JP2004028885A - 半導体装置、半導体パッケージ及び半導体装置の試験方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】MCPに搭載される各チップ13,14の外部端子22,27間において、両チップ13,14間を接続するワイヤ15は、トランジスタ31〜34を介して直列に接続される。従って、チップ13,14の外部端子21,26を介してトランジスタ31〜34がオンされると、それらオンしたトランジスタ31〜34及びワイヤ15を介して両チップ13,14の各内部端子23〜25,28〜30が電気的に接続される。これにより、両チップ13,14間の接続不良を検出することができる。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置、半導体パッケージ及び半導体装置の試験方法に関する。近年、半導体チップの小型化が進み、様々な機能を持つ複数のチップを単一パッケージに搭載したマルチチップパッケージ(MCP)が注目されている。MCPでは、メモリやロジック回路などの機能を持つチップを組み合わせ、それらチップ間を配線したシステムインパッケージ(SIP)を実現することができる。このようなMCPにおいては、バス幅を広くしてデータ転送の効率化を図るために、各チップ間を互いに接続するための端子数(即ち1チップ当りの端子数)が増加してきている。このため、パッケージ組立て後に行うMCPの試験効率及び試験精度の向上が要求されている。
【0002】
【従来の技術】
MCPは、それに搭載されるチップが有する外部接続用の端子(外部端子)を用いて種々の試験が実施される。この試験により、MCPは良品/不良品の何れかに選別され、その結果、良品と判定されたMCPが製品として出荷される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来より実施されてきたMCPの試験では、それによる良品/不良品の選別がパッケージ単位で行われる。このため、試験により不良品となった場合に、MCP内に搭載されるチップそのものが不良であるのか、或いは各チップ間の接続が不良であるのかを判別することができなかった。従って、例えば各チップ間の接続不良が生じている場合には、仮にチップ単体は良品であったとしても、そのMCPは不良品として判定されていた。このように、従来では、MCPが不良品として判定された場合に、その原因を特定できないために、不良箇所の救済を行うことができず、MCPが破棄されてしまうこともあった。この結果、歩留まりを向上させることができないという問題を有していた。
【0004】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的はMCPの試験精度を向上させることのできる半導体装置、半導体パッケージ及び半導体装置の試験方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1,8,10に記載の発明によれば、2以上の半導体チップから構成され、各チップが各々の内部端子を介して接続線で接続される半導体装置において、各チップ間を接続する接続線がそれぞれ直列に接続されるように各チップ内の内部端子間をスイッチ素子を介して接続し、該直列に接続したときの両端に位置する2つの内部端子を、該内部端子を含むチップの外部端子とスイッチ素子を介して接続するようにした。これにより、各チップの内部端子を電気的に接続して、導通試験を行うことにより、各チップ間に接続不良がないかどうかを検査することが可能である。
【0006】
請求項2に記載の発明によれば、各チップ内の内部端子間を接続するスイッチ素子及び内部端子と外部端子との間を接続するスイッチ素子は、外部端子を用いてオン/オフ制御される。これにより、各チップ間の導通試験を外部から行うことが可能である。
【0007】
請求項3に記載の発明によれば、各半導体チップは、それぞれ同数の1又は複数の冗長端子と、各チップ間の接続不良を検出する試験回路と、その試験回路の出力信号に応答して、接続不良となる内部端子を含む複数の内部端子を他の内部端子又は冗長端子にそれぞれ切り替える端子切替回路とを備えている。この構成では、接続不良が検出される場合に、その不良端子を冗長端子により救済することが可能である。
【0008】
請求項4に記載の発明によれば、端子切替回路において、判定保持回路は試験回路から出力される信号を保持して出力し、切替スイッチはその判定保持回路の出力信号に基づいて2つの内部端子のうち何れか一方、或いは、内部端子と冗長端子のうち何れか一方に接続位置を切り替える。
【0009】
請求項5に記載の発明によれば、判定保持回路はヒューズを含み、試験回路により前記接続不良となる内部端子が検出される場合には該ヒューズを切断して出力を一定にする。これにより、接続不良が検出される際に切り替えられた端子の接続位置は固定される。
【0010】
請求項6に記載の発明によれば、各半導体チップは、それぞれ同数の1又は複数の冗長端子と、各チップ間の接続不良を検出する試験回路と、その試験回路の出力信号に応答して、接続不良となる内部端子を冗長端子に切り替える端子切替回路とを備えている。この構成では、接続不良が検出される場合に、その不良端子を冗長端子により救済することが可能である。
