JP2001512466A - 芳香族ニトリルの製造法 - Google Patents

芳香族ニトリルの製造法

Info

Publication number
JP2001512466A
JP2001512466A JP53620398A JP53620398A JP2001512466A JP 2001512466 A JP2001512466 A JP 2001512466A JP 53620398 A JP53620398 A JP 53620398A JP 53620398 A JP53620398 A JP 53620398A JP 2001512466 A JP2001512466 A JP 2001512466A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alkyl
phenyl
atoms
substituted
optionally
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP53620398A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4320058B2 (ja
JP2001512466A5 (ja
Inventor
ロツク,マイケル−ハロルド
マルホルト,アルブレヒト
Original Assignee
バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト filed Critical バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
Publication of JP2001512466A publication Critical patent/JP2001512466A/ja
Publication of JP2001512466A5 publication Critical patent/JP2001512466A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4320058B2 publication Critical patent/JP4320058B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C253/00Preparation of carboxylic acid nitriles
    • C07C253/14Preparation of carboxylic acid nitriles by reaction of cyanides with halogen-containing compounds with replacement of halogen atoms by cyano groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C315/00Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
    • C07C315/04Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by reactions not involving the formation of sulfone or sulfoxide groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 本発明は、ニッケル触媒の存在下で、少なくとも1〜4個の炭素原子を有する可能な環式ケトンの存在下で処理することにより、クロロ芳香族化合物とアルカリ金属シアン化物から芳香族ニトリルを製造するための有利な方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 芳香族ニトリルの製造法 本発明は、対応するクロロ芳香族化合物から、シアン化物との反応により芳香 族ニトリルを製造するための方法に関する。置換ベンゾニトリルおよび他の芳香 族ニトリルは、医薬品および農業的に活性な化合物の製造に頻繁に使用されてい る中間体である。 アリールハライドは、例えばニッケル錯体のような触媒の存在下でアルカリ金 属シアン化物を使用して芳香族ニトリルに転換できることが知られている。Adv. in Chem.Series 132:Homogeneous CatalysisII,252-273(1974)は、アルカリ金属 シアン化物を用いたアリールハライドのニッケルが触媒するシアン化を詳細に記 載する。使用された触媒は、一般的に単座-または二座のアリールホスフィン配 位子を有するNi(0)またはNi(II)錯体であった。使用した溶媒はメタノールおよ びエタノールのようなアルコール、ジメチルホルムアミドのような二極性の非プ ロトン性溶媒であった。シアニドイオンの濃度を厳密に制御できる時のみ良い収 率で反応を行うことが可能である。アセトンは非置換クロロベンゼンのシアン化 にのみ溶媒として使用された。ここでは、58%の転換で82%の選択性が達成され 、そして望ましくない10%のカップリング生成物(ビフェニル)が得られた。工 業的規模で行われる方法には、これらは極めて好ましくない値である。後に触媒 は、より高いシアン化物濃度で不可逆的にシアン化されることが分かった(Bull. Chem.Soc.Jpn.61,1985(1988)およびJ.Organomet.Chem.173,335(1979)を参照にさ れたい)。 