JP2007217656A - 組成物、位相差板、液晶表示装置および、位相差板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】配向角度が低く、また重合温度により配向角度の変化のないまたは軽減された光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも一種の液晶性化合物と、少なくとも一種の下記一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーを含有する組成物。一般式（Ａ）

（一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の連結基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の環状連結基を表し、Ｙは単結合または２価の連結基を表し、Ｚは置換もしくは無置換の環状基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。ただし、ｎが２以上の場合、ＸおよびＹは、それぞれ、同じでも異なっていてもよい。）
【選択図】なし

Description

本発明は、光学異方性層の形成に有用な組成物およびそれを用いて作製された位相差板とその作製方法に関する。

液晶表示装置は、通常、液晶セルを挟んで第１の偏光板と第２の偏光板とが設けられ、液晶セルは一対の基板間に棒状液晶を含有する液晶層を有する。棒状液晶を用いた液晶セル内で生じる位相差を、ディスコティック液晶性化合物（円盤状液晶性化合物）（例えば、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ｛４−（４−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ｝トリフェニレン等）から形成される光学異方性層を有する光学補償シート（例えば、特許文献１）によって相殺する場合、棒状液晶とディスコティック液晶性化合物との波長分散性が異なるために全ての光の波長について同時に位相差を相殺できず、変色（黒の色味が出ない等）が生じる場合がある。

ヘテロ環基による３置換ベンゼン化合物が報告されている（非特許文献１）。この化合物の使用によって低い波長分散性を達成することは容易でなく、より波長分散性の小さい（Ｒｅ（短波長（例えば４５０ｎｍ））／Ｒｅ（長波長（例えば６５０ｎｍ））の値が小さい）化合物が望まれている。

位相差板のレターデーションＲｅ（λ）は、補償しようとする液晶セルの光学的性質に応じて決定する必要がある。ここで、レターデーション（△ｎｄ）は、光学異方性層の屈折率異方性（△ｎ）と光学異方性層の厚さ（ｄ）との積であり、光学異方性層の屈折率異方性（△ｎ）が大きければ、層の厚さ（ｄ）が薄くても液晶セルを補償できる。また、液晶を配向固定化して作製された位相差板においては、配向した液晶の配向角度（チルト角、平均チルト角）によってレターデーションＲｅが変化するため、その配向角度を制御する必要がある。

しかしながら、ヘテロ環基の置換した３置換ベンゼン型のディスコティック液晶の場合、配向角度を制御するのが困難であり、特に、低いチルト角でハイブリッド配向させる事が困難であったことから、ディスコティック液晶性化合物の配向角度を所望の角度に低下する事ができる配向制御剤が望まれていた。

一方、液晶性化合物に、配向制御剤もしくは配向促進剤を添加する例が開示されているが、３置換ベンゼン型のディスコティック液晶性化合物に対する効果は明示されておらず、また従来の技術では配向角度を所望の角度に制御するのには不十分であった（特許文献２）。

また、配向角度の制御に関し、特に、重合時の温度が変化しても配向角度の変化が小さいことが望まれているが、これまでは配向角度の温度依存性が大きく、その改善が望まれていた。

特開平８−５０２０６号公報 特開２００２−１２９１６２号公報 Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃｒｙｓｔａｌｓ ａｎｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ，２００１年，３７０巻，３９１頁

本発明は、液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物を提供することを課題とする。特に、ディスコティック液晶性化合物のハイブリッド配向によって発現された光学異方性を示す光学異方性層を、光学特性値のバラツキや配向不良等に起因する欠陥なく（または欠陥を軽減して）作製するのに有用な組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶表示装置の光学補償に有用な位相差板を提供することを課題とする。

上記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
（１）少なくとも一種の液晶性化合物と、少なくとも一種の下記一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーを含有する組成物。
一般式（Ａ）

（一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の連結基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の環状連結基を表し、Ｙは単結合または２価の連結基を表し、Ｚは置換もしくは無置換の環状基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。ただし、ｎが２以上の場合、ＸおよびＹは、それぞれ、同じでも異なっていてもよい。）
（２）前記一般式（Ａ）中のＸが液晶性を有する基を有する、（１）に記載の組成物。
（３）前記一般式（Ａ）中のＸが、炭素原子数３〜２０の置換もしくは無置換の環状脂肪族基または、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のフェニレン基である、（１）または（２）に記載の組成物。
（４）前記一般式（Ａ）において、前記Ｍｐが下記Ｍｐ−１またはＭｐ−２を表し、前記Ｌが、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（Ｒ^a11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、または、炭素原子数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、および、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表す、（１）〜（３）のいずれか１項に記載の組成物。

（＊は、Ｌとの連結位置を示す。）
（５）前記一般式（Ａ）において、前記Ｙが単結合または、−Ｏ−、−ＮＲ^a12−（但し、Ｒ^a12は水素原子、炭素原子数１〜１０の置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、または、炭素原子数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、および、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、前記Ｚが置換もしくは無置換のフェニル基を表し、ｎが、１〜４の整数を表す、（１）〜（４）のいずれか１項に記載の組成物。
（６）前記ポリマーが、さらに、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含む、（１）〜（５）のいずれか１項に記載の組成物。
（７）前記一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含まず、かつ、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーを含有する（１）〜（６）のいずれか１項に記載の組成物。
（８）前記一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含まず、かつ、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーであって親水性基を含有するポリマーを含有する（１）〜（６）のいずれか１項に記載の組成物。
（９）下記一般式（Ｆ）で表される繰り返し単位を含むポリマーを含む、（１）〜（６）のいずれか１項に記載の組成物。
一般式（Ｆ）

（一般式（Ｆ）中、Ｒ⁸¹およびＲ⁸²はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、Ｌ⁸¹、Ｌ⁸²は、それぞれ独立に単結合または炭素原子数１〜２０の二価の連結基を表し、Ｒｆ"は炭素原子数１〜３０のフッ化アルキル基を表し、Ｒ⁸³は水素原子または親水性基を表し、Ａ⁸は重合単位を表し、ｇ、ｈ、iはそれぞれの重合単位の質量分率を表す。
（１０）前記液晶性化合物の少なくとも一種の粘度が、８０〜１５０℃において、５００〜１０００ｍＰａ・ｓである、（１）〜（９）のいずれか１項に記載の組成物。
（１１）前記液晶性化合物の少なくとも１種が、下記一般式（ＤＩ）で表される、（１）〜（１０）のいずれか１項に記載の組成物。

（一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、Ｙ¹³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³は、それぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｈ¹、Ｈ²、Ｈ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）または下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。）

（一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹、ＹＡ²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）

（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹、ＹＢ²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｆ¹）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
（一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ¹、Ｈ²またはＨ³に結合する位置を表す。Ｆ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表す。Ｌ²¹は単結合または２価の連結基を表す。ｎ１は０〜４の整数を表す。Ｌ²²は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、を表し、Ｌ²³は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ¹は重合性基または水素原子を表す。）
（１２）前記液晶性化合物の少なくとも１種が、下記一般式（ＤＩＩ）で表される液晶性化合物または下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される液晶性化合物である、（１）〜（１１）のいずれか１項に記載の組成物。

（一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³はそれぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³はそれぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。）

（一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹、Ａ³²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。Ｆ²は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表す。ｎ３は、１〜３整数を表す。Ｌ³¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、を表し、Ｌ³²は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ³は重合性基または水素原子を表す。）

（一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²およびＹ⁴³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²およびＲ⁴³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。）

（一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ⁴¹、Ａ⁴²、Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵、Ａ⁴⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁴¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ⁴¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ⁴²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁴は、重合性基または水素原子を表す。）

（一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ⁵¹、Ａ⁵²、Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵、Ａ⁵⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁵²は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ⁵¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ⁵²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁵は重合性基または水素原子を表す。）

（一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ⁶¹、Ａ⁶²、Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵、Ａ⁶⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁶³は、酸素原子、硫黄原子、メチンまたはイミノを表し、Ｌ⁶¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ⁶²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁶は重合性基または水素原子を表す。）
（１３）（１）〜（１２）のいずれか１項に記載の組成物を用いてなる光学異方性層を有する位相差板。
（１４）（１３）に記載の位相差板を有する、液晶表示装置。
（１５）（１）〜（１２）のいずれか１項に記載の組成物を用いて光学異方性層を形成することを含む位相差板の製造方法。

本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物を提供することができる。本発明によれば、特に、ハイブリッド配向したディスコティック液晶性化合物の平均傾斜角度を１０〜４０°の範囲に精密に制御することができ、且つ配向温度の僅かな変動に起因する平均傾斜角度のバラツキを軽減して作製するのに有用な組成物を提供することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本発明において、アルキル基等の「基」は、特に述べない限り、置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。よって、例えば、「炭素原子数Ａ〜Ｂのアルキル基」と言う場合、該アルキル基は、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。また、置換基を有する場合は、該置換基の数も、炭素原子数ＡおよびＢに含まれると解釈する。
まず、本明細書における、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）、チルト角および平均チルト角の詳細について以下に記す。
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターでーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。

また、本明細書において、光学異方性層中のディスコティック液晶性化合物の分子の平均チルト角とは、光学異方性層の一方の面（本発明の位相差板においては配向膜表面）と光学異方性中のディスコティック液晶性化合物の分子の物理的な対象軸とのなす角度をチルト角θ１、および、他方の面（本発明の位相差板においては空気界面）とのなす角度をチルト角θ２とし、その平均値（（θ１＋θ２）／２）として定義する。しかしながら、θ１および他方の面のチルト角θ２を、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θ１およびθ２は、以下の手法で算出する。本手法は実際の配向状態を正確に表現していないが、光学フィルムのもつ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
本手法では算出を容易にすべく、下記の２点を仮定し、光学異方性層の２つの界面におけるチルト角とする。
１．光学異方性層は円盤状化合物や棒状化合物を含む層で構成された多層体と仮定する。さらに、それを構成する最小単位の層（円盤状化合物または棒状化合物のチルト角は該層内において一様と仮定）は光学的に一軸と仮定する。
２．各層のチルト角は光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化すると仮定する。
具体的な算出法は下記のとおりである。
（１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定および計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定することが好ましい。このような測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨおよびＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメーターＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０およびＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができる。
（２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、および多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１および他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１およびθ２を算出する。
ここで、ｎｏおよびｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定数することができる。

以下、本発明の組成物、および、位相差板について順次説明する。

本発明の組成物中には、少なくとも一種の液晶性化合物と、少なくとも一種の一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマー（以下、「本発明で用いるポリマー」ということがある）を含有する組成物が含有されている。以下に、本発明で用いるポリマー、および、好適に用いられる液晶性化合物について順次説明する。

一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマー
（１）一般式（Ａ）で表される基
一般式（Ａ）

（一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の連結基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の環状連結基を表し、Ｙは単結合または２価の連結基を表し、Ｚは置換もしくは無置換の環状基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。ただし、ｎが２以上の場合、ＸおよびＹは、それぞれ、同じでも異なっていてもよい。）

