JP2007127787A - Method for manufacturing display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば液晶表示装置等の表示装置の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method of manufacturing a display device such as a liquid crystal display device.
液晶表示装置は、例えば、携帯電話、デジタルスチルカメラ及びPDA(personal digital assistant)等のモバイル機器の表示部として好適に用いられている。近年、これらのモバイル機器は薄型のものが好まれる傾向にあるため、液晶表示装置もより薄型化することが求められている。 The liquid crystal display device is suitably used as a display unit of mobile devices such as a mobile phone, a digital still camera, and a PDA (personal digital assistant). In recent years, since these mobile devices tend to be thin, liquid crystal display devices are required to be thinner.
一般的に、液晶表示装置は、互いに対向して配置された一対のガラス基板と、これら一対のガラス基板の間に封入された液晶層とを備えている。各ガラス基板の内側面(つまり、液晶層側の表面)には、透明電極及び配向膜等が形成されている。一方、各ガラス基板の外側面(つまり、液晶層とは反対側の表面)には、偏光板等の光学フィルムが設けられている。 In general, a liquid crystal display device includes a pair of glass substrates disposed opposite to each other, and a liquid crystal layer sealed between the pair of glass substrates. A transparent electrode, an alignment film, and the like are formed on the inner surface of each glass substrate (that is, the surface on the liquid crystal layer side). On the other hand, an optical film such as a polarizing plate is provided on the outer surface of each glass substrate (that is, the surface opposite to the liquid crystal layer).
これに対し、ガラス基板を薄くすることによって、液晶表示装置を薄型化することが数多く検討されている。ガラス基板の厚みを薄くする方法としては、例えばガラス基板を機械的に研磨する方法が考えられる。しかし、この機械的研磨による方法では、ガラス基板の表面を平坦に研磨することが困難であり、液晶表示装置を効率よく製造することができない。したがって、通常、エッチングによってガラス基板を薄くすることが行われている(例えば、特許文献1等参照)。特許文献1では、上記一対のガラス基板の全体をエッチング溶液に浸漬することにより、各ガラス基板をそれぞれ薄くするようにしている。
On the other hand, many studies have been made to reduce the thickness of a liquid crystal display device by thinning a glass substrate. As a method of reducing the thickness of the glass substrate, for example, a method of mechanically polishing the glass substrate can be considered. However, with this mechanical polishing method, it is difficult to polish the surface of the glass substrate flat, and the liquid crystal display device cannot be manufactured efficiently. Therefore, the glass substrate is usually thinned by etching (see, for example, Patent Document 1). In
ところが、特許文献1のように、一対のガラス基板の両面をエッチングする場合には、1枚のガラス基板の厚みが0.5mm未満になると十分な強度が得られず、ガラス基板に割れが発生し易くなるという問題がある。したがって、この方法によって、一対のガラス基板の全体の厚みを1mm未満とすることは実用的ではない。
However, when both surfaces of a pair of glass substrates are etched as in
これに対し、一方のガラス基板を他方のガラス基板よりも薄く形成することにより、比較的厚いガラス基板によって強度を確保しつつ全体の厚みを小さくすることが知られている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2では、一方のガラス基板をレジストマスクで覆った状態でエッチング溶液に浸漬することによって、他方のガラス基板の厚みを小さくしている。 On the other hand, by forming one glass substrate thinner than the other glass substrate, it is known to reduce the overall thickness while ensuring strength with a relatively thick glass substrate (for example, Patent Document 2). reference). In Patent Document 2, the thickness of the other glass substrate is reduced by immersing one glass substrate in an etching solution while being covered with a resist mask.
