JP2001091918A - Method for manufacturing liquid crystal device - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal device

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JP2001091918A
JP2001091918A JP26600699A JP26600699A JP2001091918A JP 2001091918 A JP2001091918 A JP 2001091918A JP 26600699 A JP26600699 A JP 26600699A JP 26600699 A JP26600699 A JP 26600699A JP 2001091918 A JP2001091918 A JP 2001091918A
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JP
Japan
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substrate
liquid crystal
alignment film
wiring
crystal device
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JP26600699A
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Japanese (ja)
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Satoshi Hasegawa
敏 長谷川
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Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing technique capable of decreasing the damages of wiring of a liquid crystal device having reflection electrodes and wiring composed of metallic films consisting of soft metals. SOLUTION: Alignment layers 16 are formed so as to completely cover protective films 15 on a first mother substrate 11 as well as the wiring 14 and connecting terminals 150 of planned overhanging regions 11B. The alignment layers 16 are formed by printing of a polyimide resin by a flexographic printing method or the like, then baking the resin. The alignment layers 16 are formed so as to completely cover the planned overhanging regions 11B as well in addition to planned liquid crystal sealing regions 11A and are subjected to a rubbing treatment.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶装置の製造方法
に係り、特に、金属膜からなる反射電極及び配線を備え
た液晶装置の製造技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal device, and more particularly to a technology for manufacturing a liquid crystal device having a reflective electrode and a wiring made of a metal film.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、比較的小型の表示面積を備えた
液晶パネルを製造する場合には、マザーガラスなどと呼
ばれる大型の母基板の表面に複数のパネル予定領域を設
定し、このパネル予定領域毎に複数の電極及び配線を形
成し、これらの電極上に無機絶縁膜からなる保護膜を形
成した後、さらにポリイミド樹脂などからなる配向膜を
形成する。配向膜にはラビング処理が施され、液晶分子
に対する配向能が付与される。
2. Description of the Related Art Generally, when a liquid crystal panel having a relatively small display area is manufactured, a plurality of panel scheduled areas are set on the surface of a large mother substrate called mother glass or the like. A plurality of electrodes and wirings are formed each time, a protective film made of an inorganic insulating film is formed on these electrodes, and then an alignment film made of a polyimide resin or the like is formed. The alignment film is subjected to a rubbing treatment to give an alignment ability to liquid crystal molecules.

【0003】反射型の液晶パネルを製造する場合、一方
のパネル基板の表面に反射電極を形成し、他方のパネル
基板の表面に透明電極を形成して、反射電極と透明電極
との間に所定の駆動電圧を印加するように構成する場合
が主流となっている。この場合、反射電極は、アルミニ
ウム、或いは、アルミニウムに反射率を高めるための酸
化チタンや酸化ジルコニウムなどを添加してなる合金を
素材として形成される場合が多い。
When a reflective liquid crystal panel is manufactured, a reflective electrode is formed on the surface of one panel substrate, a transparent electrode is formed on the surface of the other panel substrate, and a predetermined electrode is formed between the reflective electrode and the transparent electrode. The mainstream is a configuration in which the drive voltage is applied. In this case, the reflective electrode is often formed of aluminum or an alloy obtained by adding titanium oxide, zirconium oxide, or the like to aluminum to increase the reflectance.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
に反射電極としてアルミニウムやアルミニウムを主体と
する合金を用いた場合、反射電極とともに形成される配
線もまた同材質で形成されることになる。通常、一方の
基板が他方の基板よりも張り出してなる張出領域の表面
に上記配線が引き出され、その先端部が外部端子部とな
る。しかし、配線を構成するアルミニウムからなる金属
膜は軟らかいため、製造工程中に配線が損傷する場合が
ある。特に、反射電極上に配向膜を形成した後、配向膜
の表面にラビング処理を施す場合、配向膜によって覆わ
れていない配線にラビングによって傷が付くことがあ
る。配線に傷ができると、断線が生じたり、電圧が印加
されることによる腐食(コロージョン、電蝕)が発生し
たりしやすくなり、液晶装置の信頼性が低下する。
When aluminum or an alloy mainly composed of aluminum is used as the reflective electrode as described above, the wiring formed together with the reflective electrode is formed of the same material. Usually, the wiring is drawn out to the surface of an overhang region where one substrate is overhanged from the other substrate, and the leading end portion becomes an external terminal portion. However, since the metal film made of aluminum constituting the wiring is soft, the wiring may be damaged during the manufacturing process. In particular, when rubbing treatment is performed on the surface of the alignment film after forming the alignment film on the reflective electrode, the wiring not covered with the alignment film may be damaged by rubbing. If the wiring is damaged, disconnection or corrosion (corrosion, electrolytic corrosion) due to application of a voltage is likely to occur, and the reliability of the liquid crystal device is reduced.

【0005】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、軟質金属からなる金属膜で構成さ
れた反射電極及び配線を備えた液晶装置において、配線
の損傷を低減できる製造技術を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal device having a reflective electrode and a wiring formed of a metal film made of a soft metal and a manufacturing technique capable of reducing damage to the wiring. Is to provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の液晶装置の製造方法は、表面に金属膜からな
る反射電極を備えた第1基板と、該第1基板に対向する
透明な第2基板とを有し、前記第1基板と前記第2基板
との間に液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法であっ
て、前記第1基板の表面に、前記反射電極に導電接続さ
れ、前記第1基板の張出領域上に設定された外部接続部
まで延長して外部端子部を構成する配線を前記反射電極
と同材質で形成する電極形成工程と、前記反射電極及び
前記配線を全て覆うように配向膜を形成し、該配向膜に
対してラビング処理を施す配向膜形成工程と、前記配向
膜のうち前記外部接続部を覆う部分を除去する配向膜除
去工程とを有することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention comprises a first substrate having a reflective electrode made of a metal film on a surface thereof, and a transparent substrate facing the first substrate. And a liquid crystal device sandwiching liquid crystal between the first substrate and the second substrate, wherein a conductive material is provided on the surface of the first substrate and the reflective electrode. An electrode forming step of connecting and forming a wiring forming an external terminal portion by using the same material as the reflective electrode, extending to an external connection portion set on the overhang region of the first substrate; Forming an alignment film so as to cover the entire wiring, and performing an rubbing process on the alignment film; and an alignment film removing step of removing a portion of the alignment film covering the external connection portion. It is characterized by the following.

【0007】この発明によれば、反射電極ばかりでな
く、配線をも全て覆うように配向膜を形成していること
により、配向膜に対するラビング処理を行っても、ラビ
ングによる配線の損傷や異物の付着を引き起こすことが
ないので、配線の断線や電蝕の発生を低減することがで
きる。
According to the present invention, since the alignment film is formed so as to cover not only the reflective electrode but also the wiring, even if rubbing is performed on the alignment film, the wiring may be damaged by rubbing or foreign matter may be removed. Since no adhesion is caused, disconnection of wiring and occurrence of electrolytic corrosion can be reduced.

【0008】また、本発明の液晶装置の製造方法は、表
面に金属膜からなる反射電極を備えた第1基板と、該第
1基板に対向する透明な第2基板とを有し、前記第1基
板と前記第2基板との間に液晶を挟持してなる液晶装置
の製造方法であって、前記第1基板に相当するパネル予
定領域を複数包含する第1母基板を用い、該第1母基板
の前記パネル予定領域毎に前記反射電極に導電接続さ
れ、前記第1基板の張出領域に相当する部分に設定され
た外部接続部まで延長して外部端子部を構成する配線を
前記反射電極と同材質で形成する電極形成工程と、前記
反射電極及び前記配線を全て覆うように配向膜を形成
し、該配向膜に対してラビング処理を施す配向膜形成工
程と、前記配向膜のうち前記外部接続部を覆う部分を除
去する工程とを有することを特徴とする。
Further, a method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention includes a first substrate provided with a reflective electrode made of a metal film on a surface thereof, and a transparent second substrate opposed to the first substrate. A method for manufacturing a liquid crystal device comprising a liquid crystal sandwiched between one substrate and said second substrate, comprising: using a first mother substrate including a plurality of panel scheduled regions corresponding to said first substrate; The wiring that is conductively connected to the reflective electrode for each of the panel scheduled regions of the mother substrate and extends to an external connection portion set at a portion corresponding to the overhang region of the first substrate to form an external terminal portion that reflects the wiring An electrode forming step of forming the same material as the electrode, an alignment film forming an alignment film so as to cover the reflective electrode and the wiring, and a rubbing process on the alignment film; Removing a portion covering the external connection portion. And wherein the door.

【0009】本発明において、前記電極形成工程におい
ては、前記第1母基板にアライメントマークを前記反射
電極及び前記配線とともに同材質にて形成し、前記配向
膜形成工程においては、前記配向膜を前記アライメント
マークが全て覆われるように形成することが好ましい。
In the present invention, in the electrode forming step, an alignment mark is formed on the first mother substrate together with the reflective electrode and the wiring using the same material, and in the alignment film forming step, the alignment film is It is preferable that the alignment mark is formed so as to cover the entire alignment mark.

【0010】この発明によれば、反射電極及び配線とと
もに、第1母基板上にアライメントマークを形成する場
合、配向膜によってアライメントマークが全て覆われる
ように形成することにより、配向膜に対するラビング処
理を行っても、アライメントマークが損傷を受けること
がなくなるので、製造工程中における第1母基板のアラ
イメントを支障なく、且つ、より正確に行うことができ
る。
According to the present invention, when the alignment mark is formed on the first mother substrate together with the reflection electrode and the wiring, the alignment mark is formed so as to cover the entire alignment mark, so that the rubbing process for the alignment film is performed. Even if the alignment is performed, the alignment marks will not be damaged, so that the alignment of the first mother substrate during the manufacturing process can be performed without any trouble and more accurately.

【0011】本発明において、前記配向膜形成工程にお
いては、前記配向膜を前記第1母基板の全表面に形成す
ることが好ましい。
In the present invention, in the step of forming an alignment film, it is preferable that the alignment film is formed on the entire surface of the first mother substrate.

【0012】この発明によれば、配向膜を第1母基板の
全表面に形成するようにしたことによって、第1母基板
上に形成された反射電極や配線をパネル予定領域の配列
や形状如何に拘わらず、常に一定の条件で配向膜形成工
程を実施することができるから、配向膜の形成パターン
に対する配慮や準備が不要になるとともに、上記の反射
電極や配線以外の、第1母基板上に形成したアライメン
トマーク等を形成した場合には、これらの損傷をも回避
することができる。
According to the present invention, the alignment film is formed on the entire surface of the first motherboard, so that the reflective electrodes and the wiring formed on the first motherboard can be arranged or arranged in the panel predetermined area according to the arrangement or shape. Irrespective of this, the alignment film forming step can be always performed under constant conditions, so that consideration and preparation for the alignment film formation pattern are not required, and the first mother substrate other than the above-described reflective electrodes and wirings is not required. In the case where an alignment mark or the like formed in the above is formed, such damage can also be avoided.

【0013】本発明において、前記反射電極及び前記配
線は、アルミニウム又はアルミニウムを主体とする合金
によって形成されることが好ましい。
In the present invention, it is preferable that the reflective electrode and the wiring are formed of aluminum or an alloy mainly containing aluminum.

【0014】この発明によれば、アルミニウム若しくは
アルミニウムを主体とする合金は、酸化されやすく、電
触も発生しやすく、しかも機械的損傷を受けやすく断線
しやすく、その上、温水などに溶出する特性を有するの
で、反射電極及び配線がこれらの材質で形成されている
場合には特に大きな効果を得ることができる。
According to the present invention, aluminum or an alloy mainly composed of aluminum is liable to be oxidized, easily susceptible to electric contact, is easily damaged by mechanical damage, is easily broken, and is eluted in hot water or the like. Therefore, a particularly great effect can be obtained when the reflective electrode and the wiring are formed of these materials.

【0015】本発明において、前記配向膜形成工程の後
に前記張出領域に対向する前記第2基板の部分を除去
し、前記張出領域を露出させる基板除去工程を有し、前
記配向膜除去工程における処理を、露出された前記張出
領域に対して施すことが好ましい。
In the present invention, there is provided a substrate removing step of removing a portion of the second substrate facing the overhanging region after the alignment film forming step and exposing the overhanging region. Is preferably applied to the exposed overhang region.

【0016】この発明によれば、基板貼りあわせ後に張
出領域を露出させた後に基板除去工程を行うことによっ
て張出領域上の配向膜を除去するようにしたことによ
り、張出領域上の配向膜だけを特にマスク等を用いるこ
となく容易に除去することができる。この場合、酸素プ
ラズマ処理を用いたアッシング工程によって配向膜を除
去することが望ましい。
According to the present invention, the alignment film on the overhanging region is removed by exposing the overhanging region after bonding the substrates and then performing the substrate removing step to remove the alignment film on the overhanging region. Only the film can be easily removed without using a mask or the like. In this case, it is desirable to remove the alignment film by an ashing process using oxygen plasma treatment.

【0017】本発明において、前記反射電極の表面に前
記外部端子部を避けて無機絶縁体からなる保護膜を形成
し、前記保護膜を完全に覆うように前記配向膜を形成す
ることが好ましい。この発明によれば、液晶パネルの上
下導通や不純物の液晶中への混入を防止する保護膜を、
外部端子部を避けて形成することにより、後工程におい
て外部端子部上から配向膜のみを除去すればよいため、
配向膜除去工程を容易に行うことができるとともに、配
向膜が保護膜を完全に覆うように形成されることにより
ラビング時においてラビング布などが保護膜に接触する
ことがなくなるので、ラビングムラを防止し、配向状態
を均一にすることができる。
In the present invention, it is preferable that a protective film made of an inorganic insulator is formed on the surface of the reflective electrode avoiding the external terminal portion, and the alignment film is formed so as to completely cover the protective film. According to the present invention, the protective film for preventing vertical conduction of the liquid crystal panel and mixing of impurities into the liquid crystal,
By forming avoiding the external terminal portion, since only the alignment film may be removed from the external terminal portion in a later step,
The alignment film removing step can be easily performed, and since the alignment film is formed so as to completely cover the protective film, the rubbing cloth or the like does not contact the protective film during rubbing, thereby preventing rubbing unevenness. In addition, the alignment state can be made uniform.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る液晶装置の製造方法の実施形態について詳細に説
明する。図1は本実施形態の液晶装置の製造方法におい
て用いる第1母基板11及び第2母基板12の表面構造
を模式的に示す概略平面図(a)及び(b)である。ま
た、図2は、本実施形態の製造工程の流れを示す概略説
明図(a)〜(h)である。さらに、図3は、本実施形
態の製造工程によって形成された液晶パネル100を示
す概略断面図(a)及び張出領域を中心として示す拡大
部分平面図(b)である。この実施形態においては、図
2(a)にも示すように第1母基板11に複数のパネル
予定領域11xが設定される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIGS. 1A and 1B are schematic plan views schematically showing the surface structures of a first mother substrate 11 and a second mother substrate 12 used in the method for manufacturing a liquid crystal device of the present embodiment. FIG. 2 is schematic explanatory diagrams (a) to (h) showing the flow of the manufacturing process of the present embodiment. Further, FIG. 3 is a schematic cross-sectional view (a) showing the liquid crystal panel 100 formed by the manufacturing process of the present embodiment, and an enlarged partial plan view (b) mainly showing the overhang region. In this embodiment, a plurality of scheduled panel regions 11x are set on the first mother substrate 11 as shown in FIG.

【0019】図1(a)に示すように、第1母基板11
には、アルミニウムがスパッタリング法や蒸着法によっ
て被着され、フォトリソグラフィ法によってパターニン
グされることにより、各パネル予定領域11xにそれぞ
れ複数の反射電極13、配線14及び接続端子150が
形成される。複数の反射電極13は各パネル予定領域1
1xの液晶封入予定領域11A内に形成される。図示し
ないが、反射電極13はそれぞれストライプ状であり、
相互に並列するように形成されている。複数の配線14
は各パネル予定領域11xの液晶封入予定領域11Aか
ら張出予定領域11Bへと引き出されるように形成され
る。接続端子150は、張出予定領域11Bに複数並列
するように形成される。
As shown in FIG. 1A, the first mother substrate 11
Is coated with aluminum by a sputtering method or a vapor deposition method, and is patterned by a photolithography method, so that a plurality of reflective electrodes 13, wirings 14, and connection terminals 150 are formed in each panel expected region 11x. The plurality of reflection electrodes 13 are arranged in each panel scheduled area 1.
It is formed in the 1x liquid crystal encapsulation scheduled area 11A. Although not shown, each of the reflection electrodes 13 has a stripe shape,
They are formed so as to be parallel to each other. Multiple wiring 14
Is formed so as to be drawn out from the liquid crystal encapsulation scheduled area 11A of each panel scheduled area 11x to the projected projected area 11B. The plurality of connection terminals 150 are formed so as to be arranged in parallel with the projected area 11B.

【0020】次に、液晶封入領域11Aの反射電極13
及び配線14の一部上にSiO、TiOなどの硬質
の無機絶縁体からなる保護膜15を、例えばフレキソ印
刷法などによってシリカスラリー液を塗布し、焼成する
ことにより形成する。この保護膜15はトップコート膜
とも呼ばれるものであり、後述する液晶パネル構造にお
いて透明電極と反射電極との間に塵埃が混入することに
よる電極間の短絡不良や基板から液晶層への不純物の溶
出を防止するためのものである。保護膜15は、張出予
定領域11Bを覆わないようなパターンであればよく、
図1(a)に示すように、図示縦方向に隣接する複数の
液晶封入予定領域11Aを一体に覆うように形成されて
いても構わない。
Next, the reflection electrode 13 in the liquid crystal sealing area 11A
In addition, a protective film 15 made of a hard inorganic insulator such as SiO 2 or TiO 2 is formed on a part of the wiring 14 by applying a silica slurry liquid by, for example, flexographic printing or the like and baking it. The protective film 15 is also called a top coat film. In a liquid crystal panel structure described later, short-circuit failure between electrodes due to dust being mixed between the transparent electrode and the reflective electrode, and elution of impurities from the substrate to the liquid crystal layer. It is for preventing. The protective film 15 may be any pattern as long as it does not cover the projected area 11B.
As shown in FIG. 1 (a), it may be formed so as to integrally cover a plurality of liquid crystal encapsulation planned areas 11A adjacent in the vertical direction in the figure.

【0021】次に、上記保護膜15並びに張出予定領域
11Bの配線14及び接続端子150を完全に覆うよう
に、配向膜16が形成される。配向膜16は、ポリイミ
ド樹脂をフレキソ印刷法などによって印刷し、焼成する
ことによって形成される。配向膜16は、基本的には液
晶封入予定領域11Aに加えて張出予定領域11Bをも
完全に覆うように形成されればよく、例えば、図示例の
ように図示縦方向に隣接する複数のパネル予定領域11
xを一体に覆うように形成されていても構わない。ま
た、図1(a)に示すように第1母基板11の表面にア
ライメント用のアライメントマーク11aが上記反射電
極13、配線14及び接続端子150と同時に同材質に
て形成されている場合には、このアライメントマーク1
1aをも覆うように形成されることが好ましい。例え
ば、第1母基板11の全表面を覆うように形成されてい
ても構わない。この場合にはパネル予定領域の配列、位
置、寸法などによって形成パターンを変化させる必要が
なくなる。
Next, an alignment film 16 is formed so as to completely cover the protective film 15 and the wirings 14 and the connection terminals 150 in the projected area 11B. The alignment film 16 is formed by printing a polyimide resin by a flexographic printing method or the like and baking it. The alignment film 16 may basically be formed so as to completely cover the projected area 11B in addition to the liquid crystal sealing intended area 11A. For example, as shown in the example of FIG. Panel scheduled area 11
It may be formed so as to integrally cover x. In addition, as shown in FIG. 1A, when an alignment mark 11a for alignment is formed on the surface of the first mother substrate 11 at the same time as the reflective electrode 13, the wiring 14, and the connection terminal 150 using the same material. , This alignment mark 1
Preferably, it is formed so as to cover also 1a. For example, it may be formed so as to cover the entire surface of the first motherboard 11. In this case, it is not necessary to change the formation pattern depending on the arrangement, position, dimensions, and the like of the panel scheduled area.

【0022】次に、適宜の長さを有する毛を表面に密集
した状態に備えたラビング布をローラの周面に貼り付け
てラビングローラを形成し、このラビングローラを回転
させ、基板表面を擦りながら移動させることにより、上
記配向膜16にラビング処理を施す。このとき、上記の
反射電極13、配線14及び接続端子150は全て保護
膜15や配向膜16によって覆われているため、ラビン
グローラによって擦られても傷が付くなどの損傷を受け
ることがない。
Next, a rubbing cloth provided with bristles having an appropriate length close to the surface is attached to the peripheral surface of the roller to form a rubbing roller, and the rubbing roller is rotated to rub the substrate surface. While moving, the alignment film 16 is subjected to a rubbing process. At this time, since the reflective electrode 13, the wiring 14, and the connection terminal 150 are all covered with the protective film 15 and the alignment film 16, even if they are rubbed by the rubbing roller, they are not damaged.

【0023】一方、図1(b)に示す第1母基板12に
ついても、上記液晶封入予定領域11Aと対応した液晶
封入予定領域12Aが複数設定され、この各液晶封入予
定領域12A内に、ITO(インジウムスズ酸化物)な
どからなる透明導電体で構成される多数の透明電極17
が形成される。透明電極17はそれぞれストライプ状に
形成され、相互に並列した状態で各領域にパターニング
される。また、透明電極17の上には上記と同様の配向
膜18が形成され、上記と同様にラビング処理が施され
る。
On the other hand, also in the first mother substrate 12 shown in FIG. 1B, a plurality of liquid crystal encapsulation areas 12A corresponding to the above liquid crystal encapsulation areas 11A are set. Numerous transparent electrodes 17 composed of a transparent conductor made of (indium tin oxide) or the like
Is formed. The transparent electrodes 17 are each formed in a stripe shape, and are patterned in respective regions in a state where they are arranged in parallel with each other. Further, an alignment film 18 similar to the above is formed on the transparent electrode 17, and a rubbing process is performed as described above.

【0024】上記のように形成された第1母基板11上
には、図1(a)に示すようにシール材19が各液晶封
入予定領域11Aを取り囲むように形成される。このよ
うに形成された各シール材19にはそれぞれ液晶封入口
10aが形成される。第1母基板11は、図2(b)及
び(c)に示すようにシール材19を介して第2母基板
12に貼りあわされる。そして、その貼り合わせ状態が
所定の基板間ギャップ(例えば5〜10μm程度)にな
るように加圧され、この状態で、加熱若しくは光照射等
が施されてシール材19が硬化される。このようにして
図2(c)に示す母パネル10が形成される。
On the first mother substrate 11 formed as described above, as shown in FIG. 1A, a sealing material 19 is formed so as to surround each liquid crystal enclosing area 11A. Each sealing material 19 thus formed has a liquid crystal sealing opening 10a. The first motherboard 11 is bonded to the second motherboard 12 via the sealing material 19 as shown in FIGS. 2B and 2C. Then, pressure is applied so that the bonding state becomes a predetermined gap between the substrates (for example, about 5 to 10 μm), and in this state, heating or light irradiation is performed to cure the sealing material 19. Thus, the mother panel 10 shown in FIG. 2C is formed.

【0025】次に、図2(d)に示すように、母パネル
10を短冊状に切断(スクライブ・ブレイク)して、短
冊状パネル20にする。この短冊状パネル20にするこ
とによって、図1(a)に示すシール材19の液晶注入
口19aが露出するので、液晶注入口19aから液晶を
注入する。液晶の注入は、公知のように減圧下にて液晶
注入口19aを液晶中に浸漬するか又は液晶注入口19
aに液晶を滴下することにより、液晶注入口19aを液
晶によって閉鎖し、この状態で周囲圧力を大気圧に向け
て上昇させることにより、内外圧力差によって液晶をパ
ネル内に進入させることによって行う。そして、液晶注
入が完了すると、上記の液晶注入口19aを封止樹脂に
よって封止して液晶をシール材19の内側に閉じ込め
る。
Next, as shown in FIG. 2D, the mother panel 10 is cut into strips (scribe-break) to form strip panels 20. By forming the strip-shaped panel 20, the liquid crystal injection port 19a of the sealing material 19 shown in FIG. 1A is exposed, and the liquid crystal is injected from the liquid crystal injection port 19a. The liquid crystal can be injected by immersing the liquid crystal injection port 19a in the liquid crystal under reduced pressure or
The liquid crystal is injected into the panel by closing the liquid crystal injection port 19a with the liquid crystal by dropping the liquid crystal into the liquid crystal a, and increasing the ambient pressure toward the atmospheric pressure in this state, thereby causing the liquid crystal to enter the panel by the difference between the inside and outside pressures. When the liquid crystal injection is completed, the liquid crystal injection port 19 a is sealed with a sealing resin to confine the liquid crystal inside the sealant 19.

【0026】次に、図2(d)に示す短冊状パネル20
に対して、第2母基板12の一部を図示のように切断除
去し、図2(e)に示すように第1母基板11における
上記張出予定領域11Bであった張出領域11B’を張
り出した状態に形成する。さらに、この短冊状パネル2
0を個々の液晶封入予定領域11A、12A毎に切断し
て、個々の液晶パネル100に分離する。この状態で
は、液晶パネル100の断面を示す図3(a)に示され
ているように、第1母基板11の一部である基板110
の外縁部が第2母基板12の一部である基板120の外
縁部よりも外側に張り出して張出領域11B’となって
いる。そして、この張出領域11B’の表面には上述の
ように複数の配線14が引き出され、これらを配向膜1
6が被覆している。
Next, the rectangular panel 20 shown in FIG.
On the other hand, a part of the second motherboard 12 is cut and removed as shown in the figure, and as shown in FIG. Are formed in a protruding state. Furthermore, this strip-shaped panel 2
0 is cut into each of the liquid crystal encapsulation scheduled areas 11A and 12A, and separated into individual liquid crystal panels 100. In this state, as shown in FIG. 3A showing a cross section of the liquid crystal panel 100, a substrate 110 which is a part of the first mother substrate 11 is provided.
Of the substrate 120, which is a part of the second motherboard 12, extends outside the outer edge of the substrate 120 to form an overhang region 11B '. Then, a plurality of wirings 14 are drawn out on the surface of the overhang region 11B 'as described above, and these are connected to the alignment film 1B.
6 are coated.

【0027】また、図3(b)には、張出領域11B’
近傍の液晶パネル100の平面図を示す。基板110と
基板120とが相互に貼り合わされた液晶封入領域11
A’(上述の液晶封入予定領域11Aに相当する。)に
は、反射電極13に導電接続されたアルミニウムからな
る引出配線14aが張出領域11B’上へと引き出され
ている。
FIG. 3B shows the overhang area 11B '.
FIG. 2 shows a plan view of a liquid crystal panel 100 in the vicinity. Liquid crystal sealed region 11 in which substrate 110 and substrate 120 are bonded to each other
In A ′ (corresponding to the above-described liquid crystal encapsulation scheduled area 11A), an extraction wiring 14a made of aluminum and conductively connected to the reflective electrode 13 is extended to the overhang area 11B ′.

【0028】また、基板110と基板120との間に配
置されたシール材19の外側には、シール材19とほぼ
同様の樹脂剤中に導電粒子(例えば樹脂球の表面に鍍金
処理を施したもの)を分散させた上下導通材21が配置
されている。上下導通材21は、上記の第1母基板11
と第2母基板12とが貼り合わされ、加圧されたとき、
上記導電粒子によってセル厚さ方向(基板厚さ方向)に
のみ導電性を呈するように構成された異方性導電体であ
る。
On the outside of the sealing material 19 disposed between the substrate 110 and the substrate 120, conductive particles (for example, plating is applied to the surface of a resin ball in a resin material substantially similar to the sealing material 19). ) Are arranged. The vertical conductive member 21 is formed of the first mother substrate 11
And the second motherboard 12 are bonded together and when pressed,
An anisotropic conductor configured to exhibit conductivity only in the cell thickness direction (substrate thickness direction) by the conductive particles.

【0029】この上下導通材21が基板110と接触す
る部分には、上記反射電極13とともに形成されたアル
ミニウムからなる連結配線14bの基端部が形成されて
いる。連結配線14bはこの上下導通材21と接触する
基端部から張出領域11B’上に伸びている。一方、上
下導通材21が基板120と接触する部分には、透明電
極17と一体に形成された透明導電体からなる配線17
aの先端部が形成されている。この結果、基板120の
表面に形成された透明電極17と、張出領域11B’上
の連結配線14bとは、上下導通材21を介して導電接
続されていることになる。
A base end of a connecting wiring 14b made of aluminum and formed together with the reflection electrode 13 is formed at a portion where the vertical conductive material 21 contacts the substrate 110. The connection wiring 14b extends from the base end in contact with the vertical conductive material 21 onto the overhang region 11B '. On the other hand, a wiring 17 made of a transparent conductor integrally formed with the transparent electrode 17 is provided at a portion where the vertical conductive material 21 contacts the substrate 120.
a is formed. As a result, the transparent electrode 17 formed on the surface of the substrate 120 and the connection wiring 14b on the overhang region 11B 'are conductively connected via the vertical conductive material 21.

【0030】なお、本実施形態とは異なり、シール材1
9自体に導電粒子を分散させ、異方性導電体として形成
することによって、上記の上下導通材21を不要にする
ことも可能である。すなわち、シール材19の一部によ
って上記の上下導通材21の役割をさせるのである。
Note that, unlike the present embodiment, the sealing material 1
By dispersing conductive particles in 9 itself and forming it as an anisotropic conductor, it is also possible to make the above-mentioned vertical conducting material 21 unnecessary. That is, a part of the sealing material 19 serves as the above-mentioned vertical conductive material 21.

【0031】上記のようにして液晶パネル100が完成
すると、液晶パネル100全体を純水等によって洗浄す
る。この場合、例えば温水などを用いて洗浄を行って
も、液晶パネル100の張出領域11B’上の配線14
は配向膜16によって被覆されているため、配線14の
溶出や損傷を避けることができる。その後、図2(f)
に示すように、液晶パネルにOプラズマを接触させて
アッシングを行い、張出領域11B’上に露出した配向
膜16を分解除去する。この工程は、例えば、窒素ガス
やArガスなどの不活性ガス中に酸素ガスを混ぜて高電
界を印加してプラズマ化し、このプラズマ化された活性
ガスを張出領域11B’上に吹付ける大気圧プラズマ装
置によって行われることが好ましい。
When the liquid crystal panel 100 is completed as described above, the entire liquid crystal panel 100 is washed with pure water or the like. In this case, even if cleaning is performed using, for example, hot water, the wiring 14 on the overhang region 11B ′ of the liquid crystal panel 100 is
Is covered with the alignment film 16, so that the elution and damage of the wiring 14 can be avoided. Then, FIG.
As shown in FIG. 7, ashing is performed by bringing O 2 plasma into contact with the liquid crystal panel to decompose and remove the alignment film 16 exposed on the overhang region 11B ′. In this step, for example, an oxygen gas is mixed into an inert gas such as a nitrogen gas or an Ar gas, a high electric field is applied to generate a plasma, and the plasma-converted active gas is sprayed onto the overhang region 11B ′. It is preferably performed by a pressure plasma device.

【0032】この場合、図3(b)に示すように、張出
領域11B’のうち、電子部品や配線部材を導電接続す
るために必要な部分は、図示の外部接続部11Cだけで
ある。したがって、この工程において、張出領域11
B’に形成された配向膜16のすべてを除去するのでは
なく、外部接続部11Cに形成された配向膜16のみを
除去してもよい。このようにすれば、外部接続部11C
以外の部分に形成された配線14が配向膜16によって
覆われたままとなるので、配線の変質や損傷をより良好
に防止することができる。逆に、この工程において張出
領域11B’上に露出した配向膜16のすべてを除去す
るようにすれば、液晶パネル100をそのままアッシン
グ装置内等に入れて処理すれば済むので、マスク形成な
どの工程を省くことができ、取り扱いが簡単になる。
In this case, as shown in FIG. 3 (b), only the external connection portion 11C shown in the overhang region 11B 'is necessary for conductively connecting electronic components and wiring members. Therefore, in this step, the overhang area 11
Instead of removing all of the alignment film 16 formed on B ′, only the alignment film 16 formed on the external connection portion 11C may be removed. By doing so, the external connection portion 11C
Since the wirings 14 formed in other portions remain covered with the alignment film 16, the deterioration and damage of the wirings can be better prevented. Conversely, if all of the alignment film 16 exposed on the overhang region 11B 'is removed in this step, the liquid crystal panel 100 can be put into an ashing device or the like as it is, and the processing can be performed. The process can be omitted, and the handling is simplified.

【0033】次に、図2(g)に示すように、張出領域
11B’上に形成された配線14に対して検査プローブ
131を接触させて電圧を印加し、検査装置130によ
って液晶パネルの点灯検査を行う。上述のように配線1
4は基板110上の反射電極13及び基板120上の透
明電極17にそれぞれ導電接続されているので、張出領
域11Bに引き出されている配線14に所定の電圧を印
加することによって、反射電極13と透明電極14との
間に挟持された液晶部分(画素領域)が所定の電界を受
け、あらかじめ設計した通りに動作するか否か(すなわ
ち点灯するか否か)を試験することができる。
Next, as shown in FIG. 2 (g), a voltage is applied by bringing the inspection probe 131 into contact with the wiring 14 formed on the overhang region 11B ', and the inspection device 130 applies a voltage to the liquid crystal panel. Perform a lighting test. Wiring 1 as described above
4 is electrically conductively connected to the reflective electrode 13 on the substrate 110 and the transparent electrode 17 on the substrate 120, respectively. It is possible to test whether or not the liquid crystal portion (pixel region) sandwiched between the pixel and the transparent electrode 14 receives a predetermined electric field and operates as designed in advance (that is, whether or not to light).

【0034】上記の図2(g)に示す点灯検査が終了す
ると、上記のように構成された液晶パネル100に対し
て、電子部品や配線部材を実装する。ここで、通常、電
子部品や配線部材の実装工程に先立って、液晶パネル1
00は再び洗浄される。そして、図2(h)に示すよう
に、電子部品140を張出領域11B’上に実装する。
電子部品140は例えば液晶駆動回路を内蔵した集積回
路チップであり、図3に示す外部接続部11Cにおい
て、その図示しない接続端子が配線14に導電接続され
るように実装される。例えば、配線14の端部上に異方
性導電フィルムを接着し、この異方性導電フィルムを介
して外部接続部11Cに電子部品140を熱圧着して、
異方性導電フィルムの厚さ方向にのみ導電接続する性質
を利用して電子部品140の各接続端子と、多数の配線
14とが確実に導電接続されるようにする。
When the lighting test shown in FIG. 2G is completed, electronic components and wiring members are mounted on the liquid crystal panel 100 configured as described above. Here, usually, prior to the mounting process of the electronic components and the wiring members, the liquid crystal panel 1 is mounted.
00 is washed again. Then, as shown in FIG. 2H, the electronic component 140 is mounted on the overhang area 11B ′.
The electronic component 140 is, for example, an integrated circuit chip having a built-in liquid crystal drive circuit, and is mounted in the external connection portion 11C shown in FIG. For example, an anisotropic conductive film is adhered on the end of the wiring 14, and the electronic component 140 is thermocompression-bonded to the external connection portion 11C via the anisotropic conductive film.
Utilizing the property of conductive connection only in the thickness direction of the anisotropic conductive film, each connection terminal of the electronic component 140 and a large number of wirings 14 are reliably conductively connected.

【0035】その後、例えば、図3(b)に示す外部端
子150にフレキシブル配線基板などの配線部材を導電
接続し、最後に、電子部品140や配線部材の上から張
出領域11B’上をシリコーン樹脂などによって樹脂モ
ールドする。
Thereafter, for example, a wiring member such as a flexible wiring board is conductively connected to the external terminal 150 shown in FIG. 3B, and finally, the electronic component 140 and the wiring member are covered with silicone over the overhang region 11B '. Resin molding with resin or the like.

【0036】以上説明した本実施形態によれば、配向膜
16によって張出領域11B’を被覆した状態で各製造
工程を順次実行し、最終的に張出領域11B’を他の部
材(電子部品や配線部材)に電気的に接続する前に、少
なくとも外部接続部11Cに形成された配向膜16を除
去した上で、実装を行う。したがって、張出領域11
B’上に形成された配線にラビング処理時などにおいて
傷が付きにくく、また異物も付着しにくくなるため、配
線の電蝕、その他の配線不良が起こりにくい。特に、配
線がアルミニウム或いはその合金によって形成されてい
る場合には電蝕が発生しやすく、酸化が起こりやすく、
傷が付きにくいために本実施形態は非常に有効である。
According to the present embodiment described above, each manufacturing process is sequentially performed in a state where the overhang region 11B 'is covered with the alignment film 16, and finally the overhang region 11B' is connected to another member (electronic component). Before electrical connection to the external connection portion 11C, mounting is performed after at least the alignment film 16 formed on the external connection portion 11C is removed. Therefore, the overhang area 11
Since the wiring formed on B 'is hardly scratched during rubbing treatment or the like, and a foreign substance is hardly adhered to the wiring, electrical corrosion of the wiring and other wiring defects are unlikely to occur. In particular, when the wiring is formed of aluminum or its alloy, electric corrosion is easily generated, and oxidation is easily generated.
This embodiment is very effective because it is hardly damaged.

【0037】また、アルミニウムやその合金からなる薄
膜で構成される配線は60度程度の温水によっても容易
に溶解してしまう特性を有しているため、本実施形態の
ように配線が配向膜によって被覆されている状態にある
ときには、配線が溶解する危険性を考慮することなく、
洗浄作業を十分に行うことができる。
Further, since the wiring composed of a thin film made of aluminum or its alloy has the property of being easily dissolved even by warm water of about 60 degrees, the wiring is formed by an alignment film as in this embodiment. When covered, do not consider the risk of melting the wiring,
The cleaning operation can be sufficiently performed.

【0038】なお、本実施形態では、保護膜15が液晶
封入領域11A’に限定して形成されていることによっ
て、後工程において張出領域11B’上(或いは、外部
接続部11C上)から配向膜16のみを除去すれば足り
るので、配向膜の除去工程を容易に行うことができる。
In the present embodiment, since the protective film 15 is formed only in the liquid crystal enclosing region 11A ', alignment is performed from the overhang region 11B' (or from the external connection portion 11C) in a later step. Since it is sufficient to remove only the film 16, the step of removing the alignment film can be easily performed.

【0039】また、保護膜15は配向膜16によって完
全に覆われるように、すなわち、保護膜15の外縁部が
必ず配向膜16によって覆われているように形成されて
いるので、ラビング時にラビングローラの表面が保護膜
15に接触することがなくなる。したがって、ラビング
布の表面が保護膜15によって影響を受け、配向膜16
に対するラビングムラが発生することを防止できる。特
に、保護膜15を印刷法(例えばフレキソ印刷)によっ
て形成する場合、保護膜15の外縁部は局所的に厚く形
成されるため、従来の方法では、この外縁部によってラ
ビング布にくせが付き、ラビングムラが生ずることがあ
った。本実施形態では保護膜15の外縁部が配向膜16
によって覆われていることにより、このようなラビング
ムラによる液晶の配向状態のばらつきを低減することが
できる。
Further, since the protective film 15 is formed so as to be completely covered by the alignment film 16, that is, the outer edge of the protective film 15 is always covered by the alignment film 16, the rubbing roller is used during rubbing. Does not contact the protective film 15. Therefore, the surface of the rubbing cloth is affected by the protective film 15 and the alignment film 16
Rubbing unevenness can be prevented from occurring. In particular, when the protective film 15 is formed by a printing method (for example, flexographic printing), since the outer edge of the protective film 15 is locally thick, the rubbing cloth is habitated by the outer edge in the conventional method, Rubbing unevenness sometimes occurred. In this embodiment, the outer edge of the protective film 15 is
By being covered by rubbing, it is possible to reduce the variation in the alignment state of the liquid crystal due to such rubbing unevenness.

【0040】[液晶装置の細部構造] 以上説明した実
施形態においては、液晶装置の表示態様を向上させるた
めに、反射電極の表面に微細な凹凸形状を形成し、外光
が反射電極の表面である程度散乱されるように構成する
ことが好ましい。反射電極の表面が平坦な鏡面である
と、外光の正反射が視認される方位から見たときには背
景の写りこみや光源光による幻惑が視認性を悪化させ、
正反射が視認されない方位から見た場合には表示が暗く
見えてしまうからである。反射電極の表面に微細な凹凸
形状を設けた構造としては、図5(a)及び(b)に示
すものがある。
[Detailed Structure of Liquid Crystal Device] In the embodiment described above, in order to improve the display mode of the liquid crystal device, fine irregularities are formed on the surface of the reflective electrode, and external light is generated on the surface of the reflective electrode. It is preferable to configure so that the light is scattered to some extent. If the surface of the reflective electrode is a flat mirror surface, when viewed from the direction in which the specular reflection of external light is viewed, the reflection of the background and the illusion caused by the light from the light source deteriorate visibility,
This is because the display looks dark when viewed from an azimuth where regular reflection is not visually recognized. FIGS. 5A and 5B show a structure in which fine irregularities are provided on the surface of the reflective electrode.

【0041】図5(a)に示す構造においては、第1母
基板11の表面にフォトリソグラフィ法によってレジス
トなどからなる図示しないマスクパターンを形成し、こ
のマスクパターンを介して第1母基板11の表面を弗酸
系のエッチング液によってエッチングすることにより、
第1母基板11の表面に微細な凹部11dが複数形成さ
れ、この凹部11dの形成された第1母基板11の表面
に反射電極13を形成することによって、反射電極13
に微細な多数の凹部13bが形成されている。この場
合、第1母基板11の各パネル予定領域11xには、上
記反射電極13に導電接続された引出配線14a、連結
配線14b及び接続端子150が同時に形成されるが、
これらの引出配線14a、連結配線14b及び接続端子
150の少なくとも上下導通材、集積回路チップ、配線
部材等に対する導電接続部分(例えば図3(b)に示す
外部接続部11C)は、上記凹部11dが形成されてい
ない平坦な基板11の表面に形成され、その結果、これ
らの表面は平坦に形成される。したがって、引出配線1
4aの先端部に形成された外部端子と、ドライバICな
どの集積回路チップとの間、連結配線14bと上下導通
材21との間、或いは、接続端子150とフレキシブル
配線基板などの配線部材との間の導通接触が不安定にな
ることがなく、確実に導通をとることができる。
In the structure shown in FIG. 5A, a mask pattern (not shown) made of a resist or the like is formed on the surface of the first mother substrate 11 by photolithography, and the first mother substrate 11 is formed through this mask pattern. By etching the surface with a hydrofluoric acid-based etchant,
A plurality of fine concave portions 11d are formed on the surface of the first mother substrate 11, and the reflective electrodes 13 are formed on the surface of the first mother substrate 11 where the concave portions 11d are formed.
Are formed with a large number of fine concave portions 13b. In this case, the lead wiring 14a, the connection wiring 14b, and the connection terminal 150, which are conductively connected to the reflective electrode 13, are simultaneously formed in each panel scheduled area 11x of the first mother substrate 11,
The conductive connection portion (for example, the external connection portion 11C shown in FIG. 3B) of the lead-out wiring 14a, the connection wiring 14b, and the connection terminal 150 to at least the upper and lower conductive material, the integrated circuit chip, the wiring member, and the like is formed by the concave portion 11d. It is formed on the surface of the flat substrate 11 that has not been formed, and as a result, these surfaces are formed flat. Therefore, the lead wiring 1
4a between an external terminal formed at the tip end portion and an integrated circuit chip such as a driver IC, between the connection wiring 14b and the upper and lower conductive material 21, or between the connection terminal 150 and a wiring member such as a flexible wiring board. The conductive contact between them does not become unstable, and the electrical connection can be reliably achieved.

【0042】図5(b)に示す構造においては、基板1
1の表面にフォトリソグラフィ法によってレジストから
なる凸部11eを形成し、この凸部11eの上に上記の
反射電極13を形成することによって、反射電極13の
表面に凸部13cを形成している。凸部11eは、例え
ば感光性樹脂を塗布し、露光、現像によって図示のよう
に選択的に残すようにする。この場合においても、引出
配線14a、連結配線14b及び接続端子150の少な
くとも上下導通材21、集積回路チップ、配線部材等に
対する導電接続部分(例えば図3(b)に示す外部接続
部11C)は、上記凸部11eが形成されていない平坦
な基板11の表面に形成され、その結果、これらの表面
は平坦に形成される。
In the structure shown in FIG.
The convex portion 11e made of resist is formed on the surface of the first electrode 1 by photolithography, and the reflective electrode 13 is formed on the convex portion 11e, thereby forming the convex portion 13c on the surface of the reflective electrode 13. . For example, the convex portion 11e is coated with a photosensitive resin, and is selectively left by exposure and development as shown in the drawing. Even in this case, at least the conductive connection portions (for example, the external connection portion 11C shown in FIG. 3B) of the lead-out wires 14a, the connection wires 14b, and the connection terminals 150 to the upper and lower conductive members 21, the integrated circuit chip, the wiring members, and the like The protrusions 11e are formed on the flat surface of the substrate 11 where the protrusions 11e are not formed. As a result, these surfaces are formed flat.

【0043】尚、本発明の液晶装置の製造工程は、上述
の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨
を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは
勿論である。
It should be noted that the manufacturing process of the liquid crystal device of the present invention is not limited to the illustrated example described above, and it is needless to say that various changes can be made without departing from the gist of the present invention.

【0044】例えば、上記実施形態では反射電極13及
び配線14をアルミニウムによって形成しているが、反
射電極13及び配線14をアルミニウムに酸化チタンや
酸化ジルコニウムなどを添加して可視光の光反射率を高
めた合金を用いて形成してもよい。また、反射電極13
及び配線14を構成する素材としては、銀若しくは銀を
主体とする合金を用いても構わない。
For example, in the above embodiment, the reflection electrode 13 and the wiring 14 are formed of aluminum. However, the reflection electrode 13 and the wiring 14 are formed by adding titanium oxide or zirconium oxide to aluminum to reduce the light reflectance of visible light. It may be formed using an increased alloy. In addition, the reflection electrode 13
In addition, silver or an alloy mainly composed of silver may be used as a material forming the wiring 14.

【0045】また、配向膜の除去工程は、上記実施形態
のように図2(f)に示す液晶パネル100を形成した
段階で行ってもよいが、図2(e)の短冊状パネルにお
いて張出領域を露出させた段階で行ってもよく、また、
第1母基板11に対するラビング処理が終了した直後に
行っても構わない。
The removal of the alignment film may be performed at the stage when the liquid crystal panel 100 shown in FIG. 2F is formed as in the above-described embodiment. However, in the strip-shaped panel shown in FIG. It may be performed at the stage where the exit area is exposed,
It may be performed immediately after the rubbing process on the first mother substrate 11 is completed.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
反射電極ばかりでなく、配線をも全て覆うように配向膜
を形成していることにより、配向膜に対するラビング処
理を行っても、ラビングによる配線の損傷や異物の付着
を引き起こすことがないので、配線の断線や電蝕の発生
を低減することができる。したがって、液晶装置の電気
的な信頼性を向上させることができる。
As described above, according to the present invention,
Since the alignment film is formed so as to cover not only the reflective electrode but also the wiring, even if rubbing treatment is performed on the alignment film, the rubbing does not cause damage to the wiring or adhesion of foreign substances. Disconnection and the occurrence of electrolytic corrosion can be reduced. Therefore, the electrical reliability of the liquid crystal device can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る液晶装置の製造方法の実施形態に
用いる第1母基板及び第2母基板の平面構造を模式的に
示す概略平面図(a)及び(b)である。
FIGS. 1A and 1B are schematic plan views schematically showing a planar structure of a first mother substrate and a second mother substrate used in an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.

