JP2003171332A - Method for producing bisbenzyl compound - Google Patents
Method for producing bisbenzyl compoundInfo
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- JP2003171332A JP2003171332A JP2001365438A JP2001365438A JP2003171332A JP 2003171332 A JP2003171332 A JP 2003171332A JP 2001365438 A JP2001365438 A JP 2001365438A JP 2001365438 A JP2001365438 A JP 2001365438A JP 2003171332 A JP2003171332 A JP 2003171332A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ビスベンジル化合
物の製造法に関する。ビスベンジル化合物は、電子材
料、機能性高分子モノマーなどの重要な中間体である。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a bisbenzyl compound. Bisbenzyl compounds are important intermediates for electronic materials and functional polymer monomers.
【0002】[0002]
【従来の技術】ビス(フェニルアセチル)ベンゼン化合
物を原料とするビスベンジル化合物の製法は公知であ
る。米国特許(US4082806)によれば、ビスベ
ンジル化合物の合成は、ビス(フェニルアセチル)ベン
ゼン化合物をハロゲン化第二銅の存在下ないしハロゲン
化第二銅と臭化水素の存在下、ジメチルスルホキシド溶
媒中でおこなわれる。また、J.Org.Chem.U
SSR.,22p753(1989)によれば、ハロゲ
ン化第二銅を用いることなく、臭化水素の存在下ジメチ
ルスルホキシドでビスベンジルが合成される。生成した
ビスベンジル化合物は反応液を大量の水に添加し、析出
したビスベンジル化合物をろ別し、さらにアルコール系
の溶媒を用いて再結晶により精製される。ビスベンジル
類のアルコール類への溶解度は低く、固体濃度は5%程
度である。2. Description of the Related Art A method for producing a bisbenzyl compound starting from a bis (phenylacetyl) benzene compound is known. According to US Pat. No. 4,082,806, the synthesis of bisbenzyl compounds is carried out by bis (phenylacetyl) benzene compounds in the presence of cupric halide or in the presence of cupric halide and hydrogen bromide in a dimethylsulfoxide solvent. It is carried out. Also, J. Org. Chem. U
SSR. , 22p753 (1989), bisbenzyl is synthesized with dimethyl sulfoxide in the presence of hydrogen bromide without using cupric halide. The produced bisbenzyl compound is purified by adding the reaction solution to a large amount of water, filtering the precipitated bisbenzyl compound, and recrystallizing it using an alcohol solvent. The solubility of bisbenzyls in alcohols is low, and the solid concentration is about 5%.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる状況
に鑑みてなされたものであり、ビスベンジル化合物製造
の工業化の際に生じる問題点に関する解決策を提供する
ことを課題の一つとする。すなわち米国特許及びロシア
文献記載の方法では、工業化の際に次の問題点がある。
すなわち、既知の方法では高沸点のジメチルスルホキシ
ドを溶媒として高希釈条件で長時間反応させることが必
要であり、単離精製の煩雑さ、生産性の低さなどがを改
善することを課題の一つとする。また、反応中副生する
悪臭物質のジメチルスルフィドの悪臭対策を課題の一つ
とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a solution to a problem that occurs during industrialization of the production of bisbenzyl compounds. That is, the methods described in US patents and Russian documents have the following problems in industrialization.
That is, in the known method, it is necessary to react with a high boiling point dimethyl sulfoxide as a solvent under a high dilution condition for a long time, and it is an object to improve the complexity of isolation and purification, the low productivity and the like. Let's do it. In addition, one of the challenges is to control the malodor of dimethyl sulfide, which is a malodorous substance produced as a byproduct during the reaction.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者はビス(フェニ
ルアセチル)ベンゼン化合物を酸および有機溶媒の存在
下、スルホキシド化合物およびハロゲン化物で反応させ
ることにより上記目的を達成しうることを見出し本発明
を完成するに至った。また、その時発生するスルフィド
化合物は酸化によりスルホキシドに戻し、回収すること
ができることを発見し、本発明を完成した。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have found that the above object can be achieved by reacting a bis (phenylacetyl) benzene compound with a sulfoxide compound and a halide in the presence of an acid and an organic solvent. Has been completed. Further, they have found that the sulfide compound generated at that time can be returned to sulfoxide by oxidation and recovered, and thus completed the present invention.
【0005】すなわち、本発明は例えば以下の発明に関
する。That is, the present invention relates to the following inventions, for example.