欧州特許出願公開第384 392号公報は、場合によりハロゲン−、ホルミル−ま たはトリフルオロメチル−により置換されたクロロ−またはブ ロモベンゼンの、塩化ニッケルからその場で調製される触媒の存在下でのシアン 化を記載する。この反応は無水の低級アルコールまたは二極性の非プロトン性溶 媒中で行われる。ここでも収量は不満足であることが多い。多くの場合に、さら なる欠点は脱ハロゲン化であり、これは副反応として進行する。好適な溶媒−ア セトニトリルはその毒性から、そしてテトラヒドロフランはペルオキシドを形成 するその傾向から、莫大な経費を費やして工業的規模でのみ取り扱うことができ る。 2-チオ-3-アミノ-クロロベンゼンに関しては、国際公開第96/11906号パンフレ ットに非プロトン性の極性溶媒中で、ホスフィンニッケル触媒の存在下でのシア ン化が記載されている。基質(substrate)の特異的置換パターンは言うまでもな く、11−22モル%のテトラキス-トリフェニル-ホスフィン-ニッケルは、非経済 的な高い触媒量を構成する。欧州特許出願公開第613 720号公報は、同様に芳香 族ニトリルの製造法を記載しており、ここで使用する好適な溶媒は、上記の欠点 を有するテトラヒドロフランである。 したがって本発明は、式 Ar−CN (I) [式中、 Arは、置換されたフェニルもしくは置換されたナフチルまたは場合により置換 されてもよいビフェニル、場合により置換されてもよく、融合した3−ないし5 −員の複素環を含むフェニルを表すか、あるいは5〜10員の環を含み、そして場 合により置換されてもよいヘタリールを表し、可能な置換基はC1−C12-アルキ ル、C1−C12-ハロゲノアルキル、C1−C12-アルコキシ、C1−C12-ハロゲノ アルコキシ、 C1−C6-アルキルスルホニル、C1−C6-ハロゲノアルキルスルホニル、C1− C12-アルキルカルボニル、C1−C12-アルコキシカルボニル、フッ素、ホルミ ル、ニトロおよびシアノから成る群から選択される最高5個の同一もしくは異な る置換基であり、C1−C12-アルキルに関してはその一部が1〜4個のC1−C6 -アルコキシ基により置換されてもよい] の芳香族ニトリルを、式 Ar−Cl (II) [式中、 Arは、式(I)で定義した通りである] のクロロ芳香族化合物の、ニッケル(0)および/またはニッケル(II)錯体の 存在下での、シアン化カリウムおよび/またはシアン化ナトリウムとの反応によ り製造する方法であって、この方法を少なくとも4個の炭素原子を有し場合によ っては環式であってもよいケトンの存在下で行うことを特徴とする方法を提供す る。 本発明に従い使用するケトンは、これまでに使用されて来た二極性の非プロト ン性溶媒と比較して、低い毒性および空中酸素に対するより高い安定性という利 点を有する。アセトンと比較すると、非置換クロロベンゼンのシアン化に本発明 の方法を使用する時、より高い転換でより良い選択性が達成され、そして各々の 場合で望ましくないカップリング生成物の形成がかなり少ない。その結果、本発 明の方法は工業的規模でより簡便に行うことができ、しかも芳香族ニトリルの製 造用の既知の方法よりも効果的である。 ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシおよびハロゲノアルキルスル ホニルにおいて、ハロゲンは例えばフッ素、塩素または臭素を表す。ハロゲノア ルキル、ハロゲノアルコキシおよびハロゲノアルキルスルホニルは1個の、1個 より多くの、または完全にハロゲン原子によりハロゲン化されてよい。 融合した3−ないし5−員の複素環を持つフェニルの場合、融合したヘテロ部 分は、例えば窒素および酸素から成る群から選択される1〜3個の原子を含むこ とができる。例には:ベンゾ-1,3-ジオキソリル、特に2,2-ジフルオロベンゾ-1, 3-ジオキソリ-5-イル、ベンゾ-1,4-ジオキシニル、特に2,2,3,3-テトラフルオロ ベンゾ-1,4-ジオキシニル、ベンゾフリル、2,3-ジヒドロベンゾフリル、インド リルおよび2,3-ジヒドロインドリルを含む。 5〜10員の環を含むヘタリールは、例えば窒素および酸素から成る群から選択 される1〜4個の原子を環に含むことができ、最大2個の酸素原子が存在する。 例にはピリジル、ピリミジル、プリニル、フリルおよびオキサゾリルを含む。 Arは好ましくは、置換されたフェニルもしくは置換されたナフチル、または場 合により置換されてもよいビフェニル、場合により置換されてもよく、融合した 3−ないし5−員の複素環を含むフェニルを表すか、あるいは5〜10員の環を含 み、しかも場合により置換されてもよいヘタリールを表し、可能な置換基はC1 −C8-アルキル、最高10個のフッ素原子を有するC1−C8-フルオロアルキル、 最高10個の塩素原子を有するC1−C8-クロロアルキル、1〜8個の炭素原子お よび全部で最高10個のフッ素および塩素原子を有するフルオロクロロアルキル、 C1−C8 -アルコキシ、最高10個のフッ素原子を有するC1−C8-フルオロアルコキシ、最 高10個の塩素原子を有するC1−C8-クロロアルコキシ、全部で最高10個のフッ 素原子および塩素原子を有するC1−C8-フルオロクロロアルコキシ、C1−C4- アルキルスルホニル、最高5個のフッ素原子を有するC1−C4-フルオロアルキ ルスルホニル、最高5個の塩素原子を有するC1−C4-クロロアルキルスルホニ ル、最高1〜4個の炭素原子および全部で最高5個のフッ素および塩素原子を有 するフルオロクロロアルキルスルホニル、C1−C4-アルキルカルボニル、C1− C4-アルコキシカルボニル、フッ素、ホルミル、ニトロまたはシアノから成る群 から選択される最高4個の同一もしくは異なる置換基であり、C1−C8-アルキ ルに関してはその一部が1〜3個のC1−C4-アルコキシ基により置換されても よい。 