면 상기 식 중에서 치환기 R1이 수소 원자 또는 탄소수가 1∼3인 알킬기, R2가 -O- 또는 -NH-, R3이 탄소수 1∼6의 알킬렌기 또는 식(8)의 구조를 성립할 수 있는 그 밖의 구조, R4, R5, R6이 적어도 1개가 수소 원자이고, 다른 치환기는 탄소수 1∼3의 알킬기, 또는 알킬기의 탄소수가 2∼3인 히드록시알킬기, X-가 탄소수 1∼4의 알킬기를 갖는 알킬술폰산 이온인 것을 들 수 있다.As the structure of the polymer, for example, in the formula above, the substituent R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 2 is -O- or -NH-, R 3 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or another structure capable of forming the structure of formula (8), at least one of R 4 , R 5 , and R 6 is a hydrogen atom, and the other substituent is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a hydroxyalkyl group having 2 to 3 carbon atoms in the alkyl group, and X - is an alkylsulfonic acid ion having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

수지층 (B)의 형성에는, 도포 외관이나 대전 방지 성능을 양호하게 할 목적으로, 폴리히드록시 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 폴리히드록시 화합물로서는, 폴리글리세린, 및 폴리글리세린에의 알킬렌옥사이드 부가물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물 또는 그 유도체를 이용하는 것이 바람직하다. 폴리글리세린이란, 하기 일반식(9)로 나타내어지는 화합물이다.In forming the resin layer (B), it is preferable to include a polyhydroxy compound for the purpose of improving the coating appearance and antistatic performance. As the polyhydroxy compound, it is preferable to use one or more compounds selected from polyglycerin and alkylene oxide adducts to polyglycerin, or derivatives thereof. Polyglycerin is a compound represented by the following general formula (9).

[화학식 8][Chemical formula 8]

Figure 112024020746582-pct00008
Figure 112024020746582-pct00008

상기 식(9) 중의 n은 2 이상이며, 본 발명에 있어서는, 식 중의 n은 통상 2∼20, 바람직하게는 3∼15, 보다 바람직하게는 3∼12의 범위이다.In the above formula (9), n is 2 or more, and in the present invention, n in the formula is usually in the range of 2 to 20, preferably 3 to 15, and more preferably 3 to 12.

폴리글리세린에의 알킬렌옥사이드 부가물이란, 상기 일반식(9)로 나타내어지는 폴리글리세린의 히드록실기에 알킬렌옥사이드를 부가 중합한 구조를 갖는 것이다.An alkylene oxide adduct to polyglycerin has a structure in which an alkylene oxide is added to the hydroxyl group of polyglycerin represented by the general formula (9).

여기서, 폴리글리세린 골격의 히드록실기마다, 부가되는 알킬렌옥사이드의 구조는 상이해도 상관없다. 또한, 적어도 분자 중 하나의 히드록실기에 부가되어 있으면 되고, 모든 히드록실기에 알킬렌옥사이드 또는 그 유도체가 부가되어 있을 필요는 없다.Here, the structure of the alkylene oxide added to each hydroxyl group of the polyglycerin skeleton may be different. In addition, it is sufficient that it is added to at least one hydroxyl group of the molecules, and it is not necessary for the alkylene oxide or its derivative to be added to all the hydroxyl groups.

폴리글리세린에 부가되는 알킬렌옥사이드로서 바람직한 것은, 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드이다. 알킬렌옥사이드의 알킬렌쇄가 지나치게 길어지면, 소수성이 강해지고, 도포액 중에서의 분산성이 악화하여, 수지층 (B)의 대전 방지성이나 투명성이 악화하는 경향이 있다. 특히 바람직한 것은 에틸렌옥사이드이다. 또한, 그 부가수는, 최종적인 화합물로서의 수평균 분자량(Mn)으로 200∼2000의 범위가 되는 것이 바람직하고, 300∼1000의 범위가 보다 바람직하고, 400∼900의 범위인 것이 더 바람직하다.As the alkylene oxide added to polyglycerin, ethylene oxide or propylene oxide is preferable. If the alkylene chain of the alkylene oxide becomes too long, the hydrophobicity becomes strong, the dispersibility in the coating solution deteriorates, and the antistatic property and transparency of the resin layer (B) tend to deteriorate. Ethylene oxide is particularly preferable. In addition, the number of additions is preferably in the range of 200 to 2000, more preferably in the range of 300 to 1000, and even more preferably in the range of 400 to 900, as a number average molecular weight (Mn) of the final compound.

상기 폴리글리세린, 또는 폴리글리세린에의 알킬렌옥사이드 부가물은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 복수 병용해도 된다.The above polyglycerin or alkylene oxide adduct to polyglycerin may be used alone or in combination of two or more types.

수지층 (B)의 형성에는, 도포 외관이나 투명성의 향상의 관점에서 바인더 성분으로서 종래 공지의 각종의 폴리머를 병용할 수 있고, 폴리머의 구체예로서는, 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리비닐알코올, 염화비닐아세트산 비닐 공중합체 등을 들 수 있다. 수지층 (B)를 보다 강고하게 하여, 블로킹을 경감한다는 관점에서, 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지를 사용하는 것이 바람직하다.In forming the resin layer (B), from the viewpoint of improving the coating appearance or transparency, various conventionally known polymers can be used in combination as a binder component, and specific examples of the polymer include polyester resin, urethane resin, acrylic resin, polyvinyl alcohol, vinyl chloride acetate copolymer, etc. From the viewpoint of making the resin layer (B) stronger and reducing blocking, it is preferable to use polyester resin or urethane resin.

폴리에스테르 수지로서는, 주된 구성 성분으로서 예를 들면, 하기와 같은 다가 카르본산 및 다가 히드록시 화합물로 이루어지는 것을 들 수 있다. 즉, 다가 카르본산으로서는, 테레프탈산, 이소프탈산, 오르토프탈산, 프탈산, 4,4'-디페닐디카르본산, 2,5-나프탈렌디카르본산, 1,5-나프탈렌디카르본산 및, 2,6-나프탈렌디카르본산, 2,7-나프탈렌디카르본산, 1,4-시클로헥산디카르본산, 2-칼륨술포테레프탈산, 5-소듐술포이소프탈산, 아디프산, 아젤라산, 세바스산, 도데칸디카르본산, 글루타르산, 숙신산, 트리멜리트산, 트리메스산, 피로멜리트산, 무수 트리멜리트산, 무수 프탈산, p-히드록시벤조산, 트리멜리트산 모노 칼륨염 및 그들의 에스테르 형성성 유도체 등을 이용할 수 있다. 다가 히드록시 화합물로서는, 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올, p-크실릴렌글리콜, 비스페놀A-에틸렌글리콜 부가물, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜, 폴리테트라메틸렌옥사이드글리콜, 디메틸올프로피온산, 글리세린, 트리메틸올프로판, 디메틸올에틸술폰산 나트륨, 디메틸올프로피온산 칼륨 등을 이용할 수 있다.As polyester resins, examples thereof include those composed of polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds as main components, such as the following. That is, as polycarboxylic acids, terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, phthalic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2-potassium sulfoterephthalic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, glutaric acid, succinic acid, trimellitic acid, trimesic acid, pyromellitic acid, trimellitic anhydride, phthalic anhydride, p-hydroxybenzoic acid, trimellitic acid monopotassium salt, and their ester-forming derivatives can be used. Examples of polyhydroxy compounds that can be used include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, p-xylylene glycol, bisphenol A-ethylene glycol adduct, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polytetramethylene oxide glycol, dimethylolpropionic acid, glycerin, trimethylolpropane, sodium dimethylol ethyl sulfonate, and potassium dimethylolpropionate.

폴리에스테르 수지는, 다가 카르본산과 다가 히드록시 화합물의 중축합물이다. 상기한 화합물 중에서, 다가 카르본산 및 다가 히드록시 화합물 각각을 적절히 1개 이상 선택하여, 상법(常法)의 중축합 반응에 의해 폴리에스테르 수지를 합성하면 된다. 또한, 폴리에스테르 수지는, 수분산체로 해도 되고, 그 경우, 폴리에스테르 수지에는 적절히 친수성 관능기 등을 도입해도 된다.Polyester resin is a polycondensation product of polycarboxylic acid and polyhydroxy compound. From the above compounds, one or more polycarboxylic acid and one or more polyhydroxy compound are appropriately selected, and a polyester resin is synthesized by a polycondensation reaction of a conventional method. In addition, the polyester resin may be in the form of an aqueous dispersion, and in that case, a hydrophilic functional group or the like may be appropriately introduced into the polyester resin.

우레탄 수지란, 우레탄 결합을 분자 내에 갖는 고분자 화합물이다. 통상 우레탄 수지는 폴리올과 이소시아네이트의 반응에 의해 작성된다. 폴리올로서는, 폴리카보네이트폴리올류, 폴리에스테르폴리올류, 폴리에테르폴리올류, 폴리올레핀폴리올류, 아크릴폴리올류를 들 수 있고, 이러한 화합물은 단독으로 이용해도, 복수종 이용해도 된다. 우레탄 수지는, 수분산체여도 되고, 그 경우, 예를 들면 폴리올에 적절히 친수성 관능기를 도입해도 된다.Urethane resin is a polymer compound having urethane bonds in the molecule. Urethane resin is usually produced by the reaction of polyol and isocyanate. Examples of polyols include polycarbonate polyols, polyester polyols, polyether polyols, polyolefin polyols, and acrylic polyols. These compounds may be used alone or in combination. Urethane resin may be an aqueous dispersion, and in that case, for example, a hydrophilic functional group may be introduced appropriately into the polyol.

폴리카보네이트폴리올류는, 다가 알코올류와 카보네이트 화합물로부터, 탈알코올 반응에 의해 얻어진다. 다가 알코올류로서는, 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,4-시클로헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,7-헵탄디올, 1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 1,10-데칸디올, 네오펜틸글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 3,3-디메틸올헵탄 등을 들 수 있다. 카보네이트 화합물로서는, 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 디페닐카보네이트, 에틸렌카보네이트 등을 들 수 있고, 이들의 반응으로부터 얻어지는 폴리카보네이트계 폴리올류로서는, 예를 들면, 폴리(1,6-헥실렌)카보네이트, 폴리(3-메틸-1,5-펜틸렌)카보네이트 등을 들 수 있다.Polycarbonate polyols are obtained from polyhydric alcohols and carbonate compounds by a dealcoholization reaction. Examples of the polyhydric alcohols include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 3,3-dimethylolheptane, etc. Examples of carbonate compounds include dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, and ethylene carbonate, and examples of polycarbonate polyols obtained from reactions thereof include poly(1,6-hexylene) carbonate, poly(3-methyl-1,5-pentylene) carbonate, and the like.

폴리에스테르폴리올류로서는, 다가 카르본산(말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 세바스산, 푸마르산, 말레산, 테레프탈산, 이소프탈산 등) 또는 그들의 산 무수물과 다가 알코올(에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,6-헥산디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 1,8-옥탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2,5-디메틸-2,5-헥산디올, 1,9-노난디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-헥실-1,3-프로판디올, 시클로헥산디올, 비스히드록시메틸시클로헥산, 디메탄올벤젠, 비스히드록시에톡시벤젠, 알킬디알카놀아민, 락톤디올 등)의 반응으로부터 얻어지는 것을 들 수 있다.Polyester polyols include polycarboxylic acids (malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, etc.) or their acid anhydrides and polyhydric alcohols (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 1,8-octanediol, Examples thereof include those obtained from the reaction of 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-hexyl-1,3-propanediol, cyclohexanediol, bishydroxymethylcyclohexane, dimethanolbenzene, bishydroxyethoxybenzene, alkyldialkanolamines, lactone diol, etc.

폴리에테르폴리올류로서는, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌에테르글리콜, 폴리헥사메틸렌에테르글리콜 등을 들 수 있다.Examples of polyether polyols include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene propylene glycol, polytetramethylene ether glycol, and polyhexamethylene ether glycol.

각종의 기능층과의 밀착성을 향상시키기 위해, 상기 폴리올류 중에서도 폴리카보네이트폴리올류 및 폴리에스테르폴리올류가 더 적합하게 이용된다.In order to improve adhesion with various functional layers, among the above polyols, polycarbonate polyols and polyester polyols are more suitably used.

우레탄 수지를 얻기 위해 사용되는 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 메틸렌디페닐디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트 등의 방향환을 갖는 지방족 디이소시아네이트, 메틸렌디이소시아네이트, 프로필렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 이소프로필리덴디시클로헥실디이소시아네이트 등의 지환족 디이소시아네이트 등이 예시된다. 이들은 단독으로 이용해도, 복수종 병용해도 된다.As polyisocyanate compounds used to obtain urethane resins, aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylene diphenyl diisocyanate, phenylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, and tolidine diisocyanate; aliphatic diisocyanates having an aromatic ring such as α,α,α',α'-tetramethylxylylene diisocyanate; aliphatic diisocyanates such as methylene diisocyanate, propylene diisocyanate, lysine diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate; alicyclic diisocyanates such as cyclohexane diisocyanate, methylcyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, and isopropylidenedicyclohexyl diisocyanate. Diisocyanates are examples. These can be used alone or in combination.

우레탄 수지를 합성할 때에 쇄 연장제를 사용해도 되고, 쇄 연장제로서는, 이소시아네이트기와 반응하는 활성기를 2개 이상 갖는 것이면 특별히 제한은 없으며, 일반적으로는, 수산기 또는 아미노기를 2개 갖는 쇄 연장제를 주로 이용할 수 있다.When synthesizing a urethane resin, a chain extender may be used. There are no particular restrictions on the chain extender as long as it has two or more active groups that react with isocyanate groups. In general, chain extenders having two hydroxyl groups or amino groups can be mainly used.

수산기를 2개 갖는 쇄 연장제로서는, 예를 들면, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올 등의 지방족 글리콜, 크실릴렌글리콜, 비스히드록시에톡시벤젠 등의 방향족 글리콜, 네오펜틸글리콜히드록시피발레이트 등의 에스테르글리콜이라는 글리콜류를 들 수 있다. 또한, 아미노기를 2개 갖는 쇄 연장제로서는, 예를 들면, 톨릴렌디아민, 크실릴렌디아민, 디페닐메탄디아민 등의 방향족 디아민, 에틸렌디아민, 프로필렌디아민, 헥산디아민, 2,2-디메틸-1,3-프로판디아민, 2-메틸-1,5-펜탄디아민, 트리메틸헥산디아민, 2-부틸-2-에틸-1,5-펜탄디아민, 1,8-옥탄디아민, 1,9-노난디아민, 1,10-데칸디아민 등의 지방족 디아민, 1-아미노-3-아미노메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥산, 디시클로헥실메탄디아민, 이소프로필리덴시클로헥실-4,4'-디아민, 1,4-디아미노시클로헥산, 1,3-비스아미노메틸시클로헥산 등의 지환족 디아민 등을 들 수 있다.Examples of chain extenders having two hydroxyl groups include aliphatic glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, and butanediol; aromatic glycols such as xylylene glycol and bishydroxyethoxybenzene; and ester glycols such as neopentyl glycol hydroxypivalate. In addition, as chain extenders having two amino groups, examples thereof include aromatic diamines such as tolylenediamine, xylylenediamine, and diphenylmethanediamine; aliphatic diamines such as ethylenediamine, propylenediamine, hexanediamine, 2,2-dimethyl-1,3-propanediamine, 2-methyl-1,5-pentanediamine, trimethylhexanediamine, 2-butyl-2-ethyl-1,5-pentanediamine, 1,8-octanediamine, 1,9-nonanediamine, and 1,10-decanediamine; and alicyclic diamines such as 1-amino-3-aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane, dicyclohexylmethanediamine, isopropylidenecyclohexyl-4,4'-diamine, 1,4-diaminocyclohexane, and 1,3-bisaminomethylcyclohexane.

본 발명에 있어서의 우레탄 수지는, 용제를 매체로 하는 것이어도 되고, 바람직하게는 물을 매체로 하는 것이다. 우레탄 수지를 물에 분산 또는 용해시키기에는, 유화제를 이용하는 강제 유화형, 우레탄 수지 중에 친수성기를 도입하는 자기 유화형 또는 수용형(水溶型) 등이 있다. 특히, 우레탄 수지의 구조 중에 이온기를 도입하여 아이오노머화한 자기 유화 타입이, 액의 저장 안정성이나 얻어지는 도포층의 내수성, 투명성, 밀착성이 우수하여 바람직하다.The urethane resin in the present invention may be a medium using a solvent, and preferably uses water as a medium. In order to disperse or dissolve the urethane resin in water, there are forced emulsification types using an emulsifier, self-emulsification types introducing hydrophilic groups into the urethane resin, or water-soluble types. In particular, a self-emulsification type in which an ionic group is introduced into the structure of the urethane resin to form an ionomer is preferable because of its excellent storage stability as a liquid and the water resistance, transparency, and adhesion of the resulting coating layer.

또한, 도입하는 이온기로서는, 카르복실기, 술폰산, 인산, 포스폰산, 제 4 급 암모늄염 등, 여러 가지의 것을 들 수 있지만, 카르복실기가 바람직하다. 우레탄 수지에 카르복실기를 도입하는 방법으로서는, 중합 반응의 각 단계 중에서 여러 가지 방법을 취할 수 있다. 예를 들면, 프레폴리머 합성 시에, 카르복실기를 갖는 수지를 공중합 성분으로서 이용하는 방법이나, 폴리올이나 폴리이소시아네이트, 쇄 연장제 등의 1성분으로서 카르복실기를 갖는 성분을 이용하는 방법이 있다. 특히, 카르복실기 함유 디올을 이용하여, 이 성분의 투입량에 따라 원하는 양의 카르복실기를 도입하는 방법이 바람직하다. 예를 들면, 우레탄 수지의 중합에 이용하는 디올에 대하여, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산, 비스-(2-히드록시에틸)프로피온산, 비스-(2-히드록시에틸)부탄산 등을 공중합시킬 수 있다. 또한 이 카르복실기는 암모니아, 아민, 알칼리 금속류, 무기 알칼리류 등으로 중화한 염의 형태로 하는 것이 바람직하다. 특히 바람직한 것은, 암모니아, 트리메틸아민, 트리에틸아민이다. 이러한 폴리우레탄 수지는, 도포 후의 건조 공정에 있어서 중화제가 제외된 카르복실기를, 다른 가교제에 의한 가교 반응점으로서 이용할 수 있다. 이에 의해, 도포 전의 액의 상태에서의 안정성이 우수한 것에 더하여, 얻어지는 도포층의 내구성, 내용제성, 내수성, 내블로킹성 등을 더 개선하는 것이 가능해진다.Also, as the ionic group to be introduced, various things such as a carboxyl group, sulfonic acid, phosphoric acid, phosphonic acid, and a quaternary ammonium salt can be mentioned, but a carboxyl group is preferable. As a method for introducing a carboxyl group into a urethane resin, various methods can be taken during each stage of the polymerization reaction. For example, during prepolymer synthesis, there is a method of using a resin having a carboxyl group as a copolymerization component, or a method of using a component having a carboxyl group as one component such as a polyol, polyisocyanate, or a chain extender. In particular, a method of using a carboxyl group-containing diol and introducing a desired amount of carboxyl groups according to the amount of this component introduced is preferable. For example, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, bis-(2-hydroxyethyl)propionic acid, bis-(2-hydroxyethyl)butanoic acid, etc. can be copolymerized with respect to the diol used for polymerization of a urethane resin. In addition, it is preferable that this carboxyl group be in the form of a salt neutralized with ammonia, amine, alkali metal, inorganic alkali, etc. Particularly preferable are ammonia, trimethylamine, and triethylamine. In such a polyurethane resin, the carboxyl group from which the neutralizing agent is removed can be used as a crosslinking reaction site by another crosslinking agent in the drying process after coating. As a result, in addition to excellent stability in the liquid state before coating, it becomes possible to further improve the durability, solvent resistance, water resistance, blocking resistance, etc. of the obtained coating layer.

아크릴 수지는, 아크릴계, 메타크릴계의 모노머를 포함하는 중합성 모노머로 이루어지는 중합체이다. 이들은, 단독 중합체 또는 공중합체, 나아가서는 아크릴계, 메타크릴계의 모노머 이외의 중합성 모노머와의 공중합체 중 어느 것이어도 된다. 또한, 그들 중합체와 다른 폴리머(예를 들면 폴리에스테르, 폴리우레탄 등)와의 공중합체도 포함된다. 예를 들면, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체이다. 즉, 아크릴 수지는, 아크릴 변성 폴리에스테르 수지나, 아크릴 변성 폴리우레탄 수지여도 된다. 나아가서는, 폴리에스테르 용액, 또는 폴리에스테르 분산액 중에서 중합성 모노머를 중합하여 얻어진 폴리머(경우에 따라서는 폴리머의 혼합물)도 포함된다. 마찬가지로 폴리우레탄 용액, 폴리우레탄 분산액 중에서 중합성 모노머를 중합하여 얻어진 폴리머(경우에 따라서는 폴리머의 혼합물)도 포함된다. 마찬가지로 하여 그 밖의 폴리머 용액, 또는 분산액 중에서 중합성 모노머를 중합하여 얻어진 폴리머(경우에 따라서는 폴리머 혼합물)도 포함되며, 이들도 본 명세서에서는, 아크릴 변성 폴리에스테르 수지나, 아크릴 변성 폴리우레탄 수지로 한다. 또한, 아크릴 수지에 있어서 사용되는 상기한 폴리에스테르, 폴리우레탄은, 상기한 바인더 성분으로서의 폴리에스테르, 폴리우레탄으로서 예시된 것으로부터 적절히 선택하여 사용할 수 있다.Acrylic resins are polymers made of polymerizable monomers including acrylic and methacrylic monomers. These may be homopolymers, copolymers, or further copolymers with polymerizable monomers other than acrylic and methacrylic monomers. Furthermore, copolymers of these polymers with other polymers (e.g., polyester, polyurethane, etc.) are also included. Examples thereof include block copolymers and graft copolymers. That is, the acrylic resin may be an acrylic-modified polyester resin or an acrylic-modified polyurethane resin. Furthermore, a polymer (or in some cases, a mixture of polymers) obtained by polymerizing a polymerizable monomer in a polyester solution or a polyester dispersion is also included. Similarly, a polymer (or in some cases, a mixture of polymers) obtained by polymerizing a polymerizable monomer in a polyurethane solution or a polyurethane dispersion is also included. Likewise, polymers (and in some cases polymer mixtures) obtained by polymerizing a polymerizable monomer in other polymer solutions or dispersions are also included, and these are also referred to herein as acrylic modified polyester resins or acrylic modified polyurethane resins. In addition, the polyester and polyurethane used in the acrylic resin can be appropriately selected and used from those exemplified as the polyester and polyurethane as the binder component.