【0011】
請求項7に記載の発明によれば、端子切替回路において、判定回路は、試験回路の出力信号に応答して、接続不良となる内部端子を冗長端子に切り替えるための信号を切替スイッチに出力する。そして、切替スイッチは、試験回路及び判定回路の出力信号に基づいて、内部端子と冗長端子のうち何れか一方に接続位置を切り替える。
【0012】
請求項9に記載の発明によれば、パッケージ内に搭載される各チップの導通試験を行い、それにより各チップ間の接続不良を検出することができるため、試験精度の向上を図ることができる。また、その際、接続不良がある場合には、不良端子を冗長端子により救済することができるため、歩留まりを向上させることもできる。
【0013】
【発明の実施の形態】
(第一実施形態)
以下、本発明を具体化した第一実施形態を図1〜図5に従って説明する。尚、本実施形態は、2以上の半導体チップが積層状に接続されてなる半導体装置が実装されたスタック型マルチチップパッケージ(以下、スタック型MCP)に具体化したものである。
【0014】
図1は、スタック型MCPの概略構造図である。
このスタック型MCP11は、基板12上に例えば2つのチップ13,14が上下に接続されて実装されている。チップ13,14は、パッケージ内部にて互いのチップと接続するための複数(図では2つずつ示す)の内部端子13a,14aをそれぞれ有し、各端子13a,14aはワイヤ15を介して互いに接続されている。また、チップ13,14は、外部と接続するための複数(図では2つずつ示す)の外部端子13b,14bをそれぞれ有し、各端子13b,14bは基板12上に設けられた端子12aとワイヤ15を介して接続されている。基板12には、MCP11を実装する基板(図示略)に接続するための複数の電極(半田ボール)16が設けられている。
【0015】
図2は、MCP11内における両チップ13,14間の接続不良を検出するための構成を示す概略図である。
ここで、チップ13は端子21〜25を含み、それらのうち端子21,22は外部端子(図1の外部端子13bに含まれる)であり、端子23〜25は内部端子(図1の内部端子13aに含まれる)である。また、チップ14は端子26〜30を含み、それらのうち端子26,27は外部端子(図1の外部端子14bに含まれる)であり、端子28〜30は内部端子(図1の内部端子14aに含まれる)である。
【0016】
両チップ13,14間において、チップ13の内部端子23,24,25は、チップ14の内部端子30,29,28とそれぞれワイヤ15を介して接続されている。
【0017】
チップ13において、外部端子22及び内部端子23間、内部端子24,25間はスイッチ素子としてのNチャネルMOSトランジスタ31,32を介して接続され、それらトランジスタ31,32のゲートは外部端子21と接続されている。同様に、チップ14において、外部端子27及び内部端子28間、内部端子29,30間はNチャネルMOSトランジスタ33,34(スイッチ素子)を介して接続され、それらトランジスタ33,34のゲートは外部端子26と接続されている。
【0018】
即ち、チップ13,14の外部端子22,27間において、両チップ13,14間を接続する各ワイヤ15(図2では3つ)が、トランジスタ31〜34を介して直列に接続されている。言い換えれば、チップ13,14の各内部端子23〜25,28〜30が、トランジスタ31〜34及び各ワイヤ15を介して直列に接続されている。
【0019】
この構成では、外部端子21,26から入力されるHレベルの信号によりトランジスタ31〜34がオンすると、それらオンしたトランジスタ31〜34、内部端子23〜25,28〜30及びワイヤ15を介して両チップ13,14の外部端子22,27間が導通状態になる。従って、このようなチップ13,14を搭載するMCP11では、外部端子21,22,26,27を用いて導通試験を行うことにより、両チップ13,14間に接続不良がないか否か(即ち各ワイヤ15の接続に異常がないか否か)を検出することができる。
【0020】
次に、上記のような導通試験により接続不良が検出された端子(以下、不良端子)の冗長救済を行うための構成について詳述する。
図3は、その冗長救済のための回路構成を示す概略図である。
【0021】
ここで、チップ13は端子41〜45を含み、それらのうち端子41〜44は内部端子(図1の内部端子13aに含まれる)であり、端子45は冗長端子である。また、チップ14は端子46〜50を含み、それらのうち端子46〜49は内部端子(図1の内部端子14aに含まれる)であり、端子50は冗長端子である。冗長端子45,50は、不良端子の救済を目的として各チップ13,14に1又は複数(本実施形態では両チップ13,14に1つずつ)予め余分に設けられる端子である。尚、図3では、上述した接続不良を検出するための構成を省略している。
【0022】
両チップ13,14間において、チップ13の内部端子41〜44は、チップ14の内部端子46〜49とそれぞれワイヤ15を介して接続され、両チップ13,14の冗長端子45,50は、ワイヤ15を介して互いに接続されている。
【0023】
