JP2003104957A - Biphenylethylamine derivative and method for producing the same - Google Patents

Biphenylethylamine derivative and method for producing the same

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JP2003104957A
JP2003104957A JP2001298705A JP2001298705A JP2003104957A JP 2003104957 A JP2003104957 A JP 2003104957A JP 2001298705 A JP2001298705 A JP 2001298705A JP 2001298705 A JP2001298705 A JP 2001298705A JP 2003104957 A JP2003104957 A JP 2003104957A
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Harunobu Mukoyama
晴信 向山
Yuichiro Kai
裕一郎 甲斐
Kenji Yokoyama
健二 横山
Yoshihiro Terao
嘉洋 寺尾
Ritsu Suzuki
律 鈴木
Satoshi Akaha
敏 赤羽
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new production intermediate for a 5-amidino-2- hydroxybenzenesulfonamide derivative useful as an activated coagulation factor X inhibitor and to provide a method for producing the intermediate. SOLUTION: This compound is represented by general formula (I) (R<1> and R<2> are each hydrogen, a halogen, a lower alkyl, a lower alkylthio or a lower alkylsulfonyl; R<3> is a halogen, a lower alkylthio or a lower alkyl sulfonyl group; R<4> is carboxy, carbamoyl or an aminomethyl group). This method for producing the compound represented by general formula (I) from a compound of formula (II) (R<1> , R<2> and R<3> as shown above) is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、活性化血液凝固第
X因子阻害剤として有用な式(VIII)
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a compound of formula (VIII) useful as an activated blood coagulation factor X inhibitor.

【化10】 で表される5−アミジノ−2−ヒドロキシベンゼンスル
ホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される塩を
製造するための新規な中間体およびそれらの製造方法に
関する。
[Chemical 10] The present invention relates to a novel intermediate for producing a 5-amidino-2-hydroxybenzenesulfonamide derivative represented by or a pharmacologically acceptable salt thereof, and a production method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】前記式(VIII)で表される5−アミ
ジノ−2−ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体
は、当該出願人により見出された文献未記載の新規な化
合物である。該ベンゼンスルホンアミド誘導体(VII
I)の製造方法として、特願2000−305569に
下記のスキームに示すように、式(IX)で表される化
合物を出発原料として式(XII)で表されるスルホン
アミド誘導体へと変換し、該スルホンアミド誘導体(X
II)から式(XIII)で表される化合物を経由し、
活性化血液凝固第X因子阻害剤(VIII)へと誘導す
る方法が開示されている。しかしながら本発明の化合物
を経由する合成法については何ら記載されていない。
2. Description of the Related Art The 5-amidino-2-hydroxybenzenesulfonamide derivative represented by the above formula (VIII) is a novel compound found by the applicant and not described in the literature. The benzenesulfonamide derivative (VII
As the production method of I), as shown in the following scheme in Japanese Patent Application No. 2000-305569, a compound represented by the formula (IX) is converted into a sulfonamide derivative represented by the formula (XII) as a starting material, The sulfonamide derivative (X
II) via the compound represented by formula (XIII),
A method of inducing an activated blood coagulation factor X inhibitor (VIII) is disclosed. However, there is no description about the synthetic method via the compound of the present invention.

【化11】 (式中、R1、R2、R3は上記定義の通りであり、R5
水素または低級アルキルであり、Zは水素またはヒドロ
キシである)
[Chemical 11] (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are as defined above, R 5 is hydrogen or lower alkyl, and Z is hydrogen or hydroxy.)

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、活性
化血液凝固第X因子阻害剤として有用な前記式(VII
I)で表される5−アミジノ−2−ヒドロキシベンゼン
スルホンアミド誘導体またはその薬理学的に許容される
塩を簡便かつ高収率で製造できる新規な中間体およびそ
れらの製造方法を提供することである。
The object of the present invention is to provide a compound of the above formula (VII) which is useful as an activated blood coagulation factor X inhibitor.
By providing a novel intermediate capable of easily producing a 5-amidino-2-hydroxybenzenesulfonamide derivative represented by I) or a pharmacologically acceptable salt thereof in a high yield, and a production method thereof. is there.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、前記式(VI)で
表される3−フェニル−2−シクロヘキセノンを出発原
料として簡便かつ高収率で前記式(I)で表されるビフ
ェニルエチルアミン誘導体を合成できることを見出し
た。さらに該ビフェニルエチルアミン誘導体(I)を経
由することにより、出発原料より極めて短い工程数で、
しかも収率よく前記式(VIII)で表される5−アミ
ジノ−2−ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘導体ま
たはその薬理学的に許容される塩を製造できることを見
出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that 3-phenyl-2-cyclohexenone represented by the above formula (VI) is a simple starting material. It has also been found that the biphenylethylamine derivative represented by the formula (I) can be synthesized in high yield. Further, by passing through the biphenylethylamine derivative (I), the number of steps extremely shorter than that of the starting material,
Moreover, they have found that the 5-amidino-2-hydroxybenzenesulfonamide derivative represented by the formula (VIII) or a pharmacologically acceptable salt thereof can be produced in good yield, and completed the present invention.

【0005】すなわち、本発明は、式(I)That is, the present invention has the formula (I)

【化12】 (式中、R1およびR2は、水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル、低級アルキルチオおよび低級アルキルスル
ホニルからなる群から独立して選択される基であり、R
3は、ハロゲン原子、低級アルキル、低級アルキルチオ
または低級アルキルスルホニル基である)で表される化
合物に関する。
[Chemical 12] (In the formula, R 1 and R 2 are groups independently selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom, lower alkyl, lower alkylthio and lower alkylsulfonyl;
3 is a halogen atom, a lower alkyl, a lower alkylthio or a lower alkylsulfonyl group).

【0006】別の局面において、本発明は、式(II)In another aspect, the present invention provides a compound of formula (II)

【化13】 (式中、R1およびR2は、水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル、低級アルキルチオおよび低級アルキルスル
ホニルからなる群から独立して選択される基であり、R
3は、ハロゲン原子、低級アルキル、低級アルキルチオ
または低級アルキルスルホニル基である)で表される化
合物と縮合剤とを反応させることにより、式(III)
[Chemical 13] (In the formula, R 1 and R 2 are groups independently selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom, lower alkyl, lower alkylthio and lower alkylsulfonyl;
3 is a halogen atom, a lower alkyl, a lower alkylthio or a lower alkylsulfonyl group) and a compound represented by the formula (III)

【化14】 (式中、R1、R2およびR3は、上記定義の通りである)
で表される化合物を製し、該式(III)で表される化
合物とアンモニアとを反応させることにより、式(I
V)
[Chemical 14] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above)
A compound represented by formula (I) is prepared by reacting the compound represented by formula (III) with ammonia.
V)

【化15】 (式中、R1、R2およびR3は上記定義の通りである)
で表される化合物を製し、続いて該式(IV)で表され
る化合物を還元することを特徴とする、式(I)
[Chemical 15] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above)
A compound represented by formula (I), which is characterized in that the compound represented by formula (IV) is subsequently reduced.

【化16】 (式中、R1、R2およびR3は上記定義の通りである)
で表される化合物の製造方法に関する。
[Chemical 16] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above)
Relates to a method for producing a compound represented by:

【0007】さらに別の局面において、本発明は、式
(V)
In yet another aspect, the present invention provides a compound of formula (V)

【化17】 (式中、R1およびR2は、水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル、低級アルキルチオおよび低級アルキルスル
ホニルからなる群から独立して選択される基であり、R
3は、ハロゲン原子、低級アルキル、低級アルキルチオ
または低級アルキルスルホニル基であり、R4は、カル
ボキシル基またはカルバモイル基である)で表される化
合物に関する。
[Chemical 17] (In the formula, R 1 and R 2 are groups independently selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom, lower alkyl, lower alkylthio and lower alkylsulfonyl;
3 is a halogen atom, a lower alkyl, a lower alkylthio or a lower alkylsulfonyl group, and R 4 is a carboxyl group or a carbamoyl group).

【0008】なおさらに別の局面において、本発明は、
式(VI)
In yet another aspect, the present invention provides
Formula (VI)

【化18】 (式中、R1およびR2は、水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル、低級アルキルチオおよび低級アルキルスル
ホニルからなる群から独立して選択される基であり、R
3は、ハロゲン原子、低級アルキル、低級アルキルチオ
または低級アルキルスルホニル基である)で表される化
合物と、式(VII)
[Chemical 18] (In the formula, R 1 and R 2 are groups independently selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom, lower alkyl, lower alkylthio and lower alkylsulfonyl;
3 is a halogen atom, a lower alkyl, a lower alkylthio or a lower alkylsulfonyl group) and a compound of the formula (VII)

【化19】 で表される化合物とを反応させることを特徴とする、式
(V)
[Chemical 19] A compound represented by the formula (V):

【化20】 (式中、R1、R2およびR3は、上記定義の通りであ
り、R4は、カルボキシル基である)で表される化合物
の製造方法に関する。
[Chemical 20] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above, and R 4 is a carboxyl group).