또한, 아크릴 수지는, 기재 필름과의 밀착성을 보다 향상시키기 위해, 히드록실기, 아미노기를 함유해도 된다.Additionally, the acrylic resin may contain a hydroxyl group or an amino group to further improve adhesion to the substrate film.

상기 중합성 모노머로서는, 특별히 한정은 하지 않으나, 대표적인 화합물로서, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 푸마르산, 말레산, 시트라콘산과 같은 각종 카르복실기 함유 모노머류, 및 그들의 염; 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 모노부틸히드록시푸마레이트, 모노부틸히드록시이타코네이트와 같은 각종의 수산기 함유 모노머류; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트와 같은 각종의 (메타)아크릴산 에스테르류; (메타)아크릴아미드, 디아세톤아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 또는 (메타)아크릴로니트릴 등과 같은 다양한 질소 함유 화합물; 스티렌, α-메틸스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔과 같은 각종 스티렌 유도체, 프로피온산 비닐과 같은 각종의 비닐 에스테르류; γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란 등의 여러 가지의 규소 함유 중합성 모노머류; 인 함유 비닐계 모노머류; 염화비닐, 염화비닐리덴과 같은 각종의 할로겐화 비닐류; 부타디엔과 같은 각종 공액 디엔류를 들 수 있다.As the above polymerizable monomer, there is no particular limitation, and representative compounds include, for example, various carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, and citraconic acid, and salts thereof; various hydroxyl group-containing monomers such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, monobutyl hydroxyfumarate, and monobutyl hydroxyitaconate; various (meth)acrylic acid esters such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, and lauryl (meth)acrylate; Examples thereof include various nitrogen-containing compounds such as (meth)acrylamide, diacetone acrylamide, N-methylolacrylamide, and (meth)acrylonitrile; various styrene derivatives such as styrene, α-methylstyrene, divinylbenzene, and vinyltoluene; various vinyl esters such as vinyl propionate; various silicon-containing polymerizable monomers such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and vinyltrimethoxysilane; phosphorus-containing vinyl monomers; various halogenated vinyls such as vinyl chloride and vinylidene chloride; and various conjugated dienes such as butadiene.

수지층 (B)의 강도를 향상시키기 위해, 가교제를 병용하는 것도 가능하다. 가교제란 종래 공지의 재료를 사용할 수 있고, 예를 들면, 옥사졸린 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민 화합물, 이소시아네이트계 화합물, 카르보디이미드계 화합물, 유기 규소 화합물 등을 들 수 있다. 수지층 (B)의 강도를 높인다는 관점에 있어서는, 멜라민 화합물이 보다 바람직하다. 또한, 2종류 이상의 가교제를 병용하는 것도 가능하다.In order to improve the strength of the resin layer (B), it is also possible to use a crosslinking agent in combination. The crosslinking agent may be a conventionally known material, and examples thereof include oxazoline compounds, epoxy compounds, melamine compounds, isocyanate compounds, carbodiimide compounds, and organic silicon compounds. From the viewpoint of improving the strength of the resin layer (B), a melamine compound is more preferable. In addition, it is also possible to use two or more types of crosslinking agents in combination.

본 이형 필름에 있어서의 수지층 (B)에는, 필름의 이활성을 향상시킬 목적으로, 입자를 함유할 수 있지만, 보다 바람직한 형태는 입자를 실질적으로 함유하지 않는 것이다. 수지층 (B)에 입자를 실질적으로 함유하지 않음으로써, 박리 특성을 안정화하면서, 이형 성분의 이행성을 낮출 수 있다.The resin layer (B) in the present release film may contain particles for the purpose of improving the film's activity, but a more preferable form is one in which particles are substantially absent. By containing substantially no particles in the resin layer (B), the release properties can be stabilized while reducing the transferability of the release component.

또한, 실질적으로 함유하지 않는다란, 본 발명의 효과를 저해하지 않을 정도로 소량이면 수지층 (B)가 입자를 함유해도 되는 것을 의미하며, 예를 들면 불가피하게 혼입되는 입자가 포함되어도 된다. 구체적인 수지층 (B)에 있어서의 입자의 함유량은, 불휘발 성분 기준으로, 예를 들면, 0.05질량% 미만, 바람직하게는 0.01질량% 미만, 보다 바람직하게는 0.0001질량% 미만이다. 또한, 불휘발 성분 기준의 수지층 (B)에 있어서의 입자의 함유량의 범위도, 상기 입자의 함유량과 동일하다.In addition, substantially not containing means that the resin layer (B) may contain particles as long as the amount is small enough not to impede the effect of the present invention, and for example, particles that are inevitably mixed may be contained. The content of particles in a specific resin layer (B) is, for example, less than 0.05 mass%, preferably less than 0.01 mass%, more preferably less than 0.0001 mass%, based on nonvolatile components. In addition, the range of the content of particles in the resin layer (B) based on nonvolatile components is also the same as the content of the particles.

추가로 본 발명의 주지를 손상하지 않는 범위에 있어서, 수지층 (B)에는, 필요에 따라 소포제, 도포성 개량제, 증점제, 유기계 윤활제, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 발포제, 염료, 안료 등을 함유해도 된다.Additionally, within a range that does not impair the spirit of the present invention, the resin layer (B) may contain, as necessary, an antifoaming agent, a coating improving agent, a thickener, an organic lubricant, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a foaming agent, a dye, a pigment, or the like.

수지층 (B)에 있어서, 불휘발 성분 중에 있어서의 이형제의 함유량은 10∼70질량%인 것이 바람직하다. 이형제의 함유량이 10질량% 이상이면, 양호한 블로킹 방지 성능이 얻어진다.In the resin layer (B), the content of the release agent among the nonvolatile components is preferably 10 to 70 mass%. When the content of the release agent is 10 mass% or more, good anti-blocking performance is obtained.

수지층 (B)에 있어서, 비실리콘계 이형제로서 장쇄 알킬기 함유 화합물을 사용하는 경우, 수지층 (B) 조성물 중의 전체 불휘발 성분에서 차지하는 비율로서, 장쇄 알킬기 함유 화합물은 바람직하게는 5∼90질량%, 보다 바람직하게는 10∼70질량%, 더 바람직하게는 20∼60질량%, 가장 바람직하게는 20∼40질량%의 범위이다. 장쇄 알킬기 함유 화합물의 비율이 상기 범위이면, 양호한 블로킹 방지 성능이 얻어져, 블로킹에 의한 이형층의 박리 특성의 변화를 경감함으로써, 보다 필름에 압력이 가해지는 롤의 하측 감김 부분에서의 이형층의 중박리화를 크게 억제할 수 있다.In the case where a long-chain alkyl group-containing compound is used as a non-silicone-based release agent in the resin layer (B), the proportion of the long-chain alkyl group-containing compound in the total nonvolatile components in the resin layer (B) composition is preferably in the range of 5 to 90 mass%, more preferably 10 to 70 mass%, further preferably 20 to 60 mass%, and most preferably 20 to 40 mass%. When the proportion of the long-chain alkyl group-containing compound is in the above range, good anti-blocking performance is obtained, and by reducing changes in the peeling characteristics of the release layer due to blocking, it is possible to significantly suppress heavy peeling of the release layer in the lower winding portion of the roll where more pressure is applied to the film.

수지층 (B)에 있어서, 비실리콘계 이형제로서 왁스를 이용하는 경우, 수지층 (B) 중의 전체 불휘발 성분에서 차지하는 비율로서, 왁스는 바람직하게는 5∼90질량%, 보다 바람직하게는 10∼80질량%, 더 바람직하고 25∼70질량%의 범위이다. 왁스의 비율이 상기 범위이면, 양호한 블로킹 방지 성능이 얻어져, 블로킹에 의한 이형층의 박리 특성의 변화를 경감함으로써, 보다 필름에 압력이 걸리는 롤의 하측 감김 부분에서의 이형층의 중박리화를 크게 억제할 수 있다. 또한, 멜라민 화합물과 조합하여 이용한 경우에는, 중박리화가 진행되는 경우가 있다. 따라서, 왁스를 이용하는 경우에는, 가교제 등과의 조합에 주의할 필요가 있다. 한편, 장쇄 알킬기 함유 화합물은 이하와 같은 문제가 없어, 보다 바람직하다고 할 수 있다.In the resin layer (B), when using wax as a non-silicone release agent, the proportion of the wax in the total nonvolatile components in the resin layer (B) is preferably in the range of 5 to 90 mass%, more preferably 10 to 80 mass%, and even more preferably 25 to 70 mass%. When the proportion of the wax is in the above range, good anti-blocking performance is obtained, and by reducing the change in the peeling characteristics of the release layer due to blocking, the peeling of the release layer in the lower winding portion of the roll where pressure is applied to the film can be significantly suppressed. In addition, when used in combination with a melamine compound, the peeling may progress. Therefore, when using a wax, care must be taken in combining it with a crosslinking agent, etc. On the other hand, a long-chain alkyl group-containing compound does not have the following problems, and can be said to be more preferable.

바람직한 조성물의 조합으로서, 장쇄 알킬기 함유 화합물과 멜라민 화합물, 장쇄 알킬기 함유 화합물과 옥사졸린 화합물, 장쇄 알킬기 함유 화합물과 멜라민 화합물과 옥사졸린 화합물, 왁스와 멜라민 화합물과 옥사졸린 화합물의 조합이 예시된다.As combinations of preferred compositions, combinations of a long-chain alkyl group-containing compound and a melamine compound, a long-chain alkyl group-containing compound and an oxazoline compound, a long-chain alkyl group-containing compound and a melamine compound and an oxazoline compound, and a wax and a melamine compound and an oxazoline compound are exemplified.

비실리콘계 이형제로서, 왁스가 장쇄 알킬기 함유 화합물보다, 가교제와의 조합에 따라서는, 중박리화율이 커지는 요인(추정)에 관해서는, 이하와 같이 생각할 수 있다.As a non-silicon release agent, the factors (estimations) that increase the peeling rate when combined with a cross-linking agent, rather than a long-chain alkyl group-containing compound, can be considered as follows.

왁스는 발수성 이외에도, 발유성을 갖는 특징을 가진다. 그에 의해, 조합하는 멜라민 화합물과의 상성(相性)이 나빠, 멜라민 화합물이 더 튕겨 내기 쉬운 상태가 된다.In addition to being water-repellent, wax also has oil-repellent properties. As a result, it has poor compatibility with the melamine compound it is combined with, making it easier for the melamine compound to be repelled.

한편, 본원발명의 중박리화율 평가는, 고온(40℃), 고습도(90%RH) 하에 있어서, 수분이 개재된 상태로 프레스 처리되기 때문에, 왁스와 멜라민 화합물을 조합한 수지층 (B) 표면에는 응집물이 생성되기 쉬워져, 반대면의 실리콘 이형층과의 접착성을 향상시킨 결과, 중박리화율이 커진 것으로 추찰된다.Meanwhile, the evaluation of the peeling rate of the present invention is that since the pressing process is performed under high temperature (40°C) and high humidity (90%RH) with moisture present, it is presumed that the surface of the resin layer (B) combining the wax and melamine compound is prone to forming aggregates, which improves the adhesion to the silicone release layer on the opposite surface, resulting in an increased peeling rate.

상술과 같이, 종래의 비실리콘계 이형제에서는 주목하고 있지 않았던, 발유 효과에도 착목하여, 이형제를 선택하고, 수지층 (B)를 구비한, 이형 필름을 구성하고 있는 점에 본원발명의 특징이 있다.As described above, the present invention is characterized in that it selects a release agent by focusing on the oil-repelling effect, which was not noticed in conventional non-silicon release agents, and configures a release film having a resin layer (B).

수지층 (B)에 있어서, 대전 방지제로서 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물을 이용하는 경우, 수지층 (B)의 전체 불휘발 성분에서 차지하는 비율로서, 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물은, 바람직하게는 5∼50질량%, 보다 바람직하게는 5∼40질량%, 더 바람직하게는 5∼30질량%의 범위이다. 상기 범위이면, 양호한 대전 방지성을 얻을 수 있다.In the case where a compound comprising thiophene or a thiophene derivative is used as an antistatic agent in the resin layer (B), the proportion of the compound comprising thiophene or a thiophene derivative in the total nonvolatile components of the resin layer (B) is preferably in the range of 5 to 50 mass%, more preferably 5 to 40 mass%, and even more preferably 5 to 30 mass%. In the above range, good antistatic properties can be obtained.

수지층 (B)에 있어서, 폴리히드록시 화합물은, 수지층 (B)의 전체 불휘발 성분에서 차지하는 비율로서, 바람직하게는 10∼80질량%, 보다 바람직하게는 20∼70질량%, 더 바람직하게는 30∼65질량%의 범위이다. 상기 범위이면, 양호한 대전 방지성을 얻을 수 있다.In the resin layer (B), the polyhydroxy compound is preferably in the range of 10 to 80 mass%, more preferably 20 to 70 mass%, and even more preferably 30 to 65 mass% in terms of the proportion of the total nonvolatile components of the resin layer (B). Within the above range, good antistatic properties can be obtained.

수지층 (B)의 전체 불휘발 성분에서 차지하는 비율로서, 바인더 성분은 바람직하게는 5∼50질량%, 보다 바람직하게는 5∼40질량%, 더 바람직하게는 5∼30질량%의 범위이다. 바인더 성분의 비율이 상기 범위이면, 수지층 (B)의 강도가 양호해져, 블로킹을 경감할 수 있다.As a proportion of the total nonvolatile components of the resin layer (B), the binder component is preferably in the range of 5 to 50 mass%, more preferably 5 to 40 mass%, and even more preferably 5 to 30 mass%. When the proportion of the binder component is in the above range, the strength of the resin layer (B) is improved, and blocking can be reduced.

수지층 (B)의 전체 불휘발 성분에서 차지하는 비율로서, 가교제는, 바람직하게는 5∼70질량%, 바람직하게는 10∼60질량%, 더 바람직하게는 15∼50질량%의 범위이다. 가교제의 비율이 상기 범위이면, 수지층 (B)의 강도가 양호해져, 블로킹을 경감할 수 있다.The proportion of the crosslinking agent in the total nonvolatile components of the resin layer (B) is preferably in the range of 5 to 70 mass%, preferably 10 to 60 mass%, and more preferably 15 to 50 mass%. When the proportion of the crosslinking agent is in the above range, the strength of the resin layer (B) is improved, and blocking can be reduced.

<수지층 (B)의 특성><Characteristics of the resin layer (B)>

본 발명에 있어서의 수지층 (B)는, 이하의 특성을 가질 수 있다.The resin layer (B) in the present invention can have the following characteristics.

본 이형 필름에 있어서의, 수지층 (B) 표면의 거칠기(Ra(B))는, 20㎚ 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 25∼60㎚, 보다 바람직하게는 30∼55㎚, 더 바람직하게는 38∼50㎚의 범위이다. 20㎚ 이상이면, 이형층을 마련한 후에 롤의 상태에서, 블로킹이 발생하기 어려워진다. 한편, 표면 거칠기가 60㎚ 이하이면, 본 이형 필름을 롤 형상으로 권취했을 때, 필름의 요철이 이형층에 전사되는 일이 없어, 이형층의 박리 특성이 유지된다.In the present release film, the surface roughness (Ra(B)) of the resin layer (B) is preferably 20 nm or more, more preferably 25 to 60 nm, more preferably 30 to 55 nm, and even more preferably 38 to 50 nm. When it is 20 nm or more, blocking is less likely to occur in the roll state after the release layer is provided. On the other hand, when the surface roughness is 60 nm or less, when the present release film is wound into a roll shape, the unevenness of the film is not transferred to the release layer, and the peeling characteristics of the release layer are maintained.

수지층 (B)의 두께는, 바람직하게는 0.005∼0.25㎛, 보다 바람직하게는 0.008∼0.15㎛, 더 바람직하게는 0.01∼0.10㎛이다. 수지층 (B)의 두께를 0.25㎛ 이하로 함으로써, 본 이형 필름을 롤 형상으로 권취했을 때에 수지층 (B) 중의 비실리콘계 이형제 성분이 이형층으로 이행하는 것을 억제할 수 있고, 수지층 (B)의 두께가 0.005㎛ 이상이면, 양호한 블로킹 방지성을 부여할 수 있다. 또한, 수지층 (B) 중에는, 각종 화합물의 미반응물, 반응 후의 화합물, 또는 그들의 혼합물이 존재하고 있는 것으로 추측할 수 있다.The thickness of the resin layer (B) is preferably 0.005 to 0.25 µm, more preferably 0.008 to 0.15 µm, and even more preferably 0.01 to 0.10 µm. By setting the thickness of the resin layer (B) to 0.25 µm or less, when the release film is wound into a roll shape, the non-silicone release agent component in the resin layer (B) can be suppressed from migrating to the release layer, and when the thickness of the resin layer (B) is 0.005 µm or more, good anti-blocking properties can be imparted. In addition, it can be presumed that unreacted products of various compounds, compounds after reaction, or mixtures thereof are present in the resin layer (B).

수지층 (B) 표면의 표면 고유 저항률은, 바람직하게는 1×1012Ω/□ 이하, 보다 바람직하게는 1×1010Ω/□ 이하, 더 바람직하게는 1×108Ω/□ 이하, 가장 바람직하게는 1×106Ω/□ 이하이다. 표면 고유 저항률의 하한은 특별히 없지만, 대전 방지제의 비용을 감안하면 1×104Ω/□ 이상으로 하는 것이 바람직하다. 수지층 (B)의 표면 고유 저항률이 낮을수록, 대전 방지성이 양호하여, 공정 내에서의 필름의 대전을 억제하여 이물 등의 부착을 방지할 수 있다.The surface resistivity of the resin layer (B) surface is preferably 1×10 12 Ω/□ or less, more preferably 1×10 10 Ω/□ or less, even more preferably 1×10 8 Ω/□ or less, and most preferably 1×10 6 Ω/□ or less. There is no particular lower limit of the surface resistivity, but considering the cost of the antistatic agent, it is preferably 1×10 4 Ω/□ or more. The lower the surface resistivity of the resin layer (B), the better the antistatic property, which suppresses charging of the film during the process and prevents adhesion of foreign substances, etc.

수지층 (B)의 상태 박리력은, 바람직하게는 400∼2000g/25㎜, 보다 바람직하게는 400∼1500g/25㎜, 더 바람직하게는 400∼1000g/25㎜이다. 수지층 (B)의 상태 박리력을 2000g/25㎜ 이하로 함으로써, 양호한 블로킹 방지성을 부여할 수 있어, 본 이형 필름을 롤 형상으로 권취했을 때, 필름에 의해 압력이 가해지는 롤의 하측 감김 부분에서의 수지층 (A)의 중박리화를 억제할 수 있다.The state peeling strength of the resin layer (B) is preferably 400 to 2000 g/25 mm, more preferably 400 to 1500 g/25 mm, and even more preferably 400 to 1000 g/25 mm. By setting the state peeling strength of the resin layer (B) to 2000 g/25 mm or less, good anti-blocking properties can be provided, and when the release film is wound into a roll shape, peeling of the resin layer (A) at the lower winding portion of the roll to which pressure is applied by the film can be suppressed.

수지층 (B)의 표면 자유 에너지는, 바람직하게는 50mN/m 이하, 보다 바람직하게는 40mN/m 이하, 더 바람직하게는 30mN/m 이하이다. 수지층의 표면 자유 에너지를 50mN/m 이하로 함으로써, 양호한 블로킹 방지성을 부여할 수 있어, 본 이형 필름을 롤 형상으로 권취했을 때, 필름에 의해 압력이 가해지는 롤의 하측 감김 부분에서의 이형층 (A)의 중박리화를 억제할 수 있다. 표면 자유 에너지의 상세는, 실시예에 기재된 대로이다.The surface free energy of the resin layer (B) is preferably 50 mN/m or less, more preferably 40 mN/m or less, and even more preferably 30 mN/m or less. By setting the surface free energy of the resin layer to 50 mN/m or less, good anti-blocking properties can be imparted, and when the release film is wound into a roll shape, peeling of the release layer (A) at the lower winding portion of the roll to which pressure is applied by the film can be suppressed. Details of the surface free energy are as described in the Examples.

수지층 (B)의 25℃에 있어서의 탄성률은, 500MPa 이상인 것이 바람직하다. 여기서 말하는 탄성률은, 나노인덴터에 의해 측정된 값이다. 탄성률이 500MPa 이상이면, 본 이형 필름을 롤 형상으로 권취했을 때, 필름에 의해 압력이 가해지는 롤의 하측 감김 부분에서도 수지층 (A)의 중박리화가 생기지 않는다.The elastic modulus of the resin layer (B) at 25°C is preferably 500 MPa or more. The elastic modulus referred to here is a value measured by a nanoindenter. If the elastic modulus is 500 MPa or more, when the release film is wound into a roll shape, the resin layer (A) does not delaminate even at the lower winding portion of the roll where pressure is applied by the film.

<언더코팅층><Undercoating layer>

본 이형 필름은, 수지층 (A) 또는 수지층 (B) 중 적어도 일방의 층과 기재 필름의 사이에 언더코팅층을 구비하는 것이 바람직하다. 언더코팅층은, 수지층 (A)와 기재 필름의 사이, 또는 수지층 (B)와 기재 필름의 사이 중 어느 것에 구비하고 있어도 되고, 또한 양방에 구비하고 있어도 된다.It is preferable that the present heteromorphic film has an undercoat layer between at least one of the resin layer (A) or the resin layer (B) and the substrate film. The undercoat layer may be provided between the resin layer (A) and the substrate film, or between the resin layer (B) and the substrate film, or may be provided on both sides.