チップ13において、内部端子41〜44及び冗長端子45は、端子切替回路51を介して内部回路(図示略)の入出力端子I1〜I4と接続されている。また、同様にチップ14において、内部端子46〜49及び冗長端子50は、端子切替回路52を介して内部回路(図示略)の入出力端子I5〜I8と接続されている。
【0024】
以下、端子切替回路51の具体的構成について詳述する。尚、本実施形態において、両チップ13,14の端子切替回路51,52はそれぞれ同様な構成を持つ。従って、ここでは、チップ14の端子切替回路52についての詳細な説明は省略する。
【0025】
端子切替回路51は、第1〜第4判定保持回路53a〜53dと、それら判定保持回路53a〜53dとそれぞれ対に接続される第1〜第4切替スイッチ54a〜54dとを備える。各判定保持回路53a〜53dは、チップ13が有する各内部端子41〜44に対応して(4つ)設けられる。
【0026】
第1切替スイッチ54aは、インバータ回路61と、NチャネルMOSトランジスタで構成される第1及び第2トランジスタ62,63とを備える。尚、第2〜第4切替スイッチ54b〜54dは、第1切替スイッチ54aと同様に構成されているため、同様な構成部分には同一符号を付してそれらの詳細な説明を一部省略する。
【0027】
第1トランジスタ62は入出力端子I1と内部端子41とに接続され、そのゲートには第1判定保持回路53aの出力信号が入力される。また、第2トランジスタ63は入出力端子I1と内部端子42とに接続され、そのゲートには第1判定保持回路53aの出力信号がインバータ回路61を介して入力される。従って、第1切替スイッチ54aは、第1判定保持回路53aの出力信号に応じて、入出力端子I1と接続する端子を内部端子41,42のうち何れかに切り替える。
【0028】
同様に、第2切替スイッチ54bは、第2判定保持回路53bの出力信号に応じて、入出力端子I2と接続する端子を内部端子42,43のうち何れかに切り替える。また、同様に、第3切替スイッチ54cは、第3判定保持回路53cの出力信号に応じて、入出力端子I3と接続する端子を内部端子43,44のうち何れかに切り替える。
【0029】
また、第4切替スイッチ54dにおいて、第1トランジスタ62は入出力端子I4と内部端子44とに接続され、そのゲートには第4判定保持回路53dの出力信号が入力される。第2トランジスタ63は入出力端子I4と冗長端子45とに接続され、そのゲートには第4判定保持回路53dの出力信号がインバータ回路61を介して入力される。従って、第4切替スイッチ54dは、第4判定保持回路53dの出力信号に応じて、入出力端子I4と接続する端子を内部端子44及び冗長端子45のうち何れかに切り替える。
【0030】
第1〜第4判定保持回路53a〜53dには、チップ13が内蔵する組み込み自己試験回路(以下、BIST(Build In Self Test)回路)64からのテスト信号TB1〜TB4が入力される。このBIST回路64は、両チップ13,14間の接続不良(チップ13,14の不良端子)を検出し、その検出結果に応じてテスト信号TB1〜TB4を生成する。
【0031】
図4は、第1判定保持回路53aの回路図である。尚、第2〜第4判定保持回路53b〜53dは、第1判定保持回路53aと同様に構成されているため、ここでは、それらの詳細な説明は省略する。
【0032】
第1判定保持回路53aは、PチャネルMOSトランジスタ71,72、NチャネルMOSトランジスタ73,74、フリップフロップ回路75、抵抗76及びノア回路77を備える。
【0033】
トランジスタ71のソースは電源VCCに接続され、ドレインは抵抗76を介してグランドGNDに接続されている。また、トランジスタ71のゲートはトランジスタ73を介して入力端子TE1と接続されている。トランジスタ73のゲートは、フリップフロップ回路75を介してトランジスタ71及び抵抗76の接続ノードに接続されると共に、トランジスタ72,74のゲートに接続されている。トランジスタ72のソースは電源VCCに接続され、ドレインはトランジスタ74のドレインと接続されている。そのトランジスタ74のソースはグランドGNDに接続されている。ノア回路77は2入力のノア回路であって、一方の入力端子はトランジスタ72,74の接続ノードに接続され、他方の入力端子はグランドGNDに接続されている。そして、このノア回路77の出力信号が第1判定保持回路53aの出力信号として出力端子TE2から出力される。
【0034】
このような第1判定保持回路53aでは、通常、入力端子TE1にHレベルの信号が入力されており(即ち、BIST回路64からHレベルの信号が出力されている)、トランジスタ71はオフしている。これにより、フリップフロップ回路75はHレベルの信号を出力し、トランジスタ74はオンしている。従って、ノア回路77はHレベルの信号を出力している。
【0035】
この状態で、入力端子TE1にLレベルの信号が入力される(即ち、BIST回路64からLレベルの信号が出力される)と、そのLレベルの信号がトランジスタ73を介してトランジスタ71のゲートに入力され、該トランジスタ71がオンする。これにより、フリップフロップ回路75はLレベルの信号を出力し、トランジスタ72がオンする。従って、ノア回路77はLレベルの信号を出力する。