【図2】同実施形態の概略工程を示す概略工程説明図
(a)〜(h)である。
FIGS. 2A to 2H are schematic process explanatory views showing schematic processes of the embodiment. FIGS.

【図3】同実施形態における配向膜除去工程前の液晶パ
ネルの構造を模式的に示す概略構成断面図(a)及び張
出領域近傍の平面構造の概略を示す概略平面図(b)で
ある。
FIGS. 3A and 3B are a schematic cross-sectional view schematically showing a structure of a liquid crystal panel before an alignment film removing step in the same embodiment, and a schematic plan view showing an outline of a planar structure near an overhang region. .

【図4】同実施形態における反射電極及び配線の拡大さ
れた断面構造を示す拡大断面図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing an enlarged cross-sectional structure of a reflective electrode and a wiring in the same embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 第1母基板 12 第2母基板 11x パネル予定領域 11A,12A 液晶封入予定領域 11A’ 液晶封入領域 11B 張出予定領域 11B’ 張出領域 13 反射電極 14 配線 14a 引出配線 14b 連結配線 15 保護膜 16 配向膜 17 透明電極 17a 配線 18 配向膜 19 シール材 19a 液晶注入口 110,120 基板 11 First mother board 12 Second mother board 11x Planned panel area 11A, 12A Planned liquid crystal filling area 11A 'Liquid crystal filled area 11B Planned projected area 11B' Projected area 13 Reflective electrode 14 Wiring 14a Leading wiring 14b Connecting wiring 15 Protective film DESCRIPTION OF SYMBOLS 16 Alignment film 17 Transparent electrode 17a Wiring 18 Alignment film 19 Sealing material 19a Liquid crystal injection port 110, 120 Substrate

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Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に金属膜からなる反射電極を備えた
第1基板と、該第1基板に対向する透明な第2基板とを
有し、前記第1基板と前記第2基板との間に液晶を挟持
してなる液晶装置の製造方法であって、 前記第1基板の表面に、前記反射電極に導電接続され、
前記第1基板の張出領域上に設定された外部接続部まで
延長して外部端子部を構成する配線を前記反射電極と同
材質で形成する電極形成工程と、 前記反射電極及び前記配線を全て覆うように配向膜を形
成し、該配向膜に対してラビング処理を施す配向膜形成
工程と、 前記配向膜のうち前記外部接続部を覆う部分を除去する
配向膜除去工程とを有することを特徴とする液晶装置の
製造方法。
A first substrate having a reflective electrode made of a metal film on a surface thereof, and a transparent second substrate facing the first substrate, wherein a first substrate is provided between the first substrate and the second substrate. A method for manufacturing a liquid crystal device comprising a liquid crystal interposed therebetween, wherein the liquid crystal device is electrically connected to the reflective electrode on a surface of the first substrate,
An electrode forming step of forming a wiring forming an external terminal part by using the same material as the reflective electrode by extending to an external connection part set on the overhang region of the first substrate; Forming an alignment film to cover the alignment film and performing a rubbing process on the alignment film; and an alignment film removing step of removing a portion of the alignment film covering the external connection portion. Of manufacturing a liquid crystal device.
【請求項2】 表面に金属膜からなる反射電極を備えた
第1基板と、該第1基板に対向する透明な第2基板とを
有し、前記第1基板と前記第2基板との間に液晶を挟持
してなる液晶装置の製造方法であって、 前記第1基板に相当するパネル予定領域を複数包含する
第1母基板を用い、該第1母基板の前記パネル予定領域
毎に、前記反射電極に導電接続され、前記第1基板の張
出領域に相当する部分に設定された外部接続部まで延長
して外部端子部を構成する配線を前記反射電極と同材質
で形成する電極形成工程と、 前記反射電極及び前記配線を全て覆うように配向膜を形
成し、該配向膜に対してラビング処理を施す配向膜形成
工程と、 前記配向膜のうち前記外部接続部を覆う部分を除去する
工程とを有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
2. A semiconductor device comprising: a first substrate having a reflective electrode made of a metal film on a surface; and a transparent second substrate facing the first substrate, wherein a first substrate is provided between the first substrate and the second substrate. A method for manufacturing a liquid crystal device having liquid crystal sandwiched therein, comprising: using a first motherboard including a plurality of panel scheduled regions corresponding to the first substrate, for each of the panel scheduled regions of the first motherboard; Forming an electrode, which is conductively connected to the reflection electrode and extends to an external connection portion set in a portion corresponding to the overhang region of the first substrate to form a wiring constituting an external terminal portion with the same material as the reflection electrode; Forming an alignment film so as to cover all of the reflective electrode and the wiring, and performing an rubbing process on the alignment film; and removing a portion of the alignment film covering the external connection portion. And a method for manufacturing a liquid crystal device. Law.
【請求項3】 請求項2において、前記電極形成工程に
おいては、前記第1母基板にアライメントマークを前記
反射電極及び前記配線とともに同材質にて形成し、前記
配向膜形成工程においては、前記配向膜を前記アライメ
ントマークが全て覆われるように形成することを特徴と
する液晶装置の製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein in the electrode forming step, an alignment mark is formed on the first mother substrate together with the reflective electrode and the wiring using the same material, and in the alignment film forming step, the alignment mark is formed. A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: forming a film so that the alignment mark is entirely covered.
【請求項4】 請求項2において、前記配向膜形成工程
においては、前記配向膜を前記第1母基板の全表面に形
成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
4. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 2, wherein in the step of forming an alignment film, the alignment film is formed on the entire surface of the first mother substrate.
【請求項5】 請求項1から請求項4までのいずれか1
項において、前記反射電極及び前記配線は、アルミニウ
ム又はアルミニウムを主体とする合金によって形成され
ることを特徴とする液晶装置の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein:
3. The method for manufacturing a liquid crystal device according to item 1, wherein the reflective electrode and the wiring are formed of aluminum or an alloy mainly containing aluminum.
【請求項6】 請求項1から請求項5において、前記配
向膜形成工程の後に前記張出領域に対向する前記第2基
板の部分を除去し、前記張出領域を露出させる基板除去
工程を有し、前記配向膜除去工程における処理を、露出
された前記張出領域に対して施すことを特徴とする液晶
装置の製造方法。
6. A substrate removing step according to claim 1, wherein after the step of forming an alignment film, a portion of the second substrate facing the overhanging region is removed to expose the overhanging region. A method of manufacturing a liquid crystal device, wherein the processing in the alignment film removing step is performed on the exposed overhang region.
【請求項7】 請求項1から請求項6までのいずれか1
項において、前記反射電極の表面に前記外部端子部を避
けて無機絶縁体からなる保護膜を形成し、前記保護膜を
完全に覆うように前記配向膜を形成することを特徴とす
る液晶装置の製造方法。
7. One of claims 1 to 6
In the liquid crystal device according to the item, a protective film made of an inorganic insulator is formed on the surface of the reflective electrode so as to avoid the external terminal portion, and the alignment film is formed so as to completely cover the protective film. Production method.
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