언더코팅층은, 필름과 수지층 (A) 또는 수지층 (B)의 밀착성을 향상시킬 목적으로 이용될 뿐만 아니라, 이형 필름에 각종의 기능을 부여하는 목적으로 이용된다. 언더코팅층으로서는, 예를 들면, 수지층 (A) 상에 마련된 점착제층 등의 기능층을 박리하는 공정에 있어서의 박리 대전을 억제하여, 이물 등의 부착을 방지하기 위한 대전 방지 성능, 고온 장시간으로 열처리를 행하는 경우에, 폴리에스테르 필름으로부터의 올리고머의 석출을 밀봉하는 올리고머 밀봉 성능 등을 들 수 있다. 본 이형 필름에 있어서는, 대전 방지 성능을 갖는 언더코팅층인 것이 바람직하다. 또한, 상기 언더코팅층은, 단층이어도, 2층 이상의 구성이어도 상관없다.The undercoat layer is used not only for the purpose of improving the adhesion between the film and the resin layer (A) or the resin layer (B), but also for the purpose of imparting various functions to the release film. Examples of the undercoat layer include antistatic performance for suppressing peeling electrification in the process of peeling a functional layer such as an adhesive layer provided on the resin layer (A) and preventing adhesion of foreign substances, and oligomer sealing performance for sealing the precipitation of oligomers from the polyester film when heat treatment is performed at high temperature for a long time. In the present release film, it is preferable that it is an undercoat layer having antistatic performance. In addition, the undercoat layer may be a single layer or a configuration of two or more layers.

대전 방지 성능을 갖는 언더코팅층에는, 대전 방지제로서, 예를 들면 상기 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물에, 다른 음이온 화합물에 의해 도핑된 중합체, 또는 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물 중에 음이온기를 가지고 자기 도프된 중합체, 또는, 알킬술폰산 이온을 카운터 이온으로 하는 단량체를 성분으로서 포함하는 중합체를 이용할 수 있다.In an undercoating layer having antistatic performance, as an antistatic agent, for example, a polymer doped with another anionic compound in a compound comprising the above thiophene or a thiophene derivative, or a polymer self-doped with an anionic group in a compound comprising thiophene or a thiophene derivative, or a polymer containing as a component a monomer having an alkylsulfonic acid ion as a counter ion can be used.

또한, 본 이형 필름에 있어서는, 양호한 대전 방지 성능을 갖는 관점에서, 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물을 함유하는 언더코팅층인 것이 보다 바람직하다.In addition, in the present heteromorphic film, from the viewpoint of having good antistatic performance, it is more preferable that the undercoating layer contain a compound composed of thiophene or a thiophene derivative.

대전 방지 성능을 갖는 언더코팅층의 형성에는, 대전 방지 성능을 양호하게 할 목적으로, 상기 일반식(9)로 나타내어지는 폴리글리세린, 및 폴리글리세린에의 알킬렌옥사이드 부가물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물 또는 그 유도체를 이용하는 것이 바람직하다.In forming an undercoating layer having antistatic properties, it is preferable to use at least one compound or derivative thereof selected from polyglycerin represented by the general formula (9) and an alkylene oxide adduct to polyglycerin, for the purpose of improving the antistatic properties.

대전 방지 성능을 갖는 언더코팅층은, 바인더 성분을 함유해도 된다. 바인더로서는, 종래 공지의 각종의 폴리머, 예를 들면 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 폴리비닐알코올 수지 등을 사용할 수 있다. 언더코팅층의 투명성, 대전 방지성 향상의 관점에서, 우레탄 수지가 바람직하다.The undercoating layer having antistatic properties may contain a binder component. As the binder, various conventionally known polymers, such as polyester resin, acrylic resin, urethane resin, and polyvinyl alcohol resin, can be used. From the viewpoint of improving the transparency and antistatic properties of the undercoating layer, urethane resin is preferable.

언더코팅층의 강도를 향상시키기 위해, 가교제를 병용하는 것도 가능하다. 가교제란 종래 공지의 재료를 사용할 수 있고, 예를 들면, 옥사졸린 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민 화합물, 이소시아네이트계 화합물, 카르보디이미드계 화합물, 유기 규소 화합물 등을 들 수 있다. 언더코팅층의 강도를 높인다는 관점에 있어서는, 멜라민 화합물이 보다 바람직하다. 2종류 이상의 가교제를 병용하는 것도 가능하다.In order to improve the strength of the undercoating layer, it is also possible to use a crosslinking agent in combination. The crosslinking agent may be a conventionally known material, and examples thereof include oxazoline compounds, epoxy compounds, melamine compounds, isocyanate compounds, carbodiimide compounds, and organic silicon compounds. From the viewpoint of improving the strength of the undercoating layer, a melamine compound is more preferable. It is also possible to use two or more types of crosslinking agents in combination.

언더코팅층에 있어서, 대전 방지제로서 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물을 이용하는 경우, 언더코팅층의 전체 불휘발 성분에서 차지하는 비율로서, 티오펜 또는 티오펜 유도체로 이루어지는 화합물은, 바람직하게는 5∼50질량%, 보다 바람직하게는 5∼40질량%, 더 바람직하게는 5∼30질량%의 범위이다. 상기 범위이면, 양호한 대전 방지성을 얻을 수 있다.In the case where a compound comprising thiophene or a thiophene derivative is used as an antistatic agent in the undercoating layer, the proportion of the compound comprising thiophene or a thiophene derivative in the total nonvolatile components of the undercoating layer is preferably in the range of 5 to 50 mass%, more preferably 5 to 40 mass%, and even more preferably 5 to 30 mass%. In the above range, good antistatic properties can be obtained.

언더코팅층에 있어서, 폴리글리세린, 및 폴리글리세린에의 알킬렌옥사이드 부가물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물 또는 그 유도체는, 언더코팅층의 전체 불휘발 성분에서 차지하는 비율로서, 바람직하게는 10∼80질량%, 보다 바람직하게는 20∼70질량%, 더 바람직하게는 30∼65질량%의 범위이다. 상기 범위이면, 양호한 대전 방지성을 얻을 수 있다.In the undercoating layer, the proportion of at least one compound or derivative thereof selected from polyglycerin and alkylene oxide adducts to polyglycerin in the total nonvolatile components of the undercoating layer is preferably in the range of 10 to 80 mass%, more preferably 20 to 70 mass%, and even more preferably 30 to 65 mass%. Within the above range, good antistatic properties can be obtained.

언더코팅층의 전체 불휘발 성분에서 차지하는 비율로서, 바인더 성분은 바람직하게는 5∼50질량%, 보다 바람직하게는 5∼40질량%, 더 바람직하게는 5∼30질량%의 범위이다. 바인더 성분의 비율이 상기 범위이면, 언더코팅층의 강도가 양호해져, 대전 방지성을 양호하게 할 수 있다.As a proportion of the total nonvolatile components of the undercoating layer, the binder component is preferably in the range of 5 to 50 mass%, more preferably 5 to 40 mass%, and even more preferably 5 to 30 mass%. When the proportion of the binder component is in the above range, the strength of the undercoating layer becomes good, and the antistatic property can be improved.

언더코팅층의 전체 불휘발 성분에서 차지하는 비율로서, 가교제는, 바람직하게는 5∼70질량%, 바람직하게는 10∼60질량%, 더 바람직하게는 15∼50질량%의 범위이다. 가교제의 비율이 상기 범위이면, 언더코팅층의 강도가 양호해져, 블로킹을 경감할 수 있다.The proportion of the cross-linking agent in the total nonvolatile components of the undercoating layer is preferably in the range of 5 to 70 mass%, preferably 10 to 60 mass%, and more preferably 15 to 50 mass%. When the proportion of the cross-linking agent is in the above range, the strength of the undercoating layer becomes good, and blocking can be reduced.

올리고머 밀봉 성능을 갖는 언더코팅층에는, 알루미늄, 티탄, 지르코늄으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 금속 원소를 포함하는 유기 화합물을 함유하는 올리고머 밀봉성을 갖는 언더코팅층을 마련해도 된다.In the undercoating layer having oligomer sealing performance, an undercoating layer having oligomer sealing performance containing an organic compound including one or more metal elements selected from aluminum, titanium, and zirconium may be provided.

올리고머 밀봉성을 갖는 언더코팅층은, 기재 필름의 위에 직접 마련되어도 되고, 상기 대전 방지성을 갖는 언더코팅층의 위에 마련되어도 된다.The undercoating layer having oligomeric sealing properties may be provided directly on the base film or on the undercoating layer having the antistatic properties.

또한, 언더코팅층 중에는, 수지 조성물의 각종 화합물의 미반응물, 반응 후의 화합물, 또는 그들의 혼합물이 존재하고 있는 것으로 추측할 수 있다.In addition, it can be assumed that unreacted substances of various compounds of the resin composition, compounds after reaction, or mixtures thereof exist in the undercoating layer.

<언더코팅층의 특성><Characteristics of the undercoating layer>

대전 방지 성능을 갖는 언더코팅층의 두께는, 바람직하게는 0.005㎛ 이상 0.25㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.008㎛ 이상 0.15㎛ 이하, 더 바람직하게는 0.01㎛ 이상 0.10㎛ 이하이다. 언더코팅층의 두께가 상기의 범위 내이면, 양호한 대전 방지성을 부여할 수 있다.The thickness of the undercoating layer having antistatic properties is preferably 0.005 ㎛ or more and 0.25 ㎛ or less, more preferably 0.008 ㎛ or more and 0.15 ㎛ or less, and even more preferably 0.01 ㎛ or more and 0.10 ㎛ or less. When the thickness of the undercoating layer is within the above range, good antistatic properties can be imparted.

대전 방지 성능을 갖는 언더코팅층 표면의 표면 고유 저항률은, 바람직하게는 1×1012Ω/□ 이하, 보다 바람직하게는 1×1010Ω/□ 이하, 더 바람직하게는 1×108Ω/□ 이하, 가장 바람직하게는 1×106Ω/□ 이하이다. 표면 고유 저항률의 하한은 특별히 없지만, 대전 방지제의 비용을 감안하면 1×104Ω/□ 이상으로 하는 것이 바람직하다. 수지층 (B)의 표면 고유 저항률이 낮을수록, 대전 방지성이 양호하여, 공정 내에서의 필름의 대전을 억제하여 이물 등의 부착을 방지할 수 있다.The surface resistivity of the undercoating layer surface having antistatic performance is preferably 1×10 12 Ω/□ or less, more preferably 1×10 10 Ω/□ or less, even more preferably 1×10 8 Ω/□ or less, and most preferably 1×10 6 Ω/□ or less. There is no particular lower limit of the surface resistivity, but considering the cost of the antistatic agent, it is preferably 1×10 4 Ω/□ or more. The lower the surface resistivity of the resin layer (B), the better the antistatic performance, which suppresses charging of the film during the process and prevents adhesion of foreign substances, etc.

<수지층 (B) 및 언더코팅층의 형성 방법><Method for forming resin layer (B) and undercoating layer>

다음에 수지층 (B) 및 언더코팅층의 형성 방법에 관하여 설명한다.Next, the method of forming the resin layer (B) and the undercoating layer is described.

수지층 (B) 및 언더코팅층의 형성은, 도공액을 필름에 코팅하는 것에 의해 마련되며, 필름 제조 공정 내에서 행하는 인라인 코팅에 의해 마련되어도 되고, 또한, 일단 제조한 필름 상에 계 외에서 도포하는, 이른바 오프라인 코팅을 채용해도 된다. 보다 바람직하게는 인라인 코팅이다.The formation of the resin layer (B) and the undercoat layer is provided by coating the coating solution on the film, and may be provided by inline coating performed within the film manufacturing process, or may be applied externally on the film once it has been manufactured, so-called offline coating. Inline coating is more preferable.

인라인 코팅은, 폴리에스테르 필름 제조의 공정 내에서 코팅을 행하는 방법이며, 구체적으로는, 폴리에스테르를 용융 압출하고 나서 연신 후 열 고정하여 감아 올릴 때까지의 임의의 단계에서 코팅을 행하는 방법이다. 통상은, 용융, 급랭하여 얻어지는 미연신 시트, 연신된 1축 연신 필름, 열 고정 전의 2축 연신 필름, 열 고정 후이고 감아 올리기 전의 필름 중 어느 것에 코팅한다.Inline coating is a method of performing coating within the process of manufacturing polyester film, and specifically, it is a method of performing coating at any stage from melting and extruding polyester to stretching, heat setting, and winding. Usually, coating is performed on any of the following: an unstretched sheet obtained by melting and rapid cooling, a stretched uniaxially stretched film, a biaxially stretched film before heat setting, and a film after heat setting and before winding.

이하에 한정하는 것은 아니지만, 예를 들면 축차 2축 연신에 있어서는, 특히 길이 방향(세로 방향)으로 연신된 1축 연신 필름에 코팅한 후에 가로 방향으로 연신하는 방법이 우수하다. 이러한 방법에 의하면, 제막과 수지층 (B)의 형성을 동시에 행할 수 있기 때문에 제조 비용 상의 메리트가 있고, 또한, 코팅 후에 연신을 행하기 때문에, 수지층 (B)의 두께를 연신 배율에 의해 변화시킬 수도 있어, 오프라인 코팅 필름에 비해, 박막 코팅을 보다 용이하게 행할 수 있다. 또한, 연신 전에 필름 상에 수지층 (B)를 마련하는 것에 의해, 수지층 (B)를 폴리에스테르 필름과 함께 연신할 수 있고, 그에 의해 수지층 (B)를 폴리에스테르 필름에 강고하게 밀착시킬 수 있다.Although not limited thereto, for example, in sequential biaxial stretching, a method of coating a uniaxially stretched film stretched in the longitudinal direction (vertical direction) and then stretching in the transverse direction is excellent. According to this method, since film forming and formation of a resin layer (B) can be performed simultaneously, there is an advantage in manufacturing cost, and furthermore, since stretching is performed after coating, the thickness of the resin layer (B) can be changed by the stretching ratio, so that thin film coating can be performed more easily compared to an offline coating film. Furthermore, by providing a resin layer (B) on the film before stretching, the resin layer (B) can be stretched together with the polyester film, and thereby the resin layer (B) can be firmly adhered to the polyester film.

또한, 2축 연신 폴리에스테르 필름의 제조에 있어서, 클립 등에 의해 필름 단부를 파지하면서 연신함으로써, 필름을 세로 및 가로 방향으로 구속할 수 있어, 열 고정 공정에 있어서, 주름 등이 생기지 않고 평면성을 유지한 채 고온을 걸 수 있다. 그 때문에, 도포 후에 실시되는 열처리를 다른 방법에서는 달성되지 않는 고온으로 할 수 있기 때문에, 오프라인 코팅과 비교하여 수지층 (B) 및 언더코팅층의 경화가 보다 진행되어, 더 강고한 도막을 만들 수 있다.In addition, in the production of a biaxially oriented polyester film, the film can be restrained in the vertical and horizontal directions by stretching while holding the film ends with clips or the like, so that in the heat-setting process, high temperatures can be applied while maintaining flatness without wrinkles or the like occurring. Therefore, since the heat treatment performed after coating can be performed at a high temperature that cannot be achieved by other methods, curing of the resin layer (B) and the undercoat layer progresses further compared to offline coating, so that a stronger coating film can be produced.

인라인 코팅에 의해 수지층 (B)를 마련하는 경우는, 상술한 일련의 화합물을 수용액 또는 수분산체로 하여, 고형분 농도(전체 불휘발 성분)가 0.1∼50질량% 정도를 기준으로 조정한 수지층 (B) 조성물을 폴리에스테르 필름 상에 도포하는 요령으로 기재 필름을 제조하는 것이 바람직하다.In the case where the resin layer (B) is prepared by inline coating, it is preferable to manufacture the base film by applying the resin layer (B) composition, in which the above-described series of compounds are prepared in the form of an aqueous solution or aqueous dispersion and the solid content concentration (total nonvolatile components) is adjusted to be about 0.1 to 50 mass%, onto a polyester film.

필름에 수지층 (B) 조성물, 또는 언더코팅층 조성물을 도포하는 방법으로서는, 예를 들면, 에어 닥터 코팅, 블레이드 코팅, 로드 코팅, 바 코팅, 나이프 코팅, 스퀴즈 코팅, 함침 코팅, 리버스 롤 코팅, 트랜스퍼 롤 코팅, 그라비아 코팅, 키스 롤 코팅, 캐스트 코팅, 스프레이 코팅, 커튼 코팅, 캘린더 코팅, 압출 코팅 등 종래 공지의 도포 방법을 이용할 수 있다.As a method for applying the resin layer (B) composition or the undercoat layer composition to the film, for example, a conventionally known coating method such as air doctor coating, blade coating, rod coating, bar coating, knife coating, squeeze coating, impregnation coating, reverse roll coating, transfer roll coating, gravure coating, kiss roll coating, cast coating, spray coating, curtain coating, calendar coating, or extrusion coating can be used.

필름 상에 수지층 (B) 및 언더코팅층을 형성할 때의 건조 및 경화 조건에 관해서는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 인라인 코팅에 의해 수지층 (B)를 마련하는 경우, 바람직하게는, 70∼270℃에서 3∼200초간, 보다 바람직하게는 100∼260℃, 더 바람직하게는 110∼250℃에서, 10∼100초를 기준으로 하여 열처리를 행하는 것이 좋다.There are no particular limitations on the drying and curing conditions when forming the resin layer (B) and the undercoating layer on the film, and when the resin layer (B) is provided by inline coating, it is preferable to perform heat treatment at 70 to 270°C for 3 to 200 seconds, more preferably at 100 to 260°C, and even more preferably at 110 to 250°C for 10 to 100 seconds.

한편, 예를 들면, 오프라인 코팅에 의해 수지층 (B)를 마련하는 경우, 바람직하게는, 80∼200℃에서 3∼40초간, 보다 바람직하게는 100∼180℃에서 3∼40초간을 기준으로 하여 열처리를 행하는 것이 좋다.Meanwhile, for example, when preparing a resin layer (B) by offline coating, it is preferable to perform heat treatment at 80 to 200°C for 3 to 40 seconds, more preferably at 100 to 180°C for 3 to 40 seconds.

오프라인 코팅 또는 인라인 코팅에 상관없이, 필요에 따라 열처리와 자외선 조사 등의 활성 에너지선 조사를 병용해도 된다. 본 발명에 있어서의 이형 필름을 구성하는 필름에는 미리, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 처리를 실시해도 된다.Regardless of whether offline coating or in-line coating is used, heat treatment and active energy ray irradiation such as ultraviolet irradiation may be used in combination as needed. The film constituting the release film in the present invention may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment in advance.

<<이형 필름의 적층 구성>><<Laminated composition of heteromorphic film>>

본 발명에 있어서의 이형 필름은, 적층 구성으로 해도 되고, 바람직한 형태로서는, 본 이형 필름의 수지층 (A)측의 면에 점착층을 적층한 형태를 들 수 있다. 보다 바람직한 형태로서는, 본 이형 필름을 제 1 이형 필름으로 하고, 본 이형 필름의 수지층 (A)측에 점착층, 본 이형 필름의 수지층 (A)가 첩합된 점착층의 타방의 면에 본 이형 필름과는 박리력이 상이한 이형 필름을 제 2 이형 필름으로 하여, 첩합된 것을 들 수 있다. 더 바람직한 형태로서는, 점착층이 광학용 투명 점착 시트(OCA)이고, 본 이형 필름을 박리력이 가벼운 측의 이형 필름으로서 사용·첩합된 것을 들 수 있다. 또한, 점착층은, 단층이어도, 2층 이상의 구성이어도 된다.The release film in the present invention may have a laminated configuration, and as a preferable form, there is provided a form in which an adhesive layer is laminated on the surface on the resin layer (A) side of the release film. As a more preferable form, there is provided a form in which the release film is used as a first release film, an adhesive layer is formed on the resin layer (A) side of the release film, and a release film having a different peeling force from the release film is formed on the other surface of the adhesive layer to which the resin layer (A) of the release film is laminated, as a second release film, and they are laminated together. As a more preferable form, there is provided a form in which the adhesive layer is an optically transparent adhesive sheet (OCA), and the release film is used and laminated as a release film having a light peeling force. In addition, the adhesive layer may be a single layer or a structure of two or more layers.

또한, 상기 「본 이형 필름과는 박리력이 상이한 이형 필름」이란, 실시예에 기재된 대로의 측정 방법으로 평가한 이형 필름의 박리력이 본 이형 필름의 수지층 (A)측의 박리력과는 상이한 것을 의미한다. 또한, 본 이형 필름과는 박리력이 상이한 이형 필름으로서는, 본 이형 필름의 수지층 (A)의 박리력보다 큰 것이 바람직하며, 구체적으로는, 박리력이 1.5∼10배인 것이 바람직하고, 1.5∼8배인 것이 보다 바람직하고, 1.5∼6배 정도인 것이 더 바람직하다. 상기 박리력을 만족함으로써, 본 이형 필름의 수지층 (A)가 본래 박리할 필요가 없는 장면에 있어서 박리되는 문제를 저감할 수 있다.In addition, the above "release film having a different peeling strength from that of the present release film" means that the peeling strength of the release film evaluated by the measurement method described in the examples is different from the peeling strength of the resin layer (A) side of the present release film. In addition, the release film having a different peeling strength from that of the present release film is preferably one having a peeling strength greater than that of the resin layer (A) of the present release film, and specifically, the peeling strength is preferably 1.5 to 10 times, more preferably 1.5 to 8 times, and still more preferably about 1.5 to 6 times. By satisfying the above peeling strength, the problem of the resin layer (A) of the present release film being peeled in a scene where peeling is not originally necessary can be reduced.

<점착층><Adhesive layer>

점착층에 관하여, 이하에 설명한다.Regarding the adhesive layer, it is explained below.