【0036】
ちなみに、この状態では、入力端子TE1にHレベルの信号が再度入力されても、トランジスタ73がオフしているため、トランジスタ71はオン状態のままである。従って、フリップフロップ回路75はLレベルの信号を出力し、ノア回路77はLレベルの出力信号を保持する。
【0037】
尚、上述した第1判定保持回路53a(第1〜第4判定保持回路53a〜53d)の構成を図5に示す構成に変更してもよい。即ち、同図に示す判定保持回路80は、PチャネルMOSトランジスタ81,82、NチャネルMOSトランジスタ83、抵抗84、ヒューズ85及びノア回路86を備える。
【0038】
詳述すると、トランジスタ81のソースは電源VCCHに接続され、ドレインはトランジスタ83のソースに接続されるとともにヒューズ85を介してグランドGNDに接続されている。このトランジスタ81のゲートは、トランジスタ82,83のゲートと接続され、それらの各ゲートは入力端子TE1と接続されている。トランジスタ82のソースは電源VCCに接続され、ドレインはトランジスタ83のドレインと接続されている。そのトランジスタ83のドレインは抵抗84を介して電源VCCに接続されている。ノア回路86は2入力のノア回路であって、一方の入力端子はトランジスタ82,83の接続ノードに接続され、他方の入力端子はグランドGNDに接続されている。そして、このノア回路86の出力信号が判定保持回路80の出力信号として出力端子TE2から出力される。
【0039】
このような判定保持回路80では、入力端子TE1にHレベルの信号が入力されるとき、トランジスタ83がオンする。これにより、ノア回路86はHレベルの信号を出力する。逆に、入力端子TE1にLレベルの信号が入力されるとき、トランジスタ81,82がオンする。これにより、ノア回路86はLレベルの信号を出力する。その際、オンしたトランジスタ81を介して高電圧の電源VCCHがヒューズ85に印加され、ヒューズ85が切断される。
【0040】
即ち、この状態では、入力端子TE1にHレベルの信号が再度入力されても、ヒューズ85が切断されているため、ノア回路86はHレベルの信号を出力しない。従って、判定保持回路80は、上記判定保持回路53aと同様にして、BIST回路64から出力されるHレベル/Lレベルの信号を保持して出力する。
【0041】
次に、端子切替回路51の作用を図3を参照しながら説明する。
まず、上述した導通試験により接続不良が検出されない(即ち、各端子間を接続するワイヤ15が正常に接続されている)場合について説明する。
【0042】
このとき、チップ13において、BIST回路64は、第1〜第4判定保持回路53a〜53dにHレベルの信号を出力し、各判定保持回路53a〜53dは、そのHレベルの信号を保持して出力する。これにより、第1〜第4切替スイッチ54a〜54dの第1トランジスタ62がオンし、入出力端子I1〜I4は、それぞれ内部端子41〜44と接続される。
【0043】
その際、同様にチップ14において、端子切替回路52は、該チップ14が有するBIST回路(図示略)からの出力信号に応答して端子の接続位置を切り替え、入出力端子I5〜I8は、それぞれ内部端子46〜49と接続される。即ち、接続不良が検出されない場合には、チップ13,14の冗長端子45,50は使用されない。
【0044】
次いで、上述した導通試験の結果、例えば内部端子43,48が不良端子である(即ち、内部端子43,48間を接続するワイヤ15が接続不良である)場合について説明する。
【0045】
このとき、チップ13において、BIST回路64は、第1及び第2判定保持回路53a,53bにHレベルの信号を出力し、第3及び第4判定保持回路53c,53dにLレベルの信号を出力する。これにより、第1及び第2切替スイッチ54a,54bの第1トランジスタ62がオンし、第3及び第4切替スイッチ54c,54dの第2トランジスタ63がオンする。従って、入出力端子I1,I2は内部端子41,42と接続され、入出力端子I3は内部端子44と接続され、入出力端子I4は冗長端子45と接続される。
【0046】
その際、同様にチップ14において、端子切替回路52は、BIST回路(図示略)からの出力信号に応答して端子の接続位置を切り替え、入出力端子I5〜I8がそれぞれ内部端子46,47,49,冗長端子50と接続される。
【0047】
以上記述したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
(1)チップ13,14の外部端子22,27間において、両チップ13,14間を接続するワイヤ15は、トランジスタ31〜34を介して直列に接続される。各トランジスタ31〜34は、チップ13,14の外部端子21,26を介してオン・オフ制御される。この構成では、チップ13,14の外部端子21,22,26,27を用いてチップ13,14の接続状態を電気的に検査することができ、この導通試験によりMCP11内の両チップ13,14間に接続不良があるかどうかを検出することができる。これにより、MCP11の試験精度の向上化を図ることができる。
【0048】
(2)本実施形態では、デバイスを実動作させずに導通試験を行うため、ワイヤオープン異常(ワイヤ15の接続不良)を容易に検出することができる。