Arは特に好ましくは、1〜3個のフッ素原子、1〜2個のC1−C2-フルオロ アルキル基、1〜2個のC1−C2-フルオロアルコキシ基、1〜2個のC1−C2- フルオロアルキルスルホニル基または1〜2個のホルミル基により置換されてお り、そして場合によりさらに1〜2個のC1−C4-アルキル基により置換された フェニルを表す。 本発明に従い、使用される場合によっては環式であってもよいケトンは、好ま しくは4〜13個の炭素原子を有するものである。例には:メチルエチルケトン、 メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノ ンおよびジシクロヘキシルケトンを含む。特に好ましいのは、メチルエチルケト ンである。便宜上、ケトンはその沸点が、形成される式(I)のニトリルの沸点 と少なくとも20℃異なるように選択される。 本発明に従い使用されるケトンは、それぞれの場合で1モルのクロロ芳香族化 合物に基づき、例えば50〜2000ml、好ましくは100〜500mlの量で使用することが できる。 適当なニッケル(0)およびニッケル(II)錯体は、例えば触媒的に活性な式(III) 、 NiL123 n4 m (III) 式中、 i)nおよびmは互いに独立して、各々の場合にゼロまたは1を表し、そして L1、L2、L3およびL4は互いに独立してホスフィン配位子PQ3を表し、 式中、 Qは互いに独立して、各々の場合にC1−C8-アルキル、C3−C8-シクロ アルキル、場合によりC1−C8-アルキル-、C1−C4-ヒドロキシアルキル-、C1 −C6-アルコキシ-、ジ−C1−C4-アルキルアミノ-C1−C4-アルキル-、フッ 素-、ヒドロキシスルホニル-またはジ−C1−C4-アルキルアミノ-により置換さ れてもよいフェニルを表すか、あるいは L1およびL2ならびに/またはL3およびL4は、それぞれの場合に一緒にな って、二座の(bidentate)ホスフィン配位子Q2P−W−PQ2を表し、式中、 Wは、C1−C8-アルキレンまたは場合によりQ=フェニルに関して上記 に掲げた置換基の1つにより一置換されてもよいフェロセニルを表し、そして Qは、上記に定義した通りである、 であるか、あるいは式中、 ii)nおよびmは、それぞれ1を表し、そして L1およびL2は一緒になって、二座のホスフィン配位子Q12P-W1−P Q34を表し、式中、 Q1、Q2、Q3およびQ4は互いに独立して、ハロゲン-、C1−C4-アル キル-、C1−C4-ハロゲノアルキル-、シアノ-、アミノ-、C1−C4-アルキル- アミノ-、ジ-C1−C4-アルキル-アミノ-、C1−C4-アルコキシ-もしくはC1− C4-アルキルチオ-により置換されたフェニルまたは5〜10員の環およびN、O および/またはS原子を含有するヘタリールを表し、 W1は、メタロセンビラジカル、C3−C8-アルキレンまたは基-Ar1-(R) p-Ar1-を表し、式中、 Ar1は、フェニルまたは5〜10員の環およびN、Oおよび/またはS 原子を含むヘタリールを表し、 pは、ゼロまたは1を表し、そして Rは、場合により酸素および硫黄から成る群から選択される1〜3個のヘテロ原 子により中断されてもよいC1−C8-アルキレンを表し、 L3は、C1−C4-アルキルを表すか、または各々が場合により互いに独立 してC1−C8-アルキル、C1−C8-アルコキシ、C1−C8-アルキルチオ、C1− C8-ハロゲノアルキル、C1−C8-ハロゲノアルコキシ、ハロゲン、シアノ、ホ ルミル、C1−C8-アルキルカルボニル、C1−C8-アルコキシカルボニルにより 一ないし五置換されてもよいフェニル、フェニルカルボニル、フェノキ シ、フェノキシカルボニルまたはフェニル−C1−C4-アルキル-を表し、 そして L4は、塩素、臭素、ヨー素、C1−C4-アルキルまたは場合によりC1− C4-アルキル-により置換されてもよいアリールまたは5〜10員の環およびN、 Oおよび/またはS原子を含むヘタリールを表すか、あるいは L3およびL4は一緒になって、ジエンR1-CH-(CH2)q-CH=CH-R2を表し、式 中、 qは、1、2、3または4を表し、そして R1およびR2は各々の場合に互いに独立して、C1−C4-アルキルを表 すか、または一緒になってC1−C4-アルキレンを表す、 のいずれかの化合物である。 W1がメタロセンビラジカルを表すならば、フェロセンが好ましい。 式(III)の定義において、アリールは例えばフェニルもしくはナフチルを表 し、そしてヘテロアリールは例えばチエニル、ピリジル、フリル、ピロリル、N- (C1−C4-アルキル)-ピロリルもしくはチアゾリルを表す。 トリス-トリフェニルホスフィン-ニッケルは、式(III)の特に適するニッケ ル化合物である。 本発明の方法を行うために適するニッケル化合物の製造は、例えば国際公開第 96/11906号パンフレット、欧州特許出願公開第613 720号、同第384,392号公報お よびそれらに引用されている技術文献に記載されている。 