점착층은, 점착제 조성물로 이루어지는 층이며, 아크릴계 수지를 주성분 수지로 하는 아크릴계 점착제 조성물이어도, 고무를 주성분으로 하는 고무계 점착제 조성물이어도, 우레탄계 수지를 주성분으로 하는 우레탄계 점착제 조성물이어도, 실리콘 수지를 주성분으로 하는 실리콘계 점착제 조성물이어도 된다. 그 중에서도, 점착제 조성물은, 점착력과 박리력을 밸런스 좋게 조정할 수 있고, 또한, 저렴한 점에서, 아크릴계 수지를 주성분으로 하는 아크릴계 점착제 조성물이 바람직하다.The adhesive layer is a layer formed of an adhesive composition, and may be an acrylic adhesive composition having an acrylic resin as a main component, a rubber adhesive composition having rubber as a main component, a urethane adhesive composition having a urethane resin as a main component, or a silicone adhesive composition having a silicone resin as a main component. Among these, an acrylic adhesive composition having an acrylic resin as a main component is preferable because the adhesive composition can adjust the adhesive force and the peeling force in a good balance, and is also inexpensive.

또한, 상기 「주성분 수지」란, 점착제 조성물을 구성하는 수지 중에서도 가장 질량 비율이 높은 수지를 의미한다. 예를 들면, 점착제 조성물을 구성하는 수지 전량의 50질량% 이상, 바람직하게는 60질량% 이상, 보다 바람직하게는 70질량% 이상을 차지하는 성분을 의미한다. 또한, 상한으로서는 100질량%이지만, 통상 99.99질량%이다.In addition, the above "main component resin" means a resin having the highest mass ratio among the resins constituting the adhesive composition. For example, it means a component accounting for 50 mass% or more, preferably 60 mass% or more, and more preferably 70 mass% or more of the total amount of resins constituting the adhesive composition. In addition, the upper limit is 100 mass%, but is usually 99.99 mass%.

(아크릴계 수지)(Acrylic resin)

점착제 조성물의 주성분 수지인 아크릴계 수지로서는, (메타)아크릴계 중합체를 들 수 있다.As an acrylic resin which is the main component resin of the adhesive composition, a (meth)acrylic polymer can be mentioned.

(메타)아크릴계 중합체는, (메타)아크릴산 알킬에스테르를 주된 구성 단위로 하는 중합체이다. (메타)아크릴산 알킬에스테르로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 n-프로필, (메타)아크릴산 이소프로필, (메타)아크릴산 n-부틸, (메타)아크릴산 이소부틸, (메타)아크릴산 sec-부틸, (메타)아크릴산 t-부틸, (메타)아크릴산 n-펜틸, (메타)아크릴산 n-헥실, (메타)아크릴산 이소보르닐, (메타)아크릴산 4-t-부틸시클로헥실, (메타)아크릴산 트리시클로데카닐, (메타)아크릴산 디시클로펜타닐, (메타)아크릴산 아다만틸 등을 들 수 있다. 이들은 1종만으로 이용해도 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 이들 중에서도, (메타)아크릴계 중합체를 구성하는 다른 (메타)아크릴레이트와의 상용성, 경화 수지층 (B)의 내열성의 점에서, (메타)아크릴산 메틸이 바람직하다. (메타)아크릴계 중합체를 형성하는 단량체 중에 있어서의 (메타)아크릴산 알킬에스테르의 함유 비율은, 예를 들면 50질량% 이상이지만, 바람직하게는 60∼99.99질량%, 보다 바람직하게는 75∼98.9질량%, 더 바람직하게는 87∼97.8질량%이다. 또한, (메타)아크릴계 중합체는 라디칼 중합 가능한 이중 결합을 가지는 것이어도 된다.(Meth)acrylic polymers are polymers whose main structural unit is (meth)acrylic acid alkyl ester. Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, sec-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, 4-t-butylcyclohexyl (meth)acrylate, tricyclodecanyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, and adamantyl (meth)acrylate. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, methyl (meth)acrylate is preferable in terms of compatibility with other (meth)acrylates constituting the (meth)acrylic polymer and the heat resistance of the cured resin layer (B). The content of the (meth)acrylic acid alkyl ester in the monomers forming the (meth)acrylic polymer is, for example, 50 mass% or more, preferably 60 to 99.99 mass%, more preferably 75 to 98.9 mass%, and even more preferably 87 to 97.8 mass%. Furthermore, the (meth)acrylic polymer may have a radically polymerizable double bond.

(메타)아크릴계 중합체는, 유리 전이 온도, 기계 물성, 상용성 등을 양호하게 하는 것을 목적으로 하여, (메타)아크릴산 알킬에스테르 이외의 (메타)아크릴산 에스테르, (메타)아크릴산, 그 밖의 비닐기를 갖는 화합물을 공중합할 수 있다.(Meth)acrylic polymers can be copolymerized with (meth)acrylic acid esters other than (meth)acrylic acid alkyl esters, (meth)acrylic acid, and other vinyl group-containing compounds for the purpose of improving glass transition temperature, mechanical properties, compatibility, etc.

공중합 성분으로서 사용할 수 있는 상기 (메타)아크릴산 알킬에스테르 이외의 (메타)아크릴산 에스테르로서는, 예를 들면, 후술하는 (메타)아크릴산 히드록시알킬, (메타)아크릴산 메톡시메틸, (메타)아크릴산 메톡시에틸, (메타)아크릴산 에톡시메틸, (메타)아크릴산 에톡시에틸 등의 (메타)아크릴산 알콕시알킬에스테르, (메타)아크릴산 페닐, (메타)아크릴산 벤질, (메타)아크릴산 글리시딜, (메타)아크릴산 γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.Examples of (meth)acrylic acid esters other than the above-mentioned (meth)acrylic acid alkyl esters that can be used as a copolymerization component include (meth)acrylic acid hydroxyalkyl, (meth)acrylic acid methoxymethyl, (meth)acrylic acid methoxyethyl, (meth)acrylic acid ethoxymethyl, (meth)acrylic acid ethoxyethyl, etc. (meth)acrylic acid alkoxyalkyl esters, (meth)acrylic acid phenyl, (meth)acrylic acid benzyl, (meth)acrylic acid glycidyl, (meth)acrylic acid γ-butyrolactone, etc., which will be described later.

상기 비닐기를 갖는 화합물로서는, 디메틸아크릴아미드, 히드록시에틸아크릴아미드, 디메틸아미노프로필아크릴아미드 등의 아크릴아미드계 화합물, 스티렌, α-메틸스티렌, p-메톡시스티렌 등의 스티렌계 화합물, 무수 말레산 등을 들 수 있다.Examples of the compounds having the above vinyl group include acrylamide compounds such as dimethylacrylamide, hydroxyethylacrylamide, and dimethylaminopropylacrylamide; styrene compounds such as styrene, α-methylstyrene, and p-methoxystyrene; and maleic anhydride.

또한, 이들 이외의 후술하는 (a1) 성분, (a2) 성분도 적절히 사용할 수 있다.In addition, other components (a1) and (a2) described later may also be used appropriately.

본 발명에 있어서, (메타)아크릴계 중합체를 구성하는 단량체는, (메타)아크릴산 알킬에스테르에 더하여, 공중합 성분으로서는, 후술하는 가교제와의 반응점이 되는 점에서 아크릴 모노머 (a1)을 함유해도 된다.In the present invention, the monomer constituting the (meth)acrylic polymer may contain, in addition to the (meth)acrylic acid alkyl ester, an acrylic monomer (a1) as a copolymerization component, since it serves as a reaction site with a crosslinking agent described later.

아크릴 모노머 (a1)은, 그 밖의 공중합 성분과 공중합되어 아크릴계 수지가 되었을 때에, 가교 구조의 반응점이 되는 것이며, 후술하는 가교제의 함유하는 관능기와 반응할 수 있는 관능기를 함유하는 모노머를 이용하면 된다. 이와 같은 아크릴 모노머 (a1)로서는, 예를 들면, 수산기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머, 아세토아세틸기 함유 모노머, 이소시아네이트기 함유 모노머, 글리시딜기 함유 모노머 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 가교제와 효율적으로 가교 반응이 가능한 점에서 수산기 함유 모노머가 바람직하게 이용된다. 아크릴 모노머 (a1)은 1종을 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용하여 이용해도 된다.The acrylic monomer (a1) becomes a reaction site of a crosslinked structure when copolymerized with other copolymerization components to form an acrylic resin, and a monomer containing a functional group capable of reacting with a functional group contained in a crosslinking agent described later may be used. Examples of such acrylic monomers (a1) include a hydroxyl group-containing monomer, an amino group-containing monomer, an acetoacetyl group-containing monomer, an isocyanate group-containing monomer, a glycidyl group-containing monomer, and the like. Among these, a hydroxyl group-containing monomer is preferably used because it can efficiently undergo a crosslinking reaction with a crosslinking agent. The acrylic monomer (a1) may be used alone or in combination of two or more.

수산기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 5-히드록시펜틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴산 히드록시알킬에스테르; 카프로락톤 변성 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 카프로락톤 변성 모노머; 디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트 등의 옥시알킬렌 변성 모노머; 2-아크릴로일옥시에틸 2-히드록시에틸프탈산, N-메틸올(메타)아크릴아미드 등의 1급 수산기 함유 모노머; 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 3-클로로 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 2급 수산기 함유 모노머; 2,2-디메틸 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 3급 수산기 함유 모노머를 들 수 있다.As the hydroxyl group-containing monomer, for example, acrylic acid hydroxyalkyl esters such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 5-hydroxypentyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, and 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate; caprolactone-modified monomers such as caprolactone-modified 2-hydroxyethyl (meth)acrylate; oxyalkylene-modified monomers such as diethylene glycol (meth)acrylate and polyethylene glycol (meth)acrylate; primary hydroxyl group-containing monomers such as 2-acryloyloxyethyl 2-hydroxyethyl phthalic acid and N-methylol (meth)acrylamide; Examples of the monomers include secondary hydroxyl groups, such as 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 3-chloro 2-hydroxypropyl (meth)acrylate; and tertiary hydroxyl group-containing monomers, such as 2,2-dimethyl 2-hydroxyethyl (meth)acrylate.

상기 수산기 함유 모노머 중에서도, 가교제와의 반응성이 우수한 점에서 1급 수산기 함유 모노머가 바람직하고, 나아가서는, 2-히드록시에틸아크릴레이트를 사용하는 것이, 디(메타)아크릴레이트 등의 불순물이 적어, 제조하기 쉬운 점에서 특히 바람직하다.Among the above hydroxyl group-containing monomers, a first-class hydroxyl group-containing monomer is preferable because of its excellent reactivity with a crosslinking agent, and furthermore, use of 2-hydroxyethyl acrylate is particularly preferable because it contains less impurities such as di(meth)acrylate and is easy to manufacture.

또한, 본 발명에서 사용하는 수산기 함유 모노머로서는, 불순물인 디(메타)아크릴레이트의 함유 비율이, 0.5질량% 이하인 것을 이용하는 것도 바람직하고, 더 0.2질량% 이하, 특히 0.1질량% 이하인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 수산기 함유 모노머로서는, 구체적으로는, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트 등이 특히 바람직하고, 이들은 저분자량이기 때문에 정제하기 쉬운 점에서 바람직하다.In addition, as the hydroxyl group-containing monomer used in the present invention, it is preferable to use one having a content ratio of di(meth)acrylate, which is an impurity, of 0.5 mass% or less, more preferably 0.2 mass% or less, particularly preferably 0.1 mass% or less. Specifically, as the hydroxyl group-containing monomer, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutylacrylate, etc. are particularly preferable, and these are preferable in that they are easy to purify because they have low molecular weights.

아미노기 함유 모노머로서는, 예를 들면, t-부틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of amino group-containing monomers include t-butylaminoethyl (meth)acrylate, ethylaminoethyl (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and diethylaminoethyl (meth)acrylate.

아세토아세틸기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 2-(아세토아세톡시)에틸(메타)아크릴레이트, 알릴아세토아세테이트 등을 들 수 있다.Examples of acetoacetyl group-containing monomers include 2-(acetoacetoxy)ethyl(meth)acrylate and allyl acetoacetate.

이소시아네이트기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 2-아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트나 그들의 알킬렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있다.Examples of the isocyanate group-containing monomers include 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, and alkylene oxide adducts thereof.

글리시딜기 함유 모노머로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산 글리시딜, (메타)아크릴산 알릴글리시딜 등을 들 수 있다.Examples of glycidyl group-containing monomers include (meth)acrylic acid glycidyl, (meth)acrylic acid allyl glycidyl, etc.

(메타)아크릴계 중합체를 구성하는 단량체 중에 있어서의 아크릴 모노머 (a1)의 함유량은, 바람직하게는 0.01∼20질량%, 보다 바람직하게는 0.1∼10질량%, 그 중에서도 특히 0.2∼3질량%이다. 아크릴 모노머 (a1)이 상기 하한값 이상으로 하면, 가교 시의 가교점이 적절해지기 때문에, 가교 후의 응집력이 양호해진다. 또한, 상기 상한값 이하로 하면, (a1) 성분에 기인하여 점착력이 저하하는 것을 방지할 수 있다.The content of the acrylic monomer (a1) among the monomers constituting the (meth)acrylic polymer is preferably 0.01 to 20 mass%, more preferably 0.1 to 10 mass%, and particularly 0.2 to 3 mass%. When the acrylic monomer (a1) is equal to or more than the lower limit above, the crosslinking point at the time of crosslinking becomes appropriate, so that the cohesive force after crosslinking becomes good. Furthermore, when it is equal to or less than the upper limit above, the adhesive force can be prevented from decreasing due to the (a1) component.

또한, (메타)아크릴계 중합체를 구성하는 단량체는, (메타)아크릴산 알킬에스테르, 또는 (메타)아크릴산 알킬에스테르 및 (a1) 성분에 더하여, 필요에 따라, 공중합 성분으로서, (a1) 이외의 공중합성 모노머 (a2)를 함유할 수도 있다.In addition, the monomer constituting the (meth)acrylic polymer may contain, in addition to the (meth)acrylic acid alkyl ester or the (meth)acrylic acid alkyl ester and the (a1) component, a copolymerizable monomer (a2) other than (a1) as a copolymerizable component, if necessary.

공중합성 모노머 (a2)로서는, 예를 들면, 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시화 o-페닐페닐(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 스티렌 등의 방향환 함유 모노머, (메타)아크릴로일모르폴린, 디메틸(메타)아크릴아미드, 디에틸(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드 등의 아미드계 모노머, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 스테아르산 비닐, 염화비닐, 염화비닐리덴, 알킬비닐에테르, 비닐톨루엔, 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 이타콘산 디알킬에스테르, 푸마르산 디알킬에스테르, 알릴알코올, 아크릴클로라이드, 메틸비닐케톤, N-아크릴아미드메틸트리메틸암모늄클로라이드, 알릴트리메틸암모늄클로라이드, 디메틸알릴비닐케톤 등을 들 수 있다.As the copolymerizable monomer (a2), for example, aromatic ring-containing monomers such as phenyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, ethoxylated o-phenylphenyl (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, and styrene, amide monomers such as (meth)acryloylmorpholine, dimethyl (meth)acrylamide, diethyl (meth)acrylamide, and (meth)acrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl stearate, vinyl chloride, vinylidene chloride, alkyl vinyl ether, vinyltoluene, vinylpyridine, vinylpyrrolidone, itaconic acid dialkyl ester, Examples thereof include fumaric acid dialkyl ester, allyl alcohol, acrylic chloride, methyl vinyl ketone, N-acrylamide methyltrimethylammonium chloride, allyl trimethylammonium chloride, and dimethylallyl vinyl ketone.

(메타)아크릴계 중합체를 형성하는 단량체 중에 있어서의 공중합성 모노머 (a2)의 함유 비율은, 바람직하게는 0∼20질량%, 더 바람직하게는 1∼15질량%, 그 중에서도 특히 2∼10질량%이고, 공중합성 모노머 (a2)의 함유량이 상기 범위 내이면 (a2) 성분에 기인하여 점착 특성이 저하하는 것을 방지할 수 있다.The content ratio of the copolymerizable monomer (a2) among the monomers forming the (meth)acrylic polymer is preferably 0 to 20 mass%, more preferably 1 to 15 mass%, and particularly 2 to 10 mass%, and when the content of the copolymerizable monomer (a2) is within the above range, it is possible to prevent the adhesive properties from being deteriorated due to the (a2) component.

본 발명에서는, 폴더블 디스플레이에의 적용을 고려하여, 점착제층에의 유연성을 부여하는 관점에서, 2-에틸헥실아크릴레이트 및/또는 부틸아크릴레이트를 포함하는 것이 바람직하다.In the present invention, considering application to a foldable display, it is preferable to include 2-ethylhexylacrylate and/or butylacrylate from the viewpoint of providing flexibility to the adhesive layer.

점착제 조성물은, 상기 주성분 수지 이외, 필요에 따라, 가교제, 그 밖(주성분 수지 및 가교제 이외)의 점착제 성분을 구성하는 수지(예를 들면, 아크릴계 수지, 고무, 실리콘 수지, 우레탄 수지)를 함유해도 된다.In addition to the above main component resin, the adhesive composition may contain, if necessary, a crosslinking agent and other resins (other than the main component resin and the crosslinking agent) that constitute the adhesive component (e.g., acrylic resin, rubber, silicone resin, urethane resin).

(가교제)(Bridger)

점착제 조성물은, 그 경화 방법에 따라 가교제를 함유할 수 있다.The adhesive composition may contain a crosslinking agent depending on its curing method.

가교제로서는, 예를 들면, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 멜라민계 가교제, 알데히드계 가교제, 아민계 가교제 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 기재와의 밀착성 향상, 또는 아크릴계 수지와의 반응성의 점에서, 이소시아네이트계 가교제가 적합하게 이용된다. 가교제는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.Examples of crosslinking agents include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, melamine crosslinking agents, aldehyde crosslinking agents, and amine crosslinking agents. Among them, isocyanate crosslinking agents are suitably used in terms of improved adhesion to a substrate or reactivity with acrylic resin. The crosslinking agent may be used alone or in combination of two or more.

가교제의 함유량은, 주성분 수지 100질량부에 대하여, 0.01∼10질량부인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 0.05∼5질량부, 그 중에서도 0.1∼3질량부이다. 가교제의 함유량이 상기 범위 내이면, 응집력이 부족되는 일도 없어, 원하는 내구성을 얻을 수 있는 반면, 유연성 및 점착력이 저하하는 것을 막을 수 있다.The content of the crosslinking agent is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.05 to 5 parts by mass, and particularly 0.1 to 3 parts by mass, per 100 parts by mass of the main component resin. When the content of the crosslinking agent is within the above range, the cohesive force is not insufficient, and the desired durability can be obtained, while the flexibility and adhesive force can be prevented from deteriorating.

또한, 경화 반응에 관하여, 활성 에너지선을 조사하는 광경화에 의한 경우는, 가교제로서, 점착제 조성물에 다관능 (메타)아크릴레이트를 배합하는 것이 바람직하다. 이러한 다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 글리세린폴리글리시딜에테르폴리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.In addition, with regard to the curing reaction, in the case of photocuring by irradiating an active energy ray, it is preferable to blend a polyfunctional (meth)acrylate as a crosslinking agent into the adhesive composition. Examples of such polyfunctional (meth)acrylates include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, glycerin polyglycidyl ether poly(meth)acrylate, and the like.

(그 밖의 점착제 성분을 구성하는 수지)(Resin constituting other adhesive components)

점착제 조성물은, 상기 주성분 수지, 가교제 이외, 필요에 따라, 주성분 수지 및 가교제 이외의 점착제 성분을 구성하는 수지(예를 들면, 아크릴계 수지, 고무, 실리콘 수지, 우레탄 수지)를 함유해도 된다.The adhesive composition may, in addition to the main component resin and the crosslinking agent, contain, if necessary, a resin constituting the adhesive component other than the main component resin and the crosslinking agent (e.g., acrylic resin, rubber, silicone resin, urethane resin).

예를 들면, 로진, 로진에스테르, 수첨(水添) 로진에스테르, 페놀 수지, 방향족 변성 테르펜 수지, 지방족계 석유 수지, 지환족계 석유 수지, 스티렌계 수지, 크실렌계 수지 등의 점착 부여제, 실란 커플링제, 대전 방지제, 착색제, 충전제, 노화 방지제, 자외선 흡수제, 기능성 색소 등의 종래 공지의 첨가제나, 자외선 또는 방사선 조사에 의해 정색(呈色) 또는 변색을 일으키는 화합물 등의 첨가제를 배합할 수 있다.For example, it is possible to blend additives such as conventionally known additives such as tackifiers, silane coupling agents, antistatic agents, colorants, fillers, anti-aging agents, ultraviolet absorbers, functional pigments, etc., or additives such as compounds that cause coloration or discoloration by ultraviolet or radiation irradiation.

이들 첨가제의 배합량은, 점착제 조성물(불휘발 성분 기준) 전체의 10질량% 이하인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 5질량% 이하이며, 첨가제로서 분자량이 1만보다 낮은 저분자 성분은 최대한 포함하지 않는 것이 내구성이 우수한 점에서 바람직하다.The blending amount of these additives is preferably 10 mass% or less of the entire adhesive composition (based on nonvolatile components), more preferably 5 mass% or less, and it is preferable to not include low-molecular-weight components having a molecular weight of less than 10,000 as additives as possible from the viewpoint of excellent durability.

<점착층의 형성 방법><Method of forming adhesive layer>

점착층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않고, 상기 점착제 조성물을 본 박리 필름의 수지층 (A) 상에 도포한 후에, 적절히 건조하여, 경화 등 함으로써 형성해도 된다. 또한, 상기 점착제 조성물을 기재 필름 또는 본 박리 필름과는 박리력이 상이한 이형 필름 상에 도포하고, 적절히 건조하여, 경화 등 한 후에, 본 박리 필름과는 박리력이 상이한 이형 필름을 구비한 면과는 반대의 면에 본 박리 필름의 이형층(A층)을 첩합함으로써 형성해도 된다.The method for forming the adhesive layer is not particularly limited, and may be formed by applying the adhesive composition onto the resin layer (A) of the release film, drying appropriately, curing, etc. In addition, the adhesive composition may be formed by applying the adhesive composition onto a base film or a release film having a different peeling strength from that of the release film, drying appropriately, curing, etc., and then bonding the release layer (layer A) of the release film to the side opposite to the side having the release film having a different peeling strength from that of the release film.