一般式（Ａ）中、Ｍｐは、３価の連結基であり、本発明で用いられるポリマーの主鎖を構成する。後述するとおり、これ以外の繰り返し単位を含んで主鎖を構成していてもよい。Ｍｐは、好ましくは、炭素原子数２〜２０（置換基の炭素原子数は含まない、以下、Ｍｐ中のものについて同じ）の置換もしくは無置換の直鎖または分岐のアルキレン基(例えば、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基、ブチレン基、ヘキシレン基等)、炭素原子数３〜１０の置換もしくは無置換の環状アルキレン基(例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロヘキシレン基等)、置換もしくは無置換のビニレン基、置換もしくは無置換の環状ビニレン基、置換もしくは無置換のフェニレン基、酸素原子を含む基（例えば、エーテル基、アセタール基、エステル基、カルボネート基等を含む基）、窒素原子を含む基（例えば、アミノ基、イミノ基、アミド基、ウレタン基、ウレイド基、イミド基、イミダゾール基、オキサゾール基、ピロール基、アニリド基、マレインイミド基等を含む基）、硫黄原子を含む基（例えば、スルフィド基、スルホン基、チオフェン基等を含む基）、リン原子を含む基（例えば、ホスフィン基、リン酸エステル基等を含む基）、珪素原子を含む基（例えば、シロキサン基等を含む基）の基、およびこれらの基を二つ以上連結して形成される基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基が好ましく、より好ましくは、置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のメチルエチレン基、置換もしくは無置換のシクロヘキシレン基、置換もしくは無置換のビニレン基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基であり、さらに好ましくは、置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のメチルエチレン基、置換もしくは無置換のビニレン基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基であり、特に好ましくは、置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のメチルエチレン基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基であり、具体的には、後述する、Ｍｐ−１およびＭｐ−２が好ましい。

以下に、Ｍｐの好ましい具体例を示すが、Ｍｐはこれに限定されるものではない。また、Ｍｐ中の＊で表される部位はＬと連結する部位を表す。

−Ｍｐ（Ｌ）−として好ましくは、−ＣＲ₂−ＣＲＬ−（Ｒは、それぞれ、水素原子または置換基）および−ＣＲ＝ＣＬ−（Ｒは、水素原子または置換基）のいずれか１以上の構造のみからなる基であり、より好ましくは、−ＣＲ₂−ＣＲＬ−（Ｒは、それぞれ、水素原子または置換基）構造のみからなる基であり、さらに好ましくは−ＣＲ₂−ＣＲＬ−（Ｒは、それぞれ、水素原子または置換基）であり、特に好ましくは、Ｍｐ−１およびＭｐ−２である。

一般式（Ａ）中のＬで表される２価の連結基としては、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソプロピレン基など）、炭素原子数２〜２０の置換もしくは無置換のアルケニレン基（例えば、ビニレン基、ブテン基等）、置換もしくは無置換のアリーレン基（例えば、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、１，４−ナフチレン基等）、−Ｏ−、−ＮＲ^a1−、−Ｓ−、−ＰＲ^a2−、−Ｓｉ（Ｒ^a3）（Ｒ^a4）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^a5−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ^a6−、−ＮＲ^a7Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^a8−、−（−Ｏ）₂ＣＨ−等を表す。尚、上記Ｒ^a1〜Ｒ^a8は水素原子または置換可能な置換基を表し、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（１以上の環構造を含むモノシクロアルキル基、ビシクロアルキル基等のシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
また、上記連結基を２つ以上連結させて形成される、以下に示すような連結基でもよい。また、Ｌ中の＊で表される部位はＭｐと連結する部位を表す。
下記Ｌ−１〜Ｌ−７において、ｍは１〜２０の整数を表す。ｍは、ＸおよびＺの自由度を適切に調整するために、好ましくは１〜１６の整数、より好ましくは３〜１２の整数、さらに好ましくは３〜６の整数である。ＸおよびＺの自由度を適切に調整することにより、配向させる液晶との相互作用が増し、かつ、ＸおよびＺの方位をより制御でき、より効果的にプレチルト角度を制御できる。

一般式（Ａ）中のＬとしてより好ましくは、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（但し、Ｒ^a11は水素原子、炭素原子数１〜１０の置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基または炭素原子数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、および、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基である。
前記２個以上連結して形成される２価の連結基としては、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_mＯ−（但し、ｍは上記Ｌ−１〜Ｌ−７中のｍについて述べた説明と同義であり、好ましい範囲も同義である。）等）が挙げられる。

さらに、一般式（Ａ）中のＭｐが前記Ｍｐ−１またはＭｐ−２を表す場合には、Ｌは、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（Ｒ^a11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、または、炭素原子数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、および、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、および、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、ならびに、これらの１以上とアルキレン基との組み合わせからなる２価の連結基から選択される基がより好ましい。例えば、前記Ｌ−１、Ｌ−２、および、Ｌ−３等である。

一般式（Ａ）中のＸで表される置換もしくは無置換の環状連結基としては、炭素原子数３〜２０の置換もしくは無置換の環状脂肪族基、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のフェニレン基、飽和もしくは不飽和の置換もしくは無置換のヘテロ環連結基等が挙げられ、炭素原子数３〜２０の置換もしくは無置換の環状脂肪族基または炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のフェニレン基がより好ましい。
炭素原子数３〜２０の置換もしくは無置換の環状脂肪族基は、炭素原子数３〜１５であることがより好ましく、例えば、シクロプロピレン基、無置換シクロペンチレン基、シクロへキシレン基等が挙げられる。また、置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基などが挙げられる。
炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のフェニレン基は、炭素原子数６〜２０であることがより好ましく、例えば、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、メトキシフェニレン基、メチルフェニレン基、トリフルオロフェニレン基等が挙げられる。また、置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基等が挙げられる。
飽和もしくは不飽和の置換もしくは無置換のヘテロ環連結基は、炭素原子数３〜１５であることがより好ましく、例えば、ピリジン環連結基、ピペリジン環連結基、フラン環連結基、ベンズイミダゾール環連結基、イミダゾール環連結基、チオフェン環連結基、ピロール環連結基等が挙げられる。また、置換基を有する場合、アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基等が挙げられる。

一般式（Ａ）中のＸは、無置換のシクロへキシレン基、炭素原子数６〜２０の置換もしくは無置換のフェニレン基がより好ましく、炭素原子数６〜１０の置換もしくは無置換のｐ−フェニレン基がさらに好ましい。

一般式（Ａ）中のＹで表される２価の連結基としては、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソプロピレン基など）、炭素原子数２〜２０の置換もしくは無置換のアルケニレン基（例えば、ビニレン基、ブテン基等）、置換もしくは無置換のアリーレン基（例えば、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、１，４−ナフチレン基等）、−Ｏ−、−ＮＲ^a12−、−Ｓ−、−ＰＲ^a2−、−Ｓｉ（Ｒ^a3）（Ｒ^a4）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^a5−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ^a6−、−ＮＲ^a7Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^a8−、−（−Ｏ）₂ＣＨ−等を表す。尚、上記Ｒ^a12、Ｒ^a2〜Ｒ^a8は置換可能な置換基を表し、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（１以上の環構造を含むモノシクロアルキル基、ビシクロアルキル基等のシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。

また、一般式（Ａ）中のＹとして好ましくは、単結合、または、−Ｏ−、−ＮＲ^a12−（但し、Ｒ^a12は水素原子、炭素原子数１〜１０の置換もしくは無置換のアルキル基または炭素原子数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、および、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基である。
Ｙとしてさらに好ましくは、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−等）であり、特に好ましくは、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−である。

一般式（Ａ）中のＺで表される置換もしくは無置換の環状基としては、炭素原子数５〜２０の置換もしくは無置換の環状脂肪族基（例えば、無置換シクロペンチル基、シクロへキシル基、ペンチルシクロヘキシル基、プロピルシクロヘキシル基等）、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基（例えば、無置換フェニル基、シアノフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、ハロゲン原子置換したフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、トリフルオロメトキシフェニル基、無置換ナフチル基、シアノビフェニル基、ビフェニル基、パーフルオロヘキシルエチルオキシフェニル基、ヒドロキシブチルフェニル基、カルボキシフェニル基、スルホフェニル基等）、または、置換もしくは無置換のヘテロ環基（例えば、ピリジル基、ジメチルアミノピリジル基、Ｎ−メチルイミダゾリル基等）が挙げられる。

一般式（Ａ）中、Ｚとしてより好ましくは、炭素原子数６〜１５の置換もしくは無置換のシクロヘキシル基、または、炭素原子数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基であり、さらに好ましくは、炭素原子数６〜１５の置換もしくは無置換のフェニル基であり、特に好ましくは炭素原子数６〜１０の置換のフェニル基である。

一般式（Ａ）中、Ｚとしては、Ｚのグループモーメントが、２．０Ｄｅｂｙ以上、好ましくは３．０Ｄｅｂｙ以上、より好ましくは、４．０Ｄｅｂｙ以上であるものが好ましい。このようなＺを採用することにより、広い温度範囲で有効に平均チルト角度を減少させることができる。Ｚにこのような大きなグループモーメントを付与するためには、例えば、Ｚを置換環状基の置換基として、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）を採用することができる。このような置換基の中でも、シアノ基、フッ素原子が特に好ましい。また、同じグループモーメントの値を有するＺにおいてもグループモーメントの方向がメソゲン部の長軸方向と平行な方向に向くものは効果がより大きくなり、またチルト角度の温度依存性が良好である。このような置換基の置換位置としては、ｐ−位および／またはｍ−位が好ましく、より好ましくは、少なくともｐ−位であり、ｐ−位およびｍ−位の両方を置換したものがさらに好ましい。置換基の数としては、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。
特に、Ｙが単結合または、−Ｏ−、−ＮＲ^a12−（但し、Ｒ^a12は水素原子、炭素原子数１〜１０の置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、または、炭素原子数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、および、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基の場合には、Ｚが置換もしくは無置換のフェニル基を表すことが好ましい。この場合、ｎは１〜４の整数であることがさらに好ましい。

一般式（Ａ）中のｎとしては、１〜１０の整数し、１〜４の整数であることが好ましく、１または２であることがさらに好ましい。

以下に一般式（Ａ）として好ましい構成単位の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

（２）一般式（Ａ）で表される基以外に含まれてもよい構成単位
本発明で用いるポリマーは、前記一般式（Ａ）で表される基である構成単位のみからなるホモポリマーであってもよいが、他の構成単位との組み合わせからなるコポリマーであってもよい。このような他の構成単位としては、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位が好ましく、下記一般式（Ｂ）で表される基である構成単位がより好ましい。以下に一般式（Ｂ）で表される基についての詳細を記す。

（一般式（Ｂ）中、Ｍｐ'は３価の連結基を表し、Ｌ'は単結合または２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。）