例えば各々の場合で式(II)のクロロ芳香族化合物1モルあたり0.95 〜1.5モル、好ましくは1.0〜1.2モルのシアン化ナトリウムおよび/またはシア ン化カリウム、ならびに0.001〜0.1モル、好ましくは0.005〜0.1モルのニッケル 錯体を本発明の方法に使用することができる。 反応は例えば40〜120℃、好ましくは50〜100℃で行う。 本発明の方法は通常、大気圧下で行われる。減圧または加圧下で操作すること も可能である。 本発明の方法の有利な変法では、本発明に従い使用する溶媒中でニッケル(II) 前駆体から例えばマグネシウム、亜鉛またはマンガンのような卑金属を用いた還 元により、適当ならば過剰量の錯体配位子の存在下で、シアン化の直前にのみ調 製されるニッケル(0)錯体を使用する。 特に好適な変法では、ビス-トリフェニルホスフィン-ニッケルジクロライドが 無水ニッケルジクロライドおよびトリフェニルホスフィンから無水ジメチルホル ムアミド中で最初に製造される。減圧下での溶媒の留去により、次に本発明の溶 媒中での反応に使用する無水ニッケル(II)錯体を生じる。さらに活性化亜鉛末お よびトリフェニルホスフィンを加えることにより、活性化されたニッケル触媒を 生じる。次にクロロ芳香族化合物を加え、そして次に混合物を撹拌し、そしてア ルカリ金属シアン化物を加えた後に加熱する。 反応後に存在する反応混合物の処理は、例えば固体成分を濾過により除去し、 フィルターケーキを有機溶媒、例えば本発明で使用するケトンを用いて洗浄し、 有機相を合わせ、そしてそれらを蒸留で処理することにより行うことができる。 アセトン中でクロロベンゼンのシアン化カリウムを用いたシアン化は、あまり うまく行かないので(上記を参照にされたい)、少なくとも4個 の炭素原子を有するケトンを使用する時、反応が良好な収量で進行することは驚 くべきことである。さらにケトンが本発明に従い同じ触媒濃度および反応時間で 使用されるならば、かなり高い転換が得られることが多い。最後に、望ましくな いビフェニル型のカップリング生成物の形成は実質的に低い。実施例 実施例1 ビス-トリフェニルホスフィン-ニッケルジクロライド(触媒前駆体)の製造 30.1gの低−水ニッケルジクロライド(カール-フィッシャーに従い0.31重量% の水)および122.5gのトリフェニルホスフィンの混合物(200mlのジメチルホルム アミド:DMF中)を、窒素雰囲気下で90分間、還流で沸騰させた。次に溶媒を減圧 下で留去した。これにより172,2gのNiC12(PPh3)2を空気には安定であるが、湿気 には感受性の、19.6gのDMFを含有する固体として得た。さらに濃縮して156.5gの 緑色のほとんどDMFを含まない、同様に空気には安定であるが、湿気には感受性 の固体として得た。 両生成物(DMF-含有およびDMFを含まない)は、組成Ni(PPh3)3の触媒をその場で 調製するための前駆体として成功裏に使用することができる。DMFを含まない生 成物を使用した時、式(II)のクロロ芳香族化合物の約10%高い転換が観察された 。実施例2 4-トリフルオロメタンスルホニルベンゾニトリルの製造 a)メチルエチルケトン(MEK)中での本発明による方法 窒素雰囲気下で、4gのビス-トリフェニルホスフィン-ニッケルジクロライド 、3gのトリフェニルホスフィンおよび100mlのMEKの混合物を、室温で10分間撹 拌した。次に1.2gの活性化亜鉛末を加え、そして反応混合物を70℃で30分間撹拌 した。これに続いて混合物を25℃に冷却し、そして92gの4-クロロ-トリフルオ ロメタンスルホニルベンゼン溶液(50mlのMEK中)を滴下した。混合物を10分間撹 拌し、次に18.5gのシアン化ナトリウムを加え、そして反応混合物を65〜70℃で2 0時間撹拌した。この時間後の転換は、98%より高かった(GC)。RTに冷却した 後、混合物を濾過し、固体フィルター残渣を各回30mlのMEKで2回洗浄し、そし て合わせた有機相を減圧下で濃縮した。30cmのVigreuxカラムを介した減圧下で の分画、そして蒸留ブリッジの加熱により76g(理論値の85%)の4-トリフルオロ メタンスルホニルベンゾニトリルを白色固体として得た(0.2ミリバールでの沸 点:115℃)。カップリング生成物の形成は観察されなかった。 b)メチルイソブチルケトン(MIBK)中での本発明の方法 a)の方法を110gの4-クロロトリフルオロメタンスルホニルベンゼン(150ml のMIBK中)を使用して繰り返し、62.1g(理論値の59%)の4-トリフルオロメタン スルホニルベンゾニトリルを得た。20時間後の転換は約71%であった(GC)。カ ップリング生成物の形成は観察されなかった。 c)比較例 方法a)を繰り返したが、MEKの代わりに同容量のDMFを使用した。20時間後、 ガスクロマトグラフィーでは所望の4-トリフルオロメタンスルホニルベンゾニ トリルへのわずか15%の転換が示された。実施例3 4-トリフルオロメトキシベンゾニトリルの製造 a)MEK中での本発明の方法 窒素雰囲気下で、6.5gのビス-トリフェニルホスフィン-ニッケルジクロライド、 5gのトリフェニルホスフィンおよび120mlのMEK混合物を室温で10分間撹拌した 。次に1.9gの活性化亜鉛末を加え、そして反応混合物を70℃で30分間撹拌した。 