(3)本実施形態では、導通試験の結果、両チップ13,14間の接続不良が検出される場合に、あらかじめ備えた冗長端子45,50を用いて不良端子の救済を行うことが可能である。これにより、歩留まりの向上に貢献できる。
【0049】
(第二実施形態)
以下、本発明を具体化した第二実施形態を図6に従って説明する。
尚、本実施形態は、第一実施形態の端子切替回路51,52の構成を変更したものであり、同様な構成部分には同一符号を付してその詳細な説明を一部省略する。
【0050】
図6は、第二実施形態の冗長救済のための回路構成を示す概略図である。
ここで、チップ13は端子91〜94を含み、それらのうち端子91〜93は内部端子であり、端子94は冗長端子である。また、チップ14は端子95〜98を含み、それらのうち端子95〜97は内部端子であり、端子98は冗長端子である。
【0051】
両チップ13,14間において、チップ13の内部端子91〜93は、チップ14の内部端子95〜97とそれぞれワイヤ15を介して接続され、両チップ13,14の冗長端子94,98は、ワイヤ15を介して互いに接続されている。
【0052】
チップ13において、内部端子91〜93及び冗長端子94は、端子切替回路101を介して入出力端子I11〜I13と接続されている。同様に、チップ14において、内部端子95〜97及び冗長端子98は、端子切替回路102を介して入出力端子I14〜I16と接続されている。尚、本実施形態において、両チップ13,14の端子切替回路101,102はそれぞれ同様に構成されている。
【0053】
以下、端子切替回路101について説明する。
端子切替回路101は、第1〜第3判定回路103a〜103cと、それら判定回路103a〜103cとそれぞれ対に設けられた第1〜第3切替スイッチ104a〜104cと、インバータ回路105a,105bとを含む。各切替スイッチ104a〜104cは、NチャネルMOSトランジスタ111〜115及びインバータ回路116〜118を含む。
【0054】
第1切替スイッチ104aにおいて、トランジスタ111,112のゲートにはBIST回路(図示略)からの信号が入力され、トランジスタ113,114のゲートには該BIST回路からの信号がインバータ回路116を介して入力される。従って、トランジスタ111,112とトランジスタ113,114とはBIST回路から出力される信号に基づいて相補的にオン・オフ制御される。
【0055】
そして、BIST回路の出力信号に応答してトランジスタ113,114がオンするとき、それらオンしたトランジスタ113,114及びインバータ回路117,118を介して入出力端子I11が内部端子91と接続される。一方、トランジスタ111,112がオンするとき、第1判定回路103aからHレベルの信号が出力され、そのHレベルの信号に応答してトランジスタ115がオンする。これにより、オンしたトランジスタ115及びインバータ回路105a,105bを介して入出力端子I11が冗長端子94と接続される。
【0056】
同様にして、第2切替スイッチ104bは、BIST回路及び第2判定回路103bの出力信号に基づいて、入出力端子I12を内部端子92及び冗長端子94の何れかと接続する。また、同様に第3切替えスイッチ104cは、BIST回路及び第2判定回路103cの出力信号に基づいて、入出力端子I13を内部端子93及び冗長端子94の何れかと接続する。
【0057】
即ち、本実施形態では、端子切替回路101は、内部端子91〜93のうち接続不良となる端子(不良端子)を冗長端子94と切り替える。その際、同様に、チップ14において、端子切替回路102は、該チップ14が有するBIST回路(図示略)の出力信号に応じて、内部端子95〜97のうち接続不良となる端子(不良端子)を冗長端子98と切り替える。
【0058】
従って、以上記述したように、本実施形態の端子切替回路101,102を用いた場合にも、両チップ13,14間の接続不良が検出される場合に、不良端子の救済を行うことが可能である。
【0059】
尚、上記各実施形態は、以下の態様で実施してもよい。
・各実施形態では、MCP11に2つのチップ13,14が搭載される場合について具体化したが、3以上搭載される場合に具体化してもよい。
【0060】
・各実施形態では、チップ13,14を上下に積み重ねるスタック型MCP11に具体化したが、チップ13,14を基板12上に並べて接続するプレーン型MCP等に具体化してSもよい。
【0061】
・図2では、端子間を接続するためのトランジスタ31〜34はNチャネルMOSトランジスタを用いて構成したが、PチャネルMOSトランジスタを用いて構成してもよい。
【0062】
・第一実施形態の端子切替回路51は、図3に示す構成のみに限定されるものではない。即ち、内部端子41〜44の何れかが不良端子として検出される場合に、切替スイッチ54a〜54dが、判定保持回路53a〜53dの出力信号に応じて、入出力端子I1〜I4の接続位置を、2つの端子(2つの内部端子あるいは内部端子と冗長端子)のうち何れか一方に切り替えることのできる構成であればよい。
【0063】