점착제 조성물은, 가교제나, 주성분 수지에 따라 경화시키면 되고, 가열에 의해 경화해도 되며, 자외선 등의 광조사에 의해 경화해도 된다. 또한, 상기 점착제 조성물은, 적절히 유기 용제 등에 희석한 다음에 이형층 등의 위에 도포해도 된다.The adhesive composition may be cured depending on the crosslinking agent or the main component resin, and may be cured by heating or by light irradiation such as ultraviolet rays. In addition, the adhesive composition may be appropriately diluted with an organic solvent or the like and then applied onto a release layer or the like.

<점착층의 특성><Adhesive layer characteristics>

(점착층의 두께)(Thickness of adhesive layer)

본 점착층의 두께는, 특별히 한정하는 것은 아니다. 예를 들면, 충분한 점착력을 부여하거나, 점착제를 첩합하는 기재의 요철이나 단차를 메우는 점에서, 0.1㎛ 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 0.5㎛ 이상, 그 중에서도 1㎛ 이상인 것이 더 바람직하다. 그 한편, 재료의 사용 효율이나 투과도, 아웃 가스의 관점에서, 10000㎛ 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 3000㎛ 이하, 그 중에서도 1000㎛ 이하인 것이 더 바람직하다.The thickness of this adhesive layer is not particularly limited. For example, in terms of providing sufficient adhesive strength or filling in unevenness or steps of a substrate to which the adhesive is bonded, it is preferably 0.1 ㎛ or more, more preferably 0.5 ㎛ or more, and more preferably 1 ㎛ or more. On the other hand, in terms of material usage efficiency, permeability, and outgassing, it is preferably 10,000 ㎛ or less, more preferably 3,000 ㎛ or less, and more preferably 1,000 ㎛ or less.

(점착층의 탄성률)(Elasticity of adhesive layer)

본 발명에 있어서 점착층은, 25℃에 있어서의 탄성률이, 6.0MPa 이하인 것이 바람직하다. 여기서 말하는 탄성률은, 나노인덴터에 의해 측정된 값이다. 탄성률이 6.0MPa 이하가 됨으로써, 점착층은 변형에 대한 추종성이 양호해져, 폴더블 디스플레이 용도에 적용 가능해진다. 이러한 관점에서, 점착층의 탄성률은, 보다 바람직하게는 5.0MPa 이하, 더 바람직하게는 4.0MPa 이하, 그 중에서도 특히 3.0MPa 이하이다. 또한, 점착층의 25℃에 있어서의 탄성률은, 점착층 형성성의 관점에서, 0.5MPa 이상이 바람직하고, 1.0MPa 이상이 보다 바람직하고, 1.5MPa 이상이 더 바람직하다.In the present invention, the adhesive layer preferably has an elastic modulus of 6.0 MPa or less at 25°C. The elastic modulus referred to here is a value measured by a nanoindenter. When the elastic modulus is 6.0 MPa or less, the adhesive layer has good deformation followability, and can be applied to foldable display applications. From this viewpoint, the elastic modulus of the adhesive layer is more preferably 5.0 MPa or less, further preferably 4.0 MPa or less, and particularly preferably 3.0 MPa or less. Furthermore, from the viewpoint of adhesive layer formability, the elastic modulus of the adhesive layer at 25°C is preferably 0.5 MPa or more, more preferably 1.0 MPa or more, and further preferably 1.5 MPa or more.

(점착층의 유리 전이 온도(Tg))(Glass transition temperature (Tg) of the adhesive layer)

유리 전이 온도는 하기의 Fox의 식으로부터 산출되는 것이다.The glass transition temperature is derived from Fox's equation below.

Figure 112024020746582-pct00009
Figure 112024020746582-pct00009

Tg : 공중합체의 유리 전이 온도(K)Tg: Glass transition temperature of the copolymer (K)

Tga : 모노머 A의 호모폴리머의 유리 전이 온도(K)Tga: Glass transition temperature (K) of the homopolymer of monomer A

Wa : 모노머 A의 중량분률Wa: Weight fraction of monomer A

Tgb : 모노머 B의 호모폴리머의 유리 전이 온도(K)Tgb: Glass transition temperature (K) of the homopolymer of monomer B

Wb : 모노머 B의 중량분률Wb: Weight fraction of monomer B

Tgn : 모노머 N의 호모폴리머의 유리 전이 온도(K)Tgn: Glass transition temperature (K) of the homopolymer of monomer N

Wn : 모노머 N의 중량분률Wn: Weight fraction of monomer N

(Wa+Wb+···+Wn=1)(Wa+Wb+···+Wn=1)

본 발명에서는, 폴더블 디스플레이에의 적용을 고려하여, Tg가 -55℃ 내지 -70℃인 범위가 바람직하고, 더 바람직하게는 -58℃ 내지 -68℃의 범위이다.In the present invention, considering application to a foldable display, Tg is preferably in the range of -55°C to -70°C, and more preferably in the range of -58°C to -68°C.

상기 범위를 만족함으로써, 절곡과 같은, 변형에 대한 추종성이 양호한 점착층을 얻을 수 있다.By satisfying the above range, an adhesive layer having good follow-up properties to deformation, such as bending, can be obtained.

<<필름 적층체의 사용 방법>><<How to use the film laminate>>

본 필름 적층체는, 여러 가지 적층 구성으로서 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 점착층을 갖는 이형 필름은, 점착층 표면에 광학 부재를 첩합한 필름 적층체로 해도 된다. 이와 같은 필름 적층체는, 본 이형 필름을 벗겨, 노출된 점착층에 의해 광학 부재를 피착체에 첩합함으로써 작성할 수 있다. 광학 부재로서는, 예를 들면, 편광판, 터치 센서 등을 들 수 있다. 또한, 자동차에 탑재되는 터치 패널 등의 차재용(車載用) 광학 부재여도 된다.The present film laminate can be used in various laminate configurations. For example, the release film having the adhesive layer may be a film laminate in which an optical member is bonded to the surface of the adhesive layer. Such a film laminate can be created by peeling off the release film and bonding the optical member to the adherend using the exposed adhesive layer. Examples of the optical member include a polarizing plate, a touch sensor, and the like. In addition, it may be an optical member for vehicle use, such as a touch panel mounted on an automobile.

(편광판)(polarizing plate)

편광판의 재료 및 구성은 임의이고, 예를 들면, 요오드를 배향 색소로서 이용한 연신 폴리비닐알코올 필름에 보호 필름으로서 TAC(트리아세틸셀룰로오스) 필름을 적층한 것이, 이 종류의 편광판으로서 널리 실용화되어 있다. 또한, 편광판은, 표면에, 실질적으로 위상차를 갖지 않는 하드 코팅, 방현(防眩), 저반사, 대전 방지 등의 기능을 갖는 층 구성을 가지는 것이어도 된다.The material and composition of the polarizing plate are arbitrary, and for example, a polarizing plate of this type is widely used, in which a TAC (triacetyl cellulose) film is laminated as a protective film on a stretched polyvinyl alcohol film using iodine as an orientation pigment. In addition, the polarizing plate may have a layer composition having functions such as a hard coating having virtually no phase difference on the surface, and an anti-glare, low-reflection, and anti-static properties.

(터치 센서)(Touch sensor)

터치 센서는, 사용자가 화면에 표시되는 화상을 손가락이나 터치펜 등으로 접촉하는 경우, 이 접촉에 반응하여 터치 지점을 파악하는 부재이며, 센서 기술에 의해, 정전 용량 방식, 저항막 방식, 적외선 또는 초음파 등을 이용한 표면파 방식 등의 방법이 예시된다.A touch sensor is a component that detects a touch point by reacting to the contact when a user touches an image displayed on a screen with a finger or a touch pen, and examples of sensor technologies include electrostatic capacitance, resistive film, and surface wave methods using infrared or ultrasonic waves.

일반적으로 터치 센서는 액정 표시 패널, 유기 EL 등의 표시 장치에 탑재된다.Typically, touch sensors are mounted on display devices such as liquid crystal display panels and organic EL displays.

또한, 근래, 유리 기판의 대체로서, 플렉시블성에 착목하여, 기재 필름을 이용하는 경향이 있어, 터치 센서 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 터치 센서 필름은, 감지 전극의 기능을 실행하기 위한 패턴화한 투명 도전층을 마련하는 것이 일반적이다.In addition, recently, as a replacement for a glass substrate, there is a tendency to use a substrate film with an emphasis on flexibility, so it is desirable to use a touch sensor film. A touch sensor film generally provides a patterned transparent conductive layer to perform the function of a sensing electrode.

또한, 필름 적층체는, 상기 점착층을 갖는 이형 필름과, 다른 이형 필름을 구비하고, 점착층을 갖는 이형 필름이 점착층을 개재하여 다른 이형 필름에 첩합된 층 구조를 가져도 된다. 이와 같은 층 구조를 갖는 필름 적층체는, 본 이형 필름/점착층/다른 이형 필름 구성으로 이루어지고, 양면 점착 시트로서 사용할 수 있다.In addition, the film laminate may have a layer structure including a release film having the adhesive layer and another release film, and in which the release film having the adhesive layer is bonded to the other release film with the adhesive layer interposed therebetween. The film laminate having such a layer structure is composed of the release film/adhesive layer/another release film, and can be used as a double-sided adhesive sheet.

다른 이형 필름은, 수지 필름 등의 기재 표면에 이형층이 형성된 것이며, 이형층이 형성된 면이 점착층에 첩합되면 된다. 다른 이형 필름의 이형층은, 상기한 본 이형층 이외를 사용하면 된다.Other release films have a release layer formed on the surface of a substrate such as a resin film, and the surface on which the release layer is formed is bonded to the adhesive layer. The release layer of other release films may be used other than the release layer described above.

상기 구조를 갖는 필름 적층체는, 본 이형 필름의 이형층의 탄성률(MA)과 다른 이형 필름의 이형층의 탄성률(MB)의 비율(MB/MA)이, 4∼30의 범위가 바람직하고, 더 바람직하게는 4∼25의 범위이다. 탄성률의 범위가 상기 범위를 만족함으로써, 필름 적층체에 있어서, 본래 박리할 필요가 없는 장면에 있어서, 본 이형 필름이 박리되는 문제를 저감할 수 있다.The film laminate having the above structure preferably has a ratio (MB/MA) of the elastic modulus (MA) of the release layer of the present release film to the elastic modulus (MB) of the release layer of another release film in a range of 4 to 30, more preferably in a range of 4 to 25. By satisfying the above range of elastic moduli, in the film laminate, the problem of the present release film being peeled off in a scene where peeling is not originally necessary can be reduced.

상기한 다른 이형 필름이 첩합된 필름 적층체는, 본 이형 필름을 박리하여, 남겨진 점착층을 갖는 이형 필름의 노출되는 점착층 표면을 광학 부재에 첩합하여 사용하면 된다. 그리고, 그 후, 당해 점착층을 갖는 이형 필름의 점착층으로부터, 다른 이형 필름을 박리하면 된다. 또한, 그 후, 재차, 광학 부재에 첩부된 상기 점착층 상에 본 이형 필름을 첩부할 수도 있다. 이와 같이 본 발명의 이형 필름은, 초경박리성이고 또한 이행성도 낮으므로, 이른바 이형 필름의 재박리 사용도 가능하다.The film laminate in which the above-mentioned different release films are bonded can be used by peeling off the release film and bonding the exposed adhesive layer surface of the release film having the remaining adhesive layer to an optical member. Then, another release film can be peeled off from the adhesive layer of the release film having the adhesive layer. In addition, the release film can be re-bonded on the adhesive layer bonded to the optical member. In this way, since the release film of the present invention has ultra-light peeling properties and low transferability, so-called re-peelable use of the release film is also possible.

또한, 다른 이형 필름은, 0.3m/min의 박리 속도로 180° 박리에서 측정되는 상태 박리력이, 본 이형 필름의 상태 박리력보다 크며, 구체적으로는 본 이형 필름의 상태 박리력의 2∼10배 정도인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 2∼6배이다. 상기 박리력 비율을 만족함으로써, 본 이형 필름이 본래, 박리할 필요가 없는 장면에 있어서 박리되는 문제를 저감할 수 있다.In addition, the other release film has a state peel strength measured at 180° peeling at a peeling speed of 0.3 m/min that is greater than the state peel strength of the present release film, and specifically, it is preferably about 2 to 10 times the state peel strength of the present release film, and more preferably, it is 2 to 6 times. By satisfying the above peeling force ratio, the problem of the present release film being peeled in a scene where peeling is not originally necessary can be reduced.

상기한 이형 필름 및 필름 적층체는, 차재용으로 사용되는 것이 바람직하다. 차재용으로 사용되는 경우, 여름철의 고온 분위기 하, 또는 겨울철의 저온 환경 하에 노출되어도, 높은 점착력을 유지하기 위해, 점착층의 점착력을 높게 할 필요가 있다. 본 이형 필름은, 초경박리성을 실현할 수 있으므로, 점착층의 점착력이 높아도 박리 성능이 양호해진다.The above-mentioned release film and film laminate are preferably used for vehicle applications. When used for vehicle applications, in order to maintain high adhesiveness even when exposed to a high temperature environment in summer or a low temperature environment in winter, it is necessary to increase the adhesiveness of the adhesive layer. Since the release film can realize ultra-light peeling properties, even if the adhesiveness of the adhesive layer is high, the peeling performance is good.

<<<어구의 설명 등>>><<<Explanation of phrases, etc.>>>

본 발명에 있어서는, 「필름」이라고 하는 경우에도 「시트」를 포함하는 것으로 하고, 「시트」라고 하는 경우에도 「필름」을 포함하는 것으로 한다.In the present invention, even when referring to a “film,” it is considered to include a “sheet,” and even when referring to a “sheet,” it is considered to include a “film.”

또한, 화상 표시 패널, 보호 패널, 터치 패널 등과 같이 「패널」이라고 표현하는 경우, 판체, 시트 및 필름을 포함하는 것이다.In addition, when expressed as a “panel,” such as a display panel, a protective panel, a touch panel, etc., it includes a plate, sheet, and film.

본 발명에 있어서, 「X∼Y」(X, Y는 임의의 숫자)라고 기재한 경우, 특별히 언급하지 않는 한 「X 이상 Y 이하」의 뜻과 함께, 「바람직하게는 X보다 크다」 또는 「바람직하게는 Y보다 작다」의 뜻도 포함하는 것이다.In the present invention, when it is described as “X∼Y” (X, Y are arbitrary numbers), unless specifically stated otherwise, it includes the meaning of “more than X and less than Y,” as well as the meaning of “preferably greater than X” or “preferably less than Y.”

또한, 「X 이상」(X는 임의의 숫자)이라고 기재한 경우, 특별히 언급하지 않는 한 「바람직하게는 X보다 크다」의 뜻을 포함하고, 「Y 이하」(Y는 임의의 숫자)라고 기재한 경우, 특별히 언급하지 않는 한 「바람직하게는 Y보다 작다」의 뜻도 포함하는 것이다.In addition, when it is written as “X or more” (X is any number), it includes the meaning of “preferably greater than X” unless otherwise stated, and when it is written as “Y or less” (Y is any number), it also includes the meaning of “preferably less than Y” unless otherwise stated.

실시예Example

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더 상세하게 설명하나, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한, 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 및 비교예에 있어서의 평가 방법은 하기와 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it goes beyond the gist thereof. In addition, the evaluation methods in the examples and comparative examples are as follows.

(1) 폴리에스테르의 극한 점도의 측정 방법(1) Method for measuring the ultimate viscosity of polyester

폴리에스테르에 비상용인 다른 폴리머 성분 및 안료를 제거한 폴리에스테르 1g을 정칭(精秤)하고, 페놀/테트라클로로에탄=50/50(질량비)의 혼합 용매 100ml를 첨가하여 용해시켜, 30℃에서 측정했다.1 g of polyester from which other polymer components and pigments that are incompatible with polyester have been removed was weighed, 100 ml of a mixed solvent of phenol/tetrachloroethane = 50/50 (mass ratio) was added, dissolved, and measured at 30°C.

(2) 평균 입경(d50:㎛)의 측정 방법(2) Method for measuring average particle size (d50:㎛)

원심 침강식 입도 분포 측정 장치(주식회사시마즈제작소사제 SA-CP3형(型))를 사용하여 측정한 등가 구형 분포에 있어서의 적산(질량 기준) 50%의 값을 평균 입경으로 했다.The average particle size was determined by taking the value at 50% of the accumulated (mass basis) value in the equivalent spherical distribution measured using a centrifugal sedimentation particle size distribution measuring device (SA-CP3 type manufactured by Shimadzu Corporation).

(3) 수지층 (A)의 막두께의 측정 방법(3) Method for measuring film thickness of resin layer (A)

이면으로부터의 반사를 억제하기 위해, 미리, 시료 필름의 측정 이면에 흑테이프(니치반(주)제 「비닐 테이프 VT-50」)를 붙였다. 측정에는, 분광 광도계(일본분광(주)제 자외가시 분광 광도계 「V-670」)를 사용하여, 파장 범위 300∼800㎚에서의 절대 반사율을, 동기 모드, 입사각 5°, N편광, 리스폰스 Fast, 데이터 취득 간격 1.0㎚, 밴드폭 10㎚, 주사 속도 1000m/min의 조건에서 측정했다. 이 측정으로 얻어진 데이터와, 실리콘의 굴절률을 1.43으로 하여 계산한 데이터를 비교함으로써, 막두께를 구했다.In order to suppress reflection from the back, black tape ("Vinyl Tape VT-50" manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was attached to the measurement back side of the sample film in advance. For the measurement, a spectrophotometer (UV-Visible Spectrophotometer "V-670" manufactured by Nippon Associativity Co., Ltd.) was used to measure the absolute reflectance in the wavelength range of 300 to 800 nm under the conditions of synchronous mode, 5° incident angle, N polarization, Fast response, 1.0 nm data acquisition interval, 10 nm bandwidth, and 1000 m/min scanning speed. The film thickness was obtained by comparing the data obtained by this measurement with data calculated assuming the refractive index of silicon to be 1.43.

(4) 수지층 (B), 및 언더코팅층의 막두께의 측정 방법(4) Method for measuring film thickness of resin layer (B) and undercoating layer

경화 수지층 (B)의 표면을 RuO4로 염색하고, 에폭시 수지 중에 포매(包埋)했다. 그 후, 초박 절편법에 의해 작성한 절편을 RuO4로 염색하고, 도포층 단면을 TEM(주식회사히타치하이테크놀러지즈제 H-7650, 가속 전압 100kV)을 이용하여 측정했다.The surface of the cured resin layer (B) was dyed with RuO 4 and embedded in an epoxy resin. Thereafter, a section prepared by an ultrathin sectioning method was dyed with RuO 4 , and the cross-section of the coating layer was measured using TEM (H-7650, Hitachi High-Technologies Co., Ltd., acceleration voltage 100 kV).

(5) 표면 고유 저항률의 측정(5) Measurement of surface resistivity

저저항율계(미츠비시케미컬(주)제, 「로레스타GP MCP-T600」)를 사용하여, 온도 23℃, 상대 습도 50%의 측정 분위기에서 샘플을 30분간 조습(調濕) 후에 표면 고유 저항률의 측정을 행하고, 1분 후의 값을 표면 고유 저항률로 했다. 저항값이 측정 가능한 범위의 상한을 넘은 경우는 측정 불가로 했다.Using a low resistivity meter (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., “Loresta GP MCP-T600”), the surface resistivity was measured after regulating the humidity of the sample for 30 minutes in a measurement atmosphere of 23°C and 50% relative humidity, and the value after 1 minute was taken as the surface resistivity. If the resistance value exceeded the upper limit of the measurable range, the measurement was considered impossible.

(6) 평균 표면 거칠기의 측정(6) Measurement of average surface roughness

JIS B 0601-2001에 준거한 표면 조도계((주)고사카연구소제, 이차원 조도계 「surfcorder SE3500」)를 이용하여, 수지층 (B)의 산술 평균 거칠기(Ra)를 측정했다. 또한, 반이형면의 최대 단면 높이(Rt)를 측정했다. Rt는, 평가 길이에 있어서의 거칠기 곡선의 마루 높이(Rp)의 최댓값과 골 깊이(Rv)의 최댓값의 합으로서 구할 수 있다.The arithmetic mean roughness (Ra) of the resin layer (B) was measured using a surface roughness meter (two-dimensional roughness meter "surfcorder SE3500" manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.) compliant with JIS B 0601-2001. In addition, the maximum cross-sectional height (Rt) of the semi-circular surface was measured. Rt can be obtained as the sum of the maximum value of the peak height (Rp) and the maximum value of the valley depth (Rv) of the roughness curve in the evaluation length.

(7) 경화형 실리콘 수지의 분자량 측정(7) Measurement of molecular weight of curable silicone resin

GPC 측정 장치를 사용하여, 크로마토그램을 측정하고, 표준 폴리스티렌을 사용한 검량선에 기초하여 수평균 분자량(Mn) 및 질량 평균 분자량(Mw)을 구하여, 표 2에 나타냈다. 구체적으로는, 측정용의 시료 4㎎을, 4mL의 THF에 용해하여 측정 용액으로 하고, 측정 용액 100μL를 GPC 측정 장치에 주입하여 측정했다. 용리액에는 테트라히드로푸란(THF)을 사용했다. 분석에는 토소(주)제 「Ecosec8320」을 사용하고, 가드 칼럼에는 토소(주)제 「TSKgel guardcolumn HXL-L」, 칼럼에는 토소(주)제 「TSKgel GMHXL」을 4개 연결하여 사용했다. 또한, 오븐의 온도는 40℃, THF 유량 1.0mL/분의 조건에서 분석을 행하고, 검출에는 RI를 이용했다.Using a GPC measuring device, a chromatogram was measured, and the number-average molecular weight (Mn) and the mass-average molecular weight (Mw) were obtained based on a calibration curve using standard polystyrene, and are shown in Table 2. Specifically, 4 mg of the sample for measurement was dissolved in 4 mL of THF to make a measurement solution, and 100 μL of the measurement solution was injected into the GPC measuring device for measurement. Tetrahydrofuran (THF) was used as the eluent. For the analysis, "Ecosec8320" manufactured by Tosoh Corporation was used, and the guard column was "TSKgel guardcolumn HXL-L" manufactured by Tosoh Corporation, and four "TSKgel GMHXL" manufactured by Tosoh Corporation were connected and used as the column. In addition, the analysis was performed under the conditions of an oven temperature of 40°C and a THF flow rate of 1.0 mL/min, and RI was used for detection.