【0009】本発明において、ハロゲン原子とは、フッ
素原子または塩素原子を意味し、好ましくはフッ素原子
である。低級アルキルとは炭素数1〜6の直鎖または分
岐鎖状のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、tert−ブチルなどが
挙げられる。低級アルキルチオとは、炭素数1〜6の直
鎖または分岐鎖状のアルキルチオ基を意味し、例えば、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピル
チオなどが挙げられる。低級アルキルスルホニルとは、
炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖状のアルキルスルホニ
ル基を意味し、例えば、メタンスルホニル、エタンスル
ホニル、プロパンスルホニル、イソプロパンスルホニル
などが挙げられる。
In the present invention, the halogen atom means a fluorine atom or a chlorine atom, preferably a fluorine atom. The lower alkyl means a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl, isopropyl and tert-butyl. Lower alkylthio means a linear or branched alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms, for example,
Methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio and the like can be mentioned. What is lower alkylsulfonyl?
It means a linear or branched alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include methanesulfonyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, isopropanesulfonyl and the like.

【0010】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
化合物は、以下のスキーム1に従って製造することがで
きる。
The present invention will be described in detail below. The compounds of the present invention can be prepared according to scheme 1 below.

【化21】 (式中、R1、R2およびR3は、上記定義の通りであ
る。)
[Chemical 21] (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are as defined above.)

【0011】(工程a)前記式(VI)で表される3−
フェニル−2−シクロヘキセノン誘導体とグリオキシル
酸(VII)とを溶媒中、酸の存在下または非存在下で
反応させることにより、本発明の前記式(II)で表さ
れるビフェニル酢酸誘導体を製造することができる。
(Step a) 3-represented by the above formula (VI)
A phenyl-2-cyclohexenone derivative is reacted with glyoxylic acid (VII) in a solvent in the presence or absence of an acid to produce a biphenylacetic acid derivative represented by the above formula (II) of the present invention. be able to.

【0012】本反応に使用できる溶媒としては、例え
ば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、
ジオキサンなどのエーテル類、アセトニトリル、N,N
−ジメチルホルムアミドなどを挙げることができ、これ
らの不活性溶媒を単独でまたは2種以上混合し、必要に
応じて水を添加して使用することができる。酸として
は、濃硫酸、濃塩酸、p−トルエンスルホン酸、トリフ
ルオロ酢酸、酢酸などが使用される。本反応は、通常、
0℃〜使用される溶媒の還流温度で1〜24時間行わ
れ、反応終了後、常法により抽出、濃縮することにより
目的とする前記式(II)で表されるビフェニル酢酸誘
導体を得ることができる。
Examples of the solvent that can be used in this reaction include tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane,
Ethers such as dioxane, acetonitrile, N, N
-Dimethylformamide and the like can be mentioned, and these inert solvents can be used alone or in admixture of two or more, and water can be added if necessary. As the acid, concentrated sulfuric acid, concentrated hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, acetic acid or the like is used. This reaction is usually
The reaction can be carried out at 0 ° C to the reflux temperature of the solvent used for 1 to 24 hours, and after completion of the reaction, the desired biphenylacetic acid derivative represented by the above formula (II) can be obtained by extraction and concentration. it can.

【0013】(工程b)次にビフェニル酢酸誘導体(I
I)を不活性溶媒中または無溶媒で、縮合剤の存在下で
反応させることにより、前記式(III)で表されるラ
クトン誘導体に変換し、続いて該ラクトン誘導体(II
I)とアンモニア水とを反応させることにより、本発明
の前記式(IV)で表されるビフェニル酢酸アミド誘導
体を製造することができる。
(Step b) Next, the biphenylacetic acid derivative (I
I) is converted into a lactone derivative represented by the formula (III) by reacting I) in an inert solvent or in the absence of a solvent in the presence of a condensing agent, and then the lactone derivative (II
By reacting I) with aqueous ammonia, the biphenylacetic acid amide derivative represented by the above formula (IV) of the present invention can be produced.

【0014】本反応に使用できる不活性溶媒としては、
例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタ
ン、ジオキサンなどのエーテル類、アセトニトリルなど
を挙げることができ、これらの不活性溶媒を単独でまた
は2種以上混合して使用することができる。縮合剤とし
ては、例えば、無水酢酸などを使用することができ、通
常、ビフェニル酢酸誘導体(II)に対して1〜6当量
の範囲から適宜選択して使用される。ビフェニル酢酸誘
導体(II)からラクトン誘導体(III)への変換
は、通常、0〜60℃の温度で1〜6時間行われる。反
応終了後、ラクトン誘導体(III)は単離してもしな
くてもよく、好ましくはラクトン誘導体(III)の生
成を確認後、単離することなくアンモニア水と反応させ
ることによりビフェニル酢酸アミド誘導体(IV)への
変換が行われる。ラクトン誘導体(III)からビフェ
ニル酢酸アミド誘導体(IV)への変換は、通常、0〜
50℃の温度で1〜6時間行われ、反応終了後、常法に
より抽出、濃縮することにより目的とする前記式(I
V)で表されるビフェニル酢酸アミド誘導体を得ること
ができる。
As an inert solvent which can be used in this reaction,
Examples thereof include tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, ethers such as dioxane, acetonitrile and the like, and these inert solvents can be used alone or in combination of two or more kinds. As the condensing agent, for example, acetic anhydride or the like can be used, and it is usually used by appropriately selecting from the range of 1 to 6 equivalents with respect to the biphenylacetic acid derivative (II). The conversion of the biphenylacetic acid derivative (II) to the lactone derivative (III) is usually performed at a temperature of 0 to 60 ° C for 1 to 6 hours. After completion of the reaction, the lactone derivative (III) may or may not be isolated, and preferably after confirming the production of the lactone derivative (III), the lactone derivative (III) is reacted with ammonia water without isolation to obtain a biphenylacetic acid amide derivative (IV). ) Is performed. The conversion of the lactone derivative (III) to the biphenylacetic acid amide derivative (IV) is usually 0 to
The reaction is carried out at a temperature of 50 ° C. for 1 to 6 hours, and after completion of the reaction, the compound of the above formula (I
The biphenylacetic acid amide derivative represented by V) can be obtained.

【0015】(工程c)続いてビフェニル酢酸アミド誘
導体(IV)を不活性溶媒中、還元剤を用いて還元する
ことにより、本発明の前記式(I)で表されるビフェニ
ルエチルアミン誘導体を製造することができる。
(Step c) Subsequently, the biphenylacetic acid amide derivative (IV) is reduced with a reducing agent in an inert solvent to produce the biphenylethylamine derivative represented by the above formula (I) of the present invention. be able to.

【0016】本反応に使用できる不活性溶媒としては、
例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタ
ンなどが挙げられ、これらの不活性溶媒を単独でまたは
2種以上混合して使用することができる。還元剤として
は、例えば、ジボラン、ボラン・テトラヒドロフラン錯
体、ボラン・ジメチルスルフィド錯体、ボラン・ピリジ
ン錯体、ボラン・N,N−ジエチルアニリン錯体、水素
化ホウ素ナトリウム/トリフルオロ酢酸、水素化ホウ素
ナトリウム/酢酸などを使用することができ、通常、ビ
フェニル酢酸アミド誘導体(IV)に対してホウ素換算
で1〜5当量の範囲から適宜選択して使用される。本反
応は、通常、0℃〜使用される溶媒の還流温度で1〜1
2時間行われ、反応終了後、必要に応じて過剰の還元剤
を処理した後、常法により抽出、濃縮することにより目
的とする前記式(I)で表されるビフェニルエチルアミ
ン誘導体を得ることができる。
As an inert solvent which can be used in this reaction,
Examples thereof include tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, and these inert solvents can be used alone or in combination of two or more. Examples of the reducing agent include diborane, borane / tetrahydrofuran complex, borane / dimethylsulfide complex, borane / pyridine complex, borane / N, N-diethylaniline complex, sodium borohydride / trifluoroacetic acid, sodium borohydride / acetic acid. Etc. can be used, and they are usually used by appropriately selecting from the range of 1 to 5 equivalents in terms of boron with respect to the biphenylacetic acid amide derivative (IV). This reaction is usually performed at 0 ° C to the reflux temperature of the solvent used for 1 to 1
The reaction is carried out for 2 hours, and after the completion of the reaction, an excess reducing agent is treated, if necessary, and then the desired biphenylethylamine derivative represented by the formula (I) can be obtained by extraction and concentration according to a conventional method. it can.

【0017】このようにして得られた前記式(I)で表
される化合物は、例えば、以下のスキーム2に示す工程
d〜gの反応を行うことにより、活性化血液凝固第X因
子阻害剤として有用な前記式(VIII)で表される5
−アミジノ−2−ヒドロキシベンゼンスルホンアミド誘
導体へと導くことができる。
The thus obtained compound represented by the above formula (I) can be used as an activated blood coagulation factor X inhibitor, for example, by performing the reactions of steps d to g shown in the following scheme 2. 5 represented by the above formula (VIII), which is useful as
It can lead to an amidino-2-hydroxybenzenesulfonamide derivative.