・第二実施形態の端子切替回路101は、図6に示す構成のみに限定されるものではない。即ち、内部端子91〜93の何れかが不良端子として検出される場合に、各切替スイッチ104a〜104dが、BIST回路の出力信号に応じて、入出力端子I11〜I13の接続位置を該不良端子から冗長端子94に切り替えることのできる構成であればよい。
【0064】
・図5に示す判定保持回路80では、ヒューズ85を過電圧(電源VCCH)により切断することでBIST回路64の出力信号を保持する構成としたが、BIST回路64の出力信号を不揮発性のメモリ等に記憶して保持する構成としてもよい。
【0065】
上記各実施形態の特徴をまとめると以下のようになる。
(付記1) 2以上の半導体チップから構成され、各半導体チップが各々の内部端子を介して接続線で接続される半導体装置において、
前記各半導体チップ間を接続する接続線がそれぞれ直列に接続されるように前記各半導体チップ内の内部端子間をスイッチ素子を介して接続し、該直列に接続したときの両端に位置する2つの内部端子を、該内部端子を含む半導体チップの外部端子とスイッチ素子を介して接続したことを特徴とする半導体装置。
(付記2) 前記内部端子間を接続するスイッチ素子及び前記内部端子と前記外部端子との間を接続するスイッチ素子のオン/オフ制御を半導体チップの外部端子を用いて行うことを特徴とする付記1記載の半導体装置。
(付記3) 2以上の半導体チップから構成され、各半導体チップが各々の内部端子を介して接続線で接続される半導体装置において、
前記各半導体チップは、
それぞれ同数の1又は複数の冗長端子と、
前記各半導体チップ間の接続不良を検出する試験回路と、
前記試験回路から出力される信号に応答して、前記接続不良となる内部端子を含む複数の内部端子を他の内部端子又は前記冗長端子にそれぞれ切り替える端子切替回路と
を備えることを特徴とする半導体装置。
(付記4) 前記端子切替回路は、
前記試験回路から出力される信号を保持して出力する判定保持回路と、
前記判定保持回路の出力信号に基づいて、2つの内部端子のうち何れか一方、或いは、内部端子と冗長端子のうち何れか一方に接続位置を切り替える切替スイッチと
を備えることを特徴とする付記3記載の半導体装置。
(付記5) 前記判定保持回路はヒューズを含み、前記試験回路により前記接続不良となる内部端子が検出される場合に前記ヒューズを切断して出力を一定にすることを特徴とする付記4記載の半導体装置。
(付記6) 2以上の半導体チップから構成され、各半導体チップが各々の内部端子を介して接続線で接続される半導体装置において、
前記各半導体チップは、
それぞれ同数の1又は複数の冗長端子と、
前記各半導体チップ間の接続不良を検出する試験回路と、
前記試験回路から出力される信号に応答して、前記接続不良となる内部端子を前記冗長端子に切り替える端子切替回路と
を備えることを特徴とする半導体装置。
(付記7) 前記端子切替回路は、
前記試験回路から出力される信号に応答して、前記接続不良となる内部端子を前記冗長端子に切り替えるための信号を生成する判定回路と、
前記試験回路及び前記判定回路の出力信号に基づいて、内部端子と冗長端子のうち何れか一方に接続位置を切り替える切替スイッチと
を備えることを特徴とする付記6記載の半導体装置。
(付記8) 付記3乃至7の何れか一記載の構成を備えたことを特徴とする付記1又は2記載の半導体装置。
(付記9) 付記1乃至8の何れか一記載の半導体装置が実装された半導体パッケージ。
(付記10) 2以上の半導体チップから構成され、各半導体チップが各々の内部端子を介して接続線で接続される半導体装置の試験方法であって、
前記各半導体チップ間を接続する接続線をそれぞれ直列に接続すると共に、該直列に接続したときの両端に位置する2つの内部端子を、該内部端子を含む半導体チップの外部端子と接続し、該外部端子を用いて導通試験を行うことを特徴とする半導体装置の試験方法。
(付記11) 前記各半導体チップが内蔵する試験回路により前記各半導体チップ間の接続不良を検出し、該接続不良となる内部端子を含む複数の内部端子を他の内部端子又は冗長端子にそれぞれ切り替えるようにしたことを特徴とする付記10記載の半導体装置の試験方法。
(付記12) 前記各半導体チップが内蔵する試験回路により前記各半導体チップ間の接続不良を検出し、該接続不良となる内部端子を冗長端子に切り替えるようにしたことを特徴とする付記10記載の半導体装置の試験方法。
【0066】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、MCPの試験精度を向上させることのできる半導体装置、半導体パッケージ及び半導体装置の試験方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】スタック型MCPの概略構造図である。
【図2】接続不良を検出するための構成を示す概略図である。
【図3】第一実施形態の冗長救済のための回路構成を示す概略図である。
【図4】判定保持回路の回路図である。
【図5】別の判定保持回路の回路図である。
【図6】第二実施形態の冗長救済のための回路構成を示す概略図である。
【符号の説明】
13,14 半導体チップ
13a,14a,23〜25,28〜30,41〜44,46〜49,91〜93,95〜97 内部端子
13b,14b,21,22,26,27 外部端子