ところで、従来の液晶表示装置(特に、携帯電話等に適用されるような小型の液晶表示装置)の製造においては、1枚の大判のガラス基板(基板母材)を分割して数百個の液晶パネルが製造される。この場合、図8に示すように、まず、一対の基板母材101を貼り合わせると共に、液晶を注入して封止する。その後、図8で破線に示すように、上記一対の基板母材101を分断して複数のパネル103を製造する。続いて、各パネル103のそれぞれに対し、偏光板等の光学フィルム104を貼り付けるようにしていた。
By the way, in manufacturing a conventional liquid crystal display device (particularly a small liquid crystal display device applied to a mobile phone or the like), a large glass substrate (substrate base material) is divided into several hundred pieces. A liquid crystal panel is manufactured. In this case, as shown in FIG. 8, first, a pair of
しかし、このように複数のパネル103毎に光学フィルム104を個別に貼り付ける作業には、非常に手間がかかってしまう。そこで、大判の光学フィルムを貼り付けた後に、一対の基板母材を分断することが知られている(例えば、特許文献3等参照)。この場合、図9に示すように、互いに貼り合わせた一対の基板母材101に、予め、大判の光学フィルム104を貼り付ける。その後、一対の基板母材101から光学フィルム104を帯状に部分的に除去する。続いて、その光学フィルム104が除去された帯状の除去領域に沿って基板母材101を分断し、複数のパネル105を製造する。その結果、各パネル105には、分断された光学フィルム104が貼り付けられた状態となっている。このようにすることで、工数を大幅に減少させることが可能となる。
しかし、本発明者らが鋭意研究を重ねた結果、分断する速度によっては、基板母材にクラックが生じて正確な基板母材の分断が困難になる一方、光学フィルムにおける帯状の除去領域が交差する領域で、ダレが生じ易くなって、精度良く光学フィルムを形成することが難しくなるという問題を見出した。この問題は、基板母材の厚みが小さくなると顕著になる。 However, as a result of extensive research conducted by the present inventors, depending on the dividing speed, cracks occur in the substrate base material, making it difficult to accurately divide the substrate base material, while the strip-shaped removal regions in the optical film intersect. It has been found that the sagging is likely to occur in the region to be formed, and it becomes difficult to form the optical film with high accuracy. This problem becomes significant when the thickness of the substrate base material is reduced.
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、基板母材とその表面に貼り付けられた光学フィルムとの双方を、精度良く分断することにより、表示装置を効率よく且つ高精度に製造しようとすることにある。 The present invention has been made in view of such various points, and an object of the present invention is to divide both the substrate base material and the optical film attached to the surface thereof with high accuracy, thereby providing a display device. Is to efficiently and accurately manufacture the device.
上記の目的を達成するために、この発明では、光学フィルムを除去する速度を、基板母材を分断する速度よりも大きくした。 In order to achieve the above object, in the present invention, the speed for removing the optical film is made larger than the speed for dividing the substrate base material.
具体的に、本発明に係る表示装置の製造方法は、一対の基板母材を互いに貼り合わせて貼合せ基板を形成すると共に、前記貼合せ基板を構成する前記一対の基板母材の間に複数の表示媒体層をマトリクス状に配置して形成する工程と、前記貼合せ基板に光学フィルムを貼り付ける工程と、前記光学フィルムを、前記貼合せ基板の表面から部分的に除去する工程と、前記貼合せ基板を前記光学フィルムが除去された除去領域において分断する工程とを備え、前記貼合せ基板から複数の表示装置を製造する表示装置の製造方法であって、前記光学フィルムを除去する速度は、前記基板母材を分断する速度よりも大きい。 Specifically, in the method for manufacturing a display device according to the present invention, a pair of substrate base materials are bonded to each other to form a bonded substrate, and a plurality of pieces are provided between the pair of substrate base materials constituting the bonded substrate. A step of arranging and forming the display medium layer in a matrix, a step of attaching an optical film to the bonded substrate, a step of partially removing the optical film from the surface of the bonded substrate, And a step of dividing the bonded substrate in the removal region where the optical film is removed, and a method of manufacturing a display device that manufactures a plurality of display devices from the bonded substrate, wherein the speed of removing the optical film is , Greater than the speed at which the substrate base material is divided.
前記光学フィルムを除去する速度は、300mm/secよりも大きく且つ400mm/sec以下であり、前記基板母材を分断する速度は、50mm/sec以上且つ300mm/sec以下であることが好ましい。 The speed at which the optical film is removed is preferably greater than 300 mm / sec and not greater than 400 mm / sec, and the speed at which the substrate base material is divided is preferably not less than 50 mm / sec and not greater than 300 mm / sec.
前記一対の基板母材は、複数のアレイ基板が形成された第1基板母材と、複数の対向基板が形成された第2基板母材とにより構成され、前記第2基板母材の厚みは、第1基板母材よりも薄いことが望ましい。 The pair of substrate base materials includes a first substrate base material on which a plurality of array substrates are formed and a second substrate base material on which a plurality of counter substrates are formed, and the thickness of the second substrate base material is It is desirable that it is thinner than the first substrate base material.
前記第2基板母材の厚みは、20μm以上且つ300μm以下であるようにしてもよい。 The thickness of the second substrate base material may be 20 μm or more and 300 μm or less.
−作用−
次に、本発明の作用について説明する。
-Action-
Next, the operation of the present invention will be described.
表示装置を製造する場合には、まず、一対の基板母材を形成する。一対の基板母材は、例えば、複数のアレイ基板が形成された第1基板母材と、複数の対向基板が形成された第2基板母材とにより構成する。第2基板母材の厚みは、例えば、20μm以上且つ300μm以下程度にして、第1基板母材よりも薄く形成することが好ましい。そのことにより、表示装置全体の強度をアレイ基板(第1基板母材)により維持しつつ、薄型化を図ることができる。 In manufacturing a display device, first, a pair of substrate base materials are formed. The pair of substrate base materials includes, for example, a first substrate base material on which a plurality of array substrates are formed and a second substrate base material on which a plurality of counter substrates are formed. The thickness of the second substrate base material is preferably about 20 μm or more and 300 μm or less, for example, and is thinner than the first substrate base material. Accordingly, it is possible to reduce the thickness while maintaining the strength of the entire display device by the array substrate (first substrate base material).
その後、一対の基板母材である第1基板母材及び第2基板母材を互いに貼り合わせることにより、貼合せ基板を形成する。貼合せ基板には、第1基板母材及び第2基板母材の間に複数の表示媒体層をマトリクス状に配置して形成する。 Thereafter, the first substrate base material and the second substrate base material, which are a pair of substrate base materials, are bonded together to form a bonded substrate. The bonded substrate is formed by arranging a plurality of display medium layers in a matrix between the first substrate base material and the second substrate base material.
次に、前記貼合せ基板に、例えば偏光板等の光学フィルムを貼り付ける。続いて、貼合せ基板を光学フィルムが除去された除去領域に沿って分断する。そのことにより、貼合せ基板から複数の表示装置を製造する。 Next, an optical film such as a polarizing plate is bonded to the bonded substrate. Subsequently, the bonded substrate is divided along the removal region from which the optical film has been removed. Thereby, a plurality of display devices are manufactured from the bonded substrate.
本発明者らが鋭意研究を重ねた結果、光学フィルムを除去する速度を比較的小さくすると、光学フィルムに欠けが生じ易くなるのに対し、基板母材を分断する速度を比較的大きくすると、基板母材にクラックや割れが生じ易くなるということがわかった。そこで、光学フィルムを除去する速度を、基板母材を分断する速度よりも大きくする。例えば、光学フィルムを除去する速度は、300mm/secよりも大きく且つ400mm/sec以下とする一方、基板母材を分断する速度は、50mm/sec以上且つ300mm/sec以下とすることが好ましい。 As a result of repeated diligent research by the present inventors, when the speed of removing the optical film is relatively small, the optical film is likely to be chipped, whereas when the speed of dividing the substrate base material is relatively large, It has been found that cracks and cracks are likely to occur in the base material. Therefore, the speed for removing the optical film is set larger than the speed for dividing the substrate base material. For example, the speed at which the optical film is removed is greater than 300 mm / sec and not greater than 400 mm / sec, while the speed at which the substrate base material is divided is preferably not less than 50 mm / sec and not greater than 300 mm / sec.
すなわち、仮に、光学フィルムを除去する速度が300/sec以下である場合には、光学フィルムに大きな欠けが生じ易くなってしまう。一方、光学フィルムを除去する速度が400mm/secよりも大きい場合には、除去速度が大きすぎて、光学フィルムを所定の領域で精度良く除去することが難しくなる。したがって、上述したように、光学フィルムを除去する速度は、300mm/secよりも大きく且つ400mm/sec以下とすることが好ましい。 That is, if the speed at which the optical film is removed is 300 / sec or less, a large chip tends to occur in the optical film. On the other hand, when the removal speed of the optical film is higher than 400 mm / sec, the removal speed is too high, and it becomes difficult to remove the optical film with high accuracy in a predetermined region. Therefore, as described above, the speed at which the optical film is removed is preferably greater than 300 mm / sec and not greater than 400 mm / sec.
また、仮に、基板母材を分断する速度が300μmよりも大きい場合には、基板母材にクラックや割れが生じ易くなってしまう。一方、基板母材を分断する速度が50mm/sec未満である場合には、表示装置の生産性が低くなりすぎてしまう。したがって、上述のように、基板母材を分断する速度は、50mm/sec以上且つ300mm/sec以下とすることが好ましい。このようにすることで、表示装置を高精度に且つ効率よく製造することが可能となる。 Further, if the speed at which the substrate base material is divided is greater than 300 μm, cracks and cracks are likely to occur in the substrate base material. On the other hand, when the speed at which the substrate base material is divided is less than 50 mm / sec, the productivity of the display device becomes too low. Therefore, as described above, the speed at which the substrate base material is divided is preferably 50 mm / sec or more and 300 mm / sec or less. By doing so, the display device can be manufactured with high accuracy and efficiency.
本発明によれば、光学フィルムを除去する速度を、基板母材を分断する速度よりも大きくしたので、光学フィルムの欠けを防止すると共に基板母材のクラックや割れを防止して、表示装置を高精度に且つ効率よく製造することができる。 According to the present invention, since the speed for removing the optical film is larger than the speed for dividing the substrate base material, the optical film is prevented from being chipped and the substrate base material is prevented from being cracked or cracked. It can be manufactured with high accuracy and efficiency.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiment.
《発明の実施形態1》
図1〜図7は、本発明の実施形態1を示している。図1は、本実施形態の表示装置である液晶表示装置1を示す断面図である。
1 to 7
液晶表示装置1は、図1に示すように、アレイ基板11と、アレイ基板11に対向して配置された対向基板12と、アレイ基板11及び対向基板12の間に介在された表示媒体層である液晶層13とを備えている。液晶層13は、アレイ基板11と対向基板12との間で略矩形枠状に形成されたシール部材14によって封止されている。
As shown in FIG. 1, the liquid
アレイ基板11は、ガラス基板21と、ガラス基板21の液晶層13側の表面に形成された複数の能動素子である図示省略のTFT(Thin-Film Transistor:薄膜トランジスタ)とを備えている。また、図示を省略するが、ガラス基板21には、上記TFTに接続された画素電極、ゲート配線、及びソース配線が形成されている。TFT及び画素電極は、ガラス基板21上にマトリクス状に配置され、ゲート配線及びソース配線は、互いに直交するように配置され全体として格子状に形成されている。ガラス基板21の液晶層13とは反対側の表面には、光学フィルムである偏光板23が貼り付けられている。
The
一方、対向基板12は、ガラス基板22と、ガラス基板22の液晶層13側の表面に形成された透明電極及びカラーフィルタ(ともに図示省略)とを備えている。ガラス基板22の液晶層13とは反対側の表面には、光学フィルムである偏光板24が貼り付けられている。偏光板24の吸収軸は、上記偏光板23の吸収軸に直交している。対向基板12は、アレイ基板11よりも薄く形成されている。
On the other hand, the
また、図示を省略するが、アレイ基板11には、上記各TFTを駆動するためのドライバ(ゲートドライバ及びソースドライバ)が設けられており、このドライバから上記ゲート配線及びソース配線を介して、TFTへ信号を供給することにより、各TFT毎に画素電極を駆動して所望の表示を行うようになっている。
Although not shown, the
−製造方法−
次に、上記液晶表示装置1の製造方法について図2〜図6を参照して説明する。図2は、除去工程及び分断工程行われている第2基板母材32を示す断面図であり(図4に相当する)、図3〜図5は、除去工程及び分断工程の少なくとも一方が行われる第2基板母材32を示す平面図である。図6は、分断された第2基板母材32を示す平面図である。
-Manufacturing method-
Next, a method for manufacturing the liquid
本実施形態では、一対の基板母材31,32が貼り合わされた貼合せ基板30を分断することにより、その貼合せ基板30から複数の液晶表示装置1を形成する。すなわち、本実施形態の製造方法には、貼合せ基板形成工程と、フィルム貼付工程と、除去工程と、分断工程とが含まれる。
In this embodiment, the liquid
まず、予め、アレイ基板11を複数有する第1基板母材31と、対向基板12を複数有する第2基板母材32とを形成しておく。アレイ基板11は第1基板母材31にマトリクス状に配置されている。対向基板12は、アレイ基板11に対応するように、第2基板母材32にマトリクス状に配置されている。各アレイ基板11には、TFT、画素電極、ゲート配線及びソース配線等を形成する。
First, a first
尚、図3〜図6では説明を簡単にするために、第1基板母材31(又は第2基板母材32)に含まれる液晶表示装置1の数を、例えば4つとして少なくして示しているが、実際には、より多数の液晶表示装置1が含まれている。
3 to 6, the number of liquid
次に、貼合せ基板形成工程では、一対の基板母材である第1基板母材31及び第2基板母材32を互いに貼り合わせて貼合せ基板30を形成すると共に、その貼合せ基板30を構成する第1基板母材31及び第2基板母材32の間に複数の表示媒体層である液晶層13をマトリクス状に配置して形成する。
Next, in the bonded substrate forming step, the first
エッチング処理を行った後は、液晶を注入して封入することが難しいため、本実施形態では、いわゆる液晶滴下方式により液晶表示装置を製造する。まず、図7のフローチャートに示すように、ステップS1では、例えば紫外線・熱併用硬化型樹脂等からなるシール部材を、アレイ基板11及び対向基板12の少なくとも一方に、環状に描画するようにして設ける。続いて、ステップS2において、環状のシール部材の内側に液晶を滴下する。このとき、例えば、第1基板母材31に環状のシール部材を形成する一方、第2基板母材32における領域であって、第1基板母材31のシール部材で囲まれる領域に対応する領域に、液晶を滴下するようにしてもよい。その後、ステップS3において、第1基板母材31と第2基板母材32とを互いに貼り合わせて貼合せ基板30を形成する。続いて、ステップS4及びS5において、紫外線の照射や加熱等によりシール部材を硬化させる。
After performing the etching process, it is difficult to inject and enclose liquid crystal. In this embodiment, a liquid crystal display device is manufactured by a so-called liquid crystal dropping method. First, as shown in the flowchart of FIG. 7, in step S <b> 1, for example, a sealing member made of, for example, ultraviolet / heat combination curable resin is provided on at least one of the
次に、ステップS6では、貼合せ基板30の表面(つまり、第1基板母材31及び第2基板母材32の少なくとも一方)をエッチングして、その厚みを薄くする。エッチングは、貼合せ基板30の状態で行うことが好ましい。例えば、第1基板母材31及び第2基板母材32の当初の厚みが互いに同じである場合には、第2基板母材32の外側表面にレジストを一様に塗布した状態で、貼合せ基板30の全体をエッチング溶液に浸漬する。そのことにより、第2基板母材32のエッチング量を第1基板母材31よりも多くして、第2基板母材32を第1基板母材31よりも薄くする。そして、第2基板母材32の厚みを例えば300μmとする。
Next, in step S6, the surface of the bonded substrate 30 (that is, at least one of the first
第2基板母材32(つまり、対向基板)の厚みは、20μm以上且つ300μm以下であることが好ましい。すなわち、液晶表示装置の全体を薄くするために、第2基板母材32を薄くすることが好ましいが、第2基板母材32が20μm未満であると、基板の強度を十分に維持できず、第2基板母材32自体を形成することが困難になる。一方、第2基板母材32が300μmを超えて厚くなると、第2基板母材32の厚みが比較的大きくなってガラス基板21,22のクラックや割れの問題が生じ難くなる。したがって、本願発明は、第2基板母材32の厚みが、20μm以上且つ300μm以下である場合に特に好ましい効果を奏する。
The thickness of the second substrate base material 32 (that is, the counter substrate) is preferably 20 μm or more and 300 μm or less. That is, in order to make the entire liquid crystal display device thin, it is preferable to make the second
次に、ステップS7では、フィルム貼付工程を行い、光学フィルムである偏光板23,24を上記貼合せ基板30の両面(つまり、第1基板母材31及び第2基板母材32の各外側表面)に貼り付ける。
Next, in step S7, a film sticking process is performed, and the
その後、除去工程を行い、貼合せ基板30の表面から偏光板23,24を部分的に除去する。続いて、ステップS8では、分断工程を行い、偏光板23,24が除去された除去領域において、貼合せ基板30を分断する。
Then, a removal process is performed and the
偏光板23を除去する速度Vhは、第1基板母材31を分断する速度Vkよりも大きくする。同様に、偏光板24を除去する速度Vhは、第2基板母材32を分断する速度Vkよりも大きくする。すなわち、偏光板23,24を除去する速度Vhは、300mm/secよりも大きく且つ400mm/sec以下(300mm/sec<Vh≦400mm/sec)であり、第1基板母材31及び第2基板母材32を分断する速度Vkは、50mm/sec以上且つ300mm/sec以下(50mm/sec≦Vk≦300mm/sec)であるようにする。
The speed Vh for removing the
尚、上記除去速度Vhは、さらに、320mm/sec<Vh≦380mm/sec
であることが好ましく、上記分断速度Vkは、さらに、70mm/sec≦Vk≦280mm/secであることが好ましい。
The removal speed Vh is further set to 320 mm / sec <Vh ≦ 380 mm / sec.
It is preferable that the dividing speed Vk is further preferably 70 mm / sec ≦ Vk ≦ 280 mm / sec.
偏光板23,24の除去は、図2に示すように、貼合せ基板30に対して平行に移動可能なヘッダ35に装着された刃物36によって行う。刃物36は、例えば、断面U字状又は断面凹字状の刃を有している。尚、図2では、説明のため、第2基板母材32を拡大して示しており、第1基板母材31等の図示を省略している。一方、貼合せ基板30の分断(すなわち、第1基板母材31及び第2基板母材32の分断)は、貼合せ基板30に対して平行に移動可能なヘッダ37に装着されたホイール38によって行う。第1基板母材31及び第2基板母材32に対する上記刃物36及びホイール38の接触圧力は、例えば600g/cm2以下とすることが望ましい。
As shown in FIG. 2, the
そして、第1基板母材31及び第2基板母材32の一方を分断した後に、他方を分断する。そうして、第1基板母材31及び第2基板母材32の双方を分断することによって、貼合せ基板30を全体として分断する。
Then, after one of the first
第2基板母材32を分断する場合には、まず、図3に示すように除去工程を行い、図3における実線の矢印A1で示すように、第2基板母材32上で刃物36を横方向A1に移動させて偏光板24を部分的に帯状に除去し、除去領域J1を形成する。除去領域J1ではガラス基板22が露出している。
In the case of dividing the second
次に、図4における実線の矢印A2で示すように、上記横方向A1に直交する縦方向A2に刃物36を移動させることにより、偏光板24を帯状に除去してガラス基板22を露出させ、除去領域J2を形成する。除去領域J2は除去領域J1に交差して形成されている。
Next, as shown by a solid arrow A2 in FIG. 4, the
引き続いて、分断工程を行い、図4における破線の矢印B1で示すように、上記縦方向A2と同じ方向B1にホイール38を移動させることにより、除去領域J2で露出しているガラス基板22をその除去領域J2の長さ方向に沿って分断する。このとき、ホイール38は、縦方向A2に移動する刃物36の後に追随して縦方向B1に移動させる。すなわち、図4に示す工程では、除去工程と分断工程とを同時に行う。
Subsequently, a cutting step is performed, and the
その後、図5に示すように除去工程を行い、図5における破線の矢印B2で示すように、上記縦方向B1に直交する横方向B2にホイール38を移動させることにより、除去領域J2で露出しているガラス基板22を、その除去領域J2に沿って分断する。その結果、図6に示すように、第2基板母材32は、例えば4つの製品サイズに分断され、液晶表示装置1を構成する対向基板12が形成される。
Thereafter, a removal process is performed as shown in FIG. 5, and the
第1基板母材31を分断する場合には、上述した第2基板母材32の分断と同じ工程を行う。その結果、第1基板母材31は、例えば4つの製品サイズに分断されることによりアレイ基板11が形成され、貼合せ基板30から例えば4つの液晶表示装置1が形成される。
When the first
−実施形態1の効果−
したがって、この実施形態1によると、第2基板母材32の厚みを、例えば20μm以上且つ300μm以下にして、第1基板母材31よりも薄く形成したので、液晶表示装置1全体の強度をアレイ基板11(第1基板母材31)により維持しつつ、薄型化を図ることができる。そのことに加え、偏光板23,24を除去する速度を、第1及び第2基板母材31,32を分断する速度よりも大きくしたので、偏光板23,24の欠けを防止すると共に第1及び第2基板母材31,32のクラックや割れを防止して、液晶表示装置1を高精度に且つ効率よく製造することができる。
-Effect of Embodiment 1-
Therefore, according to the first embodiment, the thickness of the second
ところで、仮に、偏光板23,24を除去する速度Vhが、300mm/sec以下である場合には、偏光板23,24に大きな欠けが生じ易くなってしまう。一方、偏光板23,24を除去する速度Vhが400mm/secよりも大きい場合には、除去速度Vhが大きすぎて、偏光板23,24を所定の領域で精度良く除去することが難しくなる。
By the way, if the speed Vh for removing the
これに対して本実施形態では、偏光板23,24を除去する速度Vhを、300mm/secよりも大きく且つ400mm/sec以下としたので、偏光板23,24における欠けの発生を防止すると共に、偏光板23,24を除去領域J1,J2に沿って精度良く除去することができる。
On the other hand, in the present embodiment, the speed Vh for removing the
また、仮に、第1及び第2基板母材31,32を分断する速度Vkが、300mm/secよりも大きい場合には、第1及び第2基板母材31,32にクラックや割れが生じ易くなってしまう。一方、第1及び第2基板母材31,32を分断する速度Vkが50mm/sec未満である場合には、液晶表示装置1の生産性が低くなりすぎてしまう。
If the speed Vk at which the first and second
これに対して本実施形態では、第1及び第2基板母材31,32を分断する速度Vkを、50mm/sec以上且つ300mm/sec以下としたので、第1及び第2基板母材31,32におけるクラックや割れの発生を防止すると共に、液晶表示装置1の生産性の低下を抑制することができる。
On the other hand, in this embodiment, since the speed Vk for dividing the first and second
つまり、本実施形態によると、偏光板23,24を除去する速度Vhと、第1及び第2基板母材31,32を分断する速度Vkとをそれぞれ所定の数値範囲に規定するようにしたので、偏光板23,24の欠けを防止すると共に第1及び第2基板母材31,32のクラックや割れを防止して、液晶表示装置1を高精度に且つ効率よく製造することができる。
That is, according to the present embodiment, the speed Vh for removing the
また、第1及び第2基板母材31,32において既に分断された領域を跨ぐようにして偏光板23,24を除去しようとすると、刃物36が第1及び第2基板母材31,32の切断部に引っ掛かり易くなるので、精度良く偏光板23,24を除去することが難しくなる。これに対し、本実施形態では、互いに交差する除去領域J1,J2が形成された後に、第1及び第2基板母材31,32の分断を行うようにしたので、より精度の高い偏光板23,24の除去を行うことができる。さらに、図4に示すように、縦方向A2における偏光板23,24の除去工程と、縦方向B1における第2基板母材32の分断工程とを同じ工程として連続して行うようにしたので、タクトタイムを向上させて効率よく製造できる。
Further, when the
《その他の実施形態》
上記実施形態1では、表示装置として液晶表示装置を一例に挙げて説明したが、本発明はこれに限らず、例えば有機EL表示装置等の他の表示装置についても同様に適用することが可能である。また、光学フィルムとして偏光板23,24を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限らず、例えば光を拡散させる拡散フィルム等の他の光学フィルムを適用することができる。
<< Other Embodiments >>
In the first embodiment, the liquid crystal display device is described as an example of the display device. However, the present invention is not limited to this, and can be similarly applied to other display devices such as an organic EL display device. is there. Moreover, although the
以上説明したように、本発明は、例えば液晶表示装置等の表示装置の製造方法について有用であり、特に、基板母材とその表面に貼り付けられた光学フィルムとの双方を、精度良く分断することにより、表示装置を効率よく且つ高精度に製造する場合に適している。 As described above, the present invention is useful for a method of manufacturing a display device such as a liquid crystal display device, and in particular, accurately divides both the substrate base material and the optical film attached to the surface thereof. Therefore, it is suitable for manufacturing a display device efficiently and with high accuracy.
J1,J2 除去領域
1 液晶表示装置
11 アレイ基板
12 対向基板
13 液晶層(表示媒体層)
23,24 偏光板(光学フィルム)
30 貼合せ板
31 第1基板母材
32 第2基板母材
J1,
23, 24 Polarizing plate (optical film)
30
Claims (4)
前記貼合せ基板に光学フィルムを貼り付ける工程と、
前記光学フィルムを、前記貼合せ基板の表面から部分的に除去する工程と、
前記貼合せ基板を前記光学フィルムが除去された除去領域において分断する工程とを備え、前記貼合せ基板から複数の表示装置を製造する表示装置の製造方法であって、
前記光学フィルムを除去する速度は、前記基板母材を分断する速度よりも大きい
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 A step of bonding a pair of substrate base materials together to form a bonded substrate, and forming a plurality of display medium layers in a matrix between the pair of substrate base materials constituting the bonded substrate; and ,
A step of attaching an optical film to the bonded substrate;
Partially removing the optical film from the surface of the bonded substrate;
A step of dividing the bonded substrate in the removal region from which the optical film has been removed, and a manufacturing method of a display device for manufacturing a plurality of display devices from the bonded substrate,
The method for manufacturing a display device, wherein a speed at which the optical film is removed is higher than a speed at which the substrate base material is divided.
前記光学フィルムを除去する速度は、300mm/secよりも大きく且つ400mm/sec以下であり、
前記基板母材を分断する速度は、50mm/sec以上且つ300mm/sec以下である
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 In claim 1,
The speed at which the optical film is removed is greater than 300 mm / sec and not greater than 400 mm / sec,
A method of manufacturing a display device, wherein a speed at which the substrate base material is divided is 50 mm / sec or more and 300 mm / sec or less.
前記一対の基板母材は、複数のアレイ基板が形成された第1基板母材と、複数の対向基板が形成された第2基板母材とにより構成され、
前記第2基板母材の厚みは、第1基板母材よりも薄い
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 In claim 1,
The pair of substrate base materials includes a first substrate base material on which a plurality of array substrates are formed and a second substrate base material on which a plurality of counter substrates are formed,
The method for manufacturing a display device, wherein the thickness of the second substrate base material is thinner than that of the first substrate base material.
前記第2基板母材の厚みは、20μm以上且つ300μm以下である
ことを特徴とする表示装置の製造方法。 In claim 3,
The thickness of the second substrate base material is 20 μm or more and 300 μm or less.
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