これに続いて、混合物を25℃に冷却し、そして93.25gの1-クロロ-4-トリフルオ ロメトキシベンゼンを滴下した。混合物を10分間撹拌し、24gのシアン化ナトリ ウムを加え、そして反応混合物を65〜70℃で20時間撹拌した。転換は約75%であ った(GC)。室温に冷却した後、混合物を濾過し、固体のフィルター残渣を2回、 50mlのMEKで洗浄し、そして合わせた有機相を減圧下で濃縮した。真空蒸留によ り58.5g(理論値の66%)の4-トリフルオロメトキシベンゾニトリルが無色の液体 として得られた(120ミリバールでの沸点:80℃)。2.6%のカップリング生成物が 形成した。 b)比較例 方法a)を繰り返すが、MEKの代わりに同容量のアセトニトリルを使用した。 同じ反応時間の後、わずか約35%の転換が達成された(GC)。処理により29g( 理論値の32.5%)のトリフルオロメトキシベンゾニトリルが得られた。実施例4 5-フルオロ-2-メチルベンゾニトリルの製造 a)MEK中での本発明の方法 実施例3の方法により72.5gの2-クロロ-4-フルオロトルエン(100mlのMEK中)で 、46.7g(理論値の68%)の5-フルオロ-2-メチルベンゾニトリル(30ミリバール での沸点:110℃)を得た。20時間後、転換は約80%であった(GC)。1.2gのカップ リング生成物が形成した。 b)比較例 方法a)を繰り返したが、MEKの代わりに同容量のテトラヒドロフランを使用 した。同じ反応時間の後、わずか約44%の転換が達成された。処理により26.1g( 理論値の38%)の5-フルオロ-2-メチルベンゾニトリルを得た。実施例5 4-シアノ-2-トリフルオロメチルベンズアルデヒドの製造 実施例3の方法により、68gの4-クロロ-2-トリフルオロメチルベンズアルデヒ ド(100mlのジエチルケトン中)で、短い蒸留路の後に41.2g(理論値の63.4%)の 4-シアノ-2-トリフルオロメチルベンズアルデヒドを無色の固体(0.5ミリバール での沸点:95℃)として得た。20時間後、転換はほぼ完全(96%、GC)であった 。5%のカップリング生成物が形成 した。実施例6 3-フルオロ-2-メチルベンゾニトリルの製造 実施例3の方法により、72.25gの2-クロロ-6-フルオロトルエン(100m1のシク ロヘキサノン中)で、46.2g(理論値の68.5%)の3-フルオロ-2-メチルベンゾニ トリル(50ミリバールでの沸点:104℃)を得た。20時間後、転換は約90%(GC)で あった。2%のカップリング生成物が形成した。実施例7 4-トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造 実施例3の方法により、180.5gの4-クロロベンゾトリフルオロライド(200ml のMEK中)で、30cmのVigreuxカラムを通して分画し、そして蒸留ブリッジを加熱 した後、136.6g(理論値の79%)の4-トリフルオロメチルベンゾニトリルを無色 の固体として得た。2.2%のカップリング生成物が形成した。実施例8 3,5-ビス-(トリフルオロメチル)-ベンゾニトリルの製造 実施例3の方法により、124gの1-クロロ-3,5-ビス-(トリフルオロメチル)-ベ ンゼン(120mlのエチルメチルケトン中)で、61.4g(理論値の51.2%)の3,5-ビス -(トリフルオロメチル)-ベンゾニトリル(b.p.45mber:88℃)を得た。20時間後、 転換は約60%であった。4.5%のカップリング生成物が形成した。実施例9 3-ジエトキシメチル-ベンゾニトリルの製造 実施例3a)の方法により、107.25gの3-クロロ-ジエトキシメチル-ベンゼン( 100mlのMEK中)で、83.3g(理論値の81.2%)の3-ジエトキシメチル-べンゾニト リル(0.5バールでの沸点:110℃)を得た。4時間後、転換は95%であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 315/04 C07C 315/04 317/44 317/44 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,LS,M W,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY ,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM ,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY, CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,E S,FI,GB,GE,GH,GM,GW,HU,ID ,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ, LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD,M G,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT ,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL, TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,UZ,V N,YU,ZW