【0006】[1] 式(1)[1] Formula (1)
【化3】
(式中、R1〜R4はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン
原子、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のア
ルキル基、単環のアリール基、アルキル基が炭素数1〜
4のアルキル基であるジアルキルアミノ基、ニトロ基を
示し、R5〜R14はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン
原子、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のア
ルキル基、単環のアリール基、アルキル基が炭素数1〜
4アルキル基であるジアルキルアミノ基、ニトロ基を示
す。)で表されるビス(フェニルアセチル)ベンゼン化
合物を有機溶媒の存在下、スルホキシド化合物およびハ
ロゲン化水素で反応させることを特徴とする、式(2)[Chemical 3] (In the formula, R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a monocyclic aryl group, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
4 alkyl group and a dialkylamino group, a nitro group, R 5 to R 14 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, mono- Aryl group and alkyl group of 1 to 1 carbon atoms
4 represents a dialkylamino group or a nitro group, which are alkyl groups. ), A bis (phenylacetyl) benzene compound represented by the formula (2) is reacted with a sulfoxide compound and hydrogen halide in the presence of an organic solvent.
【化4】
(式中、R1〜R14は前記と同じであり、置換基の位置
関係は式(1)に対応する。)で示されるビスベンジル
化合物の製造方法。[Chemical 4] (In the formula, R 1 to R 14 are the same as above, and the positional relationship of the substituents corresponds to the formula (1).) The method for producing a bisbenzyl compound represented by the formula.
【0007】[2] R1〜R14が、それぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子であることを特徴とする[1]に
記載のビスベンジル化合物の製造方法。[2] The method for producing a bisbenzyl compound according to [1], wherein R 1 to R 14 are each independently a hydrogen atom or a halogen atom.
【0008】[3] ビス(フェニルアセチル)ベンゼ
ン化合物が1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼン
であり、ビスベンジル化合物が対応する1,4−ビスベ
ンジルであることを特徴とする[1]1に記載のビスベ
ンジル化合物の製造方法。[3] The bis (phenylacetyl) benzene compound is 1,4-bis (phenylacetyl) benzene and the bisbenzyl compound is the corresponding 1,4-bisbenzyl. [1] 1. And a method for producing the bisbenzyl compound.
【0009】[4] 有機溶媒が脂肪族カルボン酸であ
ることを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載の
ビスベンジル化合物の製造方法。[4] The method for producing a bisbenzyl compound according to any one of [1] to [3], wherein the organic solvent is an aliphatic carboxylic acid.
【0010】[5] スルホキシド化合物がアルキル基
が炭素数1〜4のジアルキルスルホキシド化合物または
/およびテトラメチレンスルフォキシドであることを特
徴とする[1]〜[4]のいずれかに記載のビスベンジ
ル化合物の製造方法。[5] The bisbenzyl according to any one of [1] to [4], wherein the sulfoxide compound is a dialkyl sulfoxide compound having an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms and / or tetramethylene sulfoxide. Method for producing compound.
【0011】[6] ハロゲン化水素が臭化水素および
/またはヨウ化水素であることを特徴とする[1]〜
[5]のいずれかに記載のビスベンジル化合物の製造方
法。[6] The hydrogen halide is hydrogen bromide and / or hydrogen iodide [1] to
The method for producing the bisbenzyl compound according to any one of [5].
【0012】[7] 有機溶媒が酢酸であることを特徴
とする[1]〜[6]のいずれかに記載のビスベンジル
化合物の製造方法。[7] The method for producing a bisbenzyl compound according to any one of [1] to [6], wherein the organic solvent is acetic acid.
【0013】[8] スルホキシド化合物がジメチルス
ルホキシドであることを特徴とする[1]〜[7]のい
ずれかに記載のビスベンジル化合物の製造方法。[8] The method for producing a bisbenzyl compound according to any one of [1] to [7], wherein the sulfoxide compound is dimethyl sulfoxide.
【0014】[9] 反応で生成するジメチルスルフィ
ドを酸化処理して、ジメチルスルホキシドとし、再利用
することを特徴とする[8]に記載のビスベンジル化合
物の製造方法。[9] The method for producing a bisbenzyl compound according to [8], wherein the dimethyl sulfide produced in the reaction is oxidized to form dimethyl sulfoxide and reused.
【0015】[10] 反応で生成するジメチルスルフ
ィドを留出させ、酸素酸化処理し、ジメチルスルホキシ
ドとし、再利用することを特徴とする[9]に記載のビ
スベンジル化合物の製造方法。[10] The method for producing a bisbenzyl compound according to [9], characterized in that dimethyl sulfide produced in the reaction is distilled off, treated with oxygen to obtain dimethyl sulfoxide, and reused.
【0016】[0016]
【発明の実施形態】以下、本発明を詳細に説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.
The present invention is not limited to this.
【0017】本発明における反応方法は、有機溶媒中ビ
ス(フェニルアセチル)ベンゼン化合物とハロゲン化水
素、スルホキシド化合物を混合し所定の温度で、所定の
時間まで攪拌することにより行われる。攪拌終了後、生
成したビスベンジル化合物を取得する。The reaction method in the present invention is carried out by mixing a bis (phenylacetyl) benzene compound with a hydrogen halide or sulfoxide compound in an organic solvent and stirring the mixture at a predetermined temperature for a predetermined time. After completion of stirring, the produced bisbenzyl compound is obtained.
【0018】反応原材料の仕込みおよび反応は大気圧下
で行うことができる。反応器としては、ガラス容器が適
する。The charging of the reaction raw materials and the reaction can be carried out under atmospheric pressure. A glass container is suitable as the reactor.
【0019】本発明の反応の反応機構は明確になってい
る訳ではないが、実験結果および、既知文献(J.Or
g.Chem.,40p1990(1975)、J.O
rg.Chem.,50p5022(1985))か
ら、下記に示す様に進行するものと推定される。Although the reaction mechanism of the reaction of the present invention has not been clarified, experimental results and known literature (J. Or.
g. Chem. , 40p1990 (1975), J.O.
rg. Chem. , 50p5022 (1985)), it is estimated that the process proceeds as shown below.
【0020】以下有機溶媒中、ハロゲン化水素として臭
化水素、スルホキシド化合物としてジメチルスルホキシ
ド存在下での1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼ
ンから1,4−ビスベンジル(式(2)中、R1、R2、
R3、R4、R5、R6が全て水素であり、置換基の位置が
パラ位である化合物をいう。)の反応を例にとり説明す
る。From 1,4-bis (phenylacetyl) benzene to 1,4-bisbenzyl in the presence of hydrogen bromide as a hydrogen halide and dimethylsulfoxide as a sulfoxide compound in an organic solvent (in the formula (2), R 1 , R 2 ,
R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 are all hydrogen and refer to a compound in which the position of the substituent is the para position. ) Will be described as an example.
【0021】初めにジメチルスルホキシドと臭化水素の
間で酸化還元反応がおこる。ジメチルスルホキシドはジ
メチルスルフィドに還元され、臭化水素は臭素に酸化さ
れる(式(3))。
2HBr + Me2SO ――→ Br2+ Me2S + H2O (3)First, a redox reaction occurs between dimethyl sulfoxide and hydrogen bromide. Dimethyl sulfoxide is reduced to dimethyl sulfide and hydrogen bromide is oxidized to bromine (equation (3)). 2HBr + Me 2 SO-→ Br 2 + Me 2 S + H 2 O (3)
【0022】臭素はビス(フェニルアセチル)ベンゼン
と反応し、α−ジブロモ体となる(式(4))。ここで
は説明を単純にし反応の本質を明示するために便宜的に
ジブロモ体が生成するとして説明する。Bromine reacts with bis (phenylacetyl) benzene to form an α-dibromo compound (formula (4)). Here, in order to simplify the explanation and to clarify the essence of the reaction, it is assumed that a dibromo compound is generated for convenience.
【化5】
このとき臭化水素が遊離し、臭化水素は再びジメチルス
ルホキシドにより酸化され臭素となる。[Chemical 5] At this time, hydrogen bromide is released, and the hydrogen bromide is again oxidized by dimethyl sulfoxide to be bromine.
【0023】α−ジブロモ体はジメチルスルホキシドと
反応し、1,4−ビスベンジルとなる(式(5))。こ
れは一般的なα−ハロケトンのジメチルスルホキシド酸
化と同様の反応機構と推定される。The α-dibromo compound reacts with dimethyl sulfoxide to give 1,4-bisbenzyl (formula (5)). It is presumed that this is a reaction mechanism similar to the general dimethyl sulfoxide oxidation of α-haloketones.
【化6】
このときジメチルスルホキシドと臭化水素が遊離する。
臭化水素は再びジメチルスルホキシドにより酸化され臭
素となる。[Chemical 6] At this time, dimethyl sulfoxide and hydrogen bromide are released.
Hydrogen bromide is again oxidized to bromine by dimethyl sulfoxide.
【0024】従って、反応に従い、ジメチルスルフィド
が生成し、臭化水素は触媒的に働くと考えられる。Therefore, it is considered that dimethyl sulfide is produced in accordance with the reaction and hydrogen bromide acts catalytically.
【0025】本発明の実際の操作について、説明する。The actual operation of the present invention will be described.
【0026】反応温度は40℃〜180℃、好ましくは
60〜120℃である。反応時間としては、0.5〜2
0時間が好ましい。The reaction temperature is 40 ° C to 180 ° C, preferably 60 to 120 ° C. The reaction time is 0.5 to 2
0 hours is preferred.
【0027】本発明の反応においては有機溶媒を用い
る。用いることができる有機溶媒としては、反応中に発
生する臭素やヨウ素などのハロゲン分子に不活性な溶媒
である。酢酸、プロピオン酸などの脂肪族カルボン酸
類、ホルムアミド、ジメチルホルムアミドなどの極性ア
ミド系、スルホランなどの含スルホラン類、1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリジオンなどのイミダゾリドン
類、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ジグライ
ムなどのエーテル類、などが用いられる。このうち、脂
肪族低級カルボン酸が好適であり、酢酸が特に適する。
これらの有機溶媒は単独で用いてもよいし、混合して使
用してもよい。溶媒はビス(フェニルアセチル)ベンゼ
ンに対して、2〜20質量倍用い、好適には4〜8質量
倍である。An organic solvent is used in the reaction of the present invention. The organic solvent that can be used is a solvent inert to halogen molecules such as bromine and iodine generated during the reaction. Acetic acid, aliphatic carboxylic acids such as propionic acid, polar amides such as formamide and dimethylformamide, sulfolane-containing sulfolanes, imidazolidones such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidione, dioxane, 1,2- Ethers such as dimethoxyethane and diglyme are used. Of these, aliphatic lower carboxylic acids are preferred, and acetic acid is particularly suitable.
These organic solvents may be used alone or as a mixture. The solvent is used in an amount of 2 to 20 times by mass, preferably 4 to 8 times by mass that of bis (phenylacetyl) benzene.
【0028】本発明の反応ではハロゲン化水素が必要で
ある。ハロゲン化水素として、臭化水素、ヨウ化水素が
好適に用いられる。ビス(フェニルアセチル)ベンゼン
化合物に対してハロゲン化水素は0.1〜2.0倍モル
量使用され、好適には0.5〜1.5倍モル量である。
ハロゲン化水素は、水溶液、ガス、溶液など何れの形態
でも使用可能である。反応仕込み時に一括添加してもよ
いし、必要量滴下してもよい。Hydrogen halide is required in the reaction of the present invention. Hydrogen bromide and hydrogen iodide are preferably used as the hydrogen halide. The hydrogen halide is used in an amount of 0.1 to 2.0 times, and preferably 0.5 to 1.5 times the molar amount of the bis (phenylacetyl) benzene compound.
The hydrogen halide can be used in any form such as an aqueous solution, gas or solution. It may be added all at once when the reaction is charged, or may be added dropwise in the required amount.
【0029】本発明の反応ではスルホキシド化合物が必
要である。ジメチルスルホキシドなどの脂肪族スルホキ
シド化合物、ジフェニルスルホキシドなどの芳香族スル
ホキシド化合物が用いられ、アルキル基が炭素数1〜4
のジアルキルスルフホキシドまたは環状構造を有するテ
トラメチレンスルフォキシドが好ましく、ジメチルスル
ホキシドが特に好ましい。スルホキシド化合物はビス
(フェニルアセチル)ベンゼン化合物に対して4〜20
倍モル量用いられ、好適には6〜10倍モル量である。The reaction of the present invention requires a sulfoxide compound. Aliphatic sulfoxide compounds such as dimethyl sulfoxide and aromatic sulfoxide compounds such as diphenyl sulfoxide are used, and the alkyl group has 1 to 4 carbon atoms.
Of dialkyl sulfoxide or tetramethylene sulfoxide having a cyclic structure is preferable, and dimethyl sulfoxide is particularly preferable. The sulfoxide compound is 4 to 20 relative to the bis (phenylacetyl) benzene compound.
It is used in a double molar amount, preferably a 6 to 10-fold molar amount.