15 接続線としてのワイヤ
31〜34 スイッチ素子としてのNチャネルMOSトランジスタ
45,50,94,98 冗長端子
64 試験回路としてのBIST回路
51,52,101,102 端子切替回路
Claims (10)
- 2以上の半導体チップから構成され、各半導体チップが各々の内部端子を介して接続線で接続される半導体装置において、
前記各半導体チップ間を接続する接続線がそれぞれ直列に接続されるように前記各半導体チップ内の内部端子間をスイッチ素子を介して接続し、該直列に接続したときの両端に位置する2つの内部端子を、該内部端子を含む半導体チップの外部端子とスイッチ素子を介して接続したことを特徴とする半導体装置。 - 前記内部端子間を接続するスイッチ素子及び前記内部端子と前記外部端子との間を接続するスイッチ素子のオン/オフ制御を半導体チップの外部端子を用いて行うことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 2以上の半導体チップから構成され、各半導体チップが各々の内部端子を介して接続線で接続される半導体装置において、
前記各半導体チップは、
それぞれ同数の1又は複数の冗長端子と、
前記各半導体チップ間の接続不良を検出する試験回路と、
前記試験回路から出力される信号に応答して、前記接続不良となる内部端子を含む複数の内部端子を他の内部端子又は前記冗長端子にそれぞれ切り替える端子切替回路と
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記端子切替回路は、
前記試験回路から出力される信号を保持して出力する判定保持回路と、
前記判定保持回路の出力信号に基づいて、2つの内部端子のうち何れか一方、或いは、内部端子と冗長端子のうち何れか一方に接続位置を切り替える切替スイッチと
を備えることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。 - 前記判定保持回路はヒューズを含み、前記試験回路により前記接続不良となる内部端子が検出される場合に前記ヒューズを切断して出力を一定にすることを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
- 2以上の半導体チップから構成され、各半導体チップが各々の内部端子を介して接続線で接続される半導体装置において、
前記各半導体チップは、
それぞれ同数の1又は複数の冗長端子と、
前記各半導体チップ間の接続不良を検出する試験回路と、
前記試験回路から出力される信号に応答して、前記接続不良となる内部端子を前記冗長端子に切り替える端子切替回路と
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記端子切替回路は、
前記試験回路から出力される信号に応答して、前記接続不良となる内部端子を前記冗長端子に切り替えるための信号を生成する判定回路と、
前記試験回路及び前記判定回路の出力信号に基づいて、内部端子と冗長端子のうち何れか一方に接続位置を切り替える切替スイッチと
を備えることを特徴とする請求項6記載の半導体装置。 - 請求項3乃至7の何れか一項記載の構成を備えたことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体装置。
- 請求項1乃至8の何れか一項記載の半導体装置が実装された半導体パッケージ。
- 2以上の半導体チップから構成され、各半導体チップが各々の内部端子を介して接続線で接続される半導体装置の試験方法であって、
前記各半導体チップ間を接続する接続線をそれぞれ直列に接続すると共に、該直列に接続したときの両端に位置する2つの内部端子を、該内部端子を含む半導体チップの外部端子と接続し、該外部端子を用いて導通試験を行うことを特徴とする半導体装置の試験方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002187994A JP2004028885A (ja) | 2002-06-27 | 2002-06-27 | 半導体装置、半導体パッケージ及び半導体装置の試験方法 |
TW092101272A TW586209B (en) | 2002-06-27 | 2003-01-21 | Semiconductor device, semiconductor package, and method for testing semiconductor device |
US10/347,868 US6909172B2 (en) | 2002-06-27 | 2003-01-22 | Semiconductor device with conduction test terminals |
KR1020030011581A KR100877167B1 (ko) | 2002-06-27 | 2003-02-25 | 반도체 장치, 반도체 패키지 및 반도체 장치의 시험 방법 |
CNB031067220A CN1296998C (zh) | 2002-06-27 | 2003-02-27 | 半导体器件、半导体封装以及用于测试半导体器件的方法 |
CN2006100058417A CN100407423C (zh) | 2002-06-27 | 2003-02-27 | 半导体器件以及半导体封装 |
US11/124,262 US8080873B2 (en) | 2002-06-27 | 2005-05-09 | Semiconductor device, semiconductor package, and method for testing semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002187994A JP2004028885A (ja) | 2002-06-27 | 2002-06-27 | 半導体装置、半導体パッケージ及び半導体装置の試験方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004028885A true JP2004028885A (ja) | 2004-01-29 |
Family
ID=29774208
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002187994A Pending JP2004028885A (ja) | 2002-06-27 | 2002-06-27 | 半導体装置、半導体パッケージ及び半導体装置の試験方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6909172B2 (ja) |
JP (1) | JP2004028885A (ja) |
KR (1) | KR100877167B1 (ja) |
CN (2) | CN100407423C (ja) |
TW (1) | TW586209B (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4366472B2 (ja) * | 2003-11-19 | 2009-11-18 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置 |
KR100647473B1 (ko) | 2005-11-16 | 2006-11-23 | 삼성전자주식회사 | 멀티 칩 패키지 반도체 장치 및 불량 검출방법 |
KR100720644B1 (ko) | 2005-11-17 | 2007-05-21 | 삼성전자주식회사 | 메모리 장치 및 메모리 그 동작 방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2002
- 2002-06-27 JP JP2002187994A patent/JP2004028885A/ja active Pending
-
2003
- 2003-01-21 TW TW092101272A patent/TW586209B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-01-22 US US10/347,868 patent/US6909172B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-25 KR KR1020030011581A patent/KR100877167B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-02-27 CN CN2006100058417A patent/CN100407423C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-27 CN CNB031067220A patent/CN1296998C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-05-09 US US11/124,262 patent/US8080873B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN100407423C (zh) | 2008-07-30 |
KR20040002441A (ko) | 2004-01-07 |
CN1296998C (zh) | 2007-01-24 |
CN1819192A (zh) | 2006-08-16 |
US8080873B2 (en) | 2011-12-20 |
CN1467836A (zh) | 2004-01-14 |
KR100877167B1 (ko) | 2009-01-07 |
TW200400610A (en) | 2004-01-01 |
US20050200005A1 (en) | 2005-09-15 |
US20040000706A1 (en) | 2004-01-01 |
TW586209B (en) | 2004-05-01 |
US6909172B2 (en) | 2005-06-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050516 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070501 |