(8) 경화형 실리콘 수지의 조성 분석(8) Composition analysis of curable silicone resin

실시예·비교예에서 이용한 경화형 실리콘 수지의 조성 분석을, 400MHz-NMR(Bruker Avance400M)을 이용하여 행했다. 1H-NMR 측정에는, 용매로서 CDCl3를 이용하고, 디메틸실록산의 메틸기에 유래하는 피크를 화학 시프트 기준으로 하여, 온도 30℃에서 행했다.The composition analysis of the curable silicone resin used in the examples and comparative examples was performed using 400MHz-NMR (Bruker Avance400M). For the 1H -NMR measurement, CDCl 3 was used as a solvent, and the peak derived from the methyl group of dimethylsiloxane was used as the chemical shift standard, and was performed at a temperature of 30°C.

(9) 수지층 (A)의 상태 박리력의 측정(9) Measurement of peel strength of resin layer (A)

시료 필름의 수지층 (A) 면에, 고무 롤러(2kg)로 압착(2왕복)하고, 점착 테이프(Tesa제 「No.7475」)를 첩부한 후, 25㎜×300㎜의 사이즈로 커트하여, 실온(23℃)에서 1시간 방치한 후의 박리력을 측정했다. 박리력의 측정은, (주)인테스코제 「인테스코 모델 2001형」을 사용하고, 인장 속도 0.3m/min의 조건 하, 시료 필름을 180°로 박리하여 행했다.The resin layer (A) surface of the sample film was pressed (twice) with a rubber roller (2 kg), and an adhesive tape ("No. 7475" manufactured by Tesa) was attached. The film was then cut to a size of 25 mm x 300 mm, and the peeling force was measured after leaving it at room temperature (23°C) for 1 hour. The peeling force was measured using "Intesco Model 2001" manufactured by Intesco Co., Ltd., and the sample film was peeled at 180° under the condition of a tensile speed of 0.3 m/min.

(10) 수지층 (A)의 잔류 접착률의 측정(이행성의 평가)(10) Measurement of residual adhesion of resin layer (A) (evaluation of transferability)

시료 필름을, A4 사이즈(210㎜×297㎜)의 크기로 잘라내고, 그 이형층(A층) 면에, 75㎛의 2축 연신 PET 필름(미츠비시케미컬(주)제:다이아호일 T100-75)을 포개어, 온도 23℃, 압력 1MPa의 조건에서 2시간 프레스했다. 그리고, 「75㎛의 2축 연신 PET 필름」 단체(單體)를 평가 필름으로 했다.The sample film was cut into A4 size (210 mm × 297 mm), and a 75 μm biaxially oriented PET film (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.: Diafoil T100-75) was placed on the release layer (A layer) surface, and pressed for 2 hours under conditions of a temperature of 23°C and a pressure of 1 MPa. Then, the “75 μm biaxially oriented PET film” alone was used as the evaluation film.

한편, 수지층 (A)를 마련하고 있지 않은 미처리의 기재 필름에, 상기와 동일한 「75㎛의 2축 연신 PET 필름」을 포개어 상기와 동일 조건에서 프레스하여, 「75㎛의 2축 연신 PET 필름」 단체를 기준 필름으로 했다.Meanwhile, the same "75 ㎛ biaxially oriented PET film" as described above was applied to an untreated base film that did not have a resin layer (A) and pressed under the same conditions as described above, and the "75 ㎛ biaxially oriented PET film" alone was used as a reference film.

상기 평가 필름의 시료 필름과의 접촉면(수지층 (A)(A층)) 및 상기 기준 필름의 기재 필름과의 접촉면에, 각각 고무 롤러(2kg)에 의해 압착(2왕복)함으로써, 점착 테이프(니토전공(주)제 「No.31B」)를 첩부한 후, 50㎜×300㎜의 사이즈로 커트하여, 실온에서 1시간 방치 후의 박리력을 측정했다.An adhesive tape ("No. 31B" manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) was attached to the contact surface (resin layer (A) (A layer)) of the above evaluation film with the sample film and the contact surface with the base film of the above reference film by pressing (twice reciprocating) with a rubber roller (2 kg), and then cut to a size of 50 mm x 300 mm. The peeling strength was measured after leaving it at room temperature for 1 hour.

박리력의 측정은, (주)인테스코제 「인테스코 모델 2001형」을 사용하고, 인장 속도 0.3m/min의 조건 하, 평가 필름 및 기준 필름 각각을 180°로 박리하여 행했다.The peeling strength was measured using “Intesco Model 2001” manufactured by Intesco Co., Ltd., and was performed by peeling the evaluation film and the reference film at 180° under the condition of a tensile speed of 0.3 m/min.

그리고, 측정한 평가 필름의 박리력 및 기준 필름의 박리력을 다음의 식에 대입하여 잔류 접착률(%)을 구했다. 또한, 여기서는 열처리 등의 처리는 하고 있지 않은 값이다.Then, the peeling force of the measured evaluation film and the peeling force of the reference film were substituted into the following equation to obtain the residual adhesion rate (%). In addition, this is a value that has not been subjected to any heat treatment or the like.

잔류 접착률(%)=(평가 필름의 박리력/기준 필름의 박리력)×100Residual adhesion rate (%) = (peel strength of evaluation film/peel strength of reference film) × 100

이행성이 큰 필름에서는, 포갠 필름에 많은 실리콘이 부착되기 때문에, 점착 테이프의 박리력이 작아지고, 잔류 접착률(%)도 저하한다. 따라서, 이형 필름의 수지층 (A)의 이행성은, 잔류 접착률의 값에 의해 이하와 같이 평가했다.In films with high transferability, since a lot of silicone is attached to the film, the peeling force of the adhesive tape decreases and the residual adhesion rate (%) also decreases. Therefore, the transferability of the resin layer (A) of the release film was evaluated as follows based on the value of the residual adhesion rate.

(11) 수지층 (A)의 프레스 후 중박리화율(블로킹성의 대체 평가)(11) Post-press peeling rate of resin layer (A) (alternative evaluation of blocking properties)

실시예 및 비교예의 이형 필름의 수지층 (A) 면에 아크릴계 점착 테이프(Tesa제의 「No.7475」)를 첩부한 후, 25㎜×150㎜의 사이즈로 커트하여, 실온에서 1시간 방치한다. 인장 속도 0.3m/min의 조건 하에서 180°로 박리한 박리력을 (F1)로 한다.After attaching an acrylic adhesive tape ("No. 7475" manufactured by Tesa) to the resin layer (A) surface of the release film of Examples and Comparative Examples, cut it to a size of 25 mm x 150 mm, and leave it at room temperature for 1 hour. The peeling force at 180° peeling under the condition of a tensile speed of 0.3 m/min is defined as (F1).

다음에, 실시예 및 비교예의 이형 필름의 수지층 (A) 면에, 다른 일방의 면(본 발명에서는, 수지층 (B) 면)이 대향하도록 배치하고, 온도 40℃, 습도 90%RH, 하중 1MPa로 20시간 프레스 처리를 행한다. 처리 후의 상기 수지층 (A) 면에, 아크릴계 점착 테이프(Tesa제의 「No.7475」)를 첩부한 후, 25㎜×150㎜의 사이즈로 커트하여, 실온에서 1시간 방치한다. 인장 속도 0.3m/min의 조건 하에서 180°로 박리한 박리력을 (F2)로 한다.Next, the other side (in the present invention, the resin layer (B) side) of the release film of the examples and comparative examples is placed so as to face the resin layer (A) side, and a press treatment is performed at a temperature of 40°C, a humidity of 90%RH, and a load of 1 MPa for 20 hours. After the treatment, an acrylic adhesive tape ("No. 7475" manufactured by Tesa) is attached to the resin layer (A) side, and then the tape is cut to a size of 25 mm × 150 mm and left at room temperature for 1 hour. The peeling force at 180° under the condition of a tensile speed of 0.3 m/min is defined as (F2).

다음 식에 의해 프레스 후 중박리화율을 구하고, 이 때의 중박리화율을 내블로킹성의 지표로 했다. 또한, 내블로킹성은, 당해 중박리화율이 작을수록 양호하다고 판단된다.The peeling rate after pressing was calculated by the following equation, and the peeling rate at that time was used as an indicator of blocking resistance. In addition, the blocking resistance is judged to be better the smaller the peeling rate.

프레스 후 중박리율(%)=(F2-F1)/F1×100After pressing, peeling rate (%) = (F2-F1)/F1×100

(12) 블로킹성 평가(12) Blocking performance evaluation

실시예 및 비교예의 이형 필름의 이형층면과 반이형면이 대향하도록 배치하고, 프레스기로 압력 10kg/㎠, 40℃, 80%RH의 분위기 하, 20시간 가압하여, 내블로킹성 평가용의 측정용 샘플로 했다. 그 후, 박리 장치((주)시마즈제작소제 「AGI」)를 이용하여, 인장 속도 300㎜/분, 180° 박리의 조건에서 박리력을 측정하고, 이 때의 박리력을 내블로킹성의 지표로 했다. 또한, 내블로킹성은, 당해 박리력이 작을수록 양호하다고 판단된다.The release layer surface and the semi-release surface of the release films of the examples and comparative examples were arranged so that they faced each other, and pressurized with a press machine under an atmosphere of 10 kg/cm2, 40°C, and 80%RH for 20 hours to prepare a measurement sample for evaluating blocking resistance. Thereafter, using a peeling device ("AGI" manufactured by Shimadzu Corporation), the peeling force was measured under the conditions of a tensile speed of 300 mm/min and 180° peeling, and the peeling force at this time was taken as an indicator of blocking resistance. It is also judged that the blocking resistance is better the smaller the peeling force.

《평가 기준》"metewand"

A(good) : 박리력이 20g/25㎜ 이하이고, 문제 없이 박리 가능.A(good): Peeling force is less than 20g/25mm and can be peeled without any problem.

B(poor) : 박리력이 20g/25㎜를 넘어, 블로킹이 발생.B(poor): Peeling force exceeds 20g/25mm, blocking occurs.

(13) 기재 필름과 수지층 (A)와의 밀착성(13) Adhesion between the substrate film and the resin layer (A)

항온 항습조 내에 있어서, 시료 필름을 60℃, 80%RH 분위기 하, 4주간 방치한 후, 시료 필름을 취출했다. 그 후, 시료 필름의 수지층 (A) 면을 촉수에 의해 5회 문질러, 이형층의 탈락 정도에 따라, 밀착성을 이하의 평가 기준에 의해 평가를 행했다.In a constant temperature and humidity chamber, the sample film was left for 4 weeks under an atmosphere of 60°C and 80%RH, and then the sample film was taken out. Thereafter, the resin layer (A) side of the sample film was rubbed 5 times with a tentacle, and the adhesion was evaluated according to the following evaluation criteria based on the degree of peeling off of the release layer.

《평가 기준》"metewand"

○ : 도막이 하얗게 되지 않고, 탈락도 보이지 않았다.○: The coating did not turn white and no peeling was observed.

× : 도막이 하얗게 되거나 또는 탈락이 확인되었다.×: The coating has turned white or has fallen off.

(14) 수지층 (B)의 상태 박리력의 측정(14) Measurement of peel strength of resin layer (B)

시료 필름의 수지층 (B)에, 고무 롤러(2kg)에 의해 압착(2왕복)함으로써, 아크릴계 점착 테이프(Tesa제의 「No.7475」)를 첩부한 후, 25㎜×150㎜의 사이즈로 커트하여, 실온(23℃)에서 1시간 방치한 후의 박리력을 측정했다. 박리력의 측정은, (주)인테스코제 「인테스코 모델 2001형」을 사용하고, 인장 속도 0.3m/min의 조건 하, 시료 필름을 180°로 박리하여 행했다.An acrylic adhesive tape ("No. 7475" manufactured by Tesa) was attached to the resin layer (B) of the sample film by pressing (2 round trips) with a rubber roller (2 kg), then cut to a size of 25 mm x 150 mm, and the peeling force after leaving it at room temperature (23°C) for 1 hour was measured. The peeling force was measured using "Intesco Model 2001" manufactured by Intesco Co., Ltd., by peeling the sample film at 180° under the condition of a tensile speed of 0.3 m/min.

(15) 수지층의 표면 자유 에너지의 측정(15) Measurement of surface free energy of resin layer

23℃, 50RH%의 측정 분위기에서, 접촉각계(교와계면과학주식회사제, 상품명 「DMo-501」)를 이용하여, 시료 필름의 수지층에, 이온 교환수, 디요오도메탄의 액적을 제작하고, 그 접촉각을 측정했다. 접촉각은, 각 액을 적층 폴리에스테르 필름에 적하 후 60초 후의 접촉각을 측정했다. 본 방법으로 얻어진, 이온 교환수 및 디요오도메탄의 접촉각 데이터에 관하여, 각 용매의 표면 장력 성분값(표 1)을 이용하여, Owens-Wendt의 이론식에 의해 반사 방지층 표면의 표면 자유 에너지를 산출했다.In a measurement atmosphere of 23℃, 50RH%, a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., product name "DMo-501") was used to create droplets of ion-exchange water and diiodomethane on the resin layer of the sample film, and the contact angles were measured. The contact angle was measured 60 seconds after each liquid was dropped on a laminated polyester film. Regarding the contact angle data of ion-exchange water and diiodomethane obtained by this method, the surface free energy of the antireflection layer surface was calculated by the Owens-Wendt theoretical formula using the surface tension component values of each solvent (Table 1).

Figure 112024020746582-pct00010
Figure 112024020746582-pct00010

(16) 수지층 (A)의 탄성률의 측정(16) Measurement of elastic modulus of resin layer (A)

Hysitron사의 나노인덴터(TI 950 TriboIndenter)를 이용하여, 실온(25℃) 하, 압입 깊이 50㎚의 지점에서의 수지층 (A)의 탄성률을 측정했다.The elastic modulus of the resin layer (A) was measured at room temperature (25°C) and at an indentation depth of 50 nm using a nanoindenter (TI 950 TriboIndenter) from Hysitron.

(17) 점착층의 탄성률의 측정(17) Measurement of elastic modulus of adhesive layer

Hysitron사의 나노인덴터(TI 950 TriboIndenter)를 이용하여, 압자(conical:구형, 곡률 반경:10㎛), 실온(25℃) 하, 압입 깊이 500㎚의 지점에서의 점착층의 탄성률을 측정했다.Using a nanoindenter (TI 950 TriboIndenter) from Hysitron, the elastic modulus of the adhesive layer was measured at a point with an indentation depth of 500 nm at room temperature (25°C) using an indenter (conical: spherical, radius of curvature: 10 μm).

(18) 점착제 박리력(18) Adhesive peel strength

시료 필름의 이형층면에, 표 8에 기재된 점착제 조성물을, 습윤 상태에서의 막두께가 2mil이 되도록 도포하고, 150℃에서 3분간, 가열 처리하여 경화시켜 점착층(두께(건조 후) 20㎛)을 형성했다.The adhesive composition described in Table 8 was applied to the release layer surface of the sample film so that the film thickness in a wet state was 2 mil, and the film was cured by heat treatment at 150°C for 3 minutes to form an adhesive layer (thickness (after drying) 20 μm).

그 후, 점착층에 다른 이형 필름을 라미네이트하여, 시료 필름/점착층/다른 이형 필름으로 이루어지는 필름 적층체를 얻었다. 또한, 다른 이형 필름으로서는, 후술하는 비교예 1∼4에서 제작한 이형 필름을 이용했다. 얻어진 필름 적층체에 있어서, 시료 필름을 점착층으로부터 벗길 때의 박리력을 측정했다. 박리력의 측정은, (주)인테스코제의 「인테스코 모델 2001형」을 사용하고, 인장 속도 0.3m/min의 조건 하, 180° 박리로 행했다.Thereafter, another release film was laminated on the adhesive layer to obtain a film laminate composed of sample film/adhesive layer/another release film. In addition, as the other release film, the release films produced in Comparative Examples 1 to 4 described below were used. In the obtained film laminate, the peeling force when the sample film was peeled off from the adhesive layer was measured. The measurement of the peeling force was performed using “Intesco Model 2001” manufactured by Intesco Co., Ltd., under the condition of a tensile speed of 0.3 m/min, with 180° peeling.

실시예 및 비교예에 있어서 사용한 폴리에스테르는, 이하와 같이 하여 준비한 것이다.The polyester used in the examples and comparative examples was prepared as follows.

<폴리에스테르 (A)의 제조 방법><Method for producing polyester (A)>

테레프탈산 디메틸 100질량부와 에틸렌글리콜 60질량부를 출발 원료로 하여, 촉매로서 아세트산 마그네슘·사수염 0.09질량부를 반응기에 넣고, 반응 개시 온도를 150℃로 하고, 메탄올의 증류 제거와 함께 점차 반응 온도를 상승시켜, 3시간 후에 230℃로 했다. 4시간 후, 실질적으로 에스테르 교환 반응을 종료시켰다. 이 반응 혼합물에 에틸애시드포스페이트 0.04질량부를 첨가한 후, 삼산화안티몬 0.04질량부를 첨가하여, 4시간 중축합 반응을 행했다. 즉, 온도를 230℃부터 점차 승온하여 280℃로 했다. 한편, 압력은 상압으로부터 점차 줄여, 최종적으로는 0.3㎜Hg로 했다. 반응 개시 후, 반응조의 교반 동력의 변화에 의해, 고유 점도 0.65에 상당하는 시점에서 반응을 정지하고, 질소 가압 하 폴리머를 토출시켜, 고유 점도 0.65의 폴리에스테르 (A)를 얻었다.Using 100 parts by mass of dimethyl terephthalate and 60 parts by mass of ethylene glycol as starting materials and 0.09 parts by mass of magnesium acetate tetrahydrate as a catalyst, the reaction initiation temperature was set to 150°C, and the reaction temperature was gradually increased along with distillation of methanol, and reached 230°C after 3 hours. After 4 hours, the ester exchange reaction was substantially completed. To this reaction mixture, 0.04 parts by mass of ethyl acid phosphate was added, and then 0.04 parts by mass of antimony trioxide was added, and a polycondensation reaction was performed for 4 hours. That is, the temperature was gradually increased from 230°C to 280°C. Meanwhile, the pressure was gradually decreased from normal pressure and finally reached 0.3 mmHg. After the start of the reaction, the reaction was stopped at a point corresponding to an intrinsic viscosity of 0.65 by changing the stirring power of the reaction tank, and the polymer was discharged under nitrogen pressurization to obtain a polyester (A) having an intrinsic viscosity of 0.65.

<폴리에스테르 (B)의 제조 방법><Method for producing polyester (B)>

폴리에스테르 (A)의 제조 방법에 있어서, 에틸애시드포스페이트 0.04질량부를 첨가 후, 평균 입경 2.3㎛의 에틸렌글리콜에 분산시킨 실리카 입자를 0.2질량부, 삼산화안티몬 0.04질량부를 첨가하여, 고유 점도 0.65에 상당하는 시점에서 중축합 반응을 정지시킨 것 이외는, 폴리에스테르 (A)의 제조 방법과 마찬가지의 방법을 이용하여 폴리에스테르 (B)를 얻었다. 얻어진 폴리에스테르 (B)는, 고유 점도는 0.65였다.In the method for producing polyester (A), 0.04 part by mass of ethyl acid phosphate was added, 0.2 part by mass of silica particles dispersed in ethylene glycol having an average particle size of 2.3 ㎛ and 0.04 part by mass of antimony trioxide were added, and the polycondensation reaction was stopped at a point corresponding to an intrinsic viscosity of 0.65, thereby obtaining polyester (B) using the same method as the method for producing polyester (A). The intrinsic viscosity of the obtained polyester (B) was 0.65.

실시예 1-1Example 1-1

폴리에스테르 (A), (B)를 각각 90질량%, 10질량%의 비율로 혼합한 혼합 원료를 최외층(표층)의 원료로 하고, 폴리에스테르 (A)를 중간층의 원료로 하여, 2대의 압출기에 각각을 공급하고, 각각 290℃에서 용융한 후, 25℃로 설정한 냉각 롤 상에, 2종 3층(표층/중간층/표층=1:18:1의 토출량)의 층 구성으로 공압출하고 냉각 고화시켜 미연신 시트를 얻었다. 이어서, 롤 주속차를 이용하여 필름 온도 85℃에서 세로 방향으로 3.4배 연신한 후, 세로 연신 필름의 편면에, 표 4에 나타내는 수지층 (B)의 도포액 1을, 다른 일방의 면에, 하기 언더코팅층 조성물을 각각 도포하고, 텐터에 유도하여, 가로 방향으로 120℃에서 4.5배 연신하고, 225℃에서 열처리를 행한 뒤, 가로 방향으로 2% 이완하여, 수지층 (B) 막두께(건조 후)가 0.05㎛, 언더코팅층 막두께(건조 후)가 0.05㎛ 각각 갖는 두께 50㎛의 2축 연신 폴리에스테르 필름을 얻었다.A mixed raw material in which polyester (A) and (B) were mixed in a ratio of 90 mass% and 10 mass%, respectively, was used as a raw material for the outermost layer (surface layer), and polyester (A) was used as a raw material for the middle layer. Each was supplied to two extruders, respectively, and after each was melted at 290°C, it was co-extruded in a layer configuration of 2 types and 3 layers (output amount of surface layer/middle layer/surface layer = 1:18:1) on a cooling roll set to 25°C, and then cooled and solidified to obtain an unstretched sheet. Next, using a roll speed difference, the film was stretched 3.4 times in the vertical direction at a film temperature of 85°C, and then the coating solution 1 of the resin layer (B) shown in Table 4 was applied to one side of the vertically stretched film, and the undercoat layer composition below was applied to the other side, and then guided into a tenter, stretched 4.5 times in the horizontal direction at 120°C, heat-treated at 225°C, and then relaxed by 2% in the horizontal direction, to obtain a biaxially stretched polyester film having a resin layer (B) thickness (after drying) of 0.05 μm and an undercoat layer thickness (after drying) of 0.05 μm and a thickness of 50 μm.