Ｍｐ'は、一般式（Ａ）中のＭｐと同義であり、好ましい範囲も同義である。
Ｌ'は、好ましくは、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（但し、Ｒ^a11は水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基または炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、および、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基である。前記２個以上連結して形成される２価の連結基としては、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_maＯ−（但し、ｍａは１〜２０の整数を表す）等が挙げられる。

さらに、一般式（Ｂ）中のＭｐ'が前記Ｍｐ−１またはＭｐ−２を表す場合には、Ｌ'は、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（Ｒ^a11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基、または、炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、および、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、および、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、ならびに、これらの１以上とアルキレン基との組み合わせからなる基から選択される２価の連結基（例えば、前記Ｌ−１、Ｌ−２、および、Ｌ−３等）がより好ましい。

Ｒｆは、少なくとも一つのフッ素原子が置換した炭素原子数１〜３０の脂肪族炭化水素基（例えば、トリフルオロエチル基、パーフルオロヘキシルエチル基、パーフルオロヘキシルエトキシエチル基、パーフルオロヘキシルプロピル基、パーフルオロブチルエチル基、パーフルオロオクチルエチル基等）、少なくとも一つのフッ素原子が置換した炭素原子数６〜２０のアリール基（例えば、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−（パーフルオロヘキシルエトキシ）エトキシフェニル基等）等が好ましい例として挙げられる。また、Ｒｆは、末端に、ＣＦ₃基またはＣＦ₂Ｈ基を有することが好ましく、ＣＦ₃基を有することがより好ましい。

Ｒｆとしてより好ましくは、末端にＣＦ₃基を有するアルキル基または末端にＣＦ₂基を有するアルキル基である。末端にＣＦ₃基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。末端にＣＦ₃基を有するアルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているアルキル基が好ましく、６０％以上が置換されているアルキル基がより好ましく、７０％以上が置換されているアルキル基がさらに好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。
末端にＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。末端にＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上が置換されているのがさらに好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。

置換基群Ｄ
本明細書において、置換基群Ｄには、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１２、特に好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１２、特に好ましくは炭素原子数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１２、特に好ましくは炭素原子数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは炭素原子数６〜２０、特に好ましくは炭素原子数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは炭素原子数０〜１０、特に好ましくは炭素原子数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる）、

アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１２、特に好ましくは炭素原子数１〜８のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは炭素原子数６〜１６、特に好ましくは炭素原子数６〜１２のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２アシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは炭素原子数７〜１６、特に好ましくは炭素原子数７〜１０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、

アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは炭素原子数７〜１６、特に好ましくは炭素原子数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは炭素原子数０〜１６、特に好ましくは炭素原子数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、

アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは炭素原子数６〜１６、特に好ましくは炭素原子数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは炭素原子数３〜３０、特に好ましくは、炭素原子数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

末端にＣＦ₃基を有するアルキル基または末端にＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。

Ｒ１：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−
Ｒ２：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−
Ｒ３：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−
Ｒ４：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−（ＣＨ₂）₂−
Ｒ５：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−（ＣＨ₂）₂−
Ｒ６：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−（ＣＨ₂）₂−
Ｒ７：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−
Ｒ８：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−
Ｒ９：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−（ＣＨ₂）−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−（ＣＨ₂）−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−（ＣＨ₂）−
Ｒ１３：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−
Ｒ１４：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−
Ｒ１５：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−

以下に、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される好ましい繰り返し単位の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

また、本発明で用いるポリマーには、一般式（Ａ）で表される構造を含有する構成単位、および、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位の他、これらの構成単位を形成するモノマーと共重合可能なモノマーより誘導される構成単位を含有してもよい。
共重合可能なモノマーとしては、特に制限はない。好ましいモノマーとしては、例えば、炭化水素系ポリマー（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリマレインイミド、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリアクリルアニリド等）、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカルボナート、ポリアミド、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリウレタンおよびポリウレイドを構成するモノマーである。これらは、溶媒への溶解度を向上させたり、ポリマーの凝集を防止する観点で用いることができる。
さらに、主鎖構造が、一般式（Ａ）で表される基が有するものと、同一となることが好ましい。

以下に共重合可能な構成単位の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。特に、Ｃ−３、Ｃ−１３、Ｃ−１５、Ｃ−１６、Ｃ−１８が好ましく、Ｃ−３、Ｃ−１３、Ｃ−１６がより好ましい。

本発明で用いるポリマーにおける、一般式（Ａ）で表される基の含有率としては、１〜９０質量％が好ましく、５〜８０質量％がより好ましい。
本発明で用いるポリマーにおけるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位（好ましくは、一般式（Ｂ）で表される基）の含有率としては、５〜９０質量％が好ましく、１０〜８０質量％がより好ましい。
上記２種以外の構成単位の含有率としては、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。

また、これらの共重合体は、各構成単位が不規則的に導入されたランダム共重合体であっても、規則的に導入されたブロック共重合体であっても良く、ブロック共重合体である場合の各構成単位は、如何なる導入順序で合成されたものであっても良く、同一の構成成分を２度以上用いてもよい。
また、一般式（Ａ）で表される基、一般式（Ｂ）で表される基等は、１種類のみであってもよいし、２種類以上であってもよい。２種類以上の場合、上記含有率は、合計含有率である。

さらに、本発明で用いるポリマーの分子量範囲は、重量平均分子量（Ｍｗ）で、好ましくは１０００〜１００万であり、より好ましくは２０００〜２０万であり、さらに好ましくは３０００〜１０万である。また、本発明で用いるポリマーの分子量分布は、１〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。

本発明で用いるポリマーの添加量範囲は、液晶性化合物に対して、好ましくは０．００１〜１０質量％であり、より好ましくは、０．０１〜５．０質量％であり、さらに好ましくは、０．０５〜１．０質量％である。

また、本発明で用いるポリマーが有する好ましい物性としては、液晶性を示すことが好ましい。得に、一般式（Ａ）中のＸが液晶性を示すことが好ましい。さらに、液晶性は、２５℃〜２５０℃の間で示されることが好ましい。
ここでいう液晶性とは、結晶と液体の間に示す高粘で流動性のある状態をいい、熱的にその状態が変化するサーモトロピック液晶性と濃度による状態が変化するリオトロピック液晶性のどちらでも良いが、前者のサーモトロピック液晶性であることが好ましい。さらにサーモトロピック液晶性においてもその配列状態によって、ネマチック液晶性、スメクチック液晶性などがあり、本発明においてはどのような配列状態の液晶であっても良いが、好ましくは、ネマチック液晶性である。

本発明の組成物に含有されるポリマーとして好ましい具体例を以下の表１に示す。

本発明の組成物は、前記一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマー以外のポリマーを含有してもよい。一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含まないポリマー（以下、「添加剤ポリマー」とも称する）は、例えば、平均チルト角を調整する目的（前記一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含有するポリマーの効果を低減し、結果、平均チルト角の低下を抑制する）、或いは組成物の表面張力や粘度を調整する等の目的で用いられる。
従って、前記一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマー以外のポリマーの構造としては、組成物に混合、溶解できるものであれば一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含まないこと以外には特に制限はない。

こうした添加剤ポリマーの好ましい例としては、フッ素を含有するポリマーが挙げられ、公知の含フッ素ポリマー、含フッ素界面活性剤ポリマー等を好適に用いることができる。これらのうち、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーがより好ましく、このような構造単位の好ましい例として、前記した一般式（Ｂ）で表される基を構成単位として含むポリマーが挙げられる。

（一般式（Ｂ）中、Ｍｐ'は３価の連結基を表し、Ｌ'は単結合または２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。）

さらに、添加剤ポリマーは、親水性基を含有することが好ましい。親水性基とは、水と強く相互作用することのできる有極性の基である。この親水性基としては、例えば、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及びこれらの塩構造を有する基、ポリオキシアルキレン鎖（例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基等のポリオキシアルキレン鎖）を有する基等が挙げられる。これらのうち、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、スルホン酸機、ポリオキシアルキレン鎖を有する基がより好ましく、水酸基、カルボン酸機、ポリオキシアルキレン鎖を有する基がさらに好ましい。

添加剤ポリマーの特に好ましい例として、下記一般式（Ｆ）で表される繰り返し単位を含むポリマーを挙げることができる。
一般式（Ｆ）

（一般式（Ｆ）中、Ｒ⁸¹、Ｒ⁸²はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、Ｌ⁸¹、Ｌ⁸²はそれぞれ独立に単結合、または炭素原子数１〜２０の二価の連結基を表し、Ｒｆ"は炭素原子数１〜３０のフッ化アルキル基を表し、Ｒ⁸³は水素原子または親水性基を表しＡ⁸は重合単位を表し、ｇ、ｈ、iはそれぞれの重合単位の質量分率を表す。）

Ｒ⁸¹、Ｒ⁸²は、それぞれ独立にメチル基または水素原子を表す。Ｒｆ"は、一般式（Ｂ）におけるＲｆと同義であり、好ましい範囲も同義である。Ｌ⁸¹、Ｌ⁸²は、それぞれ独立に単結合または炭素原子数１〜２０の二価の連結基を表し、一般式（ＦＬ−１）、一般式（ＦＬ−２）、一般式（ＦＬ−３）のいずれかで表される基であることが好ましく、一般式（ＦＬ−１）で表される基であることが特に好ましい。

（一般式（ＦＬ−１）中、＊はポリマー主鎖の炭素原子と結合する部位を表し、＊＊はＲｆ"またはＲ⁸³で表される側鎖と結合する部位を表し、Ｌ⁹¹は炭素原子数１〜１９の連結基を表し、ｐは０または１である。）
Ｌ⁹¹は好ましくは炭素原子数１〜１５の連結基を表し、より好ましくは炭素原子数１〜６の連結基を表し、飽和結合および不飽和結合のいずれを有していてもよく、直鎖構造および分岐構造のいずれを含んでもよい。また、Ｌ⁹¹は環構造を含んでいても良く、該環構造は、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していても含んでいてもよい。

（一般式（ＦＬ−２）中、＊はポリマー主鎖の炭素原子と結合する部位を表し、＊＊はＲｆ"またはＲ⁸³で表される側鎖と結合する部位を表し、Ｌ⁹²は炭素原子数１〜１９の連結基を表し、ｑは０または１である。）
Ｌ⁹²の好ましい範囲は、一般式（ＦＬ−１）におけるＬ⁹¹と同一である。

（一般式（ＦＬ−３）中、＊はポリマー主鎖の炭素原子と結合する部位を表し、＊＊はＲｆ"またはＲ⁸³で表される側鎖と結合する部位を表し、Ｌ⁹³は炭素原子数１〜１９の連結基を表し、ｒは０または１である。）
Ｌ⁹³の好ましい範囲は、一般式（ＦＬ−１）におけるＬ⁹¹と同一である。