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式 Ar−CN (I) [式中、 Arは、置換されたフェニルもしくは置換されたナフチルまたは場合により置換 されてもよいビフェニル、場合により置換されてもよく、融合した3−ないし5 −員の複素環を含むフェニルを表すか、あるいは5〜10員の環を含み、そして場 合により置換されてもよいヘタリールを表し、可能な置換基はC1−C12-アルキ ル、C1−C12-ハロゲノアルキル、C1−C12-アルコキシ、C1−C12-ハロゲノ アルコキシ、C1−C6-アルキルスルホニル、C1−C6-ハロゲノアルキルスルホ ニル、C1−C12-アルキルカルボニル、C1−C12-アルコキシカルボニル、フッ 素、ホルミル、ニトロおよびシアノから成る群から選択される最高5個の同一も しくは異なる置換基であり、C1−C12-アルキルに関してはその一部が1〜4個 のC1−C6-アルコキシ基により置換されてもよい] の芳香族ニトリルを、式 Ar−Cl (II) [式中、 Arは、式(I)で定義した通りである] のクロロ芳香族化合物の、ニッケル(0)および/またはニッケル(II)錯体の 存在下での、シアン化カリウムおよび/またはシアン化ナトリウムとの反応によ り製造する方法であって、この方法を少なくとも4個の炭素原子を有し場合によ っては環式であってもよいケトンの存在下で行 うことを特徴とする方法。 2.式中、Arが、置換されたフェニルもしくは置換されたナフチル、または場合 により置換されてもよいビフェニル、場合により置換されてもよく、融合した3 −ないし5−員の複素環を含むフェニルを表すか、あるいは5〜10員の環を含み 、しかも場合により置換されてもよいヘタリールを表し、可能な置換基はC1− C8-アルキル、最高10個のフッ素原子を有するC1−C8-フルオロアルキル、最 高10個の塩素原子を有するC1−C8-クロロアルキル、1〜8個の炭素原子およ び全部で最高10個のフッ素および塩素原子を有するフルオロクロロアルキル、C1 −C8-アルコキシ、最高10個のフッ素原子を有するC1−C8-フルオロアルコキ シ、最高10個の塩素原子を有するC1−C8-クロロアルコキシ、全部で最高10個 のフッ素原子および塩素原子を有するC1−C8-フルオロクロロアルコキシ、C1 −C4-アルキルスルホニル、最高5個のフッ素原子を有するC1−C4-フルオロ アルキルスルホニル、最高5個の塩素原子を有するC1−C4-クロロアルキルス ルホニル、最高1〜4個の炭素原子および全部で最高5個のフッ素および塩素原 子を有するフルオロクロロアルキルスルホニル、C1−C4-アルキルカルボニル 、C1−C4-アルコキシカルボニル、フッ素、ホルミル、ニトロまたはシアノか ら成る群から選択される最高4個の同一もしくは異なる置換基であり、C1−C8 -アルキルに関してはその一部が1〜3個のC1−C4-アルコキシ基により置換さ れてもよいことを特徴とする、請求の範囲第1項に記載の方法。 3.式中、Arが、少なくとも1〜3個のフッ素原子、1〜2個のC1−C2-フル オロアルキル基、1〜2個のC1−C2-フルオロアルコキシ基、 1〜2個のC1−C2-フルオロアルキルスルホニル基または1〜2個のホルミル 基により置換されており、そして場合によりさらに1〜2個のC1−C4-アルキ ル基により置換されてもよいフェニルを表す、請求の範囲第1項または第2項に 記載の方法。 4.場合によっては環式であってもよいケトンが4〜13個の炭素原子を含有する ことを特徴とする、請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載の方法。 5.ケトンがメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、 シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびジシクロヘキシルケトンから成る群 から選択されることを特徴とする、請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに 記載の方法。 6.