계속해서, 얻어진 폴리에스테르 필름의 언더코팅층면에, 수지층 (A)로서, 표 3에 나타내는 수지층 (A)의 도포액 1을, 도포량(건조 후)의 두께가 1.0㎛가 되도록 No.4 바를 이용하여 바 코팅 방식에 의해 도포한 후, 150℃에서 30초 건조시켜, 이형 필름을 얻었다.Subsequently, on the undercoating layer surface of the obtained polyester film, as a resin layer (A), the coating solution 1 of the resin layer (A) shown in Table 3 was applied by the bar coating method using a No. 4 bar so that the thickness of the coating amount (after drying) became 1.0 ㎛, and then dried at 150°C for 30 seconds to obtain a release film.

실시예 1-2∼1-12:Examples 1-2 to 1-12:

세로 연신 필름의 편면에 표 4에 나타내는 수지층 (B)의 도포액 2∼12를 도포하는 것 이외는 실시예 1-1과 마찬가지로 제조하여, 이형 필름을 얻었다.A release film was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 1-1, except that the coating solutions 2 to 12 of the resin layer (B) shown in Table 4 were applied to one side of the vertically stretched film.

얻어진 이형 필름은 표 4에 나타내는 바와 같이, 수지층 (A)의 두께가 얇고, 탄성률도 500MPa 이하로 하는 반면에, 상기 수지층 (B)가 비실리콘계 이형제를 포함함으로써, 박리력(상태 박리력)이 5g/25㎜ 이하로 초경박리화를 실현하면서도, 프레스 후 중박리화율이 100% 이하로 내블로킹성을 양립한 것이었다. 또한, 기재 밀착성이 양호하고 또한, 이행성이 낮은 것이었다.As shown in Table 4, the obtained release film had a thin resin layer (A) and an elastic modulus of 500 MPa or less, while the resin layer (B) contained a non-silicone-based release agent, thereby realizing ultra-light peeling with a peeling force (state peeling force) of 5 g/25 mm or less, while also achieving blocking resistance with a post-press heavy peeling rate of 100% or less. In addition, the adhesion to the substrate was good and the transferability was low.

실시예 1-13∼1-28Examples 1-13 to 1-28

폴리에스테르 (A), (B)를 각각 97질량%, 3질량%의 비율로 혼합한 혼합 원료를 최외층(표층)의 원료로 하고, 폴리에스테르 (A)를 중간층의 원료로 하여, 2대의 압출기에 각각을 공급하고, 각각 290℃에서 용융한 후, 25℃로 설정한 냉각 롤 상에, 2종 3층(표층/중간층/표층=1:18:1의 토출량)의 층 구성으로 공압출하고 냉각 고화시켜 미연신 시트를 얻었다. 이어서, 롤 주속차를 이용하여 필름 온도 85℃에서 세로 방향으로 3.4배 연신한 후, 세로 연신 필름의 편면에, 표 4에 나타내는 수지층 (B)의 도포액을, 다른 일방의 면에, 하기 언더코팅층 조성물을 각각 도포하고, 텐터에 유도하여, 가로 방향으로 120℃에서 4.5배 연신하고, 225℃에서 열처리를 행한 뒤, 가로 방향으로 2% 이완하여, 수지층 (B) 막두께(건조 후)가 0.05㎛, 언더코팅층 막두께(건조 후)가 0.05㎛ 각각 갖는 두께 50㎛의 2축 연신 폴리에스테르 필름을 얻었다.A mixed raw material in which polyester (A) and (B) were mixed in a ratio of 97 mass% and 3 mass%, respectively, was used as a raw material for the outermost layer (surface layer), and polyester (A) was used as a raw material for the middle layer. Each was supplied to two extruders, respectively, and after each was melted at 290°C, it was co-extruded in a layer configuration of 2 types and 3 layers (output amount of surface layer/middle layer/surface layer = 1:18:1) on a cooling roll set to 25°C, and then cooled and solidified to obtain an unstretched sheet. Next, using a roll speed difference, the film was stretched 3.4 times in the vertical direction at a film temperature of 85°C, and then the coating solution of the resin layer (B) shown in Table 4 was applied to one side of the vertically stretched film, and the undercoat layer composition below was applied to the other side, and then guided into a tenter, stretched 4.5 times in the horizontal direction at 120°C, heat-treated at 225°C, and then relaxed by 2% in the horizontal direction, to obtain a biaxially stretched polyester film having a resin layer (B) thickness (after drying) of 0.05 μm and an undercoat layer thickness (after drying) of 0.05 μm and a thickness of 50 μm.

계속해서, 얻어진 폴리에스테르 필름의 언더코팅층면에, 수지층 (A)로서, 표 3에 나타내는 수지층 (A)의 도포액 1을, 도포량(건조 후)의 두께가 1.0㎛가 되도록 No.4 바를 이용하여 바 코팅 방식에 의해 도포한 후, 150℃에서 30초 건조시켜, 이형 필름을 얻었다.Subsequently, on the undercoating layer surface of the obtained polyester film, as a resin layer (A), the coating solution 1 of the resin layer (A) shown in Table 3 was applied by the bar coating method using a No. 4 bar so that the thickness of the coating amount (after drying) became 1.0 ㎛, and then dried at 150°C for 30 seconds to obtain a release film.

얻어진 이형 필름은 표 5에 나타내는 바와 같이, 수지층 (A)의 두께가 얇고, 탄성률도 500MPa 이하로 하는 반면에, 상기 수지층 (B)가 비실리콘계 이형제를 포함함으로써, 박리력(상태 박리력)이 5g/25㎜ 이하로 초경박리화를 실현하면서도, 프레스 후 중박리화율이 100% 이하로 내블로킹성을 양립한 것이었다. 또한, 기재 밀착성이 양호하고 또한, 이행성이 낮은 것이었다.As shown in Table 5, the obtained release film had a thin resin layer (A) and an elastic modulus of 500 MPa or less, while the resin layer (B) contained a non-silicone-based release agent, thereby realizing ultra-light peeling with a peeling force (state peeling force) of 5 g/25 mm or less, while also achieving blocking resistance with a post-press heavy peeling rate of 100% or less. In addition, the adhesion to the substrate was good and the transferability was low.

비교예 1-1Comparative Example 1-1

세로 연신 필름에 수지층 (B) 및 언더코팅층을 마련하지 않는 것 이외는 실시예 1-1과 마찬가지로 제조하여, 이형 필름을 얻었다.A release film was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 1-1, except that the resin layer (B) and the undercoating layer were not provided on the vertically stretched film.

비교예 1-2Comparative Example 1-2

세로 연신 필름에 수지층 (B)를 마련하지 않는 것 이외는 실시예 1-1과 마찬가지로 제조하여, 이형 필름을 얻었다.A release film was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 1-1, except that the resin layer (B) was not provided on the vertically stretched film.

얻어진 비교예 1-1∼1-2의 이형 필름은 표 5에 나타내는 바와 같이, 비실리콘계 이형제를 포함하는 수지층 (B)가 존재하지 않기 때문에, 프레스 후 중박리화율이 높아져 블로킹 발생이 우려되는 것이었다.As shown in Table 5, the release films of Comparative Examples 1-1 to 1-2 obtained did not have a resin layer (B) containing a non-silicon release agent, so the rate of peeling after pressing was high, and there was concern about blocking occurring.

비교예 1-3Comparative Example 1-3

실시예 1-1에 있어서, 수지층 (B) 조성물에 관하여, 비실리콘계 이형제를 포함하지 않는 도포액 13으로 변경하는 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 제조하여, 이형 필름을 얻었다.In Example 1-1, a release film was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 1, except that the resin layer (B) composition was changed to a coating solution 13 that did not contain a non-silicone-based release agent.

얻어진 이형 필름은 표 5에 나타내는 바와 같이, 수지층 (B)에 비실리콘계 이형제를 포함하지 않기 때문에, 프레스 후 중박리화율이 높아져 블로킹의 발생이 우려되는 것이었다.As shown in Table 5, the obtained release film did not contain a non-silicon release agent in the resin layer (B), so there was concern that the rate of peeling after pressing would be high and blocking would occur.

비교예 1-4Comparative Example 1-4

실시예 1-1에 있어서, 수지층 (A)의 도포액 2로 변경하는 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 제조하여, 이형 필름을 얻었다.In Example 1-1, a release film was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 1, except that the coating solution 2 of the resin layer (A) was changed.

얻어진 이형 필름은 표 5에 나타내는 바와 같이, 수지층 (A)의 두께가 얇고, 탄성률도 높기 때문에, 박리력(상태 박리력)이 실시예 1-1∼1-12의 약 3배로 높아 초경박리화를 실현할 수 없었다. 또한, 기재 밀착성도 나쁜 것이었다.As shown in Table 5, the obtained heteromorphic film had a thin resin layer (A) and a high elastic modulus, so the peeling force (state peeling force) was about three times higher than that of Examples 1-1 to 1-12, making it impossible to achieve ultra-light peeling. In addition, the adhesion to the substrate was also poor.

참고예 1Reference Example 1

실시예 1에 있어서, 수지층 (A)의 도포액 3(입자 함유량:0.19질량%)으로 변경하는 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 제조하여, 이형 필름을 얻었다.In Example 1, a release film was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 1, except that the coating solution 3 (particle content: 0.19 mass%) of the resin layer (A) was changed.

얻어진 이형 필름은 표 5에 나타내는 바와 같이, 입자가 존재함으로써, 수지층 (A)가 물러지고, 그 때문에 기재 밀착성이 나쁘고, 또한 입자의 탈락에 의해 비교적 이행성이 높은 것이었다. 또한, 프레스 후 중박리화율이 높아, 블로킹의 발생이 우려되는 것이었다.As shown in Table 5, the obtained heteromorphic film had poor adhesion to the substrate due to the presence of particles, which caused the resin layer (A) to recede, and also had relatively high transferability due to particle detachment. In addition, the rate of peeling after pressing was high, and there was concern about the occurrence of blocking.

수지층 (A)를 구성하는 화합물 예는 이하와 같다.Examples of compounds constituting the resin layer (A) are as follows.

a1 : 경화형 실리콘 수지(실록산 결합으로 이루어지는 주쇄의 측쇄 및/또는 말단에, 비닐기가 도입된 실리콘 수지, 수평균 분자량:10600, n-헵탄 용매 희석으로 15질량%로 조정했을 때의 25℃에 있어서의 점도:1.7mcps)a1: Curable silicone resin (silicone resin having a vinyl group introduced into the side chain and/or terminal of the main chain formed by siloxane bonds, number average molecular weight: 10600, viscosity at 25°C when adjusted to 15 mass% by dilution with n-heptane solvent: 1.7 mcps)

a2 : 경화형 실리콘 수지(실록산 결합으로 이루어지는 주쇄의 측쇄 및/또는 말단에, 비닐기가 도입된 실리콘 수지, 수평균 분자량:364000)와, 실리콘 가교제(실록산 결합으로 이루어지는 주쇄의 측쇄 및/또는 말단에, Si-H기가 도입된 실리콘 수지)를 함유하는 혼합물(n-헵탄 용매 희석으로 15질량%로 조정했을 때의 25℃에 있어서의 점도:410mcps)a2: A mixture containing a curable silicone resin (a silicone resin having a vinyl group introduced into a side chain and/or terminal of a main chain composed of siloxane bonds, number average molecular weight: 364,000) and a silicone crosslinker (a silicone resin having a Si-H group introduced into a side chain and/or terminal of a main chain composed of siloxane bonds) (viscosity at 25°C when adjusted to 15 mass% by dilution with n-heptane solvent: 410 mcps)

경화형 실리콘 수지에 있어서의 각 관능기의 함유 비율(mol%)은 이하와 같다.The content ratio (mol%) of each functional group in the curable silicone resin is as follows.

Figure 112024020746582-pct00011
Figure 112024020746582-pct00011

b1 : 실리콘 가교제(CL750:모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈제)b1: Silicone crosslinker (CL750: Momentive Performance Materials)

c1 : 부가형 백금 촉매(CM678:모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈제)c1: Additional platinum catalyst (CM678: Momentive Performance Materials)

c2 : 부가형 백금 촉매(PL-50T:신에츠화학공업주식회사제)c2: Additive platinum catalyst (PL-50T: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

d1 : 입자(토스펄120:모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈제)d1: Particle (Tospul 120: Momentive Performance Materials)

수지층 (A)를 구성하는 도포액은 이하와 같다.The coating solution constituting the resin layer (A) is as follows.

Figure 112024020746582-pct00012
Figure 112024020746582-pct00012

수지층 (B) 및 언더코팅층을 구성하는 화합물예는 이하와 같다.Examples of compounds constituting the resin layer (B) and the undercoating layer are as follows.

(이형제)(Lee Brother)

AI : 장쇄 알킬기 함유 화합물AI: Long-chain alkyl group-containing compound

4구 플라스크에 크실렌 200부, 옥타데실이소시아네이트 600부를 첨가하여, 교반 하에 가열했다. 크실렌이 환류하기 시작한 시점부터, 평균 중합도 500, 비누화도 88몰%의 폴리비닐알코올 100부를 소량씩 10분 간격으로 약 2시간에 걸쳐 첨가했다. 폴리비닐알코올을 끝까지 첨가하고 나서, 추가로 2시간 환류를 행하고, 반응을 종료했다. 반응 혼합물을 약 80℃까지 냉각하고 나서, 메탄올 중에 첨가한 바, 반응 생성물이 백색 침전으로 석출되었으므로, 이 침전을 여과 분리하여, 크실렌 140부를 첨가하고, 가열하여 완전히 용해시킨 후, 다시 메탄올을 첨가하여 침전시킨다는 조작을 수 회 반복한 후, 침전을 메탄올로 세정하고, 건조 분쇄하여 얻었다.A four-necked flask was charged with 200 parts of xylene and 600 parts of octadecyl isocyanate, and the mixture was heated with stirring. From the time when the xylene began to reflux, 100 parts of polyvinyl alcohol having an average degree of polymerization of 500 and a degree of saponification of 88 mol% was added in small portions at 10-minute intervals over a period of about 2 hours. After the polyvinyl alcohol was added to the end, reflux was performed for an additional 2 hours to terminate the reaction. The reaction mixture was cooled to about 80°C and then added into methanol, whereupon the reaction product precipitated as a white precipitate. Therefore, the precipitate was filtered and separated, 140 parts of xylene was added, and after heating to completely dissolve, methanol was added again to precipitate, and this operation of repeating several times, and then the precipitate was washed with methanol, dried, and pulverized to obtain.

AII : 왁스AII: Wax

교반기, 온도계, 온도 컨트롤러를 구비한 내용량 1.5L의 유화 설비에 융점 105℃, 산가 16㎎KOH/g, 밀도 0.93g/mL, 평균 분자량 5000의 산화 폴리에틸렌 왁스 300g, 이온 교환수 650g과 데카글리세린모노올레이트 계면 활성제를 50g, 48% 수산화칼륨 수용액 10g을 첨가하여 질소로 치환 후, 밀봉하여 150℃에서 1시간 고속 교반한 후 130℃로 냉각하고, 고압 호모지나이저를 400기압 하에서 통과시켜 40℃로 냉각한 왁스 에멀젼.A wax emulsion obtained by adding 300 g of oxidized polyethylene wax having a melting point of 105°C, an acid value of 16 mgKOH/g, a density of 0.93 g/mL, and an average molecular weight of 5000, 650 g of ion-exchanged water, 50 g of decaglycerin monooleate surfactant, and 10 g of 48% potassium hydroxide aqueous solution to a 1.5 L emulsifying facility equipped with a stirrer, a thermometer, and a temperature controller, replacing the mixture with nitrogen, sealing, stirring at high speed at 150°C for 1 hour, cooling to 130°C, and passing the mixture through a high-pressure homogenizer at 400 atm to cool to 40°C.

(대전 방지제)(anti-warfare agent)

BI : 폴리에틸렌디옥시티오펜과 폴리스티렌술폰산으로 이루어지는 도전제(아그파게바트사제 Orgacon ICP1010)를 농암모니아수로 중화하여 pH=9로 한 도전제, 불휘발 성분;1.2질량%, 용매;물BI: A conductive agent composed of polyethylenedioxythiophene and polystyrene sulfonic acid (Orgacon ICP1010 manufactured by Agphagebat) neutralized with concentrated ammonia water to pH=9, nonvolatile component; 1.2 mass%, solvent; water

(폴리히드록시 화합물)(polyhydroxy compounds)

CI : 상기 식(9)에서 평균 n=4인 폴리글리세린CI: Polyglycerin with an average of n=4 in the above formula (9)

CII : 상기 식(9)에서 평균 n=2인 폴리글리세린 골격에 폴리에틸렌옥사이드가 평균 4분자 부가된 화합물.CII: A compound in which an average of 4 molecules of polyethylene oxide are added to a polyglycerin skeleton having an average of n=2 in the above formula (9).

(바인더)(bookbinder)

DI : 하기 조성으로 공중합한 폴리에스테르 수지의 수분산체DI: A water dispersion of a polyester resin copolymerized with the following composition

모노머 조성 : (산 성분)2,6-나프탈렌디카르본산/5-나트륨술포이소프탈산//(디올 성분)에틸렌글리콜/디에틸렌글리콜=92/8//80/20(몰%)Monomer composition: (acid component) 2,6-naphthalenedicarboxylic acid/5-sodium sulfoisophthalic acid//(diol component) ethylene glycol/diethylene glycol = 92/8//80/20 (mol%)

DII : 하기의 조성으로 중합한 우레탄 수지 수분산체DII: Polyurethane resin aqueous dispersion polymerized with the following composition

테레프탈산 282질량부, 이소프탈산 282질량부, 에틸렌글리콜 62질량부, 및 네오펜틸글리콜 250질량부를 성분으로 하는 폴리에스테르폴리올을 (C1a)라고 했을 때, (C1a) 876질량부, 톨릴렌디이소시아네이트 244질량부, 에틸렌글리콜 81질량부, 및 디메틸올프로피온산 67질량부를 구성 성분으로 한 폴리에스테르폴리우레탄을 암모니아로 중화하여 수분산시킨 것(농도 20%, 25℃에서의 점도 50mPa·s)When a polyester polyol comprising 282 parts by mass of terephthalic acid, 282 parts by mass of isophthalic acid, 62 parts by mass of ethylene glycol, and 250 parts by mass of neopentyl glycol is referred to as (C1a), a polyester polyurethane comprising 876 parts by mass of (C1a), 244 parts by mass of tolylene diisocyanate, 81 parts by mass of ethylene glycol, and 67 parts by mass of dimethylol propionic acid as components is dispersed in water by neutralizing it with ammonia (concentration 20%, viscosity 50 mPa s at 25°C)

(가교제)(Bridger)

EI : 헥사메톡시메틸올멜라민EI: Hexamethoxymethylolmelamine

EII : 옥사졸린기 및 폴리알킬렌옥사이드쇄를 갖는 아크릴 폴리머EII: Acrylic polymer having oxazoline group and polyalkylene oxide chain

에포크로스(옥사졸린기 양=4.5㎜ol/g, 주식회사니폰촉매제)Epocross (oxazoline group amount = 4.5 mmol/g, Nippon Shokubai Co., Ltd.)

(계면 활성제)(surfactant)

FI : 하기 식에 나타내는, 측쇄에 폴리에틸렌옥사이드를 갖는 구조의 논이온성 계면 활성제.FI: A nonionic surfactant having a structure having polyethylene oxide in the side chain, as shown in the following formula.

[화학식 9][Chemical formula 9]

Figure 112024020746582-pct00013
Figure 112024020746582-pct00013

상기 식 중의 m, n은 에틸렌옥사이드의 부가 몰수를 나타내는 정수이고, 여기서는 m+n의 평균이 10이 되는 것을 이용했다.In the above formula, m and n are integers representing the number of moles of ethylene oxide added, and in this case, the average of m+n was used to be 10.

수지층 (B)를 구성하는 도포액은 이하와 같다. 또한, 표 4는, 불휘발 성분 기준의 양이다.The coating solution constituting the resin layer (B) is as follows. Table 4 also shows the amount based on nonvolatile components.

Figure 112024020746582-pct00014
Figure 112024020746582-pct00014

<언더코팅층 조성물><Undercoating layer composition>

언더코팅층을 구성하는 도포액은 이하와 같다.The coating solution that constitutes the undercoating layer is as follows.

(BI)/(CII)/(DII)/(FI)=10질량%/35질량%/50질량%/5질량%(BI)/(CII)/(DII)/(FI)=10 mass%/35 mass%/50 mass%/5 mass%

Figure 112024020746582-pct00015
Figure 112024020746582-pct00015

<폴리에스테르 (1)의 제조 방법><Method for producing polyester (1)>

테레프탈산 디메틸 100질량부와 에틸렌글리콜 55질량부를 출발 원료로 하여, 촉매로서 아세트산 마그네슘·사수염 0.04질량부를 반응기에 넣고, 반응 개시 온도를 150℃로 하고, 메탄올의 증류 제거와 함께 점차 반응 온도를 상승시켜, 3시간 후에 230℃로 했다. 4시간 후, 실질적으로 에스테르 교환 반응을 종료시켰다. 이 반응 혼합물에 에틸애시드포스페이트 0.02질량부를 첨가한 후, 삼산화안티몬 0.04질량부를 첨가하여, 4시간 중축합 반응을 행했다. 즉, 온도를 230℃부터 점차 승온하여 280℃로 했다. 한편, 압력은 상압으로부터 점차 줄여, 최종적으로는 0.3㎜Hg로 했다. 반응 개시 후, 반응조의 교반 동력의 변화에 의해, 고유 점도 0.59dl/g에 상당하는 시점에서 반응을 정지하고, 질소 가압 하 폴리머를 토출시켜, 고유 점도 0.59dl/g의 폴리에스테르 (1)을 얻었다.Using 100 parts by mass of dimethyl terephthalate and 55 parts by mass of ethylene glycol as starting materials and 0.04 parts by mass of magnesium acetate tetrahydrate as a catalyst, the reaction initiation temperature was set to 150°C, and the reaction temperature was gradually increased along with distillation of methanol, and reached 230°C after 3 hours. After 4 hours, the ester exchange reaction was substantially completed. To this reaction mixture, 0.02 parts by mass of ethyl acid phosphate was added, and then 0.04 parts by mass of antimony trioxide was added, and a polycondensation reaction was performed for 4 hours. That is, the temperature was gradually increased from 230°C to 280°C. Meanwhile, the pressure was gradually decreased from normal pressure and finally reached 0.3 mmHg. After the start of the reaction, the reaction was stopped at a point corresponding to an intrinsic viscosity of 0.59 dl/g by changing the stirring power of the reaction tank, and the polymer was discharged under nitrogen pressurization to obtain a polyester (1) having an intrinsic viscosity of 0.59 dl/g.

<폴리에스테르 (2)의 제조 방법><Method for producing polyester (2)>

테레프탈산 디메틸 100질량부와 에틸렌글리콜 45질량부를 출발 원료로 하여, 촉매로서 아세트산 마그네슘·사수염 0.06질량부를 반응기에 넣고, 반응 개시 온도를 150℃로 하고, 메탄올의 증류 제거와 함께 점차 반응 온도를 상승시켜, 3시간 후에 230℃로 했다. 4시간 후, 실질적으로 에스테르 교환 반응을 종료시켰다. 이 반응 혼합물에 에틸애시드포스페이트 0.03질량부를 첨가한 후, 에틸렌글리콜에 분산시킨 평균 입경 2.7㎛의 실리카 입자를 0.3질량부, 삼산화안티몬 0.03질량부를 첨가하여, 4시간 중축합 반응을 행했다. 즉, 온도를 230℃부터 점차 승온하여 280℃로 했다. 한편, 압력은 상압으로부터 점차 줄여, 최종적으로는 0.3㎜Hg로 했다. 반응 개시 후, 반응조의 교반 동력의 변화에 의해, 고유 점도 0.59dl/g에 상당하는 시점에서 반응을 정지하고, 질소 가압 하 폴리머를 토출시켜, 고유 점도 0.59dl/g의 폴리에스테르 (2)를 얻었다.Using 100 parts by mass of dimethyl terephthalate and 45 parts by mass of ethylene glycol as starting materials and 0.06 parts by mass of magnesium acetate tetrahydrate as a catalyst, the reaction initiation temperature was set to 150°C, and the reaction temperature was gradually increased along with distillation of methanol, and reached 230°C after 3 hours. After 4 hours, the ester exchange reaction was substantially completed. After adding 0.03 parts by mass of ethyl acid phosphate to the reaction mixture, 0.3 parts by mass of silica particles having an average particle size of 2.7 μm dispersed in ethylene glycol and 0.03 parts by mass of antimony trioxide were added, and a polycondensation reaction was performed for 4 hours. That is, the temperature was gradually increased from 230°C to 280°C. Meanwhile, the pressure was gradually decreased from normal pressure and finally reached 0.3 mmHg. After the start of the reaction, the reaction was stopped at a point corresponding to an intrinsic viscosity of 0.59 dl/g by changing the stirring power of the reaction tank, and the polymer was discharged under nitrogen pressurization to obtain polyester (2) having an intrinsic viscosity of 0.59 dl/g.

<폴리에스테르 (3)의 제조 방법><Method for producing polyester (3)>

폴리에스테르 (2)에 있어서, 실리카 입자 대신에, 평균 입경 4.5㎛의 유기 입자(스티렌디비닐벤젠:스티렌계 수지)를 10질량부 첨가하는 것 이외는 폴리에스테르 (2)와 마찬가지로 제조하여, 고유 점도 0.60dl/g의 폴리에스테르 (3)을 얻었다.In polyester (2), 10 parts by mass of organic particles (styrenedivinylbenzene: styrene resin) having an average particle size of 4.5 μm were added instead of silica particles, and a polyester (3) having an intrinsic viscosity of 0.60 dl/g was obtained by producing the same as polyester (2).

<폴리에스테르 필름의 제조 방법><Method for manufacturing polyester film>

[PET-A][PET-A]

폴리에스테르 (1)과 폴리에스테르 (2)를 질량비로 80/20으로 블렌드한 것을 A층, 및 폴리에스테르 (1)만을 B층의 원료로 하여, 폴리에스테르 (1)과 폴리에스테르 (3)을 질량비로 95.5/4.5로 블렌드한 것을 C층 압출기에 각각을 공급하고, 285℃로 가열 용융하여, A층 및 C층을 최외층(표층), B층을 중간층으로 하는 3종 3층(A(A층)/B(B층)/C(C층))의 층 구성에서, 압출 조건에서 두께 구성비가 A/B/C=5/90/5가 되도록 공압출하고, 표면 온도 40∼50℃의 경면 냉각 드럼에 밀착시키면서 냉각 고화시켜, 미연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 작성했다. 이 필름을 85℃의 가열 롤군을 통과시키면서 길이 방향으로 3.0배 연신하여, 1축 배향 필름으로 했다. 이 1축 연신 필름에 대하여, 하기에 나타내는 경화 수지층 조성물을 양면에 도포하고, 이어서 이 필름을 텐터 연신기에 유도하여, 100℃에서 폭 방향으로 4.1배 연신하고, 추가로 235℃에서 열처리를 실시한 후, 폭 방향으로 2%의 이완 처리를 행하여, 막두께(건조 후)가 0.05㎛인 경화 수지층을 양면에 구비한, 두께 50㎛의 이축 배향 폴리에스테르 필름을 얻었다.A blend of polyester (1) and polyester (2) in a mass ratio of 80/20 was used as the raw material for the A layer, and a blend of polyester (1) and polyester (3) in a mass ratio of 95.5/4.5 was used as the raw material for the B layer. Each was supplied to an extruder for the C layer, heated and melted at 285°C, and in a layer configuration of three types of three layers (A (A layer)/B (B layer)/C (C layer)) with the A and C layers as the outermost layers (surface layers) and the B layer as the middle layer, co-extruded so that the thickness composition ratio under the extrusion conditions was A/B/C = 5/90/5, and cooled and solidified while being placed in close contact with a hard cooling drum having a surface temperature of 40 to 50°C, to produce an unstretched polyethylene terephthalate film. This film was stretched 3.0 times in the longitudinal direction while passing through a heated roll group at 85°C to obtain a uniaxially oriented film. For this uniaxially oriented film, the cured resin layer composition shown below was applied to both surfaces, and then this film was guided to a tenter stretching machine, stretched 4.1 times in the width direction at 100°C, and further heat-treated at 235°C, and then relaxation treatment was performed by 2% in the width direction to obtain a biaxially oriented polyester film having a thickness of 50 μm and having a cured resin layer having a film thickness (after drying) of 0.05 μm on both surfaces.

(경화 수지층 조성물)(Curing resin layer composition)

(A) : 티오펜계 대전 방지제(A): Thiophene-based antistatic agent

폴리에틸렌디옥시티오펜과 폴리스티렌술폰산으로 이루어지는 도전제, 아그파게바트사제 「Orgacon ICP1010」을 농암모니아수로 중화하여 pH=9로 한 것.A challenge agent consisting of polyethylenedioxythiophene and polystyrene sulfonic acid, "Orgacon ICP1010" manufactured by Agphagebat, was neutralized with concentrated ammonia water to pH = 9.

(B) 폴리히드록시 화합물(B) Polyhydroxy compound

평균 중합도 4의 폴리글리세린Polyglycerin with an average polymerization degree of 4

(C) 하기의 조성으로 공중합한 축합 다환 구조를 갖는 폴리에스테르 수지의 수분산체(C) A water dispersion of a polyester resin having a condensed polycyclic structure copolymerized with the following composition:

모노머 조성:(산 성분)2,6-나프탈렌디카르본산/5-소듐술포이소프탈산//(디올 성분)에틸렌글리콜/디에틸렌글리콜=92/8//80/20(mol%)Monomer composition: (acid component) 2,6-naphthalenedicarboxylic acid/5-sodium sulfoisophthalic acid//(diol component) ethylene glycol/diethylene glycol = 92/8//80/20 (mol%)

A/B/C=7/10/83(질량%)A/B/C=7/10/83(mass%)

<이형층 조성물><Heteromorphic layer composition>

a1 : 경화형 실리콘 수지(실록산 결합으로 이루어지는 주쇄의 측쇄 및/또는 말단에, 비닐기가 도입된 실리콘 수지, 수평균 분자량:10600, n-헵탄 용매 희석으로 15질량%로 조정했을 때의 25℃에 있어서의 점도:1.7mcps)a1: Curable silicone resin (silicone resin having a vinyl group introduced into the side chain and/or terminal of the main chain formed by siloxane bonds, number average molecular weight: 10600, viscosity at 25°C when adjusted to 15 mass% by dilution with n-heptane solvent: 1.7 mcps)

(경화형 실리콘 수지의 조성 분석)(Composition analysis of curable silicone resin)

실시예·비교예에서 이용한 경화형 실리콘 수지의 조성 분석을, 400MHz-NMR(Bruker Avance400M)을 이용하여 행하고, 결과를 표 6에 나타냈다. 1H-NMR 측정에는, 용매로서 CDCl3를 이용하고, 디메틸실록산의 메틸기에 유래하는 피크를 화학 시프트 기준으로 하여, 온도 30℃에서 행했다. 하기 표 6에는, 경화형 실리콘 수지에 있어서의 각 관능기의 함유 비율(mol%)을 나타냈다.The composition analysis of the curable silicone resin used in the examples and comparative examples was performed using 400MHz-NMR (Bruker Avance400M), and the results are shown in Table 6. For the 1H -NMR measurement, CDCl 3 was used as a solvent, and the peak derived from the methyl group of dimethylsiloxane was used as the chemical shift standard, and was performed at a temperature of 30°C. Table 6 below shows the content ratio (mol%) of each functional group in the curable silicone resin.

Figure 112024020746582-pct00016
Figure 112024020746582-pct00016

b1 : 가교제(CL750:모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈제)b1: Crosslinking agent (CL750: Momentive Performance Materials)

c1 : 부가형 백금 촉매(CM678:모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈제)c1: Additional platinum catalyst (CM678: Momentive Performance Materials)

e1 : 경박리화제(메틸페닐실리콘오일, Mw:1만 미만, 페닐기 함유 비율;DM:MP=91:9(mol%))e1: Light peeling agent (methyl phenyl silicone oil, Mw: less than 10,000, phenyl group content ratio; DM:MP = 91:9 (mol%))

e2 : 경박리화제(메틸페닐실리콘오일, Mw:21000페닐기 함유 비율;DM:MP=91:9(mol%))e2: Light peeling agent (methyl phenyl silicone oil, Mw: 21000, phenyl group content ratio; DM: MP = 91: 9 (mol%))

e3 : 경박리화제(메틸페닐실리콘오일, Mw:71000페닐기 함유 비율;DM:MP=90:10(mol%))e3: Light peeling agent (methyl phenyl silicone oil, Mw: 71000, phenyl group content ratio; DM: MP = 90: 10 (mol%))

e4 : 경박리화제 BY24-850(도레이·다우제)(폴리디메틸실록산, Mw:10만 이상, 페닐기 함유 비율;DM:MP=100:0(mol%))e4: Light-peel agent BY24-850 (Toray/Dow) (polydimethylsiloxane, Mw: 100,000 or more, phenyl group content ratio; DM:MP = 100:0 (mol%))

[실시예 2-1][Example 2-1]

PET-A의 A층측의 평탄면에, 하기 이형층 조성물을, 도포량(건조 후)의 두께가 1g/㎡가 되도록 도포한 후, 150℃에서 30초 건조시켜, 이형 필름(시료 필름)을 얻었다.The following release layer composition was applied to the flat surface of the A layer side of PET-A so that the coating amount (after drying) was 1 g/㎡ in thickness, and then dried at 150°C for 30 seconds to obtain a release film (sample film).

(이형층 조성물)(heterogeneous layer composition)

주제 : a1; 100질량부Subject: a1; 100 mass parts

가교제 : b1; 3질량부Crosslinker: b1; 3 parts by mass

촉매 : c1; 3질량부Catalyst: c1; 3 parts by mass

경박리화제 : e1; 1질량부Light peeling agent: e1; 1 mass part

용매 : 톨루엔; 1000질량부Solvent: Toluene; 1000 parts by mass

MEK; 9000질량부MEK; 9000 mass parts

[실시예 2-2∼2-5][Examples 2-2 to 2-5]

이형층 조성물에 관하여, 경박리화제의 종류 및 첨가량을 하기 표 7과 같이 변경하는 것 이외는 실시예 2-1과 마찬가지로 하여 제조하여, 필름 적층체를 얻었다.Regarding the heterolayer composition, a film laminate was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 2-1, except that the type and amount of the peeling agent were changed as shown in Table 7 below.

[비교예 2-1][Comparative Example 2-1]

이형층 조성물에 있어서, 경박리화제를 첨가하지 않은 것 이외에는 실시예 2-1과 마찬가지로 제조하여, 필름 적층체를 얻었다.In the heterolayer composition, a film laminate was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 2-1, except that no peeling agent was added.

[비교예 2-2][Comparative Example 2-2]

실시예 2-1에 있어서, 이형층의 조성을 하기 이형층 조성으로 변경하는 것 이외는 실시예 2-1과 마찬가지로 제조하여, 이형 필름(시료 필름)을 얻었다.In Example 2-1, a release film (sample film) was obtained by manufacturing in the same manner as in Example 2-1, except that the composition of the release layer was changed to the following release layer composition.

(이형층 조성물)(heterogeneous layer composition)

주제 : a1; 100질량부Subject: a1; 100 mass parts

가교제 : b1; 3질량부Crosslinker: b1; 3 parts by mass

촉매 : c1; 3질량부Catalyst: c1; 3 parts by mass

경박리화제 : e4; 1질량부Light peeling agent: e4; 1 part by mass

용매 : 톨루엔; 1000질량부Solvent: Toluene; 1000 parts by mass

MEK; 9000질량부MEK; 9000 mass parts

Figure 112024020746582-pct00017
Figure 112024020746582-pct00017

본 실시예의 결과로부터, 경화형 실리콘 수지를 포함하는 이형층을 비교적 두껍게 하고, 특정 구성의 경박리화제를 병용하고, 또한 탄성률을 500MPa 이하로 하는 반면에, 반이형면의 최대 단면 높이(Rt)를 소정의 범위 내로 함으로써, 박리력이 가벼울 뿐만 아니라, 이행성이 낮고, 블로킹하기 어렵고, 그럼에도 불구하고 기재에 대한 밀착성이 양호한 이형 필름을 얻는 것이 확인되었다.From the results of this example, it was confirmed that by making the release layer containing the curable silicone resin relatively thick, using a light-release agent having a specific configuration in combination, and further setting the elastic modulus to 500 MPa or less, while setting the maximum cross-sectional height (Rt) of the semi-release surface to a predetermined range, a release film having not only light peeling force, but also low transferability, being difficult to block, and nevertheless having good adhesion to a substrate can be obtained.

또한, 비교예 2-1과 각 실시예를 점착 테이프에 의한 박리력(상태 박리력)으로 비교하면, 가장 가벼운 타입에서는, 비교예 2-1의 약 6할까지 경박리화시킬 수 있어, 초경박리화를 실현할 수 있었다.In addition, when comparing Comparative Example 2-1 and each example in terms of peeling strength (state peeling strength) by adhesive tape, in the lightest type, it was possible to achieve light peeling up to about 60% of that of Comparative Example 2-1, thereby realizing ultra-light peeling.

그에 비하여, 비교예 2-1은, 종래품 레벨(경박리 타입)이고, 점착제층에 대한 박리력이 큰 것을 알 수 있었다. 비교예 2-2는 이형층 중에 분자량이 큰 경박리화제를 함유하고 있기 때문에, 경박리 효과가 부족한 결과였다.In comparison, Comparative Example 2-1 was found to have a high peeling force for the adhesive layer at the level of a conventional product (light peeling type). Comparative Example 2-2 contained a light peeling agent with a large molecular weight in the release layer, resulting in an insufficient light peeling effect.

실시예 3-1Example 3-1

실시예 1-1에서 이용한 이형층에 관하여, 이하에 기재하는 점착제를 이용하여, 박리성에 관하여 평가했다. 결과를 표 8에 나타낸다.Regarding the release layer used in Example 1-1, the peelability was evaluated using the adhesive described below. The results are shown in Table 8.

점착제 A : 2EHA/BA/HEA=36/59/5질량%(탄성률:2.9MPa, Tg:-59.0℃)Adhesive A: 2EHA/BA/HEA=36/59/5 mass% (elasticity: 2.9 MPa, Tg: -59.0℃)

점착제 B : 2EHA/HEA/AAc=92.8/7/0.2질량%(탄성률:2.7MPa, Tg:-66.7℃)Adhesive B: 2EHA/HEA/AAc=92.8/7/0.2 mass% (elasticity: 2.7 MPa, Tg: -66.7℃)

2EHA ; 2-에틸헥실아크릴레이트2EHA; 2-ethylhexyl acrylate

BA ; 부틸아크릴레이트BA; Butylacrylate

HEA ; 히드록시에틸아크릴레이트HEA; Hydroxyethyl acrylate

AAc ; 아크릴산AAc; Acrylic acid

실시예 3-2Example 3-2

실시예 3-1에 있어서, 이형층으로서 실시예 2-1에서 이용한 이형층을 사용한 것 이외는, 실시예 3-1과 마찬가지로 하여 평가했다. 결과를 표 8에 나타낸다.In Example 3-1, the evaluation was conducted in the same manner as in Example 3-1, except that the heteromorphic layer used in Example 2-1 was used as the heteromorphic layer. The results are shown in Table 8.

Figure 112024020746582-pct00018
Figure 112024020746582-pct00018

실시예에 이용한 수지층은 모두, 참고예(종래 기술)보다 경박리화되어 있는 것을 알 수 있었다.It was found that all of the resin layers used in the examples were more easily peeled than the reference example (prior art).

산업상의 이용 가능성Industrial applicability

본 발명의 이형 필름에 의하면, 초경박리성을 실현하면서도, 블로킹에 의해 이형층의 박리 특성이 변화되기 어려운 이형 필름을 제공할 수 있어, 그 공업적 가치는 높다. 또한, 본 발명의 이형 필름, 및 그 이형 필름을 구비하는 필름 적층체는, 초경박리성 및 내블로킹성을 양립한 특징을 갖는 점에서, 이형층의 박리 특성의 변화 및 수지층 (A) 표면의 외관의 악화를 피하는 용도에 적합하며, 예를 들면, 정전 용량 방식의 터치 패널 제조용 등, 점착제층을 개재하여, 첩합하는 각종 용도, 액정 디스플레이에 이용되는 광학 부재(편광판, 위상차판, 프리즘 시트, 도전 필름, 수지 필름, 유리 기판 등), 유기 일렉트로루미네선스 구성 부재 제조용 등, 각종 디스플레이 구성 부재 제조용 외에, 각종 점착제층 보호 용도에 적합하게 이용된다. 그 중에서도 특히, 절곡에 대한 변형에 추종하기 쉬운, 유연한 점착층을 구비한, 폴더블 디스플레이 용도에의 적용도 가능하다.According to the release film of the present invention, a release film which realizes ultra-light peelability and is difficult to change in the peeling characteristics of the release layer due to blocking can be provided, and therefore its industrial value is high. In addition, the release film of the present invention and a film laminate comprising the release film have the characteristics of both ultra-light peelability and blocking resistance, and therefore are suitable for applications that avoid changes in the peeling characteristics of the release layer and deterioration in the appearance of the surface of the resin layer (A), and for various applications in which an adhesive layer is interposed and bonded, such as for manufacturing a touch panel of an electrostatic capacitance type, for manufacturing optical members (polarizing plates, phase difference plates, prism sheets, conductive films, resin films, glass substrates, etc.) used in liquid crystal displays, for manufacturing organic electroluminescence component members, and for various adhesive layer protection applications. In particular, application to a foldable display application having a flexible adhesive layer that is easy to follow deformation due to bending is also possible.

Claims (28)

기재 필름의 적어도 편면측에 수지층 (A)를 구비하고,
상기 수지층 (A)가, 경화형 실리콘 수지 및 경박리화제를 포함하는 수지층 조성물의 경화물이며, 상기 경박리화제가 하기 식(I)로 나타내어지는 디메틸실록산 골격(DM) 및 하기 식(II)로 나타내어지는 메틸페닐실록산 골격(MP)을 가지고, 두께가 0.2∼1.5㎛인, 이형 필름.
Figure 112024030936966-pct00019

Figure 112024030936966-pct00020
A resin layer (A) is provided on at least one side of the substrate film,
A release film wherein the resin layer (A) is a cured product of a resin layer composition containing a curable silicone resin and a light-release agent, and the light-release agent has a dimethylsiloxane skeleton (DM) represented by the following formula (I) and a methylphenylsiloxane skeleton (MP) represented by the following formula (II), and has a thickness of 0.2 to 1.5 µm.
Figure 112024030936966-pct00019

Figure 112024030936966-pct00020
제 1 항에 있어서,
상기 수지층 (A)를 마련하는 면과는 반대측의 필름 표면의 최대 단면 높이(Rt)가, 2.0㎛ 이하인, 이형 필름.
In paragraph 1,
A release film having a maximum cross-sectional height (Rt) of the film surface opposite to the surface on which the resin layer (A) is provided, of 2.0 ㎛ or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 기재 필름의 상기 수지층 (A)가 마련되는 면과는 반대측의 면이, 평균 입경 1∼6㎛의 입자를 0.4∼1.0질량% 함유하는 폴리에스테르층을 구비하는, 이형 필름.
In claim 1 or 2,
A release film, wherein the surface opposite to the surface on which the resin layer (A) of the above-mentioned base film is provided has a polyester layer containing 0.4 to 1.0 mass% of particles having an average particle diameter of 1 to 6 ㎛.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 경박리화제의 질량 평균 분자량이 1만 이상 10만 이하인, 이형 필름.
In claim 1 or 2,
A release film having a mass average molecular weight of the above-mentioned light-release agent of 10,000 to 100,000.
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