【0030】スルホキシド化合物としてジメチルスルホ
キシドを用いると、反応の進行につれてジメチルスルフ
ィドが生成する。ジメチルスルフィドを留出させること
なく反応をおこなうことはできるが、反応速度が留出さ
せる場合に比べ遅いので、ジメチルスルフィドを留出さ
せながら反応させることが望ましい。反応器から留出さ
せたジメチルスルフィドは回収することができ、ジメチ
ルスルフィドを過酸化水素などの酸化剤でジメチルスル
ホキシドに酸化し、ジメチルスルホキシドは再度反応に
用いることができる。When dimethyl sulfoxide is used as the sulfoxide compound, dimethyl sulfide is produced as the reaction progresses. Although the reaction can be carried out without distilling dimethyl sulfide, the reaction rate is slower than in the case of distilling dimethyl sulfide, so it is desirable to carry out the reaction while distilling dimethyl sulfide. Dimethyl sulfide distilled from the reactor can be recovered, dimethyl sulfide can be oxidized to dimethyl sulfoxide with an oxidizing agent such as hydrogen peroxide, and the dimethyl sulfoxide can be used again in the reaction.
【0031】生成物の単離精製について述べる。酢酸溶
媒中、臭化水素、スルホキシド、ジメチルスルホキシド
存在下での1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼン
から1,4−ビスベンジルの反応を例にとり説明する。
反応終了後、概ね70℃以上の加熱下では溶液は均一で
ある。1,4−ビスベンジルの濃度が5%程度になるよ
うに酢酸を添加し、序冷すると1,4−ビスベンジル結
晶が析出する。1,4−ビスベンジルをろ過し水洗し単
離する。この方法は簡便であるが母液中へのロスが多
い。回収率をあげるためには、反応液を90〜100℃
に保ち水を仕込みの酢酸と同重量を序々に加え1,4−
ビスベンジルを析出させる。水を添加後序冷すると1,
4−ビスベンジルはほぼ全量析出する。1,4−ビスベ
ンジルをろ過、水洗、乾燥して得る。こうして得られた
1,4−ビスベンジルは、電子材料、機能性高分子モノ
マーの原料として十分な純度を有する。The isolation and purification of the product will be described. The reaction of 1,4-bis (phenylacetyl) benzene with 1,4-bisbenzyl in the presence of hydrogen bromide, sulfoxide or dimethyl sulfoxide in an acetic acid solvent will be described as an example.
After completion of the reaction, the solution is uniform under heating at about 70 ° C. or higher. When acetic acid is added so that the concentration of 1,4-bisbenzyl is about 5% and the mixture is cooled in the order, 1,4-bisbenzyl crystals are precipitated. 1,4-bisbenzyl is filtered, washed with water and isolated. Although this method is simple, there are many losses in the mother liquor. In order to increase the recovery rate, the reaction solution is heated at 90 to 100 ° C.
Keep the same amount of water and add the same weight of acetic acid as it is added to 1,4-
Precipitate bisbenzyl. If you add water and cool it down 1,
Almost all 4-bisbenzyl is precipitated. 1,4-bisbenzyl is obtained by filtration, washing with water and drying. The 1,4-bisbenzyl thus obtained has a sufficient purity as a raw material for electronic materials and functional polymer monomers.
【0032】[0032]
【実施例】以下に実施例を用いてさらに詳しく本発明を
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0033】高速液体クロマトブラフ分析条件(以下同
様)
カラム:関東化学製 RP−18(ODS) フェルド
キャップ処理
溶離液:水/アセトニトリル=35/65(volum
e)
条 件:流量 1.5ml/min UV 265nm
カラムオーブン:40℃High-performance liquid chromatographic bluff analysis conditions (same below) Column: Kanto Kagaku RP-18 (ODS) Feldcap treatment Eluent: Water / acetonitrile = 35/65 (volume)
e) Condition: Flow rate 1.5 ml / min UV 265 nm Column oven: 40 ° C.
【0034】実施例1
1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼン31.4
g、ジメチルスルホキシド62.5g、酢酸157gを
室温で混合後、室温で47%HBr水溶液17.21g
を添加した。内温を95〜105℃に保ちジメチルフル
フィドを留出させつつ3時間反応させた。酢酸157g
を添加し、8時間かけて室温まで冷却した。析出した結
晶をろ過、水洗、乾燥させ1,4−ビスベンジル24.
1g(単離収率70%)を得た。高速液体クロマトグラ
フの分析により得られた1,4−ビスベンジルの純度は
99%以上であった。Example 1 1,4-bis (phenylacetyl) benzene 31.4
g, 62.5 g of dimethyl sulfoxide, and 157 g of acetic acid were mixed at room temperature, and then 17.21 g of 47% HBr aqueous solution was added at room temperature.
Was added. The reaction was carried out for 3 hours while keeping the internal temperature at 95 to 105 ° C. and distilling dimethylflufide. Acetic acid 157g
Was added and cooled to room temperature over 8 hours. The precipitated crystals were filtered, washed with water and dried to give 1,4-bisbenzyl 24.
1 g (isolated yield 70%) was obtained. The purity of 1,4-bisbenzyl obtained by high performance liquid chromatography analysis was 99% or more.
【0035】実施例2
1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼン31.4
g、ジメチルスルホキシド62.5g、酢酸157gを
室温で混合後、室温で47%HBr水溶液17.21g
を添加した。内温を95〜105℃に保ちジメチルフル
フィドを留出させつつ3時間反応させた。水157gを
内温90〜100℃を保ち3時間かけて添加し、8時間
かけて室温まで冷却した。析出した固体をろ過、水洗、
乾燥させ1,4−ビスベンジル33.9g(単離収率9
9%)を得た。高速液体クロマトグラフの分析により得
られた1,4−ビスベンジルの純度は99%以上であっ
た。Example 2 1,4-bis (phenylacetyl) benzene 31.4
g, 62.5 g of dimethyl sulfoxide, and 157 g of acetic acid were mixed at room temperature, and then 17.21 g of 47% HBr aqueous solution was added at room temperature.
Was added. The reaction was carried out for 3 hours while keeping the internal temperature at 95 to 105 ° C. and distilling dimethylflufide. 157 g of water was added over 3 hours while keeping the internal temperature at 90 to 100 ° C., and cooled to room temperature over 8 hours. The precipitated solid is filtered, washed with water,
After being dried, 33.9 g of 1,4-bisbenzyl (isolated yield: 9
9%) was obtained. The purity of 1,4-bisbenzyl obtained by high performance liquid chromatography analysis was 99% or more.
【0036】実施例3
1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼン31.4
g、ジメチルスルホキシド62.5g、酢酸157gを
室温で混合した。室温で30%HBr/酢酸溶液27.
0gを添加した。内温を55〜60℃に保ちジメチルフ
ルフィドを留出させることなく8時間反応させた。反応
溶液を一部サンプリングし、高速液体クロマトグラフで
分析したところ1,4−ビスベンジルの収率は84%で
あった。Example 3 1,4-bis (phenylacetyl) benzene 31.4
g, dimethyl sulfoxide 62.5 g, and acetic acid 157 g were mixed at room temperature. 30% HBr / acetic acid solution at room temperature 27.
0 g was added. The internal temperature was kept at 55 to 60 ° C., and the reaction was carried out for 8 hours without distilling dimethylflufide. When a part of the reaction solution was sampled and analyzed by high performance liquid chromatography, the yield of 1,4-bisbenzyl was 84%.
【0037】実施例4
1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼン31.4
g、ジメチルスルホキシド62.5g、酢酸157gを
室温で混合した。室温で30%HBr/酢酸溶液27.
0gを添加した。内温を95〜105℃に保ちジメチル
フルフィドを留出させつつ3時間反応させた。反応溶液
を一部サンプリングし、高速液体クロマトグラフで分析
したところ1,4−ビスベンジルの収率は101%(定
量誤差)であった。Example 4 1,4-bis (phenylacetyl) benzene 31.4
g, dimethyl sulfoxide 62.5 g, and acetic acid 157 g were mixed at room temperature. 30% HBr / acetic acid solution at room temperature 27.
0 g was added. The reaction was carried out for 3 hours while keeping the internal temperature at 95 to 105 ° C. and distilling dimethylflufide. When a part of the reaction solution was sampled and analyzed by high performance liquid chromatography, the yield of 1,4-bisbenzyl was 101% (quantification error).
【0038】実施例5
1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼン31.4
g、ジメチルスルホキシド62.5g、酢酸157gを
室温で混合した。室温から50℃以下でHBrガス8.
3gを導入した。HBrガス導入後、内温を95〜10
5℃に保ちジメチルフルフィドを留出させつつ3時間反
応させた。反応溶液を一部サンプリングし、高速液体ク
ロマトグラフで分析したところ1,4−ビスベンジルの
収率は99%であった。Example 5 1,4-bis (phenylacetyl) benzene 31.4
g, dimethyl sulfoxide 62.5 g, and acetic acid 157 g were mixed at room temperature. HBr gas at room temperature to 50 ° C. or lower 8.
3 g was introduced. After introducing HBr gas, the internal temperature is adjusted to 95 to 10
The reaction was carried out for 3 hours while keeping the temperature at 5 ° C. and distilling dimethylflufide. When a part of the reaction solution was sampled and analyzed by high performance liquid chromatography, the yield of 1,4-bisbenzyl was 99%.
【0039】実施例6(大スケールの製造)
1m3ガラス製反応釜に室温にて、1,4−ビス(フェ
ニルアセチル)ベンゼン80kg、ジメチルスルホキシ
ド160kg、酢酸400kgを室温で混合後、室温で
47%HBr水溶液44kgを添加した。内温を95〜
105℃に保ちジメチルフルフィドを留出させつつ6時
間反応させた。水400kgを内温90〜100℃を保
ち6時間かけて添加し、12時間かけて室温まで冷却し
た。析出した固体を遠心分離機で脱液し、水200k
g、メタノール200kgで洗浄した。減圧乾燥させ
て、1,4−ビスベンジル84kg(純度98%、収率
96%)で得た。Example 6 (manufacturing on a large scale) 80 g of 1,4-bis (phenylacetyl) benzene, 160 kg of dimethyl sulfoxide and 400 kg of acetic acid were mixed at room temperature in a 1 m 3 glass reaction kettle at room temperature and then 47 at room temperature. 44 kg of a% HBr aqueous solution was added. Inner temperature is 95 ~
The reaction was carried out for 6 hours while keeping the temperature at 105 ° C. and distilling dimethylflufide. 400 kg of water was added over 6 hours while maintaining the internal temperature at 90 to 100 ° C., and cooled to room temperature over 12 hours. The deposited solid is deliquored with a centrifuge and water 200 k
g, and washed with 200 kg of methanol. It was dried under reduced pressure to obtain 84 kg of 1,4-bisbenzyl (purity 98%, yield 96%).
【0040】実施例7(ジメチルスルフィドの回収再利
用)
1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼン31.4
g、ジメチルスルホキシド62.5g、酢酸157gを
室温で混合後、室温で47%HBr水溶液17.21g
を添加した。内温を95〜105℃に保ちジメチルフル
フィドを留出させつつ4時間反応させた。1,4−ビス
ベンジルの単離は実施例2にならい33.5g(収率9
8%)を得た。Example 7 (Recovery and reuse of dimethyl sulfide) 1,4-bis (phenylacetyl) benzene 31.4
g, 62.5 g of dimethyl sulfoxide, and 157 g of acetic acid were mixed at room temperature, and then 17.21 g of 47% HBr aqueous solution was added at room temperature.
Was added. The reaction was carried out for 4 hours while keeping the internal temperature at 95 to 105 ° C and distilling dimethylflufide. Isolation of 1,4-bisbenzyl was carried out according to Example 2 and 33.5 g (yield 9
8%).
【0041】反応により生成したジメチルスルフィドは
48g回収した(理論量49.7g)。氷冷下30%過
酸化水素100gにジメチルスルフィド48gを内温が
40℃を越えないように滴下した。5%亜硫酸水素ナト
リウム水溶液をヨウ素デンプン試験紙が呈色しなくなる
まで添加する。減圧下水を留去し、さらに減圧下精留
(理論段数5:83℃/17mmHg)してジメチルス
ルホキシドを45g得た(回収率75%)。48 g of dimethyl sulfide produced by the reaction was recovered (theoretical amount: 49.7 g). 48 g of dimethyl sulfide was added dropwise to 100 g of 30% hydrogen peroxide under ice cooling so that the internal temperature did not exceed 40 ° C. A 5% aqueous solution of sodium bisulfite is added until the iodine starch test paper no longer develops color. The water was distilled off under reduced pressure, and further rectification under reduced pressure (theoretical plate number 5: 83 ° C./17 mmHg) to obtain 45 g of dimethyl sulfoxide (recovery rate 75%).
【0042】1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼ
ン22.6g、ジメチルスルホキシド45g、酢酸11
0gを室温で混合後、室温で47%HBr水溶液12.
4を添加した。内温を95〜105℃に保ちジメチルフ
ルフィドを留出させつつ4時間反応させた。反応溶液を
一部サンプリングし、高速液体クロマトグラフで分析し
たところ1,4−ビスベンジルの収率は99%であっ
た。2,4-bis (phenylacetyl) benzene 22.6 g, dimethyl sulfoxide 45 g, acetic acid 11
After mixing 0 g at room temperature, 47% HBr aqueous solution at room temperature 12.
4 was added. The reaction was carried out for 4 hours while keeping the internal temperature at 95 to 105 ° C and distilling dimethylflufide. When a part of the reaction solution was sampled and analyzed by high performance liquid chromatography, the yield of 1,4-bisbenzyl was 99%.
【0043】[0043]
【発明の効果】本発明により、電子材料、機能性高分子
モノマーなどの重要な中間体であるビスベンジル化合物
を簡便かつ高純度で製造できる。EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, a bisbenzyl compound, which is an important intermediate for electronic materials, functional polymer monomers, etc., can be simply and highly purified.
Claims (10)
原子、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のア
ルキル基、単環のアリール基、アルキル基が炭素数1〜
4のアルキル基であるジアルキルアミノ基、ニトロ基を
示し、R5〜R14はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン
原子、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のア
ルキル基、単環のアリール基、アルキル基が炭素数1〜
4アルキル基であるジアルキルアミノ基、ニトロ基を示
す。)で表されるビス(フェニルアセチル)ベンゼン化
合物を有機溶媒の存在下、スルホキシド化合物およびハ
ロゲン化水素で反応させることを特徴とする、式(2) 【化2】 (式中、R1〜R14は前記と同じであり、置換基の位置
関係は式(1)に対応する。)で示されるビスベンジル
化合物の製造方法。1. Formula (1): (In the formula, R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a monocyclic aryl group, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
4 alkyl group and a dialkylamino group, a nitro group, R 5 to R 14 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, mono- Aryl group and alkyl group of 1 to 1 carbon atoms
4 represents a dialkylamino group or a nitro group, which are alkyl groups. ) A bis (phenylacetyl) benzene compound represented by the formula (2) is reacted with a sulfoxide compound and hydrogen halide in the presence of an organic solvent. (In the formula, R 1 to R 14 are the same as above, and the positional relationship of the substituents corresponds to the formula (1).) The method for producing a bisbenzyl compound represented by the formula.
子、ハロゲン原子であることを特徴とする請求項1に記
載のビスベンジル化合物の製造方法。2. The method for producing a bisbenzyl compound according to claim 1, wherein R 1 to R 14 are each independently a hydrogen atom or a halogen atom.
物が1,4−ビス(フェニルアセチル)ベンゼンであ
り、ビスベンジル化合物が対応する1,4−ビスベンジ
ルであることを特徴とする請求項1に記載のビスベンジ
ル化合物の製造方法。3. The bisbenzyl according to claim 1, wherein the bis (phenylacetyl) benzene compound is 1,4-bis (phenylacetyl) benzene and the bisbenzyl compound is the corresponding 1,4-bisbenzyl. Method for producing compound.
を特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のビスベン
ジル化合物の製造方法。4. The method for producing a bisbenzyl compound according to claim 1, wherein the organic solvent is an aliphatic carboxylic acid.
数1〜4のジアルキルスルホキシド化合物または/およ
びテトラメチレンスルフォキシドであることを特徴とす
る請求項1〜4のいずれかに記載のビスベンジル化合物
の製造方法。5. The production of the bisbenzyl compound according to claim 1, wherein the sulfoxide compound is a dialkyl sulfoxide compound having an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms and / or tetramethylene sulfoxide. Method.
はヨウ化水素であることを特徴とする請求項1〜5のい
ずれかに記載のビスベンジル化合物の製造方法。6. The method for producing a bisbenzyl compound according to claim 1, wherein the hydrogen halide is hydrogen bromide and / or hydrogen iodide.
請求項1〜6のいずれかに記載のビスベンジル化合物の
製造方法。7. The method for producing a bisbenzyl compound according to claim 1, wherein the organic solvent is acetic acid.
シドであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに
記載のビスベンジル化合物の製造方法。8. The method for producing a bisbenzyl compound according to claim 1, wherein the sulfoxide compound is dimethyl sulfoxide.
化処理して、ジメチルスルホキシドとし、再利用するこ
とを特徴とする請求項8に記載のビスベンジル化合物の
製造方法。9. The method for producing a bisbenzyl compound according to claim 8, wherein the dimethyl sulfide produced in the reaction is oxidized to form dimethyl sulfoxide and reused.
留出させ、酸素酸化処理し、ジメチルスルホキシドと
し、再利用することを特徴とする請求項9に記載のビス
ベンジル化合物の製造方法。10. The method for producing a bisbenzyl compound according to claim 9, wherein dimethyl sulfide produced in the reaction is distilled out, subjected to oxygen oxidation treatment to obtain dimethyl sulfoxide, and reused.
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JP2001365438A JP2003171332A (en) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | Method for producing bisbenzyl compound |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2017057460A1 (en) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 富士フイルムファインケミカルズ株式会社 | Method for producing organic compound |
-
2001
- 2001-11-30 JP JP2001365438A patent/JP2003171332A/en active Pending
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WO2017057460A1 (en) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 富士フイルムファインケミカルズ株式会社 | Method for producing organic compound |
US10351512B2 (en) | 2015-09-30 | 2019-07-16 | Fujifilm Wako Pure Chemical Corporation | Method of producing organic compound |
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