使用するニッケル(0)および/またはニッケル(II)錯体が、触媒的に活性な 式(III)、 NiL123 n4 m (III) [式中、 i)nおよびmは互いに独立して、各々の場合にゼロまたは1を表し、そして L1、L2、L3およびL4は互いに独立してホスフィン配位子PQ3を表し、 式中、 Qは互いに独立して、各々の場合にC1−C8-アルキル、C3-C8-シクロ アルキル、場合によりC1−C8-アルキル-、C1−C4-ヒドロキシアルキル-、C1 −C6-アルコキシ-、ジ−C1−C4-アルキルアミノ-C1−C4-アルキル-、フッ 素-、ヒドロキシスルホニル-またはジ−C1−C4-アルキルアミノ-により置換さ れてもよ いフェニルを表すか、あるいは L1およびL2ならびに/またはL3およびL4は、それぞれの場合に一緒にな って、二座のホスフィン配位子Q2P−W−PQ2を表し、式中、Wは、C1−C8 -アルキレンまたは場合によりQ=フェニル に関して上記に掲げた置換基の1つにより一置換されてもよいフェロセニ ルを表し、そして Qは、上記に定義した通りである、 であるか、あるいは式中、 ii)nおよびmは、それぞれ1を表し、そして L1およびL2は一緒に、二座のホスフィン配位子Q12P-W1−PQ34 を表し、式中、 Q1、Q2、Q3およびQ4は互いに独立して、ハロゲン-、C1−C4-アル キル-、C1−C4-ハロゲノアルキル-、シアノ-、アミノ-、C1−C4-アルキル- アミノ-、ジ−C1−C4-アルキル-アミノ-、C1−C4-アルコキシ-もしくはC1 −C4-アルキルチオ-により置換されたフェニルまたは5〜10員の環およびN、 Oおよび/またはS原子を含有するヘタリールを表し、 W1は、メタロセンビラジカル、C3−C8-アルキレンまたは基-Ar1-(R) p-Ar1-を表し、式中、 Ar1は、フェニルまたは5〜10員の環およびN、Oおよび/またはS 原子を含むヘタリールを表し、 pは、ゼロまたは1を表し、そして Rは、場合により酸素および硫黄から成る群から選択される1〜3個 のヘテロ原子により中断されてもよいC1−C8-ア ルキレンを表し、 L3は、C1−C4-アルキルを表すか、または各々が場合により互いに独立 してC1−C8-アルキル、C1−C8-アルコキシ、C1−C8-アルキルチオ、C1− C8-ハロゲノアルキル、C1−C8-ハロゲノアルコキシ、ハロゲン、シアノ、ホ ルミル、C1−C8-アルキルカルボニル、C1−C8-アルコキシカルボニルにより 一ないし五置換されてもよいフェニル、フェニルカルボニル、フェノキシ、フェ ノキシカルボニルまたはフェニル-C1−C4-アルキル-を表し、そして L4は、塩素、臭素、ヨー素、C1−C4-アルキルまたは場合によりC1− C4-アルキル-により置換されてもよいアリールまたは5〜10員の環およびN、 Oおよび/またはS原子を含むヘタリールを表すか、あるいは L3およびL4は一緒になって、ジエンR1-CH-(CH2)q-CH=CH-R2を表し、式 中、 qは、1、2、3または4を表し、そして R1およびR2は各々の場合に互いに独立して、C1−C4-アルキルを表 すか、または一緒になってC1−C4-アルキレンを表す] の化合物であることを特徴とする、請求の範囲第1項ないし第5項のいずれかに 記載の方法。 7.各々の場合に式(II)のクロロ芳香族化合物1モルあたり、0.95〜1.5モル のシアン化ナトリウムおよび/またはシアン化カリウム、ならびに0.001〜0.1モ ルのニッケル錯体を使用することを特徴とする、請求 の範囲第1項ないし第6項のいずれかに記載の方法。 8.40〜120℃で行うことを特徴とする、請求の範囲第1項ないし第7項のいず れかに記載の方法。 9.シアン化の直前にのみ、還元によりニッケル(II)前駆体から使用する溶媒 中で調製されるニッケル(0)錯体を使用することを特徴とする、請求の範囲第 1項ないし第8項のいずれかに記載の方法。 10.反応後に存在する反応混合物が、固体成分を濾過し、フィルターケーキを 有機溶媒で洗浄し、有機相を合わせ、そしてそれらを蒸留処理することにより処 理されることを特徴とする、請求の範囲第1項ないし第9項のいずれかに記載の 方法。
JP53620398A 1997-02-20 1998-02-09 芳香族ニトリルの製造法 Expired - Fee Related JP4320058B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19706648.8 1997-02-20
DE19706648A DE19706648A1 (de) 1997-02-20 1997-02-20 Verfahren zur Herstellung von aromatischen Nitrilen
PCT/EP1998/000696 WO1998037058A1 (de) 1997-02-20 1998-02-09 Verfahren zur herstellung von aromatischen nitrilen