【0018】[0018]

【化22】 (式中、R1、R2およびR3は上記定義の通りであり、
6は低級アルキルであり、R5は水素または低級アルキ
ルであり、Xはクロロまたはブロモであり、Zは水素ま
たはヒドロキシである)
[Chemical formula 22] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above,
R 6 is lower alkyl, R 5 is hydrogen or lower alkyl, X is chloro or bromo, Z is hydrogen or hydroxy)

【0019】(工程d)前記式(I)で表されるビフェ
ニルエチルアミン誘導体と前記式(XI)で表されるベ
ンゼンスルホニルクロリドとを、不活性溶媒(例えば、
テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミドな
ど)中、塩基(例えば、トリエチルアミン、炭酸カリウ
ムなど)の存在下で、通常、−40〜50℃の温度で縮
合させることにより、前記式(XIII)で表されるス
ルホンアミド誘導体を得ることができる。
(Step d) The biphenylethylamine derivative represented by the formula (I) and the benzenesulfonyl chloride represented by the formula (XI) are mixed with an inert solvent (for example,
Tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, etc.), in the presence of a base (eg, triethylamine, potassium carbonate, etc.), usually at a temperature of −40 to 50 ° C. to obtain a compound represented by the above formula (XIII). A sulfonamide derivative can be obtained.

【0020】(工程e)次にスルホンアミド(XII
I)とハロ酢酸エステル(XIV)とを、不活性溶媒
(例えば、N,N−ジメチルホルムアミドなど)中、塩
基(例えば、炭酸カリウム、N,N−ジイソプロピルエ
チルアミンなど)の存在下で、通常、0℃〜使用される
溶媒の還流温度で反応させることにより、前記式(X
V)で表される化合物へ誘導することができる。
(Step e) Next, sulfonamide (XII
I) and a haloacetic acid ester (XIV) in an inert solvent (eg, N, N-dimethylformamide) in the presence of a base (eg, potassium carbonate, N, N-diisopropylethylamine), usually, By reacting at 0 ° C to the reflux temperature of the solvent used, the above formula (X
It is possible to induce the compound represented by V).

【0021】(工程f)次に化合物(XV)と塩化リチ
ウムとを不活性溶媒(例えば、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミドなど)中、通
常、100℃〜使用される溶媒の還流温度で反応させる
ことにより、前記式(XVI)で表されるフェノール誘
導体へ誘導することができる。
(Step f) Next, the compound (XV) and lithium chloride are used in an inert solvent (eg, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), usually at 100 ° C. to a solvent used. The phenol derivative represented by the formula (XVI) can be obtained by reacting at the reflux temperature of.

【0022】(工程g)続いてフェノール誘導体(XV
I)を、ハロゲン化水素の存在下、低級アルコール(例
えば、エタノールなど)と反応させた後、アンモニアま
たはその塩あるいはヒドロキシルアミンまたはその塩と
反応させ、必要に応じて、常法に従い、エステル基を加
水分解するかまたはR5OHで表されるアルコールを用
いてエステル交換を行うことにより、医薬品として有用
な前記式(VIII)で表される化合物を製造すること
ができる。該化合物(VIII)は所望により、常法に
従い、その薬理学的に許容される塩にすることができ
る。
(Step g) Subsequently, a phenol derivative (XV
I) is reacted with a lower alcohol (eg, ethanol) in the presence of hydrogen halide and then with ammonia or a salt thereof or hydroxylamine or a salt thereof, and if necessary, an ester group according to a conventional method. Is hydrolyzed or is subjected to transesterification using an alcohol represented by R 5 OH to produce a compound represented by the above formula (VIII), which is useful as a pharmaceutical. If desired, the compound (VIII) can be converted into its pharmaceutically acceptable salt according to a conventional method.

【0023】上記のスキーム1に示す出発原料である前
記式(VI)で表される化合物は、例えば、以下に示す
ようにして製造することができる。
The compound represented by the above formula (VI), which is the starting material shown in Scheme 1 above, can be produced, for example, as shown below.

【化23】 (式中、R7は低級アルキルであり、R11、R12、R13
は独立して水素、ハロゲン、低級アルキルまたは低級ア
ルキルチオであり、MはリチウムまたはMgBrであ
り、R1、R2およびR3は上記定義の通りである)
[Chemical formula 23] (In the formula, R 7 is lower alkyl, and R 11 , R 12 , R 13
Are independently hydrogen, halogen, lower alkyl or lower alkylthio, M is lithium or MgBr, and R 1 , R 2 and R 3 are as defined above)

【0024】前記式(XVII)で表される化合物と前
記式(XVIII)で表される化合物とを不活性溶媒
(例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど)中、
20℃〜使用される溶媒の還流温度で反応させ、必要に
応じて、常法に従い、酸化反応を行うことにより、前記
式(VI)で表される化合物を得ることができる。
The compound represented by the above formula (XVII) and the compound represented by the above formula (XVIII) in an inert solvent (eg, tetrahydrofuran, dioxane, etc.),
The compound represented by the above formula (VI) can be obtained by reacting at 20 ° C to the reflux temperature of the solvent used and, if necessary, performing an oxidation reaction according to a conventional method.

【0025】本発明の化合物およびその製造中間体、な
らびに本発明の化合物を使用して製造される前記式(X
III)、(XV)、(XVI)および(VIII)等
の化合物は、必要に応じて慣用の単離・精製手段である
溶媒抽出、再結晶、クロマトグラフィー、固層抽出など
の操作を行うことにより、単離・精製することができ
る。
The compounds of the present invention and intermediates for the production thereof, and the above-mentioned formula (X) prepared by using the compounds of the present invention
Compounds such as III), (XV), (XVI) and (VIII) may be subjected to conventional isolation / purification means such as solvent extraction, recrystallization, chromatography and solid phase extraction, if necessary. Thus, it can be isolated and purified.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】本発明の内容を実施例、参考例お
よび試験例でさらに詳細に説明するが、これらは本発明
を例示することを意図したものであり、発明の範囲を限
定するものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The contents of the present invention will be described in more detail with reference to Examples, Reference Examples and Test Examples, which are intended to exemplify the present invention and limit the scope of the invention. is not.

【0027】[0027]

【実施例】(参考例1) 3−(2−メチルチオフェニル)−2−シクロヘキセン
−1−オン マグネシウム(12.9g)およびテトラヒドロフラン
(210mL)の混合物に、室温にてヨウ素(400m
g)および2−ブロモチオアニソール(7.6g)を一
度に加え、外温50℃で撹拌した。反応開始後、さらに
2−ブロモチオアニソール(92.4g)のテトラヒド
ロフラン(210mL)溶液を30分間かけて滴下し、
反応混合物を加熱還流下、1時間20分撹拌した。同条
件下、3−エトキシ−2−シクロヘキセン−1−オン
(53.1g)のテトラヒドロフラン(105mL)溶
液を滴下し、さらに加熱還流下、2時間撹拌した。反応
混合物に氷冷下、2mol/L塩酸(310mL)を滴
下した。同条件下で15分撹拌後、反応混合物を酢酸エ
チル(800mL)で2回抽出した。有機層を合わせ、
飽和食塩水(150mL)で洗浄した。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、不溶物をろ去し、減圧下溶媒
留去し、3−(2−メチルチオフェニル)−2−シクロ
ヘキセン−1−オン(100g)を赤褐色の油状物とし
て得た。
Example (Reference Example 1) A mixture of 3- (2-methylthiophenyl) -2-cyclohexen-1-one magnesium (12.9 g) and tetrahydrofuran (210 mL) was added with iodine (400 m) at room temperature.
g) and 2-bromothioanisole (7.6 g) were added at once, and the mixture was stirred at an external temperature of 50 ° C. After the reaction was started, a solution of 2-bromothioanisole (92.4 g) in tetrahydrofuran (210 mL) was added dropwise over 30 minutes,
The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 1 hour and 20 minutes. Under the same conditions, a solution of 3-ethoxy-2-cyclohexen-1-one (53.1 g) in tetrahydrofuran (105 mL) was added dropwise, and the mixture was further stirred with heating under reflux for 2 hours. 2 mol / L hydrochloric acid (310 mL) was added dropwise to the reaction mixture under ice cooling. After stirring for 15 minutes under the same conditions, the reaction mixture was extracted twice with ethyl acetate (800 mL). Combine the organic layers,
It was washed with saturated saline (150 mL). The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the insoluble material was filtered off, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give 3- (2-methylthiophenyl) -2-cyclohexen-1-one (100 g) as a reddish brown oil. It was

【0028】1H−NMR(CDCl3)δ ppm:
2.14−2.21(2H,m),2.45(3H,
s),2.50(2H,t,J=7.3Hz),2.6
7(2H,td,J=6.0,1.6Hz),6.04
(1H,t,J=1.6Hz),7.08(1H,d
d,J=7.6,1.3Hz),7.18(1H,t
d,J=7.3,1.6Hz),7.27−7.35
(2H,m)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm:
2.14-2.21 (2H, m), 2.45 (3H,
s), 2.50 (2H, t, J = 7.3Hz), 2.6
7 (2H, td, J = 6.0, 1.6Hz), 6.04
(1H, t, J = 1.6Hz), 7.08 (1H, d
d, J = 7.6, 1.3 Hz), 7.18 (1H, t
d, J = 7.3, 1.6 Hz), 7.27-7.35.
(2H, m)

【0029】(参考例2) 3−(2−メタンスルホニルフェニル)−2−シクロヘ
キセン−1−オン 3−(2−メチルチオフェニル)−2−シクロヘキセン
−1−オン(59.0g)、アセトン(500mL)お
よび水(100mL)の混合物に、氷冷撹拌下、炭酸水
素ナトリウム(195g)を加えた。続いてオキソン
(登録商標)(446g)を25分間かけて添加し、室
温下で3時間撹拌した。反応混合物に氷冷撹拌下、亜硫
酸ナトリウム(26.5g)の水(170mL)溶液を
添加し、25分間撹拌した。不溶物をセライトろ過し、
セライトを酢酸エチルで洗浄した。ろ液を減圧下濃縮し
た。残留物に水(500mL)を加え、酢酸エチル(6
00mL)で2回抽出した。合わせた有機層を飽和食塩
水(200mL)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。不溶物をろ去後、減圧下溶媒留去し、3−(2
−メタンスルホニルフェニル)−2−シクロヘキセン−
1−オン(56.0g)を橙褐色の油状物として得た。
Reference Example 2 3- (2-Methanesulfonylphenyl) -2-cyclohexen-1-one 3- (2-methylthiophenyl) -2-cyclohexen-1-one (59.0 g), acetone (500 mL) ) And water (100 mL) were added sodium hydrogencarbonate (195 g) with stirring under ice cooling. Subsequently, Oxone (registered trademark) (446 g) was added over 25 minutes, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. A solution of sodium sulfite (26.5 g) in water (170 mL) was added to the reaction mixture under ice-cooling stirring, and the mixture was stirred for 25 minutes. Insoluble matter is filtered through Celite,
Celite was washed with ethyl acetate. The filtrate was concentrated under reduced pressure. Water (500 mL) was added to the residue, and ethyl acetate (6
00 mL) and extracted twice. The combined organic layers were washed with saturated saline (200 mL) and dried over anhydrous magnesium sulfate. After removing the insoluble matter by filtration, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 3- (2
-Methanesulfonylphenyl) -2-cyclohexene-
1-one (56.0 g) was obtained as an orange-brown oil.

【0030】1H−NMR(CDCl3)δ ppm:
2.15−2.30(2H,m),2.54(2H,
t,J=6.8Hz),2.65−2.75(2H,
m),3.04(3H,s),5.94(1H,t,J
=1.6Hz),7.24(1H,dd,J=7.6,
1.1Hz),7.50−7.60(1H,m),7.
60−7.70(1H,m),8.09(1H,dd,
J=7.8,1.0Hz)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm:
2.15-2.30 (2H, m), 2.54 (2H, m
t, J = 6.8 Hz), 2.65-2.75 (2H,
m), 3.04 (3H, s), 5.94 (1H, t, J
= 1.6 Hz), 7.24 (1H, dd, J = 7.6,
1.1 Hz), 7.50-7.60 (1H, m), 7.
60-7.70 (1H, m), 8.09 (1H, dd,
J = 7.8, 1.0Hz)

【0031】(参考例3) 5−カルバモイル−2−メトキシベンゼンスルホニルク
ロリド クロロスルホン酸(1733g)に氷冷撹拌下、4−メ
トキシベンズアミド(150g)を15分間かけて少し
ずつ加えた。その混合物を室温で14時間撹拌後、50
℃でさらに1.5時間撹拌した。反応混合物を氷(7k
g)に滴下し、析出物をろ取後、水、ヘキサンで洗浄し
て5−カルバモイル−2−メトキシベンゼンスルホニル
クロリド(230g)を得た。
Reference Example 3 4-Carbamoyl-2-methoxybenzenesulfonyl chloride 4-methoxybenzamide (150 g) was added little by little over 15 minutes to chlorosulfonic acid (1733 g) with stirring under ice cooling. After stirring the mixture at room temperature for 14 hours, 50
Stirred for an additional 1.5 hours at ° C. The reaction mixture was put on ice (7k
g), and the precipitate was collected by filtration and washed with water and hexane to give 5-carbamoyl-2-methoxybenzenesulfonyl chloride (230 g).

【0032】1H−NMR(DMSO−d6)δ pp
m: 3.81(3H,s),7.00(1H,d,J
=8.5Hz),7.10(1H,brs),7.84
(1H,dd,J=8.5,2.5Hz),7.87
(1H,brs),8.23(1H,d,J=2.5H
z)
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ pp
m: 3.81 (3H, s), 7.00 (1H, d, J
= 8.5 Hz), 7.10 (1H, brs), 7.84
(1H, dd, J = 8.5, 2.5Hz), 7.87
(1H, brs), 8.23 (1H, d, J = 2.5H
z)

【0033】(参考例4) 5−シアノ−2−メトキシベンゼンスルホニルクロリド 5−カルバモイル−2−メトキシベンゼンスルホニルク
ロリド(150g)の酢酸エチル(1.80L)懸濁液
に、氷冷撹拌下、塩化チオニル(219mL)を滴下
し、N,N−ジメチルホルムアミド(2.30mL)を
加え、55℃にて3時間撹拌した。反応混合物を減圧下
に濃縮後、残渣に酢酸エチルと水を加えた。分離した有
機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に
溶媒を留去した。得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサン
から再結晶し、5−シアノ−2−メトキシベンゼンスル
ホニルクロリド(86.8g)を得た。
Reference Example 4 5-Cyano-2-methoxybenzenesulfonyl chloride 5-carbamoyl-2-methoxybenzenesulfonyl chloride (150 g) was suspended in ethyl acetate (1.80 L) suspension under ice-cooling with stirring. Thionyl (219 mL) was added dropwise, N, N-dimethylformamide (2.30 mL) was added, and the mixture was stirred at 55 ° C. for 3 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and ethyl acetate and water were added to the residue. The separated organic layer was washed with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The obtained residue was recrystallized from ethyl acetate-hexane to give 5-cyano-2-methoxybenzenesulfonyl chloride (86.8 g).

【0034】1H−NMR(CDCl3)δ ppm:
4.16(3H,s),7.24(1H,d,J=8.
8Hz),7.96(1H,dd,J=8.8,2.2
Hz),8.28(1H,d,J=2.2Hz)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm:
4.16 (3H, s), 7.24 (1H, d, J = 8.
8 Hz), 7.96 (1H, dd, J = 8.8, 2.2)
Hz), 8.28 (1H, d, J = 2.2Hz)

【0035】(実施例1) (3−ヒドロキシ−2’−メタンスルホニルビフェニル
−4−イル)酢酸 97%硫酸(25.3mL)、水(50.7mL)およ
び1,2−ジメトキシエタン(600mL)の混合物
に、氷冷撹拌下、3−(2−メタンスルホニルフェニ
ル)−2−シクロヘキセン−1−オン(118.9g)
の1,2−ジメトキシエタン(360mL)溶液、グリ
オキシル酸・一水和物(131.2g)を順次加えた。
反応混合物を加熱還流下、18時間撹拌した。室温まで
放冷後、反応混合物に水(360mL)を加え、トルエ
ン(300mL)で抽出した。水層をテトラヒドロフラ
ン(360mL)およびトルエン(120mL)の混合
溶媒でさらに3回抽出した。有機層を合わせ、2mol
/L水酸化ナトリウム水溶液で2回抽出した。得られた
水層に氷冷下、濃塩酸を加えてpH1に調節し、酢酸エ
チルで2回抽出した。合わせ有機層を飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物をろ去
後、減圧下で溶媒留去し、黄褐色固体の(3−ヒドロキ
シ−2’−メタンスルホニルビフェニル−4−イル)酢
酸(97.5g)を得た。
Example 1 (3-Hydroxy-2'-methanesulfonylbiphenyl-4-yl) acetic acid 97% sulfuric acid (25.3 mL), water (50.7 mL) and 1,2-dimethoxyethane (600 mL). To the mixture under ice-cooling with stirring, 3- (2-methanesulfonylphenyl) -2-cyclohexen-1-one (118.9 g).
1,2-dimethoxyethane solution (360 mL) and glyoxylic acid monohydrate (131.2 g) were sequentially added.
The reaction mixture was stirred with heating under reflux for 18 hours. After allowing to cool to room temperature, water (360 mL) was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with toluene (300 mL). The aqueous layer was further extracted 3 times with a mixed solvent of tetrahydrofuran (360 mL) and toluene (120 mL). Combine the organic layers, 2 mol
/ L sodium hydroxide aqueous solution and extracted twice. The obtained aqueous layer was adjusted to pH 1 by adding concentrated hydrochloric acid under ice cooling, and extracted twice with ethyl acetate. The combined organic layers were washed with saturated brine and dried over anhydrous magnesium sulfate. The insoluble material was removed by filtration, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give a tan solid (3-hydroxy-2′-methanesulfonylbiphenyl-4-yl) acetic acid (97.5 g).

【0036】1H−NMR(DMSO−d6)δ pp
m:2.82(3H,s),3.53(2H,s),
6.78(1H,dd,J=7.8,1.4Hz),
6.85(1H,d,J=1.4Hz),7.18(1
H,d,J=7.8Hz),7.39(1H,dd,J
=7.5,1.0Hz),7.60−7.70(1H,
m),7.70−7.80(1H,m),8.08(1
H,dd,J=7.7,1.3Hz),9.70(1
H,brs),12.17(1H,brs)
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ pp
m: 2.82 (3H, s), 3.53 (2H, s),
6.78 (1H, dd, J = 7.8, 1.4Hz),
6.85 (1H, d, J = 1.4Hz), 7.18 (1
H, d, J = 7.8 Hz), 7.39 (1H, dd, J
= 7.5, 1.0 Hz), 7.60-7.70 (1H,
m), 7.70-7.80 (1H, m), 8.08 (1
H, dd, J = 7.7, 1.3 Hz), 9.70 (1
H, brs), 12.17 (1H, brs)

【0037】(実施例2) (3−ヒドロキシ−2’−メタンスルホニルビフェニル
−4−イル)アセトアミド (3−ヒドロキシ−2’−メタンスルホニルビフェニル
−4−イル)酢酸(47.02g)のテトラヒドロフラ
ン(380mL)溶液に、室温にて撹拌下、無水酢酸
(72.4mL)を加え、50℃で2時間撹拌した。反
応混合物に氷冷撹拌下、28%アンモニア水(187m
L)を20分間かけて滴下し、滴下終了後、室温でさら
に1時間撹拌した。有機層を分離後、水層を酢酸エチル
(250mL)で3回抽出した。合わせた有機層を飽和
食塩水150mLで洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。不溶物をろ去後、ろ液を減圧下溶媒留
去し、残留物に水(250mL)を加え、室温にて1時
間撹拌した。得られた結晶を集め、水(100mL)で
洗浄し、(3−ヒドロキシ−2’−メタンスルホニルビ
フェニル−4−イル)アセトアミド(30.4g)を淡
褐色固体として得た。
Example 2 (3-Hydroxy-2'-methanesulfonylbiphenyl-4-yl) acetamide (3-Hydroxy-2'-methanesulfonylbiphenyl-4-yl) acetic acid (47.02 g) in tetrahydrofuran ( Acetic anhydride (72.4 mL) was added to the solution (380 mL) at room temperature with stirring, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 2 hours. 28% ammonia water (187 m) was added to the reaction mixture with stirring under ice cooling.
L) was added dropwise over 20 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After separating the organic layer, the aqueous layer was extracted 3 times with ethyl acetate (250 mL). The combined organic layer was washed with 150 mL of saturated saline, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. After the insoluble material was filtered off, the filtrate was evaporated under reduced pressure, water (250 mL) was added to the residue, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hr. The obtained crystals were collected and washed with water (100 mL) to obtain (3-hydroxy-2′-methanesulfonylbiphenyl-4-yl) acetamide (30.4 g) as a light brown solid.

【0038】1H−NMR(DMSO−d6)δ pp
m:2.83(3H,s),3.44(2H,s),
6.79(1H,dd,J=7.8,1.5Hz),
6.80−6.90(1H,m),7.03(1H,b
rs),7.15(1H,d,J=7.8Hz),7.
38(1H,dd,J=7.5,1.0Hz),7.4
6(1H,brs),7.60−7.70(1H,
m),7.70−7.80(1H,m),8.08(1
H,dd,J=7.5,1.3Hz),9.96(1
H,s)
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ pp
m: 2.83 (3H, s), 3.44 (2H, s),
6.79 (1H, dd, J = 7.8, 1.5Hz),
6.80-6.90 (1H, m), 7.03 (1H, b
rs), 7.15 (1H, d, J = 7.8Hz), 7.
38 (1H, dd, J = 7.5, 1.0 Hz), 7.4
6 (1H, brs), 7.60-7.70 (1H,
m), 7.70-7.80 (1H, m), 8.08 (1
H, dd, J = 7.5, 1.3 Hz), 9.96 (1
H, s)

【0039】(実施例3) 2−(3−ヒドロキシ−2’−メタンスルホニルビフェ
ニル−4−イル)エチルアミン (3−ヒドロキシ−2’−メタンスルホニルビフェニル
−4−イル)アセトアミド(3.78g)のテトラヒド
ロフラン(17ml)懸濁液に、氷冷撹拌下、0.93
Mボラン・テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラ
ン溶液(40.0mL)を10分間かけて滴下した。こ
の反応混合物を室温で30分、続いて加熱還流下、3時
間撹拌した。反応混合物に、氷冷撹拌下、2mol/L
塩酸(25.0mL)を発泡に注意しながら滴下し、室
温下30分、続いて50℃で30分撹拌した。反応混合
物に、氷冷撹拌下、2mol/L水酸化ナトリウム水溶
液(30.0mL)を加えてpH10に調節し、酢酸エ
チル(60mL)で3回抽出した。合わせた有機層を水
(100mL)および飽和食塩水(100mL)で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物をろ去
後、減圧下溶媒留去し、粗生成物(2.98g)を得
た。この粗生成物をトルエン−イソプロパノール(9:
1;30.0mL)で洗浄し、2−(3−ヒドロキシ−
2’−メタンスルホニルビフェニル−4−イル)エチル
アミン(2.62g)を得た。
Example 3 2- (3-Hydroxy-2'-methanesulfonylbiphenyl-4-yl) ethylamine (3-hydroxy-2'-methanesulfonylbiphenyl-4-yl) acetamide (3.78 g) 0.93 in a tetrahydrofuran (17 ml) suspension under stirring with ice cooling.
A tetrahydrofuran solution (40.0 mL) of M borane-tetrahydrofuran complex was added dropwise over 10 minutes. The reaction mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, followed by heating under reflux for 3 hours. 2 mol / L to the reaction mixture with stirring under ice cooling
Hydrochloric acid (25.0 mL) was added dropwise while paying attention to foaming, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and subsequently at 50 ° C for 30 minutes. The reaction mixture was adjusted to pH 10 by adding a 2 mol / L sodium hydroxide aqueous solution (30.0 mL) under ice-cooling stirring, and extracted 3 times with ethyl acetate (60 mL). The combined organic layers were washed with water (100 mL) and saturated brine (100 mL), and dried over anhydrous magnesium sulfate. The insoluble material was removed by filtration, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give a crude product (2.98 g). This crude product was converted into toluene-isopropanol (9:
1; 30.0 mL) and washed with 2- (3-hydroxy-
2'-Methanesulfonylbiphenyl-4-yl) ethylamine (2.62 g) was obtained.

【0040】1H−NMR(DMSO−d6)δ pp
m:2.70(2H,t,J=5.7Hz),2.80
(3H,s),2.80−2.90(2H,m),6.
00−6.50(2H,brs),6.69(1H,d
d,J=7.6,2.1Hz),6.73(1H,d,
J=2.1Hz),7.05(1H,d,J=7.6H
z),7.37(1H,dd,J=7.6,1.2H
z),7.60−7.65(1H,m),7.65−
7.75(1H,m),8.07(1H,dd,J=
8.0,1.3Hz)
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ pp
m: 2.70 (2H, t, J = 5.7Hz), 2.80
(3H, s), 2.80-2.90 (2H, m), 6.
00-6.50 (2H, brs), 6.69 (1H, d
d, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.73 (1H, d,
J = 2.1 Hz), 7.05 (1H, d, J = 7.6H
z), 7.37 (1H, dd, J = 7.6, 1.2H
z), 7.60-7.65 (1H, m), 7.65-
7.75 (1H, m), 8.07 (1H, dd, J =
(8.0, 1.3Hz)

【0041】(参考例5) 5−シアノ−N−[2−(3−ヒドロキシ−2’− メ
タンスルホニルビフェニル−4−イル)エチル]−2−
メトキシベンゼンスルホンアミド 2−(3−ヒドロキシ−2’−メタンスルホニルビフェ
ニル−4−イル)エチルアミン(120g)、テトラヒ
ドロフラン(1.56L)、トリエチルアミン(287
mL)およびメタノール(504mL)の混合物に、−
15℃で撹拌下、5−シアノ−2−メトキシベンゼンス
ルホニルクロリド(95.41g)を7分間かけて添加
し、反応混合物を同条件下で1.5時間撹拌した。反応
液を減圧下濃縮後、残渣にテトラヒドロフラン(960
mL)を加えて溶解し、氷冷撹拌下、1mol/L水酸
化ナトリウム水溶液(1.25L)を滴下した。この混
合物をトルエン(480mL)、続いてトルエン−テト
ラヒドロフラン(600mL)で2回洗浄した。水層
に、氷冷撹拌下、2mol/L塩酸(660mL)を加
えて酸性とし、酢酸エチル(570mL)で2回抽出し
た。合わせた有機層を飽和食塩水(240mL)で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。不溶物を濾過
後、減圧下溶媒留去し、5−シアノ−N−[2−(3−
ヒドロキシ−2’− メタンスルホニルビフェニル−4
−イル)エチル]−2−メトキシベンゼンスルホンアミ
ド(158.96g)を白色固体として得た。
Reference Example 5 5-Cyano-N- [2- (3-hydroxy-2'-methanesulfonylbiphenyl-4-yl) ethyl] -2-
Methoxybenzenesulfonamide 2- (3-hydroxy-2′-methanesulfonylbiphenyl-4-yl) ethylamine (120 g), tetrahydrofuran (1.56 L), triethylamine (287
mL) and methanol (504 mL) mixture,
Under stirring at 15 ° C, 5-cyano-2-methoxybenzenesulfonyl chloride (95.41 g) was added over 7 minutes, and the reaction mixture was stirred under the same conditions for 1.5 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was dissolved in tetrahydrofuran (960
mL) was added and dissolved, and a 1 mol / L aqueous sodium hydroxide solution (1.25 L) was added dropwise under stirring with ice cooling. The mixture was washed twice with toluene (480 mL) followed by toluene-tetrahydrofuran (600 mL). The aqueous layer was acidified by adding 2 mol / L hydrochloric acid (660 mL) under ice-cooling stirring, and extracted twice with ethyl acetate (570 mL). The combined organic layers were washed with saturated brine (240 mL) and dried over anhydrous magnesium sulfate. The insoluble material was filtered off, the solvent was evaporated under reduced pressure, and 5-cyano-N- [2- (3-
Hydroxy-2'-methanesulfonylbiphenyl-4
-Yl) ethyl] -2-methoxybenzenesulfonamide (158.96 g) was obtained as a white solid.

【0042】1H−NMR(CDCl3)δ ppm:
2.69(3H,s),2.87(2H,t,J=6.
9Hz),3.20−3.30(2H,m),3.98
(3H,s),5.34(1H,t,J=5.7H
z),5.93(1H,s),6.88(1H,dd,
J=7.6,1.6Hz),6.97(1H,d,1.
6Hz),7.05−7.15(2H,m),7.33
(1H,dd,J=7.6,1.3Hz),7.56
(1H,td,J=7.6,1.3Hz),7.65
(1H,td,J=7.6,1.3Hz),7.82
(1H,dd,J=8.5,2.2Hz),8.15−
8.25(2H,m)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm:
2.69 (3H, s), 2.87 (2H, t, J = 6.
9 Hz), 3.20-3.30 (2H, m), 3.98
(3H, s), 5.34 (1H, t, J = 5.7H
z), 5.93 (1H, s), 6.88 (1H, dd,
J = 7.6, 1.6 Hz), 6.97 (1H, d, 1.
6 Hz), 7.05-7.15 (2H, m), 7.33
(1H, dd, J = 7.6, 1.3 Hz), 7.56
(1H, td, J = 7.6, 1.3 Hz), 7.65
(1H, td, J = 7.6, 1.3 Hz), 7.82
(1H, dd, J = 8.5, 2.2Hz), 8.15-
8.25 (2H, m)

【0043】(参考例6) [4−[2−(5−シアノ−2−メトキシベンゼンスル
ホニルアミノ)エチル]−2’−メタンスルホニルビフ
ェニル−3−イルオキシ]酢酸エチル 5−シアノ−N−[2−(3−ヒドロキシ−2’−メタ
ンスルホニルビフェニル−4−イル)エチル]−2−メ
トキシベンゼンスルホンアミド(5.72g)のN,N
−ジメチルホルムアミド(57mL)溶液にN,N−ジ
イソプロピルエチルアミン(2.46mL)およびブロ
モ酢酸エチル(1.37mL)を加え、50℃で15時
間撹拌した。反応混合物を水(100mL)に注ぎ、酢
酸エチル(150mL)−トルエン(20mL)で抽出
した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥、ろ過した。ろ液を減圧下に濃縮
し、残渣をアミノプロピル化シリカゲルクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒:酢酸エチル−ヘキサン)で精製し、ア
モルファスの[4−[2−(5−シアノ−2−メトキシ
ベンゼンスルホニルアミノ)エチル]−2’−メタンス
ルホニルビフェニル−3−イルオキシ]酢酸エチル
(2.96g)を得た。
Reference Example 6 Ethyl 5-cyano-N- [2] [4- [2- (5-cyano-2-methoxybenzenesulfonylamino) ethyl] -2'-methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] acetate N-N of-(3-hydroxy-2'-methanesulfonylbiphenyl-4-yl) ethyl] -2-methoxybenzenesulfonamide (5.72 g)
-N, N-diisopropylethylamine (2.46 mL) and ethyl bromoacetate (1.37 mL) were added to the dimethylformamide (57 mL) solution, and the mixture was stirred at 50 ° C for 15 hr. The reaction mixture was poured into water (100 mL) and extracted with ethyl acetate (150 mL) -toluene (20 mL). The organic layer was washed with water and saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and filtered. The filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by aminopropylated silica gel chromatography (elution solvent: ethyl acetate-hexane) to give amorphous [4- [2- (5-cyano-2-methoxybenzenesulfonylamino)]. Ethyl] -2'-methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] ethyl acetate (2.96 g) was obtained.

【0044】1H−NMR(CDCl3)δ ppm:
1.28(3H,t,J=6.9Hz),2.59(3
H,s),2.95(2H,t,J=6.6Hz),
3.30−3.60(2H,m),3.99(3H,
s),4.23(2H,q,J=6.9Hz),4.6
8(2H,s),5.43(1H,t,J=6.3H
z),6.95(1H,dd,J=7.6,1.6H
z),7.04(1H,d,J=1.6Hz),7.0
9(1H,d,J=8.5Hz),7.20(1H,
d,J=7.6Hz),7.36(1H,dd,J=
7.6,1.3Hz),7.57(1H,td,J=
7.6,1.3Hz),7.65(1H,td,J=
7.6,1.3Hz),7.80(1H,dd,J=
8.5,2.2Hz),8.20−8.25(2H,
m)
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ ppm:
1.28 (3H, t, J = 6.9Hz), 2.59 (3
H, s), 2.95 (2H, t, J = 6.6 Hz),
3.30-3.60 (2H, m), 3.99 (3H,
s), 4.23 (2H, q, J = 6.9Hz), 4.6
8 (2H, s), 5.43 (1H, t, J = 6.3H
z), 6.95 (1H, dd, J = 7.6, 1.6H
z), 7.04 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.0
9 (1H, d, J = 8.5Hz), 7.20 (1H,
d, J = 7.6 Hz), 7.36 (1H, dd, J =
7.6, 1.3 Hz), 7.57 (1H, td, J =
7.6, 1.3 Hz), 7.65 (1H, td, J =
7.6, 1.3 Hz), 7.80 (1H, dd, J =
8.5, 2.2 Hz), 8.20-8.25 (2H,
m)

【0045】(参考例7) [4−[2−(5−シアノ−2−ヒドロキシベンゼンス
ルホニルアミノ)エチル]−2’−メタンスルホニルビ
フェニル−3−イルオキシ]酢酸エチル [4−[2−(5−シアノ−2−メトキシベンゼンスル
ホニルアミノ)エチル]−2’−メタンスルホニルビフ
ェニル−3−イルオキシ]酢酸エチル(4.62g)の
N,N−ジメチルホルムアミド(40mL)溶液に塩化
リチウム(1.03g)を加え、140℃で2時間撹拌
した。反応混合物を室温に戻した後、酢酸エチル(60
mL)−トルエン(6mL)−1mol/L塩酸(32
mL)混合物に注いだ。有機層を分離し、有機層を1m
ol/L塩酸および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥、ろ過した。ろ液を減圧下に濃縮し、残
留物をアミノプロピル化シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出溶媒:酢酸−酢酸エチル)で精製し、無色
アモルファスの[4−[2−(5−シアノ−2−ヒドロ
キシベンゼンスルホニルアミノ)エチル]−2’−メタ
ンスルホニルビフェニル−3−イルオキシ]酢酸エチル
(3.67g)を得た。
Reference Example 7 Ethyl [4- [2- (5-cyano-2-hydroxybenzenesulfonylamino) ethyl] -2'-methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] acetate [4- [2- (5 -Cyano-2-methoxybenzenesulfonylamino) ethyl] -2'-methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] ethyl acetate (4.62 g) in N, N-dimethylformamide (40 mL) solution lithium chloride (1.03 g). Was added and the mixture was stirred at 140 ° C. for 2 hours. After returning the reaction mixture to room temperature, ethyl acetate (60
mL) -toluene (6 mL) -1 mol / L hydrochloric acid (32
mL) poured into the mixture. The organic layer is separated and the organic layer is 1m
The extract was washed with ol / L hydrochloric acid and saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and filtered. The filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by aminopropylated silica gel column chromatography (eluting solvent: acetic acid-ethyl acetate) to give colorless amorphous [4- [2- (5-cyano-2-hydroxybenzene). Sulfonylamino) ethyl] -2′-methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] ethyl acetate (3.67 g) was obtained.

【0046】1H−NMR(DMSO−d6)δ pp
m:1.14(3H,t,J=7.3Hz),2.71
(3H,s),2.75−2.82(2H,m),3.
07−3.16(2H,m),4.10(2H,q,J
=7.3Hz),4.75(2H,s),6.90−
6.95(2H,m),7.12(1H,d,J=8.
5Hz),7.20−7.30(1H,m),7.38
(1H,dd,J=7.6,1.3Hz),7.45−
7.60(1H,brs),7.65(1H,td,J
=7.6,1.3Hz),7.75(1H,td,J=
7.6,1.3Hz),7.87(1H,dd,J=
8.5,2.2Hz),8.01(1H,d,J=2.
2Hz),8.07(1H,dd,J=7.6,1.3
Hz),11.80−12.30(1H,br)
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ pp
m: 1.14 (3H, t, J = 7.3Hz), 2.71
(3H, s), 2.75-2.82 (2H, m), 3.
07-3.16 (2H, m), 4.10 (2H, q, J
= 7.3 Hz), 4.75 (2H, s), 6.90-
6.95 (2H, m), 7.12 (1H, d, J = 8.
5Hz), 7.20-7.30 (1H, m), 7.38
(1H, dd, J = 7.6, 1.3Hz), 7.45-
7.60 (1H, brs), 7.65 (1H, td, J
= 7.6, 1.3 Hz), 7.75 (1H, td, J =
7.6, 1.3 Hz), 7.87 (1H, dd, J =
8.5, 2.2 Hz, 8.01 (1H, d, J = 2.
2 Hz), 8.07 (1H, dd, J = 7.6, 1.3
Hz), 11.80-12.30 (1H, br)

【0047】(参考例8) [4−[2−(5−カルバミミドイル−2−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニルアミノ)エチル]−2’−メタンス
ルホニルビフェニル−3−イルオキシ]酢酸エチル [4−[2−(5−シアノ−2−ヒドロキシベンゼンス
ルホニルアミノ)エチル]−2’−メタンスルホニルビ
フェニル−3−イルオキシ]酢酸エチル(149mg)
の飽和塩化水素−エタノール(1.0mL)懸濁液を室
温下に3時間撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し
た。残渣のエタノール(1.0mL)溶液に酢酸アンモ
ニウム(206mg)を加え、室温下に13時間撹拌し
た。反応混合物を減圧下に濃縮して得た白色固体を水、
酢酸エチル−エタノールで順次擦りつぶし、白色粉末の
[4−[2−(5−カルバミミドイル−2−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニルアミノ)エチル]−2’−メタンス
ルホニルビフェニル−3−イルオキシ]酢酸エチル(1
41mg)を得た。
Reference Example 8 Ethyl [4- [2- (5-carbamimidoyl-2-hydroxybenzenesulfonylamino) ethyl] -2'-methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] acetate [4- [2- (5-Cyano-2-hydroxybenzenesulfonylamino) ethyl] -2'-methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] ethyl acetate (149 mg)
A saturated hydrogen chloride-ethanol (1.0 mL) suspension of was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure. Ammonium acetate (206 mg) was added to a solution of the residue in ethanol (1.0 mL), and the mixture was stirred at room temperature for 13 hours. The white solid obtained by concentrating the reaction mixture under reduced pressure was water,
The mixture was triturated with ethyl acetate-ethanol sequentially and a white powder of [4- [2- (5-carbamimidoyl-2-hydroxybenzenesulfonylamino) ethyl] -2'-methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] ethyl acetate (1
41 mg) was obtained.

【0048】1H−NMR(DMSO−d6)δ pp
m:1.13(3H,t,J=7.3Hz),2.72
(3H,s),2.75−2.85(2H,m),2.
90−3.00(2H,m),4.09(2H,q,J
=7.3Hz),4.76(2H,s),6.43(1
H,d,J=8.9Hz),6.90−6.95(2
H,m),7.20(1H,d,J=7.9Hz),
7.39(1H,dd,J=7.6,1.3Hz),
7.57(1H,dd,J=8.9,2.3Hz),
7.65(1H,td,J=7.6,1.3Hz),
7.74(1H,td,J=7.6,1.3Hz),
7.85−8.15(4H,m),8.45−8.80
(2H,br)
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ pp
m: 1.13 (3H, t, J = 7.3Hz), 2.72
(3H, s), 2.75-2.85 (2H, m), 2.
90-3.00 (2H, m), 4.09 (2H, q, J
= 7.3 Hz), 4.76 (2H, s), 6.43 (1
H, d, J = 8.9 Hz), 6.90-6.95 (2
H, m), 7.20 (1H, d, J = 7.9 Hz),
7.39 (1H, dd, J = 7.6, 1.3Hz),
7.57 (1H, dd, J = 8.9, 2.3Hz),
7.65 (1H, td, J = 7.6, 1.3Hz),
7.74 (1H, td, J = 7.6, 1.3Hz),
7.85-8.15 (4H, m), 8.45-8.80
(2H, br)

【0049】(参考例9) [4−[2−(5−カルバミミドイル−2−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニルアミノ)エチル]−2’−メタンス
ルホニルビフェニル−3−イルオキシ]酢酸・塩酸塩
(化合物1) [4−[2−(5−カルバミミドイル−2−ヒドロキシ
ベンゼンスルホニルアミノ)エチル]−2’−メタンス
ルホニルビフェニル−3−イルオキシ]酢酸エチル(2
90mg)のアセトニトリル(1.0mL)溶液に2m
ol/L水酸化ナトリウム水溶液(0.756mL)を
加え、室温下に30分間撹拌した。反応混合物に2mo
l/L塩酸(1.26mL)を加え、減圧下に濃縮し
た。残渣に水を加え、SAXに付し、水で洗浄し、10
%1mol/L塩酸−アセトニトリルで溶出した。溶出
液を減圧下に濃縮し、白色固体の[4−[2−(5−カ
ルバミミドイル−2−ヒドロキシベンゼンスルホニルア
ミノ)エチル]−2’−メタンスルホニルビフェニル−
3−イルオキシ]酢酸・塩酸塩(260mg)を得た。
Reference Example 9 [4- [2- (5-carbamimidoyl-2-hydroxybenzenesulfonylamino) ethyl] -2'-methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] acetic acid hydrochloride (Compound 1) Ethyl [4- [2- (5-carbamimidoyl-2-hydroxybenzenesulfonylamino) ethyl] -2'-methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] acetate (2
90 mg) in acetonitrile (1.0 mL) solution 2 m
ol / L aqueous sodium hydroxide solution (0.756 mL) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. 2mo in the reaction mixture
l / L hydrochloric acid (1.26 mL) was added, and the mixture was concentrated under reduced pressure. Water was added to the residue, which was subjected to SAX, washed with water, and
% Eluted with 1 mol / L hydrochloric acid-acetonitrile. The eluate was concentrated under reduced pressure to give a white solid, [4- [2- (5-carbamimidoyl-2-hydroxybenzenesulfonylamino) ethyl] -2'-methanesulfonylbiphenyl-.
3-yloxy] acetic acid hydrochloride (260 mg) was obtained.

【0050】1H−NMR(DMSO−d6)δ pp
m:2.73(3H,s),2.80(2H,t,J=
7.3Hz),3.10(2H,t,J=7.3H
z),4.65(2H,s),6.85−6.95(2
H,m),7.16(1H,d,J=7.6Hz),
7.23(1H,d,J=8.3Hz),7.37(1
H,dd,J=7.3,1.3Hz),7.66(1
H,td,J=7.6,1.3Hz),7.75(1
H,td,J=7.6,1.3Hz),7.89(1
H,dd,J=8.3,2.1Hz)8.08(1H,
dd,J=7.9,1.3Hz),8.17(1H,
d,J=2.1Hz),8.91(2H,brs),
9.28(2H,brs)
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ pp
m: 2.73 (3H, s), 2.80 (2H, t, J =
7.3 Hz), 3.10 (2H, t, J = 7.3H)
z), 4.65 (2H, s), 6.85-6.95 (2
H, m), 7.16 (1H, d, J = 7.6 Hz),
7.23 (1H, d, J = 8.3Hz), 7.37 (1
H, dd, J = 7.3, 1.3 Hz), 7.66 (1
H, td, J = 7.6, 1.3 Hz), 7.75 (1
H, td, J = 7.6, 1.3 Hz), 7.89 (1
H, dd, J = 8.3, 2.1 Hz) 8.08 (1H,
dd, J = 7.9, 1.3 Hz), 8.17 (1H,
d, J = 2.1 Hz), 8.91 (2H, brs),
9.28 (2H, brs)

【0051】(試験例1) 活性化血液凝固第X因子の阻害活性の測定 被験化合物として[4−[2−(5−カルバミミドイル
−2−ヒドロキシベンゼンスルホニルアミノ)エチル]
−2’−メタンスルホニルビフェニル−3−イルオキ
シ]酢酸・塩酸塩のジメチルスルホキシド溶液2.5μ
L、pH8.4の100mMトリス・200mM塩化ナ
トリウム緩衝液187.5μLおよび1mM S−22
22(第一化学薬品株式会社製)水溶液50μLを分注
し、ヒト活性化血液凝固第X因子(カルバイオケミ社
製)をゼラチン−グリシン緩衝溶液で0.6U/mLに
調製した溶液10μLを加えて、37℃で10分間イン
キュベートした。60%酢酸水溶液50μLを加えて反
応を停止し、吸光度(405nm)をマイクロプレート
リーダー(スペクトラマックス250,モレキュラーデ
バイス社製)を用いて測定した。
Test Example 1 Measurement of Inhibitory Activity of Activated Blood Coagulation Factor X As a test compound [4- [2- (5-carbamimidoyl-2-hydroxybenzenesulfonylamino) ethyl]
-2'-Methanesulfonylbiphenyl-3-yloxy] acetic acid / hydrochloride dimethyl sulfoxide solution 2.5μ
L, pH 8.4, 100 mM Tris / 200 mM sodium chloride buffer 187.5 μL and 1 mM S-22
22 (manufactured by Daiichi Pure Chemicals Co., Ltd.) was dispensed in an amount of 50 μL, and 10 μL of a solution of human activated blood coagulation factor X (manufactured by Calbio Chemie) adjusted to 0.6 U / mL with a gelatin-glycine buffer solution was added. Incubated at 37 ° C for 10 minutes. The reaction was stopped by adding 50 μL of 60% acetic acid aqueous solution, and the absorbance (405 nm) was measured using a microplate reader (Spectramax 250, manufactured by Molecular Device).

【0052】被験化合物溶液の代わりにジメチルスルホ
キシド2.5μLを加えたものをコントロールとし、ヒ
ト活性化血液凝固第X因子溶液の代わりにゼラチン−グ
リシン緩衝溶液10μLを加えたものをブランクとし
た。コントロールの吸光度を50%阻害するときの被験
化合物の濃度(IC50)を求め、活性化血液凝固第X因
子阻害活性の指標とした。その結果は表1に示した通り
である。
As a control, 2.5 μL of dimethylsulfoxide was added instead of the test compound solution, and as a blank, 10 μL of gelatin-glycine buffer solution was added instead of the human activated blood coagulation factor X solution. The concentration of the test compound (IC 50 ) at which the absorbance of the control was inhibited by 50% was determined and used as an index of the activated blood coagulation factor X inhibitory activity. The results are as shown in Table 1.

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明の製造方法により、前記式(V
I)で表される3−フェニル−2−シクロヘキセノン誘
導体を出発原料として前記式(I)で表されるビフェニ
ルエチルアミン誘導体を簡便かつ高収率で製造すること
ができる。さらに該ビフェニルエチルアミン誘導体
(I)を用いることにより、出発原料より極めて短い工
程数で、しかも収率よく前記式(VIII)で表される
5−アミジノ−2−ヒドロキシベンゼンスルホンアミド
誘導体を製造することができ、該ビフェニルエチルアミ
ン誘導体は活性化血液凝固第X因子阻害剤の製造中間体
として極めて有用である。
According to the manufacturing method of the present invention, the above formula (V
By using the 3-phenyl-2-cyclohexenone derivative represented by I) as a starting material, the biphenylethylamine derivative represented by the above formula (I) can be easily produced in high yield. Further, by using the biphenylethylamine derivative (I), the 5-amidino-2-hydroxybenzenesulfonamide derivative represented by the above formula (VIII) can be produced in a very short number of steps than in the starting material and in good yield. The biphenylethylamine derivative is extremely useful as an intermediate for producing an activated blood coagulation factor X inhibitor.

フロントページの続き (72)発明者 寺尾 嘉洋 長野県松本市岡田松岡字川端187−8ファ ンメード201 (72)発明者 鈴木 律 長野県南安曇郡豊科町大字豊科5462−9ア ズミノコートA101 (72)発明者 赤羽 敏 長野県松本市大字笹賀4246 Fターム(参考) 4H006 AA01 AA02 AB24 AC52 BE14 TA02 TB04 Continued front page    (72) Inventor Yoshihiro Terao             187-8 Kawabata, Matsuoka, Okada, Matsumoto City, Nagano Prefecture             Name 201 (72) Inventor Ritsu Suzuki             5462-9 Toyoshina, Toyoshina-cho, Minamiazumi-gun, Nagano Prefecture             Zumino Court A101 (72) Inventor Satoshi Akabane             4246 Sasaga, Matsumoto City, Nagano Prefecture F-term (reference) 4H006 AA01 AA02 AB24 AC52 BE14                       TA02 TB04

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 式(I) 【化1】 (式中、R1およびR2は、水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル、低級アルキルチオおよび低級アルキルスル
ホニルからなる群から独立して選択される基であり、R
3は、ハロゲン原子、低級アルキル、低級アルキルチオ
または低級アルキルスルホニル基である)で表される化
合物。
1. Formula (I): (In the formula, R 1 and R 2 are groups independently selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom, lower alkyl, lower alkylthio and lower alkylsulfonyl;
3 is a halogen atom, a lower alkyl, a lower alkylthio or a lower alkylsulfonyl group).
【請求項2】 R1およびR2が水素原子であり、R3
低級アルキルスルホニル基である、請求項1に記載の化
合物。
2. The compound according to claim 1, wherein R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 is a lower alkylsulfonyl group.
【請求項3】 式(II) 【化2】 (式中、R1およびR2は、水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル、低級アルキルチオおよび低級アルキルスル
ホニルからなる群から独立して選択される基であり、R
3は、ハロゲン原子、低級アルキル、低級アルキルチオ
または低級アルキルスルホニル基である)で表される化
合物と縮合剤とを反応させることにより、式(III) 【化3】 (式中、R1、R2およびR3は、上記定義の通りである)
で表される化合物を製し、該式(III)で表される化
合物とアンモニアとを反応させることにより、式(I
V) 【化4】 (式中、R1、R2およびR3は上記定義の通りである)
で表される化合物を製し、続いて該式(IV)で表され
る化合物を還元することを特徴とする、式(I) 【化5】 (式中、R1、R2およびR3は、上記定義の通りである)
で表される化合物の製造方法。
3. Formula (II): (In the formula, R 1 and R 2 are groups independently selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom, lower alkyl, lower alkylthio and lower alkylsulfonyl;
3 is a halogen atom, a lower alkyl, a lower alkylthio or a lower alkylsulfonyl group) and is reacted with a condensing agent to give a compound represented by the formula (III): (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above)
A compound represented by formula (I) is prepared by reacting the compound represented by formula (III) with ammonia.
V) [Chemical 4] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above)
A compound represented by the formula (I) embedded image is produced, and the compound represented by the formula (IV) is subsequently reduced. (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above)
The manufacturing method of the compound represented by.
【請求項4】 R1およびR2が水素原子であり、R3
低級アルキルスルホニル基である、請求項3に記載の製
造方法。
4. The production method according to claim 3, wherein R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 is a lower alkylsulfonyl group.
【請求項5】 式(V) 【化6】 (式中、R1およびR2は、水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル、低級アルキルチオおよび低級アルキルスル
ホニルからなる群から独立して選択される基であり、R
3は、ハロゲン原子、低級アルキル、低級アルキルチオ
または低級アルキルスルホニル基であり、R4は、カル
ボキシル基またはカルバモイル基である)で表される化
合物。
5. Formula (V): (In the formula, R 1 and R 2 are groups independently selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom, lower alkyl, lower alkylthio and lower alkylsulfonyl;
3 is a halogen atom, a lower alkyl, a lower alkylthio or a lower alkylsulfonyl group, and R 4 is a carboxyl group or a carbamoyl group).
【請求項6】 R1およびR2が水素原子であり、R3
低級アルキルスルホニル基である、請求項5に記載の化
合物。
6. The compound according to claim 5, wherein R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 is a lower alkylsulfonyl group.
【請求項7】 式(VI) 【化7】 (式中、R1およびR2は、水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル、低級アルキルチオおよび低級アルキルスル
ホニルからなる群から独立して選択される基であり、R
3は、ハロゲン原子、低級アルキル、低級アルキルチオ
または低級アルキルスルホニル基である)で表される化
合物と、式(VII) 【化8】 で表される化合物とを反応させることを特徴とする、式
(V) 【化9】 (式中、R1、R2およびR3は、上記定義の通りであり、
4は、カルボキシル基である)で表される化合物の製造
方法。
7. Formula (VI): (In the formula, R 1 and R 2 are groups independently selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom, lower alkyl, lower alkylthio and lower alkylsulfonyl;
3 is a halogen atom, a lower alkyl, a lower alkylthio or a lower alkylsulfonyl group) and a compound of the formula (VII) A compound represented by the formula (V): (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above,
R 4 is a carboxyl group).
【請求項8】 R1およびR2が水素原子であり、R3
低級アルキルスルホニル基である、請求項7に記載の製
造方法。
8. The production method according to claim 7, wherein R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 is a lower alkylsulfonyl group.
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