Ｒ⁸³は、水素原子または親水性基を表し、水素原子、または、水酸基、アミノ基、カルボン酸基、スルホン酸基、ポリオキシアルキレン鎖を有する基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン鎖を有する基としては、ポリ（オリゴ）エチレンオキシ鎖、ポリ（オリゴ）プロピレンオキシ鎖、ポリ（オリゴ）ブチレンオキシ鎖が好ましい。
本発明の組成物において、一般式（Ｆ）で表される繰り返し単位は、１種類のみを構成単位として含有していてもよく、２種類以上を構成単位として含有していてもよい。これらを２種以上用いた共重合体であってもよく、末端は水酸基であっても、また置換基で置換されていてもよい。
また、該ポリアルキレンオキシ鎖の重合度は１〜１０，０００であることが好ましく、１〜１００であることがより好ましい。

Ａ⁸は重合単位を表し、他の構成単位を形成する単量体と共重合しうる如何なる単量体から形成されてよく、官能基を含まなくても含んでいても良い。具体的な例としては官能基のないものとして、オレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、３−トリメトキシシリルプロピルアクリレート、ポリエチレンオキシドをエステル部位に有するアクリレート、ポリジメチルシロキサンをエステル部位に有するアクリレートなど）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、グリシジルメタクリレート、３−トリエトキシシリルプロピルメタクリレート、ポリプロピレンオキシドをエステル部位に有するメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルピリジン類（２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジン等）ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ヒドロキシアクリルアミド、３−アミノプロピルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ−ヒドロキシメタクリルアミド、３−アミノプロピルメタクリルアミド等）、アクリロニトリル、カルボキシル基含有ビニルモノマー類（アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）等を挙げることができ、これらのうちでもアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン誘導体、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、カルボキシル基含有ビニルモノマー類が好ましく、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類が特に好ましい。

ｇ、ｈ、iはそれぞれの重合単位の質量分率（％）を表し、２０≦ｇ≦１００、０≦ｈ≦８０、０≦ｉ≦８０であることが好ましく、２０≦ｇ≦９０、１０≦ｈ≦８０、０≦ｉ≦７０であることがより好ましく、３０≦ｇ≦９０、１０≦ｈ≦７０、０≦ｉ≦５０であることがさらに好ましい。

また、これらの共重合体は、各構成単位が不規則的に導入されたランダム共重合体であっても、規則的に導入されたブロック共重合体であってもよく、ブロック共重合体である場合の各構成単位は、如何なる導入順序で合成されたものであってもよい。また、各構成単位は、それぞれ、１種類のみでもよく、２種類以上が含まれていてもよい。

添加剤ポリマーは様々な効果を果たすために用いることができ、それぞれの場合において最適な組成を前記した範囲より選択することができる。以下に代表的な例を示して、それぞれの組成の選択すべき範囲を示すが、添加剤ポリマーの用途はこれらの例に限定されるものではない。

添加剤ポリマーは平均チルト角を調整する目的で用いることができる。例えば、一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーと添加剤ポリマーの両方を用いた場合、添加剤ポリマーを用いなかった場合に比べ平均チルト角を高い値にすることができる。この場合、上記ｇの値が重要となる。すなわちｇの値が、一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーにおけるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位（好ましくは一般式（Ｂ）で表される構造）の占める質量分率に対し、同程度とすることが好ましい。フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位（好ましくは一般式（Ｂ）で表される構造）の占める質量分率をｇ'とし、
Δｇ＝ｇ-ｇ'
とした場合、０≦|Δｇ|≦１０であることが好ましく、０≦|Δｇ|≦５であることが
より好ましい。

一方、平均チルト角に影響を与えることなく、添加剤ポリマーを用いる必要性がある場合、例えば、組成物の表面張力を低下させ濡れ性を向上する目的で用いる場合には、ｇの値が一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーにおけるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位（好ましくは一般式（Ｂ）で表される構造）の占める質量分率に対し、高いことが好ましい。この場合には、前記したΔｇは１０より大きいことが好ましく、より好ましくは、１０＜Δｇ≦９５であり、更に好ましくは１５≦Δｇ≦９０である。これは、第一によりフッ素含率の高いポリマーを添加することで組成物全体の表面張力を低下することが有用であるためであり、第二に平均チルト角に影響を与える一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーと添加剤ポリマーとを分離させること（よりフッ素含率の高い添加剤ポリマーが空気界面方向に偏析すること）で添加剤ポリマーを加えたことによるチルト角の変化を抑制することができるためである。

添加剤ポリマーの分子量範囲は、重量平均分子量（Ｍｗ）で、好ましくは１０００〜１００万であり、より好ましくは２０００〜２０万であり、さらに好ましくは３０００〜１０万である。また、本発明で用いるポリマーの分子量分布は、１〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。

本発明の組成物に含有していてもよい一般式（Ｆ）で表される化合物として好ましい具体例を以下に示すが、本発明は以下に限定されるものではない。

本発明で用いるポリマーの合成は、既知の方法を適用して行うことができる。本発明で用いるポリマーは、付加、縮合および置換反応などのいずれかまたはこれを組み合わせて合成することができる。特に制限はないが、本発明で用いるポリマーがエチレン性の繰り返し単位を含有する場合は、該繰り返し単位に相当するエチレン性不飽和化合物のラジカル重合反応を利用して合成するのが簡便で好ましい。

液晶性化合物
本発明で用いられる液晶性化合物は特に定めるものではないが、ディスコティック液晶性を示す化合物であることが好ましく、ディスコティックネマチック相を示す化合物であることがより好ましい。
本発明で用いられる液晶性化合物としては、一般式（ＤＩ）で表されるものが例示される。

［一般式（ＤＩ）で表される化合物］
本発明に用いられる一般式（ＤＩ）表される化合物は、ディスコティック液晶性を示すことが好ましく、特に、ディスコティックネマチック相を示すことが好ましい。

一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。Ｙ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³がそれぞれメチンの場合、メチンの水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基を挙げることができる。これらの中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がより好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がさらに好ましい。

Ｙ¹¹、Ｙ¹²、Ｙ¹³は、すべてメチンであることが好ましく、またメチンは無置換であることが好ましい。

一般式（ＤＩ）中、Ｌ¹、Ｌ²およびＬ³はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基である。前記２価の連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ⁷−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、２価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ⁷は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。

Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³で表される２価の環状基は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。環状基は、芳香族環および複素環を含んでいるのが好ましい。

前記２価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。

Ｌ¹、Ｌ²またはＬ³で表される前記２価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜１６のアルキル基、炭素原子数が２〜１６のアルケニル基、炭素原子数が２〜１６のアルキニル基、炭素原子数が１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。

Ｌ¹、Ｌ²およびＬ³としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−２価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−２価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−２価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−２価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−２価の環状基−、＊−２価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−２価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−２価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−または＊−２価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。特に、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−２価の環状基−または＊−Ｃ≡Ｃ−２価の環状基−がより好ましく、単結合がさらに好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＹ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³を含む６員環に結合する位置を表す。

一般式（ＤＩ）中、Ｈ¹、Ｈ²およびＨ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）もしくは下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。

一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹およびＹＡ²はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。ＹＡ¹およびＹＡ²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表す。ＸＡは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。

一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹およびＹＢ²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＹＢ¹およびＹＢ²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表す。ＸＢは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｆ¹）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹

一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ¹、Ｈ²またはＨ³に結合する位置を表す。Ｆ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表す。Ｌ²¹は単結合または２価の連結基を表す。Ｌ²¹が２価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ⁷−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ⁷は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。

Ｌ²¹は単結合、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²¹の左側を表す）が好ましい。特に、単結合が好ましい。

一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＦ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の環状連結基を表す。環状構造は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状構造は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。

Ｆ¹のうち、ベンゼン環を有するものとしては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有するものとしては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有するものとしては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有するものとしてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有するものとしては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。Ｆ¹は、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレンナフタレン−２，６−ジイル基および１，４−シクロへキシレン基が好ましい。

Ｆ¹は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。該置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が好ましい。

ｎ１は０〜４整数を表す。ｎ１としては、１〜３の整数が好ましく、１または２が好ましい。なお、ｎ１が０の場合は、式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²²が直接、前記一般式（Ｄ１）中のＨ¹〜Ｈ³と結合する。ｎ１が２以上の場合、それぞれの−Ｌ²¹−Ｆ¹は同一でも異なっていてもよい。

Ｌ²²は、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−または−ＣＨ₂−である。
ここで、上記のうち水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。

Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基である。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、他の置換基に置き換えられていてもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。これらの置換基に置き換えられることにより、前記一般式（ＤＩ）で表される化合物の溶媒に対する溶解性を向上させることができ、容易に、塗布液として本発明の組成物を調製することができる。

Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群から選ばれる連結基であることが好ましい。Ｌ²³は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。さらに、Ｌ²³は−ＣＨ₂−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ₂−を２〜１２個含有することがより好ましい。

Ｑ¹は重合性基または水素原子である。一般式（ＤＩ）で表される化合物を、光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないことを必要とする光学フィルム等の作製に用いる場合には、Ｑ¹は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。

さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。

重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。

式（Ｍ−３）、式（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表す。Ｒとしては、水素原子またはメチル基が好ましい。上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中でも、（Ｍ−１）または（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。

開環重合性基として好ましいのは、環状エーテル基であり、中でもエポキシ基またはオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。

さらに本発明に用いられるディスコティック液晶性化合物として下記一般式（ＤＩＩ）で表される液晶性化合物または下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される液晶性化合物を用いるのがより好ましい。

一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³はそれぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｙ³¹、Ｙ³²およびＹ³³は各々、一般式（ＤＩ）中のＹ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³の定義とそれぞれ同一であり、好ましい範囲も同義である。

Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³はそれぞれ独立に一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹、Ａ³²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ａ³¹およびＡ³²としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることが最も好ましい。
Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。Ｘ³としては、酸素原子であることが好ましい。

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ｆ²は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表す。Ｆ²に含まれる６員環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。Ｆ²に含まれる６員環は、芳香族環、脂肪族環および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環およびフェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。

２価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基および１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基およびナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。２価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基および１，４−シクロへキシレン基が好ましい。

Ｆ²は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。２価の環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、さらに、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がより好ましい。

ｎ３は、１〜３整数を表す。ｎ３としては、１または２が好ましい。ｎ３が２以上の場合、それぞれのＦ²は同一でも異なっていてもよい。

Ｌ³¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ³¹の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²²と同一である。

Ｌ³²は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ³²の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²³と同一である。

Ｑ³は重合性基または水素原子を表し、好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ¹と同一である。

次に、一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の詳細を記す。

一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²およびＹ⁴³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²およびＹ⁴³がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がさらに好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基が特に好ましい。
Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²およびＹ⁴³は、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがより好ましい。

Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²およびＲ⁴³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。
波長分散性の小さい位相差板等を作製する場合は、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²およびＲ⁴³は、それぞれ、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）または一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）で表されるものが好ましく、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）で表されるものがより好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ⁴¹、Ａ⁴²、Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵、Ａ⁴⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ａ⁴¹およびＡ⁴²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵およびＡ⁴⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵およびＡ⁴⁶がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有する置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁴¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ⁵¹、Ａ⁵²、Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵およびＡ⁵⁶はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。Ａ⁵¹およびＡ⁵²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵およびＡ⁵⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵およびＡ⁵⁶がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁵²は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ⁶¹、Ａ⁶²、Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵およびＡ⁶⁶はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。Ａ⁶¹およびＡ⁶²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵およびＡ⁶⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵およびＡ³⁶がそれぞれメチンの場合、該メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁶³は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ⁴¹、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ⁵¹、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ⁶¹はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−または−ＣＨ₂−である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。
このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ⁴²、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ⁵²、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ⁶²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

Ｌ⁴²、Ｌ⁵²およびＬ⁶²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましい。Ｌ⁴²、Ｌ⁵²、Ｌ⁶²はそれぞれ独立して、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個含有することがより好ましい。さらに、Ｌ⁴²、Ｌ⁵²、Ｌ⁶²はそれぞれ独立して、−ＣＨ₂−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ₂−を２〜１２個含有することがさらに好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＱ⁴、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＱ⁵および一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＱ⁶は、それぞれ独立して、重合性基または水素原子を表す。これらの好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ¹と同一である。

以下に、一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）および一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

以下一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物を示す。

本発明の液晶性化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相およびディスコティックネマチック相（ＮＤ相）を挙げることができる。これらの液晶相の中では、良好なモノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（ＮＤ相）が好ましい。

前記一般式（ＤＩ）で表される化合物は、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現することが好ましく、４０℃〜２８０℃の範囲で発現することがより好ましく、６０℃〜２５０℃の範囲で発現することがさらに好ましい。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（具体的に例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（具体的に例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。

本発明に用いられる一般式（ＤＩ）で表される化合物の合成は、既知の方法を適用して合成することができる。

本発明で用いられる液晶性化合物の粘度は、好ましくは、８０〜１５０℃において、５００〜１０００ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは、同温度において、（６００〜９００ ）ｍＰａ・ｓである。

［位相差板］
本発明の位相差板は、本発明の組成物からなる光学異方性層を有することを特徴とする。本発明の位相差板の一態様は、支持体と、該支持体上に形成された配向膜と、該配向膜によって配向制御され、且つその配向状態に固定された本発明の組成物からなる光学異方性層とを有する態様である。
以下に、光学異方性層、配向膜および支持体について順次詳細に説明する。

（１）光学異方性層
本発明の光学異方性層は、前記一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物および一般式（Ａ）で表される構造を含有するポリマーを含む組成物からなる。前記光学異方性層は、この他にも所望により重合開始剤や他の添加剤を含む。これらを含む塗布液を、例えば支持体上に形成された本発明の配向膜の表面に塗布し、液晶性化合物を配向、固定化することで形成することができる。液晶性化合物を配向および固定化した後は、支持体を剥離してもよい。

（１）−ａ 形成方法
前記光学異方性層は、前記一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物やポリマーを可溶できる溶媒に溶解して調製した塗布液を、支持体上に形成され、且つ、配向性が付与された配向膜上に塗布することによって作製することができる。また、可能であれば蒸着による形成でも良いが、塗布による形成が好適に用いられる。塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。次いで、２５℃〜１３０℃において用いた溶媒を乾燥すると同時に、前記液晶性化合物の分子を配向させ、さらに、紫外線照射等によって固定化することによって、光学異方性層が形成される。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ²〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。このようにして形成された光学異方性層の厚さは、光学補償等の用途によって、最適なレターデーションの値によって異なるが、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。

前記液晶性化合物の分子は、光学異方性層中では、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性化合物が固定されていることが最も好ましい。

前記光学異方性層を占める、一般式（ＤＩ）で表される化合物または一般式（ＤＩ）で表される化合物から得られる重合物の割合は、１０〜１００質量％であることが好ましく、３０〜９９質量％であることがさらに好ましく、５０〜９９質量％であることが最も好ましい。

（１）−ｂ 光学異方性層の形成に用いられるその他の材料
液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましく、固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基の重合反応によることが好ましい。そのためには、前記塗布液中には、重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応、および電子線を用いるＥＢ硬化が含まれる。このうち、光重合反応（光硬化）およびＥＢ硬化が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等が好ましい。アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシメチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４'−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン等が挙げられる。ベンジル系化合物としては、例えば、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーズケトン、４，４'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４'−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物およびベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。これらの芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤は、１種または２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、およびチオキサントン等が含まれる。

光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。

光学異方性層形成用の塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、トルエン、ヘキサン）アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）などが含まれる。この中でアルキルハライド、ケトンが好ましい。２種類以上の有機溶剤を併用してもよい。

本発明の組成物中の液晶性化合物およびその他の添加剤の固形分濃度としては、０．１質量％〜６０質量％が好ましく、０．５質量％〜５０質量％がより好ましく、２質量％〜４０質量％がさらに好ましい。
また、本発明の組成物の粘度は、０．０１ｍＰａ・ｓ〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、０．１ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。

（１）−ｃ 配向状態
本発明の組成物により形成されてなる光学異方性層は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような液晶表示モードの位相差板として使用する場合においては、ディスコティックネマチック相がハイブリッド配向した状態を固定化することが好ましい。ここで、ハイブリッド配向とは、膜厚方向で液晶性化合物のチルト角が連続的に変化している状態を表す。

液晶性化合物は支持体上（さらに好ましくは配向膜上）に塗布され後、例えば加熱することで液晶相を発現するため、液晶性化合物は支持体側の界面では支持体面または塗布膜界面（配向膜を設けた場合には配向膜界面）のチルト角（例えば、ディスコティック液晶性化合物を用いる場合、支持体面の方向と液晶性化合物の円盤面方向のなす角）で配向し、空気との界面では空気界面のチルト角で配向することとなる。
本発明において、光学異方性層の平均チルト角（例えば、支持体面の方向とディスコティック液晶性化合物の円盤面方向のなす角）は、１０〜４０°が好ましく、２５〜３５°がより好ましい。

（２）配向膜
本発明の位相差板の作製には配向膜を用いてもよい。配向膜は、化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。

配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性化合物を配向させる機能のある分子構造を有する。本発明では、液晶性化合物を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、または、液晶性化合物を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーまたは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。

ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］記載のメタクリレート系重合体、スチレン系重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。

ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。

液晶性化合物を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性化合物の種類および必要とする配向状態に応じて決定する。
例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素原子数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ基、ジアルコキシ基、モノアルコキシ基）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００２２］〜［０１４５］、特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。

架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性化合物を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、位相差板の強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。

配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。２種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、または、高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む支持体上に塗布した後、加熱乾燥して架橋させ、必要であればラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で、水：メタノールが０より大きく９９以下：１００未満１以上が好ましく、０より大きく９１以下：１００未満９以上であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少させることができる。

配向膜形成時に利用する塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、例えば、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、８０℃〜１００℃がより好ましい。乾燥時間は、例えば、１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５が好ましく、５がより好ましい。

配向膜は、支持体上または上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、必要であれば表面をラビング処理することにより得ることができる。

前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

配向膜上で液晶性化合物を配向させた後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させてもよい。配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。前記配向膜用ポリマーを溶媒に溶解して調製した塗布液を、支持体表面に塗布し、２５℃〜１４０℃で塗布液中に含まれる溶媒を乾燥除去することで作製することができる。また、可能であれば蒸着によって形成することもできるが、塗布による形成がより好ましい。このようにして形成された配向膜の厚さは、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。

前記配向膜形成用塗布液の調製に用いられる溶媒としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル等が挙げられ、好ましくは、水、アルコール類およびこれらの混合溶媒である。前記塗布液中の配向膜用ポリマーの濃度は、０．１質量％〜４０質量％であるのが好ましく、０．５質量％〜２０質量％であるのがより好ましく、２質量％〜１０質量％であるのがさらに好ましい。前記塗布液の粘度は、０．１ｃｐ〜１００ｃｐであるのが好ましく、０．５ｃｐ〜５０ｃｐであるのがより好ましい。

前記塗布液中には、前記配向膜用ポリマー以外にも、適宜添加剤を添加してもよい。例えば、前記配向膜用ポリマーが水溶性の溶媒に溶解し難い場合は、塩基性化合物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミンなど）や、酸性化合物（例えば、塩酸、酢酸、コハク酸等）を添加して溶解を促進してもよい。
上記方法によって形成された配向膜は、その表面がラビング処理され、液晶配向性が付与されているのが好ましい。ラビング処理としてはポリマー塗布層の表面を、紙や布で一定方向（通常は長手方向）に、数回こすることにより実施することができる。また、ラビング以外の方法としては、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により液晶配向性を付与する事もできる。液晶配向性を付与する方法としては、ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。

（３）支持体
位相差板は、支持体を有していてもよく、該支持体は、透明支持体であるのが好ましい。前記支持体は、主に、光学的等方性で、光透過率が８０％以上であれば、特に材料の制限はないが、ポリマーフィルムが好ましい。ポリマーの具体例として、セルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下脂肪酸で、炭素原子数は、２、３、４であることが好ましい。具体的には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネートまたはセルロースブチレートがあげられる。この中でも、セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレットに記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。

以下、支持体として好ましく使用されるセルロースエステルについて詳述する。
セルロースエステルとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがより好ましく、１．４〜１．６であることがさらに好ましい。
セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％〜４０％で、アシル基で置換されていることが好ましい。アシル基で置換されている率は、３１％以上であることが好ましく、３２％以上であることがより好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素原子数３以上のアシル基（例えば、プロピオニル基、ブチリル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。

支持体として用いるポリマーフィルム、特に、セルロースアセテートフィルムは、レターデーション値を調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用してもよい。このようなレターデーション上昇剤を使用する場合、レターデーション上昇剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。さらに、レターデーション上昇剤として、２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
ここでいう芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環の他、芳香族性ヘテロ環を含む趣旨である。

芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がより好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することがさらに好ましい。

芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが特に好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤については国際公開ＷＯ０１／８８５７４号パンフレット、国際公開ＷＯ００／２６１９号パンフレット、特開２０００−１１１９１４号公報、特開２０００−２７５４３４号公報、特開２００２−３６３３４３号公報等に記載されている。

セルロースアセテートフィルムは、調製されたセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加してもよい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許第６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号公報、特公昭４９−５６１４号公報、特開昭６０−１７６８３４号公報、特開昭６０−２０３４３０号公報、特開昭６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。

ドープは、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解する。セルロースアシレートを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし、地球環境や作業環境の観点では、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に記載されている。

調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）を用いて、ドープを２層以上流延することによりフィルム化することもできる。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。複数のセルロースアセテート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによりフィルム化してもよい。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルムの流延方法を用いてもよい。

セルロースアセテートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーション値を調整することができる。延伸倍率は、０〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明で用いるセルロースアセテートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。

セルロースエステルフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジ−２−エチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびｏ−アセチルクエン酸、トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。

セルロースエステルフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン類）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、特開平５−１９０７０７３号、特開平５−１９４７８９号、特開平５−２７１４７１号、特開平６−１０７８５４号の各公報に記載がある。
劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがより好ましい。添加量を０．０１質量％以上とすることにより、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。

セルロースアセテートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。

セルロースアセテートフィルムの表面処理は、配向膜などとの接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温（例えば、２５℃）〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。

また、セルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。
セルロースアセテートフィルムの厚さは、５〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜２５０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１８０μｍの範囲がさらに好ましく、３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。

位相差板は、偏光膜と組み合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型、反射型、および半透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。以下に、位相差板を利用した楕円偏光板および液晶表示装置について説明する。

［楕円偏光板］
位相差板と偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。位相差板を利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大し得る楕円偏光板を提供することができる。前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。

偏光膜は、位相差板の光学異方性層側に積層する。偏光膜の位相差板を積層した側と反対側の面に保護膜を形成することが好ましい。保護膜は、光透過率が８０％以上の透明保護膜が好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。

［液晶表示装置］
本発明の位相差板は、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与する。液晶表示装置は、通常、液晶セル、偏光素子および位相差板（光学補償シート）を有する。前記偏光素子は、一般に偏光膜と保護膜からなり、偏光膜と保護膜については、上記楕円偏光で説明したものを用いることができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報第３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＤＣモードの液晶セル用位相差板は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用位相差板は、米国特許第５８０５２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板は、特許登録第２８６６３７２号公報に記載がある。

本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）を作製することができる。位相差板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−ＰＤａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＤＣ（ＦｅｒｒｏｅＤｅｃｔｒｉｃ Ｄｉｑｕｉｄ ＣｒｙｓｔａＤ）、ＯＣＢ（ＯｐｔｉｃａＤＤｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（ＶｅｒｔｉｃａＤＤｙ ＡＤｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ ＡＤｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。位相差板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＯＣＢ（ＯｐｔｉｃａＤＤｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置の光学補償に特に効果がある。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

合成例１［Ｄ３−１０およびＤ３−１０の合成］
下記スキームに従って合成した。

（Ｄ３−１０Ａの合成）
３−シアノ安息香酸クロライド２．５ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍｌに溶解させ、３−クロロ−１−プロパノール１．３ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）３．０ｍｌを添加後、室温で１時間撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を減圧濃縮した。残渣をメタノール（ＭｅＯＨ）１００ｍｌに溶解させ、５０％ヒドロキシルアミン溶液２．８ｍｌを添加後、４０℃で１時間撹拌した。冷却後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾別、乾燥し、Ｄ３−１０Ａを３．４ｇ得た。

（Ｄ３−１０Ｂの合成）
３．４ｇのＤ３−１０Ａをジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１０ｍｌに溶解させ、ピリジン１．２ｍｌ、トリメシン酸クロライド１．２ｇを添加後、１２０℃で１時間撹拌した。冷却後、メタノールを添加し、析出した結晶を濾取、乾燥し、Ｄ３−１０Ｂを３．９ｇ得た。

（Ｄ３−１０の合成）
Ｄ３−１０Ｂ３．９ｇをジメチルアセトアミド５０ｍｌに溶解させ、炭酸カリウム３．７ｇ、ヨウ化ナトリウム２．０ｇ、アクリル酸１．９ｍｌを添加後、１００℃で３時間撹拌した。反応液に水を加え、析出した結晶をろ過により濾取した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、Ｄ３−１０を３．０ｇ得た。得られたＤ３−１０のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：２．３０（６Ｈ、ｑｕｉｎｔ）、４．４０（６Ｈ、ｔ）、４．５５（６Ｈ、ｔ）、５．８５（３Ｈ、ｄｄ）、６．１５（３Ｈ、ｄｄ）、６．４５（３Ｈ、ｄｄ）、７．６５（３Ｈ、ｔ）、８．２５（３Ｈ、ｄ）、８．４５（３Ｈ、ｄ）、８．９０（３Ｈ、ｓ）、９．３０（３Ｈ、ｓ）。

得られたＤ３−１０の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき１１５℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、１７８℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ３−１０は１１５℃から１７８℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分った。

合成例２ Ｄ３−１２の合成
合成例１において、３−クロロ−１−プロパノールの代わりに５−ブロム−１−ペンタノール（東京化成）を使用した他は、合成例１と同様にしてＤ３−１２を合成した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、Ｄ３−１２を５．６ｇ得た（収率５４％）。得られたＤ３−１２のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：１．６０（６Ｈ、ｍ）、１．８０−１．９０（１２Ｈ、ｍ）、４．２５（６Ｈ、ｔ）、４．４５（６Ｈ、ｔ）、５．８０（３Ｈ、ｄｄ）、６．１５（３Ｈ、ｄｄ）、６．４０（３Ｈ、ｄｄ）、７．６５（３Ｈ、ｔ）、８．２５（３Ｈ、ｄ）、８．４５（３Ｈ、ｄ）、８．９０（３Ｈ、ｓ）、９．３０（３Ｈ、ｓ）。

得られたＤ３−１２の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき８６℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、１４２℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ３−１２は８６℃から１４２℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分った。

合成例３ モノマーＡ−１'
下記スキーム２に従って合成した。

４−ヒドロキシブチルアクリレート（東京化成品）をアセトニトリル中、メタンスルホニルクロライド（ＭｓＣｌ）によってメタンスルホニル化した後、４−ヒドロキシベンズアルデヒド（和光純薬品）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）中で反応させ、４−（４−アクリルオキシブトキシ）フェニルアルデヒドを得た。得られたアルデヒド体を、過酸化水素／塩素酸ナトリウムで酸化することで、４−（４−アクリルオキシブトキシ）安息香酸を得た。この安息香酸と４−ヒドロキシベンゾニトリル（東京化成品）を、ＴＨＦ中、メタンスルホニルクロライド（ＭｓＣｌ）、および、トリエチルアミン（Ｅｔ₃Ｎ）を用いた混合酸無水物法により縮合し、１−シアノ−４−(４'−アクリロイルオキシブドキシ)安息香酸）ベンゼン（Ａ−１'と略す）を４１ｇ、全収率７５％で得た。得られたＡ−１'のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：１．９０（４Ｈ、ｍ）、４．１０（２Ｈ、ｔ）、４．２５（２Ｈ、ｔ）、５．８５（１Ｈ、ｄｄ）、６．１５（１Ｈ、ｄｄ）、６．４５（１Ｈ、ｄｄ）、６．９５（２Ｈ、ｄ）、７．３５（２Ｈ、ｄ）、７．７５（２Ｈ、ｄ）、８．１２（２Ｈ、ｄ）

合成例４ モノマーＡ−２'
合成例３において、４−ヒドロキシベンゾニトリルの代わりに４−メドキシフェノール（東京化成）を使用した他の合成例３と同様にして１−メドキシ−４−(４'−アクリロイルオキシブドキシ)安息香酸）ベンゼン２３ｇを得た（収率６５％）。以下、Ａ−２'と略す。ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：１．９２（４Ｈ、ｍ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、４．１０（２Ｈ、ｔ）、４．２６（２Ｈ、ｔ）、５．８５（１Ｈ、ｄｄ）、６．１５（１Ｈ、ｄｄ）、６．４５（１Ｈ、ｄｄ）、６．９４（４Ｈ、ｍ）、７．１０（２Ｈ、ｄ）８．１２（２Ｈ、ｄ）

合成例５ モノマー Ａ−３'
下記スキーム３に従って合成した。

６−クロロ−１−ヘキサノール（和光純薬品）と４−ヒドロキシベンズアルデヒド（和光純薬品）をＤＭＡｃ中に溶解し、攪拌しながら、炭酸カリウム粉末を加え、９０°で反応させた後、エタノールから再結晶し、４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）フェニルアルデヒドを得た。さらに、生成した４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）フェニルアルデヒドとトリエチルアミンをＴＨＦに溶解させ、氷水浴下、アクリル酸クロリドを加え攪拌した。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製後、エタノールから再結晶を行い、４−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）フェニルアルデヒドを得た。得られたアルデヒド体を、過酸化水素／塩素酸ナトリウムで酸化することで、４−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸を得た。該４−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸と４−ヒドロキシベンゾニトリル（東京化成品）を、ＴＨＦ中、ＭｓＣｌ、および、トリエチルアミンを用いた混合酸無水物法により縮合し、１−シアノ−４−(６'−アクリロイルオキシヘキシルオキシシ)安息香酸）ベンゼンＡ−３'を３１ｇ、全収率５０％で得た。

ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：１．４０〜１．６０（４Ｈ、ｍ）、１．７３（２Ｈ，ｑｕｉｎｔ）、１．８２（２Ｈ、ｑｕｉｎｔ）、４．０５（２Ｈ、ｔ）、４．１６（２Ｈ、ｔ）、５．８０（１Ｈ、ｄｄ）、６．１２（１Ｈ、ｄｄ）、６．４０（１Ｈ、ｄｄ）、６．９６（２Ｈ、ｄ）、７．３５（２Ｈ、ｄ）、７．７４（２Ｈ、ｄ）８．１２（２Ｈ、ｄ）

合成例６ モノマー Ａ−８'
下記スキーム４に従って合成した。

４−ヒドロキシベンズアルデヒド（和光純薬品）とトリエチルアミンをＴＨＦに溶解させ、氷水浴下、アクリル酸クロリドを加え攪拌した。反応終了後、エタノールから再結晶を行い、４−アクリロイルオキシフェニルアルデヒドを得た。さらに、得られたアルデヒド体を、過酸化水素／塩素酸ナトリウムで酸化することで、４−アクリロイルオキシ安息香酸を得た。この安息香酸と４−ヒドロキシベンゾニトリル（東京化成品）を、ＴＨＦ中、メタンスルホニルクロライド、および、トリエチルアミンを用いた混合酸無水物法により縮合し、Ａ−８'を２６ｇ、全収率５７％で得た。ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重アセトン、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：６．１６（１Ｈ、ｄｄ）、６．４２（１Ｈ、ｄｄ）、６．６２（１Ｈ、ｄｄ）、７．４５（２Ｈ、ｄ）、７．６０（２Ｈ、ｄ）、７．９５（２Ｈ、ｄ）８．３０（２Ｈ、ｄ）

合成例７ モノマー Ａ−２５'
合成例３において、４−ヒドロキシベンゾニトリルの代わりに３−フルオロ−４−ヒドロキシベンゾニトリル（東京化成）を使用した他の合成例３と同様にして１−シアノ−２−フルオロ−４−(４'−アクリロイルオキシブドキシ)安息香酸）ベンゼン４２ｇを得た。以下、Ａ−２５'と略す（収率８４％）。ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：１．９０（４Ｈ、ｍ）、４．１０（２Ｈ、ｔ）、４．２６（２Ｈ、ｔ）、５．８５（１Ｈ、ｄｄ）、６．１５（１Ｈ、ｄｄ）、６．４５（１Ｈ、ｄｄ）、６．９６（２Ｈ、ｄ）、７．２０（２Ｈ、ｍ）、７．６８（１Ｈ，ｔ）、８．１０（２Ｈ、ｄ）

合成例８ モノマー Ａ−２８'
下記スキーム５に従って合成した。

１，３−プロパンジオール（東京化成）とトリエチルアミンをＴＨＦに溶解させ、氷水浴下、アクリル酸クロリドを加え攪拌した。反応終了後、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて洗浄し、続いて有機層を１Ｎ塩酸および飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒除去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、３−ヒドロキシプロピルアクリレート３２ｇを得た（収率５０％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：１．９０（２Ｈ、ｍ）、３．７０（２Ｈ，ｔ）、４．３２（２Ｈ、ｔ）、５．８２（１Ｈ、ｄｄ）、６．１２（１Ｈ、ｄｄ）、６．４２（１Ｈ、ｄｄ）。

さらに、合成例１において、４−ヒドロキシブチルアクリレートの代わりに３−ヒドロキシプロピルアクリレートを使用した他は、合成例３と同様にして１−シアノ−４−（３'―アクリロイルオキシプロピルオキシ）安息香酸）ベンゼン２２ｇを得た（総収率３４％）。以下、Ａ−２８'と略す。ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：２．２０（２Ｈ，ｑｕｉｎｔ）、４．１５（２Ｈ、ｔ）、４．３８（２Ｈ、ｔ）、５．８５（１Ｈ、ｄｄ）、６．１５（１Ｈ、ｄｄ）、６．４２（１Ｈ、ｄｄ）、７．００（２Ｈ、ｄ）、７．３５（２Ｈ、ｄ）、７．７２（２Ｈ、ｄ）８．１３（２Ｈ、ｄ）

合成例９ モノマー Ａ−３２'
合成例３において、４−ヒドロキシベンゾニトリルの代わりに４−クロロフェノール（東京化成）を使用した他は、合成例３と同様にして１−クロロ−４−(４'−アクリロイルオキシブドキシ)安息酸）ベンゼン２７ｇを得た(収率５１％)。
以下、Ａ−３２'と略す。ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：１．９０（４Ｈ、ｍ）、４．１０（２Ｈ、ｔ）、４．２６（２Ｈ、ｔ）、５．８５（１Ｈ、ｄｄ）、６．１５（１Ｈ、ｄｄ）、６．４５（１Ｈ、ｄｄ）、６．９２（２Ｈ、ｍ）、７．１５（２Ｈ、ｄ）、７．３５（２Ｈ、ｄ）、８．１０（２Ｈ、ｄ）

合成例１０ ポリマー ＡＤ−１の合成
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＮ−メチルピロリドン（５ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−１'（１２ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、８ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製Ｖ−６５、２００ｍｇ）のＮ−メチルピロリドン（２０ｍｌ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌されたメタノール（８００ｍＬ）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを吸引ろ過によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−１）１４．５ｇを得た。
ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３０であった。
得られたポリマーの比率は¹Ｈ−ＮＭＲにより確認した。

合成例１１ ポリマーＡＤ−２の合成
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−２を合成した。

合成例１０において、Ａ−１'の代わりにＡ−２'を使用した他の合成例１０と同様にしてポリマーＡＤ−２（１４．０ｇ）を得た。
ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝９０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４５であった。得られたポリマーの比率は¹Ｈ−ＮＭＲにより確認した。

合成例１２ ポリマーＡＤ−３の合成
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−３を合成した。

合成例１０において、Ａ−１'の代わりにＡ−３'を使用した他の合成例１０と同様にしてポリマーＡＤ−３（１３．８ｇ）を得た。
ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．２０であった。得られたポリマーの比率は¹Ｈ−ＮＭＲにより確認した。

合成例１３ ポリマーＡＤ−１２の合成
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１２を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＮ−メチルピロリドン（５ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−１'（６ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、８ｇ）、Ｃ−１３'（日本油脂製、ブンレンマーＡＰ−４００、６ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＮ−メチルピロリドン（１５ｍｌ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌されたメタノール−水混合溶液（８００ｍＬ）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを吸引ろ過によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−１２）を１０．２ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１６５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４５であった。

合成例１４ ポリマーＡＤ−１３の合成
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１３を合成した。

合成例１３において、Ｃ−１３'の代わりにＣ−３'を使用した他は、合成例１３と同様にしてポリマーＡＤ−１３（１３．５ｇ）を得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３５であった。

合成例１５ ポリマー ＡＤ−２１
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−２１を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド(ＤＭＡｃ)（４ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−１'（４．３ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、３．２ｇ）、Ｃ−１３'（日本油脂製、ブンレンマーＡＰ−４００、８．５ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド(ＤＭＡｃ)（８ｇ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０/９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−２１）を１４．７ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５２を得た。

合成例１６ ポリマー ＡＤ−２２
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−２２を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）（４ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−１'（３．２ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、６．４ｇ）、Ｃ−１６'（新中村化学工業、ＮＫエステル，ＡＭＰ−２０Ｇ、６．４ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）（８ｇ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０/９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−２２）を１３．０ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１８０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７０であった。

合成例１７ ポリマー ＡＤ−２３の合成
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−２３を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）（４ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−２５'（３．２ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、６．４ｇ）、Ｃ−１３'（日本油脂製、ブンレンマーＡＰ−４００、６．４ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）（８ｇ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０/９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−２３）を１４．６ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１５０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４４であった。

合成例１８ ポリマー ＡＤ−２４
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−２４を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド(ＤＭＡｃ) （４ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−２８'（６．４ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、４．８ｇ）、Ｃ−１３'（日本油脂製、ブンレンマーＡＰ−４００、４．８ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド(ＤＭＡｃ)（８ｇ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０/９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−２４）を１５．０ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝２１０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３０であった。

合成例１９ ポリマー ＡＤ−２５の合成
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−２５を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）（４ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−１'（３．２ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、６．４ｇ）、Ｃ−２０'（東京化成、６．４ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）（８ｇ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−２５）を１４．０ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１９０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．６０であった。

合成例２０ ポリマー ＡＤ−２６の合成
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−２６を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド(ＤＭＡｃ) （４ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−１'（６．４ｇ）、Ｂ−１' （ダイキン工業製、２．４ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、２．４ｇ）、Ｃ−１３'（日本油脂製、ブンレンマーＡＰ−４００、４．８ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド(ＤＭＡｃ)（８ｇ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０/９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−２４）を１５．０ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１７５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４２であった。

合成例２１ ポリマー ＡＤ−２７の合成
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−２７を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド(ＤＭＡｃ) （４ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−１'（６．４ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、４．８ｇ）、Ｃ−１３'（日本油脂製、ブンレンマーＡＰ−４００、２．４ｇ）、Ｃ−２０'（東京化成、２．４ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド(ＤＭＡｃ)（８ｇ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０/９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−２５）を１５．２ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１４６００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３０であった。

合成例２２ 比較用ポリマー ＡＤ−Ｒの合成
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−Ｒを合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）（４ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ｃ−４'（東京化成、４．８ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、６．４ｇ）、Ｃ−１３'（日本油脂製、ブンレンマーＡＰ−４００、４．８ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）（８ｇ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明と比較するために用いるポリマー（ＡＤ−Ｒ）を１５．２ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１３０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５０であった。

［実施例１：本発明の組成物（ＬＭ−１）の調製］
以下に示した組成の割合で、液晶性化合物（Ｄ３−１２）、本発明で用いるポリマー（ＡＤ−１）、光重合開始剤のイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株））、および、光増感剤のジエチルチオキサントンをそれぞれ秤量し、メチルエチルケトンに溶解することによって、本発明の組成物（ＬＭ−１）を調製した。

組成物（ＬＭ−１）の組成
・液晶性化合物： Ｄ３−１２ １００質量部
・本発明で用いるポリマー： ＡＤ−１ ０．４質量部
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）） ３．０質量部
・ジエチルチオキサントン １．０質量部
・メチルエチルケトン ２５０質量部

［実施例２：本発明の組成物（ＬＭ−２〜ＬＭ−１０）の調製］
実施例１において、ポリマー（ＡＤ−１）を下記表２に記載のポリマーにそれぞれ変更し、他は同様にして、本発明の組成物（ＬＭ−２）〜（ＬＭ−１０）を調製した。

［実施例３：本発明の組成物（ＬＭ−１１〜ＬＭ−１７）の調製
実施例１において、下記界面活性剤（Ｆ−２２）を０．５質量部添加した本発明の組成物（ＬＭ−１１）を調整した。また、該（ＬＭ−１１）において、ポリマー（ＡＤ−１）を下記表２に記載のポリマーにそれぞれ変更し、他は同様にして本発明の組成物（ＬＭ−１２〜ＬＭ−１７）を調整した。

界面活性剤（Ｆ−２２）

［比較例１：比較用組成物（ＬＨ−１、ＬＨ−２、ＬＨ−３）の調製］
ポリマー（ＡＤ−１）を添加しなかった以外は、実施例１の組成物（ＬＭ−１）と全て同様にして、比較用組成物（ＬＨ−１）を調製した。ポリマー（ＡＤ−１）を添加しなかった以外は、実施例３の組成物（ＬＭ−１１）とすべて同じにして、比較用組成物（ＬＨ−２）を調製した。また、ポリマー（ＡＤ−１）の代わりに、本発明の効果との比較ために合成したポリマー（ＡＤ−Ｒ）を添加し、実施例１の組成物（ＬＭ−１）と全て同様にして、比較用組成物（ＬＨ−３）を調製した。

［実施例４：本発明の位相差板（ＲＭ−１）の作製］
（透明支持体の作製）
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌して、セルロースアセテート溶液（以下、ドープと呼ぶことがある）を調製した。
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セルロースアセテート溶液組成
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酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート ６．５質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ５．２質量部
下記のレターデーション上昇剤（１） ０．１質量部
下記のレターデーション上昇剤（２） ０．２質量部
メチレンクロライド ３１０．２５質量部
メタノール ５４．７５質量部
１−ブタノール １０．９５質量部
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得られたドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の領域で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、１２０℃を越える領域で機械方向の延伸率が実質０％、幅方向の延伸率と機械方向の延伸率との比が０．７５となるように調整して、厚さ１００μｍのセルロースアセテートフィルムを作製した。作製したフィルムのレターデーション値を波長６３２．８ｎｍで測定したところ、厚み方向のレターデーション値が４０ｎｍ、面内のレターデーション値が４ｎｍであった。作製したセルロースアセテートフィルムを支持体として用いた。

（第１下塗り層の形成）
上記透明支持体の上に、下記の組成の塗布液を２８ｍＤ／ｍ²塗布し、乾燥して、第１下塗り層を形成した。
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第１下塗り層塗布液組成
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ゼラチン ５．４４質量部
ホルムアルデヒド １．３８質量部
サリチル酸 １．６２質量部
アセトン ３９１質量部
メタノール １５８質量部
メチレンクロライド ４０６質量部
水 １２質量部
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（第２下塗り層の形成）
第１下塗り層の上に、下記の組成の塗布液を７ｍＤ／ｍ²塗布し、乾燥して、第２下塗り層を形成した。

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第２下塗り層塗布液組成
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下記のアニオン性ポリマー ０．７７質量部
クエン酸モノエチルエステル １０．１質量部
アセトン ２００質量部
メタノール ８７７質量部
水 ４０．５質量部
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（バック層の形成）
透明支持体の反対側の面に、下記の組成の塗布液を２５ｍＤ／ｍ²塗布し、乾燥して、バック層を形成した。
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バック層塗布液組成
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酢化度５５％のセルロースジアセテート ６．５６質量部
シリカ系マット剤（平均粒子サイズ：１μｍ） ０．６５質量部
アセトン ６７９質量部
メタノール １０４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（配向膜の形成）
下記変性ポリビニルアルコールとグルタルアルデヒド（変性ポリビニルアルコールの５質量％）とを、メタノール／水の混合溶媒（容積比＝２０／８０）に溶解して、５質量％の溶液を調製した。

この溶液を、第２下塗り層の上に塗布し、１００℃の温風で１２０秒間乾燥した後、ラビング処理を行い、配向膜を形成した。得られた配向膜の膜厚は０．５μｍであった。配向膜のラビング方向は、透明支持体の流延方向と平行であった。
（光学異方性層の形成）
前記で作製した配向膜のラビング処理面上に、実施例１で調製した本発明の組成物（ＬＭ−１）の塗布液を、ワイヤーバーを用いて塗布した。上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、１２０℃の恒温槽中にて配向させ、その温度で２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、本発明の位相差板（ＲＭ−１）を作製した。形成した光学異方性層の厚さは約１．０μｍであった。

［実施例５：本発明の位相差板（ＲＭ−２〜ＲＭ−１７）の作製］
実施例４において、組成物（ＬＭ−１）を、組成物（ＬＭ−２）〜（ＬＭ−１７）に変更したこと以外は全て同様にして、位相差板（ＲＭ−２）〜（ＲＭ−１７）を作製した。

［比較例２：比較用位相差板（ＲＨ−１、ＲＨ−２）の作製］
実施例４において、組成物（ＬＭ−１）を、組成物（ＬＨ−１）、（ＬＨ−２）および（ＬＨ−３）に変更したこと以外は全て同様にして、比較用の位相差板（ＲＨ−１）、（ＲＨ−２）および（ＲＨ−３）を作製した。

［位相差板の評価］
［実施例６：位相差板ＲＭ−１〜ＲＭ−１７の評価］
（Ｒｅ、Ｒｔｈの測定）
Ｒｅ（５８９ｎｍ）、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）はそれぞれ、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。実施例４、５および比較例２で得られた位相差板のＲｅ（５８９ｎｍ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長５８９ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）は前記Ｒｅ（５８９ｎｍ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨが算出した。

（平均チルト角の測定）
上記の光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１および他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１およびθ２を算出した。
この値の平均値（（θ１＋θ２）／２）から平均チルト角を求めた。

［比較例３：比較用位相差板ＲＨ−１〜ＲＨ−３の評価］
上記と同様な方法で位相差板ＲＨ−１〜ＲＨ−３の平均チルト角を求めた。

また、上記実施例６および比較例３で得られた位相差板の断面の超薄切片を、マイクロトームを用いて作製し、その切片を偏光顕微鏡で観察した。本発明の位相差板ＲＭ−１〜ＲＭ−１７および比較例３のＲＨ−１、２の光学異方性層がハイブリッド配向していることが確認できた。また、比較例３のＲＨ−３の光学異方性層が水平配向していることも判った。

（平均チルト角の温度依存性）
光学異方性層の形成において、配向後に１００℃まで降温した後、紫外線により配向状態を硬化した以外は同様にして位相差版を作成した後平均チルト角の測定を行い、１２０℃の時と１００℃で配向固定化した時の平均チルト角の差を平均チルト角温度依存性として以下の表４に記載した。

表４の結果から、本発明の位相差板（ＲＭ−１）〜（ＲＭ−１７）は、比較例の位相差板（ＲＨ−１）、（ＲＨ−２）および（ＲＨ−３）と比較して、平均チルト角が１０〜４０°の範囲に制御できることが判った。かつ、その中間の平均チルト角は温度依存性が少ないことが確認された。
これらの結果から、本発明の一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーを含有した組成物から作製した位相差板では、温度依存性が少ない状態でディスコティック液晶をハイブリッド配向させた位相差板を得ることができることが確認された。

また、一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーと、一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含まないポリマー（以下では、単に界面活性剤と呼ぶ）の両方を含有した組成物から作製した位相差板（ＲＭ−１１）〜（ＲＭ−１７）では、それぞれのポリマーに含有されるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位の含有量により、一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーを含有した組成物から作製した対応する位相差板（ＲＭ−１）、（ＲＭ−４）、（ＲＭ−６）〜（ＲＭ−１０）と比較して、平均チルト角が異なるものがある。
すなわち、界面活性剤に含有されるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位の含有量と、一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーのそれとがほぼ等しい場合（表４における（ＲＨ−１１）、（ＲＨ−１２）、（ＲＨ−１４））では、対応する界面活性剤を含まないもの（それぞれ（ＲＭ−１）、（ＲＭ−４）、（ＲＭ−７））に比較して、平均チルト角は高い値に調整されていることが確認された。
一方、界面活性剤に含有されるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位の含有量が、一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーのそれよりも低い場合（表４における（ＲＨ−１３）、（ＲＨ−１５）〜（ＲＨ−１７））では、対応する界面活性剤を含まないもの（それぞれ（ＲＨ−６）、（ＲＨ−８）〜（ＲＨ−１０））と比較して、平均チルト角の値はほとんど変わらないことが確認された。
これらの結果から、界面活性剤を別途加えることで、目的に応じた平均チルト角に調整できることが確認された。また、平均チルト角を変化させることなく、界面活性剤を併用できることも確認された。これらは、界面活性剤に含まれるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位の含有量と、本発明の一般式（Ａ）で表される構造を有するポリマーのフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位の含有量との差によって決定されることが確認された。

Claims (15)

1. 少なくとも一種の液晶性化合物と、少なくとも一種の下記一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマーを含有する組成物。
   一般式（Ａ）
   

   

   （一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の連結基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の環状連結基を表し、Ｙは単結合または２価の連結基を表し、Ｚは置換もしくは無置換の環状基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。ただし、ｎが２以上の場合、ＸおよびＹは、それぞれ、同じでも異なっていてもよい。）
2. 前記一般式（Ａ）中のＸが液晶性を有する基を有する、請求項１に記載の組成物。
3. 前記一般式（Ａ）中のＸが、炭素原子数３〜２０の置換もしくは無置換の環状脂肪族基または、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のフェニレン基である、請求項１または２に記載の組成物。
4. 前記一般式（Ａ）において、前記Ｍｐが下記Ｍｐ−１またはＭｐ−２を表し、前記Ｌが、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（Ｒ^a11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、または、炭素原子数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、および、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表す、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
   

   

   （＊は、Ｌとの連結位置を示す。）
5. 前記一般式（Ａ）において、前記Ｙが単結合または、−Ｏ−、−ＮＲ^a12−（但し、Ｒ^a12は水素原子、炭素原子数１〜１０の置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、または、炭素原子数６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、および、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、前記Ｚが置換もしくは無置換のフェニル基を表し、ｎが、１〜４の整数を表す、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
6. 前記ポリマーが、さらに、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
7. 前記一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含まず、かつ、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーを含有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
8. 前記一般式（Ａ）で表される基を構成単位として含まず、かつ、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーであって親水性基を含有するポリマーを含有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
9. 下記一般式（Ｆ）で表される繰り返し単位を含むポリマーを含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
   一般式（Ｆ）
   

   

   （一般式（Ｆ）中、Ｒ⁸¹およびＲ⁸²はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、Ｌ⁸¹、Ｌ⁸²は、それぞれ独立に単結合または炭素原子数１〜２０の二価の連結基を表し、Ｒｆ"は炭素原子数１〜３０のフッ化アルキル基を表し、Ｒ⁸³は水素原子または親水性基を表し、Ａ⁸は重合単位を表し、ｇ、ｈ、iはそれぞれの重合単位の質量分率を表す。
10. 前記液晶性化合物の少なくとも一種の粘度が、８０〜１５０℃において、５００〜１０００ｍＰａ・ｓである、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。
11. 前記液晶性化合物の少なくとも１種が、下記一般式（ＤＩ）で表される、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物。
    

    

    （一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、Ｙ¹³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³は、それぞれ独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｈ¹、Ｈ²、Ｈ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）または下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。）
    

    

    （一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹、ＹＡ²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
    

    

    （一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹、ＹＢ²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
    一般式（ＤＩ−Ｒ）
    ＊−（−Ｌ²¹−Ｆ¹）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
    （一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ¹、Ｈ²またはＨ³に結合する位置を表す。Ｆ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表す。Ｌ²¹は単結合または２価の連結基を表す。ｎ１は０〜４の整数を表す。Ｌ²²は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、を表し、Ｌ²³は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ¹は重合性基または水素原子を表す。）
12. 前記液晶性化合物の少なくとも１種が、下記一般式（ＤＩＩ）で表される液晶性化合物または下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される液晶性化合物である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の組成物。
    

    

    （一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³はそれぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³はそれぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。）
    

    

    （一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹、Ａ³²は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン、またはイミノを表す。Ｆ²は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表す。ｎ３は、１〜３整数を表す。Ｌ³¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、を表し、Ｌ³²は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ³は重合性基または水素原子を表す。）
    

    

    （一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²およびＹ⁴³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²およびＲ⁴³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。）
    

    

    （一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ⁴¹、Ａ⁴²、Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵、Ａ⁴⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁴¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ⁴¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ⁴²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁴は、重合性基または水素原子を表す。）
    

    

    （一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ⁵¹、Ａ⁵²、Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵、Ａ⁵⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁵²は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、Ｌ⁵¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ⁵²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁵は重合性基または水素原子を表す。）
    

    

    （一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ⁶¹、Ａ⁶²、Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵、Ａ⁶⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、Ｘ⁶³は、酸素原子、硫黄原子、メチンまたはイミノを表し、Ｌ⁶¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ⁶²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ⁶は重合性基または水素原子を表す。）
13. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載の組成物を用いてなる光学異方性層を有する位相差板。
14. 請求項１３に記載の位相差板を有する、液晶表示装置。
15. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載の組成物を用いて光学異方性層を形成することを含む位相差板の製造方法。