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2001512466A true JP2001512466A (ja) 2001-08-21
JP2001512466A5 JP2001512466A5 (ja) 2005-08-11
JP4320058B2 JP4320058B2 (ja) 2009-08-26

Family

ID=7820892

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP53620398A Expired - Fee Related JP4320058B2 (ja) 1997-02-20 1998-02-09 芳香族ニトリルの製造法

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6162942A (ja)
EP (1) EP0968177B1 (ja)
JP (1) JP4320058B2 (ja)
KR (1) KR20000075464A (ja)
AU (1) AU6396198A (ja)
DE (2) DE19706648A1 (ja)
ES (1) ES2170483T3 (ja)
IL (1) IL131013A0 (ja)
WO (1) WO1998037058A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK1173431T4 (da) * 1999-04-14 2010-01-04 Lundbeck & Co As H Fremgangsmåde til fremstilling af citalopram
ITMI991579A1 (it) 1999-06-25 2001-01-15 Lundbeck & Co As H Metodo per la preparazione di citalopram
JP2001039938A (ja) * 1999-07-26 2001-02-13 Tosoh Corp シアノ化剤及びそれを用いたシアノ化合物の製造方法
DE102006042439A1 (de) 2006-09-09 2008-03-27 Saltigo Gmbh Verfahren zur katalytischen Herstellung von aromatischen oder heteroaromatischen Nitrilen
DE102006056208A1 (de) 2006-11-29 2008-06-05 Saltigo Gmbh Verfahren zur katalytischen Herstellung von aromatischen oder heteroaromatischen Nitrilen
DE102008022521A1 (de) 2008-05-07 2009-11-12 Bayer Schering Pharma Aktiengesellschaft 1,4-Diaryl-pyrimidopyridazin-2,5-dione und ihre Verwendung

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2010159A1 (en) * 1989-02-21 1990-08-21 James J. Maul Cyanation of haloaromatics utilizing catalysts generated in situ starting with nic1 or nic1 6h 0
EP0613719A1 (en) * 1993-03-05 1994-09-07 Duphar International Research B.V Nickel catalyst for the cyanation of aromatic halides
EP0613720A1 (en) * 1993-03-05 1994-09-07 Duphar International Research B.V Nickel catalyst for the cyanation of aromatic halides
JP2991054B2 (ja) * 1994-09-20 1999-12-20 住友化学工業株式会社 シアネート化合物の製造方法
KR100375164B1 (ko) * 1994-10-17 2003-11-28 노바티스 아게 치환된3-아미노벤조니트릴의제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
DE19706648A1 (de) 1998-08-27
ES2170483T3 (es) 2002-08-01
JP4320058B2 (ja) 2009-08-26
KR20000075464A (ko) 2000-12-15
EP0968177B1 (de) 2002-01-23
IL131013A0 (en) 2001-01-28
WO1998037058A1 (de) 1998-08-27
US6162942A (en) 2000-12-19
AU6396198A (en) 1998-09-09
DE59802898D1 (de) 2002-03-14
EP0968177A1 (de) 2000-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5284269B2 (ja) ルテニウムを主成分とした触媒錯体、およびオレフィンメタセシスのための前記錯体の使用
Oishi et al. Aromatic trifluoromethylation catalytic in copper
JP3833699B2 (ja) イミンの水素化法
JP2002506836A (ja) パラジウム触媒によるカップリング反応
Bouyssi et al. Easy access to 5-(E)-alkynylidene tetrahydro-2 furanones by a palladium catalyzed process
JP5684897B2 (ja) ピラゾールカルボン酸アミドの調製方法
JP4567450B2 (ja) 新規ニッケル−、パラジウム−及び白金−カルベン錯体、それらの製造及び触媒反応における使用
JP2001512466A (ja) 芳香族ニトリルの製造法
FR2830254A1 (fr) Nouvelles diphosphines, leurs complexes avec des metaux de transition et leur utilisation en synthese asymetrique
CN111925356B (zh) 手性喹啉-咪唑啉配体的合成方法及其应用
CA2470141A1 (fr) Procede de formation d'une liaison carbone-carbone ou carbone-heteroatome
JP2002541232A (ja) ビアリールの製法
JP6837068B2 (ja) 置換された2−アリール−エタノール類の製造方法
JP7240332B2 (ja) 水素及びフッ素及び/または塩素を含有したブタジエン骨格を有する化合物の製造方法
JPS6117820B2 (ja)
US20110184180A1 (en) Process for Preparing Aryl- and Heteroarylacetic Acid Derivatives
CN105237466A (zh) 一种合成三取代吡啶衍生物的方法
WO2015144832A1 (en) Process of production of 1-(5,5-dimethylcyclohex-1-en-1-yl)ethanone and 1-(5,5-dimethylcyclohex-6-en-1-yl)ethanone
JP3438084B2 (ja) 3,4−ジクロロベンゾニトリルの製造法
JP6572484B2 (ja) 水素及びフッ素及び/または塩素を含有したブタジエン骨格を有する化合物の製造方法
JP2004196710A (ja) 配位子及び不斉触媒
CN107011218A (zh) 一种氟氮型胺化试剂、其制备方法和应用
JPWO2005070876A1 (ja) エナンチオ選択的なエナミドのイミンへの求核付加反応方法とα−アミノ−γ−ケト酸エステルの合成方法
JP5988305B2 (ja) 光学活性α−ブロモベンゾイル酢酸エステル類の製造方法
JP4034040B2 (ja) 含フッ素ジエン化合物

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041130

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041130

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20070706

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070823

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070911

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20071210

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080121

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080208

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080206

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080221

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080317

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090526

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090601

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120605

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees